JP6741694B2 - フィッシャー・トロプシュ合成用触媒、フィッシャー・トロプシュ合成用触媒の製造方法及び炭化水素の製造方法 - Google Patents
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Description
コバルト原子の還元度(%)=100×[金属コバルト原子の質量]/[全コバルト原子の質量] …(1)
コバルト原子の還元度(%)=100×[金属コバルト原子の質量]/[全コバルト原子の質量] …(1)
コバルト原子の還元度(%)=100×[金属コバルト原子の質量]/[全コバルト原子の質量] …(1)
未還元触媒は、シリカ及び酸化ジルコニウムを含有する担体と、該担体に担持されたコバルト酸化物と、を含むものであってよい。また、未還元触媒は、シリカ及びジルコニウム化合物を含有する担体前駆体を焼成して得られる担体と、該担体に担持されたコバルト酸化物と、を含むものであってもよい。
本実施形態に係るFT合成用触媒の製造方法は、未還元触媒の還元処理により、FT合成用触媒を得る還元工程を有する。
<未還元触媒の調製>
100℃で24時間乾燥して得られた球状のシリカ粒子(平均粒子径67μm、比表面積255m2/g)に、未還元触媒の全質量を基準としたジルコニウム含量が酸化ジルコニウム換算で5質量%となる量の炭酸ジルコニールアンモニウムを、Insipient Wetness法により含浸させた。炭酸ジルコニールアンモニウム含浸後のシリカ粒子を、空気中、650℃で3時間焼成することで担体を得た。
未還元触媒を固定床反応器内にて水素気流下で還元した。還元に使用した水素ガスのGHSVは600h−1、線速度は17.6mm/sに設定し、触媒層温度を室温から350℃まで12.6℃/minで昇温し、350℃で7時間保持して、FT合成用触媒を得た。
得られたFT合成触媒2.5gを、酸化されないように不活性雰囲気下、ドライボックス中で取り出し、PAO(ポリアルファオレフィン)15ccと共に内容積100ccのステンレス鋼製オートクレーブ型反応器に移した。そして、水素ガス/一酸化ガスが2/1(モル比)の混合ガスを原料とし、W(触媒質量)/F(合成ガス流量)=3g・h/mol、温度220℃、圧力2.2MPa、撹拌速度1,000rpmの条件でフィッシャー・トロプシュ合成反応を開始した。反応器の出口のガス組成をガスクロマトグラフィーで経時的に分析し、この分析データから、一酸化炭素の転化率(CO転化率)を算出した。反応開始から6時間後及び48時間後におけるCO転化率を表1に示す。
還元処理の条件を表1又は表2に示すとおりに変更したこと以外は、実施例1と同様にしてFT合成用触媒の調製を行った。得られたFT合成用触媒における水素吸着量、比C2/C1及びコバルト原子の還元度は、それぞれ表1又は表2に示すとおりであった。得られたFT合成用触媒を用いて、実施例1と同様にFT合成反応を行い、反応開始から6時間後及び48時間後におけるCO転化率を求めた。得られた結果を表1及び表2に示す。
還元処理に際し、反応器を固定床反応器からロータリーキルンに変更し、還元処理の条件を表2に示すとおりに変更したこと以外は、実施例1と同様にしてFT合成用触媒の調製を行った。得られたFT合成用触媒における水素吸着量、比C2/C1及びコバルト原子の還元度は、それぞれ表2に示すとおりであった。得られたFT合成用触媒を用いて、実施例1と同様にFT合成反応を行い、反応開始から6時間後及び48時間後におけるCO転化率を求めた。得られた結果を表2に示す。
還元処理の条件を表3に示すとおりに変更したこと以外は、実施例1と同様にしてFT合成用触媒の調製を行った。得られたFT合成用触媒における水素吸着量、比C2/C1及びコバルト原子の還元度は、それぞれ表3に示すとおりであった。得られたFT合成用触媒を用いて、実施例1と同様にFT合成反応を行い、反応開始から6時間後及び48時間後におけるCO転化率を求めた。得られた結果を表3に示す。
還元処理に際し、反応器を固定床反応器からロータリーキルンに変更し、還元処理の条件を表3又は表4に示すとおりに変更したこと以外は、実施例1と同様にしてFT合成用触媒の調製を行った。得られたFT合成用触媒における水素吸着量、比C2/C1及びコバルト原子の還元度は、それぞれ表3又は表4に示すとおりであった。得られたFT合成用触媒を用いて、実施例1と同様にFT合成反応を行い、反応開始から6時間後及び48時間後におけるCO転化率を求めた。得られた結果を表3又は表4に示す。
還元処理の条件を表5に示すとおりに変更したこと以外は、実施例1と同様にしてFT合成用触媒の調製を行った。得られたFT合成用触媒における水素吸着量、比C2/C1及びコバルト原子の還元度は、それぞれ表5に示すとおりであった。得られたFT合成用触媒を用いて、実施例1と同様にFT合成反応を行い、反応開始から6時間後及び48時間後におけるCO転化率を求めた。得られた結果を表5に示す。
Claims (10)
- シリカ及び酸化ジルコニウムを含有する担体と該担体に担持されたコバルト酸化物とを含む未還元触媒の還元物からなり、
100℃における単位質量当たりの水素吸着量が0.60ml/g以上であり、
前記未還元触媒のTPR測定を行ったときのメインピークのピークトップからピーク終点までの温度範囲における水素消費量をC1、前記還元物のTPR測定を行ったときのメインピークのピークトップからピーク終点までの温度範囲における水素消費量をC2としたとき、比C2/C1が0.01〜0.13である、
フィッシャー・トロプシュ合成用触媒。 - 式(1)で表されるコバルト原子の還元度が80〜95%である、請求項1に記載のフィッシャー・トロプシュ合成用触媒。
コバルト原子の還元度(%)=100×[金属コバルト原子の質量]/[全コバルト原子の質量] …(1) - 前記未還元触媒における酸化ジルコニウムの含有量が、前記未還元触媒の全質量を基準として、0.01〜7質量%である、請求項1又は2に記載のフィッシャー・トロプシュ合成用触媒。
- フィッシャー・トロプシュ合成用触媒を製造する方法であって、
未還元触媒の還元処理により、前記フィッシャー・トロプシュ合成用触媒を得る還元工程を有し、
前記未還元触媒が、シリカ及びジルコニウム化合物を含有する担体前駆体を焼成して得られる担体と、該担体に担持されたコバルト酸化物と、を含有し、
前記フィッシャー・トロプシュ合成用触媒の100℃における単位質量当たりの水素吸着量が0.60ml/g以上であり、
前記未還元触媒のTPR測定を行ったときのメインピークのピークトップからピーク終点までの温度範囲における水素消費量をC1、前記フィッシャー・トロプシュ合成用触媒のTPR測定を行ったときのメインピークのピークトップからピーク終点までの温度範囲における水素消費量をC2としたとき、比C2/C1が0.01〜0.13である、
製造方法。 - 前記フィッシャー・トロプシュ合成用触媒は、式(1)で表されるコバルト原子の還元度が80〜95%である、請求項4に記載の製造方法。
コバルト原子の還元度(%)=100×[金属コバルト原子の質量]/[全コバルト原子の質量] …(1) - 前記未還元触媒のジルコニウム含量が、前記未還元触媒の全質量を基準として、酸化ジルコニウム換算で0.01〜7質量%である、請求項4又は5に記載の製造方法。
- 前記還元工程において、前記未還元触媒に還元ガスを接触させつつ、昇温速度50℃/分未満で340〜385℃の還元温度まで昇温し、前記還元温度で4〜20時間保持して、前記未還元触媒の還元処理を行う、請求項4〜6のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記還元工程において、GHSVが200〜1200h−1、線速度が20mm/s未満の条件で、前記未還元触媒に還元ガスを接触させる、請求項4〜7のいずれか一項に記載の製造方法。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載のフィッシャー・トロプシュ合成用触媒の存在下、一酸化炭素と水素ガスとを反応させて炭化水素を得る工程を有する、炭化水素の製造方法。
- 請求項4〜8のいずれか一項に記載の製造方法により製造されたフィッシャー・トロプシュ合成用触媒の存在下、一酸化炭素と水素ガスとを反応させて炭化水素を得る工程を有する、炭化水素の製造方法。
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