JP6730072B2 - Salt, acid generator, resist composition, and method for producing resist pattern - Google Patents

Salt, acid generator, resist composition, and method for producing resist pattern Download PDF

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本発明は、塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法に関する。 The present invention relates to a salt, an acid generator, a resist composition and a method for producing a resist pattern.

特許文献1には、下記式で表される塩を酸発生剤として含有するレジスト組成物が記載されている。 Patent Document 1 describes a resist composition containing a salt represented by the following formula as an acid generator.

特開2012−97074号公報JP2012-97074A

上記の塩を含むレジスト組成物では、得られるレジストパターンのCD均一性(CDU)が必ずしも満足できない場合があった。 In the resist composition containing the above salt, the CD uniformity (CDU) of the obtained resist pattern may not always be satisfied.

本発明は、以下の発明を含む。
[1]式(aa)で表される基をカチオンに有する塩。
[式(aa)中、
及びXは、互いに独立に、酸素原子又は硫黄原子を表す。
は、少なくとも1つのフッ素原子を有する2価の炭素数1〜12の飽和炭化水素基を表す。
*は、結合手を表す。]
[2]式(aa)で表される基を有するカチオンが、式(aa1)で表される基を有するカチオンである[1]記載の塩。
[式(aa1)中、
、X、X及び*は、上記と同じ意味を表す。
環Wは、炭素数3〜36の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基又はスルホニル基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数1〜12の炭化水素基で置換されていてもよく、該炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置換されていてもよい。]
[3]式(aa1)で表される基を有するカチオンが、式(Ia)で表される基を有するカチオンである[2]記載の塩。
[式(Ia)中、
環W及び*は、上記と同じ意味を表す。
f1及びRf2は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のフッ化アルキル基を表す。
nは、1〜10の整数を表す。nが2以上のとき、複数存在するRf1及びRf2は、それぞれ同一であっても異なってもよい。]
[4]環Wが、式(Iaa−1)で表される環、式(Iaa−2)で表される環又は式(Iaa−3)で表される環である[2]又は[3]記載の塩。
[式(Iaa−1)、式(Iaa−2)及び式(Iaa−3)中、
環に含まれるメチレン基は酸素原子、硫黄原子、カルボニル基又はスルホニル基で置換されていてもよく、環に含まれる水素原子はヒドロキシ基、炭素数1〜12の炭化水素基で置換されていてもよく、該炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基で置換されていてもよい。]
[5]式(aa)で表される基をカチオンに有する塩が、式(aa33)で表されるカチオンを有する塩である[1]〜[4]のいずれかに記載の塩。
[式(aa33)中、X、X、X及びWは、上記と同じ意味を表す。
Xは、硫黄原子又はヨウ素原子を表す。
mは、0又は1の整数を表す。
Xが硫黄原子のとき、mは1であり、Xがヨウ素原子のとき、mは0である。
及びRは、互いに独立に、置換基を有してもよい炭素数1〜18の炭化水素基を表すか、R及びRは、それらが結合する硫黄原子と一緒になって複素環を形成していてもよい。
Lは、単結合又は炭素数1〜24の2価の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。]
[6]式(aa)で表される基をカチオンに有する塩が、式(aa3)で表されるカチオンを有する塩である[1]〜[5]のいずれか記載の塩。
[式(aa3)中、X、X、X及びWは、上記と同じ意味を表す。
Xは、硫黄原子又はヨウ素原子を表す。
mは、0又は1の整数を表す。
Xが硫黄原子のとき、mは1であり、Xがヨウ素原子のとき、mは0である。
及びRは、互いに独立に、置換基を有してもよい炭素数1〜18の炭化水素基を表すか、R及びRは、それらが結合する硫黄原子と一緒になって複素環を形成していてもよい。]
[7]アニオンが、有機アニオンである[1]〜[6]のいずれか記載の塩。
[8]アニオンが、式(I−A)で表されるアニオンである[1]〜[7]のいずれか記載の塩。
[式(I−A)中、Q及びQは、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
b1は、炭素数1〜24の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Yは、置換基を有していてもよい炭素数1〜18の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−、−S−、−SO−又は−CO−に置き換わっていてもよい。]
[9]式(aa)で表される基を、互いに独立に、カチオン及びアニオンに有する[1]〜[7]のいずれか記載の塩。
[式(aa)中、
、X、X及び*は、上記と同じ意味を表す。]
[10]アニオンが、式(aa2)で表されるアニオンである[8]又は[9]に記載の塩。
[式(aa2)中、
、Q、Lb1、X、X、X及びWは、上記と同じ意味を表す。]
[11]Lb1が、*−CO−O−(CH−又は*−CH−O−CO−であり、tは0〜6の整数を表し、*は、−C(Q)(Q)−との結合手を表す[8]又は[10]記載の塩。
[12][1]〜[11]のいずれか記載の塩を有効成分として含有する酸発生剤。
[13][12]に記載の酸発生剤と、酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂とを含有するレジスト組成物。
[14]さらに、式(B1)で表される酸発生剤を含む[13]に記載のレジスト組成物。
[式(B1)中、
、Qb1及びYは、上記と同じ意味を表す。
は、有機カチオンを表す。ただし、Zは式(aa)で表される基を含まない。]
[15]さらに、フッ素原子を有する構造単位を含む樹脂を含有する[13]又は[14]に記載のレジスト組成物。
[16]さらに、酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩を含有する[13]〜[15]のいずれか記載のレジスト組成物。
[17](1)[13]〜[16]のいずれか記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
(2)塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
(3)組成物層に露光する工程、
(4)露光後の組成物層を加熱する工程、及び
(5)加熱後の組成物層を現像する工程を含むレジストパターンの製造方法。
The present invention includes the following inventions.
[1] A salt having a cation having a group represented by the formula (aa).
[In the formula (aa),
X a and X b each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom.
X 1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and having at least one fluorine atom.
* Represents a bond. ]
[2] The salt according to [1], wherein the cation having a group represented by formula (aa) is a cation having a group represented by formula (aa1).
[In formula (aa1),
X a , X b , X 1 and * have the same meanings as described above.
Ring W represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, and the methylene group contained in the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group or a sulfonyl group. Well, the hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with a hydroxy group or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and the methylene group contained in the hydrocarbon group is an oxygen atom or It may be substituted with a carbonyl group. ]
[3] The salt according to [2], wherein the cation having a group represented by formula (aa1) is a cation having a group represented by formula (Ia).
[In the formula (Ia),
Rings W and * have the same meanings as above.
R f1 and R f2 each independently represent a fluorine atom or a fluorinated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
n represents an integer of 1 to 10. When n is 2 or more, a plurality of R f1 and R f2 may be the same or different. ]
[4] The ring W is a ring represented by the formula (Iaa-1), a ring represented by the formula (Iaa-2), or a ring represented by the formula (Iaa-3) [2] or [3]. ] The salt described.
[In Formula (Iaa-1), Formula (Iaa-2), and Formula (Iaa-3),
The methylene group contained in the ring may be substituted with an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group or a sulfonyl group, and the hydrogen atom contained in the ring may be substituted with a hydroxy group or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. Alternatively, the methylene group contained in the hydrocarbon group may be substituted with an oxygen atom or a carbonyl group. ]
[5] The salt according to any one of [1] to [4], wherein the salt having a group represented by formula (aa) in the cation is a salt having a cation represented by formula (aa33).
[In the formula (aa33), X a , X b , X 1 and W have the same meanings as described above.
X represents a sulfur atom or an iodine atom.
m represents an integer of 0 or 1.
When X is a sulfur atom, m is 1, and when X is an iodine atom, m is 0.
R 3 and R 4 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may have a substituent, or R 3 and R 4 together with the sulfur atom to which they are bound are It may form a heterocycle.
L represents a single bond or a divalent hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced with —O— or —CO—. ]
[6] The salt according to any one of [1] to [5], wherein the salt having a group represented by formula (aa) in the cation is a salt having a cation represented by formula (aa3).
[In the formula (aa3), X a , X b , X 1 and W have the same meanings as described above.
X represents a sulfur atom or an iodine atom.
m represents an integer of 0 or 1.
When X is a sulfur atom, m is 1, and when X is an iodine atom, m is 0.
R 3 and R 4 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may have a substituent, or R 3 and R 4 together with the sulfur atom to which they are bound are It may form a heterocycle. ]
[7] The salt according to any one of [1] to [6], wherein the anion is an organic anion.
[8] The salt according to any one of [1] to [7], wherein the anion is an anion represented by formula (IA).
[In formula (IA), Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
L b1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with —O— or —CO—. The hydrogen atom contained in the hydrogen group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
Y represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may have a substituent, -CH 2 contained in the saturated hydrocarbon group - is -O -, - S -, - SO 2 -Or-CO- may be substituted. ]
[9] The salt according to any one of [1] to [7], which has a group represented by the formula (aa) independently of each other in a cation and an anion.
[In the formula (aa),
X a , X b , X 1 and * have the same meanings as described above. ]
[10] The salt according to [8] or [9], wherein the anion is an anion represented by formula (aa2).
[In the formula (aa2),
Q 1 , Q 2 , L b1 , X a , X b , X 1 and W have the same meanings as described above. ]
[11] L b1 is, * - CO-O- (CH 2) t - or * -CH 2 is -O-CO-, t represents an integer of 0 to 6, and *, -C (Q 1 ) The salt of [8] or [10], which represents a bond with (Q 2 )-.
[12] An acid generator containing the salt according to any one of [1] to [11] as an active ingredient.
[13] A resist composition containing the acid generator according to [12] and a resin containing a structural unit having an acid labile group.
[14] The resist composition according to [13], further including an acid generator represented by formula (B1).
[In the formula (B1),
Q 1 , Q 2 L b1 and Y have the same meanings as described above.
Z + represents an organic cation. However, Z + does not include a group represented by the formula (aa). ]
[15] The resist composition according to [13] or [14], which further contains a resin containing a structural unit having a fluorine atom.
[16] The resist composition according to any one of [13] to [15], further containing a salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator.
[17] (1) A step of applying the resist composition according to any one of [13] to [16] onto a substrate,
(2) a step of drying the composition after coating to form a composition layer,
(3) exposing the composition layer
A method for producing a resist pattern, which comprises (4) a step of heating the composition layer after exposure, and (5) a step of developing the composition layer after heating.

良好なCD均一性(CDU)のレジストパターンを製造することができる塩を提供する。 Provided is a salt capable of producing a resist pattern having good CD uniformity (CDU).

本明細書では、特に断りのない限り、化合物の構造式の説明において「脂肪族炭化水素基」は直鎖状又は分岐状の炭化水素基を意味し、「脂環式炭化水素基」は脂環式炭化水素の環から価数に相当する数の水素原子を取り去った基を意味する。「芳香族炭化水素基」は芳香環に炭化水素基が結合した基をも包含する。立体異性体が存在する場合は、全ての立体異性体を包含する。
本明細書において、「(メタ)アクリル系モノマー」とは、「CH=CH−CO−」又は「CH=C(CH)−CO−」の構造を有するモノマーの少なくとも1種を意味する。同様に「(メタ)アクリレート」及び「(メタ)アクリル酸」とは、それぞれ「アクリレート及びメタクリレートの少なくとも1種」及び「アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも1種」を意味する。また、本明細書中に記載する基において、直鎖構造と分岐構造の両方をとり得るものについては、そのいずれでもよい。
本明細書において、「レジスト組成物の固形分」とは、レジスト組成物の総量から、後述する溶剤(E)を除いた成分の合計を意味する。
In the present specification, unless otherwise specified, in the description of the structural formula of the compound, “aliphatic hydrocarbon group” means a linear or branched hydrocarbon group, and “alicyclic hydrocarbon group” means an aliphatic hydrocarbon group. It means a group in which a number of hydrogen atoms corresponding to the valence is removed from the ring of a cyclic hydrocarbon. The "aromatic hydrocarbon group" also includes a group in which a hydrocarbon group is bonded to an aromatic ring. When stereoisomers are present, all stereoisomers are included.
In the present specification, "(meth) acrylic monomer" means at least one monomer having a "CH 2 = CH-CO-" or "CH 2 = C (CH 3) -CO- " structure of To do. Similarly, "(meth)acrylate" and "(meth)acrylic acid" mean "at least one of acrylate and methacrylate" and "at least one of acrylic acid and methacrylic acid", respectively. Further, in the groups described in the present specification, any of those having both a linear structure and a branched structure may be used.
In the present specification, the “solid content of the resist composition” means the total of components excluding the solvent (E) described below from the total amount of the resist composition.

<塩(aa)>
本発明の塩(以下「塩(aa)」という場合がある)は、式(aa)で表される基をカチオンに有する塩である。
[式(aa)中、
及びXは、互いに独立に、酸素原子又は硫黄原子を表す。
は、少なくとも1つのフッ素原子を有する2価の炭素数1〜12の飽和炭化水素基を表す。
*は、結合手を表す。]
<Salt (aa)>
The salt of the present invention (hereinafter sometimes referred to as “salt (aa)” is a salt having a group represented by the formula (aa) as a cation.
[In the formula (aa),
X a and X b each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom.
X 1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and having at least one fluorine atom.
* Represents a bond. ]

及びXは、同じ原子であることが好ましく、ともに酸素原子であることがより好ましい。
飽和炭化水素基としては、直鎖状アルカンジイル基、分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、これらの基のうち2種以上を組合せたものでもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ヘプタン−1,7−ジイル基、オクタン−1,8−ジイル基、ノナン−1,9−ジイル基、デカン−1,10−ジイル基、ウンデカン−1,11−ジイル基、ドデカン−1,12−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;
直鎖状アルカンジイル基に、アルキル基(特に、炭素数1〜4のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等)の側鎖を有したもの、例えば、ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基;
シクロブタン−1,3−ジイル基、シクロペンタン−1,3−ジイル基、シクロヘキサン−1,2−ジイル基、1−メチルシクロヘキサン−1,2−ジイル基、シクロヘキサン−1,4−ジイル基、シクロオクタン−1,2−ジイル基、シクロオクタン−1,5−ジイル基等のシクロアルカンジイル基である単環式の2価の脂環式飽和炭化水素基;
ノルボルナン−2,3−ジイル基、ノルボルナン−1,4−ジイル基、ノルボルナン−2,5−ジイル基、アダマンタン−1,5−ジイル基、アダマンタン−2,6−ジイル基等の多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。
また、2価の脂環式炭化水素基は、本願明細書において示される1価の脂環式炭化水素基から任意の1つの水素原子を除いた基であってもよい。
これら飽和炭化水素基に含まれる水素原子の少なくとも1つはフッ素原子で置き換わる。
X a and X b are preferably the same atom, and more preferably both oxygen atoms.
Examples of the saturated hydrocarbon group include a linear alkanediyl group, a branched alkanediyl group, a monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, and two or more kinds of these groups are included. It may be a combination of.
Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1. , 6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group A linear alkanediyl group such as a dodecane-1,12-diyl group;
An alkyl group (especially, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, etc.) to a linear alkanediyl group. Having a side chain of, for example, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group Group, a branched alkanediyl group such as a 2-methylbutane-1,4-diyl group;
Cyclobutane-1,3-diyl group, cyclopentane-1,3-diyl group, cyclohexane-1,2-diyl group, 1-methylcyclohexane-1,2-diyl group, cyclohexane-1,4-diyl group, cyclo A monocyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group which is a cycloalkanediyl group such as an octane-1,2-diyl group and a cyclooctane-1,5-diyl group;
Norbornane-2,3-diyl group, norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group, adamantane-2,6-diyl group and the like A divalent alicyclic saturated hydrocarbon group etc. are mentioned.
Further, the divalent alicyclic hydrocarbon group may be a group obtained by removing any one hydrogen atom from the monovalent alicyclic hydrocarbon group shown in the present specification.
At least one hydrogen atom contained in these saturated hydrocarbon groups is replaced with a fluorine atom.

塩(aa)におけるカチオンは、式(aa1)で表される基を有することが好ましい。
[式(aa1)中、
、X、X及び*は、上記と同じ意味を表す。
環Wは、炭素数3〜36の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基又はスルホニル基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基又は炭素数1〜12の炭化水素基で置換されていてもよく、該炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置換されていてもよい。]
The cation in the salt (aa) preferably has a group represented by the formula (aa1).
[In formula (aa1),
X a , X b , X 1 and * have the same meanings as described above.
The ring W represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, and the methylene group contained in the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group or a sulfonyl group. Well, the hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with a hydroxy group or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and the methylene group contained in the hydrocarbon group is an oxygen atom or It may be substituted with a carbonyl group. ]

環Wにおける炭素数3〜36の脂環式炭化水素基としては、式(Iaa−1)〜式(Iaa−11)で表される環が挙げられ、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基が好ましく、式(Iaa−1)で表される環、式(Iaa−2)で表される環又は式(Iaa−3)で表される環がより好ましい。
式(Iaa1−1)〜式(Iaa1−11)で表される環におけるいずれの炭素原子が、X及びXと結合していてもよく、いずれの炭素原子が、式(aa1)における*で表される結合手としてもよい。
なかでも、環Wは、式(Iaa−1)で表される環、式(Iaa−2)で表される環又は式(Iaa−3)で表される環であることが好ましく、以下の位置で結合手を有するものがより好ましい。
Examples of the alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms in the ring W include rings represented by formulas (Iaa-1) to (Iaa-11), and alicyclic carbon atoms having 3 to 18 carbon atoms. A hydrogen group is preferable, and a ring represented by formula (Iaa-1), a ring represented by formula (Iaa-2), or a ring represented by formula (Iaa-3) is more preferable.
Any carbon atom in the ring represented by formula (Iaa1-1) to formula (Iaa1-11) may be bonded to X a and X b, and any carbon atom may be represented by * in formula (aa1). It may be a bond represented by.
Among them, the ring W is preferably a ring represented by the formula (Iaa-1), a ring represented by the formula (Iaa-2) or a ring represented by the formula (Iaa-3), and Those having a bond at a position are more preferable.

式(Iaa−1)〜式(Iaa−11)の脂環式炭化水素基に置換されていてもよい炭素数1〜12の炭化水素基は、飽和炭化水素であることが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等の直鎖又は分岐の飽和炭化水素、フェニル基、ナフチル基などの芳香族炭化水素基及び下記に示す基等の環状飽和炭化水素が挙げられる。
The hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with the alicyclic hydrocarbon group of formula (Iaa-1) to formula (Iaa-11) is preferably a saturated hydrocarbon, for example, methyl. Group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group and other straight or branched saturated hydrocarbons, phenyl group, naphthyl group And aromatic hydrocarbon groups such as and cyclic saturated hydrocarbons such as the groups shown below.

式(Iaa−1)〜式(Iaa−11)における炭化水素基に含まれるメチレン基が、酸素原子又はカルボニル基で置換された基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、カルボキシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が挙げられる。
特に、環Wは、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基を置換基として有するものが好ましい。
The group in which the methylene group contained in the hydrocarbon group in formulas (Iaa-1) to (Iaa-11) is substituted with an oxygen atom or a carbonyl group is a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, pentyl. Examples thereof include an oxy group, a hexyloxy group, an octyloxy group, a 2-ethylhexyloxy group, a nonyloxy group, a decyloxy group, an undecyloxy group, a dodecyloxy group, a carboxyl group, a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group.
In particular, ring W preferably has a hydroxy group, an alkoxy group, or an alkoxycarbonyl group as a substituent.

式(aa1)で表される基を有するカチオンは、式(Ia)で表される基を有するカチオンであることが好ましい。
[式(Ia)中、
環W及び*は、上記と同じ意味を表す。
f1及びRf2は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のフッ化アルキル基を表す。
nは、1〜10の整数を表す。nが2以上のとき、複数存在するRf1及びRf2は、それぞれ同一であっても異なってもよい。]
The cation having a group represented by formula (aa1) is preferably a cation having a group represented by formula (Ia).
[In the formula (Ia),
Rings W and * have the same meanings as above.
R f1 and R f2 each independently represent a fluorine atom or a fluorinated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
n represents an integer of 1 to 10. When n is 2 or more, a plurality of R f1 and R f2 may be the same or different. ]

f1及びRf2のフッ化アルキル基としては、例えば、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、1,1−ジフルオロエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペルフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロプロピル基、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロプロピル基、ペルフルオロエチルメチル基、1−(トリフルオロメチル)−1,2,2,2−テトラフルオロエチル基、1−(トリフルオロメチル)−2,2,2−トリフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、1,1,2,2−テトラフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロブチル基、ペルフルオロブチル基、1,1−ビス(トリフルオロ)メチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、2−(ペルフルオロプロピル)エチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロペンチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5−デカフルオロペンチル基、1,1−ビス(トリフルオロメチル)−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、ペルフルオロペンチル基、2−(ペルフルオロブチル)エチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5−デカフルオロヘキシル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6−ドデカフルオロヘキシル基、ペルフルオロペンチルメチル基及びペルフルオロヘキシル基が挙げられる。なかでも、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等が好ましい。
f1及びRf2は、ともにフッ素原子であることが好ましい。
Examples of the fluorinated alkyl group for R f1 and R f2 include a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 1,1-difluoroethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, and a 2,2,2-trifluoroethyl group. , Perfluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoropropyl group, 1,1,2,2,3,3-hexafluoropropyl group, perfluoroethylmethyl group, 1-(trifluoromethyl)-1, 2,2,2-tetrafluoroethyl group, 1-(trifluoromethyl)-2,2,2-trifluoroethyl group, perfluoropropyl group, 1,1,2,2-tetrafluorobutyl group, 1,1 , 2,2,3,3-hexafluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutyl group, perfluorobutyl group, 1,1-bis(trifluoro)methyl- 2,2,2-trifluoroethyl group, 2-(perfluoropropyl)ethyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluoropentyl group, 1,1,2,2,3 , 3,4,4,5,5-decafluoropentyl group, 1,1-bis(trifluoromethyl)-2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, perfluoropentyl group, 2-(perfluoro Butyl)ethyl group, 1,1,2,2,3,3,4,5,5-decafluorohexyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5 A 6,6-dodecafluorohexyl group, a perfluoropentylmethyl group and a perfluorohexyl group can be mentioned. Of these, a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, a heptafluoropropyl group, a nonafluorobutyl group and the like are preferable.
Both R f1 and R f2 are preferably fluorine atoms.

nは、1〜8の整数であることが好ましく、1〜6の整数であることがより好ましく、1〜4の整数であることがさらに好ましく、1〜3の整数であることがより一層好ましい。なかでも、以下に表される−O−C−O−を含むことが好ましい。
n is preferably an integer of 1 to 8, more preferably an integer of 1 to 6, even more preferably an integer of 1 to 4, and even more preferably an integer of 1 to 3. .. Among them, it is preferable to contain the following —O—C—O—.

式(Ia)で表される基を有するカチオンとしては、有機オニウムカチオンが好ましく、例えば、有機スルホニウムカチオン、有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、ベンゾチアゾリウムカチオン、有機ホスホニウムカチオン等が挙げられ、好ましくは有機スルホニウムカチオン又は有機ヨードニウムカチオンが挙げられ、より好ましくはアリールスルホニウムカチオンが挙げられる。 The cation having a group represented by formula (Ia) is preferably an organic onium cation, and examples thereof include an organic sulfonium cation, an organic iodonium cation, an organic ammonium cation, a benzothiazolium cation, and an organic phosphonium cation. Are organic sulfonium cations or organic iodonium cations, more preferably arylsulfonium cations.

式(aa1)で表される基をカチオンに有する塩(aa)は、式(aa33)で表されるカチオンを有する塩であることが好ましく、式(aa3)で表されるカチオンを有する塩であることがより好ましい。
[式(aa33)中、X、X、X及びWは、上記と同じ意味を表す。
Xは、硫黄原子又はヨウ素原子を表す。
mは、0又は1の整数を表す。
Xが硫黄原子のとき、mは1であり、Xがヨウ素原子のとき、mは0である。
及びRは、互いに独立に、置換基を有してもよい炭素数1〜18の炭化水素基を表すか、R及びRは、それらが結合する硫黄原子と一緒になって複素環を形成していてもよい。
Lは、単結合又は炭素数1〜24の2価の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。]
The salt (aa) having a cation represented by the formula (aa1) is preferably a salt having a cation represented by the formula (aa33), and a salt having a cation represented by the formula (aa3). More preferably.
[In the formula (aa33), X a , X b , X 1 and W have the same meanings as described above.
X represents a sulfur atom or an iodine atom.
m represents an integer of 0 or 1.
When X is a sulfur atom, m is 1, and when X is an iodine atom, m is 0.
R 3 and R 4 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may have a substituent, or R 3 and R 4 together with the sulfur atom to which they are bound are It may form a heterocycle.
L represents a single bond or a divalent hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced with —O— or —CO—. ]

[式(aa3)中、
、X、X、W、X、R、R及びmは、上記と同じ意味を表す。]
[In the formula (aa3),
X a , X b , X 1 , W, X, R 3 , R 4 and m have the same meanings as described above. ]

Lで表される2価の炭化水素基としては、2価の脂肪族炭化水素基、2価の脂環式炭化水素基、2価の芳香族炭化水素基及びこれらの組み合わせた基が挙げられる。
2価の脂肪族炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基、ペンタンジイル基、ヘキサンジイル基等の炭素数1〜12のアルカンジイル基が挙げられる。
2価の脂環式炭化水素基としては、シクロペンタンジイル基、シクロヘキサンジイル基、シクロヘプタンジイル基、アダマンタンジイル基等が挙げられる。
2価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基等が挙げられる。
Lは、**−O−CH−CO−O−C−、**−CO−O−CH−CO−O−C−、**−O−CO−C−、**−O−CO−O−C−又は**−CO−O−C−であることが好ましく、**−O−CH−CO−O−C−又は**−CO−O−C−であることがより好ましい。**は、環Wとの結合手を表す。
Examples of the divalent hydrocarbon group represented by L include a divalent aliphatic hydrocarbon group, a divalent alicyclic hydrocarbon group, a divalent aromatic hydrocarbon group, and a combination thereof. ..
Examples of the divalent aliphatic hydrocarbon group include alkanediyl groups having 1 to 12 carbon atoms such as methylene group, ethylene group, propanediyl group, butanediyl group, pentanediyl group and hexanediyl group.
Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group include a cyclopentanediyl group, a cyclohexanediyl group, a cycloheptanediyl group and an adamantanediyl group.
Examples of the divalent aromatic hydrocarbon group include a phenylene group and a naphthylene group.
L is, ** - O-CH 2 -CO -O-C 6 H 4 -, ** - CO-O-CH 2 -CO-O-C 6 H 4 -, ** - O-CO-C 6 H 4 -, ** - O- CO-O-C 6 H 4 - or ** - CO-O-C 6 H 4 - is preferably, ** - O-CH 2 -CO -O-C 6 H 4 − or **-CO—O—C 6 H 4 — is more preferable. ** represents a bond with the ring W.

及びRの炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組合せた基が挙げられる。
脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、ヘプチル基、2−エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等のアルキル基が挙げられ、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基が挙げられる。
脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、p−メチルフェニル基、p−tert−ブチルフェニル基、p−アダマンチルフェニル基;トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、2,6−ジエチルフェニル基、2−メチル−6−エチルフェニル等のアリール基が挙げられる。
脂肪族炭化水素基と脂環式炭化水素基とを組合させた基としては、アルキルシクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基等が挙げられる。
Examples of the hydrocarbon group for R 3 and R 4 include an aliphatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a group in which these are combined.
Examples of the aliphatic hydrocarbon group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, heptyl group. Group, 2-ethylhexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, and other alkyl groups, and preferably has 1 to 6 carbon atoms.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a norbornyl group and an adamantyl group.
Examples of the aromatic hydrocarbon group include phenyl group, naphthyl group, anthryl group, p-methylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, p-adamantylphenyl group; tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group. And aryl groups such as biphenyl group, phenanthryl group, 2,6-diethylphenyl group, and 2-methyl-6-ethylphenyl.
Examples of the group obtained by combining the aliphatic hydrocarbon group and the alicyclic hydrocarbon group include an alkylcycloalkyl group and a cycloalkylalkyl group.

前記炭化水素基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数2〜4のアシル基及び炭素数2〜4のアシルオキシ基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
アシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
アシルオキシ基としては、例えば、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基及びブチリルオキシ基等が挙げられる。
Xは、硫黄原子であることが好ましい。
Examples of the substituent which the hydrocarbon group may have include a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an acyl group having 2 to 4 carbon atoms and an acyloxy group having 2 to 4 carbon atoms. Can be mentioned.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a decyloxy group and a dodecyloxy group.
Examples of the acyl group include an acetyl group, a propionyl group and a butyryl group.
Examples of the acyloxy group include an acetyloxy group, a propionyloxy group and a butyryloxy group.
X is preferably a sulfur atom.

及びRと、それらが結合する硫黄原子と一緒になって形成する複素環としては、以下の環が挙げられる。
Examples of the heterocycle formed by combining R 3 and R 4 and the sulfur atom to which they are bound include the following rings.

このようなカチオンとしては、下記のもの等が例示される。
Examples of such cations include the following.

塩(aa)は、有機アニオンを有する塩であることが好ましい。有機アニオンとしては、例えば、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン及びスルホニルメチドアニオン等が挙げられる。これらの中でも、スルホン酸アニオンが好ましく、式(I−A)で表されるアニオンがより好ましい。
[式(I−A)中、
及びQは、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
b1は、炭素数1〜24の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Yは、置換基を有していてもよい炭素数1〜18の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−、−S−、−SO−又は−CO−に置き換わっていてもよい。]
The salt (aa) is preferably a salt having an organic anion. Examples of the organic anion include sulfonate anion, sulfonylimide anion, and sulfonylmethide anion. Among these, the sulfonate anion is preferable, and the anion represented by the formula (IA) is more preferable.
[In the formula (IA),
Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C 1-6 perfluoroalkyl group.
L b1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with —O— or —CO—, and the saturated group The hydrogen atom contained in the hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
Y represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may have a substituent, -CH 2 contained in the saturated hydrocarbon group - is -O -, - S -, - SO 2 -Or-CO- may be substituted. ]

及びQのペルフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec−ブチル基、ペルフルオロtert−ブチル基、ペルフルオロペンチル基及びペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
及びQは、互いに独立に、フッ素原子又はトリフルオロメチル基であることが好ましく、Q及びQはともにフッ素原子であることがより好ましい。
The perfluoroalkyl group of Q 1 and Q 2 includes a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluoroisopropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorosec-butyl group, a perfluorotert-butyl group, a perfluoropentyl group and a perfluoroalkyl group. Hexyl group and the like can be mentioned.
Q 1 and Q 2 each independently is preferably a fluorine atom or a trifluoromethyl group, Q 1 and Q 2 is more preferably both fluorine atoms.

b1の2価の飽和炭化水素基としては、直鎖状アルカンジイル基、分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、これらの基のうち2種以上を組合せたものでもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ヘプタン−1,7−ジイル基、オクタン−1,8−ジイル基、ノナン−1,9−ジイル基、デカン−1,10−ジイル基、ウンデカン−1,11−ジイル基、ドデカン−1,12−ジイル基、トリデカン−1,13−ジイル基、テトラデカン−1,14−ジイル基、ペンタデカン−1,15−ジイル基、ヘキサデカン−1,16−ジイル基及びヘプタデカン−1,17−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;
エタン−1,1−ジイル基、プロパン−1,1−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、プロパン−2,2−ジイル基、ペンタン−2,4−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基;
シクロブタン−1,3−ジイル基、シクロペンタン−1,3−ジイル基、シクロヘキサン−1,4−ジイル基、シクロオクタン−1,5−ジイル基等のシクロアルカンジイル基である単環式の2価の脂環式飽和炭化水素基;
ノルボルナン−1,4−ジイル基、ノルボルナン−2,5−ジイル基、アダマンタン−1,5−ジイル基、アダマンタン−2,6−ジイル基等の多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group for L b1 include a linear alkanediyl group, a branched alkanediyl group, a monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, and A combination of two or more of the groups may be used.
Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1. , 7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group, dodecane-1,12-diyl group , Straight chain such as tridecane-1,13-diyl group, tetradecane-1,14-diyl group, pentadecane-1,15-diyl group, hexadecane-1,16-diyl group and heptadecane-1,17-diyl group An alkanediyl group;
Ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2,4-diyl group, 2-methylpropane- A branched alkanediyl group such as a 1,3-diyl group, a 2-methylpropane-1,2-diyl group, a pentane-1,4-diyl group, a 2-methylbutane-1,4-diyl group;
Monocyclic 2 which is a cycloalkanediyl group such as cyclobutane-1,3-diyl group, cyclopentane-1,3-diyl group, cyclohexane-1,4-diyl group, cyclooctane-1,5-diyl group and the like. Valent alicyclic saturated hydrocarbon group;
Polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon such as norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group and adamantane-2,6-diyl group Groups and the like.

b1の2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH−が−O−又は−CO−で置き換わった基としては、例えば、式(b1−1)〜式(b1−3)のいずれかで表される基が挙げられる。なお、式(b1−1)〜式(b1−3)及び下記の具体例において、*は−Yとの結合手を表す。 Examples of the group in which —CH 2 — contained in the divalent saturated hydrocarbon group of L b1 is replaced with —O— or —CO— include, for example, any of formula (b1-1) to formula (b1-3). And a group represented by. In formulas (b1-1) to (b1-3) and the following specific examples, * represents a bond with -Y.

[式(b1−1)中、
b2は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
b3は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb2とLb3との炭素数合計は、22以下である。
式(b1−2)中、
b4は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
b5は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb4とLb5との炭素数合計は、22以下である。
式(b1−3)中、
b6は、単結合又は炭素数1〜23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
b7は、単結合又は炭素数1〜23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb6とLb7との炭素数合計は、23以下である。]
[In the formula (b1-1),
L b2 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b3 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group. The methylene group contained in the hydrogen group may be replaced with an oxygen atom or a carbonyl group.
However, the total carbon number of L b2 and L b3 is 22 or less.
In formula (b1-2),
L b4 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b5 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group, The methylene group contained in the hydrogen group may be replaced with an oxygen atom or a carbonyl group.
However, the total carbon number of L b4 and L b5 is 22 or less.
In formula (b1-3),
L b6 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
L b7 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group. The methylene group contained in the hydrogen group may be replaced with an oxygen atom or a carbonyl group.
However, the total carbon number of L b6 and L b7 is 23 or less. ]

なお、式(b1−1)〜式(b1−3)においては、飽和炭化水素基に含まれるメチレン基が酸素原子又はカルボニル基に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該飽和炭化水素基の炭素数とする。
2価の飽和炭化水素基としては、Lb1の2価の飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。
In the formulas (b1-1) to (b1-3), when the methylene group contained in the saturated hydrocarbon group is replaced with an oxygen atom or a carbonyl group, the number of carbon atoms before replacement is the saturated hydrocarbon group. The carbon number of
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group include those similar to the divalent saturated hydrocarbon group of L b1 .

b2は、好ましくは単結合である。
b3は、好ましくは炭素数1〜4のアルカンジイル基である。
b4は、好ましくは炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
b5は、好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b6は、好ましくは単結合又は炭素数1〜4の2価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
b7は、好ましくは単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。
中でも、式(b1−1)又は式(b1−3)で表される基が好ましい。
L b2 is preferably a single bond.
L b3 is preferably an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms.
L b4 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b5 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b6 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b7 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group, The methylene group contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with an oxygen atom or a carbonyl group.
Especially, the group represented by Formula (b1-1) or Formula (b1-3) is preferable.

式(b1−1)としては、例えば、式(b1−4)〜式(b1−8)でそれぞれ表される基が挙げられる。
[式(b1−4)中、
b8は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
式(b1−5)中、
b9は、炭素数1〜20の2価の飽和炭化水素基を表す。
b10は、単結合又は炭素数1〜19の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb9及びLb10の合計炭素数は20以下である。
式(b1−6)中、
b11は、炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表す。
b12は、単結合又は炭素数1〜20の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb11及びLb12の合計炭素数は21以下である。
式(b1−7)中、
b13は、炭素数1〜19の2価の飽和炭化水素基を表す。
b14は、単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表す。
b15は、単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb13、Lb14及びLb15の合計炭素数は19以下である。
式(b1−8)中、
b16は、炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表す。
b17は、炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表す。
b18は、単結合又は炭素数1〜17の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb16、Lb17及びLb18の合計炭素数は19以下である。]
Examples of the formula (b1-1) include groups represented by formulas (b1-4) to (b1-8).
[In the formula (b1-4),
L b8 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
In formula (b1-5),
L b9 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
L b10 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
However, the total carbon number of L b9 and L b10 is 20 or less.
In formula (b1-6),
L b11 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L b12 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
However, the total carbon number of L b11 and L b12 is 21 or less.
In formula (b1-7),
L b13 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms.
L b14 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.
L b15 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
However, the total carbon number of L b13 , L b14, and L b15 is 19 or less.
In formula (b1-8),
L b16 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.
L b17 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.
L b18 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
However, the total carbon number of L b16 , L b17, and L b18 is 19 or less. ]

b8は、好ましくは炭素数1〜4の2価の飽和炭化水素基である。
b9は、好ましくは炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b10は、好ましくは単結合又は炭素数1〜19の2価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b11は、好ましくは炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b12は、好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b13は、好ましくは炭素数1〜12の2価の飽和炭化水素基である。
b14は、好ましくは単結合又は炭素数1〜6の2価の飽和炭化水素基である。
b15は、好ましくは単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b16は、好ましくは炭素数1〜12の2価の飽和炭化水素基を表す。
b17は、好ましくは炭素数1〜6の2価の飽和炭化水素基を表す。
b18は、好ましくは単結合又は炭素数1〜17の2価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数1〜4の2価の飽和炭化水素基を表す。
L b8 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
L b9 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b10 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b11 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b12 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b13 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
L b14 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
L b15 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b16 preferably represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
L b17 preferably represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
L b18 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.

式(b1−3)としては、例えば、式(b1−9)〜式(b1−11)でそれぞれ表される基が挙げられる。
[式(b1−9)中、
b19は、単結合又は炭素数1〜23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
b20は、単結合又は炭素数1〜23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子、ヒドロキシ基又はアシルオキシ基に置換されていてもよい。該アシルオキシ基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該アシルオキシ基に含まれる水素原子はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb19及びLb20の合計炭素数は23以下である。
式(b1−10)中、
b21は、単結合又は炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
b22は、単結合又は炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表す。
b23は、単結合又は炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子、ヒドロキシ基又はアシルオキシ基に置換されていてもよい。該アシルオキシ基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該アシルオキシ基に含まれる水素原子はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb21、Lb22及びLb23の合計炭素数は21以下である。
式(b1−11)中、
b24は、単結合又は炭素数1〜20の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
b25は、炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表す。
b26は、単結合又は炭素数1〜20の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子、ヒドロキシ基又はアシルオキシ基に置換されていてもよい。該アシルオキシ基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該アシルオキシ基に含まれる水素原子はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb24、Lb25及びLb26の合計炭素数は21以下である。]
Examples of formula (b1-3) include groups represented by formula (b1-9) to formula (b1-11).
[In formula (b1-9),
L b19 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b20 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an acyloxy group. The methylene group contained in the acyloxy group may be replaced with an oxygen atom or a carbonyl group, and the hydrogen atom contained in the acyloxy group may be replaced with a hydroxy group.
However, the total carbon number of L b19 and L b20 is 23 or less.
In formula (b1-10),
L b21 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b22 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L b23 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an acyloxy group. The methylene group contained in the acyloxy group may be replaced with an oxygen atom or a carbonyl group, and the hydrogen atom contained in the acyloxy group may be replaced with a hydroxy group.
However, the total carbon number of L b21 , L b22, and L b23 is 21 or less.
In formula (b1-11),
L b24 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b25 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L b26 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an acyloxy group. The methylene group contained in the acyloxy group may be replaced with an oxygen atom or a carbonyl group, and the hydrogen atom contained in the acyloxy group may be replaced with a hydroxy group.
However, L b24, the total number of carbon atoms of L b25 and L b26 is 21 or less. ]

なお、式(b1−9)から式(b1−11)においては、飽和炭化水素基に含まれる水素原子がアシルオキシ基に置換されている場合、アシルオキシ基の炭素数、エステル結合中のCO及びOの数をも含めて、該飽和炭化水素基の炭素数とする。 In the formulas (b1-9) to (b1-11), when the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with an acyloxy group, the number of carbon atoms in the acyloxy group, CO and O in the ester bond. The number of carbon atoms in the saturated hydrocarbon group is also included.

アシルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アダマンチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
置換基を有するアシルオキシ基としては、オキソアダマンチルカルボニルオキシ基、ヒドロキシアダマンチルカルボニルオキシ基、オキソシクロヘキシルカルボニルオキシ基、ヒドロキシシクロヘキシルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
Examples of the acyloxy group include an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, a cyclohexylcarbonyloxy group and an adamantylcarbonyloxy group.
Examples of the acyloxy group having a substituent include an oxoadamantylcarbonyloxy group, a hydroxyadamantylcarbonyloxy group, an oxocyclohexylcarbonyloxy group and a hydroxycyclohexylcarbonyloxy group.

式(b1−1)で表される基のうち、式(b1−4)で表される基としては、例えば、以下のものが挙げられる。
Among the groups represented by formula (b1-1), examples of the group represented by formula (b1-4) include the groups below.

式(b1−1)で表される基のうち、式(b1−5)で表される基としては、例えば、以下のものが挙げられる。
Among the groups represented by the formula (b1-1), examples of the group represented by the formula (b1-5) include the groups below.

式(b1−1)で表される基のうち、式(b1−6)で表される基としては、例えば、以下のものが挙げられる。
Among the groups represented by the formula (b1-1), examples of the group represented by the formula (b1-6) include the followings.

式(b1−1)で表される基のうち、式(b1−7)で表される基としては、例えば、以下のものが挙げられる。
Among the groups represented by formula (b1-1), examples of the group represented by formula (b1-7) include the groups below.

式(b1−1)で表される基のうち、式(b1−8)で表される基としては、例えば、以下のものが挙げられる。
Among the groups represented by the formula (b1-1), examples of the group represented by the formula (b1-8) include the following.

式(b1−2)で表される基としては、例えば、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-2) include the followings.

式(b1−3)で表される基のうち、式(b1−9)で表される基としては、例えば、以下のものが挙げられる。
Among the groups represented by the formula (b1-3), examples of the group represented by the formula (b1-9) include the groups below.

式(b1−3)で表される基のうち、式(b1−10)で表される基としては、例えば、以下のものが挙げられる。
Among the groups represented by the formula (b1-3), examples of the group represented by the formula (b1-10) include the groups below.

式(b1−3)で表される基のうち、式(b1−11)で表される基としては、例えば、以下のものが挙げられる。
Among the groups represented by the formula (b1-3), examples of the group represented by the formula (b1-11) include the groups below.

Yの飽和炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基(縮合環、スピロ環等を含む)又はこれらを組合せた基が挙げられる。
Yのアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、ヘプチル基、2−エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等のアルキル基が挙げられ、好ましくは、炭素数1〜6のアルキル基が挙げられる。
Yの脂環式炭化水素基としては、例えば、式(Y1)〜式(Y11)、式(Y42)〜式(Y44)で表される基が挙げられる。
Yのアルキル基及び脂環式炭化水素基を組合せた基としては、上述したアルキル基及び脂環式炭化水素基のそれぞれ1以上を任意の数、結合位置等で組合せた基が挙げられる。
Yの飽和炭化水素基は、飽和炭化水素基に含まれる1以上の−CH−が1以上の−O−、−S−、−SO−又は−CO−で置き換わっていてもよく、このような基としては、例えば、式(Y12)〜式(Y41)で表される基が挙げられる。
Examples of the saturated hydrocarbon group for Y include an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group (including a condensed ring, a spiro ring, and the like) or a group in which these are combined.
Examples of the alkyl group of Y include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, heptyl group, 2 Examples thereof include alkyl groups such as an ethylhexyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group, and a dodecyl group, and preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group of Y include groups represented by formula (Y1) to formula (Y11) and formula (Y42) to formula (Y44).
Examples of the group in which the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group of Y are combined include a group in which one or more of each of the above-described alkyl group and alicyclic hydrocarbon group are combined in an arbitrary number, a bonding position, and the like.
In the saturated hydrocarbon group for Y, one or more —CH 2 — contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with one or more —O—, —S—, —SO 2 — or —CO—. Examples of such groups include groups represented by formula (Y12) to formula (Y41).

Yにおいて、スピロ環を構成する2つの環のうちの一方を構成するヘテロ環は、例えば、ケタール構造を含んでいてもよいし、異なる炭素原子にそれぞれ酸素原子が結合した構造を含んでいてもよい。つまり、Yは、脂環式炭化水素基に含まれる水素原子2つがそれぞれ、酸素原子に置換され、その2つの酸素原子が炭素数1〜8のアルカンジイル基と一緒になってケタール環を形成してもよい。また、異なる炭素原子にそれぞれ酸素原子が結合した構造を含んでいてもよい。ただし、後述するように、式(Y28)〜式(Y35)等のスピロ環を構成する場合には、2つの酸素間のアルカンジイル基は、1以上のフッ素原子を有することが好ましい。また、ケタール構造に含まれるアルカンジイル基のうち、酸素原子に隣接するメチレン基には、フッ素原子が置換されていないものが好ましい。 In Y, the hetero ring forming one of the two rings forming the spiro ring may include, for example, a ketal structure, or may include a structure in which an oxygen atom is bonded to different carbon atoms. Good. That is, in Y, two hydrogen atoms contained in the alicyclic hydrocarbon group are respectively replaced by oxygen atoms, and the two oxygen atoms together with the alkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms form a ketal ring. You may. Moreover, the structure which the oxygen atom couple|bonded with each different carbon atom may be included. However, as will be described later, in the case of forming a spiro ring of formula (Y28) to formula (Y35) or the like, the alkanediyl group between two oxygen atoms preferably has one or more fluorine atoms. Further, among the alkanediyl groups contained in the ketal structure, it is preferable that the methylene group adjacent to the oxygen atom is not substituted with a fluorine atom.

なかでも、好ましくは式(Y1)〜式(Y20)、式(Y30)、式(Y31)のいずれかで表される基であり、より好ましくは式(Y11)、式(Y15)、式(Y16)又は式(Y20)、式(Y30)又は式(Y31)で表される基であり、さらに好ましくは式(Y11)、式(Y15)又は式(Y30)で表される基である。 Among them, a group represented by any one of formula (Y1) to formula (Y20), formula (Y30), and formula (Y31) is preferable, and more preferably formula (Y11), formula (Y15), and formula (Y15). Y16) or a group represented by formula (Y20), formula (Y30) or formula (Y31), and more preferably a group represented by formula (Y11), formula (Y15) or formula (Y30).

特に、Yの飽和炭化水素基は、式(aa)で表される基を含むものが好ましい。
[式(aa)中、X、X、X及び*は、上記と同じ意味を表す。]
例えば、鎖状の炭化水素基における炭素原子が式(aa)で表されるヘテロ環における炭素原子と共有された構造及び上述した式(Y27)〜(Y32)等で表されるように、スピロ環を構成する構造を含む。スピロ環を構成する2つの環は、上述した炭素数の範囲内での多員環とすることができる。ここでの多員環ではヘテロ原子の数も炭素数として数える。
In particular, the saturated hydrocarbon group of Y is preferably one containing a group represented by the formula (aa).
[In the formula (aa), X a , X b , X 1 and * represent the same meaning as described above. ]
For example, as represented by the structure in which the carbon atom in the chain hydrocarbon group is shared with the carbon atom in the heterocycle represented by formula (aa) and the above formulas (Y27) to (Y32), Includes structures that make up the ring. The two rings forming the spiro ring can be a multi-membered ring within the above-mentioned carbon number range. In the multi-membered ring here, the number of hetero atoms is also counted as the number of carbon atoms.

Yとしては、上述した基のほか、式(aa4)で表される基が挙げられる。
[式(aa4)中、X、X、Xは、上記と同じ意味を表す。
*は、Lb1との結合手を表す。
環Wは、置換基を有していてもよい炭素数3〜36の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基又はスルホニル基で置換されていてもよい。]
式(aa4)で表される基は、塩(aa)のカチオンにおける式(aa1)で表される基と同様のものが挙げられる。
環Wにおける置換基は、式(aa1)で表される基における環Wの脂環式炭化水素基の置換基と同様のもの、以下のアルキル基、脂環式炭化水素基の置換基と同様のものが挙げられる。なかでも、ヒドロキシ基、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基が好ましい。
Examples of Y include the groups represented by the formula (aa4), in addition to the groups described above.
[In the formula (aa4), X a , X b , and X 1 have the same meanings as described above.
* Represents a bond with L b1 .
Ring W represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms which may have a substituent, and the methylene group contained in the alicyclic hydrocarbon group is an oxygen atom, a sulfur atom or a carbonyl group. Alternatively, it may be substituted with a sulfonyl group. ]
Examples of the group represented by the formula (aa4) include the same groups as those represented by the formula (aa1) in the cation of the salt (aa).
The substituent in ring W is the same as the substituent of the alicyclic hydrocarbon group of ring W in the group represented by formula (aa1), the same as the following alkyl group and the substituent of the alicyclic hydrocarbon group. The following are listed. Of these, a hydroxy group, an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, and an aromatic hydrocarbon group are preferable.

Yのアルキル基の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数3〜16の脂環式炭化水素基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基、グリシジルオキシ基又は−(CHja−O−CO−Rb1基(式中、Rb1は、炭素数1〜16のアルキル基、炭素数3〜16の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜18の芳香族炭化水素基を表す。jaは、0〜4の整数を表す)等が挙げられる。
Yの脂環式炭化水素基の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜12のアルキル基、ヒドロキシ基含有炭素数1〜12のアルキル基、炭素数3〜16の脂環式炭化水素基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基、炭素数7〜21のアラルキル基、炭素数2〜4のアシル基、グリシジルオキシ基又は−(CHja−O−CO−Rb1基(式中、Rb1は、炭素数1〜16のアルキル基、炭素数3〜16の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜18の芳香族炭化水素基を表す。jaは、0〜4の整数を表す)等が挙げられる。
As the substituent of the alkyl group of Y, for example, a halogen atom, a hydroxy group, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, a glycidyloxy group or -(CH 2) ja -O-CO-R b1 group (wherein, R b1 represents an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, an aromatic alicyclic hydrocarbon group or a C6-18 3 to 16 carbon atoms carbide Represents a hydrogen group, and ja represents an integer of 0 to 4) and the like.
Examples of the substituent of the alicyclic hydrocarbon group of Y include a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a hydroxy group-containing alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and an aliphatic group having 3 to 16 carbon atoms. Cyclic hydrocarbon group, alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, aralkyl group having 7 to 21 carbon atoms, acyl group having 2 to 4 carbon atoms, glycidyloxy group or- (CH 2) ja -O-CO -R b1 group (wherein, R b1 represents an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, alicyclic hydrocarbon group or aromatic having 6 to 18 carbon atoms 3 to 16 carbon atoms Represents a group hydrocarbon group, and ja represents an integer of 0 to 4) and the like.

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
ヒドロキシ基含有アルキル基としては、例えば、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、p−メチルフェニル基、p−tert−ブチルフェニル基、p−アダマンチルフェニル基;トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、2,6−ジエチルフェニル基、2−メチル−6−エチルフェニル等のアリール基等が挙げられる。
アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基及びナフチルエチル基等が挙げられる。
アシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Examples of the hydroxy group-containing alkyl group include a hydroxymethyl group and a hydroxyethyl group.
Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a decyloxy group and a dodecyloxy group.
Examples of the aromatic hydrocarbon group include phenyl group, naphthyl group, anthryl group, p-methylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, p-adamantylphenyl group; tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group. And aryl groups such as biphenyl group, phenanthryl group, 2,6-diethylphenyl group, and 2-methyl-6-ethylphenyl.
Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a naphthylmethyl group and a naphthylethyl group.
Examples of the acyl group include an acetyl group, a propionyl group and a butyryl group.

Yとしては、例えば以下のものが挙げられる。
Examples of Y include the following.

Yは、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数3〜18の脂環式炭化水素基であり、より好ましく置換基を有していてもよいアダマンチル基であり、該脂環式炭化水素基又はアダマンチル基を構成するメチレン基は酸素原子、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Yは、さら特に好ましくはアダマンチル基、ヒドロキシアダマンチル基、オキソアダマンチル基又は下記で表される基である。
Y is preferably an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent, and more preferably an adamantyl group which may have a substituent. The methylene group constituting the hydrogen group or adamantyl group may be replaced with an oxygen atom, a sulfonyl group or a carbonyl group. Y is particularly preferably an adamantyl group, a hydroxyadamantyl group, an oxoadamantyl group or a group represented by the following.

式(I−A)で表されるアニオンとしては、式(I−A−1)〜式(I−A−46)で表されるアニオン〔以下、式番号に応じて「アニオン(I−A−1)」等という場合がある。〕が好ましく、式(I−A−1)〜式(I−A−4)、式(I−A−9)、式(I−A−10)、式(I−A−24)〜式(I−A−33)、式(I−A−36)〜式(I−A−40)のいずれかで表されるアニオンがより好ましい。また、Ri2〜Ri4は、例えば、炭素数1〜4のアルキル基であり、好ましくはメチル基である。Lは、例えば、単結合又は炭素数1〜4のアルカンジイル基である。Q及びQは、上記と同義である。 The anion represented by the formula (IA) is an anion represented by the formula (IA-1) to the formula (IA-46) [hereinafter, anion represented by the formula number is "anion (IA)". -1)" and so on. ] Are preferable, Formula (IA-1)-Formula (IA-4), Formula (IA-9), Formula (IA-10), Formula (IA-24)-Formula The anion represented by any one of (IA-33) and formula (IA-36) to formula (IA-40) is more preferable. Further, R i2 to R i4 are, for example, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and preferably a methyl group. L 4 is, for example, a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms. Q 1 and Q 2 are as defined above.

中でも、好ましいアニオンとしては、式(Ia−1)〜式(Ia−22)でそれぞれ表されるアニオンが挙げられる。
Among them, preferable anions include anions represented by formulas (Ia-1) to (Ia-22).

式(aa)で表される基を有するアニオンは、式(aa1)で表される基を有するアニオンがより好ましく、式(Ia)で表される基を有するアニオンであることがさらに好ましく、式(aa2)で表されるアニオンであることがより一層好ましい。 The anion having a group represented by the formula (aa) is more preferably an anion having a group represented by the formula (aa1), further preferably an anion having a group represented by the formula (Ia), The anion represented by (aa2) is even more preferable.

[式(aa2)中、
、Q、Lb1、X、X、X及びWは、上記と同じ意味を表す。]
[In the formula (aa2),
Q 1 , Q 2 , L b1 , X a , X b , X 1 and W have the same meanings as described above. ]

b1は、好ましくは2価の飽和炭化水素基を表し(該飽和単価水素基に含まれるメチレン基は−O−又は−CO−で置き換えられていてもよい。)、より好ましくは式(b1−4)で表される基又は式(b1−2)で表される基を表し、Lb4は炭素数1〜10のアルカンジイル基であり、Lb5は単結合であり、さらに好ましくは*−CO−O−(CH(tは0から6の整数を表す。*は、C(Q)(Q)への結合位を表す。)又は*−CH−O−CO−を表す(*は、C(Q)(Q)への結合位を表す。)。 L b1 preferably represents a divalent saturated hydrocarbon group (the methylene group contained in the saturated monovalent hydrogen group may be replaced with —O— or —CO—), and more preferably the formula (b1). -4) or a group represented by the formula (b1-2), L b4 is an alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms, L b5 is a single bond, and more preferably * -CO-O- (CH 2) t (t in. * is an integer from 0 to 6, C (Q 1) (representing the binding position to the Q 2).) or * -CH 2 -O-CO Represents-(* represents a bonding position to C(Q 1 )(Q 2 )).

式(aa2)で表されるアニオンとしては、下記のもの等が例示される。
Examples of the anion represented by the formula (aa2) include the followings.

塩は、上述したカチオン及びアニオンは、任意に組合せることができる。
塩(aa)としては、以下の塩が挙げられる。
As for the salt, the above-mentioned cation and anion can be arbitrarily combined.
Examples of the salt (aa) include the following salts.

<塩(aa)の製造方法>
式(aa3)で表されるカチオンと式(aa2)で表されるアニオンからなる塩(I)は、例えば、式(I−a)で表される塩と式(I−b)で表される化合物を、酸触媒下、溶剤中で反応させることにより製造することができる。
<Method for producing salt (aa)>
The salt (I) composed of a cation represented by the formula (aa3) and an anion represented by the formula (aa2) is represented by, for example, the salt represented by the formula (Ia) and the formula (Ib). The compound can be produced by reacting the compound with an acid catalyst in a solvent.

[式中、Q、Q、Lb1、W、R、R、X、X及びXは、上記と同じ意味を表す。] [In the formula, Q 1 , Q 2 , L b1 , W, R 3 , R 4 , X a , X b, and X 1 have the same meanings as described above. ]

この反応における酸触媒としては、p−トルエンスルホン酸等が挙げられる。
この反応における溶媒としては、クロロホルム、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
式(I−b)で表される化合物としては、2,2,3,3−テトラフルオロ−1,4−ブタンジオール等が挙げられ、市場より容易に入手することができる。
Examples of the acid catalyst in this reaction include p-toluenesulfonic acid.
Examples of the solvent in this reaction include chloroform, acetonitrile, dimethylformamide and the like.
Examples of the compound represented by the formula (Ib) include 2,2,3,3-tetrafluoro-1,4-butanediol and the like, which can be easily obtained from the market.

式(I−a)で表される塩は、式(I−c)で表される塩と式(I−d)で表される塩を、溶剤中で反応させることにより製造することができる。
The salt represented by the formula (Ia) can be produced by reacting the salt represented by the formula (Ic) with the salt represented by the formula (Id) in a solvent. ..

この反応における溶媒としては、クロロホルム、アセトニトリル、水等が挙げられる。
式(I−c)で表される塩としては、下記で表される塩等が挙げられ、市場より容易に入手することができる。
Examples of the solvent in this reaction include chloroform, acetonitrile, water and the like.
Examples of the salt represented by the formula (Ic) include the salts shown below and the like, which can be easily obtained from the market.

式(I−c)で表される塩は、特開2007−224008号公報に記載された方法で合成することができ、以下で表される塩などが挙げられる。
The salt represented by the formula (Ic) can be synthesized by the method described in JP2007-224008A, and examples thereof include the salts shown below.

<酸発生剤>
塩(aa)は、レジスト組成物中において、酸発生剤として作用させることができる。
本発明の酸発生剤としては、塩(aa)を単独で含有するものであってもよいし、塩(aa)と、レジスト分野で公知の酸発生剤(以下、酸発生剤(B)という場合がある。)とを含有していてもよい。酸発生剤においては、塩(aa)は、2種類以上を含有していてもよいし、酸発生剤(B)は、2種以上を含有してもよい。
酸発生剤が、酸発生剤(B)を含有する場合、酸発生剤における塩(aa)と酸発生剤(B)との含有量の比(質量比;塩(a):酸発生剤(B))は、通常1:99〜100:0であり、好ましくは1:99〜99:1であり、より好ましくは2:98〜98:2であり、さらに好ましくは5:95〜95:5である。
<Acid generator>
The salt (aa) can act as an acid generator in the resist composition.
The acid generator of the present invention may contain the salt (aa) alone, or may include the salt (aa) and an acid generator known in the resist field (hereinafter referred to as the acid generator (B)). In some cases.) and. In the acid generator, the salt (aa) may contain two or more kinds, and the acid generator (B) may contain two or more kinds.
When the acid generator contains the acid generator (B), the ratio of the contents of the salt (aa) and the acid generator (B) in the acid generator (mass ratio; salt (a): acid generator ( B)) is usually 1:99 to 100:0, preferably 1:99 to 99:1, more preferably 2:98 to 98:2, and further preferably 5:95 to 95:. It is 5.

<酸発生剤(B)>
酸発生剤は、非イオン系とイオン系とに分類されるが、本発明のレジスト組成物の酸発生剤(B)においては、いずれを用いてもよい。非イオン系酸発生剤には、有機ハロゲン化物、スルホネートエステル類(例えば2−ニトロベンジルエステル、芳香族スルホネート、オキシムスルホネート、N−スルホニルオキシイミド、スルホニルオキシケトン、ジアゾナフトキノン 4−スルホネート)、スルホン類(例えばジスルホン、ケトスルホン、スルホニルジアゾメタン)等が含まれる。イオン系酸発生剤は、オニウムカチオンを含むオニウム塩(例えばジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩)が代表的である。オニウム塩のアニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン等がある。
<Acid generator (B)>
The acid generator is classified into a nonionic type and an ionic type, and any of them may be used in the acid generator (B) of the resist composition of the present invention. Examples of the nonionic acid generator include organic halides, sulfonate esters (for example, 2-nitrobenzyl ester, aromatic sulfonate, oxime sulfonate, N-sulfonyloxyimide, sulfonyloxyketone, diazonaphthoquinone 4-sulfonate) and sulfones. (For example, disulfone, ketosulfone, sulfonyldiazomethane) and the like are included. The ionic acid generator is typically an onium salt containing an onium cation (eg, diazonium salt, phosphonium salt, sulfonium salt, iodonium salt). Examples of the anion of the onium salt include a sulfonate anion, a sulfonylimide anion and a sulfonylmethide anion.

酸発生剤(B)としては、特開昭63−26653号、特開昭55−164824号、特開昭62−69263号、特開昭63−146038号、特開昭63−163452号、特開昭62−153853号、特開昭63−146029号や、米国特許第3,779,778号、米国特許第3,849,137号、独国特許第3914407号、欧州特許第126,712号等に記載の放射線によって酸を発生する化合物を使用することができる。また、公知の方法で製造した化合物を使用してもよい。 Examples of the acid generator (B) include JP-A-63-26653, JP-A-55-164824, JP-A-62-69263, JP-A-63-146038, JP-A-63-163452, and JP-A-63-163452. JP-A-62-153853, JP-A-63-146029, US Pat. No. 3,779,778, US Pat. No. 3,849,137, German Patent 3914407, and European Patent 126,712. Compounds that generate an acid by the radiation described in etc. can be used. Moreover, you may use the compound manufactured by the well-known method.

酸発生剤(B)は、好ましくはフッ素含有酸発生剤であり、より好ましくは式(B1)で表される塩(以下「酸発生剤(B1)」という場合がある)である。 The acid generator (B) is preferably a fluorine-containing acid generator, more preferably a salt represented by the formula (B1) (hereinafter sometimes referred to as “acid generator (B1)”).

[式(B1)中、
、Q、Lb1及びYは、上記と同じ意味を表す。
は、有機カチオンを表す。ただし、Zは式(aa)で表される基を含まない。]
式(B1)におけるYは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数3〜18の脂環式炭化水素基(該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−、−S−、−SO−又は−CO−に置き換わっていてもよい。)であることが好ましい。
[In the formula (B1),
Q 1 , Q 2 , L b1 and Y have the same meanings as described above.
Z + represents an organic cation. However, Z + does not include a group represented by the formula (aa). ]
Y in the formula (B1) is a methyl group which may have a substituent or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent (included in the saturated hydrocarbon group. —CH 2 — may be replaced with —O—, —S—, —SO 2 — or —CO—).

具体的には、式(B1−1)〜式(B1−32)のいずれかで表される塩が挙げられる。中でもアリールスルホニウムカチオンを含むものが好ましく、式(B1−1)、式(B1−2)、式(B1−3)、式(B1−6)、式(B1−7)、式(B1−11)、式(B1−12)、式(B1−13)、式(B1−14)、式(B1−20)、式(B1−21)、式(B1−22)、式(B1−23)、式(B1−24)、式(B1−25)、式(B1−26)、式(B1−29)、式(B1−31)又は式(B1−32)のいずれかで表される塩がより好ましい。 Specifically, the salts represented by any of the formulas (B1-1) to (B1-32) can be mentioned. Among them, those containing an arylsulfonium cation are preferable, and formula (B1-1), formula (B1-2), formula (B1-3), formula (B1-6), formula (B1-7), formula (B1-11). ), formula (B1-12), formula (B1-13), formula (B1-14), formula (B1-20), formula (B1-21), formula (B1-22), formula (B1-23). , A salt represented by formula (B1-24), formula (B1-25), formula (B1-26), formula (B1-29), formula (B1-31) or formula (B1-32). Is more preferable.

<レジスト組成物>
本発明のレジスト組成物は、酸発生剤と酸不安定基を有する樹脂(以下「樹脂(A)」という場合がある)とを含有する。ここで、「酸不安定基」は、脱離基を有し、酸との接触により脱離基が脱離して、構成単位が親水性基(例えば、ヒドロキシ基又はカルボキシ基)を有する構成単位に変換する基を意味する。
酸発生剤としては、上述した酸発生剤を用いることができる。
レジスト組成物は、さらに、クエンチャー(以下「クエンチャー(C)」という場合がある)及び/又は溶剤(以下「溶剤(E)」という場合がある)を含有することが好ましい。
<Resist composition>
The resist composition of the present invention contains an acid generator and a resin having an acid labile group (hereinafter sometimes referred to as “resin (A)”). Here, the “acid-labile group” has a leaving group, the leaving group is released by contact with an acid, and the constituent unit has a hydrophilic group (for example, a hydroxy group or a carboxy group). Means a group to be converted to.
The acid generator described above can be used as the acid generator.
The resist composition preferably further contains a quencher (hereinafter sometimes referred to as “quencher (C)”) and/or a solvent (hereinafter sometimes referred to as “solvent (E)”).

<酸発生剤>
レジスト組成物において、酸発生剤の含有率は、樹脂(A)に対して、1〜40質量%であることが好ましく、2〜35質量%であることがより好ましく、3〜35質量%であることがさらに好ましい。
特に、酸発生剤として、塩(aa)のみを用いる場合、塩(aa)の含有率は、樹脂(A)に対して、1〜40質量%であることが好ましく、2〜35質量%であることがより好ましい。
酸発生剤として、塩(aa)及び酸発生剤(B)を用いる場合、塩(aa)及び酸発生剤(B)の含有率は、樹脂(A)に対して、好ましくは1.5質量%以上、より好ましくは3質量%以上であり、好ましくは40質量%以下、より好ましくは35質量%以下である。
<Acid generator>
In the resist composition, the content of the acid generator is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 2-35% by mass, and 3 to 35% by mass with respect to the resin (A). It is more preferable that there is.
In particular, when only the salt (aa) is used as the acid generator, the content of the salt (aa) is preferably 1 to 40% by mass, and 2 to 35% by mass with respect to the resin (A). More preferably.
When the salt (aa) and the acid generator (B) are used as the acid generator, the content ratio of the salt (aa) and the acid generator (B) is preferably 1.5 mass with respect to the resin (A). % Or more, more preferably 3% by mass or more, preferably 40% by mass or less, more preferably 35% by mass or less.

<樹脂(A)>
樹脂(A)は、酸不安定基を有する構造単位(以下「構造単位(a1)」という場合がある)を有する。樹脂(A)は、さらに、構造単位(a1)以外の構造単位を含んでいることが好ましい。構造単位(a1)以外の構造単位としては、酸不安定基を有さない構造単位(以下「構造単位(s)」という場合がある)が挙げられる。
<Resin (A)>
The resin (A) has a structural unit having an acid labile group (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a1)”). The resin (A) preferably further contains a structural unit other than the structural unit (a1). Structural units other than the structural unit (a1) include structural units having no acid labile group (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (s)”).

<構造単位(a1)>
構造単位(a1)は、酸不安定基を有するモノマー(以下「モノマー(a1)」という場合がある)から導かれる。
樹脂(A)に含まれる酸不安定基は、基(1)及び/又は基(2)が好ましい。
[式(1)中、Ra1〜Ra3は、互いに独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜20の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せた基を表すか、Ra1及びRa2は互いに結合してそれらが結合する炭素原子とともに炭素数3〜20の2価の脂環式炭化水素基を形成する。
naは、0又は1を表す。
*は、結合手を表す。]
[式(2)中、Ra1’及びRa2’は、互いに独立に、水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を表し、Ra2’は、炭素数1〜20の炭化水素基を表すか、Ra2’及びRa3’は互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びXとともに炭素数3〜20の2価の複素環基を形成し、該炭化水素基及び該2価の複素環基に含まれる−CH−は、−O−又は−S−で置き換わってもよい。
Xは、酸素原子又は硫黄原子を表す。
*は、結合手を表す。]
<Structural unit (a1)>
The structural unit (a1) is derived from a monomer having an acid labile group (hereinafter sometimes referred to as “monomer (a1)”).
The acid labile group contained in the resin (A) is preferably the group (1) and/or the group (2).
[In the formula (1), R a1 to R a3 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, or a group in which these are combined, or a1 and R a2 are bonded to each other to form a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atom to which they are bonded.
na represents 0 or 1.
* Represents a bond. ]
[In formula (2), R a1 ′ and R a2 ′ each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and R a2 ′ represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. Or R a2′ and R a3′ are bonded to each other to form a divalent heterocyclic group having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atom to which they are bonded and X, and the hydrocarbon group and the divalent heterocyclic group. -CH 2 contained in ring - may be replaced by -O- or -S-.
X represents an oxygen atom or a sulfur atom.
* Represents a bond. ]

a1〜Ra3のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基等が挙げられる。
a1〜Ra3の脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合手を表す。)等が挙げられる。Ra1〜Ra3の脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数3〜16の脂環式炭化水素基である。
Examples of the alkyl group of R a1 to R a3 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group, an n-heptyl group and an n-octyl group.
The alicyclic hydrocarbon group of R a1 to R a3 may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include cycloalkyl groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group and cyclooctyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group and the following groups (* represents a bond). The alicyclic hydrocarbon group of R a1 to R a3 is preferably an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms.

アルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた基としては、例えば、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、メチルノルボルニル基、シクロヘキシルメチル基、アダマンチルメチル基、ノルボルニルエチル基等が挙げられる。
naは、好ましくは0である。
Examples of the group in which an alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group are combined include, for example, a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a methylnorbornyl group, a cyclohexylmethyl group, an adamantylmethyl group and a norbornylethyl group. Can be mentioned.
na is preferably 0.

a1及びRa2が互いに結合して2価の脂環式炭化水素基を形成する場合の−C(Ra1)(Ra2)(Ra3)としては、下記の基が挙げられる。2価の脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数3〜12である。*は、−O−との結合手を表す。
The following groups are mentioned as -C(R a1 )(R a2 )(R a3 ) when R a1 and R a2 are bonded to each other to form a divalent alicyclic hydrocarbon group. The divalent alicyclic hydrocarbon group preferably has 3 to 12 carbon atoms. * Represents a bond with -O-.

式(1)で表される基としては、1,1−ジアルキルアルコキシカルボニル基(式(1)中においてRa1〜Ra3がアルキル基である基、好ましくはtert−ブトキシカルボニル基)、2−アルキルアダマンタン−2−イルオキシカルボニル基(式(1)中、Ra1、Ra2及びこれらが結合する炭素原子がアダマンチル基を形成し、Ra3がアルキル基である基)及び1−(アダマンタン−1−イル)−1−アルキルアルコキシカルボニル基(式(1)中、Ra1及びRa2がアルキル基であり、Ra3がアダマンチル基である基)等が挙げられる。 Examples of the group represented by the formula (1) include a 1,1-dialkylalkoxycarbonyl group (in the formula (1), R a1 to R a3 are alkyl groups, preferably a tert-butoxycarbonyl group), 2- An alkyladamantan-2-yloxycarbonyl group (in the formula (1), R a1 , R a2 and the carbon atom to which they are bonded form an adamantyl group, and R a3 is an alkyl group) and 1-(adamantane- 1-yl)-1-alkylalkoxycarbonyl group (in the formula (1), R a1 and R a2 are alkyl groups, and R a3 is an adamantyl group) and the like.

a1’〜Ra3’の炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組合せることにより形成される基等が挙げられる。
アルキル基及び脂環式炭化水素基は、上記と同様のものが挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、p−メチルフェニル基、p−tert−ブチルフェニル基、p−アダマンチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、2,6−ジエチルフェニル基、2−メチル−6−エチルフェニル等のアリール基等が挙げられる。
a2’及びRa3’が互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びXとともに形成する2価の複素環基としては、下記の基が挙げられる。*は、結合手を表す。
a1’及びRa2’のうち、少なくとも1つは水素原子であることが好ましい。
Examples of the hydrocarbon group of R a1 ′ to R a3 ′ include an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a group formed by combining these.
Examples of the alkyl group and alicyclic hydrocarbon group are the same as above.
As the aromatic hydrocarbon group, phenyl group, naphthyl group, anthryl group, p-methylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, p-adamantylphenyl group, tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, biphenyl Group, phenanthryl group, 2,6-diethylphenyl group, aryl group such as 2-methyl-6-ethylphenyl, and the like.
Examples of the divalent heterocyclic group formed by R a2 ′ and R a3 ′ bonded to each other and the carbon atom to which they are bonded and X include the following groups. * Represents a bond.
At least one of R a1 ′ and R a2 ′ is preferably a hydrogen atom.

式(2)で表される基の具体例としては、以下の基が挙げられる。*は、結合手を表す。
Specific examples of the group represented by the formula (2) include the following groups. * Represents a bond.

モノマー(a1)は、好ましくは、酸不安定基とエチレン性不飽和結合とを有するモノマー、より好ましくは酸不安定基を有する(メタ)アクリル系モノマーである。 The monomer (a1) is preferably a monomer having an acid labile group and an ethylenically unsaturated bond, and more preferably a (meth)acrylic monomer having an acid labile group.

酸不安定基を有する(メタ)アクリル系モノマーのうち、好ましくは、炭素数5〜20の脂環式炭化水素基を有するものが挙げられる。脂環式炭化水素基のような嵩高い構造を有するモノマー(a1)に由来する構造単位を有する樹脂(A)をレジスト組成物に使用すれば、レジストパターンの解像度を向上させることができる。 Among the (meth)acrylic monomers having an acid labile group, those having an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms are preferable. When the resin (A) having a structural unit derived from the monomer (a1) having a bulky structure such as an alicyclic hydrocarbon group is used in the resist composition, the resolution of the resist pattern can be improved.

式(1)で表される基を有する(メタ)アクリル系モノマーに由来する構造単位として、好ましくは、式(a1−0)で表される構造単位、式(a1−1)で表される構造単位又は式(a1−2)で表される構造単位が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。本明細書では、式(a1−0)で表される構造単位、式(a1−1)で表される構造単位及び式(a1−2)で表される構造単位を、それぞれ構造単位(a1−0)、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−2)と、構造単位(a1−0)を誘導するモノマー、構造単位(a1−1)を誘導するモノマー及び構造単位(a1−2)を誘導するモノマーを、それぞれモノマー(a1−0)、モノマー(a1−1)及びモノマー(a1−2)という場合がある。
[式(a1−0)中、
a01は、酸素原子又は*−O−(CHk01−CO−O−を表し、k01は1〜7の整数を表し、*はカルボニル基との結合手を表す。
a01は、水素原子又はメチル基を表す。
a02、Ra03及びRa04は、互いに独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せた基を表す。]
The structural unit derived from the (meth)acrylic monomer having a group represented by the formula (1) is preferably a structural unit represented by the formula (a1-0) or a formula (a1-1). The structural unit or the structural unit represented by the formula (a1-2) can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more. In the present specification, the structural unit represented by the formula (a1-0), the structural unit represented by the formula (a1-1) and the structural unit represented by the formula (a1-2) are respectively represented by the structural unit (a1 -0), the structural unit (a1-1) and the structural unit (a1-2), a monomer that induces the structural unit (a1-0), a monomer that induces the structural unit (a1-1), and the structural unit (a1- The monomer that induces 2) may be referred to as a monomer (a1-0), a monomer (a1-1), and a monomer (a1-2), respectively.
[In formula (a1-0),
L a01 represents an oxygen atom or *—O—(CH 2 ) k01 —CO—O—, k01 represents an integer of 1 to 7, and * represents a bond with a carbonyl group.
R a01 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R a02 , R a03 and R a04 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a group combining these. ]

[式(a1−1)及び式(a1−2)中、
a1及びLa2は、互いに独立に、−O−又は*−O−(CHk1−CO−O−を表し、k1は1〜7の整数を表し、*は−CO−との結合手を表す。
a4及びRa5は、互いに独立に、水素原子又はメチル基を表す。
a6及びRa7は、互いに独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基を表す。
m1は0〜14の整数を表す。
n1は0〜10の整数を表す。
n1’は0〜3の整数を表す。]
[In Formula (a1-1) and Formula (a1-2),
L a1 and L a2 each independently represent —O— or *—O—(CH 2 ) k1 —CO—O—, k1 represents an integer of 1 to 7, and * represents a bond with —CO—. Representing a hand.
R a4 and R a5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R a6 and R a7 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a group formed by combining these.
m1 represents the integer of 0-14.
n1 represents the integer of 0-10.
n1' represents the integer of 0-3. ]

a01は、好ましくは酸素原子又は*−O−(CHk01−CO−O−であり(但し、k01は、好ましくは1〜4の整数、より好ましくは1である。)、より好ましくは酸素原子である。
a02、Ra03及びRa04のアルキル基、脂環式炭化水素基及びこれらを組合せた基としては、式(1)のRa1〜Ra3で挙げた基と同様の基が挙げられる。
a02、Ra03及びRa04のアルキル基の炭素数は、好ましくは6以下である。
a02、Ra03及びRa04の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは8以下であり、より好ましくは6以下である。
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた基は、これらアルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた合計炭素数が、18以下であることが好ましい。このような基としては、例えば、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、メチルノルボルニル基、メチルアダマンチル基、シクロヘキシルメチル基、メチルシクロへキシルメチル基、アダマンチルメチル基、ノルボルニルメチル基等が挙げられる。
a02及びRa03は、互いに独立に、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
a04は、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数5〜12の脂環式炭化水素基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基である。
L a01 is preferably an oxygen atom or *—O—(CH 2 ) k01 —CO—O— (provided that k01 is preferably an integer of 1 to 4, more preferably 1), and more preferably. Is an oxygen atom.
Examples of the alkyl group of R a02 , R a03, and R a04 , the alicyclic hydrocarbon group, and a group in which these are combined include the same groups as those described for R a1 to R a3 of the formula (1).
The alkyl group of R a02 , R a03 and R a04 preferably has 6 or less carbon atoms.
The number of carbon atoms of the alicyclic hydrocarbon group of R a02 , R a03 and R a04 is preferably 8 or less, more preferably 6 or less.
The group in which the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group are combined preferably has a total carbon number of 18 or less in combination of the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group. Examples of such a group include a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a methylnorbornyl group, a methyladamantyl group, a cyclohexylmethyl group, a methylcyclohexylmethyl group, an adamantylmethyl group, and a norbornylmethyl group. To be
R a02 and R a03 are independently of each other, preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a methyl group or an ethyl group.
R a04 is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, and more preferably a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group or an adamantyl group.

a1及びLa2は、互いに独立に、好ましくは−O−又は*−O−(CHk1’−CO−O−であり(但し、k1’は、1〜4の整数であり、好ましくは1である。)、より好ましくは−O−である。
a4及びRa5は、互いに独立に、好ましくはメチル基である。
a6及びRa7のアルキル基、脂環式炭化水素基及びこれらを組合せた基としては、式(1)のRa1〜Ra3で挙げた基と同様の基が挙げられる。
a6及びRa7のアルキル基の炭素数は、好ましくは6以下である。
a6及びRa7の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは8以下であり、より好ましくは6以下である。
m1は、好ましくは0〜3の整数であり、より好ましくは0又は1である。
n1は、好ましくは0〜3の整数であり、より好ましくは0又は1である。
n1’は好ましくは0又は1である。
L a1 and L a2 are independently of each other, preferably —O— or *—O—(CH 2 ) k1′ —CO—O— (where k1′ is an integer of 1 to 4, preferably Is 1.), more preferably -O-.
R a4 and R a5 independently of each other are preferably methyl groups.
Examples of the alkyl group of R a6 and R a7 , the alicyclic hydrocarbon group, and a group in which these are combined include the same groups as the groups described for R a1 to R a3 of the formula (1).
The carbon number of the alkyl group of R a6 and R a7 is preferably 6 or less.
The alicyclic hydrocarbon group of R a6 and R a7 preferably has 8 or less carbon atoms, and more preferably 6 or less carbon atoms.
m1 is preferably an integer of 0 to 3, and more preferably 0 or 1.
n1 is preferably an integer of 0 to 3, and more preferably 0 or 1.
n1′ is preferably 0 or 1.

構造単位(a1−0)としては、例えば、式(a1−0−1)〜式(a1−0−12)のいずれかで表される構造単位が好ましく、式(a1−0−1)〜式(a1−0−10)のいずれかで表される構造単位がより好ましい。 As the structural unit (a1-0), for example, a structural unit represented by any of the formulas (a1-0-1) to (a1-0-12) is preferable, and the structural units (a1-0-1) to The structural unit represented by any of the formulas (a1-0-10) is more preferred.

上記の構造単位において、Ra01に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も、構造単位(a1−0)の具体例として挙げることができる。 In the above structural unit, a structural unit in which a methyl group corresponding to R a01 is replaced with a hydrogen atom can also be mentioned as a specific example of the structural unit (a1-0).

モノマー(a1−1)としては、例えば、特開2010−204646号公報に記載されたモノマーが挙げられる。中でも、式(a1−1−1)〜式(a1−1−8)のいずれかで表されるモノマーが好ましく、式(a1−1−1)〜式(a1−1−4)のいずれかで表されるモノマーがより好ましい。
Examples of the monomer (a1-1) include the monomers described in JP2010-204646A. Among them, the monomer represented by any of the formulas (a1-1-1) to (a1-1-8) is preferable, and any of the formulas (a1-1-1) to (a1-1-4) is preferable. The monomer represented by is more preferable.

モノマー(a1−2)としては、例えば、1−メチルシクロペンタン−1−イル(メタ)アクリレート、1−エチルシクロペンタン−1−イル(メタ)アクリレート、1−メチルシクロヘキサン−1−イル(メタ)アクリレート、1−エチルシクロヘキサン−1−イル(メタ)アクリレート、1−エチルシクロヘプタン−1−イル(メタ)アクリレート、1−エチルシクロオクタン−1−イル(メタ)アクリレート、1−イソプロピルシクロペンタン−1−イル(メタ)アクリレート、1−イソプロピルシクロヘキサン−1−イル(メタ)アクリレート等が挙げられる。式(a1−2−1)〜式(a1−2−12)のいずれかで表されるモノマーが好ましく、式(a1−2−3)、式(a1−2−4)、式(a1−2−9)及び式(a1−2−10)で表されるモノマーがより好ましく、式(a1−2−3)及び式(a1−2−9)で表されるモノマーがさらに好ましい。
Examples of the monomer (a1-2) include 1-methylcyclopentan-1-yl(meth)acrylate, 1-ethylcyclopentan-1-yl(meth)acrylate, 1-methylcyclohexane-1-yl(meth). Acrylate, 1-ethylcyclohexane-1-yl(meth)acrylate, 1-ethylcycloheptan-1-yl(meth)acrylate, 1-ethylcyclooctane-1-yl(meth)acrylate, 1-isopropylcyclopentane-1 Examples include -yl(meth)acrylate, 1-isopropylcyclohexane-1-yl(meth)acrylate and the like. The monomer represented by any of the formulas (a1-2-1) to (a1-2-12) is preferable, and the formula (a1-2-3), the formula (a1-2-4), and the formula (a1- 2-9) and the monomer represented by Formula (a1-2-10) are more preferable, and the monomers represented by Formula (a1-2-3) and Formula (a1-2-9) are still more preferable.

樹脂(A)が構造単位(a1−0)、構造単位(a1−1)及び/又は構造単位(a1−2)を含む場合、これらの合計含有率は、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、互いに独立に、通常10〜95モル%であり、好ましくは15〜90モル%であり、より好ましくは20〜85モル%である。 When the resin (A) contains the structural unit (a1-0), the structural unit (a1-1) and/or the structural unit (a1-2), the total content of these is based on the total structural units of the resin (A). Independently of each other, the content is usually 10 to 95 mol %, preferably 15 to 90 mol %, and more preferably 20 to 85 mol %.

さらに、基(1)を有する構造単位(a1)としては、式(a1−3)で表される構造単位も挙げられる。式(a1−3)で表される構造単位を、構造単位(a1−3)という場合がある。また、構造単位(a1−3)を誘導するモノマーを、モノマー(a1−3)という場合がある。
[式(a1−3)中、
a9は、ヒドロキシ基を有していてもよい炭素数1〜3の脂肪族炭化水素基、カルボキシ基、シアノ基、水素原子又は−COORa13を表す。
a13は、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基、炭素数3〜20の脂環式炭化水素基、又はこれらを組合せることにより形成される基を表し、該脂肪族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
a10、Ra11及びRa12は、互いに独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜20の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基を表すか、Ra10及びRa11は互いに結合して、それらが結合する炭素原子とともに炭素数3〜20の2価の脂環式炭化水素基を形成する。]
Further, the structural unit (a1) having the group (1) also includes a structural unit represented by the formula (a1-3). The structural unit represented by the formula (a1-3) may be referred to as a structural unit (a1-3). Further, the monomer that induces the structural unit (a1-3) may be referred to as a monomer (a1-3).
[In the formula (a1-3),
R a9 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms which may have a hydroxy group, a carboxy group, a cyano group, a hydrogen atom or —COOR a13 .
R a13 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, or a group formed by combining these, and the aliphatic hydrocarbon group and The hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with a hydroxy group, and —CH 2 — contained in the aliphatic hydrocarbon group and the alicyclic hydrocarbon group is —O—. Alternatively, it may be replaced with -CO-.
R a10 , R a11 and R a12 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, or a group formed by combining these; R a10 and R a11 are bonded to each other to form, together with the carbon atom to which they are bonded, a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms. ]

ここで、−COORa13は、例えば、メトキシカルボニル基及びエトキシカルボニル基等のアルコキシ基にカルボニル基が結合した基が挙げられる。 Here, examples of —COOR a13 include groups in which a carbonyl group is bonded to an alkoxy group such as a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group.

a9のヒドロキシ基を有していてもよい脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ヒドロキシメチル基及び2−ヒドロキシエチル基等が挙げられる。
a13の炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、2−エチルヘキシル基、n−オクチル基等が挙げられる。
a13の炭素数3〜20の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロプロピル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、1−アダマンチル−1−メチルエチル基、2−オキソ−オキソラン−3−イル基及び2−オキソ−オキソラン−4−イル基等が挙げられる。
a10〜Ra12のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、2−エチルヘキシル基、n−オクチル基等が挙げられる。
a10〜Ra12の脂環式炭化水素基は、単環式又は多環式のいずれでもよく、単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘプチル基、シクロデシル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、2−アルキルアダマンタン−2−イル基、1−(アダマンタン−1−イル)アルカン−1−イル基、ノルボルニル基、メチルノルボルニル基及びイソボルニル基等が挙げられる。
a10及びRa11が互いに結合して、それらが結合している炭素原子とともに2価の脂環式炭化水素基を形成する場合の−C(Ra10)(Ra11)(Ra12)としては、下記の基が好ましい。
Examples of the aliphatic hydrocarbon group which may have a hydroxy group for R a9 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a hydroxymethyl group and a 2-hydroxyethyl group.
Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms of R a13 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, and n. Examples include -hexyl group, n-heptyl group, 2-ethylhexyl group, and n-octyl group.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms of R a13 include a cyclopentyl group, a cyclopropyl group, an adamantyl group, an adamantyl methyl group, a 1-adamantyl-1-methylethyl group, and 2-oxo-oxolane-3-. Examples thereof include an yl group and a 2-oxo-oxolan-4-yl group.
Examples of the alkyl group of R a10 to R a12 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group, Examples thereof include n-heptyl group, 2-ethylhexyl group and n-octyl group.
The alicyclic hydrocarbon group of R a10 to R a12 may be either monocyclic or polycyclic, and examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, and a cyclopentyl group. And cycloalkyl groups such as cyclohexyl group, methylcyclohexyl group, dimethylcyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, cycloheptyl group and cyclodecyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a 2-alkyladamantan-2-yl group, a 1-(adamantan-1-yl)alkane-1-yl group, and norbornyl. Group, a methylnorbornyl group, an isobornyl group and the like.
As -C(R a10 )(R a11 )(R a12 ), when R a10 and R a11 are bonded to each other to form a divalent alicyclic hydrocarbon group together with the carbon atom to which they are bonded, The following groups are preferable.

モノマー(a1−3)は、具体的には、5−ノルボルネン−2−カルボン酸−tert−ブチル、5−ノルボルネン−2−カルボン酸1−シクロヘキシル−1−メチルエチル、5−ノルボルネン−2−カルボン酸1−メチルシクロヘキシル、5−ノルボルネン−2−カルボン酸2−メチル−2−アダマンチル、5−ノルボルネン−2−カルボン酸2−エチル−2−アダマンチル、5−ノルボルネン−2−カルボン酸1−(4−メチルシクロヘキシル)−1−メチルエチル、5−ノルボルネン−2−カルボン酸1−(4−ヒドロキシシクロヘキシル)−1−メチルエチル、5−ノルボルネン−2−カルボン酸1−メチル−1−(4−オキソシクロヘキシル)エチル及び5−ノルボルネン−2−カルボン酸1−(1−アダマンチル)−1−メチルエチル等が挙げられる。 Specific examples of the monomer (a1-3) include 5-tert-butyl 5-norbornene-2-carboxylic acid, 1-cyclohexyl-1-methylethyl 5-norbornene-2-carboxylic acid, and 5-norbornene-2-carboxylic acid. Acid 1-methylcyclohexyl, 5-norbornene-2-carboxylic acid 2-methyl-2-adamantyl, 5-norbornene-2-carboxylic acid 2-ethyl-2-adamantyl, 5-norbornene-2-carboxylic acid 1-(4 -Methylcyclohexyl)-1-methylethyl, 5-norbornene-2-carboxylic acid 1-(4-hydroxycyclohexyl)-1-methylethyl, 5-norbornene-2-carboxylic acid 1-methyl-1-(4-oxo Examples thereof include cyclohexyl)ethyl and 1-(1-adamantyl)-1-methylethyl 5-norbornene-2-carboxylic acid.

構造単位(a1−3)を含む樹脂(A)は、立体的に嵩高い構造単位が含まれることになるため、このような樹脂(A)を含む本発明のレジスト組成物からは、より高解像度でレジストパターンを得ることができる。また、主鎖に剛直なノルボルナン環が導入されるため、得られるレジストパターンは、ドライエッチング耐性に優れる傾向がある。 Since the resin (A) containing the structural unit (a1-3) contains a structurally bulky structural unit, the resin composition of the present invention containing such a resin (A) is higher than that of the resist composition of the present invention. A resist pattern can be obtained with a resolution. Further, since a rigid norbornane ring is introduced into the main chain, the obtained resist pattern tends to have excellent dry etching resistance.

樹脂(A)が構造単位(a1−3)を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、10〜95モル%であることが好ましく、15〜90モル%であることがより好ましく、20〜85モル%であることがさらに好ましい。 When the resin (A) contains the structural unit (a1-3), its content is preferably 10 to 95 mol% with respect to the total of all structural units of the resin (A), and preferably 15 to 90 mol %. %, and more preferably 20 to 85 mol %.

基(2)で表される基を有する構造単位(a1)としては、式(a1−4)で表される構造単位(以下、「構造単位(a1−4)」という場合がある。)が挙げられる。
[式(a1−4)中、
a32は、水素原子、ハロゲン原子、又は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。
a33は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜4のアシル基、炭素数2〜4のアシルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
laは0〜4の整数を表す。laが2以上である場合、複数のRa33は互いに同一であっても異なってもよい。
a34及びRa35は、互いに独立に、水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を表し、Ra36は、炭素数1〜20の炭化水素基を表すか、Ra35及びRa36は互いに結合してそれらが結合するC−Oとともに炭素数3〜20の2価の複素環基を形成し、該炭化水素基及び該2価の複素環基に含まれる−CH−は、−O−又は−S−で置き換わってもよい。]
As the structural unit (a1) having a group represented by the group (2), a structural unit represented by the formula (a1-4) (hereinafter, may be referred to as “structural unit (a1-4)”). Can be mentioned.
[In the formula (a1-4),
R a32 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
R a33 is a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an acyl group having 2 to 4 carbon atoms, an acyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, an acryloyloxy group, or Represents a methacryloyloxy group.
la represents an integer of 0 to 4. When la is 2 or more, a plurality of R a33 may be the same or different from each other.
R a34 and R a35 are independently of each other, represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, R a36 may represent a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, R a35 and R a36 are each And C—O to which they are bonded to form a divalent heterocyclic group having 3 to 20 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the hydrocarbon group and the divalent heterocyclic group is —O. It may be replaced by -or -S-. ]

a32及びRa33のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられる。該アルキル基は、炭素数1〜4のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
a32及びRa33のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等が挙げられる。
ハロゲン原子を有してもよいアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、1,1,1−トリフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、1,1,1,2,2,3,3,4,4−ノナフルオロペンチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基及びヘキシルオキシ基等が挙げられる。なかでも、炭素数1〜4のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基が挙げられる。
アシルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
a34及びRa35の炭化水素基としては、式(2)のRa1’及びRa2’と同様の基が挙げられる。
a36としては、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基又はこれらが組合せることにより形成される基が挙げられる。
Examples of the alkyl group of R a32 and R a33 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a pentyl group and a hexyl group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group, further preferably a methyl group.
Examples of the halogen atom of R a32 and R a33 include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom.
Examples of the alkyl group which may have a halogen atom include a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a methyl group, a perfluoroethyl group, a 1,1,1-trifluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoro Ethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 1,1,1,2,2-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluoro Butyl group, butyl group, perfluoropentyl group, 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoropentyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-perfluorohexyl group, etc. Can be mentioned.
Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group and a hexyloxy group. Among them, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, a methoxy group or an ethoxy group is more preferable, and a methoxy group is further preferable.
Examples of the acyl group include an acetyl group, a propionyl group and a butyryl group.
Examples of the acyloxy group include an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group and the like.
Examples of the hydrocarbon group R a34 and R a35, include the same groups as R a1 'and R a2' of formula (2).
R a36 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group formed by combining these. Can be mentioned.

式(a1−4)において、Ra32は、水素原子であることが好ましい。
a33は、炭素数1〜4のアルコキシ基であることが好ましく、メトキシ基及びエトキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることがさらに好ましい。
laは、0又は1であることが好ましく、0であることがより好ましい。
a34は、好ましくは水素原子である。
a35は、好ましくは炭素数1〜12の炭化水素基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
a36の炭化水素基は、好ましくは炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基が挙げられ、より好ましくは炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式脂肪族炭化水素基又は炭素数7〜18のアラルキル基が挙げられる。
a36におけるアルキル基及び前記脂環式炭化水素基は、無置換であることが好ましい。
a36における芳香族炭化水素基が置換基を有する場合、その置換基としては炭素数6〜10のアリールオキシ基が好ましい。
In formula (a1-4), R a32 is preferably a hydrogen atom.
R a33 is preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methoxy group and an ethoxy group, and even more preferably a methoxy group.
la is preferably 0 or 1, and more preferably 0.
R a34 is preferably a hydrogen atom.
R a35 is preferably a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and more preferably a methyl group or an ethyl group.
The hydrocarbon group for R a36 is preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a combination thereof. Examples of the group formed include an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic aliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, and an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms.
The alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group for R a36 are preferably unsubstituted.
When the aromatic hydrocarbon group for R a36 has a substituent, the substituent is preferably an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms.

構造単位(a1−4)を導くモノマーとしては、例えば、特開2010−204646号公報に記載されたモノマーが挙げられる。中でも、式(a1−4−1)〜式(a1−4−8)でそれぞれ表されるモノマーが好ましく、式(a1−4−1)〜式(a1−4−5)及び式(a1−4−8)でそれぞれ表されるモノマーがより好ましい。
Examples of the monomer that leads to the structural unit (a1-4) include the monomers described in JP2010-204646A. Among them, the monomers represented by formula (a1-4-1) to formula (a1-4-8) are preferable, and formula (a1-4-1) to formula (a1-4-5) and formula (a1-). The monomers represented by 4-8) are more preferable.

樹脂(A)が、構造単位(a1−4)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、10〜95モル%であることが好ましく、15〜90モル%であることがより好ましく、20〜85モル%であることがさらに好ましい。 When the resin (A) has the structural unit (a1-4), its content is preferably 10 to 95 mol% relative to the total of all structural units of the resin (A), and preferably 15 to 90. It is more preferably mol%, and further preferably 20 to 85 mol%.

式(2)で表される基を有する(メタ)アクリル系モノマーに由来する構造単位としては、式(a1−5)で表される構造単位(以下「構造単位(a1−5)」という場合がある)も挙げられる。
[式(a1−5)中、
a8は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
a1は、単結合又は*−(CHh3−CO−L54−を表し、h3は1〜4の整数を表し、*はL51との結合手を表す。
51、L52、L53及びL54は、互いに独立に、−O−又は−S−を表す。
s1は、1〜3の整数を表す。
s1’は、0〜3の整数を表す。]
As the structural unit derived from the (meth)acrylic monomer having a group represented by the formula (2), a structural unit represented by the formula (a1-5) (hereinafter referred to as “structural unit (a1-5)” There is also).
[In the formula (a1-5),
Ra8 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom, a hydrogen atom or a halogen atom.
Z a1 represents a single bond or * - (CH 2) h3 -CO -L 54 - represents, h3 represents an integer of 1 to 4, * represents a bond to L 51.
L <51> , L <52> , L <53> and L <54 > represent -O- or -S-, mutually independently.
s1 represents an integer of 1 to 3.
s1' represents the integer of 0-3. ]

ハロゲン原子としては、フッ素原子及び塩素原子が挙げられ、好ましくはフッ素原子が挙げられる。ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、フルオロメチル基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
式(a1−5)においては、Ra8は、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基であることが好ましい。
51は、酸素原子であることが好ましい。
52及びL53のうち、一方が−O−であり、他方が−S−であることが好ましい。
s1は、1であることが好ましい。
s1’は、0〜2の整数であることが好ましい。
a1は、単結合又は*−CH2−CO−O−であることが好ましい。
Examples of the halogen atom include a fluorine atom and a chlorine atom, preferably a fluorine atom. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a fluoromethyl group and trifluoromethyl. Groups.
In formula (a1-5), R a8 is preferably a hydrogen atom, a methyl group or a trifluoromethyl group.
L 51 is preferably an oxygen atom.
It is preferable that one of L 52 and L 53 is —O—, and the other is —S—.
s1 is preferably 1.
s1' is preferably an integer of 0 to 2.
Z a1 is preferably a single bond or *—CH 2 —CO—O—.

構造単位(a1−5)を導くモノマーとしては、例えば、特開2010−61117号公報に記載されたモノマーが挙げられる。中でも、式(a1−5−1)〜式(a1−5−4)でそれぞれ表されるモノマーが好ましく、式(a1−5−1)又は式(a1−5−2)で表されるモノマーがより好ましい。
Examples of the monomer that leads to the structural unit (a1-5) include the monomers described in JP 2010-61117 A. Among them, the monomers represented by formulas (a1-5-1) to (a1-5-4) are preferable, and the monomers represented by formula (a1-5-1) or formula (a1-5-2) are preferred. Is more preferable.

樹脂(A)が、構造単位(a1−5)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、1〜50モル%であることが好ましく、3〜45モル%であることがより好ましく、5〜40モル%であることがさらに好ましい。 When the resin (A) has the structural unit (a1-5), its content is preferably 1 to 50 mol% based on the total of all structural units of the resin (A), and 3 to 45. It is more preferably mol%, and further preferably 5 to 40 mol%.

樹脂(A)中の酸不安定基を有する構造単位(a)としては、構造単位(a1−0)、構造単位(a1−1)、構造単位(a1−2)及び構造単位(a1−5)からなる群から選ばれる少なくとも一種以上が好ましく、少なくとも二種以上がより好ましく、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−2)の組合せ、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−5)の組合せ、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−0)の組合せ、構造単位(a1−2)及び構造単位(a1−0)の組合せ、構造単位(a1−5)及び構造単位(a1−0)の組合せ、構造単位(a1−0)、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−2)の組合せ、構造単位(a1−0)、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−5)の組合せがさらに好ましく、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−2)の組合せ、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−5)の組合せがさらにより好ましい。
構造単位(a1)は、好ましくは、構造単位(a1−1)を含む。
Examples of the structural unit (a) having an acid labile group in the resin (A) include a structural unit (a1-0), a structural unit (a1-1), a structural unit (a1-2) and a structural unit (a1-5). At least one selected from the group consisting of), more preferably at least two or more, and a combination of structural unit (a1-1) and structural unit (a1-2), structural unit (a1-1) and structural unit ( a1-5), structural unit (a1-1) and structural unit (a1-0), structural unit (a1-2) and structural unit (a1-0), structural unit (a1-5) And a combination of structural units (a1-0), structural units (a1-0), combinations of structural units (a1-1) and structural units (a1-2), structural units (a1-0), structural units (a1- 1) and the structural unit (a1-5) are more preferable, and the combination of the structural unit (a1-1) and the structural unit (a1-2), the structural unit (a1-1) and the structural unit (a1-5) Combinations are even more preferred.
The structural unit (a1) preferably includes the structural unit (a1-1).

〈構造単位(s)〉
構造単位(s)は、酸不安定基を有さないモノマー(以下「モノマー(s)」という場合がある)から導かれる。構造単位(s)を導くモノマーは、レジスト分野で公知の酸不安定基を有さないモノマーを使用できる。
構造単位(s)としては、ヒドロキシ基又はラクトン環を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位が好ましい。ヒドロキシ基を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位(以下「構造単位(a2)」という場合がある)及び/又はラクトン環を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位(以下「構造単位(a3)」という場合がある)を有する樹脂を本発明のレジスト組成物に使用すれば、レジストパターンの解像度及び基板との密着性を向上させることができる。
<Structural unit (s)>
The structural unit (s) is derived from a monomer having no acid labile group (hereinafter sometimes referred to as “monomer (s)”). As the monomer that leads to the structural unit (s), a monomer that does not have an acid labile group known in the resist field can be used.
As the structural unit (s), a structural unit having a hydroxy group or a lactone ring and having no acid labile group is preferable. A structural unit having a hydroxy group and having no acid labile group (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a2)") and/or a lactone ring and having no acid labile group When a resin having a unit (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a3)”) is used in the resist composition of the present invention, the resolution of the resist pattern and the adhesion to the substrate can be improved.

〈構造単位(a2)〉
構造単位(a2)が有するヒドロキシ基は、アルコール性ヒドロキシ基でも、フェノール性ヒドロキシ基でもよい。
本発明のレジスト組成物からレジストパターンを製造するとき、露光光源としてKrFエキシマレーザ(248nm)、電子線又はEUV(超紫外光)等の高エネルギー線を用いる場合には、構造単位(a2)として、フェノール性ヒドロキシ基を有する構造単位(a2)を用いることが好ましい。また、ArFエキシマレーザ(193nm)等を用いる場合には、構造単位(a2)として、アルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位(a2)が好ましく、構造単位(a2−1)を用いることがより好ましい。構造単位(a2)としては、1種を単独で含んでいてもよく、2種以上を含んでいてもよい。
<Structural unit (a2)>
The hydroxy group contained in the structural unit (a2) may be an alcoholic hydroxy group or a phenolic hydroxy group.
When a resist pattern is produced from the resist composition of the present invention, when a high energy ray such as KrF excimer laser (248 nm), electron beam or EUV (ultra-ultraviolet light) is used as an exposure light source, it is used as a structural unit (a2). It is preferable to use the structural unit (a2) having a phenolic hydroxy group. When using an ArF excimer laser (193 nm) or the like, the structural unit (a2) is preferably a structural unit (a2) having an alcoholic hydroxy group, and more preferably the structural unit (a2-1). As the structural unit (a2), one type may be included alone, or two or more types may be included.

フェノール性ヒドロキシ基有する構造単位(a2)としては、式(a2−0)で表される構造単位(以下「構造単位(a2−0)」という場合がある。)が挙げられる。
[式(a2−0)中、
a30は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。
a31は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜4のアシル基、炭素数2〜4のアシルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
maは0〜4の整数を表す。maが2以上の整数である場合、複数のRa31は互いに同一であっても異なってもよい。]
Examples of the structural unit (a2) having a phenolic hydroxy group include a structural unit represented by the formula (a2-0) (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a2-0)”).
[In the formula (a2-0),
R a30 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
R a31 is a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an acyl group having 2 to 4 carbon atoms, an acyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, an acryloyloxy group, or Represents a methacryloyloxy group.
ma represents the integer of 0-4. When ma is an integer greater than or equal to 2, some R <a31 > may mutually be same or different. ]

a30のハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、1,1,1−トリフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、1,1,1,2,2,3,3,4,4−ノナフルオロペンチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
a30は、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基であることが好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基であることがより好ましく、水素原子又はメチル基であることがさらに好ましい。
a31のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基及びヘキシルオキシ基等が挙げられる。なかでも、炭素数1〜4のアルコキシ基であることが好ましく、メトキシ基又はエトキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることがさらに好ましい。
アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基が挙げられる。
アシルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
maは0、1又は2であることが好ましく、0又は1であることがより好ましく、0であることがさらに好ましい。
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom of R a30 include trifluoromethyl group, difluoromethyl group, methyl group, perfluoroethyl group, 1,1,1-trifluoroethyl group, 1 , 1,2,2-Tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 1,1,1,2,2-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3 ,3,4,4-octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoropentyl group, n-pentyl group, n-hexyl group Group, n-perfluorohexyl group and the like.
R a30 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and further preferably a hydrogen atom or a methyl group.
Examples of the alkoxy group for R a31 include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group and a hexyloxy group. Among them, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, a methoxy group or an ethoxy group is more preferable, and a methoxy group is further preferable.
Examples of the acyl group include an acetyl group, a propionyl group and a butyryl group.
Examples of the acyloxy group include an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group and the like.
ma is preferably 0, 1 or 2, more preferably 0 or 1, and even more preferably 0.

構造単位(a2−0)を誘導するモノマーとしては、例えば、特開2010−204634号公報に記載されているモノマーが挙げられる。
中でも、構造単位(a2−0)としては、式(a2−0−1)、式(a2−0−2)、式(a2−0−3)及び式(a2−0−4)でそれぞれ表されるものが好ましく、式(a2−0−1)又は式(a2−0−2)で表される構造単位がより好ましい。
Examples of the monomer that induces the structural unit (a2-0) include the monomers described in JP 2010-204634 A.
Among them, the structural unit (a2-0) is represented by the formula (a2-0-1), the formula (a2-0-2), the formula (a2-0-3) and the formula (a2-0-4). The structural unit represented by formula (a2-0-1) or formula (a2-0-2) is more preferable.

構造単位(a2−0)を含む樹脂(A)は、構造単位(a2−0)を誘導するモノマーが有するフェノール性ヒドロキシ基を保護基で保護したモノマーを用いて重合反応を行い、その後脱保護処理することにより製造できる。ただし、脱保護処理を行う際には、構造単位(a1)が有する酸不安定基を著しく損なわないようにして行う必要がある。このような保護基としては、アセチル基等が挙げられる。 The resin (A) containing the structural unit (a2-0) undergoes a polymerization reaction using a monomer in which the phenolic hydroxy group of the monomer that induces the structural unit (a2-0) is protected by a protective group, and then deprotected. It can be produced by processing. However, when performing the deprotection treatment, it is necessary to prevent the acid labile group contained in the structural unit (a1) from being significantly impaired. An acetyl group etc. are mentioned as such a protective group.

樹脂(A)が、フェノール性ヒドロキシ基を有する構造単位(a2−0)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、5〜95モル%であることが好ましく、10〜80モル%であることがより好ましく、15〜80モル%であることがさらに好ましい。 When the resin (A) has a structural unit (a2-0) having a phenolic hydroxy group, its content is 5 to 95 mol% based on the total of all structural units of the resin (A). Is preferable, 10-80 mol% is more preferable, and 15-80 mol% is further preferable.

アルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位(a2)としては、式(a2−1)で表される構造単位(以下「構造単位(a2−1)」という場合がある。)が挙げられる。
[式(a2−1)中、
a3は、−O−又は*−O−(CHk2−CO−O−を表し、
k2は1〜7の整数を表す。*は、−CO−との結合手を表す。
a14は、水素原子又はメチル基を表す。
a15及びRa16は、互いに独立に、水素原子、メチル基又はヒドロキシ基を表す。
o1は、0〜10の整数を表す。]
Examples of the structural unit (a2) having an alcoholic hydroxy group include a structural unit represented by the formula (a2-1) (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a2-1)”).
[In the formula (a2-1),
L a3 is, -O- or * -O- (CH 2) k2 -CO -O- the stands,
k2 represents an integer of 1 to 7. * Represents a bond with -CO-.
R a14 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R a15 and R a16 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group or a hydroxy group.
o1 represents an integer of 0 to 10. ]

式(a2−1)では、La3は、好ましくは−O−、−O−(CHf1−CO−O−であり(前記f1は、1〜4の整数である)、より好ましくは−O−である。
a14は、好ましくはメチル基である。
a15は、好ましくは水素原子である。
a16は、好ましくは水素原子又はヒドロキシ基である。
o1は、好ましくは0〜3の整数であり、より好ましくは0又は1である。
In formula (a2-1), L a3 is preferably —O—, —O—(CH 2 ) f1 —CO—O— (where f1 is an integer of 1 to 4), and more preferably -O-.
R a14 is preferably a methyl group.
R a15 is preferably a hydrogen atom.
R a16 is preferably a hydrogen atom or a hydroxy group.
o1 is preferably an integer of 0 to 3, and more preferably 0 or 1.

構造単位(a2−1)を誘導するモノマーとしては、例えば、特開2010−204646号公報に記載されたモノマーが挙げられる。式(a2−1−1)〜式(a2−1−6)のいずれかで表されるモノマーが好ましく、式(a2−1−1)〜式(a2−1−4)のいずれかで表されるモノマーがより好ましく、式(a2−1−1)又は式(a2−1−3)で表されるモノマーがさらに好ましい。 Examples of the monomer that derives the structural unit (a2-1) include the monomers described in JP2010-204646A. The monomer represented by any of the formulas (a2-1-1) to (a2-1-6) is preferable, and the monomer represented by any of the formulas (a2-1-1) to (a2-1-4) is represented. Is more preferable, and the monomer represented by formula (a2-1-1) or formula (a2-1-3) is further preferable.

樹脂(A)が構造単位(a2−1)を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、通常1〜45モル%であり、好ましくは1〜40モル%であり、より好ましくは1〜35モル%であり、さらに好ましくは2〜20モル%である。 When the resin (A) contains the structural unit (a2-1), the content thereof is usually 1 to 45 mol%, preferably 1 to 40 mol, based on the total of all structural units of the resin (A). %, more preferably 1 to 35 mol %, further preferably 2 to 20 mol %.

〈構造単位(a3)〉
構造単位(a3)が有するラクトン環は、β−プロピオラクトン環、γ−ブチロラクトン環、δ−バレロラクトン環のような単環でもよく、単環式のラクトン環と他の環との縮合環でもよい。好ましくは、γ−ブチロラクトン環、アダマンタンラクトン環、又は、γ−ブチロラクトン環構造を含む橋かけ環が挙げられる。
<Structural unit (a3)>
The lactone ring contained in the structural unit (a3) may be a single ring such as a β-propiolactone ring, a γ-butyrolactone ring, or a δ-valerolactone ring, or a condensed ring of a monocyclic lactone ring and another ring. But it's okay. Preferred is a γ-butyrolactone ring, an adamantane lactone ring, or a bridged ring containing a γ-butyrolactone ring structure.

構造単位(a3)は、好ましくは、式(a3−1)、式(a3−2)、式(a3−3)又は式(a3−4)で表される構造単位である。これらの1種を単独で含有してもよく、2種以上を含有してもよい。
[式(a3−1)中、
a4は、−O−又は*−O−(CHk3−CO−O−(k3は1〜7の整数を表す。)で表される基を表す。*は、カルボニル基との結合手を表す。
a18は、水素原子又はメチル基を表す。
a21は炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基を表す。
p1は0〜5の整数を表す。p1が2以上のとき、複数のRa21は互いに同一であっても異なってもよい。
式(a3−2)中、
a5は、−O−又は*−O−(CHk3−CO−O−(k3は1〜7の整数を表す。)で表される基を表す。*はカルボニル基との結合手を表す。
a19は、水素原子又はメチル基を表す。
a22は、カルボキシ基、シアノ基又は炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基を表す。
q1は、0〜3の整数を表す。q1が2以上のとき、複数のRa22は互いに同一であっても異なってもよい。
式(a3−3)中、
a6は、−O−又は*−O−(CHk3−CO−O−(k3は1〜7の整数を表す。)で表される基を表す。*はカルボニル基との結合手を表す。
a20は、水素原子又はメチル基を表す。
a23は、カルボキシ基、シアノ基又は炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基を表す。
r1は、0〜3の整数を表す。r1が2以上のとき、複数のRa23は互いに同一であっても異なってもよい。
式(a3−4)中、
a24は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
a25は、カルボキシ基、シアノ基又は炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基を表す。
a7は、単結合、 −La8−O−、 −La8−CO−O−、 −La8−CO−O−La9−CO−O−又は −La8−O−CO−La9−O−を表す。
*は、カルボニル基との結合手を表す。
a8及びLa9は、互いに独立に、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。
w1は、0〜8の整数を表す。w1が2以上のとき、複数のRa25は互いに同一であってもよく、異なってもよい。]
The structural unit (a3) is preferably a structural unit represented by the formula (a3-1), the formula (a3-2), the formula (a3-3) or the formula (a3-4). These may be contained alone or in combination of two or more.
[In the formula (a3-1),
L a4 represents a group represented by —O— or *—O—(CH 2 ) k3— CO—O— (k3 represents an integer of 1 to 7). * Represents a bond with the carbonyl group.
R a18 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R a21 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
p1 represents the integer of 0-5. When p1 is 2 or more, a plurality of R a21 may be the same or different.
In formula (a3-2),
L a5 represents -O- or * -O- (CH 2) k3 -CO -O- (k3 represents. An integer of 1-7) is represented by the group. * Represents a bond with the carbonyl group.
R a19 represents a hydrogen atom or a methyl group.
Ra22 represents a carboxy group, a cyano group or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
q1 represents an integer of 0 to 3. When q1 is 2 or more, a plurality of R a22 may be the same as or different from each other.
In formula (a3-3),
L a6 represents a group represented by —O— or *—O—(CH 2 ) k3— CO—O— (k3 represents an integer of 1 to 7). * Represents a bond with the carbonyl group.
R a20 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R a23 represents a carboxy group, a cyano group or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
r1 represents an integer of 0 to 3. When r1 is 2 or more, a plurality of R a23 may be the same as or different from each other.
In formula (a3-4),
R a24 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom, a hydrogen atom or a halogen atom.
R a25 represents a carboxy group, a cyano group or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
La7 is a single bond, * -La8- O-, * -La8- CO-O-, * -La8- CO-O- La9- CO-O- or * -La8- O-CO. Represents -L a9 -O-.
* Represents a bond with the carbonyl group.
L a8 and L a9 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
w1 represents an integer of 0 to 8. When w1 is 2 or more, a plurality of R a25 may be the same as or different from each other. ]

a21、Ra22、Ra23及びRa25の炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等が挙げられる。
a24のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
a24のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基及びn−ヘキシル基等が挙げられ、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基が挙げられ、より好ましくはメチル基又はエチル基が挙げられる。
a24のハロゲン原子を有するアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec−ブチル基、ペルフルオロtert−ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基、トリヨードメチル基等が挙げられる。
Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms represented by R a21 , R a22 , R a23, and R a25 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, and a tert-group. A butyl group and the like can be mentioned.
Examples of the halogen atom of R a24 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Examples of the alkyl group for R a24 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group and an n-hexyl group. , Preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group.
Examples of the alkyl group having a halogen atom of R a24 include a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluoroisopropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorosec-butyl group, a perfluorotert-butyl group, a perfluoropentyl group, and a perfluoropentyl group. Hexyl group, trichloromethyl group, tribromomethyl group, triiodomethyl group and the like can be mentioned.

a8及びLa9のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基及び2−メチルブタン−1,4−ジイル基等が挙げられる。 Examples of the alkanediyl group of L a8 and L a9 include methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5. -Diyl group, hexane-1,6-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1, Examples thereof include 4-diyl group and 2-methylbutane-1,4-diyl group.

式(a3−1)〜式(a3−3)において、La4〜La6は、互いに独立に、好ましくは−O−又は、k3が1〜4の整数である*−O−(CHk3−CO−O−で表される基、より好ましくは−O−及び、*−O−CH−CO−O−、さらに好ましくは酸素原子である。
a18〜Ra21は、好ましくはメチル基である。
a22及びRa23は、互いに独立に、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
p1、q1及びr1は、互いに独立に、好ましくは0〜2の整数であり、より好ましくは0又は1である。
In formulas (a3-1) to (a3-3), L a4 to L a6 are independently of each other, preferably —O— or *—O—(CH 2 ) in which k3 is an integer of 1 to 4. k3 -CO-O-group represented by, more preferably -O- and, * - O-CH 2 -CO -O-, more preferably an oxygen atom.
R a18 to R a21 are preferably methyl groups.
R a22 and R a23 are independently of each other, preferably a carboxy group, a cyano group or a methyl group.
p1, q1 and r1 are independently of each other, preferably an integer of 0 to 2, and more preferably 0 or 1.

式(a3−4)において、Ra24は、好ましくは水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基又はエチル基であり、さらに好ましくは水素原子又はメチル基である。
a7は、好ましくは単結合又は−La8−CO−O−であり、より好ましくは単結合、 −CH2−CO−O−又は −C24−CO−O−である。
a25は、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
w1は、好ましくは0〜2の整数であり、より好ましくは0又は1である。
式(a3−4)は、式(a3−4)’が好ましい。
(式中、Ra24、La7は、上記と同じ意味を表す。)
In formula (a3-4), R a24 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and further preferably a hydrogen atom or a methyl group. Is.
L a7 is preferably a single bond or * -L a8 -CO-O-, more preferably an a single bond, * -CH 2 -CO-O- or * -C 2 H 4 -CO-O- and ..
R a25 is preferably a carboxy group, a cyano group or a methyl group.
w1 is preferably an integer of 0 to 2, and more preferably 0 or 1.
The formula (a3-4) is preferably the formula (a3-4)′.
(In the formula, R a24 and L a7 have the same meanings as described above.)

構造単位(a3)を導くモノマーとしては、特開2010−204646号公報に記載されたモノマー、特開2000−122294号公報に記載されたモノマー、特開2012−41274号公報に記載されたモノマーが挙げられる。構造単位(a3)としては、式(a3−1−1)〜式(a3−1−4)、式(a3−2−1)〜式(a3−2−4)、式(a3−3−1)〜式(a3−3−4)及び式(a3−4−1)〜式(a3−4−12)のいずれかで表される構造単位が好ましく、式(a3−1−1)、式(a3−1−2)、式(a3−2−3)〜式(a3−2−4)及び式(a3−4−1)〜式(a3−4−12)のいずれかで表される構造単位がより好ましく、式(a3−4−1)〜式(a3−4−12)のいずれかで表される構造単位がさらに好ましく、式(a3−4−1)〜式(a3−4−6)のいずれかで表される構造単位がさらにより好ましい。 Examples of the monomer that leads to the structural unit (a3) include the monomer described in JP-A-2010-204646, the monomer described in JP-A-2000-122294, and the monomer described in JP-A-2012-41274. Can be mentioned. As the structural unit (a3), formula (a3-1-1) to formula (a3-1-4), formula (a3-2-1) to formula (a3-2-4), formula (a3-3-). 1) to the formula (a3-3-4) and the formula (a3-4-1) to the formula (a3-4-12), a structural unit represented by any one of the formula (a3-1-1), It is represented by any one of formula (a3-1-2), formula (a3-2-3) to formula (a3-2-4) and formula (a3-4-1) to formula (a3-4-12). The structural unit represented by formula (a3-4-1) to formula (a3-4-12) is more preferable, and the structural unit represented by any of formula (a3-4-1) to formula (a3-4-12) is further preferable. The structural unit represented by any of 4-6) is even more preferable.

以下の構造単位においては、Ra24に相当するメチル基が水素原子に置き換わった化合物も、構造単位(a3−4)の具体例として挙げることができる。
In the following structural unit, a compound in which the methyl group corresponding to R a24 is replaced with a hydrogen atom can also be mentioned as a specific example of the structural unit (a3-4).

樹脂(A)が構造単位(a3)を含む場合、その合計含有率は、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、通常5〜70モル%であり、好ましくは10〜65モル%であり、より好ましくは10〜60モル%である。
また、構造単位(a3−1)、構造単位(a3−2)、構造単位(a3−3)及び構造単位(a3−4)の含有率は、それぞれ、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、5〜60モル%であることが好ましく、5〜50モル%であることがより好ましく、10〜50モル%であることがさらに好ましい。
When the resin (A) contains the structural unit (a3), the total content thereof is usually 5 to 70 mol%, preferably 10 to 65 mol% with respect to the total of all structural units of the resin (A). And more preferably 10 to 60 mol %.
Moreover, the content rates of the structural unit (a3-1), the structural unit (a3-2), the structural unit (a3-3), and the structural unit (a3-4) are the total of all structural units of the resin (A). On the other hand, it is preferably 5 to 60 mol %, more preferably 5 to 50 mol %, and further preferably 10 to 50 mol %.

<その他の構造単位(t)>
樹脂(A)は、構造単位(a1)及び構造単位(s)以外の構造単位として、その他の構造単位(以下「構造単位(t)」という場合がある)を含んでいてもよい。構造単位(t)としては、構造単位(a2)及び構造単位(a3)以外にハロゲン原子を有する構造単位(以下、場合により「構造単位(a4)」という。)及び非脱離炭化水素基を有する構造単位(s)(以下「構造単位(a5)」という場合がある)などが挙げられる。樹脂(A)は、上述の構造単位以外の構造単位を有していてもよく、このような構造単位としては、当技術分野で周知の構造単位を挙げられる。
<Other structural units (t)>
The resin (A) may include other structural units (hereinafter sometimes referred to as “structural units (t)”) as structural units other than the structural unit (a1) and the structural unit (s). As the structural unit (t), in addition to the structural unit (a2) and the structural unit (a3), a structural unit having a halogen atom (hereinafter, sometimes referred to as “structural unit (a4)”) and a non-eliminating hydrocarbon group. The structural unit (s) which it has (it may be hereafter called "structural unit (a5)") etc. are mentioned. The resin (A) may have a structural unit other than the above structural units, and examples of such a structural unit include structural units well known in the art.

構造単位(a4)としては、式(a4−0)で表される構造単位が挙げられる。
[式(a4−0)中、
は、水素原子又はメチル基を表す。
は、単結合又は炭素数1〜4の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
は、炭素数1〜8のペルフルオロアルカンジイル基又は炭素数3〜12のペルフルオロシクロアルカンジイル基を表す。
は、水素原子又はフッ素原子を表す。]
Examples of the structural unit (a4) include structural units represented by the formula (a4-0).
[In the formula (a4-0),
R 5 represents a hydrogen atom or a methyl group.
L 5 represents a single bond or an aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
L 3 represents a C 1-8 perfluoroalkanediyl group or a C 3-12 perfluorocycloalkanediyl group.
R 6 represents a hydrogen atom or a fluorine atom. ]

の脂肪族飽和炭化水素基としては、炭素数1〜4のアルカンジイル基が挙げられ、例えば、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基、直鎖状アルカンジイル基に、アルキル基(特に、メチル基、エチル基等)の側鎖を有したもの、エタン−1,1−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基及び2−メチルプロパン−1,2−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。 Examples of the aliphatic saturated hydrocarbon group for L 5 include alkanediyl groups having 1 to 4 carbon atoms, and examples thereof include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, and a butane-1,4-diyl group. Such as a straight-chain alkanediyl group, a straight-chain alkanediyl group having a side chain of an alkyl group (particularly, methyl group, ethyl group, etc.), ethane-1,1-diyl group, propane-1, Examples thereof include branched alkanediyl groups such as 2-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group and 2-methylpropane-1,2-diyl group.

のペルフルオロアルカンジイル基としては、ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロエチルフルオロメチレン基、ペルフルオロプロパン−1,3−ジイル基、ペルフルオロプロパン−1,2−ジイル基、ペルフルオロプロパン−2,2−ジイル基、ペルフルオロブタン−1,4−ジイル基、ペルフルオロブタン−2,2−ジイル基、ペルフルオロブタン−1,2−ジイル基、ペルフルオロペンタン−1,5−ジイル基、ペルフルオロペンタン−2,2−ジイル基、ペルフルオロペンタン−3,3−ジイル基、ペルフルオロヘキサン−1,6−ジイル基、ペルフルオロヘキサン−2,2−ジイル基、ペルフルオロヘキサン−3,3−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−1,7−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−2,2−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−3,4−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−4,4−ジイル基、ペルフルオロオクタン−1,8−ジイル基、ペルフルオロオクタン−2,2−ジイル基、ペルフルオロオクタン−3,3−ジイル基、ペルフルオロオクタン−4,4−ジイル基等が挙げられる。
3のペルフルオロシクロアルカンジイル基としては、ペルフルオロシクロヘキサンジイル基、ペルフルオロシクロペンタンジイル基、ペルフルオロシクロヘプタンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。
Examples of the perfluoroalkanediyl group for L 3 include difluoromethylene group, perfluoroethylene group, perfluoroethylfluoromethylene group, perfluoropropane-1,3-diyl group, perfluoropropane-1,2-diyl group, perfluoropropane-2,2. -Diyl group, perfluorobutane-1,4-diyl group, perfluorobutane-2,2-diyl group, perfluorobutane-1,2-diyl group, perfluoropentane-1,5-diyl group, perfluoropentane-2,2 -Diyl group, perfluoropentane-3,3-diyl group, perfluorohexane-1,6-diyl group, perfluorohexane-2,2-diyl group, perfluorohexane-3,3-diyl group, perfluoroheptane-1,7 -Diyl group, perfluoroheptane-2,2-diyl group, perfluoroheptane-3,4-diyl group, perfluoroheptane-4,4-diyl group, perfluorooctane-1,8-diyl group, perfluorooctane-2,2 -Diyl group, perfluorooctane-3,3-diyl group, perfluorooctane-4,4-diyl group and the like.
Examples of the perfluorocycloalkanediyl group of L 3 include a perfluorocyclohexanediyl group, a perfluorocyclopentanediyl group, a perfluorocycloheptanediyl group and a perfluoroadamantanediyl group.

は、好ましくは単結合、メチレン基又はエチレン基であり、より好ましくは単結合又はメチレン基である。
は、好ましくは炭素数1〜6のペルフルオロアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数1〜3のペルフルオロアルカンジイル基である。
L 5 is preferably a single bond, a methylene group or an ethylene group, and more preferably a single bond or a methylene group.
L 3 is preferably a perfluoroalkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a perfluoroalkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms.

構造単位(a4−0)としては、以下に示す構造単位が挙げられる。
Examples of the structural unit (a4-0) include the structural units shown below.

構造単位(a4)としては、式(a4−1)で表される構造単位が挙げられる。
[式(a4−1)中、
a41は、水素原子又はメチル基を表す。
a42は、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
a41は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルカンジイル基又は式(a−g1)で表される基を表す。]
[式(a−g1)中、
sは0又は1を表す。
a42及びAa44は、互いに独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基を表す。
a43は、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基を表す。
a41及びXa42は、互いに独立に、−O−、−CO−、−CO−O−又は−O−CO−を表す。
ただし、Aa42、Aa43、Aa44、Xa41及びXa42の炭素数の合計は7以下である。
*で表される2つの結合手のうち、右側の*が−O−CO−Ra42との結合手である。]
Examples of the structural unit (a4) include structural units represented by the formula (a4-1).
[In the formula (a4-1),
R a41 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R a42 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and —CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced with —O— or —CO—. Good.
A a41 represents an optionally substituted alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms or a group represented by the formula (a-g1). ]
[In the formula (a-g1),
s represents 0 or 1.
A a42 and A a44 each independently represent an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms which may have a substituent.
A a43 represents a single bond or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms which may have a substituent.
X a41 and X a42 each independently represent -O-, -CO-, -CO -O-, or -O-CO-.
However, the total number of carbon atoms of A a42 , A a43 , A a44 , X a41, and X a42 is 7 or less.
Of the two bonds represented by *, the * on the right side is a bond with -O-CO- Ra42 . ]

a42の炭化水素基としては、鎖式及び環式の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、並びにこれらを組合せることにより形成される基が挙げられる。
鎖式及び環式の脂肪族炭化水素基は、炭素−炭素不飽和結合を有していてもよいが、鎖式及び環式の脂肪族飽和炭化水素基並びにこれらの組み合わせが好ましい。該脂肪族飽和炭化水素基としては、直鎖又は分岐のアルキル基及び単環又は多環の脂環式炭化水素基、並びに、アルキル基及び脂環式炭化水素基を組み合わせることにより形成される脂肪族炭化水素基等が挙げられる。
Examples of the hydrocarbon group for R a42 include chain and cyclic aliphatic hydrocarbon groups, aromatic hydrocarbon groups, and groups formed by combining these.
The chain and cyclic aliphatic hydrocarbon groups may have a carbon-carbon unsaturated bond, but chain and cyclic aliphatic saturated hydrocarbon groups and combinations thereof are preferable. The aliphatic saturated hydrocarbon group includes a linear or branched alkyl group, a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon group, and a fat formed by combining an alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group. Group hydrocarbon groups and the like can be mentioned.

鎖式の脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基及びn−オクタデシル基が挙げられる。環式の脂肪族炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基;デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合手を表す。)等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。 Examples of the chain type aliphatic hydrocarbon group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-decyl group. Group, n-dodecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group and n-octadecyl group. Examples of the cyclic aliphatic hydrocarbon group include cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group and other cycloalkyl groups; decahydronaphthyl group, adamantyl group, norbornyl group and the following groups (* are bonded And a polycyclic alicyclic hydrocarbon group such as.

芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニリル基、フェナントリル基及びフルオレニル基が挙げられる。 Examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a biphenylyl group, a phenanthryl group and a fluorenyl group.

a42の置換基としては、ハロゲン原子又は式(a−g3)で表される基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、好ましくはフッ素原子が挙げられる。
[式(a−g3)中、
a43は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。
a45は、少なくとも1つのハロゲン原子を有する炭素数1〜17の脂肪族炭化水素基を表す。
*は、結合手を表す。]
Examples of the substituent of R a42 include a halogen atom or a group represented by the formula (a-g3). Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, preferably a fluorine atom.
[In the formula (a-g3),
X a43 represents an oxygen atom, a carbonyl group, a carbonyloxy group or an oxycarbonyl group.
A a45 represents an aliphatic hydrocarbon group having at least one halogen atom and having 1 to 17 carbon atoms.
* Represents a bond. ]

a45の脂肪族炭化水素基としては、Ra42で例示したものと同様の基が挙げられる。
a42は、ハロゲン原子を有してもよい脂肪族炭化水素基であることが好ましく、ハロゲン原子を有するアルキル基及び/又は式(a−g3)で表される基を有する脂肪族炭化水素基であることがより好ましい。
a42がハロゲン原子を有する脂肪族炭化水素基である場合、好ましくはフッ素原子を有する脂肪族炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルキル基又はペルフルオロシクロアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数が1〜6のペルフルオロアルキル基であり、特に好ましくは炭素数1〜3のペルフルオロアルキル基である。ペルフルオロアルキル基としては、ペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘプチル基及びペルフルオロオクチル基等が挙げられる。ペルフルオロシクロアルキル基としては、ペルフルオロシクロヘキシル基等が挙げられる。
a42が、式(a−g3)で表される基を有する脂肪族炭化水素基である場合、式(a−g3)で表される基に含まれる炭素数を含めて、脂肪族炭化水素基の総炭素数は、15以下が好ましく、12以下であることがより好ましい。式(a−g3)で表される基を置換基として有する場合、その数は1個であることが好ましい。
Examples of the aliphatic hydrocarbon group for A a45 include the same groups as those exemplified for R a42 .
R a42 is preferably an aliphatic hydrocarbon group which may have a halogen atom, and an aliphatic hydrocarbon group which has an alkyl group having a halogen atom and/or a group represented by the formula (a-g3). Is more preferable.
When R a42 is an aliphatic hydrocarbon group having a halogen atom, it is preferably an aliphatic hydrocarbon group having a fluorine atom, more preferably a perfluoroalkyl group or a perfluorocycloalkyl group, and still more preferably a carbon number. It is a perfluoroalkyl group having 1 to 6 and particularly preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Examples of the perfluoroalkyl group include a perfluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluoropentyl group, a perfluorohexyl group, a perfluoroheptyl group and a perfluorooctyl group. Examples of the perfluorocycloalkyl group include a perfluorocyclohexyl group.
When R a42 is an aliphatic hydrocarbon group having a group represented by formula (a-g3), the aliphatic hydrocarbon including the number of carbon atoms contained in the group represented by formula (a-g3) The total number of carbon atoms in the group is preferably 15 or less, more preferably 12 or less. When the group represented by formula (a-g3) has a substituent, the number thereof is preferably one.

式(a−g3)で表される基を有する脂肪族炭化水素基は、さらに好ましくは式(a−g2)で表される基である。
[式(a−g2)中、
a46は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜17の脂肪族炭化水素基を表す。
a44は、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。
a47は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜17の脂肪族炭化水素基を表す。
ただし、Aa46、Aa47及びXa44の炭素数の合計は18以下であり、Aa46及びAa47のうち、少なくとも一方は、少なくとも1つのハロゲン原子を有する。
*は、カルボニル基との結合手を表す。]
The aliphatic hydrocarbon group having a group represented by formula (a-g3) is more preferably a group represented by formula (a-g2).
[In the formula (a-g2),
A a46 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.
X a44 represents a carbonyloxy group or an oxycarbonyl group.
A a47 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.
However, the total carbon number of A a46 , A a47, and X a44 is 18 or less, and at least one of A a46 and A a47 has at least one halogen atom.
* Represents a bond with the carbonyl group. ]

a46の脂肪族炭化水素基の炭素数は、1〜6であることが好ましく、1〜3であることがより好ましい。
a47の脂肪族炭化水素基の炭素数は、4〜15であることが好ましく、5〜12であることがより好ましく、Aa47は、シクロヘキシル基又はアダマンチル基であることがさらに好ましい。
The aliphatic hydrocarbon group for A a46 preferably has 1 to 6 carbon atoms, and more preferably 1 to 3 carbon atoms.
The aliphatic hydrocarbon group of A a47 preferably has 4 to 15 carbon atoms, more preferably 5 to 12 carbon atoms, and A a47 is further preferably a cyclohexyl group or an adamantyl group.

*−Aa46−Xa44−Aa47で表される部分構造のより好ましい構造は、以下の構造である。
The more preferable structure of the partial structure represented by *-A a46 -X a44 -A a47 is the following structure.

a41のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、1−メチルブタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。
a41のアルカンジイル基における置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数1〜6のアルコキシ基等が挙げられる。
a41は、好ましくは炭素数1〜4のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数2〜4のアルカンジイル基であり、さらに好ましくはエチレン基である。
Examples of the alkanediyl group of A a41 include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a pentane-1,5-diyl group, a hexane-1,6-diyl group. A linear alkanediyl group such as propane-1,2-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, 1-methylbutane-1,4-diyl group, Examples thereof include branched alkanediyl groups such as 2-methylbutane-1,4-diyl group.
Examples of the substituent in the alkanediyl group of A a41 include a hydroxy group and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
A a41 is preferably an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably an alkanediyl group having 2 to 4 carbon atoms, and further preferably an ethylene group.

基(a−g1)におけるAa42、Aa43及びAa44の脂肪族炭化水素基は、炭素−炭素不飽和結合を有していてもよいが、脂肪族飽和炭化水素基が好ましい。該脂肪族飽和炭化水素基としては、アルキル基(当該アルキル基は直鎖でも分岐していてもよい)及び脂環式炭化水素基、並びに、アルキル基及び脂環式炭化水素基を組合せることにより形成される脂肪族炭化水素基等が挙げられる。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、1−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基等が挙げられる。
a42、Aa43及びAa44の脂肪族炭化水素基の置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数1〜6のアルコキシ基等が挙げられる。
sは、0であることが好ましい。
The aliphatic hydrocarbon group of A a42 , A a43, and A a44 in the group (a-g1) may have a carbon-carbon unsaturated bond, but an aliphatic saturated hydrocarbon group is preferable. As the aliphatic saturated hydrocarbon group, an alkyl group (the alkyl group may be linear or branched) and an alicyclic hydrocarbon group, and an alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group are combined. And an aliphatic hydrocarbon group formed by the above. Specifically, a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a propane-1,2-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a 1-methylpropane-1,3-diyl group, Examples thereof include 2-methylpropane-1,3-diyl group and 2-methylpropane-1,2-diyl group.
Examples of the substituent of the aliphatic hydrocarbon group of A a42 , A a43, and A a44 include a hydroxy group and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
s is preferably 0.

a42が酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す基(a−g1)としては、以下の基等が挙げられる。以下の例示において、*及び**はそれぞれ結合手を表わし、**が−O−CO−Ra42との結合手である。 Examples of the group (a-g1) in which X a42 represents an oxygen atom, a carbonyl group, a carbonyloxy group or an oxycarbonyl group include the following groups. In the following examples, * and ** each represent a bond, and ** is a bond with -O-CO-R a42 .

式(a4−1)で表される構造単位としては、式(a4−2)及び式(a4−3)で表される構造単位が好ましい。
[式(a4−2)中、
f1は、水素原子又はメチル基を表す。
f1は、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。
f2は、フッ素原子を有する炭素数1〜10の炭化水素基を表す。]
As the structural unit represented by formula (a4-1), the structural units represented by formula (a4-2) and formula (a4-3) are preferable.
[In the formula (a4-2),
R f1 represents a hydrogen atom or a methyl group.
A f1 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
R f2 represents a hydrocarbon group having a fluorine atom and having 1 to 10 carbon atoms. ]

f1のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;1−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、1−メチルブタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。 The alkanediyl group of A f1 includes a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a propane-1,2-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a pentane-1,5-diyl group. , A linear alkanediyl group such as hexane-1,6-diyl group; 1-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2 Examples thereof include branched alkanediyl groups such as -diyl group, 1-methylbutane-1,4-diyl group and 2-methylbutane-1,4-diyl group.

f2の炭化水素基は、脂肪族炭化水素基及び芳香族炭化水素基を包含し、脂肪族炭化水素基は、鎖式、環式及びこれらの組合せることにより形成される基を含む。脂肪族炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基が好ましい。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基及び2−エチルヘキシル基が挙げられる。
脂環式炭化水素基は、単環式であってもよいし、多環式であってもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘプチル基、シクロデシル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、2−アルキルアダマンタン−2−イル基、1−(アダマンタン−1−イル)アルカン−1−イル基、ノルボルニル基、メチルノルボルニル基及びイソボルニル基が挙げられる。
The hydrocarbon group of R f2 includes an aliphatic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group, and the aliphatic hydrocarbon group includes a group formed by a chain structure, a ring structure and a combination thereof. The aliphatic hydrocarbon group is preferably an alkyl group or an alicyclic hydrocarbon group.
Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-octyl group and 2 And an ethylhexyl group.
The alicyclic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, methylcyclohexyl group, dimethylcyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, cycloheptyl group and cyclodecyl group. A cycloalkyl group is mentioned. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a 2-alkyladamantan-2-yl group, a 1-(adamantan-1-yl)alkane-1-yl group, a norbornyl group, Examples thereof include a methylnorbornyl group and an isobornyl group.

f2のフッ素原子を有する炭化水素基としては、フッ素原子を有するアルキル基、フッ素原子を有する脂環式炭化水素基等が挙げられる。
フッ素原子を有するアルキル基としては、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、1,1−ジフルオロエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペルフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロプロピル基、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロプロピル基、ペルフルオロエチルメチル基、1−(トリフルオロメチル)−1,2,2,2−テトラフルオロエチル基、1−(トリフルオロメチル)−2,2,2−トリフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、1,1,2,2−テトラフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロブチル基、ペルフルオロブチル基、1,1−ビス(トリフルオロ)メチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、2−(ペルフルオロプロピル)エチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロペンチル基、ペルフルオロペンチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5−デカフルオロペンチル基、1,1−ビス(トリフルオロメチル)−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、2−(ペルフルオロブチル)エチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5−デカフルオロヘキシル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6−ドデカフルオロヘキシル基、ペルフルオロペンチルメチル基及びペルフルオロヘキシル基等のフッ化アルキル基が挙げられる。
フッ素原子を有する脂環式炭化水素基としては、ペルフルオロシクロヘキシル基、ペルフルオロアダマンチル基等のフッ化シクロアルキル基が挙げられる。
Examples of the hydrocarbon group having a fluorine atom of R f2 include an alkyl group having a fluorine atom and an alicyclic hydrocarbon group having a fluorine atom.
Examples of the alkyl group having a fluorine atom include difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 1,1-difluoroethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, perfluoroethyl group, 1 , 1,2,2-Tetrafluoropropyl group, 1,1,2,2,3,3-hexafluoropropyl group, perfluoroethylmethyl group, 1-(trifluoromethyl)-1,2,2,2- Tetrafluoroethyl group, 1-(trifluoromethyl)-2,2,2-trifluoroethyl group, perfluoropropyl group, 1,1,2,2-tetrafluorobutyl group, 1,1,2,2,3 ,3-hexafluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutyl group, perfluorobutyl group, 1,1-bis(trifluoro)methyl-2,2,2- Trifluoroethyl group, 2-(perfluoropropyl)ethyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluoropentyl group, perfluoropentyl group, 1,1,2,2,3,3 , 4,4,5,5-decafluoropentyl group, 1,1-bis(trifluoromethyl)-2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 2-(perfluorobutyl)ethyl group, 1 , 1,2,2,3,3,4,4,5,5-decafluorohexyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-dodecafluoro Examples thereof include fluorinated alkyl groups such as hexyl group, perfluoropentylmethyl group and perfluorohexyl group.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group having a fluorine atom include a fluorinated cycloalkyl group such as a perfluorocyclohexyl group and a perfluoroadamantyl group.

式(a4−2)におけるAf1は、炭素数2〜4のアルカンジイル基が好ましく、エチレン基がより好ましい。
f2は、炭素数1〜6のフッ化アルキル基が好ましい。
A f1 in formula (a4-2) is preferably an alkanediyl group having 2 to 4 carbon atoms, and more preferably an ethylene group.
R f2 is preferably a fluorinated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

[式(a4−3)中、
f11は、水素原子又はメチル基を表す。
f11は、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。
f13は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基を表す。
f12は、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。
f14は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1〜17の脂肪族炭化水素基を表す。
ただし、Af13及びAf14の少なくとも1つは、フッ素原子を有する脂肪族炭化水素基を表す。]
[In the formula (a4-3),
R f11 represents a hydrogen atom or a methyl group.
A f11 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
A f13 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, which may have a fluorine atom.
X f12 represents a carbonyloxy group or an oxycarbonyl group.
A f14 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, which may have a fluorine atom.
However, at least one of A f13 and A f14 represents an aliphatic hydrocarbon group having a fluorine atom. ]

f11のアルカンジイル基としては、Af1のアルカンジイル基と同様の基が挙げられる。 Examples of the alkanediyl group of A f11 include the same groups as the alkanediyl group of A f1 .

f13の脂肪族炭化水素基は、鎖式及び環式の脂肪族炭化水素基、並びにこれらを組合せることにより形成される2価の脂肪族炭化水素基が包含される。この脂肪族炭化水素は、炭素−炭素不飽和結合を有していてもよいが、好ましくは飽和の脂肪族炭化水素基である。
f13のフッ素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基は、好ましくはフッ素原子を有していてもよい脂肪族飽和炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルカンジイル基である。
フッ素原子を有していてもよい2価の鎖式の脂肪族炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基;ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロプロパンジイル基、ペルフルオロブタンジイル基及びペルフルオロペンタンジイル基等のペルフルオロアルカンジイル基等が挙げられる。
フッ素原子を有していてもよい2価の環式の脂肪族炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれを含む基でもよい。単環式の脂肪族炭化水素基としては、シクロヘキサンジイル基及びペルフルオロシクロヘキサンジイル基等が挙げられる。多環式の2価の脂肪族炭化水素基としては、アダマンタンジイル基、ノルボルナンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。
The aliphatic hydrocarbon group for A f13 includes a chain and cyclic aliphatic hydrocarbon group, and a divalent aliphatic hydrocarbon group formed by combining these. This aliphatic hydrocarbon may have a carbon-carbon unsaturated bond, but is preferably a saturated aliphatic hydrocarbon group.
The aliphatic hydrocarbon group which may have a fluorine atom of A f13 is preferably an aliphatic saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom, and more preferably a perfluoroalkanediyl group.
Examples of the divalent chain aliphatic hydrocarbon group which may have a fluorine atom include an alkanediyl group such as a methylene group, an ethylene group, a propanediyl group, a butanediyl group and a pentanediyl group; a difluoromethylene group, a perfluoroethylene group. And perfluoroalkanediyl groups such as groups, perfluoropropanediyl group, perfluorobutanediyl group and perfluoropentanediyl group.
The divalent cyclic aliphatic hydrocarbon group which may have a fluorine atom may be a group containing either a monocyclic group or a polycyclic group. Examples of the monocyclic aliphatic hydrocarbon group include a cyclohexanediyl group and a perfluorocyclohexanediyl group. Examples of the polycyclic divalent aliphatic hydrocarbon group include an adamantanediyl group, a norbornanediyl group and a perfluoroadamantanediyl group.

f14の脂肪族炭化水素基としては、鎖式及び環式の脂肪族炭化水素基、並びに、これらが組合せることにより形成される脂肪族炭化水素基が包含される。この脂肪族炭化水素は、炭素−炭素不飽和結合を有していてもよいが、好ましくは飽和の脂肪族炭化水素基である。
f14のフッ素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基は、好ましくはフッ素原子を有していてもよい脂肪族飽和炭化水素基である。
フッ素原子を有していてもよい鎖式の脂肪族炭化水素基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、1,1,1−トリフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、1,1,1,2,2,3,3,4,4−ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基、ヘプチル基、ペルフルオロヘプチル基、オクチル基及びペルフルオロオクチル基等が挙げられる。
フッ素原子を有していてもよい環式の脂肪族炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂肪族炭化水素基を含む基としては、シクロプロピルメチル基、シクロプロピル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ペルフルオロシクロヘキシル基が挙げられる。多環式の脂肪族炭化水素基を含む基としては、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、ノルボルニル基、ノルボルニルメチル基、ペルフルオロアダマンチル基、ペルフルオロアダマンチルメチル基等が挙げられる。
The aliphatic hydrocarbon group for A f14 includes a chain and cyclic aliphatic hydrocarbon group, and an aliphatic hydrocarbon group formed by combining these. This aliphatic hydrocarbon may have a carbon-carbon unsaturated bond, but is preferably a saturated aliphatic hydrocarbon group.
The aliphatic hydrocarbon group which may have a fluorine atom of A f14 is preferably an aliphatic saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom.
Examples of the chain aliphatic hydrocarbon group which may have a fluorine atom include trifluoromethyl group, difluoromethyl group, methyl group, perfluoroethyl group, 1,1,1-trifluoroethyl group, 1,1 , 2,2-Tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 1,1,1,2,2-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3 , 4,4-octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoropentyl group, pentyl group, hexyl group, perfluorohexyl group, Examples thereof include a heptyl group, a perfluoroheptyl group, an octyl group, and a perfluorooctyl group.
The cyclic aliphatic hydrocarbon group which may have a fluorine atom may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the group containing a monocyclic aliphatic hydrocarbon group include a cyclopropylmethyl group, a cyclopropyl group, a cyclobutylmethyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group and a perfluorocyclohexyl group. Examples of the group containing a polycyclic aliphatic hydrocarbon group include an adamantyl group, an adamantylmethyl group, a norbornyl group, a norbornylmethyl group, a perfluoroadamantyl group, a perfluoroadamantylmethyl group and the like.

式(a4−3)において、Af11は、エチレン基であることが好ましい。
f13の脂肪族炭化水素基は、炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基であることが好ましく、炭素数2〜3の脂肪族炭化水素基であることがさらに好ましい。
f14の脂肪族炭化水素基は、炭素数3〜12の脂肪族炭化水素基であることが好ましく、炭素数3〜10の脂肪族炭化水素基であることがより好ましい。なかでも、Af14は、好ましくは炭素数3〜12の脂環式炭化水素基を含む基であり、より好ましくはシクロプロピルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基及びアダマンチル基である。
In the formula (a4-3), A f11 is preferably an ethylene group.
The aliphatic hydrocarbon group for A f13 is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably an aliphatic hydrocarbon group having 2 to 3 carbon atoms.
The aliphatic hydrocarbon group of A f14 is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and more preferably an aliphatic hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms. Among them, A f14 is preferably a group containing an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and more preferably a cyclopropylmethyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a norbornyl group and an adamantyl group.

式(a4−2)で表される構造単位としては、式(a4−1−1)〜式(a4−1−22)で表される構成単位が挙げられる。
Examples of the structural unit represented by the formula (a4-2) include structural units represented by the formula (a4-1-1) to the formula (a4-1-22).

式(a4−3)で表される構造単位としては、式(a4−1’−1)〜式(a4−1’−22)でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。
Examples of the structural unit represented by the formula (a4-3) include structural units represented by the formulas (a4-1'-1) to (a4-1'-22).

構造単位(a4)としては、式(a4−4)で表される構造単位も挙げられる。
[式(a4−4)中、
f21は、水素原子又はメチル基を表す。
f21は、−(CHj1−、−(CHj2−O−(CHj3−又は−(CHj4−CO−O−(CHj5−を表す。
j1〜j5は、互いに独立に、1〜6の整数を表す。
f22は、フッ素原子を有する炭素数1〜10の炭化水素基を表す。]
Examples of the structural unit (a4) also include the structural unit represented by the formula (a4-4).
[In the formula (a4-4),
R f21 represents a hydrogen atom or a methyl group.
A f21 is, - (CH 2) j1 - , - (CH 2) j2 -O- (CH 2) j3 - or - (CH 2) j4 -CO- O- (CH 2) j5 - represents a.
j1 to j5 each independently represent an integer of 1 to 6.
R f22 represents a C 1-10 hydrocarbon group having a fluorine atom. ]

f22のフッ素原子を有する炭化水素基としては、式(a4−2)におけるRf2の炭化水素基と同じものが挙げられる。
f22は、フッ素原子を有する炭素数1〜10のアルキル基又はフッ素原子を有する炭素数1〜10の脂環式炭化水素基であることが好ましく、フッ素原子を有する炭素数1〜10のアルキル基であることがより好ましく、フッ素原子を有する炭素数1〜6のアルキル基であることがさらに好ましい。
Examples of the hydrocarbon group having a fluorine atom of R f22 include the same as the hydrocarbon group of R f2 in the formula (a4-2).
R f22 is preferably a C 1-10 alkyl group having a fluorine atom or a C 1-10 alicyclic hydrocarbon group having a fluorine atom, and a C 1-10 alkyl having a fluorine atom. A group is more preferable, and an alkyl group having a fluorine atom and having 1 to 6 carbon atoms is further preferable.

式(a4−4)においては、Af21としては、−(CHj1−が好ましく、エチレン基又はメチレン基がより好ましく、メチレン基がさらに好ましい。 In formula (A4-4), as the A f21, - (CH 2) j1 - , more preferably an ethylene group or a methylene group, more preferably a methylene group.

式(a4−4)で表される構造単位としては、例えば、以下の構造単位が挙げられる。
Examples of the structural unit represented by the formula (a4-4) include the following structural units.

樹脂(A)が、構造単位(a4)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、1〜20モル%であることが好ましく、2〜15モル%であることがより好ましく、3〜10モル%であることがさらに好ましい。 When the resin (A) has the structural unit (a4), its content is preferably 1 to 20 mol%, and preferably 2 to 15 mol% with respect to the total of all structural units of the resin (A). Is more preferable, and 3 to 10 mol% is further preferable.

<構造単位(a5)>
構造単位(a5)が有する非脱離炭化水素基としては、直鎖、分岐又は環状の炭化水素基が挙げられる。なかでも、構造単位(a5)は、脂環式炭化水素基であることが好ましい。
構造単位(a5)としては、例えば、式(a5−1)で表される構造単位が挙げられる。
[式(a5−1)中、
51は、水素原子又はメチル基を表す。
52は、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
但し、L55との結合位置にある炭素原子に結合する水素原子は、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基で置換されない。
55は、単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。]
<Structural unit (a5)>
Examples of the non-eliminating hydrocarbon group contained in the structural unit (a5) include linear, branched or cyclic hydrocarbon groups. Among them, the structural unit (a5) is preferably an alicyclic hydrocarbon group.
Examples of the structural unit (a5) include structural units represented by the formula (a5-1).
[In the formula (a5-1),
R 51 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R 52 represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group is substituted with an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a hydroxy group. May be.
However, the hydrogen atom bonded to the carbon atom at the bonding position with L 55 is not substituted with an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L 55 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the methylene group contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with an oxygen atom or a carbonyl group. ]

52の脂環式炭化水素基としては、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、アダマンチル基及びノルボルニル基等が挙げられる。
炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基は、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び2−エチルヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。
置換基を有した脂環式炭化水素基としては、3−ヒドロキシアダマンチル基、3−メチルアダマンチル基などが挙げられる。
52は、好ましくは無置換の炭素数3〜18の脂環式炭化水素基であり、より好ましくはアダマンチル基、ノルボルニル基又はシクロヘキシル基である。
The alicyclic hydrocarbon group for R 52 may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include an adamantyl group and a norbornyl group.
The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms includes, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, Examples thereof include alkyl groups such as octyl group and 2-ethylhexyl group.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group having a substituent include a 3-hydroxyadamantyl group and a 3-methyladamantyl group.
R 52 is preferably an unsubstituted alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, and more preferably an adamantyl group, a norbornyl group or a cyclohexyl group.

55の2価の飽和炭化水素基としては、2価の脂肪族飽和炭化水素基及び2価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、好ましくは2価の脂肪族飽和炭化水素基が挙げられる。
2価の脂肪族飽和炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基が挙げられる。
2価の脂環式飽和炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロペンタンジイル基及びシクロヘキサンジイル基等のシクロアルカンジイル基が挙げられる。多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基としては、アダマンタンジイル基及びノルボルナンジイル基等が挙げられる。
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group for L 55 include a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group and a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, and preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group. To be
Examples of the divalent saturated aliphatic hydrocarbon group include alkanediyl groups such as methylene group, ethylene group, propanediyl group, butanediyl group and pentanediyl group.
The divalent alicyclic saturated hydrocarbon group may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic saturated hydrocarbon group include cycloalkanediyl groups such as cyclopentanediyl group and cyclohexanediyl group. Examples of the polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group include an adamantanediyl group and a norbornanediyl group.

飽和炭化水素基に含まれるメチレン基が、酸素原子又はカルボニル基で置き換わった基としては、例えば、式(L1−1)〜式(L1−4)で表される基が挙げられる。下記式中、*は酸素原子との結合手を表す。
[式(L1−1)中、
x1は、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。
x1は、炭素数1〜16の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x2は、単結合又は炭素数1〜15の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx1及びLx2の合計炭素数は、16以下である。
式(L1−2)中、
x3は、炭素数1〜17の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x4は、単結合又は炭素数1〜16の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx3x4の合計炭素数は、17以下である。
式(L1−3)中、
x5は、炭素数1〜15の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x6及びLx7は、互いに独立に、単結合又は炭素数1〜14の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx5、Lx6及びLx7の合計炭素数は、15以下である。
式(L1−4)中、
x8及びLx9は、単結合又は炭素数1〜12の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x1は、炭素数3〜15の2価の脂環式飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx8、Lx9及びWx1の合計炭素数は、15以下である。]
Examples of the group in which the methylene group contained in the saturated hydrocarbon group is replaced with an oxygen atom or a carbonyl group include groups represented by formula (L1-1) to formula (L1-4). In the following formula, * represents a bond with an oxygen atom.
[In the formula (L1-1),
X x1 represents a carbonyloxy group or an oxycarbonyl group.
L x1 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
L x2 represents a single bond or a C 1 to C 15 divalent saturated aliphatic hydrocarbon group.
However, the total carbon number of L x1 and L x2 is 16 or less.
In formula (L1-2),
L x3 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms.
L x4 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
However, the total carbon number of L x3 L x4 is 17 or less.
In formula (L1-3),
L x5 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
L x6 and L x7 each independently represent a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.
However, the total carbon number of L x5 , L x6, and L x7 is 15 or less.
In formula (L1-4),
L x8 and L x9 represent a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
W x1 represents a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 15 carbon atoms.
However, the total carbon number of L x8 , L x9, and W x1 is 15 or less. ]

x1は、好ましくは炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基であり、より好ましくはメチレン基又はエチレン基である。
x2は、好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合である。
x3は、好ましくは炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
x4は、好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
x5は、好ましくは炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基であり、より好ましくはメチレン基又はエチレン基である。
x6は、好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基であり、より好ましくはメチレン基又はエチレン基である。
x7は、好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
x8は、好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又はメチレン基である。
x9は、好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又はメチレン基である。
x1は、好ましくは炭素数3〜10の2価の脂環式飽和炭化水素基であり、より好ましくはシクロヘキサンジイル基又はアダマンタンジイル基である。
L x1 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a methylene group or an ethylene group.
L x2 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a single bond.
L x3 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L x4 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L x5 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a methylene group or an ethylene group.
L x6 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a methylene group or an ethylene group.
L x7 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L x8 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a single bond or a methylene group.
L x9 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a single bond or a methylene group.
W x1 is preferably a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms, and more preferably a cyclohexanediyl group or an adamantanediyl group.

式(L1−1)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (L1-1) include divalent groups shown below.

式(L1−2)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (L1-2) include divalent groups shown below.

式(L1−3)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (L1-3) include the following divalent groups.

式(L1−4)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。
55は、好ましくは、単結合又は式(L1−1)で表される基である。
Examples of the group represented by the formula (L1-4) include the following divalent groups.
L 55 is preferably a single bond or a group represented by the formula (L1-1).

構造単位(a5−1)としては、以下のもの等が挙げられる。
式(a5−1−1)〜式(a5−1−18)において、R51に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も、構造単位(a5−1)の具体例として挙げることができる。
Examples of the structural unit (a5-1) include the followings.
In formulas (a5-1-1) to (a5-1-18), a structural unit in which a methyl group corresponding to R 51 is replaced with a hydrogen atom may be mentioned as a specific example of the structural unit (a5-1). it can.

樹脂(A)が、構造単位(a5)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、1〜30モル%であることが好ましく、2〜20モル%であることがより好ましく、3〜15モル%であることがさらに好ましい。 When the resin (A) has the structural unit (a5), its content is preferably 1 to 30 mol%, and preferably 2 to 20 mol% with respect to the total of all structural units of the resin (A). Is more preferable, and 3 to 15 mol% is further preferable.

樹脂(A)は、好ましくは、構造単位(a1)と構造単位(s)とからなる樹脂、すなわち、モノマー(a1)とモノマー(s)との共重合体である。
構造単位(a1)は、好ましくは構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−2)(好ましくはシクロヘキシル基、シクロペンチル基を有する該構造単位)から選ばれる少なくとも一種、より好ましくは構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−2)(好ましくはシクロヘキシル基、シクロペンチル基を有する該構造単位)から選ばれる少なくとも二種である。
構造単位(s)は、好ましくは構造単位(a2)及び構造単位(a3)の少なくとも一種である。構造単位(a2)は、好ましくは式(a2−1)で表される構造単位である。
構造単位(a3)は、好ましくは式(a3−1)で表される構造単位、式(a3−2)で表される構造単位及び式(a3−4)で表される構造単位から選ばれる少なくとも一種である。
The resin (A) is preferably a resin composed of the structural unit (a1) and the structural unit (s), that is, a copolymer of the monomer (a1) and the monomer (s).
The structural unit (a1) is preferably at least one selected from the structural unit (a1-1) and the structural unit (a1-2) (preferably the structural unit having a cyclohexyl group or a cyclopentyl group), and more preferably the structural unit (a1). at least two kinds selected from a1-1) and structural unit (a1-2) (preferably the structural unit having a cyclohexyl group or a cyclopentyl group).
The structural unit (s) is preferably at least one of the structural unit (a2) and the structural unit (a3). The structural unit (a2) is preferably a structural unit represented by the formula (a2-1).
The structural unit (a3) is preferably selected from the structural unit represented by the formula (a3-1), the structural unit represented by the formula (a3-2) and the structural unit represented by the formula (a3-4). At least one.

樹脂(A)は、アダマンチル基を有するモノマーに由来する構造単位(特に、構造単位(a1−1))を、構造単位(a1)の含有量に対して15モル%以上含有していることが好ましい。アダマンチル基を有する構造単位の含有量が増えると、レジストパターンのドライエッチング耐性が向上する。 The resin (A) contains the structural unit (particularly the structural unit (a1-1)) derived from the monomer having an adamantyl group in an amount of 15 mol% or more based on the content of the structural unit (a1). preferable. When the content of the structural unit having an adamantyl group is increased, the dry etching resistance of the resist pattern is improved.

樹脂(A)を構成する各構造単位は、1種のみ又は2種以上を組合せて用いてもよく、これら構造単位を誘導するモノマーを用いて、公知の重合法(例えばラジカル重合法)によって製造することができる。樹脂(A)が有する各構造単位の含有率は、重合に用いるモノマーの使用量で調整できる。
樹脂(A)の重量平均分子量は、好ましくは2,000以上(より好ましくは2,500以上、さらに好ましくは3,000以上)、50,000以下(より好ましくは30,000以下、さらに好ましくは15,000以下)である。
本明細書において、重量平均分子量は、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーにより求めた値である。ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーは、実施例に記載の分析条件により測定することができる。
Each structural unit constituting the resin (A) may be used alone or in combination of two or more, and is produced by a known polymerization method (for example, radical polymerization method) using a monomer that induces these structural units. can do. The content of each structural unit of the resin (A) can be adjusted by the amount of the monomer used for polymerization.
The weight average molecular weight of the resin (A) is preferably 2,000 or more (more preferably 2,500 or more, still more preferably 3,000 or more), 50,000 or less (more preferably 30,000 or less, further preferably). 15,000 or less).
In the present specification, the weight average molecular weight is a value determined by gel permeation chromatography. The gel permeation chromatography can be measured under the analysis conditions described in Examples.

<樹脂(A)以外の樹脂>
本発明のレジスト組成物は、樹脂(A)以外の樹脂を含んでもよい。樹脂(A)以外の樹脂としては、構造単位(s)のみからなる樹脂が挙げられる。なかでも、構造単位(a4)を含む樹脂(ただし、構造単位(a1)を含まない。以下「樹脂(X)」という場合がある)が好ましい。
樹脂(X)において、構造単位(a4)の含有率は、樹脂(X)の全構造単位の合計に対して、40モル%以上であることが好ましく、45モル%以上であることがより好ましく、50モル%以上であることがさらに好ましい。
<Resin other than resin (A)>
The resist composition of the present invention may contain a resin other than the resin (A). Examples of the resin other than the resin (A) include a resin composed of the structural unit (s) only. Among them, a resin containing the structural unit (a4) (however, it does not contain the structural unit (a1), and may be hereinafter referred to as “resin (X)”) is preferable.
In the resin (X), the content of the structural unit (a4) is preferably 40 mol% or more, and more preferably 45 mol% or more, based on the total of all structural units of the resin (X). And more preferably 50 mol% or more.

樹脂(X)がさらに有していてもよい構造単位としては、構造単位(a2)、構造単位(a3)及びその他の公知のモノマーに由来する構造単位が挙げられる。
樹脂(X)の重量平均分子量は、好ましくは6,000以上(より好ましくは7,000以上)、80,000以下(より好ましくは60,000以下)である。樹脂(X)の重量平均分子量の測定手段は、樹脂(A)の場合と同様である。
レジスト組成物が樹脂(X)を含む場合、その含有量は、樹脂(A)100質量部に対して、好ましくは1〜60質量部であり、より好ましくは2〜50質量部であり、さらに好ましくは2〜40質量部であり、特に好ましくは3〜30質量部である。
Examples of the structural unit that the resin (X) may further have include structural units (a2), structural units (a3) and structural units derived from other known monomers.
The weight average molecular weight of the resin (X) is preferably 6,000 or more (more preferably 7,000 or more) and 80,000 or less (more preferably 60,000 or less). The means for measuring the weight average molecular weight of the resin (X) is the same as that for the resin (A).
When the resist composition contains the resin (X), the content thereof is preferably 1 to 60 parts by mass, more preferably 2 to 50 parts by mass, and further to 100 parts by mass of the resin (A). It is preferably 2 to 40 parts by mass, and particularly preferably 3 to 30 parts by mass.

樹脂(A)と樹脂(A)以外の樹脂との合計含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、80質量%以上99質量%以下が好ましく、90〜99質量%がより好ましい。レジスト組成物の固形分及びこれに対する樹脂の含有率は、液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定することができる。 The total content of the resin (A) and the resins other than the resin (A) is preferably 80% by mass or more and 99% by mass or less, and more preferably 90 to 99% by mass, based on the solid content of the resist composition. The solid content of the resist composition and the resin content relative thereto can be measured by a known analysis means such as liquid chromatography or gas chromatography.

〈クエンチャー(C)〉
クエンチャー(C)は、塩基性の含窒素有機化合物又は塩(a)及び酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い塩等が挙げられる。
塩基性の含窒素有機化合物としては、アミン及びアンモニウム塩が挙げられる。アミンとしては、脂肪族アミン及び芳香族アミンが挙げられる。脂肪族アミンとしては、第一級アミン、第二級アミン及び第三級アミンが挙げられる。
<Quencher (C)>
Examples of the quencher (C) include basic nitrogen-containing organic compounds or salts (a) and salts having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator (B).
Examples of basic nitrogen-containing organic compounds include amines and ammonium salts. Examples of amines include aliphatic amines and aromatic amines. Aliphatic amines include primary amines, secondary amines and tertiary amines.

アミンとしては、1−ナフチルアミン、2−ナフチルアミン、アニリン、ジイソプロピルアニリン、2−,3−又は4−メチルアニリン、4−ニトロアニリン、N−メチルアニリン、N,N−ジメチルアニリン、ジフェニルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、ジノニルアミン、ジデシルアミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、トリノニルアミン、トリデシルアミン、メチルジブチルアミン、メチルジペンチルアミン、メチルジヘキシルアミン、メチルジシクロヘキシルアミン、メチルジヘプチルアミン、メチルジオクチルアミン、メチルジノニルアミン、メチルジデシルアミン、エチルジブチルアミン、エチルジペンチルアミン、エチルジヘキシルアミン、エチルジヘプチルアミン、エチルジオクチルアミン、エチルジノニルアミン、エチルジデシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、トリス〔2−(2−メトキシエトキシ)エチル〕アミン、トリイソプロパノールアミン、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、4,4’−ジアミノ−1,2−ジフェニルエタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジエチルジフェニルメタン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン及び特開平11−52575号公報に記載されているピペリジン骨格を有するヒンダードアミン化合物、イミダゾール、4−メチルイミダゾール、ピリジン、4−メチルピリジン、1,2−ジ(2−ピリジル)エタン、1,2−ジ(4−ピリジル)エタン、1,2−ジ(2−ピリジル)エテン、1,2−ジ(4−ピリジル)エテン、1,3−ジ(4−ピリジル)プロパン、1,2−ジ(4−ピリジルオキシ)エタン、ジ(2−ピリジル)ケトン、4,4’−ジピリジルスルフィド、4,4’−ジピリジルジスルフィド、2,2’−ジピリジルアミン、2,2’−ジピコリルアミン、ビピリジン等が挙げられ、好ましくはジイソプロピルアニリンが挙げられ、特に好ましくは2,6−ジイソプロピルアニリンが挙げられる。 As the amine, 1-naphthylamine, 2-naphthylamine, aniline, diisopropylaniline, 2-,3- or 4-methylaniline, 4-nitroaniline, N-methylaniline, N,N-dimethylaniline, diphenylamine, hexylamine, Heptylamine, octylamine, nonylamine, decylamine, dibutylamine, dipentylamine, dihexylamine, diheptylamine, dioctylamine, dinonylamine, didecylamine, triethylamine, trimethylamine, tripropylamine, tributylamine, tripentylamine, trihexylamine, tri Heptylamine, trioctylamine, trinonylamine, tridecylamine, methyldibutylamine, methyldipentylamine, methyldihexylamine, methyldicyclohexylamine, methyldiheptylamine, methyldioctylamine, methyldinonylamine, methyldidecylamine, Ethyldibutylamine, ethyldipentylamine, ethyldihexylamine, ethyldiheptylamine, ethyldioctylamine, ethyldinonylamine, ethyldidecylamine, dicyclohexylmethylamine, tris[2-(2-methoxyethoxy)ethyl]amine, tri Isopropanolamine, ethylenediamine, tetramethylenediamine, hexamethylenediamine, 4,4'-diamino-1,2-diphenylethane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3 , 3'-Diethyldiphenylmethane, piperazine, morpholine, piperidine and hindered amine compounds having a piperidine skeleton described in JP-A-11-52575, imidazole, 4-methylimidazole, pyridine, 4-methylpyridine, 1,2- Di(2-pyridyl)ethane, 1,2-di(4-pyridyl)ethane, 1,2-di(2-pyridyl)ethene, 1,2-di(4-pyridyl)ethene, 1,3-di( 4-pyridyl)propane, 1,2-di(4-pyridyloxy)ethane, di(2-pyridyl)ketone, 4,4′-dipyridyl sulfide, 4,4′-dipyridyl disulfide, 2,2′-dipyridylamine , 2,2′-dipicolylamine, bipyridine, and the like, preferably diisopropylaniline, and particularly preferably 2,6-diisopropylaniline.

アンモニウム塩としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトライソプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシルアンモニウムヒドロキシド、テトラオクチルアンモニウムヒドロキシド、フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、3−(トリフルオロメチル)フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−n−ブチルアンモニウムサリチラート及びコリン等が挙げられる。 Examples of ammonium salts include tetramethylammonium hydroxide, tetraisopropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, tetrahexylammonium hydroxide, tetraoctylammonium hydroxide, phenyltrimethylammonium hydroxide and 3-(trifluoromethyl)phenyltrimethyl. Examples thereof include ammonium hydroxide, tetra-n-butylammonium salicylate and choline.

塩(a)及び酸発生剤(B)から発生ずる酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩としては、下記式で表される塩、式(D)で表される弱酸分子内塩、並びに特開2012−229206号公報、特開2012−6908号公報、特開2012−72109号公報、特開2011−39502号公報及び特開2011−191745号公報記載の塩が挙げられる。好ましくは、式(D)で表される弱酸分子内塩(以下、「弱酸分子内塩(D)」と記す場合がある)である。
塩(a)及び酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩における酸性度は、酸解離定数(pKa)で示される。塩(a)及び酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩は、該塩から発生する酸の酸解離定数が、通常−3<pKaの塩であり、好ましくは−1<pKa<7の塩であり、より好ましくは0<pKa<5の塩である。
Examples of the salt (a) and the salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator (B) include salts represented by the following formulas, weak acid intramolecular salts represented by the formula (D), In addition, salts described in JP2012-229206A, JP2012-6908A, JP2012-72109A, JP2011-39502A and JP2011-191745A are also included. A weak acid inner salt represented by the formula (D) (hereinafter sometimes referred to as “weak acid inner salt (D)”) is preferable.
The acidity of a salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the salt (a) and the acid generator (B) is represented by an acid dissociation constant (pKa). The salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the salt (a) and the acid generator (B) is a salt in which the acid dissociation constant of the acid generated from the salt is usually -3<pKa, The salt is preferably -1<pKa<7, more preferably 0<pKa<5.

[式(D)中、
D1及びRD2は、互いに独立に、炭素数1〜12の1価の炭化水素基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜7のアシル基、炭素数2〜7のアシルオキシ基、炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子を表す。
m’及びn’は、互いに独立に、0〜4の整数を表し、m’が2以上の場合、複数のRD1は同一であっても異なってもよく、n’が2以上の場合、複数のRD2は同一であっても異なってもよい。]
[In the formula (D),
R D1 and R D2 are, independently of each other, a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an acyl group having 2 to 7 carbon atoms, and an acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms. Represents an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a nitro group or a halogen atom.
m′ and n′ each independently represent an integer of 0 to 4, when m′ is 2 or more, a plurality of R D1 may be the same or different, and when n′ is 2 or more, A plurality of R D2 may be the same or different. ]

弱酸分子内塩(D)においては、RD1及びRD2の炭化水素基としては、1価の脂肪族炭化水素基、1価の脂環式炭化水素基、1価の芳香族炭化水素基及びこれらの組合せることにより形成される基等が挙げられる。
1価の脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ノニル基等のアルキル基が挙げられる。
1価の脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよく、飽和及び不飽和のいずれでもよい。例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロノニル基、シクロドデシル基等のシクロアルキル基、ノルボニル基、アダマンチル基等が挙げられる。
1価の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、2−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、4−エチルフェニル基、4−プロピルフェニル基、4−イソプロピルフェニル基、4−ブチルフェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、4−ヘキシルフェニル基、4−シクロヘキシルフェニル基、アントリル基、p−アダマンチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、2,6−ジエチルフェニル基、2−メチル−6−エチルフェニル等のアリール基等が挙げられる。
これらを組合せることにより形成される基としては、アルキル−シクロアルキル基、シクロアルキル−アルキル基、アラルキル基(例えば、フェニルメチル基、1−フェニルエチル基、2−フェニルエチル基、1−フェニル−1−プロピル基、1−フェニル−2−プロピル基、2−フェニル−2−プロピル基、3−フェニル−1−プロピル基、4−フェニル−1−ブチル基、5−フェニル−1−ペンチル基、6−フェニル−1−ヘキシル基等)等が挙げられる。
In the weak acid inner salt (D), the hydrocarbon groups of R D1 and R D2 include a monovalent aliphatic hydrocarbon group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group, a monovalent aromatic hydrocarbon group and The group etc. which are formed by combining these are mentioned.
Examples of the monovalent aliphatic hydrocarbon group include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group and nonyl group.
The monovalent alicyclic hydrocarbon group may be either monocyclic or polycyclic, and may be saturated or unsaturated. Examples thereof include cycloalkyl groups such as cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclononyl group, cyclododecyl group, norbornyl group, adamantyl group and the like.
Examples of the monovalent aromatic hydrocarbon group include phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 4-ethylphenyl group, 4- Propylphenyl group, 4-isopropylphenyl group, 4-butylphenyl group, 4-tert-butylphenyl group, 4-hexylphenyl group, 4-cyclohexylphenyl group, anthryl group, p-adamantylphenyl group, tolyl group, xylyl group And aryl groups such as cumenyl group, mesityl group, biphenyl group, phenanthryl group, 2,6-diethylphenyl group, and 2-methyl-6-ethylphenyl.
Examples of the group formed by combining these include an alkyl-cycloalkyl group, a cycloalkyl-alkyl group and an aralkyl group (for example, phenylmethyl group, 1-phenylethyl group, 2-phenylethyl group, 1-phenyl- 1-propyl group, 1-phenyl-2-propyl group, 2-phenyl-2-propyl group, 3-phenyl-1-propyl group, 4-phenyl-1-butyl group, 5-phenyl-1-pentyl group, 6-phenyl-1-hexyl group etc.) and the like.

アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられる。
アシル基としては、アセチル基、プロパノイル基、ベンゾイル基、シクロヘキサンカルボニル基等が挙げられる。
アシルオキシ基としては、上記アシル基にオキシ基(−O−)が結合した基等が挙げられる。
アルコキシカルボニル基としては、上記アルコキシ基にカルボニル基(−CO−)が結合した基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。
Examples of the alkoxy group include a methoxy group and an ethoxy group.
Examples of the acyl group include an acetyl group, a propanoyl group, a benzoyl group, a cyclohexanecarbonyl group and the like.
Examples of the acyloxy group include groups in which an oxy group (—O—) is bonded to the above acyl group.
Examples of the alkoxycarbonyl group include groups in which a carbonyl group (—CO—) is bonded to the above alkoxy group.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom.

式(D)においては、RD1及びRD2は、互いに独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜4のアシル基、炭素数2〜4のアシルオキシ基、炭素数2〜4のアルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子であることが好ましい。
m’及びn’は、互いに独立に、0〜2の整数であることが好ましく、0であることがより好ましい。m’が2以上の場合、複数のRD1は同一であっても異なってもよく、n’が2以上の場合、複数のRD2は同一であっても異なってもよい。
In formula (D), R D1 and R D2 are, independently of each other, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and 2 to 2 carbon atoms. It is preferably an acyl group having 4 carbon atoms, an acyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, a nitro group or a halogen atom.
m′ and n′ are preferably, independently of each other, an integer of 0 to 2, and more preferably 0. When m′ is 2 or more, the plurality of R D1 may be the same or different, and when n′ is 2 or more, the plurality of R D2 may be the same or different.

弱酸分子内塩(D)としては、以下の化合物が挙げられる。
The weak acid inner salt (D) includes the following compounds.

弱酸分子内塩(D)は、「Tetrahedron Vol. 45, No. 19, p6281-6296」に記載の方法で製造することができる。また、弱酸分子内塩(D)は、市販されている化合物を用いることができる。 The weak acid inner salt (D) can be produced by the method described in "Tetrahedron Vol. 45, No. 19, p6281-6296". As the weak acid inner salt (D), a commercially available compound can be used.

クエンチャー(C)の含有率は、レジスト組成物の固形分中、好ましくは、0.01〜5質量%であり、より好ましく0.01〜4質量%であり、特に好ましく0.01〜3質量%である。 The content of the quencher (C) in the solid content of the resist composition is preferably 0.01 to 5% by mass, more preferably 0.01 to 4% by mass, and particularly preferably 0.01 to 3% by mass. It is% by mass.

〈溶剤(E)〉
溶剤(E)の含有率は、通常レジスト組成物中90質量%以上、好ましくは92質量%以上、より好ましくは94質量%以上であり、通常99.9質量%以下、好ましくは99質量%以下である。溶剤(E)の含有率は、液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定できる。
<Solvent (E)>
The content of the solvent (E) in the resist composition is usually 90% by mass or more, preferably 92% by mass or more, more preferably 94% by mass or more, and usually 99.9% by mass or less, preferably 99% by mass or less. Is. The content of the solvent (E) can be measured by a known analytical means such as liquid chromatography or gas chromatography.

溶剤(E)としては、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル類;プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;乳酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル及びピルビン酸エチル等のエステル類;アセトン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン及びシクロヘキサノン等のケトン類;γ−ブチロラクトン等の環状エステル類;等が挙げられる。溶剤(E)は、1種を単独で含有してもよく、2種以上を含有してもよい。 Examples of the solvent (E) include glycol ether esters such as ethyl cellosolve acetate, methyl cellosolve acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate; glycol ethers such as propylene glycol monomethyl ether; ethyl lactate, butyl acetate, amyl acetate and ethyl pyruvate. And the like; ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone and cyclohexanone; cyclic esters such as γ-butyrolactone; Solvent (E) may contain 1 type independently and may contain 2 or more types.

〈その他の成分〉
レジスト組成物は、必要に応じて、上述の成分以外の成分(以下「その他の成分(F)」という場合がある。)を含有していてもよい。その他の成分(F)は、レジスト分野で公知の添加剤、例えば、増感剤、溶解抑止剤、界面活性剤、安定剤、染料等を利用できる。
<Other ingredients>
The resist composition may contain a component other than the above-mentioned components (hereinafter sometimes referred to as “other component (F)”), if necessary. As the other component (F), additives known in the resist field, such as a sensitizer, a dissolution inhibitor, a surfactant, a stabilizer, and a dye can be used.

〈レジスト組成物の調製〉
レジスト組成物は、樹脂(A)及び塩(a)、並びに、必要に応じて、樹脂(A)以外の樹脂、酸発生剤(B)、溶剤(E)、クエンチャー(C)及びその他の成分(F)を混合することにより調製することができる。混合順は任意であり、特に限定されるものではない。混合する際の温度は、10〜40℃から、樹脂等の種類や樹脂等の溶剤(E)に対する溶解度等に応じて適切な温度を選ぶことができる。混合時間は、混合温度に応じて、0.5〜24時間の中から適切な時間を選ぶことができる。なお、混合手段も特に制限はなく、攪拌混合等を用いることができる。
各成分を混合した後は、孔径0.003〜0.2μm程度のフィルターを用いてろ過することが好ましい。
<Preparation of resist composition>
The resist composition includes a resin (A) and a salt (a), and, if necessary, a resin other than the resin (A), an acid generator (B), a solvent (E), a quencher (C), and others. It can be prepared by mixing the component (F). The mixing order is arbitrary and is not particularly limited. The temperature at the time of mixing can be selected from 10 to 40° C., and an appropriate temperature can be selected depending on the kind of the resin or the like and the solubility of the resin or the like in the solvent (E). As the mixing time, an appropriate time can be selected from 0.5 to 24 hours depending on the mixing temperature. The mixing means is not particularly limited, and stirring and mixing can be used.
After mixing the components, it is preferable to filter using a filter having a pore size of about 0.003 to 0.2 μm.

〈レジストパターンの製造方法〉
本発明のレジストパターンの製造方法は、
(1)本発明のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
(2)塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
(3)組成物層に露光する工程、
(4)露光後の組成物層を加熱する工程、及び
(5)加熱後の組成物層を現像する工程を含む。
<Method for manufacturing resist pattern>
The method for producing a resist pattern of the present invention,
(1) a step of applying the resist composition of the present invention onto a substrate,
(2) a step of drying the composition after coating to form a composition layer,
(3) exposing the composition layer
(4) A step of heating the composition layer after exposure, and (5) a step of developing the composition layer after heating.

レジスト組成物を基板上に塗布するには、スピンコーター等、通常、用いられる装置によって行うことができる。基板としては、シリコンウェハ等の無機基板が挙げられる。レジスト組成物を塗布する前に、基板を洗浄してもよいし、基板上に反射防止膜等を形成してもよい。 The coating of the resist composition on the substrate can be carried out by a commonly used apparatus such as a spin coater. Examples of the substrate include inorganic substrates such as silicon wafers. The substrate may be washed before applying the resist composition, or an antireflection film or the like may be formed on the substrate.

塗布後の組成物を乾燥することにより、溶剤を除去し、組成物層を形成する。乾燥は、例えば、ホットプレート等の加熱装置を用いて溶剤を蒸発させること(いわゆるプリベーク)により行うか、あるいは減圧装置を用いて行う。加熱温度は50〜200℃であることが好ましく、加熱時間は10〜180秒間であることが好ましい。また、減圧乾燥する際の圧力は、1〜1.0×105Pa程度であることが好ましい。 The composition is dried to remove the solvent and form a composition layer. Drying is performed by evaporating the solvent using a heating device such as a hot plate (so-called prebaking) or using a decompression device. The heating temperature is preferably 50 to 200° C., and the heating time is preferably 10 to 180 seconds. The pressure during drying under reduced pressure is preferably about 1 to 1.0×10 5 Pa.

得られた組成物層に、通常、露光機を用いて露光する。露光機は、液浸露光機であってもよい。露光光源としては、KrFエキシマレーザ(波長248nm)、ArFエキシマレーザ(波長193nm)、Fエキシマレーザ(波長157nm)のような紫外域のレーザ光を放射するもの、固体レーザ光源(YAG又は半導体レーザ等)からのレーザ光を波長変換して遠紫外域または真空紫外域の高調波レーザ光を放射するもの、電子線や、超紫外光(EUV)を照射するもの等、種々のものを用いることができる。尚、本明細書において、これらの放射線を照射することを総称して「露光」という場合がある。露光の際、通常、求められるパターンに相当するマスクを介して露光が行われる。露光光源が電子線の場合は、マスクを用いずに直接描画により露光してもよい。 The obtained composition layer is usually exposed using an exposure device. The exposure machine may be an immersion exposure machine. As the exposure light source, those that emit laser light in the ultraviolet region, such as a KrF excimer laser (wavelength 248 nm), ArF excimer laser (wavelength 193 nm), and F 2 excimer laser (wavelength 157 nm), solid-state laser light source (YAG or semiconductor laser) Etc.) that emits harmonic laser light in the far-ultraviolet or vacuum-ultraviolet range by converting the wavelength of the laser light from, etc., electron beams, or those that radiate ultra-ultraviolet light (EUV). You can In the present specification, the irradiation of these radiations may be collectively referred to as “exposure”. At the time of exposure, the exposure is usually performed through a mask corresponding to the required pattern. When the exposure light source is an electron beam, it may be exposed by direct drawing without using a mask.

露光後の組成物層を、酸不安定基における脱保護反応を促進するために加熱処理(いわゆるポストエキスポジャーベーク)を行う。加熱温度は、通常50〜200℃程度、好ましくは70〜150℃程度である。 The composition layer after exposure is subjected to heat treatment (so-called post-exposure bake) in order to accelerate the deprotection reaction at the acid labile group. The heating temperature is usually about 50 to 200°C, preferably about 70 to 150°C.

加熱後の組成物層を、通常、現像装置を用いて、現像液を利用して現像する。現像方法としては、ディップ法、パドル法、スプレー法、ダイナミックディスペンス法等が挙げられる。現像温度は5〜60℃であることが好ましく、現像時間は5〜300秒間であることが好ましい。現像液の種類を以下のとおりに選択することにより、ポジ型レジストパターン又はネガ型レジストパターンを製造できる。 The composition layer after heating is usually developed using a developing device using a developing solution. Examples of the developing method include a dipping method, a paddle method, a spray method and a dynamic dispensing method. The development temperature is preferably 5 to 60° C., and the development time is preferably 5 to 300 seconds. A positive resist pattern or a negative resist pattern can be manufactured by selecting the type of developer as follows.

レジスト組成物からポジ型レジストパターンを製造する場合は、現像液としてアルカリ現像液を用いる。アルカリ現像液は、この分野で用いられる各種のアルカリ性水溶液であればよい。テトラメチルアンモニウムヒドロキシドや(2−ヒドロキシエチル)トリメチルアンモニウムヒドロキシド(通称コリン)の水溶液等が挙げられる。アルカリ現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。
現像後レジストパターンを超純水で洗浄し、次いで、基板及びパターン上に残った水を除去することが好ましい。
When a positive resist pattern is produced from the resist composition, an alkali developing solution is used as the developing solution. The alkaline developer may be any of various alkaline aqueous solutions used in this field. Examples thereof include aqueous solutions of tetramethylammonium hydroxide and (2-hydroxyethyl)trimethylammonium hydroxide (commonly called choline). The alkaline developer may contain a surfactant.
After development, it is preferable to wash the resist pattern with ultrapure water, and then remove the water remaining on the substrate and the pattern.

レジスト組成物からネガ型レジストパターンを製造する場合は、現像液として有機溶剤を含む現像液(以下「有機系現像液」という場合がある)を用いる。
有機系現像液に含まれる有機溶剤としては、2−ヘキサノン、2−ヘプタノン等のケトン系溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル系溶剤;酢酸ブチル等のエステル系溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル系溶剤;N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤;アニソール等の芳香族炭化水素系溶剤等が挙げられる。
有機系現像液中、有機溶剤の含有率は、90質量%以上100質量%以下であることが好ましく、95質量%以上100質量%以下であることがより好ましく、実質的に有機溶剤のみであることがさらに好ましい。
有機系現像液としては、酢酸ブチル及び/又は2−ヘプタノンを含む現像液が好ましい。有機系現像液が、酢酸ブチル及び2−ヘプタノンを含有する場合、その合計含有率は、50質量%以上100質量%以下であることが好ましく、90質量%以上100質量%以下であることがより好ましく、実質的に酢酸ブチル及び/又は2−ヘプタノンのみであることがさらに好ましい。
有機系現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。また、有機系現像液には、微量の水分が含まれていてもよい。
現像の際、有機系現像液とは異なる種類の溶剤に置換することにより、現像を停止してもよい。
When a negative resist pattern is produced from the resist composition, a developer containing an organic solvent (hereinafter sometimes referred to as "organic developer") is used as the developer.
Examples of the organic solvent contained in the organic developer include ketone solvents such as 2-hexanone and 2-heptanone; glycol ether ester solvents such as propylene glycol monomethyl ether acetate; ester solvents such as butyl acetate; propylene glycol monomethyl ether. And glycol ether solvents such as; amide solvents such as N,N-dimethylacetamide; and aromatic hydrocarbon solvents such as anisole.
The content of the organic solvent in the organic developer is preferably 90% by mass or more and 100% by mass or less, more preferably 95% by mass or more and 100% by mass or less, and substantially only the organic solvent. Is more preferable.
As the organic developer, a developer containing butyl acetate and/or 2-heptanone is preferable. When the organic developer contains butyl acetate and 2-heptanone, the total content thereof is preferably 50% by mass or more and 100% by mass or less, and more preferably 90% by mass or more and 100% by mass or less. More preferably, it is substantially only butyl acetate and/or 2-heptanone.
The organic developer may contain a surfactant. Further, the organic developer may contain a small amount of water.
At the time of development, the development may be stopped by substituting with a solvent of a different type from the organic developer.

現像後のレジストパターンをリンス液で洗浄することが好ましい。リンス液としては、レジストパターンを溶解しないものであれば特に制限はなく、一般的な有機溶剤を含む溶液を使用することができ、好ましくはアルコール系溶剤又はエステル系溶剤を用いることができる。
洗浄後は、基板及びパターン上に残ったリンス液を除去することが好ましい。
It is preferable to wash the resist pattern after development with a rinse liquid. The rinse liquid is not particularly limited as long as it does not dissolve the resist pattern, and a solution containing a general organic solvent can be used, and preferably an alcohol solvent or an ester solvent can be used.
After the cleaning, it is preferable to remove the rinse liquid remaining on the substrate and the pattern.

〈用途〉
本発明のレジスト組成物は、KrFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、ArFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、電子線(EB)露光用のレジスト組成物又はEUV露光用のレジスト組成物、特にArFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物として好適であり、半導体の微細加工に有用である。
<Use>
The resist composition of the present invention is a resist composition for KrF excimer laser exposure, a resist composition for ArF excimer laser exposure, a resist composition for electron beam (EB) exposure or a resist composition for EUV exposure, especially ArF. It is suitable as a resist composition for excimer laser exposure and is useful for fine processing of semiconductors.

実施例を挙げて、さらに具体的に説明する。例中、含有量ないし使用量を表す「%」及び「部」は、特記しないかぎり質量基準である。
重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで下記条件により求めた値である。
装置:HLC−8120GPC型(東ソー社製)
カラム:TSKgel Multipore HXL-M x 3 + guardcolumn(東ソー社製)
溶離液:テトラヒドロフラン
流量:1.0mL/min
検出器:RI検出器
カラム温度:40℃
注入量:100μL
分子量標準:標準ポリスチレン(東ソー社製)
A more specific description will be given with reference to examples. In the examples, “%” and “part” representing the content or the amount used are based on mass unless otherwise specified.
The weight average molecular weight is a value determined by gel permeation chromatography under the following conditions.
Device: HLC-8120GPC type (manufactured by Tosoh Corporation)
Column: TSKgel Multipore H XL -M x 3 + guardcolumn (manufactured by Tosoh Corporation)
Eluent: Tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL/min
Detector: RI detector Column temperature: 40°C
Injection volume: 100 μL
Molecular weight standard: Standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corporation)

また、化合物の構造は、質量分析(LCはAgilent製1100型、MASSはAgilent製LC/MSD型)を用い、分子ピークを測定することで確認した。以下の実施例ではこの分子ピークの値を「MASS」で示す。 The structure of the compound was confirmed by measuring the molecular peak using mass spectrometry (LC is model 1100 manufactured by Agilent, and MASS is LC/MSD manufactured by Agilent). In the following examples, the value of this molecular peak is indicated by "MASS".

実施例1:式(I−1)で表される塩の合成
式(I−1−a)で表される化合物19.24部、メタノール57.71部及び水酸化ナトリウム6.98部を仕込み、23℃で30分間攪拌した。その後、式(I−1−b)で表される化合物23.15部及びメタノール46.30部の混合溶液を滴下し、23℃で18時間攪拌した。得られた反応物を濃縮し、酢酸エチル150部及びイオン交換水40部を加え、23℃で30分間攪拌した。その後、静置し、分液した。回収された有機層に、イオン交換水40部を仕込み23℃で30分間攪拌し、分液することにより有機層を回収した。この水洗の操作を3回行った。得られた有機層を濃縮することにより、式(I−1―c)で表される化合物35.79部を得た。
Example 1: Synthesis of salt represented by formula (I-1)
19.24 parts of the compound represented by the formula (I-1-a), 57.71 parts of methanol and 6.98 parts of sodium hydroxide were charged, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes. Then, a mixed solution of 23.15 parts of the compound represented by the formula (I-1-b) and 46.30 parts of methanol was added dropwise, and the mixture was stirred at 23° C. for 18 hours. The obtained reaction product was concentrated, 150 parts of ethyl acetate and 40 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes. Then, it left still and liquid-separated. To the recovered organic layer, 40 parts of ion-exchanged water was charged, stirred at 23° C. for 30 minutes, and separated to collect the organic layer. This operation of washing with water was performed three times. The obtained organic layer was concentrated to obtain 35.79 parts of a compound represented by the formula (I-1-c).

酸化銀10.24部及びアセトニトリル20.47部を仕込み、23℃で30分間攪拌した。その後、メタンスルホン酸8.49部及びアセトニトリル16.98部を滴下し、23℃で1時間攪拌した。得られた混合物に、式(I−1−c)で表される化合物18.22部及びアセトニトリル44.30部を仕込み、23℃で30分間攪拌し、式(I−1−d)で表される化合物12.54部及びメタノール12.54部の混合溶液を滴下し、23℃で72時間攪拌した。得られた反応物を濃縮することにより、式(I−1―e)で表される塩13.07部を得た。 10.24 parts of silver oxide and 20.47 parts of acetonitrile were charged, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes. Then, 8.49 parts of methanesulfonic acid and 16.98 parts of acetonitrile were added dropwise, and the mixture was stirred at 23° C. for 1 hour. The obtained mixture was charged with 18.22 parts of the compound represented by the formula (I-1-c) and 44.30 parts of acetonitrile, stirred at 23° C. for 30 minutes, and represented by the formula (I-1-d). A mixed solution of 12.54 parts of the compound and 12.54 parts of methanol was added dropwise, and the mixture was stirred at 23° C. for 72 hours. The obtained reaction product was concentrated to obtain 13.07 parts of the salt represented by the formula (I-1-e).

式(I−1−f)で表される塩を、特開2007−224008号公報に記載された方法で合成した。
式(I−1−f)で表される塩6.01部及びクロロホルム61.16部を仕込み、23℃で30分間攪拌し、式(I−1−e)で表される塩5.49部及びイオン交換水44部を仕込み、23℃で12時間攪拌した。得られた反応物をろ過し、回収されたろ液を静置し、分液した。回収された有機層に、イオン交換水15部を仕込み23℃で30分間攪拌し、分液することにより有機層を回収した。この水洗の操作を10回行った。回収された有機層を濃縮し、得られた残渣に、tert−ブチルメチルエーテル20部を加えて23℃で30分間攪拌し、上澄み液を除去し、濃縮した。得られた有機層に酢酸エチル5部及びtert−ブチルメチルエーテル20部を加えて攪拌し、上澄み液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式(I−1−g)で表される塩4.24部を得た。
The salt represented by the formula (I-1-f) was synthesized by the method described in JP2007-224008A.
Charge 6.01 parts of the salt represented by the formula (I-1-f) and 61.16 parts of chloroform and stir at 23° C. for 30 minutes to obtain 5.49 of the salt represented by the formula (I-1-e). And 44 parts of ion-exchanged water were charged, and the mixture was stirred at 23° C. for 12 hours. The obtained reaction product was filtered, and the collected filtrate was allowed to stand and separated. To the collected organic layer, 15 parts of ion-exchanged water was charged, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes and separated to collect the organic layer. This washing operation was repeated 10 times. The collected organic layer was concentrated, 20 parts of tert-butyl methyl ether was added to the obtained residue, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes, the supernatant was removed, and the mixture was concentrated. 5 parts of ethyl acetate and 20 parts of tert-butyl methyl ether were added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred, and the supernatant was removed. The obtained residue was dissolved in acetonitrile and concentrated to obtain 4.24 parts of the salt represented by the formula (I-1-g).

式(I−1−g)で表される塩4.64部及び1,2−ジクロロエタン40部を仕込み、23℃で30分間攪拌した。その後、式(I−1−h)で表される化合物5.53部及びp−トルエンスルホン酸0.30部を添加し、100℃で、3時間還流攪拌した。得られた反応物を23℃まで冷却し、クロロホルム120部及び8.7%炭酸水素ナトリウム水溶液35.4部を加え、23℃で30分間攪拌した。その後、静置し、分液した。回収された有機層に、イオン交換水120部を仕込み23℃で30分間攪拌し、分液することにより有機層を回収した。この水洗の操作を5回行った。得られた有機層に活性炭1.00部を仕込み、23℃で30分間攪拌し、ろ過した。ろ液を濃縮することにより、式(I−1)で表される塩4.42部を得た。
MS(ESI(+)Spectrum):M 365.1
MS(ESI(−)Spectrum):M 467.1
4.64 parts of the salt represented by the formula (I-1-g) and 40 parts of 1,2-dichloroethane were charged and stirred at 23° C. for 30 minutes. Thereafter, 5.53 parts of the compound represented by the formula (I-1-h) and 0.30 part of p-toluenesulfonic acid were added, and the mixture was refluxed and stirred at 100° C. for 3 hours. The obtained reaction product was cooled to 23° C., 120 parts of chloroform and 35.4 parts of an 8.7% sodium hydrogen carbonate aqueous solution were added, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes. Then, it left still and liquid-separated. To the recovered organic layer, 120 parts of ion-exchanged water was charged, stirred at 23° C. for 30 minutes, and separated to collect the organic layer. This washing operation with water was performed 5 times. The organic layer obtained was charged with 1.00 part of activated carbon, stirred at 23° C. for 30 minutes and filtered. By concentrating the filtrate, 4.42 parts of the salt represented by the formula (I-1) was obtained.
MS (ESI(+) Spectrum): M + 365.1.
MS (ESI(-) Spectrum): M - 467.1.

実施例2:式(I−2)で表される塩の合成
式(I−2−f)で表される塩5.02部及びアセトニトリル10.03部を仕込み、23℃で30分間攪拌し、式(I−2−e)で表される塩15.00部及びイオン交換水75部を仕込み、23℃で12時間攪拌した。得られた反応物をろ過し、回収されたろ液を濃縮した。得られた残渣に、tert−ブチルメチルエーテル40部を加えて23℃で30分間攪拌し、上澄み液を除去し、濃縮した。得られた有機層にアセトニトリル3部及びtert−ブチルメチルエーテル20部を加えて攪拌し、上澄み液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式(I−2−g)で表される塩8.55部を得た。
Example 2: Synthesis of salt represented by formula (I-2)
5.02 parts of the salt represented by the formula (I-2-f) and 10.03 parts of acetonitrile were charged, the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes, and the salt represented by the formula (I-2-e) was 15.00. And 75 parts of deionized water were charged, and the mixture was stirred at 23° C. for 12 hours. The obtained reaction product was filtered, and the collected filtrate was concentrated. To the obtained residue, 40 parts of tert-butyl methyl ether was added, and the mixture was stirred at 23°C for 30 minutes, the supernatant was removed, and the mixture was concentrated. To the obtained organic layer, 3 parts of acetonitrile and 20 parts of tert-butyl methyl ether were added and stirred, and the supernatant liquid was removed. The obtained residue was dissolved in acetonitrile and concentrated to obtain 8.55 parts of the salt represented by the formula (I-2-g).

式(I−2−g)で表される塩6.99部及び1,2−ジクロロエタン40部を仕込み、23℃で30分間攪拌した。その後、式(I−2−h)で表される化合物5.53部及びp−トルエンスルホン酸0.30部を添加し、100℃で、3時間還流攪拌した。得られた反応物を23℃まで冷却し、クロロホルム120部及び8.7%炭酸水素ナトリウム水溶液35.4部を加え、23℃で30分間攪拌した。その後、静置し、分液した。回収された有機層に、イオン交換水120部を仕込み23℃で30分間攪拌し、分液することにより有機層を回収した。この水洗の操作を5回行った。得られた有機層に活性炭1.00部を仕込み、23℃で30分間攪拌し、ろ過した。ろ液を濃縮することにより、式(I−2)で表される塩5.89部を得た。
MS(ESI(+)Spectrum):M 365.1
MS(ESI(−)Spectrum):M 189.0
6.99 parts of the salt represented by the formula (I-2-g) and 40 parts of 1,2-dichloroethane were charged and stirred at 23°C for 30 minutes. Thereafter, 5.53 parts of the compound represented by the formula (I-2-h) and 0.30 part of p-toluenesulfonic acid were added, and the mixture was refluxed and stirred at 100° C. for 3 hours. The obtained reaction product was cooled to 23° C., 120 parts of chloroform and 35.4 parts of an 8.7% sodium hydrogen carbonate aqueous solution were added, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes. Then, it left still and liquid-separated. To the recovered organic layer, 120 parts of ion-exchanged water was charged, stirred at 23° C. for 30 minutes, and separated to collect the organic layer. This washing operation with water was performed 5 times. The organic layer obtained was charged with 1.00 part of activated carbon, stirred at 23° C. for 30 minutes and filtered. By concentrating the filtrate, 5.89 parts of the salt represented by the formula (I-2) was obtained.
MS (ESI(+) Spectrum): M + 365.1.
MS (ESI(-) Spectrum): M - 189.0.

実施例3:式(I−3)で表される塩の合成
式(I−2−f)で表される塩8.58部及びアセトニトリル20部を仕込み、23℃で30分間攪拌し、式(I−3−e)で表される塩15.00部及びイオン交換水75部を仕込み、23℃で12時間攪拌した。得られた反応物をろ過した後、回収されたろ液を濃縮した。得られた残渣に、tert−ブチルメチルエーテル40部を加えて23℃で30分間攪拌し、上澄み液を除去し、濃縮した。得られた有機層にアセトニトリル3部及びtert−ブチルメチルエーテル20部を加えて攪拌し、上澄み液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式(I−3−g)で表される塩11.02部を得た。
Example 3: Synthesis of salt represented by formula (I-3)
Charge 8.58 parts of the salt represented by the formula (I-2-f) and 20 parts of acetonitrile, stir for 30 minutes at 23° C., and 15.00 parts of the salt represented by the formula (I-3-e) and 75 parts of ion-exchanged water was charged and stirred at 23° C. for 12 hours. After filtering the obtained reaction product, the collected filtrate was concentrated. To the obtained residue, 40 parts of tert-butyl methyl ether was added, and the mixture was stirred at 23°C for 30 minutes, the supernatant was removed, and the mixture was concentrated. To the obtained organic layer, 3 parts of acetonitrile and 20 parts of tert-butyl methyl ether were added and stirred, and the supernatant liquid was removed. The obtained residue was dissolved in acetonitrile and concentrated to obtain 11.02 parts of the salt represented by the formula (I-3-g).

式(I−3−g)で表される塩9.55部及び1,2−ジクロロエタン40部を仕込み、23℃で30分間攪拌した。その後、式(I−3−h)で表される化合物5.53部及びp−トルエンスルホン酸0.30部を添加し、100℃で、2時間還流攪拌した。得られた反応物を23℃まで冷却し、クロロホルム120部及び8.7%炭酸水素ナトリウム水溶液35.4部を加え、23℃で30分間攪拌した。その後、静置し、分液した。回収された有機層に、イオン交換水120部を仕込み23℃で30分間攪拌し、分液することにより有機層を回収した。この水洗の操作を5回行った。得られた有機層に活性炭1.00部を仕込み、23℃で30分間攪拌し、ろ過した。ろ液を濃縮することにより、式(I−2)で表される塩6.08部を得た。
MS(ESI(+)Spectrum):M 365.1
MS(ESI(−)Spectrum):M 339.1
9.55 parts of the salt represented by the formula (I-3-g) and 40 parts of 1,2-dichloroethane were charged, and the mixture was stirred at 23°C for 30 minutes. Then, 5.53 parts of the compound represented by the formula (I-3-h) and 0.30 part of p-toluenesulfonic acid were added, and the mixture was stirred under reflux at 100°C for 2 hours. The obtained reaction product was cooled to 23° C., 120 parts of chloroform and 35.4 parts of an 8.7% sodium hydrogen carbonate aqueous solution were added, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes. Then, it left still and liquid-separated. To the recovered organic layer, 120 parts of ion-exchanged water was charged, stirred at 23° C. for 30 minutes, and separated to collect the organic layer. This washing operation with water was performed 5 times. The organic layer obtained was charged with 1.00 part of activated carbon, stirred at 23° C. for 30 minutes and filtered. By concentrating the filtrate, 6.08 parts of the salt represented by the formula (I-2) was obtained.
MS (ESI(+) Spectrum): M + 365.1.
MS (ESI(-) Spectrum): M - 339.1.

実施例4:式(I−4−a)で表される塩の合成
式(I−1−e)で表される塩2.70部及び1,2−ジクロロエタン40部を仕込み、23℃で30分間攪拌した。その後、式(I−1−h)で表される化合物2.77部及びp−トルエンスルホン酸0.15部を添加し、100℃で、3時間還流攪拌した。得られた反応物を23℃まで冷却し、クロロホルム50部及び8.7%炭酸水素ナトリウム水溶液17.7部を加え、23℃で30分間攪拌した。その後、静置し、分液した。回収された有機層に、イオン交換水50部を仕込み23℃で30分間攪拌し、分液することにより有機層を回収した。この水洗の操作を5回行った。得られた有機層を濃縮することにより、式(I−4−a)で表される塩2.75部を得た。
Example 4: Synthesis of salt represented by formula (I-4-a)
2.70 parts of the salt represented by the formula (I-1-e) and 40 parts of 1,2-dichloroethane were charged and stirred at 23° C. for 30 minutes. Then, 2.77 parts of the compound represented by the formula (I-1-h) and 0.15 part of p-toluenesulfonic acid were added, and the mixture was stirred under reflux at 100° C. for 3 hours. The obtained reaction product was cooled to 23° C., 50 parts of chloroform and 17.7 parts of an 8.7% sodium hydrogen carbonate aqueous solution were added, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes. Then, it left still and liquid-separated. To the recovered organic layer, 50 parts of ion-exchanged water was charged, stirred at 23° C. for 30 minutes, and separated to collect the organic layer. This washing operation with water was performed 5 times. By concentrating the obtained organic layer, 2.75 parts of the salt represented by the formula (I-4-a) was obtained.

実施例5:式(I−4)で表される塩の合成
式(I−1−f)で表される塩2.00部及びクロロホルム20.39部を仕込み、23℃で30分間攪拌し、式(I−4−a)で表される塩2.66部及びイオン交換水17部を仕込み、23℃で12時間攪拌した。得られた反応物をろ過し、回収されたろ液を静置し、分液した。回収された有機層に、イオン交換水15部を仕込み、23℃で30分間攪拌し、分液することにより有機層を回収した。この水洗の操作を5回行った。回収された有機層を濃縮し、得られた残渣に、tert−ブチルメチルエーテル20部を加えて23℃で30分間攪拌し、上澄み液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式(I−4)で表される塩2.98部を得た。
MS(ESI(+)Spectrum):M 365.1
MS(ESI(−)Spectrum):M 323.0
Example 5: Synthesis of salt represented by formula (I-4)
Charge 2.00 parts of the salt represented by the formula (I-1-f) and 20.39 parts of chloroform, stir at 23° C. for 30 minutes, and then the salt represented by the formula (I-4-a) 2.66. And 17 parts of deionized water were charged, and the mixture was stirred at 23° C. for 12 hours. The obtained reaction product was filtered, and the collected filtrate was allowed to stand and separated. The recovered organic layer was charged with 15 parts of ion-exchanged water, stirred at 23° C. for 30 minutes, and separated to collect the organic layer. This washing operation with water was performed 5 times. The recovered organic layer was concentrated, 20 parts of tert-butyl methyl ether was added to the obtained residue, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes, and the supernatant was removed. The obtained residue was dissolved in acetonitrile and concentrated to obtain 2.98 parts of the salt represented by the formula (I-4).
MS (ESI(+) Spectrum): M + 365.1.
MS (ESI(-) Spectrum): M - 323.0

実施例6:式(I−5)で表される塩の合成
テトラヒドロフラン10部に、5℃で、リチウムアルミニウムハイドライド2.21部を添加し、5℃で30分間攪拌した。その後、これに、式(I−5−a)で表される化合物8.22部及びテトラヒドロフラン30部の混合溶液を1時間かけて滴下し、さらに、23℃で18時間攪拌した。得られた反応物に、1N塩酸30部を仕込み、濃縮した。回収された濃縮物に、アセトニトリル82部を加えて攪拌し、ろ過し、得られたろ液を濃縮することにより、式(I−5−b)で表される化合物6.28部を得た。
式(I−5−c)で表される化合物13.25部及びアセトニトリル40部を添加し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I−5−d)で表される化合物11.63部を添加し、さらに、40℃で1時間攪拌した。得られた反応マスに、式(I−5−b)で表される化合物6.28部及びアセトニトリル13.20部の混合溶液を添加し、さらに、23℃で16時間攪拌した。得られた反応物に、アセトニトリル30部を加えて攪拌し、ろ過し、得られたろ液を濃縮することにより、式(I−5−e)で表される化合物9.06部を得た。
式(I−5−e)で表される化合物0.91部、式(I−4−a)で表される化合物1.57部、アセトニトリル2部、クロロホルム10部及び5%シュウ酸水溶液3.14部を添加し、23℃で2時間攪拌した。得られた反応溶液を分液した。回収された有機層に、5%シュウ酸水溶液2部を加えて23℃で30分間攪拌し、分液して有機層を取り出した。回収された有機層に5%炭酸水素ナトリウム水溶液2部を加えて23℃で30分間攪拌し、分液して有機層を取り出した。回収された有機層にイオン交換水5部を加えて23℃で30分間攪拌し、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を3回繰り返した。回収された有機層を濃縮し、得られた残渣に、tert−ブチルメチルエーテル5部を加えて23℃で30分間攪拌し、上澄み液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式(I−5)で表される化合物1.22部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M 365.1
MASS(ESI(−)Spectrum):M 337.1
Example 6: Synthesis of salt represented by formula (I-5)
2.21 parts of lithium aluminum hydride was added to 10 parts of tetrahydrofuran at 5° C., and the mixture was stirred at 5° C. for 30 minutes. Then, a mixed solution of 8.22 parts of the compound represented by the formula (I-5-a) and 30 parts of tetrahydrofuran was added dropwise thereto over 1 hour, and the mixture was further stirred at 23° C. for 18 hours. The obtained reaction product was charged with 30 parts of 1N hydrochloric acid and concentrated. To the recovered concentrate, 82 parts of acetonitrile was added, stirred, filtered, and the obtained filtrate was concentrated to obtain 6.28 parts of a compound represented by the formula (I-5-b).
13.25 parts of the compound represented by the formula (I-5-c) and 40 parts of acetonitrile were added, and the mixture was stirred at 23°C for 30 minutes. 11.63 parts of the compound represented by the formula (I-5-d) was added to the obtained mixed solution, and the mixture was further stirred at 40°C for 1 hr. A mixed solution of 6.28 parts of the compound represented by the formula (I-5-b) and 13.20 parts of acetonitrile was added to the obtained reaction mass, and the mixture was further stirred at 23° C. for 16 hours. To the obtained reaction product, 30 parts of acetonitrile was added and stirred, filtered, and the obtained filtrate was concentrated to obtain 9.06 parts of the compound represented by the formula (I-5-e).
0.91 part of the compound represented by formula (I-5-e), 1.57 part of the compound represented by formula (I-4-a), 2 parts of acetonitrile, 10 parts of chloroform and 5% aqueous oxalic acid solution 3 0.14 parts was added, and the mixture was stirred at 23° C. for 2 hours. The obtained reaction solution was separated. To the recovered organic layer, 2 parts of a 5% oxalic acid aqueous solution was added, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes, separated, and the organic layer was taken out. To the collected organic layer, 2 parts of a 5% sodium hydrogen carbonate aqueous solution was added, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes, separated, and the organic layer was taken out. 5 parts of ion-exchanged water was added to the collected organic layer, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes, separated, and the organic layer was taken out. This water washing operation was repeated 3 times. The collected organic layer was concentrated, 5 parts of tert-butyl methyl ether was added to the obtained residue, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes, and the supernatant was removed. The obtained residue was dissolved in acetonitrile and concentrated to obtain 1.22 parts of the compound represented by the formula (I-5).
MASS (ESI(+) Spectrum): M + 365.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 337.1

実施例7:式(I−6)で表される塩の合成
式(I−5)で表される化合物1.06部、式(I−6−a)で表される化合物0.37部及び1,2−ジクロロエタン10部を添加し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、p−トルエンスルホン酸0.01部を添加し、100℃で3時間還流攪拌した。得られた反応物を23℃まで冷却し、クロロホルム15部及び5%炭酸水素ナトリウム水溶液5部を加え、23℃で30分間攪拌した。その後、静置し、分液した。回収された有機層に、イオン交換水10部を仕込み23℃で30分間攪拌し、分液することにより有機層を回収した。この水洗の操作を5回行った。回収された有機層を濃縮し、得られた残渣に、tert−ブチルメチルエーテル5部を加えて23℃で30分間攪拌し、上澄み液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式(I−6)で表される化合物0.92部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M 365.1
MASS(ESI(−)Spectrum):M 481.1
Example 7: Synthesis of salt represented by formula (I-6)
1.06 parts of the compound represented by formula (I-5), 0.37 part of the compound represented by formula (I-6-a) and 10 parts of 1,2-dichloroethane are added, and the mixture is added at 23° C. for 30 minutes. It was stirred. 0.01 parts of p-toluenesulfonic acid was added to the obtained mixed solution, and the mixture was stirred under reflux at 100° C. for 3 hours. The obtained reaction product was cooled to 23° C., 15 parts of chloroform and 5 parts of a 5% sodium hydrogen carbonate aqueous solution were added, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes. Then, it left still and liquid-separated. The recovered organic layer was charged with 10 parts of ion-exchanged water, stirred at 23° C. for 30 minutes, and separated to collect the organic layer. This washing operation with water was performed 5 times. The collected organic layer was concentrated, 5 parts of tert-butyl methyl ether was added to the obtained residue, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes, and the supernatant was removed. The obtained residue was dissolved in acetonitrile and concentrated to give 0.92 part of the compound represented by the formula (I-6).
MASS (ESI(+) Spectrum): M + 365.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 481.1

合成例1:式(B1−5)で表される塩の合成
式(B1−5−a)で表される塩50.49部及びクロロホルム252.44部を反応器に仕込み、23℃で30分間攪拌し、式(B1−5−b)で表される化合物16.27部を滴下し、23℃で1時間攪拌することにより、式(B1−5−c)で表される塩を含む溶液を得た。得られた式(B1−5−c)で表される塩を含む溶液に、式(B1−5−d)で表される塩48.80部及びイオン交換水84.15部を添加し、23℃で12時間攪拌した。得られた反応液が2層に分離していたので、クロロホルム層を分液して取り出し、更に、該クロロホルム層にイオン交換水84.15部を添加し、水洗した。この操作を5回繰り返した。得られたクロロホルム層に、活性炭3.88部を添加攪拌し、ろ過した。回収されたろ液を濃縮し、得られた残渣に、アセトニトリル125.87部を添加攪拌し、濃縮した。得られた残渣に、アセトニトリル20.62部及びtert−ブチルメチルエーテル309.30部を加えて23℃で30分間攪拌し、上澄み液を除去し、濃縮した。得られた残渣に、n−ヘプタン200部を添加、23℃で30分間攪拌し、ろ過することにより、式(B1−5)で表される塩61.54部を得た。
Synthesis Example 1: Synthesis of salt represented by formula (B1-5)
50.49 parts of the salt represented by the formula (B1-5-a) and 252.44 parts of chloroform were charged into a reactor and stirred at 23° C. for 30 minutes to obtain a compound represented by the formula (B1-5-b). 16.27 parts was added dropwise, and the mixture was stirred at 23° C. for 1 hour to obtain a solution containing a salt represented by the formula (B1-5-c). To the obtained solution containing the salt represented by the formula (B1-5-c), 48.80 parts of the salt represented by the formula (B1-5-d) and 84.15 parts of ion-exchanged water were added, The mixture was stirred at 23°C for 12 hours. Since the obtained reaction liquid was separated into two layers, the chloroform layer was separated and taken out, and further 84.15 parts of ion-exchanged water was added to the chloroform layer and washed with water. This operation was repeated 5 times. To the obtained chloroform layer, 3.88 parts of activated carbon was added, stirred and filtered. The collected filtrate was concentrated, and 125.87 parts of acetonitrile was added to the obtained residue and stirred to be concentrated. To the obtained residue, 20.62 parts of acetonitrile and 309.30 parts of tert-butyl methyl ether were added, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes, the supernatant was removed, and the mixture was concentrated. To the obtained residue, 200 parts of n-heptane was added, stirred at 23° C. for 30 minutes, and filtered to obtain 61.54 parts of the salt represented by the formula (B1-5).

MASS(ESI(+)Spectrum):M 375.2
MASS(ESI(−)Spectrum):M 339.1
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 375.2
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 339.1

合成例2:式(B1−21)で表される塩の合成
特開2008−209917号公報に記載された方法によって得られた式(B1−21−b)で表される化合物30.00部、式(B1−21−a)で表される塩35.50部、クロロホルム100部及びイオン交換水50部を仕込み、23℃で15時間攪拌した。
得られた反応液が2層に分離していたので、クロロホルム層を分液して取り出し、更に、該クロロホルム層にイオン交換水30部を添加し、水洗した。この操作を5回繰り返した。クロロホルム層を濃縮し、得られた残渣に、tert−ブチルメチルエーテル100部を加えて23℃で30分間攪拌し、ろ過することにより、式(B1−21−c)で表される塩48.57部を得た。
Synthesis Example 2: Synthesis of salt represented by formula (B1-21)
30.00 parts of a compound represented by the formula (B1-21-b) obtained by the method described in JP 2008-209917 A, a salt represented by the formula (B1-21 -a) 35.50. Parts, 100 parts of chloroform and 50 parts of deionized water were charged and stirred at 23° C. for 15 hours.
Since the obtained reaction liquid was separated into two layers, the chloroform layer was separated and taken out, and further 30 parts of ion-exchanged water was added to the chloroform layer and washed with water. This operation was repeated 5 times. The chloroform layer was concentrated, 100 parts of tert-butyl methyl ether was added to the obtained residue, the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes, and filtered to give the salt of the formula (B1-21-c) 48. 57 parts were obtained.

式(B1−21−c)で表される塩20.00部、式(B1−21−d)で表される化合物2.84部及びモノクロロベンゼン250部を仕込み、23℃で30分間攪拌した。
得られた混合液に、二安息香酸銅(II)0.21部を添加し、更に、100℃で1時間攪拌した。得られた反応溶液を濃縮し、得られた残渣に、クロロホルム200部及びイオン交換水50部を加えて23℃で30分間攪拌した。その後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層にイオン交換水50部を加えて23℃で30分間攪拌し、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、得られた残渣に、アセトニトリル53.51部に溶解し、濃縮した。その後、tert−ブチルメチルエーテル113.05部を加えて攪拌し、ろ過することにより、式(B1−21)で表される塩10.47部を得た。
20.00 parts of the salt represented by the formula (B1-21-c), 2.84 parts of the compound represented by the formula (B1-21-d) and 250 parts of monochlorobenzene were charged, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes. ..
0.21 part of copper(II) dibenzoate was added to the obtained mixed liquid, and the mixture was further stirred at 100° C. for 1 hour. The obtained reaction solution was concentrated, 200 parts of chloroform and 50 parts of ion-exchanged water were added to the obtained residue, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes. Then, liquid separation was performed and the organic layer was taken out. 50 parts of ion-exchanged water was added to the collected organic layer, the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes, and liquid-separated to take out the organic layer. This water washing operation was repeated 5 times. The obtained organic layer was concentrated, and the obtained residue was dissolved in 53.51 parts of acetonitrile and concentrated. Thereafter, 113.05 parts of tert-butyl methyl ether was added, stirred, and filtered to obtain 10.47 parts of the salt represented by the formula (B1-21).

MASS(ESI(+)Spectrum):M 237.1
MASS(ESI(−)Spectrum):M 339.1
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 237.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 339.1

合成例3:式(B1−22)で表される塩の合成
式(B1−22−a)で表される塩11.26部、式(B1−22−b)で表される化合物10.00部、クロロホルム50部及びイオン交換水25部を仕込み、23℃で15時間攪拌した。得られた反応液が2層に分離していたので、クロロホルム層を分液して取り出し、更に、該クロロホルム層にイオン交換水15部を添加し、水洗した。この操作を5回繰り返した。クロロホルム層を濃縮し、得られた残渣に、tert−ブチルメチルエーテル50部を加えて23℃で30分間攪拌し、ろ過することにより、式(B1−22−c)で表される塩11.75部を得た。
Synthesis Example 3: Synthesis of salt represented by formula (B1-22)
11.26 parts of the salt represented by the formula (B1-22-a), 10.00 parts of the compound represented by the formula (B1-22-b), 50 parts of chloroform and 25 parts of deionized water were charged, and the temperature was 23°C. It was stirred for 15 hours. Since the obtained reaction liquid was separated into two layers, the chloroform layer was separated and taken out, and further 15 parts of ion-exchanged water was added to the chloroform layer and washed with water. This operation was repeated 5 times. The chloroform layer was concentrated, 50 parts of tert-butyl methyl ether was added to the obtained residue, the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes, and filtered to obtain a salt represented by the formula (B1-22-c). Obtained 75 parts.

式(B1−22−c)で表される塩11.71部、式(B1−22−d)で表される化合物1.70部及びモノクロロベンゼン46.84部を仕込み、23℃で30分間攪拌した。得られた混合液に、二安息香酸銅(II)0.12部を添加した後、更に、100℃で30分間攪拌した。得られた反応溶液を濃縮し、得られた残渣に、クロロホルム50部及びイオン交換水12.50部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層にイオン交換水12.50部を加えて23℃で30分間攪拌し、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を8回繰り返した。得られた有機層を濃縮した。その後、得られた残渣に、tert−ブチルメチルエーテル50部を加えて攪拌し、ろ過することにより、式(B1−22)で表される塩6.84部を得た。 11.71 parts of the salt represented by the formula (B1-22-c), 1.70 parts of the compound represented by the formula (B1-22-d) and 46.84 parts of monochlorobenzene were charged, and the mixture was heated at 23° C. for 30 minutes. It was stirred. After adding 0.12 part of copper(II) dibenzoate to the obtained mixed liquid, the mixture was further stirred at 100° C. for 30 minutes. The obtained reaction solution was concentrated, 50 parts of chloroform and 12.50 parts of ion-exchanged water were added to the obtained residue, the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes, and then separated, and the organic layer was taken out. 12.50 parts of ion-exchanged water was added to the collected organic layer, the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes, and liquid-separated to take out the organic layer. This water washing operation was repeated 8 times. The obtained organic layer was concentrated. Then, 50 parts of tert-butyl methyl ether was added to the obtained residue, and the mixture was stirred and filtered to obtain 6.84 parts of a salt represented by the formula (B1-22).

MASS(ESI(+)Spectrum):M 237.1
MASS(ESI(−)Spectrum):M 323.0
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 237.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 323.0

樹脂の合成
樹脂(A)の合成に使用した化合物(モノマー)を下記に示す。以下、これらの化合物をその式番号に応じて、「モノマー(a1−1−3)」等という。
Resin Synthesis The compounds (monomers) used for the synthesis of resin (A) are shown below. Hereinafter, these compounds will be referred to as “monomer (a1-1-3)” and the like according to the formula numbers.

合成例4:樹脂A1の合成
モノマーとして、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−9)、モノマー(a2−1−3)及びモノマー(a3−4−2)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−9):モノマー(a2−1−3):モノマー(a3−4−2)〕が45:14:2.5:38.5となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して各々、1mol%及び3mol%添加し、これらを73℃で約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量7.6×10の樹脂A1を収率68%で得た。この樹脂A1は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 4: Synthesis of Resin A1 As the monomer, a monomer (a1-1-3), a monomer (a1-2-9), a monomer (a2-1-3) and a monomer (a3-4-2) are used. The molar ratio [monomer (a1-1-3):monomer (a1-2-9):monomer (a2-1-3):monomer (a3-4-2)] was 45:14:2.5:38. The mixture was mixed so as to be 5, and propylene glycol monomethyl ether acetate in an amount of 1.5 times the total amount of the monomers was added to obtain a solution. To this solution, azobisisobutyronitrile and azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) were added as initiators in an amount of 1 mol% and 3 mol% based on the total amount of the monomers, respectively, and these were heated at 73° C. for about 5 hours. did. The obtained reaction mixture was poured into a large amount of a mixed solvent of methanol/water to precipitate a resin, and the resin was filtered. The resin thus obtained is again dissolved in propylene glycol monomethyl ether acetate, the solution obtained is poured into a mixed solvent of methanol/water to precipitate the resin, and the resin is filtered again to perform reprecipitation operation twice. Resin A1 having a molecular weight of 7.6×10 3 was obtained with a yield of 68%. This resin A1 has the following structural units.

合成例5:樹脂X1の合成
モノマーとして、モノマー(a4−1−7)を用い、全モノマー量の1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して各々、0.7mol%及び2.1mol%添加し、これらを75℃で約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、ジオキサンに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量1.7×10の樹脂X1を収率77%で得た。この樹脂X1は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 5: Synthesis of Resin X1 As the monomer, the monomer (a4-1-7) was used, and methyl isobutyl ketone in an amount of 1.5 times the total amount of the monomer was added to obtain a solution. To this solution, azobisisobutyronitrile and azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) were added as initiators in an amount of 0.7 mol% and 2.1 mol% with respect to the total amount of monomers, respectively, and these were added at 75°C. Heated for about 5 hours. The obtained reaction mixture was poured into a large amount of a mixed solvent of methanol/water to precipitate a resin, and the resin was filtered. The obtained resin is again dissolved in dioxane, the solution obtained is poured into a methanol/water mixed solvent to precipitate the resin, and the resin is filtered again to perform reprecipitation operation twice, and a weight average molecular weight of 1.7. Resin X1 of ×10 4 was obtained with a yield of 77%. This resin X1 has the following structural units.

合成例6:樹脂X2の合成
モノマーとして、モノマー(a4−0−12)を用い、全モノマー量の1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して各々、0.7mol%及び2.1mol%添加し、これらを75℃で約5時間加熱した。
得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過し、重量平均分子量1.5×10の樹脂X2を収率77%で得た。この樹脂X2は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 6: Synthesis of Resin X2 The monomer (a4-0-12) was used as a monomer, and methyl isobutyl ketone in an amount of 1.5 times the total amount of the monomer was added to obtain a solution. To this solution, azobisisobutyronitrile and azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) were added as initiators in an amount of 0.7 mol% and 2.1 mol% with respect to the total amount of monomers, respectively, and these were added at 75°C. Heated for about 5 hours.
The obtained reaction mixture was poured into a large amount of methanol/water mixed solvent to precipitate a resin, and the resin was filtered to obtain a resin X2 having a weight average molecular weight of 1.5×10 4 with a yield of 77%. This resin X2 has the following structural units.

合成例7:樹脂X3の合成
モノマーとして、モノマー(a5−1−1)及びモノマー(a4−0−12)を用い、そのモル比〔モノマー(a5−1−1):モノマー(a4−0−12)〕が50:50となるように混合し、全モノマー量の1.2質量倍のメチルイソブチルケトンを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して3mol%添加し、70℃で約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過し、重量平均分子量1.0×10の樹脂Xを収率91%で得た。この樹脂X3は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 7: Synthesis of Resin X3 As the monomer, a monomer (a5-1-1) and a monomer (a4-0-12) were used, and the molar ratio thereof was [monomer (a5-1-1): monomer (a4-0-). 12)] was mixed at 50:50, and 1.2 mass times of the total amount of monomers was added to prepare methyl isobutyl ketone. Azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) as an initiator was added to this solution in an amount of 3 mol% based on the total amount of the monomers, and the mixture was heated at 70° C. for about 5 hours. The obtained reaction mixture was poured into a large amount of a methanol/water mixed solvent to precipitate a resin, and the resin was filtered to obtain a resin X having a weight average molecular weight of 1.0×10 4 in a yield of 91%. This resin X3 has the following structural units.

<レジスト組成物の調製>
表1に示すように、以下の各成分を混合し、得られた混合物を孔径0.2μmのフッ素樹脂製フィルターで濾過することにより、レジスト組成物を調製した。
<Preparation of resist composition>
As shown in Table 1, the following components were mixed, and the resulting mixture was filtered through a fluororesin filter having a pore size of 0.2 μm to prepare a resist composition.

<樹脂>
A1、X1〜X3:樹脂A1、樹脂X1〜樹脂X3
<酸発生剤>
I−1:式(I−1)で表される塩
I−2:式(I−2)で表される塩
I−3:式(I−3)で表される塩
I−4:式(I−4)で表される塩
I−5:式(I−5)で表される塩
I−6:式(I−7)で表される塩
B1−5:式(B1−5)で表される塩
B1−21:式(B1−21)で表される塩
B1−22:式(B1−22)で表される塩
B1−X:特開2012−97074号公報の実施例に従って合成
<化合物(D)>
D1:(東京化成工業(株)製)
<溶剤>
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 265部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 20部
2−ヘプタノン 20部
γ−ブチロラクトン 3.5部
<Resin>
A1, X1 to X3: Resin A1, Resin X1 to Resin X3
<Acid generator>
I-1: Salt represented by formula (I-1) I-2: Salt represented by formula (I-2) I-3: Salt represented by formula (I-3) I-4: Formula Salt represented by (I-4) I-5: Salt represented by formula (I-5) I-6: Salt represented by formula (I-7) B1-5: Formula (B1-5) B1-21: a salt represented by formula (B1-21) B1-22: a salt represented by formula (B1-22) B1-X: according to the examples of JP2012-97074A Synthesis
<Compound (D)>
D1: (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
<Solvent>
Propylene glycol monomethyl ether acetate 265 parts Propylene glycol monomethyl ether 20 parts 2-heptanone 20 parts γ-butyrolactone 3.5 parts

<レジストパターンの製造及びその評価>
シリコンウェハに、有機反射防止膜用組成物(ARC−29;日産化学(株)製)を塗布して、205℃、60秒の条件でベークすることによって、ウェハ上に膜厚78nmの有機反射防止膜を形成した。次いで、この有機反射防止膜の上に、上記のレジスト組成物を乾燥後の膜厚が85nmとなるように塗布(スピンコート)した。塗布後、シリコンウェハをダイレクトホットプレート上にて、表1の「PB」欄に記載された温度で60秒間プリベークし、組成物層を形成した。組成物層が形成されたシリコンウェハに、液浸露光用ArFエキシマステッパー(XT:1900Gi;ASML社製、NA=1.35、3/4Annular X−Y偏光)で、コンタクトホールパターン(ホールピッチ90nm/ホール径55nm)を形成するためのマスクを用いて、露光量を段階的に変化させて露光した。なお、液浸媒体としては超純水を使用した。
露光後、ホットプレート上にて、表1の「PEB」欄に記載された温度で60秒間ポストエキスポジャーベークを行った。次いで、このシリコンウェハ上の組成物層を、現像液として酢酸ブチル(東京化成工業(株)製)を用いて、23℃で20秒間ダイナミックディスペンス法によって現像を行うことにより、ネガ型レジストパターンを製造した。
<Production of resist pattern and its evaluation>
A silicon wafer is coated with a composition for organic antireflection film (ARC-29; manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) and baked at 205° C. for 60 seconds to give an organic reflection film having a film thickness of 78 nm on the wafer. The prevention film was formed. Next, the above resist composition was applied (spin-coated) on the organic antireflection film so that the film thickness after drying was 85 nm. After the coating, the silicon wafer was prebaked on the direct hot plate at the temperature described in the "PB" column of Table 1 for 60 seconds to form a composition layer. A contact hole pattern (hole pitch 90 nm) was formed on a silicon wafer on which the composition layer was formed, using an ArF excimer stepper for immersion exposure (XT: 1900 Gi; manufactured by ASML, NA=1.35, 3/4 Annular XY polarized light). /Hole diameter 55 nm) was used, and the exposure amount was changed stepwise using the mask for exposure. Ultrapure water was used as the immersion medium.
After exposure, post-exposure bake was performed for 60 seconds on the hot plate at the temperature described in the "PEB" column of Table 1. Then, the composition layer on the silicon wafer was developed by butyl acetate (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) as a developing solution at 23° C. for 20 seconds by a dynamic dispensing method to form a negative resist pattern. Manufactured.

現像後に得られたレジストパターンにおいて、前記マスクを用いて形成したホール径が50nmとなる露光量を実効感度とした。 In the resist pattern obtained after development, the exposure amount at which the hole diameter formed using the mask becomes 50 nm was defined as the effective sensitivity.

<CD均一性(CDU)評価>
実効感度において、ホール径55nmのマスクで形成したパターンのホール径を、一つのホールにつき24回測定し、その平均値を一つのホールの平均ホール径とした。同一ウェハ内の、ホール径70nmのマスクで形成したパターンの平均ホール径を400箇所測定したものを母集団として標準偏差を求め、
標準偏差が1.65nm未満の場合を、非常に良好なCDUを示すと評価し、「◎」と、
標準偏差が1.65nm以上1.80nm以下の場合を、良好なCDUを示すと評価し、「○」と、
標準偏差が1.80nmより大きい場合を、CDUが十分でないと評価し、「×」とした。結果を、表2に示す。
<CD uniformity (CDU) evaluation>
In terms of effective sensitivity, the hole diameter of a pattern formed by a mask having a hole diameter of 55 nm was measured 24 times for each hole, and the average value was taken as the average hole diameter of one hole. The standard deviation was calculated by using the population obtained by measuring the average hole diameter of the pattern formed by the mask with the hole diameter of 70 nm in the same wafer at 400 points,
When the standard deviation is less than 1.65 nm, it is evaluated as showing a very good CDU, and "◎" is given.
When the standard deviation is 1.65 nm or more and 1.80 nm or less, it is evaluated as showing a good CDU, and “◯” is given.
When the standard deviation was larger than 1.80 nm, the CDU was evaluated to be insufficient, and was designated as "x". The results are shown in Table 2.

上記の結果から、本発明のレジスト組成物によれば、CD均一性(CDU)が良好であることがわかる。 From the above results, it can be seen that the resist composition of the present invention has good CD uniformity (CDU).

本発明の塩、酸発生剤、レジスト組成物は、CD均一性(CDU)が良好であり、半導体の微細加工に有用である。 The salt, acid generator and resist composition of the present invention have good CD uniformity (CDU) and are useful for fine processing of semiconductors.

Claims (15)

式(aa)で表される基をカチオンに有する、式(aa33)で表されるカチオンを有する塩。
[式(aa)及び式(aa33)中、
及びXは、互いに独立に、酸素原子又は硫黄原子を表す。
は、少なくとも1つのフッ素原子を有する2価の炭素数1〜12の飽和炭化水素基を表す
環Wは、炭素数3〜36の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基又はスルホニル基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数1〜12の炭化水素基で置換されていてもよく、該炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置換されていてもよい。
Xは、硫黄原子又はヨウ素原子を表す。
mは、0又は1の整数を表す。
Xが硫黄原子のとき、mは1であり、Xがヨウ素原子のとき、mは0である。
及びR は、互いに独立に、置換基を有してもよい炭素数1〜18の炭化水素基を表すか、R 及びR は、それらが結合する硫黄原子と一緒になって複素環を形成していてもよい。
Lは、単結合又は炭素数1〜24の2価の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH −は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
*は結合手を表す。]
A salt having a cation represented by formula (aa33), which has a group represented by formula (aa) in the cation .
[In Formula (aa) and Formula (aa33) ,
X a and X b each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom.
X 1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and having at least one fluorine atom .
The ring W represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, and the methylene group contained in the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group or a sulfonyl group. Well, the hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with a hydroxy group or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and the methylene group contained in the hydrocarbon group is an oxygen atom or It may be substituted with a carbonyl group.
X represents a sulfur atom or an iodine atom.
m represents an integer of 0 or 1.
When X is a sulfur atom, m is 1, and when X is an iodine atom, m is 0.
R 3 and R 4 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may have a substituent, or R 3 and R 4 together with the sulfur atom to which they are bonded are It may form a heterocycle.
L represents a divalent hydrocarbon group of a single bond or a 1 to 24 carbon atoms, -CH 2 contained in the hydrocarbon group - may be replaced by -O- or -CO-.
* Represents a bond. ]
(aa33)で表されるカチオンが、式(Ia)で表される基を有するカチオンである請求項記載の塩。
[式(Ia)中、
環W及び*は、上記と同じ意味を表す。
f1及びRf2は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のフッ化アルキル基を表す。
nは、1〜10の整数を表す。nが2以上のとき、複数存在するRf1及びRf2は、それぞれ同一であっても異なってもよい。]
Luke thione represented by the formula (aa33) are salt according to claim 1, wherein a cation having a group represented by the formula (Ia).
[In the formula (Ia),
Rings W and * have the same meanings as above.
R f1 and R f2 each independently represent a fluorine atom or a fluorinated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
n represents an integer of 1 to 10. When n is 2 or more, a plurality of R f1 and R f2 may be the same or different. ]
環Wが、式(Iaa−1)で表される環、式(Iaa−2)で表される環又は式(Iaa−3)で表される環である請求項1又は2記載の塩。
[式(Iaa−1)、式(Iaa−2)及び式(Iaa−3)中、
環に含まれるメチレン基は酸素原子、硫黄原子、カルボニル基又はスルホニル基で置換されていてもよく、環に含まれる水素原子はヒドロキシ基、炭素数1〜12の炭化水素基で置換されていてもよく、該炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基で置換されていてもよい。]
The salt according to claim 1 or 2 , wherein the ring W is a ring represented by the formula (Iaa-1), a ring represented by the formula (Iaa-2) or a ring represented by the formula (Iaa-3).
[In Formula (Iaa-1), Formula (Iaa-2), and Formula (Iaa-3),
The methylene group contained in the ring may be substituted with an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group or a sulfonyl group, and the hydrogen atom contained in the ring may be substituted with a hydroxy group or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. Alternatively, the methylene group contained in the hydrocarbon group may be substituted with an oxygen atom or a carbonyl group. ]
(aa33)で表されるカチオン有する塩が、式(aa3)で表されるカチオンを有する塩である請求項1〜のいずれか記載の塩。
[式(aa3)中、X、X、X及びWは、上記と同じ意味を表す。
Xは、硫黄原子又はヨウ素原子を表す。
mは、0又は1の整数を表す。
Xが硫黄原子のとき、mは1であり、Xがヨウ素原子のとき、mは0である。
及びRは、互いに独立に、置換基を有してもよい炭素数1〜18の炭化水素基を表すか、R及びRは、それらが結合する硫黄原子と一緒になって複素環を形成していてもよい。]
Salts having represented Luke thione by the formula (aa33) are salt according to any one of claims 1 to 3 is a salt having a cation represented by the formula (aa3).
[In the formula (aa3), X a , X b , X 1 and W have the same meanings as described above.
X represents a sulfur atom or an iodine atom.
m represents an integer of 0 or 1.
When X is a sulfur atom, m is 1, and when X is an iodine atom, m is 0.
R 3 and R 4 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may have a substituent, or R 3 and R 4 together with the sulfur atom to which they are bound are It may form a heterocycle. ]
アニオンが、有機アニオンである請求項1〜のいずれか記載の塩。 Anion salt according to any one of claims 1-4 is an organic anion. アニオンが、式(I−A)で表されるアニオンである請求項1〜のいずれか記載の塩。
[式(I−A)中、Q及びQは、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
b1は、炭素数1〜24の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Yは、置換基を有していてもよい炭素数1〜18の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−、−S−、−SO−又は−CO−に置き換わっていてもよい。]
Anion salt according to any one of claims 1-5 is an anion of the formula (I-A).
[In formula (IA), Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
L b1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with —O— or —CO—. The hydrogen atom contained in the hydrogen group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
Y represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may have a substituent, -CH 2 contained in the saturated hydrocarbon group - is -O -, - S -, - SO 2 -Or-CO- may be substituted. ]
式(aa)で表される基を、互いに独立に、カチオン及びアニオンに有する請求項1〜のいずれか記載の塩。
[式(aa)中、
、X、X及び*は、上記と同じ意味を表す。]
A group represented by the formula (aa), independently of one another, salts of any of claims 1-6 having the cations and anions.
[In the formula (aa),
X a , X b , X 1 and * have the same meanings as described above. ]
アニオンが、式(aa2)で表されるアニオンである請求項6又は7に記載の塩。
[式(aa2)中、
、Q、Lb1、X、X、X及びWは、上記と同じ意味を表す。]
The salt according to claim 6 or 7 , wherein the anion is an anion represented by formula (aa2).
[In the formula (aa2),
Q 1 , Q 2 , L b1 , X a , X b , X 1 and W have the same meanings as described above. ]
b1が、*−CO−O−(CH−又は*−CH−O−CO−であり、tは0〜6の整数を表し、*は、−C(Q)(Q)−との結合手を表す請求項6又は8記載の塩。 L b1 is, * - CO-O- (CH 2) t - or * -CH 2 is -O-CO-, t represents an integer of 0 to 6, and *, -C (Q 1) (Q 2 ) A salt according to claim 6 or 8, which represents a bond with (-). 請求項1〜のいずれか記載の塩を有効成分として含有する酸発生剤。 Acid generator containing, as an active ingredient a salt according to any one of claims 1-9. 請求項10に記載の酸発生剤と、酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂とを含有するレジスト組成物。 A resist composition comprising the acid generator according to claim 10 and a resin containing a structural unit having an acid labile group. さらに、式(B1)で表される酸発生剤を含む請求項11に記載のレジスト組成物。
[式(B1)中、
、Q b1及びYは、上記と同じ意味を表す。
は、有機カチオンを表す。ただし、Zは式(aa)で表される基を含まない。]
The resist composition according to claim 11 , further comprising an acid generator represented by formula (B1).
[In the formula (B1),
Q 1 , Q 2 , L b1 and Y have the same meanings as described above.
Z + represents an organic cation. However, Z + does not include a group represented by the formula (aa). ]
さらに、フッ素原子を有する構造単位を含む樹脂を含有する請求項11又は12に記載のレジスト組成物。 The resist composition according to claim 11 , further comprising a resin containing a structural unit having a fluorine atom. さらに、酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩を含有する請求項11〜13のいずれか記載のレジスト組成物。 The resist composition according to any one of claims 11 to 13 , further comprising a salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator. (1)請求項11〜14のいずれか記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
(2)塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
(3)組成物層に露光する工程、
(4)露光後の組成物層を加熱する工程、及び
(5)加熱後の組成物層を現像する工程を含むレジストパターンの製造方法。
(1) A step of applying the resist composition according to any one of claims 11 to 14 onto a substrate,
(2) a step of drying the composition after coating to form a composition layer,
(3) exposing the composition layer
A method for producing a resist pattern, which comprises (4) a step of heating the composition layer after exposure, and (5) a step of developing the composition layer after heating.
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