JP6681035B2 - Liquid crystal compound and composition thereof - Google Patents
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Description
本発明は有機電子材料や医農薬、特に液晶表示素子用材料として有用な縮合環を有する化合物及びこれらを用いた液晶組成物に関する。 The present invention relates to a compound having a condensed ring, which is useful as an organic electronic material or a medical or agricultural chemical, especially as a material for a liquid crystal display device, and a liquid crystal composition using the compound.
液晶表示素子は、時計、電卓をはじめとして、各種測定機器、自動車用パネル、ワードプロセッサー、電子手帳、プリンター、コンピューター、テレビ、時計、広告表示板等に用いられている。液晶表示方式としては、その代表的なものにTN(ツイステッド・ネマチック)型、STN(スーパー・ツイステッド・ネマチック)型、TFT(薄膜トランジスタ)を用いた垂直配向型やIPS(イン・プレーン・スイッチング)型等の駆動方式がある。これらの液晶表示素子に用いられる液晶組成物は水分、空気、熱、光などの外的要因に対して安定であること、また、室温を中心としてできるだけ広い温度範囲で液晶相(ネマチック相、スメクチック相及びブルー相等)を示し、低粘性であり、かつ駆動電圧が低いことが求められる。更に液晶組成物は個々の表示素子にあわせて誘電率異方性(Δε)及び屈折率異方性(Δn)等を最適な値とするために、数種類から数十種類の化合物を選択し、構成されている。 The liquid crystal display device is used for various measuring instruments, automobile panels, word processors, electronic notebooks, printers, computers, televisions, clocks, advertisement display boards, etc., including clocks and calculators. Typical liquid crystal display systems are TN (twisted nematic) type, STN (super twisted nematic) type, vertical alignment type using TFT (thin film transistor), and IPS (in-plane switching) type. There is a drive system such as. The liquid crystal composition used for these liquid crystal display elements is stable against external factors such as moisture, air, heat, and light, and also has a liquid crystal phase (nematic phase, smectic phase) in a wide temperature range centered at room temperature. Phase and blue phase), low viscosity, and low driving voltage are required. Further, the liquid crystal composition is selected from several kinds to several tens of kinds of compounds in order to make the dielectric anisotropy (Δε) and the refractive index anisotropy (Δn) have optimum values according to individual display elements, It is configured.
液晶組成物を表示素子等として使用する際には、広い温度範囲において安定なネマチック相を示すことが求められる。広い温度範囲にてネマチック相を維持するためには、液晶組成物を構成する個々の成分が他の成分との高い混和性を持つこと、及び高い透明点(Tni)を持つ事が求められる。 また、液晶組成物を表示素子等として使用する際には、可能な限り回転粘性係数(γ1)が低いことが求められる。γ1の低い液晶組成物を得るためには様々な方法があるが、その一つとして大きな|Δε|(外挿値)を有する化合物を用いる事が知られている。この理由について以下に説明する。液晶組成物のγ1を低下させるためには、|Δε|(外挿値)がほぼ0であり低いγ1(外挿値)を示す非極性化合物の使用量を可能な限り増やすことが有効である。一般的に必要とされる組成物のΔεは液晶パネルごとに決まっており、Δεを付与するためにγ1(外挿値)の大きな極性化合物を添加している。したがって、大きな|Δε|(外挿値)を示す化合物に置き換える事で、非極性化合物の使用量を増やすことが出来るため、結果として液晶組成物のγ1低下を達成することが出来る。When the liquid crystal composition is used as a display device or the like, it is required to exhibit a stable nematic phase in a wide temperature range. In order to maintain the nematic phase in a wide temperature range, it is required that the individual components constituting the liquid crystal composition have high miscibility with other components and have a high clearing point (T ni ). . Further, when the liquid crystal composition is used as a display device or the like, it is required that the rotational viscosity coefficient (γ 1 ) is as low as possible. There are various methods for obtaining a liquid crystal composition having a low γ 1 , and as one of them, it is known to use a compound having a large | Δε | (extrapolated value). The reason for this will be described below. In order to reduce γ 1 of the liquid crystal composition, it is effective to increase the amount of nonpolar compound having | Δε | (extrapolated value) of almost 0 and low γ 1 (extrapolated value) as much as possible. Is. Δε of the composition generally required is determined for each liquid crystal panel, and a polar compound having a large γ 1 (extrapolated value) is added to impart Δε. Therefore, the amount of the nonpolar compound used can be increased by replacing the compound with a large | Δε | (extrapolated value), and as a result, γ 1 reduction of the liquid crystal composition can be achieved.
このように、高いTniを示し、また、大きな|Δε|(外挿値)を示す化合物の開発が求められている。これまで、ジベンゾフラン構造を有する下記のような化合物が報告されているが、Tniが十分に大きくないという課題があった(特許文献1及び特許文献2)。As described above, there is a demand for the development of a compound having a high T ni and a large | Δε | (extrapolated value). The following compounds having a dibenzofuran structure have been reported so far, but there was a problem that T ni was not sufficiently large (Patent Document 1 and Patent Document 2).
(式中、R1及びR2は各々独立して炭素原子数1から15のアルキル基、炭素原子数2から15のアルケニル基、炭素原子数2から15のアルキニル基を表し、m及びnは各々独立して0又は1を表す。)(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 15 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 15 carbon atoms, and m and n are Each independently represents 0 or 1.)
本発明が解決しようとする課題は、高いTniを示し、また、大きなΔεを有する化合物を提供し、併せて当該化合物を構成部材とする液晶組成物及び液晶表示素子を提供することである。The problem to be solved by the present invention is to provide a compound having a high T ni and a large Δε, and at the same time, to provide a liquid crystal composition and a liquid crystal display device containing the compound as a constituent member.
前記課題を解決するため、本願発明者らは種々の化合物の検討を行った結果、下記縮合環を有する化合物が効果的に課題を解決できることを見出し、本願発明の完成に至った。 In order to solve the above problems, the inventors of the present invention have studied various compounds, and as a result, have found that the compound having the following condensed ring can effectively solve the problems, and have completed the present invention.
本願発明は、一般式(i) The present invention has the general formula (i)
(式中、Xi1及びXi2はそれぞれ独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基を表し、
Yi1及びYi2はそれぞれ独立して−O−、−S−、−SO−、−SOO−、−CF2−、−CO−、−CXi3Xi4−を表し、ただし、Yi1及びYi2のいずれか一つ以上は−O−、−S−、−SO−、−SOO−を表し、
Xi3、Xi4はそれぞれ独立してXi1と同じ意味を表し、
破線は結合が存在しなくても良く、存在しても良いことを表し、
Wi1は破線が存在しない場合、−CLi6Li7−CLi8Li9−、−CLi6Li7−O−、−O−CLi8Li9−、−CLi6Li7−S−、−S−CLi8Li9−、又は−CLi6=CLi8−を表し、
破線が存在する場合、−CLi6Li7−CLi8=、−O−CLi8=、−S−CLi8=を表し、
Wi2は単結合又は−CLi10Li11−を表し、
Li1、Li2、Li3、Li4、Li5、Li6、Li7、Li8、Li9、Li10及びLi11はそれぞれ独立して水素原子、臭素原子、よう素原子、水酸基、炭素原子数1から15のアルキル基、炭素原子数2から15のアルケニル基又は(In the formula, X i1 and X i2 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a cyano group, a trifluoromethyl group, a trifluoromethoxy group,
Y i1 and Y i2 each independently represent —O—, —S—, —SO—, —SOO—, —CF 2 —, —CO—, —CX i3 X i4 —, provided that Y i1 and Y i. Any one or more of i2 represents -O-, -S-, -SO-, -SOO-,
X i3 and X i4 each independently represent the same meaning as X i1 ;
The broken line indicates that the bond may or may not exist,
If W i1 is the absence of broken lines, -CL i6 L i7 -CL i8 L i9 -, - CL i6 L i7 -O -, - O-CL i8 L i9 -, - CL i6 L i7 -S -, - S -CL i8 L i9 -, or -CL i6 = CL i8 - it represents,
When the broken line is present, it represents -CL i6 L i7 -CL i8 =, -O-CL i8 =, -S-CL i8 =,
W i2 represents a single bond or —CL i10 L i11 −,
L i1 , L i2 , L i3 , L i4 , L i5 , L i6 , L i7 , L i8 , L i9 , L i10 and L i11 are each independently a hydrogen atom, a bromine atom, an iodine atom, a hydroxyl group or a carbon atom. An alkyl group having 1 to 15 atoms, an alkenyl group having 2 to 15 carbon atoms, or
(式中、Ri1は水素原子、臭素原子、よう素原子、水酸基、炭素原子数1から15のアルキル基又は炭素原子数2から15のアルケニル基を表し、
Ai1は
(a)1,4−シクロへキシレン基(この基中に存在する1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−は−O−又は−S−に置き換えられても良い。)
(b)1,4−フェニレン基(この基中に存在する1個の−CH=又は隣接していない2個以上の−CH=は−N=に置き換えられても良く、この基中に存在する1つの水素原子はフッ素原子に置換されても良い。)
(c)1,4−シクロヘキセニレン基、ナフタレン−2,6−ジイル基、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル基、デカヒドロナフタレン−2,6−ジイル基(これらの基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されても良く、また、ナフタレン−2,6−ジイル基又は1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル基中に存在する1個の−CH=又は隣接していない2個以上の−CH=は−N=に置き換えられても良い。)
からなる群より選ばれる基を表し、
Zi1は、−CH2O−、−OCH2−、−CF2O−、−OCF2−、−COO−、−OCO−、−CH2CH2−、−CF2CF2−、−CH=CH−、−CF=CF−、−C≡C−又は単結合を表し、
ni1は1又は2を表すが、ni1が2を表しAi1及びZi1が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。)
で表される基を表し、Li1、Li2、Li3、Li4、Li5、Li6、Li7、Li8、Li9、Li10及びLi11中に存在する1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−は−C≡C−、−O−、−S−、−COO−、−OCO−又は−CO−により置き換えられても良く、また、アルキル基又はアルケニル基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されても良い。)
で表される基を表す。)
で表される化合物を提供し、併せて当該化合物を含有する液晶組成物及び当該液晶組成物を用いた液晶表示素子、並びに当該化合物の製造方法及びその中間体を提供する。(In the formula, R i1 represents a hydrogen atom, a bromine atom, an iodine atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 15 carbon atoms,
A i1 is (a) a 1,4-cyclohexylene group (one —CH 2 — present in this group or two or more —CH 2 — which are not adjacent to each other is —O— or —S— It may be replaced.)
(B) 1,4-phenylene group (one —CH═ present in this group or two or more —CH═ which are not adjacent to each other may be replaced with —N═, and is present in this group) One hydrogen atom may be replaced with a fluorine atom.)
(C) 1,4-cyclohexenylene group, naphthalene-2,6-diyl group, 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl group, decahydronaphthalene-2,6-diyl group ( The hydrogen atom present in these groups may be replaced by a fluorine atom, and also present in the naphthalene-2,6-diyl group or the 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl group. One -CH = or two or more non-adjacent -CH = may be replaced by -N =.)
Represents a group selected from the group consisting of
Z i1 is —CH 2 O—, —OCH 2 —, —CF 2 O—, —OCF 2 —, —COO—, —OCO—, —CH 2 CH 2 —, —CF 2 CF 2 —, —CH. ═CH—, —CF═CF—, —C≡C— or a single bond,
n i1 represents 1 or 2, but when n i1 represents 2 and a plurality of A i1 and Z i1 are present, they may be the same or different. )
Represents a group represented by, and one -CH 2 present in L i1 , L i2 , L i3 , L i4 , L i5 , L i6 , L i7 , L i8 , L i9 , L i10 and L i11. - or nonadjacent two or more -CH 2 - is -C≡C -, - O -, - S -, - COO -, - OCO- or may be replaced by -CO-, also alkyl A hydrogen atom present in the group or alkenyl group may be replaced by a fluorine atom. )
Represents a group represented by. )
And a liquid crystal composition containing the compound, a liquid crystal display device using the liquid crystal composition, a method for producing the compound, and an intermediate thereof.
本発明により提供される、一般式(i)で表される化合物は、高い透明点(Tni)を有する。従って、一般式(i)で表される化合物を液晶組成物の成分として用いる事により、広い温度範囲において安定なネマチック相を示すことができる。また、本発明により提供される、一般式(i)で表される化合物は、大きな|Δε|を示しさらに化学的に高い安定性を併せ持つ。従って、一般式(i)で表される化合物を液晶組成物の成分として用いる事により、低いγ1を示す液晶組成物を得ることができる。このため、高速応答が求められる液晶表示素子用の液晶組成物の構成成分として非常に有用である。The compound represented by the general formula (i) provided by the present invention has a high clearing point (T ni ). Therefore, by using the compound represented by the general formula (i) as a component of the liquid crystal composition, a stable nematic phase can be exhibited in a wide temperature range. In addition, the compound represented by the general formula (i) provided by the present invention exhibits a large | Δε | and also has high chemical stability. Therefore, by using the compound represented by the general formula (i) as a component of the liquid crystal composition, a liquid crystal composition exhibiting a low γ 1 can be obtained. Therefore, it is very useful as a constituent component of a liquid crystal composition for a liquid crystal display device that requires high-speed response.
Xi1及びXi2はそれぞれ独立して、フッ素原子を表すことが好ましく、より負に大きなΔεを示すにはXi1及びXi2が共にフッ素原子を表すことがより好ましい。It is preferable that X i1 and X i2 each independently represent a fluorine atom, and it is more preferable that both X i1 and X i2 represent a fluorine atom in order to show a larger negative Δε.
Yi1及びYi2はそれぞれ独立して、酸素原子または硫黄原子を表すことが好ましく、より負に大きなΔεを示すにはYi1及びYi2が共に酸素原子または硫黄原子を表すことがより好ましい。負に大きなΔεを示しつつ液晶表示素子とした際の長期信頼性を向上させるには共に酸素原子であることが好ましい。γ1を重視する場合にはYi1及びYi2のいずれかが−CH2−であることが好ましく、Yi2が−CH2−であることがより好ましい。より大きなΔnを示すには共に硫黄原子であることが好ましい。It is preferable that Y i1 and Y i2 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom, and it is more preferable that both Y i1 and Y i2 represent an oxygen atom or a sulfur atom in order to exhibit a larger negative Δε. In order to improve long-term reliability of the liquid crystal display device while exhibiting a large negative Δε, both are preferably oxygen atoms. is preferably, Y i2 is -CH 2 - - either Y i1 and Y i2 is -CH 2 in the case of emphasizing gamma 1 and more preferably from. In order to show a larger Δn, both are preferably sulfur atoms.
Wi1は−CH2O−、−OCH2−、−CH2CH2−、−CH=CH−、−CH2−CH=、−OCH=であることが好ましく、Tni及びγ1を重視する場合には−CH2CH2−、−CH=CH−、−CH2−CH=であることがより好ましく、他の液晶成分との混和性を上昇させるためには−CH2CH2−であることがより好ましく、大きなΔnを示すには−CH=CH−、−CH2−CH=であることがより好ましい。W i1 is preferably —CH 2 O—, —OCH 2 —, —CH 2 CH 2 —, —CH═CH—, —CH 2 —CH =, or —OCH =, and T ni and γ 1 are important. -CH 2 CH 2 in the case of -, - CH = CH -, - CH 2 , more preferably -CH = a, in order to increase the miscibility with other liquid crystal components -CH 2 CH 2 - Is more preferable, and —CH═CH— and —CH 2 —CH═ are more preferable in order to show a large Δn.
Wi2は単結合又は−CH2CH2−を表すことが好ましい。W i2 preferably represents a single bond or —CH 2 CH 2 —.
Li1及びLi2はそれぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1から15のアルキル基、炭素原子数2から15のアルケニル基を表すことが好ましく、γ1を低下させる為には、炭素原子数1〜8のアルキル基又は炭素原子数2〜8のアルケニル基であることが好ましく、炭素原子数1〜5のアルキル基又は炭素原子数2〜5のアルケニル基であることが特に好ましい。また、直鎖状であることが好ましい。|Δε|を大きくさせるためには、炭素原子数1〜8のアルコキシ基又は炭素原子数2〜8のアルケニルオキシ基であることが好ましく、炭素原子数1〜5のアルコキシ基又は炭素原子数2〜5のアルケニルオキシ基であることが特に好ましい。他の液晶成分との混和性を上昇させるためには、Li1及びLi2が異なることが好ましく、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基はLi1及びLi2のいずれか一方であることが好ましく、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基はLi1であることが特に好ましい。Li1及びLi2中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されていても良いが、フッ素原子に置換されていないことが好ましい。L i1 and L i2 each independently preferably represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 15 carbon atoms, and in order to lower γ 1 , a carbon atom is preferable. It is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, and particularly preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms. Further, it is preferably linear. In order to increase | Δε |, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms or an alkenyloxy group having 2 to 8 carbon atoms is preferable, and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms or 2 carbon atoms. Particularly preferably, it is an alkenyloxy group of -5. In order to increase the miscibility with other liquid crystal components, L i1 and L i2 are preferably different, and the alkoxy group or the alkenyloxy group is preferably one of L i1 and L i2 , and an alkoxy group. Alternatively, the alkenyloxy group is particularly preferably L i1 . The hydrogen atom present in L i1 and L i2 may be substituted with a fluorine atom, but is preferably not substituted with a fluorine atom.
また、Li1及びLi2はIn addition, L i1 and L i2 are
を表すことが好ましい。 Is preferably represented.
Ri1はγ1を低下させる為には、炭素原子数1〜8のアルキル基又は炭素原子数2〜8のアルケニル基であることが好ましく、炭素原子数1〜5のアルキル基又は炭素原子数2〜5のアルケニル基であることが特に好ましい。また、直鎖状であることが好ましい。|Δε|を大きくさせるためには、炭素原子数1〜8のアルコキシ基又は炭素原子数2〜8のアルケニルオキシ基であることが好ましく、炭素原子数1〜5のアルコキシ基又は炭素原子数2〜5のアルケニルオキシ基であることが特に好ましい。Ri1が複数存在する場合、他の液晶成分との混和性を上昇させるためには、Ri1が互いに異なることが好ましく、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基は複数存在するRi1のうちいずれか一つであることが好ましく、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基はLi1中のRi1であることが特に好ましい。Ri1中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されていても良いが、フッ素原子に置換されていないことが好ましい。In order to lower γ 1 , R i1 is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or the number of carbon atoms. Particularly preferred are 2 to 5 alkenyl groups. Further, it is preferably linear. In order to increase | Δε |, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms or an alkenyloxy group having 2 to 8 carbon atoms is preferable, and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms or 2 carbon atoms. Particularly preferably, it is an alkenyloxy group of -5. When a plurality of R i1's are present, it is preferable that the R i1s are different from each other in order to increase the miscibility with other liquid crystal components, and the alkoxy group or the alkenyloxy group is one of the plurality of R i1s present. And it is particularly preferable that the alkoxy group or the alkenyloxy group is R i1 in L i1 . The hydrogen atom present in R i1 may be replaced by a fluorine atom, but is preferably not replaced by a fluorine atom.
Ai1はA i1 is
から選ばれる基を表すことが好ましい。具体的には、A1はγ1を低下させる為にはトランス−1,4−シクロヘキシレン基、無置換の1,4−フェニレン基、2−フルオロ−1,4−フェニレン基又は3−フルオロ−1,4−フェニレン基であることが好ましく、トランス−1,4−シクロヘキシレン基であることが特に好ましい。他の液晶成分との混和性を向上させる為には、トランス−1,4−シクロヘキシレン基、2−フルオロ−1,4−フェニレン基又は3−フルオロ−1,4−フェニレン基であることが好ましい。Tniを上昇させる為には、無置換の1,4−フェニレン基、無置換の1,4−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキセニレン基又は無置換のナフタレン−2,6−ジイル基であることが好ましい。負に大きなΔεを示すためには、2−フルオロ−1,4−フェニレン基、3−フルオロ−1,4−フェニレン基又は2,3−ジフルオロー1,4−フェニレン基であることが好ましい。負に大きなΔεを示しながら、他の液晶成分との混和性を両立させるためには、Ai1中に存在するフッ素原子の数の合計は、1〜4であることが好ましく、1〜3であることが特に好ましい。It is preferable to represent a group selected from Specifically, A 1 is a trans-1,4-cyclohexylene group, an unsubstituted 1,4-phenylene group, a 2-fluoro-1,4-phenylene group or a 3-fluoro in order to reduce γ 1. A -1,4-phenylene group is preferable, and a trans-1,4-cyclohexylene group is particularly preferable. In order to improve the miscibility with other liquid crystal components, a trans-1,4-cyclohexylene group, a 2-fluoro-1,4-phenylene group or a 3-fluoro-1,4-phenylene group is preferable. preferable. In order to increase T ni , an unsubstituted 1,4-phenylene group, an unsubstituted 1,4-cyclohexylene group, a 1,4-cyclohexenylene group or an unsubstituted naphthalene-2,6-diyl group Is preferred. In order to show a large negative Δε, a 2-fluoro-1,4-phenylene group, a 3-fluoro-1,4-phenylene group or a 2,3-difluoro-1,4-phenylene group is preferable. In order to achieve compatibility with other liquid crystal components while exhibiting a large negative Δε, the total number of fluorine atoms present in A i1 is preferably from 1 to 4, and from 1 to 3 It is particularly preferable that
Zi1は、γ1を低下させる為には単結合、−CH2CH2−、−CH2O−又は−OCH2−であることが好ましく、単結合又は−CH2CH2−であることが更に好ましい。Tniを上昇させるためには、単結合、−COO−,−OCO−、−CH=CH−又は−C≡C−であることが好ましく、単結合、−CH=CH−又は−C≡C−であることが更に好ましい。他の液晶成分との混和性を向上させる為には、単結合、−CH2CH2−、−CH2O−又は−OCH2−であることが好ましい。液晶表示素子とした際の長期信頼性を向上させるには単結合であることが好ましい。Z i1 is preferably a single bond, —CH 2 CH 2 —, —CH 2 O— or —OCH 2 — in order to reduce γ 1 , and is a single bond or —CH 2 CH 2 —. Is more preferable. In order to increase T ni , a single bond, —COO—, —OCO—, —CH═CH— or —C≡C— is preferable, and a single bond, —CH═CH— or —C≡C. It is more preferable that it is −. In order to improve the miscibility with other liquid crystal components, it is preferably a single bond, —CH 2 CH 2 —, —CH 2 O— or —OCH 2 —. In order to improve long-term reliability of the liquid crystal display device, a single bond is preferable.
ni1が2を表す場合、複数存在するZi1のいずれか一つ以上が単結合を表すことが好ましい。ni1はγ1を重視する場合には1であることが好ましい。Tniを重視する場合には2であることが好ましい。When n i1 represents 2, it is preferable that one or more of a plurality of Z i1 's present represent a single bond. It is preferable that n i1 is 1 when γ 1 is important. When T ni is important, 2 is preferable.
Li3は水素原子、炭素原子数1から15のアルキル基、炭素原子数1から15のアルコキシ基、炭素原子数2から15のアルケニル基、炭素原子数2から15のアルケニルオキシ基を表すことが好ましく、γ1を低下させる為には、炭素原子数1〜8のアルキル基又は炭素原子数2〜8のアルケニル基であることが好ましく、炭素原子数1〜5のアルキル基又は炭素原子数2〜5のアルケニル基であることが特に好ましい。また、直鎖状であることが好ましい。L i3 may represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 15 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 15 carbon atoms, or an alkenyloxy group having 2 to 15 carbon atoms. Preferably, in order to lower γ 1 , it is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or 2 carbon atoms. Particularly preferably, it is an alkenyl group of -5. Further, it is preferably linear.
また、Li1が水素原子、炭素原子数1から15のアルキル基、炭素原子数1から15のアルコキシ基、炭素原子数2から15のアルケニル基、炭素原子数2から15のアルケニルオキシ基を表す場合、Li3はL i1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 15 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 15 carbon atoms, or an alkenyloxy group having 2 to 15 carbon atoms. If L i3 is
を表すことが好ましい。 Is preferably represented.
Li4及びLi5はそれぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1から15のアルキル基、炭素原子数2から15のアルケニル基を表すことが好ましく、水素原子を表すことがより好ましい。L i4 and L i5 each independently preferably represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 15 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom.
Li6及びLi7はそれぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1から15のアルキル基、炭素原子数1から15のアルコキシ基、炭素原子数2から15のアルケニル基、炭素原子数2から15のアルケニルオキシ基を表すことが好ましく、γ1を低下させる為には、炭素原子数1〜8のアルキル基又は炭素原子数2〜8のアルケニル基であることが好ましく、炭素原子数1〜5のアルキル基又は炭素原子数2〜5のアルケニル基であることが特に好ましい。また、直鎖状であることが好ましい。L i6 and L i7 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 15 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 15 carbon atoms, or 2 to 15 carbon atoms. The alkenyloxy group is preferably represented by, and in order to reduce γ 1 , it is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, and 1 to 5 carbon atoms. Is particularly preferably an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms. Further, it is preferably linear.
Li8又はLi9はそれぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1から15のアルキル基、炭素原子数1から15のアルコキシ基、炭素原子数2から15のアルケニル基、炭素原子数2から15のアルケニルオキシ基を表すことが好ましく、γ1を低下させる為には、炭素原子数1〜8のアルキル基又は炭素原子数2〜8のアルケニル基であることが好ましく、炭素原子数1〜5のアルキル基又は炭素原子数2〜5のアルケニル基であることが特に好ましい。また、直鎖状であることが好ましい。L i8 or L i9 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 15 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 15 carbon atoms, or 2 to 15 carbon atoms. The alkenyloxy group is preferably represented by, and in order to reduce γ 1 , it is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, and 1 to 5 carbon atoms. Is particularly preferably an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms. Further, it is preferably linear.
また、Li2が水素原子、炭素原子数1から15のアルキル基、炭素原子数2から15のアルケニル基を表す場合、Li8又はLi9のいずれか一方が、When L i2 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 15 carbon atoms, one of L i8 and L i9 is
を表すことが好ましい。 Is preferably represented.
Li10及びLi11はそれぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1から15のアルキル基、炭素原子数2から15のアルケニル基を表すことが好ましく、水素原子を表すことがより好ましい。L i10 and L i11 each independently represent preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 15 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom.
一般式(i)で表される化合物において In the compound represented by formula (i)
で表される基が存在する場合、他の液晶成分との混和性を高くする為に、当該基の数は2つ以下であることが好ましい。一般式(i)中に当該基の数が2つ存在する場合、Li1及びLi2、Li1及びLi8、Li3及びLi2、又はLi3及びLi8の位置に存在することが好ましい。一般式(i)中に当該基の数が2つ存在する場合、Li1及びLi2の位置に存在することが好ましい。 なお、一般式(i)で表される化合物において、ヘテロ原子同士が直接結合する構造となることはない。
一般式(i)の中では以下の一般式(i−1)〜一般式(i−1000)で表される各化合物が好ましい。その中で特に好ましい化合物は、(i−1)、(i−2)、(i−3)、(i−4)、(i−5)、(i−6)、(i−7)、(i−8)、(i−9)、(i−10)、(i−11)、(i−12)、(i−895)、(i−896)、(i−897)、(i−898)、(i−899)、(i−900)である。When the group represented by is present, the number of the group is preferably 2 or less in order to improve the miscibility with other liquid crystal components. When two groups are present in the general formula (i), it is preferable that they are present at the positions of L i1 and L i2 , L i1 and L i8 , L i3 and L i2 , or L i3 and L i8. . When two groups are present in the general formula (i), they are preferably present at the positions of L i1 and L i2 . The compound represented by the general formula (i) does not have a structure in which heteroatoms are directly bonded to each other.
Among the general formula (i), each compound represented by the following general formula (i-1) to general formula (i-1000) is preferable. Among them, particularly preferable compounds are (i-1), (i-2), (i-3), (i-4), (i-5), (i-6), (i-7), (I-8), (i-9), (i-10), (i-11), (i-12), (i-895), (i-896), (i-897), (i -898), (i-899), and (i-900).
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
(式中、Ri1及びRi2は、一般式(i)におけるRi1と同じ意味を表す。)(In the formula, R i1 and R i2 have the same meanings as R i1 in the general formula (i).)
本発明において、一般式(i)で表される化合物は、例えば、一般式(i−r1) In the present invention, the compound represented by the general formula (i) is, for example, the general formula (i-r1).
(式中Xi2、Yi2、Wi1、Li2及びLi5は一般式(i)におけるXi2、Yi2、Wi1、Li2及びLi5とそれぞれ同じ意味を表すが、複数存在するXi2は同一であっても異なっていてもよく、
Ri3及びRi4はそれぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、もしくはプロピル基を表すか、またはRi3及びRi4は互いに結合して環状の構造となり−CH2−CH2−、−CH2−CH2−CH2−、又は−CH2−C(CH3)2−CH2−を表し、
破線は結合が存在しなくても良く、存在しても良いことを表す。)
で表される化合物と、一般式(i−r2)(Wherein X i2, Y i2, W i1 , L i2 and L i5 is X i2 in the general formula (i), Y i2, W i1, but respectively L i2 and L i5 the same meaning, X presence of a plurality of i2 may be the same or different,
R i3 and R i4 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a propyl group, or R i3 and R i4 are bonded to each other to form a cyclic structure —CH 2 —CH 2 —, —CH. 2 -CH 2 -CH 2 -, or -CH 2 -C (CH 3) 2 -CH 2 - represents,
The broken line indicates that the bond may or may not exist. )
And a compound represented by the general formula (i-r2)
(式中Xi1、Yi1、Li1、Li3、Li4及びWi2は一般式(i)におけるXi1、Yi1、Li1、Li3、Li4及びWi2とそれぞれ同じ意味を表し、
Xi3は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表す。)
で表される化合物を遷移金属触媒及び塩基存在下反応させることにより、一般式(i−r3)( Wherein X i1 , Y i1 , L i1 , L i3 , L i4 and W i2 have the same meanings as X i1 , Y i1 , L i1 , L i3 , L i4 and W i2 in the general formula (i), respectively. ,
X i3 represents a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a methanesulfonyloxy group, a p-toluenesulfonyloxy group or a trifluoromethanesulfonyloxy group. )
The compound represented by the general formula (i-r3) is obtained by reacting the compound in the presence of a transition metal catalyst and a base.
(式中Xi1、Xi2、Yi1、Yi2、Wi1、Wi2、Li1、Li2、Li3、Li4及びLi5は一般式(i)におけるXi1、Xi2、Yi1、Yi2、Wi1、Wi2、Li1、Li2、Li3、Li4及びLi5とそれぞれ同じ意味を表すが、複数存在するXi2は同一であっても異なっていてもよく、
破線は結合が存在しなくても良く、存在しても良いことを表す。)
で表される化合物を得た後、該一般式(i−r3)中の−Yi1−Hを塩基により脱プロトン化しアニオンを生成することで分子内反応させることによって得られる。より具体的には、以下のようにして製造することができる。勿論本発明の趣旨及び適用範囲は、これら製造例により制限されるものではない。
(製造方法1)(In the formula, X i1 , X i2 , Y i1 , Y i2 , W i1 , W i2 , L i1 , L i2 , L i3 , L i4, and L i5 are X i1 , X i2 , Y i1 in the general formula (i). , Y i2 , W i1 , W i2 , L i1 , L i2 , L i3 , L i4 and L i5 respectively have the same meaning, but a plurality of X i2 may be the same or different.
The broken line indicates that the bond may or may not exist. )
After the compound represented by the formula ( 1 ) is obtained, it can be obtained by intramolecular reaction by deprotonating —Y i1 —H in the general formula (i-r3) with a base to generate an anion. More specifically, it can be manufactured as follows. Of course, the spirit and application range of the present invention are not limited by these production examples.
(Manufacturing method 1)
(式中、Li1、Li2、Xi1、Xi2、Yi2及びWi1は、一般式(i)におけるLi1、Li2、Xi1、Xi2、Yi2及びWi1と同じ意味を表し、
Ri3及びRi4はそれぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、もしくはプロピル基を表すか、またはRi3及びRi4は互いに結合して環状の構造となり−CH2−CH2−、−CH2−CH2−CH2−、又は−CH2−C(CH3)2−CH2−を表し、
Xi3は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表し、
Xi4は臭素原子又はよう素原子を表し、
Yi3は−O−又は−S−を表す。)
一般式(S−1)で表される化合物をほう素化することにより一般式(S−2)で表される化合物を得ることができる。このほう素化は、有機金属試薬により脱プロトン化した後、ほう酸トリアルキルと反応させてほう素化合物とすることによって行うことができる。
反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、エーテル系溶媒および炭化水素系溶媒等を挙げることができる。エーテル系溶媒としては、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルおよびt−ブチルメチルエーテル等を、炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンおよびオクタン等が挙げられ、中でもテトラヒドロフランが好ましい。 (Wherein, L i1, L i2, X i1 , X i2, Y i2 and W i1 are the same meaning in the general formula (i) and L i1, L i2, X i1 , X i2, Y i2 and W i1 Represents
R i3 and R i4 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a propyl group, or R i3 and R i4 are bonded to each other to form a cyclic structure —CH 2 —CH 2 —, —CH. 2 -CH 2 -CH 2 -, or -CH 2 -C (CH 3) 2 -CH 2 - represents,
X i3 represents a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a methanesulfonyloxy group, a p-toluenesulfonyloxy group, a trifluoromethanesulfonyloxy group,
X i4 represents a bromine atom or an iodine atom,
Yi3 represents -O- or -S-. )
The compound represented by the general formula (S-2) can be obtained by boronizing the compound represented by the general formula (S-1). This boration can be performed by deprotonating with an organometallic reagent and then reacting with a trialkyl borate to give a boron compound.
The reaction solvent may be any one as long as it allows the reaction to proceed properly, and examples thereof include ether solvents and hydrocarbon solvents. Examples of ether solvents include 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether and t-butyl methyl ether, and examples of hydrocarbon solvents include pentane, hexane, cyclohexane, heptane, octane and the like. Of these, tetrahydrofuran is preferable.
有機金属試薬としてはn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、メチルリチウム、リチウム ジイソプロピルアミドおよびリチウム 2,2,4,4−テトラメチルピペリジド等を挙げることができ、入手および取り扱いの容易さからn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウムおよびリチウム ジイソプロピルアミドが好ましく、効率的に脱プロトン化が可能であるsec−ブチルリチウムおよびリチウム ジイソプロピルアミドがより好ましい。また、脱プロトン化の際には、上記有機金属試薬と共にカリウム−t−ブトキシド、テトラメチルエチレンジアミン等の塩基を添加剤として用いてもよい。脱プロトン化の際の反応温度は−100℃から−20℃が好ましく、−78℃から−40℃がより好ましい。 Examples of the organometallic reagent include n-butyllithium, sec-butyllithium, tert-butyllithium, methyllithium, lithium diisopropylamide, lithium 2,2,4,4-tetramethylpiperidide, and the like. From the viewpoint of easy handling, n-butyllithium, sec-butyllithium and lithium diisopropylamide are preferable, and sec-butyllithium and lithium diisopropylamide, which can deprotonate efficiently, are more preferable. Further, at the time of deprotonation, a base such as potassium-t-butoxide or tetramethylethylenediamine may be used as an additive together with the above-mentioned organometallic reagent. The reaction temperature for deprotonation is preferably -100 ° C to -20 ° C, more preferably -78 ° C to -40 ° C.
ほう酸トリアルキルとしては、ほう酸トリメチル、ほう酸トリエチル、ほう酸トリプロピルおよびほう酸トリイソプロピルを用いるのが好ましいが、入手および取り扱いの容易さからほう酸トリメチルおよびほう酸トリイソプロピルがより好ましい。ほう酸トリアルキルと有機金属試薬の組み合わせとしては、上記で挙げたいずれの組み合わせも可能であるが、sec−ブチルリチウムとほう酸トリメチルの組み合わせ、およびリチウム ジイソプロピルアミドとほう酸トリイソプロピルの組み合わせが好ましく、リチウム ジイソプロピルアミドとほう酸トリイソプロピルの組み合わせがより好ましい。ほう素化の際の反応温度は−100℃から−20℃が好ましく、−78℃から−40℃がより好ましい。
一般式(S−2)で表される化合物を(S−3)で表される化合物と遷移金属触媒及び塩基存在下反応させることにより一般式(S−4)で表される化合物を得ることができる。
使用する遷移金属触媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、酢酸パラジウム(II)、二塩化ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、二塩化[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)又は二塩化ビス[ジ−tert−ブチル(4−ジメチルアミノフェニル)ホスフィン]パラジウム(II)が好ましく、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、二塩化[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)又は二塩化ビス[ジ−tert−ブチル(4−ジメチルアミノフェニル)ホスフィン]パラジウム(II)であることが更に好ましい。また、反応を好適に進行させるため、必要に応じてトリフェニルホスフィン等のホスフィン系配位子を添加しても良い。As the trialkyl borate, it is preferable to use trimethyl borate, triethyl borate, tripropyl borate and triisopropyl borate, but trimethyl borate and triisopropyl borate are more preferable because of easy availability and handling. As the combination of the trialkyl borate and the organometallic reagent, any combination mentioned above is possible, but a combination of sec-butyllithium and trimethyl borate, and a combination of lithium diisopropylamide and triisopropyl borate are preferable, and lithium diisopropyl The combination of amide and triisopropyl borate is more preferred. The reaction temperature at the time of boration is preferably -100 ° C to -20 ° C, more preferably -78 ° C to -40 ° C.
To obtain the compound represented by the general formula (S-4) by reacting the compound represented by the general formula (S-2) with the compound represented by the (S-3) in the presence of a transition metal catalyst and a base. You can
The transition metal catalyst to be used may be any one as long as it allows the reaction to proceed properly, but tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0), palladium (II) acetate, bis (triphenylphosphine) palladium dichloride are used. (II), [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium (II) dichloride or bis [di-tert-butyl (4-dimethylaminophenyl) phosphine] palladium (II) dichloride is preferable, Tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0), [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium (II) dichloride or bis [di-tert-butyl (4-dimethylaminophenyl) phosphine] dichloride. More preferably, it is palladium (II). Further, in order to allow the reaction to proceed appropriately, a phosphine-based ligand such as triphenylphosphine may be added, if necessary.
使用する反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒が好ましく、テトラヒドロフラン、エタノール、トルエンが更に好ましい。また、反応を好適に進行させるため、必要に応じて水を用いても良い。 The reaction solvent to be used may be any as long as it allows the reaction to proceed properly, but is preferably an ether solvent such as tetrahydrofuran, diethyl ether or tert-butyl methyl ether, an alcohol solvent such as methanol, ethanol or propanol, Aromatic solvents such as benzene, toluene and xylene are preferable, and tetrahydrofuran, ethanol and toluene are more preferable. Further, water may be used if necessary in order to allow the reaction to proceed appropriately.
使用する塩基としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩、りん酸三カリウム、りん酸二水素カリウム等のりん酸塩が好ましく、炭酸カリウム、炭酸セシウム、りん酸三カリウムが更に好ましい。 As the base to be used, any base may be used as long as it allows the reaction to proceed suitably, but carbonates such as potassium carbonate, sodium carbonate and cesium carbonate, and phosphates such as tripotassium phosphate and potassium dihydrogen phosphate. Are preferred, and potassium carbonate, cesium carbonate, and tripotassium phosphate are more preferred.
反応温度としては、反応を好適に進行させるものであれば何度でも構わないが、室温から使用している溶媒が還流する温度までが好ましく、40℃から溶媒が還流するまでの温度が更に好ましく、60℃から溶媒が還流するまでの温度であることが特に好ましい。
一般式(S−4)で表される化合物を分子内反応させることによって一般式(S−5)で表される化合物を得ることができる。この分子内反応は一般式(S−4)の−Yi3−Hを塩基により脱プロトン化しアニオンを生成することで行うことができる。
この場合に使用する塩基としては金属水素化物、金属炭酸塩、金属リン酸塩、金属水酸化物、金属カルボン酸塩、金属アミド及び金属等を挙げることができ、中でもアルカリ金属水素化物、アルカリ金属りん酸塩、アルカリ金属りん酸塩、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アミド及びアルカリ金属が好ましく、アルカリ金属りん酸塩、アルカリ金属水素化物及びアルカリ金属炭酸塩は更に好ましい。アルカリ金属水素化物としては水素化リチウム、水素化ナトリウム及び水素化カリウムを、アルカリ金属りん酸塩としてはりん酸三カリウムを、アルカリ金属炭酸塩としては炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウム、炭酸カリウム及び炭酸水素カリウムをそれぞれ好ましく挙げることができる。The reaction temperature may be any number as long as it allows the reaction to proceed suitably, but it is preferably from room temperature to the temperature at which the solvent used is refluxed, more preferably from 40 ° C. to the solvent reflux. It is particularly preferable that the temperature is from 60 ° C. to the reflux of the solvent.
The compound represented by the general formula (S-5) can be obtained by intramolecularly reacting the compound represented by the general formula (S-4). This intramolecular reaction can be carried out by deprotonating -Yi3- H of the general formula (S-4) with a base to generate an anion.
Examples of the base used in this case include metal hydrides, metal carbonates, metal phosphates, metal hydroxides, metal carboxylates, metal amides and metals, among which alkali metal hydrides and alkali metals. Phosphates, alkali metal phosphates, alkali metal carbonates, alkali metal hydroxides, alkali metal amides and alkali metals are preferred, and alkali metal phosphates, alkali metal hydrides and alkali metal carbonates are more preferred. As alkali metal hydrides, lithium hydride, sodium hydride and potassium hydride, as alkali metal phosphates, tripotassium phosphate, and as alkali metal carbonates, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, cesium carbonate, potassium carbonate. And potassium hydrogen carbonate can be preferably mentioned respectively.
反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、エーテル系溶媒、塩素系溶媒、炭化水素系溶媒、芳香族系溶媒及び極性溶媒等を好ましく用いることができる。エーテル系溶媒としては、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル及びt−ブチルメチルエーテル等を、塩素系溶媒としてはジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン及び四塩化炭素等を、炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン及びオクタン等を、芳香族系溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン及びジクロロベンゼン等を、極性溶媒としてはN,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド及びスルホラン等を好例として挙げることができる。中でも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒及びN,N−ジメチルホルムアミド等の極性溶媒がより好ましい。また、前記の各溶媒を単独で使用しても、2種もしくはそれ以上の溶媒を混合して使用してもよい。 Any reaction solvent may be used as long as it allows the reaction to proceed properly, but ether solvents, chlorine solvents, hydrocarbon solvents, aromatic solvents, polar solvents and the like can be preferably used. As the ether solvent, 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether, t-butyl methyl ether and the like, and as the chlorine solvent, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride and the like, As the hydrocarbon solvent, pentane, hexane, cyclohexane, heptane, octane, etc., as the aromatic solvent, benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, etc., and as the polar solvent, N, N-dimethylformamide, Preferable examples include N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane and the like. Among them, ether solvents such as tetrahydrofuran and diethyl ether and polar solvents such as N, N-dimethylformamide are more preferable. Further, each of the above solvents may be used alone, or two or more solvents may be mixed and used.
反応温度は溶媒の凝固点から還流温度範囲で行うことができるが、0℃から150℃が好ましく、30℃から120℃がより好ましい。
一般式(S−5)で表される化合物をハロゲン化することにより一般式(S−6)で表される化合物を得ることができる。このハロゲン化は、有機金属試薬により脱プロトン化した後、臭素又はよう素と反応させてハロゲン化合物とすることによって行うことができる。
反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、エーテル系溶媒および炭化水素系溶媒等を挙げることができる。エーテル系溶媒としては、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルおよびt−ブチルメチルエーテル等を、炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンおよびオクタン等が挙げられ、中でもテトラヒドロフランが好ましい。The reaction temperature may be in the reflux temperature range from the freezing point of the solvent, but is preferably 0 ° C to 150 ° C, more preferably 30 ° C to 120 ° C.
By halogenating the compound represented by the general formula (S-5), the compound represented by the general formula (S-6) can be obtained. This halogenation can be performed by deprotonating with an organometallic reagent and then reacting with bromine or iodine to form a halogen compound.
The reaction solvent may be any one as long as it allows the reaction to proceed properly, and examples thereof include ether solvents and hydrocarbon solvents. Examples of ether solvents include 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether and t-butyl methyl ether, and examples of hydrocarbon solvents include pentane, hexane, cyclohexane, heptane, octane and the like. Of these, tetrahydrofuran is preferable.
有機金属試薬としてはn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、メチルリチウム、リチウム ジイソプロピルアミドおよびリチウム 2,2,4,4−テトラメチルピペリジド等を挙げることができ、入手および取り扱いの容易さからn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウムおよびリチウム ジイソプロピルアミドが好ましく、効率的に脱プロトン化が可能であるsec−ブチルリチウムおよびリチウム ジイソプロピルアミドがより好ましい。また、脱プロトン化の際には、上記有機金属試薬と共にカリウム−t−ブトキシド、テトラメチルエチレンジアミン等の塩基を添加剤として用いてもよい。脱プロトン化の際の反応温度は−100℃から−20℃が好ましく、−78℃から−40℃がより好ましい。
一般式(S−6)で表される化合物を(S−7)で表される化合物と遷移金属触媒及び塩基存在下反応させることにより一般式(S−8)で表される化合物を得ることができる。
使用する遷移金属触媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、酢酸パラジウム(II)、二塩化ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、二塩化[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)又は二塩化ビス[ジ−tert−ブチル(4−ジメチルアミノフェニル)ホスフィン]パラジウム(II)が好ましく、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、二塩化[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)又は二塩化ビス[ジ−tert−ブチル(4−ジメチルアミノフェニル)ホスフィン]パラジウム(II)であることが更に好ましい。また、反応を好適に進行させるため、必要に応じてトリフェニルホスフィン等のホスフィン系配位子を添加しても良い。Examples of the organometallic reagent include n-butyllithium, sec-butyllithium, tert-butyllithium, methyllithium, lithium diisopropylamide, lithium 2,2,4,4-tetramethylpiperidide, and the like. From the viewpoint of easy handling, n-butyllithium, sec-butyllithium and lithium diisopropylamide are preferable, and sec-butyllithium and lithium diisopropylamide, which can deprotonate efficiently, are more preferable. Further, at the time of deprotonation, a base such as potassium-t-butoxide or tetramethylethylenediamine may be used as an additive together with the above-mentioned organometallic reagent. The reaction temperature for deprotonation is preferably -100 ° C to -20 ° C, more preferably -78 ° C to -40 ° C.
To obtain a compound represented by the general formula (S-8) by reacting a compound represented by the general formula (S-6) with a compound represented by the (S-7) in the presence of a transition metal catalyst and a base. You can
The transition metal catalyst to be used may be any one as long as it allows the reaction to proceed properly, but tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0), palladium (II) acetate, bis (triphenylphosphine) palladium dichloride are used. (II), [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium (II) dichloride or bis [di-tert-butyl (4-dimethylaminophenyl) phosphine] palladium (II) dichloride is preferable, Tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0), [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium (II) dichloride or bis [di-tert-butyl (4-dimethylaminophenyl) phosphine] dichloride. More preferably, it is palladium (II). Further, in order to allow the reaction to proceed appropriately, a phosphine-based ligand such as triphenylphosphine may be added, if necessary.
使用する反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒が好ましく、テトラヒドロフラン、エタノール、トルエンが更に好ましい。また、反応を好適に進行させるため、必要に応じて水を用いても良い。 The reaction solvent to be used may be any as long as it allows the reaction to proceed properly, but is preferably an ether solvent such as tetrahydrofuran, diethyl ether or tert-butyl methyl ether, an alcohol solvent such as methanol, ethanol or propanol, Aromatic solvents such as benzene, toluene and xylene are preferable, and tetrahydrofuran, ethanol and toluene are more preferable. Further, water may be used if necessary in order to allow the reaction to proceed appropriately.
使用する塩基としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩、りん酸三カリウム、りん酸二水素カリウム等のりん酸塩が好ましく、炭酸カリウム、炭酸セシウム、りん酸三カリウムが更に好ましい。 As the base to be used, any base may be used as long as it allows the reaction to proceed suitably, but carbonates such as potassium carbonate, sodium carbonate and cesium carbonate, and phosphates such as tripotassium phosphate and potassium dihydrogen phosphate. Are preferred, and potassium carbonate, cesium carbonate, and tripotassium phosphate are more preferred.
反応温度としては、反応を好適に進行させるものであれば何度でも構わないが、室温から使用している溶媒が還流する温度までが好ましく、40℃から溶媒が還流するまでの温度が更に好ましく、60℃から溶媒が還流するまでの温度であることが特に好ましい。
(製造方法2)The reaction temperature may be any number as long as it allows the reaction to proceed suitably, but it is preferably from room temperature to the temperature at which the solvent used is refluxed, more preferably from 40 ° C. to the solvent reflux. It is particularly preferable that the temperature is from 60 ° C. to the reflux of the solvent.
(Manufacturing method 2)
(式中、Li2、Xi1、Xi2、Yi2及びWi1は、一般式(i)におけるLi2、Xi1、Xi2、Yi2及びWi1と同じ意味を表し、
Xi5は塩素、臭素、よう素、ベンゼンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表し、
Yi3は−O−又は−S−を表し、
Ri2は炭素原子数1から15のアルキル基又は炭素原子数2から15のアルケニル基を表す。)
一般式(S−5)で表される化合物を酸化することにより一般式(S−9)で表される化合物を得ることができる。この酸化は、有機金属試薬により脱プロトン化した後、ほう酸トリアルキルと反応させてほう素化合物とし、その後酸化剤を作用させることによって行うことができる。
反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、エーテル系溶媒および炭化水素系溶媒等を挙げることができる。エーテル系溶媒としては、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルおよびt−ブチルメチルエーテル等を、炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンおよびオクタン等が挙げられ、中でもテトラヒドロフランが好ましい。有機金属試薬としてはn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、メチルリチウム、リチウム ジイソプロピルアミドおよびリチウム 2,2,4,4−テトラメルピペリジド等を挙げることができ、入手および取り扱いの容易さからn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウムおよびリチウム ジイソプロピルアミドが好ましく、効率的に脱プロトン化が可能であるsec−ブチルリチウムおよびリチウム ジイソプロピルアミドがより好ましい。また、脱プロトン化の際には、上記有機金属試薬と共にカリウム−t−ブトキシド、テトラメチルエチレンジアミン等の塩基を添加剤として用いてもよい。脱プロトン化の際の反応温度は−100℃から−20℃が好ましく、−78℃から−40℃がより好ましい。 (Wherein, L i2, X i1, X i2 , Y i2 and W i1 represent the same meaning in the general formula (i) and L i2, X i1, X i2 , Y i2 and W i1,
X i5 represents chlorine, bromine, iodine, benzenesulfonyloxy group, p-toluenesulfonyloxy group, methanesulfonyloxy group or trifluoromethanesulfonyloxy group,
Y i3 represents -O- or -S-,
R i2 represents an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 15 carbon atoms. )
The compound represented by general formula (S-9) can be obtained by oxidizing the compound represented by general formula (S-5). This oxidation can be performed by deprotonating with an organometallic reagent, reacting with a trialkyl borate to give a boron compound, and then reacting with an oxidizing agent.
The reaction solvent may be any one as long as it allows the reaction to proceed properly, and examples thereof include ether solvents and hydrocarbon solvents. Examples of ether solvents include 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether and t-butyl methyl ether, and examples of hydrocarbon solvents include pentane, hexane, cyclohexane, heptane, octane and the like. Of these, tetrahydrofuran is preferable. Examples of the organometallic reagent include n-butyllithium, sec-butyllithium, tert-butyllithium, methyllithium, lithium diisopropylamide, lithium 2,2,4,4-tetramerpiperidide, and the like. From the viewpoint of easy handling, n-butyllithium, sec-butyllithium and lithium diisopropylamide are preferable, and sec-butyllithium and lithium diisopropylamide, which can deprotonate efficiently, are more preferable. Further, at the time of deprotonation, a base such as potassium-t-butoxide or tetramethylethylenediamine may be used as an additive together with the above-mentioned organometallic reagent. The reaction temperature for deprotonation is preferably -100 ° C to -20 ° C, more preferably -78 ° C to -40 ° C.
ほう酸トリアルキルとしては、ほう酸トリメチル、ほう酸トリエチル、ほう酸トリプロピルおよびほう酸トリイソプロピルを用いるのが好ましいが、入手および取り扱いの容易さからほう酸トリメチルおよびほう酸トリイソプロピルがより好ましい。ほう酸トリアルキルと有機金属試薬の組み合わせとしては、上記で挙げたいずれの組み合わせも可能であるが、sec−ブチルリチウムとほう酸トリメチルの組み合わせ、およびリチウム ジイソプロピルアミドとほう酸トリイソプロピルの組み合わせが好ましく、リチウム ジイソプロピルアミドとほう酸トリイソプロピルの組み合わせがより好ましい。ほう素化の際の反応温度は−100℃から−20℃が好ましく、−78℃から−40℃がより好ましい。得られたほう素化合物は一度単離してもよく、単離せずそのまま酸化剤と反応させてもよい。また、得られたほう素化合物を加水分解してほう酸化合物へと変換した後に酸化剤と反応させても構わない。 As the trialkyl borate, it is preferable to use trimethyl borate, triethyl borate, tripropyl borate and triisopropyl borate, but trimethyl borate and triisopropyl borate are more preferable because of easy availability and handling. As the combination of the trialkyl borate and the organometallic reagent, any combination mentioned above is possible, but a combination of sec-butyllithium and trimethyl borate, and a combination of lithium diisopropylamide and triisopropyl borate are preferable, and lithium diisopropyl The combination of amide and triisopropyl borate is more preferred. The reaction temperature at the time of boration is preferably -100 ° C to -20 ° C, more preferably -78 ° C to -40 ° C. The obtained boron compound may be isolated once or may be directly reacted with an oxidizing agent without isolation. Further, the obtained boron compound may be hydrolyzed into a boric acid compound and then reacted with an oxidizing agent.
酸化剤としては、過酸化水素水、過酢酸または過ギ酸を用いるのが好ましい。反応温度は−78℃から70℃が好ましく、0℃から50℃がより好ましい。また、酸化剤との反応時には、溶媒に水が含まれていても構わない。 It is preferable to use hydrogen peroxide solution, peracetic acid, or formic acid as the oxidizing agent. The reaction temperature is preferably -78 ° C to 70 ° C, more preferably 0 ° C to 50 ° C. Further, the solvent may contain water during the reaction with the oxidizing agent.
一般式(S−9)で表される化合物に一般式(S−10)で表される化合物を反応させることによって一般式(S−11)で表される化合物を得ることができる。この反応は一般式(S−9)の水酸基を塩基によりフェノラートとして一般式(S−10)と反応させることで行うことができる
この場合に使用する塩基としては金属水素化物、金属炭酸塩、金属リン酸塩、金属水酸化物、金属カルボン酸塩、金属アミド及び金属等を挙げることができ、中でもアルカリ金属水素化物、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アミド及びアルカリ金属が好ましく、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属水素化物及びアルカリ金属炭酸塩は更に好ましい。アルカリ金属水素化物としては水素化リチウム、水素化ナトリウム及び水素化カリウムを、アルカリ金属リン酸塩としてはリン酸三カリウムを、アルカリ金属炭酸塩としては炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウム、炭酸カリウム及び炭酸水素カリウムをそれぞれ好ましく挙げることができる。
反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、エーテル系溶媒、塩素系溶媒、炭化水素系溶媒、芳香族系溶媒及び極性溶媒等を好ましく用いることができる。エーテル系溶媒としては、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル及びt−ブチルメチルエーテル等を、塩素系溶媒としてはジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン及び四塩化炭素等を、炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン及びオクタン等を、芳香族系溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン及びジクロロベンゼン等を、極性溶媒としてはN,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド及びスルホラン等を好例として挙げることができる。中でも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒及びN,N−ジメチルホルムアミド等の極性溶媒がより好ましい。また、前記の各溶媒を単独で使用しても、2種もしくはそれ以上の溶媒を混合して使用してもよい。The compound represented by general formula (S-11) can be obtained by reacting the compound represented by general formula (S-9) with the compound represented by general formula (S-10). This reaction can be carried out by reacting the hydroxyl group of the general formula (S-9) with the general formula (S-10) as a phenolate with a base. Examples of the base used in this case include metal hydrides, metal carbonates and metals. Examples thereof include phosphates, metal hydroxides, metal carboxylates, metal amides and metals. Among them, alkali metal hydrides, alkali metal phosphates, alkali metal phosphates, alkali metal carbonates, alkali metals. Hydroxides, alkali metal amides and alkali metals are preferred, and alkali metal phosphates, alkali metal hydrides and alkali metal carbonates are more preferred. Lithium hydride, sodium hydride and potassium hydride as the alkali metal hydride, tripotassium phosphate as the alkali metal phosphate, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, cesium carbonate, potassium carbonate as the alkali metal carbonate. And potassium hydrogen carbonate can be preferably mentioned respectively.
Any reaction solvent may be used as long as it allows the reaction to proceed properly, but ether solvents, chlorine solvents, hydrocarbon solvents, aromatic solvents, polar solvents and the like can be preferably used. As the ether solvent, 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether, t-butyl methyl ether and the like, and as the chlorine solvent, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride and the like, As the hydrocarbon solvent, pentane, hexane, cyclohexane, heptane, octane, etc., as the aromatic solvent, benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, etc., and as the polar solvent, N, N-dimethylformamide, Preferable examples include N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane and the like. Among them, ether solvents such as tetrahydrofuran and diethyl ether and polar solvents such as N, N-dimethylformamide are more preferable. Further, each of the above solvents may be used alone, or two or more solvents may be mixed and used.
反応温度は溶媒の凝固点から還流温度範囲で行うことができるが、0℃から150℃が好ましく、30℃から120℃がより好ましい。なお、生成したフェノラートを一度単離してから一般式(S−5)で表される化合物と反応させてもよく、単離せずに反応させてもよいが、作業の容易さから単離せずに反応させたほうがよい。
(製造方法3)The reaction temperature may be in the reflux temperature range from the freezing point of the solvent, but is preferably 0 ° C to 150 ° C, more preferably 30 ° C to 120 ° C. In addition, the produced phenolate may be isolated once and then reacted with the compound represented by the general formula (S-5), or may be reacted without isolation. It is better to react.
(Manufacturing method 3)
(式中、Li1、Li2、Xi1、Xi2、Yi2及びWi11は、一般式(i)におけるLi1、Li2、Xi1、Xi2、Yi2及びWi1と同じ意味を表し、
Yi3は−O−又は−S−を表す。)
一般式(S−5)で表される化合物を一般式(S−11)で表される化合物と反応させることにより一般式(S−12)で表される化合物を得ることができる。この反応は、有機金属試薬により脱プロトン化した後、一般式(S−11)と反応させることによって行うことができる。
反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、エーテル系溶媒および炭化水素系溶媒等を挙げることができる。エーテル系溶媒としては、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルおよびt−ブチルメチルエーテル等を、炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンおよびオクタン等が挙げられ、中でもテトラヒドロフランが好ましい。
有機金属試薬としてはn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、メチルリチウム、リチウム ジイソプロピルアミドおよびリチウム 2,2,4,4−テトラメチルピペリジド等を挙げることができ、入手および取り扱いの容易さからn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウムおよびリチウム ジイソプロピルアミドが好ましく、効率的に脱プロトン化が可能であるsec−ブチルリチウムおよびリチウム ジイソプロピルアミドがより好ましい。また、脱プロトン化の際には、上記有機金属試薬と共にカリウム−t−ブトキシド、テトラメチルエチレンジアミン等の塩基を添加剤として用いてもよい。脱プロトン化の際の反応温度は−100℃から−20℃が好ましく、−78℃から−40℃がより好ましい。(In the formula, L i1 , L i2 , X i1 , X i2 , Y i2, and W i11 have the same meanings as L i1 , L i2 , X i1 , X i2 , Y i2, and W i1 in the general formula (i). Represents
Yi3 represents -O- or -S-. )
The compound represented by the general formula (S-5) can be obtained by reacting the compound represented by the general formula (S-5) with the compound represented by the general formula (S-11). This reaction can be carried out by deprotonating with an organometallic reagent and then reacting with the general formula (S-11).
The reaction solvent may be any one as long as it allows the reaction to proceed properly, and examples thereof include ether solvents and hydrocarbon solvents. Examples of ether solvents include 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether and t-butyl methyl ether, and examples of hydrocarbon solvents include pentane, hexane, cyclohexane, heptane, octane and the like. Of these, tetrahydrofuran is preferable.
Examples of the organometallic reagent include n-butyllithium, sec-butyllithium, tert-butyllithium, methyllithium, lithium diisopropylamide, lithium 2,2,4,4-tetramethylpiperidide, and the like. From the viewpoint of easy handling, n-butyllithium, sec-butyllithium and lithium diisopropylamide are preferable, and sec-butyllithium and lithium diisopropylamide, which can deprotonate efficiently, are more preferable. Further, at the time of deprotonation, a base such as potassium-t-butoxide or tetramethylethylenediamine may be used as an additive together with the above-mentioned organometallic reagent. The reaction temperature for deprotonation is preferably -100 ° C to -20 ° C, more preferably -78 ° C to -40 ° C.
一般式(S−12)で表される化合物を脱水することにより一般式(S−13)で表される化合物を得ることができる。脱水の方法としては、酸の存在下で加熱する方法が挙げられる。酸としては、例えば塩酸、硫酸、重硫酸カリウムなどの無機酸や、酢酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸などの有機酸、トリフッ化ホウ素などのルイス酸が挙げられる。あるいは、脱水の方法として、水酸基をp−トルエンスルホン酸クロリド、トリフルオロメタンスルホン酸クロリド、トリホスゲンなどと反応させて脱離基に変換した後、脱離反応を行うことで脱水することもできる。
一般式(S−13)で表される化合物を有機溶媒中、金属触媒存在下、水素ガスと反応させる事で一般式(S−14)で表される化合物を得ることが出来る。The compound represented by general formula (S-13) can be obtained by dehydrating the compound represented by general formula (S-12). Examples of the dehydration method include a method of heating in the presence of an acid. Examples of the acid include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and potassium bisulfate, organic acids such as acetic acid, trifluoroacetic acid and p-toluenesulfonic acid, and Lewis acids such as boron trifluoride. Alternatively, as a method of dehydration, the hydroxyl group may be reacted with p-toluenesulfonic acid chloride, trifluoromethanesulfonic acid chloride, triphosgene or the like to convert into a leaving group, and then the elimination reaction may be performed to perform dehydration.
The compound represented by the general formula (S-14) can be obtained by reacting the compound represented by the general formula (S-13) with hydrogen gas in the presence of a metal catalyst in an organic solvent.
使用する有機溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、ジイソプロピルエーテル、ジエチルエーテル、1,4−ジオキサン又はテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、トルエン又はキシレン等の炭化水素系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール又はブタノール等のアルコール系溶媒、酢酸エチル又は酢酸ブチル等のエステル系溶媒が好ましく、テトラヒドロフラン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、エタノール又は酢酸エチルが好ましい。また、必要に応じて塩酸、酢酸又は硫酸等の酸を添加する事も好ましい。 The organic solvent used may be any as long as it allows the reaction to proceed properly, but it is an ether solvent such as diisopropyl ether, diethyl ether, 1,4-dioxane or tetrahydrofuran, hexane, heptane, toluene or xylene. The hydrocarbon-based solvent, the alcohol-based solvent such as methanol, ethanol, propanol, isopropyl alcohol or butanol and the ester-based solvent such as ethyl acetate or butyl acetate are preferable, and tetrahydrofuran, hexane, heptane, toluene, ethanol or ethyl acetate is preferable. It is also preferable to add an acid such as hydrochloric acid, acetic acid or sulfuric acid, if necessary.
反応温度としては、反応を好適に進行させる温度であればいずれでも構わないが、0℃から80℃が好ましく、室温から60℃が更に好ましい。 The reaction temperature may be any temperature as long as it allows the reaction to proceed properly, but is preferably 0 ° C. to 80 ° C., more preferably room temperature to 60 ° C.
使用する金属触媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、パラジウム炭素、ルテニウム炭素、白金黒又は酸化白金が好ましく、パラジウム炭素が更に好ましい。 The metal catalyst used may be any one as long as it allows the reaction to proceed properly, but palladium carbon, ruthenium carbon, platinum black or platinum oxide is preferable, and palladium carbon is more preferable.
反応する際の水素圧は、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、大気圧から0.5MPaであることが好ましく、0.2MPaから0.5MPaであることが更に好ましい。
(製造方法4)The hydrogen pressure at the time of reaction may be any as long as it allows the reaction to proceed appropriately, but it is preferably from atmospheric pressure to 0.5 MPa, more preferably from 0.2 MPa to 0.5 MPa.
(Manufacturing method 4)
(式中、Li2、Xi1、Xi2、Yi2及びWi1は、一般式(i)におけるLi2、Xi1、Xi2、Yi2及びWi1と同じ意味を表し、
Ri3は炭素原子数1から15のアルキル基又は炭素原子数2から15のアルケニル基を表し、アルキル基又はアルケニル基中に存在する1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−は−C≡C−、−O−、−S−、−COO−、−OCO−又は−CO−により置き換えられても良く、アルキル基又はアルケニル基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されても良く、
Xi4は臭素原子又はよう素原子を表し、
Xi5は塩素原子又は臭素原子を表し、
Yi3は−O−又は−S−を表す。)
一般式(S−6)で表される化合物を(S−15)で表される化合物と遷移金属触媒存在下反応させることにより一般式(S−16)で表される化合物を得ることができる。
使用する遷移金属触媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、二塩化ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケル(II)、二塩化[1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン]ニッケル(II)、二塩化[1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]ニッケル(II)、二塩化[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]ニッケル(II)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、酢酸パラジウム(II)、二塩化ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、二塩化[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)又は二塩化ビス[ジ−tert−ブチル(4−ジメチルアミノフェニル)ホスフィン]パラジウム(II)が好ましく、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、二塩化[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)、トリス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)又は二塩化ビス[ジ−tert−ブチル(4−ジメチルアミノフェニル)ホスフィン]パラジウム(II)であることが更に好ましい。また、反応を好適に進行させるため、必要に応じてトリフェニルホスフィン等のホスフィン系配位子を添加しても良い。 (Wherein, L i2, X i1, X i2 , Y i2 and W i1 represent the same meaning in the general formula (i) and L i2, X i1, X i2 , Y i2 and W i1,
R i3 represents an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 15 carbon atoms, and one —CH 2 — present in the alkyl group or alkenyl group or two or more non-adjacent groups. —CH 2 — may be replaced by —C≡C—, —O—, —S—, —COO—, —OCO— or —CO—, and the hydrogen atom present in the alkyl or alkenyl group is fluorine. May be replaced by an atom,
X i4 represents a bromine atom or an iodine atom,
X i5 represents a chlorine atom or a bromine atom,
Yi3 represents -O- or -S-. )
The compound represented by general formula (S-16) can be obtained by reacting the compound represented by general formula (S-6) with the compound represented by (S-15) in the presence of a transition metal catalyst. .
Any transition metal catalyst may be used as long as it allows the reaction to proceed appropriately, and bis (triphenylphosphine) nickel (II) dichloride, [1,2-bis (diphenylphosphino) dichloride] Ethane] nickel (II), [1,2-bis (diphenylphosphino) propane] nickel (II) dichloride, [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] nickel (II) dichloride, tetrakis ( Triphenylphosphine) palladium (0), palladium (II) acetate, bis (triphenylphosphine) palladium (II) dichloride, [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium (II) dichloride or dichloride. Bis [di-tert-butyl (4-dimethylaminophenyl) phosphine] palladium (II) chloride is preferred. Specifically, tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0), [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium (II) dichloride, tris (dibenzylideneacetone) palladium (0) or bis [dichloride dichloride. More preferably, it is -tert-butyl (4-dimethylaminophenyl) phosphine] palladium (II). Further, in order to allow the reaction to proceed appropriately, a phosphine-based ligand such as triphenylphosphine may be added, if necessary.
使用する反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒が好ましく、テトラヒドロフラン、エタノール、トルエンが更に好ましい。 The reaction solvent to be used may be any as long as it allows the reaction to proceed properly, but is preferably an ether solvent such as tetrahydrofuran, diethyl ether or tert-butyl methyl ether, an alcohol solvent such as methanol, ethanol or propanol, Aromatic solvents such as benzene, toluene and xylene are preferable, and tetrahydrofuran, ethanol and toluene are more preferable.
反応温度としては、反応を好適に進行させるものであれば何度でも構わないが、室温から使用している溶媒が還流する温度までが好ましく、40℃から溶媒が還流するまでの温度が更に好ましく、60℃から溶媒が還流するまでの温度であることが特に好ましい。
(製造方法5)The reaction temperature may be any number as long as it allows the reaction to proceed suitably, but it is preferably from room temperature to the temperature at which the solvent used is refluxed, more preferably from 40 ° C. to the solvent reflux. It is particularly preferable that the temperature is from 60 ° C. to the reflux of the solvent.
(Manufacturing method 5)
(式中、Li1、Li2、Xi1及びXi2は、一般式(i)におけるLi1、Li2、Xi1及びXi2と同じ意味を表し、
Ri3及びRi4はそれぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、もしくはプロピル基を表すか、またはRi3及びRi4は互いに結合して環状の構造となり−CH2−CH2−、−CH2−CH2−CH2−、又は−CH2−C(CH3)2−CH2−を表し、
Xi3は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表し、
Xi4は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基または水酸基を表し、
Yi3は−O−又は−S−を表す。)
一般式(S−17)で表される化合物を(S−18)で表される化合物と遷移金属触媒及び塩基存在下反応させることにより一般式(S−19)で表される化合物を得ることができる。
使用する遷移金属触媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、酢酸パラジウム(II)、二塩化ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、二塩化[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)又は二塩化ビス[ジ−tert−ブチル(4−ジメチルアミノフェニル)ホスフィン]パラジウム(II)が好ましく、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、二塩化[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)又は二塩化ビス[ジ−tert−ブチル(4−ジメチルアミノフェニル)ホスフィン]パラジウム(II)であることが更に好ましい。また、反応を好適に進行させるため、必要に応じてトリフェニルホスフィン等のホスフィン系配位子を添加しても良い。 (Wherein, L i1, L i2, X i1 and X i2 represent the same meaning as L i1, L i2, X i1 and X i2 in the general formula (i),
R i3 and R i4 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a propyl group, or R i3 and R i4 are bonded to each other to form a cyclic structure —CH 2 —CH 2 —, —CH. 2 -CH 2 -CH 2 -, or -CH 2 -C (CH 3) 2 -CH 2 - represents,
X i3 represents a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a methanesulfonyloxy group, a p-toluenesulfonyloxy group, a trifluoromethanesulfonyloxy group,
X i4 represents a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a methanesulfonyloxy group, a p-toluenesulfonyloxy group, a trifluoromethanesulfonyloxy group or a hydroxyl group,
Yi3 represents -O- or -S-. )
Obtaining a compound represented by the general formula (S-19) by reacting a compound represented by the general formula (S-17) with a compound represented by (S-18) in the presence of a transition metal catalyst and a base. You can
The transition metal catalyst to be used may be any one as long as it allows the reaction to proceed properly, but tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0), palladium (II) acetate, bis (triphenylphosphine) palladium dichloride are used. (II), [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium (II) dichloride or bis [di-tert-butyl (4-dimethylaminophenyl) phosphine] palladium (II) dichloride is preferable, Tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0), [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium (II) dichloride or bis [di-tert-butyl (4-dimethylaminophenyl) phosphine] dichloride. More preferably, it is palladium (II). Further, in order to allow the reaction to proceed appropriately, a phosphine-based ligand such as triphenylphosphine may be added, if necessary.
使用する反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒が好ましく、テトラヒドロフラン、エタノール、トルエンが更に好ましい。また、反応を好適に進行させるため、必要に応じて水を用いても良い。 The reaction solvent to be used may be any as long as it allows the reaction to proceed properly, but is preferably an ether solvent such as tetrahydrofuran, diethyl ether or tert-butyl methyl ether, an alcohol solvent such as methanol, ethanol or propanol, Aromatic solvents such as benzene, toluene and xylene are preferable, and tetrahydrofuran, ethanol and toluene are more preferable. Further, water may be used if necessary in order to allow the reaction to proceed appropriately.
使用する塩基としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩、りん酸三カリウム、りん酸二水素カリウム等のりん酸塩が好ましく、炭酸カリウム、炭酸セシウム、りん酸三カリウムが更に好ましい。 As the base to be used, any base may be used as long as it allows the reaction to proceed suitably, but carbonates such as potassium carbonate, sodium carbonate and cesium carbonate, and phosphates such as tripotassium phosphate and potassium dihydrogen phosphate. Are preferred, and potassium carbonate, cesium carbonate, and tripotassium phosphate are more preferred.
反応温度としては、反応を好適に進行させるものであれば何度でも構わないが、室温から使用している溶媒が還流する温度までが好ましく、40℃から溶媒が還流するまでの温度が更に好ましく、60℃から溶媒が還流するまでの温度であることが特に好ましい。
一般式(S−19)で表される化合物を分子内反応させることによって一般式(S−20)で表される化合物を得ることができる。この分子内反応は一般式(S−19)の−Yi3−Hを塩基により脱プロトン化しアニオンを生成することで行うことができる。
この場合に使用する塩基としては金属水素化物、金属炭酸塩、金属リン酸塩、金属水酸化物、金属カルボン酸塩、金属アミド及び金属等を挙げることができ、中でもアルカリ金属水素化物、アルカリ金属りん酸塩、アルカリ金属りん酸塩、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アミド及びアルカリ金属が好ましく、アルカリ金属りん酸塩、アルカリ金属水素化物及びアルカリ金属炭酸塩は更に好ましい。アルカリ金属水素化物としては水素化リチウム、水素化ナトリウム及び水素化カリウムを、アルカリ金属りん酸塩としてはりん酸三カリウムを、アルカリ金属炭酸塩としては炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウム、炭酸カリウム及び炭酸水素カリウムをそれぞれ好ましく挙げることができる。The reaction temperature may be any number as long as it allows the reaction to proceed suitably, but it is preferably from room temperature to the temperature at which the solvent used is refluxed, more preferably from 40 ° C. to the solvent reflux. It is particularly preferable that the temperature is from 60 ° C. to the reflux of the solvent.
The compound represented by the general formula (S-20) can be obtained by intramolecularly reacting the compound represented by the general formula (S-19). This intramolecular reaction can be carried out by deprotonating -Yi3- H of the general formula (S-19) with a base to generate an anion.
Examples of the base used in this case include metal hydrides, metal carbonates, metal phosphates, metal hydroxides, metal carboxylates, metal amides and metals, among which alkali metal hydrides and alkali metals. Phosphates, alkali metal phosphates, alkali metal carbonates, alkali metal hydroxides, alkali metal amides and alkali metals are preferred, and alkali metal phosphates, alkali metal hydrides and alkali metal carbonates are more preferred. As alkali metal hydrides, lithium hydride, sodium hydride and potassium hydride, as alkali metal phosphates, tripotassium phosphate, and as alkali metal carbonates, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, cesium carbonate, potassium carbonate. And potassium hydrogen carbonate can be preferably mentioned respectively.
反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、エーテル系溶媒、塩素系溶媒、炭化水素系溶媒、芳香族系溶媒及び極性溶媒等を好ましく用いることができる。エーテル系溶媒としては、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル及びt−ブチルメチルエーテル等を、塩素系溶媒としてはジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン及び四塩化炭素等を、炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン及びオクタン等を、芳香族系溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン及びジクロロベンゼン等を、極性溶媒としてはN,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド及びスルホラン等を好例として挙げることができる。中でも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒及びN,N−ジメチルホルムアミド等の極性溶媒がより好ましい。また、前記の各溶媒を単独で使用しても、2種もしくはそれ以上の溶媒を混合して使用してもよい。 Any reaction solvent may be used as long as it allows the reaction to proceed properly, but ether solvents, chlorine solvents, hydrocarbon solvents, aromatic solvents, polar solvents and the like can be preferably used. As the ether solvent, 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether, t-butyl methyl ether and the like, and as the chlorine solvent, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride and the like, As the hydrocarbon solvent, pentane, hexane, cyclohexane, heptane, octane, etc., as the aromatic solvent, benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, etc., and as the polar solvent, N, N-dimethylformamide, Preferable examples include N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane and the like. Among them, ether solvents such as tetrahydrofuran and diethyl ether and polar solvents such as N, N-dimethylformamide are more preferable. Further, each of the above solvents may be used alone, or two or more solvents may be mixed and used.
反応温度は溶媒の凝固点から還流温度範囲で行うことができるが、0℃から150℃が好ましく、30℃から120℃がより好ましい。 The reaction temperature may be in the reflux temperature range from the freezing point of the solvent, but is preferably 0 ° C to 150 ° C, more preferably 30 ° C to 120 ° C.
一般式(S−20)で表される化合物を酸化することにより一般式(S−21)で表される化合物を得ることができる。この酸化は、有機金属試薬により脱プロトン化した後、ほう酸トリアルキルと反応させてほう素化合物とし、その後酸化剤を作用させることによって行うことができる。
反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、エーテル系溶媒および炭化水素系溶媒等を挙げることができる。エーテル系溶媒としては、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルおよびt−ブチルメチルエーテル等を、炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンおよびオクタン等が挙げられ、中でもテトラヒドロフランが好ましい。有機金属試薬としてはn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、メチルリチウム、リチウム ジイソプロピルアミドおよびリチウム 2,2,4,4−テトラメルピペリジド等を挙げることができ、入手および取り扱いの容易さからn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウムおよびリチウム ジイソプロピルアミドが好ましく、効率的に脱プロトン化が可能であるsec−ブチルリチウムおよびリチウム ジイソプロピルアミドがより好ましい。また、脱プロトン化の際には、上記有機金属試薬と共にカリウム−t−ブトキシド、テトラメチルエチレンジアミン等の塩基を添加剤として用いてもよい。脱プロトン化の際の反応温度は−100℃から−20℃が好ましく、−78℃から−40℃がより好ましい。The compound represented by the general formula (S-21) can be obtained by oxidizing the compound represented by the general formula (S-20). This oxidation can be performed by deprotonating with an organometallic reagent, reacting with a trialkyl borate to give a boron compound, and then reacting with an oxidizing agent.
The reaction solvent may be any one as long as it allows the reaction to proceed properly, and examples thereof include ether solvents and hydrocarbon solvents. Examples of ether solvents include 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether and t-butyl methyl ether, and examples of hydrocarbon solvents include pentane, hexane, cyclohexane, heptane, octane and the like. Of these, tetrahydrofuran is preferable. Examples of the organometallic reagent include n-butyllithium, sec-butyllithium, tert-butyllithium, methyllithium, lithium diisopropylamide, lithium 2,2,4,4-tetramerpiperidide, and the like. From the viewpoint of easy handling, n-butyllithium, sec-butyllithium and lithium diisopropylamide are preferable, and sec-butyllithium and lithium diisopropylamide, which can deprotonate efficiently, are more preferable. Further, at the time of deprotonation, a base such as potassium-t-butoxide or tetramethylethylenediamine may be used as an additive together with the above-mentioned organometallic reagent. The reaction temperature for deprotonation is preferably -100 ° C to -20 ° C, more preferably -78 ° C to -40 ° C.
ほう酸トリアルキルとしては、ほう酸トリメチル、ほう酸トリエチル、ほう酸トリプロピルおよびほう酸トリイソプロピルを用いるのが好ましいが、入手および取り扱いの容易さからほう酸トリメチルおよびほう酸トリイソプロピルがより好ましい。ほう酸トリアルキルと有機金属試薬の組み合わせとしては、上記で挙げたいずれの組み合わせも可能であるが、sec−ブチルリチウムとほう酸トリメチルの組み合わせ、およびリチウム ジイソプロピルアミドとほう酸トリイソプロピルの組み合わせが好ましく、リチウム ジイソプロピルアミドとほう酸トリイソプロピルの組み合わせがより好ましい。ほう素化の際の反応温度は−100℃から−20℃が好ましく、−78℃から−40℃がより好ましい。得られたほう素化合物は一度単離してもよく、単離せずそのまま酸化剤と反応させてもよい。また、得られたほう素化合物を加水分解してほう酸化合物へと変換した後に酸化剤と反応させても構わない。 As the trialkyl borate, it is preferable to use trimethyl borate, triethyl borate, tripropyl borate and triisopropyl borate, but trimethyl borate and triisopropyl borate are more preferable because of easy availability and handling. As the combination of the trialkyl borate and the organometallic reagent, any combination mentioned above is possible, but a combination of sec-butyllithium and trimethyl borate, and a combination of lithium diisopropylamide and triisopropyl borate are preferable, and lithium diisopropyl The combination of amide and triisopropyl borate is more preferred. The reaction temperature at the time of boration is preferably -100 ° C to -20 ° C, more preferably -78 ° C to -40 ° C. The obtained boron compound may be isolated once or may be directly reacted with an oxidizing agent without isolation. Further, the obtained boron compound may be hydrolyzed into a boric acid compound and then reacted with an oxidizing agent.
酸化剤としては、過酸化水素水、過酢酸または過ギ酸を用いるのが好ましい。反応温度は−78℃から70℃が好ましく、0℃から50℃がより好ましい。また、酸化剤との反応時には、溶媒に水が含まれていても構わない。 It is preferable to use hydrogen peroxide solution, peracetic acid, or formic acid as the oxidizing agent. The reaction temperature is preferably -78 ° C to 70 ° C, more preferably 0 ° C to 50 ° C. Further, the solvent may contain water during the reaction with the oxidizing agent.
一般式(S−21)で表される化合物に一般式(S−22)で表される化合物を反応させることによって一般式(S−23)で表される化合物を得るが、一般式(S−22)におけるXi4の置換基の選択により幾つかの反応を用いることが可能である。The compound represented by the general formula (S-23) is obtained by reacting the compound represented by the general formula (S-21) with the compound represented by the general formula (S-22). It is possible to use several reactions by the choice of the substituent of X i4 in -22).
Xi4が塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表す化合物を用いた場合、一般式(S−21)の水酸基を塩基によりフェノラートとして一般式(S−22)と反応させる方法を用いることができる。この場合に使用する塩基としては金属水素化物、金属炭酸塩、金属リン酸塩、金属水酸化物、金属カルボン酸塩、金属アミド及び金属等を挙げることができ、中でもアルカリ金属水素化物、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アミド及びアルカリ金属が好ましく、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属水素化物及びアルカリ金属炭酸塩は更に好ましい。アルカリ金属水素化物としては水素化リチウム、水素化ナトリウム及び水素化カリウムを、アルカリ金属リン酸塩としてはリン酸三カリウムを、アルカリ金属炭酸塩としては炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウム、炭酸カリウム及び炭酸水素カリウムをそれぞれ好ましく挙げることができる。When a compound in which X i4 represents a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a methanesulfonyloxy group, a p-toluenesulfonyloxy group or a trifluoromethanesulfonyloxy group is used, the hydroxyl group of the general formula (S-21) is phenolated with a base. The method of reacting with General formula (S-22) can be used as. Examples of the base used in this case include metal hydrides, metal carbonates, metal phosphates, metal hydroxides, metal carboxylates, metal amides and metals, among which alkali metal hydrides and alkali metals. Phosphates, alkali metal phosphates, alkali metal carbonates, alkali metal hydroxides, alkali metal amides and alkali metals are preferred, and alkali metal phosphates, alkali metal hydrides and alkali metal carbonates are more preferred. Lithium hydride, sodium hydride and potassium hydride as the alkali metal hydride, tripotassium phosphate as the alkali metal phosphate, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, cesium carbonate, potassium carbonate as the alkali metal carbonate. And potassium hydrogen carbonate can be preferably mentioned respectively.
反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、エーテル系溶媒、塩素系溶媒、炭化水素系溶媒、芳香族系溶媒及び極性溶媒等を好ましく用いることができる。エーテル系溶媒としては、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル及びt-ブチルメチルエーテル等を、塩素系溶媒としてはジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン及び四塩化炭素等を、炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン及びオクタン等を、芳香族系溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン及びジクロロベンゼン等を、極性溶媒としてはN,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド及びスルホラン等を好例として挙げることができる。中でも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒及びN,N−ジメチルホルムアミド等の極性溶媒がより好ましい。また、前記の各溶媒を単独で使用しても、2種もしくはそれ以上の溶媒を混合して使用してもよい。 Any reaction solvent may be used as long as it allows the reaction to proceed properly, but ether solvents, chlorine solvents, hydrocarbon solvents, aromatic solvents, polar solvents and the like can be preferably used. As the ether solvent, 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether, t-butyl methyl ether and the like, and as the chlorine solvent, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride and the like, As the hydrocarbon solvent, pentane, hexane, cyclohexane, heptane, octane, etc., as the aromatic solvent, benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, etc., and as the polar solvent, N, N-dimethylformamide, Preferable examples include N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane and the like. Among them, ether solvents such as tetrahydrofuran and diethyl ether and polar solvents such as N, N-dimethylformamide are more preferable. Further, each of the above solvents may be used alone, or two or more solvents may be mixed and used.
反応温度は溶媒の凝固点から還流温度範囲で行うことができるが、0℃から150℃が好ましく、30℃から120℃がより好ましい。なお、生成したフェノラートを一度単離してから一般式(S−22)で表される化合物と反応させてもよく、単離せずに反応させてもよいが、作業の容易さから単離せずに反応させたほうがよい。 The reaction temperature may be in the reflux temperature range from the freezing point of the solvent, but is preferably 0 ° C to 150 ° C, more preferably 30 ° C to 120 ° C. In addition, the produced phenolate may be isolated once and then reacted with the compound represented by the general formula (S-22), or may be reacted without isolation. However, it is not isolated because it is easy to work. It is better to react.
Xi4が水酸基を表す場合、光延反応を用いることが可能である。光延反応はアルコールと活性プロトンを持つ多種多様な求核剤とを脱水的に縮合させる反応であり、トリフェニルホスフィンと、アゾジカルボン酸誘導体又はマレイン酸誘導体を組み合わせて用いる。具体的には、一般式(S−21)で表される化合物と一般式(S−22)で表されるアルコール誘導体を三置換ホスフィン誘導体及びアゾジカルボン酸誘導体存在下に反応させることにより一般式(S−23)で表される化合物を得る。When X i4 represents a hydroxyl group, it is possible to use the Mitsunobu reaction. The Mitsunobu reaction is a reaction in which an alcohol and various nucleophiles having active protons are condensed by dehydration, and triphenylphosphine is used in combination with an azodicarboxylic acid derivative or a maleic acid derivative. Specifically, the compound represented by the general formula (S-21) is reacted with the alcohol derivative represented by the general formula (S-22) in the presence of a tri-substituted phosphine derivative and an azodicarboxylic acid derivative. A compound represented by (S-23) is obtained.
三置換ホスフィン誘導体としては、トリアルキルホスフィン、トリフェニルホスフィン等が挙げられるがトリフェニルホスフィンが好ましい。又、アゾジカルボン酸誘導体としては種々の化合物が用いられており、アゾジカルボン酸誘導体に替えてマレイン酸誘導体を用いることが可能であるが、取り扱いの容易さよりトリフェニルホスフィンとアゾジカルボン酸誘導体の組み合わせが望ましい。アゾジカルボン酸誘導体としてはジエチル アゾジカルボキシレート、ジイソプロピル アゾジカルボキシレート、テトラメチル アゾジカルボキシアミド、テトラプロピル アゾジカルボキシアミド、1,1‘−(アゾジカルボニル)ジピペリジンが挙げられるが、入手の容易さよりジエチル アゾジカルボキシレートおよびジイソプロピル アゾジカルボキシレートが好ましく、取り扱いの容易さよりジイソプロピル アゾジカルボキシレートがより好ましい。 Examples of the tri-substituted phosphine derivative include trialkylphosphine and triphenylphosphine, with triphenylphosphine being preferred. Further, various compounds are used as the azodicarboxylic acid derivative, and it is possible to use a maleic acid derivative in place of the azodicarboxylic acid derivative, but a combination of triphenylphosphine and the azodicarboxylic acid derivative can be used because of easy handling. Is desirable. Examples of the azodicarboxylic acid derivative include diethyl azodicarboxylate, diisopropyl azodicarboxylate, tetramethyl azodicarboxamide, tetrapropyl azodicarboxamide, and 1,1 ′-(azodicarbonyl) dipiperidine, which are available. Diethyl azodicarboxylate and diisopropyl azodicarboxylate are preferred for their ease of use, and diisopropyl azodicarboxylate is more preferred for their ease of handling.
反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、エーテル系溶媒、塩素系溶媒、炭化水素系溶媒および芳香族系溶媒等を好ましく用いることができる。エーテル系溶媒としては、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルおよびt-ブチルメチルエーテル等を、塩素系溶媒としてはジクロロメタン、1,2−ジクロロエタンおよび四塩化炭素等を、炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンおよびオクタン等を、芳香族系溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼンおよびジクロロベンゼン等を好例として挙げることができる。中でも、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒およびトルエン等の芳香族系溶媒等がより好ましい。また、前記の各溶媒を単独で使用しても、2種もしくはそれ以上の溶媒を混合して使用してもよい。 As the reaction solvent, any solvent may be used as long as it allows the reaction to proceed appropriately, but ether solvents, chlorine solvents, hydrocarbon solvents, aromatic solvents and the like can be preferably used. As the ether solvent, 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether, t-butyl methyl ether and the like, and as the chlorine solvent, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride and the like, Preferable examples of the hydrocarbon solvent include pentane, hexane, cyclohexane, heptane and octane, and examples of the aromatic solvent include benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene. Among them, ether solvents such as tetrahydrofuran and aromatic solvents such as toluene are more preferable. Further, each of the above solvents may be used alone, or two or more solvents may be mixed and used.
反応温度は溶媒の凝固点から還流温度範囲で行うことができるが、0℃から150℃が好ましく、0℃から30℃がより好ましい。 The reaction temperature may be within the reflux temperature range from the freezing point of the solvent, but is preferably 0 ° C to 150 ° C, more preferably 0 ° C to 30 ° C.
一般式(S−23)で表される化合物をシグマトロピー転位させることによって一般式(S−24)で表される化合物を得ることができる。 The compound represented by general formula (S-24) can be obtained by subjecting the compound represented by general formula (S-23) to sigmatropic rearrangement.
反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、エーテル系溶媒、塩素系溶媒、炭化水素系溶媒、芳香族系溶媒及び極性溶媒等を好ましく用いることができる。エーテル系溶媒としては、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル及びt-ブチルメチルエーテル等を、塩素系溶媒としてはジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン及び四塩化炭素等を、炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン及びオクタン等を、芳香族系溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン及びジクロロベンゼン等を、極性溶媒としてはN,N−ジエチルアニリン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド及びスルホラン等を好例として挙げることができる。中でも、N,N−ジエチルアニリン、N,N−ジメチルアニリン等の極性溶媒がより好ましい。また、前記の各溶媒を単独で使用しても、2種もしくはそれ以上の溶媒を混合して使用してもよい。 Any reaction solvent may be used as long as it allows the reaction to proceed properly, but ether solvents, chlorine solvents, hydrocarbon solvents, aromatic solvents, polar solvents and the like can be preferably used. As the ether solvent, 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether, t-butyl methyl ether and the like, and as the chlorine solvent, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride and the like, As the hydrocarbon solvent, pentane, hexane, cyclohexane, heptane, octane, etc., as the aromatic solvent, benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, etc., and as the polar solvent, N, N-diethylaniline, Preferable examples include N, N-dimethylaniline, N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide and sulfolane. Among them, polar solvents such as N, N-diethylaniline and N, N-dimethylaniline are more preferable. Further, each of the above solvents may be used alone, or two or more solvents may be mixed and used.
反応温度は溶媒の凝固点から還流温度範囲で行うことができるが、100℃から250℃が好ましく、150℃から250℃がより好ましい。 The reaction temperature may be in the reflux temperature range from the freezing point of the solvent, but is preferably 100 ° C to 250 ° C, more preferably 150 ° C to 250 ° C.
一般式(S−24)で表される化合物を有機溶媒中、金属触媒存在下、水素ガスと反応させることにより一般式(S−25)で表される化合物を得ることができる。 The compound represented by the general formula (S-25) can be obtained by reacting the compound represented by the general formula (S-24) with hydrogen gas in the presence of a metal catalyst in an organic solvent.
使用する有機溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、ジイソプロピルエーテル、ジエチルエーテル、1,4−ジオキサン又はテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、トルエン又はキシレン等の炭化水素系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール又はブタノール等のアルコール系溶媒、酢酸エチル又は酢酸ブチル等のエステル系溶媒が好ましく、テトラヒドロフラン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、エタノール又は酢酸エチルが好ましい。また、必要に応じて塩酸、酢酸又は硫酸等の酸を添加する事も好ましい。 The organic solvent used may be any as long as it allows the reaction to proceed properly, but it is an ether solvent such as diisopropyl ether, diethyl ether, 1,4-dioxane or tetrahydrofuran, hexane, heptane, toluene or xylene. The hydrocarbon-based solvent, the alcohol-based solvent such as methanol, ethanol, propanol, isopropyl alcohol or butanol and the ester-based solvent such as ethyl acetate or butyl acetate are preferable, and tetrahydrofuran, hexane, heptane, toluene, ethanol or ethyl acetate is preferable. It is also preferable to add an acid such as hydrochloric acid, acetic acid or sulfuric acid, if necessary.
反応温度としては、反応を好適に進行させる温度であればいずれでも構わないが、0℃から80℃が好ましく、室温から60℃が更に好ましい。 The reaction temperature may be any temperature as long as it allows the reaction to proceed properly, but is preferably 0 ° C. to 80 ° C., more preferably room temperature to 60 ° C.
使用する金属触媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、パラジウム炭素、ルテニウム炭素、白金黒又は酸化白金が好ましく、パラジウム炭素が更に好ましい。 The metal catalyst used may be any one as long as it allows the reaction to proceed properly, but palladium carbon, ruthenium carbon, platinum black or platinum oxide is preferable, and palladium carbon is more preferable.
反応する際の水素圧は、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、大気圧から0.5MPaであることが好ましく、0.2MPaから0.5MPaであることが更に好ましい。 The hydrogen pressure at the time of reaction may be any as long as it allows the reaction to proceed appropriately, but it is preferably from atmospheric pressure to 0.5 MPa, more preferably from 0.2 MPa to 0.5 MPa.
このように、一般式(i)で表される化合物と混合して使用することのできる化合物の好ましい代表例としては、本発明の提供する組成物においては、その第一成分として一般式(i)で表される化合物を少なくとも1種含有するが、その他の成分として特に以下の第二から第四成分から少なくとも1種含有することが好ましい。 Thus, as a preferable representative example of the compound which can be used by mixing with the compound represented by the general formula (i), in the composition provided by the present invention, the first component is the general formula (i). ) At least one compound represented by the formula (1) is contained, and it is particularly preferable that at least one kind selected from the following second to fourth components is contained as other components.
即ち、第二成分は誘電率異方性が負のいわゆるn型液晶化合物であって、以下の一般式(LC3)〜一般式(LC5)で示される化合物を挙げることができる。 That is, the second component is a so-called n-type liquid crystal compound having a negative dielectric anisotropy, and examples thereof include compounds represented by the following general formulas (LC3) to (LC5).
(式中、RLC31、RLC32、RLC41、RLC42、RLC51及びRLC52はそれぞれ独立して炭素原子数1〜15のアルキル基を表し、該アルキル基中の1つ又は2つ以上の−CH2−は、酸素原子が直接隣接しないように、−O−、−CH=CH−、−CO−、−OCO−、−COO−又は−C≡C−で置換されてよく、該アルキル基中の1つ又は2つ以上の水素原子は任意にハロゲン原子によって置換されていてもよく、ALC31、ALC32、ALC41、ALC42、ALC51及びALC52はそれぞれ独立して下記の何れかの構造 (Wherein represents R LC31, R LC32, R LC41 , R LC42, alkyl groups R LC51 and R LC52 is 1-15 carbon atoms independently, one in the alkyl group or two or more —CH 2 — may be substituted with —O—, —CH═CH—, —CO—, —OCO—, —COO— or —C≡C— such that the oxygen atom is not directly adjacent to the alkyl group. one or more hydrogen atoms in the group may be optionally substituted by a halogen atom, a LC31, a LC32, a LC41, a LC42, a LC51 and a LC52 each independently any of the following The structure of
(該構造中シクロヘキシレン基中の1つ又は2つ以上の−CH2−は酸素原子で置換されていてもよく、1,4−フェニレン基中の1つ又は2つ以上の−CH−は窒素原子で置換されていてもよく、また、該構造中の1つ又は2つ以上の水素原子はフッ素原子、塩素原子、−CF3又は−OCF3で置換されていてもよい。)のいずれかを表し、ZLC31、ZLC32、ZLC41、ZLC42、ZLC51及びZLC51はそれぞれ独立して単結合、−CH=CH−、−C≡C−、−CH2CH2−、−(CH2)4−、−COO−、−OCH2−、−CH2O−、−OCF2−又は−CF2O−を表し、Z5は−CH2−又は酸素原子を表し、XLC41は水素原子又はフッ素原子を表し、mLC31、mLC32、mLC41、mLC42、mLC51及びmLC52はそれぞれ独立して0〜3を表し、mLC31+mLC32、mLC41+mLC42及びmLC51+mLC52は1、2又は3であり、ALC31〜ALC52、ZLC31〜ZLC52が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良い。)
RLC31〜RLC52は、それぞれ独立して、炭素原子数1〜7のアルキル基、炭素原子数1〜7のアルコキシ基、炭素原子数2〜7のアルケニル基が好ましく、アルケニル基としては下記構造を表すことが最も好ましく、(One of the structures during cyclohexylene or two or more -CH 2 - may be substituted with an oxygen atom, one or two or more of 1,4-phenylene group -CH- is nitrogen atom may be substituted with, also, one or more hydrogen atoms are fluorine atoms in the structure, a chlorine atom, may be substituted with -CF 3 or -OCF 3.) either It indicates whether, Z LC31, Z LC32, Z LC41, Z LC42, Z LC51 and Z LC51 each independently represent a single bond, -CH = CH -, - C≡C -, - CH 2 CH 2 -, - ( CH 2) 4 -, - COO -, - OCH 2 -, - CH 2 O -, - OCF 2 - or -CF 2 O-a represents, Z 5 is -CH 2 - represents an or an oxygen atom, X LC41 is Represents a hydrogen atom or a fluorine atom, m LC31 , m L C32, m LC41, m LC42, m LC51 and m LC52 represent each independently 0~3, m LC31 + m LC32, m LC41 + m LC42 and m LC51 + m LC52 is 1, 2 or 3, A LC31 ~ When there are a plurality of A LC52 and Z LC31 to Z LC52 , they may be the same or different. )
R LC31 to R LC52 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 7 carbon atoms. The alkenyl group has the following structure. Most preferably
(式中、環構造へは右端で結合するものとする。)
ALC31〜ALC52はそれぞれ独立して下記の構造が好ましく、(In the formula, the ring structure is bound at the right end.)
A LC31 to A LC52 each independently have the following structure,
ZLC31〜ZLC51はそれぞれ独立して単結合、−CH2O−、−COO−、−OCO−、−CH2CH2−、−CF2O−、−OCF2−又は−OCH2−が好ましい。Z LC31 ~Z LC51 each independently represent a single bond, -CH 2 O -, - COO -, - OCO -, - CH 2 CH 2 -, - CF 2 O -, - OCF 2 - or -OCH 2 - is preferable.
一般式(LC3)は、下記一般式(LC3−a)及び一般式(LC3−b) General formula (LC3) is the following general formula (LC3-a) and general formula (LC3-b).
(式中、RLC31、RLC32、ALC31及びZLC31はそれぞれ独立して前記一般式(LC3)におけるRLC31、RLC32、ALC31及びZLC31と同じ意味を表し、XLC3b1〜XLC3b6は水素原子又はフッ素原子を表すが、XLC3b1及びXLC3b2又はXLC3b3及びXLC3b4のうちの少なくとも一方の組み合わせは共にフッ素原子を表し、mLC3a1は1、2又は3であり、mLC3b1は0又は1を表し、ALC31及びZLC31が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良い。ただし、一般式(LC3−a)において一般式(LC3−b)で表される群より選ばれる化合物を除く。)で表される化合物群から選ばれる1種又は2種以上の化合物であることが好ましい。
RLC31及びRLC32はそれぞれ独立して炭素原子数1〜7のアルキル基、炭素原子数1〜7のアルコキシ基、炭素原子数2〜7のアルケニル基又は炭素原子数2〜7のアルケニルオキシ基を表すことが好ましい。(In the formula, R LC31 , R LC32 , A LC31, and Z LC31 each independently represent the same meaning as R LC31 , R LC32 , A LC31, and Z LC31 in the general formula (LC3), and X LC3b1 to X LC3b6 represent A hydrogen atom or a fluorine atom is represented, but at least one combination of X LC3b1 and X LC3b2 or X LC3b3 and X LC3b4 represents a fluorine atom, m LC3a1 is 1, 2 or 3, and m LC3b1 is 0 or In the case where a plurality of A LC31 and Z LC31 are present, they may be the same or different, provided that they are represented by the general formula (LC3-b) in the general formula (LC3-a). A compound selected from the group: 1) or two or more compounds selected from the group of compounds represented by Rukoto is preferable.
R LC31 and R LC32 are each independently an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 7 carbon atoms or an alkenyloxy group having 2 to 7 carbon atoms. Is preferably represented.
ALC31は、1,4−フェニレン基、トランス−1,4−シクロヘキシレン基、テトラヒドロピラン−2,5−ジイル基、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基を表すことが好ましく、1,4−フェニレン基、トランス−1,4−シクロヘキシレン基を表すことがより好ましい。A LC31 preferably represents a 1,4-phenylene group, a trans-1,4-cyclohexylene group, a tetrahydropyran-2,5-diyl group, a 1,3-dioxane-2,5-diyl group, or 1 , 4-phenylene group and trans-1,4-cyclohexylene group are more preferable.
ZLC31は単結合、−CH2O−、−COO−、−OCO−、−CH2CH2−を表すことが好ましく、単結合を表すことがより好ましい。Z LC31 is a single bond, -CH 2 O -, - COO -, - OCO -, - CH 2 CH 2 - is preferred to represent, and more preferably a single bond.
一般式(LC3−a)としては、下記一般式(LC3−a1)〜一般式(LC3−a4)を表すことが好ましい。 The general formula (LC3-a) preferably represents the following general formula (LC3-a1) to general formula (LC3-a4).
(式中、RLC31及びRLC32はそれぞれ独立して前記一般式(LC3)におけるRLC31及びRLC32と同じ意味を表す。)
RLC31及びRLC32はそれぞれ独立して、炭素原子数1〜7のアルキル基、炭素原子数1〜7のアルコキシ基、炭素原子数2〜7のアルケニル基が好ましく、RLC31が炭素原子数1〜7のアルキル基を表し、RLC32が炭素原子数1〜7のアルコキシ基を表すことがより好ましい。(In the formula, R LC31 and R LC32 each independently represent the same meaning as R LC31 and R LC32 in the general formula (LC3).)
R LC31 and R LC32 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 7 carbon atoms, and R LC31 has 1 carbon atom. It is more preferable that R LC32 represents an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms and R LC32 represents an alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms.
一般式(LC3−b)としては、下記一般式(LC3−b1)〜一般式(LC3−b12)を表すことが好ましく、一般式(LC3−b1)、一般式(LC3−b6)、一般式(LC3−b8)、一般式(LC3−b11)を表すことがより好ましく、一般式(LC3−b1)及び一般式(LC3−b6)を表すことがさらに好ましく、一般式(LC3−b1)を表すことが最も好ましい。 As the general formula (LC3-b), it is preferable to represent the following general formula (LC3-b1) to general formula (LC3-b12), and the general formula (LC3-b1), general formula (LC3-b6), and general formula (LC3-b6) (LC3-b8) and the general formula (LC3-b11) are more preferable, the general formula (LC3-b1) and the general formula (LC3-b6) are more preferable, and the general formula (LC3-b1) is Most preferably it is represented.
(式中、RLC31及びRLC32はそれぞれ独立して前記一般式(LC3)におけるRLC31及びRLC32と同じ意味を表す。)
RLC31及びRLC32はそれぞれ独立して、炭素原子数1〜7のアルキル基、炭素原子数1〜7のアルコキシ基、炭素原子数2〜7のアルケニル基が好ましく、RLC31が炭素原子数2又は3のアルキル基を表し、RLC32が炭素原子数2のアルキル基を表すことがより好ましい。(In the formula, R LC31 and R LC32 each independently represent the same meaning as R LC31 and R LC32 in the general formula (LC3).)
R LC31 and R LC32 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 7 carbon atoms, and R LC31 has 2 carbon atoms. It is more preferable that R LC32 represents an alkyl group having 3 or 3 carbon atoms and R LC32 represents an alkyl group having 2 carbon atoms.
一般式(LC4)は下記一般式(LC4−a)から一般式(LC4−c)、一般式(LC5)は下記一般式(LC5−a)から一般式(LC5−c) General formula (LC4) is from general formula (LC4-a) to general formula (LC4-c), and general formula (LC5) is from general formula (LC5-a) to general formula (LC5-c).
(式中、RLC41、RLC42及びXLC41はそれぞれ独立して前記一般式(LC4)におけるRLC41、RLC42及びXLC41と同じ意味を表し、RLC51及びRLC52はそれぞれ独立して前記一般式(LC5)におけるRLC51及びRLC52と同じ意味を表し、ZLC4a1、ZLC4b1、ZLC4c1、ZLC5a1、ZLC5b1及びZLC5c1はそれぞれ独立して単結合、−CH=CH−、−C≡C−、−CH2CH2−、−(CH2)4−、−COO−、−OCH2−、−CH2O−、−OCF2−又は−CF2O−を表す。)で表される化合物からなる群より選ばれる1種又は2種以上の化合物であるのがより好ましい。 (Wherein, R LC41, R LC42 and X LC41 each independently represent the same meaning as R LC41, R LC42 and X LC41 in the general formula (LC4), R LC51 and R LC52 is the general independently represents the same meaning as R LC51 and R LC52 in formula (LC5), Z LC4a1, Z LC4b1, Z LC4c1, Z LC5a1, Z LC5b1 and Z LC5c1 each independently represent a single bond, -CH = CH -, - C≡ C -, - CH 2 CH 2 -, - (CH 2) 4 -, - COO -, - OCH 2 -, - CH 2 O -, - expressed in or an -CF 2 O-) - OCF 2. More preferably, it is one or more compounds selected from the group consisting of
RLC41、RLC42、RLC51及びRLC52はそれぞれ独立して炭素原子数1〜7のアルキル基、炭素原子数1〜7のアルコキシ基、炭素原子数2〜7のアルケニル基又は炭素原子数2〜7のアルケニルオキシ基を表すことが好ましい。 R LC41, R LC42, R LC51 and R LC52 each independently represents an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms, the number alkenyl group or a carbon atom of 2 to 7 carbon atoms 2 It is preferable to represent the alkenyloxy group of ~ 7.
ZLC4a1〜ZLC5c1はそれぞれ独立して単結合、−CH2O−、−COO−、−OCO−、−CH2CH2−を表すことが好ましく、単結合を表すことがより好ましい。It is preferable that Z LC4a1 to Z LC5c1 each independently represent a single bond, —CH 2 O—, —COO—, —OCO— , or —CH 2 CH 2 —, and more preferably a single bond.
第三成分は誘電率異方性が0程度である、いわゆる非極性液晶化合物であり、以下の一般式(LC6)で示される化合物を挙げることができる。 The third component is a so-called nonpolar liquid crystal compound having a dielectric anisotropy of about 0, and examples thereof include compounds represented by the following general formula (LC6).
(式中、RLC61及びRLC62はそれぞれ独立して炭素原子数1〜15のアルキル基を表し、該アルキル基中の1つ又は2つ以上の−CH2−は、酸素原子が直接隣接しないように、−O−、−CH=CH−、−CO−、−OCO−、−COO−又は−C≡C−で置換されてよく、該アルキル基中の1つ又は2つ以上の水素原子は任意にハロゲン置換されていてもよく、ALC61〜ALC63はそれぞれ独立して下記(In the formula, R LC61 and R LC62 each independently represent an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, and one or two or more —CH 2 — in the alkyl group are not directly adjacent to an oxygen atom. As described above, it may be substituted with -O-, -CH = CH-, -CO-, -OCO-, -COO- or -C≡C-, and one or more hydrogen atoms in the alkyl group. May be optionally substituted with halogen, and A LC61 to A LC63 are each independently the following:
(該構造中シクロヘキシレン基中の1つ又は2つ以上の−CH2CH2−は−CH=CH−、−CF2O−、−OCF2−で置換されていてもよく、1,4−フェニレン基中1つ又は2つ以上のCH基は窒素原子で置換されていてもよい。)のいずれかを表し、ZLC61及びZLC62はそれぞれ独立して単結合、−CH=CH−、−C≡C−、−CH2CH2−、−(CH2)4−、−COO−、−OCH2−、−CH2O−、−OCF2−又は−CF2O−を表し、mLc6は0〜3を表す。ただし、一般式(LC1)〜一般式(LC5)で表される化合物、及び一般式(i)を除く。)
RLC61及びRLC62は、それぞれ独立して、炭素原子数1〜7のアルキル基、炭素原子数1〜7のアルコキシ基、炭素原子数2〜7のアルケニル基が好ましく、アルケニル基としては下記構造を表すことが最も好ましく、(One of the structures during cyclohexylene or more -CH 2 CH 2 - is -CH = CH -, - CF 2 O -, - OCF 2 - may be substituted with 1,4 -One or more CH groups in the phenylene group may be substituted with a nitrogen atom.), ZLC61 and ZLC62 each independently represent a single bond, -CH = CH-, -C≡C -, - CH 2 CH 2 -, - (CH 2) 4 -, - COO -, - OCH 2 -, - CH 2 O -, - OCF 2 - or -CF 2 O-a represents, m Lc6 represents 0 to 3. However, the compounds represented by the general formulas (LC1) to (LC5) and the general formula (i) are excluded. )
R LC61 and R LC62 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 7 carbon atoms. The alkenyl group has the following structure. Most preferably
(式中、環構造へは右端で結合するものとする。)
ALC61〜ALC63はそれぞれ独立して下記の構造が好ましく、(In the formula, the ring structure is bound at the right end.)
A LC61 to A LC63 each independently preferably have the following structure,
ZLC61及びZLC62はそれぞれ独立して単結合、−CH2CH2−、−COO−、−OCH2−、−CH2O−、−OCF2−又は−CF2O−が好ましい。Z LC61 and Z LC62 each independently represent a single bond, -CH 2 CH 2 -, - COO -, - OCH 2 -, - CH 2 O -, - OCF 2 - or -CF 2 O-are preferred.
一般式(LC6)は、一般式(LC6−a)から一般式(LC6−m) The general formula (LC6) includes the general formula (LC6-a) to the general formula (LC6-m).
(式中、RLC61及びRLC62はそれぞれ独立して炭素原子数1〜7のアルキル基、炭素原子数1〜7のアルコキシ基、炭素原子数2〜7のアルケニル基又は炭素原子数2〜7のアルケニルオキシ基を表す。)で表される化合物からなる群より選ばれる1種又は2種以上の化合物であるのがより好ましい。(In the formula, R LC61 and R LC62 are each independently an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 7 carbon atoms or 2 to 7 carbon atoms. It is more preferable that the compound is one or more compounds selected from the group consisting of compounds represented by the formula (1).
第四成分は誘電率異方性が正のいわゆるp型液晶化合物であって、以下の一般式(LC1)及び一般式(LC2)で示される化合物を挙げることができる。 The fourth component is a so-called p-type liquid crystal compound having positive dielectric anisotropy, and examples thereof include compounds represented by the following general formula (LC1) and general formula (LC2).
(式中、RLC11及びRLC21はそれぞれ独立して炭素原子数1〜15のアルキル基を表し、該アルキル基中の1つ又は2つ以上の−CH2−は、酸素原子が直接隣接しないように、−O−、−CH=CH−、−CO−、−OCO−、−COO−又は−C≡C−で置換されてよく、該アルキル基中の1つ又は2つ以上の水素原子は任意にハロゲン原子によって置換されていてもよく、ALC11、及びALC21はそれぞれ独立して下記の何れかの構造(In the formula, R LC11 and R LC21 each independently represent an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, and one or two or more —CH 2 — in the alkyl group are not directly adjacent to an oxygen atom. As described above, it may be substituted with -O-, -CH = CH-, -CO-, -OCO-, -COO- or -C≡C-, and one or more hydrogen atoms in the alkyl group. May be optionally substituted with a halogen atom, and A LC11 and A LC21 each independently represent one of the structures below.
(該構造中、シクロヘキシレン基中の1つ又は2つ以上の−CH2−は酸素原子で置換されていてもよく、1,4−フェニレン基中の1つ又は2つ以上の−CH−は窒素原子で置換されていてもよく、また、該構造中の1つ又は2つ以上の水素原子はフッ素原子、塩素原子、−CF3又は−OCF3で置換されていてもよい。)を表し、XLC11、XLC12、XLC21〜XLC23はそれぞれ独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、−CF3又は−OCF3を表し、YLC11及びYLC21はそれぞれ独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、−CF3、−OCH2F、−OCHF2又は−OCF3を表し、ZLC11及びZLC21はそれぞれ独立して単結合、−CH=CH−、−CF=CF−、−C≡C−、−CH2CH2−、−(CH2)4−、−OCH2−、−CH2O−、−OCF2−、−CF2O−、−COO−又は−OCO−を表し、mLC11及びmLC21はそれぞれ独立して1〜4の整数を表し、ALC11、ALC21、ZLC11及びZLC21が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良い。)
RLC11及びRLC21はそれぞれ独立して炭素原子数1〜7のアルキル基、炭素原子数1〜7のアルコキシ基、炭素原子数2〜7のアルケニル基が好ましく、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルケニル基がより好ましく、直鎖状であることが更に好ましく、アルケニル基としては下記構造を表すことが最も好ましい。(In the structure, one or more —CH 2 — in the cyclohexylene group may be substituted with an oxygen atom, and one or more —CH— in the 1,4-phenylene group. may is substituted by a nitrogen atom, also one or more hydrogen atoms are fluorine atoms in the structure, a chlorine atom, may be substituted with -CF 3 or -OCF 3.) the represents, X LC11, X LC12, X LC21 ~X LC23 are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a -CF 3 or -OCF 3, Y LC11 and Y LC21 are each independently a hydrogen atom, fluorine atom, a chlorine atom, a cyano group, -CF 3, represents -OCH 2 F, -OCHF 2 or -OCF 3, Z LC11 and Z LC21 each independently represent a single bond, -CH = CH -, - CF = CF- -C≡C -, - CH 2 CH 2 -, - (CH 2) 4 -, - OCH 2 -, - CH 2 O -, - OCF 2 -, - CF 2 O -, - COO- or -OCO- And m LC11 and m LC21 each independently represent an integer of 1 to 4, and when there are a plurality of A LC11 , A LC21 , Z LC11 and Z LC21 , they may be the same or different. good. )
R LC11 and R LC21 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 7 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. A group, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms are more preferable, a straight chain is further preferable, and the following structure is most preferable as the alkenyl group.
(式中、環構造へは右端で結合するものとする。)
ALC11及びALC21はそれぞれ独立して下記の構造が好ましい。(In the formula, the ring structure is bound at the right end.)
A LC11 and A LC21 each independently preferably have the following structure.
YLC11及びYLC21はそれぞれ独立してフッ素原子、シアノ基、−CF3又は−OCF3が好ましく、フッ素原子又は−OCF3が好ましく、フッ素原子が特に好ましい。Y LC11 and Y LC21 each independently represent a fluorine atom, a cyano group, —CF 3 or —OCF 3 , preferably a fluorine atom or —OCF 3 , and particularly preferably a fluorine atom.
ZLC11及びZLC21は単結合、−CH2CH2−、−COO−、−OCO−、−OCH2−、−CH2O−、−OCF2−又は−CF2O−が好ましく、単結合、−CH2CH2−、−OCH2−、−OCF2−又は−CF2O−が好ましく、単結合、−OCH2−又は−CF2O−がより好ましい。Z LC11 and Z LC21 is a single bond, -CH 2 CH 2 -, - COO -, - OCO -, - OCH 2 -, - CH 2 O -, - OCF 2 - or -CF 2 O-are more preferably a single bond , -CH 2 CH 2 -, - OCH 2 -, - OCF 2 - or -CF 2 O-is preferably a single bond, -OCH 2 - or -CF 2 O-are more preferred.
mLC11及びmLC21は1、2又は3が好ましく、低温での保存安定性、応答速度を重視する場合には1又は2が好ましく、ネマチック相上限温度の上限値を改善するには2又は3が好ましい。m LC11 and m LC21 are preferably 1, 2 or 3, and 1 or 2 is preferable when importance is attached to storage stability at low temperature and response speed, and 2 or 3 is preferable for improving the upper limit of the nematic phase maximum temperature. Is preferred.
一般式(LC1)は、下記一般式(LC1−a)から一般式(LC1−c) The general formula (LC1) includes the following general formula (LC1-a) to general formula (LC1-c).
(式中、RLC11、YLC11、XLC11及びXLC12はそれぞれ独立して前記一般式(LC1)におけるRLC11、YLC11、XLC11及びXLC12と同じ意味を表し、ALC1a1、ALC1a2及びALC1b1は、トランス−1,4−シクロヘキシレン基、テトラヒドロピラン−2,5−ジイル基、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基を表し、XLC1b1、XLC1b2、XLC1c1〜XLC1c4はそれぞれ独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、−CF3又は−OCF3を表す。)で表される化合物からなる群より選ばれる1種又は2種以上の化合物であることが好ましい。 (Wherein, R LC11, Y LC11, X LC11 and X LC12 each independently represent the same meaning as R LC11, Y LC11, X LC11 and X LC12 in the general formula (LC1), A LC1a1, A LC1a2 and A LC1b1 represents a trans-1,4-cyclohexylene group, a tetrahydropyran-2,5-diyl group, a 1,3-dioxane-2,5-diyl group, and is X LC1b1 , X LC1b2 , X LC1c1 to X LC1c4. Each independently represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, —CF 3 or —OCF 3 ), and is preferably one or more compounds selected from the group consisting of compounds represented by:
RLC11はそれぞれ独立して炭素原子数1〜7のアルキル基、炭素原子数1〜7のアルコキシ基、炭素原子数2〜7のアルケニル基が好ましく、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルケニル基がより好ましい。R LC11 is independently preferably an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 7 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or carbon. An alkoxy group having 1 to 5 atoms and an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms are more preferable.
XLC11〜XLC1c4はそれぞれ独立して水素原子又はフッ素原子が好ましい。X LC11 to X LC1c4 are preferably each independently a hydrogen atom or a fluorine atom.
YLC11はそれぞれ独立してフッ素原子、−CF3又は−OCF3が好ましい。Each Y LC11 is preferably a fluorine atom, —CF 3 or —OCF 3 independently.
また、一般式(LC1)は、下記一般式(LC1−d)から一般式(LC1−m) In addition, the general formula (LC1) is from the following general formula (LC1-d) to the general formula (LC1-m).
(式中、RLC11、YLC11、XLC11及びXLC12はそれぞれ独立して前記一般式(LC1)におけるRLC11、YLC11、XLC11及びXLC12と同じ意味を表し、ALC1d1、ALC1f1、ALC1g1、ALC1j1、ALC1k1、ALC1k2、ALC1m1〜ALC1m3は、1,4−フェニレン基、トランス−1,4−シクロヘキシレン基、テトラヒドロピラン−2,5−ジイル基、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基を表し、XLC1d1、XLC1d2、XLC1f1、XLC1f2、XLC1g1、XLC1g2、XLC1h1、XLC1h2、XLC1i1、XLC1i2、XLC1j1〜XLC1j4、XLC1k1、XLC1k2、XLC1m1及びXLC1m2はそれぞれ独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、−CF3又は−OCF3を表し、ZLC1d1、ZLC1e1、ZLC1j1、ZLC1k1、ZLC1m1はそれぞれ独立して単結合、−CH=CH−、−CF=CF−、−C≡C−、−CH2CH2−、−(CH2)4−、−OCH2−、−CH2O−、−OCF2−、−CF2O−、−COO−又は−OCO−を表す。)で表される化合物からなる群より選ばれる1種又は2種以上の化合物であるのが好ましい。 (Wherein, R LC11, Y LC11, X LC11 and X LC12 each independently represent the same meaning as R LC11, Y LC11, X LC11 and X LC12 in the general formula (LC1), A LC1d1, A LC1f1, A LC1g1 , A LC1j1 , A LC1k1 , A LC1k2 , A LC1m1 to A LC1m3 are 1,4-phenylene group, trans-1,4-cyclohexylene group, tetrahydropyran-2,5-diyl group, 1,3- represents dioxane-2,5-diyl group, X LC1d1, X LC1d2, X LC1f1, X LC1f2, X LC1g1, X LC1g2, X LC1h1, X LC1h2, X LC1i1, X LC1i2, X LC1j1 ~X LC1j4, X LC1k1, X LC1k2, X LC1 Each 1 and X LC1m2 independently a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a -CF 3 or -OCF 3, Z LC1d1, Z LC1e1 , Z LC1j1, Z LC1k1, Z LC1m1 each independently represent a single bond, -CH = CH -, - CF = CF -, - C≡C -, - CH 2 CH 2 -, - (CH 2) 4 -, - OCH 2 -, - CH 2 O -, - OCF 2 -, - CF 2 O-, -COO-, or -OCO-) is preferable, and one or more compounds selected from the group consisting of compounds represented by
RLC11はそれぞれ独立して炭素原子数1〜7のアルキル基、炭素原子数1〜7のアルコキシ基、炭素原子数2〜7のアルケニル基が好ましく、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルケニル基がより好ましい。R LC11 is independently preferably an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 7 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or carbon. An alkoxy group having 1 to 5 atoms and an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms are more preferable.
XLC11〜XLC1m2はそれぞれ独立して水素原子又はフッ素原子が好ましい。 XLC11 to XLC1m2 are preferably each independently a hydrogen atom or a fluorine atom.
YLC11はそれぞれ独立してフッ素原子、−CF3又は−OCF3が好ましい。Each Y LC11 is preferably a fluorine atom, —CF 3 or —OCF 3 independently.
ZLC1d1〜ZLC1m1はそれぞれ独立して−CF2O−、−OCH2−が好ましい。
一般式(LC2)は、下記一般式(LC2−a)から一般式(LC2−g)Z LC1d1 ~Z LC1m1 is -CF 2 O each independently -, - OCH 2 - is preferred.
The general formula (LC2) includes the following general formula (LC2-a) to the general formula (LC2-g).
(式中、RLC21、YLC21、XLC21〜XLC23はそれぞれ独立して前記一般式(LC2)におけるRLC21、YLC21、XLC21〜XLC23と同じ意味を表し、XLC2d1〜XLC2d4、XLC2e1〜XLC2e4、XLC2f1〜XLC2f4及びXLC2g1〜XLC2g4はそれぞれ独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、−CF3又は−OCF3を表し、ZLC2a1、ZLC2b1、ZLC2c1、ZLC2d1、ZLC2e1、ZLC2f1及びZLC2g1はそれぞれ独立して単結合、−CH=CH−、−CF=CF−、−C≡C−、−CH2CH2−、−(CH2)4−、−OCH2−、−CH2O−、−OCF2−、−CF2O−、−COO−又は−OCO−を表す。)で表される化合物からなる群より選ばれる1種又は2種以上の化合物であるのが好ましい。(In the formula, R LC21 , Y LC21 , and X LC21 to X LC23 each independently represent the same meaning as R LC21 , Y LC21 , X LC21 to X LC23 in the general formula (LC2), and X LC2d1 to X LC2d4 , X LC2e1 ~X LC2e4, X LC2f1 ~X LC2f4 and X LC2g1 ~X LC2g4 are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a -CF 3 or -OCF 3, Z LC2a1, Z LC2b1 , Z LC2c1, Z LC2d1, Z LC2e1, Z LC2f1 and Z LC2g1 each independently represent a single bond, -CH = CH -, - CF = CF -, - C≡C -, - CH 2 CH 2 -, - (CH 2) 4 -, - OCH 2 -, - CH 2 O -, - OCF 2 -, - CF 2 O -, - COO- also Represents -OCO-), and is preferably one or two or more compounds selected from the group consisting of compounds represented by:
RLC21はそれぞれ独立して炭素原子数1〜7のアルキル基、炭素原子数1〜7のアルコキシ基、炭素原子数2〜7のアルケニル基が好ましく、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルケニル基がより好ましい。R LC21 is independently preferably an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 7 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or carbon. An alkoxy group having 1 to 5 atoms and an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms are more preferable.
XLC21〜XLC2g4はそれぞれ独立して水素原子又はフッ素原子が好ましく、
YLC21はそれぞれ独立してフッ素原子、−CF3又は−OCF3が好ましい。X LC21 to X LC2g4 are each independently preferably a hydrogen atom or a fluorine atom,
Y LC21 each independently a fluorine atom, -CF 3 or -OCF 3 are preferred.
ZLC2a1〜ZLC2g4はそれぞれ独立して−CF2O−、−OCH2−が好ましい。 本発明の組成物は、分子内に過酸(−CO−OO−)構造等の酸素原子同士が結合した構造を持つ化合物を含有しないことが好ましい。Z LC2a1 ~Z LC2g4 is -CF 2 O each independently -, - OCH 2 - is preferred. The composition of the present invention preferably does not contain a compound having a structure in which oxygen atoms are bonded to each other such as a peracid (—CO—OO—) structure in the molecule.
組成物の信頼性及び長期安定性を重視する場合にはカルボニル基を有する化合物の含有量を前記組成物の総質量に対して5%以下とすることが好ましく、3%以下とすることがより好ましく、1%以下とすることが更に好ましく、実質的に含有しないことが最も好ましい。 When importance is placed on the reliability and long-term stability of the composition, the content of the compound having a carbonyl group is preferably 5% or less, and more preferably 3% or less with respect to the total mass of the composition. It is more preferably 1% or less, and most preferably substantially not contained.
UV照射による安定性を重視する場合、塩素原子が置換している化合物の含有量を前記組成物の総質量に対して15%以下とすることが好ましく、10%以下とすることが好ましく、8%以下とすることが好ましく、5%以下とすることがより好ましく、3%以下とすることが好ましく、実質的に含有しないことが更に好ましい。 When importance is attached to the stability by UV irradiation, the content of the compound in which the chlorine atom is substituted is preferably 15% or less, and more preferably 10% or less with respect to the total mass of the composition. % Or less, preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and further preferably substantially not contained.
組成物の酸化による劣化を抑えるためには、環構造としてシクロヘキセニレン基を有する化合物の含有量を少なくすることが好ましく、シクロヘキセニレン基を有する化合物の含有量を前記組成物の総質量に対して10%以下とすることが好ましく、8%以下とすることが好ましく、5%以下とすることがより好ましく、3%以下とすることが好ましく、実質的に含有しないことが更に好ましい。 In order to suppress the deterioration of the composition due to oxidation, it is preferable to reduce the content of the compound having a cyclohexenylene group as a ring structure, and the content of the compound having a cyclohexenylene group to the total mass of the composition. On the other hand, it is preferably 10% or less, more preferably 8% or less, further preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and further preferably substantially not contained.
粘度の改善及びTNIの改善を重視する場合には、水素原子がハロゲンに置換されていてもよい2−メチルベンゼン−1,4−ジイル基を分子内に持つ化合物の含有量を少なくすることが好ましく、前記2−メチルベンゼン−1,4−ジイル基を分子内に持つ化合物の含有量を前記組成物の総質量に対して10%以下とすることが好ましく、8%以下とすることが好ましく、5%以下とすることがより好ましく、3%以下とすることが好ましく、実質的に含有しないことが更に好ましい。When emphasizing improvements of improvement and T NI viscosity, that a hydrogen atom to reduce the content of the compound having the optionally substituted 2-methyl-1,4-diyl group halogen in the molecule Is preferable, and the content of the compound having the 2-methylbenzene-1,4-diyl group in the molecule is preferably 10% or less, and more preferably 8% or less with respect to the total mass of the composition. It is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and further preferably substantially not contained.
本願において実質的に含有しないとは、意図せずに含有する物を除いて含有しないという意味である。 In the present application, "substantially free from" means not containing except an unintended inclusion.
本発明の第一実施形態の組成物に含有される化合物が、側鎖としてアルケニル基を有する場合、前記アルケニル基がシクロヘキサンに結合している場合には当該アルケニル基の炭素原子数は2〜5であることが好ましく、前記アルケニル基がベンゼンに結合している場合には当該アルケニル基の炭素原子数は4〜5であることが好ましく、前記アルケニル基の不飽和結合とベンゼンは直接結合していないことが好ましい。 When the compound contained in the composition of the first embodiment of the present invention has an alkenyl group as a side chain, when the alkenyl group is bonded to cyclohexane, the alkenyl group has 2 to 5 carbon atoms. When the alkenyl group is bonded to benzene, the alkenyl group preferably has 4 to 5 carbon atoms, and the unsaturated bond of the alkenyl group and benzene are directly bonded to each other. Preferably not.
本発明に使用される液晶組成物の平均弾性定数(KAVG)は10から25が好ましいが、その下限値としては、10が好ましく、10.5が好ましく、11が好ましく、11.5が好ましく、12が好ましく、12.3が好ましく、12.5が好ましく、12.8が好ましく、13が好ましく、13.3が好ましく、13.5が好ましく、13.8が好ましく、14が好ましく、14.3が好ましく、14.5が好ましく、14.8が好ましく、15が好ましく、15.3が好ましく、15.5が好ましく、15.8が好ましく、16が好ましく、16.3が好ましく、16.5が好ましく、16.8が好ましく、17が好ましく、17.3が好ましく、17.5が好ましく、17.8が好ましく、18が好ましく、その上限値としては、25が好ましく、24.5が好ましく、24が好ましく、23.5が好ましく、23が好ましく、22.8が好ましく、22.5が好ましく、22.3が好ましく、22が好ましく、21.8が好ましく、21.5が好ましく、21.3が好ましく、21が好ましく、20.8が好ましく、20.5が好ましく、20.3が好ましく、20が好ましく、19.8が好ましく、19.5が好ましく、19.3が好ましく、19が好ましく、18.8が好ましく、18.5が好ましく、18.3が好ましく、18が好ましく、17.8が好ましく、17.5が好ましく、17.3が好ましく、17が好ましい。消費電力削減を重視する場合にはバックライトの光量を抑えることが有効であり、液晶表示素子は光の透過率を向上させることが好ましく、そのためにはKAVGの値を低めに設定することが好ましい。応答速度の改善を重視する場合にはKAVGの値を高めに設定することが好ましい。 本発明の液晶組成物は、20℃における屈折率異方性(Δn)が0.08から0.14であるが、0.09から0.13がより好ましく、0.09から0.12が特に好ましい。更に詳述すると、薄いセルギャップに対応する場合は0.10から0.13であることが好ましく、厚いセルギャップに対応する場合は0.08から0.10であることが好ましい。The average elastic constant (K AVG ) of the liquid crystal composition used in the present invention is preferably 10 to 25, but the lower limit value thereof is preferably 10, preferably 10.5, preferably 11 and 11.5. , 12 is preferred, 12.3 is preferred, 12.5 is preferred, 12.8 is preferred, 13 is preferred, 13.3 is preferred, 13.5 is preferred, 13.8 is preferred, 14 is preferred, 14 .3 is preferred, 14.5 is preferred, 14.8 is preferred, 15 is preferred, 15.3 is preferred, 15.5 is preferred, 15.8 is preferred, 16 is preferred, 16.3 is preferred, 16 .5 is preferable, 16.8 is preferable, 17 is preferable, 17.3 is preferable, 17.5 is preferable, 17.8 is preferable, and 18 is preferable. 25 is preferred, 24.5 is preferred, 24 is preferred, 23.5 is preferred, 23 is preferred, 22.8 is preferred, 22.5 is preferred, 22.3 is preferred, 22 is preferred, 21.8 is Preferably, 21.5 is preferable, 21.3 is preferable, 21 is preferable, 20.8 is preferable, 20.5 is preferable, 20.3 is preferable, 20 is preferable, 19.8 is preferable, and 19.5 is preferable. Preferably, 19.3 is preferred, 19 is preferred, 18.8 is preferred, 18.5 is preferred, 18.3 is preferred, 18 is preferred, 17.8 is preferred, 17.5 is preferred, and 17.3 is preferred. 17 is preferable. When emphasizing power reduction, it is effective to suppress the amount of light of the backlight, it is preferred that the liquid crystal display device to improve the light transmittance, it To achieve this the set lower value of K AVG preferable. When the improvement of the response speed is important, it is preferable to set the value of K AVG higher. The liquid crystal composition of the present invention has a refractive index anisotropy (Δn) at 20 ° C. of 0.08 to 0.14, more preferably 0.09 to 0.13, and 0.09 to 0.12. Particularly preferred. More specifically, it is preferably 0.10 to 0.13 when it corresponds to a thin cell gap, and 0.08 to 0.10 when it corresponds to a thick cell gap.
本発明の液晶組成物は、20℃における粘度(η)が10から30mPa・sであるが、10から25mPa・sであることがより好ましく、10から22mPa・sであることが特に好ましい。 The liquid crystal composition of the present invention has a viscosity (η) at 20 ° C. of 10 to 30 mPa · s, more preferably 10 to 25 mPa · s, and particularly preferably 10 to 22 mPa · s.
本発明の液晶組成物は、20℃における回転粘性(γ1)が60から200mPa・sであるが、60から120mPa・sであることがより好ましく、60から100mPa・sであることが特に好ましい。The liquid crystal composition of the present invention has a rotational viscosity (γ 1 ) at 20 ° C. of 60 to 200 mPa · s, more preferably 60 to 120 mPa · s, and particularly preferably 60 to 100 mPa · s. .
本発明の液晶組成物は、ネマチック相−等方性液体相転移温度(Tni)が60℃から120℃であるが、70℃から100℃がより好ましく、70℃から85℃が特に好ましい。加えて、20℃においてネマチック液晶を示す事が好ましい。The liquid crystal composition of the present invention has a nematic phase-isotropic liquid phase transition temperature (T ni ) of 60 ° C. to 120 ° C., more preferably 70 ° C. to 100 ° C., particularly preferably 70 ° C. to 85 ° C. In addition, it preferably exhibits a nematic liquid crystal at 20 ° C.
本発明の液晶組成物は、上述の化合物以外に、通常のネマチック液晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶、酸化防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、重合性モノマー又は光安定剤等を含有してもよい。 本発明の化合物を含有する液晶組成物を用いた液晶表示素子は、高速応答と表示不良の抑制を両立させた有用なものであり、特に、アクティブマトリックス駆動用液晶表示素子に有用であり、VAモード、PSVAモード、PSAモード、IPSモード、FFSモード又はECBモード用等の種々のモードの液晶表示素子に適用できる。 The liquid crystal composition of the present invention may contain a normal nematic liquid crystal, a smectic liquid crystal, a cholesteric liquid crystal, an antioxidant, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, a polymerizable monomer or a light stabilizer in addition to the above compounds. Good. A liquid crystal display device using a liquid crystal composition containing the compound of the present invention is useful for achieving both high-speed response and suppression of display defects, and is particularly useful for an active matrix driving liquid crystal display device. It can be applied to liquid crystal display elements of various modes such as mode, PSVA mode, PSA mode, IPS mode, FFS mode, ECB mode and the like.
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「%」は『質量%』を意味する。相転移温度の測定は温度調節ステージを備えた偏光顕微鏡及び示差走査熱量計(DSC)を併用して行った。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Moreover, "%" in the compositions of the following Examples and Comparative Examples means "mass%". The phase transition temperature was measured by using a polarization microscope equipped with a temperature control stage and a differential scanning calorimeter (DSC) together.
Tn−iはネマチック相−等方相の転移温度を表す。T n-i represents a nematic phase-isotropic phase transition temperature.
化合物記載に下記の略号を使用する。
THF:テトラヒドロフラン
LDA:リチウム ジイソプロピルアミド
Me:メチル基、Et:エチル基、Pr:n−プロピル基、Bu:n−ブチル基、
Pent:n−ペンチル基
(実施例1)化合物1−2−5の合成The following abbreviations are used in the description of compounds.
THF: tetrahydrofuran LDA: lithium diisopropylamide Me: methyl group, Et: ethyl group, Pr: n-propyl group, Bu: n-butyl group,
Pent: n-Pentyl Group (Example 1) Synthesis of Compound 1-2-5
(化合物1−2−5の合成)
窒素雰囲気下、撹拌装置、温度計、滴下ロートを備えた反応容器に、LDA(15.8g)およびTHF(120ml)を加え、−15℃に冷却した。1.6Mブチルリチウム/ヘキサン溶液(86.7ml)を−15℃にて滴下し、1時間攪拌し、次にあらかじめTHF(25ml)に溶解しておいた化合物1−1−5(25.0g)およびホウ酸トリイソプロピル(29.4g)を−5℃にて同時に滴下し、1時間攪拌した。この反応混合物を0℃に昇温した後、10%塩酸(120ml)を加えて攪拌し、有機層を分けとった。さらに水層をトルエン(100ml)で抽出した。得られた有機層を合わせた後、水と飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。得られた溶液を濃縮し、化合物2の粗体(31.0g)を得た。ヘキサン/酢酸エチル混合溶媒を用いて再結晶を行うことで、化合物1−2−5(16.4g)を得た。
(実施例2〜18)化合物1−2−0〜化合物4−2−8の合成
実施例1と同様の反応、および必要に応じて公知の方法に準拠した方法を用いて、実施例2(化合物1−2−0)〜実施例18(化合物3−2−8)を合成した。(Synthesis of Compound 1-2-5)
Under a nitrogen atmosphere, LDA (15.8 g) and THF (120 ml) were added to a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a dropping funnel, and cooled to -15 ° C. A 1.6 M butyllithium / hexane solution (86.7 ml) was added dropwise at -15 ° C., the mixture was stirred for 1 hour, and then compound 1-1-5 (25.0 g) previously dissolved in THF (25 ml). ) And triisopropyl borate (29.4 g) were simultaneously added dropwise at -5 ° C, and the mixture was stirred for 1 hour. The reaction mixture was heated to 0 ° C., 10% hydrochloric acid (120 ml) was added and the mixture was stirred, and the organic layer was separated. Further, the aqueous layer was extracted with toluene (100 ml). The obtained organic layers were combined, washed with water and saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and dried. The resulting solution was concentrated to obtain a crude compound 2 (31.0 g). Compound 1-2-5 (16.4 g) was obtained by recrystallizing using a hexane / ethyl acetate mixed solvent.
(Examples 2 to 18) Synthesis of compound 1-2-0 to compound 4-2-8 Example 2 (using the same reaction as in Example 1 and, if necessary, a method in accordance with a known method, Compound 1-2-0) to Example 18 (Compound 3-2-8) were synthesized.
(実施例19)化合物1−5−5の合成 (Example 19) Synthesis of compound 1-5-5
(化合物1−4−5の合成)
窒素雰囲気下、撹拌装置、温度計、滴下ロート、冷却管を備えた反応容器に、3−フルオロ−2−ヒドロキシクロロベンゼン(6.1g)、ビス(ジターシャリーブチル(4−ジメチルアミノフェニル)ホスフィン)塩化パラジウム(II)錯体(0.88g)、THF(50ml)および2M炭酸セシウム水溶液(40ml)を加え、攪拌しながら60℃に昇温した。反応混合物にあらかじめTHF(45ml)に溶解しておいた化合物1−3−5(15.2g)を滴下した。60℃で7時間攪拌後、加熱を止め溶液温度を室温に戻した。その後、10%塩酸(50ml)を加えた。有機層を分けとり、さらに水層をトルエン(50ml)で再抽出した。得られた有機層を合わせた後、水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。得られた溶液を濃縮後、トルエン(40ml)を加えて溶解した溶液を、シリカゲル(10g)を詰めたカラムを通過させ、さらにトルエン(60ml)を通過させた。得られたカラム通過溶液を濃縮し、化合物1−4−5(17.6g)を得た。(Synthesis of Compound 1-4-5)
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel, and a condenser under a nitrogen atmosphere, 3-fluoro-2-hydroxychlorobenzene (6.1 g), bis (ditertiarybutyl (4-dimethylaminophenyl) phosphine) Palladium (II) chloride complex (0.88 g), THF (50 ml) and 2M cesium carbonate aqueous solution (40 ml) were added, and the temperature was raised to 60 ° C. with stirring. Compound 1-3-5 (15.2 g) previously dissolved in THF (45 ml) was added dropwise to the reaction mixture. After stirring at 60 ° C. for 7 hours, heating was stopped and the solution temperature was returned to room temperature. Then, 10% hydrochloric acid (50 ml) was added. The organic layer was separated, and the aqueous layer was reextracted with toluene (50 ml). After the obtained organic layers were combined, they were washed with water and saturated brine in that order, and anhydrous sodium sulfate was added to dry them. After concentrating the obtained solution, toluene (40 ml) was added and dissolved, and the solution was passed through a column packed with silica gel (10 g), and then toluene (60 ml) was passed through. The resulting column passing solution was concentrated to obtain compound 1-4-5 (17.6 g).
(化合物1−5−5の合成)
窒素雰囲気下、撹拌装置、温度計、滴下ロート、冷却管を備えた反応容器に、水素化ナトリウム(60%ミネラルオイル分散)(2.5g)およびDMF(30ml)を加え、攪拌しながら氷冷した。そこにあらかじめDMF(90ml)に溶解しておいた化合物1−4−5(17.6g)を滴下した。その後室温に戻し、1時間かけて溶液温度を50℃に加熱した。その後さらに1.5時間かけて溶液温度を105℃まで加熱した。105℃で8時間攪拌後、溶液温度を10℃以下まで冷却した。反応溶液に水(250ml)を加えた。結晶をろ過し、メタノールで洗浄し、真空乾燥した。得られた結晶にトルエン(17ml)を加えて溶解した溶液を、シリカゲル(10g)を詰めたカラムを通過させ、さらにトルエン(60ml)を通過させた。得られたカラム通過溶液を濃縮し、化合物1−5−5(7.2g)を得た。
(実施例20)化合物1−7−205の合成(Synthesis of Compound 1-5-5)
Under a nitrogen atmosphere, sodium hydride (60% mineral oil dispersion) (2.5 g) and DMF (30 ml) were added to a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel, and a cooling tube, and ice-cooled with stirring. did. Compound 1-4-5 (17.6 g) previously dissolved in DMF (90 ml) was added dropwise thereto. Then, the temperature was returned to room temperature and the solution temperature was heated to 50 ° C. over 1 hour. Then, the solution temperature was heated to 105 ° C. over another 1.5 hours. After stirring at 105 ° C for 8 hours, the solution temperature was cooled to 10 ° C or lower. Water (250 ml) was added to the reaction solution. The crystals were filtered, washed with methanol and dried under vacuum. Toluene (17 ml) was added to the obtained crystals and dissolved, and the solution was passed through a column packed with silica gel (10 g), and then toluene (60 ml) was passed through. The resulting column passing solution was concentrated to obtain compound 1-5-5 (7.2 g).
(Example 20) Synthesis of compound 1-7-205
(化合物1−6−5の合成)
実施例19と同様の方法で、化合物1−5−5を得た。(Synthesis of Compound 1-6-5)
Compound 1-5-5 was obtained in the same manner as in Example 19.
窒素雰囲気下、撹拌装置、温度計、滴下ロートを備えた反応容器に、ジイソプロピルアミン(3.3g)およびTHF(30ml)を加え、−10℃に冷却した。1.6Mブチルリチウム/ヘキサン溶液(17.7ml)を−10℃にて滴下し、1時間攪拌し、次にあらかじめTHF(25ml)に溶解しておいた化合物1−5−5(7.2g)およびホウ酸トリイソプロピル(6.1g)を−10℃にて同時に滴下し、1時間攪拌した。この反応混合物を0℃に昇温した後、10%塩酸(100ml)を加えて攪拌し、有機層を分けとった。撹拌装置、温度計、滴下ロートを備えた反応容器に該有機層を加え、30%過酸化水素水(10ml)を滴下した。室温で1時間攪拌後、溶液温度を0℃に冷却し、15%チオ硫酸ナトリウム水溶液(100ml)を加えた。有機層を分け取り、さらに水層をトルエン(50ml)で抽出した。得られた有機層を合わせた後、水と飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。得られた溶液を濃縮し、化合物1−6−5(7.3g)を得た。 Under a nitrogen atmosphere, diisopropylamine (3.3 g) and THF (30 ml) were added to a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a dropping funnel, and cooled to -10 ° C. A 1.6 M butyllithium / hexane solution (17.7 ml) was added dropwise at -10 ° C, the mixture was stirred for 1 hour, and then compound 1-5-5 (7.2 g) previously dissolved in THF (25 ml). ) And triisopropyl borate (6.1 g) were simultaneously added dropwise at −10 ° C., and the mixture was stirred for 1 hour. The reaction mixture was heated to 0 ° C., 10% hydrochloric acid (100 ml) was added and the mixture was stirred, and the organic layer was separated. The organic layer was added to a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a dropping funnel, and 30% hydrogen peroxide solution (10 ml) was added dropwise. After stirring at room temperature for 1 hour, the solution temperature was cooled to 0 ° C., and a 15% sodium thiosulfate aqueous solution (100 ml) was added. The organic layer was separated, and the aqueous layer was extracted with toluene (50 ml). The obtained organic layers were combined, washed with water and saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and dried. The obtained solution was concentrated to give compound 1-6-5 (7.3 g).
(化合物1−7−205の合成)
窒素雰囲気下、撹拌装置、温度計、滴下ロート、冷却管を備えた反応容器に、化合物1−6−5(5.0g)、ヨウ化エチル(2.5g)、炭酸セシウム(5.4g)およびDMF(15ml)を加え、攪拌しながら60℃に加熱した。60℃で1.5時間攪拌後、溶液温度を10℃以下まで冷却した。反応溶液に水(50ml)およびトルエン(30ml)を加えた。有機層を分けとり、さらに水層をトルエン(30ml)で再抽出した。得られた有機層を合わせた後、水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。得られた溶液を濃縮後、ヘキサン/トルエン混合溶媒(体積比1/1)(20ml)を加えて50℃で溶解した溶液を、シリカゲル(5.5g)を詰め50℃に加温したカラムを通過させ、ヘキサン/トルエン混合溶媒(体積比1/1)(30ml)を通過させた。得られたカラム通過溶液を濃縮し、化合物1−7−205の粗体(5.0g)を得た。アセトン/メタノール混合溶媒を用いて再結晶を繰り返すことで、化合物1−7−205(1.0g)を得た。相転移温度はCr87Iso。
(実施例21〜181)化合物1−5−0〜化合物3−7−808の合成
実施例19、実施例20と同様の反応、および必要に応じて公知の方法に準拠した方法を用いて、実施例21(化合物1−5−0)〜実施例351(化合物4−7−808)を合成した。(Synthesis of Compound 1-7-205)
Under a nitrogen atmosphere, in a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel, and a condenser, compound 1-6-5 (5.0 g), ethyl iodide (2.5 g), cesium carbonate (5.4 g). And DMF (15 ml) were added and heated to 60 ° C. with stirring. After stirring at 60 ° C for 1.5 hours, the solution temperature was cooled to 10 ° C or lower. Water (50 ml) and toluene (30 ml) were added to the reaction solution. The organic layer was separated, and the aqueous layer was reextracted with toluene (30 ml). After the obtained organic layers were combined, they were washed with water and saturated brine in that order, and anhydrous sodium sulfate was added to dry them. After concentrating the obtained solution, hexane / toluene mixed solvent (volume ratio 1/1) (20 ml) was added and dissolved at 50 ° C. The solution was packed with silica gel (5.5 g) and heated to 50 ° C. Then, a mixed solvent of hexane / toluene (volume ratio 1/1) (30 ml) was passed. The obtained column passing solution was concentrated to obtain a crude product of compound 1-7-205 (5.0 g). Compound 1-7-205 (1.0 g) was obtained by repeating recrystallization using an acetone / methanol mixed solvent. The phase transition temperature is Cr87Iso.
(Examples 21 to 181) Synthesis of compound 1-5-0 to compound 3-7-808 Using a reaction similar to that in Example 19, Example 20, and, if necessary, a method according to a known method, Example 21 (Compound 1-5-0) to Example 351 (Compound 4-7-808) were synthesized.
(実施例352)液晶組成物の調製−1
以下の物性値を示すホスト液晶(H)
を調製した。値はいずれも実測値である。(Example 352) Preparation of liquid crystal composition-1
Host liquid crystal (H) showing the following physical properties
Was prepared. All values are measured values.
Tn−i(ネマチック相−等方性液体相転移温度):73.8℃
Δε(25℃における誘電率異方性) :−2.79
Δn(25℃における屈折率異方性) :0.101
γ1 (25℃における回転粘性係数):118
この母体液晶(H)97%と、実施例1で得られた化合物(1−7−205)3%からなる液晶組成物(M−A)を調製した。この組成物(M−A)のTn−i、Δε、Δn及びγ1の値を測定し母体液晶からの変化量をもとに、実施例1で得られた化合物(1−7−205)の各物性値の外挿値を求めると、以下のとおりであった。T n-i (nematic phase-isotropic liquid phase transition temperature): 73.8 ° C
Δε (dielectric anisotropy at 25 ° C.): −2.79
Δn (refractive index anisotropy at 25 ° C.): 0.101
γ 1 (rotational viscosity coefficient at 25 ° C.): 118
A liquid crystal composition (MA) consisting of 97% of the base liquid crystal (H) and 3% of the compound (1-7-205) obtained in Example 1 was prepared. The values of T n-i , Δε, Δn and γ 1 of this composition (MA) were measured, and based on the amount of change from the host liquid crystal, the compound (1-7-205) obtained in Example 1 was used. The extrapolated value of each physical property value in () was as follows.
外挿Tn−i:23.8℃
外挿Δε:−14.6
外挿Δn:0.167
外挿γ1:376mPa・s
また、調製した液晶組成物(M−A)は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持した。Extrapolation Tn -i : 23.8 degreeC.
Extrapolation Δε: -14.6
Extrapolation Δn: 0.167
Extrapolation γ 1 : 376 mPa · s
The prepared liquid crystal composition (MA) maintained a uniform nematic liquid crystal state for one month or more at room temperature.
さらに、液晶組成物(M−A)を用いて作製した液晶表示装置は、優れた表示特性を示し、長期にわたり安定な表示特性を保ち、高い信頼性を示した。 Further, the liquid crystal display device manufactured using the liquid crystal composition (MA) showed excellent display characteristics, maintained stable display characteristics for a long period of time, and showed high reliability.
(実施例353)液晶組成物の調製―2
母体液晶(H)95%と、実施例60で得られた化合物(1−7−405)5%からなる液晶組成物(M−B)を調製した。この組成物(M−B)より、実施例60で得られた化合物(1−7−405)の外挿Tn−i、外挿Δε、外挿Δn、外挿γ1の値は以下のとおりである。(Example 353) Preparation of liquid crystal composition-2
A liquid crystal composition (MB) consisting of 95% of the base liquid crystal (H) and 5% of the compound (1-7-405) obtained in Example 60 was prepared. From this composition (MB), the values of extrapolation T n-i , extrapolation Δε, extrapolation Δn, and extrapolation γ 1 of the compound (1-7-405) obtained in Example 60 were as follows. It is as follows.
外挿Tn−i:21.8℃
外挿Δε:−14.0
外挿Δn:0.158
外挿γ1:360mPa・s
また、調製した液晶組成物(M−B)は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持した。Extrapolation T n-i : 21.8 ° C
Extrapolation Δε: -14.0
Extrapolation Δn: 0.158
Extrapolation γ 1 : 360 mPa · s
Moreover, the prepared liquid crystal composition (MB) maintained a uniform nematic liquid crystal state for one month or more at room temperature.
さらに、液晶組成物(M−B)を用いて作製した液晶表示装置は、優れた表示特性を示し、長期にわたり安定な表示特性を保ち、高い信頼性を示した。 Further, the liquid crystal display device produced using the liquid crystal composition (MB) showed excellent display characteristics, maintained stable display characteristics for a long period of time, and showed high reliability.
(比較例1)液晶組成物の調製―3
母体液晶(H)85%と、以下に示す化合物(A)15%からなる液晶組成物(M−C)を調製した。(Comparative Example 1) Preparation of liquid crystal composition-3
A liquid crystal composition (MC) comprising 85% of the base liquid crystal (H) and 15% of the compound (A) shown below was prepared.
この組成物(M−C)より、上記化合物(A)の外挿Tn−i、外挿Δε、外挿Δn、外挿γ1の値は以下のとおりである。From this composition (MC), the values of extrapolation T n-i , extrapolation Δε, extrapolation Δn, and extrapolation γ 1 of the compound (A) are as follows.
外挿Tn−i:18.3℃
外挿Δε:−15.7
外挿Δn:0.184
外挿γ1:241mPa・s
上記結果を実施例352および実施例353と比較するとΔεは同程度でありながら、Tn−iが低いことが分かる。Extrapolation Tn -i : 18.3 degreeC.
Extrapolation Δε: -15.7
Extrapolation Δn: 0.184
Extrapolation γ 1 : 241 mPa · s
Comparing the above results with Example 352 and Example 353, it can be seen that Δn is similar, but T n-i is low.
(比較例2)液晶組成物の調製―4
母体液晶(H)85%と、以下に示す化合物(B)15%からなる液晶組成物(M−D)を調製した。(Comparative Example 2) Preparation of liquid crystal composition-4
A liquid crystal composition (MD) comprising 85% of the base liquid crystal (H) and 15% of the following compound (B) was prepared.
この組成物(M−D)より、上記化合物(B)の外挿Tn−i、外挿Δε、外挿Δn、外挿γ1の値は以下のとおりである。From the composition (MD), the values of extrapolation T n-i , extrapolation Δε, extrapolation Δn, and extrapolation γ 1 of the compound (B) are as follows.
外挿Tn−i:3.2℃
外挿Δε:−9.7
外挿Δn:0.073
外挿γ1:94mPa・s
上記結果を実施例352および実施例353と比較すると|Δε|が大幅に小さくなり、Tn−iも大幅に低いことが分かる。Extrapolation Tn -i : 3.2 degreeC.
Extrapolation Δε: -9.7
Extrapolation Δn: 0.073
Extrapolation γ 1 : 94 mPa · s
Comparing the above results with Example 352 and Example 353, it can be seen that | Δε | is significantly reduced and T n−i is also significantly low.
Claims (7)
Yi1及びYi2はそれぞれ独立して−O−を表し、
Wi1は−CH2CH2−を表し、
Wi2は単結合を表し、
Li1及びLi2はそれぞれ独立して水素原子、炭素原子数1から15のアルキル基、炭素原子数2から15のアルケニル基を表し、L i1 及びL i2 中に存在する1個の−CH 2 −又は隣接していない2個以上の−CH 2 −は−O−により置き換えられても良く、また、アルキル基又はアルケニル基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されても良く、
Li3、Li4及びLi5はそれぞれ独立して水素原子を表す。)
で表される化合物。 General formula (i)
Y i1 and Y i2 each independently represent -O-,
W i1 represents —CH 2 CH 2 —,
W i2 represents a single bond,
L i1 and L i2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 15 carbon atoms , and one —CH 2 present in L i1 and L i2. - or nonadjacent two or more -CH 2 - may be replaced by -O-, Further, the hydrogen atoms present in the alkyl or alkenyl group may be substituted by a fluorine atom,
L i3 , L i4 and L i5 each independently represent a hydrogen atom . )
The compound represented by.
で表される化合物中のOH基が塩基により脱プロトン化されて生成したO‐が分子内反応することによる、一般式(i)で表される化合物の製造方法。 General formula (i-r3)
Process for preparing a compound which is due to reaction molecules, represented by the general formula (i) - OH group in the compound in represented by the O produced is deprotonated by a base.
Ri3及びRi4はそれぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、もしくはプロピル基を表すか、またはRi3及びRi4は互いに結合して環状の構造となり−CH2−CH2−、−CH2−CH2−CH2−、又は−CH2−C(CH3)2−CH2−を表し、
破線は結合が存在しなくても良く、存在しても良いことを表す。)
で表される化合物と、一般式(i−r2)
Xi3は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表す。)
で表される化合物を遷移金属触媒及び塩基存在下反応させることにより、一般式(i−r3)で表される化合物を得る、請求項5に記載の製造方法。 General formula (i-r1)
R i3 and R i4 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a propyl group, or R i3 and R i4 are bonded to each other to form a cyclic structure —CH 2 —CH 2 —, —CH. 2 -CH 2 -CH 2 -, or -CH 2 -C (CH 3) 2 -CH 2 - represents,
The broken line indicates that the bond may or may not exist. )
And a compound represented by the general formula (i-r2)
X i3 represents a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a methanesulfonyloxy group, a p-toluenesulfonyloxy group or a trifluoromethanesulfonyloxy group. )
The production method according to claim 5 , wherein the compound represented by the formula (i-r3) is obtained by reacting the compound represented by the formula (1) in the presence of a transition metal catalyst and a base.
で表される化合物。 General formula (i-r3)
The compound represented by.
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