JP6747328B2 - Substrate processing equipment - Google Patents

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JP6747328B2 JP2017023415A JP2017023415A JP6747328B2 JP 6747328 B2 JP6747328 B2 JP 6747328B2 JP 2017023415 A JP2017023415 A JP 2017023415A JP 2017023415 A JP2017023415 A JP 2017023415A JP 6747328 B2 JP6747328 B2 JP 6747328B2
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Description

本発明は、基材を処理する基材処理装置に関する。 The present invention relates to a base material processing device for processing a base material.

一般に、各種の機器に備え付けられた画像表示装置（液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等）の前面には、カバーガラスが設けられる。このカバーガラスには、平板状のガラス板が多く採用されている。しかし、画像表示装置をデザイン性や意匠性等を重視する箇所に設置する場合、カバーガラスの形状を一部又は全体が曲面形状を有する形状にして、周囲部材との調和を図りたい要望がある。このような曲面形状を有する屈曲ガラス板は、一般にガラス平板を曲げ成形する成形工程により得られる。また、屈曲ガラス板は、印刷工程を経ることで印刷層が形成される場合もある。
ところで、屈曲ガラス板の製造工程においては、板表面に粉塵や油分が付着することが生じ得る。この付着物は、印刷工程等の後工程で製品品質を低下させる要因になる場合がある。そのため、成形した屈曲ガラス板を洗浄して、屈曲ガラス板の付着物を除去する工程が製造工程に必要となる。
そこで、屈曲ガラス板を自動洗浄する技術が従来より提案されている（特許文献１、２参照）。特許文献１には、異なる形状を持つ直線ブラシ、ロールブラシ、カップブラシ等の複数のブラシ組立体を、それぞれ異なる方向へ駆動することで機械的に液晶基板を洗浄する装置が開示されている。また、特許文献２には、搬送機構により基板が搬送される際に、ワイピングクロス等を用いて基板の一方の面を機械的に洗浄する洗浄機構が開示されている。 Generally, a cover glass is provided on the front surface of an image display device (a liquid crystal display, an organic EL display, etc.) installed in various devices. A flat glass plate is often used as the cover glass. However, when the image display device is installed in a place where designability, designability, etc. are important, there is a demand to make the shape of the cover glass partly or wholly curved so as to be in harmony with surrounding members. .. The bent glass plate having such a curved shape is generally obtained by a forming step of forming a flat glass plate by bending. In addition, a printed layer may be formed on the bent glass plate by a printing process.
By the way, in the manufacturing process of a bent glass plate, dust or oil may adhere to the plate surface. This adhered substance may be a factor that deteriorates product quality in a post process such as a printing process. Therefore, a step of cleaning the formed bent glass plate to remove the deposits on the bent glass plate is required in the manufacturing process.
Therefore, a technique for automatically cleaning a bent glass plate has been conventionally proposed (see Patent Documents 1 and 2). Patent Document 1 discloses a device for mechanically cleaning a liquid crystal substrate by driving a plurality of brush assemblies such as a linear brush, a roll brush, and a cup brush having different shapes in different directions. Further, Patent Document 2 discloses a cleaning mechanism that mechanically cleans one surface of a substrate using a wiping cloth or the like when the substrate is transported by the transport mechanism.

特許第４３７３９０５号公報Patent No. 4373905 特開２０１５−１９１９６３号公報JP, 2005-191963, A

上記した特許文献１，２に開示された技術によれば、工数を抑えてガラス平板を洗浄できるが、屈曲ガラス板の屈曲した部位の表面を均一に洗浄することは困難である。特に、屈曲ガラス板の屈曲部が比較的小さな曲率半径を有する場合や、屈曲部が大きな曲率半径を有するが屈曲ガラス板自体が大型である場合等では、回転ブラシを洗浄すべき表面に均一に接触させることが難しく、屈曲ガラス板を機械的に均一に洗浄することは困難であった。また、同様の問題は、屈曲ガラス板の表面を研磨する場合にも生じ得る。 According to the techniques disclosed in Patent Documents 1 and 2 described above, the glass flat plate can be cleaned with a reduced number of steps, but it is difficult to uniformly clean the surface of the bent portion of the bent glass plate. In particular, when the bent portion of the bent glass plate has a relatively small radius of curvature, or when the bent portion has a large radius of curvature but the bent glass plate itself is large, etc., the rotating brush should be uniformly applied to the surface to be cleaned. It was difficult to bring them into contact with each other, and it was difficult to mechanically wash the bent glass plate uniformly. Further, the same problem may occur when polishing the surface of the bent glass plate.

そこで本発明は、少なくとも一部に屈曲部を有する基材を均一に処理できる基材処理装置の提供を目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a base material processing apparatus capable of uniformly processing a base material having a bent portion in at least a part thereof.

本発明は、下記の構成からなる。
少なくとも一部に屈曲部を有した基材を支持する基材支持部と、
前記基材支持部に前記基材を搬入し、前記基材支持部に支持された前記基材を搬出する基材搬送部と、
軸線方向に連通孔が形成された中空軸の先端に設けられ、前記基材を処理するツール、及び前記中空軸を回転駆動するモータが搭載された加工ヘッドと、
前記中空軸を通じて前記ツールに処理液を供給する処理液供給部と、
複数のアーム部材が関節を介して互いに相対回転可能に連設された多関節アームの先端部に、前記加工ヘッドが着脱自在に取り付けられた多軸ロボットと、
前記多軸ロボットを駆動して、前記基材の被処理面の法線方向に対する前記ツールの前記中空軸の傾斜角度を保持しながら、前記加工ヘッドを前記基材の表面に沿って移動させるコントローラと、
を備える基材処理装置。 The present invention has the following configurations.
A base material supporting portion that supports a base material having a bent portion at least in part,
A base material carrying section that carries in the base material into the base material supporting portion and carries out the base material supported by the base material supporting portion,
A processing head provided at the tip of a hollow shaft having a communication hole formed in the axial direction, a tool for processing the substrate, and a processing head equipped with a motor for rotationally driving the hollow shaft,
A processing liquid supply unit that supplies the processing liquid to the tool through the hollow shaft,
A multi-axis robot in which the processing head is detachably attached to the tip end of a multi-joint arm in which a plurality of arm members are connected to each other so that they can rotate relative to each other through joints,
A controller that drives the multi-axis robot to move the processing head along the surface of the base material while maintaining the inclination angle of the hollow shaft of the tool with respect to the normal direction of the surface to be processed of the base material. When,
A substrate processing apparatus including.

本発明の基材処理装置によれば、少なくとも一部に屈曲部を有する基材の表面を均一に処理できる。 According to the substrate processing apparatus of the present invention, it is possible to uniformly process the surface of the substrate having the bent portion at least in part.

第１構成例の基材洗浄装置の概略的な全体構成図である。It is a schematic whole block diagram of the base material cleaning apparatus of the example of a 1st structure. 図１に示す洗浄槽の拡大断面図である。It is an expanded sectional view of the washing tank shown in FIG. 多軸ロボットとコントローラの構成図である。It is a block diagram of a multi-axis robot and a controller. 加工ヘッドの構成を示す側面図である。It is a side view which shows the structure of a processing head. 加工ヘッドのツール保持部周辺を拡大して示す軸方向断面図である。It is an axial sectional view which expands and shows the tool holding part periphery of a processing head. ツール保持部の分解斜視図である。It is an exploded perspective view of a tool holding part. ツールを単体で示す断面図である。It is sectional drawing which shows a tool alone. ツールの他の構成例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other structural example of a tool. 多軸ロボットの先端部に着脱自在に取り付けられる基材吸着ヘッドの正面図である。It is a front view of a substrate adsorption head detachably attached to the tip of a multi-axis robot. （Ａ）〜（Ｅ）は、基材洗浄装置による洗浄工程の動作を段階的に示す概略的な工程説明図である。(A)-(E) is a schematic process explanatory drawing which shows operation|movement of the washing|cleaning process by a base material washing|cleaning device in steps. 屈曲ガラス板の洗浄工程の様子を概略的に示す工程説明図である。It is process explanatory drawing which shows the state of the cleaning process of a bending glass plate schematically. （Ａ）〜（Ｄ）は、洗浄工程後の屈曲ガラス板をカセットへ収容する手順を段階的に示す工程説明図である。(A)-(D) is process explanatory drawing which shows the procedure of accommodating the bending glass plate after a washing process in a cassette in steps. 洗浄工程の後工程となるリンス工程を示す工程説明図である。It is process explanatory drawing which shows the rinse process which becomes a post process of a washing process. （Ａ）〜（Ｃ）は屈曲ガラス板の断面図である。(A)-(C) is sectional drawing of a bending glass plate. 上面を屈曲ガラス板の屈曲形状に沿った凹面状とした台座の断面図である。It is sectional drawing of the pedestal which made the upper surface the concave shape according to the bending shape of the bending glass plate. ２方向以上に屈曲した屈曲ガラス板の斜視図である。It is a perspective view of the bending glass plate bent in two or more directions. 第２構成例の基材洗浄装置の概略的な全体構成図である。It is a schematic whole block diagram of the base material washing|cleaning apparatus of the example of a 2nd structure. 基材反転機構を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows the base material reversal mechanism typically. （Ａ）〜（Ｃ）は基材反転機構の動作を段階的に示す動作説明図である。(A)-(C) is operation|movement explanatory drawing which shows operation|movement of a base material reversal mechanism in steps. （Ａ）〜（Ｄ）は基材反転機構を用いて屈曲ガラス板の裏面を洗浄する工程の工程説明図である。(A)-(D) is process explanatory drawing of the process of cleaning the back surface of a bending glass plate using a base material reversal mechanism. 第３構成例の基材洗浄装置であって、基材支持機構を備えた加工ヘッドの要部を示す側面図である。It is a base material cleaning apparatus of a 3rd structural example, It is a side view which shows the principal part of the processing head provided with the base material support mechanism. 図２１に示す加工ヘッドの要部を示す正面図である。It is a front view which shows the principal part of the processing head shown in FIG. 第４構成例の基材洗浄装置であって、基材支持機構を備えた加工ヘッドの要部を示す側面図である。It is a base material washing|cleaning apparatus of the 4th structural example, It is a side view which shows the principal part of the processing head provided with the base material support mechanism. 第５構成例の基材洗浄装置の概略的な全体構成図である。It is a schematic whole block diagram of the base material cleaning apparatus of the 5th example of a structure. 第５構成例の基材洗浄装置の概略的な全体構成図である。It is a schematic whole block diagram of the base material cleaning apparatus of the 5th example of a structure.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。以下の実施形態においては、基材処理装置を、基材を洗浄する基材洗浄装置として説明するが、本発明はこれに限らない。例えば、研磨や研削等の他の処理を実施する装置であってもよい。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following embodiments, the base material processing apparatus is described as a base material cleaning apparatus for cleaning the base material, but the present invention is not limited to this. For example, it may be an apparatus that performs other processing such as polishing or grinding.

＜第１構成例＞
まず、基材洗浄装置の第１構成例を説明する。
図１は第１構成例の基材洗浄装置１００の概略的な全体構成図である。
本構成の基材洗浄装置１００は、基材支持部を有する基材処理部１１と、後述する基材搬送部としても機能する多軸ロボット１３と、多軸ロボット１３に取り付けられ、ツール１７及びツール１７を回転駆動するモータが搭載された加工ヘッド１５と、洗浄液をツール１７に供給する処理液供給部としての洗浄液循環部２８と、多軸ロボット１３に接続されたコントローラ２０と、を備える。 <First configuration example>
First, a first configuration example of the substrate cleaning device will be described.
FIG. 1 is a schematic overall configuration diagram of a substrate cleaning apparatus 100 of the first configuration example.
The base material cleaning device 100 having this configuration is attached to the base material processing unit 11 having a base material support unit, a multi-axis robot 13 that also functions as a base material transfer unit described later, and the multi-axis robot 13, and is equipped with a tool 17 and a tool 17. The processing head 15 is provided with a motor that drives the tool 17 to rotate, a cleaning liquid circulating unit 28 as a processing liquid supply unit that supplies a cleaning liquid to the tool 17, and a controller 20 connected to the multi-axis robot 13.

基材洗浄装置１００は、屈曲ガラス板３５を基材処理部１１の基材支持部２３ａに支持させた状態で、コントローラ２０が多軸ロボット１３を駆動して、加工ヘッド１５のツール１７を回転させながら屈曲ガラス板３５を洗浄する。このとき、洗浄液循環部２８は、洗浄液１９をツール１７から屈曲ガラス板３５に供給し、屈曲ガラス板３５に洗浄液を掛けながら洗浄する。 In the substrate cleaning apparatus 100, the controller 20 drives the multi-axis robot 13 to rotate the tool 17 of the processing head 15 in a state where the bent glass plate 35 is supported by the substrate supporting portion 23a of the substrate processing unit 11. The bent glass plate 35 is washed while being performed. At this time, the cleaning liquid circulating unit 28 supplies the cleaning liquid 19 from the tool 17 to the bent glass plate 35 and cleans the bent glass plate 35 while applying the cleaning liquid.

洗浄対象である屈曲ガラス板３５は、カセット１８内に一枚毎に収容された状態で供される。ここでは、処理対象となる基材として、屈曲部を有する屈曲ガラス板３５を例示するが、基材材質はセラミックス、樹脂、金属等であってもよい。基材がガラスである場合は、ポリカーボネートやアクリルなどの有機ガラスや、無色透明の非晶質ガラスの他、結晶化ガラスや色ガラス等が使用できる。また、上記ガラスとしては、無機ガラスが好ましい。無機ガラスは、アクリル樹脂やポリカーボネート等の有機ガラスに比べ、高硬度で、且つ、透明度が低下しにくい特徴がある。 The bent glass plate 35 to be cleaned is provided in a state of being housed in the cassette 18 one by one. Here, the bent glass plate 35 having a bent portion is exemplified as the base material to be treated, but the base material may be ceramics, resin, metal or the like. When the substrate is glass, organic glass such as polycarbonate and acrylic, colorless and transparent amorphous glass, and crystallized glass and colored glass can be used. Further, as the above glass, inorganic glass is preferable. Inorganic glass is characterized by higher hardness and less deterioration in transparency than organic glass such as acrylic resin or polycarbonate.

なお、具体的なガラス素材としては、例えば、無アルカリガラス、ソーダライムガラス、ソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、ボロンシリケートガラス、リチウムアルミノシリケートガラス、ホウケイ酸ガラスが挙げられる。例えば、厚さが薄くても強化処理によって大きな応力が入りやすく、薄くても高強度なガラスが得られる、アルミノシリケートガラスの使用が好ましいが、これに限らない。 Specific examples of glass materials include non-alkali glass, soda lime glass, soda lime silicate glass, aluminosilicate glass, boron silicate glass, lithium aluminosilicate glass, and borosilicate glass. For example, it is preferable to use aluminosilicate glass, which can give a large stress due to the strengthening treatment even if the thickness is thin, and can obtain a glass having high strength even if it is thin, but not limited to this.

ここで、本明細書における「屈曲」とは、基材の一部又は全体が、単一又は複数の曲率半径の曲面形状を有することを意味する。 Here, "bending" in the present specification means that a part or the whole of the base material has a curved surface shape with a single or a plurality of curvature radii.

以下、基材洗浄装置１００の各部構成を順次に説明する。
（基材処理部）
基材処理部１１は、洗浄槽（処理液槽）２１と、台座２３と、保護壁２４と、洗浄液循環部２８とを有する。 Hereinafter, the configuration of each part of the substrate cleaning apparatus 100 will be sequentially described.
(Substrate processing part)
The base material processing unit 11 includes a cleaning tank (processing liquid tank) 21, a pedestal 23, a protective wall 24, and a cleaning liquid circulating unit 28.

洗浄槽２１は、洗浄液（処理液）１９を内部に貯留する。台座２３は、洗浄槽２１内に設置され、その上面の基材支持部２３ａで屈曲ガラス板３５を支持する。保護壁２４は、台座２３の周囲を囲んで配置され、台座２３に支持された屈曲ガラス板３５の移動や落下を規制する。 The cleaning tank 21 stores the cleaning liquid (treatment liquid) 19 inside. The pedestal 23 is installed in the cleaning tank 21, and supports the bent glass plate 35 by the base material support portion 23a on the upper surface thereof. The protective wall 24 is arranged so as to surround the pedestal 23 and regulates the movement and fall of the bent glass plate 35 supported by the pedestal 23.

洗浄液循環部２８は、洗浄槽２１の底部から洗浄液１９を排出する排出路２５と、排出された洗浄液１９を受ける回収容器２６と、回収容器２６に回収された洗浄液１９を加工ヘッド１５に向けて圧送する送液部であるポンプ２９と、ポンプ２９から圧送される洗浄液１９を加工ヘッド１５まで導く配管２７と、を有する。配管２７の途中には、異物を除去するマグネットフィルタや糸巻きフィルタ等のフィルタ３１、及び流量計３３が配置される。また、排出路２５の途中にはバルブ３０が設けられ、洗浄槽２１内の洗浄液１９の液位が一定になるように調整される。 The cleaning liquid circulation unit 28 directs the discharge passage 25 for discharging the cleaning liquid 19 from the bottom of the cleaning tank 21, a collection container 26 for receiving the discharged cleaning liquid 19, and the cleaning liquid 19 collected in the collection container 26 toward the processing head 15. It has a pump 29 which is a liquid feeding part for feeding under pressure, and a pipe 27 for guiding the cleaning liquid 19 fed under pressure from the pump 29 to the processing head 15. In the middle of the pipe 27, a filter 31 such as a magnet filter or a wound filter for removing foreign matter, and a flow meter 33 are arranged. Further, a valve 30 is provided in the middle of the discharge path 25, and the level of the cleaning liquid 19 in the cleaning tank 21 is adjusted to be constant.

上記構成の洗浄液循環部２８によれば、一旦洗浄に供された洗浄液１９を再利用する循環系が形成され、洗浄液１９の消費を抑制し、ランニングコストを低減できる。なお、処理液供給部は、上記のような循環系以外にも、未使用の洗浄液をツール１７に供給する構成としてもよい。 According to the cleaning liquid circulating unit 28 having the above-described configuration, a circulation system that reuses the cleaning liquid 19 once used for cleaning is formed, so that the consumption of the cleaning liquid 19 can be suppressed and the running cost can be reduced. The processing liquid supply unit may be configured to supply an unused cleaning liquid to the tool 17 in addition to the circulation system as described above.

図２は図１に示す洗浄槽２１の拡大断面図である。図２においては、屈曲ガラス板３５を台座２３上に載置した状態を示している。台座２３は、その上面に屈曲ガラス板３５の表面形状に沿った表面形状の基材支持部２３ａを有する。好ましくは、基材支持部２３ａの上面に、柔軟性及びクッション性を有するクッション材３９が配置される。クッション材３９を介して屈曲ガラス板３５を支持することで、屈曲ガラス板３５の傷付き防止効果が得られる。また、クッション材３９が自己吸着性を有していれば、基材支持部２３ａとの滑り止め効果が得られる。 FIG. 2 is an enlarged sectional view of the cleaning tank 21 shown in FIG. In FIG. 2, the bent glass plate 35 is shown mounted on the pedestal 23. The pedestal 23 has, on its upper surface, a base material support portion 23a having a surface shape that follows the surface shape of the bent glass plate 35. Preferably, a cushion material 39 having flexibility and cushioning property is arranged on the upper surface of the base material support portion 23a. By supporting the bent glass plate 35 through the cushion material 39, an effect of preventing the bent glass plate 35 from being scratched can be obtained. Further, if the cushion material 39 has a self-adhesive property, an effect of preventing slippage with the base material supporting portion 23a can be obtained.

このクッション材３９としては、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）製スポンジ、布、ゴム等が用いられる。この他にも、ガラスへの攻撃性が少ない、ガラスよりも低硬度の材質ものであれば利用できる。また、基材支持部２３ａは、真空吸引により基材を吸着させる負圧吸着機構等を有してもよい。その場合、屈曲ガラス板３５を確実に台座２３に固定でき、洗浄時に屈曲ガラス板３５に作用する外力が強まっても屈曲ガラス板３５のずれや外れがより生じにくくなる。 As the cushion material 39, for example, polyvinyl alcohol (PVA) sponge, cloth, rubber or the like is used. In addition to this, any material that has less aggressiveness to glass and lower hardness than glass can be used. In addition, the base material support portion 23a may have a negative pressure adsorption mechanism or the like that adsorbs the base material by vacuum suction. In that case, the bent glass plate 35 can be reliably fixed to the pedestal 23, and even if the external force acting on the bent glass plate 35 is increased during cleaning, the bent glass plate 35 is less likely to be displaced or come off.

保護壁２４は、洗浄槽２１の底部に立設され、洗浄液１９の液位よりも高くなるように台座２３を囲んで配置される。この保護壁２４は、台座２３上に供給された屈曲ガラス板３５が、台座２３への固定前後の過渡状態で、台座２３から滑り落ちようとする際に、屈曲ガラス板３５の端部を支持する。これにより、屈曲ガラス板３５の破損が未然に防止される。なお、保護壁２４は、ガラスに当接しても破損させない樹脂材料等で構成され、複数枚の板状部材である他、棒状であってもよい。 The protection wall 24 is erected on the bottom of the cleaning tank 21, and is arranged so as to surround the pedestal 23 so as to be higher than the liquid level of the cleaning liquid 19. The protective wall 24 supports the end portion of the bent glass plate 35 when the bent glass plate 35 supplied onto the pedestal 23 tries to slide off the pedestal 23 in a transitional state before and after being fixed to the pedestal 23. To do. This prevents damage to the bent glass plate 35. The protective wall 24 is made of a resin material or the like that does not damage even if it comes into contact with the glass, and may be a rod-shaped member as well as a plurality of plate-shaped members.

なお、洗浄槽２１内に貯留された洗浄液１９の液面は、台座２３に上側を凸状にして保持された屈曲ガラス板３５の周縁が浸る程度の高さに調整されることが好ましい。これにより、クッション材３９は、少なくとも一部が常に洗浄液１９により浸かった状態になるため、基材支持部２３ａとの密着性が向上し、屈曲ガラス板３５の滑り止め効果が向上する。 The liquid level of the cleaning liquid 19 stored in the cleaning tank 21 is preferably adjusted to such a height that the peripheral edge of the bent glass plate 35 held by the pedestal 23 with its upper side convex is immersed. As a result, at least a part of the cushion material 39 is always immersed in the cleaning liquid 19, so that the adhesiveness with the base material support portion 23a is improved and the anti-slip effect of the bent glass plate 35 is improved.

（多軸ロボット）
図３は多軸ロボット１３とコントローラ２０の構成図である。
多軸ロボット１３は、床面に設置される基台４３、基台４３に対して旋回自在な旋回台４５、第１アーム４７及び第２アーム５１、手首旋回部５３、先端部５５を備える。 (Multi-axis robot)
FIG. 3 is a configuration diagram of the multi-axis robot 13 and the controller 20.
The multi-axis robot 13 includes a base 43 installed on the floor, a swivel base 45 that can swivel with respect to the base 43, a first arm 47 and a second arm 51, a wrist swivel unit 53, and a tip 55.

第１アーム４７は、旋回台４５に対して関節４６を介して揺動自在に取り付けられる。第２アーム５１は、第１アーム４７に対して関節４９を介して揺動自在に連結される。手首旋回部５３は、第２アーム５１の先端に回転自在に連結される。先端部５５は、手首旋回部５３に揺動自在且つ回転自在であり、後述する加工ヘッド１５（図１参照）が取り付けられる。 The first arm 47 is swingably attached to the swivel base 45 via a joint 46. The second arm 51 is swingably connected to the first arm 47 via a joint 49. The wrist turning portion 53 is rotatably connected to the tip of the second arm 51. The tip portion 55 is swingable and rotatable on the wrist turning portion 53, and a processing head 15 (see FIG. 1) described later is attached to the wrist turning portion 53.

つまり、多軸ロボット１３は、複数のアーム部材が関節を介して互いに相対回転可能に連設された多関節アームを有し、多関節アームの先端部に、加工ヘッド１５が着脱自在に取り付けられる。 That is, the multi-axis robot 13 has a multi-joint arm in which a plurality of arm members are connected to each other so that they can rotate relative to each other through joints, and the machining head 15 is detachably attached to the tip of the multi-joint arm. ..

多軸ロボット１３は、上記した６軸の自由度を有する６軸ロボットである他にも、他の構成の多軸ロボットで構成してもよい。 The multi-axis robot 13 may be a multi-axis robot having other configurations besides the above-described 6-axis robot having the six degrees of freedom.

多軸ロボット１３を駆動するコントローラ２０は、入力部５７、表示部５９、記憶部６１、及び基材洗浄装置の全体を統合制御する制御部６３と、を有する。 The controller 20 that drives the multi-axis robot 13 includes an input unit 57, a display unit 59, a storage unit 61, and a control unit 63 that integrally controls the entire substrate cleaning apparatus.

入力部５７は、操作者からの入力を受け付け、多軸ロボット１３に所望の洗浄動作を実施させる。記憶部６１には、多軸ロボット１３を予めティーチングした位置や方向に移動させる移動手順や洗浄手順等の情報が記録された駆動プログラム、屈曲ガラス板３５の形状に関する個体情報等が記録された加工対象データ等が記憶されていてもよい。即ち、表示部５９は、記憶部６１に記憶された駆動プログラムのリストやプログラム内容、洗浄対象物のデータ、多軸ロボット１３の姿勢等の情報を表示する。操作者は、表示部５９に表示された内容を参照して、入力部５７を介して所望の駆動プログラム等を入力する。このようにして、コンピュータ支援製造（ＣＡＭ）に基づいたロボット駆動を実現できる。 The input unit 57 receives an input from the operator and causes the multi-axis robot 13 to perform a desired cleaning operation. In the storage unit 61, a processing program in which information such as a moving procedure for moving the multi-axis robot 13 to a previously taught position or direction and a cleaning procedure is recorded, individual information regarding the shape of the bent glass plate 35, etc. Target data and the like may be stored. That is, the display unit 59 displays information such as a list of drive programs and program contents stored in the storage unit 61, data of the cleaning object, and the attitude of the multi-axis robot 13. The operator refers to the content displayed on the display unit 59 and inputs a desired drive program or the like via the input unit 57. In this way, a computer-aided manufacturing (CAM) based robot drive can be realized.

（加工ヘッド）
図４は加工ヘッド１５の構成を示す側面図である。加工ヘッド１５は、多軸ロボット１３の先端部５５（図３参照）に着脱自在に支持される筐体６７と、筐体６７の側面に固定されるモータ６５と、筐体６７の下方に設けられ、ツール１７を着脱自在に保持するツール保持部７１と、筐体６７の上方に設けられたロータリージョイント６９と、を備える。 (Processing head)
FIG. 4 is a side view showing the configuration of the processing head 15. The processing head 15 is provided below the housing 67, a housing 67 that is detachably supported by the tip portion 55 (see FIG. 3) of the multi-axis robot 13, a motor 65 that is fixed to a side surface of the housing 67, and a housing 67. And a tool holding portion 71 that holds the tool 17 in a detachable manner, and a rotary joint 69 provided above the housing 67.

モータ６５と筐体６７は、中空軸モータを構成し、筐体６７の内部には、図中点線で示す中空駆動軸７７が配置される。中空駆動軸７７にはインナーチューブ７３が、ロータリージョイント６９と筐体６７とツール保持部７１を貫通して設けられる。この中空駆動軸７７は、下方の軸方向一端がツール保持部７１が連結され、モータ６５からの回転を、かさ歯車７５，７９を介してツール保持部７１に伝達する。また、中空駆動軸７７の軸方向他端は、ロータリージョイント６９の一端部に接続される。ロータリージョイント６９の他端部には、洗浄液を供給する配管２７が接続される。なお、上記中空軸モータの構成は一例であって、これに限らない。 The motor 65 and the casing 67 form a hollow shaft motor, and inside the casing 67, a hollow drive shaft 77 shown by a dotted line in the drawing is arranged. An inner tube 73 is provided on the hollow drive shaft 77 so as to pass through the rotary joint 69, the housing 67, and the tool holding portion 71. The hollow drive shaft 77 has a lower axial end connected to the tool holding portion 71, and transmits the rotation from the motor 65 to the tool holding portion 71 via the bevel gears 75 and 79. The other axial end of the hollow drive shaft 77 is connected to one end of the rotary joint 69. A pipe 27 for supplying the cleaning liquid is connected to the other end of the rotary joint 69. The configuration of the hollow shaft motor is an example, and the present invention is not limited to this.

ロータリージョイント６９の一端部からツール保持部７１、及びツール保持部７１に支持されたツール１７は、インナーチューブ７３を中心に一体に回転駆動される。また、配管２７から供給される洗浄液は、インナーチューブ７３を通じてツール１７に供される。洗浄液が水又はアルカリ洗剤等の場合は、ロータリージョイント６９を通じて洗浄液をツール１７へ供給すればよいが、スラリー洗浄（研磨）の場合には、ロータリージョイント６９を介さず供給する。その場合、洗浄液をツール１７へ直接供給する洗浄液供給路を別途に設ければよい。 The tool holding portion 71 from one end of the rotary joint 69 and the tool 17 supported by the tool holding portion 71 are integrally driven to rotate about the inner tube 73. The cleaning liquid supplied from the pipe 27 is supplied to the tool 17 through the inner tube 73. When the cleaning liquid is water or an alkaline detergent, the cleaning liquid may be supplied to the tool 17 through the rotary joint 69, but in the case of slurry cleaning (polishing), the cleaning liquid is supplied without passing through the rotary joint 69. In that case, a cleaning liquid supply path for directly supplying the cleaning liquid to the tool 17 may be provided separately.

図５は加工ヘッド１５のツール保持部７１周辺を拡大して示す軸方向断面図、図６はツール保持部７１の分解斜視図、図７はツールを単体で示す断面図である。
ツール保持部７１は、軸方向基端（図５の上側）が加工ヘッド１５の筐体６７に接続され、軸方向先端（図５の下側）にツール１７が支持される。ツール保持部７１は、インナーチューブ７３を軸中心として配置され、軸方向基端の筐体６７側から、ガイドパイプ７６と、ガイドパイプ７６の筐体６７側における基端部の外周側に、転がり軸受８１を介して筐体６７側に支持された筐体側スリーブ８０と、弾性部材であるコイルばね８７と、ガイドパイプ７６の先端部に転がり軸受９１を介して取り付けられる先端側スリーブ８９と、を備える。 FIG. 5 is an enlarged axial sectional view showing the periphery of the tool holding portion 71 of the processing head 15, FIG. 6 is an exploded perspective view of the tool holding portion 71, and FIG. 7 is a sectional view showing the tool alone.
The tool holding portion 71 has an axial base end (upper side in FIG. 5) connected to the housing 67 of the processing head 15, and the tool 17 is supported by an axial tip (lower side in FIG. 5). The tool holding portion 71 is arranged with the inner tube 73 as an axial center, and rolls from the housing 67 side at the base end in the axial direction to the guide pipe 76 and the outer peripheral side of the base end portion of the guide pipe 76 on the housing 67 side. A case-side sleeve 80 supported on the case 67 side via a bearing 81, a coil spring 87 as an elastic member, and a tip-side sleeve 89 attached to the tip of the guide pipe 76 via a rolling bearing 91. Prepare

ガイドパイプ７６の先端側外周面には雄ねじ７６ａが形成され、雄ねじ７６ａは先端側スリーブ８９の開口孔８９ａに形成された雌ねじ８９ｂに螺合する。また、ガイドパイプ７６の先端側には軸方向に延びる一対のスリット７６ｂが形成され、スリット７６ｂにツール１７の支持パイプ１７ａの基端側に接合された一対のガイドピン１７ｂが挿入される。支持パイプ１７ａの先端には雄ねじ１７ｃが形成され、雄ねじ１７ｃは、パッド部１７ｄを支持するフランジ１７ｅの中央部に形成された雌ねじ孔１７ｆに螺合される。また、支持パイプ１７ａの基端には、インナーチューブ７３の先端７３ａが嵌入され、洗浄液がインナーチューブ７３から支持パイプ１７ａの連通孔を通じてパッド部１７ｄに供給される。なお、スラリー洗浄の場合、洗浄液をツール１７に直接供給するには、フランジ１７ｅの中央部に開口を設け、この開口を通じてパッド部１７ｄへ洗浄液を供給すればよい。 A male screw 76a is formed on the outer peripheral surface on the tip side of the guide pipe 76, and the male screw 76a is screwed into a female screw 89b formed on the opening hole 89a of the tip sleeve 89. Further, a pair of slits 76b extending in the axial direction are formed on the tip end side of the guide pipe 76, and a pair of guide pins 17b joined to the base end side of the support pipe 17a of the tool 17 are inserted into the slits 76b. A male screw 17c is formed at the tip of the support pipe 17a, and the male screw 17c is screwed into a female screw hole 17f formed in the center of the flange 17e that supports the pad portion 17d. Further, the distal end 73a of the inner tube 73 is fitted into the base end of the support pipe 17a, and the cleaning liquid is supplied from the inner tube 73 to the pad portion 17d through the communication hole of the support pipe 17a. In the case of slurry cleaning, in order to directly supply the cleaning liquid to the tool 17, an opening may be provided at the center of the flange 17e and the cleaning liquid may be supplied to the pad portion 17d through this opening.

上記構成のツール保持部７１は、支持パイプ１７ａに接続された一対のガイドピン１７ｂと、ガイドパイプ７６のスリット７６ｂは、双方が突き当たることでツール１７のツール保持部７１の押し込み限界が設定される。また、先端側スリーブ８９の基端側を臨む端面８９ｃが、一対のガイドピン１７ｂが突き当たることでツール１７のツール保持部７１からの突出限界が設定される。上記した筐体側スリーブ８０、先端側スリーブ８９、ガイドパイプ７６、コイルばね８７は、ガイドピン１７ｂと係合してツール１７を軸方向移動可能に支持するスライド支持部７８を構成する。つまり、ツール１７は、スライド支持部７８によるツール１７のスライド範囲で、コイルばね８７により軸方向に付勢される。 In the tool holding portion 71 having the above-described configuration, the pair of guide pins 17b connected to the support pipe 17a and the slit 76b of the guide pipe 76 are abutted with each other to set the pushing limit of the tool holding portion 71 of the tool 17. .. Further, the end face 89c of the tip-side sleeve 89 facing the base end side is abutted by the pair of guide pins 17b, so that the protrusion limit of the tool 17 from the tool holding portion 71 is set. The housing side sleeve 80, the tip side sleeve 89, the guide pipe 76, and the coil spring 87 described above constitute a slide support portion 78 that engages with the guide pin 17b and supports the tool 17 so as to be movable in the axial direction. That is, the tool 17 is axially biased by the coil spring 87 within the sliding range of the tool 17 by the slide support portion 78.

転がり軸受８１，９１は、ガイドパイプ７６や支持パイプ１７ａの芯振れを防止する。また、インナーチューブガイド８３は、インナーチューブ７３を回転させないようにガイドする。 The rolling bearings 81 and 91 prevent core runout of the guide pipe 76 and the support pipe 17a. Further, the inner tube guide 83 guides the inner tube 73 so as not to rotate.

コイルばね８７は、ツール１７を、ガイドピン１７ｂを介して例えば０．０３〜０．１２Ｐａで筐体６７から離反する方向に付勢する。これにより、ツール１７が屈曲ガラス板３５に押し当てられた際、ツール１７がツール保持部７１に押し込まれ、屈曲ガラス板３５に過剰な垂直面力が作用することを回避できる。 The coil spring 87 urges the tool 17 via the guide pin 17b in a direction away from the housing 67 at 0.03 to 0.12 Pa, for example. Accordingly, when the tool 17 is pressed against the bent glass plate 35, it is possible to prevent the tool 17 from being pressed into the tool holding portion 71 and exerting an excessive vertical surface force on the bent glass plate 35.

（ツール）
図７に示すツール１７は、一対のガイドピン１７ｂが接続され、軸線方向に連通孔を有する支持パイプ１７ａと、支持パイプ１７ａの先端が、ねじにより締結される円形のフランジ１７ｅと、フランジ１７ｅの支持パイプ１７ａ側と反対側に固定された円筒状のパッド部１７ｄと、を有する。パッド部１７ｄは、エステル系ウレタン、エーテル系ウレタン等のスポンジ、又は不織布から形成され、屈曲ガラス板に回転しながら当接して、屈曲ガラス板を洗浄する処理部となる。 (tool)
In the tool 17 shown in FIG. 7, a pair of guide pins 17b are connected to each other, a support pipe 17a having a communication hole in the axial direction, a circular flange 17e in which a tip of the support pipe 17a is fastened with a screw, and a flange 17e. And a cylindrical pad portion 17d fixed to the side opposite to the support pipe 17a. The pad portion 17d is made of sponge such as ester-based urethane, ether-based urethane or the like, or a non-woven fabric, and serves as a processing unit that contacts the bent glass plate while rotating to wash the bent glass plate.

加工ヘッド１５のツール保持部７１にツール１７を装着する際は、図５に示す先端側スリーブ８９をガイドパイプ７６から取り外す。また、ツール１７の支持パイプ１７ａからフランジ１７ｅを取り外す。そして、ツール１７のガイドピン１７ｂをガイドパイプ７６のスリット７６ｂに挿入して、先端側スリーブ８９をガイドパイプ７６に取り付ける。その後、支持パイプ１７ａの先端にフランジ１７ｅを取り付ける。これにより、ガイドピン１７ｂが、コイルばね８７によって先端側スリーブ８９の端面８９ｃに押し当てられた状態で加工ヘッド１５に支持される。なお、異なるツール１７に交換する場合、異なる部材の付いたフランジ１７ｅと交換すると簡単に目的を達成できる。 When the tool 17 is mounted on the tool holding portion 71 of the processing head 15, the tip sleeve 89 shown in FIG. 5 is removed from the guide pipe 76. Further, the flange 17e is removed from the support pipe 17a of the tool 17. Then, the guide pin 17b of the tool 17 is inserted into the slit 76b of the guide pipe 76, and the tip side sleeve 89 is attached to the guide pipe 76. Then, the flange 17e is attached to the tip of the support pipe 17a. As a result, the guide pin 17b is supported by the machining head 15 while being pressed against the end surface 89c of the distal-side sleeve 89 by the coil spring 87. When replacing with a different tool 17, the purpose can be easily achieved by replacing with a flange 17e provided with a different member.

図７に示すように、支持パイプ１７ａは連通孔を内部に有する中空構造であって、パイプ先端がパッド部１７ｄに向けて開口する。これにより、支持パイプ１７ａの連通孔に流れる洗浄液は、先端の開口を通じてパッド部１７ｄに供給される。 As shown in FIG. 7, the support pipe 17a has a hollow structure having a communication hole inside, and the tip of the pipe opens toward the pad portion 17d. As a result, the cleaning liquid flowing in the communication hole of the support pipe 17a is supplied to the pad portion 17d through the opening at the tip.

支持パイプ１７ａのパッド部１７ｄと反対側の基端は、図５に示すようにインナーチューブ７３の先端を内嵌する。インナーチューブ７３は、図４に示すロータリージョイント６９に接続され、支持パイプ１７ａと一体に回転駆動される。 As shown in FIG. 5, the tip end of the inner tube 73 is fitted in the base end of the support pipe 17a opposite to the pad portion 17d. The inner tube 73 is connected to the rotary joint 69 shown in FIG. 4 and is rotationally driven integrally with the support pipe 17a.

図８はツールの他の構成例を示す断面図である。このツール１７Ａは、研磨、研削用として用いられ、前述したスポンジよりも硬質なパッド部１７ｇを有する。このパッド部１７ｇは、フランジ１７ｅに接合されるエチレン−プロピレン−ジエン（ＥＰＤＭ）製ゴム等の円筒状のゴム部材１７ｈと、研磨砥粒を含むダイヤモンドシート等の円形の研磨シート１７ｉとを有する。ゴム部材１７ｈは、屈曲ガラス板への押し当て時におけるクッションとして機能する。研磨シート１７ｉとしては、例えば、ダイヤモンド砥粒をポリイミドで固めたダイヤモンドシートを使用できるが、これに限らない。 FIG. 8 is a cross-sectional view showing another configuration example of the tool. The tool 17A is used for polishing and grinding, and has a pad portion 17g that is harder than the sponge described above. The pad portion 17g has a cylindrical rubber member 17h made of ethylene-propylene-diene (EPDM) rubber or the like joined to the flange 17e, and a circular polishing sheet 17i such as a diamond sheet containing abrasive grains. The rubber member 17h functions as a cushion when pressed against the bent glass plate. As the polishing sheet 17i, for example, a diamond sheet in which diamond abrasive grains are hardened with polyimide can be used, but the polishing sheet 17i is not limited to this.

（基材搬送部）
基材洗浄装置１００は、図１に示すように、台座２３の基材支持部２３ａに加工前の屈曲ガラス板３５を供給し、基材支持部２３ａから加工後の屈曲ガラス板３５を排出する基材搬送部を備える。本構成の基材洗浄装置１００においては、多軸ロボット１３が基材搬送部の機能を果たす。 (Substrate transport section)
As shown in FIG. 1, the base material cleaning device 100 supplies the pre-processed bent glass plate 35 to the base material supporting portion 23a of the pedestal 23, and discharges the post-processing bent glass plate 35 from the base material supporting portion 23a. A base material transport unit is provided. In the base material cleaning apparatus 100 having this configuration, the multi-axis robot 13 functions as a base material transport unit.

図９は多軸ロボット１３の先端部５５（図３参照）に着脱自在に取り付けられる基材吸着ヘッド９３の正面図である。
基材吸着ヘッド９３は、多軸ロボット１３の先端部５５に接続される取付部９３ａと、取付部９３ａに設けられた吸着部９３ｂとを有する。取付部９３ａから吸着部９３ｂまでの間には、エア吸引のための吸引孔９３ｃが形成され、吸引孔９３ｃを通じたエア吸引により、吸着部９３ｂが負圧となって屈曲ガラス板が吸着保持される。また、エア吸引を解除して吸着部９３ｂを大気圧にすることで、屈曲ガラス板を吸着部９３ｂから離脱できる。この際に、大気開放自動弁等を設けておくと迅速に大気開放でき、タクトタイムを短縮できる。 FIG. 9 is a front view of the substrate suction head 93 that is detachably attached to the tip portion 55 (see FIG. 3) of the multi-axis robot 13.
The base material suction head 93 has a mounting portion 93a connected to the tip portion 55 of the multi-axis robot 13, and a suction portion 93b provided on the mounting portion 93a. A suction hole 93c for air suction is formed between the attachment portion 93a and the suction portion 93b, and the suction portion 93b becomes a negative pressure by suction of air through the suction hole 93c, and the bent glass plate is suction-held. It Further, the bent glass plate can be detached from the suction portion 93b by releasing the air suction to bring the suction portion 93b to the atmospheric pressure. At this time, if an automatic valve for opening to the atmosphere is provided, the atmosphere can be quickly opened to shorten the tact time.

吸引孔９３ｃは、不図示の負圧供給源となる真空ポンプに接続され、吸引孔９３ｃと真空ポンプとの間に配置されるバルブによって、屈曲ガラス板の吸着と吸着解除とが選択的に実施される。 The suction hole 93c is connected to a vacuum pump (not shown) serving as a negative pressure supply source, and a bent glass plate is selectively sucked and released by a valve arranged between the suction hole 93c and the vacuum pump. To be done.

加工ヘッド１５と基材吸着ヘッド９３は、図１に示すツールチェンジャ９５に保管される。多軸ロボット１３は、駆動プログラムに従い、先端部５５をツールチェンジャ９５に移動させ、ヘッドの着脱動作を実施することで、先端部５５に加工ヘッド１５又は基材吸着ヘッド９３を装着する。また、先端部５５に装着されたいずれか一方のヘッドを他方のヘッドに交換する。これにより、必要とされるヘッドが先端部５５に装着され、所望の搬送工程や洗浄工程が実施できる。 The processing head 15 and the substrate suction head 93 are stored in the tool changer 95 shown in FIG. The multi-axis robot 13 mounts the processing head 15 or the substrate suction head 93 on the tip 55 by moving the tip 55 to the tool changer 95 according to the drive program and performing the attaching/detaching operation of the head. Further, one of the heads attached to the tip portion 55 is replaced with the other head. As a result, the required head is attached to the tip portion 55, and the desired carrying process and cleaning process can be performed.

（洗浄工程）
次に、上記構成の基材洗浄装置１００を用いた洗浄工程の一例を説明する。
図１０（Ａ）〜（Ｅ）は、基材洗浄装置１００による洗浄工程の動作を段階的に示す概略的な工程説明図である。以降に説明する多軸ロボット１３の駆動は、図３に示す制御部６３による制御に基づいている。 (Washing process)
Next, an example of a cleaning process using the substrate cleaning apparatus 100 having the above structure will be described.
10A to 10E are schematic process explanatory diagrams showing the operation of the cleaning process by the base material cleaning device 100 step by step. The driving of the multi-axis robot 13 described below is based on the control by the control unit 63 shown in FIG.

まず、図１０（Ａ）に示すように、多軸ロボット１３の先端部５５に基材吸着ヘッド９３を装着した状態で、カセット１８に収容された屈曲ガラス板３５を、基材吸着ヘッド９３により１枚吸着保持する。 First, as shown in FIG. 10A, the bent glass plate 35 housed in the cassette 18 is moved by the base material suction head 93 with the base material suction head 93 attached to the tip portion 55 of the multi-axis robot 13. Hold one sheet by suction.

次に、図１０（Ｂ）に示すように、多軸ロボット１３は、基材吸着ヘッド９３に吸着保持した屈曲ガラス板３５を基材処理部１１へ搬送する。そして、屈曲ガラス板３５を、台座２３の基材支持部２３ａにクッション材３９（図２参照）を介して載置する。 Next, as shown in FIG. 10B, the multi-axis robot 13 conveys the bent glass plate 35 sucked and held by the substrate suction head 93 to the substrate processing section 11. Then, the bent glass plate 35 is placed on the base material support portion 23a of the pedestal 23 via the cushion material 39 (see FIG. 2).

その後、図１０（Ｃ）に示すように、多軸ロボット１３は、基材吸着ヘッド９３をツールチェンジャ９５に戻し、図１０（Ｄ）に示すように、基材吸着ヘッド９３から加工ヘッド１５に交換する。 After that, as shown in FIG. 10C, the multi-axis robot 13 returns the base material suction head 93 to the tool changer 95, and as shown in FIG. Exchange.

次に、図１０（Ｅ）に示すように、多軸ロボット１３は、加工ヘッド１５のツール１７を、基材処理部１１の基材支持部２３ａに支持された屈曲ガラス板３５の上方に移動させる。そして、モータ６５（図４参照）により回転駆動されるツール１７のパッド部１７ｄ（図７参照）を、支持された屈曲ガラス板３５に押し当てながら水平方向に移動させることによって、屈曲ガラス板３５の表面を洗浄する。このとき、パッド部１７ｄには、ポンプ２９（図１参照）の駆動により洗浄液が供給され、パッド部１７ｄに洗浄液が浸潤した状態となる。これにより、屈曲ガラス板３５は、パッド部１７ｄが所望の押し付け力で押し当てられながら、洗浄液雰囲気で洗浄される。 Next, as shown in FIG. 10(E), the multi-axis robot 13 moves the tool 17 of the processing head 15 above the bent glass plate 35 supported by the base material supporting portion 23 a of the base material processing portion 11. Let Then, the pad portion 17d (see FIG. 7) of the tool 17 which is rotationally driven by the motor 65 (see FIG. 4) is moved in the horizontal direction while pressing the pad portion 17d (see FIG. 7) against the supported curved glass plate 35, whereby the curved glass plate 35 Wash the surface of the. At this time, the cleaning liquid is supplied to the pad portion 17d by driving the pump 29 (see FIG. 1), so that the cleaning liquid is infiltrated into the pad portion 17d. Thereby, the bent glass plate 35 is cleaned in the cleaning liquid atmosphere while the pad portion 17d is pressed with a desired pressing force.

図１１は屈曲ガラス板３５の洗浄工程の様子を概略的に示す工程説明図である。
加工ヘッド１５は、多軸ロボットの先端部５５（図３参照）に取り付けられ、多軸ロボットの駆動によって屈曲ガラス板３５の表面形状に沿って移動できる。しかし、屈曲ガラス板３５の洗浄位置によって、屈曲ガラス板３５の洗浄面の法線方向は図示例のように異なる。そこで、屈曲ガラス板３５の洗浄位置に応じて、ツール１７の軸線方向が屈曲ガラス板３５の洗浄面の法線方向と常に一致するように多軸ロボットを駆動して、加工ヘッド１５の姿勢を変更する。 FIG. 11 is a process explanatory view schematically showing a state of the cleaning process of the bent glass plate 35.
The processing head 15 is attached to the tip portion 55 (see FIG. 3) of the multi-axis robot and can be moved along the surface shape of the bent glass plate 35 by driving the multi-axis robot. However, the normal direction of the cleaning surface of the bent glass plate 35 differs depending on the cleaning position of the bent glass plate 35, as shown in the illustrated example. Therefore, depending on the cleaning position of the bent glass plate 35, the multi-axis robot is driven so that the axial direction of the tool 17 always matches the normal direction of the cleaning surface of the bent glass plate 35, and the posture of the processing head 15 is changed. change.

つまり、図３に示すように、多軸ロボット１３は、旋回台４５、第１アーム４７、第２アーム５１、手首旋回部５３、及び先端部５５の各駆動軸によって、加工ヘッド１５を移動、回転させることで、図１１に示す屈曲ガラス板３５の表面に沿って、ツール１７のパッド部１７ｄの位置と姿勢を変更する。 That is, as shown in FIG. 3, the multi-axis robot 13 moves the processing head 15 by the drive shafts of the swivel base 45, the first arm 47, the second arm 51, the wrist swivel unit 53, and the tip 55. By rotating, the position and the posture of the pad portion 17d of the tool 17 are changed along the surface of the bent glass plate 35 shown in FIG.

図３に示すコントローラ２０の制御部６３は、記憶部６１に予め記憶させた加工対象データから屈曲ガラス板３５の形状に関する情報を参照して、屈曲ガラス板３５の表面の法線とツール１７の軸線とを常に一致させるように多軸ロボットを駆動する。又は、予め用意された駆動プログラムに基づいて多軸ロボットを駆動する。これにより、屈曲ガラス板３５がいかなる形状であっても、その形状に対応してツール１７を所望の姿勢に制御できる。その結果、曲率半径の小さい屈曲部であっても、パッド部１７ｄの偏当たり等を抑制でき、洗浄ムラや拭き残し等を生じさせることがない。 The control unit 63 of the controller 20 illustrated in FIG. 3 refers to information regarding the shape of the bent glass plate 35 from the processing target data stored in advance in the storage unit 61, and refers to the normal line of the surface of the bent glass plate 35 and the tool 17. The multi-axis robot is driven so that the axes always match. Alternatively, the multi-axis robot is driven based on a drive program prepared in advance. Thereby, regardless of the shape of the bent glass plate 35, the tool 17 can be controlled to a desired posture in accordance with the shape. As a result, even in a bent portion having a small radius of curvature, uneven contact of the pad portion 17d can be suppressed, and uneven cleaning and unwiping can be prevented.

また、コイルばね８７の付勢力により、パッド部１７ｄは略一定の押圧力Ｆで屈曲ガラス板３５の表面に押し付けられる。そのため、常に一定の押し当て条件で屈曲ガラス板３５の表面を洗浄できる。 Further, the pad portion 17d is pressed against the surface of the bent glass plate 35 with a substantially constant pressing force F by the biasing force of the coil spring 87. Therefore, the surface of the bent glass plate 35 can be cleaned under a constant pressing condition.

パッド部１７ｄの回転速度は、洗浄の場合には、洗浄性を確保する観点から５〜２０００ｒｐｍ、５〜１０００ｒｐｍが好ましく、５〜１００ｒｐｍがより好ましく、７〜１３ｒｐｍがさらに好ましく、１０ｒｐｍが特に好ましい。また、研磨又は研削の場合には、加工効率を確保する観点から５０〜２０００ｒｐｍ、５０〜１０００ｒｐｍが好ましく、７０〜１３０ｒｐｍがより好ましく、１００ｒｐｍさらに好ましい。上記範囲内であることで、タクトタイムが過大にならず、しかも、洗浄液の周囲への跳びはねや、高速回転によるガラス表面の傷付きを確実に防止できる。 In the case of washing, the rotation speed of the pad portion 17d is preferably 5 to 2000 rpm, 5 to 1000 rpm, more preferably 5 to 100 rpm, further preferably 7 to 13 rpm, and particularly preferably 10 rpm in the case of washing. Further, in the case of polishing or grinding, from the viewpoint of ensuring processing efficiency, 50 to 2000 rpm, 50 to 1000 rpm are preferable, 70 to 130 rpm are more preferable, and 100 rpm are further preferable. Within the above range, the takt time does not become excessive, and moreover splashing of the cleaning liquid to the surroundings and scratches on the glass surface due to high speed rotation can be reliably prevented.

図１２（Ａ）〜（Ｄ）は、洗浄工程後の屈曲ガラス板３５をカセットへ収容する手順を段階的に示す工程説明図である。
図１２（Ａ）に示すように、洗浄完了後、多軸ロボット１３は、ツールチェンジャ９５に先端部５５を移動させ、図１２（Ｂ）に示すように、ツール１７を有する加工ヘッド１５を基材吸着ヘッド９３に交換する。 12(A) to 12(D) are process explanatory views showing step by step the procedure of housing the bent glass plate 35 in the cassette after the cleaning process.
As shown in FIG. 12(A), after the cleaning is completed, the multi-axis robot 13 moves the tip portion 55 to the tool changer 95, and as shown in FIG. Replace with the material suction head 93.

そして、図１２（Ｃ）に示すように、多軸ロボット１３は、基材吸着ヘッド９３を、基材支持部２３ａに支持された屈曲ガラス板３５の上方に移動させ、屈曲ガラス板３５を吸着保持する。更に、図１２（Ｄ）に示すように、吸着保持した屈曲ガラス板３５をカセット１８の所定の保管位置に戻す。以下、同様な工程を繰り返すことで、複数枚の屈曲ガラス板３５を洗浄できる。 Then, as shown in FIG. 12C, the multi-axis robot 13 moves the base material suction head 93 to above the bent glass plate 35 supported by the base material support portion 23a, and sucks the bent glass plate 35. Hold. Further, as shown in FIG. 12D, the suction-held bent glass plate 35 is returned to the predetermined storage position of the cassette 18. Hereinafter, by repeating the same steps, the plurality of bent glass plates 35 can be washed.

（リンス工程）
図１３は洗浄工程の後工程となるリンス工程を示す工程説明図である。
カセット１８に保管された全ての屈曲ガラス板３５の洗浄が完了すると、カセット１８がリンス工程に搬送される。リンス工程においては、カセット１８をトレイ９９上に配置して、スプレーノズル９７から純水を散布して、洗浄液を洗い流す。 (Rinse process)
FIG. 13 is a process explanatory view showing a rinse process which is a process subsequent to the cleaning process.
When the cleaning of all the bent glass plates 35 stored in the cassette 18 is completed, the cassette 18 is transported to the rinsing process. In the rinse step, the cassette 18 is placed on the tray 99, pure water is sprayed from the spray nozzle 97, and the cleaning liquid is washed away.

このリンス工程を経ることで、屈曲ガラス板３５の表面から、例えば１μｍ程度の微細粒子（パーティクル）を除去できる。なお、純水は、カセット１８を載置したトレイ９９から排出させて、連続供給することが望ましい。 Through this rinsing step, for example, fine particles (particles) of about 1 μm can be removed from the surface of the bent glass plate 35. It is desirable that the pure water be discharged from the tray 99 on which the cassette 18 is placed and continuously supplied.

（屈曲ガラス板）
図１４（Ａ）〜（Ｃ）は屈曲ガラス板の断面図である。前述した屈曲ガラス板３５は、図１４（Ａ）に示すように断面形状が湾曲したガラス板であるが、洗浄工程で上側面を凸面とすることに限らない。上側面を凹面として洗浄する場合には、図１５に示すように、台座２３Ａ上面の基材支持部２３ａを屈曲ガラス板３５の屈曲形状に沿った凹面状とし、クッション材３９を介して屈曲ガラス板３５を支持すればよい。 (Bent glass plate)
14A to 14C are cross-sectional views of the bent glass plate. The bent glass plate 35 described above is a glass plate having a curved cross-sectional shape as shown in FIG. 14A, but the upper side surface is not limited to be convex in the cleaning step. When cleaning the upper side surface as a concave surface, as shown in FIG. 15, the base material support portion 23a on the upper surface of the pedestal 23A is formed into a concave surface shape along the bent shape of the bent glass plate 35, and the bent glass is interposed via the cushion material 39. The plate 35 may be supported.

また、図１４（Ｂ）に示すように、ガラス板の一部のみが屈曲し、平担部を有する屈曲ガラス板３５Ａであってもよい。更に、屈曲部における円弧は単一の曲率半径に限らず、複数の曲率半径を有していてもよく、例えば、図１４（Ｃ）に示すように、断面がＳ字状であってもよい。 Further, as shown in FIG. 14(B), a bent glass plate 35A in which only a part of the glass plate is bent and has a flat portion may be used. Furthermore, the arc in the bent portion is not limited to a single radius of curvature, and may have a plurality of radii of curvature, and for example, as shown in FIG. 14C, the cross section may be S-shaped. ..

そして、図１６に示すように、２方向以上に屈曲した屈曲ガラス板３５Ｃであってもよい。図示例の屈曲ガラス板３５Ｃは、互いに異なる方向に屈曲した屈曲部３５ａ，３５ｂと、双方の屈曲部３５ａ，３５ｂ同士が連続して接続される屈曲部３５ｃと、平坦部３７とを有する。 Then, as shown in FIG. 16, a bent glass plate 35C bent in two or more directions may be used. The bent glass plate 35C in the illustrated example includes bent portions 35a and 35b bent in different directions, a bent portion 35c in which both bent portions 35a and 35b are continuously connected, and a flat portion 37.

このような平坦面から３次元に屈曲した形状を有する屈曲ガラス板３５Ｃは、連続搬送させる場合に搬送機構が複雑となり、洗浄工程においても、ガラス板の支持や屈曲部における均等な洗浄処理が困難となる。しかし、本構成の基材洗浄装置１００によれば、カセットに収容された屈曲ガラス板が、多軸ロボット１３によって一枚ずつ台座２３に搬送され、屈曲ガラス板の屈曲形状に沿った表面形状の基材支持部２３ａに支持される。これにより、基材支持部２３ａに支持された屈曲ガラス板は、クッション材３９を介して基材支持部２３ａに密着して支持され、屈曲ガラス板を安定して支持できる。 The bent glass plate 35C having a shape that is three-dimensionally bent from such a flat surface has a complicated transport mechanism when continuously transported, and it is difficult to support the glass plate and evenly wash the bent portion even in the cleaning step. Becomes However, according to the base material cleaning device 100 of the present configuration, the bent glass plates housed in the cassette are conveyed one by one to the pedestal 23 by the multi-axis robot 13, and the surface shape along the bent shape of the bent glass plate is formed. It is supported by the base material support portion 23a. As a result, the bent glass plate supported by the base material support portion 23a is closely adhered to and supported by the base material support portion 23a via the cushion material 39, and the bent glass plate can be stably supported.

そして、多軸ロボット１３の駆動によって、ツール１７のパッド部１７ｄは、回転軸となる支持パイプ１７ａの軸線が、屈曲ガラス板の被処理面における面法線の方向に一致される。そのため、屈曲したガラス板にパッド部１７ｄが垂直に押し当てられ、洗浄面への面圧を高めた状態で均等に洗浄できる。また、加工ヘッド１５のコイルばね８７の弾性力によって、パッド部１７ｄが屈曲ガラス板に所定の一定圧力で押し当てられるため、これによっても面圧が高められ、且つ、安定した洗浄効果が得られる。 Then, by driving the multi-axis robot 13, in the pad portion 17d of the tool 17, the axis of the support pipe 17a serving as the rotation axis is aligned with the direction of the surface normal to the surface to be processed of the bent glass plate. Therefore, the pad portion 17d is vertically pressed against the bent glass plate, and uniform cleaning can be performed with the surface pressure on the cleaning surface increased. In addition, since the pad portion 17d is pressed against the bent glass plate at a predetermined constant pressure by the elastic force of the coil spring 87 of the processing head 15, the surface pressure is also increased and a stable cleaning effect is obtained. ..

更に、屈曲ガラス板の屈曲部３５ａ〜３５ｃの洗浄について、パッド部１７ｄをその法線方向に当てられない場合がある。この場合には、パッド部１７ｄのエッジ部で洗浄してよい。 Furthermore, in cleaning the bent portions 35a to 35c of the bent glass plate, the pad portion 17d may not be applied in the normal direction. In this case, the edge portion of the pad portion 17d may be cleaned.

屈曲ガラス板の屈曲部における曲率半径は、５ｍｍ以上が好ましく、１０ｍｍ以上がより好ましく、５０ｍｍ以上がさらに好ましく、８０ｍｍ以上が特に好ましい。屈曲部を上記寸法にすると、パッド部１７ｄを適切に接触させられるため、洗浄を均質に実施できる。 The bending radius of the bent portion of the bent glass plate is preferably 5 mm or more, more preferably 10 mm or more, further preferably 50 mm or more, and particularly preferably 80 mm or more. When the bent portion has the above size, the pad portion 17d can be appropriately brought into contact with the bent portion, so that the cleaning can be performed uniformly.

屈曲ガラス板の平面視における大きさは、特に制限はないが、例えば、１０００ｍｍ×５００ｍｍのような大きな屈曲ガラス板に適用できる。 The size of the bent glass plate in plan view is not particularly limited, but for example, it can be applied to a large bent glass plate having a size of 1000 mm×500 mm.

屈曲ガラス板の曲げ深さ（平坦部３７から屈曲部３５ａ〜３５ｃのもっとも離れた部位における距離）は、２００ｍｍ以下が好ましく、１５０ｍｍ以下がより好ましい。曲げ深さを上記寸法にすると、パッド部１７ｄを屈曲ガラス板に適切に接触させられるため、洗浄を均質に実施できる。 200 mm or less is preferable and 150 mm or less is more preferable for the bending depth of the bent glass plate (the distance from the flat portion 37 to the farthest portions of the bent portions 35a to 35c). When the bending depth is set to the above dimension, the pad portion 17d can be appropriately brought into contact with the bent glass plate, so that the cleaning can be performed uniformly.

パッド部１７ｄの平面視の半径（円形と仮定した場合）は、２０ｍｍ以上が好ましく、５０ｍｍ以上がより好ましい。更には、３００ｍｍ以下が好ましく、２５０ｍｍ以下がより好ましい。上記の下限値以上の大きさのパッド部１７ｄによれば、効率的に洗浄や研磨を実施できる。また、上記の上限値以下の大きさのパッド部１７ｄによれば、均一な面圧で洗浄や研磨を実施でき、屈曲ガラス板を均質に処理できる。 The radius of the pad portion 17d in plan view (assuming a circular shape) is preferably 20 mm or more, and more preferably 50 mm or more. Furthermore, 300 mm or less is preferable, and 250 mm or less is more preferable. With the pad portion 17d having a size equal to or larger than the above lower limit value, cleaning and polishing can be efficiently performed. Further, according to the pad portion 17d having a size equal to or smaller than the above upper limit value, cleaning and polishing can be performed with a uniform surface pressure, and the bent glass plate can be uniformly processed.

パッド部の断面厚さは、１００ｍｍ以下が好ましく、５０ｍｍ以下がより好ましい。更には、１０ｍｍ以上が好ましく、５０ｍｍ以上がより好ましい。上記寸法であれば、形状追従性が良好となる。 The cross-sectional thickness of the pad portion is preferably 100 mm or less, more preferably 50 mm or less. Furthermore, 10 mm or more is preferable, and 50 mm or more is more preferable. With the above dimensions, the shape followability is good.

つまり、本構成の基材洗浄装置によれば、種々の形態の屈曲部を有する屈曲ガラス板を、洗浄装置の設計変更を必要とせず、常に屈曲部の形状に対応した最適な方向から押し当てて洗浄できる。よって、多様な形状の屈曲ガラス板であっても、段取り代えや機器の調整の手間なく、ガラス板全面にわたって高い洗浄効果を享受しながら安定して洗浄できる。 In other words, according to the base material cleaning device of this configuration, the bent glass plate having the bent portions of various forms is always pressed from the optimum direction corresponding to the shape of the bent portion without the need to change the design of the cleaning device. Can be washed. Therefore, even a bent glass plate having various shapes can be stably washed while enjoying a high cleaning effect on the entire surface of the glass plate without changing the setup or adjusting the equipment.

＜第２構成例＞
次に、基材洗浄装置の第２構成例を説明する。以下の説明で、同一の部材や部位に対しては同一の符号を付与し、その説明を簡単化又は省略する。 <Second configuration example>
Next, a second configuration example of the substrate cleaning device will be described. In the following description, the same reference numerals are given to the same members and parts, and the description will be simplified or omitted.

前述した第１構成例の基材洗浄装置１００は、屈曲ガラス板３５の片面を洗浄する構成であるが、本構成の基材洗浄装置２００においては、屈曲ガラス板３５の表裏両面が洗浄可能となる。 The substrate cleaning apparatus 100 of the first configuration example described above is configured to clean one side of the bent glass plate 35, but in the substrate cleaning apparatus 200 of this configuration, both front and back surfaces of the bent glass plate 35 can be cleaned. Become.

図１７は第２構成例の基材洗浄装置２００の概略的な全体構成図である。
本構成の基材洗浄装置２００は、屈曲ガラス板３５の表裏面を反転させる基材反転機構１０１を備えたこと以外は、第１構成例の基材洗浄装置１００の構成と同様である。 FIG. 17 is a schematic overall configuration diagram of the substrate cleaning apparatus 200 of the second configuration example.
The substrate cleaning apparatus 200 of this configuration is the same as the configuration of the substrate cleaning apparatus 100 of the first configuration example, except that it has a substrate reversing mechanism 101 that reverses the front and back surfaces of the bent glass plate 35.

基材反転機構１０１は、台座２３上に支持された屈曲ガラス板３５が多軸ロボット１３により移載された際、屈曲ガラス板を多軸ロボット１３の基材吸着ヘッド９３に吸着保持された面が下側になるように倒伏させる。そして、倒伏された状態における屈曲ガラス板３５の上面を、新たに基材吸着ヘッド９３に吸着させることで、屈曲ガラス板３５の吸着面を表裏反転させる。 The base material reversing mechanism 101 is a surface on which the bent glass plate 35, which is supported on the pedestal 23, is sucked and held by the base material suction head 93 of the multiaxial robot 13 when the bent glass plate 35 is transferred by the multiaxial robot 13. Lie down so that is on the lower side. Then, the upper surface of the bent glass plate 35 in the laid-down state is newly adsorbed to the base material adsorption head 93, so that the adsorption surfaces of the bent glass plate 35 are reversed.

図１８は基材反転機構１０１を模式的に示す斜視図である。
基材反転機構１０１は、屈曲ガラス板３５を立て掛けて支持する立て掛け支持部としての一対の支柱１０７と、支柱１０７に設けられ、立て掛けられた屈曲ガラス板３５の上部を突き当てるプッシャ１０９と、屈曲ガラス板３５を支持する支持部１０５とを有する。 FIG. 18 is a perspective view schematically showing the substrate reversing mechanism 101.
The base material reversing mechanism 101 includes a pair of columns 107 as leaning support portions for leaning and supporting the bent glass plate 35, a pusher 109 provided on the column 107 and abutting the upper part of the bent glass plate 35 leaned against the pillar 107. It has the support part 105 which supports the glass plate 35.

プッシャ１０９は、支柱１０７に立て掛けられた屈曲ガラス板３５の上部を突き当てることで、屈曲ガラス板３５を支持部１０５に倒伏させる倒伏駆動部として機能する。支持部１０５は、倒伏される屈曲ガラス板３５を受け止めて支持する。 The pusher 109 functions as a fall drive unit that causes the bend glass plate 35 to fall on the support unit 105 by abutting the upper portion of the bend glass plate 35 leaning against the support column 107. The support part 105 receives and supports the bent glass plate 35 which is toppled.

プッシャ１０９は、例えばエアシリンダの他、モータ駆動のカム機構等、適宜な機構により構成できる。また、支持部１０５は、ゴムやスポンジ等の柔軟なシートの他、ベース１０３に立設され、先端にゴム等の弾性体を有する複数のピンによっても構成できる。 The pusher 109 can be configured by an appropriate mechanism such as a motor-driven cam mechanism in addition to the air cylinder. In addition to the flexible sheet such as rubber or sponge, the supporting portion 105 can be configured by a plurality of pins that are erected on the base 103 and have an elastic body such as rubber at the tip.

図１９（Ａ）〜（Ｃ）は基材反転機構１０１の動作を段階的に示す動作説明図である。
基材反転機構１０１は、図１９（Ａ）に示すように、多軸ロボットの駆動により、基材吸着ヘッド９３に支持された屈曲ガラス板３５が支柱１０７に立て掛けられる。次に、基材吸着ヘッド９３を退避させた後、図１９（Ｂ）に示すように、プッシャ１０９を駆動して、駆動軸１０９ａを屈曲ガラス板３５側に突き出す。 19A to 19C are operation explanatory views showing the operation of the base material reversing mechanism 101 step by step.
As shown in FIG. 19A, in the base material reversing mechanism 101, the bent glass plate 35 supported by the base material suction head 93 is leaned against the support column 107 by the driving of the multi-axis robot. Next, after retracting the substrate suction head 93, as shown in FIG. 19B, the pusher 109 is driven to project the drive shaft 109a toward the bent glass plate 35.

すると、屈曲ガラス板３５の上部が押圧され、屈曲ガラス板３５の姿勢変化と自重によって、図１９（Ｃ）に示すように、支持部１０５に倒伏した状態になる。 Then, the upper portion of the bent glass plate 35 is pressed, and the bent glass plate 35 falls to the support portion 105 due to the change in the posture of the bent glass plate 35 and its own weight, as shown in FIG.

この屈曲ガラス板３５の倒伏した状態では、図１９（Ａ）の屈曲ガラス板３５の吸着面と反対側の面が上面となる。そして、図１９（Ｃ）に示すように、多軸ロボットの駆動により、基材吸着ヘッド９３により屈曲ガラス板３５の上面を吸着保持することで、図１９（Ａ）に示す吸着状態における吸着面と反対側の面が吸着された状態となる。基材反転機構１０１は、上記のようにして、屈曲ガラス板３５の吸着面を表裏反転させる。支持部１０５は、図１９に示すように水平でもよく、斜めでもよい。支持部１０５が斜めの場合、屈曲ガラス板３５を倒伏しても屈曲ガラス板３５への衝撃が小さく、破損を抑制できる。また、支持部１０５が斜めで屈曲ガラス板３５を受けた後に、支持部１０５を水平に移動してもよい。また、プッシャ１０９による屈曲ガラス板３５の上部押圧に限らず、屈曲ガラス板３５の下部を引き寄せる機構としてもよい。 When the bent glass plate 35 is lying down, the surface opposite to the suction surface of the bent glass plate 35 in FIG. Then, as shown in FIG. 19C, by driving the multi-axis robot, the upper surface of the bent glass plate 35 is suction-held by the substrate suction head 93, so that the suction surface in the suction state shown in FIG. The surface on the opposite side is adsorbed. The base material reversing mechanism 101 reverses the suction surface of the bent glass plate 35 as described above. The support portion 105 may be horizontal as shown in FIG. 19 or may be diagonal. When the support portion 105 is oblique, even if the bent glass plate 35 is laid down, the impact on the bent glass plate 35 is small and damage can be suppressed. Further, the supporting part 105 may be moved horizontally after the supporting part 105 obliquely receives the bent glass plate 35. Further, the mechanism for pulling the lower portion of the bent glass plate 35 is not limited to pressing the upper portion of the bent glass plate 35 by the pusher 109.

図２０（Ａ）〜（Ｄ）は基材反転機構１０１を用いて屈曲ガラス板３５の裏面を洗浄する工程の工程説明図である。
前述の図１２（Ｃ）に示す屈曲ガラス板３５の一方の面を洗浄した後、図２０（Ａ）に示すように、台座２３に支持された屈曲ガラス板３５を基材吸着ヘッド９３に支持する。そして、図２０（Ｂ）に示すように、屈曲ガラス板３５を基材反転機構１０１の支柱１０７に立て掛ける。 20A to 20D are process explanatory diagrams of a process of cleaning the back surface of the bent glass plate 35 using the substrate reversing mechanism 101.
After cleaning one surface of the bent glass plate 35 shown in FIG. 12C, the bent glass plate 35 supported by the pedestal 23 is supported by the substrate suction head 93 as shown in FIG. 20A. To do. Then, as shown in FIG. 20B, the bent glass plate 35 is leaned against the column 107 of the substrate reversing mechanism 101.

次に、基材吸着ヘッド９３を退避させた後、プッシャ１０９を駆動して屈曲ガラス板３５を倒伏させ、図２０（Ｃ）に示すように、屈曲ガラス板３５の上面を基材吸着ヘッド９３により吸着保持して、図２０（Ｄ）に示すように台座２３に搬送し、台座２３上に支持させる。そして、前述した同様の手順で屈曲ガラス板３５の裏面の洗浄を実施する。 Next, after retracting the substrate suction head 93, the pusher 109 is driven to cause the bent glass plate 35 to fall down, and the upper surface of the bent glass plate 35 is placed on the substrate suction head 93 as shown in FIG. Then, it is sucked and held by, and conveyed to the pedestal 23 as shown in FIG. Then, the back surface of the bent glass plate 35 is cleaned by the same procedure as described above.

本構成の基材洗浄装置２００によれば、基材反転機構１０１を備えることにより、屈曲ガラス板３５の表面及び裏面の洗浄を、人手を介することなく、自動的に連続実施できる。これにより、洗浄工程のタクトタイムの短縮が図れる。 According to the base material cleaning device 200 of this configuration, by including the base material reversing mechanism 101, cleaning of the front surface and the back surface of the bent glass plate 35 can be automatically carried out continuously without manual intervention. As a result, the takt time of the cleaning process can be shortened.

また、屈曲ガラス板３５の屈曲部の曲率半径が比較的小さい場合には、台座２３の基材支持部２３ａの表面から屈曲ガラス板３５が浮き上がることが生じ得る。屈曲部がそのような小さい曲率半径の場合には、屈曲ガラス板３５の裏面の表面形状に沿った基材支持部を有する台座を新たに用意して、表面洗浄用の台座と裏面洗浄用の台座とを切り替えて使用すればよい。 Further, when the radius of curvature of the bent portion of the bent glass plate 35 is relatively small, the bent glass plate 35 may float above the surface of the base material supporting portion 23a of the pedestal 23. When the bent portion has such a small radius of curvature, a pedestal having a base material supporting portion along the surface shape of the back surface of the bent glass plate 35 is newly prepared, and a pedestal for front surface cleaning and a back surface cleaning It can be used by switching between the base and the base.

＜第３構成例＞
次に、基材洗浄装置の第３構成例について説明する。
前述の基材洗浄装置は、ツール１７を有する加工ヘッド１５と、基材吸着ヘッド９３とをツールチェンジャ９５で付け替えることで屈曲ガラス板の洗浄を搬送とを実施するものであるが、本構成の基材洗浄装置は、加工ヘッドに屈曲ガラス板の支持機構を備えている。 <Third configuration example>
Next, a third configuration example of the substrate cleaning device will be described.
In the above-described substrate cleaning apparatus, the processing head 15 having the tool 17 and the substrate suction head 93 are replaced by the tool changer 95 to clean and transport the bent glass plate. The substrate cleaning apparatus has a processing head provided with a support mechanism for a bent glass plate.

図２１は第３構成例の基材洗浄装置３００であって、基材支持機構を備えた加工ヘッド１５Ａの要部を示す側面図、図２２は図２１に示す加工ヘッド１５Ａの要部を示す正面図である。
本構成の加工ヘッド１５Ａは、筐体６７の一部に基材支持機構１１２を備える。基材支持機構１１２は、筐体６７に固定される下部支持板１１５及び上部支持板１１７と、上部支持板１１７に固定されるエアシリンダ１２３と、を備える。 21 is a side view showing a main part of a processing head 15A having a base material supporting mechanism in a base material cleaning device 300 of a third configuration example, and FIG. 22 shows a main part of the processing head 15A shown in FIG. It is a front view.
The processing head 15</b>A having this configuration includes the base material support mechanism 112 in a part of the housing 67. The base material support mechanism 112 includes a lower support plate 115 and an upper support plate 117 fixed to the housing 67, and an air cylinder 123 fixed to the upper support plate 117.

下部支持板１１５は、筐体６７のツール１７側の底部に、筐体６７の側面６７ａから一部が突出して設けられる。下部支持板１１５の筐体６７の側面６７ａから突出した突出部位１１５ａの上面と、この突出部位１１５ａから側面６７ａに沿って、スポンジ等のクッションシート１２１が敷設されている。 The lower support plate 115 is provided at the bottom of the housing 67 on the tool 17 side, with a part thereof protruding from the side surface 67 a of the housing 67. A cushion sheet 121 such as a sponge is laid along the upper surface of a protruding portion 115a protruding from the side surface 67a of the housing 67 of the lower support plate 115 and along the side surface 67a from the protruding portion 115a.

上部支持板１１７は、筐体６７の上部に固定され、一部が側面６７ａから突出して、その先端部にエアシリンダ１２３が設けられる。エアシリンダ１２３は、下部支持板１１５に向けて移動自在なピストンロッド１２５を有する。ピストンロッド１２５の先端には、ウレタンやゴム等の柔軟な材料からなる支持体１２７が設けられる。 The upper support plate 117 is fixed to the upper portion of the housing 67, part of which projects from the side surface 67a, and the air cylinder 123 is provided at the tip thereof. The air cylinder 123 has a piston rod 125 that is movable toward the lower support plate 115. A support 127 made of a flexible material such as urethane or rubber is provided at the tip of the piston rod 125.

上記構成の基材支持機構１１２は、下部支持板１１５の突出部位１１５ａと、支持体１２７との間に、クッションシート１２１を介して屈曲ガラス板３５が挟持される。屈曲ガラス板３５は、エアシリンダ１２３のピストンロッド１２５の延出と縮退駆動により、加工ヘッド１５Ａへの支持と支持解除が可能となる。 In the base material support mechanism 112 having the above-described configuration, the bent glass plate 35 is sandwiched between the protruding portion 115a of the lower support plate 115 and the support body 127 via the cushion sheet 121. The bent glass plate 35 can be supported and released from the processing head 15A by extending and retracting the piston rod 125 of the air cylinder 123.

加工ヘッド１５Ａは、基材支持機構１１２を設けたこと以外は、前述の加工ヘッド１５（図４参照）の構成と同様である。なお、上記した基材支持機構１１２の構成は一例であって、図示例の構成に限らない。 The processing head 15A has the same configuration as the processing head 15 (see FIG. 4) except that the base material support mechanism 112 is provided. Note that the configuration of the base material support mechanism 112 described above is an example, and is not limited to the configuration of the illustrated example.

本構成の加工ヘッド１５Ａを備えた基材洗浄装置によれば、前述した加工ヘッド１５と基材吸着ヘッド９３（図９参照）との交換作業が不要となる。これにより、よって、１台の多軸ロボット１３により、ヘッドを交換することなく迅速に搬送と洗浄とを実施でき、タクトタイムの短縮化が図れる。また、装置構成をより簡単にでき、設備コストを低減できる。 According to the base material cleaning apparatus including the processing head 15A having the above configuration, the above-described replacement work between the processing head 15 and the base material suction head 93 (see FIG. 9) is unnecessary. As a result, the single multi-axis robot 13 can quickly carry out and wash the head without exchanging the head, and the tact time can be shortened. In addition, the device configuration can be made simpler and the equipment cost can be reduced.

＜第４構成例＞
次に、基材洗浄装置の第４構成例について説明する。
図２３は第４構成例の基材洗浄装置４００であって、基材支持機構１１３を備えた加工ヘッド１５Ｂの要部を示す側面図である。
本構成の加工ヘッド１５Ｂは、第３構成例の加工ヘッド１５Ａの基材支持機構１１２に代えて、吸着パッド１３１を有する基材支持機構１１３を備えた点以外は、加工ヘッド１５Ａと同様の構成である。 <Fourth configuration example>
Next, a fourth configuration example of the substrate cleaning device will be described.
FIG. 23 is a side view showing a main part of the processing head 15B including the base material support mechanism 113 in the base material cleaning device 400 of the fourth configuration example.
The processing head 15B of this configuration has the same configuration as the processing head 15A, except that a substrate support mechanism 113 having a suction pad 131 is provided instead of the substrate support mechanism 112 of the processing head 15A of the third configuration example. Is.

基材支持機構１１３は、吸着パッド１３１と、吸着パッド１３１を支持し、エア吸引チューブ１３３が接続される吸着パッド支持部１３５と、筐体６７に固定される下部支持板１１５と、吸着パッド支持部１３５を下部支持板１１５に固定する固定部材１３７と、を備える。 The base material support mechanism 113 includes a suction pad 131, a suction pad support portion 135 that supports the suction pad 131 and is connected to the air suction tube 133, a lower support plate 115 fixed to the housing 67, and a suction pad support. A fixing member 137 for fixing the portion 135 to the lower support plate 115.

本構成の基材支持機構１１３によれば、吸着パッド１３１に吸着保持した屈曲ガラス板３５を、多軸ロボットを駆動することにより位置と姿勢を変更して、屈曲ガラス板３５を洗浄できる。屈曲ガラス板３５は、吸着パッド１３１のエア吸引制御して、吸着保持と保持解除を迅速に行え、第３構成例の基材支持機構１１２よりも更にタクトタイムの短縮化が図れる。 According to the base material support mechanism 113 of this configuration, the position and orientation of the bent glass plate 35 suction-held on the suction pad 131 can be changed by driving the multi-axis robot to wash the bent glass plate 35. The bent glass plate 35 controls air suction of the suction pad 131 to quickly perform suction holding and holding release, and the tact time can be further shortened as compared with the base material support mechanism 112 of the third configuration example.

＜第５構成例＞
次に、基材洗浄装置の第５構成例について説明する。
前述の基材洗浄装置は、１台の多軸ロボットを用いて屈曲ガラス板の搬送と洗浄とを実施していたが、本構成の基材洗浄装置では、搬送用の多軸ロボットと洗浄用の多軸ロボットを個別に設けてある。 <Fifth configuration example>
Next, a fifth configuration example of the substrate cleaning device will be described.
The above-mentioned substrate cleaning apparatus carries out the transportation and cleaning of the bent glass plate by using one multi-axis robot. However, the substrate cleaning apparatus of this configuration has a multi-axis robot for transportation and cleaning. Each multi-axis robot is installed.

図２４、図２５は第５構成例の基材洗浄装置５００の概略的な全体構成図である。
本構成の基材洗浄装置５００は、基材搬送用多軸ロボット１３Ａと、基材洗浄用多軸ロボット１３Ｂとを備える。 24 and 25 are schematic overall configuration diagrams of a substrate cleaning apparatus 500 of the fifth configuration example.
The substrate cleaning apparatus 500 of this configuration includes a substrate transporting multi-axis robot 13A and a substrate cleaning multi-axis robot 13B.

基材搬送用多軸ロボット１３Ａは、図２４に示すように、カセット１８に収容された屈曲ガラス板３５を基材処理部１１の台座２３に搬送し、また、台座２３に支持された屈曲ガラス板３５をカセット１８に搬送して収容させる。 As shown in FIG. 24, the base material transporting multi-axis robot 13A transports the bent glass plate 35 housed in the cassette 18 to the pedestal 23 of the base material processing unit 11, and also the bent glass plate supported by the pedestal 23. The plate 35 is conveyed to the cassette 18 and accommodated therein.

基材洗浄用多軸ロボット１３Ｂは、図２５に示すように、基材搬送用多軸ロボット１３Ａによる屈曲ガラス板３５の台座２３への搬入、及び台座２３からの搬出の際に、台座２３から離れた退避位置に配置される。そして、台座２３に屈曲ガラス板３５が支持され、基材搬送用多軸ロボット１３Ａが台座２３から離れた退避位置に配置されると、基材洗浄用多軸ロボット１３Ｂが洗浄処理を開始する。 As shown in FIG. 25, the base material cleaning multi-axis robot 13B moves from the base 23 when the base material transporting multi-axis robot 13A carries the bent glass plate 35 into and out of the pedestal 23. It is placed in a retracted position. Then, when the bent glass plate 35 is supported on the pedestal 23 and the base material transporting multi-axis robot 13A is arranged at the retracted position away from the pedestal 23, the base material cleaning multi-axis robot 13B starts the cleaning process.

基材洗浄用多軸ロボット１３Ｂによる洗浄処理は、前述同様の処理であり、ここでの説明を省略する。 The cleaning process by the base material cleaning multi-axis robot 13B is the same process as described above, and thus the description thereof is omitted here.

なお、基材搬送用多軸ロボット１３Ａと基材洗浄用多軸ロボット１３Ｂは、いずれも６軸ロボットで構成されていてもよく、それぞれが異なる形態の多軸ロボットであってもよい。 The multi-axis robot 13A for transferring a substrate and the multi-axis robot 13B for cleaning a substrate may both be configured by a 6-axis robot, or may be multi-axis robots having different configurations.

本構成の基材洗浄装置５００によれば、例えば、基材洗浄用多軸ロボット１３Ｂにより屈曲ガラス板３５を洗浄している間、基材搬送用多軸ロボット１３Ａにより他の屈曲ガラス板の搬送や、カセットに屈曲ガラス板を挿入する等の搬送が、洗浄と同時に行える。同様に、基材搬送用多軸ロボット１３Ａにより屈曲ガラス板３５を搬送している間、基材洗浄用多軸ロボット１３Ｂのツールのメンテナンスや、加工ヘッドを他の加工ヘッドに交換する等の他の作業を、屈曲ガラス板３５の搬送と同時に行える。そして、搬送と洗浄との切り替えの度に、ヘッド交換する必要がなくなる。 According to the base material cleaning device 500 of this configuration, for example, while the bent glass plate 35 is being cleaned by the base material cleaning multi-axis robot 13B, another base glass plate is transferred by the base material transfer multi-axis robot 13A. Also, transportation such as inserting a bent glass plate into the cassette can be performed at the same time as cleaning. Similarly, while the curved glass plate 35 is being conveyed by the substrate-conveying multi-axis robot 13A, the maintenance of the tool of the substrate-cleaning multi-axis robot 13B, the machining head being replaced with another machining head, and the like. The above work can be performed at the same time when the bent glass plate 35 is transported. Then, it is not necessary to replace the head each time the transport and the cleaning are switched.

そのため、本構成の基材洗浄装置５００によれば、屈曲ガラス板の洗浄を高効率で実施でき、タクトタイムがより短縮される。また、搬送と洗浄とを個別の多軸ロボットにより実施するため、一方の多軸ロボットが稼働状態となる期間に、他方の多軸ロボットに他の作業を実施させられ、作業密度を高めることにより高能率な処理ができる。 Therefore, according to the base material cleaning device 500 of this configuration, the bent glass plate can be cleaned with high efficiency, and the takt time is further shortened. Further, since the transfer and the cleaning are performed by the individual multi-axis robots, the other multi-axis robots can be made to perform other work while one of the multi-axis robots is in the operating state, thereby increasing the work density. Highly efficient processing is possible.

このように、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、実施形態の各構成を相互に組み合わせることや、明細書の記載、並びに周知の技術に基づいて、当業者が変更、応用することも本発明の予定するところであり、保護を求める範囲に含まれる。 As described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and those skilled in the art can make changes and applications based on the combination of the configurations of the embodiments with each other, the description of the specification, and the well-known technology. This is also the scope of the present invention and is included in the scope of protection required.

なお、上述した屈曲ガラス板は、その用途について特に限定されないが、自動車、電車、船舶、航空機等の輸送機の部材、特に内装部材に使用できる。また、モバイルパソコンや携帯電話、スマートホン等のカバーガラスにも使用できる。例えば、自動車のインストルメントパネル、ダッシュボード、センターコンソール、シフトノブ等の内装部品に好適に適用できる。これにより、状況により大面積で複雑な形状が求められる用途の輸送機用内装部材であっても、高い意匠性や高級感を付与できる。 The above-mentioned bent glass plate is not particularly limited in its use, but it can be used as a member of a transportation machine such as an automobile, a train, a ship, an aircraft, particularly an interior member. It can also be used as a cover glass for mobile computers, cell phones, and smart phones. For example, it can be suitably applied to interior parts such as instrument panels, dashboards, center consoles, shift knobs, etc. of automobiles. As a result, even in the case of an interior member for a transportation machine, which has a large area and a complicated shape depending on the situation, it is possible to impart high designability and a high-class feeling.

また、上記した各基材洗浄装置は、洗浄液に代えて、研磨砥粒を含有する研磨剤を使用することで、屈曲ガラス板の研磨ができる。更に、図８に示す硬質なパッド部を有するツール１７Ａを用いれば、屈曲ガラス板の研磨、研削加工が可能となり、必要に応じて研磨剤を併用することで、処理後の加工面の性状を一層良好にできる。 In addition, each of the above-described substrate cleaning devices can polish a bent glass plate by using an abrasive containing abrasive grains instead of the cleaning liquid. Furthermore, by using the tool 17A having a hard pad portion shown in FIG. 8, it is possible to polish and grind a bent glass plate, and by using an abrasive in combination as necessary, the property of the processed surface after treatment can be improved. You can do better.

以上の通り、本明細書には次の事項が開示されている。
（１） 少なくとも一部に屈曲部を有した基材を支持する基材支持部と、
前記基材支持部に前記基材を搬入し、前記基材支持部に支持された前記基材を搬出する基材搬送部と、
軸線方向に連通孔が形成された中空軸の先端に設けられ、前記基材を処理するツール、及び前記中空軸を回転駆動するモータが搭載された加工ヘッドと、
前記中空軸を通じて前記ツールに処理液を供給する処理液供給部と、
複数のアーム部材が関節を介して互いに相対回転可能に連設された多関節アームの先端部に、前記加工ヘッドが着脱自在に取り付けられた多軸ロボットと、
前記多軸ロボットを駆動して、前記基材の被処理面の法線方向に対する前記ツールの前記中空軸の傾斜角度を保持しながら、前記加工ヘッドを前記基材の表面に沿って移動させるコントローラと、
を備える基材処理装置。
この基材処理装置によれば、多軸ロボットの駆動により加工ヘッドの姿勢を自在に調整できるため、基材表面の屈曲形状に応じて、基材の被処理面の法線方向に対するツールの押し当て方向となる中空軸の傾斜角度を所望の角度に保持させたまま、基材の処理を実施できる。これにより、屈曲部を有する基材であっても高効率で処理できる。 As described above, the following items are disclosed in this specification.
(1) A base material supporting portion that supports a base material having a bent portion at least in part,
A base material carrying section that carries in the base material into the base material supporting portion and carries out the base material supported by the base material supporting portion,
A processing head provided at the tip of a hollow shaft having a communication hole formed in the axial direction, a tool for processing the substrate, and a processing head equipped with a motor for rotationally driving the hollow shaft,
A processing liquid supply unit that supplies the processing liquid to the tool through the hollow shaft,
A multi-axis robot in which the processing head is detachably attached to the tip end of a multi-joint arm in which a plurality of arm members are connected to each other so that they can rotate relative to each other through joints,
A controller that drives the multi-axis robot to move the processing head along the surface of the base material while maintaining the inclination angle of the hollow shaft of the tool with respect to the normal direction of the surface to be processed of the base material. When,
A substrate processing apparatus including.
According to this substrate processing apparatus, since the posture of the processing head can be freely adjusted by driving the multi-axis robot, the tool is pushed in the normal direction of the surface to be processed of the substrate according to the bent shape of the substrate surface. The substrate can be treated while the inclination angle of the hollow shaft, which is the contact direction, is maintained at a desired angle. Thereby, even a base material having a bent portion can be processed with high efficiency.

（２） 前記ツールは、前記中空軸の先端に設けられ前記基材を処理するパッド部を有し、前記中空軸の前記連通孔が前記パッド部に開口している（１）に記載の基材処理装置。
この基材処理装置によれば、処理液が中空軸の連通孔を通じてパッド部に送られるため、基材の被処理面へ処理液を確実に供給できる。 (2) The tool has a pad portion provided at a tip of the hollow shaft for treating the base material, and the communication hole of the hollow shaft is opened to the pad portion. Material processing equipment.
According to this substrate processing apparatus, since the processing liquid is sent to the pad portion through the communication hole of the hollow shaft, the processing liquid can be reliably supplied to the surface to be processed of the base material.

（３） 前記パッド部は、スポンジを含んで構成される（２）に記載の基材処理装置。
この基材処理装置によれば、柔軟なスポンジにより基材を処理することで、基材の屈曲部の形状変化をスポンジにより吸収でき、均一に処理できる。 (3) The base material processing device according to (2), wherein the pad portion includes a sponge.
According to this base material processing apparatus, by processing the base material with the flexible sponge, the change in shape of the bent portion of the base material can be absorbed by the sponge, and uniform processing can be performed.

（４） 前記処理液は、前記基材を洗浄する洗浄液である（２）又は（３）に記載の基材処理装置。
この基材処理装置によれば、洗浄液により基材を洗浄できる。 (4) The substrate processing apparatus according to (2) or (3), wherein the processing liquid is a cleaning liquid for cleaning the substrate.
According to this substrate processing apparatus, the substrate can be cleaned with the cleaning liquid.

（５） 前記処理液は、研磨砥粒を含む研磨液である（２）又は（３）に記載の基材処理装置。
この基材処理装置によれば、研磨砥粒によって基材を研磨できる。 (5) The substrate processing apparatus according to (2) or (3), wherein the processing liquid is a polishing liquid containing polishing abrasive grains.
According to this base material processing device, the base material can be polished by the abrasive grains.

（６） 前記パッド部は、前記基材との当接面が研磨砥粒を含んで構成される（２）又は（３）に記載の基材処理装置。
この基材処理装置によれば、パッド部の当接面に含まれる研磨砥粒によって、基材を研削できる。 (6) The base material processing device according to (2) or (3), wherein the contact surface of the pad portion with the base material includes polishing abrasive grains.
According to this base material processing device, the base material can be ground by the abrasive grains contained in the contact surface of the pad portion.

（７） 前記加工ヘッドは、前記ツールの前記中空軸を軸方向に移動自在に支持するスライド支持部と、前記スライド支持部による前記ツールのスライド範囲で前記ツールを前記軸方向に沿って付勢する弾性部材と、を備える（１）〜（６）のいずれか一つに記載の基材処理装置。
この基材処理装置によれば、弾性部材によってツールを基材に押し当てでき、処理の作業効率を向上できる。 (7) The processing head urges the tool along the axial direction in a slide support portion that supports the hollow shaft of the tool so as to be movable in the axial direction, and a slide range of the tool by the slide support portion. The elastic member which does, The base material processing apparatus as described in any one of (1)-(6).
According to this base material processing device, the tool can be pressed against the base material by the elastic member, and the work efficiency of the processing can be improved.

（８） 前記基材支持部は、前記基材の屈曲部の形状に沿った表面形状を有する（１）〜（７）のいずれか一つに記載の基材処理装置。
この基材処理装置によれば、基材を安定して支持できる。 (8) The base material processing device according to any one of (1) to (7), wherein the base material support portion has a surface shape that follows the shape of the bent portion of the base material.
According to this substrate processing apparatus, the substrate can be stably supported.

（９） 前記基材支持部は、クッション材を介して前記基材を支持する（１）〜（８）のいずれか一つに記載の基材処理装置。
この基材処理装置によれば、基材支持部に基材をセットする際に基材に作用する衝撃や、支持状態の基材に外力による影響が及ぶことを緩和できる。 (9) The base material processing device according to any one of (1) to (8), wherein the base material support section supports the base material via a cushion material.
According to this base material processing device, it is possible to mitigate the impact that acts on the base material when setting the base material on the base material support portion and the influence of external force on the base material in the supported state.

（１０） 前記基材支持部を収容し、前記処理液を貯留する処理液槽を備える（１）〜（９）のいずれか一つに記載の基材処理装置。
この基材処理装置によれば、基材を処理する際に、多量の処理液の使用が可能となり、より高品質な基材の処理が可能となる。 (10) The substrate processing apparatus according to any one of (1) to (9), including a processing liquid tank that accommodates the substrate supporting portion and stores the processing liquid.
According to this base material processing apparatus, it is possible to use a large amount of processing liquid when processing a base material, and it is possible to process a higher quality base material.

（１１） 前記処理液供給部は、前記処理液槽に貯留された処理液を前記ツールに供給する（１０）に記載の基材処理装置。
この基材処理装置によれば、処理液を循環させることで、処理液の使用量を減少させて、ランニングコストを低減できる。 (11) The substrate processing apparatus according to (10), wherein the processing liquid supply unit supplies the processing liquid stored in the processing liquid tank to the tool.
According to this substrate processing apparatus, by circulating the processing liquid, the amount of the processing liquid used can be reduced and the running cost can be reduced.

（１２） 先端に前記基材を吸着保持する吸着部を有する基材吸着ヘッドを備え、
前記基材搬送部は、前記多軸ロボットの先端部に支持された前記加工ヘッドに代えて、前記基材吸着ヘッドを前記先端部に支持させた前記多軸ロボットである（１）〜（１１）のいずれか一つに記載の基材処理装置。
この基材処理装置によれば、多軸ロボットの先端部の加工ヘッドを基材吸着ヘッドに交換することで、処理に使用する多軸ロボットを基材搬送用として兼用でき、装置構成を簡略化できる。 (12) A base material adsorption head having an adsorption portion for adsorbing and holding the base material at its tip is provided,
The base material transport unit is the multi-axis robot having the base material suction head supported on the tip end instead of the processing head supported on the tip end of the multi-axis robot (1) to (11). ) The substrate processing apparatus according to any one of items.
According to this substrate processing apparatus, by replacing the processing head at the tip of the multi-axis robot with the substrate suction head, the multi-axis robot used for processing can also be used for substrate transfer, simplifying the device configuration. it can.

（１３） 前記加工ヘッドは、前記基材を支持する基材支持機構を備える（１）〜（１１）のいずれか一つに記載の基材処理装置。
この基材処理装置によれば、加工ヘッドにより基材を搬送でき、ヘッド交換の手間がなくなり、処理のタクトタイムをより短縮できる。 (13) The substrate processing apparatus according to any one of (1) to (11), in which the processing head includes a substrate supporting mechanism that supports the substrate.
According to this base material processing apparatus, the base material can be conveyed by the processing head, the time and effort for head replacement can be eliminated, and the tact time of processing can be further shortened.

（１４） 前記基材の表裏面を反転させる基材反転機構を更に備える（１）〜（１３）のいずれか一つに記載の基材処理装置。
この基材処理装置によれば、基材の表面と裏面とを人手を介することなく連続処理できるため、処理のタクトタイムをより短縮できる。 (14) The substrate processing apparatus according to any one of (1) to (13), further including a substrate reversing mechanism that reverses the front and back surfaces of the substrate.
According to this base material processing device, the front surface and the back surface of the base material can be continuously processed without manpower, so that the tact time of the processing can be further shortened.

（１５） 前記基材反転機構は、
前記基材を立て掛けて支持する立て掛け支持部と、
立て掛けられた前記基材を倒伏させる倒伏駆動部と、
倒伏される前記基材を受け止めて支持する支持部と、
を備える（１４）に記載の基材処理装置。
この基材処理装置によれば、多軸ロボットに一方の主面側から支持された基材を立て掛け、この基材を倒伏させることで、基材の他方の主面を上面にした状態で基材が支持される。これにより、多軸ロボットに基材を支持させる基材支持面の表裏反転が可能となる。 (15) The base material reversing mechanism is
A leaning support portion leaning against and supporting the base material,
A laying drive unit that lays down the base material that has been leaned against,
A support portion for receiving and supporting the base material to be laid down,
(14) The substrate processing apparatus according to (14).
According to this base material processing device, the base material supported from one main surface side is leaned against the multi-axis robot, and the base material is laid down, so that the other main surface of the base material faces upward. The material is supported. As a result, it becomes possible to reverse the front and back surfaces of the base material supporting surface that supports the base material on the multi-axis robot.

（１６） 前記基材は、少なくとも２方向に屈曲した屈曲部を有する（１）〜（１５）のいずれか一つに記載の基材処理装置。
この基材処理装置によれば、少なくとも２方向に屈曲した屈曲部を有する基材であっても、安定した搬送と処理を実施できる。 (16) The substrate processing apparatus according to any one of (1) to (15), in which the substrate has a bent portion that is bent in at least two directions.
According to this substrate processing apparatus, even if the substrate has a bent portion that is bent in at least two directions, stable conveyance and processing can be performed.

（１７） 前記基材はガラス板である（１）〜（１６）のいずれか一つに記載の基材処理装置。
この基材処理装置によれば、ガラス板の均一な処理が実現できる。 (17) The base material processing device according to any one of (1) to (16), wherein the base material is a glass plate.
According to this substrate processing apparatus, uniform processing of the glass plate can be realized.

１１ 基材処理部
１３ 多軸ロボット
１３Ａ 基材搬送用多軸ロボット
１３Ｂ 基材洗浄用多軸ロボット
１５，１５Ａ，１５Ｂ 加工ヘッド
１７，１７Ａ ツール
１７ａ 支持パイプ（中空軸）
１７ｄ，１７ｇ パッド部
１７ｉ 研磨シート
１９ 洗浄液
２０ コントローラ
２１ 洗浄槽
２３ａ 基材支持部
２８ 洗浄液循環部（処理液供給部）
３５，３５Ａ，３５Ｂ 屈曲ガラス板
３５ａ，３５ｂ 屈曲部
３９ クッション材
４６，４９ 関節
４７ 第１アーム
５１ 第２アーム
５５ 先端部
６５ モータ
７８ スライド支持部
８７ コイルバネ
９３ 基材吸着ヘッド
１００，２００，３００，４００，５００ 基材洗浄装置
１０１ 基材反転機構
１０５ 支持部
１０７ 支柱（立て掛け支持部）
１０９ プッシャ（倒伏駆動部）
１１２ 基材支持機構 11 Base Material Processing Section 13 Multi-Axis Robot 13A Multi-Axis Robot for Substrate Transfer 13B Multi-Axis Robot for Substrate Cleaning 15, 15A, 15B Processing Head 17, 17A Tool 17a Support Pipe (Hollow Shaft)
17d, 17g Pad part 17i Polishing sheet 19 Cleaning liquid 20 Controller 21 Cleaning tank 23a Substrate supporting part 28 Cleaning liquid circulation part (processing liquid supply part)
35, 35A, 35B Bent glass plate 35a, 35b Bent part 39 Cushion material 46, 49 Joint 47 First arm 51 Second arm 55 Tip part 65 Motor 78 Slide support part 87 Coil spring 93 Base material adsorption head 100, 200, 300, 400,500 Base Material Cleaning Device 101 Base Material Reversing Mechanism 105 Supporting Part 107 Support (Standing Supporting Part)
109 Pusher (Looping drive unit)
112 Base material support mechanism

Claims (17)

少なくとも一部に屈曲部を有した基材を支持する基材支持部と、
前記基材支持部に前記基材を搬入し、前記基材支持部に支持された前記基材を搬出する基材搬送部と、
軸線方向に連通孔が形成された中空軸の先端に設けられ、前記基材を処理するツール、及び前記中空軸を回転駆動するモータが搭載された加工ヘッドと、
前記中空軸を通じて前記ツールに処理液を供給する処理液供給部と、
複数のアーム部材が関節を介して互いに相対回転可能に連設された多関節アームの先端部に、前記加工ヘッドが着脱自在に取り付けられた多軸ロボットと、
前記多軸ロボットを駆動して、前記基材の被処理面の法線方向に対する前記ツールの前記中空軸の傾斜角度を保持しながら、前記加工ヘッドを前記基材の表面に沿って移動させるコントローラと、
を備える基材処理装置。 A base material supporting portion that supports a base material having a bent portion at least in part,
A base material carrying section that carries in the base material into the base material supporting portion and carries out the base material supported by the base material supporting portion,
A processing head provided at the tip of a hollow shaft having a communication hole formed in the axial direction, a tool for processing the substrate, and a processing head equipped with a motor for rotationally driving the hollow shaft,
A processing liquid supply unit that supplies the processing liquid to the tool through the hollow shaft,
A multi-axis robot in which the processing head is detachably attached to the tip end of a multi-joint arm in which a plurality of arm members are connected to each other so that they can rotate relative to each other through joints,
A controller that drives the multi-axis robot to move the processing head along the surface of the base material while maintaining the inclination angle of the hollow shaft of the tool with respect to the normal direction of the surface to be processed of the base material. When,
A substrate processing apparatus including. 前記ツールは、前記中空軸の先端に設けられ前記基材を処理するパッド部を有し、前記中空軸の前記連通孔が前記パッド部に開口している請求項１に記載の基材処理装置。 The base material processing device according to claim 1, wherein the tool has a pad portion provided at a tip of the hollow shaft for processing the base material, and the communication hole of the hollow shaft is opened to the pad portion. .. 前記パッド部は、スポンジを含んで構成される請求項２に記載の基材処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 2, wherein the pad portion includes a sponge. 前記処理液は、前記基材を洗浄する洗浄液である請求項２又は請求項３に記載の基材処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 2 or 3, wherein the processing liquid is a cleaning liquid for cleaning the substrate. 前記処理液は、研磨砥粒を含む研磨液である請求項２又は請求項３に記載の基材処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 2, wherein the processing liquid is a polishing liquid containing polishing abrasive grains. 前記パッド部は、前記基材との当接面が研磨砥粒を含んで構成される請求項２又は請求項３に記載の基材処理装置。 The base material processing device according to claim 2, wherein the pad portion has a contact surface with the base material containing abrasive grains. 前記加工ヘッドは、前記ツールの前記中空軸を軸方向に移動自在に支持するスライド支持部と、前記スライド支持部による前記ツールのスライド範囲で前記ツールを前記軸方向に沿って付勢する弾性部材と、を備える請求項１〜請求項６のいずれか一項に記載の基材処理装置。 The processing head includes a slide support portion that supports the hollow shaft of the tool so as to be movable in the axial direction, and an elastic member that biases the tool along the axial direction within a sliding range of the tool by the slide support portion. The base material processing apparatus according to any one of claims 1 to 6, further comprising: 前記基材支持部は、前記基材の屈曲部の形状に沿った表面形状を有する請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載の基材処理装置。 The base material processing device according to any one of claims 1 to 7, wherein the base material support portion has a surface shape that follows the shape of the bent portion of the base material. 前記基材支持部は、クッション材を介して前記基材を支持する請求項１〜請求項８のいずれか一項に記載の基材処理装置。 The said base material support part is a base material processing apparatus as described in any one of Claims 1-8 which supports the said base material via a cushion material. 前記基材支持部を収容し、前記処理液を貯留する処理液槽を備える請求項１〜請求項９のいずれか一項に記載の基材処理装置。 The base material processing apparatus according to claim 1, further comprising a processing liquid tank that accommodates the base material support portion and stores the processing liquid. 前記処理液供給部は、前記処理液槽に貯留された処理液を前記ツールに供給する請求項１０に記載の基材処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 10, wherein the processing liquid supply unit supplies the processing liquid stored in the processing liquid tank to the tool. 先端に前記基材を吸着保持する吸着部を有する基材吸着ヘッドを備え、
前記基材搬送部は、前記多軸ロボットの先端部に支持された前記加工ヘッドに代えて、前記基材吸着ヘッドを前記先端部に支持させた前記多軸ロボットである請求項１〜請求項１１のいずれか一項に記載の基材処理装置。 A base material adsorption head having an adsorption portion for adsorbing and holding the base material at the tip is provided,
The said base material conveyance part is the said multi-axis robot which supported the said base material adsorption head to the said tip part instead of the said processing head supported by the front end part of the said multi-axis robot. 11. The substrate processing apparatus according to any one of 11. 前記加工ヘッドは、前記基材を支持する基材支持機構を備える請求項１〜請求項１１のいずれか一項に記載の基材処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the processing head includes a substrate supporting mechanism that supports the substrate. 前記基材の表裏面を反転させる基材反転機構を更に備える請求項１〜請求項１３のいずれか一項に記載の基材処理装置。 The base material processing device according to claim 1, further comprising a base material reversing mechanism that reverses the front and back surfaces of the base material. 前記基材反転機構は、
前記基材を立て掛けて支持する立て掛け支持部と、
立て掛けられた前記基材を倒伏させる倒伏駆動部と、
倒伏される前記基材を受け止めて支持する支持部と、
を備える請求項１４に記載の基材処理装置。 The substrate reversing mechanism,
A leaning support portion leaning against and supporting the base material,
A laying drive unit that lays down the base material that has been leaned against,
A support portion for receiving and supporting the base material to be laid down,
The substrate processing apparatus according to claim 14, further comprising: 前記基材は、少なくとも２方向に屈曲した屈曲部を有する請求項１〜請求項１５のいずれか一項に記載の基材処理装置。 The base material processing device according to claim 1, wherein the base material has a bent portion that is bent in at least two directions. 前記基材はガラス板である請求項１〜請求項１６のいずれか一項に記載の基材処理装置。 The substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 16, wherein the substrate is a glass plate.
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JP7439827B2 (en) * 2019-04-15 2024-02-28 Ａｇｃ株式会社 Glass article manufacturing method and manufacturing system

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02256457A (en) * 1989-03-29 1990-10-17 Olympus Optical Co Ltd Polishing device
JPH0446755A (en) * 1990-06-08 1992-02-17 Osaka Kiko Co Ltd Surface polishing device
JPH09183627A (en) * 1996-12-25 1997-07-15 Casio Comput Co Ltd Method for cutting glass and device therefor
JP3678868B2 (en) * 1997-03-11 2005-08-03 日産車体株式会社 Polishing equipment
JP2013112554A (en) * 2011-11-28 2013-06-10 Nippon Electric Glass Co Ltd Glass plate polishing apparatus
DE102012006502A1 (en) * 2012-03-29 2013-10-02 Dula-Werke Dustmann & Co. Gmbh Method for multistage grinding of workpieces, as well as vacuum table, storage container, stripping device and system for carrying out the method
US20140113525A1 (en) * 2012-10-22 2014-04-24 Apple Inc. Methods for finishing surfaces using tool center point shift techniques
JP6270463B2 (en) * 2013-12-25 2018-01-31 川崎重工業株式会社 Grinding method and grinding apparatus
JP2016111264A (en) * 2014-12-09 2016-06-20 株式会社荏原製作所 Buff processing device and substrate processing device
JP6881301B2 (en) * 2015-06-12 2021-06-02 Ａｇｃ株式会社 Glass plate manufacturing method

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