JP6757171B2 - Method for Producing Salt, Resist Composition and Resist Pattern - Google Patents

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Description

本発明は、半導体の微細加工に用いられる塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a salt, a resist composition and a resist pattern used for microfabrication of a semiconductor.

特許文献1には、酸発生剤用の塩として、下記式で表される塩を含有するレジスト組成物が記載されている。 Patent Document 1 describes a resist composition containing a salt represented by the following formula as a salt for an acid generator.

特許文献2には、下記式で表される塩を酸発生剤として含有するレジスト組成物が記載されている。 Patent Document 2 describes a resist composition containing a salt represented by the following formula as an acid generator.

特開2003−342254号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-342254 特開2012−97074号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-97074

上記記載の塩を含むレジスト組成物では、レジストパターンのフォーカスマージン(DOF)が必ずしも十分に満足できない場合があった。 In the resist composition containing the above-mentioned salt, the focus margin (DOF) of the resist pattern may not always be sufficiently satisfied.

本発明は、以下の発明を含む。
[1]少なくとも1つの式(Ia)で表される基を有するアニオンと式(IC)で表されるカチオンとを有する塩。
[式(Ia)中、
及びXは、互いに独立に、酸素原子又は硫黄原子を表す。
は、少なくとも1つのフッ素原子を有する2価の炭素数1〜12の飽和炭化水素基を表す。
*は、結合手を表す。]
[式(IC)中、
及びRは、互いに独立に、水素原子、ヒドロキシ基又は炭素数1〜12の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−で置き換わっていてもよい。
m及びnは、互いに独立に、1又は2を表す。mが2のとき、2つのRは同一であっても異なってもよく、nが2のとき、2つのRは同一であっても異なってもよい。
Ar及びArは、互いに独立に、置換基を有していてもよい炭素数6〜36の芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜36のヘテロ芳香族炭化水素基を表す。]
[2]式(Ia)で表される基を有するアニオンが、式(Ia1)で表される基を有するアニオンである[1]記載の塩。
[式(Ia1)中、
、X、X及び*は、上記と同じ意味を表す。
環Wは、炭素数3〜36の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基又はスルホニル基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数1〜12の炭化水素基で置換されていてもよく、該炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置換されていてもよい。]
[3]式(Ia1)で表される基を有するアニオンが、式(Ia2)で表される基を有するアニオンである[2]記載の塩。
[式(Ia2)中、
環W及び*は、上記と同じ意味を表す。
f1及びRf2は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のフッ化アルキル基を表す。
nxは、1〜10の整数を表す。nxが2以上のとき、複数存在するRf1及びRf2は、それぞれ同一であっても異なってもよい。]
[4]環Wが、式(Iaa−1)で表される環、式(Iaa−2)で表される環又は式(Iaa−3)で表される環である[2]又は[3]記載の塩。
[式(Iaa−1)、式(Iaa−2)及び式(Iaa−3)中、
環に含まれるメチレン基は酸素原子、硫黄原子、カルボニル基又はスルホニル基で置換されていてもよく、環に含まれる水素原子はヒドロキシ基、炭素数1〜12の炭化水素基で置換されていてもよく、該炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基で置換されていてもよい。]
[5]少なくとも1つの式(Ia)で表される基を有するアニオンが、式(IA)で表されるアニオンである[1]〜[4]のいずれか記載の塩。
[式(IA)中、
、X、X及びWは、上記と同じ意味を表す。
及びQは、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
b1は、炭素数1〜24の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。]
[6]式(Ia)で表される基を有するアニオンを2つ有する[1]〜[4]のいずれか記載の塩。
[7]2つのアニオンが共に、式(IA)で表されるアニオンである[6]記載の塩。
[式(IA)中、
、X、X及びWは、上記と同じ意味を表す。
及びQは、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
b1は、炭素数1〜24の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。]
[8]Lb1が、*−CO−O−(CH−又は*−CH−O−CO−(tは0〜6の整数を表す。*は、−C(Q)(Q)−との結合手を表す。)である[5]〜[7]のいずれか記載の塩。
[9][1]〜[8]のいずれか記載の塩を有効成分として含有する酸発生剤。
[10][9]記載の酸発生剤と酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂とを含有するレジスト組成物。
[11]さらに、式(B1)で表される酸発生剤を含む[10]記載のレジスト組成物。
[式(B1)中、
、Q及びLb1は、上記と同じ意味を表す。
Yは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数3〜18の1価の脂環式炭化水素基を表し、該1価の脂環式炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−、−SO−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
は、有機カチオンを表す。ただし、Zは、式(IC)で表されるカチオンを含まない。]
[12]さらに、フッ素原子を有する構造単位を含む樹脂を含有する[10]又は[11]記載のレジスト組成物。
[13]さらに、酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩を含有する[10]〜[12]のいずれか記載のレジスト組成物。
[14](1)[10]〜[13]のいずれか記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
(2)塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
(3)組成物層に露光する工程、
(4)露光後の組成物層を加熱する工程、及び
(5)加熱後の組成物層を現像する工程を含むレジストパターンの製造方法。
The present invention includes the following inventions.
[1] A salt having at least one anion having a group represented by the formula (Ia) and a cation represented by the formula (IC).
[In formula (Ia),
X a and X b represent an oxygen atom or a sulfur atom independently of each other.
X 1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms having at least one fluorine atom.
* Represents a bond. ]
[In the formula (IC),
R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom, a hydroxy group, or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and −CH 2 − contained in the hydrocarbon group is −O− or −CO−. It may be replaced.
m and n represent 1 or 2 independently of each other. when m is 2, two R 1 may be the same or different, when n is 2, the two R 2 may be the same or different.
Ar 1 and Ar 2 are independently of each other, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 36 carbon atoms which may have a substituent or a heteroaromatic aromatic group having 6 to 36 carbon atoms which may have a substituent. Represents a hydrocarbon group. ]
[2] The salt according to [1], wherein the anion having a group represented by the formula (Ia) is an anion having a group represented by the formula (Ia1).
[In formula (Ia1),
X a , X b , X 1 and * have the same meanings as above.
Ring W represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, and the methylene group contained in the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group or a sulfonyl group. Often, the hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with a hydroxy group or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and the methylene group contained in the hydrocarbon group may be an oxygen atom or an oxygen group. It may be substituted with a carbonyl group. ]
[3] The salt according to [2], wherein the anion having a group represented by the formula (Ia1) is an anion having a group represented by the formula (Ia2).
[In formula (Ia2),
The rings W and * have the same meanings as above.
R f1 and R f2 independently represent a fluorine atom or an alkyl fluoride group having 1 to 6 carbon atoms.
nx represents an integer from 1 to 10. When nx is 2 or more, a plurality of R f1 and R f2 existing may be the same or different. ]
[4] Ring W is a ring represented by the formula (Iaa-1), a ring represented by the formula (Iaa-2), or a ring represented by the formula (Iaa-3) [2] or [3]. ] Described salt.
[In the formula (Iaa-1), the formula (Iaa-2) and the formula (Iaa-3),
The methylene group contained in the ring may be substituted with an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group or a sulfonyl group, and the hydrogen atom contained in the ring is substituted with a hydroxy group and a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. The methylene group contained in the hydrocarbon group may be substituted with an oxygen atom or a carbonyl group. ]
[5] The salt according to any one of [1] to [4], wherein the anion having a group represented by at least one formula (Ia) is an anion represented by the formula (IA).
[In formula (IA),
X a , X b , X 1 and W have the same meanings as described above.
Q 1 and Q 2 independently represents a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
L b1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and -CH 2- contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-, and the saturated hydrocarbon group may be replaced. The hydrogen atom contained in the hydrogen group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group. ]
[6] The salt according to any one of [1] to [4], which has two anions having a group represented by the formula (Ia).
[7] The salt according to [6], wherein the two anions are both anions represented by the formula (IA).
[In formula (IA),
X a , X b , X 1 and W have the same meanings as above.
Q 1 and Q 2 independently represents a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
L b1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and -CH 2- contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-, and the saturated hydrocarbon may be replaced. The hydrogen atom contained in the hydrogen group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group. ]
[8] L b1 is * -CO-O- (CH 2 ) t- or * -CH 2- O-CO- (t represents an integer of 0 to 6. * Is -C (Q 1 ) ( Q 2) -. representing a bond to) a [5] salt according to any one of - [7].
[9] An acid generator containing the salt according to any one of [1] to [8] as an active ingredient.
[10] A resist composition containing the acid generator according to [9] and a resin containing a structural unit having an acid unstable group.
[11] The resist composition according to [10], which further comprises an acid generator represented by the formula (B1).
[In equation (B1),
Q 1, Q 2 and L b1 are the same as defined above.
Y represents a methyl group which may have a substituent or a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent, and the monovalent alicyclic hydrocarbon. -CH 2- contained in the hydrogen group may be replaced with -O-, -SO 2- or -CO-.
Z + represents an organic cation. However, Z + does not include the cation represented by the formula (IC). ]
[12] The resist composition according to [10] or [11], which further contains a resin containing a structural unit having a fluorine atom.
[13] The resist composition according to any one of [10] to [12], further containing a salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator.
[14] (1) A step of applying the resist composition according to any one of [10] to [13] onto a substrate.
(2) A step of drying the applied composition to form a composition layer,
(3) Step of exposing the composition layer,
A method for producing a resist pattern, which comprises a step of (4) heating the composition layer after exposure and (5) a step of developing the composition layer after heating.

良好なフォーカスマージン(DOF)でレジストパターンを製造することができる塩を提供することができる。 It is possible to provide a salt capable of producing a resist pattern with a good focus margin (DOF).

本明細書では、特に断りのない限り、化合物の構造式の説明において「脂肪族炭化水素基」は直鎖状又は分岐状の炭化水素基を意味し、「脂環式炭化水素基」は脂環式炭化水素の環から価数に相当する数の水素原子を取り去った基を意味する。「芳香族炭化水素基」は芳香環に炭化水素基が結合した基をも包含する。立体異性体が存在する場合は、全ての立体異性体を包含する。
本明細書において、「(メタ)アクリル系モノマー」とは、「CH=CH−CO−」又は「CH=C(CH)−CO−」の構造を有するモノマーの少なくとも1種を意味する。同様に「(メタ)アクリレート」及び「(メタ)アクリル酸」とは、それぞれ「アクリレート及びメタクリレートの少なくとも1種」及び「アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも1種」を意味する。また、本明細書中に記載する基において、直鎖構造と分岐構造の両方をとり得るものについては、そのいずれでもよい。
本明細書において、「レジスト組成物の固形分」とは、レジスト組成物の総量から、後述する溶剤(E)を除いた成分の合計を意味する。
In the present specification, unless otherwise specified, in the description of the structural formula of a compound, "aliphatic hydrocarbon group" means a linear or branched hydrocarbon group, and "aliphatic hydrocarbon group" means a fat. It means a group obtained by removing a number of hydrogen atoms corresponding to a valence from the ring of a cyclic hydrocarbon. The "aromatic hydrocarbon group" also includes a group in which a hydrocarbon group is bonded to an aromatic ring. If a steric isomer is present, it includes all steric isomers.
As used herein, the term "(meth) acrylic monomer" means at least one type of monomer having a structure of "CH 2 = CH-CO-" or "CH 2 = C (CH 3 ) -CO-". To do. Similarly, "(meth) acrylate" and "(meth) acrylic acid" mean "at least one of acrylate and methacrylate" and "at least one of acrylic acid and methacrylic acid", respectively. In addition, any of the groups described in the present specification that can have both a linear structure and a branched structure may be used.
In the present specification, the "solid content of the resist composition" means the total amount of the components excluding the solvent (E) described later from the total amount of the resist composition.

<塩(I)>
本発明の塩(以下「塩(I)」という場合がある)は、少なくとも1つの式(Ia)で表される基を有するアニオンを有する塩である。
[式(Ia)中、
及びXは、互いに独立に、酸素原子又は硫黄原子を表す。
は、少なくとも1つのフッ素原子を有する2価の炭素数1〜12の飽和炭化水素基を表す。
*は、結合手を表す。]
<Salt (I)>
The salt of the present invention (hereinafter sometimes referred to as "salt (I)") is a salt having an anion having a group represented by at least one formula (Ia).
[In formula (Ia),
X a and X b represent an oxygen atom or a sulfur atom independently of each other.
X 1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms having at least one fluorine atom.
* Represents a bond. ]

及びXは、同じ原子であることが好ましく、ともに酸素原子であることがより好ましい。
飽和炭化水素基としては、直鎖状アルカンジイル基、分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、これらの基のうち2種以上を組合せたものでもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ヘプタン−1,7−ジイル基、オクタン−1,8−ジイル基、ノナン−1,9−ジイル基、デカン−1,10−ジイル基、ウンデカン−1,11−ジイル基、ドデカン−1,12−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;
直鎖状アルカンジイル基に、アルキル基(特に、炭素数1〜4のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等)の側鎖を有したもの、例えば、ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基;
シクロブタン−1,3−ジイル基、シクロペンタン−1,3−ジイル基、シクロヘキサン−1,2−ジイル基、1−メチルシクロヘキサン−1,2−ジイル基、シクロヘキサン−1,4−ジイル基、シクロオクタン−1,2−ジイル基、シクロオクタン−1,5−ジイル基等のシクロアルカンジイル基である単環式の2価の脂環式飽和炭化水素基;
ノルボルナン−2,3−ジイル基、ノルボルナン−1,4−ジイル基、ノルボルナン−2,5−ジイル基、アダマンタン−1,5−ジイル基、アダマンタン−2,6−ジイル基等の多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。
また、2価の脂環式炭化水素基は、本願明細書において示される1価の脂環式炭化水素基から任意の1つの水素原子を除いた基であってもよい。
飽和炭化水素基に含まれる水素原子の少なくとも1つはフッ素原子で置き換わる。
It is preferable that X a and X b are the same atom, and it is more preferable that both are oxygen atoms.
Examples of the saturated hydrocarbon group include a linear alkanediyl group, a branched alkanediyl group, and a monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, and two or more of these groups are used. May be a combination of.
Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1 , 6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonan-1,9-diyl group, decan-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group , Dodecane-1,12-diyl group and other linear alcandiyl groups;
A linear alkanediyl group with an alkyl group (particularly, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, etc.) Butan-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl, etc. A branched alkanediyl group such as a group, 2-methylbutane-1,4-diyl group;
Cyclobutane-1,3-diyl group, cyclopentane-1,3-diyl group, cyclohexane-1,2-diyl group, 1-methylcyclohexane-1,2-diyl group, cyclohexane-1,4-diyl group, cyclo A monocyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group which is a cycloalkanediyl group such as an octane-1,2-diyl group and a cyclooctane-1,5-diyl group;
Norbornane-2,3-diyl group, norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantan-1,5-diyl group, adamantan-2,6-diyl group, etc. Examples thereof include a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group.
Further, the divalent alicyclic hydrocarbon group may be a group obtained by removing any one hydrogen atom from the monovalent alicyclic hydrocarbon group shown in the present specification.
At least one of the hydrogen atoms contained in the saturated hydrocarbon group is replaced by a fluorine atom.

塩(I)におけるアニオンは、少なくとも1つの式(Ia1)で表される基を有するアニオンを有することが好ましい。
[式(Ia1)中、
、X、X及び*は、上記と同じ意味を表す。
環Wは、炭素数3〜36の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基又はスルホニル基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数1〜12の炭化水素基で置換されていてもよく、該炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置換されていてもよい。]
The anion in the salt (I) preferably has an anion having a group represented by at least one formula (Ia1).
[In formula (Ia1),
X a , X b , X 1 and * have the same meanings as above.
Ring W represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, and the methylene group contained in the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group or a sulfonyl group. Often, the hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with a hydroxy group or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and the methylene group contained in the hydrocarbon group may be an oxygen atom or an oxygen group. It may be substituted with a carbonyl group. ]

環Wにおける炭素数3〜36の脂環式炭化水素基としては、式(Iaa−1)〜式(Iaa−11)で表される環が挙げられ、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基が好ましく、式(Iaa−1)で表される環、式(Iaa−2)で表される環又は式(Iaa−3)で表される環がより好ましい。
式(Iaa1−1)〜式(Iaa1−11)で表される環におけるいずれの炭素原子が、X及びXと結合していてもよく、いずれの炭素原子が、式(aa1)における*で表される結合手としてもよい。
Examples of the alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms in the ring W include rings represented by the formulas (Iaa-1) to (Iaa-11), and the alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms can be mentioned. A hydrogen group is preferable, and a ring represented by the formula (Iaa-1), a ring represented by the formula (Iaa-2), or a ring represented by the formula (Iaa-3) is more preferable.
Any carbon atom in the ring of the formula (Iaa1-1) ~ formula (Iaa1-11) is may be attached and X a and X b, which of the carbon atoms, in the formula (aa1) * It may be a bond represented by.

なかでも、環Wは、式(Iaa−1)で表される環、式(Iaa−2)で表される環又は式(Iaa−3)で表される環であることが好ましく、以下の位置で結合手を有するものがより好ましい。
式(Iaa−1)〜式(Iaa−11)の脂環式炭化水素基に置換されていてもよい炭素数1〜12の炭化水素基は、飽和炭化水素であることが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等の直鎖又は分岐の飽和炭化水素、フェニル基、ナフチル基などの芳香族炭化水素基及び下記に示す基等の環状飽和炭化水素が挙げられる。
Among them, the ring W is preferably a ring represented by the formula (Iaa-1), a ring represented by the formula (Iaa-2), or a ring represented by the formula (Iaa-3). It is more preferable to have a binding hand at the position.
The hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with the alicyclic hydrocarbon group of the formulas (Iaa-1) to (Iaa-11) is preferably a saturated hydrocarbon, for example, methyl. Linear or branched saturated hydrocarbons such as groups, ethyl groups, propyl groups, butyl groups, pentyl groups, hexyl groups, heptyl groups, octyl groups, nonyl groups, decyl groups, undecyl groups, dodecyl groups, phenyl groups, naphthyl groups. Examples thereof include aromatic hydrocarbon groups such as, and cyclic saturated hydrocarbons such as the groups shown below.

式(Iaa−1)〜式(Iaa−11)における炭化水素基に含まれるメチレン基が、酸素原子又はカルボニル基で置換された基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基等の炭素数1〜12のアルコキシ基;カルボキシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等の炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基が挙げられる。
特に、環Wは、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基を置換基として有するものが好ましい。
Examples of the group in which the methylene group contained in the hydrocarbon group in the formulas (Iaa-1) to (Iaa-11) is substituted with an oxygen atom or a carbonyl group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, and a pentyl. Alkoxy groups having 1 to 12 carbon atoms such as oxy group, hexyloxy group, octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, undecyloxy group, dodecyloxy group; carboxyl group, methoxycarbonyl group, ethoxy Examples thereof include an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms such as a carbonyl group.
In particular, the ring W preferably has a hydroxy group, an alkoxy group, or an alkoxycarbonyl group as a substituent.

式(Ia1)で表される基を有するアニオンは、式(Ia2)で表される基を有するアニオンであることが好ましい。
[式(Ia2)中、
環W及び*は、上記と同じ意味を表す。
f1及びRf2は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のフッ化アルキル基を表す。
nxは、1〜10の整数を表す。nxが2以上のとき、複数存在するRf1及びRf2は、それぞれ同一であっても異なってもよい。]
The anion having a group represented by the formula (Ia1) is preferably an anion having a group represented by the formula (Ia2).
[In formula (Ia2),
The rings W and * have the same meanings as above.
R f1 and R f2 independently represent a fluorine atom or an alkyl fluoride group having 1 to 6 carbon atoms.
nx represents an integer of 1 to 10. When nx is 2 or more, a plurality of R f1 and R f2 existing may be the same or different. ]

f1及びRf2のフッ化アルキル基としては、例えば、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、1,1−ジフルオロエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペルフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロプロピル基、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロプロピル基、ペルフルオロエチルメチル基、1−(トリフルオロメチル)−1,2,2,2−テトラフルオロエチル基、1−(トリフルオロメチル)−2,2,2−トリフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、1,1,2,2−テトラフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロブチル基、ペルフルオロブチル基、1,1−ビス(トリフルオロ)メチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、2−(ペルフルオロプロピル)エチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロペンチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5−デカフルオロペンチル基、1,1−ビス(トリフルオロメチル)−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、ペルフルオロペンチル基、2−(ペルフルオロブチル)エチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5−デカフルオロヘキシル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6−ドデカフルオロヘキシル基、ペルフルオロペンチルメチル基及びペルフルオロヘキシル基が挙げられ、好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等が挙げられる。
f1及びRf2は、ともにフッ素原子であることが好ましい。
Examples of the alkyl fluoride group of R f1 and R f2 include a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 1,1-difluoroethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, and a 2,2,2-trifluoroethyl group. , Perfluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoropropyl group, 1,1,2,2,3,3-hexafluoropropyl group, perfluoroethylmethyl group, 1- (trifluoromethyl) -1, 2,2,2-Tetrafluoroethyl group, 1- (trifluoromethyl) -2,2,2-trifluoroethyl group, perfluoropropyl group, 1,1,2,2-tetrafluorobutyl group, 1,1 , 2,2,3,3-hexafluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutyl group, perfluorobutyl group, 1,1-bis (trifluoro) methyl- 2,2,2-trifluoroethyl group, 2- (perfluoropropyl) ethyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluoropentyl group, 1,1,2,2,3 , 3,4,5,4,5-decafluoropentyl group, 1,1-bis (trifluoromethyl) -2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, perfluoropentyl group, 2- (perfluoro) Butyl) ethyl group, 1,1,2,2,3,3,4,5,5-decafluorohexyl group, 1,1,2,2,3,4,4,5,5 Examples thereof include 6,6-dodecafluorohexyl group, perfluoropentylmethyl group and perfluorohexyl group, and preferably trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, heptafluoropropyl group, nonafluorobutyl group and the like.
It is preferable that both R f1 and R f2 are fluorine atoms.

nxは、1〜8の整数であることが好ましく、1〜6の整数であることがより好ましく、1〜4の整数であることがさらに好ましく、1〜3の整数であることがより一層好ましい。
なかでも、式(Ia2)中、環Wを除く部分構造(式(Ia)で表される基)としては、−O−C−O−を含み、かつ以下に表される部分構造であることが好ましい。
nx is preferably an integer of 1 to 8, more preferably an integer of 1 to 6, further preferably an integer of 1 to 4, and even more preferably an integer of 1 to 3. ..
Among them, in the formula (Ia2), the partial structure excluding the ring W (the group represented by the formula (Ia)) includes —O—C—O— and is a partial structure represented by the following. Is preferable.

塩(I)におけるアニオンは、少なくとも1つの式(Ia)で表される基を有するアニオンを有することが好ましく、式(Ia1)で表される基を有するアニオンを少なくとも1つ有することがより好ましく、式(Ia2)で表される基を有するアニオンを少なくとも1つ有することがさらに好ましく、式(IA)で表されるアニオンを少なくとも1つ有することがさらにより好ましく、式(IA)で表されるアニオンを2つ有することが特に好ましい。
[式(IA)中、
、X、X及びWは、上記と同じ意味を表す。
及びQは、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
b1は、炭素数1〜24の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。]
The anion in the salt (I) preferably has at least one anion having a group represented by the formula (Ia), and more preferably has at least one anion having a group represented by the formula (Ia1). , It is more preferable to have at least one anion having a group represented by the formula (IA2), even more preferably to have at least one anion represented by the formula (IA), and it is represented by the formula (IA). It is particularly preferable to have two anions.
[In formula (IA),
X a , X b , X 1 and W have the same meanings as above.
Q 1 and Q 2 independently represents a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
L b1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and -CH 2- contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-, and the saturated hydrocarbon may be replaced. The hydrogen atom contained in the hydrogen group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group. ]

及びQのペルフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec−ブチル基、ペルフルオロtert−ブチル基、ペルフルオロペンチル基及びペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
及びQは、互いに独立に、フッ素原子又はトリフルオロメチル基であることが好ましく、Q及びQはともにフッ素原子であることがより好ましい。
The perfluoroalkyl group of Q 1 and Q 2, a trifluoromethyl group, perfluoroethyl group, perfluoropropyl group, perfluoroisopropyl group, perfluorobutyl group, a perfluoro sec- butyl group, perfluoro-tert- butyl group, perfluoropentyl group, and a perfluoro Hexyl groups and the like can be mentioned.
Q 1 and Q 2 each independently is preferably a fluorine atom or a trifluoromethyl group, Q 1 and Q 2 is more preferably both fluorine atoms.

b1の2価の飽和炭化水素基としては、直鎖状アルカンジイル基、分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、これらの基のうち2種以上を組合せたものでもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ヘプタン−1,7−ジイル基、オクタン−1,8−ジイル基、ノナン−1,9−ジイル基、デカン−1,10−ジイル基、ウンデカン−1,11−ジイル基、ドデカン−1,12−ジイル基、トリデカン−1,13−ジイル基、テトラデカン−1,14−ジイル基、ペンタデカン−1,15−ジイル基、ヘキサデカン−1,16−ジイル基及びヘプタデカン−1,17−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;
エタン−1,1−ジイル基、プロパン−1,1−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、プロパン−2,2−ジイル基、ペンタン−2,4−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基;
シクロブタン−1,3−ジイル基、シクロペンタン−1,3−ジイル基、シクロヘキサン−1,4−ジイル基、シクロオクタン−1,5−ジイル基等のシクロアルカンジイル基である単環式の2価の脂環式飽和炭化水素基;
ノルボルナン−1,4−ジイル基、ノルボルナン−2,5−ジイル基、アダマンタン−1,5−ジイル基、アダマンタン−2,6−ジイル基等の多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group of L b1 include a linear alkanediyl group, a branched alkanediyl group, and a monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group. A combination of two or more of the groups may be used.
Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1 , 7-Diyl Group, Octane-1,8-Diyl Group, Nonan-1,9-Diyl Group, Decane-1,10-Diyl Group, Undecane-1,11-Diyl Group, Dodecane-1,12-Diyl Group , Tridecane-1,13-diyl group, tetradecane-1,14-diyl group, pentadecane-1,15-diyl group, hexadecane-1,16-diyl group and heptadecane-1,17-diyl group. Alcandiyl group;
Ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2,4-diyl group, 2-methylpropane- A branched alkanediyl group such as 1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group;
Monocyclic 2 which is a cycloalkanediyl group such as cyclobutane-1,3-diyl group, cyclopentane-1,3-diyl group, cyclohexane-1,4-diyl group, cyclooctane-1,5-diyl group, etc. Valuable alicyclic saturated hydrocarbon group;
Polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbons such as norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group, and adamantane-2,6-diyl group. The group etc. can be mentioned.

b1の2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH−が−O−又は−CO−で置き換わった基としては、例えば、式(b1−1)〜式(b1−3)のいずれかで表される基が挙げられる。なお、式(b1−1)〜式(b1−3)及び下記の具体例において、*は環Wとの結合手を表す。 Examples of the group in which -CH 2- contained in the divalent saturated hydrocarbon group of L b1 is replaced with -O- or -CO- are any of the formulas (b1-1) to (b1-3). The group represented by is mentioned. In the formulas (b1-1) to (b1-3) and the following specific examples, * represents a bond with the ring W.

[式(b1−1)中、
b2は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
b3は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb2とLb3との炭素数合計は、22以下である。
式(b1−2)中、
b4は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
b5は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb4とLb5との炭素数合計は、22以下である。
式(b1−3)中、
b6は、単結合又は炭素数1〜23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
b7は、単結合又は炭素数1〜23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb6とLb7との炭素数合計は、23以下である。]
[In equation (b1-1),
L b2 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b3 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group, and the saturated hydrocarbon group may be substituted. The methylene group contained in the hydrogen group may be replaced with an oxygen atom or a carbonyl group.
However, the total number of carbon atoms of L b2 and L b3 is 22 or less.
In equation (b1-2),
L b4 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b5 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group, and the saturated hydrocarbon group may be substituted. The methylene group contained in the hydrogen group may be replaced with an oxygen atom or a carbonyl group.
However, the total number of carbon atoms of L b4 and L b5 is 22 or less.
In equation (b1-3),
L b6 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
L b7 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group, and the saturated hydrocarbon group may be substituted. The methylene group contained in the hydrogen group may be replaced with an oxygen atom or a carbonyl group.
However, the total number of carbon atoms of L b6 and L b7 is 23 or less. ]

なお、式(b1−1)〜式(b1−3)においては、飽和炭化水素基に含まれるメチレン基が酸素原子又はカルボニル基に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該飽和炭化水素基の炭素数とする。
2価の飽和炭化水素基としては、Lb1の2価の飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。
In the formulas (b1-1) to (b1-3), when the methylene group contained in the saturated hydrocarbon group is replaced with an oxygen atom or a carbonyl group, the number of carbon atoms before the replacement is the saturated hydrocarbon group. The number of carbon atoms in.
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group include those similar to the divalent saturated hydrocarbon group of L b1 .

b2は、好ましくは単結合である。
b3は、好ましくは炭素数1〜4のアルカンジイル基である。
b4は、好ましくは炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
b5は、好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b6は、好ましくは単結合又は炭素数1〜4の2価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
b7は、好ましくは単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。
L b2 is preferably a single bond.
L b3 is preferably an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms.
L b4 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b5 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b6 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b7 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group. The methylene group contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with an oxygen atom or a carbonyl group.

中でも、式(b1−1)又は式(b1−3)で表される基が好ましい。 Of these, the groups represented by the formula (b1-1) or the formula (b1-3) are preferable.

式(b1−1)としては、例えば、式(b1−4)〜式(b1−8)でそれぞれ表される基が挙げられる。
[式(b1−4)中、
b8は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
式(b1−5)中、
b9は、炭素数1〜20の2価の飽和炭化水素基を表す。
b10は、単結合又は炭素数1〜19の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb9及びLb10の合計炭素数は20以下である。
式(b1−6)中、
b11は、炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表す。
b12は、単結合又は炭素数1〜20の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb11及びLb12の合計炭素数は21以下である。
式(b1−7)中、
b13は、炭素数1〜19の2価の飽和炭化水素基を表す。
b14は、単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表す。
b15は、単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb13、Lb14及びLb15の合計炭素数は19以下である。
式(b1−8)中、
b16は、炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表す。
b17は、炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表す。
b18は、単結合又は炭素数1〜17の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb16、Lb17及びLb18の合計炭素数は19以下である。]
Examples of the formula (b1-1) include groups represented by the formulas (b1-4) to (b1-8), respectively.
[In equation (b1-4),
L b8 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
In equation (b1-5),
L b9 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
L b10 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
However, the total number of carbon atoms of L b9 and L b10 is 20 or less.
In equation (b1-6),
L b11 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L b12 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
However, the total number of carbon atoms of L b11 and L b12 is 21 or less.
In equation (b1-7),
L b13 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms.
L b14 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.
L b15 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
However, the total number of carbon atoms of L b13 , L b14 and L b15 is 19 or less.
In equation (b1-8),
L b16 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.
L b17 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.
L b18 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
However, the total number of carbon atoms of L b16 , L b17 and L b18 is 19 or less. ]

b8は、好ましくは炭素数1〜4のアルカンジイル基である。
b9は、好ましくは炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b10は、好ましくは単結合又は炭素数1〜19の2価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b11は、好ましくは炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b12は、好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b13は、好ましくは炭素数1〜12の2価の飽和炭化水素基である。
b14は、好ましくは単結合又は炭素数1〜6の2価の飽和炭化水素基である。
b15は、好ましくは単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b16は、好ましくは炭素数1〜12の2価の飽和炭化水素基である。
b17は、好ましくは炭素数1〜6の2価の飽和炭化水素基である。
b18は、好ましくは単結合又は炭素数1〜17の2価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数1〜4の2価の飽和炭化水素基である。
L b8 is preferably an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms.
L b9 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b10 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b11 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b12 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b13 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
L b14 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
L b15 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b16 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
L b17 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
L b18 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.

式(b1−3)としては、例えば、式(b1−9)〜式(b1−11)でそれぞれ表される基が挙げられる。 Examples of the formula (b1-3) include groups represented by the formulas (b1-9) to (b1-11), respectively.

[式(b1−9)中、
b19は、単結合又は炭素数1〜23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
b20は、単結合又は炭素数1〜23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子、ヒドロキシ基又はアシルオキシ基に置換されていてもよい。該アシルオキシ基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該アシルオキシ基に含まれる水素原子はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb19及びLb20の合計炭素数は23以下である。
式(b1−10)中、
b21は、単結合又は炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
b22は、単結合又は炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表す。
b23は、単結合又は炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子、ヒドロキシ基又はアシルオキシ基に置換されていてもよい。該アシルオキシ基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該アシルオキシ基に含まれる水素原子はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb21、Lb22及びLb23の合計炭素数は21以下である。
式(b1−11)中、
b24は、単結合又は炭素数1〜20の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
b25は、炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表す。
b26は、単結合又は炭素数1〜20の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子、ヒドロキシ基又はアシルオキシ基に置換されていてもよい。該アシルオキシ基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該アシルオキシ基に含まれる水素原子はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb24、Lb25及びLb26の合計炭素数は21以下である。]
[In equation (b1-9),
L b19 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b20 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an acyloxy group. The methylene group contained in the acyloxy group may be replaced with an oxygen atom or a carbonyl group, and the hydrogen atom contained in the acyloxy group may be replaced with a hydroxy group.
However, the total number of carbon atoms of L b19 and L b20 is 23 or less.
In equation (b1-10),
L b21 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b22 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L b23 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an acyloxy group. The methylene group contained in the acyloxy group may be replaced with an oxygen atom or a carbonyl group, and the hydrogen atom contained in the acyloxy group may be replaced with a hydroxy group.
However, the total number of carbon atoms of L b21 , L b22 and L b23 is 21 or less.
In equation (b1-11),
L b24 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b25 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L b26 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an acyloxy group. The methylene group contained in the acyloxy group may be replaced with an oxygen atom or a carbonyl group, and the hydrogen atom contained in the acyloxy group may be replaced with a hydroxy group.
However, L b24, the total number of carbon atoms of L b25 and L b26 is 21 or less. ]

なお、式(b1−9)から式(b1−11)においては、飽和炭化水素基に含まれる水素原子がアシルオキシ基に置換されている場合、アシルオキシ基の炭素数、エステル結合中のCO及びOの数をも含めて、該飽和炭化水素基の炭素数とする。 In formulas (b1-9) to (b1-11), when the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with an acyloxy group, the number of carbon atoms of the acyloxy group, CO and O in the ester bond The number of carbon atoms of the saturated hydrocarbon group is taken into consideration, including the number of carbon atoms of the saturated hydrocarbon group.

アシルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アダマンチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
置換基を有するアシルオキシ基としては、オキソアダマンチルカルボニルオキシ基、ヒドロキシアダマンチルカルボニルオキシ基、オキソシクロヘキシルカルボニルオキシ基、ヒドロキシシクロヘキシルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
Examples of the acyloxy group include an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, a cyclohexylcarbonyloxy group, an adamantylcarbonyloxy group and the like.
Examples of the acyloxy group having a substituent include an oxoadamantylcarbonyloxy group, a hydroxyadamantylcarbonyloxy group, an oxocyclohexylcarbonyloxy group, a hydroxycyclohexylcarbonyloxy group and the like.

式(b1−1)で表される基のうち、式(b1−4)で表される基としては、例えば、以下のものが挙げられる。
Among the groups represented by the formula (b1-1), examples of the groups represented by the formula (b1-4) include the following.

式(b1−1)で表される基のうち、式(b1−5)で表される基としては、例えば、以下のものが挙げられる。
Among the groups represented by the formula (b1-1), examples of the groups represented by the formula (b1-5) include the following.

式(b1−1)で表される基のうち、式(b1−6)で表される基としては、例えば、以下のものが挙げられる。
Among the groups represented by the formula (b1-1), examples of the groups represented by the formula (b1-6) include the following.

式(b1−1)で表される基のうち、式(b1−7)で表される基としては、例えば、以下のものが挙げられる。
Among the groups represented by the formula (b1-1), examples of the groups represented by the formula (b1-7) include the following.

式(b1−1)で表される基のうち、式(b1−8)で表される基としては、例えば、以下のものが挙げられる。
Among the groups represented by the formula (b1-1), examples of the groups represented by the formula (b1-8) include the following.

式(b1−2)で表される基としては、例えば、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-2) include the following.

式(b1−3)で表される基のうち、式(b1−9)で表される基としては、例えば、以下のものが挙げられる。
Among the groups represented by the formula (b1-3), examples of the groups represented by the formula (b1-9) include the following.

式(b1−3)で表される基のうち、式(b1−10)で表される基としては、例えば、以下のものが挙げられる。
Among the groups represented by the formula (b1-3), examples of the groups represented by the formula (b1-10) include the following.

式(b1−3)で表される基のうち、式(b1−11)で表される基としては、例えば、以下のものが挙げられる。
Among the groups represented by the formula (b1-3), examples of the groups represented by the formula (b1-11) include the following.

b1は、好ましくは2価の飽和炭化水素基を表し(該飽和単価水素基に含まれるメチレン基は−O−又は−CO−で置き換えられていてもよい。)、より好ましくは式(b1−4)で表される基又は式(b1−2)で表される基を表し、Lb4は炭素数1〜10のアルカンジイル基であり、Lb5は単結合であり、さらに好ましくは*−CO−O−(CH(tは0から6の整数を表す。*は、C(Q)(Q)への結合位を表す。)又は*−CH−O−CO−を表す(*は、C(Q)(Q)への結合位を表す。)。 L b1 preferably represents a divalent saturated hydrocarbon group (the methylene group contained in the saturated monovalent hydrogen group may be replaced with -O- or -CO-), and more preferably the formula (b1). It represents a group represented by -4) or a group represented by the formula (b1-2), L b4 is an alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms, and L b5 is a single bond, more preferably *. -CO-O- (CH 2 ) t (t represents an integer from 0 to 6. * represents the binding position to C (Q 1 ) (Q 2 )) or * -CH 2- O-CO -Represents (* represents the binding position to C (Q 1 ) (Q 2 )).

式(IA)で表されるアニオンとしては、下記のもの等が例示される。 Examples of the anion represented by the formula (IA) include the following.

塩(I)のもう一つのアニオンとしては、上述した式(IA)で表されるアニオン、他のスルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン及びカルボン酸アニオン等が挙げられる。式(I)のもう一つのアニオンは、スルホン酸アニオンが好ましく、式(IA)で表されるアニオン又は式(I−A)で表されるアニオンがより好ましい。
塩(I)におけるアニオンは、式(IA)で表される同じアニオンであってもよいし、式(IA)で表される異なるアニオンであってもよい。また、塩(I)におけるアニオンは、式(IA)で表されるアニオンと、これとは異なる他のスルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン又はカルボン酸アニオンとの組み合わせであってもよいし、式(IA)で表されるアニオンと式(I−A)で表されるアニオンとの組み合わせであってもよい。
Examples of the other anion of the salt (I) include an anion represented by the above formula (IA), another sulfonic acid anion, a sulfonylimide anion, a sulfonylmethide anion, a carboxylic acid anion and the like. The other anion of the formula (I) is preferably a sulfonic acid anion, more preferably an anion represented by the formula (IA) or an anion represented by the formula (IA).
The anion in the salt (I) may be the same anion represented by the formula (IA) or a different anion represented by the formula (IA). Further, the anion in the salt (I) may be a combination of an anion represented by the formula (IA) and another sulfonic acid anion, a sulfonylimide anion, a sulfonylmethide anion or a carboxylic acid anion different from this. Alternatively, it may be a combination of an anion represented by the formula (IA) and an anion represented by the formula (IA).

[式(I−A)中、
、Q及びLb1は、上記と同じ意味を表す。
Yは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数3〜18の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−、−SO−又は−CO−に置き換わっていてもよい。]
、Q及びLb1の例示及び好ましいものも、上記と同じである(本願において同様)。
[In formula (IA),
Q 1, Q 2 and L b1 are the same as defined above.
Y represents a methyl group which may have a substituent or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent, and is contained in the alicyclic hydrocarbon group. CH 2 - is, -O -, - SO 2 - or -CO- may be replaced with. ]
Q 1, Q 2 and illustrated and preferred ones L b1 is also the same as above (the same in the present application).

Yの脂環式炭化水素基としては、式(Y1)〜式(Y11)で表される基が挙げられる。
Yの脂環式炭化水素基に含まれる−CH−が−O−、−SO−又は−CO−で置き換わった基としては、式(Y12)〜式(Y27)で表される基が挙げられる。
Examples of the alicyclic hydrocarbon group of Y include groups represented by the formulas (Y1) to (Y11).
As the group in which -CH 2- contained in the alicyclic hydrocarbon group of Y is replaced with -O-, -SO 2- or -CO-, the groups represented by the formulas (Y12) to (Y27) are used. Can be mentioned.

好ましくは式(Y1)〜式(Y19)のいずれかで表される基であり、より好ましくは式(Y11)、式(Y14)、式(Y15)又は式(Y19)で表される基であり、さらに好ましくは式(Y11)又は式(Y14)で表される基である。 It is preferably a group represented by any of the formulas (Y1) to (Y19), and more preferably a group represented by the formula (Y11), the formula (Y14), the formula (Y15) or the formula (Y19). Yes, more preferably a group represented by the formula (Y11) or the formula (Y14).

Yのメチル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数3〜16の脂環式炭化水素基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基、グリシジルオキシ基又は−(CHja−O−CO−Rb1基(式中、Rb1は、炭素数1〜16のアルキル基、炭素数3〜16の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜18の芳香族炭化水素基を表す。jaは、0〜4の整数を表す)等が挙げられる。
Yの脂環式炭化水素基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜12のアルキル基、ヒドロキシ基含有炭素数1〜12のアルキル基、炭素数3〜16の脂環式炭化水素基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基、炭素数7〜21のアラルキル基、炭素数2〜4のアシル基、グリシジルオキシ基又は−(CHja’−O−CO−Rb1’基(式中、Rb1’は、炭素数1〜16のアルキル基、炭素数3〜16の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜18の芳香族炭化水素基を表す。ja’は、0〜4の整数を表す)等が挙げられる。
As the substituent of the methyl group of Y, a halogen atom, a hydroxy group, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, a glycidyloxy group or-(CH 2 ). ja- O-CO-R b1 group (in the formula, R b1 is an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms. (Ja represents an integer of 0 to 4) and the like.
As the substituent of the alicyclic hydrocarbon group of Y, a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkyl group containing a hydroxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an alicyclic group having 3 to 16 carbon atoms A hydrocarbon group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 21 carbon atoms, an acyl group having 2 to 4 carbon atoms, a glycidyloxy group or-(CH). 2) niv in '-O-CO-R b1' group (wherein, R b1 'is an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, 3 to 16 carbon atoms alicyclic hydrocarbon group or having 6 to 18 carbon atoms It represents an aromatic hydrocarbon group. Ja'represents an integer from 0 to 4) and the like.

ヒドロキシ基含有アルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、p−メチルフェニル基、p−tert−ブチルフェニル基、p−アダマンチルフェニル基;トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、2,6−ジエチルフェニル基、2−メチル−6−エチルフェニル等のアリール基等が挙げられる。
アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基及びナフチルエチル基等が挙げられる。
アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
Examples of the hydroxy group-containing alkyl group include a hydroxymethyl group and a hydroxyethyl group.
Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a decyloxy group and a dodecyloxy group.
The aromatic hydrocarbon group includes a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a p-methylphenyl group, a p-tert-butylphenyl group, a p-adamantylphenyl group; a trill group, a xylyl group, a cumenyl group, a mesityl group and a biphenyl group. Examples thereof include an aryl group such as a group, a phenanthryl group, a 2,6-diethylphenyl group and 2-methyl-6-ethylphenyl.
Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a naphthylmethyl group and a naphthylethyl group.
Examples of the acyl group include an acetyl group, a propionyl group and a butyryl group.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

Yとしては、以下のものが挙げられる。
Examples of Y include the following.

なお、Yがアルキル基であり、かつLb1が炭素数1〜17の2価の直鎖状又は分岐状飽和炭化水素基である場合、Yとの結合位置にある該2価の飽和炭化水素基の−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていることが好ましい。この場合、Yのアルキル基に含まれる−CH−のうち、Lb1との結合位置にある−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わらない。 When Y is an alkyl group and L b1 is a divalent linear or branched saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, the divalent saturated hydrocarbon at the bonding position with Y. It is preferable that the -CH 2- of the group is replaced with -O- or -CO-. In this case, -CH 2 contained in the alkyl group Y - of, -CH 2 in the coupling position of the L b1 - is not Okikawara by -O- or -CO-.

Yは、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数3〜18の脂環式炭化水素基であり、より好ましく置換基を有していてもよいアダマンチル基であり、これらの基を構成する−CH−は、−O−、−SO−又は−CO−に置き換わっていてもよい。Yは、さら特に好ましくはアダマンチル基、ヒドロキシアダマンチル基又はオキソアダマンチル基である。 Y is preferably an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent, and more preferably an adamantyl group which may have a substituent, and constitutes these groups. -CH 2- may be replaced with -O-, -SO 2- or -CO-. Y is even more preferably an adamantyl group, a hydroxyadamantyl group or an oxoadamantyl group.

式(I−A)で表されるアニオンとしては、式(I−A−1)〜式(I−A−29)で表されるアニオン〔以下、式番号に応じて「アニオン(I−A−1)」等という場合がある。〕が好ましく、式(I−A−1)〜式(I−A−4)、式(I−A−9)、式(I−A−10)、式(I−A−24)〜式(I−A−29)のいずれかで表されるアニオンがより好ましい。また、式(I−A−1)〜式(I−A−29)におけるRi2〜Ri4は、互いに独立に、炭素数1〜4のアルキル基を表し、好ましくはメチル基である。Lは、単結合又は炭素数1〜4のアルカンジイル基である。Q及びQは、上記と同じ意味を表す。 Examples of the anion represented by the formula (IA) include anions represented by the formulas (IA-1) to (IA-29) [hereinafter, "anion (IA)" according to the formula number. -1) ”and so on. ] Are preferable, and formulas (IA-1) to (IA-4), formulas (IA-9), formulas (IA-10), formulas (IA-24) to formulas (IA-24) to formulas. The anion represented by any of (IA-29) is more preferable. Further, R i2 to R i4 in the formulas (IA-1) to (IA-29) represent alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms independently of each other, and are preferably methyl groups. L 4 is a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms. Q 1 and Q 2 are the same as defined above.

具体的には、式(I−A)で表されるアニオンとしては、式(Ia−1)〜式(Ia−11)でそれぞれ表されるアニオンが好ましい。
Specifically, as the anion represented by the formula (IA), the anions represented by the formulas (Ia-1) to (Ia-11) are preferable.

スルホニルイミドアニオンとしては、以下のものが挙げられる。
Examples of the sulfonylimide anion include the following.

式(I)のもう一つのアニオンとしては、上述した式(IA)で表されるアニオン以外に、式(Ia−1)〜式(Ia−3)及び式(Ia−7)〜式(Ia−11)のいずれかで表されるアニオンが好ましい。 Other anions of the formula (I) include formulas (Ia-1) to (Ia-3) and formulas (Ia-7) to (Ia) in addition to the anions represented by the above formula (IA). The anion represented by any one of -11) is preferable.

本発明の塩(I)は、式(IC)で表されるカチオンを有する塩である。
[式(IC)中、
及びRは、互いに独立に、水素原子、ヒドロキシ基又は炭素数1〜12の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−で置き換わっていてもよい。
m及びnは、互いに独立に、1又は2を表す。mが2のとき、2つのRは同一であっても異なってもよく、nが2のとき、2つのRは同一であっても異なってもよい。
Ar及びArは、互いに独立に、置換基を有していてもよい炭素数6〜36の芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜36のヘテロ芳香族炭化水素基を表す。]
The salt (I) of the present invention is a salt having a cation represented by the formula (IC).
[In the formula (IC),
R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom, a hydroxy group, or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and −CH 2 − contained in the hydrocarbon group is −O− or −CO−. It may be replaced.
m and n represent 1 or 2 independently of each other. when m is 2, two R 1 may be the same or different, when n is 2, the two R 2 may be the same or different.
Ar 1 and Ar 2 are independently of each other, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 36 carbon atoms which may have a substituent or a heteroaromatic aromatic group having 6 to 36 carbon atoms which may have a substituent. Represents a hydrocarbon group. ]

及びRの炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらの組合せることにより形成される基が挙げられる。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、2−エチルヘキシル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基としては、単環式又は多環式のいずれでもよく、単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘプチル基、シクロデシル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、2−アルキルアダマンタン−2−イル基、1−(アダマンタン−1−イル)アルカン−1−イル基、ノルボルニル基、メチルノルボルニル基及びイソボルニル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
組合せることにより形成される基としては、アラルキル基が挙げられ、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。
炭化水素基に含まれる−CH−が、−O−又は−CO−に置き換わった基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、アセチル基、メトキシカルボニル基、アセチルオキシ基、ブトキシカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等が挙げられる。
Examples of the hydrocarbon group of R 1 and R 2 include an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a group formed by combining these groups.
As the alkyl group, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, 2 Examples thereof include -ethylhexyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group and the like.
The alicyclic hydrocarbon group may be either a monocyclic group or a polycyclic group, and the monocyclic alicyclic hydrocarbon group includes a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group and a methylcyclohexyl group. , Cycloalkyl group such as dimethylcyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, cycloheptyl group, cyclodecyl group and the like. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a 2-alkyladamantan-2-yl group, a 1- (adamantan-1-yl) alkane-1-yl group, and a norbornyl group. Examples thereof include a methylnorbornyl group and an isobornyl group.
Examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group and a naphthyl group.
Examples of the group formed by the combination include an aralkyl group, a benzyl group, a phenethyl group and the like.
The groups in which -CH 2- contained in the hydrocarbon group is replaced with -O- or -CO- include a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, an acetyl group, a methoxycarbonyl group, an acetyloxy group, and a butoxycarbonyloxy group. , Benoxyloxy group and the like.

Ar及びArの芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントニル基、トリル基、キシリル基、クミル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ビフェニル基、トリフェニル基、インデニル基、テトラヒドロナフチル基、p−アダマンチルフェニル基、フェナントリル基、2,6−ジエチルフェニル基、2−メチル−6−エチルフェニル基等の炭素数6〜36のアリール基が挙げられる。
ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が挙げられる。
ヘテロ芳香族炭化水素基としては、フリル基、チオフェニル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基又はヘテロ芳香族炭化水素基は、好ましくは炭素数6〜24であり、より好ましくは炭素数6〜18である。
The aromatic hydrocarbon groups of Ar 1 and Ar 2 include phenyl group, naphthyl group, anthryl group, phenanthonyl group, trill group, xsilyl group, cumyl group, dimethylphenyl group, trimethylphenyl group, ethylphenyl group and propylphenyl group. , Butylphenyl group, biphenyl group, triphenyl group, indenyl group, tetrahydronaphthyl group, p-adamantylphenyl group, phenanthryl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc. Included are ~ 36 aryl groups.
Examples of the hetero atom include a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom.
Examples of the heteroaromatic hydrocarbon group include a frill group and a thiophenyl group.
The aromatic hydrocarbon group or heteroaromatic hydrocarbon group preferably has 6 to 24 carbon atoms, and more preferably 6 to 18 carbon atoms.

芳香族炭化水素基及びヘテロ芳香族炭化水素基の置換基としては、ヒドロキシ基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数2〜18のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数7〜18のアリールカルボニルオキシ基又は炭素数2〜18のアルコキシカルボニルオキシ基が挙げられ、炭素数1〜12のアルコキシ基に含まれる−CH−は、−O−で置き換わっていてもよい。好ましくは、ヒドロキシ基である。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基等が挙げられる。好ましくは、炭素数1〜6のアルコキシ基であり、より好ましくはメトキシ基である。
アルキルカルボニルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n−プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、n−ブチルカルボニルオキシ基、sec−ブチルカルボニルオキシ基、tert−ブチルカルボニルオキシ基、ペンチルカルボニルオキシ基、ヘキシルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基及び2−エチルヘキシルカルボニルオキシ基等が挙げられる。好ましくは、炭素数2〜12のアルキルカルボニルオキシ基であり、より好ましくはメチルカルボニルオキシ基である。
アリールカルボニルオキシ基としては、フェニルカルボニルオキシ基、トシルカルボニルオキシ基等が挙げられる。好ましくは、炭素数7〜12のアリールカルボニルオキシ基であり、より好ましくはフェニルカルボニルオキシ基である。
アルコキシカルボニルオキシ基としては、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、n−プロポキシカルボニルオキシ基、イソプロポキシカルボニルオキシ基、n−ブトキシカルボニルオキシ基、sec−ブトキシカルボニルオキシ基、tert−ブトキシカルボニルオキシ基、ペンチルオキシカルボニルオキシ基、ヘキシルオキシカルボニルオキシ基、オクチルオキシカルボニルオキシ基及び2−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。好ましくは、炭素数2〜8のアルキルオキシカルボニルオキシ基であり、より好ましくはtert−ブチルオキシカルボニルオキシ基である。
Examples of the substituent of the aromatic hydrocarbon group and the heteroaromatic hydrocarbon group include a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkylcarbonyloxy group having 2 to 18 carbon atoms, and an arylcarbonyloxy group having 7 to 18 carbon atoms. Examples thereof include a group or an alkoxycarbonyloxy group having 2 to 18 carbon atoms, and −CH 2 − contained in the alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms may be replaced with −O−. It is preferably a hydroxy group.
Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a decyloxy group and a dodecyloxy group. It is preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a methoxy group.
Examples of the alkylcarbonyloxy group include methylcarbonyloxy group, ethylcarbonyloxy group, n-propylcarbonyloxy group, isopropylcarbonyloxy group, n-butylcarbonyloxy group, sec-butylcarbonyloxy group, tert-butylcarbonyloxy group, Examples thereof include pentylcarbonyloxy group, hexylcarbonyloxy group, octylcarbonyloxy group and 2-ethylhexylcarbonyloxy group. It is preferably an alkylcarbonyloxy group having 2 to 12 carbon atoms, and more preferably a methylcarbonyloxy group.
Examples of the arylcarbonyloxy group include a phenylcarbonyloxy group and a tosylcarbonyloxy group. It is preferably an arylcarbonyloxy group having 7 to 12 carbon atoms, and more preferably a phenylcarbonyloxy group.
Examples of the alkoxycarbonyloxy group include methoxycarbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, n-propoxycarbonyloxy group, isopropoxycarbonyloxy group, n-butoxycarbonyloxy group, sec-butoxycarbonyloxy group and tert-butoxycarbonyloxy group. , Pentyloxycarbonyloxy group, hexyloxycarbonyloxy group, octyloxycarbonyloxy group, 2-ethylhexyloxycarbonyloxy group and the like. It is preferably an alkyloxycarbonyloxy group having 2 to 8 carbon atoms, and more preferably a tert-butyloxycarbonyloxy group.

mは、2であることが好ましい。
nは、2であることが好ましい。
m及びnのうち、少なくとも一つが2であることが好ましく、m及びnがともに2であることがより好ましい。
は、水素原子であることが好ましい。
は、水素原子であることが好ましい。
及びRは、ともに水素原子であることが好ましい。
Ar及びArのうち、少なくとも一つが置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基であることが好ましく、Ar及びArがともに置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基であることがより好ましい。Ar及びArは、同一であることが好ましい。
m is preferably 2.
n is preferably 2.
It is preferable that at least one of m and n is 2, and it is more preferable that both m and n are 2.
R 1 is preferably a hydrogen atom.
R 2 is preferably a hydrogen atom.
It is preferable that both R 1 and R 2 are hydrogen atoms.
Of Ar 1 and Ar 2 , at least one is preferably an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, and both Ar 1 and Ar 2 may have a substituent. It is more preferably a hydrogen group. It is preferable that Ar 1 and Ar 2 are the same.

カチオン(IC)としては、以下のカチオン等が挙げられる。
Examples of the cation (IC) include the following cations and the like.

カチオン(I)としては、式(I−c−1)、式(I−c−3)、式(I−c−4)、式(I−c−7)、式(I−c−12)、式(I−c−14)、式(I−c−16)及び式(I−c−22)で表されるカチオンが好ましい。 Examples of the cation (I) include formula (I-c-1), formula (I-c-3), formula (I-c-4), formula (I-c-7), and formula (I-c-12). ), Formula (I-c-14), formula (I-c-16) and cations represented by formula (I-c-22) are preferred.

塩は、上述したアニオン及びカチオンは、任意に組合せることができる。
塩(I)としては、以下の塩が挙げられる。
As the salt, the above-mentioned anions and cations can be arbitrarily combined.
Examples of the salt (I) include the following salts.

<塩(I)の製造方法>
式(IA)で表されるアニオンと、Aで表されるアニオンと、式(IC)で表されるカチオンからなる塩(I)は、式(I−a)で表される塩と式(I−b)で表される化合物とを触媒存在下、溶剤中で反応させることにより製造することができる。
[式中、Q、Q、Lb1、W、R、R、Ar、Ar、m、n、X、X及びXは、上記と同じ意味を表す。
Aはアニオンを表す。]
<Manufacturing method of salt (I)>
The salt (I) composed of the anion represented by the formula (IA), the anion represented by A, and the cation represented by the formula (IC) is the salt represented by the formula (IA) and the formula (Ia). It can be produced by reacting with the compound represented by Ib) in a solvent in the presence of a catalyst.
[In the formula, Q 1 , Q 2 , L b 1 , W, R 1 , R 2 , Ar 1 , Ar 2 , m, n, X a , X b and X 1 have the same meanings as above.
A represents an anion. ]

この反応における酸触媒としては、p−トルエンスルホン酸等が挙げられる。
この反応における溶媒としては、クロロホルム、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
式(I−b)で表される化合物としては、2,2,3,3−テトラフルオロ−1,4−ブタンジオール等が挙げられ、市場より容易に入手することができる。
Examples of the acid catalyst in this reaction include p-toluenesulfonic acid and the like.
Examples of the solvent in this reaction include chloroform, acetonitrile, dimethylformamide and the like.
Examples of the compound represented by the formula (I-b) include 2,2,3,3-tetrafluoro-1,4-butanediol, which can be easily obtained from the market.

式(I―a)で表される塩は、式(I―c)で表される塩と式(I―d)で表される塩とを、触媒存在下、溶剤中で反応させることにより製造することができる。
[式中、Q、Q、Lb1、W、R、R、Ar、Ar、m、n及びAは、前記と同義である。]
The salt represented by the formula (Ia) is obtained by reacting the salt represented by the formula (Ic) with the salt represented by the formula (Id) in a solvent in the presence of a catalyst. Can be manufactured.
[In the formula, Q 1 , Q 2 , L b 1 , W, R 1 , R 2 , Ar 1 , Ar 2 , m, n and A are synonymous with the above. ]

触媒としては、酢酸銅(II)等が挙げられる。
溶剤としては、クロロホルム等が挙げられる。
Examples of the catalyst include copper acetate (II) and the like.
Examples of the solvent include chloroform and the like.

式(I−d)で表される塩としては、下記式で表される塩等が挙げられる。
Examples of the salt represented by the formula (Id) include salts represented by the following formula.

塩(I−c)は、式(I−e)で表される塩と式(I−f)で表される塩とを触媒存在下、溶剤中で反応させることにより製造することができる。
[式中、R、R、Ar及びA、m及びnは、前記と同義である。]
The salt (Ic) can be produced by reacting a salt represented by the formula (Ie) with a salt represented by the formula (If) in a solvent in the presence of a catalyst.
[In the formula, R 1 , R 2 , Ar 1 and A , m and n have the same meanings as described above. ]

触媒としては、酢酸銅(II)等が挙げられる。
溶剤としては、クロロホルム等が挙げられる。
Examples of the catalyst include copper acetate (II) and the like.
Examples of the solvent include chloroform and the like.

式(I−e)で表される塩としては、下記式で表される塩等が挙げられる。
Examples of the salt represented by the formula (I-e) include salts represented by the following formula.

式(I−f)で表される化合物は、下記式で表される化合物等が挙げられる。
Examples of the compound represented by the formula (If) include compounds represented by the following formula.

<酸発生剤>
塩(I)は、例えば、レジスト組成物中において、酸発生剤として作用させることができる。酸発生剤は、露光により酸を発生し、発生した酸が、触媒的に働き、例えば、後述する樹脂(A)の酸により脱離する基を脱離させる。
本発明の酸発生剤としては、塩(I)を単独で含有するものであってもよいし、塩(I)と、レジスト分野で公知の酸発生剤(以下、酸発生剤(B)という場合がある。)とを含有していてもよい。酸発生剤においては、塩(I)は、2種類以上を含有していてもよいし、酸発生剤(B)は、2種以上を含有してもよい。
酸発生剤が、酸発生剤(B)を含有する場合、酸発生剤における塩(I)と酸発生剤(B)との含有量の比(質量比;塩(I):酸発生剤(B))は、通常1:99〜100:0であり、好ましくは1:99〜99:1であり、より好ましくは2:98〜98:2であり、さらに好ましくは5:95〜95:5である。
<Acid generator>
The salt (I) can act as an acid generator, for example, in a resist composition. The acid generator generates an acid by exposure, and the generated acid acts catalytically to, for example, desorb a group desorbed by the acid of the resin (A) described later.
The acid generator of the present invention may contain the salt (I) alone, or may be referred to as a salt (I) and an acid generator known in the resist field (hereinafter referred to as an acid generator (B)). In some cases.) And may be contained. In the acid generator, the salt (I) may contain two or more kinds, and the acid generator (B) may contain two or more kinds.
When the acid generator contains the acid generator (B), the ratio of the content of the salt (I) to the acid generator (B) in the acid generator (mass ratio; salt (I): acid generator ( B)) is usually 1:99 to 100: 0, preferably 1:99 to 99: 1, more preferably 2:98 to 98: 2, and even more preferably 5:95 to 95 :. It is 5.

<酸発生剤(B)>
酸発生剤(B)は、非イオン系とイオン系とに分類されるが、いずれを用いてもよい。
非イオン系酸発生剤には、有機ハロゲン化物、スルホネートエステル類(例えば2−ニトロベンジルエステル、芳香族スルホネート、オキシムスルホネート、N−スルホニルオキシイミド、スルホニルオキシケトン、ジアゾナフトキノン 4−スルホネート)、スルホン類(例えばジスルホン、ケトスルホン、スルホニルジアゾメタン)等が含まれる。イオン系酸発生剤は、オニウムカチオンを含むオニウム塩(例えばジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩)が代表的である。オニウム塩のアニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン等がある。
<Acid generator (B)>
The acid generator (B) is classified into a non-ionic type and an ionic type, and any of them may be used.
Nonionic acid generators include organic halides, sulfonate esters (eg 2-nitrobenzyl ester, aromatic sulfonate, oxime sulfonate, N-sulfonyloxyimide, sulfonyloxyketone, diazonaphthoquinone 4-sulfonate), sulfones. (For example, disulfone, ketosulfone, sulfonyldiazomethane) and the like are included. The ionic acid generator is typically an onium salt containing an onium cation (for example, a diazonium salt, a phosphonium salt, a sulfonium salt, or an iodonium salt). Examples of the onium salt anion include a sulfonic acid anion, a sulfonylimide anion, and a sulfonylmethide anion.

酸発生剤(B)としては、特開昭63−26653号、特開昭55−164824号、特開昭62−69263号、特開昭63−146038号、特開昭63−163452号、特開昭62−153853号、特開昭63−146029号や、米国特許第3,779,778号、米国特許第3,849,137号、独国特許第3914407号、欧州特許第126,712号等に記載の放射線によって酸を発生する化合物を使用することができる。また、公知の方法で製造した化合物を使用してもよい。 Examples of the acid generator (B) include Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-26653, Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-164824, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-69263, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-146038, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-163452. Kaisho 62-153853, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-146029, US Pat. No. 3,779,778, US Pat. No. 3,849,137, German Patent No. 3914407, European Patent No. 126,712. Etc., a compound that generates an acid by radiation can be used. Moreover, you may use the compound produced by the known method.

酸発生剤(B)は、好ましくはフッ素含有酸発生剤であり、より好ましくは式(B1)で表される塩(以下「酸発生剤(B1)」という場合がある)である。
[式(B1)中、
、Q、Lb1及びYは、式(I−A)におけるQ、Q、Lb1、Yと同じ意味を表す。
は、有機カチオンを表す。ただし、Zは、式(IC)で表されるカチオンを含まない。]
The acid generator (B) is preferably a fluorine-containing acid generator, and more preferably a salt represented by the formula (B1) (hereinafter, may be referred to as “acid generator (B1)”).
[In equation (B1),
Q 1, Q 2, L b1 and Y represent the same meaning as Q 1, Q 2, L b1, Y in formula (I-A).
Z + represents an organic cation. However, Z + does not include the cation represented by the formula (IC). ]

式(B1)におけるアニオンは、式(I−A)で表されるアニオンと同じアニオンが挙げられる。
は、有機スルホニウムカチオンであることが好ましい。
具体的には、式(B1−1)〜式(B1−32)のいずれかで表される塩が挙げられる。中でもアリールスルホニウムカチオンを含むものが好ましく、式(B1−1)、式(B1−2)、式(B1−3)、式(B1−6)、式(B1−7)、式(B1−11)、式(B1−12)、式(B1−13)、式(B1−14)、式(B1−20)、式(B1−21)、式(B1−22)、式(B1−23)、式(B1−24)、式(B1−25)、式(B1−26)、式(B1−29)、式(B1−31)又は式(B1−32)のいずれかで表される塩がより好ましい。
Examples of the anion in the formula (B1) include the same anion as the anion represented by the formula (IA).
Z + is preferably an organic sulfonium cation.
Specific examples thereof include salts represented by any of the formulas (B1-1) to (B1-32). Of these, those containing an arylsulfonium cation are preferable, and formulas (B1-1), formulas (B1-2), formulas (B1-3), formulas (B1-6), formulas (B1-7), and formulas (B1-11) are preferable. ), Equation (B1-12), Equation (B1-13), Equation (B1-14), Equation (B1-20), Equation (B1-21), Equation (B1-22), Equation (B1-23). , Formula (B1-24), formula (B1-25), formula (B1-26), formula (B1-29), formula (B1-31) or salt represented by formula (B1-32). Is more preferable.

<レジスト組成物>
本発明のレジスト組成物は、酸発生剤と酸不安定基を有する樹脂(以下「樹脂(A)」という場合がある)とを含有する。ここで、「酸不安定基」は、脱離基を有し、酸との接触により脱離基が脱離して、構成単位が親水性基(例えば、ヒドロキシ基又はカルボキシ基)を有する構成単位に変換する基を意味する。
酸発生剤としては、上述した酸発生剤を用いることができる。
レジスト組成物は、さらに、クエンチャー(以下「クエンチャー(C)」という場合がある)及び/又は溶剤(以下「溶剤(E)」という場合がある)を含有することが好ましい。
<Resist composition>
The resist composition of the present invention contains an acid generator and a resin having an acid unstable group (hereinafter, may be referred to as "resin (A)"). Here, the "acid-unstable group" is a structural unit having a leaving group, the leaving group being removed by contact with an acid, and the constituent unit having a hydrophilic group (for example, a hydroxy group or a carboxy group). Means the group that converts to.
As the acid generator, the above-mentioned acid generator can be used.
The resist composition preferably further contains a citrine (hereinafter sometimes referred to as "quencher (C)") and / or a solvent (hereinafter sometimes referred to as "solvent (E)").

<酸発生剤>
レジスト組成物において、酸発生剤の含有率は、樹脂(A)に対して、好ましくは1.5質量%以上、より好ましくは3質量%以上であり、好ましくは40質量%以下、より好ましくは35質量%以下である。例えば、1〜40質量%であることが好ましく、2〜35質量%であることがより好ましく、3〜35質量%であることがさらに好ましい。
特に、酸発生剤として、塩(I)のみを用いる場合、塩(I)の含有率は、樹脂(A)に対して、1〜40質量%であることが好ましく、2〜35質量%であることがより好ましい。
<Acid generator>
In the resist composition, the content of the acid generator is preferably 1.5% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, preferably 40% by mass or less, more preferably more preferably, with respect to the resin (A). It is 35% by mass or less. For example, it is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 2 to 35% by mass, and even more preferably 3 to 35% by mass.
In particular, when only the salt (I) is used as the acid generator, the content of the salt (I) is preferably 1 to 40% by mass, preferably 2 to 35% by mass, based on the resin (A). More preferably.

<樹脂(A)>
樹脂(A)は、酸不安定基を有する構造単位(以下「構造単位(a1)」という場合がある)を有する。樹脂(A)は、さらに、構造単位(a1)以外の構造単位を含んでいることが好ましい。構造単位(a1)以外の構造単位としては、酸不安定基を有さない構造単位(以下「構造単位(s)」という場合がある)が挙げられる。
<Resin (A)>
The resin (A) has a structural unit having an acid unstable group (hereinafter, may be referred to as “structural unit (a1)”). The resin (A) preferably further contains a structural unit other than the structural unit (a1). Examples of the structural unit other than the structural unit (a1) include a structural unit having no acid-labile group (hereinafter, may be referred to as “structural unit (s)”).

<構造単位(a1)>
構造単位(a1)は、酸不安定基を有するモノマー(以下「モノマー(a1)」という場合がある)から導かれる。
樹脂(A)に含まれる酸不安定基は、基(1)及び/又は基(2)が好ましい。
<Structural unit (a1)>
The structural unit (a1) is derived from a monomer having an acid unstable group (hereinafter, may be referred to as “monomer (a1)”).
The acid unstable group contained in the resin (A) is preferably a group (1) and / or a group (2).

[式(1)中、Ra1〜Ra3は、互いに独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜20の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せた基を表すか、Ra1及びRa2は互いに結合してそれらが結合する炭素原子とともに炭素数3〜20の2価の脂環式炭化水素基を形成する。
naは、0又は1を表す。
*は結合手を表す。]
[In the formula (1), R a1 to R a3 independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, or a group combining these groups, or R. a1 and Ra2 are bonded to each other to form a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atom to which they are bonded.
na represents 0 or 1.
* Represents a bond. ]

[式(2)中、Ra1’及びRa2’は、互いに独立に、水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を表し、Ra2’は、炭素数1〜20の炭化水素基を表すか、Ra2’及びRa3’は互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びXとともに炭素数3〜20の2価の複素環基を形成し、該炭化水素基及び該2価の複素環基に含まれる−CH−は、−O−又は−S−で置き換わってもよい。
Xは、酸素原子又は硫黄原子を表す。
*は結合手を表す。]
Wherein (2), R a1 'and R a2' independently of one another, represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, R a2 'is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms Represented, R a2'and R a3' are bonded to each other to form a divalent heterocyclic group having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atom and X to which they are bonded, and the hydrocarbon group and the divalent complex. The −CH 2− contained in the ring group may be replaced by −O− or −S−.
X represents an oxygen atom or a sulfur atom.
* Represents a bond. ]

a1〜Ra3のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基等が挙げられる。
a1〜Ra3の脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合手を表す。)等が挙げられる。Ra1〜Ra3の脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数3〜16の脂環式炭化水素基である。
Examples of the alkyl group of R a1 to R a3 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group, an n-heptyl group, an n-octyl group and the like.
The alicyclic hydrocarbon groups of R a1 to R a3 may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include cycloalkyl groups such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group and the following groups (* indicates a bond). The alicyclic hydrocarbon groups of R a1 to R a3 are preferably alicyclic hydrocarbon groups having 3 to 16 carbon atoms.

アルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた基としては、例えば、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、メチルノルボルニル基、シクロヘキシルメチル基、アダマンチルメチル基、ノルボルニルエチル基等が挙げられる。
naは、好ましくは0である。
Examples of the group in which the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group are combined include a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a methylnorbornyl group, a cyclohexylmethyl group, an adamantylmethyl group, a norbornylethyl group and the like. Can be mentioned.
na is preferably 0.

a1及びRa2が互いに結合して2価の脂環式炭化水素基を形成する場合の−C(Ra1)(Ra2)(Ra3)としては、下記の基が挙げられる。2価の脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数3〜12である。*は−O−との結合手を表す。
Examples of -C (R a1 ) (R a2 ) (R a3 ) in the case where R a1 and R a2 are bonded to each other to form a divalent alicyclic hydrocarbon group include the following groups. The divalent alicyclic hydrocarbon group preferably has 3 to 12 carbon atoms. * Represents a bond with -O-.

式(1)で表される基としては、1,1−ジアルキルアルコキシカルボニル基(式(1)中においてRa1〜Ra3がアルキル基である基、好ましくはtert−ブトキシカルボニル基)、2−アルキルアダマンタン−2−イルオキシカルボニル基(式(1)中、Ra1、Ra2及びこれらが結合する炭素原子がアダマンチル基を形成し、Ra3がアルキル基である基)及び1−(アダマンタン−1−イル)−1−アルキルアルコキシカルボニル基(式(1)中、Ra1及びRa2がアルキル基であり、Ra3がアダマンチル基である基)等が挙げられる。 Examples of the group represented by the formula (1) include a 1,1-dialkylalkoxycarbonyl group (a group in which R a1 to R a3 are alkyl groups in the formula (1), preferably a tert-butoxycarbonyl group), 2-. Alkyl adamantan-2-yloxycarbonyl group (in formula (1), Ra 1 , Ra 2 and the carbon atom to which they are bonded form an adamantyl group, and Ra 3 is an alkyl group) and 1- (adamantan-). 1-yl) -1-alkylalkoxycarbonyl group (in the formula (1), R a1 and R a2 are alkyl groups and R a3 is an adamantyl group) and the like.

a1’〜Ra3’の炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組合せることにより形成される基等が挙げられる。
アルキル基及び脂環式炭化水素基は、上記と同様のものが挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、p−メチルフェニル基、p−tert−ブチルフェニル基、p−アダマンチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、2,6−ジエチルフェニル基、2−メチル−6−エチルフェニル基等のアリール基等が挙げられる。
a2’及びRa3’が互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びXとともに形成する2価の複素環基としては、下記の基が挙げられる。*は、結合手を表す。
Examples of the hydrocarbon group R a1 '~R a3', an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, and a group formed by combining an aromatic hydrocarbon group and thereof.
Examples of the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group include the same as above.
The aromatic hydrocarbon group includes a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a p-methylphenyl group, a p-tert-butylphenyl group, a p-adamantylphenyl group, a trill group, a xsilyl group, a cumenyl group, a mesityl group and a biphenyl group. Examples thereof include an aryl group such as a group, a phenanthryl group, a 2,6-diethylphenyl group and a 2-methyl-6-ethylphenyl group.
Examples of the divalent heterocyclic group formed by R a2'and R a3'bonding to each other together with the carbon atom and X to which they are bonded include the following groups. * Represents a bond.

a1’及びRa2’のうち、少なくとも1つは水素原子であることが好ましい。 Of R a1 'and R a2', it is preferable that at least one is a hydrogen atom.

式(2)で表される基の具体例としては、以下の基が挙げられる。*は結合手を表す。 Specific examples of the groups represented by the formula (2) include the following groups. * Represents a bond.

モノマー(a1)は、好ましくは、酸不安定基とエチレン性不飽和結合とを有するモノマー、より好ましくは酸不安定基を有する(メタ)アクリル系モノマーである。 The monomer (a1) is preferably a monomer having an acid unstable group and an ethylenically unsaturated bond, and more preferably a (meth) acrylic monomer having an acid unstable group.

酸不安定基を有する(メタ)アクリル系モノマーのうち、好ましくは、炭素数5〜20の脂環式炭化水素基を有するものが挙げられる。脂環式炭化水素基のような嵩高い構造を有するモノマー(a1)に由来する構造単位を有する樹脂(A)をレジスト組成物に使用すれば、レジストパターンの解像度を向上させることができる。 Among the (meth) acrylic monomers having an acid unstable group, those having an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms are preferable. If the resin (A) having a structural unit derived from the monomer (a1) having a bulky structure such as an alicyclic hydrocarbon group is used in the resist composition, the resolution of the resist pattern can be improved.

式(1)で表される基を有する(メタ)アクリル系モノマーに由来する構造単位として、好ましくは、式(a1−0)で表される構造単位、式(a1−1)で表される構造単位又は式(a1−2)で表される構造単位が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。本明細書では、式(a1−0)で表される構造単位、式(a1−1)で表される構造単位及び式(a1−2)で表される構造単位を、それぞれ構造単位(a1−0)、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−2)と、構造単位(a1−0)を誘導するモノマー、構造単位(a1−1)を誘導するモノマー及び構造単位(a1−2)を誘導するモノマーを、それぞれモノマー(a1−0)、モノマー(a1−1)及びモノマー(a1−2)という場合がある。 As the structural unit derived from the (meth) acrylic monomer having a group represented by the formula (1), the structural unit represented by the formula (a1-0) is preferably represented by the formula (a1-1). Examples thereof include a structural unit or a structural unit represented by the formula (a1-2). These may be used alone or in combination of two or more. In the present specification, the structural unit represented by the formula (a1-0), the structural unit represented by the formula (a1-1), and the structural unit represented by the formula (a1-2) are each structural unit (a1). −0), structural unit (a1-1) and structural unit (a1-2), monomer for inducing structural unit (a1-0), monomer for inducing structural unit (a1-1) and structural unit (a1-) The monomer that induces 2) may be referred to as a monomer (a1-0), a monomer (a1-1), and a monomer (a1-2), respectively.

[式(a1−0)中、
a01は、酸素原子又は*−O−(CHk01−CO−O−を表し、k01は1〜7の整数を表し、*はカルボニル基との結合手を表す。
a01は、水素原子又はメチル基を表す。
a02、Ra03及びRa04は、互いに独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せた基を表す。]
[In equation (a1-0),
L a01 represents an oxygen atom or * -O- (CH 2) k01 -CO -O- the stands, k01 represents an integer of 1-7, * represents a bond to a carbonyl group.
R a01 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R a02 , R a03 and R a04 independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a group combining these groups. ]

[式(a1−1)及び式(a1−2)中、
a1及びLa2は、互いに独立に、−O−又は*−O−(CHk1−CO−O−を表し、k1は1〜7の整数を表し、*は−CO−との結合手を表す。
a4及びRa5は、互いに独立に、水素原子又はメチル基を表す。
a6及びRa7は、互いに独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基を表す。
m1は、0〜14の整数を表す。
n1は、0〜10の整数を表す。
n1’は、0〜3の整数を表す。]
[In the formula (a1-1) and the formula (a1-2),
L a1 and L a2 independently represent -O- or * -O- (CH 2 ) k1- CO-O-, k1 represents an integer of 1 to 7, and * represents a combination with -CO-. Represent a hand.
R a4 and R a5 represent a hydrogen atom or a methyl group independently of each other.
R a6 and R a7 represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a group formed by combining them independently of each other.
m1 represents an integer from 0 to 14.
n1 represents an integer from 0 to 10.
n1'represents an integer from 0 to 3. ]

a01は、好ましくは酸素原子又は*−O−(CHk01−CO−O−であり(但し、k01は、好ましくは1〜4の整数、より好ましくは1である。)、より好ましくは酸素原子である。
a02、Ra03及びRa04のアルキル基、脂環式炭化水素基及びこれらを組合せた基としては、式(1)のRa1〜Ra3で挙げた基と同様の基が挙げられる。
a02、Ra03及びRa04のアルキル基の炭素数は、好ましくは6以下である。
a02、Ra03及びRa04の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは8以下であり、より好ましくは6以下である。
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた基は、これらアルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた合計炭素数が、18以下であることが好ましい。このような基としては、例えば、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、メチルノルボルニル基、メチルアダマンチル基、シクロヘキシルメチル基、メチルシクロへキシルメチル基、アダマンチルメチル基、ノルボルニルメチル基等が挙げられる。
a02及びRa03は、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
a04は、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数5〜12の脂環式炭化水素基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基である。
La01 is preferably an oxygen atom or * -O- (CH 2 ) k01- CO-O- (where k01 is preferably an integer of 1 to 4, more preferably 1), more preferably. Is an oxygen atom.
Examples of the alkyl group of R a02 , R a03 and R a04 , the alicyclic hydrocarbon group and the group in which these are combined include the same groups as those mentioned in Ra 1 to Ra 3 of the formula (1).
The number of carbon atoms of the alkyl groups of R a02 , R a03 and R a04 is preferably 6 or less.
The alicyclic hydrocarbon groups of R a02 , R a03 and R a04 have preferably 8 or less carbon atoms, more preferably 6 or less carbon atoms.
The group in which the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group are combined preferably has a total carbon number of 18 or less in combination of these alkyl groups and the alicyclic hydrocarbon group. Examples of such a group include a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a methylnorbornyl group, a methyladamantyl group, a cyclohexylmethyl group, a methylcyclohexylmethyl group, an adamantylmethyl group, a norbornylmethyl group and the like. Be done.
R a02 and R a03 are preferably alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably methyl groups or ethyl groups.
R a04 is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, and more preferably a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group or an adamantyl group.

a1及びLa2は、好ましくは−O−又は*−O−(CHk1’−CO−O−であり(但し、k1’は、1〜4の整数であり、好ましくは1である。)、より好ましくは−O−である。
a4及びRa5は、好ましくはメチル基である。
a6及びRa7のアルキル基、脂環式炭化水素基及びこれらを組合せた基としては、式(1)のRa1〜Ra3で挙げた基と同様の基が挙げられる。
a6及びRa7のアルキル基の炭素数は、好ましくは6以下である。
a6及びRa7の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは8以下であり、より好ましくは6以下である。
m1は、好ましくは0〜3の整数であり、より好ましくは0又は1である。
n1は、好ましくは0〜3の整数であり、より好ましくは0又は1である。
n1’は、好ましくは0又は1である。
La1 and La2 are preferably −O− or * −O− (CH 2 ) k1 ′ −CO−O− (where k1 ′ is an integer of 1 to 4, preferably 1). ), More preferably -O-.
R a4 and R a5 are preferably methyl groups.
Examples of the alkyl group of R a6 and R a7 , the alicyclic hydrocarbon group, and the group combining these groups include the same groups as those listed in R a1 to R a3 of the formula (1).
The alkyl group of R a6 and R a7 has preferably 6 or less carbon atoms.
The alicyclic hydrocarbon groups of R a6 and R a7 have preferably 8 or less carbon atoms, and more preferably 6 or less carbon atoms.
m1 is preferably an integer of 0 to 3, more preferably 0 or 1.
n1 is preferably an integer of 0 to 3, and more preferably 0 or 1.
n1'is preferably 0 or 1.

構造単位(a1−0)としては、例えば、式(a1−0−1)〜式(a1−0−12)のいずれかで表される構造単位が好ましく、式(a1−0−1)〜式(a1−0−10)のいずれかで表される構造単位がより好ましい。 As the structural unit (a1-0), for example, a structural unit represented by any of the formulas (a1-0-1) to (a1-0-12) is preferable, and the structural units (a1-0-1) to The structural unit represented by any of the formulas (a1-0-10) is more preferable.

上記の構造単位において、Ra01に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も、構造単位(a1−0)の具体例として挙げることができる。 In the above structural units, structural units in which a methyl group is replaced by a hydrogen atom corresponding to R a01 may be mentioned as specific examples of the structural units (a1-0).

モノマー(a1−1)としては、例えば、特開2010−204646号公報に記載されたモノマーが挙げられる。中でも、式(a1−1−1)〜式(a1−1−8)のいずれかで表されるモノマーが好ましく、式(a1−1−1)〜式(a1−1−4)のいずれかで表されるモノマーがより好ましい。 Examples of the monomer (a1-1) include the monomers described in JP-A-2010-204646. Among them, the monomers represented by any of the formulas (a1-1-1) to (a1-1-8) are preferable, and any one of the formulas (a1-1-1) to (a1-1-4) is preferable. The monomer represented by is more preferable.

モノマー(a1−2)としては、例えば、1−メチルシクロペンタン−1−イル(メタ)アクリレート、1−エチルシクロペンタン−1−イル(メタ)アクリレート、1−メチルシクロヘキサン−1−イル(メタ)アクリレート、1−エチルシクロヘキサン−1−イル(メタ)アクリレート、1−エチルシクロヘプタン−1−イル(メタ)アクリレート、1−エチルシクロオクタン−1−イル(メタ)アクリレート、1−イソプロピルシクロペンタン−1−イル(メタ)アクリレート、1−イソプロピルシクロヘキサン−1−イル(メタ)アクリレート等が挙げられる。式(a1−2−1)〜式(a1−2−12)のいずれかで表されるモノマーが好ましく、式(a1−2−3)、式(a1−2−4)、式(a1−2−9)及び式(a1−2−10)で表されるモノマーがより好ましく、式(a1−2−3)及び式(a1−2−9)で表されるモノマーがさらに好ましい。 Examples of the monomer (a1-2) include 1-methylcyclopentane-1-yl (meth) acrylate, 1-ethylcyclopentane-1-yl (meth) acrylate, and 1-methylcyclohexane-1-yl (meth). Acrylate, 1-ethylcyclohexane-1-yl (meth) acrylate, 1-ethylcycloheptan-1-yl (meth) acrylate, 1-ethylcyclooctane-1-yl (meth) acrylate, 1-isopropylcyclopentane-1 -Il (meth) acrylate, 1-isopropylcyclohexane-1-yl (meth) acrylate and the like can be mentioned. Monomers represented by any of formulas (a1-2-1) to (a1-2-12) are preferable, and formulas (a1-2-3), formulas (a1-2-4), and formulas (a1-) are preferable. The monomers represented by 2-9) and the formula (a1-2-10) are more preferable, and the monomers represented by the formulas (a1-2-3) and the formula (a1-2-9) are further preferable.

樹脂(A)が構造単位(a1−0)及び/又は構造単位(a1−1)及び/又は構造単位(a1−2)を含む場合、これらの合計含有率は、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、通常10〜95モル%であり、好ましくは15〜90モル%であり、より好ましくは20〜85モル%である。 When the resin (A) contains a structural unit (a1-0) and / or a structural unit (a1-1) and / or a structural unit (a1-2), the total content of these is the total structure of the resin (A). It is usually 10 to 95 mol%, preferably 15 to 90 mol%, and more preferably 20 to 85 mol% with respect to the total of units.

さらに、基(1)を有する構造単位(a1)としては、式(a1−3)で表される構造単位も挙げられる。式(a1−3)で表される構造単位を、構造単位(a1−3)という場合がある。また、構造単位(a1−3)を誘導するモノマーを、モノマー(a1−3)という場合がある。
[式(a1−3)中、
a9は、ヒドロキシ基を有していてもよい炭素数1〜3の脂肪族炭化水素基、カルボキシ基、シアノ基、水素原子又は−COORa13を表す。
a13は、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基、炭素数3〜20の脂環式炭化水素基、又はこれらを組合せることにより形成される基を表し、該脂肪族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
a10、Ra11及びRa12は、互いに独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜20の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基を表すか、Ra10及びRa11は互いに結合して、それらが結合する炭素原子とともに炭素数3〜20の2価の脂環式炭化水素基を形成する。]
Further, as the structural unit (a1) having the group (1), a structural unit represented by the formula (a1-3) can also be mentioned. The structural unit represented by the formula (a1-3) may be referred to as a structural unit (a1-3). Further, the monomer for inducing the structural unit (a1-3) may be referred to as a monomer (a1-3).
[In equation (a1-3),
R a9 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, which may have a hydroxy group, a carboxy group, a cyano group, a hydrogen atom, or -COOR a13 .
Ra 13 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, or a group formed by combining these groups, and the aliphatic hydrocarbon group and the group. The hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with a hydroxy group, and the aliphatic hydrocarbon group and −CH 2 − contained in the alicyclic hydrocarbon group are −O−. Alternatively, it may be replaced with −CO−.
R a10 , R a11 and R a12 independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, or a group formed by combining them. R a10 and R a11 bond with each other to form a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atom to which they are bonded. ]

ここで、−COORa13は、例えば、メトキシカルボニル基及びエトキシカルボニル基等のアルコキシ基にカルボニル基が結合した基が挙げられる。 Here, -COOR a13 includes, for example, a group in which a carbonyl group is bonded to an alkoxy group such as a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group.

a9のヒドロキシ基を有していてもよい脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ヒドロキシメチル基及び2−ヒドロキシエチル基等が挙げられる。
a13の炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、2−エチルヘキシル基、n−オクチル基等が挙げられる。
a13の炭素数3〜20の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロプロピル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、1−アダマンチル−1−メチルエチル基、2−オキソ−オキソラン−3−イル基及び2−オキソ−オキソラン−4−イル基等が挙げられる。
a10〜Ra12のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、2−エチルヘキシル基、n−オクチル基等が挙げられる。
a10〜Ra12の脂環式炭化水素基は、単環式又は多環式のいずれでもよく、単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘプチル基、シクロデシル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、2−アルキルアダマンタン−2−イル基、1−(アダマンタン−1−イル)アルカン−1−イル基、ノルボルニル基、メチルノルボルニル基及びイソボルニル基等が挙げられる。
a10及びRa11が互いに結合して、それらが結合している炭素原子とともに2価の脂環式炭化水素基を形成する場合の−C(Ra10)(Ra11)(Ra12)としては、下記の基が好ましい。
Examples of the aliphatic hydrocarbon group which may have a hydroxy group of R a9 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a hydroxymethyl group and a 2-hydroxyethyl group.
Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms of R a13 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group and n. -Hexyl group, n-heptyl group, 2-ethylhexyl group, n-octyl group and the like can be mentioned.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms of Ra 13 include a cyclopentyl group, a cyclopropyl group, an adamantyl group, an adamantyl methyl group, a 1-adamantyl-1-methylethyl group, and a 2-oxo-oxolane-3-3. Examples thereof include an yl group and a 2-oxo-oxolan-4-yl group.
Alkyl groups of R a10 to R a12 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, and the like. Examples thereof include an n-heptyl group, a 2-ethylhexyl group and an n-octyl group.
The alicyclic hydrocarbon groups of R a10 to R a12 may be monocyclic or polycyclic, and the monocyclic alicyclic hydrocarbon groups include, for example, a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, and a cyclopentyl group. , Cycloalkyl groups such as cyclohexyl group, methylcyclohexyl group, dimethylcyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, cycloheptyl group, cyclodecyl group and the like. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a 2-alkyladamantan-2-yl group, a 1- (adamantan-1-yl) alkane-1-yl group, and a norbornyl group. Examples thereof include a group, a methylnorbornyl group and an isobornyl group.
As -C (R a10 ) (R a11 ) (R a12 ) when R a10 and R a11 are bonded to each other to form a divalent alicyclic hydrocarbon group together with the carbon atom to which they are bonded. , The following groups are preferred.

モノマー(a1−3)は、具体的には、5−ノルボルネン−2−カルボン酸−tert−ブチル、5−ノルボルネン−2−カルボン酸1−シクロヘキシル−1−メチルエチル、5−ノルボルネン−2−カルボン酸1−メチルシクロヘキシル、5−ノルボルネン−2−カルボン酸2−メチル−2−アダマンチル、5−ノルボルネン−2−カルボン酸2−エチル−2−アダマンチル、5−ノルボルネン−2−カルボン酸1−(4−メチルシクロヘキシル)−1−メチルエチル、5−ノルボルネン−2−カルボン酸1−(4−ヒドロキシシクロヘキシル)−1−メチルエチル、5−ノルボルネン−2−カルボン酸1−メチル−1−(4−オキソシクロヘキシル)エチル及び5−ノルボルネン−2−カルボン酸1−(1−アダマンチル)−1−メチルエチル等が挙げられる。 Specifically, the monomer (a1-3) is 5-norbornene-2-carboxylic acid-tert-butyl, 5-norbornene-2-carboxylic acid 1-cyclohexyl-1-methylethyl, 5-norbornene-2-carboxylic acid. 1-Methylcyclohexyl acid, 2-methyl-2-adamantyl 5-norbornen-2-carboxylic acid, 2-ethyl-2-adamantyl 5-norbornen-2-carboxylic acid, 1- (4) 5-norbornen-2-carboxylic acid -Methylcyclohexyl) -1-methylethyl, 5-norbornen-2-carboxylic acid 1- (4-hydroxycyclohexyl) -1-methylethyl, 5-norbornen-2-carboxylic acid 1-methyl-1- (4-oxo) Cyclohexyl) ethyl and 5-norbornen-2-carboxylic acid 1- (1-adamantyl) -1-methylethyl and the like can be mentioned.

構造単位(a1−3)を含む樹脂(A)は、立体的に嵩高い構造単位が含まれることになるため、このような樹脂(A)を含む本発明のレジスト組成物からは、より高解像度でレジストパターンを得ることができる。また、主鎖に剛直なノルボルナン環が導入されるため、得られるレジストパターンは、ドライエッチング耐性に優れる傾向がある。 Since the resin (A) containing the structural unit (a1-3) contains a three-dimensionally bulky structural unit, it is higher than the resist composition of the present invention containing such a resin (A). The resist pattern can be obtained at the resolution. Further, since a rigid norbornane ring is introduced into the main chain, the obtained resist pattern tends to have excellent dry etching resistance.

樹脂(A)が構造単位(a1−3)を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、10〜95モル%であることが好ましく、15〜90モル%であることがより好ましく、20〜85モル%であることがさらに好ましい。 When the resin (A) contains structural units (a1-3), the content thereof is preferably 10 to 95 mol% with respect to the total of all structural units of the resin (A), and 15 to 90 mol%. It is more preferably%, and further preferably 20 to 85 mol%.

基(2)で表される基を有する構造単位(a1)としては、式(a1−4)で表される構造単位(以下、「構造単位(a1−4)」という場合がある。)が挙げられる。
[式(a1−4)中、
a32は、水素原子、ハロゲン原子、又は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。
a33は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜4のアシル基、炭素数2〜4のアシルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
laは0〜4の整数を表す。laが2以上である場合、複数のRa33は互いに同一であっても異なってもよい。
a34及びRa35は、互いに独立に、水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を表し、Ra36は、炭素数1〜20の炭化水素基を表すか、Ra35及びRa36は互いに結合してそれらが結合するC−Oとともに炭素数3〜20の2価の複素環基を形成し、該炭化水素基及び該2価の複素環基に含まれる−CH−は、−O−又は−S−で置き換わってもよい。]
As the structural unit (a1) having a group represented by the group (2), the structural unit represented by the formula (a1-4) (hereinafter, may be referred to as “structural unit (a1-4)”). Can be mentioned.
[In equation (a1-4),
Ra 32 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
R a33 is a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an acyl group having 2 to 4 carbon atoms, an acyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, an acryloyloxy group or the like. Represents a methacryloyloxy group.
la represents an integer from 0 to 4. When la is 2 or more, the plurality of Ra 33s may be the same or different from each other.
R a34 and R a35 are independently of each other, represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, R a36 may represent a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, R a35 and R a36 are each A divalent heterocyclic group having 3 to 20 carbon atoms is formed together with the CO to which they are bonded, and the hydrocarbon group and -CH 2- contained in the divalent heterocyclic group are -O. It may be replaced by − or −S−. ]

a32及びRa33のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられる。該アルキル基は、炭素数1〜4のアルキル基であることが好ましく、メチル基又はエチル基であることがより好ましく、メチル基であることがさらに好ましい。
a32及びRa33のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等が挙げられる。
ハロゲン原子を有してもよいアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、1,1,1−トリフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、1,1,1,2,2,3,3,4,4−ノナフルオロペンチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基及びヘキシルオキシ基等が挙げられる。なかでも、炭素数1〜4のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基が挙げられる。
アシルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
a34及びRa35の炭化水素基としては、式(2)のRa1’及びRa2’と同様の基が挙げられる。
a36としては、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基又はこれらが組合せることにより形成される基が挙げられる。
Examples of the alkyl group of R a32 and R a33 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a pentyl group and a hexyl group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group, and even more preferably a methyl group.
Examples of the halogen atom of R a32 and R a33 include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom.
Examples of the alkyl group that may have a halogen atom include a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a methyl group, a perfluoroethyl group, a 1,1,1-trifluoroethyl group, and 1,1,2,2-tetrafluoro. Ethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 1,1,1,2,2-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluoro Butyl group, butyl group, perfluoropentyl group, 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoropentyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-perfluorohexyl group, etc. Can be mentioned.
Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group and a hexyloxy group. Of these, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, a methoxy group or an ethoxy group is more preferable, and a methoxy group is even more preferable.
Examples of the acyl group include an acetyl group, a propionyl group and a butyryl group.
Examples of the acyloxy group include an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group and the like.
Examples of the hydrocarbon group R a34 and R a35, include the same groups as R a1 'and R a2' of formula (2).
R a36 includes an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group formed by combining these groups. Can be mentioned.

式(a1−4)において、Ra32は、水素原子であることが好ましい。
a33は、炭素数1〜4のアルコキシ基であることが好ましく、メトキシ基及びエトキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることがさらに好ましい。
laは、0又は1であることが好ましく、0であることがより好ましい。
a34は、好ましくは水素原子である。
a35は、好ましくは炭素数1〜12の炭化水素基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
a36の炭化水素基としては、好ましくは炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基が挙げられ、より好ましくは炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式脂肪族炭化水素基又は炭素数7〜18のアラルキル基が挙げられる。
a36におけるアルキル基及び前記脂環式炭化水素基は、無置換であることが好ましい。
a36における芳香族炭化水素基が置換基を有する場合、その置換基としては炭素数6〜10のアリールオキシ基が好ましい。
In the formula (a1-4), Ra 32 is preferably a hydrogen atom.
R a33 is preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methoxy group and an ethoxy group, and even more preferably a methoxy group.
la is preferably 0 or 1, more preferably 0.
Ra34 is preferably a hydrogen atom.
R a35 is preferably a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and more preferably a methyl group or an ethyl group.
The hydrocarbon group of R a36 is preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a combination thereof. Examples thereof include an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic aliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, and an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms.
The alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group in Ra36 are preferably unsubstituted.
When the aromatic hydrocarbon group in Ra36 has a substituent, an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms is preferable as the substituent.

構造単位(a1−4)を導くモノマーとしては、例えば、特開2010−204646号公報に記載されたモノマーが挙げられる。中でも、式(a1−4−1)〜式(a1−4−8)でそれぞれ表されるモノマーが好ましく、式(a1−4−1)〜式(a1−4−5)及び式(a1−4−8)でそれぞれ表されるモノマーがより好ましい。 Examples of the monomer for deriving the structural unit (a1-4) include the monomers described in JP-A-2010-204646. Among them, the monomers represented by the formulas (a1-4-1) to (a1-4-8) are preferable, and the formulas (a1-4-1) to (a1-4-5) and the formula (a1-) are preferable. The monomers represented by 4-8) are more preferable.

樹脂(A)が、構造単位(a1−4)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、10〜95モル%であることが好ましく、15〜90モル%であることがより好ましく、20〜85モル%であることがさらに好ましい。 When the resin (A) has a structural unit (a1-4), the content thereof is preferably 10 to 95 mol% with respect to the total of all the structural units of the resin (A), 15 to 90. It is more preferably mol%, and even more preferably 20-85 mol%.

式(2)で表される基を有する(メタ)アクリル系モノマーに由来する構造単位としては、式(a1−5)で表される構造単位(以下「構造単位(a1−5)」という場合がある)も挙げられる。
[式(a1−5)中、
a8は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
a1は、単結合又は*−(CHh3−CO−L54−を表し、h3は1〜4の整数を表し、*は、L51との結合手を表す。
51、L52、L53及びL54は、互いに独立に、−O−又は−S−を表す。
s1は、1〜3の整数を表す。
s1’は、0〜3の整数を表す。]
The structural unit derived from the (meth) acrylic monomer having a group represented by the formula (2) is a structural unit represented by the formula (a1-5) (hereinafter referred to as “structural unit (a1-5)”). There is).
[In equation (a1-5),
R a8 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a hydrogen atom or a halogen atom which may have a halogen atom.
Z a1 represents a single bond or * - (CH 2) h3 -CO -L 54 - represents, h3 represents an integer of 1 to 4, * represents a bond to L 51.
L 51 , L 52 , L 53 and L 54 independently represent −O− or −S−.
s1 represents an integer of 1 to 3.
s1'represents an integer from 0 to 3. ]

ハロゲン原子としては、フッ素原子及び塩素原子が挙げられ、好ましくはフッ素原子が挙げられる。
ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、フルオロメチル基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
式(a1−5)においては、Ra8は、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基であることが好ましい。
51は、酸素原子であることが好ましい。
52及びL53のうち、一方が−O−であり、他方が−S−であることが好ましい。
s1は、1であることが好ましい。
s1’は、0〜2の整数であることが好ましい。
a1は、単結合又は*−CH2−CO−O−であることが好ましい。
Examples of the halogen atom include a fluorine atom and a chlorine atom, and preferably a fluorine atom.
Alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, fluoromethyl group and trifluoromethyl. Group is mentioned.
In the formula (a1-5), R a8 is preferably a hydrogen atom, a methyl group or a trifluoromethyl group.
L 51 is preferably an oxygen atom.
Of L 52 and L 53 , it is preferable that one is −O− and the other is −S−.
s1 is preferably 1.
s1'is preferably an integer of 0-2.
Z a1 is preferably a single bond or * -CH 2- CO-O-.

構造単位(a1−5)を導くモノマーとしては、例えば、特開2010−61117号公報に記載されたモノマーが挙げられる。中でも、式(a1−5−1)〜式(a1−5−4)でそれぞれ表されるモノマーが好ましく、式(a1−5−1)又は式(a1−5−2)で表されるモノマーがより好ましい。 Examples of the monomer for deriving the structural unit (a1-5) include the monomers described in JP-A-2010-61117. Among them, the monomers represented by the formulas (a1-5-1) to (a1-5-2) are preferable, and the monomers represented by the formula (a1-5-1) or the formula (a1-5-2) are preferable. Is more preferable.

樹脂(A)が、構造単位(a1−5)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、1〜50モル%であることが好ましく、3〜45モル%であることがより好ましく、5〜40モル%であることがさらに好ましい。 When the resin (A) has a structural unit (a1-5), the content thereof is preferably 1 to 50 mol% with respect to the total of all the structural units of the resin (A), and 3 to 45. It is more preferably mol%, and even more preferably 5-40 mol%.

樹脂(A)中の酸不安定基を有する構造単位(a)としては、構造単位(a1−0)、構造単位(a1−1)、構造単位(a1−2)及び構造単位(a1−5)からなる群から選ばれる少なくとも一種以上が好ましく、少なくとも二種以上がより好ましく、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−2)の組合せ、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−5)の組合せ、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−0)の組合せ、構造単位(a1−2)及び構造単位(a1−0)の組合せ、構造単位(a1−5)及び構造単位(a1−0)の組合せ、構造単位(a1−0)、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−2)の組合せ、構造単位(a1−0)、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−5)の組合せがさらに好ましく、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−2)の組合せ、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−5)の組合せがさらにより好ましい。
構造単位(a1)は、好ましくは、構造単位(a1−1)を含む。
The structural unit (a) having an acid unstable group in the resin (A) includes a structural unit (a1-0), a structural unit (a1-1), a structural unit (a1-2), and a structural unit (a1-5). At least one or more selected from the group consisting of) is preferable, at least two or more are more preferable, and a combination of structural units (a1-1) and structural units (a1-2), structural units (a1-1) and structural units (a1-1) Combination of a1-5), combination of structural unit (a1-1) and structural unit (a1-0), combination of structural unit (a1-2) and structural unit (a1-0), structural unit (a1-5) And a combination of structural units (a1-0), structural units (a1-0), structural units (a1-1) and structural units (a1-2), structural units (a1-0), structural units (a1-). The combination of 1) and the structural unit (a1-5) is more preferable, and the combination of the structural unit (a1-1) and the structural unit (a1-2), the structural unit (a1-1) and the structural unit (a1-5) The combination is even more preferred.
The structural unit (a1) preferably includes the structural unit (a1-1).

〈構造単位(s)〉
構造単位(s)は、酸不安定基を有さないモノマー(以下「モノマー(s)」という場合がある)から導かれる。構造単位(s)を導くモノマーは、レジスト分野で公知の酸不安定基を有さないモノマーを使用できる。
構造単位(s)としては、ヒドロキシ基又はラクトン環を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位が好ましい。ヒドロキシ基を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位(以下「構造単位(a2)」という場合がある)及び/又はラクトン環を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位(以下「構造単位(a3)」という場合がある)を有する樹脂を本発明のレジスト組成物に使用すれば、レジストパターンの解像度及び基板との密着性を向上させることができる。
<Structural unit (s)>
The structural unit (s) is derived from a monomer having no acid-labile group (hereinafter, may be referred to as “monomer (s)”). As the monomer for deriving the structural unit (s), a monomer having no acid unstable group known in the field of resist can be used.
As the structural unit (s), a structural unit having a hydroxy group or a lactone ring and having no acid instability group is preferable. A structure having a hydroxy group and no acid instability group (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a2)") and / or a lactone ring and no acid instability group If a resin having a unit (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a3)") is used in the resist composition of the present invention, the resolution of the resist pattern and the adhesion to the substrate can be improved.

〈構造単位(a2)〉
構造単位(a2)が有するヒドロキシ基は、アルコール性ヒドロキシ基でも、フェノール性ヒドロキシ基でもよい。
本発明のレジスト組成物からレジストパターンを製造するとき、露光光源としてKrFエキシマレーザ(248nm)、電子線又はEUV(超紫外光)等の高エネルギー線を用いる場合には、構造単位(a2)として、フェノール性ヒドロキシ基を有する構造単位(a2)を用いることが好ましい。また、ArFエキシマレーザ(193nm)等を用いる場合には、構造単位(a2)として、アルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位(a2)が好ましく、構造単位(a2−1)を用いることがより好ましい。構造単位(a2)としては、1種を単独で含んでいてもよく、2種以上を含んでいてもよい。
<Structural unit (a2)>
The hydroxy group contained in the structural unit (a2) may be an alcoholic hydroxy group or a phenolic hydroxy group.
When a resist pattern is produced from the resist composition of the present invention, when a high-energy ray such as a KrF excimer laser (248 nm), an electron beam or EUV (ultraviolet light) is used as an exposure light source, the structural unit (a2) is used. , It is preferable to use the structural unit (a2) having a phenolic hydroxy group. When an ArF excimer laser (193 nm) or the like is used, the structural unit (a2) is preferably a structural unit (a2) having an alcoholic hydroxy group, and more preferably a structural unit (a2-1). As the structural unit (a2), one type may be contained alone, or two or more types may be included.

フェノール性ヒドロキシ基有する構造単位(a2)としては、式(a2−0)で表される構造単位(以下「構造単位(a2−0)」という場合がある。)が挙げられる。
[式(a2−0)中、
a30は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。
a31は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜4のアシル基、炭素数2〜4のアシルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
maは0〜4の整数を表す。maが2以上の整数である場合、複数のRa31は互いに同一であっても異なってもよい。]
Examples of the structural unit (a2) having a phenolic hydroxy group include a structural unit represented by the formula (a2-0) (hereinafter, may be referred to as “structural unit (a2-0)”).
[In equation (a2-0),
R a30 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a hydrogen atom, a halogen atom or a halogen atom.
R a31 is a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an acyl group having 2 to 4 carbon atoms, an acyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, an acryloyloxy group or Represents a methacryloyloxy group.
ma represents an integer from 0 to 4. When ma is an integer of 2 or more, the plurality of Ra 31s may be the same or different from each other. ]

a30のハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、1,1,1−トリフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、1,1,1,2,2,3,3,4,4−ノナフルオロペンチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
a30は、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基であることが好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基であることがより好ましく、水素原子又はメチル基であることがさらに好ましい。
a31のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基及びヘキシルオキシ基等が挙げられる。なかでも、炭素数1〜4のアルコキシ基であることが好ましく、メトキシ基又はエトキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることがさらに好ましい。
アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基が挙げられる。
アシルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
maは0、1又は2であることが好ましく、0又は1であることがより好ましく、0であることがさらに好ましい。
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom of R a30 include a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a methyl group, a perfluoroethyl group, a 1,1,1-trifluoroethyl group, and 1 , 1,2,2-tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 1,1,1,2,2-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3 , 3,4,4-octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoropentyl group, n-pentyl group, n-hexyl Examples include a group and an n-perfluorohexyl group.
R a30 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and further preferably a hydrogen atom or a methyl group.
Examples of the alkoxy group of Ra31 include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group and a hexyloxy group. Among them, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, a methoxy group or an ethoxy group is more preferable, and a methoxy group is further preferable.
Examples of the acyl group include an acetyl group, a propionyl group and a butyryl group.
Examples of the acyloxy group include an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group and the like.
ma is preferably 0, 1 or 2, more preferably 0 or 1, and even more preferably 0.

構造単位(a2−0)を誘導するモノマーとしては、例えば、特開2010−204634号公報に記載されているモノマーが挙げられる。
中でも、構造単位(a2−0)としては、式(a2−0−1)、式(a2−0−2)、式(a2−0−3)及び式(a2−0−4)でそれぞれ表されるものが好ましく、式(a2−0−1)又は式(a2−0−2)で表される構造単位がより好ましい。
Examples of the monomer for inducing the structural unit (a2-0) include the monomers described in JP-A-2010-204634.
Among them, the structural unit (a2-0) is represented by the formula (a2-0-1), the formula (a2-0-2), the formula (a2-0-3) and the formula (a2-0-4), respectively. The structural unit represented by the formula (a2-0-1) or the formula (a2-0-2) is more preferable.

構造単位(a2−0)を含む樹脂(A)は、構造単位(a2−0)を誘導するモノマーが有するフェノール性ヒドロキシ基を保護基で保護したモノマーを用いて重合反応を行い、その後脱保護処理することにより製造できる。ただし、脱保護処理を行う際には、構造単位(a1)が有する酸不安定基を著しく損なわないようにして行う必要がある。このような保護基としては、アセチル基等が挙げられる。 The resin (A) containing the structural unit (a2-0) undergoes a polymerization reaction using a monomer in which the phenolic hydroxy group of the monomer inducing the structural unit (a2-0) is protected with a protecting group, and then deprotected. It can be manufactured by processing. However, when performing the deprotection treatment, it is necessary to carry out the deprotection treatment so as not to significantly impair the acid unstable group of the structural unit (a1). Examples of such a protecting group include an acetyl group and the like.

樹脂(A)が、フェノール性ヒドロキシ基を有する構造単位(a2−0)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、5〜95モル%であることが好ましく、10〜80モル%であることがより好ましく、15〜80モル%であることがさらに好ましい。 When the resin (A) has a structural unit (a2-0) having a phenolic hydroxy group, the content thereof shall be 5 to 95 mol% with respect to the total of all the structural units of the resin (A). , More preferably 10 to 80 mol%, and even more preferably 15 to 80 mol%.

アルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位(a2)としては、式(a2−1)で表される構造単位(以下「構造単位(a2−1)」という場合がある。)が挙げられる。
[式(a2−1)中、
a3は、−O−又は*−O−(CHk2−CO−O−を表し、
k2は1〜7の整数を表す。*は−CO−との結合手を表す。
a14は、水素原子又はメチル基を表す。
a15及びRa16は、互いに独立に、水素原子、メチル基又はヒドロキシ基を表す。
o1は、0〜10の整数を表す。]
Examples of the structural unit (a2) having an alcoholic hydroxy group include a structural unit represented by the formula (a2-1) (hereinafter, may be referred to as “structural unit (a2-1)”).
[In equation (a2-1),
La3 represents −O− or * −O− (CH 2 ) k2 −CO−O−.
k2 represents an integer of 1-7. * Represents a bond with -CO-.
R a14 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R a15 and R a16 represent a hydrogen atom, a methyl group or a hydroxy group independently of each other.
o1 represents an integer from 0 to 10. ]

式(a2−1)では、La3は、好ましくは−O−、−O−(CHf1−CO−O−であり(前記f1は、1〜4の整数である)、より好ましくは−O−である。
a14は、好ましくはメチル基である。
a15は、好ましくは水素原子である。
a16は、好ましくは水素原子又はヒドロキシ基である。
o1は、好ましくは0〜3の整数であり、より好ましくは0又は1である。
In the formula (a2-1), L a3 is preferably -O -, - O- (CH 2 ) f1 -CO-O- and is (wherein f1 is an integer from 1 to 4), more preferably -O-.
R a14 is preferably a methyl group.
R a15 is preferably a hydrogen atom.
R a16 is preferably a hydrogen atom or a hydroxy group.
o1 is preferably an integer of 0 to 3, and more preferably 0 or 1.

構造単位(a2−1)を誘導するモノマーとしては、例えば、特開2010−204646号公報に記載されたモノマーが挙げられる。式(a2−1−1)〜式(a2−1−6)のいずれかで表されるモノマーが好ましく、式(a2−1−1)〜式(a2−1−4)のいずれかで表されるモノマーがより好ましく、式(a2−1−1)又は式(a2−1−3)で表されるモノマーがさらに好ましい。 Examples of the monomer for inducing the structural unit (a2-1) include the monomers described in JP-A-2010-204646. The monomer represented by any of the formulas (a2-1-1) to (a2-1-6) is preferable, and the monomer represented by any of the formulas (a2-1-1) to (a2-1-4) is represented. The monomer represented by the formula (a2-1-1) or the formula (a2-1-3) is more preferable.

樹脂(A)が構造単位(a2−1)を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、通常1〜45モル%であり、好ましくは1〜40モル%であり、より好ましくは1〜35モル%であり、さらに好ましくは2〜20モル%である。 When the resin (A) contains the structural unit (a2-1), the content thereof is usually 1 to 45 mol%, preferably 1 to 40 mol%, based on the total of all the structural units of the resin (A). %, More preferably 1 to 35 mol%, still more preferably 2 to 20 mol%.

〈構造単位(a3)〉
構造単位(a3)が有するラクトン環は、β−プロピオラクトン環、γ−ブチロラクトン環、δ−バレロラクトン環のような単環でもよく、単環式のラクトン環と他の環との縮合環でもよい。好ましくは、γ−ブチロラクトン環、アダマンタンラクトン環、又は、γ−ブチロラクトン環構造を含む橋かけ環が挙げられる。
<Structural unit (a3)>
The lactone ring of the structural unit (a3) may be a monocyclic ring such as β-propiolactone ring, γ-butyrolactone ring, or δ-valerolactone ring, or a fused ring of a monocyclic lactone ring and another ring. But it may be. Preferably, a γ-butyrolactone ring, an adamantane lactone ring, or a bridged ring containing a γ-butyrolactone ring structure can be mentioned.

構造単位(a3)は、好ましくは、式(a3−1)、式(a3−2)、式(a3−3)又は式(a3−4)で表される構造単位である。これらの1種を単独で含有してもよく、2種以上を含有してもよい。
[式(a3−1)中、
a4は、−O−又は−O−(CHk3−CO−O−(k3は1〜7の整数を表す。)で表される基を表す。*はカルボニル基との結合手を表す。
a18は、水素原子又はメチル基を表す。
a21は炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基を表す。
p1は0〜5の整数を表す。p1が2以上のとき、複数のRa21は互いに同一であっても異なってもよい。
式(a3−2)中、
a5は、−O−又は−O−(CHk3−CO−O−(k3は1〜7の整数を表す。)で表される基を表す。*はカルボニル基との結合手を表す。
a19は、水素原子又はメチル基を表す。
a22は、カルボキシ基、シアノ基又は炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基を表す。
q1は、0〜3の整数を表す。q1が2以上のとき、複数のRa22は互いに同一でも異なってもよい。
式(a3−3)中、
a6は、−O−又は−O−(CHk3−CO−O−(k3は1〜7の整数を表す。)で表される基を表す。*はカルボニル基との結合手を表す。
a20は、水素原子又はメチル基を表す。
a23は、カルボキシ基、シアノ基又は炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基を表す。
r1は、0〜3の整数を表す。r1が2以上のとき、複数のRa23は互いに同一でも異なってもよい。
式(a3−4)中、
a24は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
a7は、単結合、 −O−、 −O−La8−O−、 −O−La8−CO−O−、 −O−La8−CO−O−La9−CO−O−又は −O−La8−O−CO−La9−O−を表す。
*はカルボニル基との結合手を表す。
a8及びLa9は、互いに独立に、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。]
The structural unit (a3) is preferably a structural unit represented by the formula (a3-1), the formula (a3-2), the formula (a3-3) or the formula (a3-4). One of these may be contained alone, or two or more thereof may be contained.
[In equation (a3-1),
La4 represents a group represented by −O− or * −O− (CH 2 ) k3 −CO−O− (k3 represents an integer of 1 to 7). * Represents a bond with a carbonyl group.
R a18 represents a hydrogen atom or a methyl group.
Ra 21 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
p1 represents an integer from 0 to 5. When p1 is 2 or more, the plurality of Ra 21s may be the same or different from each other.
In equation (a3-2),
La5 represents a group represented by −O− or * −O− (CH 2 ) k3 −CO−O− (k3 represents an integer of 1 to 7). * Represents a bond with a carbonyl group.
Ra 19 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R a22 represents a carboxy group, a cyano group, or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
q1 represents an integer from 0 to 3. When q1 is 2 or more, the plurality of Ra 22s may be the same or different from each other.
In formula (a3-3),
La6 represents a group represented by −O− or * −O− (CH 2 ) k3 −CO−O− (k3 represents an integer of 1 to 7). * Represents a bond with a carbonyl group.
R a20 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R a23 represents a carboxy group, a cyano group, or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
r1 represents an integer from 0 to 3. When r1 is 2 or more, the plurality of Ra 23s may be the same or different from each other.
In formula (a3-4),
R a24 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a hydrogen atom or a halogen atom which may have a halogen atom.
L a7 is a single bond, * -O-, * -O- L a8- O-, * -O- L a8- CO-O-, * -O- L a8- CO-O-L a9- CO- Represents O- or * -O- L a8- O-CO-L a9- O-.
* Represents a bond with a carbonyl group.
La8 and La9 represent alkanediyl groups having 1 to 6 carbon atoms independently of each other. ]

a21、Ra22及びRa23の脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基及びtert−ブチル基等のアルキル基が挙げられる。
a24のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
a24のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基及びn−ヘキシル基等が挙げられ、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基が挙げられ、より好ましくはメチル基又はエチル基が挙げられる。
a24のハロゲン原子を有するアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec−ブチル基、ペルフルオロtert−ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基、トリヨードメチル基等が挙げられる。
The aliphatic hydrocarbon groups of R a21 , R a22 and R a23 include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group and tert-butyl group. Can be mentioned.
Examples of the halogen atom of Ra24 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Examples of the alkyl group of R a24 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group and an n-hexyl group. , Preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably a methyl group or an ethyl group.
Alkyl groups having a halogen atom of R a24 include trifluoromethyl group, perfluoroethyl group, perfluoropropyl group, perfluoroisopropyl group, perfluorobutyl group, perfluorosec-butyl group, perfluorotert-butyl group, perfluoropentyl group and perfluoro. Examples thereof include a hexyl group, a trichloromethyl group, a tribromomethyl group, and a triiodomethyl group.

a8及びLa9のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基及び2−メチルブタン−1,4−ジイル基等が挙げられる。 The alkanediyl groups of La8 and La9 include methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5. -Diyl group, hexane-1,6-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1, Examples thereof include 4-diyl group and 2-methylbutane-1,4-diyl group.

式(a3−1)〜式(a3−3)において、La4〜La6は、互いに独立に、好ましくは−O−又は、k3が1〜4の整数である*−O−(CHk3−CO−O−で表される基、より好ましくは−O−及び、*−O−CH−CO−O−、さらに好ましくは酸素原子である。
a18〜Ra21は、好ましくはメチル基である。
a22及びRa23は、互いに独立に、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
p1、q1及びr1は、互いに独立に、好ましくは0〜2の整数であり、より好ましくは0又は1である。
In the formula (a3-1) ~ formula (a3-3), L a4 ~L a6, independently of one another, preferably -O- or, k3 is an integer of from 1 to 4 * -O- (CH 2) A group represented by k3- CO-O-, more preferably -O- and * -O-CH 2- CO-O-, still more preferably an oxygen atom.
R a18 to R a21 are preferably methyl groups.
R a22 and R a23 are independent of each other, preferably a carboxy group, a cyano group or a methyl group.
p1, q1 and r1 are independent of each other, preferably an integer of 0 to 2, and more preferably 0 or 1.

式(a3−4)において、
a24は、好ましくは水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基又はエチル基であり、さらに好ましくは水素原子又はメチル基である。
a7は、好ましくは単結合 −O−又は −O−La8−CO−O−であり、より好ましくは、単結合、 −O−、 −O−CH−CO−O−又は −O−C−CO−O−である。
In formula (a3-4)
Ra24 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and further preferably a hydrogen atom or a methyl group.
L a7 is preferably a single bond , * -O- or * -O- LA8- CO-O-, and more preferably a single bond, * -O-, * -O- CH 2- CO-. O- or * -O- C 2 H 4- CO-O-.

構造単位(a3)を導くモノマーとしては、特開2010−204646号公報に記載されたモノマー、特開2000−122294号公報に記載されたモノマー、特開2012−41274号公報に記載されたモノマーが挙げられる。構造単位(a3)としては、式(a3−1−1)〜式(a3−1−4)、式(a3−2−1)〜式(a3−2−4)、式(a3−3−1)〜式(a3−3−4)及び式(a3−4−1)〜式(a3−4−12)のいずれかで表される構造単位が好ましく、式(a3−1−1)、式(a3−1−2)、式(a3−2−3)〜式(a3−2−4)及び式(a3−4−1)〜式(a3−4−12)のいずれかで表される構造単位がより好ましく、式(a3−4−1)〜式(a3−4−12)のいずれかで表される構造単位がさらに好ましく、式(a3−4−1)〜式(a3−4−6)のいずれかで表される構造単位がさらにより好ましい。 Examples of the monomer for deriving the structural unit (a3) include the monomer described in JP-A-2010-204646, the monomer described in JP-A-2000-122294, and the monomer described in JP-A-2012-41274. Can be mentioned. The structural unit (a3) includes equations (a3-1-1) to (a3-1-4), equations (a3-2-1) to (a3-2-4), and equations (a3-3-3). 1) The structural unit represented by any of the formulas (a3-3-4) and the formulas (a3-4-1) to (a3-4-12) is preferable, and the formula (a3-1-1), It is represented by any of the formulas (a3-1-2), formulas (a3-2-3) to formulas (a3-2-4) and formulas (a3-4-1) to formulas (a3-4-12). The structural unit represented by any of the formulas (a3-4-1) to (a3-4-12) is more preferable, and the structural unit represented by any of the formulas (a3-4-1) to (a3-4-1) is more preferable. The structural unit represented by any of 4-6) is even more preferable.

以下の構造単位においては、Ra24に相当するメチル基が水素原子に置き換わった化合物も、構造単位(a3−4)の具体例として挙げることができる。 In the following structural units, compounds methyl group corresponding to R a24 is replaced by a hydrogen atom, it may be mentioned as specific examples of the structural unit (a3-4).

樹脂(A)が構造単位(a3)を含む場合、その合計含有率は、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、通常5〜70モル%であり、好ましくは10〜65モル%であり、より好ましくは10〜60モル%である。
また、構造単位(a3−1)、構造単位(a3−2)、構造単位(a3−3)及び構造単位(a3−4)の含有率は、互いに独立に、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、5〜60モル%であることが好ましく、5〜50モル%であることがより好ましく、10〜50モル%であることがさらに好ましい。
When the resin (A) contains the structural unit (a3), the total content thereof is usually 5 to 70 mol%, preferably 10 to 65 mol%, based on the total of all the structural units of the resin (A). It is more preferably 10 to 60 mol%.
Further, the contents of the structural unit (a3-1), the structural unit (a3-2), the structural unit (a3-3) and the structural unit (a3-4) are independent of each other, and the total structural unit of the resin (A). It is preferably 5 to 60 mol%, more preferably 5 to 50 mol%, and even more preferably 10 to 50 mol% with respect to the total of.

<その他の構造単位(t)>
樹脂(A)は、構造単位(a1)及び構造単位(s)以外の構造単位として、その他の構造単位(以下「構造単位(t)」という場合がある)を含んでいてもよい。構造単位(t)としては、構造単位(a2)及び構造単位(a3)以外にハロゲン原子を有する構造単位(以下、場合により「構造単位(a4)」という。)及び非脱離炭化水素基を有する構造単位(s)(以下「構造単位(a5)」という場合がある)などが挙げられる。樹脂(A)は、上述の構造単位以外の構造単位を有していてもよく、このような構造単位としては、当技術分野で周知の構造単位を挙げられる。
<Other structural units (t)>
The resin (A) may contain other structural units (hereinafter, may be referred to as “structural unit (t)”) as structural units other than the structural unit (a1) and the structural unit (s). As the structural unit (t), a structural unit having a halogen atom in addition to the structural unit (a2) and the structural unit (a3) (hereinafter, sometimes referred to as “structural unit (a4)”) and a non-desorbed hydrocarbon group are used. Examples thereof include a structural unit (s) having a structure (hereinafter sometimes referred to as a “structural unit (a5)”). The resin (A) may have a structural unit other than the above-mentioned structural unit, and examples of such a structural unit include structural units well known in the art.

構造単位(a4)としては、式(a4−0)で表される構造単位が挙げられる。
[式(a4−0)中、
は、水素原子又はメチル基を表す。
は、単結合又は炭素数1〜4の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
は、炭素数1〜8のペルフルオロアルカンジイル基又は炭素数3〜12のペルフルオロシクロアルカンジイル基を表す。
は、水素原子又はフッ素原子を表す。]
Examples of the structural unit (a4) include a structural unit represented by the formula (a4-0).
[In equation (a4-0),
R 5 represents a hydrogen atom or a methyl group.
L 5 represents a single bond or an aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
L 3 represents a perfluoroalkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms or a perfluorocycloalkanediyl group having 3 to 12 carbon atoms.
R 6 represents a hydrogen atom or a fluorine atom. ]

の脂肪族飽和炭化水素基としては、炭素数1〜4のアルカンジイル基が挙げられ、例えば、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基、直鎖状アルカンジイル基に、アルキル基(特に、メチル基、エチル基等)の側鎖を有したもの、エタン−1,1−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基及び2−メチルプロパン−1,2−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。 Examples of the aliphatic saturated hydrocarbon group of L 5, include alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms, e.g., methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl, butane-1,4-diyl group Such as linear alkanediyl group, linear alkanediyl group having an alkyl group (particularly methyl group, ethyl group, etc.) side chain, ethane-1,1-diyl group, propane-1, Examples thereof include branched alkanediyl groups such as 2-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group and 2-methylpropane-1,2-diyl group.

のペルフルオロアルカンジイル基としては、ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロエチルフルオロメチレン基、ペルフルオロプロパン−1,3−ジイル基、ペルフルオロプロパン−1,2−ジイル基、ペルフルオロプロパン−2,2−ジイル基、ペルフルオロブタン−1,4−ジイル基、ペルフルオロブタン−2,2−ジイル基、ペルフルオロブタン−1,2−ジイル基、ペルフルオロペンタン−1,5−ジイル基、ペルフルオロペンタン−2,2−ジイル基、ペルフルオロペンタン−3,3−ジイル基、ペルフルオロヘキサン−1,6−ジイル基、ペルフルオロヘキサン−2,2−ジイル基、ペルフルオロヘキサン−3,3−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−1,7−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−2,2−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−3,4−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−4,4−ジイル基、ペルフルオロオクタン−1,8−ジイル基、ペルフルオロオクタン−2,2−ジイル基、ペルフルオロオクタン−3,3−ジイル基、ペルフルオロオクタン−4,4−ジイル基等が挙げられる。
3のペルフルオロシクロアルカンジイル基としては、ペルフルオロシクロヘキサンジイル基、ペルフルオロシクロペンタンジイル基、ペルフルオロシクロヘプタンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。
The perfluoro alkanediyl group L 3, difluoromethylene group, a perfluoroalkyl ethylene group, perfluoroethyl fluoro methylene group, perfluoro-1,3-diyl group, perfluoro-1,2-diyl group, perfluoropropane-2,2 -Diyl group, perfluorobutane-1,4-diyl group, perfluorobutane-2,2-diyl group, perfluorobutane-1,2-diyl group, perfluoropentane-1,5-diyl group, perfluoropentane-2,2 -Diyl group, perfluoropentane-3,3-diyl group, perfluorohexane-1,6-diyl group, perfluorohexane-2,2-diyl group, perfluorohexane-3,3-diyl group, perfluoroheptane-1,7 -Diyl group, perfluoroheptane-2,2-diyl group, perfluoroheptane-3,4-diyl group, perfluoroheptane-4,4-diyl group, perfluorooctane-1,8-diyl group, perfluorooctane-2,2 -Diyl group, perfluorooctane-3,3-diyl group, perfluorooctane-4,4-diyl group and the like can be mentioned.
Examples of the perfluorocycloalkanediyl group of L 3 include a perfluorocyclohexanediyl group, a perfluorocyclopentanediyl group, a perfluorocycloheptanediyl group, and a perfluoroadamantandiyl group.

は、好ましくは単結合、メチレン基又はエチレン基であり、より好ましくは単結合又はメチレン基である。
は、好ましくは炭素数1〜6のペルフルオロアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数1〜3のペルフルオロアルカンジイル基である。
L 5 is preferably a single bond, a methylene group or an ethylene group, and more preferably a single bond or a methylene group.
L 3 is preferably a perfluoroalkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a perfluoroalkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms.

構造単位(a4−0)としては、以下に示す構造単位が挙げられる。
Examples of the structural unit (a4-0) include the structural units shown below.

構造単位(a4)としては、式(a4−1)で表される構造単位が挙げられる。
[式(a4−1)中、
a41は、水素原子又はメチル基を表す。
a42は、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
a41は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルカンジイル基又は式(a−g1)で表される基を表す。]
Examples of the structural unit (a4) include a structural unit represented by the formula (a4-1).
[In equation (a4-1),
Ra41 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R a42 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and -CH 2- contained in the hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-. Good.
Aa41 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent or a group represented by the formula ( ag1 ). ]

[式(a−g1)中、
sは0又は1を表す。
a42及びAa44は、互いに独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基を表す。
a43は、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基を表す。
a41及びXa42は、互いに独立に、−O−、−CO−、−CO−O−又は−O−CO−を表す。
ただし、Aa42、Aa43、Aa44、Xa41及びXa42の炭素数の合計は7以下である。
*で表される2つの結合手のうち、右側の*が−O−CO−Ra42との結合手である。]
[In the formula (ag1),
s represents 0 or 1.
A a42 and A a44 represent aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 5 carbon atoms which may have substituents independently of each other.
A a43 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms which may have a single bond or a substituent.
X a41 and X a42 independently represent -O-, -CO-, -CO -O- or -O-CO-.
However, the total number of carbon atoms of A a42 , A a43 , A a44 , X a41 and X a42 is 7 or less.
Of the two binding hands represented by *, the * on the right side is the binding hand with -O-CO-R a42 . ]

a42の炭化水素基としては、鎖式及び環式の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、並びにこれらを組合せることにより形成される基が挙げられる。
鎖式及び環式の脂肪族炭化水素基は、炭素−炭素不飽和結合を有していてもよいが、鎖式及び環式の脂肪族飽和炭化水素基が好ましい。該脂肪族飽和炭化水素基としては、直鎖又は分岐のアルキル基及び単環又は多環の脂環式炭化水素基、並びに、アルキル基及び脂環式炭化水素基を組み合わせることにより形成される脂肪族炭化水素基等が挙げられる。
Examples of the hydrocarbon group of R a42 include a chain type and a ring type aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a group formed by combining these groups.
The chain-type and ring-type aliphatic hydrocarbon groups may have a carbon-carbon unsaturated bond, but chain-type and ring-type aliphatic saturated hydrocarbon groups are preferable. The aliphatic saturated hydrocarbon group is a fat formed by combining a linear or branched alkyl group and a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon group, and an alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group. Examples include group hydrocarbon groups.

鎖式の脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基及びn−オクタデシル基が挙げられる。環式の脂肪族炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基;デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合手を表す。)等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。
The chain-type aliphatic hydrocarbon group includes methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group and n-decyl. Examples thereof include a group, an n-dodecyl group, an n-pentadecyl group, an n-hexadecyl group, an n-heptadecyl group and an n-octadecyl group. The cyclic aliphatic hydrocarbon group includes a cycloalkyl group such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group and a cyclooctyl group; a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group and the following groups (* is a bond). Examples thereof include polycyclic alicyclic hydrocarbon groups such as (representing a hand).

芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニリル基、フェナントリル基及びフルオレニル基が挙げられる。 Examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a biphenylyl group, a phenanthryl group and a fluorenyl group.

a42の炭化水素基は、鎖式及び環式の脂肪族炭化水素基並びにこれらが組合せることにより形成される基であることが好ましく、炭素−炭素不飽和結合を有していてもよいが、鎖式及び環式の脂肪族飽和炭化水素基並びにこれらを組合せることにより形成される基であることがより好ましい。
a42の置換基としては、ハロゲン原子又は式(a−g3)で表される基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、好ましくはフッ素原子が挙げられる。
The hydrocarbon group of R a42 is preferably a chain type or ring type aliphatic hydrocarbon group and a group formed by combining them, and may have a carbon-carbon unsaturated bond. , Chain-type and cyclic-type aliphatic saturated hydrocarbon groups, and groups formed by combining these groups are more preferable.
Examples of the substituent of R a42 include a halogen atom or a group represented by the formula ( ag3 ). Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and a fluorine atom is preferable.

[式(a−g3)中、
a43は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。
a45は、少なくとも1つのハロゲン原子を有する炭素数1〜17の脂肪族炭化水素基を表す。
*は結合手を表す。]
[In the formula (ag3),
X a43 represents an oxygen atom, a carbonyl group, a carbonyloxy group or an oxycarbonyl group.
A a45 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms having at least one halogen atom.
* Represents a bond. ]

a45の脂肪族炭化水素基としては、Ra42で例示したものと同様の基が挙げられる。
a42は、ハロゲン原子を有してもよい脂肪族炭化水素基であることが好ましく、ハロゲン原子を有するアルキル基及び/又は式(a−g3)で表される基を有する脂肪族炭化水素基であることがより好ましい。
a42がハロゲン原子を有する脂肪族炭化水素基である場合、好ましくはフッ素原子を有する脂肪族炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルキル基又はペルフルオロシクロアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数が1〜6のペルフルオロアルキル基であり、特に好ましくは炭素数1〜3のペルフルオロアルキル基である。ペルフルオロアルキル基としては、ペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘプチル基及びペルフルオロオクチル基等が挙げられる。ペルフルオロシクロアルキル基としては、ペルフルオロシクロヘキシル基等が挙げられる。
a42が、式(a−g3)で表される基を有する脂肪族炭化水素基である場合、式(a−g3)で表される基に含まれる炭素数を含めて、脂肪族炭化水素基の総炭素数は、15以下が好ましく、12以下であることがより好ましい。式(a−g3)で表される基を置換基として有する場合、その数は1個であることが好ましい。
Examples of the aliphatic hydrocarbon group of A a45 include the same groups as those exemplified in Ra 42 .
R a42 is preferably an aliphatic hydrocarbon group which may have a halogen atom, and is an alkyl group having a halogen atom and / or an aliphatic hydrocarbon group having a group represented by the formula (ag3). Is more preferable.
When R a42 is an aliphatic hydrocarbon group having a halogen atom, it is preferably an aliphatic hydrocarbon group having a fluorine atom, more preferably a perfluoroalkyl group or a perfluorocycloalkyl group, and further preferably having a carbon number of carbon. It is a perfluoroalkyl group of 1 to 6, and particularly preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Examples of the perfluoroalkyl group include a perfluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluoropentyl group, a perfluorohexyl group, a perfluoroheptyl group and a perfluorooctyl group. Examples of the perfluorocycloalkyl group include a perfluorocyclohexyl group.
When R a42 is an aliphatic hydrocarbon group having a group represented by the formula ( ag3 ), the aliphatic hydrocarbon includes the number of carbon atoms contained in the group represented by the formula (ag3). The total carbon number of the group is preferably 15 or less, more preferably 12 or less. When the group represented by the formula (ag3) is used as a substituent, the number thereof is preferably one.

式(a−g3)で表される基を有する脂肪族炭化水素基は、さらに好ましくは式(a−g2)で表される基である。
[式(a−g2)中、
a46は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜17の脂肪族炭化水素基を表す。
a44は、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。
a47は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜17の脂肪族炭化水素基を表す。
ただし、Aa46、Aa47及びXa44の炭素数の合計は18以下であり、Aa46及びAa47のうち、少なくとも一方は、少なくとも1つのハロゲン原子を有する。
*はカルボニル基との結合手を表す。]
The aliphatic hydrocarbon group having a group represented by the formula (ag3) is more preferably a group represented by the formula (ag2).
[In the formula (ag2),
A a46 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.
X a44 represents a carbonyloxy group or an oxycarbonyl group.
A a47 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.
However, the total number of carbon atoms of A a46 , A a47 and X a44 is 18 or less, and at least one of A a46 and A a47 has at least one halogen atom.
* Represents a bond with a carbonyl group. ]

a46の脂肪族炭化水素基の炭素数は、1〜6であることが好ましく、1〜3であることがより好ましい。
a47の脂肪族炭化水素基の炭素数は、4〜15であることが好ましく、5〜12であることがより好ましく、Aa47は、シクロヘキシル基又はアダマンチル基であることがさらに好ましい。
The number of carbon atoms of the aliphatic hydrocarbon group of A a46 is preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 3.
The aliphatic hydrocarbon group of A a47 preferably has 4 to 15 carbon atoms, more preferably 5 to 12 carbon atoms, and further preferably A a47 is a cyclohexyl group or an adamantyl group.

*−Aa46−Xa44−Aa47で表される部分構造のより好ましい構造は、以下の構造である。
A more preferable structure of the partial structure represented by * -A a46- X a44- A a47 is the following structure.

a41のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、1−メチルブタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。
a41のアルカンジイル基における置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数1〜6のアルコキシ基等が挙げられる。
a41は、好ましくは炭素数1〜4のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数2〜4のアルカンジイル基であり、さらに好ましくはエチレン基である。
The alkanediyl group of A a41 includes a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a pentane-1,5-diyl group, and a hexane-1,6-diyl group. Linear alkanediyl groups such as propane-1,2-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, 1-methylbutane-1,4-diyl group, etc. Examples thereof include branched alkanediyl groups such as 2-methylbutane-1,4-diyl group.
Examples of the substituent in the alkanediyl group of Aa41 include a hydroxy group and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
A a41 is preferably an alcandiyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably an alcandiyl group having 2 to 4 carbon atoms, and further preferably an ethylene group.

基(a−g1)におけるAa42、Aa43及びAa44の脂肪族炭化水素基は、炭素−炭素不飽和結合を有していてもよいが、脂肪族飽和炭化水素基が好ましい。該脂肪族飽和炭化水素基としては、アルキル基(当該アルキル基は直鎖でも分岐していてもよい)及び脂環式炭化水素基、並びに、アルキル基及び脂環式炭化水素基を組合せることにより形成される脂肪族炭化水素基等が挙げられる。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、1−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基等が挙げられる。
a42、Aa43及びAa44の脂肪族炭化水素基の置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数1〜6のアルコキシ基等が挙げられる。
sは、0であることが好ましい。
The aliphatic hydrocarbon groups A a42 , A a43 and A a44 in the group (a-g1) may have a carbon-carbon unsaturated bond, but an aliphatic saturated hydrocarbon group is preferable. As the aliphatic saturated hydrocarbon group, an alkyl group (the alkyl group may be linear or branched) and an alicyclic hydrocarbon group, and an alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group are combined. Examples thereof include an aliphatic hydrocarbon group formed by. Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, 1-methylpropane-1,3-diyl group, Examples thereof include 2-methylpropane-1,3-diyl group and 2-methylpropane-1,2-diyl group.
Examples of the substituent of the aliphatic hydrocarbon group of A a42 , A a43 and A a44 include a hydroxy group and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
s is preferably 0.

a42が酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す基(a−g1)としては、以下の基等が挙げられる。以下の例示において、*及び**はそれぞれ結合手を表わし、**が−O−CO−Ra42との結合手である。 Examples of the group ( ag1) in which X a42 represents an oxygen atom, a carbonyl group, a carbonyloxy group or an oxycarbonyl group include the following groups. In the following examples, * and ** represent the binding hand, respectively, and ** is the binding hand with -O-CO-R a42 .

式(a4−1)で表される構造単位としては、式(a4−2)及び式(a4−3)で表される構造単位が好ましい。
[式(a4−2)中、
f01は、水素原子又はメチル基を表す。
f01は、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。
f02は、フッ素原子を有する炭素数1〜10の炭化水素基を表す。]
As the structural unit represented by the formula (a4-1), the structural unit represented by the formula (a4-2) and the formula (a4-3) is preferable.
[In equation (a4-2),
R f01 represents a hydrogen atom or a methyl group.
A f01 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
R f02 represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom. ]

f01のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;1−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、1−メチルブタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。 The alkanediyl group of A f01 includes methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, and pentane-1,5-diyl group. , Hexine-1,6-diyl group and other linear alkanediyl groups; 1-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2 Examples thereof include branched alkanediyl groups such as −diyl group, 1-methylbutane-1,4-diyl group and 2-methylbutane-1,4-diyl group.

f02の炭化水素基は、脂肪族炭化水素基及び芳香族炭化水素基を包含し、脂肪族炭化水素基は、鎖式、環式及びこれらの組合せることにより形成される基を含む。脂肪族炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基が好ましい。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基及び2−エチルヘキシル基が挙げられる。
脂環式炭化水素基は、単環式であってもよいし、多環式であってもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘプチル基、シクロデシル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、2−アルキルアダマンタン−2−イル基、1−(アダマンタン−1−イル)アルカン−1−イル基、ノルボルニル基、メチルノルボルニル基及びイソボルニル基が挙げられる。
The hydrocarbon group of R f02 includes an aliphatic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group, and the aliphatic hydrocarbon group includes a chain type, a cyclic type and a group formed by a combination thereof. As the aliphatic hydrocarbon group, an alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group are preferable.
Alkyl groups include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-octyl group and 2 -Ethylhexyl group is mentioned.
The alicyclic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a cycloheptyl group, a cyclodecyl group and the like. Cycloalkyl groups can be mentioned. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a 2-alkyladamantan-2-yl group, a 1- (adamantan-1-yl) alkane-1-yl group, and a norbornyl group. Examples thereof include a methylnorbornyl group and an isobornyl group.

f02のフッ素原子を有する炭化水素基としては、フッ素原子を有するアルキル基、フッ素原子を有する脂環式炭化水素基等が挙げられる。
フッ素原子を有するアルキル基としては、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、1,1−ジフルオロエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペルフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロプロピル基、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロプロピル基、ペルフルオロエチルメチル基、1−(トリフルオロメチル)−1,2,2,2−テトラフルオロエチル基、1−(トリフルオロメチル)−2,2,2−トリフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、1,1,2,2−テトラフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロブチル基、ペルフルオロブチル基、1,1−ビス(トリフルオロ)メチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、2−(ペルフルオロプロピル)エチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロペンチル基、ペルフルオロペンチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5−デカフルオロペンチル基、1,1−ビス(トリフルオロメチル)−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、2−(ペルフルオロブチル)エチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5−デカフルオロヘキシル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6−ドデカフルオロヘキシル基、ペルフルオロペンチルメチル基及びペルフルオロヘキシル基等のフッ化アルキル基が挙げられる。
フッ素原子を有する脂環式炭化水素基としては、ペルフルオロシクロヘキシル基、ペルフルオロアダマンチル基等のフッ化シクロアルキル基が挙げられる。
Examples of the hydrocarbon group having a fluorine atom of R f02 include an alkyl group having a fluorine atom and an alicyclic hydrocarbon group having a fluorine atom.
As the alkyl group having a fluorine atom, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 1,1-difluoroethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, a perfluoroethyl group, 1 , 1,2,2-tetrafluoropropyl group, 1,1,2,2,3,3-hexafluoropropyl group, perfluoroethylmethyl group, 1- (trifluoromethyl) -1,2,2,2- Tetrafluoroethyl group, 1- (trifluoromethyl) -2,2,2-trifluoroethyl group, perfluoropropyl group, 1,1,2,2-tetrafluorobutyl group, 1,1,2,2,3 , 3-Hexafluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutyl group, perfluorobutyl group, 1,1-bis (trifluoro) methyl-2,2,2- Trifluoroethyl group, 2- (perfluoropropyl) ethyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluoropentyl group, perfluoropentyl group, 1,1,2,2,3,3 , 4,4,5,5-decafluoropentyl group, 1,1-bis (trifluoromethyl) -2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 2- (perfluorobutyl) ethyl group, 1 , 1,2,2,3,3,4,5,5-decafluorohexyl group, 1,1,2,2,3,3,4,5,5,6,6-dodecafluoro Fluoroalkyl groups such as hexyl groups, perfluoropentylmethyl groups and perfluorohexyl groups can be mentioned.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group having a fluorine atom include a cycloalkyl fluoride group such as a perfluorocyclohexyl group and a perfluoroadamantyl group.

式(a4−2)におけるAf01は、炭素数2〜4のアルカンジイル基であることが好ましく、エチレン基であることがより好ましい。
f02は、炭素数1〜6のフッ化アルキル基であることが好ましい。
A f01 in the formula (a4-2) is preferably an alkanediyl group having 2 to 4 carbon atoms, and more preferably an ethylene group.
R f02 is preferably an alkyl fluoride group having 1 to 6 carbon atoms.

[式(a4−3)中、
f11は、水素原子又はメチル基を表す。
f11は、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。
f13は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基を表す。
f12は、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。
f14は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1〜17の脂肪族炭化水素基を表す。
ただし、Af13及びAf14の少なくとも1つは、フッ素原子を有する脂肪族炭化水素基を表す。]
[In equation (a4-3),
R f11 represents a hydrogen atom or a methyl group.
A f11 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
A f13 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may have a fluorine atom.
X f12 represents a carbonyloxy group or an oxycarbonyl group.
A f14 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a fluorine atom.
However, at least one of A f13 and A f14 represents an aliphatic hydrocarbon group having a fluorine atom. ]

f11のアルカンジイル基としては、Af1のアルカンジイル基と同様の基が挙げられる。 Examples of the alkanediyl group of A f11 include the same groups as the alkanediyl group of A f1 .

f13の脂肪族炭化水素基は、鎖式及び環式の脂肪族炭化水素基、並びにこれらを組合せることにより形成される2価の脂肪族炭化水素基が包含される。この脂肪族炭化水素は、炭素−炭素不飽和結合を有していてもよいが、好ましくは飽和の脂肪族炭化水素基である。
f13のフッ素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基は、好ましくはフッ素原子を有していてもよい脂肪族飽和炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルカンジイル基である。
フッ素原子を有していてもよい2価の鎖式の脂肪族炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基;ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロプロパンジイル基、ペルフルオロブタンジイル基及びペルフルオロペンタンジイル基等のペルフルオロアルカンジイル基等が挙げられる。
フッ素原子を有していてもよい2価の環式の脂肪族炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれを含む基でもよい。単環式の脂肪族炭化水素基としては、シクロヘキサンジイル基及びペルフルオロシクロヘキサンジイル基等が挙げられる。多環式の2価の脂肪族炭化水素基としては、アダマンタンジイル基、ノルボルナンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。
The aliphatic hydrocarbon group of A f13 includes a chain type and a ring type aliphatic hydrocarbon group, and a divalent aliphatic hydrocarbon group formed by combining them. This aliphatic hydrocarbon may have a carbon-carbon unsaturated bond, but is preferably a saturated aliphatic hydrocarbon group.
The aliphatic hydrocarbon group which may have a fluorine atom of A f13 is preferably an aliphatic saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom, and more preferably a perfluoroalkanediyl group.
Examples of the divalent chain aliphatic hydrocarbon group which may have a fluorine atom include an alkandiyl group such as a methylene group, an ethylene group, a propanediyl group, a butanjiyl group and a pentangyl group; a difluoromethylene group and a perfluoroethylene group. Examples thereof include a perfluoroalkandyl group such as a group, a perfluoropropanediyl group, a perfluorobutandyl group and a perfluoropentandyl group.
The divalent cyclic aliphatic hydrocarbon group which may have a fluorine atom may be a group containing either a monocyclic or polycyclic group. Examples of the monocyclic aliphatic hydrocarbon group include a cyclohexanediyl group and a perfluorocyclohexanediyl group. Examples of the polycyclic divalent aliphatic hydrocarbon group include an adamantandiyl group, a norbornanediyl group, and a perfluoroadamantandiyl group.

f14の脂肪族炭化水素基としては、鎖式及び環式の脂肪族炭化水素基、並びに、これらが組合せることにより形成される脂肪族炭化水素基が包含される。この脂肪族炭化水素は、炭素−炭素不飽和結合を有していてもよいが、好ましくは飽和の脂肪族炭化水素基である。
f14のフッ素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基は、好ましくはフッ素原子を有していてもよい脂肪族飽和炭化水素基である。
フッ素原子を有していてもよい鎖式の脂肪族炭化水素基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、1,1,1−トリフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、1,1,1,2,2,3,3,4,4−ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基、ヘプチル基、ペルフルオロヘプチル基、オクチル基及びペルフルオロオクチル基等が挙げられる。
フッ素原子を有していてもよい環式の脂肪族炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂肪族炭化水素基を含む基としては、シクロプロピルメチル基、シクロプロピル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ペルフルオロシクロヘキシル基が挙げられる。多環式の脂肪族炭化水素基を含む基としては、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、ノルボルニル基、ノルボルニルメチル基、ペルフルオロアダマンチル基、ペルフルオロアダマンチルメチル基等が挙げられる。
The aliphatic hydrocarbon group of A f14 includes a chain type and a ring type aliphatic hydrocarbon group, and an aliphatic hydrocarbon group formed by combining them. This aliphatic hydrocarbon may have a carbon-carbon unsaturated bond, but is preferably a saturated aliphatic hydrocarbon group.
The aliphatic hydrocarbon group which may have a fluorine atom of A f14 is preferably an aliphatic saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom.
Examples of the chain-type aliphatic hydrocarbon group which may have a fluorine atom include a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a methyl group, a perfluoroethyl group, a 1,1,1-trifluoroethyl group and 1,1. , 2,2-Tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 1,1,1,2,2-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3 , 4,4-Octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoropentyl group, pentyl group, hexyl group, perfluorohexyl group, Examples thereof include a heptyl group, a perfluoroheptyl group, an octyl group and a perfluorooctyl group.
The cyclic aliphatic hydrocarbon group which may have a fluorine atom may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the group containing a monocyclic aliphatic hydrocarbon group include a cyclopropylmethyl group, a cyclopropyl group, a cyclobutylmethyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a perfluorocyclohexyl group. Examples of the group containing a polycyclic aliphatic hydrocarbon group include an adamantyl group, an adamantyl methyl group, a norbornyl group, a norbornyl methyl group, a perfluoroadamantyl group, a perfluoroadamantyl methyl group and the like.

式(a4−3)において、Af11は、エチレン基であることが好ましい。
f13の脂肪族炭化水素基は、炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基であることが好ましく、炭素数2〜3の脂肪族炭化水素基であることがさらに好ましい。
f14の脂肪族炭化水素基は、炭素数3〜12の脂肪族炭化水素基であることが好ましく、炭素数3〜10の脂肪族炭化水素基であることがより好ましい。なかでも、Af14は、好ましくは炭素数3〜12の脂環式炭化水素基を含む基であり、より好ましくはシクロプロピルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基及びアダマンチル基である。
In the formula (a4-3), A f11 is preferably an ethylene group.
The aliphatic hydrocarbon group of A f13 is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably an aliphatic hydrocarbon group having 2 to 3 carbon atoms.
The aliphatic hydrocarbon group of A f14 is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and more preferably an aliphatic hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms. Among them, A f14 is preferably a group containing an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and more preferably a cyclopropylmethyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a norbornyl group and an adamantyl group.

式(a4−2)で表される構造単位としては、式(a4−1−1)〜式(a4−1−22)で表される構成単位が挙げられる。
Examples of the structural unit represented by the formula (a4-2) include the structural units represented by the formulas (a4-1-1) to (a4-1-22).

式(a4−3)で表される構造単位としては、式(a4−1’−1)〜式(a4−1’−22)でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。
Examples of the structural unit represented by the formula (a4-3) include structural units represented by the formulas (a4-1'-1) to (a4-1'-22).

構造単位(a4)としては、式(a4−4)で表される構造単位も挙げられる。
[式(a4−4)中、
f21は、水素原子又はメチル基を表す。
f21は、−(CHj1−、−(CHj2−O−(CHj3−又は−(CHj4−CO−O−(CHj5−を表す。
j1〜j5は、互いに独立に、1〜6の整数を表す。
f22は、フッ素原子を有する炭素数1〜10の炭化水素基を表す。]
The structural unit (a4) also includes a structural unit represented by the formula (a4-4).
[In equation (a4-4),
R f21 represents a hydrogen atom or a methyl group.
A f21 represents − (CH 2 ) j1 −, − (CH 2 ) j2 −O− (CH 2 ) j3 − or − (CH 2 ) j4 −CO−O− (CH 2 ) j5- .
j1 to j5 represent integers 1 to 6 independently of each other.
R f22 represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom. ]

f22のフッ素原子を有する炭化水素基としては、式(a4−2)におけるRf2の炭化水素基と同じものが挙げられる。
f22は、フッ素原子を有する炭素数1〜10のアルキル基又はフッ素原子を有する炭素数1〜10の脂環式炭化水素基であることが好ましく、フッ素原子を有する炭素数1〜10のアルキル基であることがより好ましく、フッ素原子を有する炭素数1〜6のアルキル基であることがさらに好ましい。
Examples of the hydrocarbon group having a fluorine atom of R f22 include the same hydrocarbon group as R f2 in the formula (a4-2).
R f22 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom or an alicyclic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom, and an alkyl having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom. It is more preferably a group, and further preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms having a fluorine atom.

式(a4−4)においては、Af21としては、−(CHj1−が好ましく、エチレン基又はメチレン基がより好ましく、メチレン基がさらに好ましい。 In the formula (a4-4), as A f21 , − (CH 2 ) j1 − is preferable, an ethylene group or a methylene group is more preferable, and a methylene group is further preferable.

式(a4−4)で表される構造単位としては、例えば、以下の構造単位が挙げられる。
Examples of the structural unit represented by the formula (a4-4) include the following structural units.

樹脂(A)が、構造単位(a4)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、1〜20モル%であることが好ましく、2〜15モル%であることがより好ましく、3〜10モル%であることがさらに好ましい。 When the resin (A) has the structural unit (a4), the content thereof is preferably 1 to 20 mol%, preferably 2 to 15 mol%, based on the total of all the structural units of the resin (A). Is more preferable, and 3 to 10 mol% is further preferable.

<構造単位(a5)>
構造単位(a5)が有する非脱離炭化水素基としては、直鎖、分岐又は環状の炭化水素基が挙げられる。なかでも、構造単位(a5)は、脂環式炭化水素基であることが好ましい。
構造単位(a5)としては、例えば、式(a5−1)で表される構造単位が挙げられる。
[式(a5−1)中、
51は、水素原子又はメチル基を表す。
52は、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
但し、L55との結合位置にある炭素原子に結合する水素原子は、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基で置換されない。
55は、単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。]
<Structural unit (a5)>
Examples of the non-eliminating hydrocarbon group contained in the structural unit (a5) include a linear, branched or cyclic hydrocarbon group. Among them, the structural unit (a5) is preferably an alicyclic hydrocarbon group.
Examples of the structural unit (a5) include a structural unit represented by the formula (a5-1).
[In equation (a5-1),
R 51 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R 52 represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group is substituted with an aliphatic hydrocarbon group or a hydroxy group having 1 to 8 carbon atoms. You may.
However, the hydrogen atom bonded to the carbon atom at the bond position with L 55 is not replaced by an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L 55 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the methylene group contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with an oxygen atom or a carbonyl group. ]

52の脂環式炭化水素基としては、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、アダマンチル基及びノルボルニル基等が挙げられる。
炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基は、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び2−エチルヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。
置換基を有した脂環式炭化水素基としては、3−ヒドロキシアダマンチル基、3−メチルアダマンチル基などが挙げられる。
52は、好ましくは無置換の炭素数3〜18の脂環式炭化水素基であり、より好ましくはアダマンチル基、ノルボルニル基又はシクロヘキシル基である。
The alicyclic hydrocarbon group of R 52 may be either a monocyclic or polycyclic group. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include an adamantyl group and a norbornyl group.
The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms includes, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group and a hexyl group. Alkyl groups such as an octyl group and a 2-ethylhexyl group can be mentioned.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group having a substituent include a 3-hydroxyadamantyl group and a 3-methyladamantyl group.
R 52 is preferably an unsubstituted alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, and more preferably an adamantyl group, a norbornyl group or a cyclohexyl group.

55の2価の飽和炭化水素基としては、2価の脂肪族飽和炭化水素基及び2価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、好ましくは2価の脂肪族飽和炭化水素基が挙げられる。
2価の脂肪族飽和炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基が挙げられる。
2価の脂環式飽和炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロペンタンジイル基及びシクロヘキサンジイル基等のシクロアルカンジイル基が挙げられる。多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基としては、アダマンタンジイル基及びノルボルナンジイル基等が挙げられる。
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group of L 55 include a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group and a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group. Be done.
Examples of the divalent aliphatic saturated hydrocarbon group include an alkanediyl group such as a methylene group, an ethylene group, a propanediyl group, a butanjiyl group and a pentandiyl group.
The divalent alicyclic saturated hydrocarbon group may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic saturated hydrocarbon group include a cycloalkanediyl group such as a cyclopentanediyl group and a cyclohexanediyl group. Examples of the polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group include an adamantandiyl group and a norbornanediyl group.

飽和炭化水素基に含まれるメチレン基が、酸素原子又はカルボニル基で置き換わった基としては、例えば、式(L1−1)〜式(L1−4)で表される基が挙げられる。下記式中、*は酸素原子との結合手を表す。
[式(L1−1)中、
x1は、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。
x1は、炭素数1〜16の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x2は、単結合又は炭素数1〜15の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx1及びLx2の合計炭素数は、16以下である。
式(L1−2)中、
x3は、炭素数1〜17の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x4は、単結合又は炭素数1〜16の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx3x4の合計炭素数は、17以下である。
式(L1−3)中、
x5は、炭素数1〜15の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x6及びLx7は、互いに独立に、単結合又は炭素数1〜14の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx5、Lx6及びLx7の合計炭素数は、15以下である。
式(L1−4)中、
x8及びLx9は、単結合又は炭素数1〜12の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x1は、炭素数3〜15の2価の脂環式飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx8、Lx9及びWx1の合計炭素数は、15以下である。]
Examples of the group in which the methylene group contained in the saturated hydrocarbon group is replaced with an oxygen atom or a carbonyl group include groups represented by the formulas (L1-1) to (L1-4). In the following formula, * represents a bond with an oxygen atom.
[In equation (L1-1),
X x1 represents a carbonyloxy group or an oxycarbonyl group.
L x1 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
L x2 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
However, the total number of carbon atoms of L x1 and L x2 is 16 or less.
In formula (L1-2),
L x3 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms.
L x4 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
However, the total number of carbon atoms of L x3 L x4 is 17 or less.
In formula (L1-3),
L x5 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
L x6 and L x7 represent a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms independently of each other.
However, the total number of carbon atoms of L x5 , L x6 and L x7 is 15 or less.
In formula (L1-4),
L x8 and L x9 represent a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
W x1 represents a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 15 carbon atoms.
However, the total number of carbon atoms of L x8 , L x9 and W x1 is 15 or less. ]

x1は、好ましくは炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基であり、より好ましくはメチレン基又はエチレン基である。
x2は、好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合である。
x3は、好ましくは炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
x4は、好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
x5は、好ましくは炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基であり、より好ましくはメチレン基又はエチレン基である。
x6は、好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基であり、より好ましくはメチレン基又はエチレン基である。
x7は、好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
x8は、好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又はメチレン基である。
x9は、好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又はメチレン基である。
x1は、好ましくは炭素数3〜10の2価の脂環式飽和炭化水素基であり、より好ましくはシクロヘキサンジイル基又はアダマンタンジイル基である。
L x1 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a methylene group or an ethylene group.
L x2 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a single bond.
L x3 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L x4 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L x5 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a methylene group or an ethylene group.
L x6 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a methylene group or an ethylene group.
L x7 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L x8 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a single bond or a methylene group.
L x9 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a single bond or a methylene group.
W x1 is preferably a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms, and more preferably a cyclohexanediyl group or an adamantandiyl group.

式(L1−1)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。 Examples of the group represented by the formula (L1-1) include the divalent groups shown below.

式(L1−2)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (L1-2) include the divalent groups shown below.

式(L1−3)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (L1-3) include the divalent groups shown below.

式(L1−4)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (L1-4) include the divalent groups shown below.

51は、好ましくは、単結合又は式(L1−1)で表される基である。 L 51 is preferably a single bond or a group represented by the formula (L1-1).

構造単位(a5−1)としては、以下のもの等が挙げられる。
Examples of the structural unit (a5-1) include the following.

式(a5−1−19)〜式(a5−1−27)において、R51に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も、構造単位(a5−1)の具体例として挙げることができる。 In the formulas (a5-1-19) to (a5-1-27), the structural unit in which the methyl group corresponding to R 51 is replaced with a hydrogen atom can also be mentioned as a specific example of the structural unit (a5-1). it can.

樹脂(A)が、構造単位(a5)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、1〜30モル%であることが好ましく、2〜20モル%であることがより好ましく、3〜15モル%であることがさらに好ましい。 When the resin (A) has the structural unit (a5), the content thereof is preferably 1 to 30 mol%, preferably 2 to 20 mol%, based on the total of all the structural units of the resin (A). Is more preferable, and 3 to 15 mol% is further preferable.

樹脂(A)は、好ましくは、構造単位(a1)と構造単位(s)とからなる樹脂、すなわち、モノマー(a1)とモノマー(s)との共重合体である。
構造単位(a1)は、好ましくは構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−2)(好ましくはシクロヘキシル基、シクロペンチル基を有する該構造単位)から選ばれる少なくとも一種、より好ましくは構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−2)(好ましくはシクロヘキシル基、シクロペンチル基を有する該構造単位)から選ばれる少なくとも二種である。
構造単位(s)は、好ましくは構造単位(a2)及び構造単位(a3)の少なくとも一種である。構造単位(a2)は、好ましくは式(a2−1)で表される構造単位である。
構造単位(a3)は、好ましくは式(a3−1)で表される構造単位、式(a3−2)で表される構造単位及び式(a3−4)で表される構造単位から選ばれる少なくとも一種である。
The resin (A) is preferably a resin composed of a structural unit (a1) and a structural unit (s), that is, a copolymer of a monomer (a1) and a monomer (s).
The structural unit (a1) is preferably at least one selected from the structural unit (a1-1) and the structural unit (a1-2) (preferably the structural unit having a cyclohexyl group and a cyclopentyl group), and more preferably the structural unit (a1). At least two kinds selected from a1-1) and a structural unit (a1-2) (preferably the structural unit having a cyclohexyl group and a cyclopentyl group).
The structural unit (s) is preferably at least one of the structural unit (a2) and the structural unit (a3). The structural unit (a2) is preferably a structural unit represented by the formula (a2-1).
The structural unit (a3) is preferably selected from the structural unit represented by the formula (a3-1), the structural unit represented by the formula (a3-2), and the structural unit represented by the formula (a3-4). At least one kind.

樹脂(A)は、アダマンチル基を有するモノマーに由来する構造単位(特に、構造単位(a1−1))を、構造単位(a1)の含有量に対して15モル%以上含有していることが好ましい。アダマンチル基を有する構造単位の含有量が増えると、レジストパターンのドライエッチング耐性が向上する。 The resin (A) may contain a structural unit (particularly, a structural unit (a1-1)) derived from a monomer having an adamantane group in an amount of 15 mol% or more based on the content of the structural unit (a1). preferable. As the content of the structural unit having an adamantyl group increases, the dry etching resistance of the resist pattern is improved.

樹脂(A)を構成する各構造単位は、1種のみ又は2種以上を組合せて用いてもよく、これら構造単位を誘導するモノマーを用いて、公知の重合法(例えばラジカル重合法)によって製造することができる。樹脂(A)が有する各構造単位の含有率は、重合に用いるモノマーの使用量で調整できる。
樹脂(A)の重量平均分子量は、好ましくは2,000以上(より好ましくは2,500以上、さらに好ましくは3,000以上)、50,000以下(より好ましくは30,000以下、さらに好ましくは15,000以下)である。
本明細書において、重量平均分子量は、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーにより求めた値である。ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーは、実施例に記載の分析条件により測定することができる。
Each structural unit constituting the resin (A) may be used alone or in combination of two or more, and is produced by a known polymerization method (for example, a radical polymerization method) using a monomer for inducing these structural units. can do. The content of each structural unit of the resin (A) can be adjusted by adjusting the amount of the monomer used for the polymerization.
The weight average molecular weight of the resin (A) is preferably 2,000 or more (more preferably 2,500 or more, still more preferably 3,000 or more) and 50,000 or less (more preferably 30,000 or less, still more preferably. 15,000 or less).
In the present specification, the weight average molecular weight is a value determined by gel permeation chromatography. Gel permeation chromatography can be measured under the analytical conditions described in the Examples.

<樹脂(A)以外の樹脂>
本発明のレジスト組成物は、樹脂(A)以外の樹脂を含んでもよい。樹脂(A)以外の樹脂としては、構造単位(s)のみからなる樹脂が挙げられる。なかでも、構造単位(a4)を含む樹脂(ただし、構造単位(a1)を含まない。以下「樹脂(X)」という場合がある)が好ましい。
樹脂(X)において、構造単位(a4)の含有率は、樹脂(X)の全構造単位の合計に対して、40モル%以上であることが好ましく、45モル%以上であることがより好ましく、50モル%以上であることがさらに好ましい。
<Resin other than resin (A)>
The resist composition of the present invention may contain a resin other than the resin (A). Examples of the resin other than the resin (A) include a resin composed of only the structural unit (s). Among them, a resin containing a structural unit (a4) (however, a resin containing no structural unit (a1); hereinafter may be referred to as “resin (X)”) is preferable.
In the resin (X), the content of the structural unit (a4) is preferably 40 mol% or more, more preferably 45 mol% or more, based on the total of all the structural units of the resin (X). , 50 mol% or more is more preferable.

樹脂(X)がさらに有していてもよい構造単位としては、構造単位(a2)、構造単位(a3)及びその他の公知のモノマーに由来する構造単位が挙げられる。
樹脂(X)の重量平均分子量は、好ましくは6,000以上(より好ましくは7,000以上)、80,000以下(より好ましくは60,000以下)である。樹脂(X)の重量平均分子量の測定手段は、樹脂(A)の場合と同様である。
レジスト組成物が樹脂(X)を含む場合、その含有量は、樹脂(A)100質量部に対して、好ましくは1〜60質量部であり、より好ましくは2〜50質量部であり、さらに好ましくは2〜40質量部であり、特に好ましくは3〜30質量部である。
Examples of the structural unit that the resin (X) may further include include a structural unit (a2), a structural unit (a3), and a structural unit derived from other known monomers.
The weight average molecular weight of the resin (X) is preferably 6,000 or more (more preferably 7,000 or more) and 80,000 or less (more preferably 60,000 or less). The means for measuring the weight average molecular weight of the resin (X) is the same as that of the resin (A).
When the resist composition contains the resin (X), the content thereof is preferably 1 to 60 parts by mass, more preferably 2 to 50 parts by mass, and further, with respect to 100 parts by mass of the resin (A). It is preferably 2 to 40 parts by mass, and particularly preferably 3 to 30 parts by mass.

樹脂(A)と樹脂(A)以外の樹脂との合計含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、80質量%以上99質量%以下が好ましく、90〜99質量%がより好ましい。レジスト組成物の固形分及びこれに対する樹脂の含有率は、液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定することができる。 The total content of the resin (A) and the resin other than the resin (A) is preferably 80% by mass or more and 99% by mass or less, more preferably 90 to 99% by mass, based on the solid content of the resist composition. The solid content of the resist composition and the content of the resin relative to the solid content can be measured by a known analytical means such as liquid chromatography or gas chromatography.

〈クエンチャー(C)〉
本発明のレジスト組成物が含有していてもよいクエンチャー(C)は、露光により酸発生剤から発生する酸を捕捉する作用を有する化合物である。
クエンチャー(C)は、塩基性の含窒素有機化合物又は塩(a)及び酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩等が挙げられる。
塩基性の含窒素有機化合物としては、アミン及びアンモニウム塩が挙げられる。アミンとしては、脂肪族アミン及び芳香族アミンが挙げられる。脂肪族アミンとしては、第一級アミン、第二級アミン及び第三級アミンが挙げられる。
<Citron (C)>
The quencher (C) that may be contained in the resist composition of the present invention is a compound having an action of capturing acid generated from an acid generator by exposure.
Examples of the quencher (C) include a basic nitrogen-containing organic compound or a salt (a) and a salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator (B).
Examples of the basic nitrogen-containing organic compound include amine and ammonium salts. Examples of amines include aliphatic amines and aromatic amines. Examples of aliphatic amines include primary amines, secondary amines and tertiary amines.

アミンとしては、1−ナフチルアミン、2−ナフチルアミン、アニリン、ジイソプロピルアニリン、2−,3−又は4−メチルアニリン、4−ニトロアニリン、N−メチルアニリン、N,N−ジメチルアニリン、ジフェニルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、ジノニルアミン、ジデシルアミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、トリノニルアミン、トリデシルアミン、メチルジブチルアミン、メチルジペンチルアミン、メチルジヘキシルアミン、メチルジシクロヘキシルアミン、メチルジヘプチルアミン、メチルジオクチルアミン、メチルジノニルアミン、メチルジデシルアミン、エチルジブチルアミン、エチルジペンチルアミン、エチルジヘキシルアミン、エチルジヘプチルアミン、エチルジオクチルアミン、エチルジノニルアミン、エチルジデシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、トリス〔2−(2−メトキシエトキシ)エチル〕アミン、トリイソプロパノールアミン、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、4,4’−ジアミノ−1,2−ジフェニルエタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジエチルジフェニルメタン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン及び特開平11−52575号公報に記載されているピペリジン骨格を有するヒンダードアミン化合物、イミダゾール、4−メチルイミダゾール、ピリジン、4−メチルピリジン、1,2−ジ(2−ピリジル)エタン、1,2−ジ(4−ピリジル)エタン、1,2−ジ(2−ピリジル)エテン、1,2−ジ(4−ピリジル)エテン、1,3−ジ(4−ピリジル)プロパン、1,2−ジ(4−ピリジルオキシ)エタン、ジ(2−ピリジル)ケトン、4,4’−ジピリジルスルフィド、4,4’−ジピリジルジスルフィド、2,2’−ジピリジルアミン、2,2’−ジピコリルアミン、ビピリジン等が挙げられ、好ましくはジイソプロピルアニリンが挙げられ、特に好ましくは2,6−ジイソプロピルアニリンが挙げられる。 Examples of amines include 1-naphthylamine, 2-naphthylamine, aniline, diisopropylaniline, 2-,3- or 4-methylaniline, 4-nitroaniline, N-methylaniline, N, N-dimethylaniline, diphenylamine, hexylamine, Heptylamine, octylamine, nonylamine, decylamine, dibutylamine, dipentylamine, dihexylamine, diheptylamine, dioctylamine, dinonylamine, didecylamine, triethylamine, trimethylamine, tripropylamine, tributylamine, trypentylamine, trihexylamine, tri Heptylamine, trioctylamine, trinonylamine, tridecylamine, methyldibutylamine, methyldipentylamine, methyldihexylamine, methyldicyclohexylamine, methyldiheptylamine, methyldioctylamine, methyldinonylamine, methyldidecylamine, Ethyldibutylamine, ethyldipentylamine, ethyldihexylamine, ethyldiheptylamine, ethyldioctylamine, ethyldinonylamine, ethyldidecylamine, dicyclohexylmethylamine, tris [2- (2-methoxyethoxy) ethyl] amine, tri Isopropanolamine, ethylenediamine, tetramethylenediamine, hexamethylenediamine, 4,4'-diamino-1,2-diphenylethane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3 , 3'-diethyldiphenylmethane, piperazin, morpholin, piperidine and hindered amine compounds having a piperidine skeleton described in JP-A-11-52575, imidazole, 4-methylimidazole, pyridine, 4-methylpyridine, 1,2- Di (2-pyridyl) ethane, 1,2-di (4-pyridyl) ethane, 1,2-di (2-pyridyl) ethene, 1,2-di (4-pyridyl) ethene, 1,3-di ( 4-pyridyl) propane, 1,2-di (4-pyridyloxy) ethane, di (2-pyridyl) ketone, 4,4'-dipyridyl sulfide, 4,4'-dipyridyl disulfide, 2,2'-dipyridylamine , 2,2'-Dipicolylamine, bipyridine and the like, preferably diisopropylaniline, and particularly preferably 2,6-diisopropylaniline.

アンモニウム塩としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトライソプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシルアンモニウムヒドロキシド、テトラオクチルアンモニウムヒドロキシド、フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、3−(トリフルオロメチル)フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−n−ブチルアンモニウムサリチラート及びコリン等が挙げられる。 Examples of ammonium salts include tetramethylammonium hydroxide, tetraisopropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, tetrahexylammonium hydroxide, tetraoctylammonium hydroxide, phenyltrimethylammonium hydroxide, and 3- (trifluoromethyl) phenyltrimethyl. Ammonium hydroxide, tetra-n-butylammonium salicylate, choline and the like can be mentioned.

塩(I)及び酸発生剤(B)から発生ずる酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩としては、下記式で表される塩、式(D)で表される弱酸分子内塩、並びに特開2012−229206号公報、特開2012−6908号公報、特開2012−72109号公報、特開2011−39502号公報及び特開2011−191745号公報記載の塩が挙げられる。好ましくは、式(D)で表される弱酸分子内塩(以下、「弱酸分子内塩(D)」と記す場合がある)である。
塩(I)及び酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩における酸性度は、酸解離定数(pKa)で示される。塩(I)及び酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩は、該塩から発生する酸の酸解離定数が、通常−3<pKaの塩であり、好ましくは−1<pKa<7の塩であり、より好ましくは0<pKa<5の塩である。
Examples of the salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the salt (I) and the acid generator (B) include a salt represented by the following formula, a weak acid intramolecular salt represented by the formula (D), and the like. Examples thereof include the salts described in JP-A-2012-229206, JP-A-2012-6908, JP-A-2012-72109, JP-A-2011-39502 and JP-A-2011-191745. It is preferably a weak acid intramolecular salt represented by the formula (D) (hereinafter, may be referred to as “weak acid intramolecular salt (D)”).
The acidity of a salt that produces an acid that is weaker than the acid generated from the salt (I) and the acid generator (B) is indicated by the acid dissociation constant (pKa). A salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the salt (I) and the acid generator (B) is a salt having an acid dissociation constant of the acid generated from the salt usually -3 <pKa. A salt of -1 <pKa <7 is preferable, and a salt of 0 <pKa <5 is more preferable.

[式(D)中、
D1及びRD2は、互いに独立に、炭素数1〜12の1価の炭化水素基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜7のアシル基、炭素数2〜7のアシルオキシ基、炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子を表す。
m’及びn’は、互いに独立に、0〜4の整数を表し、m’が2以上の場合、複数のRD1は同一であっても異なってもよく、n’が2以上の場合、複数のRD2は同一であっても異なってもよい。]
[In formula (D),
R D1 and R D2 are independent of each other, a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an acyl group having 2 to 7 carbon atoms, and an acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms. Represents an alkoxycarbonyl group, a nitro group or a halogen atom having 2 to 7 carbon atoms.
m'and n'independently represent integers 0 to 4, and when m'is 2 or more, a plurality of R D1s may be the same or different, and when n'is 2 or more, The plurality of R D2s may be the same or different. ]

弱酸分子内塩(D)においては、RD1及びRD2の炭化水素基としては、1価の脂肪族炭化水素基、1価の脂環式炭化水素基、1価の芳香族炭化水素基及びこれらの組合せることにより形成される基等が挙げられる。
1価の脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ノニル基等のアルキル基が挙げられる。
1価の脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよく、飽和及び不飽和のいずれでもよい。例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロノニル基、シクロドデシル基等のシクロアルキル基、ノルボニル基、アダマンチル基等が挙げられる。
1価の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、2−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、4−エチルフェニル基、4−プロピルフェニル基、4−イソプロピルフェニル基、4−ブチルフェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、4−ヘキシルフェニル基、4−シクロヘキシルフェニル基、アントリル基、p−アダマンチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、2,6−ジエチルフェニル基、2−メチル−6−エチルフェニル等のアリール基等が挙げられる。
これらを組合せることにより形成される基としては、アルキル−シクロアルキル基、シクロアルキル−アルキル基、アラルキル基(例えば、フェニルメチル基、1−フェニルエチル基、2−フェニルエチル基、1−フェニル−1−プロピル基、1−フェニル−2−プロピル基、2−フェニル−2−プロピル基、3−フェニル−1−プロピル基、4−フェニル−1−ブチル基、5−フェニル−1−ペンチル基、6−フェニル−1−ヘキシル基等)等が挙げられる。
In the weak acid intramolecular salt (D), the hydrocarbon groups of RD1 and RD2 include monovalent aliphatic hydrocarbon groups, monovalent alicyclic hydrocarbon groups, and monovalent aromatic hydrocarbon groups. Examples thereof include groups formed by combining these.
Examples of the monovalent aliphatic hydrocarbon group include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group and nonyl group.
The monovalent alicyclic hydrocarbon group may be either monocyclic or polycyclic, and may be saturated or unsaturated. Examples thereof include cycloalkyl groups such as cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclononyl group and cyclododecyl group, norbonyl group and adamantyl group.
Examples of the monovalent aromatic hydrocarbon group include phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 4-ethylphenyl group and 4-. Propylphenyl group, 4-isopropylphenyl group, 4-butylphenyl group, 4-tert-butylphenyl group, 4-hexylphenyl group, 4-cyclohexylphenyl group, anthryl group, p-adamantylphenyl group, trill group, xsilyl group , Cumenyl group, mesityl group, biphenyl group, phenanthryl group, aryl group such as 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl and the like.
Examples of the group formed by combining these groups include an alkyl-cycloalkyl group, a cycloalkyl-alkyl group, and an aralkyl group (for example, phenylmethyl group, 1-phenylethyl group, 2-phenylethyl group, 1-phenyl-). 1-propyl group, 1-phenyl-2-propyl group, 2-phenyl-2-propyl group, 3-phenyl-1-propyl group, 4-phenyl-1-butyl group, 5-phenyl-1-pentyl group, 6-Phenyl-1-hexyl group, etc.) and the like.

アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられる。
アシル基としては、アセチル基、プロパノイル基、ベンゾイル基、シクロヘキサンカルボニル基等が挙げられる。
アシルオキシ基としては、上記アシル基にオキシ基(−O−)が結合した基等が挙げられる。
アルコキシカルボニル基としては、上記アルコキシ基にカルボニル基(−CO−)が結合した基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。
Examples of the alkoxy group include a methoxy group and an ethoxy group.
Examples of the acyl group include an acetyl group, a propanoyl group, a benzoyl group, a cyclohexanecarbonyl group and the like.
Examples of the acyloxy group include a group in which an oxy group (−O−) is bonded to the above acyl group.
Examples of the alkoxycarbonyl group include a group in which a carbonyl group (−CO−) is bonded to the above alkoxy group.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom.

式(D)においては、RD1及びRD2は、互いに独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜4のアシル基、炭素数2〜4のアシルオキシ基、炭素数2〜4のアルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子であることが好ましい。
m’及びn’は、互いに独立に、0〜2の整数であることが好ましく、0であることがより好ましい。m’が2以上の場合、複数のRD1は同一であっても異なってもよく、n’が2以上の場合、複数のRD2は同一であっても異なってもよい。
In the formula (D), R D1 and R D2 are independent of each other, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and 2 to 2 carbon atoms. It is preferably an acyl group of 4, an acyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, a nitro group or a halogen atom.
m'and n'are preferably integers of 0 to 2 independently of each other, and more preferably 0. When m'is 2 or more, the plurality of R D1s may be the same or different, and when n'is 2 or more, the plurality of R D2s may be the same or different.

弱酸分子内塩(D)としては、以下の化合物が挙げられる。
Examples of the weak acid intramolecular salt (D) include the following compounds.

弱酸分子内塩(D)は、「Tetrahedron Vol. 45, No. 19, p6281-6296」に記載の方法で製造することができる。また、弱酸分子内塩(D)は、市販されている化合物を用いることができる。 The weak acid intramolecular salt (D) can be produced by the method described in "Tetrahedron Vol. 45, No. 19, p6281-6296". Further, as the weak acid intramolecular salt (D), a commercially available compound can be used.

クエンチャー(C)の含有率は、レジスト組成物の固形分中、好ましくは、0.01〜5質量%であり、より好ましく0.01〜4質量%であり、特に好ましく0.01〜3質量%である。 The content of the quencher (C) is preferably 0.01 to 5% by mass, more preferably 0.01 to 4% by mass, and particularly preferably 0.01 to 3% by mass, based on the solid content of the resist composition. It is mass%.

〈溶剤(E)〉
溶剤(E)の含有率は、通常レジスト組成物中90質量%以上、好ましくは92質量%以上、より好ましくは94質量%以上であり、通常99.9質量%以下、好ましくは99質量%以下である。溶剤(E)の含有率は、液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定できる。
<Solvent (E)>
The content of the solvent (E) is usually 90% by mass or more, preferably 92% by mass or more, more preferably 94% by mass or more, and usually 99.9% by mass or less, preferably 99% by mass or less in the resist composition. Is. The content of the solvent (E) can be measured by a known analytical means such as liquid chromatography or gas chromatography.

溶剤(E)としては、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル類;プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;乳酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル及びピルビン酸エチル等のエステル類;アセトン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン及びシクロヘキサノン等のケトン類;γ−ブチロラクトン等の環状エステル類;等が挙げられる。溶剤(E)は、1種を単独で含有してもよく、2種以上を含有してもよい。 Examples of the solvent (E) include glycol ether esters such as ethyl cellosolve acetate, methyl cellosolve acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate; glycol ethers such as propylene glycol monomethyl ether; ethyl lactate, butyl acetate, amyl acetate and ethyl pyruvate. Esters; ketones such as acetone, methylisobutylketone, 2-heptanone and cyclohexanone; cyclic esters such as γ-butyrolactone; and the like. The solvent (E) may contain one type alone or two or more types.

〈その他の成分〉
レジスト組成物は、必要に応じて、上述の成分以外の成分(以下「その他の成分(F)」という場合がある)を含有していてもよい。その他の成分(F)は、レジスト分野で公知の添加剤、例えば、増感剤、溶解抑止剤、界面活性剤、安定剤、染料等を利用できる。
<Other ingredients>
If necessary, the resist composition may contain components other than the above-mentioned components (hereinafter, may be referred to as "other components (F)"). As the other component (F), additives known in the field of resist, for example, sensitizers, dissolution inhibitors, surfactants, stabilizers, dyes and the like can be used.

〈レジスト組成物の調製〉
レジスト組成物は、樹脂(A)及び塩(I)、並びに、必要に応じて、樹脂(A)以外の樹脂、酸発生剤(B)、溶剤(E)、クエンチャー(C)及びその他の成分(F)を混合することにより調製することができる。混合順は任意であり、特に限定されるものではない。混合する際の温度は、10〜40℃から、樹脂等の種類や樹脂等の溶剤(E)に対する溶解度等に応じて適切な温度を選ぶことができる。混合時間は、混合温度に応じて、0.5〜24時間の中から適切な時間を選ぶことができる。なお、混合手段も特に制限はなく、攪拌混合等を用いることができる。
各成分を混合した後は、孔径0.003〜0.2μm程度のフィルターを用いてろ過することが好ましい。
<Preparation of resist composition>
The resist composition includes a resin (A) and a salt (I), and if necessary, a resin other than the resin (A), an acid generator (B), a solvent (E), a quencher (C), and other substances. It can be prepared by mixing the component (F). The mixing order is arbitrary and is not particularly limited. The temperature at the time of mixing can be selected from 10 to 40 ° C., depending on the type of resin or the like and the solubility of the resin or the like in the solvent (E). As the mixing time, an appropriate time can be selected from 0.5 to 24 hours depending on the mixing temperature. The mixing means is not particularly limited, and stirring and mixing or the like can be used.
After mixing each component, it is preferable to filter using a filter having a pore size of about 0.003 to 0.2 μm.

〈レジストパターンの製造方法〉
本発明のレジストパターンの製造方法は、
(1)本発明のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
(2)塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
(3)組成物層に露光する工程、
(4)露光後の組成物層を加熱する工程、及び
(5)加熱後の組成物層を現像する工程を含む。
<Manufacturing method of resist pattern>
The method for producing a resist pattern of the present invention is
(1) A step of applying the resist composition of the present invention on a substrate,
(2) A step of drying the applied composition to form a composition layer,
(3) Step of exposing the composition layer,
It includes (4) a step of heating the composition layer after exposure and (5) a step of developing the composition layer after heating.

レジスト組成物を基板上に塗布するには、スピンコーター等、通常、用いられる装置によって行うことができる。基板としては、シリコンウェハ等の無機基板が挙げられる。レジスト組成物を塗布する前に、基板を洗浄してもよいし、基板上に反射防止膜等を形成してもよい。 The resist composition can be applied onto the substrate by a commonly used device such as a spin coater. Examples of the substrate include an inorganic substrate such as a silicon wafer. Before applying the resist composition, the substrate may be washed, or an antireflection film or the like may be formed on the substrate.

塗布後の組成物を乾燥することにより、溶剤を除去し、組成物層を形成する。乾燥は、例えば、ホットプレート等の加熱装置を用いて溶剤を蒸発させること(いわゆるプリベーク)により行うか、あるいは減圧装置を用いて行う。加熱温度は50〜200℃であることが好ましく、加熱時間は10〜180秒間であることが好ましい。また、減圧乾燥する際の圧力は、1〜1.0×10Pa程度であることが好ましい。 By drying the applied composition, the solvent is removed and a composition layer is formed. Drying is carried out, for example, by evaporating the solvent using a heating device such as a hot plate (so-called prebaking), or by using a decompression device. The heating temperature is preferably 50 to 200 ° C., and the heating time is preferably 10 to 180 seconds. The pressure at the time of vacuum drying is preferably about 1~1.0 × 10 5 Pa.

得られた組成物層に、通常、露光機を用いて露光する。露光機は、液浸露光機であってもよい。露光光源としては、KrFエキシマレーザ(波長248nm)、ArFエキシマレーザ(波長193nm)、Fエキシマレーザ(波長157nm)のような紫外域のレーザ光を放射するもの、固体レーザ光源(YAG又は半導体レーザ等)からのレーザ光を波長変換して遠紫外域または真空紫外域の高調波レーザ光を放射するもの、電子線や、超紫外光(EUV)を照射するもの等、種々のものを用いることができる。尚、本明細書において、これらの放射線を照射することを総称して「露光」という場合がある。露光の際、通常、求められるパターンに相当するマスクを介して露光が行われる。露光光源が電子線の場合は、マスクを用いずに直接描画により露光してもよい。 The obtained composition layer is usually exposed to an exposure machine. The exposure machine may be an immersion exposure machine. The exposure light source, which emits laser light in a UV-region such as a KrF excimer laser (wavelength 248 nm), ArF excimer laser (wavelength 193 nm), F 2 excimer laser (wavelength 157 nm), solid-state laser source (YAG or semiconductor laser Etc.), wavelength-converted laser light from far-ultraviolet region or vacuum ultraviolet region to emit harmonic laser light, electron beam, super-ultraviolet light (EUV) irradiation, etc. Can be done. In addition, in this specification, irradiation of these radiations may be generically referred to as "exposure". At the time of exposure, the exposure is usually performed through a mask corresponding to the required pattern. When the exposure light source is an electron beam, the exposure may be performed by drawing directly without using a mask.

露光後の組成物層を、酸不安定基における脱保護反応を促進するために加熱処理(いわゆるポストエキスポジャーベーク)を行う。加熱温度は、通常50〜200℃程度、好ましくは70〜150℃程度である。 The composition layer after exposure is heat-treated (so-called post-exposure baking) to promote the deprotection reaction at the acid unstable group. The heating temperature is usually about 50 to 200 ° C, preferably about 70 to 150 ° C.

加熱後の組成物層を、通常、現像装置を用いて、現像液を利用して現像する。現像方法としては、ディップ法、パドル法、スプレー法、ダイナミックディスペンス法等が挙げられる。現像温度は5〜60℃であることが好ましく、現像時間は5〜300秒間であることが好ましい。現像液の種類を以下のとおりに選択することにより、ポジ型レジストパターン又はネガ型レジストパターンを製造できる。 The composition layer after heating is usually developed using a developing solution using a developing device. Examples of the developing method include a dip method, a paddle method, a spray method, and a dynamic dispense method. The developing temperature is preferably 5 to 60 ° C., and the developing time is preferably 5 to 300 seconds. A positive resist pattern or a negative resist pattern can be produced by selecting the type of developer as follows.

レジスト組成物からポジ型レジストパターンを製造する場合は、現像液としてアルカリ現像液を用いる。アルカリ現像液は、この分野で用いられる各種のアルカリ性水溶液であればよい。テトラメチルアンモニウムヒドロキシドや(2−ヒドロキシエチル)トリメチルアンモニウムヒドロキシド(通称コリン)の水溶液等が挙げられる。アルカリ現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。
現像後レジストパターンを超純水で洗浄し、次いで、基板及びパターン上に残った水を除去することが好ましい。
When a positive resist pattern is produced from a resist composition, an alkaline developer is used as the developer. The alkaline developer may be any alkaline aqueous solution used in this field. Examples thereof include an aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide and (2-hydroxyethyl) trimethylammonium hydroxide (commonly known as choline). The alkaline developer may contain a surfactant.
After development, it is preferable to wash the resist pattern with ultrapure water and then remove the substrate and water remaining on the pattern.

レジスト組成物からネガ型レジストパターンを製造する場合は、現像液として有機溶剤を含む現像液(以下「有機系現像液」という場合がある)を用いる。
有機系現像液に含まれる有機溶剤としては、2−ヘキサノン、2−ヘプタノン等のケトン系溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル系溶剤;酢酸ブチル等のエステル系溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル系溶剤;N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤;アニソール等の芳香族炭化水素系溶剤等が挙げられる。
有機系現像液中、有機溶剤の含有率は、90質量%以上100質量%以下であることが好ましく、95質量%以上100質量%以下であることがより好ましく、実質的に有機溶剤のみであることがさらに好ましい。
有機系現像液としては、酢酸ブチル及び/又は2−ヘプタノンを含む現像液が好ましい。有機系現像液が、酢酸ブチル及び2−ヘプタノンを含有する場合、その合計含有率は、50質量%以上100質量%以下であることが好ましく、90質量%以上100質量%以下であることがより好ましく、実質的に酢酸ブチル及び/又は2−ヘプタノンのみであることがさらに好ましい。
有機系現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。また、有機系現像液には、微量の水分が含まれていてもよい。
現像の際、有機系現像液とは異なる種類の溶剤に置換することにより、現像を停止してもよい。
When a negative resist pattern is produced from a resist composition, a developer containing an organic solvent (hereinafter, may be referred to as "organic developer") is used as the developer.
Examples of the organic solvent contained in the organic developing solution include ketone solvents such as 2-hexanone and 2-heptanone; glycol ether ester solvents such as propylene glycol monomethyl ether acetate; ester solvents such as butyl acetate; propylene glycol monomethyl ether. Glycol ether solvents such as, amide solvents such as N, N-dimethylacetamide; aromatic hydrocarbon solvents such as anisole, and the like.
The content of the organic solvent in the organic developer is preferably 90% by mass or more and 100% by mass or less, more preferably 95% by mass or more and 100% by mass or less, and is substantially only the organic solvent. Is even more preferable.
As the organic developer, a developer containing butyl acetate and / or 2-heptanone is preferable. When the organic developer contains butyl acetate and 2-heptanone, the total content thereof is preferably 50% by mass or more and 100% by mass or less, and more preferably 90% by mass or more and 100% by mass or less. Preferably, it is substantially only butyl acetate and / or 2-heptanone.
The organic developer may contain a surfactant. Further, the organic developer may contain a small amount of water.
At the time of development, the development may be stopped by substituting with a solvent of a type different from that of the organic developer.

現像後のレジストパターンをリンス液で洗浄することが好ましい。リンス液としては、レジストパターンを溶解しないものであれば特に制限はなく、一般的な有機溶剤を含む溶液を使用することができ、好ましくはアルコール系溶剤又はエステル系溶剤を用いることができる。
洗浄後は、基板及びパターン上に残ったリンス液を除去することが好ましい。
It is preferable to wash the developed resist pattern with a rinse solution. The rinsing solution is not particularly limited as long as it does not dissolve the resist pattern, and a solution containing a general organic solvent can be used, and an alcohol solvent or an ester solvent can be preferably used.
After cleaning, it is preferable to remove the rinse liquid remaining on the substrate and the pattern.

〈用途〉
本発明のレジスト組成物は、KrFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、ArFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、電子線(EB)露光用のレジスト組成物又はEUV露光用のレジスト組成物、特にArFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物として好適であり、半導体の微細加工に有用である。
<Use>
The resist composition of the present invention includes a resist composition for KrF excimer laser exposure, a resist composition for ArF excimer laser exposure, a resist composition for electron beam (EB) exposure, or a resist composition for EUV exposure, particularly ArF. It is suitable as a resist composition for excimer laser exposure and is useful for fine processing of semiconductors.

実施例を挙げて、さらに具体的に説明する。例中、含有量ないし使用量を表す「%」及び「部」は、特記しないかぎり質量基準である。
重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで下記条件により求めた値である。
装置:HLC−8120GPC型(東ソー社製)
カラム:TSKgel Multipore HXL-M x 3 + guardcolumn(東ソー社製)
溶離液:テトラヒドロフラン
流量:1.0mL/min
検出器:RI検出器
カラム温度:40℃
注入量:100μL
分子量標準:標準ポリスチレン(東ソー社製)
A more specific description will be given with reference to examples. In the examples, "%" and "part" representing the content or the amount used are based on mass unless otherwise specified.
The weight average molecular weight is a value obtained by gel permeation chromatography under the following conditions.
Equipment: HLC-8120GPC type (manufactured by Tosoh)
Column: TSKgel Multipore H XL -M x 3 + guardcolumn (manufactured by Tosoh)
Eluent: tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL / min
Detector: RI detector Column temperature: 40 ° C
Injection volume: 100 μL
Molecular weight standard: Standard polystyrene (manufactured by Tosoh)

また、化合物の構造は、質量分析(LCはAgilent製1100型、MASSはAgilent製LC/MSD型)を用い、分子ピークを測定することで確認した。以下の実施例ではこの分子ピークの値を「MASS」で示す。 The structure of the compound was confirmed by measuring the molecular peak using mass analysis (LC: Agilent 1100 type, MASS: Agilent LC / MSD type). In the following examples, the value of this molecular peak is indicated by "MASS".

実施例1:式(I−1)で表される塩の合成
式(I−1−a)で表される塩4.76部、式(I−1−b)で表される化合物0.80部及びクロロホルム40部を添加し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I−1−c)で表される化合物0.02部を添加し、さらに、60℃で72時間還流攪拌することにより、式(I−1−d)で表される塩を含む反応混合物を得た。
Example 1: Synthesis of salt represented by formula (I-1)
4.76 parts of the salt represented by the formula (I-1-a), 0.80 parts of the compound represented by the formula (I-1-b) and 40 parts of chloroform were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. .. 0.02 part of the compound represented by the formula (I-1-c) was added to the obtained mixed solution, and the mixture was further stirred at 60 ° C. for 72 hours under the formula (I-1-d). A reaction mixture containing the salt represented was obtained.

式(I−1−d)で表される塩を含む反応混合物に、式(I−1−a)で表される塩4.76部及び式(I−1−c)で表される化合物0.02部を添加し、さらに、60℃で72時間還流攪拌した。得られた反応マスを23℃まで冷却し、5%シュウ酸水溶液15部を加えて23℃で30分間攪拌し、分液して有機層を取り出した。回収された有機層にイオン交換水15部を加えて23℃で30分間攪拌し、分液して有機層を取り出した。この操作を5回繰り返した。得られた有機層をろ過し、回収されたろ液を濃縮し、得られた残渣に、アセトニトリル3部及びtert−ブチルメチルエーテル80部を加えて、30分間攪拌し、ろ過することにより、式(I−1−e)で表される塩3.48部を得た。
In the reaction mixture containing the salt represented by the formula (I-1-d), 4.76 parts of the salt represented by the formula (I-1-a) and the compound represented by the formula (I-1-c) are added. 0.02 part was added, and the mixture was further refluxed and stirred at 60 ° C. for 72 hours. The obtained reaction mass was cooled to 23 ° C., 15 parts of a 5% oxalic acid aqueous solution was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, separated and the organic layer was taken out. 15 parts of ion-exchanged water was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, separated to remove the organic layer. This operation was repeated 5 times. The obtained organic layer was filtered, the recovered filtrate was concentrated, 3 parts of acetonitrile and 80 parts of tert-butyl methyl ether were added to the obtained residue, and the mixture was stirred for 30 minutes and filtered. 3.48 parts of salt represented by I-1-e) was obtained.

式(I−1−e)で表される塩2.20部及び1,2−ジクロロエタン20部を仕込み、23℃で30分間攪拌した。その後、式(I−1−f)で表される化合物2.77部及びp−トルエンスルホン酸0.15部を添加し、100℃で、3時間還流攪拌した。得られた反応物を23℃まで冷却し、クロロホルム60部及び8.7%炭酸水素ナトリウム水溶液17.7部を加え、23℃で30分間攪拌した。その後、静置し、分液した。回収された有機層に、イオン交換水30部を仕込み23℃で30分間攪拌し、分液することにより有機層を回収した。この水洗の操作を5回行った。得られた有機層に活性炭0.50部を仕込み、23℃で30分間攪拌し、ろ過した。ろ液を濃縮することにより、式(I−1)で表される塩2.21部を得た。 2.20 parts of the salt represented by the formula (I-1-e) and 20 parts of 1,2-dichloroethane were charged and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. Then, 2.77 parts of the compound represented by the formula (I-1-f) and 0.15 parts of p-toluenesulfonic acid were added, and the mixture was refluxed and stirred at 100 ° C. for 3 hours. The obtained reaction product was cooled to 23 ° C., 60 parts of chloroform and 17.7 parts of an 8.7% aqueous sodium hydrogen carbonate solution were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. Then, it was allowed to stand and the liquid was separated. 30 parts of ion-exchanged water was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and separated to recover the organic layer. This washing operation was performed 5 times. 0.50 part of activated carbon was charged into the obtained organic layer, stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and filtered. By concentrating the filtrate, 2.21 parts of a salt represented by the formula (I-1) was obtained.

MS(ESI(+)Spectrum):M 386.2
MS(ESI(−)Spectrum):M 467.1
MS (ESI (+) Spectrum): M + 386.2
MS (ESI (-) Spectrum): M - 467.1

実施例2:式(I−2)で表される塩の合成
式(I−2−a)で表される塩4.87部、式(I−2−b)で表される化合物0.80部及びクロロホルム40部を添加し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I−2−c)で表される化合物0.02部を添加し、さらに、60℃で72時間還流攪拌することにより、式(I−2−d)で表される塩を含む反応混合物を得た。
Example 2: Synthesis of salt represented by formula (I-2)
4.87 parts of the salt represented by the formula (I-2-a), 0.80 part of the compound represented by the formula (I-2-b) and 40 parts of chloroform were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. .. 0.02 part of the compound represented by the formula (I-2-c) was added to the obtained mixed solution, and the mixture was further stirred at 60 ° C. for 72 hours under the formula (I-2-d). A reaction mixture containing the salt represented was obtained.

式(I−2−d)で表される塩を含む反応混合物に、式(I−2−e)で表される塩4.76部及び式(I−2−c)で表される化合物0.02部を添加し、さらに、60℃で72時間還流攪拌した。得られた反応マスを23℃まで冷却し、5%シュウ酸水溶液15部を加えて23℃で30分間攪拌し、分液して有機層を取り出した。回収された有機層にイオン交換水15部を加えて23℃で30分間攪拌し、分液して有機層を取り出した。
この操作を5回繰り返した。得られた有機層をろ過し、回収されたろ液を濃縮し、得られた残渣に、アセトニトリル3部及びtert−ブチルメチルエーテル80部を加えて、30分間攪拌し、ろ過することにより、式(I−2−f)で表される塩3.16部を得た。
In the reaction mixture containing the salt represented by the formula (I-2-d), 4.76 parts of the salt represented by the formula (I-2-e) and the compound represented by the formula (I-2-c). 0.02 part was added, and the mixture was further refluxed and stirred at 60 ° C. for 72 hours. The obtained reaction mass was cooled to 23 ° C., 15 parts of a 5% oxalic acid aqueous solution was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, separated and the organic layer was taken out. 15 parts of ion-exchanged water was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes to separate the liquids, and the organic layer was taken out.
This operation was repeated 5 times. The obtained organic layer was filtered, the recovered filtrate was concentrated, 3 parts of acetonitrile and 80 parts of tert-butyl methyl ether were added to the obtained residue, and the mixture was stirred for 30 minutes and filtered. 3.16 parts of salt represented by I-2-f) was obtained.

式(I−2−f)で表される塩2.24部及び1,2−ジクロロエタン20部を仕込み、23℃で30分間攪拌した。その後、式(I−2−g)で表される化合物1.39部及びp−トルエンスルホン酸0.08部を添加し、100℃で、1時間還流攪拌した。得られた反応物を23℃まで冷却し、クロロホルム30部及び8.7%炭酸水素ナトリウム水溶液8.9部を加え、23℃で30分間攪拌した。その後、静置し、分液した。回収された有機層に、イオン交換水30部を仕込み23℃で30分間攪拌し、分液することにより有機層を回収した。この水洗の操作を5回行った。得られた有機層に活性炭0.50部を仕込み、23℃で30分間攪拌し、ろ過した。回収されたろ液を濃縮し、得られた残渣に、アセトニトリル10部を添加攪拌し、濃縮した。得られた残渣に、tert−ブチルメチルエーテル20部を加えて23℃で30分間攪拌し、上澄み液を除去し、濃縮することにより、式(I−2)で表される塩1.98部を得た。 2.24 parts of the salt represented by the formula (I-2-f) and 20 parts of 1,2-dichloroethane were charged and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. Then, 1.39 parts of the compound represented by the formula (I-2-g) and 0.08 parts of p-toluenesulfonic acid were added, and the mixture was stirred at 100 ° C. for 1 hour. The obtained reaction product was cooled to 23 ° C., 30 parts of chloroform and 8.9 parts of an 8.7% aqueous sodium hydrogen carbonate solution were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. Then, it was allowed to stand and the liquid was separated. 30 parts of ion-exchanged water was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and separated to recover the organic layer. This washing operation was performed 5 times. 0.50 part of activated carbon was charged into the obtained organic layer, stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and filtered. The recovered filtrate was concentrated, and 10 parts of acetonitrile was added to the obtained residue, and the mixture was stirred and concentrated. To the obtained residue, 20 parts of tert-butyl methyl ether was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes to remove the supernatant and concentrated to obtain 1.98 parts of a salt represented by the formula (I-2). Got

MS(ESI(+)Spectrum):M 386.2
MS(ESI(−)Spectrum):M 467.1
MS(ESI(−)Spectrum):M 339.1
MS (ESI (+) Spectrum): M + 386.2
MS (ESI (-) Spectrum): M - 467.1
MS (ESI (-) Spectrum): M - 339.1

実施例3:式(I−3)で表される塩の合成
式(I−3−a)で表される化合物50部、式(I−3−b)で表される化合物11.92部及びクロロホルム350部を仕込み、23℃で30分間攪拌した後、酢酸銅(II)0.20部を仕込み、80℃で2時間還流した後、濃縮した。回収された濃縮物に、tert−ブチルメチルエーテル440部を加えて攪拌した後、ろ過することにより、式(I−3−c)で表される塩33.08部を得た。
Example 3: Synthesis of salt represented by formula (I-3)
50 parts of the compound represented by the formula (I-3-a), 11.92 parts of the compound represented by the formula (I-3-b) and 350 parts of chloroform were charged, stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then acetic acid. 0.20 part of copper (II) was charged, refluxed at 80 ° C. for 2 hours, and then concentrated. 440 parts of tert-butyl methyl ether was added to the recovered concentrate, stirred, and then filtered to obtain 33.08 parts of a salt represented by the formula (I-3-c).

式(I−3−c)で表される塩3.82部及びクロロホルム60部を仕込んだ後、式(I−3−d)で表される塩9.21部及びイオン交換水30部を仕込み、23℃で12時間攪拌した。得られた反応液を分液して有機層を取り出した。回収された有機層にイオン交換水30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を2回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、得られた残渣に、tert−ブチルメチルエーテル30部を加えて攪拌し、上澄み液を除去した。得られた残渣を濃縮することにより、式(I−3−e)で表される塩4.28部を得た。 After charging 3.82 parts of the salt represented by the formula (I-3-c) and 60 parts of chloroform, 9.21 parts of the salt represented by the formula (I-3-d) and 30 parts of ion-exchanged water were added. The mixture was charged and stirred at 23 ° C. for 12 hours. The obtained reaction solution was separated and the organic layer was taken out. After adding 30 parts of ion-exchanged water to the recovered organic layer and stirring at 23 ° C. for 30 minutes, the liquid was separated and the organic layer was taken out. This washing operation was repeated twice. The obtained organic layer was concentrated, and 30 parts of tert-butyl methyl ether was added to the obtained residue and stirred to remove the supernatant. By concentrating the obtained residue, 4.28 parts of a salt represented by the formula (I-3-e) was obtained.

式(I−3−a)で表される塩5.29部及びクロロホルム60部を仕込んだ後、式(I−3−d)で表される塩9.21部及びイオン交換水30部を仕込み、23℃で12時間攪拌した。得られた反応液を分液して有機層を取り出した。回収された有機層にイオン交換水30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を2回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、得られた残渣に、tert−ブチルメチルエーテル30部を加えて攪拌し、上澄み液を除去した。得られた残渣を濃縮することにより、式(I−3−f)で表される塩8.14部を得た。 After charging 5.29 parts of the salt represented by the formula (I-3-a) and 60 parts of chloroform, 9.21 parts of the salt represented by the formula (I-3-d) and 30 parts of ion-exchanged water were added. The mixture was charged and stirred at 23 ° C. for 12 hours. The obtained reaction solution was separated and the organic layer was taken out. After adding 30 parts of ion-exchanged water to the recovered organic layer and stirring at 23 ° C. for 30 minutes, the liquid was separated and the organic layer was taken out. This washing operation was repeated twice. The obtained organic layer was concentrated, and 30 parts of tert-butyl methyl ether was added to the obtained residue and stirred to remove the supernatant. By concentrating the obtained residue, 8.14 parts of a salt represented by the formula (I-3-f) was obtained.

式(I−3−e)で表される塩3.92部、式(I−3−f)で表される塩4.85部及び式(I−1−c)で表される化合物0.02部を添加し、さらに、60℃で72時間還流攪拌した。得られた反応マスを23℃まで冷却し、5%シュウ酸水溶液15部を加えて23℃で30分間攪拌し、分液して有機層を取り出した。回収された有機層にイオン交換水15部を加えて23℃で30分間攪拌し、分液して有機層を取り出した。この操作を5回繰り返した。得られた有機層をろ過し、回収されたろ液を濃縮し、得られた残渣に、アセトニトリル3部及びtert−ブチルメチルエーテル50部を加えて、30分間攪拌し、ろ過することにより、式(I−3−g)で表される塩5.65部を得た。
3.92 parts of salt represented by formula (I-3-e), 4.85 parts of salt represented by formula (I-3-f) and compound 0 represented by formula (I-1-c). .02 parts were added, and the mixture was further refluxed and stirred at 60 ° C. for 72 hours. The obtained reaction mass was cooled to 23 ° C., 15 parts of a 5% oxalic acid aqueous solution was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, separated and the organic layer was taken out. 15 parts of ion-exchanged water was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, separated to remove the organic layer. This operation was repeated 5 times. The obtained organic layer was filtered, the recovered filtrate was concentrated, 3 parts of acetonitrile and 50 parts of tert-butyl methyl ether were added to the obtained residue, and the mixture was stirred for 30 minutes and filtered. 5.65 parts of salt represented by I-3-g) was obtained.

式(I−3−g)で表される塩2.26部及び1,2−ジクロロエタン20部を仕込み、23℃で30分間攪拌した。その後、式(I−1−f)で表される化合物2.77部及びp−トルエンスルホン酸0.15部を添加し、100℃で、3時間還流攪拌した。得られた反応物を23℃まで冷却し、クロロホルム60部及び8.7%炭酸水素ナトリウム水溶液17.7部を加え、23℃で30分間攪拌した。その後、静置し、分液した。回収された有機層に、イオン交換水30部を仕込み23℃で30分間攪拌し、分液することにより有機層を回収した。この水洗の操作を5回行った。得られた有機層に活性炭0.50部を仕込み、23℃で30分間攪拌し、ろ過した。ろ液を濃縮することにより、式(I−1)で表される塩2.21部を得た。 2.26 parts of the salt represented by the formula (I-3-g) and 20 parts of 1,2-dichloroethane were charged and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. Then, 2.77 parts of the compound represented by the formula (I-1-f) and 0.15 parts of p-toluenesulfonic acid were added, and the mixture was refluxed and stirred at 100 ° C. for 3 hours. The obtained reaction product was cooled to 23 ° C., 60 parts of chloroform and 17.7 parts of an 8.7% aqueous sodium hydrogen carbonate solution were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. Then, it was allowed to stand and the liquid was separated. 30 parts of ion-exchanged water was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and separated to recover the organic layer. This washing operation was performed 5 times. 0.50 part of activated carbon was charged into the obtained organic layer, stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and filtered. By concentrating the filtrate, 2.21 parts of a salt represented by the formula (I-1) was obtained.

MS(ESI(+)Spectrum):M 386.2
MS(ESI(−)Spectrum):M 481.1
MS (ESI (+) Spectrum): M + 386.2
MS (ESI (-) Spectrum): M - 481.1

合成例1:式(B1−5)で表される塩の合成
Synthesis example 1: Synthesis of salt represented by the formula (B1-5)

式(B1−5−a)で表される塩50.49部及びクロロホルム252.44部を反応器に仕込み、23℃で30分間攪拌し、式(B1−5−b)で表される化合物16.27部を滴下し、23℃で1時間攪拌することにより、式(B1−5−c)で表される塩を含む溶液を得た。得られた式(B1−5−c)で表される塩を含む溶液に、式(B1−5−d)で表される塩48.80部及びイオン交換水84.15部を添加し、23℃で12時間攪拌した。得られた反応液が2層に分離していたので、クロロホルム層を分液して取り出し、さらに、このクロロホルム層にイオン交換水84.15部を添加し、水洗した。この操作を5回繰り返した。得られたクロロホルム層に、活性炭3.88部を添加攪拌し、ろ過した。回収されたろ液を濃縮し、得られた残渣に、アセトニトリル125.87部を添加攪拌し、濃縮した。得られた残渣に、アセトニトリル20.62部及びtert−ブチルメチルエーテル309.30部を加えて23℃で30分間攪拌し、上澄み液を除去し、濃縮した。得られた残渣に、n−ヘプタン200部を添加、23℃で30分間攪拌し、ろ過することにより、式(B1−5)で表される塩61.54部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M 375.2
MASS(ESI(−)Spectrum):M 339.1
50.49 parts of salt represented by the formula (B1-5-a) and 252.44 parts of chloroform were charged into the reactor, stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and the compound represented by the formula (B1-5-b). 16.27 parts were added dropwise, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 1 hour to obtain a solution containing a salt represented by the formula (B1-5-c). To the obtained solution containing the salt represented by the formula (B1-5-c), 48.80 parts of the salt represented by the formula (B1-5-d) and 84.15 parts of ion-exchanged water were added. The mixture was stirred at 23 ° C. for 12 hours. Since the obtained reaction solution was separated into two layers, the chloroform layer was separated and taken out, and 84.15 parts of ion-exchanged water was further added to the chloroform layer and washed with water. This operation was repeated 5 times. 3.88 parts of activated carbon was added to the obtained chloroform layer, stirred, and filtered. The recovered filtrate was concentrated, and 125.87 parts of acetonitrile was added to the obtained residue, and the mixture was stirred and concentrated. To the obtained residue, 20.62 parts of acetonitrile and 309.30 parts of tert-butyl methyl ether were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes to remove the supernatant and concentrated. To the obtained residue, 200 parts of n-heptane was added, stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and filtered to obtain 61.54 parts of a salt represented by the formula (B1-5).
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 375.2
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 339.1

合成例2[式(B1−21)で表される塩の合成]
特開2008−209917号公報に記載された方法によって得られた式(B1−21−b)で表される化合物30.00部、式(B1−21−a)で表される塩35.50部、クロロホルム100部及びイオン交換水50部を仕込み、23℃で15時間攪拌した。
得られた反応液が2層に分離していたので、クロロホルム層を分液して取り出し、更に、このクロロホルム層にイオン交換水30部を添加し、水洗した。この操作を5回繰り返した。クロロホルム層を濃縮し、得られた残渣に、tert−ブチルメチルエーテル100部を加えて23℃で30分間攪拌した後、ろ過することにより、式(B1−21−c)で表される塩48.57部を得た。
Synthesis Example 2 [Synthesis of salt represented by formula (B1-21)]
30.00 parts of the compound represented by the formula (B1-21-b) obtained by the method described in JP-A-2008-209917, and the salt 35.50 represented by the formula (B1-21-a). 100 parts of chloroform and 50 parts of ion-exchanged water were charged and stirred at 23 ° C. for 15 hours.
Since the obtained reaction solution was separated into two layers, the chloroform layer was separated and taken out, and 30 parts of ion-exchanged water was further added to the chloroform layer and washed with water. This operation was repeated 5 times. The chloroform layer is concentrated, 100 parts of tert-butyl methyl ether is added to the obtained residue, the mixture is stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then filtered to obtain a salt 48 represented by the formula (B1-21-c). Obtained .57 copies.

式(B1−21−c)で表される塩20.00部、式(B1−21−d)で表される化合物2.84部及びモノクロロベンゼン250部を仕込み、23℃で30分間攪拌した。
得られた混合液に、二安息香酸銅(II)0.21部を添加した後、さらに、100℃で1時間攪拌した。得られた反応溶液を濃縮した。得られた残渣に、クロロホルム200部及びイオン交換水50部を加えて23℃で30分間攪拌し、分液して有機層を取り出した。回収された有機層にイオン交換水50部を加えて23℃で30分間攪拌し、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、得られた残渣に、アセトニトリル53.51部に溶解し、濃縮した。その後、tert−ブチルメチルエーテル113.05部を加えて攪拌し、ろ過することにより、式(B1−21)で表される塩10.47部を得た。
20.00 parts of the salt represented by the formula (B1-21-c), 2.84 parts of the compound represented by the formula (B1-21-d) and 250 parts of monochlorobenzene were charged and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. ..
After adding 0.21 part of copper (II) dibenzoate to the obtained mixed solution, the mixture was further stirred at 100 ° C. for 1 hour. The obtained reaction solution was concentrated. To the obtained residue, 200 parts of chloroform and 50 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and separated to remove the organic layer. 50 parts of ion-exchanged water was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. The obtained organic layer was concentrated, and the obtained residue was dissolved in 53.51 parts of acetonitrile and concentrated. Then, 113.05 parts of tert-butyl methyl ether was added, stirred, and filtered to obtain 10.47 parts of the salt represented by the formula (B1-21).

MASS(ESI(+)Spectrum):M 237.1
MASS(ESI(−)Spectrum):M 339.1
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 237.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 339.1

合成例3[式(B1−22)で表される塩の合成]
式(B1−22−a)で表される塩11.26部、式(B1−22−b)で表される化合物10.00部、クロロホルム50部及びイオン交換水25部を仕込み、23℃で15時間攪拌した。得られた反応液が2層に分離していたので、クロロホルム層を分液して取り出し、さらに、このクロロホルム層にイオン交換水15部を添加し、水洗した。この操作を5回繰り返した。クロロホルム層を濃縮し、得られた残渣に、tert−ブチルメチルエーテル50部を加えて23℃で30分間攪拌し、ろ過することにより、式(B1−22−c)で表される塩11.75部を得た。
Synthesis Example 3 [Synthesis of salt represented by formula (B1-22)]
11.26 parts of salt represented by the formula (B1-22-a), 10.00 parts of the compound represented by the formula (B1-22-b), 50 parts of chloroform and 25 parts of ion-exchanged water were charged and 23 ° C. Was stirred for 15 hours. Since the obtained reaction solution was separated into two layers, the chloroform layer was separated and taken out, and 15 parts of ion-exchanged water was further added to the chloroform layer and washed with water. This operation was repeated 5 times. The chloroform layer is concentrated, 50 parts of tert-butyl methyl ether is added to the obtained residue, the mixture is stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and filtered to obtain a salt represented by the formula (B1-22-c). We got 75 copies.

式(B1−22−c)で表される塩11.71部、式(B1−22−d)で表される化合物1.70部及びモノクロロベンゼン46.84部を仕込み、23℃で30分間攪拌した。得られた混合液に、二安息香酸銅(II)0.12部を添加し、さらに、100℃で30分間攪拌した。得られた反応溶液を濃縮した。得られた残渣に、クロロホルム50部及びイオン交換水12.50部を加えて23℃で30分間攪拌し、分液して有機層を取り出した。回収された有機層にイオン交換水12.50部を加えて23℃で30分間攪拌し、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を8回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、得られた残渣に、tert−ブチルメチルエーテル50部を加えて攪拌した。その後、ろ過することにより、式(B1−22)で表される塩6.84部を得た。 11.71 parts of the salt represented by the formula (B1-22-c), 1.70 parts of the compound represented by the formula (B1-22-d) and 46.84 parts of monochlorobenzene were charged and charged at 23 ° C. for 30 minutes. Stirred. To the obtained mixed solution, 0.12 part of copper (II) dibenzoate was added, and the mixture was further stirred at 100 ° C. for 30 minutes. The obtained reaction solution was concentrated. To the obtained residue, 50 parts of chloroform and 12.50 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and separated to remove the organic layer. 12.50 parts of ion-exchanged water was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 8 times. The obtained organic layer was concentrated, and 50 parts of tert-butyl methyl ether was added to the obtained residue and stirred. Then, by filtration, 6.84 parts of a salt represented by the formula (B1-22) was obtained.

MASS(ESI(+)Spectrum):M 237.1
MASS(ESI(−)Spectrum):M 323.0
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 237.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 323.0

樹脂の合成
樹脂(A)の合成に使用した化合物(モノマー)を下記に示す。以下、これらの化合物をその式番号に応じて、「モノマー(a1−1−3)」等という。
Synthesis of Resin The compounds (monomers) used for the synthesis of the resin (A) are shown below. Hereinafter, these compounds are referred to as "monomers (a1-1-3)" and the like according to their formula numbers.

合成例4:樹脂A1の合成
モノマーとして、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−9)、モノマー(a2−1−3)及びモノマー(a3−4−2)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−9):モノマー(a2−1−3):モノマー(a3−4−2)〕が45:14:2.5:38.5となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して各々、1mol%及び3mol%添加し、これらを73℃で約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量7.6×10の樹脂A1を収率68%で得た。この樹脂A1は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 4: Synthesis of Resin A1 As a monomer, a monomer (a1-1-3), a monomer (a1-2-9), a monomer (a2-1-3) and a monomer (a3-4-2) are used. The molar ratio [monomer (a1-1-3): monomer (a1-2-9): monomer (a2-1-3): monomer (a3-4-2)] is 45: 14: 2.5: 38. The mixture was mixed so as to have a concentration of 5, and propylene glycol monomethyl ether acetate 1.5% by mass of the total amount of the monomers was added to prepare a solution. To this solution, azobisisobutyronitrile and azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as initiators were added in an amount of 1 mol% and 3 mol%, respectively, based on the total amount of monomers, and these were heated at 73 ° C. for about 5 hours. did. The obtained reaction mixture was poured into a large amount of methanol / water mixed solvent to precipitate a resin, and the resin was filtered. The obtained resin is dissolved again in propylene glycol monomethyl ether acetate, and the obtained solution is poured into a methanol / water mixed solvent to precipitate the resin, and the resin is filtered. A resin A1 having a molecular weight of 7.6 × 10 3 was obtained in a yield of 68%. This resin A1 has the following structural units.

合成例5:樹脂X1の合成
モノマーとして、モノマー(a4−1−7)を用い、全モノマー量の1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して各々、0.7mol%及び2.1mol%添加し、これらを75℃で約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、ジオキサンに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量1.7×10の樹脂X1を収率77%で得た。この樹脂X1は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 5: Synthesis of resin X1 A monomer (a4-1-7) was used as a monomer, and methyl isobutyl ketone 1.5% by mass of the total amount of the monomer was added to prepare a solution. To this solution, 0.7 mol% and 2.1 mol% of azobisisobutyronitrile and azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as initiators were added to the total amount of the monomers, respectively, and these were added at 75 ° C. It was heated for about 5 hours. The obtained reaction mixture was poured into a large amount of methanol / water mixed solvent to precipitate a resin, and the resin was filtered. The obtained resin was dissolved in dioxane again, and the obtained solution was poured into a methanol / water mixed solvent to precipitate the resin, and the reprecipitation operation of filtering the resin was performed twice, and the weight average molecular weight was 1.7. The resin X1 of × 10 4 was obtained in a yield of 77%. This resin X1 has the following structural units.

合成例6:樹脂X2の合成
モノマーとして、モノマー(a4−0−12)を用い、全モノマー量の1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して各々、0.7mol%及び2.1mol%添加し、これらを75℃で約5時間加熱した。
得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過し、重量平均分子量1.5×10の樹脂X2を収率77%で得た。この樹脂X2は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 6: Synthesis of resin X2 A monomer (a4-0-12) was used as a monomer, and methyl isobutyl ketone 1.5% by mass of the total amount of the monomer was added to prepare a solution. To this solution, 0.7 mol% and 2.1 mol% of azobisisobutyronitrile and azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as initiators were added to the total amount of the monomers, respectively, and these were added at 75 ° C. It was heated for about 5 hours.
The reaction mixture obtained, the resin was precipitated by pouring into a large amount of methanol / water mixed solvent, the resin was filtered, to obtain a resin X2 of the weight average molecular weight 1.5 × 10 4 in 77% yield. This resin X2 has the following structural units.

合成例7:樹脂X3の合成
モノマーとして、モノマー(a5−1−1)及びモノマー(a4−0−12)を用い、そのモル比〔モノマー(a5−1−1):モノマー(a4−0−12)〕が50:50となるように混合し、全モノマー量の1.2質量倍のメチルイソブチルケトンを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して3mol%添加し、70℃で約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過し、重量平均分子量1.0×10の樹脂X3を収率91%で得た。この樹脂X3は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 7: Synthesis of resin X3 A monomer (a5-1-1) and a monomer (a4-0-12) are used as monomers, and the molar ratio thereof [monomer (a5-1-1): monomer (a4-0-). 12)] was mixed so that the ratio was 50:50, and methyl isobutyl ketone, which was 1.2% by mass of the total amount of monomers, was added to prepare a solution. Azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as an initiator was added to this solution in an amount of 3 mol% based on the total amount of monomers, and the solution was heated at 70 ° C. for about 5 hours. The reaction mixture obtained, the resin was precipitated by pouring into a large amount of methanol / water mixed solvent, the resin was filtered, to obtain a resin X3 of weight average molecular weight 1.0 × 10 4 in 91% yield. This resin X3 has the following structural units.

<レジスト組成物の調製>
表1に示すように、以下の各成分を混合し、得られた混合物を孔径0.2μmのフッ素樹脂製フィルターで濾過することにより、レジスト組成物を調製した。
<Preparation of resist composition>
As shown in Table 1, each of the following components was mixed, and the obtained mixture was filtered through a fluororesin filter having a pore size of 0.2 μm to prepare a resist composition.

<樹脂>
A1、X1〜X3:樹脂A1、樹脂X1〜樹脂X3
<酸発生剤>
I−1:式(I−1)で表される塩
I−2:式(I−2)で表される塩
I−3:式(I−3)で表される塩
B1−5:式(B1−5)で表される塩
B1−21:式(B1−21)で表される塩
B1−22:式(B1−22)で表される塩
B1−X1:特開2003−342254号公報の実施例に従って合成
B1−X2:特開2012−97074号公報の実施例に従って合成
<化合物(D)>
D1:(東京化成工業(株)製)
<溶剤>
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 265部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 20部
2−ヘプタノン 20部
γ−ブチロラクトン 3.5部
<Resin>
A1, X1 to X3: Resin A1, Resin X1 to Resin X3
<Acid generator>
I-1: Salt represented by formula (I-1) I-2: Salt represented by formula (I-2) I-3: Salt represented by formula (I-3) B1-5: Formula Salt represented by (B1-5) B1-21: Salt represented by formula (B1-21) B1-22: Salt represented by formula (B1-22) B1-X1: JP-A-2003-342254 Synthesized according to the examples in the publication
B1-X2: Synthesized according to the examples of JP2012-97074A.
<Compound (D)>
D1: (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.)
<Solvent>
Propylene glycol monomethyl ether acetate 265 parts Propylene glycol monomethyl ether 20 parts 2-Heptanone 20 parts γ-butyrolactone 3.5 parts

<レジストパターンの製造及びその評価>
12インチのシリコンウェハ上に、有機反射防止膜用組成物[ARC−29;日産化学(株)製]を塗布して、205℃、60秒の条件でベークすることによって、厚さ78nmの有機反射防止膜を形成した。次いで、前記の有機反射防止膜の上に、上記のレジスト組成物を乾燥(プリベーク)後の組成物層の膜厚が85nmとなるようにスピンコートした。レジスト組成物が塗布されたシリコンウェハをダイレクトホットプレート上にて、表1の「PB」欄に記載された温度で60秒間プリベークして、シリコンウェハ上に組成物層を形成した。
シリコンウェハ上に形成された組成物層に、液浸露光用ArFエキシマレーザステッパー[XT:1900Gi;ASML社製、NA=1.35、Dipole0.900/0.700 Y−pol.照明]で、トレンチパターン(ピッチ120nm/トレンチ40nm)を形成するためのマスクを用いて、露光量を段階的に変化させて露光した。なお、液浸媒体としては超純水を使用した。露光後、ホットプレート上にて、表1の「PEB」欄に記載された温度で60秒間ポストエキスポジャーベークを行った。次いで、加熱後の組成物層を、現像液として酢酸ブチル(東京化成工業(株)製)を用いて、23℃で20秒間ダイナミックディスペンス法によって現像を行うことにより、ネガ型レジストパターンを製造した。
<Manufacturing of resist pattern and its evaluation>
An organic antireflection film composition [ARC-29; manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.] is applied onto a 12-inch silicon wafer and baked at 205 ° C. for 60 seconds to obtain an organic thickness of 78 nm. An antireflection film was formed. Next, the resist composition was spin-coated on the organic antireflection film so that the film thickness of the composition layer after drying (prebaking) was 85 nm. The silicon wafer coated with the resist composition was prebaked on a direct hot plate at the temperature listed in the “PB” column of Table 1 for 60 seconds to form a composition layer on the silicon wafer.
ArF excimer laser stepper for immersion exposure [XT: 1900Gi; manufactured by ASML, NA = 1.35, Dipole 0.900 / 0.700 Y-pol. On a composition layer formed on a silicon wafer. In [Illumination], a mask for forming a trench pattern (pitch 120 nm / trench 40 nm) was used, and the exposure amount was changed stepwise for exposure. Ultrapure water was used as the immersion medium. After the exposure, post-exposure baking was performed on a hot plate at the temperature listed in the “PEB” column of Table 1 for 60 seconds. Next, the heated composition layer was developed by the dynamic dispense method at 23 ° C. for 20 seconds using butyl acetate (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) as a developing solution to produce a negative resist pattern. ..

得られたレジストパターンにおいて、トレンチパターンの線幅が40nmとなる露光量を実効感度とした。 In the obtained resist pattern, the exposure amount at which the line width of the trench pattern was 40 nm was defined as the effective sensitivity.

<フォーカスマージン評価(DOF)>
実効感度において、フォーカスを段階的に変化させて露光する以外は上記と同様の操作を行ってネガ型レジストパターンを製造した。得られたレジストパターンにおいて、トレンチパターンの幅が40nm±5%(38〜42nm)となるフォーカス範囲をDOF(nm)とした。結果を表2に示す。
<Focus margin evaluation (DOF)>
In terms of effective sensitivity, a negative resist pattern was manufactured by performing the same operation as above except that the focus was changed stepwise for exposure. In the obtained resist pattern, the focus range in which the width of the trench pattern was 40 nm ± 5% (38 to 42 nm) was defined as DOF (nm). The results are shown in Table 2.

上記の結果から、本発明のレジスト組成物によれば、フォーカスマージンが良好なパターンを形成できることがわかる。 From the above results, it can be seen that the resist composition of the present invention can form a pattern having a good focus margin.

本発明の塩、酸発生剤、レジスト組成物は、フォーカスマージンが良好なパターンを形成でき、半導体の微細加工に有用である。 The salt, acid generator, and resist composition of the present invention can form a pattern having a good focus margin and are useful for microfabrication of semiconductors.

Claims (9)

少なくとも1つの式(IA)で表されるアニオンと式(IC)で表されるカチオンとを有する塩。
[式(IA)中、
及びXは、互いに独立に、酸素原子又は硫黄原子を表す。
は、*−CH −CF −CH −*、*−CH −(CF −CH −*、*−CH −(CF −CH −*、*−CH −(CF −CH −*、*−CH −(CF −CH −*又は*−CH −(CF −CH −*を表す。*は、それぞれX 及びX との結合手を表す。
環Wは、式(Iaa−1)で表される環、式(Iaa−2)で表される環又は式(Iaa−3)で表される環を表す。
b1 は、以下のいずれかで表される基を表す。*は、環Wとの結合手を表す。
及びQ は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。]
[式(IC)中、
及びRは、互いに独立に、水素原子、ヒドロキシ基又は炭素数1〜12の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−で置き換わっていてもよい。
m及びnは、互いに独立に、1又は2を表す。mが2のとき、2つのRは同一であっても異なってもよく、nが2のとき、2つのRは同一であっても異なってもよい。
Ar及びArは、互いに独立に、置換基を有していてもよい炭素数6〜36の芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜36のヘテロ芳香族炭化水素基を表す。]
Salt having a cation represented by represented by at least one formula (IA) Rua anion of the formula (IC).
[In formula (IA) ,
X a and X b represent an oxygen atom or a sulfur atom independently of each other.
X 1 is, * -CH 2 -CF 2 -CH 2 - *, * - CH 2 - (CF 2) 2 -CH 2 - *, * - CH 2 - (CF 2) 3 -CH 2 - *, * -CH 2 - (CF 2) 4 -CH 2 - *, * - CH 2 - (CF 2) 5 -CH 2 - * or * -CH 2 - represents a * - (CF 2) 6 -CH 2. * Represents a bond with X a and X b , respectively .
The ring W represents a ring represented by the formula (Iaa-1), a ring represented by the formula (Iaa-2), or a ring represented by the formula (Iaa-3).
L b1 represents a group represented by any of the following. * Represents a bond with the ring W.
Q 1 and Q 2 independently represents a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms. ]
[In the formula (IC),
R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom, a hydroxy group, or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and −CH 2 − contained in the hydrocarbon group is −O− or −CO−. It may be replaced.
m and n represent 1 or 2 independently of each other. when m is 2, two R 1 may be the same or different, when n is 2, the two R 2 may be the same or different.
Ar 1 and Ar 2 are independently of each other, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 36 carbon atoms which may have a substituent or a heteroaromatic aromatic group having 6 to 36 carbon atoms which may have a substituent. Represents a hydrocarbon group. ]
(IA)で表されるアニオンを2つ有する請求項記載の塩。 Salt according to claim 1, further comprising two represented luer anions by the formula (IA). b1が、*−CO−O−又は*−CH−O−CO−(*は、−C(Q)(Q)−との結合手を表す。)である請求項1又は2記載の塩。 L b1 is, * - CO-O - or * -CH 2 -O-CO- (* is, -C (Q 1) (Q 2) -. Representing a bond to) a is claim 1 or 2. The salt described. 請求項1〜のいずれか記載の塩を有効成分として含有する酸発生剤。 An acid generator containing the salt according to any one of claims 1 to 3 as an active ingredient. 請求項記載の酸発生剤と、酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂とを含有するレジスト組成物。 A resist composition containing the acid generator according to claim 4 and a resin containing a structural unit having an acid unstable group. さらに、式(B1)で表される酸発生剤を含む請求項記載のレジスト組成物。
[式(B1)中、
、Q は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
b1 は、炭素数1〜24の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH −は−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Yは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数3〜18の1価の脂環式炭化水素基を表し、該1価の脂環式炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−、−SO−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
は、有機カチオンを表す。ただし、Zは、式(IC)で表されるカチオンを含まない。]
The resist composition according to claim 5 , further comprising an acid generator represented by the formula (B1).
[In equation (B1),
Q 1, Q 2, independently of each other, represent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
L b1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and -CH 2- contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-, and the saturated hydrocarbon may be replaced. The hydrogen atom contained in the hydrogen group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
Y represents a methyl group which may have a substituent or a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent, and the monovalent alicyclic hydrocarbon. -CH 2- contained in the hydrogen group may be replaced with -O-, -SO 2- or -CO-.
Z + represents an organic cation. However, Z + does not include the cation represented by the formula (IC). ]
さらに、フッ素原子を有する構造単位を含む樹脂を含有する請求項5又は6記載のレジスト組成物。 The resist composition according to claim 5 or 6 , further comprising a resin containing a structural unit having a fluorine atom. さらに、酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩を含有する請求項5〜7のいずれか記載のレジスト組成物。 The resist composition according to any one of claims 5 to 7 , further comprising a salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator. (1)請求項5〜8のいずれか記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
(2)塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
(3)組成物層に露光する工程、
(4)露光後の組成物層を加熱する工程、及び
(5)加熱後の組成物層を現像する工程
を含むレジストパターンの製造方法。
(1) A step of applying the resist composition according to any one of claims 5 to 8 onto a substrate.
(2) A step of drying the applied composition to form a composition layer,
(3) Step of exposing the composition layer,
A method for producing a resist pattern, which comprises a step of (4) heating the composition layer after exposure and (5) a step of developing the composition layer after heating.
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