JP6706247B2 - Method for producing alkylphosphonic acid - Google Patents

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Description

本発明は、アルキルホスホン酸の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、汎用化学反応設備で製造可能なアルキルホスホン酸の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method for producing alkylphosphonic acid. More specifically, it relates to a method for producing an alkylphosphonic acid which can be produced by a general-purpose chemical reaction facility.

アルキルホスホン酸は下記一般式で表される化合物であり、難燃剤、金属抽出剤等に用いられる工業的に有用な化合物として広く知られている。 Alkylphosphonic acid is a compound represented by the following general formula, and is widely known as an industrially useful compound used as a flame retardant, a metal extractant, and the like.

上記一般式中、Rはアルキル基を表す。 In the above general formula, R represents an alkyl group.

従来、このようなアルキルホスホン酸の製造方法としては、アルキルホスホン酸ジアルキルを合成後、加水分解を行い、上記式で表されるアルキルホスホン酸を得るという方法が一般的である。特許文献1では、ベンジルホスホン酸ジエチルを塩酸で分解してベンジルホスホン酸を製造する方法が開示されている。しかし、この方法では大過剰の塩酸を用いる必要があり、また、反応を十分に完結させるためには長い反応時間を要する。 Conventionally, as a method for producing such an alkylphosphonic acid, a method in which a dialkyl alkylphosphonate is synthesized and then hydrolyzed to obtain an alkylphosphonic acid represented by the above formula is generally used. Patent Document 1 discloses a method for producing benzylphosphonic acid by decomposing diethyl benzylphosphonate with hydrochloric acid. However, this method requires the use of a large excess of hydrochloric acid, and also requires a long reaction time to complete the reaction.

特許文献2及び特許文献3には、フェニルホスホン酸ジアルキルエステル(但し、アルキルは、C1〜C10のアルキル基)を、特許文献4には、アルキルホスホン酸ジアルキルエステルを種々の酸及びアルカリ水溶液により分解し、フェニルホスホン酸もしくはアルキルホスホン酸を製造する方法が開示され、特許文献5では上記ホスホン酸モノブチルエステルをアルカリ水溶液により分解し、ブチルホスホン酸を製造する方法が開示されている。しかしながら、アルカリ水溶液で分解した場合には対応するホスホン酸の塩が生成するため、ホスホン酸を得るためには、該塩をさらに酸で処理する必要がある。よって酸で分解する場合と比較して工程数が増える分、経済的に不利となる。また、酸で分解する場合でも、これらの先行文献で示されている方法では、アルキルエステルのアルキル基(アルコキシ基:下記一般式(II)におけるR又はR)の炭素数が4以上であると、対応するジアシッド(水酸基を2つ有する)まで分解することが困難である。In Patent Documents 2 and 3, a phenylphosphonic acid dialkyl ester (where alkyl is a C1-C10 alkyl group) is decomposed, and in Patent Document 4, an alkylphosphonic acid dialkyl ester is decomposed with various acid and alkaline aqueous solutions. However, a method for producing phenylphosphonic acid or alkylphosphonic acid is disclosed, and Patent Document 5 discloses a method for producing butylphosphonic acid by decomposing the phosphonic acid monobutyl ester with an aqueous alkaline solution. However, when it is decomposed with an aqueous alkaline solution, a corresponding phosphonic acid salt is formed, and therefore, in order to obtain phosphonic acid, it is necessary to further treat the salt with an acid. Therefore, the number of steps increases as compared with the case of decomposing with an acid, which is economically disadvantageous. Further, even in the case of decomposing with an acid, in the methods shown in these prior art documents, when the alkyl group (alkoxy group: R 2 or R 3 in the following general formula (II)) of the alkyl ester has 4 or more carbon atoms, If so, it is difficult to decompose the corresponding diacid (having two hydroxyl groups).

そこで、特許文献6において、硫酸などの不揮発性の酸の存在下、高温に保ちながらアルキルホスホン酸ジアルキルエステルに水蒸気を吹き込む方法によって、アルキルエステルのアルコキシ基の炭素数が4以上であっても高収率でアルキルホスホン酸(ジアシッド)が得られる改良方法が見出された。しかしながら、この製造方法を用いると、系外に排出される水蒸気と共に原料であるアルキルホスホン酸ジアルキルエステル自体も飛散してしまう場合があり、使用できるアルキルホスホン酸ジアルキルエステルが限られてしまうという問題があった。 Therefore, in Patent Document 6, even if the number of carbon atoms of the alkoxy group of the alkyl ester is 4 or more by the method of blowing water vapor into the alkylphosphonic acid dialkyl ester while maintaining the temperature at high temperature in the presence of a non-volatile acid such as sulfuric acid. An improved process has been found which yields alkylphosphonic acids (diacides) in yield. However, when this production method is used, the alkylphosphonic acid dialkyl ester itself, which is the raw material, may be scattered together with the steam discharged to the outside of the system, and there is a problem that the usable alkylphosphonic acid dialkyl ester is limited. there were.

US2007/004937US2007/004937 特開平11−193292号公報JP, 11-193292, A 特開平11−279185号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-279185 CN101429214CN10142214 DE2229087DE2229087 特開2010−024214号公報JP, 2010-024214, A

本発明は上記問題を解決し、且つ、上記一般式のアルキル基Rが炭素原子数4付近の低級アルキル基であっても、原料のアルキルホスホン酸アルキルエステルのロスがなく、工業的に効率よくアルキルホスホン酸を製造することができる方法を提供することを目的とする。 The present invention solves the above problems, and even if the alkyl group R in the above general formula is a lower alkyl group having about 4 carbon atoms, there is no loss of the alkylphosphonic acid alkyl ester as a raw material, and it is industrially efficient. It is an object to provide a method by which an alkylphosphonic acid can be produced.

本発明者らは前記課題を克服するため数多くの反応条件の試行錯誤を行い、鋭意努力検討した結果、アルキルホスホン酸アルキルエステル(一般式(II)で表されるリン化合物)を、ハロゲン化水素および水を添加しながら酸分解を行うことで、R又はRが炭素数4以上のアルキルエステルの場合においても下記一般式(I)で表されるアルキルホスホン酸(ジアシッド)を高純度、高収率で得ることが可能となることを見出した。In order to overcome the above-mentioned problems, the inventors of the present invention conducted trial and error under a large number of reaction conditions, and as a result of diligent study, alkylphosphonic acid alkyl ester (phosphorus compound represented by the general formula (II)) was replaced with hydrogen halide. By performing acid decomposition while adding water and water, alkyl phosphonic acid (diacide) represented by the following general formula (I) can be highly purified even when R 2 or R 3 is an alkyl ester having 4 or more carbon atoms. It has been found that it is possible to obtain a high yield.

本発明におけるハロゲン化水素による一般式(II)で表されるアルキルホスホン酸アルキルエステルの分解は酸分解(後述)であり、反応生成物は、一般式(I)で表されるアルキルホスホン酸とハロゲン化アルキルとなる。上記先行技術文献等で記載されているハロゲン化水素酸以外の酸による分解は加水分解であり、反応生成物がホスホン酸とアルコールとなる点で本発明の酸分解と異なる。ハロゲン化水素による酸分解は加水分解よりも反応速度は速いものの、ハロゲン化水素は揮発性の酸であるため、従来法で高温を維持するとハロゲン化水素のロスが多くなる。そのため大過剰にハロゲン化水素を使用しなければならなかった。 The decomposition of the alkylphosphonic acid alkyl ester represented by the general formula (II) with hydrogen halide in the present invention is acid decomposition (described later), and the reaction product is the alkylphosphonic acid represented by the general formula (I). It becomes an alkyl halide. Decomposition by an acid other than the hydrohalic acid described in the above-mentioned prior art documents is hydrolysis and differs from the acid decomposition of the present invention in that the reaction products are phosphonic acid and alcohol. Although acid decomposition by hydrogen halide has a faster reaction rate than hydrolysis, hydrogen halide is a volatile acid, and therefore loss of hydrogen halide increases when a high temperature is maintained by the conventional method. Therefore, a large excess of hydrogen halide had to be used.

本発明の方法では、一般式(II)で表されるアルキルホスホン酸アルキルエステルの分解反応に必要なハロゲン化水素及び水を連続的又は間歇的に順次添加することで、該エステルに接触せしめることから反応系内に余分な水分が存在せず、常圧においても反応温度として必要な高温を確保できることや、反応温度が125℃以上であることから反応の進行がスムーズとなり、ハロゲン化水素を大過剰に用いることなく一般式(II)で表されるアルキルホスホン酸アルキルエステルを短時間で一般式(I)で表されるアルキルホスホン酸(ジアシッド)にまで分解できることを見出した。 In the method of the present invention, hydrogen halide and water necessary for the decomposition reaction of the alkylphosphonic acid alkyl ester represented by the general formula (II) are added continuously or intermittently to bring them into contact with the ester. Therefore, there is no excess water in the reaction system, the required high temperature can be secured even at normal pressure, and since the reaction temperature is 125°C or higher, the reaction progresses smoothly and hydrogen halide is increased. It was found that the alkylphosphonic acid alkyl ester represented by the general formula (II) can be decomposed to the alkylphosphonic acid (diacide) represented by the general formula (I) in a short time without using an excess amount.

さらに、このような方法では分解反応と同時に水蒸気蒸留を行うのが好ましいが、これによる原料の一般式(II)で表されるアルキルホスホン酸アルキルエステルの飛散が抑えられ、分解により生成したハロゲン化アルキル類等の低沸点の不純物を、反応を行ないながら同時に回収することができ、一般式(I)で表される目的物であるアルキルホスホン酸(ジアシッド)の精製が容易であり、且つ、工業的に有利であることを見出した。
本発明は、上記知見に基づき完成されたものであり、以下の各項のアルキルホスホン酸の製造方法を提供する。
Further, in such a method, it is preferable to perform steam distillation at the same time as the decomposition reaction, but the scattering of the alkylphosphonic acid alkyl ester represented by the general formula (II) due to this is suppressed, and the halogenation produced by the decomposition is suppressed. Impurities with a low boiling point such as alkyls can be simultaneously recovered during the reaction, and the target product of the general formula (I), alkylphosphonic acid (diacide), can be easily purified, and It has been found to be advantageous.
The present invention has been completed based on the above findings, and provides a method for producing an alkylphosphonic acid in each of the following items.

項1. 下記一般式(I): Item 1. The following general formula (I):

(一般式(I)中、Rは、無置換のまたは置換基を有する炭素数1〜15のアルキル基を表す。)
で表わされるアルキルホスホン酸の製造方法であって、下記一般式(II):
(In the general formula (I), R 1 represents an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 15 carbon atoms.)
A method for producing an alkylphosphonic acid represented by the following general formula (II):

(一般式(II)中、Rの定義は、上記一般式(I)と同じである。R及びRは互いに独立して、炭素数1〜15のアルキル基または水素原子を表す。但し、R及びRの少なくとも一つは炭素数4〜15のアルキル基であり、R及びRは同時に水素原子でない。)
で表されるアルキルホスホン酸アルキルエステルにハロゲン化水素および水を添加して酸分解させることによって上記一般式(I)で表わされるアルキルホスホン酸を生成させる工程を含むアルキルホスホン酸の製造方法。
(In the general formula (II), the R 1 definition, .R 2 and R 3 are as defined for general formula (I) each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms. provided that at least one of R 2 and R 3 is an alkyl group having 4 to 15 carbon atoms, R 2 and R 3 are not simultaneously hydrogen atoms.)
A method for producing an alkylphosphonic acid, which comprises the step of adding hydrogen halide and water to an alkylphosphonic acid alkyl ester represented by and acid-decomposing it to produce an alkylphosphonic acid represented by the general formula (I).

項2. 上記一般式(I)および(II)におけるRが、無置換の炭素数1〜15のアルキル基である項1に記載のアルキルホスホン酸の製造方法。
項3. 上記ハロゲン化水素および水の添加が、ハロゲン化水素水溶液の添加である項1または項2に記載のアルキルホスホン酸の製造方法。
項4. 反応系内における液相の温度を125℃以上に保ちながらハロゲン化水素および水を添加する項1乃至項3のいずれか1項に記載のアルキルホスホン酸の製造方法。
項5. 上記ハロゲン化水素の添加量が上記一般式(II)で表わされるアルキルホスホン酸アルキルエステルのアルコキシ基に対して1当量以上である項1乃至項4のいずれか1項に記載のアルキルホスホン酸の製造方法。
Item 2. Item 2. The method for producing an alkylphosphonic acid according to Item 1, wherein R 1 in the general formulas (I) and (II) is an unsubstituted alkyl group having 1 to 15 carbon atoms.
Item 3. Item 3. The method for producing an alkylphosphonic acid according to Item 1 or 2, wherein the addition of hydrogen halide and water is addition of an aqueous hydrogen halide solution.
Item 4. Item 4. The method for producing an alkylphosphonic acid according to any one of Items 1 to 3, wherein hydrogen halide and water are added while maintaining the temperature of the liquid phase in the reaction system at 125°C or higher.
Item 5. Item 5. The alkylphosphonic acid according to any one of Items 1 to 4, wherein the addition amount of the hydrogen halide is 1 equivalent or more with respect to the alkoxy group of the alkylphosphonic acid alkyl ester represented by the general formula (II). Production method.

項6. 上記ハロゲン化水素として、塩化水素を用いる項1乃至項5のいずれか1項に記載のアルキルホスホン酸の製造方法。
項7. 上記添加された水により、副生したハロゲン化アルキルを系外に水蒸気蒸留しながら除去する項1乃至項6のいずれか1項に記載のアルキルホスホン酸の製造方法。
項8. 上記一般式(II)で表わされるアルキルホスホン酸アルキルエステルを、下記一般式(III):
Item 6. Item 6. The method for producing an alkylphosphonic acid according to any one of Items 1 to 5, wherein hydrogen chloride is used as the hydrogen halide.
Item 7. Item 7. The method for producing an alkylphosphonic acid according to any one of Items 1 to 6, wherein an alkyl halide produced as a by-product is removed from the system by steam distillation with the added water.
Item 8. The alkylphosphonic acid alkyl ester represented by the above general formula (II) is converted into the following general formula (III):

(一般式(III)中、Rの定義は上記と同じであり、Xはハロゲン原子である)
で表されるハロゲン化アルキルと、下記一般式(IV):
(In the general formula (III), the definition of R 1 is the same as above, and X is a halogen atom.)
And an alkyl halide represented by the following general formula (IV):

(一般式(IV)中、RおよびRの定義は上記と同じであり、Rは無置換のまたは置換基を有する炭素数1〜15のアルキル基である)
で表される亜リン酸エステルとを反応させて合成する工程を含む項1乃至項7のいずれか1項に記載のアルキルホスホン酸の製造方法。
項9. 上記一般式(II)で表わされるアルキルホスホン酸アルキルエステルを水の存在下にハロゲン化水素と接触させることを特徴とする一般式(I)で表わされるアルキルホスホン酸の製造方法。
項10. 項1乃至項9のいずれか1項に記載の方法で製造された一般式(I)で表わされるアルキルホスホン酸。
(In the general formula (IV), the definitions of R 2 and R 3 are the same as above, and R 4 is an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 15 carbon atoms)
Item 8. A method for producing an alkylphosphonic acid according to any one of Items 1 to 7, which comprises a step of synthesizing by reacting with a phosphite represented by.
Item 9. A method for producing an alkylphosphonic acid represented by the general formula (I), which comprises contacting the alkylphosphonic acid alkyl ester represented by the general formula (II) with hydrogen halide in the presence of water.
Item 10. An alkylphosphonic acid represented by the general formula (I), which is produced by the method according to any one of Items 1 to 9.

本発明の製造方法によれば、一般式(II)で表されるアルキルホスホン酸アルキルエステルの分解は、水の存在下においてハロゲン化水素との接触により行うため、例えば、塩基を用いて加水分解する従来例等と比較して、酸により中和する工程は必要なく、より少ない工程でアルキルホスホン酸を製造できる。 According to the production method of the present invention, the alkylphosphonic acid alkyl ester represented by the general formula (II) is decomposed by contact with hydrogen halide in the presence of water. Therefore, for example, hydrolysis is performed using a base. Compared with the conventional example described above, the step of neutralizing with an acid is not required, and the alkylphosphonic acid can be produced in fewer steps.

また、好ましくは、反応系内の液相を高温(125℃以上)に保つ様にハロゲン化水素および水を連続的又は間歇的に順次添加することにより、分解反応に有利な高温かつ水分が存在している条件を維持でき、殆ど必要最小限度のハロゲン化水素の使用量で、短時間且つ効率的なアルキルホスホン酸アルキルエステルのアルキルホスホン酸への分解を行うことが出来る。 Further, preferably, hydrogen halide and water are continuously or intermittently added so as to keep the liquid phase in the reaction system at a high temperature (125° C. or higher), so that a high temperature and moisture which are advantageous for the decomposition reaction are present. It is possible to maintain the above conditions, and it is possible to decompose the alkylphosphonic acid alkyl ester to alkylphosphonic acid efficiently in a short time and with a required minimum amount of hydrogen halide.

さらに、副生したハロゲン化アルキル類を、連続的又は間歇的に順次添加する水またはハロゲン化水素水溶液中の水分により反応系外に水蒸気蒸留で留去しつつ、一般式(II)で表されるアルキルホスホン酸アルキルエステルを効率的に分解し得ることから目的物であるアルキルホスホン酸の精製を工業的に有利且つ容易に行うことができる。
このため本発明によれば、簡便に効率よく、しかも高収率で一般式(I)で表されるアルキルホスホン酸を工業的に製造することができる。
Further, the by-produced alkyl halide is represented by the general formula (II) while being distilled off by steam distillation to the outside of the reaction system by the water in the water or the aqueous solution of hydrogen halide added continuously or intermittently. Since the alkyl phosphonic acid alkyl ester can be efficiently decomposed, the desired product, alkyl phosphonic acid, can be industrially advantageously and easily purified.
Therefore, according to the present invention, the alkylphosphonic acid represented by the general formula (I) can be industrially produced simply, efficiently and in high yield.

本発明について、さらに詳しく以下に記述する。
本発明の上記一般式(I)で表されるアルキルホスホン酸の製造方法は、好ましくは、上記一般式(II)で表されるアルキルホスホン酸アルキルエステルを水の存在下、ハロゲン化水素と接触せしめ、酸分解させる工程を含む方法である。
The invention is described in more detail below.
In the method for producing an alkylphosphonic acid represented by the general formula (I) of the present invention, preferably, the alkylphosphonic acid alkyl ester represented by the general formula (II) is contacted with hydrogen halide in the presence of water. It is a method including a step of aging and acid decomposition.

一般式(II)で表されるアルキルホスホン酸アルキルエステル
本発明のアルキルホスホン酸の製造方法において分解反応を受けるリン化合物は、上記一般式(II)で表される化合物である。
上記一般式(II)中、Rはアルキル基を表す。
ここでいうアルキル基としては、分岐または直鎖状のアルキル基の制限はなく、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、iso−ペンチル基、2−メチルブチル基、1−メチルブチル基、1,2−ジメチルプロピル基、ネオペンチル基(2,2−ジメチルプロピル基)、tert−ペンチル基(1,1−ジメチルプロピル基)、n−ヘキシル基、iso−ヘキシル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、1−エチルブチル基、2−エチルブチル基、1,1−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、1−エチル−1−メチルプロピル基、1−エチル−2−メチルプロピル基、n−ヘプチル基、iso−ヘプチル基、1−メチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、4−メチルヘキシル基、1−エチルペンチル基、2−エチルペンチル基、3−エチルペンチル基、1−プロピルブチル基、1,1−ジメチルペンチル基、1,2−ジメチルペンチル基、1,3−ジメチルペンチル基、1,4−ジメチルペンチル基、1−エチル−1−メチルブチル基、1−エチル−2−メチルブチル基、1−エチル−3−メチルブチル基、2−エチル−1−メチルブチル基、2−エチル−1−メチルブチル基、2−エチル−2−メチルブチル基、2−エチル−3−メチルブチル基、1,1−ジエチルプロピル基、n−オクチル基、iso−オクチル基、1−メチルヘプチル基、2−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチル基、4−メチルヘプチル基、5−メチルヘプチル基、1−エチルヘキシル基、2−エチルヘキシル基、3−エチルヘキシル基、4−エチルヘキシル基、1−プロピルヘプチル基、2−プロピルヘプチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基などの炭素数1〜15のアルキル基が挙げられる。アルキル基の炭素数は、1〜10がより好ましく、2〜8が更に好ましく、3〜6が特に好ましい。さらにこれらアルキル基中の水素原子の一部が後述するハロゲン化水素と反応不活性な官能基で置換されていても良い。ハロゲン化水素と反応不活性な官能基としては、ハロゲン原子、アルコキシ基並びにアシル基(例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基等)などが挙げられる。置換されたアルキル基の置換基も含めた合計の炭素数は、2〜15が好ましく、2〜10がより好ましく、3〜8が更に好ましく、3〜6が特に好ましい。
Alkylphosphonic Acid Alkyl Ester Represented by General Formula (II) The phosphorus compound that undergoes a decomposition reaction in the method for producing an alkylphosphonic acid of the present invention is a compound represented by the above general formula (II).
In the general formula (II), R 1 represents an alkyl group.
The alkyl group as used herein is not limited to a branched or linear alkyl group, and examples thereof include methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, tert. -Butyl group, n-pentyl group, iso-pentyl group, 2-methylbutyl group, 1-methylbutyl group, 1,2-dimethylpropyl group, neopentyl group (2,2-dimethylpropyl group), tert-pentyl group (1 , 1-dimethylpropyl group), n-hexyl group, iso-hexyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 1-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1,1- Dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 1-ethyl-1-methylpropyl group, 1-ethyl- 2-methylpropyl group, n-heptyl group, iso-heptyl group, 1-methylhexyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4-methylhexyl group, 1-ethylpentyl group, 2-ethylpentyl group Group, 3-ethylpentyl group, 1-propylbutyl group, 1,1-dimethylpentyl group, 1,2-dimethylpentyl group, 1,3-dimethylpentyl group, 1,4-dimethylpentyl group, 1-ethyl- 1-methylbutyl group, 1-ethyl-2-methylbutyl group, 1-ethyl-3-methylbutyl group, 2-ethyl-1-methylbutyl group, 2-ethyl-1-methylbutyl group, 2-ethyl-2-methylbutyl group, 2-ethyl-3-methylbutyl group, 1,1-diethylpropyl group, n-octyl group, iso-octyl group, 1-methylheptyl group, 2-methylheptyl group, 3-methylheptyl group, 4-methylheptyl group , 5-methylheptyl group, 1-ethylhexyl group, 2-ethylhexyl group, 3-ethylhexyl group, 4-ethylhexyl group, 1-propylheptyl group, 2-propylheptyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group , An alkyl group having 1 to 15 carbon atoms such as a tridecyl group, a tetradecyl group, and a pentadecyl group. 1-10 are more preferable, as for carbon number of an alkyl group, 2-8 are more preferable, and 3-6 are especially preferable. Furthermore, a part of hydrogen atoms in these alkyl groups may be replaced with a functional group which is inert to hydrogen halide which will be described later. Examples of the functional group that is inactive with hydrogen halide include a halogen atom, an alkoxy group, and an acyl group (eg, formyl group, acetyl group, propionyl group, etc.). 2-15 are preferable, as for the total carbon number including the substituent of the substituted alkyl group, 2-10 are more preferable, 3-8 are more preferable, and 3-6 are especially preferable.

及びRは互いに独立して、炭素数1〜15の分岐状もしくは直鎖状のアルキル基または水素原子を表す。好ましくは炭素数2〜10の分岐状もしくは直鎖状のアルキル基または水素原子であり(R及びRは同時に水素原子でない。)、特に好ましくは炭素数3〜8の分岐状もしくは直鎖状のアルキル基である。但し、R及びRの少なくとも一つが、好ましくは炭素数4以上の分岐状もしくは直鎖状のアルキル基である。すなわち、R及びRの少なくとも一つが、好ましくは炭素数4〜15の分岐状もしくは直鎖状のアルキル基であり、より好ましくは炭素数4〜10の分岐状もしくは直鎖状のアルキル基であり、特に好ましくは炭素数4〜8の分岐状もしくは直鎖状のアルキル基である。炭素数1〜15の分岐状もしくは直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、iso−ペンチル基、2−メチルブチル基、1−メチルブチル基、1,2−ジメチルプロピル基、ネオペンチル基(2,2−ジメチルプロピル基)、tert−ペンチル基(1,1−ジメチルプロピル基)、n−ヘキシル基、iso−ヘキシル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、1−エチルブチル基、2−エチルブチル基、1,1−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、1−エチル−1−メチルプロピル基、1−エチル−2−メチルプロピル基、n−ヘプチル基、iso−ヘプチル基、1−メチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、4−メチルヘキシル基、1−エチルペンチル基、2−エチルペンチル基、3−エチルペンチル基、1−プロピルブチル基、1,1−ジメチルペンチル基、1,2−ジメチルペンチル基、1,3−ジメチルペンチル基、1,4−ジメチルペンチル基、1−エチル−1−メチルブチル基、1−エチル−2−メチルブチル基、1−エチル−3−メチルブチル基、2−エチル−1−メチルブチル基、2−エチル−1−メチルブチル基、2−エチル−2−メチルブチル基、2−エチル−3−メチルブチル基、1,1−ジエチルプロピル基、n−オクチル基、iso−オクチル基、1−メチルヘプチル基、2−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチル基、4−メチルヘプチル基、5−メチルヘプチル基、1−エチルヘキシル基、2−エチルヘキシル基、3−エチルヘキシル基、4−エチルヘキシル基、1−プロピルヘプチル基、2−プロピルヘプチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基などが挙げられる。R 2 and R 3 each independently represent a branched or linear alkyl group having 1 to 15 carbon atoms or a hydrogen atom. It is preferably a branched or straight chain alkyl group having 2 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom (R 2 and R 3 are not hydrogen atoms at the same time), and particularly preferably a branched or straight chain having 3 to 8 carbon atoms. Is an alkyl group. However, at least one of R 2 and R 3 is preferably a branched or linear alkyl group having 4 or more carbon atoms. That is, at least one of R 2 and R 3 is preferably a branched or linear alkyl group having 4 to 15 carbon atoms, and more preferably a branched or linear alkyl group having 4 to 10 carbon atoms. And particularly preferably a branched or linear alkyl group having 4 to 8 carbon atoms. Examples of the branched or linear alkyl group having 1 to 15 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, an n-butyl group, an iso-butyl group and a tert-butyl group. , N-pentyl group, iso-pentyl group, 2-methylbutyl group, 1-methylbutyl group, 1,2-dimethylpropyl group, neopentyl group (2,2-dimethylpropyl group), tert-pentyl group (1,1- Dimethylpropyl group), n-hexyl group, iso-hexyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 1-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1,1-dimethylbutyl group 1,2-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 1-ethyl-1-methylpropyl group, 1-ethyl-2-methyl Propyl group, n-heptyl group, iso-heptyl group, 1-methylhexyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4-methylhexyl group, 1-ethylpentyl group, 2-ethylpentyl group, 3 -Ethylpentyl group, 1-propylbutyl group, 1,1-dimethylpentyl group, 1,2-dimethylpentyl group, 1,3-dimethylpentyl group, 1,4-dimethylpentyl group, 1-ethyl-1-methylbutyl Group, 1-ethyl-2-methylbutyl group, 1-ethyl-3-methylbutyl group, 2-ethyl-1-methylbutyl group, 2-ethyl-1-methylbutyl group, 2-ethyl-2-methylbutyl group, 2-ethyl -3-methylbutyl group, 1,1-diethylpropyl group, n-octyl group, iso-octyl group, 1-methylheptyl group, 2-methylheptyl group, 3-methylheptyl group, 4-methylheptyl group, 5- Methylheptyl group, 1-ethylhexyl group, 2-ethylhexyl group, 3-ethylhexyl group, 4-ethylhexyl group, 1-propylheptyl group, 2-propylheptyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group , Tetradecyl group, pentadecyl group and the like.

上記一般式(II)で表される化合物のR、RおよびRは互いに独立して異なっていてもよいが、化合物の合成の容易性から、同一であることが好ましい。例えば、ジブチルブチルホスホネート、ジイソブチルイソブチルホスホネート、ジペンチルペンチルホスホネート、ジイソペンチルイソペンチルホスホネート、ビス(2−メチルブチル)2−メチルブチルホスホネート、ジネオペンチルネオペンチルホスホネート、ジヘキシルヘキシルホスホネート、ジイソヘキシルイソヘキシルホスホネート、ビス(2−メチルペンチル)2−メチルペンチルホスホネート、ビス(3−メチルペンチル)3−メチルペンチルホスホネート、ビス(2−エチルブチル)2−エチルブチルホスホネート、ビス(2,2−ジメチルブチル)2,2−ジメチルブチルホスホネート、ビス(2,3−ジメチルブチル)2,3−ジメチルブチルホスホネート、ジヘプチルヘプチルホスホネート、ジイソヘプチルイソヘプチルホスホネート、ビス(2−メチルヘキシル)2−メチルヘキシルホスホネート、ビス(3−メチルヘキシル)3−メチルヘキシルホスホネート、ビス(4−メチルヘキシル)4−メチルヘキシルホスホネート、ビス(2−エチルペンチル)2−エチルペンチルホスホネート、ビス(3−エチルペンチル)3−エチルペンチルホスホネート、ビス(2−エチル−2−メチルブチル)2−エチル−2−メチルブチルホスホネート、ビス(2−エチル−3−メチルブチル)2−エチル−3−メチルブチルホスホネート、ジオクチルオクチルホスホネート、ジイソオクチルイソオクチルホスホネート、ビス(2−メチルヘプチル)2−メチルヘプチルホスホネート、ビス(3−メチルヘプチル)3−メチルヘプチルホスホネート、ビス(4−メチルヘプチル)4−メチルヘプチルホスホネート、ビス(5−メチルヘプチル)5−メチルヘプチルホスホネート、ビス(2−エチルヘキシル)2−エチルヘキシルホスホネート、ビス(3−エチルヘキシル)3−エチルヘキシルホスホネート、ビス(4−エチルヘキシル)4−エチルヘキシルホスホネート、ビス(2−プロピルヘプチル)2−プロピルヘプチルホスホネートなどが挙げられる。
原料入手の容易さから、ジブチルブチルホスホネート、ジイソブチルイソブチルホスホネート、ジペンチルペンチルホスホネート、ジヘプチルヘプチルホスホネート、ジオクチルオクチルホスホネート、ビス(2−エチルヘキシル)2−エチルヘキシルホスホネートなどが、より好ましい。
R 1 , R 2 and R 3 of the compound represented by the general formula (II) may be different from each other independently, but are preferably the same from the viewpoint of easy compound synthesis. For example, dibutylbutyl phosphonate, diisobutyl isobutyl phosphonate, dipentyl pentyl phosphonate, diisopentyl isopentyl phosphonate, bis(2-methylbutyl) 2-methylbutyl phosphonate, dineopentyl neopentyl phosphonate, dihexyl hexyl phosphonate, diisohexyl isohexyl phosphonate. , Bis(2-methylpentyl)2-methylpentylphosphonate, bis(3-methylpentyl)3-methylpentylphosphonate, bis(2-ethylbutyl)2-ethylbutylphosphonate, bis(2,2-dimethylbutyl)2, 2-dimethylbutylphosphonate, bis(2,3-dimethylbutyl)2,3-dimethylbutylphosphonate, diheptylheptylphosphonate, diisoheptylisoheptylphosphonate, bis(2-methylhexyl)2-methylhexylphosphonate, bis( 3-methylhexyl)3-methylhexylphosphonate, bis(4-methylhexyl)4-methylhexylphosphonate, bis(2-ethylpentyl)2-ethylpentylphosphonate, bis(3-ethylpentyl)3-ethylpentylphosphonate, Bis(2-ethyl-2-methylbutyl)2-ethyl-2-methylbutylphosphonate, bis(2-ethyl-3-methylbutyl)2-ethyl-3-methylbutylphosphonate, dioctyloctylphosphonate, diisooctylisooctylphosphonate , Bis(2-methylheptyl)2-methylheptylphosphonate, bis(3-methylheptyl)3-methylheptylphosphonate, bis(4-methylheptyl)4-methylheptylphosphonate, bis(5-methylheptyl)5-methyl Heptylphosphonate, bis(2-ethylhexyl)2-ethylhexylphosphonate, bis(3-ethylhexyl)3-ethylhexylphosphonate, bis(4-ethylhexyl)4-ethylhexylphosphonate, bis(2-propylheptyl)2-propylheptylphosphonate, etc. Can be mentioned.
Dibutylbutyl phosphonate, diisobutyl isobutyl phosphonate, dipentyl pentyl phosphonate, diheptyl heptyl phosphonate, dioctyl octyl phosphonate, bis(2-ethylhexyl) 2-ethylhexyl phosphonate and the like are more preferable because of easy availability of raw materials.

一般式(II)で表されるアルキルホスホン酸アルキルエステルの合成方法
本発明における一般式(II)で表されるアルキルホスホン酸アルキルエステルは、公知の方法または自体公知の方法で合成できる。具体的には、下記式のような亜リン酸エステルとハロゲン化アルキルのアルブゾフ反応による合成が一般的である。
(式中、R〜RおよびXの定義は上記と同じである。)
Synthesis Method of Alkylphosphonic Acid Alkyl Ester Represented by General Formula (II) The alkylphosphonic acid alkyl ester represented by the general formula (II) in the present invention can be synthesized by a known method or a method known per se. Specifically, the synthesis is generally performed by the Arbuzov reaction of a phosphite and an alkyl halide as shown in the following formula.
(In the formula, the definitions of R 1 to R 4 and X are the same as above.)

例えば、上記式のR, R2, R3およびRがn−ブチル基であり、Xが臭素原子の場合、反応に用いる一般式(III)の化合物の量は、一般式(IV)の化合物1molに対して、0.1〜1.5molであることが好ましく、更に好ましくは0.2〜1.0molであり、特に好ましくは0.3〜0.8molである。使用量がこの範囲内であれば、一般式(II)の化合物を収率良く得ることができる。
反応温度は、120〜200℃であることが好ましく、更に好ましくは130〜180℃であり、特に好ましくは140〜160℃である。反応温度がこの範囲内であれば、反応を速やかに進行させることができる。
反応時間は、8〜24時間であることが好ましく、更に好ましくは9〜20時間であり、特に好ましいのは10〜15時間である。反応時間がこの範囲内であれば反応が充分に完結できる。
For example, when R 1 , R 2 , R 3 and R 4 in the above formula are n-butyl groups and X is a bromine atom, the amount of the compound of general formula (III) used in the reaction is It is preferably 0.1 to 1.5 mol, more preferably 0.2 to 1.0 mol, and particularly preferably 0.3 to 0.8 mol, relative to 1 mol of the compound. When the amount used is within this range, the compound of general formula (II) can be obtained in good yield.
The reaction temperature is preferably 120 to 200°C, more preferably 130 to 180°C, and particularly preferably 140 to 160°C. If the reaction temperature is within this range, the reaction can proceed rapidly.
The reaction time is preferably 8 to 24 hours, more preferably 9 to 20 hours, and particularly preferably 10 to 15 hours. If the reaction time is within this range, the reaction can be fully completed.

一般式(IV)で表される亜リン酸エステル
本発明における上記一般式(II)のアルキルホスホン酸アルキルエステルを合成するための原料として、上記一般式(IV)の亜リン酸エステルが使用される。
上記一般式(IV)中、R及びRは互いに独立して、炭素数1〜15の分岐状もしくは直鎖状のアルキル基または水素原子を表す。好ましくは炭素数2〜10の分岐状もしくは直鎖状のアルキル基または水素原子であり(R及びRは同時に水素原子でない。)、特に好ましくは炭素数3〜8の分岐状もしくは直鎖状のアルキル基である。但し、R及びRの少なくとも一つが、好ましくは炭素数4以上の分岐状もしくは直鎖状のアルキル基である。すなわち、R及びRの少なくとも一つが、好ましくは炭素数4〜15の分岐状もしくは直鎖状のアルキル基であり、より好ましくは炭素数4〜10の分岐状もしくは直鎖状のアルキル基であり、特に好ましくは炭素数4〜8の分岐状もしくは直鎖状のアルキル基である。Rは、炭素数1〜15の分岐状もしくは直鎖状のアルキル基を表す。好ましくは炭素数2〜10の分岐状もしくは直鎖状のアルキル基であり、特に好ましくは炭素数3〜8の分岐状もしくは直鎖状のアルキル基である。炭素数1〜15の分岐状もしくは直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、iso−ペンチル基、2−メチルブチル基、1−メチルブチル基、1,2−ジメチルプロピル基、ネオペンチル基(2,2−ジメチルプロピル基)、tert−ペンチル基(1,1−ジメチルプロピル基)、n−ヘキシル基、iso−ヘキシル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、1−エチルブチル基、2−エチルブチル基、1,1−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、1−エチル−1−メチルプロピル基、1−エチル−2−メチルプロピル基、n−ヘプチル基、iso−ヘプチル基、1−メチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、4−メチルヘキシル基、1−エチルペンチル基、2−エチルペンチル基、3−エチルペンチル基、1−プロピルブチル基、1,1−ジメチルペンチル基、1,2−ジメチルペンチル基、1,3−ジメチルペンチル基、1,4−ジメチルペンチル基、1−エチル−1−メチルブチル基、1−エチル−2−メチルブチル基、1−エチル−3−メチルブチル基、2−エチル−1−メチルブチル基、2−エチル−1−メチルブチル基、2−エチル−2−メチルブチル基、2−エチル−3−メチルブチル基、1,1−ジエチルプロピル基、n−オクチル基、iso−オクチル基、1−メチルヘプチル基、2−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチル基、4−メチルヘプチル基、5−メチルヘプチル基、1−エチルヘキシル基、2−エチルヘキシル基、3−エチルヘキシル基、4−エチルヘキシル基、1−プロピルヘプチル基、2−プロピルヘプチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基などが挙げられる。
上記一般式(IV)で表される化合物のR2、 R3およびRは互いに独立して異なっていてもよいが、化合物の合成の容易性から、同一であることが好ましい。例えば、亜リン酸トリブチル、亜リン酸トリイソブチル、亜リン酸トリペンチル、亜リン酸トリイソペンチル、亜リン酸トリス(2−メチルブチル)、亜リン酸トリネオペンチル、亜リン酸トリヘキシル、亜リン酸トリイソヘキシル、亜リン酸トリス(2−メチルペンチル)、亜リン酸トリス(3−メチルペンチル)、亜リン酸トリス(2−エチルブチル)、亜リン酸トリス(2,2−ジメチルブチル)、亜リン酸トリス(2,3−ジメチルブチル)、亜リン酸トリヘプチル、亜リン酸トリイソヘプチル、亜リン酸トリス(2−メチルヘキシル)、亜リン酸トリス(3−メチルヘキシル)、亜リン酸トリス(4−メチルヘキシル)、亜リン酸トリス(2−エチルペンチル)、亜リン酸トリス(3−エチルペンチル)、亜リン酸トリス(2−エチル−2−メチルブチル)、亜リン酸トリス(2−エチル−3−メチルブチル)、亜リン酸トリオクチル、亜リン酸トリイソオクチル、亜リン酸トリス(2−メチルヘプチル)、亜リン酸トリス(3−メチルヘプチル)、亜リン酸トリス(4−メチルヘプチル)、亜リン酸トリス(5−メチルヘプチル)、亜リン酸トリス(2−エチルヘキシル)、亜リン酸トリス(3−エチルヘキシル)、亜リン酸トリス(4−エチルヘキシル)、亜リン酸トリス(2−プロピルヘプチル)などが挙げられる。
原料入手の容易さから、亜リン酸トリブチル、亜リン酸トリイソブチル、亜リン酸トリペンチル、亜リン酸トリヘプチル、亜リン酸トリオクチル、亜リン酸トリス(2−エチルヘキシル)などが、より好ましい。
The phosphite represented by the general formula (IV) is used as a raw material for synthesizing the alkylphosphonic acid alkyl ester represented by the general formula (II) in the present invention. It
In the general formula (IV), R 2 and R 3 each independently represent a branched or linear alkyl group having 1 to 15 carbon atoms or a hydrogen atom. It is preferably a branched or straight chain alkyl group having 2 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom (R 2 and R 3 are not hydrogen atoms at the same time), and particularly preferably a branched or straight chain having 3 to 8 carbon atoms. Is an alkyl group. However, at least one of R 2 and R 3 is preferably a branched or linear alkyl group having 4 or more carbon atoms. That is, at least one of R 2 and R 3 is preferably a branched or linear alkyl group having 4 to 15 carbon atoms, and more preferably a branched or linear alkyl group having 4 to 10 carbon atoms. And particularly preferably a branched or linear alkyl group having 4 to 8 carbon atoms. R 4 represents a branched or linear alkyl group having 1 to 15 carbon atoms. A branched or straight chain alkyl group having 2 to 10 carbon atoms is preferable, and a branched or straight chain alkyl group having 3 to 8 carbon atoms is particularly preferable. Examples of the branched or linear alkyl group having 1 to 15 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, an n-butyl group, an iso-butyl group and a tert-butyl group. , N-pentyl group, iso-pentyl group, 2-methylbutyl group, 1-methylbutyl group, 1,2-dimethylpropyl group, neopentyl group (2,2-dimethylpropyl group), tert-pentyl group (1,1- Dimethylpropyl group), n-hexyl group, iso-hexyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 1-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1,1-dimethylbutyl group 1,2-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 1-ethyl-1-methylpropyl group, 1-ethyl-2-methyl Propyl group, n-heptyl group, iso-heptyl group, 1-methylhexyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4-methylhexyl group, 1-ethylpentyl group, 2-ethylpentyl group, 3 -Ethylpentyl group, 1-propylbutyl group, 1,1-dimethylpentyl group, 1,2-dimethylpentyl group, 1,3-dimethylpentyl group, 1,4-dimethylpentyl group, 1-ethyl-1-methylbutyl Group, 1-ethyl-2-methylbutyl group, 1-ethyl-3-methylbutyl group, 2-ethyl-1-methylbutyl group, 2-ethyl-1-methylbutyl group, 2-ethyl-2-methylbutyl group, 2-ethyl -3-methylbutyl group, 1,1-diethylpropyl group, n-octyl group, iso-octyl group, 1-methylheptyl group, 2-methylheptyl group, 3-methylheptyl group, 4-methylheptyl group, 5- Methylheptyl group, 1-ethylhexyl group, 2-ethylhexyl group, 3-ethylhexyl group, 4-ethylhexyl group, 1-propylheptyl group, 2-propylheptyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group , Tetradecyl group, pentadecyl group and the like.
R 2 , R 3 and R 4 of the compound represented by the general formula (IV) may be different from each other independently, but are preferably the same from the viewpoint of easy synthesis of the compound. For example, tributyl phosphite, triisobutyl phosphite, tripentyl phosphite, triisopentyl phosphite, tris(2-methylbutyl) phosphite, trineopentyl phosphite, trihexyl phosphite, phosphite Triisohexyl, tris(2-methylpentyl) phosphite, tris(3-methylpentyl) phosphite, tris(2-ethylbutyl) phosphite, tris(2,2-dimethylbutyl) phosphite, Tris(2,3-dimethylbutyl) phosphate, triheptyl phosphite, triisoheptyl phosphite, tris(2-methylhexyl) phosphite, tris(3-methylhexyl) phosphite, tris phosphite (4-methylhexyl), tris(2-ethylpentyl) phosphite, tris(3-ethylpentyl) phosphite, tris(2-ethyl-2-methylbutyl) phosphite, tris(2- Ethyl-3-methylbutyl), trioctyl phosphite, triisooctyl phosphite, tris(2-methylheptyl) phosphite, tris(3-methylheptyl) phosphite, tris(4-methylheptyl) phosphite ), tris(5-methylheptyl) phosphite, tris(2-ethylhexyl) phosphite, tris(3-ethylhexyl) phosphite, tris(4-ethylhexyl) phosphite, tris(2-ethyl phosphite). Propylheptyl) and the like.
Tributyl phosphite, triisobutyl phosphite, tripentyl phosphite, triheptyl phosphite, trioctyl phosphite, tris(2-ethylhexyl) phosphite, and the like are more preferable because of easy availability of raw materials.

一般式(IV)で表される亜リン酸エステルは、公知の方法または自体公知の方法で合成できる。 The phosphite represented by the general formula (IV) can be synthesized by a known method or a method known per se.

酸分解
本発明は、一般式(II)の化合物を酸分解することで一般式(I)の化合物を得る製法である。本発明における酸分解とは、酸を触媒にした加水分解反応ではなく、酸とアルコキシ基とが反応して分解することをいう。用いられる酸としては、例えば塩化水素、臭化水素等のハロゲン化水素が好ましい。ハロゲン化水素であれば他の酸より、本発明の酸分解が進行し易く、反応としては下記反応式のように進行する。

P−OR + HX → P−OH + RX
(式中、Rはアルキル基であり、Xはハロゲン基である。)

本発明の酸分解は、水の存在下において効率よく分解できる。理由は定かではないが、水の存在が反応の促進に何らかの寄与をしていると思われる。
Acid Decomposition The present invention is a process for producing a compound of general formula (I) by acid-decomposing a compound of general formula (II). The acid decomposition in the present invention does not mean a hydrolysis reaction using an acid as a catalyst, but means that an acid and an alkoxy group react to decompose. The acid used is preferably hydrogen halide such as hydrogen chloride or hydrogen bromide. If it is a hydrogen halide, the acid decomposition of the present invention is more likely to proceed than other acids, and the reaction proceeds as shown in the following reaction formula.

P-OR + HX → P-OH + RX
(In the formula, R is an alkyl group and X is a halogen group.)

The acid decomposition of the present invention can be efficiently decomposed in the presence of water. The reason is not clear, but it seems that the presence of water contributes to the promotion of the reaction.

分解反応温度
本発明における酸分解反応は、125℃以上の反応温度で行うことができる。
上記温度条件を満たし、水の存在下において、アルキルホスホン酸アルキルエステルとハロゲン化水素とを接触させる方法としては、反応系内における液相を125℃以上に保持しながら、ハロゲン化水素および水を連続的又は間歇的に順次添加することが好ましい。すなわち、上記一般式(II)で表されるリン化合物(アルキルホスホン酸アルキルエステル)の温度を125℃以上とし、温度を保持しながら、該化合物にハロゲン化水素および水を連続的又は間歇的に順次添加することで分解反応を行うことが好ましい。ハロゲン化水素および水の添加中における反応系内の液相温度は、好ましくは125〜170℃であり、さらに好ましくは130〜160℃である。上記の温度範囲であれば分解反応が速やかに進行するため、合理的な時間内に反応を完結できる(例えば、実施例参照。)。
Decomposition reaction temperature The acid decomposition reaction in the present invention can be carried out at a reaction temperature of 125°C or higher.
As a method of contacting the alkylphosphonic acid alkyl ester with hydrogen halide in the presence of water, which satisfies the above temperature conditions, while maintaining the liquid phase in the reaction system at 125° C. or higher, hydrogen halide and water are added. It is preferable to add continuously or intermittently. That is, the temperature of the phosphorus compound (alkylphosphonic acid alkyl ester) represented by the general formula (II) is 125° C. or higher, and while maintaining the temperature, hydrogen halide and water are continuously or intermittently added to the compound. It is preferable to carry out the decomposition reaction by sequentially adding. The liquidus temperature in the reaction system during the addition of hydrogen halide and water is preferably 125 to 170°C, more preferably 130 to 160°C. Within the above temperature range, the decomposition reaction proceeds rapidly, so that the reaction can be completed within a reasonable time (see, for example, Examples).

ハロゲン化水素および水の添加
反応系中へのハロゲン化水素および水の添加は、ハロゲン化水素と水を別々に添加しても、ハロゲン化水素の水溶液として添加しても良い。但し、水の存在下において、アルキルホスホン酸アルキルエステルとハロゲン化水素を接触させることで効率よく分解できることから、ハロゲン化水素と水を別々に添加する場合は、各々を追加するタイミングが必ずしも同時である必要はないが、少なくとも両方が同時に添加している時間が存在していることが好ましい。その時間は長ければ長いほど良い。作業の効率などを考慮すると、添加時間の全てにおいて両方を同時に添加する方法が好ましく、特に好ましいのはハロゲン化水素水溶液として添加することである。
Addition of hydrogen halide and water Hydrogen halide and water may be added to the reaction system either separately or as an aqueous solution of hydrogen halide. However, since it can be efficiently decomposed by contacting the alkylphosphonic acid alkyl ester with hydrogen halide in the presence of water, when hydrogen halide and water are added separately, the timing of adding each is not necessarily the same. It need not be, but it is preferred that there is a time when at least both are being added simultaneously. The longer the time, the better. Considering work efficiency and the like, it is preferable to add both of them at the same time during the entire addition time, and it is particularly preferable to add them as an aqueous solution of hydrogen halide.

ハロゲン化水素の添加量の合計は、分解されるアルキルホスホン酸アルキルエステルのアルコキシ基に対してハロゲン化水素が1当量以上となる量を添加すればよい。更に好ましくは1.1当量以上であり、特に好ましくは1.2当量以上である。
ハロゲン化水素の添加量の上限は特に限定されるものではないが、生産効率およびコストなどを考慮すると2当量以下が好ましく、1.8当量以下が更に好ましく、1.6当量以下が特に好ましい。ここでいう1当量とは、たとえば、アルコキシ基1molに対してハロゲン化水素が1molとなる量を表す。
The total amount of hydrogen halide added may be such that hydrogen halide is 1 equivalent or more with respect to the alkoxy group of the alkylphosphonic acid alkyl ester to be decomposed. It is more preferably 1.1 equivalents or more, and particularly preferably 1.2 equivalents or more.
The upper limit of the amount of hydrogen halide added is not particularly limited, but in view of production efficiency and cost, it is preferably 2 equivalents or less, more preferably 1.8 equivalents or less, and particularly preferably 1.6 equivalents or less. The term "1 equivalent" as used herein means, for example, an amount of 1 mol of hydrogen halide with respect to 1 mol of an alkoxy group.

水の添加量の合計は特に限定はされない。反応系内における液相の温度が低下しないように水を添加した場合に、ハロゲン化水素の添加時間とほぼ同等の時間を要する量を添加すればよい。 The total amount of water added is not particularly limited. When water is added so that the temperature of the liquid phase in the reaction system does not decrease, it may be added in an amount that requires a time substantially equal to the addition time of hydrogen halide.

本発明に使用可能なハロゲン化水素の具体例としては、例えば、弗化水素、塩化水素、臭化水素等が挙げられる。中でも、コストや入手の容易さなどの面から塩化水素が好ましい。 Specific examples of the hydrogen halide usable in the present invention include hydrogen fluoride, hydrogen chloride, hydrogen bromide and the like. Of these, hydrogen chloride is preferable from the viewpoints of cost and availability.

ハロゲン化水素水溶液
本発明においてハロゲン化水素水溶液を添加する場合は、その濃度は特に限定はされない。添加する水溶液中のハロゲン化水素の合計量が、分解するアルキルホスホン酸エステルのアルコキシ基に対して1当量以上となればよいのであって、濃度が高ければ水溶液の使用量が少なくなり、濃度が低ければ水溶液の使用量が多くなる。たとえば塩化水素の場合、生産における効率およびコストなどを考慮すると、塩化水素の濃度は20〜36重量%が好ましく、25〜35.5重量%が更に好ましく、30〜35重量%が特に好ましい。
Aqueous hydrogen halide solution When the aqueous hydrogen halide solution is added in the present invention, its concentration is not particularly limited. It suffices that the total amount of hydrogen halide in the aqueous solution to be added is 1 equivalent or more with respect to the alkoxy group of the alkylphosphonic acid ester to be decomposed. The lower the amount, the larger the amount of aqueous solution used. For example, in the case of hydrogen chloride, the concentration of hydrogen chloride is preferably 20 to 36% by weight, more preferably 25 to 35.5% by weight, and particularly preferably 30 to 35% by weight, in consideration of production efficiency and cost.

ハロゲン化水素の添加時間
本発明の製造方法におけるハロゲン化水素の添加時間は、反応基質の種類や量および上記した分解反応温度などにより、上述の条件を満たすように適宜設定すればよいが、通常約1〜100時間、好ましくは約3〜50時間、特に好ましくは約4〜30時間とすればよい。
Addition time of hydrogen halide The addition time of the hydrogen halide in the production method of the present invention may be appropriately set so as to satisfy the above conditions by the kind and amount of the reaction substrate and the decomposition reaction temperature described above. It may be about 1 to 100 hours, preferably about 3 to 50 hours, particularly preferably about 4 to 30 hours.

反応圧力
本発明における反応は、常圧、減圧又は加圧下で行うことができるが、汎用設備で反応を行なうことができることから、常圧で行うことが好ましい。
Reaction Pressure The reaction in the present invention can be carried out under normal pressure, reduced pressure or increased pressure, but it is preferably carried out under normal pressure because the reaction can be carried out in general equipment.

精製
本発明においては、分解反応で副生したハロゲン化アルキル類を、順次添加する水またはハロゲン化水素水溶液中の水分を利用する水蒸気蒸留で、該水蒸気蒸留は常套手段により行われ、好ましくは、絶えず反応系外に排出しつつ、回収設備で回収しながら、効率的にアルキルホスホン酸アルキルエステルの分解反応を行なうことができる。よって、分解工程と生成したハロゲン化アルキル類の回収工程とを分けて行う必要はなく、工程数が少なくなるので工業的に有利である。
Purification In the present invention, the alkyl halides by-produced in the decomposition reaction are steam distilled by utilizing the water in the water or the hydrogen halide aqueous solution to be sequentially added, and the steam distillation is carried out by a conventional means, and preferably, It is possible to efficiently perform the decomposition reaction of the alkylphosphonic acid alkyl ester while constantly discharging it to the outside of the reaction system and recovering it in the recovery facility. Therefore, it is not necessary to separately perform the decomposition step and the recovery step of the generated alkyl halides, and the number of steps is reduced, which is industrially advantageous.

分解反応後の処理方法は、目的化合物の性状に適した方法を選択して行えばよい。例えば、目的化合物が固体の場合は反応終了液を冷却して固体を析出させる。析出した固体を集めて、乾燥させることにより目的とするアルキルホスホン酸が得られる。 The treatment method after the decomposition reaction may be performed by selecting a method suitable for the properties of the target compound. For example, when the target compound is a solid, the reaction completed liquid is cooled to precipitate the solid. The target alkylphosphonic acid is obtained by collecting the precipitated solids and drying.

さらに、必要に応じて、アルキルホスホン酸を精製する工程を加えることができる。精製方法は特に限定されず、例えば、水や有機溶媒を用いて、再結晶法により生成したアルキルホスホン酸の純度を向上させることが出来る。 Further, a step of purifying the alkylphosphonic acid can be added if necessary. The purification method is not particularly limited, and the purity of the alkylphosphonic acid produced by the recrystallization method can be improved by using, for example, water or an organic solvent.

本発明を以下の実施例によりさらに具体的に説明するが、これらの実施例により本発明の範囲が限定されるものではない。 The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, which should not be construed as limiting the scope of the present invention.

測定機器および測定条件
実施例等で用いた測定機器および測定条件は下記の通りである。
(リン31核磁気共鳴スペクトル;31P―NMR)
機器:JNM−ECS−400(日本電子株式会社製)
測定条件:
積算回数 32回
測定温度 室温
測定範囲 −10〜40ppm
サンプル量 0.5g/700μL(DMSO−6D)
内部標準:85%リン酸
Measuring equipment and measuring conditions Measuring equipment and measuring conditions used in the examples and the like are as follows.
(Phosphorus 31 nuclear magnetic resonance spectrum; 31 P-NMR)
Equipment: JNM-ECS-400 (made by JEOL Ltd.)
Measurement condition:
Number of times of integration 32 times Measurement temperature Room temperature measurement range -10 to 40 ppm
Sample amount 0.5g/700μL (DMSO-6D)
Internal standard: 85% phosphoric acid

(ガスクロマトグラフィー;GC)
機器:GC−2010(株式会社島津製作所製)
カラム:DB−1(アジレント・テクノロジー株式会社製)
内径 0.32mm
長さ 30m
膜厚 0.25μm
測定条件:
カラム温度 40℃で3分間保持した後、20℃/分にて280℃まで昇温し、280℃で5分間保持
インジェクション 280℃
ディテクション 280℃
全流量 95.4mL/min
スプリット比 58.0
検出器 FID
サンプル量 0.2g/25ml(アセトニトリル)
打ち込み量 0.5μL
(Gas chromatography; GC)
Equipment: GC-2010 (manufactured by Shimadzu Corporation)
Column: DB-1 (Agilent Technology Co., Ltd.)
Inner diameter 0.32 mm
Length 30m
Film thickness 0.25μm
Measurement condition:
After holding at a column temperature of 40°C for 3 minutes, the temperature was raised to 280°C at 20°C/minute, and kept at 280°C for 5 minutes Injection 280°C
Detection 280℃
Total flow rate 95.4mL/min
Split ratio 58.0
Detector FID
Sample amount 0.2g/25ml (acetonitrile)
Injection amount 0.5 μL

ブチルホスホン酸ジブチルエステルの分解反応における分解率の求め方
反応混合物を31P―NMRで上記条件により測定すると、ブチルホスホン酸、ブチルホスホン酸モノブチルエステルおよびブチルホスホン酸ジブチルエステル各々由来のピークが下記範囲に検出される。
ブチルホスホン酸由来のピーク 28.8〜29.3ppm
ブチルホスホン酸モノブチルエステル由来のピーク 30.0〜30.4ppm
ブチルホスホン酸ジブチルエステル由来のピーク 31.8〜32.4ppm
Determination of Decomposition Rate in Decomposition Reaction of Butylphosphonic Acid Dibutyl Ester When the reaction mixture was measured by 31 P-NMR under the above conditions, the peaks derived from butylphosphonic acid, butylphosphonic acid monobutyl ester and butylphosphonic acid dibutyl ester were as follows. Detected in range.
Butylphosphonic acid-derived peak 28.8 to 29.3 ppm
Butylphosphonic acid monobutyl ester-derived peak 30.0 to 30.4 ppm
Butylphosphonic acid dibutyl ester-derived peak 31.8 to 32.4 ppm

各々由来のピーク積分値を下記のように定義する。
ブチルホスホン酸由来のピーク積分値 A
ブチルホスホン酸モノブチルエステル由来のピーク積分値 B
ブチルホスホン酸ジブチルエステル由来のピーク積分値 C
The peak integral value derived from each is defined as follows.
Butylphosphonic acid-derived peak integrated value A
Butylphosphonic acid monobutyl ester derived peak integrated value B
Peak integrated value C derived from butylphosphonic acid dibutyl ester

各化合物のモル分率は下記計算式により求められる。
ブチルホスホン酸のモル分率(a)=A/(A+B+C)
ブチルホスホン酸モノブチルエステルのモル分率(b)=B/(A+B+C)
ブチルホスホン酸ジブチルエステルのモル分率(c)=C/(A+B+C)
更にブチルホスホン酸ジブチルエステルの分解率は下記式により求められる。
分解率(%)=a+b×0.5+c×0
The molar fraction of each compound is calculated by the following formula.
Butylphosphonic acid mole fraction (a)=A/(A+B+C)
Butylphosphonic acid monobutyl ester mole fraction (b)=B/(A+B+C)
Butylphosphonic acid dibutyl ester mole fraction (c)=C/(A+B+C)
Further, the decomposition rate of butylphosphonic acid dibutyl ester is obtained by the following formula.
Decomposition rate (%)=a+b×0.5+c×0

ブチルホスホン酸の純度の求め方
本発明で得られたブチルホスホン酸を31P―NMRによって、内部標準の85%リン酸を用いない以外は上記条件により測定すると、ブチルホスホン酸、ブチルホスホン酸モノブチルエステル、ブチルホスホン酸ジブチルエステル、亜リン酸およびリン酸の各々由来のピークが下記範囲に検出される。
ブチルホスホン酸由来のピーク 28.8〜29.3ppm
ブチルホスホン酸モノブチルエステル由来のピーク 30.0〜30.4ppm
ブチルホスホン酸ジブチルエステル由来のピーク 31.8〜32.4ppm
亜リン酸由来のピーク −0.20〜−0.18ppm
リン酸由来のピーク −0.02〜0.02ppm
Determination of Purity of Butylphosphonic Acid The butylphosphonic acid obtained in the present invention was measured by 31 P-NMR under the above conditions except that 85% phosphoric acid as an internal standard was not used. Peaks derived from butyl ester, butylphosphonic acid dibutyl ester, phosphorous acid and phosphoric acid are detected in the following ranges.
Butylphosphonic acid-derived peak 28.8 to 29.3 ppm
Butylphosphonic acid monobutyl ester-derived peak 30.0 to 30.4 ppm
Butylphosphonic acid dibutyl ester-derived peak 31.8 to 32.4 ppm
Phosphorous acid-derived peak -0.20 to -0.18 ppm
Phosphoric acid-derived peak -0.02-0.02 ppm

各々由来のピーク積分値を下記のように定義する。
ブチルホスホン酸由来のピーク積分値 A
ブチルホスホン酸モノブチルエステル由来のピーク積分値 B
ブチルホスホン酸ジブチルエステル由来のピーク積分値 C
亜リン酸由来のピーク積分値 D
リン酸由来のピーク積分値 E
The peak integral value derived from each is defined as follows.
Butylphosphonic acid-derived peak integrated value A
Butylphosphonic acid monobutyl ester derived peak integrated value B
Peak integrated value C derived from butylphosphonic acid dibutyl ester
Peak integrated value derived from phosphorous acid D
Integral value E derived from phosphoric acid

ブチルホスホン酸の純度は下記式により求められる。
ブチルホスホン酸純度(%)=A×100/(A+B+C+D+E)
The purity of butylphosphonic acid is calculated by the following formula.
Butylphosphonic acid purity (%)=A×100/(A+B+C+D+E)

製造例1(亜リン酸トリブチルの合成)
2mの反応容器に、n−ブタノール182.3kg(2.46kmol)、トリブチルアミン452.9kg、トルエン319.4kgを仕込んだ。そして、容器内の混合物の温度を75℃以下に保ちつつ、三塩化燐109.8kg(0.80kmol)を4.5時間かけて添加した。三塩化燐の添加終了後、温度を65℃〜75℃に保ちつつ1時間撹拌した。その後、30℃まで冷却し、容器内に蓚酸2.0kg及び水400.0kgを添加して10分間撹拌を行った。撹拌停止後、静置分離を行い、得られた有機相を水洗いした後、減圧蒸留にてトルエンを除去した。その結果、亜リン酸トリブチル188.2kgが得られた。
Production Example 1 (Synthesis of tributyl phosphite)
A 2 m 3 reaction vessel was charged with 182.3 kg (2.46 kmol) of n-butanol, 452.9 kg of tributylamine, and 319.4 kg of toluene. Then, while maintaining the temperature of the mixture in the container at 75° C. or lower, 109.8 kg (0.80 kmol) of phosphorus trichloride was added over 4.5 hours. After the addition of phosphorus trichloride was completed, the mixture was stirred for 1 hour while maintaining the temperature at 65°C to 75°C. Then, it cooled to 30 degreeC, 2.0 kg of oxalic acid and 400.0 kg of water were added in the container, and it stirred for 10 minutes. After the stirring was stopped, stationary separation was performed, the obtained organic phase was washed with water, and then toluene was removed by distillation under reduced pressure. As a result, 188.2 kg of tributyl phosphite was obtained.

実施例1(ブチルホスホン酸ジブチルエステルの合成)
0.2mの反応容器に、製造例1で得られた亜リン酸トリブチル87.5kg(0.35kmol)及び1−臭化ブタン23.3kg(0.17kmol)を仕込み、容器内の混合物の温度を150℃まで加熱した後、温度を145〜150℃に保ちつつ12時間撹拌した。その後、減圧蒸留により1−臭化ブタンを回収した。その後、容器内の混合物の温度を30℃まで冷却し、35重量%塩酸(塩化水素水溶液)2.4kg、水44.2kgを添加して、常圧下にて10分間撹拌を行った。撹拌停止後、静置分離し、得られた有機相を水洗いした後、30重量%水酸化ナトリウム水溶液3.6kg、水44.2kgを追加して5分間撹拌を行い静置分離した。更に、得られた有機相を水洗いした後、減圧蒸留で脱水を行った結果、ブチルホスホン酸ジブチルエステル76.5kgを得た。
Example 1 (Synthesis of butylphosphonic acid dibutyl ester)
A 0.2 m 3 reaction vessel was charged with 87.5 kg (0.35 kmol) of tributyl phosphite obtained in Production Example 1 and 23.3 kg (0.17 kmol) of 1-butane bromide, and the mixture in the vessel was charged. After heating the temperature to 150°C, the mixture was stirred for 12 hours while maintaining the temperature at 145 to 150°C. Then, 1-butane bromide was recovered by vacuum distillation. Then, the temperature of the mixture in the container was cooled to 30° C., 2.4 kg of 35 wt% hydrochloric acid (hydrogen chloride aqueous solution) and 44.2 kg of water were added, and the mixture was stirred for 10 minutes under normal pressure. After the stirring was stopped, the mixture was allowed to stand and separated, and the obtained organic phase was washed with water. Then, 3.6 kg of a 30 wt% sodium hydroxide aqueous solution and 44.2 kg of water were added, and the mixture was stirred for 5 minutes to carry out stand-alone separation. Further, the obtained organic phase was washed with water and then dehydrated under reduced pressure to obtain 76.5 kg of dibutyl butylphosphonate.

(ホスホン酸の合成)
実施例2
500mLの反応容器に実施例1で得られたブチルホスホン酸ジブチルエステル250.0gを入れ、150℃まで加熱し、容器内の混合物の温度を145〜155℃に保ちつつ、35重量%塩酸286.8g(1.38当量)を5.5時間かけて添加した。塩酸の添加終了後に、ブチルホスホン酸ジブチルエステルのブトキシ基の分解率を前記方法で求めたところ、99.4%〔ブチルホスホン酸:ブチルホスホン酸モノブチルエステル:ブチルホスホン酸ジブチルエステル=98.8:1.2:0(モル分率)〕となっていた。更に、温度を145℃〜155℃に保ちつつ1時間撹拌した。上記反応の際、反応系外に出てくる水及び分解反応で生成したブチルクロライドなどは、冷却器付ガラス製フラスコで回収しながら反応を行った。その後、減圧蒸留にて脱水を行った。脱水後、得られた粗ブチルホスホン酸と同量のトルエンを用い晶析した結果,ブチルホスホン酸130.8g(得率94.8%:純度99.0%)を得た。
(Synthesis of phosphonic acid)
Example 2
250.0 g of butylphosphonic acid dibutyl ester obtained in Example 1 was placed in a 500 mL reaction vessel and heated to 150° C., while keeping the temperature of the mixture in the vessel at 145 to 155° C., 35 wt% hydrochloric acid 286. 8 g (1.38 eq) was added over 5.5 hours. After the completion of the addition of hydrochloric acid, the decomposition rate of butoxy groups of butylphosphonic acid dibutyl ester was determined by the above method, and was 99.4% [butylphosphonic acid:butylphosphonic acid monobutyl ester:butylphosphonic acid dibutyl ester=98.8. : 1.2:0 (molar fraction)]. Further, the mixture was stirred for 1 hour while maintaining the temperature at 145°C to 155°C. During the above reaction, water that came out of the reaction system and butyl chloride produced in the decomposition reaction were reacted while being collected in a glass flask equipped with a cooler. Then, dehydration was performed by vacuum distillation. After dehydration, crystallization was performed using the same amount of toluene as the obtained crude butylphosphonic acid, and as a result, 130.8 g of butylphosphonic acid (yield 94.8%: purity 99.0%) was obtained.

実施例3
500mLの反応容器に実施例1で得られたブチルホスホン酸ジブチルエステル250.0gを入れ、150℃まで加熱し、容器内の混合物の温度を145〜155℃に保ちつつ、35重量%塩酸208.4g(1.00当量)を5.5時間かけて添加した。塩酸の添加終了後に、ブチルホスホン酸ジブチルエステルのブトキシ基の分解率を前記方法で求めたところ、91.3%〔ブチルホスホン酸:ブチルホスホン酸モノブチルエステル:ブチルホスホン酸ジブチルエステル=82.6:17.4:0(モル分率)〕になっていた。
Example 3
250.0 g of butylphosphonic acid dibutyl ester obtained in Example 1 was placed in a 500 mL reaction vessel, heated to 150° C., and while maintaining the temperature of the mixture in the vessel at 145 to 155° C., 35 wt% hydrochloric acid 208. 4 g (1.00 equiv.) was added over 5.5 hours. After completion of the addition of hydrochloric acid, the decomposition rate of butoxy groups of butylphosphonic acid dibutyl ester was determined by the above method, and was found to be 91.3% [butylphosphonic acid:butylphosphonic acid monobutyl ester:butylphosphonic acid dibutyl ester=82.6 : 17.4:0 (molar fraction)].

実施例4
35重量%塩酸の添加量を208.4gから260.5g(1.25当量)に変更する以外は実施例3と同様の操作を行い、ブチルホスホン酸ジブチルエステルのブトキシ基の分解率を前記方法で求めたところ、97.0%〔ブチルホスホン酸:ブチルホスホン酸モノブチルエステル:ブチルホスホン酸ジブチルエステル=94:6:0(モル分率)〕になっていた。
Example 4
The same operation as in Example 3 was repeated except that the amount of 35 wt% hydrochloric acid added was changed from 208.4 g to 260.5 g (1.25 equivalent), and the decomposition rate of butoxy groups of butylphosphonic acid dibutyl ester was determined by the above method. It was 97.0% [butyl phosphonic acid: butyl phosphonic acid monobutyl ester: butyl phosphonic acid dibutyl ester = 94:6:0 (molar fraction)].

実施例5
35重量%塩酸の添加量を208.4gから312.5g(1.50当量)に変更する以外は実施例3と同様の操作を行い、ブチルホスホン酸ジブチルエステルのブトキシ基の分解率を前記方法で求めたところ、99.5%〔ブチルホスホン酸:ブチルホスホン酸モノブチルエステル:ブチルホスホン酸ジブチルエステル=99:1:0(モル分率)〕になっていた。
Example 5
The same operation as in Example 3 was carried out except that the amount of 35 wt% hydrochloric acid added was changed from 208.4 g to 312.5 g (1.50 equivalents), and the decomposition rate of butoxy groups of butylphosphonic acid dibutyl ester was determined by the above method. It was 99.5% [butyl phosphonic acid: butyl phosphonic acid monobutyl ester: butyl phosphonic acid dibutyl ester=99:1:0 (molar fraction)].

実施例6
塩酸の添加前の昇温温度を150℃から140℃へ、添加時の温度を145〜155℃から135〜145℃に変更する以外は実施例5と同様の操作を行い、ブチルホスホン酸ジブチルエステルのブトキシ基の分解率を前記方法で求めたところ、96.2%〔ブチルホスホン酸:ブチルホスホン酸モノブチルエステル:ブチルホスホン酸ジブチルエステル=92.4:7.6:0(モル分率)〕になっていた。
Example 6
Butylphosphonic acid dibutyl ester was operated in the same manner as in Example 5 except that the temperature rising temperature before the addition of hydrochloric acid was changed from 150°C to 140°C and the temperature during the addition was changed from 145 to 155°C to 135 to 145°C. When the decomposition rate of butoxy group of was calculated by the above method, it was 96.2% [butylphosphonic acid:butylphosphonic acid monobutyl ester:butylphosphonic acid dibutyl ester=92.4:7.6:0 (molar fraction) ] Was displayed.

比較例1
塩酸の添加前の昇温温度を150℃から120℃へ、添加時の温度を145℃
〜155℃から115〜125℃に変更する以外は実施例3と同様の操作を行い、ブチルホスホン酸ジブチルエステルのブトキシ基の分解率を前記方法で求めたところ、80.4%〔ブチルホスホン酸:ブチルホスホン酸モノブチルエステル:ブチルホスホン酸ジブチルエステル=60.7:39.3:0(モル分率)〕であって、まだ充分に分解されていなかった。
Comparative Example 1
Increase the temperature before adding hydrochloric acid from 150℃ to 120℃, and add 145℃.
The same operation as in Example 3 was carried out except that the temperature was changed from ˜155° C. to 115° C. to 125° C., and the decomposition rate of butoxy group of butylphosphonic acid dibutyl ester was determined by the above method. : Butylphosphonic acid monobutyl ester: Butylphosphonic acid dibutyl ester=60.7:39.3:0 (molar fraction)], which was not yet sufficiently decomposed.

比較例2
500mLの反応容器に実施例1で得られたブチルホスホン酸ジブチルエステル100.0g及び20重量%塩酸300.0g(2.06当量)を入れ、容器内の混合物を加熱し、105〜108℃で還流させた。その際、反応系外に出てくる水及び分解反応で生成したブチルクロライドなどは、デカンターを用い、水相のみを還流させた。還流15時間後、デカンター内のブチルクロライドの増加が無くなったため反応を終了した。容器内の混合物を31P―NMRにて分析を行い、ブチルホスホン酸ジブチルエステルのブトキシ基の分解率を前記方法で求めたところ、80.4%〔ブチルホスホン酸:ブチルホスホン酸モノブチルエステル:ブチルホスホン酸ジブチルエステル=60.7:39.3:0(モル分率)〕であって、まだ充分に分解されていなかった。
Comparative example 2
In a 500 mL reaction vessel, 100.0 g of butylphosphonic acid dibutyl ester obtained in Example 1 and 300.0 g (2.06 equivalents) of 20 wt% hydrochloric acid were added, and the mixture in the vessel was heated at 105 to 108°C. Brought to reflux. At that time, with respect to water coming out of the reaction system and butyl chloride produced in the decomposition reaction, only the aqueous phase was refluxed using a decanter. After 15 hours of reflux, the reaction was terminated because the increase of butyl chloride in the decanter disappeared. The mixture in the container was analyzed by 31 P-NMR, and the decomposition rate of butoxy groups of butylphosphonic acid dibutyl ester was determined by the above method. As a result, it was 80.4% [butylphosphonic acid: butylphosphonic acid monobutyl ester: Butylphosphonic acid dibutyl ester=60.7:39.3:0 (molar fraction)] and was not yet sufficiently decomposed.

比較例3
500mLの反応容器に実施例1で得られたブチルホスホン酸ジブチルエステル250.0g及び98%硫酸1.25gを入れ、容器内の混合物の温度を160℃まで昇温した後、水蒸気を吹き込みながら150℃〜160℃の温度を9時間保持した。この際、反応系外に出てくる水及び分解反応で生成したブタノールなどは、冷却器付ガラス製フラスコで回収しながら反応を行った。その後、150℃、15mmHgの条件にて脱水を行った後、得られた粗ブチルホスホン酸と同量のトルエンを用い晶析した結果,得られたブチルホスホン酸は20.0g(得率14.5%)だけであった。
Comparative Example 3
250.0 g of butylphosphonic acid dibutyl ester obtained in Example 1 and 1.25 g of 98% sulfuric acid were put into a 500 mL reaction vessel, the temperature of the mixture in the vessel was raised to 160° C., and then while blowing steam, 150 The temperature of ℃ to 160 ℃ was maintained for 9 hours. At this time, the water that came out of the reaction system and the butanol produced by the decomposition reaction were reacted while being collected in a glass flask equipped with a cooler. Then, dehydration was performed under the conditions of 150° C. and 15 mmHg, and then crystallization was performed using the same amount of toluene as the obtained crude butylphosphonic acid. As a result, 20.0 g of the obtained butylphosphonic acid (yield: 14. 5%) only.

前記冷却器付ガラス製フラスコ内の回収物の有機相をガスクロマトグラフィーで前記条件により分析したところ、多量のブチルホスホン酸ジブチルエステルが検出され、本製法では原料であるブチルホスホン酸ジブチルエステル自体も反応系外に飛散してしまうことが確認された。 When the organic phase of the recovered product in the glass flask with a cooler was analyzed by gas chromatography under the above conditions, a large amount of butylphosphonic acid dibutyl ester was detected, and in this production method, butylphosphonic acid dibutyl ester itself was also used. It was confirmed that they would be scattered outside the reaction system.

実施例2〜6および比較例1、2における分解反応の条件およびブチルホスホン酸ジブチルエステルの分解率を表1に表す。 Table 1 shows the conditions of the decomposition reaction and the decomposition rate of butylphosphonic acid dibutyl ester in Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 and 2.

※塩化水素順次添加法:反応系内に塩化水素水溶液を順次添加していく方法
塩化水素還流法:反応前に、仕込量の塩化水素水溶液を予め全量加えてから還流させ、反応する方法
* Sequential addition method of hydrogen chloride: A method of sequentially adding an aqueous solution of hydrogen chloride to the reaction system. Hydrogen chloride reflux method: A method of reacting after adding all the charged amount of an aqueous solution of hydrogen chloride in advance before the reaction.

上記実施例2〜6の条件であれば、ブチルホスホン酸ジブチルエステルの分解率が90%以上となっており、比較例1および2の分解率80%(ブチルホスホン酸の比率約60mol%)よりも充分に分解されていることが分かる。なお、実施例1〜6が比較例1及び比較例2よりも、より好ましい実施態様である。 Under the conditions of Examples 2 to 6, the decomposition rate of butylphosphonic acid dibutyl ester was 90% or more, and the decomposition rate of Comparative Examples 1 and 2 was 80% (the ratio of butylphosphonic acid was about 60 mol%). It can be seen that is well decomposed. In addition, Examples 1 to 6 are more preferable embodiments than Comparative Example 1 and Comparative Example 2.

また、比較例3すなわち特許文献6に記載の条件においては、分解反応中に原料であるブチルホスホン酸ジブチルエステル自体が反応系外に飛散してしまい、効率が悪く、工業的製法としては不充分であることが分かる。 Further, under the conditions described in Comparative Example 3, that is, Patent Document 6, the butylphosphonic acid dibutyl ester itself, which is a raw material, is scattered out of the reaction system during the decomposition reaction, resulting in poor efficiency and unsatisfactory as an industrial production method. It turns out that

本発明のアルキルホスホン酸の製造方法を用いることにより、アルキルホスホン酸の効率的な製造が可能となる。このため、本発明の製造方法は、アルキルホスホン酸を工業的に製造する際に有用である。 By using the method for producing an alkylphosphonic acid of the present invention, it is possible to efficiently produce an alkylphosphonic acid. Therefore, the production method of the present invention is useful in industrially producing an alkylphosphonic acid.

Claims (7)

下記一般式(I):
(一般式(I)中、Rは、無置換のまたは置換基を有する炭素数1〜15のアルキル基を表す。)
で表わされるアルキルホスホン酸の製造方法であって、下記一般式(II):
(一般式(II)中、Rの定義は、上記一般式(I)と同じである。R及びRは互いに独立して、炭素数1〜15のアルキル基または水素原子を表す。但し、R及びRの少なくとも一つは炭素数4〜15のアルキル基であり、R及びRは同時に水素原子でない。)
で表されるアルキルホスホン酸アルキルエステルに反応系内における液相の温度を125℃以上に保ちながらハロゲン化水素および水を添加して酸分解させることによって上記一般式(I)で表わされるアルキルホスホン酸を生成させる工程を含むアルキルホスホン酸の製造方法。
The following general formula (I):
(In the general formula (I), R 1 represents an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 15 carbon atoms.)
A method for producing an alkylphosphonic acid represented by the following general formula (II):
(In the general formula (II), the R 1 definition, .R 2 and R 3 are as defined for general formula (I) each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms. provided that at least one of R 2 and R 3 is an alkyl group having 4 to 15 carbon atoms, R 2 and R 3 are not simultaneously hydrogen atoms.)
The alkylphosphonic acid represented by the above general formula (I) is obtained by adding hydrogen halide and water to the alkylphosphonic acid alkyl ester represented by the formula (1) while keeping the temperature of the liquid phase in the reaction system at 125° C. or higher for acid decomposition. A method for producing an alkylphosphonic acid, which comprises the step of generating an acid.
上記一般式(I)および(II)におけるRが、無置換の炭素数1〜15のアルキル基である請求項1に記載のアルキルホスホン酸の製造方法。 The method for producing an alkylphosphonic acid according to claim 1, wherein R 1 in the general formulas (I) and (II) is an unsubstituted alkyl group having 1 to 15 carbon atoms. 上記ハロゲン化水素および水の添加が、ハロゲン化水素水溶液の添加である請求項1または請求項2に記載のアルキルホスホン酸の製造方法。 The method for producing an alkylphosphonic acid according to claim 1 or 2, wherein the addition of the hydrogen halide and water is addition of an aqueous solution of hydrogen halide. 上記ハロゲン化水素の添加量が上記一般式(II)で表わされるアルキルホスホン酸アルキルエステルのアルコキシ基に対して1当量以上である請求項1乃至請求項のいずれか1項に記載のアルキルホスホン酸の製造方法。 The alkylphosphone according to any one of claims 1 to 3 , wherein the addition amount of the hydrogen halide is 1 equivalent or more with respect to the alkoxy group of the alkylphosphonic acid alkyl ester represented by the general formula (II). Method for producing acid. 上記ハロゲン化水素として、塩化水素を用いる請求項1乃至請求項のいずれか1項に記載のアルキルホスホン酸の製造方法。 The method for producing an alkylphosphonic acid according to any one of claims 1 to 4 , wherein hydrogen chloride is used as the hydrogen halide. 上記添加された水により、副生したハロゲン化アルキルを系外に水蒸気蒸留しながら除去する請求項1乃至請求項のいずれか1項に記載のアルキルホスホン酸の製造方法。 The method for producing an alkylphosphonic acid according to any one of claims 1 to 5 , wherein the added water is used to remove the by-produced alkyl halide by steam distillation outside the system. 上記一般式(II)で表わされるアルキルホスホン酸アルキルエステルを、下記一般式(III):
(一般式(III)中、Rの定義は上記と同じであり、Xはハロゲン原子である)
で表されるハロゲン化アルキルと、下記一般式(IV):
(一般式(IV)中、RおよびRの定義は上記と同じであり、Rは無置換のまたは置換基を有する炭素数1〜15のアルキル基である)
で表される亜リン酸エステルとを反応させて合成する工程を含む請求項1乃至請求項のいずれか1項に記載のアルキルホスホン酸の製造方法。
The alkylphosphonic acid alkyl ester represented by the above general formula (II) is converted into the following general formula (III):
(In the general formula (III), the definition of R 1 is the same as above, and X is a halogen atom.)
And an alkyl halide represented by the following general formula (IV):
(In the general formula (IV), the definitions of R 2 and R 3 are the same as above, and R 4 is an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 15 carbon atoms)
The method for producing an alkylphosphonic acid according to any one of claims 1 to 6 , comprising a step of synthesizing by reacting with a phosphite represented by.
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