JP6524669B2 - Photocurable composition - Google Patents
Photocurable composition Download PDFInfo
- Publication number
- JP6524669B2 JP6524669B2 JP2015007295A JP2015007295A JP6524669B2 JP 6524669 B2 JP6524669 B2 JP 6524669B2 JP 2015007295 A JP2015007295 A JP 2015007295A JP 2015007295 A JP2015007295 A JP 2015007295A JP 6524669 B2 JP6524669 B2 JP 6524669B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- polymer
- compound
- photocurable composition
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 88
- -1 fluoro compound Chemical class 0.000 claims description 331
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 117
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 77
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 71
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 70
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 44
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 38
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 37
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 30
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 29
- 239000012025 fluorinating agent Substances 0.000 claims description 28
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 27
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 229910008284 Si—F Inorganic materials 0.000 claims description 23
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 21
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 15
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 13
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 13
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 10
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 claims description 10
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 7
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 143
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 47
- 239000000047 product Substances 0.000 description 34
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 33
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 32
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 31
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 28
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 26
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 25
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 24
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 24
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 23
- 235000019000 fluorine Nutrition 0.000 description 23
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 23
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 21
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 21
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 20
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000002585 base Substances 0.000 description 20
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 20
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 18
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 18
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 18
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 17
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 17
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 17
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 17
- PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilicon Chemical group CO[Si](OC)OC PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 16
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 16
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 16
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 14
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 14
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 13
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 13
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 13
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 12
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 11
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 11
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 11
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 10
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 10
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 10
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 10
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 10
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 9
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000002344 aminooxy group Chemical group [H]N([H])O[*] 0.000 description 8
- 125000006574 non-aromatic ring group Chemical group 0.000 description 8
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 8
- WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 3-(cycloundecen-1-yl)-1,2-diazacycloundec-2-ene Chemical compound C1CCCCCCCCC=C1C1=NNCCCCCCCC1 WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 7
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 7
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 7
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 7
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N benzylamine Chemical class NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 6
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 6
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 6
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 6
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 6
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 6
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 6
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 5
- 230000009471 action Effects 0.000 description 5
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 description 5
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 5
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 5
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 5
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 5
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 5
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 5
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 5
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 5
- QLNOVKKVHFRGMA-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical group [CH2]CC[Si](OC)(OC)OC QLNOVKKVHFRGMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N Guanidine Chemical compound NC(N)=N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 4
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 4
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 4
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 4
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001409 amidines Chemical class 0.000 description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- HYGWNUKOUCZBND-UHFFFAOYSA-N azanide Chemical compound [NH2-] HYGWNUKOUCZBND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003939 benzylamines Chemical class 0.000 description 4
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 4
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 4
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 4
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N succinimide Chemical compound O=C1CCC(=O)N1 KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PMOWTIHVNWZYFI-AATRIKPKSA-N trans-2-coumaric acid Chemical class OC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1O PMOWTIHVNWZYFI-AATRIKPKSA-N 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 4
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 4
- SQZCAOHYQSOZCE-UHFFFAOYSA-N 1-(diaminomethylidene)-2-(2-methylphenyl)guanidine Chemical compound CC1=CC=CC=C1N=C(N)N=C(N)N SQZCAOHYQSOZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCN HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IVLICPVPXWEGCA-UHFFFAOYSA-N 3-quinuclidinol Chemical class C1C[C@@H]2C(O)C[N@]1CC2 IVLICPVPXWEGCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Natural products CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 241000790917 Dioxys <bee> Species 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 3
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 3
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 3
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 3
- 150000004283 biguanides Chemical class 0.000 description 3
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 3
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 3
- JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N dibutyl(oxo)tin Chemical compound CCCC[Sn](=O)CCCC JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- URSLCTBXQMKCFE-UHFFFAOYSA-N dihydrogenborate Chemical compound OB(O)[O-] URSLCTBXQMKCFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WACOZNZTFMHMOG-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trifluoro)silane Chemical compound F[Si](F)(F)C=C WACOZNZTFMHMOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 3
- CTIKAHQFRQTTAY-UHFFFAOYSA-N fluoro(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)F CTIKAHQFRQTTAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000006502 nitrobenzyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 3
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-M octanoate Chemical compound CCCCCCCC([O-])=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 3
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 3
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 3
- 125000006503 p-nitrobenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1[N+]([O-])=O)C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 3
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 3
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052990 silicon hydride Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 3
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- KYVBNYUBXIEUFW-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylguanidine Chemical compound CN(C)C(=N)N(C)C KYVBNYUBXIEUFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OWRCNXZUPFZXOS-UHFFFAOYSA-N 1,3-diphenylguanidine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=N)NC1=CC=CC=C1 OWRCNXZUPFZXOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IHGJZNUBLMAEGL-UHFFFAOYSA-N 1,5-diazabicyclo[4.3.0]nonane Chemical compound N1CCCN2CCCC21 IHGJZNUBLMAEGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OEBXWWBYZJNKRK-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-2,3,4,6,7,8-hexahydropyrimido[1,2-a]pyrimidine Chemical compound C1CCN=C2N(C)CCCN21 OEBXWWBYZJNKRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DCTOHCCUXLBQMS-UHFFFAOYSA-N 1-undecene Chemical compound CCCCCCCCCC=C DCTOHCCUXLBQMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethylpiperidine Chemical compound CC1(C)CCCC(C)(C)N1 RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZPQQHVQDOFHNLD-UHFFFAOYSA-N 2-(1,2,3,4,6,7,8,8a-octahydropyrrolo[1,2-a]pyrimidin-4-yl)-1-phenylethanone Chemical compound C(C(=O)C1=CC=CC=C1)C1N2CCCC2NCC1 ZPQQHVQDOFHNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHKSKVKCKMGRDU-UHFFFAOYSA-N 2-(3-aminopropylamino)ethanol Chemical compound NCCCNCCO GHKSKVKCKMGRDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 2
- YWWZCYDMIREGNH-UHFFFAOYSA-N 2-methyloxirane zinc Chemical compound C1C(C)O1.[Zn] YWWZCYDMIREGNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QRJZGVVKGFIGLI-UHFFFAOYSA-N 2-phenylguanidine Chemical compound NC(=N)NC1=CC=CC=C1 QRJZGVVKGFIGLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AKMBEZPGYVMFFF-UHFFFAOYSA-N 3-(difluoromethylsilyl)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OCCC[SiH2]C(F)F AKMBEZPGYVMFFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MXVZVCCKUVRGQC-UHFFFAOYSA-N 3-hexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCCCC1=CC(=O)NC1=O MXVZVCCKUVRGQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUDQMFUXIHBMFU-UHFFFAOYSA-N 3-trifluorosilylpropane-1-thiol Chemical compound F[Si](F)(F)CCCS ZUDQMFUXIHBMFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXNXURBNOPFVPT-UHFFFAOYSA-N 3-trifluorosilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](F)(F)F TXNXURBNOPFVPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical group CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CFNMUZCFSDMZPQ-GHXNOFRVSA-N 7-[(z)-3-methyl-4-(4-methyl-5-oxo-2h-furan-2-yl)but-2-enoxy]chromen-2-one Chemical group C=1C=C2C=CC(=O)OC2=CC=1OC/C=C(/C)CC1OC(=O)C(C)=C1 CFNMUZCFSDMZPQ-GHXNOFRVSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910016509 CuF 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N N-methyl-guanidine Natural products CNC(N)=N CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017855 NH 4 F Inorganic materials 0.000 description 2
- DFPAKSUCGFBDDF-UHFFFAOYSA-N Nicotinamide Chemical group NC(=O)C1=CC=CN=C1 DFPAKSUCGFBDDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- LINDOXZENKYESA-UHFFFAOYSA-N TMG Natural products CNC(N)=NC LINDOXZENKYESA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006222 acrylic ester polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 2
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-M benzoate Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- AKEGQNBIVXQEEL-UHFFFAOYSA-N benzyl 1h-imidazole-2-carboxylate Chemical class N=1C=CNC=1C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AKEGQNBIVXQEEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PUJDIJCNWFYVJX-UHFFFAOYSA-N benzyl carbamate Chemical class NC(=O)OCC1=CC=CC=C1 PUJDIJCNWFYVJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZOCFRPFPKJHHP-UHFFFAOYSA-N benzyl n-(diaminomethylidene)carbamate Chemical class NC(N)=NC(=O)OCC1=CC=CC=C1 FZOCFRPFPKJHHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OTBHHUPVCYLGQO-UHFFFAOYSA-N bis(3-aminopropyl)amine Chemical compound NCCCNCCCN OTBHHUPVCYLGQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N cadaverine Chemical compound NCCCCCN VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004657 carbamic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- VPUGDVKSAQVFFS-UHFFFAOYSA-N coronene Chemical compound C1=C(C2=C34)C=CC3=CC=C(C=C3)C4=C4C3=CC=C(C=C3)C4=C2C3=C1 VPUGDVKSAQVFFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UURSXESKOOOTOV-UHFFFAOYSA-N dec-5-ene Chemical compound CCCCC=CCCCC UURSXESKOOOTOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N decan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCO MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N dibutyltin Chemical compound CCCC[Sn]CCCC AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 2
- CPDXSJXOUOKNJT-UHFFFAOYSA-N diethoxy(difluoro)silane Chemical compound CCO[Si](F)(F)OCC CPDXSJXOUOKNJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSJLBAMHHLJAAS-UHFFFAOYSA-N diethylaminosulfur trifluoride Chemical compound CCN(CC)S(F)(F)F CSJLBAMHHLJAAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 2
- GQWKXTNUNRYVKC-UHFFFAOYSA-N difluoromethyl(ethenyl)silane Chemical compound FC(F)[SiH2]C=C GQWKXTNUNRYVKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KOBOIRUTYPWJHX-UHFFFAOYSA-N difluoromethyl(octadecyl)silane Chemical compound C(CCCCCCCCCCCCCCCCC)[SiH2]C(F)F KOBOIRUTYPWJHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N dimethoxysilane Chemical compound CO[SiH2]OC YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoamidine Natural products CN(C)C(N)=N SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 2
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NKPBVPYFLVCLFE-UHFFFAOYSA-N fluoro-dimethyl-octadecylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](C)(C)F NKPBVPYFLVCLFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCKMVMKNCKNCMZ-UHFFFAOYSA-N fluoro-dimethyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](C)(F)C1=CC=CC=C1 OCKMVMKNCKNCMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002357 guanidines Chemical class 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 2
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- DKYWVDODHFEZIM-UHFFFAOYSA-N ketoprofen Chemical class OC(=O)C(C)C1=CC=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1 DKYWVDODHFEZIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N methoxysilane Chemical compound CO[SiH3] ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMMDVXFQGOEOKH-UHFFFAOYSA-N n'-dodecylpropane-1,3-diamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCNCCCN XMMDVXFQGOEOKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QHJABUZHRJTCAR-UHFFFAOYSA-N n'-methylpropane-1,3-diamine Chemical group CNCCCN QHJABUZHRJTCAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BNTFCVMJHBNJAR-UHFFFAOYSA-N n,n-diethyl-1,1,2,3,3,3-hexafluoropropan-1-amine Chemical compound CCN(CC)C(F)(F)C(F)C(F)(F)F BNTFCVMJHBNJAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GKTNLYAAZKKMTQ-UHFFFAOYSA-N n-[bis(dimethylamino)phosphinimyl]-n-methylmethanamine Chemical class CN(C)P(=N)(N(C)C)N(C)C GKTNLYAAZKKMTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N naphthalene-acid Natural products C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- ZCYXXKJEDCHMGH-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCC[CH]CCCC ZCYXXKJEDCHMGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N normal nonane Natural products CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical class CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003544 oxime group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002923 oximes Chemical group 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 229940031826 phenolate Drugs 0.000 description 2
- CUQCMXFWIMOWRP-UHFFFAOYSA-N phenyl biguanide Chemical compound NC(N)=NC(N)=NC1=CC=CC=C1 CUQCMXFWIMOWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAQJJMHZNSSFSM-UHFFFAOYSA-N phenylglyoxylic acid Chemical compound OC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 FAQJJMHZNSSFSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005328 phosphinyl group Chemical group [PH2](=O)* 0.000 description 2
- 125000001476 phosphono group Chemical group [H]OP(*)(=O)O[H] 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 2
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBYHFKPVCBCYGV-UHFFFAOYSA-N quinuclidine Chemical compound C1CC2CCN1CC2 SBYHFKPVCBCYGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 229960002317 succinimide Drugs 0.000 description 2
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 2
- 150000005326 tetrahydropyrimidines Chemical class 0.000 description 2
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000005369 trialkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 2
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NEBDUYZYRHTXGM-UHFFFAOYSA-N trifluoro(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](F)(F)F NEBDUYZYRHTXGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KGWNTHHPMKEAIK-UHFFFAOYSA-N trifluoro(phenyl)silane Chemical compound F[Si](F)(F)C1=CC=CC=C1 KGWNTHHPMKEAIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MJCYPBSRKLJZTB-UHFFFAOYSA-N trifluoroborane;dihydrate Chemical compound O.O.FB(F)F MJCYPBSRKLJZTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N undecane Chemical compound CCCCCCCCCCC RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009849 vacuum degassing Methods 0.000 description 2
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004933 β-carbolinyl group Chemical group C1(=NC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- ALVMQQXVARDQGL-UHFFFAOYSA-N (1,3-dioxoisoindol-2-yl) n-octylcarbamate Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(OC(=O)NCCCCCCCC)C(=O)C2=C1 ALVMQQXVARDQGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTVGJHKGLOQOQM-UHFFFAOYSA-N (2,6-dinitrophenyl)methyl n-cyclohexylcarbamate Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1COC(=O)NC1CCCCC1 UTVGJHKGLOQOQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWRBVBFLFQKBPT-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl)methanol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O BWRBVBFLFQKBPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJFFFGRBLDNYCS-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl)methyl 4-[3-[1-[(2-nitrophenyl)methoxycarbonyl]piperidin-4-yl]propyl]piperidine-1-carboxylate Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1COC(=O)N1CCC(CCCC2CCN(CC2)C(=O)OCC=2C(=CC=CC=2)[N+]([O-])=O)CC1 HJFFFGRBLDNYCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFDAQAXBCLDQFJ-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl)methyl imidazole-1-carboxylate Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1COC(=O)N1C=NC=C1 OFDAQAXBCLDQFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJMCHQONLVUNAM-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl)methyl n-cyclohexylcarbamate Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1COC(=O)NC1CCCCC1 NJMCHQONLVUNAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZEHWWYWZYFYBV-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl)methyl piperidine-1-carboxylate Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1COC(=O)N1CCCCC1 ZZEHWWYWZYFYBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCLMOUQZUNKDCO-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl)methyl pyrrolidine-1-carboxylate Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1COC(=O)N1CCCC1 KCLMOUQZUNKDCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSMWYRLQHIXVAP-WDSKDSINSA-N (2s,5s)-2,5-dimethylpiperazine Chemical compound C[C@H]1CN[C@@H](C)CN1 NSMWYRLQHIXVAP-WDSKDSINSA-N 0.000 description 1
- IFNWESYYDINUHV-OLQVQODUSA-N (2s,6r)-2,6-dimethylpiperazine Chemical compound C[C@H]1CNC[C@@H](C)N1 IFNWESYYDINUHV-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- PGULRVLGIKUIEK-UHFFFAOYSA-N (3-nitrophenyl)methyl imidazole-1-carboxylate Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC(COC(=O)N2C=NC=C2)=C1 PGULRVLGIKUIEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMIUSFVDMBMIAD-UHFFFAOYSA-N (4-chlorophenyl)silane Chemical compound [SiH3]C1=CC=C(Cl)C=C1 BMIUSFVDMBMIAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHRSFNDCNGBPFO-UHFFFAOYSA-N (4-nitrophenyl)methyl imidazole-1-carboxylate Chemical compound C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1COC(=O)N1C=NC=C1 VHRSFNDCNGBPFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILOIIYPWEYACRZ-UHFFFAOYSA-N (5-methyl-2-nitrophenyl)methyl imidazole-1-carboxylate Chemical compound CC1=CC=C([N+]([O-])=O)C(COC(=O)N2C=NC=C2)=C1 ILOIIYPWEYACRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N (dimethyl-$l^{3}-silanyl)oxy-dimethylsilicon Chemical compound C[Si](C)O[Si](C)C KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFFVKAGIFGGXQB-WLHGVMLRSA-N (e)-but-2-enedioic acid;pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1.OC(=O)\C=C\C(O)=O OFFVKAGIFGGXQB-WLHGVMLRSA-N 0.000 description 1
- YOBOXHGSEJBUPB-MTOQALJVSA-N (z)-4-hydroxypent-3-en-2-one;zirconium Chemical compound [Zr].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O YOBOXHGSEJBUPB-MTOQALJVSA-N 0.000 description 1
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- TYKCBTYOMAUNLH-MTOQALJVSA-J (z)-4-oxopent-2-en-2-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O TYKCBTYOMAUNLH-MTOQALJVSA-J 0.000 description 1
- ZBBLRPRYYSJUCZ-GRHBHMESSA-L (z)-but-2-enedioate;dibutyltin(2+) Chemical compound [O-]C(=O)\C=C/C([O-])=O.CCCC[Sn+2]CCCC ZBBLRPRYYSJUCZ-GRHBHMESSA-L 0.000 description 1
- QMMOXUPEWRXHJS-HYXAFXHYSA-N (z)-pent-2-ene Chemical compound CC\C=C/C QMMOXUPEWRXHJS-HYXAFXHYSA-N 0.000 description 1
- GYXUNDYSSCDRAG-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,2-pentafluoroethyl prop-2-enoate Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)OC(=O)C=C GYXUNDYSSCDRAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIJOCHWITRUYLZ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethoxyethyl N-benzylcarbamate Chemical class COC(OC(NCC1=CC=CC=C1)=O)(C)OC MIJOCHWITRUYLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XULIXFLCVXWHRF-UHFFFAOYSA-N 1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine Chemical compound CN1C(C)(C)CCCC1(C)C XULIXFLCVXWHRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTTATHOUSOIFOQ-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,6,7,8,8a-octahydropyrrolo[1,2-a]pyrazine Chemical compound C1NCCN2CCCC21 FTTATHOUSOIFOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXBHBZVCASKNBY-UHFFFAOYSA-N 1,2-Benz(a)anthracene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C=CC2=C1 DXBHBZVCASKNBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPNUROKCUBTKLF-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-methylphenyl)guanidine Chemical compound CC1=CC=CC=C1N\C(N)=N\C1=CC=CC=C1C OPNUROKCUBTKLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEIHVTKMBYEXPZ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethyl-4,5-dihydroimidazole Chemical compound CN1CCN=C1C QEIHVTKMBYEXPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFDWWDZLRKHULH-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethyl-5,6-dihydro-4h-pyrimidine Chemical compound CN1CCCN=C1C ZFDWWDZLRKHULH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQDQZEZWWRPNQH-UHFFFAOYSA-N 1,3-diazabicyclo[2.2.2]octane Chemical compound C1CC2CCN1CN2 KQDQZEZWWRPNQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQUYSHZXSKYCSY-UHFFFAOYSA-N 1,4-diazepane Chemical compound C1CNCCNC1 FQUYSHZXSKYCSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 1,5-diazabicyclo[4.3.0]-non-5-ene Chemical compound C1CCN=C2CCCN21 SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTWOLVHVPZSEGN-UHFFFAOYSA-N 1-(2,6-dinitrophenyl)ethyl n-cyclohexylcarbamate Chemical compound [O-][N+](=O)C=1C=CC=C([N+]([O-])=O)C=1C(C)OC(=O)NC1CCCCC1 NTWOLVHVPZSEGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWQZUDUDGMRSTL-UHFFFAOYSA-N 1-(2-nitrophenyl)ethyl n-cyclohexylcarbamate Chemical compound C=1C=CC=C([N+]([O-])=O)C=1C(C)OC(=O)NC1CCCCC1 WWQZUDUDGMRSTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLKIVXXYTZKNMI-UHFFFAOYSA-N 1-(4-dodecylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 MLKIVXXYTZKNMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBLOYEYKLUOMOC-UHFFFAOYSA-N 1-(naphthalen-2-ylmethyl)-3,4,6,7,8,8a-hexahydro-2h-pyrrolo[1,2-a]pyrimidine Chemical compound C1=CC=CC2=CC(CN3C4CCCN4CCC3)=CC=C21 CBLOYEYKLUOMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFRTWRXYHGYWMZ-UHFFFAOYSA-N 1-[(2,4,6-trimethylphenyl)methyl]-3,4,6,7,8,8a-hexahydro-2h-pyrrolo[1,2-a]pyrimidine Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1CN1C2CCCN2CCC1 OFRTWRXYHGYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYVSRILRAHOPTF-UHFFFAOYSA-N 1-[(2,6-dichlorophenyl)methyl]-3,4,6,7,8,9,10,10a-octahydro-2h-pyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1CN1C2CCCCCN2CCC1 NYVSRILRAHOPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQYLOECNFGCJJO-UHFFFAOYSA-N 1-[(2-chlorophenyl)methyl]-3,4,6,7,8,8a-hexahydro-2h-pyrrolo[1,2-a]pyrimidine Chemical compound ClC1=CC=CC=C1CN1C2CCCN2CCC1 DQYLOECNFGCJJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWHKKLIEWJAMGD-UHFFFAOYSA-N 1-[(4-ethenylphenyl)methyl]-3,4,6,7,8,8a-hexahydro-2h-pyrrolo[1,2-a]pyrimidine Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1CN1C2CCCN2CCC1 BWHKKLIEWJAMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUWFNMUMZKSISZ-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(n-hydroxy-c-methylcarbonimidoyl)phenyl]-2-phenylethanone Chemical compound ON=C(C)C1=CC=CC=C1C(=O)CC1=CC=CC=C1 OUWFNMUMZKSISZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXECTBGVEUDNSL-UHFFFAOYSA-N 1-acetyloxyprop-2-enyl acetate Chemical compound CC(=O)OC(C=C)OC(C)=O TXECTBGVEUDNSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYQWHUCTTYCIAU-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-3,4,6,7,8,8a-hexahydro-2h-pyrrolo[1,2-a]pyrimidine Chemical compound C1CCN2CCCC2N1CC1=CC=CC=C1 HYQWHUCTTYCIAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQXCQTAELHSNAT-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-3-nitro-5-(trifluoromethyl)benzene Chemical class [O-][N+](=O)C1=CC(Cl)=CC(C(F)(F)F)=C1 ZQXCQTAELHSNAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAPJUEKLMYSSCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-2,3,4,6,7,8-hexahydropyrimido[1,2-a]pyrimidine Chemical compound C1CCN=C2N(CC)CCCN21 AAPJUEKLMYSSCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVAPXGAHIDAVCO-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-2-octyl-5,6-dihydro-4h-pyrimidine Chemical compound CCCCCCCCC1=NCCCN1CC CVAPXGAHIDAVCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGFRMAHRHLGSMH-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-2-octyl-4,5-dihydroimidazole Chemical compound CCCCCCCCC1=NCCN1C BGFRMAHRHLGSMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANFXTILBDGTSEG-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-4,5-dihydroimidazole Chemical compound CN1CCN=C1 ANFXTILBDGTSEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABNDDOBSIHWESM-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-5,6-dihydro-4h-pyrimidine Chemical compound CN1CCCN=C1 ABNDDOBSIHWESM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUUFEOPHWJGLOA-UHFFFAOYSA-N 1-n-(2-aminoethyl)-5-trimethoxysilylpentane-1,3-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(N)CCNCCN VUUFEOPHWJGLOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJKGJBPXVHTNJL-UHFFFAOYSA-N 1-nitronaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C([N+](=O)[O-])=CC=CC2=C1 RJKGJBPXVHTNJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKVCQMYWYHDOOF-UHFFFAOYSA-N 1-phenoxyethane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)OC1=CC=CC=C1 NKVCQMYWYHDOOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INNBYWMGBODUGY-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-yl-2,3,4,6,7,8-hexahydropyrimido[1,2-a]pyrimidine Chemical compound C1CCN=C2N(C(C)C)CCCN21 INNBYWMGBODUGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)C YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPWZCJFZJCOBHO-UHFFFAOYSA-N 11-triethoxysilylundecan-1-amine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCCCCCCCCN LPWZCJFZJCOBHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGJQPLWVUYDMAV-UHFFFAOYSA-N 2,2-difluoroethoxy(ethenyl)silane Chemical compound C(=C)[SiH2]OCC(F)F DGJQPLWVUYDMAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYEASHPMGJWBCA-UHFFFAOYSA-N 2,2-difluoroethoxy(methyl)silane Chemical compound C[SiH2]OCC(F)F UYEASHPMGJWBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIAXGONOANQEQB-UHFFFAOYSA-N 2,2-difluoroethoxy(phenyl)silane Chemical compound C1(=CC=CC=C1)[SiH2]OCC(F)F RIAXGONOANQEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZNVUJQVZSTENZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(C#N)=C(C#N)C1=O HZNVUJQVZSTENZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFFXLYHRNRKAPM-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-trichloro-n-(5-methyl-1,2-oxazol-3-yl)benzenesulfonamide Chemical compound O1C(C)=CC(NS(=O)(=O)C=2C(=CC(Cl)=C(Cl)C=2)Cl)=N1 HFFXLYHRNRKAPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 2,4-di(propan-2-yl)thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C3SC2=C1 BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 2,4-diaminotoluene Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1N VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC(C)=C3SC2=C1 LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001917 2,4-dinitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C(=C1*)[N+]([O-])=O)[N+]([O-])=O 0.000 description 1
- KDBZVULQVCUNNA-UHFFFAOYSA-N 2,5-di-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(C)(C)C)C(O)=C1 KDBZVULQVCUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWEZBKLLMKVIPI-UHFFFAOYSA-N 2,5-dinitrophenol Chemical compound OC1=CC([N+]([O-])=O)=CC=C1[N+]([O-])=O UWEZBKLLMKVIPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVFVRTNNLLZXAL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylphenyl)guanidine Chemical compound CC1=CC=CC=C1N=C(N)N VVFVRTNNLLZXAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDPRFZZYKXSCHK-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4,6,7,8,8a-hexahydro-2H-pyrrolo[1,2-a]pyrimidin-1-yl)-1-naphthalen-1-ylethanone Chemical compound C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C(=O)CN1CCCN2CCCC12 JDPRFZZYKXSCHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFWUTJMEZPFFSN-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4,6,7,8,8a-hexahydro-2h-pyrrolo[1,2-a]pyrimidin-1-yl)-1-phenylethanone Chemical compound C1CCN2CCCC2N1CC(=O)C1=CC=CC=C1 RFWUTJMEZPFFSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYUBXVPIBAGBNN-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4,6,7,8,8a-hexahydro-2h-pyrrolo[1,2-a]pyrimidin-1-yl)-1-pyren-1-ylethanone Chemical compound C1=C2C(C(CN3C4CCCN4CCC3)=O)=CC=C(C=C3)C2=C2C3=CC=CC2=C1 AYUBXVPIBAGBNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJVBGDFKOTUCJI-UHFFFAOYSA-N 2-(9-oxothioxanthen-2-yl)sulfanylacetic acid Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(SCC(=O)O)=CC=C3SC2=C1 NJVBGDFKOTUCJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUBNJSZGANKUGX-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)-2-[(4-methylphenyl)methyl]-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=C(C)C=C1 PUBNJSZGANKUGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQJGENPOECTPNX-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCOC(=O)C=C)C=C1 UQJGENPOECTPNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TTZLLVJFQQPPQW-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-1-methyl-5,6-dihydro-4h-pyrimidine Chemical compound CCCCC1=NCCCN1C TTZLLVJFQQPPQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGWBIHLHAGNJCX-UHFFFAOYSA-N 2-butylguanidine Chemical compound CCCCNC(N)=N CGWBIHLHAGNJCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMWVQAXQVZXGGP-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1-methyl-4,5-dihydroimidazole Chemical compound CCC1=NCCN1C XMWVQAXQVZXGGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXDRCDYATAGRMP-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1-methyl-5,6-dihydro-4h-pyrimidine Chemical compound CCC1=NCCCN1C VXDRCDYATAGRMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical class OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-(4-propan-2-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOMNTHCQHJPVAZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpiperazine Chemical compound CC1CNCCN1 JOMNTHCQHJPVAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXMDTAOFSAYTBR-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylpropane-1,3-diamine Chemical group CO[Si](OC)(OC)C(CN)CN CXMDTAOFSAYTBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethoxybenzidine Chemical compound C1=C(N)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C(N)=CC=2)=C1 JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVKFHMNJTHKMRX-UHFFFAOYSA-N 3,4,6,7,8,9-hexahydro-2H-pyrimido[1,2-a]pyrimidine Chemical compound C1CCN2CCCNC2=N1 FVKFHMNJTHKMRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWGVOCGNHYMDLS-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methoxyethoxy)propan-1-amine Chemical compound COCCOCCCN PWGVOCGNHYMDLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTZJYWZPBKAHHE-UHFFFAOYSA-N 3-(3,4,6,7,8,8a-hexahydro-2h-pyrrolo[1,2-a]pyrimidin-1-ylmethyl)benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC(CN2C3CCCN3CCC2)=C1 VTZJYWZPBKAHHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRPRVQWGKLEFKN-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminopropoxy)propan-1-amine Chemical compound NCCCOCCCN KRPRVQWGKLEFKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTRFLLWGKJKCBA-UHFFFAOYSA-N 3-(difluoromethylsilyl)propane-1-thiol Chemical compound SCCC[SiH2]C(F)F MTRFLLWGKJKCBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANOPCGQVRXJHHD-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(3-aminopropyl)-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecan-9-yl]propan-1-amine Chemical compound C1OC(CCCN)OCC21COC(CCCN)OC2 ANOPCGQVRXJHHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULRCHFVDUCOKTE-UHFFFAOYSA-N 3-[3-aminopropyl(diethoxy)silyl]oxybutan-1-amine Chemical compound NCCC[Si](OCC)(OCC)OC(C)CCN ULRCHFVDUCOKTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUSNPFGLKGCWGN-UHFFFAOYSA-N 3-[4-(3-aminopropyl)piperazin-1-yl]propan-1-amine Chemical compound NCCCN1CCN(CCCN)CC1 XUSNPFGLKGCWGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJQYCXOTSPSHFU-UHFFFAOYSA-N 3-[aminomethyl(dimethoxy)silyl]oxypropan-1-amine Chemical compound CO[Si](CN)(OC)OCCCN HJQYCXOTSPSHFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZFSDOFRXYCNKS-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(1-phenylpropan-2-yloxy)silyl]-n-ethenylpropan-1-amine Chemical compound C=CNCCC[Si](OCC)(OCC)OC(C)CC1=CC=CC=C1 OZFSDOFRXYCNKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical group CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C=C MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWVAFNKSYJORQY-UHFFFAOYSA-N 3-[fluoro(dimethyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](C)(C)F UWVAFNKSYJORQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USICVVZOKTZACS-UHFFFAOYSA-N 3-butylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCC1=CC(=O)NC1=O USICVVZOKTZACS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIZDKHDPZRCOBN-UHFFFAOYSA-N 3-dodecylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC(=O)NC1=O UIZDKHDPZRCOBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLPORNPZJNRGCO-UHFFFAOYSA-N 3-methylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CC1=CC(=O)NC1=O ZLPORNPZJNRGCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLHDYAXSQWGYSM-UHFFFAOYSA-N 3-octadecylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCC1=CC(=O)NC1=O BLHDYAXSQWGYSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOYQCFMGTRPFKT-UHFFFAOYSA-N 3-octylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCCC1=CC(=O)NC1=O VOYQCFMGTRPFKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYMZEPRSPLASMS-UHFFFAOYSA-N 3-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1NC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1 IYMZEPRSPLASMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVLSCMIEPPWCHZ-UHFFFAOYSA-N 3-piperazin-1-ylpropan-1-amine Chemical compound NCCCN1CCNCC1 UVLSCMIEPPWCHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDXKEHHAIMNCSW-UHFFFAOYSA-N 3-propylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCC1=CC(=O)NC1=O MDXKEHHAIMNCSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXKAXHPVFLEQHV-UHFFFAOYSA-N 3-tri(propan-2-yloxy)silylpropan-1-amine Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)CCCN OXKAXHPVFLEQHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WECDUOXQLAIPQW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Methylene bis(2-methylaniline) Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(CC=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 WECDUOXQLAIPQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJPJTQUKLOXNFS-UHFFFAOYSA-N 4,4,4-trifluorobutylsilane Chemical compound FC(F)(F)CCC[SiH3] AJPJTQUKLOXNFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSWWINREAHNZIC-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4,6,7,8,8a-hexahydro-2h-pyrrolo[1,2-a]pyrimidin-1-ylmethyl)benzonitrile Chemical compound C1=CC(C#N)=CC=C1CN1C2CCCN2CCC1 CSWWINREAHNZIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMNVECQLILUEFL-UHFFFAOYSA-N 4-(3-aminopropyl)aniline Chemical compound NCCCC1=CC=C(N)C=C1 OMNVECQLILUEFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXEZLYIDQPBCBB-UHFFFAOYSA-N 4-(3-piperidin-4-ylpropyl)piperidine Chemical compound C1CNCCC1CCCC1CCNCC1 OXEZLYIDQPBCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001999 4-Methoxybenzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1OC([H])([H])[H])C(*)=O 0.000 description 1
- BBDKZWKEPDTENS-UHFFFAOYSA-N 4-Vinylcyclohexene Chemical compound C=CC1CCC=CC1 BBDKZWKEPDTENS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBEVWPCAHIAUOD-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-amino-3-ethylphenyl)methyl]-2-ethylaniline Chemical compound C1=C(N)C(CC)=CC(CC=2C=C(CC)C(N)=CC=2)=C1 CBEVWPCAHIAUOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIUXWEGBWYUUEF-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-2-cyclopropyl-1h-pyrrolo[2,3-b]pyridine Chemical compound C=1C=2C(Br)=CC=NC=2NC=1C1CC1 RIUXWEGBWYUUEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- 125000006181 4-methyl benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- VZSCYDNKUMPKGV-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-n-(3-trimethoxysilylpropyl)pentan-2-imine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN=C(C)CC(C)C VZSCYDNKUMPKGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJIUGUIPKRLHP-UHFFFAOYSA-M 4-nitrophenolate Chemical compound [O-]C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 BTJIUGUIPKRLHP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QHPQWRBYOIRBIT-UHFFFAOYSA-M 4-tert-butylphenolate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C([O-])C=C1 QHPQWRBYOIRBIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 4h-chromene-2,3-dione Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C(=O)CC2=C1 CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSSMYOQKNHMTIP-UHFFFAOYSA-N 5-[dimethoxy(methyl)silyl]pentane-1,3-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCC(N)CCN OSSMYOQKNHMTIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGRMXVRKGHVYEQ-UHFFFAOYSA-N 5-tri(propan-2-yloxy)silylpentane-1,3-diamine Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)CCC(N)CCN DGRMXVRKGHVYEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOTKGMAKADCEDH-UHFFFAOYSA-N 5-triethoxysilylpentane-1,3-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(N)CCN ZOTKGMAKADCEDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHLRJDNGHBXOSV-UHFFFAOYSA-N 5-trimethoxysilylpentane-1,3-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(N)CCN KHLRJDNGHBXOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWAABNUKMHCYGV-UHFFFAOYSA-N 6,7-dimethoxy-1-nitronaphthalene Chemical compound C1=CC([N+]([O-])=O)=C2C=C(OC)C(OC)=CC2=C1 AWAABNUKMHCYGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUZLHGMYNVZMCO-UHFFFAOYSA-N 6-[2-[3-[2-(4,6-diamino-1,3,5-triazin-2-yl)ethyl]-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecan-9-yl]ethyl]-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(CCC2OCC3(CO2)COC(CCC=2N=C(N)N=C(N)N=2)OC3)=N1 DUZLHGMYNVZMCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTCAFTOXSIHBFL-UHFFFAOYSA-N 6-aminoundecanoic acid Chemical compound CCCCCC(N)CCCCC(O)=O JTCAFTOXSIHBFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSMGAOMUPSQGTB-UHFFFAOYSA-N 9,10-dibutoxyanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(OCCCC)=C(C=CC=C3)C3=C(OCCCC)C2=C1 KSMGAOMUPSQGTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLDZCJMKANUPDF-UHFFFAOYSA-N 9-trimethoxysilylnonane-1,7-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(N)CCCCCCN XLDZCJMKANUPDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLEHZMZXCIGEKV-UHFFFAOYSA-N B(O)(O)O.FC1(C(C(=C(C(=C1F)F)F)F)([K])F)F Chemical compound B(O)(O)O.FC1(C(C(=C(C(=C1F)F)F)F)([K])F)F DLEHZMZXCIGEKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCANSQJJWHHVRH-UHFFFAOYSA-N B(OF)(OC1=C(C(=C(C(=C1F)F)F)F)F)[O-].[Na+] Chemical compound B(OF)(OC1=C(C(=C(C(=C1F)F)F)F)F)[O-].[Na+] FCANSQJJWHHVRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFRDHQQZKFQCHP-UHFFFAOYSA-N C1(C=CC=C1)[Ti](C1C(C=CC=C1F)(F)C=1COC=CC=1)(C1C(C=CC=C1F)(C=1COC=CC=1)F)C1C=CC=C1 Chemical compound C1(C=CC=C1)[Ti](C1C(C=CC=C1F)(F)C=1COC=CC=1)(C1C(C=CC=C1F)(C=1COC=CC=1)F)C1C=CC=C1 PFRDHQQZKFQCHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPRQXBNRHQIDGY-UHFFFAOYSA-N C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C(=C12)C(C)[N+](CC)(CC)C Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C(=C12)C(C)[N+](CC)(CC)C UPRQXBNRHQIDGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNSNFUUVQJMUNW-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C1=CC(=CC(=C1)OC)OC)N(C2CCCCC2)C(=O)O Chemical compound CC(C)(C1=CC(=CC(=C1)OC)OC)N(C2CCCCC2)C(=O)O RNSNFUUVQJMUNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPOUPFDWOMRSPH-UHFFFAOYSA-N CCC[SiH2]C(F)F.N=C=O Chemical compound CCC[SiH2]C(F)F.N=C=O MPOUPFDWOMRSPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M Carbamate Chemical compound NC([O-])=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- XVZXOLOFWKSDSR-UHFFFAOYSA-N Cc1cc(C)c([C]=O)c(C)c1 Chemical group Cc1cc(C)c([C]=O)c(C)c1 XVZXOLOFWKSDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 1
- 239000004821 Contact adhesive Substances 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGNWDOAQKCDSRH-UHFFFAOYSA-N FC1(C(C(=C(C(=C1F)F)F)F)(S(=O)(=O)C1=C(C(=C(C(=C1F)F)F)F)F)F)F Chemical group FC1(C(C(=C(C(=C1F)F)F)F)(S(=O)(=O)C1=C(C(=C(C(=C1F)F)F)F)F)F)F GGNWDOAQKCDSRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULXSEBHUURALSD-UHFFFAOYSA-N F[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 Chemical compound F[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ULXSEBHUURALSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004839 Moisture curing adhesive Substances 0.000 description 1
- AMRPLQKEXNYDGZ-UHFFFAOYSA-N N'-[2-[diethoxy(2-phenylethyl)silyl]oxypropyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound NCCNCC(C)O[Si](OCC)(OCC)CCC1=CC=CC=C1 AMRPLQKEXNYDGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFHUNSFEUGCOOA-UHFFFAOYSA-N N'-silylethane-1,2-diamine Chemical class NCCN[SiH3] IFHUNSFEUGCOOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLVIGYVXZHLUHP-UHFFFAOYSA-N N,N'-diethylthiourea Chemical group CCNC(=S)NCC FLVIGYVXZHLUHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCSHMCFRCYZTRQ-UHFFFAOYSA-N N,N'-diphenylthiourea Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=S)NC1=CC=CC=C1 FCSHMCFRCYZTRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUHBSOUWXAIQLE-UHFFFAOYSA-N N-(diethoxymethylsilylmethyl)cyclohexanamine Chemical compound CCOC(OCC)[SiH2]CNC1CCCCC1 FUHBSOUWXAIQLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDFGOPSGAURCEO-UHFFFAOYSA-N N-ethylmaleimide Chemical compound CCN1C(=O)C=CC1=O HDFGOPSGAURCEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTJUEJMNEOHTHW-UHFFFAOYSA-N N12C=CCN(C2CCC1)C(=N)N Chemical class N12C=CCN(C2CCC1)C(=N)N NTJUEJMNEOHTHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFWZYSSUILNKAN-UHFFFAOYSA-N NCC1CCNCC1.NCC1NCCCC1 Chemical compound NCC1CCNCC1.NCC1NCCCC1 RFWZYSSUILNKAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020808 NaBF Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000571 Nylon 11 Polymers 0.000 description 1
- 229920000305 Nylon 6,10 Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005700 Putrescine Substances 0.000 description 1
- AUNGANRZJHBGPY-SCRDCRAPSA-N Riboflavin Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)CN1C=2C=C(C)C(C)=CC=2N=C2C1=NC(=O)NC2=O AUNGANRZJHBGPY-SCRDCRAPSA-N 0.000 description 1
- 229910018287 SbF 5 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020175 SiOH Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000002597 Solanum melongena Nutrition 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDYBAVJXHJMNQ-UHFFFAOYSA-N Tetrahydroanthracene Natural products C1=CC=C2C=C(CCCC3)C3=CC2=C1 XBDYBAVJXHJMNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical group NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dimethoxybenzoyl)-(2,4,4-trimethylpentyl)phosphoryl]-(2,6-dimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(CC(C)CC(C)(C)C)C(=O)C1=C(OC)C=CC=C1OC LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIPRVDLDPYGSCG-UHFFFAOYSA-N [1-[(3,5-dimethoxyphenyl)methyl]cyclohexyl] carbamate Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(CC2(CCCCC2)OC(N)=O)=C1 KIPRVDLDPYGSCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVSSPWOKVSKHCU-UHFFFAOYSA-N [2-(trifluoromethyl)phenoxy]boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=CC=CC=C1C(F)(F)F UVSSPWOKVSKHCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YVHDRFKHKGNLNW-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(octadecanoyloxy)stannyl] octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC YVHDRFKHKGNLNW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NBJODVYWAQLZOC-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(octanoyloxy)stannyl] octanoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCC NBJODVYWAQLZOC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XQBCVRSTVUHIGH-UHFFFAOYSA-L [dodecanoyloxy(dioctyl)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC XQBCVRSTVUHIGH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-ONCXSQPRSA-N abietic acid Chemical compound C([C@@H]12)CC(C(C)C)=CC1=CC[C@@H]1[C@]2(C)CCC[C@@]1(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-ONCXSQPRSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- JLNWEFKSRKCNPD-UHFFFAOYSA-N acetic acid xanthen-9-one Chemical compound CC(O)=O.C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JLNWEFKSRKCNPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M acetoacetate Chemical compound CC(=O)CC([O-])=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000000641 acridinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 238000007718 adhesive strength test Methods 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000006193 alkinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005103 alkyl silyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N aluminium triethoxide Chemical compound CCO[Al](OCC)OCC JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- IMUDHTPIFIBORV-UHFFFAOYSA-N aminoethylpiperazine Chemical compound NCCN1CCNCC1 IMUDHTPIFIBORV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N anhydrous trimellitic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000003796 beauty Effects 0.000 description 1
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-M benzenecarboximidate Chemical compound [NH-]C(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 1
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N benzo-alpha-pyrone Natural products C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- ZKLNSZIWIVMTEV-UHFFFAOYSA-N benzyl n-[bis(dimethylamino)methylidene]carbamate Chemical compound CN(C)C(N(C)C)=NC(=O)OCC1=CC=CC=C1 ZKLNSZIWIVMTEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical class OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMMIEQKTIFFHRR-UHFFFAOYSA-N bis(1-hydroxy-2-phenylcyclohexyl)methanone Chemical compound C1CCCC(C=2C=CC=CC=2)C1(O)C(=O)C1(O)CCCCC1C1=CC=CC=C1 RMMIEQKTIFFHRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSPSPMKCKIPQBH-UHFFFAOYSA-K bismuth;7,7-dimethyloctanoate Chemical compound [Bi+3].CC(C)(C)CCCCCC([O-])=O.CC(C)(C)CCCCCC([O-])=O.CC(C)(C)CCCCCC([O-])=O NSPSPMKCKIPQBH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- XSEUMFJMFFMCIU-UHFFFAOYSA-N buformin Chemical compound CCCC\N=C(/N)N=C(N)N XSEUMFJMFFMCIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004111 buformin Drugs 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- 210000005252 bulbus oculi Anatomy 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULEAQRIQMIQDPJ-UHFFFAOYSA-N butane-1,2-diamine Chemical compound CCC(N)CN ULEAQRIQMIQDPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ZPFKRQXYKULZKP-UHFFFAOYSA-N butylidene Chemical group [CH2+]CC[CH-] ZPFKRQXYKULZKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M caesium fluoride Inorganic materials [F-].[Cs+] XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHUYOMKLWVVWBQ-UHFFFAOYSA-N carbamic acid;3,5,5-trimethylcyclohex-2-en-1-one Chemical compound NC(O)=O.NC(O)=O.CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 QHUYOMKLWVVWBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical group 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 125000002603 chloroethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])Cl 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004230 chromenyl group Chemical group O1C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cis-cyclohexene Natural products C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEFWIXJKENJOFF-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl carbamate;2-hydroxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound NC(=O)OC1CCCCC1.C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 OEFWIXJKENJOFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWWJJXNROZUMPX-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl-[(2,6-dinitrophenyl)methyl]carbamic acid Chemical compound C1CCC(CC1)N(CC2=C(C=CC=C2[N+](=O)[O-])[N+](=O)[O-])C(=O)O JWWJJXNROZUMPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N decyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012973 diazabicyclooctane Substances 0.000 description 1
- 125000004987 dibenzofuryl group Chemical group C1(=CC=CC=2OC3=C(C21)C=CC=C3)* 0.000 description 1
- MIVNEOYVERQQTF-UHFFFAOYSA-N dibutyl(difluoro)silane Chemical compound CCCC[Si](F)(F)CCCC MIVNEOYVERQQTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVXZJXWJFIXQLZ-UHFFFAOYSA-N diethoxy-fluoro-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(F)OCC ZVXZJXWJFIXQLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALFTVBSNLNAJLU-UHFFFAOYSA-N diethoxy-fluoro-phenylsilane Chemical compound CCO[Si](F)(OCC)C1=CC=CC=C1 ALFTVBSNLNAJLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJCESQVDGEUPV-UHFFFAOYSA-N diethoxymethylsilylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(OCC)[SiH2]COC(=O)C(C)=C BTJCESQVDGEUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGWJKDPTLUDSJT-UHFFFAOYSA-N diethyl dimethyl silicate Chemical compound CCO[Si](OC)(OC)OCC VGWJKDPTLUDSJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJBGGLLCYJYHPG-UHFFFAOYSA-N diethyl(difluoro)silane Chemical compound CC[Si](F)(F)CC OJBGGLLCYJYHPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJLOWWWTZWZHAZ-UHFFFAOYSA-N difluoro(dimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](F)(F)OC LJLOWWWTZWZHAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRRDNAZMVAXXQP-UHFFFAOYSA-N difluoro(dimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(F)F XRRDNAZMVAXXQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOMPXIHODLVNMC-UHFFFAOYSA-N difluoro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](F)(F)C1=CC=CC=C1 BOMPXIHODLVNMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006001 difluoroethyl group Chemical group 0.000 description 1
- HKXXKIXFIKBNOC-UHFFFAOYSA-N difluoromethoxy(ethenyl)silane Chemical compound C(=C)[SiH2]OC(F)F HKXXKIXFIKBNOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTMIIGYHAXJRGA-UHFFFAOYSA-N difluoromethoxy(methyl)silane Chemical compound C[SiH2]OC(F)F NTMIIGYHAXJRGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLKLBISEKLEEEC-UHFFFAOYSA-N difluoromethoxy(phenyl)silane Chemical compound C1(=CC=CC=C1)[SiH2]OC(F)F RLKLBISEKLEEEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODWPSEAVDZCUJC-UHFFFAOYSA-N difluoromethyl(phenyl)silane Chemical compound FC(F)[SiH2]C1=CC=CC=C1 ODWPSEAVDZCUJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVZOZDIVNZLZOM-UHFFFAOYSA-N difluoromethyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound C(C1CO1)OCCC[SiH2]C(F)F MVZOZDIVNZLZOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004212 difluorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(methyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)OC PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNVQCJNZEDLILP-UHFFFAOYSA-N dimethyl(oxo)tin Chemical compound C[Sn](C)=O WNVQCJNZEDLILP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical class CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQRUPWUPINJLMU-UHFFFAOYSA-N dioctyl(oxo)tin Chemical compound CCCCCCCC[Sn](=O)CCCCCCCC LQRUPWUPINJLMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGQSXVKHVMGQRG-UHFFFAOYSA-N dioctyltin Chemical compound CCCCCCCC[Sn]CCCCCCCC HGQSXVKHVMGQRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZRQZJOUYWKDNH-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,3,4-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=C(C)C(C)=CC=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MZRQZJOUYWKDNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012772 electrical insulation material Substances 0.000 description 1
- WGXGKXTZIQFQFO-CMDGGOBGSA-N ethenyl (e)-3-phenylprop-2-enoate Chemical compound C=COC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WGXGKXTZIQFQFO-CMDGGOBGSA-N 0.000 description 1
- YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,2-dimethylpropanoate Chemical compound CC(C)(C)C(=O)OC=C YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBCAESNHJCHEEQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-fluoro-dimethoxysilane Chemical compound CO[Si](F)(OC)C=C NBCAESNHJCHEEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHYCULBUJAVPRU-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trifluoro)silane Chemical compound CCO[Si](F)(F)F DHYCULBUJAVPRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITAHRPSKCCPKOK-UHFFFAOYSA-N ethyl trimethyl silicate Chemical compound CCO[Si](OC)(OC)OC ITAHRPSKCCPKOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHOREJPMXSLGGR-UHFFFAOYSA-N ethyl(trifluoro)silane Chemical compound CC[Si](F)(F)F NHOREJPMXSLGGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTSRFYSEWIPFNI-UHFFFAOYSA-N ethyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CC[Si](C)(OC)OC HTSRFYSEWIPFNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- NZJOONTZXJXTOL-UHFFFAOYSA-N fluoro(dimethyl)silane Chemical compound C[SiH](C)F NZJOONTZXJXTOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKGQTAALIDWBJK-UHFFFAOYSA-N fluoro(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](F)(OC)OC JKGQTAALIDWBJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMTSDXQHAYTVGH-UHFFFAOYSA-N fluoro(tripropyl)silane Chemical compound CCC[Si](F)(CCC)CCC DMTSDXQHAYTVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTJCZBQEAWWKRZ-UHFFFAOYSA-N fluoro-[fluoro(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(F)O[Si](C)(C)F HTJCZBQEAWWKRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOFUBYAISCMULF-UHFFFAOYSA-N fluoro-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(F)OC MOFUBYAISCMULF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZEVXIKUQDJKLO-UHFFFAOYSA-N fluoro-dimethyl-(3-methylphenyl)silane Chemical compound CC1=CC=CC([Si](C)(C)F)=C1 KZEVXIKUQDJKLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFNZIBZPILTKHX-UHFFFAOYSA-N fluoro-dimethyl-(4-methylphenyl)silane Chemical compound CC1=CC=C([Si](C)(C)F)C=C1 QFNZIBZPILTKHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHRQPIMJORSNAH-UHFFFAOYSA-N fluoro-tris(trimethylsilyloxy)silane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](F)(O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C IHRQPIMJORSNAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 1
- DYDNPESBYVVLBO-UHFFFAOYSA-N formanilide Chemical class O=CNC1=CC=CC=C1 DYDNPESBYVVLBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 125000003838 furazanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005251 gamma ray Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical group C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000036571 hydration Effects 0.000 description 1
- 238000006703 hydration reaction Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- IKGLACJFEHSFNN-UHFFFAOYSA-N hydron;triethylazanium;trifluoride Chemical compound F.F.F.CCN(CC)CC IKGLACJFEHSFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002462 imidazolines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- QNXSIUBBGPHDDE-UHFFFAOYSA-N indan-1-one Chemical group C1=CC=C2C(=O)CCC2=C1 QNXSIUBBGPHDDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003453 indazolyl group Chemical group N1N=C(C2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000003406 indolizinyl group Chemical group C=1(C=CN2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 125000000904 isoindolyl group Chemical group C=1(NC=C2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005956 isoquinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001786 isothiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000842 isoxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 1
- GIWKOZXJDKMGQC-UHFFFAOYSA-L lead(2+);naphthalene-2-carboxylate Chemical compound [Pb+2].C1=CC=CC2=CC(C(=O)[O-])=CC=C21.C1=CC=CC2=CC(C(=O)[O-])=CC=C21 GIWKOZXJDKMGQC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001496 lithium tetrafluoroborate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010550 living polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001404 mediated effect Effects 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N n'-(3-triethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical group CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCN INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLVOIQGDDTVQOB-UHFFFAOYSA-N n'-(3-triethoxysilylpropyl)hexane-1,6-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCCCCCN VLVOIQGDDTVQOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLBPOJLDZXHVRR-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCNCCN YLBPOJLDZXHVRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical group CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCZVXVGZMZRGRU-UHFFFAOYSA-N n'-ethylethane-1,2-diamine Chemical compound CCNCCN SCZVXVGZMZRGRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODGYWRBCQWKSSH-UHFFFAOYSA-N n'-ethylpropane-1,3-diamine Chemical compound CCNCCCN ODGYWRBCQWKSSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGHYGBGIWLNFAV-UHFFFAOYSA-N n,n'-ditert-butylethane-1,2-diamine Chemical compound CC(C)(C)NCCNC(C)(C)C KGHYGBGIWLNFAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCZAXBXVDLKQGV-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-2-(7-oxobenzo[c]fluoren-5-yl)oxyethanamine oxide Chemical compound C12=CC=CC=C2C(OCC[N+](C)([O-])C)=CC2=C1C1=CC=CC=C1C2=O WCZAXBXVDLKQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIBWSLLLJZULCP-UHFFFAOYSA-N n-(3-triethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC1=CC=CC=C1 LIBWSLLLJZULCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLKHFSNWQCZBDC-UHFFFAOYSA-N n-(benzenesulfonyl)-n-fluorobenzenesulfonamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)N(F)S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 RLKHFSNWQCZBDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUFHQGLVNNOXMP-UHFFFAOYSA-N n-(triethoxysilylmethyl)cyclohexanamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CNC1CCCCC1 WUFHQGLVNNOXMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNBLTKHUCJLFSB-UHFFFAOYSA-N n-(trimethoxysilylmethyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CNC1=CC=CC=C1 VNBLTKHUCJLFSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRRZZMBHJXLZRS-UHFFFAOYSA-N n-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]cyclohexanamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNC1CCCCC1 DRRZZMBHJXLZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIYLJKDSPVXWSV-UHFFFAOYSA-N n-[bis(dimethylamino)-methylimino-$l^{5}-phosphanyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN=P(N(C)C)(N(C)C)N(C)C XIYLJKDSPVXWSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNYZBFWKVMKMRM-UHFFFAOYSA-N n-benzhydrylidenehydroxylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=NO)C1=CC=CC=C1 DNYZBFWKVMKMRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- DKYVVNLWACXMDW-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexyl-4-methylbenzenesulfonamide Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)NC1CCCCC1 DKYVVNLWACXMDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOOWHTMEMFZITA-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexylnaphthalene-2-sulfonamide Chemical compound C=1C=C2C=CC=CC2=CC=1S(=O)(=O)NC1CCCCC1 FOOWHTMEMFZITA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRDNYWXDODPUJV-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-2-methyl-3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CCNCC(C)C[Si](OC)(OC)OC FRDNYWXDODPUJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- RIWRFSMVIUAEBX-UHFFFAOYSA-N n-methyl-1-phenylmethanamine Chemical compound CNCC1=CC=CC=C1 RIWRFSMVIUAEBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000004593 naphthyridinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CN=C12)* 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 125000000018 nitroso group Chemical group N(=O)* 0.000 description 1
- SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N nonane-1,9-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCN SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010534 nucleophilic substitution reaction Methods 0.000 description 1
- ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N o-toluic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(O)=O ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDOHPVPONNHSPH-UHFFFAOYSA-N octa-2,7-dienyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC=CCCCC=C RDOHPVPONNHSPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005474 octanoate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005386 organosiloxy group Chemical group 0.000 description 1
- AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N oxophosphane Chemical compound P=O AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005740 oxycarbonyl group Chemical group [*:1]OC([*:2])=O 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 125000003232 p-nitrobenzoyl group Chemical group [N+](=O)([O-])C1=CC=C(C(=O)*)C=C1 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- FIKAKWIAUPDISJ-UHFFFAOYSA-L paraquat dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=C[N+](C)=CC=C1C1=CC=[N+](C)C=C1 FIKAKWIAUPDISJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M pent-4-enoate Chemical compound [O-]C(=O)CCC=C HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 239000002304 perfume Substances 0.000 description 1
- 125000005327 perimidinyl group Chemical group N1C(=NC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004934 phenanthridinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC=C3C=CC=CC3=C12)* 0.000 description 1
- 125000004625 phenanthrolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=C3C=CC=NC3=C12)* 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001791 phenazinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C12)* 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-M phenolate Chemical compound [O-]C1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 125000001484 phenothiazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2SC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 125000001644 phenoxazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2OC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 125000003884 phenylalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N phenylsilane Chemical compound [SiH3]C1=CC=CC=C1 PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 125000000394 phosphonato group Chemical group [O-]P([O-])(*)=O 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000004592 phthalazinyl group Chemical group C1(=NN=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N phthalimide Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NC(=O)C2=C1 XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005544 phthalimido group Chemical group 0.000 description 1
- OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-M picrate anion Chemical compound [O-]C1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- RHPBLLCTOLJFPH-UHFFFAOYSA-N piperidin-2-ylmethanamine Chemical compound NCC1CCCCN1 RHPBLLCTOLJFPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTEKQAPRXFBRNN-UHFFFAOYSA-N piperidin-4-ylmethanamine Chemical compound NCC1CCNCC1 LTEKQAPRXFBRNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002587 poly(1,3-butadiene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002503 polyoxyethylene-polyoxypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 1
- HIDKSOTTZRMUML-UHFFFAOYSA-M potassium;dodecanoate Chemical compound [K+].CCCCCCCCCCCC([O-])=O HIDKSOTTZRMUML-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004382 potting Methods 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
- 150000003142 primary aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound CCCO[Ti](OCCC)(OCCC)OCCC HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N propiophenone Chemical compound CCC(=O)C1=CC=CC=C1 KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004673 propylcarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N propylenediamine Chemical compound CC(N)CN AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000001042 pteridinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=NC=CN=C12)* 0.000 description 1
- 125000000561 purinyl group Chemical group N1=C(N=C2N=CNC2=C1)* 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002098 pyridazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- NGXSWUFDCSEIOO-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-3-amine Chemical compound NC1CCNC1 NGXSWUFDCSEIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000007342 radical addition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006462 rearrangement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- VCQYDZJGTXAFRL-UHFFFAOYSA-N s-phenyl benzenecarbothioate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)SC1=CC=CC=C1 VCQYDZJGTXAFRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000012945 sealing adhesive Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M sodium docusate Chemical group [Na+].CCCCC(CC)COC(=O)CC(S([O-])(=O)=O)C(=O)OCC(CC)CCCC APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- 229910001495 sodium tetrafluoroborate Inorganic materials 0.000 description 1
- PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M sodium;3-(n-ethyl-3-methoxyanilino)-2-hydroxypropane-1-sulfonate;dihydrate Chemical compound O.O.[Na+].[O-]S(=O)(=O)CC(O)CN(CC)C1=CC=CC(OC)=C1 PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 125000000213 sulfino group Chemical group [H]OS(*)=O 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003513 tertiary aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFLREYGFSNHWGE-UHFFFAOYSA-N tetracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC=CC=C4C=C3C=C21 IFLREYGFSNHWGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N thiazoline Chemical compound C1CN=CS1 CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005425 toluyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 238000006276 transfer reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 1
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STAGZMKHHNNCKQ-UHFFFAOYSA-N tributyl(fluoro)silane Chemical compound CCCC[Si](F)(CCCC)CCCC STAGZMKHHNNCKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQOXUMQBYILCKR-UHFFFAOYSA-N tridecaene Natural products CCCCCCCCCCCC=C VQOXUMQBYILCKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVYIJOWQJOQFBG-UHFFFAOYSA-N triethoxy(fluoro)silane Chemical compound CCO[Si](F)(OCC)OCC XVYIJOWQJOQFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZIAQVMNAXPCJQ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)COC(=O)C(C)=C UZIAQVMNAXPCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEAPVABOECTMGR-UHFFFAOYSA-N triethyl 2-acetyloxypropane-1,2,3-tricarboxylate Chemical compound CCOC(=O)CC(C(=O)OCC)(OC(C)=O)CC(=O)OCC WEAPVABOECTMGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYBKVVRRGQSGDC-UHFFFAOYSA-N triethyl methyl silicate Chemical compound CCO[Si](OC)(OCC)OCC QYBKVVRRGQSGDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVMRVWAOMIXFFW-UHFFFAOYSA-N triethyl(fluoro)silane Chemical compound CC[Si](F)(CC)CC QVMRVWAOMIXFFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHOCBLDBJFCBQS-UHFFFAOYSA-N trifluoro(methyl)silane Chemical compound C[Si](F)(F)F BHOCBLDBJFCBQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGHTXIKECBJCFI-UHFFFAOYSA-N trifluoro(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](F)(F)F JGHTXIKECBJCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJYXHAUSMDGBBU-UHFFFAOYSA-N trifluoro-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound F[Si](F)(F)CCCOCC1CO1 CJYXHAUSMDGBBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DALOGFFOSLUGET-UHFFFAOYSA-N trifluoromethoxysilane Chemical compound FC(F)(F)O[SiH3] DALOGFFOSLUGET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- ATVLVRVBCRICNU-UHFFFAOYSA-N trifluorosilicon Chemical group F[Si](F)F ATVLVRVBCRICNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOKUUKOEIMCYAI-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)COC(=O)C(C)=C UOKUUKOEIMCYAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N trisodium borate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]B([O-])[O-] BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 125000001834 xanthenyl group Chemical group C1=CC=CC=2OC3=CC=CC=C3C(C12)* 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
本発明は、光硬化性組成物に関し、特に、立ち上がり接着性に優れた光硬化性組成物に関する。 The present invention relates to a photocurable composition, and more particularly to a photocurable composition having excellent rising adhesion.
珪素原子に結合した水酸基または加水分解性基を有し、シロキサン結合を形成することにより架橋し得るケイ素含有基(以下、「架橋性珪素基」ともいう。)を有する有機重合体は、室温においても湿分等による架橋性珪素基の加水分解反応等を伴うシロキサン結合の形成によって架橋し、ゴム状硬化物が得られるという性質を有することが知られている。これらの架橋性珪素基を有する重合体中、主鎖骨格がポリオキシアルキレン系重合体または(メタ)アクリル酸エステル系重合体である有機重合体は、シーリング材、接着剤、塗料などの用途に広く使用されている。 An organic polymer having a silicon-containing group (hereinafter also referred to as “crosslinkable silicon group”) which has a hydroxyl group or a hydrolyzable group bonded to a silicon atom and can be crosslinked by forming a siloxane bond is It is also known to have the property of being crosslinked by the formation of a siloxane bond accompanied by the hydrolysis reaction of the crosslinkable silicon group with moisture or the like to obtain a rubber-like cured product. Among the polymers having these crosslinkable silicon groups, organic polymers whose main chain skeleton is a polyoxyalkylene polymer or a (meth) acrylate polymer are useful for applications such as sealing materials, adhesives and paints. It is widely used.
シーリング材、接着剤、塗料などに用いられる硬化性組成物および硬化によって得られるゴム状硬化物には、硬化性、接着性、貯蔵安定性、モジュラス・強度・伸び等の機械特性等の種々の特性が要求されており、架橋性珪素基を含有する有機重合体に関しても、これまでに多くの検討がなされている。近年、電子部品・電子機器組立分野等の種々の分野において、速硬化性が求められているが、湿気硬化型接着剤の場合、塗布後の貼り合わせ可能時間が短くなるという問題がある。 The curable composition used for sealing materials, adhesives, paints and the like and rubber-like cured products obtained by curing have various properties such as curability, adhesion, storage stability, and mechanical properties such as modulus, strength and elongation. Many studies have been made so far on properties required and organic polymers containing a crosslinkable silicon group. In recent years, quick curing is required in various fields such as the electronic component / electronic device assembly field, but in the case of a moisture curing adhesive, there is a problem that the bonding possible time after application becomes short.
一方、架橋性珪素基を有する有機重合体を用いた光架橋性組成物として、特許文献1は、一分子中に2個以上の加水分解性シリル基を有するポリマー、及び光照射により該ポリマーを架橋させる化合物、を含有してなる光架橋性組成物を開示しており、光照射によりポリマーを架橋させる化合物として、光を照射されることにより酸、あるいは塩基を発生させる化合物を含有する光架橋性組成物を例示している(特許文献1、請求項1〜3)。 On the other hand, as a photocrosslinkable composition using an organic polymer having a crosslinkable silicon group, Patent Document 1 discloses a polymer having two or more hydrolyzable silyl groups in one molecule, and the polymer by light irradiation. A photocrosslinkable composition comprising a compound to be crosslinked is disclosed, which is a compound to crosslink a polymer by light irradiation, and contains a compound to generate an acid or a base by being irradiated with light. The sex composition is illustrated (patent document 1, claims 1 to 3).
しかしながら、特許文献1記載の組成物において、光照射によりポリマーを架橋させる化合物として光酸発生剤を用いた場合、サビを生じるという問題があり、また、光照射によりポリマーを架橋させる化合物として光塩基発生剤を用いた場合、効率が悪く、硬化に長時間を要するといった問題があった。また、立ち上がり接着性等の接着性能についてもさらなる向上が望まれていた。 However, in the composition described in Patent Document 1, when a photoacid generator is used as a compound which crosslinks a polymer by light irradiation, there is a problem that rust occurs, and a photobase as a compound which crosslinks a polymer by light irradiation. In the case of using a generator, there is a problem that the efficiency is low and the curing takes a long time. In addition, further improvement is desired for adhesion performance such as rising adhesion.
本発明が解決しようとする課題は、サビを引き起こすことがなく、光照射後短時間で硬化し、立ち上がり接着性に優れる光硬化性組成物を提供することである。 The problem to be solved by the present invention is to provide a photocurable composition which cures in a short time after light irradiation without causing rust, and which is excellent in rising adhesion.
本発明者等はサビを引き起こすことがなく、短時間で硬化し、立ち上がり接着性に優れる光硬化性組成物として架橋性珪素基含有有機重合体、光塩基発生剤、Si−F結合を有するケイ素化合物等の特定のフッ素化合物及び光ラジカル重合性のビニル基を有する化合物を含有する光硬化性組成物を提案し、特許願2015−006460として特許出願している。本発明者等は分子内に架橋性珪素基と光ラジカル重合性のビニル基を有する重合体、光塩基発生剤及びSi−F結合を有するケイ素化合物等の特定のフッ素化合物を含有する光硬化性組成物もまた、サビを引き起こすことがなく、短時間で硬化し、立ち上がり接着性に優れることを見出した。すなわち本発明は次の光硬化性組成物に関する。 The present inventors do not cause rust, cure in a short time, and as a photocurable composition having excellent rising adhesion, a crosslinkable silicon group-containing organic polymer, a photobase generator, silicon having a Si-F bond A photocurable composition containing a specific fluorine compound such as a compound and a compound having a photoradically polymerizable vinyl group is proposed, and a patent application is filed as patent application 2015-006460. The present inventors are photocurable containing a specific fluorine compound such as a polymer having a crosslinkable silicon group and a photoradical polymerizable vinyl group in the molecule, a photobase generator and a silicon compound having a Si-F bond. The composition was also found to cure in a short time without causing rust, and to be excellent in rising adhesion. That is, the present invention relates to the following photocurable composition.
(1)(A)分子内に架橋性珪素基と光ラジカル重合性のビニル基を有する有機重合体(但し、Si−F結合を有するものを除く)、(B)光塩基発生剤、及び(C)(C1)Si−F結合を有する珪素化合物、及び/又は(C2)三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ素の錯体、フッ素化剤及び多価フルオロ化合物のアルカリ金属塩からなる群から選択される1種以上のフッ素系化合物、を含有することを特徴とする光硬化性組成物。
(2)前記(B)光塩基発生剤が、光潜在性第3級アミンであることを特徴とする(1)に記載の光硬化性組成物。
(3) (D)光により、第一級アミノ基および第二級アミノ基からなる群から選択される1種以上のアミノ基を生成する架橋性珪素基含有化合物をさらに含有することを特徴とする請求項1又は2に記載の光硬化性組成物。
(4)シランカップリング剤(Si−F結合を有するものは除く)をさらに含有することを特徴とする(1)または(2)に記載の光硬化性組成物。
(5)光硬化性組成物が光硬化性接着剤組成物であることを特徴とする(1)〜(3)いずれかに記載の光硬化性組成物。
(6)(1)〜(4)のいずれかに記載の光硬化性組成物に対し、光を照射することにより硬化物を形成することを特徴とする硬化物の製造方法。
(7)(6)記載の方法により形成されてなる硬化物。
(8)(1)〜(4)のいずれかに記載の光硬化性組成物を用いて製造することを特徴とする製品の製造方法。
(9)(6)に記載の方法により製造されてなる製品。
(10)(8)に記載の方法を用いて製造されてなる製品。
(11)(1)〜(4)のいずれかに記載の光硬化性組成物を接着剤として用いてなる製品。
(12)(1)〜(4)のいずれかに記載の光硬化性組成物をコーティング剤として用いてなる製品。
(1) (A) An organic polymer having a crosslinkable silicon group and a photoradical polymerizable vinyl group in its molecule (excluding those having a Si-F bond), (B) a photobase generator, and C) a silicon compound having a (C1) Si-F bond, and / or selected from the group consisting of (C2) boron trifluoride, a complex of boron trifluoride, a fluorinating agent and an alkali metal salt of a polyvalent fluoro compound A photocurable composition comprising one or more fluorine-based compounds.
(2) The photocurable composition as described in (1), wherein the (B) photobase generator is a photolatable tertiary amine.
(3) (D) A crosslinkable silicon group-containing compound which further generates at least one amino group selected from the group consisting of a primary amino group and a secondary amino group by light. The photocurable composition according to claim 1 or 2.
(4) The photocurable composition according to (1) or (2), which further contains a silane coupling agent (excluding those having a Si-F bond).
(5) The photocurable composition according to any one of (1) to (3), which is a photocurable adhesive composition.
(6) A method for producing a cured product, comprising forming a cured product by irradiating light to the photocurable composition according to any one of (1) to (4).
(7) A cured product formed by the method described in (6).
(8) A method for producing a product characterized by using the photocurable composition according to any one of (1) to (4).
(9) A product produced by the method described in (6).
(10) A product produced by using the method according to (8).
(11) A product comprising the photocurable composition according to any one of (1) to (4) as an adhesive.
(12) A product comprising the photocurable composition according to any one of (1) to (4) as a coating agent.
本発明の光硬化性組成物は光照射時に酸を発生しないのでサビを引き起こすことがなく、短時間で硬化し、立ち上がり接着性に優れるという効果を有する。 Since the photocurable composition of the present invention does not generate an acid upon light irradiation, it does not cause rust, and cures in a short time, and has an effect of being excellent in rising adhesion.
本発明の(A)成分に使用する分子内に架橋性珪素基と光ラジカル重合性のビニル基を有する重合体(但し、Si−F結合を有するものを除く)における有機重合体は主鎖がポリシロキサンでない有機重合体であれば各種の主鎖骨格を持つ重合体を使用することができる。 The organic polymer in the polymer having a crosslinkable silicon group and a photoradical polymerizable vinyl group in the molecule used for the component (A) of the present invention (excluding those having a Si-F bond) has a main chain As long as it is an organic polymer that is not a polysiloxane, polymers having various main chain skeletons can be used.
具体的には、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン、ポリオキシテトラメチレン、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン共重合体、ポリオキシプロピレン−ポリオキシブチレン共重合体等のポリオキシアルキレン系重合体;エチレン−プロピレン系共重合体、ポリイソブチレン、イソブチレンとイソプレン等との共重合体、ポリクロロプレン、ポリイソプレン、イソプレンあるいはブタジエンとアクリロニトリルおよび/またはスチレン等との共重合体、ポリブタジエン、イソプレンあるいはブタジエンとアクリロニトリル及びスチレン等との共重合体、これらのポリオレフィン系重合体に水素添加して得られる水添ポリオレフィン系重合体等の炭化水素系重合体;アジピン酸等の2塩基酸とグリコールとの縮合、または、ラクトン類の開環重合で得られるポリエステル系重合体;エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート等のモノマーをラジカル重合して得られる(メタ)アクリル酸エステル系重合体;(メタ)アクリル酸エステル系モノマー、酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチレン等のモノマーをラジカル重合して得られるビニル系重合体;前記有機重合体中でのビニルモノマーを重合して得られるグラフト重合体;ポリサルファイド系重合体;ε−カプロラクタムの開環重合によるナイロン6、ヘキサメチレンジアミンとアジピン酸の縮重合によるナイロン6・6、ヘキサメチレンジアミンとセバシン酸の縮重合によるナイロン6・10、ε−アミノウンデカン酸の縮重合によるナイロン11、ε−アミノラウロラクタムの開環重合によるナイロン12、上記のナイロンのうち2成分以上の成分を有する共重合ナイロン等のポリアミド系重合体;たとえばビスフェノールAと塩化カルボニルより縮重合して製造されるポリカーボネート系重合体、ジアリルフタレート系重合体等が例示される。 Specifically, polyoxyalkylene-based weights such as polyoxyethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, polyoxytetramethylene, polyoxyethylene-polyoxypropylene copolymer, polyoxypropylene-polyoxybutylene copolymer, etc. Combined: ethylene-propylene copolymer, polyisobutylene, copolymer of isobutylene and isoprene, polychloroprene, polyisoprene, copolymer of isoprene or butadiene with acrylonitrile and / or styrene, polybutadiene, isoprene or butadiene And copolymers of acrylonitrile, styrene, etc., hydrocarbon polymers such as hydrogenated polyolefin polymers obtained by hydrogenating these polyolefin polymers; dibasic acids such as adipic acid and glycols Polyester polymers obtained by condensation or ring-opening polymerization of lactones; (meth) acrylate polymers obtained by radical polymerization of monomers such as ethyl (meth) acrylate and butyl (meth) acrylate; (Meth) acrylic acid ester monomers, vinyl polymers obtained by radical polymerization of monomers such as vinyl acetate, acrylonitrile and styrene; graft polymers obtained by polymerizing vinyl monomers in the above organic polymers; polysulfide systems Polymers: nylon 6 by ring-opening polymerization of ε-caprolactam, nylon 6 · 6 by condensation polymerization of hexamethylenediamine and adipic acid, nylon 6 · 10 by condensation polymerization of hexamethylenediamine and sebacic acid, ε-aminoundecanoic acid Nylon 11, ε-amino laurolacta by condensation polymerization 12, a polyamide-based polymer such as copolymerized nylon having two or more components of the above nylons by ring-opening polymerization of the above-mentioned nylon; for example, a polycarbonate-based polymer produced by condensation polymerization from bisphenol A and carbonyl chloride, diallyl Examples are phthalate polymers.
さらに、ポリイソブチレン、水添ポリイソプレン、水添ポリブタジエン等の飽和炭化水素系重合体や、ポリオキシアルキレン系重合体、(メタ)アクリル酸エステル系重合体は比較的ガラス転移温度が低く、得られる硬化物が耐寒性に優れることから好ましい。また、ポリオキシアルキレン系重合体および(メタ)アクリル酸エステル系重合体は、透湿性が高く1液型組成物にした場合に深部硬化性に優れることから特に好ましい。 Furthermore, saturated hydrocarbon polymers such as polyisobutylene, hydrogenated polyisoprene and hydrogenated polybutadiene, polyoxyalkylene polymers, and (meth) acrylate polymers can be obtained with a relatively low glass transition temperature. The cured product is preferable because it is excellent in cold resistance. In addition, polyoxyalkylene polymers and (meth) acrylic acid ester polymers are particularly preferable because they have high moisture permeability and are excellent in deep-part curability when made into a one-pack composition.
本発明に用いる(A)成分における架橋性珪素基は、珪素原子に結合した水酸基又は加水分解性基を有し、シロキサン結合を形成することにより架橋しうる基である。前記架橋性珪素基としては、例えば、下記一般式(1)で示される基が好適である。 The crosslinkable silicon group in the component (A) used in the present invention is a group which has a hydroxyl group or a hydrolyzable group bonded to a silicon atom, and which can be crosslinked by forming a siloxane bond. As the crosslinkable silicon group, for example, a group represented by the following general formula (1) is preferable.
前記式(1)中、R1は、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、R1 3SiO−(R1は、前記と同じ)で示されるトリオルガノシロキシ基、又は1位から3位の炭素原子上の少なくとも1個の水素原子が、ハロゲン、−OR41、−NR42R43、−N=R44、−SR45(R41、R42、R43、R45はそれぞれ水素原子または炭素原子数1から20の置換あるいは非置換の炭化水素基、R44は炭素原子数1から20の2価の置換あるいは非置換の炭化水素基である。)、炭素原子数1から20のペルフルオロアルキル基、若しくはシアノ基で置換された炭素数1〜20の炭化水素基を示し、R1が2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。Xは水酸基または加水分解性基を示し、Xが2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。aは0、1、2または3を、bは0、1または2を、それぞれ示す。またp個の下記一般式(2)におけるbは同一である必要はない。pは0〜19の整数を示す。但し、a+(bの和)≧1を満足するものとする。 Formula (1), R 1 is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, carbon an aralkyl group having 7 to 20, R 1 3 SiO- (R 1 is as defined above) triorganosiloxy group represented by, or 1-position of the 3-position of at least one hydrogen atom on the carbon atoms, halogen , -OR 41 , -NR 42 R 43 , -N = R 44 , -SR 45 (R 41 , R 42 , R 43 and R 45 each represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted carbon atom having 1 to 20 carbon atoms And R 44 is a divalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms), a C 1 to 20 perfluoroalkyl group, or a cyano group substituted by a cyano group. To 20 hydrocarbon groups, and when two or more R 1 are present And they may be identical or different. X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group, and when two or more X are present, they may be the same or different. a represents 0, 1, 2 or 3 and b represents 0, 1 or 2, respectively. Moreover, b in p following general formula (2) does not need to be the same. p shows the integer of 0-19. However, it is assumed that a + (sum of b) ≧ 1 is satisfied.
該加水分解性基や水酸基は1個の珪素原子に1〜3個の範囲で結合することができ、a+(bの和)は1〜5の範囲が好ましい。加水分解性基や水酸基が架橋性珪素基中に2個以上結合する場合には、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。架橋性珪素基を形成する珪素原子は1個でもよく、2個以上であってもよいが、シロキサン結合等により連結された珪素原子の場合には、20個程度あってもよい。 The hydrolyzable group or hydroxyl group can be bonded to one silicon atom in a range of 1 to 3 and a + (sum of b) is preferably in a range of 1 to 5. When two or more hydrolyzable groups or hydroxyl groups are bonded to the crosslinkable silicon group, they may be the same or different. The number of silicon atoms forming the crosslinkable silicon group may be one, or two or more, but in the case of silicon atoms linked by a siloxane bond or the like, about 20 may be present.
前記架橋性珪素基としては、下記一般式(3)で示される架橋性珪素基が、入手が容易である点から好ましい。 As the crosslinkable silicon group, a crosslinkable silicon group represented by the following general formula (3) is preferable from the viewpoint of easy availability.
前記式(3)中、R1、Xは前記におなじ、aは1、2又は3の整数である。硬化性を考慮し、十分な硬化速度を有する硬化性組成物を得るには、前記式(3)においてaは2以上が好ましく、3がより好ましい。 In the formula (3), R 1 and X are the same as above, and a is an integer of 1, 2 or 3. In order to obtain a curable composition having a sufficient curing rate in consideration of the curability, in the formula (3), a is preferably 2 or more, and more preferably 3.
上記R1の具体例としては、たとえばメチル基、エチル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基等のアリール基、ベンジル基等のアラルキル基や、R1 3SiO−で示されるトリオルガノシロキシ基等があげられる。これらの中ではメチル基が好ましい。 Specific examples of the R 1, shown, for example an alkyl group such as methyl group and ethyl group, cycloalkyl groups such as cyclohexyl group, aryl groups such as phenyl, and aralkyl groups such as benzyl group, with R 1 3 SiO- And the like. Of these, methyl is preferred.
上記Xで示される加水分解性基としては、F原子以外であれば特に限定されず、従来公知の加水分解性基であればよい。具体的には、たとえば水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、ケトキシメート基、アミノ基、アミド基、酸アミド基、アミノオキシ基、メルカプト基、アルケニルオキシ基等があげられる。これらの中では、水素原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、ケトキシメート基、アミノ基、アミド基、アミノオキシ基、メルカプト基およびアルケニルオキシ基が好ましく、アルコキシ基、アミド基、アミノオキシ基がさらに好ましい。加水分解性が穏やかで取扱やすいという観点からアルコキシ基が特に好ましい。アルコキシ基の中では炭素数の少ないものの方が反応性が高く、メトキシ基>エトキシ基>プロポキシ基の順のように炭素数が多くなるほどに反応性が低くなる。目的や用途に応じて選択できるが通常メトキシ基やエトキシ基が使用される。 As a hydrolysable group shown by said X, if it is except F atom, it will not be specifically limited, What is necessary is just a conventionally well-known hydrolysable group. Specific examples thereof include a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, a ketoximate group, an amino group, an amido group, an acid amide group, an aminooxy group, a mercapto group and an alkenyloxy group. Among these, a hydrogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, a ketoximate group, an amino group, an amido group, an aminooxy group, a mercapto group and an alkenyloxy group are preferable, and an alkoxy group, an amido group and an aminooxy group are more preferable. Alkoxy groups are particularly preferred in view of mild hydrolyzability and ease of handling. Among the alkoxy groups, those having a smaller number of carbon atoms are more reactive, and the reactivity becomes lower as the number of carbon atoms increases, as in the order of methoxy group> ethoxy group> propoxy group. Although it can be selected according to the purpose or application, usually a methoxy group or an ethoxy group is used.
架橋性珪素基の具体的な構造としては、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等のトリアルコキシシリル基[−Si(OR)3]、メチルジメトキシシリル基、メチルジエトキシシリル基等のジアルコキシシリル基[−SiR1(OR)2]が挙げられ、反応性が高いことにより、トリアルコキシシリル基[−Si(OR)3]が好適であり、トリメトキシシリル基がより好適である。ここでRはメチル基やエチル基のようなアルキル基である。 Specific examples of the crosslinkable silicon group include trialkoxysilyl groups such as trimethoxysilyl group and triethoxysilyl group [-Si (OR) 3 ], and dialkoxy such as methyldimethoxysilyl group and methyldiethoxysilyl group. A silyl group [-SiR < 1 > (OR) 2 ] is mentioned and a trialkoxy silyl group [-Si (OR) 3 ] is suitable by the thing with high reactivity, and a trimethoxy silyl group is more preferable. Here, R is an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group.
また、架橋性珪素基は1種で使用しても良く、2種以上併用してもかまわない。架橋性珪素基は、主鎖または側鎖あるいはいずれにも存在しうる。 The crosslinkable silicon group may be used alone or in combination of two or more. The crosslinkable silicon group may be present in the main chain or side chain or in any one of them.
架橋性珪素基を形成する珪素原子は1個以上であるが、シロキサン結合などにより連結された珪素原子の場合には、20個以下であることが好ましい。 The number of silicon atoms forming the crosslinkable silicon group is one or more, and in the case of silicon atoms linked by a siloxane bond or the like, it is preferably 20 or less.
光ラジカル重合性のビニル基としては(メタ)アクリロイルオキシ基等の(メタ)アクリロイル基を含む基をあげることができる。 Examples of the radically polymerizable vinyl group include groups containing a (meth) acryloyl group such as a (meth) acryloyloxy group.
架橋性珪素基と光ラジカル重合性のビニル基を有する有機重合体は直鎖状、または分岐を有してもよく、その数平均分子量はGPCにおけるポリスチレン換算において500〜100,000程度、より好ましくは1,000〜50,000であり、特に好ましくは3,000〜30,000である。数平均分子量が500未満では、硬化物の伸び特性の点で不都合な傾向があり、100,000を越えると、高粘度となる為に作業性の点で不都合な傾向がある。 The organic polymer having a crosslinkable silicon group and a photoradical polymerizable vinyl group may have a linear or branched chain, and the number average molecular weight is preferably about 500 to 100,000 in terms of polystyrene in GPC, more preferably Is 1,000 to 50,000, and particularly preferably 3,000 to 30,000. If the number average molecular weight is less than 500, the elongation characteristic of the cured product tends to be inconvenient, and if it exceeds 100,000, the viscosity tends to be inconvenient in terms of workability because of high viscosity.
有機重合体に含有される架橋性珪素基や光ラジカル重合性のビニル基は特に制限はないが、それぞれ重合体1分子中に平均して2.0個以下、好ましくは1.3個以下、さらに好ましくは0.8個以上、1.3個以下存在するのがよい。分子中に含まれる架橋性珪素基や光ラジカル重合性のビニル基の数が平均して0.8個未満になると、硬化性が不充分になる傾向にある。架橋性珪素基や光ラジカル重合性のビニル基は、有機重合体分子鎖の主鎖の末端あるいは側鎖の末端にあってもよいし、また、両方にあってもよい。特に、架橋性珪素基が分子鎖の主鎖の末端にのみあるときは、最終的に形成される硬化物に含まれる有機重合体成分の有効網目長が長くなるため、優れた機械強度を有する硬化物が得られやすくなる。 The crosslinkable silicon group and the radically polymerizable vinyl group contained in the organic polymer are not particularly limited, but they are each not more than 2.0, preferably not more than 1.3, in one molecule of the polymer. More preferably, 0.8 or more and 1.3 or less may be present. When the number of the crosslinkable silicon group and the radically polymerizable vinyl group contained in the molecule is less than 0.8 on average, the curability tends to be insufficient. The crosslinkable silicon group and the radically polymerizable vinyl group may be present at the end of the main chain or at the end of the side chain of the organic polymer molecular chain, or may be present at both ends. In particular, when the crosslinkable silicon group is only at the end of the main chain of the molecular chain, it has excellent mechanical strength because the effective network length of the organic polymer component contained in the finally formed cured product becomes long. It becomes easy to obtain a cured product.
前記ポリオキシアルキレン系重合体は、本質的に下記一般式(4)で示される繰り返し単位を有する重合体である。
−R2−O−・・・(4)
前記一般式(4)中、R2は炭素数1〜14の直鎖状もしくは分岐アルキレン基であり、炭素数1〜14の、さらには2〜4の、直鎖状もしくは分岐アルキレン基が好ましい。
The polyoxyalkylene polymer is a polymer essentially having a repeating unit represented by the following general formula (4).
-R 2 -O- (4)
In the above general formula (4), R 2 is a linear or branched alkylene group having 1 to 14 carbon atoms, preferably a linear or branched alkylene group having 1 to 14 carbon atoms, and more preferably 2 to 4 carbon atoms. .
一般式(4)で示される繰り返し単位の具体例としては、
−CH2O−、−CH2CH2O−、−CH2CH(CH3)O−、−CH2CH(C2H5)O−、−CH2C(CH3)2O−、−CH2CH2CH2CH2O−
等が挙げられる。ポリオキシアルキレン系重合体の主鎖骨格は、1種類だけの繰り返し単位からなってもよいし、2種類以上の繰り返し単位からなってもよい。
Specific examples of the repeating unit represented by the general formula (4) are
-CH 2 O -, - CH 2 CH 2 O -, - CH 2 CH (CH 3) O -, - CH 2 CH (C 2 H 5) O -, - CH 2 C (CH 3) 2 O-, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 O-
Etc. The main chain skeleton of the polyoxyalkylene polymer may consist of only one type of repeating unit, or may consist of two or more types of repeating units.
ポリオキシアルキレン系重合体の合成法としては、たとえばKOHのようなアルカリ触媒による重合法、たとえば特開昭61−197631号、同61−215622号、同61−215623号に示されるような有機アルミニウム化合物とポルフィリンとを反応させて得られる、有機アルミ−ポルフィリン錯体触媒による重合法、たとえば特公昭46−27250号および特公昭59−15336号などに示される複金属シアン化物錯体触媒による重合法等があげられるが、特に限定されるものではない。有機アルミ−ポルフィリン錯体触媒による重合法や複金属シアン化物錯体触媒による重合法によれば数平均分子量6,000以上、Mw/Mnが1.6以下の高分子量で分子量分布が狭いポリオキシアルキレン系重合体を得ることができる。 As a synthesis method of the polyoxyalkylene polymer, for example, an alkali catalyst polymerization method such as KOH, for example, an organic aluminum as shown in JP-A-61-197631, JP-A-61-215622, and JP-A-61-215623 A polymerization method using an organoaluminum-porphyrin complex catalyst obtained by reacting a compound and a porphyrin, for example, a polymerization method using a double metal cyanide complex catalyst shown in JP-B-46-27250 and JP-B-59-15336, etc. Although it mentions, it is not limited in particular. According to the polymerization method by organic aluminum-porphyrin complex catalyst and the polymerization method by double metal cyanide complex catalyst, a polyoxyalkylene type having a high molecular weight with a number average molecular weight of 6,000 or more and Mw / Mn of 1.6 or less Polymers can be obtained.
上記ポリオキシアルキレン系重合体の主鎖骨格中にはウレタン結合成分等の他の成分を含んでいてもよい。ウレタン結合成分としては、たとえばトルエン(トリレン)ジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族系ポリイソシアネート;イソフォロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族系ポリイソシアネートと水酸基を有するポリオキシアルキレン系重合体との反応から得られるものをあげることができる。 The main chain skeleton of the polyoxyalkylene polymer may contain other components such as a urethane bond component. Examples of urethane bond components include aromatic polyisocyanates such as toluene (tolylene) diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate and xylylene diisocyanate; aliphatic polyisocyanates such as isophorone diisocyanate and hexamethylene diisocyanate, and polyoxyalkylene heavy chain having hydroxyl group It can be mentioned what is obtained from the reaction with coalescence.
ポリオキシアルキレン系重合体への架橋性珪素基や光ラジカル重合性のビニル基の導入は、分子中に不飽和基、水酸基、エポキシ基やイソシアネート基等の官能基を有するポリオキシアルキレン系重合体に、この官能基に対して反応性を示す官能基および架橋性珪素基や光ラジカル重合性のビニル基を有する化合物を反応させることにより行うことができる(以下、高分子反応法という)。 Introduction of a crosslinkable silicon group and a radically polymerizable vinyl group into a polyoxyalkylene polymer is a polyoxyalkylene polymer having a functional group such as an unsaturated group, a hydroxyl group, an epoxy group or an isocyanate group in the molecule. The reaction can be carried out by reacting a compound having a functional group having reactivity with this functional group and a crosslinkable silicon group or a radically polymerizable vinyl group (hereinafter referred to as a polymer reaction method).
高分子反応法の具体例として、不飽和基含有ポリオキシアルキレン系重合体に架橋性珪素基や光ラジカル重合性のビニル基を有するヒドロシランやメルカプト化合物を作用させてヒドロシリル化やメルカプト化し、架橋性珪素基を有するポリオキシアルキレン系重合体を得る方法をあげることができる。不飽和基含有ポリオキシアルキレン系重合体は水酸基等の官能基を有する有機重合体に、この官能基に対して反応性を示す活性基および不飽和基を有する有機化合物を反応させ、不飽和基を含有するポリオキシアルキレン系重合体を得ることができる。 As a specific example of the polymer reaction method, the unsaturated group-containing polyoxyalkylene polymer is made to react with a hydrosilane or mercapto compound having a crosslinkable silicon group or a radically polymerizable vinyl group to hydrosilylate or mercapate, and crosslinkability A method of obtaining a polyoxyalkylene polymer having a silicon group can be mentioned. An unsaturated group-containing polyoxyalkylene polymer is prepared by reacting an organic polymer having a functional group such as a hydroxyl group with an organic compound having an active group and an unsaturated group that exhibit reactivity with the functional group, to obtain an unsaturated group. A polyoxyalkylene polymer containing can be obtained.
また、高分子反応法の他の具体例として、末端に水酸基を有するポリオキシアルキレン系重合体とイソシアネート基および架橋性珪素基や光ラジカル重合性のビニル基を有する化合物を反応させる方法や末端にイソシアネート基を有するポリオキシアルキレン系重合体と水酸基やアミノ基等の活性水素基および架橋性珪素基や光ラジカル重合性のビニル基を有する化合物を反応させる方法をあげることができる。イソシアネート化合物を使用すると、容易に架橋性珪素基と光ラジカル重合性のビニル基を有するポリオキシアルキレン系重合体を得ることができる。 Further, as another specific example of the polymer reaction method, a method of reacting a polyoxyalkylene polymer having a hydroxyl group at an end with a compound having an isocyanate group and a crosslinkable silicon group or a photoradical polymerizable vinyl group is used. There can be mentioned a method of reacting a polyoxyalkylene polymer having an isocyanate group with a compound having an active hydrogen group such as a hydroxyl group or an amino group, a crosslinkable silicon group or a vinyl group having photo radical polymerization. When an isocyanate compound is used, a polyoxyalkylene polymer having a crosslinkable silicon group and a photoradical polymerizable vinyl group can be easily obtained.
上記の架橋性珪素基と光ラジカル重合性のビニル基を有するポリオキシアルキレン系重合体は、単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。 The polyoxyalkylene polymer having the crosslinkable silicon group and the photoradical polymerizable vinyl group may be used alone or in combination of two or more.
前記飽和炭化水素系重合体は芳香環以外の炭素−炭素不飽和結合を実質的に含有しない重合体であり、その骨格をなす重合体は、(1)エチレン、プロピレン、1−ブテン、イソブチレンなどのような炭素数2〜6のオレフィン系化合物を主モノマーとして重合させるか、(2)ブタジエン、イソプレンなどのようなジエン系化合物を単独重合させ、あるいは、上記オレフィン系化合物とを共重合させた後、水素添加するなどの方法により得ることができるが、イソブチレン系重合体や水添ポリブタジエン系重合体は、末端に官能基を導入しやすく、分子量を制御しやすく、また、末端官能基の数を多くすることができるので好ましく、イソブチレン系重合体が特に好ましい。 The saturated hydrocarbon polymer is a polymer substantially free of carbon-carbon unsaturated bonds other than aromatic rings, and the polymer forming the skeleton is (1) ethylene, propylene, 1-butene, isobutylene, etc. Or an olefin-based compound having 2 to 6 carbon atoms as the main monomer, (2) homopolymerization of a diene-based compound such as butadiene, isoprene or the like, or copolymerization with the above-mentioned olefin-based compound After that, it can be obtained by a method such as hydrogenation, but the isobutylene polymer and the hydrogenated polybutadiene polymer are easy to introduce a functional group at the terminal, easy to control the molecular weight, and the number of terminal functional groups. Is preferred, and isobutylene polymers are particularly preferred.
主鎖骨格が飽和炭化水素系重合体であるものは、耐熱性、耐候性、耐久性、及び湿気遮断性に優れる特徴を有する。 Those having a main chain skeleton of a saturated hydrocarbon-based polymer have excellent heat resistance, weather resistance, durability, and moisture barrier properties.
イソブチレン系重合体は、単量体単位のすべてがイソブチレン単位から形成されていてもよいし、他単量体との共重合体でもよいが、ゴム特性の面からイソブチレンに由来する繰り返し単位を50質量%以上含有するものが好ましく、80質量%以上含有するものがより好ましく、90〜99質量%含有するものが特に好ましい。 In the isobutylene polymer, all of the monomer units may be formed of isobutylene units, or may be copolymers with other monomers, but from the viewpoint of rubber properties, 50 repeat units derived from isobutylene are used. Those containing at least mass% are preferable, those containing at least 80 mass% are more preferable, and those containing at from 90 to 99 mass% are particularly preferable.
飽和炭化水素系重合体の合成法としては、従来、各種重合方法が報告されているが、特に近年多くのいわゆるリビング重合が開発されている。飽和炭化水素系重合体、特にイソブチレン系重合体の場合、Kennedyらによって見出されたイニファー重合(J.P.Kennedyら、J.PolymerSci.,PolymerChem.Ed.1997年、15巻、2843頁)を用いることにより容易に製造することが可能であり、分子量500〜100,000程度を、分子量分布1.5以下で重合でき、分子末端に各種官能基を導入できることが知られている。 Conventionally, various polymerization methods have been reported as methods for synthesizing saturated hydrocarbon polymers, and in particular, a large number of so-called living polymerizations have been developed in recent years. In the case of saturated hydrocarbon polymers, especially isobutylene polymers, use the inifer polymerization (JP Kennedy et al., J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed. 1997, Vol. 15, p. 2843) found by Kennedy et al. It is known that they can be easily manufactured by the method described above, can be polymerized with a molecular weight distribution of about 500 to 100,000, with a molecular weight distribution of 1.5 or less, and can introduce various functional groups at molecular ends.
架橋性珪素基と光ラジカル重合性のビニル基を有する飽和炭化水素系重合体は、上記ポリオキシアルキレン系重合体と同様に製造することができる。また、架橋性珪素基と光ラジカル重合性のビニル基を有する飽和炭化水素系重合体は単独で使用してもよいし2種以上併用してもよい。 A saturated hydrocarbon polymer having a crosslinkable silicon group and a photoradical polymerizable vinyl group can be produced in the same manner as the polyoxyalkylene polymer. The saturated hydrocarbon polymer having a crosslinkable silicon group and a photoradical polymerizable vinyl group may be used alone or in combination of two or more.
前記(メタ)アクリル酸エステル系重合体の主鎖を構成する(メタ)アクリル酸エステル系モノマーとしては特に限定されず、各種のものを用いることができる。例えば、(メタ)アクリル酸;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸tert−ブチル、(メタ)アクリル酸n−ペンチル、(メタ)アクリル酸n−ヘキシル、(メタ)アクリル酸n−ヘプチル、(メタ)アクリル酸n−オクチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸ステアリル等の(メタ)アクリル酸アルキルエステル系モノマー;(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、t−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、テトラメチルピペリジニル(メタ)アクリレート、ペンタメチルピペリジニル(メタ)アクリレート等の脂環式(メタ)アクリル酸エステル系モノマー;(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸トルイル、(メタ)アクリル酸ベンジル、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、パラクミルフェノキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル化o−フェニルフェノール(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェニルチオエチル(メタ)アクリレート等の芳香族(メタ)アクリル酸エステル系モノマー;(メタ)アクリル酸2−メトキシエチル、(メタ)アクリル酸3−メトキシブチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸2−アミノエチル等の(メタ)アクリル酸エステル系モノマー;γ−(メタクリロイルオキシプロピル)トリメトキシシラン、γ−(メタクリロイルオキシプロピル)ジメトキシメチルシラン、メタクリロイルオキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロイルオキシメチルトリエトキシシラン、メタクリロイルオキシメチルジメトキシメチルシラン、メタクリロイルオキシメチルジエトキシメチルシラン等のシリル基含有(メタ)アクリル酸エステル系モノマー;(メタ)アクリル酸のエチレンオキサイド付加物等の(メタ)アクリル酸の誘導体;(メタ)アクリル酸トリフルオロメチルメチル、(メタ)アクリル酸2−トリフルオロメチルエチル、(メタ)アクリル酸2−パーフルオロエチルエチル、(メタ)アクリル酸2−パーフルオロエチル−2−パーフルオロブチルエチル、(メタ)アクリル酸パーフルオロエチル、(メタ)アクリル酸トリフルオロメチル、(メタ)アクリル酸ビス(トリフルオロメチル)メチル、(メタ)アクリル酸2−トリフルオロメチル−2−パーフルオロエチルエチル、(メタ)アクリル酸2−パーフルオロヘキシルエチル、(メタ)アクリル酸2−パーフルオロデシルエチル、(メタ)アクリル酸2−パーフルオロヘキサデシルエチル等のフッ素含有(メタ)アクリル酸エステル系モノマー等が挙げられる。また、(ポリ)エチレングリコールの(メタ)アクリル酸エステルモノマーや(ポリ)プロピレングリコールの(メタ)アクリル酸エステルモノマーなどのジアクリレートなどのポリ(メタ)アクリレートを使用することもできる。 It does not specifically limit as a (meth) acrylic-ester type monomer which comprises the principal chain of the said (meth) acrylic-ester type polymer, A various thing can be used. For example, (meth) acrylic acid; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, (meth) Isobutyl acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, n-pentyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, n-heptyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate ( (Meth) acrylic acid alkyl ester monomers such as 2-ethylhexyl acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate; (meth) Cyclohexyl acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl ) Acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, t-butylcyclohexyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, tetramethyl piperidinyl (meth) acrylate, pentamethyl piperidinyl (meth) acrylate, etc. Alicyclic (meth) acrylic acid ester monomers; phenyl (meth) acrylate, toluyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, nonyl phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, paraquat Mil phenoxy ethylene glycol (meth) acrylate, hydroxyethylated o-phenyl phenol (meth) acrylate, 2-hydroxy 3- phenoxy propyl (meth) acrylate, phenoxy dye Aromatic (meth) acrylic acid ester monomers such as glycol (meth) acrylate, phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate and phenylthioethyl (meth) acrylate; 2-methoxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylate (Meth) acrylic acid esters such as 3-methoxybutyl, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2-aminoethyl (meth) acrylate Monomer; γ- (methacryloyloxypropyl) trimethoxysilane, γ- (methacryloyloxypropyl) dimethoxymethylsilane, methacryloyloxymethyltrimethoxysilane, methacryloyloxymethyltriethoxysilane, methacryloyloxy Silyl group-containing (meth) acrylic acid ester type monomers such as ethyl dimethoxymethylsilane and methacryloyloxymethyldiethoxymethylsilane; (meth) acrylic acid derivatives such as ethylene oxide adduct of (meth) acrylic acid; (meth) acrylic acid Acid trifluoromethyl methyl, (meth) acrylic acid 2-trifluoromethyl ethyl, (meth) acrylic acid 2-perfluoroethyl ethyl, (meth) acrylic acid 2-perfluoroethyl 2-perfluorobutyl ethyl, (meth ) Perfluoroethyl acrylate, trifluoromethyl (meth) acrylate, bis (trifluoromethyl) methyl (meth) acrylate, 2-trifluoromethyl-2-perfluoroethyl ethyl (meth) acrylate, (meth) Acrylic acid 2-perfluorohexylethyl And fluorine-containing (meth) acrylic acid ester-based monomers such as 2-perfluorodecylethyl (meth) acrylate and 2-perfluorohexadecylethyl (meth) acrylate. Also, poly (meth) acrylates such as (meth) acrylic acid ester monomers of (poly) ethylene glycol and diacrylates such as (meth) acrylic acid ester monomers of (poly) propylene glycol can also be used.
前記(メタ)アクリル酸エステル系重合体では、(メタ)アクリル酸エステル系モノマーとともに、以下のビニル系モノマーを共重合することもできる。該ビニル系モノマーを例示すると、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、クロルスチレン、スチレンスルホン酸及びその塩等のスチレン系モノマー;パーフルオロエチレン、パーフルオロプロピレン、フッ化ビニリデン等のフッ素含有ビニルモノマー;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等の架橋性珪素基含有ビニル系モノマー;無水マレイン酸、マレイン酸、マレイン酸のモノアルキルエステル及びジアルキルエステル;フマル酸、フマル酸のモノアルキルエステル及びジアルキルエステル;マレイミド、メチルマレイミド、エチルマレイミド、プロピルマレイミド、ブチルマレイミド、ヘキシルマレイミド、オクチルマレイミド、ドデシルマレイミド、ステアリルマレイミド、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド系モノマー;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリル基含有ビニル系モノマー;アクリルアミド、メタクリルアミド等のアミド基含有ビニル系モノマー;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、安息香酸ビニル、桂皮酸ビニル等のビニルエステル類;エチレン、プロピレン等のアルケン類;ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン類;塩化ビニル、塩化ビニリデン、塩化アリル、アリルアルコール等が挙げられる。 In the (meth) acrylic acid ester-based polymer, the following vinyl-based monomers can be copolymerized together with the (meth) acrylic acid ester-based monomer. Examples of the vinyl-based monomer include styrene-based monomers such as styrene, vinyl toluene, α-methylstyrene, chlorostyrene, styrene sulfonic acid and salts thereof; fluorine-containing vinyl monomers such as perfluoroethylene, perfluoropropylene and vinylidene fluoride Crosslinkable silicon group-containing vinyl monomers such as vinyltrimethoxysilane and vinyltriethoxysilane; maleic anhydride, maleic acid, monoalkyl esters and dialkyl esters of maleic acid; fumaric acid, monoalkyl esters and dialkyl esters of fumaric acid Maleimide, methyl maleimide, ethyl maleimide, propyl maleimide, butyl maleimide, hexyl maleimide, octyl maleimide, dodecyl maleimide, stearyl maleimide, phenyl maleimide, cyclic Maleimide-based monomers such as hexyl maleimide; nitrile-containing vinyl-based monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile; amide-containing vinyl-based monomers such as acrylamide and methacrylamide; vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl pivalate, vinyl benzoate, Vinyl esters such as vinyl cinnamate; alkenes such as ethylene and propylene; conjugated dienes such as butadiene and isoprene; vinyl chloride, vinylidene chloride, allyl chloride, allyl alcohol and the like.
これらは、単独で用いても良いし、複数を共重合させても構わない。なかでも、生成物の物性等から、(メタ)アクリル酸系モノマーからなる重合体が好ましい。より好ましくは、1種又は2種以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーを用い、必要に応じて他の(メタ)アクリル酸モノマーを併用した(メタ)アクリル酸エステル系重合体である。架橋性珪素基と光ラジカル重合性のビニル基を有する(メタ)アクリル酸エステル系重合体は架橋性珪素基含有(メタ)アクリル酸エステル系モノマーと複数の(メタ)アクリレート基を有するモノマーを併用することにより得ることができる。なお、本願明細書において、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸および/あるいはメタクリル酸を表す。 These may be used alone or in combination of two or more. Among them, a polymer composed of a (meth) acrylic acid-based monomer is preferable from the physical properties of the product and the like. More preferably, it is a (meth) acrylic acid ester-based polymer in which one or two or more kinds of (meth) acrylic acid alkyl ester monomers are used, and other (meth) acrylic acid monomers are optionally used in combination. A (meth) acrylic acid ester-based polymer having a crosslinkable silicon group and a photoradical polymerizable vinyl group is used in combination with a crosslinkable silicon-containing (meth) acrylic acid ester monomer and a monomer having a plurality of (meth) acrylate groups It can be obtained by In the present specification, (meth) acrylic acid represents acrylic acid and / or methacrylic acid.
本発明において、(メタ)アクリル酸エステル系重合体を得る方法は、特に限定されず、公知の重合法(例えば、特開昭63−112642号、特開2007−230947号、特開2001−40037号、特開2003−313397号等の記載の合成法)を利用することができ、ラジカル重合反応を用いたラジカル重合法が好ましい。ラジカル重合法としては、重合開始剤を用いて所定の単量体単位を共重合させるラジカル重合法(フリーラジカル重合法)や、末端などの制御された位置に官能基を導入することが可能な制御ラジカル重合法が挙げられる。但し、重合開始剤としてアゾ系化合物、過酸化物などを用いる通常のフリーラジカル重合法で得られる重合体は、分子量分布の値が一般に2以上と大きく、粘度が高くなるという問題を有している。従って、分子量分布が狭く、粘度の低い(メタ)アクリル酸エステル系重合体であって、高い割合で分子鎖末端に官能基を有する(メタ)アクリル酸エステル系重合体を得るためには、制御ラジカル重合法を用いることが好適である。この官能基を利用して架橋性珪素基と光ラジカル重合性のビニル基を導入することができる。 In the present invention, the method for obtaining the (meth) acrylic acid ester-based polymer is not particularly limited, and known polymerization methods (for example, JP-A-63-112642, JP-A-2007-230947, JP-A-2001-40037). No., JP-A No. 2003-313397, etc. can be used, and a radical polymerization method using a radical polymerization reaction is preferred. As a radical polymerization method, a radical polymerization method (free radical polymerization method) in which a predetermined monomer unit is copolymerized using a polymerization initiator, or a functional group can be introduced at a controlled position such as an end. Controlled radical polymerization methods are mentioned. However, a polymer obtained by a conventional free radical polymerization method using an azo compound, a peroxide or the like as a polymerization initiator has a problem that the value of molecular weight distribution is generally as large as 2 or more and the viscosity becomes high. There is. Therefore, in order to obtain a (meth) acrylic ester polymer having a narrow molecular weight distribution and a low viscosity (meth) acrylic ester polymer having a functional group at the molecular chain end at a high rate, It is preferred to use a radical polymerization method. A crosslinkable silicon group and a photoradical polymerizable vinyl group can be introduced by using this functional group.
制御ラジカル重合法としては、特定の官能基を有する連鎖移動剤を用いたフリーラジカル重合法やリビングラジカル重合法が挙げられ、付加−開裂移動反応(ReversibleAddition-FragmentationchainTransfer;RAFT)重合法、遷移金属錯体を用いたラジカル重合法(Transition-Metal-MediatedLivingRadicalPolymerization)等のリビングラジカル重合法がより好ましい。また、架橋性珪素基等の官能基を有するチオール化合物を用いた反応や、架橋性珪素基等の官能基を有するチオール化合物及びメタロセン化合物を用いた反応(特開2001−40037号公報)も好適である。 The controlled radical polymerization includes free radical polymerization using a chain transfer agent having a specific functional group and living radical polymerization, and addition-cleavage transfer reaction (RAFT) polymerization method, transition metal complex A living radical polymerization method such as a radical polymerization method (Transition-Metal-Mediated LivingRadical Polymerization) using is preferred. Further, reactions using a thiol compound having a functional group such as a crosslinkable silicon group, and reactions using a thiol compound having a functional group such as a crosslinkable silicon group and a metallocene compound (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-40037) are also preferable. It is.
これらの架橋性珪素基と光ラジカル重合性のビニル基を有する有機重合体は、単独で使用してもよいし2種以上併用してもよい。具体的には、架橋性珪素基と光ラジカル重合性のビニル基を有するポリオキシアルキレン系重合体、架橋性珪素基を有する飽和炭化水素系重合体、及び架橋性珪素基を有する(メタ)アクリル酸エステル系重合体、からなる群から選択される2種以上をブレンドしてなる有機重合体も使用できる。 These organic polymers having a crosslinkable silicon group and a photoradical polymerizable vinyl group may be used alone or in combination of two or more. Specifically, polyoxyalkylene polymers having a crosslinkable silicon group and a photoradical polymerizable vinyl group, saturated hydrocarbon polymers having a crosslinkable silicon group, and (meth) acrylic resins having a crosslinkable silicon group An acid polymer, and an organic polymer formed by blending two or more selected from the group consisting of these can also be used.
本発明において、(B)光塩基発生剤は、光を照射すると塩基を発生し、この塩基は(A)分子内に架橋性珪素基と光ラジカル重合性のビニル基を有する有機重合体の硬化触媒として作用する。前記(B)光塩基発生剤とは、紫外線、電子線、X線、赤外線および可視光線などの活性エネルギー線の作用により塩基を発生する物質であれば特に限定されず、(1)紫外線・可視光・赤外線等の活性エネルギー線の照射により脱炭酸して分解する有機酸と塩基の塩、(2)分子内求核置換反応や転位反応などにより分解してアミン類を放出する化合物、あるいは(3)紫外線・可視光・赤外線等のエネルギー線の照射により何らかの化学反応を起こして塩基を放出するもの、等の公知の光塩基発生剤を用いることができる。 In the present invention, the (B) photobase generator generates a base when irradiated with light, and the base cures the organic polymer having a crosslinkable silicon group and a photoradical polymerizable vinyl group in the (A) molecule. Act as a catalyst. The (B) photobase generator is not particularly limited as long as it is a substance that generates a base by the action of active energy rays such as ultraviolet rays, electron beams, X-rays, infrared rays and visible rays, and (1) ultraviolet rays / visible rays A salt of an organic acid and a base that decomposes by irradiation with active energy rays such as light and infrared rays to decompose, (2) a compound that decomposes by intramolecular nucleophilic substitution reaction or rearrangement reaction to release amines 3) A known photo base generator such as one that causes a chemical reaction to occur by irradiation of energy rays such as ultraviolet light, visible light and infrared light to release a base can be used.
光塩基発生剤(B)から発生する塩基としては特に限定されないが、アミン化合物等の有機塩基が好ましく、例えば、エチルアミン、プロピルアミン、オクチルアミン、シクロヘキシルアミン、1,5−ジアミノペンタン等の第1級アルキルアミン類;N−メチルベンジルアミン、4,4’−メチレンジアニリン等の第1級芳香族アミン類;ジエチルアミンなどの第2級アルキルアミン類;イミダゾール等の2級アミノ基及び3級アミノ基を有するアミン類;トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)などの第3級アルキルアミン類;4−イソプロピルモルホリン等の第3級複素環式アミン;4−ジメチルアミノピリジン、N,N−ジメチル(3−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル)アミンなどの第3級芳香族アミン類;1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5(DBN)等のアミジン類;特開2011−80032号公報記載のトリス(ジメチルアミノ)(メチルイミノ)ホスホラン等のホスファゼン誘導体が挙げられ、第3級アミノ基を有するアミン化合物が好ましく、強塩基であるアミジン類、ホスファゼン誘導体がより好ましい。アミジン類は非環状アミジン類及び環式アミジン類のいずれも使用可能であるが、環式アミジン類がより好ましい。これら塩基は単独で用いてもよく、2種以上組み合わせて用いてもよい。 The base generated from the photobase generator (B) is not particularly limited, but is preferably an organic base such as an amine compound. For example, the first such as ethylamine, propylamine, octylamine, cyclohexylamine or 1,5-diaminopentane is preferable. -Class alkylamines; primary aromatic amines such as N-methylbenzylamine and 4,4'-methylenedianiline; secondary alkylamines such as diethylamine; secondary amino groups such as imidazole and tertiary amino Amines having a hydroxyl group; tertiary alkyl amines such as trimethylamine, triethylamine, tributylamine, 1,8-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO); tertiary heterocyclic rings such as 4-isopropylmorpholine Amine; 4-dimethylaminopyridine, N, N-dimethyl (3-phenoxy) Tertiary aromatic amines such as 2-hydroxypropyl) amine; 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (DBU), 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5 Amidines such as (DBN); phosphazene derivatives such as tris (dimethylamino) (methylimino) phosphorane described in JP-A-2011-80032; amine compounds having a tertiary amino group are preferable, and a strong base is preferred Amidines and phosphazene derivatives are more preferred. As the amidines, any of non-cyclic amidines and cyclic amidines can be used, but cyclic amidines are more preferable. These bases may be used alone or in combination of two or more.
前記非環状アミジン類としては、例えば、グアニジン系化合物、ビグアニド系化合物等が挙げられる。グアニジン系化合物としては、グアニジン、1,1,3,3−テトラメチルグアニジン、1−ブチルグアニジン、1−フェニルグアニジン、1−o−トリルグアニジン、1,3−ジフェニルグアニジンなどを挙げることができる。ビグアニド系化合物としては、ブチルビグアニド、1−o−トリルビグアニドや1−フェニルビグアニドを挙げることができる。 Examples of the non-cyclic amidines include guanidine compounds and biguanide compounds. Examples of guanidine compounds include guanidine, 1,1,3,3-tetramethylguanidine, 1-butyl guanidine, 1-phenyl guanidine, 1-o-tolyl guanidine, 1,3-diphenyl guanidine and the like. Examples of biguanide compounds include butyl biguanide, 1-o-tolylbiguanide and 1-phenyl biguanide.
また、非環状アミジン化合物の中でも、フェニルグアニジン、1−o−トリルビグアニドや1−フェニルビグアニドなどのアリール置換グアニジン系化合物あるいはアリール置換ビグアニド系化合物を発生する光塩基発生剤を用いた場合は、化合物(A)の触媒として用いた場合、表面の硬化性が良好となる傾向を示すこと、得られる硬化物の接着性が良好となる傾向を示すこと、などから好ましい。 In addition, when a photobase generator that generates arylguanidine substituted compounds such as phenylguanidine, 1-o-tolylbiguanide and 1-phenylbiguanide or aryl substituted biguanide compounds among non-cyclic amidine compounds is used, When it is used as the catalyst of (A), it is preferable from the viewpoint that the curability of the surface tends to be good, the adhesiveness of the cured product to be obtained tends to be good, and the like.
前記環式アミジン類としては、環式グアニジン系化合物、イミダゾリン系化合物、イミダゾール系化合物、テトラヒドロピリミジン系化合物、トリアザビシクロアルケン系化合物、ジアザビシクロアルケン系化合物が挙げられる。 Examples of the cyclic amidines include cyclic guanidine compounds, imidazoline compounds, imidazole compounds, tetrahydropyrimidine compounds, triazabicycloalkene compounds, and diazabicycloalkene compounds.
前記環式グアニジン系化合物としては、例えば、特開2011−80032号公報記載の1,5,7−トリアザ−ビシクロ[4.4.0]デシ−5−エン、7−メチル−1,5,7−トリアザ−ビシクロ[4.4.0]デシ−5−エン、7−エチル−1,5,7−トリアザ−ビシクロ[4.4.0]デシ−5−エン、7−イソプロピル−1,5,7−トリアザ−ビシクロ[4.4.0]デシ−5−エン等が挙げられる。 Examples of the cyclic guanidine compounds include 1,5,7-triaza-bicyclo [4.4.0] dec-5-ene, 7-methyl-1,5,5 described in JP-A-2011-80032. 7-triaza-bicyclo [4.4.0] dec-5-ene, 7-ethyl-1,5,7-triaza-bicyclo [4.4.0] dec-5-ene, 7-isopropyl-1, 5,7-triaza-bicyclo [4.4.0] dec-5-ene and the like.
前記イミダゾリン系化合物としては、例えば、1−メチルイミダゾリン、1,2−ジメチルイミダゾリン、1−メチル−2−エチルイミダゾリン、1−メチル−2−オクチルイミダゾリン等が挙げられる。 Examples of the imidazoline compound include 1-methylimidazoline, 1,2-dimethylimidazoline, 1-methyl-2-ethylimidazoline, 1-methyl-2-octylimidazoline and the like.
前記イミダゾール系化合物としては、例えば、イミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾールなどを挙げることができる。 Examples of the imidazole compounds include imidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole.
前記テトラヒドロピリミジン系化合物としては、例えば、1−メチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジン、1,2−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジン、1−メチル−2−エチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジン、1−メチル−2−ブチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジン、1−エチル−2−オクチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジン等が挙げられる。 Examples of the tetrahydropyrimidine compounds include 1-methyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidine, 1,2-dimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidine, 1-methyl-2-ethyl- 1,4,5,6-tetrahydropyrimidine, 1-methyl-2-butyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidine, 1-ethyl-2-octyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidine, etc. It can be mentioned.
前記トリアザビシクロアルケン系化合物としては、例えば、7−メチル−1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]デセン−5、7−エチル−1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]デセン−5等が挙げられる。 Examples of the triazabicycloalkene compounds include 7-methyl-1,5,7-triazabicyclo [4.4.0] decene-5,7-ethyl-1,5,7-triazabicyclo [4]. 4.4.0] decene-5 etc. are mentioned.
ジアザビシクロアルケン系化合物としては、例えば、1,5−ジアザビシクロ[4.2.0]オクテン−5、1,8−ジアザビシクロ[7.2.0]ウンデセン−8、1,4−ジアザビシクロ[3.3.0]オクテン−4、3−メチル−1,4−ジアザビシクロ[3.3.0]オクテン−4、3,6,7,7−テトラメチル−1,4−ジアザビシクロ[3.3.0]オクテン−4、7,8,8−トリメチル−1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5、1,8−ジアザビシクロ[7.3.0]ドデセン−8、1,7−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−6、8−フェニル−1,7−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−6、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5、1,5−ジアザビシクロ[4.4.0]デセン−5、4−フェニル−1,5−ジアザビシクロ[4.4.0]デセン−5、1,8−ジアザビシクロ[5.3.0]デセン−7、1,8−ジアザビシクロ[7.4.0]トリデセン−8、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、6−メチルブチルアミノ−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、6−メチルオクチルアミノ−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、6−ジブチルアミノ−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、6−ブチルベンジルアミノ−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、6−ジヘキシルアミノ−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、9−メチル−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、9−メチル−1,8−ジアザビシクロ[5.3.0]デセン−7、1,6−ジアザビシクロ[5.5.0]ドデセン−6、1,7−ジアザビシクロ[6.5.0]トリデセン−7、1,8−ジアザビシクロ[7.5.0]テトラデセン−8、1,10−ジアザビシクロ[7.3.0]ドデセン−9、1,10−ジアザビシクロ[7.4.0]トリデセン−9、1,14−ジアザビシクロ[11.3.0]ヘキサデセン−13、1,14−ジアザビシクロ[11.4.0]ヘプタデセン−13等が挙げられる。 Examples of diazabicycloalkene compounds include 1,5-diazabicyclo [4.2.0] octene-5,1,8-diazabicyclo [7.2.0] undecene-8,1,4-diazabicyclo [3]. 3.0] octene-4,3-methyl-1,4-diazabicyclo [3.3.0] octene-4,3,6,7,7-tetramethyl-1,4-diazabicyclo [3.3. 0] octene-4,7,8,8-trimethyl-1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5,1,8-diazabicyclo [7.3.0] dodecene-8,1,7- Diazabicyclo [4.3.0] nonene-6,8-phenyl-1,7-diazabicyclo [4.3.0] nonene-6,1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5,1,1,7 5-Diazabicyclo [4.4.0] decene- 4-phenyl-1,5-diazabicyclo [4.4.0] decene-5,1,8-diazabicyclo [5.3.0] decene-7,1,8-diazabicyclo [7.4.0] tridecene -8,1,8-Diazabicyclo [5.4.0] undecene-7, 6-methylbutylamino-1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7, 6-methyloctylamino-1,8 Diazabicyclo [5.4.0] undecene-7, 6-dibutylamino-1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7, 6-butylbenzylamino-1,8-diazabicyclo [5.4. 0] Undecen-7, 6-dihexylamino-1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7, 9-methyl-1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7, 9-me Le-1,8-diazabicyclo [5.3.0] decene-7, 1,6-diazabicyclo [5.5.0] dodecene-6,1,7-diazabicyclo [6.5.0] tridecene-7, 1,8-Diazabicyclo [7.5.0] tetradecene-8,1,10-diazabicyclo [7.3.0] dodecene-9,1,10-diazabicyclo [7.4.0] tridecene-9,1,1,0 14-diazabicyclo [11.3.0] hexadecene-13, 1,14-diazabicyclo [11.4.0] heptadecene-13 and the like can be mentioned.
前記環式アミジン類のうち、工業的に入手が容易であるという点や、共役酸のpKa値が12以上であることから高い触媒活性を示す点から、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5(DBN)が特に好適である。また、塩基として反応性珪素基を有するアミン等の反応性珪素基を有する塩基も使用することができる。 Among the cyclic amidines, 1,8-diazabicyclo [5.4.2 from the viewpoint of industrial availability and high catalytic activity because the pKa value of the conjugate acid is 12 or more. 0) Undecen-7 (DBU), 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5 (DBN) is particularly preferred. In addition, a base having a reactive silicon group such as an amine having a reactive silicon group can also be used as a base.
本発明に用いられる(B)光塩基発生剤としては、公知の光塩基発生剤を用いることができるが、活性エネルギー線の作用によりアミン化合物を発生する光潜在性アミン化合物が好ましい。該光潜在性アミン化合物としては、活性エネルギー線の作用により第1級アミノ基を有するアミン化合物を発生する光潜在性第1級アミン、活性エネルギー線の作用により第2級アミノ基を有するアミン化合物を発生する光潜在性第2級アミン、及び活性エネルギー線の作用により第3級アミノ基を有するアミン化合物を発生する光潜在性第3級アミンのいずれも使用可能であるが、発生塩基が高い触媒活性を示す点から光潜在性第3級アミンがより好適である。 As the photobase generator (B) used in the present invention, known photobase generators can be used, but photolatent amine compounds that generate an amine compound by the action of active energy rays are preferable. As the photolatent amine compound, a photolatent primary amine which generates an amine compound having a primary amino group by the action of active energy rays, an amine compound having a secondary amino group by the action of active energy rays Although any of photolatable secondary amines that generate light and photolatent tertiary amines that generate amine compounds having a tertiary amino group by the action of active energy rays can be used, the generation base is high. A photolatable tertiary amine is more preferable in view of catalytic activity.
前記光潜在性第1級アミン及び光潜在性第2級アミンとしては、例えば、1,3−ビス〔N−(2−ニトロベンジルオキシカルボニル)−4−ピペリジル〕プロパン、N−{[(3−ニトロ−2−ナフタレンメチル)オキシ]カルボニル}−2,6−ジメチルピペリジン、N−{[(6,7−ジメトキシ−3−ニトロ−2−ナフタレンメチル)オキシ]カルボニル}−2,6−ジメチルピペリジン、N−(2−ニトロベンジルオキシカルボニル)ピペリジン、[[(2,6−ジニトロベンジル)オキシ]カルボニル]シクロヘキシルアミン、N,N’−ビス(2−ニトロベンジルオキシカルボニル)ヘキシルジアミン、o−ニトロベンジルN−カルバミン酸シクロヘキシル、2−ニトロベンジルシクロヘキシルカーバメート、1−(2−ニトロフェニル)エチルシクロヘキシルカーバメート、2,6−ジニトロベンジルシクロヘキシルカーバメート、1−(2,6−ジニトロフェニル)エチルシクロヘキシルカーバメート、1−(3,5−ジメトキシフェニル)−1−メチルエチルシクロヘキシルカーバメート、ビス[[(2−ニトロベンジル)オキシ]カルボニル]ヘキサン1,6−ジアミン、N−(2−ニトロベンジルオキシカルボニル)ピロリジン等のオルトニトロベンジルウレタン系化合物;α,α−ジメチル−3,5−ジメトキシベンジルシクロヘキシルカルバメート、3,5−ジメトキシベンジルシクロヘキシルカルバメート等のジメトキシベンジルウレタン系化合物;1−(3,5−ジメトキシベンゾイル)−1−(3,5−ジメトキシフェニル)メチルシクロヘキシルカルバメート、2−ヒドロキシ−2−フェニルアセトフェノンシクロヘキシルカルバメート、ジベンゾインイソホロンジカルバメート、1−ベンゾイル−1−フェニルメチルシクロヘキシルカーバメート、2−ベンゾイル−2−ヒドロキシ−2−フェニルエチルシクロヘキシルカーバメート等のカルバミン酸ベンゾイン類;o−ベンジルカルボニル−N−(1−フェニルエチリデン)ヒドロキシルアミン等のo−アシルオキシム類;[(ペンタン−1,5−ジイル)ビスカルバモイル]ビス(ジフェニルメチリデンヒドロキシルアミン)、α−(シクロヘキシルカルバモイルオキシイミノ)−α−(4−メトキシフェニル)アセトニトリル等のo−カルバモイルオキシム類;N−(オクチルカルバモイルオキシ)フタルイミド、N−(シクロヘキシルカルバモイルオキシ)スクシンイミド等のN−ヒドロキシイミドカルバマート類;4,4’−メチレンビス(ホルムアリニド)等のホルムアニリド誘導体;N−シクロヘキシル−2−ナフタレンスルホンアミド、N−シクロヘキシル−p−トルエンスルホンアミド等の芳香族スルホンアミド類;Co(NH2C3H7)Br+ClO4 −等のコバルトアミン錯体等が挙げられる。 Examples of the photolatent primary amine and the photolatent secondary amine include 1,3-bis [N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-piperidyl] propane, N-{[(3 -Nitro-2-naphthalenemethyl) oxy] carbonyl} -2,6-dimethylpiperidine, N-{[(6,7-dimethoxy-3-nitro-2-naphthalenemethyl) oxy] carbonyl} -2,6-dimethyl Piperidine, N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) piperidine, [[(2,6-dinitrobenzyl) oxy] carbonyl] cyclohexylamine, N, N′-bis (2-nitrobenzyloxycarbonyl) hexyl diamine, o- Nitrobenzyl N-carbamic acid cyclohexyl, 2-nitrobenzyl cyclohexyl carbamate, 1- (2-nitro Phenyl) ethyl cyclohexylcarbamate, 2,6-dinitrobenzylcyclohexylcarbamate, 1- (2,6-dinitrophenyl) ethylcyclohexylcarbamate, 1- (3,5-dimethoxyphenyl) -1-methylethylcyclohexylcarbamate, bis [[ Orthonitrobenzylurethane compounds such as (2-nitrobenzyl) oxy] carbonyl] hexane 1,6-diamine, N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) pyrrolidine, etc .; α, α-dimethyl-3,5-dimethoxybenzylcyclohexyl Dimethoxybenzyl urethane compounds such as carbamates and 3,5-dimethoxybenzylcyclohexyl carbamate; 1- (3,5-dimethoxybenzoyl) -1- (3,5-dimethoxyphenyl) methylcyclohexyl Carbamate benzoins such as carbamate, 2-hydroxy-2-phenylacetophenone cyclohexyl carbamate, dibenzoin isophorone dicarbamate, 1-benzoyl-1-phenylmethyl cyclohexyl carbamate, 2-benzoyl-2-hydroxy-2-phenylethyl cyclohexyl carbamate O-Acyloximes such as o-benzylcarbonyl-N- (1-phenylethylidene) hydroxylamine; [(pentane-1,5-diyl) biscarbamoyl] bis (diphenylmethylidenehydroxylamine), α- (cyclohexyl O-Carbamoyl oximes such as carbamoyloxyimino) -α- (4-methoxyphenyl) acetonitrile; N- (octylcarbamoyloxy) phthalimide, N- (cyclohexyl) N-hydroxyimido carbamates such as xylcarbamoyloxy) succinimide; formanilide derivatives such as 4,4'-methylene bis (formalinide); N-cyclohexyl-2-naphthalene sulfonamide, N-cyclohexyl-p-toluene sulfonamide, etc. Aromatic sulfonamides; cobalt amine complexes such as Co (NH 2 C 3 H 7 ) Br + ClO 4 − and the like.
前記光潜在性第3級アミンとしては、例えば、α−アミノケトン誘導体、α−アンモニウムケトン誘導体、ベンジルアミン誘導体、ベンジルアンモニウム塩誘導体、α−アミノアルケン誘導体、α−アンモニウムアルケン誘導体、アミンイミド類、光によりアミジンを発生するベンジルオキシカルボニルアミン誘導体、及びカルボン酸と3級アミンとの塩等が挙げられる。 Examples of the photolatable tertiary amine include α-aminoketone derivatives, α-ammonium ketone derivatives, benzylamine derivatives, benzylammonium salt derivatives, α-aminoalkene derivatives, α-ammonium alkene derivatives, amine imides, and the like. Examples thereof include benzyloxycarbonylamine derivatives which generate amidine, and salts of carboxylic acids and tertiary amines.
α−アミノケトン誘導体として、例えば、下記式(i)〜(iv)で示されるα−アミノケトン化合物が好適な例として挙げられる。 As an alpha-amino ketone derivative, the alpha-amino ketone compound shown by following formula (i)-(iv) is mentioned as a suitable example, for example.
前記式(i)中、式中、R51は、芳香族又は複素芳香族基であり、R51が、芳香族基(これは、非置換であるか、又はC1−C18アルキル、C3−C18アルケニル、C3−C18アルキニル、C1−C18ハロアルキル、NO2、NR58R59、N3、OH、CN、OR60、SR60、C(O)R61、C(O)OR62若しくはハロゲンにより1回以上置換されている。R58、R59、R60、R61及びR62は、水素又はC1−C18アルキルである)であることが好ましく、フェニル、ナフチル、フェナントリル、アントラシル、ピレニル、5,6,7,8−テトラヒドロ−2−ナフチル、5,6,7,8−テトラヒドロ−1−ナフチル、チエニル、ベンゾ[b]チエニル、ナフト[2,3−b]チエニル、チアトレニル、ジベンゾフリル、クロメニル、キサンテニル、チオキサンチル、フェノキサチイニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、インドリジニル、イソインドリル、インドリル、インダゾリル、プリニル、キノリジニル、イソキノリル、キノリル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、プテリジニル、カルバゾリル、β−カルボリニル、フェナントリジニル、アクリジニル、ペリミジニル、フェナントロリニル、フェナジニル、イソチアゾリル、フェノチアジニル、イソキサゾリル、フラザニル、テルフェニル、スチルベニル、フルオレニル若しくはフェノキサジニルからなる群から選択されることがより好ましい。
R52及びR53は、互いに独立して、水素、C1−C18アルキル、C3−C18アルケニル、C3−C18アルキニル又はフェニルであり、そしてもしR52が水素又はC1−C18アルキルであれば、R53は、更に、基−CO−R64(式中、R64は、C1−C18アルキル又はフェニルである)であるか;或いは、R51とR53は、カルボニル基及びR53が結合しているC原子と一緒になって、ベンゾシクロペンタノン基を形成する。
R54およびR56は、一緒になって、非置換であるか、または1個以上のC1〜C4アルキル基によって置換されているC2〜C12アルキレンブリッジを形成する。R55およびR57は、一緒になって、R54およびR56とは独立して、非置換であるか、または1個以上のC1〜C4アルキル基によって置換されているC2〜C12アルキレンブリッジを形成する。R54とR56が、一緒になって、C3アルキレン橋を形成し、R55とR57が、一緒になって、プロピレン又はペンチレンであることが好ましい。
In the formula (i), in the formula, R 51 is an aromatic or heteroaromatic group, and R 51 is an aromatic group (which is unsubstituted or C 1 -C 18 alkyl, C 3- C 18 alkenyl, C 3- C 18 alkinyl, C 1-C 18 haloalkyl, NO 2, NR 58 R 59 , N 3, OH, CN, OR 60, SR 60, C (O) R 61, C ( O) preferably substituted one or more times by OR 62 or halogen, preferably R 58 , R 59 , R 60 , R 61 and R 62 are hydrogen or C 1 -C 18 alkyl; Naphthyl, phenanthryl, anthracyl, pyrenyl, 5,6,7,8-tetrahydro-2-naphthyl, 5,6,7,8-tetrahydro-1-naphthyl, thienyl, benzo [b] thienyl, naphtho [2, 3-b] Thienyl, thiatrenil, dibenzofuryl, chromenyl, xanthenyl, thioxanthyl, phenoxatinyl, pyrrolyl, imidazolyl, pyrazolyl, pyrazinyl, pyrimidinyl, pyridazinyl, indolizinyl, isoindolyl, indazolyl, purinyl, quinolizinyl, isoquinolyl, isoquinolyl quinolinyl, Phthalazinyl, naphthyridinyl, quinoxalinyl, quinazolinyl, cinolinyl, pteridinyl, carbazolyl, β-carbolinyl, β-carbolinyl, phenanthridinyl, acridinyl, perimidinyl, phenanthrolinyl, phenazinyl, isothiazolyl, phenothiazinyl, isoxazolyl, furazanyl, fluorenyl More preferably, it is selected from the group consisting of phenoxazinyl.
R 52 and R 53 are, independently of one another, hydrogen, C 1 -C 18 alkyl, C 3 -C 18 alkenyl, C 3 -C 18 alkynyl or phenyl, and if R 52 is hydrogen or C 1 -C If it is 18 alkyl, then R 53 is additionally a group -CO-R 64 , wherein R 64 is C 1 -C 18 alkyl or phenyl; or alternatively, R 51 and R 53 are Together with the carbonyl atom and the C atom to which R 53 is attached, form a benzocyclopentanone group.
R 54 and R 56 together form a C 2 -C 12 alkylene bridge which is unsubstituted or substituted by one or more C 1 -C 4 alkyl groups. R 55 and R 57 taken together, independently of R 54 and R 56 , are C 2 -C which is unsubstituted or substituted by one or more C 1 -C 4 alkyl groups 12 form an alkylene bridge. It is preferred that R 54 and R 56 together form a C 3 alkylene bridge and R 55 and R 57 together are propylene or pentylene.
前記式(ii)〜(iv)において、R51〜R53はそれぞれ前記式(i)のR51〜R53と同様である。
R66は炭素原子数1〜12のアルキル基;−OH、−炭素原子数1〜4のアルコキシ、−CNもしくは−COO(炭素原子数1〜4のアルキル)で置換された炭素原子数2〜4のアルキル基を表すか、または、R66は炭素原子数3〜5のアルケニル基、炭素原子数5〜12のシクロアルキル基またはフェニル−炭素原子数1〜3のアルキル基を表す。R67は炭素原子数1〜12のアルキル基;または−OH、−炭素原子数1〜4のアルコキシ基、−CNもしくは−COO(炭素原子数1〜4のアルキル)で置換された炭素原子数2〜4のアルキル基を表すかまたはR67は炭素原子数3〜5のアルケニル基、炭素原子数5〜12のシクロアルキル基、フェニル−炭素原子数1〜3のアルキル基、または、未置換であるかまたは炭素原子数1〜12のアルキル基、炭素原子数1〜4のアルコキシ基もしくは−COO(炭素原子数1〜4のアルキル)によって置換されたフェニル基を表すか、あるいはR67はRR66と一緒になって炭素原子数1〜7のアルキレン基、フェニル−炭素原子数1〜4のアルキレン基、o−キシリレン基、2−ブテニレン基または炭素原子数2もしくは3のオキサアルキレン基を表すか、あるいはR66およびR67は一緒になって−O−、−S−もしくは−CO−で中断され得る炭素原子数4〜7のアルキレン基を表すか、またはR66およびR67は一緒になってOH、炭素原子数1〜4のアルコキシ基もしくは−COO(炭素原子数1〜4のアルキル)で置換され得る炭素原子数3〜7のアルキレン基を表す。R66およびR67が複数存在する場合それらは同じであっても異なっていてもよい。
Y1は下記式(v)で示される2価の基、−N(R68)−又は−N(R68)−R69−N(R68)−で示される2価の基を表し、R68は炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数3〜5のアルケニル基、フェニル−炭素原子数1〜3のアルキル基、炭素原子数1〜4のヒドロキシアルキル基もしくはフェニル基を表し、R69は1もしくはそれ以上の−O−または−S−により中断され得る枝分かれしていないまたは枝分かれした炭素原子数2〜16のアルキレン基を表す。Y2は炭素原子数1〜6のアルキレン基、シクロヘキシレン基もしくは直接結合を表す。
In the formula (ii) ~ (iv), R 51 ~R 53 is the same as R 51 to R 53 of each of the formulas (i).
R 66 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; -OH, -alkoxy having 1 to 4 carbon atoms, -CN or -COO (alkyl having 1 to 4 carbon atoms) substituted with 2 to 2 carbon atoms Or R 66 represents an alkenyl group having 3 to 5 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. R 67 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; or -OH,-an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, -CN or -COO (alkyl having 1 to 4 carbon atoms) Or R 67 represents an alkenyl group having 3 to 5 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, a phenyl-C 1 to 3 alkyl group, or an unsubstituted group Or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group substituted by -COO (alkyl having 1 to 4 carbon atoms), or R 67 represents alkylene group having 1 to 7 carbon atoms together with the RR 66, phenyl - alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, o- xylylene group, 2-butenylene group, or o carbon atoms 2 or 3 Or R 66 and R 67 together represent an alkylene group of 4 to 7 carbon atoms which can be interrupted by -O-, -S- or -CO-, or R 66 and R 67 R 67 taken together represents OH, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkylene group having 3 to 7 carbon atoms that may be substituted with —COO (alkyl having 1 to 4 carbon atoms). When there are a plurality of R 66 and R 67, they may be the same or different.
Y 1 is a divalent group, -N (R 68) represented by the following formula (v) - represents a divalent group represented by - or -N (R 68) -R 69 -N (R 68) R 68 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 5 carbon atoms, a phenyl-alkyl having 1 to 3 carbon atoms, a hydroxyalkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group , R 69 represents one or more unbranched or branched C 2-16 alkylene groups which can be interrupted by -O- or -S-. Y 2 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, a cyclohexylene group or a direct bond.
前記式(i)で示されるα−アミノケトン化合物としては、例えば、特開2001−512421号公報記載の5−(4’−フェニル)フェナシル−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−フェナシル−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−ナフトイルメチル−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(1’−ピレニルカルボニルメチル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(4’−ニトロ)フェナシル−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(2’、4’−ジメトキシ)フェナシル−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(9’−アンスロイルメチル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、8−(4’−フェニル)フェナシル−(1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕−7−ウンデセン)等が挙げられる。 Examples of the α-amino ketone compound represented by the formula (i) include 5- (4′-phenyl) phenacyl-1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane described in JP-A-2001-512421. 5-phenacyl-1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5-naphthoylmethyl-1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (1′-pyrenylcarbonylmethyl)- 1,5-Diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (4'-nitro) phenacyl-1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (2 ', 4'-dimethoxy) phenacil 1,5-Diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (9'-anthroylmethyl) -1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 8- (4'-phenyl) phenacyl- (1 8- diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene), and the like.
前記式(ii)で示されるα−アミノケトン化合物としては、例えば、特開平11−71450号公報記載の4−(メチルチオベンゾイル)−1−メチル−1−モルホリノエタン(イルガキュア907)、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン(イルガキュア369)、2−(4−メチルベンジル)−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン(イルガキュア379)等が挙げられる。 Examples of the α-amino ketone compound represented by the above formula (ii) include 4- (methylthiobenzoyl) -1-methyl-1-morpholinoethane (IRGACURE 907), 2-benzyl- described in JP-A-11-171450. 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone (IRGACURE 369), 2- (4-methylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone (IRGACURE 379), etc. It can be mentioned.
α−アンモニウムケトン誘導体として、例えば、下記式(vi)で示されるα−アンモニウムケトン化合物が挙げられる。 As an alpha-ammonium ketone derivative, the alpha-ammonium ketone compound shown by following formula (vi) is mentioned, for example.
前記式(vi)において、kは1又は2であって、カチオンの正電荷数に相当する。V−はカウンターアニオンであり、ボレートアニオン(テトラフェニルボレート、メチルトリフェニルボレート、エチルトリフェニルボレート、プロピルトリフェニルボレート及びブチルトリフェニルボレート等)、フェノラートアニオン(フェノラート、4−tert−ブチルフェノラート、2,5−ジ−tert−ブチルフェノラート、4−ニトロフェノラート、2,5−ジニトロフェノラート及び2,4,6−トリニトロフェノラート等)及びカルボキシレートアニオン(安息香酸アニオン、トルイル酸アニオン及びフェニルグリオキシル酸アニオン等)等が挙げられる。これらのうち、光分解性の観点から、ボレートアニオン及びカルボキシレートアニオンが好ましく、さらに好ましくはブチルトリフェニルボレートアニオン、テトラフェニルボレートアニオン、安息香酸アニオン及びフェニルグリオキシル酸アニオン、光分解性及び熱安定性の観点から特に好ましくはテトラフェニルボレートアニオン及びフェニルグリオキシル酸アニオンである。 In the formula (vi), k is 1 or 2, which corresponds to the positive charge number of the cation. V - is a counter anion, and borate anion (tetraphenyl borate, methyl triphenyl borate, ethyl triphenyl borate, propyl triphenyl borate, butyl triphenyl borate and the like), phenolate anion (phenolate, 4-tert-butyl phenolate) 2,5-di-tert-butylphenolate, 4-nitrophenolate, 2,5-dinitrophenolate and 2,4,6-trinitrophenolate etc.) and carboxylate anion (benzoic acid anion, toluic acid) Anion and phenylglyoxylate anion etc. and the like. Among these, from the viewpoint of photodegradability, borate anions and carboxylate anions are preferable, and butyl triphenyl borate anion, tetraphenyl borate anion, benzoate anion and phenyl glyoxylate anion, photodegradability and thermal stability are more preferable. Particularly preferred are tetraphenyl borate anion and phenyl glyoxylate anion from the viewpoint of
前記式(vi)において、R51〜R53はそれぞれ前記式(i)のR51〜R53と同様である。
R70〜R72は、それぞれ互いに独立に、水素、C1〜C18アルキル、C3〜C18アルケニル、C3〜C18アルキニルもしくはフェニルであり;またはR70とR71および/もしくはR72とR71が、互いに独立にC2〜C12アルキレン架橋を形成しているか;あるいはR70〜R72が、結合している窒素原子とともに、P1、P2、P<t/4>型のホスファゼン塩基を、または、下記構造式(a)、(b)、(c)、(d)、(e)、(f)もしくは(g)の基を形成している。
In the formula (vi), R 51 ~R 53 is the same as R 51 to R 53 of each of the formulas (i).
R 70 to R 72 are each, independently of one another, hydrogen, C 1 to C 18 alkyl, C 3 to C 18 alkenyl, C 3 to C 18 alkynyl or phenyl; or R 70 and R 71 and / or R 72 And R 71 independently of one another form a C 2 -C 12 alkylene bridge; or, together with the nitrogen atom to which R 70 -R 72 is attached, P 1 , P 2 , P <t / 4> type Or a group of the following structural formula (a), (b), (c), (d), (e), (f) or (g).
前記式(a)〜(g)中、R51及びR52は前記式(i)のR51及びR52と同様であり、l及びqはそれぞれ互いに独立に2〜12の数である。 In the formula (a) ~ (g), R 51 and R 52 are the same as R 51 and R 52 in the formula (i), l and q is a number from 2 to 12 each, independently of one another.
α−アンモニウムケトン誘導体の具体例としては、例えば、特表2001−513765号公報、WO2005/014696号公報記載のフェナシルトリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート、(4−メトキシフェナシル)トリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート、1−フェナシル−(1−アゾニア−4−アザビシクロ[2,2,2]−オクタン)テトラフェニルボレート、(1,4−フェナシル−1,4−ジアゾニアビシクロ[2.2.2]オクタン)ビス(テトラフェニルボレート)、1−ナフトイルメチル−(1−アゾニア−4−アザビシクロ[2,2,2]−オクタン)テトラフェニルボレート、1−(4’−フェニル)フェナシル−(1−アゾニア−4−アザビシクロ[2.2.2]オクタン)テトラフェニルボレート、5−(4’−フェニル)フェナシル−(5−アゾニア−1−アザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン)テトラフェニルボレート、5−(4’−メトキシ)フェナシル−(5−アゾニア−1−アザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン)テトラフェニルボレート、5−(4’−ニトロ)フェナシル−(5−アゾニア−1−アザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン)テトラフェニルボレート、5−(4’−フェニル)フェナシル−(8−アゾニア−1−アザビシクロ〔5.4.0〕−7−ウンデセン)テトラフェニルボレート等が挙げられる。 As specific examples of the α-ammonium ketone derivative, for example, phenacyltriethylammonium tetraphenylborate described in JP-A-2001-513765, WO 2005/014696, (4-methoxyphenacyl) triethylammonium tetraphenylborate, 1 -Phenacyl- (1-azonia-4-azabicyclo [2,2,2] -octane) tetraphenylborate, (1,4-phenacyl-1,4-diazoniabicyclo [2.2.2] octane) bis ( Tetraphenylborate), 1-naphthoylmethyl- (1-azonia-4-azabicyclo [2,2,2] -octane) tetraphenylborate, 1- (4'-phenyl) phenacyl- (1-azonia-4-4) Azabicyclo [2.2.2] octane) tetraphenylbo And 5- (4'-phenyl) phenacyl- (5-azonia-1-azabicyclo [4.3.0] -5-nonene) tetraphenylborate, 5- (4'-methoxy) phenacyl- (5-) Azonia-1-azabicyclo [4.3.0] -5-nonene) tetraphenylborate, 5- (4'-nitro) phenacyl- (5-azonia-1-azabicyclo [4.3.0] -5-nonene And tetraphenylborate, 5- (4'-phenyl) phenacyl- (8-azonia-1-azabicyclo [5.4.0] -7-undecene) tetraphenylborate and the like.
ベンジルアミン誘導体として、例えば、下記式(vii)で示されるベンジルアミン化合物が挙げられる。 As a benzylamine derivative, the benzylamine compound shown by following formula (vii) is mentioned, for example.
前記式(vii)において、R51、R54〜R57はそれぞれ前記式(i)のR51、R54〜R57と同様である。
R73およびR74は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基又はハロゲン原子、炭素数1〜20のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、炭素数1〜20のアルキルチオ基、炭素数1〜20のアルキルシリル基、炭素数1〜20のアシル基、アミノ基、シアノ基、炭素数1〜20のアルキル基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェ二ルチオ基の群から選ばれる基で置換されていてもよいフェニル基を表し、R73及びR74は互いに結合して環構造を形成していてもよい。
In the formula (vii), R 51, R 54 ~R 57 is the same as R 51, R 54 ~R 57 of each of the formulas (i).
R 73 and R 74 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a nitro group, a carboxyl group, a hydroxyl group, a mercapto group, 20 alkylthio groups, alkylsilyl groups having 1 to 20 carbon atoms, acyl groups having 1 to 20 carbon atoms, amino groups, cyano groups, alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, phenyl groups, naphthyl groups, phenoxy groups, R 73 represents a phenyl group which may be substituted by a group selected from the group of luthio groups, and R 73 and R 74 may be bonded to each other to form a ring structure.
ベンジルアミン誘導体の具体例としては、例えば、特表2005−511536号公報記載の5−ベンジル−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(アントラセン−9−イル−メチル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(4’−シアノベンジル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(3’−シアノベンジル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(2’−クロロベンジル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(2’,4’,6’−トリメチルベンジル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(4’−エテニルベンジル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(3’−メトキシベンジル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(ナフト−2−イル−メチル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、1,4−ビス(1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナニルメチル)ベンゼン、8−(2’,6’−ジクロロベンジル)−1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデカン等のベンジルアミン誘導体等が挙げられる。 Specific examples of the benzylamine derivative include 5-benzyl-1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (anthracene-9-yl-methyl)-described in, for example, JP-A-2005-511536. 1,5-Diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (4'-cyanobenzyl) -1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (3'-cyanobenzyl) -1, 5-Diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (2′-chlorobenzyl) -1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (2 ′, 4 ′, 6′-trimethylbenzyl ) -1,5-Diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (4′-ethenylbenzyl) -1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (3′-methoxybenzyl) -1,5-Diazabishiki [4.3.0] nonane, 5- (naphth-2-yl-methyl) -1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 1,4-bis (1,5-diazabicyclo [4.3] .0 benzylamine derivatives such as 8- (2 ', 6'-dichlorobenzyl) -1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecane, and the like.
ベンジルアンモニウム塩誘導体として、例えば、下記式(viii)で示されるベンジルアンモニウム塩が挙げられる。 As a benzyl ammonium salt derivative, the benzyl ammonium salt shown by following formula (viii) is mentioned, for example.
前記式(viii)において、V−及びkは前記式(vi)のV−及びkと同様である。R51は前記式(i)のR51と同様である。R70〜R72はそれぞれ前記式(vi)のR70〜R72と同様である。R73及びR74は前記式(vii)のR73及びR74と同様である。 In the formula (viii), V - and k V of the formula (vi) - is the same as, and k. R 51 is the same as R 51 in formula (i). R 70 to R 72 are the same as R 70 to R 72 of each of the formulas (vi). R 73 and R 74 are the same as R 73 and R 74 in the formula (vii).
ベンジルアンモニウム塩誘導体の具体例としては、例えば、WO2010/095390号公報及びWO2009/122664号公報記載の光塩基発生剤、例えば、(9−アントリル)メチルトリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート、(9−オキソ−9H−チオキサンテン−2−イル)メチルトリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート、(9−アントリル)メチル1−アザビシクロ〔2.2.2〕オクタニウムテトラフェニルボレート、(9−オキソ−9H−チオキサンテン−2−イル)メチル1−アザビシクロ〔2.2.2〕オクタニウムテトラフェニルボレート、9−アントリルメチル−1−アザビシクロ〔2.2.2〕オクタニウムテトラフェニルボレート、5−(9−アントリルメチル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕−5−ノネニウムテトラフェニルボレート、8−(9−アントリルメチル)−1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕−7−ウンデセニウムフェニルグリオキシラート、N−(9−アントリルメチル)−N,N,N−トリオクチルアンモニウムテトラフェニルボレート、8−(9−オキソ−9H−チオキサンテン−2−イル)メチル−1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネニウムテトラフェニルボレート、8−(4−ベンゾイルフェニル)メチル−1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕−7−ウンデセニウムテトラフェニルボレート、{8−(t−ブチル−2−ナフタリルメチル)−1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕−7−ウンデセニウムテトラフェニルボレート、8−(9−オキソ−9H−チオキサンテン−2−イル)メチル−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウムテトラフェニルボレート、N−ベンゾフェノンメチルトリ−N−メチルアンモニウムテトラフェニルボレート等が挙げられる。 Specific examples of the benzyl ammonium salt derivative include, for example, photo base generators described in WO 2010/095390 and WO 2009/122664, such as (9-anthryl) methyltriethylammonium tetraphenyl borate, (9-oxo-9H -Thioxanthen-2-yl) methyltriethylammonium tetraphenylborate, (9-anthryl) methyl 1-azabicyclo [2.2.2] octanium tetraphenylborate, (9-oxo-9H-thioxanthen-2-yl) ) Methyl 1-azabicyclo [2.2.2] octanium tetraphenylborate, 9-anthrylmethyl-1-azabicyclo [2.2.2] octanium tetraphenylborate, 5- (9-anthrylmethyl)- 1,5-Diazabicyclo 4.3.0] -5-Nonenium tetraphenylborate, 8- (9-anthrylmethyl) -1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium phenylglyoxylate, N- (9-anthrylmethyl) -N, N, N-trioctylammonium tetraphenylborate, 8- (9-oxo-9H-thioxanthen-2-yl) methyl-1,5-diazabicyclo [4.3.0 ] 8-Nonenium tetraphenylborate, 8- (4-benzoylphenyl) methyl-1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium tetraphenylborate, {8- (t-butyl-) 2-Naphthalylmethyl) -1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium tetraphenylborate, 8- (9-oxo-9H-thiooxane) Down 2-yl) methyl-1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium tetraphenylborate, N- benzophenone methyltrimethoxysilane -N- methyl ammonium tetraphenyl borate, and the like.
α−アミノアルケン誘導体としては、例えば、特表2001−515500号公報記載の5−(2’−(4”−ビフェニル)アリル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(2’−(2”−ナフチル)アリル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(2’−(4”−ジエチルアミノフェニル)アリル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(1’−メチル、2’−(4”−ビフェニル)アリル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(1’−メチル、2’−(2”−チオキサンチル)アリル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(1’−メチル、2’−(2”−フルオレニル)アリル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、8−(2’−(4”−ビフェニル)アリル)−(1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕−7−ウンデセン)等が挙げられる。 Examples of the α-aminoalkene derivative include 5- (2 ′-(4 ′ ′-biphenyl) allyl) -1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane described in JP-A-2001-515500; (2 ′-(2 ′ ′-naphthyl) allyl) -1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (2 ′-(4 ′ ′-diethylaminophenyl) allyl) -1,5-diazabicyclo [4 3.0] nonane, 5- (1′-methyl, 2 ′-(4 ′ ′-biphenyl) allyl) -1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (1′-methyl, 2 '-(2' '-thioxanthyl) allyl) -1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 5- (1'-methyl, 2'-(2 ''-fluorenyl) allyl) -1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, 8- (2 '- 4 "- biphenyl) allyl) - (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene), and the like.
α−アンモニウムアルケン誘導体としては、例えば、特表2002−523393号公報記載のN−(2’−フェニルアリル)−トリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート、1−(2’−フェニルアリル)−(1−アゾニア−4−アザビシクロ[2,2,2]−オクタン)テトラフェニルボレート、1−(2’−フェニルアリル)−(1−アゾニア−4−アザビシクロ[2,2,2]−オクタン)テトラフェニルボレート、1−(2’−フェニルアリル)−(1−アゾニア−4−アザビシクロ[2,2,2]−オクタン)トリス(3−フルオロフェニル)ヘキシルボレート等が挙げられる。 As the α-ammonium alkene derivative, for example, N- (2′-phenylallyl) -triethylammonium tetraphenylborate described in JP-A-2002-523393, 1- (2′-phenylallyl)-(1-azonia-) 4-azabicyclo [2,2,2] -octane) tetraphenylborate, 1- (2'-phenylallyl)-(1-azonia-4-azabicyclo [2,2,2] -octane) tetraphenylborate, 1 And-(2'-phenylallyl)-(1-azonia-4-azabicyclo [2,2,2] -octane) tris (3-fluorophenyl) hexyl borate and the like.
アミンイミド類としては、例えば、WO2002/051905号公報記載の[(2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル)ジメチルアミニオ](4−ニトロベンゾイル)アミンアニオン、[(2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル)ジメチルアミニオ](4−シアノベンゾイル)アミンアニオン、[(2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル)ジメチルアミニオ](4−メトキシベンゾイル)アミンアニオン、[(2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル)ジメチルアミニオ]ベンゾイルアミンアニオン、[(2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル)ジメチルアミニオ][4−(ジメチルアミノ)ベンゾイル]アミンアニオン等が挙げられる。 As the amine imides, for example, [(2-hydroxy-3-phenoxypropyl) dimethylaminio] (4-nitrobenzoyl) amine anion described in WO 2002/051905, [(2-hydroxy-3-phenoxypropyl) dimethyl] Aminio] (4-cyanobenzoyl) amine anion, [(2-hydroxy-3-phenoxypropyl) dimethylaminio] (4-methoxybenzoyl) amine anion, [(2-hydroxy-3-phenoxypropyl) dimethylaminio ] Benzoylamine anion, [(2-hydroxy-3- phenoxypropyl) dimethyl aminio] [4- (dimethylamino) benzoyl] amine anion, etc. are mentioned.
前記光によりアミジンを発生するベンジルオキシカルボニルアミン誘導体としては、ベンジルオキシカルボニルイミダゾール類、ベンジルオキシカルボニルグアニジン類、ジアミン誘導体等が挙げられる。 Examples of the benzyloxycarbonylamine derivative which generates an amidine by the light include benzyloxycarbonylimidazoles, benzyloxycarbonylguanidines, diamine derivatives and the like.
ベンジルオキシカルボニルイミダゾール類としては、例えば、特開平9−40750号公報記載のN−(2−ニトロベンジルオキシカルボニル)イミダゾール、N−(3−ニトロベンジルオキシカルボニル)イミダゾール、N−(4−クロロ−2−ニトロベンジルオキシカルボニル)イミダゾール、N−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)イミダゾール、N−(5−メチル−2−ニトロベンジルオキシカルボニル)イミダゾール、N−(4,5−ジメチル−2−ニトロベンジルオキシカルボニル)イミダゾール等が挙げられる。 Examples of benzyloxycarbonylimidazoles include N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) imidazole, N- (3-nitrobenzyloxycarbonyl) imidazole, and N- (4-chloro-) described in JP-A-9-40750. 2-nitrobenzyloxycarbonyl) imidazole, N- (4-nitrobenzyloxycarbonyl) imidazole, N- (5-methyl-2-nitrobenzyloxycarbonyl) imidazole, N- (4,5-dimethyl-2-nitrobenzyl And oxycarbonyl) imidazole and the like.
ベンジルオキシカルボニルグアニジン類としては、例えば、WO97/31033号公報記載のベンジルオキシカルボニルテトラメチルグアニジン等が挙げられる。 Examples of benzyloxycarbonylguanidines include benzyloxycarbonyl tetramethylguanidine described in WO 97/31033 and the like.
ジアミン誘導体としては、例えば、特開2011−116869号公報記載のN−(N’−((1−(4,5−ジメトキシ−2−ニトロフェニル)エトキシ)カルボニル)アミノプロピル)−N−メチルアセトアミド、N−(N’−(4,5−ジメトキシ−2−ニトロベンジルオキシカルボニル)アミノプロピル)−6−ヘプタンラクタム等が挙げられる。 As a diamine derivative, for example, N- (N '-((1- (4,5-dimethoxy-2-nitrophenyl) ethoxy) carbonyl) aminopropyl) -N-methylacetamide described in JP-A-2011-116869. , N- (N '-(4,5-dimethoxy-2-nitrobenzyloxycarbonyl) aminopropyl) -6-heptane lactam and the like.
前記カルボン酸と3級アミンとの塩としては、α−ケトカルボン酸アンモニウム塩、及びカルボン酸アンモニウム塩等が挙げられる。 Examples of salts of carboxylic acids and tertiary amines include α-ketocarboxylic acid ammonium salts and carboxylic acid ammonium salts.
α−ケトカルボン酸アンモニウム塩としては、例えば、特開昭55−22669号公報記載のフェニルグリオキシル酸のジメチル・ベンジル・アンモニウム塩、フェニルグリオキシル酸のトリ−n−ブチル・アンモニウム塩等が挙げられる。 Examples of the α-ketocarboxylic acid ammonium salt include dimethyl benzyl ammonium salt of phenylglyoxylic acid and tri-n-butyl ammonium salt of phenylglyoxylic acid described in JP-A-55-22669.
カルボン酸アンモニウム塩としては、例えば、特開2009−280785号公報記載のジアザビシクロウンデセン(DBU)のケトプロフェン塩、2−メチルイミダゾールのケトプロフェン塩、特開2011−80032号公報記載のジアザビシクロウンデセン(DBU)のキサントン酢酸塩、ジアザビシクロウンデセン(DBU)のチオキサントン酢酸塩、特開2007−262276号公報記載の2−(カルボキシメチルチオ)チオキサントンの3−キヌクリジノール塩、2−(カルボキシメトキシ)チオキサントンの3−キヌクリジノール塩、並びに特開2010−254982号公報及び特開2011−213783号公報記載のtrans−o−クマル酸の3−キヌクリジノール塩が挙げられる。 As the carboxylic acid ammonium salt, for example, ketoprofen salt of diazabicycloundecene (DBU) described in JP-A-2009-280785, ketoprofen salt of 2-methylimidazole, diazabicyclo described in JP-A-2011-80032. Xanthone acetate salt of undecene (DBU), thioxanthone acetate salt of diazabicyclo undecen (DBU), 3-quinuclidinol salt of 2- (carboxymethylthio) thioxanthone described in JP-A-2007-262276, 2- (carboxymethoxy) And 3-quinuclidinol salts of thioxanthone, and 3-quinuclidinol salts of trans-o-coumaric acid described in JP-A-2010-254982 and JP-A-2011-213783.
前述した(B)光塩基発生剤の中でも、発生塩基が高い触媒活性を示す点から光潜在性第3級アミンが好ましく、塩基の発生効率が良いこと及び組成物としての貯蔵安定性が良いことなどから、ベンジルアンモニウム塩誘導体、ベンジル置換アミン誘導体、α−アミノケトン誘導体、α−アンモニウムケトン誘導体が好ましく、特に、より塩基の発生効率が良いことから、α−アミノケトン誘導体、α−アンモニウムケトン誘導体がより好ましく、配合物に対する溶解性よりα−アミノケトン誘導体がより好ましい。α−アミノケトン誘導体の中でも発生塩基の塩基性の強さより前記式(i)で示されるα−アミノケトン化合物が良く、入手のしやすさより前記式(ii)で示されるα−アミノケトン化合物が良い。 Among the (B) photobase generators described above, photolatable tertiary amines are preferred from the viewpoint of high catalytic activity of the generated base, and the generation efficiency of the base is good and the storage stability as a composition is good. From the above, benzyl ammonium salt derivatives, benzyl substituted amine derivatives, α-amino ketone derivatives and α-ammonium ketone derivatives are preferable, and in particular, since the generation efficiency of the base is better, α-amino ketone derivatives and α-ammonium ketone derivatives are more preferable Preferably, the α-amino ketone derivative is more preferable than the solubility in the formulation. Among the α-amino ketone derivatives, the α-amino ketone compound represented by the above formula (i) is better than the basic strength of the generated base, and the α-amino ketone compound represented by the above formula (ii) is better than the availability.
これら(B)光塩基発生剤は単独で用いてもよく、2種以上組み合わせて用いてもよい。前記(B)光塩基発生剤の配合割合は特に制限はないが、(A)分子内に架橋性珪素基と光ラジカル重合性のビニル基を有する有機重合体100質量部に対して、0.01〜50質量部が好ましく、0.1〜40質量部がより好ましく、0.5〜30質量部がさらに好ましい。 These (B) photobase generators may be used alone or in combination of two or more. The compounding ratio of the (B) photobase generator is not particularly limited, but it may be 0.1 parts by weight to 100 parts by weight of the organic polymer having a crosslinkable silicon group and a photoradical polymerizable vinyl group in the (A) molecule. 01-50 mass parts is preferable, 0.1-40 mass parts is more preferable, 0.5-30 mass parts is further more preferable.
本発明の光硬化性組成物は、(C)(C1)Si−F結合を有するケイ素化合物、及び/又は(C2)三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ素の錯体、フッ素化剤及び多価フルオロ化合物のアルカリ金属塩からなる群から選択される1種以上のフッ素系化合物を含む。本発明の光硬化性組成物において、(C)成分を含むことで硬化がより促進される。 The photocurable composition of the present invention is a silicon compound having (C) (C1) Si-F bond, and / or (C2) boron trifluoride, a complex of boron trifluoride, a fluorinating agent and a polyvalent fluoro It includes one or more fluorine-based compounds selected from the group consisting of alkali metal salts of the compounds. In the photocurable composition of the present invention, curing is further promoted by including the component (C).
本発明において、(C1)Si−F結合を有する珪素化合物は(A)架橋性珪素基を有する化合物の硬化触媒として作用する。前記(C1)Si−F結合を有する珪素化合物としては、Si−F結合を有する珪素基(以下、フルオロシリル基と称することがある)を含む公知の化合物を広く使用することができ、特に制限はなく、低分子化合物及び高分子化合物のいずれも使用可能であるが、フルオロシリル基を有する有機珪素化合物が好ましく、フルオロシリル基を有する有機重合体が、安全性が高くより好適である。また、配合物が低粘度となる点からフルオロシリル基を有する低分子有機珪素化合物が好ましい。 In the present invention, the silicon compound having a (C1) Si-F bond acts as a curing catalyst for the compound having a crosslinkable silicon group (A). As the silicon compound having the (C1) Si-F bond, known compounds containing a silicon group having a Si-F bond (hereinafter sometimes referred to as a fluorosilyl group) can be used widely Although both low molecular weight compounds and high molecular weight compounds can be used, organic silicon compounds having a fluorosilyl group are preferable, and organic polymers having a fluorosilyl group are more preferable because of their high safety. In addition, a low molecular weight organosilicon compound having a fluorosilyl group is preferable in that the composition has a low viscosity.
前記(C1)Si−F結合を有する珪素化合物としては、具体的には、下記式(5)で示されるフルオロシラン類等の下記式(6)で示されるフルオロシリル基を有する化合物(本明細書では、フッ素化化合物とも称する)、フルオロシリル基を有する有機重合体(本明細書では、フッ素化ポリマーとも称する)等が好適な例として挙げられる。 Specifically, the silicon compound having the (C1) Si-F bond is a compound having a fluorosilyl group represented by the following formula (6) such as fluorosilanes represented by the following formula (5) (this specification In the examples, fluorinated compounds are also referred to), organic polymers having a fluorosilyl group (herein also referred to as fluorinated polymers), etc. are mentioned as suitable examples.
R80 4−dSiFd・・・(5)
(式(5)において、R80はそれぞれ独立して、置換あるいは非置換の炭素原子数1〜20の炭化水素基、またはR90SiO−(R90はそれぞれ独立に、炭素原子数1〜20の置換あるいは非置換の炭化水素基、又はフッ素原子である)で示されるオルガノシロキシ基のいずれかを示す。dは1〜3のいずれかであり、dが3であることが好ましい。R80及びR90が複数存在する場合、それらは同じであっても異なっていてもよい。)
R 80 4-d SiF d (5)
(In the formula (5), each R 80 independently represents a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or R 90 SiO— (R 90 each independently has 1 to 20 carbon atoms Or a substituted or unsubstituted hydrocarbon group, or an organosiloxy group represented by fluorine atom, d is any one of 1 to 3 and d is preferably 3. R 80 And when two or more R 90 are present, they may be the same or different)
−SiFdR80 eX’f・・・(6)
(式(6)中、R80及びdはそれぞれ式(5)と同じであり、X’はそれぞれ独立して水酸基又はフッ素以外の加水分解性基であり、eは0〜2のいずれかであり、fは0〜2のいずれかであり、d+e+fは3である。R80及びX’が複数存在する場合、それらは同じであっても異なっていてもよい。)
-SiF d R 80 e X ' f (6)
(In formula (6), R 80 and d are respectively the same as formula (5), X ′ is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group other than fluorine, and e is any one of 0 to 2 And f is any of 0 to 2 and d + e + f is 3. When there are a plurality of R 80 and X ′, they may be the same or different.)
前記式(5)で示されるフルオロシラン類としては、式(5)で示される公知のフルオロシラン類が挙げられ、特に制限はないが、例えば、フルオロトリメチルシラン、フルオロトリエチルシラン、フルオロトリプロピルシラン、フルオロトリブチルシラン、フルオロジメチルビニルシラン、フルオロジメチルフェニルシラン、フルオロジメチルベンジルシラン、フルオロジメチル(3−メチルフェニル)シラン、フルオロジメチル(4−メチルフェニル)シラン、フルオロジメチル(4−クロロフェニル)シラン、フルオロトリフェニルシラン、ジフルオロジメチルシラン、ジフルオロジエチルシラン、ジフルオロジブチルシラン、ジフルオロメチルフェニルシラン、ジフルオロジフェニルシラン、トリフルオロエチルシラン、トリフルオロプロピルシラン、トリフルオロブチルシラン、トリフルオロフェニルシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフルオロシラン、γ−グリシドキシプロピルジフルオロメチルシラン、ビニルトリフルオロシラン、ビニルジフルオロメチルシラン、γ−メタクリロキシプロピルフルオロジメチルシラン、γ−メタクリロキシプロピルジフルオロメチルシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリフルオロシラン、3−メルカプトプロピルトリフルオロシラン、オクタデシルフルオロジメチルシラン、オクタデシルジフルオロメチルシラン、オクタデシルトリフルオロシラン、1,3−ジフルオロ−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3,5,7−テトラフルオロ−1,3,5,7−テトラシラトリシクロ[3.3.1.1(3,7)]デカン、1,1−ジフルオロ−1−シラシクロ−3−ペンテン、フルオロトリス(トリメチルシロキシ)シランなどが挙げられる。 Examples of the fluorosilanes represented by the formula (5) include known fluorosilanes represented by the formula (5), which are not particularly limited. For example, fluorotrimethylsilane, fluorotriethylsilane, fluorotripropylsilane Fluorotributylsilane, fluorodimethylvinylsilane, fluorodimethylphenylsilane, fluorodimethylbenzylsilane, fluorodimethyl (3-methylphenyl) silane, fluorodimethyl (4-methylphenyl) silane, fluorodimethyl (4-chlorophenyl) silane, fluorotrimethylsilane Phenylsilane, difluorodimethylsilane, difluorodiethylsilane, difluorodibutylsilane, difluoromethylphenylsilane, difluorodiphenylsilane, trifluoroethylsilane, trifluoro Propylsilane, trifluorobutylsilane, trifluorophenylsilane, γ-glycidoxypropyltrifluorosilane, γ-glycidoxypropyl difluoromethylsilane, vinyl trifluorosilane, vinyldifluoromethylsilane, γ-methacryloxypropyl fluorodimethyl Silane, γ-methacryloxypropyl difluoromethylsilane, γ-methacryloxypropyl trifluorosilane, 3-mercaptopropyl trifluorosilane, octadecyl fluorodimethyl silane, octadecyl difluoromethyl silane, octadecyl trifluorosilane, 1,3-difluoro-1 1,1,3,3-Tetramethyldisiloxane, 1,3,5,7-Tetrafluoro-1,3,5,7-tetrasilatricyclo [3.3.1.1 (3,7)] Kang, 1,1-difluoro-1-silacycle 3-pentene, etc. fluoro tris (trimethylsiloxy) silane.
これらのなかでも、原料の入手が容易なこと、合成が容易なことなどから、フルオロジメチルビニルシラン、フルオロジメチルフェニルシラン、フルオロジメチルベンジルシラン、ビニルトリフルオロシラン、ビニルジフルオロメチルシラン、γ−メタクリロキシプロピルフルオロジメチルシラン、γ−メタクリロキシプロピルジフルオロメチルシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリフルオロシラン、3−メルカプトプロピルトリフルオロシラン、オクタデシルフルオロジメチルシラン、オクタデシルジフルオロメチルシラン、オクタデシルトリフルオロシラン、1,3−ジフルオロ−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン等が好ましい。 Among these, fluorodimethylvinylsilane, fluorodimethylphenylsilane, fluorodimethylbenzylsilane, vinyltrifluorosilane, vinyldifluoromethylsilane, γ-methacryloxypropyl from the viewpoint of easy availability of raw materials and easy synthesis. Fluorodimethylsilane, γ-methacryloxypropyl difluoromethylsilane, γ-methacryloxypropyl trifluorosilane, 3-mercaptopropyl trifluorosilane, octadecyl fluorodimethyl silane, octadecyl difluoromethyl silane, octadecyl trifluorosilane, 1,3-difluoro -1,1,3,3-Tetramethyldisiloxane and the like are preferable.
前記式(6)で示されるフルオロシリル基を有する化合物において、式(6)中のX’で示される加水分解性基としては、例えば、式(1)のXの加水分解性基と同様の基を挙げることができるが、具体的には、水素原子、フッ素以外のハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、ケトキシメート基、アミノ基、アミド基、酸アミド基、アミノオキシ基、メルカプト基、アルケニルオキシ基等が挙げられる。これらの内では、水素原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、ケトキシメート基、アミノ基、アミド基、アミノオキシ基、メルカプト基およびアルケニルオキシ基が好ましく、加水分解性が穏やかで取扱いやすいという観点からアルコキシ基が特に好ましい。 In the compound having a fluorosilyl group represented by the formula (6), as the hydrolyzable group represented by X ′ in the formula (6), for example, the same hydrolyzable group as X in the formula (1) Specific examples thereof include a hydrogen atom, a halogen atom other than fluorine, an alkoxy group, an acyloxy group, a ketoximate group, an amino group, an amido group, an acid amide group, an aminooxy group, a mercapto group and an alkenyloxy group. And the like. Among these, a hydrogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, a ketoximate group, an amino group, an amido group, an aminooxy group, a mercapto group and an alkenyloxy group are preferable, and an alkoxy group is preferable from the viewpoint of mild hydrolyzability. Particularly preferred.
また、前記式(6)中のR80としては、例えば、メチル基、エチル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基等のアリール基、ベンジル基等のアラルキル基や、R90がメチル基、フェニル基等であるR90SiO−で示されるトリオルガノシロキシ基等が挙げられる。これらの中ではメチル基が特に好ましい。 Further, R 80 in the above formula (6) is, for example, an alkyl group such as methyl group and ethyl group, a cycloalkyl group such as cyclohexyl group, an aryl group such as phenyl group, an aralkyl group such as benzyl group, R 90 is a methyl group, triorganosiloxy group represented by R 90 SiO- can be mentioned a phenyl group. Of these, methyl is particularly preferred.
前記式(6)で表されるフルオロシリル基を具体的に例示すると、フッ素以外に加水分解性基を持たない珪素基として、フルオロジメチルシリル基、フルオロジエチルシリル基、フルオロジプロピルシリル基、フルオロジフェニルシリル基、フルオロジベンジルシリル基等の珪素基上に1個のフッ素が置換した珪素基;ジフルオロメチルシリル基、ジフルオロエチルシリル基、ジフルオロフェニルシリル基、ジフルオロベンジルシリル基等の珪素基上に2個のフッ素が置換した珪素基;トリフルオロシリル基である珪素基上に3個のフッ素が置換した珪素基;が挙げられ、フッ素とその他の加水分解性基を両方有する珪素基として、フルオロメトキシメチルシリル基、フルオロエトキシメチルシリル基、フルオロメトキシエチルシリル基、フルオロメトキシフェニルシリル基、フルオロジメトキシシリル基、フルオロジエトキシシリル基、フルオロジプロポキシシリル基、フルオロジフェノキシシリル基、フルオロビス(2−プロペノキシ)シリル基、ジフルオロメトキシシリル基、ジフルオロエトキシシリル基、ジフルオロフェノキシシリル基、フルオロジクロロシリル基、ジフルオロクロロシリル基などが挙げられ、フッ素以外に加水分解性基を持たない珪素基やR80がメチル基であるフルオロシリル基が好ましく、トリフルオロシリル基がより好ましい。
また、合成の容易さからフルオロジメチルシリル基、ジフルオロメチルシリル基、トリフルオロシリル基、フルオロメトキシメチルシリル基、フルオロエトキシメチルシリル基、フルオロメトキシエチルシリル基、フルオロジメトキシシリル基、フルオロジエトキシシリル基、ジフルオロメトキシシリル基、ジフルオロエトキシシリル基がより好ましく、安定性の観点からフルオロジメチルシリル基、ジフルオロメチルシリル基、トリフルオロシリル基などのフッ素以外に加水分解性基を持たない珪素基がさらに好ましく、硬化性の高さからは、ジフルオロメチルシリル基、ジフルオロメトキシシリル基、ジフルオロエトキシシリル基、トリフルオロシリル基など、珪素基上に2個ないし3個のフッ素が置換した珪素基が好ましく、トリフルオロシリル基が最も好ましい。
Specific examples of the fluorosilyl group represented by the formula (6) include a fluorodimethylsilyl group, a fluorodiethylsilyl group, a fluorodipropylsilyl group, and a fluorodiethylsilyl group as a silicon group having no hydrolyzable group other than fluorine. Silicon group in which one fluorine is substituted on silicon group such as diphenylsilyl group and fluorodibenzylsilyl group; on silicon group such as difluoromethyl silyl group, difluoroethyl silyl group, difluorophenyl silyl group, difluorobenzyl silyl group Silicon group substituted by two fluorines; silicon group substituted by three fluorines on a silicon group which is a trifluorosilyl group; and as a silicon group having both fluorine and another hydrolysable group, fluoro Methoxymethylsilyl, fluoroethoxymethylsilyl, fluoromethoxyethylsilyl, fluoro Oromethoxyphenylsilyl group, fluorodimethoxysilyl group, fluorodiethoxysilyl group, fluorodipropoxysilyl group, fluorodiphenoxysilyl group, fluorobis (2-propenoxy) silyl group, difluoromethoxysilyl group, difluoroethoxysilyl group, difluoro Phenoxysilyl group, fluoro dichloro silyl group, difluoro chloro silyl group, etc. are mentioned, silicon group which does not have hydrolysable group other than fluorine, fluoro silyl group where R 80 is methyl group is preferable, trifluoro silyl group is more preferable preferable.
In addition, from the ease of synthesis, fluorodimethylsilyl group, difluoromethylsilyl group, trifluorosilyl group, fluoromethoxymethylsilyl group, fluoroethoxymethylsilyl group, fluoromethoxyethylsilyl group, fluorodimethoxysilyl group, fluorodiethoxysilyl group And difluoromethoxysilyl group and difluoroethoxysilyl group are more preferable, and from the viewpoint of stability, a silicon group having no hydrolyzable group other than fluorine such as fluorodimethylsilyl group, difluoromethylsilyl group and trifluorosilyl group is more preferable From the viewpoint of curability, preferred are silicon groups in which 2 to 3 fluorines are substituted on the silicon group, such as difluoromethylsilyl group, difluoromethoxysilyl group, difluoroethoxysilyl group, trifluorosilyl group, etc. Roshiriru group is most preferred.
前記式(6)で示されるフルオロシリル基を有する化合物としては、特に限定されず、単分子化合物、高分子化合物のいずれも使用可能であり、例えば、テトラフルオロシラン、オクタフルオロトリシラン等の無機珪素化合物;上記式(5)で示されるフルオロシラン類、フルオロトリメトキシシラン、ジフルオロジメトキシシラン、トリフルオロメトキシシラン、フルオロトリエトキシシラン、ジフルオロジエトキシシラン、トリフルオロエトキシシラン、メチルフルオロジメトキシシラン、メチルジフルオロメトキシシラン、メチルトリフルオロシラン、メチルフルオロジエトキシシラン、メチルジフルオロエトキシシラン、ビニルフルオロジメトキシシラン、ビニルジフルオロメトキシシラン、ビニルトリフルオロシラン、ビニルフルオロジエトキシシラン、ビニルジフルオロエトキシシラン、フェニルフルオロジメトキシシラン、フェニルジフルオロメトキシシラン、フェニルトリフルオロシラン、フェニルフルオロジエトキシシラン、フェニルジフルオロエトキシシラン、フルオロトリメチルシラン等の低分子有機珪素化合物;末端に式(6)で示されるフルオロシリル基を有するフッ素化ポリシロキサンなどの高分子化合物が挙げられ、前記式(5)で示されるフルオロシラン類や、主鎖又は側鎖の末端に式(6)で示されるフルオロシリル基を有する重合体が好適である。 It does not specifically limit as a compound which has a fluoro silyl group shown by said Formula (6), Both a monomolecular compound and a high molecular compound can be used, For example, Inorganics, such as tetrafluorosilane and octafluoro trisilane Silicon compounds; fluorosilanes represented by the above formula (5), fluorotrimethoxysilane, difluorodimethoxysilane, trifluoromethoxysilane, fluorotriethoxysilane, difluorodiethoxysilane, trifluoroethoxysilane, methylfluorodimethoxysilane, methyl Difluoromethoxysilane, Methyltrifluorosilane, Methylfluorodiethoxysilane, Methyldifluoroethoxysilane, Vinylfluorodimethoxysilane, Vinyldifluoromethoxysilane, Vinyltrifluorosilane, Vinylfulfol Low-molecular-weight organosilicon compounds such as lodiethoxysilane, vinyldifluoroethoxysilane, phenylfluorodimethoxysilane, phenyldifluoromethoxysilane, phenyltrifluorosilane, phenylfluorodiethoxysilane, phenyldifluoroethoxysilane, fluorotrimethylsilane, etc .; 6) a high-molecular compound such as a fluorinated polysiloxane having a fluorosilyl group shown by 6), and fluorosilanes shown by the above-mentioned formula (5), or a compound represented by the formula (6) at the end of the main chain or side chain Preferred are polymers having a fluorosilyl group.
前記式(5)で示されるフルオロシラン類及び前記式(6)で示されるフルオロシリル基を有する化合物は、市販の試薬を用いても良いし、原料化合物から合成してもよい。合成方法としても特に制限はないが、下記式(7)で示される架橋性珪素基を有する化合物と、フッ素化剤とを公知の方法(例えば、Organometallics1996年,15,2478頁(Ishikawaほか)等)を用いて反応させることにより得られる化合物が好適に用いられる。
−SiR80 3−qX’q・・・(7)
(式(7)中、R80及びX’はそれぞれ式(6)と同じであり、qは1〜3のいずれかである。)
A commercially available reagent may be used for the fluorosilanes shown by said Formula (5), and the compound which has a fluoro silyl group shown by said Formula (6), You may synthesize | combine from a raw material compound. The synthesis method is not particularly limited, but a compound having a crosslinkable silicon group represented by the following formula (7) and a fluorinating agent are known methods (for example, Organometallics 1996, pages 15, 2478 (Ishikawa et al.), Etc. The compound obtained by making it react using (iii) is used suitably.
-SiR 80 3-q X ' q (7)
(In the formula (7), R 80 and X ′ are respectively the same as the formula (6), and q is any of 1 to 3.)
上記式(7)で示される架橋性珪素基としては、例えば、アルコキシシリル基、シロキサン結合、クロロシリル基等のハロシリル基、ヒドロシリル基等が挙げられる。 As a crosslinkable silicon group shown by the said Formula (7), halo silyl groups, such as an alkoxy silyl group, a siloxane bond, a chloro silyl group, hydrosilyl group, etc. are mentioned, for example.
アルコキシシリル基のフッ素化に使用されるフッ素化剤の具体例としては、特に限定されず、例えば、NH4F、Bu4NF、HF、BF3、Et2NSF3、HSO3F、SbF5、VOF3、CF3CHFCF2NEt2などが挙げられる。
ハロシリル基のフッ素化に使用されるフッ素化剤の具体例としては、特に限定されず、例えば、AgBF4、SbF3、ZnF2、NaF、KF、CsF、NH4F、CuF2、NaSiF6、NaPF6、NaSbF6、NaBF4、Me3SnF、KF(HF)1.5〜5などが挙げられる。
ヒドロシリル基のフッ素化に使用されるフッ素化剤の具体例としては、特に限定されず、例えば、AgF、PF5、Ph3CBF4、SbF3、NOBF4、NO2BF4などが挙げられる。
シロキサン結合を有する化合物はBF3などにより開裂し、フルオロシリル基が得られる。
Alkoxy Specific examples of fluorinating agents used for the fluorination of a silyl group is not particularly limited, for example, NH 4 F, Bu 4 NF , HF, BF 3, Et 2 NSF 3, HSO 3 F, SbF 5 , VOF 3 , CF 3 CHFCF 2 NEt 2 and the like.
Specific examples of fluorinating agents used for the fluorination of halosilyl group is not particularly limited, for example, AgBF 4, SbF 3, ZnF 2, NaF, KF, CsF, NH 4 F, CuF 2, NaSiF 6, NaPF 6, NaSbF 6, NaBF 4 , Me 3 SnF, like KF (HF) 1.5~5.
Specific examples of fluorinating agents used for the fluorination of hydrosilyl group is not particularly limited, for example, AgF, PF 5, Ph 3 CBF 4, SbF 3, NOBF 4, such as NO 2 BF 4 and the like.
The compound having a siloxane bond is cleaved by BF 3 or the like to obtain a fluorosilyl group.
これらのフッ素化剤を用いたフルオロシリル基の合成方法のなかでも、反応が簡便であること、反応効率が高いこと、安全性が高いことなどから、BF3を用いたアルコキシシランのフッ素化法、CuF2またはZnF2を用いたクロロシランのフッ素化法が好ましい。 Among the synthesis methods of fluorosilyl group using these fluorinating agents, the reaction is simple, the reaction efficiency is high, the safety is high, etc., and thus the fluorination method of alkoxysilane using BF 3 Preferred is the fluorination method of chlorosilane using CuF 2 or ZnF 2 .
BF3としては、BF3ガス、BF3エーテル錯体、BF3チオエーテル錯体、BF3アミン錯体、BF3アルコール錯体、BF3カルボン酸錯体、BF3リン酸錯体、BF3水和物、BF3ピペリジン錯体、BF3フェノール錯体等が使用できるが、取扱いが容易であることなどからBF3エーテル錯体、BF3チオエーテル錯体、BF3アミン錯体、BF3アルコール錯体、BF3カルボン酸錯体、BF3水和物が好ましい。中でもBF3エーテル錯体、BF3アルコール錯体、BF3水和物は反応性が高く好ましく、BF3エーテル錯体が特に好ましい。 As BF 3 , BF 3 gas, BF 3 ether complex, BF 3 thioether complex, BF 3 amine complex, BF 3 alcohol complex, BF 3 carboxylic acid complex, BF 3 phosphate complex, BF 3 hydrate, BF 3 piperidine A complex, BF 3 phenol complex, etc. can be used, but BF 3 ether complex, BF 3 thioether complex, BF 3 amine complex, BF 3 alcohol complex, BF 3 carboxylic acid complex, BF 3 hydration because of easy handling etc. Are preferred. Among them, the BF 3 ether complex, the BF 3 alcohol complex, and the BF 3 hydrate are preferably highly reactive, and the BF 3 ether complex is particularly preferable.
前記フルオロシリル基を有する有機重合体(本明細書では、フッ素化ポリマーとも称する)としては、Si−F結合を有する有機重合体であれば特に制限はなく、公知のSi−F結合を有する有機重合体を広く使用可能である。
有機重合体中のSiF結合の位置も特に制限はなく、重合体分子内のいずれの部位にあっても効果を発揮し、主鎖または側鎖の末端であれば−SiRn 2F、重合体の主鎖に組み込まれていれば、−SiRnF−または≡SiF(Rnはそれぞれ独立に、任意の基)の形で表される。
主鎖又は側鎖の末端にSi−F結合を有する有機重合体としては、前述した式(6)で示されるフルオロシリル基を有する重合体が好適である。フルオロシリル基が重合体の主鎖中に組み込まれたものの例としては、−Si(CH3)F−、−Si(C6H5)F−、−SiF2−、≡SiFなどが挙げられる。
The organic polymer having a fluorosilyl group (also referred to as a fluorinated polymer in the present specification) is not particularly limited as long as it is an organic polymer having a Si-F bond, and known organics having a Si-F bond Polymers are widely available.
The position of the SiF bond in the organic polymer is also not particularly limited, and the effect is exhibited at any site in the polymer molecule, and the end of the main chain or side chain is -SiR n 2 F, the polymer When it is incorporated into the main chain of the formula, it is represented in the form of -SiR n F- or ≡SiF (R n is each independently an arbitrary group).
As the organic polymer having a Si-F bond at the end of the main chain or side chain, a polymer having a fluorosilyl group represented by the above-mentioned formula (6) is preferable. Examples Although fluoro silyl group is incorporated in the main chain of the polymer, -Si (CH 3) F - , - Si (C 6 H 5) F -, - SiF 2 -, and the like ≡SiF .
前記フッ素化ポリマーは、フルオロシリル基および主鎖骨格が同種である単一の重合体、すなわち、1分子あたりのフルオロシリル基の数、その結合位置、および該フルオロシリル基が有するFの数、ならびに主鎖骨格が同種である単一の重合体であってもよく、これらのいずれか、またはすべてが異なる、複数の重合体の混合物であってもよい。フッ素化ポリマーが単一の重合体、複数の重合体の混合物のいずれの場合においても、フッ素化ポリマーは、速硬化性を示す硬化性組成物の樹脂成分として好適に用いることができるが、高い硬化性を発揮し、かつ高強度、高伸びで、低弾性率を示すゴム状硬化物を得るためには、フッ素化ポリマーに含有されるフルオロシリル基は、重合体1分子あたり平均して少なくとも1個、好ましくは1.1〜5個、さらに好ましくは1.2〜3個存在するのがよい。1分子中に含まれるフルオロシリル基の数が平均して1個未満になると、硬化性が不十分になり、良好なゴム弾性挙動を発現しにくくなる可能性がある。 The fluorinated polymer is a single polymer in which the fluorosilyl group and the main chain skeleton are the same, that is, the number of fluorosilyl group per molecule, the bonding position thereof, and the number of F which the fluorosilyl group has, And a single polymer in which the main chain skeleton is the same, or a mixture of multiple polymers in which any or all of them are different. In any case where the fluorinated polymer is a single polymer or a mixture of a plurality of polymers, the fluorinated polymer can be suitably used as a resin component of a curable composition exhibiting fast curing, but it is expensive. In order to obtain a rubbery cured product exhibiting curability, high strength, high elongation and low elastic modulus, the fluorosilyl group contained in the fluorinated polymer is at least on average per molecule of polymer. One, preferably 1.1 to 5, and more preferably 1.2 to 3 may be present. When the number of fluorosilyl groups contained in one molecule is less than one on average, the curability may be insufficient and it may be difficult to exhibit good rubber elastic behavior.
また、フッ素化ポリマーは、フルオロシリル基とともに、加水分解性基としてフッ素以外の加水分解性基のみを有する珪素基(たとえば、メチルジメトキシシリル基等)などのフルオロシリル基以外の置換基を含有していてもよい。このようなフッ素化ポリマーとしては、たとえば一方の主鎖末端がフルオロシリル基であり、他方の主鎖末端が、加水分解性基としてフッ素以外の加水分解性基のみを有する珪素基である重合体を挙げることができる。フッ素化ポリマーの例は国際公開特許WO2008/032539号公報に記載されている。 Further, the fluorinated polymer contains, together with the fluorosilyl group, a substituent other than the fluorosilyl group such as a silicon group having only a hydrolyzable group other than fluorine as a hydrolyzable group (for example, a methyldimethoxysilyl group etc.) It may be As such a fluorinated polymer, for example, a polymer in which one main chain end is a fluorosilyl group, and the other main chain end is a silicon group having only a hydrolyzable group other than fluorine as a hydrolysable group. Can be mentioned. An example of a fluorinated polymer is described in WO 2008/032539.
フッ素化ポリマーにおいて、フルオロシリル基の導入は、いかなる方法を用いてもよいが、フルオロシリル基を有する低分子珪素化合物と重合体との反応による導入方法(方法(i))と、フッ素以外の加水分解性基を有する架橋性珪素基を含有する重合体(以下、「重合体(X)」と称することがある。)の珪素基をフルオロシリル基に変性する方法(方法(ii))が挙げられる。 In the fluorinated polymer, the introduction of the fluorosilyl group may be carried out by any method, but the introduction method by the reaction of the low molecular weight silicon compound having the fluorosilyl group with the polymer (method (i)) and fluorine A method (method (ii)) of modifying a silicon group of a crosslinkable silicon group-containing polymer having a hydrolyzable group (hereinafter sometimes referred to as "polymer (X)") to a fluorosilyl group It can be mentioned.
方法(i)の具体例として、以下の方法が挙げられる。
(イ)分子中に水酸基、エポキシ基やイソシアネート基等の官能基を有する重合体に、この官能基に対して反応性を示す官能基およびフルオロシリル基を有する化合物を反応させる方法。たとえば、末端に水酸基を有する重合体とイソシアネートプロピルジフルオロメチルシランを反応させる方法や、末端にSiOH基を有する重合体とジフルオロジエトキシシランを反応させる方法が挙げられる。
(ロ)分子中に不飽和基を含有する重合体に、フルオロシリル基を有するヒドロシランを作用させてヒドロシリル化する方法。たとえば、末端にアリル基を有する重合体に、ジフルオロメチルヒドロシランを反応させる方法が挙げられる。
(ハ)不飽和基を含有する重合体に、メルカプト基およびフルオロシリル基を有する化合物を反応させる方法。たとえば、末端にアリル基を有する重合体に、メルカプトプロピルジフルオロメチルシランを反応させる方法が挙げられる。
The following method is mentioned as a specific example of method (i).
(I) A method of reacting a polymer having a functional group such as a hydroxyl group, an epoxy group or an isocyanate group in a molecule with a compound having a functional group having reactivity with the functional group and a fluorosilyl group. For example, a method of reacting a polymer having a hydroxyl group at an end with isocyanate propyl difluoromethylsilane, or a method of reacting a polymer having an SiOH group at an end and difluorodiethoxysilane may be mentioned.
(Ii) A method of hydrosilylation by causing a hydrosilane having a fluorosilyl group to act on a polymer containing an unsaturated group in the molecule. For example, there is a method of reacting difluoromethyl hydrosilane with a polymer having an allyl group at the end.
(Iii) A method of reacting a compound having a mercapto group and a fluorosilyl group with a polymer containing an unsaturated group. For example, there is a method of reacting mercaptopropyl difluoromethylsilane with a polymer having an allyl group at the end.
上記方法(ii)で用いる、フッ素以外の加水分解性基を有する架橋性珪素基を含有する重合体(重合体(X))としては、フッ素以外の加水分解性基を有する架橋性珪素基を含有するポリイソブチレン、水添ポリイソプレン、水添ポリブタジエン等の飽和炭化水素系重合体や、ポリオキシアルキレン系重合体、(メタ)アクリル酸エステル系重合体、ポリシロキサン系重合体が好ましい重合体として挙げることができる。 As a polymer (polymer (X)) containing a crosslinkable silicon group having a hydrolyzable group other than fluorine, which is used in the above method (ii), a crosslinkable silicon group having a hydrolyzable group other than fluorine is used. Preferred polymers include saturated hydrocarbon polymers such as polyisobutylene, hydrogenated polyisoprene and hydrogenated polybutadiene, polyoxyalkylene polymers, (meth) acrylate polymers, and polysiloxane polymers. It can be mentioned.
また、方法(ii)において、フッ素以外の加水分解性基を有する架橋性珪素基をフルオロシリル基に変換する方法としては、公知の方法が使用でき、例えば、前述した前記式(7)で示される加水分解性珪素基を、フッ素化剤でフルオロシリル基に変換する方法が挙げられる。
フッ素化剤としては、例えば、前述したフッ素化剤が挙げられ、中でも、BF3エーテル錯体、BF3アルコール錯体、BF3二水和物は活性が高く、効率よくフッ素化が進行し、さらに副生成物に塩等が生じず、後処理が容易であるためにより好ましく、BF3エーテル錯体が特に好ましい。
さらに、BF3エーテル錯体によるフッ素化は、加熱しなくても反応が進行するが、より効率よくフッ素化を行なうためには、加熱することが好ましい。加熱温度としては50℃以上150℃以下が好ましく、60℃以上130℃がより好ましい。50℃以下であると反応が効率よく進行せず、フッ素化に時間がかかる場合がある。150℃以上であるとフッ素化ポリマーが分解する虞がある。BF3錯体によるフッ素化において、用いる重合体(X)の種類によっては着色が起こる場合があるが、着色の抑制の点から、BF3アルコール錯体、BF3二水和物を用いることが好ましい。
Further, in the method (ii), as a method for converting a crosslinkable silicon group having a hydrolyzable group other than fluorine into a fluorosilyl group, a known method can be used, and for example, it is shown by the above-mentioned formula (7) And a method of converting the hydrolyzable silicon group to be a fluorosilyl group with a fluorinating agent.
Examples of the fluorinating agent include the above-mentioned fluorinating agents. Among them, BF 3 ether complex, BF 3 alcohol complex, and BF 3 dihydrate have high activity, and fluorination proceeds efficiently, and further secondary Salts and the like are not generated in the product, and post treatment is easy, which is more preferable, and BF 3 ether complex is particularly preferable.
Furthermore, although fluorination with BF 3 ether complex proceeds without heating, the reaction proceeds, but in order to conduct fluorination more efficiently, heating is preferable. As heating temperature, 50 degreeC or more and 150 degrees C or less are preferable, and 60 degreeC or more and 130 degreeC are more preferable. Reaction may not advance efficiently that it is 50 degrees C or less, and fluorination may take time. If the temperature is 150 ° C. or higher, the fluorinated polymer may be decomposed. In the fluorination with a BF 3 complex, coloration may occur depending on the type of the polymer (X) to be used, but from the viewpoint of suppression of coloration, it is preferable to use a BF 3 alcohol complex or BF 3 dihydrate.
フッ素化ポリマーの製造に使用されるフッ素化剤は、フッ素化ポリマーの硬化触媒としても作用する可能性があり、上記(ii)の方法を用いてフッ素化ポリマーを製造するときに水分が存在すると、シラノール縮合反応が進行し、得られるフッ素化ポリマーの粘度が上昇してしまう虞がある。このため、フッ素化ポリマーの製造は、できるだけ水分が存在しない環境下で行なわれることが望ましく、フッ素化前に、フッ素化する重合体(X)をトルエンやヘキサン等を利用して共沸脱水に供するなどの脱水操作を行なうことが好ましい。但し、BF3アミン錯体を用いる場合には、脱水操作後にはフッ素化が進行し難く、微量の水分を添加することで反応性が向上する傾向があるため、粘度上昇が許容される範囲で水分を添加することが好ましい。また、フッ素化ポリマーの安定性の点で、フッ素化後にフッ素化剤および副生したフッ素化剤由来成分を、濾過、デカンテーション、分液、減圧脱揮などで除去することが好ましい。上記したBF3系のフッ素化剤を用いてフッ素化ポリマーを製造する場合には、製造されたフッ素化ポリマー中に残存するBF3および反応によって生成したBF3由来成分が、B量で500ppm未満であることが好ましく、100ppm未満であることがより好ましく、50ppm未満であることが特に好ましい。BF3およびBF3由来成分を除去することで、得られたフッ素化ポリマー自身およびフッ素化ポリマーと重合体(X)との混合物の粘度上昇などが抑制できる。この点を考慮すると、BF3エーテル錯体、BF3アルコール錯体を用いたフッ素化法は、ホウ素成分を真空脱揮により比較的簡便に除去できるため好ましく、BF3エーテル錯体を用いた方法が特に好ましい。 The fluorinating agent used in the production of the fluorinated polymer may also act as a curing catalyst for the fluorinated polymer, and if moisture is present when producing the fluorinated polymer using the method of (ii) above The silanol condensation reaction may proceed to increase the viscosity of the resulting fluorinated polymer. For this reason, it is desirable that the production of the fluorinated polymer is carried out in an environment in which the water does not exist as much as possible, and before fluorination, the polymer (X) to be fluorinated is subjected to azeotropic dehydration using toluene, hexane or the like. It is preferable to perform a dewatering operation such as feeding. However, in the case of using a BF 3 amine complex, fluorination does not easily proceed after dehydration operation, and there is a tendency for the reactivity to be improved by adding a small amount of water, so that the increase in water viscosity is acceptable. Is preferably added. Further, from the viewpoint of the stability of the fluorinated polymer, it is preferable to remove the fluorinating agent and the by-produced fluorinating agent-derived component after fluorination by filtration, decantation, liquid separation, vacuum evaporation or the like. When producing a fluorinated polymer using the above-mentioned BF 3 -based fluorinating agent, BF 3 remaining in the produced fluorinated polymer and BF 3 -derived components produced by the reaction are less than 500 ppm in B amount Is preferred, less than 100 ppm is more preferred, and less than 50 ppm is particularly preferred. By removing BF 3 and BF 3 -derived components, it is possible to suppress the increase in viscosity and the like of the obtained fluorinated polymer itself and the mixture of the fluorinated polymer and the polymer (X). Taking this point into consideration, the fluorination method using BF 3 ether complex and BF 3 alcohol complex is preferable because the boron component can be relatively easily removed by vacuum degassing, and the method using BF 3 ether complex is particularly preferable. .
ここで、重合体(X)が、フッ素以外の加水分解性基を2個以上有する場合は、全ての加水分解性基をフッ素化してもよいし、フッ素化剤の量を減量するなどの方法によって、フッ素化の条件を調整することにより、部分的にフッ素化してもよい。たとえば、上記(ii)の方法において、重合体(X)を用いてフッ素化ポリマーを製造する場合、フッ素化剤の使用量は特に制限されるものではなく、フッ素化剤中のフッ素原子のモル量が、重合体(X)のモル量に対して等モル以上になる量であればよい。(ii)の方法により、重合体(X)が含有する加水分解性基のすべてをフッ素化しようとする場合には、フッ素化剤中のフッ素原子のモル量が、重合体(X)が含有する架橋性珪素基中の加水分解性基の総モル量に対して等モル以上となるような量のフッ素化剤を使用することが好ましい。ここで、「フッ素化剤中のフッ素原子」とは、フッ素化剤中のフッ素化に有効なフッ素原子、具体的には、重合体(X)の架橋性珪素基中の加水分解性基を置換できるフッ素原子をいう。 Here, when the polymer (X) has two or more hydrolyzable groups other than fluorine, all hydrolyzable groups may be fluorinated, or a method such as reducing the amount of fluorinating agent , And may be partially fluorinated by adjusting the conditions of fluorination. For example, in the case of producing a fluorinated polymer using the polymer (X) in the method (ii) above, the amount of the fluorinating agent used is not particularly limited, and the molar amount of fluorine atoms in the fluorinating agent The amount may be such that it is equimolar or more with respect to the molar amount of the polymer (X). When it is going to fluorinate all the hydrolysable groups which a polymer (X) contains by the method of (ii), the molar amount of the fluorine atom in a fluorinating agent contains a polymer (X) It is preferable to use an amount of fluorinating agent that is equal to or greater than the total molar amount of hydrolyzable groups in the crosslinkable silicon group. Here, "a fluorine atom in the fluorinating agent" means a fluorine atom effective for fluorination in the fluorinating agent, specifically, a hydrolyzable group in the crosslinkable silicon group of the polymer (X) Refers to a fluorine atom that can be substituted.
上記方法(i)におけるフルオロシリル基を有する低分子化合物も、上記フッ素化方法を利用して、汎用な架橋性珪素基含有低分子化合物から合成することができる。 The low molecular weight compound having a fluorosilyl group in the above method (i) can also be synthesized from a general-purpose crosslinkable silicon group-containing low molecular weight compound utilizing the above-mentioned fluorination method.
方法(i)では、フルオロシリル基とともに、重合体と珪素含有低分子化合物を反応させるための反応性基があるため、反応が複雑になる場合には、方法(ii)によってフッ素化ポリマーを得ることが好ましい。 In method (i), a fluorinated polymer is obtained by method (ii) when the reaction is complicated because there is a reactive group for reacting the polymer and the silicon-containing low molecular weight compound together with the fluorosilyl group. Is preferred.
フッ素化ポリマーのガラス転移温度は、特に限定は無いが、20℃以下であることが好ましく、0℃以下であることがより好ましく、−20℃以下であることが特に好ましい。ガラス転移温度が20℃を上回ると、冬季または寒冷地での粘度が高くなり取り扱い難くなる場合があり、また、硬化性組成物として使用した場合に得られる硬化物の柔軟性が低下し、伸びが低下する場合がある。ガラス転移温度はDSC測定により求めることができる。 The glass transition temperature of the fluorinated polymer is not particularly limited, but is preferably 20 ° C. or less, more preferably 0 ° C. or less, and particularly preferably −20 ° C. or less. When the glass transition temperature exceeds 20 ° C., the viscosity in winter or cold region may become high and handling may be difficult, and the flexibility of the cured product obtained when used as a curable composition is reduced, and the elongation May decrease. The glass transition temperature can be determined by DSC measurement.
フッ素化ポリマーは直鎖状であってもよく、または分岐を有してもよい。フッ素化ポリマーの数平均分子量は、GPCにおけるポリスチレン換算において3,000〜100,000が好ましく、より好ましくは3,000〜50,000であり、特に好ましくは3,000〜30,000である。 The fluorinated polymer may be linear or may have branches. The number average molecular weight of the fluorinated polymer is preferably 3,000 to 100,000, more preferably 3,000 to 50,000, and particularly preferably 3,000 to 30,000 in terms of polystyrene in GPC.
前記(C1)Si−F結合を有する珪素化合物の配合割合は特に制限はないが、フッ素化ポリマー等の数平均分子量3000以上の高分子化合物を用いる場合は、(A)架橋性珪素基と光ラジカル重合性のビニル基を有する有機重合体100質量部に対して、0.01〜80質量部が好ましく、0.01〜30質量部がより好ましく、0.05〜20質量部がさらに好ましい。数平均分子量3000未満のフルオロシリル基を有する低分子化合物(例えば、前記式(5)で示されるフルオロシラン類や式(6)で示されるフルオロシリル基を有する低分子有機珪素化合物、フルオロシリル基を有する無機珪素化合物等)を用いる場合は、(A)分子内に架橋性珪素基と光ラジカル重合性のビニル基を有する有機重合体100質量部に対して、0.01〜50質量部が好ましく、0.05〜20質量部がより好ましく、0.1〜15質量部が特に好ましい。 The compounding ratio of the silicon compound having the (C1) Si-F bond is not particularly limited, but when using a polymer compound having a number average molecular weight of 3,000 or more such as a fluorinated polymer, (A) crosslinkable silicon group and light 0.01 to 80 parts by mass is preferable, 0.01 to 30 parts by mass is more preferable, and 0.05 to 20 parts by mass is more preferable with respect to 100 parts by mass of the radical polymerizable vinyl group-containing organic polymer. Low molecular weight compounds having a fluorosilyl group having a number average molecular weight of less than 3,000 (for example, fluorosilanes represented by the formula (5), low molecular weight organosilicon compounds having a fluorosilyl group represented by the formula (6), fluorosilyl group 0.01 to 50 parts by mass relative to 100 parts by mass of the organic polymer having a crosslinkable silicon group and a radically polymerizable vinyl group in the (A) molecule Preferably, 0.05 to 20 parts by mass is more preferable, and 0.1 to 15 parts by mass is particularly preferable.
本発明において、(C2)三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ素の錯体、フッ素化剤及び多価フルオロ化合物のアルカリ金属塩からなる群から選択される1種以上のフッ素系化合物は架橋性珪素基の加水分解縮合反応を促進させる化合物となり、(A)分子内に架橋性珪素基と光ラジカル重合性のビニル基を有する有機重合体の硬化触媒として作用する。 In the present invention, at least one fluorine compound selected from the group consisting of (C2) boron trifluoride, a complex of boron trifluoride, a fluorinating agent and an alkali metal salt of a polyvalent fluoro compound is a crosslinkable silicon group (A) acts as a curing catalyst for the organic polymer having a crosslinkable silicon group and a radically polymerizable vinyl group in the molecule (A).
前記三フッ化ホウ素の錯体としては、例えば、三フッ化ホウ素のアミン錯体、アルコール錯体、エーテル錯体、チオール錯体、スルフィド錯体、カルボン酸錯体、水錯体等が例示される。上記三フッ化ホウ素の錯体の中では、安定性と触媒活性を兼ね備えたアミン錯体が特に好ましい。 Examples of the complex of boron trifluoride include an amine complex of boron trifluoride, an alcohol complex, an ether complex, a thiol complex, a sulfide complex, a carboxylic acid complex, a water complex and the like. Among the above-mentioned complexes of boron trifluoride, amine complexes having both stability and catalytic activity are particularly preferable.
前記三フッ化ホウ素のアミン錯体に用いられるアミン化合物としては、例えば、アンモニア、モノエチルアミン、トリエチルアミン、ピペリジン、アニリン、モルホリン、シクロヘキシルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、グアニジン、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン、N−メチル−3,3′−イミノビス(プロピルアミン)、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンジアミン、ペンタエチレンジアミン、1,2−ジアミノプロパン、1,3−ジアミノプロパン、1,2−ジアミノブタン、1,4−ジアミノブタン、1,9−ジアミノノナン、ATU(3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン)、CTUグアナミン、ドデカン酸ジヒドラジド、ヘキサメチレンジアミン、m−キシリレンジアミン、ジアニシジン、4,4′−ジアミノ−3,3′−ジエチルジフェニルメタン、ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、トリジンベース、m−トルイレンジアミン、o−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、メラミン、1,3−ジフェニルグアニジン、ジ−o−トリルグアニジン、1,1,3,3−テトラメチルグアニジン、ビス(アミノプロピル)ピペラジン、N−(3−アミノプロピル)−1,3−プロパンジアミン、ビス(3−アミノプロピル)エーテル、サンテクノケミカル社製ジェファーミン等の複数の第一級アミノ基を有する化合物、ピペラジン、シス−2,6−ジメチルピペラジン、シス−2,5−ジメチルピペラジン、2−メチルピペラジン、N,N′−ジ−t−ブチルエチレンジアミン、2−アミノメチルピペリジン、4−アミノメチルピペリジン、1,3−ジ−(4−ピペリジル)−プロパン、4−アミノプロピルアニリン、ホモピペラジン、N,N′−ジフェニルチオ尿素、N,N′−ジエチルチオ尿素、N−メチル−1,3−プロパンジアミン等の複数の第二級アミノ基を有する化合物、更に、メチルアミノプロピルアミン、エチルアミノプロピルアミン、エチルアミノエチルアミン、ラウリルアミノプロピルアミン、2−ヒドロキシエチルアミノプロピルアミン、1−(2−アミノエチル)ピペラジン、N−アミノプロピルピペラジン、3−アミノピロリジン、1−o−トリルビグアニド、2−アミノメチルピペラジン、N−アミノプロピルアニリン、エチルアミンエチルアミン、2−ヒドロキシエチルアミノプロピルアミン、ラウリルアミノプロピルアミン、2−アミノメチルピペリジン、4−アミノメチルピペリジン、式H2N(C2H4NH)nH(n≒5)で表わされる化合物(商品名:ポリエイト、東ソー社製)、N−アルキルモルホリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、6−ジブチルアミノ−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、ピリジン、N−アルキルピペリジン、1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]デカ−5−エン、7−メチル−1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]デカ−5−エン等の複環状第三級アミン化合物等の他、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、4−アミノ−3−ジメチルブチルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N−3−[アミノ(ジプロピレンオキシ)]アミノプロピルトリエトキシシラン、(アミノエチルアミノメチル)フェネチルトリエトキシシラン、N−(6−アミノヘキシル)アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−11−アミノウンデシルトリエトキシシラン等のアミノシラン化合物が挙げられる。
前記三フッ化ホウ素のアミン錯体の市販品としては、例えば、エアプロダクツジャパン株式会社製のアンカー1040、アンカー1115、アンカー1170、アンカー1222、BAK1171等が挙げられる。
Examples of the amine compound used for the amine complex of boron trifluoride include ammonia, monoethylamine, triethylamine, piperidine, aniline, morpholine, cyclohexylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, guanidine, and the like. 2,2,6,6-Tetramethylpiperidine, 1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine, N-methyl-3,3'-iminobis (propylamine), ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenediamine, pentaethylenediamine 1,2-diaminopropane, 1,3-diaminopropane, 1,2-diaminobutane, 1,4-diaminobutane, 1,9-diaminononane, ATU (3,9-bis (3-aminopropyl) -2 , 4 8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane), CTU guanamine, dodecanoic acid dihydrazide, hexamethylenediamine, m-xylylenediamine, dianisidine, 4,4'-diamino-3,3'-diethyldiphenylmethane, diamino Diphenyl ether, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, tolidine base, m-toluylene diamine, o-phenylenediamine, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, melamine, 1,3-diphenylguanidine, Di-o-tolyl guanidine, 1,1,3,3-tetramethyl guanidine, bis (aminopropyl) piperazine, N- (3-aminopropyl) -1,3-propanediamine, bis (3-aminopropyl) ether , Made by Sun Techno Chemical Co. Compounds having a plurality of primary amino groups such as hamamine, piperazine, cis-2,6-dimethyl piperazine, cis-2,5-dimethyl piperazine, 2-methyl piperazine, N, N'-di-t-butyl ethylene diamine , 2-aminomethylpiperidine, 4-aminomethylpiperidine, 1,3-di- (4-piperidyl) -propane, 4-aminopropylaniline, homopiperazine, N, N'-diphenylthiourea, N, N'- Compounds having a plurality of secondary amino groups such as diethylthiourea and N-methyl-1,3-propanediamine, and further methylaminopropylamine, ethylaminopropylamine, ethylaminoethylamine, laurylaminopropylamine, 2-hydroxy Ethylaminopropylamine, 1- (2-aminoethyl) piperazine, N -Aminopropylpiperazine, 3-aminopyrrolidine, 1-o-tolylbiguanide, 2-aminomethylpiperazine, N-aminopropylaniline, ethylamineethylamine, 2-hydroxyethylaminopropylamine, laurylaminopropylamine, 2-aminomethylpiperidine 4-aminomethylpiperidine, a compound represented by the formula H 2 N (C 2 H 4 NH) n H (n ≒ 5) (trade name: Polyate, manufactured by Tosoh Corporation), N-alkylmorpholine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] Undecen-7,6-dibutylamino-1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7,1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5,1,4-diazabicyclo [2.2 .2] Octane, pyridine, N-alkylpiperidine, 1,5,7-tria Polycyclic tertiary amine compounds such as xavicyclo [4.4.0] dec-5-ene, 7-methyl-1,5,7-triazabicyclo [4.4.0] dec-5-ene, etc. Other, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, 4-amino-3-dimethylbutyltriethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β (Aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, N-3- [amino (dipropyleneoxy)] aminopropyltriethoxysilane, (aminoethylaminomethyl) phenethyltriethoxysilane, N- (6-aminohexyl ) Aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) Aminosilane compounds such as 11-amino-undecyl triethoxy silane.
Examples of commercially available products of the boron trifluoride amine complex include anchor 1040, anchor 1115, anchor 1170, anchor 1222, BAK 1171 and the like manufactured by Air Products Japan Co., Ltd.
前記フッ素化剤には、フッ素アニオンを活性種とする求核的フッ素化剤と、電子欠乏性のフッ素原子を活性種とする求電子的フッ素化剤が含まれる。 The fluorinating agent includes a nucleophilic fluorinating agent having a fluorine anion as an active species and an electrophilic fluorinating agent having an electron deficient fluorine atom as an active species.
前記求核的フッ素化剤としては、例えば、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−1−ジエチルアミノプロパン等の1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−1−ジアルキルアミノプロパン系化合物、トリエチルアミントリスヒドロフルオライド等のトリアルキルアミントリスヒドロフルオライド系化合物、ジエチルアミノサルファートリフルオライド等のジアルキルアミノサルファートリフルオライド系化合物等が挙げられる。 Examples of the nucleophilic fluorinating agent include 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-1-, such as 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-1-diethylaminopropane and the like. Dialkylaminopropane compounds, trialkylamine trishydrofluoride compounds such as triethylamine trishydrofluoride, dialkylaminosulfur trifluoride compounds such as diethylaminosulfur trifluoride, etc. may be mentioned.
前記求電子的フッ素化剤としては、例えば、ビス(テトラフルオロホウ酸)N,N’−ジフルオロ−2,2’−ビピリジニウム塩化合物,トリフルオロメタンスルホン酸N−フルオロピリジニウム塩化合物等のN−フルオロピリジニウム塩系化合物、ビス(テトラフルオロホウ酸)4−フルオロ−1,4−ジアゾニアビシクロ[2.2.2]オクタン塩等の4−フルオロ−1,4−ジアゾニアビシクロ[2.2.2]オクタン系化合物、N−フルオロビス(フェニルスルホニル)アミン等のN−フルオロビス(スルホニル)アミン系化合物等が挙げられる。これらの中では、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−1−ジエチルアミノプロパン系化合物が液状化合物である上、入手が容易なため特に好ましい。 Examples of the electrophilic fluorinating agent include N-fluoro such as bis (tetrafluoroboric acid) N, N'-difluoro-2,2'-bipyridinium salt compound, trifluoromethanesulfonic acid N-fluoropyridinium salt compound, etc. 4-fluoro-1,4-diazoniabicyclo [2.2.4] such as pyridinium salt compounds, bis (tetrafluoroboric acid) 4-fluoro-1,4-diazoniabicyclo [2.2.2] octane salt and the like. 2] Octane compounds, N-fluorobis (sulfonyl) amine compounds such as N-fluorobis (phenylsulfonyl) amine, etc. may be mentioned. Among these, 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-1-diethylaminopropane type compounds are particularly preferable because they are liquid compounds and easy to obtain.
前記多価フルオロ化合物のアルカリ金属塩としては、例えば、ヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム、ヘキサフルオロアンチモン酸カリウム、ヘキサフルオロヒ酸ナトリウム、ヘキサフルオロヒ酸カリウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸ナトリウム、ヘキサフルオロリン酸カリウム、ペンタフルオロヒドロキソアンチモン酸ナトリウム、ペンタフルオロヒドロキソアンチモン酸カリウム、テトラフルオロホウ酸リチウム、テトラフルオロホウ酸ナトリウム、テトラフルオロホウ酸カリウム、テトラキス(トリフルオロメチルフェニル)ホウ酸ナトリウム、トリフルオロ(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸ナトリウム、トリフルオロ(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸カリウム、ジフルオロビス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸ナトリウム、ジフルオロビス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸カリウム等が挙げられる。
これらの中でも、多価フルオロ化合物のアルカリ金属塩における多価フルオロ化合物成分としては、テトラフルオロホウ酸又はヘキサフルオロリン酸が好ましい。また、多価フルオロ化合物のアルカリ金属塩におけるアルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム及びカリウムからなる群から選ばれる一種以上のアルカリ金属であることが好ましい。
Examples of the alkali metal salt of the polyvalent fluoro compound include sodium hexafluoroantimonate, potassium hexafluoroantimonate, sodium hexafluoroarsenate, potassium hexafluoroarsenate, lithium hexafluorophosphate, sodium hexafluorophosphate, Potassium hexafluorophosphate, sodium pentafluorohydroxoantimonate, potassium pentafluorohydroxoantimonate, lithium tetrafluoroborate, sodium tetrafluoroborate, potassium tetrafluoroborate, sodium tetrakis (trifluoromethylphenyl) borate, triborate Sodium fluoro (pentafluorophenyl) borate, potassium trifluoro (pentafluorophenyl) borate, difluorobis (pentafluorophenyl) Sulfonyl) sodium borate, difluoro (pentafluorophenyl) potassium borate, and the like.
Among these, as a polyvalent fluoro compound component in the alkali metal salt of a polyvalent fluoro compound, tetrafluoroboric acid or hexafluorophosphoric acid is preferable. The alkali metal in the alkali metal salt of the polyvalent fluoro compound is preferably at least one alkali metal selected from the group consisting of lithium, sodium and potassium.
前記(C2)フッ素系化合物の配合割合は特に制限はないが、(A)分子内に架橋性珪素基と光ラジカル重合性のビニル基を有する有機重合体100質量部に対して、0.001〜10質量部が好ましく、0.001〜5質量部がより好ましく、0.001〜2質量部がさらに好ましい。これらフッ素系化合物は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 The compounding ratio of the (C2) fluorine-based compound is not particularly limited, but it is 0.001 with respect to 100 parts by mass of the organic polymer having a crosslinkable silicon group and a photoradical polymerizable vinyl group in the (A) molecule. 10 parts by mass is preferable, 0.001 to 5 parts by mass is more preferable, and 0.001 to 2 parts by mass is more preferable. These fluorine compounds may be used alone or in combination of two or more.
本発明の光硬化性組成物は、前記(C1)Si−F結合を有する珪素化合物及び前記(C2)フッ素系化合物からなる群から選択される1種以上を含むものであり、(C1)及び(C2)のいずれかのみでもよく、両者を併用してもよい。特に、本発明の光硬化性組成物が前記(C1)Si−F結合を有するケイ素化合物を含むことが好ましい。 The photocurable composition of the present invention comprises one or more selected from the group consisting of the silicon compound having the (C1) Si-F bond and the above (C2) fluorine-based compound, and the (C1) and Either (C2) may be used alone, or both may be used in combination. In particular, the photocurable composition of the present invention preferably contains a silicon compound having the (C1) Si-F bond.
本発明の光硬化性組成物には、必要に応じて、架橋性珪素基を有する有機重合体であって(A)成分以外の有機重合体(但し、Si−F結合を有するものを除く)、シランカップリング剤(接着性付与剤)、光増感剤、増量剤、希釈剤、可塑剤、水分吸収剤、硬化触媒、引張特性等を改善する物性調整剤、補強剤、着色剤、難燃剤、タレ防止剤、酸化防止剤、老化防止剤、紫外線吸収剤、溶剤、香料、顔料、染料等の各種添加剤を加えてもよい。 The photocurable composition of the present invention is, if necessary, an organic polymer having a crosslinkable silicon group and an organic polymer other than the component (A) (except for those having a Si-F bond). Silane coupling agent (adhesion imparting agent), photosensitizer, extender, diluent, plasticizer, water absorbent, curing catalyst, physical property modifier for improving tensile properties, etc., reinforcing agent, coloring agent, difficult Various additives such as flame retardants, anti-sagging agents, antioxidants, anti-aging agents, UV absorbers, solvents, perfumes, pigments, dyes and the like may be added.
前記架橋性珪素基を有する有機重合体であって(A)成分以外の有機重合体(但し、Si−F結合を有するものを除く)を本発明の硬化性組成物に使用すると、硬化物の機械強度を改善したり、接着剤として使用した場合、被着体との接着強度を改善することができる。この重合体における架橋性珪素基は(A)成分における架橋性珪素基と同じである。この重合体における架橋性珪素基の個数は特に制限はないが、重合体1分子中に平均して1.1個以上、好ましくは1.4個以上存在するのがよい。また、重合体主鎖も(A)成分における主鎖と同じである。この重合体を使用する場合、光硬化性組成物中1〜80質量%、さらには1〜60質量%が好ましい。
When an organic polymer having the crosslinkable silicon group other than the component (A) (except that having a Si-F bond) is used for the curable composition of the present invention, the cured product When the mechanical strength is improved or used as an adhesive, the adhesion strength to the adherend can be improved. The crosslinkable silicon group in this polymer is the same as the crosslinkable silicon group in component (A). Although the number of crosslinkable silicon groups in this polymer is not particularly limited, it is preferable that the number is 1.1 or more, preferably 1.4 or more in average in one molecule of the polymer. The polymer main chain is also the same as the main chain in the component (A). When this polymer is used, it is preferably 1 to 80% by mass, and more preferably 1 to 60% by mass in the photocurable composition.
本発明の光硬化性組成物は、前記(B)光塩基発生剤に加え、(D)光により、第一級アミノ基および第二級アミノ基からなる群から選択される1種以上のアミノ基を生成する架橋性珪素基含有化合物をさらに含むことが好ましい。該光により、第一級アミノ基および第二級アミノ基からなる群から選択される1種以上のアミノ基を生成する架橋性珪素基含有化合物は、接着性能を向上させることができる。 The photocurable composition of the present invention comprises, in addition to the (B) photobase generator, (D) at least one amino selected from the group consisting of a primary amino group and a secondary amino group by light. It is preferable to further include a crosslinkable silicon group-containing compound that generates a group. The crosslinkable silicon group-containing compound capable of generating at least one amino group selected from the group consisting of a primary amino group and a secondary amino group by the light can improve adhesion performance.
該光により、第一級アミノ基および第二級アミノ基からなる群から選択される1種以上のアミノ基を生成する架橋性珪素基含有化合物としては、光照射により、第一級アミノ基および第二級アミノ基からなる群から選択される1種以上のアミノ基と、架橋性珪素基とを有するアミノシラン化合物を発生する化合物であればいかなるものでも使用可能である。本明細書において、前記光により、第一級アミノ基および第二級アミノ基からなる群から選択される1種以上のアミノ基を生成する架橋性珪素基含有化合物を光アミノシラン発生化合物とも称する。 Examples of the crosslinkable silicon group-containing compound which forms one or more amino groups selected from the group consisting of a primary amino group and a secondary amino group by the light include a primary amino group and a primary amino group by light irradiation. Any compound can be used as long as it generates an aminosilane compound having at least one amino group selected from the group consisting of secondary amino groups and a crosslinkable silicon group. In the present specification, the crosslinkable silicon group-containing compound that generates one or more amino groups selected from the group consisting of a primary amino group and a secondary amino group by the light is also referred to as a photoaminosilane generating compound.
前記光照射により発生する、前記アミノシラン化合物としては、架橋性珪素基、及び置換あるいは非置換のアミノ基を有する化合物が用いられる。置換アミノ基の置換基としては、特に限定されず、例えば、アルキル基、アラルキル基、アリール基などが挙げられる。また、架橋性珪素基としては、特に限定されず、前記(A)有機重合体の項で記載した架橋性珪素基を挙げることでき、加水分解性基が結合した珪素含有基が好ましい。このなかでも、メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基が、加水分解性が穏やかで取扱いやすいことから好ましい。前記アミノシラン化合物中、加水分解性基や水酸基は1個の珪素原子に1〜3個の範囲で結合することができ、2個以上が好ましく、特に3個が好ましい。 As the aminosilane compound generated by the light irradiation, a compound having a crosslinkable silicon group and a substituted or unsubstituted amino group is used. The substituent of the substituted amino group is not particularly limited, and examples thereof include an alkyl group, an aralkyl group and an aryl group. Moreover, it does not specifically limit as a crosslinkable silicon group, The crosslinkable silicon group described by the term of the said (A) organic polymer can be mentioned, The silicon-containing group which the hydrolysable group couple | bonded is preferable. Among these, an alkoxy group such as a methoxy group and an ethoxy group is preferable because of its mild hydrolyzability and easy handling. In the aminosilane compound, the hydrolyzable group and the hydroxyl group can be bonded to one silicon atom in a range of 1 to 3, preferably 2 or more, and particularly preferably 3 or more.
前記光照射により発生する、前記アミノシラン化合物としては、特に限定されず、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、3−(N−エチルアミノ)−2−メチルプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−ベンジル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−ビニルベンジル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−シクロヘキシルアミノメチルトリエトキシシラン、N−シクロヘキシルアミノメチルジエトキシメチルシラン、N−フェニルアミノメチルトリメトキシシラン等のモノアミン,γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−(6−アミノヘキシル)アミノプロピルトリメトキシシラン、(2−アミノエチル)アミノメチルトリメトキシシラン、N,N'−ビス[3−(トリメトキシシリル)プロピル]エチレンジアミン等のジアミン,γ−(2−(2−アミノエチル)アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン等のトリアミンなどが挙げられる。 The aminosilane compound generated by the light irradiation is not particularly limited, and examples thereof include γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriisopropoxysilane, and γ-aminopropylmethyl. Dimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, 3- (N-ethylamino) -2-methylpropyltrimethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-benzyl-γ-aminopropyltriol Monoamines such as methoxysilane, N-vinylbenzyl-γ-aminopropyltriethoxysilane, N-cyclohexylaminomethyltriethoxysilane, N-cyclohexylaminomethyldiethoxymethylsilane, N-phenylaminomethyltrimethoxysilane and the like , Γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltriethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) ) Aminopropylmethyldiethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltriisopropoxysilane, γ- (6-aminohexyl) aminopropyltrimethoxysilane, (2-aminoethyl) aminomethyltrimethoxysilane, N And diamines such as N′-bis [3- (trimethoxysilyl) propyl] ethylenediamine; triamines such as γ- (2- (2-aminoethyl) aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane; and the like.
前記光照射により発生する、前記アミノシラン化合物のなかでも、接着性の点から第一級アミノ基(−NH2)を有するアミノシラン化合物が好ましく、入手性の点からγ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシランが好ましく、接着性、硬化性よりγ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシランがより好ましい。 Among the aminosilane compounds generated by the light irradiation, aminosilane compounds having a primary amino group (-NH 2 ) are preferable from the viewpoint of adhesiveness, and from the viewpoint of availability γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ -Aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, and γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane are preferable, and from the viewpoint of adhesion and curing, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane More preferred is ethoxysilane.
前記光アミノシラン発生化合物としては、例えば、下記式(12)〜(13)で示される光官能基を有するケイ素化合物、下記式(14)で示される芳香族スルホンアミド誘導体、下記式(15)で示されるO−アシルオキシム誘導体、下記式(16)で示されるtrans−O−クマル酸誘導体等が挙げられる。 Examples of the photoaminosilane-generating compound include a silicon compound having a photofunctional group represented by the following formulas (12) to (13), an aromatic sulfonamide derivative represented by the following formula (14), and a following formula (15) The O-acyl oxime derivative shown, the trans-O-coumaric acid derivative shown by following formula (16), etc. are mentioned.
前記式(12)中、nは1〜3の整数であり、Yは水酸基または加水分解性基を示し、アルコキシ基が好ましい。Yが複数存在する場合、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。R101は炭素数1〜20の炭化水素基もしくは置換基を有する炭化水素基を示し、ビニル基、アリル基、炭素数1〜10の非置換もしくは置換アルキル基、非置換もしくは置換アリール基が好ましい。R101が複数存在する場合、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。R102は水素原子又は有機基であり、水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基もしくは置換基を有する炭化水素基が好ましく、水素原子がより好ましい。hは1〜5の整数であり、jは1〜6個の整数である。R103は、h+j個の異なる炭素原子で珪素原子及び窒素原子と結合せる、置換又は非置換の炭化水素基、及び1以上のエーテル酸素原子を介して互いに結合した複数個の置換又は非置換の炭化水素基からなる群から選択されるh+J価の基であり、分子量は1,000以下である。R102及びR103はそれらが結合して環状構造を形成していても良く、ヘテロ原子の結合を含んでいても良い。Zは酸素原子又は硫黄原子であり、酸素原子が好ましい。Qは光官能基を表す。 In said Formula (12), n is an integer of 1-3, Y shows a hydroxyl group or a hydrolysable group, and an alkoxy group is preferable. When two or more Y exist, they may be the same or different. R 101 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a hydrocarbon group having a substituent, and is preferably a vinyl group, an allyl group, an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an unsubstituted or substituted aryl group . When a plurality of R 101 exist, they may be the same or different. R 102 is a hydrogen atom or an organic group, preferably a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a hydrocarbon group having a substituent, more preferably a hydrogen atom. h is an integer of 1 to 5 and j is an integer of 1 to 6. R 103 is a substituted or unsubstituted hydrocarbon group which is bonded to a silicon atom and a nitrogen atom at h + j different carbon atoms, and a plurality of substituted or unsubstituted hydrocarbon groups which are bonded to each other via one or more ether oxygen atoms It is an h + J-valent group selected from the group consisting of hydrocarbon groups, and the molecular weight is 1,000 or less. R 102 and R 103 may combine to form a cyclic structure, and may contain a hetero atom bond. Z is an oxygen atom or a sulfur atom, preferably an oxygen atom. Q represents a photofunctional group.
前記式(13)中、n、Y、R101、Z、及びQは前記式(12)と同様である。R105は、置換又は非置換の炭化水素基、及び1以上のエーテル酸素原子を介して互いに結合した複数個の置換又は非置換の炭化水素基からなる群から選択される2価の基である。tは1以上の整数であり、1又は2が好ましい。tが2以上の場合、R104に結合するt個の基は同じであっても異なっていてもよい。R104は水素原子又は有機基であり、水素原子又は置換もしくは非置換のt価の炭化水素基が好ましく、水素原子、置換もしくは非置換のt価のアルキル基がより好ましい。R104及びR105はそれらが結合して環状構造を形成していても良く、ヘテロ原子の結合を含んでいても良い。 In said Formula (13), n, Y, R < 101 >, Z, and Q are the same as that of said Formula (12). R 105 is a divalent group selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted hydrocarbon group and a plurality of substituted or unsubstituted hydrocarbon groups bonded to each other via one or more ether oxygen atoms . t is an integer of 1 or more, preferably 1 or 2. When t is 2 or more, t groups attached to R 104 may be the same or different. R 104 is a hydrogen atom or an organic group, preferably a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted t-valent hydrocarbon group, and more preferably a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted t-valent alkyl group. R 104 and R 105 may combine to form a cyclic structure, and may contain a hetero atom bond.
前記式(14)中、n、Y、R101〜R103、h及びjは前記式(12)と同様である。R106〜R110はそれぞれ独立して、水素原子又は置換基を表し、該置換基としては、例えば、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、アセチル基、カルボニル基、置換又は非置換のアリル基、置換又は非置換のアルキル基(好ましくは炭素数1〜5のアルキル基)、置換又は非置換のアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜5のアルコキシ基)、非置換もしくは置換アリール基、非置換もしくは置換アリールオキシ基、複素環構造含有基、複数の環を有する基やこれらの組合せ等が挙げられる。R106〜R110のいずれかが互いに結合し、環状構造を形成してもよい。R106〜R110のいずれかが互いに結合し、環状構造を形成する場合、複数のベンゼン環が縮合した構造,ベンゼン環と複素環や非芳香族性の環、カルボニル基等の官能基が結合した環等が縮合した構造等を形成してもよい。 In the formula (14), n, Y, R 101 ~R 103, h and j are the same as the equation (12). Each of R 106 to R 110 independently represents a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent include a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, a mercapto group, a halogen atom, an acetyl group, a carbonyl group, a substituted or substituted group Unsubstituted allyl group, substituted or unsubstituted alkyl group (preferably alkyl group having 1 to 5 carbon atoms), substituted or unsubstituted alkoxy group (preferably alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms), unsubstituted or substituted And aryl groups, unsubstituted or substituted aryloxy groups, heterocyclic structure-containing groups, groups having a plurality of rings, combinations thereof and the like. Any one of R 106 to R 110 may be bonded to each other to form a cyclic structure. When any of R 106 to R 110 is bonded to each other to form a cyclic structure, a structure in which a plurality of benzene rings are condensed, a benzene ring and a heterocyclic ring, a nonaromatic ring, or a functional group such as a carbonyl group is bonded You may form the structure etc. which the fused ring etc. condensed.
前記式(15)中、n、Y、R101、R103、h及びjは前記式(12)と同様であり、R106〜R110は前記式(14)と同様である。R111は前記式(14)のR106〜R110と同様である。 In the formula (15), n, Y, R 101 , R 103 , h and j are the same as the formula (12), and R 106 to R 110 are the same as the formula (14). R 111 is the same as R 106 to R 110 in the above formula (14).
前記式(16)中、n、Y、R101、R103、h及びjは前記式(12)と同様であり、R106〜R109は前記式(14)と同様である。R112は水素原子又は有機基であり、水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基もしくは置換基を有する炭化水素基が好ましく、水素原子がより好ましい。R103及びR112はそれらが結合して環状構造を形成していても良く、ヘテロ原子の結合を含んでいても良い。R113及びR114は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、又は有機基であり、水素原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、アセチル基、アリル基、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、非置換もしくは置換アリール基、アリールオキシ基が好ましい。R115は水素原子又は置換基であり、水素原子、或いは、加熱及び/又は光の照射により脱保護可能な保護基が好ましく、水素原子、シリル基、シラノール基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、または有機基がより好ましい。 In said Formula (16), n, Y, R < 101 >, R < 103 >, h and j are the same as said Formula (12), R < 106 > -R < 109 > is the same as said Formula (14). R 112 is a hydrogen atom or an organic group, preferably a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a hydrocarbon group having a substituent, more preferably a hydrogen atom. R 103 and R 112 may combine to form a cyclic structure, and may contain a hetero atom bond. R 113 and R 114 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, a mercapto group, a sulfide group, a silyl group, a silanol group, a nitro group, a nitroso group, a sulfino group, a sulfo group, a sulfonato group, a phosphino group , Phosphinyl group, phosphono group, phosphonato group, or organic group, hydrogen atom, nitro group, cyano group, hydroxy group, mercapto group, halogen atom, acetyl group, allyl group, alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, carbon The alkoxy group of the number 1-5, an unsubstituted or substituted aryl group, and an aryloxy group are preferable. R 115 represents a hydrogen atom or a substituent, and is preferably a hydrogen atom or a protecting group which can be deprotected by heating and / or irradiation with light; hydrogen atom, silyl group, silanol group, phosphino group, phosphinyl group, phosphono group Or an organic group is more preferred.
前記式(12)〜(16)中、炭素数1〜10(又は炭素数1〜5)の非置換もしくは置換アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、クロロメチル基、クロロエチル基、フルオロメチル基、シアノメチル基等が挙げられる。炭素数1〜5のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ブトキシ基等が挙げられる。非置換もしくは置換アリール基としては、例えば、フェニル基、p−メトキシフェニル基、p−クロロフェニル基、p−トリフルオロメチルフェニル基等が挙げられる。アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基等が挙げられる。 In the above formulas (12) to (16), examples of the unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (or 1 to 5 carbon atoms) include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, and an n-butyl group. Groups, tert-butyl group, n-pentyl group, chloromethyl group, chloroethyl group, fluoromethyl group, cyanomethyl group and the like. As a C1-C5 alkoxy group, a methoxy group, an ethoxy group, n-propoxy group, n-butoxy group etc. are mentioned, for example. As a non-substituted or substituted aryl group, a phenyl group, p-methoxyphenyl group, p-chlorophenyl group, p-trifluoromethylphenyl group etc. are mentioned, for example. As an aryloxy group, a phenoxy group etc. are mentioned, for example.
前記光官能基Qとしては、公知の感光性基が挙げられ特に制限はないが、例えば、下記式(17)で示される環状構造を有する基、下記式(18)で示されるオキシム残基や置換されたこれらの基等が挙げられ、下記式(17)で示される環状構造を有する基が好ましい。 Examples of the photofunctional group Q include known photosensitive groups and are not particularly limited. For example, a group having a cyclic structure represented by the following formula (17), an oxime residue represented by the following formula (18), These groups etc. which were substituted are mentioned and the group which has a cyclic structure shown by following formula (17) is preferable.
−A−Q’ ・・・(17)
[前記式(17)において、Aは直接結合又は2価の連結基であり、Q’は環状構造含有基である。直接結合とは、Q’が連結基を介することなく、Zに直接結合していることを意味する。Aにおける2価の連結基としては、例えば、それぞれ置換基を有していてもよい、アルキレン基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、−CONH−基、またはこれらの組み合わせを含む2価の連結基等が挙げられ、置換基を含んでいてもよいアルキレン基やカルボニル基及びそれらの組合せが好ましい。また、Aの置換基が環状構造を有していてもよく、また、置換基同士が結合し、環状構造を形成していてもよい。該環状構造としては、例えば、Q’と同様のものが挙げられる。
前記Q’における環状構造は、単環及び複数の環のいずれもよく、また、単素環式及び複素環式のいずれでもよいが、ビニル基やカルボニル基、イミノ基等の官能基を含んでいることが好ましく、芳香族性を示す環状構造を有していることがより好ましい。前記Q’としては、例えば、それぞれ置換基を有していてもよい、アリール基,アリールオキシ基,窒素や酸素、硫黄等のヘテロ原子を1種以上含む複素環基,カルボニル基が結合した環状構造を含む基やこれらの組合せ及びこれらの縮合環等が挙げられる。また、置換基がさらに環状構造を有していてもよい。また、Aの置換基とQ’とが結合していてもよい。]
-A-Q '(17)
[In the above-mentioned formula (17), A is a direct bond or a divalent linking group, and Q ′ is a cyclic structure-containing group. Direct bonding means that Q ′ is directly bonded to Z without a linking group. Examples of the divalent linking group for A include, for example, a divalent linkage containing an alkylene group, a carbonyl group, an ether bond, an ester bond, a -CONH- group, or a combination thereof which may have a substituent. A group etc. are mentioned and the alkylene group which may contain a substituent, a carbonyl group, and those combinations are preferable. In addition, the substituent of A may have a cyclic structure, and the substituents may be bonded to each other to form a cyclic structure. Examples of the cyclic structure include those similar to Q ′.
The cyclic structure in Q ′ is preferably either a single ring or a plurality of rings, and may be any of single ring cyclic ring and heterocyclic ring, but includes functional groups such as vinyl group, carbonyl group, imino group, etc. It is preferable to have a cyclic structure exhibiting aromaticity. Examples of Q ′ include an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group containing one or more kinds of hetero atoms such as nitrogen, oxygen, and sulfur, and a cyclic group having a carbonyl group which may have a substituent, for example. And groups including structures, combinations thereof, condensed rings thereof and the like. In addition, the substituent may further have a cyclic structure. Also, the substituent of A and Q ′ may be bonded. ]
(前記式(18)中、R116及びR117はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、ニトロ基、アミノ基、炭素数1〜50の置換あるいは非置換のアルキル基、アルキルオキシ基、炭素数2〜50の置換あるいは非置換のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数4〜50の置換あるいは非置換のアリール基、アリールオキシ基の群から選ばれる少なくとも一種である。R116及びR117は互いに結合して二重結合、又は芳香族性若しくは非芳香族性の環を形成してもよい。前記R116、R117、又はR116及びR117が互いに結合して形成された二重結合又は芳香族性若しくは非芳香族性の環には、上記式中に示されるオキシム基がさらに1又は2個形成されていてもよい。) (In the above formula (18), each of R 116 and R 117 independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a mercapto group, a nitro group, an amino group, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, an alkyl group R 116 is at least one selected from the group consisting of an oxy group, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 50 carbon atoms, an alkenyloxy group, a substituted or unsubstituted aryl group having 4 to 50 carbon atoms, and an aryloxy group. And R 117 may be bonded to each other to form a double bond, or an aromatic or non-aromatic ring, and the R 116 , R 117 , or R 116 and R 117 are formed by bonding to each other Further, one or two oxime groups shown in the above formula may be formed on the double bond or the aromatic or non-aromatic ring.
前記式(17)で示される環状構造を有する基としては、例えば、下記式(19)で示される芳香族基や、複素環構造を有する基、置換されたこれらの基が挙げられ、芳香族基が好ましい。また、光官能性基中の基が互いに結合し、環状構造を形成してもよい。 Examples of the group having a cyclic structure represented by the above formula (17) include an aromatic group represented by the following formula (19), a group having a heterocyclic structure, and these substituted groups. Groups are preferred. Further, groups in the photofunctional group may be bonded to each other to form a cyclic structure.
(前記式(19)中、Aは前記式(17)のAと同様であり、置換又は非置換のアルキレン基、カルボニル基及びこれらの組合せが好ましい。R118〜R122は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を表し、該置換基としては、例えば、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、アセチル基、カルボニル基、置換又は非置換のアリル基、置換又は非置換のアルキル基(好ましくは炭素数1〜5のアルキル基)、置換又は非置換のアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜5のアルコキシ基)、非置換もしくは置換アリール基、非置換もしくは置換アリールオキシ基、複素環構造含有基、複数の環を有する基やこれらの組合せ等が挙げられる。R118〜R122のいずれかが互いに結合し、環状構造を形成してもよい。R118〜R122のいずれかが互いに結合し、環状構造を形成する場合、複数のベンゼン環が縮合した構造,ベンゼン環と複素環や非芳香族性の環、カルボニル基等の官能基が結合した環等が縮合した構造等を形成してもよい。また、Aの置換基とR118〜R122のいずれかが結合していてもよい。) In (Formula (19), A is the same as A in the formula (17), a substituted or unsubstituted alkylene group, a carbonyl group, and combinations thereof are preferred .R 118 to R 122 are each independently And a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent include a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, a mercapto group, a halogen atom, an acetyl group, a carbonyl group, a substituted or unsubstituted allyl group, a substituted or unsubstituted group Alkyl group (preferably an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms), substituted or unsubstituted alkoxy group (preferably an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms), unsubstituted or substituted aryl group, unsubstituted or substituted aryloxy group , either .R 118 to R 122 which heterocyclic structure-containing group, group and the like these combinations having a plurality of rings include bonded to each other, forming a cyclic structure Attached either to each other also good .R 118 to R 122, if they form a cyclic structure, the structure a plurality of benzene rings are condensed, the benzene ring and the heterocyclic or non-aromatic ring, such as a carbonyl group A ring to which a functional group is bonded may form a condensed structure, etc. Also, the substituent of A may be bonded to any of R 118 to R 122 .
前記式(19)で示される芳香族基としては、例えば、下記式(20−1)で示されるo−ニトロベンジル基、下記式(20−2)で示されるm−ニトロベンジル基及び下記式(20−3)で示されるp−ニトロベンジル基等のニトロベンジル基,下記式(21)で示されるベンジル基,下記式(22)で示されるベンゾイル基や置換されたこれらの基が挙げられ、ニトロベンジル基が好ましく、o−ニトロベンジル基及びp−ニトロベンジル基がより好ましく、o−ニトロベンジル基が特に好ましい。また、光官能性基中の基が互いに結合し、環状構造を形成してもよい。 Examples of the aromatic group represented by the above formula (19) include o-nitrobenzyl group represented by the following formula (20-1), m-nitrobenzyl group represented by the following formula (20-2), and the following formula Nitrobenzyl group such as p-nitrobenzyl group shown by (20-3), benzyl group shown by the following formula (21), benzoyl group shown by the following formula (22) and these substituted groups And nitrobenzyl group is preferable, o-nitrobenzyl group and p-nitrobenzyl group are more preferable, and o-nitrobenzyl group is particularly preferable. Further, groups in the photofunctional group may be bonded to each other to form a cyclic structure.
(前記式(20−1)〜(20−3)中、R118〜R121は前記式(19)と同様である。R123及びR124は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜10の非置換もしくは置換アルキル基、フェニル基、置換フェニル基を示し、kは1又は2であり、kが2の場合、複数あるR123及びR124はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。) (In the above formulas (20-1) to (20-3), R 118 to R 121 are the same as the above formula (19). R 123 and R 124 each independently represent a hydrogen atom or 1 carbon atom To 10 unsubstituted or substituted alkyl group, phenyl group or substituted phenyl group, k is 1 or 2, and when k is 2, a plurality of R 123 and R 124 are identical or different from each other Also good.)
(前記式(21)中、R118〜R122は前記式(19)と同様である。R125及びR126は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜10の非置換もしくは置換アルキル基、フェニル基、置換フェニル基を示す。) (In the above formula (21), R 118 to R 122 are the same as the above formula (19). R 125 and R 126 each independently represent a hydrogen atom, an unsubstituted or substituted alkyl having 1 to 10 carbon atoms Group, a phenyl group and a substituted phenyl group are shown)
(前記式(XI)中、R118〜R122は前記式(19)と同様である。R127及びR128は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜10の非置換もしくは置換アルキル基、フェニル基、置換フェニル基を示す。) (In the above-mentioned formula (XI), R 118 to R 122 are the same as the above-mentioned formula (19). R 127 and R 128 each independently represent a hydrogen atom or a C 1-10 unsubstituted or substituted alkyl Group, a phenyl group and a substituted phenyl group are shown)
前記式(22)で示されるベンゾイル基としては、例えば、下記式(23)で示されるベンゾイルフェニルメチル基が好適である。 As a benzoyl group shown by said Formula (22), the benzoyl phenylmethyl group shown, for example by following formula (23) is suitable.
(前記式(23)中、R118〜R122は前記式(19)と同様である。R130は水素原子、炭素数1〜10の非置換もしくは置換アルキル基、フェニル基、置換フェニル基を示す。R131〜R135は、それぞれ独立して、水素原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、アセチル基、アリル基、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、非置換もしくは置換アリール基、アリールオキシ基を示す。R131〜R135は互いに結合して二重結合、又は芳香族性若しくは非芳香族性の環を形成してもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。R131〜R135及びR118〜R122はそれらが結合して環状構造を形成していても良く、ヘテロ原子の結合を含んでいても良い。) (In the above formula (23), R 118 to R 122 are the same as the above formula (19). R 130 is a hydrogen atom, an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a phenyl group or a substituted phenyl group R 131 to R 135 each independently represent a hydrogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, a mercapto group, a halogen atom, an acetyl group, an allyl group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or 1 carbon atom. 5 alkoxy group, an unsubstituted or substituted aryl group, .R 131 to R 135 showing the aryloxy group is bonded to double bond or may form an aromatic or non-aromatic ring R 131 to R 135 and R 118 to R 122 may combine to form a cyclic structure, and may include a hetero atom bond. May be.)
前記複素環構造を有する基としては、例えば、下記式(24)で示されるクマリン誘導体残基、下記式(25)で示されるイミド基や置換されたこれらの基等が挙げられる。 As group which has the said heterocyclic structure, the coumarin derivative residue shown by following formula (24), the imide group shown by following formula (25), these substituted groups, etc. are mentioned.
(前記式(24)中、R136及びR137は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を表し、R138〜R142はそれぞれ独立して、水素原子又は置換基を表し、R138〜R142としては、例えば、前記式(19)のR118〜R122と同様のものが挙げられ、R138〜R142の2つ以上が結合して環状構造を形成していてもよい。R138〜R142のいずれかが互いに結合し、環状構造を形成する場合、複数のベンゼン環が縮合した構造,ベンゼン環と複素環や非芳香族性の環、カルボニル基等の官能基が結合した環等が縮合した構造等を形成してもよい。) (Wherein (24), R 136 and R 137 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, R 138 to R 142 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, R 138 ~ Examples of R 142 include those similar to R 118 to R 122 in formula (19) above, and two or more of R 138 to R 142 may combine to form a cyclic structure. When any of 138 to R 142 is bonded to each other to form a cyclic structure, a structure in which a plurality of benzene rings are condensed, a benzene ring and a heterocyclic ring, a nonaromatic ring, or a functional group such as a carbonyl group is bonded A ring or the like may form a condensed structure or the like.)
(前記式(25)中、R143及びR144は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換あるいは非置換のアルキル基、置換あるいは非置換のアリール基、シクロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基を示し、R143及びR144は互いに結合して二重結合、又は芳香族性若しくは非芳香族性の環を形成してもよい。前記R143、R144、又はR143及びR144が互いに結合して形成された二重結合又は芳香族性若しくは非芳香族性の環には、上記式中に示されるイミド基がさらに1又は2個形成されていてもよい。) (In the above formula (25), R 143 and R 144 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a cycloalkyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, R 143 and R 144 are bonded to double bond or may form an aromatic or non-aromatic ring. the R 143, R 144, or the double bond or aromatic or non-aromatic ring which R 143 and R 144 are bonded to each other to form an imide group shown in the above formula is one or two forms May be
光官能基Qが前記式(20−1)で示されるo−ニトロベンジル基である−OQ基としては、例えば、(2,6−ジニトロベンジル)オキシ基、(2−ニトロベンジル)オキシ基、(3−ニトロ−2−ナフタレン)メチルオキシ基、(6,7−ジメトキシ−3−ニトロ−2−ナフタレンメチル)オキシ基、[1−(2,6−ジニトロフェニル)エチル]オキシ基、[1−(2−ニトロフェニル)エチル]オキシ基、[1−(3,5−ジメトキシフェニル−2−ニトロベンジル)−1−メチルエチル]オキシ基、(2,4−ジニトロベンジル)オキシ基、(3,4,5−トリメトキシ−2−ニトロベンジル)オキシ基、(3,4−ジメトキシ−2−ニトロベンジル)オキシ基、(3−メチル−2−ニトロベンジル)オキシ基、(3−メトキシ−2−ニトロベンジル)オキシ基、(4,5,6−トリメトキシ−2−ニトロベンジル)オキシ基、(4,5−ジクロロ−2−ニトロベンジル)オキシ基、(4,5−ジメチル−2−ニトロベンジル)オキシ基、(5−メチル−4−メトキシ−2−ニトロベンジル)オキシ基、(α−エチル−2−ニトロベンジル)オキシ基、[α−(2−ニトロフェニル)−2−ニトロベンジル]オキシ基等のニトロベンジルオキシ基が挙げられる。 Examples of the —OQ group wherein the photofunctional group Q is an o-nitrobenzyl group represented by the above formula (20-1) include, for example, (2,6-dinitrobenzyl) oxy group, (2-nitrobenzyl) oxy group, (3-nitro-2-naphthalene) methyloxy group, (6,7-dimethoxy-3-nitro-2-naphthalenemethyl) oxy group, [1- (2,6-dinitrophenyl) ethyl] oxy group, [1 -(2-nitrophenyl) ethyl] oxy group, [1- (3,5-dimethoxyphenyl-2-nitrobenzyl) -1-methylethyl] oxy group, (2,4-dinitrobenzyl) oxy group, (3 4,5-trimethoxy-2-nitrobenzyl) oxy group, (3,4-dimethoxy-2-nitrobenzyl) oxy group, (3-methyl-2-nitrobenzyl) oxy group, (3-methoxy- -Nitrobenzyl) oxy group, (4,5,6-trimethoxy-2-nitrobenzyl) oxy group, (4,5-dichloro-2-nitrobenzyl) oxy group, (4,5-dimethyl-2-nitrobenzyl) ) Oxy group, (5-methyl-4-methoxy-2-nitrobenzyl) oxy group, (α-ethyl-2-nitrobenzyl) oxy group, [α- (2-nitrophenyl) -2-nitrobenzyl] oxy And nitrobenzyloxy groups such as groups.
光官能基Qが前記式(20−3)で示されるp−ニトロベンジル基である−OQ基としては、例えば、(2,4−ジニトロベンジル)オキシ基、(3,4−ジニトロベンジル)オキシ基、(4−ニトロベンジル)オキシ基、[1−(4−ニトロナフタレン)メチル]オキシ基、[1−(6,7−ジメトキシ−4−ニトロナフタレン)メチル]オキシ基、[1−(2,4−ジニトロフェニル)エチル]オキシ基、[1−(4−ニトロフェニル)エチル]オキシ基、[1−(3,5−ジメトキシフェニル−4−ニトロベンジル)−1−メチルエチル]オキシ基、(2,3,5−トリメトキシ−4−ニトロベンジル)オキシ基、(2,3−ジメトキシ−4−ニトロベンジル)オキシ基、(3−メチル−4−ニトロベンジル)オキシ基、(3−メトキシ−4−ニトロベンジル)オキシ基、(2,5,6−トリメトキシ−4−ニトロベンジル)オキシ基、(2,5−ジクロロ−4−ニトロベンジル)オキシ基、(2,5−ジメチル−4−ニトロベンジル)オキシ基、(5−メチル−2−メトキシ−4−ニトロベンジル)オキシ基、(α−エチル−4−ニトロベンジル)オキシ基、[α−(4−ニトロフェニル)−4−ニトロベンジル]オキシ基等のニトロベンジルオキシ基が挙げられる。 Examples of the —OQ group wherein the photofunctional group Q is a p-nitrobenzyl group represented by the above formula (20-3) include, for example, (2,4-dinitrobenzyl) oxy group, (3,4-dinitrobenzyl) oxy Group, (4-nitrobenzyl) oxy group, [1- (4-nitronaphthalene) methyl] oxy group, [1- (6,7-dimethoxy-4-nitronaphthalene) methyl] oxy group, [1- (2) 2,4-dinitrophenyl) ethyl! Oxy group, [1- (4-nitrophenyl) ethyl] oxy group, [1- (3,5-dimethoxyphenyl-4-nitrobenzyl) -1-methylethyl] oxy group, (2,3,5-trimethoxy-4-nitrobenzyl) oxy group, (2,3-dimethoxy-4-nitrobenzyl) oxy group, (3-methyl-4-nitrobenzyl) oxy group, (3-methoxy) -4-nitrobenzyl) oxy group, (2,5,6-trimethoxy-4-nitrobenzyl) oxy group, (2,5-dichloro-4-nitrobenzyl) oxy group, (2,5-dimethyl-4-) Nitrobenzyl) oxy group, (5-methyl-2-methoxy-4-nitrobenzyl) oxy group, (α-ethyl-4-nitrobenzyl) oxy group, [α- (4-nitrophenyl) -4-nitrobenzyl And nitrobenzyloxy groups such as oxy group.
光官能基Qが前記式(21)で示されるベンジル基である−OQ基としては、例えば、3,5−ジメトキシベンジルオキシ基、[1−(3,5−ジメトキシフェニル)−1−メチルエチル]オキシ基、9−アントリルメチルオキシ基、9ーファナントリルメチルオキシ基、1-ピレニルメチルオキシ基、[1−(アントラキノン−2−イル)エチル]オキシ基、9−フェニルキサンテン−9−イルオキシ基等のベンジルオキシ基が挙げられる。 As the -OQ group in which the photofunctional group Q is a benzyl group represented by the above formula (21), for example, 3,5-dimethoxybenzyloxy group, [1- (3,5-dimethoxyphenyl) -1-methylethyl] Oxy group, 9-anthrylmethyloxy group, 9-phananthrylmethyloxy group, 1-pyrenylmethyloxy group, [1- (anthraquinone-2-yl) ethyl] oxy group, 9-phenylxanthene-9- Mention may be made of benzyloxy groups such as an pyroxy group.
光官能基Qが前記式(23)で示されるベンゾイルフェニルメチル基である−OQ基としては、例えば、1−(3,5−ジメトキシベンゾイル)−1−(3,5−ジメトキシフェニル)メチルオキシ基、1−ヒドロキシ−1−フェニルアセトフェノンオキシ基、1−ベンゾイル−1−フェニルメチルオキシ基、1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−フェニルエチルオキシ基等のベンゾインオキシ基が挙げられる。 As the -OQ group in which the photofunctional group Q is a benzoylphenylmethyl group represented by the above formula (23), for example, 1- (3,5-dimethoxybenzoyl) -1- (3,5-dimethoxyphenyl) methyloxy And benzoin oxy groups such as 1-hydroxy-1-phenylacetophenonoxy group, 1-benzoyl-1-phenylmethyloxy group, 1-benzoyl-1-hydroxy-1-phenylethyloxy group and the like.
光官能基Qが前記式(24)で示されるクマリン誘導体残基である−OQ基としては、例えば、7−メトキシクマリン−4−イルメトキシ基、6−ブロモ−7−メトキシクマリン−4−イルメトキシ基等のクマリン−4−イルメトキシ基が挙げられる。 Examples of the —OQ group in which the photofunctional group Q is a coumarin derivative residue represented by the above formula (24) include 7-methoxycoumarin-4-ylmethoxy and 6-bromo-7-methoxycoumarin-4-ylmethoxy And coumarin-4-ylmethoxy groups.
光官能基Qが前記式(25)で示されるイミド基である−OQ基としては、例えば、フタルイミドオキシ基、スクシンイミドオキシ基、コハク酸イミドオキシ基、マレイン酸イミドオキシ基、ヘキサヒドロフタル酸イミドオキシ基、シクロヘキサンテトラカルボン酸イミドジオキシ基、テトラブロモフタル酸イミドオキシ基、テトラクロロフタル酸イミドオキシ基、ヘット酸イミドオキシ基、ハイミック酸イミドオキシ基、トリメリット酸イミドオキシ基、ピロメリット酸イミドジオキシ基、ナフタレンテトラカルボン酸イミドジオキシ基等のイミドオキシ基が挙げられる。 The —OQ group in which the photofunctional group Q is an imide group represented by the above formula (25) is, for example, a phthalimido oxy group, a succinimido oxy group, a succinimide imidooxy group, a maleic acid imidooxy group, a hexahydrophthalic acid imidooxy group Cyclohexanetetracarboxylic acid imide dioxy group, tetrabromo phthalic acid imide oxy group, tetrachloro phthalic acid imide oxy group, hetic acid imide oxy group, hemic acid imide oxy group, trimellitic acid imide oxy group, pyromellitic imide dioxy group, naphthalene tetracarboxylic acid imide dioxy group etc And an imidooxy group of
光官能基Qが前記式(18)で示されるオキシム残基である−OQ基としては、例えば、N−(1−フェニルエチリデン)アミノオキシ基、ジフェニルメチリデンアミノオキシ基、ジ(4−メトキシフェニル)メチリデンアミノオキシ基、N−(ジメチルメチリデン)アミノオキシ基、N−(アセトフェノンメチリデン)アミノオキシ基、N−[1−(2−ナフチル)エチリデン]アミノオキシ基、N−(シクロヘキシリデン)アミノオキシ基、N−(フルオレニリデン)アミノオキシ基、N−[ジ(ニトロフェニル)メチリデン]アミノオキシ基、N−(ニトロフルオレニリデン)アミノオキシ基、N−(ジニトロフルオレニリデン)アミノオキシ基、N−(トリニトロフルオレニリデン)アミノオキシ基等のオキシムオキシ基が挙げられる。 Examples of the —OQ group in which the photofunctional group Q is an oxime residue represented by the above formula (18) include, for example, N- (1-phenylethylidene) aminooxy group, diphenylmethylideneaminooxy group, di (4-methoxy) group Phenyl) methylidene aminooxy group, N- (dimethyl methylidene) amino oxy group, N-(acetophenone methylidene) amino oxy group, N-[1-(2- naphthyl) ethylidene] amino oxy group, N-(cyclohexene Sylidene) aminooxy group, N- (fluorenylidene) aminooxy group, N- [di (nitrophenyl) methylidene] aminooxy group, N- (nitrofluorenylidene) aminooxy group, N- (dinitrofluorenylidene) And oxime oxy groups such as aminooxy group, N- (trinitrofluorenylidene) aminooxy group and the like. .
前記式(12)及び(13)中、ZQ基を除いた残基としては、例えば、3−(トリメトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、3−(トリエトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、3−(トリイソプロポキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、3−(メチルジメトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、3−(メチルジエトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、N−[3−(トリメトキシシリル)−2−メチルプロピル]−N−エチルアミノカルボニル基、N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]−N−フェニルアミノカルボニル基、N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]−N−ベンジルアミノカルボニル基、N−[3−(トリエトキシシリル)プロピル]−N−ビニルベンジルアミノカルボニル基、N−トリエトキシシリルメチル−N−シクロヘキシルアミノカルボニル基、N−(メチルジエトキシシリル)メチル−N−シクロヘキシルアミノカルボニル基、N−トリメトキシシリルメチル−N−フェニルアミノカルボニル基等のモノアミノカルボニル基;N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノカルボニル基、N−[3−(メチルジメトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノカルボニル基、N−[3−(トリエトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノカルボニル基、N−[3−(メチルジエトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノカルボニル基、N−[3−(トリイソプロポキシシリル)プロピル]エチレンジアミノカルボニル基、N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]−1,6−ヘキシレンジアミノカルボニル基、N−(トリメトキシシリルメチル)エチレンジアミノカルボニル基、N,N’−ビス[3−(トリメトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノカルボニル基等のジアミノカルボニル基;N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]ジエチレントリアミノカルボニル基等のトリアミノカルボニル基などのアミノカルボニル基が挙げられる。 In the above formulas (12) and (13), examples of the residue excluding the ZQ group include 3- (trimethoxysilyl) propylaminocarbonyl group, 3- (triethoxysilyl) propylaminocarbonyl group, 3- ( Triisopropoxysilyl) propylaminocarbonyl group, 3- (methyldimethoxysilyl) propylaminocarbonyl group, 3- (methyldiethoxysilyl) propylaminocarbonyl group, N- [3- (trimethoxysilyl) -2-methylpropyl ] -N-ethylaminocarbonyl group, N- [3- (trimethoxysilyl) propyl] -N-phenylaminocarbonyl group, N- [3- (trimethoxysilyl) propyl] -N-benzylaminocarbonyl group, N -[3- (triethoxysilyl) propyl] -N-vinylbenzylaminocarbonyl Monoaminocarbonyl such as N-triethoxysilylmethyl-N-cyclohexylaminocarbonyl group, N- (methyldiethoxysilyl) methyl-N-cyclohexylaminocarbonyl group and N-trimethoxysilylmethyl-N-phenylaminocarbonyl group N- [3- (trimethoxysilyl) propyl] ethylenediaminocarbonyl group, N- [3- (methyldimethoxysilyl) propyl] ethylenediaminocarbonyl group, N- [3- (triethoxysilyl) propyl] ethylenediamino Carbonyl group, N- [3- (methyldiethoxysilyl) propyl] ethylenediaminocarbonyl group, N- [3- (triisopropoxysilyl) propyl] ethylenediaminocarbonyl group, N- [3- (trimethoxysilyl) propyl group ] -1, 6-hex Diaminocarbonyl groups such as N-aminocarbonylcarbonyl group, N- (trimethoxysilylmethyl) ethylenediaminocarbonyl group, N, N'-bis [3- (trimethoxysilyl) propyl] ethylenediaminocarbonyl group; N- [3- ( And aminocarbonyl groups such as triaminocarbonyl groups such as trimethoxysilyl) propyl] diethylene triaminocarbonyl group.
前記アミノカルボニル基のなかでも、接着性の点からアミノ基(−NH2)を有するアミノカルボニル基が好ましく、3−(トリメトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、3−(トリエトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、3−(メチルジメトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノカルボニル基がより好ましく、接着性、硬化性より3−(トリメトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、3−(トリエトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基が最も好ましい。 Among the above-mentioned aminocarbonyl groups, an aminocarbonyl group having an amino group (-NH 2 ) is preferable from the viewpoint of adhesiveness, and 3- (trimethoxysilyl) propylaminocarbonyl group, 3- (triethoxysilyl) propylaminocarbonyl Group, 3- (methyldimethoxysilyl) propylaminocarbonyl group, N- [3- (trimethoxysilyl) propyl] ethylenediaminocarbonyl group is more preferable, and from the adhesive property and curing property, 3- (trimethoxysilyl) propylaminocarbonyl The group 3- (triethoxysilyl) propylaminocarbonyl is most preferred.
前記式(14)中、アリールスルホニル基としては、例えば、2−ナフタレンスルホニル基、p−トルエンスルホニル基等の芳香族スルホニル基が挙げられる。 In said Formula (14), as an arylsulfonyl group, aromatic sulfonyl groups, such as 2-naphthalene sulfonyl group and p-toluene sulfonyl group, are mentioned, for example.
前記式(14)中、アリールスルホニル基を除いた残基としては、例えば、3−(トリメトキシシリル)プロピルアミノ基、3−(トリエトキシシリル)プロピルアミノ基、3−(トリイソプロポキシシリル)プロピルアミノ基、3−(メチルジメトキシシリル)プロピルアミノ基、3−(メチルジエトキシシリル)プロピルアミノ基、N−[3−(トリメトキシシリル)−2−メチルプロピル]−N−エチルアミノ基、N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]−N−フェニルアミノ基、N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]−N−ベンジルアミノ基、N−[3−(トリエトキシシリル)プロピル]−N−ビニルベンジルアミノ基、N−トリエトキシシリルメチル−N−シクロヘキシルアミノ基、N−(メチルジエトキシシリル)メチル−N−シクロヘキシルアミノ基、N−トリメトキシシリルメチル−N−フェニルアミノ基等のモノアミノ基;N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノ基、N−[3−(メチルジメトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノ基、N−[3−(トリエトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノ基、N−[3−(メチルジエトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノ基、N−[3−(トリイソプロポキシシリル)プロピル]エチレンジアミノ基、N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]−1,6−ヘキシレンジアミノ基、N−(トリメトキシシリルメチル)エチレンジアミノ基、N,N’−ビス[3−(トリメトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノ基等のジアミノ基;N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]ジエチレントリアミノ基等のトリアミノ基が挙げられる。 In the above formula (14), examples of the residue other than the arylsulfonyl group include 3- (trimethoxysilyl) propylamino group, 3- (triethoxysilyl) propylamino group, 3- (triisopropoxysilyl) Propylamino, 3- (methyldimethoxysilyl) propylamino, 3- (methyldiethoxysilyl) propylamino, N- [3- (trimethoxysilyl) -2-methylpropyl] -N-ethylamino, N- [3- (trimethoxysilyl) propyl] -N-phenylamino group, N- [3- (trimethoxysilyl) propyl] -N-benzylamino group, N- [3- (triethoxysilyl) propyl] -N-vinylbenzylamino group, N-triethoxysilylmethyl-N-cyclohexylamino group, N- (methyldiethoxysilyl) A monoamino group such as methyl-N-cyclohexylamino group, N-trimethoxysilylmethyl-N-phenylamino group, etc .; N- [3- (trimethoxysilyl) propyl] ethylenediamino group, N- [3- (methyldimethoxyne) Silyl) propyl] ethylenediamino group, N- [3- (triethoxysilyl) propyl] ethylenediamino group, N- [3- (methyldiethoxysilyl) propyl] ethylenediamino group, N- [3- (triisopropoxy) Silyl) propyl] ethylenediamino group, N- [3- (trimethoxysilyl) propyl] -1,6-hexylenediamino group, N- (trimethoxysilylmethyl) ethylenediamino group, N, N′-bis [3 -(Trimethoxysilyl) propyl] diamino group such as ethylene diamino group; N- [3- (trimethoxy) Silyl) propyl] include triamino groups such as diethylene triamino group.
前記式(15)中、アリールオキシム基を除いた残基としては、例えば、3−(トリメトキシシリル)プロピルカルボニル基、3−(トリエトキシシリル)プロピルカルボニル基、3−(トリイソプロポキシシリル)プロピルカルボニル基、3−(メチルジメトキシシリル)プロピルカルボニル基、3−(メチルジエトキシシリル)プロピルカルボニル基等のカルボニル基が挙げられる。 In the above formula (15), examples of the residue other than the aryl oxime group include 3- (trimethoxysilyl) propylcarbonyl group, 3- (triethoxysilyl) propylcarbonyl group, 3- (triisopropoxysilyl) Examples thereof include carbonyl group such as propylcarbonyl group, 3- (methyldimethoxysilyl) propylcarbonyl group and 3- (methyldiethoxysilyl) propylcarbonyl group.
前記式(16)中、trans−o−クマル酸誘導体残基としては、例えば、(E)−2−(2−ヒドロキシフェニル)エテニル基、(E)−2−(2−ヒドロキシフェニル)−1−プロペニル基、(E)−2−(2−ヒドロキシフェニル)−1−プロペニル基、(E)−2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−フェニルエテニル基、(E)−2−(2−ヒドロキシ−4,5−メチレンジオキシフェニル)エテニル基、(E)−2−(2−ヒドロキシ−4,5−ジメトオキシフェニル)−1−プロペニル基、(E)−2−(2−ヒドロキシ−5−ニトロフェニル)−1−プロペニル基、(E)−2−(1−ヒドロキシ−2−アントリル)−1−プロペニル基等のtrans−O−クマル酸残基が挙げられる。 In the above formula (16), as the trans-o-coumaric acid derivative residue, for example, (E) -2- (2-hydroxyphenyl) ethenyl group, (E) -2- (2-hydroxyphenyl) -1 -Propenyl group, (E) -2- (2-hydroxyphenyl) -1-propenyl group, (E) -2- (2-hydroxyphenyl) -2-phenylethenyl group, (E) -2- (2) -Hydroxy-4,5-methylenedioxyphenyl) ethenyl group, (E) -2- (2-hydroxy-4,5-dimethoxyphenyl) -1-propenyl group, (E) -2- (2-) Trans-O-coumaric acid residues such as hydroxy-5-nitrophenyl) -1-propenyl group and (E) -2- (1-hydroxy-2-anthryl) -1-propenyl group can be mentioned.
前記架橋性珪素基含有化合物の配合割合は特に制限はないが、(A)架橋性珪素基含有有機重合体100質量部に対して、0.01〜50.00質量部が好ましく、1.00〜20.00質量部がより好ましく、3.00〜10.00質量部がさらに好ましい。これら架橋性珪素基含有化合物は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Although the compounding ratio of the said crosslinkable silicon group containing compound does not have a restriction | limiting in particular, 0.01-50.00 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of (A) crosslinkable silicon group containing organic polymers, and 1.00 -20.00 mass parts is more preferable, and 3.00-10.00 mass parts are further more preferable. These crosslinkable silicon group-containing compounds may be used alone or in combination of two or more.
本発明の光硬化性組成物は、シランカップリング剤をさらに含むことができ、特に、エポキシ基含有シラン類が好ましい。シランカップリング剤は接着性付与剤として作用する。前記シランカップリング剤としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ基含有シラン類;γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、1,3−ジアミノイソプロピルトリメトキシシラン等のアミノ基含有シラン類;N−(1,3−ジメチルブチリデン)−3−(トリエトキシシリル)−1−プロパンアミン、N−(1,3−ジメチルブチリデン)−3−(トリメトキシシリル)−1−プロパンアミン等のケチミン型シラン類;γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等のメルカプト基含有シラン類;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン等のビニル型不飽和基含有シラン類;γ−クロロプロピルトリメトキシシラン等の塩素原子含有シラン類;γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルメチルジメトキシシラン等のイソシアネート含有シラン類;ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン等のアルキルシラン類;フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等のフェニル基含有シラン類等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、前記アミノ基含有シラン類と前記のシラン類を含むエポキシ基含有化合物、イソシアネート基含有化合物、(メタ)アクリロイル基含有化合物とを反応させて、アミノ基を変性した変性アミノ基含有シラン類を用いてもよい。 The photocurable composition of the present invention may further contain a silane coupling agent, and in particular, epoxy group-containing silanes are preferred. The silane coupling agent acts as an adhesion promoter. Examples of the silane coupling agent include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) Epoxy group-containing silanes such as ethyltrimethoxysilane; γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltri Amino groups such as methoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, 1,3-diaminoisopropyltrimethoxysilane Containing silanes; N- (1,3-dimeth Ketimine-type silanes such as butylidene) -3- (triethoxysilyl) -1-propanamine, N- (1,3-dimethylbutylidene) -3- (trimethoxysilyl) -1-propanamine; γ-mercapto Mercapto-containing silanes such as propyltrimethoxysilane and γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane; vinyls such as vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane -Type unsaturated group-containing silanes; chlorine-containing silanes such as γ-chloropropyltrimethoxysilane; isocyanates-containing silanes such as γ-isocyanate propyltriethoxysilane and γ-isocyanate propylmethyldimethoxysilane; hexyl Examples of the alkylsilanes such as dimethoxysilane, hexyltriethoxysilane and decyltrimethoxysilane; phenyl group-containing silanes such as phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldimethoxysilane and diphenyldiethoxysilane; It is not limited to these. In addition, modified amino group-containing silanes in which the amino group is modified by reacting the amino group-containing silane with the epoxy group-containing compound, the isocyanate group-containing compound, and the (meth) acryloyl group-containing compound containing the silanes You may use.
アミノ基含有シラン類はシラノール縮合触媒として作用し、ケチミン型シラン類は水分の存在下でアミノ基含有シラン類を生成しこれはシラノール縮合触媒として作用する。従って、アミノ基含有シラン類やケチミン型シラン類以外のシランカップリング剤を使用することが好ましい。また、アミノ基含有シラン類やケチミン型シラン類を使用する場合、本発明の目的・効果が達成される範囲で種類や使用量に注意して使用すべきである。 The amino group-containing silane acts as a silanol condensation catalyst, and the ketimine-type silanes form an amino group-containing silane in the presence of water, which acts as a silanol condensation catalyst. Therefore, it is preferable to use a silane coupling agent other than amino group-containing silanes and ketimine-type silanes. When amino group-containing silanes or ketimine-type silanes are used, they should be used with careful attention to the type and amount used as long as the purpose and effect of the present invention are achieved.
上記のようにアミノ基含有シラン類やケチミン型シラン類は本発明において使用が制限される場合がある。しかし、接着性付与剤としてアミノ基含有シラン類やケチミン型シラン類を使用することが望ましい場合には、光照射前にはアミノ基を有する化合物を発生せず、光照射によりアミノ基含有シラン類を発生する化合物を使用することができる。光照射によりアミノ基含有シラン類を発生する化合物としては特開2007−231235号公報の合成例1に記載されている化合物をあげることができる。また、光照射によりアミン類を発生する化合物の合成において原料として架橋性珪素基を有する化合物を使用することにより、種々の光照射によりアミノ基含有シラン類を発生する化合物を得ることができる。 As described above, the use of amino group-containing silanes and ketimine-type silanes may be limited in the present invention. However, when it is desirable to use amino group-containing silanes or ketimine-type silanes as an adhesion imparting agent, no compound having an amino group is generated before light irradiation, and amino group-containing silanes by light irradiation Can be used. As a compound which generate | occur | produces amino group containing silanes by light irradiation, the compound described in the synthesis example 1 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-231235 can be mentioned. Moreover, the compound which generate | occur | produces amino group containing silanes by various light irradiation can be obtained by using the compound which has a crosslinkable silicon group as a raw material in the synthesis | combination of the compound which generate | occur | produces amines by light irradiation.
前記シランカップリング剤の配合割合は特に制限はないが、組成物中に0.01〜20質量%が好ましく、0.025〜10質量%がより好ましい。これらシランカップリング剤は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Although the compounding ratio of the said silane coupling agent does not have a restriction | limiting in particular, 0.01-20 mass% is preferable in a composition, and 0.025-10 mass% is more preferable. These silane coupling agents may be used alone or in combination of two or more.
前記光増感剤としては、225−310kJ/molの三重項エネルギーをもつカルボニル化合物が好ましく、例えば、キサントン、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、フタルイミド、アントラキノン、9,10−ジブトキシアントラセン、アセトフェノン、プロピオフェノン、ベンゾフェノン、アシルナフタレン、2(アシルメチレン)チアゾリン、3−アシルクマリンおよび3,3′−カルボニルビスクマリン、ペリレン、コロネン、テトラセン、ベンズアントラセン、フェノチアジン、フラビン、アクリジン、ケトクマリン等が挙げられ、チオキサントン、3−アシルクマリンおよび2(アロイルメチレン)−チアゾリンが好ましく、チオキサントンおび3−アシルクマリンがより好ましい。これら増感剤は組成物の保存寿命を短くすることなく発生したアミン塩基の反応性を増強する。 The photosensitizer is preferably a carbonyl compound having a triplet energy of 225-310 kJ / mol, for example, xanthone, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2 , 4-Diisopropylthioxanthone, isopropylthioxanthone, phthalimide, anthraquinone, 9, 10-dibutoxyanthracene, acetophenone, propiophenone, benzophenone, acyl naphthalene, 2 (acyl methylene) thiazoline, 3-acyl coumarin and 3,3'-carbonyl Examples include biscoumarin, perylene, coronene, tetracene, benzanthracene, phenothiazine, flavin, acridine, ketocoumarin, etc. Thioxanthone, 3-acyl coumarin, Beauty 2 (aroylmethylene) - thiazoline, and more preferably a thioxanthone Obi 3 acylcoumarin. These sensitizers enhance the reactivity of the generated amine base without shortening the shelf life of the composition.
また、光増感剤として、活性エネルギー線を照射することで開裂し、ラジカルを発生するタイプの活性エネルギー線開裂型ラジカル発生剤がより好ましい。該活性エネルギー線開裂型ラジカル発生剤を使用すると、光塩基開始剤の増感剤として知られていたベンゾフェノン類やチオキサントン類等の光増感剤を使用した場合と比較して、格段に速い硬化速度を示し、エネルギー線照射後本発明の光硬化性組成物をさらに短時間で硬化することが可能となる。 Further, as a photosensitizer, an active energy ray cleaving type radical generator of a type which is cleaved by irradiation with an active energy ray to generate a radical is more preferable. The use of the active energy ray-cleavable radical generator cures much faster than the use of photosensitizers such as benzophenones and thioxanthones known as sensitizers for photobase initiators. It is possible to show the speed and to cure the photocurable composition of the present invention in a further short time after energy beam irradiation.
該エネルギー線開裂型ラジカル発生剤としては、例えば、ベンゾインエーテル誘導体、アセトフェノン誘導体等のアリールアルキルケトン類、オキシムケトン類、アシルホスフィンオキシド類、チオ安息香酸S−フェニル類、チタノセン類、およびそれらを高分子量化した誘導体が挙げられる。市販されている開裂型ラジカル発生剤としては、例えば、1−(4−ドデシルベンゾイル)−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン、1−(4−イソプロピルベンゾイル)−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン、1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−ベンゾイル]−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン、1−[4−(アクリロイルオキシエトキシ)−ベンゾイル]−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン、ジフェニルケトン、フェニル−1−ヒドロキシ−シクロヘキシルケトン、ベンジルジメチルケタール、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−ピリル−フェニル)チタン、(η6−イソプロピルベンゼン)−(η5−シクロペンタジエニル)−鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシ−ベンゾイル)−(2,4,4−トリメチル−ペンチル)−ホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,4−ジペントキシフェニルホスフィンオキシドまたはビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニル−ホスフィンオキシド等が挙げられる。 Examples of the energy ray cleavable radical generator include arylalkyl ketones such as benzoin ether derivatives and acetophenone derivatives, oxime ketones, acyl phosphine oxides, S-phenyl thiobenzoate, titanocenes, and the like. Molecular weight derivatives are mentioned. Examples of commercially available cleavage type radical generators include 1- (4-dodecylbenzoyl) -1-hydroxy-1-methylethane, 1- (4-isopropylbenzoyl) -1-hydroxy-1-methylethane, 1- Benzoyl-1-hydroxy-1-methylethane, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -benzoyl] -1-hydroxy-1-methylethane, 1- [4- (acryloyloxyethoxy) -benzoyl] -1-hydroxy -1-Methylethane, diphenyl ketone, phenyl-1-hydroxy-cyclohexyl ketone, benzyl dimethyl ketal, bis (cyclopentadienyl) -bis (2,6-difluoro-3-pyryl-phenyl) titanium, (η6-isopropylbenzene) )-(Η5-cyclopentadienyl) -iron (II) Xafluorophosphate, trimethylbenzoyldiphenyl phosphine oxide, bis (2,6-dimethoxy-benzoyl)-(2,4,4-trimethyl-pentyl) -phosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -2, Examples include 4-dipentoxyphenyl phosphine oxide or bis (2,4,6-trimethyl benzoyl) phenyl-phosphine oxide and the like.
光増感剤の配合割合は特に制限はないが、組成物中に0.01〜5質量%が好ましく、0.025〜2質量%がより好ましい。これら光増感剤は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Although the compounding ratio of a photosensitizer does not have a restriction | limiting in particular, 0.01-5 mass% is preferable in a composition, and 0.025-2 mass% is more preferable. These photosensitizers may be used alone or in combination of two or more.
前記増量剤としては、例えば、タルク、クレー、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、無水珪素、含水珪素、ケイ酸カルシウム、二酸化チタン、カーボンブラック等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of the extender include talc, clay, calcium carbonate, magnesium carbonate, anhydrous silicon, hydrous silicon, calcium silicate, titanium dioxide, carbon black and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
本発明の光硬化性組成物は、希釈剤をさらに含有することができる。希釈剤を配合することにより、粘度等の物性を調整することができる。希釈剤としては、公知の希釈剤を広く用いることができ、特に制限はないが、例えば、ノルマルパラフィン、イソパラフィン等の飽和炭化水素系溶剤,リニアレンダイマー(出光興産株式会社商品名)等のα−オレフィン誘導体,トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤,エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、オクタノール、デカノール、ダイアセトンアルコール等のアルコール系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸セロソルブ等のエステル系溶剤,クエン酸アセチルトリエチル等のクエン酸エステル系溶剤,メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤等の各種溶剤が挙げられる。不飽和基を有する反応性希釈剤を使用してもよい。反応性希釈剤を使用することにより、組成物の粘度を調整できるほか、硬化物からの希釈剤の揮散を防止することができたり、硬化物の物性を調整することができるようになる。反応性希釈剤の具体例としては、メチル(メタ)アクリレートや(ポリ)プロピレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルなどの(メタ)アクリル酸エステル、1−オクテン、4−ビニルシクロヘキセン、酢酸アリル、1,1−ジアセトキシ−2−プロペン、1−ウンデセン酸メチル、8−アセトキシ−1,6−オクタジエン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。希釈剤の配合割合は特に制限はないが、組成物中に0.01〜20質量%が好ましく、0.025〜10質量%がより好ましい。これら希釈剤は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 The photocurable composition of the present invention can further contain a diluent. By blending a diluent, physical properties such as viscosity can be adjusted. As the diluent, known diluents can be widely used, and there is no particular limitation. For example, saturated hydrocarbon solvents such as normal paraffin and isoparaffin, α such as Linearene dimer (trade name of Idemitsu Kosan Co., Ltd.) -Olefin derivatives, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, ethanol, propanol, butanol, pentanol, hexanol, octanol, decanol, alcohol solvents such as diacetone alcohol, ethyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, acetic acid Examples include various solvents such as ester solvents such as cellosolve, citric acid ester solvents such as acetyl triethyl citrate, and ketone solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone. Reactive diluents having unsaturated groups may be used. By using a reactive diluent, not only the viscosity of the composition can be adjusted, but also the volatilization of the diluent from the cured product can be prevented, and the physical properties of the cured product can be adjusted. Specific examples of the reactive diluent include (meth) acrylic acid esters such as methyl (meth) acrylate and (poly) propylene glycol mono (meth) acrylic acid ester, 1-octene, 4-vinylcyclohexene, allyl acetate, 1,1-diacetoxy-2-propene, methyl 1-undecenoate, 8-acetoxy-1,6-octadiene and the like, but it is not limited thereto. Although the compounding ratio of a diluent does not have a restriction | limiting in particular, 0.01-20 mass% is preferable in a composition, and 0.025-10 mass% is more preferable. These diluents may be used alone or in combination of two or more.
前記可塑剤としては、例えば、リン酸トリブチル、リン酸トリクレジル等のリン酸エステル類、フタル酸ジオクチル等のフタル酸エステル類、グリセ57リンモノオレイル酸エステル等の脂肪族一塩基酸エステル類、アジピン酸ジオクチル等の脂肪族二塩基酸エステル類、ポリプロピレングリコール類等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of the plasticizer include phosphate esters such as tributyl phosphate and tricresyl phosphate, phthalate esters such as dioctyl phthalate, aliphatic monobasic acid esters such as glyce 57 phosphorus monooleyl ester, and adipine. Aliphatic dibasic acid esters such as dioctyl acid, polypropylene glycols, etc. may be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.
前記水分吸収剤としては、前述したシランカップリング剤やシリケートが好適である。前記シリケートとしては、特に限定されず、例えば、テトラアルコキシシランまたはその部分加水分解縮合物があげられ、より具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、エトキシトリメトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、メトキシトリエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−i−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−i−ブトキシシラン、テトラ−t−ブトキシシランなどのテトラアルコキシシラン(テトラアルキルシリケート)、および、それらの部分加水分解縮合物が挙げられる。 As the water absorbent, the above-mentioned silane coupling agent and silicate are preferable. The silicate is not particularly limited, and examples thereof include tetraalkoxysilanes and partial hydrolytic condensates thereof, and more specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, ethoxytrimethoxysilane, dimethoxydiethoxysilane, Tetraalkoxysilane (tetraalkyl silicate) such as methoxytriethoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-i-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-i-butoxysilane, tetra-t-butoxysilane, etc. And their partial hydrolytic condensates.
前記硬化触媒としては、公知の硬化触媒を広く用いることができ、特に制限はないが、例えば、有機金属化合物やアミン類等が挙げられ、特にシラノール縮合触媒を用いることが好ましい。前記シラノール縮合触媒としては、例えば、スタナスオクトエート、ジブチル錫ジオクトエート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫マレエート、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジアセチルアセトナート、ジブチル錫オキサイド、ジブチル錫ビストリエトキシシリケート、ジブチル錫ジステアレート、ジオクチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジバーサテート、オクチル酸錫及びナフテン酸錫等の有機錫化合物;ジメチルスズオキサイド、ジブチルスズオキサイド、ジオクチルスズオキサイド等のジアルキルスズオキサイド;ジブチル錫オキサイドとフタル酸エステルとの反応物等;テトラブチルチタネート、テトラプロピルチタネート等のチタン酸エステル類;アルミニウムトリスアセチルアセトナート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート等の有機アルミニウム化合物類;ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、チタンテトラアセチルアセトナート等のキレート化合物類;オクチル酸鉛及びナフテン酸鉛等の有機酸鉛;オクチル酸ビスマス、ネオデカン酸ビスマス及びロジン酸ビスマス等の有機酸ビスマス;シラノール縮合触媒として公知のその他の酸性触媒及び塩基性触媒等が挙げられる。しかしながら、有機錫化合物は添加量に応じて、得られる光硬化性組成物の毒性が強くなる場合がある。本発明には(B)成分の光塩基や(C)成分のフッ素化合物が硬化触媒として作用するので(B)成分や(C)成分以外の硬化触媒を使用する場合は本発明の目的や効果を達成できる範囲で使用するのが好ましい。 A known curing catalyst can be widely used as the curing catalyst, and there is no particular limitation. Examples thereof include organic metal compounds and amines, and in particular, it is preferable to use a silanol condensation catalyst. Examples of the silanol condensation catalyst include stannas octoate, dibutyltin dioctoate, dibutyltin dilaurate, dibutyltin maleate, dibutyltin diacetate, dibutyltin diacetylacetonate, dibutyltin oxide, dibutyltin bistriethoxy silicate, dibutyltin distearate Organotin compounds such as dioctyltin dilaurate, dioctyltin diversatate, tin octylate and tin naphthenate; dialkyltin oxides such as dimethyltin oxide, dibutyltin oxide and dioctyltin oxide; reaction products of dibutyltin oxide and phthalate ester Titanates such as tetrabutyl titanate, tetrapropyl titanate, etc .; aluminum tris acetylacetonate, aluminum tris ethoxide Organoaluminum compounds such as acetoacetate and diisopropoxyaluminum ethylacetoacetate; Chelate compounds such as zirconium tetraacetylacetonate and titanium tetraacetylacetonate; organic acid lead such as lead octylate and lead naphthenate; bismuth octylate And bismuth of an organic acid such as bismuth neodecanoate and bismuth rosin acid; and other acidic catalysts and basic catalysts which are known as silanol condensation catalysts. However, depending on the amount of the organotin compound added, the toxicity of the resulting photocurable composition may be increased. In the present invention, the photobase of the component (B) and the fluorine compound of the component (C) act as a curing catalyst. Therefore, when using a curing catalyst other than the components (B) and (C), the purpose and effect of the present invention It is preferable to use in the range which can achieve.
本発明の光硬化性組成物を製造する方法は特に制限はなく、例えば、前記成分(A)、(B)、並びに(C)を所定量配合し、また必要に応じて他の配合物質を配合し、脱気攪拌することにより製造することができる。各成分及び他の配合物質の配合順は特に制限はなく、適宜決定すればよい。 The method for producing the photocurable composition of the present invention is not particularly limited. For example, the components (A), (B), and (C) are compounded in predetermined amounts, and if necessary, other compounded substances It can be produced by blending and degassing and stirring. There is no particular limitation on the blending order of each component and other compounded substances, and it may be determined as appropriate.
本発明の光硬化性組成物は、必要に応じて1液型とすることもできるし、2液型とすることもできるが、特に1液型として好適に用いることができる。本発明の光硬化性組成物は光照射により硬化する光硬化性組成物であって、常温(例えば、23℃)で硬化することが可能であり、常温光硬化型硬化性組成物として好適に用いられるが、必要に応じて、適宜、加熱により硬化を促進させてもよい。 The photocurable composition of the present invention can be made into a one-component type or a two-component type, if necessary, but it can be suitably used particularly as a one-component type. The photocurable composition of the present invention is a photocurable composition which is cured by light irradiation, and can be cured at normal temperature (for example, 23 ° C.), and suitably used as a normal temperature photocurable composition. Although it is used, if necessary, curing may be promoted by heating as appropriate.
本発明の硬化物の製造方法は、本発明の光硬化性組成物に対し、光を照射することにより硬化物を形成することができる。本発明の硬化物は、該方法により形成されてなる硬化物である。また、本発明の製品の製造方法は、本発明の光硬化性組成物を用いて製造することを特徴とする。本発明の製品は、該方法を用いて製造されてなる製品であり、電子回路、電子部品、建材、自動車等に好適に利用可能である。 The method for producing a cured product of the present invention can form a cured product by irradiating light to the photocurable composition of the present invention. The cured product of the present invention is a cured product formed by the method. Further, the method for producing the product of the present invention is characterized by producing using the photocurable composition of the present invention. The product of the present invention is a product produced by using the method, and can be suitably used for an electronic circuit, an electronic component, a building material, an automobile and the like.
本発明の光硬化性組成物に対し、光を照射する条件としては特に制限はないが、硬化時に活性エネルギー線を照射する場合、活性エネルギー線としては、紫外線、可視光線、赤外線等の光線、X線、γ線等の電磁波の他、電子線、プロトン線、中性子線等が利用できるが、硬化速度、照射装置の入手のしやすさ及び価格、太陽光や一般照明下での取扱の容易性等から紫外線または電子線照射による硬化が好ましく、紫外線照射による硬化がより好ましい。なお、紫外線には、g線(波長436nm)、h線(波長405nm)、i線(波長365nm)等も含まれるものである。活性エネルギー線源としては、特に限定されないが、使用する光塩基発生剤の性質に応じて、例えば、高圧水銀灯、低圧水銀灯、電子線照射装置、ハロゲンランプ、発光ダイオード、半導体レーザー、メタルハライド等があげられる。 There are no particular restrictions on the conditions under which the photocurable composition of the present invention is irradiated with light, but when active energy rays are applied during curing, light rays such as ultraviolet rays, visible light, infrared rays, etc. may be used as active energy rays. Other than electromagnetic waves such as X-ray and γ-ray, electron beam, proton beam, neutron beam etc. can be used, but curing speed, availability and price of irradiation equipment, easy handling under sunlight or general lighting Curing by ultraviolet light or electron beam irradiation is preferable in view of properties and the like, and curing by ultraviolet light irradiation is more preferable. The ultraviolet light also includes g-ray (wavelength 436 nm), h-ray (wavelength 405 nm), i-ray (wavelength 365 nm), and the like. The active energy ray source is not particularly limited, but depending on the nature of the photobase generator to be used, for example, high pressure mercury lamp, low pressure mercury lamp, electron beam irradiation device, halogen lamp, light emitting diode, semiconductor laser, metal halide etc. Be
照射エネルギーとしては例えば紫外線の場合、10〜20,000mJ/cm2が好ましく、50〜10,000mJ/cm2がより好ましい。10mJ/cm2未満では硬化性が不十分となる場合があり、20,000mJ/cm2より大きいと、必要以上に光を当てても時間とコストの無駄となるばかりか、基材を傷めてしまう場合がある。 As irradiation energy, in the case of an ultraviolet-ray, for example, 10 to 20,000 mJ / cm 2 is preferable, and 50 to 10,000 mJ / cm 2 is more preferable. If it is less than 10 mJ / cm 2 , the curability may be insufficient, and if it is more than 20,000 mJ / cm 2 , it will not only waste time and cost even if it is exposed to light more than necessary, it will damage the substrate There are times when
本発明の光硬化性組成物を接着剤として使用する場合、被着体への塗布方法は特に制限はないが、スクリーン印刷、ステンシル印刷、ロール印刷、スピンコート、ディスペンサーによる塗布等の塗布方法が好適に用いられる。光硬化性組成物の被着体への塗布厚さは薄いほうが本発明の効果を発現しやすく、500μm以下、好ましくは200μm以下、さらに好ましくは100μm以下、特に好ましくは50μm以下である。 When the photocurable composition of the present invention is used as an adhesive, the method of applying to the adherend is not particularly limited, but application methods such as screen printing, stencil printing, roll printing, spin coating, and dispenser It is preferably used. The thinner the coating thickness of the photocurable composition on the adherend, the more easily the effects of the present invention can be obtained, and it is 500 μm or less, preferably 200 μm or less, more preferably 100 μm or less, particularly preferably 50 μm or less.
また、本発明において、光硬化性組成物の被着体への塗布及び光照射の時期に制限はなく、光硬化性組成物に光を照射させた後、被着体と接合し、製品を製造してもよく、また光硬化性組成物を被着体に塗布し、光を照射することにより組成物を硬化させ、製品を製造してもよい。 Further, in the present invention, there is no limitation on the timing of application and light irradiation of the photocurable composition on the adherend, and after the photocurable composition is irradiated with light, it is joined to the adherend to form a product. The product may be manufactured by applying the photocurable composition to an adherend and curing the composition by light irradiation.
本発明の光硬化性組成物は、作業性に優れた速硬化型の光硬化性組成物であり、特に、粘・接着性組成物として有用であり、接着剤、シーリング材、粘着材、コーティング材、ポッティング材、塗料、パテ材及びプライマー等として好適に用いることができる。本発明の光硬化性組成物は、例えば、実装回路基板等の防湿や絶縁を目的とするコーティング、ソーラー発電のパネルやパネルの外周部分のコーティング等に用いられるコーティング剤;複層ガラス用シーリング剤、車両用シーリング剤等、建築用および工業用のシーリング剤;太陽電池裏面封止剤などの電気・電子部品材料;電線・ケーブル用絶縁被覆材などの電気絶縁材料;光造形法による立体造形物形成用の材料;粘着剤;接着剤;弾性接着剤;コンタクト接着剤などの用途に好適に利用可能である。 The photocurable composition of the present invention is a quick-curing type photocurable composition excellent in workability, and is particularly useful as a tacky / adhesive composition, and an adhesive, sealing material, adhesive, coating It can be suitably used as a material, potting material, paint, putty material, primer and the like. The photocurable composition of the present invention is, for example, a coating for moisture proofing or insulation of a mounted circuit board or the like, a coating agent used for coating a solar power generation panel or a peripheral portion of the panel, etc .; , Sealants for construction and industry, etc .; Sealants for construction and industry, etc .; Materials for electrical and electronic parts such as solar cell back surface sealants; Electrical insulation materials such as insulation covering materials for electric wires and cables; Adhesive materials; adhesives; elastic adhesives; contact adhesives etc. can be suitably used.
以下に実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明するが、これらの実施例は例示的に示されるもので限定的に解釈されるべきでないことはいうまでもない。 EXAMPLES The present invention will be more specifically described below with reference to examples, but it is needless to say that these examples are exemplarily shown and should not be construed as limiting.
1)数平均分子量の測定
数平均分子量は、特に指定がない限りゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により下記条件で測定した。本発明において、該測定条件でGPCにより測定し、標準ポリエチレングリコールで換算した最大頻度の分子量を数平均分子量と称する。
・分析装置:Alliance(Waters社製)、2410型示差屈折検出器(Waters社製)、996型多波長検出器(Waters社製)、Milleniamデータ処理装置(Waters社製)
・カラム:PlgelGUARD+5μmMixed−C×3本(50×7.5mm,300×7.5mm:PolymerLab社製)
・流速:1mL/分
・換算したポリマー:ポリエチレングリコール
・測定温度:40℃
・GPC測定時の溶媒:THF
1) Measurement of Number Average Molecular Weight The number average molecular weight was measured by gel permeation chromatography (GPC) under the following conditions, unless otherwise specified. In the present invention, the molecular weight of the maximum frequency measured by GPC under the measurement conditions and converted to standard polyethylene glycol is referred to as number average molecular weight.
・ Analyzer: Alliance (made by Waters), type 2410 differential refraction detector (made by Waters), type 996 multi-wavelength detector (made by Waters), Milleniam data processor (made by Waters)
Column: Plgel GUARD + 5 μm Mixed-C x 3 (50 x 7.5 mm, 300 x 7.5 mm: manufactured by PolymerLab)
Flow rate: 1 mL / min Converted polymer: polyethylene glycol Measuring temperature: 40 ° C.
-Solvent at GPC measurement: THF
2)NMRの測定
NMRの測定は、下記測定装置を用いて行った。
FT−NMR測定装置:日本電子(株)製JNM−ECA500(500MHz)
2) Measurement of NMR Measurement of NMR was performed using the following measuring device.
FT-NMR measuring apparatus: JNM-ECA 500 (500 MHz) manufactured by JEOL Ltd.
(合成例1)
温度計を備えた撹拌機中に、ポリプロピレングリコール(三井化学ポリウレタン(株)製、商品名:Diol−2000)589.4重量部を脱水処理した後、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)110.6重量部を添加し、窒素気流下70〜90℃で3時間反応させ、NCO/OH当量比1.5のウレタンプレポリマーAを得た。このウレタンプレポリマーAのNCO基に対し0.5当量の3−メルカプトプロピルトリメトキシシランをウレタンプレポリマーAと反応させ、平均して片末端にトリメトキシシリル基を他の末端にNCO基を有する重合体を得た。得られた重合体のNCO基に対し、当量の4−ヒドロキシブチルアクリレートをこの重合体と反応させ、平均して片末端にトリメトキシシリル基を他の末端にアクリロイルオキシ基を有する重合体を得た。
Synthesis Example 1
In a stirrer equipped with a thermometer, 589.4 parts by weight of polypropylene glycol (manufactured by Mitsui Chemicals Polyurethanes Co., Ltd., trade name: Diol-2000) is dehydrated, and then 4,4-diphenylmethane diisocyanate (MDI) 110. Six parts by weight were added, and reaction was performed at 70 to 90 ° C. for 3 hours under a nitrogen stream to obtain a urethane prepolymer A having an NCO / OH equivalent ratio of 1.5. 0.5 equivalent of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane is reacted with urethane prepolymer A with respect to the NCO group of this urethane prepolymer A, and on average, one end has a trimethoxysilyl group at one end and an NCO group at the other end. A polymer was obtained. An equivalent amount of 4-hydroxybutyl acrylate is reacted with this polymer with respect to the NCO group of the obtained polymer to obtain a polymer having an average of trimethoxysilyl groups at one end and an acryloyloxy group at the other end. The
(合成例2)
合成例1で得られたウレタンプレポリマーAのNCO基に対し当量の3−メルカプトプロピルトリメトキシシランをウレタンプレポリマーAと反応させ、平均して両末端にトリメトキシシリル基を有する重合体を得た。
(Composition example 2)
An equivalent amount of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane is reacted with urethane prepolymer A with respect to the NCO group of urethane prepolymer A obtained in Synthesis Example 1 to obtain a polymer having trimethoxysilyl groups at both ends on average. The
(合成例3)
合成例1で得られたウレタンプレポリマーAのNCO基に対し当量の4−ヒドロキシブチルアクリレートをウレタンプレポリマーAと反応させ、平均して両末端にアクリロイルオキシ基を有する重合体を得た。
(Composition example 3)
An equivalent amount of 4-hydroxybutyl acrylate was reacted with the urethane prepolymer A with respect to the NCO group of the urethane prepolymer A obtained in Synthesis Example 1 to obtain a polymer having acryloyloxy groups at both ends on average.
(合成例4)フッ素化ポリマーの合成
攪拌装置、窒素ガス導入管、温度計および環流冷却器を備えた新しいフラスコに、分子量約2,000のポリオキシプロピレンジオールを開始剤とし、亜鉛ヘキサシアノコバルテート−グライム錯体触媒の存在下、プロピレンオキシドを反応させて得られた水酸基価換算分子量14500、かつ分子量分布1.3のポリオキシプロピレンジオールを得た。得られたポリオキシプロピレンジオールにナトリウムメトキシドのメタノール溶液を添加し、加熱減圧下メタノールを留去してポリオキシプロピレンジオールの末端水酸基をナトリウムアルコキシドに変換し、ポリオキシアルキレン系重合体を得た。
Synthesis Example 4 Synthesis of Fluorinated Polymer In a new flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a thermometer and a reflux condenser, a polyoxypropylene diol having a molecular weight of about 2,000 as an initiator and zinc hexacyanocobaltate -A polyoxypropylene diol having a hydroxyl value reduced molecular weight of 14500 and a molecular weight distribution of 1.3 obtained by reacting propylene oxide in the presence of a glyme complex catalyst was obtained. A methanol solution of sodium methoxide was added to the obtained polyoxypropylene diol, and methanol was distilled off under heating and reduced pressure to convert the terminal hydroxyl group of the polyoxypropylene diol to a sodium alkoxide to obtain a polyoxyalkylene polymer. .
次に、ポリオキシアルキレン系重合体に塩化アリルを反応させて、未反応の塩化アリルを除去し、精製して、末端にアリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体を得た。この末端にアリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体に対し、水素化ケイ素化合物であるメチルジメトキシシランを白金含量3wt%の白金ビニルシロキサン錯体イソプロパノール溶液150ppmを添加して反応させ、末端にメチルジメトキシシリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体を得た。
得られた末端にメチルジメトキシシリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体の分子量をGPCにより測定した結果、ピークトップ分子量は15000、分子量分布1.3であった。H1−NMR測定により末端のメチルジメトキシシリル基は1分子あたり1.7個であった。
Next, allyl chloride is reacted with the polyoxyalkylene polymer to remove unreacted allyl chloride, and purification is performed to obtain a polyoxyalkylene polymer having an allyl group at the end. Methyldimethoxysilane, which is a silicon hydride compound, is reacted with 150 ppm of a platinum vinylsiloxane complex isopropanol solution having a platinum content of 3% by weight with a polyoxyalkylene polymer having an allyl group at the end to cause methyldimethoxysilyl terminal A polyoxyalkylene polymer having a group was obtained.
As a result of measuring the molecular weight of the obtained polyoxyalkylene polymer having a methyldimethoxysilyl group at an end by GPC, the peak top molecular weight was 15,000, and the molecular weight distribution was 1.3. According to the 1 H-NMR measurement, the number of terminal methyldimethoxysilyl groups was 1.7 per molecule.
攪拌装置、窒素ガス導入管、温度計および環流冷却器を備えたフラスコに、減圧脱気後、窒素ガス置換して、窒素気流下にてBF3ジエチルエーテル錯体2.4g入れ、50℃に加温した。続いて脱水メタノール1.6gの混合物をゆっくりと滴下し混合させた。撹拌装置、窒素ガス導入管、温度計および還流冷却管を備えた新たなフラスコに、前記得られた重合体A4を100g、トルエン5g入れた。23℃にて30分間撹拌後、110℃に加温し減圧撹拌を2時間行い、トルエンを除去した。この容器に先ほど得られた混合物を窒素気流下にて4.0gゆっくりと滴下し、滴下終了後、反応温度を120℃に昇温し、30分間反応させた。反応終了後、減圧脱気を行い未反応物の除去を行った。末端にフルオロシリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体(以下、フッ素化ポリマーと称する)を得た。得られたフッ素化ポリマーの1HNMRスペクトル(Shimazu社製のNMR400を用いて、CDCl3溶媒中で測定)を測定したところ、原料である重合体のシリルメチレン(−CH2−Si)に対応するピーク(m,0.63ppm)が消失し、低磁場側(0.7ppm〜)にブロードピークが現れた。 In a flask equipped with a stirrer, nitrogen gas inlet tube, thermometer and reflux condenser, after degassing under reduced pressure, replace with nitrogen gas, charge 2.4 g of BF 3 diethyl ether complex under nitrogen flow, add to 50 ° C. It warmed. Subsequently, a mixture of 1.6 g of dehydrated methanol was slowly dropped and mixed. In a new flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a thermometer and a reflux condenser, 100 g of the obtained polymer A4 and 5 g of toluene were placed. After stirring for 30 minutes at 23 ° C., the temperature was raised to 110 ° C. and stirring under reduced pressure was performed for 2 hours to remove toluene. In this container, 4.0 g of the mixture obtained earlier was slowly dropped under a nitrogen stream, and after completion of dropping, the reaction temperature was raised to 120 ° C., and the reaction was allowed to react for 30 minutes. After completion of the reaction, vacuum degassing was performed to remove the unreacted material. A polyoxyalkylene polymer having a fluorosilyl group at its end (hereinafter referred to as a fluorinated polymer) was obtained. The 1 H NMR spectrum of the obtained fluorinated polymer (measured in CDCl 3 solvent using NMR 400 manufactured by Shimazu) was measured, and it was found that a peak corresponding to silylmethylene (-CH 2 -Si) of the polymer as the raw material (M, 0.63 ppm) disappeared, and a broad peak appeared on the lower magnetic field side (0.7 ppm ̃).
(合成例5)末端にトリメトキシシリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体P1の合成
攪拌装置、窒素ガス導入管、温度計および環流冷却器を備えたフラスコに、エチレングリコールを開始剤とし、亜鉛ヘキサシアノコバルテート−グライム錯体触媒の存在下、プロピレンオキシドを反応させ、ポリオキシプロピレントリオールを得た。得られたポリオキシプロピレントリオールにナトリウムメトキシドのメタノール溶液を添加し、加熱減圧下メタノールを留去してポリオキシプロピレントリオールの末端水酸基をナトリウムアルコキシドに変換し、ポリオキシアルキレン系重合体M1を得た。
Synthesis Example 5 Synthesis of Polyoxyalkylene-Based Polymer P1 Having Trimethoxysilyl Group at End Terminal In a flask equipped with a stirrer, nitrogen gas inlet tube, thermometer and reflux condenser, ethylene glycol is used as an initiator and zinc Propylene oxide was reacted in the presence of a hexacyanocobaltate-glyme complex catalyst to obtain polyoxypropylene triol. A methanol solution of sodium methoxide is added to the obtained polyoxypropylene triol, and the methanol is distilled off under heating and reduced pressure to convert the terminal hydroxyl group of polyoxypropylene triol into a sodium alkoxide to obtain a polyoxyalkylene polymer M1. The
次に、ポリオキシアルキレン系重合体M1に塩化アリルを反応させて、未反応の塩化アリルを除去し、精製して、末端にアリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体を得た。この末端にアリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体に対し、水素化珪素化合物であるトリメトキシシランを白金含量3wt%の白金ビニルシロキサン錯体イソプロパノール溶液150ppmを添加して反応させ、末端にトリメトキシシリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体P1を得た。 Next, allyl chloride is reacted with polyoxyalkylene polymer M1 to remove unreacted allyl chloride, and purification is performed to obtain a polyoxyalkylene polymer having an allyl group at an end. A trimethoxysilane that is a silicon hydride compound is reacted with a polyoxyalkylene polymer having an allyl group at this end by adding 150 ppm of a platinum vinylsiloxane complex isopropanol solution having a platinum content of 3 wt%, and trimethoxysilyl at the end. A polyoxyalkylene polymer P1 having a group was obtained.
得られた末端にトリメトキシシリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体P1の分子量をGPCにより測定した結果、ピークトップ分子量は25000、分子量分布1.3であった。H1−NMR測定により末端のトリメトキシシリル基は1分子あたり1.7個であった。 As a result of measuring the molecular weight of the obtained polyoxyalkylene polymer P1 having a trimethoxysilyl group at an end by GPC, the peak top molecular weight was 25,000, and the molecular weight distribution was 1.3. The terminal trimethoxysilyl group was 1.7 per molecule according to 1 H-NMR measurement.
(合成例6)末端にトリメトキシシリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体P2の合成
攪拌装置、窒素ガス導入管、温度計および環流冷却器を備えたフラスコに、エチレングリコールを開始剤とし、亜鉛ヘキサシアノコバルテート−グライム錯体触媒の存在下、プロピレンオキシドを反応させ、ポリオキシプロピレントリオールを得た。得られたポリオキシプロピレントリオールにナトリウムメトキシドのメタノール溶液を添加し、加熱減圧下メタノールを留去してポリオキシプロピレントリオールの末端水酸基をナトリウムアルコキシドに変換し、ポリオキシアルキレン系重合体M2を得た。
Synthesis Example 6 Synthesis of Polyoxyalkylene Polymer P2 Having Trimethoxysilyl Group at End Terminal In a flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a thermometer and a reflux condenser, ethylene glycol is used as an initiator and zinc Propylene oxide was reacted in the presence of a hexacyanocobaltate-glyme complex catalyst to obtain polyoxypropylene triol. A methanol solution of sodium methoxide is added to the obtained polyoxypropylene triol, and methanol is distilled off under heating and reduced pressure to convert the terminal hydroxyl group of the polyoxypropylene triol into a sodium alkoxide to obtain a polyoxyalkylene polymer M2. The
次に、ポリオキシアルキレン系重合体M2に塩化アリルを反応させて、未反応の塩化アリルを除去し、精製して、末端にアリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体を得た。この末端にアリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体に対し、水素化珪素化合物であるトリメトキシシランを白金含量3wt%の白金ビニルシロキサン錯体イソプロパノール溶液150ppmを添加して反応させ、末端にトリメトキシシリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体P2を得た。 Next, allyl chloride is reacted with polyoxyalkylene polymer M2 to remove unreacted allyl chloride, and purification is performed to obtain a polyoxyalkylene polymer having an allyl group at an end. A trimethoxysilane that is a silicon hydride compound is reacted with a polyoxyalkylene polymer having an allyl group at this end by adding 150 ppm of a platinum vinylsiloxane complex isopropanol solution having a platinum content of 3 wt%, and trimethoxysilyl at the end. A polyoxyalkylene polymer P2 having a group was obtained.
得られた末端にトリメトキシシリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体P2の分子量をGPCにより測定した結果、ピークトップ分子量は12000、分子量分布1.3であった。H1−NMR測定により末端のトリメトキシシリル基は1分子あたり1.7個であった。 As a result of measuring the molecular weight of the obtained polyoxyalkylene polymer P2 having a trimethoxysilyl group at the end by GPC, the peak top molecular weight was 12000, and the molecular weight distribution was 1.3. The terminal trimethoxysilyl group was 1.7 per molecule according to 1 H-NMR measurement.
(合成例7)トリメトキシシリル基を有する(メタ)アクリル系重合体P3の合成
撹拌装置、窒素ガス導入管、温度計および還流冷却管を備えたフラスコに、酢酸エチルを40.00g、メチルメタクリレート70.00g、2−エチルヘキシルメタクリレート(東京化成工業(株)製)30.00g、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(商品名:KBM503、信越化学工業(株)製)12.00g、及び金属触媒としてチタノセンジクライド0.10gを仕込みフラスコ内に窒素ガスを導入しながらフラスコの内容物を80℃に加熱した。ついで、充分に窒素ガス置換した3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン4.30gを撹拌下にフラスコ内に一気に添加した。3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン4.30gを添加後、撹拌中のフラスコ内の内容物の温度が80℃に維持できるように、加熱及び冷却を4時間行った。さらに、充分に窒素ガス置換した3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン4.30gを撹拌下に5分かけてフラスコ内に追加添加した。3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン4.30g全量を追加添加後、撹拌中のフラスコ内の内容物の温度が90℃に維持できるように、さらに冷却及び加温を行いながら、反応を4時間行った。合計で8時間5分間の反応後、反応物の温度を室温に戻し、反応物にベンゾキノン溶液(95%THF溶液)を20.00g添加して重合を停止し、トリメトキシシリル基を有する(メタ)アクリル系重合体P3を得た。ピークトップ分子量は4000、分子量分布は2.4であった。H1−NMR測定により含有されるトリメトキシシリル基は1分子あたり2.00個であった。
Synthesis Example 7 Synthesis of (Meth) acrylic Polymer P3 Having Trimethoxysilyl Group In a flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a thermometer and a reflux condenser, 40.00 g of ethyl acetate, methyl methacrylate 70.00 g, 30.00 g of 2-ethylhexyl methacrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 12.00 g of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (trade name: KBM 503, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and a metal catalyst The contents of the flask were heated to 80 ° C. while introducing nitrogen gas into the flask. Then, 4.30 g of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane fully purged with nitrogen gas was added at once in the flask under stirring. After 4.30 g of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane was added, heating and cooling were performed for 4 hours so that the temperature of the contents in the flask under stirring could be maintained at 80 ° C. Furthermore, 4.30 g of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane fully purged with nitrogen gas was additionally added to the flask under stirring for 5 minutes. The reaction was carried out for 4 hours while further cooling and heating so that the temperature of the contents in the flask under stirring could be maintained at 90 ° C. after the addition of 4.30 g of the total amount of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane. . After a total of 8 hours and 5 minutes of reaction, the temperature of the reaction product is returned to room temperature, and 20.00 g of a benzoquinone solution (95% THF solution) is added to the reaction product to terminate the polymerization, thereby having a trimethoxysilyl group (meta ) An acrylic polymer P3 was obtained. The peak top molecular weight was 4000, and the molecular weight distribution was 2.4. The trimethoxysilyl group contained by H1-NMR measurement was 2.00 per molecule.
(合成例8)
フラスコに2−ニトロベンジルアルコール15.3gとトルエン344部を加え、約113℃で60分間還流した。その後、3−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン20.5部を滴下し、5時間撹拌し、o-NO2C6H4CH2OCONHCH2CH2CH2Si(OCH3)3で示される光によりアミノシランを発生する化合物を得た。
Synthesis Example 8
The flask was charged with 15.3 g of 2-nitrobenzyl alcohol and 344 parts of toluene, and refluxed at about 113 ° C. for 60 minutes. Then, it was added dropwise 20.5 parts of 3-isocyanate propyl trimethoxysilane, and stirred for 5 hours, aminosilane by light represented by o-NO 2 C 6 H 4 CH 2 OCONHCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3 To give a compound that generates.
(実施例1)
表1に示す配合割合にて、攪拌機、温度計、窒素導入口、モノマー装入管および水冷コンデンサーを装着した300mLのフラスコに、(A)分子内に架橋性珪素基と光ラジカル重合性のビニル基を有する有機重合体、(C)Si−F結合を有する珪素化合物として合成例4で得られたフッ素化ポリマーを入れ、撹拌し、溶解させた。また。表1に示す配合割合にて、別の100mLのナスフラスコに(B)光塩基発生剤及びプロピレンカーボネートを入れ、撹拌し、溶解させ、この溶液の全量を先ほど量り取った300mLフラスコへ投入し、減圧撹拌を行い、光硬化性組成物を得た。
Example 1
In a 300 mL flask equipped with a stirrer, a thermometer, a nitrogen inlet, a monomer charging pipe, and a water-cooled condenser at the compounding ratio shown in Table 1, (A) a crosslinkable silicon group and a photoradical polymerizable vinyl in the molecule The fluorinated polymer obtained in Synthesis Example 4 was added as an organic polymer having a group, and a silicon compound having a (C) Si-F bond, and the mixture was stirred and dissolved. Also. (B) The photobase generator and propylene carbonate are placed in another 100 mL eggplant flask at the mixing ratio shown in Table 1, stirred and dissolved, and the entire solution is poured into the previously taken 300 mL flask, The mixture was stirred under reduced pressure to obtain a photocurable composition.
表1において、各配合物質の配合量はgで示され、その他の配合物質の詳細は下記の通りである。
*1)2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン、BASF社製、商品名「IRGACURE379EG」。
*2)共栄社化学(株)製、商品名「ライトアクリレートDPM−A」。
In Table 1, the compounding quantity of each compounding substance is shown by g, and the details of other compounding substances are as follows.
* 1) 2- (Dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone, manufactured by BASF, trade name “IRGACURE379EG”.
* 2) Kyoeisha Chemical Co., Ltd. product name, "light acrylate DPM-A".
1)接着性評価
被着材(アクリル樹脂板)に、ガラス棒を用いて光硬化性組成物を幅5mm×長さ25mm×厚さ200μmになるように塗布し、UV照射(照射条件:UV−LED365nm、照度:1000mW/cm2、積算光量:3000mJ/cm2)を行った。照射後直ちに、被着材(アクリル樹脂板)を張り合わせ、目玉クリップ小により圧締し23℃、50%RH下で15分間間養生した。前記養生後、JISK6850剛性被着材の引張りせん断接着強さ試験方法に準拠し、試験速度50mm/分で測定した。
1) Adhesiveness evaluation A photocurable composition is apply | coated so that it may become width 5 mm * length 25 mm * thickness 200micrometer using a glass rod to adherends (acrylic resin board), UV irradiation (irradiation conditions: UV) -LED365nm, intensity: 1000mW / cm 2, the accumulated amount of light: 3000mJ / cm 2) was carried out. Immediately after the irradiation, an adherend (acrylic resin plate) was laminated, pressed with a small eyeball clip, and aged for 15 minutes at 23 ° C. and 50% RH. After the curing, the measurement was performed at a test speed of 50 mm / min according to the tensile shear adhesive strength test method of JIS K 6850 rigid adherend.
(比較例1)
(A)分子内に架橋性珪素基と光ラジカル重合性のビニル基を有する有機重合体60gに代えて架橋性珪素基を有する有機重合体30gと光重合性ビニル基を有する有機重合体30gを使用したほかは実施例1と同様に光硬化性組成物を得、接着強さの測定を行った。結果を表1に示す。
(Comparative example 1)
(A) 30 g of an organic polymer having a crosslinkable silicon group and 30 g of an organic polymer having a photopolymerizable vinyl group, instead of the organic polymer 60 g having a crosslinkable silicon group and a photoradical polymerizable vinyl group in the molecule A photocurable composition was obtained in the same manner as in Example 1 except for the use, and the adhesion strength was measured. The results are shown in Table 1.
Claims (12)
(B)光塩基発生剤、及び
(C)(C1)Si−F結合を有する珪素化合物、及び/又は(C2)三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ素の錯体、フッ素化剤及び多価フルオロ化合物のアルカリ金属塩からなる群から選択される1種以上のフッ素系化合物、
を含有することを特徴とする光硬化性組成物。
(B) Photobase generator, and (C) Silicon compound having (C1) Si-F bond, and / or (C2) boron trifluoride, complex of boron trifluoride, fluorinating agent and polyvalent fluoro compound At least one fluorine-containing compound selected from the group consisting of alkali metal salts of
The photocurable composition characterized by including.
The product which uses the photocurable composition of any one of Claims 1-4 as a coating agent.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015007295A JP6524669B2 (en) | 2015-01-16 | 2015-01-16 | Photocurable composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015007295A JP6524669B2 (en) | 2015-01-16 | 2015-01-16 | Photocurable composition |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016132705A JP2016132705A (en) | 2016-07-25 |
JP6524669B2 true JP6524669B2 (en) | 2019-06-05 |
Family
ID=56425897
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015007295A Active JP6524669B2 (en) | 2015-01-16 | 2015-01-16 | Photocurable composition |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6524669B2 (en) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017002267A (en) * | 2015-06-11 | 2017-01-05 | セメダイン株式会社 | Photocurable composition, conductive structure, and electronic component |
JP6662337B2 (en) * | 2017-03-27 | 2020-03-11 | 信越化学工業株式会社 | Semiconductor device, method of manufacturing the same, and laminate |
JP7057970B2 (en) * | 2017-05-11 | 2022-04-21 | 株式会社豊田自動織機 | Coating agent, resin member and its manufacturing method |
KR20190013091A (en) * | 2017-07-31 | 2019-02-11 | 다우 실리콘즈 코포레이션 | Dually-Curable Resin Composition, Cured Body Prepared Therefrom, And Electronic Device Comprising Such Cured Body |
CN114806275B (en) * | 2022-05-09 | 2023-05-30 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | Printing ink, display panel and preparation method thereof |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006051799A1 (en) * | 2004-11-11 | 2006-05-18 | Kaneka Corporation | Curable composition |
WO2007123167A1 (en) * | 2006-04-20 | 2007-11-01 | Kaneka Corporation | Curable composition |
EP2062929B1 (en) * | 2006-09-13 | 2014-04-16 | Kaneka Corporation | MOISTURE-CURABLE POLYMER HAVING SiF GROUP AND CURABLE COMPOSITION CONTAINING THE SAME |
CN101970572B (en) * | 2007-08-09 | 2014-01-29 | 积水化学工业株式会社 | Photocurable composition |
JP5801052B2 (en) * | 2008-03-31 | 2015-10-28 | サンアプロ株式会社 | Photobase generator |
JP5399116B2 (en) * | 2009-04-06 | 2014-01-29 | 三洋化成工業株式会社 | Photosensitive composition containing photobase generator |
JP5533232B2 (en) * | 2009-06-29 | 2014-06-25 | Jsr株式会社 | Positive radiation sensitive composition, cured film, interlayer insulating film, method for forming interlayer insulating film, display element, and siloxane polymer for forming interlayer insulating film |
US20160152783A1 (en) * | 2013-07-18 | 2016-06-02 | Cemedine Co., Ltd. | Photocurable composition |
-
2015
- 2015-01-16 JP JP2015007295A patent/JP6524669B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016132705A (en) | 2016-07-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6409784B2 (en) | Photocurable composition having adhesiveness | |
KR102305831B1 (en) | Photocurable composition, cured product and producing method thereof, and related products and manufacturing method thereof | |
JP6524669B2 (en) | Photocurable composition | |
JP6683133B2 (en) | Photocurable composition | |
CN107148453B (en) | Photocurable composition | |
US10844251B2 (en) | Pressure-sensitive adhesive | |
JP2021143338A (en) | Curable composition | |
KR102557854B1 (en) | A base and/or radical generator having acid resistance, and a curable resin composition containing the base and/or radical generator | |
JP2016094530A (en) | Manufacturing method of display panel laminate | |
JP6520134B2 (en) | Photocurable composition | |
JP6672789B2 (en) | Photocurable composition | |
JP2018030989A (en) | Photocurable composition, cured composition-containing product, sticking method, and method for producing product | |
JP2017002267A (en) | Photocurable composition, conductive structure, and electronic component | |
JP6500449B2 (en) | Photocurable composition | |
JP6562378B2 (en) | Liquid gasket for electronic equipment | |
JP2017048289A (en) | Curable composition, cured product, and module | |
JP2015086341A (en) | Photocurable composition |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171221 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180810 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180831 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20181019 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181026 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190205 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190207 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190409 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190422 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6524669 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |