JP6664727B1 - Method of measuring straightness of mount, method of measuring flatness, method of adjusting height, and program - Google Patents

Method of measuring straightness of mount, method of measuring flatness, method of adjusting height, and program Download PDF

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Abstract

【課題】塗工設備などに用いられる架台の真直度の測定方法等を提供する。【解決手段】免震設備(免震台41)上に配置された架台1の所定の範囲(条部12)の真直度の測定方法であって、架台1の基準位置に配置された第一の基準器51により第一の基準器51の傾きS1と、所定の範囲の測定位置に配置された第二の基準器52により第二の基準器52の傾きS2とを同時に測定し、前記傾きS1と前記傾きS2を比較し、前記傾きS1を基準とする前記測定位置の傾きSxを求める傾き測定工程と、前記所定の範囲で第二の基準器52を複数回移動させ、前記所定の範囲において複数回取得した前記傾きSxを積算して前記所定の範囲の真直度を求める真直度測定工程とを有する測定方法。【選択図】 図3PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of measuring straightness of a gantry used for coating equipment and the like. SOLUTION: This is a method of measuring the straightness of a predetermined range (row 12) of a gantry 1 arranged on an quake-absorbing equipment (seismic pedestal 41), wherein Of the first reference device 51 and the second reference device 52 arranged at a measurement position within a predetermined range simultaneously measure the inclination S2 of the second reference device 52 by the reference device 51 of FIG. An inclination measuring step of comparing S1 and the inclination S2 to obtain the inclination Sx of the measurement position with the inclination S1 as a reference, and moving the second reference unit 52 a plurality of times within the predetermined range to set the predetermined range. And a straightness measuring step of calculating the straightness within the predetermined range by integrating the inclinations Sx acquired a plurality of times. [Selection] Fig. 3

Description

本発明は、架台の真直度測定方法および平面度測定方法に関する。また、測定された真直度や平面度に基づく、架台の高さ調整方法に関する。また、これらに対応するプログラムに関する。   The present invention relates to a gantry straightness measuring method and a flatness measuring method. The present invention also relates to a method for adjusting the height of a gantry based on the measured straightness and flatness. The present invention also relates to programs corresponding to these.

液晶ディスプレイや有機ELディスプレイなどの薄型ディスプレイが大型化していることに伴い、これらに用いられる基板も大型化が進んでいる。近年では、1辺が2mを超えるような第8世代に対応できる大きさや、第10世代などさらなる大型化も行われている。   As thin displays, such as liquid crystal displays and organic EL displays, have become larger, substrates used for these displays have also become larger. In recent years, the size which can cope with the eighth generation in which one side exceeds 2 m, and the size is further increased such as the tenth generation.

基板のサイズが大きくなった場合においても、正確に塗工ノズルの移動軌跡の真直度を測定するものとして、引用文献1の真直度測定装置は、レーザ分光干渉計と、ミラーを有する。このミラーは、その反射面が主走査方向ガイド部と平行になる状態で、塗工ヘッドに配設されたレーザ分光干渉計と対向する位置に配置されている。このミラーの表面は、高い平面度を有する。この時のミラーの反射面とレーザ分光干渉計との距離は、1mm以下となっている。このミラーは、塗工ヘッドの主走査方向の移動に伴うノズルによる塗工液の塗工領域全域に配設されている。   In order to accurately measure the straightness of the movement trajectory of the coating nozzle even when the size of the substrate becomes large, the straightness measuring device of Patent Document 1 includes a laser spectral interferometer and a mirror. This mirror is arranged at a position facing a laser spectral interferometer provided in the coating head, with its reflection surface being parallel to the main scanning direction guide. The surface of this mirror has a high flatness. At this time, the distance between the reflection surface of the mirror and the laser spectral interferometer is 1 mm or less. The mirror is disposed over the entire coating area of the coating liquid by the nozzle as the coating head moves in the main scanning direction.

特開2013−174522号公報JP 2013-174522 A

ガラス基板の大型化が進み、近年では、第8世代(約2.4m×約2.2m)などが実用化されている。引用文献1において塗工ノズルの移動軌跡の真直度が測定されているように、大型化するとディスプレイ等の製造工程でコーティングムラ等が生じる場合がある。しかし、このコーティングムラ等の原因の特定は困難である。   The size of glass substrates has been increasing, and in recent years, the eighth generation (about 2.4 m × about 2.2 m) and the like have been put to practical use. As the straightness of the movement locus of the coating nozzle is measured in the cited document 1, when the size is increased, coating unevenness or the like may occur in a manufacturing process of a display or the like. However, it is difficult to identify the cause of the coating unevenness or the like.

引用文献1では、塗工液の塗工領域の測定にあたって、ガラス基板のサイズが大きくなった場合には、基板のサイズがレーザ光の照射距離の限界を超え測定ができなくなるという問題や、空気のゆらぎによりノイズが発生することから塗工ヘッドを高速で移動させて真直度を測定することができないという問題が発生することなど測定の問題点が指摘されている。   In the cited document 1, when measuring the coating area of the coating liquid, when the size of the glass substrate becomes large, the size of the substrate exceeds the limit of the irradiation distance of the laser beam, and the measurement becomes impossible. Measurement problems have been pointed out, such as the problem that straightness cannot be measured by moving the coating head at high speed because noise is generated due to fluctuations in the coating.

基板等の塗工を行うにあたっては、例えば、中央に載置される台の両端に平行な直線状のガイドを対として配置し、このガイドに沿って移動するコーターで基板に塗工液を塗工する。このガイドやコーター、台を載置するための架台が下部に設けられ、架台は揺れなどの影響を抑制するために免震台の上に置かれている。塗工液の塗工ムラを抑制するには、これらのいずれがその塗工ムラの要因なのかを特定することが求められる。   When coating a substrate or the like, for example, a pair of parallel linear guides is arranged on both ends of a table placed in the center, and a coating solution that moves along this guide is used to apply the coating liquid to the substrate. Work. A platform for mounting the guide, coater, and platform is provided at the bottom, and the platform is placed on a seismic isolation platform to suppress the effects of shaking and the like. In order to suppress coating unevenness of the coating liquid, it is required to specify which of these factors is the cause of the coating unevenness.

本発明は、このような塗工設備などに用いられる架台の真直度測定方法等を提供することである。   An object of the present invention is to provide a method for measuring the straightness of a gantry used in such a coating facility.

本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、下記の発明が上記目的に合致することを見出し、本発明に至った。すなわち、本発明は、以下の発明に係るものである。   The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have found that the following inventions meet the above objects, and have accomplished the present invention. That is, the present invention relates to the following inventions.

<1> 免震設備上に配置された架台の所定の範囲の真直度の測定方法であって、
前記架台の基準位置に配置された第一の基準器により第一の基準器の傾きS1と、前記所定の範囲の測定位置に配置された第二の基準器により第二の基準器の傾きS2とを同時に測定し、前記傾きS1と前記傾きS2を比較し、前記傾きS1を基準とする前記測定位置の傾きSxを求める傾き測定工程と、
前記所定の範囲で前記第二の基準器を複数回移動させ、前記所定の範囲において複数回取得した前記傾きSxを積算して前記所定の範囲の真直度を求める真直度測定工程とを有する測定方法。
<2> 前記真直度測定工程で得られた前記真直度に基づき、前記所定の範囲の真直度を許容範囲の真直度とするために、前記架台の前記所定の範囲の各部分の高さ調整量を算出する第一の算出工程を有する前記<1>記載の測定方法。
<3> 前記<2>記載の測定方法で算出された前記高さ調整量に合わせて、調整片を配置することで前記架台の高さを調整する高さの調整方法。
<4> 前記所定の範囲を、前記架台上に設けられた平行する第一の条部と第二の条部とを含む範囲とし、前記第一の条部と前記第二の条部の真直度を測定した分布図を得て、
前記所定の範囲内における、前記第一の条部の両端部および前記第二の条部の両端部の4つの端部から選択される3つの端部を頂点とする四角形の仮想平面を設け、
前記仮想平面に用いていない他の端部と前記仮想平面の頂点との高さの差と、前記第一の条部と前記第二の条部の前記分布図と前記仮想平面の辺との高さの差とを比較し、前記第一の条部と前記第二の条部との平面度Pxを評価する平面度測定工程を有する前記<1>記載の測定方法。
<5> 前記平面度測定工程で得られた前記平面度Pxに基づき、前記所定の範囲の前記第一の条部と前記第二の条部とを辺とする平面において、前記辺を許容範囲の平面度の辺とするための前記架台の高さ調整量を算出する第二の算出工程を有する前記<4>記載の測定方法。
<6> 前記<5>記載の測定方法の前記第二の算出工程で算出された前記高さ調整量に合わせて、調整片および/または調整板を配置することで前記架台の高さを調整する高さの調整方法。
<1> A straightness measurement method for a predetermined range of a gantry arranged on a seismic isolation device,
The inclination of the first reference device S1 by the first reference device disposed at the reference position of the gantry, and the inclination S2 of the second reference device by the second reference device disposed at the measurement position in the predetermined range. And measuring the inclination S1 and the inclination S2 at the same time, and calculating the inclination Sx of the measurement position with reference to the inclination S1.
A straightness measuring step of moving the second reference device a plurality of times in the predetermined range and integrating the inclination Sx acquired a plurality of times in the predetermined range to obtain a straightness in the predetermined range. Method.
<2> height adjustment of each part of the predetermined range of the gantry, based on the straightness obtained in the straightness measuring step, in order to make the straightness in the predetermined range an allowable range of straightness; The measurement method according to <1>, further comprising a first calculation step of calculating the amount.
<3> A height adjustment method for adjusting the height of the gantry by arranging an adjustment piece in accordance with the height adjustment amount calculated by the measurement method described in <2>.
<4> The predetermined range is a range including the first and second parallel portions provided on the gantry, and the straight portion of the first and second portions is straight. Obtain a distribution chart that measures the degree,
Within the predetermined range, a rectangular virtual plane having three ends selected from four ends of both ends of the first strip and both ends of the second strip as vertices is provided,
The difference in height between the other end not used for the virtual plane and the vertex of the virtual plane, and the distribution map of the first and second lines and the sides of the virtual plane The measurement method according to <1>, further comprising a flatness measurement step of comparing a difference in height and evaluating a flatness Px between the first and second ridges.
<5> Based on the flatness Px obtained in the flatness measuring step, in a plane having the first and second ridges in the predetermined range as sides, the allowable range is defined as the side. The measurement method according to <4>, further including a second calculation step of calculating a height adjustment amount of the gantry for obtaining a flatness side.
<6> The height of the gantry is adjusted by arranging an adjustment piece and / or an adjustment plate in accordance with the height adjustment amount calculated in the second calculation step of the measurement method according to <5>. Height adjustment method.

<7> 免震設備上に配置された架台の所定の範囲の真直度の測定をコンピュータに実現させるためのプログラムであり、
前記架台の基準位置に配置された第一の基準器により測定された第一の基準器の傾きS1と、前記所定の範囲の測定位置に配置された第二の基準器により測定された第二の基準器の傾きS2とに基づいて、前記傾きS1と前記傾きS2を比較した前記傾きS1を基準とする前記測定位置の傾きSxを求める傾き測定ステップと、
前記所定の範囲で前記第二の基準器を複数回移動させて取得された前記傾きS1と前記傾きS2とからそれぞれの位置の前記傾きSxを求め、前記傾きSxを積算して前記所定の範囲の真直度を求める真直度測定ステップとを有するプログラム。
<8> 前記真直度測定ステップで得られた前記真直度に対して、前記所定の範囲の真直度を許容範囲の真直度とするために、前記架台の前記所定の範囲の各部分の高さ調整量を算出する第一の算出ステップを有する前記<7>記載のプログラム。
<9> 前記所定の範囲を、前記架台上に設けられた平行する第一の条部と第二の条部とを含む範囲とし、前記第一の条部と前記第二の条部の真直度を測定した分布図を用いて、
前記の所定の範囲内における、前記第一の条部の両端部および前記第二の条部の両端部の4つの端部から選択される3つの端部を頂点とする四角形の仮想平面を設け、
前記仮想平面に用いていない他の端部と前記仮想平面の頂点との差と、前記第一の条部と前記第二の条部の前記分布図と前記仮想平面の辺との高さの差とを比較し、前記第一の条部と前記第二の条部との平面度Pxを評価する平面度測定ステップを有する前記<7>記載のプログラム。
<10> 前記平面度測定工程で得られた前記平面度Pxに基づき、前記所定の範囲の前記第一の条部と前記第二の条部とを辺とする平面において、前記辺を許容範囲の平面度の辺とするための前記架台の高さ調整量を算出する第二の算出ステップを有する前記<9>記載のプログラム。
<7> A program for causing a computer to measure the straightness of a predetermined range of a gantry arranged on a seismic isolation facility,
The slope S1 of the first reference device measured by the first reference device disposed at the reference position of the gantry, and the second measurement value measured by the second reference device disposed at the measurement position within the predetermined range. A slope measuring step of calculating the slope Sx of the measurement position based on the slope S1 by comparing the slope S1 with the slope S2 based on the slope S2 of the reference device;
The inclination Sx of each position is obtained from the inclination S1 and the inclination S2 obtained by moving the second reference device a plurality of times in the predetermined range, and the inclination Sx is integrated to obtain the predetermined range. A straightness measuring step for determining the straightness of the object.
<8> For the straightness obtained in the straightness measurement step, the height of each part of the predetermined range of the gantry in order to make the straightness in the predetermined range an allowable range of straightness. The program according to <7>, further including a first calculation step of calculating an adjustment amount.
<9> The predetermined range is a range including the parallel first and second strips provided on the gantry, and the straight section of the first and second strips is straight. Using the distribution map that measures the degree,
Within the predetermined range, a rectangular virtual plane having three ends selected from four ends of both ends of the first strip and both ends of the second strip as vertices is provided. ,
The difference between the other end not used for the virtual plane and the vertex of the virtual plane, and the height of the distribution map of the first stripe and the second stripe and the height of the side of the virtual plane The program according to <7>, further comprising a flatness measuring step of comparing a difference with the flatness and evaluating a flatness Px between the first and second ridges.
<10> Based on the flatness Px obtained in the flatness measuring step, in a plane having the first and second ridges in the predetermined range as sides, the allowable range is defined as the side. The program according to <9>, further including a second calculation step of calculating a height adjustment amount of the gantry for obtaining a side having flatness.

本発明によれば、塗工設備などに用いられる架台の真直度などを測定することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the straightness of the gantry used for coating equipment etc. can be measured.

塗工設備の構成の概要を説明するための平面図である。It is a top view for explaining the outline of the composition of coating equipment. 塗工設備の構成の概要を説明するための正面図である。It is a front view for explaining the outline of the composition of coating equipment. 本発明に係る架台の真直度測定を説明するための平面図である。It is a top view for explaining straightness measurement of the gantry concerning the present invention. 本発明に係る架台の真直度測定を説明するための正面図である。It is a front view for explaining straightness measurement of the gantry concerning the present invention. 本発明に係る架台の真直度測定を説明するための正面視の部分拡大図である。It is a partial enlarged view in front view for explaining straightness measurement of the gantry according to the present invention. 本発明に係る架台の真直度測定方法のフローチャートである。It is a flowchart of the straightness measuring method of the gantry concerning this invention. 本発明に係る架台の高さ調整方法の一例を説明するための正面図である。It is a front view for explaining an example of the height adjustment method of the gantry concerning the present invention. 本発明の平面度測定を行うための仮想平面を説明するための概要図である。It is a schematic diagram for explaining a virtual plane for performing flatness measurement of the present invention. 本発明の仮想平面を用いた平面度測定に基づく高さ調整方法の一例を説明するための概要図である。It is a schematic diagram for explaining an example of the height adjustment method based on flatness measurement using a virtual plane of the present invention. 本発明に係る架台の平面度測定方法のフローチャートである。It is a flowchart of the flatness measurement method of the gantry concerning this invention. 本発明に係る架台の真直度測定の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the straightness measurement of the gantry concerning this invention. 本発明に係る架台の平面度測定の一例を示すフローチャートである。It is a flow chart which shows an example of flatness measurement of a gantry concerning the present invention. 本発明の真直度測定方法により測定された架台の高さの測定結果を示すグラフである。It is a graph which shows the measurement result of the height of the gantry measured by the straightness measuring method of the present invention. 本発明の真直度測定方法により測定された架台の高さの測定結果を示すグラフである。It is a graph which shows the measurement result of the height of the gantry measured by the straightness measuring method of the present invention.

以下に本発明の実施の形態を詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施態様の一例(代表例)であり、本発明はその要旨を変更しない限り、以下の内容に限定されない。なお、本明細書において「〜」という表現を用いる場合、その前後の数値を含む表現として用いる。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, the description of constituent elements described below is an example (representative example) of an embodiment of the present invention, and the present invention is described below unless the gist is changed. It is not limited to the content of. In this specification, the expression “to” is used as an expression including numerical values before and after the expression.

[本発明の真直度測定方法]
本発明の真直度の測定方法は、免震設備上に配置された架台の所定の範囲の真直度の測定方法であって、前記架台の基準位置に配置された第一の基準器により第一の基準器の傾きS1と、前記所定の範囲の測定位置に配置された第二の基準器により第二の基準器の傾きS2とを同時に測定し、前記傾きS1と前記傾きS2を比較し、前記傾きS1を基準とする前記測定位置の傾きSxを求める傾き測定工程と、
前記所定の範囲で前記第二の基準器を複数回移動させ、前記所定の範囲において複数回取得した前記傾きSxを積算して前記所定の範囲の真直度を求める真直度測定工程とを有する。
[Straightness measuring method of the present invention]
The straightness measuring method of the present invention is a straightness measuring method for a predetermined range of a gantry disposed on a seismic isolation facility, wherein the first standard is disposed at a reference position of the gantry. The slope S1 of the reference device and the slope S2 of the second reference device are simultaneously measured by the second reference device arranged at the measurement position in the predetermined range, and the slope S1 and the slope S2 are compared. An inclination measuring step of obtaining an inclination Sx of the measurement position based on the inclination S1;
A straightness measuring step of moving the second reference device a plurality of times in the predetermined range and integrating the slopes Sx acquired a plurality of times in the predetermined range to obtain a straightness in the predetermined range.

本発明の真直度の測定方法によれば、バネ等の免震設備上に載置されている架台上に第一の基準位置を設けることで、バネによる揺れなどの影響を受けることなく第一の基準器と第二の基準器との傾きを比較し、第一の基準器の傾きを基準として第二の基準器を置いた測定位置の傾きを測定する。そして、この傾きを積算した分布とすることで、真直度や平面度のような、高さ情報を含む立体的な情報を得ることができる。   According to the straightness measuring method of the present invention, by providing the first reference position on a gantry mounted on a seismic isolation device such as a spring, the first reference position is not affected by swaying by a spring or the like. And the inclination of the second reference device is compared, and the inclination of the measurement position where the second reference device is placed is measured with reference to the inclination of the first reference device. Then, by forming a distribution obtained by integrating the inclination, three-dimensional information including height information such as straightness and flatness can be obtained.

[塗工設備10]
図1、2は、本発明に係る架台の真直度測定方法を行う対象となる代表例である塗工設備を説明するための概略図である。図1は、塗工設備10の平面図である。図2は、塗工設備10の正面図である。なお、図1に示す平面図における左から右方向をX方向、下から上方向をY方向とし、このY方向に向かって塗工設備10を見たときを正面視として、図2は塗工設備10を正面視したものであり、図2における下から上方向をZ方向として説明する。
[Coating equipment 10]
FIGS. 1 and 2 are schematic diagrams for explaining a coating equipment which is a typical example to which the method for measuring the straightness of a gantry according to the present invention is applied. FIG. 1 is a plan view of the coating equipment 10. FIG. 2 is a front view of the coating equipment 10. In addition, in the plan view shown in FIG. 1, the X direction is from left to right, and the Y direction is from above to below. FIG. FIG. 2 is a front view of the facility 10, and a description will be given with the upward direction from the bottom in FIG.

塗工設備10は、架台1を用いて塗工する設備である。架台1は、平面視したとき長方形の基板11と、基板11上部にY方向の手前側に幅方向(X方向)に設けられた条部12と、基板11上部にY方向の奥側に幅方向(X方向)に設けられた条部13とを有する。条部12と条部13とは平行に配置され、いずれも直線状である。条部12、条部13の上には、それぞれリニアガイド21などが設けられる。塗工設備10は、リニアガイド21などに沿って移動でき、条部12と条部13とを架け渡すように取り付けられたガントリーに取り付けられたコーター2を有する。塗工設備10は、コーター2が2機取り付けられている。架台1の中央には、塗工台3が設けられている、塗工台3には、適宜ガラス基板等の塗工対象物が配置される。コーター2は、条部12、条部13に取り付けられたリニアガイドに沿って移動するガントリーによって幅方向(X方向)に移動しながら、塗工台3に配置されている塗工対象物上に塗膜を形成する。架台1は、塗工中の揺れなどの影響を軽減するために、免震台41上に配置されている。   The coating facility 10 is a facility for performing coating using the gantry 1. The gantry 1 has a rectangular substrate 11 when viewed in a plan view, a ridge 12 provided on the upper side of the substrate 11 in the width direction (X direction) on the near side in the Y direction, and a width on the upper side of the substrate 11 on the far side in the Y direction. And a ridge 13 provided in the direction (X direction). The ridges 12 and the ridges 13 are arranged in parallel, and both are linear. A linear guide 21 and the like are provided on the strips 12 and 13, respectively. The coating equipment 10 is movable along a linear guide 21 or the like, and has a coater 2 attached to a gantry attached so as to bridge the strip 12 and the strip 13. The coating equipment 10 is provided with two coaters 2. A coating table 3 is provided at the center of the gantry 1, and a coating object such as a glass substrate is appropriately disposed on the coating table 3. The coater 2 is moved in the width direction (X direction) by a gantry that moves along a linear guide attached to the strips 12 and 13, and moves on the coating target placed on the coating table 3. Form a coating. The gantry 1 is arranged on a seismic isolation table 41 in order to reduce the influence of shaking or the like during coating.

[免震設備上の架台1の形状]
塗工設備10で塗工台3に載置されたガラス基板等には、極めて薄い薄膜が設けられる。この薄膜は、適宜、積層もされる。この薄膜の厚みなどは、ディスプレイ等としたときの色や明るさなどの光学設計を達成するために、極めて厳しい条件で設定されている。ディスプレイの塗膜等に許容される厚みムラは、製品等にもよるが数十μm以下や、数μm以下のような条件とされている場合もある。このような厚みムラを達成するために、塗工設備10を構成する各機器等もその高さや移動速度、傾きなどが厳しく管理されている。また、塗工液の塗工ムラを抑制するには、これらの機器のいずれがその塗工ムラの要因なのかを特定することが求められる。
[Shape of base 1 on seismic isolation equipment]
An extremely thin thin film is provided on a glass substrate or the like placed on the coating table 3 in the coating equipment 10. This thin film is appropriately laminated. The thickness of the thin film and the like are set under extremely strict conditions in order to achieve optical design such as color and brightness when used as a display or the like. The thickness unevenness allowed for the coating film or the like of the display depends on the product or the like, but may be tens of μm or less or several μm or less. In order to achieve such thickness unevenness, the height, moving speed, inclination, and the like of each device constituting the coating equipment 10 are strictly controlled. Further, in order to suppress coating unevenness of the coating liquid, it is required to specify which of these devices is the cause of the coating unevenness.

塗工設備10は、第8世代(約2.4m×約2.2m)などが実用化されており、これに対応する大きさの架台1や、コーター2、塗工台3、免震台41、基礎架台42などが用いられている。これらの各機器は、数トン〜数十トンの重さとなる場合もある。また、コーター2は、架台1上で、条部12、条部13に設けられているリニアガイドに沿って移動するガントリーなどによって移動するが、このガントリーやコーター2も非常に重いため、コーター2などの重さの影響を解消しながら用いることも行われている。   As the coating equipment 10, the eighth generation (about 2.4m x about 2.2m) and the like have been put into practical use, and a gantry 1 having a size corresponding to this, a coater 2, a coating table 3, a seismic isolation table, and the like. 41, a base stand 42 and the like are used. Each of these devices can weigh from several tons to tens of tons. Further, the coater 2 is moved on the gantry 1 by a gantry or the like that moves along linear guides provided on the strips 12 and 13, but the gantry and the coater 2 are also very heavy. It is also used while eliminating the influence of weight.

これらの塗工設備10の基礎的な構造となる架台1も厳しい設計基準を満足するように製造されている。架台1も、単独で数トン〜数十トンの重さとなることもあり、専用の製造現場で床上に置いた状態で製造され、その状態で条部12、条部13の形状などが評価されている。そして架台1は、塗工設備10として使用するときは、免震台41に置いた状態で用いられる。   The gantry 1 as a basic structure of the coating equipment 10 is also manufactured so as to satisfy strict design standards. The gantry 1 may also weigh several tons to several tens of tons by itself, and is manufactured while being placed on the floor at a dedicated manufacturing site, and in that state, the shapes of the strips 12 and the strips 13 are evaluated. ing. When the gantry 1 is used as the coating facility 10, the gantry 1 is used while being placed on the seismic isolation table 41.

架台1は、非常に厚く鉄鋼等で製造されていることから、一般的には製造時の寸法精度等を維持していると考えられて用いられていた。しかし、本発明者らは、塗工設備10の精度等を詳細に検討した結果、架台1が原因の精度の問題が生じている可能性に着目した。その結果、架台1は、それを単独で製造した時点では優れた寸法精度を達成していても、塗工設備10としたときにごくわずかなひずみが生じている場合があることを見出した。   Since the gantry 1 is very thick and is made of steel or the like, it is generally used because it is considered that dimensional accuracy and the like at the time of manufacture are maintained. However, the present inventors have examined the accuracy and the like of the coating equipment 10 in detail, and as a result, have paid attention to the possibility that an accuracy problem due to the gantry 1 has occurred. As a result, it has been found that even when the gantry 1 achieves excellent dimensional accuracy at the time of producing the gantry 1 alone, a very slight distortion may occur when the coating equipment 10 is used.

この架台1のひずみは、製造時点では検出されず、使用環境に持ち出し、免震台41などに載置したときにはじめて生じるひずみと考えられ、従来、このひずみは認識されていなかった。これが認識されにくかった理由は、種々考えられるが、以下のようなものが考えられる。(1)架台1のひずみは数μm〜数十μm/m程度しか生じず、ごくわずかなものであること。(2)塗工設備10で用いられるような架台1は、一般的な真直度の測定装置等では検出範囲の上限を超える程度に大型となること。(3)架台1が免震台41に載っているため測定中に外乱によるずれが生じやすいこと。(4)架台1は、製造時点の環境で優れた寸法精度を達成していること。(5)架台1は硬い鉄鋼等により製造されていることからも使用環境でひずむとの認識がされないこと。(6)架台1を免震台41から降ろして安定な床上で単独で測定するとひずみがないことが改めて確認され、ひずみが解消すること。   The distortion of the gantry 1 is not detected at the time of manufacturing, and is considered to be a distortion that occurs only when the pedestal 1 is taken out to the use environment and placed on the seismic isolation table 41 or the like. Conventionally, this distortion has not been recognized. There are various possible reasons for this being difficult to recognize, but the following are possible. (1) The distortion of the gantry 1 is only a few μm to several tens μm / m and is very small. (2) The gantry 1 used in the coating equipment 10 must be large enough to exceed the upper limit of the detection range in a general straightness measuring device or the like. (3) Since the gantry 1 is mounted on the seismic isolation table 41, deviation due to disturbance is likely to occur during measurement. (4) The gantry 1 has achieved excellent dimensional accuracy in the environment at the time of manufacture. (5) Since the gantry 1 is made of hard steel or the like, it is not recognized that the gantry 1 is distorted in the use environment. (6) When the gantry 1 is lowered from the seismic isolation table 41 and measured independently on a stable floor, it is confirmed again that there is no distortion, and the distortion is eliminated.

このように塗工設備10の使用環境での架台1については、ひずみの認識もされにくく、ひずみ自体も検出が難しいわずかな高さの差しか生じていない。また、免震台41の影響に対する対策もできるものとして、架台1の高さを測定する手段とすることが求められる。さらには平行している条部12、条部13の間にもわずかな傾きの差が生じている場合がある。本発明の真直度測定方法等は、このような状況下、行われたものである。   As described above, regarding the gantry 1 in the use environment of the coating equipment 10, the distortion is hardly recognized, and the distortion itself has a slight height difference, which is difficult to detect. In addition, as a countermeasure against the influence of the seismic isolation table 41, a means for measuring the height of the gantry 1 is required. Furthermore, there may be a slight difference in inclination between the parallel strips 12 and 13. The straightness measuring method and the like of the present invention have been performed under such circumstances.

[本発明の第一の実施形態]
図3は、本発明の第一の実施形態に係る真直度測定方法を説明するための架台1等を平面視した略概要図である。図4は、架台1等を正面視した略概要図である。図5は、架台1等を正面視し部分拡大した略概要図である。リニアガイド21等を設け、ガントリーにより移動するコーター2を設置する前の架台1単独での高さの測定を説明するために、図3〜図5は、コーター2等を除いた状態での測定を例に説明する。ここでは、基礎架台42上に設けられた免震台41上で生じる架台1のひずみなどの影響を含む真直度を測定する。なお、塗工台3は架台1と一体化される場合もあり、通常、コーター2により塗工工程を行うとき、架台1上で移動する対象ではないため、上部に塗工台3を有する状態の架台1を例に説明する。
[First embodiment of the present invention]
FIG. 3 is a schematic plan view of the gantry 1 and the like for explaining a straightness measuring method according to the first embodiment of the present invention, as viewed in plan. FIG. 4 is a schematic diagram of the gantry 1 and the like as viewed from the front. FIG. 5 is a schematic diagram of the gantry 1 and the like partially enlarged in a front view. In order to explain the measurement of the height of the gantry 1 alone before the linear guide 21 or the like is provided and the coater 2 moved by the gantry is installed, FIGS. 3 to 5 show the measurement without the coater 2 and the like. Will be described as an example. Here, the straightness including the influence of the strain of the gantry 1 generated on the seismic isolation base 41 provided on the base gantry 42 is measured. The coating table 3 may be integrated with the gantry 1, and is usually not a target to be moved on the gantry 1 when performing the coating process by the coater 2. The gantry 1 will be described as an example.

[架台1]
架台1は、免震台41等の免震設備上に配置され用いられる台である。架台1は真直度を測定する対象となるものであれば限定されないが、特に、第6世代(1500mm×1850mm)〜第8世代(2200mm×2500mm)程度の大きさのガラス基板を載置するための架台を対象とすることが好ましい。このため、架台1の大きさとしては、例えば、幅(X方向)や長さ(Y方向)がおよそ2m〜6m程度のものを対象とすることができる。これよりも小さい場合、架台1自体の大きさも小さく自重によるひずみが生じにくく、本発明の真直度測定方法により測定する必要性が低下する。
[Stand 1]
The gantry 1 is a stand that is arranged and used on seismic isolation equipment such as a seismic isolation table 41. The gantry 1 is not limited as long as it can measure straightness. In particular, the gantry 1 is for mounting a glass substrate of about the sixth generation (1500 mm × 1850 mm) to the eighth generation (2200 mm × 2500 mm). It is preferable to target the gantry. For this reason, the size of the gantry 1 can be, for example, a width (X direction) or a length (Y direction) of about 2 m to 6 m. If it is smaller than this, the size of the gantry 1 itself is also small and distortion due to its own weight is unlikely to occur, and the necessity of measurement by the straightness measuring method of the present invention is reduced.

架台1の条部12、条部13の上面は、コーター2を設置するリニアガイド21を設ける部分となるため、この上面の真直度や平面度が低く、高さにずれがあるとその上に置かれたリニアガイド21に沿って移動するコーター2の高さも上下する。このため、条部12と条部13の上面は、その高さにムラがある場合、そのムラの調整が求められる部分となる。この条部12の真直度の測定を例に、架台の真直度測定を説明する。   Since the upper surfaces of the strips 12 and 13 of the gantry 1 are portions where the linear guides 21 for installing the coater 2 are provided, the straightness and flatness of the upper surface are low, and if there is a deviation in the height, the upper surface is overlaid. The height of the coater 2 moving along the placed linear guide 21 also goes up and down. For this reason, if there is unevenness in the height, the upper surfaces of the strips 12 and 13 are portions where adjustment of the unevenness is required. Taking the straightness measurement of the gantry as an example, the straightness measurement of the gantry will be described.

架台1には、架台1上の塗工台3の任意の位置を基準位置として、第一の基準器51が配置される。そして、条部12の傾きを測定し、条部12の真直度を得るために、測定位置に第二の基準器52が配置される。図3、図4に示すように、第二の基準器52は、左端近傍に設定された測定位置の端部の傾きを測定した後、X方向に順次移動させる第二の基準器52´として配置され、それぞれの位置での第二の基準器52(52´)の傾きを検出する。   A first reference device 51 is arranged on the gantry 1 with an arbitrary position of the coating table 3 on the gantry 1 as a reference position. Then, in order to measure the inclination of the ridge portion 12 and obtain the straightness of the ridge portion 12, the second reference device 52 is disposed at the measurement position. As shown in FIGS. 3 and 4, the second reference device 52 is a second reference device 52 ′ that measures the inclination of the end of the measurement position set near the left end and then sequentially moves in the X direction. It is arranged and detects the inclination of the second reference device 52 (52 ') at each position.

図3に示すように、本発明の真直度測定方法等を行うための傾き検出システムは、傾き検出手段61と、高さ解析手段62と、高さ調整量算出手段63と、メモリ7と、モニタ8を有する。   As shown in FIG. 3, the inclination detection system for performing the straightness measurement method and the like of the present invention includes an inclination detection unit 61, a height analysis unit 62, a height adjustment amount calculation unit 63, a memory 7, It has a monitor 8.

第一の基準器51と、第二の基準器52とは、それぞれが無線通信したり、傾き検出手段61と無線通信したりすることができる。   The first reference device 51 and the second reference device 52 can perform wireless communication with each other, and can perform wireless communication with the tilt detection unit 61.

図5を例に説明すると、第一の基準器51は、底部で距離L1離れた配置となる配置部511と配置部512を有する。第一の基準器51は、配置部511と配置部512間での第一の基準器51の傾きS1を測定することができる。   Referring to FIG. 5 as an example, the first reference device 51 has an arrangement portion 511 and an arrangement portion 512 arranged at a distance L1 at the bottom. The first reference device 51 can measure the inclination S1 of the first reference device 51 between the placement unit 511 and the placement unit 512.

同様に、第二の基準器52は、第一の基準器51の距離L1と同じ長さ離れた配置となる配置部521と、配置部522とを有する。第二の基準器52は、配置部521と配置部522間での第二の基準器52の傾きS2を測定することができる。   Similarly, the second reference device 52 has an arrangement portion 521 and an arrangement portion 522 that are arranged at the same distance from each other as the distance L1 of the first reference device 51. The second reference device 52 can measure the inclination S2 of the second reference device 52 between the placement unit 521 and the placement unit 522.

図5において、第一の基準器51は塗工台3上の基準位置に配置されたままの状態で、第二の基準器52は測定範囲となる条部12上を順次移動させながら測定する。すなわち、まず配置部521を測定位置のA11上とし、配置部522を測定位置のA12上として配置してA11、A12間の傾きを測定する。これを終えると、第一の配置部521をA12上に第二の配置部522をA13上に移動させて次の測定位置の傾きを検出する。これを、測定位置のAx、Ax+1の位置に、随時移動させながら測定を行う。 In FIG. 5, while the first reference device 51 is still disposed at the reference position on the coating table 3, the second reference device 52 performs measurement while sequentially moving on the strip 12 which is a measurement range. . That is, first, the arrangement unit 521 is set on the measurement position A11, and the arrangement unit 522 is set on the measurement position A12, and the inclination between A11 and A12 is measured. When this is completed, the first arrangement part 521 is moved to A12 and the second arrangement part 522 is moved to A13, and the inclination of the next measurement position is detected. This is measured while being moved to the measurement positions A x and A x + 1 as needed.

真直度を求めるときの補正等の影響を抑制するために、第一の基準器51の配置部511と配置部512とを結ぶ線の向きと、第二の基準器52の配置部521と配置部522とを結ぶ線の向きとのX方向−Y方向における向きは平行であることが好ましい。配置部511と配置部512とを結ぶ線がX方向に向く配置の場合、配置部521と配置部522とを結ぶ線もX方向±1度、好ましくは±0.5度や±0.1度となるように配置することが好ましい。   In order to suppress the influence of correction or the like when obtaining the straightness, the direction of the line connecting the arrangement portions 511 and 512 of the first reference device 51 and the arrangement portion 521 of the second reference device 52 are arranged. It is preferable that the direction of the line connecting the portion 522 and the direction in the X direction-Y direction is parallel. When the line connecting the arrangement units 511 and 512 is arranged in the X direction, the line connecting the arrangement units 521 and 522 is also ± 1 degrees in the X direction, preferably ± 0.5 degrees or ± 0.1 degrees. It is preferable to arrange them so as to be in the same order.

また、傾きについて、架台1の変位は角度として表示するとその変位が非常に小さな値となる可能性があることから、高さの表示によりその傾きを示してもよい。例えば、配置部511と配置部512について、いずれが高く、差がどの程度かを示すことで傾きを示してもよい。このとき、第一の基準器51や第二の基準器52の高低差で表す傾きの検出感度は、少なくとも0.02mm/m以上が好ましく、少なくとも0.01mm/m以上がより好ましく、少なくとも0.005mm/m以上がさらに好ましく、少なくとも0.001mm/m以上が特に好ましい。0.001mm/m以上の感度を有する場合、1mあたり1μm(0.001mm)の変位であっても検出することができる。   In addition, regarding the inclination, when the displacement of the gantry 1 is displayed as an angle, the displacement may have a very small value. Therefore, the inclination may be indicated by displaying the height. For example, the inclination may be indicated by indicating which one of the arrangement unit 511 and the arrangement unit 512 is higher and which is the difference. At this time, the detection sensitivity of the inclination represented by the height difference between the first reference device 51 and the second reference device 52 is preferably at least 0.02 mm / m or more, more preferably at least 0.01 mm / m or more, and at least 0 0.005 mm / m or more is more preferable, and at least 0.001 mm / m or more is particularly preferable. When the sensitivity is 0.001 mm / m or more, a displacement of 1 μm (0.001 mm) per 1 m can be detected.

また、第一の基準器51(第二の基準器52)の配置部511(521)と配置部512(52)間の距離L1は、傾きの検出頻度に相当する。この距離L1は、使用する基準器の仕様や所定の範囲の大きさに対する測定回数、管理しようとする真直度の程度等を考慮して、適宜設定される。例えば、距離L1は、5cm〜50cm程度とすることができ、10cm〜30cmや、15cm〜25cmとすることが好ましい。距離L1が短すぎる場合、測定頻度が多すぎて架台1の大きさも大きく測定回数が多くなりすぎたり、傾きの変位が小さく検出しにくい場合がある。距離L1が長すぎる場合、その間に生じている傾きのうねりなどを十分に検出できず、塗工条件の設定等に有用な真直度を得ることができない場合がある。   Further, the distance L1 between the placement unit 511 (521) and the placement unit 512 (52) of the first reference device 51 (second reference device 52) corresponds to the detection frequency of the inclination. The distance L1 is appropriately set in consideration of the specifications of the reference device to be used, the number of measurements for the size of the predetermined range, the degree of straightness to be managed, and the like. For example, the distance L1 can be set to about 5 cm to 50 cm, and is preferably set to 10 cm to 30 cm or 15 cm to 25 cm. If the distance L1 is too short, the measurement frequency may be too large, the size of the gantry 1 may be too large, the number of times of measurement may be too large, or the displacement of the inclination may be too small to be detected. If the distance L1 is too long, it may not be possible to sufficiently detect the undulation of the inclination occurring during the distance, and it may not be possible to obtain straightness useful for setting coating conditions and the like.

傾き検出手段61は、第一の基準器51と第二の基準器52と通信して、第一の基準器51の傾きS1と、第二の基準器の傾きS2として送信された情報を検出することができる。この傾きS1、傾きS2はいずれも高さ方向(Z方向)の傾きである。これらの傾きは、高さ方向(Z方向)の変位として測定したものを用いてもよい。これらの通信は、無線通信であることが好ましい。無線通信であれば、配線による傾きの影響を排除した測定を行うことができ、より信頼性が高い測定ができる。   The inclination detecting means 61 communicates with the first reference device 51 and the second reference device 52 to detect information transmitted as the inclination S1 of the first reference device 51 and the inclination S2 of the second reference device. can do. Both the inclination S1 and the inclination S2 are inclinations in the height direction (Z direction). These inclinations may be measured as displacements in the height direction (Z direction). These communications are preferably wireless communications. In the case of wireless communication, measurement can be performed without the influence of the inclination due to wiring, and more reliable measurement can be performed.

そして第一の基準器51の傾きS1と、第二の基準器52の傾きS2とを比較し、傾きS1を基準とした第二の基準器52を置いた場での傾きSxを求める。測定中にもわずかな振動等によって、架台1の傾きは変動する場合があるが、第一の基準器51の傾きS1を求めてこれを基準とすることで、これらの変動の影響を解消した傾きSxを得ることができる。   Then, the inclination S1 of the first reference device 51 and the inclination S2 of the second reference device 52 are compared, and the inclination Sx at the place where the second reference device 52 is placed based on the inclination S1 is obtained. The inclination of the gantry 1 may fluctuate during measurement due to slight vibration or the like. However, the influence of these fluctuations has been eliminated by obtaining the inclination S1 of the first reference device 51 and using this as a reference. The slope Sx can be obtained.

傾きSxは、「傾きS1−傾きS2」の値をそのまま用いるか、これを変数とした補正等を行ったものとして得られる。このとき、第一の基準器51と、第二の基準器52の傾きや水平面内における互いの距離や方向も合わせて検出してもよい。   The slope Sx is obtained by using the value of “slope S1−slope S2” as it is, or by performing a correction using this value as a variable. At this time, the inclination of the first reference device 51 and the second reference device 52 and the distance and direction of each other in the horizontal plane may also be detected.

高さ解析手段62は、検出された傾きを積算して、その分布図を作成するなどの解析を行う。この解析の結果は、高さの分布図に相当するものとして得ることもできる。高さ調整量算出手段63は、高さの分布図に基づいて、架台1の条部12のひずみを解消するための調整量を算出する。   The height analysis unit 62 performs analysis such as integrating the detected inclinations and creating a distribution map. The result of this analysis can also be obtained as corresponding to a height distribution map. The height adjustment amount calculating means 63 calculates an adjustment amount for eliminating the distortion of the ridge portion 12 of the gantry 1 based on the height distribution map.

メモリ7は、所定の位置で検出された傾きや、それらを解析した傾きや高さの分布図、分布図に基づいて算出された高さの調整量等の情報を適宜保存する。また、このメモリ7に保存された情報に基づいて各手段により解析や算出等が行われる。モニタ8は、これらの情報を適宜表示する。これらの各手段やメモリ、モニタは、これらとして機能するためのプログラムやアプリケーションソフト等を備えたパーソナルコンピュータやタブレット端末、スマートフォン、ディスプレイ等を組み合わせて、これらの構成とすることができる。   The memory 7 appropriately stores information such as a slope detected at a predetermined position, a distribution map of the slope and height obtained by analyzing them, and a height adjustment amount calculated based on the distribution map. Further, based on the information stored in the memory 7, analysis and calculation are performed by each means. The monitor 8 displays such information as appropriate. These means, memory, and monitor can be configured by combining a personal computer, a tablet terminal, a smartphone, a display, or the like having a program or application software for functioning as these.

図5は、条部12について、本発明の真直度測定方法の操作をより詳しく説明するための部分拡大図である。第一の基準器51は塗工台3の上部に配置されている。第一の基準器51の傾きS1を基準とする。   FIG. 5 is a partially enlarged view for explaining the operation of the straightness measuring method of the present invention with respect to the strip 12 in more detail. The first reference device 51 is disposed above the coating table 3. The inclination S1 of the first reference device 51 is used as a reference.

条部12の上面は下に凸の凹状にわずかに湾曲している。条部12の測定位置A11と測定位置A12にわたるように配置して、第二の基準器52の傾きを測定することで測定位置A11−測定位置A12間での条部12の傾きS2を測定する。この測定位置を、真直度を評価する範囲を所定の範囲として、架台12上で移動させ、これらの測定位置の傾きSxを架台12上で取得する。この傾きSxから、架台12上での傾きや高さの分布図を作成することができる。ここで、第一の基準器51が配置されている傾きS1に基づくものとして傾きSxを求めることで、免震台41が揺れを解消等して床面からの高さに変位が生じても、相対的な傾きを正確に測定できる。   The upper surface of the ridge portion 12 is slightly curved in a concave shape protruding downward. It is arranged so that it may extend over the measurement position A11 and the measurement position A12 of the ridge 12, and the inclination S2 of the ridge 12 between the measurement position A11 and the measurement position A12 is measured by measuring the inclination of the second reference device 52. . This measurement position is moved on the gantry 12 with the straightness evaluation range as a predetermined range, and the inclination Sx of these measurement positions is acquired on the gantry 12. From this inclination Sx, a distribution map of the inclination and height on the gantry 12 can be created. Here, by obtaining the inclination Sx based on the inclination S1 at which the first reference device 51 is disposed, even if the seismic isolation table 41 eliminates shaking and the like, displacement occurs in the height from the floor surface. , Relative inclination can be accurately measured.

図6は、本発明に係る架台の真直度測定方法のフローチャートである。まず、架台の基準位置に第一の基準器を配置する(ステップS11)。次に、架台の測定位置に第二の基準器を配置する(ステップS21)。   FIG. 6 is a flowchart of the method of measuring the gantry straightness according to the present invention. First, the first reference device is arranged at the reference position of the gantry (step S11). Next, the second reference device is arranged at the measurement position of the gantry (step S21).

次に、第一の基準器の傾きS1を測定する(ステップS31)。次に、第二の基準器の傾きS2を測定する(ステップS32)。次に、傾きS1と傾きS2を比較して第二の基準器が配置された場の傾きSxを求める(ステップS33)。   Next, the inclination S1 of the first reference device is measured (step S31). Next, the inclination S2 of the second reference device is measured (step S32). Next, the slope S1 and the slope S2 are compared to determine the slope Sx of the field where the second reference device is arranged (step S33).

次に、架台の測定位置として測定しようとする所定の範囲を測定したか判断する(ステップS34)。所定の範囲を測定し終えていないとき、第二の基準器を次の測定位置に移動させる(ステップS35)。そして、その移動させた位置で、第一の基準器の傾きS1と第二の基準器の傾きS2とを測定し、これらを比較してその場での傾きSxを測定する(ステップS31〜S33)。これを、所定の範囲を測定し終えるまで、繰り返す。   Next, it is determined whether a predetermined range to be measured as the measurement position of the gantry has been measured (step S34). When the measurement of the predetermined range has not been completed, the second reference device is moved to the next measurement position (step S35). Then, at the moved position, the inclination S1 of the first reference device and the inclination S2 of the second reference device are measured, and these are compared to measure the inclination Sx at the spot (steps S31 to S33). ). This is repeated until a predetermined range is measured.

所定の範囲の測定を完了すると、得られた傾きSxを測定位置と対応させた分布図を作成する(ステップS41)。この傾きSxの分布図は、高さの分布図として扱ってもよい。傾きSxの分布図は真直度を判断するための値とすることができる。   When the measurement in the predetermined range is completed, a distribution map is created in which the obtained slope Sx is associated with the measurement position (step S41). The distribution map of the slope Sx may be treated as a height distribution map. The distribution map of the slope Sx can be a value for determining straightness.

次に、傾きSxの分布図を、条部12(条部13)等にリニアガイド等を設けるときの管理基準とする高さと比較して、それぞれの測定位置における高さ調整量を計算する(ステップS51)。これらの高さの分布図や高さ調整量の計算結果を、適宜ディスプレイに表示する(ステップS61)。表示されたものを確認することで、使用者は傾きや高さの分布図や、高さ調整量を認識できるため、この表示により真直度測定方法の基本的なフローを終了する。   Next, the height S at the respective measurement positions is calculated by comparing the distribution map of the inclination Sx with the height used as a management reference when the linear guide or the like is provided on the ridge 12 (the ridge 13) ( Step S51). The distribution map of these heights and the calculation result of the height adjustment amount are appropriately displayed on a display (step S61). By confirming the displayed information, the user can recognize the distribution map of the inclination and the height and the amount of height adjustment, and thus the basic flow of the straightness measuring method is ended by this display.

[高さの調整]
図7は、図3〜図5に示す第一の実施形態に準じて高さ調整量を算出し、その算出結果に合わせて高さを調整する状態を説明するための部分拡大した正面図である。架台1の条部12の測定範囲12aについて、測定位置B1〜B13を設定して、第一の基準器の傾きS1と第二の基準器の傾きS2高さを測定し、これらを比較して傾きS2を測定しそれらを積算することで傾きの分布図を得ることができる。この傾きの分布図の全体の傾きの有無を判断して、高さの分布図として扱うこともできる。
[Adjustment of height]
FIG. 7 is a partially enlarged front view for explaining a state in which the height adjustment amount is calculated according to the first embodiment shown in FIGS. 3 to 5 and the height is adjusted in accordance with the calculation result. is there. The measurement positions B1 to B13 are set for the measurement range 12a of the strip 12 of the gantry 1, the height S1 of the first reference device and the height S2 of the second reference device are measured, and these are compared. By measuring the slope S2 and integrating them, a distribution map of the slope can be obtained. It is also possible to determine the presence or absence of the entire inclination of the distribution map of the inclination and handle the distribution as a height distribution map.

免震台41等に載置すると、架台1は中央付近が凹む湾曲状のひずみが生じる場合がある。架台1について、高さの管理基準を高さhxのように真直度が高いものとするとき、実際の条部12の上面の測定範囲12aが凹状となっている場合、高さhxとの差を調整する必要がある。この高さhxの調整には、高さhxと測定位置(B1〜B13)における高さの差に対応する厚みの薄板を挟み込み調整することができる。   When the gantry 1 is placed on the seismic isolation table 41 or the like, a curved distortion in which the vicinity of the center is depressed may occur. When the height control standard of the gantry 1 is a high straightness such as the height hx, when the measurement range 12a on the upper surface of the actual strip 12 is concave, the difference from the height hx is determined. Need to be adjusted. The height hx can be adjusted by sandwiching a thin plate having a thickness corresponding to the difference between the height hx and the height at the measurement positions (B1 to B13).

この高さの調整のために用いる薄板の枚数や厚みなどの高さ調整量を算出する算出工程を行う。図7は、その調整量に応じて調整片141を配置して、基準となる高さhxとの差を最小化した状態を示している。薄板の厚みは、1枚あたり5μmや、10μmなど、薄板ごとに所定の厚みを有するものとして製造されている場合があるため、使用することができる薄板の種類の厚みに合わせて、基準となる高さhxとの差が最小化されるように、挟み込む薄板の枚数等を設定するものも高さ調整として採用するものに含まれる。そして薄板を挟んだ状態で、リニアガイドを設けることで、リニアガイドに沿ってコーターが移動しても、リニアガイドや架台の高さによる影響を受けにくいコーティングを行うことができる。   A calculation step of calculating a height adjustment amount such as the number and thickness of the thin plates used for adjusting the height is performed. FIG. 7 shows a state in which the adjustment piece 141 is arranged according to the adjustment amount and the difference from the reference height hx is minimized. Since the thickness of a thin plate may be manufactured as having a predetermined thickness for each thin plate, such as 5 μm or 10 μm per sheet, the thickness is a reference according to the thickness of the type of thin plate that can be used. The one that sets the number of thin plates to be sandwiched or the like so that the difference from the height hx is minimized is also included in the one adopted as height adjustment. By providing the linear guide with the thin plate sandwiched therebetween, even if the coater moves along the linear guide, it is possible to perform coating that is not easily affected by the height of the linear guide or the gantry.

図8は、本発明の平面度測定を行うための仮想平面を説明するための概要図である。仮想平面を作成するにあたり、まず、架台1の条部12の傾きの分布図12aを取得する。また、条部13の傾きの分布図13aを取得する。これらの分布図12aと、分布図13aの双方を測定するとき、第一の基準器51の位置は同じものとすることで、いずれの分布図も第一の基準器51の傾きS1を基準としたものとした信頼性が高い利用を行う。   FIG. 8 is a schematic diagram for explaining a virtual plane for performing flatness measurement according to the present invention. In creating the virtual plane, first, a distribution map 12a of the inclination of the strip 12 of the gantry 1 is obtained. Further, a distribution map 13a of the inclination of the ridge portion 13 is obtained. When measuring both the distribution chart 12a and the distribution chart 13a, the position of the first reference unit 51 is assumed to be the same, so that both distribution maps are based on the slope S1 of the first reference unit 51. And use it with high reliability.

これらの分布図12aの端部121と端部122と、分布図13aの端部131と端部132の4つの端部から、任意の3つの端部を選択し、これらを頂点とする仮想平面を設ける。図8では、端部121、端部122、端部131を頂点とする仮想平面Pvを想定したものである。この仮想平面Pvは、端部121と端部122を結ぶ辺と、端部121と端部131とを結ぶ辺とを有する平行四辺形として設けている。   From the four ends of the end 121 and end 122 of the distribution chart 12a and the end 131 and end 132 of the distribution chart 13a, any three ends are selected, and a virtual plane having these as vertices is selected. Is provided. In FIG. 8, a virtual plane Pv having the ends 121, 122, and 131 as vertices is assumed. This virtual plane Pv is provided as a parallelogram having a side connecting the end 121 and the end 122 and a side connecting the end 121 and the end 131.

この分布図12a、分布図13aを仮想平面Pvと比較すると、それぞれの分布図が、仮想平面Pvよりも低い位置となり、端部132も、仮想平面Pvよりも高さ13b低いものとなっている。このような状態の条部12、条部13を用いると、これらをかけ渡すガントリーなどに取り付けられたコーター2も、これらの傾きの影響を受けて移動するため、塗工厚みもその影響を受けるものとなる。   When the distribution chart 12a and the distribution chart 13a are compared with the virtual plane Pv, each distribution chart is located at a position lower than the virtual plane Pv, and the end 132 is also lower at a height 13b than the virtual plane Pv. . When the strips 12 and 13 in such a state are used, the coater 2 attached to a gantry or the like over which the strips 12 and 13 move also under the influence of these inclinations, so that the coating thickness is also affected. It will be.

図9は、仮想平面を用いた平面度測定に基づく高さ調整方法の一例を説明するための概要図である。ここでは、図8により設けた仮想平面Pvと、分布図12aと、分布図13aとを比較して、仮想平面Pvの頂点をPv1、Pv2,Pv3、Pv4とし、端部121、122、131、132がそれぞれ対応するものとする。ここでは頂点Pv1は端部121の位置であり、頂点Pv2は端部122の位置であり、頂点Pv3は端部131の位置である。また、頂点Pv4は頂点Pv1〜Pv3を有する仮想平面内の点であり、端部132のほぼ直上の位置である。そして、分布図12aと、頂点Pv1および頂点Pv2とがなす辺との差を埋めるように調整片141を配置する。次に、分布図13aと、頂点Pv3および頂点Pv4とがなす辺との差を埋めるための調整を行う。   FIG. 9 is a schematic diagram for explaining an example of a height adjustment method based on flatness measurement using a virtual plane. Here, the virtual plane Pv provided by FIG. 8 is compared with the distribution chart 12a and the distribution chart 13a, and the vertices of the virtual plane Pv are set to Pv1, Pv2, Pv3, and Pv4, and the end parts 121, 122, 131, 132 correspond to each other. Here, the vertex Pv1 is the position of the end 121, the vertex Pv2 is the position of the end 122, and the vertex Pv3 is the position of the end 131. The vertex Pv4 is a point in the virtual plane having the vertices Pv1 to Pv3, and is located immediately above the end 132. Then, the adjusting pieces 141 are arranged so as to fill the difference between the distribution diagram 12a and the sides formed by the vertices Pv1 and Pv2. Next, adjustment is performed to fill the difference between the distribution diagram 13a and the side formed by the vertices Pv3 and Pv4.

このとき、頂点Pv4と端部132には、高さ13bの差が生じており、端部131から端部132にかけて仮想平面Pvに対して全体としての傾きも生じている。このため、調整片141に組み合わせて、この全体の傾きに対応する厚みが端部132側から端部131側に向けて漸減する調整板142を用いて高さの調整をおこなうこともできる。これにより、個別の測定位置での傾きや高さの調整と、条部12、条部13との間の傾きや高さの調整とを行った高度な高さ調整を行うことができる。なお、調整板142に代え、頂点Pv4と端部132との高さの差に応じた厚さの調整片141を挟んで、高さの調整を行ってもよい。   At this time, a difference in height 13b occurs between the vertex Pv4 and the end 132, and an inclination as a whole with respect to the virtual plane Pv also occurs from the end 131 to the end 132. Therefore, in combination with the adjusting piece 141, the height can be adjusted using the adjusting plate 142 whose thickness corresponding to the entire inclination gradually decreases from the end 132 toward the end 131. Thereby, it is possible to perform advanced height adjustment by adjusting the inclination and the height at the individual measurement positions and adjusting the inclination and the height between the ridges 12 and 13. Note that, instead of the adjustment plate 142, the height may be adjusted with an adjustment piece 141 having a thickness corresponding to the difference in height between the vertex Pv4 and the end 132 interposed therebetween.

なお、図7や図9に示すような真直度や平面度に基づく高さ調整を行うとき、調整片や調整板を挟み込むことで高さを調整するほうが、高さが高い部分を削って調整するよりも、使用する現場での調整を行いやすいため、これらの真直度や平面度との差を求めるにあたっては、真直度の基準高さ(例えば図7の高さhx)や、仮想平面(例えば図9の仮想平面Pv)よりも、条部の辺や条部の端部が低いか同程度となる配置となるように、データ処理する条件を設定することが好ましい。   When performing height adjustment based on straightness or flatness as shown in FIGS. 7 and 9, it is better to adjust the height by sandwiching an adjustment piece or an adjustment plate by shaving a portion having a higher height. Since it is easier to make adjustments at the site of use than to perform, the difference between the straightness and the flatness is determined, and the reference height of straightness (for example, the height hx in FIG. 7) and the virtual plane ( For example, it is preferable to set the conditions for the data processing so that the side of the ridge and the end of the ridge are lower or almost equal to the virtual plane Pv) in FIG.

図10は、本発明に係る架台の平面度測定方法のフローチャートである。本発明の架台の真直度を測定するためのプログラムは、このフローチャートに沿った処理をコンピュータに実現させるためのものとすることができる。まず、図10のフローチャートなどに示す工程を準用し、例えば条部12などを第一の条部としてその傾き分布図を作成する(ステップS71)。次に、ステップS71と同様に条部13などを第二の条部としてその傾き分布図を作成する(ステップS72)。   FIG. 10 is a flowchart of the flatness measuring method of the gantry according to the present invention. The program for measuring the straightness of the gantry according to the present invention may be a program for causing a computer to execute the processing according to this flowchart. First, the steps shown in the flowchart of FIG. 10 and the like are applied mutatis mutandis, and for example, the slope distribution diagram is created using the strip 12 as the first strip (step S71). Next, similarly to step S71, a slope distribution diagram is created with the strip 13 and the like as the second strip (step S72).

次に、第一の条部と第二の条部の傾き分布図に基づいて仮想平面を作成する(ステップS73)。次に、仮想平面と、第一の条部と第二の条部の頂点との差を測定する。この差は、仮想平面の作成に用いなかった他の一端との差である(ステップS74)。次に、第一の条部と第二の条部と対応する仮想平面の辺との差を測定する(ステップS75)。次に、これらの仮想平面との差とから、高さ調整量を計算する(ステップS76)。この高さ調整量は、個別の測定位置で長さが短い調整片により調整する量や、全体としての傾きが生じる側の条部に対しての長さが長い調整板により調整する量を適宜組み合わせて算出するものとしてもよい。これらの調整量は、適宜モニタ等に表示される(ステップS77)。   Next, a virtual plane is created based on the inclination distribution diagram of the first and second ridges (step S73). Next, the difference between the virtual plane and the vertices of the first and second ridges is measured. This difference is a difference from the other end not used for creating the virtual plane (step S74). Next, the difference between the first ridge and the second ridge and the corresponding side of the virtual plane is measured (step S75). Next, a height adjustment amount is calculated from the difference from these virtual planes (step S76). The height adjustment amount may be appropriately adjusted by an adjustment piece having a short length at an individual measurement position or by an adjustment plate having a long length with respect to a side portion on which a tilt is generated as a whole. It may be calculated in combination. These adjustment amounts are appropriately displayed on a monitor or the like (step S77).

図11は、本発明に係る架台の真直度測定の一例を示すフローチャートである。例えば、条部12(条部13)のガントリーを配置して使用する範囲などを、真直度を求める所定の範囲として、第一の基準器51を塗工台3上に固定して、条部12(条部13)に、第二の基準器52を配置して、第二の基準器52の距離L1毎に測定位置を設定し、傾きS1・傾きS2を測定したデータを得る。図11のフローチャートは、このデータを用いた処理を行うプログラムで行うことができる。   FIG. 11 is a flowchart illustrating an example of the straightness measurement of the gantry according to the present invention. For example, the range in which the gantry of the strip 12 (the strip 13) is used and the like is defined as a predetermined range for obtaining straightness, and the first reference device 51 is fixed on the coating table 3 and the strip is used. The second reference device 52 is arranged at 12 (the strip 13), a measurement position is set for each distance L1 of the second reference device 52, and data obtained by measuring the inclination S1 and the inclination S2 is obtained. The flowchart of FIG. 11 can be performed by a program that performs processing using this data.

条部12(条部13)に設定した所定の範囲を対象として得られた測定位置の傾きS1・傾きS2のデータを入力したデータ格納庫から、傾きS1・傾きS2のデータを取得する(ステップS81)。次に、各測定位置における傾きS1と傾きS2を比較した値である傾きSxを算出する(ステップS82)。   The data of the inclination S1 and the inclination S2 is obtained from the data storage to which the data of the inclination S1 and the inclination S2 of the measurement position obtained for the predetermined range set in the stripe 12 (the stripe 13) is input (step S81). ). Next, a slope Sx, which is a value obtained by comparing the slope S1 and the slope S2 at each measurement position, is calculated (step S82).

次に、傾きSxを所定の範囲の起点から測定位置ごとに順に積算した傾きの分布図を作成する(ステップS83)。次に、傾きの分布図から真直度を算出する(ステップS84)。次に、傾きの分布図に基づいて、使用できる調整片の大きさ・厚さ等に基づいて所定の真直度を達成するための高さ調整量を算出する(ステップS85)。これらの傾きの分布図や、真直度、真直度を所定の範囲とするための調整片等を用いた高さ調整量を、表示部に表示して(ステップS86)、終了する。これらの各ステップで処理したデータは逐次メモリ等に保存することができる。このような処理を行うことで、使用者に、傾きS1・傾きS2の測定値を基にした、真直度を判断するための情報や、高さ調整量を把握させることができる。   Next, a gradient distribution map is created by sequentially integrating the gradient Sx from the starting point of the predetermined range for each measurement position (step S83). Next, straightness is calculated from the gradient distribution map (step S84). Next, based on the inclination distribution map, a height adjustment amount for achieving a predetermined straightness is calculated based on the size, thickness, etc. of the usable adjustment pieces (step S85). A distribution map of these inclinations, a straightness, and a height adjustment amount using an adjustment piece or the like for setting the straightness within a predetermined range are displayed on the display unit (step S86), and the process ends. The data processed in each of these steps can be sequentially stored in a memory or the like. By performing such processing, the user can grasp information for determining straightness and a height adjustment amount based on the measured values of the slopes S1 and S2.

図12は、本発明に係る架台の平面度の測定の一例を示すフローチャートである。架台1を用いて塗工を行うとき、条部12と条部13とを架け渡すガントリーに取り付けたコーター2により塗工を行う。このため条部12と条部13とは高い平行度を有することが求められる。この平行度を評価するにあたり、条部12と条部13とを平行する辺とする疑似的な平面度を参照することが有効である。条部12と条部13について、塗工台3等を第一の基準器51を配置する部分として、それぞれの条部(12、13)を、傾きを測定する対象となる所定の範囲として傾きSxを測定したデータを得る。図12のフローチャートは、この傾きSxのデータを用いた処理をコンピュータに実行させるプログラムで行うことができる。   FIG. 12 is a flowchart showing an example of the measurement of the flatness of the gantry according to the present invention. When the coating is performed using the gantry 1, the coating is performed by the coater 2 attached to the gantry that bridges the strip 12 and the strip 13. For this reason, the ridges 12 and the ridges 13 are required to have high parallelism. In evaluating the parallelism, it is effective to refer to a pseudo flatness in which the ridges 12 and 13 are parallel sides. With respect to the ridges 12 and 13, the coating table 3 and the like are used as portions for disposing the first reference device 51, and the respective ridges (12 and 13) are set as predetermined ranges in which the tilt is measured. Data obtained by measuring Sx is obtained. The flowchart of FIG. 12 can be performed by a program that causes a computer to execute processing using the data of the slope Sx.

条部12を第一の条部、条部13を第二の条部として、それぞれの傾きSxの分布図を得る(ステップS91)。これは、例えば、前述した図11に示すステップS81〜ステップS83により作成することができるデータを用いることができる。次に、第一の条部の両端と、第二の条部の両端から、3点を端部を選択し、それらを頂点とする仮想平面を作成する(ステップS92)。この仮想平面に対して、仮想平面の作成に用いなかった端部や、第一の条部、第二の条部の傾きSxの分布図を比較して、仮想平面との差を算出する(ステップS93)。次に、第一の条部と第二の条部を辺とする仮想平面の平面度を算出する(ステップS94)。次に、仮想平面に対する第一の条部と第二の条部の辺や頂点との差に基づき、調整片や調整板を用いて調整する高さ調整量を算出する(ステップS95)。これらの仮想平面や、仮想平面との差、平面度、高さ算出量を表示部などに表示して(ステップS96)、終了する。これらの各ステップで処理したデータは逐次メモリ等に保存することができる。このような処理を行うことで、使用者に、第一の条部と第二の条部の傾きSxの分布図を基にした仮想平面や、仮想平面との差、平面度、高さ算出量を把握させることができる。   With the ridges 12 as the first ridges and the ridges 13 as the second ridges, distribution maps of the respective slopes Sx are obtained (step S91). For this, for example, data that can be created in steps S81 to S83 shown in FIG. 11 described above can be used. Next, three ends are selected from both ends of the first strip and both ends of the second strip, and a virtual plane having these as vertices is created (step S92). With respect to this virtual plane, the difference from the virtual plane is calculated by comparing the distribution of the inclination Sx of the end, the first stripe, and the second stripe that are not used for creating the virtual plane ( Step S93). Next, the flatness of a virtual plane having the first and second ridges as sides is calculated (step S94). Next, a height adjustment amount to be adjusted by using an adjustment piece or an adjustment plate is calculated based on a difference between a side or an apex of the first stripe and the second stripe with respect to the virtual plane (step S95). The virtual plane, the difference from the virtual plane, the flatness, and the height calculation amount are displayed on a display unit or the like (step S96), and the process ends. The data processed in each of these steps can be sequentially stored in a memory or the like. By performing such processing, the user can calculate the virtual plane based on the distribution map of the inclination Sx of the first and second stripes, the difference between the virtual plane, the flatness, and the height calculation. We can let you know quantity.

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明は、その要旨を変更しない限り以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples unless the gist is changed.

第8世代(約2.4m×約2.2m)に対応する図1等に準じる塗布設備に用いる架台(幅約6m×奥行約4m)の、両端に設けられている条部の傾きの分布を測定した。この架台は、床上に直接載置されている状態では高い真直度を達成しており、条部の高さムラは約10μm以下である。この架台を塗布設備として使用するときの免震台(バネ)上に載置した状態で高さを測定した。   The distribution of the inclination of the strips provided at both ends of the base (approximately 6 m wide x approximately 4 m deep) used for the coating equipment according to Fig. 1 etc. corresponding to the 8th generation (approximately 2.4m x approximately 2.2m) Was measured. This gantry achieves high straightness when placed directly on the floor, and the unevenness in the height of the strip is about 10 μm or less. The height was measured while the gantry was placed on a seismic isolation table (spring) when used as a coating facility.

傾きを測定するための基準器として、WILER社製の超精密電子水準器無線システムを用いた。この基準器は、2台の検出器(第一の基準器、第二の基準器)を使用し、これらの双方の傾きを測定することで、免震台に置いた状態で周囲に揺れ等が生じても、一方の基準器の傾きを基準として、2台の基準器間の傾きの差から、第二の基準器が置かれた測定位置の傾きを測定することができる。   An ultra-precision electronic level radio system manufactured by WILER was used as a standard for measuring the tilt. This reference device uses two detectors (first reference device and second reference device), and measures the inclination of both of them, so that it shakes around when placed on the seismic isolation table. Occurs, the inclination of the measurement position where the second reference device is placed can be measured from the difference between the inclinations of the two reference devices with reference to the inclination of one reference device.

架台の略中央に、第一の基準器として一方の検出器を配置し、正面視したとき手前側となる条部と、奥側となる条部について、それぞれ傾きSxの分布図を作成した。   One of the detectors was disposed as a first reference device at substantially the center of the gantry, and a distribution map of the slope Sx was created for each of the ridges on the front side and the ridges on the back side when viewed from the front.

各条部の左端から右端まで、200mm置きに測定位置を設定し、各測定位置に第二の基準器として用いる検出器を配置して、それぞれの位置で測定された傾きを、同時に配置されているときの第一の基準器の傾きの測定値と比較して、第一の基準器の傾き(S1)と第二の基準器の傾き(S2)の差を傾きSxとして、傾きSxを積算して分布図としたものを図13、図14に示す。   From the left end to the right end of each strip, measurement positions are set at 200 mm intervals, detectors used as second reference devices are arranged at each measurement position, and the inclination measured at each position is simultaneously arranged. And comparing the measured value of the inclination of the first reference device with the measured value of the inclination of the first reference device, the difference between the inclination (S1) of the first reference device and the inclination (S2) of the second reference device is defined as the inclination Sx, and the inclination Sx is integrated. FIG. 13 and FIG. 14 show distribution charts obtained by the calculation.

また、高さ調整に用いる薄板としてSUS製のシム(厚み10μm)を用いるものとして、それぞれの測定位置の高さに応じた調整量を求め、その調整を行った時の高さを合わせて表示する。   Also, assuming that a SUS shim (thickness: 10 μm) is used as the thin plate used for height adjustment, an adjustment amount corresponding to the height of each measurement position is obtained, and the height at the time of the adjustment is displayed together. I do.

図13に示すように、手前側の条部の上面は、その傾きを測定し分布図とした結果、中央に向かって下に凸の凹状のひずみを有していることが確認された。高低差は最大で約55μm生じている。また、この真直度の測定結果をもとに、厚み10μmの薄板で高さ調整する高さと、その調整を行ったときの高さは、高低差が10μm以下程度に抑えられるものとすることができた。   As shown in FIG. 13, as a result of measuring the inclination of the upper surface of the front side streak and forming a distribution diagram, it was confirmed that the upper surface had a concave strain that protruded downward toward the center. The height difference is about 55 μm at the maximum. In addition, based on the measurement result of the straightness, the height for adjusting the height with a thin plate having a thickness of 10 μm and the height when the adjustment is performed may be such that the height difference is suppressed to about 10 μm or less. did it.

図14に示すように、奥側の条部の上面は、その傾きを測定し分布図とした結果、中央をはさんで左右に下に向かって凸の凹状となるひずみを有していることが確認された。高低差は最大で約18μm生じている。また、この真直度の測定結果をもとに、厚み10μmの薄板で高さ調整する高さと、その調整を行ったときの高さは、高低差が10μm以下程度に抑えられるものとした。   As shown in FIG. 14, the upper surface of the far side strip has a strain that is convex downward and left and right across the center as a result of measuring the inclination and forming a distribution diagram. Was confirmed. The height difference occurs at a maximum of about 18 μm. Further, based on the results of the measurement of the straightness, the height for adjusting the height with a thin plate having a thickness of 10 μm and the height when the height was adjusted were such that the height difference was suppressed to about 10 μm or less.

このように、架台を免震台の上に載置すると、床上に載置している際にはなかったひずみが生じて、高さムラとなっていることが確認された。また、この高さムラは免震台上で測定する必要があるが、本発明の真直度測定方法によれば測定できることが確認された。また、この真直度測定結果に基づく高さ調整量を算出し、薄板を用いて調整することで、高さのムラを抑制できることを確認した。
なお、この高さムラを調整した後の架台を用いて、塗工設備を組み立て、塗工することで、架台のひずみ由来の塗工ムラが抑制された。
As described above, it was confirmed that when the gantry was placed on the seismic isolation table, a distortion was not generated when the gantry was placed on the floor, and the height was uneven. In addition, although it is necessary to measure the height unevenness on the seismic isolation table, it was confirmed that the height unevenness can be measured by the straightness measuring method of the present invention. In addition, it was confirmed that a height adjustment amount based on the straightness measurement result was calculated and adjusted by using a thin plate, whereby height unevenness could be suppressed.
In addition, by using the mount after adjusting the height unevenness to assemble and coat the coating equipment, coating unevenness due to the distortion of the mount was suppressed.

本発明は、塗工設備等に用いられる架台の真直度を測定することでこれらの高さ調整等に利用することができ、産業上有用である。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be used for height adjustment and the like by measuring the straightness of a gantry used for coating equipment and the like, and is industrially useful.

1 架台
10 塗工設備
11 基板
12、13 条部
141 調整片
142 調整板
2 コーター
21 リニアガイド
3 塗工台
41 免震台
42 基礎架台
51 第一の基準器
52 第二の基準器
61 高さ検出手段
62 高さ解析手段
63 調整量算出手段
7 メモリ
8 モニタ
REFERENCE SIGNS LIST 1 base 10 coating equipment 11 substrate 12, 13 strip 141 adjustment piece 142 adjustment plate 2 coater 21 linear guide 3 coating base 41 seismic isolation table 42 base mount 51 first reference device 52 second reference device 61 height Detecting means 62 Height analyzing means 63 Adjustment amount calculating means 7 Memory 8 Monitor

Claims (8)

免震設備上に配置された架台の所定の範囲の真直度の測定方法であって、
前記架台の基準位置に配置された第一の基準器により第一の基準器の傾きS1と、前記所定の範囲の測定位置に配置された第二の基準器により第二の基準器の傾きS2とを同時に測定し、前記傾きS1と前記傾きS2を比較し、前記傾きS1を基準とする前記測定位置の傾きSxを求める傾き測定工程と、
前記所定の範囲で前記第二の基準器を複数回移動させ、前記所定の範囲において複数回取得した前記傾きSxを積算して前記所定の範囲の真直度を求める真直度測定工程と
前記真直度測定工程で得られた前記真直度に基づき、前記所定の範囲の真直度を許容範囲の真直度とするために、前記架台の前記所定の範囲の各部分の高さ調整量を算出する第一の算出工程を有する測定方法。
A straightness measurement method for a predetermined range of a gantry arranged on a seismic isolation device,
The inclination of the first reference device S1 by the first reference device disposed at the reference position of the gantry, and the inclination S2 of the second reference device by the second reference device disposed at the measurement position in the predetermined range. And measuring the inclination S1 and the inclination S2 at the same time, and calculating the inclination Sx of the measurement position with reference to the inclination S1.
Moving the second reference device a plurality of times in the predetermined range, a straightness measurement step of calculating the straightness of the predetermined range by integrating the inclination Sx obtained a plurality of times in the predetermined range ,
Based on the straightness obtained in the straightness measuring step, a height adjustment amount of each part of the predetermined range of the gantry is calculated in order to make the straightness of the predetermined range a straightness of an allowable range. A measuring method having a first calculating step .
請求項記載の測定方法で算出された前記高さ調整量に合わせて、調整片を配置することで前記架台の高さを調整する高さの調整方法。 A height adjustment method for adjusting the height of the gantry by arranging an adjustment piece in accordance with the height adjustment amount calculated by the measurement method according to claim 1 . 免震設備上に配置された架台の所定の範囲の真直度の測定方法であって、
前記架台の基準位置に配置された第一の基準器により第一の基準器の傾きS1と、前記所定の範囲の測定位置に配置された第二の基準器により第二の基準器の傾きS2とを同時に測定し、前記傾きS1と前記傾きS2を比較し、前記傾きS1を基準とする前記測定位置の傾きSxを求める傾き測定工程と、
前記所定の範囲で前記第二の基準器を複数回移動させ、前記所定の範囲において複数回取得した前記傾きSxを積算して前記所定の範囲の真直度を求める真直度測定工程と、を有し、
前記所定の範囲を、前記架台上に設けられた平行する第一の条部と第二の条部とを含む範囲とし、前記第一の条部と前記第二の条部の真直度を測定した分布図を得て、
前記所定の範囲内における、前記第一の条部の両端部および前記第二の条部の両端部の4つの端部から選択される3つの端部を頂点とする四角形の仮想平面を設け、
前記仮想平面に用いていない他の端部と前記仮想平面の頂点との高さの差と、前記第一の条部と前記第二の条部の前記分布図と前記仮想平面の辺との高さの差とを比較し、前記第一の条部と前記第二の条部との平面度Pxを評価する平面度測定工程を有する測定方法。
A straightness measurement method for a predetermined range of a gantry arranged on a seismic isolation device,
The inclination of the first reference device S1 by the first reference device disposed at the reference position of the gantry, and the inclination S2 of the second reference device by the second reference device disposed at the measurement position in the predetermined range. And measuring the inclination S1 and the inclination S2 at the same time, and calculating the inclination Sx of the measurement position with reference to the inclination S1.
A straightness measuring step of moving the second reference device a plurality of times in the predetermined range and integrating the inclination Sx acquired a plurality of times in the predetermined range to obtain a straightness in the predetermined range. And
The predetermined range is a range including the first and second parallel portions provided on the gantry, and the straightness of the first and second portions is measured. Obtained distribution map
Within the predetermined range, a rectangular virtual plane having three ends selected from four ends of both ends of the first strip and both ends of the second strip as vertices is provided,
The difference in height between the other end not used for the virtual plane and the vertex of the virtual plane, and the distribution map of the first and second lines and the sides of the virtual plane comparing the difference in height, the first ridges and the second ridges and the measurement how having a flatness measurement step of evaluating the flatness Px of.
前記平面度測定工程で得られた前記平面度Pxに基づき、前記所定の範囲の前記第一の条部と前記第二の条部とを辺とする平面において、前記辺を許容範囲の平面度の辺とするための前記架台の高さ調整量を算出する第二の算出工程を有する請求項記載の測定方法。 Based on the flatness Px obtained in the flatness measuring step, on a plane having the first ridge and the second ridge in the predetermined range as a side, the flatness in an allowable range of the side. The measuring method according to claim 3, further comprising a second calculating step of calculating a height adjustment amount of the gantry for setting the side as a side. 請求項記載の測定方法の前記第二の算出工程で算出された前記高さ調整量に合わせて、調整片および/または調整板を配置することで前記架台の高さを調整する高さの調整方法。 A height for adjusting the height of the gantry by arranging an adjustment piece and / or an adjustment plate in accordance with the height adjustment amount calculated in the second calculation step of the measurement method according to claim 4. Adjustment method. 免震設備上に配置された架台の所定の範囲の真直度の測定をコンピュータに実現させるためのプログラムであり、
前記架台の基準位置に配置された第一の基準器により測定された第一の基準器の傾きS1と、前記所定の範囲の測定位置に配置された第二の基準器により測定された第二の基準器の傾きS2とに基づいて、前記傾きS1と前記傾きS2を比較した前記傾きS1を基準とする前記測定位置の傾きSxを求める傾き測定ステップと、
前記所定の範囲で前記第二の基準器を複数回移動させて取得された前記傾きS1と前記傾きS2とからそれぞれの位置の前記傾きSxを求め、前記傾きSxを積算して前記所定の範囲の真直度を求める真直度測定ステップと
前記真直度測定ステップで得られた前記真直度に対して、前記所定の範囲の真直度を許容範囲の真直度とするために、前記架台の前記所定の範囲の各部分の高さ調整量を算出する第一の算出ステップを有するプログラム。
A program for causing a computer to measure the straightness of a predetermined range of a gantry arranged on a seismic isolation device,
The slope S1 of the first reference device measured by the first reference device disposed at the reference position of the gantry, and the second measurement value measured by the second reference device disposed at the measurement position within the predetermined range. A slope measuring step of calculating the slope Sx of the measurement position based on the slope S1 by comparing the slope S1 with the slope S2 based on the slope S2 of the reference device;
The inclination Sx of each position is obtained from the inclination S1 and the inclination S2 obtained by moving the second reference device a plurality of times in the predetermined range, and the inclination Sx is integrated to obtain the predetermined range. Measuring the straightness of the straightness ,
For the straightness obtained in the straightness measuring step, in order to set the straightness of the predetermined range to the allowable range of straightness, the height adjustment amount of each part of the predetermined range of the gantry is adjusted. A program having a first calculating step of calculating .
免震設備上に配置された架台の所定の範囲の真直度の測定をコンピュータに実現させるためのプログラムであり、
前記架台の基準位置に配置された第一の基準器により測定された第一の基準器の傾きS1と、前記所定の範囲の測定位置に配置された第二の基準器により測定された第二の基準器の傾きS2とに基づいて、前記傾きS1と前記傾きS2を比較した前記傾きS1を基準とする前記測定位置の傾きSxを求める傾き測定ステップと、
前記所定の範囲で前記第二の基準器を複数回移動させて取得された前記傾きS1と前記傾きS2とからそれぞれの位置の前記傾きSxを求め、前記傾きSxを積算して前記所定の範囲の真直度を求める真直度測定ステップと、を有し、
前記所定の範囲を、前記架台上に設けられた平行する第一の条部と第二の条部とを含む範囲とし、前記第一の条部と前記第二の条部の真直度を測定した分布図を用いて、
前記の所定の範囲内における、前記第一の条部の両端部および前記第二の条部の両端部の4つの端部から選択される3つの端部を頂点とする四角形の仮想平面を設け、
前記仮想平面に用いていない他の端部と前記仮想平面の頂点との差と、前記第一の条部と前記第二の条部の前記分布図と前記仮想平面の辺との高さの差とを比較し、前記第一の条部と前記第二の条部との平面度Pxを評価する平面度測定ステップを有するプログラム。
A program for causing a computer to measure the straightness of a predetermined range of a gantry arranged on a seismic isolation device,
The slope S1 of the first reference device measured by the first reference device disposed at the reference position of the gantry, and the second measurement value measured by the second reference device disposed at the measurement position within the predetermined range. A slope measuring step of calculating the slope Sx of the measurement position based on the slope S1 by comparing the slope S1 with the slope S2 based on the slope S2 of the reference device;
The inclination Sx of each position is obtained from the inclination S1 and the inclination S2 obtained by moving the second reference device a plurality of times in the predetermined range, and the inclination Sx is integrated to obtain the predetermined range. Measuring the straightness of the straightness, and
The predetermined range is a range including the first and second parallel portions provided on the gantry, and the straightness of the first and second portions is measured. Using the distribution map
Within the predetermined range, a rectangular virtual plane having three ends selected from four ends of both ends of the first strip and both ends of the second strip as vertices is provided. ,
The difference between the other end not used for the virtual plane and the vertex of the virtual plane, and the height of the distribution map of the first stripe and the second stripe and the height of the side of the virtual plane comparing the difference, pulp programs that have a flatness measurement step of evaluating the flatness Px and the second ridges and the first ridges.
前記平面度測定工程で得られた前記平面度Pxに基づき、前記所定の範囲の前記第一の条部と前記第二の条部とを辺とする平面において、前記辺を許容範囲の平面度の辺とするための前記架台の高さ調整量を算出する第二の算出ステップを有する請求項記載のプログラム。 Based on the flatness Px obtained in the flatness measuring step, on a plane having the first ridge and the second ridge in the predetermined range as a side, the flatness in an allowable range of the side. The program according to claim 7, further comprising a second calculation step of calculating a height adjustment amount of the gantry for setting a side of the frame.
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CN114838639A (en) * 2022-04-20 2022-08-02 湖北三江航天万峰科技发展有限公司 Discontinuous spatial combination detection platform and flatness detection method thereof

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112945176A (en) * 2021-01-21 2021-06-11 武汉船用机械有限责任公司 Device and method for detecting straightness of inner cavity of part
CN112945176B (en) * 2021-01-21 2022-11-01 武汉船用机械有限责任公司 Device and method for detecting straightness of inner cavity of part
CN114838639A (en) * 2022-04-20 2022-08-02 湖北三江航天万峰科技发展有限公司 Discontinuous spatial combination detection platform and flatness detection method thereof
CN114838639B (en) * 2022-04-20 2023-12-15 湖北三江航天万峰科技发展有限公司 Discontinuous space combination detection platform and flatness detection method thereof

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