JP6643691B2 - Solder paste - Google Patents

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Description

本発明は、ソルダペーストに関する。   The present invention relates to a solder paste.

電子機器の基板への電子部品の接合及び組立ては、コスト面及び信頼性の観点から、ソルダペーストを用いたはんだ付けにより行われることが多い。   Bonding and assembling of electronic components to a substrate of an electronic device are often performed by soldering using a solder paste from the viewpoint of cost and reliability.

ソルダペーストを電子機器の基板へ塗布する方法としては、例えば、メタルマスクを用いたスクリーン印刷を用いる方法がある。この場合、ソルダペーストの印刷性を確保するために、ソルダペーストの粘度を適度に調整する必要がある。しかし、ソルダペーストは、保存安定性に劣り、その結果、ソルダペーストの粘度が経時的に上昇することがある。   As a method of applying a solder paste to a substrate of an electronic device, for example, there is a method of using screen printing using a metal mask. In this case, it is necessary to appropriately adjust the viscosity of the solder paste in order to secure printability of the solder paste. However, the solder paste has poor storage stability, and as a result, the viscosity of the solder paste may increase with time.

また、ソルダペーストを構成するはんだ材料において、液相線温度(TL)と固相線温度(TS)との差(ΔT=TL−TS)が大きくなると、例えば、電子機器の基板にソルダペーストを塗布し、凝固させる際にはんだ材料の組織が不均一となりやすく、その結果、将来的な信頼性が低下することがある。 Further, in the solder material forming the solder paste, the difference between the liquidus temperature (T L) and the solidus temperature (T S) (ΔT = T L -T S) increases, for example, the electronic device substrate When a solder paste is applied and solidified, the structure of the solder material is likely to be non-uniform, and as a result, reliability in the future may decrease.

更に、一般的にはんだ材料には、溶融した際に電子部品の金属上を広がっていく性質(濡れ性)が求められるところ、P、Ge、Gaなどの元素を添加した場合には、はんだ材料の濡れ性が低下してしまう。はんだ材料の濡れ性が悪いとはんだ付け不良が発生する原因になる。   Further, in general, a solder material is required to have a property of spreading on a metal of an electronic component when melted (wettability). However, when an element such as P, Ge, or Ga is added, the solder material The wettability of the film decreases. Poor wettability of the solder material causes poor soldering.

特許文献1には、無鉛系はんだ粉末、ロジン系樹脂、活性剤、溶剤、及びヒンダードフェノール系化合物を含有するソルダペーストが開示されている。この文献には、無鉛系はんだ粉末にヒンダードフェノール系化合物を組み合わせると、無鉛系はんだ粉末とソルダペースト膜のリフロー時の劣化が防止できることが開示されている。この文献には、Sn:96.5質量%、Ag:3.0質量%、Cu:0.5質量%の組成を有する無鉛系はんだ粉末を用いた実施例のみが開示されている。   Patent Literature 1 discloses a solder paste containing a lead-free solder powder, a rosin resin, an activator, a solvent, and a hindered phenol compound. This document, the combination of hindered phenol compound non-lead-based solder powder, it is disclosed that the deterioration during the reflow of lead-free solder powder and a solder paste layer can be prevented. This document discloses only an example using a lead-free solder powder having a composition of 96.5% by mass of Sn, 3.0% by mass of Ag, and 0.5% by mass of Cu.

特開2002−283097号公報JP 2002-283097 A

しかしながら、特許文献1には、経時的な粘度上昇を抑制したり、信頼性及び濡れ性に優れたりすることを目的としてものではない。このため、増粘抑制効果、信頼性及び濡れ性をバランスよく両立させたソルダペーストが望まれている。   However, Patent Literature 1 does not aim at suppressing a rise in viscosity over time or attaining excellent reliability and wettability. For this reason, a solder paste that balances the effect of suppressing viscosity increase, reliability and wettability in a well-balanced manner is desired.

したがって、本発明は、増粘抑制効果、信頼性及び濡れ性をバランスよく両立可能なソルダペーストを提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a solder paste capable of achieving a balance between the effect of suppressing thickening, reliability and wettability.

本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意研究した結果、はんだ材料とフラックスとからなるソルダペーストであって、はんだ材料が、Sn又はSn系合金、及び特定の割合でAs、Sb、Bi及びPbを含有し、フラックスがヒンダードフェノール系化合物を含有することにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。   The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-described problems, and as a result, have found that a solder paste composed of a solder material and a flux, wherein the solder material is Sn or a Sn-based alloy and a specific ratio of As, Sb, Bi And Pb, and that the flux contained a hindered phenolic compound could solve the above problems, and completed the present invention.

すなわち、本発明のソルダペーストは、はんだ材料とフラックスとからなるソルダペーストであって、前記はんだ材料が、Sn又はSn系合金、20〜300質量ppmのAs、0〜3000質量ppmのSb、0〜10000質量ppmのBi及び0〜5100質量ppmのPb(ただし、Bi及びPbの含有量が同時に0質量ppmになることはない)を含有し、前記フラックスが、ヒンダードフェノール系化合物を含有する。   That is, the solder paste of the present invention is a solder paste comprising a solder material and a flux, wherein the solder material is Sn or a Sn-based alloy, 20 to 300 mass ppm of As, 0 to 3000 mass ppm of Sb, 0 It contains Bi of 10000 mass ppm and Pb of 0 to 5100 mass ppm (however, the contents of Bi and Pb do not become 0 mass ppm at the same time), and the flux contains a hindered phenol compound. .

本発明によれば、増粘抑制効果、信頼性及び濡れ性をバランスよく両立可能なソルダペーストを提供可能である。   Advantageous Effects of Invention According to the present invention, it is possible to provide a solder paste capable of achieving a balance between a thickening suppression effect, reliability, and wettability.

以下、本発明を実施するための形態(以下、「本実施形態」という。)について説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。   Hereinafter, a mode for carrying out the present invention (hereinafter, referred to as “the present embodiment”) will be described. However, the present invention is not limited to this, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.

本明細書において、「増粘抑制効果」とは、ソルダペーストを調製した際に、調製したソルダペーストの経時的な粘度上昇を抑制できる効果をいう。   In the present specification, the “thickening suppression effect” refers to an effect that, when a solder paste is prepared, a rise in viscosity of the prepared solder paste over time can be suppressed.

なお、本明細書において、各元素の含有量は、例えば、JIS Z 3910 に準拠にしてICP−AESで分析することにより測定することができる。   In the present specification, the content of each element can be measured, for example, by analyzing with ICP-AES in accordance with JIS Z3910.

[ソルダペースト]
本実施形態のソルダペーストは、はんだ材料とフラックスとからなるソルダペーストである。はんだ材料は、Sn又はSn系合金、20〜300質量ppmのAs、0〜3000質量ppmのSb、0〜10000質量ppmのBi及び0〜5100質量ppmのPb(ただし、Bi及びPbの含有量が同時に0質量ppmになることはない)を含有する。ただし、Bi及びPbの含有量が同時に0質量ppmになることはなく、Sb、Bi及びPbのうちの2種類以上が含まれていること(2種以上の含有量が0質量ppm超)が好ましく、Sb、Bi及びPbのすべてが含まれていること(3種すべての含有量が0質量ppm超)も好ましい。
[Solder paste]
The solder paste of the present embodiment is a solder paste composed of a solder material and a flux. The solder material is Sn or a Sn-based alloy, 20 to 300 mass ppm of As, 0 to 3000 mass ppm of Sb, 0 to 10000 mass ppm of Bi, and 0 to 5100 mass ppm of Pb (however, the content of Bi and Pb Are not simultaneously reduced to 0 ppm by mass). However, the content of Bi and Pb does not become 0 mass ppm at the same time, and the fact that two or more types of Sb, Bi and Pb are contained (the content of two or more types exceeds 0 mass ppm) is required. It is also preferable that all of Sb, Bi and Pb are contained (the content of all three is more than 0 mass ppm).

フラックスは、ヒンダードフェノール系化合物を含有する。本実施形態のソルダペーストは、上記の構成を備えることにより、増粘抑制効果を向上できる。また、本実施形態のソルダペーストを構成するはんだ材料は、上記の構成を備えることにより、液相線温度(TL)と固相線温度(TS)との差(ΔT=TL−TS)を小さくできる。このため、例えば、上記はんだ材料を含有するソルダペーストを電子機器の基板に塗布し、凝固させても、ソルダペーストは、はんだ材料の組織の均一性を保つことができる。その結果、ソルダペーストは、サイクル特性等の信頼性に優れる。更に、本実施形態のソルダペーストを構成するはんだ材料は、上記の構成を備えることにより、濡れ性に優れるため、はんだ付け不良の発生を抑制できる。このように、ソルダペーストは、上記構成を備えることにより、増粘抑制効果、信頼性及び濡れ性をバランスよく両立できる。 The flux contains a hindered phenol compound. The solder paste of the present embodiment can improve the effect of suppressing thickening by having the above configuration. Further, the solder material constituting the solder paste of the present embodiment has the above-described configuration, so that the difference between the liquidus temperature (T L ) and the solidus temperature (T S ) (ΔT = T L −T S ) can be reduced. For this reason, for example, even when the solder paste containing the solder material is applied to a substrate of an electronic device and solidified, the solder paste can keep the structure of the solder material uniform. As a result, the solder paste is excellent in reliability such as cycle characteristics. Furthermore, since the solder material constituting the solder paste of the present embodiment has the above-described configuration and is excellent in wettability, it is possible to suppress the occurrence of poor soldering. As described above, the solder paste having the above-described configuration can achieve both a thickening suppressing effect, reliability, and wettability in a well-balanced manner.

(はんだ材料)
はんだ材料は、Sn又はSn系合金を含有する。Sn又はSn系合金は、不可避不純物を含んでもよい。
(Solder material)
The solder material contains Sn or a Sn-based alloy. Sn or a Sn-based alloy may contain unavoidable impurities.

Snは、例えば、99.9%以上の純度を有するSn(3N材)であってもよく、99.99%以上の純度を有するSn(4N材)であってもよく、99.999%の純度を有するSn(5N材)であってもよい。   Sn, for example, may be a Sn (3N material) having a purity of 99.9% or more, may be a Sn (4N material) having a purity of 99.99% or more, of 99.999% Sn (5N material) having a purity may be used.

Snの含有量は、はんだ材料全体に対して、例えば、40質量%以上であってもよく、50質量%以上であってもよく、70質量%以上であってもよく、90質量%以上であってもよい。   The Sn content may be, for example, 40% by mass or more, 50% by mass or more, 70% by mass or more, or 90% by mass or more based on the entire solder material. There may be.

Sn系合金としては、例えば、Sn−Ag合金、Sn−Cu合金、Sn−Ag−Cu合金、Sn−Ag−Cu−Ni−Co合金、Sn−In合金、Sn−Sb合金等の組成を有する合金、上記組成を有する合金にAs、Ag、Cu、In、Ni、Co、Ge、P、Fe、Zn、Al、Ga等を添加した合金が挙げられる。Sn系合金中のSnの含有量は、特に限定されず、例えば、40質量%超とすることができる。   Examples of the Sn-based alloy include compositions such as a Sn-Ag alloy, a Sn-Cu alloy, a Sn-Ag-Cu alloy, a Sn-Ag-Cu-Ni-Co alloy, a Sn-In alloy, and a Sn-Sb alloy. Alloys, alloys having the above composition, and alloys to which As, Ag, Cu, In, Ni, Co, Ge, P, Fe, Zn, Al, Ga, and the like are added. The content of Sn in the Sn-based alloy is not particularly limited, and may be, for example, more than 40% by mass.

Sn及びSn系合金は、ΔTを小さくすることにより、信頼性に優れる観点から、Sn、Sn−Cu合金、又はSn−Ag−Cu合金であることが好ましい。Sn−Cu合金は、同様の観点から、0を超え、1.0質量%以下(好ましくは0.5〜1.0質量%)のCuを含有し、残部がSnであることが好ましい。Sn−Ag−Cu合金は、同様の観点から、0を超え、3.5質量%以下(好ましくは1.0〜3.5質量%)のAgを含有し、0を超え、1.0質量%以下(好ましくは0.1〜1.0質量%)のCuを含有し、残部がSnであることが好ましい。   The Sn and the Sn-based alloy are preferably Sn, a Sn—Cu alloy, or a Sn—Ag—Cu alloy from the viewpoint of excellent reliability by reducing ΔT. From a similar viewpoint, the Sn-Cu alloy preferably contains more than 0 and 1.0 mass% or less (preferably 0.5 to 1.0 mass%) of Cu, with the balance being Sn. From a similar viewpoint, the Sn-Ag-Cu alloy contains more than 0 to 3.5% by mass (preferably 1.0 to 3.5% by mass) of Ag, and more than 0 to 1.0% by mass. % (Preferably 0.1 to 1.0% by mass) of Cu, and the balance is preferably Sn.

Agの含有量は、ΔTを小さくすることにより、信頼性に優れる観点から、はんだ材料全体に対して0.05〜3.5質量%であることが好ましく、0.1〜3.0質量%であることがより好ましく、0.5〜3.0質量%であることが更に好ましい。また、Cuの含有量は、ΔTを小さくすることにより、信頼性に優れる観点から、はんだ材料全体に対して0.01〜0.9質量%であることが好ましく、0.05〜0.75質量%であることがより好ましく、0.1〜0.7質量%であることが更に好ましい。なお、上記のAg及びCuの含有量の好ましい数値範囲は各々独立したものであって、Ag及びCuの含有量は各々独立して決定することができる。   The content of Ag is preferably 0.05 to 3.5% by mass and 0.1 to 3.0% by mass with respect to the entire solder material from the viewpoint of excellent reliability by reducing ΔT. Is more preferable, and it is still more preferable that it is 0.5 to 3.0 mass%. Further, the content of Cu is preferably 0.01 to 0.9% by mass, and more preferably 0.05 to 0.75% by mass with respect to the entire solder material from the viewpoint of excellent reliability by reducing ΔT. %, More preferably 0.1 to 0.7% by mass. The preferred numerical ranges for the Ag and Cu contents are independent of each other, and the Ag and Cu contents can be determined independently of each other.

はんだ材料は、20〜300質量ppmのAsを含有する。Asの含有量が20質量ppm以上であることにより、粘度上昇が抑制され、増粘抑制効果に優れる。Asの含有量が300質量ppm以下であることにより、濡れ性が劣化することを一層抑制できる。このため、Asの含有量が20〜300質量ppmであることにより、本実施形態のソルダペーストは、増粘抑制効果及び信頼性をバランスよく両立できる。同様の観点から、Asの含有量は、はんだ材料全体に対して、30〜250質量ppmであることが好ましく、50〜200質量ppmであることがより好ましい。Asは、Sn又はSn系合金と共に(例えば、金属間化合物や固溶体等)を構成していてもよいし、Sn系合金とは別に、例えばAs単体や酸化物として、存在していてもよい。   Solder materials contain As of 20 to 300 mass ppm. When the content of As is 20 mass ppm or more, an increase in viscosity is suppressed, and the effect of suppressing thickening is excellent. When the content of As is 300 mass ppm or less, deterioration of wettability can be further suppressed. For this reason, when the content of As is 20 to 300 mass ppm, the solder paste of the present embodiment can achieve both the thickening suppressing effect and the reliability in a well-balanced manner. From the same viewpoint, the content of As is preferably from 30 to 250 ppm by mass, more preferably from 50 to 200 ppm by mass, based on the entire solder material. As may be included with Sn or an Sn-based alloy (for example, an intermetallic compound or a solid solution), or may be present separately from the Sn-based alloy, for example, as As alone or as an oxide.

本実施形態において、はんだ材料全体の質量に対するSbの含有量は0〜3000質量ppm、Biの含有量は0〜10000質量ppm、Pbの含有量は0〜5100質量ppmである。Sb、Bi又はPbが十分に存在していると粘度上昇が抑制される傾向にある。その理由は明らかではないが、これらの元素はSnに対して貴な金属であり、そのため、Sn−Sb/Bi/Pb合金はSnよりもイオン化しにくく、フラックスへのイオン状態(塩)としての溶出が起こりにくくなるためと考えられる。ただし、機序はこれによらない。また、Bi及びPbは、はんだ材料がAsを含む場合に起こる濡れ性の低下を抑制する傾向もある。一方で、Bi及びPbの含有量が大きすぎると、固相線温度が低下し、液相線温度(TL)と固相線温度(TS)との差(ΔT=TL−TS)が大きくなり、溶融はんだの凝固過程において、BiやPbの含有量が少ない高融点の結晶相が先に析出し、その後、BiやPbの濃度が高い低融点の結晶相が偏析するため、はんだ材料の機械的強度等が劣化し、サイクル特性等の信頼性を低下させるおそれがある。特に、Bi濃度が高い結晶相は硬くて脆いため、はんだ材料中で偏析すると信頼性が著しく低下するおそれがある。 In the present embodiment, the content of Sb is 0 to 3000 mass ppm, the content of Bi is 0 to 10000 mass ppm, and the content of Pb is 0 to 5100 mass ppm with respect to the mass of the entire solder material. When Sb, Bi, or Pb is sufficiently present, the increase in viscosity tends to be suppressed. Although the reason is not clear, these elements are noble metals with respect to Sn, and therefore, the Sn—Sb / Bi / Pb alloy is less ionizable than Sn, and as an ion state (salt) to the flux. It is considered that elution hardly occurs. However, the mechanism does not depend on this. Bi and Pb also tend to suppress a decrease in wettability that occurs when the solder material contains As. On the other hand, if the contents of Bi and Pb are too large, the solidus temperature decreases, and the difference between the liquidus temperature (T L ) and the solidus temperature (T S ) (ΔT = T L −T S). ) Increases, and in the solidification process of the molten solder, a high melting point crystal phase having a low Bi or Pb content is deposited first, and then a low melting point crystal phase having a high Bi or Pb concentration is segregated. There is a possibility that the mechanical strength and the like of the solder material are deteriorated and the reliability such as cycle characteristics is reduced. In particular, since the crystal phase having a high Bi concentration is hard and brittle, the segregation in the solder material may significantly reduce the reliability.

以上の観点から、Sb、Bi及びPbの含有量の好ましい範囲は以下の通りである。
Sb含有量の下限は、好ましくは25質量ppm以上であり、より好ましくは50質量ppm以上であり、さらに好ましくは100質量ppm以上であり、特に好ましくは300質量ppm以上である。また、Sb含有量の上限は、好ましくは1150質量ppm以下であり、より好ましくは500質量ppm以下である。
From the above viewpoints, preferred ranges of the contents of Sb, Bi and Pb are as follows.
The lower limit of the Sb content is preferably at least 25 ppm by mass, more preferably at least 50 ppm by mass, further preferably at least 100 ppm by mass, particularly preferably at least 300 ppm by mass. The upper limit of the Sb content is preferably 1150 ppm by mass or less, more preferably 500 ppm by mass or less.

Bi含有量の下限は、好ましくは25質量ppm以上であり、より好ましくは50質量ppm以上であり、さらに好ましくは75質量ppm以上であり、特に好ましくは100質量ppm以上であり、最も好ましくは250質量ppm以上である。また、Bi含有量の上限は、好ましくは1000質量ppm以下であり、より好ましくは600質量ppm以下であり、さらに好ましくは500質量ppm以下である。
Pb含有量の下限は、好ましくは25質量ppm以上であり、より好ましくは50質量ppm以上であり、さらに好ましくは75質量ppm以上であり、特に好ましくは100質量ppm以上であり、最も好ましくは250質量pp以上である。また、Pb含有量の上限は、好ましくは5000質量ppm以下であり、より好ましくは1000質量ppm以下であり、さらに好ましくは850質量ppm以下であり、特に好ましくは500質量ppm以下である。
The lower limit of the Bi content is preferably 25 mass ppm or more, more preferably 50 mass ppm or more, further preferably 75 mass ppm or more, particularly preferably 100 mass ppm or more, and most preferably 250 mass ppm or more. It is not less than ppm by mass. The upper limit of the Bi content is preferably 1000 ppm by mass or less, more preferably 600 ppm by mass or less, and further preferably 500 ppm by mass or less.
The lower limit of the Pb content is preferably 25 mass ppm or more, more preferably 50 mass ppm or more, further preferably 75 mass ppm or more, particularly preferably 100 mass ppm or more, and most preferably 250 mass ppm or more. It is not less than the mass pp. The upper limit of the Pb content is preferably 5,000 ppm by mass or less, more preferably 1,000 ppm by mass or less, further preferably 850 ppm by mass or less, and particularly preferably 500 ppm by mass or less.

Sb、Bi、及び、Pbは、はんだ材料全体の質量に対する含有量が上述の条件を満たしていれば、全部がSnやSn系合金と共に合金(金属間化合物や固溶体等)を構成していてもよいし、その一部がSn系合金とは別に存在していてもよい。   If the content of Sb, Bi, and Pb with respect to the mass of the entire solder material satisfies the above-mentioned conditions, even if all of them constitute an alloy (intermetallic compound, solid solution, or the like) together with Sn or an Sn-based alloy. Alternatively, a part thereof may be present separately from the Sn-based alloy.

本実施形態において、As、Sb、Bi、及びPbの含有量は、下記(1)式を満たすことが好ましい。
275≦2As+Sb+Bi+Pb (1)
In the present embodiment, the contents of As, Sb, Bi, and Pb preferably satisfy the following expression (1).
275 ≦ 2As + Sb + Bi + Pb (1)

上記(1)式中、As、Sb、Bi、及びPbは、各々のはんだ材料中の含有量(質量ppm)を表す。   In the above formula (1), As, Sb, Bi, and Pb represent the contents (mass ppm) in each solder material.

As、Sb、Bi及びPbは、いずれもペーストとしたときの粘土上昇を抑制する効果(増粘抑制効果)を示す元素であるので、増粘抑制の観点からは、これらの合計が275ppm以上であることが好ましい。(1)式中、As含有量を2倍にしたのは、AsがSbやBiやPbと比較して増粘抑制効果が高いためである。   As, Sb, Bi and Pb are elements each exhibiting the effect of suppressing the rise of clay (thickening suppression effect) when made into a paste, so that from the viewpoint of suppression of thickening, the total of these elements is 275 ppm or more. Preferably, there is. In the formula (1), the reason why the As content is doubled is that As has a higher effect of suppressing thickening than Sb, Bi, or Pb.

2As+Sb+Bi+Pbは、好ましくは350以上であり、より好ましくは1200以上である。一方、2As+Sb+Bi+Pbに上限はないが、ΔTを適した範囲にする観点から、好ましくは25200であり、より好ましくは18600以下であり、更に好ましくは10200以下であり、特に好ましくは5300以下(好ましくは3800以下)である。   2As + Sb + Bi + Pb is preferably 350 or more, more preferably 1200 or more. On the other hand, there is no upper limit for 2As + Sb + Bi + Pb, but from the viewpoint of setting ΔT in a suitable range, it is preferably 25200, more preferably 18600 or less, further preferably 10200 or less, particularly preferably 5300 or less (preferably 3800 or less). Below).

上記好ましい態様の中から上限および下限を適宜選択したものが、下記(1a)式および(1b)式である。   The following formulas (1a) and (1b) are those in which the upper and lower limits are appropriately selected from the above preferred embodiments.

275≦2As+Sb+Bi+Pb≦25200 (1a)
275≦2As+Sb+Bi+Pb≦5300 (1b)
上記(1a)及び(1b)式中、As、Sb、Bi、及びPbは、各々のはんだ材料中の含有量(質量ppm)を表す。
275 ≦ 2As + Sb + Bi + Pb ≦ 25200 (1a)
275 ≦ 2As + Sb + Bi + Pb ≦ 5300 (1b)
In the above formulas (1a) and (1b), As, Sb, Bi, and Pb represent the contents (ppm by mass) in each solder material.

本実施形態において、As、Sb、Bi、及びPbの含有量は、下記(2)式を満たすことが好ましい。
0.01≦(2As+Sb)/(Bi+Pb)≦10.00 (2)
上記(2)式中、As、Sb、Bi、及びPbは、各々のはんだ材料中の含有量(質量ppm)を表す。
In the present embodiment, the contents of As, Sb, Bi, and Pb preferably satisfy the following expression (2).
0.01 ≦ (2As + Sb) / (Bi + Pb) ≦ 10.00 (2)
In the above formula (2), As, Sb, Bi, and Pb represent the contents (mass ppm) in each solder material.

一般に、As及びSbの含有量が多いとはんだ材料の濡れ性が劣化する傾向にある。一方、Bi及びPbは、Asを含有することによる濡れ性の劣化を抑制するが、含有量が多すぎるとΔTが広がるため、厳密な管理が必要である。特に、Bi及びPbを同時に含有する合金組成では、ΔTが広がりやすく、BiおよびPbの含有量を増加させて過度に濡れ性を向上させようとするとΔTが広がってしまう。一方、AsやSbの含有量を増加させて増粘抑制効果を向上させようとすると濡れ性が劣化してしまう。しかし、As及びSbのグループと、Bi及びPbのグループに分け、両グループの合計含有量が式(2)の関係を満足するようにすれば、As及びSbのグループとBi及びPbグループの含有量の間のバランスが適正になり、増粘抑制効果、ΔTの狭窄化、および濡れ性のすべてを同時に満たすことができる。   Generally, when the content of As and Sb is large, the wettability of the solder material tends to deteriorate. On the other hand, Bi and Pb suppress the deterioration of wettability due to the inclusion of As. However, if the content is too large, ΔT increases, so strict control is required. In particular, in an alloy composition containing both Bi and Pb, ΔT easily spreads, and if the content of Bi and Pb is increased to improve the wettability excessively, ΔT will increase. On the other hand, when the content of As or Sb is increased to improve the effect of suppressing thickening, wettability deteriorates. However, if the group is divided into the group of As and Sb and the group of Bi and Pb, and the total content of both groups satisfies the relationship of equation (2), the content of the group of As and Sb and the group of Bi and Pb The balance between the amounts becomes appropriate, and the effect of suppressing thickening, narrowing of ΔT, and wettability can all be satisfied at the same time.

(2As+Sb)/(Bi+Pb)が0.01未満であると、Bi及びPbの含有量の合計がAs及びPbの含有量の合計と比較して相対的に多くなるため、ΔTが広がってしまう。(2As+Sb)/(Bi+Pb)は0.01以上であることが好ましく、より好ましくは0.02以上であり、さらに好ましくは0.41以上であり、なお好ましくは0.90以上であり、特に好ましくは1.00以上であり、最も好ましくは1.40以上である。一方、(2As+Sb)/(Bi+Pb)が10.00を超えると、As及びSbの含有量の合計がBi及びPbの含有量の合計より相対的に多くなるため、濡れ性が劣化してしまう。(2As+Sb)/(Bi+Pb)は10.00以下であることが好ましく、より好ましくは5.33以下であり、さらに好ましくは4.50以下であり、なお好ましくは2.67以下であり、特に好ましくは4.18以下であり、最も好ましくは2.30以下である。   If (2As + Sb) / (Bi + Pb) is less than 0.01, the total content of Bi and Pb is relatively large as compared to the total content of As and Pb, and thus ΔT is widened. (2As + Sb) / (Bi + Pb) is preferably 0.01 or more, more preferably 0.02 or more, further preferably 0.41 or more, still more preferably 0.90 or more, and particularly preferably. Is 1.00 or more, and most preferably 1.40 or more. On the other hand, when (2As + Sb) / (Bi + Pb) exceeds 10.00, the total content of As and Sb becomes relatively larger than the total content of Bi and Pb, and the wettability deteriorates. (2As + Sb) / (Bi + Pb) is preferably 10.00 or less, more preferably 5.33 or less, still more preferably 4.50 or less, still more preferably 2.67 or less, and particularly preferably. Is 4.18 or less, most preferably 2.30 or less.

なお、(2)式の分母は「Bi+Pb」であるので、式(2)が満たされる場合には、BiおよびPbのうちの少なくとも1種が必ず含有されることになる。Bi及びPbのいずれも含有しないはんだ材料は、前述のように、濡れ性が劣る傾向にある。   Since the denominator of the expression (2) is “Bi + Pb”, when the expression (2) is satisfied, at least one of Bi and Pb is necessarily contained. As described above, a solder material containing neither Bi nor Pb tends to have poor wettability.

上記好ましい態様の中から上限および下限を適宜選択したものが、下記(2a)式である。   The following formula (2a) is obtained by appropriately selecting the upper limit and the lower limit from the above preferred embodiments.

0.31≦(2As+Sb)/(Bi+Pb)≦10.00 (2a)
上記(2a)式中、As、Sb、Bi、及びPbは、各々のはんだ材料中の含有量(質量ppm)を表す。
0.31 ≦ (2As + Sb) / (Bi + Pb) ≦ 10.00 (2a)
Above (2a) wherein, As, Sb, Bi, and Pb represents the content of each of solder material (mass ppm).

なお、本実施形態において、As、Sb、Bi及びPbの含有量は、上述の式(1)及び式(2)の少なくとも一方を満たしていることが好ましく、両方満たしていることがより好ましい。   In the present embodiment, the content of As, Sb, Bi, and Pb preferably satisfies at least one of the above formulas (1) and (2), and more preferably satisfies both.

本実施形態において、ソルダペーストは、酸化ジルコニウム粉末をさらに含むことができる。ソルダペースト全体の質量に対する酸化ジルコニウム粉末の含有量は、0.05〜20.0質量%が好ましく、0.05〜10.0質量%がより好ましく、0.1〜3質量%が最も好ましい。酸化ジルコニウム粉末の含有量が上記範囲内であれば、フラックスに含まれる活性剤が酸化ジルコニウム粉末と優先的に反応し、はんだ粉末表面のSnやSn酸化物との反応が起こりにくくなることで経時変化による粘度上昇を更に抑制する効果が発揮される。   In this embodiment, the solder paste may further include a zirconium oxide powder. The content of the zirconium oxide powder based on the total mass of the solder paste is preferably 0.05 to 20.0% by mass, more preferably 0.05 to 10.0% by mass, and most preferably 0.1 to 3% by mass. When the content of the zirconium oxide powder is within the above range, the activator contained in the flux reacts preferentially with the zirconium oxide powder, and the reaction with Sn or Sn oxide on the surface of the solder powder becomes less likely to occur. The effect of further suppressing the increase in viscosity due to the change is exhibited.

ソルダペーストに添加する酸化ジルコニウム粉末の粒径の上限に限定はないが、5μm以下であることが好ましい。粒径が5μm以下であるとペーストの印刷性を維持することができる。また、下限も特に限定されることはないが、0.5μm以上であることが好ましい。上記粒径は、酸化ジルコニウム粉末のSEM写真を撮影し、視野内に存在する各粒子について画像解析により投影円相当径を求めたときの、投影円相当径が0.1μm以上であるものの投影円相当径の平均値とする。酸化ジルコニウム粒子の形状は特に限定されないが、異形状であればフラックスとの接触面積が大きく増粘抑制効果がある。球形であると良好な流動性が得られるためにペーストとしての優れた印刷性が得られる。所望の特性に応じて適宜形状を選択すればよい。   The upper limit of the particle size of the zirconium oxide powder added to the solder paste is not limited, but is preferably 5 μm or less. When the particle size is 5 μm or less, the printability of the paste can be maintained. The lower limit is not particularly limited, but is preferably 0.5 μm or more. The above-mentioned particle diameter is obtained by taking an SEM photograph of the zirconium oxide powder and obtaining the equivalent diameter of the projected circle by image analysis for each particle present in the visual field. The average value of the equivalent diameter is used. The shape of the zirconium oxide particles is not particularly limited, but a different shape has a large contact area with the flux and has an effect of suppressing thickening. Spherical shape provides good fluidity, and therefore excellent printability as a paste. What is necessary is just to select a shape suitably according to a desired characteristic.

本実施形態のはんだ材料の製造方法としては、特に限定されず、例えば、原料金属を溶融混合することにより製造する方法が挙げられる。   The method for manufacturing the solder material of the present embodiment is not particularly limited, and includes, for example, a method of manufacturing by melting and mixing raw metal.

本実施形態において、はんだ材料の形態は、特に限定されず、例えば、粉末状の形態(はんだ粉末)等の粒子状の形態であってもよい。はんだ材料の形態は、流動性に優れる観点から、粒子状の形態であることが好ましく、粉末状の形態であることがより好ましい。   In the present embodiment, the form of the solder material is not particularly limited, and may be, for example, a particulate form such as a powder form (solder powder). The form of the solder material is preferably a particulate form, and more preferably a powder form, from the viewpoint of excellent fluidity.

粒子状のはんだ材料の製造方法としては、例えば、溶融させたはんだ材料を滴下して粒子を得る滴下法や遠心噴霧する噴霧法、バルクのはんだ材料を粉砕する方法等が挙げられる。滴下法や噴霧法において、滴下や噴霧は、粒子状とするために不活性雰囲気や溶媒中で行うことが好ましい。   Examples of the method for producing the particulate solder material include a dropping method of dropping a molten solder material to obtain particles, a spraying method of centrifugal spraying, and a method of pulverizing a bulk solder material. In the dropping method or the spraying method, the dropping or spraying is preferably performed in an inert atmosphere or a solvent in order to form particles.

また、はんだ材料が粒子状である場合、はんだ材料は、JIS Z 3284−1:204における粉末サイズの分類(表2)において記号1〜8に該当するサイズ(粒度分布)を有していることが好ましく、記号4〜8に該当するサイズ(粒度分布)を有していることがより好ましく、記号5〜8に該当するサイズ(粒度分布)を有していることが更に好ましい。これにより、微細な部品へのはんだ付けが可能となる。 Further, when the solder material is particulate, the solder material, JIS Z 3284-1: 20 1 4 Classification of powder size in a size corresponding to the symbol 1-8 in (Table 2) (particle size distribution) It is preferable to have a size (particle size distribution) corresponding to the symbols 4 to 8, and more preferably to have a size (particle size distribution) corresponding to the symbols 5 to 8. This enables soldering to fine components.

[フラックス]
本明細書において、「フラックス」とは、ソルダペーストにおけるはんだ材料以外の成分全体をいう。
[flux]
In the present specification, the term “flux” refers to all components other than the solder material in the solder paste.

フラックスは、金属不活性化剤としてヒンダードフェノール系化合物を含有する。フラックスがヒンダードフェノール系化合物を含有することにより、はんだ材料は、増粘抑制効果を向上できる。   The flux contains a hindered phenol compound as a metal deactivator. When the flux contains the hindered phenol-based compound, the solder material can improve the effect of suppressing thickening.

ヒンダードフェノール系化合物とは、フェノールのオルト位の少なくとも一方に嵩高い置換基(例えばt−ブチル基等の分岐状又は環状アルキル基)を有するフェノール系化合物をいう。ヒンダードフェノール系化合物としては、特に限定されず、例えば、ビス[3−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオン酸][エチレンビス(オキシエチレン)]、N,N’−ヘキサメチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンアミド]、1,6−ヘキサンジオールビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオナート]、2,2’−メチレンビス[6−(1−メチルシクロヘキシル)−p−クレゾール]、2,2’−メチレンビス(6−tert−ブチル−p−クレゾール)、2,2’−メチレンビス(6−tert−ブチル−4−エチルフェノール)、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−tert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,6−ヘキサンジオール−ビス−〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、2,2−チオ−ジエチレンビス〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン等が挙げられる。これらのヒンダードフェノール系化合物は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。   The hindered phenol compound refers to a phenol compound having a bulky substituent (for example, a branched or cyclic alkyl group such as a t-butyl group) in at least one of the ortho positions of phenol. The hindered phenol compound is not particularly limited, and for example, bis [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionic acid] [ethylenebis (oxyethylene)], N, N '-Hexamethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propanamide], 1,6-hexanediol bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4) -Hydroxyphenyl) propionate], 2,2′-methylenebis [6- (1-methylcyclohexyl) -p-cresol], 2,2′-methylenebis (6-tert-butyl-p-cresol), 2,2 ′ -Methylenebis (6-tert-butyl-4-ethylphenol), triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl- -Methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,6-hexanediol-bis- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,4-bis- (n -Octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino) -1,3,5-triazine, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4 -Hydroxyphenyl) propionate], 2,2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- (3,5-di-tert- Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, N, N'-hexamethylenebis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy-hydro) Cannamamide), 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzylphosphonate-diethyl ester, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl- 4-hydroxybenzyl) benzene and the like. These hindered phenol compounds are used alone or in combination of two or more.

ヒンダードフェノール系化合物の含有量は、フラックス全体に対して、0.5〜10質量%であることが好ましい。含有量が0.5質量%以上であることにより、ソルダペーストは、増粘抑制効果を一層向上できる。含有量が10質量%以下であることにより、ソルダペーストは、はんだ濡れ性を一層向上できる。同様の観点から、含有量は、1.0〜5.0質量%であることがより好ましく、2.0〜4.0質量%であることが更に好ましい。   The content of the hindered phenol compound is preferably 0.5 to 10% by mass based on the entire flux. When the content is 0.5% by mass or more, the solder paste can further improve the effect of suppressing thickening. When the content is 10% by mass or less, the solder paste can further improve the solder wettability. From the same viewpoint, the content is more preferably 1.0 to 5.0% by mass, and still more preferably 2.0 to 4.0% by mass.

フラックスは、樹脂を含有することが好ましい。樹脂の含有量は、フラックス全体に対して、例えば、30〜60質量%であってもよい。   Preferably, the flux contains a resin. The content of the resin may be, for example, 30 to 60% by mass based on the entire flux.

樹脂としては、特に限定されず、例えば、ロジン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、フェノキシ樹脂、ビニルエーテル系樹脂、テルペン樹脂、変性テルペン樹脂(例えば、芳香族変性テルペン樹脂、水添テルペン樹脂、水添芳香族変性テルペン樹脂等)、テルペンフェノール樹脂、変性テルペンフェノール樹脂(例えば、水添テルペンフェノール樹脂等)、スチレン樹脂、変性スチレン樹脂(例えば、スチレンアクリル樹脂、スチレンマレイン樹脂等)、キシレン樹脂、変性キシレン樹脂(例えば、フェノール変性キシレン樹脂、アルキルフェノール変性キシレン樹脂、フェノール変性レゾール型キシレン樹脂、ポリオール変性キシレン樹脂、ポリオキシエチレン付加キシレン樹脂等)等が挙げられる。これらの樹脂は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。これらの中でも、樹脂は、ロジン系樹脂及び(メタ)アクリル系樹脂からなる群より選択される1種以上であることが好ましい。なお、ここでいう「(メタ)アクリル系樹脂」とは、メタクリル系樹脂及びアクリル系樹脂を包含する概念をいう。   The resin is not particularly limited, and examples thereof include a rosin resin, a (meth) acrylic resin, a urethane resin, a polyester resin, a phenoxy resin, a vinyl ether resin, a terpene resin, and a modified terpene resin (for example, an aromatic modified terpene). Resin, hydrogenated terpene resin, hydrogenated aromatic modified terpene resin, etc.), terpene phenol resin, modified terpene phenol resin (eg, hydrogenated terpene phenol resin, etc.), styrene resin, modified styrene resin (eg, styrene acrylic resin, styrene) Maleene resin), xylene resin, modified xylene resin (eg, phenol-modified xylene resin, alkylphenol-modified xylene resin, phenol-modified resol-type xylene resin, polyol-modified xylene resin, polyoxyethylene-added xylene resin, etc.).These resins may be used alone or in combination of two or more. Among these, the resin is preferably at least one selected from the group consisting of a rosin-based resin and a (meth) acrylic resin. Here, the term “(meth) acrylic resin” refers to a concept including methacrylic resin and acrylic resin.

ロジン系樹脂としては、例えば、ガムロジン、ウッドロジン、トール油ロジン等の原料ロジン、原料ロジンから得られる誘導体が挙げられる。誘導体としては、例えば、精製ロジン、水添ロジン、不均化ロジン、重合ロジン及びα,β不飽和カルボン酸変性物(アクリル化ロジン)、マレイン化ロジン、フマル化ロジン等)、並びに重合ロジンの精製物、水素化物及び不均化物、並びにα,β不飽和カルボン酸変性物の精製物、水素化物、不均化物等が挙げられる。これらのロジン系樹脂は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。   Examples of the rosin-based resin include raw rosins such as gum rosin, wood rosin, and tall oil rosin, and derivatives obtained from the raw rosins. Derivatives include, for example, purified rosin, hydrogenated rosin, disproportionated rosin, polymerized rosin and α, β unsaturated carboxylic acid modified products (acrylated rosin), maleated rosin, fumarated rosin, and the like. Examples include purified products, hydrides and disproportionates, and purified, hydride and disproportionated products of α, β unsaturated carboxylic acid modified products. These rosin-based resins may be used alone or in combination of two or more.

ロジン系樹脂の含有量は、フラックス全体に対して、例えば、30〜60質量%であってもよい。   The content of the rosin-based resin may be, for example, 30 to 60% by mass based on the entire flux.

(メタ)アクリル系樹脂としては、例えば、(メタ)アクリル系モノマーの単独重合体、2種類以上の(メタ)アクリル系モノマーの共重合体が挙げられる。(メタ)アクリル系モノマーとしては、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、クロトン酸、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸ウンデシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸トリデシル、(メタ)アクリル酸テトラデシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸ステアリル等が挙げられる。これらの(メタ)アクリル系樹脂は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。   The (meth) acrylic resin, for example, (meth) homopolymers of acrylic monomers, two or more (meth) include copolymers of acrylic monomers. (Meth) acrylic monomers include (meth) acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, crotonic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid. Hexyl, propyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate , Tetradecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate and the like. These (meth) acrylic resins are used alone or in combination of two or more.

樹脂は、(メタ)アクリル系樹脂を含有することにより、温度サイクル信頼性を向上できる。高温と低温の繰り返しのサーマルストレスを実装部又は接合部に与えた際に、ロジンのような結晶性の高い材料は割れて、その亀裂から吸湿する虞がある。これに対し、樹脂に軟らかい(メタ)アクリル系樹脂を含めることにより、上記亀裂を抑制し、その結果、温度サイクル信頼性を向上できる。(メタ)アクリル系樹脂の含有量は、フラックス全体に対して、例えば、0〜40質量%であり、温度サイクル信頼性に優れる観点から、20〜30質量%であることが好ましい。(メタ)アクリル系樹脂の含有量は、樹脂全体に対して、例えば、0〜80質量%であり、温度サイクル信頼性に優れる観点から、30〜80質量%であることが好ましい。   When the resin contains a (meth) acrylic resin, the temperature cycle reliability can be improved. When a thermal stress of high and low temperatures is repeatedly applied to a mounting portion or a bonding portion, a material having high crystallinity such as rosin may be broken and moisture may be absorbed from the crack. In contrast, by including a soft (meth) acrylic resin in the resin, the cracks can be suppressed, and as a result, the temperature cycle reliability can be improved. The content of the (meth) acrylic resin is, for example, 0 to 40% by mass relative to the entire flux, and preferably 20 to 30% by mass from the viewpoint of excellent temperature cycle reliability. The content of the (meth) acrylic resin is, for example, 0 to 80% by mass relative to the entire resin, and is preferably 30 to 80% by mass from the viewpoint of excellent temperature cycle reliability.

フラックスは、はんだ付け性を向上させるために有機酸系活性剤(有機酸)を含有してもよい。有機酸としては、アジピン酸、アゼライン酸、エイコサン二酸、クエン酸、グリコール酸、コハク酸、サリチル酸、ジグリコール酸、ジピコリン酸、ジブチルアニリンジグリコール酸、スベリン酸、セバシン酸、チオグリコール酸、テレフタル酸、ドデカン二酸、パラヒドロキシフェニル酢酸、ピコリン酸、フェニルコハク酸、フタル酸、フマル酸、マレイン酸、マロン酸、ラウリン酸、安息香酸、酒石酸、イソシアヌル酸トリス(2−カルボキシエチル)、グリシン、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)ブタン酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、2,4−ジエチルグルタル酸、2−キノリンカルボン酸、3−ヒドロキシ安息香酸、リンゴ酸、p−アニス酸、ステアリン酸、12−ヒドロキシステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ダイマー酸、水添ダイマー酸、トリマー酸、水添トリマー酸等が挙げられる。   The flux may contain an organic acid-based activator (organic acid) to improve solderability. Organic acids include adipic acid, azelaic acid, eicosane diacid, citric acid, glycolic acid, succinic acid, salicylic acid, diglycolic acid, dipicolinic acid, dibutylaniline diglycolic acid, suberic acid, sebacic acid, thioglycolic acid, terephthalic acid Acid, dodecandioic acid, parahydroxyphenylacetic acid, picolinic acid, phenylsuccinic acid, phthalic acid, fumaric acid, maleic acid, malonic acid, lauric acid, benzoic acid, tartaric acid, tris (2-carboxyethyl) isocyanurate, glycine, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) butanoic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 2,4-diethylglutaric acid, 2- Quinolinecarboxylic acid, 3-hydroxybenzoic acid, malic acid, p-anisic acid Stearic acid, 12-hydroxystearic acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, dimer acid, hydrogenated dimer acid, trimer acid, hydrogenated trimer acid, and the like.

有機酸の含有量は、フラックス全体に対して、例えば、0〜10質量%であってもよい。   The content of the organic acid may be, for example, 0 to 10% by mass based on the entire flux.

フラックスは、はんだ付け性を向上させるためにアミン系活性剤(アミン)を含有してもよい。アミンとしては、例えば、アミン脂肪族アミン、芳香族アミン、アミノアルコール、イミダゾール、ベンゾトリアゾール、アミノ酸、グアニジン、ヒドラジド等が挙げられる。脂肪族アミンとしては、例えば、ジメチルアミン、エチルアミン、1−アミノプロパン、イソプロピルアミン、トリメチルアミン、アリルアミン、n−ブチルアミン、ジエチルアミン、sec−ブチルアミン、tert−ブチルアミン、N,N−ジメチルエチルアミン、イソブチルアミン、シクロヘキシルアミン等が挙げられる。芳香族アミンとしては、例えば、アニリン、N−メチルアニリン、ジフェニルアミン、N−イソプロピルアニリン、p−イソプロピルアニリン等が挙げられる。アミノアルコールとしては、例えば、2−アミノエタノール、2−(エチルアミノ)エタノール、ジエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリエタノールアミン、N−ブチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−N−シクロヘキシルアミン、N,N,N',N'−テトラキス(2−ヒドロキシプロピル)エチレンジアミン、N,N,N',N'',N''−ペンタキス(2−ヒドロキシプロピル)ジエチレントリアミン等が挙げられる。イミダゾールとしては、例えば、2−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−[2'―メチルイミダゾリル−(1')]―エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2'―ウンデシルイミダゾリル−(1')]―エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2'―エチル−4'―メチルイミダゾリル−(1')]―エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2'―メチルイミダゾリル−(1')]―エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾール、1−ドデシル−2−メチル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライド、2−メチルイミダゾリン、2−フェニルイミダゾリン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−メタクリロイルオキシエチル−s−トリアジン、エポキシ―イミダゾールアダクト、2−メチルベンゾイミダゾール、2−オクチルベンゾイミダゾール、2−ペンチルベンゾイミダゾール、2−(1−エチルペンチル)ベンゾイミダゾール、2−ノニルベンゾイミダゾール、2−(4−チアゾリル)ベンゾイミダゾール、ベンゾイミダゾール等が挙げられる。ベンゾトリアゾールとしては、例えば、2−(2'―ヒドロキシ−5'―メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2'―ヒドロキシ−3'―tert−ブチル−5'―メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2'―ヒドロキシ−3',5'―ジ−tert−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2'―ヒドロキシ−5'−tert−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2’―メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−tert−オクチルフェノール]、6−(2−ベンゾトリアゾリル)−4−tert−オクチル−6'−tert−ブチル−4'−メチル−2,2'−メチレンビスフェノール、1,2,3−ベンゾトリアゾール、1−[N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アミノメチル]ベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、1−[N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アミノメチル]メチルベンゾトリアゾール、2,2’―[[(メチル−1H−ベンゾトリアゾール−1−イル)メチル]イミノ]ビスエタノール、1,2,3−ベンゾトリアゾールナトリウム塩水溶液、1−(1',2'―ジカルボキシエチル)ベンゾトリアゾール、1−(2,3−ジカルボキシプロピル)ベンゾトリアゾール、1−[(2−エチルヘキシルアミノ)メチル]ベンゾトリアゾール、2,6−ビス[(1H−ベンゾトリアゾール−1−イル)メチル]−4−メチルフェノール、5−メチルベンゾトリアゾール等が挙げられる。アミノ酸としては、アラニン、アルギニン、アスパラギン、アスパラギン酸、システイン塩酸塩、グルタミン、グルタミン酸、グリシン、ヒスチジン、イソロイシン、ロイシン、リジン一塩酸塩、メチオニン、フェニルアラニン、プロリン、セリン、トレオニン、トリプトファン、チロシン、バリン、β-アラニン、γ-アミノ酪酸、δ-アミノ吉草酸、ε-アミノヘキサン酸、ε-カプロラクタム、7−アミノヘプタン酸等が挙げられる。グアニジンとしては、例えば、カルボジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、1,3−ビス(ヒドラジノカルボノエチル)−5−イソプロピルヒダントイン、セバシン酸ジヒドラジド、ドデカン二酸ジヒドラジド、7,11−オクタデカジエン−1,18−ジカルボヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド等が挙げられる。ヒドラジドとしては、例えば、ジシアンジアミド、1,3−ジフェニルグアニジン、1,3−ジ−o−トリルグアニジン等が挙げられる。   The flux may contain an amine-based activator (amine) to improve solderability. Examples of the amine include an amine aliphatic amine, an aromatic amine, an amino alcohol, imidazole, benzotriazole, an amino acid, guanidine, and hydrazide. Examples of the aliphatic amine include dimethylamine, ethylamine, 1-aminopropane, isopropylamine, trimethylamine, allylamine, n-butylamine, diethylamine, sec-butylamine, tert-butylamine, N, N-dimethylethylamine, isobutylamine, and cyclohexyl. Amines and the like. Examples of the aromatic amine include aniline, N-methylaniline, diphenylamine, N-isopropylaniline, p-isopropylaniline and the like. Examples of the amino alcohol include 2-aminoethanol, 2- (ethylamino) ethanol, diethanolamine, diisopropanolamine, triethanolamine, N-butyldiethanolamine, triisopropanolamine, and N, N-bis (2-hydroxyethyl). -N-cyclohexylamine, N, N, N ', N'-tetrakis (2-hydroxypropyl) ethylenediamine, N, N, N', N ", N" -pentakis (2-hydroxypropyl) diethylenetriamine and the like No. Examples of the imidazole include 2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, and 2-phenyl-4-imidazole. Methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4- Methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2 ′ ―Methylimi Zolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2′-undecylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 [2'-Ethyl-4'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1')]-ethyl-s-triazine Isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [ 1,2-a] benzimidazole, 1-dodecyl-2-methyl-3-benzylimidazolium chloride, 2-methylimidazoline, 2-phenylimidazoline, 2,4-di Mino-6-vinyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-s-triazine, epoxy-imidazole adduct, -Methylbenzimidazole, 2-octylbenzimidazole, 2-pentylbenzimidazole, 2- (1-ethylpentyl) benzimidazole, 2-nonylbenzimidazole, 2- (4-thiazolyl) benzimidazole, benzimidazole and the like. . Examples of benzotriazole include 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole and 2- (2′-hydroxy-3′-tert-butyl-5′-methylphenyl) -5-chlorobenzo Triazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-amylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-tert-octylphenyl) benzotriazole, 2,2'- Methylenebis [6- (2H-benzotriazol-2-yl) -4-tert-octylphenol], 6- (2-benzotriazolyl) -4-tert-octyl-6'-tert-butyl-4'-methyl -2,2'-methylenebisphenol, 1,2,3-benzotriazole, 1- [N, N-bis (2-ethylhexyl) aminomethyl] benzotriazole Carboxybenzotriazole, 1- [N, N-bis (2-ethylhexyl) aminomethyl] methylbenzotriazole, 2,2 ′-[[(methyl-1H-benzotriazol-1-yl) methyl] imino] bisethanol, 1,2,3-benzotriazole sodium salt aqueous solution, 1- (1 ′, 2′-dicarboxyethyl) benzotriazole, 1- (2,3-dicarboxypropyl) benzotriazole, 1-[(2-ethylhexylamino) ) Methyl] benzotriazole, 2,6-bis [(1H-benzotriazol-1-yl) methyl] -4-methylphenol, 5-methylbenzotriazole and the like. As amino acids, alanine, arginine, asparagine, aspartic acid, cysteine hydrochloride, glutamine, glutamic acid, glycine, histidine, isoleucine, leucine, lysine monohydrochloride, methionine, phenylalanine, proline, serine, threonine, tryptophan, tyrosine, valine, β-alanine, γ-aminobutyric acid, δ-aminovaleric acid, ε-aminohexanoic acid, ε-caprolactam, 7-aminoheptanoic acid and the like. Examples of guanidine include carbodihydrazide, malonic dihydrazide, succinic dihydrazide, adipic dihydrazide, 1,3-bis (hydrazinocarbonoethyl) -5-isopropylhydantoin, sebacic dihydrazide, dodecane diacid dihydrazide, 7, Examples thereof include 11-octadecadien-1,18-dicarbohydrazide and isophthalic dihydrazide. Examples of the hydrazide include dicyandiamide, 1,3-diphenylguanidine, 1,3-di-o-tolylguanidine and the like.

アミンの含有量は、フラックス全体に対して、例えば、0〜20質量%であってもよい。   The content of the amine may be, for example, 0 to 20% by mass based on the entire flux.

フラックスは、はんだ付け性を向上させるために、共有結合性ハロゲン活性剤(共有結合性ハロゲン)を含有してもよい。共有結合性ハロゲンとしては、例えば、トランス−2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール、2,3−ジブロモ−1,4−ブタンジオール、2,3−ジブロモ−1−プロパノール、2,3−ジクロロ−1−プロパノール、1,1,2,2−テトラブロモエタン、2,2,2−トリブロモエタノール、ペンタブロモエタン、四臭化炭素、2,2−ビス(ブロモメチル)−1,3−プロパンジオール、meso−2,3−ジブロモこはく酸、クロロアルカン、塩素化脂肪酸エステル、臭化n−ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、トリアリルイソシアヌレート6臭化物、2,2−ビス[3,5−ジブロモ−4−(2,3−ジブロモプロポキシ)フェニル]プロパン、ビス[3,5−ジブロモ−4−(2,3−ジブロモプロポキシ)フェニル]スルホン、エチレンビスペンタブロモベンゼン、2−クロロメチルオキシラン、ヘット酸、ヘット酸無水物、臭化ビスフェノールA型エポキシ樹脂等が挙げられる。   The flux may contain a covalent halogen activator (covalent halogen) to improve solderability. Examples of the covalent halogen include trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, 2,3-dibromo-1,4-butanediol, 2,3-dibromo-1-propanol, 2,3-dichloro-1-propanol, 1,1,2,2-tetrabromoethane, 2,2,2-tribromoethanol, pentabromoethane, carbon tetrabromide, 2,2-bis (bromomethyl)- 1,3-propanediol, meso-2,3-dibromosuccinic acid, chloroalkane, chlorinated fatty acid ester, n-hexadecyltrimethylammonium bromide, triallylisocyanurate hexabromide, 2,2-bis [3,5 -Dibromo-4- (2,3-dibromopropoxy) phenyl] propane, bis [3,5-dibromo-4- (2,3-dibromopropoxy) phenyl] sulfo Benzene, ethylenebispentabromobenzene, 2-chloromethyloxirane, heptonic acid, heptanoic anhydride, brominated bisphenol A type epoxy resin, and the like.

共有結合性ハロゲンの含有量は、フラックス全体に対して、例えば、0〜5質量%であってもよい。   The content of covalent halogen, relative to the overall flux, for example, may be a 0-5% by weight.

フラックスは、はんだ付け性を向上させるためにアミンハロゲン化水素酸塩活性剤(アミンハロゲン化水素酸塩)を含有してもよい。アミンハロゲン化水素酸塩としては、アミンとして例示したアミンのハロゲン化水素酸塩が挙げられる。アミンハロゲン化水素酸塩としては、例えば、ステアリルアミン塩酸塩、ジエチルアニリン塩酸塩、ジエタノールアミン塩酸塩、2−エチルヘキシルアミン臭化水素酸塩、ピリジン臭化水素酸塩、イソプロピルアミン臭化水素酸塩、シクロヘキシルアミン臭化水素酸塩、ジエチルアミン臭化水素酸塩、モノエチルアミン臭化水素酸塩、1,3−ジフェニルグアニジン臭化水素酸塩、ジメチルアミン臭化水素酸塩、ジメチルアミン塩酸塩、ロジンアミン臭化水素酸塩、2−エチルヘキシルアミン塩酸塩、イソプロピルアミン塩酸塩、シクロヘキシルアミン塩酸塩、2−ピペコリン臭化水素酸塩、1,3−ジフェニルグアニジン塩酸塩、ジメチルベンジルアミン塩酸塩、ヒドラジンヒドラート臭化水素酸塩、ジメチルシクロヘキシルアミン塩酸塩、トリノニルアミン臭化水素酸塩、ジエチルアニリン臭化水素酸塩、2−ジエチルアミノエタノール臭化水素酸塩、2−ジエチルアミノエタノール塩酸塩、塩化アンモニウム、ジアリルアミン塩酸塩、ジアリルアミン臭化水素酸塩、モノエチルアミン塩酸塩、モノエチルアミン臭化水素酸塩、ジエチルアミン塩酸塩、トリエチルアミン臭化水素酸塩、トリエチルアミン塩酸塩、ヒドラジン一塩酸塩、ヒドラジン二塩酸塩、ヒドラジン一臭化水素酸塩、ヒドラジン二臭化水素酸塩、ピリジン塩酸塩、アニリン臭化水素酸塩、ブチルアミン塩酸塩、へキシルアミン塩酸塩、n−オクチルアミン塩酸塩、ドデシルアミン塩酸塩、ジメチルシクロヘキシルアミン臭化水素酸塩、エチレンジアミン二臭化水素酸塩、ロジンアミン臭化水素酸塩、2−フェニルイミダゾール臭化水素酸塩、4−ベンジルピリジン臭化水素酸塩、L−グルタミン酸塩酸塩、N−メチルモルホリン塩酸塩、ベタイン塩酸塩、2−ピペコリンヨウ化水素酸塩、シクロヘキシルアミンヨウ化水素酸塩、1,3−ジフェニルグアニジンフッ化水素酸塩、ジエチルアミンフッ化水素酸塩、2−エチルヘキシルアミンフッ化水素酸塩、シクロヘキシルアミンフッ化水素酸塩、エチルアミンフッ化水素酸塩、ロジンアミンフッ化水素酸塩、シクロヘキシルアミンテトラフルオロホウ酸塩、ジシクロヘキシルアミンテトラフルオロホウ酸塩等が挙げられる。   The flux may contain an amine hydrohalide activator (amine hydrohalide) to improve solderability. Examples of the amine hydrohalide include the amine hydrohalides exemplified as the amine. Examples of amine hydrohalides include, for example, stearylamine hydrochloride, diethylaniline hydrochloride, diethanolamine hydrochloride, 2-ethylhexylamine hydrobromide, pyridine hydrobromide, isopropylamine hydrobromide, Cyclohexylamine hydrobromide, diethylamine hydrobromide, monoethylamine hydrobromide, 1,3-diphenylguanidine hydrobromide, dimethylamine hydrobromide, dimethylamine hydrochloride, rosinamine odor Hydrochloride, 2-ethylhexylamine hydrochloride, isopropylamine hydrochloride, cyclohexylamine hydrochloride, 2-pipecholine hydrobromide, 1,3-diphenylguanidine hydrochloride, dimethylbenzylamine hydrochloride, hydrazine hydrate smell Hydrochloride, dimethylcyclohexylamine hydrochloride Trinonylamine hydrobromide, diethylaniline hydrobromide, 2-diethylaminoethanol hydrobromide, 2-diethylaminoethanol hydrochloride, ammonium chloride, diallylamine hydrochloride, diallylamine hydrobromide, monoethylamine hydrochloride, monoethyl amine hydrobromide, diethylamine hydrochloride, triethylamine hydrobromide, triethylamine hydrochloride, hydrazine monohydrochloride, hydrazine dihydrochloride, hydrazine monohydrobromide, hydrazine dihydrobromide acid Salt, pyridine hydrochloride, aniline hydrobromide, butylamine hydrochloride, hexylamine hydrochloride, n-octylamine hydrochloride, dodecylamine hydrochloride, dimethylcyclohexylamine hydrobromide, ethylenediamine dihydrobromide Rosinamine hydrobromide, 2-Fe Louisimidazole hydrobromide, 4-benzylpyridine hydrobromide, L-glutamate hydrochloride, N-methylmorpholine hydrochloride, betaine hydrochloride, 2-pipecholine hydroiodide, cyclohexylamine hydroiodide 1,3-diphenylguanidine hydrofluoride, diethylamine hydrofluoride, 2-ethylhexylamine hydrofluoride, cyclohexylamine hydrofluoride, ethylamine hydrofluoride, rosinamine hydrofluoride Acid salts, cyclohexylamine tetrafluoroborate, dicyclohexylamine tetrafluoroborate and the like.

アミンハロゲン化水素酸塩の含有量は、フラックス全体に対して、例えば、0〜2質量%であってもよい。   The content of the amine hydrohalide may be, for example, 0 to 2% by mass based on the entire flux.

フラックスは、溶剤を含有してもよい。溶剤としては、水、アルコール系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、テルピネオール類等が挙げられる。アルコール系溶剤としては、イソプロピルアルコール、1,2−ブタンジオール、イソボルニルシクロヘキサノール、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール、2,5−ジメチル−3−ヘキシン−2,5−ジオール、2,3−ジメチル−2,3−ブタンジオール、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタン、2−エチル−2−ヒドロキシメチル−1,3−プロパンジオール、2,2′−オキシビス(メチレン)ビス(2−エチル−1,3−プロパンジオール)、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1,3−プロパンジオール、1,2,6−トリヒドロキシヘキサン、ビス[2,2,2−トリス(ヒドロキシメチル)エチル]エーテル、1−エチニル−1−シクロヘキサノール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、エリトリトール、トレイトール、グアヤコールグリセロールエーテル、3,6−ジメチル−4−オクチン−3,6−ジオール、2,4,7,9−テトラメチル−5−デシン−4,7−ジオール等が挙げられる。グリコールエーテル系溶剤としては、ジエチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、2−メチルペンタン−2,4−ジオール、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、ヘキシルジグリコール、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等が挙げられる。   The flux may contain a solvent. Examples of the solvent include water, alcohol solvents, glycol ether solvents, terpineols, and the like. Examples of alcohol solvents include isopropyl alcohol, 1,2-butanediol, isobornylcyclohexanol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 5-dimethyl-2,5-hexanediol, 2,5-dimethyl-3-hexyne-2,5-diol, 2,3-dimethyl-2,3-butanediol, 1,1,1-tris (hydroxymethyl ) Ethane, 2-ethyl-2-hydroxymethyl-1,3-propanediol, 2,2′-oxybis (methylene) bis (2-ethyl-1,3-propanediol), 2,2-bis (hydroxymethyl ) -1,3-Propanediol, 1,2,6-trihydroxyhexane, bis [2,2,2-tris (hydroxymethyl) ethyl] A 1,1-ethynyl-1-cyclohexanol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, erythritol, threitol, guaiacol glycerol ether, 3,6-dimethyl-4-octyne-3,6-diol , 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyne-4,7-diol and the like. Examples of glycol ether solvents include diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, 2-methylpentane-2,4-diol, diethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, and hexyl diglycol. And tetraethylene glycol dimethyl ether.

溶媒の含有量は、例えば、フラックス全体に対して、0〜80質量%であってもよい。   The content of the solvent may be, for example, 0 to 80% by mass based on the entire flux.

フラックスは、チキソ剤を含有してもよい。チキソ剤としては、例えば、ワックス系チキソ剤、アマイド系チキソ剤等が挙げられる。ワックス系チキソ剤としては、例えば、ヒマシ硬化油等が挙げられる。アマイド系チキソ剤としては、例えば、ラウリン酸アマイド、パルミチン酸アマイド、ステアリン酸アマイド、ベヘン酸アマイド、ヒドロキシステアリン酸アマイド、飽和脂肪酸アマイド、オレイン酸アマイド、エルカ酸アマイド、不飽和脂肪酸アマイド、p−トルエンメタンアマイド、芳香族アマイド、メチレンビスステアリン酸アマイド、エチレンビスラウリン酸アマイド、エチレンビスヒドロキシステアリン酸アマイド、飽和脂肪酸ビスアマイド、メチレンビスオレイン酸アマイド、不飽和脂肪酸ビスアマイド、m−キシリレンビスステアリン酸アマイド、芳香族ビスアマイド、飽和脂肪酸ポリアマイド、不飽和脂肪酸ポリアマイド、芳香族ポリアマイド、置換アマイド、メチロールステアリン酸アマイド、メチロールアマイド、脂肪酸エステルアマイド等が挙げられる。   The flux may contain a thixotropic agent. Examples of the thixo agent include a wax thixo agent and an amide thixo agent. Examples of the wax-based thixotropic agent include castor hardened oil. Amide-based thixotropic agents include, for example, lauric amide, palmitic amide, stearic amide, behenic amide, hydroxystearic amide, saturated fatty amide, oleic amide, erucic amide, unsaturated fatty amide, p-toluene Methane amide, aromatic amide, methylene bis stearic acid amide, ethylene bis lauric acid amide, ethylene bis hydroxy stearic acid amide, saturated fatty acid bis amide, methylene bis oleic acid amide, unsaturated fatty acid bis amide, m-xylylene bis stearic acid amide, Aromatic bisamide, saturated fatty acid polyamide, unsaturated fatty acid polyamide, aromatic polyamide, substituted amide, methylol stearic acid amide, methylol amide, fat Ester amide, and the like.

チキソ剤の含有量は、フラックス全体に対して、例えば、0〜15質量%であってもよい。   The content of the thixotropic agent may be, for example, 0 to 15% by mass based on the entire flux.

本実施形態において、はんだ材料の含有量と、フラックスの含有量との質量比(はんだ材料:フラックス)は、はんだ材料95質量%:フラックス5質量%〜はんだ材料5質量%:フラックス95質量%であってもよく、好ましくははんだ材料95質量%:フラックス5質量%〜はんだ材料85質量%:フラックス15質量%であってもよい。   In the present embodiment, the mass ratio between the content of the solder material and the content of the flux (solder material: flux) is 95 mass% of the solder material: 5 mass% of the flux to 5 mass% of the solder material: 95 mass% of the flux. It may be 95% by mass of solder material: 5% by mass of flux to 85% by mass of solder material: 15% by mass of flux.

本実施形態において、ソルダペーストは、本実施形態のはんだ材料(はんだ粉末)とフラックスとを公知の方法により混練することにより製造することができる。   In the present embodiment, the solder paste can be manufactured by kneading the solder material (solder powder) of the present embodiment and a flux by a known method.

本実施形態のソルダペーストは、例えば、電子機器における微細構造の回路基板に用いられ、具体的には、メタルマスクを用いた印刷法、ディスペンサを用いた吐出法、又は転写ピンによる転写法等により、はんだ付け部に塗布し、リフローを行うことができる。   The solder paste of the present embodiment is used, for example, for a circuit board having a fine structure in an electronic device, and specifically, by a printing method using a metal mask, an ejection method using a dispenser, a transfer method using a transfer pin, or the like. , Can be applied to a soldered portion and reflowed.

以下、本発明について実施例により具体的に説明するが、本発明は実施例に記載の内容に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to the contents described in the examples.

(はんだ粉末の調整)
表1〜表10に示す各金属を表1〜表10に示す組成になるように、溶融混合し、Ar雰囲気中で遠心噴霧することにより粉末を調製した。各表中の数値は、はんだ粉末の合計が100質量%としたときの各金属の含有量(質量%)を表し、「Bal」は、残部を表す。また、各はんだ粉末の平均粒子径をJIS Z3284−1:204に準じて測定し、測定値からJIS Z3284−1:204の粉末サイズ分類の表2に従って分類した。各表中に示す数値は、JIS Z3284−1:204の表2における粉末サイズの記号を示す。
(Adjustment of solder powder)
Powders were prepared by melting and mixing the metals shown in Tables 1 to 10 so as to have the compositions shown in Tables 1 to 10 and centrifugally spraying them in an Ar atmosphere. The numerical values in each table represent the content (% by mass) of each metal when the total of the solder powder is 100% by mass, and "Bal" represents the balance. Further, the average particle size of the solder powder JIS Z3284-1: 20 according to the 1 4 measured, JIS Z3284-1 from measurements: were classified according to Table 2 of 20 1 4 powder sizing. Numerical values shown in each table, JIS Z3284-1: shows the symbol of the powder size in Table 2 20 1 4.

(フラックスの調製)
表1〜表10に示す各材料を、表1〜表10に示す組成となるように加熱撹拌した後、冷却することによりフラックスを調製した。各表中の数値は、フラックスの合計が100質量%としたときの各材料の含有量(質量%)を表す。以下に表中に示す各材料の試薬名及びCAS番号を示す。
(Preparation of flux)
Each material shown in Tables 1 to 10 was heated and stirred to have the composition shown in Tables 1 to 10, and then cooled to prepare a flux. The numerical values in each table represent the content (% by mass) of each material when the total flux is 100% by mass. The reagent name and CAS number of each material shown in the table are shown below.

・「金属不活性化剤A」
試薬名:ビス[3−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオン酸][エチレンビス(オキシエチレン)]
CAS No.36443−68−2
・「金属不活性化剤B」
試薬名:N,N’−ヘキサメチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンアミド]
CAS No.23128−74−7
・「金属不活性化剤C」
試薬名:1,6−ヘキサンジオールビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオナート]
CAS No.35074−77−2
・「金属不活性化剤D」
試薬名:2,2’−メチレンビス[6−(1−メチルシクロヘキシル)−p−クレゾール]
CAS No.77−62−3
・「金属不活性化剤E」
試薬名:2,2’−メチレンビス(6−tert−ブチル−p−クレゾール)
CAS No.119−47−1
・「金属不活性化剤F」
試薬名:2,2’−メチレンビス(6−tert−ブチル−4−エチルフェノール)
CAS No.88−24−4
・「金属不活性化剤G」
試薬名:N−(2H−1,2,4−トリアゾール−5−イル)サリチルアミド
CAS No.36411−52−6
・試薬名:2−エチル−4−メチルイミダゾール
CAS No.931−36−2
・試薬名:2−ウンデシルイミダゾール
CAS No.16731−68−3
・試薬名:トランス−2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール
CAS No.3234−02−4
・試薬名:トリアリルイソシアヌレート6臭化物
CAS No.52434−90−9
・試薬名:ヘキシルジグリコール
CAS No.112−59−4
・試薬名:テトラエチレングリコールジメチルエーテル
CAS No.143−24−8
・試薬名:ヒマシ硬化油
CAS No.8001−78−3
・ "Metal deactivator A"
Reagent name: bis [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionic acid] [ethylenebis (oxyethylene)]
CAS No. 36443-68-2
・ "Metal deactivator B"
Reagent name: N, N'-hexamethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propanamide]
CAS No. 23128-74-7
・ "Metal deactivator C"
Reagent name: 1,6-hexanediol bis [3- (3,5-di -tert- butyl-4-hydroxyphenyl) propionate]
CAS No. 35074-77-2
・ "Metal deactivator D"
Reagent name: 2,2'-methylenebis [6- (1-methylcyclohexyl) -p-cresol]
CAS No. 77-62-3
・ "Metal deactivator E"
Reagent name: 2,2'-methylenebis (6-tert-butyl-p-cresol)
CAS No. 119-47-1
・ "Metal deactivator F"
Reagent name: 2,2'-methylenebis (6-tert-butyl-4-ethylphenol)
CAS No. 88-24-4
・ "Metal deactivator G"
Reagent name: N- (2H-1,2,4-triazol-5-yl) salicylamide CAS No. 36411-52-6
-Reagent name: 2-ethyl-4-methylimidazole CAS No. 931-36-2
- reagent name: 2-undecylimidazole CAS No. 16731-68-3
-Reagent name: trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol CAS No. 3234-02-4
-Reagent name: triallyl isocyanurate 6 bromide CAS No. 52434-90-9
-Reagent name: Hexyl diglycol CAS No. 112-59-4
-Reagent name: tetraethylene glycol dimethyl ether CAS No. 143-24-8
-Reagent name: Castor hardened oil CAS No. 8001-78-3

(ソルダペーストの調製)
はんだ粉末と、フラックスとを質量比(はんだ粉末:フラックス)が89:11となるように混練し、ソルダペーストを調製した。
(Preparation of solder paste)
A solder paste was prepared by kneading the solder powder and the flux so that the mass ratio (solder powder: flux) was 89:11.

各実施例及び比較例のソルダペーストについて(1)増粘抑制評価を行い、各実施例及び比較例で用いたはんだ粉末について(2)信頼性評価を行った。各評価方法を以下に示し、評価結果を表1〜表10に示す。   (1) Evaluation of suppression of thickening was performed on the solder pastes of the respective examples and comparative examples, and (2) reliability evaluation was performed on the solder powders used in the respective examples and comparative examples. Each evaluation method is shown below, and the evaluation results are shown in Tables 1 to 10.

(1)増粘抑制評価
得られたソルダペーストについて、JIS Z 3284−3の「4.2 粘度特性試験」に記載された方法に従って、回転粘度計(PCU−205、株式会社マルコム製)を用い、回転数:10rpm、測定温度:25℃にて、粘度を12時間測定し続けた。そして、初期粘度(撹拌30分後の粘度)と13時間後の粘度とを比較し、以下の基準に基づいて増粘抑制効果の評価を行った。
13時間後の粘度 ≦ 初期粘度×1.2 :経時での粘度上昇が小さく良好(○)
13時間後の粘度 > 初期粘度×1.2 :経時での粘度上昇が大きく不良(×)
(1) Evaluation of Thickening Inhibition Using a rotational viscometer (PCU-205, manufactured by Malcolm Co., Ltd.) on the obtained solder paste, according to the method described in JIS Z 3284-3 "4.2 Viscosity characteristic test". The viscosity was continuously measured for 12 hours at a rotation speed of 10 rpm and a measurement temperature of 25 ° C. Then, the initial viscosity (viscosity after 30 minutes of stirring) and the viscosity after 13 hours were compared, and the thickening suppressing effect was evaluated based on the following criteria.
Viscosity after 13 hours ≦ initial viscosity × 1.2: little increase in viscosity over time and good (○)
Viscosity after 13 hours> Initial viscosity × 1.2: Viscosity increase with time is large and poor (×)

(2)信頼性の評価
得られたはんだ粉末について、示差走査熱量計(EXSTAR DSC7020、エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製)を用いて、昇温速度:5℃/分(180℃〜250℃)、降温速度:−3℃/分(250℃〜150℃)、キャリアガス:N2の測定条件でDSC測定を行い、液相線温度(TL)及び固相線温度(TS)を測定した。そして、液相線温度(TL)と固相線温度(TS)との差(ΔT=TL−TS)を算出し、以下の基準に基づいて評価を行った。
ΔTが10℃以内:信頼性に優れる(○)
ΔTが10℃超 :信頼性に劣る(×)
はんだ粉末の液相線温度(TL)と固相線温度(TS)との差(ΔT=TL−TS)が大きい場合、当該はんだ粉末を含むソルダペーストを電子機器の基板に塗布し、凝固させる際に、はんだ粉末の表面に融点の高い組織が析出しやすい。はんだ粉末の表面に融点の高い組織が析出すると、その後、はんだ粉末の内側に向かって融点の低い組織が逐次析出し、はんだ粉末の組織が不均一となりやすく、サイクル性等の信頼性を低下させる原因になる。
(2) Evaluation of reliability The obtained solder powder was heated at a rate of 5 ° C./min (180 ° C. to 250 ° C.) using a differential scanning calorimeter (EXSTAR DSC7020, manufactured by SII Nanotechnology Inc.). A DSC measurement is performed under the measurement conditions of a temperature decreasing rate: −3 ° C./min (250 ° C. to 150 ° C.) and a carrier gas: N 2 to measure a liquidus temperature (T L ) and a solidus temperature (T S ). did. Then, calculate the difference between the liquidus temperature (T L) and the solidus temperature (T S) and (ΔT = T L -T S) , were evaluated based on the following criteria.
ΔT within 10 ° C: Excellent reliability (○)
ΔT exceeds 10 ° C .: Poor reliability (×)
If the difference between the liquidus temperature (T L ) and the solidus temperature (T S ) of the solder powder is large (ΔT = T L −T S ), the solder paste containing the solder powder is applied to the substrate of the electronic device. When solidifying, a structure having a high melting point is likely to precipitate on the surface of the solder powder. When a structure with a high melting point precipitates on the surface of the solder powder, then a structure with a low melting point is sequentially deposited toward the inside of the solder powder, and the structure of the solder powder tends to be non-uniform, which lowers reliability such as cycleability. Cause.

(3)濡れ性の評価 上記の「(1)増粘抑制評価」と同様にして、各実施例及び比較例のソルダペーストを、Cu板上に開口径6.5mm、開口数4個、マスク厚0.2mmのメタルマスクを用いて印刷し、リフロー炉において、N2雰囲気下、昇温速度1℃/secで25℃から260℃まで加熱した後、室温(25℃)まで空冷し、4個のはんだバンプを形成した。光学顕微鏡(倍率:100倍)を用いて、得られたはんだバンプの外観を観察し、以下の基準に基づいて評価を行った。
4個のはんだバンプの全てにおいて溶融しきれないはんだ粒子が観察されなかった。
:はんだ濡れ性が良好(○)
4個のはんだバンプのうちの1個以上において溶融しきれないはんだ粒子が観察された。
:はんだ濡れ性が不良(×)
(3) Evaluation of wettability In the same manner as in “(1) Evaluation of suppression of thickening”, the solder paste of each of the examples and the comparative examples was coated on a Cu plate with an opening diameter of 6.5 mm, a numerical aperture of 4, and a mask. Printing was performed using a metal mask having a thickness of 0.2 mm, and after heating from 25 ° C. to 260 ° C. at a rate of 1 ° C./sec in a N 2 atmosphere in a reflow furnace, air-cooled to room temperature (25 ° C.). Solder bumps were formed. The appearance of the obtained solder bumps was observed using an optical microscope (magnification: 100 times), and evaluated based on the following criteria.
No solder particles that could not be melted were observed in all four solder bumps.
: Good solder wettability (O)
Solder particles that could not be completely melted were observed in one or more of the four solder bumps.
: Poor solder wettability (×)

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本発明のはんだ材料は、増粘抑制効果やサイクル特性等の信頼性にも優れているため各種用途に利用できる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The solder material of the present invention is excellent in reliability such as a thickening suppressing effect and cycle characteristics, and can be used for various applications.

Claims (3)

はんだ材料とフラックスとからなるソルダペーストであって、
前記はんだ材料が、As:20〜300質量ppm、Pb:0質量ppm超え5100質量ppm以下、Sb:0質量ppm超え3000質量ppm以下、Bi:0質量ppm以上10000質量ppm以下、および残部がSnからなる合金組成を有し、
As、Sb、Bi及びPbの含有量が、下記式(1)および式(2)を満たし、
275≦2As+Sb+Bi+Pb (1)
0.01≦(2As+Sb)/(Bi+Pb)≦10.00 (2)
(ただし、式(1)及び式(2)中、As、Sb、Bi及びPbは、各々のはんだ材料中の含有量(質量ppm)を表す。)
前記フラックスが、ヒンダードフェノール系化合物を含有し、
前記ヒンダードフェノール系化合物の含有量が、前記フラックス全体に対して、0.5〜10質量%であるソルダペースト。
A solder paste comprising a solder material and a flux,
Said solder material, As: 20 to 300 ppm by weight, Pb: 0 ppm by mass exceeds 5100 mass ppm or less, S b: 0 ppm by mass exceeds 3000 mass ppm or less, B i: 0 mass ppm to 10,000 mass ppm or less, and the balance Has an alloy composition consisting of Sn,
The contents of As, Sb, Bi and Pb satisfy the following formulas (1) and (2),
275 ≦ 2As + Sb + Bi + Pb (1)
0.01 ≦ (2As + Sb) / (Bi + Pb) ≦ 10.00 (2)
(However, in the formulas (1) and (2), As, Sb, Bi, and Pb represent the contents (mass ppm) in each solder material.)
The flux contains a hindered phenol compound,
A solder paste in which the content of the hindered phenol compound is 0.5 to 10% by mass based on the entire flux.
前記はんだ材料が粒子状の形態を有する請求項1に記載のソルダペースト。   The solder paste according to claim 1, wherein the solder material has a particulate form. 前記はんだ材料が、0を超え、3.5質量%以下のAg及び/又は0を超え、1.0質量%以下のCuを更に含む、請求項1又は2に記載のソルダペースト。   3. The solder paste according to claim 1, wherein the solder material further comprises more than 0 and 3.5 mass% or less of Ag and / or more than 0 and 1.0 mass% or less of Cu. 4.
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