JP6612520B2 - Dot matrix display device - Google Patents
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Description
本発明は、基板上に薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor :TFT)素子を含む画素電極部が多数形成されているドットマトリクス型表示装置に関する。 The present invention relates to a dot matrix display device in which a large number of pixel electrode portions including thin film transistor (TFT) elements are formed on a substrate.
従来、例えば液晶表示装置(Liquid Crystal Display :LCD)は、TFT素子を含む画素
電極部が多数形成されたTFTアレイ側基板と、カラーフィルタ及びブラックマトリクスが
形成されたカラーフィルタ側基板とを互いに対向させて、それらの基板を所定の間隔でもって貼り合わせ、それらの基板間に液晶を充填、封入させることによって作製される。
Conventionally, for example, a liquid crystal display (LCD) has a TFT array side substrate on which a large number of pixel electrode portions including TFT elements are formed and a color filter side substrate on which a color filter and a black matrix are formed. Then, the substrates are bonded together at a predetermined interval, and liquid crystal is filled and sealed between the substrates.
従来のアクティブマトリクス型の液晶表示装置の基本構成の一例を図12に示す。例えば、TFTアレイ側基板は、その上の第1の方向(行方向)に形成された複数本のゲート信号線G1,G2,G3,・・・Gmと、第1の方向と交差する第2の方向(列方向)にゲート信号線と交差させて形成された複数本の画像信号線S1,S2,S3,・・・Snと、ゲート信号線と画像信号線の
交差部に形成された、TFT素子101、画素電極 (図示せず)を含む画素電極部P11,P12,P13,
・・・Pmnと、を有する構成である。また、共通電極(基準電極ともいう。図示せず。)と、その共通電極に共通電圧(Vcom)を供給する共通電圧線102は、画素電極との間で液晶に印加する垂直的な電界を形成するために、カラーフィルタ側基板上に設けられている。なお、図12において、103はゲート信号駆動回路、104は画像信号(ソース信号)駆動回路、110は表示部、111は液晶表示パネルである。
An example of a basic configuration of a conventional active matrix liquid crystal display device is shown in FIG. For example, the TFT array side substrate has a plurality of gate signal lines G1, G2, G3,... Gm formed in a first direction (row direction) thereon and a second crossing the first direction. A plurality of image signal lines S1, S2, S3,... Sn formed to intersect the gate signal line in the direction (column direction), and formed at the intersection of the gate signal line and the image signal line, TFT electrode 101, pixel electrode portions P11, P12, P13 including pixel electrodes (not shown)
... Pmn. Further, a common electrode (also referred to as a reference electrode; not shown) and a common voltage line 102 that supplies a common voltage (Vcom) to the common electrode generate a vertical electric field applied to the liquid crystal between the pixel electrode. In order to form, it is provided on the color filter side substrate. In FIG. 12, 103 is a gate signal driving circuit, 104 is an image signal (source signal) driving circuit, 110 is a display unit, and 111 is a liquid crystal display panel.
TFT素子101は、例えば、アモルファスシリコン(a-Si)等から成る半導体膜を有し、ゲート電極部、ソース電極部、ドレイン電極部の3端子部を有する構成である。そして、ゲート電極部に所定電位の電圧(例えば、3V,6V)を印加することにより、ソース電極部とドレイン電極部の間の半導体膜(チャンネル)に電流を流す、スイッチング素子 (ゲートトランスファ素子)として機能する。また、画素電極は、一般に酸化インジウムスズ(Indium Tin Oxide :ITO)等から成る透明導電体層から構成されている。 The TFT element 101 includes a semiconductor film made of, for example, amorphous silicon (a-Si), and has a three-terminal portion including a gate electrode portion, a source electrode portion, and a drain electrode portion. Then, a switching element (gate transfer element) that causes a current to flow in the semiconductor film (channel) between the source electrode part and the drain electrode part by applying a voltage of a predetermined potential (for example, 3V, 6V) to the gate electrode part. Function as. The pixel electrode is generally composed of a transparent conductor layer made of indium tin oxide (ITO) or the like.
また、カラーフィルタ側基板は、共通電極及び共通電圧線が形成された面またはそれと反対側の面に、それぞれの画素に対応する赤(R)、緑(G)、青(B)のカラーフィルタが形成
されており、それぞれの画素を通過する光が相互に干渉することを防ぐブラックマトリクスがカラーフィルタの外周を囲むように形成されている。尚、カラーフィルタ及びブラックマトリクスは、カラー表示を行わない場合はなくてもよい。また、透過型LCDの場合は
バックライトが設けられており、反射型LCDの場合はバックライトはなくてもよい。
In addition, the color filter side substrate has a red (R), green (G), and blue (B) color filter corresponding to each pixel on the surface on which the common electrode and the common voltage line are formed or on the opposite surface. And a black matrix that prevents light passing through each pixel from interfering with each other is formed so as to surround the outer periphery of the color filter. Note that the color filter and the black matrix may be omitted if color display is not performed. In the case of a transmissive LCD, a backlight is provided, and in the case of a reflective LCD, there is no need for a backlight.
このようなLCDにおいて、静止画像を表示させる際に外部回路、信号線駆動回路などの
消費電力を低減するために、画素がそれぞれスタティック型メモリ(Static Random Access Memory :SRAM)等の記憶回路とD/A(Digital/Analog)変換回路を有する構成が提案されている(例えば、下記特許文献1,2を参照)。即ち、CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor:相補型金属酸化膜半導体)インバータ等のインバータ(反転論理回路)を
ループ状に接続したSRAMと、nビット(nは自然数)のデジタル信号を階調表示が可能なアナログ信号に変換するD/A変換回路とを有し、静止画像の表示期間においては、DAC(Digital
to Analog Converter)コントローラのみを駆動して、記憶回路に記憶されたデジタル映像信号を繰り返し読み出し、D/A変換を行ってアナログ信号階調信号を得て、そのアナ
ログ信号階調信号によって静止画像の表示を行う。そして、静止画像の表示を行う際にソース信号線駆動回路及びゲート信号線駆動回路を停止する、という構成である。この構成により、静止画像の表示時における外部回路、信号線駆動回路などの消費電力を低減することができる。
In such an LCD, in order to reduce power consumption of external circuits, signal line drive circuits, etc. when displaying still images, each pixel has a storage circuit such as a static random access memory (SRAM) and a D circuit. A configuration having a / A (Digital / Analog) conversion circuit has been proposed (see, for example, Patent Documents 1 and 2 below). In other words, an SRAM (inverted logic circuit) such as a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) inverter connected in a loop and a digital signal of n bits (n is a natural number) can be displayed in grayscale. D / A converter circuit that converts the signal into a simple analog signal.During the still image display period, DAC (Digital
to Analog Converter) Drives only the controller, repeatedly reads the digital video signal stored in the memory circuit, performs D / A conversion to obtain the analog signal gradation signal, and uses the analog signal gradation signal to convert the still image Display. Then, the source signal line driver circuit and the gate signal line driver circuit are stopped when a still image is displayed. With this configuration, power consumption of an external circuit, a signal line driver circuit, and the like when displaying a still image can be reduced.
また、上記従来のLCD等に使用される記憶回路としてのSRAMは、例えば、pチャンネルTFT素子とnチャンネルTFT素子をドレイン共通接続して成るCMOSインバータを2個ループ
状に接続して構成されている。そして、本願発明者が先に提案した、静止画駆動と書き換え駆動のいずれかを選択できるようにしたSRAMを含む画素電極部の1例を図13に示す(特願2013-223838)。図13(a)は、保持回路162と画素電極制御回路163を有する駆動選択
回路164を含む画素電極部のブロック回路図、(b)は各ブロック回路を構成するTFT素子群を措いた詳細な回路図である。駆動選択回路164は、静止画駆動と書き換え駆動のいず
れかを選択する回路であり、保持回路162、画素電極制御回路163を有している。
An SRAM as a storage circuit used in the conventional LCD or the like is configured by connecting two CMOS inverters each having a p-channel TFT element and an n-channel TFT element connected in common in a loop. Yes. FIG. 13 shows an example of a pixel electrode portion including an SRAM proposed by the inventor of the present application, which can select either still image driving or rewriting driving (Japanese Patent Application No. 2013-223838). FIG. 13A is a block circuit diagram of a pixel electrode unit including a drive selection circuit 164 having a holding circuit 162 and a pixel electrode control circuit 163, and FIG. 13B is a detailed view of TFT element groups constituting each block circuit. It is a circuit diagram. The drive selection circuit 164 is a circuit that selects either still image drive or rewrite drive, and includes a holding circuit 162 and a pixel electrode control circuit 163.
駆動選択回路164の前段の入力部161には、第1のnチャンネルTFT素子161aと第2のn
チャンネルTFT素子161bを直列的に接続させて成るトランスファゲート回路が設けられて
いる。画像信号線DL137側の第1のnチャンネルTFT素子161aは、そのゲート電極部に画像信号線選択線SLn138を伝送されてきた信号が制御入力される。その信号がH(6V)の場合に第1のnチャンネルTFT素子161aはオンとなり、L(0V)の場合に第1のnチャン
ネルTFT素子161aはオフとなる。ゲート信号線GLn側の第2のnチャンネルTFT素子161bは
、そのゲート電極部にゲート信号線GLn139を伝送されてきた信号が制御入力される。その信号がH(6V)の場合に第2のnチャンネルTFT素子161bはオンとなり、L(0V)の
場合に第2のnチャンネルTFT素子161bはオフとなる。従って、ゲート信号線GLn139を伝
送されてきた信号がHであり、かつ画像信号線選択線SLn138を伝送されてきた信号がHである場合にのみ、トランスファゲート回路は等価回路的に閉(クローズ)状態となり、画像信号線DL137を伝送されてきた信号が保持回路162へ伝送される。
The input unit 161 in the previous stage of the drive selection circuit 164 has a first n-channel TFT element 161a and a second n-channel TFT 161a.
A transfer gate circuit formed by connecting channel TFT elements 161b in series is provided. In the first n-channel TFT element 161a on the image signal line DL137 side, a signal transmitted through the image signal line selection line SLn138 is controlled and input to the gate electrode portion. When the signal is H (6V), the first n-channel TFT element 161a is turned on, and when the signal is L (0V), the first n-channel TFT element 161a is turned off. In the second n-channel TFT element 161b on the gate signal line GLn side, a signal transmitted through the gate signal line GLn139 is controlled and input to the gate electrode portion. When the signal is H (6V), the second n-channel TFT element 161b is turned on, and when the signal is L (0V), the second n-channel TFT element 161b is turned off. Therefore, only when the signal transmitted through the gate signal line GLn139 is H and the signal transmitted through the image signal line selection line SLn138 is H, the transfer gate circuit is closed in an equivalent circuit (closed). Then, the signal transmitted through the image signal line DL137 is transmitted to the holding circuit 162.
保持回路162は、第1のCMOSインバータ162aと第2のCMOSインバータ162bをループ状に
接続して成るSRAMである。保持回路162は、第1のCMOSインバータ162aと第2のCMOSイン
バータ162bを直列に接続するとともに、第2のCMOSインバータ162bのドレイン共通接続点からの出力を、第1のCMOSインバータ162aのゲート共通接続点に帰還入力させている。これにより、例えば第1のCMOSインバータ162aのゲート共通接続点にHの信号が入力されると、次に第1のCMOSインバータ162aのドレイン共通接続点からLの信号が出力され、次にそのLの信号が第2のCMOSインバータ162bのゲート共通接続点に入力され、次に第2のCMOSインバータ162bのドレイン共通接続点からHの信号が出力され、次にそのHの信号が第1のCMOSインバータ162aのゲート共通接続点に帰還入力される。その結果、常時H(3V),L(0V),Hの信号がループ状の伝送線上において保持される。即ち、保持回路162は記憶回路として機能する。勿論、L,H,Lの信号をループ状の伝送線上において保
持することもできる。
The holding circuit 162 is an SRAM formed by connecting a first CMOS inverter 162a and a second CMOS inverter 162b in a loop. The holding circuit 162 connects the first CMOS inverter 162a and the second CMOS inverter 162b in series, and outputs the output from the common drain connection point of the second CMOS inverter 162b to the common gate of the first CMOS inverter 162a. Feedback input to the connection point. Thus, for example, when an H signal is input to the common gate connection point of the first CMOS inverter 162a, an L signal is then output from the common drain connection point of the first CMOS inverter 162a. Is input to the gate common connection point of the second CMOS inverter 162b, and then the H signal is output from the drain common connection point of the second CMOS inverter 162b, and then the H signal is the first CMOS inverter. The feedback is input to the common gate connection point of the inverter 162a. As a result, H (3 V), L (0 V), and H signals are always held on the loop transmission line. That is, the holding circuit 162 functions as a memory circuit. Of course, L, H, and L signals can be held on a loop-shaped transmission line.
画素電極制御回路163は、保持回路162の第1のCMOSインバータ162aを共用しており、画像信号data(B)の反転信号(iB)を出力する第1CMOSのインバータ162aと、pチャンネルTFT素子とnチャンネルTFT素子とから成り、共通電圧Vcom(A)と画像信号data(
B)と第1のCMOSインバータ162aの出力(iB)が参照入力されることによって2値データを出力する第1の2値選択回路181と、pチャンネルTFT素子とnチャンネルTFT素子とか
ら成り、共通電圧Vcom(A)と画像信号data(B)と第1のCMOSインバータ162aの出力
(iB)が参照入力されることによって2値データを出力する、出力線が第1の2値選択回路181の出力線に並列的に接続されている第2の2値選択回路182と、を有している。そして、第1の2値選択回路181の出力及び第2の2値選択回路182の出力が、共通電圧Vcom(A)と画像信号data(B)について排他的論理和(Exclusive OR :EXOR)の論理ゲー
ト回路を構成している。
The pixel electrode control circuit 163 shares the first CMOS inverter 162a of the holding circuit 162, and includes a first CMOS inverter 162a that outputs an inverted signal (iB) of the image signal data (B), a p-channel TFT element, and the like. It consists of an n-channel TFT element, and a common voltage Vcom (A) and image signal data (
B) and a first binary selection circuit 181 that outputs binary data by reference input of the output (iB) of the first CMOS inverter 162a, a p-channel TFT element, and an n-channel TFT element. The common voltage Vcom (A), the image signal data (B), and the output (iB) of the first CMOS inverter 162a are input by reference, and output binary data. The output line is the first binary selection circuit 181. And a second binary selection circuit 182 connected in parallel to the output line. The output of the first binary selection circuit 181 and the output of the second binary selection circuit 182 are the exclusive OR (EXOR) of the common voltage Vcom (A) and the image signal data (B). A logic gate circuit is configured.
しかしながら、特許文献1,2に開示された構成のLCDにおいては、動画表示をさせる
ための通常動作モード(アナログ動作モード)と、静止画表示させるためのデジタル表示モード(メモリ動作モード)とを切り替える構成について記載されているが、静止画表示と動画表示を組み合わせて成る表示をより低消費電力で行う点については何等開示されていない。
However, the LCDs disclosed in Patent Documents 1 and 2 switch between a normal operation mode (analog operation mode) for displaying moving images and a digital display mode (memory operation mode) for displaying still images. Although the configuration is described, there is no disclosure regarding the point of performing display with a combination of still image display and moving image display with lower power consumption.
また、図13の画素電極部においては、以下に示すような問題点があった。図13(b)に示すように、保持回路162がL,H,Lの信号を保持している場合、ノーマリホワイトで
あれば白色の静止画表示を保持している。これを黒色の表示に書き換える場合、入力部161の第1のnチャンネルTFT素子161aのゲート電極部に画像信号線選択線SLn138からH(6V)の信号を入力するとともに、第2のnチャンネルTFT素子161bのゲート電極部にゲー
ト信号線GLn139からH(6V)の信号を入力することによって、第1及び第2のnチャンネルTFT素子161a,161bをオン状態とする。次に、画像信号線DLn137からH(3V)の信号を第1のnチャンネルTFT素子161aのソース電極部に入力し、第2のnチャンネルTFT素子161bのドレイン電極部から出力し、保持回路162に入力して、書き換え駆動を行う。この
とき、保持回路162の第2のCMOSインバータ162bのnチャンネルTFT素子162bnがオン状態
であるために、破線で示す電流経路190が生じる。
Further, the pixel electrode portion of FIG. 13 has the following problems. As shown in FIG. 13B, when the holding circuit 162 holds L, H, and L signals, a white still image display is held as long as it is normally white. When this is rewritten into black display, an H (6 V) signal is input from the image signal line selection line SLn138 to the gate electrode portion of the first n-channel TFT element 161a of the input portion 161, and the second n-channel TFT. By inputting a H (6 V) signal from the gate signal line GLn139 to the gate electrode portion of the element 161b, the first and second n-channel TFT elements 161a and 161b are turned on. Next, an H (3 V) signal from the image signal line DLn137 is input to the source electrode portion of the first n-channel TFT element 161a, output from the drain electrode portion of the second n-channel TFT element 161b, and the holding circuit 162. To perform rewrite driving. At this time, since the n-channel TFT element 162bn of the second CMOS inverter 162b of the holding circuit 162 is on, a current path 190 indicated by a broken line is generated.
そうすると、画像信号線DLn137から入力部161に入力されたH(3V)の信号は、第1
のnチャンネルTFT素子161aのオン抵抗Ro1と、第2のnチャンネルTFT素子161bのオン抵
抗Ro2と、nチャンネルTFT素子162bnのオン抵抗Ro3とによって分圧され、第2のnチャンネルTFT素子161bのドレイン電極部からの出力電圧V161boは、第1のCMOSインバータ162a
のnチャンネルTFT素子162anの閾値電圧(1.5V程度)と同程度かそれ以下になる場合が
ある。その場合、nチャンネルTFT素子162anをオンするのに時間がかかったり、オンできない事態が生じやすい。その結果、書き換え駆動に時間がかかったり、書き換え駆動が実行できないことがあるという問題点があった。
Then, the H (3 V) signal input from the image signal line DLn137 to the input unit 161 is the first signal.
The n-channel TFT element 161a is divided by the on-resistance Ro1 of the second n-channel TFT element 161b, the on-resistance Ro2 of the second n-channel TFT element 161b, and the on-resistance Ro3 of the n-channel TFT element 162bn. The output voltage V161bo from the drain electrode portion is the first CMOS inverter 162a.
The threshold voltage (about 1.5V) of the n-channel TFT element 162an may be equal to or lower than that. In that case, it takes a long time to turn on the n-channel TFT element 162an or a situation in which it cannot be turned on easily occurs. As a result, there are problems that it takes time for the rewrite drive or the rewrite drive cannot be executed.
一方、保持回路162がH,L,Hの信号を保持している場合、ノーマリホワイトであれ
ば黒色の静止画表示を保持している場合に、書き換え駆動を行う場合には、画像信号線DLn137からL(0V)の信号を入力部161に入力するが、この場合には上記の問題点は発生
しにくい。すなわち、第1のnチャンネルTFT素子161aのゲート電極部に印加されるゲー
ト電圧(6V)と、第1のnチャンネルTFT素子161aのソース電極部の入力電圧V161ai(
0V)との電位差が6Vと大きいために、第1のnチャンネルTFT素子161aのオン抵抗は
実質的に小さくなる。同様に、第2のnチャンネルTFT素子161bのオン抵抗も実質的に小
さくなる。その結果、V161boの上昇は抑えられ、0Vに近い電位となり、第1のCMOSインバータ162aのpチャンネルTFT素子162apが容易にオン状態に切り換わって書き換え駆動が確実に実行される。
On the other hand, when the holding circuit 162 holds signals of H, L, and H, when normally white, a black still image display is held, and when rewrite driving is performed, the image signal line A signal of L (0 V) is input from the DLn 137 to the input unit 161, but in this case, the above-described problem hardly occurs. That is, the gate voltage (6V) applied to the gate electrode portion of the first n-channel TFT element 161a and the input voltage V161ai (
0V) is as large as 6V, the on-resistance of the first n-channel TFT element 161a is substantially reduced. Similarly, the on-resistance of the second n-channel TFT element 161b is substantially reduced. As a result, the rise of V161bo is suppressed and becomes a potential close to 0V, the p-channel TFT element 162ap of the first CMOS inverter 162a is easily switched on, and the rewrite drive is executed reliably.
従って、本発明は、上記従来の問題点に鑑みて完成されたものであり、その目的は、静止画表示と動画表示を組み合わせて成る表示を極めて低い消費電力でもって実行できるようにするとともに、書き換え駆動を確実かつ迅速に実行できるようにすることである。 Accordingly, the present invention has been completed in view of the above-described conventional problems, and its purpose is to enable display with a combination of still image display and moving image display to be performed with extremely low power consumption. It is to be able to execute the rewriting drive reliably and quickly.
本発明のドットマトリクス型表示装置は、基板上の所定方向に形成された複数本のゲート信号線と、前記所定方向に交差する方向に前記ゲート信号線と交差させて形成された複数本の画像信号線及びそれに並行する画像信号線選択線と、前記ゲート信号線と前記画像信号線の交差部に形成された、書き換え駆動と静止画駆動のいずれかを選択する駆動選択回路を含む画素電極部と、複数本の前記ゲート信号線の一本を任意に選択してオンするゲート信号線駆動回路と、複数本の前記画像信号線の一本を任意に選択してオンする画像信号線駆動回路と、を有するドットマトリクス型表示装置であって、
前記画素電極部は、前記駆動選択回路の前段に、前記画像信号線選択線によってオンされる第1のnチャンネル薄膜トランジスタ素子と前記ゲート信号線によってオンされる第2のnチャンネル薄膜トランジスタ素子とを直列に接続して成る画像信号の入力部を有し、
前記駆動選択回路は、オン状態の前記ゲート信号線とオン状態の前記画像信号線選択線との交差部にある選択された前記画素電極部を前記画像信号によって書き換える画素電極制御回路と、前記入力部から入力された前記画像信号を保持するとともに非選択の前記画素電極部を静止画駆動する保持回路と、を有しており、
前記保持回路は、前記画像信号が入力される第1のCMOSインバータと、それに接続された第2のCMOSインバータとをループ状に接続して成るスタティック型メモリであり、
前記第2のCMOSインバータは、それを構成する第3のnチャンネル薄膜トランジスタ素子の第3のオン抵抗が前記第1のnチャンネル薄膜トランジスタ素子の第1のオン抵抗と前記第2のnチャンネル薄膜トランジスタ素子の第2のオン抵抗の和よりも大きく、前記第1のオン抵抗と前記第2のオン抵抗が同じであり、
前記画像信号線は、前記画像信号の入力端部に前記画像信号線選択線によってオンされる第4のnチャンネル薄膜トランジスタ素子が直列に接続されており、前記第3のオン抵抗が前記第1のオン抵抗と前記第2のオン抵抗と前記第4のnチャンネル薄膜トランジスタ素子の第4のオン抵抗の和よりも大きい構成である。
The dot matrix type display device of the present invention includes a plurality of gate signal lines formed in a predetermined direction on a substrate and a plurality of images formed by crossing the gate signal lines in a direction crossing the predetermined direction. A pixel electrode unit including a signal selection line and an image signal line selection line parallel to the signal line, and a drive selection circuit that is formed at an intersection of the gate signal line and the image signal line and selects either rewrite driving or still image driving A gate signal line driving circuit that arbitrarily selects and turns on one of the plurality of gate signal lines, and an image signal line driving circuit that arbitrarily turns on and turns on one of the plurality of image signal lines A dot matrix type display device comprising:
The pixel electrode unit includes a first n-channel thin film transistor element turned on by the image signal line selection line and a second n-channel thin film transistor element turned on by the gate signal line in series before the drive selection circuit. An image signal input unit connected to
The drive selection circuit includes: a pixel electrode control circuit that rewrites the selected pixel electrode portion at the intersection of the on-state gate signal line and the on-state image signal line selection line with the image signal; and the input A holding circuit that holds the image signal input from the unit and drives the non-selected pixel electrode unit as a still image, and
The holding circuit is a static memory in which a first CMOS inverter to which the image signal is input and a second CMOS inverter connected thereto are connected in a loop shape,
In the second CMOS inverter, the third on-resistance of the third n-channel thin film transistor element constituting the second CMOS inverter is the same as the first on-resistance of the first n-channel thin film transistor element and the second n-channel thin film transistor element. greater than the sum of the second on-resistance, Ri said first on-resistance and a second on-resistance equal der,
In the image signal line, a fourth n-channel thin film transistor element that is turned on by the image signal line selection line is connected in series to an input end of the image signal, and the third on-resistance is connected to the first signal line. The on-resistance, the second on-resistance, and the fourth on-resistance of the fourth n-channel thin film transistor element are larger than the sum .
また本発明のドットマトリクス型表示装置は、好ましくは、前記第1のオン抵抗と前記第2のオン抵抗と前記第4のオン抵抗のうち前記第4のオン抵抗が最も小さい。 In the dot matrix display device of the present invention, preferably, the fourth on-resistance is the smallest among the first on-resistance, the second on-resistance, and the fourth on-resistance.
また本発明のドットマトリクス型表示装置は、好ましくは、前記画像信号線選択線を伝送されて前記第1のnチャンネル薄膜トランジスタ素子のゲート電極部に入力されるゲート電圧と前記画像信号のピーク電圧との電圧差が、前記画像信号のピーク電圧よりも大きい。 In the dot matrix type display device of the present invention, preferably, a gate voltage transmitted through the image signal line selection line and inputted to a gate electrode portion of the first n-channel thin film transistor element, and a peak voltage of the image signal Is larger than the peak voltage of the image signal.
本発明のドットマトリクス型表示装置は、基板上の所定方向に形成された複数本のゲート信号線と、所定方向に交差する方向にゲート信号線と交差させて形成された複数本の画像信号線及びそれに並行する画像信号線選択線と、ゲート信号線と画像信号線の交差部に形成された、書き換え駆動と静止画駆動のいずれかを選択する駆動選択回路を含む画素電極部と、複数本のゲート信号線の一本を任意に選択してオンするゲート信号線駆動回路と、複数本の画像信号線の一本を任意に選択してオンする画像信号線駆動回路と、を有するドットマトリクス型表示装置であって、
画素電極部は、駆動選択回路の前段に、画像信号線選択線によってオンされる第1のn
チャンネル薄膜トランジスタ素子とゲート信号線によってオンされる第2のnチャンネル薄膜トランジスタ素子とを直列に接続して成る画像信号の入力部を有し、
駆動選択回路は、オン状態のゲート信号線とオン状態の画像信号線選択線との交差部にある選択された画素電極部を画像信号によって書き換える画素電極制御回路と、入力部から入力された画像信号を保持するとともに非選択の画素電極部を静止画駆動する保持回路と、を有しており、
保持回路は、画像信号が入力される第1のCMOSインバータと、それに接続された第2のCMOSインバータとをループ状に接続して成るスタティック型メモリであり、
第2のCMOSインバータは、それを構成する第3のnチャンネル薄膜トランジスタ素子の第3のオン抵抗が第1のnチャンネル薄膜トランジスタ素子の第1のオン抵抗と第2のnチャンネル薄膜トランジスタ素子の第2のオン抵抗の和よりも大きく、第1のオン抵抗と第2のオン抵抗が同じであり、
画像信号線は、画像信号の入力端部に画像信号線選択線によってオンされる第4のnチャンネル薄膜トランジスタ素子が直列に接続されており、第3のオン抵抗が第1のオン抵抗と第2のオン抵抗と第4のnチャンネル薄膜トランジスタ素子の第4のオン抵抗の和よりも大きい構成である。この構成により、静止画駆動させる画素電極部においてはゲート信号線及び画像信号線をオフ状態とし、書き換え駆動させる画素電極部においてのみ選択的にゲート信号線及び画像信号線をオン状態とするので、消費電力を極めて低く抑えることができる。また、第3のオン抵抗が第1のオン抵抗と第2のオン抵抗の和よりも大きいことから、ロー(L)の状態に保持されている画素電極部をハイ(H)の画像信号によって書き換える際に、第2のnチャンネル薄膜トランジスタ素子のドレイン電極部の出力電圧が高くなり、その結果書き換え駆動を確実かつ迅速に実行できる。また、画像信号線は、画像信号の入力端部に画像信号線選択線によってオンされる第4のnチャンネル薄膜トランジスタ素子が直列に接続されており、第3のオン抵抗が第1のオン抵抗と第2のオン抵抗と第4のnチャンネル薄膜トランジスタ素子の第4のオン抵抗の和よりも大きいことから、ロー(L)の状態に保持されている画素電極部をハイ(H)の画像信号によって書き換える際に、第2のnチャンネル薄膜トランジスタ素子のドレイン電極部の出力電圧が高くなり、その結果書き換え駆動をより確実かつより迅速に実行できる。
The dot matrix type display device of the present invention includes a plurality of gate signal lines formed in a predetermined direction on a substrate and a plurality of image signal lines formed so as to cross the gate signal lines in a direction crossing the predetermined direction. And a plurality of pixel electrode portions including a drive selection circuit for selecting either rewrite driving or still image driving, which is formed at the intersection of the gate signal line and the image signal line, and an image signal line selection line in parallel therewith. A dot matrix having a gate signal line driving circuit for arbitrarily selecting one of the gate signal lines to be turned on, and an image signal line driving circuit for arbitrarily selecting one of the plurality of image signal lines to be turned on Type display device,
The pixel electrode unit includes a first n that is turned on by the image signal line selection line before the drive selection circuit.
An image signal input unit formed by connecting a channel thin film transistor element and a second n-channel thin film transistor element turned on by a gate signal line in series;
The drive selection circuit includes a pixel electrode control circuit that rewrites a selected pixel electrode portion at an intersection of an on-state gate signal line and an on-state image signal line selection line with an image signal, and an image input from an input portion A holding circuit that holds a signal and drives a non-selected pixel electrode portion as a still image,
The holding circuit is a static memory in which a first CMOS inverter to which an image signal is input and a second CMOS inverter connected thereto are connected in a loop shape,
In the second CMOS inverter, the third on-resistance of the third n-channel thin film transistor element constituting the second CMOS inverter is equal to the first on-resistance of the first n-channel thin film transistor element and the second on-resistance of the second n-channel thin film transistor element. greater than the sum of the oN resistance, the first on-resistance and a second on-resistance Ri equal der,
In the image signal line, a fourth n-channel thin film transistor element that is turned on by the image signal line selection line is connected in series to the input end of the image signal, and the third on-resistance is the first on-resistance and the second on-resistance. And the fourth on-resistance of the fourth n-channel thin film transistor element . With this configuration, the gate signal line and the image signal line are turned off in the pixel electrode portion that is driven for still image, and the gate signal line and the image signal line are selectively turned on only in the pixel electrode portion that is driven for rewriting. Power consumption can be kept extremely low. In addition, since the third on-resistance is larger than the sum of the first on-resistance and the second on-resistance, the pixel electrode portion held in the low (L) state is displayed by the high (H) image signal. When rewriting, the output voltage of the drain electrode portion of the second n-channel thin film transistor element increases, and as a result, the rewriting drive can be executed reliably and quickly. In addition, the image signal line has a fourth n-channel thin film transistor element that is turned on by the image signal line selection line connected in series to the input end of the image signal, and the third on-resistance is the first on-resistance. Since it is larger than the sum of the second on-resistance and the fourth on-resistance of the fourth n-channel thin film transistor element, the pixel electrode portion held in the low (L) state is caused by the high (H) image signal. When rewriting, the output voltage of the drain electrode portion of the second n-channel thin film transistor element becomes high, and as a result, the rewriting drive can be executed more reliably and quickly.
また本発明のドットマトリクス型表示装置は、第1のオン抵抗と第2のオン抵抗と第4のオン抵抗のうち第4のオン抵抗が最も小さい場合、ハイ(H)の画像信号の電位の低下を抑えるのに有利である。また、第1のnチャンネル薄膜トランジスタ素子と第2のnチャンネル薄膜トランジスタ素子は、画素電極部内の限られたスペースにあるために、設計の自由度が小さいのに対して、第4のnチャンネル薄膜トランジスタ素子は設計の自由度が高いので、第4のオン抵抗の制御が最も実行しやすい。これにより、ロー(L)の状態に保持されている画素電極部をハイ(H)の画像信号によって書き換える際に、第2のnチャンネル薄膜トランジスタ素子のドレイン電極部の出力電圧を高くすることが容易に行えるものとなる。 In the dot matrix display device of the present invention, when the fourth on-resistance is the lowest among the first on-resistance, the second on-resistance, and the fourth on-resistance, the potential of the high (H) image signal is reduced. It is advantageous to suppress the decrease. Further, since the first n-channel thin film transistor element and the second n-channel thin film transistor element are in a limited space in the pixel electrode portion, the fourth n-channel thin film transistor element is less flexible in design. Since the degree of freedom in design is high, the fourth on-resistance control is most easily performed. This makes it easy to increase the output voltage of the drain electrode portion of the second n-channel thin film transistor element when the pixel electrode portion held in the low (L) state is rewritten with a high (H) image signal. It will be something that can be done.
また本発明のドットマトリクス型表示装置は、画像信号線選択線を伝送されて第1のnチャンネル薄膜トランジスタ素子のゲート電極部に入力されるゲート電圧と画像信号のピーク電圧との電圧差が、画像信号のピーク電圧よりも大きい場合、第1のnチャンネル薄膜トランジスタ素子のオン抵抗がより小さくなる。その結果、ロー(L)の状態に保持されている画素電極部をハイ(H)の画像信号によって書き換える際に、第2のnチャンネル薄膜トランジスタ素子のドレイン電極部の出力電圧が高くなり、その結果書き換え駆動をより確実かつより迅速に実行できる。 In the dot matrix type display device of the present invention, the voltage difference between the gate voltage transmitted through the image signal line selection line and inputted to the gate electrode portion of the first n-channel thin film transistor element and the peak voltage of the image signal is When the voltage is higher than the peak voltage of the signal, the on-resistance of the first n-channel thin film transistor element becomes smaller. As a result, when the pixel electrode portion held in the low (L) state is rewritten with the high (H) image signal, the output voltage of the drain electrode portion of the second n-channel thin film transistor element becomes high, and as a result Rewriting drive can be executed more reliably and more quickly.
以下、本発明のドットマトリクス型表示装置の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。但し、以下で参照する各図は、本発明のドットマトリクス型表示装置の構成部材のうち、本発明の構成を説明するために必要な主要な部材を示している。従って、本発明に係るドットマトリクス型表示装置は、各図に示されていない、配線導体、回路基板、制御IC、制御LSI等の周知の構成部材を備えていてもよい。 Hereinafter, embodiments of a dot matrix display device of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the drawings referred to below show the main members necessary for explaining the configuration of the present invention among the components of the dot matrix display device of the present invention. Therefore, the dot matrix display device according to the present invention may include well-known components such as wiring conductors, circuit boards, control ICs, and control LSIs that are not shown in the drawings.
図1〜図11を参照して、本発明のドットマトリクス型表示装置の実施の形態について説明する。本発明のドットマトリクス型表示装置は、ガラス基板等の基板上の所定方向(例えば、行方向)に形成された複数本のゲート信号線GL1〜GL128と、所定方向に交差する方向(例えば、列方向)にゲート信号線GL1〜GL128と交差させて形成された複数本の画像信号線DL1〜DL128及びそれに並行する画像信号線選択線SL1〜SL128と、ゲート信号線GL1〜GL128と画像信号線DL1〜DL128の交差部に形成された、書き換え駆動と静止画駆動のいずれかを選択する駆動選択回路を含む画素電極部P11〜Pmnと、複数本のゲート信号線GL1〜GL128の一本を任意に選択してオンするゲート信号線駆動回路3と、複数本の画像信号線DL1
〜DL128の一本を任意に選択してオンする画像信号線駆動回路4と、を有するドットマト
リクス型表示装置であって、画素電極部は、駆動選択回路64の前段に、画像信号線選択線
SL1〜SL128によってオンされる第1のnチャンネルTFT素子61aとゲート信号線GL1〜GL128によってオンされる第2のnチャンネルTFT素子61bとを直列に接続して成る画像信号の入力部61を有し、駆動選択回路64は、オン状態のゲート信号線GLn(on)とオン状態の画像信
号線選択線SL1〜SL128(on)との交差部にある選択された画素電極部を画像信号によって書き換える画素電極制御回路63と、入力部61から入力された画像信号を保持するとともに非選択の画素電極部を静止画駆動する保持回路62と、を有しており、保持回路62は、画像信号が入力される第1のCMOSインバータ62aと、それに接続された第2のCMOSインバータ62bとをループ状に接続して成るスタティック型メモリであり、第2のCMOSインバータ62bは
、それを構成する第3のnチャンネルTFT素子62bnの第3のオン抵抗が第1のnチャンネ
ルTFT素子61aの第1のオン抵抗と第2のnチャンネルTFT素子61bの第2のオン抵抗の和よりも大きい構成である。この構成により、静止画駆動させる画素電極部においてはゲート信号線及び画像信号線をオフ状態とし、書き換え駆動させる画素電極部においてのみ選択的にゲート信号線GLn及び画像信号線DLnをオン状態とするので、消費電力を極めて低く抑えることができる。また、第3のオン抵抗が第1のオン抵抗と第2のオン抵抗の和よりも大きいことから、ロー(L)の状態に保持されている画素電極部をハイ(H)の画像信号によって書き換える際に、第2のnチャンネルTFT素子のドレイン電極部の出力電圧が高
くなり、その結果書き換え駆動を確実かつ迅速に実行できる。なお、保持回路62は、nチャンネルTFT素子及びpチャンネルTFT素子をドレイン共通接続して成る反転論理回路であるCMOSインバータを2個直列に接続するとともにループ状に接続して構成されたスタティック型メモリ(SRAM)である。
An embodiment of a dot matrix type display device of the present invention will be described with reference to FIGS. The dot matrix display device of the present invention includes a plurality of gate signal lines GL1 to GL128 formed in a predetermined direction (for example, row direction) on a substrate such as a glass substrate, and a direction (for example, a column) intersecting the predetermined direction. Direction) and a plurality of image signal lines DL1 to DL128 formed to intersect with the gate signal lines GL1 to GL128, the image signal line selection lines SL1 to SL128 parallel thereto, the gate signal lines GL1 to GL128, and the image signal lines DL1. Pixel electrodes P11 to Pmn that include a drive selection circuit that selects either rewrite drive or still image drive, and one of the multiple gate signal lines GL1 to GL128, formed at the intersection of DL128 Gate signal line driving circuit 3 to be selectively turned on and a plurality of image signal lines DL1
Image signal line driving circuit 4 that arbitrarily selects one of DL128 and turns it on, and a pixel electrode unit has an image signal line selection line in front of the drive selection circuit 64
It has an image signal input section 61 formed by connecting in series a first n-channel TFT element 61a turned on by SL1 to SL128 and a second n-channel TFT element 61b turned on by gate signal lines GL1 to GL128. The drive selection circuit 64 rewrites the selected pixel electrode portion at the intersection of the on-state gate signal line GLn (on) and the on-state image signal line selection lines SL1 to SL128 (on) with the image signal. A pixel electrode control circuit 63; and a holding circuit 62 that holds an image signal input from the input unit 61 and drives a non-selected pixel electrode unit as a still image. This is a static memory formed by connecting a first CMOS inverter 62a inputted thereto and a second CMOS inverter 62b connected thereto in a loop, and the second CMOS inverter 62b is a third memory constituting the third CMOS inverter 62b. N-channel TFT element 62bn third on Anti is larger configuration than the sum of the second on-resistance of the first on-resistance and the second n-channel TFT element 61b of the first n-channel TFT element 61a. With this configuration, the gate signal line and the image signal line are turned off in the pixel electrode portion that is driven for still image, and the gate signal line GLn and the image signal line DLn are selectively turned on only in the pixel electrode portion that is driven for rewriting. Therefore, power consumption can be kept extremely low. In addition, since the third on-resistance is larger than the sum of the first on-resistance and the second on-resistance, the pixel electrode portion held in the low (L) state is displayed by the high (H) image signal. When rewriting, the output voltage of the drain electrode portion of the second n-channel TFT element becomes high, and as a result, the rewriting drive can be executed reliably and quickly. Note that the holding circuit 62 is a static memory configured by connecting two CMOS inverters that are inversion logic circuits in which an n-channel TFT element and a p-channel TFT element are connected in common to each other and connecting them in series and in a loop. (SRAM).
図2の(a),(b)は、本発明のドットマトリクス型表示装置について実施の形態の一例を示す図であり、(a)は保持回路62と画素電極制御回路63を有する駆動選択回路64を含む画素電極部のブロック回路図、(b)は(a)の各ブロック回路を構成するTFT素
子群の接続関係を措いた詳細な回路図である。駆動選択回路64は、静止画駆動と書き換え駆動のいずれかを選択する回路であり、保持回路62、画素電極制御回路63を有している。
2A and 2B are diagrams showing an example of an embodiment of the dot matrix display device of the present invention. FIG. 2A is a drive selection circuit having a holding circuit 62 and a pixel electrode control circuit 63. FIG. The block circuit diagram of the pixel electrode part including 64, (b) is a detailed circuit diagram taking into account the connection relationship of the TFT element group constituting each block circuit of (a). The drive selection circuit 64 is a circuit that selects either still image drive or rewrite drive, and includes a holding circuit 62 and a pixel electrode control circuit 63.
駆動選択回路64の前段の入力部61には、第1のnチャンネルTFT素子61aと第2のnチャンネルTFT素子61bを直列的に接続させて成るトランスファゲート回路が設けられている。画像信号線DLn37側の第1のnチャンネルTFT素子61aは、そのゲート電極部に画像信号線
選択線SLn38を伝送されてきた信号が制御入力される。その信号がH(6V)の場合に第
1のnチャンネルTFT素子61aはオンとなり、L(0V)の場合に第1のnチャンネルTFT
素子61aはオフとなる。ゲート信号線GLn39側の第2のnチャンネルTFT素子61bは、そのゲート電極部にゲート信号線GLn39を伝送されてきた信号が制御入力される。その信号がH
(6V)の場合に第2のnチャンネルTFT素子61bはオンとなり、L(0V)の場合に第2のnチャンネルTFT素子61bはオフとなる。従って、ゲート信号線GLn39を伝送されてきた
信号がHであり、かつ画像信号線選択線SLn38を伝送されてきた信号がHである場合にの
み、トランスファゲート回路は等価回路的に閉(クローズ)状態となり、画像信号線DLn37
を伝送されてきた信号が保持回路62へ伝送される。
A transfer gate circuit formed by connecting a first n-channel TFT element 61a and a second n-channel TFT element 61b in series is provided in the input section 61 in the previous stage of the drive selection circuit 64. In the first n-channel TFT element 61a on the image signal line DLn37 side, the signal transmitted through the image signal line selection line SLn38 is controlled and input to the gate electrode portion. When the signal is H (6V), the first n-channel TFT element 61a is turned on. When the signal is L (0V), the first n-channel TFT 61a is turned on.
The element 61a is turned off. In the second n-channel TFT element 61b on the gate signal line GLn39 side, a signal transmitted through the gate signal line GLn39 is controlled and input to the gate electrode portion. The signal is H
In the case of (6V), the second n-channel TFT element 61b is turned on, and in the case of L (0V), the second n-channel TFT element 61b is turned off. Therefore, only when the signal transmitted through the gate signal line GLn39 is H and the signal transmitted through the image signal line selection line SLn38 is H, the transfer gate circuit is closed in an equivalent circuit (closed). The image signal line DLn37
Is transmitted to the holding circuit 62.
保持回路62は、第1のCMOSインバータ62aと第2のCMOSインバータ62bをループ状に接続して成るSRAMである。保持回路62は、第1のCMOSインバータ62aと第2のCMOSインバータ62bを直列に接続するとともに、第2のCMOSインバータ62bのドレイン共通接続点からの出
力を、第1のCMOSインバータ62aのゲート共通接続点に帰還入力させている。これにより
、例えば第1のCMOSインバータ62aのゲート共通接続点にHの信号が入力されると、次に
第1のCMOSインバータ62aのドレイン共通接続点からLの信号が出力され、次にそのLの
信号が第2のCMOSインバータ62bのゲート共通接続点に入力され、次に第2のCMOSインバ
ータ62bのドレイン共通接続点からHの信号が出力され、次にそのHの信号が第1のCMOS
インバータ62aのゲート共通接続点に帰還入力される。その結果、常時H(3V),L(
0V),Hの信号がループ状の伝送線上において保持される。即ち、保持回路62は記憶回
路として機能する。勿論、L,H,Lの信号をループ状の伝送線上において保持することもできる。
The holding circuit 62 is an SRAM formed by connecting a first CMOS inverter 62a and a second CMOS inverter 62b in a loop. The holding circuit 62 connects the first CMOS inverter 62a and the second CMOS inverter 62b in series, and outputs the output from the common drain connection point of the second CMOS inverter 62b to the common gate of the first CMOS inverter 62a. Feedback input to the connection point. Thus, for example, when an H signal is input to the gate common connection point of the first CMOS inverter 62a, an L signal is then output from the drain common connection point of the first CMOS inverter 62a. Is input to the gate common connection point of the second CMOS inverter 62b, and then the H signal is output from the drain common connection point of the second CMOS inverter 62b, and then the H signal is the first CMOS inverter.
The feedback is input to the common gate connection point of the inverter 62a. As a result, always H (3V), L (
0V), H signals are held on the loop transmission line. That is, the holding circuit 62 functions as a memory circuit. Of course, L, H, and L signals can be held on a loop-shaped transmission line.
画素電極制御回路63は、保持回路62の第1のCMOSインバータ62aを共用しており、画像
信号data(B)の反転信号(iB)を出力する第1CMOSのインバータ62aと、pチャンネ
ルTFT素子とnチャンネルTFT素子とから成り、共通電圧Vcom(A)と画像信号data(B
)と第1のCMOSインバータ62aの出力(iB)が参照入力されることによって2値データを
出力する第1の2値選択回路81と、pチャンネルTFT素子とnチャンネルTFT素子とから成り、共通電圧Vcom(A)と画像信号data(B)と第1のCMOSインバータ62aの出力(iB)が参照入力されることによって2値データを出力する、出力線が第1の2値選択回路81の出力線に並列的に接続されている第2の2値選択回路82と、を有している。そして、第1の2値選択回路81の出力及び第2の2値選択回路82の出力が、共通電圧Vcom(A)と
画像信号data(B)について排他的論理和(Exclusive OR :EXOR)の論理ゲート回路を構成している。
The pixel electrode control circuit 63 shares the first CMOS inverter 62a of the holding circuit 62, and includes a first CMOS inverter 62a that outputs an inverted signal (iB) of the image signal data (B), a p-channel TFT element, and the like. It consists of an n-channel TFT element, and a common voltage Vcom (A) and an image signal data (B
) And the output (iB) of the first CMOS inverter 62a are referred to and input, a first binary selection circuit 81 that outputs binary data, a p-channel TFT element and an n-channel TFT element, The binary data is output by the reference input of the voltage Vcom (A), the image signal data (B), and the output (iB) of the first CMOS inverter 62a. The output line of the first binary selection circuit 81 And a second binary selection circuit 82 connected in parallel to the output line. The output of the first binary selection circuit 81 and the output of the second binary selection circuit 82 are the exclusive OR (EXOR) of the common voltage Vcom (A) and the image signal data (B). A logic gate circuit is configured.
そして、図2(b)に示すように、保持回路62がL,H,Lの信号を保持している場合、ノーマリホワイトであれば白色の静止画表示を保持している。これを黒色の表示に書き換える場合、入力部61の第1のnチャンネルTFT素子61aのゲート電極部に画像信号線選択線SLn38からH(6V)の信号を入力するとともに、第2のnチャンネルTFT素子61bのゲ
ート電極部にゲート信号線GLn39からH(6V)の信号を入力することによって、第1及
び第2のnチャンネルTFT素子61a,61bをオン状態とする。次に、画像信号線DLn37からH
(3V)の信号を第1のnチャンネルTFT素子61aのソース電極部に入力し、第2のnチャンネルTFT素子61bのドレイン電極部から出力し、保持回路62に入力して、書き換え駆動を行う。このとき、保持回路62の第2のCMOSインバータ62bのnチャンネルTFT素子62bnがオン状態であるために、破線で示す電流経路90が生じる。
As shown in FIG. 2B, when the holding circuit 62 holds L, H, and L signals, a white still image display is held as long as it is normally white. When this is rewritten into black display, an H (6 V) signal is input from the image signal line selection line SLn38 to the gate electrode portion of the first n-channel TFT element 61a of the input portion 61, and the second n-channel TFT. By inputting a H (6 V) signal from the gate signal line GLn39 to the gate electrode portion of the element 61b, the first and second n-channel TFT elements 61a and 61b are turned on. Next, the image signal lines DLn37 to H
A signal of (3V) is input to the source electrode portion of the first n-channel TFT element 61a, is output from the drain electrode portion of the second n-channel TFT element 61b, is input to the holding circuit 62, and rewrite driving is performed. . At this time, since the n-channel TFT element 62bn of the second CMOS inverter 62b of the holding circuit 62 is in the ON state, a current path 90 indicated by a broken line is generated.
そうすると、画像信号線DLn37から入力部61に入力されたH(3V)の信号は、第1の
nチャンネルTFT素子61aの第1のオン抵抗Ro1と、第2のnチャンネルTFT素子61bの第2
のオン抵抗Ro2と、第3のnチャンネルTFT素子62bnの第3のオン抵抗Ro3とによって分圧
される。そして本発明のドットマトリクス型表示装置においては、第3のオン抵抗Ro3が
第1のオン抵抗Ro1と第2のオン抵抗Ro2の和よりも大きくなっている。これにより、第2のnチャンネルTFT素子61bのドレイン電極部からの出力電圧V161boは、第1のCMOSインバータ62aのnチャンネルTFT素子62anの閾値電圧(1.5V程度)より大きくなり、その結果
、書き換え駆動を確実かつ迅速に行うことができる。
Then, the H (3 V) signal input from the image signal line DLn37 to the input unit 61 is the first on-resistance Ro1 of the first n-channel TFT element 61a and the second of the second n-channel TFT element 61b.
Is divided by the third on-resistance Ro2 of the third n-channel TFT element 62bn. In the dot matrix display device of the present invention, the third on-resistance Ro3 is larger than the sum of the first on-resistance Ro1 and the second on-resistance Ro2. As a result, the output voltage V161bo from the drain electrode portion of the second n-channel TFT element 61b becomes larger than the threshold voltage (about 1.5 V) of the n-channel TFT element 62an of the first CMOS inverter 62a. Driving can be performed reliably and quickly.
一方、保持回路62がH,L,Hの信号を保持している場合、ノーマリホワイトであれば黒色の静止画表示を保持している場合に、書き換え駆動を行う場合には、画像信号線DLn37からL(0V)の信号を入力部61に入力する。この場合、第1のnチャンネルTFT素子61aのゲート電極部に印加されるゲート電圧(6V)と、第1のnチャンネルTFT素子61aの
ソース電極部の入力電圧V161ai(0V)との電位差が6Vと大きいために、第1のnチャンネルTFT素子61aのオン抵抗は実質的に小さくなる。すなわち、第1のnチャンネルTFT
素子61aのゲート電圧−ドレイン電流(Vgs-Ids)特性曲線における立ち上りがより急峻になるからであり、それはオン抵抗が小さくなることを意味する。同様に、第2のnチャンネルTFT素子61bのオン抵抗も実質的に小さくなる。その結果、V61boの上昇は抑えられ、
0Vに近い電位となり、第1のCMOSインバータ62aのpチャンネルTFT素子62apが容易にオン状態に切り換わって書き換え駆動が確実に実行される。
On the other hand, when the holding circuit 62 holds signals of H, L, and H, when normally white, a black still image display is held, and when rewrite driving is performed, an image signal line is used. An L (0 V) signal is input from the DLn 37 to the input unit 61. In this case, the potential difference between the gate voltage (6V) applied to the gate electrode portion of the first n-channel TFT element 61a and the input voltage V161ai (0V) of the source electrode portion of the first n-channel TFT element 61a is 6V. Therefore, the on-resistance of the first n-channel TFT element 61a is substantially reduced. That is, the first n-channel TFT
This is because the rise in the gate voltage-drain current (Vgs-Ids) characteristic curve of the element 61a becomes steeper, which means that the on-resistance becomes smaller. Similarly, the on-resistance of the second n-channel TFT element 61b is substantially reduced. As a result, the rise of V61bo is suppressed,
The potential is close to 0 V, and the p-channel TFT element 62ap of the first CMOS inverter 62a is easily switched on, so that the rewriting drive is reliably performed.
本発明においてはRo3>Ro1+Ro2とするが、(Ro1+Ro2)/Ro3は0.1〜0.9であることがよい。0.1未満では、Ro1,Ro2を小さくするために第1のnチャンネルTFT素子61a及び第
2のnチャンネルTFT素子61bのチャンネルの幅(W)を大きくしたり、長さ(L)を短く
する調整が、画素電極部のスペースの制約から難しくなる傾向がある。0.9を超えると、
上記本発明の効果が発現しにくくなる傾向がある。より好ましくは0.1〜0.5がよい。
In the present invention, Ro3> Ro1 + Ro2, but (Ro1 + Ro2) / Ro3 is preferably 0.1 to 0.9. If it is less than 0.1, the width (W) of the channel of the first n-channel TFT element 61a and the second n-channel TFT element 61b is increased or the length (L) is shortened in order to reduce Ro1 and Ro2. However, it tends to be difficult due to space limitations of the pixel electrode portion. Above 0.9,
There exists a tendency for the effect of the said invention to become difficult to express. More preferably, it is 0.1 to 0.5.
また、Ro1,Ro2は同じである。これにより、第1のnチャンネルTFT素子61a及び第2のnチャンネルTFT素子61bのチャンネルの幅(W)及び長さ(L)を同じにすることができ、素子設計が容易になる。 Ro1 and Ro2 are the same. Thereby, the channel width (W) and length (L) of the first n-channel TFT element 61a and the second n-channel TFT element 61b can be made the same, and the element design becomes easy.
なお、Ro1,Ro2,Ro3の調整は、第1のnチャンネルTFT素子61a、第2のnチャンネルTFT素子61b、第3のnチャンネルTFT素子62bnについて、それらのチャンネルの幅(W)、長さ(L)を調整すること、またそれらのゲート電極部に印加するゲート電圧の大きさを調整することによって、行うことができる。 Note that Ro1, Ro2, and Ro3 are adjusted by adjusting the width (W) and length of the first n-channel TFT element 61a, the second n-channel TFT element 61b, and the third n-channel TFT element 62bn. This can be done by adjusting (L) and adjusting the magnitude of the gate voltage applied to these gate electrode portions.
本発明のドットマトリクス型表示装置は、画像信号線DLn37は、画像信号の入力端部に
画像信号線選択線SLn38によってオンされる第4のnチャンネルTFT素子(図4に符号35で示す)が直列に接続されており、第3のオン抵抗Ro3が第1のオン抵抗Ro2と第2のオン抵抗R02と第4のnチャンネルTFT素子35の第4のオン抵抗Ro4の和よりも大きい。これによ
り、ロー(L)の状態に保持されている画素電極部をハイ(H)の画像信号によって書き換える際に、第2のnチャンネルTFT素子61bのドレイン電極部の出力電圧V61boが高くな
り、その結果書き換え駆動をより確実かつより迅速に実行できる。
In the dot matrix type display device of the present invention, the image signal line DLn37 has a fourth n-channel TFT element (indicated by reference numeral 35 in FIG. 4) which is turned on by the image signal line selection line SLn38 at the input end of the image signal. are connected in series, the third on-resistance Ro3 is greater than the sum of the fourth on-resistance Ro4 the first oN resistance Ro2 and a second on-resistance R02 fourth n-channel TFT element 35. This Reniyo
Ri, when rewriting the image signal of a low (L) state high pixel electrode portion held in the (H), the output voltage V61bo the drain electrode of the second n-channel TFT element 61b is increased, the The result rewriting drive can be executed more reliably and more quickly.
この場合、Ro3>Ro1+Ro2+Ro4とするが、(Ro1+Ro2+Ro4)/Ro3は0.1〜0.9であることがよい。0.1未満では、Ro1,Ro2,Ro4を小さくするために第1のnチャンネルTFT素子61a、第2のnチャンネルTFT素子61b及び第4のnチャンネルTFT素子35のチャンネルの幅
(W)を大きくしたり、長さ(L)を短くする調整が、画素電極部のスペースの制約、表示部10周辺のスペースの制約から難しくなる傾向がある。0.9を超えると、上記本発明の
効果が発現しにくくなる傾向がある。より好ましくは0.1〜0.5がよい。
In this case, Ro3> Ro1 + Ro2 + Ro4, but (Ro1 + Ro2 + Ro4) / Ro3 is preferably 0.1 to 0.9. If less than 0.1, the channel width (W) of the first n-channel TFT element 61a, the second n-channel TFT element 61b, and the fourth n-channel TFT element 35 is increased in order to reduce Ro1, Ro2, and Ro4. In other words, the adjustment to shorten the length (L) tends to be difficult due to the space limitation of the pixel electrode portion and the space around the display portion 10. If it exceeds 0.9, the effect of the present invention tends to be hardly exhibited. More preferably, it is 0.1 to 0.5.
また本発明のドットマトリクス型表示装置は、第1のオン抵抗Ro1と第2のオン抵抗Ro2と第4のオン抵抗Ro4のうち第4のオン抵抗Ro4が最も小さいことが好ましい。この場合、ハイ(H)の画像信号の電位の低下を、画像信号線DLn37の入力端部において抑えること
ができるので、ハイ(H)の画像信号の電位の低下を抑えるのに有利である。また、第1のnチャンネルTFT素子61aと第2のnチャンネルTFT素子61bは、画素電極部内の限られたスペースにあるために、設計の自由度が小さいのに対して、第4のnチャンネルTFT素子35は設計の自由度が高いので、第4のオン抵抗Ro4の制御が最も実行しやすい。これにより、ロー(L)の状態に保持されている画素電極部をハイ(H)の画像信号によって書き換える際に、第2のnチャンネルTFT素子61bのドレイン電極部の出力電圧V61boを高くする
ことが容易に行えるものとなる。
In the dot matrix type display device of the present invention, it is preferable that the fourth on-resistance Ro4 is the smallest among the first on-resistance Ro1, the second on-resistance Ro2, and the fourth on-resistance Ro4. In this case, a decrease in the potential of the high (H) image signal can be suppressed at the input end of the image signal line DLn37, which is advantageous in suppressing a decrease in the potential of the high (H) image signal. Further, since the first n-channel TFT element 61a and the second n-channel TFT element 61b are in a limited space in the pixel electrode portion, the fourth n-channel TFT has a small degree of design freedom. Since the TFT element 35 has a high degree of design freedom, the control of the fourth on-resistance Ro4 is most easily performed. Thus, when the pixel electrode portion held in the low (L) state is rewritten with the high (H) image signal, the output voltage V61bo of the drain electrode portion of the second n-channel TFT element 61b is increased. Can be easily performed.
また本発明のドットマトリクス型表示装置は、画像信号線選択線SLn38を伝送されて第
1のnチャンネルTFT素子61aのゲート電極部に入力されるゲート電圧(例えば6V超)と画像信号のピーク電圧(例えば3V)との電圧差(例えば3V超)が、画像信号のピーク電圧よりも大きい(例えば3V超となる)ことが好ましい。この場合、第1のnチャンネルTFT素子61aのオン抵抗Ro1がより小さくなる。その結果、ロー(L)の状態に保持され
ている画素電極部をハイ(H)の画像信号によって書き換える際に、第2のnチャンネルTFT素子61bのドレイン電極部の出力電圧V61boが高くなり、その結果書き換え駆動をより
確実かつより迅速に実行できる。この場合、上記ゲート電圧は、例えば6Vを超え7V程度以下の電圧にすることができる。
In addition, the dot matrix type display device of the present invention transmits the image signal line selection line SLn38 and the gate voltage (for example, more than 6V) input to the gate electrode portion of the first n-channel TFT element 61a and the peak voltage of the image signal. It is preferable that the voltage difference (for example, more than 3V) with (for example, more than 3V) is larger than the peak voltage of the image signal (for example, more than 3V). In this case, the on-resistance Ro1 of the first n-channel TFT element 61a becomes smaller. As a result, when the pixel electrode portion held in the low (L) state is rewritten with a high (H) image signal, the output voltage V61bo of the drain electrode portion of the second n-channel TFT element 61b becomes high, As a result, the rewriting drive can be executed more reliably and more quickly. In this case, the gate voltage can be, for example, more than 6V and about 7V or less.
さらに、第2のnチャンネルTFT素子61bのゲート電極部に入力されるゲート電圧(例えば6V超)と画像信号のピーク電圧(例えば3V)との電圧差(例えば3V超)が、画像
信号のピーク電圧よりも大きい(例えば3V超となる)ことが好ましい。この場合、第2のnチャンネルTFT素子61bのオン抵抗Ro2がより小さくなる。その結果、ロー(L)の状
態に保持されている画素電極部をハイ(H)の画像信号によって書き換える際に、第2のnチャンネルTFT素子61bのドレイン電極部の出力電圧V61boが高くなり、その結果書き換
え駆動をより確実かつより迅速に実行できる。この場合、上記ゲート電圧は、例えば6Vを超え7V程度以下の電圧にすることができる。
Furthermore, the voltage difference (for example, more than 3V) between the gate voltage (for example, more than 6V) input to the gate electrode portion of the second n-channel TFT element 61b and the peak voltage (for example, 3V) of the image signal is the peak of the image signal. It is preferably larger than the voltage (for example, more than 3V). In this case, the on-resistance Ro2 of the second n-channel TFT element 61b becomes smaller. As a result, when the pixel electrode portion held in the low (L) state is rewritten with a high (H) image signal, the output voltage V61bo of the drain electrode portion of the second n-channel TFT element 61b becomes high, As a result, the rewriting drive can be executed more reliably and more quickly. In this case, the gate voltage can be, for example, more than 6V and about 7V or less.
本発明のドットマトリクス型表示装置は、1つの表示パネルにおいて、書き換え周期をそれぞれに最適なものとした表示領域を複数設けることができる。この場合、ある表示領域では書き換えと次の書き換えとの間の期間を非常に長く設定し、他の表示領域では書き換えと次の書き換えとの間の期間を短く設定することにより、消費電力の制御を高い精度で行うことができる。その結果、消費電力をより低減させることができる。 The dot matrix display device of the present invention can provide a plurality of display areas each having an optimum rewrite cycle in one display panel. In this case, the power consumption can be controlled by setting a very long period between rewriting in one display area and setting a short period between rewriting in the other display area. Can be performed with high accuracy. As a result, power consumption can be further reduced.
本発明のドットマトリクス型表示装置の全体構成について以下に説明する。図1は、ドットマトリクス型表示装置の基本構成のブロック回路図であり、表示パネルは16384ドッ
ト(縦128ドット×横128ドット)の画素数を有する白黒表示のLCDである。図1において、LCDパネルの一方の横側にゲート信号線駆動回路3が設けられ、LCDパネルの下側に画像信
号(ソース信号)線駆動回路4が設けられている。なお、図1において、1はTFT素子、2
は共通電圧Vcomを画素電極部の共通電極に供給する共通電圧線、10は表示部、11はLCDパネルである。
The overall configuration of the dot matrix display device of the present invention will be described below. FIG. 1 is a block circuit diagram of a basic configuration of a dot matrix type display device, and a display panel is a monochrome display LCD having a number of pixels of 16384 dots (vertical 128 dots × horizontal 128 dots). In FIG. 1, a gate signal line drive circuit 3 is provided on one side of the LCD panel, and an image signal (source signal) line drive circuit 4 is provided on the lower side of the LCD panel. In FIG. 1, 1 is a TFT element, 2
Denotes a common voltage line for supplying the common voltage Vcom to the common electrode of the pixel electrode portion, 10 denotes a display portion, and 11 denotes an LCD panel.
図3は、ゲート信号線駆動回路3の詳細な構成を示す回路図である。ゲート信号線駆動回路3は、ゲート選択信号線GS1〜GS7、ゲート選択信号線GS1〜GS7のそれぞれの反転信号を生成するCMOSインバータ等から成るインバータ21からの反転出力を伝送する反転ゲート選択信号線iGS1〜iGS7(図3では符号に上付きバーの反転記号を付している)、ゲート選択信号線GS1〜GS7及び反転ゲート選択信号線iGS1〜iGS7から成る14個の信号のうち7個の信号が入力される論理和否定(NOR)の論理ゲート回路22、論理ゲート回路22の出力の電圧振
幅を昇圧させて画素電極部のゲート信号線GLn39側の第1のnチャンネルTFT素子61aを動
作させるための昇圧回路(レベルシフタ(Level/Shifter :L/S))23、昇圧回路23の出力
を反転させるCMOSインバータ等から成るインバータ24、を有している。尚、図2において10は表示部である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a detailed configuration of the gate signal line driving circuit 3. The gate signal line driving circuit 3 is an inverted gate selection signal line for transmitting an inverted output from an inverter 21 composed of a CMOS inverter or the like for generating inverted signals of the gate selection signal lines GS1 to GS7 and the gate selection signal lines GS1 to GS7. 7 signals out of 14 signals consisting of iGS1 to iGS7 (in FIG. 3, the inverted symbol of the superscript bar is attached), gate selection signal lines GS1 to GS7 and inverted gate selection signal lines iGS1 to iGS7 Is increased, and the voltage amplitude of the output of the logic gate circuit 22 is boosted to operate the first n-channel TFT element 61a on the gate signal line GLn39 side of the pixel electrode section. A booster circuit (level shifter (Level / Shifter: L / S)) 23, and an inverter 24 composed of a CMOS inverter or the like for inverting the output of the booster circuit 23. In FIG. 2, reference numeral 10 denotes a display unit.
このゲート信号線駆動回路3において、論理ゲート回路22は、それに入力される7個の信号の全てがロー(「L」で表し、例えば0Vの信号)である場合に、ハイ(「H」で表し
、例えば3Vの信号)を出力する。そして、論理ゲート回路22に入力される、ゲート選択
信号線GS1〜GS7及び反転ゲート選択信号線iGS1〜iGS7の配線の組合せは27=128通りあり、ゲート選択信号線GS1〜GS7に入力する7個で1組の信号によって、1つの論理ゲート回路22を選択することができる。これにより、ゲート信号線GL1〜GL128のうちの1本を任意
に選択してオンすることができる。尚、ゲート選択信号線GS1〜GS7に入力する7個で1組
の信号の制御は、LCDパネル11上または外部に設けられた制御LSI(Large Scale lntegrated circuit)等によって行うことができる。
In this gate signal line driving circuit 3, the logic gate circuit 22 is high (“H”) when all of the seven signals input thereto are low (represented by “L”, for example, a signal of 0V). For example, 3V signal). There are 2 7 = 128 combinations of wirings of the gate selection signal lines GS1 to GS7 and the inverted gate selection signal lines iGS1 to iGS7, which are input to the logic gate circuit 22, and are input to the gate selection signal lines GS1 to GS7 7 One logic gate circuit 22 can be selected by one set of signals. Thereby, one of the gate signal lines GL1 to GL128 can be arbitrarily selected and turned on. Note that control of a set of seven signals input to the gate selection signal lines GS1 to GS7 can be performed by a control LSI (Large Scale Integrated Circuit) provided on the LCD panel 11 or externally.
図4は、画像信号線駆動回路4の詳細な構成を示す回路図である。画像信号線駆動回路4は、画像選択信号線SS1〜SS7、画像選択信号線SS1〜SS7のそれぞれの反転信号を生成するCMOSインバータ等から成るインバータ31、インバータ31からの反転出力を伝送する反転画像選択信号線iSS1〜iSS7、画像選択信号線SS1〜SS7及び反転画像選択信号線iSS1〜iSS7から成る14個の信号のうち7個の信号が入力される論理和否定(NOR)の論理ゲート回路32
、論理ゲート回路32の出力の電圧振幅を昇圧させて画素電極部の画像信号線DLn37側の第
2のnチャンネルTFT素子61bを動作させるための昇圧回路(L/S)33、昇圧回路33の出
力を反転させるCMOSインバータ等から成るインバータ34、を有している。さらに、画像信
号(Data)を伝送させる画像信号線36、インバータ34からの出力によってオンされ、画像信号線36からの画像信号Dataを画素電極部に出力するトランスファゲート素子である第4のnチャンネルTFT素子35、を有している。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a detailed configuration of the image signal line driving circuit 4. The image signal line driving circuit 4 includes an image selection signal line SS1 to SS7, an inverter 31 including a CMOS inverter that generates an inverted signal of each of the image selection signal lines SS1 to SS7, and an inverted image that transmits an inverted output from the inverter 31. A logic gate circuit 32 of a logical sum negation (NOR) to which seven signals out of 14 signals composed of the selection signal lines iSS1 to iSS7, the image selection signal lines SS1 to SS7, and the inverted image selection signal lines iSS1 to iSS7 are input.
The booster circuit (L / S) 33 for boosting the voltage amplitude of the output of the logic gate circuit 32 and operating the second n-channel TFT element 61b on the image signal line DLn37 side of the pixel electrode portion, And an inverter 34 composed of a CMOS inverter or the like for inverting the output. Further, a fourth n-channel which is a transfer gate element that is turned on by the output from the image signal line 36 for transmitting the image signal (Data) and the inverter 34 and outputs the image signal Data from the image signal line 36 to the pixel electrode portion. TFT element 35 is provided.
この画像信号線駆動回路4において、論理ゲート回路32は、それに入力される7個の信
号の全てがL(例えば0Vの信号)である場合に、H(例えば3Vの信号)を出力する。そして、論理ゲート回路32に入力される、画像選択信号線SS1〜SS7及び反転画像選択信号線iSS1〜iSS7の配線の組合せは27=128通りあり、画像選択信号線SS1〜SS7に入力する7個で1組の信号によって、1つの論理ゲート回路32を選択することができる。これにより、画
像信号線選択線SL1〜SL128のうちの1本を任意に選択してオンすることができる。尚、画像選択信号線SS1〜SS7に入力する7個で1組の信号の制御は、LCDパネル11上または外部
に設けられた制御LSI等によって行うことができる。
In the image signal line driving circuit 4, the logic gate circuit 32 outputs H (for example, a 3V signal) when all of the seven signals input thereto are L (for example, a 0V signal). Then, there are 2 7 = 128 combinations of wirings of the image selection signal lines SS1 to SS7 and the inverted image selection signal lines iSS1 to iSS7, which are input to the logic gate circuit 32, and are input to the image selection signal lines SS1 to SS7 7 One logic gate circuit 32 can be selected by one set of signals. Thereby, one of the image signal line selection lines SL1 to SL128 can be arbitrarily selected and turned on. The control of a set of seven signals input to the image selection signal lines SS1 to SS7 can be performed by a control LSI or the like provided on the LCD panel 11 or outside.
さらに、任意に選択された1本の画像信号線選択線SLnが1個の第4のnチャンネルTFT素子35をオンし、その第4のnチャンネルTFT素子35が1つの画像信号Dataを画像信号線DLn37上を伝送させて画素電極部に伝達させる。このような画像信号Dataの入力の制御は、上記の制御LSI等によって行うことができる。 Further, one arbitrarily selected image signal line selection line SLn turns on one fourth n-channel TFT element 35, and the fourth n-channel TFT element 35 receives one image signal Data as an image signal. The signal is transmitted on the line DLn37 and transmitted to the pixel electrode unit. Such input control of the image signal Data can be controlled by the control LSI or the like.
図5(a),(b)は、ゲート信号線駆動回路3における1本のゲート信号線GL128を
オンオフさせる駆動回路部の1実施の形態を示す回路図である。反転ゲート選択信号線iGS1〜iGS6(図5(a),(b)では符号に上付きバーの反転記号を付している)及びゲート選択信号線GS7のそれぞれに、pチャンネルTFT素子41とnチャンネルTFT素子42とから成
るインバータが接続されている。
FIGS. 5A and 5B are circuit diagrams showing an embodiment of a drive circuit unit for turning on and off one gate signal line GL128 in the gate signal line drive circuit 3. FIG. Each of the inverted gate selection signal lines iGS1 to iGS6 (in FIG. 5A and FIG. 5B, the symbol is indicated by the inverted symbol of the superscript bar) and the gate selection signal line GS7 are respectively connected to the p-channel TFT element 41 and n. An inverter composed of a channel TFT element 42 is connected.
これらの7個のインバータは、それぞれのゲート共通接続点は、反転ゲート選択信号線iGS1〜iGS6及びゲート選択信号線GS7の1本々に接続され、7つのドレイン共通接続点は
、共通接続されている。これにより、反転ゲート選択信号線iGS1〜iGS6及びゲート選択信号線GS7の全てにLの信号が入力されたときにのみ、共通接続された7つのドレイン共通
接続点からHの信号が出力される。即ち、論理和否定(NOR)の論理ゲート回路22として機
能する。
Each of these seven inverters has a common gate connection point connected to one of the inverted gate selection signal lines iGS1 to iGS6 and the gate selection signal line GS7, and the seven common drain connection points are connected in common. Yes. Accordingly, only when the L signal is input to all of the inverted gate selection signal lines iGS1 to iGS6 and the gate selection signal line GS7, the H signal is output from the seven commonly connected drain connection points. In other words, it functions as a logical gate circuit 22 for logical sum negation (NOR).
NORの論理ゲート回路22の出力(Hの信号)は、インバータ43と、pチャンネルTFT素子とnチャンネルTFT素子をドレイン電極部を共通接続して直列的に接続したトランスファゲ
ート回路44と、pチャンネルTFT素子とnチャンネルTFT素子をドレイン電極部を共通接続して直列的に接続したトランスファゲート回路45とから成る昇圧回路(L/S)23に入力される。一方のトランスファゲート回路44のドレイン共通接続点は、他方のトランスファゲート回路45のpチャンネルTFT素子のゲート電極部に接続されている。また、他方のトラ
ンスファゲート回路45のドレイン共通接続点は、一方のトランスファゲート回路44のpチャンネルTFT素子のゲート電極部に接続されている。
The output (H signal) of the NOR logic gate circuit 22 includes an inverter 43, a transfer gate circuit 44 in which a p-channel TFT element and an n-channel TFT element are connected in series with a common drain electrode, and a p-channel circuit. The voltage is input to a booster circuit (L / S) 23 comprising a transfer gate circuit 45 in which a TFT element and an n-channel TFT element are connected in series with a common drain electrode. The common drain connection point of one transfer gate circuit 44 is connected to the gate electrode portion of the p-channel TFT element of the other transfer gate circuit 45. The common drain connection point of the other transfer gate circuit 45 is connected to the gate electrode portion of the p-channel TFT element of the one transfer gate circuit 44.
そして、一方のトランスファゲート回路44のnチャンネルTFT素子のゲート電極部にH
の信号が入力されると、nチャンネルTFT素子に電流が流れて、一方のトランスファゲー
ト回路44のドレイン共通接続点が0Vの電位(L)となる。この0Vの電位が、インバータ24のゲート共通接続点に入力される。これにより、インバータ24のドレイン共通接続点からゲート信号線GL128にHの信号(6V)が入力される。このとき、他方のトランスファ
ゲート回路45のpチャンネルTFT素子のゲート電極部に0Vの電位(L)が印加され、pチ
ャンネルTFT素子がオンとなり、pチャンネルTFT素子のドレイン電極部が6Vの電位になるが、この電位はインバータ24へは伝達されない。また、他方のトランスファゲート回路45のnチャンネルTFT素子のゲート電極部には、インバータ43のドレイン共通接続点から
Lの信号が入力されるため、そのnチャンネルTFT素子はオフとなる。
The gate electrode part of the n-channel TFT element of one transfer gate circuit 44 is H
Is input, a current flows through the n-channel TFT element, and the common drain connection point of one transfer gate circuit 44 becomes a potential (L) of 0V. This potential of 0V is input to the gate common connection point of the inverter 24. As a result, an H signal (6 V) is input from the drain common connection point of the inverter 24 to the gate signal line GL128. At this time, a potential (L) of 0V is applied to the gate electrode portion of the p-channel TFT element of the other transfer gate circuit 45, the p-channel TFT element is turned on, and the drain electrode portion of the p-channel TFT element is set to a potential of 6V. However, this potential is not transmitted to the inverter 24. Further, since the L signal is input to the gate electrode portion of the n-channel TFT element of the other transfer gate circuit 45 from the drain common connection point of the inverter 43, the n-channel TFT element is turned off.
図6(a),(b)は、画像信号線駆動回路4における1本の画像信号線選択線SL128
をオンオフさせる駆動回路部の1実施の形態を示す回路図である。反転画像選択信号線iSS1〜iSS6及び画像選択信号線SS7のそれぞれに、pチャンネルTFT素子51とnチャンネルTFT素子52とから成るインバータが接続されている。
6A and 6B show one image signal line selection line SL128 in the image signal line drive circuit 4. FIG.
FIG. 2 is a circuit diagram showing an embodiment of a drive circuit unit for turning on / off. An inverter composed of a p-channel TFT element 51 and an n-channel TFT element 52 is connected to each of the inverted image selection signal lines iSS1 to iSS6 and the image selection signal line SS7.
これらの7個のインバータは、それぞれのゲート共通接続点は、反転画像選択信号線iSS1〜iSS6及び画像選択信号線SS7の1本々に接続され、7つのドレイン共通接続点は、共
通接続されている。これにより、反転画像選択信号線iSS1〜iSS6及び画像選択信号線SS7
の全てにLの信号が入力されたときにのみ、共通接続された7つのドレイン共通接続点からHの信号が出力される。即ち、論理和否定(NOR)の論理ゲート回路32として機能する。
Each of these seven inverters has a common gate connection point connected to each of the inverted image selection signal lines iSS1 to iSS6 and the image selection signal line SS7, and the seven drain common connection points are commonly connected. Yes. Thus, the inverted image selection signal lines iSS1 to iSS6 and the image selection signal line SS7
Only when the L signal is input to all of the two, the H signal is output from the seven commonly connected drain connection points. In other words, it functions as a logical gate circuit 32 of a logical sum negation (NOR).
NORの論理ゲート回路32の出力(Hの信号)は、インバータ53と、pチャンネルTFT素子とnチャンネルTFT素子をドレイン電極部を共通接続して直列的に接続したトランスファゲ
ート回路54と、pチャンネルTFT素子とnチャンネルTFT素子をドレイン電極部を共通接続して直列的に接続したトランスファゲート回路55とから成る昇圧回路(L/S)33に入力される。一方のトランスファゲート回路54のドレイン共通接続点は、他方のトランスファゲート回路55のpチャンネルTFT素子のゲート電極部に接続されている。また、他方のトラ
ンスファゲート回路55のドレイン共通接続点は、一方のトランスファゲート回路54のpチャンネルTFT素子のゲート電極部に接続されている。
The output (H signal) of the NOR logic gate circuit 32 includes an inverter 53, a transfer gate circuit 54 in which a p-channel TFT element and an n-channel TFT element are connected in series with a common drain electrode, and a p-channel. The voltage is input to a booster circuit (L / S) 33 including a transfer gate circuit 55 in which a TFT element and an n-channel TFT element are connected in series with a common drain electrode portion. The common drain connection point of one transfer gate circuit 54 is connected to the gate electrode portion of the p-channel TFT element of the other transfer gate circuit 55. The common drain connection point of the other transfer gate circuit 55 is connected to the gate electrode portion of the p-channel TFT element of the one transfer gate circuit 54.
そして、一方のトランスファゲート回路54のnチャンネルTFT素子のゲート電極部にH
の信号が入力されると、nチャンネルTFT素子に電流が流れて、一方のトランスファゲー
ト回路54のドレイン共通接続点が0Vの電位(L)となる。この0Vの電位が、インバータ34のゲート共通接続点に入力される。これにより、インバータ34のドレイン共通接続点から画像信号線選択線SL128にHの信号(6V)が入力される。このとき、他方のトランス
ファゲート回路55のpチャンネルTFT素子のゲート電極部に0Vの電位(L)が印加され、
pチャンネルTFT素子がオンとなり、pチャンネルTFT素子のドレイン電極部が6Vの電位になるが、この電位はインバータ34へは伝達されない。また、他方のトランスファゲート回路55のnチャンネルTFT素子のゲート電極部には、インバータ53のドレイン共通接続点
からLの信号が入力されるため、そのnチャンネルTFT素子はオフとなる。
The gate electrode part of the n-channel TFT element of one transfer gate circuit 54 is H
When the above signal is input, a current flows through the n-channel TFT element, and the common drain connection point of one transfer gate circuit 54 becomes a potential (L) of 0V. This 0 V potential is input to the common gate connection point of the inverter 34. As a result, the H signal (6 V) is input from the common drain connection point of the inverter 34 to the image signal line selection line SL128. At this time, a potential (L) of 0 V is applied to the gate electrode portion of the p-channel TFT element of the other transfer gate circuit 55,
The p-channel TFT element is turned on and the drain electrode portion of the p-channel TFT element has a potential of 6V, but this potential is not transmitted to the inverter 34. Further, since the L signal is input to the gate electrode portion of the n-channel TFT element of the other transfer gate circuit 55 from the common drain connection point of the inverter 53, the n-channel TFT element is turned off.
さらに、画像信号線選択線SL128には、画像信号線選択線SL128を伝送する信号をゲート電極部への制御入力とする第4のnチャンネルTFT素子35が接続されており、第4のnチ
ャンネルTFT素子35のソース電極部には画像信号線36が接続されている。これにより、画
像信号線選択線SL128を伝送する信号がHのときに第4のnチャンネルTFT素子35がオンとなり、画像信号線DL128によって画像信号Dataが画素電極部に伝達される。
Further, a fourth n-channel TFT element 35 is connected to the image signal line selection line SL128. The fourth n-channel TFT element 35 receives a signal transmitted through the image signal line selection line SL128 as a control input to the gate electrode portion. An image signal line 36 is connected to the source electrode portion of the TFT element 35. Thus, when the signal transmitted through the image signal line selection line SL128 is H, the fourth n-channel TFT element 35 is turned on, and the image signal Data is transmitted to the pixel electrode portion through the image signal line DL128.
図7及び図8は、保持回路62と画素電極制御回路63を有する駆動選択回路64を含む画素電極部の1実施の形態を示す回路図である。図7はブロック回路図、図8は各ブロック回路を構成するTFT素子群を措いた詳細な回路図である。駆動選択回路64は、静止画駆動と
書き換え駆動のいずれかを選択する回路であり、保持回路62、画素電極制御回路63を有している。
7 and 8 are circuit diagrams showing an embodiment of a pixel electrode unit including a drive selection circuit 64 having a holding circuit 62 and a pixel electrode control circuit 63. FIG. FIG. 7 is a block circuit diagram, and FIG. 8 is a detailed circuit diagram in which TFT element groups constituting each block circuit are taken. The drive selection circuit 64 is a circuit that selects either still image drive or rewrite drive, and includes a holding circuit 62 and a pixel electrode control circuit 63.
図7、図8に示すように、駆動選択回路64の前段の入力部61には、第1及び第2のnチャンネルTFT素子61a,61bを直列的に接続させて成るトランスファゲート回路が設けられている。画像信号線DLn37側の第1のnチャンネルTFT素子61aは、そのゲート電極部に画像
信号線選択線SLn38を伝送されてきた信号が制御入力される。その信号がHの場合に第1
のnチャンネルTFT素子61aはオンとなり、Lの場合に第1のnチャンネルTFT素子61aはオフとなる。ゲート信号GLn39側の第2のnチャンネルTFT素子61bは、そのゲート電極部に
ゲート信号線GLn39を伝送されてきた信号が制御入力される。その信号がHの場合に第2
のnチャンネルTFT素子61bはオンとなり、Lの場合に第2のnチャンネルTFT素子61bはオフとなる。従って、ゲート信号線GLn39を伝送されてきた信号がHであり、かつ画像信号
線選択線SLn38を伝送されてきた信号がHである場合にのみ、トランスファゲート回路は
等価回路的に閉(クローズ)状態となり、画像信号線DLn37を伝送されてきた信号が保持回
路62へ伝送される。
As shown in FIGS. 7 and 8, a transfer gate circuit formed by connecting first and second n-channel TFT elements 61a and 61b in series is provided in the input section 61 in the previous stage of the drive selection circuit 64. ing. In the first n-channel TFT element 61a on the image signal line DLn37 side, the signal transmitted through the image signal line selection line SLn38 is controlled and input to the gate electrode portion. First when the signal is H
The n-channel TFT element 61a is turned on, and in the case of L, the first n-channel TFT element 61a is turned off. In the second n-channel TFT element 61b on the gate signal GLn39 side, a signal transmitted through the gate signal line GLn39 is controlled and input to the gate electrode portion. Second if the signal is H
The n-channel TFT element 61b is turned on, and in the case of L, the second n-channel TFT element 61b is turned off. Therefore, only when the signal transmitted through the gate signal line GLn39 is H and the signal transmitted through the image signal line selection line SLn38 is H, the transfer gate circuit is closed in an equivalent circuit (closed). Then, the signal transmitted through the image signal line DLn37 is transmitted to the holding circuit 62.
図8は、保持回路62としてのスタティック型メモリの構成を示すものである。保持回路62は、第1及び第2のCMOSインバータ62a,62bを直列に接続し、第2(後段側)のCMOSイン
バータ62bのドレイン共通接続点からの出力を、第1(前段側)のCMOSインバータ62aのゲート共通接続点に帰還入力させている。これにより、第1のCMOSインバータ62aのゲート共
通接続点にHの信号が入力されると、次に第1のCMOSインバータ62aのドレイン共通接続
点からLの信号が出力され、次にそのLの信号が第2のCMOSインバータ62bのゲート共通
接続点に入力され、次に第2のCMOSインバータ62bのドレイン共通接続点からHの信号が
出力され、次にそのHの信号が第1のCMOSインバータ62aのゲート共通接続点に帰還入力
される。その結果、例えば常時H,L,Hの信号がループ状の伝送線上において保持される。
FIG. 8 shows a configuration of a static memory as the holding circuit 62. The holding circuit 62 connects the first and second CMOS inverters 62a and 62b in series, and outputs the output from the common drain connection point of the second (rear stage) CMOS inverter 62b to the first (previous stage) CMOS. A feedback input is made to the common gate connection point of the inverter 62a. As a result, when an H signal is input to the gate common connection point of the first CMOS inverter 62a, an L signal is then output from the drain common connection point of the first CMOS inverter 62a. The signal is input to the gate common connection point of the second CMOS inverter 62b, and then the H signal is output from the drain common connection point of the second CMOS inverter 62b, and then the H signal is the first CMOS inverter. It is fed back to the gate common connection point of 62a. As a result, for example, H, L, and H signals are always held on the loop transmission line.
図9は、画素電極制御回路63を構成するTFT素子群の接続関係を描いた回路図である。
画素電極制御回路63は、保持回路62の第1のCMOSインバータ62aを共用しており、画像信
号Bの反転信号iB(図では符号に上付きバーの反転記号を付している)を出力する第1のCMOSインバータ62aと、pチャンネルTFT素子81aとnチャンネルTFT素子81bとから成り、
共通電圧Vcom(A)と画像信号data(B)と第1のCMOSインバータ62aの出力(iB)が参照入力されることによって2値データを出力する第1の2値選択回路81と、pチャンネルTFT素子82aとnチャンネルTFT素子82bとから成り、共通電圧Vcom(A)と画像信号data
(B)と第1のCMOSインバータ62aの出力(iB)が参照入力されることによって2値デ
ータを出力する、出力線が第1の2値選択回路81の出力線に並列的に接続されている第2の2値選択回路82と、を有している。そして、第1の2値選択回路81の出力及び第2の2値選択回路82の出力が、共通電圧Vcom(A)と画像信号data(B)について排他的論理
和(Exclusive OR :EXOR)の論理ゲート出力を構成している。
FIG. 9 is a circuit diagram depicting the connection relationship of the TFT element groups constituting the pixel electrode control circuit 63. As shown in FIG.
The pixel electrode control circuit 63 shares the first CMOS inverter 62a of the holding circuit 62, and outputs the inverted signal iB of the image signal B (in the figure, the symbol is attached with the inverted symbol of the superscript bar). A first CMOS inverter 62a, a p-channel TFT element 81a and an n-channel TFT element 81b,
A first binary selection circuit 81 that outputs binary data by reference input of the common voltage Vcom (A), the image signal data (B), and the output (iB) of the first CMOS inverter 62a, and p channel It consists of a TFT element 82a and an n-channel TFT element 82b, and a common voltage Vcom (A) and image signal data.
(B) and the output (iB) of the first CMOS inverter 62a are referenced and input to output binary data. The output line is connected in parallel to the output line of the first binary selection circuit 81. And a second binary selection circuit 82. The output of the first binary selection circuit 81 and the output of the second binary selection circuit 82 are the exclusive OR (EXOR) of the common voltage Vcom (A) and the image signal data (B). Configures the logic gate output.
第1の2値選択回路81は、pチャンネルTFT素子81aとnチャンネルTFT素子81bを、ゲート電極部を共通接続するとともにドレイン電極部を共通接続したCMOSインバータであり、画像信号data(B)がH(1)の信号である場合にのみ、2値データ(Y)を出力する。逆に、画像信号data(B)がL(0)の信号である場合、第1の2値選択回路81はインバータとして機能せず、ハイインピーダンスの状態、即ち等価回路的に開(オープン)状態となり、2値データ(Y)を出力しない。 The first binary selection circuit 81 is a CMOS inverter in which a p-channel TFT element 81a and an n-channel TFT element 81b are connected in common to the gate electrode portion and the drain electrode portion, and the image signal data (B) is Only when the signal is H (1), binary data (Y) is output. On the other hand, when the image signal data (B) is a signal of L (0), the first binary selection circuit 81 does not function as an inverter and is in a high impedance state, that is, in an open state in terms of an equivalent circuit. Therefore, binary data (Y) is not output.
第2の2値選択回路82は、pチャンネルTFT素子82aとnチャンネルTFT素子82bを、ソース電極部同士及びドレイン電極部同士を接続した4端子型のトランスファゲート回路であり、nチャンネルTFT素子82bのゲート電極部に入力される第1のインバータ62aの出力(
iB)を制御入力としている。そして、第1のインバータ62aの出力(iB)がHの信号
(1)である場合、即ち画像信号data(B)がLの信号(0)である場合にのみ、2値データ(Y)を出力する。逆に、第1のインバータ62aの出力(iB)がLの信号(0)で
ある場合、第2の2値選択回路82はトランスファゲート回路として機能せず、ハイインピーダンスの状態、即ち等価回路的に開(オープン)状態となり、2値データ(Y)を出力しない。
The second binary selection circuit 82 is a four-terminal transfer gate circuit in which a p-channel TFT element 82a and an n-channel TFT element 82b are connected to each other between source electrode portions and drain electrode portions, and an n-channel TFT element 82b. Output of the first inverter 62a input to the gate electrode portion (
iB) is used as a control input. Only when the output (iB) of the first inverter 62a is the H signal (1), that is, when the image signal data (B) is the L signal (0), the binary data (Y) is obtained. Output. On the other hand, when the output (iB) of the first inverter 62a is the L signal (0), the second binary selection circuit 82 does not function as a transfer gate circuit and is in a high impedance state, that is, equivalent circuit-like. Open (open) state, and binary data (Y) is not output.
このように、第2の2値選択回路82の出力線が第1の2値選択回路81の出力線に並列的に接続されているので、第1の2値選択回路81の出力及び第2の2値選択回路82の出力が
、共通電圧Vcom(A)と画像信号data(B)について排他的論理和の論理ゲート出力を
構成することになる。即ち、画素電極制御回路63は、共通電圧Vcom(A)と画像信号data(B)について排他的論理和の論理ゲート回路となっている。
Since the output line of the second binary selection circuit 82 is connected in parallel to the output line of the first binary selection circuit 81 in this way, the output of the first binary selection circuit 81 and the second The output of the binary selection circuit 82 constitutes an exclusive OR logic gate output for the common voltage Vcom (A) and the image signal data (B). That is, the pixel electrode control circuit 63 is a logic gate circuit that performs an exclusive OR operation on the common voltage Vcom (A) and the image signal data (B).
図10は、共通電圧Vcom(A)と画像信号data(B)を2値入力とする、排他的論理和
の論理ゲート回路の出力(Y)を記載した真理値表である。画像信号data(B)が画素電極部に入力された場合、即ち画像信号data(B)がH(3V:「1」)の信号である場合に
、画素電圧Pixelと共通電圧Vcom(A)との間に電位差が生じて、ノーマリホワイトモードであれば黒表示、ノーマリブラックモードであれば白表示となる。このように共通電圧Vcom(A)を反転駆動させても、画素電圧Pixelと共通電圧Vcom(A)との間の電位差
は保持されるので、画素電極部における表示を保持した状態で、液晶の劣化を防ぐための、液晶に対する交流駆動が実現する。一方、画像信号data(B)が画素電極部に入力されない場合、即ち画像信号data(B)がL(0V:「0」)の信号である場合に、画素電圧Pixelと共通電圧Vcom(A)との間には電位差が生じず、ノーマリホワイトモードであれば
白表示、ノーマリブラックモードであれば黒表示となる。このように共通電圧Vcom(A
)を反転駆動させても、画素電圧Pixelと共通電圧Vcom(A)との間の電位差がない状態が保持されるので、画素電極部における表示を保持した状態で、液晶の劣化を防ぐための、液晶に対する交流駆動が実現する。
FIG. 10 is a truth table describing the output (Y) of an exclusive-OR logic gate circuit in which the common voltage Vcom (A) and the image signal data (B) are binary input. When the image signal data (B) is input to the pixel electrode portion, that is, when the image signal data (B) is a signal of H (3V: “1”), the pixel voltage Pixel and the common voltage Vcom (A) In the normally white mode, black is displayed, and in the normally black mode, white is displayed. Thus, even if the common voltage Vcom (A) is driven to be inverted, the potential difference between the pixel voltage Pixel and the common voltage Vcom (A) is maintained. AC drive for liquid crystal to prevent deterioration is realized. On the other hand, when the image signal data (B) is not input to the pixel electrode portion, that is, when the image signal data (B) is a signal of L (0 V: “0”), the pixel voltage Pixel and the common voltage Vcom (A). There is no potential difference between the two and the white display in the normally white mode, and the black display in the normally black mode. Thus, the common voltage Vcom (A
) Is inverted, the state in which there is no potential difference between the pixel voltage Pixel and the common voltage Vcom (A) is maintained. Therefore, in order to prevent the liquid crystal from being deteriorated while maintaining the display in the pixel electrode portion. AC drive for liquid crystal is realized.
また、画素電極部における表示を書き換える場合、図7に示す駆動選択回路64の前段の入力部61における、第1及び第2のnチャンネルTFT素子61a,61bを直列的に接続させて成るトランスファゲート回路をオンにする。即ち、ゲート信号線GLn39を伝送されてきた信
号をHとし、画像信号線選択線SLn38を伝送されてきた信号をHとする。この状態で、画
像信号線DLn37を伝送されてきた信号(data)を保持回路62へ伝送させる。例えば、信号
(data)がHである場合、保持回路62はHの信号(data)を保持する。そして、図10におけるdata(B)がHの場合に相当する表示が画素電極部で実行される。即ち、画素電極部の表示は、ノーマリホワイトモードであれば黒表示、ノーマリブラックモードであれば白表示となる。一方、信号(data)がLである場合、保持回路62はLの信号(data)を保持する。そして、図10におけるdata(B)がLの場合に相当する表示が画素電極部で実行される。即ち、画素電極部の表示は、ノーマリホワイトモードであれば白表示、ノーマリブラックモードであれば黒表示となるように、書き換えられる。
Further, when rewriting the display in the pixel electrode section, a transfer gate formed by connecting first and second n-channel TFT elements 61a and 61b in series in the input section 61 in the previous stage of the drive selection circuit 64 shown in FIG. Turn on the circuit. That is, the signal transmitted through the gate signal line GLn39 is H, and the signal transmitted through the image signal line selection line SLn38 is H. In this state, the signal (data) transmitted through the image signal line DLn37 is transmitted to the holding circuit 62. For example, when the signal (data) is H, the holding circuit 62 holds the H signal (data). Then, a display corresponding to the case where data (B) in FIG. That is, the display of the pixel electrode portion is black in the normally white mode and white in the normally black mode. On the other hand, when the signal (data) is L, the holding circuit 62 holds the L signal (data). Then, a display corresponding to the case where data (B) in FIG. 10 is L is executed on the pixel electrode portion. That is, the display of the pixel electrode portion is rewritten so that white display is performed in the normally white mode and black display is performed in the normally black mode.
上述した構成により、本発明のドットマトリクス型表示装置は、表示領域における書き換え駆動を1画素(ドット)毎に行うことができ、それ以外の全ての画素を静止画駆動させることができるので、消費電力を極めて低いものとすることができる。例えば、従来の腕時計用の白黒表示のLCDにおいて、静止画駆動及び書き換え駆動を全画面走査して行う場
合に100μW程度の消費電力であったものが、本発明のドットマトリクス型表示装置にお
いては10μW程度以下、さらには3μW程度以下にまで抑えることができる。これにより、複雑な表示構成のLCDであっても、例えば、1回の電池交換で駆動可能な期間を10倍以
上に伸ばすことが可能となる。
With the above-described configuration, the dot matrix display device of the present invention can perform rewrite driving in the display area for each pixel (dot), and can drive all other pixels as still images. The power can be very low. For example, in a conventional black and white display LCD for a wristwatch, the power consumption of about 100 μW when performing still image driving and rewriting driving by full screen scanning is 10 μW in the dot matrix type display device of the present invention. It can be suppressed to about less than or equal to about 3 μW. As a result, even with an LCD having a complicated display configuration, for example, it is possible to extend the drivable period by 10 times or more by replacing the battery once.
さらに、本発明のドットマトリクス型表示装置は、好ましくは、書き換え駆動を適用する表示領域を書き換え周期を相違させて複数設け、相違する書き換え周期の比を10倍以上とする。この構成により、ある表示領域では書き換えと次の書き換えとの間の期間を非常に長く設定し、他の表示領域では書き換えと次の書き換えとの間の期間を短く設定することにより、消費電力の制御をきめ細かく高い精度で行うことができる。その結果、消費電力をより低減させることができる。さらに、相違する書き換え周期の比を10倍以上とすることにより、消費電力をより低減させる効果が高まる。 Furthermore, the dot matrix type display device of the present invention is preferably provided with a plurality of display regions to which the rewrite drive is applied with different rewrite cycles, and the ratio of the different rewrite cycles is 10 times or more. With this configuration, the power consumption can be reduced by setting a very long period between rewriting and the next rewriting in a certain display area, and shortening a period between rewriting and the next rewriting in other display areas. The control can be performed with fine and high accuracy. As a result, power consumption can be further reduced. Furthermore, the effect of further reducing power consumption is enhanced by setting the ratio of different rewrite cycles to 10 times or more.
図11は、本発明のドットマトリクス型表示装置を適用したデジタル表示式腕時計の表示
パネルを示すものであり、図11に示すように、例えば、表示パネルにおいて、時間を表示させる表示領域91と、分を表示させる表示領域92と、秒を表示させる表示領域93とで、書き換え周期を大きく相違させることができる。秒を表示させる表示領域93では、1秒毎に書き換え駆動するのに対して、分を表示させる表示領域92では、1分毎に書き換え駆動し、時間を表示させる表示領域91では、1時間毎に書き換え駆動すればよい。従って、表示領域91〜93以外の表示領域は静止画の表示領域94である。好適な実施形態として、分を表示させる表示領域92と秒を表示させる表示領域93の書き換え駆動の周期の比は60倍となる。換言すれば、1/60になるともいえる。また、時間を表示させる表示領域91では、1時間毎に書き換え駆動すればよいので、秒を表示させる表示領域93と時間を表示させる表示領域91との書き換え駆動の周期の比は3600倍となる。換言すれば、1/3600になるともいえる。また、表示領域91〜93において、書き換え駆動を1画素(ドット)毎に行うことができるが、複数画素毎に書き換え駆動してもよい。また、表示領域91〜93において、全ての画素を書き換えてもよいし、書き換えに必要な画素のみを書き換えてもよい。例えば、1つの表示領域において、「5」の表示を「6」に書き換える場合、書き換え不要な画素と書き換え必要な画素を区別することができるので、書き換えが必要な画素のみを書き換えることができる。
FIG. 11 shows a display panel of a digital display wristwatch to which the dot matrix type display device of the present invention is applied.As shown in FIG. 11, for example, in the display panel, a display area 91 for displaying time, The rewrite cycle can be greatly different between the display area 92 for displaying the minute and the display area 93 for displaying the second. In the display area 93 for displaying seconds, rewriting is driven every second, whereas in the display area 92 for displaying minutes, rewriting is driven every minute and in the display area 91 for displaying time, every hour. The rewriting drive may be performed. Accordingly, the display area other than the display areas 91 to 93 is a still image display area 94. As a preferred embodiment, the ratio of the rewrite drive cycle of the display area 92 for displaying minutes and the display area 93 for displaying seconds is 60 times. In other words, it can be said to be 1/60. Further, in the display area 91 for displaying the time, the rewriting drive may be performed every hour, so the ratio of the rewriting driving cycle of the display area 93 for displaying the second and the display area 91 for displaying the time is 3600 times. . In other words, it can be said to be 1/3600. In the display areas 91 to 93, the rewrite drive can be performed for each pixel (dot), but the rewrite drive may be performed for each of a plurality of pixels. In the display areas 91 to 93, all the pixels may be rewritten, or only the pixels necessary for rewriting may be rewritten. For example, in the case where the display of “5” is rewritten to “6” in one display region, it is possible to distinguish between pixels that do not need to be rewritten and pixels that need to be rewritten, so that only the pixels that need to be rewritten can be rewritten.
また、携帯電話、スマートフォン、タブレット端末、パーソナルコンピュータ等からのメール着信の電波信号を腕時計で受信した際に、その腕時計のLCD等から成る表示パネル
に、メール受信の表示を上述した画素選択駆動方式の書き換え駆動によって行わせることができる。このような複雑な表示機能を極めて低い消費電力でもって行うことができる。例えば、気温、湿度、高度、方位、照度、気圧、水深、水圧、天気予報、外国との時差、歩数計、潮汐時間、日の出・日没の時間、血圧、脈拍、メールの内容、ニュース速報、緊急地震速報等の告知などの表示を、それらの最適な書き換え周期または任意のタイミングでもって表示することができる。また、それらの書き換え周期または表示のタイミングを、外部から人が入力、変更等して制御することもできる。書き換え周期の変更、制御または表示のタイミングの制御は、ドットマトリクス型表示装置の周辺に設けられた制御LSI
等によって行うことができる。
In addition, when a wristwatch receives a radio signal for incoming mail from a mobile phone, smartphone, tablet terminal, personal computer, etc., the pixel selection drive system described above displays the mail reception on the display panel consisting of the wristwatch's LCD, etc. This can be done by rewriting driving. Such a complicated display function can be performed with extremely low power consumption. For example, temperature, humidity, altitude, direction, illuminance, barometric pressure, water depth, water pressure, weather forecast, time difference with foreign countries, pedometer, tide time, sunrise / sunset time, blood pressure, pulse, email content, breaking news, Notifications such as earthquake early warnings can be displayed at their optimum rewriting cycle or at an arbitrary timing. In addition, the rewrite cycle or display timing can be controlled by an external input or change by a person. Control LSI provided around the dot matrix display device for changing the rewrite cycle, controlling the display or controlling the display timing
Etc.
本発明のドットマトリクス型表示装置において、表示領域の書き換え周期に対応する書き換え期間は、書き換えを実行する動作期間及びそれ以外の書き換え休止期間を含んでおり、書き換え休止期間が動作期間よりも長いことが好ましい。この構成により、書き換えによる表示の切り換え動作が素早くなり、表示の切り換えプロセスが視認されなくなるので、表示の切り換えが見やすくなる。例えば、時計の秒の表示を書き換える場合、書き換え期間を1秒とし、書き換えを実行する動作期間を0.1〜0.3秒(10%〜30%)程度とし、それ以外の0.7〜0.9秒程度の期間を書き換え休止期間とすれば良い。 In the dot matrix type display device of the present invention, the rewriting period corresponding to the rewriting cycle of the display area includes an operation period in which rewriting is performed and other rewriting suspension periods, and the rewriting suspension period is longer than the operation period. Is preferred. With this configuration, the display switching operation by rewriting becomes quick and the display switching process is not visually recognized, so that the display switching is easy to see. For example, when rewriting the second display of the clock, the rewriting period is 1 second, the operation period for executing rewriting is about 0.1 to 0.3 seconds (10% to 30%), and the other period is about 0.7 to 0.9 seconds. A rewriting suspension period may be used.
また、時計の秒を表示する表示領域のように書き換え周期が短い表示領域の画素数を、時計の分、時間を表示する表示領域のように書き換え周期が長い表示領域の画素数よりも少なくすることが好ましい。これにより、消費電力をさらに低減させることができる。例えば、好ましくは、書き換え周期が短い表示領域の画素数を、書き換え周期が長い表示領域の画素数の30%以下、より好ましくは、10%以下とすることが良い。 In addition, the number of pixels in a display area with a short rewrite cycle, such as a display area that displays seconds of a clock, is made smaller than the number of pixels in a display area with a long rewrite cycle, such as a display area that displays time by the time of the clock. It is preferable. Thereby, power consumption can be further reduced. For example, the number of pixels in the display region with a short rewrite cycle is preferably 30% or less, more preferably 10% or less, of the number of pixels in the display region with a long rewrite cycle.
上述したように、好適な実施形態として、画素電極制御回路63は保持回路62の第1のCMOSインバータ62aを共用しているため、TFT素子の数が低減されており、その結果、消費電力の低減効果が高まるとともに、画素電極部の開口率が高くなる。 As described above, as a preferred embodiment, since the pixel electrode control circuit 63 shares the first CMOS inverter 62a of the holding circuit 62, the number of TFT elements is reduced. The reduction effect increases and the aperture ratio of the pixel electrode portion increases.
また、本発明のドットマトリクス型表示装置は、画素電極を反射型電極とした反射型LCDであることが好ましい。この場合、保持回路62等を画素電極の下方に配置することがで
き、保持回路62等による光反射率の低下をなくすことができる。一方、透過型LCDにおい
て、透明な画素電極と保持回路62とを重ねて配置すると、透過光によって保持回路62等を構成するTFT素子が誤作動する可能性がある。そのため、TFT素子のゲート電極部を遮光膜で覆う必要があり、開口率が低下し易い。また、反射型LCDは、バックライトを設ける必
要がないため、消費電力の低減に有効である。また、本発明のドットマトリクス型表示装置は、画素電極の領域に上記の反射型電極を有する反射領域と透過型電極を有する透過領域を備えた、半透過型液晶表示装置であってもよい。
Further, the dot matrix type display device of the present invention is preferably a reflection type LCD having a pixel electrode as a reflection type electrode. In this case, the holding circuit 62 and the like can be disposed below the pixel electrode, and a decrease in light reflectance due to the holding circuit 62 and the like can be eliminated. On the other hand, in a transmissive LCD, if the transparent pixel electrode and the holding circuit 62 are arranged so as to overlap with each other, the TFT elements constituting the holding circuit 62 and the like may malfunction due to the transmitted light. For this reason, it is necessary to cover the gate electrode portion of the TFT element with a light-shielding film, and the aperture ratio tends to decrease. In addition, since the reflective LCD does not require a backlight, it is effective in reducing power consumption. Further, the dot matrix type display device of the present invention may be a transflective liquid crystal display device provided with a reflective region having the reflective electrode and a transmissive region having a transmissive electrode in the region of the pixel electrode.
また、保持回路62によって保持されるビット数を1以上とすることが好ましい。このビット数を複数として多ビット化した場合、静止画表示の際に階調表示を行うことができる。また、アナログ信号を記憶する保持回路62とすれば、フルカラー表示を行うこともできる。 In addition, the number of bits held by the holding circuit 62 is preferably 1 or more. When the number of bits is increased to a plurality of bits, gradation display can be performed during still image display. Further, if the holding circuit 62 for storing an analog signal is used, full-color display can be performed.
また、画素電極制御回路63は、図10の真理値表に示すように、共通電圧VcomのH/L
のいずれの信号に対しても静止画駆動と書き換え駆動を行うものとされている。即ち、共通電圧Vcom(A)がH(3V)で画像信号data(B)がH(3V)である場合、共通電
圧Vcom(A)と画素電圧Pixel(L:0V)との間に電位差が形成され、共通電圧Vcom
(A)がL(0V)で画像信号data(B)がH(3V)である場合にも同様に共通電圧Vcom(A)と画素電圧Pixel(H:3V)との間に電位差が形成されて、液晶が交流駆動されている。これにより、例えば、秒表示の書き換え周期に合わせて1秒毎に共通電圧Vcom(A)のH/Lを反転させることができ、液晶分子の劣化を抑えることができる。即ち
、液晶分子に直流電圧成分が長時間印加されることによって、液晶分子が画素電極表面で正負の電荷の偏り(微量不純物の固定化)を起こして寿命が短くなることを抑えることができる。
In addition, the pixel electrode control circuit 63 generates the H / L of the common voltage Vcom as shown in the truth table of FIG.
For any of these signals, still image driving and rewriting driving are performed. That is, when the common voltage Vcom (A) is H (3 V) and the image signal data (B) is H (3 V), there is a potential difference between the common voltage Vcom (A) and the pixel voltage Pixel (L: 0 V). Formed, common voltage Vcom
Similarly, when (A) is L (0 V) and the image signal data (B) is H (3 V), a potential difference is formed between the common voltage Vcom (A) and the pixel voltage Pixel (H: 3 V). The liquid crystal is AC driven. Thereby, for example, the H / L of the common voltage Vcom (A) can be inverted every second in accordance with the rewriting cycle of the second display, and deterioration of the liquid crystal molecules can be suppressed. That is, when a DC voltage component is applied to the liquid crystal molecules for a long time, it is possible to prevent the liquid crystal molecules from causing a bias of positive and negative charges (fixation of a small amount of impurities) on the pixel electrode surface and shortening the lifetime.
このように、共通電圧VcomのH/Lの反転を、書き換え周期に連動させて定期的に反
転させることが好ましい。この場合、共通電圧VcomのH/Lの反転を、書き換え周期に
連動させない場合と比較して、共通電圧Vcomを個別に制御するための制御回路等を付加
する必要がなく、消費電力のさらなる低下に有効である。また、共通電圧VcomのH/L
の反転駆動は、液晶分子の劣化を抑制するための反転駆動と、EXORの論理ゲート回路を構成する画素電極制御回路63の制御入力としての画素電圧制御信号との、2つの役割を果たしており、これによっても消費電力のさらなる低下に寄与している。
As described above, it is preferable to periodically invert the H / L inversion of the common voltage Vcom in conjunction with the rewrite cycle. In this case, compared with the case where the H / L inversion of the common voltage Vcom is not linked to the rewrite cycle, it is not necessary to add a control circuit or the like for individually controlling the common voltage Vcom, and the power consumption is further reduced. It is effective for. In addition, H / L of common voltage Vcom
The inversion drive has two roles of inversion drive for suppressing deterioration of liquid crystal molecules and a pixel voltage control signal as a control input of the pixel electrode control circuit 63 constituting the logic gate circuit of EXOR. This also contributes to further reduction in power consumption.
また、本発明のドットマトリクス型表示装置において、静止画駆動が適用される表示領域において、各画素電極部に供給される共通電圧のハイ/ローを定期的に反転させることが好ましい。これにより、書き換え駆動が適用される表示領域は勿論のこと静止画駆動が適用される領域においても液晶分子の劣化が抑制される。 In the dot matrix display device of the present invention, it is preferable to periodically invert the high / low of the common voltage supplied to each pixel electrode portion in a display region to which still image driving is applied. Thereby, the deterioration of the liquid crystal molecules is suppressed not only in the display area to which the rewrite drive is applied but also in the area to which the still image drive is applied.
また、共通電圧Vcomの反転の定期的な周期は、制御LSI等によって、1秒毎、数十秒毎、分単位、時間単位で適宜設定することもできる。さらに、共通電圧Vcomの反転の周期
をn秒毎(nは自然数)にしてもよく、その場合、秒表示の書き換え周期を共通電圧Vcomの反転の制御のベースに用いることができ、共通電圧Vcomの反転の制御が容易になる。
Further, the periodic period of inversion of the common voltage Vcom can be appropriately set by the control LSI or the like every second, every several tens of seconds, minutes, or hours. Further, the inversion cycle of the common voltage Vcom may be set every n seconds (n is a natural number). In this case, the rewrite cycle of the second display can be used as a base for controlling the inversion of the common voltage Vcom. It becomes easy to control the inversion.
本発明のドットマトリクス型表示装置において、画素電極制御回路63と画素電極との間に1〜3pF程度の補助容量を並列的に接続してもよい。これにより、書き換え駆動する際に、画素電圧が次第に低下して1フィールド期間保持されにくくなるのを抑え、画素電圧を1フィールド期間保持することができる。 In the dot matrix display device of the present invention, an auxiliary capacitor of about 1 to 3 pF may be connected in parallel between the pixel electrode control circuit 63 and the pixel electrode. As a result, when rewriting driving is performed, it is possible to suppress the pixel voltage from gradually decreasing and becoming difficult to hold for one field period, and to hold the pixel voltage for one field period.
また、低温多結晶シリコン(Low-Temperature Poly Silicon :LTPS)を用いてnチャンネルTFT素子及びpチャンネルTFT素子を形成してもよい。この場合、CMOS回路を基礎とした駆動回路、SRAM回路、D/A変換器、画像表示部等をガラス基板上に一体的に集積化
することができる。従って、音声処理回路、マイクロプロセッサを搭載したLCDをも、LTPSを用いて作製することができる。ガラス基板上に液晶表示パネルとその周辺駆動回路を
一体的に形成できるので、電気的な信頼性が向上する。即ち、液晶表示パネルと駆動回路との電気的接続数を大幅に低減させることができ、振動に強く、軽量化がなされるので、携帯情報端末にとって好適なものとなる。また、電流駆動能力が高いので、高精細な画素、開口率の高い画素を有するLCDを作製することができる。
Further, the n-channel TFT element and the p-channel TFT element may be formed using low-temperature polycrystalline silicon (LTPS). In this case, a driving circuit based on a CMOS circuit, an SRAM circuit, a D / A converter, an image display unit, and the like can be integrated on a glass substrate. Therefore, an LCD equipped with an audio processing circuit and a microprocessor can also be manufactured using LTPS. Since the liquid crystal display panel and its peripheral drive circuit can be integrally formed on the glass substrate, the electrical reliability is improved. In other words, the number of electrical connections between the liquid crystal display panel and the driving circuit can be greatly reduced, and it is resistant to vibrations and light in weight, which is suitable for a portable information terminal. In addition, since the current driving capability is high, an LCD having high-definition pixels and pixels with a high aperture ratio can be manufactured.
LTPSの製造方法を以下に示す。まず、ガラス基板上に、プラズマCVD(Chemical Vapor Deposition)法によって、アモルファスシリコン膜を形成する。次に、アモルファ
スシリコン膜を多結晶化するために、450℃以下のガラス基板の温度でアモルファスシリ
コン膜にエキシマレーザ光を照射する。エキシマレーザ装置としては、例えば、ガスレーザ光源にArF(波長193nm),KrF(波長248nm)等を用いた、アモルファスシリコン膜の吸収が大きい紫外光を発振するものが使用できる。レーザ発振周波数約300Hz、レーザ光エ
ネルギー約300W、パルス幅約20ns〜約60ns、照射エネルギー密度500mJ/cm2〜1J/cm2程
度のパルスレーザ光をアモルファスシリコン膜に照射し、アモルファスシリコン膜を瞬間的に溶融し過冷却状態にした後に凝固させる。その結果、平均粒径0.3μm程度の結晶粒
径を有する多結晶シリコンの膜に変化する。
The manufacturing method of LTPS is shown below. First, an amorphous silicon film is formed on a glass substrate by a plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) method. Next, in order to polycrystallize the amorphous silicon film, the amorphous silicon film is irradiated with excimer laser light at a temperature of a glass substrate of 450 ° C. or lower. As the excimer laser device, for example, a gas laser light source that uses ArF (wavelength 193 nm), KrF (wavelength 248 nm), or the like, which oscillates ultraviolet light having a large absorption of the amorphous silicon film can be used. Amorphous silicon film is irradiated with pulsed laser light with a laser oscillation frequency of about 300 Hz, laser light energy of about 300 W, pulse width of about 20 ns to about 60 ns, and irradiation energy density of about 500 mJ / cm 2 to 1 J / cm 2. It is solidified after being melted and supercooled. As a result, the film changes to a polycrystalline silicon film having an average grain size of about 0.3 μm.
また、画素電極は、透光性を有する場合、酸化インジウムスズ(ITO)、インジウム亜
鉛酸化物(IZO)、酸化珪素を添加したインジウム錫酸化物(ITSO)、酸化亜鉛(ZnO)、リンやボロンが含まれるシリコン(Si)等の透光性を有する導電性材料を用いて形成することができる。
In addition, when the pixel electrode has translucency, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium tin oxide added with silicon oxide (ITSO), zinc oxide (ZnO), phosphorus or boron It can be formed using a light-transmitting conductive material such as silicon (Si).
画素電極部に配置する表示素子としては、LCD素子、有機EL(Electro Luminescence)素子、無機EL素子、FED(Field Emitting Display)素子、SED(Surface-conduction Electron-emitter Display)素子、GLV(Grating Light Valve)素子、PDP(Plasma Display)素子、電子ペーパーディスプレイ素子、DMD(Digital micro Mirror Device)素子、圧電セラミックディスプレイ素子などの表示素子を用いることができる。また、本発明のドットマトリクス型表示装置は、インプレーンスイッチング(In-plane Switching :IPS)方式、フリンジフィールドスイッチング(Fringe Field Switching :FFS)方式のものであることが好ましい。この場合、画素電極が形成されているアレイ側基板(TFT素子が形成された基板)の主面に、共通電極を画素電極部毎に形成することによっ
て、共通電圧の制御を画素電極部毎に独立して行うことが可能となる。
Display elements placed in the pixel electrode section include LCD elements, organic EL (Electro Luminescence) elements, inorganic EL elements, FED (Field Emitting Display) elements, SED (Surface-conduction Electron-emitter Display) elements, and GLV (Grating Light). Display elements such as a Valve element, a PDP (Plasma Display) element, an electronic paper display element, a DMD (Digital micro Mirror Device) element, and a piezoelectric ceramic display element can be used. The dot matrix type display device of the present invention is preferably of an in-plane switching (IPS) system or a fringe field switching (FFS) system. In this case, the common voltage is controlled for each pixel electrode part by forming the common electrode for each pixel electrode part on the main surface of the array side substrate on which the pixel electrode is formed (the substrate on which the TFT element is formed). It can be done independently.
また、本発明のドットマトリクス型表示装置は各種の電子機器に適用できる。その電子機器としては、スマートウォッチ等のデジタル表示式腕時計、自動車経路誘導システム(カーナビゲーションシステム)、船舶経路誘導システム、航空機経路誘導システム、スマートフォン端末、携帯電話、タブレット端末、パーソナルデジタルアシスタント(PDA)
、ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、電子手帳、電子書籍、電子辞書、パーソナルコンピュータ、複写機、ゲーム機器の端末装置、テレビジョン、商品表示タグ、価格表示タグ、産業用のプログラマブル表示装置、カーオーディオ、ヘッドアップディスプレイ、デジタルオーディオプレイヤー、ファクシミリ、プリンター、コピー機、現金自動預け入れ払い機(ATM)、自動販売機、頭部装着型画像表示装置(Head Mounted Display device :HMD)などがある。
Further, the dot matrix display device of the present invention can be applied to various electronic devices. The electronic devices include smart watches and other digital display watches, car route guidance systems (car navigation systems), ship route guidance systems, aircraft route guidance systems, smartphone terminals, mobile phones, tablet terminals, personal digital assistants (PDAs).
Video cameras, digital still cameras, electronic notebooks, electronic books, electronic dictionaries, personal computers, copying machines, terminal devices for game machines, televisions, product display tags, price display tags, industrial programmable display devices, car audio, There are a head-up display, a digital audio player, a facsimile, a printer, a copier, an automated teller machine (ATM), a vending machine, a head mounted display device (HMD), and the like.
1 TFT素子
2 共通電圧線
3 ゲート信号線駆動回路
4 画像信号線駆動回路
10 表示部
11 LCDパネル
21,31 インバータ
22,32 NORの論理ゲート回路
23,33 昇圧回路(レベルシフタ)
24,34 インバータ
35 第4のnチャンネルTFT素子
36,37 画像信号線
38 画像信号線選択線
39 ゲート信号線
41,51 pチャンネルTFT素子
42,52 nチャンネルTFT素子
43,53 インバータ
44,54 一方のトランスファゲート回路
45,55 他方のトランスファゲート回路
61 入力部
61a 画像信号線側の第1のnチャンネルTFT素子
61b ゲート信号線側の第2のnチャンネルTFT素子
62 保持回路
62a 第1のインバータ
62b 第2のインバータ
63 画素電極制御回路
64 駆動選択回路
81 第1の2値選択回路
81a pチャンネルTFT素子
81b nチャンネルTFT素子
82 第2の2値選択回路
82a pチャンネルTFT素子
82b nチャンネルTFT素子
91 時間を表示させる表示領域
92 分を表示させる表示領域
93 秒を表示させる表示領域
94 静止画を表示させる表示領域
1 TFT element 2 Common voltage line 3 Gate signal line drive circuit 4 Image signal line drive circuit
10 Display section
11 LCD panel
21,31 inverter
22,32 NOR logic gate circuit
23,33 Booster circuit (level shifter)
24,34 inverter
35 Fourth n-channel TFT device
36,37 Image signal line
38 Image signal line selection line
39 Gate signal line
41,51 p-channel TFT device
42,52 n-channel TFT device
43,53 inverter
44,54 One transfer gate circuit
45,55 Transfer gate circuit on the other side
61 Input section
61a First n-channel TFT element on the image signal line side
61b Second n-channel TFT element on the gate signal line side
62 Holding circuit
62a First inverter
62b Second inverter
63 Pixel electrode control circuit
64 Drive selection circuit
81 First binary selection circuit
81a p-channel TFT device
81b n-channel TFT device
82 Second binary selection circuit
82a p-channel TFT device
82b n-channel TFT device
91 Display area for displaying time
Display area displaying 92 minutes
Display area displaying 93 seconds
94 Display area for displaying still images
Claims (3)
前記画素電極部は、前記駆動選択回路の前段に、前記画像信号線選択線によってオンされる第1のnチャンネル薄膜トランジスタ素子と前記ゲート信号線によってオンされる第2のnチャンネル薄膜トランジスタ素子とを直列に接続して成る画像信号の入力部を有し、
前記駆動選択回路は、オン状態の前記ゲート信号線とオン状態の前記画像信号線選択線との交差部にある選択された前記画素電極部を前記画像信号によって書き換える画素電極制御回路と、前記入力部から入力された前記画像信号を保持するとともに非選択の前記画素電極部を静止画駆動する保持回路と、を有しており、
前記保持回路は、前記画像信号が入力される第1のCMOSインバータと、それに接続された第2のCMOSインバータとをループ状に接続して成るスタティック型メモリであり、
前記第2のCMOSインバータは、それを構成する第3のnチャンネル薄膜トランジスタ素子の第3のオン抵抗が前記第1のnチャンネル薄膜トランジスタ素子の第1のオン抵抗と前記第2のnチャンネル薄膜トランジスタ素子の第2のオン抵抗の和よりも大きく、前記第1のオン抵抗と前記第2のオン抵抗が同じであり、
前記画像信号線は、前記画像信号の入力端部に前記画像信号線選択線によってオンされる第4のnチャンネル薄膜トランジスタ素子が直列に接続されており、前記第3のオン抵抗が前記第1のオン抵抗と前記第2のオン抵抗と前記第4のnチャンネル薄膜トランジスタ素子の第4のオン抵抗の和よりも大きいドットマトリクス型表示装置。 A plurality of gate signal lines formed in a predetermined direction on the substrate, a plurality of image signal lines formed so as to cross the gate signal lines in a direction crossing the predetermined direction, and an image signal line selection in parallel therewith A pixel electrode unit including a drive selection circuit for selecting either rewrite driving or still image driving, formed at an intersection of the gate signal line and the image signal line, and a plurality of the gate signal lines A dot matrix type display device comprising: a gate signal line driving circuit that arbitrarily selects one to turn on; and an image signal line driving circuit that arbitrarily selects and turns on one of the plurality of image signal lines. There,
The pixel electrode unit includes a first n-channel thin film transistor element turned on by the image signal line selection line and a second n-channel thin film transistor element turned on by the gate signal line in series before the drive selection circuit. An image signal input unit connected to
The drive selection circuit includes: a pixel electrode control circuit that rewrites the selected pixel electrode portion at the intersection of the on-state gate signal line and the on-state image signal line selection line with the image signal; and the input A holding circuit that holds the image signal input from the unit and drives the non-selected pixel electrode unit as a still image, and
The holding circuit is a static memory in which a first CMOS inverter to which the image signal is input and a second CMOS inverter connected thereto are connected in a loop shape,
In the second CMOS inverter, the third on-resistance of the third n-channel thin film transistor element constituting the second CMOS inverter is the same as the first on-resistance of the first n-channel thin film transistor element and the second n-channel thin film transistor element. greater than the sum of the second on-resistance, Ri said first on-resistance and a second on-resistance equal der,
In the image signal line, a fourth n-channel thin film transistor element that is turned on by the image signal line selection line is connected in series to an input end of the image signal, and the third on-resistance is connected to the first signal line. A dot matrix display device having a larger ON resistance, a second ON resistance, and a fourth ON resistance of the fourth n-channel thin film transistor element .
装置。 The voltage difference between the gate voltage transmitted through the image signal line selection line and inputted to the gate electrode portion of the first n-channel thin film transistor element and the peak voltage of the image signal is larger than the peak voltage of the image signal. The dot matrix type display device according to claim 1 or 2 .
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