JP6617056B2 - Semiconductor processing sheet, winding body thereof, and method for manufacturing the winding body - Google Patents
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Description
本発明は、半導体加工用シート、その巻取体および当該巻取体の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a semiconductor processing sheet, a wound body thereof, and a method for producing the wound body.
半導体ウエハから半導体チップを製造する際、一般的に、ダイシングシートやバックグラインドシートといった半導体加工用シートが使用される。近年、このような半導体加工用シートは、所望の波長の光に対する透過性(以下「光線透過性」という場合がある。)を有することが求められている。 When a semiconductor chip is manufactured from a semiconductor wafer, a semiconductor processing sheet such as a dicing sheet or a back grind sheet is generally used. In recent years, such a semiconductor processing sheet is required to have transparency to light having a desired wavelength (hereinafter sometimes referred to as “light transmittance”).
例えば、近年、従来よりも厚さの薄いシリコンウエハやガラス製ウエハの使用が増えている。これらのウエハは、ブレードを使用してダイシングする際、チッピングやチップクラックといったチップの欠損が生じ易い。そのため、これらのウエハを使用する場合、ダイシングが完了した後、半導体加工用シートにチップを貼付した状態で、チップにおける半導体加工用シートに接する面から半導体加工用シート越しにチップの形状を検査することが行われている。この検査を良好に行うためには、半導体加工用シートが検査のための光を透過する必要がある。 For example, in recent years, the use of silicon wafers and glass wafers that are thinner than conventional ones has increased. When these wafers are diced using a blade, chip defects such as chipping and chip cracks are likely to occur. Therefore, when these wafers are used, after the dicing is completed, the shape of the chip is inspected from the surface in contact with the semiconductor processing sheet on the chip through the semiconductor processing sheet with the chip attached to the semiconductor processing sheet. Things have been done. In order to perform this inspection satisfactorily, the semiconductor processing sheet needs to transmit light for inspection.
また、厚さの薄いウエハの個片化に際しては、ブレードでフルカットするとチッピングなどが懸念されるため、先にウエハをハーフカットした後に裏面研削を行う先ダイシング法が用いられたり、レーザー光を用いてウエハ内部に改質層を設けた後、裏面研削を行ってチップを個片化するステルスダイシング法が用いられることがある。 Also, when thin wafers are singulated, there is concern about chipping if full cutting is performed with a blade. For this reason, the tip dicing method is used in which the wafer is half-cut first and then back grinding is used, or laser light is used. In some cases, a stealth dicing method is used in which a modified layer is provided inside a wafer and then backside grinding is performed to separate chips.
ステルスダイシングに際しては、レーザー光の照射によりウエハ内部に改質層を形成した後に、半導体加工用シートに貼付すると、貼付の圧力によってウエハが破損するリスクが存在する。このリスクを回避するため、予めウエハを半導体加工用シートに貼付した後、半導体加工用シート越しに、ウエハに対してレーザー光を照射して、改質層を形成することが行われる。この場合、良好にレーザー光を照射するためには、半導体加工用シートがレーザー光を透過する必要がある。 In stealth dicing, if a modified layer is formed inside a wafer by irradiation with laser light and then affixed to a semiconductor processing sheet, there is a risk that the wafer will be damaged by the pressure of the application. In order to avoid this risk, a modified layer is formed by attaching a wafer to a semiconductor processing sheet in advance and then irradiating the wafer with laser light through the semiconductor processing sheet. In this case, in order to irradiate the laser beam satisfactorily, the semiconductor processing sheet needs to transmit the laser beam.
さらに、フリップチップにてチップを実装する場合、通常、チップの裏面に製品面やロットナンバー等をレーザー印字する。このようなレーザー印字を行うためには、裏面研削が完了したウエハをレーザー印字装置に搬送する工程が設けられる。近年使用される薄化したウエハでは、搬送時にウエハ割れが生じるリスクが高い。このリスクを回避するために、薄化したウエハを半導体加工用シートに貼付したまま搬送し、半導体加工用シート越しにレーザー光を照射して印字することが考案されている。このレーザー印字を良好に行うためには、半導体加工用シートがレーザー光を透過する必要がある。 Further, when a chip is mounted by flip chip, the product surface or lot number is usually laser-printed on the back surface of the chip. In order to perform such laser printing, there is provided a step of transporting the wafer whose back surface grinding has been completed to a laser printing apparatus. Thin wafers used in recent years have a high risk of wafer cracking during transport. In order to avoid this risk, it has been devised that a thinned wafer is transported while being stuck to a semiconductor processing sheet and printed by irradiating a laser beam through the semiconductor processing sheet. In order to perform this laser printing satisfactorily, the semiconductor processing sheet needs to transmit laser light.
また、チップの裏面に保護膜を設ける場合にも、当該保護膜にレーザー印字することがある。この場合、保護膜形成層を含む半導体加工用シートの保護膜形成層に対し、半導体加工用シートの基材や粘着剤層越しにレーザー光を照射して印字することが行われている。この場合も、レーザー印字を良好に行うために、半導体加工用シートの基材や粘着剤層がレーザー光を透過する必要がある。 Also, when a protective film is provided on the back surface of the chip, laser printing may be performed on the protective film. In this case, printing is performed by irradiating the protective film forming layer of the semiconductor processing sheet including the protective film forming layer with laser light through the base material or the adhesive layer of the semiconductor processing sheet. Also in this case, in order to perform laser printing satisfactorily, it is necessary for the base material and the adhesive layer of the semiconductor processing sheet to transmit laser light.
半導体加工用シートは、一般的に、基材と、当該基材の一方の面に積層された粘着剤層とを備える。さらに、半導体加工用シートが使用されるまでの間、粘着剤層を保護する目的で、当該粘着剤層上に剥離フィルムが設けられことがある。例えば、特許文献1および2には、基材、粘着剤層および剥離フィルムがこの順に積層されてなる半導体加工用シートが記載されている。また、一般的に、半導体加工用シートの用途に応じて、接着剤層や保護膜形成層といったその他の層が、粘着剤層と剥離フィルムとの間に設けられることもある。
A semiconductor processing sheet generally includes a base material and an adhesive layer laminated on one surface of the base material. Furthermore, a release film may be provided on the pressure-sensitive adhesive layer for the purpose of protecting the pressure-sensitive adhesive layer until the semiconductor processing sheet is used. For example,
半導体加工用シートにおける、所望の波長を有する光に対する優れた光線透過性は、基材や粘着剤層の光線透過率をそれぞれ高めることで達成できる。例えば、半導体加工用シートの基材側の面、すなわち、基材における粘着剤層とは反対側の面の平滑性を高めることで達成することができる。 The light transmittance with respect to the light which has a desired wavelength in the sheet | seat for semiconductor processing can be achieved by raising the light transmittance of a base material or an adhesive layer, respectively. For example, it can be achieved by increasing the smoothness of the surface of the semiconductor processing sheet on the substrate side, that is, the surface of the substrate opposite to the pressure-sensitive adhesive layer.
しかしながら、高い光線透過性を有する半導体加工用シートを得るために、半導体加工用シートの基材側の面の平滑性を高くすると、ブロッキングが生じ易くなる。すなわち、長尺の半導体加工用シートをロール状に巻き取った際に、半導体加工用シート同士が密着し易くなる。このような密着が生じると、ロールから半導体加工用シートを繰り出すことが困難となったり、意図しない界面(例えば、粘着剤層と剥離フィルムとの界面)で剥離が生じたりする。また、基材および粘着剤層をウエハの形状に合わせてプリカットした半導体加工用シートにおいて、このようなブロッキングが生じると、半導体加工用シートをロールから繰り出す際に、剥離フィルムから基材と粘着剤層との積層体が剥離したり、当該剥離した積層体の基材側が、剥離フィルムの裏面に貼り付くという不具合が生じる。 However, if the smoothness of the surface of the semiconductor processing sheet on the substrate side is increased in order to obtain a semiconductor processing sheet having high light transmittance, blocking is likely to occur. That is, when a long semiconductor processing sheet is wound up in a roll shape, the semiconductor processing sheets are easily adhered to each other. When such adhesion occurs, it becomes difficult to feed out the semiconductor processing sheet from the roll, or peeling occurs at an unintended interface (for example, an interface between the pressure-sensitive adhesive layer and the release film). Further, in the semiconductor processing sheet in which the base material and the pressure-sensitive adhesive layer are pre-cut according to the shape of the wafer, when such blocking occurs, the base material and the pressure-sensitive adhesive are removed from the release film when the semiconductor processing sheet is unwound from the roll. There arises a problem that the laminate with the layer peels off or the base material side of the peeled laminate sticks to the back surface of the release film.
ここで、特許文献1および2には、半導体加工用シートをロール状に巻き取る際における、半導体加工用シート間の空気の挟み込みを回避することを目的として、剥離フィルムにおける粘着剤層とは反対側の面にエンボス加工を施すことが開示されている。
Here, in
その一方で、特許文献1または2に開示される半導体加工用シートは、基材側の面が高い平滑性を有しておらず、上述したような、半導体加工用シートを介した検査、レーザーダイシング、ステルスダイシング、レーザー印字等に使用することができない。
On the other hand, the semiconductor processing sheet disclosed in
本発明は、上記のような実状に鑑みてなされたものであり、光線透過性に優れるとともに、ブロッキングが生じ難い半導体加工用シートを提供することを目的とする。 This invention is made | formed in view of the above actual conditions, and it aims at providing the sheet | seat for semiconductor processing which is excellent in light transmittance, and is hard to produce blocking.
上記目的を達成するために、第1に本発明は、長尺の剥離フィルムと、前記剥離フィルムの片方の面側に積層された半導体貼付層と、前記半導体貼付層における前記剥離フィルムとは反対の面側に積層された基材と、前記剥離フィルムの前記半導体貼付層とは反対の面側における幅方向両側部、または前記基材の前記半導体貼付層とは反対の面側における前記剥離フィルムの幅方向両側部に対応する位置に積層された保護材とを備える半導体加工用シートであって、前記基材の前記半導体貼付層とは反対の面における算術平均粗さRaが、0.01〜0.8μmであることを特徴とする半導体加工用シートを提供する(発明1)。 In order to achieve the above object, first, the present invention is opposite to a long release film, a semiconductor adhesive layer laminated on one side of the release film, and the release film in the semiconductor adhesive layer. The base material laminated on the surface side of the substrate and the width direction both sides of the release film on the surface opposite to the semiconductor adhesive layer, or the release film on the surface of the substrate opposite to the semiconductor adhesive layer A sheet for semiconductor processing comprising a protective material laminated at positions corresponding to both sides in the width direction of the substrate, wherein the arithmetic average roughness Ra on the surface of the substrate opposite to the semiconductor adhesive layer is 0.01. Provided is a semiconductor processing sheet characterized in that the thickness is -0.8 μm (Invention 1).
上記発明(発明1)によれば、基材の半導体貼付層とは反対の面における算術平均粗さRaが、0.01〜0.8μmであることで、当該面における平滑性が良好なものとなり、基材が所望の波長の光に対する高い光線透過性を有する。さらに、上記発明に係る半導体加工用シートが保護材を備えることにより、半導体加工用シートをロール状に巻き取ったときに、保護材と基材または剥離フィルムとが小さい面積で接触し、基材と剥離フィルムとが全体的に密着することが防止されるため、ブロッキングが発生しにくい。これにより、繰り出しを良好に行うことができるとともに、繰り出しの際に意図しない界面での剥離が生じない。 According to the said invention (invention 1), the arithmetic mean roughness Ra in the surface opposite to the semiconductor adhesive layer of the substrate is 0.01 to 0.8 μm, and the smoothness in the surface is good. Thus, the substrate has high light transmittance with respect to light having a desired wavelength. Furthermore, when the semiconductor processing sheet according to the invention includes a protective material, when the semiconductor processing sheet is rolled up, the protective material and the base material or the release film come into contact with each other in a small area. And the release film are prevented from coming into close contact with each other, and blocking is unlikely to occur. Accordingly, the feeding can be performed satisfactorily and peeling at an unintended interface does not occur at the time of feeding.
上記発明(発明1)において、前記保護材のそれぞれの幅は、5〜30mmであることが好ましい(発明2)。 In the said invention (invention 1), it is preferable that each width | variety of the said protective material is 5-30 mm (invention 2).
上記発明(発明1,2)において、前記保護材の厚さは、30〜150μmであることが好ましい(発明3)。
In the said invention (
上記発明(発明1〜3)において、前記保護材は、片面に金属蒸着層が設けられた樹脂フィルムからなり、前記保護材は、前記金属蒸着層が設けられた面が前記半導体加工用シートの表面の一部となるように積層されていることが好ましい(発明4)。 In the said invention (invention 1-3), the said protective material consists of a resin film in which the metal vapor deposition layer was provided in the single side | surface, and the surface in which the said metal vapor deposition layer was provided in the said protective material is the said sheet | seat for semiconductor processing. The layers are preferably laminated so as to be part of the surface (Invention 4).
上記発明(発明1〜4)においては、前記半導体貼付層と前記剥離フィルムとの間に治具用粘着剤層をさらに備えてもよい(発明5)。 In the said invention (invention 1-4), you may further provide the adhesive layer for jig | tool between the said semiconductor sticking layer and the said peeling film (invention 5).
上記発明(発明1〜4)においては、前記剥離フィルムの前記半導体貼付層側における、平面視にて前記半導体貼付層とは異なる位置に治具用粘着剤層をさらに備えてもよい(発明6)。 In the said invention (invention 1-4), you may further provide the adhesive layer for jig | tool in the position different from the said semiconductor sticking layer by planar view in the said semiconductor sticking layer side of the said peeling film (invention 6). ).
上記発明(発明1〜4)において、前記半導体貼付層は、粘着剤層であってもよい(発明7)。 In the said invention (invention 1-4), the said semiconductor sticking layer may be an adhesive layer (invention 7).
上記発明(発明1〜6)において、前記半導体貼付層は、接着剤層であってもよい(発明8)。
In the above inventions (
上記発明(発明1〜6)において、前記半導体貼付層は、保護膜形成層であってもよい(発明9)。 In the said invention (invention 1-6), the said semiconductor sticking layer may be a protective film formation layer (invention 9).
上記発明(発明1〜5)において、前記半導体貼付層は、粘着剤層と、前記粘着剤層および前記剥離フィルムの間に位置する接着剤層とから構成されてもよい(発明10)。 In the said invention (invention 1-5), the said semiconductor sticking layer may be comprised from the adhesive layer and the adhesive bond layer located between the said adhesive layer and the said peeling film (invention 10).
上記発明(発明1〜5)において、前記半導体貼付層は、粘着剤層と、前記粘着剤層および前記剥離フィルムの間に位置する保護膜形成層とから構成されてもよい(発明11)。 In the said invention (invention 1-5), the said semiconductor sticking layer may be comprised from the adhesive layer and the protective film formation layer located between the said adhesive layer and the said peeling film (invention 11).
上記発明(発明6)においては、前記基材と、前記半導体貼付層および前記治具用粘着剤層との間に位置する粘着剤層をさらに含んでもよい(発明12)。 In the said invention (invention 6), you may further contain the adhesive layer located between the said base material, the said semiconductor sticking layer, and the said adhesive layer for jig | tool (invention 12).
上記発明(発明1〜12)において、前記基材および前記半導体貼付層を含む積層体が、平面視にて前記剥離フィルムとは異なる形状を有してもよい(発明13)。 In the said invention (invention 1-12), the laminated body containing the said base material and the said semiconductor sticking layer may have a shape different from the said peeling film in planar view (invention 13).
第2に本発明は、前記半導体加工用シート(発明1〜13)を長尺方向に巻収してなる半導体加工用シートの巻取体を提供する(発明14)。 2ndly this invention provides the winding body of the sheet | seat for semiconductor processing formed by winding up the said sheet | seat for semiconductor processing (invention 1-13) to a elongate direction (invention 14).
前記半導体加工用シートの巻取体(発明14)の製造方法であって、前記剥離フィルムと、前記半導体貼付層と、前記基材とを含む積層体を得る工程、および前記積層体における前記基材と前記剥離フィルムとの間における、前記剥離フィルムの幅方向両側部に前記保護材が位置するように、前記積層体を前記保護材とともに長尺方向に巻収する工程を含むことを特徴とする半導体加工用シートの巻取体の製造方法を提供する(発明15)。 A method for manufacturing a wound body (invention 14) of a sheet for semiconductor processing, the step of obtaining a laminate comprising the release film, the semiconductor adhesive layer, and the substrate, and the base in the laminate Including a step of winding the laminate together with the protective material in the longitudinal direction so that the protective material is located on both sides in the width direction of the release film between the material and the release film. A method of manufacturing a wound body for a semiconductor processing sheet is provided (Invention 15).
本発明によれば、光線透過性に優れるとともに、ブロッキングが生じ難い半導体加工用シートを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while being excellent in light transmittance, the sheet | seat for semiconductor processing which cannot produce blocking easily can be provided.
以下、本発明の実施形態について説明する。
図1には、第1の実施形態に係る半導体加工用シート1が示される。半導体加工用シート1は、基材10と、基材10の片面に積層された半導体貼付層80と、半導体貼付層80における基材10とは反対の面に積層された剥離フィルム30と、基材10の半導体貼付層80とは反対の面における幅方向両側部に積層された保護材70と含む。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
FIG. 1 shows a
また、図2には、第2の実施形態に係る半導体加工用シート2が示される。半導体加工用シート1は、基材10と、基材10の片面に積層された半導体貼付層80と、半導体貼付層80における基材10とは反対の面に積層された剥離フィルム30と、剥離フィルム30の半導体貼付層80とは反対の面における幅方向両側部に積層された保護材70と含む。
Moreover, the sheet |
本実施形態に係る半導体加工用シート1,2においては、少なくとも剥離シート30は長尺であり、基材10および半導体貼付層80も同様に長尺であることが好ましい。
In the
半導体加工用シート1,2において、基材10は、半導体貼付層80に遠位な側に第1の面101を有し、半導体貼付層80に近位な側に第2の面102を有する。半導体貼付層80は、基材10に近位な側に第1の面801を有し、剥離フィルム30に近位な側に第2の面802を有する。剥離フィルム30は、半導体貼付層80に近位な側に第1の面301を有し、半導体貼付層80に遠位な側に第2の面302を有する。
In the
本実施形態に係る半導体加工用シート1,2では、保護材70を備えることにより、半導体加工用シートをロール状に巻き取ったときに、保護材70と基材10または剥離フィルム30とが小さい面積で接触することになる。これにより、基材10と剥離フィルム30とが直接接触することがないか、接触したとしても接触した部分に巻き圧が殆どかかからない。その結果、基材10と剥離フィルム30とが全体的に密着することが防止される、ブロッキングの発生が抑制される。結果として、ロールからの半導体加工用シート1,2の繰り出しを良好に行うことができるとともに、繰り出しの際に意図しない界面での剥離が生じない。
In the
さらに、本実施形態に係る半導体加工用シート1,2では、基材10の第1の面101における算術平均粗さRaが、0.01〜0.8μmである。これにより、当該面における平滑性が良好なものとなる。その結果、基材10は、所望の波長の光に対する高い光線透過性を有することができる。
Furthermore, in the
1.基材
本実施形態に係る半導体加工用シート1,2では、基材10の第1の面101における算術平均粗さRaは、0.01〜0.8μmであり、特に0.02〜0.5μmであることが好ましく、さらには0.03〜0.3μmであることが好ましい。当該算術平均粗さRaが0.01μm未満であると、第1の面101が過度に平滑になり、半導体加工用シート1,2の作製時において、塗工装置における基材の繰り出し不良といった問題が生じる。また、当該算術平均粗さRaが0.8μmを超えると、第1の面101に照射された光が当該面において散乱し易くなり、光線透過性が損なわれる。なお、本明細書における算術平均粗さRaは、JIS B0601:2013に基づいて測定したものであり、測定方法の詳細は後述する実施例に示す通りである。
1. Base Material In the
上記算術平均粗さRaを達成するためには、基材10の製造時に、上記算術平均粗さRaを有するように製造することが好ましい。例えば、基材10の押出成形に使用するロールの表面粗さを調整することにより、上記算術平均粗さRaを有する基材10を製造することが好ましい。あるいは、基材10をインフレーション法により製造する際に、第1の面101となる面の粗さが上記算術平均粗さRaとなるように調整することが好ましい。
In order to achieve the arithmetic average roughness Ra, it is preferable to manufacture the base 10 so as to have the arithmetic average roughness Ra. For example, it is preferable to manufacture the
基材10の第2の面102における算術平均粗さRaは、基材10の光線透過性を確保できる限り適宜設定することができ、例えば、0.01〜2.0μmであることが好ましく、特に0.03〜1.5μmであることが好ましく、さらには0.05〜1.0μmであることが好ましい。
The arithmetic average roughness Ra on the
本実施形態に係る半導体加工用シート1,2において、基材10の構成材料は、所望の波長の光に対する優れた光線透過性を発揮し、さらに半導体加工用シート1,2の使用工程における所望の機能を発揮する限り、特に限定されない。基材10は、樹脂系の材料を主材とするフィルム(樹脂フィルム)を含むものであってよい。好ましくは、基材10は樹脂フィルムのみからなる。樹脂フィルムの具体例としては、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム;エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体フィルム、エチレン−(メタ)アクリル酸メチル共重合体フィルム、その他のエチレン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体フィルム等のエチレン系共重合フィルム;ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、エチレン−ノルボルネン共重合体フィルム、ノルボルネン樹脂フィルム等のポリオレフィン系フィルム;ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム等のポリ塩化ビニル系フィルム;ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム;(メタ)アクリル酸エステル共重合体フィルム;ポリウレタンフィルム;ポリイミドフィルム;ポリスチレンフィルム;ポリカーボネートフィルム;フッ素樹脂フィルムなどが挙げられる。ポリエチレンフィルムの例としては、低密度ポリエチレン(LDPE)フィルム、直鎖低密度ポリエチレン(LLDPE)フィルム、高密度ポリエチレン(HDPE)フィルム等が挙げられる。また、これらの架橋フィルム、アイオノマーフィルムといった変性フィルムも用いられる。基材10は、これらの1種からなるフィルムでもよいし、これらを2種類以上組み合わせた材料からなるフィルムであってもよい。また、上述した1種以上の材料からなる層が複数積層された、多層構造の積層フィルムであってもよい。この積層フィルムにおいて、各層を構成する材料は同種であってもよく、異種であってもよい。基材10としては、上記フィルムの中でも、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、エチレン−メタクリル酸メチル共重合体フィルム、ポリ塩化ビニルフィルムまたはポリプロピレンフィルムを使用することが好ましい。なお、本明細書における「(メタ)アクリル酸」は、アクリル酸およびメタクリル酸の両方を意味する。他の類似用語についても同様である。
In the
基材10においては、所望の波長の光に対する優れた光線透過性を損なわない限り、上記のフィルム内に、難燃剤、可塑剤、帯電防止剤、滑剤、酸化防止剤、着色剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、イオン捕捉剤等の各種添加剤が含まれていてもよい。これらの添加剤の含有量としては、特に限定されないものの、基材10が優れた光線透過性および所望の機能を発揮する範囲とすることが好ましい。
In the
半導体貼付層80が後述する粘着剤層20を含み、当該粘着剤層20を硬化させるためにエネルギー線を使用する場合、基材10は当該エネルギー線に対する光線透過性を有することが好ましい。例えば、当該エネルギー線の例としては、紫外線や電子線が挙げられる。
When the
基材10の第2の面102は、半導体加工用シート1,2における光線透過性を損なわない限り、半導体貼付層80との密着性を高めるために、プライマー処理、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理が施されてもよい。
As long as the
基材10の厚さは、半導体加工用シート1,2が使用される工程において適切に機能できる限り限定されない。当該厚さは、通常、20〜450μmであることが好ましく、特に25〜300μmであることが好ましく、さらには50〜200μmであることが好ましい。
The thickness of the
2.剥離フィルム
剥離フィルム30を構成する材料としては、例えば樹脂フィルムを使用することができる。樹脂フィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、およびポリプロピレンやポリエチレン等のポリオレフィンフィルムが挙げられる。
2. Release Film As a material constituting the
剥離フィルム30は、通常、半導体貼付層80に対する剥離性を発揮するために、第1の面301側に剥離剤層が設けられる。また、本実施形態に係る半導体加工用シート1,2の剥離フィルム30では、第1の面301側および第2の面302側のそれぞれに剥離剤層を備えてもよい。この場合、剥離フィルム30は、例えば、樹脂フィルム等の基材の両面に剥離剤層を備えた構成を有する。剥離フィルム30の第2の面302側にも剥離剤層を備えることにより、半導体加工用シート1,2をロール状に巻き取った際に、基材10の第1の面101と剥離フィルム30の第2の面302とが接触する場合であっても、ブロッキングの発生を効果的に防止することができる。剥離剤としては、シリコーン系剥離剤、アルキッド系剥離剤、フッ素系剥離剤、長鎖アルキル系剥離剤、ゴム系剥離剤等を用いることができる。
The
剥離フィルム30の第2の面302の算術平均粗さRaは、0.02〜0.8μmであることが好ましく、特に0.03〜0.5μmであることが好ましく、さらには0.05〜0.3μmであることが好ましい。第2の面302の算術平均粗さRaが0.02μm以上であることで、半導体加工用シート1,2をロール状に巻き取った際に、平滑な基材10の第1の面101に対しても剥離フィルム30の第2の面302が密着し難くなり、その結果、ブロッキングの発生を効果的に防止できる。さらに、第2の面302の算術平均粗さRaが0.8μm以下であることで、半導体加工用シート1,2をロール状に巻き取った際に、基材10の第1の面101と剥離フィルム30の第2の面302とが接触する場合であっても、第2の面302の表面形状が第1の面101に転写することに起因する、第1の面101の平滑性の低下が防止される。
The arithmetic average roughness Ra of the
上記算術平均粗さRaを達成するためには、剥離フィルム30の製造時に、上記算術平均粗さRaを有するように製造してもよい。あるいは、剥離フィルム30の構成材料をシート状に製造した後に、上記算術平均粗さRaを有するように当該シートに表面処理を施してもよい。前者の場合、例えば、剥離フィルム30の押出成形に使用するロールの表面粗さを調整することにより、上記算術平均粗さRaを有する剥離フィルム30を製造することができる。後者の場合、例えば、シートに対してサンドブラスト処理やエンボス加工等を施すことにより、上記算術平均粗さRaを有する剥離フィルム30を得ることができる。
In order to achieve the arithmetic average roughness Ra, the
剥離フィルム30の第1の面301における算術平均粗さRaは、適宜設定することができ、例えば、0.02〜0.10μmであることが好ましく、特に0.02〜0.07μmであることが好ましく、さらには0.03〜0.05μmであることが好ましい。
The arithmetic average roughness Ra on the
剥離フィルム30の厚さは、特に制限はないものの、通常12〜250μm程度である。
Although there is no restriction | limiting in particular in the thickness of the peeling
長尺の剥離フィルム30の幅は、特に制限はないものの、本実施形態に係る半導体加工用シート1,2が使用されるウエハ等のサイズに応じて設定することが好ましく、例えば、長尺の剥離フィルム30の幅は、通常150〜600mm程度である。
The width of the
3.保護材
本実施形態に係る半導体加工用シート1,2では、基材10の第1の面101または剥離フィルム30の第2の面302に保護材70が積層されている。特に、図1に示される第1の実施形態に係る半導体加工用シート1では、基材10の第1の面101における幅方向両側部に保護材70が積層されている。また、図2に示される第2の実施形態に係る半導体加工用シート2では、剥離フィルム30の第2の面302に保護材70が積層されている。ここで、図3には、半導体加工用シート1同士が重なった様子が示されている。半導体加工用シート1が保護材70を備えることにより、図3に示されるように、保護材70と剥離フィルム30とが小さい面積で接触し、基材10と剥離フィルム30とが全体的に密着することが防止される。これにより、ブロッキングが発生しにくくなり、繰り出しを良好に行うことができるとともに、繰り出しの際に意図しない界面での剥離が生じない。半導体加工用シート2についても、半導体加工用シート2同士を重ねた場合に、保護材70と基材10とが小さい面積で接触し、基材10と剥離フィルム30とが全体的に密着することが防止される。その結果、ブロッキングが発生しにくくなり、繰り出しを良好に行うことができるとともに、繰り出しの際に意図しない界面での剥離が生じない。なお、基材10は、後述するように所定の形状にプリカットされていてもよい。基材10がプリカットされている場合、保護材70は、基材10の第1の面101における、剥離フィルム30の第2の面302の幅方向両側部に対応する位置に設けられる。
3. Protective Material In the
なお、本明細書において、「保護材70が基材10の第1の面101または剥離フィルム30の第2の面302に積層されている」といった表現における「積層」とは、保護材70が、基材10の第1の面101または剥離フィルム30の第2の面302に単に接触しているのみであり、固定されていない場合も含む。特に、半導体加工用シート1,2がロール状に巻き取られている場合、固定されていない保護材70は、半導体加工用シート1,2をロール状に巻き取った際の巻き圧により、保護材70が所定の位置から移動したり、半導体加工用シート1,2から脱落することが防止される。
In this specification, “lamination” in the expression “the
保護材70は、平面視にて、一連の長尺形状を有していることが好ましく、例えば長尺の帯状であることが好ましい。基材10がプリカットされている場合、保護材70は、プリカットされた基材10に対応した形状を有してもよい。また、保護材70に後述する粘着剤層が設けられており、基材10または剥離フィルム30に貼付されている場合、途中で分断された断続形状を有してもよい。
The
保護材70の材料としては、樹脂フィルム、紙、金属箔等が挙げられる。樹脂フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂;シアノエチルセルロース、セルロースアセテート等のセルロース系樹脂;ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂;ポリスチレン系樹脂;シリコーン系樹脂;エポキシ系樹脂;フッ素系樹脂;アクリル系樹脂;ポリイミド系樹脂;フェノール系樹脂等の樹脂またはそれら樹脂を架橋したものからなるフィルム、それらフィルムの積層体、それらのフィルムまたは積層体の表面に金属蒸着処理をしたもの等が挙げられる。
Examples of the material of the
保護材70における、半導体加工用シート1,2の表面の一部となる面側(第1の実施形態に係る半導体加工用シート1では、保護材70における基材10とは反対の面側であり、第2の実施形態に係る半導体加工用シート2では、保護材70における剥離フィルム30とは反対の面側)には、金属蒸着層、粗面化処理層またはハードコート層が設けられていてもよい。保護材70がこのような層を備えることにより、ロールから半導体加工用シート1,2を巻き出す際に必要な力を小さくすることが可能となる。このような層の好ましい例としては、表面が粗面化処理された金属蒸着層等が挙げられる。当該金属蒸着層を備える保護材70の好ましい例としては、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、表面が粗面化処理された金属蒸着層を設けたものが挙げられる。表面が粗面化処理された金属蒸着層は、公知の方法によって形成されたものであってよい。このような保護材70を使用することで、ロールから半導体加工用シート1,2を巻き出す際に必要な力をより小さくでき、さらには保護材70の見落としを効果的に防止することができる。なお、本明細書において、半導体加工用シートの表面とは、半導体加工用シートをロール状に巻き取ったり、半導体加工用シート同士を重ねたりしていない状態において、外部に露出する面のことを意味する。
In the
金属蒸着層を構成する金属としては、例えば、アルミニウム、銀、銅、スズ、等が挙げられ、これらの中でも製造コストや蒸着が容易であるという観点からアルミニウムが好ましい。 As a metal which comprises a metal vapor deposition layer, aluminum, silver, copper, tin, etc. are mentioned, for example, Aluminum is preferable from a viewpoint that manufacturing cost and vapor deposition are easy among these.
ハードコート層の材料は、硬化性の材料であってもよく、非硬化性の材料であってもよい。硬化性の材料としては、例えば、活性エネルギー線硬化性の材料であってもよく、熱硬化性の材料であってもよい。非硬化性の材料としては、例えば、熱可塑性樹脂を使用することができる。上記の中でも、所望の厚さのハードコート層を容易に形成できる観点から、活性エネルギー線硬化性の材料を使用することが好ましく、特に多官能(メタ)アクリレートを含有することが好ましい。多官能(メタ)アクリレートは、活性エネルギー線の照射により架橋して硬化し且つ速乾性に優れるため、所定の硬度が得られ易く、半導体加工用シートを巻き取ったときに、保護材70が巻圧で潰れるおそれがない。また、保護材70を構成する材料は、光重合開始剤、架橋剤、反応抑制剤、密着向上剤等を含有してもよい。
The material of the hard coat layer may be a curable material or a non-curable material. The curable material may be, for example, an active energy ray curable material or a thermosetting material. As the non-curable material, for example, a thermoplastic resin can be used. Among these, from the viewpoint of easily forming a hard coat layer having a desired thickness, it is preferable to use an active energy ray-curable material, and it is particularly preferable to contain a polyfunctional (meth) acrylate. Since the polyfunctional (meth) acrylate is crosslinked and cured by irradiation with active energy rays and is excellent in quick-drying property, a predetermined hardness is easily obtained, and the
上記多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ(メタ)アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。上記の中でも、特に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、またはペンタエリスリトールトリアクリレートを使用することが好ましい。 Examples of the polyfunctional (meth) acrylate include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and polyethylene glycol di (meth). ) Acrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, caprolactone modified dicyclopentenyl di (meth) acrylate, ethylene oxide modified phosphoric acid di (meth) acrylate, allylated cyclohexyldi (Meth) acrylate, isocyanurate di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, propionic acid modified dipentaerythritol Rutri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, propionic acid modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol Examples include hexa (meth) acrylate and caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type. Among these, it is particularly preferable to use dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, or pentaerythritol triacrylate.
保護材70における、半導体加工用シート1,2の表面の一部となる面とは反対の側(第1の実施形態に係る半導体加工用シート1では、保護材70における基材10の側であり、第2の実施形態に係る半導体加工用シート2では、保護材70における剥離フィルム30の側)には、粘着剤層が設けられていてもよい。保護材70が粘着剤層を備えることで、保護材70を基材10の第1の面101上または剥離フィルム30の第2の面302上に貼付することが可能となる。これにより、保護材70が所定の位置から移動したり、半導体加工用シート1,2から脱落することが効果的に防止される。粘着剤の種類としては、アクリル系、ポリエステル系、ウレタン系、ゴム系、シリコーン系、エチレン−酢酸ビニル系等のいずれであってもよく、いわゆる粘接着剤であってもよい。
The side of the
基材10または剥離フィルム30の幅方向両側部に設けられる2つの保護材70のそれぞれの幅(図1においてwとして示される長さ)は、5〜30mmであることが好ましく、特に5〜20mmであることが好ましく、さらには5〜10mmであることが好ましい。保護材70の幅が小さすぎる場合、基材10または剥離フィルム30の幅方向両側部に設けられた2つの保護材70の相互間の面積が大きくなり過ぎる。この場合、半導体加工用シート1,2をロール状に巻き取った際に、当該相互間において、基材10と剥離フィルム30とが接触し易くなる。しかしながら、当該幅wが5mm以上であることで、そのような接触が抑制され、基材10と剥離フィルム30とが密着し難くなり、耐ブロッキング性が効果的に発揮される。また、当該幅wが30mm以下であることで、半導体加工用シート1,2をロール状に巻き取った際に、保護材70と、それが接触する対象(第1の実施形態に係る半導体加工用シート1では剥離フィルム30であり、第2の実施形態に係る半導体加工用シート2では基材10)との接触面積が過度に大きくなることが防止される。これにより、保護材70の位置におけるブロッキングの発生を効果的に抑制することができる。また、保護材70が基材10の第1の面101に設けられる場合には、保護材70の幅wが30mm以下であることで、第1の面101における保護材70が積層されていない領域が十分に確保される。これにより、保護材70(特に、光線透過性を有しない保護材70)に邪魔されることなく、半導体加工用シート1,2を介した半導体貼付層80上に貼付されたチップの検査や、半導体加工用シート1,2を介した当該チップに対するレーザーの照射を良好に行うことができる。そのため、半導体加工用シート1,2を不要に幅広に製造する必要がなく、コストを抑えることができる。
Each width (length indicated as w in FIG. 1) of the two
保護材70の厚さは、30〜150μmであることが好ましく、特に50〜125μmであることが好ましく、さらには50〜100μmであることが好ましい。保護材70の厚さが30μm以上であることで、保護材70半導体加工用シート1,2をロール状に巻き取った際に、基材10と剥離フィルム30とが十分に離れ、これらの接触が生じにくくなる。これにより、耐ブロッキング性が効果的に発揮される。また、保護材70の厚さが150μm以下であることで、半導体加工用シート1,2の厚さが過度に厚くなること、および半導体加工用シート1,2のロールの直径が過度に大きくなることが防止される。
The thickness of the
保護材70の面のうち、半導体加工用シート1,2の表面の一部となる面(第1の実施形態に係る半導体加工用シート1では、保護材70における基材10とは反対の面であり、第2の実施形態に係る半導体加工用シート2では、保護材70における剥離フィルム30とは反対の面)は、粗面化処理(マット加工)等の表面処理が施されてもよい。粗面化処理としては、例えば、エンボス加工法、サンドブラスト加工法等が挙げられる。
Of the surface of the
保護材70の表面に粗面化処理する場合、当該面における算術平均粗さRaは、0.05〜3μmであることが好ましく、特に0.05〜2μmであることが好ましい。
When the surface of the
4.半導体貼付層
半導体貼付層80とは、本実施形態に係る半導体加工用シート1,2の使用に際し、半導体ウエハ等が貼付される層または半導体ウエハ等に貼付される層をいう。このときの貼付は、半導体加工用シート1,2の使用時に一時的に行われる貼付であってもよく、あるいは、半導体加工用シート1,2の使用後も継続される貼付であってもよい。半導体貼付層80の好ましい例としては、粘着剤層20、接着剤層40、保護膜形成層50、粘着剤層20と接着剤層40とからなる積層体、粘着剤層20と保護膜形成層50との積層体等が挙げられる。
4). Semiconductor Affixing Layer The
図4には、第1の実施形態に係る半導体加工用シート1の第1の態様が示されている。当該態様に係る半導体加工用シート1aでは、半導体貼付層80が粘着剤層20となっている。半導体加工用シート1aにおいて、粘着剤層20は、基材10に近位な側に第1の面201を有し、剥離フィルム30に近位な側に第2の面202を有する。なお、半導体加工用シート1aは、例えば、ダイシングシートとして使用することができる。
FIG. 4 shows a first mode of the
図5には、第1の実施形態に係る半導体加工用シート1の第2の態様が示されている。当該態様に係る半導体加工用シート1bでは、半導体貼付層80が接着剤層40となっている。半導体加工用シート1bにおいて、接着剤層40は、基材10に近位な側に第1の面401を有し、剥離フィルム30に近位な側に第2の面402を有する。なお、半導体加工用シート1bは、例えば、ダイボンディングシートとして使用することができる。
FIG. 5 shows a second mode of the
図6には、第1の実施形態に係る半導体加工用シート1の第3の態様が示されている。当該態様に係る半導体加工用シート1cでは、半導体貼付層80が保護膜形成層50となっている。半導体加工用シート1cにおいて、保護膜形成層50は、基材10に近位な側に第1の面501を有し、剥離フィルム30に近位な側に第2の面502を有する。なお、半導体加工用シート1cは、例えば、保護膜形成用シートとして使用することができる。
FIG. 6 shows a third mode of the
図7には、第1の実施形態に係る半導体加工用シート1の第4の態様が示されている。当該態様に係る半導体加工用シート1dでは、半導体貼付層80が粘着剤層20と接着剤層40とからなる積層体となっている。半導体加工用シート1dにおいて、粘着剤層20は基材10に近位な側に位置し、接着剤層40は剥離フィルム30に近位な側に位置する。また、粘着剤層20は、基材10に近位な側に第1の面201を有し、剥離フィルム30に近位な側に第2の面202を有する。さらに、接着剤層40は、基材10に近位な側に第1の面401を有し、剥離フィルム30に近位な側に第2の面402を有する。なお、半導体加工用シート1dは、例えば、ダイシング・ダイボンディングシートとして使用することができる。
FIG. 7 shows a fourth aspect of the
図8には、第1の実施形態に係る半導体加工用シート1の第5の態様が示されている。当該態様に係る半導体加工用シート1eでは、半導体貼付層80が粘着剤層20と保護膜形成層50とからなる積層体となっている。半導体加工用シート1eにおいて、粘着剤層20は基材10に近位な側に位置し、保護膜形成層50は剥離フィルム30に近位な側に位置する。また、粘着剤層20は、基材10に近位な側に第1の面201を有し、剥離フィルム30に近位な側に第2の面202を有する。さらに、保護膜形成層50は、基材10に近位な側に第1の面501を有し、剥離フィルム30に近位な側に第2の面502を有する。なお、半導体加工用シート1eは半導体ウエハのダイシングに使用でき、さらにはダイシング後、保護膜形成層50を加熱等することより、半導体チップに保護膜を形成することができる。また、半導体加工用シート1eは、保護膜形成用シートとしても使用することができる。
FIG. 8 shows a fifth mode of the
なお、第2の実施形態に係る半導体加工用シート2においても、半導体貼付層80が、粘着剤層20、接着剤層40、保護膜形成層50、粘着剤層20と接着剤層40とからなる積層体、粘着剤層20と保護膜形成層50との積層体等となることで、種々の態様をとることができる。
Also in the
(1)粘着剤層
上記粘着剤層20は、非エネルギー線硬化性粘着剤から構成されてもよいし、エネルギー線硬化性粘着剤(エネルギー線硬化性を有しないポリマー)から構成されてもよい。非エネルギー線硬化性粘着剤としては、所望の粘着力および再剥離性を有するものが好ましく、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリビニルエーテル系粘着剤等を使用することができる。これらの中でも、ダイシング工程等にて半導体ウエハや半導体チップ等の脱落を効果的に抑制することのできるアクリル系粘着剤が好ましい。
(1) Pressure-sensitive adhesive layer The pressure-
一方、エネルギー線硬化性粘着剤は、エネルギー線照射により粘着力が低下するため、半導体ウエハや半導体チップ等と本実施形態に係る半導体加工用シートとを分離させたいときに、エネルギー線照射することにより、容易に分離させることができる。 On the other hand, since the adhesive strength of the energy ray curable adhesive is reduced by the energy ray irradiation, the energy ray irradiation is performed when it is desired to separate the semiconductor wafer, the semiconductor chip, and the like from the semiconductor processing sheet according to the present embodiment. Can be easily separated.
粘着剤層20を構成するエネルギー線硬化性粘着剤は、エネルギー線硬化性を有するポリマーを主成分とするものであってもよいし、非エネルギー線硬化性ポリマー(エネルギー線硬化性を有しないポリマー)と少なくとも1つ以上のエネルギー線硬化性基を有するモノマーおよび/またはオリゴマーとの混合物を主成分とするものであってもよい。また、エネルギー線硬化性を有するポリマーと非エネルギー線硬化性ポリマーとの混合物であってもよいし、エネルギー線硬化性を有するポリマーと少なくとも1つ以上のエネルギー線硬化性基を有するモノマーおよび/またはオリゴマーとの混合物であってもよいし、それら3種の混合物であってもよい。
The energy ray-curable pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-
最初に、エネルギー線硬化性粘着剤が、エネルギー線硬化性を有するポリマーを主成分とする場合について、以下説明する。 First, the case where the energy beam curable pressure-sensitive adhesive is mainly composed of a polymer having energy beam curable properties will be described below.
エネルギー線硬化性を有するポリマーは、側鎖にエネルギー線硬化性を有する官能基(エネルギー線硬化性基)が導入された(メタ)アクリル酸エステル(共)重合体(A)(以下「エネルギー線硬化型重合体(A)」という場合がある。)であることが好ましい。このエネルギー線硬化型重合体(A)は、官能基含有モノマー単位を有するアクリル系共重合体(a1)と、その官能基に結合する官能基を有する不飽和基含有化合物(a2)とを反応させて得られるものであることが好ましい。 The polymer having energy ray curability is a (meth) acrylic acid ester (co) polymer (A) (hereinafter referred to as “energy ray”) in which a functional group having energy ray curability (energy ray curable group) is introduced into the side chain. It may be referred to as “curable polymer (A)”). This energy beam curable polymer (A) reacts an acrylic copolymer (a1) having a functional group-containing monomer unit with an unsaturated group-containing compound (a2) having a functional group bonded to the functional group. It is preferable that it is obtained.
アクリル系共重合体(a1)は、官能基含有モノマーから導かれる構成単位と、(メタ)アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体から導かれる構成単位とからなる。 The acrylic copolymer (a1) is composed of a structural unit derived from a functional group-containing monomer and a structural unit derived from a (meth) acrylic acid ester monomer or a derivative thereof.
アクリル系共重合体(a1)の構成単位としての官能基含有モノマーは、重合性の二重結合と、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、置換アミノ基、エポキシ基等の官能基とを分子内に有するモノマーであることが好ましい。 The functional group-containing monomer as a constituent unit of the acrylic copolymer (a1) contains a polymerizable double bond and a functional group such as a hydroxy group, a carboxy group, an amino group, a substituted amino group, and an epoxy group in the molecule. It is preferable that the monomer has
ヒドロキシ基含有モノマーとしては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the hydroxy group-containing monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxybutyl ( Examples include meth) acrylate and 4-hydroxybutyl (meth) acrylate. These may be used alone or in combination of two or more.
カルボキシ基含有モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等のエチレン性不飽和カルボン酸が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the carboxy group-containing monomer include ethylenically unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid, and citraconic acid. These may be used alone or in combination of two or more.
アミノ基含有モノマーまたは置換アミノ基含有モノマーとしては、例えば、アミノエチル(メタ)アクリレート、n−ブチルアミノエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the amino group-containing monomer or substituted amino group-containing monomer include aminoethyl (meth) acrylate and n-butylaminoethyl (meth) acrylate. These may be used alone or in combination of two or more.
アクリル系共重合体(a1)を構成する(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、アルキル基の炭素数が1〜20であるアルキル(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレートが用いられる。これらの中でも、特に好ましくはアルキル基の炭素数が1〜18であるアルキル(メタ)アクリレート、例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート等が用いられる。 Examples of the (meth) acrylic acid ester monomer constituting the acrylic copolymer (a1) include alkyl (meth) acrylates having 1 to 20 carbon atoms in the alkyl group, cycloalkyl (meth) acrylates, and benzyl (meth) acrylates. Is used. Among these, alkyl (meth) acrylates having 1 to 18 carbon atoms in the alkyl group are particularly preferable, such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, and n-butyl (meth) acrylate. 2-ethylhexyl (meth) acrylate or the like is used.
アクリル系共重合体(a1)は、上記官能基含有モノマーから導かれる構成単位を通常3〜100質量%、好ましくは5〜40質量%の割合で含有し、(メタ)アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体から導かれる構成単位を通常0〜97質量%、好ましくは60〜95質量%の割合で含有してなる。 The acrylic copolymer (a1) usually contains 3 to 100% by mass, preferably 5 to 40% by mass of a structural unit derived from the functional group-containing monomer, and is a (meth) acrylic acid ester monomer or its The structural unit derived from the derivative is usually contained in a proportion of 0 to 97% by mass, preferably 60 to 95% by mass.
アクリル系共重合体(a1)は、上記のような官能基含有モノマーと、(メタ)アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体とを常法で共重合することにより得られるが、これらモノマーの他にもジメチルアクリルアミド、蟻酸ビニル、酢酸ビニル、スチレン等が共重合されてもよい。 The acrylic copolymer (a1) can be obtained by copolymerizing a functional group-containing monomer as described above with a (meth) acrylic acid ester monomer or a derivative thereof in a conventional manner. Dimethylacrylamide, vinyl formate, vinyl acetate, styrene and the like may be copolymerized.
上記官能基含有モノマー単位を有するアクリル系共重合体(a1)を、その官能基に結合する官能基を有する不飽和基含有化合物(a2)と反応させることにより、エネルギー線硬化型重合体(A)が得られる。 By reacting the acrylic copolymer (a1) having the functional group-containing monomer unit with an unsaturated group-containing compound (a2) having a functional group bonded to the functional group, an energy beam curable polymer (A ) Is obtained.
不飽和基含有化合物(a2)が有する官能基は、アクリル系共重合体(a1)が有する官能基含有モノマー単位の官能基の種類に応じて、適宜選択することができる。例えば、アクリル系共重合体(a1)が有する官能基がヒドロキシ基、アミノ基または置換アミノ基の場合、不飽和基含有化合物(a2)が有する官能基としてはイソシアネート基またはエポキシ基が好ましく、アクリル系共重合体(a1)が有する官能基がエポキシ基の場合、不飽和基含有化合物(a2)が有する官能基としてはアミノ基、カルボキシ基またはアジリジニル基が好ましい。 The functional group possessed by the unsaturated group-containing compound (a2) can be appropriately selected according to the type of functional group of the functional group-containing monomer unit possessed by the acrylic copolymer (a1). For example, when the functional group of the acrylic copolymer (a1) is a hydroxy group, an amino group or a substituted amino group, the functional group of the unsaturated group-containing compound (a2) is preferably an isocyanate group or an epoxy group. When the functional group that the system copolymer (a1) has is an epoxy group, the functional group that the unsaturated group-containing compound (a2) has is preferably an amino group, a carboxy group, or an aziridinyl group.
また上記不飽和基含有化合物(a2)には、エネルギー線重合性の炭素−炭素二重結合が、1分子中に少なくとも1個、好ましくは1〜6個、さらに好ましくは1〜4個含まれている。このような不飽和基含有化合物(a2)の具体例としては、例えば、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、メタ−イソプロペニル−α,α−ジメチルベンジルイソシアネート、メタクリロイルイソシアネート、アリルイソシアネート、1,1−(ビスアクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート;ジイソシアネート化合物またはポリイソシアネート化合物と、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応により得られるアクリロイルモノイソシアネート化合物;ジイソシアネート化合物またはポリイソシアネート化合物と、ポリオール化合物と、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応により得られるアクリロイルモノイソシアネート化合物;グリシジル(メタ)アクリレート;(メタ)アクリル酸、2−(1−アジリジニル)エチル(メタ)アクリレート、2−ビニル−2−オキサゾリン、2−イソプロペニル−2−オキサゾリン等が挙げられる。 The unsaturated group-containing compound (a2) contains at least one, preferably 1 to 6, more preferably 1 to 4, energy beam polymerizable carbon-carbon double bonds in one molecule. ing. Specific examples of such unsaturated group-containing compound (a2) include, for example, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, meta-isopropenyl-α, α-dimethylbenzyl isocyanate, methacryloyl isocyanate, allyl isocyanate, 1,1- ( Bisacryloyloxymethyl) ethyl isocyanate; acryloyl monoisocyanate compound obtained by reaction of diisocyanate compound or polyisocyanate compound with hydroxyethyl (meth) acrylate; diisocyanate compound or polyisocyanate compound, polyol compound, and hydroxyethyl (meth) Acryloyl monoisocyanate compound obtained by reaction with acrylate; glycidyl (meth) acrylate; (meth) acrylic acid, 2- (1 -Aziridinyl) ethyl (meth) acrylate, 2-vinyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-2-oxazoline and the like.
上記不飽和基含有化合物(a2)は、上記アクリル系共重合体(a1)の官能基含有モノマーに対して、通常5〜95モル%、好ましくは10〜95モル%の割合で用いられる。 The unsaturated group-containing compound (a2) is usually used in a proportion of 5 to 95 mol%, preferably 10 to 95 mol%, based on the functional group-containing monomer of the acrylic copolymer (a1).
アクリル系共重合体(a1)と不飽和基含有化合物(a2)との反応においては、アクリル系共重合体(a1)が有する官能基と不飽和基含有化合物(a2)が有する官能基との組合せに応じて、反応の温度、圧力、溶媒、時間、触媒の有無、触媒の種類を適宜選択することができる。これにより、アクリル系共重合体(a1)中に存在する官能基と、不飽和基含有化合物(a2)中の官能基とが反応し、不飽和基がアクリル系共重合体(a1)中の側鎖に導入され、エネルギー線硬化型重合体(A)が得られる。 In the reaction between the acrylic copolymer (a1) and the unsaturated group-containing compound (a2), the functional group of the acrylic copolymer (a1) and the functional group of the unsaturated group-containing compound (a2) Depending on the combination, the reaction temperature, pressure, solvent, time, presence / absence of catalyst, and type of catalyst can be appropriately selected. As a result, the functional group present in the acrylic copolymer (a1) reacts with the functional group in the unsaturated group-containing compound (a2), so that the unsaturated group is contained in the acrylic copolymer (a1). It introduce | transduces into a side chain and an energy-beam curable polymer (A) is obtained.
このようにして得られるエネルギー線硬化型重合体(A)の重量平均分子量は、10,000以上であるのが好ましく、特に150,000〜1,500,000であるのが好ましく、さらに200,000〜1,000,000であるのが好ましい。なお、本明細書における重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC法)により測定した標準ポリスチレン換算の値である。 The weight average molecular weight of the energy ray curable polymer (A) thus obtained is preferably 10,000 or more, particularly preferably 150,000 to 1,500,000, and more preferably 200,000 000 to 1,000,000 is preferred. In addition, the weight average molecular weight (Mw) in this specification is the value of standard polystyrene conversion measured by the gel permeation chromatography method (GPC method).
エネルギー線硬化性粘着剤が、エネルギー線硬化型重合体(A)といったエネルギー線硬化性を有するポリマーを主成分とする場合であっても、エネルギー線硬化性粘着剤は、エネルギー線硬化性のモノマーおよび/またはオリゴマー(B)をさらに含有してもよい。 Even when the energy ray curable adhesive is mainly composed of an energy ray curable polymer such as an energy ray curable polymer (A), the energy ray curable adhesive is an energy ray curable monomer. And / or the oligomer (B) may further be contained.
エネルギー線硬化性のモノマーおよび/またはオリゴマー(B)としては、例えば、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル等を使用することができる。 As the energy ray-curable monomer and / or oligomer (B), for example, an ester of a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid or the like can be used.
かかるエネルギー線硬化性のモノマーおよび/またはオリゴマー(B)としては、例えば、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等の単官能性アクリル酸エステル類、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ(メタ)アクリレート等の多官能性アクリル酸エステル類、ポリエステルオリゴ(メタ)アクリレート、ポリウレタンオリゴ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the energy ray-curable monomer and / or oligomer (B) include monofunctional acrylic acid esters such as cyclohexyl (meth) acrylate and isobornyl (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, penta Erythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, polyethylene glycol Polyfunctional acrylic acid esters such as di (meth) acrylate and dimethyloltricyclodecane di (meth) acrylate, polyester oligo (meth) acrylate, polyurethane oligo (meth) Acrylate, and the like.
エネルギー線硬化型重合体(A)に対し、エネルギー線硬化性のモノマーおよび/またはオリゴマー(B)を配合する場合、エネルギー線硬化性粘着剤中におけるエネルギー線硬化性のモノマーおよび/またはオリゴマー(B)の含有量は、エネルギー線硬化型重合体(A)100質量部に対して、10〜400質量部であることが好ましく、特に30〜350質量部であることが好ましい。 When the energy ray curable monomer (B) is blended with the energy ray curable polymer (A), the energy ray curable monomer and / or oligomer (B) in the energy ray curable adhesive is used. ) Content is preferably 10 to 400 parts by mass, and particularly preferably 30 to 350 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the energy beam curable polymer (A).
ここで、エネルギー線硬化性粘着剤を得るためのエネルギー線として紫外線を用いる場合には、光重合開始剤(C)を添加することが好ましく、この光重合開始剤(C)の使用により、重合硬化時間および光線照射量を少なくすることができる。 Here, when using ultraviolet rays as an energy ray for obtaining an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive, it is preferable to add a photopolymerization initiator (C). By using this photopolymerization initiator (C), polymerization is performed. Curing time and light irradiation amount can be reduced.
光重合開始剤(C)としては、具体的には、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン安息香酸、ベンゾイン安息香酸メチル、ベンゾインジメチルケタール、2,4−ジエチルチオキサンソン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンジル、ジベンジル、ジアセチル、β−クロールアンスラキノン、(2,4,6−トリメチルベンジルジフェニル)フォスフィンオキサイド、2−ベンゾチアゾール−N,N−ジエチルジチオカルバメート、オリゴ{2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−プロペニル)フェニル]プロパノン}、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オンなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 Specific examples of the photopolymerization initiator (C) include benzophenone, acetophenone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin benzoic acid, benzoin methyl benzoate, benzoin dimethyl ketal, 2,4-diethylthioxanthone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzyldiphenyl sulfide, tetramethylthiuram monosulfide, azobisisobutyronitrile, benzyl, dibenzyl, diacetyl, β-chloranthraquinone, (2,4 6-trimethylbenzyldiphenyl) phosphine oxide, 2-benzothiazole-N, N-diethyldithiocarbamate, oligo {2-hydroxy-2-methyl 1- [4- (1-propenyl) phenyl] propanone}, and 2,2-dimethoxy-1,2-and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
光重合開始剤(C)は、エネルギー線硬化型共重合体(A)(エネルギー線硬化性のモノマーおよび/またはオリゴマー(B)を配合する場合には、エネルギー線硬化型共重合体(A)およびエネルギー線硬化性のモノマーおよび/またはオリゴマー(B)の合計量100質量部)100質量部に対して0.1〜10質量部、特には0.5〜6質量部の範囲の量で用いられることが好ましい。 The photopolymerization initiator (C) is energy beam curable copolymer (A) (when energy beam curable monomer and / or oligomer (B) is blended, energy beam curable copolymer (A). And a total amount of 100 parts by mass of the energy ray-curable monomer and / or oligomer (B)) used in an amount in the range of 0.1 to 10 parts by mass, particularly 0.5 to 6 parts by mass. It is preferred that
エネルギー線硬化性粘着剤においては、上記成分以外にも、適宜他の成分を配合してもよい。他の成分としては、例えば、非エネルギー線硬化性ポリマー成分またはオリゴマー成分(D)、架橋剤(E)等が挙げられる。 In the energy ray curable pressure-sensitive adhesive, other components may be appropriately blended in addition to the above components. Examples of other components include a non-energy ray curable polymer component or oligomer component (D), and a crosslinking agent (E).
非エネルギー線硬化性ポリマー成分またはオリゴマー成分(D)としては、例えば、ポリアクリル酸エステル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられ、重量平均分子量(Mw)が3000〜2,500,000のポリマーまたはオリゴマーが好ましい。当該成分(D)をエネルギー線硬化性粘着剤に配合することにより、硬化前における粘着性および剥離性、硬化後の強度、他の層との接着性、保存安定性などを改善し得る。当該成分(D)の配合量は特に限定されない。 Examples of the non-energy ray curable polymer component or oligomer component (D) include polyacrylates, polyesters, polyurethanes, polycarbonates, polyolefins, and the like, and the weight average molecular weight (Mw) is 3000 to 2,500,000. Polymers or oligomers are preferred. By mix | blending the said component (D) with an energy-beam curable adhesive, the adhesiveness and peelability before hardening, the intensity | strength after hardening, the adhesiveness with another layer, storage stability, etc. can be improved. The compounding quantity of the said component (D) is not specifically limited.
架橋剤(E)としては、エネルギー線硬化型共重合体(A)等が有する官能基との反応性を有する多官能性化合物を用いることができる。このような多官能性化合物の例としては、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アミン化合物、メラミン化合物、アジリジン化合物、ヒドラジン化合物、アルデヒド化合物、オキサゾリン化合物、金属アルコキシド化合物、金属キレート化合物、金属塩、アンモニウム塩、反応性フェノール樹脂等を挙げることができる。当該成分(E)をエネルギー線硬化性粘着剤に配合することにより、硬化前における粘着性および剥離性、粘着剤の凝集性などを改善し得る。当該成分(E)の配合量は特に限定されず、エネルギー線硬化型共重合体(A)100質量部に対して0〜15質量部の範囲で適宜決定される。 As a crosslinking agent (E), the polyfunctional compound which has the reactivity with the functional group which an energy-beam curable copolymer (A) etc. have can be used. Examples of such polyfunctional compounds include isocyanate compounds, epoxy compounds, amine compounds, melamine compounds, aziridine compounds, hydrazine compounds, aldehyde compounds, oxazoline compounds, metal alkoxide compounds, metal chelate compounds, metal salts, ammonium salts, A reactive phenol resin etc. can be mentioned. By mix | blending the said component (E) with an energy-beam curable adhesive, the adhesiveness and peelability before hardening, the cohesiveness of an adhesive, etc. can be improved. The compounding quantity of the said component (E) is not specifically limited, It determines suitably in the range of 0-15 mass parts with respect to 100 mass parts of energy-beam curable copolymers (A).
次に、エネルギー線硬化性粘着剤が、非エネルギー線硬化性ポリマー成分と少なくとも1つ以上のエネルギー線硬化性基を有するモノマーおよび/またはオリゴマーとの混合物を主成分とする場合について、以下説明する。 Next, the case where the energy beam curable pressure-sensitive adhesive is mainly composed of a mixture of a non-energy beam curable polymer component and a monomer and / or oligomer having at least one energy beam curable group will be described below. .
非エネルギー線硬化性ポリマー成分としては、例えば、前述したアクリル系共重合体(a1)と同様の成分が使用できる。 As the non-energy ray curable polymer component, for example, the same component as the acrylic copolymer (a1) described above can be used.
少なくとも1つ以上のエネルギー線硬化性基を有するモノマーおよび/またはオリゴマーとしては、前述の成分(B)と同じものが選択できる。非エネルギー線硬化性ポリマー成分と少なくとも1つ以上のエネルギー線硬化性基を有するモノマーおよび/またはオリゴマーとの配合比は、非エネルギー線硬化性ポリマー成分100質量部に対して、少なくとも1つ以上のエネルギー線硬化性基を有するモノマーおよび/またはオリゴマー10〜250質量部であるのが好ましく、特に25〜100質量部であるのが好ましい。 As the monomer and / or oligomer having at least one energy ray-curable group, the same one as the above component (B) can be selected. The blending ratio of the non-energy ray curable polymer component and the monomer and / or oligomer having at least one energy ray curable group is at least one or more with respect to 100 parts by mass of the non-energy ray curable polymer component. The monomer and / or oligomer having an energy ray curable group is preferably 10 to 250 parts by mass, particularly preferably 25 to 100 parts by mass.
この場合においても、上記と同様に、光重合開始剤(C)や架橋剤(E)を適宜配合することができる。 Also in this case, the photopolymerization initiator (C) and the crosslinking agent (E) can be appropriately blended as described above.
粘着剤層20の厚さは、本実施形態に係る半導体加工用シートが使用される各工程において適切に機能できる限り、特に限定されない。具体的には、1〜50μmであることが好ましく、特に2〜40μmであることが好ましく、さらには3〜30μmであることが好ましい。
The thickness of the pressure-
(2)接着剤層
上記接着剤層40を構成する材料としては、ダイシングの際にウエハを固定し、さらに、個片化されたチップに対して接着剤層40を形成できるものであれば、特に制限はなく使用することができる。このような接着剤層40を構成する材料としては、熱可塑性樹脂と低分子量の熱硬化性接着成分とからなるものや、Bステージ(半硬化状)の熱硬化型接着成分からなるもの等が用いられる。これらの中でも、接着剤層40を構成する材料としては、熱可塑性樹脂と熱硬化性接着成分とを含むものであることが好ましい。熱可塑性樹脂としては、(メタ)アクリル系共重合体、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、フェノキシ系樹脂、ポリブテン、ポリブタジエン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、エチレン(メタ)アクリル酸系共重合体、エチレン(メタ)アクリル酸エステル系共重合体、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリイミドなどが挙げられるが、中でも、粘着性及び造膜性(シート加工性)の点から(メタ)アクリル系共重合体が好ましい。熱硬化性接着成分としては、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂、シアネート系樹脂、ビスマレイミドトリアジン系樹脂、アリル化ポリフェニレンエーテル系樹脂(熱硬化性PPE)、ホルムアルデヒド系樹脂、不飽和ポリエステル又はこれらの共重合体などが挙げられるが、中でも、接着性の観点からエポキシ系樹脂が好ましい。接着剤層40を構成する材料としては、半導体ウエハへの貼付性に優れ、特に図7に示される半導体加工用シート1dにおいて粘着剤層20との剥離性が優れるという点から、特に、(メタ)アクリル系共重合体及びエポキシ系樹脂を含有する材料が好ましい。
(2) Adhesive layer As a material constituting the
(メタ)アクリル系共重合体としては、特に制限はなく、従来公知の(メタ)アクリル系共重合体を用いることができる。(メタ)アクリル系共重合体の重量平均分子量(Mw)は、10,000〜2,000,000であることが好ましく、特に100,000〜1,500,000であることが好ましい。(メタ)アクリル系共重合体のMwが10,000以上であることで、特に図7に示される半導体加工用シート1dにおいて、接着剤層40と粘着剤層20との剥離性がより良好となり、チップのピックアップを効果的に行うことができる。また、(メタ)アクリル系共重合体のMwが2,000,000以下であることで、接着剤層40が被着体の凹凸に対してより良好に追従することができ、ボイド等の発生を効果的に防ぐことができる。
There is no restriction | limiting in particular as a (meth) acrylic-type copolymer, A conventionally well-known (meth) acrylic-type copolymer can be used. The weight average molecular weight (Mw) of the (meth) acrylic copolymer is preferably 10,000 to 2,000,000, particularly preferably 100,000 to 1,500,000. When the Mw of the (meth) acrylic copolymer is 10,000 or more, particularly in the
(メタ)アクリル系共重合体のガラス転移温度(Tg)は、−60〜70℃であることが好ましく、−30〜50℃であることがより好ましい。(メタ)アクリル系共重合体のTgが−60℃以上であることで、特に図7に示される半導体加工用シート1dにおいて、接着剤層40と粘着剤層20との剥離性がより良好となり、チップのピックアップを効果的に行うことができる。また、(メタ)アクリル系共重合体のTgが70℃以下であることで、ウエハを固定するための接着力を十分に得ることができる。
The glass transition temperature (Tg) of the (meth) acrylic copolymer is preferably −60 to 70 ° C., and more preferably −30 to 50 ° C. When the Tg of the (meth) acrylic copolymer is −60 ° C. or more, the peelability between the
(メタ)アクリル系共重合体を構成するモノマーとしては、(メタ)アクリル酸エステルモノマー又はその誘導体が挙げられ、より具体的には、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレートなどのアルキル基の炭素数が1〜18である(メタ)アクリル酸アルキルエステル;(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステル、(メタ)アクリル酸ベンジルエステル、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、イミド(メタ)アクリレートなどの環状骨格を有する(メタ)アクリル酸エステル;ヒドロキシメチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートなどのヒドロキシ基含有(メタ)アクリル酸エステル;グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどが挙げられる。また、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸などのカルボキシ基を含有する不飽和単量体を用いてもよい。これらは1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 Examples of the monomer constituting the (meth) acrylic copolymer include a (meth) acrylic acid ester monomer or a derivative thereof, and more specifically, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (Meth) acrylic acid alkyl ester having 1 to 18 carbon atoms of alkyl group such as (meth) acrylate and butyl (meth) acrylate; (meth) acrylic acid cycloalkyl ester, (meth) acrylic acid benzyl ester, isobornyl ( (Meth) acrylate having a cyclic skeleton such as (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, imide (meth) acrylate; Methyl ) Acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyl-containing, such as hydroxypropyl (meth) acrylate (meth) acrylic acid ester; glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate. Moreover, you may use the unsaturated monomer containing carboxy groups, such as acrylic acid, methacrylic acid, and itaconic acid. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
(メタ)アクリル系共重合体を構成するモノマーとして、上記の中では、エポキシ系樹脂との相溶性の点から、少なくともヒドロキシ基含有(メタ)アクリル酸エステルを用いることが好ましい。この場合、(メタ)アクリル系共重合体において、ヒドロキシ基含有(メタ)アクリル酸エステルに由来する構成単位は、1〜20質量%の範囲で含まれることが好ましく、3〜15質量%の範囲で含まれることがより好ましい。(メタ)アクリル系共重合体として、具体的には、(メタ)アクリル酸アルキルエステルとヒドロキシ基含有(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体が好ましい。 Among the above, as a monomer constituting the (meth) acrylic copolymer, at least a hydroxy group-containing (meth) acrylic acid ester is preferably used from the viewpoint of compatibility with the epoxy resin. In this case, in the (meth) acrylic copolymer, the structural unit derived from the hydroxy group-containing (meth) acrylic ester is preferably included in the range of 1 to 20% by mass, and in the range of 3 to 15% by mass. It is more preferable that it is contained. Specifically, the (meth) acrylic copolymer is preferably a copolymer of a (meth) acrylic acid alkyl ester and a hydroxy group-containing (meth) acrylic ester.
また、(メタ)アクリル系共重合体は、本発明の目的を損なわない範囲で、酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチレンなどのモノマーを共重合させてもよい。 In addition, the (meth) acrylic copolymer may be copolymerized with monomers such as vinyl acetate, acrylonitrile, and styrene as long as the object of the present invention is not impaired.
エポキシ系樹脂としては、従来公知の種々のエポキシ系樹脂を用いることができる。エポキシ系樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェニレン骨格型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン(DCPD)型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、複素環型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、縮合環芳香族炭化水素変性エポキシ樹脂や、これらのハロゲン化物などの、構造単位中に2つ以上の官能基が含まれるエポキシ系樹脂が挙げられる。これらのエポキシ系樹脂は、1種を単独で用いてもよいし、2種類以上を併用してもよい。 Various conventionally known epoxy resins can be used as the epoxy resin. Epoxy resins include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenylene skeleton type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, dicyclopentadiene (DCPD) type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin. Two or more functional groups are included in the structural unit such as triphenolmethane type epoxy resin, heterocyclic type epoxy resin, stilbene type epoxy resin, condensed ring aromatic hydrocarbon modified epoxy resin, and halides thereof. An epoxy resin is mentioned. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.
エポキシ系樹脂のエポキシ当量は特に限定されない。エポキシ当量は、通常、150〜1000g/eqであることが好ましい。なお、本明細書におけるエポキシ当量は、JIS K7236:2009に準じて測定される値である。 The epoxy equivalent of the epoxy resin is not particularly limited. The epoxy equivalent is usually preferably 150 to 1000 g / eq. In addition, the epoxy equivalent in this specification is a value measured according to JIS K7236: 2009.
エポキシ系樹脂の含有量は、(メタ)アクリル系共重合体100質量部に対して、1〜1500質量部が好ましく、3〜1000質量部がより好ましい。エポキシ系樹脂の含有量が、(メタ)アクリル系共重合体100質量部に対して1質量部以上であることで、十分な接着力を得ることができる。また、エポキシ系樹脂の含有量が、(メタ)アクリル系共重合体100質量部に対して1500質量部以下であることで、十分な造膜性が得られ、接着剤層40を効果的に形成することができる。
1-1500 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of (meth) acrylic-type copolymers, and, as for content of an epoxy resin, 3-1000 mass parts is more preferable. Sufficient adhesive force can be acquired because content of an epoxy resin is 1 mass part or more with respect to 100 mass parts of (meth) acrylic-type copolymers. Moreover, since the content of the epoxy resin is 1500 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the (meth) acrylic copolymer, sufficient film-forming properties can be obtained, and the
接着剤層40を構成する材料は、さらに、エポキシ系樹脂を硬化させるための硬化剤を含むことが好ましい。硬化剤としては、エポキシ基と反応しうる官能基を分子中に2個以上有する化合物が挙げられ、その官能基としては、フェノール性ヒドロキシ基、アルコール性ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシ基、酸無水物基などが挙げられる。これらの中では、フェノール性ヒドロキシ基、アミノ基及び酸無水物基が好ましく、フェノール性ヒドロキシ基及びアミノ基がより好ましい。
The material constituting the
硬化剤の具体例としては、ノボラック型フェノール系樹脂、ジシクロペンタジエン系フェノール系樹脂、トリフェノールメタン型フェノール系樹脂、アラルキルフェノール系樹脂などのフェノール性熱硬化剤;DICY(ジシアンジアミド)などのアミン系熱硬化剤が挙げられる。硬化剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 Specific examples of curing agents include phenolic thermosetting agents such as novolac type phenolic resins, dicyclopentadiene type phenolic resins, triphenolmethane type phenolic resins, aralkylphenolic resins, and amines such as DICY (dicyandiamide). A thermosetting agent is mentioned. A hardening | curing agent may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
硬化剤の含有量は、エポキシ系樹脂100質量部に対して、0.1〜500質量部が好ましく、1〜200質量部がより好ましい。硬化剤の含有量が、エポキシ系樹脂100質量部に対して0.1質量部以上であることで、十分な接着力を得ることができる。また、硬化剤の含有量が、エポキシ系樹脂100質量部に対して500質量部以下であることで、接着剤層40の吸湿率の上昇が効果的に防止され、半導体パッケージの信頼性をより優れたものとすることができる。
The content of the curing agent is preferably 0.1 to 500 parts by mass, and more preferably 1 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin. Sufficient adhesive force can be obtained because content of a hardening | curing agent is 0.1 mass part or more with respect to 100 mass parts of epoxy resins. Moreover, since the content of the curing agent is 500 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin, an increase in the moisture absorption rate of the
接着剤層40を構成する材料(接着剤組成物)には、上記以外に、所望により、硬化促進剤、カップリング剤、架橋剤、エネルギー線硬化型化合物、光重合開始剤、可塑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、顔料、染料、無機充填剤等の各種添加剤が含まれていてもよい。これらの各添加剤は、1種が単独で含まれてもよいし、2種以上が組み合わせられて含まれてもよい。 In addition to the above, the material constituting the adhesive layer 40 (adhesive composition) may include a curing accelerator, a coupling agent, a cross-linking agent, an energy ray curable compound, a photopolymerization initiator, a plasticizer, and a charge, as desired. Various additives such as an inhibitor, an antioxidant, a pigment, a dye, and an inorganic filler may be contained. Each of these additives may be included singly or in combination of two or more.
硬化促進剤は、接着剤組成物の硬化速度を調整するために用いられる。硬化促進剤としては、エポキシ基とフェノール性ヒドロキシ基やアミン等との反応を促進し得る化合物が好ましい。かかる化合物としては、具体的には、3級アミン類、2−フェニル−4,5−ジ(ヒドロキシメチル)イミダゾール等のイミダゾール類、有機ホスフィン類、テトラフェニルボロン塩等が挙げられる。 The curing accelerator is used to adjust the curing rate of the adhesive composition. As a hardening accelerator, the compound which can accelerate | stimulate reaction with an epoxy group, a phenolic hydroxyl group, an amine, etc. is preferable. Specific examples of such compounds include tertiary amines, imidazoles such as 2-phenyl-4,5-di (hydroxymethyl) imidazole, organic phosphines, and tetraphenylboron salts.
カップリング剤は、接着剤組成物の被着体に対する接着性・密着性を向上させる機能を有する。また、カップリング剤を使用することで、接着剤組成物を硬化して得られる硬化物の耐熱性を損なうことなく、当該硬化物の耐水性を向上させることができる。カップリング剤は、上記(メタ)アクリル系重合体及びエポキシ系樹脂が有する官能基と反応する基を有する化合物であることが好ましい。このようなカップリング剤としては、シランカップリング剤が好ましい。 The coupling agent has a function of improving the adhesion and adhesion to the adherend of the adhesive composition. Moreover, the water resistance of the said hardened | cured material can be improved by using a coupling agent, without impairing the heat resistance of the hardened | cured material obtained by hardening | curing adhesive composition. The coupling agent is preferably a compound having a group that reacts with the functional group of the (meth) acrylic polymer and the epoxy resin. As such a coupling agent, a silane coupling agent is preferable.
シランカップリング剤としては特に制限はなく、公知のものが使用できる。例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−(メタクリロキシプロピル)トリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−6−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−6−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)テトラスルファン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、イミダゾールシランなどが挙げられる。これらは1種を単独で、または2種以上混合して使用することができる。 There is no restriction | limiting in particular as a silane coupling agent, A well-known thing can be used. For example, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ- (methacryloxypropyl) trimethoxysilane, γ -Aminopropyltrimethoxysilane, N-6- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-6- (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyl Trimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, bis (3-triethoxysilylpropyl) tetrasulfane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane , Bi Examples include nyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, and imidazolesilane. These can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.
架橋剤は、接着剤層40の凝集力を調節するためのものである。上記(メタ)アクリル系重合体の架橋剤としては、特に制限はなく、公知のものが使用でき、例えば、粘着剤層20を構成する材料として上述したものを使用することができる。
The crosslinking agent is for adjusting the cohesive force of the
エネルギー線硬化型化合物は、紫外線等のエネルギー線の照射を受けると重合硬化する化合物である。エネルギー線硬化型化合物をエネルギー線照射によって硬化させることで、特に図7に示される半導体加工用シート1dにおいて、接着剤層40と粘着剤層20との剥離性が向上するため、半導体チップのピックアップがしやすくなる。
An energy ray curable compound is a compound that is polymerized and cured when irradiated with energy rays such as ultraviolet rays. By curing the energy ray curable compound by energy ray irradiation, the peelability between the
エネルギー線硬化型化合物としては、アクリル系化合物が好ましく、分子内に少なくとも1つの重合性二重結合を有するものが特に好ましい。そのようなアクリル系化合物としては、具体的には、ジシクロペンタジエンジメトキシジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、1,4−ブチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、オリゴエステルアクリレート、ウレタンアクリレート系オリゴマー、エポキシ変性アクリレート、ポリエーテルアクリレート、イタコン酸オリゴマーなどが挙げられる。 As the energy ray curable compound, an acrylic compound is preferable, and one having at least one polymerizable double bond in the molecule is particularly preferable. Specific examples of such acrylic compounds include dicyclopentadiene dimethoxydiacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate. 1,4-butylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, oligoester acrylate, urethane acrylate oligomer, epoxy-modified acrylate, polyether acrylate, itaconic acid oligomer, and the like.
アクリル系化合物の重量平均分子量は、通常、100〜30,000であり、好ましくは300〜10,000程度である。 The weight average molecular weight of the acrylic compound is usually 100 to 30,000, preferably about 300 to 10,000.
接着剤組成物がエネルギー線硬化型化合物を含有する場合、エネルギー線硬化型化合物の含有量は、(メタ)アクリル系重合体100質量部に対して、通常1〜400質量部、好ましくは3〜300質量部、より好ましくは10〜200質量部である。 When the adhesive composition contains an energy ray curable compound, the content of the energy ray curable compound is usually 1 to 400 parts by mass, preferably 3 to 100 parts by mass of the (meth) acrylic polymer. 300 parts by mass, more preferably 10 to 200 parts by mass.
光重合開始剤は、接着剤層40が上記エネルギー線硬化型化合物を含む場合に、紫外線の照射により重合硬化するにあたって、重合硬化時間及び紫外線の照射量を少なくすることができるものである。光開始剤としては、特に制限はなく、公知のものが使用でき、例えば、粘着剤層20を構成する材料として上述したものを使用することができる。
When the
接着剤層40の厚さは、通常3〜100μmであり、好ましくは5〜80μmである。
The thickness of the
(3)保護膜形成層
上記保護膜形成層50は、未硬化の硬化性接着剤からなることが好ましい。この場合、保護膜形成層50に半導体ウエハや半導体チップ等を重ね合わせた後、保護膜形成層50を硬化させることにより、保護膜を半導体ウエハや半導体チップ等に強固に接着することができ、耐久性を有する保護膜をチップ等に形成することができる。この保護膜形成層50に対しては、硬化性接着剤が未硬化の段階でも、硬化後の段階でも、レーザー光照射によって良好に印字することができる。
(3) Protective film forming layer The protective
保護膜形成層50は、常温で粘着性を有するか、加熱により粘着性を発揮することが好ましい。これにより、上記のように保護膜形成層50に半導体ウエハや半導体チップ等を重ね合わせるときに両者を貼合させることができる。したがって、保護膜形成層50を硬化させる前に位置決めを確実に行うことができ、半導体加工用シート1c,1eの取り扱い性が容易になる。
It is preferable that the protective
上記のような特性を有する保護膜形成層50を構成する硬化性接着剤は、硬化性成分とバインダーポリマー成分とを含有することが好ましい。硬化性成分としては、熱硬化性成分、エネルギー線硬化性成分、またはこれらの混合物を用いることができるが、保護膜形成層50の硬化方法や硬化後の耐熱性を考慮すると、熱硬化性成分を用いることが特に好ましい。また、タクトタイムの短縮や作業性を考慮すると、エネルギー線硬化性成分を用いることが好ましい。
The curable adhesive constituting the protective
熱硬化性成分としては、例えば、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂、尿素系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ベンゾオキサジン系樹脂等およびこれらの混合物が挙げられる。これらの中でも、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂およびこれらの混合物が好ましく用いられる。熱硬化性成分としては、通常分子量300〜10,000程度のものが用いられる。 Examples of the thermosetting component include epoxy resins, phenol resins, melamine resins, urea resins, polyester resins, urethane resins, acrylic resins, polyimide resins, benzoxazine resins, and mixtures thereof. Is mentioned. Among these, an epoxy resin, a phenol resin, and a mixture thereof are preferably used. As the thermosetting component, those having a molecular weight of about 300 to 10,000 are usually used.
エポキシ系樹脂は、加熱を受けると三次元網状化し、強固な被膜を形成する性質を有する。このようなエポキシ系樹脂としては、公知の種々のエポキシ系樹脂が用いられるが、通常は、重量平均分子量300〜2,500程度のものが好ましい。さらには、重量平均分子量300〜500の常態で液状のエポキシ系樹脂と、重量平均分子量400〜2,500、特に重量平均500〜2,000の常温で固体のエポキシ系樹脂とをブレンドした形で用いることが好ましい。また、エポキシ系樹脂のエポキシ当量は、50〜5,000g/eqであることが好ましい。 Epoxy resins have the property of forming a three-dimensional network and forming a strong film when heated. As such an epoxy resin, various known epoxy resins are used, but those having a weight average molecular weight of about 300 to 2,500 are usually preferred. Furthermore, it is a form in which a normal and liquid epoxy resin having a weight average molecular weight of 300 to 500 is blended with an epoxy resin solid at a normal temperature having a weight average molecular weight of 400 to 2,500, particularly a weight average of 500 to 2,000. It is preferable to use it. The epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 50 to 5,000 g / eq.
このようなエポキシ系樹脂としては、具体的には、ビスフェノールA、ビスフェノールF、レゾルシノール、フェニルノボラック、クレゾールノボラック等のフェノール類のグリシジルエーテル;ブタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のアルコール類のグリシジルエーテル;フタル酸、イソフタル酸、テトラヒドロフタル酸等のカルボン酸のグリシジルエーテル;アニリンイソシアヌレート等の窒素原子に結合した活性水素をグリシジル基で置換したグリシジル型もしくはアルキルグリシジル型のエポキシ樹脂;ビニルシクロヘキサンジエポキシド、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−ジシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシ)シクロヘキシル−5,5−スピロ(3,4−エポキシ)シクロヘキサン−m−ジオキサン等のように、分子内の炭素−炭素二重結合を例えば酸化することによりエポキシが導入された、いわゆる脂環型エポキシドを挙げることができる。その他、ビフェニル骨格、ジシクロヘキサジエン骨格、ナフタレン骨格等を有するエポキシ系樹脂を用いることもできる。 Specific examples of such epoxy resins include glycidyl ethers of phenols such as bisphenol A, bisphenol F, resorcinol, phenyl novolac, and cresol novolac; glycidyl ethers of alcohols such as butanediol, polyethylene glycol, and polypropylene glycol. Glycidyl ether of carboxylic acid such as phthalic acid, isophthalic acid and tetrahydrophthalic acid; glycidyl type or alkyl glycidyl type epoxy resin in which active hydrogen bonded to nitrogen atom such as aniline isocyanurate is substituted with glycidyl group; vinylcyclohexane diepoxide 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-dicyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxy) cyclohexyl-5,5-spiro (3 - Epoxy) as cyclohexane -m- dioxane, carbon in the molecule - epoxy is introduced by for example oxidation to carbon double bond include a so-called alicyclic epoxides. In addition, an epoxy resin having a biphenyl skeleton, a dicyclohexadiene skeleton, a naphthalene skeleton, or the like can also be used.
これらの中でも、ビスフェノール系グリシジル型エポキシ系樹脂、o−クレゾールノボラック型エポキシ系樹脂およびフェノールノボラック型エポキシ系樹脂が好ましく用いられる。これらエポキシ系樹脂は、1種を単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。 Among these, bisphenol glycidyl type epoxy resins, o-cresol novolac type epoxy resins and phenol novolak type epoxy resins are preferably used. These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more.
エポキシ系樹脂を用いる場合には、助剤として、熱活性型潜在性エポキシ系樹脂硬化剤を併用することが好ましい。熱活性型潜在性エポキシ系樹脂硬化剤とは、室温ではエポキシ系樹脂と反応せず、ある温度以上の加熱により活性化し、エポキシ系樹脂と反応するタイプの硬化剤である。熱活性型潜在性エポキシ系樹脂硬化剤の活性化方法には、加熱による化学反応で活性種(アニオン、カチオン)を生成する方法;室温付近ではエポキシ系樹脂中に安定に分散しており高温でエポキシ系樹脂と相溶・溶解し、硬化反応を開始する方法;モレキュラーシーブ封入タイプの硬化剤で、高温で溶出して硬化反応を開始する方法;マイクロカプセルによる方法等が存在する。 When using an epoxy resin, it is preferable to use a thermally activated latent epoxy resin curing agent in combination as an auxiliary agent. The thermally activated latent epoxy resin curing agent is a type of curing agent that does not react with the epoxy resin at room temperature but is activated by heating at a certain temperature or more and reacts with the epoxy resin. The activation method of the thermally activated latent epoxy resin curing agent includes a method of generating active species (anions and cations) by chemical reaction by heating; There are a method of initiating a curing reaction by dissolving and dissolving with an epoxy resin; a method of starting a curing reaction by eluting at a high temperature with a molecular sieve encapsulated type curing agent; a method using a microcapsule, and the like.
熱活性型潜在性エポキシ系樹脂硬化剤の具体例としては、各種オニウム塩や、二塩基酸ジヒドラジド化合物、ジシアンジアミド、アミンアダクト硬化剤、イミダゾール化合物等の高融点活性水素化合物等を挙げることができる。これら熱活性型潜在性エポキシ系樹脂硬化剤は、1種を単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。上記のような熱活性型潜在性エポキシ系樹脂硬化剤は、エポキシ樹脂100質量部に対して、好ましくは0.1〜20質量部、特に好ましくは0.2〜10質量部、さらに好ましくは0.3〜5質量部の割合で用いられる。 Specific examples of the thermally activated latent epoxy resin curing agent include various onium salts, dibasic acid dihydrazide compounds, dicyandiamide, amine adduct curing agents, high melting point active hydrogen compounds such as imidazole compounds, and the like. These thermally activated latent epoxy resin curing agents can be used singly or in combination of two or more. The thermally activated latent epoxy resin curing agent as described above is preferably 0.1 to 20 parts by mass, particularly preferably 0.2 to 10 parts by mass, and more preferably 0 to 100 parts by mass of the epoxy resin. Used in a ratio of 3 to 5 parts by mass.
フェノール系樹脂としては、アルキルフェノール、多価フェノール、ナフトール等のフェノール類とアルデヒド類との縮合物などのフェノール系ヒドロキシ基を有する重合体が特に制限されることなく用いられる。具体的には、フェノールノボラック系樹脂、o−クレゾールノボラック系樹脂、p−クレゾールノボラック系樹脂、t−ブチルフェノールノボラック系樹脂、ジシクロペンタジエンクレゾール系樹脂、ポリパラビニルフェノール系樹脂、ビスフェノールA型ノボラック系樹脂、あるいはこれらの変性物等が用いられる。 As the phenolic resin, a polymer having a phenolic hydroxy group such as a condensate of phenols such as alkylphenol, polyhydric phenol, naphthol and aldehydes is used without particular limitation. Specifically, phenol novolak resin, o-cresol novolak resin, p-cresol novolak resin, t-butylphenol novolak resin, dicyclopentadiene cresol resin, polyparavinylphenol resin, bisphenol A type novolak resin Resins or modified products thereof are used.
これらのフェノール系樹脂に含まれるフェノール性ヒドロキシ基は、上記エポキシ系樹脂のエポキシ基と加熱により容易に付加反応して、耐衝撃性の高い硬化物を形成することができる。このため、エポキシ系樹脂とフェノール系樹脂とを併用してもよい。 The phenolic hydroxy group contained in these phenolic resins can easily undergo an addition reaction with the epoxy group of the epoxy resin by heating to form a cured product having high impact resistance. For this reason, you may use together an epoxy resin and a phenol resin.
エネルギー線硬化性成分としては、例えば、粘着剤層20を構成する材料として前述したものを用いることができる。また、エネルギー線硬化性成分として、エネルギー線硬化性モノマー/オリゴマーを用いてもよい。さらに、エネルギー線硬化性成分と組み合わされるバインダーポリマー成分として、エネルギー線硬化性化合物が付加されたアクリル系ポリマーを用いてもよい。
As an energy-beam curable component, what was mentioned above as a material which comprises the
バインダーポリマー成分は、保護膜形成層50に適度なタックを与えたり、半導体加工用シート1c,1eの操作性を向上したりすること等を目的として配合される。バインダーポリマーの重量平均分子量は、通常は30,000〜2,000,000、好ましくは50,000〜1,500,000、特に好ましくは100,000〜1,000,000の範囲にある。重量平均分子量が30,000以上であることにより、保護膜形成層50のフィルム形成が十分なものとなる。また、重量平均分子量が2,000,000以下であることにより、他の成分との相溶性が良好に維持され、保護膜形成層50のフィルム形成を均一に行うことができる。このようなバインダーポリマーとしては、例えば、(メタ)アクリル系共重合体、ポリエステル系樹脂、フェノキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂、ゴム系共重合体等が用いられ、特に(メタ)アクリル系共重合体が好ましく用いられる。
The binder polymer component is blended for the purpose of imparting an appropriate tack to the protective
(メタ)アクリル系共重合体としては、例えば、(メタ)アクリル酸エステルモノマーと(メタ)アクリル酸誘導体とを重合してなる(メタ)アクリル酸エステル共重合体が挙げられる。ここで(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、好ましくはアルキル基の炭素数が1〜18である(メタ)アクリル酸アルキルエステル、例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート等が用いられる。また、(メタ)アクリル酸誘導体としては、例えば、(メタ)アクリル酸、グリシジル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等を挙げることができる。 Examples of the (meth) acrylic copolymer include a (meth) acrylic acid ester copolymer obtained by polymerizing a (meth) acrylic acid ester monomer and a (meth) acrylic acid derivative. Here, the (meth) acrylic acid ester monomer is preferably a (meth) acrylic acid alkyl ester having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth). Acrylate, butyl (meth) acrylate, or the like is used. Examples of the (meth) acrylic acid derivative include (meth) acrylic acid, glycidyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, and the like.
上記の中でもグリシジルメタクリレート等を構成単位として用いて(メタ)アクリル系共重合体にグリシジル基を導入すると、前述した熱硬化性成分としてのエポキシ系樹脂との相溶性が向上し、保護膜形成層50の硬化後のガラス転移温度(Tg)が高くなり、耐熱性が向上する。また、上記の中でもヒドロキシエチルアクリレート等を構成単位として用いて(メタ)アクリル系共重合体にヒドロキシ基を導入すると、半導体ウエハや半導体チップ等への密着性や粘着物性をコントロールすることができる。なお、グリシジルメタクリレート等を構成単位として用いて(メタ)アクリル系共重合体にグリシジル基を導入した場合における、その(メタ)アクリル系共重合体や、エポキシ基を有するフェノキシ系樹脂は、熱硬化性を有することがある。しかしながら、このような熱硬化性を有するポリマーも、本実施形態においては熱硬化性成分ではなく、バインダーポリマー成分に該当するものとする。 Among them, when a glycidyl group is introduced into a (meth) acrylic copolymer using glycidyl methacrylate as a structural unit, the compatibility with the epoxy resin as the thermosetting component described above is improved, and a protective film forming layer The glass transition temperature (Tg) after curing of 50 is increased, and the heat resistance is improved. Further, among the above, when hydroxy groups are introduced into the (meth) acrylic copolymer using hydroxyethyl acrylate or the like as a structural unit, adhesion to a semiconductor wafer, a semiconductor chip or the like and adhesive physical properties can be controlled. In addition, when a glycidyl group is introduced into a (meth) acrylic copolymer using glycidyl methacrylate as a structural unit, the (meth) acrylic copolymer or the phenoxy resin having an epoxy group is thermoset. May have sex. However, such a thermosetting polymer is not a thermosetting component in this embodiment, but corresponds to a binder polymer component.
バインダーポリマーとして(メタ)アクリル系共重合体を使用した場合における、当該(メタ)アクリル系共重合体の重量平均分子量は、好ましくは100,000以上であり、特に好ましくは150,000〜1,000,000である。(メタ)アクリル系共重合体のガラス転移温度は通常20℃以下、好ましくは−70〜0℃程度であり、常温(23℃)においては粘着性を有する。 When a (meth) acrylic copolymer is used as the binder polymer, the weight average molecular weight of the (meth) acrylic copolymer is preferably 100,000 or more, particularly preferably 150,000 to 1, 000,000. The glass transition temperature of the (meth) acrylic copolymer is usually 20 ° C. or lower, preferably about −70 to 0 ° C., and has adhesiveness at room temperature (23 ° C.).
硬化性成分とバインダーポリマー成分との配合比率としては、バインダーポリマー成分100質量部に対して、硬化性成分を、好ましくは50〜1500質量部、特に好ましくは70〜1000質量部、さらに好ましくは80〜800質量部配合することが好ましい。このような割合で硬化性成分とバインダーポリマー成分とを配合すると、硬化前には適度なタックを示し、貼付作業を安定して行うことができ、また硬化後には、被膜強度に優れた保護膜が得られる。 As a compounding ratio of the curable component and the binder polymer component, the curable component is preferably 50 to 1500 parts by mass, particularly preferably 70 to 1000 parts by mass, and more preferably 80 to 100 parts by mass of the binder polymer component. It is preferable to blend ~ 800 parts by mass. When the curable component and the binder polymer component are blended in such a ratio, an adequate tack is exhibited before curing, and the sticking operation can be stably performed. After the curing, a protective film having excellent coating strength. Is obtained.
保護膜形成層50には、フィラーおよび/または着色剤を含有させることもできる。但し、半導体加工用シート1c,1eを、チップ形状の検査、ステルスダイシングまたは半導体チップのレーザー印字に使用する場合、保護膜形成層50が光線透過性を有する必要がある。そのため、この場合、当該光線透過性を阻害しない程度に、フィラーおよび/または着色剤を含有させる必要がある。一方、半導体加工用シート1c,1eを、保護膜形成層50またはそれが個片化されて形成される保護膜のレーザー印字に使用する場合、保護膜形成層50に光線透過性は要求されない。この場合、レーザー印字を可能にするために、保護膜形成層50は、当該レーザー光を遮断する必要がある。したがって、レーザー印字を効果的に行うために、保護膜形成層50はフィラーおよび/または着色剤を含有することが好ましい。また、保護膜形成層50がフィラーを含有すると、硬化後の保護膜の硬度を高く維持することができるとともに、耐湿性を向上させることができる。さらに、形成される保護膜の表面のグロスを所望の値に調整することもできる。さらにまた、硬化後の保護膜の熱膨張係数を半導体ウエハの熱膨張係数に近づけることができ、これによって加工途中の半導体ウエハの反りを低減することができる。
The protective
フィラーとしては、結晶シリカ、溶融シリカ、合成シリカ等のシリカや、アルミナ、ガラスバルーン等の無機フィラーが挙げられる。中でも合成シリカが好ましく、特に半導体装置の誤作動の要因となるα線の線源を極力除去したタイプの合成シリカが最適である。フィラーの形状としては、球形、針状、不定形のいずれであってもよい。 Examples of the filler include silica such as crystalline silica, fused silica, and synthetic silica, and inorganic filler such as alumina and glass balloon. Among them, synthetic silica is preferable, and synthetic silica of the type from which α-ray sources that cause malfunction of the semiconductor device are removed as much as possible is most suitable. The shape of the filler may be spherical, acicular, or indefinite.
また、保護膜形成層50に添加するフィラーとしては、上記無機フィラーの他にも、機能性のフィラーが配合されていてもよい。機能性のフィラーとしては、例えば、帯電防止性の付与を目的とした、金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、ステンレス、カーボン、セラミック、またはニッケル、アルミニウム等を銀で被覆した導電性フィラーや、熱伝導性の付与を目的とした、金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、ステンレス、シリコン、ゲルマニウム等の金属材料やそれらの合金等の熱伝導性フィラーなどが挙げられる。
Moreover, as a filler added to the protective
着色剤としては、無機系顔料、有機系顔料、有機系染料など公知のものを使用することができる。 As the colorant, known ones such as inorganic pigments, organic pigments and organic dyes can be used.
無機系顔料としては、例えば、カーボンブラック、コバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、チタン系色素、バナジウム系色素、ジルコニウム系色素、モリブデン系色素、ルテニウム系色素、白金系色素、ITO(インジウムスズオキサイド)系色素、ATO(アンチモンスズオキサイド)系色素等が挙げられる。 Examples of inorganic pigments include carbon black, cobalt dyes, iron dyes, chromium dyes, titanium dyes, vanadium dyes, zirconium dyes, molybdenum dyes, ruthenium dyes, platinum dyes, ITO (indium) Tin oxide) dyes, ATO (antimony tin oxide) dyes, and the like.
有機系顔料及び有機系染料としては、例えば、アミニウム系色素、シアニン系色素、メロシアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、アズレニウム系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、ピリリウム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、ナフトラクタム系色素、アゾ系色素、縮合アゾ系色素、インジゴ系色素、ペリノン系色素、ペリレン系色素、ジオキサジン系色素、キナクリドン系色素、イソインドリノン系色素、キノフタロン系色素、ピロール系色素、チオインジゴ系色素、金属錯体系色素(金属錯塩染料)、ジチオール金属錯体系色素、インドールフェノール系色素、トリアリルメタン系色素、アントラキノン系色素、ジオキサジン系色素、ナフトール系色素、アゾメチン系色素、ベンズイミダゾロン系色素、ピランスロン系色素及びスレン系色等が挙げられる。これらの顔料又は染料は、目的とする光線透過率に調整するため適宜混合して使用することができる。 Examples of organic pigments and organic dyes include aminium dyes, cyanine dyes, merocyanine dyes, croconium dyes, squalium dyes, azurenium dyes, polymethine dyes, naphthoquinone dyes, pyrylium dyes, and phthalocyanine dyes. Dyes, naphthalocyanine dyes, naphtholactam dyes, azo dyes, condensed azo dyes, indigo dyes, perinone dyes, perylene dyes, dioxazine dyes, quinacridone dyes, isoindolinone dyes, quinophthalone dyes, Pyrrole dye, thioindigo dye, metal complex dye (metal complex dye), dithiol metal complex dye, indolephenol dye, triallylmethane dye, anthraquinone dye, dioxazine dye, naphthol dye, azomethine dye , Be Zuimidazoron based dyes, pyranthrone pigments and threne color like. These pigments or dyes can be appropriately mixed and used in order to adjust to the desired light transmittance.
レーザー光照射による印字性の観点からは、上記の中でも、顔料、特に無機系顔料を使用することが好ましい。無機系顔料の中でも、特にカーボンブラックが好ましい。カーボンブラックは、通常は黒色であるが、レーザー光照射によって削り取られた部分は白色を呈し、コントラスト差が大きくなるため、レーザー印字された部分の視認性に非常に優れる。 Among the above, from the viewpoint of printability by laser light irradiation, it is preferable to use a pigment, particularly an inorganic pigment. Among inorganic pigments, carbon black is particularly preferable. Carbon black is usually black, but the portion scraped off by laser light irradiation is white and the contrast difference is large, so the visibility of the laser-printed portion is very excellent.
保護膜形成層50中におけるフィラーおよび着色剤の配合量は、所望の作用が奏されるよう適宜調整すればよい。具体的に、フィラーの配合量は、通常は40〜80質量%であることが好ましく、特に50〜70質量%であることが好ましい。また、着色剤の配合量は、通常は0.001〜5質量%であることが好ましく、特に0.01〜3質量%であることが好ましく、さらには0.1〜2.5質量%であることが好ましい。
What is necessary is just to adjust suitably the compounding quantity of the filler and coloring agent in the protective
保護膜形成層50は、カップリング剤を含有してもよい。カップリング剤を含有することにより、保護膜形成層50の硬化後において、保護膜の耐熱性を損なわずに、保護膜と半導体ウエハや半導体チップ等との接着性・密着性を向上させることができるとともに、耐水性(耐湿熱性)を向上させることができる。カップリング剤としては、その汎用性とコストメリットなどからシランカップリング剤が好ましい。シランカップリング剤としては、例えば前述したものを使用することができる。
The protective
保護膜形成層50は、硬化前の凝集力を調節するために、有機多価イソシアネート系化合物、有機多価イミン系化合物、有機金属キレート系化合物等の架橋剤を含有してもよい。また、保護膜形成層50は、静電気を抑制し、チップの信頼性を向上させるために、帯電防止剤を含有してもよい。さらに、保護膜形成層50は、保護膜の難燃性能を高め、パッケージとしての信頼性を向上させるために、リン酸系化合物、ブロム系化合物、リン系化合物等の難燃剤を含有してもよい。
The protective
保護膜形成層50の厚さは、保護膜としての機能を効果的に発揮させるために、3〜300μmであることが好ましく、特に5〜250μmであることが好ましく、さらには7〜200μmであることが好ましい。
The thickness of the protective
保護膜形成層50の第1の面501のグロス値は、25以上であることが好ましく、特に30以上であることが好ましい。第1の面501のグロス値が25以上であることで、当該面にレーザー印字した際に、美観が優れるとともに、形成される印字の視認性に優れる。なお、本明細書におけるグロス値は、JIS Z8741:1997に準じ、測定角60°にて光沢計を使用して測定した値とする。
The gloss value of the
5.治具用粘着剤層
本実施形態に係る半導体加工用シートは、治具用粘着剤層をさらに備えてもよい。図9および10には、治具用粘着剤層60を備える、半導体加工用シートの断面図が示される。
5. Jig pressure-sensitive adhesive layer The semiconductor processing sheet according to the present embodiment may further include a jig pressure-sensitive adhesive layer. 9 and 10 are cross-sectional views of a semiconductor processing sheet including a jig pressure-
図9には、半導体貼付層80と剥離フィルム30との間に治具用粘着剤層60を備える第3の実施形態に係る半導体加工用シート3の断面図が示される。通常、治具用粘着剤層60は、半導体貼付層80の剥離フィルム30側の面上において、後述する通り環状に形成されている。この半導体加工用シート3において、治具用粘着剤層60は、半導体貼付層80に近位な側に第1の面601を有し、剥離フィルム30に近位な側に第2の面602を有する。なお、図9では、半導体貼付層80と剥離フィルム30とが、治具用粘着剤層60が設けられていない位置において接触するように示されているが、このような接触が生じていなくてもよい。
FIG. 9 shows a cross-sectional view of the
第3の実施形態に係る半導体加工用シート3において、半導体貼付層80は、接着剤層40または保護膜形成層50を含むことが好ましい。この場合、半導体貼付層80は、接着剤層40または保護膜形成層50であってもよく、または、半導体貼付層80は、基材10と、当該接着剤層40または当該保護膜形成層50との間に位置する粘着剤層20をさらに備えてもよい。これらにより、半導体加工用シート3は、ダイシング・ダイボンディングシート、保護膜形成用シート等として好適に使用することができる。
In the
図10には、剥離フィルム30の半導体貼付層80側における、平面視にて半導体貼付層80とは異なる位置に治具用粘着剤層60を備える第4の実施形態に係る半導体加工用シート4の断面図が示される。通常、治具用粘着剤層60は、基材10と剥離フィルム30との間において、後述する通り環状に形成されている。また、本実施形態における半導体貼付層80は、通常、平面視で円形状の形状を有し、環状の治具用粘着剤層60に取り囲まれている。この半導体加工用シート4において、治具用粘着剤層60は、基材10に近位な側に第1の面601を有し、剥離フィルム30に近位な側に第2の面602を有する。なお、図10では、半導体貼付層80と治具用粘着剤層60とが同一の厚さを有するように示されているが、これらは異なる厚さを有していてもよい。
In FIG. 10, the semiconductor processing sheet 4 according to the fourth embodiment includes the
第4の実施形態に係る半導体加工用シート4において、半導体貼付層80は、接着剤層40または保護膜形成層50を含むことが好ましい。この場合、半導体貼付層80は、接着剤層40または保護膜形成層50であってもよい。あるいは、半導体貼付層80は、接着剤層40または保護膜形成層50と、粘着剤層20との積層体であってもよい。当該積層体において、粘着剤層20は、基材10と、当該接着剤層40または当該保護膜形成層50との間に位置することが好ましい。これらにより、半導体加工用シート4を、ダイシング・ダイボンディングシート、保護膜形成用シート等として好適に使用することができる。
In the semiconductor processing sheet 4 according to the fourth embodiment, the
図11には、剥離フィルム30の半導体貼付層80側における、平面視にて半導体貼付層80とは異なる位置に治具用粘着剤層60を備え、さらに、基材10と、半導体貼付層80および治具用粘着剤層60との間に位置する第2の粘着剤層20’を備える第5の実施形態に係る半導体加工用シート5の断面図が示される。通常、治具用粘着剤層60は、基材10と剥離フィルム30との間において、環状に形成されている。また、本実施形態に係る半導体貼付層80は、通常、平面視で円形状の形状を有し、環状の治具用粘着剤層60に取り囲まれている。この半導体加工用シート5において、治具用粘着剤層60は、基材10に近位な側に第1の面601を有し、剥離フィルム30に近位な側に第2の面602を有する。なお、図11では、半導体貼付層80と治具用粘着剤層60とが同一の厚さを有するように示されているが、これらは異なる厚さを有していてもよい。
In FIG. 11, a
第5の実施形態に係る半導体加工用シート5において、半導体貼付層80は、接着剤層40または保護膜形成層50であることが好ましい。これにより、半導体加工用シート5を、ダイシング・ダイボンディングシート、保護膜形成用シート等として好適に使用することができる。
In the
治具用粘着剤層60は、リングフレーム等の治具の形状に対応する形状に形成され、通常、環状に形成される。これにより、半導体加工用シート3,4,5をリングフレーム等の治具に貼付して確実に固定することができる。なお、図9〜11では、保護材70が基材10の第1の面101の幅方向両側部に積層されているものの、保護材70が剥離フィルム30の第2の面302の幅方向両側部に積層されていてもよい。
The jig pressure-
本実施形態における治具用粘着剤層60は、単層からなってもよいし、2層以上の多層からなってもよく、多層の場合、芯材が間に入った構成であることが好ましい。
The pressure-
治具用粘着剤層60を構成する粘着剤は、リングフレーム等の治具に対する粘着力の観点から、非エネルギー線硬化性の粘着剤から構成されることが好ましい。非エネルギー線硬化性の粘着剤としては、所望の粘着力および再剥離性を有するものが好ましく、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリビニルエーテル系粘着剤等を使用することができ、中でも粘着力および再剥離性の制御が容易なアクリル系粘着剤が好ましい。
The pressure-sensitive adhesive constituting the jig-use pressure-
芯材としては、通常樹脂フィルムが用いられ、中でもポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム等のポリ塩化ビニル系フィルムが好ましく、特にポリ塩化ビニルフィルムが好ましい。ポリ塩化ビニルフィルムは、加熱して軟化したとしても、冷却した際に復元し易い性質を有する。芯材の厚さは、2〜200μmであることが好ましく、特に5〜100μmであることが好ましい。 As the core material, a resin film is usually used, among which a polyvinyl chloride film such as a polyvinyl chloride film and a vinyl chloride copolymer film is preferable, and a polyvinyl chloride film is particularly preferable. Even if the polyvinyl chloride film is softened by heating, it has a property of being easily restored when cooled. The thickness of the core material is preferably 2 to 200 μm, and particularly preferably 5 to 100 μm.
治具用粘着剤層60の厚さは、リングフレーム等の治具に対する接着性の観点から、5〜200μmであることが好ましく、特に10〜100μmであることが好ましい。
The thickness of the jig pressure-
治具用粘着剤層60を有する半導体加工用シート3,4,5は、基材10の第1の面101における算術平均粗さRaが0.01〜0.8μmであることで、当該面における平滑性は良好なものとなり、少なくとも基材10が、所望の波長の光に対する高い光線透過性を有する。さらに、半導体加工用シート3,4,5が保護材70を備えることにより、半導体加工用シート3,4,5をロール状に巻き取ったときに、剥離フィルム30と保護材70とが小さい面積で接触し、基材10と剥離フィルム30とが全体的に密着することが防止される。これにより、ブロッキングが発生しにくくなり、ロールからの半導体加工用シート3,4,5の繰り出しを良好に行うことができるとともに、繰り出しの際に意図しない界面での剥離が生じない。
The
6.プリカット
本実施形態に係る半導体加工用シートは、剥離フィルム30以外の層が所望の形状に切断加工された、いわゆるプリカットされた状態のものであってもよい。すなわち、本実施形態に係る半導体加工用シートは、長尺の剥離フィルム30に、平面視にて剥離フィルム30とは異なる形状を有する、前記基材、前記半導体貼付層および前記保護材を含む積層体が積層されてなるものであってもよい。図12には、このようなプリカットされた、第6の実施形態に係る半導体加工用シート6を基材側から見た平面図が示されている。半導体加工用シート6では、長尺の剥離フィルム30上に、円形にカットされた基材10aと半導体貼付層80aとの積層体(以下「主使用部」という場合がある。)が設けられている。主使用部は、剥離フィルム30の長辺方向に複数配置されている。また、剥離フィルム30の長辺方向の両端部には、主使用部と接触しないようにカットされた、基材10bと半導体貼付層80bとの積層体(以下「シート残留部」という場合がある。)が設けられている。さらに、シート残留部上に、長尺の保護材70が設けられている。なお、図13には、図12のA−A線に沿った断面図が示されている。また、別の実施態様として、保護材70は、シート残留部上ではなく、剥離フィルム30の第2の面302の幅方向両側部に積層されていてもよい。
6). Precut The semiconductor processing sheet according to the present embodiment may be in a so-called precut state in which layers other than the
半導体加工用シート6を構成する各層としては、半導体加工用シート1a,1b,1c,1d,1eについて上述したものを使用することができる。
As each layer which comprises the
また、上述した治具用粘着剤層60を含む半導体加工用シート3を、プリカットが施されたシートとすることができる。当該シートでは、治具用粘着剤層60が、主使用部の周縁部に設けられる。
In addition, the
半導体加工用シート6において、主使用部は、剥離フィルム30から剥離された後に、半導体ウエハや半導体チップ等に貼付される。一方、シート残留部は、半導体加工用シート6をロール状に巻き取った際の巻き圧が主使用部に集中することを防ぐ。
In the
一般に、プリカットされた半導体加工用シートでは、ロールから繰り出す際に、剥離フィルムから主使用部が剥離したり、当該剥離した主使用部の基材側が、剥離フィルムの第2の面に貼り付くといった不具合が生じ易い。しかしながら、半導体加工用シート6が保護材70を備えることにより、半導体加工用シート6をロール状に巻き取ったときに、主使用部と剥離フィルム30とが直接接触することがないか、接触したとしても接触した部分に巻き圧が殆どかからない。これにより、優れた耐ブロッキング性が発揮され、ロールからの半導体加工用シート6の繰り出しを良好に行うことができるとともに、繰り出しの際に意図しない界面での剥離が生じない。
Generally, in a pre-cut semiconductor processing sheet, when the roll is unwound from the roll, the main use part is peeled off from the release film, or the base side of the peeled main use part is attached to the second surface of the release film. Problems are likely to occur. However, when the
7.半導体加工用シートの物性等
剥離フィルム30の第1の面301と、半導体貼付層80の第2の面802との界面での剥離力は、10〜1000mN/50mmであることが好ましく、特に10〜500mN/50mmであることが好ましく、さらには30〜200mN/50mmであることが好ましい。ここで、上記剥離力は、剥離フィルム30の第1の面301と半導体貼付層80の第2の面802とが貼付された状態で、乾燥状態において40℃で3日間保管した後における、半導体貼付層80に対する剥離フィルム30の剥離力である。当該剥離力が10mN/50mm以上であることで、ロールから半導体加工用シートを繰り出す際や、それ以外の段階において、半導体加工用シートからの剥離フィルム30の意図しない剥がれが防止される。また、当該剥離力が1000mN/50mm以下であることで、半導体加工用シートを使用する際に剥離フィルム30を容易に剥がすことが可能となり、作業性に優れる。
7). Properties of Semiconductor Processing Sheet, etc. The peeling force at the interface between the
なお、図9に示される半導体加工用シート3では、剥離フィルム30の第1の面301が、その中央部において半導体貼付層80に接し、周縁部において治具用粘着剤層60に接する。ここで、半導体加工用シート3をロール状に巻き取った際、その巻き圧は治具用粘着剤層60が存在する位置に集中する。これにともない、ブロッキングも治具用粘着剤層60が存在する位置において発生し易くなる。そのため、半導体加工用シート3をロールから良好に巻き出せるか否かは、剥離フィルム30の第1の面301と治具用粘着剤層60の第2の面602との密着性が大きく影響する。したがって、半導体加工用シート3については、剥離フィルム30の第1の面301と治具用粘着剤層60の第2の面602との界面での剥離力が上述した範囲であることが好ましい。
In the
本実施形態に係る半導体加工用シートの厚さは、半導体加工用シートが使用される工程において適切に機能できる限り限定されない。当該厚さは、通常、50〜300μmであることが好ましく、特に50〜250μmであることが好ましく、さらには50〜230μmであることが好ましい。なお、本明細書における半導体加工用シートの厚さとは、半導体加工用シートの使用前に剥離される剥離フィルム30を除いた厚さを意味する。
The thickness of the semiconductor processing sheet according to the present embodiment is not limited as long as it can function properly in the process in which the semiconductor processing sheet is used. In general, the thickness is preferably 50 to 300 μm, particularly preferably 50 to 250 μm, and further preferably 50 to 230 μm. In addition, the thickness of the sheet | seat for semiconductor processing in this specification means the thickness except the peeling
8.半導体加工用シートの製造方法
粘着剤層20を含む半導体加工用シート1aの製造方法は、特に限定されず、常法を使用することができる。当該製造方法の第1の例としては、まず、粘着剤層20の材料を含む粘着剤組成物、および所望によりさらに溶媒または分散媒を含有する塗工用組成物を調製する。次に、この塗工用組成物を、剥離フィルム30の第1の面301上に、ダイコーター、カーテンコーター、スプレーコーター、スリットコーター、ナイフコーター等により塗布して塗膜を形成する。さらに、当該塗膜を乾燥させることにより、粘着剤層20を形成することができる。その後、粘着剤層20の第1の面201と、基材10の第2の面102とを貼合し、基材10と粘着剤層20と剥離フィルム30とからなる積層体を得る。続いて、当該積層体における基材10の第1の面101の幅方向両側部に、保護材70を積層する。これにより、基材10の第1の面101の幅方向両側部に保護材70が設けられた半導体加工用シート1aが得られる。
8). The manufacturing method of the sheet | seat for semiconductor processing The manufacturing method of the sheet |
塗工用組成物は、塗布を行うことが可能であればその性状は特に限定されない。粘着剤層20を形成するための成分は、塗工用組成物中に溶質として含有されてもよく、または分散質として含有されてもよい。
The properties of the coating composition are not particularly limited as long as it can be applied. The component for forming the pressure-
塗工用組成物が架橋剤(E)を含有する場合、所望の存在密度で架橋構造を形成させるために、上記の乾燥の条件(温度、時間など)を変えてもよく、または加熱処理を別途設けてもよい。架橋反応を十分に進行させるために、通常は、上記の方法などによって基材に粘着剤層を積層した後、得られた半導体加工用シート1を、例えば23℃、相対湿度50%の環境に数日間静置するといった養生を行う。
When the coating composition contains a crosslinking agent (E), the above drying conditions (temperature, time, etc.) may be changed or heat treatment may be performed in order to form a crosslinked structure at a desired density. It may be provided separately. In order to sufficiently advance the crosslinking reaction, usually, after the pressure-sensitive adhesive layer is laminated on the substrate by the above-described method, the obtained
保護材70を積層する際、保護材70の材料としての樹脂フィルム等を、予め保護材70の形状に形成した状態で基材10の第1の面101の幅方向両側部に積層してもよく、あるいは、樹脂フィルム等を基材10の第1の面101上に積層した後に、保護材70の形状にハーフカットして、当該保護材70の間に位置する、樹脂フィルム等の不要部分を除去してもよい。保護材70として、その片面または両面に金属蒸着層またはハードコート層が設けられたものを使用する場合、金属の蒸着およびハードコート層の形成は、一般的な方法により行うことができる。また、保護材70として、粘着剤層が設けられたものを使用する場合、保護材70の粘着剤層側の面が、基材10の第1の面101に貼付される。また、粘着剤層の形成は、一般的な方法により行うことができる。
When the
半導体加工用シート1aの製造方法の第2の例としては、まず、基材10の第2の面102上に上記塗工用組成物を塗布して、塗膜を形成する。次に、当該塗膜を乾燥させて、基材10の第2の面102上に粘着剤層20を形成する。さらに、この粘着剤層20の第2の面202と、剥離フィルム30の第1の面301とを貼合し、基材10と粘着剤層20と剥離フィルム30とからなる積層体を得る。続いて、当該積層体における基材10の第1の面101の幅方向両側部に、保護材70を積層する。これにより、基材10の第1の面101の幅方向両側部に保護材70が設けられた半導体加工用シート1aが得られる。
As a second example of the method for manufacturing the
図2に示すように保護材70を剥離フィルム30の第2の面302上に設ける場合においても、その製造方法は、特に限定されず、常法を使用することができる。例えば、半導体加工用シート1aの製造方法として上述した方法を参考に製造することができる。但し、上述した第1の例および第2の例の方法において、保護材70は剥離フィルム30の第2の面302上に積層される。
Even when the
接着剤層40を含む半導体加工用シート1bの製造方法は、特に限定されず、常法を使用することができる。例えば、接着剤層40の材料を含む接着剤組成物および所望によりさらに溶媒または分散媒を含有する塗工用組成物を、剥離フィルム30の第1の面301上に塗布し、乾燥させることにより接着剤層40を形成する。その後、接着剤層40の第1の面401と、基材10の第2の面102とを貼合し、基材10と接着剤層40と剥離フィルム30とからなる積層体を得る。続いて、当該積層体における基材10の第1の面101の幅方向両側部に、保護材70を積層する。これにより、基材10の第1の面101の幅方向両側部に保護材70が設けられた半導体加工用シート1bが得られる。
The manufacturing method of the
保護膜形成層50を含む半導体加工用シート1cの製造方法は、上述した半導体加工用シート1bの製造方法を参考に製造することができる。特に、半導体加工用シート1bの製造方法において、接着剤層40の材料を含む接着剤組成物を、保護膜形成層50の材料を含む保護膜形成層組成物に置き換えることで、半導体加工用シート1cを得ることができる。
The manufacturing method of the
粘着剤層20および接着剤層40を含む半導体加工用シート1dの製造方法は、特に限定されず、常法を使用することができる。例えば、接着剤層40の材料を含む接着剤組成物および所望によりさらに溶媒または分散媒を含有する塗工用組成物を、剥離フィルム30の第1の面301上に塗布し、乾燥させることにより接着剤層40を形成する。これにより、剥離フィルム30と接着剤層40との積層体を得る。次に、予め作製した半導体加工用シート1aから剥離フィルム30を剥離し、露出した粘着剤層20側の面と、上記積層体の接着剤層40側の面とを貼り合せることで、半導体加工用シート1dが得られる。
The manufacturing method of the
粘着剤層20および保護膜形成層50を含む半導体加工用シート1eは、上述した半導体加工用シート1dの製造方法を参考に製造することができる。特に、半導体加工用シート1dの製造方法において、接着剤層40の材料を含む接着剤組成物を、保護膜形成層50の材料を含む保護膜形成層組成物に置き換えることで、半導体加工用シート1eを得ることができる。
The
治具用粘着剤層60を含む半導体加工用シート3は、常法によって製造することができる。例えば、所望の形状に形成された治具用粘着剤層60を、基材10および半導体貼付層80を含む積層体における、基材10とは反対側の面に積層した後、基材10の第1の面101の幅方向両側部に保護材70を設けることで、半導体加工用シート3を製造することができる。
The
また、治具用粘着剤層60を含む半導体加工用シート3をプリカットされたシートとする場合には、例えば、次のように製造することができる。まず、剥離フィルム30の剥離面上に、治具用粘着剤層60を構成するための治具用粘着剤をシート状に形成する。次に、このシート状治具用粘着剤における、治具用粘着剤層60の内周縁となる部分を、剥離フィルム30を残してシート状治具用粘着剤を切断(ハーフカット)し、その内側の円形部分を除去する。次いで、円形部分を除去した後のシート状治具用粘着剤と剥離フィルム30とからなる積層体のシート状治具用粘着剤側の面を、別途用意した、基材10と半導体貼付層80とからなる積層体の半導体貼付層80側の面に貼付する。これにより、剥離フィルム30と、シート状治具用粘着剤と、半導体貼付層80と、基材10とが順に積層された積層体を得る。次に、この積層体において、剥離フィルム30を残して、シート状治具用粘着剤、半導体貼付層80および基材10を切断(ハーフカット)する。このとき、治具用粘着剤層60の外周縁となる部分を、剥離フィルム30を残して切断(ハーフカット)し、不要な部分を除去することで、主使用部を形成することができる。これにより、シート状治具用粘着剤は、環状の治具用粘着剤層60となる。また、主使用部となる部分以外の位置を適宜ハーフカットして、シート残留部を形成することもできる。最後に、基材10の第1の面101の幅方向両側部に保護材70を設けることで、プリカットされた半導体加工用シート3を製造することができる。
Moreover, when making the sheet |
治具用粘着剤層60を含む半導体加工用シート4は、常法によって製造することができる。例えば、剥離フィルム30の剥離面上に、環状の治具用粘着剤層60を形成することで、第1の積層体を得る。一方、基材10の片方の面に円形状の半導体貼付層80を形成することで、第2の積層体を得る。次に、環状の治具用粘着剤層60における環の内側に半導体貼付層80が収まるように、第1の積層体における治具用粘着剤層60が形成された面と、第2の積層体における半導体貼付層80が形成された面とを貼り合わせる。その後、基材10の第1の面101の幅方向両側部に保護材70を設けることで、半導体加工用シート4を製造することができる。
The semiconductor processing sheet 4 including the jig pressure-
治具用粘着剤層60とともに、第2の粘着剤層20’を含む半導体加工用シート5についても、半導体加工用シート4と同様に製造することができる。この場合、基材10の片方の面に第2の粘着剤層20’を形成し、さらに当該第2の粘着剤層20’の基材10とは反対の面側に円形状の半導体貼付層80を形成することで得られる積層体を、上述の第2の積層体の代わりに使用する。
The
プリカットされた半導体加工用シート6の製造方法は特に限定されず、常法を使用することができる。
The manufacturing method of the precut
9.半導体加工用シートの巻取体
本実施形態に係る半導体加工用シート1,2,3,4,5,6は、長尺方向に巻収することで半導体加工用シート1,2,3,4,5,6の巻取体とすることができる。巻取体とする場合、基材10側の面および剥離フィルム30側の面のどちらを内側になるように巻収してもよい。また、保護材70が存在する側の面および保護材70が存在しない側の面のどちらを内側になるように巻収してもよい。
9. Winding body of semiconductor processing sheet
保護材70が、本実施形態に係る半導体加工用シート1,2,3,4,5,6において固定されていない場合、当該半導体加工用シート1,2,3,4,5,6の巻取体は、次のように製造することが好ましい。すなわち、まず、前述した半導体加工用シート1,2,3,4,5,6を構成する各層のうち保護材70を除く層からなる積層体を得る。この工程は、一般的な方法により行うことができる。その後、または、当該積層体の製造工程と連続する工程として、当該積層体における基材10と剥離フィルム30との間における、剥離フィルム30の幅方向両側部に保護材70が位置するように、当該積層体を保護材70とともに長尺方向に巻収する。
When the
10.半導体加工用シートの使用方法
本実施形態に係る半導体加工用シート1,2,3,4,5,6は、バックグラインドシート、ダイシングシート等として使用することができる。当該シート1,2,3,4,5,6を使用する際、シート裏面からレーザーを照射してダイシングを行うことができる。また、バックグラインドやダイシング等の工程の後に、本実施形態に係る半導体加工用シート1,2,3,4,5,6を介して、ウエハやチップの形状を検査することができる。さらに、本実施形態に係る半導体加工用シート1,2,3,4,5,6を介して、ウエハやチップの裏面に対してレーザー印字することもできる。
10. Method for Using Semiconductor Processing Sheet The
また、特に、接着剤層40を含む半導体加工用シート1b,1dは、ダイシング・ダイボンディングシートとして使用することができる。すなわち、半導体加工用シート1b,1dを使用することで、チップの裏面に保護膜を形成することができる。この場合、保護膜形成層50を含む半導体加工用シート1c,1eにウエハを貼付し、保護膜形成層50を硬化させる。続いて、半導体加工用シート1c,1e上にてウエハをダイシングし、必要に応じてエキスパンド工程を行う。その後、得られたチップをピックアップすることで、接着剤層が付与されたチップを得ることができる。さらに、保護膜形成層50を含む半導体加工用シート1c,1e上にてウエハをダイシングし、必要に応じてエキスパンド工程を行った後に、得られたチップをピックアップすることで、裏面に保護膜が形成されたチップを得ることができる。
In particular, the
本実施形態に係る半導体加工用シート1,2,3,4,5,6は、保管等のために、ロール状に巻き取った状態にすることができる。本実施形態に係る半導体加工用シート1,2,3,4,5,6は、このように巻き取った場合であっても、保護材70を備えるため、基材10と剥離フィルム30とが直接接触することがないか、接触したとしても接触した部分に巻き圧が殆どかからない。これにより、半導体加工用シート1,2,3,4,5,6同士の密着性が、半導体加工用シート1,2,3,4,5,6を構成する各層同士の密着性よりも高くなることがない。このため、優れた耐ブロッキング性が発揮され、半導体加工用シート1,2,3,4,5,6のロールからの繰り出しを良好に行うことができ、さらに、繰り出しの際の意図しない層間での剥離を抑制することができる。また、基材10の第1の面101における算術平均粗さRaが0.01〜0.8μmであることで、当該面における平滑性は良好なものとなり、基材10が所望の波長の光に対する高い光線透過性を有する。その結果、上述したような、裏面からのレーザーダイシング、検査およびレーザー印字を良好に行うことができる。
The
以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。 The embodiment described above is described for facilitating understanding of the present invention, and is not described for limiting the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design changes and equivalents belonging to the technical scope of the present invention.
例えば、本実施形態に係る半導体加工用シート1,2,3,4,5,6における基材10と半導体貼付層80との間には、他の層が介在していてもよい。
For example, another layer may be interposed between the
以下、実施例等により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example etc. demonstrate this invention further more concretely, the scope of the present invention is not limited to these Examples etc.
〔実施例1〕
(1)基材の作製
基材として、ポリ塩化ビニルフィルムをカレンダー製膜法により作製した。当該ポリ塩化ビニルフィルムは、第1の面の算術平均粗さRaが0.03μmであり、JIS K7161:1994に準拠して測定した23℃におけるMD方向の引張弾性率(ヤング率)が250MPaであり、厚さが80μmであった。
[Example 1]
(1) Production of base material As a base material, a polyvinyl chloride film was produced by a calendering method. The polyvinyl chloride film has an arithmetic average roughness Ra of the first surface of 0.03 μm, and a tensile elastic modulus (Young's modulus) in the MD direction at 23 ° C. measured in accordance with JIS K7161: 1994 is 250 MPa. And the thickness was 80 μm.
なお、本実施例における算術平均粗さRaは、触式表面粗さ計(Mitsutoyo社製「SURFTEST SV−3000」)を用い、JIS B0601:2013に準拠して、面内で10点測定し、その平均値を算出したものである。 In addition, arithmetic average roughness Ra in a present Example measured 10 points in-plane according to JIS B0601: 2013 using a tactile surface roughness meter ("SURFTEST SV-3000" manufactured by Mitsutoyo), The average value is calculated.
また、上記基材単体について、印字用レーザー光(波長:532nm)の透過性、ステルスダイシング用レーザー光(波長:1600nm)の透過性、および検査用赤外線(波長:1069nm)の透過性を評価したところ、いずれの場合も優れた透過性を示した。 Further, the substrate alone was evaluated for the transparency of the printing laser beam (wavelength: 532 nm), the transparency of the stealth dicing laser beam (wavelength: 1600 nm), and the transparency of the inspection infrared ray (wavelength: 1069 nm). However, in all cases, excellent permeability was shown.
(2)剥離フィルムの準備
剥離フィルムとして、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面(第1の面)をシリコーン系剥離剤で剥離処理した剥離フィルム(リンテック社製,製品名「SP−PMF381031H」,厚さ:38μm)を用いた。この剥離フィルムの第1の面の算術平均粗さRaは、0.03μmであり、第2の面の算術平均粗さRaは、0.3μmであった。
(2) Preparation of release film As a release film, a release film obtained by releasing one side (first side) of a polyethylene terephthalate film with a silicone release agent (product name “SP-PMF381031H”, manufactured by Lintec Corporation), thickness: 38 μm ) Was used. The arithmetic average roughness Ra of the first surface of the release film was 0.03 μm, and the arithmetic average roughness Ra of the second surface was 0.3 μm.
(3)粘着剤組成物(I)の調製
2−エチルヘキシルアクリレート18.5質量部(固形分換算,以下同じ)と、酢酸ビニル75質量部と、アクリル酸1質量部と、メチルメタクリレート5質量部と、2−ヒドロキシエチルメタクリレート0.5質量部とを共重合させて、重量平均分子量600,000のアクリル系共重合体を得た。
(3) Preparation of pressure-sensitive adhesive composition (I) 18.5 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate (in terms of solid content, hereinafter the same), 75 parts by mass of vinyl acetate, 1 part by mass of acrylic acid, and 5 parts by mass of methyl methacrylate And 0.5 part by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate were copolymerized to obtain an acrylic copolymer having a weight average molecular weight of 600,000.
得られたアクリル系共重合体100質量部と、エネルギー線硬化性化合物としての2官能ウレタンアクリレートオリゴマー(Mw=8000)60質量部と、エネルギー線硬化性化合物としての6官能ウレタンアクリレートオリゴマー(Mw=2000)60質量部と、光重合開始剤としてのα−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(BASF社製,製品名「イルガキュア184」)3質量部と、架橋剤としてのトリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート(東ソー社製,製品名「コロネートL」)1.6質量部とを溶媒中で混合し、粘着剤組成物の塗布溶液を得た。 100 parts by mass of the obtained acrylic copolymer, 60 parts by mass of a bifunctional urethane acrylate oligomer (Mw = 8000) as an energy ray curable compound, and a 6 functional urethane acrylate oligomer (Mw =) as an energy ray curable compound 2000) 60 parts by mass, 3 parts by mass of α-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by BASF, product name “Irgacure 184”) as a photopolymerization initiator, and trimethylolpropane-modified tolylene diisocyanate (Tosoh Corporation) as a crosslinking agent (Product name “Coronate L”) 1.6 parts by mass was mixed in a solvent to obtain a coating solution of the pressure-sensitive adhesive composition.
(4)半導体加工用シートの作製
上記工程(2)で作製した剥離フィルムの第1の面に対し、上記工程(3)で得られた粘着剤組成物(I)の塗布溶液を、ナイフコーターで塗布した。次いで、100℃で1分間処理して、塗膜を乾燥させるとともに架橋反応を進行させた。これにより、剥離フィルムと厚さ10μmの粘着剤層とからなる第1の積層体を得た。さらに、当該積層体における粘着剤層の第1の面と、上記工程(1)で作製した基材の第2の面とを貼合することで、基材と粘着剤層と剥離フィルムとからなる第2の積層体を得た。次に、当該第2の積層体における基材の第1の面の幅方向両側部に、保護材としての、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面にアルミニウムによる金属蒸着層が設けられたフィルム(厚さ50μm,幅10mm,金属蒸着層が設けられた面の算術平均粗さRa:0.3μm)を、当該フィルムの金属蒸着層が設けられた面とは反対側の面と基材の第1の面とが接触するように積層した。これにより、基材の第1の面の幅方向両側部に保護材が設けられた半導体加工用シートを得た。その後、当該半導体加工用シートを、温度23℃、相対湿度50%の環境下で7日間養生した。
(4) Production of sheet for semiconductor processing The coating solution of the pressure-sensitive adhesive composition (I) obtained in the step (3) was applied to the first surface of the release film produced in the step (2) using a knife coater. It was applied with. Next, the film was treated at 100 ° C. for 1 minute to dry the coating film and advance the crosslinking reaction. Thereby, the 1st laminated body which consists of a peeling film and a 10-micrometer-thick adhesive layer was obtained. Furthermore, by bonding the 1st surface of the adhesive layer in the said laminated body, and the 2nd surface of the base material produced at the said process (1), from a base material, an adhesive layer, and a peeling film. A second laminate was obtained. Next, a film (
〔実施例2〕
(1)基材の作製
基材として、エチレン−メタクリル酸共重合体フィルムをTダイ製膜法によって作製した。当該エチレン−メタクリル酸共重合体フィルムは、第1の面の算術平均粗さRaが0.05μmであり、JIS K7161:1994に準拠して測定した23℃におけるMD方向の引張弾性率(ヤング率)が130MPaであり、厚さが80μmであった。
[Example 2]
(1) Preparation of base material As a base material, an ethylene-methacrylic acid copolymer film was prepared by a T-die film forming method. The ethylene-methacrylic acid copolymer film has an arithmetic average roughness Ra of the first surface of 0.05 μm, and a tensile elastic modulus (Young's modulus in the MD direction at 23 ° C. measured according to JIS K7161: 1994. ) Was 130 MPa and the thickness was 80 μm.
なお、上記基材単体について、印字用レーザー光(波長:532nm)の透過性、ステルスダイシング用レーザー光(波長:1600nm)の透過性、および検査用赤外線(波長:1069nm)の透過性を評価したところ、いずれの場合も優れた透過性を示した。 In addition, about the said base material single-piece | unit, the transmittance | permeability of the laser beam for printing (wavelength: 532 nm), the transmittance | permeability of the laser beam for stealth dicing (wavelength: 1600 nm), and the transmittance | permeability of the infrared rays for inspection (wavelength: 1069 nm) were evaluated. However, in all cases, excellent permeability was shown.
(2)粘着剤組成物(II)の調製
ブチルアクリレート99質量部と、アクリル酸1質量部とを共重合させて、重量平均分子量600,000のアクリル系共重合体を得た。
(2) Preparation of pressure-sensitive adhesive composition (II) 99 parts by mass of butyl acrylate and 1 part by mass of acrylic acid were copolymerized to obtain an acrylic copolymer having a weight average molecular weight of 600,000.
次いで、得られたアクリル系共重合体100質量部と、エネルギー線硬化性モノマーとしてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬社製,製品名「KAYARAD DPHA)120質量部と、光重合開始剤としてのα−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(BASF社製,製品名「イルガキュア184」)3質量部と、架橋剤としてのトリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート(東ソー社製,製品名「コロネートL」)17質量部とを溶媒中で混合し、粘着剤組成物(II)の塗布溶液を得た。
Next, 100 parts by mass of the obtained acrylic copolymer, 120 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., product name “KAYARAD DPHA) as an energy ray-curable monomer, and a
(3)半導体加工用シートの作製
上記のように作製した、エチレン−メタクリル酸共重合体を材料とする基材、および粘着剤組成物(II)を使用する以外、実施例1と同様に半導体加工用シートを作製した。
(3) Preparation of semiconductor processing sheet A semiconductor as in Example 1 except that the base material made of an ethylene-methacrylic acid copolymer and the pressure-sensitive adhesive composition (II) prepared as described above were used. A processing sheet was prepared.
〔実施例3〕
(1)基材の作製
基材として、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルムをTダイ製膜法によって作製した。当該エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルムは、第1の面の算術平均粗さRaが0.06μmであり、JIS K7161:1994に準拠して測定した23℃におけるMD方向の引張弾性率(ヤング率)が75MPaであり、厚さが100μmであった。
Example 3
(1) Preparation of base material As a base material, an ethylene-vinyl acetate copolymer film was prepared by a T-die film forming method. The ethylene-vinyl acetate copolymer film has an arithmetic average roughness Ra of the first surface of 0.06 μm, and a tensile modulus (Young's modulus) in the MD direction at 23 ° C. measured according to JIS K7161: 1994. ) Was 75 MPa, and the thickness was 100 μm.
なお、上記基材単体について、印字用レーザー光(波長:532nm)の透過性、ステルスダイシング用レーザー光(波長:1600nm)の透過性、および検査用赤外線(波長:1069nm)の透過性を評価したところ、いずれの場合も優れた透過性を示した。 In addition, about the said base material single-piece | unit, the transmittance | permeability of the laser beam for printing (wavelength: 532 nm), the transmittance | permeability of the laser beam for stealth dicing (wavelength: 1600 nm), and the transmittance | permeability of the infrared rays for inspection (wavelength: 1069 nm) were evaluated. However, in all cases, excellent permeability was shown.
(2)粘着剤組成物(III)の調製
2−エチルヘキシルアクリレート40質量部と、酢酸ビニル40質量部と、2−ヒドロキシエチルアクリレート20質量部とを共重合させて、重量平均分子量420,000のアクリル系共重合体を得た。
(2) Preparation of pressure-sensitive adhesive composition (III) 40 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate, 40 parts by mass of vinyl acetate, and 20 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate were copolymerized to give a weight average molecular weight of 420,000. An acrylic copolymer was obtained.
次いで、得られたアクリル系共重合体100質量部と、エネルギー線硬化性基含有化合物としての2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(MOI)30.2質量部とを反応させることで、側鎖にエネルギー線硬化性基(メタクリロイル基)が導入されたエネルギー線硬化型重合体を得た。 Next, by reacting 100 parts by mass of the obtained acrylic copolymer with 30.2 parts by mass of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI) as an energy ray-curable group-containing compound, energy rays are added to the side chain. An energy ray curable polymer having a curable group (methacryloyl group) introduced therein was obtained.
得られたエネルギー線硬化型重合体100質量部と、光重合開始剤としてのα−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(BASF社製,製品名「イルガキュア184」)3質量部と、架橋剤としてのトリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート(東ソー社製,製品名「コロネートL」)1.1質量部とを溶媒中で混合し、粘着剤組成物(III)の塗布溶液を得た。 100 parts by mass of the obtained energy beam curable polymer, 3 parts by mass of α-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by BASF, product name “Irgacure 184”) as a photopolymerization initiator, and trimethylolpropane as a crosslinking agent 1.1 parts by mass of modified tolylene diisocyanate (manufactured by Tosoh Corporation, product name “Coronate L”) was mixed in a solvent to obtain a coating solution of the pressure-sensitive adhesive composition (III).
(3)半導体加工用シートの作製
上記のように作製した、エチレン−酢酸ビニル共重合体を材料とする基材、および粘着剤組成物(III)を使用する以外、実施例1と同様に半導体加工用シートを作製した。
(3) Preparation of semiconductor processing sheet A semiconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the base material made of an ethylene-vinyl acetate copolymer and the pressure-sensitive adhesive composition (III) were used as described above. A processing sheet was prepared.
〔実施例4〕
(1)基材の作製
基材として、ポリプロピレンフィルムをTダイ製膜法によって作製した。当該ポリプロピレンフィルムでは、第1の面の算術平均粗さRaが0.3μmであり、JIS K7161:1994に準拠して測定した23℃におけるMD方向の引張弾性率(ヤング率)が360MPaであり、厚さが100μmであった。
Example 4
(1) Production of base material A polypropylene film was produced as a base material by a T-die film forming method. In the polypropylene film, the arithmetic average roughness Ra of the first surface is 0.3 μm, and the tensile elastic modulus (Young's modulus) in the MD direction at 23 ° C. measured according to JIS K7161: 1994 is 360 MPa. The thickness was 100 μm.
なお、上記基材単体について、印字用レーザー光(波長:532nm)の透過性、ステルスダイシング用レーザー光(波長:1600nm)の透過性、および検査用赤外線(波長:1069nm)の透過性を評価したところ、いずれの場合も優れた透過性を示した。 In addition, about the said base material single-piece | unit, the transmittance | permeability of the laser beam for printing (wavelength: 532 nm), the transmittance | permeability of the laser beam for stealth dicing (wavelength: 1600 nm), and the transmittance | permeability of the infrared rays for inspection (wavelength: 1069 nm) were evaluated. However, in all cases, excellent permeability was shown.
(2)半導体加工用シートの作製
上記のように作製したポリプロピレンを材料とする基材、および実施例2において作製した粘着剤組成物(II)を使用する以外、実施例1と同様に半導体加工用シートを作製した。
(2) Fabrication of semiconductor processing sheet Semiconductor processing was performed in the same manner as in Example 1 except that the base material made of polypropylene produced as described above and the pressure-sensitive adhesive composition (II) produced in Example 2 were used. A sheet was prepared.
〔実施例5〕
(1)剥離フィルムの準備
剥離フィルムとして、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面(第1の面)をシリコーン系剥離剤で剥離処理した剥離フィルム(リンテック社製,製品名「SP−PET301031」,厚さ:30μm)を用いた。この剥離フィルムの第1の面の算術平均粗さRaは、0.03μmであり、第2の面の算術平均粗さRaは、0.3μmであった。
Example 5
(1) Preparation of Release Film As a release film, a release film (product name “SP-PET301031”, manufactured by Lintec Co., Ltd., thickness) of one surface (first surface) of a polyethylene terephthalate film with a silicone release agent, thickness: 30 μm ) Was used. The arithmetic average roughness Ra of the first surface of the release film was 0.03 μm, and the arithmetic average roughness Ra of the second surface was 0.3 μm.
(2)粘着剤組成物(IV)の調製
ブチルアクリレート80質量部と、2−ヒドロキシエチルアクリレート20質量部とを共重合させて、重量平均分子量700,000のアクリル系共重合体を得た。
(2) Preparation of pressure-sensitive adhesive composition (IV) 80 parts by mass of butyl acrylate and 20 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate were copolymerized to obtain an acrylic copolymer having a weight average molecular weight of 700,000.
次いで、得られたアクリル系共重合体100質量部と、エネルギー線硬化性基含有化合物としての2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(MOI)30.2質量部とを反応させることで、側鎖にエネルギー線硬化性基(メタクリロイル基)が導入されたエネルギー線硬化型重合体を得た。 Next, by reacting 100 parts by mass of the obtained acrylic copolymer with 30.2 parts by mass of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI) as an energy ray-curable group-containing compound, energy rays are added to the side chain. An energy ray curable polymer having a curable group (methacryloyl group) introduced therein was obtained.
得られたエネルギー線硬化型重合体100質量部と、光重合開始剤としてのα−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(BASF社製,製品名「イルガキュア184」)3質量部と、架橋剤としてのトリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート(東ソー社製,製品名「コロネートL」)0.5質量部とを溶媒中で混合し、粘着剤組成物(IV)の塗布溶液を得た。 100 parts by mass of the obtained energy beam curable polymer, 3 parts by mass of α-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by BASF, product name “Irgacure 184”) as a photopolymerization initiator, and trimethylolpropane as a crosslinking agent 0.5 parts by mass of modified tolylene diisocyanate (manufactured by Tosoh Corporation, product name “Coronate L”) was mixed in a solvent to obtain a coating solution of the pressure-sensitive adhesive composition (IV).
(3)半導体加工用シートの作製
上記のように作製した、厚さ30μmの剥離フィルムおよび粘着剤組成物(IV)を使用する以外、実施例2と同様に半導体加工用シートを作製した。
(3) Production of semiconductor processing sheet A semiconductor processing sheet was produced in the same manner as in Example 2 except that a 30 μm-thick release film and an adhesive composition (IV) produced as described above were used.
〔実施例6〕
(1)剥離フィルムの準備
剥離フィルムとして、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面(第1の面)をシリコーン系剥離剤で剥離処理した剥離フィルム(リンテック社製,製品名「SP−PET501031」,厚さ:50μm)を得た。この剥離フィルムの第1の面の算術平均粗さRaは、0.03μmであり、第2の面の算術平均粗さRaは、0.3μmであった。
Example 6
(1) Preparation of release film As a release film, a release film (product name “SP-PET501031”, manufactured by Lintec Co., Ltd., manufactured by removing one surface (first surface) of a polyethylene terephthalate film with a silicone release agent, thickness: 50 μm) ) The arithmetic average roughness Ra of the first surface of the release film was 0.03 μm, and the arithmetic average roughness Ra of the second surface was 0.3 μm.
(2)半導体加工用シートの作製
上記のように作製した厚さ50μmの剥離フィルム、およびポリエチレンテレフタレートフィルムの片面にアルミニウムによる金属蒸着層が設けられたフィルム(厚さ100μm,幅10mm,金属蒸着層が設けられた面の算術平均粗さRa:0.3μm)からなる保護材を使用する以外、実施例5と同様に半導体加工用シートを作製した。
(2) Production of sheet for semiconductor processing A 50 μm thick release film produced as described above, and a film in which a metal vapor deposition layer made of aluminum is provided on one side of a polyethylene terephthalate film (thickness 100 μm,
〔実施例7〕
(1)接着剤層を含む第1の積層体の作製
次のアクリル重合体、熱硬化性樹脂、フィラー、シランカップリング剤および架橋剤を混合して接着剤組成物を得た後、固形分濃度が20質量%となるようにメチルエチルケトンで希釈して、接着剤組成物の塗布溶液を調製した。
アクリル重合体:メチルアクリレート95質量部及び2−ヒドロキシエチルアクリレート5質量部からなる共重合体(Mw:500,000、Mw/Mn:2.9、Tg:9℃)を100質量部
熱硬化性樹脂:
アクリロイル基付加クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬社製,製品名「CNA−147」)を30質量部
熱硬化剤:アラルキルフェノール樹脂(三井化学社製,製品名「ミレックスXLC−4L」)を6質量部
フィラー:メタクリロキシ基修飾のシリカフィラー(平均粒径0.05μm,アドマテックス社製,3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン処理品)を35質量部
シランカップリング剤:(三菱化学社製,製品名「MKCシリケートMSEP2」)を0.5質量部
架橋剤:芳香族性多価イソシアネート(東ソー社製,製品名「コロネートL」)を1.5質量部
Example 7
(1) Production of first laminate including adhesive layer After obtaining the adhesive composition by mixing the following acrylic polymer, thermosetting resin, filler, silane coupling agent and cross-linking agent, solid content It diluted with methyl ethyl ketone so that a density | concentration might be 20 mass%, and the coating solution of the adhesive composition was prepared.
Acrylic polymer: 100 parts by mass of a copolymer (Mw: 500,000, Mw / Mn: 2.9, Tg: 9 ° C.) comprising 95 parts by mass of methyl acrylate and 5 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate resin:
30 parts by mass of acryloyl group-added cresol novolac type epoxy resin (product name “CNA-147” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) Thermosetting agent: aralkylphenol resin (product name “Millex XLC-4L” manufactured by Mitsui Chemicals) 6 parts by mass Filler: Silica filler modified with methacryloxy group (average particle size 0.05 μm, manufactured by Admatechs, treated with 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane) 35 parts by mass Silane coupling agent: (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, 0.5 parts by mass of product name “MKC silicate MSEP2”) 1.5 parts by mass of crosslinking agent: aromatic polyvalent isocyanate (product name “Coronate L” manufactured by Tosoh Corporation)
ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの片面にシリコーン系の剥離剤層が形成されてなる第1の剥離フィルム(リンテック社製,製品名「SP−PET381031」,厚さ:38μm)と、PETフィルムの片面にシリコーン系の剥離剤層が形成されてなる第2の剥離フィルム(リンテック社製,製品名「SP−PET381130」,厚さ:38μm)とを用意した。 A first release film (product name “SP-PET 381031”, thickness: 38 μm, manufactured by Lintec Co., Ltd.) having a silicone release agent layer formed on one side of a polyethylene terephthalate (PET) film, and one side of the PET film A second release film (manufactured by Lintec Corporation, product name “SP-PET381130”, thickness: 38 μm) formed with a silicone release agent layer was prepared.
次に、第1の剥離フィルムの剥離面上に、前述の接着剤組成物の塗布溶液を、ナイフコーターを用いて塗布し、乾燥させて、厚さ5μmの接着剤層を形成した。その後、接着剤層に第2の剥離フィルムの剥離面を重ねて両者を貼り合わせ、第1の剥離フィルムと、接着剤層(厚さ:5μm)と、第2の剥離フィルムとからなる第1の積層体を得た。その後、当該第1の積層体を、温度23℃、相対湿度50%の環境下で7日間養生した。 Next, the above-mentioned adhesive composition coating solution was applied on the release surface of the first release film using a knife coater and dried to form an adhesive layer having a thickness of 5 μm. Thereafter, the release surface of the second release film is laminated on the adhesive layer and bonded together, and the first release film, the adhesive layer (thickness: 5 μm), and the first release film comprising the second release film. A laminate was obtained. Thereafter, the first laminate was cured for 7 days in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%.
(2)粘着剤層を含む第2の積層体の作製
次の粘着主剤および架橋剤を混合して粘着剤組成物(V)を得た後、固形分濃度が25質量%となるようにメチルエチルケトンで希釈して、粘着剤組成物(V)の塗布溶液を調製した。
粘着主剤:(メタ)アクリル酸エステル共重合体(日本合成化学工業社製,2−エチルヘキシルアクリレート60質量部、メタクリル酸メチル30質量部および2−ヒドロキシエチルアクリレート10質量部を共重合して得た共重合体,重量平均分子量:600,000)100質量部
架橋剤:トリメチロールプロパンのキシレンジイソシアネート付加物(三井武田ケミカル社製,製品名「タケネートD110N」)20質量部
(2) Production of second laminate including pressure-sensitive adhesive layer The following pressure-sensitive adhesive main component and cross-linking agent were mixed to obtain pressure-sensitive adhesive composition (V), and then methyl ethyl ketone so that the solid content concentration was 25% by mass. Was diluted to prepare a coating solution for the pressure-sensitive adhesive composition (V).
Adhesive main agent: (meth) acrylic acid ester copolymer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., obtained by copolymerizing 60 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate, 30 parts by mass of methyl methacrylate and 10 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate) Copolymer, weight average molecular weight: 600,000) 100 parts by mass Crosslinking agent: Trimethylolpropane xylene diisocyanate adduct (product name “Takenate D110N”, manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.) 20 parts by mass
第3の剥離フィルムとして、PETフィルムの片面にシリコーン系の剥離剤層が形成されてなる剥離フィルム(リンテック社製,製品名「SP−PET381031」,厚さ:38μm)を用意した。 A release film (manufactured by Lintec, product name “SP-PET381031”, thickness: 38 μm) having a silicone release agent layer formed on one side of a PET film was prepared as a third release film.
また、ポリプロピレンフィルムを基材として使用した。当該ポリプロピレンフィルムでは、第1の面の算術平均粗さRaが0.3μmであり、厚さが100μmであった。 Moreover, the polypropylene film was used as a base material. In the polypropylene film, the arithmetic average roughness Ra of the first surface was 0.3 μm and the thickness was 100 μm.
次に、第3の剥離フィルムの剥離面上に、前述の粘着剤組成物(V)の塗布溶液を、ナイフコーターを用いて塗布し、乾燥させるとともに架橋反応を進行させて、厚さ5μmの粘着剤層を形成した。その後、粘着剤層の第3の剥離フィルムとは反対側の面に上記基材の第2の面を貼合し、基材と、粘着剤層と、第3の剥離フィルムとからなる第2の積層体を得た。これを、温度23℃、相対湿度50%の環境下で7日間養生した。 Next, on the release surface of the third release film, the application solution of the pressure-sensitive adhesive composition (V) is applied using a knife coater and dried, and the crosslinking reaction is allowed to proceed. An adhesive layer was formed. Then, the 2nd surface of the said base material is bonded to the surface on the opposite side to the 3rd peeling film of an adhesive layer, and the 2nd which consists of a base material, an adhesive layer, and a 3rd peeling film. A laminate was obtained. This was cured for 7 days in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%.
(3)治具用粘着剤層を含む第3の積層体の作製
次の粘着主剤および架橋剤の成分を混合して治具用粘着剤組成物を得た後、固形分濃度が15質量%となるようにトルエンで希釈して、治具用粘着剤組成物の塗布溶液を調製した。
粘着主剤:(メタ)アクリル酸エステル共重合体(ブチルアクリレート69.5質量部、メチルアクリレート30質量部および2−ヒドロキシエチルアクリレート0.5質量部を共重合して得られた共重合体,重量平均分子量:500,000)100質量部
架橋剤:芳香族性多価イソシアネート(東ソー社製,製品名「コロネートL」)5質量部
(3) Preparation of 3rd laminated body containing adhesive layer for jig | tool After mixing the component of the following adhesive main ingredient and a crosslinking agent, and obtaining the adhesive composition for jig | tool, solid content concentration is 15 mass%. Then, it was diluted with toluene so that a coating solution for the adhesive composition for jigs was prepared.
Adhesive main agent: (meth) acrylic acid ester copolymer (copolymer obtained by copolymerizing 69.5 parts by mass of butyl acrylate, 30 parts by mass of methyl acrylate and 0.5 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate, weight Average molecular weight: 500,000) 100 parts by mass Crosslinking agent: 5 parts by mass of aromatic polyisocyanate (manufactured by Tosoh Corporation, product name “Coronate L”)
PETフィルムの片面にシリコーン系の剥離剤層が形成されてなる第4および第5の剥離フィルム(リンテック株式会社製,製品名「SP−PET381031」,厚さ:38μm)と、芯材としてポリ塩化ビニルフィルム(オカモト株式会社製,厚さ:50μm)とを用意した。 Fourth and fifth release films (product name “SP-PET 381031”, thickness: 38 μm, manufactured by Lintec Corporation) having a silicone release agent layer formed on one side of a PET film, and polychlorinated as a core material A vinyl film (manufactured by Okamoto Co., Ltd., thickness: 50 μm) was prepared.
次に、第4の剥離フィルムの剥離面上に、前述の治具用粘着剤組成物の塗布溶液を、ナイフコーターを用いて塗布し、乾燥させて、厚さ5μmの第1の粘着剤層を形成した。その後、第1の粘着剤層に上記芯材を貼合し、芯材と、第1の粘着剤層と、第4の剥離フィルムとからなる積層体Aを得た。 Next, a coating solution of the above-mentioned adhesive composition for jigs is applied on the release surface of the fourth release film using a knife coater, and dried to form a first adhesive layer having a thickness of 5 μm. Formed. Then, the said core material was bonded to the 1st adhesive layer, and the laminated body A which consists of a core material, a 1st adhesive layer, and a 4th peeling film was obtained.
次に、第5の剥離フィルムの剥離面上に、前述の治具用粘着剤組成物の塗布溶液を、ナイフコーターを用いて塗布し、乾燥させて、厚さ5μmの第2の粘着剤層を形成した。その後、第2の粘着剤層に上記積層体Aにおける芯材の露出した面を貼合し、第4の剥離フィルム/第1の粘着剤層/芯材/第2の粘着剤層/第5の剥離フィルムからなる第3の積層体を得た。その後、当該第3の積層体を、温度23℃、相対湿度50%の環境下で7日間養生した。この第3の積層体においては、第1の粘着剤層と、芯材と、第2の粘着剤層とにより、厚さ60μmの治具用粘着剤層が構成される。 Next, a coating solution of the above-mentioned adhesive composition for jigs is applied on the release surface of the fifth release film using a knife coater and dried to form a second adhesive layer having a thickness of 5 μm. Formed. Thereafter, the exposed surface of the core material in the laminate A is bonded to the second pressure-sensitive adhesive layer, and the fourth release film / first pressure-sensitive adhesive layer / core material / second pressure-sensitive adhesive layer / fifth. A third laminate comprising a release film was obtained. Thereafter, the third laminate was cured for 7 days in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%. In the third laminate, the first pressure-sensitive adhesive layer, the core material, and the second pressure-sensitive adhesive layer constitute a jig pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 60 μm.
(4)第4の積層体の作製
上記(1)で得られた第1の積層体から第2の剥離フィルムを剥離し、接着剤層を露出させた。一方、上記(2)で得られた第2の積層体から第3の剥離フィルムを剥離して、粘着剤層を露出させた。その粘着剤層に、上記接着剤層が接触するように、第1の積層体と第2の積層体とを貼り合わせ、基材と、粘着剤層と、接着剤層と、第1の剥離フィルムとが積層されてなる第4の積層体を得た。
(4) Preparation of 4th laminated body The 2nd peeling film was peeled from the 1st laminated body obtained by said (1), and the adhesive bond layer was exposed. On the other hand, the 3rd peeling film was peeled from the 2nd laminated body obtained by said (2), and the adhesive layer was exposed. The first laminate and the second laminate are bonded to the pressure-sensitive adhesive layer so that the adhesive layer is in contact with the substrate, the pressure-sensitive adhesive layer, the adhesive layer, and the first peeling. The 4th laminated body formed by laminating | stacking a film was obtained.
(5)半導体加工用シートの作製
上記(3)で得られた第3の積層体から第5の剥離フィルムを剥離し、第4の剥離フィルムを残して、治具用粘着剤層の内周縁となる部分を第2の粘着剤層側から切断し、内側の円形部分を除去した。このとき、治具用粘着剤層の内周縁の直径は230mmとした。
(5) Production of sheet for semiconductor processing The inner peripheral edge of the pressure-sensitive adhesive layer for jigs by peeling the fifth release film from the third laminate obtained in (3) above, leaving the fourth release film. Was cut from the second pressure-sensitive adhesive layer side, and the inner circular portion was removed. At this time, the diameter of the inner periphery of the adhesive layer for jigs was 230 mm.
上記(4)で得られた第4の積層体から第1の剥離フィルムを剥離し、露出した接着剤層と、第3の積層体において露出している治具用粘着剤層とを重ね合わせて圧着した。その後、第3の積層体における第4の剥離フィルムを残して、半導体加工用シートの外周縁となる部分を基材側から切断し、外側の部分を除去した。このとき、半導体加工用シートの外周縁の直径は270mmとした。 The first release film is peeled from the fourth laminate obtained in (4) above, and the exposed adhesive layer and the adhesive layer for jig exposed in the third laminate are superposed. And crimped. Then, leaving the 4th peeling film in a 3rd laminated body, the part used as the outer periphery of the sheet | seat for semiconductor processing was cut | disconnected from the base material side, and the outer part was removed. At this time, the diameter of the outer peripheral edge of the semiconductor processing sheet was 270 mm.
このようにして、基材の上に、粘着剤層(厚さ:5μm)と、粘着剤層における基材とは反対側に積層された接着剤層と、接着剤層における粘着剤層とは反対側の周縁部に積層された環状の治具用粘着剤層と、治具用粘着剤層における接着剤層とは反対側に積層された第4の剥離フィルムとからなる積層体を得た。最後に、当該積層体における基材の第1の面の幅方向両側部に、保護材としての、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面にアルミニウムによる金属蒸着層が設けられたフィルム(厚さ50μm,幅10mm,金属蒸着層が設けられた面の算術平均粗さRa:0.3μm)を、当該フィルムの金属蒸着層が設けられた面とは反対側の面と基材の第1の面とが接触するように積層した。これにより、基材の第1の面の幅方向両側部に保護材が設けられた半導体加工用シートを得た。なお、第4の剥離フィルムにおける治具用粘着剤層側の面(第1の面)の算術平均粗さRaは、0.03μmであり、当該第1の面とは反対側の面(第2の面)の算術平均粗さRaは、0.3μmであった。 Thus, on the base material, the pressure-sensitive adhesive layer (thickness: 5 μm), the adhesive layer laminated on the side opposite to the base material in the pressure-sensitive adhesive layer, and the pressure-sensitive adhesive layer in the adhesive layer A laminate comprising an annular pressure-sensitive adhesive layer for jig laminated on the opposite peripheral edge and a fourth release film laminated on the opposite side of the adhesive layer in the pressure-sensitive adhesive layer for jig was obtained. . Finally, a film (a thickness of 50 μm, a width of 10 mm, a thickness of 50 μm, a width of 10 mm; The arithmetic mean roughness Ra of the surface provided with the metal vapor deposition layer is 0.3 μm), and the surface of the film opposite to the surface provided with the metal vapor deposition layer is in contact with the first surface of the substrate. The layers were laminated as follows. This obtained the semiconductor processing sheet | seat in which the protective material was provided in the width direction both sides of the 1st surface of a base material. The arithmetic average roughness Ra of the surface (first surface) on the side of the adhesive layer for jigs in the fourth release film is 0.03 μm, and the surface opposite to the first surface (first surface) 2), the arithmetic average roughness Ra was 0.3 μm.
〔実施例8〕
(1)保護膜形成層を含む第1の積層体の作製
次のバインダーポリマー、熱硬化性樹脂、熱活性潜在性エポキシ樹脂硬化剤、硬化促進剤、フィラー、着色剤およびシランカップリング剤を混合して保護膜形成層組成物を得た後、固形分濃度が50質量%となるようにメチルエチルケトンで希釈して、保護膜形成層組成物の塗布溶液を調製した。
バインダーポリマー:(メタ)アクリル酸エステル共重合体(n−ブチルアクリレート10質量部、メチルアクリレート70質量部、グリシジルメタクリレート5質量部、および2−ヒドロキシエチルアクリレート15質量部を共重合して得た共重合体,重量平均分子量:800,000,ガラス転移温度:−1℃)150質量部
熱硬化性成分:
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学社製,製品名「jER828」,エポキシ当量184〜194g/eq)60質量部
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学社製,製品名「jER1055」,エポキシ当量800〜900g/eq)10質量部
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業社製,製品名「エピクロンHP−7200HH」,エポキシ当量255〜260g/eq)30質量部
熱活性潜在性エポキシ樹脂硬化剤:ジシアンジアミド(ADEKA社製,製品名「アデカハ−ドナーEH3636AS」,活性水素量21g/eq)2質量部
硬化促進剤:2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール(四国化成工業社製,製品名「キュアゾール2PHZ」)2質量部
フィラー:シリカフィラー(アドマテックス社製,製品名「SC2050MA」平均粒径:0.5μm)320質量部
着色剤:カーボンブラック(三菱化学社製,製品名「#MA650」,平均粒径:28nm)1.2質量部
シランカップリング剤:(信越化学工業社製,製品名「KBM−403」)2質量部
Example 8
(1) Production of first laminate including protective film forming layer The following binder polymer, thermosetting resin, thermoactive latent epoxy resin curing agent, curing accelerator, filler, colorant and silane coupling agent are mixed. Then, after obtaining the protective film forming layer composition, it was diluted with methyl ethyl ketone so that the solid content concentration was 50% by mass to prepare a coating solution for the protective film forming layer composition.
Binder polymer: (meth) acrylic acid ester copolymer (copolymer obtained by copolymerizing 10 parts by mass of n-butyl acrylate, 70 parts by mass of methyl acrylate, 5 parts by mass of glycidyl methacrylate, and 15 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate) 150 parts by mass of thermosetting component: polymer, weight average molecular weight: 800,000, glass transition temperature: −1 ° C.
Bisphenol A type epoxy resin (Mitsubishi Chemical Corporation, product name “jER828”, epoxy equivalent 184 to 194 g / eq) 60 parts by mass Bisphenol A type epoxy resin (Mitsubishi Chemical Corporation, product name “jER1055”, epoxy equivalent 800 to 900 g) / Eq) 10 parts by mass Dicyclopentadiene type epoxy resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, product name “Epiclon HP-7200HH”, epoxy equivalent 255-260 g / eq) 30 parts by mass Thermally active latent epoxy resin curing agent: Dicyandiamide (manufactured by ADEKA, product name “Adeka-Donor EH3636AS”, active hydrogen amount 21 g / eq) 2 parts by mass Curing accelerator: 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., product name “ "Cureazole 2PHZ") 2 parts by mass Filler: Siri Filler (manufactured by Admatechs, product name “SC2050MA” average particle size: 0.5 μm) 320 parts by mass Colorant: Carbon black (manufactured by Mitsubishi Chemical, product name “# MA650”, average particle size: 28 nm) 1.2 Part by mass: Silane coupling agent: (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name “KBM-403”) 2 parts by mass
ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの片面にシリコーン系の剥離剤層が形成されてなる第1の剥離フィルム(リンテック社製,製品名「SP−PET381031」,厚さ:38μm)と、PETフィルムの片面にシリコーン系の剥離剤層が形成されてなる第2の剥離フィルム(リンテック社製,製品名「SP−PET381130」,厚さ:38μm)とを用意した。 A first release film (product name “SP-PET 381031”, thickness: 38 μm, manufactured by Lintec Co., Ltd.) having a silicone release agent layer formed on one side of a polyethylene terephthalate (PET) film, and one side of the PET film A second release film (manufactured by Lintec Corporation, product name “SP-PET381130”, thickness: 38 μm) formed with a silicone release agent layer was prepared.
最初に、第1の剥離フィルムの剥離面上に、前述の保護膜形成層組成物の塗布溶液を、ナイフコーターを用いて塗布し、乾燥させて、厚さ25μmの保護膜形成層を形成した。その後、保護膜形成層に第2の剥離フィルムの剥離面を重ねて両者を貼り合わせ、第1の剥離フィルムと、保護膜形成層(厚さ:25μm)と、第2の剥離フィルムとからなる第1の積層体を得た。この第1の積層体を、温度23℃、相対湿度50%の環境下で7日間養生した。 First, on the release surface of the first release film, the above-mentioned protective film-forming layer composition coating solution was applied using a knife coater and dried to form a protective film-forming layer having a thickness of 25 μm. . Thereafter, the release surface of the second release film is laminated on the protective film forming layer and bonded together, and consists of the first release film, the protective film forming layer (thickness: 25 μm), and the second release film. A first laminate was obtained. This first laminate was cured for 7 days in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%.
(2)半導体加工用シートの作製
上記のように作製した第1の積層体を使用する以外、実施例7と同様に半導体加工用シートを作製した。
(2) Production of semiconductor processing sheet A semiconductor processing sheet was produced in the same manner as in Example 7, except that the first laminate produced as described above was used.
〔実施例9〕
(1)粘着剤組成物(VI)の調製
ブチルアクリレート68.5質量部と、メタクリル酸30質量部と、2−ヒドロキシエチルアクリレート0.5質量部と、アクリルアミド1質量部とを共重合させて、重量平均分子量620,000のアクリル系共重合体を得た。
Example 9
(1) Preparation of pressure-sensitive adhesive composition (VI) 68.5 parts by mass of butyl acrylate, 30 parts by mass of methacrylic acid, 0.5 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate, and 1 part by mass of acrylamide were copolymerized. An acrylic copolymer having a weight average molecular weight of 620,000 was obtained.
次いで、得られたアクリル系共重合体100質量部と、架橋剤としてのトリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート(東ソー社製,製品名「コロネートL」)10質量部とを溶媒中で混合し、粘着剤組成物(VI)の塗布溶液を得た。 Next, 100 parts by mass of the obtained acrylic copolymer and 10 parts by mass of trimethylolpropane-modified tolylene diisocyanate (product name “Coronate L”, manufactured by Tosoh Corporation) as a cross-linking agent were mixed in a solvent. A coating solution of the agent composition (VI) was obtained.
(2)半導体加工用シートの作製
上記のように作製した、粘着剤組成物(VI)を使用する以外、実施例1と同様に半導体加工用シートを作製した。
(2) Preparation of semiconductor processing sheet A semiconductor processing sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that the adhesive composition (VI) prepared as described above was used.
〔実施例10〕
(1)接着剤層を含む第1の積層体の作製
次のアクリル重合体、熱硬化性樹脂、フィラー、シランカップリング剤および架橋剤を混合して接着剤組成物を得た後、固形分濃度が20質量%となるようにメチルエチルケトンで希釈して、接着剤組成物の塗布溶液を調製した。
アクリル重合体:メチルアクリレート95質量部及び2−ヒドロキシエチルアクリレート5質量部からなる共重合体(Mw:500,000、Mw/Mn:2.9、Tg:9℃)を100質量部
熱硬化性樹脂:
アクリロイル基付加クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬社製,製品名「CNA−147」)を30質量部
熱硬化剤:アラルキルフェノール樹脂(三井化学社製,製品名「ミレックスXLC−4L」)を6質量部
フィラー:メタクリロキシ基修飾のシリカフィラー(平均粒径0.05μm,アドマテックス社製,3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン処理品)を35質量部
シランカップリング剤:(三菱化学社製,製品名「MKCシリケートMSEP2」)を0.5質量部
架橋剤:芳香族性多価イソシアネート(東ソー社製,製品名「コロネートL」)を1.5質量部
Example 10
(1) Production of first laminate including adhesive layer After obtaining the adhesive composition by mixing the following acrylic polymer, thermosetting resin, filler, silane coupling agent and cross-linking agent, solid content It diluted with methyl ethyl ketone so that a density | concentration might be 20 mass%, and the coating solution of the adhesive composition was prepared.
Acrylic polymer: 100 parts by mass of a copolymer (Mw: 500,000, Mw / Mn: 2.9, Tg: 9 ° C.) comprising 95 parts by mass of methyl acrylate and 5 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate resin:
30 parts by mass of acryloyl group-added cresol novolac type epoxy resin (product name “CNA-147” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) Thermosetting agent: aralkylphenol resin (product name “Millex XLC-4L” manufactured by Mitsui Chemicals) 6 parts by mass Filler: Silica filler modified with methacryloxy group (average particle size 0.05 μm, manufactured by Admatechs, treated with 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane) 35 parts by mass Silane coupling agent: (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, 0.5 parts by mass of product name “MKC silicate MSEP2”) 1.5 parts by mass of crosslinking agent: aromatic polyvalent isocyanate (product name “Coronate L” manufactured by Tosoh Corporation)
ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの片面にシリコーン系の剥離剤層が形成されてなる第1の剥離フィルム(リンテック社製,製品名「SP−PET381031」,厚さ:38μm)を用意した。 A first release film having a silicone release agent layer formed on one side of a polyethylene terephthalate (PET) film (manufactured by Lintec Corporation, product name “SP-PET 381031”, thickness: 38 μm) was prepared.
また、ポリプロピレンフィルムを基材として使用した。当該ポリプロピレンフィルムでは、第1の面の算術平均粗さRaが0.3μmであり、厚さが100μmであった。 Moreover, the polypropylene film was used as a base material. In the polypropylene film, the arithmetic average roughness Ra of the first surface was 0.3 μm and the thickness was 100 μm.
次に、第1の剥離フィルムの剥離面上に、前述の接着剤組成物の塗布溶液を、ナイフコーターを用いて塗布し、乾燥させて、厚さ5μmの接着剤層を形成した。その後、接着剤層の第1の剥離フィルムとは反対側の面に上記基材の第2の面を貼合し、基材と、粘着剤層と、第1の剥離フィルムとからなる第1の積層体を得た。この第1の積層体を、温度23℃、相対湿度50%の環境下で7日間養生した。 Next, the above-mentioned adhesive composition coating solution was applied on the release surface of the first release film using a knife coater and dried to form an adhesive layer having a thickness of 5 μm. Then, the 2nd surface of the said base material is bonded to the surface on the opposite side to the 1st peeling film of an adhesive bond layer, and the 1st which consists of a base material, an adhesive layer, and a 1st peeling film. A laminate was obtained. This first laminate was cured for 7 days in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%.
(2)治具用粘着剤層を含む第2の積層体の作製
次の粘着主剤および架橋剤の成分を混合して治具用粘着剤組成物を得た後、固形分濃度が15質量%となるようにトルエンで希釈して、治具用粘着剤組成物の塗布溶液を調製した。
粘着主剤:(メタ)アクリル酸エステル共重合体(ブチルアクリレート69.5質量部、メチルアクリレート30質量部および2−ヒドロキシエチルアクリレート0.5質量部を共重合して得られた共重合体,重量平均分子量:500,000)100質量部
架橋剤:芳香族性多価イソシアネート(東ソー社製,製品名「コロネートL」)5質量部
(2) Preparation of 2nd laminated body containing adhesive layer for jigs After mixing the component of the following adhesive main ingredient and a crosslinking agent, and obtaining the adhesive composition for jigs, solid content concentration is 15 mass%. Then, it was diluted with toluene so that a coating solution for the adhesive composition for jigs was prepared.
Adhesive main agent: (meth) acrylic acid ester copolymer (copolymer obtained by copolymerizing 69.5 parts by mass of butyl acrylate, 30 parts by mass of methyl acrylate and 0.5 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate, weight Average molecular weight: 500,000) 100 parts by mass Crosslinking agent: 5 parts by mass of aromatic polyisocyanate (manufactured by Tosoh Corporation, product name “Coronate L”)
PETフィルムの片面にシリコーン系の剥離剤層が形成されてなる第2および第3の剥離フィルム(リンテック株式会社製,製品名「SP−PET381031」,厚さ:38μm)と、芯材としてポリ塩化ビニルフィルム(オカモト株式会社製,厚さ:50μm)とを用意した。 Second and third release films (product name “SP-PET 381031”, thickness: 38 μm, manufactured by Lintec Corporation) having a silicone release agent layer formed on one side of a PET film, and polychlorinated as a core material A vinyl film (manufactured by Okamoto Co., Ltd., thickness: 50 μm) was prepared.
次に、第2の剥離フィルムの剥離面上に、前述の治具用粘着剤組成物の塗布溶液を、ナイフコーターを用いて塗布し、乾燥させて、厚さ5μmの第1の粘着剤層を形成した。その後、第1の粘着剤層に上記芯材を貼合し、芯材と、第1の粘着剤層と、第2の剥離フィルムとからなる積層体Aを得た。 Next, the coating solution of the above-mentioned adhesive composition for jigs is applied on the release surface of the second release film using a knife coater, and dried to form a first adhesive layer having a thickness of 5 μm. Formed. Then, the said core material was bonded to the 1st adhesive layer, and the laminated body A which consists of a core material, a 1st adhesive layer, and a 2nd peeling film was obtained.
次に、第3の剥離フィルムの剥離面上に、前述の治具用粘着剤組成物の塗布溶液を、ナイフコーターを用いて塗布し、乾燥させて、厚さ5μmの第2の粘着剤層を形成した。その後、第2の粘着剤層に上記積層体Aにおける芯材の露出した面を貼合し、第2の剥離フィルム/第1の粘着剤層/芯材/第2の粘着剤層/第3の剥離フィルムからなる第2の積層体を得た。この第2の積層体においては、第1の粘着剤層と、芯材と、第2の粘着剤層とにより、厚さ60μmの治具用粘着剤層が構成される。これを、温度23℃、相対湿度50%の環境下で7日間養生した。 Next, a coating solution of the above-mentioned adhesive composition for jigs is applied on the release surface of the third release film using a knife coater and dried to form a second adhesive layer having a thickness of 5 μm. Formed. Thereafter, the exposed surface of the core material in the laminate A is bonded to the second pressure-sensitive adhesive layer, and the second release film / first pressure-sensitive adhesive layer / core material / second pressure-sensitive adhesive layer / third. A second laminate composed of the release film was obtained. In the second laminate, the first pressure-sensitive adhesive layer, the core material, and the second pressure-sensitive adhesive layer constitute a jig pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 60 μm. This was cured for 7 days in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%.
(3)半導体加工用シートの作製
上記(2)で得られた第2の積層体から第3の剥離フィルムを剥離し、第2の剥離フィルムを残して、治具用粘着剤層の内周縁となる部分を第2の粘着剤層側から切断し、内側の円形部分を除去した。このとき、治具用粘着剤層の内周縁の直径は230mmとした。
(3) Production of semiconductor processing sheet The third release film is peeled from the second laminate obtained in (2) above, leaving the second release film, and the inner periphery of the adhesive layer for jigs. Was cut from the second pressure-sensitive adhesive layer side, and the inner circular portion was removed. At this time, the diameter of the inner periphery of the adhesive layer for jigs was 230 mm.
上記(1)で得られた第1の積層体から第1の剥離フィルムを剥離し、露出した接着剤層と、第2の積層体において露出している治具用粘着剤層とを重ね合わせて圧着した。その後、第2の積層体における第2の剥離フィルムを残して、半導体加工用シートの外周縁となる部分を基材側から切断し、外側の部分を除去した。このとき、半導体加工用シートの外周縁の直径は270mmとした。 The first release film is peeled from the first laminate obtained in (1) above, and the exposed adhesive layer and the jig adhesive layer exposed in the second laminate are overlapped. And crimped. Then, leaving the 2nd peeling film in a 2nd laminated body, the part used as the outer periphery of the sheet | seat for semiconductor processing was cut | disconnected from the base material side, and the outer part was removed. At this time, the diameter of the outer peripheral edge of the semiconductor processing sheet was 270 mm.
このようにして、基材の上に、接着剤層と、接着剤層における基材とは反対側の周縁部に積層された環状の治具用粘着剤層と、治具用粘着剤層における接着剤層とは反対側に積層された第2の剥離フィルムとからなる積層体を得た。最後に、当該積層体における基材の第1の面の幅方向両側部に、保護材としての、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面にアルミニウムによる金属蒸着層が設けられたフィルム(厚さ50μm,幅10mm,金属蒸着層が設けられた面の算術平均粗さRa:0.3μm)を、当該フィルムの金属蒸着層が設けられた面とは反対側の面と基材の第1の面とが接触するように積層した。これにより、基材の第1の面の幅方向両側部に保護材が設けられた半導体加工用シートを得た。なお、第2の剥離フィルムにおける治具用粘着剤層側の面(第1の面)の算術平均粗さRaは、0.03μmであり、当該第1の面とは反対側の面(第2の面)の算術平均粗さRaは、0.3μmであった。 Thus, on the base material, the adhesive layer, the annular jig pressure-sensitive adhesive layer laminated on the peripheral edge of the adhesive layer opposite to the base material, and the jig pressure-sensitive adhesive layer The laminated body which consists of a 2nd peeling film laminated | stacked on the opposite side to an adhesive bond layer was obtained. Finally, a film (a thickness of 50 μm, a width of 10 mm, a thickness of 50 μm, a width of 10 mm; The arithmetic mean roughness Ra of the surface provided with the metal vapor deposition layer is 0.3 μm), and the surface of the film opposite to the surface provided with the metal vapor deposition layer is in contact with the first surface of the substrate. The layers were laminated as follows. This obtained the semiconductor processing sheet | seat in which the protective material was provided in the width direction both sides of the 1st surface of a base material. The arithmetic average roughness Ra of the surface (first surface) on the side of the adhesive layer for jigs in the second release film is 0.03 μm, and the surface opposite to the first surface (the first surface) 2), the arithmetic average roughness Ra was 0.3 μm.
〔実施例11〕
(1)保護膜形成層を含む第1の積層体の作製
次のバインダーポリマー、熱硬化性樹脂、熱活性潜在性エポキシ樹脂硬化剤、硬化促進剤、フィラー、着色剤およびシランカップリング剤を混合して保護膜形成層組成物を得た後、固形分濃度が50質量%となるようにメチルエチルケトンで希釈して、保護膜形成層組成物の塗布溶液を調製した。
バインダーポリマー:(メタ)アクリル酸エステル共重合体(n−ブチルアクリレート10質量部、メチルアクリレート70質量部、グリシジルメタクリレート5質量部、および2−ヒドロキシエチルアクリレート15質量部を共重合して得た共重合体,重量平均分子量:800,000,ガラス転移温度:−1℃)150質量部
熱硬化性成分:
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学社製,製品名「jER828」,エポキシ当量184〜194g/eq)60質量部
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学社製,製品名「jER1055」,エポキシ当量800〜900g/eq)10質量部
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業社製,製品名「エピクロンHP−7200HH」,エポキシ当量255〜260g/eq)30質量部
熱活性潜在性エポキシ樹脂硬化剤:ジシアンジアミド(ADEKA社製,製品名「アデカハ−ドナーEH3636AS」,活性水素量21g/eq)2質量部
硬化促進剤:2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール(四国化成工業社製,製品名「キュアゾール2PHZ」)2質量部
フィラー:シリカフィラー(アドマテックス社製,製品名「SC2050MA」平均粒径:0.5μm)320質量部
着色剤:カーボンブラック(三菱化学社製,製品名「#MA650」,平均粒径:28nm)1.2質量部
シランカップリング剤:(信越化学工業社製,製品名「KBM−403」)2質量部
Example 11
(1) Production of first laminate including protective film forming layer The following binder polymer, thermosetting resin, thermoactive latent epoxy resin curing agent, curing accelerator, filler, colorant and silane coupling agent are mixed. Then, after obtaining the protective film forming layer composition, it was diluted with methyl ethyl ketone so that the solid content concentration was 50% by mass to prepare a coating solution for the protective film forming layer composition.
Binder polymer: (meth) acrylic acid ester copolymer (copolymer obtained by copolymerizing 10 parts by mass of n-butyl acrylate, 70 parts by mass of methyl acrylate, 5 parts by mass of glycidyl methacrylate, and 15 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate) 150 parts by mass of thermosetting component: polymer, weight average molecular weight: 800,000, glass transition temperature: −1 ° C.
Bisphenol A type epoxy resin (Mitsubishi Chemical Corporation, product name “jER828”, epoxy equivalent 184 to 194 g / eq) 60 parts by mass Bisphenol A type epoxy resin (Mitsubishi Chemical Corporation, product name “jER1055”, epoxy equivalent 800 to 900 g) / Eq) 10 parts by mass Dicyclopentadiene type epoxy resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, product name “Epiclon HP-7200HH”, epoxy equivalent 255-260 g / eq) 30 parts by mass Thermally active latent epoxy resin curing agent: Dicyandiamide (manufactured by ADEKA, product name “Adeka-Donor EH3636AS”, active hydrogen amount 21 g / eq) 2 parts by mass Curing accelerator: 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., product name “ "Cureazole 2PHZ") 2 parts by mass Filler: Siri Filler (manufactured by Admatechs, product name “SC2050MA” average particle size: 0.5 μm) 320 parts by mass Colorant: Carbon black (manufactured by Mitsubishi Chemical, product name “# MA650”, average particle size: 28 nm) 1.2 Part by mass: Silane coupling agent: (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name “KBM-403”) 2 parts by mass
ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの片面にシリコーン系の剥離剤層が形成されてなる第1の剥離フィルム(リンテック社製,製品名「SP−PET381031」,厚さ:38μm)を用意した。 A first release film having a silicone release agent layer formed on one side of a polyethylene terephthalate (PET) film (manufactured by Lintec Corporation, product name “SP-PET 381031”, thickness: 38 μm) was prepared.
また、ポリプロピレンフィルムを基材として使用した。当該ポリプロピレンフィルムでは、第1の面の算術平均粗さRaが0.3μmであり、厚さが100μmであった。 Moreover, the polypropylene film was used as a base material. In the polypropylene film, the arithmetic average roughness Ra of the first surface was 0.3 μm and the thickness was 100 μm.
次に、第1の剥離フィルムの剥離面上に、前述の保護膜形成層組成物の塗布溶液を、ナイフコーターを用いて塗布し、乾燥させて、厚さ25μmの保護膜形成層を形成した。その後、保護膜形成層の第1の剥離フィルムとは反対側の面に上記基材の第2の面を貼合し、基材と、保護膜形成層と、第1の剥離フィルムとからなる第1の積層体を得た。この第1の積層体を、温度23℃、相対湿度50%の環境下で7日間養生した。 Next, on the release surface of the first release film, the above-mentioned protective film-forming layer composition coating solution was applied using a knife coater and dried to form a protective film-forming layer having a thickness of 25 μm. . Then, the 2nd surface of the said base material is bonded to the surface on the opposite side to the 1st peeling film of a protective film formation layer, and consists of a base material, a protective film formation layer, and a 1st peeling film. A first laminate was obtained. This first laminate was cured for 7 days in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%.
(2)半導体加工用シートの作製
上記のように作製した第1の積層体を使用する以外、実施例10と同様に半導体加工用シートを作製した。
(2) Production of Semiconductor Processing Sheet A semiconductor processing sheet was produced in the same manner as in Example 10, except that the first laminate produced as described above was used.
〔比較例1〕
ポリエチレンテレフタレートフィルムの一方の面(第1の面)をシリコーン系剥離剤で剥離処理した剥離フィルム(リンテック社製,製品名「SP−PET381031」,厚さ:38μm)を剥離フィルムとして使用し、保護材を設けない以外、実施例1と同様に半導体加工用シートを作製した。なお、当該剥離フィルムの第1の面の算術平均粗さRaは、0.03μmであり、他方の面(第2の面)の算術平均粗さRaは、0.05μmであった。
[Comparative Example 1]
Use a release film (product name “SP-PET381031”, thickness: 38 μm) manufactured by Lintec Co., Ltd. as a release film to protect one side (first side) of the polyethylene terephthalate film with a silicone release agent. A semiconductor processing sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that no material was provided. In addition, arithmetic mean roughness Ra of the 1st surface of the said peeling film was 0.03 micrometer, and arithmetic mean roughness Ra of the other surface (2nd surface) was 0.05 micrometer.
〔比較例2〕
ポリエチレンテレフタレートフィルムの一方の面(第1の面)をシリコーン系剥離剤で剥離処理した剥離フィルム(リンテック社製,製品名「SP−PET381031」,厚さ:38μm)を剥離フィルムとして使用し、保護材を設けない以外、実施例3と同様に半導体加工用シートを作製した。なお、当該剥離フィルムの第1の面の算術平均粗さRaは、0.03μmであり、他方の面(第2の面)の算術平均粗さRaは、0.05μmであった。
[Comparative Example 2]
Use a release film (product name “SP-PET381031”, thickness: 38 μm) manufactured by Lintec Co., Ltd. as a release film to protect one side (first side) of the polyethylene terephthalate film with a silicone release agent. A semiconductor processing sheet was prepared in the same manner as in Example 3 except that no material was provided. In addition, arithmetic mean roughness Ra of the 1st surface of the said peeling film was 0.03 micrometer, and arithmetic mean roughness Ra of the other surface (2nd surface) was 0.05 micrometer.
〔比較例3〕
ポリエチレンテレフタレートフィルム製の剥離フィルム(三菱樹脂社製,製品名「ダイアホイル(登録商標)T−100 38」,厚さ:38μm)を剥離フィルムとして使用し、保護材を設けない以外、実施例2と同様に半導体加工用シートを作製した。なお、当該剥離フィルムの両面の算術平均粗さRaは、ともに0.05μmであった。
[Comparative Example 3]
Example 2 except that a release film made of polyethylene terephthalate film (Mitsubishi Plastics, product name “Diafoil (registered trademark) T-100 38”, thickness: 38 μm) was used as the release film, and no protective material was provided. A semiconductor processing sheet was prepared in the same manner as described above. The arithmetic average roughness Ra on both surfaces of the release film was 0.05 μm.
〔試験例1〕(剥離フィルム半導体貼付層との界面における剥離力の測定)
実施例および比較例で製造した半導体加工用シートを幅50mm×長さ100mmに裁断した。このとき、半導体加工用シートの製造時における流れ方向(MD方向)が長さ方向となるように裁断した。このように裁断した半導体加工用シートを、基材を上側として10枚積層し、この積層体を、幅75mm×長さ15mm×厚さ5mmのガラス板で上下から挟んだ。そして、500gの重りを上側のガラス板上に置いた状態で、40℃で乾燥状態に設定した湿熱促進器(ESPEC社製,製品名「SH641」)内で3日間保管した。なお、半導体加工用シートがエネルギー線硬化性の材料を含む場合には、積層体を遮光した状態で保管した。
[Test Example 1] (Measurement of peel force at the interface with the release film semiconductor adhesive layer)
The semiconductor processing sheets produced in the examples and comparative examples were cut into a width of 50 mm and a length of 100 mm. At this time, it cut | judged so that the flow direction (MD direction) at the time of manufacture of the sheet | seat for semiconductor processing might become a length direction. Ten semiconductor processing sheets cut in this manner were laminated with the base material as the upper side, and this laminate was sandwiched from above and below by a glass plate having a width of 75 mm, a length of 15 mm, and a thickness of 5 mm. Then, with the weight of 500 g placed on the upper glass plate, it was stored for 3 days in a moist heat accelerator (manufactured by ESPEC, product name “SH641”) set in a dry state at 40 ° C. In addition, when the sheet | seat for semiconductor processing contains an energy-beam curable material, it stored in the state which light-shielded the laminated body.
保管が完了した後、上記積層体から、1枚の半導体加工用シートを取り出し、基材の第1の面をステンレス板に両面粘着テープを用いて貼り合わせ、万能引張試験機(オリエンテック社製,製品名:テンシロン UTM−4−100)に固定した。その後、温度23℃、相対湿度50%RHの条件下で、剥離フィルムのみを、180°方向に引張速度300mm/分で剥離した。すなわち、剥離フィルムと、当該剥離フィルムに接する半導体貼付層との界面で剥離させた。このときの剥離力(mN/50mm)を測定した。結果を表1に示す。 After storage is completed, one semiconductor processing sheet is taken out from the above laminate, and the first surface of the base material is bonded to a stainless steel plate using a double-sided adhesive tape. , Product name: Tensilon UTM-4-100). Thereafter, only the release film was peeled in the 180 ° direction at a tensile speed of 300 mm / min under the conditions of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50% RH. That is, it peeled at the interface of a peeling film and the semiconductor sticking layer which touches the said peeling film. The peeling force (mN / 50 mm) at this time was measured. The results are shown in Table 1.
〔試験例2〕(ロールからの繰り出しの評価)
実施例および比較例で製造した半導体加工用シートを、290mmの幅を有する長尺のシートとして準備した。そして、基材側から切れ込みを入れて、図12に示されるように円形の主使用部およびシート残留部を形成した。このとき、保護材および剥離フィルム以外の層を切断(ハーフカット)し、また、主使用部の直径は、270mmとした。その後、主使用部およびシート残留部以外の基材と、当該基材と剥離フィルムとの間に存在する層とを除去した。これにより、100個の主使用部を有する半導体加工用シートを得た。当該半導体加工用シートを、基材側が外側となるように巻き取り、ロール状とした。
[Test Example 2] (Evaluation of feeding from roll)
The semiconductor processing sheets produced in the examples and comparative examples were prepared as long sheets having a width of 290 mm. And the cut | notch was made from the base material side and the circular main use part and sheet | seat residual part were formed as FIG. 12 shows. At this time, layers other than the protective material and the release film were cut (half cut), and the diameter of the main use portion was 270 mm. Thereafter, the base material other than the main use part and the sheet remaining part and the layer existing between the base material and the release film were removed. This obtained the semiconductor processing sheet | seat which has 100 main use parts. The said semiconductor processing sheet was wound up so that the base material side might become an outer side, and it was set as the roll shape.
このように得られたロール状の半導体加工用シートを、40℃で乾燥状態に設定した湿熱促進器(ESPEC社製,製品名「SH641)内で3日間保管した。なお、半導体加工用シートがエネルギー線硬化性の材料を含む場合には、積層体を遮光した状態で保管した。 The roll-shaped semiconductor processing sheet thus obtained was stored for 3 days in a moist heat accelerator (manufactured by ESPEC, product name “SH641”) set to a dry state at 40 ° C. The semiconductor processing sheet was When the energy ray-curable material was included, the laminate was stored in a state where it was shielded from light.
保管が完了した後、ウエハマウンター(リンテック社製,製品名「RAD−2500m/8」)を使用して、ロール状に巻き取られた半導体加工用シートを繰り出した。そして、半導体加工用シートの長さ方向の両端部における、主使用部20枚分が存在する領域(すなわち、ロールの外側の部分における主使用部20枚分が存在する領域、および内側の部分における主使用部20枚分が存在する領域)について、良好な繰り出しが可能であるかどうかを確認した。このとき、いずれの領域においても主使用部20枚分連続で良好に繰り出せた場合、○と評価した。一方、剥離フィルムの第2の面に、その下に重なっていた主使用部が密着して、繰り出すことができないといった不具合が1枚でも生じた場合、×と評価した。結果を表1に示す。 After the storage was completed, the semiconductor processing sheet wound up in a roll shape was fed out using a wafer mounter (manufactured by Lintec Corporation, product name “RAD-2500m / 8”). And in the both ends of the length direction of the sheet for semiconductor processing, the area where there are 20 main use parts (that is, the area where there are 20 main use parts in the outer part of the roll, and the inner part) It was confirmed whether or not good feeding was possible for an area where there were 20 main use parts). At this time, it was evaluated as “good” when it could be fed out continuously for 20 main use portions in any region. On the other hand, when even one piece of inconvenience occurred that the main use part that was overlaid on the second surface of the release film was in close contact with each other and could not be fed out, it was evaluated as x. The results are shown in Table 1.
〔試験例3〕(マウントの評価)
上記試験例2と同様に、ロール状の半導体加工用シートを作製し、40℃で3日間保管した。その後、ウエハマウンター(リンテック社製,製品名「RAD−2500m/8」)を使用して、このロールの剥離フィルムから主使用部を剥離し、当該主使用部を半導体ウエハに貼付(マウント)した。この操作を連続して20回繰り返し、良好に完了した場合、○と評価した。一方、剥離フィルムからの主使用部の剥離不良などにより、マウントに不具合が生じた場合、×と評価した。結果を表1に示す。
[Test Example 3] (Mount evaluation)
In the same manner as in Test Example 2, a roll-shaped semiconductor processing sheet was prepared and stored at 40 ° C. for 3 days. Then, using a wafer mounter (product name “RAD-2500m / 8” manufactured by Lintec Corporation), the main use part was peeled off from the release film of this roll, and the main use part was attached (mounted) to the semiconductor wafer. . This operation was repeated 20 times continuously, and when it was successfully completed, it was evaluated as “good”. On the other hand, when a defect occurred in the mount due to defective peeling of the main use part from the release film, it was evaluated as x. The results are shown in Table 1.
〔試験例4〕(光線透過性の評価)
厚さ350μmのシリコンウエハのミラー面に対し、ウエハマウンター(リンテック社製,製品名「RAD−2500m/8」)を使用して、試験例3において3日間の保管が完了した後の半導体加工用シート、およびリングフレームを貼付した。その後、ダイシング装置(DISCO社製,製品名「DFD−651」)を使用して、以下の条件で、シリコンウエハのダイシングを行った。
ダイシング条件:
・ワーク(被切断物):シリコンウエハ(サイズ:6インチ,厚さ:350μm,貼付面:ミラー)
・ダイシングブレード:ディスコ社製,製品名「27HECC」
・ブレード回転数:30,000rpm
・ダイシングスピード:10mm/秒
・切り込み深さ:基材の、ダイシング装置テーブルとは反対の面から20μmの深さまで切り込み
・ダイシングサイズ:5mm×5mm
[Test Example 4] (Evaluation of light transmittance)
For semiconductor processing after completion of storage for 3 days in Test Example 3 using a wafer mounter (product name “RAD-2500m / 8”, manufactured by Lintec Corporation) on the mirror surface of a silicon wafer having a thickness of 350 μm A sheet and a ring frame were attached. Thereafter, the silicon wafer was diced using a dicing apparatus (manufactured by DISCO, product name “DFD-651”) under the following conditions.
Dicing conditions:
・ Work (object to be cut): Silicon wafer (size: 6 inches, thickness: 350 μm, sticking surface: mirror)
・ Dicing blade: manufactured by Disco Corporation, product name “27HECC”
・ Blade rotation speed: 30,000rpm
・ Dicing speed: 10 mm / second ・ Cutting depth: Cutting from the surface of the substrate opposite to the dicing machine table to a depth of 20 μm ・ Dicing size: 5 mm × 5 mm
上記ダイシングにより得られた、半導体加工用シートに貼付されたチップについて、半導体加工用シートおけるチップとは反対の面(基材の第2の面)側から、半導体加工用シートを介してチップの周縁部および角部を認識できるか目視により確認した。なお、接着剤層を備える半導体加工用シートを使用した場合については、接着剤付きのチップについて、その周縁部および角部を確認し、保護膜形成層を備える半導体加工用シートを使用した場合については、保護膜付きのチップについて、その周縁部および角部を確認した。チップの周縁部および角部が確認できたものを光線透過性(可視光線透過性)が良好(○)、確認できなかったものを光線透過性(可視光線透過性)が不良(×)と評価した。結果を表2に示す。 About the chip | tip stuck on the sheet | seat for semiconductor processing obtained by the said dicing, from the surface (2nd surface of a base material) side opposite to the chip | tip in the sheet | seat for semiconductor processing, a chip | tip of a chip | tip is passed through the sheet | seat for semiconductor processing. It was visually confirmed whether the peripheral edge and the corner could be recognized. In addition, about the case where the sheet | seat for semiconductor processing provided with an adhesive layer is used, about the case where the sheet | seat for semiconductor processing provided with a protective film formation layer is used about the chip | tip with an adhesive, confirming the peripheral part and corner | angular part. Confirmed the peripheral edge and corner of the chip with a protective film. When the peripheral edge and corner of the chip were confirmed, the light transmittance (visible light transmittance) was good (◯), and when the chip was not confirmed, the light transmittance (visible light transmittance) was evaluated as poor (×). did. The results are shown in Table 2.
表2から明らかなように、実施例の半導体加工用シートは、光線透過性に優れるとともに、ロールからの繰り出しおよびマウントの両方において、優れた評価が得られた。一方、比較例の半導体加工用シートでは、ロールからの繰り出しおよびマウントの何れかにおいて、不具合が生じた。 As is clear from Table 2, the semiconductor processing sheets of the examples were excellent in light transmittance, and excellent evaluation was obtained both in the feeding from the roll and in the mount. On the other hand, in the semiconductor processing sheet of the comparative example, a problem occurred in either the feeding from the roll or the mounting.
本発明に係る半導体加工用シートは、例えば、ダイシングシート、ダイシング・ダイボンディングシート、保護膜形成層一体型ダイシングシート等として好適に用いられる。 The semiconductor processing sheet according to the present invention is suitably used, for example, as a dicing sheet, a dicing die bonding sheet, a protective film forming layer integrated dicing sheet, or the like.
1,1a,1b,1c,1d,1e,2,3,4,5,6…半導体加工用シート
10,10a,10b…基材
101…第1の面
102…第2の面
20…粘着剤層
20’…第2の粘着剤層
201…第1の面
202…第2の面
30…剥離フィルム
301…第1の面
302…第2の面
40…接着剤層
401…第1の面
402…第2の面
50…保護膜形成層
501…第1の面
502…第2の面
60…治具用粘着剤層
601…第1の面
602…第2の面
70…保護材
80,80a,80b…半導体貼付層
801…第1の面
802…第2の面
DESCRIPTION OF
Claims (14)
前記保護材は、片面に金属蒸着層が設けられた樹脂フィルムからなり、
前記保護材は、前記金属蒸着層が設けられた面が前記半導体加工用シートの表面の一部となるように積層されており、
前記基材の前記半導体貼付層とは反対の面における算術平均粗さRaが、0.01〜0.8μmであることを特徴とする半導体加工用シート。 A long release film, a semiconductor adhesive layer laminated on one side of the release film, a substrate laminated on the opposite side of the release film in the semiconductor adhesive layer, and the release film Protective material laminated at positions corresponding to both sides in the width direction on the side opposite to the semiconductor sticking layer, or on both sides in the width direction of the release film on the side opposite to the semiconductor sticking layer of the substrate A semiconductor processing sheet comprising:
The protective material comprises a resin film provided with a metal vapor deposition layer on one side,
The protective material is laminated such that the surface on which the metal vapor deposition layer is provided is a part of the surface of the semiconductor processing sheet,
An arithmetic average roughness Ra on a surface of the base material opposite to the semiconductor adhesive layer is 0.01 to 0.8 μm.
前記剥離フィルムと、前記半導体貼付層と、前記基材とを含む積層体を得る工程、および
前記積層体における前記基材と前記剥離フィルムとの間における、前記剥離フィルムの幅方向両側部に前記保護材が位置するように、前記積層体を前記保護材とともに長尺方向に巻収する工程
を含むことを特徴とする半導体加工用シートの巻取体の製造方法。 It is a manufacturing method of the winding body of the sheet for semiconductor processing according to claim 13 ,
A step of obtaining a laminate including the release film, the semiconductor adhesive layer, and the substrate; and the width direction both sides of the release film between the substrate and the release film in the laminate. A method of manufacturing a wound body for a semiconductor processing sheet, comprising a step of winding the laminate together with the protective material in a longitudinal direction so that the protective material is positioned.
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