JP6749771B2 - Substrate film for transfer decoration - Google Patents

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Description

本発明は転写加飾用基体フィルムに関する。 The present invention relates to a base film for transfer decoration.

自動車装品、雑貨品等の成型品の素地に、種々の文字や絵柄を加飾することにより、意匠性を付与する。これら三次元立体形状等の複雑な表面形状を有する成型品の素地に対しては、真空成型法、射出成型法等により、加飾層を成型品の素地に転写させて加飾する。本明細書では、その転写される加飾層を有する加飾フィルムを「転写加飾フィルム」という。 A design is imparted by decorating the base material of molded articles such as automobile accessories and miscellaneous goods with various characters and patterns. For a base material of a molded product having a complicated surface shape such as a three-dimensional solid shape, the decorative layer is transferred to the base material of the molded product by a vacuum molding method, an injection molding method, or the like for decoration. In the present specification, the decorative film having the transferred decorative layer is referred to as "transfer decorative film".

転写加飾フィルムは、例えば、基体フィルム上に、クリヤー層(保護層)、着色層、及び接着剤層が設けられた構成を有しており、また、基体フィルムとクリヤー層との間に離型層を設けたフィルム等が知られている(例えば、特許文献1参照)。 The transfer decorative film has, for example, a structure in which a clear layer (protective layer), a coloring layer, and an adhesive layer are provided on a base film, and the transparent film is provided between the base film and the clear layer. A film or the like provided with a mold layer is known (for example, see Patent Document 1).

加飾層を成型品の素地に転写させる方法である真空成型法は、真空チャンバー内で、(i)転写加飾フィルムを加熱して軟化させ、展延させる工程、(ii)成型品の素地側(転写加飾フィルムの加飾層が転写される側、貼り付けられる側)の空間を減圧する工程、必要に応じ反対側の空間を加圧する工程、(iii)転写加飾フィルムを成型品の素地の三次元立体形状に沿って成型する(貼り付ける)工程、及び(iv)成型品の素地に加飾層を残して基体フィルムを剥がす工程により行われる。 The vacuum molding method, which is a method of transferring the decorative layer to the base material of the molded product, includes the steps of (i) heating and softening the transferred decorative film in a vacuum chamber to spread it, and (ii) the base material of the molded product. Side (the side to which the decorative layer of the transfer decorative film is transferred, the side to which the transfer layer is attached) is depressurized, the step of pressurizing the space on the opposite side if necessary, (iii) a molded product of the transfer decorative film The step of molding (attaching) along the three-dimensional three-dimensional shape of the substrate, and (iv) the step of peeling off the base film leaving the decorative layer on the substrate of the molded product.

従来、真空成型法に用いられる転写加飾フィルムの基体(基材)として、ポリエチレンテレフタレート(PET)等のポリエステル、アクリル樹脂等を用いたフィルムが使用されている(特許文献1)。しかし、加飾層の基体としてPET、アクリル樹脂等のフィルムを用いると、真空成型法で転写加飾フィルムを成型品の素地に転写する際に、成型品の素地の三次元立体形状に対して、転写加飾フィルムの追従性が不十分であるという問題がある。 BACKGROUND ART Conventionally, a film using polyester such as polyethylene terephthalate (PET) or an acrylic resin has been used as a substrate (base material) of a transfer decorative film used in a vacuum forming method (Patent Document 1). However, when a film such as PET or acrylic resin is used as the base of the decorative layer, when the transfer decorative film is transferred to the base material of the molded product by the vacuum molding method, the three-dimensional shape of the base material of the molded product is However, there is a problem that the followability of the transfer decorative film is insufficient.

また、真空成型法では、転写加飾フィルムを展延するために熱をかける処理が行われる。この熱処理では、転写加飾フィルムを170℃程度の高温を供した後で成型を行うことから、次工程の製品の加飾をする際には、一度室温まで冷却する必要がある。そして、この冷却処理には時間がかかるという課題があった。 Further, in the vacuum forming method, a process of applying heat to spread the transfer decorative film is performed. In this heat treatment, since the transfer decorative film is subjected to a high temperature of about 170° C. and then molded, it is necessary to cool it once to room temperature when the product in the next step is decorated. Then, there is a problem that this cooling process takes time.

そのため、比較的低温においても真空成型が可能となるような基体フィルムが求められる。そのような基体フィルムとして、ポリプロピレン系熱可塑性樹脂を用いることが挙げられる。この場合、転写加飾フィルムの成型品に対する追従性(真空成型性)は良好であるが、転写加飾フィルムの加熱時に、過度の軟化によって必要以上にフィルムがたるむ、所謂ドローダウンが生ずるという問題があった。 Therefore, there is a demand for a base film that can be vacuum formed even at a relatively low temperature. Examples of such a base film include the use of a polypropylene-based thermoplastic resin. In this case, the followability (vacuum formability) of the transfer decorative film with respect to the molded product is good, but when the transfer decorative film is heated, excessive softening causes the film to sag more than necessary, so-called drawdown occurs. was there.

特開2011‐88420号公報JP 2011-88420 JP

本発明は、真空成型法により加飾成型品を製造する技術において、比較的低温条件下においても、転写加飾フィルムの成型品に対する追従性(真空成型性)は良好な転写加飾用に適用可能な基体フィルムを提供することを主な目的とする。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is applied to a technique for producing a decorative molded product by a vacuum molding method, in which the followability (vacuum moldability) of the transfer decorative film to the molded product is good even under relatively low temperature conditions. The main purpose is to provide a possible substrate film.

また、本発明は、フィルムの加熱軟化時においても、必要以上にフィルムがたるまない、所謂ドローダウンを抑制することができる、転写加飾用に適用可能な基体フィルムを提供することを主な目的とする。 Further, the main object of the present invention is to provide a substrate film that can be applied to transfer decorating and that can prevent so-called drawdown in which the film does not sag more than necessary even when the film is heated and softened. And

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を行った結果、転写加飾用基体フィルムを構成する層に用いられる樹脂成分として、アイオノマー樹脂を用いることにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。 The present inventor, as a result of intensive research to solve the above problems, found that the above object can be achieved by using an ionomer resin as a resin component used in a layer constituting a substrate film for transfer decoration. The present invention has been completed.

即ち、本発明は下記項の転写加飾用基体フィルムを提供する。 That is, the present invention provides the following substrate film for transfer decoration.

項1.
フィルムの総質量に対し、5〜60質量%のアイオノマー樹脂を有する転写加飾用基体フィルム。
Item 1.
A base film for transfer decoration, which contains 5 to 60% by mass of an ionomer resin based on the total mass of the film.

項2.
フィルムの総質量に対し、更に40〜95質量%の熱可塑性樹脂を含む、前記項1に記載の転写加飾用基体フィルム。
Item 2.
Item 2. The transfer decorating base film according to Item 1, further comprising 40 to 95% by mass of a thermoplastic resin based on the total mass of the film.

本発明の転写加飾用基体フィルムを用いると、基体フィルム中に、特定量のアイオノマー樹脂を含有させることにより、比較的低温条件下においても、転写加飾フィルムの成型品に対する追従性(真空成型性)は良好となる。 When the base film for transfer decoration film of the present invention is used, by incorporating a specific amount of ionomer resin into the base film, the transfer decorative film can follow the molded product even under relatively low temperature conditions (vacuum molding). Sex) is good.

更に、本発明の転写加飾用基体フィルムを用いると、転写加飾フィルムを加熱し軟化させる際に、必要以上にフィルムがたるまず、ドローダウンを抑制することができる。 Further, when the transfer decorating film of the present invention is used, when the transfer decorating film is heated and softened, the film does not sag more than necessary and drawdown can be suppressed.

そのため、本発明の基体フィルムは、転写加飾用に適用することが可能となる。 Therefore, the base film of the present invention can be applied for transfer decoration.

ドローダウン量の測定方法の概要を示す図である。It is a figure which shows the outline of the measuring method of a drawdown amount.

本発明の転写加飾用基体フィルムは、特定の含有割合のアイオノマー樹脂を有することを特徴とする。 The substrate film for transfer decoration of the present invention is characterized by having a specific content ratio of an ionomer resin.

本発明の転写加飾用基体フィルムは、三次元立体形状等の複雑な表面形状を有する成型品の素地に対して、真空成型法(三次元真空成型法)により加飾成型品を製造する技術において、好ましく用いる転写加飾フィルムに用いられる基体フィルムである。 The substrate film for transfer decoration of the present invention is a technique for producing a decorative molded product by a vacuum molding method (three-dimensional vacuum molding method) on the basis of a molded product having a complicated surface shape such as a three-dimensional solid shape. In the above, it is a base film which is preferably used for a transfer decorative film.

以下、転写加飾用基体フィルムを構成する各層等について説明する。 Hereinafter, each layer constituting the substrate film for transfer decoration will be described.

(1)転写加飾用基体フィルム
本発明の転写加飾用基体フィルムは、アイオノマー樹脂を含む。アイオノマー樹脂としては、例えばオレフィン系アイオノマー樹脂、ウレタン系アイオノマー樹脂、フッ素系アイオノマー樹脂等がある。これらの中でもフィルム、及びシート成形体として、特にオレフィン系アイオノマー樹脂を好ましく用いることができる。
(1) Base Film for Transfer Decoration The base film for transfer decoration of the present invention contains an ionomer resin. Examples of the ionomer resin include an olefin-based ionomer resin, a urethane-based ionomer resin, and a fluorine-based ionomer resin. Among these, an olefin-based ionomer resin can be preferably used as a film or sheet molded body.

アイオノマー樹脂
該オレフィン系アイオノマー樹脂は、オレフィンと不飽和カルボン酸とを構成単位とする共重合体である。該オレフィンとしてはエチレン、プロピレン等が挙げられ、該不飽和カルボン酸として、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル等のメタクリル酸アルキルエステルを好ましく用いることができる。
Ionomer Resin The olefinic ionomer resin is a copolymer having an olefin and an unsaturated carboxylic acid as constitutional units. Examples of the olefin include ethylene and propylene, and as the unsaturated carboxylic acid, (meth)acrylic acid, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, (meth)acrylic Methacrylic acid alkyl esters such as octyl acid can be preferably used.

該オレフィン系アイオノマー樹脂は、エチレンと、前記(メタ)アクリル酸を構成単位とする二元共重合体や、エチレン、前記(メタ)アクリル酸及び前記(メタ)アクリル酸アルキルエステルを構成単位とする三元共重合体が挙げられる。該アイオノマー樹脂として、二元共重合体系アイオノマー樹脂、又は三元共重合体系アイオノマー樹脂中のカルボン酸の少なくとも一部を金属イオンで中和したものを好ましく用いることができる。 The olefin-based ionomer resin has ethylene and a binary copolymer having the (meth)acrylic acid as a constitutional unit, or ethylene, the (meth)acrylic acid and the (meth)acrylic acid alkyl ester as a constitutional unit. Examples include terpolymers. As the ionomer resin, a binary copolymer type ionomer resin or a ternary copolymer type ionomer resin in which at least a part of the carboxylic acid is neutralized with a metal ion can be preferably used.

ここで用いられる金属イオンは、二価の金属イオン、三価の金属イオン等が挙げられる。二価の金属イオンとしてはMg2+、Ca2+、Ba2+、Ni2+、Zn2+、Fe2+、Co2+、Sn2+、Pb2+、Mn2+等が挙げられ、三価の金属イオンとしてはAl3+、Fe3+、Cr3+等が挙げられる。中でもZn2+はブリードアウトが少なく、共重合体を含有する成形体の特性が安定する点で、用いることが好ましい。 Examples of the metal ions used here include divalent metal ions and trivalent metal ions. Examples of the divalent metal ion include Mg 2+ , Ca 2+ , Ba 2+ , Ni 2+ , Zn 2+ , Fe 2+ , Co 2+ , Sn 2+ , Pb 2+ and Mn 2+. As the trivalent metal ion, Al 3+ , Fe 3+ , Cr 3+ and the like can be mentioned. Among them, Zn 2+ is preferably used because it has little bleed-out and the characteristics of the molding containing the copolymer are stable.

該オレフィン系アイオノマー樹脂、特に三元共重合体系アイオノマー樹脂における夫々の構成単位の好ましい割合としては、エチレン単位は50〜90重量%、(メタ)アクリル酸単位は5〜20重量%、(メタ)アクリル酸アルキルエステル単位は5〜30重量%である。 The olefinic ionomer resin, in particular, the preferred proportion of each structural unit in the terpolymer ionomer resin, ethylene unit 50 to 90 wt%, (meth) acrylic acid unit 5 to 20 wt%, (meth) The alkyl acrylate unit is 5 to 30% by weight.

アイオノマー樹脂の密度としては、900〜980kg/m3程度が好ましく、940〜960kg/m3程度がより好ましい。アイオノマー樹脂の密度を900kg/m3程度以上に設定することにより、基体フィルムを加飾フィルムへ加工する際の乾燥工程時の熱変形を抑制したり、ドローダウンを抑制したりする効果が得られる。 The density of the ionomer resin, preferably about 900~980kg / m 3, about 940~960kg / m 3 and more preferably. By setting the density of the ionomer resin to about 900 kg/m 3 or more, it is possible to suppress the thermal deformation during the drying process when processing the base film into the decorative film and to suppress the drawdown. ..

本発明において、アイオノマー樹脂は適宜金属イオンの種類や含有量、カルボキシル基数の異なる共重合体を1種類又は複数の種類を混合しても良い。 In the present invention, as the ionomer resin, one kind or a plurality of kinds of copolymers having different kinds and contents of metal ions and different numbers of carboxyl groups may be appropriately mixed.

本発明におけるアイオノマー樹脂は例示に限定されるものではない。 The ionomer resin in the present invention is not limited to the examples.

他の熱可塑性樹脂
アイオノマー樹脂は他の熱可塑性樹脂と混合して使用することができる。この場合、転写加飾用基体フィルムとして、基体フィルムを加飾フィルムへ加工する際の乾燥工程時の熱変形を抑制する観点から好ましい。
Other thermoplastic resin Ionomer resin can be used as a mixture with other thermoplastic resin. In this case, it is preferable as the transfer decorating base film from the viewpoint of suppressing thermal deformation during the drying step when processing the base film into the decorating film.

熱可塑性樹脂としては、プロピレン単独重合体、プロピレン・エチレンランダム共重合体、プロピレン・α-オレフィンランダム共重合体、プロピレンブロック共重合体が挙げられる。これらの熱可塑性樹脂は、1種単独で使用してもよく、また、2種以上を併用して用いてもよい。 Examples of the thermoplastic resin include a propylene homopolymer, a propylene/ethylene random copolymer, a propylene/α-olefin random copolymer, and a propylene block copolymer. These thermoplastic resins may be used alone or in combination of two or more.

前記α-オレフィンの具体例として、1-ブテン、2-メチル-1-プロペン、2-メチル-1-ブテン、3-メチル-1-ブテン、1-ヘキセン、2-エチル-1-ブテン、2,3-ジメチル-1-ブテン、2-メチル-1-ペンテン、3-メチル-1-ペンテン、4-メチル-1-ペンテン、3,3-ジメチル-1-ブテン、1-ヘプテン、メチル-1-ヘキセン、ジメチル-1-ペンテン、エチル-1-ペンテン、トリメチル-1-ブテン、メチルエチル-1-ブテン、1-オクテン、メチル-1-ペンテン、エチル-1-ヘキセン、ジメチル-1-ヘキセン、プロピル-1-ヘプテン、メチルエチル-1-ヘプテン、トリメチル-1-ペンテン、プロピル-1-ペンテン、ジエチル-1-ブテン、1-ノネン、1-デセン、1-ウンデセン、1-ドデセン等が挙げられる。 Specific examples of the α-olefin include 1-butene, 2-methyl-1-propene, 2-methyl-1-butene, 3-methyl-1-butene, 1-hexene, 2-ethyl-1-butene, 2 ,3-Dimethyl-1-butene, 2-methyl-1-pentene, 3-methyl-1-pentene, 4-methyl-1-pentene, 3,3-dimethyl-1-butene, 1-heptene, methyl-1 -Hexene, dimethyl-1-pentene, ethyl-1-pentene, trimethyl-1-butene, methylethyl-1-butene, 1-octene, methyl-1-pentene, ethyl-1-hexene, dimethyl-1-hexene, Propyl-1-heptene, methylethyl-1-heptene, trimethyl-1-pentene, propyl-1-pentene, diethyl-1-butene, 1-nonene, 1-decene, 1-undecene, 1-dodecene and the like. ..

転写加飾用基体フィルムの樹脂組成
転写加飾用基体フィルムは、アイオノマー樹脂を5〜60質量%含む。ここで、アイオノマー樹脂の含有割合は、転写加飾用基体フィルムの総質量に対する割合である。
Resin composition of base film for transfer decoration The base film for transfer decoration contains 5 to 60% by mass of an ionomer resin. Here, the content ratio of the ionomer resin is a ratio with respect to the total mass of the transfer decorating base film.

転写加飾用基体フィルムは単層構成であっても、アイオノマー樹脂を含む層と他の熱可塑性樹脂を含む層との積層構成であってよく、また、アイオノマー樹脂の含有量の異なる層同士の積層構成であってもよい。 The transfer decorating base film may have a single-layer structure, or may have a laminated structure of a layer containing an ionomer resin and a layer containing another thermoplastic resin, and between the layers having different ionomer resin contents. It may have a laminated structure.

転写加飾用基体フィルム中のアイオノマー樹脂の含有割合としては、転写加飾用基体フィルムの総質量に対して、5質量%以上が好ましく、7質量%以上がより好ましく、10質量%以上が更に好ましい。アイオノマー樹脂の含有割合が、5質量%未満であると、真空成型時の加熱により基体フィルムがたるむ、所謂ドローダウンが生じる等の傾向がある。 As the content ratio of the ionomer resin in the transfer decorating base film, with respect to the total mass of the transfer decorating base film, preferably 5 mass% or more, more preferably 7 mass% or more, further 10 mass% or more. preferable. If the content ratio of the ionomer resin is less than 5% by mass, the base film tends to sag due to heating during vacuum forming, so-called drawdown tends to occur.

また、アイオノマー樹脂の含有割合は、転写加飾用基体フィルムの総質量に対して、60質量%以下が好ましく、50質量%以下がより好ましい。アイオノマー樹脂の含有割合が、60質量%を超えると、基体フィルムを加飾フィルムへ加工する際の乾燥工程時の熱変形が発生する傾向がある。 Further, the content ratio of the ionomer resin is preferably 60% by mass or less, and more preferably 50% by mass or less with respect to the total mass of the base film for transfer decoration. When the content ratio of the ionomer resin exceeds 60% by mass, thermal deformation tends to occur during the drying step when processing the base film into the decorative film.

転写加飾用基体フィルムは、更に熱可塑性樹脂を40〜95質量%の含むことが好ましい。ここで、熱可塑性樹脂の含有割合は、転写加飾用基体フィルムの総質量に対する割合である。 The base film for transfer decoration preferably further contains 40 to 95% by mass of a thermoplastic resin. Here, the content ratio of the thermoplastic resin is a ratio with respect to the total mass of the transfer decorating base film.

転写加飾用基体フィルム中の熱可塑性樹脂の含有割合としては、転写加飾用基体フィルムの総質量に対して、40質量%以上が好ましく、50質量%以上がより好ましい。熱可塑性樹脂の含有割合が、40質量%未満であると、基体フィルムを加飾フィルムへ加工する際の乾燥工程時の熱変形が発生する傾向がある。 The content ratio of the thermoplastic resin in the transfer decorating base film is preferably 40 mass% or more, and more preferably 50 mass% or more, with respect to the total mass of the transfer decorating base film. When the content ratio of the thermoplastic resin is less than 40% by mass, thermal deformation tends to occur during the drying step when processing the base film into the decorative film.

また、熱可塑性樹脂の含有割合は、転写加飾用基体フィルムの総質量に対して、95質量%以下が好ましく、93質量%以下がより好ましく、90質量%以下が更に好ましい。熱可塑性樹脂の含有割合が、95質量%を超えると、真空成型時の加熱により基体フィルムがたるむ、所謂ドローダウンが生じる等の傾向がある。 Further, the content ratio of the thermoplastic resin is preferably 95% by mass or less, more preferably 93% by mass or less, and further preferably 90% by mass or less with respect to the total mass of the base film for transfer decoration. When the content ratio of the thermoplastic resin exceeds 95% by mass, the base film tends to sag due to heating during vacuum forming, so-called drawdown tends to occur.

転写加飾用基体フィルムの層構成
転写加飾用基体フィルムが、単層である場合の層の厚みとしては、80〜300μm程度が好ましく、90〜290μm程度がより好ましく、100〜280μm程度が更に好ましい。層の厚みを80μm以上に設定することによって、基体フィルムを加飾フィルムへ加工する際の乾燥工程時の熱変形を抑制する効果が得られる。また、層の厚みを300μm以下に設定することによって、真空成型時に基体フィルムが必要以上にたるまず、ドローダウンを抑制できるという効果が得られる。
Layer structure of the transfer decorative base film, the transfer decorative base film, the thickness of the layer when a single layer, preferably about 80 ~ 300 (mu) m, more preferably about 90 ~ 290 (mu) m, more preferably about 100 ~ 280 (mu) m. preferable. By setting the thickness of the layer to 80 μm or more, an effect of suppressing thermal deformation during the drying step when processing the base film into the decorative film can be obtained. Further, by setting the thickness of the layer to 300 μm or less, it is possible to obtain an effect that the substrate film does not sag more than necessary during vacuum forming and drawdown can be suppressed.

本発明の転写加飾用基体フィルムは、上記のアイオノマー樹脂を含有するフィルムをA層として、当該A層の表面に表面層(B層)を設けてもよい。表面層(B層)を設けることにより、滑り性付与、ブロッキング抑制、クリヤー層と離型層との接着性、及び離形性付与等の効果が得られる。 In the base film for transfer decoration of the present invention, the film containing the above ionomer resin may be used as the A layer, and a surface layer (B layer) may be provided on the surface of the A layer. By providing the surface layer (B layer), effects such as imparting slipperiness, suppressing blocking, adhesiveness between the clear layer and the release layer, and imparting releasability can be obtained.

表面層(B層)に用いられる樹脂成分としては、熱可塑性樹脂が挙げられ、プロピレン単独重合体、プロピレン・エチレンランダム共重合体、プロピレン・α-オレフィンランダム共重合体、プロピレンブロック共重合体、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、エチレン-α-オレフィン共重合体、エチレン−ビニルエステル共重合体、エチレン−不飽和カルボン酸エステル共重合体、エチレン−不飽和カルボン酸共重合体等が挙げられる。 Examples of the resin component used in the surface layer (B layer) include thermoplastic resins, and include propylene homopolymers, propylene/ethylene random copolymers, propylene/α-olefin random copolymers, propylene block copolymers, Examples thereof include low density polyethylene, medium density polyethylene, ethylene-α-olefin copolymer, ethylene-vinyl ester copolymer, ethylene-unsaturated carboxylic acid ester copolymer, ethylene-unsaturated carboxylic acid copolymer and the like.

また、本発明の転写加飾用基体フィルムは、中間層(A層)の表面で、表面層(B層)と接していない表面に、さらに裏面層(C層)を設けてもよい。裏面層(C層)を設けることにより、フィルムのカールの抑制、滑り性付与、転写加飾フィルムのブロッキング抑制等の効果が得られる。 Further, in the substrate film for transfer decoration of the present invention, a back layer (C layer) may be further provided on the surface of the intermediate layer (A layer) which is not in contact with the surface layer (B layer). By providing the back surface layer (C layer), effects such as curling of the film, imparting slipperiness, and blocking of the transfer decorative film can be obtained.

裏面層(C層)に用いられる樹脂成分としては、A層と同じものが挙げられる。また、B層と同一の樹脂成分とすることが好ましい。この場合、A層は、中間層となる。 As the resin component used for the back surface layer (C layer), the same resin components as those for the A layer can be mentioned. Further, it is preferable to use the same resin component as the B layer. In this case, the A layer becomes the intermediate layer.

転写加飾用基体フィルムが多層構造である場合の層構成としては、表面層(B層)/中間層(A層)、又は中間層(A層)/裏面層(C層)の2層構造、及び表面層(B層)/中間層(A層)/裏面層(C層)の3層構造が挙げられるが、これらの中で、フィルムのカールの抑制の観点から、B層/A層/C層の3層構造が好ましい。 When the transfer decorating base film has a multi-layer structure, the layer structure is a two-layer structure of a surface layer (B layer)/intermediate layer (A layer) or an intermediate layer (A layer)/back surface layer (C layer). , And a three-layer structure of a surface layer (B layer)/intermediate layer (A layer)/back surface layer (C layer). Among these, from the viewpoint of curling of the film, the B layer/A layer A three-layer structure of /C layer is preferable.

転写加飾用基体フィルムが多層構造である場合のフィルム全体の厚みは、80〜300μm程度が好ましく、90〜290μm程度がより好ましい。フィルムの厚みを80μm以上に設定することによって、基体フィルムを加飾フィルムへ加工する際の乾燥工程時の熱変形を抑制するという効果が得られる。また、フィルムの厚みを300μm以下に設定することによって、真空成型時に基体フィルムが必要以上にたるまず、ドローダウンを抑制できるという効果が得られる。 When the transfer decorating base film has a multilayer structure, the thickness of the entire film is preferably about 80 to 300 μm, more preferably about 90 to 290 μm. By setting the thickness of the film to 80 μm or more, it is possible to obtain the effect of suppressing thermal deformation during the drying step when processing the base film into the decorative film. Further, by setting the thickness of the film to 300 μm or less, it is possible to obtain an effect that the substrate film does not sag more than necessary during vacuum forming and drawdown can be suppressed.

転写加飾用基体フィルムが多層構造である場合の中間層(A層)の厚みは、10〜200μm程度が好ましく、20〜100μm程度がより好ましい。また、表面層(B層)の厚みは、13〜70μm程度が好ましく、25〜65μm程度がより好ましい。更に、裏面層(C層)の厚みは、13〜70μm程度が好ましく、25〜65μm程度がより好ましい。 When the transfer decorating base film has a multilayer structure, the thickness of the intermediate layer (A layer) is preferably about 10 to 200 μm, more preferably about 20 to 100 μm. The thickness of the surface layer (B layer) is preferably about 13 to 70 μm, more preferably about 25 to 65 μm. Furthermore, the thickness of the back surface layer (C layer) is preferably about 13 to 70 μm, more preferably about 25 to 65 μm.

転写加飾用基体フィルムの物性値
本発明の転写加飾用基体フィルムは、85℃における熱機械分析(TMA)によって測定されるTMA変位量が、10.0%以下が好ましく、9%以下がより好ましく、8%以下が更に好ましい。TMA変位量が、10.0%以下となることによって、基体フィルムを加飾フィルムへ加工する際の乾燥工程時の熱変形を抑制する効果が得られる。上記のTMA変位量は、JIS K7197に準拠して測定することが可能である。
Physical property value of transfer decorating base film The transfer decorating base film of the present invention has a TMA displacement amount measured by thermomechanical analysis (TMA) at 85° C. of preferably 10.0% or less, more preferably 9% or less. , 8% or less is more preferable. When the TMA displacement amount is 10.0% or less, the effect of suppressing thermal deformation during the drying step when processing the base film into the decorative film can be obtained. The above TMA displacement amount can be measured in accordance with JIS K7197.

転写加飾用基体フィルムのその他の成分
本発明の転写加飾用基体フィルムは、押出成形する際のドローダウン抑制や偏肉改善、生産性改善を目的として、添加剤を添加することができる。
Other Components of Transfer Decorative Base Film The additive of the base film for transfer decorative of the present invention can be added for the purpose of suppressing drawdown during extrusion molding, improving uneven thickness, and improving productivity.

添加剤として、HAO-LLDPE(宇部丸善ポリエチレン社製ののユメリット)やPTFE(三菱レイヨン社製のメタブレン)、カネカ社製のPP加工性改良材料、結晶核剤、目ヤニ防止剤、酸化防止剤等を用いることができる。添加剤の添加量は特に限定しないが、物性及び取扱い上の観点から、転写加飾用基体フィルムの総質量に対して、20質量%以下が好ましい。 As additives, HAO-LLDPE (Ube Maruzen Polyethylene's Umerit), PTFE (Mitsubishi Rayon's Metabrene), Kaneka's PP processability-improving material, crystal nucleating agent, eye drool inhibitor, antioxidant Etc. can be used. The amount of the additive added is not particularly limited, but from the viewpoint of physical properties and handling, it is preferably 20% by mass or less based on the total mass of the transfer decorating base film.

(2)転写加飾用基体フィルムの製造方法
本発明の転写加飾用基体フィルムは、アイオノマー樹脂を含む樹脂成分を押出成形して製造することができる。
(2) Method for producing base film for transfer decoration The base film for transfer decoration of the present invention can be produced by extrusion molding a resin component containing an ionomer resin.

具体的には、単層構成の場合には、A層用樹脂組成物をバレル温度130〜260℃に調整された押出機に供給し、180〜260℃のTダイからフィルム状に押出し、30〜70℃の冷却ロールにより冷却固化させ実質的に無延伸で引き取ることにより製造することができる。 Specifically, in the case of a single-layer structure, the resin composition for layer A is supplied to an extruder adjusted to a barrel temperature of 130 to 260°C and extruded in a film form from a T die at 180 to 260°C, It can be produced by cooling and solidifying with a chill roll at ˜70° C., and taking it out substantially without stretching.

また、多層構成の場合には、表面層(B層)用樹脂組成物、中間層(A層)用樹脂組成物、及び裏面層(C層)用樹脂組成物を、夫々バレル温度180〜240℃に調整された各層用押し出し機に供給し、180〜260℃の多層Tダイからフィルム状に押出し、30〜70℃の冷却ロールで冷却固化させ実質的に無延伸で引き取ることにより製造できる。 In the case of a multilayer structure, the resin composition for the surface layer (B layer), the intermediate layer (A layer), and the resin composition for the back surface layer (C layer) are added at barrel temperatures of 180 to 240, respectively. It can be produced by supplying the composition to an extruder for each layer adjusted to ℃, extruding it into a film form from a multi-layer T die at 180 to 260 ℃, cooling and solidifying with a cooling roll at 30 to 70 ℃, and taking it out substantially without stretching.

なお、転写加飾フィルムは、本発明の転写加飾用基体フィルムにクリヤー層、着色層、及び粘着剤層等を積層する工程を経て製造される。 The transfer decorating film is manufactured through a step of laminating a clear layer, a coloring layer, an adhesive layer and the like on the transfer decorating base film of the present invention.

以下に、本発明を、実施例及び比較例を用いてより詳細に説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

<樹脂成分>
使用した樹脂成分について、以下に示す。
<Resin component>
The resin components used are shown below.

PP-1:サンアロマー社製のPC630A
アイオノマー1:三井・デュポンポリケミカル社製のハイミラン1855(アイオノマー樹脂、密度:960kg/m3、金属イオン:Zn2+
アイオノマー2:三井・デュポンポリケミカル社製のハイミラン1652(アイオノマー樹脂、密度:940kg/m3、金属イオン:Zn2+
PET1:東洋紡社製のソフトシャイン
アクリル1:三菱レイヨン社製のアクリプレン
TPO-1:プライムポリマー社製のプライムTPO E-2900
<実施例1〜6及び比較例1〜6(単層)>
表1及び表2に示す樹脂成分及びその含有割合となるように、樹脂成分を130〜260℃に調整されたスクリュー式押出機に供給し、次いで180〜260℃でTダイからフィルム状に押出した。次いでこれを30〜70℃の冷却ロ−ルに通しながら冷却して、実質的に無延伸の状態で巻き取って、転写加飾用基体フィルムを調製した。
PP-1: PC630A made by Sun Allomer
Ionomer 1: Mitsui DuPont Polychemical Co., Ltd. Hi-Milan 1855 (ionomer resin, density: 960 kg/m 3 , metal ion: Zn 2+ ).
Ionomer 2: Himilan 1652 manufactured by Mitsui DuPont Polychemicals (ionomer resin, density: 940 kg/m 3 , metal ion: Zn 2+ ).
PET1: Soft Shine manufactured by Toyobo Co., Ltd. Acrylic 1: Acrylene manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.
TPO-1: Prime Polymer's prime TPO E-2900
<Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 6 (single layer)>
The resin component and its content ratio shown in Table 1 and Table 2, so that the resin component is supplied to a screw type extruder adjusted to 130 ~ 260 ℃, then extruded into a film from a T-die at 180 ~ 260 ℃. did. Then, this was cooled while passing through a cooling roll of 30 to 70° C. and wound in a substantially unstretched state to prepare a substrate film for transfer decoration.

上記の得られた各転写加飾用基体フィルムについて、以下の物性を測定し、評価した。 The following physical properties of each of the obtained base films for transfer decoration were measured and evaluated.

<破断伸度(%)>
引張試験機(株式会社島津製作所製オートグラフAG-X500N)を90℃に設定した。転写加飾用基体フィルムのサンプルを幅10mm・長さ50mm・標線間距離40mmにカットし、200mm/minの速度で引張試験した際の破断伸度を測定した。
<Elongation at break (%)>
A tensile tester (Autograph AG-X500N manufactured by Shimadzu Corporation) was set at 90°C. A sample of the base film for transfer decoration was cut into a width of 10 mm, a length of 50 mm, and a distance between marked lines of 40 mm, and a breaking elongation was measured when a tensile test was performed at a speed of 200 mm/min.

表中、MDは転写加飾用基体フィルムを作製した時の樹脂の流れ方向の破断強度を示し、TDは転写加飾用基体フィルムを作製した時の樹脂の幅方向の破断強度を示す。 In the table, MD represents the breaking strength of the resin in the flow direction when the transfer decorating base film was manufactured, and TD represents the breaking strength of the resin in the width direction when the transfer decorating base film was manufactured.

これは、真空成型時の転写加飾用基体フィルムの成型品に対する凹凸追従性を確認する試験である。表中の90℃は真空成型時の加熱温度であり、その温度で600%以上の破断伸度を有すれば、真空成型法において優れた転写加飾用基体フィルムである。 This is a test for confirming the conformability of the base film for transfer decoration during vacuum forming to the formed product. 90° C. in the table is a heating temperature at the time of vacuum forming, and if it has a breaking elongation of 600% or more at that temperature, it is an excellent substrate film for transfer decoration in the vacuum forming method.

真空成型時の加熱温度が90℃まで下げられることは、低温での真空成型を意味する。よって、転写加飾用基体フィルムがその温度で破断伸度が良好であれば、低温条件の真空成型法で、成型品に対する追従性(凹凸追従性)が良好といえる。成型品に対して、低温条件で三次元真空成型により加飾層を貼り付けることができ、加飾成型品の生産効率を高めることができる。 The fact that the heating temperature during vacuum forming can be lowered to 90°C means vacuum forming at a low temperature. Therefore, if the base film for transfer decoration has a good breaking elongation at that temperature, it can be said that the followability (concavo-convex followability) with respect to the molded product is good by the vacuum forming method under low temperature conditions. The decorative layer can be attached to the molded product by three-dimensional vacuum molding under low temperature conditions, and the production efficiency of the decorative molded product can be increased.

<TMA変位量>
JIS K7197を準拠して以下の条件で測定した。なお、TMA変位量が小さければ、基体フィルムを加飾フィルムへ加工する際の乾燥工程時の熱変形が小さいことを意味する。
<TMA displacement>
It was measured under the following conditions in accordance with JIS K7197. If the TMA displacement is small, it means that the thermal deformation during the drying step when processing the base film into the decorative film is small.

TMA変位量の評価基準は次の通りである。 The evaluation criteria for TMA displacement are as follows.

○:TMA変位量が10%以下である場合
×:TMA変位量が10%を超えた場合
○: When the TMA displacement amount is 10% or less ×: When the TMA displacement amount exceeds 10%

[測定条件]
装置:ティー・エイ・インスツルメント社製 TMA Q400
引張モード
サンプル:標線長さ24mm、幅5mmの短冊
荷重:0.5N
昇温温度:10℃/min
85℃部分の変位を測定
[Measurement condition]
Equipment: TA Instruments TMA Q400
Tension mode Sample: Strip length 24mm, width 5mm strip load: 0.5N
Temperature rise: 10℃/min
Measure the displacement at 85℃

<ドローダウン量>
100mm×100mmの開口部に転写加飾用基体フィルムをセットし、IRヒーターにてフィルムの温度が130℃となるように加熱した。加熱後、90秒後のフィルムの自重垂れ下がり距離を測定した。
<Drawdown amount>
A substrate film for transfer decoration was set in an opening of 100 mm×100 mm, and heated by an IR heater so that the temperature of the film became 130° C. After heating for 90 seconds, the self-weight sag distance of the film was measured.

ドローダウン量の評価基準は次の通りである。 The evaluation criteria for the drawdown amount are as follows.

○:ドローダウン量が14mm以下である場合
×:ドローダウン量が14mmを超えた場合
○: When the drawdown amount is 14 mm or less ×: When the drawdown amount exceeds 14 mm

図1にドローダウン量の測定方法を記載した。 FIG. 1 shows the method for measuring the drawdown amount.

評価結果を表1及び表2に示す。 The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.

<実施例7〜16及び比較例7〜10(表面層/中間層/裏面層からなる多層構造)>
表3及び表4に示す各層の樹脂成分及びその含有割合となるように、各スクリュー式押出機に供給し、次いで180〜260℃で多層Tダイからフィルム状に押出した。次いでこれを30〜70℃の冷却ロ−ルに通しながら冷却して、実質的に無延伸の状態で巻き取って、転写加飾用基体フィルムを調製した。
<Examples 7 to 16 and Comparative Examples 7 to 10 (multilayer structure including front surface layer/intermediate layer/back surface layer)>
The resin components and the content ratios of the respective layers shown in Tables 3 and 4 were supplied to each screw type extruder, and then extruded in a film form from a multilayer T die at 180 to 260°C. Then, this was cooled while passing through a cooling roll of 30 to 70° C. and wound in a substantially unstretched state to prepare a substrate film for transfer decoration.

得られた各転写加飾用基体フィルムについて、上記の物性を測定し、評価した。 With respect to each of the obtained transfer decorative substrate films, the above physical properties were measured and evaluated.

評価結果を表3及び4に示す。 The evaluation results are shown in Tables 3 and 4.

Claims (3)

転写加飾用基体フィルムであって、
フィルムの総質量に対し、5〜60質量%のアイオノマー樹脂、及び、40〜95質量%の熱可塑性樹脂を含み、
前記アイオノマー樹脂は、オレフィン系アイオノマー樹脂であり、
前記熱可塑性樹脂は、プロピレン単独重合体、プロピレン・エチレンランダム共重合体、プロピレン・α-オレフィンランダム共重合体、及び、プロピレンブロック共重合体から成る群から選ばれる少なくとも1種の熱可塑性樹脂である、
転写加飾用基体フィルム。
A base film for transfer decoration, comprising:
Based on the total mass of the film, containing 5 to 60 mass% ionomer resin , and 40 to 95 mass% thermoplastic resin,
The ionomer resin is an olefinic ionomer resin,
The thermoplastic resin is at least one thermoplastic resin selected from the group consisting of propylene homopolymer, propylene/ethylene random copolymer, propylene/α-olefin random copolymer, and propylene block copolymer. is there,
Substrate film for transfer decoration.
前記オレフィン系アイオノマー樹脂は、オレフィンと不飽和カルボン酸とを構成単位とする共重合体である、請求項1に記載の転写加飾用基体フィルム。 The transfer decorating base film according to claim 1, wherein the olefin-based ionomer resin is a copolymer having an olefin and an unsaturated carboxylic acid as constitutional units . 前記オレフィンは、エチレン、及びプロピレンから選ばれるものであり、前記該不飽和カルボン酸は、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、及び(メタ)アクリル酸オクチルから選ばれるメタクリル酸アルキルエステルである、請求項2に記載の転写加飾用基体フィルム。The olefin is selected from ethylene and propylene, and the unsaturated carboxylic acid is (meth)acrylic acid, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, And the base film for transfer decoration according to claim 2, which is an methacrylic acid alkyl ester selected from octyl (meth)acrylate.
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