JP6669083B2 - Polarizing plate integrated touch sensor and method of manufacturing the same - Google Patents

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Description

本発明は、偏光板一体型タッチセンサー及びその製造方法に関する。より詳しくは、高温、高湿等の環境変動下においても、タッチセンサー内の偏光板の変形が抑えられ、当該変形に伴う透明導電層のセンサー検出感度の低下や誤作動を抑制する、偏光板一体型タッチセンサー及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a polarizing plate integrated touch sensor and a method for manufacturing the same. More specifically, even under high-temperature, high-humidity, and other environmental fluctuations, the deformation of the polarizing plate in the touch sensor is suppressed, and a reduction in the detection sensitivity and malfunction of the transparent conductive layer due to the deformation is suppressed. The present invention relates to an integrated touch sensor and a method for manufacturing the same.

指などの接触を検出するタッチパネルには、種々のタイプのものが存在するが、スマートフォン等の、多点検出を必要とするデバイスで一般に普及しているものとして、静電容量式が挙げられる。静電容量式のタッチパネルは、例えば、検出面内にマトリックス状の電極パターンを備えた透明導電層を有しており、指などで接触した位置の静電容量変化を検出するようになっている。   There are various types of touch panels that detect contact with a finger or the like, and a capacitance type is widely used as a device that requires multipoint detection, such as a smartphone. The capacitance type touch panel has, for example, a transparent conductive layer provided with a matrix-like electrode pattern on a detection surface, and detects a change in capacitance at a position touched by a finger or the like. .

近年、スマートフォン以外にも、タブレットやノートパソコンなどにもタッチパネルが搭載され、それに伴いタッチパネルの大型化、軽量化、薄膜化が要望されていた。これらの要望を満たすために、インセル型又はミドルセル型と呼ばれる、タッチセンサーと偏光板等が一体成型されているタッチセンサーを具備するタッチパネルが用いられるようになってきた。   In recent years, in addition to smartphones, touch panels have been mounted on tablets, notebook computers, and the like, and accordingly, there has been a demand for larger, lighter, and thinner touch panels. In order to satisfy these demands, touch panels having a touch sensor called an in-cell type or a middle cell type, in which a touch sensor and a polarizing plate or the like are integrally formed, have come to be used.

前記偏光板として、偏光子に隣接してゼロ位相差フィルム又は1/4波長フィルム(λ/4位相差フィルムともいう。)を有し、当該ゼロ位相差フィルム又は1/4波長フィルム上に透明導電層及びガラス板を配置させたタッチパネルが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。このタッチパネルでは、偏光サングラスをした時に、見る角度によってブラックアウトしないように、実質的には1/4波長フィルムが用いられる。   The polarizing plate has a zero retardation film or a 波長 wavelength film (also referred to as λ / 4 retardation film) adjacent to the polarizer, and is transparent on the zero retardation film or the 1 / wavelength film. A touch panel on which a conductive layer and a glass plate are arranged has been proposed (for example, see Patent Document 1). In this touch panel, when polarized sunglasses are worn, a quarter-wave film is substantially used so that blackout does not occur depending on the viewing angle.

しかしながら、環境変動(高温、高湿)によって偏光子が伸縮し、隣接する前記1/4波長フィルムが微小に変形して、フィルムの静電容量が変化してしまい、それが透明導電層のセンサー検出感度の低下や誤作動等の悪影響を及ぼしていた。   However, the polarizer expands and contracts due to environmental fluctuations (high temperature, high humidity), the adjacent quarter-wave film is slightly deformed, and the capacitance of the film changes. This had adverse effects such as a decrease in detection sensitivity and malfunction.

特許第5268005号公報Japanese Patent No. 5268005

本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、高温、高湿等の環境変動下においても、タッチセンサー内の偏光板の変形が抑えられ、当該変形に伴う透明導電層のセンサー検出感度の低下や誤作動を抑制する、偏光板一体型タッチセンサー及びその製造方法を提供することである。   The present invention has been made in view of the above-described problems and circumstances, and a problem to be solved is that, even under environmental changes such as high temperature and high humidity, deformation of the polarizing plate in the touch sensor is suppressed, and the deformation is accompanied by the deformation. An object of the present invention is to provide a polarizing plate-integrated touch sensor and a method of manufacturing the same, which suppress a decrease in sensor detection sensitivity and a malfunction of the transparent conductive layer.

本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、偏光子と透明導電層の間に特定の基材フィルムを配置する偏光板一体型タッチセンサーによって、高温、高湿等の環境変動下においても、タッチセンサー内の偏光板の変形が抑えられ、当該変形に伴う透明導電層のセンサー検出感度の低下や誤作動を抑制する、偏光板一体型タッチセンサー及びその製造方法が得られることを見出した。   The present inventor, in order to solve the above problems, in the process of examining the cause of the above problems, by a polarizer integrated touch sensor to arrange a specific substrate film between the polarizer and the transparent conductive layer, high temperature, Even under environmental changes such as high humidity, the deformation of the polarizing plate in the touch sensor is suppressed, and the reduction in sensor detection sensitivity and malfunction of the transparent conductive layer due to the deformation are suppressed. It has been found that a production method can be obtained.

すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。   That is, the above object according to the present invention is solved by the following means.

1.少なくとも、透明導電層、基材フィルムA、偏光子、基材フィルムB、及び接着層をこの順に有する偏光板一体型タッチセンサーであって、
前記基材フィルムAが、主成分としてシクロオレフィン重合体と、当該シクロオレフィン重合体とは異なる添加剤とを含有し、
当該基材フィルムAの前記添加剤の濃度が、前記偏光子側と前記透明導電層側の表面で1.1倍以上異なり、かつ
前記基材フィルムAの温度23℃・相対湿度55%の環境下、光波長550nmにおける測定での面内位相差値Roが、50〜200nmの範囲内であることを特徴とする偏光板一体型タッチセンサー。
1. At least a transparent conductive layer, a base film A, a polarizer, a base film B, and a polarizing plate integrated type touch sensor having an adhesive layer in this order,
The base film A contains a cycloolefin polymer as a main component and an additive different from the cycloolefin polymer,
An environment in which the concentration of the additive in the base film A is 1.1 times or more different between the polarizer side and the surface of the transparent conductive layer side, and the base film A is at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55%. A touch panel integrated with a polarizing plate, wherein an in-plane retardation value Ro measured at a light wavelength of 550 nm is in a range of 50 to 200 nm.

2.前記基材フィルムA中の前記添加剤の濃度が、前記偏光子側と前記透明導電層側の表面で1.1〜1.6倍の範囲内で異なることを特徴とする第1項に記載の偏光板一体型タッチセンサー。   2. The concentration of the additive in the base film A is different in a range of 1.1 to 1.6 times on the surface on the polarizer side and on the surface on the transparent conductive layer side, according to claim 1, characterized in that: Polarizer integrated touch sensor.

3.前記添加剤のJIS K 7209の(A法)に準じて下記式(1)より求められる吸水率が、0.05〜3質量%の範囲内であることを特徴とする第1項又は第2項に記載の偏光板一体型タッチセンサー。   3. (1) The additive according to (1) or (2), wherein the water absorption of the additive obtained from the following formula (1) in accordance with JIS K 7209 (Method A) is in the range of 0.05 to 3% by mass. 13. The polarizing plate-integrated touch sensor according to the item.

式(1) 吸水率={(w−w)/w}×100(%)
(式中、wは水に浸漬する前の添加剤の乾燥質量(mg)であり、wは23.0±1.0℃の水に24±1時間浸漬した後の添加剤の質量(mg)である。)
4.前記添加剤が、分子量が50〜5000の範囲内であることを特徴とする第1項から第3項までのいずれか一項に記載の偏光板一体型タッチセンサー。
Formula (1) Water absorption = {(w 2 −w 1 ) / w 1 } × 100 (%)
(Wherein, w 1 is the dry mass (mg) of the additive before immersion in water, and w 2 is the mass of the additive after immersion in water at 23.0 ± 1.0 ° C. for 24 ± 1 hour. (Mg).)
4. The polarizing plate integrated touch sensor according to any one of claims 1 to 3, wherein the additive has a molecular weight in a range of 50 to 5,000.

5.前記添加剤が、ピロール環を有する化合物、及びインドール環を有する化合物の群から選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする第1項から第4項までのいずれか一項に記載の偏光板一体型タッチセンサー。   5. The polarizing plate according to any one of claims 1 to 4, wherein the additive is at least one selected from the group consisting of a compound having a pyrrole ring and a compound having an indole ring. Body type touch sensor.

6.第1項から第5項までのいずれか一項に記載の偏光板一体型タッチセンサーの製造方法であって、前記基材フィルムAを、溶液流延製膜法で製造することを特徴とする偏光板一体型タッチセンサーの製造方法。   6. 6. The method for manufacturing a touch sensor with integrated polarizing plate according to any one of items 1 to 5, wherein the base film A is manufactured by a solution casting method. Manufacturing method of touch sensor with integrated polarizing plate.

本発明の上記手段により、高温、高湿等の環境変動下においても、タッチセンサー内の偏光板の変形が抑えられ、当該変形に伴う透明導電層のセンサー検出感度の低下や誤作動を抑制する、偏光板一体型タッチセンサー及びその製造方法を提供することができる。   By the above-described means of the present invention, even under environmental changes such as high temperature and high humidity, the deformation of the polarizing plate in the touch sensor is suppressed, and the decrease in sensor detection sensitivity and malfunction of the transparent conductive layer due to the deformation are suppressed. And a polarizing plate-integrated touch sensor and a method for manufacturing the same.

本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。   Although the mechanism of manifesting or acting the effects of the present invention has not been clarified, it is speculated as follows.

本発明の偏光板一体型タッチセンサーは、少なくとも、透明導電層、基材フィルムA、偏光子、基材フィルムB、及び接着層をこの順に有するが、高温、高湿等の環境変動下では偏光子が伸縮し、前記基材フィルムAが変形することで、偏光板を構成する基材フィルムAの静電容量が変化してしまい、それが上部の電極センサーの検知感度を落としていたと推察される。   The touch panel integrated with a polarizing plate of the present invention has at least a transparent conductive layer, a base film A, a polarizer, a base film B, and an adhesive layer in this order. It is presumed that the expansion and contraction of the substrate and the deformation of the base film A changed the capacitance of the base film A constituting the polarizing plate, which lowered the detection sensitivity of the upper electrode sensor. You.

したがって、偏光子の伸縮に対して耐性の強い基材フィルムが求められている。単純には厚膜の基材フィルムにすればある程度解決するが、一方で、ディスプレイにおいては薄膜化が強く求められている。   Therefore, a base film having high resistance to expansion and contraction of the polarizer is required. To some extent, simply using a thick base film will solve the problem, but on the other hand, there is a strong demand for thinner displays.

そこで、本発明においては、偏光子の収縮に対して、基材フィルムの膜厚方向において、主成分の樹脂以外の添加剤に分布を持たせて、フィルムの表裏面で収縮差を有するフィルムを作製することで、前記偏光子の収縮力を打ち消し、偏光板全体の変形を抑制できることを見出した。   Therefore, in the present invention, with respect to the shrinkage of the polarizer, in the thickness direction of the base film, by providing a distribution of additives other than the resin as the main component, a film having a difference in shrinkage on the front and back surfaces of the film. It has been found that, by manufacturing, the contraction force of the polarizer can be canceled out and the deformation of the entire polarizing plate can be suppressed.

特に、溶融流延製膜法では、製膜中に添加剤が析出・ブリードしやすく、フィルム表面側に添加剤を偏在させることは難しいが、溶液流延製膜法では、流延支持体のAir面とBelt面側で添加剤が偏在しやすく、その結果、フィルムの添加剤の多い面は添加剤が密な構造となり、他面は添加剤が疎な構造となる。その為、湿熱などの環境変動で含水差が生まれ、フィルムに収縮差が生まれものと推察される。特に、本発明に係る分子量が50〜5000の範囲内であり、ピロール環を有する化合物、又はインドール環を有する化合物等の極性を有する添加剤を用いることで、当該添加剤が溶液流延製膜法に用いる極性を有する溶媒のフィルム表面からの揮発に伴って、フィルム表面に移動し、より偏在しやすくなるものと推察される。   In particular, in the melt casting film forming method, the additive is liable to precipitate and bleed during the film forming, and it is difficult to unevenly distribute the additive on the film surface side. The additive tends to be unevenly distributed on the Air surface and the Belt surface. As a result, the surface of the film having a large amount of the additive has a structure in which the additive is dense, and the other surface has a structure in which the additive is sparse. For this reason, it is presumed that a difference in water content occurs due to environmental changes such as wet heat, and a difference in shrinkage occurs in the film. In particular, by using a polar additive such as a compound having a pyrrole ring or a compound having an indole ring, the molecular weight according to the present invention is in the range of 50 to 5000, and the additive is used for solution casting film formation. It is presumed that the solvent having a polarity used in the method moves to the film surface as the solvent evaporates from the film surface, and the solvent tends to be unevenly distributed.

その結果、偏光板の変形が抑えられ、前述した偏光板の変形に伴う透明導電層のセンサー検出感度の低下や誤作動を抑制することができるものと推察される。   As a result, it is presumed that the deformation of the polarizing plate is suppressed, and a decrease in sensor detection sensitivity and malfunction of the transparent conductive layer due to the deformation of the polarizing plate described above can be suppressed.

本発明の偏光板一体型タッチセンサーの構成を示す模式図Schematic diagram showing the configuration of a polarizing plate integrated touch sensor of the present invention. 本発明の偏光板一体型タッチセンサーを具備するタッチパネル付き表示装置の構成を示す模式図Schematic diagram showing the configuration of a display device with a touch panel including the polarizing plate integrated touch sensor of the present invention. 基材フィルムの斜め延伸における収縮倍率を説明する模式図Schematic diagram for explaining the shrinkage ratio in oblique stretching of the base film 本発明の基材フィルムの製造方法に適用可能な斜め延伸機のレールパターンの一例を示した概略図Schematic diagram showing an example of a rail pattern of an oblique stretching machine applicable to the method for producing a base film of the present invention. 本発明の実施形態に係る製造方法の一例(長尺フィルム原反ロールから繰り出してから斜め延伸する例)を示す概略図Schematic diagram showing an example of a manufacturing method according to an embodiment of the present invention (an example in which the film is unwound from a long continuous film roll and then obliquely stretched). 本発明の実施形態に係る製造方法の別の一例(長尺フィルム原反ロールから繰り出してから斜め延伸する例)を示す概略図Schematic diagram showing another example of the manufacturing method according to the embodiment of the present invention (an example in which the film is unwound from a long continuous film roll and then obliquely stretched). 本発明の実施形態に係る製造方法の別の一例(長尺フィルム原反ロールから繰り出してから斜め延伸する例)を示す概略図Schematic diagram showing another example of the manufacturing method according to the embodiment of the present invention (an example in which the film is unwound from a long continuous film roll and then obliquely stretched). 本発明の実施形態に係る製造方法の一例(長尺フィルム原反を巻き取らずに連続的に斜め延伸する例)を示す概略図Schematic diagram showing an example of a manufacturing method according to an embodiment of the present invention (an example in which a long continuous film is continuously obliquely stretched without being wound up). 本発明の実施形態に係る製造方法の別の一例(長尺フィルム原反を巻き取らずに連続的に斜め延伸する例)を示す概略図Schematic diagram showing another example of a manufacturing method according to an embodiment of the present invention (an example in which a long continuous film is continuously obliquely stretched without being wound up).

本発明の偏光板一体型タッチセンサーは、少なくとも、透明導電層、基材フィルムA、偏光子、基材フィルムB、及び接着層をこの順に有する偏光板一体型タッチセンサーであって、前記基材フィルムAが、主成分としてシクロオレフィン重合体と、当該シクロオレフィン重合体とは異なる添加剤とを含有し、当該基材フィルムAの前記添加剤の濃度が、前記偏光子側と前記透明導電層側の表面で1.1倍以上異なり、かつ、前記基材フィルムAの温度23℃・相対湿度55%の環境下、光波長550nmにおける測定での面内位相差値Roが、50〜200nmの範囲内であることを特徴とする。この特徴は、請求項1から請求項6までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。   The polarizing plate integrated touch sensor of the present invention is a polarizing plate integrated touch sensor having at least a transparent conductive layer, a base film A, a polarizer, a base film B, and an adhesive layer in this order, Film A contains, as main components, a cycloolefin polymer and an additive different from the cycloolefin polymer, and the concentration of the additive in the base film A is such that the polarizer side and the transparent conductive layer In the environment of the substrate film A at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55%, the in-plane retardation value Ro measured at an optical wavelength of 550 nm is 50 to 200 nm. It is characterized by being within the range. This feature is a technical feature common to the inventions according to claims 1 to 6.

本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記基材フィルムA中の前記添加剤の濃度が、前記偏光子側と前記透明導電層側の表面で1.1〜1.6倍の範囲内で異なることが、フィルムの表裏面で収縮差を発現することができ、好ましい。   As an embodiment of the present invention, from the viewpoint of exhibiting the effects of the present invention, the concentration of the additive in the base film A may be 1.1 to 1.0 on the polarizer side and the transparent conductive layer side. It is preferable that the difference be within a range of 6 times, since a difference in shrinkage can be exhibited between the front and back surfaces of the film.

また、前記添加剤の吸水率が、0.05〜3質量%の範囲内であることが、前記基材フィルムAの表面側に前記添加剤が偏在したときに、高温、高湿等の環境変動下での安定した収縮差を発現することができる観点から、好ましい態様である。   In addition, when the water absorption of the additive is in the range of 0.05 to 3% by mass, when the additive is unevenly distributed on the surface side of the base film A, the environment such as high temperature, high humidity, etc. This is a preferred embodiment from the viewpoint that a stable contraction difference under fluctuation can be exhibited.

さらに、前記添加剤が、分子量が50〜5000の範囲であり、特にピロール環を有する化合物、及びインドール環を有する化合物の群から選ばれる少なくとも一種であることが、前記基材フィルムA中において前記添加剤の濃度分布を生じて偏在しやすく、フィルムの表裏面の収縮差を発現する上で、好ましい態様である。   Further, the additive has a molecular weight in the range of 50 to 5,000, in particular, a compound having a pyrrole ring, and at least one selected from a group of compounds having an indole ring, the base film A in the base film A This is a preferred embodiment in that the additive is likely to be unevenly distributed due to the concentration distribution thereof and to exhibit a difference in shrinkage between the front and back surfaces of the film.

本発明の偏光板一体型タッチセンサーの製造方法は、前記基材フィルムAを溶液流延製膜法にて製造することが、前記基材フィルムA中の前記添加剤の濃度分布を制御するのに、好適な製造方法である。   In the manufacturing method of the polarizing plate-integrated touch sensor of the present invention, manufacturing the base film A by a solution casting film forming method controls the concentration distribution of the additive in the base film A. In addition, it is a suitable production method.

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。   Hereinafter, the present invention, its components, and embodiments and modes for carrying out the present invention will be described in detail. In addition, in this application, "-" is used in the meaning including the numerical value described before and after it as a lower limit and an upper limit.

≪本発明の偏光板一体型タッチセンサーの概要≫
本発明の偏光板一体型タッチセンサーは、少なくとも、透明導電層、基材フィルムA、偏光子、基材フィルムB、及び接着層をこの順に有する偏光板一体型タッチセンサーであって、前記基材フィルムAが、主成分としてシクロオレフィン重合体と、当該シクロオレフィン重合体とは異なる添加剤とを含有し、当該基材フィルムAの前記添加剤の濃度が、前記偏光子側と前記透明導電層側の表面で1.1倍以上異なり、かつ前記基材フィルムAの温度23℃・相対湿度55%の環境下、光波長550nmにおける測定での面内位相差値Roが、50〜200nmの範囲内であることを特徴とする。
<< Outline of Polarizer Integrated Touch Sensor of the Present Invention >>
The polarizing plate integrated touch sensor of the present invention is a polarizing plate integrated touch sensor having at least a transparent conductive layer, a base film A, a polarizer, a base film B, and an adhesive layer in this order, Film A contains, as main components, a cycloolefin polymer and an additive different from the cycloolefin polymer, and the concentration of the additive in the base film A is such that the polarizer side and the transparent conductive layer The in-plane retardation value Ro measured at a light wavelength of 550 nm in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% in the environment of the base film A at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% is in the range of 50 to 200 nm. It is characterized by being within.

前記基材フィルムAの特徴は、含有する添加剤濃度が、前記偏光子側と前記透明導電層側の表面で1.1倍以上異なることを特徴とし、かかる構成によって、フィルムの表裏面で収縮差を発現するものである。前記偏光子側と前記透明導電層側のどちらの添加剤の濃度を高くするかは、偏光子の収縮によるカールの方向によって決定されるものであり、当該偏光子の収縮によるカールの方向とは逆のカールを発現するように、添加剤濃度の偏在及び基材フィルムAの表裏面への透明導電層の形成条件を調整すればよい。   The feature of the base film A is that the concentration of the additive contained therein is 1.1 times or more different between the surface of the polarizer side and the surface of the transparent conductive layer side. The difference is expressed. Whether the concentration of the additive on the polarizer side or the transparent conductive layer side is increased is determined by the direction of the curl due to the shrinkage of the polarizer, and the direction of the curl due to the shrinkage of the polarizer. What is necessary is just to adjust the uneven distribution of the additive concentration and the conditions for forming the transparent conductive layer on the front and back surfaces of the base film A so that the reverse curl is developed.

本発明における前記偏光子側と前記透明導電層側の表面の添加剤の濃度とは、前記フィルムの表面から1μmまでの部分の添加剤の濃度の平均値をいう。ここで「濃度」とは、フィルムを構成する樹脂と添加剤の質量の総和における添加剤の質量を百分率で表したものであり、単位は質量%である。   In the present invention, the concentration of the additive on the polarizer side and the surface of the transparent conductive layer side means an average value of the concentration of the additive in a portion of 1 μm from the surface of the film. Here, “concentration” is a percentage of the mass of the additive in the total mass of the resin and the additive constituting the film, and the unit is mass%.

言いかえれば、本発明に係る前記基材フィルムAの少なくとも一方の面の添加剤の濃度の平均値が内部の添加剤の濃度の平均値より高くなっていることをいい、フィルム内部と表面で、添加剤の濃度の分布が勾配(本願では、濃度傾斜ともいう。)を有していることが好ましい。すなわち、フィルムに一様に添加剤を含有させるのではなく、添加剤をフィルム内で偏在させ添加剤の濃度の高い部位及び低い部位をつくることが好ましい。   In other words, it means that the average value of the concentration of the additive on at least one surface of the base film A according to the present invention is higher than the average value of the concentration of the internal additive, It is preferable that the concentration distribution of the additive has a gradient (also referred to as a concentration gradient in the present application). That is, it is preferable that the additive is not uniformly contained in the film, but that the additive is unevenly distributed in the film to create a portion where the concentration of the additive is high and a portion where the concentration of the additive is low.

本発明に係る基材フィルムAは、添加剤の選択と後述する溶液流延製膜法を採用することによって、製造上の複雑な調整をせずに製造することができる。   The substrate film A according to the present invention can be manufactured without complicated adjustment in manufacturing by selecting an additive and employing a solution casting film forming method described later.

また、前述の「濃度傾斜を有する」とは、フィルムの厚さ方向に沿って添加剤の濃度勾配が存在するという形態をいう。例えば、最も簡単な例として、本発明に係る基材フィルムAを、その厚さ方向に垂直な面で(フィルムの面方向に平行な面で)2等分されるように切断したときに、表面を含む断片に存在する添加剤の量が、他方の断片に存在する添加剤の量よりも多い、という実施形態が好ましく例示される。これを一般化すると、本発明に係る基材フィルムAを、その厚さ方向に垂直な面で(フィルムの面方向に平行な面で)k等分されるように切断したときに、各断片に存在する添加剤の量が、表面を含む断片から他方の断片に向かうにしたがって、徐々に減少するという実施形態もまた、好ましく例示される。当該実施形態において、k=2の場合については上記で別途説明したが、kは好ましくは3以上であり、より好ましくは5以上であり、さらに好ましくは10以上であり、特に好ましくは20以上である。濃度傾斜は、連続的傾斜でも不連続的傾斜でもどちらでもよい。   The above-mentioned “having a concentration gradient” refers to a form in which a concentration gradient of the additive exists along the thickness direction of the film. For example, as the simplest example, when the base film A according to the present invention is cut so as to be bisected in a plane perpendicular to its thickness direction (in a plane parallel to the plane direction of the film), Preferred embodiments are those in which the amount of additive present in the fragment containing the surface is greater than the amount of additive present in the other fragment. When this is generalized, when the base film A according to the present invention is cut so as to be equally divided by k in a plane perpendicular to its thickness direction (in a plane parallel to the plane direction of the film), each fragment is obtained. Also preferred is an embodiment wherein the amount of additive present at the surface gradually decreases from the surface-containing fragment to the other fragment. In the embodiment, the case where k = 2 is separately described above, but k is preferably 3 or more, more preferably 5 or more, further preferably 10 or more, and particularly preferably 20 or more. is there. The concentration gradient may be either a continuous gradient or a discontinuous gradient.

前記基材フィルムA中の添加剤の分布測定は以下の飛行時間二次イオン質量分析法(Time−Of−Flight Secondary Ion Mass Spectrometry:TOF−SIMS)分析法によって定量化できる。   The distribution measurement of the additive in the base film A can be quantified by the following Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry (TOF-SIMS) analysis method.

〈測定法〉
ここでいうTOF−SIMS分析法とは、固体試料上の原子や分子の化学情報を一分子層以下の感度で測定でき、特定の原子や分子の分布を100nm以下の空間分解能で観察可能な質量分析法である。TOF−SIMS分析法は、二次イオン質量分析法(SIMS)の一種であり、一次イオンビームを固体試料に照射し、その際に試料の最表面から放出されるイオン(二次イオン)を検出することによって、分析が行われる。質量分析計として飛行時間型質量分析計(TOF−MS)が用いられることから、TOF−SIMSと称される。TOF−SIMS分析法によれば、イオンビームをパルス的に試料に照射することによって、実質的に非破壊的な試料測定が可能であることから、現在では有機材料、高分子材料の分析にも広く応用されるに至っている。
<Measurement method>
The TOF-SIMS analysis method here refers to a mass that can measure the chemical information of atoms and molecules on a solid sample with a sensitivity of one molecular layer or less, and can observe the distribution of specific atoms and molecules with a spatial resolution of 100 nm or less. It is an analytical method. TOF-SIMS analysis is a type of secondary ion mass spectrometry (SIMS) in which a primary sample is irradiated with a primary ion beam and ions (secondary ions) emitted from the outermost surface of the sample are detected. By doing so, an analysis is performed. Since a time-of-flight mass spectrometer (TOF-MS) is used as the mass spectrometer, it is called TOF-SIMS. According to the TOF-SIMS analysis method, a non-destructive sample measurement can be performed by irradiating a sample with an ion beam in a pulsed manner. It has been widely applied.

装置としては、一例としてフィジカルエレクトロニクス(Physical Electronics)社製 TFS−2100を使用し、温度23℃、湿度55%RH下で測定する。   As an apparatus, for example, TFS-2100 manufactured by Physical Electronics is used, and the measurement is performed at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 55% RH.

TOF−SIMS分析法を用いて検出される添加剤の検出量が多い面(例えば、表面(A))の濃度をdA、添加剤の検出量が少ない面(例えば、表面(B))の濃度をdBとしたとき、本発明に係る基材フィルムAの添加剤の濃度は、表面(A)及び表面(B)で1.1倍以上異なることが必要であるので、比率dA/dB値は1.1以上と表すことができる。   The concentration of a surface (for example, surface (A)) where the amount of the additive detected is large using the TOF-SIMS analysis method (for example, surface (A)) is dA, and the concentration of the surface where the amount of the additive is small (for example, surface (B)) is Is dB, since the concentration of the additive of the base film A according to the present invention needs to be 1.1 times or more different between the surface (A) and the surface (B), the ratio dA / dB value is It can be expressed as 1.1 or more.

本発明においては、上記dA/dB値は、1.1〜1.6の範囲内であることが好ましいが、より好ましくは1.1〜1.5の範囲内であり、さらに好ましくは1.2〜1.4の範囲内である。dA/dB値が1.1以上であれば本発明のフィルム表裏面での収縮差の効果を発現し、1.6以下であれば、基材フィルム製造時において、表裏面の膜物性(例えば、伸縮率等)に極端な差を生じることなく、また加工時のカールの発生を抑制することができ扱いやすい。   In the present invention, the dA / dB value is preferably in the range of 1.1 to 1.6, more preferably in the range of 1.1 to 1.5, and still more preferably 1. It is in the range of 2-1.4. When the dA / dB value is 1.1 or more, the effect of the difference in shrinkage between the front and back surfaces of the film of the present invention is exhibited. When the dA / dB value is 1.6 or less, the film physical properties of the front and back surfaces (for example, , Expansion ratio, etc.), curl during processing can be suppressed, and it is easy to handle.

<本発明の偏光板一体型タッチセンサーの構成>
本発明の偏光板一体型タッチセンサーは、少なくとも、透明導電層、基材フィルムA、偏光子、基材フィルムB、及び接着層をこの順に有する偏光板一体型タッチセンサーであって、前記基材フィルムAが、主成分としてシクロオレフィン重合体と、当該シクロオレフィン重合体とは異なる添加剤とを含有し、当該基材フィルムAの前記添加剤の濃度が、前記偏光子側と前記透明導電層側の表面で1.1倍以上異なり、かつ、前記基材フィルムAの温度23℃・相対湿度55%の環境下、光波長550nm測定での面内位相差値Roが、50〜200nmの範囲内であることを特徴とする。
<Structure of the polarizing plate integrated touch sensor of the present invention>
The polarizing plate integrated touch sensor of the present invention is a polarizing plate integrated touch sensor having at least a transparent conductive layer, a base film A, a polarizer, a base film B, and an adhesive layer in this order, Film A contains, as main components, a cycloolefin polymer and an additive different from the cycloolefin polymer, and the concentration of the additive in the base film A is such that the polarizer side and the transparent conductive layer In the environment of the substrate film A at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55%, the in-plane retardation value Ro measured at a light wavelength of 550 nm is in a range of 50 to 200 nm in an environment at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55%. It is characterized by being within.

本発明の偏光板一体型タッチセンサーの構成を図をもって説明する。   The structure of the polarizing plate integrated touch sensor of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1Aは、本発明の偏光板一体型タッチセンサーの構成を示す模式図である。   FIG. 1A is a schematic view illustrating a configuration of a polarizing plate integrated touch sensor of the present invention.

本発明の偏光板一体型タッチセンサー1は、少なくとも、透明導電層2、基材フィルムA4、偏光子6、基材フィルムB7、及び接着層5をこの順に有する。図中、接着層5が、基材フィルムA4、偏光子6、基材フィルムB7の間にも配置されているが、省略することはできる。また、上記は最小構成であり、各部材間に、機能性層(中間層、帯電防止層、平滑化層、紫外線吸収層、カール防止層等)を設けてもよい。中でも、透明導電層2と基材フィルムAの間に、後述するハードコート層3を有することが好ましい。   The polarizing plate integrated touch sensor 1 of the present invention has at least a transparent conductive layer 2, a base film A4, a polarizer 6, a base film B7, and an adhesive layer 5 in this order. In the figure, the adhesive layer 5 is also disposed between the base film A4, the polarizer 6, and the base film B7, but can be omitted. The above is the minimum structure, and a functional layer (intermediate layer, antistatic layer, smoothing layer, ultraviolet absorbing layer, anti-curl layer, etc.) may be provided between each member. Among them, it is preferable to have a hard coat layer 3 described below between the transparent conductive layer 2 and the base film A.

本発明の偏光板一体型タッチセンサー全体の厚さは特に制限はないが、撓み防止、良好な抵抗値、取扱い性等の観点から7〜80μmの範囲内であることが好ましく、より好ましくは10〜60μmの範囲内である。   The total thickness of the polarizing plate-integrated touch sensor of the present invention is not particularly limited, but is preferably in the range of 7 to 80 μm, more preferably 10 from the viewpoint of prevention of bending, good resistance value, handleability, and the like. 6060 μm.

図1Bは、本発明の偏光板一体型タッチセンサーを具備するタッチパネル部材及び表示装置の構成を示す模式図である。   FIG. 1B is a schematic diagram illustrating a configuration of a touch panel member and a display device including the polarizing plate integrated touch sensor of the present invention.

本発明の偏光板一体型タッチセンサー1を具備する表示装置10は、上部からガラス板11、透明導電層2、中間層12、ハードコート層3、基材フィルムA4、偏光子6、基材フィルムB7(以上タッチパネル部材9とする。)、及び液晶表示装置13を接着層5を介して積層する構造を有することが好ましい。また、各部材間に、機能性層(帯電防止層、平滑化層、紫外線吸収層、カール防止層等)を適宜設けてもよい。   The display device 10 provided with the touch sensor 1 with a polarizing plate integrated type of the present invention includes a glass plate 11, a transparent conductive layer 2, an intermediate layer 12, a hard coat layer 3, a base film A4, a polarizer 6, and a base film from the top. It is preferable to have a structure in which B7 (hereinafter referred to as the touch panel member 9) and the liquid crystal display device 13 are laminated via the adhesive layer 5. In addition, a functional layer (an antistatic layer, a smoothing layer, an ultraviolet absorbing layer, an anti-curl layer, etc.) may be appropriately provided between the members.

以下、本発明の偏光板一体型タッチセンサーを構成する各要素について詳細に説明する。   Hereinafter, each component constituting the polarizing plate integrated touch sensor of the present invention will be described in detail.

〔1〕基材フィルムA
本発明に係る基材フィルムAは、主成分としてシクロオレフィン重合体と、当該シクロオレフィン重合体とは異なる添加剤とを含有し、当該基材フィルムAの前記添加剤の濃度が、前記偏光子側と前記透明導電層側の表面で1.1倍以上異なり、かつ前記基材フィルムAの温度23℃・相対湿度55%の環境下、光波長550nmにおける測定での面内位相差値Roが、50〜200nmの範囲内であることを特徴とする。
[1] Base film A
The base film A according to the present invention contains a cycloolefin polymer as a main component and an additive different from the cycloolefin polymer, and the concentration of the additive in the base film A is the polarizer. The in-plane retardation value Ro measured at a light wavelength of 550 nm under an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% of the base film A at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% is different from that of the base film A by 1.1 times or more. , 50 to 200 nm.

本発明に係る基材フィルムAは、主成分としてシクロオレフィン重合体と、当該シクロオレフィン重合体とは異なる添加剤とを含有することが特徴である。   The base film A according to the present invention is characterized by containing a cycloolefin polymer as a main component and an additive different from the cycloolefin polymer.

シクロオレフィン重合体は、透明性、機械的強度、熱安定性、及び水分遮蔽性などに優れることから、偏光板一体型タッチセンサーの環境変動に対する寸法安定性が高い。   The cycloolefin polymer is excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding property, and the like, and therefore has high dimensional stability against environmental fluctuations of the polarizing plate integrated touch sensor.

本発明に係る基材フィルムの膜厚は、タッチセンサーの薄型化、軽量化に対応するため薄膜であることが好ましく、5〜40μmの範囲内であることが好ましく、より好ましくは10〜30μmの範囲内である。基材フィルムの膜厚が5μm以上であれば加工適性が確保でき、40μm以下であれば透明導電層の断線が生じにくい。   The thickness of the substrate film according to the present invention is preferably a thin film in order to cope with thinning and weight reduction of the touch sensor, preferably in the range of 5 to 40 μm, more preferably 10 to 30 μm. Within range. If the film thickness of the base film is 5 μm or more, workability can be ensured, and if it is 40 μm or less, disconnection of the transparent conductive layer hardly occurs.

〔1−1〕シクロオレフィン重合体
シクロオレフィン重合体としては、種々のシクロオレフィン単量体の重合体を用いることができるが、ノルボルネン骨格を有するシクロオレフィン単量体を単独重合又は共重合して得られる重合体を用いることが好ましい。
[1-1] Cycloolefin polymer As the cycloolefin polymer, polymers of various cycloolefin monomers can be used, and a cycloolefin monomer having a norbornene skeleton is homopolymerized or copolymerized. It is preferable to use the obtained polymer.

以下において、本発明で用いられるシクロオレフィン単量体の説明をする。   Hereinafter, the cycloolefin monomer used in the present invention will be described.

本発明に係るシクロオレフィン重合体は、下記で示される一般式(A−1)及び(A−2)で表されるシクロオレフィン単量体から単独重合又は共重合して得られる重合体である。   The cycloolefin polymer according to the present invention is a polymer obtained by homopolymerization or copolymerization from cycloolefin monomers represented by the following general formulas (A-1) and (A-2). .

一般式(A−1)で表される構造を有するシクロオレフィン単量体を説明する。   The cycloolefin monomer having the structure represented by the general formula (A-1) will be described.

Figure 0006669083
(一般式(A−1)中、R〜Rは、それぞれ独立に水素原子又はハロゲン原子を表す。又は、酸素原子、窒素原子、イオウ原子若しくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい、置換又は非置換の炭素原子数1〜30の炭化水素基、若しくは極性基を表す。pは、0〜2の自然数を表す。)
上記極性基としては、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリロキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基などが挙げられ、これら極性基はメチレン基などの連結基を介して結合していてもよい。また、カルボニル基、エーテル基、シリルエーテル基、チオエーテル基、イミノ基など極性を有する2価の有機基が連結基となって結合している炭化水素基なども極性基として挙げられる。これらの中では、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基又はアリロキシカルボニル基が好ましく、特にアルコキシカルボニル基又はアリロキシカルボニル基であることが、溶液製膜時の溶解性を確保する観点で好ましい。
Figure 0006669083
(In the general formula (A-1), R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom or a halogen atom, or have a linking group containing an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, or a silicon atom. Represents a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms or a polar group; p represents a natural number of 0 to 2)
Examples of the polar group include a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxycarbonyl group, an allyloxycarbonyl group, an amino group, an amide group, and a cyano group.These polar groups are bonded via a linking group such as a methylene group. You may. In addition, a hydrocarbon group to which a divalent organic group having polarity such as a carbonyl group, an ether group, a silyl ether group, a thioether group, and an imino group is bonded as a linking group is also exemplified as the polar group. Among these, a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxycarbonyl group or an allyloxycarbonyl group is preferable, and an alkoxycarbonyl group or an allyloxycarbonyl group is particularly preferable from the viewpoint of securing the solubility during solution film formation.

次に、一般式(A−2)で表されるシクロオレフィン単量体を説明する。   Next, the cycloolefin monomer represented by the general formula (A-2) will be described.

Figure 0006669083
(一般式(A−2)中、Rは、独立に水素原子、炭素数1〜5の炭化水素基、又は炭素数1〜5のアルキル基を有するアルキルシリル基を表す。Rは、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリロキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。pは、0〜2の整数を表す。)
本発明においては、一般式(A−2)で表されるように、置換基R及びRが片側炭素に置換されたシクロオレフィン単量体を用いることで、分子の対称性が崩れたためか溶媒揮発時の樹脂と添加剤同士の拡散運動を促進し、それに伴い添加剤の製膜フィルム表面への移動を促すことから、添加剤の偏在の観点から好ましい。
Figure 0006669083
(In the general formula (A-2), R 5 independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkylsilyl group having an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. R 6 represents Represents a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxycarbonyl group, an allyloxycarbonyl group, an amino group, an amide group, a cyano group, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom, and p represents an integer of 0 to 2. )
In the present invention, as represented by the general formula (A-2), by using a cycloolefin monomer in which the substituents R 5 and R 6 are substituted on one side carbon, the symmetry of the molecule is lost. This is preferable from the viewpoint of uneven distribution of the additive, because it promotes the diffusion movement between the resin and the additive when the solvent is volatilized, thereby promoting the movement of the additive to the surface of the film-forming film.

は、炭素数1〜3の炭化水素基、Rは、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基又はアリロキシカルボニル基が好ましく、特にアルコキシカルボニル基又はアリロキシカルボニル基であることが、溶液製膜時の溶解性を確保する観点でも好ましい。R 5 is preferably a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, and R 6 is preferably a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxycarbonyl group or an alloxycarbonyl group, and particularly preferably an alkoxycarbonyl group or an allyloxycarbonyl group. It is also preferable from the viewpoint of ensuring the solubility during film formation.

以下に、本願における一般式(A−1)及び(A−2)を具体的に示すが、以下の具体例によって限定されるものではない。   Hereinafter, the general formulas (A-1) and (A-2) in the present application are specifically shown, but the present invention is not limited to the following specific examples.

Figure 0006669083
Figure 0006669083

シクロオレフィン重合体としては、ノルボルネン骨格を有する前記一般式(A−1)及び(A−2)で表される構造を有するシクロオレフィン単量体を単独重合又は共重合して得られる重合体であり、例えば以下のものが挙げられる。
(1)シクロオレフィン単量体の開環重合体
(2)シクロオレフィン単量体と共重合性単量体との開環共重合体
(3)上記(1)又は(2)の開環(共)重合体の水素添加(共)重合体
(4)上記(1)又は(2)の開環(共)重合体をフリーデルクラフト反応により環化したのち、水素添加した(共)重合体
(5)シクロオレフィン単量体と不飽和二重結合含有化合物との飽和重合体
(6)シクロオレフィン系単量体の付加型(共)重合体及びその水素添加(共)重合体
(7)シクロオレフィン系単量体とメタクリレート、又はアクリレートとの交互共重合体
中では、(1)〜(3)が好ましく、(3)がより好ましい。
The cycloolefin polymer is a polymer obtained by homopolymerizing or copolymerizing a cycloolefin monomer having a structure represented by the general formulas (A-1) and (A-2) having a norbornene skeleton. There are, for example, the following.
(1) Ring-opening polymer of cycloolefin monomer (2) Ring-opening copolymer of cycloolefin monomer and copolymerizable monomer (3) Ring-opening polymer of the above (1) or (2) ( Hydrogenated (co) polymer of (co) polymer (4) The ring-opened (co) polymer of (1) or (2) is cyclized by Friedel-Crafts reaction and then hydrogenated (co) polymer (5) Saturated polymer of cycloolefin monomer and unsaturated double bond-containing compound (6) Addition (co) polymer of cycloolefin monomer and hydrogenated (co) polymer thereof (7) In the alternating copolymer of a cycloolefin-based monomer and methacrylate or acrylate, (1) to (3) are preferable, and (3) is more preferable.

本発明に係る好ましいシクロオレフィン重合体としては、下記一般式(B−1)及び一般式(B−2)で表される構造単位を有するものが挙げられる。このようなシクロオレフィン重合体は、一般式(B−1)で表される構造単位のみ、一般式(B−2)で表される構造単位のみ、一般式(B−1)と一般式(B−2)のそれぞれの構造単位を含む共重合体でもよい。   Preferred cycloolefin polymers according to the present invention include those having structural units represented by the following general formulas (B-1) and (B-2). Such a cycloolefin polymer includes only the structural unit represented by the general formula (B-1), only the structural unit represented by the general formula (B-2), and the general formula (B-1) and the general formula (B-1). A copolymer containing each structural unit of B-2) may be used.

好ましくは、一般式(B−2)の構造体のみ、又は一般式(B−1)と一般式(B−2)の両者の構造単位を含む共重合体の樹脂である。得られるシクロオレフィン重合体のガラス転移温度が高くかつ透過率の高い優れたものとなる点で好ましい。   Preferably, it is a resin of a copolymer containing only the structural unit of the general formula (B-2) or both structural units of the general formulas (B-1) and (B-2). The cycloolefin polymer obtained is preferred in that it has a high glass transition temperature and a high transmittance.

Figure 0006669083
(一般式(B−1)中、Xは、−CH=CH−で表される基又は式:−CHCH−で表される基である。R〜Rは、それぞれ独立に水素原子又はハロゲン原子を表す。又は、酸素原子、窒素原子、イオウ原子若しくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい、置換又は非置換の炭素原子数1〜30の炭化水素基、若しくは極性基を表す。pは、0〜2の自然数を表す。)
Figure 0006669083
(一般式(B−2)中、Xは、−CH=CH−で表される基又は式:−CHCH−で表される基である。Rは、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜5の炭化水素基、又は炭素数1〜5のアルキル基を有するアルキルシリル基を表す。Rは、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリロキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。pは、0〜2の整数を表す。)
本明細書では、本願に係るシクロオレフィン重合体の製造方法等については、特開2008−107534号公報の記載を援用するものとし、その説明を省略する。
Figure 0006669083
(In the general formula (B-1), X is a group represented by —CH = CH— or a group represented by the formula: —CH 2 CH 2 —. R 1 to R 4 are each independently Represents a hydrogen atom or a halogen atom, or may have a linking group containing an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom or a silicon atom, a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, or Represents a polar group, and p represents a natural number of 0 to 2.)
Figure 0006669083
(In the general formula (B-2), X is a group represented by —CH = CH— or a group represented by the formula: —CH 2 CH 2 —. R 5 is each independently a hydrogen atom, Represents a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or an alkylsilyl group having an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R 6 represents a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxycarbonyl group, an allyloxycarbonyl group, an amino group, an amide. Represents a group, a cyano group, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom, and p represents an integer of 0 to 2.)
In the present specification, the description of JP-A-2008-107534 shall be referred to for the method for producing the cycloolefin polymer according to the present application, and the description thereof will be omitted.

〔1−2〕添加剤
本発明に係る添加剤は、前記シクロオレフィン重合体とは異なる添加剤であって、前記基材フィルムAの当該添加剤の濃度が、前記偏光子側と前記透明導電層側の表面で1.1倍以上異なることが特徴である。
[1-2] Additive The additive according to the present invention is an additive different from the cycloolefin polymer, and the concentration of the additive in the base film A is the same as that of the transparent conductive material. It is characterized by a difference of 1.1 times or more on the surface on the layer side.

また、前記添加剤のJIS K 7209の(A法)に準じて下記式(1)より求められる吸水率が、0.05〜3質量%の範囲内であることが、添加剤の偏在化を促進する上で好ましい。より好ましくは0.3〜3質量%の範囲内である。   In addition, when the water absorption of the additive obtained from the following formula (1) in accordance with JIS K 7209 (Method A) is in the range of 0.05 to 3% by mass, the uneven distribution of the additive is reduced. It is preferable for accelerating. More preferably, it is in the range of 0.3 to 3% by mass.

式(1) 吸水率={(w−w)/w}×100(%)
(式中、wは水に浸漬する前の添加剤の乾燥質量(mg)であり、wは23.0±1.0℃の水に24±1時間浸漬した後の添加剤の質量(mg)である。)
また、前記添加剤は、分子量が50〜5000の範囲内であることが好ましく、前記添加剤が、ピロール環を有する化合物、及びインドール環を有する化合物の群から選ばれる少なくとも一種であることが、添加剤として偏在化を促進する観点から好ましい。
Formula (1) Water absorption = {(w 2 −w 1 ) / w 1 } × 100 (%)
(Wherein, w 1 is the dry mass (mg) of the additive before immersion in water, and w 2 is the mass of the additive after immersion in water at 23.0 ± 1.0 ° C. for 24 ± 1 hour. (Mg).)
The additive preferably has a molecular weight in the range of 50 to 5,000, and the additive is at least one selected from the group consisting of a compound having a pyrrole ring and a compound having an indole ring, It is preferable from the viewpoint of promoting uneven distribution as an additive.

これは、ピロール環を有する化合物やインドール環を有する化合物は、極性を有する化合物であるために、溶液流延製膜法でド−プ調製にエタノール等の高極性溶媒を用いると、流延後の乾燥時にエタノールの揮発とともに、当該化合物がウェブの表面側に移動しやすくなり偏在化を促進するものと推察される。特に重量平均分子量が上記範囲内であると移動しやすい。   This is because a compound having a pyrrole ring or a compound having an indole ring is a polar compound. It is presumed that, together with the volatilization of ethanol during drying, the compound easily moves to the surface side of the web to promote uneven distribution. In particular, when the weight average molecular weight is within the above range, it is easy to move.

また、一分子当たりのピロール環、インドール環が3分子以上であれば、一分子当たりの極性基数が多くなり、溶液製膜中の溶媒偏在の影響をより受けやすくなる為、フィルム中に偏在化しやすくなり、より好ましい。   Also, if the number of pyrrole rings and indole rings per molecule is 3 or more, the number of polar groups per molecule increases, and it becomes more susceptible to the uneven distribution of the solvent in the solution casting. It is easier and more preferable.

分子内にピロール環を部分構造として含む化合物は非常に多く、特に限定されるものではないが、本発明に好ましいピロール環を有する化合物としては、1H−ピロール及びその異性体(2H−ピロール、3H−ピロール等)や、ピロールに置換基を導入したピロール誘導体である、例えばN−ブチル−2,5−ジメチルピロール、N−フェニル−2,5−ジメチルピロール、N−フェニル−3−ホルミル−2,5−ジメチルピロール、N−フェニル−3,4−ジホルミル−2,5−ジメチルピロール等の化合物、又はこれらの混合物を挙げることができる。   The number of compounds having a pyrrole ring as a partial structure in the molecule is very large and is not particularly limited. Examples of the compound having a pyrrole ring in the present invention include 1H-pyrrole and its isomers (2H-pyrrole, 3H-pyrrole). -Pyrrole) and pyrrole derivatives having a substituent introduced into pyrrole, for example, N-butyl-2,5-dimethylpyrrole, N-phenyl-2,5-dimethylpyrrole, N-phenyl-3-formyl-2 , 5-dimethylpyrrole, N-phenyl-3,4-diformyl-2,5-dimethylpyrrole and the like, or a mixture thereof.

また、ピロール環を複数有する化合物として、4個のピロール環を有する開環したチェーン状の構造を有しているビリルビンや、ピロール環4個が炭素原子1個ずつをはさんで結合した環構造を有する、コリノイド、ホルビン、ポリフィリノーゲン、ポルフィリン、クロリン、フロリン、ポルヒジメテン、ポルホメテン、コリン、バクテリオクロリン及びイソバクテリオクロリン等が例示される。中でも1H−ピロール及びその異性体、ビニルビン及びポルフィリン(21H,23H−ポルフィン)を好ましく用いることができる。
また、ポルフィリンは多数の誘導体及び金属錯体が知られており、適宜選択して用いることができる。
Further, as a compound having a plurality of pyrrole rings, bilirubin having an open chain structure having four pyrrole rings, or a ring structure in which four pyrrole rings are bonded to each other with one carbon atom interposed therebetween And corrinoids, phorbins, porphyrinogens, porphyrins, chlorins, florins, porhydimetenes, porhometins, cholines, bacteriochlorins, isobacteriochlorins and the like. Among them, 1H-pyrrole and its isomer, vinyl bin and porphyrin (21H, 23H-porphine) can be preferably used.
In addition, many derivatives and metal complexes of porphyrin are known and can be appropriately selected and used.

インドール環を有する化合物としては、インドール単体、またインドールの誘導体として、2−メチル−1H−インドール、2−メチル−1−メチル−1H−インドール、2−メチル−1−イソプロピル−1H−インドール、2−メチル−1−フェニル−1H−インドール、2−エチル−1H−インドール、2−エチル−1−メチル−1H−インドール、2−エチル−1−フェニル−1H−インドール、2−フェニル−1H−インドール、2−フェニル−1−メチル−1H−インドール、2−フェニル−1−フェニル−1H−インドール、3−メチル−1H−インドール、3−メチル−1−メチル−1H−インドール、3−メチル−1−イソプロピル−1H−インドール、3−メチル−1−フェニル−1H−インドール、3−エチル−1H−インドール、3−エチル−1−メチル−1H−インドール、3−エチル−1−フェニル−1H−インドール、3−フェニル−1H−インドール、3−フェニル−1−メチル−1H−インドール、3−フェニル−1−フェニル−1H−インドール、3−(4−フルオロフェニル)−1−イソプロピル−1H−インドール、2−アミノ−3−(インドリル)プロピオン酸(トリプトファン)、インドール−3−酢酸、3−[3−(4−フルオロフェニル)−1−イソプロピル−1H−インドール−2−イル]アクリル酸メチル、3−[3−(4−フルオロフェニル)−1−イソプロピル−1H−インドール−2−イル]アクリル酸エチル、3−[3−(4−フルオロフェニル)−1−イソプロピル−1H−インドール−2−イル]アクリル酸n−プロピル、3−[3−(4−フルオロフェニル)−1−イソプロピル−1H−インドール−2−イル]アクリル酸イソプロピル、3−[3−(4−フルオロフェニル)−1−イソプロピル−1H−インドール−2−イル]アクリル酸n−ブチル、3−[3−(4−フルオロフェニル)−1−イソプロピル−1H−インドール−2−イル]アクリル酸イソブチル、3−[3−(4−フルオロフェニル)−1−イソプロピル−1H−インドール−2−イル]アクリル酸tert−ブチル、3−[3−(4−フルオロフェニル)−1−イソプロピル−1H−インドール−2−イル]アクリル酸フェニル、3−[3−(4−フルオロフェニル)−1−イソプロピル−1H−インドール−2−イル]アクリル酸ベンジル、3−[3−(4−フルオロフェニル)−1−イソプロピル−1H−インドール−2−イル]アクリロニトリル、3−(1−メチル−2−フェニル−1H−インドール−3−イル)アクリル酸メチル、3−(1−メチル−2−フェニル−1H−インドール−3−イル)アクリル酸エチル、3−(1−メチル−2−フェニル−1H−インドール−3−イル)アクリル酸n−プロピル、3−(1−メチル−2−フェニル−1H−インドール−3−イル)アクリル酸イソプロピル、3−(1−メチル−2−フェニル−1H−インドール−3−イル)アクリル酸n−ブチル、3−(1−メチル−2−フェニル−1H−インドール−3−イル)アクリル酸イソブチル、3−(1−メチル−2−フェニル−1H−インドール−3−イル)アクリル酸tert−ブチル、3−(1−メチル−2−フェニル−1H−インドール−3−イル)アクリル酸フェニル、3−(1−メチル−2−フェニル−1H−インドール−3−イル)アクリル酸ベンジル、3−(1−メチル−2−フェニル−1H−インドール−3−イル)アクリロニトリル、4−[3−(4−フルオロフェニル)−1−イソプロピル−1H−インドール−2−イル]−3−ブテン−2−オン、4−(1−メチル−2−フェニル−1H−インドール−3−イル)−3−ブテン−2−オン、3−[3−(4−フルオロフェニル)−1−イソプロピル−1H−インドール−2−イル]−1−フェニルプロペノン、3−(1−メチル−2−フェニル−1H−インドール−3−イル)−1−フェニルプロペノン等が挙げられる。中でもインドール、2−アミノ−3−(インドリル)プロピオン酸(トリプトファン)等を用いることが好ましい。   Examples of the compound having an indole ring include indole alone, and indole derivatives such as 2-methyl-1H-indole, 2-methyl-1-methyl-1H-indole, 2-methyl-1-isopropyl-1H-indole, -Methyl-1-phenyl-1H-indole, 2-ethyl-1H-indole, 2-ethyl-1-methyl-1H-indole, 2-ethyl-1-phenyl-1H-indole, 2-phenyl-1H-indole 2-phenyl-1-methyl-1H-indole, 2-phenyl-1-phenyl-1H-indole, 3-methyl-1H-indole, 3-methyl-1-methyl-1H-indole, 3-methyl-1 -Isopropyl-1H-indole, 3-methyl-1-phenyl-1H-indole, 3-ethyl-1H- And 3-ethyl-1-methyl-1H-indole, 3-ethyl-1-phenyl-1H-indole, 3-phenyl-1H-indole, 3-phenyl-1-methyl-1H-indole, 3-phenyl- 1-phenyl-1H-indole, 3- (4-fluorophenyl) -1-isopropyl-1H-indole, 2-amino-3- (indolyl) propionic acid (tryptophan), indole-3-acetic acid, 3- [3 Methyl-(4-fluorophenyl) -1-isopropyl-1H-indol-2-yl] acrylate, 3- [3- (4-fluorophenyl) -1-isopropyl-1H-indol-2-yl] acrylic acid Ethyl, 3- [3- (4-fluorophenyl) -1-isopropyl-1H-indol-2-yl] acrylic acid n- Ropyr, isopropyl 3- [3- (4-fluorophenyl) -1-isopropyl-1H-indol-2-yl] acrylate, 3- [3- (4-fluorophenyl) -1-isopropyl-1H-indole- N-butyl 2-yl] acrylate, isobutyl 3- [3- (4-fluorophenyl) -1-isopropyl-1H-indol-2-yl] acrylate, 3- [3- (4-fluorophenyl)- Tert-butyl 1-isopropyl-1H-indol-2-yl] acrylate, phenyl 3- [3- (4-fluorophenyl) -1-isopropyl-1H-indol-2-yl] acrylate, 3- [3 -(4-Fluorophenyl) -1-isopropyl-1H-indol-2-yl] benzyl acrylate, 3- [3- (4-fluorophenyl 1) -Isopropyl-1H-indol-2-yl] acrylonitrile, methyl 3- (1-methyl-2-phenyl-1H-indol-3-yl) acrylate, 3- (1-methyl-2-phenyl) Ethyl -1H-indol-3-yl) acrylate, n-propyl 3- (1-methyl-2-phenyl-1H-indol-3-yl) acrylate, 3- (1-methyl-2-phenyl-1H) -Indol-3-yl) acrylate, n-butyl 3- (1-methyl-2-phenyl-1H-indol-3-yl) acrylate, 3- (1-methyl-2-phenyl-1H-indole -3-yl) isobutyl acrylate, tert-butyl 3- (1-methyl-2-phenyl-1H-indol-3-yl) acrylate, 3- (1-methyl-2) Phenyl-1H-indol-3-yl) acrylate, phenyl 3- (1-methyl-2-phenyl-1H-indol-3-yl) acrylate, 3- (1-methyl-2-phenyl-1H-) Indole-3-yl) acrylonitrile, 4- [3- (4-fluorophenyl) -1-isopropyl-1H-indol-2-yl] -3-buten-2-one, 4- (1-methyl-2- Phenyl-1H-indol-3-yl) -3-buten-2-one, 3- [3- (4-fluorophenyl) -1-isopropyl-1H-indol-2-yl] -1-phenylpropenone, 3- (1-methyl-2-phenyl-1H-indol-3-yl) -1-phenylpropenone and the like. Among them, it is preferable to use indole, 2-amino-3- (indolyl) propionic acid (tryptophan) and the like.

〔1−3〕その他の添加剤
本発明に係る基材フィルムAには、前記添加剤以外に可塑剤、酸化防止剤、マット剤、光安定剤、光学異方性制御剤、帯電防止剤、剥離剤などを含んでもよく、フィルム表面に偏在可能であれば、本発明に係る添加剤として用いることもできる。以下に主要な添加剤の詳細を記す。
[1-3] Other additives In the base film A according to the present invention, in addition to the additives, a plasticizer, an antioxidant, a matting agent, a light stabilizer, an optical anisotropy controlling agent, an antistatic agent, It may contain a release agent and the like, and if it can be unevenly distributed on the film surface, it can be used as an additive according to the present invention. The details of the main additives are described below.

[可塑剤]
可塑剤とは、一般的には高分子中に添加することによって脆弱性を改良したり、溶融粘度を低下させたり、柔軟性を付与したりする効果のある添加剤であるが、例えば本発明における好ましい態様の樹脂の場合、外部環境の湿度変動に対する透湿度を改善するために添加されるため、透湿防止剤としての機能を有する。
[Plasticizer]
A plasticizer is an additive that generally has the effect of improving fragility, reducing melt viscosity, or imparting flexibility by being added to a polymer. In the case of the resin of the preferred embodiment, the resin is added in order to improve the moisture permeability with respect to the fluctuation of the humidity of the external environment, and thus has a function as a moisture permeability preventing agent.

本発明において可塑剤としてポリエステル樹脂を用いることが好ましいが、ポリエステル樹脂は、ジカルボン酸とジオールを重合することにより得られ、ジカルボン酸構成単位(ジカルボン酸に由来する構成単位)の70%以上が芳香族ジカルボン酸に由来し、かつジオール構成単位(ジオールに由来する構成単位)の70%以上が脂肪族ジオールに由来する。   In the present invention, it is preferable to use a polyester resin as the plasticizer. The polyester resin is obtained by polymerizing a dicarboxylic acid and a diol, and 70% or more of the dicarboxylic acid structural units (the structural units derived from dicarboxylic acid) are aromatic. 70% or more of the diol structural unit (the structural unit derived from a diol) is derived from an aliphatic diol.

芳香族ジカルボン酸に由来する構成単位の割合は70%以上、好ましくは80%以上、さらに好ましくは90%以上である。   The ratio of the structural unit derived from the aromatic dicarboxylic acid is 70% or more, preferably 80% or more, and more preferably 90% or more.

脂肪族ジオールに由来する構成単位の割合は70%以上、好ましくは80%以上、さらに好ましくは90%以上である。ポリエステル樹脂は、二種以上を併用してもよい。   The proportion of the structural unit derived from the aliphatic diol is at least 70%, preferably at least 80%, more preferably at least 90%. Two or more polyester resins may be used in combination.

前記芳香族ジカルボン酸として、テレフタル酸、イソフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸等のナフタレンジカルボン酸、4,4′−ビフェニルジカルボン酸、3,4′−ビフェニルジカルボン酸等及びこれらのエステル形成性誘導体が例示できる。   Examples of the aromatic dicarboxylic acid include terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, naphthalenedicarboxylic acid such as 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, and 4,4′-biphenyldicarboxylic acid , 3,4'-biphenyldicarboxylic acid and the like and ester-forming derivatives thereof.

ポリエステル樹脂には、本発明の目的を損なわない範囲でアジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸や安息香酸、プロピオン酸、酪酸等のモノカルボン酸を用いることができる。   As the polyester resin, an aliphatic dicarboxylic acid such as adipic acid, azelaic acid, and sebacic acid and a monocarboxylic acid such as benzoic acid, propionic acid, and butyric acid can be used as long as the object of the present invention is not impaired.

前記脂肪族ジオールとして、エチレングリコール、1,3−プロピレンジオール、1,4−ブタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,6−ヘキサンジオール等及びこれらのエステル形成性誘導体が例示できる。   Examples of the aliphatic diol include ethylene glycol, 1,3-propylene diol, 1,4-butane diol, 1,4-cyclohexane dimethanol, 1,6-hexane diol, and ester-forming derivatives thereof.

ポリエステル樹脂には、本発明の目的を損なわない範囲でブチルアルコール、ヘキシルアルコール、オクチルアルコール等のモノアルコール類や、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール等の多価アルコール類を用いることもできる。   As the polyester resin, monoalcohols such as butyl alcohol, hexyl alcohol, and octyl alcohol, and polyhydric alcohols such as trimethylolpropane, glycerin, and pentaerythritol can be used without impairing the object of the present invention.

ポリエステル樹脂の製造には、公知の方法である直接エステル化法やエステル交換法を適用することができる。ポリエステル樹脂の製造時に使用する重縮合触媒としては、公知の三酸化アンチモン、五酸化アンチモン等のアンチモン化合物、酸化ゲルマニウム等のゲルマニウム化合物、酢酸チタン等のチタン化合物、塩化アルミニウム等のアルミニウム化合物等が例示できるが、これらに限定されない。   For the production of the polyester resin, a known method such as direct esterification or transesterification can be applied. Examples of the polycondensation catalyst used in the production of the polyester resin include known antimony compounds such as antimony trioxide and antimony pentoxide, germanium compounds such as germanium oxide, titanium compounds such as titanium acetate, and aluminum compounds such as aluminum chloride. Can, but is not limited to.

好ましいポリエステル樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合樹脂、ポリエチレン−1,4−シクロヘキサンジメチレン−テレフタレート共重合樹脂、ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキレート樹脂、ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート−テレフタレート共重合樹脂、ポリエチレン−テレフタレート−4,4′−ビフェニルジカルボキシレート樹脂、ポリ−1,3−プロピレン−テレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート樹脂等がある。   Preferred polyester resins include polyethylene terephthalate resin, polyethylene terephthalate-isophthalate copolymer resin, polyethylene-1,4-cyclohexane dimethylene-terephthalate copolymer resin, polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate resin, polyethylene-2, 6-naphthalenedicarboxylate-terephthalate copolymer resin, polyethylene-terephthalate-4,4'-biphenyldicarboxylate resin, poly-1,3-propylene-terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, polybutylene-2,6-naphthalene And dicarboxylate resins.

より好ましいポリエステル樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合樹脂、ポリエチレン−1,4−シクロヘキサンジメチレン−テレフタレート共重合樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂及びポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート樹脂が挙げられる。   More preferred polyester resins include polyethylene terephthalate resin, polyethylene terephthalate-isophthalate copolymer resin, polyethylene-1,4-cyclohexane dimethylene-terephthalate copolymer resin, polybutylene terephthalate resin, and polyethylene-2,6-naphthalene dicarboxylate. Resins.

ポリエステル樹脂の固有粘度(フェノール/1,1,2,2−テトラクロロエタン=60/40質量比混合溶媒中、25℃で測定した値)は、0.7〜2.0cm/gの範囲内が好ましく、より好ましくは0.8〜1.5cm/gの範囲内である。固有粘度が0.7cm/g以上であるとポリエステル樹脂の分子量が充分に高いために、これを使用して得られるポリエステル樹脂組成物からなる成形物が成形物として必要な機械的性質を有するとともに、透明性が良好となる。固有粘度が2.0cm/g以下の場合、成形性が良好となる。他の可塑剤としては、特開2013−97279の段落0056〜0080の一般式(PEI)及び一般式(PEII)に記載の化合物を用いてよい。The intrinsic viscosity of the polyester resin (value measured at 25 ° C. in a phenol / 1,1,2,2-tetrachloroethane = 60/40 mass ratio mixed solvent) is in the range of 0.7 to 2.0 cm 3 / g. Is more preferable, and more preferably in the range of 0.8 to 1.5 cm < 3 > / g. When the intrinsic viscosity is 0.7 cm 3 / g or more, the molecular weight of the polyester resin is sufficiently high, so that a molded product of the polyester resin composition obtained by using the polyester resin has the necessary mechanical properties as a molded product. At the same time, the transparency becomes good. When the intrinsic viscosity is 2.0 cm 3 / g or less, the moldability is good. As other plasticizers, compounds described in general formulas (PEI) and (PEII) in paragraphs 0056 to 0080 of JP-A-2013-97279 may be used.

[紫外線吸収剤]
本発明の基材フィルムにおいては、紫外線吸収剤を含有することができる。
[UV absorber]
The base film of the present invention may contain an ultraviolet absorber.

紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平10−182621号公報、特開平8−337574号公報に記載の紫外線吸収剤、特開平6−148430号公報に記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。   Examples of the ultraviolet absorber include, for example, oxybenzophenone-based compounds, benzotriazole-based compounds, salicylic acid ester-based compounds, benzophenone-based compounds, cyanoacrylate-based compounds, nickel complex salt-based compounds, and the like. Compounds are preferred. Further, ultraviolet absorbers described in JP-A-10-182621 and JP-A-8-337574, and polymer ultraviolet absorbers described in JP-A-6-148430 are also preferably used.

本発明の基材フィルムを、位相差フィルムのほかに、偏光板の保護フィルムとして用いる場合、紫外線吸収剤としては、偏光子や有機EL素子の劣化防止の観点から、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ有機EL素子の表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ない特性を備えていることが好ましい。   When the base film of the present invention is used as a protective film for a polarizing plate in addition to a retardation film, the ultraviolet absorber absorbs ultraviolet light having a wavelength of 370 nm or less from the viewpoint of preventing deterioration of a polarizer or an organic EL element. From the viewpoint of excellent performance and display properties of the organic EL element, the organic EL element preferably has a characteristic of absorbing less visible light having a wavelength of 400 nm or more.

紫外線吸収剤の添加量は、高分子組成物に対して0.1〜5.0質量%の範囲内であることが好ましく、0.5〜5.0質量%の範囲内であることがさらに好ましい。   The amount of the ultraviolet absorber added is preferably in the range of 0.1 to 5.0% by mass, more preferably in the range of 0.5 to 5.0% by mass, based on the polymer composition. preferable.

本発明に有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル]ベンゾトリアゾール、2,2−メチレンビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール]、2−(2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール、オクチル−3−[3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル]プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−[3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル]プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。   Examples of the benzotriazole-based ultraviolet absorber useful in the present invention include 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole and 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t. -Butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-butyl Phenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- [2'-hydroxy-3 '-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl] benzotriazole, 2,2 -Methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol], 2- (2'-hydroxy-3 -T-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6- (linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol, octyl-3 -[3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- ( 5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate, but is not limited thereto.

また、市販品として、「チヌビン(TINUVIN)109」、「チヌビン(TINUVIN)171」、「チヌビン(TINUVIN)326」、「チヌビン(TINUVIN)328」(以上、商品名、BASFジャパン社製)を好ましく使用できる。   As commercial products, “Tinuvin (TINUVIN) 109”, “Tinuvin (TINUVIN) 171”, “Tinuvin (TINUVIN) 326”, and “Tinuvin (TINUVIN) 328” (all trade names, manufactured by BASF Japan) are preferable. Can be used.

[酸化防止剤]
酸化防止剤は、例えば、基材フィルム中の残留溶媒のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等により基材フィルムが分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、フィルム中に含有させることが好ましい。
[Antioxidant]
The antioxidant has a role of delaying or preventing the base film from being decomposed by, for example, a residual solvent halogen in the base film or a phosphoric acid-based plasticizer in phosphoric acid. Preferably.

このような酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,6−ヘキサンジオール−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2,2−チオ−ジエチレンビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N′−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレート等を挙げることができる。   As such an antioxidant, a hindered phenol compound is preferably used. For example, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di- -T-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,6-hexanediol-bis [3 -(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,4-bis- (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino)- 1,3,5-triazine, 2,2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octa Sil-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, N, N'-hexamethylenebis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide) 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tris- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy) Benzyl) -isocyanurate and the like.

特に、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕が好ましい。また、例えば、N,N′−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。   Particularly, 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3 -(3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate] is preferred. Further, for example, a hydrazine-based metal deactivator such as N, N'-bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine or tris (2,4-di- A phosphorus-based processing stabilizer such as (t-butylphenyl) phosphite may be used in combination.

[マット剤]
本発明に係る基材フィルムには、作製されたフィルムがハンドリングされる際に、傷が付いたり、搬送性が悪化することを防止するために、マット剤として、微粒子を添加することも好ましい。
[Mat agent]
It is also preferable to add fine particles as a matting agent to the base film according to the present invention in order to prevent scratches and deterioration in transportability when the produced film is handled.

微粒子としては、無機化合物の微粒子や樹脂の微粒子が挙げられる。無機化合物の微粒子の例として、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等を挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化ケイ素が好ましい。   Examples of the fine particles include fine particles of an inorganic compound and fine particles of a resin. Examples of inorganic compound fine particles include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, and silicic acid. Examples include magnesium and calcium phosphate. Fine particles containing silicon are preferred in that turbidity is reduced, and silicon dioxide is particularly preferred.

微粒子の一次粒子の平均粒径は、5〜400nmの範囲内が好ましく、さらに好ましいのは10〜300nmの範囲内である。これらは主に粒径0.05〜0.3μmの範囲内の2次凝集体として含有されていてもよく、平均粒径80〜400nmの範囲内の粒子であれば凝集せずに一次粒子として含まれていることも好ましい。   The average primary particle size of the fine particles is preferably in the range of 5 to 400 nm, and more preferably in the range of 10 to 300 nm. These may be mainly contained as secondary aggregates having a particle size in the range of 0.05 to 0.3 μm, and as primary particles without aggregation if the particles have an average particle size in the range of 80 to 400 nm. It is also preferred that they are included.

フィルム中のこれらの微粒子の含有量は、0.01〜1質量%の範囲内であることが好ましく、特に0.05〜0.5質量%の範囲内であることが好ましい。   The content of these fine particles in the film is preferably in the range of 0.01 to 1% by mass, and particularly preferably in the range of 0.05 to 0.5% by mass.

共流延法による多層構成のλ/4位相差フィルムの場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。二酸化ケイ素の微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上、日本アエロジル、株式会社製)の商品名で市販されており、使用することができる。   In the case of a λ / 4 retardation film having a multilayer structure by a co-casting method, it is preferable to contain the added amount of fine particles on the surface. Fine particles of silicon dioxide are commercially available under the trade names of Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600 (all manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and used. Can be.

酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロジル株式会社製)の商品名で市販されており、使用することができる。   Fine particles of zirconium oxide are commercially available, for example, under the trade names of Aerosil R976 and R811 (all manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and can be used.

樹脂の微粒子の例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同240(以上東芝シリコーン株式会社製)の商品名で市販されており、使用することができる。   Examples of resin fine particles include silicone resin, fluorine resin and acrylic resin. Silicone resins are preferred, and those having a three-dimensional network structure are particularly preferred. For example, trade names of Tospearl 103, 105, 108, 120, 145, 3120 and 240 (all manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) And can be used.

これらの中でもアエロジル200V、アエロジルR972Vが、基材フィルムのヘイズを低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく用いられる。   Among these, Aerosil 200V and Aerosil R972V are particularly preferably used because they have a large effect of lowering the friction coefficient while keeping the haze of the base film low.

本発明に係る基材フィルムにおいては、少なくとも一方の面の動摩擦係数が0.2〜1.0の範囲内であることが好ましい。   In the substrate film according to the present invention, it is preferable that the dynamic friction coefficient of at least one surface is in the range of 0.2 to 1.0.

[1−4]基材フィルムAの製造方法
本発明に係る基材フィルムAは、溶液流延製膜法で製造されたフィルムであることが好ましい。
[1-4] Production Method of Base Film A The base film A according to the present invention is preferably a film produced by a solution casting method.

本発明に係る基材フィルムAの前記添加剤の濃度は、前記偏光子側と前記透明導電層側の表面で1.1倍以上異なることが特徴である。   The concentration of the additive in the base film A according to the present invention is characterized in that the surface of the polarizer side and the surface of the transparent conductive layer side differ by 1.1 times or more.

これは、溶液流延製膜法において、ドープを流延支持体(金属ベルト状支持体やドラム状支持体)に流延した際に、ドープ中に含有される溶媒の乾燥過程で、フィルムの主成分である樹脂に相溶されない前記添加剤は、溶媒の乾燥とともにフィルムの表面側に移動する。特に製膜時に流延支持体上でドープを展開したときは、流延支持体面側(Belt面)からは溶媒が乾燥、揮発が起こらないため、当該添加剤はまずウェブの空気界面側(Air面)へ溶媒とともに移動する。   This is because, in a solution casting film forming method, when a dope is cast on a casting support (a metal belt-like support or a drum-like support), the solvent contained in the dope is dried during the drying process. The additive that is not compatible with the resin as the main component moves to the surface side of the film as the solvent dries. In particular, when the dope is spread on the casting support during film formation, the solvent does not dry and volatilize from the casting support surface side (Belt surface). Therefore, the additive is first added to the air interface side of the web (Air). Surface) with solvent.

その後、まだ全体が乾燥していない生乾きの状態で、フィルムが流延支持体から剥離されることで、流延支持体に接しているBelt面が空気界面に解放され、両面から溶媒が乾燥、揮発される。   Then, in the state of raw dry, the whole is not yet dried, the film is peeled off from the casting support, the Belt surface in contact with the casting support is released to the air interface, and the solvent is dried from both surfaces. Volatilized.

その結果、流延した際はAir面の溶媒の乾燥が優先して起こるため、添加剤は当該Air面側に多く存在することとなり、その後、フィルムが流延支持体から剥離されるとBelt面側についても溶媒が乾燥、揮発できるようになるため、同様に添加剤は溶媒とともにBelt面側に移動し、基材フィルムAの両面に偏在と濃度傾斜を生ずる。そのため、添加剤の濃度は、フィルム内部<前記Belt面側<前記Air面側の順に多くなり、添加剤の疎な部分、密な部分が形成されて、フィルムの収縮率に影響を及ぼすことができる。   As a result, when the film is cast, drying of the solvent on the Air surface occurs preferentially, so that a large amount of the additive is present on the Air surface side, and thereafter, when the film is peeled from the casting support, the Belt surface is removed. Since the solvent can be dried and volatilized on the side as well, the additive similarly moves to the Belt side together with the solvent, causing uneven distribution and concentration gradient on both sides of the base film A. Therefore, the concentration of the additive increases in the order of the inside of the film <the Belt surface side <the Air surface side, and a sparse portion and a dense portion of the additive are formed, which may affect the shrinkage of the film. it can.

したがって、ドープを流延した後での流延支持体上でのフィルムの搬送及び乾燥は適度な時間が必要であり、流延から剥離するまでの剥離限界時間は30秒〜5分程度の範囲内であることが好ましく、30秒〜2分の範囲内であることが、添加剤の偏在を安定化させるのに、より好ましい。   Therefore, a proper time is required for transporting and drying the film on the casting support after casting the dope, and the peeling time from casting to peeling is in the range of about 30 seconds to 5 minutes. Is preferably within the range of 30 seconds to 2 minutes, more preferably for stabilizing the uneven distribution of the additive.

また、溶媒の揮発に伴う添加剤の移動が生じることから、流延製膜時の乾燥温度も影響因子であり、用いる溶媒の種類によっても変化するが、10〜50℃の範囲内であることが好ましい。より好ましくは。20〜40℃の範囲内である。   In addition, since the movement of the additive due to the volatilization of the solvent occurs, the drying temperature during casting film formation is also an influential factor, and varies depending on the type of the solvent used, but is in the range of 10 to 50 ° C. Is preferred. More preferably. It is in the range of 20-40 ° C.

また、通常流延支持体の温度は、0〜100℃の範囲内で適宜決定されるものであるが、本発明では流延支持体の温度も溶媒の揮発に影響するため、流延支持体の温度は5〜60℃の範囲内に調整されることが好ましく、10〜55℃の範囲内であることがより好ましく、20〜40℃の範囲内に調整されることが、特に好ましい。   Further, the temperature of the casting support is usually appropriately determined within the range of 0 to 100 ° C. However, in the present invention, the temperature of the casting support also affects the volatilization of the solvent. Is preferably adjusted in the range of 5 to 60 ° C, more preferably in the range of 10 to 55 ° C, and particularly preferably in the range of 20 to 40 ° C.

前記流延支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を流延支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、流延支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。   The method of controlling the temperature of the casting support is not particularly limited, and includes a method of blowing hot or cold air, and a method of bringing hot water into contact with the back side of the casting support. It is preferable to use hot water since the time required for the temperature of the casting support to become constant is short because heat is transferred more efficiently.

本発明に係る溶液流延法では、樹脂及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状又はドラム状の流延支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、流延支持体から剥離する工程、延伸又は幅保持する工程、さらに乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻き取る工程により行われる。   In the solution casting method according to the present invention, a step of preparing a dope by dissolving a resin and an additive in a solvent, a step of casting the dope on a belt-shaped or drum-shaped casting support, It is carried out by a step of drying as a web, a step of peeling off from a casting support, a step of stretching or maintaining a width, a step of further drying, and a step of winding up a finished film.

また、特開2000−301555号公報、特開2000−301558号公報、特開平7−032391号公報、特開平3−193316号公報、特開平5−086212号公報、特開昭62−037113号公報、特開平2−276607号公報、特開昭55−014201号公報、特開平2−111511号公報、及び特開平2−208650号公報等の各公報に記載のセルロースアシレートフィルム製膜技術を本発明に応用できる。   Also, JP-A-2000-301555, JP-A-2000-301558, JP-A-7-032391, JP-A-3-193316, JP-A-5-086212, and JP-A-62-037131 JP-A-2-276607, JP-A-55-014201, JP-A-2-111511, and JP-A-2-208650. Applicable to the invention.

ドープ中のシクロオレフィン重合体の濃度は、濃度が高い方が流延支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、シクロオレフィン重合体の濃度が高すぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、10〜35質量%の範囲内が好ましく、さらに好ましくは、15〜25質量%の範囲内である。流延(キャスト工程)前のドープ粘度は500〜50000の範囲内であることが好ましく、さらに好ましくは1000〜12000の範囲内である。   As for the concentration of the cycloolefin polymer in the dope, a higher concentration is preferable because the drying load after casting on the casting support can be reduced, but if the concentration of the cycloolefin polymer is too high, the load at the time of filtration is increased. And the accuracy of filtration decreases. The concentration satisfying these requirements is preferably in the range of 10 to 35% by mass, and more preferably in the range of 15 to 25% by mass. The viscosity of the dope before casting (casting step) is preferably in the range of 500 to 50,000, more preferably in the range of 1000 to 12,000.

流延工程における流延支持体は、表面を鏡面仕上げした金属製のものが好ましく、流延支持体としては、ステンレススティールベルト又は鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は1〜4mの範囲内とすることができる。   The casting support in the casting step is preferably made of metal whose surface is mirror-finished, and as the casting support, a stainless steel belt or a drum whose surface is plated with a casting is preferably used. The width of the cast can be in the range of 1-4 m.

基材フィルムAが、良好な平面性を示すためには、流延支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は10〜150質量%の範囲内が好ましく、さらに好ましくは20〜40質量%の範囲内又は60〜130質量%の範囲内であり、特に好ましくは、20〜30質量%の範囲内又は70〜120質量%の範囲内である。   In order for the base film A to exhibit good flatness, the amount of residual solvent when the web is peeled from the casting support is preferably in the range of 10 to 150% by mass, and more preferably 20 to 40% by mass. Or in the range of 60 to 130% by mass, particularly preferably in the range of 20 to 30% by mass or in the range of 70 to 120% by mass.

残留溶媒量は、下記式で定義される。   The residual solvent amount is defined by the following equation.

残留溶媒量(質量%)={(M−N)/N}×100
なお、Mはウェブ又はフィルムを製造中又は製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115℃で1時間の加熱後の質量である。また、シクロオレフィン重合体を用いたフィルムの乾燥工程においては、ウェブを流延支持体より剥離し、さらに乾燥し、残留溶媒量を1質量%以下にすることが好ましく、さらに好ましくは0.1質量%以下であり、特に好ましくは0〜0.01質量%の範囲内である。
Residual solvent amount (% by mass) = {(M−N) / N} × 100
In addition, M is the mass of the sample collected at any time during or after production of the web or film, and N is the mass after heating M at 115 ° C. for 1 hour. In the step of drying the film using the cycloolefin polymer, the web is preferably peeled off from the casting support, and further dried to reduce the residual solvent amount to 1% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less. %, Particularly preferably within a range of 0 to 0.01% by mass.

本発明においては、当該流延支持体上の剥離位置における温度を−50〜40℃の範囲内とするのが好ましく、10〜40℃の範囲内がより好ましく、15〜30℃の範囲内とするのが最も好ましい。   In the present invention, the temperature at the peeling position on the casting support is preferably in the range of −50 to 40 ° C., more preferably in the range of 10 to 40 ° C., and in the range of 15 to 30 ° C. Most preferably.

本発明に係る基材フィルムAを溶液流延法で製造する場合のドープを形成するのに有用な有機溶媒は、シクロオレフィン重合体、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。   An organic solvent useful for forming a dope when the substrate film A according to the present invention is produced by a solution casting method is used without limitation as long as it can simultaneously dissolve a cycloolefin polymer and other additives. be able to.

例えば、塩素系有機溶媒としては、メチレンクロライド、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−ヘキサフルオロ−1−プロパノール、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができ、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。   For example, as a chlorine-based organic solvent, methylene chloride, as a non-chlorine-based organic solvent, methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, acetone, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolan, 1,4-dioxane, cyclohexanone, ethyl formate, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-hexafluoro-1-propanol, 1,3-difluoro-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro- Examples include 2-methyl-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-propanol, nitroethane, and the like. Preferably, methylene chloride, methyl acetate, ethyl acetate and acetone can be preferably used.

ドープには、上記有機溶媒の他に、1〜40質量%の範囲内の炭素原子数1〜4の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有させることが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、流延支持体からの剥離が容易になる。   The dope preferably contains, in addition to the above organic solvent, a linear or branched aliphatic alcohol having 1 to 4 carbon atoms in the range of 1 to 40% by mass. When the ratio of the alcohol in the dope is high, the web gels and the peeling from the casting support becomes easy.

特に、メチレンクロライド、及び炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有する溶媒に、シクロオレフィン重合体を、少なくとも計15〜45質量%の範囲内で溶解させたドープ組成物であることが好ましい。   Particularly, a dope composition in which a cycloolefin polymer is dissolved in a solvent containing methylene chloride and a linear or branched aliphatic alcohol having 1 to 4 carbon atoms in a range of at least 15 to 45% by mass in total. It is preferably an object.

炭素原子数1〜4の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノールを挙げることができる。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等からエタノールが好ましい。   Examples of the linear or branched aliphatic alcohol having 1 to 4 carbon atoms include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, sec-butanol and tert-butanol. Of these, ethanol is preferred because of the stability of the dope, the relatively low boiling point and the good drying property.

フィルムは上記剥離した後、フィルム乾燥工程で乾燥するが、フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式(上下に配置した多数のロールにウェブを交互に通し乾燥させる方式)やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。   After the film is peeled, the film is dried in a film drying step. In the film drying step, the web is generally transported by a roll drying method (a method in which the web is alternately passed through a number of rolls arranged vertically and dried) or a tenter method. A drying method is adopted.

フィルムは乾燥しながら、又は乾燥後、平面性を向上したり位相差を付与したりするために、延伸されることが好ましい。   The film is preferably stretched during or after drying in order to improve flatness or impart a retardation.

基材フィルムAの延伸方法は、公知のロール延伸機やテンターなどを好ましく用いることができる。延伸温度は、通常フィルムを構成する樹脂のTg〜Tg+60℃の温度範囲で行われることが好ましい。   As a method for stretching the base film A, a known roll stretching machine or tenter can be preferably used. The stretching temperature is usually preferably in the temperature range of Tg to Tg of the resin constituting the film + 60 ° C.

延伸する方法には特に限定はない。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、又は縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法などが挙げられる。もちろんこれ等の方法は、組み合わせて用いてもよい。すなわち、製膜方向に対して横方向に延伸しても、縦方向に延伸しても、両方向に延伸してもよく、さらに両方向に延伸する場合は同時延伸であっても、逐次延伸であってもよい。なお、いわゆるテンター法の場合、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかな延伸が行うことができ、破断等の危険性が減少できるので好ましい。   The stretching method is not particularly limited. For example, a method in which a circumferential speed difference is applied to a plurality of rolls, and a longitudinal stretching is performed using the circumferential speed difference between the rolls, and both ends of the web are fixed with clips or pins, and the intervals between the clips and pins are widened in the traveling direction. And a method in which the film is spread in the horizontal direction and stretched in the horizontal direction, or a method in which the film is simultaneously spread vertically and horizontally and stretched in both the vertical and horizontal directions. Of course, these methods may be used in combination. That is, the film may be stretched in the transverse direction, in the longitudinal direction, or in both directions with respect to the film forming direction. In the case of stretching in both directions, simultaneous stretching or sequential stretching may be performed. You may. In the case of the so-called tenter method, it is preferable to drive the clip portion by a linear drive method, since smooth stretching can be performed and the risk of breakage can be reduced.

本発明においては、特に、延伸はフィルム搬送ロールの周速差を利用して搬送方向に行うか、又は搬送方向と直交方向(幅手方向又はTD方向ともいう)にウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で行うことが好ましく、さらに左右把持手段によってウェブの把持長(把持開始から把持終了までの距離)を左右で独立に制御できるテンターを用いてλ/4位相差フィルムとすることが好ましい。   In the present invention, in particular, the stretching is performed in the transport direction using the peripheral speed difference of the film transport rolls, or both ends of the web are perpendicularly intersected with the transport direction (also referred to as the width direction or the TD direction) by clips or the like. It is preferable to use a tenter method for holding, and further to form a λ / 4 retardation film using a tenter capable of independently controlling the holding length (distance from the start to the end of holding) of the web by the left and right holding means. preferable.

本発明に係る基材フィルムAは、温度23℃・相対湿度55%の環境下、光波長550nmにおける測定での面内位相差値Roが、50〜200nmの範囲内であり、λ/4位相差フィルムである。面内位相差値Roは、より好ましくは、100〜160nmの範囲内である。   The substrate film A according to the present invention has an in-plane retardation value Ro measured at an optical wavelength of 550 nm in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% within a range of 50 to 200 nm, and has a λ / 4 position. It is a phase difference film. The in-plane retardation value Ro is more preferably in the range of 100 to 160 nm.

面内位相差値Roは、自動複屈折率計アクソスキャン(Axo Scan Mueller Matrix Polarimeter:アクソメトリックス社製)を用いて、23℃・55%RHの環境下、590nmの光波長において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率nx、ny、nzから、下記式(i)によって算出することができる。   The in-plane retardation value Ro was measured by using an automatic birefringence meter Axoscan (Axo Scan Mueller Matrix Polarimeter: manufactured by Axometrics) at a light wavelength of 590 nm under an environment of 23 ° C. and 55% RH at a light wavelength of 590 nm. The refractive index is measured, and the refractive index can be calculated from the obtained refractive indexes nx, ny, and nz by the following equation (i).

式(i):Ro=(n−n)×d(nm)
〔式(i)において、nは、フィルムの面内方向において屈折率が最大になる方向xにおける屈折率を表す。nは、フィルムの面内方向において、前記方向xと直交する方向yにおける屈折率を表す。dは、フィルムの厚さ(nm)を表す。〕
上記範囲の面内位相差値に制御するのに、延伸工程でフィルム搬送方向に対して45°方向に延伸することが好ましい。フィルム長手方向に対する配向角θを35〜55°にすると、遅相軸が長手方向と平行な方向に透過軸があるロール状の偏光フィルム(偏光子)と、長手方向を合わせてロールtoロールで貼合すると、ロール状長尺状の円偏光板を容易に製造できるので、フィルムのカットロスが少なく生産上有利である。
Formula (i): Ro = (n x -n y) × d (nm)
In [Equation (i), n x represents a refractive index in the direction x in which the refractive index is maximized in the plane direction of the film. n y, in-plane direction of the film, the refractive index in the direction y perpendicular to the direction x. d represents the thickness (nm) of the film. ]
In order to control the in-plane retardation value in the above range, it is preferable that the film is stretched in the direction of 45 ° with respect to the film transport direction in the stretching step. When the orientation angle θ with respect to the film longitudinal direction is 35 to 55 °, a roll-shaped polarizing film (polarizer) whose slow axis has a transmission axis in a direction parallel to the longitudinal direction and a roll-to-roll by aligning the longitudinal direction. By laminating, a roll-shaped long circularly polarizing plate can be easily produced, so that there is little cut loss of the film, which is advantageous in production.

[斜め延伸工程]
本発明の基材フィルムAは、上記のとおり、光波長550nmで測定した面内位相差値Roが50〜200nmの範囲内であり、特に100〜160nmの範囲内であることがλ/4板としての機能を発現する上で好ましく、上記製膜した基材フィルムAを斜め方向に延伸することによって、その特性を付与することができる。
[Diagonal stretching step]
As described above, the base film A of the present invention has an in-plane retardation value Ro measured at a light wavelength of 550 nm in the range of 50 to 200 nm, and particularly in the range of 100 to 160 nm. It is preferable in terms of exhibiting the function as above, and its characteristics can be imparted by stretching the formed base film A in an oblique direction.

本発明に適用が可能な延伸方法は、特に限定されず、例えば、複数のローラーに周速差をつけ、その間で、複数のローラー間での周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に従って広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、又は縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法を、単独又は組み合わせて採用することができる。   The stretching method applicable to the present invention is not particularly limited. For example, a method in which a plurality of rollers are provided with a peripheral speed difference, and between them, a method of stretching in a longitudinal direction using a peripheral speed difference between a plurality of rollers. A method in which both ends of the web are fixed with clips or pins, and the interval between the clips or pins is expanded in the direction of travel and stretched in the vertical direction. Similarly, a method in which the web is stretched in the horizontal direction and stretched in the horizontal direction. The method of stretching in both directions can be employed alone or in combination.

図2は、斜め延伸における収縮倍率を説明する模式図である。   FIG. 2 is a schematic diagram illustrating the shrinkage ratio in oblique stretching.

図2において、基材フィルムAを参照符号22の方向に斜め延伸する際に、基材フィルムAは、斜め屈曲されることでMに収縮する。すなわち、基材フィルムAを把持した把持具が屈曲角度θで屈曲せずにそのまま進行する場合、所定の時間で長さM′だけ進行するはずである。しかしながら、実際には、屈曲角度θで屈曲し、M(ただし、M=M′)だけ進行する。このとき、フィルムの入り方向(延伸方向(TD方向)21と直交する方向)には、把持具はMだけ進行しているため、基材フィルムAは、長さM(ただし、M=M−M)だけ収縮したこととなる。In Figure 2, when the oblique stretching the base film A in the direction of the reference numerals 22, substrate film A shrinks to M 2 by being obliquely bent. That is, when the gripper holding the base film A advances without bending at the bending angle θ, it should advance by the length M 1 ′ in a predetermined time. However, in reality, it bends at the bending angle θ and advances by M 1 (where M 1 = M 1 ′). At this time, the direction enters the film (the direction perpendicular to the stretching direction (TD direction) 21), since the gripper is proceeding by M 2, the base film A has a length M 3 (although, M 3 = M 1 −M 2 ).

このとき、収縮率(%)は、
収縮率(%)=(M−M)/M×100で表される。屈曲角度をθとすると、 M=M×sin(π−θ)となり、収縮率は、
収縮率(%)=(1−sin(π−θ))×100で表される。
At this time, the shrinkage (%)
Shrinkage (%) = (M 1 −M 2 ) / M 1 × 100. When the bending angle is θ, M 2 = M 1 × sin (π−θ), and the contraction rate is
Shrinkage (%) = (1−sin (π−θ)) × 100.

図2において、参照符号21は延伸方向(TD方向)であり、参照符号23は搬送方向(MD方向)であり、参照符号24は遅相軸を示している。   In FIG. 2, reference numeral 21 indicates a stretching direction (TD direction), reference numeral 23 indicates a transport direction (MD direction), and reference numeral 24 indicates a slow axis.

[斜め延伸装置による延伸]
次いで、45°の方向に延伸する斜め延伸方法について、さらに説明する。
[Stretching by oblique stretching device]
Next, the oblique stretching method of stretching in the 45 ° direction will be further described.

本発明に係る基材フィルムAの製造方法において、基材フィルムAに斜め方向の配向を付与する方法として、斜め延伸装置を用いることが好ましい。   In the method for producing the base film A according to the present invention, it is preferable to use an oblique stretching device as a method for giving the base film A an orientation in an oblique direction.

本発明に適用可能な斜め延伸装置としては、レールパターンを多様に変化させることにより、フィルムの配向角を自在に設定でき、フィルムの配向軸をフィルム幅方向にわたって左右均等に高精度に配向させることができ、かつ、高精度でフィルム厚さやリターデーションを制御できるフィルム延伸装置であることが好ましい。   As the oblique stretching device applicable to the present invention, by changing the rail pattern in various ways, the orientation angle of the film can be freely set, and the orientation axis of the film can be uniformly oriented with high precision in the lateral direction across the film width direction. It is preferable to use a film stretching apparatus capable of controlling the film thickness and retardation with high precision.

図3は、本発明の基材フィルムAの製造に適用可能な斜め延伸装置のレールパターンの一例を示した概略図である。なお、ここに示す図3は一例であって、本発明にて適用可能な延伸装置はこれに限定されるものではない。   FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of a rail pattern of an oblique stretching device applicable to the production of the base film A of the present invention. FIG. 3 shown here is an example, and the stretching apparatus applicable in the present invention is not limited to this.

一般的に、斜め延伸装置においては、図3に示されるように、長尺のフィルム原反の繰出方向D1は、延伸後の延伸フィルムの巻取方向D2と異なっており、繰出角度θiをなしている。繰出角度θiは、0°を超え90°未満の範囲で、所望の角度に任意に設定することができる。   In general, in the oblique stretching apparatus, as shown in FIG. 3, the unwinding direction D2 of the long stretched film is different from the winding direction D2 of the stretched stretched film, and the unwinding angle θi is formed. ing. The dispensing angle θi can be arbitrarily set to a desired angle within a range of more than 0 ° and less than 90 °.

なお、本明細書において、長尺とは、フィルムの幅に対し、少なくとも5倍程度以上の長さを有するものをいい、好ましくは10倍又はそれ以上の長さを有するものをいう。   In the present specification, the term “long” refers to a film having a length at least about 5 times or more, preferably 10 times or more the width of the film.

長尺のフィルム原反は、斜め延伸装置入口(図中Aの位置)において、その両端を左右の把持具(テンター)によって把持され、把持具の走行に伴い走行される。左右の把持具は、斜め延伸装置入口(図中Aの位置)で、フィルムの進行方向(繰出方向D1)に対して略垂直な方向に相対している左右の把持具Ci、Coは、左右非対称なレールRi、Ro上を走行し、延伸終了時の位置(図中Bの位置)で、テンターで把持したフィルムを解放する。   At the entrance of the oblique stretching device (position A in the figure), both ends of the long film web are gripped by left and right grippers (tenters), and are run with the grippers. The left and right grippers are left and right at the entrance of the oblique stretching device (position A in the drawing), and the right and left grippers Ci and Co, which are opposed to each other in a direction substantially perpendicular to the film traveling direction (extending direction D1), are left and right. The film runs on the asymmetric rails Ri and Ro, and releases the film gripped by the tenter at the position at the end of the stretching (the position B in the drawing).

このとき、斜め延伸装置入口(図中Aの位置)で相対していた左右の把持具は、左右非対称なレールRi、Ro上を走行するにつれて、Ri側を走行する把持具Ciは、Ro側を走行する把持具Coに対して進行する位置関係となる。   At this time, as the left and right gripping tools facing each other at the oblique stretching device entrance (position A in the drawing) travel on the left and right asymmetric rails Ri and Ro, the gripping tools Ci traveling on the Ri side become the Ro side. Is a positional relationship that advances with respect to the gripper Co that travels.

すなわち、斜め延伸装置入口(フィルムの把持具による把持開始位置)Aで、フィルムの繰出方向D1に対してほぼ垂直な方向に相対していた把持具Ci、Coが、フィルムの延伸終了時の位置Bにある状態で、該把持具Ci、Coを結んだ直線がフィルムの巻取方向D2に対してほぼ垂直な方向に対して角度θLだけ傾斜している。   That is, at the entrance of the oblique stretching device (starting position of gripping of the film by the gripper) A, the grippers Ci and Co, which have been opposed in a direction substantially perpendicular to the film feeding direction D1, are positioned at the end of the stretching of the film. In the state B, the straight line connecting the grippers Ci and Co is inclined by an angle θL with respect to a direction substantially perpendicular to the film winding direction D2.

以上の方法に従って、フィルム原反が斜め延伸されることとなる。ここでほぼ垂直とは、90±1°の範囲にあることを示す。   According to the above-mentioned method, the raw film is obliquely stretched. Here, “substantially perpendicular” means that the angle is in a range of 90 ± 1 °.

さらに詳しく説明すると、本発明に係る基材フィルムAを製造する方法においては、上記で説明した斜め延伸可能なテンターを用いて斜め延伸を行うことが好ましい。   More specifically, in the method for producing the base film A according to the present invention, it is preferable to perform the oblique stretching using the above-described obliquely stretchable tenter.

この延伸装置は、フィルム原反を、延伸可能な任意の温度に加熱し、斜め延伸する装置である。   This stretching apparatus is an apparatus for heating a raw film to an arbitrary temperature at which stretching can be performed, and for stretching the film obliquely.

この延伸装置は、加熱ゾーンと、フィルムを搬送するための把持具が走行する左右で一対のレールと、該レール上を走行する多数の把持具とを備えている。   This stretching apparatus includes a heating zone, a pair of right and left rails on which grippers for transporting a film travel, and a number of grippers traveling on the rails.

延伸装置の入口部に順次供給されるフィルムの両端を、把持具で把持し、加熱ゾーン内にフィルムを導き、延伸装置の出口部で把持具からフィルムを開放する。把持具から開放されたフィルムは巻芯に巻き取られる。一対のレールは、それぞれ無端状の連続軌道を有し、延伸装置の出口部でフィルムの把持を開放した把持具は、外側を走行して順次入口部に戻されるようになっている。   Both ends of the film sequentially supplied to the inlet of the stretching device are gripped by a gripper, the film is guided into the heating zone, and the film is released from the gripper at the outlet of the stretching device. The film released from the gripper is wound on a core. Each of the pair of rails has an endless continuous track, and the gripper, which has released the gripping of the film at the outlet of the stretching device, travels outside and is sequentially returned to the inlet.

なお、延伸装置のレールパターンは左右で非対称な形状となっており、製造すべき長尺延伸フィルムに与える配向角、延伸倍率等に応じて、そのレールパターンは手動で、又は自動で調整できるようになっている。   In addition, the rail pattern of the stretching device has an asymmetric shape on the left and right, depending on the orientation angle given to the elongated stretched film to be manufactured, the stretching ratio, etc., the rail pattern can be adjusted manually or automatically. It has become.

本発明で用いられる斜め延伸装置では、各レール部及びレール連結部の位置を自由に設定し、レールパターンを任意に変更できることが好ましい(図3中の○部は連結部の一例を示している)。   In the oblique stretching device used in the present invention, it is preferable that the position of each rail section and rail connection section can be freely set and the rail pattern can be arbitrarily changed (circle section in FIG. 3 shows an example of the connection section). ).

本発明において、延伸装置の把持具は、前後の把持具と一定間隔を保って、一定速度で走行する。把持具の走行速度は適宜選択できるが、通常、1〜100m/分の範囲内である。   In the present invention, the gripping device of the stretching device travels at a constant speed while maintaining a constant interval with the gripping devices before and after. The traveling speed of the gripper can be appropriately selected, but is usually in the range of 1 to 100 m / min.

左右一対の把持具の走行速度の差は、走行速度の通常1%以下、好ましくは0.5%以下、より好ましくは0.1%以下である。これは、延伸工程出口でフィルムの左右に進行速度差があると、延伸工程出口においてシワや寄りが発生するため、左右の把持具の速度差は、実質的に同速度であることが求められるためである。   The difference between the traveling speeds of the pair of right and left grippers is usually 1% or less, preferably 0.5% or less, more preferably 0.1% or less of the traveling speed. This is because if there is a difference in the traveling speed between the left and right of the film at the exit of the stretching process, wrinkles and shifts occur at the exit of the stretching process, so that the speed difference between the left and right grippers is required to be substantially the same speed. That's why.

一般的な延伸装置等では、チェーンを駆動するスプロケットの歯の周期、駆動モーターの周波数等に応じ、秒以下のオーダーで発生する速度ムラがあり、しばしば数%のムラを生ずるが、これらは本発明で述べる速度差には該当しない。   In a general stretching device, etc., there is a speed unevenness that occurs on the order of seconds or less depending on the cycle of the teeth of the sprocket driving the chain, the frequency of the drive motor, and the like, and often causes unevenness of several percent. It does not correspond to the speed difference described in the invention.

本発明に適用可能な延伸装置において、特にフィルムの搬送が斜めになる箇所には、把持具の軌跡を規制するレールにしばしば大きい屈曲率が求められる。急激な屈曲による把持具同士の干渉、又は局所的な応力集中を避ける目的から、屈曲部では把持具の軌跡が曲線を描くようにすることが好ましい。   In a stretching apparatus applicable to the present invention, a rail that regulates the trajectory of a gripping tool often requires a large bending rate, particularly at a position where film conveyance is oblique. In order to avoid interference between the gripping tools due to sharp bending or local stress concentration, it is preferable that the locus of the gripping tool draws a curve at the bent portion.

本発明において、長尺フィルム原反は斜め延伸装置入口(図中Aの位置)において、その両端を左右の把持具によって順次把持されて、把持具の走行に伴い走行される。斜め延伸装置入口(図中Aの位置)で、フィルム進行方向(繰出方向D1)に対してほぼ垂直な方向に相対している左右の把持具は、左右非対称なレール上を走行し、予熱ゾーン、延伸ゾーン、熱固定ゾーンを有する加熱ゾーンを通過する。   In the present invention, the raw long film is sequentially gripped by the left and right grippers at the entrance of the oblique stretching device (position A in the drawing), and travels with the travel of the grippers. At the entrance of the oblique stretching device (position A in the figure), the left and right gripping tools facing in a direction substantially perpendicular to the film advancing direction (unwinding direction D1) run on rails that are asymmetrical in the left and right directions, and are preheated. , A heating zone having a stretching zone and a heat setting zone.

予熱ゾーンとは、加熱ゾーン入口部において、両端を把持した把持具の間隔が一定の間隔を保ったまま走行する区間をさす。   The preheating zone refers to a section at the entrance of the heating zone, in which the travel is performed with the gap between the grippers gripping both ends kept constant.

延伸ゾーンとは、両端を把持した把持具の間隔が開きだし、所定の間隔になるまでの区間をさす。延伸ゾーンでは、上記のような斜め延伸が行われるが、必要に応じて斜め延伸前後において縦方向又は横方向に延伸してもよい。斜め延伸の場合、屈曲時に遅相軸とは垂直の方向であるMD方向(進相軸方向)への収縮を伴う。   The stretching zone refers to a section in which the gap between the grippers holding both ends starts to open and reaches a predetermined interval. In the stretching zone, the above-described oblique stretching is performed, but if necessary, the film may be stretched in the longitudinal direction or the transverse direction before and after the oblique stretching. In the case of oblique stretching, shrinkage is accompanied by bending in the MD direction (fast axis direction) which is a direction perpendicular to the slow axis during bending.

熱固定ゾーンとは、延伸ゾーンより後の把持具の間隔が再び一定となる期間において、両端の把持具が互いに平行を保ったまま走行する区間をさす。熱固定ゾーンを通過した後に、ゾーン内の温度がフィルムを構成する熱可塑性樹脂のガラス転移温度Tg以下に設定される区間(冷却ゾーン)を通過してもよい。このとき、冷却によるフィルムの縮みを考慮して、あらかじめ対向する把持具間隔を狭めるようなレールパターンとしてもよい。   The heat setting zone refers to a section in which the gripping tools at both ends run parallel to each other during a period in which the distance between the gripping tools after the stretching zone becomes constant again. After passing through the heat setting zone, it may pass through a section (cooling zone) in which the temperature in the zone is set to be equal to or lower than the glass transition temperature Tg of the thermoplastic resin constituting the film. At this time, in consideration of shrinkage of the film due to cooling, a rail pattern may be used in which the gap between the grippers opposed to each other is narrowed in advance.

各ゾーンの温度は、熱可塑性樹脂のガラス転移温度Tgに対し、予熱ゾーンの温度はTg〜(Tg+30)℃の範囲内で、延伸ゾーンの温度はTg〜(Tg+30)℃の範囲内で、冷却ゾーンの温度は(Tg−30)℃〜Tgの範囲内で設定することが好ましい。   The temperature of each zone is the glass transition temperature Tg of the thermoplastic resin, the temperature of the preheating zone is in the range of Tg to (Tg + 30) ° C, and the temperature of the stretching zone is in the range of Tg to (Tg + 30) ° C. The temperature of the zone is preferably set in the range of (Tg−30) ° C. to Tg.

なお、幅方向の厚さムラを制御するために、延伸ゾーンにおいて幅方向に温度差をつけてもよい。延伸ゾーンにおいて幅方向に温度差をつけるには、温風を恒温室内に送り込むノズルの開度を幅方向で差をつけるように調整する方法や、ヒーターを幅方向に並べて加熱制御する等の公知の手法を用いることができる。   In addition, in order to control thickness unevenness in the width direction, a temperature difference may be provided in the width direction in the stretching zone. In order to make the temperature difference in the width direction in the stretching zone, there are known methods such as adjusting the opening degree of the nozzle for sending hot air into the constant temperature chamber so as to make a difference in the width direction, and controlling the heating by arranging the heaters in the width direction. Can be used.

予熱ゾーン、延伸ゾーン、収縮ゾーン及び冷却ゾーンの長さは適宜選択でき、延伸ゾーンの長さに対して、予熱ゾーンの長さは通常100〜150%の範囲内であり、固定ゾーンの長さは通常50〜100%の範囲内である。   The lengths of the preheating zone, the stretching zone, the shrinking zone, and the cooling zone can be appropriately selected, and the length of the preheating zone is usually in the range of 100 to 150% with respect to the length of the stretching zone. Is usually in the range of 50 to 100%.

延伸工程における延伸倍率(W/Wo)は、好ましくは1.3〜3.0の範囲内であり、より好ましくは1.5〜2.8の範囲内である。延伸倍率がこの範囲にあると幅方向の厚さムラを小さくすることができる。   The stretching ratio (W / Wo) in the stretching step is preferably in the range of 1.3 to 3.0, and more preferably in the range of 1.5 to 2.8. When the stretching ratio is within this range, thickness unevenness in the width direction can be reduced.

斜め延伸装置の延伸ゾーンにおいて、幅方向で延伸温度に差をつけると幅方向の厚さムラをさらに改善することが可能になる。なお、Woは延伸前のフィルムの幅、Wは延伸後のフィルムの幅を表す。   In the stretching zone of the oblique stretching device, if the stretching temperature is made different in the width direction, the thickness unevenness in the width direction can be further improved. Wo represents the width of the film before stretching, and W represents the width of the film after stretching.

本発明において適用可能な斜め延伸方法としては、上記図3に示した方法のほかに、図4のA〜C、図5のA及びBに示す延伸方法を挙げることができる。   As the oblique stretching method applicable in the present invention, in addition to the method shown in FIG. 3, the stretching methods shown in FIGS. 4A to 4C and FIGS.

図3は、本発明に適用可能な製造方法の一例(長尺フィルム原反ローラーから繰り出してから斜め延伸する例)を示す概略図であり、一旦ロール状に巻き取られた長尺フィルム原反を繰り出して斜め延伸するパターンを示す。   FIG. 3 is a schematic view showing an example of a production method applicable to the present invention (an example in which the film is unwound from a long film material roller and then obliquely stretched), and the long film material once wound up in a roll shape. Is shown and a pattern of oblique stretching is shown.

図4は、本発明に適用可能な他の製造方法の一例(長尺フィルム原反を巻き取らずに連続的に斜め延伸する例)を示す概略図であり、長尺フィルム原反を巻き取ることなく連続的に斜め延伸工程を行うパターンを示す。   FIG. 4 is a schematic view showing an example of another manufacturing method applicable to the present invention (an example of continuous oblique stretching without winding a long film raw material), and winding a long film raw material. 2 shows a pattern in which an oblique stretching step is continuously performed without any step.

図4及び図5において、符号25は斜め延伸装置、符号26はフィルム繰り出し装置、符号27は搬送方向変更装置、符号28は巻取装置、符号29は成膜装置を示している。それぞれの図において、同じものを示す符号については省略している場合がある。   4 and 5, reference numeral 25 denotes an oblique stretching device, reference numeral 26 denotes a film feeding device, reference numeral 27 denotes a transport direction changing device, reference numeral 28 denotes a winding device, and reference numeral 29 denotes a film forming device. In each of the drawings, the same reference numerals may be omitted.

フィルム繰り出し装置26は、斜め延伸装置入口に対して所定角度でフィルムを送り出せるように、スライド及び旋回可能となっているか、スライド可能となっており搬送方向変更装置27により斜め延伸装置入口にフィルムを送り出せるようになっていることが好ましい。   The film feeding device 26 is slidable and pivotable or slidable so that the film can be sent out at a predetermined angle with respect to the oblique stretching device entrance. Is preferably sent out.

図4のA〜Cは、フィルム繰り出し装置26及び搬送方向変更装置27の配置をそれぞれ変更したパターンを示している。   4A to 4C show patterns in which the arrangements of the film feeding device 26 and the transport direction changing device 27 are respectively changed.

図5のA及びBは、成膜装置29により成膜されたフィルムを直接延伸装置25に繰り出すパターンを示している。   FIGS. 5A and 5B show a pattern in which a film formed by the film forming apparatus 29 is directly fed to the stretching apparatus 25.

フィルム繰り出し装置26及び搬送方向変更装置27をこのような構成とすることにより、より製造装置全体の幅を狭くすることが可能となるほか、フィルムの送り出し位置及び角度を細かく制御することが可能となり、膜厚、光学値のバラツキが小さい長尺延伸フィルムを得ることが可能となる。また、フィルム繰り出し装置26及び搬送方向変更装置27を移動可能とすることにより、左右のクリップのフィルムへの噛込み不良を有効に防止することができる。   With such a configuration of the film feeding device 26 and the transport direction changing device 27, it is possible to further reduce the width of the entire manufacturing apparatus, and to finely control the film feeding position and angle. It is possible to obtain a long stretched film having small variations in thickness, optical value and optical value. Further, by making the film feeding device 26 and the transport direction changing device 27 movable, it is possible to effectively prevent the right and left clips from biting into the film.

巻取装置28は、斜め延伸装置出口に対して所定角度でフィルムを引き取れるように配置することにより、フィルムの引取り位置及び角度を細かく制御することが可能となり、膜厚、光学値のバラツキが小さい長尺延伸フィルムを得ることが可能となる。そのため、フィルムのシワの発生を有効に防止することができるとともに、フィルムの巻取性が向上するため、フィルムを長尺で巻き取ることが可能となる。   By arranging the winding device 28 so that the film can be pulled at a predetermined angle with respect to the outlet of the oblique stretching device, it is possible to finely control the position and angle at which the film is taken, and the film thickness and optical values vary. It is possible to obtain a long stretched film having a small value. Therefore, wrinkles of the film can be effectively prevented, and the film can be wound up in a long length because the winding property of the film is improved.

本発明において、延伸後のフィルムの引取り張力T(N/m)は、100N/m<T<300N/m、好ましくは150N/m<T<250N/mの範囲内で調整することが好ましい。   In the present invention, the drawing tension T (N / m) of the stretched film is preferably adjusted within the range of 100 N / m <T <300 N / m, preferably 150 N / m <T <250 N / m. .

長尺円偏光板の生産性を考慮すると、本発明に係る基材フィルムA(λ/4位相差フィルム)は、搬送方向に対する配向角が45±2°であることが、偏光フィルムとのロールtoロールでの貼合が可能となり好ましい。   In consideration of the productivity of the long circularly polarizing plate, the base film A (λ / 4 retardation film) according to the present invention has an orientation angle of 45 ± 2 ° with respect to the transport direction, which indicates a roll with the polarizing film. Bonding with a to-roll is possible, which is preferable.

〔2〕ハードコート層
本発明に好ましい実施態様であるハードコート層は、基材フィルムAの少なくとも一方の面上に形成されることが好ましい。好ましくは基材フィルムAの透明導電性側にハードコート層を設けることで、透明導電層加工前の搬送による表層の傷の発生を抑制でき、透明導電層との密着性を向上させることが可能となる。また、基材フィルムAのどちらの面にハードコート層を設けるかは、当該基材フィルムAをどちらの方向に収縮させて偏光子の収縮に対応させるかによって、選択されることが好ましい。
[2] Hard coat layer The hard coat layer, which is a preferred embodiment of the present invention, is preferably formed on at least one surface of the base film A. Preferably, by providing a hard coat layer on the transparent conductive side of the substrate film A, it is possible to suppress the occurrence of scratches on the surface layer due to transportation before processing the transparent conductive layer, and it is possible to improve the adhesion with the transparent conductive layer Becomes Further, it is preferable that the surface of the base film A on which the hard coat layer is provided is selected depending on the direction in which the base film A is contracted to cope with the contraction of the polarizer.

本発明に用いられるハードコート層の形成に使用される硬化型樹脂としては、熱硬化型樹脂や活性エネルギー線硬化型樹脂が挙げられるが、成形が容易なことから、活性エネルギー線硬化型樹脂が好ましく用いることができる。   Examples of the curable resin used for forming the hard coat layer used in the present invention include a thermosetting resin and an active energy ray-curable resin. It can be preferably used.

〔2−1〕熱硬化型樹脂
熱硬化型樹脂は、特に制限はなく、具体的には、エポキシ樹脂、シアネートエステル樹脂、フェノール樹脂、ビスマレイミド−トリアジン樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、ビニルベンジル樹脂等の種々の熱硬化性樹脂が挙げられる。
[2-1] Thermosetting resin The thermosetting resin is not particularly limited. Specifically, epoxy resin, cyanate ester resin, phenol resin, bismaleimide-triazine resin, polyimide resin, acrylic resin, vinylbenzyl resin And various thermosetting resins.

エポキシ樹脂としては、平均して1分子当り2個以上のエポキシ基を有するものであれば良く、具体的には、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、リン含有エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、芳香族グリシジルアミン型エポキシ樹脂(具体的には、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジル−p−アミノフェノール、ジグリシジルトルイジン、ジグリシジルアニリン等)、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ブタジエン構造を有するエポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン構造を有するエポキシ樹脂、ビスフェノールのジグリシジルエーテル化物、ナフタレンジオールのジグリシジルエーテル化物、フェノール類のグリシジルエーテル化物、及びアルコール類のジグリシジルエーテル化物、並びにこれらのエポキシ樹脂のアルキル置換体、ハロゲン化物及び水素添加物等が挙げられる。これらは1種又は2種以上を組み合わせて使用しても良い。   The epoxy resin may be any resin having an average of two or more epoxy groups per molecule. Specifically, bisphenol A type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, biphenyl aralkyl type epoxy resin, naphthol type epoxy resin Resin, naphthalene type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phosphorus-containing epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, aromatic glycidylamine type epoxy resin (specifically, tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidyl-p-aminophenol, Diglycidyl toluidine, diglycidyl aniline, etc.), alicyclic epoxy resin, aliphatic chain epoxy resin, phenol novolak epoxy resin, cresol novolak epoxy resin, bisphenol A novolak epoxy resin Epoxy resin having a butadiene structure, phenol aralkyl type epoxy resin, epoxy resin having a dicyclopentadiene structure, diglycidyl ether of bisphenol, diglycidyl ether of naphthalene diol, glycidyl ether of phenol, and diglycidyl of alcohol Examples include etherified products, and alkyl-substituted, halogenated, and hydrogenated products of these epoxy resins. These may be used alone or in combination of two or more.

〔2−2〕活性エネルギー線硬化型樹脂
本発明において好適に用いることができる活性エネルギー線硬化型樹脂とは、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいう。活性エネルギー線硬化型樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて、活性エネルギー線硬化型樹脂層が形成される。活性エネルギー線硬化型樹脂としては、紫外線硬化型樹脂や電子線硬化型樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する紫外線硬化型樹脂が好ましい。
[2-2] Active energy ray-curable resin The active energy ray-curable resin that can be suitably used in the present invention refers to a resin that cures through a cross-linking reaction or the like by irradiation with an active ray such as an ultraviolet ray or an electron beam. . As the active energy ray-curable resin, a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used. The active energy ray-curable resin is cured by irradiation with an actinic ray such as an ultraviolet ray or an electron beam. A resin layer is formed. Typical examples of the active energy ray-curable resin include an ultraviolet ray-curable resin and an electron beam-curable resin, but an ultraviolet ray-curable resin that is cured by irradiation with ultraviolet rays is preferable.

[紫外線硬化型樹脂]
以下、本発明に用いられるハードコート層の形成に好適な紫外線硬化型樹脂について説明する。
[Ultraviolet curable resin]
Hereinafter, an ultraviolet curable resin suitable for forming the hard coat layer used in the present invention will be described.

紫外線硬化型樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることができる。   Examples of the UV-curable resin include a UV-curable urethane acrylate resin, a UV-curable polyester acrylate resin, a UV-curable epoxy acrylate resin, a UV-curable polyol acrylate resin, and a UV-curable epoxy resin. be able to.

紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、又はプレポリマーを反応させて得られた生成物に、さらに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等のヒドロキシ基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭59−151110号公報に記載の樹脂を用いることができる。   UV-curable acrylic urethane-based resins are generally obtained by reacting a polyester polyol with an isocyanate monomer or a prepolymer, and further, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, or the like. It can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxy group. For example, a resin described in JP-A-59-151110 can be used.

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に形成されるものを挙げることができ、特開昭59−151112号公報に記載の樹脂を用いることができる。   Examples of the UV-curable polyester acrylate resin include those easily formed by reacting a polyester polyol with a 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxy acrylate monomer, and JP-A-59-151112. Resins described in the gazette can be used.

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることができ、特開平1−105738号公報に記載のものを用いることができる。   Specific examples of the ultraviolet-curable epoxy acrylate-based resin include those formed by making epoxy acrylate an oligomer, adding a reactive diluent and a photoreaction initiator thereto, and reacting the oligomer. No. 105738 can be used.

また、本発明では、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂を用いることが好ましく、このような化合物としては、例えば、多官能アクリレート樹脂等が挙げられる。ここで、多官能アクリレート樹脂とは、分子中に2個以上のアクリロイルオキシ基又はメタクロイルオキシ基を有する化合物である。   In the present invention, it is preferable to use an ultraviolet-curable polyol acrylate-based resin, and examples of such a compound include a polyfunctional acrylate resin. Here, the polyfunctional acrylate resin is a compound having two or more acryloyloxy groups or methacryloyloxy groups in the molecule.

多官能アクリレート樹脂のモノマーとしては、例えば、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレートテトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレートペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレートが挙げられる。これらの化合物は、それぞれ単独又は2種以上を混合して用いられる。また、上記モノマーの2量体、3量体等のオリゴマーであっても良い。   Examples of the monomer of the polyfunctional acrylate resin include, for example, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, tetramethylolmethane Triacrylate tetramethylol methane tetraacrylate, pentaglycerol triacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, glycerin triacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, Dipenta Risritol hexaacrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, Tetramethylol methane trimethacrylate, tetramethylol methane tetramethacrylate, pentaglycerol trimethacrylate pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, glycerin trimethacrylate, dipentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol tetra Methacrylate, dipentaerythritol penta methacrylate, dipentaerythritol hexa methacrylate. These compounds are used alone or in combination of two or more. Further, oligomers such as dimers and trimers of the above monomers may be used.

本発明において適用可能な紫外線硬化型樹脂の市販品としては、例えば、アデカオプトマーKR・BYシリーズ:KR−400、KR−410、KR−550、KR−566、KR−567、BY−320B(以上、(株)ADEKA製);コーエイハードA−101−KK、A−101−WS、C−302、C−401−N、C−501、M−101、M−102、T−102、D−102、NS−101、FT−102Q8、MAG−1−P20、AG−106、M−101−C(以上、広栄化学(株)製);セイカビームPHC2210(S)、PHCX−9(K−3)、PHC2213、DP−10、DP−20、DP−30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(以上、大日精化工業(株)製);KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、
UVECRYL29202(以上、ダイセル・ユーシービー(株)製);RC−5015、RC−5016、RC−5020、RC−5031、RC−5100、RC−5102、RC−5120、RC−5122、RC−5152、RC−5171、RC−5180、RC−5181(以上、DIC(株)製);オーレックスNo.340クリヤ(以上、中国塗料(株)製);サンラッドH−601、RC−750、RC−700、RC−600、RC−500、RC−611、RC−612(以上、三洋化成工業(株)製);SP−1509、SP−1507(以上、昭和高分子(株)製);RCC−15C(グレース・ジャパン(株)製)、アロニックスM−6100、M−8030、M−8060(以上、東亞合成(株)製)等を適宜選択して利用できる。
Commercially available UV-curable resins applicable in the present invention include, for example, ADEKA OPTOMER KR / BY series: KR-400, KR-410, KR-550, KR-566, KR-567, BY-320B ( As described above, manufactured by ADEKA Corporation; Koeihard A-101-KK, A-101-WS, C-302, C-401-N, C-501, M-101, M-102, T-102, D -102, NS-101, FT-102Q8, MAG-1-P20, AG-106, M-101-C (all manufactured by Koei Chemical Co., Ltd.); Seika Beam PHC2210 (S), PHCX-9 (K-3 ), PHC2213, DP-10, DP-20, DP-30, P1000, P1100, P1200, P1300, P1400, P1500, P1600, SCR90 (Manufactured by Dainichiseika Color & Chemicals Mfg. (Ltd.)); KRM7033, KRM7039, KRM7130, KRM7131, UVECRYL29201,
UVECRYL29202 (all manufactured by Daicel UCB); RC-5015, RC-5016, RC-5020, RC-5031, RC-5100, RC-5102, RC-5120, RC-5122, RC-5152, Aurex No. RC-5171, RC-5180, RC-5181 (all manufactured by DIC Corporation); 340 Clear (all made by China Paint Co., Ltd.); Sunrad H-601, RC-750, RC-700, RC-600, RC-500, RC-611, RC-612 (all made by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) SP-1509, SP-1507 (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.); RCC-15C (manufactured by Grace Japan Co., Ltd.), Aronix M-6100, M-8030, M-8060 (manufactured by: Toagosei Co., Ltd.) can be appropriately selected and used.

[光重合開始剤]
また、紫外線硬化型樹脂の硬化促進のために、光重合開始剤を紫外線硬化型樹脂に対して2〜30質量%の範囲内で含有することが好ましい。光重合開始剤としては、光照射によりカチオン重合を開始させるルイス酸を放出するオニウム塩の複塩の一群が特に好ましい。
[Photopolymerization initiator]
Further, in order to promote the curing of the ultraviolet-curable resin, it is preferable that the photopolymerization initiator is contained in the range of 2 to 30% by mass based on the ultraviolet-curable resin. As the photopolymerization initiator, a group of double salts of an onium salt that releases a Lewis acid that initiates cationic polymerization by light irradiation is particularly preferable.

このようなオニウム塩としては、特に、芳香族オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが特に有効であり、中でも特開昭50−151996号公報、同50−158680号公報等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭50−151997号公報、同52−30899号公報、同59−55420号公報、同55−125105号公報等に記載のVIA族芳香族オニウム塩、特開昭56−8428号公報、同56−149402号公報、同57−192429号公報等に記載のオキソスルホニウム塩、特公昭49−17040号公報等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第4139655号明細書等に記載のチオピリリウム塩等が好ましい。また、アルミニウム錯体や光分解性ケイ素化合物系重合開始剤等を挙げることができる。上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサントン等の光増感剤を併用することができる。   As such an onium salt, it is particularly effective to use an aromatic onium salt as a cationic polymerization initiator. In particular, aromatic onium salts described in JP-A Nos. 50-151996 and 50-158680 are useful. Group VIA aromatic onium salts described in JP-A-50-151997, JP-A-52-30899, JP-A-59-55420, JP-A-55-125105, and JP-A-56-8428. Oxosulfonium salts described in JP-A-56-149402, JP-A-57-192429 and the like, aromatic diazonium salts described in JP-B-49-17040 and the like, described in US Pat. No. 4,139,655 and the like. And the like are preferred. In addition, examples thereof include an aluminum complex and a photodecomposable silicon compound-based polymerization initiator. The cationic polymerization initiator can be used in combination with a photosensitizer such as benzophenone, benzoin isopropyl ether, and thioxanthone.

[各種添加剤]
また、ハードコート層には、耐傷性、滑り性や屈折率を調整するために無機化合物又は有機化合物の微粒子を含んでも良い。
[Various additives]
Further, the hard coat layer may contain fine particles of an inorganic compound or an organic compound in order to adjust the scratch resistance, the slipperiness and the refractive index.

ハードコート層に使用される無機微粒子としては、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、酸化インジウムスズ(ITO;Indium TinOxide)、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。特に、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム等が好ましく用いられる。   Examples of the inorganic fine particles used in the hard coat layer include silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, tin oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO), zinc oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, and carbonate. Mention may be made of calcium, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. In particular, silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, magnesium oxide and the like are preferably used.

また、有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコーン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、又はポリフッ化エチレン系樹脂粉末等紫外線硬化性樹脂組成物を加えることができる。特に好ましくは、架橋ポリスチレン粒子(例えば、綜研化学製SX−130H、SX−200H、SX−350H)、ポリメチルメタクリレート系粒子(例えば、綜研化学製MX150、MX300)、フッ素含有アクリル樹脂微粒子が挙げられる。フッ素含有アクリル樹脂微粒子としては、例えば日本ペイント製:FS−701等の市販品が挙げられる。また、アクリル粒子として、例えば日本ペイント製:S−4000、アクリル−スチレン粒子として、例えば日本ペイント製:S−1200、MG−251等が挙げられる。   The organic particles include polymethacrylate methyl acrylate resin powder, acrylic styrene resin powder, polymethyl methacrylate resin powder, silicone resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, benzoguanamine resin powder, and melamine resin. An ultraviolet curable resin composition such as powder, polyolefin-based resin powder, polyester-based resin powder, polyamide-based resin powder, polyimide-based resin powder, or polyfluoroethylene-based resin powder can be added. Particularly preferably, cross-linked polystyrene particles (for example, SX-130H, SX-200H, SX-350H, manufactured by Soken Chemical), polymethyl methacrylate-based particles (for example, MX150, MX300, manufactured by Soken Chemical), and fluorine-containing acrylic resin fine particles are exemplified. . Examples of the fluorine-containing acrylic resin fine particles include commercially available products such as Nippon Paint FS-701. Examples of the acrylic particles include S-4000 manufactured by Nippon Paint, and examples of the acryl-styrene particles include S-1200 and MG-251 manufactured by Nippon Paint.

また、ハードコート層の耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いてもいいし、公知の紫外線吸収剤を含有しても良い。   In order to enhance the heat resistance of the hard coat layer, an antioxidant that does not suppress the photocuring reaction may be selected and used, or a known ultraviolet absorber may be contained.

ハードコート層の形成に用いるハードコート層形成用塗布液には、溶媒が含まれていても良く、必要に応じて適宜含有し、希釈されたものであっても良い。ハードコート層形成用塗布液に含有される有機溶媒としては、例えば、炭化水素類(例えば、トルエン、キシレン等)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等)、ケトン類(例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等)、エステル類(例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル等)、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中から適宜選択し、又はこれらを混合し利用できる。プロピレングリコールモノアルキルエーテル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)又はプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)等を5質量%以上、より好ましくは5〜80質量%の範囲内で含有する上記有機溶媒を用いるのが好ましい。   The coating liquid for forming a hard coat layer used for forming the hard coat layer may contain a solvent, or may contain and dilute as necessary, if necessary. Examples of the organic solvent contained in the coating solution for forming the hard coat layer include hydrocarbons (eg, toluene, xylene, etc.), alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol, etc.), ketones (E.g., acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc.), esters (e.g., methyl acetate, ethyl acetate, methyl lactate, etc.), glycol ethers, and other organic solvents, or a mixture thereof for use. it can. 5% by mass or more, more preferably 5 to 80%, of propylene glycol monoalkyl ether (1 to 4 carbon atoms in the alkyl group) or propylene glycol monoalkyl ether acetate (1 to 4 carbon atoms in the alkyl group). It is preferable to use the above-mentioned organic solvent contained in the range of mass%.

ハードコート層の製造方法としては、ハードコート層形成用塗布液を用いて、例えば、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の湿式塗布方法で塗設することができる。   As a method for producing the hard coat layer, using a coating liquid for forming a hard coat layer, for example, a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, and a known wet coating method such as an ink jet method are used. be able to.

ハードコート層形成用塗布液の塗布量は、ウェット層厚として0.1〜40μmの範囲内が適当で、好ましくは、0.5〜30μmである。また、層厚としては、0.1〜30μmの範囲内、好ましくは1〜10μmの範囲内である。   The coating amount of the coating liquid for forming a hard coat layer is appropriately in the range of 0.1 to 40 μm as a wet layer thickness, and preferably 0.5 to 30 μm. Further, the layer thickness is in the range of 0.1 to 30 μm, preferably in the range of 1 to 10 μm.

ハードコート層の硬化処理方法としては、ハードコート層を形成した後、当該ハードコート層に活性エネルギー線、好ましくは紫外線を照射して、最終的にハードコート層を硬化する。   As a method of curing the hard coat layer, after forming the hard coat layer, the hard coat layer is irradiated with an active energy ray, preferably ultraviolet ray, to finally cure the hard coat layer.

紫外線硬化型樹脂を光硬化反応により硬化させ、硬化したハードコート層を形成するために用いる光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。照射条件は、それぞれのランプによって異なるが、活性エネルギー線の照射量は、好ましくは5〜350mJ/cmの範囲内であり、特に好ましくは250〜300mJ/cmの範囲内である。The light source used to cure the ultraviolet-curable resin by a photocuring reaction to form a cured hard coat layer can be used without limitation as long as it is a light source that generates ultraviolet light. For example, a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, and the like can be used. Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation amount of the active energy ray is preferably in the range of 5 to 350 mJ / cm 2 , and particularly preferably in the range of 250 to 300 mJ / cm 2 .

〔3〕透明導電層
本発明に係る明導電層は、透明導電層の抵抗値として0.01〜150Ω/□の範囲内であることが好ましい。より好ましくは、透明導電層の抵抗値が0.1〜100Ω/□の範囲内である。透明導電層の抵抗値が0.01Ω/□以上であると、高温、高湿等の環境変動に耐久性が得られ、抵抗値が150Ω/□以下であると、カールを抑制できる観点からから好ましい。
[3] Transparent conductive layer The bright conductive layer according to the present invention preferably has a resistance of the transparent conductive layer in the range of 0.01 to 150 Ω / □. More preferably, the resistance value of the transparent conductive layer is in the range of 0.1 to 100 Ω / □. When the resistance value of the transparent conductive layer is 0.01 Ω / □ or more, durability against environmental changes such as high temperature and high humidity is obtained, and when the resistance value is 150 Ω / □ or less, curling can be suppressed. preferable.

また、本発明に係る透明導電層は、上記抵抗値を満たすものであればよいが、銅メッシュを含むことが好ましく、銅は他の金属と比べマイグレーション現象が起こりにくく、打鍵時の断線抑制の観点で好ましい。   Further, the transparent conductive layer according to the present invention may be any material as long as it satisfies the above-mentioned resistance value, but preferably contains a copper mesh, and copper is less likely to cause a migration phenomenon than other metals and suppresses disconnection during keying. It is preferable from a viewpoint.

〔3−1〕金属ナノワイヤー
金属ナノワイヤーとは、材質が金属であり、形状が針状又は糸状であり、径がナノメートルサイズの導電物質をいう。金属ナノワイヤーは直線状であってもよく、曲線状であってもよい。金属ナノワイヤーで構成された透明導電層を用いれば、金属ナノワイヤーが網の目状となることにより、少量の金属ナノワイヤーであっても良好な電気伝導経路を形成することができ、電気抵抗の小さい透明導電フィルムを得ることができる。さらに、金属ナノワイヤーが網の目状となることにより、網の目の隙間に開口部を形成して、光透過率の高い透明導電フィルムを得ることができる。
[3-1] Metal nanowire The metal nanowire is a conductive material having a material of metal, a needle-like or thread-like shape, and a diameter of nanometer size. The metal nanowire may be straight or curved. If a transparent conductive layer composed of metal nanowires is used, the metal nanowires form a mesh, so that even a small amount of metal nanowires can form a good electric conduction path, and the electric resistance can be improved. Can be obtained. Furthermore, since the metal nanowires have a mesh shape, an opening is formed in a gap between the meshes, so that a transparent conductive film having high light transmittance can be obtained.

上記金属ナノワイヤーの太さdと長さLとの比(アスペクト比:L/d)は、好ましくは10〜100,000の範囲内であり、より好ましくは50〜100000の範囲内であり、特に好ましくは100〜10000の範囲内である。このようにアスペクト比の大きい金属ナノワイヤーを用いれば、金属ナノワイヤーが良好に交差して、少量の金属ナノワイヤーにより高い導電性を発現させることができる。その結果、光透過率の高い透明導電フィルムを得ることができる。   The ratio (aspect ratio: L / d) between the thickness d and the length L of the metal nanowire is preferably in the range of 10 to 100,000, more preferably in the range of 50 to 100,000, Particularly preferably, it is in the range of 100 to 10,000. When metal nanowires having a large aspect ratio are used in this manner, the metal nanowires can intersect satisfactorily and a small amount of metal nanowires can exhibit high conductivity. As a result, a transparent conductive film having high light transmittance can be obtained.

なお、本明細書において、「金属ナノワイヤーの太さ」とは、金属ナノワイヤーの断面が円状である場合はその直径を意味し、楕円状である場合はその短径を意味し、多角形である場合は最も長い対角線を意味する。金属ナノワイヤーの太さ及び長さは、走査型電子顕微鏡又は透過型電子顕微鏡によって確認することができる。   In the present specification, the “thickness of the metal nanowire” means a diameter of the metal nanowire when the cross section is circular, and a minor diameter when the cross section is elliptical. If it is a square, it means the longest diagonal. The thickness and length of the metal nanowire can be confirmed by a scanning electron microscope or a transmission electron microscope.

上記金属ナノワイヤーの太さは、好ましくは500nm未満であり、より好ましくは200nm未満であり、特に好ましくは10〜100nmの範囲内であり、最も好ましくは10〜50nmの範囲内である。このような範囲であれば、光透過率の高い透明導電層を形成することができる。   The thickness of the metal nanowire is preferably less than 500 nm, more preferably less than 200 nm, particularly preferably in the range of 10 to 100 nm, and most preferably in the range of 10 to 50 nm. Within such a range, a transparent conductive layer having high light transmittance can be formed.

上記金属ナノワイヤーの長さは、好ましくは2.5〜1000μmの範囲内であり、より好ましくは10〜500μmの範囲内であり、特に好ましくは20〜100μmの範囲内である。このような範囲であれば、導電性の高い透明導電フィルムを得ることができる。   The length of the metal nanowire is preferably in the range of 2.5 to 1000 μm, more preferably in the range of 10 to 500 μm, and particularly preferably in the range of 20 to 100 μm. Within such a range, a transparent conductive film having high conductivity can be obtained.

上記金属ナノワイヤーを構成する金属としては、導電性の高い金属である限り、任意の適切な金属が用いられ得る。上記金属ナノワイヤーを構成する金属としては、例えば、銀、金、銅、ニッケル等が挙げられる。また、これらの金属にメッキ処理(例えば、金メッキ処理)を行った材料を用いてもよい。中でも好ましくは、導電性の観点から、銀又は銅である。   Any appropriate metal can be used as the metal constituting the metal nanowire as long as the metal has high conductivity. Examples of the metal constituting the metal nanowire include silver, gold, copper, and nickel. Further, a material obtained by plating (for example, gold plating) on these metals may be used. Among them, silver or copper is preferable from the viewpoint of conductivity.

上記金属ナノワイヤーの製造方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。例えば溶液中で硝酸銀を還元する方法、前駆体表面にプローブの先端部から印可電圧又は電流を作用させ、プローブ先端部で金属ナノワイヤーを引き出し、前記金属ナノワイヤーを連続的に形成する方法等が挙げられる。溶液中で硝酸銀を還元する方法においては、エチレングリコール等のポリオール、及びポリビニルピロリドンの存在下で、硝酸銀等の銀塩の液相還元することにより、銀ナノワイヤーが合成され得る。   Any appropriate method can be adopted as a method for producing the metal nanowire. For example, a method of reducing silver nitrate in a solution, a method of applying an applied voltage or current to the precursor surface from the tip of the probe, extracting a metal nanowire at the probe tip, and continuously forming the metal nanowire, etc. No. In the method of reducing silver nitrate in a solution, a silver nanowire can be synthesized by performing a liquid phase reduction of a silver salt such as silver nitrate in the presence of a polyol such as ethylene glycol and polyvinylpyrrolidone.

均一サイズの銀ナノワイヤーは、例えば、Xia,Y.etal.,Chem.Mater.(2002)、14、4736−4745 、Xia, Y.etal., Nano letters(2003)3(7)、955−960 に記載される方法に準じて、大量生産が可能である。   Silver nanowires of uniform size are described, for example, in Xia, Y .; et al. Chem. Mater. (2002), 14, 4736-4745, Xia, Y .; et al. , Nano letters (2003) 3 (7), 955-960.

上記透明導電層は、上記透明基材上に、上記金属ナノワイヤーを含む透明導電層形成用組成物を塗工することにより形成することができる。より具体的には、溶媒中に上記金属ナノワイヤーを分散させた分散液(透明導電層形成用組成物)を、上記透明基材上に塗布した後、塗布層を乾燥させて、透明導電層を形成することができる。   The transparent conductive layer can be formed by applying a composition for forming a transparent conductive layer containing the metal nanowires on the transparent substrate. More specifically, after applying the dispersion liquid (the composition for forming a transparent conductive layer) in which the metal nanowires are dispersed in a solvent to the transparent substrate, the applied layer is dried to form a transparent conductive layer. Can be formed.

上記溶媒としては、水、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エーテル系溶媒、炭化水素系溶媒、芳香族系溶媒等が挙げられる。環境負荷低減の観点から、水を用いることが好ましい。   Examples of the solvent include water, alcohol solvents, ketone solvents, ether solvents, hydrocarbon solvents, aromatic solvents, and the like. From the viewpoint of reducing environmental load, it is preferable to use water.

上記金属ナノワイヤーを含む透明導電層形成用組成物中の金属ナノワイヤーの分散濃度は、好ましくは0.1〜1質量%の範囲内である。このような範囲であれば、導電性及び光透過性に優れる透明導電層を形成することができる。   The dispersion concentration of the metal nanowires in the composition for forming a transparent conductive layer containing the metal nanowires is preferably in the range of 0.1 to 1% by mass. Within such a range, a transparent conductive layer having excellent conductivity and light transmittance can be formed.

上記金属ナノワイヤーを含む透明導電層形成用組成物は、目的に応じて任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。上記添加剤としては、例えば、金属ナノワイヤーの腐食を防止する腐食防止材、金属ナノワイヤーの凝集を防止する界面活性剤等が挙げられる。使用される添加剤の種類、数及び量は、目的に応じて適切に設定され得る。また、前記透明導電層形成用組成物は、本発明の効果が得られる限り、必要に応じて、任意の適切なバインダー樹脂を含み得る。   The composition for forming a transparent conductive layer including the metal nanowires may further contain any appropriate additive depending on the purpose. Examples of the additive include a corrosion inhibitor for preventing corrosion of metal nanowires, and a surfactant for preventing aggregation of metal nanowires. The type, number and amount of the additives used can be appropriately set according to the purpose. In addition, the composition for forming a transparent conductive layer may include any appropriate binder resin, if necessary, as long as the effects of the present invention can be obtained.

上記金属ナノワイヤーを含む透明導電層形成用組成物の塗布方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。塗布方法としては、例えば、スプレーコート、バーコート、ロールコート、ダイコート、インクジェットコート、スクリーンコート、ディップコート、凸版印刷法、凹版印刷法、グラビア印刷法等が挙げられる。   Any appropriate method can be adopted as a method of applying the composition for forming a transparent conductive layer containing the metal nanowires. Examples of the coating method include spray coating, bar coating, roll coating, die coating, inkjet coating, screen coating, dip coating, letterpress printing, intaglio printing, and gravure printing.

塗布層の乾燥方法としては、任意の適切な乾燥方法(例えば、自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥)が採用され得る。例えば、加熱乾燥の場合には、乾燥温度は代表的には100〜200℃の範囲内であり、乾燥時間は代表的には1〜10分の範囲内である。   As a method for drying the coating layer, any appropriate drying method (for example, natural drying, blast drying, and heat drying) can be adopted. For example, in the case of heat drying, the drying temperature is typically in the range of 100 to 200 ° C., and the drying time is typically in the range of 1 to 10 minutes.

上記透明導電層が金属ナノワイヤーを含む場合、前記透明導電層の厚さは、好ましくは0.01〜10μmの範囲内であり、より好ましくは0.05〜3μmの範囲内であり、特に好ましくは0.1〜1μmの範囲内である。このような範囲であれば、導電性及び光透過性に優れる透明導電フィルムを得ることができる。   When the transparent conductive layer contains metal nanowires, the thickness of the transparent conductive layer is preferably in the range of 0.01 to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 to 3 μm, and particularly preferably. Is in the range of 0.1 to 1 μm. Within such a range, a transparent conductive film having excellent conductivity and light transmittance can be obtained.

上記透明導電層が金属ナノワイヤーを含む場合、前記透明導電層の全光線透過率は、好ましくは85%以上であり、より好ましくは90%以上であり、さらに好ましくは95%以上である。   When the transparent conductive layer contains metal nanowires, the total light transmittance of the transparent conductive layer is preferably 85% or more, more preferably 90% or more, and even more preferably 95% or more.

[3−2]金属メッシュ
金属メッシュを含む透明導電層は、上記透明基材上に、金属細線が格子状のパターンに形成されてなる。上記金属メッシュを構成する金属としては、導電性の高い金属である限り、任意の適切な金属が用いられ得る。上記金属メッシュを構成する金属としては、例えば、銀、金、銅、ニッケル等が挙げられる。また、これらの金属にメッキ処理(例えば、金メッキ処理)を行った材料を用いてもよい。中でも好ましくは銅であり、マイグレーション現象が起こりにくく、打鍵時の断線抑制の観点からも好ましい。
[3-2] Metal mesh The transparent conductive layer including the metal mesh is formed by forming fine metal wires in a lattice pattern on the transparent substrate. Any appropriate metal can be used as the metal constituting the metal mesh as long as the metal has high conductivity. Examples of the metal constituting the metal mesh include silver, gold, copper, and nickel. Further, a material obtained by plating (for example, gold plating) on these metals may be used. Among them, copper is preferable, and the migration phenomenon does not easily occur, and is also preferable from the viewpoint of suppressing disconnection at the time of keying.

金属メッシュを含む透明導電層は、任意の適切な方法により形成させることができる。前記透明導電層は、例えば、銀塩を含む感光性組成物(透明導電層形成用組成物)を上記積層体上に塗布し、その後、露光処理及び現像処理を行い、金属細線を所定のパターンに形成することにより得ることができる。また、前記透明導電層は、金属微粒子を含むペースト(透明導電層形成用組成物)を所定のパターンに印刷して得ることもできる。   The transparent conductive layer including the metal mesh can be formed by any appropriate method. For the transparent conductive layer, for example, a photosensitive composition (composition for forming a transparent conductive layer) containing a silver salt is applied onto the laminate, and thereafter, an exposure treatment and a development treatment are performed to form a thin metal wire in a predetermined pattern. Can be obtained. Further, the transparent conductive layer can also be obtained by printing a paste containing fine metal particles (composition for forming a transparent conductive layer) in a predetermined pattern.

このような透明導電層及びその形成方法の詳細は、例えば、特開2012−18634号公報に記載されており、その記載は本明細書に参考として援用される。また、金属メッシュから構成される透明導電層及びその形成方法の別の例としては、特開2003−331654号公報に記載の透明導電層及びその形成方法が挙げられる。   Details of such a transparent conductive layer and a method for forming the same are described in, for example, JP-A-2012-18634, and the description is incorporated herein by reference. Another example of a transparent conductive layer formed of a metal mesh and a method of forming the same include a transparent conductive layer described in JP-A-2003-331654 and a method of forming the same.

上記透明導電層が金属メッシュを含む場合、前記透明導電層の厚さは、好ましくは0.1〜30μmの範囲内であり、より好ましくは0.1〜9μmの範囲内である。   When the transparent conductive layer includes a metal mesh, the thickness of the transparent conductive layer is preferably in the range of 0.1 to 30 μm, and more preferably in the range of 0.1 to 9 μm.

上記透明導電層が金属メッシュを含む場合、前記透明導電層の透過率は、好ましくは80%以上であり、より好ましくは85%以上であり、さらに好ましくは90%以上である。   When the transparent conductive layer includes a metal mesh, the transmittance of the transparent conductive layer is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and further preferably 90% or more.

〔4〕偏光子
偏光子は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、その例には、ポリビニルアルコール系偏光フィルムが含まれる。
[4] Polarizer A polarizer is an element that transmits only light having a polarization plane in a certain direction, and examples thereof include a polyvinyl alcohol-based polarizing film.

ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがある。   Polyvinyl alcohol-based polarizing films include those obtained by dyeing a polyvinyl alcohol-based film with iodine and those obtained by dyeing a dichroic dye.

偏光子は、ポリビニルアルコールフィルムを一軸延伸した後、染色するか又はポリビニルアルコールフィルムを染色した後、一軸延伸して、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理をさらに行って得ることができる。   The polarizer can be obtained by uniaxially stretching the polyvinyl alcohol film and then dyeing, or dyeing the polyvinyl alcohol film and then uniaxially stretching the film, and preferably further performing a durability treatment with a boron compound.

偏光子の膜厚は、5〜30μmの範囲内が好ましく、5〜15μmの範囲内であることがより好ましい。   The thickness of the polarizer is preferably in the range of 5 to 30 μm, and more preferably in the range of 5 to 15 μm.

ポリビニルアルコールフィルムとしては、特開2003−248123号公報、特開2003−342322号公報等に記載のエチレン単位の含有量1〜4モル%、重合度2000〜4000、ケン化度99.0〜99.99モル%のエチレン変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。また、特開2011−100161号公報、特許第4691205号公報、特許第4804589号公報に記載の方法で、偏光子を作製し本発明の基材フィルムと貼り合わせて偏光板を作製することが好ましい。   Examples of the polyvinyl alcohol film include a content of ethylene units of 1 to 4 mol%, a degree of polymerization of 2,000 to 4,000, and a degree of saponification of 99.0 to 99 described in JP-A-2003-248123, JP-A-2003-342322, and the like. .99 mol% of ethylene-modified polyvinyl alcohol is preferably used. In addition, it is preferable to produce a polarizer and bond it with the base film of the present invention to produce a polarizing plate by the methods described in JP 2011-100161 A, JP 4691205 A, and JP 4804589 A. .

〔5〕基材フィルムB
偏光子の基材フィルムAとは反対側に配置される基材フィルムBは、偏光子の保護フィルムとして機能するフィルムであることが好ましい。
[5] Base film B
The base film B disposed on the side opposite to the base film A of the polarizer is preferably a film that functions as a protective film for the polarizer.

このような保護フィルムとしては、基材フィルムAを用いてもよいが、例えば、市販のセルロースエステルフィルム(例えば、コニカミノルタタックKC8UX、KC5UX、KC4UX、KC8UCR3、KC4SR、KC4BR、KC4CR、KC4DR、KC4FR、KC4KR、KC8UY、KC6UY、KC4UY、KC4UE、KC8UE、KC8UY−HA、KC2UA、KC4UA、KC6UAKC、2UAH、KC4UAH、KC6UAH、以上コニカミノルタ(株)製、フジタックT40UZ、フジタックT60UZ、フジタックT80UZ、フジタックTD80UL、フジタックTD60UL、フジタックTD40UL、フジタックR02、フジタックR06、以上富士フイルム(株)製)を好ましく用いることができる。   As such a protective film, a base film A may be used. For example, commercially available cellulose ester films (for example, Konica Minoltack KC8UX, KC5UX, KC4UX, KC8UCR3, KC4SR, KC4BR, KC4CR, KC4DR, KC4FR, KC4U, Z60UZU, ZC60UZU, ZC60UZU, ZC60UZU, ZC60UZU, ZC80UZU, KC4UTA, KC4UTA , FUJITAC TD40UL, FUJITAC R02, FUJITAC R06, manufactured by FUJIFILM Corporation. That.

また、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート等の樹脂フィルム、脂環式ポリオレフィン(例えば日本ゼオン株式会社製、ゼオノア(登録商標)、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、シクロオレフィンコポリマー、ポリイミド(例えば三菱ガス化学株式会社製、ネオプリム(登録商標))、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、アクリロイル化合物等の樹脂フィルムが挙げられる(括弧内はガラス転移温度Tgを示す。)。これら樹脂基材のうち、コストや入手の容易性の点では、ポリエチレンテレフタレート(略称:PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート(略称:PEN)、ポリカーボネート(略称:PC)等のフィルムが可撓性の樹脂基材として好ましく用いられる。   Further, for example, resin films such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polycarbonate, alicyclic polyolefins (for example, ZEONOR (registered trademark), polyarylate, polyether sulfone, polysulfone, cycloolefin copolymer, polyimide (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) Examples thereof include resin films such as Neoprim (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc., fluorene ring-modified polycarbonate, alicyclic-modified polycarbonate, and acryloyl compounds (the parentheses indicate the glass transition temperature Tg). Among materials, in terms of cost and availability, polyethylene terephthalate (abbreviation: PET), polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate (abbreviation: PEN), polycarbonate (abbreviation: PC), etc. Film preferably used as the resin base material flexibility.

基材フィルムBの厚さは、特に制限されないが、10〜200μm程度とすることができ、好ましくは10〜100μmの範囲内であり、より好ましくは10〜70μmの範囲内である。   The thickness of the base film B is not particularly limited, but can be about 10 to 200 μm, preferably in the range of 10 to 100 μm, and more preferably in the range of 10 to 70 μm.

〔6〕その他の層
本発明の偏光板一体型タッチセンサーは、必要に応じて、任意の適切なその他の層を備え得る。上記その他の層としては、例えば、帯電防止層、アンチグレア層、反射防止層、カラーフィルター層等が挙げられる。
[6] Other Layers The polarizer-integrated touch sensor of the present invention may include any appropriate other layers as necessary. Examples of the other layers include an antistatic layer, an antiglare layer, an antireflection layer, and a color filter layer.

以下、上記その他の層以外について記載する。   Hereinafter, other layers than the above other layers will be described.

〔6−1〕接着層
接着層は、本発明の偏光板一体型タッチセンサーを構成する部材を適宜接着して積層体としたり、本発明の偏光板一体型タッチセンサーを表示装置に接合して、タッチパネル表示装置を形成するための構成層である。
[6-1] Adhesive Layer The adhesive layer is formed by appropriately bonding members constituting the polarizer-integrated touch sensor of the present invention to form a laminate, or by joining the polarizer-integrated touch sensor of the present invention to a display device. And constituent layers for forming a touch panel display device.

接着層としては、特に制限されず、例えば、ドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等のいずれもが用いられる。   The adhesive layer is not particularly limited, and for example, any of a dry laminating agent, a wet laminating agent, a pressure-sensitive adhesive, a heat sealing agent, a hot melt agent and the like are used.

粘着剤としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ニトリルゴム等が用いられる。ラミネート法は、特に制限されず、例えば、ロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。また、接着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常1〜100μm程度の範囲であることが好ましい。   As the adhesive, for example, a polyester resin, a urethane resin, a polyvinyl acetate resin, an acrylic resin, a silicone resin, a nitrile rubber, or the like is used. The lamination method is not particularly limited, and for example, it is preferable to perform the lamination continuously by a roll method from the viewpoint of economy and productivity. The thickness of the adhesive layer is usually preferably in the range of about 1 to 100 μm from the viewpoint of the adhesive effect, the drying speed, and the like.

なお、偏光板一体型タッチセンサーは、他方の面に剥離シートを備えていてもよい。   Note that the polarizing plate integrated touch sensor may include a release sheet on the other surface.

剥離シートとしては、接着層の粘着性を保護することができるものであればよく、例えば、アクリルフィルム又はシート、ポリカーボネートフィルム又はシート、ポリアリレートフィルム又はシート、ポリエチレンナフタレートフィルム又はシート、ポリエチレンテレフタレートフィルム又はシート、フッ素フィルムなどのプラスチックフィルム又はシート、又は酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルム又はシート、これらを練り込んだ樹脂にコーティングを施したりアルミニウム等の金属を金属蒸着したりなどの表面加工を施した樹脂フィルム又はシートが用いられる。   The release sheet may be any as long as it can protect the adhesiveness of the adhesive layer. For example, an acrylic film or sheet, a polycarbonate film or sheet, a polyarylate film or sheet, a polyethylene naphthalate film or sheet, a polyethylene terephthalate film Or a sheet, a plastic film or sheet such as a fluorine film, or a resin film or sheet into which titanium oxide, silica, aluminum powder, copper powder, or the like has been kneaded, or coating a resin into which these have been kneaded, or applying a metal such as aluminum to a metal. A resin film or sheet subjected to surface processing such as vapor deposition is used.

剥離シートの厚さは、特に制限されないが、通常12〜250μmの範囲内であることが好ましい。   The thickness of the release sheet is not particularly limited, but is preferably in the range of usually 12 to 250 μm.

〔7〕タッチパネル表示装置
本発明の偏光板一体型タッチセンサーは、図1Bで示すように液晶表示パネルに接着層を介して貼合されることで、タッチパネル表示装置を作製することができる。
[7] Touch Panel Display Device As shown in FIG. 1B, the touch sensor with integrated polarizing plate of the present invention can be manufactured as a touch panel display device by being bonded to a liquid crystal display panel via an adhesive layer.

以下、本発明について実施例及び比較例を用いて具体的に説明する。本実施例の偏光板一体型タッチセンサーは、図1Aに示す実施態様に、ハードコート層3を加えたものである。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. The touch sensor integrated with a polarizing plate of this embodiment is obtained by adding a hard coat layer 3 to the embodiment shown in FIG. 1A.

実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において、特記しない限り、操作は室温(25℃)で行われた。また、特記しない限り、「%」又は「部」は、それぞれ、「質量%」又は「質量部」を意味する。   The present invention will be described specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these. In the examples, unless otherwise specified, the operation was performed at room temperature (25 ° C.). Unless otherwise specified, “%” or “parts” means “% by mass” or “parts by mass”, respectively.

<実施例で用いる化合物>
1H−ピロール :分子量67、吸水率0.05%
インドール1(インドール):分子量117、吸水率0.05%
インドール2(インドール−3−アセトアルドキシムN−オキシド)
:分子量190、吸水率0.06%
ビリルビン :分子量585、吸水率0.30%
ポルフィリン1(21H,23H−ポルフィン)
:分子量310、吸水率1.0%
ポルフィリン2(プロトポルフィリン)
:分子量2738、吸水率0.06%
トリプトファン :分子量204、吸水率3.00
ポリプロピレン :重量平均分子量20万、吸水率0.01%
66ナイロン :重量平均分子量2.5万、吸水率3.5%
なお、吸水率は、添加剤のJIS K 7209の(A法)に準じて下記式(1)より求められた。
<Compounds used in Examples>
1H-pyrrole: molecular weight 67, water absorption 0.05%
Indole 1 (indole): molecular weight 117, water absorption 0.05%
Indole 2 (indole-3-acetoaldoxime N-oxide)
: Molecular weight 190, water absorption 0.06%
Bilirubin: molecular weight 585, water absorption 0.30%
Porphyrin 1 (21H, 23H-porphine)
: Molecular weight 310, water absorption 1.0%
Porphyrin 2 (protoporphyrin)
: Molecular weight 2738, water absorption 0.06%
Tryptophan: molecular weight 204, water absorption 3.00
Polypropylene: weight average molecular weight 200,000, water absorption 0.01%
66 nylon: weight average molecular weight 25,000, water absorption 3.5%
The water absorption was determined by the following formula (1) according to the method (A) of JIS K 7209 of the additive.

式(1) 吸水率={(w−w)/w}×100(%)
(式中、wは水に浸漬する前の添加剤の乾燥質量(mg)であり、wは23.0±1.0℃の水に24±1時間浸漬した後の添加剤の質量(mg)である。)
実施例1
<基材フィルムA(シクロオレフィン重合体フィルム)101の作製>
(シクロオレフィン重合体1の合成)
シクロオレフィン単量体(一般式(A−1))の例示化合物11を100質量部、分子量調節剤である1−ヘキセン3.6質量部とトルエン200質量部を、窒素置換した反応容器に仕込み、80℃に加熱した。これに、重合触媒としてトリエチルアルミニウム((CAl)1.5モル/Lのトルエン溶液 0.17質量部と、t−ブタノール及びメタノールで変性した六塩化タングステン(WCl)を変性し、t−ブタノールとメタノール及びタングステンのモル比が0.35:0.3:1とされたWCl溶液(濃度0.05モル/L)1.0質量部を加え、80℃で3時間加熱撹拌することにより開環重合反応させて重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は96%であった。
Formula (1) Water absorption = {(w 2 −w 1 ) / w 1 } × 100 (%)
(Wherein, w 1 is the dry mass (mg) of the additive before immersion in water, and w 2 is the mass of the additive after immersion in water at 23.0 ± 1.0 ° C. for 24 ± 1 hour. (Mg).)
Example 1
<Preparation of base film A (cycloolefin polymer film) 101>
(Synthesis of cycloolefin polymer 1)
100 parts by mass of Exemplified Compound 11 of a cycloolefin monomer (general formula (A-1)), 3.6 parts by mass of 1-hexene as a molecular weight regulator and 200 parts by mass of toluene were charged into a reaction vessel purged with nitrogen. , Heated to 80 ° C. Thereto, and triethylaluminum ((C 2 H 5) 3 Al) solution in toluene 0.17 parts by mass of 1.5 mol / L as a polymerization catalyst, tungsten hexachloride modified with t- butanol and methanol (WCl 6) Then, 1.0 part by mass of a modified WCl 6 solution (concentration: 0.05 mol / L) having a molar ratio of t-butanol to methanol and tungsten of 0.35: 0.3: 1 was added. A ring-opening polymerization reaction was carried out by heating and stirring for an hour to obtain a polymer solution. The polymerization conversion in this polymerization reaction was 96%.

得られた重合体溶液の4000質量部をオートクレーブに入れ、これの重合体溶液にRuHCl(CO)[P(Cを0.48部加え、水素ガス圧を10MPa、反応温度160℃の条件で3時間加熱撹拌して水素添加反応を行った。4000 parts by mass of the obtained polymer solution was put into an autoclave, and 0.48 parts of RuHCl (CO) [P (C 6 H 5 ) 3 ] 3 was added to the polymer solution, and the reaction was carried out at a hydrogen gas pressure of 10 MPa. The mixture was heated and stirred at a temperature of 160 ° C. for 3 hours to perform a hydrogenation reaction.

得られた反応溶液を冷却した後、水素ガスを放圧し、この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収した。回収した凝固物を乾燥して、シクロオレフィン重合体1を得た。
(微粒子添加液の作製)
微粒子(アエロジルR812:日本アエロジル株式会社製、一次平均粒子径:7nm、見掛け比重50g/L) 4質量部
ジクロロメタン 48質量部
エタノール 48質量部
以上をディゾルバーで50分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。
After cooling the obtained reaction solution, the pressure of hydrogen gas was released, and the reaction solution was poured into a large amount of methanol to separate and collect a coagulated product. The collected coagulated product was dried to obtain cycloolefin polymer 1.
(Preparation of fine particle addition liquid)
Fine particles (Aerosil R812: manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., primary average particle size: 7 nm, apparent specific gravity 50 g / L) 4 parts by mass Dichloromethane 48 parts by mass Ethanol 48 parts by mass After stirring and mixing with a dissolver for 50 minutes, and then dispersing with Manton-Gaulin. Was done.

さらに、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線(株)製のファインメットNFで濾過し、微粒子添加液を調製した。   Further, dispersion was performed with an attritor so that the particle size of the secondary particles became a predetermined size. This was filtered with Finemet NF manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd. to prepare a liquid containing fine particles.

次いで、下記組成の主ドープ1を調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドを400kg/minの流量とエタノールを20kg/minの流量で添加した。溶媒の添加開始から3分後に、前記加圧溶解タンクに、シクロオレフィン重合体1を200kg/minの流量で撹拌しながら投入した。次いで、溶媒投入開始後5分後に、1H−ピロールを投入して、さらに溶媒投入開始後15分後に、微粒子添加液を投入して、これを80℃に加熱し、撹拌しながら、完全に溶解した。加熱温度は室温から5℃/minで昇温し、30分間で溶解した後、3℃/minで降温した。   Next, a main dope 1 having the following composition was prepared. First, methylene chloride was added to the pressure dissolution tank at a flow rate of 400 kg / min and ethanol at a flow rate of 20 kg / min. Three minutes after the start of the addition of the solvent, the cycloolefin polymer 1 was charged into the pressure dissolution tank while stirring at a flow rate of 200 kg / min. Next, 5 minutes after the start of the introduction of the solvent, 1H-pyrrole was introduced, and further, 15 minutes after the start of the introduction of the solvent, the liquid for adding fine particles was introduced, and the mixture was heated to 80 ° C. and completely dissolved while stirring. did. The heating temperature was increased from room temperature at 5 ° C./min, dissolved for 30 minutes, and then decreased at 3 ° C./min.

ドープ粘度は10000CPであり、含水率は0.50%であった。これを安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244(濾過精度0.005mm)を使用して濾過流量300L/m2・h、濾圧1.0×10Paにて濾過し、主ドープ1を調製した。The dope viscosity was 10,000 CP, and the water content was 0.50%. Azumi filter paper No. No. manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd. The main dope 1 was prepared using 244 (filtration accuracy 0.005 mm) at a filtration flow rate of 300 L / m 2 · h and a filtration pressure of 1.0 × 10 6 Pa.

〈主ドープ1の組成〉
シクロオレフィン重合体1 100質量部
1H−ピロール 3質量部
メチレンクロライド 200質量部
エタノール 10質量部
微粒子添加液 3質量部
以上を密閉されている主溶解釜に投入し、撹拌しながら溶解してドープを調製した。
<Composition of main dope 1>
Cycloolefin polymer 1 100 parts by mass 1H-pyrrole 3 parts by mass Methylene chloride 200 parts by mass Ethanol 10 parts by mass Fine particle additive liquid 3 parts by mass The above is charged into a closed main dissolving vessel, and dissolved with stirring to obtain a dope. Prepared.

調製したドープを、ステンレス製無端支持体(ベルト)上で、流量710L/hrで流延(キャスト)した。その際、流延端部のジクロロメタンを滴下しながら流延を行った。   The prepared dope was cast on a stainless steel endless support (belt) at a flow rate of 710 L / hr. At that time, casting was performed while dropping dichloromethane at the casting end.

乾燥温度30℃にて、流延したウェブ中の残留溶媒量が30質量%になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力130N/mで、ステンレス製無端支持体上から剥離した。剥離したウェブを乾燥しながら残留溶媒量を5質量%に調整し、次いで、テンター乾燥ゾーンを多数のローラーで、搬送張力は100N/mとし、温度140℃で20分間搬送させながら乾燥をさせ、膜厚43μmの原反フィルムを作製した。   At a drying temperature of 30 ° C., the solvent was evaporated until the amount of the residual solvent in the cast web became 30% by mass, and then peeled off from the stainless steel endless support at a peeling tension of 130 N / m. The residual solvent amount was adjusted to 5% by mass while drying the peeled web, and then the tenter drying zone was dried while being transported at a temperature of 140 ° C. for 20 minutes at a transport tension of 100 N / m with a number of rollers, An original film having a thickness of 43 μm was produced.

前記原反フィルムを搬送させ、図4Aの装置を用いて175℃の熱をかけながらフィルム搬送方向に対して45°方向に1.5倍延伸し、本発明の基材フィルムA(シクロオレフィン重合体フィルム)101を得た。基材フィルム101の膜厚は25μmであった。   The raw film is transported, stretched 1.5 times in the direction of 45 ° with respect to the film transport direction while applying heat of 175 ° C. using the apparatus of FIG. (Combined film) 101 was obtained. The thickness of the base film 101 was 25 μm.

<基材フィルムA102の作製>
基材フィルムA101で作製した、主ドープ1のピロールをインドール1にした以外は基材フィルムA101と同様にして、本発明の基材フィルムA102を得た。
<Preparation of base film A102>
A base film A102 of the present invention was obtained in the same manner as the base film A101, except that indole 1 was used for the pyrrole of the main dope 1 prepared with the base film A101.

<基材フィルムA103の作製>
基材フィルムA102で作製した、主ドープ1のインドール1をインドール2にし、流延支持体の乾燥温度を35℃にした以外は基材フィルムA102と同様にして、本発明の基材フィルムA103を得た。
<Preparation of base film A103>
The base film A103 of the present invention was prepared in the same manner as the base film A102 except that the indole 1 of the main dope 1 prepared in the base film A102 was changed to the indole 2, and the drying temperature of the casting support was changed to 35 ° C. Obtained.

<基材フィルムA104の作製>
基材フィルムA102で作製した、主ドープ1のインドール1をビリルビンにし、流延支持体の乾燥温度を35℃にした以外は基材フィルムA102と同様にして、本発明の基材フィルムA104を得た。
<Preparation of base film A104>
The base film A104 of the present invention was obtained in the same manner as the base film A102 except that the indole 1 of the main dope 1 prepared in the base film A102 was changed to bilirubin, and the drying temperature of the casting support was changed to 35 ° C. Was.

<基材フィルムA105の作製>
基材フィルムA102で作製した、主ドープ1のインドール1をポルフィリン1にし、流延支持体の乾燥温度を40℃にした以外は基材フィルムA102と同様にして、本発明の基材フィルムA105を得た。
<Preparation of base film A105>
The base film A105 of the present invention was prepared in the same manner as the base film A102 except that the indole 1 of the main dope 1 prepared with the base film A102 was changed to porphyrin 1 and the drying temperature of the casting support was set to 40 ° C. Obtained.

<基材フィルムA106の作製>
基材フィルムA102で作製した、主ドープ1のインドール1をポルフィリン2にし、流延支持体の乾燥温度を40℃にした以外は基材フィルムA102と同様にして、本発明の基材フィルムA106を得た。
<Preparation of base film A106>
The base film A106 of the present invention was prepared in the same manner as the base film A102 except that the indole 1 of the main dope 1 prepared in the base film A102 was changed to porphyrin 2 and the drying temperature of the casting support was set to 40 ° C. Obtained.

<基材フィルムA107の作製>
基材フィルムA102で作製した、主ドープ1のインドール1をトリプトファンにし、流延支持体の乾燥温度を45℃にした以外は基材フィルムA102と同様にして、本発明の基材フィルムA107を得た。
<Preparation of base film A107>
The base film A107 of the present invention was obtained in the same manner as the base film A102, except that the indole 1 of the main dope 1 prepared with the base film A102 was changed to tryptophan, and the drying temperature of the casting support was changed to 45 ° C. Was.

<基材フィルムA108の作製>
基材フィルムA102で作製した、主ドープ1のインドール1をポリプロピレンにし、流延支持体の乾燥温度を30℃にした以外は基材フィルムA102と同様にして、比較例の基材フィルムA108を得た。
<Preparation of base film A108>
A base film A108 of a comparative example was obtained in the same manner as the base film A102 except that the indole 1 of the main dope 1 made of the base film A102 was made of polypropylene and the drying temperature of the casting support was set at 30 ° C. Was.

<基材フィルムA109の作製>
基材フィルムA102で作製した、主ドープ1のインドール1を66ナイロンにし、流延支持体の乾燥温度を50℃にした以外は基材フィルムA102と同様にして、比較例の基材フィルムA109を得た。
<Preparation of base film A109>
The base film A109 of Comparative Example was prepared in the same manner as the base film A102 except that the indole 1 of the main dope 1 made of the base film A102 was made of 66 nylon and the drying temperature of the casting support was set at 50 ° C. Obtained.

<基材フィルムA110〜114の作製>
基材フィルムA105の作製において、延伸倍率を表1記載のように変化させて、面内位相差値Roを表1に記載の値に変化させて、基材フィルムA110〜114を得た。
<Preparation of base film A110-114>
In the production of the base film A105, the stretch ratio was changed as shown in Table 1, and the in-plane retardation value Ro was changed to the value shown in Table 1, to obtain base films A110 to 114.

<基材フィルムA101〜114上へのハードコート層の塗設>
次いで、前記基材フィルムA101〜114の片面にマイクログラビアを用いてアクリル酸エステル及びアモルファスシリカを主成分とした紫外線硬化型樹脂(JSR社製オプスターZ7527)及び界面活性剤(AGCセイミケミカル社製サーフロンS−651)を含有したハードコート層形成用塗布液を、乾燥後膜厚0.7μmになるように塗布し、乾燥した。
<Coating of Hard Coat Layer on Base Films A101 to A114>
Then, on one side of the base films A101 to 114, using a microgravure, an ultraviolet-curing resin (OPSTAR Z7527 manufactured by JSR Corporation) and a surfactant (Surflon manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd.) containing acrylate and amorphous silica as main components. The coating liquid for forming a hard coat layer containing S-651) was applied to a thickness of 0.7 μm after drying, and dried.

次いで、高圧水銀ランプを使用して、大気下で前記塗膜に光量270mJ/cmで紫外線照射して硬化し、ハードコート層を片面に形成した。Next, the coating film was irradiated with ultraviolet light at a light intensity of 270 mJ / cm 2 in the atmosphere using a high-pressure mercury lamp and cured to form a hard coat layer on one side.

<透明導電層の作製>>
銀ナノワイヤーは、Y.Sun、B.Gates、B.Mayers、& Y.Xia,“Crystalline silver nanowires by soft solution processing” 、Nano letters 、(2002) 、2(2) 165〜168に記載されるポリオールを用いた方法の後、ポリビニルピロリドン(PVP)の存在下で、エチレングリコールに硫酸銀を溶解し、これを還元することによって合成されたナノワイヤーである。すなわち本発明においてはCambrios Technologies Corporation 米国仮出願第60/815,627号に記載される修正されたポリオール方法によって、合成されたナノワイヤーを用いた。
<Preparation of transparent conductive layer>
Silver nanowires are available from Y. Sun, B .; Gates, B .; Mayers, & Y. Xia, "Crystalline silver nanowires by solution processing", Nano Letters, (2002), 2 (2) After the method using a polyol, in the presence of glycol in the presence of polyvinylpyrrolidone (PVP). This is a nanowire synthesized by dissolving silver sulfate in water and reducing it. That is, the present invention used nanowires synthesized by the modified polyol method described in Cambrios Technologies Corporation, US Provisional Application No. 60 / 815,627.

透明導電層を形成する金属ナノワイヤーとして、上記方法で合成された短軸径約70〜80nm、アスペクト比100以上の銀ナノワイヤーを水性媒体中に0.5w%/v含有する銀ナノワイヤー水分散体組成物(Cambrios Technologies Corporation社製 ClearOhmTM, Ink−A AQ)を、スロットダイ塗工機を使用し、基材フィルムA101〜106のハードコート層上に乾燥後膜厚が1.5μmになるように塗布、乾燥した後に、圧力2000kN/mで加圧処理を行い、透明導電層を形成した。As a metal nanowire forming a transparent conductive layer, a silver nanowire water containing a silver nanowire synthesized by the above method and having a minor axis diameter of about 70 to 80 nm and an aspect ratio of 100 or more in an aqueous medium is 0.5 w% / v. The thickness of the dispersion composition (ClearOhmTM, Ink-A AQ manufactured by Cambrios Technologies Corporation) is dried to 1.5 μm on a hard coat layer of the base films A101 to 106 using a slot die coater using a slot die coater. After coating and drying as described above, a pressure treatment was performed at a pressure of 2000 kN / m 2 to form a transparent conductive layer.

<偏光板及び偏光板一体型タッチセンサーの作製>
厚さ80μmのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して5倍に延伸し、乾燥して厚さ20μmの偏光子を得た。
<Preparation of polarizing plate and touch sensor with integrated polarizing plate>
A roll-shaped polyvinyl alcohol film having a thickness of 80 μm was continuously stretched 5 times in an aqueous iodine solution and dried to obtain a polarizer having a thickness of 20 μm.

次いで、上記作製した偏光子を、前記作製した基材フィルムA101〜114の透明導電層を設けた側と反対側の面と、基材フィルムBとしてコニカミノルタタックKC4UA(コニカミノルタ(株)製)とで挟持して、下記紫外線硬化型接着剤液を介して、接着し偏光板一体型タッチセンサー101〜114を作製した。   Next, the above-prepared polarizer was used as the base film A101-114, and the surface opposite to the side on which the transparent conductive layer was provided, and the base film B as Konica Minolta Tack KC4UA (manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.) And bonded together via the following ultraviolet-curable adhesive solution to produce the polarizing plate integrated touch sensors 101 to 114.

その際、偏光子の吸収軸と基材フィルムAの遅相軸とが45°になるように貼合し、円偏光板を形成した。   At that time, lamination was performed so that the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the base film A were at 45 ° to form a circularly polarizing plate.

〔紫外線硬化型接着剤液1の調製〕
下記の各成分を混合した後、脱泡して、紫外線硬化型接着剤液1を調製した。なお、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートは、50%プロピレンカーボネート溶液として配合し、下記にはトリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートの固形分量を表示した。
[Preparation of UV-curable adhesive liquid 1]
After mixing the following components, the mixture was defoamed to prepare an ultraviolet-curable adhesive liquid 1. The triarylsulfonium hexafluorophosphate was blended as a 50% propylene carbonate solution, and the solid content of the triarylsulfonium hexafluorophosphate is shown below.

3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート 45質量部
エポリードGT−301(ダイセル社製の脂環式エポキシ樹脂) 40質量部
1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル 15質量部
トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート 2.3質量部
9,10−ジブトキシアントラセン 0.1質量部
1,4−ジエトキシナフタレン 2.0質量部
なお、偏光板作製は、基材フィルムA及びBの表面に、コロナ出力強度2.0kW、ライン速度18m/分でコロナ放電処理を施し、コロナ放電処理面に、上記調製した紫外線硬化型接着剤液1を、硬化後の膜厚が約3μmとなるようにバーコーターで塗工して紫外線硬化型接着剤層を形成した。
3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate 45 parts by mass Eporide GT-301 (alicyclic epoxy resin manufactured by Daicel) 40 parts by mass 1,4-butanediol diglycidyl ether 15 parts by mass Tria Reel sulfonium hexafluorophosphate 2.3 parts by mass 9,10-dibutoxyanthracene 0.1 parts by mass 2.0 parts by mass 1,4-diethoxynaphthalene 2.0 parts by mass A corona discharge treatment is performed at a corona output intensity of 2.0 kW and a line speed of 18 m / min. The ultraviolet curable adhesive liquid 1 prepared above is coated on the corona discharge treated surface so that the film thickness after curing becomes about 3 μm. Coating was performed with a bar coater to form an ultraviolet-curable adhesive layer.

上記偏光板は基材フィルムB側から、ベルトコンベヤー付き紫外線照射装置(ランプは、フュージョンUVシステムズ社製のDバルブを使用)を用いて、積算光量が750mJ/cmとなるように紫外線を照射し、紫外線硬化型接着剤層を硬化させた。The polarizing plate is irradiated with ultraviolet light from the base film B side using an ultraviolet irradiation device with a belt conveyor (the lamp uses a D bulb manufactured by Fusion UV Systems) so that the integrated light amount becomes 750 mJ / cm 2. Then, the ultraviolet curable adhesive layer was cured.

≪評価≫
〔1〕基材フィルムAの添加剤の分布測定
基材フィルムA中の添加剤の分布測定は以下の飛行時間二次イオン質量分析法(Time−Of−Flight Secondary Ion Mass Spectrometry:TOF−SIMS)分析法によってフィルム表面から厚さ方向で1μm内部までの添加剤の濃度を定量化した。
≪Evaluation≫
[1] Distribution Measurement of Additives of Base Film A The distribution of additives in the base film A is measured by the following time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS). The concentration of the additive from the film surface to the inside of 1 μm in the thickness direction was quantified by an analytical method.

〈測定法〉
装置としては、フィジカルエレクトロニクス(Physical Electronics)社製 TFS−2100を使用し、温度23℃、湿度55%RH下で測定した。
<Measurement method>
As the device, TFS-2100 manufactured by Physical Electronics was used, and the measurement was performed at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 55% RH.

TOF−SIMS分析法を用いて検出される添加剤の検出量が多い面(例えば、表面(A:Air面))の濃度をdA、添加剤の検出量が少ない面(例えば、表面(B:Belt面))の濃度をdBとし、比率dA/dB値を求めた。   The concentration of a surface (for example, surface (A: Air surface)) where the amount of the additive detected is large using the TOF-SIMS analysis method (for example, the surface (A: Air surface)) is dA, and the surface where the amount of the additive detected is small (for example, the surface (B: Belt surface)) was defined as the density, and the ratio dA / dB value was determined.

基材フィルムAの場合は、いずれも、前記ドープを流延支持体に流延したときに、Air面側となる表面の添加剤の濃度が、Belt面側になる表面の添加剤の濃度よりも高いことを確認した。   In the case of the base film A, when the dope is cast on a casting support, the concentration of the additive on the surface on the Air surface side is higher than the concentration of the additive on the surface on the Belt surface side. Confirmed that it is also high.

〔2〕面内位相差値Roの測定
基材フィルムAの面内位相差値Roは、自動複屈折率計アクソスキャン(Axo Scan Mueller Matrix Polarimeter:アクソメトリックス社製)を用いて、23℃・55%RHの環境下、590nmの光波長において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率nx、ny、nzから、下記式(i)によって算出した。
[2] Measurement of in-plane retardation value Ro The in-plane retardation value Ro of the base film A was measured at 23 ° C. using an automatic birefringence meter Axoscan (Axo Scan Mueller Matrix Polarimeter: manufactured by Axometrics). In an environment of 55% RH, a three-dimensional refractive index was measured at a light wavelength of 590 nm, and calculated from the obtained refractive indices nx, ny, and nz by the following equation (i).

式(i):Ro=(n−n)×d(nm)
〔式(i)において、nは、フィルムの面内方向において屈折率が最大になる方向xにおける屈折率を表す。nは、フィルムの面内方向において、前記方向xと直交する方向yにおける屈折率を表す。dは、フィルムの厚さ(nm)を表す。〕
〔3〕タッチセンサー感度の測定
上記作製した偏光板一体型タッチセンサー101〜114を、室温及び温度80℃・90%RHの環境下にそれぞれ1hrずつ放置することを100回繰り返した。
Formula (i): Ro = (n x -n y) × d (nm)
In [Equation (i), n x represents a refractive index in the direction x in which the refractive index is maximized in the plane direction of the film. n y, in-plane direction of the film, the refractive index in the direction y perpendicular to the direction x. d represents the thickness (nm) of the film. ]
[3] Measurement of Touch Sensor Sensitivity Each of the above-prepared touch sensors 101 to 114 with a polarizing plate was left at room temperature and in an environment of 80 ° C. and 90% RH for 1 hour, and was repeated 100 times.

その後、タッチセンサーの感度評価を行い、以下の基準で評価した。   Thereafter, the sensitivity of the touch sensor was evaluated and evaluated according to the following criteria.

○: 0.1secのタッチを100回行い、100回検知
×: 0.1secのタッチを100回行い、99回以下検知
基材フィルムAの構成及び各項目についての評価結果を表1に示す。
:: Touch of 0.1 sec was performed 100 times and detected 100 times ×: Touch of 0.1 sec was performed 100 times and detected 99 times or less Table 1 shows the configuration of the base film A and the evaluation results for each item.

Figure 0006669083
Figure 0006669083

表1の結果から、本発明の基材フィルムA101〜107、111〜113は、本発明のフィルム表裏面での収縮差の効果を発現し、偏光板の変形を抑制することから、強制劣下試験後のセンサー感度に優れていることが分かる。   From the results in Table 1, the base films A101 to 107 and 111 to 113 of the present invention exhibit the effect of the difference in shrinkage between the front and back surfaces of the film of the present invention, and suppress deformation of the polarizing plate. It can be seen that the sensor sensitivity after the test is excellent.

実施例2
実施例1で作製した基材フィルムA105において、シクロオレフィン重合体1の代わりに下記シクロオレフィン重合体2を用い、さらに流延支持体の乾燥温度を、表2記載の温度にそれぞれ変えて、Air面(dA)/Belt面(dB)の添加剤濃度比率(dA/dB)を表2記載のように変化させた以外は同様にして、基材フィルムA201〜206を作製した。
Example 2
In the base film A105 produced in Example 1, the following cycloolefin polymer 2 was used in place of the cycloolefin polymer 1, and the drying temperature of the casting support was changed to the temperature shown in Table 2, and the air was dried. Base films A201 to 206 were prepared in the same manner except that the additive concentration ratio (dA / dB) of the surface (dA) / Belt surface (dB) was changed as shown in Table 2.

(シクロオレフィン重合体2の合成)
シクロオレフィン単量体(一般式(A−2))の例示化合物28を100部、分子量調節剤である1−ヘキセン3.6部とトルエン200部を、窒素置換した反応容器に仕込み、80℃に加熱した。これに、重合触媒としてトリエチルアルミニウム((CAl)1.5モル/Lのトルエン溶液0.17部と、t−ブタノール及びメタノールで変性した六塩化タングステン(WCl)を変性し、t−ブタノールとメタノール及びタングステンのモル比が0.35:0.3:1とされたWCl溶液(濃度0.05モル/L)1.0部を加え、80℃で3時間加熱撹拌することにより開環重合反応させて重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は98%であった。
(Synthesis of cycloolefin polymer 2)
100 parts of Exemplified Compound 28 of a cycloolefin monomer (general formula (A-2)), 3.6 parts of 1-hexene as a molecular weight regulator and 200 parts of toluene were charged into a nitrogen-purged reaction vessel, and the mixture was heated at 80 ° C. Heated. Modified to, triethylaluminum ((C 2 H 5) 3 Al) 1.5 mol / toluene solution 0.17 parts of L as a polymerization catalyst, tungsten hexachloride modified with t- butanol and methanol (WCl 6) Then, 1.0 part of a WCl 6 solution (concentration: 0.05 mol / L) having a molar ratio of t-butanol to methanol and tungsten of 0.35: 0.3: 1 was added, and the mixture was heated at 80 ° C. for 3 hours. A ring-opening polymerization reaction was performed by stirring to obtain a polymer solution. The polymerization conversion in this polymerization reaction was 98%.

得られた重合体溶液の4000部をオートクレーブに入れ、これの重合体溶液にRuHCl(CO)[P(Cを0.48部加え、水素ガス圧を10MPa、反応温度160℃の条件で3時間加熱撹拌して水素添加反応を行った。4000 parts of the obtained polymer solution was put into an autoclave, 0.48 parts of RuHCl (CO) [P (C 6 H 5 ) 3 ] 3 was added to the polymer solution, the hydrogen gas pressure was increased to 10 MPa, and the reaction temperature was increased. The mixture was heated and stirred at 160 ° C. for 3 hours to carry out a hydrogenation reaction.

得られた反応溶液を冷却した後、水素ガスを放圧し、この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収した。回収した凝固物を乾燥して、シクロオレフィン重合体2を得た。   After cooling the obtained reaction solution, the pressure of the hydrogen gas was released, and the reaction solution was poured into a large amount of methanol to separate and collect a coagulated product. The collected coagulated product was dried to obtain a cycloolefin polymer 2.

次いで、作製した基材フィルムA201〜206を用いて、実施例1と同様にして偏光板一体型タッチセンサーを作製し、実施例1と同様な評価を行った。   Next, a polarizing plate integrated touch sensor was produced in the same manner as in Example 1 using the produced base films A201 to 206, and the same evaluation as in Example 1 was performed.

評価結果を下記表2に示す。   The evaluation results are shown in Table 2 below.

Figure 0006669083
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表2の結果から、本発明の基材フィルムA202〜206は、強制劣下試験後のセンサー感度に優れていることが分かる。   From the results in Table 2, it can be seen that the base films A202 to 206 of the present invention have excellent sensor sensitivity after the forced degradation test.

実施例3
実施例1で作製した基材フィルムA105において、シクロオレフィン重合体1の代わりに下記シクロオレフィン重合体3を用い、さらにポルフィリン1の添加量を、表3記載の量にそれぞれ変えた以外は同様にして、基材フィルムA301〜307を作製した。
Example 3
In the base film A105 produced in Example 1, the following cycloolefin polymer 3 was used in place of the cycloolefin polymer 1, and the amount of porphyrin 1 was changed in the same manner except that the amount of porphyrin 1 was changed to the amount shown in Table 3. Thus, base films A301 to A307 were produced.

(シクロオレフィン重合体3の合成)
シクロオレフィン単量体(一般式(A−1))の例示化合物5を50部と、シクロオレフィン単量体(一般式(A−2))の例示化合物28を200部と、分子量調整剤として1−ヘキセン18部と、トルエン750部とを窒素置換した反応容器に仕込み、60℃に加熱した。これに、重合触媒としてトリエチルアルミニウム((CAl)1.5モル/Lのトルエン溶液0.62部と、t−ブタノール及びメタノールで変性した六塩化タングステン(WCl)を変性し、t−ブタノールとメタノール及びタングステンのモル比が0.35:0.3:1とされたWCl溶液(濃度0.05モル/L)5.1部を加え、80℃で3時間加熱撹拌することにより開環共重合反応させて開環共重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は97%であった。
(Synthesis of cycloolefin polymer 3)
50 parts of Exemplified Compound 5 of cycloolefin monomer (general formula (A-1)), 200 parts of Exemplified Compound 28 of cycloolefin monomer (general formula (A-2)), and as a molecular weight regulator A reaction vessel in which 18 parts of 1-hexene and 750 parts of toluene had been replaced with nitrogen was charged and heated to 60 ° C. Modified to, triethylaluminum ((C 2 H 5) 3 Al) 1.5 mol / toluene solution 0.62 parts of L as a polymerization catalyst, tungsten hexachloride modified with t- butanol and methanol (WCl 6) Then, 5.1 parts of a WCl 6 solution (concentration: 0.05 mol / L) having a molar ratio of t-butanol, methanol and tungsten of 0.35: 0.3: 1 was added, and heated at 80 ° C. for 3 hours. The ring-opening copolymerization reaction was performed by stirring to obtain a ring-opening copolymer solution. The polymerization conversion in this polymerization reaction was 97%.

得られた開環共重合体溶液4000部をオートクレーブに入れ、この共重合体溶液にRuHCl(CO)[P(Cを0.48部加え、水素ガス圧10MPa、反応温度165℃の条件下で3時間加熱撹拌して水素添加反応を行った。4000 parts of the obtained ring-opening copolymer solution was put into an autoclave, 0.48 parts of RuHCl (CO) [P (C 6 H 5 ) 3 ] 3 was added to the copolymer solution, and the reaction was conducted under a hydrogen gas pressure of 10 MPa. The mixture was heated and stirred at a temperature of 165 ° C. for 3 hours to carry out a hydrogenation reaction.

得られた反応溶液を冷却した後、水素ガスを放圧し、この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収した。回収した凝固物を乾燥して、シクロオレフィン重合体3を得た。   After cooling the obtained reaction solution, the pressure of the hydrogen gas was released, and the reaction solution was poured into a large amount of methanol to separate and collect a coagulated product. The collected coagulated product was dried to obtain cycloolefin polymer 3.

次いで、作製した基材フィルムA301〜307を用いて、実施例1と同様にして偏光板一体型タッチセンサーを作製し、実施例1と同様な評価を行った。   Next, a polarizing plate integrated touch sensor was manufactured in the same manner as in Example 1 using the manufactured base films A301 to 307, and the same evaluation as in Example 1 was performed.

評価結果を下記表3に示す。   The evaluation results are shown in Table 3 below.

Figure 0006669083
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表3の結果から、ポルフィリンの添加量が3.0〜5.0質量%である本発明の基材フィルムA303〜305は、特に強制劣下試験後のセンサー感度に優れていることが分かる。   From the results in Table 3, it is understood that the base films A303 to 305 of the present invention in which the amount of porphyrin added is 3.0 to 5.0% by mass are particularly excellent in sensor sensitivity after the forced inferiority test.

実施例4
<タッチパネル表示装置の作製>
実施例3で作製した基材フィルムA303を用いて、透明導電層を特表2010−541109号公報に記載のようにパターン化された透明導電層として形成し、偏光板一体型タッチセンサーを作製した。これを用いて、図1Bに示す態様のタッチパネルを作製した。
Example 4
<Production of touch panel display device>
Using the base film A303 produced in Example 3, a transparent conductive layer was formed as a patterned transparent conductive layer as described in JP-T-2010-541109, to produce a polarizing plate integrated touch sensor. . Using this, a touch panel having an embodiment shown in FIG. 1B was produced.

SONY製21.5型VAIOTap21(SVT21219DJB)のあらかじめ貼合されていたタッチパネルを剥がして、上記作製したタッチパネルを貼合し、タッチパネル表示装置を作製した。   The touch panel previously bonded to the SONY 21.5 type VAIO Tap21 (SVT21219DJB) was peeled off, and the touch panel manufactured above was bonded to obtain a touch panel display device.

作製したタッチパネルは、表面側からの目視観察及び偏光サングラスをかけた状態の観察において、透明導電層の乱反射もなく、優れた視認性を有していた。   The prepared touch panel had excellent visibility without any irregular reflection of the transparent conductive layer in visual observation from the surface side and observation in a state where polarized sunglasses were worn.

また、作製したタッチパネル表示装置を、室温及び温度60℃・80%RHの環境下にそれぞれ1hrずつ放置することを1000回繰り返し、強制劣下試験後のタッチセンサー感度の測定を行ったところ、◎の評価であり、本発明の偏光板一体型タッチセンサーの環境変動に対する耐久性が高いことが分かった。   In addition, the touch panel display device thus manufactured was left to stand for 1 hour each in an environment of room temperature and a temperature of 60 ° C./80% RH 1,000 times, and the touch sensor sensitivity after the forced inferiority test was measured. It was found that the durability of the touch panel with a polarizing plate of the present invention against environmental fluctuations was high.

本発明の偏光板一体型タッチセンサーは、高温、高湿等の環境変動下においても、タッチセンサー内の偏光板の変形が抑えられ、当該変形に伴う透明導電層のセンサー検出感度の低下や誤作動を抑制することができるため、スマートフォンやタッチパネルのタッチセンサーに好適である。   The polarizing plate-integrated touch sensor of the present invention suppresses the deformation of the polarizing plate in the touch sensor even under environmental changes such as high temperature and high humidity, and lowers or incorrectly detects the sensor sensitivity of the transparent conductive layer due to the deformation. Since the operation can be suppressed, it is suitable for a touch sensor of a smartphone or a touch panel.

1 偏光板一体型タッチセンサー
2 透明導電層
3 ハードコート層
4 基材フィルムA
5 接着層
6 偏光子
7 基材フィルムB
8 接着層
9 タッチパネル部材
10 タッチパネル表示装置
11 ガラス
12 中間層
13 液晶表示装置
A 基材フィルムA
21 延伸方向(TD方向)
22 延伸方向
23 搬送方向(MD方向)
24 遅相軸
25 斜め延伸装置
26 フィルム繰り出し装置
27 搬送方向変更装置
28 巻取装置
29 成膜装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Polarizer integrated touch sensor 2 Transparent conductive layer 3 Hard coat layer 4 Base film A
5 adhesive layer 6 polarizer 7 base film B
Reference Signs List 8 adhesive layer 9 touch panel member 10 touch panel display device 11 glass 12 intermediate layer 13 liquid crystal display device A base film A
21 Stretching direction (TD direction)
22 Stretching direction 23 Transfer direction (MD direction)
Reference Signs List 24 Slow axis 25 Oblique stretching device 26 Film unwinding device 27 Transport direction changing device 28 Winding device 29 Film forming device

Claims (6)

少なくとも、透明導電層、基材フィルムA、偏光子、基材フィルムB、及び接着層をこの順に有する偏光板一体型タッチセンサーであって、
前記基材フィルムAが、主成分としてシクロオレフィン重合体と、当該シクロオレフィン重合体とは異なる添加剤とを含有し、
当該基材フィルムAの前記添加剤の濃度が、前記偏光子側と前記透明導電層側の表面で1.1倍以上異なり、かつ
前記基材フィルムAの温度23℃・相対湿度55%の環境下、光波長550nmにおける測定での面内位相差値Roが、50〜200nmの範囲内であることを特徴とする偏光板一体型タッチセンサー。
At least a transparent conductive layer, a base film A, a polarizer, a base film B, and a polarizing plate integrated type touch sensor having an adhesive layer in this order,
The base film A contains a cycloolefin polymer as a main component and an additive different from the cycloolefin polymer,
An environment in which the concentration of the additive in the base film A is 1.1 times or more different between the polarizer side and the surface of the transparent conductive layer side, and the base film A is at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55%. A touch panel integrated with a polarizing plate, wherein an in-plane retardation value Ro measured at a light wavelength of 550 nm is in a range of 50 to 200 nm.
前記基材フィルムA中の前記添加剤の濃度が、前記偏光子側と前記透明導電層側の表面で1.1〜1.6倍の範囲内で異なることを特徴とする請求項1に記載の偏光板一体型タッチセンサー。   The concentration of the additive in the base film A is different in a range of 1.1 to 1.6 times between the surface of the polarizer and the surface of the transparent conductive layer on the side of the transparent conductive layer. Polarizer integrated touch sensor. 前記添加剤のJIS K 7209の(A法)に準じて下記式(1)より求められる吸水率が、0.05〜3質量%の範囲内であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の偏光板一体型タッチセンサー。
式(1) 吸水率={(w−w)/w}×100(%)
(式中、wは水に浸漬する前の添加剤の乾燥質量(mg)であり、wは23.0±1.0℃の水に24±1時間浸漬した後の添加剤の質量(mg)である。)
The water absorption of the additive obtained from the following formula (1) according to JIS K 7209 (Method A) is in the range of 0.05 to 3% by mass. 3. The touch sensor integrated with a polarizing plate according to 2.
Formula (1) Water absorption = {(w 2 −w 1 ) / w 1 } × 100 (%)
(Wherein, w 1 is the dry mass (mg) of the additive before immersion in water, and w 2 is the mass of the additive after immersion in water at 23.0 ± 1.0 ° C. for 24 ± 1 hour. (Mg).)
前記添加剤が、分子量が50〜5000の範囲内であることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の偏光板一体型タッチセンサー。   The polarizing plate integrated touch sensor according to any one of claims 1 to 3, wherein the additive has a molecular weight within a range of 50 to 5000. 前記添加剤が、ピロール環を有する化合物、及びインドール環を有する化合物の群から選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の偏光板一体型タッチセンサー。   The polarizing plate according to any one of claims 1 to 4, wherein the additive is at least one selected from the group consisting of a compound having a pyrrole ring and a compound having an indole ring. Body type touch sensor. 請求項1から請求項5までのいずれか一項に記載の偏光板一体型タッチセンサーの製造方法であって、前記基材フィルムAを、溶液流延製膜法で製造することを特徴とする偏光板一体型タッチセンサーの製造方法。   6. The method of manufacturing a touch sensor with integrated polarizing plate according to claim 1, wherein the base film A is manufactured by a solution casting method. 7. Manufacturing method of touch sensor with integrated polarizing plate.
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