JP6718216B2 - Method and apparatus for coating substrate - Google Patents

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    • B05D3/107Post-treatment of applied coatings

Description

本発明は、ラッカーで基板を被覆する方法と、基板にラッカーを塗布するための被覆装置に関する。 The present invention relates to a method for coating a substrate with a lacquer and a coating device for applying the lacquer to the substrate.

マイクロ加工プロセスおよびナノ加工プロセスは、一般に、処理される基板の上に層として塗布されるラッカーを使用する。それらのラッカーを用いて、基板の上に例えばマスクを形成することが可能となり、これを用いて、所望の構造が形成でき、または基板上で処理が達成される。この目的のために、ラッカーは例えば感光性で、光学画像を用いて、所望の構造が、フォトマスクから感光性ラッカーに転写される。 Microfabrication and nanofabrication processes generally use a lacquer applied as a layer on the substrate to be treated. These lacquers can be used, for example, to form masks on the substrate, which can be used to form the desired structures or to achieve processing on the substrate. For this purpose, the lacquer is, for example, light-sensitive, and the desired structure is transferred from the photomask to the light-sensitive lacquer using an optical image.

最適の結果を得るために、塗布されたラッカー層には不規則(凹凸)や粒子が無いことが非常に重要である。回転する方法に加えて、スプレー(噴霧)する方法がまた、基板上にラッカーを塗布するために使用され、このスプレー方法では、ラッカーはノズル手段により基板上に噴霧される。特に、基板が地形分布(topography)を有する場合、すなわち基板自体が既に表面上に垂直で3次元の構造を有する場合、最も均質になりそうなラッカー層は、スプレーオンラッカー(spraying-on the lacquer)の方法によってのみ経済的に達成できる。 For optimum results, it is very important that the applied lacquer layer is free of irregularities (grains) and particles. In addition to spinning methods, spraying methods are also used for applying lacquer on a substrate, in which spraying method the lacquer is sprayed onto the substrate by means of a nozzle. Especially if the substrate has a topography, ie if the substrate itself already has a vertical, three-dimensional structure on the surface, the most likely homogeneous lacquer layer is the spraying-on the lacquer. Can only be achieved economically.

しかしながら、ラッカーをスプレーした場合、ラッカー層の上にラッカー粒子が形成されるが、ノズルと基板との間を飛んでいる最中に所定の数のラッカー滴は乾燥し、殆ど乾燥したラッカー粒子として、基板の表面またはその位置に存在するラッカーに衝突する。それらのラッカー粒子は、スプレーオンラッカー層の上に集まり、例えば露光のような更なる処理の間に問題となり、最後に作製された基板の上で部分的な欠陥となる。 However, when sprayed with lacquer, lacquer particles are formed on the lacquer layer, but a certain number of lacquer drops dry during flight between the nozzle and the substrate, leaving almost dry lacquer particles. , Lacquer present on or at the surface of the substrate. The lacquer particles collect on the spray-on lacquer layer and become a problem during further processing, for example exposure, and become a partial defect on the finally produced substrate.

本発明の目的は、基板上に塗布されたラッカー層が均一でラッカー粒子を有さない方法および装置を提供することである。 It is an object of the invention to provide a method and a device in which the lacquer layer applied on the substrate is uniform and free of lacquer particles.

この目的は、ラッカーが基板上に噴霧され、次に基板上に塗布されたラッカーに溶剤が噴霧される、ラッカーで基板を被覆する方法で達成される。 This object is achieved by a method of coating a substrate with a lacquer, in which the lacquer is sprayed on the substrate and then the lacquer applied on the substrate is sprayed with a solvent.

続いて、塗布されたラッカーに溶剤を噴霧することにより、基板上に形成された不規則が平坦化され、基板に付着したラッカー粒子が分解され、基板の表面が平坦で(少なくとも本質的に)ラッカー粒子がなくなる。 Subsequent spraying of a solvent onto the applied lacquer flattens the irregularities formed on the substrate, decomposes the lacquer particles adhering to the substrate and makes the surface of the substrate flat (at least essentially). The lacquer particles are gone.

この文脈の「ラッカー(lacquer)」の用語は、所望の応用に適した溶剤とラッカーの混合物であると理解される。 The term "lacquer" in this context is understood to be a mixture of solvent and lacquer suitable for the desired application.

好適には、溶剤は塗布されたラッカーの上に部分的に噴霧され、これによりラッカーの制御された後処理を可能にする。 Preferably, the solvent is partly sprayed onto the applied lacquer, which allows a controlled aftertreatment of the lacquer.

1つの具体例では、ラッカーの噴霧と、塗布されたラッカーへの溶剤の塗布と間に、塗布されたラッカーの溶剤比率が減少して、塗布されたラッカーは固定される。ここで「固定する(set)」の用語は、塗布されたラッカーの粘度が増加して、さらなる処理まで塗布されたラッカーがもはや流れないことを意味すると理解される。特に、基板が地形形状を有する場合、ラッカーを固定して、基板のエッジやスロープをラッカーで信頼できるように覆ったままに維持することは重要である。 In one embodiment, between the spraying of the lacquer and the application of the solvent to the applied lacquer, the solvent ratio of the applied lacquer is reduced and the applied lacquer is fixed. The term "set" is understood here to mean that the viscosity of the applied lacquer increases and the applied lacquer no longer flows until further processing. Especially when the substrate has a topographical shape, it is important to fix the lacquer and keep the edges and slopes of the substrate reliably covered by the lacquer.

溶剤を塗布するまでおよび塗布する間、塗布されたラッカーの溶剤比率は、一方では、塗布されたラッカーの粘度が十分に高くてラッカーがこれ以上流れないことを確実にするような範囲に維持しなければならない。他方では、溶剤比率は、溶剤の噴霧中に、ラッカー粒子や不規則がもはや分解や平坦化されない程度にまで低減してはいけない。 Until and during the application of the solvent, the solvent ratio of the applied lacquer should, on the one hand, be kept in a range which ensures that the viscosity of the applied lacquer is sufficiently high to prevent the lacquer from flowing any more. There must be. On the other hand, the solvent proportion should not be reduced to such an extent that during spraying of the solvent the lacquer particles and irregularities are no longer decomposed or flattened.

好適には、基板および/または塗布されたラッカーは、ラッカーの噴霧中におよび/または噴霧後に加熱され、これにより塗布されたラッカーの溶剤比率は簡単な方法で減らすことができる。 The substrate and/or the applied lacquer are preferably heated during and/or after spraying the lacquer, whereby the solvent proportion of the applied lacquer can be reduced in a simple manner.

本発明の1つの具体例では、予め決められたスプレーパターンに従って、好ましくは並行に、基板上にラッカーが塗布され、ここでは、溶剤も同様にスプレーパターンに従って塗布されたラッカーの上に噴霧される。これにより、塗布されたラッカーに確実に溶剤が噴霧される。 In one embodiment of the invention, the lacquer is applied to the substrate according to a predetermined spray pattern, preferably in parallel, where the solvent is also sprayed onto the lacquer, which is also applied according to the spray pattern. .. This ensures that the applied lacquer is sprayed with the solvent.

好適には、基板の上の位置にラッカーが塗布される時点と、この位置に溶剤が塗布される時点の間の時間は一定で、これにより溶剤が塗布された場合に、塗布されたラッカーは常に同じ溶剤比率を有することが確実になる。 Preferably, the time between the time when the lacquer is applied on the position on the substrate and the time when the solvent is applied at this position is such that when the solvent is applied, the applied lacquer is It ensures that they always have the same solvent ratio.

本発明の1つの具体例では、ラッカーは、ラッカーノズルの手段で基板上に噴霧され、溶剤は、ラッカーノズルから分離された溶剤ノズルの手段を用いて噴霧され、これにより、基板は迅速で効果的にラッカーで塗布できる。 In one embodiment of the invention, the lacquer is sprayed on the substrate by means of a lacquer nozzle and the solvent is sprayed by means of a solvent nozzle separated from the lacquer nozzle, which makes the substrate quick and effective. Can be lacquered.

好適には、ラッカーノズルと溶剤ノズルは、基板の上方を、基板に対して並行に、特に同時に動かされ、2つのノズルに対して1つの駆動メカニズムが必要となる。 Preferably, the lacquer nozzle and the solvent nozzle are moved above the substrate in parallel to the substrate, in particular simultaneously, requiring one drive mechanism for the two nozzles.

好適な具体例では、ラッカーノズルと溶剤ノズルが移動する場合、溶剤ノズルはラッカーノズルの経路に従い、これにより、噴霧されたラッカーに、続いて溶剤が噴霧されるのを確実にするように設定される。 In a preferred embodiment, when the lacquer nozzle and the solvent nozzle move, the solvent nozzle follows the path of the lacquer nozzle, which is set to ensure that the sprayed lacquer is subsequently sprayed with solvent. It

1つの具体例の変形では、ラッカーノズルと溶剤ノズルは、基板に並行な少なくとも1つの面内を、基板の上方の並行な経路で移動し、ここでは、ラッカーノズルと溶剤ノズルとの間の距離は、経路の間の距離の2倍または整数倍で、これにより、一方で、簡単な噴霧パターンが使用でき、他方で、溶剤ノズルがラッカーノズルと同じ経路を確実に通るようにする。 In a variation of one embodiment, the lacquer nozzle and the solvent nozzle move in at least one plane parallel to the substrate in parallel paths above the substrate, where the distance between the lacquer nozzle and the solvent nozzle is Is a multiple or integer multiple of the distance between the paths, which on the one hand allows a simple spray pattern to be used and, on the other hand, ensures that the solvent nozzle follows the same path as the lacquer nozzle.

本発明の1つの具体例では、複数のラッカー層が基板上に塗布された場合は、塗布されたラッカーには、最後のラッカー層が塗布された後に溶剤が塗布され、最後の塗布されたラッカー層の不規則およびラッカー粒子が平坦化または除去される。 In one embodiment of the invention, if more than one lacquer layer is applied on the substrate, the applied lacquer is applied with a solvent after the last lacquer layer has been applied and the last applied lacquer. Layer irregularities and lacquer particles are flattened or removed.

最後のラッカー層が塗布された場合、このラッカーは、先に塗布されたラッカー層のラッカーよりも大きな溶剤比率を有することができる。これは、塗布されたラッカーに溶剤が噴霧されるまで、ラッカー粒子および不規則の除去がもはや起こらない程度にまで塗布されたラッカーの溶剤比率が減らないことを確実にする。 If the last lacquer layer is applied, this lacquer can have a higher solvent ratio than the lacquer of the previously applied lacquer layer. This ensures that until the solvent is sprayed onto the applied lacquer, the solvent proportion of the applied lacquer is not reduced to such an extent that lacquer particles and irregular removal no longer occur.

単一のラッカー層が基板上に塗布された場合でも、使用されるラッカーの溶剤比率は、続いて溶剤を噴霧しない従来のスプレーコートプロセスの場合より高くなるように選択される。 Even if a single lacquer layer is applied on the substrate, the solvent proportion of the lacquer used is chosen to be higher than in the conventional spray coating process without subsequent solvent spraying.

本発明の1つの具体例では、塗布されたラッカーの表面の品質を更に改良するために、塗布されたラッカーに繰り返し溶剤が噴霧される。 In one embodiment of the invention, the applied lacquer is repeatedly sprayed with solvent to further improve the surface quality of the applied lacquer.

溶剤は、アセトンまたはメチルエチルケトンでも良く、それゆえに公知の溶剤を使用しても良い。 The solvent may be acetone or methyl ethyl ketone and therefore known solvents may be used.

目的は、また、特に地形形状を有する基板のような基板にラッカーを塗布するための被覆装置により達成され、この装置は、基板ホルダー、ラッカーノズル、溶剤ノズル、および、その上にラッカーノズルと溶剤ノズルが互いに所定の距離で配置される移動装置、を含み、ラッカーノズルと溶剤ノズルは、基板ホルダーの上を、移動装置の手段により、共に移動できる。ラッカーノズルと共に移動できる分離した溶剤ノズルの手段により、基板の上に塗布されたラッカーに、同じ処理工程で溶剤を噴霧することが可能となり、これにより、塗布されたラッカーの上に集められたラッカー粒子を分解し、噴霧中に形成された不規則を平坦化できる。 The object is also achieved by a coating device for applying a lacquer to a substrate, especially a substrate having a topographical feature, which device comprises a substrate holder, a lacquer nozzle, a solvent nozzle, and a lacquer nozzle and a solvent thereon. A moving device in which the nozzles are arranged at a predetermined distance from one another, the lacquer nozzle and the solvent nozzle being able to move together on the substrate holder by means of the moving device. By means of a separate solvent nozzle, which can be moved with the lacquer nozzle, it is possible to spray the solvent onto the lacquer applied on the substrate in the same process step, whereby the lacquer collected on the applied lacquer. The particles can be broken down and the irregularities formed during spraying can be flattened.

好適には、被覆装置は加熱装置を含み、特に基板ホルダーが加熱要素を備え、これにより簡単な方法で、塗布されたラッカーの溶剤比率を減らすことができる。 Preferably, the coating device comprises a heating device, in particular the substrate holder is provided with a heating element, which makes it possible in a simple manner to reduce the solvent proportion of the applied lacquer.

1つの具体例では、移動装置が、基板ホルダーに平行な少なくとも1つの面の中を、基板ホルダーの上方の平行な経路で、ラッカーノズルと溶剤ノズルを動かし、ラッカーノズルと溶剤ノズルとの間の距離は、経路の間の距離の2倍または整数倍に等しい。 In one embodiment, the transfer device moves the lacquer nozzle and the solvent nozzle in a parallel path above the substrate holder in at least one plane parallel to the substrate holder and between the lacquer nozzle and the solvent nozzle. The distance is equal to twice or an integral multiple of the distance between the paths.

経路の間の距離は、覆われる基板上で、ラッカーノズルにより形成されたラッカージェットの直径におおよそ対応し、これにより基板上にどの位置も残されたり、繰り返し噴霧されたりすることの無いような特別に効果的な方法で、基板を塗布することが可能となる。 The distance between the paths corresponds roughly to the diameter of the lacquer jet formed by the lacquer nozzle on the substrate to be covered, so that no position is left on the substrate or it is repeatedly sprayed. The substrate can be applied in a particularly effective way.

ラッカーノズルと溶剤ノズルが平行な経路を移動する間に、それらは、溶剤ノズルとラッカーノズルの双方またはノズルにより形成された双方のジェットが基板のエッジに到達し、またはすでにエッジを超えて移動した場合に、経路の間の距離だけ、経路の長手方向に対して好適には横方向に互いに置き換えられる。 While the lacquer nozzle and the solvent nozzle traveled in parallel paths, they were moved by both the solvent nozzle and the lacquer nozzle, or both jets formed by the nozzle, to the edge of the substrate or already beyond the edge. In this case, the distances between the paths are replaced by one another, preferably transversely to the longitudinal direction of the paths.

隣り合う経路は、それぞれ互いに逆の移動方向である。 Adjacent routes have opposite movement directions.

更なる長所と特徴は、以下の記載および参照される添付された図面から明らかになるであろう。図面は以下の通りである。 Further advantages and features will be apparent from the following description and the accompanying drawings referred to. The drawings are as follows:

本発明にかかる被覆装置の側面図を模式的に示す。The side view of the coating device concerning this invention is shown typically. 図1の被覆装置の平面図を模式的に示す。The top view of the coating device of FIG. 1 is shown typically. 本発明にかかる方法で、時間の異なる点における、被覆される基板の断面図をa〜cに模式的に示す。In the method according to the present invention, sectional views of a substrate to be coated at different points in time are schematically shown in ac.

図1は、基板を被覆し取り扱うために使用される、被覆装置10を模式的に示す。基板は、例えば続いて更なる処理が行われる半導体である。 FIG. 1 schematically illustrates a coating apparatus 10 used to coat and handle a substrate. The substrate is, for example, a semiconductor which is subsequently processed further.

被覆装置10は、基板ホルダー12および移動装置14を含む。 The coating device 10 includes a substrate holder 12 and a moving device 14.

基板ホルダー12の上には、被覆装置10を用いてラッカーが被覆される基板16が配置される。 On the substrate holder 12 is placed a substrate 16 to be coated with lacquer using the coating device 10.

基板ホルダー12は、好適には被覆装置10のための加熱装置を構成する加熱要素18を備える。 The substrate holder 12 comprises a heating element 18, which preferably constitutes a heating device for the coating device 10.

加熱要素は、基板16を加熱し、これにより基板上に塗布されたラッカーを加熱するために使用される。 The heating element is used to heat the substrate 16 and thereby the lacquer applied on the substrate.

移動装置14は、2つのノズル、すなわちラッカーノズル20と溶剤ノズル22とを備え、これらは互いに所定の間隔で配置される。距離は、ラッカーノズル20と溶剤ノズル22との出口開口部の間の距離である。 The transfer device 14 comprises two nozzles, a lacquer nozzle 20 and a solvent nozzle 22, which are arranged at a predetermined distance from each other. The distance is the distance between the outlet openings of the lacquer nozzle 20 and the solvent nozzle 22.

ラッカーノズル20と溶剤ノズル22は、基板16の上方に配置され、すなわち基板ホルダー12に面して、基板から離れて配置される。これにより、ラッカーノズル20と溶剤ノズル22は、基板ホルダー12の上方に配置される。 The lacquer nozzle 20 and the solvent nozzle 22 are arranged above the substrate 16, ie facing the substrate holder 12 and away from the substrate. As a result, the lacquer nozzle 20 and the solvent nozzle 22 are arranged above the substrate holder 12.

移動装置14は、また、アクチュエータ24を含み、これを用いてラッカーノズル20と溶剤ノズル22を動かすことができる。 The transfer device 14 also includes an actuator 24, which can be used to move the lacquer nozzle 20 and the solvent nozzle 22.

示された具体例では、ラッカーノズル20と溶剤ノズル22は、移動装置14を用いて、空間に拡がる3つの軸X、Y、Zに沿って、基板16および基板ホルダー12の上方を移動し、特にX軸およびY軸により拡がる面の中で移動できる。必要な場合、ノズルと基板との間の距離が変化するように、すなわち、ノズルが基板に対してZ方向に調整されるように、更に準備がなされる。 In the embodiment shown, the lacquer nozzle 20 and the solvent nozzle 22 are moved above the substrate 16 and the substrate holder 12 by means of the movement device 14 along three axes X, Y, Z which extend into the space, In particular, it can move in a plane that is expanded by the X and Y axes. If necessary, further provision is made so that the distance between the nozzle and the substrate is changed, ie the nozzle is adjusted in the Z direction with respect to the substrate.

特に、ラッカーノズル20と溶剤ノズル22は、ノズル20、22の間の距離が変わらないように、移動蔵置14の上で固定配置される。しかしながら、距離を可動にして、被覆装置10をよりフレキシブルに使用することも実行可能である。 In particular, the lacquer nozzle 20 and the solvent nozzle 22 are fixedly arranged on the moving store 14 so that the distance between the nozzles 20, 22 does not change. However, it is also feasible to make the distance movable and to use the coating device 10 more flexibly.

基板16を被覆するために、ラッカーノズル20を用いて、基板16の上にラッカーが最初に噴霧される。図3aには、ラッカーが噴霧される前の基板16が部分的に示される。 To coat the substrate 16, a lacquer nozzle 20 is used to first spray the lacquer onto the substrate 16. In FIG. 3a, the substrate 16 is shown partially before the lacquer has been sprayed.

図3bでは、ラッカーノズル20は、図3aに示される位置を通って、基板16の上のこの位置にラッカーが噴霧される。ラッカー層26が基板16の上に形成される。 In Figure 3b, the lacquer nozzle 20 has been sprayed with lacquer at this location on the substrate 16 through the location shown in Figure 3a. A lacquer layer 26 is formed on the substrate 16.

しかしながら、ラッカー層26、すなわち塗布されたラッカーは、基板16の噴霧中に形成された不規則28およびラッカー粒子30を有する。 However, the lacquer layer 26, ie the applied lacquer, has irregularities 28 and lacquer particles 30 formed during the spraying of the substrate 16.

基板16の上に形成されたラッカーが流れるのを防止するために、基板16とそれゆえに基板16の上に形成されたラッカー層26が加熱される。この結果、ラッカーから溶剤が蒸発し、ラッカーの溶剤比率が減り、ラッカーの粘度が増える。これにより形成されたラッカーが固定される。 To prevent the lacquer formed on the substrate 16 from flowing, the substrate 16 and thus the lacquer layer 26 formed on the substrate 16 is heated. As a result, the solvent evaporates from the lacquer, the solvent ratio of the lacquer decreases and the viscosity of the lacquer increases. The lacquer thus formed is fixed.

「固定(set)」の用語は、ラッカーが完全に乾燥することを意味せず、むしろ望まない方法でもはや流れない程度に、単にその流動性が減らされることを意味する。特に、急勾配のエッジやスロープを有する縦の地形形状を有する基板の場合、塗布されたラッカーが可能な限り迅速に固定し、塗布されたラッカーがエッジやより高い位置から流れずに、それらの位置に殆どラッカーが無いか、ラッカーが全く無い状態で残される。 The term "set" does not mean that the lacquer is completely dry, but rather that its flowability is reduced to such a degree that it no longer flows in an undesired way. Especially in the case of substrates with vertical terrain features with steep edges and slopes, the applied lacquer will settle as quickly as possible and the applied lacquer will not flow from the edges or higher and Almost no lacquer in position or left with no lacquer.

ラッカーが基板16の上に噴霧された後、ラッカーノズル20から分離された溶剤ノズル22は、丁度ラッカーが塗布された位置を通り、ラッカー層26の上に溶剤を噴霧する。 After the lacquer has been sprayed onto the substrate 16, a solvent nozzle 22 separated from the lacquer nozzle 20 sprays the solvent onto the lacquer layer 26, just past the location where the lacquer was applied.

溶剤ノズル22により形成された溶剤ジェットは、ラッカー層26が局所的に、すなわち所定の位置に、溶剤が噴霧されるような、制限された直径を有する。 The solvent jet formed by the solvent nozzle 22 has a limited diameter such that the lacquer layer 26 is sprayed with solvent locally, i.e. in place.

基板16の一つの位置にラッカーが噴霧された時点と、この位置に溶剤が噴霧された時点との間の時間は、基板16のそれぞれの位置において一定である。 The time between the time when the lacquer is sprayed on one position of the substrate 16 and the time when the solvent is sprayed on this position is constant at each position of the substrate 16.

噴霧された溶剤の効力により、ラッカー層26の上に存在するラッカー粒子30は分解され、ラッカー層26と均一に結合する。さらに、ラッカー層26の不規則28も平坦化される。 Due to the effect of the sprayed solvent, the lacquer particles 30 present on the lacquer layer 26 are decomposed and uniformly bond with the lacquer layer 26. Furthermore, the irregularities 28 of the lacquer layer 26 are also planarized.

これにより、図3cに示すような、平坦なラッカー層26が形成される。 This forms a flat lacquer layer 26, as shown in Figure 3c.

基板16の上にラッカーを噴霧するために、ラッカーノズル20は基板16の上方を移動する。移動は予め決められた経路に従い、ラッカーノズル20は、これにより予め決められたスプレーパターンを移動する。 The lacquer nozzle 20 moves above the substrate 16 to spray the lacquer onto the substrate 16. Movement follows a predetermined path, which causes the lacquer nozzle 20 to move in a predetermined spray pattern.

溶剤ノズル22は、ラッカーノズル20と同時に移動するが、距離aだけオフセットされている。ラッカーノズル20に対する溶剤ノズル22の位置、特に距離aは、スプレーパターンに一致するように選択され、溶剤ノズル22はラッカーノズル20の経路に従い、これにより同じスプレーパターンを移動する。 The solvent nozzle 22 moves simultaneously with the lacquer nozzle 20, but is offset by a distance a. The position of the solvent nozzle 22 relative to the lacquer nozzle 20, in particular the distance a, is chosen to match the spray pattern, so that the solvent nozzle 22 follows the path of the lacquer nozzle 20, thereby moving the same spray pattern.

基板16の上方で、溶剤ノズル22の経路がラッカーノズル20の経路に対応すれば十分である。 It is sufficient for the path of the solvent nozzle 22 to correspond to the path of the lacquer nozzle 20 above the substrate 16.

これにより、ラッカーおよび溶剤は、同じスプレーパターンで塗布される。 This causes the lacquer and solvent to be applied in the same spray pattern.

ありそうなスプレーパターンを記載するために、塗布される基板16、ラッカーノズル20、および溶液ノズル22が、図2の平面図に記載される。明確化の理由から、移動装置14は示されない。 To describe the likely spray pattern, the substrate 16 to be applied, the lacquer nozzle 20, and the solution nozzle 22 are described in the plan view of FIG. For clarity reasons, mobile device 14 is not shown.

破線はラッカーノズル20の経路を示し、点線は溶液ノズル22の経路を示す。被覆手順の最初の、ラッカーノズル20と溶液ノズル22の位置が、矩形で示される。被覆手順の最後のラッカーノズル20と溶剤ノズル22の位置は、破線と点線の矩形でそれぞれ示される。 The broken line shows the path of the lacquer nozzle 20, and the dotted line shows the path of the solution nozzle 22. The positions of the lacquer nozzle 20 and the solution nozzle 22 at the beginning of the coating procedure are indicated by rectangles. The positions of the lacquer nozzle 20 and the solvent nozzle 22 at the end of the coating procedure are indicated by dashed and dotted rectangles, respectively.

ラッカーノズル20と溶剤ノズル22は、基板16または基板ホルダー12の上方の平行な経路Bで、移動装置14により移動する。 The lacquer nozzle 20 and the solvent nozzle 22 are moved by the moving device 14 in a parallel path B above the substrate 16 or the substrate holder 12.

移動は、基板156または基板ホルダー12と平行な面、例えばX軸とY軸に拡がる面で行われる。 The movement is performed on a surface parallel to the substrate 156 or the substrate holder 12, for example, a surface extending in the X axis and the Y axis.

Z軸に沿ったノズル20、22の高さは、被覆される基板16の上で、ラッカーノズル20により形成されるラッカージェットの直径におおよそ対応する、経路Bの間の距離で選択される。 The height of the nozzles 20, 22 along the Z-axis is chosen above the substrate 16 to be coated, at a distance between the paths B which roughly corresponds to the diameter of the lacquer jet formed by the lacquer nozzle 20.

溶剤ノズル22により形成される溶剤ジェットの直径は、好適には、基板16の上で、ラッカージェットと同じ直径を有する。 The diameter of the solvent jet formed by the solvent nozzle 22 preferably has the same diameter on the substrate 16 as the lacquer jet.

図2に示す具体例では、ラッカーノズル20と溶剤ノズル22との間の距離は、距離bのおおよそ2倍に対応する。 In the example shown in FIG. 2, the distance between the lacquer nozzle 20 and the solvent nozzle 22 corresponds to approximately twice the distance b.

もちろん、距離aは、距離bの異なる整数倍でも良い。 Of course, the distance a may be an integral multiple of the distance b.

経路Bは、交互に、反対方向に移動し、例えばY軸に平行に移動する。隣り合う経路Bは、互いに、反対の移動方向に移動する。 The path B alternately moves in the opposite direction, for example parallel to the Y axis. Adjacent paths B move in mutually opposite movement directions.

ラッカーノズル20と溶剤ノズル22、またはノズル20、22により形成されるジェットが基板16のエッジに到達するか、または基板16のエッジを超えて移動するとすぐに、Y方向の移動が停止し、2つのノズル20、22は、X軸に沿った、経路Bの間の距離bだけ、オフセットされる。 As soon as the jets formed by the lacquer nozzle 20 and the solvent nozzle 22, or the nozzles 20, 22 reach the edge of the substrate 16 or move beyond the edge of the substrate 16, the movement in the Y direction stops and the The two nozzles 20, 22 are offset by the distance b between the paths B along the X axis.

続いて、ノズル20、22はY方向の先の移動とは反対の方向に、ラッカーノズル20と溶剤ノズル22またはノズル20、22で形成されるジェットが、基板16のエッジに到達するか、またはこれを超えるまで、同様にY軸に沿って移動する。 Subsequently, the nozzles 20, 22 are directed in the opposite direction of the previous movement in the Y-direction such that the lacquer nozzle 20 and the solvent nozzle 22 or the jet formed by the nozzles 20, 22 reach the edge of the substrate 16, or Until this is exceeded, it also moves along the Y axis.

溶剤ノズル22の移動は、距離aとbの比により規定されて、ラッカーノズル20の移動と同じ経路Bに沿って行われ、溶剤ノズル22は、ラッカーノズル20の経路に従う。 The movement of the solvent nozzle 22 is defined by the ratio of the distances a and b and follows the same path B as the movement of the lacquer nozzle 20, which follows the path of the lacquer nozzle 20.

塗布手順は、ラッカーノズル20および溶剤ノズル22が、基板16の上を完全に通り過ぎるとすぐに終了する。これは、ラッカーまたは溶剤のジェットが、基板16の表面全体の上を通ることを意味する。 The coating procedure ends as soon as the lacquer nozzle 20 and the solvent nozzle 22 have completely passed over the substrate 16. This means that a jet of lacquer or solvent passes over the entire surface of substrate 16.

ラッカーノズル20および溶剤ノズル22は、破線および点線の矩形でそれぞれ図2に表すような、それらの最終位置に配置される。 The lacquer nozzle 20 and the solvent nozzle 22 are arranged in their final position as represented in FIG. 2 by dashed and dotted rectangles, respectively.

ラッカーノズル20が溶剤ノズル22に固く結合されているという事実の長所により、記載された具体例では、溶剤ノズル22の最初の2つの経路Bは、塗布手順の最初において、基板16または基板ホルダー12に隣接する平面図の中に延び、一方、ラッカーノズル20の最後の2つの経路Bは、塗布手順の最後において、基板16または基板ホルダー12に隣接する平面図の中に延びる。 Due to the advantage of the fact that the lacquer nozzle 20 is rigidly connected to the solvent nozzle 22, in the described embodiment the first two paths B of the solvent nozzle 22 are the substrate 16 or the substrate holder 12 at the beginning of the coating procedure. In the plan view adjacent to, while the last two paths B of the lacquer nozzle 20 extend in the plan view adjacent to the substrate 16 or the substrate holder 12 at the end of the coating procedure.

ラッカーノズル20と溶剤ノズル22が基板の上を移動する間、ラッカーはラッカーノズル20から噴霧され、溶剤は溶剤ノズル22から噴霧される。 The lacquer is sprayed from the lacquer nozzle 20 and the solvent is sprayed from the solvent nozzle 22 while the lacquer nozzle 20 and the solvent nozzle 22 move over the substrate.

ラッカーは、溶剤と純粋なラッカーとの混合物、例えばフォトレジストであり、「ラッカー(lacquer)」の用語は、ラッカーと溶剤の混合物を意味すると理解される。 Lacquer is a mixture of solvent and pure lacquer, for example photoresist, the term "lacquer" is understood to mean a mixture of lacquer and solvent.

使用される溶剤は、アセトンまたはメチルケトンである。しかしながら、使用されるラッカーを分解できる他の溶剤または溶剤の混合物も実行可能である。 The solvent used is acetone or methyl ketone. However, other solvents or mixtures of solvents which can decompose the lacquer used are also feasible.

好適には、ラッカーノズル20と溶剤ノズル22は、それらにより形成されるジェットが、基板の上で重ならないように配置される。逆に、ジェットは互いに隣接しても良い。 Preferably, the lacquer nozzle 20 and the solvent nozzle 22 are arranged such that the jets formed by them do not overlap on the substrate. Conversely, the jets may be adjacent to each other.

さらに、ラッカーノズル20と溶剤ノズル22が、基板16または基板ホルダー12の上を移動する間、基板ホルダー12は加熱要素18により加熱されても良い。この方法では、基板16とすでにその上に噴霧されたラッカー層が加熱される。 Further, the substrate holder 12 may be heated by the heating element 18 while the lacquer nozzle 20 and the solvent nozzle 22 move over the substrate 16 or the substrate holder 12. In this method, the substrate 16 and the lacquer layer already sprayed onto it are heated.

記載した被覆手順と、特に実際に説明したスプレーパターンは、単に例示の方法によるものと理解される。例えば、溶剤ノズル22が直接ラッカーノズル20に従うことも可能である。この場合、それらが配置されるキャリアは、それぞれの経路の終わりで180°だけ回転し、続く経路において、溶剤ノズル22が、ラッカーノズル20の背後に配置されなければならない。 The coating procedure described, and in particular the spray pattern described in practice, is understood to be merely by way of example. For example, the solvent nozzle 22 can directly follow the lacquer nozzle 20. In this case, the carriers in which they are arranged rotate by 180° at the end of their respective paths, in the following path the solvent nozzles 22 must be arranged behind the lacquer nozzles 20.

ラッカー層26の上のラッカー粒子30の数と不規則28を更に減らすために、塗布されたラッカーに対して溶剤を繰り返す噴霧することもまた実施可能である。 Repeated spraying of the solvent on the applied lacquer is also feasible in order to further reduce the number of lacquer particles 30 and the irregularities 28 on the lacquer layer 26.

同様に、ラッカーと溶剤が、同じノズルから噴霧されることも、設定可能である。この場合、ノズルは基板の上を繰り返し移動し、ラッカーは1つの経路で噴霧され、溶剤は他の経路で噴霧される。 It is likewise possible that the lacquer and the solvent are sprayed from the same nozzle. In this case, the nozzle repeatedly moves over the substrate, the lacquer being sprayed in one pass and the solvent being sprayed in the other pass.

もちろん、基板の上に複数のラッカー層を塗布することも可能である、この場合、塗布されたラッカーは、最後のラッカー層が噴霧された後に、溶剤が噴霧される。 Of course, it is also possible to apply several lacquer layers on the substrate, in which case the applied lacquer is sprayed with the solvent after the last lacquer layer has been sprayed.

最後のラッカー層を噴霧するためのラッカーの溶剤比率は、先に使用されたラッカーの溶剤比率より大きくなるように選択されても良い。 The solvent ratio of the lacquer for spraying the last lacquer layer may be chosen to be higher than the solvent ratio of the previously used lacquer.

一般に、1つの層のラッカーのみが噴霧される場合、続いて溶剤を噴霧しない比較の噴霧プロセスの場合より、ラッカーの溶剤比率は、より大きくなるように選択されても良い。 In general, if only one layer of lacquer is sprayed, the solvent ratio of the lacquer may be chosen to be higher than in a comparative spraying process without subsequent spraying of solvent.

Claims (17)

基板(16)をラッカーで被覆する方法であって、ラッカーはフォトレジストであり、この方法は、
基板(16)の上方を移動可能なノズル(20)を用いて、基板(16)の上にラッカーを噴霧する工程であって、移動は予め決められた経路に従い、ノズル(20)はこれにより予め決められたスプレーパターンの上を移動する工程と、
続いて、移動可能なノズル(22)を用いて、基板(16)に塗布されたラッカーに溶剤を噴霧する工程と、を含み、
溶剤は、塗布されたラッカーの上に局所的に噴霧されることを特徴とする方法。
A method of coating a substrate (16) with a lacquer, the lacquer being a photoresist, the method comprising:
Spraying lacquer onto the substrate (16) using a nozzle (20) movable above the substrate (16), the movement following a predetermined path, whereby the nozzle (20) is A step of moving over a predetermined spray pattern,
Subsequently, using a movable nozzle (22), viewed including the steps of spraying a solvent lacquer applied to the substrate (16), a
A method characterized in that the solvent is topically sprayed onto the applied lacquer .
ラッカーを噴霧する工程と、塗布されたラッカーに溶剤を噴霧する工程との間に、塗布されたラッカーの溶剤比率が、塗布されたラッカーが固定される程度に減らされることを特徴とする請求項1に記載の方法。 Between the step of spraying the lacquer and the step of spraying the solvent on the applied lacquer, the solvent ratio of the applied lacquer is reduced to such an extent that the applied lacquer is fixed. The method according to 1 . 基板(16)および/または塗布されたラッカーは、ラッカーの噴霧中および/または噴霧後に加熱されることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。 Method according to claim 1 or 2 , characterized in that the substrate (16) and/or the applied lacquer are heated during and/or after spraying of the lacquer. ラッカーは、基板(16)の上に、予め決められたスプレーパターンで、平行な経路(B)で噴霧され、溶剤は、同様に、このスプレーパターンで、塗布されたラッカーの上に噴霧されることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の方法。 The lacquer is sprayed on the substrate (16) in a predetermined spray pattern in parallel paths (B) and the solvent is also sprayed in this spray pattern on the applied lacquer. the method according to any one of claims 1 to 3, characterized in that. 基板の1つの位置にラッカーが噴霧される時点と、この位置に溶剤が噴霧される時点との間の時間は一定であることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の方法。 And when the lacquer in one position of the substrate is sprayed, the method according to any one of claims 1 to 4, the solvent in this position, characterized in that time is constant between the time it is sprayed. ラッカーは、ラッカーノズル(20)の手段により基板(16)の上に噴霧され、溶剤は、ラッカーノズル(20)から分離された溶剤ノズル(22)の手段により噴霧されることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の方法。 The lacquer is sprayed onto the substrate (16) by means of a lacquer nozzle (20) and the solvent is sprayed by means of a solvent nozzle (22) separated from the lacquer nozzle (20). Item 6. The method according to any one of Items 1 to 5 . ラッカーノズル(20)と溶剤ノズル(22)は、基板(16)の上方を、基板(16)に対して平行に、同時に、移動することを特徴とする請求項に記載の方法。 Method according to claim 6 , characterized in that the lacquer nozzle (20) and the solvent nozzle (22) move above the substrate (16) parallel to the substrate (16) at the same time. ラッカーノズル(20)と溶剤ノズル(22)の移動の間、溶剤ノズル(22)は、ラッカーノズル(20)の経路に従うことを特徴とする請求項に記載の方法。 Method according to claim 7 , characterized in that during movement of the lacquer nozzle (20) and the solvent nozzle (22), the solvent nozzle (22) follows the path of the lacquer nozzle (20). ラッカーノズル(20)と溶剤ノズル(22)は、基板(16)に平行な、少なくとも1つの面内を、基板(16)の上方の平行な経路(B)で移動し、ラッカーノズル(20)と溶剤ノズル(22)との間の距離(a)は、経路(B)の間の距離(b)の2倍または整数倍に等しいことを特徴とする請求項7または8に記載の方法。 The lacquer nozzle (20) and the solvent nozzle (22) move in a parallel path (B) above the substrate (16) in at least one plane parallel to the substrate (16), the lacquer nozzle (20) Method according to claim 7 or 8 , characterized in that the distance (a) between the solvent nozzle (22) and the solvent nozzle (22) is equal to twice or an integer multiple of the distance (b) between the paths (B). 複数のラッカー層が基板(16)の上に塗布される場合、最後のラッカー層が噴霧された後に、塗布された層に溶剤が噴霧されることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の方法。 If more lacquer layer is applied onto the substrate (16), after the last lacquer layer is sprayed, claim 1-9, characterized in that the solvent is sprayed to the coating layer The method described in. 最後のラッカー層が噴霧された場合、ラッカーは、先の噴霧されたラッカー層のラッカーより大きな溶剤比率を有することを特徴とする請求項10に記載の方法。 The method according to claim 10 , characterized in that, when the last lacquer layer is sprayed, the lacquer has a higher solvent ratio than the lacquer of the previously sprayed lacquer layer. 塗布されたラッカーは、溶剤が繰り返し噴霧されることを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載の方法。 Coated lacquers A method according to any one of claims 1 to 11, characterized in that the solvent is repeatedly sprayed. 溶剤は、アセトンまたはメチルケトンであることを特徴とする請求項1〜12のいずれかに記載の方法。 Solvent A method according to any one of claims 1 to 12, characterized in that acetone or methyl ketone. 基板(16)、地形形状を有する基板(16)に、ラッカーを塗布する被覆装置であって、
基板ホルダー(12)、ラッカーノズル(20)、溶剤ノズル(22)、およびラッカーノズル(20)と溶剤ノズル(22)がその上に、互いに対して所定の距離(a)で配置された移動装置(14)を含み、
ラッカーノズル(20)と溶剤ノズル(22)は、基板ホルダー(12)の上方で、移動装置(14)の手段により一緒に移動できることを特徴とする被覆装置。
A substrate (16), a coating device for applying lacquer to a substrate (16) having a topographical shape,
Substrate holder (12), lacquer nozzle (20), solvent nozzle (22), and transfer device on which the lacquer nozzle (20) and the solvent nozzle (22) are arranged at a predetermined distance (a) with respect to each other. Including (14),
Coating device, characterized in that the lacquer nozzle (20) and the solvent nozzle (22) can be moved together above the substrate holder (12) by means of a transfer device (14).
被覆装置(10)は加熱装置を含み、基板ホルダー(12)は加熱要素(18)を備えることを特徴とする請求項14に記載の被覆装置。 15. Coating device according to claim 14 , characterized in that the coating device (10) comprises a heating device and the substrate holder (12) comprises a heating element (18). 移動装置(14)は、ラッカーノズル(20)と溶剤ノズル(22)を、基板(12)に平行な、少なくとも1つの面内で、基板(12)の上方の平行な経路(B)で移動できるように設計され、ラッカーノズル(20)と溶剤ノズル(22)との間の距離(a)は、経路(B)の間の距離(b)の2倍または整数倍に等しいことを特徴とする請求項14または15に記載の被覆装置。 A transfer device (14) moves the lacquer nozzle (20) and the solvent nozzle (22) in a parallel path (B) above the substrate (12) in at least one plane parallel to the substrate (12). Designed so that the distance (a) between the lacquer nozzle (20) and the solvent nozzle (22) is equal to twice or an integer multiple of the distance (b) between the paths (B). The coating device according to claim 14 or 15 . 経路(B)の間の距離(b)は、被覆される基板(16)の上に、ラッカーノズル(20)で形成されるラッカージェットの直径におおよそ対応することを特徴とする請求項14〜16のいずれかに記載の被覆装置。 The distance (b) between the paths (B) approximately corresponds to the diameter of the lacquer jet formed by the lacquer nozzle (20) on the substrate (16) to be coated . 16. The coating apparatus according to any one of 16 .
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6547231B2 (en) 2016-11-30 2019-07-24 ウラカミ合同会社 Surface adsorption transfer coating device
US10670540B2 (en) * 2018-06-29 2020-06-02 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Photolithography method and photolithography system
CN111744706B (en) * 2020-06-23 2022-04-15 梅卡曼德(北京)机器人科技有限公司 Glue spraying method and device for object, electronic equipment and storage medium
WO2023077514A1 (en) * 2021-11-08 2023-05-11 MEGA P&C Advanced Materials (Shanghai) Co., Ltd. Systems and methods for forming protective coatings
WO2023154752A1 (en) * 2022-02-09 2023-08-17 Theradep Technologies, Inc. Methods of preparing coatings and related devices and systems

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5887294A (en) * 1981-11-18 1983-05-25 Sonitsukusu:Kk Method and device for surface treatment of very small part
FR2692274A1 (en) * 1992-06-10 1993-12-17 Du Pont New silicon-based lacquer, its use as a substrate coating and the substrates thus obtained.
DE69428391T2 (en) 1993-03-25 2002-07-04 Tokyo Electron Ltd Method and device for coating a film
US5482212A (en) * 1994-07-05 1996-01-09 Kobryn; Scott Vehicle washing machine
US5952050A (en) 1996-02-27 1999-09-14 Micron Technology, Inc. Chemical dispensing system for semiconductor wafer processing
KR0178680B1 (en) * 1996-07-13 1999-04-01 윤종용 Photoresist stripper composition and methdo for manufactaring semiconductor devcie using the same
JP3254574B2 (en) * 1996-08-30 2002-02-12 東京エレクトロン株式会社 Method and apparatus for forming coating film
US6248168B1 (en) 1997-12-15 2001-06-19 Tokyo Electron Limited Spin coating apparatus including aging unit and solvent replacement unit
JP2000000517A (en) * 1998-06-15 2000-01-07 Kansai Paint Co Ltd Method for repairing multi layered coating
AT409462B (en) 1998-10-08 2002-08-26 Thallner Erich Device to coat substrates
AT409348B (en) 1999-04-22 2002-07-25 Thallner Erich DEVICE FOR APPLYING MATERIALS TO SUBSTRATES, ESPECIALLY FOR PAINTING SI WAFERS
JP2001102287A (en) 1999-09-29 2001-04-13 Semiconductor Leading Edge Technologies Inc Resist coating and developing device and edge cutting method for lower-layer antireflection film
JP2001225006A (en) * 2000-02-17 2001-08-21 Kansai Paint Co Ltd Method for coating car body
JP2001286793A (en) * 2000-04-05 2001-10-16 Bb Ricchi:Kk Air brush
CN1247314C (en) * 2000-05-16 2006-03-29 明尼苏达大学评议会 High mass throughput particle generation using multiple nozzle spraying
JP2002126595A (en) * 2000-10-19 2002-05-08 Toyota Industries Corp Method and apparatus for treating car body
US20030033948A1 (en) * 2001-08-02 2003-02-20 Buono Ronald M. Spray coating method of producing printing blankets
US6844029B2 (en) * 2001-10-26 2005-01-18 Kansai Paint Co., Ltd. Photocurable primer composition and coating method by use of the same
JP2003236799A (en) * 2002-02-20 2003-08-26 Minoru Sasaki Resist film forming method by spray coating, and resist film forming device by using the method
DE10351963B4 (en) 2003-11-07 2013-08-22 Süss Microtec Lithography Gmbh Process for coating semiconductor substrates
JP4602699B2 (en) * 2004-05-28 2010-12-22 アルプス電気株式会社 Spray coating apparatus and spray coating method
KR100699348B1 (en) * 2005-10-11 2007-03-23 삼성전자주식회사 Photoresist Coating Apparatus and Method for Efficiently Spraying Photoresist Solutions
JP4895397B2 (en) * 2008-03-13 2012-03-14 富士フイルム株式会社 Wiring board manufacturing method and wiring board manufacturing apparatus
JP5838067B2 (en) * 2011-10-05 2015-12-24 株式会社Screenセミコンダクターソリューションズ Coating method and coating apparatus
JP5726807B2 (en) * 2012-04-24 2015-06-03 東京エレクトロン株式会社 Pattern forming method, pattern forming apparatus, and computer-readable storage medium
KR20170005001A (en) * 2014-05-06 2017-01-11 헨켈 아이피 앤드 홀딩 게엠베하 Apparatus and method for applying multi-component adhesives using jetting valves

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