JP6700832B2 - Electrophotographic photoreceptor, method of manufacturing electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and electrophotographic apparatus - Google Patents

Electrophotographic photoreceptor, method of manufacturing electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and electrophotographic apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP6700832B2
JP6700832B2 JP2016026328A JP2016026328A JP6700832B2 JP 6700832 B2 JP6700832 B2 JP 6700832B2 JP 2016026328 A JP2016026328 A JP 2016026328A JP 2016026328 A JP2016026328 A JP 2016026328A JP 6700832 B2 JP6700832 B2 JP 6700832B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
charge transport
photosensitive member
electrophotographic photosensitive
polycarbonate resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016026328A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2016164651A (en
Inventor
陽太 伊藤
陽太 伊藤
大祐 三浦
大祐 三浦
翔馬 日當
翔馬 日當
寛之 友野
寛之 友野
隆志 姉崎
隆志 姉崎
達也 山合
達也 山合
和道 杉山
和道 杉山
川原 正隆
正隆 川原
上杉 浩敏
浩敏 上杉
晃洋 丸山
晃洋 丸山
雲井 郭文
郭文 雲井
田中 正人
正人 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to DE102016103345.6A priority Critical patent/DE102016103345B4/en
Priority to US15/054,017 priority patent/US9753385B2/en
Priority to CN201610109106.4A priority patent/CN105929642B/en
Publication of JP2016164651A publication Critical patent/JP2016164651A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6700832B2 publication Critical patent/JP6700832B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)

Description

本発明は、電子写真感光体、係る電子写真感光体の製造方法、並びに、係る電子写真感光体を用いたプロセスカートリッジ及び電子写真装置に関する。   The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member, a method of manufacturing the electrophotographic photosensitive member, a process cartridge using the electrophotographic photosensitive member, and an electrophotographic apparatus.

表面層として電荷輸送層を有する電子写真感光体は、繰り返し使用に対する耐摩耗性が求められる。電荷輸送層の耐摩耗性を向上するために、電荷輸送層のバインダーとして用いる樹脂、特に、ポリカーボネート樹脂の構造の検討がされている(特許文献1〜5)。   An electrophotographic photoreceptor having a charge transport layer as a surface layer is required to have abrasion resistance against repeated use. In order to improve the wear resistance of the charge transport layer, the structure of a resin used as a binder of the charge transport layer, particularly a polycarbonate resin has been studied (Patent Documents 1 to 5).

特開2011−26574号公報JP, 2011-26574, A 特開平05−113680号公報JP 05-113680 A 特開平04−149557号公報JP 04-149557 A 特開平06−011877号公報JP-A-06-011877 特開2005−338446号公報JP, 2005-338446, A

本発明者らの検討によると、表面層として電荷輸送層を有する電子写真感光体を用いる場合、繰り返し使用による摩耗によって、電荷輸送層が薄くなることで、電界強度が上昇することが分かった。その結果、画像に「かぶり」という現象(本来トナーが現像されるべきでない部分に、少量のトナーが現像されてしまう現象)が発生するという技術課題が生じることが分かった。   According to the study by the present inventors, it has been found that when an electrophotographic photosensitive member having a charge transport layer as a surface layer is used, the charge transport layer becomes thin due to abrasion due to repeated use, and the electric field strength increases. As a result, it has been found that there is a technical problem that a phenomenon of "fog" (a phenomenon in which a small amount of toner is developed in a portion where toner should not be originally developed) occurs in an image.

上記特許文献1〜5に記載の、従来のポリカーボネート樹脂をバインダーとして用いた電荷輸送層を有する電子写真感光体においては、かぶりはある程度抑制されてはいるものの、近年特に求められる電子写真感光体の高寿命化には十分に対応できていなかった。   In the electrophotographic photoreceptors having the charge transport layer using the conventional polycarbonate resin as the binder described in Patent Documents 1 to 5, although fogging is suppressed to some extent, the electrophotographic photoreceptors that have been particularly required in recent years It was not able to fully cope with the extension of the service life.

したがって、本発明の目的は、高いレベルのかぶり抑制効果を有する電子写真感光体を提供することにある。また、本発明の別の目的は、係る電子写真感光体の製造方法、並びに、係る電子写真感光体を用いたプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することにある。   Therefore, an object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member having a high level of fogging suppressing effect. Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing the electrophotographic photosensitive member, and a process cartridge and an electrophotographic apparatus using the electrophotographic photosensitive member.

上記の目的は以下の本発明によって達成される。即ち、本発明にかかる電子写真感光体は、支持体と、電荷発生層と、電荷輸送物質を含有する電荷輸送層とをこの順に有し、該電荷輸送層が、該電子写真感光体の表面層であり、該電荷輸送層が、A群から選択される構造単位と、B群から選択される構造単位と、を有し、そして、
重量平均分子量が、30,000以上98,000以下である共重合ポリカーボネート樹脂を含有し、
該電荷輸送物質と該共重合ポリカーボネート樹脂の部数比は6/10以上9/10以下であることを特徴とする。
The above object is achieved by the present invention described below. That is, the electrophotographic photosensitive member according to the present invention has a support, a charge generating layer, and a charge transporting layer containing a charge transporting substance in this order, and the charge transporting layer is the surface of the electrophotographic photosensitive member. a layer, charge transport layer, possess a structural unit selected from group a, a structural unit selected from group B, a, and,
Weight average molecular weight, has contains a copolymerization port polycarbonate resin is 30,000 98,000 or less,
The ratio of the number of parts between the charge transport material and the copolymerized polycarbonate resin is 6/10 or more and 9/10 or less .

<A群:式(101)、(102)で示される構造単位>   <Group A: Structural units represented by formulas (101) and (102)>

(式(101)において、R211〜R214は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を示す。R215は、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を示す。R216とR217は、それぞれ独立に、炭素数1〜9のアルキル基を示す。i211は0〜3の整数を示す。但し、R215と(CHCHR216217は同一ではない。) In (formula (101), R 211 ~R 214 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, .R 215 of an alkoxy group, an alkyl group, an aryl group, and .R 216 to an alkoxy group R 217 each independently represent an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms .i 211 represents an integer of 0 to 3. However, the R 215 (CH 2) i CHR 216 R 217 are not the same.)

(式(102)において、R221〜R224は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を示す。R225とR226は、それぞれ独立に、炭素数1〜9のアルキル基を示す。但し、R225とR226は同一ではない。i221は0〜3の整数を示す。) (In the formula (102), R 221 to R 224 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an alkoxy group. R 225 and R 226 each independently represent an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms. Group, provided that R 225 and R 226 are not the same. i 221 represents an integer of 0 to 3.)

<B群:式(104)示される構造単位> <B Group: Equation (10 4) shows a structural unit>

(式(104)において、R241〜R244は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を示す。Xは単結合、酸素原子、硫黄原子、スルホニル基を示す。) (In the formula (104), R 241 to R 244 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an alkoxy group. X represents a single bond, an oxygen atom, a sulfur atom, or a sulfonyl group.)

本発明によれば、高いレベルのかぶり抑制効果を有する電子写真感光体を提供することができる。また、係る電子写真感光体の製造方法、並びに、係る電子写真感光体を用いたプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide an electrophotographic photosensitive member having a high level of fogging suppressing effect. Further, it is possible to provide a method for manufacturing the electrophotographic photosensitive member, and a process cartridge and an electrophotographic apparatus using the electrophotographic photosensitive member.

電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の概略構成の一例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an example of a schematic configuration of an electrophotographic apparatus provided with a process cartridge having an electrophotographic photosensitive member. 実施例で用いたドロキシガリウムフタロシアニン結晶の粉末X線回折図である。It is a powder X-ray diffraction pattern of the droxygallium phthalocyanine crystal used in the Example. 実施例で用いたクロロガリウムフタロシアニン結晶の粉末X線回折図である。It is a powder X-ray diffraction pattern of the chlorogallium phthalocyanine crystal used in the Example. 実施例で用いたヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の粉末X線回折図である。It is a powder X-ray diffraction pattern of the hydroxygallium phthalocyanine crystal used in the examples. 1ドット桂馬パターン画像を説明する図である。It is a figure explaining a 1-dot Keima pattern image.

以下、好適な実施の形態を挙げて、本発明を詳細に説明する。本発明者らが検討を行った結果、特定のポリカーボネート樹脂を含有する電荷輸送層を有する電子写真感光体を用いることで、機械的強度が特に向上し、高いレベルでかぶりが抑制できることを見出した。具体的には、支持体と、電荷発生層と、電荷輸送物質を含有する電荷輸送層とをこの順に有する電子写真感光体であって、該電荷輸送層が、該電子写真感光体の表面層であり、該電荷輸送層が、A群から選択される構造単位と、B群から選択される構造単位と、を有するポリカーボネート樹脂を含有する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to preferred embodiments. As a result of the studies by the present inventors, it was found that the use of an electrophotographic photoreceptor having a charge transport layer containing a specific polycarbonate resin can improve mechanical strength particularly and suppress fogging at a high level. .. Specifically, it is an electrophotographic photoreceptor having a support, a charge generation layer, and a charge transport layer containing a charge transport material in this order, wherein the charge transport layer is a surface layer of the electrophotographic photoreceptor. And the charge transport layer contains a polycarbonate resin having a structural unit selected from the group A and a structural unit selected from the group B.

<A群:式(101)、(102)で示される構造単位>   <Group A: Structural units represented by formulas (101) and (102)>

式(101)において、R211〜R214は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を示す。R215は、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を示す。R216とR217は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換の炭素数1〜9のアルキル基を示す。i211は0〜3の整数を示す。尚、i211が0のときは単結合である。但し、R215と(CHCHR216217は同一ではない。 In formula (101), R 211 to R 214 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an alkoxy group. R 215 represents an alkyl group, an aryl group or an alkoxy group. R 216 and R 217 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 9 carbon atoms. i211 shows the integer of 0-3. When i 211 is 0, it is a single bond. However, R 215 and (CH 2 ) i CHR 216 R 217 are not the same.

上記式(102)において、R221〜R224は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を示す。R225とR226は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換の炭素数1〜9のアルキル基を示す。但し、R225とR226は同一ではない。i221は0〜3の整数を示す。尚、i221が0のときは単結合である。 In the above formula (102), R 221 to R 224 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an alkoxy group. R 225 and R 226 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 9 carbon atoms. However, R 225 and R 226 are not the same. i 221 represents an integer of 0 to 3. When i 221 is 0, it is a single bond.

<B群:式(104)、式(105)、式(106)で示される構造単位>   <Group B: Structural units represented by formula (104), formula (105), and formula (106)>

式(104)において、R241〜R244は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を示す。Xは単結合、酸素原子、硫黄原子、スルホニル基を示す。 In formula (104), R 241 to R 244 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an alkoxy group. X represents a single bond, an oxygen atom, a sulfur atom, or a sulfonyl group.

式(105)において、R251〜R254は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を示す。R256〜R257は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基を示す。アリール基は、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子で置換されていてもよい。 In formula (105), R 251 to R 254 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an alkoxy group. R 256 to R 257 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a halogenated alkyl group. The aryl group may be substituted with an alkyl group, an alkoxy group, or a halogen atom.

式(106)において、R261〜R264は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を示す。Wは、炭素数5〜12のシクロアルキリデン基を示す。シクロアルキリデン基は、アルキル基で置換されていてもよい。 In formula (106), R 261 to R 264 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an alkoxy group. W represents a cycloalkylidene group having 5 to 12 carbon atoms. The cycloalkylidene group may be substituted with an alkyl group.

上記A群から選択される構造単位と、上記B群から選択される構造単位を有するポリカーボネート樹脂を合成する方法としては、例えば、以下2つの方法が挙げられる。1つ目は、式(107)及び(108)から選択される少なくとも1種のビスフェノール化合物と、式(110)〜(112)から選択される少なくとも1種のビスフェノール化合物を、ホスゲンと直接反応させる方法(ホスゲン法)である。2つ目は、上述した少なくとも2種のビスフェノール化合物を、ジフェニルカーボネート、ジ−p−トリルカーボネート、フェニル−p−トリルカーボネート、ジ−p−クロロフェニルカーボネート、ジナフチルカーボネートなどのビスアリールカーボネートとエステル交換反応させる方法(エステル交換法)である。   Examples of the method for synthesizing the polycarbonate resin having the structural unit selected from the group A and the structural unit selected from the group B include the following two methods. First, at least one bisphenol compound selected from the formulas (107) and (108) and at least one bisphenol compound selected from the formulas (110) to (112) are directly reacted with phosgene. Method (phosgene method). Second, transesterification of at least two bisphenol compounds described above with bisaryl carbonates such as diphenyl carbonate, di-p-tolyl carbonate, phenyl-p-tolyl carbonate, di-p-chlorophenyl carbonate, and dinaphthyl carbonate. This is a reaction method (transesterification method).

ホスゲン法においては、通常、酸結合剤及び溶剤の存在下において、上述した少なくとも2種のビスフェノール化合物とホスゲンを反応させる。このとき用いる酸結合剤としては、ピリジンや、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなどのアルカリ金属の水酸化物などが挙げられる。また溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルムなどが挙げられる。更に、縮重合反応を促進するために、触媒や分子量調節剤を加えても良い。触媒としては、トリエチルアミンのような第三級アミン、または第四級アンモニウム塩などが挙げられる。分子量調節剤としては、フェノール、p−クミルフェノール、t−ブチルフェノール、長鎖アルキル置換フェノールなどの一官能基化合物が挙げられる。   In the phosgene method, usually, at least two bisphenol compounds described above are reacted with phosgene in the presence of an acid binder and a solvent. Examples of the acid binder used at this time include pyridine and hydroxides of alkali metals such as potassium hydroxide and sodium hydroxide. Examples of the solvent include methylene chloride and chloroform. Further, in order to accelerate the polycondensation reaction, a catalyst or a molecular weight modifier may be added. Examples of the catalyst include tertiary amines such as triethylamine, and quaternary ammonium salts. Examples of the molecular weight modifier include monofunctional compounds such as phenol, p-cumylphenol, t-butylphenol, and long-chain alkyl-substituted phenol.

また、ポリカーボネート樹脂を合成する際に、亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイトなどの酸化防止剤;フロログルシン、イサチンビスフェノールなど分岐化剤を用いてもよい。また、ポリカーボネート樹脂を合成するときの反応温度は、0〜150℃が好ましく、5〜40℃がより好ましい。反応時間は、反応温度によって左右されるが、通常0.5分〜10時間が好ましく、1分〜2時間がより好ましい。また、反応中は、反応系のpHを10以上にすることが好ましい。   Further, when synthesizing the polycarbonate resin, an antioxidant such as sodium sulfite or hydrosulfite; a branching agent such as phloroglucin or isatin bisphenol may be used. The reaction temperature when synthesizing the polycarbonate resin is preferably 0 to 150°C, more preferably 5 to 40°C. While the reaction time depends on the reaction temperature, it is usually 0.5 minutes to 10 hours, more preferably 1 minute to 2 hours. Further, during the reaction, the pH of the reaction system is preferably 10 or higher.

以下、合成に用いるビスフェノール化合物の具体例を示す。   Hereinafter, specific examples of the bisphenol compound used for the synthesis will be shown.

(1)式(107)及び(108)から選択される少なくとも1種のビスフェノール化合物   (1) At least one bisphenol compound selected from formulas (107) and (108)

式(107)において、R211〜R214は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を示す。R215は、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を示す。R216とR217は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換の炭素数1〜9のアルキル基を示す。i211は0〜3の整数を示す。尚、i211が0のときは単結合である。但し、R215と(CHCHR216217は同一ではない。 In formula (107), R 211 to R 214 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an alkoxy group. R 215 represents an alkyl group, an aryl group or an alkoxy group. R 216 and R 217 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 9 carbon atoms. i211 shows the integer of 0-3. When i 211 is 0, it is a single bond. However, R 215 and (CH 2 ) i CHR 216 R 217 are not the same.

上記式(108)において、R221〜R224は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を示す。R225とR226は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換の炭素数1〜9のアルキル基を示す。但し、R225とR226は同一ではない。i221は0〜3の整数を示す。尚、i221が0のときは単結合である。 In the above formula (108), R 221 to R 224 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an alkoxy group. R 225 and R 226 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 9 carbon atoms. However, R 225 and R 226 are not the same. i 221 represents an integer of 0 to 3. When i 221 is 0, it is a single bond.

式(107)及び(108)で示されるビスフェノール化合物としては、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4−メチルペンタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−5−メチルヘキサン、3,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−5−メチルヘプタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3−メチルブタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニル−2−メチルプロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニル−3−メチルブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−6−メチルヘプタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2−エチルヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニル−2−メチルペンタンなどが挙げられる。これらを2種類以上併用することも可能である。   Examples of the bisphenol compound represented by the formulas (107) and (108) include 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)-4-methylpentane, 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)-5-methylhexane, 3,3-bis(4-hydroxyphenyl)-5-methylheptane, 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)-3-methylbutane, 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)-1-phenyl-2 -Methylpropane, 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)-1-phenyl-3-methylbutane, 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)-6-methylheptane, 1,1-bis(4-hydroxy) Examples thereof include phenyl)-2-ethylhexane and 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)-1-phenyl-2-methylpentane. It is also possible to use two or more of these in combination.

(2)式(110)〜(112)から選択される少なくとも1種のビスフェノール化合物   (2) At least one bisphenol compound selected from formulas (110) to (112)

式(110)において、R241〜R244は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を示す。Xは単結合、酸素原子、硫黄原子、スルホニル基を示す。 In formula (110), R 241 to R 244 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an alkoxy group. X represents a single bond, an oxygen atom, a sulfur atom, or a sulfonyl group.

式(111)において、R251〜R254は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を示す。R256〜R257は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基を示す。アリール基は、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子で置換されていてもよい。 In formula (111), R 251 to R 254 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an alkoxy group. R 256 to R 257 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a halogenated alkyl group. The aryl group may be substituted with an alkyl group, an alkoxy group, or a halogen atom.

式(112)において、R261〜R264は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を示す。Wは、炭素数5〜12のシクロアルキリデン基を示す。シクロアルキリデン基は、アルキル基で置換されていてもよい。 In formula (112), R 261 to R 264 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an alkoxy group. W represents a cycloalkylidene group having 5 to 12 carbon atoms. The cycloalkylidene group may be substituted with an alkyl group.

式(110)〜(112)で示されるビスフェノール化合物としては、4,4′−ジヒドロキシビフェニル、4,4′−ジヒドロキシ−3,3′−ジメチルビフェニル、4,4′−ジヒドロキシ−2,2′−ジメチルビフェニル、4,4′−ジヒドロキシ−3,3′,5−トリメチルビフェニル、4,4′−ジヒドロキシ−3,3′,5,5′−テトラメチルビフェニル、4,4′−ジヒドロキシ−3,3′−ジブチルビフェニル、4,4′−ジヒドロキシ−3,3′−ジシクロヘキシルビフェニル、3,3′−ジフルオロ−4,4′−ジヒドロキシビフェニル、4,4′−ジヒドロキシ−3,3′−ジフェニルビフェニル、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−ビス(2−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)エタン、1,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−ブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジフルオロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(2−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(3−シクロ−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(3−ブロモ−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(3,5−ジフルオロ−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(2−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロヘキサン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−フルオレン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタンなどが挙げられる。これらを2種類以上併用することも可能である。   Examples of the bisphenol compound represented by the formulas (110) to (112) include 4,4'-dihydroxybiphenyl, 4,4'-dihydroxy-3,3'-dimethylbiphenyl and 4,4'-dihydroxy-2,2'. -Dimethylbiphenyl, 4,4'-dihydroxy-3,3',5-trimethylbiphenyl, 4,4'-dihydroxy-3,3',5,5'-tetramethylbiphenyl, 4,4'-dihydroxy-3 ,3'-dibutylbiphenyl, 4,4'-dihydroxy-3,3'-dicyclohexylbiphenyl, 3,3'-difluoro-4,4'-dihydroxybiphenyl, 4,4'-dihydroxy-3,3'-diphenyl Biphenyl, 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethane, 1,1-bis(3-methyl-4-hydroxyphenyl)ethane, 1,1-bis(3-fluoro-4-hydroxyphenyl)ethane, 1 ,1-bis(2-tert-butyl-4-hydroxy-3-methylphenyl)ethane, 1,2-bis(4-hydroxyphenyl)ethane, 1,2-bis(3-methyl-4-hydroxyphenyl) Ethane, 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)propane, 2,2-bis(3-methyl-4-hydroxyphenyl)propane, 2,2-bis(3-cyclohexyl-4-hydroxyphenyl)propane, 2 ,2-bis(3-phenyl-4-hydroxyphenyl)propane, 2,2-bis(3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl)propane, 2,2-bis(3-fluoro-4-hydroxyphenyl) Propane, 2,2-bis(3-chloro-4-hydroxyphenyl)propane, 2,2-bis(3-bromo-4-hydroxyphenyl)propane, 2,2-bis(3,5-difluoro-4-) Hydroxyphenyl)propane, 2,2-bis(3,5-dichloro-4-hydroxyphenyl)propane, 2,2-bis(3,5-dibromo-4-hydroxyphenyl)propane, 2,2-bis(2 -Tert-butyl-4-hydroxy-3-methylphenyl)propane, 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)hexafluoropropane, 2,2-bis(3-methyl-4-hydroxyphenyl)hexafluoropropane, 2,2-bis(3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl)hexafluoropropane, 2,2-bis(3-phenyl-4-hydroxyphenyl)hexafluoropropane, 2,2-bis(3-fluoro-) Four -Hydroxyphenyl)hexafluoropropane, 2,2-bis(3-chloro-4-hydroxyphenyl)hexafluoropropane, 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)cyclohexane, 1,1-bis(3-methyl- 4-hydroxyphenyl)cyclohexane, 1,1-bis(3-cyclo-4-hydroxyphenyl)cyclohexane, 1,1-bis(3-phenyl-4-hydroxyphenyl)cyclohexane, 1,1-bis(3,5) -Dimethyl-4-hydroxyphenyl)cyclohexane, 1,1-bis(3-fluoro-4-hydroxyphenyl)cyclohexane, 1,1-bis(3-chloro-4-hydroxyphenyl)cyclohexane, 1,1-bis( 3-bromo-4-hydroxyphenyl)cyclohexane, 1,1-bis(3,5-difluoro-4-hydroxyphenyl)cyclohexane, 1,1-bis(3,5-dichloro-4-hydroxyphenyl)cyclohexane, 1 ,1-bis(3,5-dibromo-4-hydroxyphenyl)cyclohexane, 1,1-bis(2-tert-butyl-4-hydroxy-3-methylphenyl)cyclohexane, bis(4-hydroxyphenyl)sulfone, 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)-3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)cyclopentane, 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)-1-phenyl Examples thereof include ethane, bis(4-hydroxyphenyl)diphenylmethane, 9,9-bis(4-hydroxyphenyl)-fluorene and 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)butane. It is also possible to use two or more of these in combination.

(A群から選択される構造単位)
A群から選択される構造単位の中でも、下記式(A−101)〜(A−105)で示される構造単位を有するポリカーボネート樹脂を用いることが、かぶり抑制効果及び電気特性の向上の観点から好ましい。このような構造単位を有するポリカーボネート樹脂を用いることで、電荷輸送層において、樹脂同士の距離や、樹脂と電荷輸送物質間の距離が均一になり、機械的強度や、電気特性が向上すると考えられる。
(Structural unit selected from group A)
Among the structural units selected from Group A, it is preferable to use a polycarbonate resin having structural units represented by the following formulas (A-101) to (A-105) from the viewpoint of the fogging suppressing effect and the improvement of the electrical characteristics. .. By using a polycarbonate resin having such a structural unit, it is considered that in the charge transport layer, the distance between the resins and the distance between the resin and the charge transport substance become uniform, and the mechanical strength and electrical characteristics are improved. ..

A群から選択される構造単位の中でも、下記式(A−201)〜(A−205)で示される構造単位を有するポリカーボネート樹脂を用いることが、電荷輸送層用塗布液の保存安定性、フォトメモリーの抑制効果、繰り返し使用時の電気特性の向上の観点から好ましい。このような構造単位を有するポリカーボネート樹脂を用いることで、電荷輸送層用塗布液において、樹脂の溶媒への溶解性が向上すると考えられる。また、電荷輸送層において、樹脂と電荷輸送物質間の距離が均一になり、電気特性が向上すると考えられる。ここで、フォトメモリーとは、プロセスカートリッジや電子写真装置の繰り返し使用後のメンテナンスを行う際に、電子写真感光体が蛍光灯などの光を浴びることで生成したキャリアが感光層に滞留することで発生する現象である。この状態で画像形成を行うと、光を浴びた部分と光を浴びていない部分との間に電位差が生じ、濃度ムラを有する画像となってしまう。   Among the structural units selected from the group A, it is preferable to use a polycarbonate resin having a structural unit represented by the following formulas (A-201) to (A-205) for the storage stability of the coating solution for the charge transport layer and the photo stability. It is preferable from the viewpoint of the effect of suppressing the memory and the improvement of the electrical characteristics during repeated use. It is considered that the use of the polycarbonate resin having such a structural unit improves the solubility of the resin in the solvent in the charge transport layer coating liquid. Further, in the charge transport layer, it is considered that the distance between the resin and the charge transport material becomes uniform and the electrical characteristics are improved. Here, the photo memory means that a carrier generated by exposing the electrophotographic photosensitive member to light such as a fluorescent lamp stays in the photosensitive layer during maintenance after repeated use of the process cartridge and the electrophotographic apparatus. This is a phenomenon that occurs. When an image is formed in this state, a potential difference is generated between a portion exposed to light and a portion not exposed to light, resulting in an image having uneven density.

A群から選択される構造単位の中でも、下記式(A−401)〜(A−405)で示される構造単位を有するポリカーボネート樹脂を用いることが、電荷輸送層用塗布液の保存安定性、フォトメモリーの抑制効果の向上の観点から好ましい。このような構造単位を有するポリカーボネート樹脂を用いることで、電荷輸送層用塗布液において、樹脂の溶媒への溶解性が向上すると考えられる。   Among the structural units selected from the group A, it is preferable to use a polycarbonate resin having a structural unit represented by the following formulas (A-401) to (A-405) for the storage stability of the coating liquid for the charge transport layer, It is preferable from the viewpoint of improving the effect of suppressing the memory. It is considered that the use of the polycarbonate resin having such a structural unit improves the solubility of the resin in the solvent in the charge transport layer coating liquid.

(B群から選択される構造単位)
B群から選択される構造単位の中でも、下記式(B−101)〜(B−105)で示される構造単位を有するポリカーボネート樹脂を用いることが、かぶり抑制効果及び電気特性の観点から好ましい。このような構造単位を有するポリカーボネート樹脂を用いることで、電荷輸送層において、樹脂同士の距離や、樹脂と電荷輸送物質間の距離が均一になり、機械的強度や、電気特性が向上すると考えられる。
(Structural unit selected from group B)
Among the structural units selected from the group B, it is preferable to use a polycarbonate resin having a structural unit represented by the following formulas (B-101) to (B-105) from the viewpoint of the fogging suppressing effect and electric characteristics. By using a polycarbonate resin having such a structural unit, it is considered that in the charge transport layer, the distance between the resins and the distance between the resin and the charge transport substance become uniform, and the mechanical strength and electrical characteristics are improved. ..

B群から選択される構造単位の中でも、下記式(B−201)〜(B−205)で示される構造単位を有するポリカーボネート樹脂を用いることが、かぶり抑制効果の観点から好ましい。このような構造単位を有するポリカーボネート樹脂を用いることで、電荷輸送層において、樹脂同士のパッキングが密になるため、機械的強度が向上すると考えられる。   Among the structural units selected from Group B, it is preferable to use a polycarbonate resin having structural units represented by the following formulas (B-201) to (B-205) from the viewpoint of the fogging suppressing effect. It is considered that the use of the polycarbonate resin having such a structural unit improves the mechanical strength because the resins are densely packed in the charge transport layer.

B群から選択される構造単位の中でも、下記式(B−301)〜(B−308)で示される構造単位を有するポリカーボネート樹脂を用いることが、電荷輸送層用塗布液の保存安定性、フォトメモリーの抑制効果、繰り返し使用時の電気特性の向上の観点から好ましい。このような構造単位を有するポリカーボネート樹脂を用いることで、電荷輸送層用塗布液において、樹脂の溶媒への溶解性が向上すると考えられる。また、電荷輸送層において、樹脂と電荷輸送物質間の距離が均一になり、電気特性が向上すると考えられる。   Among the structural units selected from Group B, it is preferable to use a polycarbonate resin having a structural unit represented by the following formulas (B-301) to (B-308) for the storage stability of the coating liquid for the charge transport layer, It is preferable from the viewpoint of the effect of suppressing the memory and the improvement of the electric characteristics during repeated use. It is considered that the use of the polycarbonate resin having such a structural unit improves the solubility of the resin in the solvent in the charge transport layer coating liquid. Further, in the charge transport layer, it is considered that the distance between the resin and the charge transport material becomes uniform and the electrical characteristics are improved.

B群から選択される構造単位の中でも、下記式(B−401)〜(B−405)で示される構造単位を有するポリカーボネート樹脂を用いることが、電荷輸送層用塗布液の保存安定性、フォトメモリーの抑制効果、繰り返し使用時の電気特性の向上の観点から好ましい。このような構造単位を有するポリカーボネート樹脂を用いることで、電荷輸送層用塗布液において、樹脂の溶媒への溶解性が向上すると考えられる。また、電荷輸送層において、樹脂と電荷輸送物質間の距離が均一になり、電気特性が向上すると考えられる。   Among the structural units selected from the group B, it is preferable to use a polycarbonate resin having a structural unit represented by the following formulas (B-401) to (B-405) for the storage stability of the coating solution for the charge transport layer, It is preferable from the viewpoint of the effect of suppressing the memory and the improvement of the electric characteristics during repeated use. It is considered that the use of the polycarbonate resin having such a structural unit improves the solubility of the resin in the solvent in the charge transport layer coating liquid. Further, in the charge transport layer, it is considered that the distance between the resin and the charge transport material becomes uniform and the electrical characteristics are improved.

ポリカーボネート樹脂に占める、A群から選択される構造単位の含有比率が、20mol%以上70mol%以下であることが好ましく、25mol%以上49mol%以下であることがより好ましい。   The content ratio of the structural unit selected from Group A in the polycarbonate resin is preferably 20 mol% or more and 70 mol% or less, and more preferably 25 mol% or more and 49 mol% or less.

本発明において、ポリカーボネート樹脂の重量平均分子量(Mw)は、30,000以上100,000以下であることが好ましく、40,000以上80,000以下であることがより好ましい。ポリカーボネート樹脂の重量平均分子量が30,000より小さいと機械的強度が低く、かぶり抑制効果が十分に得られない場合がある。一方、ポリカーボネート樹脂の重量平均分子量が100,000より大きいと電荷輸送層用塗布液の保存安定性が十分に得られない場合がある。後述する実施例において、樹脂の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)[測定器:アライアンスHPLCシステム(Waters製)]を用い、Shodex KF−805Lカラム(昭和電工製)2本、0.25w/v%クロロホルム溶液サンプル、1ml/分クロロホルム溶離液、254nmのUV検出の条件で測定し、ポリスチレン換算の値として算出した。   In the present invention, the weight average molecular weight (Mw) of the polycarbonate resin is preferably 30,000 or more and 100,000 or less, and more preferably 40,000 or more and 80,000 or less. When the weight average molecular weight of the polycarbonate resin is less than 30,000, the mechanical strength is low and the fogging suppressing effect may not be sufficiently obtained. On the other hand, if the weight average molecular weight of the polycarbonate resin is larger than 100,000, the storage stability of the charge transport layer coating solution may not be sufficiently obtained. In the examples described later, the weight average molecular weight of the resin was determined by gel permeation chromatography (GPC) [measuring instrument: Alliance HPLC system (manufactured by Waters)] using two Shodex KF-805L columns (manufactured by Showa Denko), 0. A 25 w/v% chloroform solution sample, 1 ml/min chloroform eluent, was measured under the condition of UV detection at 254 nm, and calculated as a polystyrene conversion value.

また、上記ポリカーボネート樹脂の極限粘度は、0.3dL/g〜2.0dL/gが好ましい。   The intrinsic viscosity of the polycarbonate resin is preferably 0.3 dL/g to 2.0 dL/g.

ポリカーボネート樹脂の比誘電率εは、以下のクラジウス−モソッティの式から求めることができる。
K=(4π/3)×(α/V)
ε=(1+2K)/(1−K)
ここで、Vは密度汎関数計算B3LYP/6−31G(d,p)による構造最適化計算後に得られた安定構造における分子体積であり、αは構造最適化計算後に得られた安定構造における制限Hartree−Fock法計算(基底関数は6−31G(d,p))による分極率である。複数の構造単位を有するポリカーボネート樹脂(例えば、共重合体)の場合、各構造単位の比誘電率に含有比率を乗じて、合計した値である。例えば、例示化合物1001の場合、構造単位(A−101)の比誘電率は2.12、構造単位(B−101)の比誘電率は2.11である。この値から例示化合物1001の含有比率から、比誘電率は2.12と計算できる。本発明においては、比誘電率εが、2.15以下であることが好ましく、2.13以下であることがより好ましい。
The relative permittivity ε of the polycarbonate resin can be obtained from the following Clausius-Mossotti equation.
K=(4π/3)×(α/V)
ε=(1+2K)/(1-K)
Here, V is the molecular volume in the stable structure obtained after the structure optimization calculation by the density functional calculation B3LYP/6-31G(d,p), and α is the limit in the stable structure obtained after the structure optimization calculation. It is the polarizability according to the Hartree-Fock method calculation (the basis function is 6-31G(d,p)). In the case of a polycarbonate resin having a plurality of structural units (for example, a copolymer), it is a value obtained by multiplying the relative permittivity of each structural unit by the content ratio and summing. For example, in the case of the exemplary compound 1001, the relative dielectric constant of the structural unit (A-101) is 2.12 and the relative dielectric constant of the structural unit (B-101) is 2.11. From this value, the relative dielectric constant can be calculated as 2.12 from the content ratio of the exemplary compound 1001. In the present invention, the relative permittivity ε is preferably 2.15 or less, and more preferably 2.13 or less.

比誘電率εが2.15以下であると、高速応答性が向上する。この理由を以下のように推測している。ここでいう高速応答性とは、通常のプロセススピードとプロセススピードを速くして用いる場合とで、画像形成を行うと同等の画像濃度が得られることである。通常、プロセススピードを変化させると電子写真感光体が受光する光量が異なる。その際、電子写真感光体が受光する光量が同等になるように光量の制御を行ってもプロセススピードの違いで画像形成を行うと画像濃度が異なることがある。この濃度変化はプロセススピードが高速になるにつれ露光−現像間が短くなるため、高速プロセスで顕著になる。この原因として相反則不軌があり、同等の画像濃度を得るためには複雑な制御を行う必要があったが本発明者は相反則不軌以外に以下の原因があると考えている。その原因として、電子写真感光体が画像形成時に受けるプロセスである露光−現像間の現像時における電子写真感光体の表面電位の明減衰率が異なるためだと考えている。つまり、現像時に同等の表面電位であっても現像時における表面電位の明減衰率が異なるとトナーの現像性が異なり、画像形成時における画像濃度が変化してしまうと考えられる。電荷発生層で発生した電荷は、電荷輸送層に注入され、電荷輸送層において電子写真感光体の表面に輸送される。短時間で電子写真感光体の表面に到達する電荷もあれば、電子写真感光体の表面に到達するまでに比較的長時間を要する電荷(残留電荷)もある。現像時における明減衰率は帯電―露光による光応答直後なので電荷輸送層内の低電界強度における残留電荷のキャリア挙動が影響していると考えられる。ポリカーボネート樹脂の比誘電率εが2.15以下であると、低電界強度時における残留電荷の吐き出し能力の時間変化が小さく、現像時における明減衰率が小さいと考えられる。また、ポリカーボネート樹脂の比誘電率εが2.15以下であると、電子写真感光体表面の電位ムラに対してトナー現像性があまり変化せず、通常のプロセススピードとプロセススピードを遅くして用いる場合とで画像形成を行うと、同等の画像濃度が得られると本発明者は考えている。   When the relative permittivity ε is 2.15 or less, high speed response is improved. The reason for this is presumed as follows. The high-speed responsiveness as used herein means that an image density equivalent to that obtained when an image is formed is obtained when a normal process speed and a case where the process speed is increased and used. Normally, when the process speed is changed, the amount of light received by the electrophotographic photosensitive member differs. At that time, even if the light amount is controlled so that the light amount received by the electrophotographic photosensitive member becomes equal, the image density may differ when the image is formed due to the difference in process speed. This density change becomes noticeable in a high-speed process because the interval between exposure and development becomes shorter as the process speed becomes faster. The cause of this is reciprocity law failure, and it was necessary to perform complicated control in order to obtain an equivalent image density. However, the present inventor believes that there are other causes besides reciprocity law failure. It is considered that this is because the light decay rate of the surface potential of the electrophotographic photosensitive member during development is different between the exposure and the development, which is a process that the electrophotographic photosensitive member undergoes during image formation. That is, it is considered that even if the surface potential is the same at the time of development, if the bright decay rate of the surface potential at the time of development is different, the developability of the toner is different, and the image density at the time of image formation changes. The charges generated in the charge generation layer are injected into the charge transport layer and transported to the surface of the electrophotographic photosensitive member in the charge transport layer. Some of the charges reach the surface of the electrophotographic photosensitive member in a short time, and some of the charges take a relatively long time to reach the surface of the electrophotographic photosensitive member (residual charge). Since the bright decay rate during development is immediately after the photo-response due to charging-exposure, it is considered that the carrier behavior of the residual charge at a low electric field strength in the charge transport layer has an influence. When the relative permittivity ε of the polycarbonate resin is 2.15 or less, it is considered that the change in discharge capability of the residual charge at a low electric field strength is small with time and the light decay rate at the time of development is small. When the relative permittivity ε of the polycarbonate resin is 2.15 or less, the toner developability does not change so much with respect to the potential unevenness on the surface of the electrophotographic photosensitive member, and the normal process speed and the process speed are used at a slower speed. The present inventor believes that the same image density can be obtained by performing image formation in some cases.

また、ポリカーボネート樹脂の比誘電率εが2.15以下であると、電荷輸送層に印可される電界強度が電荷輸送層の電荷輸送能力及び電荷発生層から電荷輸送層への注入能力へ有利に作用するため、繰り返し使用後におけるフォトメモリーの抑制に優れると考えられる。   When the relative permittivity ε of the polycarbonate resin is 2.15 or less, the electric field strength applied to the charge transport layer is advantageous to the charge transport ability of the charge transport layer and the injection ability from the charge generation layer to the charge transport layer. Therefore, it is considered to be excellent in suppressing the photo memory after repeated use.

<ポリカーボネート樹脂の具体例>
A群から選択される構造単位と、B群から選択される構造単位を有するポリカーボネート樹脂の具体例と、その比誘電率を表1〜12に示す。
<Specific examples of polycarbonate resin>
Tables 1 to 12 show specific examples of the polycarbonate resin having the structural unit selected from the group A and the structural unit selected from the group B, and the relative dielectric constant thereof.

<ポリカーボネート樹脂の合成方法>
一例として、例示化合物1001の合成方法を以下に示す。その他のポリカーボネート樹脂は、以下の(例示化合物1001の合成方法)において、A群構造原材料とB群構造原材料の種類と添加量を適宜変えることにより合成可能である。また、樹脂の重量平均分子量は、分子量調節剤の添加量を適宜変えることにより調整可能である。
<Polycarbonate resin synthesis method>
As an example, a method for synthesizing Exemplified Compound 1001 is shown below. Other polycarbonate resins can be synthesized by appropriately changing the types and addition amounts of the group A structural raw material and the group B structural raw material in the following (Synthesis Method of Exemplified Compound 1001). The weight average molecular weight of the resin can be adjusted by appropriately changing the addition amount of the molecular weight modifier.

(例示化合物1001の合成方法)
5質量%の水酸化ナトリウム水溶液1100mlに、A群構造原材料として2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4−メチルペンタン(東京化成工業製、製品コードD3267)を53.0g(0.196mol)と、B群構造原材料としてビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル(東京化成工業製、製品コードD2121)を41.2g(0.204mol)と、ハイドロサルファイト0.1gを溶解した。これにメチレンクロライド500mlを加えて攪拌しつつ、15℃に保ちながら、次いでホスゲン60gを60分で吹き込んだ。
ホスゲン吹き込み終了後、分子量調節剤としてp−t−ブチルフェノール(東京化成工業製、製品コードB0383)1.3gを加えて攪拌して、反応液を乳化させた。乳化後0.4mlのトリエチルアミンを加え、23℃にて1時間攪拌し、重合させた。
重合終了後、反応液を水相と有機相に分離し、有機相をリン酸で中和し、洗液(水相)の導電率が10μS/cm以下になるまで水洗を繰り返した。得られた重合体溶液を、45℃に保った温水に滴下し、溶媒を蒸発除去して白色粉末状沈殿物を得た。得られた沈殿物を濾過し、110℃、24時間乾燥して、A群構造単位A−101とB群構造単位B−101の共重合からなる例示化合物1001のポリカーボネート樹脂を得た。
(Synthesis Method of Exemplified Compound 1001)
53.0 g (0.196 mol) of 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)-4-methylpentane (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo, product code D3267) as a Group A structural raw material was added to 1100 ml of a 5 mass% aqueous sodium hydroxide solution. ), 41.2 g (0.204 mol) of bis(4-hydroxyphenyl)ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., product code D2121) as a Group B structural raw material, and 0.1 g of hydrosulfite were dissolved. To this, 500 ml of methylene chloride was added, and while stirring and maintaining the temperature at 15° C., 60 g of phosgene was then blown in for 60 minutes.
After the completion of blowing phosgene, 1.3 g of p-t-butylphenol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., product code B0383) was added as a molecular weight modifier and stirred to emulsify the reaction solution. After emulsification, 0.4 ml of triethylamine was added, and the mixture was stirred at 23° C. for 1 hour for polymerization.
After the completion of the polymerization, the reaction solution was separated into an aqueous phase and an organic phase, the organic phase was neutralized with phosphoric acid, and the washing with water (aqueous phase) was repeatedly washed with water until the conductivity became 10 μS/cm or less. The obtained polymer solution was added dropwise to warm water kept at 45° C., and the solvent was removed by evaporation to obtain a white powdery precipitate. The obtained precipitate was filtered and dried at 110° C. for 24 hours to obtain a polycarbonate resin of Exemplified Compound 1001 including a copolymerization of A group structural unit A-101 and B group structural unit B-101.

得られたポリカーボネート樹脂を赤外線吸収スペクトルにより分析した結果、1770cm−1付近の位置にカルボニル基による吸収、1240cm−1付近の位置にエーテル結合による吸収が認められ、ポリカーボネート樹脂であることが確認された。 The results of the obtained polycarbonate resin was analyzed by infrared absorption spectrum, absorption by carbonyl group at the position in the vicinity of 1770 cm -1, observed absorption by ether bond position near 1240 cm -1, it is polycarbonate resin is confirmed ..

[電子写真感光体]
本発明の電子写真感光体は、支持体と、電荷発生層と、表面層である電荷輸送層とをこの順に有する。支持体と電荷輸送層との間にその他の層を設けてもよい。以下、各層について説明する。
[Electrophotographic photoreceptor]
The electrophotographic photosensitive member of the present invention has a support, a charge generation layer, and a charge transport layer which is a surface layer in this order. Other layers may be provided between the support and the charge transport layer. Hereinafter, each layer will be described.

電子写真感光体を製造する方法としては、後述する各層の塗布液を調製し、所望の層の順番に塗布して、乾燥させる方法が挙げられる。このとき、塗布液の塗布方法としては、浸漬塗布法(浸漬コーティング法)、スプレーコーティング法、カーテンコーティング法、スピンコーティング法などが挙げられる。これらの中でも、効率性及び生産性の観点から、浸漬塗布法が好ましい。   Examples of the method for producing the electrophotographic photosensitive member include a method in which a coating solution for each layer described below is prepared, coated in the order of desired layers, and dried. At this time, as a coating method of the coating liquid, a dip coating method (immersion coating method), a spray coating method, a curtain coating method, a spin coating method and the like can be mentioned. Among these, the dip coating method is preferable from the viewpoint of efficiency and productivity.

<支持体>
本発明において、支持体は、導電性を有する導電性支持体であることが好ましい。導電性支持体としては、例えば、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、金などの金属又は合金で形成される支持体や、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、ガラスなどの絶縁性支持体上に、アルミニウム、クロム、銀、金などの金属の薄膜;酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛などの導電性材料の薄膜;銀ナノワイヤーを加えた導電性インクの薄膜を形成した支持体が挙げられる。
<Support>
In the present invention, the support is preferably a conductive support having conductivity. As the conductive support, for example, aluminum, iron, nickel, copper, a support formed of a metal or alloy such as gold, or polyester resin, polycarbonate resin, polyimide resin, on an insulating support such as glass, Examples thereof include thin films of metals such as aluminum, chromium, silver, and gold; thin films of conductive materials such as indium oxide, tin oxide, and zinc oxide; and supports having a thin film of conductive ink to which silver nanowires are added.

支持体の表面には、電気的特性の改善や干渉縞の抑制のため、陽極酸化などの電気化学的な処理や、湿式ホーニング処理、ブラスト処理、切削処理などを施してもよい。   The surface of the support may be subjected to an electrochemical treatment such as anodic oxidation, a wet honing treatment, a blast treatment, or a cutting treatment in order to improve electric characteristics and suppress interference fringes.

支持体の形状としては円筒状またはフィルム状などが挙げられる。   Examples of the shape of the support include a cylindrical shape and a film shape.

<導電層>
本発明において、支持体の上に導電層を設けてもよい。導電層を設けることで、支持体のムラや欠陥の被覆、干渉縞の防止が可能となる。導電層の平均膜厚は5μm以上40μm以下であることが好ましく、10μm以上30μm以下であることがより好ましい。
<Conductive layer>
In the present invention, a conductive layer may be provided on the support. By providing the conductive layer, it becomes possible to cover unevenness and defects of the support and prevent interference fringes. The average film thickness of the conductive layer is preferably 5 μm or more and 40 μm or less, and more preferably 10 μm or more and 30 μm or less.

導電層は、導電性粒子と、結着樹脂を含有することが好ましい。導電性粒子としては、カーボンブラック、金属粒子および金属酸化物粒子などが挙げられる。   The conductive layer preferably contains conductive particles and a binder resin. Examples of the conductive particles include carbon black, metal particles and metal oxide particles.

金属酸化物粒子としては、例えば、酸化亜鉛、鉛白、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズの粒子が挙げられる。これらは2種以上を併用してもよい。これらの中でも、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化チタンの粒子が好ましい。特に、酸化チタン粒子は、可視光及び近赤外光をほとんど吸収せず、白色であるため、高感度化の観点から好ましい。酸化チタンの結晶型として、例えば、ルチル型、アナターゼ型、ブルカイト型及びアモルファス型があり、いずれの結晶型を用いてもよい。また、針状結晶、粒状結晶の酸化チタン粒子も用いてもよい。より好ましくは、ルチル型の酸化チタン結晶の粒子である。金属酸化物粒子の個数基準の平均一次粒径は、0.05〜1μmであることが好ましく、0.1〜0.5μmであることがより好ましい。   As the metal oxide particles, for example, zinc oxide, lead white, aluminum oxide, indium oxide, silicon oxide, zirconium oxide, tin oxide, titanium oxide, magnesium oxide, antimony oxide, bismuth oxide, indium oxide doped with tin, antimony. Examples thereof include tin oxide particles doped with tantalum. You may use together 2 or more types of these. Among these, particles of zinc oxide, tin oxide and titanium oxide are preferable. In particular, titanium oxide particles are preferable from the viewpoint of high sensitivity, since they hardly absorb visible light and near infrared light and are white. Examples of the crystal type of titanium oxide include rutile type, anatase type, brookite type, and amorphous type, and any crystal type may be used. Further, titanium oxide particles having needle crystals or granular crystals may be used. More preferably, the particles are rutile-type titanium oxide crystals. The number-based average primary particle diameter of the metal oxide particles is preferably 0.05 to 1 μm, and more preferably 0.1 to 0.5 μm.

結着樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂が挙げられる。これらは2種以上を併用してもよい。これらの中でも、他の層を形成するために用いる塗布液中の溶剤に対する耐性、導電性支持体に対する密着性、金属酸化物粒子の分散性・分散安定性という観点から、硬化性樹脂が好ましい。より好ましくは、熱硬化性樹脂である。熱硬化性樹脂としては、例えば、熱硬化性のフェノール樹脂、熱硬化性のポリウレタン樹脂が挙げられる。   Examples of the binder resin include phenol resin, polyurethane resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyvinyl acetal resin, epoxy resin, acrylic resin, melamine resin, and polyester resin. You may use together 2 or more types of these. Among these, a curable resin is preferable from the viewpoint of resistance to a solvent in a coating liquid used for forming another layer, adhesion to a conductive support, and dispersibility/dispersion stability of metal oxide particles. More preferably, it is a thermosetting resin. Examples of the thermosetting resin include thermosetting phenol resin and thermosetting polyurethane resin.

<下引き層>
本発明において、支持体又は導電層の上に、下引き層を設けてもよい。下引き層を設けることで、バリア機能と接着機能が高まる。下引き層の平均膜厚は、0.3μm以上5.0μm以下であることが好ましい。
<Undercoat layer>
In the present invention, an undercoat layer may be provided on the support or the conductive layer. The barrier function and the adhesive function are enhanced by providing the undercoat layer. The average film thickness of the undercoat layer is preferably 0.3 μm or more and 5.0 μm or less.

下引き層は、電子輸送物質又は金属酸化物粒子と、結着樹脂を含有することが好ましい。係る構成により、電荷発生層で発生した電荷のうち、電子を支持体にまで輸送することができるので、電荷輸送層の電荷輸送能が向上しても電荷発生層中での電荷の失活、トラップの増加を抑制できる。よって、初期の電気特性及び繰り返し使用時における電気特性が向上する。   The undercoat layer preferably contains an electron-transporting substance or metal oxide particles and a binder resin. With such a configuration, among the charges generated in the charge generation layer, electrons can be transported to the support, so even if the charge transportability of the charge transport layer is improved, deactivation of the charge in the charge generation layer, The increase in traps can be suppressed. Therefore, the initial electrical characteristics and the electrical characteristics during repeated use are improved.

電子輸送物質としては、例えば、キノン化合物、イミド化合物、ベンズイミダゾール化合物、シクロペンタジエニリデン化合物、フルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、ナフチルイミド化合物、ペリレンイミド化合物が挙げられる。電子輸送物質は、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基、メトキシ基などの重合性官能基を有することが好ましい。   Examples of the electron transport material include quinone compounds, imide compounds, benzimidazole compounds, cyclopentadienylidene compounds, fluorenone compounds, xanthone compounds, benzophenone compounds, cyanovinyl compounds, naphthylimide compounds, and peryleneimide compounds. The electron transport material preferably has a polymerizable functional group such as a hydroxy group, a thiol group, an amino group, a carboxyl group and a methoxy group.

金属酸化物粒子、結着樹脂としては、上記導電層において説明したものと同様である。   The metal oxide particles and the binder resin are the same as those described in the conductive layer.

<電荷発生層>
本発明において、支持体と電荷輸送層との間に、電荷発生層を有する。電荷発生層は、電荷輸送層に隣接していることが好ましい。電荷発生層の膜厚は、0.05μm以上1μm以下であることが好ましく、0.1μm以上0.3μm以下であることがより好ましい。
<Charge generation layer>
In the present invention, the charge generation layer is provided between the support and the charge transport layer. The charge generation layer is preferably adjacent to the charge transport layer. The thickness of the charge generation layer is preferably 0.05 μm or more and 1 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 0.3 μm or less.

本発明において、電荷発生層は、電荷発生物質と結着樹脂を含有することが好ましい。   In the present invention, the charge generation layer preferably contains a charge generation substance and a binder resin.

電荷発生層中の、電荷発生物質の含有量は、40質量%以上85質量%以下であることが好ましく、60質量%以上80質量%以下であることがより好ましい。   The content of the charge generating substance in the charge generating layer is preferably 40% by mass or more and 85% by mass or less, and more preferably 60% by mass or more and 80% by mass or less.

電荷発生物質としては、モノアゾ、ジスアゾ、トリスアゾなどのアゾ顔料や、金属フタロシアニン、非金属フタロシアニンなどのフタロシアニン顔料;インジゴ顔料;ペリレン顔料;多環キノン顔料;スクワリリウム色素;チアピリリウム塩;トリフェニルメタン色素;キナクリドン顔料;アズレニウム塩顔料;シアニン染料;キサンテン色素;キノンイミン色素;スチリル色素などが挙げられる。これらの中でもフタロシアニン顔料が好ましく、ガリウムフタロシアニン結晶がより好ましい。   Examples of the charge generating substance include azo pigments such as monoazo, disazo and trisazo, phthalocyanine pigments such as metal phthalocyanine and non-metal phthalocyanine; indigo pigments; perylene pigments; polycyclic quinone pigments; squarylium dyes; thiapyrylium salts; triphenylmethane dyes; Examples include quinacridone pigments, azurenium salt pigments, cyanine dyes, xanthene dyes, quinoneimine dyes, and styryl dyes. Among these, phthalocyanine pigments are preferable, and gallium phthalocyanine crystals are more preferable.

ガリウムフタロシアニン結晶の中でも、優れた感度を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶、クロロガリウムフタロシアニン結晶、ブロモガリウムフタロシアニン結晶、ヨードガリウムフタロシアニン結晶が、好ましい。中でもヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶、クロロガリウムフタロシアニン結晶が特に好ましい。ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶は、ガリウム原子が軸配位子としてヒドロキシ基を有するものである。クロロガリウムフタロシアニン結晶は、ガリウム原子が軸配位子として塩素原子を有するものである。ブロモガリウムフタロシアニン結晶は、ガリウム原子が軸配位子として臭素原子を有するものである。ヨードガリウムフタロシアニン結晶は、ガリウム原子が軸配位子としてヨウ素原子を有するものである。感度向上の観点から、CuKα線のX線回折におけるブラッグ角2θにおいて7.4°±0.3°及び28.3°±0.3°にピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶や、CuKα線のX線回折におけるブラッグ角2θ±0.2°において7.4°、16.6°、25.5°及び28.3°にピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶がより好ましい。   Among the gallium phthalocyanine crystals, hydroxygallium phthalocyanine crystals, chlorogallium phthalocyanine crystals, bromogallium phthalocyanine crystals, and iodogallium phthalocyanine crystals having excellent sensitivity are preferable. Of these, hydroxygallium phthalocyanine crystals and chlorogallium phthalocyanine crystals are particularly preferable. The hydroxygallium phthalocyanine crystal is one in which a gallium atom has a hydroxy group as an axial ligand. In the chlorogallium phthalocyanine crystal, the gallium atom has a chlorine atom as an axial ligand. In the bromogallium phthalocyanine crystal, a gallium atom has a bromine atom as an axial ligand. In the iodogallium phthalocyanine crystal, a gallium atom has an iodine atom as an axial ligand. From the viewpoint of improving sensitivity, a hydroxygallium phthalocyanine crystal having peaks at 7.4°±0.3° and 28.3°±0.3° at a Bragg angle 2θ in X-ray diffraction of CuKα ray, and X of CuKα ray. A chlorogallium phthalocyanine crystal having peaks at 7.4°, 16.6°, 25.5° and 28.3° at a Bragg angle 2θ±0.2° in line diffraction is more preferable.

また、ガリウムフタロシアニン結晶は、結晶内に下記式で示されるアミド化合物を含有するガリウムフタロシアニン結晶であることが好ましい。   Further, the gallium phthalocyanine crystal is preferably a gallium phthalocyanine crystal containing an amide compound represented by the following formula in the crystal.

(上記式において、R81は、メチル基、プロピル基、またはビニル基を示す。)
具体的には、N−メチルホルムアミド、N−プロピルホルムアミド、N−ビニルホルムアミドが挙げられる。
(In the above formula, R 81 represents a methyl group, a propyl group, or a vinyl group.)
Specific examples include N-methylformamide, N-propylformamide and N-vinylformamide.

アミド化合物の含有量は、ガリウムフタロシアニン結晶中のガリウムフタロシアニンに対して0.1質量%以上1.9質量%以下であることが好ましく、0.3質量%以上1.5質量%以下であることがより好ましい。アミド化合物の含有量が0.1質量%以上1.9質量%以下であると、電界強度が高くなった際の電荷発生層からの暗電流が小さくなっていると考えており、本発明の電荷輸送層のかぶり抑制効果をより高めることができる。尚、アミド化合物の含有量は、H−NMR法により測定できる。 The content of the amide compound is preferably 0.1% by mass or more and 1.9% by mass or less, and 0.3% by mass or more and 1.5% by mass or less, based on the gallium phthalocyanine in the gallium phthalocyanine crystal. Is more preferable. When the content of the amide compound is 0.1% by mass or more and 1.9% by mass or less, it is considered that the dark current from the charge generation layer when the electric field strength is high becomes small, and The fogging suppressing effect of the charge transport layer can be further enhanced. The content of the amide compound can be measured by the 1 H-NMR method.

アミド化合物を結晶内に含有するガリウムフタロシアニン結晶は、アシッドペースティング法又は乾式ミリングにより処理したガリウムフタロシアニンと、アミド化合物とを含んだ溶剤を、湿式ミリング処理して結晶変換する工程によって得られる。   The gallium phthalocyanine crystal containing the amide compound in the crystal is obtained by a step of wet milling a crystal containing gallium phthalocyanine treated by an acid pasting method or dry milling and a solvent containing the amide compound for crystal conversion.

湿式ミリング処理とは、ガラスビーズ、スチールビーズ、アルミナボールなどの分散剤とともにサンドミル、ボールミルなどのミリング装置を用いて行う処理である。   The wet milling treatment is a treatment performed using a milling device such as a sand mill or a ball mill together with a dispersant such as glass beads, steel beads or alumina balls.

結着樹脂としては、例えば、ポリエステル、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルブチラール、ポリスチレン、ポリビニルアセテート、ポリサルホン、アクリロニトリル共重合体及びポリビニルベンザールなどの樹脂が挙げられる。これらの中でも、ガリウムフタロシアニン結晶を分散させる樹脂としては、ポリビニルブチラール、ポリビニルベンザールが好ましい。   Examples of the binder resin include resins such as polyester, acrylic resin, polycarbonate, polyvinyl butyral, polystyrene, polyvinyl acetate, polysulfone, acrylonitrile copolymer, and polyvinyl benzal. Among these, polyvinyl butyral and polyvinyl benzal are preferable as the resin in which the gallium phthalocyanine crystal is dispersed.

<電荷輸送層>
本発明において、電荷輸送層は、電荷輸送物質、及び、A群から選択される構造単位と、B群から選択される構造単位と、を有するポリカーボネート樹脂を含有する。更に、トナーの転写効率を上げる目的で離型剤や、汚れなどを抑制する目的で指紋付着防止剤や、削れを抑制する目的でフィラーや、潤滑性を向上させる目的で潤滑剤などを含有してもよい。
<Charge transport layer>
In the present invention, the charge transport layer contains a charge transport substance and a polycarbonate resin having a structural unit selected from the group A and a structural unit selected from the group B. Further, a release agent is included for the purpose of increasing the transfer efficiency of the toner, an anti-fingerprint agent for the purpose of suppressing stains, a filler for the purpose of suppressing abrasion, and a lubricant for the purpose of improving lubricity. May be.

本発明において、電荷輸送層は、電荷輸送物質、ポリカーボネート樹脂を溶媒と混合して電荷輸送層用塗布液を調製し、電荷輸送層用塗布液の塗膜を形成し、塗膜を乾燥させることで形成することができる。   In the present invention, the charge transport layer is prepared by mixing a charge transport material and a polycarbonate resin with a solvent to prepare a coating solution for the charge transport layer, forming a coating film of the coating solution for the charge transport layer, and drying the coating film. Can be formed with.

電荷輸送層用塗布液に用いる溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶剤;酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル系溶剤;トルエン、キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素溶剤;1,4−ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤;ハロゲン原子で置換されたクロロホルムなどの炭化水素溶剤などが挙げられる。これらは、2種類以上を併用してもよい。中でも、双極子モーメントが1.0D以下の溶媒が好ましい。双極子モーメントが1.0D以下の溶媒としては、o−キシレン(双極子モーメント=0.64D)、メチラール(ジメトキシメタン)(双極子モーメント=0.91D)が挙げられる。   As the solvent used for the charge transport layer coating solution, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone; ester solvents such as methyl acetate and ethyl acetate; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene and chlorobenzene; 1,4-dioxane , An ether solvent such as tetrahydrofuran; a hydrocarbon solvent such as chloroform substituted with a halogen atom, and the like. These may be used in combination of two or more. Above all, a solvent having a dipole moment of 1.0 D or less is preferable. Examples of the solvent having a dipole moment of 1.0 D or less include o-xylene (dipole moment=0.64D) and methylal (dimethoxymethane) (dipole moment=0.91D).

電荷輸送層の膜厚は、5μm以上40μm以下であることが好ましく、7μm以上25μm以下であることがより好ましい。   The thickness of the charge transport layer is preferably 5 μm or more and 40 μm or less, and more preferably 7 μm or more and 25 μm or less.

電荷輸送層中の、電荷輸送物質の含有量は、20質量%以上80質量%以下であることが好ましく、電子写真感光体のかぶり抑制効果及び長期保存安定性の向上の観点から、40質量%以上70質量%以下であることがより好ましい。   The content of the charge-transporting substance in the charge-transporting layer is preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less, and 40% by mass from the viewpoint of the fogging suppressing effect of the electrophotographic photoreceptor and the improvement of long-term storage stability. It is more preferably 70% by mass or less.

電荷輸送物質の分子量は300以上1,000以下が好ましい。繰り返し使用時の電気特性及び長期保存安定性の向上の観点からは、600以上800以下がより好ましい。また、フォトメモリー抑制効果及び長期保存安定性の向上の観点からは、350以上600以下がより好ましい。   The molecular weight of the charge transport material is preferably 300 or more and 1,000 or less. From the viewpoint of improving electric characteristics and long-term storage stability during repeated use, 600 or more and 800 or less are more preferable. Further, from the viewpoint of the effect of suppressing the photo memory and the improvement of long-term storage stability, 350 or more and 600 or less are more preferable.

電荷輸送物質としては、トリアリールアミン化合物、ヒドラゾン化合物、スチルベン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾール化合物、チアゾール化合物及びトリアリルメタン化合物などが挙げられる。これらは2種以上を併用してもよい。これらの中でも、トリアリールアミン化合物を用いることが好ましい。以下、電荷輸送物質の具体例として、一般式と、各一般式を満足する例示化合物をそれぞれ示す。   Examples of the charge transport material include triarylamine compounds, hydrazone compounds, stilbene compounds, pyrazoline compounds, oxazole compounds, thiazole compounds and triallylmethane compounds. You may use together 2 or more types of these. Among these, it is preferable to use the triarylamine compound. Hereinafter, as specific examples of the charge transport material, general formulas and exemplified compounds satisfying the general formulas will be shown.

(上記式において、Ar101、Ar102はそれぞれ独立に、置換基を有しても良いアリール基を示し、R101、R102はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、あるいは置換基を有しても良いアリール基を示す。該置換のアリール基の置換基はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子である。)
以下、(CTM−1)の例示化合物を示す。
(In the above formula, Ar 101 and Ar 102 each independently represent an aryl group which may have a substituent, and R 101 and R 102 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or a substituent. Represents a good aryl group. The substituent of the substituted aryl group is an alkyl group, an alkoxy group or a halogen atom.)
Hereinafter, exemplary compounds of (CTM-1) will be shown.

(上記式において、Ar103〜Ar106はそれぞれ独立に、置換基を有しても良いアリール基を示し、Z101は置換基を有しても良いアリーレン基、あるいは複数のアリーレン基がビニレン基を介して結合した2価の基を示す。Ar103〜Ar106上の2つの隣接する置換基が互いに結合して環を形成していてもよい。該置換のアリール基、アリーレン基の置換基はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子である。)
以下、(CTM−2)の例示化合物を示す。
(In the above formula, Ar 103 to Ar 106 each independently represent an aryl group which may have a substituent, Z 101 represents an arylene group which may have a substituent, or a plurality of arylene groups are vinylene groups. A divalent group bonded via R. The two adjacent substituents on Ar 103 to Ar 106 may be bonded to each other to form a ring. Is an alkyl group, an alkoxy group, or a halogen atom.)
Hereinafter, exemplary compounds of (CTM-2) will be shown.

(上記式において、R103はアルキル基、シクロアルキル基、あるいは置換基を有しても良いアリール基を示し、R104は水素原子、アルキル基、あるいは置換基を有しても良いアリール基を示し、Ar107は置換基を有しても良いアリール基を示し、Z102は置換基を有しても良いアリーレン基を示す。n101は1〜3、mは0〜2の整数を示し、m+n101=3である。mが2の場合、R103は同一でも異なっていても良い。R103上の2つの隣接する置換基が互いに結合して環を形成していてもよい。R103とZ102とが結合して環を形成していてもよい。また、Ar107とR104とがビニレン基により結合して環を形成していてもよい。該置換のアリール基、アリーレン基の置換基はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子である。)
以下、(CTM−3)の例示化合物を示す。
(In the above formula, R 103 represents an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group which may have a substituent, and R 104 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group which may have a substituent. In the formula, Ar 107 represents an aryl group which may have a substituent, Z 102 represents an arylene group which may have a substituent, n 101 represents 1 to 3, and m represents an integer of 0 to 2. , M+n 101 =3, and when m is 2, R 103 may be the same or different, and two adjacent substituents on R 103 may be bonded to each other to form a ring. 103 and Z 102 may be bonded to each other to form a ring, and Ar 107 and R 104 may be bonded to each other via a vinylene group to form a ring. The substituent of is an alkyl group, an alkoxy group, or a halogen atom.)
Hereinafter, exemplary compounds of (CTM-3) will be shown.

(上記式において、Ar108〜Ar111はそれぞれ独立に、置換基を有しても良いアリール基を示す。該置換のアリール基の置換基はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、4−フェニル−ブタ−1,3−ジエニル基である。)
以下、(CTM−4)の例示化合物を示す。
(In the above formula, Ar 108 to Ar 111 each independently represents an aryl group which may have a substituent. The substituent of the substituted aryl group is an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom or 4-phenyl- Buta-1,3-dienyl group.)
Hereinafter, exemplary compounds of (CTM-4) will be shown.

(上記式において、Ar112〜Ar117はそれぞれ独立に、置換基を有しても良いアリール基を示し、Z103はフェニレン基、ビフェニレン基、あるいは二つのフェニレン基がアルキレン基を介して結合した2価の基を示す。該置換のアリール基の置換基はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子である。)
以下、(CTM−5)の例示化合物を示す。
(In the above formula, Ar 112 to Ar 117 each independently represent an aryl group which may have a substituent, and Z 103 is a phenylene group, a biphenylene group, or two phenylene groups bonded to each other through an alkylene group. A divalent group is shown. The substituent of the substituted aryl group is an alkyl group, an alkoxy group, or a halogen atom.)
Hereinafter, exemplary compounds of (CTM-5) will be shown.

(上記式において、R105〜R108の少なくとも1つは下記式で示される1価の基であり、それ以外はそれぞれ独立してアルキル基、または置換基を有してもよいアリール基を示し、Z104は置換基を有しても良いアリーレン基、あるいは複数のアリーレン基がビニレン基を介して結合した2価の基を示す。n102は0または1を示す。該置換のアリール基、アリーレン基の置換基はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子である。) (In the above formula, at least one of R 105 to R 108 is a monovalent group represented by the following formula, and the rest are each independently an alkyl group or an aryl group which may have a substituent. , Z 104 represents an arylene group which may have a substituent, or a divalent group in which a plurality of arylene groups are bonded via a vinylene group, and n 102 represents 0 or 1. The substituted aryl group, The substituent of the arylene group is an alkyl group, an alkoxy group, or a halogen atom.)

(上記式において、R109とR110はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、置換基を有してもよいアリール基を示し、Ar118は置換基を有しても良いアリール基を示す。Z105は置換基を有しても良いアリーレン基を示す。nは1〜3の整数を示す。該置換のアリール基の置換基はアルキル基、アルコキシ基、ジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基である。該置換のアリーレン基の置換基はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子である。)
以下、(CTM−6)の例示化合物を示す。
(In the above formula, R 109 and R 110 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group which may have a substituent, and Ar 118 represents an aryl group which may have a substituent. Z 105 represents an arylene group which may have a substituent, n 2 represents an integer of 1 to 3. The substituent of the substituted aryl group is an alkyl group, an alkoxy group, a dialkylamino group or a diarylamino group. The substituent of the substituted arylene group is an alkyl group, an alkoxy group, or a halogen atom.)
Hereinafter, exemplary compounds of (CTM-6) will be shown.

(上記式において、Ar119は置換基を有しても良いアリール基、式(7−1)又は式(7−2)で示される1価の基を示し、Ar120、Ar121はそれぞれ独立に置換基を有しても良いアリール基を示す。該置換のアリール基の置換基はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子である。) (In the above formula, Ar 119 represents an aryl group which may have a substituent, a monovalent group represented by formula (7-1) or formula (7-2), and Ar 120 and Ar 121 each independently. Represents an aryl group which may have a substituent. The substituent of the substituted aryl group is an alkyl group, an alkoxy group or a halogen atom.)

(上記式において、Ar122、Ar123はそれぞれ独立に置換基を有しても良いアリール基、もしくは置換基を有しても良いアラルキル基を示す。該置換のアリール基、アラルキル基の置換基はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子である。) (In the above formula, Ar 122 and Ar 123 each independently represent an aryl group which may have a substituent or an aralkyl group which may have a substituent. The substituted aryl group and the substituent of the aralkyl group Is an alkyl group, an alkoxy group, or a halogen atom.)

(上記式において、R111、R112はそれぞれ独立に置換基を有しても良いアリール基を示し、Z106は置換基を有しても良いアリーレン基を示す。該置換のアリール基、アリーレン基の置換基はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子である。)
以下、(CTM−7)の例示化合物を示す。
(In the above formula, R 111 and R 112 each independently represent an aryl group which may have a substituent, and Z 106 represents an arylene group which may have a substituent. The substituted aryl group and arylene The substituent of the group is an alkyl group, an alkoxy group or a halogen atom.)
Hereinafter, exemplary compounds of (CTM-7) will be shown.

[プロセスカートリッジ、電子写真装置]
図1は、本発明の電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の概略構成の一例を示す図である。
[Process cartridge, electrophotographic device]
FIG. 1 is a diagram showing an example of a schematic configuration of an electrophotographic apparatus provided with a process cartridge having the electrophotographic photosensitive member of the present invention.

1は円筒状(ドラム状)の電子写真感光体であり、軸2を中心に矢印方向に所定の周速度(プロセススピード)をもって回転駆動される。電子写真感光体1の表面は、回転過程において、帯電手段3により、正または負の所定電位に帯電される。次いで、帯電された電子写真感光体1の表面には、露光手段(不図示)から露光光4が照射され、目的の画像情報に対応した静電潜像が形成されていく。露光光4は、例えば、スリット露光やレーザービーム走査露光などの像露光手段から出力される、目的の画像情報の時系列電気デジタル画像信号に対応して強度変調された光である。   Reference numeral 1 denotes a cylindrical (drum-shaped) electrophotographic photosensitive member, which is rotationally driven around a shaft 2 in a direction of an arrow at a predetermined peripheral speed (process speed). The surface of the electrophotographic photosensitive member 1 is charged to a predetermined positive or negative potential by the charging unit 3 during the rotation process. Then, the charged surface of the electrophotographic photosensitive member 1 is irradiated with the exposure light 4 from the exposing means (not shown), and an electrostatic latent image corresponding to the target image information is formed. The exposure light 4 is, for example, light intensity-modulated corresponding to a time-series electric digital image signal of target image information, which is output from an image exposure means such as slit exposure or laser beam scanning exposure.

電子写真感光体1の表面に形成された静電潜像は、現像手段5内に収容されたトナーで現像(正規現像または反転現像)され、電子写真感光体1の表面にはトナー像が形成される。電子写真感光体1の表面に形成されたトナー像は、転写手段6により、転写材7に転写されていく。このとき、転写手段6には、バイアス電源(不図示)からトナーの保有電荷とは逆極性のバイアス電圧が印加される。また、転写材7が紙である場合、転写材7は給紙部(不図示)から取り出されて、電子写真感光体1と転写手段6との間に電子写真感光体1の回転と同期して給送される。   The electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member 1 is developed (normal development or reversal development) with the toner contained in the developing unit 5, and a toner image is formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member 1. To be done. The toner image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member 1 is transferred to the transfer material 7 by the transfer unit 6. At this time, a bias voltage having a polarity opposite to the charge held by the toner is applied to the transfer unit 6 from a bias power source (not shown). Further, when the transfer material 7 is paper, the transfer material 7 is taken out from the paper feeding section (not shown) and is synchronized between the electrophotographic photosensitive member 1 and the transfer means 6 in synchronization with the rotation of the electrophotographic photosensitive member 1. Will be delivered.

電子写真感光体1からトナー像が転写された転写材7は、電子写真感光体1の表面から分離されて、定着手段8へ搬送されて、トナー像の定着処理を受けることにより、画像形成物(プリント、コピー)として電子写真装置の外へプリントアウトされる。   The transfer material 7 onto which the toner image has been transferred from the electrophotographic photosensitive member 1 is separated from the surface of the electrophotographic photosensitive member 1 and conveyed to the fixing unit 8 to undergo a fixing process of the toner image, thereby forming an image-formed product. (Print, copy) is printed out of the electrophotographic apparatus.

転写材7にトナー像を転写した後の電子写真感光体1の表面は、クリーニング手段9により、トナー(転写残りトナー)などの付着物の除去を受けて清浄される。近年、クリーナレスシステムも開発され、転写残りトナーを直接、現像器などで除去することも可能である。更に、電子写真感光体1の表面は、前露光手段(不図示)からの前露光光10により除電処理された後、繰り返し画像形成に使用される。なお、帯電手段3が帯電ローラなどを用いた接触帯電手段である場合は、前露光手段は必ずしも必要ではない。   The surface of the electrophotographic photosensitive member 1 after the toner image is transferred onto the transfer material 7 is cleaned by the cleaning means 9 after removing adhering substances such as toner (transfer residual toner). In recent years, a cleanerless system has also been developed, and it is possible to directly remove transfer residual toner by a developing device or the like. Further, the surface of the electrophotographic photosensitive member 1 is subjected to charge elimination processing by pre-exposure light 10 from a pre-exposure means (not shown), and then repeatedly used for image formation. If the charging means 3 is a contact charging means using a charging roller or the like, the pre-exposure means is not always necessary.

本発明においては、上述の電子写真感光体1、帯電手段3、現像手段5、転写手段6及びクリーニング手段9などの構成要素のうち、複数の構成要素を容器に納めて一体に支持してプロセスカートリッジを形成してもよい。そして、このプロセスカートリッジを電子写真装置本体に対して着脱自在に構成することが可能である。例えば、帯電手段3、現像手段5及びクリーニング手段9から選択される少なくとも1つを電子写真感光体1とともに一体に支持してカートリッジ化する。そして、電子写真装置本体のレールなどの案内手段12を用いて電子写真装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジ11とすることができる。   In the present invention, among the components such as the electrophotographic photoreceptor 1, the charging unit 3, the developing unit 5, the transfer unit 6 and the cleaning unit 9 described above, a plurality of components are housed in a container and integrally supported to perform the process. A cartridge may be formed. The process cartridge can be detachably attached to the main body of the electrophotographic apparatus. For example, at least one selected from the charging unit 3, the developing unit 5, and the cleaning unit 9 is integrally supported with the electrophotographic photosensitive member 1 to form a cartridge. Then, by using the guide means 12 such as a rail of the electrophotographic apparatus main body, the process cartridge 11 can be detachably attached to the electrophotographic apparatus main body.

露光光4は、電子写真装置が複写機やプリンターである場合には、原稿からの反射光や透過光であってもよい。または、センサーで原稿を読み取り、信号化し、この信号に従って行われるレーザービームの走査、LEDアレイの駆動もしくは液晶シャッターアレイの駆動などにより放射される光であってもよい。   The exposure light 4 may be reflected light or transmitted light from a document when the electrophotographic apparatus is a copying machine or a printer. Alternatively, it may be light emitted by scanning a document with a sensor, converting it into a signal, scanning a laser beam according to this signal, driving an LED array, driving a liquid crystal shutter array, or the like.

本発明の電子写真感光体1は、レーザービームプリンター、CRTプリンター、LEDプリンター、FAX、液晶プリンター及びレーザー製版などの電子写真応用分野にも幅広く適用することができる。   The electrophotographic photoreceptor 1 of the present invention can be widely applied to electrophotographic application fields such as a laser beam printer, a CRT printer, an LED printer, a FAX, a liquid crystal printer and a laser plate making.

以下、実施例及び比較例を用いて本発明を更に詳細に説明する。本発明は、その要旨を超えない限り、下記の実施例によって何ら限定されるものではない。尚、以下の実施例の記載において、「部」とあるのは特に断りのない限り質量基準である。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist. In the description of the following examples, “part” is based on mass unless otherwise specified.

<ポリカーボネート樹脂の合成>
以下の通り、ポリカーボネート樹脂を合成した。表13に各構造単位の含有比率(mol%)及び重量平均分子量を示す。
<Synthesis of polycarbonate resin>
A polycarbonate resin was synthesized as follows. Table 13 shows the content ratio (mol%) of each structural unit and the weight average molecular weight.

〔ポリカーボネートの合成例1〕
5質量%の水酸化ナトリウム水溶液1100mlに、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4−メチルペンタン(以下BPMPと略称:東京化成工業株式会社製、製品コードD3267)53.0g(0.196mol)と、ビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル(以下DHPEと略称:東京化成工業株式会社製、製品コードD2121)41.2g(0.204mol)と、ハイドロサルファイト0.1gを溶解した。これにメチレンクロライド500mlを加えて攪拌しつつ、15℃に保ちながら、次いでホスゲン60gを60分で吹き込んだ。
[Polycarbonate Synthesis Example 1]
5,100 g of 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)-4-methylpentane (hereinafter abbreviated as BPMP: manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., product code D3267) was added to 1100 ml of a 5 mass% sodium hydroxide aqueous solution. 196 mol), 41.2 g (0.204 mol) of bis(4-hydroxyphenyl)ether (hereinafter abbreviated as DHPE: manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., product code D2121), and 0.1 g of hydrosulfite were dissolved. To this, 500 ml of methylene chloride was added, and while stirring and maintaining the temperature at 15° C., 60 g of phosgene was blown in over 60 minutes.

ホスゲン吹き込み終了後、分子量調節剤としてp−t−ブチルフェノール(以下、「PTBP」と略称:東京化成工業株式会社製、製品コードB0383)1.3gを加えて攪拌して、反応液を乳化させた。乳化後0.4mlのトリエチルアミンを加え、23℃にて1時間攪拌し、重合させた。   After the completion of phosgene blowing, 1.3 g of p-t-butylphenol (hereinafter, abbreviated as "PTBP": product code B0383 manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) as a molecular weight modifier was added and stirred to emulsify the reaction solution. .. After emulsification, 0.4 ml of triethylamine was added, and the mixture was stirred at 23° C. for 1 hour for polymerization.

重合終了後、反応液を水相と有機相に分離し、有機相をリン酸で中和し、洗液(水相)の導電率が10μS/cm以下になるまで水洗を繰り返した。得られた重合体溶液を、45℃に保った温水に滴下し、溶媒を蒸発除去して白色粉末状沈殿物を得た。得られた沈殿物を濾過し、110℃、24時間乾燥して、式(A−101)で示される構造単位と式(B−101)で示される構造単位を有するポリカーボネート樹脂(PC−1)を得た。   After the completion of the polymerization, the reaction solution was separated into an aqueous phase and an organic phase, the organic phase was neutralized with phosphoric acid, and the washing with water (aqueous phase) was repeatedly washed with water until the conductivity became 10 μS/cm or less. The obtained polymer solution was added dropwise to warm water kept at 45° C., and the solvent was removed by evaporation to obtain a white powdery precipitate. The obtained precipitate is filtered, dried at 110° C. for 24 hours, and a polycarbonate resin (PC-1) having a structural unit represented by the formula (A-101) and a structural unit represented by the formula (B-101). Got

このポリカーボネート樹脂の分子量をGPCにて測定したところMw=63000であった。得られたポリカーボネート樹脂を赤外線吸収スペクトルにより分析した結果、1770cm−1付近の位置にカルボニル基による吸収、1240cm−1付近の位置にエーテル結合による吸収が認められ、ポリカーボネート樹脂であることが確認された。 When the molecular weight of this polycarbonate resin was measured by GPC, it was Mw=63000. The results of the obtained polycarbonate resin was analyzed by infrared absorption spectrum, absorption by carbonyl group at the position in the vicinity of 1770 cm -1, observed absorption by ether bond position near 1240 cm -1, it is polycarbonate resin is confirmed ..

〔ポリカーボネートの合成例2〕
分子量調節剤:PTBPの添加量を1.0gに変更した以外は、ポリカーボネートの合成例1と同様に行い、Mw=78000のポリカーボネート樹脂(PC−2)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 2]
A polycarbonate resin (PC-2) having Mw=78000 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 of polycarbonate except that the addition amount of the molecular weight modifier: PTBP was changed to 1.0 g.

〔ポリカーボネートの合成例3〕
分子量調節剤:PTBPの添加量を1.7gに変更した以外は、ポリカーボネートの合成例1と同様に行い、Mw=50000のポリカーボネート樹脂(PC−3)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 3]
A polycarbonate resin (PC-3) having Mw=50,000 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 of polycarbonate except that the addition amount of the molecular weight modifier: PTBP was changed to 1.7 g.

〔ポリカーボネートの合成例4〕
分子量調節剤:PTBPの添加量を1.1gに変更した以外は、ポリカーボネートの合成例1と同様に行い、Mw=72000のポリカーボネート樹脂(PC−4)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 4]
A polycarbonate resin (PC-4) having Mw=72000 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 of polycarbonate except that the addition amount of the molecular weight modifier: PTBP was changed to 1.1 g.

〔ポリカーボネートの合成例5〕
分子量調節剤:PTBPの添加量を2.7gに変更した以外は、ポリカーボネートの合成例1と同様に行い、Mw=34000のポリカーボネート樹脂(PC−5)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 5]
A polycarbonate resin (PC-5) having Mw=34000 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 of polycarbonate except that the addition amount of the molecular weight modifier: PTBP was changed to 2.7 g.

〔ポリカーボネートの合成例6〕
分子量調節剤:PTBPの添加量を0.8gに変更した以外は、ポリカーボネートの合成例1と同様に行い、Mw=94000のポリカーボネート樹脂(PC−6)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 6]
A polycarbonate resin (PC-6) having Mw=94000 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 of polycarbonate except that the addition amount of the molecular weight modifier: PTBP was changed to 0.8 g.

〔ポリカーボネートの合成例7〕
BPMPの添加量を43.3g、DHPEの添加量を48.5g、分子量調節剤:PTBPの添加量を1.4gにそれぞれ変更した以外は、ポリカーボネートの合成例1と同様に行い、Mw=59000のポリカーボネート樹脂(PC−7)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 7]
The same procedure as in Synthesis Example 1 of Polycarbonate was performed except that the amount of BPMP added was changed to 43.3 g, the amount of DHPE added was changed to 48.5 g, and the amount of the molecular weight modifier: PTBP was changed to 1.4 g. To obtain a polycarbonate resin (PC-7).

〔ポリカーボネートの合成例8〕
BPMPの添加量を27.0g、DHPEの添加量を60.6g、分子量調節剤:PTBPの添加量を1.6gにそれぞれ変更した以外は、ポリカーボネートの合成例1と同様に行い、Mw=53000のポリカーボネート樹脂(PC−8)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 8]
The same procedure as in Polycarbonate Synthesis Example 1 was repeated except that the amount of BPMP added was 27.0 g, the amount of DHPE added was 60.6 g, and the amount of the molecular weight regulator: PTBP was changed to 1.6 g. Mw=53000 Polycarbonate resin (PC-8) was obtained.

〔ポリカーボネートの合成例9〕
BPMPの添加量を21.6g、DHPEの添加量を64.7g、分子量調節剤:PTBPの添加量を1.6gにそれぞれ変更した以外は、ポリカーボネートの合成例1と同様に行い、Mw=52000のポリカーボネート樹脂(PC−9)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 9]
The same procedure as in Polycarbonate Synthesis Example 1 was repeated except that the amount of BPMP added was changed to 21.6 g, the amount of DHPE added was 64.7 g, and the amount of the molecular weight modifier: PTBP was changed to 1.6 g. Mw=52000 Polycarbonate resin (PC-9) was obtained.

〔ポリカーボネートの合成例10〕
BPMPの添加量を75.7g、DHPEの添加量を24.3g、分子量調節剤:PTBPの添加量を1.0gにそれぞれ変更した以外は、ポリカーボネートの合成例1と同様に行い、Mw=79000のポリカーボネート樹脂(PC−10)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 10]
The same procedure as in Synthesis Example 1 of Polycarbonate except that the amount of BPMP added was changed to 75.7 g, the amount of DHPE added was changed to 24.3 g, and the added amount of a molecular weight modifier: PTBP was changed to 1.0 g, Mw=79000 Polycarbonate resin (PC-10) was obtained.

〔ポリカーボネートの合成例11〕
DHPEを4,4′−ジヒドロキシビフェニル(東京化成工業株式会社製、製品コードB0464)38.0gに変更した以外は、ポリカーボネートの合成例1と同様に行い、Mw=60000のポリカーボネート樹脂(PC−11)を得た。このポリカーボネート樹脂は式(A−101)で示される構造単位と式(B−201)で示される構造単位を有する。
[Polycarbonate Synthesis Example 11]
DHPE was changed to 38.0 g of 4,4'-dihydroxybiphenyl (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd., product code B0464), and the same procedure as in Synthesis Example 1 of Polycarbonate was conducted. ) Got. This polycarbonate resin has a structural unit represented by the formula (A-101) and a structural unit represented by the formula (B-201).

〔ポリカーボネートの合成例12〕
分子量調節剤:PTBPの添加量を1.0gに変更した以外は、ポリカーボネートの合成例11と同様に行い、Mw=75000のポリカーボネート樹脂(PC−12)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 12]
Molecular weight modifier: A polycarbonate resin (PC-12) having Mw=75000 was obtained in the same manner as in Polycarbonate Synthesis Example 11 except that the addition amount of PTBP was changed to 1.0 g.

〔ポリカーボネートの合成例13〕
分子量調節剤:PTBPの添加量を1.6gに変更した以外は、ポリカーボネートの合成例11と同様に行い、Mw=50000のポリカーボネート樹脂(PC−13)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 13]
Molecular weight modifier: A polycarbonate resin (PC-13) having Mw=50,000 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 11 of polycarbonate except that the addition amount of PTBP was changed to 1.6 g.

〔ポリカーボネートの合成例14〕
分子量調節剤:PTBPの添加量を1.1gに変更した以外は、ポリカーボネートの合成例11と同様に行い、Mw=69000のポリカーボネート樹脂(PC−14)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 14]
A polycarbonate resin (PC-14) having an Mw of 69000 was obtained in the same manner as in Polycarbonate Synthesis Example 11, except that the addition amount of the molecular weight modifier: PTBP was changed to 1.1 g.

〔ポリカーボネートの合成例15〕
分子量調節剤:PTBPの添加量を2.7gに変更した以外は、ポリカーボネートの合成例11と同様に行い、Mw=33000のポリカーボネート樹脂(PC−15)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 15]
A polycarbonate resin (PC-15) having Mw=33000 was obtained in the same manner as in Polycarbonate Synthesis Example 11 except that the addition amount of the molecular weight modifier: PTBP was changed to 2.7 g.

〔ポリカーボネートの合成例16〕
分子量調節剤:PTBPの添加量を0.8gに変更した以外は、ポリカーボネートの合成例11と同様に行い、Mw=91000のポリカーボネート樹脂(PC−16)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 16]
Molecular weight modifier: A polycarbonate resin (PC-16) having Mw=91000 was obtained in the same manner as in Polycarbonate Synthesis Example 11 except that the addition amount of PTBP was changed to 0.8 g.

〔ポリカーボネートの合成例17〕
BPMPの添加量を43.3g、4,4′−ジヒドロキシビフェニルの添加量を44.7g、分子量調節剤:PTBPの添加量を1.2gにそれぞれ変更した以外は、ポリカーボネートの合成例11と同様に行い、Mw=65000のポリカーボネート樹脂(PC−17)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 17]
Same as Synthesis Example 11 of Polycarbonate except that the addition amount of BPMP was changed to 43.3 g, the addition amount of 4,4′-dihydroxybiphenyl was changed to 44.7 g, and the addition amount of the molecular weight modifier: PTBP was changed to 1.2 g. Then, a polycarbonate resin (PC-17) having Mw=65000 was obtained.

〔ポリカーボネートの合成例18〕
BPMPの添加量を27.0g、4,4′−ジヒドロキシビフェニルの添加量を55.9g、分子量調節剤:PTBPの添加量を1.5gにそれぞれ変更した以外は、ポリカーボネートの合成例11と同様に行い、Mw=54000のポリカーボネート樹脂(PC−18)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 18]
Same as Synthesis Example 11 of Polycarbonate except that the addition amount of BPMP was changed to 27.0 g, the addition amount of 4,4′-dihydroxybiphenyl was changed to 55.9 g, and the addition amount of a molecular weight modifier: PTBP was changed to 1.5 g. Then, a polycarbonate resin (PC-18) having Mw=54000 was obtained.

〔ポリカーボネートの合成例19〕
BPMPの添加量を21.6g、4,4′−ジヒドロキシビフェニルの添加量を59.7g、分子量調節剤:PTBPの添加量を1.6gにそれぞれ変更した以外は、ポリカーボネートの合成例11と同様に行い、Mw=50000のポリカーボネート樹脂(PC−19)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 19]
Same as Synthesis Example 11 of Polycarbonate except that the addition amount of BPMP was changed to 21.6 g, the addition amount of 4,4′-dihydroxybiphenyl was changed to 59.7 g, and the addition amount of a molecular weight regulator: PTBP was changed to 1.6 g. Then, a polycarbonate resin (PC-19) having Mw=50,000 was obtained.

〔ポリカーボネートの合成例20〕
BPMPの添加量を75.7g、4,4′−ジヒドロキシビフェニルの添加量を22.4g、分子量調節剤:PTBPの添加量を1.0gにそれぞれ変更した以外は、ポリカーボネートの合成例11と同様に行い、Mw=75000のポリカーボネート樹脂(PC−20)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 20]
Similar to Synthesis Example 11 of Polycarbonate except that the addition amount of BPMP was changed to 75.7 g, the addition amount of 4,4′-dihydroxybiphenyl was changed to 22.4 g, and the addition amount of the molecular weight modifier: PTBP was changed to 1.0 g. Then, a polycarbonate resin (PC-20) having Mw=75000 was obtained.

〔ポリカーボネートの合成例21〕
DHPEを2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン(以降BPCと略称:本州化学工業株式会社製)52.3gに変更した以外は、ポリカーボネートの合成例1と同様に行い、Mw=64000のポリカーボネート樹脂(PC−21)を得た。このポリカーボネート樹脂は式(A−101)で示される構造単位と式(B−307)で示される構造単位を有する。
[Polycarbonate Synthesis Example 21]
The same procedure as in Synthesis Example 1 of Polycarbonate except that DHPE was changed to 52.3 g of 2,2-bis(3-methyl-4-hydroxyphenyl)propane (hereinafter abbreviated as BPC: manufactured by Honshu Chemical Industry Co., Ltd.), A polycarbonate resin (PC-21) having an Mw of 64000 was obtained. This polycarbonate resin has a structural unit represented by the formula (A-101) and a structural unit represented by the formula (B-307).

〔ポリカーボネートの合成例22〕
分子量調節剤:PTBPの添加量を1.0gに変更した以外は、ポリカーボネートの合成例21と同様に行い、Mw=80000のポリカーボネート樹脂(PC−22)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 22]
Molecular weight modifier: A polycarbonate resin (PC-22) with Mw=80,000 was obtained in the same manner as in Polycarbonate Synthesis Example 21, except that the addition amount of PTBP was changed to 1.0 g.

〔ポリカーボネートの合成例23〕
分子量調節剤:PTBPの添加量を1.6gに変更した以外は、ポリカーボネートの合成例21と同様に行い、Mw=54000のポリカーボネート樹脂(PC−23)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 23]
A polycarbonate resin (PC-23) having Mw=54000 was obtained in the same manner as in Polycarbonate Synthesis Example 21, except that the addition amount of the molecular weight modifier: PTBP was changed to 1.6 g.

〔ポリカーボネートの合成例24〕
分子量調節剤:PTBPの添加量を1.1gに変更した以外は、ポリカーボネートの合成例21と同様に行い、Mw=74000のポリカーボネート樹脂(PC−24)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 24]
Molecular weight modifier: A polycarbonate resin (PC-24) with Mw=74000 was obtained in the same manner as in Polycarbonate Synthesis Example 21, except that the addition amount of PTBP was changed to 1.1 g.

〔ポリカーボネートの合成例25〕
分子量調節剤:PTBPの添加量を2.7gに変更した以外は、ポリカーボネートの合成例21と同様に行い、Mw=35000のポリカーボネート樹脂(PC−25)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 25]
A polycarbonate resin (PC-25) having Mw of 35000 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 21 of polycarbonate except that the addition amount of the molecular weight modifier: PTBP was changed to 2.7 g.

〔ポリカーボネートの合成例26〕
分子量調節剤:PTBPの添加量を0.8gに変更した以外は、ポリカーボネートの合成例21と同様に行い、Mw=96000のポリカーボネート樹脂(PC−26)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 26]
A polycarbonate resin (PC-26) having Mw=96000 was obtained in the same manner as in Polycarbonate Synthesis Example 21, except that the addition amount of the molecular weight modifier: PTBP was changed to 0.8 g.

〔ポリカーボネートの合成例27〕
BPMPの添加量を43.3g、BPCの添加量を61.5g、分子量調節剤:PTBPの添加量を1.2gにそれぞれ変更した以外は、ポリカーボネートの合成例21と同様に行い、Mw=69000のポリカーボネート樹脂(PC−27)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 27]
The same procedure was performed as in Polycarbonate Synthesis Example 21 except that the amount of BPMP added was 43.3 g, the amount of BPC added was 61.5 g, and the amount of the molecular weight regulator: PTBP was changed to 1.2 g. Mw=69000 Polycarbonate resin (PC-27) was obtained.

〔ポリカーボネートの合成例28〕
BPMPの添加量を27.0g、BPCの添加量を76.9g、分子量調節剤:PTBPの添加量を1.5gにそれぞれ変更した以外は、ポリカーボネートの合成例21と同様に行い、Mw=57000のポリカーボネート樹脂(PC−28)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 28]
The same procedure was performed as in Synthesis Example 21 of Polycarbonate except that the amount of BPMP added was changed to 27.0 g, the amount of BPC added was 76.9 g, and the amount of the molecular weight modifier: PTBP was changed to 1.5 g. Mw=57,000 Polycarbonate resin (PC-28) was obtained.

〔ポリカーボネートの合成例29〕
BPMPの添加量を21.6gに、BPCの添加量を82.0gに、分子量調節剤:PTBPの添加量を1.6gにそれぞれ変更した以外は、ポリカーボネートの合成例21と同様に行い、Mw=54000のポリカーボネート樹脂(PC−29)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 29]
The same procedure was performed as in Synthesis Example 21 of Polycarbonate except that the addition amount of BPMP was changed to 21.6 g, the addition amount of BPC was changed to 82.0 g, and the addition amount of the molecular weight modifier: PTBP was changed to 1.6 g. =54000 polycarbonate resin (PC-29) was obtained.

〔ポリカーボネートの合成例30〕
BPMPの添加量を75.7g、BPCの添加量を30.8g、分子量調節剤:PTBPの添加量を1.0gにそれぞれ変更した以外は、ポリカーボネートの合成例21と同様に行い、Mw=80000のポリカーボネート樹脂(PC−30)を得た。
[Polycarbonate Synthesis Example 30]
The same procedure as in Synthesis Example 21 of Polycarbonate was performed except that the amount of BPMP added was changed to 75.7 g, the amount of BPC added was changed to 30.8 g, and the added amount of a molecular weight modifier: PTBP was changed to 1.0 g. Polycarbonate resin (PC-30) was obtained.

〔ポリカーボネートの合成例31〕
BPMPを5−メチル−2−ヘキサノン(東京化成工業株式会社製、製品コードI0087)より誘導して得た2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−5−メチルヘキサン55.7gに変更した。それ以外は、ポリカーボネートの合成例1と同様に行い、Mw=66000のポリカーボネート樹脂(PC−31)を得た。このポリカーボネート樹脂は式(A−102)で示される構造単位と式(B−101)で示される構造単位を有する。
[Polycarbonate Synthesis Example 31]
BPMP was changed to 55.7 g of 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)-5-methylhexane obtained by deriving 5-methyl-2-hexanone (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., product code I0087). Otherwise in the same manner as in Polycarbonate Synthesis Example 1, a polycarbonate resin (PC-31) having Mw=66000 was obtained. This polycarbonate resin has a structural unit represented by the formula (A-102) and a structural unit represented by the formula (B-101).

〔ポリカーボネートの合成例32〕
BPMPを5−メチル−3−ヘプタノン(東京化成工業株式会社製、製品コードM0335)より誘導して得た3,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−5−メチルヘプタン57.31gに変更した。それ以外は、ポリカーボネートの合成例1と同様に行い、Mw=68000のポリカーボネート樹脂(PC−32)を得た。このポリカーボネート樹脂は式(A−201)で示される構造単位と式(B−101)で示される構造単位を有する。
[Polycarbonate Synthesis Example 32]
BPMP was changed to 57.31 g of 3,3-bis(4-hydroxyphenyl)-5-methylheptane obtained by deriving 5-methyl-3-heptanone (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., product code M0335). Otherwise in the same manner as in Polycarbonate Synthesis Example 1, a polycarbonate resin (PC-32) having Mw=68000 was obtained. This polycarbonate resin has a structural unit represented by the formula (A-201) and a structural unit represented by the formula (B-101).

〔ポリカーボネートの合成例33〕
BPMPをイソブチルフェニルケトン(東京化成工業株式会社製、製品コードI0296)より誘導して得た1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニル−3−メチルブタン65.2gに変更した。それ以外は、ポリカーボネートの合成例1と同様に行い、Mw=77000のポリカーボネート樹脂(PC−33)を得た。このポリカーボネート樹脂は式(A−103)で示される構造単位と式(B−101)で示される構造単位を有する。
[Polycarbonate Synthesis Example 33]
BPMP was changed to 65.2 g of 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)-1-phenyl-3-methylbutane obtained by deriving BPMP from isobutylphenyl ketone (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., product code I0296). Otherwise in the same manner as in Polycarbonate Synthesis Example 1, a polycarbonate resin (PC-33) having Mw=77,000 was obtained. This polycarbonate resin has a structural unit represented by the formula (A-103) and a structural unit represented by the formula (B-101).

〔ポリカーボネートの比較合成例1〕
BPMPを1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン(本州化学工業株式会社製)56.9gに変更した以外は、ポリカーボネートの合成例1と同様に行い、Mw=65000のポリカーボネート樹脂(PC−34と略称)を得た。このポリカーボネート樹脂は下記式で示される構造単位(比較構造)と式(B−101)で示される構造単位を有する。
[Comparative Synthesis Example 1 of Polycarbonate]
Polycarbonate with Mw=65000, except that BPMP was changed to 56.9 g of 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)-1-phenylethane (manufactured by Honshu Chemical Industry Co., Ltd.). A resin (abbreviated as PC-34) was obtained. This polycarbonate resin has a structural unit represented by the following formula (comparative structure) and a structural unit represented by the formula (B-101).

〔ポリカーボネートの比較合成例2〕
BPMPを用いず、DHPEを80.8gを添加した以外は、ポリカーボネートの合成例1と同様に行いポリカーボネート樹脂(PC−35)を得た。このポリカーボネート樹脂は、式(B−101)で示される構造単位を有する。
[Comparative Synthesis Example 2 of Polycarbonate]
A polycarbonate resin (PC-35) was obtained in the same manner as in Polycarbonate Synthesis Example 1 except that BPMP was not used and 80.8 g of DHPE was added. This polycarbonate resin has a structural unit represented by the formula (B-101).

<ガリウムフタロシアニン結晶の合成>
電荷発生物質として用いるガリウムフタロシアニン結晶を以下の通り合成した。
<Synthesis of gallium phthalocyanine crystal>
A gallium phthalocyanine crystal used as a charge generating substance was synthesized as follows.

(ヒドロキシガリウムフタロシアニンGa−0の合成)
窒素フローの雰囲気下、フタロニトリル5.46部及びα−クロロナフタレン45部を反応釜に投入した後、加熱し、温度30℃まで昇温させた後、この温度を維持した。次に、この温度(30℃)で三塩化ガリウム3.75部を投入した。投入時の混合液の水分値は150ppmであった。その後、温度200℃まで昇温させた。次に、窒素フローの雰囲気下、温度200℃で4.5時間反応させた後、冷却し、温度150℃に達したときに生成物を濾過した。得られた濾過物をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて温度140℃で2時間分散洗浄した後、濾過した。得られた濾過物をメタノールで洗浄した後、乾燥させ、クロロガリウムフタロシアニン(ClGa)を4.65部(収率71%)得た。
(Synthesis of hydroxygallium phthalocyanine Ga-0)
Under an atmosphere of nitrogen flow, 5.46 parts of phthalonitrile and 45 parts of α-chloronaphthalene were charged into a reaction kettle, heated, and heated to a temperature of 30° C., and then this temperature was maintained. Next, 3.75 parts of gallium trichloride was added at this temperature (30° C.). The water content of the mixed solution at the time of addition was 150 ppm. Then, the temperature was raised to 200°C. Next, the mixture was reacted at a temperature of 200° C. for 4.5 hours under a nitrogen flow atmosphere, cooled, and when the temperature of 150° C. was reached, the product was filtered. The obtained filtered product was dispersed and washed with N,N-dimethylformamide at a temperature of 140° C. for 2 hours and then filtered. The obtained filtered product was washed with methanol and then dried to obtain 4.65 parts (yield 71%) of chlorogallium phthalocyanine (ClGa).

上記で得たClGa4.65部を、温度10℃で濃硫酸139.5部に溶解させ、攪拌下、氷水620部中に滴下して再析出させて、フィルタープレスを用いて濾過した。得られたウエットケーキ(濾過物)を2%アンモニア水で分散洗浄した後、フィルタープレスを用いて濾過した。次いで、得られたウエットケーキ(濾過物)を、イオン交換水で分散洗浄し、フィルタープレスを用いた濾過する処理を、3回繰り返すことによって、固形分23%のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料(含水ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料)を得た。   4.65 parts of ClGa obtained above was dissolved in 139.5 parts of concentrated sulfuric acid at a temperature of 10° C., added dropwise to 620 parts of ice water under stirring to reprecipitate, and filtered using a filter press. The obtained wet cake (filtrate) was dispersed and washed with 2% ammonia water, and then filtered using a filter press. Then, the obtained wet cake (filtrate) is dispersed and washed with ion-exchanged water, and the filtration treatment using a filter press is repeated three times to obtain a hydroxygallium phthalocyanine pigment (hydrous gallium hydrate containing 23% solids). Phthalocyanine pigment) was obtained.

得られたヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料(含水ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料)6.6kgをハイパー・ドライ乾燥機HD−06R(日本バイオコン製、周波数(発振周波数):2455MHz±15MHz)を用いて以下のように乾燥させた。   6.6 kg of the obtained hydroxygallium phthalocyanine pigment (hydrous gallium phthalocyanine pigment) was dried as follows using a hyper dry dryer HD-06R (manufactured by Nippon Biocon, frequency (oscillation frequency): 2455 MHz±15 MHz). It was

得られたヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を、専用円形プラスチックトレイにフィルタープレスより取り出したままの固まりの状態(含水ケーキ厚4cm以下)で載せ、遠赤外線はオフ、乾燥機の内壁の温度は50℃になるように設定した。そして、マイクロ波照射時は真空ポンプとリークバルブを調整し、真空度を4.0〜10.0kPaに調整した。   The obtained hydroxygallium phthalocyanine pigment was placed on a dedicated circular plastic tray in a lump state (water cake thickness of 4 cm or less) as it was taken out from the filter press, far infrared rays were turned off, and the temperature of the inner wall of the dryer was 50°C. Was set. Then, at the time of microwave irradiation, the vacuum pump and the leak valve were adjusted to adjust the degree of vacuum to 4.0 to 10.0 kPa.

先ず、第1工程として、4.8kWのマイクロ波をヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料に50分間照射し、次に、マイクロ波を一旦切ってリークバルブを一旦閉じて2kPa以下の高真空にした。この時点でのヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の固形分は88%であった。第2工程として、リークバルブを調整し、真空度(乾燥機内の圧力)を前記設定値内(4.0〜10.0kPa)に調整した。その後、1.2kWのマイクロ波をヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料に5分間照射し、また、マイクロ波を一旦切ってリークバルブを一旦閉じて2kPa以下の高真空にした。この第2工程を更に1回繰り返した(計2回)。この時点でのヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の固形分は98%であった。第3工程として、第2工程でのマイクロ波を1.2kWから0.8kWに代えた以外は第2工程と同様にしてマイクロ波照射を行った。この第3工程を更に1回繰り返した(計2回)。第4工程として、リークバルブを調整し、真空度(乾燥機内の圧力)を前記設定値内(4.0〜10.0kPa)に復圧した。その後、0.4kWのマイクロ波をヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料に3分間照射し、また、マイクロ波を一旦切ってリークバルブを一旦閉じて2kPa以下の高真空にした。この第4工程を更に7回繰り返した(計8回)。以上、合計3時間で、含水率1%以下のヒドロキシガリウムフタロシアニン(Ga−0)を1.52kg得た。   First, as the first step, the hydroxygallium phthalocyanine pigment was irradiated with microwaves of 4.8 kW for 50 minutes, and then the microwave was once cut off and the leak valve was once closed to obtain a high vacuum of 2 kPa or less. The solid content of the hydroxygallium phthalocyanine pigment at this point was 88%. In the second step, the leak valve was adjusted and the degree of vacuum (pressure in the dryer) was adjusted to be within the set value (4.0 to 10.0 kPa). Then, the hydroxygallium phthalocyanine pigment was irradiated with a microwave of 1.2 kW for 5 minutes, and the microwave was once cut off and the leak valve was once closed to create a high vacuum of 2 kPa or less. This second step was repeated once more (two times in total). The solid content of the hydroxygallium phthalocyanine pigment at this point was 98%. As the third step, microwave irradiation was performed in the same manner as in the second step except that the microwave in the second step was changed from 1.2 kW to 0.8 kW. This third step was repeated once more (two times in total). In the fourth step, the leak valve was adjusted to restore the vacuum degree (pressure inside the dryer) to within the set value (4.0 to 10.0 kPa). Thereafter, the hydroxygallium phthalocyanine pigment was irradiated with a microwave of 0.4 kW for 3 minutes, and the microwave was once cut off and the leak valve was once closed to create a high vacuum of 2 kPa or less. This fourth step was repeated 7 more times (8 times in total). As described above, 1.52 kg of hydroxygallium phthalocyanine (Ga-0) having a water content of 1% or less was obtained in a total of 3 hours.

(ガリウムフタロシアニン結晶Ga−1の合成)
上記で得たヒドロキシガリウムフタロシアニンGa−0 0.5部と、N−メチルホルムアミド10部を、直径0.8mmのガラスビーズ20部と共にボールミルでミリング処理を室温(23℃)下、120rpmの条件で300時間行った。この分散液からガリウムフタロシアニン結晶をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて取り出し、濾過し、濾過器上をテトラヒドロフランで十分に洗浄した。濾取物を真空乾燥させて、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶Ga−1を0.45部得た。得られた結晶の粉末X線回折図を図2に示す。
(Synthesis of gallium phthalocyanine crystal Ga-1)
0.5 parts of the hydroxygallium phthalocyanine Ga-0 obtained above and 10 parts of N-methylformamide were milled together with 20 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm in a ball mill at room temperature (23° C.) under the condition of 120 rpm. It went for 300 hours. From this dispersion, gallium phthalocyanine crystals were taken out using N,N-dimethylformamide, filtered, and the filter was thoroughly washed with tetrahydrofuran. The filtered material was vacuum dried to obtain 0.45 part of hydroxygallium phthalocyanine crystal Ga-1. The powder X-ray diffraction pattern of the obtained crystals is shown in FIG.

また、重硫酸を溶媒として用いたH‐NMR法[測定器:AVANCEIII 500(BRUKER製)]により、Ga−1結晶内に、N−メチルホルムアミドが0.9質量%含有されていることが確認された。 In addition, 0.9 mass% of N-methylformamide is contained in the Ga-1 crystal by 1 H-NMR method [measuring instrument: AVANCEIII 500 (manufactured by BRUKER)] using bisulfate as a solvent. confirmed.

(ガリウムフタロシアニン結晶Ga−2の合成)
上記(ガリウムフタロシアニン結晶Ga−1の合成)において、N−メチルホルムアミド10部をN,N−ジメチルホルムアミド10部に、ミリング処理時間を300時間から400時間に変更した以外は同様にして、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶Ga−2を0.40部得た。得られたGa−2の粉末X線回折は、図2と同様であった。また、NMR測定により、Ga−2結晶内に、プロトン比率から換算し、N,N−ジメチルホルムアミドが1.4質量%含有されていることが確認された。
(Synthesis of gallium phthalocyanine crystal Ga-2)
In the above (synthesis of gallium phthalocyanine crystal Ga-1), hydroxygallium was similarly prepared except that 10 parts of N-methylformamide was changed to 10 parts of N,N-dimethylformamide and the milling treatment time was changed from 300 hours to 400 hours. 0.40 parts of phthalocyanine crystal Ga-2 was obtained. The powder X-ray diffraction of the obtained Ga-2 was similar to that shown in FIG. In addition, it was confirmed by NMR measurement that 1.4 mass% of N,N-dimethylformamide was contained in the Ga-2 crystal, calculated from the proton ratio.

(ガリウムフタロシアニン結晶Ga−3の合成)
上記(ガリウムフタロシアニン結晶Ga−1の合成)において、N−メチルホルムアミド10部をN,N−プロピルホルムアミド10部に、ミリング処理時間を300時間から500時間に変更した以外は同様にして、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶Ga−3を0.40部得た。得られたGa−3の粉末X線回折は、図2と同様であった。また、NMR測定により、Ga−3結晶内に、プロトン比率から換算し、N−プロピルホルムアミドが1.4質量%含有されていることが確認された。
(Synthesis of gallium phthalocyanine crystal Ga-3)
In the above (synthesis of gallium phthalocyanine crystal Ga-1), hydroxygallium was similarly used except that 10 parts of N-methylformamide was changed to 10 parts of N,N-propylformamide and the milling treatment time was changed from 300 hours to 500 hours. 0.40 parts of phthalocyanine crystal Ga-3 was obtained. The powder X-ray diffraction of the obtained Ga-3 was similar to that shown in FIG. In addition, it was confirmed by NMR measurement that 1.4 mass% of N-propylformamide was contained in the Ga-3 crystal calculated from the proton ratio.

(ガリウムフタロシアニン結晶Ga−4の合成)
上記(ガリウムフタロシアニン結晶Ga−1の合成)において、N−メチルホルムアミド10部をN,N−ビニルホルムアミド10部に、ミリング処理時間を300時間から100時間に変更した以外は同様にして、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶Ga−4を0.40部得た。得られたGa−4結晶の粉末X線回折は、図2と同様であった。また、NMR測定により、Ga−4結晶内に、プロトン比率から換算し、N−ビニルホルムアミドが1.8質量%含有されていることが確認された。
(Synthesis of gallium phthalocyanine crystal Ga-4)
In the above (synthesis of gallium phthalocyanine crystal Ga-1), 10 parts of N-methylformamide was replaced with 10 parts of N,N-vinylformamide, and the milling treatment time was changed from 300 hours to 100 hours. 0.40 part of phthalocyanine crystal Ga-4 was obtained. The powder X-ray diffraction of the obtained Ga-4 crystal was the same as that of FIG. It was also confirmed by NMR measurement that the Ga-4 crystal contained 1.8% by mass of N-vinylformamide, calculated from the proton ratio.

(ガリウムフタロシアニン結晶Ga−5の合成)
上記で得たクロロガリウムフタロシアニン(ClGa)0.5部を直径0.8mmのガラスビーズ20部と共にボールミルで乾式ミリング処理を室温(23℃)下で40時間行った。そこにN,N−ジメチルホルムアミド10部を加え湿式ミリング処理を室温(23℃)下で100時間行った。この分散液からガリウムフタロシアニン結晶をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて取り出し、濾過し、濾過器上をテトラヒドロフランで十分に洗浄した。濾取物を真空乾燥させて、クロロガリウムフタロシアニン結晶Ga−5を0.44部得た。得られた結晶の粉末X線回折図を図3に示す。
(Synthesis of gallium phthalocyanine crystal Ga-5)
0.5 part of the chlorogallium phthalocyanine (ClGa) obtained above was subjected to dry milling treatment with a ball mill for 20 hours at room temperature (23° C.) together with 20 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm. 10 parts of N,N-dimethylformamide was added thereto, and wet milling treatment was performed at room temperature (23° C.) for 100 hours. From this dispersion, gallium phthalocyanine crystals were taken out using N,N-dimethylformamide, filtered, and the filter was thoroughly washed with tetrahydrofuran. The filtered material was vacuum dried to obtain 0.44 part of chlorogallium phthalocyanine crystal Ga-5. The powder X-ray diffraction pattern of the obtained crystal is shown in FIG.

また、重硫酸を溶媒として用いたH‐NMR法[測定器:AVANCEIII 500(BRUKER製)]により、Ga−5結晶内に、N,N−ジメチルホルムアミドが1.0質量%含有されていることが確認された。 In addition, 1.0 mass% of N,N-dimethylformamide is contained in the Ga-5 crystal by the 1 H-NMR method [measuring instrument: AVANCEIII 500 (manufactured by BRUKER)] using bisulfate as a solvent. It was confirmed.

(ガリウムフタロシアニン結晶Ga−6の合成)
上記(ガリウムフタロシアニン結晶Ga−2の合成)において、ミリング処理時間を400時間から48時間に変更した以外は同様にして、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶Ga−6を0.46部得た。また、NMR測定により、Ga−6結晶内に、プロトン比率から換算し、N,N−ジメチルホルムアミドが2.1質量%含有されていることが確認された。
(Synthesis of gallium phthalocyanine crystal Ga-6)
In the above (synthesis of gallium phthalocyanine crystal Ga-2), 0.46 parts of hydroxygallium phthalocyanine crystal Ga-6 was obtained in the same manner except that the milling treatment time was changed from 400 hours to 48 hours. In addition, it was confirmed by NMR measurement that 2.1 mass% of N,N-dimethylformamide was contained in the Ga-6 crystal, calculated from the proton ratio.

(ガリウムフタロシアニン結晶Ga−7の合成)
上記(ガリウムフタロシアニン結晶Ga−1の合成)において、N−メチルホルムアミド10部をN,N−ジメチルホルムアミド10部に、ミリング処理時間を300時間から100時間に変更した以外は同様にして、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶Ga−7を0.40部得た。得られた結晶の粉末X線回折図を図4に示す。また、NMR測定により、Ga−7結晶内に、プロトン比率から換算し、N,N−ジメチルホルムアミドが2.2質量%含有されていることが確認された。
(Synthesis of gallium phthalocyanine crystal Ga-7)
In the above (synthesis of gallium phthalocyanine crystal Ga-1), hydroxygallium was similarly prepared except that 10 parts of N-methylformamide was changed to 10 parts of N,N-dimethylformamide and the milling treatment time was changed from 300 hours to 100 hours. 0.40 parts of phthalocyanine crystal Ga-7 was obtained. The powder X-ray diffraction pattern of the obtained crystal is shown in FIG. In addition, it was confirmed by NMR measurement that the Ga-7 crystal contained 2.2% by mass of N,N-dimethylformamide calculated from the proton ratio.

[電子写真感光体の作製]
以下、電子写真感光体の各層の膜厚は、渦電流式膜厚計Fischerscope(フィッシャーインストルメンツ製)で実測するか、単位面積当たりの質量から比重換算で算出した。
[Preparation of electrophotographic photoreceptor]
Hereinafter, the film thickness of each layer of the electrophotographic photosensitive member was measured by an eddy current film thickness meter Fischerscope (manufactured by Fisher Instruments) or calculated from the mass per unit area in terms of specific gravity.

<実施例1−1〜37、比較例1−1〜3>
(実施例1−1)
酸化スズで被覆した硫酸バリウム粒子(商品名:パストランPC1、三井金属鉱業製)60部、酸化チタン粒子(商品名:TITANIX JR、テイカ製)15部、レゾール型フェノール樹脂(商品名:フェノライト J−325、大日本インキ化学工業製、固形分70質量%)43部、シリコーンオイル(商品名:SH28PA、東レ・ダウコーニング製)0.015部、シリコーン樹脂(商品名:トスパール120、東芝シリコーン製)3.6部、1−メトキシ−2−プロパノール50部、及び、メタノール50部からなる溶液を、ボールミルで20時間分散処理することによって、導電層用塗布液を調製した。
<Examples 1-1 to 37, Comparative examples 1-1 to 3>
(Example 1-1)
60 parts of barium sulfate particles (trade name: Pastran PC1, manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.) coated with tin oxide, 15 parts of titanium oxide particles (trade name: TITANIX JR, manufactured by Teika), resol type phenol resin (trade name: Phenolite J) -325, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., solid content 70% by mass 43 parts, silicone oil (trade name: SH28PA, manufactured by Toray Dow Corning) 0.015 parts, silicone resin (trade name: Tospearl 120, manufactured by Toshiba Silicone) ) A coating solution for a conductive layer was prepared by subjecting a solution consisting of 3.6 parts, 50 parts of 1-methoxy-2-propanol and 50 parts of methanol to a dispersion treatment with a ball mill for 20 hours.

この導電層用塗布液を、支持体として長さ261.5mm、直径24mmのアルミニウムシリンダー(JIS−A3003、アルミニウム合金)上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間140℃で乾燥させることによって、膜厚が15μmの導電層を形成した。   This conductive layer coating solution is applied as a support to an aluminum cylinder (JIS-A3003, aluminum alloy) having a length of 261.5 mm and a diameter of 24 mm, and the obtained coating film is dried at 140° C. for 30 minutes. Thus, a conductive layer having a film thickness of 15 μm was formed.

次に、共重合ナイロン樹脂(商品名:アミランCM8000、東レ製)10部及びメトキシメチル化6ナイロン樹脂(商品名:トレジンEF−30T、帝国化学製)30部を、メタノール400部/n−ブタノール200部の混合溶剤に溶解させることによって、下引き層用塗布液を調製した。この下引き層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を乾燥させることによって、膜厚が0.7μmの下引き層(UCL−1)を形成した。   Next, 10 parts of copolymerized nylon resin (trade name: Amilan CM8000, manufactured by Toray) and 30 parts of methoxymethylated 6 nylon resin (trade name: Toresin EF-30T, manufactured by Teikoku Kagaku), 400 parts of methanol/n-butanol. An undercoat layer coating solution was prepared by dissolving it in 200 parts of a mixed solvent. The coating liquid for undercoat layer was applied onto the conductive layer by dip coating, and the resulting coating film was dried to form an undercoat layer (UCL-1) having a thickness of 0.7 μm.

次に、ガリウムフタロシアニン結晶Ga−1(電荷発生物質)10部、ポリビニルブチラール(商品名:エスレックBX−1、積水化学工業製)5部、及び、シクロヘキサノン250部を、直径1.0mmのガラスビーズを用いたサンドミルで6時間分散処理した。この分散液に酢酸エチル250部を加えて希釈することによって、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を10分間100℃で乾燥させることによって、膜厚が0.22μmの電荷発生層を形成した。   Next, gallium phthalocyanine crystal Ga-1 (charge generating substance) 10 parts, polyvinyl butyral (trade name: S-REC BX-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) 5 parts, and cyclohexanone 250 parts, glass beads having a diameter of 1.0 mm Was subjected to a dispersion treatment for 6 hours with a sand mill using. 250 parts of ethyl acetate was added to this dispersion to dilute it to prepare a charge generation layer coating solution. This coating liquid for charge generation layer was applied onto the undercoat layer by dip coating, and the resulting coating film was dried at 100° C. for 10 minutes to form a charge generation layer having a thickness of 0.22 μm.

次に、ポリカーボネート樹脂PC−110部、電荷輸送物質として式(102)の化合物と、下記式の化合物の混合物(混合比率が6:3)9部を、o−キシレン(Xy)70部とジメトキシメタン(DMM)20部に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。この電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を1時間125℃で乾燥させることによって、膜厚が15.5μmの電荷輸送層を形成した。   Next, 110 parts of a polycarbonate resin PC, 9 parts of a mixture of the compound of the formula (102) as a charge transport substance and a compound of the following formula (mixing ratio 6:3), 70 parts of o-xylene (Xy) and dimethoxy. A coating solution for the charge transport layer was prepared by dissolving it in 20 parts of methane (DMM). This charge transport layer coating solution was applied onto the charge generation layer by dip coating, and the resulting coating film was dried at 125° C. for 1 hour to form a charge transport layer having a thickness of 15.5 μm.

(実施例1−2〜37、比較例1−1〜3)
表14に記載の、電荷発生層に用いる電荷発生物質の種類、電荷輸送層における、樹脂の種類、溶剤の種類とその部数となるように、上記(実施例1−1)からそれぞれ変更して電子写真感光体を作製した。尚、比較例1−3は、電荷輸送層用塗布液中に、溶け残った固形物があり、電子写真感光体の評価が行えなかった。また、表中、THFはテトラヒドロフランを意味する。
(Examples 1-2 to 37, Comparative examples 1-1 to 3)
Change from the above (Example 1-1) so that the type of the charge generating substance used in the charge generating layer, the type of the resin in the charge transporting layer, the type of the solvent, and the number of parts thereof shown in Table 14 were obtained. An electrophotographic photoreceptor was produced. In Comparative Example 1-3, there were some undissolved solids in the charge transport layer coating solution, and the electrophotographic photoreceptor could not be evaluated. Further, in the table, THF means tetrahydrofuran.

[評価]
上記で作製した電子写真感光体を用いて、以下の評価を行った。評価結果を表14に示す。
[Evaluation]
The following evaluations were performed using the electrophotographic photosensitive member produced above. The evaluation results are shown in Table 14.

(かぶり抑制効果)
レーザービームプリンターCP−4525(ヒューレット・パッカード製)を、電子写真感光体の帯電電位(暗部電位)を調整できるように改造し、帯電電位(暗部電位)を−600Vに設定して評価装置として用いた。
(Fogging suppression effect)
Laser beam printer CP-4525 (manufactured by Hewlett-Packard) was modified to adjust the charging potential (dark part potential) of the electrophotographic photosensitive member, and the charging potential (dark part potential) was set to -600V for use as an evaluation device. I was there.

上記で作製した電子写真感光体を評価装置のプロセスカートリッジ(シアン色)に装着し、温度23℃、相対湿度50%環境下で、A4サイズの普通紙に対し、印字比率1%のテストチャートによる画像出力を30,000枚連続して行った。テストチャートによる画像出力は、3枚の連続出力と6秒間の出力停止を繰り返して行った。   The electrophotographic photosensitive member produced above was mounted in a process cartridge (cyan color) of an evaluation device, and a test chart with a print ratio of 1% was printed on an A4 size plain paper in an environment of a temperature of 23° C. and a relative humidity of 50%. Image output was continuously performed on 30,000 sheets. The image output by the test chart was performed by repeating the continuous output of three sheets and the stop of the output for 6 seconds.

30,000枚耐久後、画像の白地部の反射濃度最悪値Fと画像形成前の普通紙の反射平均濃度Fを測定し、F−Fをかぶり値とした。濃度の測定には、反射濃度系(リフレクトメーター モデルTC−6DS、東京電色製)を用いた。数値が小さい程、かぶり抑制効果が高いことを示す。尚、本発明においては、評価基準のAA〜Eを好ましいレベルとし、F、Gを許容できないレベルとした。
AA:かぶり値が1.0未満であった
A:かぶり値が1.0以上1.5未満であった
B:かぶり値が1.5以上2.0未満であった
C:かぶり値が2.0以上2.5未満であった
D:かぶり値が2.5以上3.0未満であった
E:かぶり値が3.0以上4.0未満であった
F:かぶり値が4.0以上5.0未満であった
G:かぶり値が5.0以上であった。
After running 30,000 sheets, the worst value F 1 of the reflection density of the white background portion of the image and the average reflection density F 0 of the plain paper before the image formation were measured, and F 1 −F 0 was taken as the fogging value. A reflection density system (reflectometer model TC-6DS, manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd.) was used for measuring the density. The smaller the value, the higher the fogging suppressing effect. In the present invention, the evaluation criteria AA to E are set to the preferable levels, and F and G are set to the unacceptable levels.
AA: Fogging value was less than 1.0 A: Fogging value was 1.0 or more and less than 1.5 B: Fogging value was 1.5 or more and less than 2.0 C: Fogging value was 2 0.0 or more and less than 2.5 D: Fogging value was 2.5 or more and less than 3.0 E: Fogging value was 3.0 or more and less than 4.0 F: Fogging value was 4.0 The fogging value was 5.0 or more.

<実施例2−1〜287、比較例2−1〜8>
(実施例2−1)
酸化スズで被覆した硫酸バリウム粒子(商品名:パストランPC1、三井金属鉱業製)60部、酸化チタン粒子(商品名:TITANIX JR、テイカ製)15部、レゾール型フェノール樹脂(商品名:フェノライト J−325、大日本インキ化学工業製、固形分70質量%)43部、シリコーンオイル(商品名:SH28PA、東レ・ダウコーニング製)0.015部、シリコーン樹脂(商品名:トスパール120、東芝シリコーン製)3.6部、1−メトキシ−2−プロパノール50部、及び、メタノール50部からなる溶液を、ボールミルで20時間分散処理することによって、導電層用塗布液を調製した。
<Examples 2-1 to 287, Comparative Examples 2-1 to 8>
(Example 2-1)
60 parts of barium sulfate particles (trade name: Pastran PC1, manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.) coated with tin oxide, 15 parts of titanium oxide particles (trade name: TITANIX JR, manufactured by Teika), resol type phenol resin (trade name: Phenolite J) -325, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., solid content 70% by mass 43 parts, silicone oil (trade name: SH28PA, manufactured by Toray Dow Corning) 0.015 parts, silicone resin (trade name: Tospearl 120, manufactured by Toshiba Silicone) ) A coating solution for a conductive layer was prepared by subjecting a solution consisting of 3.6 parts, 50 parts of 1-methoxy-2-propanol, and 50 parts of methanol to a dispersion treatment with a ball mill for 20 hours.

この導電層用塗布液を、支持体として長さ261.5mm、直径24mmのアルミニウムシリンダー(JIS−A3003、アルミニウム合金)上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間140℃で乾燥させることによって、膜厚が30μmの導電層を形成した。   This conductive layer coating solution is applied as a support to an aluminum cylinder (JIS-A3003, aluminum alloy) having a length of 261.5 mm and a diameter of 24 mm, and the obtained coating film is dried at 140° C. for 30 minutes. Thus, a conductive layer having a film thickness of 30 μm was formed.

次に、共重合ナイロン樹脂(商品名:アミランCM8000、東レ製)10部及びメトキシメチル化6ナイロン樹脂(商品名:トレジンEF−30T、帝国化学製)30部を、メタノール400部/n−ブタノール200部の混合溶剤に溶解させることによって、下引き層用塗布液を調製した。この下引き層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を乾燥させることによって、膜厚が0.8μmの下引き層(UCL−1)を形成した。   Next, 10 parts of copolymerized nylon resin (trade name: Amilan CM8000, manufactured by Toray) and 30 parts of methoxymethylated 6 nylon resin (trade name: Toresin EF-30T, manufactured by Teikoku Kagaku), 400 parts of methanol/n-butanol. An undercoat layer coating solution was prepared by dissolving it in 200 parts of a mixed solvent. The coating liquid for undercoat layer was applied onto the conductive layer by dip coating, and the obtained coating film was dried to form an undercoat layer (UCL-1) having a thickness of 0.8 μm.

次に、ガリウムフタロシアニン結晶Ga−1(電荷発生物質)10部、ポリビニルブチラール(商品名:エスレックBX−1、積水化学工業製)5部、及び、シクロヘキサノン250部を、直径1.0mmのガラスビーズを用いたサンドミルで6時間分散処理した。この分散液に酢酸エチル250部を加えて希釈することによって、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を10分間100℃で乾燥させることによって、膜厚が0.23μmの電荷発生層を形成した。   Next, gallium phthalocyanine crystal Ga-1 (charge generating substance) 10 parts, polyvinyl butyral (trade name: S-REC BX-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) 5 parts, and cyclohexanone 250 parts, glass beads having a diameter of 1.0 mm Was subjected to a dispersion treatment for 6 hours with a sand mill using. 250 parts of ethyl acetate was added to this dispersion to dilute it to prepare a charge generation layer coating solution. This coating liquid for charge generation layer was applied onto the undercoat layer by dip coating, and the obtained coating film was dried at 100° C. for 10 minutes to form a charge generation layer having a thickness of 0.23 μm.

次に、ポリカーボネート樹脂として例示化合物1001(Mw:63,000)10部、電荷輸送物質として式(102)の化合物と、式(205)の化合物の混合物(混合比率が9:1)9部を、o−キシレン(Xy)70部とジメトキシメタン(DMM)20部に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。この電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を1時間125℃で乾燥させることによって、膜厚が20μmの電荷輸送層を形成した。   Next, 10 parts of Exemplified Compound 1001 (Mw: 63,000) as a polycarbonate resin, and 9 parts of a mixture of the compound of Formula (102) and the compound of Formula (205) (mixing ratio 9:1) as a charge transport material. , O-xylene (Xy) (70 parts) and dimethoxymethane (DMM) (20 parts) were dissolved to prepare a charge transport layer coating solution. This charge transport layer coating solution was applied onto the charge generation layer by dip coating, and the resulting coating film was dried at 125° C. for 1 hour to form a charge transport layer having a thickness of 20 μm.

(実施例2−2〜287、比較例2−1〜8)
表15〜20に記載の、導電層の有無、下引き層の種類、電荷発生層に用いる電荷発生物質の種類、電荷輸送層における、樹脂の種類及び重量平均分子量Mw、電荷輸送物質の種類(2種併用の場合はその質量比)、電荷輸送物質と樹脂の部数、溶剤の種類とその部数となるように、上記(実施例2−1)からそれぞれ変更して電子写真感光体を作製した。尚、例示化合物3001は、B群構造単位B−101(誘電率2.11)の重合体(重量平均分子量が63,000)である。例示化合物3002は、B群構造単位B−201(誘電率2.20)の重合体(重量平均分子量が53,000)である。例示化合物3003は、B群構造単位B−403(誘電率2.41)の重合体(重量平均分子量が36,000)である。また、下引き層UCL−2及びUCL−3の形成方法、電荷発生物質CGM−1及びCGM−2を用いた電荷発生層の形成方法を以下に示す。
(Examples 2-2 to 287, Comparative examples 2-1 to 8)
In Tables 15 to 20, the presence or absence of a conductive layer, the type of undercoat layer, the type of charge generating substance used in the charge generating layer, the type of resin and the weight average molecular weight Mw of the charge transporting layer, the type of charge transporting substance ( The mass ratio in the case of using two kinds together), the number of parts of the charge transport substance and the resin, the kind of the solvent and the number of parts thereof were changed from the above (Example 2-1) to prepare an electrophotographic photosensitive member. .. The exemplified compound 3001 is a polymer of group B structural unit B-101 (dielectric constant 2.11) (weight average molecular weight 63,000). Exemplified compound 3002 is a polymer of group B structural unit B-201 (dielectric constant 2.20) (weight average molecular weight 53,000). The exemplified compound 3003 is a polymer of group B structural unit B-403 (dielectric constant 2.41) (weight average molecular weight 36,000). A method for forming the undercoat layers UCL-2 and UCL-3 and a method for forming the charge generation layer using the charge generation materials CGM-1 and CGM-2 are shown below.

(下引き層UCL−2)
下記式の電子輸送性化合物(ETM−1)10部、
(Undercoat layer UCL-2)
10 parts of an electron transporting compound (ETM-1) represented by the following formula,

架橋剤として下記式で示されるブロック化されたイソシアネート化合物(商品名:スミジュール3175、固形分:75質量%、住友バイエルウレタン製)17部、 17 parts of a blocked isocyanate compound represented by the following formula as a crosslinking agent (trade name: Sumidule 3175, solid content: 75% by mass, made by Sumitomo Bayer Urethane),

ポリビニルブチラール樹脂(商品名:エスレックBX−1、積水化学工業製)2部、
添加剤として酪酸亜鉛(II)0.2部、
をテトラヒドロフラン100部と1−メトキシ−2−プロパノール100部の混合溶媒に溶解し、下引き層用塗布液を調製した。この下引き層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間160℃で加熱し、乾燥させ、硬化させることによって、膜厚が0.7μmの下引き層UCL−2を形成した。
2 parts of polyvinyl butyral resin (trade name: S-REC BX-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.),
0.2 parts of zinc (II) butyrate as an additive,
Was dissolved in a mixed solvent of 100 parts of tetrahydrofuran and 100 parts of 1-methoxy-2-propanol to prepare an undercoat layer coating solution. This coating liquid for undercoat layer is applied onto the conductive layer by dip coating, and the obtained coating film is heated at 160° C. for 30 minutes, dried, and cured to give an undercoat layer UCL-having a thickness of 0.7 μm. Formed 2.

(下引き層UCL−3)
酸化亜鉛粒子(平均一次粒径:50nm、比表面積:19m/g、粉体抵抗:4.7×10Ω・cm、テイカ製)100部をトルエン500部に撹拌しながら混合した。これに表面処理剤としてN−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン(商品名:KBM602、信越化学製)1.25部を添加し、6時間攪拌しながら混合した。その後、トルエンを減圧留去して、6時間130℃で乾燥させることによって、表面処理された酸化亜鉛粒子を得た。表面処理された酸化亜鉛粒子75部、上記ブロック化されたイソシアネート化合物(商品名:スミジュール3175、固形分:75質量%、住友バイエルウレタン製)16部、ポリビニルブチラール樹脂(商品名:エスレックBM−1、積水化学工業製)9部、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン(東京化成工業製)1部を、メチルエチルケトン60部とシクロヘキサノン60部の混合溶剤に加えて分散液を調製した。この分散液に、平均粒径1.0mmのガラスビーズを用いて縦型サンドミルにて23℃雰囲気下、回転数1,500rpmで3時間分散処理した。分散処理後、得られた分散液に架橋ポリメタクリル酸メチル粒子(商品名:SSX−103、平均粒径:3μm、積水化学工業製)5部と、シリコーンオイル(商品名:SH28PA、東レ・ダウコーニング製)0.01部を添加して攪拌することで、下引き層用塗布液を調製した。この下引き層用塗布液を支持体上に浸漬塗布して塗膜を形成し、塗膜を40分間160℃で加熱、重合させることによって、膜厚が30μmの下引き層UCL−3を形成した。
(Undercoat layer UCL-3)
100 parts of zinc oxide particles (average primary particle size: 50 nm, specific surface area: 19 m 2 /g, powder resistance: 4.7×10 6 Ω·cm, manufactured by Teika) were mixed with 500 parts of toluene while stirring. To this, 1.25 parts of N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane (trade name: KBM602, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added as a surface treatment agent, and mixed with stirring for 6 hours. Then, toluene was distilled off under reduced pressure, and the surface-treated zinc oxide particles were obtained by drying at 130° C. for 6 hours. 75 parts of surface-treated zinc oxide particles, 16 parts of the blocked isocyanate compound (trade name: Sumidule 3175, solid content: 75 mass%, made by Sumitomo Bayer Urethane), polyvinyl butyral resin (trade name: S-REC BM- 9 parts of Sekisui Chemical Co., Ltd.) and 1 part of 2,3,4-trihydroxybenzophenone (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were added to a mixed solvent of 60 parts of methyl ethyl ketone and 60 parts of cyclohexanone to prepare a dispersion liquid. This dispersion was subjected to dispersion treatment using glass beads having an average particle size of 1.0 mm in a vertical sand mill in a 23° C. atmosphere at a rotation speed of 1,500 rpm for 3 hours. After the dispersion treatment, 5 parts of crosslinked polymethylmethacrylate particles (trade name: SSX-103, average particle size: 3 μm, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) and silicone oil (trade name: SH28PA, Toray Dow) were added to the obtained dispersion liquid. A coating solution for the undercoat layer was prepared by adding 0.01 part of Corning) and stirring. This coating liquid for undercoat layer is applied onto a support by dip coating to form a coating film, and the coating film is heated and polymerized at 160° C. for 40 minutes to form an undercoat layer UCL-3 having a thickness of 30 μm. did.

(電荷発生物質CGM−1を用いた電荷発生層)
CuKα特性X線回折におけるブラッグ角(2θ±0.2°)の27.3°にピークを有するY型オキシチタニウムフタロシアニン結晶(電荷発生物質)12部、ポリビニルブチラール樹脂(商品名:エスレックBX−1、積水化学工業製)10部と、シクロヘキサノン250部を、直径1.0mmのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、3時間分散処理して分散液を調製した。次に、この分散液に酢酸エチル500部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を、下引き層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を10分間温度80℃で乾燥することによって、膜厚が0.20μmの電荷発生層を形成した。
(Charge generation layer using charge generation material CGM-1)
12 parts of Y-type oxytitanium phthalocyanine crystal (charge generating substance) having a peak at 27.3° of Bragg angle (2θ±0.2°) in CuKα characteristic X-ray diffraction, polyvinyl butyral resin (trade name: S-REC BX-1 10 parts of Sekisui Chemical Co., Ltd.) and 250 parts of cyclohexanone were placed in a sand mill using glass beads having a diameter of 1.0 mm and dispersed for 3 hours to prepare a dispersion liquid. Next, 500 parts of ethyl acetate was added to this dispersion to prepare a charge generation layer coating liquid. The coating liquid for a charge generating layer is applied onto the undercoat layer by dip coating to form a coating film, and the resulting coating film is dried at a temperature of 80° C. for 10 minutes to generate a charge having a thickness of 0.20 μm. Layers were formed.

(電荷発生物質CGM−2を用いた電荷発生層)
電荷発生物質CGM−2として、下記式で表されるビスアゾ顔料15部、
(Charge generation layer using charge generation material CGM-2)
As the charge generating substance CGM-2, 15 parts of a bisazo pigment represented by the following formula,

ポリビニルブチラール樹脂(商品名:エスレックBX−1、積水化学工業製)10部と、テトラヒドロフラン250部を、直径1.0mmのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、3時間分散処理して分散液を調製した。次に、この分散液にシクロヘキサノン100部と、テトラヒドロフラン500部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。そしてこの塗布液を下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を110℃で30分間乾燥して、膜厚0.30μmの電荷発生層を形成した。 10 parts of polyvinyl butyral resin (trade name: S-REC BX-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) and 250 parts of tetrahydrofuran are placed in a sand mill using glass beads having a diameter of 1.0 mm and dispersed for 3 hours to prepare a dispersion liquid. did. Next, 100 parts of cyclohexanone and 500 parts of tetrahydrofuran were added to this dispersion liquid to prepare a charge generation layer coating liquid. Then, this coating solution was applied onto the undercoat layer by dip coating, and the obtained coating film was dried at 110° C. for 30 minutes to form a charge generation layer having a thickness of 0.30 μm.

[評価]
上記で作製した電子写真感光体、又は、電荷輸送層用塗布液を用いて、以下の評価を行った。評価結果を表21〜26に示す。
[Evaluation]
The following evaluations were performed using the electrophotographic photoreceptor or the coating liquid for charge transport layer produced above. The evaluation results are shown in Tables 21 to 26.

<電荷輸送層用塗布液の評価>
(保存安定性)
電荷輸送層用塗布液を調製し、24時間攪拌を行った後、密封状態にて温度23℃、相対湿度50%の環境下に1ヶ月間保存した。保存後の電荷輸送層用塗布液を目視にて観察し、保存安定性を評価した。評価基準は以下の通りである。
A:溶け残った固形物が無く、塗布液が透明であった
B:溶け残った固形物は無いが、塗布液に若干の濁りが見られた
C:溶け残った固形物は無いが、塗布液にはっきりと濁りが見られた
D:溶け残った固形物があった。
尚、電荷輸送層用塗布液の保存安定性がD評価だったものは、以下の電子写真感光体の評価が行えなかった。
<Evaluation of coating liquid for charge transport layer>
(Storage stability)
The coating liquid for the charge transport layer was prepared, stirred for 24 hours, and then stored for 1 month in an environment of a temperature of 23° C. and a relative humidity of 50% in a sealed state. The storage stability was evaluated by visually observing the charge transport layer coating solution after storage. The evaluation criteria are as follows.
A: There was no undissolved solid matter and the coating solution was transparent. B: There was no undissolved solid matter, but the coating solution had some turbidity. C: There was no undissolved solid matter, but there was coating. Clear turbidity was observed in the liquid D: There was a solid material that remained undissolved.
The following electrophotographic photoreceptors could not be evaluated if the storage stability of the charge transport layer coating solution was evaluated as D.

<電子写真感光体の評価>
(かぶり抑制効果)
レーザービームプリンターCP−4525(ヒューレット・パッカード製)を、電子写真感光体の帯電電位(暗部電位)を調整できるように改造し、帯電電位(暗部電位)を−600Vに設定して評価装置として用いた。
<Evaluation of electrophotographic photoreceptor>
(Fogging suppression effect)
Laser beam printer CP-4525 (manufactured by Hewlett-Packard) was modified so that the charging potential (dark area potential) of the electrophotographic photosensitive member could be adjusted, and the charging potential (dark area potential) was set to -600V for use as an evaluation device. I was there.

上記で作製した電子写真感光体を評価装置のプロセスカートリッジ(シアン色)に装着し、温度23℃、相対湿度50%環境下で、A4サイズの普通紙に対し、印字比率1%のテストチャートによる画像出力を30,000枚連続して行った。テストチャートによる画像出力は、3枚の連続出力と6秒間の出力停止を繰り返して行った。   The electrophotographic photosensitive member produced above was mounted in a process cartridge (cyan color) of an evaluation device, and a test chart with a print ratio of 1% was printed on an A4 size plain paper in an environment of a temperature of 23° C. and a relative humidity of 50%. Image output was continuously performed on 30,000 sheets. The image output by the test chart was performed by repeating the continuous output of three sheets and the stop of the output for 6 seconds.

30,000枚耐久後、画像の白地部の反射濃度最悪値Fと画像形成前の普通紙の反射平均濃度Fを測定し、F−Fをかぶり値とした。濃度の測定には、反射濃度系(リフレクトメーター モデルTC−6DS、東京電色製)を用いた。数値が小さい程、かぶり抑制効果が高いことを示す。尚、本発明においては、評価基準のAA〜Eを好ましいレベルとし、F、Gを許容できないレベルとした。
AA:かぶり値が1.0未満であった
A:かぶり値が1.0以上1.5未満であった
B:かぶり値が1.5以上2.0未満であった
C:かぶり値が2.0以上2.5未満であった
D:かぶり値が2.5以上3.0未満であった
E:かぶり値が3.0以上4.0未満であった
F:かぶり値が4.0以上5.0未満であった
G:かぶり値が5.0以上であった。
After running 30,000 sheets, the worst value F 1 of the reflection density of the white background portion of the image and the average reflection density F 0 of the plain paper before the image formation were measured, and F 1 −F 0 was taken as the fogging value. A reflection density system (reflectometer model TC-6DS, manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd.) was used for measuring the density. The smaller the value, the higher the fogging suppressing effect. In the present invention, the evaluation criteria AA to E are set to the preferable levels, and F and G are set to the unacceptable levels.
AA: Fogging value was less than 1.0 A: Fogging value was 1.0 or more and less than 1.5 B: Fogging value was 1.5 or more and less than 2.0 C: Fogging value was 2 0.0 or more and less than 2.5 D: Fogging value was 2.5 or more and less than 3.0 E: Fogging value was 3.0 or more and less than 4.0 F: Fogging value was 4.0 The fogging value was 5.0 or more.

(感度、繰返し使用時の電気特性)
レーザービームプリンターCP−4525(ヒューレット・パッカード製)を、電子写真感光体の帯電電位(暗部電位)及び露光光量を調整できるように改造し、評価装置として用いた。
(Sensitivity, electrical characteristics after repeated use)
A laser beam printer CP-4525 (manufactured by Hewlett-Packard) was modified so that the charging potential (dark area potential) and the exposure light amount of the electrophotographic photosensitive member could be adjusted and used as an evaluation device.

上記で作製した電子写真感光体を評価装置のプロセスカートリッジ(シアン色)に装着し、温度23℃、相対湿度50%環境下で、A4サイズの普通紙に対し、印字比率4%のテストチャートによる画像出力を10,000枚連続して行った。このとき、帯電条件としては、電子写真感光体の帯電電位(暗部電位)が−600Vになるように、印加バイアスを調整した。露光条件としては、露光光量が0.4μJ/cmとなるように調整した。 The electrophotographic photosensitive member produced above was mounted in a process cartridge (cyan color) of an evaluation device, and a test chart with a printing ratio of 4% was printed on an A4 size plain paper under a temperature of 23° C. and a relative humidity of 50%. Image output was continuously performed on 10,000 sheets. At this time, as a charging condition, the applied bias was adjusted so that the charging potential (dark portion potential) of the electrophotographic photosensitive member was −600V. The exposure conditions were adjusted so that the exposure light amount was 0.4 μJ/cm 2 .

上記繰り返し使用前及び繰り返し使用後の、電子写真感光体の明部電位をそれぞれ以下の方法で測定した。電子写真感光体の明部電位は、評価装置のプロセスカートリッジから現像器を取り外し、現像位置に電位測定プローブ(商品名:model6000B−8、トレック製)を配置し、表面電位計(model344、トレック製)を使用して測定した。電子写真感光体に対する電位測定プローブの位置は、電子写真感光体の軸方向の中央とし、電子写真感光体の表面と電位測定プローブの測定面との距離は3mmとした。   The bright part potentials of the electrophotographic photosensitive member before and after the repeated use were measured by the following methods, respectively. For the light potential of the electrophotographic photosensitive member, the developing device is removed from the process cartridge of the evaluation device, a potential measuring probe (trade name: model6000B-8, made by Trek) is arranged at the developing position, and a surface potential meter (model344, made by Trek) is placed. ) Was used. The position of the potential measuring probe with respect to the electrophotographic photosensitive member was the center in the axial direction of the electrophotographic photosensitive member, and the distance between the surface of the electrophotographic photosensitive member and the measurement surface of the potential measuring probe was 3 mm.

繰り返し使用前の電子写真感光体の明部電位から、電子写真感光体の感度を評価した。尚、繰り返し使用前の電子写真感光体の明部電位が高い程、電子写真感光体の感度は高い。   The sensitivity of the electrophotographic photosensitive member was evaluated from the bright part potential of the electrophotographic photosensitive member before repeated use. The higher the bright part potential of the electrophotographic photosensitive member before repeated use, the higher the sensitivity of the electrophotographic photosensitive member.

また、繰り返し使用前後での電子写真感光体の明部電位の変動値(差分)から、電子写真感光体の繰返し使用時の電気特性を評価した。尚、明部電位の変動値が小さい程、電子写真感光体の繰返し使用時の電気特性は高い。   In addition, the electrical characteristics of the electrophotographic photosensitive member during repeated use were evaluated from the variation value (difference) of the bright portion potential of the electrophotographic photosensitive member before and after repeated use. It should be noted that the smaller the fluctuation value of the light portion potential, the higher the electrical characteristics of the electrophotographic photosensitive member during repeated use.

(高速記録応答性)
レーザービームプリンターCP−4525(ヒューレット・パッカード製)を、電子写真感光体の帯電電位(暗部電位)、露光光量及び現像バイアスを調整できるように改造した評価装置Xと、評価装置Xを更にプロセススピード(電子写真感光体の回転速度)が1.5倍早くなるように改造した評価装置Yを用意した。
(High-speed recording response)
Laser beam printer CP-4525 (manufactured by Hewlett-Packard) was modified to adjust the charging potential (dark area potential) of the electrophotographic photoconductor, the amount of exposure light and the developing bias. An evaluation device Y modified so that the (rotational speed of the electrophotographic photosensitive member) was 1.5 times faster was prepared.

上記で作製した電子写真感光体を評価装置X及びYのプロセスカートリッジ(シアン色)にそれぞれ装着し、温度23℃、相対湿度50%環境下で、A4サイズの普通紙に対し、図5に示す「1ドット桂馬パターンのハーフトーン画像」を評価用画像X及びYとして出力した。このとき、帯電条件としては、電子写真感光体の表面電位(暗部電位)が−600Vになるように、印加バイアスを調整した。露光条件としては、露光光量が0.4μJ/cmとなるように調整した。現像条件は、現像バイアスが−350Vとなるように調整した。 The electrophotographic photosensitive member produced as described above is attached to the process cartridges (cyan color) of the evaluation devices X and Y, respectively, and the temperature is 23° C. and the relative humidity is 50%. The "one-dot Keima pattern halftone image" was output as the evaluation images X and Y. At this time, as a charging condition, the applied bias was adjusted so that the surface potential (dark portion potential) of the electrophotographic photosensitive member was −600V. The exposure conditions were adjusted so that the exposure light amount was 0.4 μJ/cm 2 . The developing conditions were adjusted so that the developing bias was -350V.

評価用画像X及びYの画像濃度差(マクベス濃度差)を濃度計RD−918(マクベス製)で測定し、高速記録応答性を評価した。具体的には、電子写真感光体1周分に相当する画像領域内の任意の10点に関して、SPIフィルターを使用して、直径5mm丸の画像の反射濃度を測定し、10点の平均値を評価用画像の画像濃度とした。尚、画像濃度差が小さい程、高速記録応答性が高い。評価基準は以下の通りである。
A:画像濃度差が0.02未満であった
B:画像濃度差が0.02以上0.04未満であった
C:画像濃度差が0.04以上0.06未満であった
D:画像濃度差が0.06以上であった。
The image density difference between the evaluation images X and Y (Macbeth density difference) was measured with a densitometer RD-918 (manufactured by Macbeth) to evaluate the high-speed recording response. Specifically, the SPI filter is used to measure the reflection density of an image of a circle having a diameter of 5 mm for any 10 points in the image area corresponding to one round of the electrophotographic photosensitive member, and the average value of the 10 points is calculated. The image density of the evaluation image was used. The smaller the image density difference, the higher the high-speed recording response. The evaluation criteria are as follows.
A: Image density difference was less than 0.02 B: Image density difference was 0.02 or more and less than 0.04 C: Image density difference was 0.04 or more and less than 0.06 D: Image The density difference was 0.06 or more.

(長期保存安定性)
上記で作製した電子写真感光体を、レーザービームプリンターCP−4525(ヒューレット・パッカード製)のプロセスカートリッジ(シアン色)にそれぞれ装着し、温度60℃、相対湿度50%環境下で14日間保存した。保存後の電子写真感光体の表面を光学顕微鏡により観察し、更に、評価用画像を目視することで長期保存安定性を評価した。評価用画像は、保存後の電子写真感光体を、別のレーザービームプリンターCP−4525のプロセスカートリッジ(シアン色)にそれぞれ装着して出力した。評価基準は以下の通りである。
A:表面に析出物が全く観測されなかった
B:表面に析出物が若干観測されたが、画質への影響が生じないレベルであった
C:表面に析出物が多数観測されたが、画質への影響が生じないレベルであった。
(Long-term storage stability)
The electrophotographic photosensitive member produced as described above was mounted on a process cartridge (cyan color) of a laser beam printer CP-4525 (manufactured by Hewlett-Packard), and stored for 14 days in an environment of a temperature of 60° C. and a relative humidity of 50%. The surface of the electrophotographic photosensitive member after storage was observed with an optical microscope, and the long-term storage stability was evaluated by visually observing the image for evaluation. The image for evaluation was output by mounting the electrophotographic photosensitive member after storage on a process cartridge (cyan color) of another laser beam printer CP-4525. The evaluation criteria are as follows.
A: No precipitates were observed on the surface B: Some precipitates were observed on the surface, but it was at a level that did not affect the image quality C: Many precipitates were observed on the surface, but the image quality There was no effect on

(フォトメモリー抑制効果)
レーザービームプリンターCP−4525(ヒューレット・パッカード製)を、電子写真感光体の帯電電位(暗部電位)を調整できるように改造し、帯電電位(暗部電位)を−600Vに設定して評価装置として用いた。
(Photo memory suppression effect)
Laser beam printer CP-4525 (manufactured by Hewlett-Packard) was modified to adjust the charging potential (dark part potential) of the electrophotographic photosensitive member, and the charging potential (dark part potential) was set to -600V for use as an evaluation device. I was there.

上記で作製した電子写真感光体を評価装置のプロセスカートリッジ(シアン色)に装着し、温度23℃、相対湿度50%環境下で、A4サイズの普通紙に対し、ハーフトーンの画像出力を10,000枚連続して行った。その後、電子写真感光体をプロセスカートリッジから取出し、電子写真感光体の表面において、周方向の一部を遮光し、白色蛍光灯を用いて非遮光部分に2,000luxの光を10分間照射した。この電子写真感光体を、別のプロセスカートリッジ(シアン色)に装着し、蛍光灯の光照射完了から30分経過後に、図5に示す「1ドット桂馬パターンのハーフトーン画像」の出力を行った。ハーフトーン画像における、遮光部分(非照射部分)と非遮光部分(照射部分)に対応する領域を目視で観察し、その濃度差からフォトメモリー抑制効果を評価した。評価基準は以下の通りである。
A:濃度差が確認できなかった
B:僅かに濃度差があった
C:濃度差があるが、実使用上問題とならないレベルであった
D:濃度差があるが、領域間の境界が鮮明ではなかった
E:明確な濃度差があり、領域間の境界が鮮明になっている部分があった。
The electrophotographic photosensitive member produced above was mounted in a process cartridge (cyan color) of an evaluation device, and a halftone image output was performed on an A4 size plain paper under an environment of a temperature of 23° C. and a relative humidity of 50%. It was carried out continuously for 000 sheets. After that, the electrophotographic photosensitive member was taken out of the process cartridge, a part of the surface of the electrophotographic photosensitive member was shielded from light in the circumferential direction, and a non-shielded portion was irradiated with 2,000 lux light for 10 minutes using a white fluorescent lamp. This electrophotographic photosensitive member was attached to another process cartridge (cyan color), and 30 minutes after the completion of light irradiation of the fluorescent lamp, the "one-dot Keima pattern halftone image" shown in FIG. 5 was output. .. In the halftone image, the regions corresponding to the light-shielded portion (non-irradiated portion) and the non-light-shielded portion (irradiated portion) were visually observed, and the photomemory suppression effect was evaluated from the density difference. The evaluation criteria are as follows.
A: No density difference could be confirmed B: There was a slight density difference C: There was a density difference, but it was at a level that did not pose a problem in actual use D: There was a density difference, but the boundary between regions was clear Not E: There was a clear density difference, and there were portions where the boundaries between regions were clear.

1 電子写真感光体
2 軸
3 帯電手段
4 露光光
5 現像手段
6 転写手段
7 転写材
8 定着手段
9 クリーニング手段
10 前露光光
11 プロセスカートリッジ
12 案内手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electrophotographic photoreceptor 2 Axis 3 Charging means 4 Exposure light 5 Developing means 6 Transfer means 7 Transfer material 8 Fixing means 9 Cleaning means 10 Pre-exposure light 11 Process cartridge 12 Guide means

Claims (7)

支持体と、電荷発生層と、電荷輸送物質を含有する電荷輸送層とをこの順に有する電子写真感光体であって、
該電荷輸送層が、該電子写真感光体の表面層であり、
該電荷輸送層が、A群から選択される構造単位と、B群から選択される構造単位と、を有し、そして、
重量平均分子量が、30,000以上98,000以下である共重合ポリカーボネート樹脂を含有し、
該電荷輸送物質と該共重合ポリカーボネート樹脂の質量比率は6/10以上9/10以下であることを特徴とする電子写真感光体。
<A群:式(101)、(102)で示される構造単位>

(式(101)において、R211〜R214は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を示す。R215は、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を示す。R216とR217は、それぞれ独立に、炭素数1〜9のアルキル基を示す。i211は0〜3の整数を示す。但し、R215と(CHCHR216217は同一ではない。)

(式(102)において、R221〜R224は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を示す。R225とR226は、それぞれ独立に、炭素数1〜9のアルキル基を示す。但し、R225とR226は同一ではない。i221は0〜3の整数を示す。)
<B群:式(104)で示される構造単位>

(式(104)において、R241〜R244は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を示す。Xは単結合、酸素原子、硫黄原子、スルホニル基を示す。)
An electrophotographic photoreceptor having a support, a charge generation layer, and a charge transport layer containing a charge transport substance in this order,
The charge transport layer is a surface layer of the electrophotographic photoreceptor,
Charge transport layer is, possess a structural unit selected from group A, a structural unit selected from group B, a, and,
Weight average molecular weight, has contains a copolymerization port polycarbonate resin is 30,000 98,000 or less,
An electrophotographic photoreceptor, wherein the mass ratio of the charge transport material to the copolycarbonate resin is 6/10 or more and 9/10 or less .
<Group A: Structural units represented by formulas (101) and (102)>

In (formula (101), R 211 ~R 214 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, .R 215 of an alkoxy group, an alkyl group, an aryl group, and .R 216 to an alkoxy group R 217 each independently represent an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms .i 211 represents an integer of 0 to 3. However, the R 215 (CH 2) i CHR 216 R 217 are not the same.)

(In the formula (102), R 221 to R 224 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an alkoxy group. R 225 and R 226 each independently represent an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms. Group, provided that R 225 and R 226 are not the same. i 221 represents an integer of 0 to 3.)
<Group B: Structural unit represented by formula (104 ) >

(In the formula (104), R 241 to R 244 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, .X showing an alkoxy group is a single bond, an oxygen atom, a sulfur atom, shown to a sulfonyl group.)
記共重合ポリカーボネート樹脂の重量平均分子量が、40,000以上80,000以下である請求項1に記載の電子写真感光体。 Before SL copolymer Po weight average molecular weight of polycarbonate resin, electrophotographic photosensitive member according to claim 1 is 40,000 to 80,000 or less. 記共重合ポリカーボネート樹脂に占める、前記A群から選択される構造単位の含有比率が、20mol%以上70mol%以下である請求項1又は2に記載の電子写真感光体。 It occupied before Symbol copolymer Po polycarbonate resin, the content ratio of structural units selected from the group A, electrophotographic photosensitive member according to claim 1 or 2 or less 20 mol% or more 70 mol%. 請求項1乃至3の何れか1項に記載の電子写真感光体の製造方法であって、
前記電荷輸送物質と、前記共重合ポリカーボネート樹脂と、双極子モーメントが1.0D以下の溶媒とを含有する電荷輸送層用塗布液の塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させることで前記電荷輸送層を形成する工程を有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
A method for producing an electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1乃Itaru 3,
And the charge transport material, and before Symbol copolymer Po polycarbonate resin, dipole moment to form a coating film of the charge transport layer coating liquid containing the following solvents 1.0D, drying the coating film The method for producing an electrophotographic photosensitive member, which comprises the step of forming the charge transport layer according to 1.
前記双極子モーメントが1.0D以下の溶媒が、キシレン及びメチラールから選択される何れかである請求項4に記載の電子写真感光体の製造方法。 The method for producing an electrophotographic photosensitive member according to claim 4, wherein the solvent having a dipole moment of 1.0 D or less is selected from xylene and methylal. 請求項1乃至3の何れか1項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段及びクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも1つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。 An electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1乃optimum 3, charging means, developing means, integrally supported and at least one means selected from the group consisting of the transfer means and a cleaning means, electronic A process cartridge that is detachable from the main body of the photographic device. 請求項1乃至3の何れか1項に記載の電子写真感光体、ならびに、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を有することを特徴とする電子写真装置。 The electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1乃optimum 3, and a charging means, an exposure means, the electrophotographic apparatus, characterized in that it comprises a developing means and a transfer means.
JP2016026328A 2015-02-27 2016-02-15 Electrophotographic photoreceptor, method of manufacturing electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and electrophotographic apparatus Active JP6700832B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102016103345.6A DE102016103345B4 (en) 2015-02-27 2016-02-25 ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD OF MANUFACTURING ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTOSENSITIVE ELEMENT, PROCESS CARTRIDGE AND ELECTROPHOTOGRAPHIC APPARATUS
US15/054,017 US9753385B2 (en) 2015-02-27 2016-02-25 Electrophotographic photosensitive member, method for manufacturing electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus
CN201610109106.4A CN105929642B (en) 2015-02-27 2016-02-26 Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, electrophotographic apparatus, and method of manufacturing electrophotographic photosensitive member

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015039429 2015-02-27
JP2015039429 2015-02-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016164651A JP2016164651A (en) 2016-09-08
JP6700832B2 true JP6700832B2 (en) 2020-05-27

Family

ID=56876659

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016026328A Active JP6700832B2 (en) 2015-02-27 2016-02-15 Electrophotographic photoreceptor, method of manufacturing electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and electrophotographic apparatus
JP2016026329A Active JP6700833B2 (en) 2015-02-27 2016-02-15 Electrophotographic photoreceptor, method of manufacturing electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and electrophotographic apparatus

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016026329A Active JP6700833B2 (en) 2015-02-27 2016-02-15 Electrophotographic photoreceptor, method of manufacturing electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and electrophotographic apparatus

Country Status (2)

Country Link
JP (2) JP6700832B2 (en)
KR (1) KR101932318B1 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6700832B2 (en) * 2015-02-27 2020-05-27 キヤノン株式会社 Electrophotographic photoreceptor, method of manufacturing electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and electrophotographic apparatus
US10416581B2 (en) * 2016-08-26 2019-09-17 Canon Kabushiki Kaisha Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus
JP6995583B2 (en) * 2017-11-24 2022-01-14 キヤノン株式会社 Electrophotographic photosensitive members, process cartridges and electrophotographic equipment
JP7046571B2 (en) * 2017-11-24 2022-04-04 キヤノン株式会社 Process cartridges and electrophotographic equipment

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61137157A (en) * 1984-12-07 1986-06-24 Canon Inc Electrophotographic sensitive body
JPS62160458A (en) * 1986-01-09 1987-07-16 Canon Inc Electrophotographic sensitive body
JPH02254464A (en) * 1989-03-29 1990-10-15 Fuji Xerox Co Ltd Electrophotographic sensitive body
JP3087341B2 (en) * 1991-05-21 2000-09-11 ミノルタ株式会社 Laminated photoreceptor
JP3077855B2 (en) * 1992-06-30 2000-08-21 キヤノン株式会社 Electrophotographic photosensitive member, and electrophotographic apparatus and facsimile using the same
JP3323581B2 (en) * 1993-04-30 2002-09-09 キヤノン株式会社 Electrophotographic photoreceptor and electrophotographic apparatus using the same
JPH09281720A (en) * 1996-04-12 1997-10-31 Mita Ind Co Ltd Electrophotographic photoreceptor
JP2001356503A (en) * 2000-06-13 2001-12-26 Kyocera Mita Corp Electrophotographic photoreceptor
JP2003186227A (en) * 2001-12-21 2003-07-03 Canon Inc Electrophotographic photoreceptor, electrophotographic device, and process cartridge
JP4246621B2 (en) * 2003-12-26 2009-04-02 三菱化学株式会社 Electrophotographic photoreceptor
JP4041921B1 (en) * 2007-01-26 2008-02-06 キヤノン株式会社 Electrophotographic photoreceptor manufacturing method
JP6700832B2 (en) * 2015-02-27 2020-05-27 キヤノン株式会社 Electrophotographic photoreceptor, method of manufacturing electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and electrophotographic apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP6700833B2 (en) 2020-05-27
JP2016164651A (en) 2016-09-08
KR101932318B1 (en) 2018-12-24
KR20160105343A (en) 2016-09-06
JP2016164652A (en) 2016-09-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6929736B2 (en) Electrophotographic photosensitive members, process cartridges and electrophotographic equipment
US9563139B2 (en) Electrophotographic photosensitive member, process cartridge and electrophotographic apparatus
US9645516B2 (en) Electrophotographic photosensitive member, process cartridge and electrophotographic apparatus
JP4847245B2 (en) Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus
EP0295127B1 (en) Arylamine polymers
US5830614A (en) Multilayer organic photoreceptor employing a dual layer of charge transporting polymers
US9864284B2 (en) Electrophotographic photosensitive member, method for manufacturing electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus
JP2007079555A5 (en)
US20160154326A1 (en) Electrophotographic photosensitive member, method for producing electrophotographic photosensitive member, process cartridge and electrophotographic apparatus
JP6700832B2 (en) Electrophotographic photoreceptor, method of manufacturing electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and electrophotographic apparatus
JP2007199659A (en) Electrophotographic photoreceptor, process cartridge and electrophotographic apparatus
JP2007193309A (en) Electrophotographic photoreceptor, method for manufacturing electrophotographic photoreceptor, process cartridge and electrophotographic apparatus
JP4795217B2 (en) Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus
JP4847251B2 (en) Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus
US5283143A (en) Electrophotographic imaging member containing arylamine terpolymers with CF3 substituted moieties
CN105929642B (en) Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, electrophotographic apparatus, and method of manufacturing electrophotographic photosensitive member
JP4847247B2 (en) Method for producing electrophotographic photosensitive member
JP6946099B2 (en) Electrophotographic photosensitive members, process cartridges and electrophotographic equipment
JP2007298952A (en) Electrophotographic photoreceptor, method for manufacturing the same, process cartridge and electrophotographic apparatus
JP2009271111A (en) Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and electrophotographic equipment
US6291125B1 (en) Terpolymer imaging member and imaging process
JP6613090B2 (en) Electrophotographic photosensitive member, method for manufacturing electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus
JPH11147947A (en) Polycarbonate resin, electrophotographic photoreceptor containing this resin, and electrophotographic apparatus using this photoreceptor
JP2017076126A (en) Xerographic photoreceptor, process cartridge and electrophotographic apparatus
JP2007071969A (en) Electrophotographic photoreceptor, method for manufacturing same, process cartridge, and electrophotographic apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190214

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20191209

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20191217

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200217

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200310

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200501

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6700832

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151