JP6701738B2 - 視差値導出装置、視差値導出方法及びプログラム - Google Patents
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Description
まず、図1〜図7を用いて、ブロックマッチング処理による測距方法の概略について説明する。
図1は、撮像部から物体までの距離を導き出す原理を説明する図である。図1を参照しながら、ステレオマッチング処理により、ステレオカメラから物体に対する視差を導出し、この視差を示す視差値によって、ステレオカメラから物体までの距離を測定する原理について説明する。
次に、ブロックマッチング処理(以下、単にマッチング処理ともいう)による測距方法について説明する。
図8は、機器制御システムを車両に搭載した例を示す図である。図8のうち、図8(a)は、機器制御システム60を搭載した車両70の側面図であり、図8(b)は、車両70の正面図である。
図9は、第1の実施の形態に係る物体認識装置の外観の一例を示す図である。図9に示すように、物体認識装置1は、上述のように、本体部2と、本体部2に固定された撮像部10aと、撮像部10bとを備えている。撮像部10a、10bは、本体部2に対して平行等位に配置された一対の円筒形状のカメラで構成されている。また、説明の便宜上、図9に示す撮像部10aを「右」のカメラと称し、撮像部10bを「左」のカメラと称するものとする。
図10は、第1の実施の形態に係る物体認識装置のハードウェア構成の一例を示す図である。図10を参照しながら、物体認識装置1のハードウェア構成について説明する。
図11は、第1の実施の形態に係る物体認識装置の機能ブロック構成の一例を示す図である。図11に示すように、物体認識装置1は、視差値導出部3と、認識処理部5と、を備える。このうち、視差値導出部3は、画像取得部100(取得手段)と、変換部200と、パターン検出部300a、300b(検出手段)と、加工処理部400a、400b(変更手段)と、視差値演算処理部500と、を有する。
以下、視差値導出部3の動作について説明する。図19は、視差値導出部3のブロックマッチング処理の動作の一例を示すフローチャートである。図19を参照しながら、物体認識装置1の視差値導出部3のブロックマッチング処理の動作の流れについて説明する。
視差値導出部3の画像取得部100は、右のカメラ(撮像部10a)により前方の被写体を撮像して、それぞれアナログの画像信号を生成し、その画像信号に基づく画像である輝度画像を得る。これによって、後段の画像処理の対象となる画像信号が得られることになる。そして、ステップS2−1へ移行する。
視差値導出部3の画像取得部100は、左のカメラ(撮像部10b)により前方の被写体を撮像して、それぞれアナログの画像信号を生成し、その画像信号に基づく画像である輝度画像を得る。これによって、後段の画像処理の対象となる画像信号が得られることになる。そして、ステップS2−2へ移行する。
視差値導出部3の変換部200は、撮像部10bにより撮像されて得られたアナログの画像信号に対して、ノイズの除去、歪み補正等を行い、デジタル形式の画像データに変換する。このように、デジタル形式の画像データに変換することによって、その画像データに基づく画像に対して画素ごとの画像処理が可能となる。そして、ステップS3−1へ移行する。
視差値導出部3の変換部200は、撮像部10aにより撮像されて得られたアナログの画像信号に対して、ノイズの除去、歪み補正等を行い、デジタル形式の画像データに変換する。このように、デジタル形式の画像データに変換することによって、その画像データに基づく画像に対して画素ごとの画像処理が可能となる。そして、ステップS3−2へ移行する。
視差値導出部3の変換部200は、ステップS2−1において変換したデジタル形式の画像データに基づく画像をブロックマッチング処理における基準画像Iaとして出力する。これによって、ブロックマッチング処理において視差値を求めるための基準となる画像を得る。そして、ステップS4−1へ移行する。
視差値導出部3の変換部200は、ステップS2−2において変換したデジタル形式の画像データに基づく画像をブロックマッチング処理における比較画像Ibとして出力する。これによって、ブロックマッチング処理において視差値を求めるための比較対象となる画像を得る。そして、ステップS4−2へ移行する。
視差値導出部3のパターン検出部300aは、ステップS3−1で得られた基準画像Iaから繰り返しパターン領域を検出する。これによって、パターン検出部300aは、基準画像Iaからミスマッチングの原因となる領域を特定する。そして、ステップS5−1へ移行する。
視差値導出部3のパターン検出部300bは、ステップS3−2で得られた比較画像Ibから繰り返しパターン領域を検出する。これによって、パターン検出部300bは、比較画像Ibからミスマッチングの原因となる領域を特定する。そして、ステップS5−2へ移行する。
視差値導出部3の加工処理部400aは、ステップS4−1で検出された繰り返しパターン領域を構成する画素の輝度値を、当該画素の画素位置に応じて変更する。これによって、繰り返しパターン領域を構成する画素の輝度値は、その画素位置に応じた変更量によって変更される。そして、ステップS6へ移行する。
視差値導出部3の加工処理部400bは、ステップS4−2で検出された繰り返しパターン領域を構成する画素の輝度値を、当該画素の画素位置に応じて変更する。これによって、繰り返しパターン領域を構成する画素の輝度値は、その画素位置に応じた変更量によって変更される。そして、ステップS6へ移行する。
視差値導出部3の視差値演算処理部500のコスト算出部501は、ブロックマッチング処理により、加工済基準画像Iaの基準領域pbと、加工済比較画像Ibの候補領域qbとの非類似度をコスト値Cとして算出する。そして、ステップS7へ進む。
視差値導出部3の視差値演算処理部500の導出部502は、コスト算出部501により算出されたコスト値Cの最小値に対応するシフト量dを、コスト値Cの算出の対象となった加工済基準画像Iaの画素についての視差値dpとして導出する。そして、視差値導出部3の視差値演算処理部500の導出部502は、導出した視差値dpに基づいて、加工済基準画像Iaの各画素の輝度値を、その画素に対応する視差値dpで表した画像である視差画像を生成する。導出部502は、生成した視差画像を、認識処理部5に出力する。
2 本体部
3 視差値導出部
4 通信線
5 認識処理部
6 車両制御装置
7 ステアリングホイール
8 ブレーキペダル
10a、10b 撮像部
11a、11b 撮像レンズ
12a、12b 絞り
13a、13b 画像センサ
20a、20b 信号変換部
21a、21b CDS
22a、22b AGC
23a、23b ADC
24a、24b フレームメモリ
30 画像処理部
31 FPGA
32 CPU
33 ROM
34 RAM
35 I/F
39 バスライン
51 FPGA
52 CPU
53 ROM
54 RAM
55 I/F
58 CANI/F
59 バスライン
60 機器制御システム
70 車両
100 画像取得部
200 変換部
300a、300b パターン検出部
400a、400b 加工処理部
500 視差値演算処理部
501 コスト算出部
502 導出部
Claims (11)
- 第1撮像手段が被写体を撮像することで得られた第1画像と、前記第1撮像手段とは異なる位置に設置された第2撮像手段が前記被写体を撮像することで得られた第2画像とを取得する取得手段と、
前記第1画像及び前記第2画像から、同様の模様が繰り返し表れる繰り返しパターン領域をそれぞれ検出する検出手段と、
前記第1画像及び前記第2画像の前記繰り返しパターン領域を構成する画素の画素値を、前記第1画像と前記第2画像とのエピポーラ線方向の画素位置に応じて変更する変更手段と、
前記変更手段で変更された前記第1画像の基準領域と、前記変更手段で変更された前記第2画像において前記基準領域に対応する領域の候補となる複数の候補領域それぞれとの一致度を算出する算出手段と、
前記一致度に基づいて、前記基準領域と前記候補領域との視差値を導出する導出手段と、
を備え、
前記変更手段は、前記繰り返しパターン領域において、前記エピポーラ線方向の一端を基点とし、当該基点からの離間距離に応じて画素値の変更量を増加させる視差値導出装置。 - 第1撮像手段が被写体を撮像することで得られた第1画像と、前記第1撮像手段とは異なる位置に設置された第2撮像手段が前記被写体を撮像することで得られた第2画像とを取得する取得手段と、
前記第1画像及び前記第2画像から、同様の模様が繰り返し表れる繰り返しパターン領域をそれぞれ検出する検出手段と、
前記第1画像及び前記第2画像の前記繰り返しパターン領域を構成する画素の画素値を、前記第1画像と前記第2画像とのエピポーラ線方向の画素位置に応じて変更する変更手段と、
前記変更手段で変更された前記第1画像の基準領域と、前記変更手段で変更された前記第2画像において前記基準領域に対応する領域の候補となる複数の候補領域それぞれとの一致度を算出する算出手段と、
前記一致度に基づいて、前記基準領域と前記候補領域との視差値を導出する導出手段と、
を備え、
前記変更手段は、前記繰り返しパターン領域において、前記エピポーラ線方向の一端を基点とし、当該基点からの離間距離に応じて画素値の変更量を減少させる視差値導出装置。 - 第1撮像手段が被写体を撮像することで得られた第1画像と、前記第1撮像手段とは異なる位置に設置された第2撮像手段が前記被写体を撮像することで得られた第2画像とを取得する取得手段と、
前記第1画像及び前記第2画像から、同様の模様が繰り返し表れる繰り返しパターン領域をそれぞれ検出する検出手段と、
前記第1画像及び前記第2画像の前記繰り返しパターン領域を構成する画素の画素値を、前記第1画像と前記第2画像とのエピポーラ線方向の画素位置に応じて変更する変更手段と、
前記変更手段で変更された前記第1画像の基準領域と、前記変更手段で変更された前記第2画像において前記基準領域に対応する領域の候補となる複数の候補領域それぞれとの一致度を算出する算出手段と、
前記一致度に基づいて、前記基準領域と前記候補領域との視差値を導出する導出手段と、
を備え、
前記変更手段は、前記繰り返しパターン領域において、前記エピポーラ線方向の一端から他端に向かって、直前の画素の画素値を次の画素の画素値に順次加算する視差値導出装置。 - 前記変更手段は、前記変更により画素値が飽和した場合、当該画素値の変更に係る演算子を反対の意味の演算子に切り替える請求項1〜3の何れか一項に記載の視差値導出装置。
- 前記変更手段は、前記繰り返しパターン領域の前記エピポーラ線方向の横幅と、当該繰り返しパターン領域内の各画素の画素値とに基づいて、変更方法を決定する請求項1〜3の何れか一項に記載の視差値導出装置。
- 第1撮像手段が被写体を撮像することで得られた第1画像と、前記第1撮像手段とは異なる位置に設置された第2撮像手段が前記被写体を撮像することで得られた第2画像とを取得する取得ステップと、
前記第1画像及び前記第2画像から、同様の模様が繰り返し表れる繰り返しパターン領域をそれぞれ検出する検出ステップと、
前記第1画像及び前記第2画像の前記繰り返しパターン領域を構成する画素の画素値を、前記第1画像と前記第2画像とのエピポーラ線方向の画素位置に応じて変更する変更ステップと、
前記変更ステップで変更された前記第1画像の基準領域と、前記変更ステップで変更された前記第2画像において前記基準領域に対応する領域の候補となる複数の候補領域との一致度を算出する算出ステップと、
前記一致度に基づいて、前記基準領域と前記候補領域との視差値を導出する導出ステップと、
を有し、
前記変更ステップでは、前記繰り返しパターン領域において、前記エピポーラ線方向の一端を基点とし、当該基点からの離間距離に応じて画素値の変更量を増加させる視差値導出方法。 - 第1撮像手段が被写体を撮像することで得られた第1画像と、前記第1撮像手段とは異なる位置に設置された第2撮像手段が前記被写体を撮像することで得られた第2画像とを取得する取得ステップと、
前記第1画像及び前記第2画像から、同様の模様が繰り返し表れる繰り返しパターン領域をそれぞれ検出する検出ステップと、
前記第1画像及び前記第2画像の前記繰り返しパターン領域を構成する画素の画素値を、前記第1画像と前記第2画像とのエピポーラ線方向の画素位置に応じて変更する変更ステップと、
前記変更ステップで変更された前記第1画像の基準領域と、前記変更ステップで変更された前記第2画像において前記基準領域に対応する領域の候補となる複数の候補領域との一致度を算出する算出ステップと、
前記一致度に基づいて、前記基準領域と前記候補領域との視差値を導出する導出ステップと、
を有し、
前記変更ステップでは、前記繰り返しパターン領域において、前記エピポーラ線方向の一端を基点とし、当該基点からの離間距離に応じて画素値の変更量を減少させる視差値導出方法。 - 第1撮像手段が被写体を撮像することで得られた第1画像と、前記第1撮像手段とは異なる位置に設置された第2撮像手段が前記被写体を撮像することで得られた第2画像とを取得する取得ステップと、
前記第1画像及び前記第2画像から、同様の模様が繰り返し表れる繰り返しパターン領域をそれぞれ検出する検出ステップと、
前記第1画像及び前記第2画像の前記繰り返しパターン領域を構成する画素の画素値を、前記第1画像と前記第2画像とのエピポーラ線方向の画素位置に応じて変更する変更ステップと、
前記変更ステップで変更された前記第1画像の基準領域と、前記変更ステップで変更された前記第2画像において前記基準領域に対応する領域の候補となる複数の候補領域との一致度を算出する算出ステップと、
前記一致度に基づいて、前記基準領域と前記候補領域との視差値を導出する導出ステップと、
を有し、
前記変更ステップでは、前記繰り返しパターン領域において、前記エピポーラ線方向の一端から他端に向かって、直前の画素の画素値を次の画素の画素値に順次加算する視差値導出方法。 - コンピュータを、
第1撮像手段が被写体を撮像することで得られた第1画像と、前記第1撮像手段とは異なる位置に設置された第2撮像手段が前記被写体を撮像することで得られた第2画像とを取得する取得手段と、
前記第1画像及び前記第2画像から、同様の模様が繰り返し表れる繰り返しパターン領域をそれぞれ検出する検出手段と、
前記第1画像及び前記第2画像の前記繰り返しパターン領域を構成する画素の画素値を、前記第1画像と前記第2画像とのエピポーラ線方向の画素位置に応じて変更する変更手段と、
前記変更手段で変更された前記第1画像の基準領域と、前記変更手段で変更された前記第2画像において前記基準領域に対応する領域の候補となる複数の候補領域それぞれとの一致度を算出する算出手段と、
前記一致度に基づいて、前記基準領域と前記候補領域との視差値を導出する導出手段と、
して機能させ、
前記変更手段は、前記繰り返しパターン領域において、前記エピポーラ線方向の一端を基点とし、当該基点からの離間距離に応じて画素値の変更量を増加させるプログラム。 - コンピュータを、
第1撮像手段が被写体を撮像することで得られた第1画像と、前記第1撮像手段とは異なる位置に設置された第2撮像手段が前記被写体を撮像することで得られた第2画像とを取得する取得手段と、
前記第1画像及び前記第2画像から、同様の模様が繰り返し表れる繰り返しパターン領域をそれぞれ検出する検出手段と、
前記第1画像及び前記第2画像の前記繰り返しパターン領域を構成する画素の画素値を、前記第1画像と前記第2画像とのエピポーラ線方向の画素位置に応じて変更する変更手段と、
前記変更手段で変更された前記第1画像の基準領域と、前記変更手段で変更された前記第2画像において前記基準領域に対応する領域の候補となる複数の候補領域それぞれとの一致度を算出する算出手段と、
前記一致度に基づいて、前記基準領域と前記候補領域との視差値を導出する導出手段と、
して機能させ、
前記変更手段は、前記繰り返しパターン領域において、前記エピポーラ線方向の一端を基点とし、当該基点からの離間距離に応じて画素値の変更量を減少させるプログラム。 - コンピュータを、
第1撮像手段が被写体を撮像することで得られた第1画像と、前記第1撮像手段とは異なる位置に設置された第2撮像手段が前記被写体を撮像することで得られた第2画像とを取得する取得手段と、
前記第1画像及び前記第2画像から、同様の模様が繰り返し表れる繰り返しパターン領域をそれぞれ検出する検出手段と、
前記第1画像及び前記第2画像の前記繰り返しパターン領域を構成する画素の画素値を、前記第1画像と前記第2画像とのエピポーラ線方向の画素位置に応じて変更する変更手段と、
前記変更手段で変更された前記第1画像の基準領域と、前記変更手段で変更された前記第2画像において前記基準領域に対応する領域の候補となる複数の候補領域それぞれとの一致度を算出する算出手段と、
前記一致度に基づいて、前記基準領域と前記候補領域との視差値を導出する導出手段と、
して機能させ、
前記変更手段は、前記繰り返しパターン領域において、前記エピポーラ線方向の一端から他端に向かって、直前の画素の画素値を次の画素の画素値に順次加算するプログラム。
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