JP6617391B2 - Film substrate and suture connection structure of film substrate - Google Patents

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Description

本発明は、基材フィルムの離れた位置にある導通部を掛け渡して導通接続する導電糸を有するフィルム基板とフィルム基板の縫合接続構造に関する。   The present invention relates to a stitch connection structure between a film substrate having a conductive yarn that is connected in a conductive manner across a conductive portion at a distant position of a base film, and the film substrate.

従来のフィルム基板(フレキシブルプリント基板、FPC)は、基材フィルムをベースにしてその表面に導電性の金属箔や塗膜で導電性回路が形成されたものであり、プリント基板の中でも軽量、薄型であることから電子機器内に配設されて広く用いられている。   Conventional film substrates (flexible printed circuit boards, FPCs) are based on a base film and have a conductive circuit formed on the surface with conductive metal foil or coating film. For this reason, it is widely used in electronic devices.

しかしながら、基材フィルムにはこしがあり折り曲げても基材フィルムの反発力により元に戻って平坦面状に広がり易い性質を有している。また、基材フィルム平面に対して横方向に曲げることも難しく、また、曲げを繰り返すと、基材フィルムや導電性回路が劣化して破断することがあった。さらに基材フィルムをフィルムの平面方向へ伸ばしたり縮めたりすることも難しかった。
そうした一方で、これらの課題は基材フィルムに由来するものであり、フィルムの代わりに伸縮や曲げが可能なゴム材を用いた技術も知られている。例えば特開2007−173226号公報(特許文献1)には、導電性粒子を互いに接触させた導電部を、ゴムを主成分とした伸縮性のある基材上に設けて全体が伸縮可能な構成としている。
However, the base film has a characteristic that even if it is bent, the base film is easily returned to the original state due to the repulsive force of the base film and spreads into a flat surface. Moreover, it is difficult to bend in the transverse direction with respect to the plane of the base film, and when the bending is repeated, the base film and the conductive circuit may be deteriorated and broken. Furthermore, it was difficult to stretch or shrink the base film in the plane direction of the film.
On the other hand, these problems are derived from the base film, and a technique using a rubber material that can be expanded and contracted instead of the film is also known. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-173226 (Patent Document 1) discloses a configuration in which conductive parts in which conductive particles are in contact with each other are provided on a stretchable base material mainly composed of rubber so that the whole can be stretched. It is said.

特開2007−173226号公報JP 2007-173226 A

しかしながら、上記特開2007−173226号(特許文献1)に記載の技術では、細かな導電導線を導電性粒子で形成することは困難であり、フィルム基板の利点をそのまま利用できるまでには至っていない。
そこで本発明は、上記課題に鑑みてなされたもので、従来のフィルム基板の利点をそのまま生かしながら、一般的なフィルム基板ではなし得なかった導通部間の導通接続を可能とし、基材フィルム自体の複雑な配置をも可能とする技術を提供するものである。
However, with the technique described in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-173226 (Patent Document 1), it is difficult to form fine conductive wires with conductive particles, and the advantages of the film substrate cannot be used as they are. .
Therefore, the present invention has been made in view of the above problems, and enables conductive connection between conductive portions that cannot be achieved with a general film substrate, while taking advantage of the conventional film substrate as it is, and the base film itself. The present invention provides a technique that enables even complicated arrangements.

上記目的を達成する本発明のフィルム基板は以下のとおり構成される。
即ち、基材フィルムに導電性回路を有するフィルム基板について、導電性回路が、基材フィルムの離れた位置にある導通部を掛け渡して導通接続する導電糸を有し、前記導通部を掛け渡した後の前記導電糸の表面に絶縁性皮膜が設けられていることを特徴とするフィルム基板である。
基材フィルムに導電性回路を有するフィルム基板について、導電性回路が、基材フィルムの離れた位置にある導通部を掛け渡して導通接続する導電糸を有するため、基材フィルム上の導通部を立体的に導通接続することができ、基材フィルム自体も曲げたり捻ったりした状態で固定でき、また様々な方向への導通接続を可能にする。さらに、複数のフィルム基板がつながって大面積のフィルム基板とすることができる。
The film substrate of the present invention that achieves the above object is configured as follows.
That is, for a film substrate having a conductive property circuit substrate film, the conductive circuit, have a conductive yarn conductively connected spanned a conductive portion which is in a remote location of the base film, passed over the conductive portion An insulating film is provided on the surface of the conductive yarn after being processed .
For a film substrate having a conductive circuit on a base film, the conductive circuit has conductive yarns that are connected and connected across a conductive portion at a position away from the base film. Three-dimensional conductive connection can be made, the base film itself can be fixed in a bent or twisted state, and conductive connection in various directions is possible. Further, a plurality of film substrates can be connected to form a large area film substrate.

導電糸が、芯材となる繊維状物と、繊維状物を被覆する導電性被覆層とを有するものとすることができる。
導電糸が、芯材となる繊維状物と、繊維状物を被覆する導電性被覆層とを有するため、しなやかさが有り、所望の形状に変形することができ、かつ導電性を備えるものとすることができる。
The conductive yarn may have a fibrous material as a core material and a conductive coating layer that covers the fibrous material.
Since the conductive yarn has a fibrous material as a core and a conductive coating layer that covers the fibrous material, it is flexible, can be transformed into a desired shape, and has conductivity. can do.

導通部が、導電性塗料による印刷層とすることができる。
導通部を導電性塗料による印刷層としたため、複雑な導通部も簡単に基材フィルム上に形成することができる。
The conducting portion can be a printed layer made of a conductive paint.
Since the conductive part is a printed layer made of a conductive paint, a complicated conductive part can be easily formed on the base film.

導電糸が、導電性回路の導通部どうしを接続する縫合部を有するものとすることができる。
導電糸が導電性回路の導通部どうしを接続する縫合部を有するため、導通部どうしの導通と、基材フィルムどうしの接続を同時に行うことができる。また、導電糸はフレキシブルであるため、導通部間を適宜変形させることができる。
The conductive yarn may have a stitched portion that connects the conductive portions of the conductive circuit.
Since the conductive yarn has a stitched portion for connecting the conductive portions of the conductive circuit, the conductive portions can be connected to each other and the base film can be connected to each other at the same time. In addition, since the conductive yarn is flexible, the conductive portions can be appropriately deformed.

また、基材フィルムに導電性回路を有する第1のフィルム基板と基材フィルムに導電性回路を有する第2のフィルム基板と、第1のフィルム基板の導電性回路と第2のフィルム基板の導電性回路とに掛け渡して相互に導通接続する導電糸とを備え、前記第1のフィルム基板の前記導電性回路と前記第2のフィルム基板の前記導電性回路とを掛け渡した後の前記導電糸の表面に絶縁性皮膜が設けられているフィルム基板の縫合接続構造を提供する。
基材フィルムに導電性回路を有する第1のフィルム基板と基材フィルムに導電性回路を有する第2のフィルム基板と、第1のフィルム基板の導電性回路と第2のフィルム基板の導電性回路とに掛け渡して相互に導通接続する導電糸とを備えるため、一の原料フィルム基板では実現し得なかった大きさの原料フィルム基板とすることができる。即ち、第1のフィルム基板と第2のフィルム基板とを合わせた大きさのフィルム基板とすることができる。
Moreover, the 1st film substrate which has a conductive circuit in a base film, the 2nd film substrate which has a conductive circuit in a base film, the conductive circuit of a 1st film substrate, and the conductivity of a 2nd film substrate A conductive yarn that is connected to and electrically connected to the conductive circuit, and the conductive material after the conductive circuit of the first film substrate and the conductive circuit of the second film substrate are extended. Provided is a suture connection structure for a film substrate in which an insulating film is provided on the surface of a yarn .
First film substrate having conductive circuit on base film, second film substrate having conductive circuit on base film, conductive circuit of first film substrate, and conductive circuit of second film substrate Since the conductive yarns are connected to each other and electrically connected to each other, a raw material film substrate having a size that cannot be realized with one raw material film substrate can be obtained. That is, it can be set as the film substrate of the magnitude | size which combined the 1st film substrate and the 2nd film substrate.

基材フィルムの導電糸で掛け渡す部位が立体的に交差するフィルム基板とすることができる。
基材フィルムの導電糸で掛け渡す部位を立体的に交差するものとしたため、平面的なフィルム基板を立体的に用いることができる。
また、第1のフィルム基板と第2のフィルム基板とが立体的に交差するフィルム基板の縫合接続構造とすることができる。
第1のフィルム基板と第2のフィルム基板とを立体的に交差するフィルム基板の縫合接続構造としたため、平面的なフィルム基板を立体的に用いることができる。
It can be set as the film board | substrate which the site | part over which it cross | intersects with the conductive thread of a base film cross | intersects three-dimensionally.
Since the part which cross | intersects with the electroconductive thread | yarn of a base film shall cross | intersect three-dimensionally, a planar film substrate can be used three-dimensionally.
Moreover, it can be set as the suture connection structure of the film board | substrate which a 1st film board | substrate and a 2nd film board | substrate cross | intersect in three dimensions.
Since the first film substrate and the second film substrate have a stitched connection structure for a film substrate that three-dimensionally intersects, a planar film substrate can be used three-dimensionally.

基材フィルム上の離れた位置にある導通部間がスペーサーを介して導電糸で掛け渡したものとすることができる。
基材フィルム上の離れた位置にある導通部間にスペーサーを介して導電糸で掛け渡したものとすれば、スペーサーによって、導通部どうしの導電糸による掛け渡しを固定することができ、一方の導通部に対する他方の導通部の位置を固定することができる。
It can be assumed that the conductive portions at remote positions on the base film are spanned by a conductive thread through a spacer.
If it is assumed that the conductive thread is stretched between the conductive parts at a distance on the base film through a spacer, the conductive thread between the conductive parts can be fixed by the spacer. The position of the other conduction part with respect to the conduction part can be fixed.

基材フィルム上の離れた位置にある導通部間が空間を介して導電糸で掛け渡したものとすることができる。
基材フィルム上の離れた位置にある導通部間に空間を介して導電糸で掛け渡したものとすれば、基材フィルム上の離れた位置にある導通部を基材フィルムから離れて短絡させることができる。これにより基材フィルムから離れた立体的な導電性回路を形成することができる。
It can be assumed that the conductive portions at remote locations on the base film are spanned by conductive yarns through a space.
If it is assumed that a conductive thread is passed through a space between conductive parts at remote positions on the base film, the conductive parts at remote positions on the base film are short-circuited away from the base film. be able to. Thereby, a three-dimensional conductive circuit separated from the base film can be formed.

第1のフィルム基板と第2のフィルム基板との間にスペーサーを介して導電糸で掛け渡したフィルム基板の縫合接続構造とすることができる。第1のフィルム基板と第2のフィルム基板との間をスペーサーを介して導電糸で掛け渡したため、スペーサーによって、一方の基材フィルム(第1の基材フィルム)と他方の基材フィルム(第2の基材フィルム)とを固定することができ、一方の導通部に対する他方の導通部の位置を固定することができる。
また、第1のフィルム基板と第2のフィルム基板との間に空間を介して導電糸で掛け渡したフィルム基板の縫合接続構造とすることができる。基材フィルム上の離れた位置にある導通部間を空間を介して導電糸で掛け渡したため、導電糸が柔軟に可動することで一方の基材フィルムに対して他方の基材フィルムを自由に動かすことができる。そのため、一方のフィルム基板(第1のフィルム基板)に対する他方のフィルム基板(第2のフィルム基板)の距離を変更することができる。また、電子機器内のスペースに応じて自由に両者の位置関係を変更させることができる。
It can be set as the stitching connection structure of the film board | substrate spanned with the electrically conductive thread through the spacer between the 1st film board | substrate and the 2nd film board | substrate. Since the conductive film is spanned between the first film substrate and the second film substrate via a spacer, one base film (first base film) and the other base film (first 2 base film) can be fixed, and the position of the other conductive portion relative to one conductive portion can be fixed.
Moreover, it can be set as the suture connection structure of the film board | substrate spanned with the electrically conductive thread through the space between the 1st film board | substrate and the 2nd film board | substrate. Since the conductive thread is spanned between the conductive parts at a distant position on the base film through a space, the conductive base can be flexibly moved so that the other base film can be freely moved with respect to one base film. Can move. Therefore, the distance of the other film substrate (second film substrate) to one film substrate (first film substrate) can be changed. In addition, the positional relationship between the two can be freely changed according to the space in the electronic device.

本発明のフィルム基板またはフィルム基板の縫合接続構造によれば、導電糸の柔軟性によって導通部どうしの導通接続を立体的に行うことができる。また、一方の導通部に対して他方の導通部までの距離を容易に変動させ、またその向きも容易に変動させることができるため、フィルム基板の配置の自由度を増大させることができる。
さらに本発明のフィルム基板またはフィルム基板の縫合接続構造によれば、製造が困難な大面積のフィルム基板を得ることができる。
According to the film substrate or the stitched connection structure of the film substrate of the present invention, the conductive connection between the conductive portions can be three-dimensionally performed by the flexibility of the conductive yarn. Moreover, since the distance to the other conductive portion can be easily changed with respect to the one conductive portion, and the direction thereof can be easily changed, the degree of freedom in arranging the film substrate can be increased.
Furthermore, according to the film substrate or the stitched connection structure of the film substrate of the present invention, it is possible to obtain a large-area film substrate that is difficult to manufacture.

第1実施形態のフィルム基板を表し、分図(A)は平面図、分図(B)は分図(A)のSA−SA線断面図、分図(C)は底面図である。The film substrate of 1st Embodiment is represented, A part (A) is a top view, A part (B) is SA-SA sectional view taken on the line (A), A part (C) is a bottom view. 第1実施形態の変形例のフィルム基板を説明する模式断面図である。It is a schematic cross section explaining a film substrate of a modification of the first embodiment. 第2実施形態のフィルム基板を表し、分図(A)は正面図、分図(B)は分図(A)のSB−SB線断面図である。The film substrate of 2nd Embodiment is represented, A part (A) is a front view, A part (B) is a SB-SB sectional view taken on the line (A). 第2実施形態の変形例のフィルム基板を説明する模式斜視図である。It is a model perspective view explaining the film substrate of the modification of 2nd Embodiment. 第3実施形態のフィルム基板を表し、分図(A)は平面図、分図(B)は分図(A)のSC−SC線断面図である。The film substrate of 3rd Embodiment is represented, A part (A) is a top view, A part (B) is SC-SC sectional view taken on the line (A). 第3実施形態の変形例のフィルム基板の模式斜視図である。It is a model perspective view of the film substrate of the modification of 3rd Embodiment. 第4実施形態のフィルム基板を表し、分図(A)は平面図、分図(B)は分図(A)のSD−SD線断面図である。The film substrate of 4th Embodiment is represented, A part (A) is a top view, A part (B) is SD-SD sectional view taken on the line (A). 第4実施形態の変形例1のフィルム基板を表し、分図(A)は平面図、分図(B)は分図(A)のSE−SE線断面図である。The film substrate of the modification 1 of 4th Embodiment is represented, A part (A) is a top view, A part (B) is the sectional view on the SE-SE line of part (A). 第4実施形態の変形例2のフィルム基板を表し、分図(A)は平面図、分図(B)は分図(A)のSF−SF線断面図である。The film substrate of the modification 2 of 4th Embodiment is represented, A part (A) is a top view, A part (B) is the SF-SF sectional view taken on the line (A). 第4実施形態の変形例3のフィルム基板を表し、分図(A)は平面図、分図(B)は分図(A)のSG−SG線断面図、分図(C)は分図(A)のSH−SH線断面図である。The film substrate of the modification 3 of 4th Embodiment is represented, A part (A) is a top view, A part (B) is SG-SG sectional drawing of a part (A), A part (C) is a part. It is SH-SH sectional view taken on the line of (A). 第4実施形態の変形例4のフィルム基板を表し、分図(A)は平面図、分図(B)は分図(A)のSI−SI線断面図、分図(C)は分図(A)のSJ−SJ線断面図である。The film substrate of the modification 4 of 4th Embodiment is represented, A part (A) is a top view, A part (B) is a SI-SI sectional view taken on a part (A), A part (C) is a part. It is SJ-SJ sectional view taken on the line of (A). 第4実施形態の変形例5のフィルム基板を表し、分図(A)は平面図、分図(B)は分図(A)のSK−SK線断面図、分図(C)は底面図である。The film substrate of the modification 5 of 4th Embodiment is represented, A part (A) is a top view, A part (B) is a SK-SK sectional view taken on a part (A), A part (C) is a bottom view. It is.

実施形態に即してさらに詳しく本発明の基材フィルムについて説明する。なお、各実施形態において、同一の部材、材質、製造方法、効果等については重複説明を省略する。   The base film of the present invention will be described in more detail according to the embodiment. In each embodiment, the duplicate description of the same members, materials, manufacturing methods, effects, etc. is omitted.

第1実施形態[図1]
第1実施形態として説明するフィルム基板10を図1に示す。図1の分図(A)はフィルム基板10の平面図、分図(B)はその断面図、分図(C)はその底面図である。
フィルム基板10は、基材フィルム12a(12)上に導通部として導線13a(13)を有する第1のフィルム基板Aと、それとは別に基材フィルム12b(12)上に導通部として導線13b(13)を有する第2のフィルム基板Bとを備え、第1のフィルム基板Aの導線13aと第2のフィルム基板Bの導電13bを導電糸15で掛け渡し第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bとを繋ぐとともに双方のフィルム基板A,Bに亘る導電性回路を形成している。
First Embodiment [FIG. 1] :
A film substrate 10 described as the first embodiment is shown in FIG. 1A is a plan view of the film substrate 10, FIG. 1B is a sectional view thereof, and FIG. 1C is a bottom view thereof.
The film substrate 10 includes a first film substrate A having a conductive wire 13a (13) as a conductive portion on a base film 12a (12), and a conductive wire 13b (as a conductive portion on the base film 12b (12) separately. 13) having the second film substrate B having the first film substrate A and the second film substrate A, the conductive film 15 is passed over the conductive wire 13a of the first film substrate A and the conductive film 13b of the second film substrate B. The film substrate B is connected and a conductive circuit is formed over both film substrates A and B.

即ち、フィルム基板10の導電糸15は、図1で示すように、第1のフィルム基板Aの表面に形成された導線13aのうちの一本の一部表面を覆い、基材フィルム12aの内部を通して裏面に出て、もう一方の第2のフィルム基板Bの裏面から基材フィルム12bの内部を通して表面に出て、導線13bのうちの一本の一部表面を覆っている。このようにして、第1のフィルム基板Aの一本の導線13aと接続すべき第2のフィルム基板Bの一本の導線13bとが導電糸15で導通接続され、同様に第1のフィルム基板Aに設けた別の導線13aも接続すべき第2のフィルム基板Bの別の導線13bと導電糸15で導通接続されている。
なお、図1では、導電糸15を黒塗りで表現しているが、この中には何本もの細い導電糸15が含まれており、導電糸15の束として表している。他の図面でも同様である。
That is, as shown in FIG. 1, the conductive yarn 15 of the film substrate 10 covers a partial surface of one of the conductive wires 13a formed on the surface of the first film substrate A, and the inside of the base film 12a. To the back surface, and from the back surface of the other second film substrate B to the surface through the inside of the base film 12b, covering a partial surface of one of the conductive wires 13b. In this way, one conductive wire 13b of the second film substrate B to be connected to one conductive wire 13a of the first film substrate A is conductively connected by the conductive yarn 15, and similarly the first film substrate. Another conductive wire 13 a provided on A is also conductively connected by another conductive wire 15 to another conductive wire 13 b of the second film substrate B to be connected.
In FIG. 1, the conductive yarn 15 is expressed in black. However, a number of thin conductive yarns 15 are included in the conductive yarn 15 and are represented as a bundle of conductive yarns 15. The same applies to other drawings.

基材フィルム12は公知のフレキシブルプリント基板にベースとして利用される樹脂フィルムを用いることができる。例えばポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンなどの樹脂フィルムが挙げられる。さらに、合成ゴムや熱可塑性エラストマーを薄く成形して基材フィルムとして用いることもできる。合成ゴムとしてはウレタンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴムなど公知のものが挙げられる。熱可塑性エラストマーとしてはウレタン系やオレフィン系、スチレン系、ポリエステル系、シリコーン系、フッ素系などの熱可塑性エラストマーが挙げられる。   The base film 12 can be a resin film used as a base for a known flexible printed circuit board. Examples thereof include resin films such as polyamide, polyethylene terephthalate, polycarbonate, and polyethylene. Furthermore, synthetic rubber and thermoplastic elastomer can be thinly molded and used as a base film. Examples of the synthetic rubber include known rubbers such as urethane rubber, silicone rubber, and fluorine rubber. Examples of the thermoplastic elastomer include urethane-based, olefin-based, styrene-based, polyester-based, silicone-based, and fluorine-based thermoplastic elastomers.

後述するように、予め基材フィルム12に縫い穴を開けておくような場合には、剛直な材質を用いることも可能で、例えばガラスエポキシが挙げられる。
基材フィルム12の厚みは用途に応じて適当な厚みとすることができるが、導電糸15で基材フィルム12,12どうしを縫い合わせるためには、2mm以下とすることは好ましい一態様である。
As will be described later, when a sewing hole is previously formed in the base film 12, a rigid material can be used, and for example, glass epoxy is used.
Although the thickness of the base film 12 can be set to an appropriate thickness depending on the application, in order to sew the base films 12 and 12 together with the conductive yarn 15, it is a preferable aspect that the thickness is 2 mm or less.

基材フィルム12の表面に設ける導線13などの導通部は、金属箔や導電性塗膜、導電性高分子などにより形成することができる。本実施形態で示す例は、線状の導線13をパターン形成して導電性回路を形成しているが、導通部としては、こうした導線13に限らず、タッチセンサーなどで利用するような平面状に広がった導電性膜等であっても良い。   Conductive portions such as the conductive wires 13 provided on the surface of the base film 12 can be formed of a metal foil, a conductive coating film, a conductive polymer, or the like. In the example shown in the present embodiment, a conductive circuit is formed by patterning the linear conductive wire 13, but the conductive portion is not limited to such a conductive wire 13 but is a planar shape that is used in a touch sensor or the like. It may be a conductive film or the like spread.

第1のフィルム基板Aや第2のフィルム基板Bは、このように基材フィルム12の表面に導線13からなる導電性回路を有するフィルム基板であり、公知のフィルム基板や市販のフィルム基板であっても良い。即ち、第1のフィルム基板Aや第2のフィルム基板Bはそれ自体が既にフィルム基板として利用可能なものであっても良い。   The first film substrate A and the second film substrate B are film substrates having a conductive circuit composed of the conductive wires 13 on the surface of the base film 12 as described above, and are known film substrates or commercially available film substrates. May be. That is, the first film substrate A and the second film substrate B may be those that can already be used as film substrates.

導電糸15は、柔軟性を有し表面に導電性を有する繊維状物である。繊維状物には、例えば非導電性繊維である樹脂繊維やガラス繊維の表面に導電性被覆したもの、または炭素繊維や金属繊維等の導電性素材からなるものが挙げられる。折り曲げを繰り返し行うことに対する耐久性の高い樹脂繊維をベースにして、表面に金属などの導電性物質を被覆した繊維状物が好ましい。   The conductive yarn 15 is a fibrous material having flexibility and conductivity on the surface. Examples of the fibrous material include those obtained by conductively coating the surfaces of resin fibers and glass fibers that are non-conductive fibers, or those made of conductive materials such as carbon fibers and metal fibers. A fibrous material having a surface coated with a conductive material such as a metal based on resin fibers having high durability against repeated bending is preferable.

樹脂繊維には、モノフィラメントやマルチフィラメントの高分子繊維を用いることができる。高分子繊維としては合成繊維であるポリアミドやポリエステル、アクリル、ポリオレフィン、ポリウレタンなどのほか、天然繊維である絹や羊毛、木綿、麻なども用いることができる。
非導電性繊維の表面に対する導電性被覆は、金属やカーボン塗膜によって導電性被覆層を形成するものが好ましい。なかでも導電性の高い銀や銅等の金属で被覆することが好ましい。
As the resin fiber, a monofilament or multifilament polymer fiber can be used. As the polymer fiber, synthetic fibers such as polyamide, polyester, acrylic, polyolefin, polyurethane and the like, and natural fibers such as silk, wool, cotton and hemp can be used.
The conductive coating on the surface of the non-conductive fiber is preferably one in which a conductive coating layer is formed from a metal or a carbon coating film. In particular, it is preferable to coat with a highly conductive metal such as silver or copper.

導電糸15の太さは、10〜5000μm程度とすることができるが、適宜選択して用いることができる。また、同じ太さの導電糸であっても、単一の太さの導電糸とすることの他、より細い何本もの導電糸の撚り糸とすることもできる。   The thickness of the conductive yarn 15 can be about 10 to 5000 μm, but can be appropriately selected and used. Moreover, even if it is the electroconductive yarn of the same thickness, it can also be made into the twist thread | yarn of several finer electroconductive yarn besides using the electroconductive thread of a single thickness.

導電糸15を用いた第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bとの接続は、導電糸15による縫い合わせ(縫合)によって行うことが好ましい。導電糸15による縫い合わせによれば、のフィルム基板A,Bどうしを所望の角度や強さで接続することが可能だからである。また、導電糸15自体が縫い合わせ用途に用いることができるものだからである。
縫い合わせは、ミシン等による機械作業や手縫いで行うことができる。また、縫い付けるフィルム基板A,Bには、予め縫い穴を準備しても良く、また針で穴を開けながら縫うようにしても良い。縫い方には、並縫い、返し縫い、かがり縫い、まつり縫い、ジグザグ縫いなど種々の縫い方を利用することができる。
なお、縫合以外では、フィルム基板12上の導線13と導電糸15を導電性接着剤や粘着テープで接続し固定する方法を採用することもできる。
The connection between the first film substrate A and the second film substrate B using the conductive yarn 15 is preferably performed by stitching (sewing) with the conductive yarn 15. This is because the film substrates A and B can be connected to each other at a desired angle and strength by sewing with the conductive thread 15. Moreover, it is because the conductive yarn 15 itself can be used for stitching purposes.
Sewing can be performed by machine work using a sewing machine or by hand-sewing. In addition, a sewing hole may be prepared in advance on the film substrates A and B to be sewn, or may be sewn while making a hole with a needle. Various sewing methods such as side-by-side stitching, reverse stitching, overlock stitching, festival stitching, and zigzag stitching can be used as the stitching method.
In addition to the stitching, a method of connecting and fixing the conductive wire 13 and the conductive yarn 15 on the film substrate 12 with a conductive adhesive or an adhesive tape may be employed.

前述のように基材フィルム12や導線13に予め縫い穴を設けておくことは好ましい。予め縫い穴を開けておくことで、導電糸15の強度が弱くても基材フィルム12や導線13を通過させやすいからである。また何本もの導電糸15の縫い付けが容易になる点で好ましい。こうした縫い穴には導線13と導通するスルーホールメッキを施しておくことにより、導電糸15と導線13との導通接続をより確実なものとすることができる。   As described above, it is preferable to provide a sewing hole in advance in the base film 12 or the conductive wire 13. This is because by making a sewing hole in advance, it is easy to pass the base film 12 and the conductive wire 13 even if the strength of the conductive thread 15 is weak. Further, it is preferable in that the number of conductive threads 15 can be easily sewn. By providing through-hole plating that is electrically connected to the conductive wire 13 in such a sewing hole, the conductive connection between the conductive yarn 15 and the conductive wire 13 can be made more reliable.

縫い合わせ後の導電糸15の端部は、ほつれないように処理する。結び目を形成したり、加熱溶融させて縫い穴より太く丸めたりして基材フィルム12に固着させることも好ましい。
また、導電糸15で導線13a,13bを導通接続させた後は、導電糸15の表面に絶縁性皮膜を形成することが好ましい。導電糸15どうしが接触して短絡することを防ぎ、また導電糸15の耐久性を高めるためである。絶縁性皮膜の形成は、絶縁性テープで被覆したり、絶縁性塗膜を塗布して硬化させたりして行うことができる。
また、導線13a,13bおよび導電糸15の上を覆うように絶縁性の塗膜を形成して、保護層とすることができる。
The ends of the conductive threads 15 after sewing are processed so as not to fray. It is also preferable to form a knot or to heat and melt it and roll it thicker than the sewing hole to fix it to the base film 12.
In addition, after conducting wires 13 a and 13 b are conductively connected with the conductive yarn 15, it is preferable to form an insulating film on the surface of the conductive yarn 15. This is to prevent the conductive yarns 15 from coming into contact with each other and short-circuiting, and to increase the durability of the conductive yarns 15. The insulating film can be formed by coating with an insulating tape or by applying and curing an insulating coating film.
Moreover, an insulating coating film can be formed so as to cover the conductive wires 13a and 13b and the conductive yarn 15 to form a protective layer.

フィルム基板10によれば、第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bとを導電糸15でそれぞれの導線13a,13bを導通接続しているため、第1のフィルム基板Aに対して第2のフィルム基板Bを捻ったり、傾けたり、その距離を縮めたりすることが可能となる。したがって、第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bとを電子機器内で立体的に配置させることができる。   According to the film substrate 10, the first film substrate A and the second film substrate B are electrically connected to the first film substrate A by the conductive yarn 15. It is possible to twist, tilt, or shorten the distance of the second film substrate B. Therefore, the first film substrate A and the second film substrate B can be three-dimensionally arranged in the electronic device.

第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bの間の距離を維持するために、第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bとの間にスペーサーを介在させることも好適な一態様である。スペーサーとしては、フィルムやブロックなどの樹脂やゴム、発泡体、布などを用いることができる。   In order to maintain the distance between the first film substrate A and the second film substrate B, it is also preferable to interpose a spacer between the first film substrate A and the second film substrate B. It is. As the spacer, a resin such as a film or a block, rubber, foam, cloth or the like can be used.

第1実施形態の変形例[図2]
第1実施形態の変形例として説明するフィルム基板10aを図2に示す。
フィルム基板10aは、フィルム基板10と比較して、第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bとの間に空間を設けずにそれぞれの端面を互いに突き合わせて接続している点で異なっている。
基材フィルム12a(12)上に導通部である導線13a(13)を有する第1のフィルム基板Aと、それとは別に基材フィルム12b(12)上に導通部である導線13b(13)を有する第2のフィルム基板Bとを備え、それぞれのフィルム基板A,Bの導線13a,13bを掛け渡す導電糸15で第1のフィルム基板A,Bを繋ぎ、導電性回路を形成している点はフィルム基板10と同じである。
Modified example of the first embodiment [FIG. 2] :
A film substrate 10a described as a modification of the first embodiment is shown in FIG.
The film substrate 10a differs from the film substrate 10 in that each end face is abutted and connected to each other without providing a space between the first film substrate A and the second film substrate B. Yes.
The 1st film board | substrate A which has the conducting wire 13a (13) which is a conduction | electrical_connection part on the base film 12a (12), and the conducting wire 13b (13) which is a conduction | electrical_connection part on the base film 12b (12) separately from it. The first film substrates A and B are connected to each other by the conductive yarn 15 that spans the conductive wires 13a and 13b of the respective film substrates A and B, thereby forming a conductive circuit. Is the same as the film substrate 10.

フィルム基板10aの導電糸15は、図2で示すように、第1のフィルム基板Aの表面に形成された導線13aを覆い、基材フィルム12aの内部を通して裏面に出て、もう一方の第2のフィルム基板Bの裏面から入ってその基材フィルム12bの内部を通して表面に出て、導線13bの表面を覆い、導線13aに通じている。このようにして、第1のフィルム基板Aの一本の導線13aと接続すべき第2のフィルム基板Bの一本の導線13bとが導電糸15で導通接続され、同様に第1のフィルム基板Aに設けた別の導線13aも接続すべき第2のフィルム基板Bの別の導線13bと導電糸15で導通接続されている。   As shown in FIG. 2, the conductive yarn 15 of the film substrate 10a covers the conductive wire 13a formed on the surface of the first film substrate A, goes out to the back surface through the inside of the base film 12a, and the other second The film substrate B enters from the back surface and exits to the surface through the inside of the base film 12b, covers the surface of the conductive wire 13b, and communicates with the conductive wire 13a. In this way, one conductive wire 13b of the second film substrate B to be connected to one conductive wire 13a of the first film substrate A is conductively connected by the conductive yarn 15, and similarly the first film substrate. Another conductive wire 13 a provided on A is also conductively connected by another conductive wire 15 to another conductive wire 13 b of the second film substrate B to be connected.

フィルム基板10aによれば、第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bのそれぞれの導線13a,13bを導電糸15によって導通接続するとともに、第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bの端面どうしを縫合接続している。これにより第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bとで環を形成するように接続することができる。また、第1のフィルム基板Aの導通部と第2のフィルム基板Bの導通部とを導通接続するとともに、基材フィルム12aと基材フィルム12bとの接続を同時に行うことができる。   According to the film substrate 10a, the conducting wires 13a and 13b of the first film substrate A and the second film substrate B are electrically connected by the conductive yarn 15, and the first film substrate A and the second film substrate B are connected. The end faces of each other are connected by stitching. Accordingly, the first film substrate A and the second film substrate B can be connected so as to form a ring. In addition, the conductive portion of the first film substrate A and the conductive portion of the second film substrate B can be conductively connected, and the base film 12a and the base film 12b can be simultaneously connected.

第2実施形態[図3]
第2実施形態として説明するフィルム基板20を図3に示す。図3の分図(A)はフィルム基板20の正面図、分図(B)はその断面図である。
フィルム基板20は、先の実施形態で示したフィルム基板10と比較して、第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bとを垂直に交差させて接続している点で異なっている。
基材フィルム12a(12)上に導通部である導線13a(13)を有する第1のフィルム基板Aと、それとは別に基材フィルム12b(12)上に導通部である導線13b(13)を有する第2のフィルム基板Bとを備え、それぞれのフィルム基板A,Bの導線13a,13bを掛け渡す導電糸15で第1のフィルム基板A,Bを繋ぎ、導電性回路を形成している点は先の実施形態のフィルム基板10と同じである。
Second Embodiment [FIG. 3] :
A film substrate 20 described as the second embodiment is shown in FIG. 3A is a front view of the film substrate 20 and FIG. 3B is a cross-sectional view thereof.
The film substrate 20 is different from the film substrate 10 shown in the previous embodiment in that the first film substrate A and the second film substrate B are vertically crossed and connected.
The 1st film board | substrate A which has the conducting wire 13a (13) which is a conduction | electrical_connection part on the base film 12a (12), and the conducting wire 13b (13) which is a conduction | electrical_connection part on the base film 12b (12) separately from it. The first film substrates A and B are connected to each other by the conductive yarn 15 that spans the conductive wires 13a and 13b of the respective film substrates A and B, thereby forming a conductive circuit. Is the same as the film substrate 10 of the previous embodiment.

即ち、フィルム基板20の導電糸15は、図3で示すように、第1のフィルム基板Aの表面に形成された導線13aのうちの一本の端部表面を覆い、基材フィルム12aの内部を通して裏面に出て、もう一方の第2のフィルム基板Bの表面(導線13bが形成されていない面)から基材フィルム12bの内部を通して裏面に出て、導線13bのうちの一本の一部表面を覆い、さらにこの基材フィルム12bの内部を通して表面に出て、導線13aの前記端部表面に通じている。このようにして、第1のフィルム基板Aの一本の導線13aと接続すべき第2のフィルム基板Bの一本の導線13bとが導電糸15で導通接続され、同様に第1のフィルム基板Aに設けた別の導線13aも接続すべき第2のフィルム基板Bの別の導線13bと導電糸15で導通接続されている。   That is, as shown in FIG. 3, the conductive yarn 15 of the film substrate 20 covers one end surface of the conductive wire 13a formed on the surface of the first film substrate A, and the inside of the base film 12a. To the back surface, and from the surface of the other second film substrate B (the surface on which the conducting wire 13b is not formed) to the back surface through the inside of the base film 12b, and a part of one of the conducting wires 13b It covers the surface, and further passes through the inside of the base film 12b to the surface and communicates with the end surface of the conductive wire 13a. In this way, one conductive wire 13b of the second film substrate B to be connected to one conductive wire 13a of the first film substrate A is conductively connected by the conductive yarn 15, and similarly the first film substrate. Another conductive wire 13 a provided on A is also conductively connected by another conductive wire 15 to another conductive wire 13 b of the second film substrate B to be connected.

フィルム基板20によれば、第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bのそれぞれの導線13a,13bを導電糸15によって導通接続するとともに、第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bとを垂直に縫合接続している。これにより第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bとを電子機器内で立体的に交差させて配置することができる。   According to the film substrate 20, the conducting wires 13 a and 13 b of the first film substrate A and the second film substrate B are electrically connected by the conductive yarn 15, and the first film substrate A and the second film substrate B are connected. And are connected vertically by stitching. Thereby, the 1st film board | substrate A and the 2nd film board | substrate B can be arrange | positioned crossing in three dimensions in an electronic device.

第2実施形態の変形例[図4]
第2実施形態の変形例としてのフィルム基板20aを図4に示す。
フィルム基板20aは、2枚のフィルム基板である第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bを立体的に交差するように接続している点ではフィルム基板20と同じであるが、第1のフィルム基板Aの別の端部も第2のフィルム基板Bと導通接続させている点で異なる。
Modified example of the second embodiment [FIG. 4] :
A film substrate 20a as a modification of the second embodiment is shown in FIG.
The film substrate 20a is the same as the film substrate 20 in that the first film substrate A and the second film substrate B, which are two film substrates, are connected so as to cross three-dimensionally. Another end portion of the film substrate A is different in that it is conductively connected to the second film substrate B.

図4では、第1のフィルム基板Aに設けた導通部と第2のフィルム基板Bに設けた導通部を明示していないが、フィルム基板A,Bともに、その表裏両面のどちらの面に導通部を設けても良く、導電糸15の縫合により、基材フィルム12aと基材フィルム12bとの接続と同時に、第1のフィルム基板Aに設けた導通部と第2のフィルム基板Bに設けた導通部とを導通接続している。   In FIG. 4, the conductive portion provided on the first film substrate A and the conductive portion provided on the second film substrate B are not clearly shown, but both the film substrates A and B are electrically connected to both the front and back surfaces. The conductive film 15 may be connected to the base film 12a and the base film 12b at the same time as the conductive film 15 is connected to the conductive part provided on the first film substrate A and the second film substrate B. Conductive connection is established with the conduction part.

フィルム基板20aによれば、第2のフィルム基板Bに対して第1のフィルム基板Aをアーチ状に接続しているため、第1のフィルム基板Aのアーチ状態をその状態のままで安定させておくことができる。   According to the film substrate 20a, since the first film substrate A is connected to the second film substrate B in an arch shape, the arch state of the first film substrate A is stabilized in that state. I can leave.

第3実施形態[図5]
第3実施形態として説明するフィルム基板30を図5に示す。図5の分図(A)はフィルム基板30の平面図、分図(B)はその断面図である。
フィルム基板30は、先の実施形態で示したフィルム基板10と比較して、第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bの端をそれぞれ約90°屈曲させて、その端部どうしを接続している点で異なっている。
Third Embodiment [FIG. 5] :
A film substrate 30 described as the third embodiment is shown in FIG. 5A is a plan view of the film substrate 30 and FIG. 5B is a sectional view thereof.
Compared to the film substrate 10 shown in the previous embodiment, the film substrate 30 is bent at about 90 ° at the ends of the first film substrate A and the second film substrate B, and the ends are connected to each other. Is different in that

基材フィルム12a(12)上に導通部である導線13a(13)を有する第1のフィルム基板Aと、それとは別に基材フィルム12b(12)上に導通部である導線13b(13)を有する第2のフィルム基板Bとを備え、それぞれのフィルム基板A,Bの導線13a,13bを掛け渡す導電糸15で第1のフィルム基板A,Bを繋ぎ、導電性回路を形成している点は先の実施形態のフィルム基板10と同じである。   The 1st film board | substrate A which has the conducting wire 13a (13) which is a conduction | electrical_connection part on the base film 12a (12), and the conducting wire 13b (13) which is a conduction | electrical_connection part on the base film 12b (12) separately from it. The first film substrates A and B are connected to each other by the conductive yarn 15 that spans the conductive wires 13a and 13b of the respective film substrates A and B, thereby forming a conductive circuit. Is the same as the film substrate 10 of the previous embodiment.

先の実施形態で示したフィルム基板10では、基材フィルム12a上の導線13aと基材フィルム12b上の導線13bとは離れた位置にあり、その間はスペース(空間)となっていたが、本実施形態のフィルム基板30では、基材フィルム12a上の導線13aと基材フィルム12b上の導線13bとは離れた位置にあっても、基材フィルム12a,12bがスペーサーとなっているため、第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bとが隙間無く固着し、両者を固定しておくことができる。   In the film substrate 10 shown in the previous embodiment, the conducting wire 13a on the base film 12a and the conducting wire 13b on the base film 12b are in positions separated from each other. In the film substrate 30 of the embodiment, since the base films 12a and 12b serve as spacers even when the conductive wire 13a on the base film 12a and the conductive wire 13b on the base film 12b are located at a distance, The first film substrate A and the second film substrate B are fixed without any gap, and both can be fixed.

フィルム基板30の導電糸15は、図5で示すように、第1のフィルム基板Aの表面に形成された導線13aのうちの一本の端部表面を覆い、基材フィルム12aの内部を通して裏面に達し、もう一方の第2のフィルム基板Bの裏面から入って基材フィルム12bの内部を通して表面に出て、導線13bのうちの一本の端部表面を覆い、さらにこの基材フィルム12bの内部を通して裏面に達し、第1のフィルム基板Aの内部を通じて表面に出て導線13aの前記端部表面に通じている。このようにして、第1のフィルム基板Aの一本の導線13aと接続すべき第2のフィルム基板Bの一本の導線13bとが導電糸15で導通接続され、同様に第1のフィルム基板Aに設けた別の導線13aも接続すべき第2のフィルム基板Bの別の導線13bと導電糸15で導通接続されている。   As shown in FIG. 5, the conductive yarn 15 of the film substrate 30 covers the surface of one end of the conductive wire 13a formed on the surface of the first film substrate A, and the back surface through the inside of the base film 12a. , Enters from the back surface of the other second film substrate B, exits to the surface through the inside of the base film 12b, covers one end surface of the conductive wire 13b, and further covers the base film 12b. It reaches the back surface through the inside, goes out to the surface through the inside of the first film substrate A, and communicates with the end surface of the conductive wire 13a. In this way, one conductive wire 13b of the second film substrate B to be connected to one conductive wire 13a of the first film substrate A is conductively connected by the conductive yarn 15, and similarly the first film substrate. Another conductive wire 13 a provided on A is also conductively connected by another conductive wire 15 to another conductive wire 13 b of the second film substrate B to be connected.

フィルム基板30によれば、第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bとを基材フィルム12a,12bの端で折り曲げてその裏面どうしを突き合わせた状態で導電糸15で縫合しているため、第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bとをつなげた長いフィルム基板とすることができる。
なお、図5で示すフィルム基板30では、それぞれのフィルム基板A,Bの端部で折り曲げて接続しているが、中央部で折り曲げて接続することで、図5(B)の横方向だけでなく縦方向へも長く連なる立体的なフィルム基板とすることができる。
According to the film substrate 30, the first film substrate A and the second film substrate B are folded at the ends of the base films 12 a and 12 b and stitched together with the conductive yarn 15 in a state where the back surfaces thereof are butted together. A long film substrate in which the first film substrate A and the second film substrate B are connected to each other can be obtained.
In addition, in the film board | substrate 30 shown in FIG. 5, it is bent and connected in the edge part of each film board | substrate A and B, but only in the horizontal direction of FIG.5 (B) by bending and connecting in the center part. It can be set as a three-dimensional film substrate which continues for a long time in the vertical direction.

第3実施形態の変形例[図6]
第3実施形態の変形例として説明するフィルム基板30aを図6に示す。
フィルム基板30aは、先の実施形態で示したフィルム基板30と比較すると、2枚の原料フィルム基板を接続するのと異なり、1枚のフィルム基板Aの端部どうしを導電糸15で縫合している点で異なっている。したがって、フィルム基板30aでは、基材フィルム12a(12)上に形成される導通部の端部と端部を導通接続している。
Modified example of the third embodiment [FIG. 6] :
A film substrate 30a described as a modification of the third embodiment is shown in FIG.
Compared with the film substrate 30 shown in the previous embodiment, the film substrate 30 a is different from connecting two raw film substrates, and the ends of one film substrate A are stitched together with the conductive thread 15. Is different. Therefore, in the film board | substrate 30a, the edge part and edge part of the conduction | electrical_connection part formed on the base film 12a (12) are conduct-connected.

また、フィルム基板30aでは、導電糸15が基材フィルム12aの端部の縁に表出して縫い合わされたかがり縫いにより縫合している点でフィルム基板30とは異なる。
フィルム基板30aでは、一枚の基材12aを環状に固定することができる。
Further, the film substrate 30a is different from the film substrate 30 in that the conductive yarn 15 is stitched by stitch stitching which is exposed and stitched to the edge of the base film 12a.
In the film substrate 30a, one base material 12a can be fixed in an annular shape.

第4実施形態[図7]
第4実施形態として説明するフィルム基板40を図7に示す。図7の分図(A)はフィルム基板40の正面図、分図(B)はその断面図である。
フィルム基板40は、2枚のフィルム基板である第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bとをその厚み方向に積層して接続している。より具体的には、第1のフィルム基板Aの導線13aが設けられた面と反対側の面に、第2のフィルム基板Bの導線13bを設けた面とは反対側の面を接続している。第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bの構成は他の実施形態と同様である。
Fourth Embodiment [FIG. 7] :
A film substrate 40 described as the fourth embodiment is shown in FIG. 7 is a front view of the film substrate 40, and FIG. 7B is a cross-sectional view thereof.
The film substrate 40 is formed by stacking and connecting a first film substrate A and a second film substrate B, which are two film substrates, in the thickness direction. More specifically, the surface opposite to the surface on which the conducting wire 13b of the second film substrate B is provided is connected to the surface on the opposite side to the surface on which the conducting wire 13a of the first film substrate A is provided. Yes. The structure of the 1st film board | substrate A and the 2nd film board | substrate B is the same as that of other embodiment.

フィルム基板40の導電糸15は、図7で示すように、第1のフィルム基板Aの表面に形成された導線13aのうちの一本の一部表面を覆い、基材フィルム12aの内部を通して裏面に達し、もう一方の第2のフィルム基板Bの裏面に入ってその内部を通して導線13bに接続する。そこからさらにまた基材フィルム12bの内部を通して裏面に達し、接触する第1のフィルム基板Aの裏面から基材フィルム12aの内部を通して表面に出て導線13aの前記一部表面に通じるように縫合している。   As shown in FIG. 7, the conductive yarn 15 of the film substrate 40 covers a partial surface of one of the conductive wires 13a formed on the surface of the first film substrate A, and the back surface through the inside of the base film 12a. And enters the back surface of the other second film substrate B and connects to the conductive wire 13b through the inside thereof. From there, it reaches the back surface through the inside of the base film 12b, and is stitched so as to come out from the back surface of the first film substrate A that comes into contact through the inside of the base film 12a to the surface of the conductor 13a. ing.

このようにして、第1のフィルム基板Aの一本の導線13aと接続すべき第2のフィルム基板Bの一本の導線13bとが導電糸15で導通接続され、同様に第1のフィルム基板Aに設けた別の導線13aも接続すべき第2のフィルム基板Bの別の導線13bと導電糸15で導通接続されている。   In this way, one conductive wire 13b of the second film substrate B to be connected to one conductive wire 13a of the first film substrate A is conductively connected by the conductive yarn 15, and similarly the first film substrate. Another conductive wire 13 a provided on A is also conductively connected by another conductive wire 15 to another conductive wire 13 b of the second film substrate B to be connected.

フィルム基板40によれば、第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bの一部を積層しているので、第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bとをつなげた長いフィルム基板とすることができる。
また、フィルム基板40の表裏両面の導線13a,13bを導通接続することができる。
According to the film substrate 40, since a part of the first film substrate A and the second film substrate B is laminated, the long film substrate in which the first film substrate A and the second film substrate B are connected. It can be.
Further, the conductive wires 13a and 13b on both the front and back surfaces of the film substrate 40 can be conductively connected.

第4実施形態の変形例1[図8]
第4実施形態の変形例としてのフィルム基板40aを図8に示す。図8の分図(A)はフィルム基板40aの平面図、分図(B)はその断面図である。
フィルム基板40aは、2枚のフィルム基板である第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bとをその厚み方向に積層して接続している点ではフィルム基板40と同じであるが、第1のフィルム基板Aの導線13aを有する面に第2のフィルム基板Bの導線13bを有する面を接続している点で異なる。
Modification 1 of the fourth embodiment [FIG. 8] :
A film substrate 40a as a modification of the fourth embodiment is shown in FIG. 8 is a plan view of the film substrate 40a, and FIG. 8B is a sectional view thereof.
The film substrate 40a is the same as the film substrate 40 in that the first film substrate A and the second film substrate B, which are two film substrates, are stacked and connected in the thickness direction. The difference is that the surface having the conducting wire 13b of the second film substrate B is connected to the surface having the conducting wire 13a of one film substrate A.

フィルム基板40aの導電糸15は、図8で示すように、第1のフィルム基板Aの導線13aの設けられていない方の面からその内部を通して反対面に達し、導線13aのうちの一本の一部と接し、また導線13bのうちの一本の一部と接して基材フィルム12aの内部に入って裏面に達する。そこからさらにまた基材フィルム12bの内部を通して導線13bの設けられている面に達し、導線13bに接するとともに導線13aに接し、基材フィルム12aの内部に入ってから導線13aの設けられていない方の面に通じるようにして基材フィルム12aと基材フィルム12bとを縫合している。   As shown in FIG. 8, the conductive yarn 15 of the film substrate 40a reaches the opposite surface through the inside from the surface of the first film substrate A where the conductive wire 13a is not provided, and one of the conductive wires 13a. It touches a part and also touches a part of one of the conductive wires 13b to enter the base film 12a and reach the back surface. From there, it also reaches the surface where the conducting wire 13b is provided through the inside of the base film 12b, contacts the conducting wire 13b, contacts the conducting wire 13a, enters the inside of the base film 12a, and is not provided with the conducting wire 13a. The base film 12a and the base film 12b are stitched so as to communicate with the surface.

このようにして、第1のフィルム基板Aの一本の導線13aと接続すべき第2のフィルム基板Bの一本の導線13bとが導電糸15で導通接続され、同様に第1のフィルム基板Aに設けた別の導線13aも接続すべき第2のフィルム基板Bの別の導線13bと導電糸15で導通接続されている。   In this way, one conductive wire 13b of the second film substrate B to be connected to one conductive wire 13a of the first film substrate A is conductively connected by the conductive yarn 15, and similarly the first film substrate. Another conductive wire 13 a provided on A is also conductively connected by another conductive wire 15 to another conductive wire 13 b of the second film substrate B to be connected.

フィルム基板40aによれば、第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bの一部を積層しているので、第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bとをつなげた長いフィルム基板とすることができる。
また、導線13a,13bどうしを直接接触させるため複雑な回路どうしを接触させることは困難であるが、導線どうしを直接接触させているので導通の確実なフィルム基板とすることができる。
According to the film substrate 40a, since a part of the first film substrate A and the second film substrate B is laminated, the long film substrate in which the first film substrate A and the second film substrate B are connected. It can be.
Further, since the conductive wires 13a and 13b are directly brought into contact with each other, it is difficult to bring complicated circuits into contact with each other. However, since the conductive wires are directly brought into contact with each other, a film substrate with reliable conduction can be obtained.

第4実施形態の変形例2[図9]
第4実施形態の別の変形例としてのフィルム基板40bを図9に示す。図9の分図(A)はフィルム基板40bの平面図、分図(B)はその断面図である。
フィルム基板40bも、2枚のフィルム基板である第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bとをその厚み方向に積層して接続している点ではフィルム基板40と同じであるが、第1のフィルム基板Aの導線13aが設けられていない面に第2のフィルム基板Bの導線13bを設けた面を接続している点で異なる。
Modification 2 of the fourth embodiment [FIG. 9] :
FIG. 9 shows a film substrate 40b as another modification of the fourth embodiment. 9A is a plan view of the film substrate 40b, and FIG. 9B is a cross-sectional view thereof.
The film substrate 40b is also the same as the film substrate 40 in that the first film substrate A and the second film substrate B, which are two film substrates, are stacked and connected in the thickness direction. The difference is that the surface of the second film substrate B provided with the conductive wire 13b is connected to the surface of the first film substrate A where the conductive wire 13a is not provided.

フィルム基板40bの導電糸15は、図9で示すように、第1のフィルム基板Aの表面に形成された導線13aのうちの一本の一部表面を覆い、基材フィルム12aの内部を通して裏面に達し、もう一方の第2のフィルム基板Bの表面に形成された導線13bのうちの一本に接し、さらに第2のフィルム基板Bの内部に入ってからその裏面に達する。そこからさらにまた基材フィルム12bの内部を通して導線13bの設けられた面に達し、この導線13bに接し、さらに基材フィルム12aの内部を通して表面に出て導線13aの前記一部表面に通じるように基材フィルム12aと基材フィルム12bとを縫合している。   As shown in FIG. 9, the conductive yarn 15 of the film substrate 40b covers a partial surface of one of the conductive wires 13a formed on the surface of the first film substrate A, and the back surface through the inside of the base film 12a. , Contacts one of the conductive wires 13b formed on the surface of the other second film substrate B, and further enters the inside of the second film substrate B before reaching the back surface thereof. From there, it also reaches the surface on which the conductive wire 13b is provided through the inside of the base film 12b, comes into contact with the conductive wire 13b, and further passes through the inside of the base film 12a to the surface and leads to the partial surface of the conductive wire 13a. The base film 12a and the base film 12b are stitched together.

このようにして、第1のフィルム基板Aの一本の導線13aと接続すべき第2のフィルム基板Bの一本の導線13bとが導電糸15で導通接続され、同様に第1のフィルム基板Aに設けた別の導線13aも接続すべき第2のフィルム基板Bの別の導線13bと導電糸15で導通接続されている。   In this way, one conductive wire 13b of the second film substrate B to be connected to one conductive wire 13a of the first film substrate A is conductively connected by the conductive yarn 15, and similarly the first film substrate. Another conductive wire 13 a provided on A is also conductively connected by another conductive wire 15 to another conductive wire 13 b of the second film substrate B to be connected.

フィルム基板40bによれば、第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bの一部を積層しているので、第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bとをつなげた長いフィルム基板とすることができる。このとき、導線13a,13bの双方とも図9(B)で基材フィルム12a,12bの上側面に位置しているため、後ろ側の面に導線を回り込ませることなく回路を接続することができる。   According to the film substrate 40b, since a part of the first film substrate A and the second film substrate B is laminated, the long film substrate in which the first film substrate A and the second film substrate B are connected. It can be. At this time, since both of the conducting wires 13a and 13b are located on the upper side surfaces of the base films 12a and 12b in FIG. 9B, the circuit can be connected without causing the conducting wires to wrap around the rear side surface. .

第4実施形態の変形例3[図10]
第4実施形態のまた別の変形例としてのフィルム基板40cを図10に示す。図10の分図(A)はフィルム基板40cの平面図、分図(B)はその断面図、分図(C)はまた別の断面図である。
フィルム基板40cも、2枚のフィルム基板である第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bとをその厚み方向に積層し、第1のフィルム基板Aの導線13aが設けられていない面に第2のフィルム基板Bの導線13bを設けた面を接続している点でフィルム基板40cと同じであるが、導線13a,13bの縫合位置がすべて同じ位置とはなっていない点でフィルム基板40cとは異なる。
Modification 3 of the fourth embodiment [FIG. 10] :
FIG. 10 shows a film substrate 40c as another modification of the fourth embodiment. 10A is a plan view of the film substrate 40c, FIG. 10B is a sectional view thereof, and FIG. 10C is another sectional view.
The film substrate 40c is also formed by laminating the first film substrate A and the second film substrate B, which are two film substrates, in the thickness direction, and on the surface where the conducting wire 13a of the first film substrate A is not provided. The film substrate 40c is the same as the film substrate 40c in that the surface on which the conducting wire 13b of the second film substrate B is provided is connected, but the stitching positions of the conducting wires 13a and 13b are not all the same position. Is different.

即ち、図10(A)の一番上に示された導線13aよりも上から二番目に示された導線13aでは、縫合位置が右側に移動している。三番目に示された導線13aでは一番上の導線13aと同じ位置で縫合している。このように、縫合位置は導線13a,13bの配置に応じて適宜変更することができる。   That is, in the conducting wire 13a shown second from the top than the conducting wire 13a shown at the top in FIG. 10A, the stitching position has moved to the right side. The third conductive wire 13a is stitched at the same position as the uppermost conductive wire 13a. Thus, the stitching position can be appropriately changed according to the arrangement of the conducting wires 13a and 13b.

第4実施形態の変形例4[図11]
第4実施形態のさらに別の変形例としてのフィルム基板40dを図11に示す。図11の分図(A)はフィルム基板40dの平面図、分図(B)はその断面図、分図(C)はまた別の断面図である。
フィルム基板40dも、2枚のフィルム基板である第1のフィルム基板Aと第2のフィルム基板Bとをその厚み方向に積層している点でフィルム基板40dと同じであるが、フィルム基板Bの表裏両面に導線13b1,13b2を設けた点でフィルム基板40dとは異なる。
Modification 4 of the fourth embodiment [FIG. 11] :
FIG. 11 shows a film substrate 40d as still another modified example of the fourth embodiment. 11A is a plan view of the film substrate 40d, FIG. 11B is a sectional view thereof, and FIG. 11C is another sectional view.
The film substrate 40d is also the same as the film substrate 40d in that the first film substrate A and the second film substrate B, which are two film substrates, are laminated in the thickness direction. It differs from the film substrate 40d in that conductive wires 13b1 and 13b2 are provided on both front and back surfaces.

フィルム基板40dでは、基材フィルム12aに設けた導線13aと基材フィルム12bに設けた導線13b1とを導電糸15で縫合し、基材フィルム12bに設けた導線13b1と導線13b2とを導電糸15で導通接続している。導通部を設けた基材フィルムを積層して適宜導通部どうし、および基材フィルムどうしを縫合しているので、複雑な立体的な導電性回路を実現させることができる。   In the film substrate 40d, the conductive wire 13a provided on the base film 12a and the conductive wire 13b1 provided on the base film 12b are stitched with the conductive yarn 15, and the conductive wire 13b1 and the conductive wire 13b2 provided on the base film 12b are connected to the conductive yarn 15. Conductive connection is established. Since the base film provided with the conductive portion is laminated and the conductive portions and the base film are appropriately stitched, a complicated three-dimensional conductive circuit can be realized.

第4実施形態の変形例5[図12]
第4実施形態のさらにまた別の変形例としてのフィルム基板40eを図12に示す。図12の分図(A)はフィルム基板40dの平面図、分図(B)はその断面図、分図(C)は底面図である。
フィルム基板40eは、図11で示すフィルム基板40dの変形例であり、1枚の基材フィルム12aの表裏両面に設けた導線13a1と導線13a2とを導電糸15で導通接続したものである。
この実施形態のように基材フィルムの接続を行わずに、一の基材フィルム上の複数の導通部を導電糸による縫合で導通接続させることができる。
Modification 5 of the fourth embodiment [FIG. 12] :
A film substrate 40e as still another modification of the fourth embodiment is shown in FIG. 12A is a plan view of the film substrate 40d, FIG. 12B is a sectional view thereof, and FIG. 12C is a bottom view thereof.
The film substrate 40e is a modified example of the film substrate 40d shown in FIG. 11, and is formed by electrically connecting conductive wires 13a1 and 13a2 provided on the front and back surfaces of one base film 12a with conductive yarns 15.
Without connecting the base film as in this embodiment, a plurality of conductive portions on one base film can be conductively connected by stitching with a conductive thread.

上記実施形態で示した形態は本発明の例示であり、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、実施形態の変更や、一部の削除、または公知技術の付加や、組合せ等を行い得るものであり、それらの技術もまた本発明の範囲に含まれるものである。   The form shown in the above embodiment is an exemplification of the present invention, and the embodiment can be changed, partly deleted, addition of a known technique, combination, etc. can be made without departing from the gist of the present invention. These techniques are also included in the scope of the present invention.

10、10a、20、20a、30、30a、40、40a、40b、40c、40d、40e フィルム基板
12、12a、12b 基材フィルム
13、13a、13b、13b1、13b2 導線(導電性回路)
15 導電糸
A 第1のフィルム基板
B 第2のフィルム基板
10, 10a, 20, 20a, 30, 30a, 40, 40a, 40b, 40c, 40d, 40e Film substrate 12, 12a, 12b Base film 13, 13a, 13b, 13b1, 13b2 Conductor (conductive circuit)
15 Conductive yarn A 1st film substrate B 2nd film substrate

Claims (15)

基材フィルムに導電性回路を有するフィルム基板において、
導電性回路が、基材フィルムの離れた位置にある導通部を掛け渡して導通接続する導電糸を有し、前記導通部を掛け渡した後の前記導電糸の表面に絶縁性皮膜が設けられていることを特徴とするフィルム基板。
In the film substrate having a conductive circuit in the base film,
Conductive circuit, have a conductive yarn conductively connected spanned a conductive portion located away of the substrate film, the insulating film is provided on a surface of the conductive yarn after passing over the conductive portion film substrate, characterized in that is.
導電糸が、芯材となる非導電性繊維と、非導電性繊維を被覆する導電性被覆層とを有する請求項1記載のフィルム基板。   The film substrate according to claim 1, wherein the conductive yarn has a nonconductive fiber serving as a core material and a conductive coating layer covering the nonconductive fiber. 導通部が、導電性塗料による印刷層である請求項1または請求項2記載のフィルム基板。   The film substrate according to claim 1, wherein the conductive portion is a printed layer made of a conductive paint. 導電糸が、導電性回路の導通部どうしを接続する縫合部を有する請求項1〜請求項3何れか1項記載のフィルム基板。   The film substrate according to any one of claims 1 to 3, wherein the conductive yarn has a stitched portion that connects the conductive portions of the conductive circuit. 前記基材フィルムの導電糸で掛け渡す部位が立体的に交差する請求項1〜請求項3何れか1項記載のフィルム基板。   The film substrate according to any one of claims 1 to 3, wherein a portion of the base film that is spanned by the conductive yarn intersects three-dimensionally. 前記基材フィルム上の離れた位置にある導通部間が、スペーサーを介して導電糸で掛け渡したものである請求項1〜請求項5何れか1項記載のフィルム基板。   The film substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein the conductive portions at remote positions on the base film are spanned by conductive yarns via a spacer. 前記基材フィルム上の離れた位置にある導通部間が、空間を介して導電糸で掛け渡したものである請求項1〜請求項5何れか1項記載のフィルム基板。   The film substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein the conductive portions located at a distance on the base film are spanned by conductive yarns through a space. 前記絶縁性皮膜は、前記導通部を掛け渡した後の前記導電糸の前記表面を絶縁性テープで被覆して設けられている請求項1〜請求項7何れか1項記載のフィルム基板。The film substrate according to any one of claims 1 to 7, wherein the insulating film is provided by covering the surface of the conductive yarn with the insulating tape after the conductive portion is spanned. 前記絶縁性皮膜は、前記導通部を掛け渡した後の前記導電糸の前記表面に絶縁性塗膜を塗布して硬化させて設けられている請求項1〜請求項7何れか1項記載のフィルム基板。The insulating film according to any one of claims 1 to 7, wherein the insulating film is provided by applying and curing an insulating coating film on the surface of the conductive yarn after the conductive portion is spanned. Film substrate. 前記導電糸は、複数の導電糸の束として設けられている請求項1〜請求項9何れか1項に記載のフィルム基板。The film substrate according to claim 1, wherein the conductive yarn is provided as a bundle of a plurality of conductive yarns. 前記基材フィルムに設けられている縫い穴に施されているスルーホールメッキが前記導通部と導通し、前記縫い穴に掛け渡している前記導電糸と導通接続する請求項1〜請求項10何れか1項記載のフィルム基板。The through-hole plating provided in the sewing hole provided in the base film is electrically connected to the conductive portion, and is electrically connected to the conductive thread that is spanned to the sewing hole. The film substrate according to claim 1. 基材フィルムに導電性回路を有する第1のフィルム基板と
基材フィルムに導電性回路を有する第2のフィルム基板と、
第1のフィルム基板の導電性回路と第2のフィルム基板の導電性回路とに掛け渡して相互に導通接続する導電糸とを備え
前記第1のフィルム基板の前記導電性回路と前記第2のフィルム基板の前記導電性回路とを掛け渡した後の前記導電糸の表面に絶縁性皮膜が設けられているフィルム基板の縫合接続構造。
A first film substrate having a conductive circuit in the base film; a second film substrate having a conductive circuit in the base film;
A conductive yarn that spans the conductive circuit of the first film substrate and the conductive circuit of the second film substrate and is electrically connected to each other ;
A stitch connection structure of a film substrate in which an insulating film is provided on the surface of the conductive yarn after the conductive circuit of the first film substrate and the conductive circuit of the second film substrate are spanned .
第1のフィルム基板と第2のフィルム基板とが立体的に交差する請求項12記載のフィルム基板の縫合接続構造。 The stitch connection structure of a film substrate according to claim 12, wherein the first film substrate and the second film substrate cross three-dimensionally. 第1のフィルム基板と第2のフィルム基板との間にスペーサーを介して導電糸で掛け渡したものである請求項12または請求項13記載のフィルム基板の縫合接続構造。 Suture connection structure of the film substrate of claim 12 or claim 13, wherein in which looped over a conductive thread through the spacer between the first film substrate and the second film substrate. 第1のフィルム基板と第2のフィルム基板との間に空間を介して導電糸で掛け渡したものである請求項12または請求項13記載のフィルム基板の縫合接続構造。 The stitch connection structure for a film substrate according to claim 12 or 13, wherein the first film substrate and the second film substrate are spanned by a conductive thread through a space.
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