JP6775003B2 - Charged particle beam device - Google Patents

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本発明は、荷電粒子線装置に関する。 The present invention relates to a charged particle beam device.

荷電粒子線装置の一種である走査型電子顕微鏡(以下、SEM)は、電子源から放出された電子線を試料に照射することで、試料の表面像を観察する装置である。 A scanning electron microscope (SEM), which is a type of charged particle beam device, is a device for observing a surface image of a sample by irradiating the sample with an electron beam emitted from an electron source.

特許文献1には、SEMと光学顕微鏡(以下、OM)の観察角度を合致させるため、OMによる観察の際は試料を傾斜させるSEMが開示されている。 Patent Document 1 discloses an SEM that tilts a sample during observation by an OM in order to match the observation angles of the SEM and an optical microscope (hereinafter referred to as OM).

特許文献2には、試料ではなく、SEMの鏡体とOMが備え付けられた試料室を回転させるSEMが開示されている。 Patent Document 2 discloses an SEM that rotates a sample chamber provided with a mirror body of the SEM and an OM, not a sample.

特開平4−106853号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 4-106853 特開2012−15027号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-15527

特許文献1のSEMは、IC製造工程においての使用を前提とするものである。観察対象であるICウエハはほぼ一様に平坦であり、大きさも常に均一であるため、試料が他の構成物に衝突しないような試料傾斜の条件を、予め決定することができる。しかし、大きさや高さが異なった試料を観察する汎用的なSEMにおいては、試料傾斜の際に、試料が他の構成物に衝突する可能性がある。 The SEM of Patent Document 1 is premised on use in the IC manufacturing process. Since the IC wafer to be observed is almost uniformly flat and the size is always uniform, it is possible to determine in advance the conditions for tilting the sample so that the sample does not collide with other constituents. However, in a general-purpose SEM for observing samples of different sizes and heights, the sample may collide with other components when the sample is tilted.

特許文献2の手法では、SEMの鏡体及び光学顕微鏡が可動する。そのため、SEMの鏡体は軽量であることが求められ、高性能な鏡体を搭載することが困難である。 In the method of Patent Document 2, the SEM mirror body and the optical microscope are movable. Therefore, the SEM mirror body is required to be lightweight, and it is difficult to mount a high-performance mirror body.

本発明の目的は、大きさや高さが異なった試料を観察する場合でも適切に試料を観察可能な荷電粒子線装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a charged particle beam apparatus capable of appropriately observing a sample even when observing a sample having a different size and height.

本発明の一実施形態の荷電粒子線装置は、試料を載置し、試料室内部で試料を移動させるステージと、試料に荷電粒子線を照射して試料を観察する鏡体と、該鏡体とは異なる角度から試料の荷電粒子線が照射される面を観察する第一の撮像装置と、第一の撮像装置により試料を観察する際に、試料を鏡体から離間させた後に、試料を第一の撮像装置に対向するよう、ステージによる試料を傾斜させる制御部と、を備える。 The charged particle beam apparatus according to the embodiment of the present invention includes a stage for placing a sample and moving the sample inside the sample chamber, a mirror body for irradiating the sample with the charged particle beam to observe the sample, and the mirror body. When observing the sample with the first imaging device for observing the surface irradiated with the charged particle beam of the sample from a different angle from the above, and the sample after separating the sample from the mirror body when observing the sample with the first imaging device. A control unit for tilting the sample by the stage so as to face the first imaging device is provided.

本発明によれば、大きさや高さが異なった試料を観察する場合でも適切に試料を観察可能な、荷電粒子線装置を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a charged particle beam apparatus capable of appropriately observing a sample even when observing samples having different sizes and heights.

荷電粒子線装置を示す図Diagram showing a charged particle beam device SEMの試料の動作を示す図The figure which shows the operation of the sample of SEM 視野探しの手順を示すフローチャートFlowchart showing the procedure for finding a field of view S303の詳細を示すフローチャートFlow chart showing the details of S303 チャンバースコープを備えたSEMを示す図Diagram showing an SEM with a chamber scope 凸部を有する試料を示す図The figure which shows the sample which has a convex part 試料衝突可能性を判断する手順を示すフローチャートFlowchart showing the procedure for determining the possibility of sample collision 試料衝突の可能性が高い場合の試料の動作を示す図The figure which shows the operation of a sample when the possibility of a sample collision is high 試料付近に検出器を備えたSEMを示す図The figure which shows the SEM equipped with a detector near a sample 試料が撮像装置の視野よりも大きい場合の試料の動作を示す図The figure which shows the operation of a sample when the sample is larger than the field of view of an image pickup apparatus. 従来の荷電粒子線装置を示す図Diagram showing a conventional charged particle beam device

SEMは、通常のOMと比して分解能及び倍率を高くできることが特徴であり、数mm〜数nmの微細な構造の観察に適している。SEMを用いて、高分解能で試料を観察する前には、SEMの倍率を低く設定した状態で試料を観察し、観察したい部位をある程度特定する必要がある。 The SEM is characterized in that the resolution and the magnification can be increased as compared with a normal OM, and is suitable for observing a fine structure of several mm to several nm. Before observing the sample with high resolution using the SEM, it is necessary to observe the sample with the SEM magnification set low and specify the part to be observed to some extent.

しかし、SEMの最低倍率はOMと比して大きい(SEMの方が、OMより視野が狭い)。装置構成にもよるが、一例として、OMの最低倍率は1倍〜3倍程度であり、SEMの最低倍率は10〜50倍程度である。その最低倍率のため、ユーザがSEMで大きな試料を観察する場合、試料の全景を把握し、現在SEMで観察している視野が試料のどの位置であるかを認識することが困難となる。 However, the minimum magnification of SEM is larger than that of OM (SEM has a narrower field of view than OM). Although it depends on the device configuration, as an example, the minimum magnification of OM is about 1 to 3 times, and the minimum magnification of SEM is about 10 to 50 times. Due to the minimum magnification, when the user observes a large sample by SEM, it becomes difficult to grasp the whole view of the sample and recognize the position of the sample in the field of view currently observed by SEM.

そこで、SEMの試料室にOMを傾けて備え付け、OMによって得られる像(以下、OM像)と、SEMによって得られる像(以下、SEM像)を比較して、SEMの視野探しを行なう手法がある。この場合、SEMとOMでは観察角度が異なる。 Therefore, there is a method of tilting the OM in the sample chamber of the SEM and comparing the image obtained by the OM (hereinafter, OM image) with the image obtained by the SEM (hereinafter, SEM image) to search the field of view of the SEM. is there. In this case, the observation angle is different between SEM and OM.

尚、SEMにおける「倍率」とは、「観察中の視野のSEMによる走査範囲を、何倍の大きさで表示するか」で定義される値である。理論的には、SEM像の表示サイズを変化させることで、視野の広さによらずに任意の倍率を実現可能である。本明細書では、一般的なサイズのPC用モニタに、一定の大きさでSEM像を表示したとして(即ち、倍率が低ければ視野が広いものとして)、倍率を記載する。 The "magnification" in the SEM is a value defined by "how many times the scanning range of the field of view under observation by the SEM is displayed". Theoretically, by changing the display size of the SEM image, it is possible to realize an arbitrary magnification regardless of the wide field of view. In the present specification, the magnification is described assuming that the SEM image is displayed in a constant size on a monitor for a PC of a general size (that is, the field of view is wide when the magnification is low).

ここで、SEMの電子源には、熱電子型、ショットキー型、電界放出型等が存在する。何れの電子源においても、フィラメントの焼損や、電子源への気体の付着を防止する必要がある。また、低真空領域では、電子線が残留気体分子と衝突して散乱される。このため、SEMにより試料を観察する際には、SEMの鏡体や試料室は真空に保たれる。 Here, the electron source of the SEM includes a thermionic type, a Schottky type, a field emission type and the like. In any of the electron sources, it is necessary to prevent the filament from burning and the gas from adhering to the electron source. Further, in the low vacuum region, the electron beam collides with the residual gas molecules and is scattered. Therefore, when observing the sample by the SEM, the mirror body and the sample chamber of the SEM are kept in a vacuum.

電子源、鏡体及び試料室を真空排気するため、通常のSEMは、鏡体が試料室に固定されている。そのため、試料室に対して、鏡体は移動できない構造となり、電子線の照射方向や照射位置は固定される。よって、例えば試料と鏡体間の距離を極端に長くして観察視野を広げることは現実的ではなく、SEMの視野には上限が存在する(倍率には下限が存在する)。 In a normal SEM, the mirror body is fixed to the sample chamber in order to evacuate the electron source, the mirror body and the sample chamber. Therefore, the mirror body cannot move with respect to the sample chamber, and the irradiation direction and irradiation position of the electron beam are fixed. Therefore, for example, it is not realistic to widen the observation field of view by making the distance between the sample and the mirror body extremely long, and there is an upper limit in the field of view of the SEM (there is a lower limit in the magnification).

通常、SEMの鏡体先端の穴径は、数mm程度である。この穴径より広い領域で電子線を走査しても、電子線は鏡体に遮られて試料に照射されない。よって、SEMの視野の(実用的な)上限は、数mm角(倍率で表現すると、10倍〜50倍)程度となる。 Normally, the hole diameter at the tip of the mirror body of the SEM is about several mm. Even if the electron beam is scanned in a region wider than this hole diameter, the electron beam is blocked by the mirror body and does not irradiate the sample. Therefore, the (practical) upper limit of the SEM field of view is about several mm square (10 to 50 times in terms of magnification).

数cm角以上の試料を観察する場合、最大でも数mm角の視野しか得られないSEMでは、試料の全景を把握し、現在の視野が試料のどの位置であるかを認識することが困難である。このため、数mm角以上の試料を観察する場合に、観察したい場所をSEMのみで特定するためには、膨大な時間を要する。更に、OMと異なりSEM像はモノクロ像となることから、試料表面の色を観察することができない。これらの課題を解決するため、OM像とSEM像を比較して、SEMの視野探しを行なう手法がある。 When observing a sample of several cm square or more, it is difficult to grasp the whole view of the sample and recognize the position of the sample in the SEM, which can obtain only a field of view of several mm square at the maximum. is there. Therefore, when observing a sample having a size of several mm square or more, it takes an enormous amount of time to specify the place to be observed only by SEM. Further, unlike the OM, the SEM image is a monochrome image, so that the color of the sample surface cannot be observed. In order to solve these problems, there is a method of comparing the OM image and the SEM image to search the field of view of the SEM.

図11に従来の荷電粒子線装置の一例を示す。図11のSEMの試料室104には、鏡体103と同一の方向を向いた撮像装置107が設けられている。尚、撮像装置107は試料室104ではなく、例えば図示しない試料交換室等に設けてもよい。ステージ102が試料室104の一部をなしている場合等は、ステージ102に撮像装置107を設けてもよい。ユーザは、ステージ102により、試料101を規定の位置(撮像装置107の直下)に移動させ、試料101の光学像を撮像する。 FIG. 11 shows an example of a conventional charged particle beam apparatus. The sample chamber 104 of the SEM shown in FIG. 11 is provided with an image pickup device 107 facing in the same direction as the mirror body 103. The image pickup apparatus 107 may be provided not in the sample chamber 104 but in, for example, a sample exchange chamber (not shown). When the stage 102 forms a part of the sample chamber 104 or the like, the imaging device 107 may be provided on the stage 102. The user moves the sample 101 to a predetermined position (immediately below the imaging device 107) by the stage 102, and images an optical image of the sample 101.

この構成によれば、試料101や撮像装置107を取り外すことはないため、試料101をステージ102に載置する際の機械的な取付け誤差の問題は生じない。また、試料101は常に試料室の内部に存在するため、大気曝露や真空引き等の煩雑な作業も発生しない。 According to this configuration, since the sample 101 and the imaging device 107 are not removed, there is no problem of mechanical mounting error when the sample 101 is placed on the stage 102. Further, since the sample 101 is always present inside the sample chamber, complicated work such as air exposure and evacuation does not occur.

一方この手法では、撮像装置107の視野を遮らないよう、鏡体103や検出器106等の配置や形状を検討する必要がある。また、試料101と撮像装置107の高さは固定されてしまうため、撮像装置107の視野は制限される。更に、撮像装置107の設置に伴い、SEM全体が大型化する。 On the other hand, in this method, it is necessary to examine the arrangement and shape of the mirror body 103, the detector 106, and the like so as not to block the field of view of the image pickup apparatus 107. Further, since the heights of the sample 101 and the imaging device 107 are fixed, the field of view of the imaging device 107 is limited. Further, with the installation of the image pickup apparatus 107, the entire SEM becomes larger.

以下、実施例を説明する。尚、本実施例でいう「画像」とは静止画のみならず動画(映像)も含むものとする。 Examples will be described below. The "image" in this embodiment includes not only a still image but also a moving image (video).

図1は、SEMと撮像装置を備える荷電粒子線装置を示す図である。荷電粒子線装置100は、試料101を載置するステージ102、試料101に電子線を照射する鏡体103、内部を真空に維持する試料室104、試料室104の真空引きを行う真空ポンプ105、電子やX線等を検出する検出器106、光学像を撮像する撮像装置107、SEM像や光学像等を表示するモニタ(表示部)110、及び、これらの各構成要素を制御する制御部108を備える。 FIG. 1 is a diagram showing a charged particle beam device including an SEM and an imaging device. The charged particle beam device 100 includes a stage 102 on which the sample 101 is placed, a mirror body 103 that irradiates the sample 101 with an electron beam, a sample chamber 104 that keeps the inside in a vacuum, and a vacuum pump 105 that evacuates the sample chamber 104. A detector 106 that detects electrons and X-rays, an imaging device 107 that captures an optical image, a monitor (display unit) 110 that displays an SEM image, an optical image, etc., and a control unit 108 that controls each of these components. To be equipped with.

ステージ102は、様々な形状の試料の任意の位置を観察するため、電子線に対して傾斜し、回転し、平面移動し、上下移動することが可能である。 The stage 102 can be tilted, rotated, moved in a plane, and moved up and down with respect to an electron beam in order to observe an arbitrary position of a sample having various shapes.

検出器106としては、二次電子検出器、X線検出器、カソードルミネセンス検出器、低真空二次電子検出器、反射電子検出器等がある。尚、これらの検出器を複数組み合わせて備えてもよい。 Examples of the detector 106 include a secondary electron detector, an X-ray detector, a cathode luminescence detector, a low vacuum secondary electron detector, a backscattered electron detector, and the like. A plurality of these detectors may be provided in combination.

撮像装置107は、試料101の全景を撮像し、撮像により取得した光学像を制御部108が備えるメモリ109に保存する。該光学像は、制御部108により、モニタ110に表示される。光学像とステージ102の座標を予め対応付けておくことで、撮像装置107による等倍又は低倍率の画像を用いて、SEMでの観察位置を指定することができる。また、SEMでは得られない、試料101の色情報を得ることができる。尚、撮像装置107は、光学像が撮像できるものであればよく、例えば、OM、CCDカメラ、赤外線カメラ等がある。 The imaging device 107 images the entire view of the sample 101, and stores the optical image acquired by the imaging in the memory 109 included in the control unit 108. The optical image is displayed on the monitor 110 by the control unit 108. By associating the optical image with the coordinates of the stage 102 in advance, it is possible to specify the observation position in the SEM by using the image of the same magnification or the low magnification by the image pickup apparatus 107. In addition, it is possible to obtain color information of the sample 101, which cannot be obtained by SEM. The image pickup device 107 may be any device that can capture an optical image, and includes, for example, an OM, a CCD camera, an infrared camera, and the like.

以上の構成によれば、試料101を鏡体103の直下に配置した状態で試料101の撮像が可能であり、ステージ102を大きく水平移動させる必要がないため、SEMを小型化できる。尚、ここでは、ステージ102を傾斜させて光学像を撮像する例を示しているが、ステージ102を水平に保ったまま光学像を撮像するものであってもよい。 According to the above configuration, the sample 101 can be imaged in a state where the sample 101 is arranged directly under the mirror body 103, and the stage 102 does not need to be moved horizontally, so that the SEM can be miniaturized. Although the example in which the stage 102 is tilted to capture the optical image is shown here, the optical image may be captured while the stage 102 is kept horizontal.

ここで、図1に示されるように、撮像装置107と鏡体103の距離が近いため、撮像装置107の視野が鏡体103等によって遮られるという課題がある。また、ステージ102を水平に保ったまま撮像装置107を撮像する場合は、鏡体103と撮像装置107とで観察角度が異なったものとなるため、撮像後に補正が必要となる。 Here, as shown in FIG. 1, since the distance between the image pickup device 107 and the mirror body 103 is short, there is a problem that the field of view of the image pickup device 107 is blocked by the mirror body 103 or the like. Further, when the image pickup apparatus 107 is imaged while the stage 102 is kept horizontal, the observation angles of the mirror body 103 and the image pickup apparatus 107 are different, so that correction is required after the imaging.

また、ステージ102を傾斜させて光学像を撮像する場合、試料の高さや大きさが定まっていれば、試料101が他の構成物に衝突しないような試料傾斜の条件を、予め決定することができる。しかし、大きさや高さが異なった試料を観察する汎用的なSEMにおいては、試料傾斜の際に、試料が他の構成物に衝突する可能性がある。 Further, when the stage 102 is tilted to capture an optical image, if the height and size of the sample are determined, the sample tilting conditions so that the sample 101 does not collide with other components can be determined in advance. it can. However, in a general-purpose SEM for observing samples of different sizes and heights, the sample may collide with other components when the sample is tilted.

図2は、SEMの試料の動作を示す図である。図2(A)は、試料101をSEMで観察している場合を示す。試料101を高分解能で観察するためには、ワーキングディスタンス(対物レンズ先端と試料との距離)が短い方が好ましいため、試料101と鏡体103は近接するように配置される。一方、この例では、撮像装置107の視野111は、鏡体103により制限される。そのため、撮像装置107では、試料101の全景を観察することができない。 FIG. 2 is a diagram showing the operation of the SEM sample. FIG. 2A shows a case where the sample 101 is observed by SEM. In order to observe the sample 101 with high resolution, it is preferable that the working distance (distance between the tip of the objective lens and the sample) is short, so that the sample 101 and the mirror body 103 are arranged so as to be close to each other. On the other hand, in this example, the field of view 111 of the image pickup apparatus 107 is limited by the mirror body 103. Therefore, the image pickup apparatus 107 cannot observe the entire view of the sample 101.

また、SEMにおいては、傾斜効果により信号量を増加させることや、直上からでは電子線が照射されない凹凸部の側面に電子線を照射すること、試料101を立体的に観察すること等を目的として、試料101を検出器106側に傾斜させる場合がある。図2(A)では、検出器106側に傾斜させた状態の試料101を点線で示している。このような場合、撮像装置107では、試料101の表面を観察することができない。 Further, in the SEM, the purpose is to increase the signal amount by the tilt effect, to irradiate the side surface of the uneven portion where the electron beam is not irradiated from directly above, to observe the sample 101 three-dimensionally, and the like. , The sample 101 may be tilted toward the detector 106. In FIG. 2A, the sample 101 tilted toward the detector 106 is shown by a dotted line. In such a case, the image pickup apparatus 107 cannot observe the surface of the sample 101.

試料101を撮像装置107で観察するため、試料101を撮像装置107の側に傾斜させることが考えられる。試料101を撮像装置107の側に傾斜させた場合の模式図を図(B)に示す。この例では、試料101を傾斜させていくと、試料101の端部と検出器106が衝突するため、十分に試料101を傾斜させることができない。 In order to observe the sample 101 with the imaging device 107, it is conceivable to incline the sample 101 toward the imaging device 107. FIG. 2 (B) shows a schematic view when the sample 101 is tilted toward the imaging device 107. In this example, when the sample 101 is tilted, the end portion of the sample 101 collides with the detector 106, so that the sample 101 cannot be tilted sufficiently.

次に、本実施例における、試料101の動作の模式図を図2(C)に示す。試料101を撮像装置107で観察する場合、制御部108は、試料101が撮像装置107の視野111内に入るよう、試料101をステージ102により移動させる。まず、試料101の位置を下げる(鏡体103から離れる方向に移動する)ことにより、試料101は撮像装置107の視野111内に入る。尚、ここでは、試料101は真下に移動させるものとしたが、試料101の水平移動と組み合わせて試料101を撮像装置107の視野111内に位置させてもよい。 Next, a schematic diagram of the operation of the sample 101 in this embodiment is shown in FIG. 2 (C). When observing the sample 101 with the imaging device 107, the control unit 108 moves the sample 101 by the stage 102 so that the sample 101 is within the field of view 111 of the imaging device 107. First, by lowering the position of the sample 101 (moving in the direction away from the mirror body 103), the sample 101 enters the field of view 111 of the imaging device 107. Although the sample 101 is moved directly below here, the sample 101 may be positioned within the field of view 111 of the imaging device 107 in combination with the horizontal movement of the sample 101.

さて、図2(C)での移動だけでは、SEMと撮像装置107とで観察角度が異なり、光学像が歪んでしまうため、撮像後に補正が必要となる。そこで、試料101の更なる動作の模式図を図2(D)に示す。試料101を撮像装置107で観察する場合、制御部108は、試料101が撮像装置107に対向するよう試料101を傾斜させる。この際、試料101がSEM内部の構成要素に衝突しないよう試料101の上下位置を調整するのが好ましい。 By the way, if only the movement in FIG. 2C is performed, the observation angle differs between the SEM and the imaging device 107, and the optical image is distorted. Therefore, correction is required after imaging. Therefore, a schematic diagram of the further operation of the sample 101 is shown in FIG. 2 (D). When observing the sample 101 with the imaging device 107, the control unit 108 tilts the sample 101 so that the sample 101 faces the imaging device 107. At this time, it is preferable to adjust the vertical position of the sample 101 so that the sample 101 does not collide with the components inside the SEM.

次に、本実施例の視野探しの手順について、図3を用いて説明する。 Next, the procedure for searching the visual field of this embodiment will be described with reference to FIG.

S301:ユーザは、試料101をステージ102に載置する。ステージ102が試料室104から脱着可能である場合は、ステージ102を試料室104へ固定する。 S301: The user places the sample 101 on the stage 102. If the stage 102 is removable from the sample chamber 104, the stage 102 is fixed to the sample chamber 104.

S302:制御部108は、真空ポンプ105に指示を出し、試料室104の真空引きを行う。 S302: The control unit 108 issues an instruction to the vacuum pump 105 to evacuate the sample chamber 104.

S303:制御部108は、例えば図1(D)に示したように、撮像装置107で試料101の撮像が可能な位置に、ステージ102を移動させる。 S303: The control unit 108 moves the stage 102 to a position where the image pickup device 107 can image the sample 101, for example, as shown in FIG. 1 (D).

S304:制御部108は、撮像装置107に、試料101の光学像を撮像するよう指示し、該光学像をメモリ109に記憶する。 S304: The control unit 108 instructs the image pickup apparatus 107 to take an optical image of the sample 101, and stores the optical image in the memory 109.

S305:制御部108は、光学像の輝度が不足していると判断した場合や、光学像の記憶に失敗していると判断した場合は、再びS304に戻り、撮像装置107による試料101の再撮像を行なう。尚、ここでは制御部108が光学像の情報を読み出して、再撮像の要否を判断するものとしたが、例えば光学像をモニタ110に表示し、ユーザに再撮像の要否を判断させてもよい。 S305: If the control unit 108 determines that the brightness of the optical image is insufficient, or if it determines that the memory of the optical image has failed, the control unit 108 returns to S304 again and re-records the sample 101 by the imaging device 107. Take an image. Here, the control unit 108 reads out the information of the optical image and determines the necessity of reimaging. However, for example, the optical image is displayed on the monitor 110 and the user is made to determine the necessity of reimaging. May be good.

S306:制御部108は、光学像の再撮像は不要と判断した場合、ステージ102に指示を出し、試料101をSEM観察位置(例えば鏡体103の直下等)に移動する。即ち、試料101を鏡体103に対向するよう傾斜させ、鏡体103に近づける。 S306: When the control unit 108 determines that reimaging of the optical image is unnecessary, it issues an instruction to the stage 102 and moves the sample 101 to an SEM observation position (for example, directly under the mirror body 103). That is, the sample 101 is tilted so as to face the mirror body 103 and brought closer to the mirror body 103.

S307:制御部108は、鏡体103その他SEMの構成要素に指示を出し、試料101の低倍率での観察を開始する。 S307: The control unit 108 gives an instruction to the mirror body 103 and other components of the SEM, and starts observing the sample 101 at a low magnification.

S308:制御部108は、メモリ109に記憶されている光学像と、検出器106等により得られたSEM像を、モニタ110に表示する。 S308: The control unit 108 displays the optical image stored in the memory 109 and the SEM image obtained by the detector 106 or the like on the monitor 110.

S309:ユーザは、モニタ110に表示されている光学像から、SEMで観察したい位置を指定する。 S309: The user specifies a position to be observed by the SEM from the optical image displayed on the monitor 110.

S310:制御部108は、SEMの視野がS309で指定された位置となるよう、ステージ102を移動させる。 S310: The control unit 108 moves the stage 102 so that the field of view of the SEM is at the position specified in S309.

S311:ユーザは、光学像上で指定した位置をSEMで観察できているか否か判断する。例えば、光学像に座標ずれがあり、SEM像と一致しない場合は、S303に戻り、光学像の撮像をやり直す。光学像で指定した位置をSEMで観察できている場合は、視野探しは終了し、通常のSEM観察を開始する。 S311: The user determines whether or not the position specified on the optical image can be observed by the SEM. For example, if the optical image has a coordinate shift and does not match the SEM image, the process returns to S303 and the optical image is imaged again. If the position specified by the optical image can be observed by SEM, the field of view search is completed and normal SEM observation is started.

次に、S303の詳細のフローを、図4を用いて説明する。 Next, the detailed flow of S303 will be described with reference to FIG.

制御部108は、ステージ102を移動させるか否か判断する(S401)。移動させる必要があると判断した場合はS402に進み、不要と判断した場合はS403へ進む。制御部108は、試料の大きさが予め分かっている場合(例えば後述の実施例2のような場合)は、試料の大きさに応じて判断してもよいし、ユーザの指示に応じて移動させてもよい。尚、荷電粒子線装置100のレイアウト等により移動が必須の場合は、該ステップを省略してもよい。 The control unit 108 determines whether or not to move the stage 102 (S401). If it is determined that it is necessary to move, the process proceeds to S402, and if it is determined that it is unnecessary, the process proceeds to S403. When the size of the sample is known in advance (for example, in the case of Example 2 described later), the control unit 108 may determine according to the size of the sample, or may move according to the instruction of the user. You may let me. If movement is essential due to the layout of the charged particle beam device 100 or the like, the step may be omitted.

S402において、制御部108は、ステージ102を鏡体103から所定距離だけ離間させる。 In S402, the control unit 108 separates the stage 102 from the mirror body 103 by a predetermined distance.

次に、制御部108は、ステージ102を撮像装置107に対向するよう、所定角度だけ傾斜させる(S403)。そして、制御部108は、S304へ移行する。 Next, the control unit 108 tilts the stage 102 by a predetermined angle so as to face the image pickup device 107 (S403). Then, the control unit 108 shifts to S304.

尚、S402の所定距離、及び、S403の所定角度は、荷電粒子線装置100のレイアウトに応じた特有の値でもよいし、試料101の大きさに応じて決められた値でもよいし、その他種々の条件に応じてその場で計算された値でもよい。また、これらのデータは、メモリ109に格納されていてもよいし、制御部108外の記憶装置に格納されていてもよい。 The predetermined distance of S402 and the predetermined angle of S403 may be a value peculiar to the layout of the charged particle beam apparatus 100, a value determined according to the size of the sample 101, and various other values. It may be a value calculated on the spot according to the conditions of. Further, these data may be stored in the memory 109 or may be stored in a storage device outside the control unit 108.

以上がSEMによる視野探しの手順である。尚、S308では光学像のみを表示し、ユーザに観察位置を指定させた後、SEM観察を始めるものとしてもよい。その他、ステップの追加・削除・入替・変更等が可能である。 The above is the procedure for searching the field of view by SEM. In S308, only the optical image may be displayed, the user may specify the observation position, and then the SEM observation may be started. In addition, steps can be added / deleted / replaced / changed.

本実施例によれば、撮像装置107による撮像とSEMによる観察の間に試料を取り付けなおす必要がなく、また大気開放・真空引きを繰り返す必要がなく、光学像を取得することができるため、観察効率が向上する。大気開放のプロセスを踏まないため、試料101の大気による変質を防ぐことができる。また、撮像装置107は試料室104に傾斜した状態で設けられているため、試料室104を小型化できる。また、撮像装置107で試料101を撮像する際は、ステージ102により試料101を傾斜させて撮像装置107に対向させるため、光学像に歪みが生じない。更に、制御部108は試料101と鏡体103等を、所定距離だけ離間させてから試料101を傾斜させるため、大きさ等が不定の試料であっても、傾斜の際に試料が他の構成要素に衝突する可能性を低減できる。 According to this embodiment, it is not necessary to reattach the sample between the imaging by the imaging device 107 and the observation by the SEM, and it is not necessary to repeatedly open the atmosphere and evacuate, and an optical image can be acquired. Efficiency is improved. Since the process of opening to the atmosphere is not performed, deterioration of the sample 101 due to the atmosphere can be prevented. Further, since the image pickup apparatus 107 is provided in the sample chamber 104 in an inclined state, the sample chamber 104 can be miniaturized. Further, when the sample 101 is imaged by the imaging device 107, the sample 101 is tilted by the stage 102 to face the imaging device 107, so that the optical image is not distorted. Further, since the control unit 108 tilts the sample 101 after separating the sample 101 and the mirror body 103 or the like by a predetermined distance, even if the sample has an indefinite size or the like, the sample has another configuration when tilted. The possibility of colliding with elements can be reduced.

実施例2では、複数の撮像装置を備えた荷電粒子線装置について説明する。 In the second embodiment, a charged particle beam apparatus including a plurality of imaging devices will be described.

前述の通り、SEMで高分解能を得るためには、試料101と鏡体103の距離は短い方が望ましい。しかし、SEM像のみからでは、試料101と鏡体103との距離を正確に判断することはできない。そこで、試料室104の側面に撮像装置107とは別の撮像装置を設けることにより、試料101を真横から観察することで、試料の上下位置を判断する。 As described above, in order to obtain high resolution by SEM, it is desirable that the distance between the sample 101 and the mirror body 103 is short. However, the distance between the sample 101 and the mirror body 103 cannot be accurately determined from the SEM image alone. Therefore, by providing an imaging device different from the imaging device 107 on the side surface of the sample chamber 104, the vertical position of the sample is determined by observing the sample 101 from the side.

図5(A)は実施例2における荷電粒子線装置の概略図、図5(B)は実施例2における荷電粒子線装置の斜視図である。該荷電粒子線装置100は、図1に示した構成に加え、鏡体103や撮像装置107とは異なった方向から試料室104内部を観察する第二の撮像装置を有する。ここでは、第二の撮像装置をチャンバースコープ501として説明する。チャンバースコープ501は、鏡体103の光軸に対してほぼ垂直となる方向から、試料101、ステージ102、検出器106等をその視野に収めている。尚、チャンバースコープ501を複数設け、種々の方向から観察してもよい。 5 (A) is a schematic view of the charged particle beam device according to the second embodiment, and FIG. 5 (B) is a perspective view of the charged particle beam device according to the second embodiment. In addition to the configuration shown in FIG. 1, the charged particle beam device 100 has a second imaging device for observing the inside of the sample chamber 104 from a direction different from that of the mirror body 103 and the imaging device 107. Here, the second imaging device will be described as the chamber scope 501. The chamber scope 501 includes the sample 101, the stage 102, the detector 106, and the like in the field of view from a direction substantially perpendicular to the optical axis of the mirror body 103. A plurality of chamber scopes 501 may be provided and observed from various directions.

実施例1においては、試料101が平坦な例を示したが、実際の試料は凹凸を有する場合がある。凸部601を有する試料101を、実施例1の手法により撮像装置107で撮像する際の模式図を図6に示す。凸部601の突出量が大きい場合、図2(D)で説明したように試料101を下降させてから傾斜させたとしても、凸部601が他の構成要素と衝突する可能性がある。凸部601が存在しなくとも、例えば試料101の直径が大きい場合も同様である。 In Example 1, the sample 101 is shown to be flat, but the actual sample may have irregularities. FIG. 6 shows a schematic diagram of the sample 101 having the convex portion 601 when the sample 101 is imaged by the image pickup apparatus 107 by the method of Example 1. When the protrusion amount of the convex portion 601 is large, the convex portion 601 may collide with other components even if the sample 101 is lowered and then tilted as described in FIG. 2 (D). The same applies even when the convex portion 601 does not exist, for example, when the diameter of the sample 101 is large.

鏡体103は、試料101を真上から見下ろしているものであるのに加え、SEM像の視野は狭いため、SEM像から試料101の突出量を判断することはもちろん、凸部601を発見することすら困難である。 In addition to looking down on the sample 101 from directly above, the mirror body 103 has a narrow field of view of the SEM image, so that the protrusion amount of the sample 101 can be determined from the SEM image and the convex portion 601 is found. Even that is difficult.

撮像装置107も、多少傾いて設置されているとはいえ、試料101を上方から観察するものであり、凸部601の突出量を判断することは困難である。また、実施例1では、撮像装置107の撮像の前に試料101が傾斜するため、試料を傾斜させる前に撮像装置107を用いて、凸部601の突出量を判断することは想定されていない。 Although the image pickup apparatus 107 is also installed at a slight inclination, the sample 101 is observed from above, and it is difficult to determine the amount of protrusion of the convex portion 601. Further, in the first embodiment, since the sample 101 is tilted before the imaging device 107 is imaged, it is not assumed that the image pickup device 107 is used to determine the protrusion amount of the convex portion 601 before tilting the sample. ..

そこで実施例2におけるSEMは、撮像装置107で光学像を撮像するために試料101を傾斜させる際に、チャンバースコープ501により試料101の側面を観察することで、試料101(の凸部601)と、鏡体103等の構成要素との衝突が起こらないことを確認することができる。実施例2では、チャンバースコープ501の視野602は試料101、鏡体103と検出器106を収めるものとしたが、必要に応じてその視野を広げてもよいし、狭めてもよい。 Therefore, the SEM in Example 2 can be referred to as the sample 101 (convex portion 601) by observing the side surface of the sample 101 with the chamber scope 501 when the sample 101 is tilted in order to capture an optical image with the imaging device 107. , It can be confirmed that the collision with the component such as the mirror body 103 does not occur. In the second embodiment, the field of view 602 of the chamber scope 501 accommodates the sample 101, the mirror body 103, and the detector 106, but the field of view may be widened or narrowed as needed.

本実施例における、チャンバースコープ501の使用方法を、図7に示したフローチャートを用いて説明する。 A method of using the chamber scope 501 in this embodiment will be described with reference to the flowchart shown in FIG.

S701〜S702:S301〜S302と同様である。 S701 to S702: The same as S301 to S302.

S703:制御部108は、撮像されたチャンバースコープ501の視野602内の画像により、試料101と他の構成要素との衝突が起こりそうか否か判断する。ここでは、チャンバースコープ501の画像をモニタ110に表示して、ユーザが衝突可能性を判断してもよい。画像処理等を用いることで、制御部108が衝突可能性を判断してもよい。 S703: The control unit 108 determines whether or not a collision between the sample 101 and other components is likely to occur based on the captured image in the field of view 602 of the chamber scope 501. Here, the image of the chamber scope 501 may be displayed on the monitor 110, and the user may determine the possibility of collision. The control unit 108 may determine the possibility of collision by using image processing or the like.

S704:試料101と他の構成要素との衝突が起こりそうでない場合(衝突可能性が低い場合)、試料101を撮像装置107の撮像位置まで移動する(S303と同様)。後のフローは図3と同様である。 S704: When the collision between the sample 101 and other components is unlikely to occur (when the possibility of collision is low), the sample 101 is moved to the imaging position of the imaging device 107 (similar to S303). The subsequent flow is the same as in FIG.

S705:試料101と他の構成要素との衝突が起こりそうである場合(衝突可能性が高い場合)、制御部108は、ステージ102の動作を停止する。そして、衝突が起こらない位置に、撮像装置107の撮像位置を変更する。この場合、一例としては、制御部108は試料101と鏡体103の距離を更に離間する、及び/又は、試料101の撮像装置107への傾斜角度を小さくする、等が考えられる。そして、S704に移行する。 S705: When a collision between the sample 101 and other components is likely to occur (when the possibility of collision is high), the control unit 108 stops the operation of the stage 102. Then, the imaging position of the imaging device 107 is changed to a position where a collision does not occur. In this case, as an example, it is conceivable that the control unit 108 further separates the distance between the sample 101 and the mirror body 103, and / or reduces the tilt angle of the sample 101 with respect to the image pickup apparatus 107. Then, it shifts to S704.

以上が本実施例におけるチャンバースコープ501の使用方法である。尚、実施例2では、試料衝突が起こりそうと判断された場合にはステージ102の動作を停止するものとしたが、衝突が起こらないように制御した上で、ステージ102を動かし続けてもよい。また、チャンバースコープ501により、試料101の最高地点とその高さを計測しておき、予め撮像装置107の撮像位置を調整してもよい。更に、衝突可能性の高さの判断が不十分な場合、該判断に応じた距離、角度の算出に誤りがあった場合は、その都度、微調整をしてもよい。 The above is the method of using the chamber scope 501 in this embodiment. In the second embodiment, the operation of the stage 102 is stopped when it is determined that a sample collision is likely to occur, but the stage 102 may be continuously moved after controlling so that the collision does not occur. .. Further, the highest point of the sample 101 and its height may be measured by the chamber scope 501, and the imaging position of the imaging device 107 may be adjusted in advance. Further, if the judgment of the high possibility of collision is insufficient, or if there is an error in the calculation of the distance and the angle according to the judgment, fine adjustment may be made each time.

上記のように、撮像装置107の撮像位置を調整すると、撮像装置107と試料101との位置関係は不定となる。図8に、撮像位置を調整した場合の概略図を示す。 When the imaging position of the imaging device 107 is adjusted as described above, the positional relationship between the imaging device 107 and the sample 101 becomes undefined. FIG. 8 shows a schematic view when the imaging position is adjusted.

試料101の凸部601を、他の構成要素と衝突させないためには、試料101を撮像装置107から離れるように移動させる方法(101(a))や、試料101を水平移動する方法(101(b))、試料101を真下に下降させる方法(101(c))等が考えられる。101(a)の場合は、撮像装置107と試料101との距離が変わるため、光学像は通常より小さくなってしまい、光学像とSEM像とで倍率のずれが生じてしまう。101(b)の場合は、光学像とSEM像とで、座標のずれが発生してしまう。101(c)の場合は、光学像は通常より小さくなってしまい光学像とSEM像とで倍率のずれが生じると共に、光学像とSEM像とで座標のずれが発生してしまう。そこで本実施例においては、制御部108により、撮像位置の調整による光学像とSEM像のずれを補正することが望ましい。 In order to prevent the convex portion 601 of the sample 101 from colliding with other components, a method of moving the sample 101 away from the imaging device 107 (101 (a)) or a method of horizontally moving the sample 101 (101 (). b)), a method of lowering the sample 101 directly below (101 (c)), and the like can be considered. In the case of 101 (a), since the distance between the image pickup apparatus 107 and the sample 101 changes, the optical image becomes smaller than usual, and the optical image and the SEM image have a difference in magnification. In the case of 101 (b), the coordinates of the optical image and the SEM image are displaced. In the case of 101 (c), the optical image becomes smaller than usual, and the optical image and the SEM image are displaced in magnification, and the optical image and the SEM image are displaced in coordinates. Therefore, in this embodiment, it is desirable that the control unit 108 corrects the deviation between the optical image and the SEM image due to the adjustment of the imaging position.

以上の構成によれば、凹凸の激しい試料や、直径が大きい試料においても、試料と他の構成要素とが衝突することなく、光学像によるSEM像の視野探しが可能となる。 According to the above configuration, even in a sample having severe irregularities or a sample having a large diameter, it is possible to search the field of view of the SEM image by an optical image without collision between the sample and other components.

実施例3では、実施例1または実施例2で説明したSEMにおいて、挿脱が可能な検出器を設けたSEMについて、図9を用いて説明する。 In Example 3, in the SEM described in Example 1 or Example 2, an SEM provided with a detector capable of being inserted and removed will be described with reference to FIG.

通常のSEM、特にアウトレンズ形のSEMにおいては、反射電子検出器901や、透過電子検出器902は、試料の直上または直下に配置される。特に反射電子検出器901は、鏡体103と試料101との間に配置される。 In a normal SEM, particularly an out-lens type SEM, the reflected electron detector 901 and the transmission electron detector 902 are arranged directly above or directly below the sample. In particular, the backscattered electron detector 901 is arranged between the mirror body 103 and the sample 101.

図9(A)の場合、撮像装置107の視野111は反射電子検出器901で遮られることとなり、試料101を視野に収めることができない。また、反射電子検出器901は、鏡体103等よりも試料101に近い距離に配置されるため、試料101を傾斜させた際の衝突の可能性が高くなる。 In the case of FIG. 9A, the field of view 111 of the imaging device 107 is blocked by the reflected electron detector 901, and the sample 101 cannot be included in the field of view. Further, since the reflected electron detector 901 is arranged at a distance closer to the sample 101 than the mirror body 103 or the like, the possibility of collision when the sample 101 is tilted increases.

透過電子検出器902は、撮像装置107の視野111を遮ることはない。しかし、試料101を上下移動させる際や、傾斜させる際には、試料101または試料101を支えるステージ102の下面と、透過電子検出器902が衝突する可能性がある。 The transmission electron detector 902 does not block the field of view 111 of the imaging device 107. However, when the sample 101 is moved up and down or tilted, the lower surface of the sample 101 or the stage 102 supporting the sample 101 may collide with the transmission electron detector 902.

そこで実施例3では、反射電子検出器901と透過電子検出器902を鏡体103の光軸から退避可能とする。制御部108は、図9(B)に示すように、撮像装置107を用いる際に各検出器を退避させる。実施例2と組み合わせ、チャンバースコープを用いることで、試料や各検出器の高さを判断しながら各検出器を退避させてもよい。 Therefore, in the third embodiment, the reflected electron detector 901 and the transmission electron detector 902 can be retracted from the optical axis of the mirror body 103. As shown in FIG. 9B, the control unit 108 retracts each detector when using the image pickup apparatus 107. By using a chamber scope in combination with the second embodiment, each detector may be retracted while determining the height of the sample and each detector.

以上の構成によれば、鏡体103の光軸に検出器が配置されるSEMにおいても、試料101及びステージ102と各検出器等の衝突を引き起こすことなく、撮像装置107での撮像が可能になる。 According to the above configuration, even in an SEM in which a detector is arranged on the optical axis of the mirror body 103, imaging by the imaging device 107 is possible without causing a collision between the sample 101 and the stage 102 and each detector or the like. Become.

実施例4では、直径が大きな試料においても、光学像を撮像可能なSEMについて説明する。 In Example 4, an SEM capable of capturing an optical image even in a sample having a large diameter will be described.

撮像装置107は、SEMよりは低倍率での撮像が可能であるが、撮像装置の視野111にも上限が存在する。撮像装置107の視野111より直径が大きな試料は、一度でその全景を撮像することができない。 The image pickup apparatus 107 can perform imaging at a lower magnification than the SEM, but the field of view 111 of the image pickup apparatus also has an upper limit. A sample having a diameter larger than the field of view 111 of the imaging device 107 cannot capture the entire view at one time.

そこで実施例4では、直径が大きな試料を用いる場合は、試料101を傾斜させた後、回転させながら撮像することで、試料101の全景について光学像を取得する。図10に、実施例4の光学像の取得方法を示す。 Therefore, in Example 4, when a sample having a large diameter is used, an optical image is acquired for the entire view of the sample 101 by inclining the sample 101 and then taking an image while rotating the sample 101. FIG. 10 shows a method of acquiring an optical image of Example 4.

制御部108は、試料101の直径が撮像装置107の視野111よりも大きい場合は、試料101を撮像装置107に対向させた状態で、試料101を回転させながら光学像を取得する。尚、ここでの「回転させながら」とは、試料101を連続的に回転させながら光学像を取得する場合と、試料101を所定の角度回転させた後停止し、光学像を取得し、再び試料101を所定の角度回転させた後停止し、のステップを繰り返す場合とを含む。 When the diameter of the sample 101 is larger than the field of view 111 of the imaging device 107, the control unit 108 acquires an optical image while rotating the sample 101 with the sample 101 facing the imaging device 107. In addition, "while rotating" here means that the optical image is acquired while continuously rotating the sample 101, and the sample 101 is rotated by a predetermined angle and then stopped to acquire the optical image, and then again. This includes the case where the sample 101 is rotated by a predetermined angle, then stopped, and the step of is repeated.

図10(A)では、凸部601付近の光学像を取得している。その後、反時計周りに試料101を回転させることで、図10(B)のように凸部601付近以外の光学像を取得することができる。以下、試料101が1週するまで試料101の回転を継続することで、試料101の全景について光学像を取得することができる。 In FIG. 10A, an optical image near the convex portion 601 is acquired. After that, by rotating the sample 101 counterclockwise, an optical image other than the vicinity of the convex portion 601 can be obtained as shown in FIG. 10 (B). Hereinafter, by continuing the rotation of the sample 101 until the sample 101 has been rotated for one week, an optical image of the entire view of the sample 101 can be obtained.

尚、実施例4では直径が大きな試料を用いることを前提としており、試料を傾斜させた際の衝突が起こる可能性が高い。そこで、実施例1、2または3の手法と組み合わせることで、試料の衝突を回避することができる。 In Example 4, it is premised that a sample having a large diameter is used, and there is a high possibility that a collision will occur when the sample is tilted. Therefore, by combining with the methods of Examples 1, 2 or 3, it is possible to avoid collision of samples.

以上、各実施例ではSEMと撮像装置を備える荷電粒子線装置を例として説明したが、これに限られない。例えば、SEMの部分は透過型電子顕微鏡(TEM)に置き換えてもよく、また、ミクロトームやイオンミリング装置、FIB等、試料101を加工するための機器を更に備えてもよい。 In the above, each embodiment has been described as an example of a charged particle beam device including an SEM and an imaging device, but the present invention is not limited to this. For example, the SEM portion may be replaced with a transmission electron microscope (TEM), and may be further equipped with equipment for processing the sample 101 such as a microtome, an ion milling device, and a FIB.

101…試料、102…ステージ、103…鏡体、104…試料室、105…真空ポンプ、106…二次電子検出器、107…撮像装置、108…制御部、109…メモリ、110…モニタ、111…撮像装置の視野、501…チャンバースコープ、601…凸部、602…チャンバースコープの視野、901…反射電子検出器、902…透過電子検出器 101 ... sample, 102 ... stage, 103 ... mirror body, 104 ... sample chamber, 105 ... vacuum pump, 106 ... secondary electron detector, 107 ... imaging device, 108 ... control unit, 109 ... memory, 110 ... monitor, 111 ... Field of view of imaging device, 501 ... Chamber scope, 601 ... Convex part, 602 ... Field of view of chamber scope, 901 ... Backscattered electron detector, 902 ... Transmission electron detector

Claims (3)

試料を載置し、試料室内部で前記試料を移動させるステージと、
前記試料に荷電粒子線を照射する鏡体と、
前記試料の荷電粒子線が照射される面を観察する撮像装置と、
前記撮像装置により前記試料を観察する際に、前記試料を前記鏡体から離間させた後に、前記試料を前記撮像装置に対向するよう、前記ステージにより前記試料を傾斜させ、前記撮像装置の視野よりも前記試料が大きい場合に、前記試料を回転させて前記試料上の少なくとも2つの視野領域で光学像を取得する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記試料を連続的に回転させて前記少なくとも2つの視野領域の光学像を取得する荷電粒子線装置。
A stage on which the sample is placed and the sample is moved inside the sample chamber,
A mirror body that irradiates the sample with a charged particle beam,
An imaging device for observing the surface of the sample irradiated with charged particle beams, and
When observing the sample with the imaging device, after separating the sample from the mirror body, the sample is tilted by the stage so that the sample faces the imaging device, and the sample is tilted from the field of view of the imaging device. Also includes a control unit that rotates the sample and acquires an optical image in at least two visual field regions on the sample when the sample is large.
The control unit is a charged particle beam device that continuously rotates the sample to acquire optical images of the at least two visual field regions.
試料を載置し、試料室内部で前記試料を移動させるステージと、
前記試料に荷電粒子線を照射する鏡体と、
前記試料の荷電粒子線が照射される面を観察する撮像装置と、
前記撮像装置により前記試料を観察する際に、前記試料を前記鏡体から離間させた後に、前記試料を前記撮像装置に対向するよう、前記ステージにより前記試料を傾斜させ、前記撮像装置の視野よりも前記試料が大きい場合に、前記試料を回転させて前記試料上の少なくとも2つの視野領域で光学像を取得する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記試料上の第1の視野領域で前記光学像を取得し、前記試料を所定角度回転させた後に、前記試料上の第2の視野領域で前記光学像を取得する荷電粒子線装置。
A stage on which the sample is placed and the sample is moved inside the sample chamber,
A mirror body that irradiates the sample with a charged particle beam,
An imaging device for observing the surface of the sample irradiated with charged particle beams, and
When observing the sample with the imaging device, after separating the sample from the mirror body, the sample is tilted by the stage so that the sample faces the imaging device, and the sample is tilted from the field of view of the imaging device. Also includes a control unit that rotates the sample and acquires an optical image in at least two visual field regions on the sample when the sample is large.
Charged particles wherein the control unit acquires the optical image in the first field area on the sample, after the sample was rotated by a predetermined angle, to obtain the optical image in the second field area on the sample Wire device.
試料を載置し、試料室内部で前記試料を移動させるステージと、
前記試料に荷電粒子線を照射する鏡体と、
前記試料の荷電粒子線が照射される面を観察する撮像装置と、
前記撮像装置により前記試料を観察する際に、前記試料を前記鏡体から離間させた後に、前記試料を前記撮像装置に対向するよう、前記ステージにより前記試料を傾斜させ、前記撮像装置の視野よりも前記試料が大きい場合に、前記試料を回転させて前記試料上の少なくとも2つの視野領域で光学像を取得する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記回転により、前記試料の全景についての光学像を取得する荷電粒子線装置。
A stage on which the sample is placed and the sample is moved inside the sample chamber,
A mirror body that irradiates the sample with a charged particle beam,
An imaging device for observing the surface of the sample irradiated with charged particle beams, and
When observing the sample with the imaging device, after separating the sample from the mirror body, the sample is tilted by the stage so that the sample faces the imaging device, and the sample is tilted from the field of view of the imaging device. Also includes a control unit that rotates the sample and acquires an optical image in at least two visual field regions on the sample when the sample is large.
The control unit is a charged particle beam device that acquires an optical image of the entire view of the sample by the rotation.
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