JP6672789B2 - Photocurable composition - Google Patents

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本発明は、光硬化性組成物に関し、特に、活性エネルギー線照射前後の作業性に優れ、短時間で硬化可能な光硬化性組成物に関する。   The present invention relates to a photocurable composition, and more particularly to a photocurable composition which has excellent workability before and after irradiation with active energy rays and can be cured in a short time.

ケイ素原子に結合した水酸基または加水分解性基を有し、シロキサン結合を形成することにより架橋し得るケイ素含有基(以下、「架橋性珪素基」ともいう。)を有する有機重合体は、室温においても湿分等による架橋性珪素基の加水分解反応等を伴うシロキサン結合の形成によって架橋し、ゴム状硬化物が得られるという性質を有することが知られている。これらの架橋性珪素基を有する重合体中で、主鎖骨格がポリオキシアルキレン系重合体または(メタ)アクリル酸エステル系重合体である有機重合体は、シーリング材、接着剤、塗料などの用途に広く使用されている。   An organic polymer having a hydroxyl group or a hydrolyzable group bonded to a silicon atom and having a silicon-containing group that can be crosslinked by forming a siloxane bond (hereinafter, also referred to as “crosslinkable silicon group”) at room temperature It is also known that they have the property of being crosslinked by the formation of a siloxane bond accompanied by a hydrolysis reaction of the crosslinkable silicon group due to moisture or the like, thereby obtaining a rubber-like cured product. Among these polymers having a crosslinkable silicon group, an organic polymer whose main chain skeleton is a polyoxyalkylene polymer or a (meth) acrylate polymer is used for sealing materials, adhesives, paints, and the like. Widely used for.

シーリング材、接着剤、塗料などに用いられる硬化性組成物および硬化によって得られるゴム状硬化物には、硬化性、接着性、貯蔵安定性、モジュラス・強度・伸び等の機械特性等の種々の特性が要求されており、架橋性珪素基を含有する有機重合体に関しても、これまでに多くの検討がなされている。近年、電子部品・電子機器組立分野等の種々の分野において、速硬化性が求められているが、湿気硬化型接着剤の場合、塗布後の貼り合わせ可能時間が短くなるという問題がある。   Curable compositions used for sealing materials, adhesives, paints, and rubber-like cured products obtained by curing include various properties such as curability, adhesion, storage stability, and mechanical properties such as modulus, strength, and elongation. Properties are required, and many studies have been made on organic polymers containing a crosslinkable silicon group. In recent years, in various fields such as the field of assembling electronic components and electronic devices, quick curing has been required. However, in the case of a moisture-curable adhesive, there is a problem that the bonding time after application becomes short.

一方、架橋性珪素基を含有する有機重合体を用いた光架橋性組成物として、特許文献1は、一分子中に2個以上の加水分解性シリル基を有するポリマー、及び光照射により該ポリマーを架橋させる化合物、を含有してなる光架橋性組成物を開示しており、光照射によりポリマーを架橋させる化合物として、光を照射されることにより酸、あるいは塩基を発生させる化合物を含有する光架橋性組成物を例示している(特許文献1、請求項1〜3)。   On the other hand, as a photocrosslinkable composition using an organic polymer containing a crosslinkable silicon group, Patent Document 1 discloses a polymer having two or more hydrolyzable silyl groups in one molecule, and a polymer obtained by irradiation with light. A photo-crosslinkable composition comprising a compound that crosslinks a polymer, and a compound that generates an acid or a base when irradiated with light as a compound that crosslinks a polymer by light irradiation. It illustrates a crosslinkable composition (Patent Document 1, Claims 1 to 3).

しかしながら、特許文献1記載の組成物において、光照射によりポリマーを架橋させる化合物として光酸発生剤を用いた場合、サビを生じるという問題があり、また、光照射によりポリマーを架橋させる化合物として光塩基発生剤を用いた場合、硬化に長時間を要し、硬化反応も不十分となる場合があった。   However, in the composition described in Patent Document 1, when a photoacid generator is used as a compound that crosslinks a polymer by light irradiation, there is a problem that rust is generated, and a photobase is used as a compound that crosslinks a polymer by light irradiation. When a generator was used, a long time was required for curing, and the curing reaction was sometimes insufficient.

光塩基発生剤を用いた光硬化性組成物については、特許文献1等種々の発明が開示されているが、通常、硬化に長時間を要しており、現在実用化には至っていない。また、従来の光硬化性組成物は、硬化物の硬化厚みが薄く、タクトタイムの短縮やポッティング等、用途によって求められる短時間での厚み硬化性が不足する場合があった。   Various inventions such as Patent Literature 1 are disclosed for a photocurable composition using a photobase generator, but usually require a long time for curing and have not yet been put to practical use. In addition, the conventional photocurable composition has a small cured thickness of the cured product, and sometimes lacks the short-time thickness curability required for an application such as shortening of tact time or potting.

特開2001−172514号公報JP 2001-172514 A

本発明は、活性エネルギー線照射前には空気中に暴露しても硬化しないため十分な作業時間をとることができ、活性エネルギー線照射により硬化する光硬化性組成物であって、活性エネルギー線照射後の貼り合わせ可能時間を十分に有しており、短時間での厚み硬化性に優れ、電気・電子部品等の接着に用いた場合であってもサビを生じることがなく、従来の光硬化性組成物よりも短時間で硬化が可能な光硬化性組成物を提供することにある。   The present invention is a photocurable composition that can be cured by exposure to active energy rays because it does not cure even when exposed to air before irradiation with active energy rays, and thus can take a sufficient working time. It has a sufficient bonding time after irradiation, excellent thickness curability in a short time, no rust even when used for bonding electric and electronic parts, etc. An object of the present invention is to provide a photocurable composition that can be cured in a shorter time than a curable composition.

上記課題を解決するために、本発明の光硬化性組成物は、(A)架橋性珪素基含有有機重合体と、(B)光塩基発生剤と、(C)Si−F結合を有するケイ素化合物と、を含有することを特徴とする。   In order to solve the above problems, the photocurable composition of the present invention comprises (A) a crosslinkable silicon group-containing organic polymer, (B) a photobase generator, and (C) silicon having a Si—F bond. And a compound.

本発明の硬化性組成物は、(D)活性エネルギー線開裂型ラジカル発生剤をさらに含有することが好適である。   The curable composition of the present invention preferably further contains (D) an active energy ray-cleavable radical generator.

前記(B)光塩基発生剤が、光潜在性第3級アミンであることが好ましい。なお、本発明において、活性エネルギー線の作用によりアミン化合物を発生する物質を光潜在性アミン化合物と称する。また、活性エネルギー線の作用により、第1級アミノ基を有するアミン化合物を発生する物質を光潜在性第1級アミンと、第2級アミノ基を有するアミン化合物を発生する物質を光潜在性第2級アミンと、第3級アミノ基を有するアミン化合物を発生する物質を光潜在性第3級アミンと、それぞれ称する。   The photobase generator (B) is preferably a photolatent tertiary amine. In the present invention, a substance that generates an amine compound by the action of an active energy ray is referred to as a photolatent amine compound. Further, a substance capable of generating an amine compound having a primary amino group by the action of an active energy ray is referred to as a photolatent primary amine and a substance capable of generating an amine compound having a secondary amino group is referred to as a photolatent primary amine. A substance that generates a secondary amine and an amine compound having a tertiary amino group is referred to as a photolatent tertiary amine, respectively.

前記(A)架橋性珪素基含有有機重合体が、1分子中に平均して0.8個以上の架橋性珪素基を含有するポリオキシアルキレン系重合体、1分子中に平均して0.8個以上の架橋性珪素基を含有する飽和炭化水素系重合体、及び1分子中に平均して0.8個以上の架橋性珪素基を含有する(メタ)アクリル酸エステル系重合体からなる群から選択される1種以上であることが好ましい。   The above (A) the crosslinkable silicon group-containing organic polymer is a polyoxyalkylene polymer containing 0.8 or more crosslinkable silicon groups in one molecule on average, and 0.1% in one molecule. It is composed of a saturated hydrocarbon polymer containing at least 8 crosslinkable silicon groups and a (meth) acrylate polymer containing at least 0.8 crosslinkable silicon groups per molecule on average. It is preferable that at least one member is selected from the group.

本発明の硬化性組成物は、塩基増殖剤をさらに含有することが好適である。   The curable composition of the present invention preferably further contains a base proliferating agent.

本発明の硬化性組成物は、導電性フィラーをさらに含有することが好適である。   The curable composition of the present invention preferably further contains a conductive filler.

本発明の硬化物の製造方法は、本発明の光硬化性組成物に対し、光を照射することにより硬化物を形成することを特徴とする。
本発明の硬化物は、本発明の硬化物の製造方法により形成されてなる硬化物である。
The method for producing a cured product of the present invention is characterized by forming a cured product by irradiating the photocurable composition of the present invention with light.
The cured product of the present invention is a cured product formed by the method for producing a cured product of the present invention.

本発明の製品の製造方法は、本発明の光硬化性組成物を用いて製品を製造することを特徴とする。   The method for producing a product of the present invention is characterized by producing a product using the photocurable composition of the present invention.

本発明の製品の第一の態様は、本発明の製品の製造方法により製造されてなる製品である。本発明の製品の第二の態様は、本発明の硬化物の製造方法を用いて製造されてなる製品である。本発明の製品の第三の態様は、本発明の光硬化性組成物を接着剤として用いてなる製品である。本発明の製品の第四の態様は、本発明の光硬化性組成物をコーティング剤として用いてなる製品である。   A first aspect of the product of the present invention is a product manufactured by the method for manufacturing a product of the present invention. A second aspect of the product of the present invention is a product produced by using the method for producing a cured product of the present invention. A third aspect of the product of the present invention is a product using the photocurable composition of the present invention as an adhesive. A fourth aspect of the product of the present invention is a product using the photocurable composition of the present invention as a coating agent.

本発明によれば、活性エネルギー線未照射時は硬化せず、活性エネルギー線照射により硬化する光硬化性組成物であって、活性エネルギー線照射直後は液状であるため、被着体へのぬれ性に優れ、適当な貼り合わせ可能時間を確保しつつ、短時間での厚み硬化性に優れており、短時間での硬化性に優れる光硬化性組成物を提供することができる。また、本発明の光硬化性組成物は、電気・電子部品等の接着に使用した場合であってもサビを生じることがない。   According to the present invention, the photocurable composition is not cured when not irradiated with active energy rays, and is cured by being irradiated with active energy rays. It is possible to provide a photocurable composition that is excellent in curability, has excellent thickness curability in a short time, and has excellent curability in a short time, while ensuring an appropriate bonding time. Further, the photocurable composition of the present invention does not cause rust even when used for bonding electric and electronic parts.

以下に本発明の実施の形態を説明するが、これらは例示的に示されるもので、本発明の技術思想から逸脱しない限り種々の変形が可能なことはいうまでもない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described. However, these are exemplarily shown, and it goes without saying that various modifications can be made without departing from the technical idea of the present invention.

本発明の光硬化性組成物は、(A)架橋性珪素基含有有機重合体と、(B)光塩基発生剤と、(C)Si−F結合を有する化合物と、を含有するものである。   The photocurable composition of the present invention comprises (A) a crosslinkable silicon-group-containing organic polymer, (B) a photobase generator, and (C) a compound having a Si—F bond. .

前記(A)架橋性珪素基含有有機重合体としては、架橋性珪素基を有する有機重合体であれば特に制限はないが、主鎖がポリシロキサンでない有機重合体であり、ポリシロキサンを除く各種の主鎖骨格を持つものは、接点障害の要因となる低分子環状シロキサンを含有もしくは発生させない点で好適である。   The (A) crosslinkable silicon group-containing organic polymer is not particularly limited as long as it is an organic polymer having a crosslinkable silicon group. Those having the main chain skeleton are preferable because they do not contain or generate a low molecular cyclic siloxane that causes a contact obstacle.

具体的には、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン、ポリオキシテトラメチレン、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン共重合体、ポリオキシプロピレン−ポリオキシブチレン共重合体等のポリオキシアルキレン系重合体;エチレン−プロピレン系共重合体、ポリイソブチレン、イソブチレンとイソプレン等との共重合体、ポリクロロプレン、ポリイソプレン、イソプレンあるいはブタジエンとアクリロニトリルおよび/またはスチレン等との共重合体、ポリブタジエン、イソプレンあるいはブタジエンとアクリロニトリル及びスチレン等との共重合体、これらのポリオレフィン系重合体に水素添加して得られる水添ポリオレフィン系重合体等の炭化水素系重合体;アジピン酸等の2塩基酸とグリコールとの縮合、または、ラクトン類の開環重合で得られるポリエステル系重合体;エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート等のモノマーをラジカル重合して得られる(メタ)アクリル酸エステル系重合体;(メタ)アクリル酸エステル系モノマー、酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチレン等のモノマーをラジカル重合して得られるビニル系重合体;前記有機重合体中でのビニルモノマーを重合して得られるグラフト重合体;ポリサルファイド系重合体;ε−カプロラクタムの開環重合によるナイロン6、ヘキサメチレンジアミンとアジピン酸の縮重合によるナイロン6・6、ヘキサメチレンジアミンとセバシン酸の縮重合によるナイロン6・10、ε−アミノウンデカン酸の縮重合によるナイロン11、ε−アミノラウロラクタムの開環重合によるナイロン12、上記のナイロンのうち2成分以上の成分を有する共重合ナイロン等のポリアミド系重合体;たとえばビスフェノールAと塩化カルボニルより縮重合して製造されるポリカーボネート系重合体、ジアリルフタレート系重合体等が例示される。   Specifically, polyoxyalkylene-based polymers such as polyoxyethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, polyoxytetramethylene, polyoxyethylene-polyoxypropylene copolymer, and polyoxypropylene-polyoxybutylene copolymer Copolymer; ethylene-propylene copolymer, polyisobutylene, copolymer of isobutylene and isoprene, polychloroprene, polyisoprene, isoprene or copolymer of butadiene with acrylonitrile and / or styrene, polybutadiene, isoprene or butadiene Copolymers of acrylonitrile and styrene, etc., hydrocarbon polymers such as hydrogenated polyolefin polymers obtained by hydrogenating these polyolefin polymers; dibasic acids such as adipic acid and glycol Polyester polymer obtained by condensation or ring-opening polymerization of lactones; (meth) acrylate polymer obtained by radical polymerization of monomers such as ethyl (meth) acrylate and butyl (meth) acrylate; (Meth) acrylic ester monomers, vinyl polymers obtained by radical polymerization of monomers such as vinyl acetate, acrylonitrile, and styrene; graft polymers obtained by polymerizing vinyl monomers in the organic polymer; polysulfide-based polymers Polymer: Nylon 6 by ring-opening polymerization of ε-caprolactam, Nylon 6.6 by condensation polymerization of hexamethylenediamine and adipic acid, Nylon 6.6 by condensation polymerization of hexamethylenediamine and sebacic acid, and ε-aminoundecanoic acid Nylon 11 by condensation polymerization, ε-amino laurolacta Polyamide polymers such as nylon 12 obtained by ring-opening polymerization of nylon and copolymerized nylon having two or more of the above-mentioned nylons; for example, polycarbonate polymers produced by condensation polymerization of bisphenol A and carbonyl chloride, diallyl Examples include phthalate-based polymers.

さらに、ポリイソブチレン、水添ポリイソプレン、水添ポリブタジエン等の飽和炭化水素系重合体や、ポリオキシアルキレン系重合体、(メタ)アクリル酸エステル系重合体は比較的ガラス転移温度が低く、得られる硬化物が耐寒性に優れることから好ましい。また、ポリオキシアルキレン系重合体および(メタ)アクリル酸エステル系重合体は、透湿性が高く1液型組成物にした場合に深部硬化性に優れることから特に好ましい。   Further, saturated hydrocarbon polymers such as polyisobutylene, hydrogenated polyisoprene and hydrogenated polybutadiene, polyoxyalkylene polymers and (meth) acrylate polymers have relatively low glass transition temperatures and are obtained. Cured products are preferred because of their excellent cold resistance. Further, a polyoxyalkylene polymer and a (meth) acrylate polymer are particularly preferred because they have high moisture permeability and are excellent in deep curability when formed into a one-part composition.

本発明に用いる(A)有機重合体の架橋性珪素基は、珪素原子に結合した水酸基又は加水分解性基を有し、シロキサン結合を形成することにより架橋しうる基である。前記架橋性珪素基としては、例えば、下記一般式(1)で示される基が好適である。   The crosslinkable silicon group of the (A) organic polymer used in the present invention is a group having a hydroxyl group or a hydrolyzable group bonded to a silicon atom and capable of crosslinking by forming a siloxane bond. As the crosslinkable silicon group, for example, a group represented by the following general formula (1) is preferable.

前記式(1)中、Rは、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、R SiO−(Rは、前記と同じ)で示されるトリオルガノシロキシ基、又は1位から3位の炭素原子上の少なくとも1個の水素原子が、ハロゲン、−OR41、−NR4243、−N=R44、−SR45(R41、R42、R43、R45はそれぞれ水素原子または炭素原子数1から20の置換あるいは非置換の炭化水素基、R44は炭素原子数1から20の2価の置換あるいは非置換の炭化水素基である。)、炭素原子数1から20のペルフルオロアルキル基、若しくはシアノ基で置換された炭素数1〜20の炭化水素基を示し、Rが2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。Xは水酸基または加水分解性基を示し、Xが2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。aは0、1、2または3を、bは0、1または2を、それぞれ示す。またp個の下記一般式(2)におけるbは同一である必要はない。pは0〜19の整数を示す。但し、a+(bの和)≧1を満足するものとする。 In the formula (1), R 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20, R 1 3 SiO- (R 1 is as defined above) triorganosiloxy group represented by, or 1-position of the 3-position of at least one hydrogen atom on the carbon atoms, halogen , -OR 41 , -NR 42 R 43 , -N = R 44 , -SR 45 (R 41 , R 42 , R 43 , and R 45 each represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted carbon atom having 1 to 20 carbon atoms. A hydrogen group, R 44 is a divalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.), A perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or 1 carbon atom substituted with a cyano group. ~ 20 hydrocarbons Are shown, when the R 1 there are two or more, they may be the same or may be different. X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group, and when two or more Xs are present, they may be the same or different. a represents 0, 1, 2 or 3, and b represents 0, 1 or 2. Also, b in the following p general formulas (2) need not be the same. p shows the integer of 0-19. However, it is assumed that a + (sum of b) ≧ 1 is satisfied.

該加水分解性基や水酸基は1個の珪素原子に1〜3個の範囲で結合することができ、a+(bの和)は1〜5の範囲が好ましい。加水分解性基や水酸基が架橋性珪素基中に2個以上結合する場合には、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。架橋性珪素基を形成する珪素原子は1個でもよく、2個以上であってもよいが、シロキサン結合等により連結された珪素原子の場合には、20個程度あってもよい。   The hydrolyzable group or hydroxyl group can be bonded to one silicon atom in the range of 1 to 3, and a + (sum of b) is preferably in the range of 1 to 5. When two or more hydrolyzable groups or hydroxyl groups are bonded to the crosslinkable silicon group, they may be the same or different. The number of silicon atoms forming the crosslinkable silicon group may be one, or two or more. In the case of silicon atoms linked by a siloxane bond or the like, the number may be about twenty.

前記架橋性珪素基としては、下記一般式(3)で示される架橋性珪素基が、入手が容易である点から好ましい。   As the crosslinkable silicon group, a crosslinkable silicon group represented by the following general formula (3) is preferable because it is easily available.

前記式(3)中、R、Xは前記におなじ、aは1、2又は3の整数である。硬化性を考慮し、十分な硬化速度を有する硬化性組成物を得るには、前記式(3)においてaは2以上が好ましく、3がより好ましい。 In the formula (3), R 1 and X are the same as described above, and a is an integer of 1, 2, or 3. In order to obtain a curable composition having a sufficient curing speed in consideration of curability, a in Formula (3) is preferably 2 or more, and more preferably 3.

上記Rの具体例としては、たとえばメチル基、エチル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基等のアリール基、ベンジル基等のアラルキル基や、R SiO−で示されるトリオルガノシロキシ基等があげられる。これらの中ではメチル基が好ましい。 Specific examples of the R 1, shown, for example an alkyl group such as methyl group and ethyl group, cycloalkyl groups such as cyclohexyl group, aryl groups such as phenyl, and aralkyl groups such as benzyl group, with R 1 3 SiO- And the like. Of these, a methyl group is preferred.

上記Xで示される加水分解性基としては、F原子以外であれば特に限定されず、従来公知の加水分解性基であればよい。具体的には、たとえば水素原子、ハロゲン原子、アルコキシル基、アシルオキシ基、ケトキシメート基、アミノ基、アミド基、酸アミド基、アミノオキシ基、メルカプト基、アルケニルオキシ基等があげられる。これらの中では、水素原子、アルコキシル基、アシルオキシ基、ケトキシメート基、アミノ基、アミド基、アミノオキシ基、メルカプト基およびアルケニルオキシ基が好ましく、アルコキシル基、アミド基、アミノオキシ基がさらに好ましい。加水分解性が穏やかで取扱やすいという観点からアルコキシル基が特に好ましい。アルコキシル基の中では炭素数の少ないものの方が反応性が高く、メトキシ基>エトキシ基>プロポキシ基の順のように炭素数が多くなるほどに反応性が低くなる。目的や用途に応じて選択できるが通常メトキシ基やエトキシ基が使用される。   The hydrolyzable group represented by X is not particularly limited as long as it is other than an F atom, and may be any conventionally known hydrolyzable group. Specific examples include a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxyl group, an acyloxy group, a ketoximate group, an amino group, an amide group, an acid amide group, an aminooxy group, a mercapto group, and an alkenyloxy group. Among these, a hydrogen atom, an alkoxyl group, an acyloxy group, a ketoximate group, an amino group, an amide group, an aminooxy group, a mercapto group and an alkenyloxy group are preferred, and an alkoxyl group, an amide group and an aminooxy group are more preferred. Alkoxyl groups are particularly preferred from the viewpoint of gentle hydrolysis and easy handling. Among the alkoxyl groups, those having a smaller number of carbon atoms have higher reactivity, and the reactivity becomes lower as the number of carbon atoms increases in the order of methoxy group> ethoxy group> propoxy group. A methoxy group or an ethoxy group is usually used, although it can be selected according to the purpose and use.

架橋性珪素基の具体的な構造としては、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等のトリアルコキシシリル基[−Si(OR)]、メチルジメトキシシリル基、メチルジエトキシシリル基等のジアルコキシシリル基[−SiR(OR)]が挙げられ、反応性が高いことにより、トリアルコキシシリル基[−Si(OR)]が好適であり、トリメトキシシリル基がより好適である。ここでRはメチル基やエチル基のようなアルキル基である。 Specific structures of the crosslinkable silicon group include trialkoxysilyl groups [—Si (OR) 3 ] such as trimethoxysilyl group and triethoxysilyl group, and dialkoxy groups such as methyldimethoxysilyl group and methyldiethoxysilyl group. A silyl group [—SiR 1 (OR) 2 ] is exemplified, and a trialkoxysilyl group [—Si (OR) 3 ] is preferable because of high reactivity, and a trimethoxysilyl group is more preferable. Here, R is an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group.

また、架橋性珪素基は1種で使用しても良く、2種以上併用してもかまわない。架橋性珪素基は、主鎖または側鎖あるいはいずれにも存在しうる。   The crosslinkable silicon groups may be used alone or in combination of two or more. The crosslinkable silicon group may be present in the main chain or the side chain or any of them.

架橋性珪素基を形成する珪素原子は1個以上であるが、シロキサン結合などにより連結された珪素原子の場合には、20個以下であることが好ましい。   The number of silicon atoms forming a crosslinkable silicon group is one or more. In the case of silicon atoms linked by a siloxane bond or the like, the number is preferably 20 or less.

架橋性珪素基を有する有機重合体は直鎖状、または分岐を有してもよく、その数平均分子量はGPCにおけるポリスチレン換算において500〜100,000程度、より好ましくは1,000〜50,000であり、特に好ましくは3,000〜30,000である。数平均分子量が500未満では、硬化物の伸び特性の点で不都合な傾向があり、100,000を越えると、高粘度となる為に作業性の点で不都合な傾向がある。   The organic polymer having a crosslinkable silicon group may be linear or branched, and has a number average molecular weight of about 500 to 100,000, more preferably 1,000 to 50,000 in terms of polystyrene by GPC. And particularly preferably 3,000 to 30,000. If the number average molecular weight is less than 500, the cured product tends to be inferior in elongation properties, and if it exceeds 100,000, it tends to be disadvantageous in terms of workability due to high viscosity.

高強度、高伸びで、低弾性率を示すゴム状硬化物を得るためには、有機重合体に含有される架橋性珪素基は重合体1分子中に平均して0.8個以上、好ましくは1.0個以上、より好ましくは1.1〜5個存在するのがよい。分子中に含まれる架橋性珪素基の数が平均して0.8個未満になると、硬化性が不充分になり、良好なゴム弾性挙動を発現しにくくなる。架橋性珪素基は、有機重合体分子鎖の主鎖の末端あるいは側鎖の末端にあってもよいし、また、両方にあってもよい。特に、架橋性珪素基が分子鎖の主鎖の末端にのみあるときは、最終的に形成される硬化物に含まれる有機重合体成分の有効網目長が長くなるため、高強度、高伸びで、低弾性率を示すゴム状硬化物が得られやすくなる。   In order to obtain a rubber-like cured product having a high strength, a high elongation and a low elastic modulus, the number of crosslinkable silicon groups contained in the organic polymer is 0.8 or more on average in one molecule of the polymer, preferably Is preferably 1.0 or more, more preferably 1.1 to 5. If the number of crosslinkable silicon groups contained in the molecule is less than 0.8 on average, the curability will be insufficient and it will be difficult to exhibit good rubber elasticity behavior. The crosslinkable silicon group may be at the terminal of the main chain or the terminal of the side chain of the organic polymer molecular chain, or may be at both terminals. In particular, when the crosslinkable silicon group is only at the terminal of the main chain of the molecular chain, the effective network length of the organic polymer component contained in the finally formed cured product becomes longer, so that high strength and high elongation are obtained. And a rubber-like cured product having a low elastic modulus is easily obtained.

前記ポリオキシアルキレン系重合体は、本質的に下記一般式(4)で示される繰り返し単位を有する重合体である。
−R−O−・・・(4)
前記一般式(4)中、Rは炭素数1〜14の直鎖状もしくは分岐アルキレン基であり、炭素数1〜14の、さらには2〜4の、直鎖状もしくは分岐アルキレン基が好ましい。
The polyoxyalkylene polymer is essentially a polymer having a repeating unit represented by the following general formula (4).
-R 2 -O- ··· (4)
In the general formula (4), R 2 is a linear or branched alkylene group having 1 to 14 carbon atoms, and preferably a linear or branched alkylene group having 1 to 14 carbon atoms, more preferably 2 to 4 carbon atoms. .

一般式(4)で示される繰り返し単位の具体例としては、
−CHO−、−CHCHO−、−CHCH(CH)O−、−CHCH(C)O−、−CHC(CHO−、−CHCHCHCHO−
等が挙げられる。ポリオキシアルキレン系重合体の主鎖骨格は、1種類だけの繰り返し単位からなってもよいし、2種類以上の繰り返し単位からなってもよい。
Specific examples of the repeating unit represented by the general formula (4) include:
-CH 2 O -, - CH 2 CH 2 O -, - CH 2 CH (CH 3) O -, - CH 2 CH (C 2 H 5) O -, - CH 2 C (CH 3) 2 O-, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 O-
And the like. The main chain skeleton of the polyoxyalkylene polymer may be composed of only one type of repeating unit, or may be composed of two or more types of repeating units.

ポリオキシアルキレン系重合体の合成法としては、たとえばKOHのようなアルカリ触媒による重合法、たとえば特開昭61−197631号、同61−215622号、同61−215623号に示されるような有機アルミニウム化合物とポルフィリンとを反応させて得られる、有機アルミ−ポルフィリン錯体触媒による重合法、たとえば特公昭46−27250号および特公昭59−15336号などに示される複金属シアン化物錯体触媒による重合法等があげられるが、特に限定されるものではない。有機アルミ−ポルフィリン錯体触媒による重合法や複金属シアン化物錯体触媒による重合法によれば数平均分子量6,000以上、Mw/Mnが1.6以下の高分子量で分子量分布が狭いポリオキシアルキレン系重合体を得ることができる。   As a method for synthesizing a polyoxyalkylene polymer, for example, a polymerization method using an alkali catalyst such as KOH, for example, an organic aluminum as described in JP-A Nos. 61-197631, 61-215622, and 61-215623. A polymerization method using an organic aluminum-porphyrin complex catalyst obtained by reacting a compound with porphyrin, such as a double metal cyanide complex catalyst described in JP-B-46-27250 and JP-B-59-15336, etc. Although it is mentioned, it is not particularly limited. According to a polymerization method using an organic aluminum-porphyrin complex catalyst or a polymerization method using a double metal cyanide complex catalyst, a polyoxyalkylene-based polymer having a high molecular weight with a number average molecular weight of 6,000 or more and Mw / Mn of 1.6 or less and a narrow molecular weight distribution. A polymer can be obtained.

上記ポリオキシアルキレン系重合体の主鎖骨格中にはウレタン結合成分等の他の成分を含んでいてもよい。ウレタン結合成分としては、たとえばトルエン(トリレン)ジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族系ポリイソシアネート;イソフォロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族系ポリイソシアネートと水酸基を有するポリオキシアルキレン系重合体との反応から得られるものをあげることができる。   The main chain skeleton of the polyoxyalkylene polymer may contain other components such as a urethane bonding component. Examples of the urethane binding component include aromatic polyisocyanates such as toluene (tolylene) diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, and xylylene diisocyanate; aliphatic polyisocyanates such as isophorone diisocyanate and hexamethylene diisocyanate; Those obtained from the reaction with the coalescence can be given.

ポリオキシアルキレン系重合体への架橋性珪素基の導入は、分子中に不飽和基、水酸基、エポキシ基やイソシアネート基等の官能基を有するポリオキシアルキレン系重合体に、この官能基に対して反応性を示す官能基および架橋性珪素基を有する化合物を反応させることにより行うことができる(以下、高分子反応法という)。   The introduction of a crosslinkable silicon group into a polyoxyalkylene polymer is carried out in a polyoxyalkylene polymer having a functional group such as an unsaturated group, a hydroxyl group, an epoxy group or an isocyanate group in the molecule. The reaction can be performed by reacting a compound having a reactive functional group and a crosslinkable silicon group (hereinafter, referred to as a polymer reaction method).

高分子反応法の具体例として、不飽和基含有ポリオキシアルキレン系重合体に架橋性珪素基を有するヒドロシランや架橋性珪素基を有するメルカプト化合物を作用させてヒドロシリル化やメルカプト化し、架橋性珪素基を有するポリオキシアルキレン系重合体を得る方法をあげることができる。不飽和基含有ポリオキシアルキレン系重合体は水酸基等の官能基を有する有機重合体に、この官能基に対して反応性を示す活性基および不飽和基を有する有機化合物を反応させ、不飽和基を含有するポリオキシアルキレン系重合体を得ることができる。   As a specific example of the polymer reaction method, an unsaturated group-containing polyoxyalkylene polymer is reacted with hydrosilane having a crosslinkable silicon group or a mercapto compound having a crosslinkable silicon group to hydrosilylate or mercapto to form a crosslinkable silicon group. A method for obtaining a polyoxyalkylene polymer having the following formula: The unsaturated group-containing polyoxyalkylene polymer is obtained by reacting an organic polymer having a functional group such as a hydroxyl group with an organic compound having an active group and an unsaturated group having reactivity to the functional group, and Can be obtained.

また、高分子反応法の他の具体例として、末端に水酸基を有するポリオキシアルキレン系重合体とイソシアネート基および架橋性珪素基を有する化合物を反応させる方法や末端にイソシアネート基を有するポリオキシアルキレン系重合体と水酸基やアミノ基等の活性水素基および架橋性珪素基を有する化合物を反応させる方法をあげることができる。イソシアネート化合物を使用すると、容易に架橋性珪素基を有するポリオキシアルキレン系重合体を得ることができる。   Other specific examples of the polymer reaction method include a method of reacting a polyoxyalkylene polymer having a hydroxyl group at a terminal with a compound having an isocyanate group and a crosslinkable silicon group, and a method of reacting a polyoxyalkylene compound having an isocyanate group at a terminal. Examples of the method include a method of reacting a polymer with a compound having an active hydrogen group such as a hydroxyl group or an amino group and a crosslinkable silicon group. When an isocyanate compound is used, a polyoxyalkylene polymer having a crosslinkable silicon group can be easily obtained.

架橋性珪素基を有するポリオキシアルキレン系重合体の具体例としては、特公昭45−36319号、同46−12154号、特開昭50−156599号、同54−6096号、同55−13767号、同57−164123号、特公平3−2450号、特開2005−213446号、同2005−306891号、国際公開特許WO2007−040143号、米国特許3,632,557、同4,345,053、同4,960,844等の各公報に提案されているものをあげることができる。   Specific examples of the polyoxyalkylene polymer having a crosslinkable silicon group include JP-B-45-36319, JP-B-46-12154, JP-A-50-156599, JP-A-54-6096, and JP-A-55-13767. Nos. 57-164123, JP-B-3-2450, JP-A-2005-213446, JP-A-2005-306891, WO2007-040143, U.S. Patent 3,632,557, U.S. Pat. Japanese Patent Publication Nos. 4,960,844 and the like can be cited.

上記の架橋性珪素基を有するポリオキシアルキレン系重合体は、単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。   The above polyoxyalkylene polymers having a crosslinkable silicon group may be used alone or in combination of two or more.

前記飽和炭化水素系重合体は芳香環以外の炭素−炭素不飽和結合を実質的に含有しない重合体であり、その骨格をなす重合体は、(1)エチレン、プロピレン、1−ブテン、イソブチレンなどのような炭素数2〜6のオレフィン系化合物を主モノマーとして重合させるか、(2)ブタジエン、イソプレンなどのようなジエン系化合物を単独重合させ、あるいは、上記オレフィン系化合物とを共重合させた後、水素添加するなどの方法により得ることができるが、イソブチレン系重合体や水添ポリブタジエン系重合体は、末端に官能基を導入しやすく、分子量を制御しやすく、また、末端官能基の数を多くすることができるので好ましく、イソブチレン系重合体が特に好ましい。   The saturated hydrocarbon polymer is a polymer substantially containing no carbon-carbon unsaturated bond other than an aromatic ring, and the polymer constituting the skeleton thereof includes (1) ethylene, propylene, 1-butene, isobutylene and the like. (2) a diene compound such as butadiene or isoprene is homopolymerized, or the olefin compound is copolymerized with the olefin compound. After that, it can be obtained by a method such as hydrogenation.However, the isobutylene-based polymer and the hydrogenated polybutadiene-based polymer can easily introduce a functional group into a terminal, easily control a molecular weight, and have a number of terminal functional groups. Is preferred, and an isobutylene-based polymer is particularly preferred.

主鎖骨格が飽和炭化水素系重合体であるものは、耐熱性、耐候性、耐久性、及び湿気遮断性に優れる特徴を有する。   Those whose main chain skeleton is a saturated hydrocarbon-based polymer have characteristics that are excellent in heat resistance, weather resistance, durability, and moisture barrier properties.

イソブチレン系重合体は、単量体単位のすべてがイソブチレン単位から形成されていてもよいし、他単量体との共重合体でもよいが、ゴム特性の面からイソブチレンに由来する繰り返し単位を50質量%以上含有するものが好ましく、80質量%以上含有するものがより好ましく、90〜99質量%含有するものが特に好ましい。   In the isobutylene-based polymer, all of the monomer units may be formed from isobutylene units, or a copolymer with another monomer may be used. However, from the viewpoint of rubber properties, 50 units of the repeating units derived from isobutylene are used. Those containing not less than 80% by mass are preferable, those containing not less than 80% by mass are more preferable, and those containing 90 to 99% by mass are particularly preferable.

飽和炭化水素系重合体の合成法としては、従来、各種重合方法が報告されているが、特に近年多くのいわゆるリビング重合が開発されている。飽和炭化水素系重合体、特にイソブチレン系重合体の場合、Kennedyらによって見出されたイニファー重合(J. P. Kennedyら、J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed. 1997年、15巻、2843頁)を用いることにより容易に製造することが可能であり、分子量500〜100,000程度を、分子量分布1.5以下で重合でき、分子末端に各種官能基を導入できることが知られている。   As a method for synthesizing a saturated hydrocarbon-based polymer, various polymerization methods have been reported, and in recent years many so-called living polymerizations have been developed in particular. In the case of a saturated hydrocarbon polymer, particularly an isobutylene polymer, the inifer polymerization (JP Kennedy et al., J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed. 1997, 15, 2843) discovered by Kennedy et al. It is known that it can be easily produced by using the compound, can be polymerized to a molecular weight of about 500 to 100,000 with a molecular weight distribution of 1.5 or less, and can introduce various functional groups into molecular terminals.

架橋性珪素基を有する飽和炭化水素系重合体の製法としては、たとえば、特公平4−69659号、特公平7−108928号、特開昭63−254149号、特開昭64−22904号、特開平1−197509号、特許公報第2539445号、特許公報第2873395号、特開平7−53882号の各明細書などに記載されているが、特にこれらに限定されるものではない。   As a method for producing a saturated hydrocarbon polymer having a crosslinkable silicon group, for example, Japanese Patent Publication No. 4-69659, Japanese Patent Publication No. 7-108928, JP-A-63-254149, JP-A-64-22904, These are described in, for example, Kaihei 1-197509, Japanese Patent No. 2539445, Japanese Patent No. 2873395, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-53882, but are not particularly limited thereto.

上記の架橋性珪素基を有する飽和炭化水素系重合体は、単独で使用してもよいし2種以上併用してもよい。   The above-mentioned saturated hydrocarbon polymers having a crosslinkable silicon group may be used alone or in combination of two or more.

前記(メタ)アクリル酸エステル系重合体の主鎖を構成する(メタ)アクリル酸エステル系モノマーとしては特に限定されず、各種のものを用いることができる。例えば、(メタ)アクリル酸;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸tert−ブチル、(メタ)アクリル酸n−ペンチル、(メタ)アクリル酸n−ヘキシル、(メタ)アクリル酸n−ヘプチル、(メタ)アクリル酸n−オクチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸ステアリル等の(メタ)アクリル酸アルキルエステル系モノマー;(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、t−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、テトラメチルピペリジニル(メタ)アクリレート、ペンタメチルピペリジニル(メタ)アクリレート等の脂環式(メタ)アクリル酸エステル系モノマー;(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸トルイル、(メタ)アクリル酸ベンジル、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、パラクミルフェノキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル化o−フェニルフェノール(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェニルチオエチル(メタ)アクリレート等の芳香族(メタ)アクリル酸エステル系モノマー;(メタ)アクリル酸2−メトキシエチル、(メタ)アクリル酸3−メトキシブチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸2−アミノエチル等の(メタ)アクリル酸エステル系モノマー;γ−(メタクリロイルオキシプロピル)トリメトキシシラン、γ−(メタクリロイルオキシプロピル)ジメトキシメチルシラン、メタクリロイルオキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロイルオキシメチルトリエトキシシラン、メタクリロイルオキシメチルジメトキシメチルシラン、メタクリロイルオキシメチルジエトキシメチルシラン等のシリル基含有(メタ)アクリル酸エステル系モノマー;(メタ)アクリル酸のエチレンオキサイド付加物等の(メタ)アクリル酸の誘導体;(メタ)アクリル酸トリフルオロメチルメチル、(メタ)アクリル酸2−トリフルオロメチルエチル、(メタ)アクリル酸2−パーフルオロエチルエチル、(メタ)アクリル酸2−パーフルオロエチル−2−パーフルオロブチルエチル、(メタ)アクリル酸パーフルオロエチル、(メタ)アクリル酸トリフルオロメチル、(メタ)アクリル酸ビス(トリフルオロメチル)メチル、(メタ)アクリル酸2−トリフルオロメチル−2−パーフルオロエチルエチル、(メタ)アクリル酸2−パーフルオロヘキシルエチル、(メタ)アクリル酸2−パーフルオロデシルエチル、(メタ)アクリル酸2−パーフルオロヘキサデシルエチル等のフッ素含有(メタ)アクリル酸エステル系モノマー等が挙げられる。   The (meth) acrylate-based monomer constituting the main chain of the (meth) acrylate-based polymer is not particularly limited, and various types can be used. For example, (meth) acrylic acid; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, (meth) Isobutyl acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, n-pentyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, n-heptyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, ( (Meth) alkyl acrylate monomers such as 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, and stearyl (meth) acrylate; (meth) Cyclohexyl acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth ) Acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, t-butylcyclohexyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, tetramethylpiperidinyl (meth) acrylate, pentamethylpiperidinyl (meth) acrylate, etc. Alicyclic (meth) acrylate monomers; phenyl (meth) acrylate, toluyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, nonylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, parac Milphenoxyethylene glycol (meth) acrylate, hydroxyethylated o-phenylphenol (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, phenoxydiethyl Aromatic (meth) acrylate monomers such as ethylene glycol (meth) acrylate, phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, and phenylthioethyl (meth) acrylate; 2-methoxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid (Meth) acrylates such as 3-methoxybutyl, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, and 2-aminoethyl (meth) acrylate Monomers: γ- (methacryloyloxypropyl) trimethoxysilane, γ- (methacryloyloxypropyl) dimethoxymethylsilane, methacryloyloxymethyltrimethoxysilane, methacryloyloxymethyltriethoxysilane, methacryloyloxy Silyl group-containing (meth) acrylate monomers such as tildimethoxymethylsilane and methacryloyloxymethyldiethoxymethylsilane; derivatives of (meth) acrylic acid such as ethylene oxide adduct of (meth) acrylic acid; and (meth) acrylic Trifluoromethylmethyl acrylate, 2-trifluoromethylethyl (meth) acrylate, 2-perfluoroethylethyl (meth) acrylate, 2-perfluoroethyl-2-perfluorobutylethyl (meth) acrylate, (meth) acrylate ) Perfluoroethyl acrylate, trifluoromethyl (meth) acrylate, bis (trifluoromethyl) methyl (meth) acrylate, 2-trifluoromethyl-2-perfluoroethylethyl (meth) acrylate, (meth) 2-perfluorohexylethyl acrylate And fluorine-containing (meth) acrylate monomers such as 2-perfluorodecylethyl (meth) acrylate and 2-perfluorohexadecylethyl (meth) acrylate.

前記(メタ)アクリル酸エステル系重合体では、(メタ)アクリル酸エステル系モノマーとともに、以下のビニル系モノマーを共重合することもできる。該ビニル系モノマーを例示すると、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、クロルスチレン、スチレンスルホン酸及びその塩等のスチレン系モノマー;パーフルオロエチレン、パーフルオロプロピレン、フッ化ビニリデン等のフッ素含有ビニルモノマー;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等の珪素含有ビニル系モノマー;無水マレイン酸、マレイン酸、マレイン酸のモノアルキルエステル及びジアルキルエステル;フマル酸、フマル酸のモノアルキルエステル及びジアルキルエステル;マレイミド、メチルマレイミド、エチルマレイミド、プロピルマレイミド、ブチルマレイミド、ヘキシルマレイミド、オクチルマレイミド、ドデシルマレイミド、ステアリルマレイミド、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド系モノマー;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリル基含有ビニル系モノマー;アクリルアミド、メタクリルアミド等のアミド基含有ビニル系モノマー;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、安息香酸ビニル、桂皮酸ビニル等のビニルエステル類;エチレン、プロピレン等のアルケン類;ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン類;塩化ビニル、塩化ビニリデン、塩化アリル、アリルアルコール等が挙げられる。   In the (meth) acrylate polymer, the following vinyl monomers can be copolymerized together with the (meth) acrylate monomer. Examples of the vinyl monomer include styrene monomers such as styrene, vinyl toluene, α-methylstyrene, chlorostyrene, styrenesulfonic acid and salts thereof; and fluorine-containing vinyl monomers such as perfluoroethylene, perfluoropropylene, and vinylidene fluoride. Silicon-containing vinyl monomers such as vinyltrimethoxysilane and vinyltriethoxysilane; maleic anhydride, maleic acid, monoalkyl and dialkyl esters of maleic acid; fumaric acid, monoalkyl and dialkyl esters of fumaric acid; Methylmaleimide, ethylmaleimide, propylmaleimide, butylmaleimide, hexylmaleimide, octylmaleimide, dodecylmaleimide, stearylmaleimide, phenylmaleimide, cyclohexyl Maleimide monomers such as maleimide; nitrile group-containing vinyl monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile; amide group-containing vinyl monomers such as acrylamide and methacrylamide; vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl pivalate, vinyl benzoate, and cinnamon Vinyl esters such as vinyl acid; alkenes such as ethylene and propylene; conjugated dienes such as butadiene and isoprene; vinyl chloride, vinylidene chloride, allyl chloride, allyl alcohol and the like.

これらは、単独で用いても良いし、複数を共重合させても構わない。なかでも、生成物の物性等から、(メタ)アクリル酸系モノマーからなる重合体が好ましい。より好ましくは、1種又は2種以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーを用い、必要に応じて他の(メタ)アクリル酸モノマーを併用した(メタ)アクリル酸エステル系重合体であり、シリル基含有(メタ)アクリル酸エステル系モノマーを併用することにより、(メタ)アクリル酸エステル系重合体(A)中の珪素基の数を制御することができる。接着性が良いことから特に好ましくはメタクリル酸エステルモノマーからなるメタクリル酸エステル系重合体である。また、低粘度化、柔軟性付与を行う場合には、アクリル酸エステルモノマーを適時使用することが好適である。なお、本願明細書において、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸および/あるいはメタクリル酸を表す。   These may be used alone or a plurality of them may be copolymerized. Among them, a polymer composed of a (meth) acrylic acid-based monomer is preferable from the viewpoint of the physical properties of the product. More preferably, it is a (meth) acrylate polymer using one or more alkyl (meth) acrylate monomers and optionally using other (meth) acrylate monomers in combination, and is a silyl. The number of silicon groups in the (meth) acrylate polymer (A) can be controlled by using a group-containing (meth) acrylate monomer in combination. Particularly preferred is a methacrylic acid ester-based polymer comprising a methacrylic acid ester monomer because of its good adhesiveness. When lowering the viscosity and imparting flexibility, it is preferable to use an acrylate monomer as appropriate. In the present specification, (meth) acrylic acid means acrylic acid and / or methacrylic acid.

本発明において、(メタ)アクリル酸エステル系重合体を得る方法は、特に限定されず、公知の重合法(例えば、特開昭63−112642号、特開2007−230947号、特開2001−40037号、特開2003−313397号等の記載の合成法)を利用することができ、ラジカル重合反応を用いたラジカル重合法が好ましい。ラジカル重合法としては、重合開始剤を用いて所定の単量体単位を共重合させるラジカル重合法(フリーラジカル重合法)や、末端などの制御された位置に反応性シリル基を導入することが可能な制御ラジカル重合法が挙げられる。但し、重合開始剤としてアゾ系化合物、過酸化物などを用いる通常のフリーラジカル重合法で得られる重合体は、分子量分布の値が一般に2以上と大きく、粘度が高くなるという問題を有している。従って、分子量分布が狭く、粘度の低い(メタ)アクリル酸エステル系重合体であって、高い割合で分子鎖末端に架橋性官能基を有する(メタ)アクリル酸エステル系重合体を得るためには、制御ラジカル重合法を用いることが好適である。   In the present invention, the method for obtaining the (meth) acrylate polymer is not particularly limited, and known polymerization methods (for example, JP-A-63-112624, JP-A-2007-230947, and JP-A-2001-40037). And a synthesis method described in JP-A-2003-313397), and a radical polymerization method using a radical polymerization reaction is preferable. As the radical polymerization method, a radical polymerization method (free radical polymerization method) in which a predetermined monomer unit is copolymerized using a polymerization initiator, or a reactive silyl group is introduced at a controlled position such as a terminal. Possible controlled radical polymerization methods are mentioned. However, a polymer obtained by a normal free radical polymerization method using an azo compound, a peroxide, or the like as a polymerization initiator has a problem that the value of the molecular weight distribution is generally as large as 2 or more, and the viscosity is increased. I have. Therefore, in order to obtain a (meth) acrylate polymer having a narrow molecular weight distribution and a low viscosity and having a high proportion of a crosslinkable functional group at a molecular chain terminal, It is preferable to use a controlled radical polymerization method.

制御ラジカル重合法としては、特定の官能基を有する連鎖移動剤を用いたフリーラジカル重合法やリビングラジカル重合法が挙げられ、付加−開裂移動反応(Reversible Addition-Fragmentation chain Transfer;RAFT)重合法、遷移金属錯体を用いたラジカル重合法(Transition-Metal-Mediated Living Radical Polymerization)等のリビングラジカル重合法がより好ましい。また、反応性シリル基を有するチオール化合物を用いた反応や、反応性シリル基を有するチオール化合物及びメタロセン化合物を用いた反応(特開2001−40037号公報)も好適である。   Examples of the controlled radical polymerization method include a free radical polymerization method and a living radical polymerization method using a chain transfer agent having a specific functional group, and a reversible addition-fragmentation chain transfer (RAFT) polymerization method, A living radical polymerization method such as a radical polymerization method using a transition metal complex (Transition-Metal-Mediated Living Radical Polymerization) is more preferable. Further, a reaction using a thiol compound having a reactive silyl group or a reaction using a thiol compound having a reactive silyl group and a metallocene compound (JP-A-2001-40037) are also suitable.

上記の架橋性珪素基を有する(メタ)アクリル酸エステル系重合体は、単独で使用してもよいし2種以上併用してもよい。   The above-mentioned (meth) acrylate polymers having a crosslinkable silicon group may be used alone or in combination of two or more.

これらの架橋性珪素基を有する有機重合体は、単独で使用してもよいし2種以上併用してもよい。具体的には、架橋性珪素基を有するポリオキシアルキレン系重合体、架橋性珪素基を有する飽和炭化水素系重合体、及び架橋性珪素基を有する(メタ)アクリル酸エステル系重合体、からなる群から選択される2種以上をブレンドしてなる有機重合体も使用できる。   These organic polymers having a crosslinkable silicon group may be used alone or in combination of two or more. Specifically, it comprises a polyoxyalkylene polymer having a crosslinkable silicon group, a saturated hydrocarbon polymer having a crosslinkable silicon group, and a (meth) acrylate polymer having a crosslinkable silicon group. An organic polymer obtained by blending two or more selected from the group can also be used.

架橋性珪素基を有するポリオキシアルキレン系重合体と架橋性珪素基を有する(メタ)アクリル酸エステル系重合体をブレンドしてなる有機重合体の製造方法は、特開昭59−122541号、特開昭63−112642号、特開平6−172631号、特開平11−116763号公報等に提案されているが、特にこれらに限定されるものではない。好ましい具体例は、架橋性珪素基を有し分子鎖が実質的に、下記一般式(5):
−CH−C(R)(COOR)− ・・・(5)
(式中、Rは水素原子またはメチル基、Rは炭素数1〜5のアルキル基を示す)で表される(メタ)アクリル酸エステル単量体単位と、下記一般式(6):
−CH−C(R)(COOR)− ・・・(6)
(式中、Rは前記に同じ、Rは炭素数6以上のアルキル基を示す)で表される(メタ)アクリル酸エステル単量体単位からなる共重合体に、架橋性珪素基を有するポリオキシアルキレン系重合体をブレンドして製造する方法である。
A method for producing an organic polymer obtained by blending a polyoxyalkylene polymer having a crosslinkable silicon group and a (meth) acrylate polymer having a crosslinkable silicon group is disclosed in JP-A-59-122541. It has been proposed in, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 63-112624, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-172631, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-116763, but is not particularly limited thereto. A preferred specific example is a compound having a crosslinkable silicon group and a molecular chain substantially having the following general formula (5):
—CH 2 —C (R 3 ) (COOR 4 ) — (5)
(Wherein, R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 4 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms), and a (meth) acrylate monomer unit represented by the following general formula (6):
—CH 2 —C (R 3 ) (COOR 5 ) — (6)
(Wherein R 3 is the same as above, and R 5 represents an alkyl group having 6 or more carbon atoms). A copolymer comprising a (meth) acrylate monomer unit represented by the following formula: This is a method of blending and producing a polyoxyalkylene-based polymer.

前記一般式(5)のRとしては、たとえばメチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基等の炭素数1〜5、好ましくは1〜4、さらに好ましくは1〜2のアルキル基があげられる。なお、Rのアルキル基は単独でもよく、2種以上混合していてもよい。 As R 4 in the general formula (5), for example, a group having 1 to 5 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, a t-butyl group, preferably 1 to 4, more preferably 1 to 4 And 2 alkyl groups. The alkyl group of R 4 may be used alone or in combination of two or more.

前記一般式(6)のRとしては、たとえば2−エチルヘキシル基、ラウリル基、トリデシル基、セチル基、ステアリル基、ベヘニル基等の炭素数6以上、通常は7〜30、好ましくは8〜20の長鎖のアルキル基があげられる。なお、Rのアルキル基はRの場合と同様、単独でもよく、2種以上混合したものであってもよい。 Examples of R 5 in the general formula (6), such as 2-ethylhexyl group, lauryl group, tridecyl group, cetyl group, stearyl group, carbon atoms, such as behenyl group 6 or more, usually 7-30, preferably 8-20 And a long-chain alkyl group. As in the case of R 4 , the alkyl group of R 5 may be used alone or as a mixture of two or more.

該(メタ)アクリル酸エステル系共重合体の分子鎖は実質的に式(5)及び式(6)の単量体単位からなるが、ここでいう「実質的に」とは該共重合体中に存在する式(5)及び式(6)の単量体単位の合計が50質量%をこえることを意味する。式(5)及び式(6)の単量体単位の合計は好ましくは70質量%以上である。また式(5)の単量体単位と式(6)の単量体単位の存在比は、質量比で95:5〜40:60が好ましく、90:10〜60:40がさらに好ましい。   The molecular chain of the (meth) acrylic acid ester-based copolymer substantially consists of the monomer units of the formulas (5) and (6), and “substantially” as used herein means the copolymer. It means that the total of the monomer units of the formulas (5) and (6) present therein exceeds 50% by mass. The total of the monomer units of the formulas (5) and (6) is preferably at least 70% by mass. The abundance ratio of the monomer unit of the formula (5) to the monomer unit of the formula (6) is preferably from 95: 5 to 40:60, more preferably from 90:10 to 60:40 by mass ratio.

該共重合体に含有されていてもよい式(5)及び式(6)以外の単量体単位(以下、他の単量体単位とも称する)としては、たとえばアクリル酸、メタクリル酸等のα,β−不飽和カルボン酸;アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド等のアミド基、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート等のエポキシ基、ジエチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、アミノエチルビニルエーテル等のアミノ基を含む単量体;その他アクリロニトリル、スチレン、α−メチルスチレン、アルキルビニルエーテル、塩化ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、エチレン等に起因する単量体単位があげられる。   Examples of the monomer units (hereinafter, also referred to as other monomer units) other than formulas (5) and (6) which may be contained in the copolymer include, for example, α such as acrylic acid and methacrylic acid. , Β-unsaturated carboxylic acids; amide groups such as acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-methylolmethacrylamide, epoxy groups such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate, diethylaminoethyl acrylate, diethylaminoethyl methacrylate, aminoethyl vinyl ether and the like And a monomer unit derived from acrylonitrile, styrene, α-methylstyrene, alkyl vinyl ether, vinyl chloride, vinyl acetate, vinyl propionate, ethylene and the like.

架橋性珪素基を有するポリオキシアルキレン系重合体と架橋性珪素基を有する(メタ)アクリル酸エステル系重合体をブレンドしてなる有機重合体の製造方法に用いられる架橋性珪素基を有する(メタ)アクリル酸エステル系重合体として、例えば、特開昭63−112642号公報記載の架橋性珪素基を有し、分子鎖が実質的に(1)炭素数1〜8のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル単量体単位と、(2)炭素数10以上のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル単量体単位を含有する(メタ)アクリル酸エステル系共重合体等の公知の(メタ)アクリル酸エステル系共重合体も使用可能である。   Having a crosslinkable silicon group used in a method for producing an organic polymer obtained by blending a polyoxyalkylene polymer having a crosslinkable silicon group and a (meth) acrylate polymer having a crosslinkable silicon group ) As an acrylate polymer, for example, a polymer having a crosslinkable silicon group described in JP-A-63-112842 and having a molecular chain substantially (1) having an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (meth) And (2) publicly known (meth) acrylic acid ester-based copolymers containing an acrylic acid alkyl ester monomer unit and (2) a (meth) acrylic acid alkyl ester monomer unit having an alkyl group having 10 or more carbon atoms. (Meth) acrylate-based copolymers can also be used.

前記(メタ)アクリル酸エステル系重合体の数平均分子量は、600〜10,000が好ましく、600〜5,000がより好ましく、1,000〜4,500がさらに好ましい。数平均分子量を該範囲とすることにより、架橋性珪素基を有するポリオキシアルキレン系重合体との相溶性を向上させることができる。前記(メタ)アクリル酸エステル系重合体は、単独で使用しても良く、2種以上併用しても良い。前記架橋性珪素基を有するポリオキシアルキレン系重合体と前記架橋性珪素基を有する(メタ)アクリル酸エステル系重合体との配合比には特に制限はないが、前記(メタ)アクリル酸エステル系重合体と前記ポリオキシアルキレン系重合体との合計100質量部に対して、前記(メタ)アクリル酸エステル系重合体を10〜60質量部の範囲内であることが好ましく、より好ましくは20〜50質量部の範囲内であり、さらに好ましくは25〜45質量部の範囲内である。前記(メタ)アクリル酸エステル系重合体が60質量部より多いと粘度が高くなり、作業性が悪化するため好ましくない。   The number average molecular weight of the (meth) acrylate polymer is preferably from 600 to 10,000, more preferably from 600 to 5,000, even more preferably from 1,000 to 4,500. By setting the number average molecular weight in the above range, compatibility with the polyoxyalkylene polymer having a crosslinkable silicon group can be improved. The (meth) acrylate polymer may be used alone or in combination of two or more. The mixing ratio of the polyoxyalkylene polymer having a crosslinkable silicon group to the (meth) acrylate polymer having a crosslinkable silicon group is not particularly limited, but the (meth) acrylate ester is preferably It is preferable that the (meth) acrylate polymer is in the range of 10 to 60 parts by mass, more preferably 20 to 60 parts by mass, based on 100 parts by mass in total of the polymer and the polyoxyalkylene polymer. It is within the range of 50 parts by mass, and more preferably within the range of 25 to 45 parts by mass. If the amount of the (meth) acrylic acid ester-based polymer is more than 60 parts by mass, the viscosity becomes high and the workability deteriorates, which is not preferable.

架橋性珪素基を有する飽和炭化水素系重合体と架橋性珪素基を有する(メタ)アクリル酸エステル系共重合体をブレンドしてなる有機重合体は、特開平1−168764号、特開2000−186176号公報等に提案されているが、特にこれらに限定されるものではない。   Organic polymers obtained by blending a saturated hydrocarbon polymer having a crosslinkable silicon group with a (meth) acrylate copolymer having a crosslinkable silicon group are described in JP-A-1-168774 and JP-A-2000-964. Although it is proposed in 186176 and the like, it is not particularly limited thereto.

さらに、架橋性珪素基を有する(メタ)アクリル酸エステル系共重合体をブレンドしてなる有機重合体の製造方法としては、他にも、架橋性珪素基を有する有機重合体の存在下で(メタ)アクリル酸エステル系単量体の重合を行う方法が利用できる。この製造方法は、特開昭59−78223号、特開昭59−168014号、特開昭60−228516号、特開昭60−228517号等の各公報に具体的に開示されているが、これらに限定されるものではない。   Furthermore, as a method for producing an organic polymer obtained by blending a (meth) acrylate copolymer having a crosslinkable silicon group, another method for producing an organic polymer in the presence of an organic polymer having a crosslinkable silicon group ( A method of polymerizing a (meth) acrylate monomer can be used. This production method is specifically disclosed in JP-A-59-78223, JP-A-59-168014, JP-A-60-228516, JP-A-60-228517, etc. It is not limited to these.

2種以上の重合体をブレンドして使用するときは、架橋性珪素基を有するポリオキシアルキレン系重合体100質量部に対し、架橋性珪素基を有する飽和炭化水素系重合体、及び/又は架橋性珪素基を有する(メタ)アクリル酸エステル系重合体を10〜200質量部使用することが好ましく、20〜80質量部使用することがさらに好ましい。   When two or more kinds of polymers are blended and used, a saturated hydrocarbon polymer having a crosslinkable silicon group and / or a crosslinkable polymer have been added to 100 parts by mass of a polyoxyalkylene polymer having a crosslinkable silicon group. It is preferable to use 10 to 200 parts by mass of the (meth) acrylate polymer having a functional silicon group, and it is more preferable to use 20 to 80 parts by mass.

本発明において、光塩基発生剤(B)は、光を照射すると(A)架橋性珪素基含有有機重合体の硬化触媒として作用する。前記光塩基発生剤(B)とは、紫外線、電子線、X線、赤外線および可視光線などの活性エネルギー線の作用により塩基を発生する物質であれば特に限定されず、(1)紫外線・可視光・赤外線等の活性エネルギー線の照射により脱炭酸して分解する有機酸と塩基の塩、(2)分子内求核置換反応や転位反応などにより分解してアミン類を放出する化合物、あるいは(3)紫外線・可視光・赤外線等のエネルギー線の照射により何らかの化学反応を起こして塩基を放出するもの、等の公知の光塩基発生剤を用いることができる。   In the present invention, the photobase generator (B) acts as a curing catalyst for the crosslinkable silicon group-containing organic polymer (A) when irradiated with light. The photobase generator (B) is not particularly limited as long as it is a substance that generates a base by the action of active energy rays such as ultraviolet rays, electron beams, X-rays, infrared rays, and visible rays. Salts of organic acids and bases that decompose and decompose by irradiation with active energy rays such as light and infrared rays, (2) compounds that release amines by decomposing by intramolecular nucleophilic substitution reaction or rearrangement reaction, or ( 3) Known photobase generators such as those that cause a certain chemical reaction upon irradiation with energy rays such as ultraviolet rays, visible light, and infrared rays to release a base, and the like can be used.

光塩基発生剤(B)から発生する塩基としては特に限定されないが、アミン化合物等の有機塩基が好ましく、例えば、エチルアミン、プロピルアミン、オクチルアミン、シクロヘキシルアミン、1,5−ジアミノペンタン等の第1級アルキルアミン類;N−メチルベンジルアミン、4,4’−メチレンジアニリン等の第1級芳香族アミン類;ジエチルアミンなどの第2級アルキルアミン類;イミダゾール等の2級アミノ基及び3級アミノ基を有するアミン類;トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)などの第3級アルキルアミン類;4−イソプロピルモルホリン等の第3級複素環式アミン;4−ジメチルアミノピリジン、N,N−ジメチル(3−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル)アミンなどの第3級芳香族アミン類;1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5(DBN)等のアミジン類;特開2011−80032号公報記載のトリス(ジメチルアミノ)(メチルイミノ)ホスホラン等のホスファゼン誘導体が挙げられ、第3級アミノ基を有するアミン化合物が好ましく、強塩基であるアミジン類、ホスファゼン誘導体がより好ましい。アミジン類は非環状アミジン類及び環式アミジン類のいずれも使用可能であるが、環式アミジン類がより好ましい。
これら塩基は単独で用いてもよく、2種以上組み合わせて用いてもよい。
The base generated from the photobase generator (B) is not particularly limited, but is preferably an organic base such as an amine compound, for example, a first base such as ethylamine, propylamine, octylamine, cyclohexylamine, and 1,5-diaminopentane. Primary alkylamines such as N-methylbenzylamine and 4,4'-methylenedianiline; Secondary alkylamines such as diethylamine; Secondary amino groups and tertiary amino such as imidazole Amines having a group; tertiary alkylamines such as trimethylamine, triethylamine, tributylamine and 1,8-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO); tertiary heterocyclics such as 4-isopropylmorpholine Amine; 4-dimethylaminopyridine, N, N-dimethyl (3-phenoxy- Tertiary aromatic amines such as 2-hydroxypropyl) amine; 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (DBU), 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5 Amidines such as (DBN); phosphazene derivatives such as tris (dimethylamino) (methylimino) phosphorane described in JP-A-2011-80032, amine compounds having a tertiary amino group are preferable, and strong bases are used. Amidines and phosphazene derivatives are more preferred. As the amidines, both acyclic amidines and cyclic amidines can be used, but cyclic amidines are more preferable.
These bases may be used alone or in combination of two or more.

前記非環状アミジン類としては、例えば、グアニジン系化合物、ビグアニド系化合物等が挙げられる。
グアニジン系化合物としては、グアニジン、1,1,3,3−テトラメチルグアニジン、1−ブチルグアニジン、1−フェニルグアニジン、1−o−トリルグアニジン、1,3−ジフェニルグアニジンなどを挙げることができる。
ビグアニド系化合物としては、ブチルビグアニド、1−o−トリルビグアニドや1−フェニルビグアニドを挙げることができる。
Examples of the acyclic amidines include a guanidine compound, a biguanide compound, and the like.
Examples of the guanidine-based compound include guanidine, 1,1,3,3-tetramethylguanidine, 1-butylguanidine, 1-phenylguanidine, 1-o-tolylguanidine, 1,3-diphenylguanidine and the like.
Examples of biguanide compounds include butyl biguanide, 1-o-tolyl biguanide and 1-phenyl biguanide.

また、非環状アミジン化合物の中でも、フェニルグアニジン、1−o−トリルビグアニドや1−フェニルビグアニドなどのアリール置換グアニジン系化合物あるいはアリール置換ビグアニド系化合物を発生する光塩基発生剤を用いた場合は、重合体(A)の触媒として用いた場合、表面の硬化性が良好となる傾向を示すこと、得られる硬化物の接着性が良好となる傾向を示すこと、などから好ましい。   Further, among acyclic amidine compounds, when a photobase generator that generates an aryl-substituted guanidine-based compound such as phenylguanidine, 1-o-tolylbiguanide or 1-phenylbiguanide or an aryl-substituted biguanide-based compound is used, When used as a catalyst for coalescence (A), it is preferred because the curability of the surface tends to be good and the cured product obtained tends to have good adhesiveness.

前記環式アミジン類としては、環式グアニジン系化合物、イミダゾリン系化合物、イミダゾール系化合物、テトラヒドロピリミジン系化合物、トリアザビシクロアルケン系化合物、ジアザビシクロアルケン系化合物が挙げられる。   Examples of the cyclic amidines include a cyclic guanidine compound, an imidazoline compound, an imidazole compound, a tetrahydropyrimidine compound, a triazabicycloalkene compound, and a diazabicycloalkene compound.

前記環式グアニジン系化合物としては、例えば、特開2011−80032号公報記載の1,5,7−トリアザ−ビシクロ[4.4.0]デシ−5−エン、7−メチル−1,5,7−トリアザ−ビシクロ[4.4.0]デシ−5−エン、7−エチル−1,5,7−トリアザ−ビシクロ[4.4.0]デシ−5−エン、7−イソプロピル−1,5,7−トリアザ−ビシクロ[4.4.0]デシ−5−エン等が挙げられる。   Examples of the cyclic guanidine-based compound include 1,5,7-triaza-bicyclo [4.4.0] dec-5-ene and 7-methyl-1,5, described in JP-A-2011-80032. 7-triaza-bicyclo [4.4.0] dec-5-ene, 7-ethyl-1,5,7-triaza-bicyclo [4.4.0] dec-5-ene, 7-isopropyl-1, 5,7-triaza-bicyclo [4.4.0] dec-5-ene and the like.

前記イミダゾリン系化合物としては、例えば、1−メチルイミダゾリン、1,2−ジメチルイミダゾリン、1−メチル−2−エチルイミダゾリン、1−メチル−2−オクチルイミダゾリン等が挙げられる。   Examples of the imidazoline-based compound include 1-methylimidazoline, 1,2-dimethylimidazoline, 1-methyl-2-ethylimidazoline, 1-methyl-2-octylimidazoline, and the like.

前記イミダゾール系化合物としては、例えば、イミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾールなどを挙げることができる。   Examples of the imidazole-based compound include imidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, and the like.

前記テトラヒドロピリミジン系化合物としては、例えば、1−メチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジン、1,2−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジン、1−メチル−2−エチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジン、1−メチル−2−ブチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジン、1−エチル−2−オクチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジン等が挙げられる。   Examples of the tetrahydropyrimidine compound include 1-methyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidine, 1,2-dimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidine, 1-methyl-2-ethyl- 1,4,5,6-tetrahydropyrimidine, 1-methyl-2-butyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidine, 1-ethyl-2-octyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidine and the like No.

前記トリアザビシクロアルケン系化合物としては、例えば、7−メチル−1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]デセン−5、7−エチル−1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]デセン−5等が挙げられる。   Examples of the triazabicycloalkene-based compound include, for example, 7-methyl-1,5,7-triazabicyclo [4.4.0] decene-5,7-ethyl-1,5,7-triazabicyclo [ 44.0] decene-5 and the like.

ジアザビシクロアルケン系化合物としては、例えば、1,5−ジアザビシクロ[4.2.0]オクテン−5、1,8−ジアザビシクロ[7.2.0]ウンデセン−8、1,4−ジアザビシクロ[3.3.0]オクテン−4、3−メチル−1,4−ジアザビシクロ[3.3.0]オクテン−4、3,6,7,7−テトラメチル−1,4−ジアザビシクロ[3.3.0]オクテン−4、7,8,8−トリメチル−1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5、1,8−ジアザビシクロ[7.3.0]ドデセン−8、1,7−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−6、8−フェニル−1,7−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−6、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5、1,5−ジアザビシクロ[4.4.0]デセン−5、4−フェニル−1,5−ジアザビシクロ[4.4.0]デセン−5、1,8−ジアザビシクロ[5.3.0]デセン−7、1,8−ジアザビシクロ[7.4.0]トリデセン−8、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、6−メチルブチルアミノ−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、6−メチルオクチルアミノ−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、6−ジブチルアミノ−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、6−ブチルベンジルアミノ−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、6−ジヘキシルアミノ−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、9−メチル−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、9−メチル−1,8−ジアザビシクロ[5.3.0]デセン−7、1,6−ジアザビシクロ[5.5.0]ドデセン−6、1,7−ジアザビシクロ[6.5.0]トリデセン−7、1,8−ジアザビシクロ[7.5.0]テトラデセン−8、1,10−ジアザビシクロ[7.3.0]ドデセン−9、1,10−ジアザビシクロ[7.4.0]トリデセン−9、1,14−ジアザビシクロ[11.3.0]ヘキサデセン−13、1,14−ジアザビシクロ[11.4.0]ヘプタデセン−13等が挙げられる。   Examples of the diazabicycloalkene-based compound include, for example, 1,5-diazabicyclo [4.2.0] octene-5,1,8-diazabicyclo [7.2.0] undecene-8,1,4-diazabicyclo [3 3.3.0] octene-4,3-methyl-1,4-diazabicyclo [3.3.0] octene-4,3,6,7,7-tetramethyl-1,4-diazabicyclo [3.3. 0] octene-4,7,8,8-trimethyl-1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5,1,8-diazabicyclo [7.3.0] dodecene-8,1,7- Diazabicyclo [4.3.0] nonene-6,8-phenyl-1,7-diazabicyclo [4.3.0] nonene-6,1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5,1, 5-diazabicyclo [4.4.0] decene- , 4-phenyl-1,5-diazabicyclo [4.4.0] decene-5,1,8-diazabicyclo [5.3.0] decene-7,1,8-diazabicyclo [7.4.0] tridecene -8,1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7,6-methylbutylamino-1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7,6-methyloctylamino-1,8 -Diazabicyclo [5.4.0] undecene-7,6-dibutylamino-1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7,6-butylbenzylamino-1,8-diazabicyclo [5.4. 0] undecene-7,6-dihexylamino-1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7,9-methyl-1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7,9-me 1,8-diazabicyclo [5.3.0] decene-7,1,6-diazabicyclo [5.5.0] dodecene-6,1,7-diazabicyclo [6.5.0] tridecene-7, 1,8-diazabicyclo [7.5.0] tetradecene-8,1,10-diazabicyclo [7.3.0] dodecene-9,1,10-diazabicyclo [7.4.0] tridecene-9,1, 14-diazabicyclo [11.3.0] hexadecene-13, 1,14-diazabicyclo [11.4.0] heptadecene-13 and the like.

前記環式アミジン類のうち、工業的に入手が容易であるという点や、共役酸のpKa値が12以上であることから高い触媒活性を示す点から、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5(DBN)が特に好適である。   Among the cyclic amidines, 1,8-diazabicyclo [5.4.] Is preferred from the viewpoint that it is industrially easy to obtain and that the conjugate acid exhibits a high catalytic activity due to its pKa value of 12 or more. 0] undecene-7 (DBU) and 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5 (DBN) are particularly preferred.

本発明に用いられる光塩基発生剤(B)としては、公知の光塩基発生剤を用いることができるが、活性エネルギー線の作用によりアミン化合物を発生する光潜在性アミン化合物が好ましい。該光潜在性アミン化合物としては、活性エネルギー線の作用により第1級アミノ基を有するアミン化合物を発生する光潜在性第1級アミン、活性エネルギー線の作用により第2級アミノ基を有するアミン化合物を発生する光潜在性第2級アミン、及び活性エネルギー線の作用により第3級アミノ基を有するアミン化合物を発生する光潜在性第3級アミンのいずれも使用可能であるが、発生塩基が高い触媒活性を示す点から光潜在性第3級アミンがより好適である。   As the photobase generator (B) used in the present invention, a known photobase generator can be used, but a photolatent amine compound which generates an amine compound by the action of active energy rays is preferable. Examples of the photolatent amine compound include a photolatent primary amine which generates an amine compound having a primary amino group by the action of an active energy ray, and an amine compound having a secondary amino group by the action of an active energy ray. Any of a photolatent secondary amine that generates an amine compound and a photolatent tertiary amine that generates an amine compound having a tertiary amino group by the action of an active energy ray can be used, but the generated base is high. Photolatent tertiary amines are more preferred in view of their catalytic activity.

前記光潜在性第1級アミン及び光潜在性第2級アミンとしては、例えば、1,3−ビス〔N−(2−ニトロベンジルオキシカルボニル)−4−ピペリジル〕プロパン、N−{[(3−ニトロ−2−ナフタレンメチル)オキシ]カルボニル}−2,6−ジメチルピペリジン、N−{[(6,7−ジメトキシ−3−ニトロ−2−ナフタレンメチル)オキシ]カルボニル}−2,6−ジメチルピペリジン、N−(2−ニトロベンジルオキシカルボニル)ピペリジン、[[(2,6−ジニトロベンジル)オキシ]カルボニル]シクロヘキシルアミン、N,N’−ビス(2−ニトロベンジルオキシカルボニル)ヘキシルジアミン、o−ニトロベンジルN−カルバミン酸シクロヘキシル、2−ニトロベンジルシクロヘキシルカーバメート、1−(2−ニトロフェニル)エチルシクロヘキシルカーバメート、2,6−ジニトロベンジルシクロヘキシルカーバメート、1−(2,6−ジニトロフェニル)エチルシクロヘキシルカーバメート、1−(3,5−ジメトキシフェニル)−1−メチルエチルシクロヘキシルカーバメート、ビス[[(2−ニトロベンジル)オキシ]カルボニル]ヘキサン1,6−ジアミン、N−(2−ニトロベンジルオキシカルボニル)ピロリジン等のオルトニトロベンジルウレタン系化合物;α,α−ジメチル−3,5−ジメトキシベンジルシクロヘキシルカルバメート、3,5−ジメトキシベンジルシクロヘキシルカルバメート等のジメトキシベンジルウレタン系化合物;1−(3,5−ジメトキシベンゾイル)−1−(3,5−ジメトキシフェニル)メチルシクロヘキシルカルバメート、2−ヒドロキシ−2−フェニルアセトフェノンシクロヘキシルカルバメート、ジベンゾインイソホロンジカルバメート、1−ベンゾイル−1−フェニルメチルシクロヘキシルカーバメート、2−ベンゾイル−2−ヒドロキシ−2−フェニルエチルシクロヘキシルカーバメート等のカルバミン酸ベンゾイン類;o−ベンジルカルボニル−N−(1−フェニルエチリデン)ヒドロキシルアミン等のo−アシルオキシム類;[(ペンタン−1,5−ジイル)ビスカルバモイル]ビス(ジフェニルメチリデンヒドロキシルアミン)、α−(シクロヘキシルカルバモイルオキシイミノ)−α−(4−メトキシフェニル)アセトニトリル等のo−カルバモイルオキシム類;N−(オクチルカルバモイルオキシ)フタルイミド、N−(シクロヘキシルカルバモイルオキシ)スクシンイミド等のN−ヒドロキシイミドカルバマート類;4,4’−メチレンビス(ホルムアリニド)等のホルムアニリド誘導体;N−シクロヘキシル−2−ナフタレンスルホンアミド、N−シクロヘキシル−p−トルエンスルホンアミド等の芳香族スルホンアミド類;Co(NH)Br+ClO 等のコバルトアミン錯体等が挙げられる。 Examples of the photolatent primary amine and the photolatent secondary amine include 1,3-bis [N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-piperidyl] propane and N-{[(3 -Nitro-2-naphthalenemethyl) oxy] carbonyl} -2,6-dimethylpiperidine, N-{[(6,7-dimethoxy-3-nitro-2-naphthalenemethyl) oxy] carbonyl} -2,6-dimethyl Piperidine, N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) piperidine, [[(2,6-dinitrobenzyl) oxy] carbonyl] cyclohexylamine, N, N′-bis (2-nitrobenzyloxycarbonyl) hexyldiamine, o- Nitrobenzyl N-cyclohexylcarbamate, 2-nitrobenzylcyclohexylcarbamate, 1- (2-nitro Phenyl) ethylcyclohexylcarbamate, 2,6-dinitrobenzylcyclohexylcarbamate, 1- (2,6-dinitrophenyl) ethylcyclohexylcarbamate, 1- (3,5-dimethoxyphenyl) -1-methylethylcyclohexylcarbamate, bis [[ Ortho-nitrobenzyl urethane compounds such as (2-nitrobenzyl) oxy] carbonyl] hexane 1,6-diamine and N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) pyrrolidine; α, α-dimethyl-3,5-dimethoxybenzylcyclohexyl Dimethoxybenzyl urethane compounds such as carbamate and 3,5-dimethoxybenzylcyclohexyl carbamate; 1- (3,5-dimethoxybenzoyl) -1- (3,5-dimethoxyphenyl) methylcyclohexyl Carbamate benzoins such as carbamate, 2-hydroxy-2-phenylacetophenone cyclohexyl carbamate, dibenzoin isophorone dicarbamate, 1-benzoyl-1-phenylmethylcyclohexyl carbamate, 2-benzoyl-2-hydroxy-2-phenylethylcyclohexyl carbamate O-acyloximes such as o-benzylcarbonyl-N- (1-phenylethylidene) hydroxylamine; [(pentane-1,5-diyl) biscarbamoyl] bis (diphenylmethylidenehydroxylamine), α- (cyclohexyl) O-carbamoyl oximes such as carbamoyloxyimino) -α- (4-methoxyphenyl) acetonitrile; N- (octylcarbamoyloxy) phthalimide; N-hydroxyimide carbamates such as (xylcarbamoyloxy) succinimide; formanilide derivatives such as 4,4'-methylenebis (formalinide); N-cyclohexyl-2-naphthalenesulfonamide; N-cyclohexyl-p-toluenesulfonamide aromatic sulfonamides; Co (NH 2 C 3 H 7) Br + ClO 4 - cobalt amine complexes of the like.

前記光潜在性第3級アミンとしては、例えば、α−アミノケトン誘導体、α−アンモニウムケトン誘導体、ベンジルアミン誘導体、ベンジルアンモニウム塩誘導体、α−アミノアルケン誘導体、α−アンモニウムアルケン誘導体、アミンイミド類、光によりアミジンを発生するベンジルオキシカルボニルアミン誘導体、及びカルボン酸と3級アミンとの塩等が挙げられる。   Examples of the photolatent tertiary amine include α-aminoketone derivatives, α-ammonium ketone derivatives, benzylamine derivatives, benzylammonium salt derivatives, α-aminoalkene derivatives, α-ammoniumalkene derivatives, amineimides, Examples include a benzyloxycarbonylamine derivative that generates amidine, and a salt of a carboxylic acid and a tertiary amine.

α−アミノケトン誘導体として、例えば、下記式(I)〜(IV)で示されるα−アミノケトン化合物が好適な例として挙げられる。   Preferred examples of the α-aminoketone derivative include α-aminoketone compounds represented by the following formulas (I) to (IV).

前記式(I)中、式中、R51は、芳香族又は複素芳香族基であり、R51が、芳香族基(これは、非置換であるか、又はC1−18アルキル、C3−18アルケニル、C3−18アルキニル、C1−18ハロアルキル、NO、NR5859、N、OH、CN、OR60、SR60、C(O)R61、C(O)OR62若しくはハロゲンにより1回以上置換されている。R58、R59、R60、R61及びR62は、水素又はC1−18アルキルである)であることが好ましく、フェニル、ナフチル、フェナントリル、アントラシル、ピレニル、5,6,7,8−テトラヒドロ−2−ナフチル、5,6,7,8−テトラヒドロ−1−ナフチル、チエニル、ベンゾ[b]チエニル、ナフト[2,3−b]チエニル、チアトレニル、ジベンゾフリル、クロメニル、キサンテニル、チオキサンチル、フェノキサチイニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、インドリジニル、イソインドリル、インドリル、インダゾリル、プリニル、キノリジニル、イソキノリル、キノリル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、プテリジニル、カルバゾリル、β−カルボリニル、フェナントリジニル、アクリジニル、ペリミジニル、フェナントロリニル、フェナジニル、イソチアゾリル、フェノチアジニル、イソキサゾリル、フラザニル、テルフェニル、スチルベニル、フルオレニル若しくはフェノキサジニルからなる群から選択されることがより好ましい。
52及びR53は、互いに独立して、水素、C1−18アルキル、C3−18アルケニル、C3−18アルキニル又はフェニルであり、そしてもしR52が水素又はC1−18アルキルであれば、R53は、更に、基−CO−R64(式中、R64は、C1−18アルキル又はフェニルである)であるか;或いは、R51とR53は、カルボニル基及びR53が結合しているC原子と一緒になって、ベンゾシクロペンタノン基を形成する。
54およびR56は、一緒になって、非置換であるか、または1個以上のC〜Cアルキル基によって置換されているC〜C12アルキレンブリッジを形成する。R55およびR57は、一緒になって、R54およびR56とは独立して、非置換であるか、または1個以上のC〜Cアルキル基によって置換されているC〜C12アルキレンブリッジを形成する。R54とR56が、一緒になって、Cアルキレン橋を形成し、R55とR57が、一緒になって、プロピレン又はペンチレンであることが好ましい。
In the formula (I), R 51 is an aromatic or heteroaromatic group, and R 51 is an aromatic group (which is unsubstituted or C 1 -C 18 alkyl, 3- C 18 alkenyl, C 3- C 18 alkinyl, C 1-C 18 haloalkyl, NO 2, NR 58 R 59 , N 3, OH, CN, OR 60, SR 60, C (O) R 61, C ( O) substituted one or more times by OR 62 or halogen, wherein R 58 , R 59 , R 60 , R 61 and R 62 are hydrogen or C 1 -C 18 alkyl), preferably phenyl, Naphthyl, phenanthryl, anthracyl, pyrenyl, 5,6,7,8-tetrahydro-2-naphthyl, 5,6,7,8-tetrahydro-1-naphthyl, thienyl, benzo [b] thienyl, naphtho [2, 3-b] Thienyl, thiatrenyl, dibenzofuryl, chromenyl, xanthenyl, thioxanthyl, phenoxathiinyl, pyrrolyl, imidazolyl, pyrazolyl, pyrazinyl, pyrimidinyl, pyridazinyl, indolizinyl, isoindolyl, indolyl, indazolyl, prinyl, quinolizinyl, isoquinolyl, quinolyl Phthalazinyl, naphthyridinyl, quinoxalinyl, quinazolinyl, cinnolinyl, pteridinyl, carbazolyl, β-carbolinyl, phenanthridinyl, acridinyl, perimidinyl, phenanthrolinyl, phenazinyl, isothiazolyl, phenothiazinyl, isoxazolyl, furazanyl, terphenylsyl, terphenylsyl, terphenylsyl, terphenylsyl More preferably, it is selected from the group consisting of phenoxazinyl.
R 52 and R 53 are, independently of each other, hydrogen, C 1 -C 18 alkyl, C 3 -C 18 alkenyl, C 3 -C 18 alkynyl or phenyl, and if R 52 is hydrogen or C 1 -C If 18 alkyl, R 53 is further a group —CO—R 64 , wherein R 64 is C 1 -C 18 alkyl or phenyl; alternatively, R 51 and R 53 are Together with the carbonyl group and the C atom to which R53 is attached, a benzocyclopentanone group is formed.
R 54 and R 56 together form a C 2 -C 12 alkylene bridge which is unsubstituted or substituted by one or more C 1 -C 4 alkyl groups. R 55 and R 57, taken together, independently of R 54 and R 56, C 2 -C which is unsubstituted or substituted by one or more C 1 -C 4 alkyl group Form a 12 alkylene bridge. Preferably R 54 and R 56 together form a C 3 alkylene bridge, and R 55 and R 57 together are propylene or pentylene.

前記式(II)〜(IV)において、R51〜R53はそれぞれ前記式(I)のR51〜R53と同様である。
66は炭素原子数1〜12のアルキル基;−OH、−炭素原子数1〜4のアルコキシ、−CNもしくは−COO(炭素原子数1〜4のアルキル)で置換された炭素原子数2〜4のアルキル基を表すか、または、R66は炭素原子数3〜5のアルケニル基、炭素原子数5〜12のシクロアルキル基またはフェニル−炭素原子数1〜3のアルキル基を表す。R67は炭素原子数1〜12のアルキル基;または−OH、−炭素原子数1〜4のアルコキシ基、−CNもしくは−COO(炭素原子数1〜4のアルキル)で置換された炭素原子数2〜4のアルキル基を表すかまたはR67は炭素原子数3〜5のアルケニル基、炭素原子数5〜12のシクロアルキル基、フェニル−炭素原子数1〜3のアルキル基、または、未置換であるかまたは炭素原子数1〜12のアルキル基、炭素原子数1〜4のアルコキシ基もしくは−COO(炭素原子数1〜4のアルキル)によって置換されたフェニル基を表すか、あるいはR67はRR66と一緒になって炭素原子数1〜7のアルキレン基、フェニル−炭素原子数1〜4のアルキレン基、o−キシリレン基、2−ブテニレン基または炭素原子数2もしくは3のオキサアルキレン基を表すか、あるいはR66およびR67は一緒になって−O−、−S−もしくは−CO−で中断され得る炭素原子数4〜7のアルキレン基を表すか、またはR66およびR67は一緒になってOH、炭素原子数1〜4のアルコキシ基もしくは−COO(炭素原子数1〜4のアルキル)で置換され得る炭素原子数3〜7のアルキレン基を表す。R66およびR67が複数存在する場合それらは同じであっても異なっていてもよい。
は下記式(V)で示される2価の基、−N(R68)−又は−N(R68)−R69−N(R68)−で示される2価の基を表し、R68は炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数3〜5のアルケニル基、フェニル−炭素原子数1〜3のアルキル基、炭素原子数1〜4のヒドロキシアルキル基もしくはフェニル基を表し、R69は1もしくはそれ以上の−O−または−S−により中断され得る枝分かれしていないまたは枝分かれした炭素原子数2〜16のアルキレン基を表す。
は炭素原子数1〜6のアルキレン基、シクロヘキシレン基もしくは直接結合を表す。
In the formula (II) ~ (IV), R 51 ~R 53 is the same as R 51 to R 53 of each of the formula (I).
R 66 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; -OH, -alkoxy having 1 to 4 carbon atoms, 2 to 2 carbon atoms substituted with -CN or -COO (alkyl having 1 to 4 carbon atoms). And R 66 represents an alkenyl group having 3 to 5 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms or a phenyl-alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. R 67 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; or —OH, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a carbon atom substituted with —CN or —COO (alkyl having 1 to 4 carbon atoms). R 2 represents an alkyl group having 2 to 4 carbon atoms, or R 67 is an alkenyl group having 3 to 5 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, a phenyl-alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or unsubstituted Or a phenyl group substituted by an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or —COO (alkyl having 1 to 4 carbon atoms), or R 67 represents Together with RR 66 , an alkylene group having 1 to 7 carbon atoms, a phenyl-alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, an o-xylylene group, a 2-butenylene group, or an alkylene group having 2 or 3 carbon atoms. R 66 and R 67 together represent an alkylene group having 4 to 7 carbon atoms which can be interrupted by —O—, —S— or —CO—, or R 66 and R 66 and R 67 represents OH, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or an alkylene group having 3 to 7 carbon atoms which can be substituted with -COO (alkyl having 1 to 4 carbon atoms). When a plurality of R 66 and R 67 are present, they may be the same or different.
Y 1 represents a divalent group represented by the following formula (V), a divalent group represented by -N (R 68 )-or -N (R 68 ) -R 69 -N (R 68 )-, R 68 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 5 carbon atoms, a phenyl-alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a hydroxyalkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group. , R 69 represents an unbranched or branched alkylene group having 2 to 16 carbon atoms which can be interrupted by one or more —O— or —S—.
Y 2 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, a cyclohexylene group or a direct bond.

前記式(I)で示されるα−アミノケトン化合物としては、例えば、特開2001−512421号公報記載の5−(4’−フェニル)フェナシル−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−フェナシル−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−ナフトイルメチル−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(1’−ピレニルカルボニルメチル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(4’−ニトロ)フェナシル−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(2’、4’−ジメトキシ)フェナシル−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(9’−アンスロイルメチル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、8−(4’−フェニル)フェナシル−(1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕−7−ウンデセン)等が挙げられる。   Examples of the α-aminoketone compound represented by the formula (I) include 5- (4′-phenyl) phenacyl-1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane described in JP-A-2001-512421. 5-phenacyl-1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5-naphthoylmethyl-1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (1′-pyrenylcarbonylmethyl)- 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (4′-nitro) phenacyl-1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (2 ′, 4′-dimethoxy) phenacyl -1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (9'-anthroylmethyl) -1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 8- (4'-phenyl) phenacyl- (1 8- diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene), and the like.

前記式(II)で示されるα−アミノケトン化合物としては、例えば、特開平11−71450号公報記載の4−(メチルチオベンゾイル)−1−メチル−1−モルホリノエタン(イルガキュア907)、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン(イルガキュア369)、2−(4−メチルベンジル)−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン(イルガキュア379EG)等が挙げられる。   Examples of the α-aminoketone compound represented by the formula (II) include 4- (methylthiobenzoyl) -1-methyl-1-morpholinoethane (Irgacure 907) and 2-benzyl- described in JP-A-11-71450. 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone (Irgacure 369), 2- (4-methylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone (Irgacure 379EG) and the like. No.

α−アンモニウムケトン誘導体として、例えば、下記式(VI)で示されるα−アンモニウムケトン化合物が挙げられる。   Examples of the α-ammonium ketone derivative include an α-ammonium ketone compound represented by the following formula (VI).

前記式(VI)において、kは1又は2であって、カチオンの正電荷数に相当する。Vはカウンターアニオンであり、ボレートアニオン(テトラフェニルボレート、メチルトリフェニルボレート、エチルトリフェニルボレート、プロピルトリフェニルボレート及びブチルトリフェニルボレート等)、フェノラートアニオン(フェノラート、4−tert−ブチルフェノラート、2,5−ジ−tert−ブチルフェノラート、4−ニトロフェノラート、2,5−ジニトロフェノラート及び2,4,6−トリニトロフェノラート等)及びカルボキシレートアニオン(安息香酸アニオン、トルイル酸アニオン及びフェニルグリオキシル酸アニオン等)等が挙げられる。これらのうち、光分解性の観点から、ボレートアニオン及びカルボキシレートアニオンが好ましく、さらに好ましくはブチルトリフェニルボレートアニオン、テトラフェニルボレートアニオン、安息香酸アニオン及びフェニルグリオキシル酸アニオン、光分解性及び熱安定性の観点から特に好ましくはテトラフェニルボレートアニオン及びフェニルグリオキシル酸アニオンである。 In the formula (VI), k is 1 or 2, which corresponds to the number of positive charges of the cation. V is a counter anion, a borate anion (such as tetraphenyl borate, methyl triphenyl borate, ethyl triphenyl borate, propyl triphenyl borate and butyl triphenyl borate), and a phenolate anion (phenolate, 4-tert-butyl phenolate) , 2,5-di-tert-butylphenolate, 4-nitrophenolate, 2,5-dinitrophenolate and 2,4,6-trinitrophenolate, etc.) and carboxylate anions (benzoic acid anion, toluic acid) Anions and phenylglyoxylate anions). Among these, from the viewpoint of photodegradability, borate anions and carboxylate anions are preferred, and butyltriphenylborate anion, tetraphenylborate anion, benzoate anion and phenylglyoxylate anion, photodegradability and thermal stability are more preferred. From the viewpoint of the above, a tetraphenylborate anion and a phenylglyoxylate anion are particularly preferred.

前記式(VI)において、R51〜R53はそれぞれ前記式(I)のR51〜R53と同様である。
70〜R72は、それぞれ互いに独立に、水素、C〜C18アルキル、C〜C18アルケニル、C〜C18アルキニルもしくはフェニルであり;またはR70とR71および/もしくはR72とR71が、互いに独立にC〜C12アルキレン架橋を形成しているか;あるいはR70〜R72が、結合している窒素原子とともに、P、P、P<t/4>型のホスファゼン塩基を、または、下記構造式(a)、(b)、(c)、(d)、(e)、(f)もしくは(g)の基を形成している。
In the formula (VI), R 51 ~R 53 is the same as R 51 to R 53 of each of the formula (I).
R 70 -R 72 are each, independently of one another, hydrogen, C 1 -C 18 alkyl, C 3 -C 18 alkenyl, C 3 -C 18 alkynyl or phenyl; or R 70 and R 71 and / or R 72 And R 71 independently of one another form a C 2 -C 12 alkylene bridge; or R 70 -R 72 together with the nitrogen atom to which they are attached, form P 1 , P 2 , P <t / 4> type Or a group of the following structural formulas (a), (b), (c), (d), (e), (f) or (g).

前記式(a)〜(g)中、R51及びR52は前記式(I)のR51及びR52と同様であり、l及びqはそれぞれ互いに独立に2〜12の数である。 In the formula (a) ~ (g), R 51 and R 52 are the same as R 51 and R 52 of said formula (I), l and q is a number from 2 to 12 each, independently of one another.

α−アンモニウムケトン誘導体の具体例としては、例えば、特表2001−513765号公報、WO2005/014696号公報記載のフェナシルトリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート、(4−メトキシフェナシル)トリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート、1−フェナシル−(1−アゾニア−4−アザビシクロ[2,2,2]−オクタン)テトラフェニルボレート、(1,4−フェナシル−1,4−ジアゾニアビシクロ[2.2.2]オクタン)ビス(テトラフェニルボレート)、1−ナフトイルメチル−(1−アゾニア−4−アザビシクロ[2,2,2]−オクタン)テトラフェニルボレート、1−(4’−フェニル)フェナシル−(1−アゾニア−4−アザビシクロ[2.2.2]オクタン)テトラフェニルボレート、5−(4’−フェニル)フェナシル−(5−アゾニア−1−アザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン)テトラフェニルボレート、5−(4’−メトキシ)フェナシル−(5−アゾニア−1−アザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン)テトラフェニルボレート、5−(4’−ニトロ)フェナシル−(5−アゾニア−1−アザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン)テトラフェニルボレート、5−(4’−フェニル)フェナシル−(8−アゾニア−1−アザビシクロ〔5.4.0〕−7−ウンデセン)テトラフェニルボレート等が挙げられる。   Specific examples of the α-ammonium ketone derivative include, for example, phenacyltriethylammonium tetraphenylborate, (4-methoxyphenacyl) triethylammonium tetraphenylborate, described in JP-T-2001-513765 and WO2005 / 014696. -Phenacyl- (1-azonia-4-azabicyclo [2,2,2] -octane) tetraphenylborate, (1,4-phenacyl-1,4-diazoniabicyclo [2.2.2] octane) bis ( Tetraphenylborate), 1-naphthoylmethyl- (1-azonia-4-azabicyclo [2,2,2] -octane) tetraphenylborate, 1- (4′-phenyl) phenacyl- (1-azonia-4- Azabicyclo [2.2.2] octane) tetraphenylbo , 5- (4'-phenyl) phenacyl- (5-azonia-1-azabicyclo [4.3.0] -5-nonene) tetraphenylborate, 5- (4'-methoxy) phenacyl- (5- Azonia-1-azabicyclo [4.3.0] -5-nonene) tetraphenylborate, 5- (4′-nitro) phenacyl- (5-azonia-1-azabicyclo [4.3.0] -5-nonene ) Tetraphenylborate, 5- (4′-phenyl) phenacyl- (8-azonia-1-azabicyclo [5.4.0] -7-undecene) tetraphenylborate and the like.

ベンジルアミン誘導体として、例えば、下記式(VII)で示されるベンジルアミン化合物が挙げられる。   Examples of the benzylamine derivative include a benzylamine compound represented by the following formula (VII).

前記式(VII)において、R51、R54〜R57はそれぞれ前記式(I)のR51、R54〜R57と同様である。
73およびR74は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基又はハロゲン原子、炭素数1〜20のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、炭素数1〜20のアルキルチオ基、炭素数1〜20のアルキルシリル基、炭素数1〜20のアシル基、アミノ基、シアノ基、炭素数1〜20のアルキル基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェ二ルチオ基の群から選ばれる基で置換されていてもよいフェニル基を表し、R73及びR74は互いに結合して環構造を形成していてもよい。
In the formula (VII), R 51, R 54 ~R 57 is the same as R 51, R 54 ~R 57 of each of the formula (I).
R 73 and R 74 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or a halogen atom having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a nitro group, a carboxyl group, a hydroxyl group, a mercapto group, 20 alkylthio groups, C1-20 alkylsilyl groups, C1-20 acyl groups, amino groups, cyano groups, C1-20 alkyl groups, phenyl groups, naphthyl groups, phenoxy groups and phenoxy groups Represents a phenyl group which may be substituted with a group selected from the group of a luthio group, and R 73 and R 74 may be bonded to each other to form a ring structure.

ベンジルアミン誘導体の具体例としては、例えば、特表2005−511536号公報記載の5−ベンジル−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(アントラセン−9−イル−メチル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(4’−シアノベンジル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(3’−シアノベンジル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(2’−クロロベンジル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(2’,4’,6’−トリメチルベンジル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(4’−エテニルベンジル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(3’−メトキシベンジル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(ナフト−2−イル−メチル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、1,4−ビス(1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナニルメチル)ベンゼン、8−(2’,6’−ジクロロベンジル)−1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデカン等のベンジルアミン誘導体等が挙げられる。   Specific examples of the benzylamine derivative include, for example, 5-benzyl-1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane and 5- (anthracen-9-yl-methyl)-described in JP-A-2005-511536. 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (4′-cyanobenzyl) -1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (3′-cyanobenzyl) -1, 5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (2′-chlorobenzyl) -1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (2 ′, 4 ′, 6′-trimethylbenzyl) ) -1,5-Diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (4′-ethenylbenzyl) -1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (3′-methoxybenzyl) -1,5-diazavik [4.3.0] nonane, 5- (naphth-2-yl-methyl) -1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 1,4-bis (1,5-diazabicyclo [4.3] .0] nonanylmethyl) benzene and benzylamine derivatives such as 8- (2 ', 6'-dichlorobenzyl) -1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecane.

ベンジルアンモニウム塩誘導体として、例えば、下記式(VIII)で示されるベンジルアンモニウム塩が挙げられる。   Examples of the benzyl ammonium salt derivative include a benzyl ammonium salt represented by the following formula (VIII).

前記式(VIII)において、V及びkは前記式(VI)のV及びkと同様である。R51は前記式(I)のR51と同様である。R70〜R72はそれぞれ前記式(VI)のR70〜R72と同様である。R73及びR74は前記式(VII)のR73及びR74と同様である。 In the formula (VIII), V - and k V of the formula (VI) - which is similar to and k. R 51 is the same as R 51 in the formula (I). R 70 to R 72 are the same as R 70 to R 72 of each of the formulas (VI). R 73 and R 74 are the same as R 73 and R 74 in the formula (VII).

ベンジルアンモニウム塩誘導体の具体例としては、例えば、WO2010/095390号公報及びWO2009/122664号公報記載の光塩基発生剤、例えば、(9−アントリル)メチルトリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート、(9−オキソ−9H−チオキサンテン−2−イル)メチルトリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート、(9−アントリル)メチル1−アザビシクロ〔2.2.2〕オクタニウムテトラフェニルボレート、(9−オキソ−9H−チオキサンテン−2−イル)メチル1−アザビシクロ〔2.2.2〕オクタニウムテトラフェニルボレート、9−アントリルメチル−1−アザビシクロ〔2.2.2〕オクタニウムテトラフェニルボレート、5−(9−アントリルメチル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕−5−ノネニウムテトラフェニルボレート、8−(9−アントリルメチル)−1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕−7−ウンデセニウムフェニルグリオキシラート、N−(9−アントリルメチル)−N,N,N−トリオクチルアンモニウムテトラフェニルボレート、8−(9−オキソ−9H−チオキサンテン−2−イル)メチル−1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネニウムテトラフェニルボレート、8−(4−ベンゾイルフェニル)メチル−1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕−7−ウンデセニウムテトラフェニルボレート、{8−(t−ブチル−2−ナフタリルメチル)−1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕−7−ウンデセニウムテトラフェニルボレート、8−(9−オキソ−9H−チオキサンテン−2−イル)メチル−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウムテトラフェニルボレート、N−ベンゾフェノンメチルトリ−N−メチルアンモニウムテトラフェニルボレート等が挙げられる。   Specific examples of the benzyl ammonium salt derivative include, for example, photobase generators described in WO2010 / 095390 and WO2009 / 122664, for example, (9-anthryl) methyltriethylammonium tetraphenylborate, (9-oxo-9H) -Thioxanthen-2-yl) methyltriethylammonium tetraphenylborate, (9-anthryl) methyl 1-azabicyclo [2.2.2] octanium tetraphenylborate, (9-oxo-9H-thioxanthen-2-yl ) Methyl 1-azabicyclo [2.2.2] octanium tetraphenylborate, 9-anthrylmethyl-1-azabicyclo [2.2.2] octanium tetraphenylborate, 5- (9-anthrylmethyl)- 1,5-diazabicyclo 4.3.0] -5-nonenium tetraphenylborate, 8- (9-anthrylmethyl) -1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium phenylglyoxylate, N- (9-anthrylmethyl) -N, N, N-trioctylammonium tetraphenylborate, 8- (9-oxo-9H-thioxanthen-2-yl) methyl-1,5-diazabicyclo [4.3.0] ] -5-nonenium tetraphenylborate, 8- (4-benzoylphenyl) methyl-1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium tetraphenylborate, {8- (t-butyl- 2-naphthalylmethyl) -1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium tetraphenylborate, 8- (9-oxo-9H-thioxane Down 2-yl) methyl-1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium tetraphenylborate, N- benzophenone methyltrimethoxysilane -N- methyl ammonium tetraphenyl borate, and the like.

α−アミノアルケン誘導体としては、例えば、特表2001−515500号公報記載の5−(2’−(4”−ビフェニル)アリル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(2’−(2”−ナフチル)アリル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(2’−(4”−ジエチルアミノフェニル)アリル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(1’−メチル、2’−(4”−ビフェニル)アリル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(1’−メチル、2’−(2”−チオキサンチル)アリル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(1’−メチル、2’−(2”−フルオレニル)アリル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、8−(2’−(4”−ビフェニル)アリル)−(1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕−7−ウンデセン)等が挙げられる。   Examples of the α-aminoalkene derivatives include, for example, 5- (2 ′-(4 ″ -biphenyl) allyl) -1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane and 5- (2 ′-(2 ″ -naphthyl) allyl) -1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (2 ′-(4 ″ -diethylaminophenyl) allyl) -1,5-diazabicyclo [4 3.0.nonane, 5- (1′-methyl, 2 ′-(4 ″ -biphenyl) allyl) -1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (1′-methyl, '-(2 "-thioxanthyl) allyl) -1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (1'-methyl, 2'-(2" -fluorenyl) allyl) -1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 8- (2′- 4 "- biphenyl) allyl) - (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene), and the like.

α−アンモニウムアルケン誘導体としては、例えば、特表2002−523393号公報記載のN−(2’−フェニルアリル)−トリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート、1−(2’−フェニルアリル)−(1−アゾニア−4−アザビシクロ[2,2,2]−オクタン)テトラフェニルボレート、1−(2’−フェニルアリル)−(1−アゾニア−4−アザビシクロ[2,2,2]−オクタン)テトラフェニルボレート、1−(2’−フェニルアリル)−(1−アゾニア−4−アザビシクロ[2,2,2]−オクタン)トリス(3−フルオロフェニル)ヘキシルボレート等が挙げられる。   Examples of the α-ammonium alkene derivative include, for example, N- (2′-phenylallyl) -triethylammonium tetraphenylborate and 1- (2′-phenylallyl)-(1-azonia- described in JP-T-2002-523393. 4-azabicyclo [2,2,2] -octane) tetraphenyl borate, 1- (2′-phenylallyl)-(1-azonia-4-azabicyclo [2,2,2] -octane) tetraphenyl borate, 1 -(2'-phenylallyl)-(1-azonia-4-azabicyclo [2,2,2] -octane) tris (3-fluorophenyl) hexyl borate and the like.

アミンイミド類としては、例えば、WO2002/051905号公報記載の[(2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル)ジメチルアミニオ](4−ニトロベンゾイル)アミンアニオン、[(2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル)ジメチルアミニオ](4−シアノベンゾイル)アミンアニオン、[(2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル)ジメチルアミニオ](4−メトキシベンゾイル)アミンアニオン、[(2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル)ジメチルアミニオ]ベンゾイルアミンアニオン、[(2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル)ジメチルアミニオ][4−(ジメチルアミノ)ベンゾイル]アミンアニオン等が挙げられる。   Examples of the amine imides include, for example, [(2-hydroxy-3-phenoxypropyl) dimethylaminio] (4-nitrobenzoyl) amine anion and [(2-hydroxy-3-phenoxypropyl) dimethyl described in WO2002 / 051905. [Aminio] (4-cyanobenzoyl) amine anion, [(2-hydroxy-3-phenoxypropyl) dimethylaminio] (4-methoxybenzoyl) amine anion, [(2-hydroxy-3-phenoxypropyl) dimethylaminio ] Benzoylamine anion, [(2-hydroxy-3-phenoxypropyl) dimethylaminio] [4- (dimethylamino) benzoyl] amine anion, and the like.

前記光によりアミジンを発生するベンジルオキシカルボニルアミン誘導体としては、ベンジルオキシカルボニルイミダゾール類、ベンジルオキシカルボニルグアニジン類、ジアミン誘導体等が挙げられる。   Examples of the benzyloxycarbonylamine derivative that generates amidine by light include benzyloxycarbonylimidazoles, benzyloxycarbonylguanidines, and diamine derivatives.

ベンジルオキシカルボニルイミダゾール類としては、例えば、特開平9−40750号公報記載のN−(2−ニトロベンジルオキシカルボニル)イミダゾール、N−(3−ニトロベンジルオキシカルボニル)イミダゾール、N−(4−クロロ−2−ニトロベンジルオキシカルボニル)イミダゾール、N−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)イミダゾール、N−(5−メチル−2−ニトロベンジルオキシカルボニル)イミダゾール、N−(4,5−ジメチル−2−ニトロベンジルオキシカルボニル)イミダゾール等が挙げられる。   Examples of benzyloxycarbonylimidazoles include N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) imidazole, N- (3-nitrobenzyloxycarbonyl) imidazole, and N- (4-chloro-) described in JP-A-9-40750. 2-nitrobenzyloxycarbonyl) imidazole, N- (4-nitrobenzyloxycarbonyl) imidazole, N- (5-methyl-2-nitrobenzyloxycarbonyl) imidazole, N- (4,5-dimethyl-2-nitrobenzyl) (Oxycarbonyl) imidazole and the like.

ベンジルオキシカルボニルグアニジン類としては、例えば、WO97/31033号公報記載のベンジルオキシカルボニルテトラメチルグアニジン等が挙げられる。   Examples of the benzyloxycarbonylguanidine include benzyloxycarbonyltetramethylguanidine described in WO 97/31033.

ジアミン誘導体としては、例えば、特開2011−116869号公報記載のN−(N’−((1−(4,5−ジメトキシ−2−ニトロフェニル)エトキシ)カルボニル)アミノプロピル)−N−メチルアセトアミド、N−(N’−(4,5−ジメトキシ−2−ニトロベンジルオキシカルボニル)アミノプロピル)−6−ヘプタンラクタム等が挙げられる。   Examples of the diamine derivative include N- (N ′-((1- (4,5-dimethoxy-2-nitrophenyl) ethoxy) carbonyl) aminopropyl) -N-methylacetamide described in JP-A-2011-116869. , N- (N '-(4,5-dimethoxy-2-nitrobenzyloxycarbonyl) aminopropyl) -6-heptane lactam and the like.

前記カルボン酸と3級アミンとの塩としては、α−ケトカルボン酸アンモニウム塩、及びカルボン酸アンモニウム塩等が挙げられる。   Examples of the salt of the carboxylic acid and the tertiary amine include an α-ketocarboxylic acid ammonium salt and a carboxylic acid ammonium salt.

α−ケトカルボン酸アンモニウム塩としては、例えば、特開昭55−22669号公報記載のフェニルグリオキシル酸のジメチル・ベンジル・アンモニウム塩、フェニルグリオキシル酸のトリ−n−ブチル・アンモニウム塩等が挙げられる。   Examples of the α-ketocarboxylic acid ammonium salt include dimethylglybenzyl ammonium salt of phenylglyoxylic acid and tri-n-butyl ammonium salt of phenylglyoxylic acid described in JP-A-55-22669.

カルボン酸アンモニウム塩としては、例えば、特開2009−280785号公報記載のジアザビシクロウンデセン(DBU)のケトプロフェン塩、2−メチルイミダゾールのケトプロフェン塩、特開2011−80032号公報記載のジアザビシクロウンデセン(DBU)のキサントン酢酸塩、ジアザビシクロウンデセン(DBU)のチオキサントン酢酸塩、特開2007−262276号公報記載の2−(カルボキシメチルチオ)チオキサントンの3−キヌクリジノール塩、2−(カルボキシメトキシ)チオキサントンの3−キヌクリジノール塩、並びに特開2010−254982号公報及び特開2011−213783号公報記載のtrans−o−クマル酸の3−キヌクリジノール塩が挙げられる。   Examples of the ammonium carboxylate include a ketoprofen salt of diazabicycloundecene (DBU) described in JP-A-2009-280785, a ketoprofen salt of 2-methylimidazole, and a diazabicyclo described in JP-A-2011-80032. Undecene (DBU) xanthone acetate, diazabicycloundecene (DBU) thioxanthone acetate, 2- (carboxymethylthio) thioxanthone 3-quinuclidinol salt described in JP-A-2007-262276, 2- (carboxymethoxy) ) 3-quinuclidinol salts of thioxanthone, and 3-quinuclidinol salts of trans-o-coumaric acid described in JP 2010-254982 A and JP 2011-213783 A.

前述した光塩基発生剤(B)の中でも、発生塩基が高い触媒活性を示す点から光潜在性第3級アミンが好ましく、塩基の発生効率が良いこと及び組成物としての貯蔵安定性が良いことなどから、ベンジルアンモニウム塩誘導体、ベンジル置換アミン誘導体、α−アミノケトン誘導体、α−アンモニウムケトン誘導体が好ましく、特に、より塩基の発生効率が良いことから、α−アミノケトン誘導体、α−アンモニウムケトン誘導体がより好ましく、配合物に対する溶解性よりα−アミノケトン誘導体がより好ましい。α−アミノケトン誘導体の中でも発生塩基の塩基性の強さより前記式(I)で示されるα−アミノケトン化合物が良く、入手のしやすさより前記式(II)で示されるα−アミノケトン化合物が良い。   Among the above-mentioned photobase generators (B), a photolatent tertiary amine is preferred from the viewpoint that the generated base exhibits high catalytic activity, and that the generation efficiency of the base is good and the storage stability as a composition is good. For example, a benzylammonium salt derivative, a benzyl-substituted amine derivative, an α-aminoketone derivative, and an α-ammonium ketone derivative are preferred.In particular, α-aminoketone derivatives and α-ammonium ketone derivatives are more preferred because of higher base generation efficiency. Preferably, the α-aminoketone derivative is more preferable than the solubility in the compound. Among the α-aminoketone derivatives, the α-aminoketone compound represented by the above formula (I) is better because of the basicity of the generated base, and the α-aminoketone compound represented by the above formula (II) is better because it is easily available.

これら光塩基発生剤(B)は単独で用いてもよく、2種以上組み合わせて用いてもよい。
前記光塩基発生剤(B)の配合割合は特に制限はないが、(A)架橋性珪素基含有有機重合体100質量部に対して、0.01〜50質量部が好ましく、0.01〜40質量部がより好ましく、0.1〜30質量部がさらに好ましい。
These photobase generators (B) may be used alone or in combination of two or more.
The mixing ratio of the photobase generator (B) is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 50 parts by mass, and more preferably 0.01 to 50 parts by mass with respect to (A) 100 parts by mass of the crosslinkable silicon group-containing organic polymer. 40 parts by mass is more preferable, and 0.1 to 30 parts by mass is further preferable.

本発明において、(C)Si−F結合を有するケイ素化合物は(A)架橋性珪素基含有有機重合体の硬化触媒として作用する。前記(C)Si−F結合を有するケイ素化合物としては、Si−F結合を有するケイ素基(以下、フルオロシリル基と称することがある)を含む公知の化合物を広く使用することができ、特に制限はなく、低分子化合物及び高分子化合物のいずれも使用可能であるが、フルオロシリル基を有する有機珪素化合物が好ましく、フルオロシリル基を有する有機重合体が、安全性が高くより好適である。また、配合物が低粘度となる点からフルオロシリル基を有する低分子有機珪素化合物が好ましい。   In the present invention, (C) a silicon compound having a Si-F bond acts as a curing catalyst for (A) a crosslinkable silicon group-containing organic polymer. As the silicon compound having a Si-F bond (C), a known compound containing a silicon group having a Si-F bond (hereinafter, sometimes referred to as a fluorosilyl group) can be widely used, and particularly, it is limited. However, any of a low molecular compound and a high molecular compound can be used, but an organosilicon compound having a fluorosilyl group is preferable, and an organic polymer having a fluorosilyl group has high safety and is more preferable. Further, a low molecular weight organosilicon compound having a fluorosilyl group is preferred from the viewpoint that the composition has a low viscosity.

前記(C)Si−F結合を有するケイ素化合物としては、具体的には、下記式(7)で示されるフルオロシラン類等の下記式(8)で示されるフルオロシリル基を有する化合物(本願明細書では、フッ素化化合物とも称する)、フルオロシリル基を有する有機重合体(本願明細書では、フッ素化ポリマーとも称する)等が好適な例として挙げられる。   As the silicon compound (C) having a Si—F bond, specifically, a compound having a fluorosilyl group represented by the following formula (8) such as a fluorosilane represented by the following formula (7) (the specification of the present application) Preferred examples thereof include a fluorinated compound, an organic polymer having a fluorosilyl group (also referred to as a fluorinated polymer in the present specification), and the like.

11 4−dSiF ・・・(7)
(式(7)において、R11はそれぞれ独立して、置換あるいは非置換の炭素原子数1〜20の炭化水素基、またはR12SiO−(R12はそれぞれ独立に、炭素原子数1〜20の置換あるいは非置換の炭化水素基、又はフッ素原子である)で示されるオルガノシロキシ基のいずれかを示す。dは1〜3のいずれかであり、dが3であることが好ましい。R11及びR12が複数存在する場合、それらは同じであっても異なっていてもよい。)
R 11 4-d SiF d (7)
(In the formula (7), R 11 is each independently a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or R 12 SiO— (R 12 is each independently having 1 to 20 carbon atoms. Which is a substituted or unsubstituted hydrocarbon group or a fluorine atom), wherein d is any of 1 to 3, and d is preferably 3. R 11 And when a plurality of R 12 are present, they may be the same or different.)

−SiF11 ・・・(8)
(式(8)中、R11及びdはそれぞれ式(7)と同じであり、Zはそれぞれ独立して水酸基又はフッ素以外の加水分解性基であり、eは0〜2のいずれかであり、fは0〜2のいずれかであり、d+e+fは3である。R11、R12及びZが複数存在する場合、それらは同じであっても異なっていてもよい。)
-SiF d R 11 e Z f ··· (8)
(In the formula (8), R 11 and d are the same as in the formula (7), Z is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group other than fluorine, and e is any of 0 to 2. , F is any one of 0 to 2, and d + e + f is 3. When a plurality of R 11 , R 12 and Z are present, they may be the same or different.)

前記式(7)で示されるフルオロシラン類としては、式(7)で示される公知のフルオロシラン類が挙げられ、特に制限はないが、例えば、フルオロトリメチルシラン、フルオロトリエチルシラン、フルオロトリプロピルシラン、フルオロトリブチルシラン、フルオロジメチルビニルシラン、フルオロジメチルフェニルシラン、フルオロジメチルベンジルシラン、フルオロジメチル(3−メチルフェニル)シラン、フルオロジメチル(4−メチルフェニル)シラン、フルオロジメチル(4−クロロフェニル)シラン、フルオロトリフェニルシラン、ジフルオロジメチルシラン、ジフルオロジエチルシラン、ジフルオロジブチルシラン、ジフルオロメチルフェニルシラン、ジフルオロジフェニルシラン、トリフルオロエチルシラン、トリフルオロプロピルシラン、トリフルオロブチルシラン、トリフルオロフェニルシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフルオロシラン、γ−グリシドキシプロピルジフルオロメチルシラン、ビニルトリフルオロシラン、ビニルジフルオロメチルシラン、γ−メタクリロキシプロピルフルオロジメチルシラン、γ−メタクリロキシプロピルジフルオロメチルシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリフルオロシラン、3−メルカプトプロピルトリフルオロシラン、オクタデシルフルオロジメチルシラン、オクタデシルジフルオロメチルシラン、オクタデシルトリフルオロシラン、1,3−ジフルオロ−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3,5,7−テトラフルオロ−1,3,5,7−テトラシラトリシクロ[3.3.1.1(3,7)]デカン、1,1−ジフルオロ−1−シラシクロ−3−ペンテン、フルオロトリス(トリメチルシロキシ)シランなどが挙げられる。   The fluorosilanes represented by the formula (7) include known fluorosilanes represented by the formula (7), and are not particularly limited. For example, fluorotrimethylsilane, fluorotriethylsilane, and fluorotripropylsilane , Fluorotributylsilane, fluorodimethylvinylsilane, fluorodimethylphenylsilane, fluorodimethylbenzylsilane, fluorodimethyl (3-methylphenyl) silane, fluorodimethyl (4-methylphenyl) silane, fluorodimethyl (4-chlorophenyl) silane, fluorotrifluorosilane Phenylsilane, difluorodimethylsilane, difluorodiethylsilane, difluorodibutylsilane, difluoromethylphenylsilane, difluorodiphenylsilane, trifluoroethylsilane, trifluoro Propylsilane, trifluorobutylsilane, trifluorophenylsilane, γ-glycidoxypropyltrifluorosilane, γ-glycidoxypropyldifluoromethylsilane, vinyltrifluorosilane, vinyldifluoromethylsilane, γ-methacryloxypropylfluorodimethyl Silane, γ-methacryloxypropyldifluoromethylsilane, γ-methacryloxypropyltrifluorosilane, 3-mercaptopropyltrifluorosilane, octadecylfluorodimethylsilane, octadecyldifluoromethylsilane, octadecyltrifluorosilane, 1,3-difluoro-1 , 1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,3,5,7-tetrafluoro-1,3,5,7-tetrasilatricyclo [3.3.1.1 (3,7)] Kang, 1,1-difluoro-1-silacycle 3-pentene, etc. fluoro tris (trimethylsiloxy) silane.

これらのなかでも、原料の入手が容易なこと、合成が容易なことなどから、フルオロジメチルビニルシラン、フルオロジメチルフェニルシラン、フルオロジメチルベンジルシラン、ビニルトリフルオロシラン、ビニルジフルオロメチルシラン、γ−メタクリロキシプロピルフルオロジメチルシラン、γ−メタクリロキシプロピルジフルオロメチルシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリフルオロシラン、3−メルカプトプロピルトリフルオロシラン、オクタデシルフルオロジメチルシラン、オクタデシルジフルオロメチルシラン、オクタデシルトリフルオロシラン、1,3−ジフルオロ−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン等が好ましい。   Of these, fluorodimethylvinylsilane, fluorodimethylphenylsilane, fluorodimethylbenzylsilane, vinyltrifluorosilane, vinyldifluoromethylsilane, γ-methacryloxypropyl Fluorodimethylsilane, γ-methacryloxypropyldifluoromethylsilane, γ-methacryloxypropyltrifluorosilane, 3-mercaptopropyltrifluorosilane, octadecylfluorodimethylsilane, octadecyldifluoromethylsilane, octadecyltrifluorosilane, 1,3-difluoro -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane and the like are preferred.

前記式(8)で示されるフルオロシリル基を有する化合物において、式(8)中のZで示される加水分解性基としては、例えば、式(1)のXの加水分解性基と同様の基を挙げることができるが、具体的には、水素原子、フッ素以外のハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、ケトキシメート基、アミノ基、アミド基、酸アミド基、アミノオキシ基、メルカプト基、アルケニルオキシ基等が挙げられる。これらの内では、水素原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、ケトキシメート基、アミノ基、アミド基、アミノオキシ基、メルカプト基およびアルケニルオキシ基が好ましく、加水分解性が穏やかで取扱いやすいという観点からアルコキシ基が特に好ましい。   In the compound having a fluorosilyl group represented by the formula (8), the hydrolyzable group represented by Z in the formula (8) is, for example, the same group as the hydrolyzable group represented by X in the formula (1). Specific examples include a hydrogen atom, a halogen atom other than fluorine, an alkoxy group, an acyloxy group, a ketoximate group, an amino group, an amide group, an acid amide group, an aminooxy group, a mercapto group, and an alkenyloxy group. And the like. Of these, a hydrogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, a ketoximate group, an amino group, an amide group, an aminooxy group, a mercapto group and an alkenyloxy group are preferable, and an alkoxy group is preferred from the viewpoint of gentle hydrolysis and easy handling. Particularly preferred.

また、前記式(8)中のR11としては、例えば、メチル基、エチル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基等のアリール基、ベンジル基等のアラルキル基や、R12がメチル基、フェニル基等であるR12SiO−で示されるトリオルガノシロキシ基等が挙げられる。これらの中ではメチル基が特に好ましい。 R 11 in the formula (8) includes, for example, an alkyl group such as a methyl group and an ethyl group, a cycloalkyl group such as a cyclohexyl group, an aryl group such as a phenyl group, an aralkyl group such as a benzyl group, and the like. And a triorganosiloxy group represented by R 12 SiO— in which 12 is a methyl group, a phenyl group, or the like. Of these, a methyl group is particularly preferred.

前記式(8)で表されるフルオロシリル基を具体的に例示すると、フッ素以外に加水分解性基を持たないケイ素基として、フルオロジメチルシリル基、フルオロジエチルシリル基、フルオロジプロピルシリル基、フルオロジフェニルシリル基、フルオロジベンジルシリル基等のケイ素基上に1個のフッ素が置換したケイ素基;ジフルオロメチルシリル基、ジフルオロエチルシリル基、ジフルオロフェニルシリル基、ジフルオロベンジルシリル基等のケイ素基上に2個のフッ素が置換したケイ素基;トリフルオロシリル基であるケイ素基上に3個のフッ素が置換したケイ素基;が挙げられ、フッ素とその他の加水分解性基を両方有するケイ素基として、フルオロメトキシメチルシリル基、フルオロエトキシメチルシリル基、フルオロメトキシエチルシリル基、フルオロメトキシフェニルシリル基、フルオロジメトキシシリル基、フルオロジエトキシシリル基、フルオロジプロポキシシリル基、フルオロジフェノキシシリル基、フルオロビス(2−プロペノキシ)シリル基、ジフルオロメトキシシリル基、ジフルオロエトキシシリル基、ジフルオロフェノキシシリル基、フルオロジクロロシリル基、ジフルオロクロロシリル基などが挙げられ、フッ素以外に加水分解性基を持たないケイ素基やR11がメチル基であるフルオロシリル基が好ましく、トリフルオロシリル基がより好ましい。
また、合成の容易さからフルオロジメチルシリル基、ジフルオロメチルシリル基、トリフルオロシリル基、フルオロメトキシメチルシリル基、フルオロエトキシメチルシリル基、フルオロメトキシエチルシリル基、フルオロジメトキシシリル基、フルオロジエトキシシリル基、ジフルオロメトキシシリル基、ジフルオロエトキシシリル基がより好ましく、安定性の観点からフルオロジメチルシリル基、ジフルオロメチルシリル基、トリフルオロシリル基などのフッ素以外に加水分解性基を持たないケイ素基がさらに好ましく、硬化性の高さからは、ジフルオロメチルシリル基、ジフルオロメトキシシリル基、ジフルオロエトキシシリル基、トリフルオロシリル基など、ケイ素基上に2個ないし3個のフッ素が置換したケイ素基が好ましく、トリフルオロシリル基が最も好ましい。
Specific examples of the fluorosilyl group represented by the formula (8) include, as a silicon group having no hydrolyzable group other than fluorine, a fluorodimethylsilyl group, a fluorodiethylsilyl group, a fluorodipropylsilyl group, and a fluorosilyl group. A silicon group in which one fluorine is substituted on a silicon group such as a diphenylsilyl group or a fluorodibenzylsilyl group; A silicon group in which two fluorines are substituted; a silicon group in which three fluorines are substituted on a silicon group which is a trifluorosilyl group; and a silicon group having both fluorine and other hydrolyzable groups is fluoro. Methoxymethylsilyl, fluoroethoxymethylsilyl, fluoromethoxy Lucilyl group, fluoromethoxyphenylsilyl group, fluorodimethoxysilyl group, fluorodiethoxysilyl group, fluorodipropoxysilyl group, fluorodiphenoxysilyl group, fluorobis (2-propenoxy) silyl group, difluoromethoxysilyl group, difluoroethoxysilyl Group, a difluorophenoxysilyl group, a fluorodichlorosilyl group, a difluorochlorosilyl group, and the like, and a silicon group having no hydrolyzable group other than fluorine or a fluorosilyl group in which R11 is a methyl group is preferable, and a trifluorosilyl group is preferable. Is more preferred.
Further, from the ease of synthesis, fluorodimethylsilyl group, difluoromethylsilyl group, trifluorosilyl group, fluoromethoxymethylsilyl group, fluoroethoxymethylsilyl group, fluoromethoxyethylsilyl group, fluorodimethoxysilyl group, fluorodiethoxysilyl group , A difluoromethoxysilyl group, a difluoroethoxysilyl group is more preferable, and a silicon group having no hydrolyzable group other than fluorine such as a fluorodimethylsilyl group, a difluoromethylsilyl group, and a trifluorosilyl group is more preferable from the viewpoint of stability. From the viewpoint of high curability, a silicon group in which two to three fluorines are substituted on a silicon group, such as a difluoromethylsilyl group, a difluoromethoxysilyl group, a difluoroethoxysilyl group, and a trifluorosilyl group, is preferred. Fluoro silyl group is most preferred.

前記式(8)で示されるフルオロシリル基を有する化合物としては、特に限定されず、単分子化合物、高分子化合物のいずれも使用可能であり、例えば、テトラフルオロシラン、オクタフルオロトリシラン等の無機珪素化合物;上記式(7)で示されるフルオロシラン類、フルオロトリメトキシシラン、ジフルオロジメトキシシラン、トリフルオロメトキシシラン、フルオロトリエトキシシラン、ジフルオロジエトキシシラン、トリフルオロエトキシシラン、メチルフルオロジメトキシシラン、メチルジフルオロメトキシシラン、メチルトリフルオロシラン、メチルフルオロジエトキシシラン、メチルジフルオロエトキシシラン、ビニルフルオロジメトキシシラン、ビニルジフルオロメトキシシラン、ビニルトリフルオロシラン、ビニルフルオロジエトキシシラン、ビニルジフルオロエトキシシラン、フェニルフルオロジメトキシシラン、フェニルジフルオロメトキシシラン、フェニルトリフルオロシラン、フェニルフルオロジエトキシシラン、フェニルジフルオロエトキシシラン、フルオロトリメチルシラン等の低分子有機珪素化合物;末端に式(8)で示されるフルオロシリル基を有するフッ素化ポリシロキサンなどの高分子化合物が挙げられ、前記式(7)で示されるフルオロシラン類や、主鎖又は側鎖の末端に式(8)で示されるフルオロシリル基を有する重合体が好適である。   The compound having a fluorosilyl group represented by the formula (8) is not particularly limited, and any of a monomolecular compound and a polymer compound can be used. For example, inorganic compounds such as tetrafluorosilane and octafluorotrisilane can be used. Silicon compound: fluorosilanes represented by the above formula (7), fluorotrimethoxysilane, difluorodimethoxysilane, trifluoromethoxysilane, fluorotriethoxysilane, difluorodiethoxysilane, trifluoroethoxysilane, methylfluorodimethoxysilane, methyl Difluoromethoxysilane, methyltrifluorosilane, methylfluorodiethoxysilane, methyldifluoroethoxysilane, vinylfluorodimethoxysilane, vinyldifluoromethoxysilane, vinyltrifluorosilane, vinylflu Low molecular weight organic silicon compounds such as rhodiethoxysilane, vinyldifluoroethoxysilane, phenylfluorodimethoxysilane, phenyldifluoromethoxysilane, phenyltrifluorosilane, phenylfluorodiethoxysilane, phenyldifluoroethoxysilane, and fluorotrimethylsilane; And a high molecular compound such as a fluorinated polysiloxane having a fluorosilyl group represented by the formula (8), such as a fluorosilane represented by the formula (7) or a formula (8) at the terminal of the main chain or the side chain. Polymers having a fluorosilyl group are preferred.

前記式(7)で示されるフルオロシラン類及び前記式(8)で示されるフルオロシリル基を有する化合物は、市販の試薬を用いても良いし、原料化合物から合成してもよい。合成方法としても特に制限はないが、下記式(9)で示される加水分解性ケイ素基を有する化合物と、フッ素化剤とを公知の方法(例えば、Organometallics 1996年,15,2478頁(Ishikawaほか)等)を用いて反応させることにより得られる化合物が好適に用いられる。
−SiR11 3−p ・・・(9)
(式(9)中、R11及びZはそれぞれ式(8)と同じであり、pは1〜3のいずれかである。)
The fluorosilanes represented by the formula (7) and the compound having a fluorosilyl group represented by the formula (8) may be a commercially available reagent or may be synthesized from a starting compound. Although there is no particular limitation on the synthesis method, a compound having a hydrolyzable silicon group represented by the following formula (9) and a fluorinating agent can be synthesized by a known method (for example, Organometallics 1996, 15, 2,478 (Ishikawa et al.) ) Etc.) are preferably used.
—SiR 11 3-p Z p (9)
(In the formula (9), R 11 and Z are the same as those in the formula (8), and p is any of 1 to 3.)

上記式(9)で示される加水分解性ケイ素基としては、例えば、アルコキシシリル基、シロキサン結合、クロロシリル基等のハロシリル基、ヒドロシリル基等が挙げられる。   Examples of the hydrolyzable silicon group represented by the above formula (9) include an alkoxysilyl group, a siloxane bond, a halosilyl group such as a chlorosilyl group, and a hydrosilyl group.

アルコキシシリル基のフッ素化に使用されるフッ素化剤の具体例としては、特に限定されず、例えば、NHF、BuNF、HF、BF、EtNSF、HSOF、SbF、VOF、CFCHFCFNEtなどが挙げられる。
ハロシリル基のフッ素化に使用されるフッ素化剤の具体例としては、特に限定されず、例えば、AgBF、SbF、ZnF、NaF、KF、CsF、NHF、CuF、NaSiF、NaPF、NaSbF、NaBF、MeSnF、KF(HF)1.5〜5などが挙げられる。
ヒドロシリル基のフッ素化に使用されるフッ素化剤の具体例としては、特に限定されず、例えば、AgF、PF、PhCBF、SbF、NOBF、NOBFなどが挙げられる。
シロキサン結合を有する化合物はBFなどにより開裂し、フルオロシリル基が得られる。
Specific examples of the fluorinating agent used for fluorination of the alkoxysilyl group are not particularly limited, and include, for example, NH 4 F, Bu 4 NF, HF, BF 3 , Et 2 NSF 3 , HSO 3 F, and SbF 5. , VOF 3 , CF 3 CHFCF 2 NEt 2 and the like.
Specific examples of the fluorinating agent used for fluorination of the halosilyl group are not particularly limited. For example, AgBF 4 , SbF 3 , ZnF 2 , NaF, KF, CsF, NH 4 F, CuF 2 , NaSiF 6 , NaPF 6 , NaSbF 6 , NaBF 4 , Me 3 SnF, KF (HF) 1.5 to 5, and the like.
Specific examples of fluorinating agents used for the fluorination of hydrosilyl group is not particularly limited, for example, AgF, PF 5, Ph 3 CBF 4, SbF 3, NOBF 4, such as NO 2 BF 4 and the like.
The compound having a siloxane bond is cleaved by BF 3 or the like to obtain a fluorosilyl group.

これらのフッ素化剤を用いたフルオロシリル基の合成方法のなかでも、反応が簡便であること、反応効率が高いこと、安全性が高いことなどから、BFを用いたアルコキシシランのフッ素化法、CuFまたはZnFを用いたクロロシランのフッ素化法が好ましい。 Among the methods for synthesizing a fluorosilyl group using these fluorinating agents, a method for fluorinating an alkoxysilane using BF 3 is preferred because the reaction is simple, the reaction efficiency is high, and the safety is high. A fluorination method of chlorosilane using CuF 2 or ZnF 2 is preferable.

BFとしては、BFガス、BFエーテル錯体、BFチオエーテル錯体、BFアミン錯体、BFアルコール錯体、BFカルボン酸錯体、BFリン酸錯体、BF水和物、BFピペリジン錯体、BFフェノール錯体等が使用できるが、取扱いが容易であることなどからBFエーテル錯体、BFチオエーテル錯体、BFアミン錯体、BFアルコール錯体、BFカルボン酸錯体、BF水和物が好ましい。中でもBFエーテル錯体、BFアルコール錯体、BF水和物は反応性が高く好ましく、BFエーテル錯体が特に好ましい。 Examples of BF 3 include BF 3 gas, BF 3 ether complex, BF 3 thioether complex, BF 3 amine complex, BF 3 alcohol complex, BF 3 carboxylic acid complex, BF 3 phosphate complex, BF 3 hydrate, and BF 3 piperidine. Complexes, BF 3 phenol complexes and the like can be used, but BF 3 ether complexes, BF 3 thioether complexes, BF 3 amine complexes, BF 3 alcohol complexes, BF 3 carboxylic acid complexes, BF 3 hydrates are easy to handle. Are preferred. Among them, BF 3 ether complex, BF 3 alcohol complex and BF 3 hydrate have high reactivity and are preferable, and BF 3 ether complex is particularly preferable.

前記フルオロシリル基を有する有機重合体(本願明細書では、フッ素化ポリマーとも称する)としては、Si−F結合を有する有機重合体であれば特に制限はなく、公知のSi−F結合を有する有機重合体を広く使用可能である。
有機重合体中のSiF結合の位置も特に制限はなく、重合体分子内のいずれの部位にあっても効果を発揮し、主鎖または側鎖の末端であれば−SiR’F、重合体の主鎖に組み込まれていれば、−SiR’F−または≡SiF(R’はそれぞれ独立に、任意の基)の形で表される。
主鎖又は側鎖の末端にSi−F結合を有する有機重合体としては、前述した式(8)で示されるフルオロシリル基を有する重合体が好適である。フルオロシリル基が重合体の主鎖中に組み込まれたものの例としては、−Si(CH)F−、−Si(C)F−、−SiF−、≡SiFなどが挙げられる。
The organic polymer having a fluorosilyl group (also referred to as a fluorinated polymer in the specification of the present application) is not particularly limited as long as it is an organic polymer having a Si—F bond. Polymers can be widely used.
The position of the SiF bond in the organic polymer is not particularly limited, and the effect is exhibited at any site in the polymer molecule. If the terminal of the main chain or the side chain is -SiR ′ 2 F, the polymer Is represented in the form of -SiR'F- or ≡SiF (R 'is independently an arbitrary group).
As the organic polymer having a Si—F bond at the terminal of the main chain or the side chain, a polymer having a fluorosilyl group represented by the above formula (8) is preferable. Examples Although fluoro silyl group is incorporated in the main chain of the polymer, -Si (CH 3) F - , - Si (C 6 H 5) F -, - SiF 2 -, and the like ≡SiF .

前記フッ素化ポリマーは、フルオロシリル基および主鎖骨格が同種である単一の重合体、すなわち、1分子あたりのフルオロシリル基の数、その結合位置、および該フルオロシリル基が有するFの数、ならびに主鎖骨格が同種である単一の重合体であってもよく、これらのいずれか、またはすべてが異なる、複数の重合体の混合物であってもよい。フッ素化ポリマーが単一の重合体、複数の重合体の混合物のいずれの場合においても、フッ素化ポリマーは、速硬化性を示す硬化性組成物の樹脂成分として好適に用いることができるが、高い硬化性を発揮し、かつ高強度、高伸びで、低弾性率を示すゴム状硬化物を得るためには、フッ素化ポリマーに含有されるフルオロシリル基は、重合体1分子あたり平均して少なくとも1個、好ましくは1.1〜5個、さらに好ましくは1.2〜3個存在するのがよい。1分子中に含まれるフルオロシリル基の数が平均して1個未満になると、硬化性が不十分になり、良好なゴム弾性挙動を発現しにくくなる可能性がある。また、1分子中に含まれるフルオロシリル基の数が平均して5個より多い場合には、ゴム状硬化物の伸びが小さくなる場合がある。なお、上述のように、フルオロシリル基は、重合体分子鎖の主鎖の末端あるいは側鎖の末端に存在していてもよく、または主鎖中に組み込まれていてもよいが、特に主鎖の末端に存在するときは、最終的に形成される硬化物に含まれる有機重合体成分の有効網目長が長くなるため、高強度、高伸びで、低弾性率を示すゴム状硬化物が得られやすくなる。1分子中にフルオロシリル基が2個以上存在する場合は、それぞれのケイ素基は同じであっても異なっていてもよい。   The fluorinated polymer is a single polymer having the same type of fluorosilyl group and main chain skeleton, that is, the number of fluorosilyl groups per molecule, the bonding position thereof, and the number of F that the fluorosilyl group has, Further, the polymer may be a single polymer having the same main chain skeleton, or a mixture of a plurality of polymers in which any or all of them are different. In any case where the fluorinated polymer is a single polymer or a mixture of a plurality of polymers, the fluorinated polymer can be suitably used as a resin component of a curable composition showing rapid curability, In order to obtain a rubber-like cured product exhibiting curability, and having high strength and high elongation and exhibiting a low elastic modulus, the fluorosilyl group contained in the fluorinated polymer is at least on average per one molecule of the polymer. One, preferably 1.1 to 5, more preferably 1.2 to 3 is present. If the number of fluorosilyl groups contained in one molecule is less than one on average, curability may be insufficient, and good rubber elasticity may not be exhibited. When the number of fluorosilyl groups contained in one molecule is more than five on average, the rubbery cured product may have a small elongation. As described above, the fluorosilyl group may be present at the terminal of the main chain or the terminal of the side chain of the polymer molecular chain, or may be incorporated in the main chain. When present at the end of the polymer, the effective mesh length of the organic polymer component contained in the finally formed cured product becomes longer, so that a rubber-like cured product having high strength, high elongation, and low elastic modulus is obtained. It becomes easy to be. When two or more fluorosilyl groups are present in one molecule, the respective silicon groups may be the same or different.

また、フッ素化ポリマーは、フルオロシリル基とともに、加水分解性基としてフッ素以外の加水分解性基のみを有するケイ素基(たとえば、メチルジメトキシシリル基等)などのフルオロシリル基以外の置換基を含有していてもよい。このようなフッ素化ポリマーとしては、たとえば一方の主鎖末端がフルオロシリル基であり、他方の主鎖末端が、加水分解性基としてフッ素以外の加水分解性基のみを有するケイ素基である重合体を挙げることができる。   Further, the fluorinated polymer contains, together with the fluorosilyl group, a substituent other than a fluorosilyl group such as a silicon group having only a hydrolyzable group other than fluorine (for example, a methyldimethoxysilyl group). May be. As such a fluorinated polymer, for example, a polymer in which one main chain terminal is a fluorosilyl group and the other main chain terminal is a silicon group having only a hydrolyzable group other than fluorine as a hydrolyzable group Can be mentioned.

フッ素化ポリマーにおいて、フルオロシリル基の導入は、いかなる方法を用いてもよいが、フルオロシリル基を有する低分子ケイ素化合物と重合体との反応による導入方法(方法(i))と、フッ素以外の加水分解性基を有する反応性ケイ素基を含有する重合体(以下、「重合体(X)」と称することがある。)のケイ素基をフルオロシリル基に変性する方法(方法(ii))が挙げられる。   In the fluorinated polymer, any method may be used to introduce the fluorosilyl group. The introduction method (method (i)) by reacting the fluorosilyl group-containing low-molecular silicon compound with the polymer may be used. A method (method (ii)) of modifying a silicon group of a polymer containing a reactive silicon group having a hydrolyzable group (hereinafter sometimes referred to as “polymer (X)”) into a fluorosilyl group is described. No.

方法(i)の具体例として、以下の方法が挙げられる。
(イ)分子中に水酸基、エポキシ基やイソシアネート基等の官能基を有する重合体に、この官能基に対して反応性を示す官能基およびフルオロシリル基を有する化合物を反応させる方法。たとえば、末端に水酸基を有する重合体とイソシアネートプロピルジフルオロメチルシランを反応させる方法や、末端にSiOH基を有する重合体とジフルオロジエトキシシランを反応させる方法が挙げられる。
(ロ)分子中に不飽和基を含有する重合体に、フルオロシリル基を有するヒドロシランを作用させてヒドロシリル化する方法。たとえば、末端にアリル基を有する重合体に、ジフルオロメチルヒドロシランを反応させる方法が挙げられる。
(ハ)不飽和基を含有する重合体に、メルカプト基およびフルオロシリル基を有する化合物を反応させる方法。たとえば、末端にアリル基を有する重合体に、メルカプトプロピルジフルオロメチルシランを反応させる方法が挙げられる。
The following method is a specific example of the method (i).
(A) A method in which a polymer having a functional group such as a hydroxyl group, an epoxy group or an isocyanate group in a molecule is reacted with a compound having a functional group having a reactivity to the functional group and a fluorosilyl group. For example, a method of reacting a polymer having a hydroxyl group at a terminal with isocyanatopropyldifluoromethylsilane or a method of reacting a polymer having a SiOH group at a terminal with difluorodiethoxysilane are exemplified.
(B) A method in which a hydrosilane having a fluorosilyl group is allowed to act on a polymer containing an unsaturated group in a molecule to perform hydrosilylation. For example, there is a method in which difluoromethylhydrosilane is reacted with a polymer having an allyl group at a terminal.
(C) A method in which a polymer having an unsaturated group is reacted with a compound having a mercapto group and a fluorosilyl group. For example, there is a method in which a polymer having an allyl group at a terminal is reacted with mercaptopropyldifluoromethylsilane.

上記方法(ii)で用いる、フッ素以外の加水分解性基を有する反応性ケイ素基を含有する重合体(重合体(X))としては、前述した架橋性珪素基含有有機重合体(A)が好適に用いられる。   As the polymer (polymer (X)) containing a reactive silicon group having a hydrolyzable group other than fluorine used in the above method (ii), the aforementioned crosslinkable silicon group-containing organic polymer (A) is used. It is preferably used.

また、方法(ii)において、フッ素以外の加水分解性基を有する反応性ケイ素基をフルオロシリル基に変換する方法としては、公知の方法が使用でき、例えば、前述した前記式(9)で示される加水分解性ケイ素基を、フッ素化剤でフルオロシリル基に変換する方法が挙げられる。
フッ素化剤としては、例えば、前述したフッ素化剤が挙げられ、中でも、BFエーテル錯体、BFアルコール錯体、BF二水和物は活性が高く、効率よくフッ素化が進行し、さらに副生成物に塩等が生じず、後処理が容易であるためにより好ましく、BFエーテル錯体が特に好ましい。
さらに、BFエーテル錯体によるフッ素化は、加熱しなくても反応が進行するが、より効率よくフッ素化を行なうためには、加熱することが好ましい。加熱温度としては50℃以上150℃以下が好ましく、60℃以上130℃がより好ましい。50℃以下であると反応が効率よく進行せず、フッ素化に時間がかかる場合がある。150℃以上であるとフッ素化ポリマーが分解する虞がある。BF錯体によるフッ素化において、用いる重合体(X)の種類によっては着色が起こる場合があるが、着色の抑制の点から、BFアルコール錯体、BF二水和物を用いることが好ましい。
In the method (ii), as a method for converting a reactive silicon group having a hydrolyzable group other than fluorine into a fluorosilyl group, a known method can be used. For example, the method is represented by the formula (9) described above. A hydrolyzable silicon group to be converted into a fluorosilyl group with a fluorinating agent.
Examples of the fluorinating agent include the above-mentioned fluorinating agents. Among them, BF 3 ether complex, BF 3 alcohol complex and BF 3 dihydrate have high activity, fluorination proceeds efficiently, and BF 3 It is more preferable because no salt or the like is generated in the product and the post-treatment is easy, and a BF 3 ether complex is particularly preferable.
Further, in the fluorination by the BF 3 ether complex, the reaction proceeds even without heating, but it is preferable to heat in order to perform the fluorination more efficiently. The heating temperature is preferably from 50 ° C to 150 ° C, more preferably from 60 ° C to 130 ° C. When the temperature is lower than 50 ° C., the reaction does not proceed efficiently and the fluorination may take time. If the temperature is higher than 150 ° C., the fluorinated polymer may be decomposed. In the fluorination with the BF 3 complex, coloring may occur depending on the type of the polymer (X) used. However, from the viewpoint of suppressing coloring, it is preferable to use a BF 3 alcohol complex or BF 3 dihydrate.

フッ素化ポリマーの製造に使用されるフッ素化剤は、フッ素化ポリマーの硬化触媒としても作用する可能性があり、上記(ii)の方法を用いてフッ素化ポリマーを製造するときに水分が存在すると、シラノール縮合反応が進行し、得られるフッ素化ポリマーの粘度が上昇してしまう虞がある。このため、フッ素化ポリマーの製造は、できるだけ水分が存在しない環境下で行なわれることが望ましく、フッ素化前に、フッ素化する重合体(X)をトルエンやヘキサン等を利用して共沸脱水に供するなどの脱水操作を行なうことが好ましい。但し、BFアミン錯体を用いる場合には、脱水操作後にはフッ素化が進行し難く、微量の水分を添加することで反応性が向上する傾向があるため、粘度上昇が許容される範囲で水分を添加することが好ましい。また、フッ素化ポリマーの安定性の点で、フッ素化後にフッ素化剤および副生したフッ素化剤由来成分を、濾過、デカンテーション、分液、減圧脱揮などで除去することが好ましい。上記したBF系のフッ素化剤を用いてフッ素化ポリマーを製造する場合には、製造されたフッ素化ポリマー中に残存するBFおよび反応によって生成したBF由来成分が、B量で500ppm未満であることが好ましく、100ppm未満であることがより好ましく、50ppm未満であることが特に好ましい。BFおよびBF由来成分を除去することで、得られたフッ素化ポリマー自身およびフッ素化ポリマーと重合体(X)との混合物の粘度上昇などが抑制できる。この点を考慮すると、BFエーテル錯体、BFアルコール錯体を用いたフッ素化法は、ホウ素成分を真空脱揮により比較的簡便に除去できるため好ましく、BFエーテル錯体を用いた方法が特に好ましい。 The fluorinating agent used in the production of the fluorinated polymer may also act as a curing catalyst for the fluorinated polymer, and when water is present when producing the fluorinated polymer using the above method (ii). In addition, the silanol condensation reaction may proceed, and the viscosity of the obtained fluorinated polymer may increase. For this reason, the production of the fluorinated polymer is desirably carried out in an environment as free of water as possible. Before the fluorination, the fluorinated polymer (X) is subjected to azeotropic dehydration using toluene, hexane or the like. It is preferable to perform a dehydration operation such as providing. However, when the BF 3 amine complex is used, fluorination hardly proceeds after the dehydration operation, and the reactivity tends to be improved by adding a small amount of water. Is preferably added. Further, from the viewpoint of the stability of the fluorinated polymer, it is preferable to remove components derived from the fluorinating agent and by-produced fluorinating agent after fluorination by filtration, decantation, liquid separation, devolatilization under reduced pressure, or the like. When a fluorinated polymer is produced using the above-mentioned BF 3 -based fluorinating agent, BF 3 remaining in the produced fluorinated polymer and BF 3 derived components produced by the reaction are less than 500 ppm in B amount. Is more preferably, less than 100 ppm, particularly preferably less than 50 ppm. By removing BF 3 and the components derived from BF 3 , an increase in the viscosity of the obtained fluorinated polymer itself and a mixture of the fluorinated polymer and the polymer (X) can be suppressed. Considering this point, the fluorination method using a BF 3 ether complex or a BF 3 alcohol complex is preferable because the boron component can be relatively easily removed by vacuum devolatilization, and the method using the BF 3 ether complex is particularly preferable. .

ここで、重合体(X)が、フッ素以外の加水分解性基を2個以上有する場合は、全ての加水分解性基をフッ素化してもよいし、フッ素化剤の量を減量するなどの方法によって、フッ素化の条件を調整することにより、部分的にフッ素化してもよい。たとえば、上記(ii)の方法において、重合体(X)を用いてフッ素化ポリマーを製造する場合、フッ素化剤の使用量は特に制限されるものではなく、フッ素化剤中のフッ素原子のモル量が、重合体(X)のモル量に対して等モル以上になる量であればよい。(ii)の方法により、重合体(X)が含有する加水分解性基のすべてをフッ素化しようとする場合には、フッ素化剤中のフッ素原子のモル量が、重合体(X)が含有する反応性ケイ素基中の加水分解性基の総モル量に対して等モル以上となるような量のフッ素化剤を使用することが好ましい。ここで、「フッ素化剤中のフッ素原子」とは、フッ素化剤中のフッ素化に有効なフッ素原子、具体的には、重合体(X)の反応性ケイ素基中の加水分解性基を置換できるフッ素原子をいう。   Here, when the polymer (X) has two or more hydrolyzable groups other than fluorine, all the hydrolyzable groups may be fluorinated or a method such as reducing the amount of the fluorinating agent. May be partially fluorinated by adjusting fluorination conditions. For example, when the fluorinated polymer is produced using the polymer (X) in the method (ii), the amount of the fluorinating agent used is not particularly limited, and the molar amount of fluorine atoms in the fluorinating agent is not limited. It is sufficient that the amount is equal to or greater than the molar amount of the polymer (X). When all of the hydrolyzable groups contained in the polymer (X) are to be fluorinated by the method (ii), the molar amount of the fluorine atom in the fluorinating agent is limited by the amount of the polymer (X) contained in the polymer (X). It is preferable to use an amount of the fluorinating agent in such an amount that it becomes equimolar or more with respect to the total molar amount of the hydrolyzable group in the reactive silicon group. Here, the “fluorine atom in the fluorinating agent” refers to a fluorine atom effective for fluorination in the fluorinating agent, specifically, a hydrolyzable group in a reactive silicon group of the polymer (X). Refers to a fluorine atom that can be substituted.

上記方法(i)におけるフルオロシリル基を有する低分子化合物も、上記フッ素化方法を利用して、汎用な反応性ケイ素基含有低分子化合物から合成することができる。   The low molecular compound having a fluorosilyl group in the above method (i) can also be synthesized from a general-purpose reactive silicon group-containing low molecular compound using the above fluorination method.

方法(i)では、フルオロシリル基とともに、重合体とケイ素含有低分子化合物を反応させるための反応性基があるため、反応が複雑になる場合には、方法(ii)によってフッ素化ポリマーを得ることが好ましい。   In the method (i), there is a reactive group for reacting the polymer and the silicon-containing low molecular weight compound together with the fluorosilyl group. Therefore, when the reaction becomes complicated, the fluorinated polymer is obtained by the method (ii). Is preferred.

フッ素化ポリマーのガラス転移温度は、特に限定は無いが、20℃以下であることが好ましく、0℃以下であることがより好ましく、−20℃以下であることが特に好ましい。ガラス転移温度が20℃を上回ると、冬季または寒冷地での粘度が高くなり取り扱い難くなる場合があり、また、硬化性組成物として使用した場合に得られる硬化物の柔軟性が低下し、伸びが低下する場合がある。ガラス転移温度はDSC測定により求めることができる。   The glass transition temperature of the fluorinated polymer is not particularly limited, but is preferably 20 ° C or lower, more preferably 0 ° C or lower, and particularly preferably -20 ° C or lower. When the glass transition temperature is higher than 20 ° C., the viscosity in winter or in a cold region becomes high, and it may be difficult to handle. In addition, the flexibility of a cured product obtained when used as a curable composition decreases, and May decrease. The glass transition temperature can be determined by DSC measurement.

フッ素化ポリマーは直鎖状であってもよく、または分岐を有してもよい。フッ素化ポリマーの数平均分子量は、GPCにおけるポリスチレン換算において3,000〜100,000が好ましく、より好ましくは3,000〜50,000であり、特に好ましくは3,000〜30,000である。数平均分子量が3,000未満では、硬化物の伸び特性の点で不都合な傾向があり、100,000を越えると、高粘度となるために作業性の点で不都合な傾向がある。   The fluorinated polymer may be linear or branched. The number average molecular weight of the fluorinated polymer is preferably from 3,000 to 100,000, more preferably from 3,000 to 50,000, particularly preferably from 3,000 to 30,000 in terms of polystyrene by GPC. If the number average molecular weight is less than 3,000, the cured product tends to be inferior in elongation characteristics, and if it exceeds 100,000, the viscosity tends to be high, and the workability tends to be inconvenient.

前記Si−F結合を有するケイ素化合物(C)の配合割合は特に制限はないが、成分(C)としてフッ素化ポリマー等の数平均分子量3000以上の高分子化合物を用いる場合は、(A)架橋性珪素基含有有機重合体100質量部に対して、0.01〜80質量部が好ましく、0.01〜30質量部がより好ましく、0.05〜20質量部がさらに好ましい。成分(C)として数平均分子量3000未満のフルオロシリル基を有する低分子化合物(例えば、前記式(7)で示されるフルオロシラン類や式(8)で示されるフルオロシリル基を有する低分子有機珪素化合物、フルオロシリル基を有する無機珪素化合物等)を用いる場合は、(A)架橋性珪素基含有有機重合体100質量部に対して、0.01〜10質量部が好ましく、0.05〜5質量部がより好ましい。   The blending ratio of the silicon compound (C) having the Si-F bond is not particularly limited, but when a polymer having a number average molecular weight of 3000 or more such as a fluorinated polymer is used as the component (C), (A) crosslinking The amount is preferably 0.01 to 80 parts by mass, more preferably 0.01 to 30 parts by mass, and still more preferably 0.05 to 20 parts by mass, based on 100 parts by mass of the organic polymer having a silicon group. Low molecular weight compounds having a fluorosilyl group having a number average molecular weight of less than 3000 as component (C) (for example, low molecular weight organosilicon having a fluorosilyl group represented by the formula (7) or a fluorosilyl group represented by the formula (8)) Compound, an inorganic silicon compound having a fluorosilyl group, or the like), 0.01 to 10 parts by mass, preferably 0.05 to 5 parts by mass, per 100 parts by mass of (A) the crosslinkable silicon group-containing organic polymer. Parts by mass are more preferred.

本発明の光硬化性組成物は、(D)活性エネルギー線開裂型ラジカル発生剤をさらに含有することが好適である。前記(D)活性エネルギー線開裂型ラジカル発生剤は、活性エネルギー線を照射することで開裂し、ラジカルを発生するタイプの活性エネルギー線開裂型ラジカル発生剤である。該エネルギー線開裂型ラジカル発生剤を使用すると、光塩基開始剤の増感剤として知られていたベンゾフェノン類やチオキサントン類等の光増感剤を使用した場合と比較して、格段に速い硬化速度を示し、エネルギー線照射後本発明の光硬化性組成物をさらに短時間で硬化することが可能となる。   The photocurable composition of the present invention preferably further contains (D) an active energy ray-cleavable radical generator. The active energy ray-cleavable radical generator (D) is an active energy ray-cleavable radical generator that cleaves upon irradiation with an active energy ray to generate radicals. The use of the energy ray-cleavable radical generator has a significantly higher curing rate than the use of photosensitizers such as benzophenones and thioxanthones which have been known as sensitizers for photobase initiators. And the photocurable composition of the present invention can be cured in a shorter time after irradiation with energy rays.

該活性エネルギー線開裂型ラジカル発生剤としては、例えば、ベンゾインエーテル誘導体、アセトフェノン誘導体等のアリールアルキルケトン類、オキシムケトン類、アシルホスフィンオキシド類、チオ安息香酸S−フェニル類、チタノセン類、およびそれらを高分子量化した誘導体が挙げられる。市販されている開裂型ラジカル発生剤としては、例えば、1−(4−ドデシルベンゾイル)−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン、1−(4−イソプロピルベンゾイル)−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン、1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−ベンゾイル]−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン、1−[4−(アクリロイルオキシエトキシ)−ベンゾイル]−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン、ジフェニルケトン、フェニル−1−ヒドロキシ−シクロヘキシルケトン、ベンジルジメチルケタール、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−ピリル−フェニル)チタン、(η−イソプロピルベンゼン)−(η−シクロペンタジエニル)−鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシ−ベンゾイル)−(2,4,4−トリメチル−ペンチル)−ホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,4−ジペントキシフェニルホスフィンオキシドまたはビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニル−ホスフィンオキシド等が挙げられる。
前記(D)活性エネルギー線開裂型ラジカル発生剤の配合割合は特に制限はないが、(A)架橋性珪素基含有有機重合体100質量部に対して、0.01〜20質量部が好ましく、0.01〜10質量部がより好ましく、0.1〜5質量部がさらに好ましい。これら活性エネルギー線開裂型ラジカル発生剤は単独で用いてもよく、2種以上を併用しても良い。
Examples of the active energy ray-cleavable radical generator include arylalkyl ketones such as benzoin ether derivatives and acetophenone derivatives, oxime ketones, acylphosphine oxides, S-phenyl thiobenzoates, titanocenes, and the like. Derivatives having a high molecular weight are exemplified. Commercially available cleavage-type radical generators include, for example, 1- (4-dodecylbenzoyl) -1-hydroxy-1-methylethane, 1- (4-isopropylbenzoyl) -1-hydroxy-1-methylethane, Benzoyl-1-hydroxy-1-methylethane, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -benzoyl] -1-hydroxy-1-methylethane, 1- [4- (acryloyloxyethoxy) -benzoyl] -1-hydroxy -1-methylethane, diphenyl ketone, phenyl-1-hydroxy-cyclohexyl ketone, benzyldimethyl ketal, bis (cyclopentadienyl) -bis (2,6-difluoro-3-pyryl-phenyl) titanium, (η 6 -isopropyl benzene) - (eta 5 - cyclopentadienyl) - iron (II Hexafluorophosphate, trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxy-benzoyl)-(2,4,4-trimethyl-pentyl) -phosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -2, 4-dipentoxyphenylphosphine oxide or bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenyl-phosphine oxide.
The mixing ratio of the (D) active energy ray-cleavable radical generator is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) crosslinkable silicon-containing organic polymer. 0.01 to 10 parts by mass is more preferable, and 0.1 to 5 parts by mass is further preferable. These active energy ray-cleavable radical generators may be used alone or in combination of two or more.

本発明の光硬化性組成物は、シランカップリング剤をさらに含有することが好適である。前記シランカップリング剤を配合することにより、金属、プラスチック、ガラス等、全般的な被着体に対する接着性を向上させることができる。   The photocurable composition of the present invention preferably further contains a silane coupling agent. By blending the silane coupling agent, the overall adhesion to an adherend such as metal, plastic, and glass can be improved.

前記シランカップリング剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、1,3−ジアミノイソプロピルトリメトキシシラン等のアミノ基含有シラン類;N−(1,3−ジメチルブチリデン)−3−(トリエトキシシリル)−1−プロパンアミン、N−(1,3−ジメチルブチリデン)−3−(トリメトキシシリル)−1−プロパンアミン等のケチミン型シラン類;γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ基含有シラン類;γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等のメルカプト基含有シラン類;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン等のビニル型不飽和基含有シラン類;γ−クロロプロピルトリメトキシシラン等の塩素原子含有シラン類;γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルメチルジメトキシシラン等のイソシアネート含有シラン類;ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン等のアルキルシラン類;フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等のフェニル基含有シラン類等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、前記アミノ基含有シラン類と前記のシラン類を含むエポキシ基含有化合物、イソシアネート基含有化合物、(メタ)アクリロイル基含有化合物とを反応させて、アミノ基を変性した変性アミノ基含有シラン類を用いてもよい。   Examples of the silane coupling agent include γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, and N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane Amino-containing silanes such as N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane and 1,3-diaminoisopropyltrimethoxysilane N- (1,3-dimethylbutylidene) -3- (triethoxysilyl) -1-propanamine, N- (1,3-dimethylbutylidene) -3- (trimethoxysilyl) -1-propane Ketimine-type silanes such as amines; γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycid Epoxy group-containing silanes such as xypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane; γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyl Mercapto group-containing silanes such as methyldimethoxysilane; vinyl-type unsaturated group-containing silanes such as vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, and γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane; γ Silanes containing chlorine atoms such as -chloropropyltrimethoxysilane; isocyanate-containing silanes such as γ-isocyanatopropyltriethoxysilane and γ-isocyanatopropylmethyldimethoxysilane; hexyl Alkyl silanes such as rimethoxy silane, hexyl triethoxy silane and decyl trimethoxy silane; phenyl group-containing silanes such as phenyl trimethoxy silane, phenyl triethoxy silane, diphenyl dimethoxy silane and diphenyl diethoxy silane; It is not limited to these. Further, the amino group-containing silanes obtained by reacting the amino group-containing silanes with an epoxy group-containing compound containing the silanes, an isocyanate group-containing compound, and a (meth) acryloyl group-containing compound to modify the amino group are obtained. May be used.

前記シランカップリング剤の配合割合は特に制限はないが、(A)架橋性珪素基含有有機重合体100質量部に対して、0.2〜20質量部が好ましく、0.3〜10質量部がより好ましく、0.5〜5質量部がさらに好ましい。これらシランカップリング剤は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   The mixing ratio of the silane coupling agent is not particularly limited, but is preferably 0.2 to 20 parts by mass, and more preferably 0.3 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the crosslinkable silicon-containing organic polymer (A). Is more preferable, and 0.5 to 5 parts by mass is further preferable. These silane coupling agents may be used alone or in combination of two or more.

上記したシランカップリング剤以外にも、本発明の光硬化性組成物においては、接着性付与剤として、特に限定されないが、たとえば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、硫黄、アルキルチタネート類、芳香族ポリイソシアネート等が使用できる。上記接着性付与剤は1種類のみで使用してもよいし、2種類以上混合使用してもよい。   In addition to the silane coupling agent described above, in the photocurable composition of the present invention, the adhesiveness-imparting agent is not particularly limited. Etc. can be used. The above-mentioned adhesiveness-imparting agent may be used alone or in combination of two or more.

上記エポキシ樹脂を含有すると、エポキシ基を有する化合物を使用すると硬化物の強靭性を高めることができる。なお、エポキシ樹脂を添加する場合、本発明の光硬化性組成物には、エポキシ樹脂を硬化させる硬化剤を併用できることは当然である。   When the epoxy resin is contained, the toughness of the cured product can be increased by using a compound having an epoxy group. When an epoxy resin is added, it is natural that a curing agent for curing the epoxy resin can be used in combination with the photocurable composition of the present invention.

本発明において、(A)架橋性珪素基含有有機重合体の硬化触媒として、三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ素の錯体、フッ素化剤及び多価フルオロ化合物のアルカリ金属塩からなる群から選択される1種以上のフッ素系化合物を含有していても良い。   In the present invention, (A) the curing catalyst for the crosslinkable silicon-containing organic polymer is selected from the group consisting of boron trifluoride, a complex of boron trifluoride, a fluorinating agent, and an alkali metal salt of a polyvalent fluoro compound. May contain one or more fluorine-based compounds.

前記三フッ化ホウ素の錯体としては、例えば、三フッ化ホウ素のアミン錯体、アルコール錯体、エーテル錯体、チオール錯体、スルフィド錯体、カルボン酸錯体、水錯体等が例示される。上記三フッ化ホウ素の錯体の中では、安定性と触媒活性を兼ね備えたアミン錯体が特に好ましい。   Examples of the boron trifluoride complex include an amine complex, an alcohol complex, an ether complex, a thiol complex, a sulfide complex, a carboxylic acid complex, and a water complex of boron trifluoride. Among the above boron trifluoride complexes, amine complexes having both stability and catalytic activity are particularly preferred.

前記三フッ化ホウ素のアミン錯体に用いられるアミン化合物としては、例えば、アンモニア、モノエチルアミン、トリエチルアミン、ピペリジン、アニリン、モルホリン、シクロヘキシルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、グアニジン、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン、N−メチル−3,3′−イミノビス(プロピルアミン)、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンジアミン、ペンタエチレンジアミン、1,2−ジアミノプロパン、1,3−ジアミノプロパン、1,2−ジアミノブタン、1,4−ジアミノブタン、1,9−ジアミノノナン、ATU(3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン)、CTUグアナミン、ドデカン酸ジヒドラジド、ヘキサメチレンジアミン、m−キシリレンジアミン、ジアニシジン、4,4′−ジアミノ−3,3′−ジエチルジフェニルメタン、ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、トリジンベース、m−トルイレンジアミン、o−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、メラミン、1,3−ジフェニルグアニジン、ジ−o−トリルグアニジン、1,1,3,3−テトラメチルグアニジン、ビス(アミノプロピル)ピペラジン、N−(3−アミノプロピル)−1,3−プロパンジアミン、ビス(3−アミノプロピル)エーテル、サンテクノケミカル社製ジェファーミン等の複数の第一級アミノ基を有する化合物、ピペラジン、シス−2,6−ジメチルピペラジン、シス−2,5−ジメチルピペラジン、2−メチルピペラジン、N,N′−ジ−t−ブチルエチレンジアミン、2−アミノメチルピペリジン、4−アミノメチルピペリジン、1,3−ジ−(4−ピペリジル)−プロパン、4−アミノプロピルアニリン、ホモピペラジン、N,N′−ジフェニルチオ尿素、N,N′−ジエチルチオ尿素、N−メチル−1,3−プロパンジアミン等の複数の第二級アミノ基を有する化合物、更に、メチルアミノプロピルアミン、エチルアミノプロピルアミン、エチルアミノエチルアミン、ラウリルアミノプロピルアミン、2−ヒドロキシエチルアミノプロピルアミン、1−(2−アミノエチル)ピペラジン、N−アミノプロピルピペラジン、3−アミノピロリジン、1−o−トリルビグアニド、2−アミノメチルピペラジン、N−アミノプロピルアニリン、エチルアミンエチルアミン、2−ヒドロキシエチルアミノプロピルアミン、ラウリルアミノプロピルアミン、2−アミノメチルピペリジン、4−アミノメチルピペリジン、式HN(CNH)H(n≒5)で表わされる化合物(商品名:ポリエイト、東ソー社製)、N−アルキルモルホリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、6−ジブチルアミノ−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、ピリジン、N−アルキルピペリジン、1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]デカ−5−エン、7−メチル−1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]デカ−5−エン等の複環状第三級アミン化合物等の他、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、4−アミノ−3−ジメチルブチルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N−3−[アミノ(ジプロピレンオキシ)]アミノプロピルトリエトキシシラン、(アミノエチルアミノメチル)フェネチルトリエトキシシラン、N−(6−アミノヘキシル)アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−11−アミノウンデシルトリエトキシシラン等のアミノシラン化合物が挙げられる。
前記三フッ化ホウ素のアミン錯体の市販品としては、例えば、エアプロダクツジャパン株式会社製のアンカー1040、アンカー1115、アンカー1170、アンカー1222、BAK1171等が挙げられる。
Examples of the amine compound used in the boron trifluoride amine complex include, for example, ammonia, monoethylamine, triethylamine, piperidine, aniline, morpholine, cyclohexylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, guanidine, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine, N-methyl-3,3'-iminobis (propylamine), ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenediamine, pentaethylenediamine , 1,2-diaminopropane, 1,3-diaminopropane, 1,2-diaminobutane, 1,4-diaminobutane, 1,9-diaminononane, ATU (3,9-bis (3-aminopropyl) -2 , 4 8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane), CTU guanamine, dodecanoic acid dihydrazide, hexamethylenediamine, m-xylylenediamine, dianisidine, 4,4'-diamino-3,3'-diethyldiphenylmethane, diamino Diphenyl ether, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, tolidine base, m-toluylenediamine, o-phenylenediamine, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, melamine, 1,3-diphenylguanidine, Di-o-tolylguanidine, 1,1,3,3-tetramethylguanidine, bis (aminopropyl) piperazine, N- (3-aminopropyl) -1,3-propanediamine, bis (3-aminopropyl) ether , San Techno Chemical Co., Ltd. Compounds having a plurality of primary amino groups such as amines, piperazine, cis-2,6-dimethylpiperazine, cis-2,5-dimethylpiperazine, 2-methylpiperazine, N, N'-di-t-butylethylenediamine , 2-aminomethylpiperidine, 4-aminomethylpiperidine, 1,3-di- (4-piperidyl) -propane, 4-aminopropylaniline, homopiperazine, N, N'-diphenylthiourea, N, N'- Compounds having a plurality of secondary amino groups such as diethylthiourea and N-methyl-1,3-propanediamine; furthermore, methylaminopropylamine, ethylaminopropylamine, ethylaminoethylamine, laurylaminopropylamine, 2-hydroxy Ethylaminopropylamine, 1- (2-aminoethyl) piperazine, N -Aminopropylpiperazine, 3-aminopyrrolidine, 1-o-tolylbiguanide, 2-aminomethylpiperazine, N-aminopropylaniline, ethylamineethylamine, 2-hydroxyethylaminopropylamine, laurylaminopropylamine, 2-aminomethylpiperidine , 4-aminomethylpiperidine, a compound represented by the formula H 2 N (C 2 H 4 NH) n H (n ≒ 5) (trade name: Polyate, manufactured by Tosoh Corporation), N-alkylmorpholine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7,6-dibutylamino-1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7,1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5,1,1. 4-diazabicyclo [2.2.2] octane, pyridine, N-alkylpiperidine, 1,5 Bicyclic tertiary such as 7-triazabicyclo [4.4.0] dec-5-ene and 7-methyl-1,5,7-triazabicyclo [4.4.0] dec-5-ene Other than amine compounds, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, 4-amino-3-dimethylbutyltriethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane N-β (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, N-3- [amino (dipropyleneoxy)] aminopropyltriethoxysilane, (aminoethylaminomethyl) phenethyltriethoxysilane, N- ( 6-aminohexyl) aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltriethoxysilane, N- (2-amido) Ethyl) aminosilane compounds such as 11-amino-undecyl triethoxy silane.
Examples of commercially available products of the amine complex of boron trifluoride include Anchor 1040, Anchor 1115, Anchor 1170, Anchor 1222, and BAK1171 manufactured by Air Products Japan.

前記フッ素化剤には、フッ素アニオンを活性種とする求核的フッ素化剤と、電子欠乏性のフッ素原子を活性種とする求電子的フッ素化剤が含まれる。   The fluorinating agent includes a nucleophilic fluorinating agent having a fluorine anion as an active species and an electrophilic fluorinating agent having an electron-deficient fluorine atom as an active species.

前記求核的フッ素化剤としては、例えば、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−1−ジエチルアミノプロパン等の1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−1−ジアルキルアミノプロパン系化合物、トリエチルアミントリスヒドロフルオライド等のトリアルキルアミントリスヒドロフルオライド系化合物、ジエチルアミノサルファートリフルオライド等のジアルキルアミノサルファートリフルオライド系化合物等が挙げられる。   Examples of the nucleophilic fluorinating agent include 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-1-diethylaminopropane and the like. Examples thereof include dialkylaminopropane compounds, trialkylamine trishydrofluoride compounds such as triethylamine trishydrofluoride, and dialkylaminosulfur trifluoride compounds such as diethylaminosulfur trifluoride.

前記求電子的フッ素化剤としては、例えば、ビス(テトラフルオロホウ酸)N,N’−ジフルオロ−2,2’−ビピリジニウム塩化合物,トリフルオロメタンスルホン酸N−フルオロピリジニウム塩化合物等のN−フルオロピリジニウム塩系化合物、ビス(テトラフルオロホウ酸)4−フルオロ−1,4−ジアゾニアビシクロ[2.2.2]オクタン塩等の4−フルオロ−1,4−ジアゾニアビシクロ[2.2.2]オクタン系化合物、N−フルオロビス(フェニルスルホニル)アミン等のN−フルオロビス(スルホニル)アミン系化合物等が挙げられる。これらの中では、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−1−ジエチルアミノプロパン系化合物が液状化合物である上、入手が容易なため特に好ましい。   Examples of the electrophilic fluorinating agent include N-fluoro such as bis (tetrafluoroboric acid) N, N′-difluoro-2,2′-bipyridinium salt compound and trifluoromethanesulfonic acid N-fluoropyridinium salt compound. Pyridinium salt compounds, 4-fluoro-1,4-diazoniabicyclo [2.2.] Such as bis (tetrafluoroboric acid) 4-fluoro-1,4-diazoniabicyclo [2.2.2] octane salt and the like. 2] N-fluorobis (sulfonyl) amine-based compounds such as octane-based compounds and N-fluorobis (phenylsulfonyl) amine. Among these, the 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-1-diethylaminopropane compound is a liquid compound and is particularly preferable because it is easily available.

前記多価フルオロ化合物のアルカリ金属塩としては、例えば、ヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム、ヘキサフルオロアンチモン酸カリウム、ヘキサフルオロヒ酸ナトリウム、ヘキサフルオロヒ酸カリウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸ナトリウム、ヘキサフルオロリン酸カリウム、ペンタフルオロヒドロキソアンチモン酸ナトリウム、ペンタフルオロヒドロキソアンチモン酸カリウム、テトラフルオロホウ酸リチウム、テトラフルオロホウ酸ナトリウム、テトラフルオロホウ酸カリウム、テトラキス(トリフルオロメチルフェニル)ホウ酸ナトリウム、トリフルオロ(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸ナトリウム、トリフルオロ(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸カリウム、ジフルオロビス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸ナトリウム、ジフルオロビス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸カリウム等が挙げられる。
これらの中でも、多価フルオロ化合物のアルカリ金属塩における多価フルオロ化合物成分としては、テトラフルオロホウ酸又はヘキサフルオロリン酸が好ましい。また、多価フルオロ化合物のアルカリ金属塩におけるアルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム及びカリウムからなる群から選ばれる一種以上のアルカリ金属であることが好ましい。
Examples of the alkali metal salt of the polyvalent fluoro compound include sodium hexafluoroantimonate, potassium hexafluoroantimonate, sodium hexafluoroarsenate, potassium hexafluoroarsenate, lithium hexafluorophosphate, sodium hexafluorophosphate, Potassium hexafluorophosphate, sodium pentafluorohydroxoantimonate, potassium pentafluorohydroxoantimonate, lithium tetrafluoroborate, sodium tetrafluoroborate, potassium tetrafluoroborate, sodium tetrakis (trifluoromethylphenyl) borate, tri Sodium fluoro (pentafluorophenyl) borate, potassium trifluoro (pentafluorophenyl) borate, difluorobis (pentafluorophenyl) Sulfonyl) sodium borate, difluoro (pentafluorophenyl) potassium borate, and the like.
Among these, tetrafluoroboric acid or hexafluorophosphoric acid is preferable as the polyvalent fluoro compound component in the alkali metal salt of the polyvalent fluoro compound. The alkali metal in the alkali metal salt of the polyvalent fluoro compound is preferably at least one alkali metal selected from the group consisting of lithium, sodium and potassium.

前記フッ素系化合物の配合割合は特に制限はないが、(A)架橋性珪素基含有有機重合体100質量部に対して、0.001〜10質量部が好ましく、0.001〜5質量部がより好ましく、0.001〜2質量部がさらに好ましい。これらフッ素系化合物は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   The mixing ratio of the fluorine-based compound is not particularly limited, but is preferably 0.001 to 10 parts by mass, and more preferably 0.001 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the crosslinkable silicon-containing organic polymer (A). More preferably, the amount is 0.001 to 2 parts by mass. These fluorine compounds may be used alone or in combination of two or more.

本発明の光硬化性組成物は、塩基増殖剤をさらに含有していても良い。塩基増殖剤は、塩基の作用によって塩基を発生する物質であれば特に限定はなく、従来公知のものを用いることができる。   The photocurable composition of the present invention may further contain a base proliferating agent. The base proliferating agent is not particularly limited as long as it is a substance that generates a base by the action of a base, and a conventionally known base proliferating agent can be used.

塩基増殖剤としては、フルオレニル系塩基増殖剤や、スルホン系塩基増殖剤、3−ニトロペンタン−2イル系塩基増殖剤を好適に用いることができる。   As the base proliferating agent, a fluorenyl base proliferating agent, a sulfone base proliferating agent, or a 3-nitropentan-2-yl base proliferating agent can be suitably used.

フルオレニル系塩基増殖剤の具体例としては、例えば、   Specific examples of the fluorenyl base proliferating agent include, for example,

等が挙げられる。 And the like.

スルホン系塩基増殖剤の具体例としては、例えば、   Specific examples of the sulfone base proliferating agent include, for example,

等が挙げられる。 And the like.

3−ニトロペンタン−2−イル系塩基増殖剤としては、例えば、   As the 3-nitropentan-2-yl base proliferating agent, for example,

等が挙げられる。 And the like.

また、本発明の光硬化性組成物の接着性を向上させる場合には、塩基増殖剤として、塩基増殖型アミノシランを含有することが好ましい。塩基増殖型アミノシランとしては塩基増殖型アミン化合物であってアミン残基に架橋性珪素基を有する化合物(分解した際に架橋性珪素基を有するアミン化合物を生成する化合物)を例示することができる。このような化合物として、架橋性珪素基を有するカルバミン酸の9−フルオレニルメチルエステル(C13H9CH2OCONR10R11、式中R10、R11は水素原子あるいは炭化水素基等の有機基であり、R10、R11の少なくとも1つは架橋性珪素基を有する炭化水素基などの有機基である)、架橋性珪素基を有するカルバミン酸の2−アリールスルフォニルエチルエステル(ArSO2CH2CH2OCONR10R11、式中Arは置換基を有してもよい芳香族基、R10、R11は上記と同じ)、架橋性珪素基を有するカルバミン酸の3−ニトロペンタンー2ーイルエステル(CH3CH2CH(NO2)CH(CH3)OCONR10R11、式中、R10、R11は上記と同じ)などをあげることができる。 Moreover, when improving the adhesiveness of the photocurable composition of the present invention, it is preferable to contain a base-proliferating aminosilane as a base-proliferating agent. Examples of the base-proliferating aminosilane include a base-proliferating amine compound having a crosslinkable silicon group at an amine residue (a compound that generates an amine compound having a crosslinkable silicon group when decomposed). As such a compound, 9-fluorenylmethyl ester of carbamic acid having a crosslinkable silicon group (C 13 H 9 CH 2 OCONR 10 R 11 , wherein R 10 and R 11 are a hydrogen atom or a hydrocarbon group, etc. An organic group, and at least one of R 10 and R 11 is an organic group such as a hydrocarbon group having a crosslinkable silicon group), a 2-arylsulfonylethyl ester of carbamic acid having a crosslinkable silicon group (ArSO 2 CH 2 CH 2 OCONR 10 R 11 , wherein Ar is an aromatic group which may have a substituent, R 10 and R 11 are the same as described above), 3-nitropentane-carbamic acid having a crosslinkable silicon group And 2-yl esters (CH 3 CH 2 CH (NO 2 ) CH (CH 3 ) OCONR 10 R 11 , wherein R 10 and R 11 are the same as above).

架橋性珪素基を有するカルバミン酸における架橋性珪素基は(A)における架橋性珪素基と同じである。架橋性珪素基を有するカルバミン酸の具体例は3−トリメトキシシリルプロピルカルバミン酸((CH3O)3SiCH2CH2CH2NHCOOH)や3−トリエトキシシリルプロピルカルバミン酸((C2H5O)3SiCH2CH2CH2NHCOOH)を挙げることができる。 The crosslinkable silicon group in the carbamic acid having a crosslinkable silicon group is the same as the crosslinkable silicon group in (A). Specific examples of the carbamic acid having a crosslinkable silicon group 3-trimethoxysilylpropyl carbamate ((CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 NHCOOH) and 3-triethoxysilylpropyl carbamate ((C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 NHCOOH).

塩基増殖剤の配合割合は特に制限はないが、(A)架橋性珪素基含有有機重合体100質量部に対して、0.01〜100質量部が好ましく、0.1〜50質量部がより好ましく、0.1〜30質量部がさらに好ましい。これら塩基増殖剤は単独で用いてもよく、2種以上を併用しても良い。   The mixing ratio of the base proliferating agent is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 100 parts by mass, more preferably 0.1 to 50 parts by mass, based on 100 parts by mass of the (A) crosslinkable silicon group-containing organic polymer. Preferably, 0.1 to 30 parts by mass is more preferable. These base proliferating agents may be used alone or in combination of two or more.

本発明の光硬化性組成物は、光ラジカル重合性のビニル基を有する化合物を含有していても良い。光ラジカル重合性のビニル基を有する化合物としては、公知の光ラジカル重合性のビニル基を有する化合物を使用することができ、特に制限はないが、例えば、(メタ)アクリロイル基を有する化合物、及び窒素原子にビニル基が直接結合したN−ビニル化合物が挙げられる。   The photocurable composition of the present invention may contain a compound having a photoradical polymerizable vinyl group. As the compound having a photo-radical polymerizable vinyl group, a known compound having a photo-radical polymerizable vinyl group can be used, and is not particularly limited. For example, a compound having a (meth) acryloyl group; Examples include N-vinyl compounds in which a vinyl group is directly bonded to a nitrogen atom.

前記(メタ)アクリロイル基を有する化合物としては、(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物や(メタ)アクリルアミド基を有する化合物が挙げられ、貯蔵安定性の点から(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物が好ましい。また、反応性の点からは(メタ)アクリルアミド基を有する化合物が好ましい。   Examples of the compound having a (meth) acryloyl group include a compound having a (meth) acryloyloxy group and a compound having a (meth) acrylamide group, and a compound having a (meth) acryloyloxy group in terms of storage stability. preferable. Further, a compound having a (meth) acrylamide group is preferable from the viewpoint of reactivity.

前記(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物は、モノマー及びオリゴマーのいずれも使用可能であり、粘度の点からは(メタ)アクリロイルオキシ基を有するモノマーが好ましい。また、硬化物の物性の点からは(メタ)アクリロイルオキシ基を有するオリゴマーが好適である。   As the compound having a (meth) acryloyloxy group, any of a monomer and an oligomer can be used, and from the viewpoint of viscosity, a monomer having a (meth) acryloyloxy group is preferable. Further, an oligomer having a (meth) acryloyloxy group is preferable from the viewpoint of the physical properties of the cured product.

前記(メタ)アクリロイルオキシ基を有するモノマーとしては、(メタ)アクリロイルオキシ基を1個以上有する化合物であれば、特に限定はないが、例えば、単官能(メタ)アクリレート類、多官能(メタ)アクリレート類などが挙げられる。   The monomer having the (meth) acryloyloxy group is not particularly limited as long as it is a compound having at least one (meth) acryloyloxy group. For example, monofunctional (meth) acrylates, polyfunctional (meth) Acrylates and the like.

単官能(メタ)アクリレート類としては、例えば、(メタ)アクリル酸、エチル(メタ)アクリレート、1−メトキシエチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート 、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、ジメチル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシルポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ノニルフェニルポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、エピクロロヒドリン変性ブチル(メタ)アクリレート、エピクロロヒドリン変性フェノキシ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性フタル酸(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性コハク酸(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、モルホリノエチル(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸(メタ)アクリレートなどが挙げられる。柔軟性が求められる際には、単官能(メタ)アクリレート類を用いることが好ましい。   As monofunctional (meth) acrylates, for example, (meth) acrylic acid, ethyl (meth) acrylate, 1-methoxyethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate , Hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate , Dodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, caprolactone-modified tetrahydrofurfuryl (meth) acyl Relate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenyl (meth) ) Acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxyethyl (meth) acrylate, nonylphenoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, dimethyl (meth) acrylamide, Dimethylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminopropyl (meth) acrylate, methoxydiethylene glyco (Meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, butoxytriethylene glycol (meth) acrylate, 2-ethylhexyl polyethylene glycol (meth) acrylate, nonylphenyl polypropylene glycol (meth) acrylate, methoxydi Propylene glycol (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) ) Acrylate, polypropylene glycol (meth) acrylate, epichlorohydrin-modified butyl (meth) acryle Epichlorohydrin-modified phenoxy (meth) acrylate, ethylene oxide-modified phthalic acid (meth) acrylate, ethylene oxide-modified succinic acid (meth) acrylate, caprolactone-modified 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylamino Examples include ethyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate, morpholinoethyl (meth) acrylate, and ethylene oxide-modified phosphoric acid (meth) acrylate. When flexibility is required, it is preferable to use monofunctional (meth) acrylates.

多官能アクリレート類としては、例えば、1、3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレ−ト、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エピクロロヒドリン変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールSジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルジアクリレート、エチレンオキサイド変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、ジ(メタ)アクリロイルイソシアヌレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート等が挙げられる。多官能アクリレート類は、酸素阻害が生じにくい点から好ましい。   Examples of the polyfunctional acrylates include 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and 1,6-hexane glycol di ( (Meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified neopentyl glycol di (meth) acrylate Propylene oxide-modified neopentyl glycol di (meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified bisphenol A di (meth) acrylate, epichlorophenol Phosphorus-modified bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified bisphenol S di (meth) acrylate, hydroxypivalic acid ester neopentyl glycol diacrylate, caprolactone-modified hydroxypivalic acid ester neopentyl glycol diacrylate, neopentyl glycol-modified trimethylolpropane Di (meth) acrylate, stearic acid-modified pentaerythritol di (meth) acrylate, dicyclopentenyl diacrylate, ethylene oxide-modified dicyclopentenyl di (meth) acrylate, di (meth) acryloyl isocyanurate, trimethylolpropane tri (meth) Acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropanetetra (meth) a Relate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol monohydroxy penta (meth) acrylate. Polyfunctional acrylates are preferred because oxygen inhibition is less likely to occur.

(メタ)アクリロイルオキシ基を有するオリゴマーとしては、アクリル系オリゴマー、ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマー、エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマー、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、ポリエーテル(メタ)アクリレートオリゴマー等が挙げられる。   Examples of the oligomer having a (meth) acryloyloxy group include an acrylic oligomer, a polyester (meth) acrylate oligomer, an epoxy (meth) acrylate oligomer, a urethane (meth) acrylate oligomer, and a polyether (meth) acrylate oligomer.

前記アクリル系オリゴマーとしては、主鎖が(メタ)アクリル酸エステル系重合体であって(メタ)アクリロイルオキシ基を有するオリゴマーを用いることができる。このような重合体はアニオン重合又はラジカル重合によって製造されることが好ましく、モノマーの汎用性あるいは制御の容易さからラジカル重合がより好ましい。ラジカル重合の中でも、リビングラジカル重合あるいは連鎖移動剤を用いたラジカル重合によって製造されるのが好ましく、リビングラジカル重合法がより好ましく、原子移動ラジカル重合法が特に好ましい。リビングラジカル重合法を用いると、重合体鎖末端に(メタ)アクリロイルオキシ基を有する重合体を得ることができる。   As the acrylic oligomer, an oligomer whose main chain is a (meth) acrylic ester polymer and has a (meth) acryloyloxy group can be used. Such a polymer is preferably produced by anionic polymerization or radical polymerization, and radical polymerization is more preferable because of versatility of the monomer and ease of control. Among radical polymerizations, it is preferably produced by living radical polymerization or radical polymerization using a chain transfer agent, more preferably a living radical polymerization method, and particularly preferably an atom transfer radical polymerization method. When a living radical polymerization method is used, a polymer having a (meth) acryloyloxy group at a polymer chain terminal can be obtained.

該アクリル系オリゴマーとして、例えば、WO2012/008127号公報の製造例1に記載されている両末端にアクリロイル基を有するポリアクリル酸n−ブチルや同公報の製造例2に記載されている片末端にアクリロイル基を有するポリアクリル酸n−ブチル、WO2005/000927号公報の製造例1に記載されている両末端にアクリロイル基を有するポリ(アクリル酸n−ブチル/アクリル酸エチル/2−メトキシエチルアクリレート)、WO2006/112420号公報の製造例2に記載されている両末端にアクリロイル基を有するポリ(アクリル酸n−ブチル/アクリル酸2−エチルヘキシル)、同公報の製造例3に記載されている両末端にアクリロイル基を有するポリ(アクリル酸2−エチルヘキシル)等を用いることができる。   Examples of the acrylic oligomer include n-butyl polyacrylate having an acryloyl group at both ends described in Production Example 1 of WO2012 / 008127 and one end described in Production Example 2 of the same publication. Polyacrylic acid n-butyl having an acryloyl group, poly (n-butyl acrylate / ethyl acrylate / 2-methoxyethyl acrylate) having an acryloyl group at both terminals described in Production Example 1 of WO2005 / 000927 Poly (n-butyl acrylate / 2-ethylhexyl acrylate) having acryloyl groups at both ends described in Production Example 2 of WO 2006/112420, both ends described in Production Example 3 of the same publication Poly (2-ethylhexyl acrylate) having an acryloyl group Can.

前記アクリル系オリゴマーの骨格成分として、ポリメタクリル酸メチル(MMA)、ポリスチレン(St)、ポリ(アクリロニトリル(AN)/St)、ポリ(メタクリル酸2−ヒドロキシエチル(HEMA)/MMA)、ポリ(HEMA/メタクリル酸ブチル(BMA))等のオリゴマーが数多く市販されている。   As the skeletal components of the acrylic oligomer, polymethyl methacrylate (MMA), polystyrene (St), poly (acrylonitrile (AN) / St), poly (2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA) / MMA), poly (HEMA) / Butyl methacrylate (BMA)) and many other oligomers are commercially available.

前記アクリル系オリゴマーの市販品としては、例えば、東亜合成(株)製のマクロモノマーAA−6,AA−714,AB−6,AJ−7,AN−6,AS−6,AW−6,AZ−8,HA−6,HN−6,HS−6、(株)カネカ製のRC−300,RC−100,RC−200等が挙げられる。   Commercially available acrylic oligomers include, for example, macro monomers AA-6, AA-714, AB-6, AJ-7, AN-6, AS-6, AW-6, AZ manufactured by Toagosei Co., Ltd. -8, HA-6, HN-6, HS-6 and RC-300, RC-100, RC-200 manufactured by Kaneka Corporation.

前記ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、ポリエステルポリオールと(メタ)アクリル酸との脱水縮合物等が挙げられる。ここで、ポリエステルポリオールとしては、ポリオールとカルボン酸又はその無水物との反応物等が挙げられる。   Examples of the polyester (meth) acrylate oligomer include a dehydration condensate of a polyester polyol and (meth) acrylic acid. Here, examples of the polyester polyol include a reaction product of the polyol with a carboxylic acid or an anhydride thereof.

ポリオールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ポリブチレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、シクロヘキサンジメタノール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール及びジペンタエリスリトール等の低分子量ポリオール、並びにこれらのアルキレンオキサイド付加物等が挙げられる。   Polyols include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, polypropylene glycol, butylene glycol, polybutylene glycol, tetramethylene glycol, hexamethylene glycol, Low molecular weight polyols such as pentyl glycol, cyclohexane dimethanol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, trimethylolpropane, glycerin, pentaerythritol and dipentaerythritol, and alkylene oxide adducts thereof And the like.

カルボン酸又はその無水物としては、オルソフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸及びトリメリット酸等の二塩基酸又はその無水物等が挙げられる。   As the carboxylic acid or its anhydride, orthophthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, adipic acid, succinic acid, fumaric acid, maleic acid, hexahydrophthalic acid, dibasic acid such as tetrahydrophthalic acid and trimellitic acid or its anhydride Objects and the like.

前記エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、エポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸を付加反応させた化合物が挙げられる。エポキシ樹脂としては、芳香族エポキシ樹脂及び脂肪族エポキシ樹脂等が挙げられる。   Examples of the epoxy (meth) acrylate oligomer include compounds obtained by adding (meth) acrylic acid to an epoxy resin. Examples of the epoxy resin include an aromatic epoxy resin and an aliphatic epoxy resin.

芳香族エポキシ樹脂としては、具体的には、レゾルシノールジグリシジルエーテル;ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ビスフェノールフルオレン又はそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル;フェノールノボラック型エポキシ樹脂及びクレゾールノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂;グリシジルフタルイミド;o−フタル酸ジグリシジルエステル等が挙げられる。これら以外にも、文献「エポキシ樹脂−最近の進歩−」(昭晃堂、1990年発行)2章や、文献「高分子加工」別冊9・第22巻増刊号エポキシ樹脂〔高分子刊行会、昭和48年発行〕の4〜6頁、9〜16頁に記載されている様な化合物を挙げることができる。   Specific examples of the aromatic epoxy resin include resorcinol diglycidyl ether; bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, di or polyglycidyl ether of bisphenolfluorene or an alkylene oxide adduct thereof; phenol novolak epoxy resin and cresol novolac type Novolak type epoxy resins such as epoxy resins; glycidyl phthalimide; diglycidyl o-phthalate; In addition to these, Chapter 2 of the document “Epoxy Resins-Recent Advances” (issued by Shokodo, 1990), and Epoxy Resins [Vol. Published in 1973], pages 4 to 6 and 9 to 16 can be mentioned.

脂肪族エポキシ樹脂としては、具体的には、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール及び1,6−ヘキサンジオール等のアルキレングリコールのジグリシジルエーテル;ポリエチレングリコール及びポリプロピレングリコールのジグリシジルエーテル等のポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル;ネオペンチルグリコール、ジブロモネオペンチルグリコール及びそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル;トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン及びそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はトリグリシジルエーテル、並びにペンタエリスリトール及びそのアルキレンオキサイド付加体のジ、トリ又はテトラグリジジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル;水素添加ビスフェノールA及びそのアルキレンオキシド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル;テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエーテル;ハイドロキノンジグリシジルエーテル等が挙げられる。   Specific examples of the aliphatic epoxy resin include diglycidyl ethers of alkylene glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol and 1,6-hexanediol; and diglycidyl ethers of polyethylene glycol and polypropylene glycol. Diglycidyl ether of polyalkylene glycol; neopentyl glycol, dibromoneopentyl glycol and its diglycidyl ether of alkylene oxide adduct; trimethylolethane, trimethylolpropane, di or triglycidyl ether of glycerin and its alkylene oxide adduct, And polyglycyls of polyhydric alcohols such as di, tri or tetraglycidyl ether of pentaerythritol and its alkylene oxide adduct Ether; hydrogenated bisphenol A and di- or polyglycidyl ethers of alkylene oxide adducts; tetrahydrophthalic acid diglycidyl ether; hydroquinone diglycidyl ether, and the like.

これら以外にも、前記文献「高分子加工」別冊エポキシ樹脂の3〜6頁に記載されている化合物を挙げることができる。これら芳香族エポキシ樹脂及び脂肪族エポキシ樹脂以外にも、トリアジン核を骨格に持つエポキシ化合物、例えばTEPIC(日産化学(株))、デナコールEX−310(ナガセ化成(株))等が挙げられ、又、前記文献「高分子加工」別冊エポキシ樹脂の289〜296頁に記載されているような化合物等が挙げられる。上記において、アルキレンオキサイド付加物のアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が好ましい。   In addition to these, there may be mentioned the compounds described on pages 3 to 6 of the above-mentioned document "Polymer processing", separate volume epoxy resin. In addition to these aromatic epoxy resins and aliphatic epoxy resins, epoxy compounds having a triazine nucleus as a skeleton, such as TEPIC (Nissan Chemical Co., Ltd.) and Denacol EX-310 (Nagase Kasei Co., Ltd.), and the like, And compounds described in the above-mentioned document "Polymer processing", separate volume epoxy resin, pp. 289-296. In the above, as the alkylene oxide of the alkylene oxide adduct, ethylene oxide and propylene oxide are preferable.

前記ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、ポリオールと有機ポリイソシアネート反応物に対して、さらにヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートを反応させた反応物等が挙げられる。ここで、ポリオールとしては、低分子量ポリオール、ポリエチレングリコール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール等がある。低分子量ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、シクロヘキサンジメタノール及び3−メチル−1,5−ペンタンジオール等が挙げられ、ポリエーテルポリオールとしては、ポリエチレングリコール及びポリプロピレングリコール等が挙げられ、ポリエステルポリオールとしては、これら低分子量ポリオール又は/及びポリエーテルポリオールと、アジピン酸、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸及びテレフタル酸等の二塩基酸又はその無水物等の酸成分との反応物が挙げられる。有機ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート及びイソホロンジイソシアネート等が挙げられる。ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートとしては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート及び2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、従来知られている合成法に従い製造されたもので良い。例えば、ジブチルスズジラウレート等の付加触媒存在下、使用する有機イソシアネートとポリオール成分を加熱撹拌し付加反応せしめ、さらにヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートを添加し、加熱撹拌し付加反応せしめる方法等が挙げられる。   Examples of the urethane (meth) acrylate oligomer include a reaction product obtained by further reacting a hydroxyl group-containing (meth) acrylate with a polyol and an organic polyisocyanate reaction product. Here, examples of the polyol include a low molecular weight polyol, polyethylene glycol, polyester polyol, and polycarbonate polyol. Examples of the low molecular weight polyol include ethylene glycol, propylene glycol, cyclohexane dimethanol, and 3-methyl-1,5-pentanediol. Examples of the polyether polyol include polyethylene glycol and polypropylene glycol. Is a reaction product of these low molecular weight polyols and / or polyether polyols with an acid component such as dibasic acid such as adipic acid, succinic acid, phthalic acid, hexahydrophthalic acid and terephthalic acid or anhydride thereof. . Examples of the organic polyisocyanate include tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, and isophorone diisocyanate. Examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate include hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate. These urethane (meth) acrylate oligomers may be those produced according to a conventionally known synthesis method. For example, in the presence of an addition catalyst such as dibutyltin dilaurate, a method of heating and stirring an organic isocyanate and a polyol component to cause an addition reaction, further adding a hydroxyalkyl (meth) acrylate, heating and stirring to cause an addition reaction, and the like.

前記ポリエーテル(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、ポリアルキレングリコール(メタ)ジアクリレートがあり、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート及びポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the polyether (meth) acrylate oligomer include polyalkylene glycol (meth) diacrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, and dipropylene glycol diacrylate. Examples thereof include (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, and polytetramethylene glycol di (meth) acrylate.

前記(メタ)アクリルアミド基を有する化合物としては、例えば、下記式(10)で表される化合物や下記式(11)で示される化合物が挙げられる。   Examples of the compound having a (meth) acrylamide group include a compound represented by the following formula (10) and a compound represented by the following formula (11).

前記式(10)において、R80は水素原子又はメチル基を表し、R81及びR82は、水素原子又は炭素数1〜20の炭化水素基を表し、1分子中のR81及びR82は、同一の基であっても、異なる基であっても良い。
炭素数1〜20の炭化水素基としては、アルキル基が好ましく、炭素数1〜3のアルキル基がより好ましく、直鎖状でも分岐を有していても良い。アルキル基としては、水酸基、芳香族基及びジアミノアルキル基をさらに有するアルキル基であっても良い。
アルキル基の具体例としては、メチル基、プロピル基、ブチル基、ブチル基及びヘキシル基等が挙げられる。
水酸基を有するアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基及びヒドロキシプロピル基等を挙げることができる。
芳香族基を有するアルキル基としては、ベンジル基等を挙げることができる。
ジアルキルアミノアルキル基としては、N,N−ジメチルアミノエチル基及びN,N−ジメチルアミノプロピル等を挙げることができる。
In the formula (10), R 80 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 81 and R 82 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having a carbon number of 1 to 20, R 81 and R 82 in one molecule Or the same group or different groups.
The hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms is preferably an alkyl group, more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and may be linear or branched. The alkyl group may be an alkyl group further having a hydroxyl group, an aromatic group and a diaminoalkyl group.
Specific examples of the alkyl group include a methyl group, a propyl group, a butyl group, a butyl group, and a hexyl group.
Examples of the alkyl group having a hydroxyl group include a hydroxymethyl group, a hydroxyethyl group, and a hydroxypropyl group.
Examples of the alkyl group having an aromatic group include a benzyl group.
Examples of the dialkylaminoalkyl group include an N, N-dimethylaminoethyl group and N, N-dimethylaminopropyl.

前記式(11)において、R80は前記式(10)のR80と同様である。 In the formula (11), R 80 is the same as R 80 in the formula (10).

前記式(10)で示される(メタ)アクリルアミドの具体例としては、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−n−プロピル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−n−ブチル(メタ)アクリルアミド、N−sec−ブチル(メタ)アクリルアミド、N−t−ブチル(メタ)アクリルアミド、N−n−ヘキシル(メタ)アクリルアミド、N−ベンジル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジ−n−プロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジイソプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジ−n−ブチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジヘキシル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジベンジル(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド誘導体が挙げられる。   Specific examples of (meth) acrylamide represented by the formula (10) include N-methyl (meth) acrylamide, Nn-propyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, and Nn-butyl ( (Meth) acrylamide, N-sec-butyl (meth) acrylamide, Nt-butyl (meth) acrylamide, Nn-hexyl (meth) acrylamide, N-benzyl (meth) acrylamide, N-hydroxyethyl (meth) acrylamide , N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, N, N-di -N-propyl (meth) acrylamide, N, N-diisoprop Pill (meth) acrylamide, N, N-di -n- butyl (meth) acrylamide, N, N-dihexyl (meth) acrylamide, N, N-dibenzyl (meth) include (meth) acrylamide derivatives such as acrylamide.

前記式(11)で示される(メタ)アクリルアミドの具体例としては、アクリロイルモルホリン、メタアクリロリルモルホリンが挙げられ、硬化性が良い点から、アクリロイルモルホリンが好ましい。   Specific examples of the (meth) acrylamide represented by the formula (11) include acryloylmorpholine and methacrylolylmorpholine, and acryloylmorpholine is preferable from the viewpoint of good curability.

前記N−ビニル化合物としては、例えば、N−ビニルピロリドン及びN−ビニルカプロラクタム等が挙げられる。本発明において、N−ビニル化合物は、反応性の点や、酸素阻害が生じにくい点から好ましい。   Examples of the N-vinyl compound include N-vinylpyrrolidone and N-vinylcaprolactam. In the present invention, the N-vinyl compound is preferable from the viewpoint of reactivity and the point that oxygen inhibition hardly occurs.

前記光ラジカル重合性のビニル基を有する化合物の配合割合は特に制限はないが、(A)架橋性珪素基含有有機重合体100質量部に対して、0.01〜100質量部が好ましく、0.1〜50質量部がより好ましく、0.1〜30質量部がさらに好ましい。これら光ラジカル重合性のビニル基を有する化合物は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   The compounding ratio of the photo-radical polymerizable compound having a vinyl group is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) crosslinkable silicon-containing organic polymer. 0.1 to 50 parts by mass, more preferably 0.1 to 30 parts by mass. These compounds having a photoradical polymerizable vinyl group may be used alone or in combination of two or more.

本発明の光硬化性組成物は、前記(B)光塩基発生剤に加え、光により、第一級アミノ基および第二級アミノ基からなる群から選択される1種以上のアミノ基を生成する架橋性珪素基含有化合物をさらに含有していても良い。該光により、第一級アミノ基および第二級アミノ基からなる群から選択される1種以上のアミノ基を生成する架橋性珪素基含有化合物は、接着性能を向上させることができる。   The photocurable composition of the present invention produces, in addition to the photobase generator (B), one or more amino groups selected from the group consisting of primary amino groups and secondary amino groups by light. May be further contained. The crosslinkable silicon group-containing compound that produces one or more amino groups selected from the group consisting of a primary amino group and a secondary amino group by the light can improve the adhesive performance.

該光により、第一級アミノ基および第二級アミノ基からなる群から選択される1種以上のアミノ基を生成する架橋性珪素基含有化合物としては、光照射により、第一級アミノ基および第二級アミノ基からなる群から選択される1種以上のアミノ基と、架橋性珪素基とを有するアミノシラン化合物を発生する化合物であればいかなるものでも使用可能である。本明細書において、前記光により、第一級アミノ基および第二級アミノ基からなる群から選択される1種以上のアミノ基を生成する架橋性珪素基含有化合物を光アミノシラン発生化合物とも称する。   As the crosslinkable silicon group-containing compound that produces one or more amino groups selected from the group consisting of primary amino groups and secondary amino groups by the light, primary amino groups and Any compound that generates an aminosilane compound having at least one amino group selected from the group consisting of secondary amino groups and a crosslinkable silicon group can be used. In the present specification, a crosslinkable silicon group-containing compound that generates one or more amino groups selected from the group consisting of a primary amino group and a secondary amino group by light is also referred to as a photoaminosilane-generating compound.

前記光照射により発生する、前記アミノシラン化合物としては、架橋性珪素基、及び置換あるいは非置換のアミノ基を有する化合物が用いられる。置換アミノ基の置換基としては、特に限定されず、例えば、アルキル基、アラルキル基、アリール基などが挙げられる。また、架橋性珪素基としては、特に限定されず、前記(A)有機重合体の項で記載した架橋性珪素基を挙げることでき、加水分解性基が結合した珪素含有基が好ましい。このなかでも、メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基が、加水分解性が穏やかで取扱いやすいことから好ましい。前記アミノシラン化合物中、加水分解性基や水酸基は1個の珪素原子に1〜3個の範囲で結合することができ、2個以上が好ましく、特に3個が好ましい。   As the aminosilane compound generated by the light irradiation, a compound having a crosslinkable silicon group and a substituted or unsubstituted amino group is used. The substituent of the substituted amino group is not particularly limited, and includes, for example, an alkyl group, an aralkyl group, and an aryl group. The crosslinkable silicon group is not particularly limited, and includes the crosslinkable silicon group described in the section of (A) the organic polymer. A silicon-containing group to which a hydrolyzable group is bonded is preferable. Among these, an alkoxy group such as a methoxy group and an ethoxy group is preferred because of its mild hydrolyzability and easy handling. In the aminosilane compound, a hydrolyzable group or a hydroxyl group can be bonded to one silicon atom in a range of 1 to 3, and preferably 2 or more, and particularly preferably 3 or more.

前記光照射により発生する、前記アミノシラン化合物としては、特に限定されず、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、3−(N−エチルアミノ)−2−メチルプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−ベンジル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−ビニルベンジル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−シクロヘキシルアミノメチルトリエトキシシラン、N−シクロヘキシルアミノメチルジエトキシメチルシラン、N−フェニルアミノメチルトリメトキシシラン等のモノアミン,γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−(6−アミノヘキシル)アミノプロピルトリメトキシシラン、(2−アミノエチル)アミノメチルトリメトキシシラン、N,N'−ビス[3−(トリメ
トキシシリル)プロピル]エチレンジアミン等のジアミン,γ−(2−(2−アミノエチル)アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン等のトリアミンなどが挙げられる。
The aminosilane compound generated by the light irradiation is not particularly limited, for example, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriisopropoxysilane, γ-aminopropylmethyl Dimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, 3- (N-ethylamino) -2-methylpropyltrimethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-benzyl-γ-aminopropyltri Monoamines such as methoxysilane, N-vinylbenzyl-γ-aminopropyltriethoxysilane, N-cyclohexylaminomethyltriethoxysilane, N-cyclohexylaminomethyldiethoxymethylsilane, N-phenylaminomethyltrimethoxysilane Γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltriethoxysilane, γ- (2-aminoethyl ) Aminopropylmethyldiethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltriisopropoxysilane, γ- (6-aminohexyl) aminopropyltrimethoxysilane, (2-aminoethyl) aminomethyltrimethoxysilane, N , N'-bis [3- (trimethoxysilyl) propyl] ethylenediamine and the like; and triamines such as γ- (2- (2-aminoethyl) aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane and the like.

前記光照射により発生する、前記アミノシラン化合物のなかでも、接着性の点から第一級アミノ基(−NH)を有するアミノシラン化合物が好ましく、入手性の点からγ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシランが好ましく、接着性、硬化性よりγ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシランがより好ましい。 Among the aminosilane compounds generated by the light irradiation, an aminosilane compound having a primary amino group (—NH 2 ) is preferable from the viewpoint of adhesiveness, and γ-aminopropyltrimethoxysilane and γ are preferable from the viewpoint of availability. -Aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane are preferable, and γ-aminopropyltrimethoxysilane and γ-aminopropyltrimethoxysilane are preferred in view of adhesiveness and curability. Ethoxysilane is more preferred.

前記光アミノシラン発生化合物としては、例えば、下記式(12)〜(13)で示される光官能基を有するケイ素化合物、下記式(14)で示される芳香族スルホンアミド誘導体、下記式(15)で示されるO−アシルオキシム誘導体、下記式(16)で示されるtrans−O−クマル酸誘導体等が挙げられる。   Examples of the photoaminosilane-generating compound include a silicon compound having a photofunctional group represented by the following formulas (12) to (13), an aromatic sulfonamide derivative represented by the following formula (14), and a compound represented by the following formula (15). O-acyl oxime derivatives represented by the following, and trans-O-coumaric acid derivatives represented by the following formula (16).

前記式(12)中、nは1〜3の整数であり、Yは水酸基または加水分解性基を示し、アルコキシ基が好ましい。Yが複数存在する場合、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。R101は炭素数1〜20の炭化水素基もしくは置換基を有する炭化水素基を示し、ビニル基、アリル基、炭素数1〜10の非置換もしくは置換アルキル基、非置換もしくは置換アリール基が好ましい。R101が複数存在する場合、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。R102は水素原子又は有機基であり、水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基もしくは置換基を有する炭化水素基が好ましく、水素原子がより好ましい。hは1〜5の整数であり、jは1〜6個の整数である。R103は、h+j個の異なる炭素原子で珪素原子及び窒素原子と結合せる、置換又は非置換の炭化水素基、及び1以上のエーテル酸素原子を介して互いに結合した複数個の置換又は非置換の炭化水素基からなる群から選択されるh+J価の基であり、分子量は1,000以下である。R102及びR103はそれらが結合して環状構造を形成していても良く、ヘテロ原子の結合を含んでいても良い。Zは酸素原子又は硫黄原子であり、酸素原子が好ましい。Qは光官能基を表す。 In the formula (12), n is an integer of 1 to 3, Y represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group, and an alkoxy group is preferable. When a plurality of Y are present, they may be the same or different. R 101 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a hydrocarbon group having a substituent, and is preferably a vinyl group, an allyl group, an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an unsubstituted or substituted aryl group. . When a plurality of R 101 are present, they may be the same or different. R 102 is a hydrogen atom or an organic group, preferably a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a hydrocarbon group having a substituent, and more preferably a hydrogen atom. h is an integer of 1 to 5, and j is 1 to 6 integers. R 103 is a substituted or unsubstituted hydrocarbon group bonded to silicon and nitrogen atoms at h + j different carbon atoms, and a plurality of substituted or unsubstituted groups bonded to each other via one or more ether oxygen atoms. It is an h + J-valent group selected from the group consisting of hydrocarbon groups, and has a molecular weight of 1,000 or less. R 102 and R 103 may combine with each other to form a cyclic structure, and may include a heteroatom bond. Z is an oxygen atom or a sulfur atom, preferably an oxygen atom. Q represents a photofunctional group.

前記式(13)中、n、Y、R101、Z、及びQは前記式(12)と同様である。R105は、置換又は非置換の炭化水素基、及び1以上のエーテル酸素原子を介して互いに結合した複数個の置換又は非置換の炭化水素基からなる群から選択される2価の基である。tは1以上の整数であり、1又は2が好ましい。tが2以上の場合、R104に結合するt個の基は同じであっても異なっていてもよい。R104は水素原子又は有機基であり、水素原子又は置換もしくは非置換のt価の炭化水素基が好ましく、水素原子、置換もしくは非置換のt価のアルキル基がより好ましい。R104及びR105はそれらが結合して環状構造を形成していても良く、ヘテロ原子の結合を含んでいても良い。 In the formula (13), n, Y, R 101 , Z, and Q are the same as those in the formula (12). R 105 is a divalent group selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted hydrocarbon group and a plurality of substituted or unsubstituted hydrocarbon groups bonded to each other via one or more ether oxygen atoms. . t is an integer of 1 or more, and preferably 1 or 2. when t is 2 or more, t pieces of groups bonded to R 104 may be different even in the same. R 104 is a hydrogen atom or an organic group, preferably a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted t-valent hydrocarbon group, more preferably a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted t-valent alkyl group. R 104 and R 105 may combine with each other to form a cyclic structure, and may include a heteroatom bond.

前記式(14)中、n、Y、R101〜R103、h及びjは前記式(12)と同様である。R106〜R110はそれぞれ独立して、水素原子又は置換基を表し、該置換基としては、例えば、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、アセチル基、カルボニル基、置換又は非置換のアリル基、置換又は非置換のアルキル基(好ましくは炭素数1〜5のアルキル基)、置換又は非置換のアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜5のアルコキシ基)、非置換もしくは置換アリール基、非置換もしくは置換アリールオキシ基、複素環構造含有基、複数の環を有する基やこれらの組合せ等が挙げられる。R106〜R110のいずれかが互いに結合し、環状構造を形成してもよい。R106〜R110のいずれかが互いに結合し、環状構造を形成する場合、複数のベンゼン環が縮合した構造,ベンゼン環と複素環や非芳香族性の環、カルボニル基等の官能基が結合した環等が縮合した構造等を形成してもよい。 In the formula (14), n, Y, R 101 to R 103 , h and j are the same as those in the formula (12). R 106 to R 110 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent include a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, a mercapto group, a halogen atom, an acetyl group, a carbonyl group, a substituted or Unsubstituted allyl group, substituted or unsubstituted alkyl group (preferably alkyl group having 1 to 5 carbon atoms), substituted or unsubstituted alkoxy group (preferably alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms), unsubstituted or substituted Examples include an aryl group, an unsubstituted or substituted aryloxy group, a heterocyclic structure-containing group, a group having a plurality of rings, and combinations thereof. Any of R 106 to R 110 may be bonded to each other to form a cyclic structure. When any of R 106 to R 110 is bonded to each other to form a cyclic structure, a structure in which a plurality of benzene rings are condensed, a benzene ring and a functional group such as a heterocyclic or non-aromatic ring, or a carbonyl group are bonded. Or a condensed ring or the like may be formed.

前記式(15)中、n、Y、R101、R103、h及びjは前記式(12)と同様であり、R106〜R110は前記式(14)と同様である。R111は前記式(14)のR106〜R110と同様である。 In the formula (15), n, Y, R 101 , R 103 , h and j are the same as in the formula (12), and R 106 to R 110 are the same as in the formula (14). R 111 is the same as R 106 to R 110 in the formula (14).

前記式(16)中、n、Y、R101、R103、h及びjは前記式(12)と同様であり、R106〜R109は前記式(14)と同様である。R112は水素原子又は有機基であり、水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基もしくは置換基を有する炭化水素基が好ましく、水素原子がより好ましい。R103及びR112はそれらが結合して環状構造を形成していても良く、ヘテロ原子の結合を含んでいても良い。R113及びR114は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、又は有機基であり、水素原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、アセチル基、アリル基、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、非置換もしくは置換アリール基、アリールオキシ基が好ましい。R115は水素原子又は置換基であり、水素原子、或いは、加熱及び/又は光の照射により脱保護可能な保護基が好ましく、水素原子、シリル基、シラノール基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、または有機基がより好ましい。 In the formula (16), n, Y, R 101 , R 103 , h and j are the same as in the formula (12), and R 106 to R 109 are the same as in the formula (14). R 112 is a hydrogen atom or an organic group, preferably a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a hydrocarbon group having a substituent, and more preferably a hydrogen atom. R 103 and R 112 may combine with each other to form a cyclic structure, and may include a heteroatom bond. R 113 and R 114 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, a mercapto group, a sulfide group, a silyl group, a silanol group, a nitro group, a nitroso group, a sulfino group, a sulfo group, a sulfonato group, and a phosphino group. A phosphinyl group, a phosphono group, a phosphonate group, or an organic group, a hydrogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, a mercapto group, a halogen atom, an acetyl group, an allyl group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, carbon The alkoxy group, the unsubstituted or substituted aryl group, and the aryloxy group of Formulas 1 to 5 are preferable. R 115 is a hydrogen atom or a substituent, and is preferably a hydrogen atom or a protective group that can be deprotected by heating and / or irradiation with light, and is preferably a hydrogen atom, a silyl group, a silanol group, a phosphino group, a phosphinyl group, or a phosphono group. Or an organic group is more preferred.

前記式(12)〜(16)中、炭素数1〜10(又は炭素数1〜5)の非置換もしくは置換アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、クロロメチル基、クロロエチル基、フルオロメチル基、シアノメチル基等が挙げられる。炭素数1〜5のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ブトキシ基等が挙げられる。非置換もしくは置換アリール基としては、例えば、フェニル基、p−メトキシフェニル基、p−クロロフェニル基、p−トリフルオロメチルフェニル基等が挙げられる。アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基等が挙げられる。   In the formulas (12) to (16), examples of the unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (or 1 to 5 carbon atoms) include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, and an n-butyl group. Group, tert-butyl group, n-pentyl group, chloromethyl group, chloroethyl group, fluoromethyl group, cyanomethyl group and the like. Examples of the alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, and an n-butoxy group. Examples of the unsubstituted or substituted aryl group include a phenyl group, a p-methoxyphenyl group, a p-chlorophenyl group, and a p-trifluoromethylphenyl group. Examples of the aryloxy group include a phenoxy group and the like.

前記光官能基Qとしては、公知の感光性基が挙げられ特に制限はないが、例えば、下記式(17)で示される環状構造を有する基、下記式(18)で示されるオキシム残基や置換されたこれらの基等が挙げられ、下記式(17)で示される環状構造を有する基が好ましい。   The photofunctional group Q includes a known photosensitive group and is not particularly limited. Examples thereof include a group having a cyclic structure represented by the following formula (17), an oxime residue represented by the following formula (18), These substituted groups are exemplified, and a group having a cyclic structure represented by the following formula (17) is preferable.

−A−Q’ ・・・(17)
[前記式(17)において、Aは直接結合又は2価の連結基であり、Q’は環状構造含有基である。直接結合とは、Q’が連結基を介することなく、Zに直接結合していることを意味する。Aにおける2価の連結基としては、例えば、それぞれ置換基を有していてもよい、アルキレン基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、−CONH−基、またはこれらの組み合わせを含む2価の連結基等が挙げられ、置換基を含んでいてもよいアルキレン基やカルボニル基及びそれらの組合せが好ましい。また、Aの置換基が環状構造を有していてもよく、また、置換基同士が結合し、環状構造を形成していてもよい。該環状構造としては、例えば、Q’と同様のものが挙げられる。
前記Q’における環状構造は、単環及び複数の環のいずれもよく、また、単素環式及び複素環式のいずれでもよいが、ビニル基やカルボニル基、イミノ基等の官能基を含んでいることが好ましく、芳香族性を示す環状構造を有していることがより好ましい。前記Q’としては、例えば、それぞれ置換基を有していてもよい、アリール基,アリールオキシ基,窒素や酸素、硫黄等のヘテロ原子を1種以上含む複素環基,カルボニル基が結合した環状構造を含む基やこれらの組合せ及びこれらの縮合環等が挙げられる。また、置換基がさらに環状構造を有していてもよい。また、Aの置換基とQ’とが結合していてもよい。]
−AQ ′ (17)
[In the above formula (17), A is a direct bond or a divalent linking group, and Q ′ is a cyclic structure-containing group. The direct bond means that Q ′ is directly bonded to Z without going through a linking group. Examples of the divalent linking group in A include, for example, a divalent linking that includes an alkylene group, a carbonyl group, an ether bond, an ester bond, a —CONH— group, or a combination thereof, each of which may have a substituent. And an alkylene group and a carbonyl group which may contain a substituent, and a combination thereof. Further, the substituent of A may have a cyclic structure, or the substituents may be bonded to each other to form a cyclic structure. As the cyclic structure, for example, those similar to Q ′ can be mentioned.
The cyclic structure in Q ′ may be any of a single ring and a plurality of rings, and may be any of a monocyclic and a heterocyclic, and includes a functional group such as a vinyl group, a carbonyl group, and an imino group. It is more preferable that the compound has a cyclic structure showing aromaticity. Examples of Q ′ include, for example, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group containing at least one heteroatom such as nitrogen, oxygen, and sulfur, and a cyclic group to which a carbonyl group is bonded, each of which may have a substituent. Examples include groups having a structure, combinations thereof, and condensed rings thereof. Further, the substituent may further have a cyclic structure. Further, the substituent of A and Q ′ may be bonded. ]

(前記式(18)中、R116及びR117はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、ニトロ基、アミノ基、炭素数1〜50の置換あるいは非置換のアルキル基、アルキルオキシ基、炭素数2〜50の置換あるいは非置換のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数4〜50の置換あるいは非置換のアリール基、アリールオキシ基の群から選ばれる少なくとも一種である。R116及びR117は互いに結合して二重結合、又は芳香族性若しくは非芳香族性の環を形成してもよい。前記R116、R117、又はR116及びR117が互いに結合して形成された二重結合又は芳香族性若しくは非芳香族性の環には、上記式中に示されるオキシム基がさらに1又は2個形成されていてもよい。) (In the formula (18), R 116 and R 117 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a mercapto group, a nitro group, an amino group, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, an alkyl group, R 116 is at least one selected from the group consisting of an oxy group, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 50 carbon atoms, an alkenyloxy group, a substituted or unsubstituted aryl group having 4 to 50 carbon atoms, and an aryloxy group. And R 117 may be bonded to each other to form a double bond or an aromatic or non-aromatic ring, wherein R 116 , R 117 , or R 116 and R 117 are bonded to each other. The double bond or the aromatic or non-aromatic ring may further have one or two oxime groups shown in the above formula.)

前記式(17)で示される環状構造を有する基としては、例えば、下記式(19)で示される芳香族基や、複素環構造を有する基、置換されたこれらの基が挙げられ、芳香族基が好ましい。また、光官能性基中の基が互いに結合し、環状構造を形成してもよい。   Examples of the group having a cyclic structure represented by the formula (17) include, for example, an aromatic group represented by the following formula (19), a group having a heterocyclic structure, and these substituted groups. Groups are preferred. Further, the groups in the photofunctional group may be bonded to each other to form a cyclic structure.

(前記式(19)中、Aは前記式(17)のAと同様であり、置換又は非置換のアルキレン基、カルボニル基及びこれらの組合せが好ましい。R118〜R122は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を表し、該置換基としては、例えば、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、アセチル基、カルボニル基、置換又は非置換のアリル基、置換又は非置換のアルキル基(好ましくは炭素数1〜5のアルキル基)、置換又は非置換のアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜5のアルコキシ基)、非置換もしくは置換アリール基、非置換もしくは置換アリールオキシ基、複素環構造含有基、複数の環を有する基やこれらの組合せ等が挙げられる。R118〜R122のいずれかが互いに結合し、環状構造を形成してもよい。R118〜R122のいずれかが互いに結合し、環状構造を形成する場合、複数のベンゼン環が縮合した構造,ベンゼン環と複素環や非芳香族性の環、カルボニル基等の官能基が結合した環等が縮合した構造等を形成してもよい。また、Aの置換基とR118〜R122のいずれかが結合していてもよい。) (In the formula (19), A is the same as A in the formula (17), and is preferably a substituted or unsubstituted alkylene group, a carbonyl group, and a combination thereof. R 118 to R 122 are each independently Represents a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent include a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, a mercapto group, a halogen atom, an acetyl group, a carbonyl group, a substituted or unsubstituted allyl group, and a substituted or unsubstituted group. An alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms), a substituted or unsubstituted alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms), an unsubstituted or substituted aryl group, an unsubstituted or substituted aryloxy group , either .R 118 to R 122 which heterocyclic structure-containing group, group and the like these combinations having a plurality of rings include bonded to each other, forming a cyclic structure Attached either to each other also good .R 118 to R 122, if they form a cyclic structure, the structure a plurality of benzene rings are condensed, the benzene ring and the heterocyclic or non-aromatic ring, such as a carbonyl group A structure or the like in which a ring or the like to which a functional group is bonded may be formed, or the substituent of A may be bonded to any of R 118 to R 122. )

前記式(19)で示される芳香族基としては、例えば、下記式(20−1)で示されるo−ニトロベンジル基、下記式(20−2)で示されるm−ニトロベンジル基及び下記式(20−3)で示されるp−ニトロベンジル基等のニトロベンジル基,下記式(21)で示されるベンジル基,下記式(22)で示されるベンゾイル基や置換されたこれらの基が挙げられ、ニトロベンジル基が好ましく、o−ニトロベンジル基及びp−ニトロベンジル基がより好ましく、o−ニトロベンジル基が特に好ましい。また、光官能性基中の基が互いに結合し、環状構造を形成してもよい。   Examples of the aromatic group represented by the formula (19) include an o-nitrobenzyl group represented by the following formula (20-1), an m-nitrobenzyl group represented by the following formula (20-2), and a compound represented by the following formula: A nitrobenzyl group such as a p-nitrobenzyl group represented by (20-3); a benzyl group represented by the following formula (21); a benzoyl group represented by the following formula (22); , A nitrobenzyl group is preferable, an o-nitrobenzyl group and a p-nitrobenzyl group are more preferable, and an o-nitrobenzyl group is particularly preferable. Further, the groups in the photofunctional group may be bonded to each other to form a cyclic structure.

(前記式(20−1)〜(20−3)中、R118〜R121は前記式(19)と同様である。R123及びR124は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜10の非置換もしくは置換アルキル基、フェニル基、置換フェニル基を示し、kは1又は2であり、kが2の場合、複数あるR123及びR124はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。) (In the formulas (20-1) to (20-3), R 118 to R 121 are the same as those in the formula (19). R 123 and R 124 each independently represent a hydrogen atom or a carbon atom. Represents 10 to 10 unsubstituted or substituted alkyl groups, phenyl groups and substituted phenyl groups, and k is 1 or 2. When k is 2, a plurality of R 123 and R 124 may be the same or different. May be.)

(前記式(21)中、R118〜R122は前記式(19)と同様である。R125及びR126は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜10の非置換もしくは置換アルキル基、フェニル基、置換フェニル基を示す。) (In the formula (21), R 118 to R 122 are the same as those in the formula (19). R 125 and R 126 each independently represent a hydrogen atom, an unsubstituted or substituted alkyl having 1 to 10 carbon atoms. Group, phenyl group, and substituted phenyl group.)

(前記式(XI)中、R118〜R122は前記式(19)と同様である。R127及びR128は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜10の非置換もしくは置換アルキル基、フェニル基、置換フェニル基を示す。) (In the formula (XI), R 118 to R 122 are the same as those in the formula (19). R 127 and R 128 each independently represent a hydrogen atom, an unsubstituted or substituted alkyl having 1 to 10 carbon atoms. Group, phenyl group, and substituted phenyl group.)

前記式(22)で示されるベンゾイル基としては、例えば、下記式(23)で示されるベンゾイルフェニルメチル基が好適である。   As the benzoyl group represented by the formula (22), for example, a benzoylphenylmethyl group represented by the following formula (23) is preferable.

(前記式(23)中、R118〜R122は前記式(19)と同様である。R130は水素原子、炭素数1〜10の非置換もしくは置換アルキル基、フェニル基、置換フェニル基を示す。R131〜R135は、それぞれ独立して、水素原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、アセチル基、アリル基、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、非置換もしくは置換アリール基、アリールオキシ基を示す。R131〜R135は互いに結合して二重結合、又は芳香族性若しくは非芳香族性の環を形成してもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。R131〜R135及びR118〜R122はそれらが結合して環状構造を形成していても良く、ヘテロ原子の結合を含んでいても良い。) (In the formula (23), R 118 to R 122 are the same as those in the formula (19). R 130 represents a hydrogen atom, an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a phenyl group, or a substituted phenyl group. R 131 to R 135 each independently represent a hydrogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, a mercapto group, a halogen atom, an acetyl group, an allyl group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R 131 to R 135 may be bonded to each other to form a double bond or an aromatic or non-aromatic ring. R 131 to R 135 and R 118 to R 122 may be bonded to each other to form a cyclic structure, and include a hetero atom bond. May be.)

前記複素環構造を有する基としては、例えば、下記式(24)で示されるクマリン誘導体残基、下記式(25)で示されるイミド基や置換されたこれらの基等が挙げられる。   Examples of the group having a heterocyclic structure include a coumarin derivative residue represented by the following formula (24), an imide group represented by the following formula (25), and these substituted groups.

(前記式(24)中、R136及びR137は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を表し、R138〜R142はそれぞれ独立して、水素原子又は置換基を表し、R138〜R142としては、例えば、前記式(19)のR118〜R122と同様のものが挙げられ、R138〜R142の2つ以上が結合して環状構造を形成していてもよい。R138〜R142のいずれかが互いに結合し、環状構造を形成する場合、複数のベンゼン環が縮合した構造,ベンゼン環と複素環や非芳香族性の環、カルボニル基等の官能基が結合した環等が縮合した構造等を形成してもよい。) (Wherein (24), R 136 and R 137 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, R 138 to R 142 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, R 138 ~ Examples of R 142 include the same ones as R 118 to R 122 in the formula (19), and two or more of R 138 to R 142 may combine to form a cyclic structure. 138 to R 142 either are bonded to each other, if they form a cyclic structure, the structure a plurality of benzene rings are condensed, a benzene ring and a heterocyclic ring or non-aromatic ring, a functional group such as a carbonyl group bound A structure in which rings and the like are condensed may be formed.)

(前記式(25)中、R143及びR144は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換あるいは非置換のアルキル基、置換あるいは非置換のアリール基、シクロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基を示し、R143及びR144は互いに結合して二重結合、又は芳香族性若しくは非芳香族性の環を形成してもよい。前記R143、R144、又はR143及びR144が互いに結合して形成された二重結合又は芳香族性若しくは非芳香族性の環には、上記式中に示されるイミド基がさらに1又は2個形成されていてもよい。) (In the formula (25), R 143 and R 144 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a cycloalkyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, R 143 and R 144 are bonded to double bond or may form an aromatic or non-aromatic ring. the R 143, R 144 , or a double bond formed by bonding R 143 and R 144 to each other or an aromatic or non-aromatic ring, further has one or two imide groups represented by the above formula. May be.)

光官能基Qが前記式(20−1)で示されるo−ニトロベンジル基である−OQ基としては、例えば、(2,6−ジニトロベンジル)オキシ基、(2−ニトロベンジル)オキシ基、(3−ニトロ−2−ナフタレン)メチルオキシ基、(6,7−ジメトキシ−3−ニトロ−2−ナフタレンメチル)オキシ基、[1−(2,6−ジニトロフェニル)エチル]オキシ基、[1−(2−ニトロフェニル)エチル]オキシ基、[1−(3,5−ジメトキシフェニル−2−ニトロベンジル)−1−メチルエチル]オキシ基、(2,4−ジニトロベンジル)オキシ基、(3,4,5−トリメトキシ−2−ニトロベンジル)オキシ基、(3,4−ジメトキシ−2−ニトロベンジル)オキシ基、(3−メチル−2−ニトロベンジル)オキシ基、(3−メトキシ−2−ニトロベンジル)オキシ基、(4,5,6−トリメトキシ−2−ニトロベンジル)オキシ基、(4,5−ジクロロ−2−ニトロベンジル)オキシ基、(4,5−ジメチル−2−ニトロベンジル)オキシ基、(5−メチル−4−メトキシ−2−ニトロベンジル)オキシ基、(α−エチル−2−ニトロベンジル)オキシ基、[α−(2−ニトロフェニル)−2−ニトロベンジル]オキシ基等のニトロベンジルオキシ基が挙げられる。   Examples of the —OQ group in which the photofunctional group Q is an o-nitrobenzyl group represented by the formula (20-1) include, for example, a (2,6-dinitrobenzyl) oxy group, a (2-nitrobenzyl) oxy group, (3-nitro-2-naphthalene) methyloxy group, (6,7-dimethoxy-3-nitro-2-naphthalenemethyl) oxy group, [1- (2,6-dinitrophenyl) ethyl] oxy group, [1 -(2-nitrophenyl) ethyl] oxy group, [1- (3,5-dimethoxyphenyl-2-nitrobenzyl) -1-methylethyl] oxy group, (2,4-dinitrobenzyl) oxy group, (3 , 4,5-trimethoxy-2-nitrobenzyl) oxy group, (3,4-dimethoxy-2-nitrobenzyl) oxy group, (3-methyl-2-nitrobenzyl) oxy group, (3-methoxy- -Nitrobenzyl) oxy group, (4,5,6-trimethoxy-2-nitrobenzyl) oxy group, (4,5-dichloro-2-nitrobenzyl) oxy group, (4,5-dimethyl-2-nitrobenzyl) ) Oxy group, (5-methyl-4-methoxy-2-nitrobenzyl) oxy group, (α-ethyl-2-nitrobenzyl) oxy group, [α- (2-nitrophenyl) -2-nitrobenzyl] oxy And a nitrobenzyloxy group such as a group.

光官能基Qが前記式(20−3)で示されるp−ニトロベンジル基である−OQ基としては、例えば、(2,4−ジニトロベンジル)オキシ基、(3,4−ジニトロベンジル)オキシ基、(4−ニトロベンジル)オキシ基、[1−(4−ニトロナフタレン)メチル]オキシ基、[1−(6,7−ジメトキシ−4−ニトロナフタレン)メチル]オキシ基、[1−(2,4−ジニトロフェニル)エチル]オキシ基、[1−(4−ニトロフェニル)エチル]オキシ基、[1−(3,5−ジメトキシフェニル−4−ニトロベンジル)−1−メチルエチル]オキシ基、(2,3,5−トリメトキシ−4−ニトロベンジル)オキシ基、(2,3−ジメトキシ−4−ニトロベンジル)オキシ基、(3−メチル−4−ニトロベンジル)オキシ基、(3−メトキシ−4−ニトロベンジル)オキシ基、(2,5,6−トリメトキシ−4−ニトロベンジル)オキシ基、(2,5−ジクロロ−4−ニトロベンジル)オキシ基、(2,5−ジメチル−4−ニトロベンジル)オキシ基、(5−メチル−2−メトキシ−4−ニトロベンジル)オキシ基、(α−エチル−4−ニトロベンジル)オキシ基、[α−(4−ニトロフェニル)−4−ニトロベンジル]オキシ基等のニトロベンジルオキシ基が挙げられる。   Examples of the —OQ group in which the photofunctional group Q is the p-nitrobenzyl group represented by the formula (20-3) include, for example, a (2,4-dinitrobenzyl) oxy group and a (3,4-dinitrobenzyl) oxy Group, (4-nitrobenzyl) oxy group, [1- (4-nitronaphthalene) methyl] oxy group, [1- (6,7-dimethoxy-4-nitronaphthalene) methyl] oxy group, [1- (2 , 4-Dinitrophenyl) ethyl] oxy group, [1- (4-nitrophenyl) ethyl] oxy group, [1- (3,5-dimethoxyphenyl-4-nitrobenzyl) -1-methylethyl] oxy group, (2,3,5-trimethoxy-4-nitrobenzyl) oxy group, (2,3-dimethoxy-4-nitrobenzyl) oxy group, (3-methyl-4-nitrobenzyl) oxy group, (3-methoxy -4-nitrobenzyl) oxy group, (2,5,6-trimethoxy-4-nitrobenzyl) oxy group, (2,5-dichloro-4-nitrobenzyl) oxy group, (2,5-dimethyl-4- (Nitrobenzyl) oxy group, (5-methyl-2-methoxy-4-nitrobenzyl) oxy group, (α-ethyl-4-nitrobenzyl) oxy group, [α- (4-nitrophenyl) -4-nitrobenzyl A nitrobenzyloxy group such as an oxy group;

光官能基Qが前記式(21)で示されるベンジル基である−OQ基としては、例えば、3,5−ジメトキシベンジルオキシ基、[1−(3,5−ジメトキシフェニル)−1−メチルエチル]オキシ基、9−アントリルメチルオキシ基、9ーファナントリルメチルオキシ基、1-ピレニルメチルオキシ基、[1−(アントラキノン−2−イル)エチル]オキシ基、9−フェニルキサンテン−9−イルオキシ基等のベンジルオキシ基が挙げられる。   Examples of the —OQ group in which the photofunctional group Q is a benzyl group represented by the formula (21) include, for example, a 3,5-dimethoxybenzyloxy group, [1- (3,5-dimethoxyphenyl) -1-methylethyl Oxy group, 9-anthrylmethyloxy group, 9-phananthrylmethyloxy group, 1-pyrenylmethyloxy group, [1- (anthraquinone-2-yl) ethyl] oxy group, 9-phenylxanthene-9- And a benzyloxy group such as an yloxy group.

光官能基Qが前記式(23)で示されるベンゾイルフェニルメチル基である−OQ基としては、例えば、1−(3,5−ジメトキシベンゾイル)−1−(3,5−ジメトキシフェニル)メチルオキシ基、1−ヒドロキシ−1−フェニルアセトフェノンオキシ基、1−ベンゾイル−1−フェニルメチルオキシ基、1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−フェニルエチルオキシ基等のベンゾインオキシ基が挙げられる。   Examples of the —OQ group in which the photofunctional group Q is the benzoylphenylmethyl group represented by the formula (23) include 1- (3,5-dimethoxybenzoyl) -1- (3,5-dimethoxyphenyl) methyloxy And a benzoinoxy group such as a 1-hydroxy-1-phenylacetophenoneoxy group, a 1-benzoyl-1-phenylmethyloxy group, and a 1-benzoyl-1-hydroxy-1-phenylethyloxy group.

光官能基Qが前記式(24)で示されるクマリン誘導体残基である−OQ基としては、例えば、7−メトキシクマリン−4−イルメトキシ基、6−ブロモ−7−メトキシクマリン−4−イルメトキシ基等のクマリン−4−イルメトキシ基が挙げられる。   Examples of the —OQ group in which the photofunctional group Q is a coumarin derivative residue represented by the formula (24) include a 7-methoxycoumarin-4-ylmethoxy group and a 6-bromo-7-methoxycoumarin-4-ylmethoxy group. And a coumarin-4-ylmethoxy group.

光官能基Qが前記式(25)で示されるイミド基である−OQ基としては、例えば、フタルイミドオキシ基、スクシンイミドオキシ基、コハク酸イミドオキシ基、マレイン酸イミドオキシ基、ヘキサヒドロフタル酸イミドオキシ基、シクロヘキサンテトラカルボン酸イミドジオキシ基、テトラブロモフタル酸イミドオキシ基、テトラクロロフタル酸イミドオキシ基、ヘット酸イミドオキシ基、ハイミック酸イミドオキシ基、トリメリット酸イミドオキシ基、ピロメリット酸イミドジオキシ基、ナフタレンテトラカルボン酸イミドジオキシ基等のイミドオキシ基が挙げられる。   Examples of the —OQ group in which the photofunctional group Q is an imide group represented by the formula (25) include, for example, a phthalimidooxy group, a succinimidooxy group, a succinimideoxy group, a maleic imideoxy group, a hexahydrophthalic imideoxy group, Cyclohexanetetracarboxylic imide dioxy group, tetrabromophthalic imide oxy group, tetrachloro phthalic imide oxy group, het imide oxy group, hymic imide oxy group, trimellitic imide oxy group, pyromellitic imide dioxy group, naphthalene tetra carboxylic imide dioxy group, etc. Imidooxy group.

光官能基Qが前記式(18)で示されるオキシム残基である−OQ基としては、例えば、N−(1−フェニルエチリデン)アミノオキシ基、ジフェニルメチリデンアミノオキシ基、ジ(4−メトキシフェニル)メチリデンアミノオキシ基、N−(ジメチルメチリデン)アミノオキシ基、N−(アセトフェノンメチリデン)アミノオキシ基、N−[1−(2−ナフチル)エチリデン]アミノオキシ基、N−(シクロヘキシリデン)アミノオキシ基、N−(フルオレニリデン)アミノオキシ基、N−[ジ(ニトロフェニル)メチリデン]アミノオキシ基、N−(ニトロフルオレニリデン)アミノオキシ基、N−(ジニトロフルオレニリデン)アミノオキシ基、N−(トリニトロフルオレニリデン)アミノオキシ基等のオキシムオキシ基が挙げられる。   Examples of the —OQ group in which the photofunctional group Q is the oxime residue represented by the formula (18) include, for example, an N- (1-phenylethylidene) aminooxy group, a diphenylmethylideneaminooxy group, a di (4-methoxy) group. Phenyl) methylideneaminooxy group, N- (dimethylmethylidene) aminooxy group, N- (acetophenonemethylidene) aminooxy group, N- [1- (2-naphthyl) ethylidene] aminooxy group, N- (cyclohexyl) (Siliden) aminooxy group, N- (fluorenylidene) aminooxy group, N- [di (nitrophenyl) methylidene] aminooxy group, N- (nitrofluorenylidene) aminooxy group, N- (dinitrofluorenylidene) Oximeoxy groups such as aminooxy group and N- (trinitrofluorenylidene) aminooxy group; .

前記式(12)及び(13)中、ZQ基を除いた残基としては、例えば、3−(トリメトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、3−(トリエトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、3−(トリイソプロポキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、3−(メチルジメトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、3−(メチルジエトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、N−[3−(トリメトキシシリル)−2−メチルプロピル]−N−エチルアミノカルボニル基、N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]−N−フェニルアミノカルボニル基、N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]−N−ベンジルアミノカルボニル基、N−[3−(トリエトキシシリル)プロピル]−N−ビニルベンジルアミノカルボニル基、N−トリエトキシシリルメチル−N−シクロヘキシルアミノカルボニル基、N−(メチルジエトキシシリル)メチル−N−シクロヘキシルアミノカルボニル基、N−トリメトキシシリルメチル−N−フェニルアミノカルボニル基等のモノアミノカルボニル基;N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノカルボニル基、N−[3−(メチルジメトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノカルボニル基、N−[3−(トリエトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノカルボニル基、N−[3−(メチルジエトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノカルボニル基、N−[3−(トリイソプロポキシシリル)プロピル]エチレンジアミノカルボニル基、N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]−1,6−ヘキシレンジアミノカルボニル基、N−(トリメトキシシリルメチル)エチレンジアミノカルボニル基、N,N’−ビス[3−(トリメトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノカルボニル基等のジアミノカルボニル基;N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]ジエチレントリアミノカルボニル基等のトリアミノカルボニル基などのアミノカルボニル基が挙げられる。   In the formulas (12) and (13), as the residue excluding the ZQ group, for example, 3- (trimethoxysilyl) propylaminocarbonyl group, 3- (triethoxysilyl) propylaminocarbonyl group, 3- ( Triisopropoxysilyl) propylaminocarbonyl group, 3- (methyldimethoxysilyl) propylaminocarbonyl group, 3- (methyldiethoxysilyl) propylaminocarbonyl group, N- [3- (trimethoxysilyl) -2-methylpropyl ] -N-ethylaminocarbonyl group, N- [3- (trimethoxysilyl) propyl] -N-phenylaminocarbonyl group, N- [3- (trimethoxysilyl) propyl] -N-benzylaminocarbonyl group, N -[3- (Triethoxysilyl) propyl] -N-vinylbenzylaminocarbonyl Monoaminocarbonyl such as N-triethoxysilylmethyl-N-cyclohexylaminocarbonyl group, N- (methyldiethoxysilyl) methyl-N-cyclohexylaminocarbonyl group, N-trimethoxysilylmethyl-N-phenylaminocarbonyl group Group: N- [3- (trimethoxysilyl) propyl] ethylenediaminocarbonyl group, N- [3- (methyldimethoxysilyl) propyl] ethylenediaminocarbonyl group, N- [3- (triethoxysilyl) propyl] ethylenediamino Carbonyl group, N- [3- (methyldiethoxysilyl) propyl] ethylenediaminocarbonyl group, N- [3- (triisopropoxysilyl) propyl] ethylenediaminocarbonyl group, N- [3- (trimethoxysilyl) propyl ] -1,6-hex A diaminocarbonyl group such as a rangeaminocarbonyl group, an N- (trimethoxysilylmethyl) ethylenediaminocarbonyl group, an N, N′-bis [3- (trimethoxysilyl) propyl] ethylenediaminocarbonyl group; N- [3- ( Trimethoxysilyl) propyl] and an aminocarbonyl group such as a triaminocarbonyl group such as a diethylenetriaminocarbonyl group.

前記アミノカルボニル基のなかでも、接着性の点からアミノ基(−NH)を有するアミノカルボニル基が好ましく、3−(トリメトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、3−(トリエトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、3−(メチルジメトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノカルボニル基がより好ましく、接着性、硬化性より3−(トリメトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、3−(トリエトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基が最も好ましい。 Among the aminocarbonyl groups, an aminocarbonyl group having an amino group (—NH 2 ) is preferable from the viewpoint of adhesiveness, and 3- (trimethoxysilyl) propylaminocarbonyl group and 3- (triethoxysilyl) propylaminocarbonyl Group, 3- (methyldimethoxysilyl) propylaminocarbonyl group, and N- [3- (trimethoxysilyl) propyl] ethylenediaminocarbonyl group are more preferable, and 3- (trimethoxysilyl) propylaminocarbonyl is more preferable in terms of adhesiveness and curability. The group, 3- (triethoxysilyl) propylaminocarbonyl, is most preferred.

前記式(14)中、アリールスルホニル基としては、例えば、2−ナフタレンスルホニル基、p−トルエンスルホニル基等の芳香族スルホニル基が挙げられる。   In the formula (14), examples of the arylsulfonyl group include an aromatic sulfonyl group such as a 2-naphthalenesulfonyl group and a p-toluenesulfonyl group.

前記式(14)中、アリールスルホニル基を除いた残基としては、例えば、3−(トリメトキシシリル)プロピルアミノ基、3−(トリエトキシシリル)プロピルアミノ基、3−(トリイソプロポキシシリル)プロピルアミノ基、3−(メチルジメトキシシリル)プロピルアミノ基、3−(メチルジエトキシシリル)プロピルアミノ基、N−[3−(トリメトキシシリル)−2−メチルプロピル]−N−エチルアミノ基、N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]−N−フェニルアミノ基、N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]−N−ベンジルアミノ基、N−[3−(トリエトキシシリル)プロピル]−N−ビニルベンジルアミノ基、N−トリエトキシシリルメチル−N−シクロヘキシルアミノ基、N−(メチルジエトキシシリル)メチル−N−シクロヘキシルアミノ基、N−トリメトキシシリルメチル−N−フェニルアミノ基等のモノアミノ基;N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノ基、N−[3−(メチルジメトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノ基、N−[3−(トリエトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノ基、N−[3−(メチルジエトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノ基、N−[3−(トリイソプロポキシシリル)プロピル]エチレンジアミノ基、N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]−1,6−ヘキシレンジアミノ基、N−(トリメトキシシリルメチル)エチレンジアミノ基、N,N’−ビス[3−(トリメトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノ基等のジアミノ基;N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]ジエチレントリアミノ基等のトリアミノ基が挙げられる。   In the formula (14), examples of the residue excluding the arylsulfonyl group include a 3- (trimethoxysilyl) propylamino group, a 3- (triethoxysilyl) propylamino group, and a 3- (triisopropoxysilyl) Propylamino group, 3- (methyldimethoxysilyl) propylamino group, 3- (methyldiethoxysilyl) propylamino group, N- [3- (trimethoxysilyl) -2-methylpropyl] -N-ethylamino group, N- [3- (trimethoxysilyl) propyl] -N-phenylamino group, N- [3- (trimethoxysilyl) propyl] -N-benzylamino group, N- [3- (triethoxysilyl) propyl] -N-vinylbenzylamino group, N-triethoxysilylmethyl-N-cyclohexylamino group, N- (methyldiethoxysilyl ) Monoamino groups such as methyl-N-cyclohexylamino group, N-trimethoxysilylmethyl-N-phenylamino group; N- [3- (trimethoxysilyl) propyl] ethylenediamino group, N- [3- (methyldimethoxy Silyl) propyl] ethylenediamino group, N- [3- (triethoxysilyl) propyl] ethylenediamino group, N- [3- (methyldiethoxysilyl) propyl] ethylenediamino group, N- [3- (triisopropoxy) Silyl) propyl] ethylenediamino group, N- [3- (trimethoxysilyl) propyl] -1,6-hexylenediamino group, N- (trimethoxysilylmethyl) ethylenediamino group, N, N′-bis [3 A diamino group such as-(trimethoxysilyl) propyl] ethylenediamino group; N- [3- (trimethoxy) Silyl) propyl] include triamino groups such as diethylene triamino group.

前記式(15)中、アリールオキシム基を除いた残基としては、例えば、3−(トリメトキシシリル)プロピルカルボニル基、3−(トリエトキシシリル)プロピルカルボニル基、3−(トリイソプロポキシシリル)プロピルカルボニル基、3−(メチルジメトキシシリル)プロピルカルボニル基、3−(メチルジエトキシシリル)プロピルカルボニル基等のカルボニル基が挙げられる。   In the formula (15), examples of the residue excluding the aryl oxime group include a 3- (trimethoxysilyl) propylcarbonyl group, a 3- (triethoxysilyl) propylcarbonyl group, and a 3- (triisopropoxysilyl) And carbonyl groups such as a propylcarbonyl group, a 3- (methyldimethoxysilyl) propylcarbonyl group, and a 3- (methyldiethoxysilyl) propylcarbonyl group.

前記式(16)中、trans−o−クマル酸誘導体残基としては、例えば、(E)−2−(2−ヒドロキシフェニル)エテニル基、(E)−2−(2−ヒドロキシフェニル)−1−プロペニル基、(E)−2−(2−ヒドロキシフェニル)−1−プロペニル基、(E)−2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−フェニルエテニル基、(E)−2−(2−ヒドロキシ−4,5−メチレンジオキシフェニル)エテニル基、(E)−2−(2−ヒドロキシ−4,5−ジメトオキシフェニル)−1−プロペニル基、(E)−2−(2−ヒドロキシ−5−ニトロフェニル)−1−プロペニル基、(E)−2−(1−ヒドロキシ−2−アントリル)−1−プロペニル基等のtrans−O−クマル酸残基が挙げられる。   In the formula (16), the trans-o-coumaric acid derivative residue includes, for example, (E) -2- (2-hydroxyphenyl) ethenyl group, (E) -2- (2-hydroxyphenyl) -1 -Propenyl group, (E) -2- (2-hydroxyphenyl) -1-propenyl group, (E) -2- (2-hydroxyphenyl) -2-phenylethenyl group, (E) -2- (2 -Hydroxy-4,5-methylenedioxyphenyl) ethenyl group, (E) -2- (2-hydroxy-4,5-dimethoxyphenyl) -1-propenyl group, (E) -2- (2- And trans-O-coumaric acid residues such as a hydroxy-5-nitrophenyl) -1-propenyl group and an (E) -2- (1-hydroxy-2-anthryl) -1-propenyl group.

前記架橋性珪素基含有化合物の配合割合は特に制限はないが、(A)架橋性珪素基含有有機重合体100質量部に対して、0.01〜50.00質量部が好ましく、1.00〜20.00質量部がより好ましく、3.00〜10.00質量部がさらに好ましい。これら架橋性珪素基含有化合物は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   The mixing ratio of the crosslinkable silicon group-containing compound is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 50.00 parts by mass, and more preferably 1.00 to 100 parts by mass of the crosslinkable silicon group-containing organic polymer (A). To 20.00 parts by mass is more preferable, and 3.00 to 10.00 parts by mass is further preferable. These crosslinkable silicon group-containing compounds may be used alone or in combination of two or more.

本発明の光硬化性組成物は、塩素化ポリオレフィンを含有していてもよい。塩素化ポリオレフィンとしては、塩素化されたポリオレフィンであれば特に限定されないが塩素含有率が20〜60質量%の範囲のものが好ましく、30〜50質量%の範囲がより好ましく、35〜45質量%の範囲が更に好ましい。   The photocurable composition of the present invention may contain a chlorinated polyolefin. The chlorinated polyolefin is not particularly limited as long as it is a chlorinated polyolefin, but preferably has a chlorine content in the range of 20 to 60% by mass, more preferably 30 to 50% by mass, and more preferably 35 to 45% by mass. Is more preferable.

前記塩素化ポリオレフィンの原料としては、例えば、結晶性ポリプロピレン、非結晶性ポリプロピレン、ポリブテン、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等、及びこれらのカルボキシル基や水酸基又は酸無水物基等を導入した変性ポリオレフィン樹脂等が挙げられる。前記塩素化ポリオレフィンとしては、オレフィンに対する接着性に優れることから、50モル%以上のプロピレンに基づく単位を含む塩素化ポリプロピレンが好ましい。   As the raw material of the chlorinated polyolefin, for example, crystalline polypropylene, amorphous polypropylene, polybutene, low-density polyethylene, high-density polyethylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-propylene-diene copolymer, ethylene-vinyl acetate Copolymers and the like, and modified polyolefin resins into which a carboxyl group, a hydroxyl group, an acid anhydride group, or the like is introduced, and the like. As the chlorinated polyolefin, a chlorinated polypropylene containing 50 mol% or more of propylene-based units is preferable because of excellent adhesion to the olefin.

本発明の光硬化性組成物には、必要に応じて、前記(D)活性エネルギー線開裂型ラジカル発生剤以外の光増感剤、増量剤、可塑剤、水分吸収剤、硬化触媒、引張特性等を改善する物性調整剤、補強剤、着色剤、難燃剤、タレ防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、老化防止剤、溶剤、有機フィラー、導電性フィラー、熱伝導性フィラー、香料、顔料、染料等の各種添加剤を加えてもよい。   The photocurable composition of the present invention may contain, if necessary, a photosensitizer other than (D) the active energy ray-cleavable radical generator, a bulking agent, a plasticizer, a moisture absorber, a curing catalyst, and a tensile property. Physical property modifiers, reinforcing agents, coloring agents, flame retardants, anti-sagging agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, anti-aging agents, solvents, organic fillers, conductive fillers, thermally conductive fillers, fragrances, pigments, etc. And various additives such as dyes.

前記(D)活性エネルギー線開裂型ラジカル発生剤以外の光増感剤としては、225−310kJ/molの三重項エネルギーをもつカルボニル化合物が好ましく、例えば、キサントン、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、フタルイミド、アントラキノン、9,10−ジブトキシアントラセン、アセトフェノン、プロピオフェノン、ベンゾフェノン、アシルナフタレン、2(アシルメチレン)チアゾリン、3−アシルクマリンおよび3,3′−カルボニルビスクマリン、ペリレン、コロネン、テトラセン、ベンズアントラセン、フェノチアジン、フラビン、アクリジン、ケトクマリン等が挙げられ、チオキサントン、3−アシルクマリンおよび2(アロイルメチレン)−チアゾリンが好ましく、チオキサントンおび3−アシルクマリンがより好ましい。これら増感剤は組成物の保存寿命を短くすることなく発生したアミン塩基の反応性を増強する。   As the photosensitizer other than (D) the active energy ray-cleavable radical generator, a carbonyl compound having a triplet energy of 225 to 310 kJ / mol is preferable. For example, xanthone, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,2 4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, isopropylthioxanthone, phthalimide, anthraquinone, 9,10-dibutoxyanthracene, acetophenone, propiophenone, benzophenone, acylnaphthalene, 2 (acylmethylene) Thiazoline, 3-acylcoumarin and 3,3'-carbonylbiscoumarin, perylene, coronene, tetracene, benzanthracene, phenothiazine, flavin, acridine, ketocoumarin, etc. The recited, thioxanthone, 3-acylcoumarin and 2 (aroylmethylene) - thiazoline, and more preferably a thioxanthone Obi 3 acylcoumarin. These sensitizers enhance the reactivity of the generated amine base without shortening the shelf life of the composition.

前記増量剤としては、例えば、タルク、クレー、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、無水珪素、含水珪素、ケイ酸カルシウム、二酸化チタン、カーボンブラック等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the extender include talc, clay, calcium carbonate, magnesium carbonate, anhydrous silicon, hydrated silicon, calcium silicate, titanium dioxide, carbon black and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

前記可塑剤としては、例えば、リン酸トリブチル、リン酸トリクレジル等のリン酸エステル類、フタル酸ジオクチル等のフタル酸エステル類、グリセリンモノオレイル酸エステル等の脂肪族一塩基酸エステル類、アジピン酸ジオクチル等の脂肪族二塩基酸エステル類、ポリプロピレングリコール類等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the plasticizer include phosphates such as tributyl phosphate and tricresyl phosphate, phthalates such as dioctyl phthalate, aliphatic monobasic esters such as glycerin monooleate, and dioctyl adipate. And the like, aliphatic dibasic acid esters, polypropylene glycols and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

前記水分吸収剤としては、前述したシランカップリング剤やシリケートが好適である。前記シリケートとしては、特に限定されず、例えば、テトラアルコキシシランまたはその部分加水分解縮合物があげられ、より具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、エトキシトリメトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、メトキシトリエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−i−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−i−ブトキシシラン、テトラ−t−ブトキシシランなどのテトラアルコキシシラン(テトラアルキルシリケート)、および、それらの部分加水分解縮合物が挙げられる。   As the water absorbent, the above-mentioned silane coupling agent and silicate are suitable. The silicate is not particularly limited and includes, for example, tetraalkoxysilane or a partially hydrolyzed condensate thereof, and more specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, ethoxytrimethoxysilane, dimethoxydiethoxysilane, Tetraalkoxysilanes (tetraalkylsilicate) such as methoxytriethoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-i-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-i-butoxysilane and tetra-t-butoxysilane; And partially hydrolyzed condensates thereof.

前記硬化触媒としては、公知の硬化触媒を広く用いることができ、特に制限はないが、例えば、有機金属化合物やアミン類等が挙げられ、特にシラノール縮合触媒を用いることが好ましい。前記シラノール縮合触媒としては、例えば、スタナスオクトエート、ジブチル錫ジオクトエート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫マレエート、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジアセチルアセトナート、ジブチル錫オキサイド、ジブチル錫ビストリエトキシシリケート、ジブチル錫ジステアレート、ジオクチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジバーサテート、オクチル酸錫及びナフテン酸錫等の有機錫化合物;ジメチルスズオキサイド、ジブチルスズオキサイド、ジオクチルスズオキサイド等のジアルキルスズオキサイド;ジブチル錫オキサイドとフタル酸エステルとの反応物等;テトラブチルチタネート、テトラプロピルチタネート等のチタン酸エステル類;アルミニウムトリスアセチルアセトナート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート等の有機アルミニウム化合物類;ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、チタンテトラアセチルアセトナート等のキレート化合物類;オクチル酸鉛及びナフテン酸鉛等の有機酸鉛;オクチル酸ビスマス、ネオデカン酸ビスマス及びロジン酸ビスマス等の有機酸ビスマス;シラノール縮合触媒として公知のその他の酸性触媒及び塩基性触媒等が挙げられる。しかしながら、有機錫化合物は添加量に応じて、得られる光硬化性組成物の毒性が強くなる場合がある。   As the curing catalyst, known curing catalysts can be widely used, and there is no particular limitation. Examples thereof include organometallic compounds and amines, and it is particularly preferable to use a silanol condensation catalyst. As the silanol condensation catalyst, for example, stannas octoate, dibutyltin dioctoate, dibutyltin dilaurate, dibutyltin maleate, dibutyltin diacetate, dibutyltin diacetylacetonate, dibutyltin oxide, dibutyltin bistriethoxysilicate, dibutyltin distearate Organic tin compounds such as dioctyltin dilaurate, dioctyltin diversate, tin octylate and tin naphthenate; dialkyltin oxides such as dimethyltin oxide, dibutyltin oxide and dioctyltin oxide; reactants of dibutyltin oxide with phthalic acid esters ; Titanates such as tetrabutyl titanate and tetrapropyl titanate; aluminum trisacetylacetonate, aluminum trisethyl Organoaluminum compounds such as acetoacetate and diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate; Chelate compounds such as zirconium tetraacetylacetonate and titanium tetraacetylacetonate; Organic lead such as lead octylate and naphthenate; bismuth octylate And bismuth organic acids such as bismuth neodecanoate and bismuth rosinate; and other acidic and basic catalysts known as silanol condensation catalysts. However, depending on the amount of the organotin compound added, the resulting photocurable composition may become more toxic.

前記物性調整剤は引っ張り物性等の硬化性組成物の物性を改善する目的で添加される。前記物性調整剤の例としては、例えば、1分子中にシラノール基を1個有し且つ第1級アミノ基を有なさい珪素化合物が好適に用いられる。該珪素化合物としては、例えば、トリフェニルシラノール、トリアルキルシラノール、ジアルキルフェニルシラノール、ジフェニルアルキルシラノール等が挙げられる。   The physical property modifier is added for the purpose of improving the physical properties of the curable composition such as the tensile properties. As an example of the physical property modifier, for example, a silicon compound having one silanol group in one molecule and having a primary amino group is preferably used. Examples of the silicon compound include triphenylsilanol, trialkylsilanol, dialkylphenylsilanol, diphenylalkylsilanol and the like.

前記難燃剤としては、例えば、赤リン、ポリリン酸アンモニウム等のリン系難燃剤;三酸化アンチモン等の金属酸化物系難燃剤;臭素系難燃剤;塩素系難燃剤等が挙げられる。   Examples of the flame retardant include phosphorus-based flame retardants such as red phosphorus and ammonium polyphosphate; metal oxide-based flame retardants such as antimony trioxide; brominated flame retardants; and chlorine-based flame retardants.

前記タレ防止剤としては、公知のタレ防止剤を広く用いることができ、特に制限はないが、例えば、ポリアミドワックス類;水添ヒマシ油誘導体類;ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸バリウム等の金属石鹸類、有機ベントナイト、コロイダルシリカ、変性ポリエステルポリオール、石綿粉等の無機揺変剤、脂肪酸アマイド等の有機揺変剤等が挙げられる。また、特開平11−349916号公報に記載されているような粒子径10から500μmのゴム粉末や、特開2003−155389号公報に記載されているような有機質繊維を用いると、チクソ性が高く作業性の良好な組成物が得られる。これらタレ防止剤は単独で用いてもよく、2種以上併用してもよい。   As the anti-sagging agent, known anti-sagging agents can be widely used, and there is no particular limitation. Examples thereof include polyamide waxes; hydrogenated castor oil derivatives; calcium stearate, aluminum stearate, and barium stearate. Examples include metal soaps, organic bentonites, colloidal silica, modified polyester polyols, inorganic thixotropic agents such as asbestos powder, and organic thixotropic agents such as fatty acid amides. Further, when a rubber powder having a particle size of 10 to 500 μm as described in JP-A-11-349916 or an organic fiber as described in JP-A-2003-155389 is used, the thixotropic property is high. A composition having good workability is obtained. These anti-sagging agents may be used alone or in combination of two or more.

前記酸化防止剤は、硬化性組成物の酸化を防止して、耐候性、耐熱性を改善するために使用されるものであり、例えば、ヒンダードアミン系やヒンダードフェノール系の酸化防止剤等が挙げられる。ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、例えば、N,N′,N″,N″′−テトラキス−(4,6−ビス(ブチル−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ)−トリアジン−2−イル)−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミン、ジブチルアミン・1,3,5−トリアジン・N,N′−ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル−1,6−ヘキサメチレンジアミン・N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンの重縮合物、ポリ[{6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}]、コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールの重合体、[デカン二酸ビス(2,2,6,6−テトラメチル−1(オクチルオキシ)−4−ピペリジル)エステル、1,1−ジメチルエチルヒドロペルオキシドとオクタンの反応生成物(70%)]−ポリプロピレン(30%)、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)[[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル]ブチルマロネート、メチル1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルセバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケ−ト、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケ−ト、1−[2−〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕エチル]−4−〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、8−アセチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4−ジオンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、例えば、ペンタエリストール−テトラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、チオジエチレン−ビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、N,N′−ヘキサン−1,6−ジイルビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオアミド]、ベンゼンプロパン酸3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシC7−C9側鎖アルキルエステル、2,4−ジメチル−6−(1−メチルペンタデシル)フェノール、ジエチル[[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル]ホスホネート、3,3′,3″,5,5′,5″−ヘキサン−tert−ブチル−4−a,a′,a″−(メシチレン−2,4,6−トリル)トリ−p−クレゾール、カルシウムジエチルビス[[[3,5−ビス−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル]ホスホネート]、4,6−ビス(オクチルチオメチル)−o−クレゾール、エチレンビス(オキシエチレン)ビス[3−(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−m−トリル)プロピオネート]、ヘキサメチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6−(1H,3H,5H)−トリオン、N−フェニルベンゼンアミンと2,4,4−トリメチルペンテンとの反応生成物、2,6−ジ−tert−ブチル−4−(4,6−ビス(オクチルチオ)−1,3,5−トリアジン−2−イルアミノ)フェノールなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。前記酸化防止剤は単独で使用しても良く、または、2種類以上を併用しても良い。   The antioxidant is used to prevent oxidation of the curable composition and to improve weather resistance and heat resistance. Examples thereof include hindered amine-based and hindered phenol-based antioxidants. Can be Examples of the hindered amine antioxidant include, for example, N, N ', N ", N" "-tetrakis- (4,6-bis (butyl- (N-methyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidine- 4-yl) amino) -triazin-2-yl) -4,7-diazadecane-1,10-diamine, dibutylamine-1,3,5-triazine.N, N'-bis- (2,2,6 Polycondensate of 2,6-tetramethyl-4-piperidyl-1,6-hexamethylenediamine.N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butylamine, poly [{6- (1, 1,3,3-tetramethylbutyl) amino-1,3,5-triazine-2,4-diyl {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino {hexamethylene} (2 , 2,6,6-tetramethyl-4- Peridyl) imino}], a polymer of dimethyl succinate and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidineethanol, [bis (2,2,6,6-tetramethyl-decanedioate) 1 (octyloxy) -4-piperidyl) ester, reaction product of octane with 1,1-dimethylethyl hydroperoxide (70%)]-polypropylene (30%), bis (1,2,2,6,6- Pentamethyl-4-piperidyl) [[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] butylmalonate, methyl 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl seba Kate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate 1- [2- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl] -4- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl ) Propionyloxy] -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 8-acetyl-3-dodecyl-7,7,9,9- Examples include, but are not limited to, tetramethyl-1,3,8-triazaspiro [4.5] decane-2,4-dione. Eristol-tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], thiodiethylene-bis [3- (3,5-di-ter t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], N, N'-hexane-1,6-diylbis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenylpropionamide), 3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxy C7-C9 side chain alkyl ester of benzenepropanoic acid, 2,4 -Dimethyl-6- (1-methylpentadecyl) phenol, diethyl [[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] phosphonate, 3,3 ′, 3 ″, 5 5 ', 5 "-hexane-tert-butyl-4-a, a', a"-(mesitylene-2,4,6-tolyl) tri-p-cresol, calcium M-diethylbis [[[3,5-bis- (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] phosphonate], 4,6-bis (octylthiomethyl) -o-cresol, ethylenebis (oxyethylene) Bis [3- (5-tert-butyl-4-hydroxy-m-tolyl) propionate], hexamethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,3 , 5-Tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -1,3,5-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) -trione, N-phenylbenzeneamine The reaction product of 2,4,4-trimethylpentene with 2,6-di-tert-butyl-4- (4,6-bis (octylthio) -1,3,5 Triazin-2-ylamino) phenol and the like, but not limited thereto. The antioxidants may be used alone or in combination of two or more.

前記紫外線吸収剤は、硬化性組成物の光劣化を防止して、耐候性を改善するために使用されるものであり、例えば、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ベンゾフェノン系、ベンゾエート系等の紫外線吸収剤等が挙げられる。紫外線吸収剤としては、例えば、2,4−ジ−tert−ブチル−6−(5−クロロベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ジ−tert−ペンチルフェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール、メチル3−(3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート/ポリエチレングリコール300の反応生成物、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール等のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−[(ヘキシル)オキシ]−フェノール等のトリアジン系紫外線吸収剤、オクタベンゾン等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤、2,4−ジ−tert−ブチルフェニル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート等のベンゾエート系紫外線吸収剤などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。前記紫外線吸収剤は単独で使用してもよく、又は、2種類以上を併用しても良い。   The ultraviolet absorber is used for preventing the photo-deterioration of the curable composition and improving the weather resistance. For example, benzotriazole-based, triazine-based, benzophenone-based, and benzoate-based ultraviolet absorbers Agents and the like. Examples of the ultraviolet absorber include 2,4-di-tert-butyl-6- (5-chlorobenzotriazol-2-yl) phenol and 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4,6- Di-tert-pentylphenol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol, methyl 3- (3- (2H-benzotriazole-2) -Yl) -5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate / polyethylene glycol 300 reaction product, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6- (linear and branched dodecyl) -4 A benzotriazole-based ultraviolet absorber such as -methylphenol, 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5-[(f Triazine-based ultraviolet absorbers such as (sil) oxy] -phenol, benzophenone-based ultraviolet absorbers such as octabenzone, and 2,4-di-tert-butylphenyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoate; Examples include, but are not limited to, benzoate UV absorbers. The ultraviolet absorbers may be used alone or in combination of two or more.

老化防止剤は、硬化性組成物の熱劣化を防止して、耐熱性を改善するために使用されるものであり、例えば、アミン−ケトン系等の老化防止剤、芳香族第二級アミン系老化防止剤、ベンズイミダゾール系老化防止剤、チオウレア系老化防止剤、亜リン酸系老化防止剤等が挙げられる。   Anti-aging agents are used to prevent heat deterioration of the curable composition and improve heat resistance. For example, anti-aging agents such as amine-ketones, aromatic secondary amines Antioxidants, benzimidazole antioxidants, thiourea antioxidants, phosphorous acid antioxidants, and the like.

前記アミン−ケトン系等の老化防止剤としては、例えば、2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン重合体、6−エトキシ−1,2−ジヒドロ−2,2,4−トリメチルキノリン、ジフェニルアミンとアセトンの反応物等のアミン−ケトン系などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the amine-ketone type anti-aging agents include, for example, 2,2,4-trimethyl-1,2-dihydroquinoline polymer, 6-ethoxy-1,2-dihydro-2,2,4-trimethylquinoline And amine-ketones such as a reaction product of diphenylamine and acetone, but are not limited thereto.

前記芳香族第二級アミン系老化防止剤としては、例えば、N−フェニル−1−ナフチルアミン、アルキル化ジフェニルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、4,4’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)ジフェニルアミン、p−(p−トルエンスルホニルアミド)ジフェニルアミン、N,N’−ジ−2−ナフチル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N’−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N’−(1,3−ジメチルブチル)−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N’−(3−メタクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピル)−p−フェニレンジアミン等の芳香族第二級アミン系などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the aromatic secondary amine antioxidant include N-phenyl-1-naphthylamine, alkylated diphenylamine, octylated diphenylamine, 4,4′-bis (α, α-dimethylbenzyl) diphenylamine, p- (P-toluenesulfonylamide) diphenylamine, N, N'-di-2-naphthyl-p-phenylenediamine, N, N'-diphenyl-p-phenylenediamine, N-phenyl-N'-isopropyl-p-phenylenediamine , N-phenyl-N '-(1,3-dimethylbutyl) -p-phenylenediamine, N-phenyl-N'-(3-methacryloyloxy-2-hydroxypropyl) -p-phenylenediamine Examples include, but are not limited to, secondary amines.

前記ベンズイミダゾール系老化防止剤としては、例えば、2−メルカプトベンズイミダゾール、2−メルカプトメチルベンズイミダゾール、2−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩等のベンズイミダゾール系などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the benzimidazole antioxidants include, for example, benzimidazoles such as 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptomethylbenzimidazole, and zinc salts of 2-mercaptobenzimidazole, but are not limited thereto. is not.

前記チオウレア系老化防止剤としては、例えば、1,3−ビス(ジメチルアミノプロピル)−2−チオ尿素、トリブチルチオ尿素等のチオウレア系などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the thiourea-based antioxidant include, but are not limited to, thiourea-based agents such as 1,3-bis (dimethylaminopropyl) -2-thiourea and tributylthiourea.

前記亜リン酸系老化防止剤としては、例えば、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト等の亜リン酸系などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the phosphorous acid antioxidant include, but are not limited to, phosphorous acid such as tris (nonylphenyl) phosphite.

老化防止剤の使用量は特に制限はないが、前記(A)有機重合体100質量部に対して老化防止剤を好ましくは0.1〜20質量部、より好ましくは0.2〜10質量部、さらに好ましくは0.2〜5質量部の範囲で使用するのが好適である。   The amount of the antioxidant used is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 20 parts by mass, more preferably 0.2 to 10 parts by mass, based on 100 parts by mass of the organic polymer (A). More preferably, it is used in the range of 0.2 to 5 parts by mass.

前記導電性フィラーとしては、炭素粒子、または銀、銅、ニッケル、金、スズ、亜鉛、白金、パラジウム、鉄、タングステン、モルブデン、はんだなどの金属粒子、またはこれらの粒子表面を金属などの導電性コーティングで覆って調製した粒子のような導電性粒子であってもよい。同様に、金属等の導電性コーティングで表面を被覆した、例えば、ポリエチレン、ポリスチレン、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂またはベンゾグアナミン樹脂のようなポリマー粒子の、またはガラスビーズ、シリカ、黒鉛、若しくはセラミックの、非導電性粒子を使用することも可能である。   As the conductive filler, carbon particles, or metal particles such as silver, copper, nickel, gold, tin, zinc, platinum, palladium, iron, tungsten, morphene, solder, or the like, or a conductive material such as metal It may be a conductive particle such as a particle prepared by covering with a coating. Similarly, polymer particles such as polyethylene, polystyrene, phenolic resins, epoxy resins, acrylic resins or benzoguanamine resins, or glass beads, silica, graphite, or ceramic, coated on the surface with a conductive coating such as a metal. It is also possible to use non-conductive particles.

前記導電性フィラーには、種々の形状(球形状、楕円、円筒形、フレーク、針状、樹脂状、ウィスカー、平板、粒塊、結晶、アシキュラー状) がある。この粒子は、やや粗いか、またはぎざぎざの表面を有していてもよい。電気導電性粒子の形状は特に制限されない。粒子形状、大きさおよび硬度を組み合わせて本発明の組成物で使用されてもよい。前記導電性フィラーとしては、本発明の光硬化性組成物が導電性フィラーを含有している場合、光の透過性の点から、球形状や、樹枝状、針状のものを好適に用いることができる。   The conductive filler has various shapes (spherical shape, elliptical shape, cylindrical shape, flake, needle shape, resin shape, whisker, flat plate, granular mass, crystal, and acicular shape). The particles may have a slightly rough or jagged surface. The shape of the electrically conductive particles is not particularly limited. Combinations of particle shape, size and hardness may be used in the compositions of the present invention. As the conductive filler, in the case where the photocurable composition of the present invention contains a conductive filler, from the viewpoint of light transmission, a spherical shape, a dendritic shape, and a needle shape are preferably used. Can be.

本発明の光硬化性組成物を製造する方法は特に制限はなく、例えば、前記成分(A)、(B)、並びに(C)を所定量配合し、また必要に応じて他の配合物質を配合し、脱気攪拌することにより製造することができる。各成分及び他の配合物質の配合順は特に制限はなく、適宜決定すればよい。   The method for producing the photocurable composition of the present invention is not particularly limited. For example, the components (A), (B), and (C) are blended in predetermined amounts, and if necessary, other compounding substances are blended. It can be manufactured by mixing and degassing and stirring. The order of blending each component and other blending substances is not particularly limited, and may be determined as appropriate.

本発明の光硬化性組成物は、必要に応じて1液型とすることもできるし、2液型とすることもできるが、特に1液型として好適に用いることができる。本発明の光硬化性組成物は光照射により硬化する光硬化性組成物であって、常温(例えば、23℃)で硬化することが可能であり、常温光硬化型硬化性組成物として好適に用いられるが、必要に応じて、適宜、加熱により硬化を促進させてもよい。   The photocurable composition of the present invention can be of a one-pack type or a two-pack type, if necessary, but can be suitably used particularly as a one-pack type. The photocurable composition of the present invention is a photocurable composition that is cured by irradiation with light, and can be cured at room temperature (for example, 23 ° C.), and is suitable as a room temperature photocurable curable composition. Although used, curing may be promoted by heating as appropriate.

本発明の硬化物の製造方法は、本発明の光硬化性組成物に対し、光を照射することにより硬化物を形成することを特徴とする。本発明の硬化物は、該方法により形成されてなる硬化物である。
また、本発明の製品の製造方法は、本発明の光硬化性組成物を用いて製造することを特徴とする。本発明の製品は、該方法を用いて製造されてなる製品であり、電子回路、電子部品、建材、自動車等に好適に利用可能である。
The method for producing a cured product of the present invention is characterized by forming a cured product by irradiating the photocurable composition of the present invention with light. The cured product of the present invention is a cured product formed by the method.
Further, a method for producing a product of the present invention is characterized in that the product is produced using the photocurable composition of the present invention. The product of the present invention is a product manufactured by using the method, and can be suitably used for electronic circuits, electronic components, building materials, automobiles, and the like.

本発明の光硬化性組成物に対し、光を照射する条件としては特に制限はないが、硬化時に活性エネルギー線を照射する場合、活性エネルギー線としては、紫外線、可視光線、赤外線等の光線、X線、γ線等の電磁波の他、電子線、プロトン線、中性子線等が利用できるが、硬化速度、照射装置の入手のしやすさ及び価格、太陽光や一般照明下での取扱の容易性等から紫外線または電子線照射による硬化が好ましく、紫外線照射による硬化がより好ましい。なお、紫外線には、g線(波長436nm)、h線(波長405nm)、i線(波長365nm)等も含まれるものである。活性エネルギー線源としては、特に限定されないが、使用する光塩基発生剤の性質に応じて、例えば、高圧水銀灯、低圧水銀灯、電子線照射装置、ハロゲンランプ、発光ダイオード、半導体レーザー、メタルハライド等があげられる。   The conditions for irradiating the photocurable composition of the present invention with light are not particularly limited, but when irradiating active energy rays during curing, the active energy rays include ultraviolet rays, visible rays, rays such as infrared rays, Electron beams, proton beams, neutron beams, etc. can be used in addition to electromagnetic waves such as X-rays and γ-rays. Curing speed, availability and price of irradiation equipment, easy handling under sunlight or general lighting Curing by irradiation of ultraviolet rays or electron beams is preferable from the viewpoint of properties and the like, and curing by irradiation of ultraviolet rays is more preferable. The ultraviolet rays include g-rays (wavelength 436 nm), h-rays (wavelength 405 nm), i-rays (wavelength 365 nm), and the like. The active energy ray source is not particularly limited, but includes, for example, a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, an electron beam irradiation device, a halogen lamp, a light-emitting diode, a semiconductor laser, a metal halide, and the like, depending on the properties of the photobase generator used. Can be

照射エネルギーとしては例えば紫外線の場合、10〜20,000mJ/cmが好ましく、50〜10,000mJ/cmがより好ましい。10mJ/cm未満では硬化性が不十分となる場合があり、20,000mJ/cmより大きいと、必要以上に光を当てても時間とコストの無駄となるばかりか、基材を傷めてしまう場合がある。 For The irradiation energy such as ultraviolet, preferably 10~20,000mJ / cm 2, 50~10,000mJ / cm 2 is more preferable. If it is less than 10 mJ / cm 2 , the curability may be insufficient, and if it is more than 20,000 mJ / cm 2 , not only is it necessary to waste time and cost even if the light is applied unnecessarily, but the substrate may be damaged. In some cases.

本発明の光硬化性組成物の被着体への塗布方法は特に制限はないが、スクリーン印刷、ステンシル印刷、ロール印刷、スピンコート、ディスペンサーによる塗布等の塗布方法が好適に用いられる。   The method of applying the photocurable composition of the present invention to an adherend is not particularly limited, but an application method such as screen printing, stencil printing, roll printing, spin coating, or application using a dispenser is preferably used.

また、本発明において、光硬化性組成物の被着体への塗布及び光照射の時期に制限はなく、光硬化性組成物に光を照射させた後、被着体と接合し、製品を製造してもよく、また光硬化性組成物を被着体に塗布し、光を照射することにより組成物を硬化させ、製品を製造してもよい。   Further, in the present invention, there is no limitation on the timing of application of the photocurable composition to the adherend and light irradiation, and after irradiating the photocurable composition with light, the photocurable composition is bonded to the adherend, and the product is bonded. It may be manufactured, or a photocurable composition may be applied to an adherend, and the composition may be cured by irradiating light to manufacture a product.

本発明の光硬化性組成物は、作業性に優れた速硬化型の光硬化性組成物であり、特に、粘・接着性組成物として有用であり、接着剤、シーリング材、コーティング材、ポッティング材、塗料、パテ材及びプライマー等として好適に用いることができる。本発明の光硬化性組成物は、例えば、実装回路基板等の防湿や絶縁を目的とするコーティング、ソーラー発電のパネルやパネルの外周部分のコーティング等に用いられるコーティング剤;複層ガラス用シーリング剤、車両用シーリング剤等、建築用および工業用のシーリング剤;太陽電池裏面封止剤などの電気・電子部品材料;電線・ケーブル用絶縁被覆材などの電気絶縁材料;光造形法による立体造形物形成用の材料;接着剤;弾性接着剤;コンタクト接着剤などの用途に好適に利用可能である。   The photo-curable composition of the present invention is a fast-curing type photo-curable composition having excellent workability, and is particularly useful as a viscous / adhesive composition, and includes an adhesive, a sealing material, a coating material, and potting. It can be suitably used as a material, a paint, a putty material, a primer and the like. The photocurable composition of the present invention is, for example, a coating agent used for coating a circuit board or the like for the purpose of moisture proofing or insulation, a solar power generation panel or a coating for an outer peripheral portion of the panel; , Sealing agents for vehicles, architectural and industrial sealants; electric and electronic parts materials such as sealants for backsides of solar cells; electric insulating materials such as insulating coatings for electric wires and cables; three-dimensional objects by stereolithography It can be suitably used for applications such as a material for forming; an adhesive; an elastic adhesive; and a contact adhesive.

以下に実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明するが、これらの実施例は例示的に示されるもので限定的に解釈されるべきでないことはいうまでもない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. However, it is needless to say that these Examples are illustrative and should not be construed as limiting.

1)数平均分子量の測定
数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により下記条件で測定した。本発明において、該測定条件でGPCにより測定し、標準ポリエチレングリコールで換算した最大頻度の分子量を数平均分子量と称する。
・分析装置:Alliance(Waters社製)、2410型示差屈折検出器(Waters社製)、996型多波長検出器(Waters社製)、Milleniamデータ処理装置(Waters社製)
・カラム:Plgel GUARD+5μmMixed−C×3本(50×7.5mm,300×7.5mm:PolymerLab社製)
・流速:1mL/分
・換算したポリマー:ポリエチレングリコール
・測定温度:40℃
・GPC測定時の溶媒:THF
1) Measurement of number average molecular weight The number average molecular weight was measured by gel permeation chromatography (GPC) under the following conditions. In the present invention, the molecular weight of the highest frequency measured by GPC under the above measurement conditions and converted with standard polyethylene glycol is referred to as a number average molecular weight.
-Analyzer: Alliance (manufactured by Waters), 2410 type differential refraction detector (manufactured by Waters), 996 type multi-wavelength detector (manufactured by Waters), Millennium data processor (manufactured by Waters)
・ Column: Plgel GUARD + 5 μm Mixed-C × 3 (50 × 7.5 mm, 300 × 7.5 mm: manufactured by PolymerLab)
-Flow rate: 1 mL / min-Converted polymer: polyethylene glycol-Measurement temperature: 40 ° C
-Solvent for GPC measurement: THF

2)NMR及びIRの測定
NMR及びIRの測定は、下記測定装置を用いて行った。
FT−NMR測定装置:日本電子(株)製JNM−ECA500(500MHz)
FT−IR測定装置:日本分光(株)製FT−IR460Plus
2) Measurement of NMR and IR The measurement of NMR and IR was performed using the following measuring apparatus.
FT-NMR measurement device: JNM-ECA500 (500 MHz) manufactured by JEOL Ltd.
FT-IR measuring device: FT-IR460Plus manufactured by JASCO Corporation

(合成例1)末端にトリメトキシシリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体Aの合成
攪拌装置、窒素ガス導入管、温度計および環流冷却器を備えたフラスコに、エチレングリコールを開始剤とし、亜鉛ヘキサシアノコバルテート−グライム錯体触媒の存在下、プロピレンオキシドを反応させ、ポリオキシプロピレントリオールを得た。得られたポリオキシプロピレントリオールにナトリウムメトキシドのメタノール溶液を添加し、加熱減圧下メタノールを留去してポリオキシプロピレントリオールの末端水酸基をナトリウムアルコキシドに変換し、ポリオキシアルキレン系重合体M1を得た。
(Synthesis Example 1) Synthesis of polyoxyalkylene-based polymer A having a trimethoxysilyl group at a terminal In a flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a thermometer and a reflux condenser, ethylene glycol was used as an initiator, and zinc was added. Propylene oxide was reacted in the presence of a hexacyanocobaltate-glyme complex catalyst to obtain polyoxypropylene triol. A methanol solution of sodium methoxide was added to the obtained polyoxypropylene triol, and methanol was distilled off under reduced pressure under heating to convert the terminal hydroxyl group of polyoxypropylene triol into sodium alkoxide, thereby obtaining a polyoxyalkylene polymer M1. Was.

次に、ポリオキシアルキレン系重合体M1に塩化アリルを反応させて、未反応の塩化アリルを除去し、精製して、末端にアリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体を得た。この末端にアリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体に対し、水素化珪素化合物であるトリメトキシシランを白金含量3wt%の白金ビニルシロキサン錯体イソプロパノール溶液150ppmを添加して反応させ、末端にトリメトキシシリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体A1を得た。   Next, the polyoxyalkylene polymer M1 was reacted with allyl chloride to remove unreacted allyl chloride and purified to obtain a polyoxyalkylene polymer having an allyl group at the terminal. The polyoxyalkylene polymer having an allyl group at the terminal is reacted with trimethoxysilane, a silicon hydride compound, by adding 150 ppm of a platinum vinyl siloxane complex isopropanol solution containing 3 wt% of platinum, and reacting with trimethoxysilyl at the terminal. A polyoxyalkylene polymer A1 having a group was obtained.

得られた末端にトリメトキシシリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体A1の分子量をGPCにより測定した結果、ピークトップ分子量は12000、分子量分布1.3であった。H−NMR測定により末端のトリメトキシシリル基は1分子あたり1.7個であった。 As a result of measuring the molecular weight of the obtained polyoxyalkylene polymer A1 having a trimethoxysilyl group at the terminal by GPC, the peak top molecular weight was 12,000 and the molecular weight distribution was 1.3. According to H 1 -NMR measurement, the number of terminal trimethoxysilyl groups was 1.7 per molecule.

(合成例2)フルオロシリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体C(フッ素化ポリマーC)の合成
攪拌装置、窒素ガス導入管、温度計および環流冷却器を備えた新しいフラスコに、分子量約2,000のポリオキシプロピレンジオールを開始剤とし、亜鉛ヘキサシアノコバルテート−グライム錯体触媒の存在下、プロピレンオキシドを反応させて得られた水酸基価換算分子量14500、かつ分子量分布1.3のポリオキシプロピレンジオールを得た。得られたポリオキシプロピレンジオールにナトリウムメトキシドのメタノール溶液を添加し、加熱減圧下メタノールを留去してポリオキシプロピレンジオールの末端水酸基をナトリウムアルコキシドに変換し、ポリオキシアルキレン系重合体M2を得た。
(Synthesis Example 2) Synthesis of polyoxyalkylene polymer C having a fluorosilyl group (fluorinated polymer C) In a new flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a thermometer and a reflux condenser, a molecular weight of about 2, 000 polyoxypropylene diol as an initiator and a polyoxypropylene diol having a hydroxyl value-converted molecular weight of 14500 and a molecular weight distribution of 1.3 obtained by reacting propylene oxide in the presence of a zinc hexacyanocobaltate-glyme complex catalyst. Obtained. A methanol solution of sodium methoxide was added to the obtained polyoxypropylene diol, and methanol was distilled off under heating and reduced pressure to convert the terminal hydroxyl group of polyoxypropylene diol to sodium alkoxide, thereby obtaining a polyoxyalkylene polymer M2. Was.

次に、ポリオキシアルキレン系重合体M2に塩化アリルを反応させて、未反応の塩化アリルを除去し、精製して、末端にアリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体を得た。この末端にアリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体に対し、水素化ケイ素化合物であるメチルジメトキシシランと白金含量3wt%の白金ビニルシロキサン錯体イソプロパノール溶液150ppmを添加して反応させ、末端にメチルジメトキシシリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体A2を得た。
得られた末端にメチルジメトキシシリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体A2の分子量をGPCにより測定した結果、ピークトップ分子量は15000、分子量分布1.3であった。H1−NMR測定により末端のメチルジメトキシシリル基は1分子あたり1.7個であった。
Next, the polyoxyalkylene polymer M2 was reacted with allyl chloride to remove unreacted allyl chloride and purified to obtain a polyoxyalkylene polymer having an allyl group at the terminal. The polyoxyalkylene polymer having an allyl group at the terminal is reacted with methyldimethoxysilane, which is a silicon hydride compound, and 150 ppm of a platinum vinylsiloxane complex isopropanol solution having a platinum content of 3 wt%, and reacted with methyldimethoxysilyl at the terminal. A polyoxyalkylene polymer A2 having a group was obtained.
As a result of measuring the molecular weight of the obtained polyoxyalkylene polymer A2 having a methyldimethoxysilyl group at the terminal by GPC, the peak top molecular weight was 15,000 and the molecular weight distribution was 1.3. As a result of H1-NMR measurement, the number of terminal methyldimethoxysilyl groups was 1.7 per molecule.

攪拌装置、窒素ガス導入管、温度計および環流冷却器を備えたフラスコに、減圧脱気後、窒素ガス置換して、窒素気流下にてBFジエチルエーテル錯体2.4g入れ、50℃に加温した。続いて脱水メタノール1.6gの混合物をゆっくりと滴下し混合させた。撹拌装置、窒素ガス導入管、温度計および還流冷却管を備えた新たなフラスコに、前記得られた重合体A2を100g、トルエン5g入れた。23℃にて30分間撹拌後、110℃に加温し減圧撹拌を2時間行い、トルエンを除去した。この容器に先ほど得られた混合物を窒素気流下にて4.0gゆっくりと滴下し、滴下終了後、反応温度を120℃に昇温し、30分間反応させた。反応終了後、減圧脱気を行い未反応物の除去を行った。末端にフルオロシリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体C(以下、フッ素化ポリマーCと称する)を得た。得られたフッ素化ポリマーCの1HNMRスペクトル(Shimazu社製のNMR400を用いて、CDCl3溶媒中で測定)を測定したところ、原料である重合体A2のシリルメチレン(−CH2−Si)に対応するピーク(m,0.63ppm)が消失し、低磁場側(0.7ppm〜)にブロードピークが現れた。 A flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a thermometer and a reflux condenser was degassed under reduced pressure, replaced with nitrogen gas, and charged with 2.4 g of a BF 3 diethyl ether complex under a nitrogen gas stream. Warmed. Subsequently, a mixture of 1.6 g of dehydrated methanol was slowly dropped and mixed. In a new flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a thermometer and a reflux condenser, 100 g of the obtained polymer A2 and 5 g of toluene were placed. After stirring at 23 ° C for 30 minutes, the mixture was heated to 110 ° C and stirred under reduced pressure for 2 hours to remove toluene. 4.0 g of the mixture obtained above was slowly added dropwise to the container under a nitrogen stream, and after the completion of the addition, the reaction temperature was raised to 120 ° C., and the mixture was reacted for 30 minutes. After completion of the reaction, degassing was performed under reduced pressure to remove unreacted substances. A polyoxyalkylene polymer C having a fluorosilyl group at a terminal (hereinafter, referred to as a fluorinated polymer C) was obtained. When the 1H NMR spectrum of the obtained fluorinated polymer C (measured in a CDCl3 solvent using NMR400 manufactured by Shimazu) was measured, a peak corresponding to silylmethylene (—CH2-Si) of the polymer A2 as a raw material was obtained. (M, 0.63 ppm) disappeared, and a broad peak appeared on the low magnetic field side (from 0.7 ppm).

(実施例1〜6、比較例1〜5)
表1に示す配合割合にて、攪拌機、温度計、窒素導入口、モノマー装入管および水冷コンデンサーを装着した300mLのフラスコに、合成例1で得たポリオキシアルキレン系重合体Aを添加し、加熱(100℃)、脱気、撹拌を2時間することによって脱水をした。冷却後、合成例2で得たフッ素化ポリマーC、光塩基発生剤、活性エネルギー線開裂型ラジカル発生剤、強塩基触媒をそれぞれ添加し、混合撹拌することにより光硬化性組成物、及び硬化性組成物を調製した。
(Examples 1 to 6, Comparative Examples 1 to 5)
At a mixing ratio shown in Table 1, a polyoxyalkylene polymer A obtained in Synthesis Example 1 was added to a 300 mL flask equipped with a stirrer, a thermometer, a nitrogen inlet, a monomer charging tube, and a water-cooled condenser, Dehydration was performed by heating (100 ° C.), degassing, and stirring for 2 hours. After cooling, each of the fluorinated polymer C obtained in Synthesis Example 2, a photobase generator, an active energy ray-cleavable radical generator, and a strong base catalyst is added, and the mixture is stirred and mixed to form a photocurable composition and a curable composition. A composition was prepared.

表1において、各配合物質の配合量は質量部で示され、ポリオキシアルキレン系重合体Aは合成例1で得たポリオキシアルキレン系重合体Aであり、フッ素化ポリマーCは合成例2で得たフッ素化ポリマーCであり、他の配合物質の詳細は下記の通りである。
※1 PBG−SA2(サンアプロ(株)製、活性エネルギー線の照射で1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7が発生する光塩基発生剤、プロピレンカーボネート溶液で20質量%に希釈して使用。表1では、固形分の質量部を記載している。)
※2 Irgacure(登録商標)379EG(BASF社製、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン)、プロピレンカーボネート溶液で50質量%に希釈して使用。表1では、固形分の質量部を記載している。)
※3 Irgacure(登録商標)907(BASF社製、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン)、プロピレンカーボネート溶液で50質量%に希釈して使用。表1では、固形分の質量部を記載している。)
※4 NBC−101(みどり化学(株)製、N−(2−メチル−2−フェニルプロピオニルオキシ)−N−シクロ
ヘキシルアミン、プロピレンカーボネート溶液で50質量%に希釈して使用。表1では、固形分の質量部を記載している。)
※5 Irgacure(登録商標)1173(BASF社製、活性エネルギー線開裂型ラジカル発生剤、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン。
※6 DBU(1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7)。
In Table 1, the amount of each compounding substance is shown in parts by mass, the polyoxyalkylene-based polymer A is the polyoxyalkylene-based polymer A obtained in Synthesis Example 1, and the fluorinated polymer C is in Synthesis Example 2. The obtained fluorinated polymer C, and details of other compounding substances are as follows.
* 1 PBG-SA2 (manufactured by San Apro Co., Ltd., a photobase generator that generates 1,8-diazabicyclo (5.4.0) undecene-7 upon irradiation with active energy rays, diluted to 20% by mass with a propylene carbonate solution (In Table 1, parts by mass of the solid content are shown.)
* 2 Irgacure (registered trademark) 379EG (manufactured by BASF, 2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone), Used diluted to 50% by mass with a propylene carbonate solution. In Table 1, parts by mass of the solid content are described. )
* 3 Irgacure (registered trademark) 907 (manufactured by BASF, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one), diluted to 50% by mass with a propylene carbonate solution. In Table 1, parts by mass of the solid content are described. )
* 4 NBC-101 (manufactured by Midori Kagaku Co., Ltd., N- (2-methyl-2-phenylpropionyloxy) -N-cyclohexylamine, diluted with propylene carbonate solution to 50% by mass. Used in Table 1. Parts by mass are shown.)
* 5 Irgacure (registered trademark) 1173 (manufactured by BASF, active energy ray-cleavable radical generator, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one.
* 6 DBU (1,8-diazabicyclo (5.4.0) undecene-7).

得られた光硬化性組成物及び硬化性組成物に対して下記方法により試験を行った。その結果を表1に示した。   The obtained photocurable composition and curable composition were tested by the following method. The results are shown in Table 1.

UV未照射時の作業性試験
500nm以下の波長をカットするフィルムを張り付けた蛍光灯下で、23℃50%RHの環境下でスクリーン印刷機を用いて実施例1〜6、比較例1〜3で調製した組成物のUV未照射時の作業性試験を行った。
スクリーン速度50mm/secでPETフィルムへの連続塗布を行い、指触にて液状の場合を作業可能、硬化している場合を作業不可とし、スクリーン印刷作業が可能な時間を測定する。
8時間以上作業可能な場合を◎、4時間以上8時間未満作業可能な場合を○、4時間未満で作業不可となった場合を×とした。
Workability test without UV irradiation Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 using a screen printer under an environment of 23 ° C. and 50% RH under a fluorescent lamp to which a film for cutting a wavelength of 500 nm or less is attached. A workability test was carried out for the composition prepared in the above, without UV irradiation.
Continuous application to a PET film is performed at a screen speed of 50 mm / sec, and the liquid can be worked by touch with the finger, and the hardened case is disabled, and the time during which screen printing is possible is measured.
A case where work was possible for 8 hours or more was rated as ◎, a case where work was possible for 4 hours to less than 8 hours was rated as ○, and a case where work was disabled for less than 4 hours was rated as ×.

UV照射後の状態
アクリル板(25mm×75mm×3mm)上に実施例1〜6、比較例1〜3の光硬化性組成物を約100μm厚に塗布し、UV照射後[照射条件:メタルハライドランプ、照度330mW/cm、積算光量:3000mJ/cm]、23℃50%RHの環境下において、光硬化性組成物表面を指触にて硬化具合を確認する。液状の場合を○、ゲル化(液状と固体の中間)している場合を△、硬化している場合を×とした。
State after UV irradiation The photocurable compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 are applied to an acrylic plate (25 mm x 75 mm x 3 mm) to a thickness of about 100 m, and after UV irradiation [irradiation conditions: metal halide lamp illuminance 330mW / cm 2, integrated light quantity: 3000mJ / cm 2], in an environment of 23 ° C. 50% RH, to confirm the cure degree of the photocurable composition surface by finger touch. The case of a liquid state was evaluated as ○, the case of gelation (between liquid and solid) was evaluated as Δ, and the case of hardening was evaluated as ×.

UV照射後の貼り合わせ試験
アクリル板(25mm×75mm×3mm)上に実施例1〜6、比較例1〜3の光硬化性組成物を25mm×25mmの面積に約100μm厚に塗布し、UV照射[照射条件:メタルハライドランプ、照度:330mW/cm、積算光量:3000mJ/cm]する。
UV照射後23℃50%RHの環境下において、同じ大きさのアクリル板を貼り合わせて目玉クリップ小により圧締し、貼り合わせ試験を行う。UV照射30秒以上経過後であっても目視で気泡がなく貼り合わせが可能だった場合を○、30秒未満で貼り合わせが不可能だった場合、または気泡が発生している場合を×とした。
Bonding test after UV irradiation The photocurable compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 were applied on an acrylic plate (25 mm x 75 mm x 3 mm) in an area of 25 mm x 25 mm to a thickness of about 100 m, and UV was applied. Irradiation [irradiation conditions: metal halide lamp, illuminance: 330 mW / cm 2 , integrated light amount: 3000 mJ / cm 2 ].
After UV irradiation, in an environment of 23 ° C. and 50% RH, an acrylic plate of the same size is bonded and pressed with a small eye clip to perform a bonding test. The case where bonding was possible without any bubbles was visually observed even after 30 seconds or more of UV irradiation, and the case where bonding was impossible in less than 30 seconds, or the case where bubbles were generated were rated as x. did.

硬化性試験
UV照射が必要な光硬化性組成物(実施例1〜6、比較例1〜3)は、直径20mm、高さ7mmの円筒形容器に厚みが7mmになるように光硬化性組成物を注ぎ、UV照射[照射条件:メタルハライドランプ、照度:330mW/cm、積算光量:3000mJ/cm]後直ちに、暗室下23℃50%RHの環境下において、30秒ごとに指触にて表面がべたつかなくなり、硬化するまでの時間を測定した。
UV照射が不要な硬化性組成物(比較例4〜5)は、直径20mm、高さ7mmの円筒形容器に厚みが7mmになるように硬化性組成物を注ぎ、23℃50%RHの環境下において、30秒ごとに指触にて表面がべたつかなくなり、硬化するまでの時間を測定した。
Curability test The photocurable compositions that require UV irradiation (Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3) have a thickness of 7 mm in a cylindrical container having a diameter of 20 mm and a height of 7 mm. Immediately after pouring the object and UV irradiation [irradiation condition: metal halide lamp, illuminance: 330 mW / cm 2 , integrated light amount: 3000 mJ / cm 2 ], touch with a finger every 30 seconds in an environment of 23 ° C and 50% RH in a dark room. The time until the surface became non-sticky and hardened was measured.
For the curable composition that does not require UV irradiation (Comparative Examples 4 and 5), the curable composition is poured into a cylindrical container having a diameter of 20 mm and a height of 7 mm so that the thickness becomes 7 mm. Below, the time until the surface became non-sticky by finger touch and hardened every 30 seconds was measured.

厚み硬化性
UV照射が必要な光硬化性組成物(実施例1〜6、比較例1〜3)は、直径20mm、高さ7mmの円筒形容器(ポリプロピレン)に厚みが7mmになるように光硬化性組成物を注ぎ、UV照射[照射条件:メタルハライドランプ、照度:330mW/cm、積算光量:3000mJ/cm]後、暗室下23℃50%RHの環境下において、24時間養生の後、硬化物を取り出し、硬化物の硬化厚みを測定した。
UV照射が不要な硬化性組成物(比較例4〜5)は、直径20mm、高さ7mmの円筒形容器(ポリプロピレン)に厚みが7mmになるように硬化性組成物を注ぎ、23℃50%RHの環境下において、24時間養生の後、硬化物を取り出し、硬化物の硬化厚みを測定した。
Thickness curability The photocurable compositions requiring UV irradiation (Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3) are illuminated in a cylindrical container (polypropylene) having a diameter of 20 mm and a height of 7 mm so that the thickness becomes 7 mm. After the curable composition is poured, after UV irradiation [irradiation conditions: metal halide lamp, illuminance: 330 mW / cm 2 , accumulated light amount: 3000 mJ / cm 2 ], after curing in a dark room at 23 ° C. and 50% RH for 24 hours, The cured product was taken out, and the cured thickness of the cured product was measured.
The curable composition that does not require UV irradiation (Comparative Examples 4 and 5) is poured into a cylindrical container (polypropylene) having a diameter of 20 mm and a height of 7 mm so that the thickness becomes 7 mm, and the composition is heated at 23 ° C. 50% After curing for 24 hours in an environment of RH, the cured product was taken out, and the cured thickness of the cured product was measured.

表1に示した如く、本発明の光硬化性組成物は、活性エネルギー線未照射時は硬化せず、活性エネルギー線照射により硬化する光硬化性組成物であって活性エネルギー線照射直後は液状であり、適当な貼り合わせ可能時間を確保したまま、優れた厚み硬化性及び速硬化性を有している。   As shown in Table 1, the photocurable composition of the present invention is a photocurable composition that is not cured when active energy rays are not irradiated, but is cured by active energy rays irradiation, and is liquid immediately after active energy rays irradiation. It has excellent thickness curability and rapid curability while securing an appropriate bonding time.

Claims (7)

(A)架橋性珪素基含有有機重合体と、
(B)光塩基発生剤と、
(C)Si−F結合を有するケイ素化合物と、
(D)活性エネルギー線開裂型ラジカル発生剤と
を含有することを特徴とする光硬化性接着剤。
(A) a crosslinkable silicon group-containing organic polymer,
(B) a photobase generator;
(C) a silicon compound having a Si-F bond,
(D) A photocurable adhesive, comprising: an active energy ray-cleavable radical generator .
前記(B)光塩基発生剤が、光潜在性第3級アミンであることを特徴とする請求項1記載の光硬化性接着剤。 The photocurable adhesive according to claim 1 , wherein the photobase generator (B) is a photolatent tertiary amine . 前記(A)架橋性珪素基含有有機重合体が、1分子中に平均して0.8個以上の架橋性珪素基を含有するポリオキシアルキレン系重合体、1分子中に平均して0.8個以上の架橋性珪素基を含有する飽和炭化水素系重合体、及び1分子中に平均して0.8個以上の架橋性珪素基を含有する(メタ)アクリル酸エステル系重合体からなる群から選択される1種以上であることを特徴とする請求項1又は2に記載の光硬化性接着剤。 The above (A) the crosslinkable silicon group-containing organic polymer is a polyoxyalkylene polymer containing 0.8 or more crosslinkable silicon groups in one molecule on average, and 0.1% in one molecule. It is composed of a saturated hydrocarbon polymer containing at least 8 crosslinkable silicon groups and a (meth) acrylate polymer containing at least 0.8 crosslinkable silicon groups per molecule on average. the photocurable adhesive according to claim 1 or 2, characterized in that at least one selected from the group. 請求項1〜のいずれか1項記載の光硬化性接着剤に対し、光を照射することにより硬化物を形成することを特徴とする硬化物の製造方法。 The process according to claim 1 for light-curing adhesive according to any one of 3, cured product, and forming a cured product by irradiation with light. 請求項1〜のいずれか1項記載の光硬化性接着剤を用いて製造することを特徴とする製品の製造方法。 A method for producing a product, characterized by producing using the photocurable adhesive according to any one of claims 1 to 3 . (A)架橋性珪素基含有有機重合体と、
(B)光塩基発生剤と、
(C)Si−F結合を有するケイ素化合物と、
(D)活性エネルギー線開裂型ラジカル発生剤と
を含有することを特徴とする光硬化性シーリング材。
(A) a crosslinkable silicon group-containing organic polymer,
(B) a photobase generator;
(C) a silicon compound having a Si-F bond,
(D) A photocurable sealing material comprising: an active energy ray-cleavable radical generator .
(A)架橋性珪素基含有有機重合体と、
(B)光塩基発生剤と、
(C)Si−F結合を有するケイ素化合物と、
(D)活性エネルギー線開裂型ラジカル発生剤と
を含有することを特徴とする光硬化性ポッティング材。
(A) a crosslinkable silicon group-containing organic polymer,
(B) a photobase generator;
(C) a silicon compound having a Si-F bond,
(D) A photocurable potting material comprising: an active energy ray-cleavable radical generator .
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