JP6767930B2 - Semiconductor element test jig and reliability test equipment - Google Patents

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Description

本発明は、半導体素子の試験用治具及び信頼性試験装置に関するものである。 The present invention relates to a semiconductor device test jig and a reliability test apparatus.

従来、半導体素子の信頼性を確認するための試験として種々の試験が行われている。例えば特許文献1には、信頼性試験として、半導体素子を高温環境下におき、非導通状態で電圧を印加する高温逆バイアス試験を行うことが開示されている。このような信頼性試験を行う際には、半導体素子をチャンバー内に固定するための試験用治具が用いられる(例えば特許文献2参照)。試験用治具は、半導体素子を保持するための構造を有する一方で、半導体素子に電圧を印加するための導通構造が設けられている。また、高温環境下で行う信頼性試験にも適するように、金属板で構成された基台を有するものもある。 Conventionally, various tests have been performed as tests for confirming the reliability of semiconductor elements. For example, Patent Document 1 discloses that, as a reliability test, a high-temperature reverse bias test is performed in which a semiconductor element is placed in a high-temperature environment and a voltage is applied in a non-conducting state. When performing such a reliability test, a test jig for fixing the semiconductor element in the chamber is used (see, for example, Patent Document 2). While the test jig has a structure for holding the semiconductor element, it is provided with a conduction structure for applying a voltage to the semiconductor element. In addition, some have a base made of a metal plate so as to be suitable for a reliability test performed in a high temperature environment.

特開2001−91571号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-91571 特開平5−183027号公報JP-A-5-183027

半導体素子に高電圧を印加したときには、基台と半導体素子との間で予期せぬ放電が生ずることがある。また、半導体素子に要求される特性の高まりを受け、試験用治具において、高電圧側から試験用治具へのリーク電流を低減させることが望まれている。 When a high voltage is applied to a semiconductor element, an unexpected discharge may occur between the base and the semiconductor element. Further, in response to the increase in characteristics required for semiconductor elements, it is desired to reduce the leakage current from the high voltage side to the test jig in the test jig.

そこで、本発明は、前記従来技術を鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、信頼性試験時に放電を抑制し、かつリーク電流を低減できる試験用治具及び信頼性試験装置を提供することにある。 Therefore, the present invention has been made in view of the above-mentioned prior art, and an object of the present invention is to provide a test jig and a reliability test apparatus capable of suppressing discharge and reducing leakage current during a reliability test. To provide.

前記の目的を達成するため、本発明は、金属製の端子と前記端子を支持する絶縁材からなる絶縁部とを含むコネクタ部と、前記コネクタ部の前記絶縁部を保持する金属製の基台と、試験対象である半導体素子を装着可能であって電極が形成された被試験基板を前記基台から離れた位置で支持するための絶縁材からなるスペーサと、前記端子に電気的に接続され且つ前記被試験基板の前記電極に電気的に接続するためのプローブと、前記プローブを保持する絶縁材からなる保持部と、前記基台に支持され、前記保持部を支持する絶縁材からなる支柱と、を備えている、半導体素子の試験用治具である。 In order to achieve the above object, the present invention presents a connector portion including a metal terminal and an insulating portion made of an insulating material that supports the terminal, and a metal base that holds the insulating portion of the connector portion. When the spacer to be tested substrate made of an insulating material for supporting at a distance from the base on which a semiconductor element can be mounted electrodes are formed to be tested, electrically connected to said terminals It is composed of a probe for electrically connecting to the electrode of the substrate to be tested, a holding portion made of an insulating material that holds the probe, and an insulating material that is supported by the base and supports the holding portion. It is a test jig for a semiconductor element provided with a support column.

本発明では、絶縁材からなるスペーサによって、被試験基板と金属製基台とを離間させることにより、被試験基板と金属製基台との間で放電が生ずることを防止することができる。また、プローブを保持する保持部が、基台に直接取り付けられるのではなく、支柱を介して基台に支持されている。すなわち、保持部よりも断面積の小さな支柱が、基台と保持部との間に介装されているので、保持部と基台との間の体積抵抗率を上げることができる。これにより、プローブから基台側へのリーク電流を低減することができる。 In the present invention, it is possible to prevent an electric discharge from occurring between the substrate under test and the metal base by separating the substrate under test and the metal base by a spacer made of an insulating material. Further, the holding portion for holding the probe is not directly attached to the base, but is supported by the base via a support column. That is, since a support column having a cross-sectional area smaller than that of the holding portion is interposed between the base and the holding portion, the volume resistivity between the holding portion and the base can be increased. As a result, the leakage current from the probe to the base side can be reduced.

前記支柱には、その長さ方向に貫通する貫通孔が形成されていてもよい。この態様では、支柱が中実状に形成される場合に比べ、支柱の断面積を小さくすることができる。したがって、保持部と基台との間の体積抵抗率をさらに高くすることができ、プローブから基台側へのリーク電流をさらに低減することができる。 The support column may be formed with a through hole penetrating in the length direction thereof. In this aspect, the cross-sectional area of the strut can be reduced as compared with the case where the strut is formed in a solid state. Therefore, the volume resistivity between the holding portion and the base can be further increased, and the leakage current from the probe to the base can be further reduced.

前記支柱の先端及び基端に有底穴が形成されていてもよい。この態様では、支柱が中実状に形成される場合に比べ、支柱の断面積を部分的に小さくすることができる。この場合でも、保持部と基台との間の体積抵抗率をさらに高くすることができるため、プローブから基台側へのリーク電流をさらに低減することができる。 Bottomed holes may be formed at the tips and bases of the columns. In this aspect, the cross-sectional area of the strut can be partially reduced as compared with the case where the strut is formed in a solid state. Even in this case, since the volume resistivity between the holding portion and the base can be further increased, the leakage current from the probe to the base can be further reduced.

前記プローブにおいて前記電極に接触する先端面からつながる部位を被覆する被覆部を備えていてもよい。この態様では、プローブと被試験基板の電極との接触を確保しつつ、プローブの露出面積を低減することができる。このため、プローブの機能を確保しつつプローブからの放電をより抑制することができる。 The probe may be provided with a covering portion that covers a portion connected from the tip surface in contact with the electrode. In this aspect, the exposed area of the probe can be reduced while ensuring the contact between the probe and the electrode of the substrate under test. Therefore, it is possible to further suppress the discharge from the probe while ensuring the function of the probe.

前記プローブの前記先端面は丸曲面に形成されていてもよい。この態様では、プローブによって被試験基板の電極に高電圧を印加する場合に有用な構成となる。 The tip surface of the probe may be formed on a round curved surface. In this aspect, the configuration is useful when a high voltage is applied to the electrodes of the substrate under test by the probe.

前記プローブが前記被試験基板に接触した状態にあるときに、前記プローブは、前記先端面と前記部位の外周面との接続部分が前記被覆部によって被覆された状態にあってもよい。この態様では、丸曲面に形成されている先端面と前記部位の外周面との接続部分が例えば僅かに段差状に接続することがあったとしても、この部分が被覆部によって被覆される。これにより、この部分からの放電が生ずることを防止することができる。 When the probe is in contact with the substrate to be tested, the probe may be in a state where the connecting portion between the tip surface and the outer peripheral surface of the portion is covered with the covering portion. In this aspect, even if the connecting portion between the tip surface formed on the round curved surface and the outer peripheral surface of the portion is connected in a slightly stepped shape, for example, this portion is covered by the covering portion. This makes it possible to prevent the discharge from this portion.

前記コネクタ部の前記絶縁部は、前記端子を囲む囲み部を有していてもよい。この態様では、コネクタ部の端子が絶縁部の囲み部によって囲まれているので、試験用治具が信頼性試験装置のラック部に装着された状態では、コネクタ部の端子が露出することを防止することができる。これにより、コネクタ部の端子からの放電が生ずることを防止することができる。 The insulating portion of the connector portion may have a surrounding portion surrounding the terminal. In this embodiment, since the terminals of the connector portion are surrounded by the surrounding portion of the insulating portion, it is possible to prevent the terminals of the connector portion from being exposed when the test jig is mounted on the rack portion of the reliability test apparatus. can do. This makes it possible to prevent discharge from the terminals of the connector portion.

本発明は、前記半導体素子の試験用治具と、前記半導体素子の試験用治具を装着するためのチャンバーと、を有し、前記チャンバーには、前記コネクタ部の前記端子に結合される端子が設けられている、半導体素子の信頼性試験装置である。 The present invention has a test jig for the semiconductor element and a chamber for mounting the test jig for the semiconductor element, and the chamber has a terminal coupled to the terminal of the connector portion. Is a semiconductor device reliability test apparatus provided with.

本発明では、信頼性試験時において、試験用治具内での放電を抑制し、かつ試験用治具からのリーク電流を低減できるので、より精度の高い試験結果を得ることができる。 In the present invention, at the time of the reliability test, the discharge in the test jig can be suppressed and the leakage current from the test jig can be reduced, so that more accurate test results can be obtained.

以上説明したように、本発明の試験用治具及び信頼性試験装置によれば、信頼性試験時に放電を抑制し、かつリーク電流を低減することができる。 As described above, according to the test jig and the reliability test apparatus of the present invention, it is possible to suppress the discharge and reduce the leakage current during the reliability test.

本発明の実施形態に係る信頼性試験装置を前側から見た図である。It is a figure which looked at the reliability test apparatus which concerns on embodiment of this invention from the front side. 前記信頼性試験に用いられる試験用治具の平面図である。It is a top view of the test jig used for the reliability test. 前記試験用治具の側面図である。It is a side view of the test jig. (a)はチャンバーに設けられた接続部の構成を示す図であり、(b)は試験用治具のコネクタ部の構成を示す図である。(A) is a diagram showing the configuration of the connection portion provided in the chamber, and (b) is a diagram showing the configuration of the connector portion of the test jig. 図2中のV−V線における断面図である。It is sectional drawing in the VV line in FIG. 図5を部分的に拡大して示す図である。FIG. 5 is a partially enlarged view of FIG. 図2中のVII−VII線における断面図である。It is sectional drawing in the VII-VII line in FIG. 図7中のVIII−VIII線における断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line VIII-VIII in FIG.

以下、本発明を実施するための形態について図面を参照しながら詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1に示すように、本実施形態に係る半導体素子の信頼性試験装置(以下、単に試験装置)10は、試験室を有するチャンバー12と、チャンバー12内に固定されたラック部13と、ラック部13によってチャンバー12内に位置決めされてチャンバー12に装着される半導体素子の試験用治具14と、を備えている。また、試験装置10は、チャンバー12の横に配置され、試験条件等を入力するための操作を行う操作部15を備えている。チャンバー12は、試験室内の温度を調整する機器が配設された空調室を備えているが、空調室は図1において、試験室の奥側に配置されているため、図示されていない。なお、図1は、手前の扉体が取り外されて、試験室内が露出した状態を示しているが、試験中は扉体で試験室を密閉するように構成されている。 As shown in FIG. 1, the semiconductor device reliability test apparatus (hereinafter, simply test apparatus) 10 according to the present embodiment includes a chamber 12 having a test chamber, a rack portion 13 fixed in the chamber 12, and a rack. A semiconductor device test jig 14 positioned in the chamber 12 by the portion 13 and mounted on the chamber 12 is provided. Further, the test apparatus 10 is arranged next to the chamber 12 and includes an operation unit 15 that performs an operation for inputting test conditions and the like. The chamber 12 includes an air-conditioning chamber in which equipment for adjusting the temperature in the test chamber is arranged, but the air-conditioning chamber is not shown in FIG. 1 because it is arranged on the back side of the test chamber. Note that FIG. 1 shows a state in which the front door body is removed to expose the test chamber, but the test chamber is sealed by the door body during the test.

この試験装置10は、半導体素子の高温逆バイアス試験、高温ゲートバイアス試験、高温高湿バイアス試験、静電破壊試験等の信頼性試験を行うための制御を行うことができる。このため、試験装置10は、操作部15を通して入力された試験条件に基づき、試験室内を例えば150℃以上の高温に維持する制御を行うことができる。また、試験装置10は、ラック部13を通して試験用治具14に例えば10kV以上(例えば15kV程度)の高電圧を印加する制御を行うことができる。チャンバー12は、恒温槽によって構成されているが、高温高湿バイアス試験等を可能にすべく、恒温恒湿槽によって構成されていてもよい。 The test apparatus 10 can perform control for performing reliability tests such as a high temperature reverse bias test, a high temperature gate bias test, a high temperature and high humidity bias test, and an electrostatic breakdown test of a semiconductor element. Therefore, the test apparatus 10 can control the test chamber to be maintained at a high temperature of, for example, 150 ° C. or higher, based on the test conditions input through the operation unit 15. Further, the test apparatus 10 can control to apply a high voltage of, for example, 10 kV or more (for example, about 15 kV) to the test jig 14 through the rack portion 13. Although the chamber 12 is composed of a constant temperature and humidity chamber, it may be composed of a constant temperature and humidity chamber in order to enable a high temperature and high humidity bias test and the like.

チャンバー12は、試験用治具14の後述するコネクタ部24を接続するための接続部16を有している。接続部16は、ラック部13の位置に対応して配置されている。接続部16には、高圧側のコネクタ部24を接続する第1接続部16と、低圧側(又はマイナス側)のコネクタ部24を接続する第2接続部16と、が含まれている。第1接続部16及び第2接続部16は、手前側(すなわち、扉体側)を向いている。したがって、試験用治具14を手前側からラック部13に装着することができる。第1接続部16及び第2接続部16には、雌端子16a(図4(a)参照)が設けられており、雌端子16aは、図外の電圧供給装置に電気的に接続されて、電圧供給装置から電圧供給を受ける。 The chamber 12 has a connecting portion 16 for connecting the connector portion 24 described later of the test jig 14. The connecting portion 16 is arranged corresponding to the position of the rack portion 13. The connection portion 16 includes a first connection portion 16 for connecting the high-voltage side connector portion 24 and a second connection portion 16 for connecting the low-voltage side (or minus side) connector portion 24. The first connecting portion 16 and the second connecting portion 16 face the front side (that is, the door body side). Therefore, the test jig 14 can be mounted on the rack portion 13 from the front side. The first connection portion 16 and the second connection portion 16 are provided with a female terminal 16a (see FIG. 4A), and the female terminal 16a is electrically connected to a voltage supply device (not shown). Receives voltage supply from the voltage supply device.

試験装置10には、図1に示すように、上下に3段のラック部13が設けられていて、試験装置10は、最大で3つの試験用治具14を接続できる構成となっている。なお、図1は下の2段のラック部13に試験用治具14が接続され、最上段のラック部13には試験用治具14が接続されていない状態を示している。 As shown in FIG. 1, the test apparatus 10 is provided with three rack portions 13 at the top and bottom, and the test apparatus 10 has a configuration in which a maximum of three test jigs 14 can be connected. Note that FIG. 1 shows a state in which the test jig 14 is connected to the lower two-stage rack portion 13 and the test jig 14 is not connected to the uppermost rack portion 13.

試験用治具14は、半導体素子を装着可能な被試験基板20を固定するとともに、チャンバー12を通して印加された電圧を被試験基板20に印加できるように構成されている。以下、試験用治具14の構成について、具体的に説明する。 The test jig 14 is configured so that the substrate 20 to be tested on which the semiconductor element can be mounted is fixed and the voltage applied through the chamber 12 can be applied to the substrate 20 to be tested. Hereinafter, the configuration of the test jig 14 will be specifically described.

試験用治具14は、図2及び図3に示すように、基台22と、取っ手23と、コネクタ部24とを、備えている。基台22は、金属板を組み合わせて偏平な直方体状に構成したものである。図2は、基台22の正面となる正面板22a側から見た状態を示しており、基台22の正面板22aには、複数(図例では4つ)の被試験基板20を取り付けることができるようになっている。本実施形態では、正面板22aが上を向き、背面板22bが下を向く姿勢でチャンバー12に装着される。このため、正面板22aは上面板となり、背面板22bは下面板となる。 As shown in FIGS. 2 and 3, the test jig 14 includes a base 22, a handle 23, and a connector portion 24. The base 22 is formed by combining metal plates into a flat rectangular parallelepiped shape. FIG. 2 shows a state viewed from the front plate 22a side, which is the front surface of the base 22, and a plurality of (four in the example) test boards 20 are attached to the front plate 22a of the base 22. Can be done. In the present embodiment, the front plate 22a is mounted on the chamber 12 in a posture of facing upward and the back plate 22b facing downward. Therefore, the front plate 22a becomes the upper surface plate, and the back plate 22b becomes the lower surface plate.

基台22の正面板22aと背面板22bとは、互いに間隔をおいた状態で配置されて側面板22cによって互いに結合されている。側面板22cは、矩形状の正面板22aの一辺を除く三辺に沿って配置されている。側面板22cの配置されていない一辺側には、正面板22aと背面板22bとの間に開口が形成され、この開口にコネクタ部24が挿入されている。コネクタ部24と対向する側に配置された図略の側面板22cには、取っ手23が固定されている。この取っ手23が手前側となり且つコネクタ部24が奥側になった状態で、試験用治具14をラック部13に装着することができる。 The front plate 22a and the back plate 22b of the base 22 are arranged at intervals from each other and are connected to each other by the side plates 22c. The side plate 22c is arranged along three sides excluding one side of the rectangular front plate 22a. An opening is formed between the front plate 22a and the back plate 22b on one side of the side plate 22c where the side plate 22c is not arranged, and the connector portion 24 is inserted into this opening. A handle 23 is fixed to a side plate 22c (not shown) arranged on the side facing the connector portion 24. The test jig 14 can be mounted on the rack portion 13 with the handle 23 on the front side and the connector portion 24 on the back side.

コネクタ部24には、低電圧側のコネクタ部24と高電圧側のコネクタ部24とがあるが、これらは同様の構成である。コネクタ部24は、図4(b)に示すように、電気的な絶縁性を有する絶縁材からなる絶縁部24aと、金属製の雄端子24bと、を有している。絶縁部24aは、直方体状のブロック状に形成されている。絶縁材の材質としては、例えば、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)樹脂、PPS(ポリフェニレンサルファイド)樹脂又はセラミック材等を例示できる。 The connector portion 24 includes a low-voltage side connector portion 24 and a high-voltage side connector portion 24, which have the same configuration. As shown in FIG. 4B, the connector portion 24 has an insulating portion 24a made of an insulating material having electrical insulating properties, and a metal male terminal 24b. The insulating portion 24a is formed in a rectangular parallelepiped block shape. Examples of the material of the insulating material include PTFE (polytetrafluoroethylene) resin, PPS (polyphenylene sulfide) resin, and ceramic materials.

絶縁部24aは、その一部が基台22の正面板22a及び背面板22bの間の間隙から突出している。この突出した部位の平面状の端面(直方体の一面)24cには、該端面24cから凹むように2つの凹部24dが形成されている。凹部24dは、端面24cに平行な円形状の底面24eと、端面24cと底面24eの外周部とを繋ぎ、雄端子24bの周囲を囲む内周面24fと、を有する。雄端子24bは、底面24eから端面24cに向かって延びる姿勢で配置され、絶縁部24aに支持されている。ただし、雄端子24bは、凹部24d内に完全に収まっていて、端面24cから外側に突出していない。凹部24dの内周面24fは、雄端子24bを囲む囲み部として機能する。内周面24fと雄端子24bとの間の隙間幅は、接続部16に設けられた雌端子16aを挿入可能な隙間幅となっている。 A part of the insulating portion 24a protrudes from the gap between the front plate 22a and the back plate 22b of the base 22. Two recesses 24d are formed on the flat end surface (one surface of a rectangular parallelepiped) 24c of the protruding portion so as to be recessed from the end surface 24c. The recess 24d has a circular bottom surface 24e parallel to the end surface 24c, and an inner peripheral surface 24f that connects the end surface 24c and the outer peripheral portion of the bottom surface 24e and surrounds the periphery of the male terminal 24b. The male terminal 24b is arranged in a posture extending from the bottom surface 24e toward the end surface 24c, and is supported by the insulating portion 24a. However, the male terminal 24b is completely contained in the recess 24d and does not project outward from the end face 24c. The inner peripheral surface 24f of the recess 24d functions as a surrounding portion surrounding the male terminal 24b. The gap width between the inner peripheral surface 24f and the male terminal 24b is a gap width into which the female terminal 16a provided in the connecting portion 16 can be inserted.

一方、第1接続部16は、図4(a)に示すように、電気的な絶縁性を有する絶縁材からなる端子台16bと、端子台16bの前面16dに取り付けられた雌端子16aとを有している。雌端子16aの根元には、コネクタ部24の凹部24dの内周面24fに適合した外周面を有する嵌合部材16cが固定されている。 On the other hand, as shown in FIG. 4A, the first connection portion 16 comprises a terminal block 16b made of an insulating material having electrical insulating properties and a female terminal 16a attached to the front surface 16d of the terminal block 16b. Have. At the base of the female terminal 16a, a fitting member 16c having an outer peripheral surface suitable for the inner peripheral surface 24f of the recess 24d of the connector portion 24 is fixed.

端子台16bは、雌端子16aがチャンバー12の前側(扉体側)を向くように固定されている。雌端子16aが取り付けられた端子台16bの前面16dは平面状に形成されている。このため、試験用治具14をラック部13に装着する操作を行うと、雄端子24bが雌端子16a内に挿入され、嵌合部材16cが凹部24dの内周面24fに嵌め合わされる。この状態で、端子台16bの前面16dと絶縁部24aの端面24cとが、端子台16b及び絶縁部24aの間に隙間が形成されないように接触する。したがって、雄端子24b及び雌端子16aは、絶縁材によって完全に囲まれた状態となる。これにより、端子24b,16aからの放電を防止することができる。なお、第2接続部16の構成は図示していないが、第2接続部16も第1接続部16と同様に構成されている。本実施形態では、試験用治具14に設けられた端子が雄端子24bとして構成され、チャンバー12に設けられた端子が雌端子16aとして構成されているが、これに限られない。試験用治具14に雌端子が設けられ、チャンバー12に雄端子が設けられてもよい。この場合、雌端子は、試験用治具14のコネクタ部24の凹部24d内に設けられる。 The terminal block 16b is fixed so that the female terminal 16a faces the front side (door body side) of the chamber 12. The front surface 16d of the terminal block 16b to which the female terminal 16a is attached is formed in a flat shape. Therefore, when the test jig 14 is mounted on the rack portion 13, the male terminal 24b is inserted into the female terminal 16a, and the fitting member 16c is fitted to the inner peripheral surface 24f of the recess 24d. In this state, the front surface 16d of the terminal block 16b and the end surface 24c of the insulating portion 24a come into contact with each other so that a gap is not formed between the terminal block 16b and the insulating portion 24a. Therefore, the male terminal 24b and the female terminal 16a are completely surrounded by the insulating material. This makes it possible to prevent discharge from the terminals 24b and 16a. Although the configuration of the second connection portion 16 is not shown, the second connection portion 16 is also configured in the same manner as the first connection portion 16. In the present embodiment, the terminal provided on the test jig 14 is configured as a male terminal 24b, and the terminal provided on the chamber 12 is configured as a female terminal 16a, but the present invention is not limited to this. A female terminal may be provided on the test jig 14, and a male terminal may be provided on the chamber 12. In this case, the female terminal is provided in the recess 24d of the connector portion 24 of the test jig 14.

図2に示すように、基台22の正面板22a上には、被試験基板20の低電圧側の電極20aに接続するための構造を有する低電圧側の電気接続部27と、被試験基板20の高電圧側の電極20bに接続するための構造を有する高電圧側の電気接続部28と、被試験基板20の測定用電極20cに接続するための構造を有する測定用電気接続部29と、が設けられている。本実施形態では、複数(図例では4つ)の被試験基板20を試験用治具14に取付け可能な構成となっているため、これらの電気接続部27,28,29は、いずれも複数(図例では4つ)設けられている。低電圧側の電極20a、高電圧側の電極20b及び測定用電極20cは何れも、被試験基板20の同じ面(表面)に設けられている。 As shown in FIG. 2, on the front plate 22a of the base 22, an electrical connection portion 27 on the low voltage side having a structure for connecting to the electrode 20a on the low voltage side of the substrate 20 to be tested and a substrate to be tested A high-voltage side electrical connection portion 28 having a structure for connecting to the high-voltage side electrode 20b of 20 and a measurement electrical connection portion 29 having a structure for connecting to the measurement electrode 20c of the test substrate 20. , Are provided. In the present embodiment, since a plurality of (four in the example) test substrates 20 can be attached to the test jig 14, a plurality of these electrical connection portions 27, 28, 29 are all present. (4 in the example) are provided. The low-voltage side electrode 20a, the high-voltage side electrode 20b, and the measurement electrode 20c are all provided on the same surface (surface) of the substrate 20 to be tested.

低電圧側の電気接続部27と測定用電気接続部29の構成は同じであるため、ここでは、低電圧側の電気接続部27の構造について説明し、測定用電気接続部29の構造についての説明は省略する。 Since the configurations of the electrical connection portion 27 on the low voltage side and the electrical connection portion 29 for measurement are the same, the structure of the electrical connection portion 27 on the low voltage side will be described here, and the structure of the electrical connection portion 29 for measurement will be described. The description is omitted.

図5及び図6に示すように、低電圧側の電気接続部27は、被試験基板20の低電圧側の電極20aに接触可能に設けられたプローブ31(低電圧側プローブ31)と、第1接続部材32と、第2接続部材33と、プローブ31の先端面から繋がる部位を被覆する絶縁材からなる被覆部34と、基台22から離れた位置(及び第2接続部材33から離れた位置)で被覆部34を保持する支柱部35と、被試験基板20を基台22から離れた位置で支持するためのスペーサ36と、を備えている。 As shown in FIGS. 5 and 6, the low-voltage side electrical connection portion 27 includes a probe 31 (low-voltage side probe 31) provided so as to be in contact with the low-voltage side electrode 20a of the substrate 20 to be tested, and a second. 1 Connection member 32, 2nd connection member 33, a covering portion 34 made of an insulating material that covers a portion connected from the tip surface of the probe 31, and a position away from the base 22 (and away from the 2nd connection member 33). A support column 35 for holding the covering portion 34 at the position) and a spacer 36 for supporting the substrate 20 to be tested at a position away from the base 22 are provided.

本実施形態では、各低電圧側の電気接続部27にそれぞれ複数(図例では2つ)のプローブ31が設けられているため、第1接続部材32及び第2接続部材33は、これら複数のプローブ31に電気的に接続するように設けられている。第1接続部材32及び第2接続部材33は、導通可能なようにステンレス等の金属製の板で構成されている。 In the present embodiment, since a plurality of (two in the example) probes 31 are provided in the electrical connection portions 27 on each low voltage side, the first connection member 32 and the second connection member 33 have a plurality of these probes 31. It is provided so as to be electrically connected to the probe 31. The first connecting member 32 and the second connecting member 33 are made of a metal plate such as stainless steel so as to be conductive.

プローブ31は、第1接続部材32に電気的に接続された状態で第1接続部材32に保持されている。第1接続部材32は一方向に細長い板状に形成されている。第1接続部材32と第2接続部材33とは、後述するネジ40によって電気的に接続されている。第2接続部材33は、低電圧側のコネクタ部24に設けられた雄端子24bに図略の導電線によって電気的に接続されている。 The probe 31 is held by the first connecting member 32 in a state of being electrically connected to the first connecting member 32. The first connecting member 32 is formed in the shape of an elongated plate in one direction. The first connecting member 32 and the second connecting member 33 are electrically connected by a screw 40 described later. The second connecting member 33 is electrically connected to the male terminal 24b provided on the connector portion 24 on the low voltage side by a conductive wire (not shown).

被覆部34は第1接続部材32と同様に一方向に長い形状に形成されている。そして、被覆部34は、第1接続部材32と支柱部35との間に挟み込まれている。被覆部34には、プローブ31が貫通する貫通孔が形成されている。被覆部34は、電気的な絶縁性を有する絶縁材からなる。絶縁材の材質としては、例えば、PTFE樹脂、PPS樹脂、セラミック等を例示できる。 The covering portion 34 is formed in a long shape in one direction like the first connecting member 32. The covering portion 34 is sandwiched between the first connecting member 32 and the strut portion 35. A through hole through which the probe 31 penetrates is formed in the covering portion 34. The covering portion 34 is made of an insulating material having an electrically insulating property. Examples of the material of the insulating material include PTFE resin, PPS resin, ceramic and the like.

スペーサ36は、基台22と第2接続部材33との間に配置された基側部36aと、プローブ31に対向する位置で第2接続部材33に保持された先側部36bと、を有する。基側部36aは、一端に雌ネジが形成されるとともに他端に雄ネジ38が形成されたナット部材によって構成されている。雄ネジ38が正面板22aを貫通するとともに図略のナットが雄ネジ38に螺合することにより、基側部36aは、正面板22aに固定される。また、ビス39が第2接続部材33を貫通して基側部36aの雌ネジに螺合することにより、基側部36aは第2接続部材33に固定される。第2接続部材33と基台22の間に基側部36aを挟み込むことにより、グラウンドとして機能する基台22から第2接続部材33を離した位置で第2接続部材33を位置決めすることができる。先側部36bは、雄ネジ部を有しており、この雄ネジ部が第2接続部材33のネジ孔に螺合することにより、第2接続部材33に固定されている。 The spacer 36 has a base side portion 36a arranged between the base 22 and the second connecting member 33, and a front side portion 36b held by the second connecting member 33 at a position facing the probe 31. .. The base side portion 36a is composed of a nut member having a female screw formed at one end and a male screw 38 formed at the other end. The base side portion 36a is fixed to the front plate 22a by the male screw 38 penetrating the front plate 22a and the nut shown in the drawing being screwed into the male screw 38. Further, the base side portion 36a is fixed to the second connecting member 33 by the screw 39 penetrating the second connecting member 33 and screwing into the female screw of the base side portion 36a. By sandwiching the base side portion 36a between the second connecting member 33 and the base 22, the second connecting member 33 can be positioned at a position away from the base 22 that functions as a ground. .. The front side portion 36b has a male screw portion, and the male screw portion is fixed to the second connecting member 33 by screwing into the screw hole of the second connecting member 33.

なお、スペーサ36は、基側部36aと先側部36bとが別体に構成されているものに限られない。スペーサ36は、第2接続部材33を貫通する一体構成の部材で構成されていてもよい。この場合、第2接続部材33が基台22から離れた位置で固定されるように図略の支持部材が設けられることになる。 The spacer 36 is not limited to the one in which the base side portion 36a and the front side portion 36b are separately configured. The spacer 36 may be composed of an integral member that penetrates the second connecting member 33. In this case, the support member (not shown) is provided so that the second connection member 33 is fixed at a position away from the base 22.

スペーサ36の基側部36a及び先側部36bは、PTFE樹脂、PPS樹脂、セラミック等の電気的な絶縁性を有する絶縁材からなる。スペーサ36(先側部36b)は、被試験基板20におけるプローブ31が接触する面(表面)とは反対側の面(裏面)に接触する。 The base side portion 36a and the front side portion 36b of the spacer 36 are made of an insulating material having electrical insulating properties such as PTFE resin, PPS resin, and ceramic. The spacer 36 (front side portion 36b) contacts the surface (back surface) of the substrate 20 to be tested that is opposite to the surface (front surface) that the probe 31 contacts.

支柱部35は、被覆部34よりも体積の小さな部材によって構成されており、第2接続部材33と被覆部34との間に配置されている。支柱部35は、電気的な絶縁性を有する絶縁材からなる。絶縁材の材質としては、例えば、PTFE樹脂、PPS樹脂、セラミック等を例示できる。 The strut portion 35 is composed of a member having a volume smaller than that of the covering portion 34, and is arranged between the second connecting member 33 and the covering portion 34. The strut portion 35 is made of an insulating material having an electrically insulating property. Examples of the material of the insulating material include PTFE resin, PPS resin, ceramic and the like.

支柱部35は、その長さ方向に貫通孔が形成された筒状に形成されている。これにより、支柱部35の断面積を低減することができ、体積抵抗率を上げることができる。 The strut portion 35 is formed in a tubular shape having through holes formed in the length direction thereof. As a result, the cross-sectional area of the strut portion 35 can be reduced, and the volume resistivity can be increased.

第2接続部材33及び第1接続部材32は、ステンレス等の導電性を有する金属製のネジによって結合されている。すなわち、第2接続部材33にネジ孔が設けられており、被覆部34及び支柱部35には貫通孔が形成されている。そして、ネジ40の頭部と第2接続部材33との間に支柱部35、被覆部34及び第1接続部材32が挟み込まれた状態で、ネジ40が第2接続部材33のネジ孔に螺合している。これにより、第2接続部材33と第1接続部材32との電気的な導通が確保されている。なお、支柱部35の中にステンレス等の金属製のナット42が配設されており、ネジ40はこのナット42にも螺合している。このナット42により、ネジ40と第2接続部材33との電気的な接続をより強固なものにしている。 The second connecting member 33 and the first connecting member 32 are connected by a screw made of a conductive metal such as stainless steel. That is, the second connecting member 33 is provided with a screw hole, and the covering portion 34 and the strut portion 35 are formed with a through hole. Then, with the support column 35, the covering portion 34, and the first connecting member 32 sandwiched between the head of the screw 40 and the second connecting member 33, the screw 40 is screwed into the screw hole of the second connecting member 33. It fits. As a result, electrical continuity between the second connecting member 33 and the first connecting member 32 is ensured. A metal nut 42 such as stainless steel is arranged in the support column 35, and the screw 40 is also screwed into the nut 42. The nut 42 strengthens the electrical connection between the screw 40 and the second connecting member 33.

なお、本実施形態では、被覆部34が第1接続部材32と第2接続部材33とを結合するネジ40によって固定される構成であるが、被覆部34はこれと別個に設けられた図略のボルトによって第1接続部材32と締結されていてもよい。このボルトは絶縁材で構成されることとなる。 In the present embodiment, the covering portion 34 is fixed by a screw 40 that connects the first connecting member 32 and the second connecting member 33, but the covering portion 34 is not shown separately. It may be fastened to the first connecting member 32 by the bolt of. This bolt will be made of insulating material.

また、本実施形態では、各低電圧側の電気接続部27において、複数(図例では2つ)のプローブ31が設けられた構成を示しているが、これに限られるものではない。1つのプローブ31が設けられる構成でも、3つ以上のプローブ31が設けられる構成でもよい。1つのプローブ31が設けられる構成の場合、これらプローブ31間の導電を確保するための第2接続部材33に代えて、図略の導電線によって、プローブ31と低電圧側のコネクタ部24に設けられた雄端子24bとを接続する構成としてもよい。この場合の第1接続部材32は、導電性の材質で構成されるのはなく、絶縁材によって構成されることになる。この場合でも、第1接続部材32は、支柱部35及びスペーサ36の基側部36aを介して基台22に支持された状態でプローブ31を保持する構成に変わりはない。第2接続部材33が省略される構成の場合には、スペーサ36は、基側部36aと先側部36bとに分かれた構成ではなくなり、一体ものの構成となり、基台22の正面板22aに取り付けられる構成となる。 Further, in the present embodiment, the electrical connection portion 27 on each low voltage side is provided with a plurality of (two in the example) probes 31, but the present invention is not limited to this. A configuration in which one probe 31 is provided or a configuration in which three or more probes 31 are provided may be provided. In the case where one probe 31 is provided, instead of the second connecting member 33 for ensuring the conductivity between the probes 31, the probe 31 and the connector portion 24 on the low voltage side are provided with a conductive wire (not shown). It may be configured to connect with the male terminal 24b. In this case, the first connecting member 32 is not made of a conductive material, but is made of an insulating material. Even in this case, the first connecting member 32 is still configured to hold the probe 31 in a state of being supported by the base 22 via the support column 35 and the base side portion 36a of the spacer 36. In the case where the second connecting member 33 is omitted, the spacer 36 is not divided into the base side portion 36a and the front side portion 36b, but is integrally formed and attached to the front plate 22a of the base 22. Will be configured.

プローブ31が1つのみ設けられる場合であっても、本実施形態と同様に、第2接続部材33を用いてもよい。この場合、第2接続部材33と第1接続部材32とが導通可能なように電気的に接続され、プローブ31は、第1接続部材32及び第2接続部材33を通して、コネクタ部24の雄端子24bと電気的に接続される。 Even when only one probe 31 is provided, the second connecting member 33 may be used as in the present embodiment. In this case, the second connecting member 33 and the first connecting member 32 are electrically connected so as to be conductive, and the probe 31 is passed through the first connecting member 32 and the second connecting member 33 to the male terminal of the connector portion 24. It is electrically connected to 24b.

プローブ31は、頭部31aと頭部31aよりも幅の狭い軸部31bとを有する。頭部31aは、丸曲面に形成された先端面31cと、先端面31cからつながる周面を有する胴部31dとからなる。 The probe 31 has a head portion 31a and a shaft portion 31b narrower than the head portion 31a. The head portion 31a includes a tip surface 31c formed on a round curved surface and a body portion 31d having a peripheral surface connected to the tip surface 31c.

プローブ31の軸部31bは、外周面に雄ネジが形成された筒部を有するスリーブ31e内に挿通されている。スリーブ31eの筒部の一端には、フランジ部31fが形成されていて、スリーブ31eは、フランジ部31fがプローブ31の先端面31c側になる姿勢でプローブ31に嵌められている。筒部は、第1接続部材32に形成された挿通孔を貫通しており、フランジ部31fは、第1接続部材32におけるプローブ31の頭部31aに対向する面(第1面;図6における下面)に接触している。第1接続部材32における第1面とは反対側の面(第2面)側においては、ナット44が筒部の雄ネジに螺合している。ナット44とフランジ部31fによって第1接続部材32を挟み込んでおり、この状態で、スリーブ31eが第1接続部材32に固定されている。 The shaft portion 31b of the probe 31 is inserted into a sleeve 31e having a tubular portion having a male screw formed on the outer peripheral surface. A flange portion 31f is formed at one end of the tubular portion of the sleeve 31e, and the sleeve 31e is fitted to the probe 31 in a posture in which the flange portion 31f is on the tip surface 31c side of the probe 31. The tubular portion penetrates the insertion hole formed in the first connecting member 32, and the flange portion 31f is a surface of the first connecting member 32 facing the head 31a of the probe 31 (first surface; in FIG. 6). It is in contact with the lower surface). On the surface (second surface) side of the first connecting member 32 opposite to the first surface, the nut 44 is screwed into the male screw of the tubular portion. The first connecting member 32 is sandwiched between the nut 44 and the flange portion 31f, and in this state, the sleeve 31e is fixed to the first connecting member 32.

プローブ31はスリーブ31e内を移動可能に貫通しているため、プローブ31には抜け止めのためのカラー45が固定されている。また、スリーブ31eのフランジ部31fとプローブ31の頭部31aにおける胴部31dとの間にはコイルバネ46が配設されている。コイルバネ46は、フランジ部31fを第1接続部材32側に押圧しつつプローブ31をスペーサ36側(先側部36b側)に付勢している。これにより、プローブ31が外から押圧されない自然状態では、カラー45がスリーブ31eに当接してプローブ31は被覆部34から突出する方向に位置づけられる。一方で、プローブ31の頭部31aをスペーサ36から離す方向に外から押圧すると、プローブ31の先端面31cが被覆部34内に引っ込む方向にプローブ31を移動させることができる。このような状態で、プローブ31は第1接続部材32に保持されている。被試験基板20が試験用治具14に装着されると、低電圧側プローブ31の先端面31cは、被試験基板20の低電圧側の電極20aと接触する。 Since the probe 31 movably penetrates the sleeve 31e, a collar 45 for preventing the probe 31 from coming off is fixed to the probe 31. Further, a coil spring 46 is arranged between the flange portion 31f of the sleeve 31e and the body portion 31d of the head portion 31a of the probe 31. The coil spring 46 urges the probe 31 to the spacer 36 side (front side portion 36b side) while pressing the flange portion 31f toward the first connecting member 32 side. As a result, in the natural state where the probe 31 is not pressed from the outside, the collar 45 abuts on the sleeve 31e and the probe 31 is positioned so as to protrude from the covering portion 34. On the other hand, when the head 31a of the probe 31 is pressed from the outside in the direction away from the spacer 36, the probe 31 can be moved in the direction in which the tip surface 31c of the probe 31 retracts into the covering portion 34. In such a state, the probe 31 is held by the first connecting member 32. When the substrate 20 to be tested is mounted on the test jig 14, the tip surface 31c of the low voltage side probe 31 comes into contact with the electrode 20a on the low voltage side of the substrate 20 to be tested.

図7及び図8に示すように、高電圧側の電気接続部28は、被試験基板20の高電圧側の電極20bに接触可能に設けられたプローブ50(高電圧側プローブ50)と、プローブ50を保持する保持部52と、プローブ50の先端面50cから繋がる部位を被覆する絶縁材からなる被覆部54と、基台22から離れた位置で保持部52及び被覆部54を支持する支柱55と、を備えている。 As shown in FIGS. 7 and 8, the high-voltage side electrical connection portion 28 includes a probe 50 (high-voltage side probe 50) provided so as to be in contact with the high-voltage side electrode 20b of the substrate 20 to be tested, and a probe. A holding portion 52 that holds the 50, a covering portion 54 made of an insulating material that covers a portion connected to the tip surface 50c of the probe 50, and a support column 55 that supports the holding portion 52 and the covering portion 54 at a position away from the base 22. And have.

保持部52は、一方向に長い形状に形成されており、厚みの厚い厚肉部52aと、厚肉部52aよりも薄肉に形成された薄肉部52bと、を備えている。薄肉部52bは、厚肉部52aの両側に配置されている。保持部52は第1対向面52d(図8における下側の面)と、第1対向面52dとは反対側を向く第1外側面52eとを有する。第1対向面52dは、厚肉部52a及び薄肉部52bに亘って平坦な平面状に形成されている。第1外側面52eは、厚肉部52aのところで薄肉部52bのところよりも盛り上がった形状に形成されている。 The holding portion 52 is formed in a long shape in one direction, and includes a thick thick portion 52a and a thin portion 52b formed to be thinner than the thick portion 52a. The thin portion 52b is arranged on both sides of the thick portion 52a. The holding portion 52 has a first facing surface 52d (lower surface in FIG. 8) and a first outer surface 52e facing the side opposite to the first facing surface 52d. The first facing surface 52d is formed in a flat flat shape over the thick portion 52a and the thin portion 52b. The first outer surface 52e is formed at the thick portion 52a in a shape that is more raised than at the thin portion 52b.

厚肉部52aには、第1対向面52dから凹むように形成された有底の凹部52cが形成されている。この凹部52c内にはプローブ(高電圧側プローブ)50が挿入されている。 The thick portion 52a is formed with a bottomed recess 52c formed so as to be recessed from the first facing surface 52d. A probe (high voltage side probe) 50 is inserted in the recess 52c.

保持部52は、電気的な絶縁性を有する絶縁材からなる。絶縁材の材質としては、例えば、PTFE樹脂、PPS樹脂、セラミック等を例示できる。 The holding portion 52 is made of an insulating material having an electrically insulating property. Examples of the material of the insulating material include PTFE resin, PPS resin, ceramic and the like.

保持部52の薄肉部52bには、第1ネジ57を挿通させる図略の挿通孔と、第2ネジ58を挿通させる挿通孔とが形成されている。これら挿通孔は、第1対向面52dから第1外側面52eに亘って保持部52の薄肉部52bを貫通している。保持部52には、第2ネジ58によって被覆部54が固定されている。第2ネジ58は、保持部52の挿通孔から被覆部54に形成された挿通孔に亘って挿通されている。第2ネジ58には、ナット59が螺合されている。 The thin portion 52b of the holding portion 52 is formed with an insertion hole (not shown) through which the first screw 57 is inserted and an insertion hole through which the second screw 58 is inserted. These insertion holes penetrate the thin portion 52b of the holding portion 52 from the first facing surface 52d to the first outer surface 52e. A covering portion 54 is fixed to the holding portion 52 by a second screw 58. The second screw 58 is inserted from the insertion hole of the holding portion 52 to the insertion hole formed in the covering portion 54. A nut 59 is screwed into the second screw 58.

第1ネジ57、第2ネジ58及びナット59は、コネクタ部24の雄端子24bから電気的に隔絶されているため金属製ではなく、電気的な絶縁性を有する絶縁材からなる。絶縁材の材質としては、例えば、PTFE樹脂、PPS樹脂、セラミック等を例示できる。 The first screw 57, the second screw 58, and the nut 59 are not made of metal because they are electrically isolated from the male terminal 24b of the connector portion 24, but are made of an insulating material having electrical insulating properties. Examples of the material of the insulating material include PTFE resin, PPS resin, ceramic and the like.

被覆部54は、保持部52と支柱55との間に挟み込まれている。被覆部54は、保持部52と同じ方向に長い形状に形成されており、厚みの厚い厚肉部54aと、厚肉部54aよりも薄肉に形成された薄肉部54bと、を備えている。薄肉部54bは、厚肉部54aの両側に配置されている。被覆部54は、保持部52の第1対向面52dに対向する第2対向面54cと、第2対向面54cとは反対側を向き基台22に対向する第2外側面54dと、を有する。 The covering portion 54 is sandwiched between the holding portion 52 and the support column 55. The covering portion 54 is formed in a long shape in the same direction as the holding portion 52, and includes a thick thick portion 54a and a thin portion 54b formed to be thinner than the thick portion 54a. The thin portion 54b is arranged on both sides of the thick portion 54a. The covering portion 54 has a second facing surface 54c facing the first facing surface 52d of the holding portion 52, and a second outer surface 54d facing the side opposite to the second facing surface 54c and facing the base 22. ..

第2対向面54cは、厚肉部54aから薄肉部54bに亘って平坦に形成されるとともに、厚肉部54aに相当する部位に凹部54eが形成されている。第2外側面54dは、厚肉部54aから薄肉部54bに亘って形成されて、長手方向中央部分の厚肉部54aに相当する部分が薄肉部54bに相当する部分よりも盛り上がった形状に形成されている。 The second facing surface 54c is formed flat from the thick portion 54a to the thin portion 54b, and the recess 54e is formed in a portion corresponding to the thick portion 54a. The second outer surface 54d is formed from the thick portion 54a to the thin wall portion 54b, and the portion corresponding to the thick portion 54a in the central portion in the longitudinal direction is formed in a shape that is raised more than the portion corresponding to the thin wall portion 54b. Has been done.

被覆部54は、電気的な絶縁性を有する絶縁材からなる。絶縁材の材質としては、例えば、PTFE樹脂、PPS樹脂、セラミック等を例示できる。 The covering portion 54 is made of an insulating material having an electrically insulating property. Examples of the material of the insulating material include PTFE resin, PPS resin, ceramic and the like.

被覆部54の厚肉部54aには、高電圧側プローブ50が貫通する貫通孔54fが形成されている。貫通孔54fは、第2対向面54cに形成された凹部54eの底面と、第2外側面54dとの間に亘って形成されている。 A through hole 54f through which the high voltage side probe 50 penetrates is formed in the thick portion 54a of the covering portion 54. The through hole 54f is formed between the bottom surface of the recess 54e formed on the second facing surface 54c and the second outer surface 54d.

被覆部54の薄肉部54bには、保持部52を支柱55に固定するための第1ネジ57を挿通させる図略の挿通孔と、被覆部54を保持部52に固定するための第2ネジ58を挿通させる挿通孔と、が形成されている。 The thin portion 54b of the covering portion 54 has an insertion hole (not shown) for inserting a first screw 57 for fixing the holding portion 52 to the support column 55, and a second screw for fixing the covering portion 54 to the holding portion 52. An insertion hole through which the 58 is inserted is formed.

なお、第2ネジ58を省略し、第1ネジ57のみによって被覆部54が保持部52に固定される構成としてもよい。また、被覆部54は、保持部52と支柱55との間に挟み込まれた状態で固定される構成に限られない。被覆部54が保持部52と支柱55との間に挟み込まれない構成の場合、被覆部54は、第2ネジ58のみによって保持部52に固定される構成となる。 The second screw 58 may be omitted, and the covering portion 54 may be fixed to the holding portion 52 only by the first screw 57. Further, the covering portion 54 is not limited to a configuration in which the covering portion 54 is fixed while being sandwiched between the holding portion 52 and the support column 55. When the covering portion 54 is not sandwiched between the holding portion 52 and the support column 55, the covering portion 54 is fixed to the holding portion 52 only by the second screw 58.

高電圧側プローブ50は、頭部50aと頭部50aよりも幅の狭い軸部50bとを有し、保持部52の凹部52c、被覆部54の凹部54e及び貫通孔54fに配置されている。頭部50aは、丸曲面に形成された先端面50cと、先端面50cからつながる円周面を有する胴部50dとからなる。 The high-voltage side probe 50 has a head portion 50a and a shaft portion 50b narrower than the head portion 50a, and is arranged in a recess 52c of the holding portion 52, a recess 54e of the covering portion 54, and a through hole 54f. The head portion 50a includes a tip surface 50c formed on a round curved surface and a body portion 50d having a circumferential surface connected to the tip surface 50c.

プローブ50の軸部50bは、外周面に雄ネジが形成された筒部を有するスリーブ50e内に挿通されている。スリーブ50eの筒部の一端には、フランジ部50fが形成されていて、スリーブ50eは、フランジ部50fがプローブ50の先端面50c側になる姿勢でプローブ50に嵌められている。筒部は、保持部52に形成された凹部52cに挿入されており、フランジ部50fが保持部52の第1対向面52dに接触している。筒部は、凹部52cに固定された筒状の雌ネジ部材61に固定されている。すなわち、雌ネジ部材61の内周面には雌ネジが形成されており、この雌ネジにスリーブ50eの雄ネジが螺合することにより、スリーブ50eが保持部52に固定されている。 The shaft portion 50b of the probe 50 is inserted into a sleeve 50e having a tubular portion having a male screw formed on the outer peripheral surface. A flange portion 50f is formed at one end of the tubular portion of the sleeve 50e, and the sleeve 50e is fitted to the probe 50 in a posture in which the flange portion 50f is on the tip surface 50c side of the probe 50. The tubular portion is inserted into the recess 52c formed in the holding portion 52, and the flange portion 50f is in contact with the first facing surface 52d of the holding portion 52. The tubular portion is fixed to a tubular female screw member 61 fixed to the recess 52c. That is, a female screw is formed on the inner peripheral surface of the female screw member 61, and the sleeve 50e is fixed to the holding portion 52 by screwing the male screw of the sleeve 50e into the female screw.

プローブ50はスリーブ50e内を移動可能に貫通しているため、プローブ50には抜け止めのためのカラー63が固定されている。また、スリーブ50eのフランジ部50fとプローブ50の頭部50aにおける胴部50dとの間にはコイルバネ65が配設されている。コイルバネ65は、フランジ部50fを保持部52側に押圧しつつプローブ50を基台22側に付勢している。これにより、プローブ50が外から押圧されない自然状態では、カラー63がスリーブ50eに当接してプローブ50は被覆部54から突出する方向に位置づけられる一方で、プローブ50の頭部50aを被試験基板20から引き離す方向に外から押圧してプローブ50の先端面50cが被覆部54内に引っ込む方向に移動させることができる。このような状態で、プローブ50は保持部52に保持されている。被試験基板20が試験用治具14に装着されると、高電圧側プローブ50の先端面50cは、被試験基板20の高電圧側の電極20bと接触する。 Since the probe 50 movably penetrates the sleeve 50e, a collar 63 for preventing the probe 50 from coming off is fixed to the probe 50. Further, a coil spring 65 is arranged between the flange portion 50f of the sleeve 50e and the body portion 50d of the head portion 50a of the probe 50. The coil spring 65 urges the probe 50 toward the base 22 while pressing the flange portion 50f toward the holding portion 52. As a result, in the natural state where the probe 50 is not pressed from the outside, the collar 63 abuts on the sleeve 50e and the probe 50 is positioned in the direction of protruding from the covering portion 54, while the head 50a of the probe 50 is placed on the substrate 20 to be tested. The tip surface 50c of the probe 50 can be moved in the direction of retracting into the covering portion 54 by pressing from the outside in the direction of pulling away from the probe 50. In such a state, the probe 50 is held by the holding portion 52. When the substrate 20 to be tested is mounted on the test jig 14, the tip surface 50c of the probe 50 on the high voltage side comes into contact with the electrode 20b on the high voltage side of the substrate 20 to be tested.

プローブ50が被試験基板20に接触した状態にあるときには、プローブ50は、プローブ50の頭部50aの胴部50d及び軸部50bが被覆部54によって被覆された状態となっている。また、プローブ50が被試験基板20に接触した状態にあるときには、プローブ50の頭部50aの先端面50cと胴部50dの外周面との接続部分50gも、被覆部54によって被覆された状態となっている。すなわち、プローブ50が被試験基板20に接触した状態にあるときには、プローブ50は、接続部分50gが被覆部54の第2外側面54dよりも内側(第2対向面54c側)に位置する設定となっている。なお、プローブ50は、カラー63がスリーブ50eに接触した自然状態のときでも接続部分50gが被覆部54によって被覆される設定であってもよく、あるいは、自然状態では、接続部分50gが被覆部54の外側に位置する設定であってもよい。 When the probe 50 is in contact with the substrate 20 to be tested, the probe 50 is in a state in which the body portion 50d and the shaft portion 50b of the head portion 50a of the probe 50 are covered by the coating portion 54. Further, when the probe 50 is in contact with the substrate 20 to be tested, the connecting portion 50g between the tip surface 50c of the head portion 50a of the probe 50 and the outer peripheral surface of the body portion 50d is also covered by the covering portion 54. It has become. That is, when the probe 50 is in contact with the substrate 20 to be tested, the probe 50 is set so that the connecting portion 50g is located inside the second outer surface 54d of the covering portion 54 (on the second facing surface 54c side). It has become. The probe 50 may be set so that the connecting portion 50g is covered by the covering portion 54 even when the collar 63 is in contact with the sleeve 50e, or in the natural state, the connecting portion 50g is covered with the covering portion 54. It may be a setting located outside the.

支柱55は、一方向に長い形状に形成されており、その一端面が基台22の正面板22aに対向し、他端面が被覆部54及び保持部52に対向している。本実施形態では、支柱55は、その長さ方向の全体に亘って断面積が一定となる形状に形成されているが、これに限られない。例えば、支柱55は基台22側から保持部52側に向かうにしたがって断面積が小さくなる形状に形成されていてもよい。また、支柱55は、断面が円形に限られるものではなく、多角形状に形成されていてもよい。 The support column 55 is formed in a long shape in one direction, and one end surface thereof faces the front plate 22a of the base 22, and the other end surface faces the covering portion 54 and the holding portion 52. In the present embodiment, the support column 55 is formed in a shape in which the cross-sectional area is constant over the entire length direction, but the support is not limited to this. For example, the support column 55 may be formed in a shape in which the cross-sectional area decreases from the base 22 side toward the holding portion 52 side. Further, the support column 55 is not limited to a circular cross section, and may be formed in a polygonal shape.

支柱55は、電気的な絶縁性を有する絶縁材からなる。絶縁材の材質としては、例えば、PTFE樹脂、PPS樹脂、セラミック等を例示できる。 The support column 55 is made of an insulating material having an electrically insulating property. Examples of the material of the insulating material include PTFE resin, PPS resin, ceramic and the like.

支柱55には、その長さ方向に延びて支柱55を貫通する貫通孔55aが形成されている。貫通孔55aには、保持部52側から被覆部54を通して第1ネジ57が挿入されている。第1ネジ57は、基台22の正面板22aを貫通している。図略のナットが第1ネジ57に螺合されることにより、保持部52と基台22の間に被覆部54及び支柱55が挟み込まれた状態で、保持部52が基台22に固定される。 The support column 55 is formed with a through hole 55a extending in the length direction thereof and penetrating the support column 55. The first screw 57 is inserted into the through hole 55a from the holding portion 52 side through the covering portion 54. The first screw 57 penetrates the front plate 22a of the base 22. By screwing the nut (not shown) into the first screw 57, the holding portion 52 is fixed to the base 22 with the covering portion 54 and the support column 55 sandwiched between the holding portion 52 and the base 22. To.

支柱55には貫通孔55aが形成されているので、中実状に形成される構成に比べ、支柱部35の体積抵抗率を高くすることができる。なお、長さ方向の全体に亘って設けられる貫通孔55aに代え、長さ方向の両端にそれぞれ有底の穴(図示省略)が形成される構成であってもよい。この場合、保持部52側の穴には保持部52と支柱55とを締結するネジ(図示省略)が螺合し、基台22側の穴には、支柱55と基台22とを締結するネジ(図示省略)が螺合する。この場合、支柱55の両端近傍において、断面積が小さく形成されるため、両端近傍における支柱部35の体積抵抗率を高くすることができる。なお、支柱55は、貫通孔55aが形成されない中実状に形成されていてもよい。 Since the support hole 55 is formed with the through hole 55a, the volume resistivity of the support column 35 can be increased as compared with the configuration formed in a solid state. In addition, instead of the through hole 55a provided over the entire length direction, bottomed holes (not shown) may be formed at both ends in the length direction. In this case, a screw (not shown) for fastening the holding portion 52 and the support column 55 is screwed into the hole on the holding portion 52 side, and the support column 55 and the base base 22 are fastened to the hole on the base 22 side. Screws (not shown) are screwed. In this case, since the cross-sectional area is formed small in the vicinity of both ends of the support column 55, the volume resistivity of the support column 35 in the vicinity of both ends can be increased. The support column 55 may be formed in a solid state in which the through hole 55a is not formed.

以上説明したように、本実施形態では、絶縁材からなるスペーサ36によって、被試験基板20と金属製基台22とを離間させるとともに被試験基板20と第2接続部材33とを離間させることにより、被試験基板20と金属製基台22との間で放電が生ずることを防止することができるとともに被試験基板20と第2接続部材33との間で放電が生ずることを防止することができる。また、プローブ50を保持する絶縁材からなる保持部52が、基台22に直接取り付けられるのではなく、支柱55を介して基台22に支持されている。すなわち、保持部52よりも断面積の小さな支柱55が、基台22と保持部52との間に介装されているので、保持部52と基台22との間の体積抵抗率を上げることができる。これにより、プローブ50から基台22側へのリーク電流を低減することができる。 As described above, in the present embodiment, the substrate 20 to be tested and the metal base 22 are separated from each other by the spacer 36 made of an insulating material, and the substrate 20 to be tested and the second connecting member 33 are separated from each other. It is possible to prevent an electric discharge from occurring between the substrate 20 under test and the metal base 22, and it is possible to prevent an electric discharge from occurring between the substrate 20 under test and the second connecting member 33. .. Further, the holding portion 52 made of an insulating material for holding the probe 50 is not directly attached to the base 22, but is supported by the base 22 via the support column 55. That is, since the support column 55 having a cross-sectional area smaller than that of the holding portion 52 is interposed between the base 22 and the holding portion 52, the volume resistivity between the holding portion 52 and the base 22 is increased. Can be done. As a result, the leakage current from the probe 50 to the base 22 side can be reduced.

また、本実施形態では、支柱55には、その長さ方向に貫通する貫通孔55aが形成されているので、支柱55が中実状に形成される場合に比べ、支柱55の断面積を小さくすることができる。したがって、保持部52と基台22との間の体積抵抗率をさらに高くすることができ、プローブ50から基台22側へのリーク電流をさらに低減することができる。 Further, in the present embodiment, since the support column 55 is formed with a through hole 55a penetrating in the length direction thereof, the cross-sectional area of the support column 55 is made smaller than that in the case where the support column 55 is formed in a solid state. be able to. Therefore, the volume resistivity between the holding portion 52 and the base 22 can be further increased, and the leakage current from the probe 50 to the base 22 side can be further reduced.

また本実施形態では、プローブ50の先端面50cからつながる部位を被覆する被覆部54を備えているので、プローブ50と被試験基板20の電極20bとの接触を確保しつつ、プローブ50の露出面積を低減することができる。このため、プローブ50の機能を確保しつつプローブ50からの放電をより抑制することができる。 Further, in the present embodiment, since the covering portion 54 that covers the portion connected from the tip surface 50c of the probe 50 is provided, the exposed area of the probe 50 is secured while ensuring the contact between the probe 50 and the electrode 20b of the substrate 20 to be tested. Can be reduced. Therefore, it is possible to further suppress the discharge from the probe 50 while ensuring the function of the probe 50.

さらに、プローブ50が被試験基板20に接触した状態にあるときに、プローブ50は、先端面50cと胴部50dの外周面との接続部分50gが被覆部54によって被覆された状態にあるため、丸曲面に形成さ入れている先端面50cと胴部50dの外周面との接続部分50gが例えば僅かに段差状に接続することがあったとしても、この部分50gが被覆部54によって被覆される。これにより、この部分50gからの放電が生ずることを防止することができる。 Further, when the probe 50 is in contact with the substrate 20 to be tested, the probe 50 is in a state where the connecting portion 50g between the tip surface 50c and the outer peripheral surface of the body portion 50d is covered by the covering portion 54. Even if the connecting portion 50g between the tip surface 50c formed on the round curved surface and the outer peripheral surface of the body portion 50d is connected in a slightly stepped shape, for example, this portion 50g is covered by the covering portion 54. .. This makes it possible to prevent the discharge from this portion of 50 g.

また本実施形態では、コネクタ部24の雄端子24bが絶縁部24aに形成された凹部24dの内周面24fによって囲まれているので、試験用治具14が信頼性試験装置10のラック部13に装着された状態では、コネクタ部24の雄端子24b及びチャンバー12の雌端子16aが露出することを防止することができる。これにより、端子24b,16aからの放電が生ずることを防止することができる。 Further, in the present embodiment, since the male terminal 24b of the connector portion 24 is surrounded by the inner peripheral surface 24f of the recess 24d formed in the insulating portion 24a, the test jig 14 is the rack portion 13 of the reliability test apparatus 10. It is possible to prevent the male terminal 24b of the connector portion 24 and the female terminal 16a of the chamber 12 from being exposed in the state of being mounted on the connector portion 24. As a result, it is possible to prevent discharge from the terminals 24b and 16a.

10 信頼性試験装置
12 チャンバー
14 試験用治具
16a 雌端子
20 被試験基板
20a 電極
20b 電極
20c 測定用電極
22 基台
24 コネクタ部
24a 絶縁部
24b 雄端子
31 プローブ
34 被覆部
36 スペーサ
50 プローブ
50a 頭部
50c 先端面
50d 胴部
50g 接続部分
52 保持部
54 被覆部
55 支柱
55a 貫通孔
10 Reliability test equipment 12 Chamber 14 Test jig 16a Female terminal 20 Test board 20a Electrode 20b Electrode 20c Measurement electrode 22 Base 24 Connector part 24a Insulation part 24b Male terminal 31 Probe 34 Coating part 36 Spacer 50 Probe 50a Head Part 50c Tip surface 50d Body part 50g Connection part 52 Holding part 54 Covering part 55 Strut 55a Through hole

Claims (8)

金属製の端子と前記端子を支持する絶縁材からなる絶縁部とを含むコネクタ部と、
前記コネクタ部の前記絶縁部を保持する金属製の基台と、
試験対象である半導体素子を装着可能であって電極が形成された被試験基板を前記基台から離れた位置で支持するための絶縁材からなるスペーサと、
前記端子に電気的に接続され且つ前記被試験基板の前記電極に電気的に接続するためのプローブと、
前記プローブを保持する絶縁材からなる保持部と、
前記基台に支持され、前記保持部を支持する絶縁材からなる支柱と、
を備えている、半導体素子の試験用治具。
A connector portion including a metal terminal and an insulating portion made of an insulating material that supports the terminal,
A metal base that holds the insulating portion of the connector portion and
A spacer under test substrate which electrodes a mountable is formed a semiconductor element, made of an insulating material for supporting at a distance from the base to be tested,
A probe for being electrically connected to the terminal and electrically connected to the electrode of the substrate to be tested .
A holding portion made of an insulating material that holds the probe ,
A strut made of an insulating material supported by the base and supporting the holding portion,
A jig for testing semiconductor devices.
前記支柱には、その長さ方向に貫通する貫通孔が形成されている、請求項1に記載の半導体素子の試験用治具。 The jig for testing a semiconductor element according to claim 1, wherein a through hole penetrating in the length direction is formed in the support column. 前記支柱の先端及び基端に有底穴が形成されている、請求項1に記載の半導体素子の試験用治具。 The jig for testing a semiconductor element according to claim 1, wherein a bottomed hole is formed at the tip end and the base end of the support column. 前記プローブにおいて前記電極に接触する先端面からつながる部位を被覆する被覆部を備えている、請求項1から3の何れか1項に記載の半導体素子の試験用治具。 The jig for testing a semiconductor device according to any one of claims 1 to 3, further comprising a covering portion that covers a portion of the probe that is connected to a tip surface that contacts the electrode. 前記プローブの前記先端面は丸曲面に形成されている、請求項4に記載の半導体素子の試験用治具。 The jig for testing a semiconductor device according to claim 4, wherein the tip surface of the probe is formed into a round curved surface. 前記プローブが前記被試験基板に接触した状態にあるときに、前記プローブは、前記先端面と前記部位の外周面との接続部分が前記被覆部によって被覆された状態にある、請求項5に記載の半導体素子の試験用治具。 The fifth aspect of the present invention, wherein when the probe is in contact with the substrate to be tested, the connecting portion between the tip surface and the outer peripheral surface of the portion is covered with the covering portion. Jig for testing semiconductor devices. 前記コネクタ部の前記絶縁部は、前記端子を囲む囲み部を有する、請求項1から6の何れか1項に記載の半導体素子の試験用治具。 The jig for testing a semiconductor element according to any one of claims 1 to 6, wherein the insulating portion of the connector portion has an surrounding portion surrounding the terminal. 請求項1から7の何れか1項に記載の半導体素子の試験用治具と、
前記半導体素子の試験用治具を装着するためのチャンバーと、を有し、
前記チャンバーには、前記コネクタ部の前記端子に結合される端子が設けられている、半導体素子の信頼性試験装置。
The semiconductor device test jig according to any one of claims 1 to 7.
It has a chamber for mounting a jig for testing the semiconductor element , and has a chamber.
A reliability test device for a semiconductor element, wherein the chamber is provided with a terminal coupled to the terminal of the connector portion.
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