JP6780272B2 - Polymer composite film - Google Patents

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本発明は、縮合系高分子フィルムとシリコーン樹脂層を含む高分子複合フィルムに関し、更に詳しくは、柔軟で弾力があり、かつ耐熱性を備えたシリコーン樹脂と、比較的高弾性率で寸法安定性が良く、なおかつ加工性に長ける縮合系高分子フィルムとからなる、互いの長所を活かした高分子複合フィルムに関するものである。 The present invention relates to a polymer composite film containing a condensation polymer film and a silicone resin layer, and more particularly, a silicone resin having flexibility, elasticity, and heat resistance, and dimensional stability with a relatively high elasticity. The present invention relates to a polymer composite film that takes advantage of each other's merits, and is composed of a condensed polymer film having good workability and excellent workability.

シリコーン樹脂は、シロキサン結合による主骨格を持つ高分子化合物の総称である。分子量、架橋度、置換基などにより種々のシリコーン樹脂が知られているが、耐熱性、耐水性、耐薬品性、電気特性に優れる性質を持つ、特に適度な弾性を持つように物性が調整されたシリコーン樹脂はシリコーンゴムないしシリコーンエラストマーと呼ばれ、柔軟性と耐熱性の両立を要求されるガスケット、シール材、ダイヤフラム、ラミネーター用ロール、電子写真用トナー定着ロール、保護部材から医療用、美容成形用まだ幅広く用いられている。また、接着性に乏しいことから離型シート、クッション材などとしても重宝されている。 Silicone resin is a general term for polymer compounds having a main skeleton due to siloxane bonds. Various silicone resins are known depending on their molecular weight, degree of cross-linking, substituents, etc., but their physical properties are adjusted so as to have excellent properties such as heat resistance, water resistance, chemical resistance, and electrical properties, and particularly to have appropriate elasticity. Silicone resin is called silicone rubber or silicone elastomer, and is required to have both flexibility and heat resistance. Gaskets, sealing materials, diaphragms, laminator rolls, electrophotographic toner fixing rolls, protective members for medical use, and cosmetic molding. It is still widely used. In addition, since it has poor adhesiveness, it is also useful as a release sheet and cushioning material.

優れた特性を有するシリコーン樹脂であるが、電子基板用途に使われることは希である。理由は接着性に乏しく、銅箔などの多素材との組み合わせが困難である事。また、柔軟素材故に寸法安定性という観点からは難があるためである。 Although it is a silicone resin with excellent properties, it is rarely used for electronic substrate applications. The reason is that it has poor adhesiveness and it is difficult to combine it with multiple materials such as copper foil. Moreover, because it is a flexible material, it is difficult from the viewpoint of dimensional stability.

シリコーン樹脂は、柔軟であるが故に機械的強度にやや劣るという欠点がある。シリコーン樹脂の耐熱性かつ弾力性があり、かつ離型性が良いという特性を活かす用途としてプレス加工の際のクッションシート材として利用を例示できる。かかる用途においてシリコーン樹脂シートは、加圧を強めすぎると、シートの面方向への伸びが発生し、シリコーン樹脂シート自身に割れ、破断などが生じることがある。またさらには、シリコーン樹脂シート破断の際に被プレス物を巻き込んで共に破断することさえある。
かかる問題を解決するために、シリコーン樹脂シートに補強材を配する試みが成されている。シリコーン樹脂シートに、ガラスクロスなどの補強材を入れ込んだ製品が既に知られている。クロス状補強材をシート中に挿入することにより機械的強度を改善することができるが、クロス状補強材は不均質であり、また、かかる補強によりシートの柔軟性が損なわれてしまうという欠点がある。
シリコーン樹脂シートと寸法安定性の良い金属箔・金属板、ガラス板、セラミック板などのシリコーン樹脂ないしはガラスエポキシ板などの硬質基板と貼り合わせて用いる形態も同様に補強効果は得られるが、相手方素材の物性の影響を多々受けることにより、結果的に柔軟性が損なわれてしまう場合が多い。
シリコーン樹脂の柔軟性を活かす補強素材として有機高分子フィルム、有機高分子シートを用いる事ができるが、シリコーン樹脂と有機高分子素材との接着性が乏しいため、使用中の剥がれ等の問題が生じることが多い。
Silicone resin has a drawback that it is slightly inferior in mechanical strength because it is flexible. It can be exemplified that it is used as a cushion sheet material in press working as an application utilizing the characteristics of silicone resin having heat resistance, elasticity, and good releasability. In such an application, if the pressure applied to the silicone resin sheet is too strong, the sheet may be stretched in the surface direction, and the silicone resin sheet itself may be cracked or broken. Furthermore, when the silicone resin sheet is broken, the material to be pressed may be involved and even broken together.
In order to solve such a problem, an attempt has been made to arrange a reinforcing material on the silicone resin sheet. Products in which a reinforcing material such as glass cloth is inserted in a silicone resin sheet are already known. The mechanical strength can be improved by inserting the cloth-shaped reinforcing material into the sheet, but the cross-shaped reinforcing material is inhomogeneous, and such reinforcement impairs the flexibility of the sheet. is there.
The same reinforcing effect can be obtained by laminating a silicone resin sheet with a silicone resin such as a metal foil / metal plate, glass plate, or ceramic plate having good dimensional stability, or a hard substrate such as a glass epoxy plate. As a result, flexibility is often impaired due to the influence of many physical properties.
An organic polymer film or an organic polymer sheet can be used as a reinforcing material that makes the most of the flexibility of the silicone resin, but since the adhesiveness between the silicone resin and the organic polymer material is poor, problems such as peeling during use occur. Often.

例えば、特許文献1には、シームレスベルト状に加工したポリイミド樹脂フィルムの表面にシリコーン樹脂を設けた無端ベルトを、電子写真式プリンターの中間転写ベルトに用いる例が開示されている。例えば、特許文献2には、ポリイミド樹脂フィルムを機材に用い、シリコーン樹脂を粘着剤に用いた粘着シートの例が開示されている。さらに、特許文献3には、ポリイミド樹脂フィルムとシリコーン樹脂フィルムと〜なる高分子複合フィルムを電子写真式プリンターの定着フィルムに用いる例が開示されている。 For example, Patent Document 1 discloses an example in which an endless belt in which a silicone resin is provided on the surface of a polyimide resin film processed into a seamless belt shape is used as an intermediate transfer belt of an electrophotographic printer. For example, Patent Document 2 discloses an example of a pressure-sensitive adhesive sheet using a polyimide resin film as an equipment and a silicone resin as a pressure-sensitive adhesive. Further, Patent Document 3 discloses an example in which a polymer composite film consisting of a polyimide resin film and a silicone resin film is used as a fixing film for an electrophotographic printer.

特開2012−159737号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-159737 特開2007−266558号公報JP-A-2007-266558 特開平9−274402号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 9-274402

以上、例示したように、シリコーン樹脂は耐熱性、柔軟性を両立するという優れた特性を有しているが、その耐薬品製の高さ、剥離性の良さが故に、他素材と積層するなどの組み合わせが困難な素材の一つであると受け止められていた。本発明はこのような課題を解決し、シリコーン樹脂層と縮合系高分子フィルムを含む、接着性(剥離強度)に優れかつ外観品位が良好な高分子複合フィルムを提供する事を課題とする。 As described above, the silicone resin has excellent properties of achieving both heat resistance and flexibility, but due to its high chemical resistance and good peelability, it can be laminated with other materials. It was perceived as one of the difficult materials to combine. An object of the present invention is to solve such a problem and to provide a polymer composite film containing a silicone resin layer and a condensation polymer film, which has excellent adhesiveness (peeling strength) and good appearance quality.

本発明者らは、かかる問題を、縮合系高分子フィルム側の表面処理によって解決すべく鋭意研究を重ねた結果、シリコーン樹脂へのシランカップリング剤塗布を気相にて行うことにより、高分子フィルムとシリコーン樹脂層との間に異物の介在しない接着性の良好な高分子複合フィルムを提供し、結果として収率良く高精細なフレキシブル電子デバイスの製作が可能となり、なおかつシリコーン樹脂のリサイクル性が改善されることを見出し、本発明を完成した。 As a result of intensive studies to solve this problem by surface treatment on the side of the condensed polymer film, the present inventors applied a silane coupling agent to the silicone resin in the vapor phase to obtain the polymer. A polymer composite film having good adhesiveness without foreign matter intervening between the film and the silicone resin layer is provided, and as a result, it is possible to manufacture a high-definition flexible electronic device with high yield, and the recyclability of the silicone resin is high. We have found that it can be improved and completed the present invention.

すなわち本発明は、以下の構成からなる。
[1]少なくともポリジメチルシロキサンを主成分とする樹脂からなる層と、縮合系高分子からなる層からなり、総厚さが1μm以上20μm以下であることを特徴とする高分子複合フィルム。
[2]両面にポリジメチルシロキサンを主成分とする樹脂からなる層を有する、縮合系高分子フィルムにおいて、総厚さが1μm以上20μm以下であることを特徴とする高分子複合フィルム。
[3]前記縮合系高分子フィルムがポリエステルフィルムである事を特徴とする[1]または[2]に記載の高分子複合フィルム。
[4]前記縮合系高分子フィルムがポリイミドフィルムである事を特徴とする[1]または[2]に記載の高分子複合フィルム。
That is, the present invention has the following configuration.
[1] A polymer composite film comprising a layer made of at least a resin containing polydimethylsiloxane as a main component and a layer made of a condensed polymer, and having a total thickness of 1 μm or more and 20 μm or less.
[2] A polymer composite film having a layer made of a resin containing polydimethylsiloxane as a main component on both sides, wherein the total thickness is 1 μm or more and 20 μm or less.
[3] The polymer composite film according to [1] or [2], wherein the condensed polymer film is a polyester film.
[4] The polymer composite film according to [1] or [2], wherein the condensed polymer film is a polyimide film.

本発明によれば、機械特性に優れるエンジニアリングプラスチックフィルムと、表面性状に優れるシリコーン樹脂の双方の利点を備えた優れた複合フィルムを得ることができる。
本発明において、より好適には、高耐熱性を有する縮合系高分子フィルムを用いれば、耐熱性に劣る接着剤や粘着剤を用いることなく貼り合わせが可能であり、高分子複合フィルムを、より高温域で使用することが可能となる。特に縮合系高分子フィルムとしてポリイミドフィルムを用いた場合には、180℃以上、好ましくは230℃以上、さらに好ましくは260℃以上の高温域での用途に用いる事が可能となり、高温でのプレス、ラミネート時に用いるクッション材、半田付けを伴う電子部品、高温環境で用いられる搬送部材などの用途にて好適に用いる事が可能となる。
According to the present invention, it is possible to obtain an excellent composite film having the advantages of both an engineering plastic film having excellent mechanical properties and a silicone resin having excellent surface properties.
In the present invention, more preferably, if a condensed polymer film having high heat resistance is used, it is possible to bond the polymer composite film without using an adhesive or an adhesive having inferior heat resistance. It can be used in high temperature areas. In particular, when a polyimide film is used as the condensation polymer film, it can be used in a high temperature range of 180 ° C. or higher, preferably 230 ° C. or higher, more preferably 260 ° C. or higher, and can be pressed at a high temperature. It can be suitably used in applications such as cushioning materials used for laminating, electronic parts accompanied by soldering, and transport members used in a high temperature environment.

本発明の高分子複合フィルムは、少なくともシリコーン樹脂層、縮合系高分子フィルム、シランカップリング剤層から構成される高分子複合フィルムである。 The polymer composite film of the present invention is a polymer composite film composed of at least a silicone resin layer, a condensation polymer film, and a silane coupling agent layer.

<シリコーン樹脂>
本発明におけるシリコーン樹脂層を形成するシリコーン樹脂とは、シロキサン結合による主骨格を持つ、ケイ素系高分子化合物の内、室温で固体状の物を示す。本発明で好ましく用いられるシリコーン樹脂はポリジアルキルシロキサンを基本骨格として、目的に応じて分子量、架橋度、置換基などを調整したシリコーン樹脂を用いる事が好ましい。シリコーン樹脂は 導入する置換基を選択し、さらに骨格を環状や分枝構造とすることで、耐熱性や耐化学性、親水性や疎水性など、さまざまな機能を強化または付与することができる。
本発明のシリコーン樹脂に導入される置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基、置換フェニル基、ポリエーテル基、エポキシ基、アミノ基、アミノ基含有置換基、カルボキシル基、アラルキル基などを例示できる、かかる置換基は側鎖ないし分子末端に導入できる。
本発明ではポリジメチルシロキサンないしポリジフェニルシロキサンを主骨格とするシリコーン樹脂、メチル基、フェニル基両方を含むポリシロキサン樹脂が好ましい。
本発明のシリコーン樹脂としては一液型あるいは二液型のシリコーン樹脂を用いる事ができる。
二液型シリコーン樹脂は、主材と架橋剤、反応促進剤などを硬化剤として分け、使用前に両者を混合して用いるものである。本発明のシリコーン樹脂を架橋するのに使用する好適な方法及び/又は触媒としては、縮合触媒が挙げられる。適当な反応基を持つシリコーン樹脂を用意する事によって、他の触媒及び開始剤、例えば、シラン−オレフィン附加(ハイドロシレイション)触媒、例えば過酸化物触媒の様なフリーラジカル触媒、熱、及び紫外線輻射への曝露が使用出来る。
過酸化物触媒の様なフリーラジカル触媒は、シリコーン樹脂が、ビニル基を含む時には、ブレンド−硬化剤又は触媒として使用できる。
シリコーン樹脂が、末端位置にSi−H基を有する時、又は樹脂が末端二重結合を有する時は、シラン−オレフィン付加触媒が有用である。
シラノール停止(末端化)ポリジメチルシロキサンを含む上記シラノール末端化ポリジオルガノシロキサンの様にその中に水酸基を持つシリコーン化合物もまた、熱で触媒化できる。
好ましい硬化系は縮合反応を含む。テトラエチルシリケートの様なシリカ酸エステルは、縮合反応で、本発明組成物のジオルガノシロキサンのヒドロキシ末端基と反応する。この反応ではアルコールが放出され、反応は、例えばジブチル錫ジラウレートの様な金属石鹸で触媒される。
なおより好ましい触媒は、ヘキサン酸亜鉛の様な有機亜鉛化合物である。ヘキサン酸亜鉛の様な縮合触媒は、シラノール末端化ポリジオルガノシロキサン中に存在するシラノール末端基と、ポリジメチルシロキサンポリマーとメチルフェニルセスキシロキサン中に存在すると考えられる残存ヒドロキシ基(シラノール)の縮合反応を触媒する事が考えられる。
<Silicone resin>
The silicone resin forming the silicone resin layer in the present invention refers to a silicon-based polymer compound having a main skeleton formed by a siloxane bond, which is solid at room temperature. As the silicone resin preferably used in the present invention, it is preferable to use a silicone resin having a polydialkylsiloxane as a basic skeleton and having its molecular weight, degree of cross-linking, substituents and the like adjusted according to the purpose. By selecting the substituent to be introduced and making the skeleton a cyclic or branched structure, the silicone resin can enhance or impart various functions such as heat resistance, chemical resistance, hydrophilicity and hydrophobicity.
The substituents introduced into the silicone resin of the present invention include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, phenyl group, substituted phenyl group, polyether group, epoxy group, amino group, amino group-containing substituent and carboxyl. Such substituents, such as groups, aralkyl groups, etc., can be introduced at the side chain or at the end of the molecule.
In the present invention, a silicone resin having polydimethylsiloxane or polydiphenylsiloxane as a main skeleton, and a polysiloxane resin containing both a methyl group and a phenyl group are preferable.
As the silicone resin of the present invention, a one-component type or a two-component type silicone resin can be used.
In the two-component silicone resin, the main material, the cross-linking agent, the reaction accelerator, and the like are separated as a curing agent, and both are mixed and used before use. Suitable methods and / or catalysts used to crosslink the silicone resins of the present invention include condensation catalysts. By preparing a silicone resin with suitable reactive groups, other catalysts and initiators, such as silane-olefin addition (hydrosilation) catalysts, free radical catalysts such as peroxide catalysts, heat, and ultraviolet rays Radical exposure can be used.
Free radical catalysts, such as peroxide catalysts, can be used as blend-hardeners or catalysts when the silicone resin contains vinyl groups.
When the silicone resin has a Si—H group at the terminal position, or when the resin has a terminal double bond, a silane-olefin addition catalyst is useful.
Silicone compounds having a hydroxyl group therein, such as the silanol-terminated polydiorganosiloxane containing silanol-terminated (terminalized) polydimethylsiloxane, can also be thermally catalyzed.
Preferred curing systems include condensation reactions. Silica acid esters such as tetraethyl silicate react with the hydroxy end groups of the diorganosiloxane of the composition of the invention in a condensation reaction. Alcohol is released in this reaction and the reaction is catalyzed by a metal soap such as dibutyltin dilaurate.
A still more preferred catalyst is an organic zinc compound such as zinc hexanoate. A condensation catalyst such as zinc hexanoate conducts a condensation reaction between a silanol-terminated group present in silanol-terminated polydiorganosiloxane and a residual hydroxy group (silanol) considered to be present in the polydimethylsiloxane polymer and methylphenylsesquisiloxane. It is conceivable to catalyze.

<縮合系高分子フィルム>
本発明における縮合系高分子フィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、全芳香族ポリエステル、その他の共重合ポリエステル、ポリメチルメタクリレート、その他の共重合アクリレート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、芳香族ポリイミド、脂環族ポリイミド、フッ素化ポリイミド、酢酸セルロース、硝酸セルロース、芳香族ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリフェノール、ポリアリレート、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキシド、ポリスチレン等のフィルムを用いることが出来る。本発明において特に効果が顕著・有用であるものは耐熱性が100℃以上の高分子、所謂エンジニアリングプラスチックのフィルムである。ここに耐熱性とはガラス転移温度ないしは熱変形温度を云う。
<Condensation polymer film>
The condensed polymer film in the present invention includes polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, total aromatic polyester, other copolymerized polyester, polymethylmethacrylate, other copolymerized acrylate, polycarbonate, and polyamide. , Polysulphon, polyethersulphon, polyether ketone, polyamideimide, polyetherimide, aromatic polyimide, alicyclic polyimide, fluorinated polyimide, cellulose acetate, cellulose nitrate, aromatic polyamide, polyvinyl chloride, polyphenol, polyarylate , Polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, polystyrene and other films can be used. What is particularly effective and useful in the present invention is a polymer having a heat resistance of 100 ° C. or higher, a so-called engineering plastic film. Here, heat resistance refers to the glass transition temperature or the thermal deformation temperature.

本発明の縮合系高分子フィルムは前記高分子材料の内、熱可塑性の高分子材料については、溶融延伸法によりフィルムを得ることが出来る。 Among the polymer materials of the condensed polymer film of the present invention, a film can be obtained by a melt-stretching method for a thermoplastic polymer material.

本発明の縮合系高分子フィルムの厚さは3μm以上が好ましく、11μm以上がなお好ましい。縮合系高分子フィルムの厚さの上限は特に制限されないが、フレキシブル電子デバイスとしての要求より250μm以下であることが好ましく、さらに150μm以下、なおさらには90μm以下が好ましい。
本発明の縮合系高分子フィルムの面積(すなわち高分子複合フィルムの面積)は、高分子複合フィルムやフレキシブル電子デバイスの生産効率・コストの観点より、大面積であることが好ましい。1000cm以上であることが好ましく、1500cm以上であることがより好ましく、2000cm以上であることがさらに好ましい。
The thickness of the condensed polymer film of the present invention is preferably 3 μm or more, and more preferably 11 μm or more. The upper limit of the thickness of the condensed polymer film is not particularly limited, but is preferably 250 μm or less, more preferably 150 μm or less, and further preferably 90 μm or less, according to the requirements for a flexible electronic device.
The area of the condensed polymer film of the present invention (that is, the area of the polymer composite film) is preferably a large area from the viewpoint of production efficiency and cost of the polymer composite film and the flexible electronic device. It is preferably 1000 cm 2 or more, more preferably 1500 cm 2 or more, more preferably 2000 cm 2 or more.

本発明で特に好ましく用いられる縮合系高分子フィルムはポリイミドフィルムであり、芳香族ポリイミド、脂環族ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミドなどを用いることが出来る。本発明を特にフレキシブルディスプレイ素子製造に用いる場合には、無色透明性を有するポリイミド系樹脂フィルムを用いることが好ましいが、反射型、ないし自発光型のディスプレイの背面素子を形成する場合においては、特にこの限りではない。 The condensation polymer film particularly preferably used in the present invention is a polyimide film, and aromatic polyimide, alicyclic polyimide, polyamideimide, polyetherimide and the like can be used. When the present invention is particularly used for manufacturing a flexible display element, it is preferable to use a polyimide resin film having colorless transparency, but particularly when forming a back element of a reflective or self-luminous display. This is not the case.

一般にポリイミドフィルムは、溶媒中でジアミン類とテトラカルボン酸類とを反応させて得られるポリアミド酸(ポリイミド前駆体)溶液を、ポリイミドフィルム作製用支持体に塗布、乾燥してグリーンフィルム(「前駆体フィルム」または「ポリアミド酸フィルム」ともいう)となし、さらにポリイミドフィルム作製用支持体上で、あるいは該支持体から剥がした状態でグリーンフィルムを高温熱処理して脱水閉環反応を行わせることによって得られる。 Generally, a polyimide film is a green film (“precursor film”) in which a polyamic acid (polyimide precursor) solution obtained by reacting diamines and tetracarboxylic acids in a solvent is applied to a support for producing a polyimide film and dried. (Also referred to as "polyamic acid film"), and further obtained by subjecting the green film to a high-temperature heat treatment to carry out a dehydration ring-closing reaction on a support for producing a polyimide film or in a state of being peeled off from the support.

ポリアミド酸を構成するジアミン類としては、特に制限はなく、ポリイミド合成に通常用いられる芳香族ジアミン類、脂肪族ジアミン類、脂環式ジアミン類等を用いることができる。耐熱性の観点からは、芳香族ジアミン類が好ましく、芳香族ジアミン類の中では、ベンゾオキサゾール構造を有する芳香族ジアミン類がより好ましい。ベンゾオキサゾール構造を有する芳香族ジアミン類を用いると、高い耐熱性とともに、高弾性率、低熱収縮性、低線膨張係数を発現させることが可能になる。ジアミン類は、単独で用いてもよいし二種以上を併用してもよい。 The diamines constituting the polyamic acid are not particularly limited, and aromatic diamines, aliphatic diamines, alicyclic diamines and the like usually used for polyimide synthesis can be used. From the viewpoint of heat resistance, aromatic diamines are preferable, and among aromatic diamines, aromatic diamines having a benzoxazole structure are more preferable. When aromatic diamines having a benzoxazole structure are used, it is possible to develop high elastic modulus, low coefficient of thermal expansion, and low linear expansion coefficient as well as high heat resistance. The diamines may be used alone or in combination of two or more.

ベンゾオキサゾール構造を有する芳香族ジアミン類としては、特に限定はなく、例えば、5−アミノ−2−(p−アミノフェニル)ベンゾオキサゾール、6−アミノ−2−(p−アミノフェニル)ベンゾオキサゾール、5−アミノ−2−(m−アミノフェニル)ベンゾオキサゾール、6−アミノ−2−(m−アミノフェニル)ベンゾオキサゾール、2,2’−p−フェニレンビス(5−アミノベンゾオキサゾール)、2,2’−p−フェニレンビス(6−アミノベンゾオキサゾール)、1−(5−アミノベンゾオキサゾロ)−4−(6−アミノベンゾオキサゾロ)ベンゼン、2,6−(4,4’−ジアミノジフェニル)ベンゾ[1,2−d:5,4−d’]ビスオキサゾール、2,6−(4,4’−ジアミノジフェニル)ベンゾ[1,2−d:4,5−d’]ビスオキサゾール、2,6−(3,4’−ジアミノジフェニル)ベンゾ[1,2−d:5,4−d’]ビスオキサゾール、2,6−(3,4’−ジアミノジフェニル)ベンゾ[1,2−d:4,5−d’]ビスオキサゾール、2,6−(3,3’−ジアミノジフェニル)ベンゾ[1,2−d:5,4−d’]ビスオキサゾール、2,6−(3,3’−ジアミノジフェニル)ベンゾ[1,2−d:4,5−d’]ビスオキサゾール等が挙げられる。 The aromatic diamines having a benzoxazole structure are not particularly limited, and for example, 5-amino-2- (p-aminophenyl) benzoxazole, 6-amino-2- (p-aminophenyl) benzoxazole, 5 -Amino-2- (m-aminophenyl) benzoxazole, 6-amino-2- (m-aminophenyl) benzoxazole, 2,2'-p-phenylenebis (5-aminobenzoxazole), 2,2' -P-Phenylenebis (6-aminobenzoxazole), 1- (5-aminobenzoxazole) -4- (6-aminobenzoxazolo) benzene, 2,6- (4,4'-diaminodiphenyl) benzo [1,2-d: 5,4-d'] bisoxazole, 2,6- (4,4-diaminodiphenyl) benzo [1,2-d: 4,5-d'] bisoxazole, 2, 6- (3,4'-diaminodiphenyl) benzo [1,2-d: 5,4-d'] bisoxazole, 2,6- (3,4'-diaminodiphenyl) benzo [1,2-d: 4,5-d'] bisoxazole, 2,6- (3,3'-diaminodiphenyl) benzo [1,2-d: 5,4-d'] bisoxazole, 2,6- (3,3') -Diaminodiphenyl) benzo [1,2-d: 4,5-d'] bisoxazole and the like can be mentioned.

上述したベンゾオキサゾール構造を有する芳香族ジアミン類以外の芳香族ジアミン類としては、例えば、2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、1,4−ビス[2−(4−アミノフェニル)−2−プロピル]ベンゼン(ビスアニリン)、1,4−ビス(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゼン、2,2’−ジトリフルオロメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]ケトン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、m−フェニレンジアミン、o−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、m−アミノベンジルアミン、p−アミノベンジルアミン、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホキシド、3,4’−ジアミノジフェニルスルホキシド、4,4’−ジアミノジフェニルスルホキシド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、3,4’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノジフェニルメタン、3,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]メタン、1,1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エタン、1,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エタン、1,1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、1,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、1,3−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、1,1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ブタン、1,3−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ブタン、1,4−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ブタン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ブタン、2,3−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ブタン、2−[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]−2−[4−(4−アミノフェノキシ)−3−メチルフェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)−3−メチルフェニル]プロパン、2−[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]−2−[4−(4−アミノフェノキシ)−3,5−ジメチルフェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)−3,5−ジメチルフェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、1,4−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ケトン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホキシド、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、1,3−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,3−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,4−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、4,4’−ビス[(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,1−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、1,3−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、3,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、2,2−ビス[3−(3−アミノフェノキシ)フェニル]−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]メタン、1,1−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]エタン、1,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]エタン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホキシド、4,4’−ビス[3−(4−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ジフェニルエーテル、4,4’−ビス[3−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ジフェニルエーテル、4,4’−ビス[4−(4−アミノ−α,α−ジメチルベンジル)フェノキシ]ベンゾフェノン、4,4’−ビス[4−(4−アミノ−α,α−ジメチルベンジル)フェノキシ]ジフェニルスルホン、ビス[4−{4−(4−アミノフェノキシ)フェノキシ}フェニル]スルホン、1,4−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェノキシ−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェノキシ−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3−ビス[4−(4−アミノ−6−トリフルオロメチルフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3−ビス[4−(4−アミノ−6−フルオロフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3−ビス[4−(4−アミノ−6−メチルフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3−ビス[4−(4−アミノ−6−シアノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジフェノキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノ−5,5’−フェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−4,5’−ジフェノキシベンゾフェノン、3,3’−ジアミノ−4−フェノキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノ−5−フェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−4−フェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−5’−フェノキシベンゾフェノン、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジビフェノキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノ−5,5’−ジビフェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−4,5’−ジビフェノキシベンゾフェノン、3,3’−ジアミノ−4−ビフェノキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノ−5−ビフェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−4−ビフェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−5’−ビフェノキシベンゾフェノン、1,3−ビス(3−アミノ−4−フェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノ−4−フェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノ−5−フェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノ−5−フェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノ−4−ビフェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノ−4−ビフェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノ−5−ビフェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノ−5−ビフェノキシベンゾイル)ベンゼン、2,6−ビス[4−(4−アミノ−α,α−ジメチルベンジル)フェノキシ]ベンゾニトリル、および上記芳香族ジアミンの芳香環上の水素原子の一部もしくは全てが、ハロゲン原子、炭素数1〜3のアルキル基またはアルコキシル基、シアノ基、またはアルキル基またはアルコキシル基の水素原子の一部もしくは全部がハロゲン原子で置換された炭素数1〜3のハロゲン化アルキル基またはアルコキシル基で置換された芳香族ジアミン等が挙げられる。 Examples of aromatic diamines other than the above-mentioned aromatic diamines having a benzoxazole structure include 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl and 1,4-bis [2- (4-aminophenyl). ) -2-propyl] benzene (bisaniline), 1,4-bis (4-amino-2-trifluoromethylphenoxy) benzene, 2,2'-ditrifluoromethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 4,4 '-Bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4'-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl ] Sulfates, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl ] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, m-phenylenediamine, o-phenylenediamine, p-phenylenediamine, m-aminobenzylamine, p-aminobenzylamine, 3,3'- Diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diaminodiphenyl sulfoxide, 3,4'-diaminodiphenyl sulfoxide, 4,4' −Diaminodiphenylsulfoxide, 3,3′-diaminodiphenylsulfone, 3,4′-diaminodiphenylsulfone, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 3,3′-diaminobenzophenone, 3,4′-diaminobenzophenone, 4, 4'-diaminobenzophenone, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, 1,1-bis [ 4- (4-Aminophenoxy) phenyl] ethane, 1,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ethane, 1,1-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 1, 2-Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 1,3-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] Propane, 1,1-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] butane, 1,3- Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] butane, 1,4-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] butane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] butane, 2,3-Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] butane, 2- [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -2- [4- (4-aminophenoxy) -3-methylphenyl] propane , 2,2-Bis [4- (4-aminophenoxy) -3-methylphenyl] propane, 2- [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -2- [4- (4-aminophenoxy) -3 , 5-Dimethylphenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) -3,5-dimethylphenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -1 , 1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-amino) Phenoxy) benzene, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (4-Aminophenoxy) phenyl] sulfoxide, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] Ether, 1,3-bis [4- (4-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,3-bis [4- (3-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,4-bis [4- (3-amino) benzoyl] Phenoxy) benzoyl] benzene, 4,4'-bis [(3-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,1-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 1,3-bis [4- ( 3-Aminophenoxy) Phenyl] Propane, 3,4'-Diaminodiphenylsulfide, 2,2-Bis [3- (3-Aminophenoxy) Phenyl] -1,1,1,3,3,3-Hexafluoropropane , Bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] methane, 1,1-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ethane, 1,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ethane , Bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfoxide, 4,4'-bis [ 3- (4-Aminophenoxy) Benzene] diphenyl ether, 4,4'-bis [3- (3-Aminophenoxy) benzoyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [4- (4-amino-α, α-dimethyl) Benzene) phenoxy] benzophenone, 4,4'-bis [4- (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) phenoxy] diphenylsulfone, bis [4- {4- (4-aminophenoxy) phenoxy} phenyl] sulfone , 1,4-bis [4- (4-aminophenoxy) phenoxy-α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-aminophenoxy) phenoxy-α, α-dimethylbenzyl] benzene , 1,3-bis [4- (4-amino-6-trifluoromethylphenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-amino-6-fluorophenoxy)- α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-amino-6-methylphenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-amino-) 6-Cyanophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] Benzene, 3,3'-diamino-4,4'-diphenoxybenzophenone, 4,4'-diamino-5,5'-phenoxybenzophenone, 3,4' -Diamino-4,5'-diphenoxybenzophenone, 3,3'-diamino-4-phenoxybenzophenone, 4,4'-diamino-5-phenoxybenzophenone, 3,4'-diamino-4-phenoxybenzophenone, 3, 4'-diamino-5'-phenoxybenzophenone, 3,3'-diamino-4,4'-dibiphenoxybenzophenone, 4,4'-diamino-5,5'-dibiphenoxybenzophenone, 3,4'-diamino- 4,5'-Dibiphenoxybenzophenone, 3,3'-diamino-4-biphenoxybenzophenone, 4,4'-diamino-5-biphenoxybenzophenone, 3,4'-diamino-4-biphenoxybenzophenone, 3, 4'-Diamino-5'-biphenoxybenzophenone, 1,3-bis (3-amino-4-phenoxybenzoyl) benzene, 1,4-bis (3-amino-4-phenoxybenzoyl) benzene, 1,3- Bis (4-amino-5-phenoxybenzoyl) benzene, 1,4-bis (4-amino-5-phenoxybenzoyl) benzene, 1,3-bis (3-amino-4-bipheno) Xybenzoyl) benzene, 1,4-bis (3-amino-4-biphenoxybenzoyl) benzene, 1,3-bis (4-amino-5-biphenoxybenzoyl) benzene, 1,4-bis (4-amino) -5-biphenoxybenzoyl) benzene, 2,6-bis [4- (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) phenoxy] benzonitrile, and some of the hydrogen atoms on the aromatic ring of the above aromatic diamines or All are halogen atoms, alkyl or alkoxyl groups with 1-3 carbon atoms, cyano groups, or halogenation of 1 to 3 carbon atoms in which some or all of the hydrogen atoms of the alkyl or alkoxyl groups are substituted with halogen atoms. Examples thereof include aromatic diamines substituted with an alkyl group or an alkoxyl group.

前記脂肪族ジアミン類としては、例えば、1,2−ジアミノエタン、1,4−ジアミノブタン、1,5−ジアミノペンタン、1,6−ジアミノヘキサン、1,8−ジアミノオクタン等が挙げられる。
前記脂環式ジアミン類としては、例えば、1,4−ジアミノシクロヘキサン、4,4’−メチレンビス(2,6−ジメチルシクロヘキシルアミン)等が挙げられる。
芳香族ジアミン類以外のジアミン(脂肪族ジアミン類および脂環式ジアミン類)の合計量は、全ジアミン類の20質量%以下が好ましく、より好ましくは10質量%以下、さらに好ましくは5質量%以下である。換言すれば、芳香族ジアミン類は全ジアミン類の80質量%以上が好ましく、より好ましくは90質量%以上、さらに好ましくは95質量%以上である。
Examples of the aliphatic diamines include 1,2-diaminoethane, 1,4-diaminobutane, 1,5-diaminopentane, 1,6-diaminohexane, 1,8-diaminooctane and the like.
Examples of the alicyclic diamines include 1,4-diaminocyclohexane and 4,4'-methylenebis (2,6-dimethylcyclohexylamine).
The total amount of diamines (aliphatic diamines and alicyclic diamines) other than aromatic diamines is preferably 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, still more preferably 5% by mass or less of all diamines. Is. In other words, the aromatic diamines are preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and further preferably 95% by mass or more of all diamines.

ポリアミド酸を構成するテトラカルボン酸類としては、ポリイミド合成に通常用いられる芳香族テトラカルボン酸類(その酸無水物を含む)、脂肪族テトラカルボン酸類(その酸無水物を含む)、脂環族テトラカルボン酸類(その酸無水物を含む)を用いることができる。中でも、芳香族テトラカルボン酸無水物類、脂環族テトラカルボン酸無水物類が好ましく、耐熱性の観点からは芳香族テトラカルボン酸無水物類がより好ましく、光透過性の観点からは脂環族テトラカルボン酸類がより好ましい。これらが酸無水物である場合、分子内に無水物構造は1個であってもよいし2個であってもよいが、好ましくは2個の無水物構造を有するもの(二無水物)がよい。テトラカルボン酸類は単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。 Examples of the tetracarboxylic acids constituting the polyamic acid include aromatic tetracarboxylic acids (including the acid anhydride thereof), aliphatic tetracarboxylic acids (including the acid anhydride), and alicyclic tetracarboxylic acids usually used for polyimide synthesis. Acids (including their acid anhydrides) can be used. Among them, aromatic tetracarboxylic dianhydrides and alicyclic tetracarboxylic dianhydrides are preferable, aromatic tetracarboxylic dianhydrides are more preferable from the viewpoint of heat resistance, and alicyclics are more preferable from the viewpoint of light transmission. Group tetracarboxylic acids are more preferred. When these are acid anhydrides, the number of anhydride structures in the molecule may be one or two, but those having two anhydride structures (dianhydride) are preferable. Good. The tetracarboxylic acids may be used alone or in combination of two or more.

脂環族テトラカルボン酸類としては、例えば、シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸等の脂環族テトラカルボン酸、およびこれらの酸無水物が挙げられる。これらの中でも、2個の無水物構造を有する二無水物(例えば、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物等)が好適である。なお、脂環族テトラカルボン酸類は単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
脂環式テトラカルボン酸類は、透明性を重視する場合には、例えば、全テトラカルボン酸類の80質量%以上が好ましく、より好ましくは90質量%以上、さらに好ましくは95質量%以上である。
Examples of the alicyclic tetracarboxylic acid include cyclobutanetetracarboxylic acid, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid, 3,3', 4,4'-bicyclohexyltetracarboxylic acid and the like. Examples include carboxylic acids and their acid anhydrides. Among these, dianhydrides having two anhydride structures (eg, cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4 '-Bicyclohexyltetracarboxylic dianhydride, etc.) is suitable. The alicyclic tetracarboxylic acids may be used alone or in combination of two or more.
When transparency is important, the alicyclic tetracarboxylic acids are, for example, preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and further preferably 95% by mass or more of all tetracarboxylic acids.

芳香族テトラカルボン酸類としては、特に限定されないが、ピロメリット酸残基(すなわちピロメリット酸由来の構造を有するもの)であることが好ましく、その酸無水物であることがより好ましい。このような芳香族テトラカルボン酸類としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、4,4’−オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン酸無水物等が挙げられる。
芳香族テトラカルボン酸類は、耐熱性を重視する場合には、例えば、全テトラカルボン酸類の80質量%以上が好ましく、より好ましくは90質量%以上、さらに好ましくは95質量%以上である。
The aromatic tetracarboxylic acids are not particularly limited, but are preferably pyromellitic acid residues (that is, those having a structure derived from pyromellitic acid), and more preferably an acid anhydride thereof. Examples of such aromatic tetracarboxylic acids include pyromellitic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, and 3 , 3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis [4- (3,4-di) Carboxylic phenoxy) phenyl] propanoic acid anhydride and the like can be mentioned.
When heat resistance is important, the aromatic tetracarboxylic acids are, for example, preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and further preferably 95% by mass or more of all tetracarboxylic acids.

本発明のポリイミドフィルムは、ガラス転移温度が好ましくは250℃以上、より好ましくは300℃以上、さらに好ましくは350℃以上であり、あるいは500℃以下の領域においてガラス転移点が観測されないことが好ましい。本発明におけるガラス転移温度は、示差熱分析(DSC)により求めるものである。 In the polyimide film of the present invention, it is preferable that the glass transition temperature is preferably 250 ° C. or higher, more preferably 300 ° C. or higher, further preferably 350 ° C. or higher, or no glass transition point is observed in the region of 500 ° C. or lower. The glass transition temperature in the present invention is determined by differential thermal analysis (DSC).

本発明の縮合系高分子フィルムの線膨張係数(CTE)は、好ましくは、−5ppm/K〜+20ppm/Kであり、より好ましくは−5ppm/K〜+15ppm/Kであり、さらに好ましくは1ppm/K〜+10ppm/Kである。CTEが前記範囲であると、高分子複合フィルム全体の実効的な線膨張係数を小さく保つことができ、高分子複合フィルムの寸法安定性が向上する。
本発明における線膨張係数は30から200℃の間の平均の値を用いているが、用途によって、注目する温度範囲は変わり、高温でのプロセスを考慮して、30℃から400℃の範囲を調べる場合、100℃から400℃の範囲の場合もあり、半田付けを伴う場合には50℃から280℃の範囲を調べる場合、自動車部品などに応用される場合には使用温度範囲として、−50℃から150℃の範囲を重視する場合もありえる。
The coefficient of linear expansion (CTE) of the condensed polymer film of the present invention is preferably -5 ppm / K to + 20 ppm / K, more preferably -5 ppm / K to + 15 ppm / K, and further preferably 1 ppm / K. It is K to +10 ppm / K. When the CTE is in the above range, the effective coefficient of linear expansion of the entire polymer composite film can be kept small, and the dimensional stability of the polymer composite film is improved.
The coefficient of linear expansion in the present invention uses an average value between 30 and 200 ° C., but the temperature range of interest varies depending on the application, and the range of 30 ° C. to 400 ° C. is set in consideration of the process at high temperature. When examining, it may be in the range of 100 ° C to 400 ° C, when examining the range of 50 ° C to 280 ° C when soldering is involved, and when applied to automobile parts, etc., the operating temperature range is -50. In some cases, the range of ° C to 150 ° C is emphasized.

本発明における縮合系高分子フィルムの破断強度は、好ましくは60MPa以上、より好ましくは120MP以上、さらに好ましくは240MPa以上である。破断強度の上限に制限は無いが、事実上1000MPa程度未満である。なお、ここで前記縮合系高分子フィルムの破断強度とは、縮合系高分子フィルムの長さ方向と幅方向の平均値をさす。
本発明における縮合系高分子フィルムとシリコーン樹脂の接着強度は、前記縮合系高分子フィルムの破断強度の1/2以下であることが好ましい。
仮に、厚さ10μmのフィルムを用いた本発明の高分子複合フィルムにおいて、フィルムの接着強度が0.5N/cmであったとする。
幅10mmのフィルムに加わる破断力は、0.5N/(10μm×10mm)=0.5N/0.1mm=5MPaとなる。かような場合、フィルムにこの10倍程度すなわち50MPa以上の破断強度があれば、フィルムを剥離する際に支障なく剥離操作が可能となる。
該接着強度は、より好ましくは前記縮合系高分子フィルムの破断強度の1/3以下、さらに好ましくは1/4以下である。
The breaking strength of the condensed polymer film in the present invention is preferably 60 MPa or more, more preferably 120 MPa or more, still more preferably 240 MPa or more. There is no limit to the upper limit of breaking strength, but it is practically less than about 1000 MPa. Here, the breaking strength of the condensed polymer film refers to an average value in the length direction and the width direction of the condensed polymer film.
The adhesive strength between the condensed polymer film and the silicone resin in the present invention is preferably 1/2 or less of the breaking strength of the condensed polymer film.
It is assumed that the polymer composite film of the present invention using a film having a thickness of 10 μm has an adhesive strength of 0.5 N / cm.
The breaking force applied to the film having a width of 10 mm is 0.5 N / (10 μm × 10 mm) = 0.5 N / 0.1 mm 2 = 5 MPa. In such a case, if the film has a breaking strength of about 10 times this, that is, 50 MPa or more, the peeling operation can be performed without any trouble when peeling the film.
The adhesive strength is more preferably 1/3 or less, still more preferably 1/4 or less of the breaking strength of the condensed polymer film.

本発明における縮合系高分子フィルムの厚さ斑は、20%以下であることが好ましく、より好ましくは12%以下、さらに好ましくは7%以下、特に好ましくは4%以下である。厚さ斑が20%を超えると、狭小部へ適用し難くなる傾向がある。なお、フィルムの厚さ斑は、例えば接触式の膜厚計にて被測定フィルムから無作為に10点程度の位置を抽出してフィルム厚を測定し、下記式に基づき求めることができる。
フィルムの厚さ斑(%)
=100×(最大フィルム厚−最小フィルム厚)÷平均フィルム厚
The thickness unevenness of the condensed polymer film in the present invention is preferably 20% or less, more preferably 12% or less, still more preferably 7% or less, and particularly preferably 4% or less. If the thickness spots exceed 20%, it tends to be difficult to apply to narrow areas. The thickness unevenness of the film can be obtained, for example, by randomly extracting about 10 positions from the film to be measured with a contact-type film thickness meter and measuring the film thickness based on the following formula.
Film thickness spots (%)
= 100 x (maximum film thickness-minimum film thickness) ÷ average film thickness

本発明における縮合系高分子フィルムは、その製造時において幅が300mm以上、長さが10m以上の長尺フィルムとして巻き取られた形態で得られるものが好ましく、巻取りコアに巻き取られたロール状フィルムの形態のものがより好ましい。 The condensed polymer film in the present invention is preferably obtained in the form of being wound as a long film having a width of 300 mm or more and a length of 10 m or more at the time of its manufacture, and is a roll wound around a winding core. The one in the form of a shape film is more preferable.

縮合系高分子フィルムにおいては、ハンドリング性および生産性を確保する為、フィルム中に滑材(粒子)を添加・含有させて、縮合系高分子フィルムに微細な凹凸を付与して滑り性を確保することが好ましい。前記滑材(粒子)とは、好ましくは無機物からなる微粒子であり、金属、金属酸化物、金属窒化物、金属炭素化物、金属酸塩、リン酸塩、炭酸塩、タルク、マイカ、クレイ、その他粘土鉱物、等からなる粒子を用いることができる。好ましくは、酸化珪素、リン酸カルシウム、リン酸水素カルシウム、リン酸二水素カルシウム、ピロリン酸カルシウム、ヒドロキシアパタイト、炭酸カルシウム、ガラスフィラーなどの金属酸化物、リン酸塩、炭酸塩を用いることができる。滑材は1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 In the condensed polymer film, in order to ensure handleability and productivity, a lubricant (particle) is added and contained in the film to impart fine irregularities to the condensed polymer film to ensure slipperiness. It is preferable to do so. The lubricant (particles) are fine particles preferably composed of inorganic substances, such as metals, metal oxides, metal nitrides, metal carbonized products, metal acid salts, phosphates, carbonates, talc, mica, clay, and the like. Particles composed of clay minerals, etc. can be used. Preferably, metal oxides such as silicon oxide, calcium phosphate, calcium hydrogen phosphate, calcium dihydrogen phosphate, calcium pyrophosphate, hydroxyapatite, calcium carbonate, and glass filler, phosphates, and carbonates can be used. The lubricant may be of only one type or of two or more types.

前記滑材(粒子)の体積平均粒子径は、通常0.001〜10μmであり、好ましくは0.03〜2.5μm、より好ましくは0.05〜0.7μm、さらに好ましくは0.05〜0.3μmである。かかる体積平均粒子径は光散乱法で得られる測定値を基準とする。粒子径が下限より小さいと縮合系高分子フィルムの工業的生産が困難となり、また上限を超えると表面の凹凸が大きくなりすぎて貼り付け強度が弱くなり、実用上の支障が出る虞がある。 The volume average particle diameter of the lubricant (particle) is usually 0.001 to 10 μm, preferably 0.03 to 2.5 μm, more preferably 0.05 to 0.7 μm, and further preferably 0.05 to 0.05. It is 0.3 μm. The volume average particle diameter is based on the measured value obtained by the light scattering method. If the particle size is smaller than the lower limit, industrial production of the condensed polymer film becomes difficult, and if the particle size exceeds the upper limit, the surface irregularities become too large and the sticking strength becomes weak, which may cause practical problems.

前記滑材の添加量は、縮合系高分子フィルム中の高分子成分に対する添加量として、0.02〜50質量%であり、好ましくは0.04〜3質量%、より好ましくは0.08〜1.2質量%である。滑材の添加量が少なすぎると滑材添加の効果が期待し難く、滑り性の確保がそれほどなく縮合系高分子フィルム製造に支障をきたす場合があり、多すぎると、フィルムの表面凹凸が大きくなり過ぎて、滑り性の確保が見られても平滑性の低下を招いたり、縮合系高分子フィルムの破断強度や破断伸度の低下を招いたり、CTEの上昇を招く場合がある。 The amount of the lubricating material added is 0.02 to 50% by mass, preferably 0.04 to 3% by mass, and more preferably 0.08 to 0.08 to 50% by mass as the amount added to the polymer component in the condensed polymer film. It is 1.2% by mass. If the amount of the lubricating material added is too small, it is difficult to expect the effect of adding the lubricating material, and the slipperiness is not so ensured, which may hinder the production of the condensed polymer film. If the amount is too large, the surface unevenness of the film becomes large. Even if the slipperiness is ensured, the smoothness may be lowered, the breaking strength and breaking elongation of the condensed polymer film may be lowered, and the CTE may be increased.

縮合系高分子フィルムに滑材(粒子)を添加・含有させる場合、滑材が均一に分散した単層の縮合系高分子フィルムとしてもよいが、例えば、一方の面が滑材を含有させた縮合系高分子フィルムで構成され、他方の面が滑材を含有しないか含有していても滑材含有量が少量である縮合系高分子フィルムで構成された多層の縮合系高分子フィルムとしてもよい。このような多層高分子のフィルムにおいては、一方の層(フィルム)表面に微細な凹凸が付与されて該層(フィルム)で滑り性を確保することができ、良好なハンドリング性や生産性を確保できる。 When a lubricant (particles) is added / contained in the condensation polymer film, it may be a single-layer condensation polymer film in which the lubricant is uniformly dispersed. For example, one surface contains the lubricant. As a multi-layered condensed polymer film composed of a condensed polymer film and having a small amount of lubricating material even if the other surface does not contain or contains lubricating material. Good. In such a multilayer polymer film, fine irregularities are imparted to the surface of one layer (film) so that the layer (film) can ensure slipperiness, and good handleability and productivity can be ensured. it can.

多層縮合系高分子フィルムは、溶融延伸製膜法に製造されるフィルムの場合、例えばまず、滑剤含有しない縮合系高分子フィルム原料を用いてフィルム化を行い、その工程途上に置いて少なくともフィルムの片面に、滑剤を含有する樹脂層を塗布することにより得ることが出来る。もちろん、この逆で、滑剤を含有する縮合系高分子フィルム原料を用いてフィルム化を行い、その工程途上、ないし、フィルム化が完了した後に、滑剤を含有しない縮合系高分子フィルム原料を塗布してフィルムを得ることも出来る。
ポリイミドフィルムのような溶液製膜法を用いて得られる縮合系高分子フィルムの場合にも同様で、例えば、ポリアミド酸溶液(ポリイミドの前駆体溶液)として、滑材(好ましくは平均粒子径0.05〜2.5μm程度)をポリアミド酸溶液中のポリマー固形分に対して0.02質量%〜50質量%(好ましくは0.04〜3質量%、より好ましくは0.08〜1。2質量%)含有したポリアミド酸溶液と、滑材を含有しないか又はその含有量が少量(好ましくはポリアミド酸溶液中のポリマー固形分に対して0.02質量%未満、より好ましくは0.01質量%未満)である2種のポリアミド酸溶液を用いて製造することができる。
In the case of a film produced by the melt-stretching film forming method, for example, the multilayer condensation polymer film is first formed into a film using a lubricant-free condensed polymer film raw material, and at least in the process of the film. It can be obtained by applying a resin layer containing a lubricant on one side. Of course, the opposite is true, and film formation is performed using a condensing polymer film raw material containing a lubricant, and the condensing polymer film raw material containing no lubricant is applied during the process or after the film formation is completed. You can also get a film.
The same applies to a condensed polymer film obtained by using a solution film forming method such as a polyimide film. For example, as a polyamic acid solution (polyimide precursor solution), a lubricant (preferably an average particle size of 0. 0.02% by mass to 50% by mass (preferably 0.04 to 3% by mass, more preferably 0.08 to 1.2% by mass) with respect to the polymer solid content in the polyamic acid solution (about 05 to 2.5 μm). %) Containing polyamic acid solution and no lubricant or a small amount thereof (preferably less than 0.02% by mass, more preferably 0.01% by mass with respect to the polymer solid content in the polyamic acid solution). It can be produced by using two kinds of polyamic acid solutions (less than).

多層縮合系高分子フィルムの多層化(積層)方法は、両層の密着に問題が生じなければ、特に限定されるものではなく、かつ接着剤層などを介することなく密着するものであればよい。 The multi-layered (laminated) method of the multi-layer condensed polymer film is not particularly limited as long as there is no problem in the adhesion between the two layers, and any method may be used as long as it adheres without interposing an adhesive layer or the like. ..

ポリイミドフィルムの場合、例えば、i)一方のポリイミドフィルムを作製後、このポリイミドフィルム上に他方のポリアミド酸溶液を連続的に塗布してイミド化する方法、ii)一方のポリアミド酸溶液を流延しポリアミド酸フィルムを作製後このポリアミド酸フィルム上に他方のポリアミド酸溶液を連続的に塗布した後、イミド化する方法、iii)共押し出しによる方法、iv)滑材を含有しないか又はその含有量が少量であるポリアミド酸溶液で形成したフィルムの上に、滑材を多く含有するポリアミド酸溶液をスプレーコート、Tダイ塗工などで塗布してイミド化する方法などを例示できる。本発明では、上記i)ないし上記ii)の方法を用いることが好ましい。 In the case of a polyimide film, for example, i) a method of producing one polyimide film and then continuously applying the other polyamic acid solution on the polyimide film for imidization, ii) casting the one polyamic acid solution. After preparing the polyimide film, the other polyimide solution is continuously applied onto the polyimide film and then imidized, iii) the method by co-extrusion, iv) the lubricant is not contained or the content thereof is high. Examples thereof include a method of applying a polyimide solution containing a large amount of lubricating material on a film formed of a small amount of polyimide solution by spray coating, T-die coating, or the like to imidize the film. In the present invention, it is preferable to use the methods i) to ii) above.

多層の縮合系高分子フィルムにおける各層の厚さの比率は、特に限定されないが、滑材を多く含有する高分子層を(a)層、滑材を含有しないか又はその含有量が少量である高分子層を(b)層とすると、(a)層/(b)層は0.05〜0.95が好ましい。(a)層/(b)層が0.95を超えると(b)層の平滑性が失われがちとなり、一方0.05未満の場合、表面特性の改良効果が不足し易滑性が失われることがある。 The ratio of the thickness of each layer in the multilayer condensed polymer film is not particularly limited, but the polymer layer containing a large amount of lubricant is the layer (a), and the polymer layer containing no lubricant or its content is small. When the polymer layer is the layer (b), the layer (a) / layer (b) is preferably 0.05 to 0.95. If the number of the (a) layer / (b) layer exceeds 0.95, the smoothness of the (b) layer tends to be lost, while if it is less than 0.05, the effect of improving the surface characteristics is insufficient and the slipperiness is lost. May be struck.

<縮合系高分子フィルムの表面活性化処理>
本発明において用いられる縮合系高分子フィルムには表面活性化処理を行うことが好ましい。該表面活性化処理によって、縮合系高分子フィルム表面は官能基が存在する状態(いわゆる活性化した状態)に改質され、シランカップリング剤に対する接着性が向上する。
本発明における表面活性化処理とは、乾式、ないし湿式の表面処理である。本発明の乾式処理としては、紫外線、電子線、X線などの活性エネルギー線を表面に照射する処理、コロナ処理、真空プラズマ処理、常圧プラズマ処理、火炎処理、イトロ処理等を用いることが出来る。湿式処理としては、フィルム表面を酸ないしアルカリ溶液に接触させる処理を例示できる。本発明に置おいて好ましく用いられる表面活性化処理は、プラズマ処理であり、プラズマ処理と湿式の酸処理の組み合わせである。
<Surface activation treatment of condensed polymer film>
It is preferable that the condensed polymer film used in the present invention is subjected to a surface activation treatment. By the surface activation treatment, the surface of the condensed polymer film is modified to a state in which functional groups are present (so-called activated state), and the adhesiveness to the silane coupling agent is improved.
The surface activation treatment in the present invention is a dry or wet surface treatment. As the dry treatment of the present invention, treatment of irradiating the surface with active energy rays such as ultraviolet rays, electron beams, and X-rays, corona treatment, vacuum plasma treatment, atmospheric pressure plasma treatment, flame treatment, and itro treatment can be used. .. As the wet treatment, a treatment in which the film surface is brought into contact with an acid or alkaline solution can be exemplified. The surface activation treatment preferably used in the present invention is a plasma treatment, which is a combination of a plasma treatment and a wet acid treatment.

プラズマ処理は、特に限定されるものではないが、真空中でのRFプラズマ処理、マイクロ波プラズマ処理、マイクロ波ECRプラズマ処理、大気圧プラズマ処理、コロナ処理などがあり、フッ素を含むガス処理、イオン源を使ったイオン打ち込み処理、PBII法を使った処理、熱プラズマに暴露する火炎処理、イトロ処理なども含める。これらの中でも真空中でのRFプラズマ処理、マイクロ波プラズマ処理、大気圧プラズマ処理が好ましい。 The plasma treatment is not particularly limited, but includes RF plasma treatment in vacuum, microwave plasma treatment, microwave ECR plasma treatment, atmospheric pressure plasma treatment, corona treatment, etc., and gas treatment containing fluorine and ions. It also includes ion implantation treatment using a source, treatment using the PBII method, flame treatment exposed to thermal plasma, and itro treatment. Among these, RF plasma treatment in vacuum, microwave plasma treatment, and atmospheric pressure plasma treatment are preferable.

プラズマ処理の適当な条件としては、酸素プラズマ、CF4、C2F6などフッ素を含むプラズマなど化学的にエッチング効果が高いことが知られるプラズマ、或はNe,Ar、Kr,Xe、プラズマのように物理的なエネルギーを高分子表面に与えて物理的にエッチングする効果の高いプラズマによる処理が望ましい。また、CO2、CO、H2、N2、NH4、CH4などプラズマ、およびこれらの混合気体や、さらに水蒸気を付加することも好ましい。これらに加えてOH、N2, N, CO、CO2, H、H2、O2、NH、NH2、NH3、COOH、NO、NO2、 He, Ne, Ar, Kr, Xe, CH2O, Si(OCH3)4、 Si(OC2H5)4、C3H7Si(OCH3)3、 C3H7Si(OC2H5)3 といったからなる群から選ばれる少なくとも1種以上の成分を気体としてあるいはプラズマ中での分解物として含有したプラズマを作る必要がある。短時間での処理を目指す場合、プラズマのエネルギー密度が高く、プラズマ中のイオンの持つ運動エネルギーが高いもの、活性種の数密度が高いプラズマが望ましいが、表面平滑性を必要とするため、エネルギー密度を高める事には限界がある。酸素プラズマを使った時には、表面酸化が進み、OH基の生成という点ではよいのだが、既にフィルム自体との密着力に乏しい表面ができやすく、かつ表面のあれ(粗さ)が大きくなるため、密着性も悪くなる。また、Arガスを使ったプラズマでは純粋に物理的な衝突の影響が表面ではおこり、この場合も表面のあれが大きくなる。これら総合的に考えると、マイクロ波プラズマ処理、マイクロ波ECRプラズマ処理、高いエネルギーのイオンを打ち込みやすいイオン源によるプラズマ照射、PBII法なども望ましい。 Suitable conditions for plasma treatment include oxygen plasma, plasma containing fluorine such as CF4 and C2F6, and plasma known to have a high chemical etching effect, or physical such as Ne, Ar, Kr, Xe, and plasma. It is desirable to use plasma, which has a high effect of physically etching by applying a large amount of energy to the surface of the polymer. It is also preferable to add plasma such as CO2, CO, H2, N2, NH4, CH4, a mixed gas thereof, and water vapor. In addition to these, OH, N2, N, CO, CO2, H, H2, O2, NH, NH2, NH3, COOH, NO, NO2, He, Ne, Ar, Kr, Xe, CH2O, Si (OCH3) 4, It is necessary to create a plasma containing at least one component selected from the group consisting of Si (OC2H5) 4, C3H7Si (OCH3) 3, and C3H7Si (OC2H5) 3 as a gas or as a decomposition product in plasma. When aiming for processing in a short time, plasma with high energy density, high kinetic energy of ions in plasma, and plasma with high number density of active species are desirable, but energy is required because surface smoothness is required. There is a limit to increasing the density. When oxygen plasma is used, surface oxidation progresses, which is good in terms of forming OH groups, but it is easy to form a surface that already has poor adhesion to the film itself, and the surface roughness (roughness) increases. Adhesion also deteriorates. In addition, in plasma using Ar gas, the effect of purely physical collision occurs on the surface, and in this case as well, the surface roughness becomes large. Considering these comprehensively, microwave plasma treatment, microwave ECR plasma treatment, plasma irradiation with an ion source that can easily shoot high-energy ions, PBII method, and the like are also desirable.

かかる表面活性化処理は高分子表面を清浄化し、さらに活性な官能基を生成する。生成した官能基は、カップリング剤層と水素結合ないし化学反応により結びつき、縮合系高分子フィルム層とカップリング剤層とを強固に接着することが可能となる。
プラズマ処理においては縮合系高分子フィルム表面をエッチングする効果も得ることが出来る。特に滑剤粒子を比較的多く含む縮合系高分子フィルムにおいては、滑剤による突起が、フィルムとシリコーン樹脂との接着を阻害する場合がある。この場合、プラズマ処理によって縮合系高分子フィルム表面を薄くエッチングし、滑剤粒子の一部を露出せしめた上で、フッ酸にて処理を行えば、フィルム表面近傍の滑剤粒子を除去することが可能である。
Such surface activation treatment cleans the polymer surface and produces more active functional groups. The generated functional group is bound to the coupling agent layer by a hydrogen bond or a chemical reaction, and the condensed polymer film layer and the coupling agent layer can be firmly adhered to each other.
In the plasma treatment, the effect of etching the surface of the condensed polymer film can also be obtained. In particular, in a condensed polymer film containing a relatively large amount of lubricant particles, protrusions due to the lubricant may hinder the adhesion between the film and the silicone resin. In this case, it is possible to remove the lubricant particles near the film surface by thinly etching the surface of the condensed polymer film by plasma treatment to expose some of the lubricant particles and then treating with phosphoric acid. Is.

表面活性化処理は、縮合系高分子フィルムの片面のみに施してもよいし、両面に施してもよい。片面にプラズマ処理を行う場合、並行平板型電極でのプラズマ処理で片側の電極上に縮合系高分子フィルムを接して置くことにより、縮合系高分子フィルムの電極と接していない側の面のみにプラズマ処理を施すことができる。また2枚の電極間の空間に電気的に浮かせる状態で縮合系高分子フィルムを置くようにすれば、両面にプラズマ処理が行える。また、縮合系高分子フィルムの片面に保護フィルムを貼った状態でプラズマ処理を行うことで片面処理が可能となる。なお保護フィルムとしては粘着剤付のPETフィルムやオレフィンフィルムなどが使用できる。 The surface activation treatment may be applied to only one side of the condensed polymer film, or may be applied to both sides. When plasma treatment is performed on one side, the condensed polymer film is placed in contact with the electrode on one side by plasma treatment with the parallel plate type electrode, so that only the side of the condensed polymer film that is not in contact with the electrode is covered. Plasma treatment can be applied. Further, if the condensed polymer film is placed in a state of being electrically floated in the space between the two electrodes, plasma treatment can be performed on both surfaces. Further, single-sided treatment is possible by performing plasma treatment with a protective film attached to one side of the condensed polymer film. As the protective film, a PET film with an adhesive, an olefin film, or the like can be used.

<シランカップリング剤>
本発明におけるシランカップリング剤は、シリコーン樹脂と縮合系高分子フィルムとの間に物理的ないし化学的に介在し、両者間の接着力を高める作用を有する化合物を云う。
シランカップリング剤の好ましい具体例としては、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、2−(3,4−エポキシシクロへキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(ビニルベンジル)−2−アミノエチル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、トリス−(3−トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレート、クロロメチルフェネチルトリメトキシシラン、クロロメチルトリメトキシシラン、アミノフェニルトリメトキシシラン、アミノフェネチルトリメトキシシラン、アミノフェニルアミノメチルフェネチルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザンなどが挙げられる。
<Silane coupling agent>
The silane coupling agent in the present invention refers to a compound that physically or chemically intervenes between a silicone resin and a condensed polymer film and has an action of enhancing the adhesive force between the two.
Preferred specific examples of the silane coupling agent include N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, and N-2- ( Aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine, 2- (3,4-Epoxycyclohexyl) Ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, vinyltricrolsilane, Vinyl trimethoxysilane, vinyl triethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycid Xypropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-Acryloxipropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (vinylbenzyl) -2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, 3-ureidopropyltriethoxysilane , 3-Chloropropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, bis (triethoxysilylpropyl) tetrasulfide, 3-isocyanpropyltriethoxysilane, tris- (3-trimethoxy) Cyrilpropyl) isocyanurate, chloromethylphenetyltrimethoxysilane, chloromethyltrimethoxysilane, aminophenyltrimethoxysilane, aminophenetyltrimethoxysilane, aminophenylaminomethylphenetyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane and the like.

本発明で用いることのできるシランカップリング剤としては、上記のほかにn−プロピルトリメトキシシラン、ブチルトリクロロシラン、2−シアノエチルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリクロロシラン、デシルトリクロロシラン、ジアセトキシジメチルシラン、ジエトキシジメチルシラン、ジメトキシジメチルシラン、ジメトキシジフェニルシラン、ジメトキシメチルフェニルシラン、ドデシルリクロロシラン、ドデシルトリメトキシラン、エチルトリクロロシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、n−オクチルトリクロロシラン、n−オクチルトリエトキシシラン、n−オクチルトリメトキシシラン、トリエトキシエチルシラン、トリエトキシメチルシラン、トリメトキシメチルシラン、トリメトキシフェニルシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ペンチルトリクロロシラン、トリアセトキシメチルシラン、トリクロロヘキシルシラン、トリクロロメチルシラン、トリクロロオクタデシルシラン、トリクロロプロピルシラン、トリクロロテトラデシルシラン、トリメトキシプロピルシラン、アリルトリクロロシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ジメトキシメチルビニルシラン、トリクロロビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、トリクロロ−2−シアノエチルシラン、ジエトキシ(3−グリシジルオキシプロピル)メチルシラン、3−グリシジルオキシプロピル(ジメトキシ)メチルシラン、3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、などを使用することもできる。 In addition to the above, silane coupling agents that can be used in the present invention include n-propyltrimethoxysilane, butyltrichlorosilane, 2-cyanoethyltriethoxysilane, cyclohexyltrichlorosilane, decyltrichlorosilane, diacetoxydimethylsilane, and diacetoxydimethylsilane. Ethoxydimethylsilane, dimethoxydimethylsilane, dimethoxydiphenylsilane, dimethoxymethylphenylsilane, dodecyllichlorosilane, dodecyltrimethoxylane, ethyltrichlorosilane, hexyltrimethoxysilane, octadecyltriethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, n-octyltrichlorosilane , N-octyltriethoxysilane, n-octyltrimethoxysilane, triethoxyethylsilane, triethoxymethylsilane, trimethoxymethylsilane, trimethoxyphenylsilane, pentyltriethoxysilane, pentyllichlorosilane, triacetoxymethylsilane, trichloro Hexylsilane, trichloromethylsilane, trichlorooctadecylsilane, trichloropropylsilane, trichlorotetradecylsilane, trimethoxypropylsilane, allyltrichlorosilane, allyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane, diethoxymethylvinylsilane, dimethoxymethylvinylsilane, trichlorovinylsilane , Triethoxyvinylsilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, trichloro-2-cyanoethylsilane, diethoxy (3-glycidyloxypropyl) methylsilane, 3-glycidyloxypropyl (dimethoxy) methylsilane, 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, Etc. can also be used.

また、シランカップリング剤の中に他のアルコキシラン類、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどを適宜加えても良い。 Further, other alkoxylans such as tetramethoxysilane and tetraethoxysilane may be appropriately added to the silane coupling agent.

また、シランカップリング剤の中に他のアルコキシラン類、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどを適宜加えた場合、あるいは、加えない場合も含めて、混合、加熱操作を加えて、反応を若干進めてから、使用しても良い。 In addition, mixing and heating operations are added to the silane coupling agent, including cases where other alkoxylans such as tetramethoxysilane and tetraethoxysilane are appropriately added or not added, to slightly react the reaction. You may use it after proceeding.

かかるシランカップリング剤の中で、本発明にて好ましく用いられるシランカップリング剤はカップリング剤の、一分子あたりに一個の珪素原子を有する化学構造のシランカップリング剤が好ましい。
本発明では、特に好ましいシランカップリング剤としては、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、2−(3,4−エポキシシクロへキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、アミノフェニルトリメトキシシラン、アミノフェネチルトリメトキシシラン、アミノフェニルアミノメチルフェネチルトリメトキシシランなどが挙げられる。プロセスで特に高い耐熱性が要求される場合、Siとアミノ基の間を芳香族基でつないだものが望ましい。
なお本発明では必要に応じて、リン系カップリング剤、チタネート系カップリング剤等を併用しても良い。
Among such silane coupling agents, the silane coupling agent preferably used in the present invention is preferably a silane coupling agent having a chemical structure having one silicon atom per molecule.
In the present invention, particularly preferable silane coupling agents include N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, and N-2. -(Aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, aminophenyl Examples thereof include trimethoxysilane, aminophenyl trimethoxysilane, and aminophenyl aminomethylphenyl trimethoxysilane. When particularly high heat resistance is required in the process, it is desirable that Si and an amino group are connected by an aromatic group.
In the present invention, a phosphorus-based coupling agent, a titanate-based coupling agent, or the like may be used in combination, if necessary.

<シランカップリング剤の塗布方法>
従来の技術では、シランカップリング剤の塗布は、シランカップリング剤をアルコールなどの溶媒で希釈した溶液状態で行われる。しかしながら、本発明ではこのシランカップリング剤塗布工程を気相を介して行うことに特徴がある。すなわち本発明での、気化させたシランカップリング剤に縮合系高分子フィルムを暴露することにより塗布を行う。シランカップリング剤塗布をシランカップリング剤処理と言い換えても良い。気化とはシランカップリング剤の蒸気、すなわち実質的に気体状態のシランカップリング剤あるいは、微粒子状態のシランカップリング剤が存在する状態を指す。暴露とは、前記の気化したはシランカップリング剤を含んだ気体あるいは真空状態に縮合系高分子フィルムが接触していることを言う。
<Application method of silane coupling agent>
In the conventional technique, the application of the silane coupling agent is performed in a solution state in which the silane coupling agent is diluted with a solvent such as alcohol. However, the present invention is characterized in that this silane coupling agent coating step is performed via the gas phase. That is, the coating is performed by exposing the condensed polymer film to the vaporized silane coupling agent of the present invention. The application of the silane coupling agent may be paraphrased as the treatment of the silane coupling agent. Vaporization refers to the state in which the vapor of the silane coupling agent, that is, the silane coupling agent in a substantially gaseous state or the silane coupling agent in a fine particle state is present. The exposure means that the condensed polymer film is in contact with the gas containing the vaporized silane coupling agent or a vacuum state.

シランカップリング剤の蒸気は、液体状態のシランカップリング剤を40℃〜シランカップリング剤の沸点までの温度に加温することによって容易に得ることが出来る。シランカップリング剤の上記は沸点以下であっても生成する。シランカップリング剤の微粒子が共存する状態も利用できる。また、温度圧力の操作によって、蒸気密度を高める操作を行っても良い。シランカップリング剤の沸点は、化学構造によって異なるが、概ね100〜250℃の範囲である。ただし200℃以上の加熱は、シランカップリング剤の有機基側の副反応を招く恐れがあるため好ましくない。 The vapor of the silane coupling agent can be easily obtained by heating the liquid silane coupling agent to a temperature from 40 ° C. to the boiling point of the silane coupling agent. The above silane coupling agent is produced even if it is below the boiling point. A state in which fine particles of the silane coupling agent coexist can also be used. Further, the steam density may be increased by manipulating the temperature and pressure. The boiling point of the silane coupling agent varies depending on the chemical structure, but is generally in the range of 100 to 250 ° C. However, heating at 200 ° C. or higher is not preferable because it may cause a side reaction on the organic group side of the silane coupling agent.

シランカップリング剤を加温する環境は、加圧下、常圧下、減圧下のいずれでも構わないが、シランカップリング剤の気化を促進する場合には概ね常圧下ないし減圧下が好ましい。シランカップリング剤は可燃性液体に分類されることが多いため、密閉容器内にて、好ましくは容器内を不活性ガスで置換した後に気化作業を行うことが好ましい。
一方、生産効率向上および生産設備価格低減の観点からは、真空を使わない環境でのシランカップリング剤塗布が望ましい。例えば、チャンバー内に常圧下にて縮合系高分子フィルムをセットし、チャンバー内を気化したシランカップリング剤を含む概ね常圧のキャリアガスを満たしてシランカップリング剤を堆積してから、再び気化したシランカップリング剤の無い状態に戻すまで、概略大気圧のままで行うことができる。
The environment for heating the silane coupling agent may be any of pressure, normal pressure, and reduced pressure, but in the case of promoting vaporization of the silane coupling agent, it is generally preferable to use normal pressure or reduced pressure. Since the silane coupling agent is often classified as a flammable liquid, it is preferable to carry out the vaporization work in a closed container, preferably after replacing the inside of the container with an inert gas.
On the other hand, from the viewpoint of improving production efficiency and reducing the price of production equipment, it is desirable to apply a silane coupling agent in an environment that does not use vacuum. For example, a condensed polymer film is set in the chamber under normal pressure, the inside of the chamber is filled with a carrier gas at substantially normal pressure containing a silane coupling agent vaporized, and the silane coupling agent is deposited, and then vaporized again. It can be carried out at approximately atmospheric pressure until the state without the silane coupling agent is returned.

縮合系高分子フィルムを気化したシランカップリング剤に暴露する時間は特に制限されないが、20時間以内、好ましくは60分以内、さらに好ましくは15分以内、なおさらに好ましくは1分以内である。
縮合系高分子フィルムを気化したシランカップリング剤に暴露する間の縮合系高分子フィルム温度は、シランカップリング剤の種類と、求めるシランカップリング剤層の厚さにより−50℃から200℃の間の適正な温度に制御することが好ましい。
The time for exposing the condensed polymer film to the vaporized silane coupling agent is not particularly limited, but is within 20 hours, preferably within 60 minutes, more preferably within 15 minutes, and even more preferably within 1 minute.
The temperature of the condensed polymer film during exposure of the condensed polymer film to the vaporized silane coupling agent is -50 ° C to 200 ° C depending on the type of the silane coupling agent and the desired thickness of the silane coupling agent layer. It is preferable to control the temperature between them.

気化したシランカップリング剤に暴露された縮合系高分子フィルムは、好ましくは、暴露後に、70℃〜200℃、さらに好ましくは75℃〜150℃に加熱される。かかる加熱によって、縮合系高分子フィルム表面の水酸基などと、シランカップリング剤のアルコキシ基やシラザン基が反応し、シランカップリング剤処理が完了する。加熱に要する時間は10秒以上10分程度以内である。温度が高すぎたり、時間が長すぎる場合にはカップリング剤の劣化が生じる場合がある。また短すぎると処理効果が得られない。なお、シランカップリング剤に暴露中の基板温度が既に80℃以上である場合には、事後の加熱を省略することも出来る。なお、本加熱温度ないし時間が縮合系高分子フィルムの耐熱性に依存する。かかる処理の条件自由度を高める上において、耐熱性の高い縮合系高分子フィルムの使用が好ましい。 The condensed polymer film exposed to the vaporized silane coupling agent is preferably heated to 70 ° C. to 200 ° C., more preferably 75 ° C. to 150 ° C. after exposure. By such heating, the hydroxyl group on the surface of the condensed polymer film reacts with the alkoxy group or the silazane group of the silane coupling agent, and the silane coupling agent treatment is completed. The time required for heating is 10 seconds or more and 10 minutes or less. If the temperature is too high or the time is too long, the coupling agent may deteriorate. If it is too short, the processing effect cannot be obtained. If the substrate temperature during exposure to the silane coupling agent is already 80 ° C. or higher, the subsequent heating can be omitted. The heating temperature or time depends on the heat resistance of the condensed polymer film. In order to increase the degree of freedom in the conditions of such treatment, it is preferable to use a condensed polymer film having high heat resistance.

また、気化したシランカップリング剤を含む気体を高分子基板に暴露させる部屋に導入する際に、一旦2つ以上に気体を分離して導入すること、2つ以上の気体を前記部屋内で衝突させることで乱流を生じさせ、シランカップリング剤分布を均一化させる操作なども有効である。
シランカップリング剤を気化させる方式としては、加熱による蒸発気化以外に、シランカップリング剤液中に気体を導入して気泡を発生させる方式も好ましい。これを以後バブリングと呼ぶ。バブリングについては、単純に気体の通る配管をシランカップリング剤液に入れること、配管の先に多孔質体を取り付けて、微細な気泡が数多く出るようにしたもの、超音波を重畳して、気化を促すものも有効である。
また、気化したシランカップリング剤には、荷電したものが多く、暴露時に縮合系高分子フィルムに電界を加えることにより多くのシランカップリング剤を短時間で堆積でき、かつシランカップリング剤が運動エネルギーを持つため、堆積膜が、島状膜になることを抑制できる。また、使用するキャリアガスについては、水分が含まれていると、この水分とシランカップリング剤の反応が始まることが知られている。このため、露点が低いことが有効である。望ましくは、露点15℃以下、さらに望ましくは10℃以下、さらに望ましくは、5℃以下である。
In addition, when introducing a gas containing a vaporized silane coupling agent into a room where the polymer substrate is exposed, once the gas is separated into two or more and introduced, the two or more gases collide in the room. It is also effective to generate a turbulent flow by causing the silane coupling agent to be distributed uniformly.
As a method for vaporizing the silane coupling agent, in addition to evaporative vaporization by heating, a method of introducing a gas into the silane coupling agent liquid to generate bubbles is also preferable. This is hereafter referred to as bubbling. For bubbling, simply put a pipe through which gas passes into a silane coupling agent solution, attach a porous body to the tip of the pipe so that many fine bubbles are emitted, and vaporize by superimposing ultrasonic waves. What encourages is also effective.
In addition, many vaporized silane coupling agents are charged, and many silane coupling agents can be deposited in a short time by applying an electric field to the condensed polymer film at the time of exposure, and the silane coupling agents move. Since it has energy, it is possible to prevent the sedimentary film from becoming an island-like film. Further, it is known that when the carrier gas used contains water, the reaction between the water and the silane coupling agent starts. Therefore, it is effective that the dew point is low. Desirably, the dew point is 15 ° C. or lower, more preferably 10 ° C. or lower, and even more preferably 5 ° C. or lower.

さらに本発明においてキャリアガスの露点を0℃以下とすることで、水分とシランカップリング剤の反応を高度に抑制すれば、堆積初期の堆積膜の膜厚が不均一な状態でのシランカップリング剤反応が抑制され、結果的に堆積膜の膜厚が十分に均一に達した後に均一に反応が生じるため、表面の極微細な凹凸が抑制され、極めて平滑な表面状態を実現する事ができる。 Further, in the present invention, if the dew point of the carrier gas is set to 0 ° C. or lower to highly suppress the reaction between the water content and the silane coupling agent, the silane coupling in a state where the film thickness of the deposited film at the initial stage of deposition is non-uniform. Since the agent reaction is suppressed, and as a result, the reaction occurs uniformly after the film thickness of the deposited film reaches sufficiently uniform, extremely fine irregularities on the surface are suppressed, and an extremely smooth surface state can be realized. ..

シランカップリング剤の塗布方法として具体的に以下の方法を例示できる。
・バブリング方式により気化させたシランカップリング剤に縮合系高分子フィルムを暴露させることにより、シランカップリング剤層を形成する方法。
・気化させたシランカップリング剤に縮合系高分子フィルムを暴露させることにより、シランカップリング剤層を形成する工程において、露点0℃以下の乾燥気体をキャリアガスとして使用する方法。
・気化させたシランカップリング剤に縮合系高分子フィルムを暴露させることにより、シランカップリング剤層を形成する工程において、露点5℃以上の気体を共存させる方法。
・気化させたシランカップリング剤に縮合系高分子フィルムを暴露させることにより、シランカップリング剤層を形成する工程において、該縮合系高分子フィルムに電界を加える方法。
・シランカップリング剤層の形成前に、縮合系高分子フィルムのシランカップリング剤層形成面に活性化処理を行う方法
The following methods can be specifically exemplified as a method for applying the silane coupling agent.
-A method of forming a silane coupling agent layer by exposing a condensed polymer film to a silane coupling agent vaporized by a bubbling method.
A method in which a dry gas having a dew point of 0 ° C. or lower is used as a carrier gas in a step of forming a silane coupling agent layer by exposing a condensed polymer film to a vaporized silane coupling agent.
-A method in which a gas having a dew point of 5 ° C or higher coexists in a step of forming a silane coupling agent layer by exposing a condensed polymer film to a vaporized silane coupling agent.
A method of applying an electric field to the condensed polymer film in a step of forming a silane coupling agent layer by exposing the condensed polymer film to a vaporized silane coupling agent.
-A method of activating the surface of the condensation polymer film on which the silane coupling agent layer is formed before forming the silane coupling agent layer.

有機系縮合系高分子フィルム/シリコーン樹脂高分子複合フィルムのシランカップリング剤層に存在する長径10μm以上の珪素含有異物数は2000個/m以下、好ましくは1000個/m以下、更には500個/m以下とすることが、本発明の好ましい形態である。また前記操作を組み合わせる事により珪素含有異物数は達成可能である。 The number of silicon-containing foreign substances having a major axis of 10 μm or more present in the silane coupling agent layer of the organic condensation polymer film / silicone resin polymer composite film is 2000 / m 2 or less, preferably 1000 / m 2 or less, and further. A preferred embodiment of the present invention is 500 pieces / m 2 or less. Further, the number of silicon-containing foreign substances can be achieved by combining the above operations.

カップリング剤の塗布量、厚さについては理論上は1分子層あれば事足り、機械設計的には無視できるレベルの厚さで十分である。一般的には200nm未満(0.2μm未満)であり、150nm以下(0.15μm以下)が好ましく、さらに実用上は100nm以下(0.1μm以下)が好ましく、より好ましくは50nm以下、さらに好ましくは10nm以下である。ただし計算上5nm以下の領域になるとカップリング剤が均一な塗膜としてではなく、クラスター状に存在するケースが想定され、余り好ましくはない。シランカップリング剤層は、シリコーン樹脂との密着することが、接着のため必要となる。液体や柔軟な層を介した接触ではなく、固体と固体が接触するため、まずは接触しないと接着はできない。フィルムは柔軟さがあるのだが、微細な表面粗さには追従できないため、表面粗さは5.0nm以下が必要となり、望ましくは3.0nm以下がよく、さらに望ましくは、1.0nm以下がよい。
カップリング剤層の膜厚は、エリプソメトリー法、蛍光X線法、ICP法による灰化分析または塗布時のカップリング剤溶液の濃度と塗布量から計算して求めることができる。
Theoretically, one molecular layer is sufficient for the coating amount and thickness of the coupling agent, and a thickness that can be ignored in terms of mechanical design is sufficient. Generally, it is less than 200 nm (less than 0.2 μm), preferably 150 nm or less (0.15 μm or less), more preferably 100 nm or less (0.1 μm or less), more preferably 50 nm or less, still more preferably. It is 10 nm or less. However, in the calculation, when the region is 5 nm or less, it is assumed that the coupling agent exists in a cluster form rather than as a uniform coating film, which is not very preferable. The silane coupling agent layer needs to be in close contact with the silicone resin for adhesion. Since solids come into contact with each other rather than through a liquid or a flexible layer, adhesion cannot be achieved without first contact. Although the film is flexible, it cannot follow the fine surface roughness, so the surface roughness needs to be 5.0 nm or less, preferably 3.0 nm or less, and more preferably 1.0 nm or less. Good.
The film thickness of the coupling agent layer can be calculated from the concentration and coating amount of the coupling agent solution at the time of incineration analysis by ellipsometry method, fluorescent X-ray method, ICP method or coating.

<高分子複合フィルム製造方法>
本発明では、シランカップリング剤層を形成した縮合系高分子フィルムのシランカップリング剤層側に、液状のジメチルシロキサン樹脂を塗布し、その後化学反応によって硬化・固体化させる方法により縮合系高分子フィルムとシリコーン樹脂の高分子複合フィルムを得ることが出来る。
シリコーン樹脂の硬化は主として水酸基(−OH)とメトキシ基(−OCH3)または水酸基どうしが脱水反応ないし脱アルコール反応を生じることにより高分子量化、架橋化することによる。通常、この反応は200℃〜250℃にて生ずるが、硬化触媒の使用や、シリコーン樹脂の変性による下げることができる。
液状シリコーン樹脂の塗布は、スピンコート、ディップコート、バーコート、アプリケーターダイコーと、コンマコーター、スクリーン印刷グラビア印刷、キャピラリーコート、スプレーコートなど、公知の塗布方法を用いる事ができる。本発明におけるシリコーン樹脂の厚さは、好ましくは0.5μm〜10mm、であり、さらに好ましくは2μm〜3mmであり、なお好ましくは5μm以上500μm以下である。
また本発明では、シリコーン樹脂のフィルム、ないしシートの表面を活性化させ、シランカップリング剤塗布縮合系高分子フィルムと重ね合わせて加熱加圧することによっても高分子複合フィルムを得ることが出来る。この際にシリコーン樹脂に未反応基が残存している状態である事が好ましい。言い換えればBステージ状態のシリコーン樹脂を用いる事で、効率よく高分子複合フィルムを得ることが出来る。加熱加圧の手法としてはロールラミ方法、プレス法などを用いる事が出来る、ブリスターなどの無い精密な高分子複合フィルムを得るためには真空プレス装置の使用が好ましい。
<Polymer composite film manufacturing method>
In the present invention, a liquid dimethylsiloxane resin is applied to the silane coupling agent layer side of the condensation polymer film on which the silane coupling agent layer is formed, and then the condensation polymer is cured and solidified by a chemical reaction. A polymer composite film of a film and a silicone resin can be obtained.
Curing of a silicone resin is mainly due to high molecular weight and cross-linking due to a dehydration reaction or a dealcoholization reaction between a hydroxyl group (-OH) and a methoxy group (-OCH3) or hydroxyl groups. Normally, this reaction occurs at 200 ° C. to 250 ° C., but it can be reduced by using a curing catalyst or modifying the silicone resin.
For coating the liquid silicone resin, known coating methods such as spin coating, dip coating, bar coating, applicator Daiko, comma coater, screen printing gravure printing, capillary coating, and spray coating can be used. The thickness of the silicone resin in the present invention is preferably 0.5 μm to 10 mm, more preferably 2 μm to 3 mm, and still more preferably 5 μm or more and 500 μm or less.
Further, in the present invention, a polymer composite film can also be obtained by activating the surface of a silicone resin film or sheet, superimposing it on a silane coupling agent-coated condensed polymer film, and heating and pressurizing it. At this time, it is preferable that unreacted groups remain in the silicone resin. In other words, a polymer composite film can be efficiently obtained by using a silicone resin in the B stage state. As a method of heating and pressurizing, a roll laminating method, a pressing method, or the like can be used, and it is preferable to use a vacuum pressing device in order to obtain a precise polymer composite film without blisters or the like.

本発明において、シリコーン樹脂層と高分子フィルムの剥離強度は0.3N/cm以上、15N/cm以下である。剥離強度は0.4N/cm以上、12N/cm以下が好ましく、0.7N/cm以上、10N/cm以下がさらに好ましく、1.5N/cm以上、8N/cm以下が好ましい。シリコーン樹脂層と高分子フィルムの剥離強度は、高分子フィルムの表面処理、シランカップリング剤の塗布条件、塗布量、塗布膜厚、積層条件によって制御可能である。特に重要なパラメーターはシランカップリング剤の厚さであり、概ねシランカップリング剤層の厚さを40nm以下とする事で剥離強度を所定の範囲無いに治める事が出来る。 In the present invention, the peel strength between the silicone resin layer and the polymer film is 0.3 N / cm or more and 15 N / cm or less. The peel strength is preferably 0.4 N / cm or more and 12 N / cm or less, more preferably 0.7 N / cm or more and 10 N / cm or less, and preferably 1.5 N / cm or more and 8 N / cm or less. The peel strength between the silicone resin layer and the polymer film can be controlled by the surface treatment of the polymer film, the coating conditions of the silane coupling agent, the coating amount, the coating film thickness, and the lamination conditions. A particularly important parameter is the thickness of the silane coupling agent, and by setting the thickness of the silane coupling agent layer to 40 nm or less, the peel strength can be controlled within a predetermined range.

<高分子複合フィルムの応用分野>
本発明の高分子複合フィルムは、シリコーン樹脂の持つ柔軟性、耐熱性、電気特性、化学的耐久性と、縮合系高分子フィルムの剛性とを併せ持つ優れた特性を示す。
耐熱性かつ寸法安定性の良い縮合系高分子フィルムの両面にシリコーン樹脂を配置した高分子複合フィルムは、良好な電気特性と、良好な寸法安定性を両立するため、高周波回路基板、高周波アンテナ基板として応用できる。
縮合系高分子フィルムをシームレスパイプ、ないしシームレスベルト状に形成し、その表面にシリコーン樹脂層を形成したシームレスパイプないしシームレスベルトは、レーザープリンターなどのトナー画像の熱由宇着による定着ベルトや、静電気画像を搬送、重ね合わせるためのキャリアベルトとして有用である。
本発明の高分子複合フィルムをプレス時のクッション材として用いれば、厚さ方向の良好なクッション性と、面方向での剛直性を両立し、さらに繊維補強体のような面方向の斑も無いため、非常に精緻で良好なプレス物を得ることができる。
<Application fields of polymer composite films>
The polymer composite film of the present invention exhibits excellent properties that combine the flexibility, heat resistance, electrical properties, and chemical durability of a silicone resin with the rigidity of a condensed polymer film.
A polymer composite film in which silicone resins are arranged on both sides of a condensed polymer film having good heat resistance and dimensional stability is a high-frequency circuit board and a high-frequency antenna substrate in order to achieve both good electrical characteristics and good dimensional stability. Can be applied as.
A seamless pipe or seamless belt in which a condensed polymer film is formed into a seamless pipe or seamless belt and a silicone resin layer is formed on the surface thereof is a fixing belt or electrostatic image of a toner image of a laser printer or the like. It is useful as a carrier belt for transporting and stacking.
When the polymer composite film of the present invention is used as a cushioning material during pressing, both good cushioning in the thickness direction and rigidity in the surface direction are achieved, and there is no unevenness in the surface direction unlike a fiber reinforced concrete body. Therefore, a very delicate and good pressed product can be obtained.

以下、実施例及び比較例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例によって限定されるものではない。なお、以下の実施例における物性の評価方法は下の通りである。
1.ポリアミド酸の還元粘度(ηsp/C)
ポリマー濃度が0.2g/dlとなるようにN−メチルー−2−ピロリドン(又は、N,N−ジメチルアセトアミド)に溶解した溶液をウベローデ型の粘度管により30℃で測定した。(ポリアミド酸溶液の調製に使用した溶媒がN,N−ジメチルアセトアミドの場合は、N,N−ジメチルアセトアミドを使用してポリマーを溶解し、測定した。)
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples. The evaluation method of physical properties in the following examples is as follows.
1. 1. Reducing viscosity of polyamic acid (ηsp / C)
A solution dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone (or N, N-dimethylacetamide) so that the polymer concentration was 0.2 g / dl was measured at 30 ° C. using an Ubbelohde type viscosity tube. (When the solvent used to prepare the polyamic acid solution was N, N-dimethylacetamide, the polymer was dissolved using N, N-dimethylacetamide and measured.)

2.高分子フィルムなどの厚さ
マイクロメーター(ファインリューフ社製、ミリトロン1245D)を用いて測定した。
3.高分子フィルムの引張弾性率、引張破断強度および引張破断伸度
測定対象のポリイミドフィルムを、流れ方向(MD方向)および幅方向(TD方向)にそれぞれ100mm×10mmの短冊状に切り出したものを試験片とした。引張試験機(島津製作所製、オートグラフ(R) 機種名AG−5000A)を用い、引張速度50mm/分、チャック間距離40mmの条件で、MD方向、TD方向それぞれについて、引張弾性率、引張破断強度及び引張破断伸度を測定した。
2. The thickness of a polymer film or the like was measured using a micrometer (Millitron 1245D manufactured by Finereuf).
3. 3. Tension elastic modulus, tensile breaking strength and tensile breaking elongation of the polymer film The polyimide film to be measured is cut into strips of 100 mm × 10 mm in the flow direction (MD direction) and width direction (TD direction), respectively, and tested. I made a piece. Using a tensile tester (manufactured by Shimadzu Corporation, Autograph (R) model name AG-5000A), the tensile elastic modulus and tensile fracture in each of the MD and TD directions under the conditions of a tensile speed of 50 mm / min and a chuck distance of 40 mm. The strength and tensile modulus at break were measured.

4.90度剥離強度
JISK6854−1 の90度剥離法に従って、高分子複合フィルムの縮合系高分子からなる層と、ポリジメチルシロキサンからなる層の接着強度を求めた。具体的には
ポリイミドフィルム/得られた高分子複合フィルム/ガラス板となるように、各々を信越化学工業株式会社製二液型RTVシリコーンゴム KE-1800T-A/Bを接着剤にもちいて接着し、ガラス板を90度剥離測定治具に固定し、ポリイミドフィルムを引っ張り上げて、剥離界面がポリジメチルシロキサン層と縮合系高分子フィルム層との界面となるようにして剥離強度を求めた。
装置名 ; 島津製作所社製 オートグラフAG−IS
測定温度 ; 室温
剥離速度 ; 50mm/min
雰囲気 ; 大気
測定サンプル幅 ; 1cm
4. 90-degree peel strength According to the 90-degree peeling method of JISK6854-1, the adhesive strength between the layer made of a condensed polymer of a polymer composite film and the layer made of polydimethylsiloxane was determined. Specifically, each is bonded using a two-component RTV silicone rubber KE-1800T-A / B manufactured by Shinetsu Chemical Industry Co., Ltd. so that it becomes a polyimide film / obtained polymer composite film / glass plate. Then, the glass plate was fixed to a 90-degree peeling measuring jig, and the polyimide film was pulled up so that the peeling interface became the interface between the polydimethylsiloxane layer and the condensed polymer film layer, and the peeling strength was determined.
Device name; Autograph AG-IS manufactured by Shimadzu Corporation
Measurement temperature; Room temperature peeling speed; 50 mm / min
Atmosphere; Atmosphere measurement sample width; 1 cm

5.線膨張係数(CTE)
測定対象の高分子フィルムを、流れ方向(MD方向)および幅方向(TD方向)において、下記条件にて伸縮率を測定し、30℃〜45℃、45℃〜60℃、…と15℃の間隔での伸縮率/温度を測定し、この測定を300℃まで行い、全測定値の平均値をCTEとして算出した。
機器名 ; MACサイエンス社製TMA4000S
試料長さ ; 20mm
試料幅 ; 2mm
昇温開始温度 ; 25℃
昇温終了温度 ; 400℃
昇温速度 ; 5℃/min
雰囲気 ; アルゴン
初荷重 ;34.5g/mm2
5. Coefficient of linear expansion (CTE)
The expansion and contraction ratio of the polymer film to be measured was measured in the flow direction (MD direction) and width direction (TD direction) under the following conditions, and the temperature was 30 ° C to 45 ° C, 45 ° C to 60 ° C, ... And 15 ° C. The expansion / contraction rate / temperature at intervals was measured, this measurement was performed up to 300 ° C., and the average value of all the measured values was calculated as CTE.
Device name; TMA4000S manufactured by MAC Science
Sample length; 20 mm
Sample width; 2 mm
Temperature rise start temperature; 25 ° C
Temperature rise end temperature; 400 ° C
Heating rate; 5 ° C / min
Atmosphere; Argon initial load; 34.5 g / mm2

6.無機粒子の平均粒子径
測定対象の無機粒子を後述のように溶媒に分散し、堀場製作所社製のレーザー散乱式粒度分布計LB−500により粒子径分布を求め、重量(体積)平均粒子径とCV値を算出した。
6. Average particle size of inorganic particles The inorganic particles to be measured were dispersed in a solvent as described later, and the particle size distribution was obtained with a laser scattering type particle size distribution meter LB-500 manufactured by Horiba Seisakusho Co., Ltd., and the weight (volume) average particle size was obtained. The CV value was calculated.

7.カップリング剤層厚さの測定法
カップリング層厚さはSiウエハに作製した膜厚を測定した。
膜厚測定法は、エリプソメトリーにて行い、測定器はPhotal社製FE-5000を使用した。
この測定器のハード仕様は以下の通りである。
反射角度範囲 45から80°、波長範囲 250から800nm、波長分解能1.25nm、スポット径 1mm、tanΨ 測定精度±0.01、cosΔ 測定精度±0.01、方式回転検光子法。測定は偏向子角度 45°、入射 70°固定、検光子は11.25°刻みで0〜360°、250〜800nmの測定を行った。
非線形最小2乗法によるフィッティングで、膜厚を求めた。このとき、モデルとしては、Air/薄膜/Siのモデルで、
n=C3/λ4+C2/λ2+C1
k=C6/λ4+C5/λ2+C4
の式で波長依存C1〜C6を求めた。
7. 7. Method for measuring the thickness of the coupling agent layer The thickness of the coupling layer was measured by measuring the film thickness produced on the Si wafer.
The film thickness was measured by ellipsometry, and the measuring instrument was FE-5000 manufactured by Photal.
The hardware specifications of this measuring instrument are as follows.
Reflection angle range 45 to 80 °, wavelength range 250 to 800 nm, wavelength resolution 1.25 nm, spot diameter 1 mm, tanΨ measurement accuracy ± 0.01, cosΔ measurement accuracy ± 0.01, method rotary analyzer method. The deflection element angle was 45 °, the incident angle was fixed at 70 °, and the analyzer measured 0 to 360 ° and 250 to 800 nm in 11.25 ° increments.
The film thickness was determined by fitting by the nonlinear least squares method. At this time, the model is an Air / thin film / Si model.
n = C3 / λ4 + C2 / λ2 + C1
k = C6 / λ4 + C5 / λ2 + C4
Wavelength-dependent C1 to C6 were obtained by the formula of.

8.高分子フィルムの評価:ロール巻取り性
長尺状の多層ポリイミドフィルムを巻取りロ−ル(心棒の外径:15cm)に2m/分の速度で巻取る際に、皺が生じず円滑に巻取りが可能である場合を○、部分的に皺が発生する場合を△、皺が発生したり、ロ−ルに巻きついて円滑に巻取りが出来ない場合を×とした。
8. Evaluation of polymer film: Roll winding property When a long multilayer polyimide film is wound on a winding roll (outer diameter of mandrel: 15 cm) at a speed of 2 m / min, wrinkles do not occur and the film is smoothly wound. The case where the film can be taken is marked with ◯, the case where the film is partially wrinkled is marked with Δ, and the case where the film is wrinkled or wound around the roll and cannot be smoothly wound is marked with x.

9.乾燥窒素
本実施例で、乾燥窒素と記載の時には露点―10℃以下の窒素を使った。また、窒素の純度は99.9%以上であった。
9. Dry nitrogen In this example, when described as dry nitrogen, nitrogen with a dew point of -10 ° C or less was used. The purity of nitrogen was 99.9% or more.

10.高分子フィルム表面粗さ
本実施例表中の縮合系高分子フィルム表面粗さは、縮合系高分子フィルムにシランカップリング剤塗布後の3次元表面粗さSaを示す。
10. Polymer film surface roughness The surface roughness of the condensed polymer film in the table of this example indicates the three-dimensional surface roughness Sa after the silane coupling agent is applied to the condensed polymer film.

11.SC層の3次元算術平均粗さ(Sa)は、非接触表面・層断面形状計測システム(菱化システム社製「VertScanR2.0」)を用いて求めた。測定は以下の条件にて行った。
測定モード:Phaseモード
視野サイズ:640×480
使用フィルター:520nmフィルター
対物レンズ倍率:×5
ズームレンズ倍率:×1
1測定ごとの測定範囲:1.4mm×1.8mm
積算回数:1回
上記条件にて得られた生データについて、補間は実施せずに4次の面補正のみを実施して測定データとした。この測定データ中から以下の式に基づいて計算し求めた。
11. The three-dimensional arithmetic mean roughness (Sa) of the SC layer was determined using a non-contact surface / layer cross-sectional shape measurement system (“VertScan R2.0” manufactured by Ryoka System Co., Ltd.). The measurement was performed under the following conditions.
Measurement mode: Phase mode Field size: 640 x 480
Filter used: 520nm filter Objective lens magnification: × 5
Zoom lens magnification: × 1
Measurement range for each measurement: 1.4 mm x 1.8 mm
Number of integrations: 1 times For the raw data obtained under the above conditions, only the 4th-order surface correction was performed without performing interpolation to obtain measurement data. It was calculated from this measurement data based on the following formula.

(lx, lyはそれぞれx方向とy方向の範囲、Z(x,y)は平均面からの高さ) (lx, ly are the range in the x and y directions, respectively, Z (x, y) is the height from the average plane)

<異物密度>
100mm×100mmの領域をサンプリングし、100倍拡大の測長機能付き顕微鏡にてサンプリング領域を観察し、100倍観察にて確認された異物については、さらに拡大率を400倍として長径長さを測定し、10μm以上のものの個数を数え、観察面積で除して異物密度とした。異物密度の単位は(個/m2)である。
<Foreign matter density>
A 100 mm x 100 mm area is sampled, the sampled area is observed with a microscope with a length measuring function of 100 times magnification, and for foreign substances confirmed by 100 times observation, the major axis length is measured with a further magnification of 400 times. Then, the number of objects of 10 μm or more was counted and divided by the observation area to obtain the foreign matter density. The unit of foreign matter density is (pieces / m2).

<外観品位>
フィルムの外観を目視観察し、傷、皺の有無、平面性(うねり)等の欠点が認められない場合には◎、一分に欠点が認められるが、300mm幅にスリットすることにより欠点部を避ける事が可能な場合は○、同じく150mmにスリットすることにより欠点部を避ける事が出来る場合には△、スリットにより目視認識できる欠点を避ける事ができない場合を×とした。
<Appearance quality>
Visually observe the appearance of the film, and if there are no defects such as scratches, wrinkles, flatness (waviness), etc., ◎, defects are found in one minute, but by slitting to a width of 300 mm, the defects can be removed. When it was possible to avoid it, it was marked with ◯, when it was possible to avoid the defect by slitting it to 150 mm, it was marked with Δ, and when it was not possible to avoid the defect visually recognizable by the slit, it was marked with ×.

〔製造例1〜2〕
(ポリアミド酸溶液A1〜A2の作製)
窒素導入管,温度計,攪拌棒を備えた反応容器内を窒素置換した後、5−アミノ−2−(p−アミノフェニル)ベンゾオキサゾール223質量部、N,N−ジメチルアセトアミド4416質量部を加えて完全に溶解させた後、ピロメリット酸二無水物217質量部、コロイダルシリカをジメチルアセトアミドに分散してなるスノーテックス(DMAC−ST30、日産化学工業製)をシリカが表1記載量になるように加え、25℃の反応温度で24時間攪拌すると、褐色で粘調なポリアミド酸溶液A1〜A2が得られた。
[Manufacturing Examples 1 and 2]
(Preparation of polyamic acid solutions A1 to A2)
After replacing the inside of the reaction vessel equipped with a nitrogen introduction tube, a thermometer, and a stirring rod with nitrogen, 223 parts by mass of 5-amino-2- (p-aminophenyl) benzoxazole and 4416 parts by mass of N, N-dimethylacetamide were added. 217 parts by mass of pyromellitic dianhydride and colloidal silica dispersed in dimethylacetamide (DMAC-ST30, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) so that the amount of silica in Table 1 is reached. In addition, stirring at a reaction temperature of 25 ° C. for 24 hours gave brown and viscous polyamic acid solutions A1 to A2.

〔製造例3〜4〕
(ポリアミド酸溶液B1〜B2の作製)
窒素導入管,温度計,攪拌棒を備えた反応容器内を窒素置換した後、テトラカルボン酸二無水物として3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物398質量部、パラフェニレンジアミン147質量部を4600質量部のN、N−ジメチルアセトアミドに溶解し、コロイダルシリカをジメチルアセトアミドに分散してなるスノーテックス(DMAC−ST30、日産化学工業製)をシリカが表2記載量になるよう加え、25℃の反応温度で24時間攪拌すると、褐色で粘調なポリアミド酸溶液B1〜B2が得られた。
[Manufacturing Examples 3 to 4]
(Preparation of polyamic acid solutions B1 to B2)
After nitrogen substitution in the reaction vessel equipped with a nitrogen introduction tube, a thermometer, and a stirring rod, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride 398 parts by mass as tetracarboxylic dianhydride, para Snowtex (DMAC-ST30, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), which is obtained by dissolving 147 parts by mass of phenylenediamine in 4600 parts by mass of N, N-dimethylacetamide and dispersing colloidal silica in dimethylacetamide, has silica in the amount shown in Table 2. When the mixture was stirred at a reaction temperature of 25 ° C. for 24 hours, brown and viscous polyamic acid solutions B1 to B2 were obtained.

《縮合系高分子フィルム作製例1》
ポリアミド酸溶液A1を、ポリエチレンテレフタレート製フィルムA−4100(東洋紡株式会社製)の無滑材面上に、コンマコーターを用いてコーティングし、110℃にて5分間乾燥後、支持体から剥がさずにポリアミド酸フィルムを巻き取った。
得られたポリアミド酸フィルムを製膜機の巻きだし部に取り付け、3つの熱処理ゾーンを有するピンテンターに通し、一段目150℃×2分、2段目220℃×2分、3段目475℃×4分間の熱処理を行い、500mm幅にスリットして、ポリイミドフィルム1を得た。得られたポリイミドフィルム1の特性を表3に示す。
<< Production Example 1 of Condensation Polymer Film >>
The polyamic acid solution A1 was coated on the non-slip material surface of the polyethylene terephthalate film A-4100 (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) using a comma coater, dried at 110 ° C. for 5 minutes, and then not peeled off from the support. The polyamic acid film was wound up.
The obtained polyamic acid film is attached to the unwinding part of the film forming machine and passed through a pin tenter having three heat treatment zones, and the first stage is 150 ° C. × 2 minutes, the second stage is 220 ° C. × 2 minutes, and the third stage is 475 ° C. ×. The heat treatment was carried out for 4 minutes and slit to a width of 500 mm to obtain a polyimide film 1. The characteristics of the obtained polyimide film 1 are shown in Table 3.

《縮合系高分子フィルム作製例2》
ポリアミド酸溶液A1を、ポリエチレンテレフタレート製フィルムA−4100(東洋紡株式会社製)の無滑材面上に、コンマコーターを用いてコーティングし、110℃にて5分間乾燥後、支持体から剥がさずにポリアミド酸フィルムを巻き取った。
得られたポリアミド酸フィルムを製膜機の巻きだし部に取り付け、上記のポリアミド酸溶液A2をポリアミド酸溶液A1の塗布量を表3に示す厚さ比となるように、コンマコーターを用いてポリアミド酸フィルム面にコーティングし、110℃にて20分間乾燥することで、2層構成のポリアミド酸フィルムを得た。2層全体の厚さが熱処理後に表3に示す厚さとなるように、塗布厚さは調整した。
この多層ポリアミド酸フィルムを3つの熱処理ゾーンを有するピンテンターに通し、一段目150℃×2分、2段目220℃×2分、3段目475℃×4分間の熱処理を行い、500mm幅にスリットして、多層ポリイミドフィルム2を得た。このとき、熱処理後巻き取る前に剥離可能な非ポリイミド保護フィルムとして、PETフィルムに微粘着層の付いたフィルム(フィルムA)をポリアミド酸溶液A1側にラミネートしてから、巻き取った。得られたポリイミドフィルムをフィルム2とした。このポリイミドフィルムの特性を表3に示す。
<< Production Example 2 of Condensation Polymer Film >>
The polyamic acid solution A1 was coated on the non-slip material surface of the polyethylene terephthalate film A-4100 (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) using a comma coater, dried at 110 ° C. for 5 minutes, and then not peeled off from the support. The polyamic acid film was wound up.
The obtained polyamic acid film is attached to the unwinding portion of the film-making machine, and the above-mentioned polyamic acid solution A2 is coated with the polyamic acid solution A1 in a thickness ratio shown in Table 3 using a comma coater. The surface of the acid film was coated and dried at 110 ° C. for 20 minutes to obtain a polyamic acid film having a two-layer structure. The coating thickness was adjusted so that the thickness of the entire two layers would be the thickness shown in Table 3 after the heat treatment.
This multilayer polyamic acid film is passed through a pin tenter having three heat treatment zones, and heat treatment is performed for the first stage 150 ° C. × 2 minutes, the second stage 220 ° C. × 2 minutes, and the third stage 475 ° C. × 4 minutes, and slits to a width of 500 mm. Then, the multilayer polyimide film 2 was obtained. At this time, as a non-polyimide protective film that can be peeled off after heat treatment and before winding, a film (film A) having a slightly adhesive layer was laminated on the polyamic acid solution A1 side, and then wound. The obtained polyimide film was designated as film 2. The characteristics of this polyimide film are shown in Table 3.

《縮合系高分子フィルム作製例3》
ポリアミド酸溶液B1、B2のコーティング厚さを表3に示した値とした以外は全く作製例1と同様にして、フィルム3 を得た。その内容を作製例1と同様に表3に示した。
<< Production Example 3 of Condensation Polymer Film >>
A film 3 was obtained in exactly the same manner as in Production Example 1 except that the coating thicknesses of the polyamic acid solutions B1 and B2 were set to the values shown in Table 3. The contents are shown in Table 3 in the same manner as in Production Example 1.

縮合系高分子フィルム4として、12.5μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルムA4100(東洋紡株式会社製)を用いた。 As the condensation polymer film 4, a polyethylene terephthalate film A4100 (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 12.5 μm was used.

<縮合系高分子フィルムのプラズマ処理>
得られた縮合系高分子フィルムの両面に真空プラズマ処理を施して、プラズマ処理ポリイミドフィルムとした。真空プラズマ処理としては、平行平板型の電極を使ったRIEモード、RFプラズマによる処理を採用し、真空チャンバー内に窒素ガスを導入し、13.54MHzの高周波電力を導入するようにし、処理時間は3分間とした。
<Plasma treatment of condensed polymer film>
Both sides of the obtained condensed polymer film were subjected to vacuum plasma treatment to obtain a plasma-treated polyimide film. As the vacuum plasma processing, RIE mode using parallel plate type electrodes and processing by RF plasma are adopted, nitrogen gas is introduced into the vacuum chamber, and high frequency power of 13.54 MHz is introduced, and the processing time is It was set to 3 minutes.

<縮合系高分子フィルムへのカップリング剤層形成>
ホットプレートを有する真空チャンバーを用い、以下の条件にて縮合系高分子フィルムへのシランカップリング剤塗布を行った。
シランカップリング剤(信越化学工業株式会社製「KBM−903」:3−アミノプロピルトリメトキシシラン)100質量部をシャーレに満たし、ホットプレートの上に静置した。このときホットプレート温度は25℃であった。次いでシランカップリング剤の液面から水平方向に100mm以上離れた箇所に、350mm×490mmの縮合系高分子フィルムをSUSの枠に固定して垂直に保持し、真空チャンバーを閉じ、真空引きと窒素導入を数回行い、大気圧にて酸素濃度が0.1%以下となるまで繰り返した、次いで、チャンバー内を3×10-1Paまで減圧し、ホットプレート温度を60℃まで昇温し、10分間保持してシランカップリング剤蒸気への暴露を行い、その後、ホットプレート温度を下げ、同時に真空チャンバー内にクリーンな乾燥窒素ガスを4か所から静かに導入して大気圧まで戻し、枠に固定した縮合系高分子フィルムを取り出し、クリーン環境下にて100℃のホットプレートにSUSの枠ごと保持した。SUS枠の厚みのため、縮合系高分子フィルムはホットプレートの熱盤面から訳3mm離れた状態で加熱される。約3分間熱処理を行った後、同様の操作を裏側にも行い、縮合系高分子フィルムの両面にシランカップリング剤層を形成した縮合系高分子フィルムS1を得た。
<Formation of coupling agent layer on condensed polymer film>
Using a vacuum chamber having a hot plate, the silane coupling agent was applied to the condensed polymer film under the following conditions.
A petri dish was filled with 100 parts by mass of a silane coupling agent (“KBM-903” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: 3-aminopropyltrimethoxysilane) and allowed to stand on a hot plate. At this time, the hot plate temperature was 25 ° C. Next, a 350 mm × 490 mm condensed polymer film was fixed to the SUS frame and held vertically at a location 100 mm or more horizontally away from the liquid surface of the silane coupling agent, the vacuum chamber was closed, and vacuuming and nitrogen were applied. The introduction was repeated several times at atmospheric pressure until the oxygen concentration became 0.1% or less, then the inside of the chamber was depressurized to 3 × 10-1 Pa, the hot plate temperature was raised to 60 ° C., and 10 Hold for minutes to expose to silane coupling agent vapor, then lower the hot plate temperature, and at the same time gently introduce clean dry nitrogen gas into the vacuum chamber from 4 locations to return to atmospheric pressure and frame. The fixed condensed polymer film was taken out and held in a hot plate at 100 ° C. together with the SUS frame in a clean environment. Due to the thickness of the SUS frame, the condensed polymer film is heated at a distance of about 3 mm from the hot plate surface of the hot plate. After heat treatment for about 3 minutes, the same operation was performed on the back side to obtain a condensation polymer film S1 having silane coupling agent layers formed on both sides of the condensation polymer film.

<縮合系高分子フィルムへのポリジメチルシロキサン層の形成>
得られたシランカップリング剤層付きの縮合系高分子フィルムのシランカップリング剤塗布面に、信越化学工業株式会社製の二液硬化型シリコーン樹脂SIM−260をアプリケータにて塗布し150℃30分の熱処理を行い、さらに裏側にも同様に塗布から熱処理を行い、表4.に示す高分子複合フィルムを得た。なお主剤と硬化剤の比率は質量比にて10/1とした。以下、縮合系高分子フィルムと塗布条件を替え、表4に示す積層複合フィルムを得た。
<Formation of polydimethylsiloxane layer on condensed polymer film>
A two-component curable silicone resin SIM-260 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was applied to the silane coupling agent-coated surface of the obtained condensing polymer film with a silane coupling agent layer using an applicator, and the temperature was 30 ° C. Heat-treat the minutes, and then apply and heat-treat the back side in the same way. The polymer composite film shown in the above was obtained. The ratio of the main agent to the curing agent was set to 10/1 by mass ratio. Hereinafter, the coating conditions were changed from those of the condensed polymer film to obtain the laminated composite film shown in Table 4.

以上述べてきたように、本発明によれば機械的物性に優れた縮合系高分子フィルムを芯材とし、表面をシリコーン樹脂にて被覆した薄い高分子複合フィルムを得ることができる。シリコーン樹脂は、その柔軟性故に機械的強度が低く、極薄いフィルムを得ることは困難であるが、本発明によればシリコーン樹脂の特殊な表面性状を有しながら、機械的強度に優れるエンジニアリングフィルムのようにハンドリングが可能な特殊な性状を有する複合フィルムを得ることができる。本発明の高分子複合フィルムは、精密プレスのクッション剤のようなサポート材料として、高周波回路基板などの電子部品用基板として、高度な重ね合わせ精度が必要な熱定着画像様の定着機、画像搬送ベルトなどとして応用可能で有り、情報電子分野、精密機械加工分野において産業界への寄与は大きい。 As described above, according to the present invention, it is possible to obtain a thin polymer composite film in which a condensed polymer film having excellent mechanical properties is used as a core material and the surface is coated with a silicone resin. Silicone resin has low mechanical strength due to its flexibility, and it is difficult to obtain an ultra-thin film. However, according to the present invention, an engineering film having excellent mechanical strength while having the special surface properties of silicone resin. It is possible to obtain a composite film having special properties that can be handled as described above. The polymer composite film of the present invention is used as a support material such as a cushioning agent for precision presses, as a substrate for electronic components such as high-frequency circuit boards, and a heat-fixed image-like fixing machine and image transfer that require high overlay accuracy. It can be applied as a belt, etc., and makes a great contribution to industry in the fields of information electronics and precision machining.

Claims (4)

少なくともポリジメチルシロキサンを主成分とする樹脂からなる層と、シランカップリング剤層と、縮合系高分子からなる層からなり、総厚さが1μm以上20μm以下であることを特徴とする高分子複合フィルム。 A polymer composite consisting of at least a layer made of a resin containing polydimethylsiloxane as a main component, a silane coupling agent layer, and a layer made of a condensation polymer, and having a total thickness of 1 μm or more and 20 μm or less. the film. 両面にポリジメチルシロキサンを主成分とする樹脂からなる層を有する、縮合系高分子フィルムにおいて、前記ポリジメチルシロキサンを主成分とする樹脂からなる層と縮合系高分子フィルムの間にシランカップリング剤層を有し、総厚さが1μm以上20μm以下であることを特徴とする高分子複合フィルム。 In a condensation polymer film having a layer made of a resin containing polydimethylsiloxane as a main component on both sides, a silane coupling agent is used between the layer made of a resin containing polydimethylsiloxane as a main component and the condensation polymer film. A polymer composite film having a layer and having a total thickness of 1 μm or more and 20 μm or less. 前記縮合系高分子フィルムがポリエステルフィルムである事を特徴とする請求項1または2に記載の高分子複合フィルム。 The polymer composite film according to claim 1 or 2, wherein the condensed polymer film is a polyester film. 前記縮合系高分子フィルムがポリイミドフィルムである事を特徴とする請求項1または2に記載の高分子複合フィルム。 The polymer composite film according to claim 1 or 2, wherein the condensed polymer film is a polyimide film.
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