JP6596223B2 - Adhesive composition, laminate, and method for producing laminate - Google Patents

Adhesive composition, laminate, and method for producing laminate Download PDF

Info

Publication number
JP6596223B2
JP6596223B2 JP2015084925A JP2015084925A JP6596223B2 JP 6596223 B2 JP6596223 B2 JP 6596223B2 JP 2015084925 A JP2015084925 A JP 2015084925A JP 2015084925 A JP2015084925 A JP 2015084925A JP 6596223 B2 JP6596223 B2 JP 6596223B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
represented
alicyclic epoxy
adhesive composition
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2015084925A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2016204454A (en
Inventor
正宏 増島
将俊 前田
徳紀 山田谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd filed Critical Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority to JP2015084925A priority Critical patent/JP6596223B2/en
Publication of JP2016204454A publication Critical patent/JP2016204454A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6596223B2 publication Critical patent/JP6596223B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)

Description

本発明は、有機発光ダイオード用として有用な接着剤組成物、積層体、及び積層体の製造方法に関する。   The present invention relates to an adhesive composition useful for an organic light emitting diode, a laminate, and a method for producing the laminate.

近年、ディスプレイや照明等の分野において、高輝度、広呈色域、低消費電力及び長寿命を有する有機発光ダイオード(OLED)が広く用いられるようになっている。OLEDの製造時には、例えば基板と支持体との接着等を目的として接着剤が用いられるが、OLED用の接着剤には、高い透明性のみならず、エッジ部における接着剤のはみ出し低減、硬化後のボイド(空隙)発生低減、塗布時の均一性等の貼り付け性能も要求される。   In recent years, organic light emitting diodes (OLEDs) having high brightness, wide color gamut, low power consumption, and long life have been widely used in the fields of displays and lighting. When manufacturing OLEDs, for example, an adhesive is used for the purpose of adhesion between the substrate and the support, etc. The adhesive for OLED not only has high transparency, but also reduces the protrusion of the adhesive at the edge, after curing Adhesion performance such as reduction of void (void) generation and uniformity during coating is also required.

例えば特許文献1では、LED封止材用組成物として、脂環式エポキシ化合物からなる成分80部と、多官能水添エポキシ化合物及び/又は多官能脂環式エポキシ化合物からなる成分20部とを含む封止材用組成物が具体的に開示されている。   For example, in Patent Document 1, as a composition for an LED sealing material, 80 parts of a component made of an alicyclic epoxy compound and 20 parts of a component made of a polyfunctional hydrogenated epoxy compound and / or a polyfunctional alicyclic epoxy compound The composition for sealing materials to be included is specifically disclosed.

特開2012−62438号公報JP 2012-62438 A

しかしながら、上記特許文献1に記載のLED封止材用組成物は封止を目的としたものであるため、はみ出しの低減、ボイドの低減、塗布均一性等の接着剤に要求される貼り付け性能には未だ改良の余地があった。   However, since the composition for an LED sealing material described in Patent Document 1 is intended for sealing, sticking performance required for an adhesive such as reduction of protrusion, reduction of voids, coating uniformity, etc. There was still room for improvement.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、OLED用途に好適に用いることができる接着剤組成物、積層体、及び積層体の製造方法を提供することを課題とする。   This invention is made | formed in view of the said situation, Comprising: It aims at providing the manufacturing method of the adhesive composition which can be used suitably for an OLED use, a laminated body, and a laminated body.

上記の課題を解決するために、本発明は以下の構成を採用した。
すなわち、本発明の第一の態様は、下記式(A1)で表される脂環式エポキシ化合物(A1)と、前記脂環式エポキシ化合物(A1)に該当しない多官能脂環式エポキシ化合物(A2)と、酸発生剤(B)と、を含有する接着剤組成物であって、前記脂環式エポキシ化合物(A1)と前記多官能脂環式エポキシ化合物(A2)との質量割合が、(A1)/(A2)=70/30〜51/49であることを特徴とする接着剤組成物である。
In order to solve the above problems, the present invention employs the following configuration.
That is, the first aspect of the present invention includes an alicyclic epoxy compound (A1) represented by the following formula (A1) and a polyfunctional alicyclic epoxy compound that does not correspond to the alicyclic epoxy compound (A1) ( A2) and an acid generator (B), wherein the mass proportion of the alicyclic epoxy compound (A1) and the polyfunctional alicyclic epoxy compound (A2) is The adhesive composition is characterized in that (A1) / (A2) = 70/30 to 51/49.

Figure 0006596223
[式中、R、Rはそれぞれ独立に、脂環式エポキシ基を有していてもよい有機基であって、少なくともR、Rのいずれか一方は脂環式エポキシ基を有するものであり、Y、Yはそれぞれ独立に、単結合又は2価の連結基である。]
Figure 0006596223
[Wherein R 1 and R 2 are each independently an organic group optionally having an alicyclic epoxy group, and at least one of R 1 and R 2 has an alicyclic epoxy group. Y 1 and Y 2 are each independently a single bond or a divalent linking group. ]

本発明の第二の態様は、前記第一の態様の接着剤組成物を含有する接着層を介して、基板と支持体とを貼り合わせて形成された積層体である。
本発明の第三の態様は、前記第一の態様の接着剤組成物を含有する接着層を介して、基板と支持体とを貼り合わせる、積層体の製造方法である。
A second aspect of the present invention is a laminate formed by bonding a substrate and a support through an adhesive layer containing the adhesive composition of the first aspect.
3rd aspect of this invention is a manufacturing method of a laminated body which bonds a board | substrate and a support body through the contact bonding layer containing the adhesive composition of said 1st aspect.

本発明の接着剤組成物は、耐熱性、耐湿性、ヒートサイクル特性、塗布性、透明性等の一般的なOLED用接着剤に要求される性能のみならず、エッジ部における接着剤のはみ出し低減、硬化後のボイド(空隙)発生低減、塗布時の均一性等の貼り付け性能も良好であることから、良好なOLED用接着層を形成することができる。   The adhesive composition of the present invention reduces not only the performance required for general OLED adhesives such as heat resistance, moisture resistance, heat cycle characteristics, applicability, and transparency, but also reduction of protrusion of the adhesive at the edge portion. Since the bonding performance such as reduction in void (void) generation after curing and uniformity during coating is also good, a good adhesive layer for OLED can be formed.

本明細書及び本特許請求の範囲において、「脂肪族」とは、芳香族に対する相対的な概念であって、芳香族性を持たない基、芳香族性を持たない化合物等を意味するものと定義する。
「アルキル基」は、特に断りがない限り、直鎖状、分岐鎖状及び環状の1価の飽和炭化水素基を包含するものとする。アルコキシ基中のアルキル基も同様である。
「アルキレン基」は、特に断りがない限り、直鎖状、分岐鎖状及び環状の2価の飽和炭化水素基を包含するものとする。
「ハロゲン化アルキル基」は、アルキル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換された基であり、該ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
「フッ素化アルキル基」又は「フッ素化アルキレン基」は、アルキル基又はアルキレン基の水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換された基をいう。
「構成単位」とは、高分子化合物(樹脂、重合体、共重合体)を構成するモノマー単位(単量体単位)を意味する。
「置換基を有していてもよい」と記載する場合、水素原子(−H)を1価の基で置換する場合と、メチレン基(−CH−)を2価の基で置換する場合との両方を含む。
「露光」は、放射線の照射全般を含む概念とする。
In the present specification and claims, “aliphatic” is a relative concept with respect to aromatics, and means a group having no aromaticity, a compound having no aromaticity, and the like. Define.
Unless otherwise specified, the “alkyl group” includes linear, branched and cyclic monovalent saturated hydrocarbon groups. The same applies to the alkyl group in the alkoxy group.
The “alkylene group” includes linear, branched, and cyclic divalent saturated hydrocarbon groups unless otherwise specified.
The “halogenated alkyl group” is a group in which part or all of the hydrogen atoms of the alkyl group are substituted with a halogen atom, and examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
“Fluorinated alkyl group” or “fluorinated alkylene group” refers to a group in which part or all of the hydrogen atoms of an alkyl group or alkylene group are substituted with fluorine atoms.
“Structural unit” means a monomer unit (monomer unit) constituting a polymer compound (resin, polymer, copolymer).
When it is described as “may have a substituent”, when a hydrogen atom (—H) is substituted with a monovalent group, and when a methylene group (—CH 2 —) is substituted with a divalent group And both.
“Exposure” is a concept including general irradiation of radiation.

≪接着剤組成物≫
本実施形態の第一の態様の接着剤組成物は、脂環式エポキシ化合物(A1)と、前記脂環式エポキシ化合物(A1)に該当しない多官能脂環式エポキシ化合物(A2)と、酸発生剤(B)と、を含有する。
本実施形態において「脂環式エポキシ化合物」とは、脂環式エポキシ基を有する化合物である。「脂環式エポキシ基」は、3員環エーテルであるオキサシクロプロパン構造と、脂環式基とを有する基をいう。
脂環式エポキシ基の基本骨格となる脂環式基としては、単環であっても多環であってもよい。単環の脂環式基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。また、多環の脂環式基としては、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられる。また、これら脂環式基の水素原子は、アルキル基、アルコキシ基、水酸基等で置換されていてもよい。
≪Adhesive composition≫
The adhesive composition of the first aspect of the present embodiment includes an alicyclic epoxy compound (A1), a polyfunctional alicyclic epoxy compound (A2) not corresponding to the alicyclic epoxy compound (A1), and an acid. And a generator (B).
In the present embodiment, the “alicyclic epoxy compound” is a compound having an alicyclic epoxy group. The “alicyclic epoxy group” refers to a group having an oxacyclopropane structure which is a three-membered ring ether and an alicyclic group.
The alicyclic group serving as the basic skeleton of the alicyclic epoxy group may be monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Examples of the polycyclic alicyclic group include a norbornyl group, an isobornyl group, a tricyclononyl group, a tricyclodecyl group, and a tetracyclododecyl group. Moreover, the hydrogen atom of these alicyclic groups may be substituted with an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxyl group or the like.

<脂環式エポキシ化合物(A1)>
本実施形態において、脂環式エポキシ化合物(A1)(以下、「(A1)成分」ということがある。)は、下記式(A1)で表される。
<Alicyclic epoxy compound (A1)>
In the present embodiment, the alicyclic epoxy compound (A1) (hereinafter sometimes referred to as “component (A1)”) is represented by the following formula (A1).

Figure 0006596223
[式中、R、Rはそれぞれ独立に、脂環式エポキシ基を有していてもよい有機基であって、少なくともR、Rのいずれか一方は脂環式エポキシ基を有するものであり、Y、Yはそれぞれ独立に、単結合又は2価の連結基である。]
Figure 0006596223
[Wherein R 1 and R 2 are each independently an organic group optionally having an alicyclic epoxy group, and at least one of R 1 and R 2 has an alicyclic epoxy group. Y 1 and Y 2 are each independently a single bond or a divalent linking group. ]

式(A1)中、R、Rはそれぞれ独立に、脂環式エポキシ基を有していてもよい有機基であって、少なくともR、Rのいずれか一方は脂環式エポキシ基を有する。本実施形態において、「脂環式エポキシ基を有していてもよい有機基」とは、脂環式エポキシ基と有機基との組み合わせのみならず、脂環式エポキシ基のみからなる基(有機基)も含む。 In formula (A1), R 1 and R 2 are each independently an organic group optionally having an alicyclic epoxy group, and at least one of R 1 and R 2 is an alicyclic epoxy group. Have In the present embodiment, the “organic group optionally having an alicyclic epoxy group” means not only a combination of an alicyclic epoxy group and an organic group, but also a group consisting of only an alicyclic epoxy group (organic Group).

有機基としては、例えば、置換基を有していてもよい直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、又は、置換基を有していてもよいヘテロアラルキル基を挙げることができる。   Examples of the organic group include a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, and a hetero which may have a substituent. Examples thereof include an aryl group, an aralkyl group which may have a substituent, and a heteroaralkyl group which may have a substituent.

、Rの有機基は脂環式エポキシ基を有していてもよく、少なくともR、Rのいずれか一方は脂環式エポキシ基を有する。
、Rの脂環式エポキシ基を有していてもよい有機基は、それぞれ異なっていてもよく、同じであってもよい。
、Rとしては、両方が脂環式エポキシ基を有する有機基であることが好ましく、両方が脂環式エポキシ基からなる基であることがより好ましく、両方が1,2−エポキシシクロヘキシル基であることが特に好ましい。
The organic group of R 1 and R 2 may have an alicyclic epoxy group, and at least one of R 1 and R 2 has an alicyclic epoxy group.
The organic groups that may have an alicyclic epoxy group of R 1 and R 2 may be different or the same.
R 1 and R 2 are preferably both organic groups having an alicyclic epoxy group, more preferably both are groups composed of an alicyclic epoxy group, and both are 1,2-epoxycyclohexyl. Particularly preferred is a group.

式(A1)中、Y、Yはそれぞれ独立に、単結合又は2価の連結基である。
2価の連結基としては特に限定されないが、直鎖状、分岐鎖状、若しくは構造中に環を含む脂肪族炭化水素基、又は芳香族炭化水素基が挙げられる。
当該脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カルボニル基等が挙げられる。
また、脂肪族炭化水素基、又は芳香族炭化水素基は、その構造を構成する炭素原子及び水素原子の一部が、ヘテロ原子を含む置換基で置換されてもよい。ヘテロ原子を含む置換基としては、−O−、−C(=O)−O−、−C(=O)−、−O−C(=O)−O−;−C(=O)−NH−、−NH−、−NH−C(=O)−O−、−NH−C(=NH)−(Hはアルキル基、アシル基等の置換基で置換されていてもよい。);−S−、−S(=O)−、−S(=O)−O−、一般式−Y21−O−Y22−、−Y21−O−、−Y21−C(=O)−O−、−C(=O)−O−Y21、−[Y21−C(=O)−O]m”−Y22−または−Y21−O−C(=O)−Y22−で表される基[式中、Y21およびY22はそれぞれ独立して置換基を有していてもよい2価の炭化水素基であって、直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。式中のOは酸素原子であり、m”は0〜3の整数である。]等が挙げられる。
In formula (A1), Y 1 and Y 2 are each independently a single bond or a divalent linking group.
Although it does not specifically limit as a bivalent coupling group, The aliphatic hydrocarbon group which contains a ring in a linear or branched chain structure, or an aromatic hydrocarbon group is mentioned.
The aliphatic hydrocarbon group or aromatic hydrocarbon group may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a hydroxyl group, and a carbonyl group.
In the aliphatic hydrocarbon group or the aromatic hydrocarbon group, a part of carbon atoms and hydrogen atoms constituting the structure may be substituted with a substituent containing a hetero atom. Examples of the substituent containing a hetero atom include —O—, —C (═O) —O—, —C (═O) —, —O—C (═O) —O—; —C (═O) —. NH—, —NH—, —NH—C (═O) —O—, —NH—C (═NH) — (H may be substituted with a substituent such as an alkyl group or an acyl group); -S -, - S (= O ) 2 -, - S (= O) 2 -O-, the formula -Y 21 -O-Y 22 -, - Y 21 -O -, - Y 21 -C (= O) —O—, —C (═O) —O—Y 21 , — [Y 21 —C (═O) —O] m ″ —Y 22 — or —Y 21 —O—C (═O) — A group represented by Y 22 — wherein Y 21 and Y 22 are each independently a divalent hydrocarbon group which may have a substituent, and is a linear or branched alkylene In the formula, O is an oxygen atom m "is an integer of 0 to 3. ] Etc. are mentioned.

、Yは、それぞれ異なっていても同じであってもよい。
、Yが2価の連結基である場合、当該2価の連結基は、置換基を有していてもよい直鎖状、分岐鎖状、若しくは構造中に環を含む脂肪族炭化水素基が好ましく、置換基を有していてもよい直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基がより好ましく、置換基を有していてもよい直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基がさらに好ましい。脂肪族炭化水素基、アルキレン基の炭素数は、1〜30が好ましく、1〜10がより好ましく、1〜3がさらに好ましい。
、Yとしては、単結合、メチレン基、エチレン基又はプロピレン基が好ましく、単結合又はメチレン基が更に好ましく、Yが単結合、Yがメチレン基であることが特に好ましい。
Y 1 and Y 2 may be different or the same.
When Y 1 and Y 2 are a divalent linking group, the divalent linking group may be a linear or branched chain which may have a substituent, or an aliphatic carbon containing a ring in the structure. A hydrogen group is preferable, a linear or branched aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent is more preferable, and a linear or branched alkylene group which may have a substituent Is more preferable. 1-30 are preferable, as for carbon number of an aliphatic hydrocarbon group and an alkylene group, 1-10 are more preferable, and 1-3 are more preferable.
Y 1 and Y 2 are preferably a single bond, a methylene group, an ethylene group or a propylene group, more preferably a single bond or a methylene group, particularly preferably Y 1 is a single bond and Y 2 is a methylene group.

(A1)成分の好ましい例として、下記式(A1−1)〜(A1−2)で表される化合物が挙げられる。   Preferred examples of the component (A1) include compounds represented by the following formulas (A1-1) to (A1-2).

Figure 0006596223
[式中、R、Rは前記同様であり、Y02は単結合又は2価の連結基であり、n、nはそれぞれ独立に0〜3の整数であり、nは0〜10の整数であり、nは0又は1である。]
Figure 0006596223
[Wherein, R 1 and R 2 are the same as above, Y 02 is a single bond or a divalent linking group, n 1 and n 4 are each independently an integer of 0 to 3, and n 2 is 0. is an integer from to 10, n 3 is 0 or 1. ]

式(A1−1)〜(A1−2)中、R、Rは前記同様であって、両方が脂環式エポキシ基を有する有機基であることが好ましく、両方が脂環式エポキシ基であることがより好ましい。
式(A1−1)〜(A1−2)中、Y02は単結合又は2価の連結基であって、2価の連結基としては上記Y、Yと同様の基が挙げられる。なかでも、単結合、又は、置換基を有していてもよい直鎖状、分岐鎖状、若しくは構造中に環を含む脂肪族炭化水素基が好ましい。
式(A1−1)〜(A1−2)中、n、nはそれぞれ独立に0〜3の整数であって、0又は1が好ましい。
式(A1−1)〜(A1−2)中、nは0〜10の整数であって、0〜5の整数が好ましく、0がさらに好ましい。
式(A1−1)〜(A1−2)中、nは0又は1であって、0が好ましい。
In formulas (A1-1) to (A1-2), R 1 and R 2 are the same as described above, and both are preferably organic groups having an alicyclic epoxy group, and both are alicyclic epoxy groups. It is more preferable that
Wherein (A1-1) ~ (A1-2), Y 02 is a single bond or a divalent linking group, the divalent linking group include the same groups as above Y 1, Y 2. Among these, a single bond or a linear or branched chain which may have a substituent or an aliphatic hydrocarbon group containing a ring in the structure is preferable.
In formulas (A1-1) to (A1-2), n 1 and n 4 are each independently an integer of 0 to 3, and 0 or 1 is preferable.
In formulas (A1-1) to (A1-2), n 2 is an integer of 0 to 10, preferably an integer of 0 to 5, and more preferably 0.
In formulas (A1-1) to (A1-2), n 3 is 0 or 1, and 0 is preferable.

(A1)成分の具体例を以下に挙げる。下記式中、n21は1〜10の整数である。 Specific examples of the component (A1) are listed below. In the following formula, n 21 is an integer of 1 to 10.

Figure 0006596223
Figure 0006596223

脂環式エポキシ化合物の市販品としては、セロキサイド2021、2021P、2081、2083、2085(ダイセル化学工業社製)等が好適なものとして挙げられる。   Preferred examples of commercially available alicyclic epoxy compounds include Celoxide 2021, 2021P, 2081, 2083, 2085 (manufactured by Daicel Chemical Industries).

<多官能脂環式エポキシ化合物(A2)>
本実施形態において、多官能脂環式エポキシ化合物(A2)(以下、「(A2)成分」ということがある。)は、上記(A1)成分に該当しない化合物である。(A2)成分は、低分子化合物であってもよく、高分子化合物であってもよいが、高分子化合物であることが好ましい。
(A2)成分は二官能以上の多官能エポキシ化合物であって、三官能以上のエポキシ化合物であることが好ましい。
(A2)成分としては、耐薬品性、耐光性に優れることから、下記式(A2−1)で表される化合物が好ましい。
<Polyfunctional alicyclic epoxy compound (A2)>
In the present embodiment, the polyfunctional alicyclic epoxy compound (A2) (hereinafter sometimes referred to as “component (A2)”) is a compound that does not correspond to the component (A1). The component (A2) may be a low molecular compound or a polymer compound, but is preferably a polymer compound.
The component (A2) is a bifunctional or higher polyfunctional epoxy compound, and is preferably a trifunctional or higher functional epoxy compound.
As the component (A2), a compound represented by the following formula (A2-1) is preferable because of excellent chemical resistance and light resistance.

Figure 0006596223
[式中、R11はq個の活性水素基を有する有機化合物中の活性水素基を除いた残基である。n11、n12、・・・、nはそれぞれ独立に0〜100の整数を示し、その和は1〜100である。qは1〜100の整数を示す。Aは、置換基R12を含有するオキシシクロヘキサン骨格、又は置換基R12を含有するオキシノルボルネン骨格を有し、且つ下記式(a1)又は(a2)で表される。]
Figure 0006596223
[Wherein R 11 is a residue obtained by removing an active hydrogen group in an organic compound having q active hydrogen groups. n 11 , n 12 ,..., n q each independently represents an integer of 0 to 100, and the sum thereof is 1 to 100. q shows the integer of 1-100. A is represented by the oxycyclohexane skeleton containing substituents R 12, or having a oxy norbornene skeleton containing substituents R 12, and the following formula (a1) or (a2). ]

Figure 0006596223
[式中、R12はそれぞれ独立に下記式(a11)〜(a13)で表される基であって、式(A2−1)で表される化合物は、(a11)で表される基を1個以上含む。式(a1)、(a2)で表される基は、波線の結合手において式(A2−1)で表される化合物中のR11に結合し、*印の結合手において式(A2−1)で表される化合物中の水素原子(H)に結合する。]
Figure 0006596223
[Wherein, R 12 is a group represented by the following formulas (a11) to (a13) independently, and the compound represented by the formula (A2-1) is a group represented by (a11). Contains one or more. The groups represented by the formulas (a1) and (a2) are bonded to R 11 in the compound represented by the formula (A2-1) at the wavy bond, and the formula (A2-1) is bonded to the bond at the * mark. ) To a hydrogen atom (H) in the compound represented by ]

Figure 0006596223
[R13はアルキル基、アルキルカルボニル基、又はアリールカルボニル基を示す。式(a11)〜(a13)で表される基は、波線の結合手において、式(a1)、(a2)で表される基に結合する。]
Figure 0006596223
[R 13 is an alkyl group, an alkylcarbonyl group, or an arylcarbonyl group. The groups represented by the formulas (a11) to (a13) are bonded to the groups represented by the formulas (a1) and (a2) at the wavy bond. ]

上記式(A2−1)中、R11は、活性水素基を有する有機化合物中の活性水素基を除いた残基であるが、その前駆体となる「活性水素基を有する有機化合物」としては、アルコール類、フェノール類、カルボン酸類、アミン類、チオール類等が挙げられる。 In the above formula (A2-1), R 11 is a residue obtained by removing an active hydrogen group in an organic compound having an active hydrogen group, but as an “organic compound having an active hydrogen group” as a precursor thereof, , Alcohols, phenols, carboxylic acids, amines, thiols and the like.

上記アルコール類は、1価のアルコールでも多価アルコールでもよい。具体的には、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、オクタノール等の脂肪族アルコール;ベンジルアルコール等の芳香族アルコール;エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステル、シクロヘキサンジメタノール、グリセリン、ジグリセリン、ポリグリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等の多価アルコール等が挙げられる。
上記フェノール類としては、フェノール、クレゾール、カテコール、ピロガロール、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ビスフェノールA、ビスフェノールF、4,4’−ジヒドロキシベンゾフェノン、ビスフェノールS、フェノール樹脂、クレゾールノボラック樹脂等が挙げられる。
上記カルボン酸類としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、動植物油の脂肪酸、フマル酸、マレイン酸、アジピン酸、ドデカン二酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ポリアクリル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等が挙げられる。また、乳酸、クエン酸、オキシカプロン酸等の、水酸基とカルボキシル基とを共に有する化合物も挙げられる。
上記アミン類としては、モノメチルアミン、ジメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、プロピルアミン、モノブチルアミン、ジブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、オクチルアミン、ドデシルアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、イソホロンジアミン、トルエンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、キシレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、エタノールアミン等が挙げられる。
上記チオール類としては、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、プロピルメルカプタン、フェニルメルカプタン等のメルカプト類;エチレングリコールジメルカプトプロピオン酸エステル、トリメチロールプロパントリメルカプトプロピオン酸エステル、ペンタエリスリトールテトラメルカプトプロピオン酸エステル等の、メルカプトプロピオン酸又はメルカプトプロピオン酸の多価アルコールエステル;等が挙げられる。
The alcohols may be monohydric alcohols or polyhydric alcohols. Specifically, aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, pentanol, hexanol, octanol; aromatic alcohols such as benzyl alcohol; ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene Glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, pentanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester, cyclohexanedimethanol, glycerin, diglycerin, polyglycerin, Examples thereof include polyhydric alcohols such as trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol and dipentaerythritol.
Examples of the phenols include phenol, cresol, catechol, pyrogallol, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, bisphenol A, bisphenol F, 4,4′-dihydroxybenzophenone, bisphenol S, a phenol resin, and a cresol novolac resin.
The above carboxylic acids include formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, fatty acids of animal and vegetable oils, fumaric acid, maleic acid, adipic acid, dodecanedioic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, polyacrylic acid, phthalic acid, isophthalic acid And terephthalic acid. Moreover, the compound which has both a hydroxyl group and a carboxyl group, such as lactic acid, a citric acid, and oxycaproic acid, is also mentioned.
Examples of the amines include monomethylamine, dimethylamine, monoethylamine, diethylamine, propylamine, monobutylamine, dibutylamine, pentylamine, hexylamine, cyclohexylamine, octylamine, dodecylamine, 4,4'-diaminodiphenylmethane, isophorone. Examples include diamine, toluene diamine, hexamethylene diamine, xylene diamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, and ethanolamine.
Examples of the thiols include mercaptos such as methyl mercaptan, ethyl mercaptan, propyl mercaptan, phenyl mercaptan; ethylene glycol dimercaptopropionate, trimethylolpropane trimercaptopropionate, pentaerythritol tetramercaptopropionate, etc. And propionic acid or mercaptopropionic acid polyhydric alcohol ester.

さらに、活性水素基を有する有機化合物としては、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル部分加水分解物、デンプン、セルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ヒドロキシエチルセルロース、アクリルポリオール樹脂、スチレンアリルアルコール共重合樹脂、スチレン−マレイン酸共重合樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステルポリオール樹脂、ポリエステルカルボン酸樹脂、ポリカプロラクトンポリオール樹脂、ポリプロピレンポリオール、ポリテトラメチレングリコール等も挙げられる。   Further, organic compounds having active hydrogen groups include polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate partial hydrolyzate, starch, cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, hydroxyethyl cellulose, acrylic polyol resin, styrene allyl alcohol copolymer resin, styrene. -Maleic acid copolymer resin, alkyd resin, polyester polyol resin, polyester carboxylic acid resin, polycaprolactone polyol resin, polypropylene polyol, polytetramethylene glycol and the like can also be mentioned.

活性水素基を有する有機化合物は、その骨格中に不飽和二重結合を有していてもよい。具体例としては、アリルアルコール、アクリル酸、メタクリル酸、3−シクロヘキセンメタノール、テトラヒドロフタル酸等が挙げられる。
以上の活性水素基を有する有機化合物は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
The organic compound having an active hydrogen group may have an unsaturated double bond in its skeleton. Specific examples include allyl alcohol, acrylic acid, methacrylic acid, 3-cyclohexenemethanol, tetrahydrophthalic acid and the like.
The above organic compounds having an active hydrogen group may be used alone or in combination of two or more.

上記式(A2−1)中、n11、n12、・・・、nは、それぞれ独立に0〜100の整数を示し、その和は1〜100である。また、qは1〜100の整数を示す。
なかでもn11、n12、・・・、nは、それぞれ独立に2〜10の整数が好ましく、3〜6の整数がより好ましい。また、n11、n12、・・・、nの和は、4〜30であることが好ましく、4〜20であることがより好ましい。上記和を4以上とすることにより、硬化後の架橋密度を高め、硬度を高めることができる。また、上記和を30以下とすることにより、溶剤への溶解性を高め、ハンドリング性を高めることができる。
In the formula (A2-1), n 11, n 12, ···, n q are independently an integer of 0 to 100, the sum is 1-100. Moreover, q shows the integer of 1-100.
Of these n 11, n 12, ···, n q is preferably independently 2-10 integer, an integer of 3-6 is more preferable. Further, n 11, n 12, · · ·, the sum of n q is preferably 4 to 30, more preferably 4 to 20. By setting the sum to 4 or more, the crosslinking density after curing can be increased and the hardness can be increased. Moreover, by making the said sum 30 or less, the solubility to a solvent can be improved and handling property can be improved.

上記式(A2−1)中、Aは、置換基R12を含有するオキシシクロヘキサン骨格又は置換基R12を含有するオキシノルボルネン骨格を有し、且つ上記式(a1)又は(a2)で表される。Aは、上記式(a1)で表されることが好ましい。なお、q個あるAはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。 In the formula (A2-1), A is represented by a oxy norbornene skeleton containing oxycyclohexane skeleton or substituents R 12 contains a substituent R 12, and the above formula (a1) or (a2) The A is preferably represented by the above formula (a1). The q A's may be the same or different.

上記式(A2−1)で表されるエポキシ化合物中には、上記式(a11)で表される基が1個以上含まれることが必須であり、多ければ多いほど好ましい。一方、上記式(a13)で表される基は少なければ少ないほど好ましい。   It is essential that the epoxy compound represented by the above formula (A2-1) contains at least one group represented by the above formula (a11). On the other hand, the smaller the group represented by the formula (a13), the more preferable.

上記式(A2−1)で表されるエポキシ化合物は、特公平7−119270号公報に記載のように、活性水素基を有する有機化合物を開始剤にして、4−ビニルシクロヘキセン−1−オキシド又は5−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン−2−オキシドとエポキシ基を1個有する化合物との混合物を開環重合させることによって得られるポリエーテル樹脂、すなわち、ビニル基側鎖及びシクロヘキサン骨格、あるいはビニル基側鎖及びノルボルネン骨格を有するポリエーテル樹脂を、過酢酸や過酸化水素等でエポキシ化することにより製造される。
市販品としては、ダイセル化学工業社製のEHPE3150(n11〜nの和が平均15)が好適なものとして挙げられる。
The epoxy compound represented by the above formula (A2-1) is prepared by using an organic compound having an active hydrogen group as an initiator, as described in Japanese Patent Publication No. 7-119270, or 4-vinylcyclohexene-1-oxide or Polyether resin obtained by ring-opening polymerization of a mixture of 5-vinylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene-2-oxide and a compound having one epoxy group, that is, a vinyl group side chain And a polyether resin having a cyclohexane skeleton or a vinyl side chain and a norbornene skeleton is produced by epoxidation with peracetic acid or hydrogen peroxide.
Examples of commercially available products, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. of EHPE3150 (sum of n 11 ~n q is 15 on average), and as is preferred.

本実施形態において、(A1)成分と(A2)成分との配合比は、(A1)/(A2)=70/30〜51/49(質量比)であって、70/30〜60/40(質量比)がより好ましい。
上記配合比とすることにより、得られる接着層の溶融粘度が後述する好ましい範囲内となることにより、耐熱性に優れ、エッジ部における接着剤のはみ出しが低減され、硬化後のボイド(空隙)発生が低減され、且つ、塗布時の均一性等の貼り付け性に優れた接着層を得ることができる。
In this embodiment, the compounding ratio of the component (A1) and the component (A2) is (A1) / (A2) = 70/30 to 51/49 (mass ratio), and 70/30 to 60/40. (Mass ratio) is more preferable.
By setting the above blending ratio, the melt viscosity of the obtained adhesive layer is within a preferable range described later, so that the heat resistance is excellent, the protrusion of the adhesive at the edge portion is reduced, and voids (voids) are generated after curing. Can be obtained, and an adhesive layer excellent in adhesion such as uniformity during application can be obtained.

<酸発生剤(B)>
本実施形態において酸発生剤(B)(以下、「(B)成分」ということがある。)は光又は熱の作用により酸を発生させ、発生した酸によりエポキシ化合物を硬化させるものである。
(B)成分としては、特に限定されず、これまで各種用途の酸発生剤として提案されているものを使用することができる。
(B)成分は、露光により酸を発生する光酸発生剤であってもよく、加熱により酸を発生する熱酸発生剤であってもよい。
<Acid generator (B)>
In the present embodiment, the acid generator (B) (hereinafter sometimes referred to as “component (B)”) generates an acid by the action of light or heat, and cures the epoxy compound by the generated acid.
(B) It does not specifically limit as a component, What has been proposed as an acid generator of various uses until now can be used.
The component (B) may be a photoacid generator that generates an acid upon exposure, or a thermal acid generator that generates an acid upon heating.

(光酸発生剤)
光酸発生剤としては、例えば、下記一般式(an−1)又は(an−2)で表されるアニオン部と、下記一般式(ca−1)〜(ca−4)で表されるカチオン部とを有する化合物を用いることができる。
(Photoacid generator)
Examples of the photoacid generator include an anion moiety represented by the following general formula (an-1) or (an-2) and a cation represented by the following general formulas (ca-1) to (ca-4). Can be used.

Figure 0006596223
[式中、Rb01〜Rb04は、それぞれ独立にフッ素原子、又は置換基を有していてもよいアリール基である。
Rb05は、フッ素原子、又は置換基を有していてもよいフッ素化アルキル基であって、複数のRb05は同一であってもよく、それぞれ異なっていてもよい。]
Figure 0006596223
[Wherein, Rb 01 to Rb 04 are each independently a fluorine atom or an aryl group which may have a substituent.
Rb 05 is a fluorine atom or a fluorinated alkyl group which may have a substituent, and a plurality of Rb 05 may be the same or different. ]

Figure 0006596223
[式中、R201〜R207、およびR211〜R212は、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール基、アルキル基又はアルケニル基を表し、
201〜R203、R206〜R207、R211〜R212は、相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。
208〜R209はそれぞれ独立に水素原子または炭素数1〜5のアルキル基を表し、
210は置換基を有していてもよいアリール基、アルキル基又はアルケニル基であり、
201は−C(=O)−または−C(=O)−O−を表し、
201は、それぞれ独立に、アリーレン基、アルキレン基又はアルケニレン基を表し、
xは1または2であり、
201は(x+1)価の連結基を表す。]
Figure 0006596223
[Wherein, R 201 to R 207 and R 211 to R 212 each independently represents an aryl group, an alkyl group or an alkenyl group which may have a substituent,
R 201 to R 203 , R 206 to R 207 , and R 211 to R 212 may be bonded to each other to form a ring together with the sulfur atom in the formula.
R 208 to R 209 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms,
R 210 is an aryl group, an alkyl group or an alkenyl group which may have a substituent,
L 201 represents —C (═O) — or —C (═O) —O—,
Y 201 each independently represents an arylene group, an alkylene group or an alkenylene group,
x is 1 or 2,
W 201 represents a (x + 1) -valent linking group. ]

式(an−1)中、Rb01〜Rb04は、それぞれ独立にフッ素原子、又は置換基を有していてもよいアリール基である。
Rb01〜Rb04の置換基を有していてもよいアリール基は、炭素数が5〜30であることが好ましく、5〜20がより好ましく、6〜15がさらに好ましく、6〜12が特に好ましい。具体的には、ナフチル基、フェニル基、アントラセニル基などが挙げられ、入手が容易であることからフェニル基が好ましい。
アリール基は置換基を有していてもよい。置換基としては特に限定されるものではないが、ハロゲン原子、水酸基、炭化水素基(直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数は1〜5が好ましい)が好ましく、ハロゲン原子又は炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基がより好ましく、フッ素原子又は炭素数1〜5のフッ素化アルキル基が特に好ましい。アリール基がフッ素原子を有することにより、アニオン部の極性が高まるため好ましく、Rb01〜Rb04は、パーフルオロアリール基であることが好ましい。
In formula (an-1), Rb 01 to Rb 04 are each independently a fluorine atom or an aryl group which may have a substituent.
The aryl group which may have a substituent of Rb 01 to Rb 04 preferably has 5 to 30 carbon atoms, more preferably 5 to 20 carbon atoms, still more preferably 6 to 15 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 12 carbon atoms. preferable. Specific examples include a naphthyl group, a phenyl group, and an anthracenyl group, and a phenyl group is preferable because it is easily available.
The aryl group may have a substituent. Although it does not specifically limit as a substituent, A halogen atom, a hydroxyl group, and a hydrocarbon group (a linear or branched alkyl group is preferable, and C1-C5 is preferable), a halogen atom or A halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is more preferable, and a fluorine atom or a fluorinated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is particularly preferable. When the aryl group has a fluorine atom, the polarity of the anion moiety is increased, and Rb 01 to Rb 04 are preferably perfluoroaryl groups.

式(an−1)で表されるアニオン部の好ましい具体例としては、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート([B(C);テトラキス[(トリフルオロメチル)フェニル]ボレート([B(CCF);ジフルオロビス(ペンタフルオロフェニル)ボレート([(CBF);トリフルオロ(ペンタフルオロフェニル)ボレート([(C)BF);テトラキス(ジフルオロフェニル)ボレート([B(C)等が挙げられる。なかでも、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート([B(C)が特に好ましい。 Preferable specific examples of the anion moiety represented by the formula (an-1) include tetrakis (pentafluorophenyl) borate ([B (C 6 F 5 ) 4 ] ); tetrakis [(trifluoromethyl) phenyl] borate ([B (C 6 H 4 CF 3 ) 4 ] ); difluorobis (pentafluorophenyl) borate ([(C 6 F 5 ) 2 BF 2 ] ); trifluoro (pentafluorophenyl) borate ([( C 6 F 5 ) BF 3 ] ); tetrakis (difluorophenyl) borate ([B (C 6 H 3 F 2 ) 4 ] ) and the like. Of these, tetrakis (pentafluorophenyl) borate ([B (C 6 F 5 ) 4 ] ) is particularly preferable.

式(an−2)中、Rb05は、フッ素原子、又は置換基を有していてもよいフッ素化アルキル基であって、複数のRb05は同一であってもよく、それぞれ異なっていてもよい。
Rb05の置換基を有していてもよいフッ素化アルキル基は、炭素数が1〜10であることが好ましく、1〜8がより好ましく、1〜5がさらに好ましい。具体的には、炭素数1〜5のアルキル基において、水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換された基が挙げられる。
なかでもRb05としては、フッ素原子又は炭素数1〜5のフッ素化アルキル基が好ましく、フッ素原子又は炭素数1〜5のパーフルオロアルキル基がより好ましく、フッ素原子、トリフルオロメチル基又はペンタフルオロエチル基がさらに好ましい。
In the formula (an-2), Rb 05 is a fluorine atom or a fluorinated alkyl group which may have a substituent, and a plurality of Rb 05 may be the same or different. Good.
The fluorinated alkyl group which may have a substituent of Rb 05 preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 8 and even more preferably 1 to 5. Specifically, in the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a group in which part or all of the hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms can be used.
Among them, Rb 05 is preferably a fluorine atom or a fluorinated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a fluorine atom, a trifluoromethyl group or pentafluoro. More preferred is an ethyl group.

式(an−2)で表されるアニオン部としては、下記式(an−21)で表されるアニオン部も好ましい。   As the anion moiety represented by the formula (an-2), an anion moiety represented by the following formula (an-21) is also preferable.

Figure 0006596223
[式中、Rbf05は置換基を有していてもよいフッ素化アルキル基であって、nbは1〜5の整数である。]
Figure 0006596223
[Wherein, Rbf 05 is a fluorinated alkyl group which may have a substituent, and nb 1 is an integer of 1 to 5. ]

式(an−21)中、Rbf05の置換基を有していてもよいフッ素化アルキル基としては、前記Rb05で挙げた置換基を有していてもよいフッ素化アルキル基と同様である。
式(an−21)中、nbは1〜4であることが好ましく、2〜4であることがより好ましく、3が最も好ましい。
In formula (an-21), the fluorinated alkyl group which may have a substituent for Rbf 05 is the same as the fluorinated alkyl group which may have a substituent for Rb 05. .
In formula (an-21), nb 1 is preferably 1 to 4, more preferably 2 to 4, and most preferably 3.

式(ca−1)〜(ca−4)中、R201〜R207、およびR211〜R212におけるアリール基としては、炭素数6〜20の無置換のアリール基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましい。
201〜R207、およびR211〜R212におけるアルキル基としては、鎖状又は環状のアルキル基であって、炭素数1〜30のものが好ましい。
201〜R207、およびR211〜R212におけるアルケニル基としては、炭素数が2〜10であることが好ましい。
201〜R207、およびR210〜R212が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、カルボニル基、シアノ基、アミノ基、アリール基、下記式(ca−r−1)〜(ca−r−9)でそれぞれ表される基が挙げられる。
In formulas (ca-1) to (ca-4), examples of the aryl group in R 201 to R 207 and R 211 to R 212 include an unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a phenyl group, A naphthyl group is preferred.
The alkyl group in R 201 to R 207 and R 211 to R 212 is a chain or cyclic alkyl group and preferably has 1 to 30 carbon atoms.
The alkenyl group in R 201 to R 207 and R 211 to R 212 preferably has 2 to 10 carbon atoms.
Examples of the substituent that R 201 to R 207 and R 210 to R 212 may have include, for example, an alkyl group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a carbonyl group, a cyano group, an amino group, an aryl group, And groups represented by formulas (ca-r-1) to (ca-r-9), respectively.

Figure 0006596223
[式中、R’201はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい環式基、置換基を有していてもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有していてもよい鎖状のアルケニル基である。]
Figure 0006596223
[Wherein, each R ′ 201 independently has a hydrogen atom, a cyclic group which may have a substituent, a chain alkyl group which may have a substituent, or a substituent. It may be a chain alkenyl group. ]

R’201は、置換基を有していてもよい環式基、置換基を有していてもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有していてもよい鎖状のアルケニル基である。 R ′ 201 is a cyclic group which may have a substituent, a chain alkyl group which may have a substituent, or a chain alkenyl group which may have a substituent. .

置換基を有していてもよい環式基:
該環式基は、環状の炭化水素基であることが好ましく、該環状の炭化水素基は、芳香族炭化水素基であってもよく、脂肪族炭化水素基であってもよい。脂肪族炭化水素基は、芳香族性を持たない炭化水素基を意味する。また、脂肪族炭化水素基は、飽和であってもよく、不飽和であってもよく、通常は飽和であることが好ましい。
Cyclic group which may have a substituent:
The cyclic group is preferably a cyclic hydrocarbon group, and the cyclic hydrocarbon group may be an aromatic hydrocarbon group or an aliphatic hydrocarbon group. An aliphatic hydrocarbon group means a hydrocarbon group having no aromaticity. The aliphatic hydrocarbon group may be saturated or unsaturated, and is usually preferably saturated.

R’201における芳香族炭化水素基は、芳香環を有する炭化水素基である。該芳香族炭化水素基の炭素数は3〜30であることが好ましく、5〜30であることがより好ましく、5〜20がさらに好ましく、6〜15が特に好ましく、6〜10が最も好ましい。ただし、該炭素数には、置換基における炭素数を含まないものとする。
R’201における芳香族炭化水素基が有する芳香環として具体的には、ベンゼン、フルオレン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ビフェニル、又はこれらの芳香環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環などが挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。
R’201における芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香環から水素原子を1つ除いた基(アリール基:たとえば、フェニル基、ナフチル基など)、前記芳香環の水素原子の1つがアルキレン基で置換された基(たとえば、ベンジル基、フェネチル基、1−ナフチルメチル基、2−ナフチルメチル基、1−ナフチルエチル基、2−ナフチルエチル基等のアリールアルキル基など)等が挙げられる。前記アルキレン基(アリールアルキル基中のアルキル鎖)の炭素数は、1〜4であることが好ましく、1〜2であることがより好ましく、1であることが特に好ましい。
The aromatic hydrocarbon group for R ′ 201 is a hydrocarbon group having an aromatic ring. The aromatic hydrocarbon group preferably has 3 to 30 carbon atoms, more preferably 5 to 30 carbon atoms, further preferably 5 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 15 carbon atoms, and most preferably 6 to 10 carbon atoms. However, the carbon number does not include the carbon number in the substituent.
Specific examples of the aromatic ring of the aromatic hydrocarbon group in R ′ 201 include benzene, fluorene, naphthalene, anthracene, phenanthrene, biphenyl, or a part of carbon atoms constituting these aromatic rings substituted with a heteroatom. And aromatic heterocycles. Examples of the hetero atom in the aromatic heterocyclic ring include an oxygen atom, a sulfur atom, and a nitrogen atom.
Specific examples of the aromatic hydrocarbon group for R ′ 201 include a group obtained by removing one hydrogen atom from the aromatic ring (aryl group: for example, phenyl group, naphthyl group, etc.), and one of the hydrogen atoms of the aromatic ring. And a group substituted with an alkylene group (for example, an arylalkyl group such as benzyl group, phenethyl group, 1-naphthylmethyl group, 2-naphthylmethyl group, 1-naphthylethyl group, 2-naphthylethyl group, etc.) and the like. . The alkylene group (alkyl chain in the arylalkyl group) preferably has 1 to 4 carbon atoms, more preferably 1 to 2, and particularly preferably 1.

R’201における環状の脂肪族炭化水素基は、構造中に環を含む脂肪族炭化水素基が挙げられる。
この構造中に環を含む脂肪族炭化水素基としては、脂環式炭化水素基(脂肪族炭化水素環から水素原子を1個除いた基)、脂環式炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の末端に結合した基、脂環式炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の途中に介在する基などが挙げられる。
前記脂環式炭化水素基は、炭素数が3〜20であることが好ましく、3〜12であることがより好ましい。
前記脂環式炭化水素基は、多環式基であってもよく、単環式基であってもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、モノシクロアルカンから1個以上の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素数3〜6のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから1個以上の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素数7〜30のものが好ましい。中でも、該ポリシクロアルカンとしては、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等の架橋環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカン;ステロイド骨格を有する環式基等の縮合環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカンがより好ましい。
Examples of the cyclic aliphatic hydrocarbon group for R ′ 201 include an aliphatic hydrocarbon group containing a ring in the structure.
As the aliphatic hydrocarbon group containing a ring in this structure, an alicyclic hydrocarbon group (a group obtained by removing one hydrogen atom from an aliphatic hydrocarbon ring), an alicyclic hydrocarbon group is linear or branched Examples thereof include a group bonded to the end of a chain aliphatic hydrocarbon group and a group in which an alicyclic hydrocarbon group is interposed in the middle of a linear or branched aliphatic hydrocarbon group.
The alicyclic hydrocarbon group preferably has 3 to 20 carbon atoms, and more preferably 3 to 12 carbon atoms.
The alicyclic hydrocarbon group may be a polycyclic group or a monocyclic group. As the monocyclic alicyclic hydrocarbon group, a group in which one or more hydrogen atoms have been removed from a monocycloalkane is preferable. The monocycloalkane preferably has 3 to 6 carbon atoms, and specific examples include cyclopentane and cyclohexane. The polycyclic alicyclic hydrocarbon group is preferably a group obtained by removing one or more hydrogen atoms from a polycycloalkane, and the polycycloalkane preferably has 7 to 30 carbon atoms. Among these, the polycycloalkane includes polycycloalkanes having a polycyclic skeleton of a bridged ring system such as adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, tetracyclododecane; condensed ring systems such as a cyclic group having a steroid skeleton A polycycloalkane having a polycyclic skeleton is more preferable.

なかでも、R’201における環状の脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカンまたはポリシクロアルカンから水素原子を1つ以上除いた基が好ましく、ポリシクロアルカンから水素原子を1つ除いた基がより好ましく、アダマンチル基、ノルボルニル基が特に好ましく、アダマンチル基が最も好ましい。 Among them, the cyclic aliphatic hydrocarbon group for R ′ 201 is preferably a group obtained by removing one or more hydrogen atoms from a monocycloalkane or polycycloalkane, and a group obtained by removing one hydrogen atom from a polycycloalkane. More preferred are an adamantyl group and a norbornyl group, and most preferred is an adamantyl group.

脂環式炭化水素基に結合してもよい、直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素数が1〜10であることが好ましく、1〜6がより好ましく、1〜4がさらに好ましく、1〜3が最も好ましい。
直鎖状の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、メチレン基[−CH−]、エチレン基[−(CH−]、トリメチレン基[−(CH−]、テトラメチレン基[−(CH−]、ペンタメチレン基[−(CH−]等が挙げられる。
分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては、分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、−CH(CH)−、−CH(CHCH)−、−C(CH−、−C(CH)(CHCH)−、−C(CH)(CHCHCH)−、−C(CHCH−等のアルキルメチレン基;−CH(CH)CH−、−CH(CH)CH(CH)−、−C(CHCH−、−CH(CHCH)CH−、−C(CHCH−CH−等のアルキルエチレン基;−CH(CH)CHCH−、−CHCH(CH)CH−等のアルキルトリメチレン基;−CH(CH)CHCHCH−、−CHCH(CH)CHCH−等のアルキルテトラメチレン基などのアルキルアルキレン基等が挙げられる。アルキルアルキレン基におけるアルキル基としては、炭素数1〜5の直鎖状のアルキル基が好ましい。
The linear or branched aliphatic hydrocarbon group that may be bonded to the alicyclic hydrocarbon group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, and 1 to 4 carbon atoms. Is more preferable, and 1-3 are most preferable.
As the linear aliphatic hydrocarbon group, a linear alkylene group is preferable. Specifically, a methylene group [—CH 2 —], an ethylene group [— (CH 2 ) 2 —], a trimethylene group [ — (CH 2 ) 3 —], tetramethylene group [— (CH 2 ) 4 —], pentamethylene group [— (CH 2 ) 5 —] and the like can be mentioned.
As the branched aliphatic hydrocarbon group, a branched alkylene group is preferred, and specifically, —CH (CH 3 ) —, —CH (CH 2 CH 3 ) —, —C (CH 3 ). 2 -, - C (CH 3 ) (CH 2 CH 3) -, - C (CH 3) (CH 2 CH 2 CH 3) -, - C (CH 2 CH 3) 2 - ; alkylethylene groups such as - CH (CH 3) CH 2 - , - CH (CH 3) CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 CH 2 -, - CH (CH 2 CH 3) CH 2 -, - C (CH 2 CH 3) 2 -CH 2 - alkyl groups such as; -CH (CH 3) CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH (CH 3) CH 2 - alkyl trimethylene groups such as; -CH (CH 3) CH 2 CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH (CH 3) CH 2 CH 2 - And the like alkyl alkylene group such as an alkyl tetramethylene group of. The alkyl group in the alkyl alkylene group is preferably a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

置換基を有していてもよい鎖状のアルキル基:
R’201の鎖状のアルキル基としては、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよい。
直鎖状のアルキル基としては、炭素数が1〜20であることが好ましく、1〜15であることがより好ましく、1〜10が最も好ましい。具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デカニル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、イソトリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、イソヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、ドコシル基等が挙げられる。
分岐鎖状のアルキル基としては、炭素数が3〜20であることが好ましく、3〜15であることがより好ましく、3〜10が最も好ましい。具体的には、例えば、1−メチルエチル基、1−メチルプロピル基、2−メチルプロピル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、3−メチルブチル基、1−エチルブチル基、2−エチルブチル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、4−メチルペンチル基などが挙げられる。
A chain-like alkyl group which may have a substituent:
The chain alkyl group for R ′ 201 may be either linear or branched.
The linear alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, and most preferably 1 to 10 carbon atoms. Specifically, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decanyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, isotridecyl group, tetradecyl group Group, pentadecyl group, hexadecyl group, isohexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, nonadecyl group, icosyl group, heicosyl group, docosyl group and the like.
The branched alkyl group preferably has 3 to 20 carbon atoms, more preferably 3 to 15 carbon atoms, and most preferably 3 to 10 carbon atoms. Specifically, for example, 1-methylethyl group, 1-methylpropyl group, 2-methylpropyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylbutyl group, 3-methylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, Examples include 1-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 4-methylpentyl group and the like.

置換基を有していてもよい鎖状のアルケニル基:
R’201の鎖状のアルケニル基としては、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよく、炭素数が2〜10であることが好ましく、2〜5がより好ましく、2〜4がさらに好ましく、3が特に好ましい。直鎖状のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、プロペニル基(アリル基)、ブチニル基などが挙げられる。分岐鎖状のアルケニル基としては、例えば、1−メチルビニル基、2−メチルビニル基、1−メチルプロペニル基、2−メチルプロペニル基などが挙げられる。
鎖状のアルケニル基としては、上記の中でも、直鎖状のアルケニル基が好ましく、ビニル基、プロペニル基がより好ましく、ビニル基が特に好ましい。
A chain-like alkenyl group which may have a substituent:
The chain alkenyl group for R ′ 201 may be either linear or branched, preferably has 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 5, more preferably 2 to 4, 3 is particularly preferred. Examples of the linear alkenyl group include a vinyl group, a propenyl group (allyl group), and a butynyl group. Examples of the branched alkenyl group include 1-methylvinyl group, 2-methylvinyl group, 1-methylpropenyl group, 2-methylpropenyl group and the like.
Among the above, the chain alkenyl group is preferably a linear alkenyl group, more preferably a vinyl group or propenyl group, and particularly preferably a vinyl group.

R’201の鎖状のアルキル基またはアルケニル基における置換基としては、たとえば、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カルボニル基、ニトロ基、アミノ基、上記R’201における環式基等が挙げられる。 Examples of the substituent in the chain alkyl group or alkenyl group of R ′ 201 include, for example, an alkoxy group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a hydroxyl group, a carbonyl group, a nitro group, an amino group, and the cyclic group in R ′ 201 above. Etc.

なかでも、R’201は、置換基を有していてもよい環式基、又は置換基を有していてもよい鎖状のアルキル基が好ましく、置換基を有していてもよい環式基がより好ましく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基が特に好ましい。 Among them, R ′ 201 is preferably a cyclic group which may have a substituent, or a chain-like alkyl group which may have a substituent, and a cyclic group which may have a substituent. A group is more preferable, and an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent is particularly preferable.

201〜R203、R206〜R207、R211〜R212は、相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成する場合、硫黄原子、酸素原子、窒素原子等のヘテロ原子や、カルボニル基、−SO−、−SO−、−SO−、−COO−、−CONH−または−N(R)−(該Rは炭素数1〜5のアルキル基である。)等の官能基を介して結合してもよい。形成される環としては、式中のイオウ原子をその環骨格に含む1つの環が、イオウ原子を含めて、3〜10員環であることが好ましく、5〜7員環であることが特に好ましい。形成される環の具体例としては、たとえばチオフェン環、チアゾール環、ベンゾチオフェン環、チアントレン環、ベンゾチオフェン環、ジベンゾチオフェン環、9H−チオキサンテン環、チオキサントン環、チアントレン環、フェノキサチイン環、テトラヒドロチオフェニウム環、テトラヒドロチオピラニウム環等が挙げられる。 R 201 ~R 203, R 206 ~R 207, R 211 ~R 212 , when bonded to each other to form a ring with the sulfur atom, a sulfur atom, an oxygen atom, or a hetero atom such as nitrogen atom, carbonyl group, -SO -, - SO 2 - , - SO 3 -, - COO -, - CONH- , or -N (R N) - (. the R N is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms), etc. You may couple | bond through the functional group of. As the ring to be formed, one ring containing a sulfur atom in the ring skeleton in the formula is preferably a 3- to 10-membered ring, particularly a 5- to 7-membered ring, including the sulfur atom. preferable. Specific examples of the ring formed include, for example, thiophene ring, thiazole ring, benzothiophene ring, thianthrene ring, benzothiophene ring, dibenzothiophene ring, 9H-thioxanthene ring, thioxanthone ring, thianthrene ring, phenoxathiin ring, tetrahydro A thiophenium ring, a tetrahydrothiopyranium ring, etc. are mentioned.

式(ca−3)中、R208〜R209は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数1〜5のアルキル基を表し、水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基が好ましく、アルキル基となる場合、相互に結合して環を形成してもよい。 In formula (ca-3), R 208 to R 209 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, In this case, they may be bonded to each other to form a ring.

式(ca−3)中、R210は、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、又は置換基を有していてもよい−SO−含有環式基である。
210におけるアリール基としては、炭素数6〜20の無置換のアリール基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましい。
210におけるアルキル基としては、鎖状又は環状のアルキル基であって、炭素数1〜30のものが好ましい。
210におけるアルケニル基としては、炭素数が2〜10であることが好ましい。
210における、置換基を有していてもよい−SO−含有環式基は、その環骨格中に−SO−を含む環を含有する環式基を意味し、具体的には、−SO−における硫黄原子(S)が環式基の環骨格の一部を形成する環式基をいう。その環骨格中に−SO−を含む環をひとつ目の環として数え、該環のみの場合は単環式基、さらに他の環構造を有する場合は、その構造に関わらず多環式基と称する。−SO−含有環式基は、単環式であってもよく、多環式であってもよいが、多環式基であることが好ましい。また、環骨格中に−O−SO−を含む環式基、すなわち−O−SO−中の−O−S−が環骨格の一部を形成するサルトン(sultone)環を含有する環式基であることが好ましい。
In formula (ca-3), R 210 represents an aryl group which may have a substituent, an alkyl group which may have a substituent, an alkenyl group which may have a substituent, or a substituent. An —SO 2 — containing cyclic group which may have a group.
The aryl group in R 210, include unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a phenyl group, a naphthyl group.
The alkyl group for R 210 is preferably a chain or cyclic alkyl group having 1 to 30 carbon atoms.
The alkenyl group for R 210 preferably has 2 to 10 carbon atoms.
In R 210, -SO which may have a substituent 2 - containing cyclic group, -SO 2 - within the ring skeleton thereof means a cyclic group containing a ring containing, in particular, A cyclic group in which the sulfur atom (S) in —SO 2 — forms part of the cyclic skeleton of the cyclic group. The ring containing —SO 2 — in the ring skeleton is counted as the first ring, and when it is only the ring, it is a monocyclic group, and when it has another ring structure, it is a polycyclic group regardless of the structure. Called. The —SO 2 — containing cyclic group may be monocyclic or polycyclic, but is preferably a polycyclic group. Further, the ring -O-SO 2 in the skeleton - cyclic group containing, i.e. -O-SO 2 - ring -O-S- is medium containing sultone (sultone) ring forms part of the ring skeleton A formula group is preferred.

式(ca−4)中、Y201は、それぞれ独立に、アリーレン基、アルキレン基又はアルケニレン基を表す。
201におけるアリーレン基は、R201’における芳香族炭化水素基の説明中で例示した芳香環から水素原子を2つ除いた基が挙げられる。
201におけるアルキレン基、アルケニレン基は、R201’における鎖状のアルキル基、鎖状のアルケニル基として例示した基から水素原子を1つ除いた基が挙げられる。
In formula (ca-4), Y 201 each independently represents an arylene group, an alkylene group, or an alkenylene group.
Examples of the arylene group in Y 201 include a group in which two hydrogen atoms have been removed from the aromatic ring exemplified in the description of the aromatic hydrocarbon group in R 201 ′ .
Examples of the alkylene group and alkenylene group for Y 201 include a group obtained by removing one hydrogen atom from the groups exemplified as the chain alkyl group and the chain alkenyl group for R 201 ′ .

式(ca−4)中、xは、1または2である。
式(ca−4)中、W201は、(x+1)価、すなわち2価または3価の連結基である。
201における2価の連結基としては、置換基を有していてもよい2価の炭化水素基が好ましく、上記式(A1)中のY、Yで例示した2価の連結基と同様の基が挙げられ、直鎖状、分岐鎖状若しくは構造中に環を含む脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基のいずれであってもよく、構造中に環を含む脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基であることが好ましい。なかでも、アリーレン基の両端に2個のカルボニル基が組み合わされた基、又はアリーレン基のみからなる基が好ましい。アリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基等が挙げられ、フェニレン基が特に好ましい。
201における3価の連結基としては、前記W201における2価の連結基から水素原子を1個除いた基、前記2価の連結基にさらに前記2価の連結基が結合した基などが挙げられる。W201における3価の連結基としては、アリーレン基に2個のカルボニル基が結合した基が好ましい。
In the formula (ca-4), x is 1 or 2.
In formula (ca-4), W 201 represents a (x + 1) -valent, that is, divalent or trivalent linking group.
As the divalent linking group in W 201, a divalent hydrocarbon group which may have a substituent is preferable, and the divalent linking group exemplified for Y 1 and Y 2 in the above formula (A1) and The same group may be mentioned, which may be linear, branched or an aliphatic hydrocarbon group containing a ring in the structure or an aromatic hydrocarbon group, and an aliphatic hydrocarbon containing a ring in the structure It is preferably a group or an aromatic hydrocarbon group. Of these, a group in which two carbonyl groups are combined at both ends of an arylene group, or a group consisting of only an arylene group is preferable. Examples of the arylene group include a phenylene group and a naphthylene group, and a phenylene group is particularly preferable.
Examples of the trivalent linking group in W 201 include a group obtained by removing one hydrogen atom from the divalent linking group in W 201 , a group in which the divalent linking group is further bonded to the divalent linking group, and the like. Can be mentioned. The trivalent linking group in W 201 is preferably a group in which two carbonyl groups are bonded to an arylene group.

式(ca−1)で表される好適なカチオンとして具体的には、下記式(ca−1−1)〜(ca−1−18)でそれぞれ表されるカチオンが挙げられる。   Specific examples of suitable cations represented by formula (ca-1) include cations represented by the following formulas (ca-1-1) to (ca-1-18), respectively.

Figure 0006596223
Figure 0006596223

Figure 0006596223
Figure 0006596223

前記式(ca−2)で表される好適なカチオンとして具体的には、ジフェニルヨードニウムカチオン、ビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムカチオン等が挙げられる。   Specific examples of suitable cations represented by the formula (ca-2) include diphenyliodonium cation and bis (4-tert-butylphenyl) iodonium cation.

前記式(ca−4)で表される好適なカチオンとして具体的には、下記式(ca−4−1)〜(ca−4−2)でそれぞれ表されるカチオンが挙げられる。   Specific examples of suitable cations represented by the formula (ca-4) include cations represented by the following formulas (ca-4-1) to (ca-4-2).

Figure 0006596223
Figure 0006596223

上記の中でも、カチオン部は、一般式(ca−1)で表されるカチオンが好ましく、式(ca−1−1)〜(ca−1−18)でそれぞれ表されるカチオンがより好ましい。   Among the above, the cation part is preferably a cation represented by the general formula (ca-1), and more preferably a cation represented by each of the formulas (ca-1-1) to (ca-1-18).

また、光酸発生剤としては、アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルアセトフェノン等のアセトフェノン類;
ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、p,p’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエ−テル類;
チオキサンテン、2−クロロチオキサンテン、2,4−ジエチルチオキサンテン、2−メチルチオキサンテン、2−イソプロピルチオキサンテン等の硫黄化合物;2−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン等のアントラキノン類;
ベンゾイルパーオキシド、クメンパーオキシド等の有機過酸化物;
2−メルカプトベンゾイミダール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール等のチオール化合物;2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)−イミダゾリル二量体等のイミダゾリル化合物;
p−メトキシトリアジン等のトリアジン化合物;
2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(5−メチルフラン−2−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(フラン−2−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−エトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−n−ブトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン等のハロメチル基を有するトリアジン化合物;
2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン等のアミノケトン化合物;
エタノン−1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−1−(O−アセチルオキシム)等のオキシムエステル化合物;
α−(p−トルエンスルホニルオキシイミノ)−フェニルアセトニトリル、α−(ベンゼンスルホニルオキシイミノ)−2,4−ジクロロフェニルアセトニトリル、α−(ベンゼンスルホニルオキシイミノ)−2,6−ジクロロフェニルアセトニトリル、α−(2−クロロベンゼンスルホニルオキシイミノ)−4−メトキシフェニルアセトニトリル、α−(エチルスルホニルオキシイミノ)−1−シクロペンテニルアセトニトリル、並びにオキシムスルホネート化合物;
ビス(p−トルエンスルホニル)ジアゾメタン、ビス(1,1−ジメチルエチルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(2,4−ジメチルフェニルスルホニル)ジアゾメタン等のビススルホニルジアゾメタン類;p−トルエンスルホン酸2−ニトロベンジル、p−トルエンスルホン酸2,6−ジニトロベンジル、ニトロベンジルトシラート、ジニトロベンジルトシラート、ニトロベンジルスルホナート、ニトロベンジルカルボナート、ジニトロベンジルカルボナート等のニトロベンジル誘導体;
ピロガロールトリメシラート、ピロガロールトリトシラート、ベンジルトシラート、ベンジルスルホナート、N−メチルスルホニルオキシスクシンイミド、N−トリクロロメチルスルホニルオキシスクシンイミド、N−フェニルスルホニルオキシマレイミド、N−メチルスルホニルオキシフタルイミド等のスルホン酸エステル類;
N−ヒドロキシフタルイミド、N−ヒドロキシナフタルイミド等のトリフルオロメタンスルホン酸エステル類;
ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスファート、(4−メトキシフェニル)フェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスファート、(4−メトキシフェニル)ジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、(p−tert−ブチルフェニル)ジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート等のオニウム塩類;
ベンゾイントシラート、α−メチルベンゾイントシラート等のベンゾイントシラート類;
その他のジフェニルヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム塩、フェニルジアゾニウム塩、ベンジルカルボナート、ビスアルキル又はビスアリールスルホニルジアゾメタン類、ポリ(ビススルホニル)ジアゾメタン類などのジアゾメタン系酸発生剤等も用いることができる。
Examples of the photoacid generator include acetophenones such as acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, dichloroacetophenone, trichloroacetophenone, p-tert-butylacetophenone;
Benzophenones such as benzophenone, 2-chlorobenzophenone and p, p′-bisdimethylaminobenzophenone; benzoin ethers such as benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether and benzoin isobutyl ether;
Sulfur compounds such as thioxanthene, 2-chlorothioxanthene, 2,4-diethylthioxanthene, 2-methylthioxanthene, 2-isopropylthioxanthene; 2-ethylanthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 2, Anthraquinones such as 3-diphenylanthraquinone;
Organic peroxides such as benzoyl peroxide and cumene peroxide;
Thiol compounds such as 2-mercaptobenzoimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole; imidazolyl such as 2- (o-chlorophenyl) -4,5-di (m-methoxyphenyl) -imidazolyl dimer Compound;
triazine compounds such as p-methoxytriazine;
2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl ] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (4-Diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloro Methyl) -s-triazine, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-ethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) ) -S-triazine, 2- (triazine compound having a 4-n-butoxyphenyl) -4,6-bis (halomethyl groups such as trichloromethyl) -s-triazine;
Aminoketone compounds such as 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one;
Oxime ester compounds such as ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime);
α- (p-toluenesulfonyloxyimino) -phenylacetonitrile, α- (benzenesulfonyloxyimino) -2,4-dichlorophenylacetonitrile, α- (benzenesulfonyloxyimino) -2,6-dichlorophenylacetonitrile, α- (2 -Chlorobenzenesulfonyloxyimino) -4-methoxyphenylacetonitrile, [alpha]-(ethylsulfonyloxyimino) -1-cyclopentenylacetonitrile, and oxime sulfonate compounds;
Bissulfonyldiazomethanes such as bis (p-toluenesulfonyl) diazomethane, bis (1,1-dimethylethylsulfonyl) diazomethane, bis (cyclohexylsulfonyl) diazomethane, bis (2,4-dimethylphenylsulfonyl) diazomethane; p-toluenesulfone Nitrobenzyl derivatives such as 2-nitrobenzyl acid, 2,6-dinitrobenzyl p-toluenesulfonate, nitrobenzyl tosylate, dinitrobenzyl tosylate, nitrobenzyl sulfonate, nitrobenzyl carbonate, dinitrobenzyl carbonate;
Pyrogallol trimesylate, pyrogallol tritosylate, benzyl tosylate, benzyl sulfonate, N-methylsulfonyloxysuccinimide, N-trichloromethylsulfonyloxysuccinimide, N-phenylsulfonyloxymaleimide, N-methylsulfonyloxyphthalimide, etc. Kind;
Trifluoromethanesulfonic acid esters such as N-hydroxyphthalimide and N-hydroxynaphthalimide;
Diphenyliodonium hexafluorophosphate, (4-methoxyphenyl) phenyliodonium trifluoromethanesulfonate, bis (p-tert-butylphenyl) iodonium trifluoromethanesulfonate, triphenylsulfonium hexafluorophosphate, (4-methoxyphenyl) diphenyl Onium salts such as sulfonium trifluoromethanesulfonate and (p-tert-butylphenyl) diphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate;
Benzoin tosylates such as benzoin tosylate and α-methylbenzoin tosylate;
Other diphenyliodonium salts, triphenylsulfonium salts, phenyldiazonium salts, benzyl carbonate, bisalkyl or bisarylsulfonyldiazomethanes, diazomethane acid generators such as poly (bissulfonyl) diazomethanes, and the like can also be used.

光酸発生剤の市販品としては、IRGACURE PAG290(BASFジャパン社製)、CPI−210S(サンアプロ社製)等を用いることができる。   IRGACURE PAG290 (manufactured by BASF Japan), CPI-210S (manufactured by San Apro), and the like can be used as commercial products of the photoacid generator.

(熱酸発生剤)
熱酸発生剤としては、100℃程度で分解して酸を発生する酸発生剤であることが好ましい。100℃程度で酸を発生し得る熱酸発生剤を用いることにより、本実施形態の接着剤組成物を用いて接着された部材や機器が耐熱性に劣るものである場合にも、好適に硬化を行うことができる。例えば、本実施形態の接着剤組成物をOLED用途に用いる場合にも、LED素子への熱の影響を抑えつつ、エポキシ化合物を確実に硬化させることができる。
このような熱酸発製剤として例えば、上記一般式(an−1)又は(an−2)で表されるアニオン部と、下記一般式(ca−11)で表されるカチオン部と、を有するオニウム塩化合物を用いることができる。
(Thermal acid generator)
The thermal acid generator is preferably an acid generator that decomposes at about 100 ° C. to generate an acid. By using a thermal acid generator capable of generating an acid at about 100 ° C., it is suitably cured even when a member or device bonded using the adhesive composition of this embodiment is inferior in heat resistance. It can be performed. For example, also when using the adhesive composition of this embodiment for OLED use, an epoxy compound can be hardened reliably, suppressing the influence of the heat | fever to a LED element.
As such a thermal acid generator, for example, it has an anion moiety represented by the above general formula (an-1) or (an-2) and a cation moiety represented by the following general formula (ca-11). An onium salt compound can be used.

Figure 0006596223
[式中、Rb11は水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基を示し、Rb12〜Rb13は、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、アリールアルキル基又はアルケニル基を表す。]
Figure 0006596223
[Wherein, Rb 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and Rb 12 to Rb 13 each independently represents an alkyl group, an aryl group, an arylalkyl group, or Represents an alkenyl group. ]

式(ca−11)中、Rb11は水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基であって、水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基が好ましい。
式(ca−11)中、水酸基(−OH)の結合位置は特に限定されないが、パラ位であることが好ましい。
In formula (ca-11), Rb 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
In formula (ca-11), the bonding position of the hydroxyl group (—OH) is not particularly limited, but the para position is preferable.

式(ca−11)中、Rb12〜Rb13は、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基又はアルケニル基である。
Rb12〜Rb13におけるアルキル基としては、鎖状又は環状のアルキル基であって、炭素数1〜30のものが好ましい。
Rb12〜Rb13におけるアリール基としては、炭素数6〜20の無置換のアリール基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましい。
Rb12〜Rb13におけるアリールアルキル基としてはベンジル基又はフェネチル基が好ましい。
Rb12〜Rb13におけるアルケニル基としては、炭素数が2〜10であることが好ましい。
Rb12〜Rb13が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、カルボニル基、シアノ基、アミノ基、アリール基、前記式(ca−r−1)〜(ca−r−9)でそれぞれ表される基が挙げられる。
In formula (ca-11), Rb 12 to Rb 13 each independently represent an alkyl group, an aryl group, or an alkenyl group that may have a substituent.
The alkyl group in Rb 12 to Rb 13 is preferably a chain or cyclic alkyl group having 1 to 30 carbon atoms.
The aryl group in Rb 12 ~Rb 13, include an unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a phenyl group, a naphthyl group.
The arylalkyl group in Rb 12 to Rb 13 is preferably a benzyl group or a phenethyl group.
The alkenyl group for Rb 12 to Rb 13 preferably has 2 to 10 carbon atoms.
Examples of the substituent that Rb 12 to Rb 13 may have include, for example, an alkyl group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a carbonyl group, a cyano group, an amino group, an aryl group, and the formula (ca-r-1). ) To (ca-r-9), respectively.

また、上記式(ca−11)で表されるカチオン部に代えて、4級アンモニウムカチオンを用いた熱酸発生剤も好ましい。4級アンモニウムカチオンは「N−(Rb15」で表され、Rb15は、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基又はアルケニル基であって、上記Rb12〜Rb13と同様である。 A thermal acid generator using a quaternary ammonium cation instead of the cation moiety represented by the above formula (ca-11) is also preferable. The quaternary ammonium cation is represented by “N + -(Rb 15 ) 4 ”, and Rb 15 is an alkyl group, an aryl group or an alkenyl group which may each independently have a substituent, and the above Rb 12 ~Rb 13 is the same as that.

また、熱酸発生剤としては、トリフルオロメタンスルホン酸塩、三フッ化ホウ素エーテル錯化合物、六フッ化リン酸塩、パーフルオロブタンスルホン酸塩、三フッ化ホウ素塩等のカチオン系又はプロトン酸触媒等も用いることができる。具体例としては、トリフルオロメタンスルホン酸ジエチルアンモニウム、トリフルオロメタンスルホン酸トリエチルアンモニウム、トリフルオロメタンスルホン酸ジイソプロピルアンモニウム、トリフルオロメタンスルホン酸エチルジイソプロピルアンモニウム等が挙げられる。
また、酸発生剤としても用いられる芳香族オニウム塩のうち、熱によりカチオン種を発生するものがあり、これらも熱カチオン重合開始剤として用いることができる。市販品では例えば、サンエイドSI−45、SI−47、SI−60、SI−60L、SI−80、SI−80L、SI−100、SI−100L、SI−110、SI−110L、SI−145、SI−150、SI−160、SI−180L、SI−B3、SI−B3A(三新化学工業社製);CI−2921、CI−2920、CI−2946、CI−3128、CI−2624、CI−2639、CI−2064(日本曹達社製);CP−66、CP−77(ADEKA社製);FC−520(3M社製)K−PURE TAG−2396、TAG−2713S、TAG−2713、TAG−2172、TAG−2179、TAG−2168E、TAG−2722、TAG−2507、TAG−2678、TAG−2681、TAG−2679、TAG−2690、TAG−2700、TAG−2710、TAG−2100、CDX−3027、CXC−1615、CXC−1616、CXC−1750、CXC−1738、CXC−1614、CXC−1742、CXC−1743、CXC−1613、CXC−1739、CXC−1751、CXC−1766、CXC−1763、CXC−1736、CXC−1756、CXC−1821、CXC−1802−60(KING INDUSTRY社製)等が挙げられる。
In addition, as the thermal acid generator, a cationic or protonic acid catalyst such as trifluoromethanesulfonate, boron trifluoride etherate, hexafluorophosphate, perfluorobutanesulfonate, boron trifluoride, etc. Etc. can also be used. Specific examples include diethylammonium trifluoromethanesulfonate, triethylammonium trifluoromethanesulfonate, diisopropylammonium trifluoromethanesulfonate, ethyl diisopropylammonium trifluoromethanesulfonate, and the like.
Among aromatic onium salts that are also used as acid generators, there are those that generate cationic species by heat, and these can also be used as thermal cationic polymerization initiators. Commercially available products include, for example, Sun-Aid SI-45, SI-47, SI-60, SI-60L, SI-80, SI-80L, SI-100, SI-100L, SI-110, SI-110L, SI-145, SI-150, SI-160, SI-180L, SI-B3, SI-B3A (manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.); CI-2921, CI-2920, CI-2946, CI-3128, CI-2624, CI- 2639, CI-2064 (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.); CP-66, CP-77 (manufactured by ADEKA); FC-520 (manufactured by 3M) K-PURE TAG-2396, TAG-2713S, TAG-2713, TAG- 2172, TAG-2179, TAG-2168E, TAG-2722, TAG-2507, TAG-2678, TAG-2681, TAG- 2679, TAG-2690, TAG-2700, TAG-2710, TAG-2100, CDX-3027, CXC-1615, CXC-1616, CXC-1750, CXC-1738, CXC-1614, CXC-1742, CXC-1743, CXC-1613, CXC-1739, CXC-1751, CXC-1766, CXC-1763, CXC-1736, CXC-1756, CXC-1821, CXC-1802-60 (manufactured by KING INDUSTRY) and the like.

(B)成分は、上述した光酸発生剤や熱酸発生剤を1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
接着剤組成物中の(B)成分の含有量は、(A1)成分及び(A2)成分の合計量100質量部に対して0.01〜60質量部が好ましく、0.5〜30質量部がより好ましく、1〜10質量部がさらに好ましい。
(B)成分の含有量を上記下限値以上とすることにより、エポキシ化合物である(A1)成分及び(A2)成分を良好に硬化させることができる。また、上記上限値以下とすることにより、他の成分との相溶性を良好なものとすることができる。
As the component (B), the above-mentioned photoacid generator and thermal acid generator may be used singly or in combination of two or more.
As for content of (B) component in adhesive composition, 0.01-60 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of total amounts of (A1) component and (A2) component, 0.5-30 mass parts Is more preferable, and 1-10 mass parts is further more preferable.
By making content of (B) component more than the said lower limit, the (A1) component and (A2) component which are epoxy compounds can be hardened | cured favorably. Moreover, compatibility with another component can be made favorable by setting it as the said upper limit or less.

<任意成分>
[界面活性剤(E)]
本実施形態における接着剤組成物は、上記(A1)成分、(A2)成分及び(B)成分に加えて、さらに、界面活性剤(E)(以下「(E)成分」ともいう。)を含有してもよい。
(E)成分としては、例えば、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤が挙げられる。
シリコーン系界面活性剤として具体的には、BYK−077、BYK−085、BYK−300、BYK−301、BYK−302、BYK−306、BYK−307、BYK−310、BYK−320、BYK−322、BYK−323、BYK−325、BYK−330、BYK−331、BYK−333、BYK−335、BYK−341、BYK−344、BYK−345、BYK−346、BYK−348、BYK−354、BYK−355、BYK−356、BYK−358、BYK−361、BYK−370、BYK−371、BYK−375、BYK−380、BYK−390(BYK Chemie社製)等を使用することができる。
フッ素系界面活性剤として具体的には、F−114、F−177、F−410、F−411、F−450、F−493、F−494、F−443、F−444、F−445、F−446、F−470、F−471、F−472SF、F−474、F−475、F−477、F−478、F−479、F−480SF、F−482、F−483、F−484、F−486、F−487、F−172D、MCF−350SF、TF−1025SF、TF−1117SF、TF−1026SF、TF−1128、TF−1127、TF−1129、TF−1126、TF−1130、TF−1116SF、TF−1131、TF−1132、TF−1027SF、TF−1441、TF−1442(DIC社製);ポリフォックスシリーズのPF−636、PF−6320、PF−656、PF−6520(オムノバ社製)等を使用することができる。
<Optional component>
[Surfactant (E)]
The adhesive composition in the present embodiment further contains a surfactant (E) (hereinafter also referred to as “component (E)”) in addition to the above components (A1), (A2) and (B). You may contain.
Examples of the component (E) include silicone surfactants and fluorine surfactants.
Specific examples of the silicone surfactant include BYK-077, BYK-085, BYK-300, BYK-301, BYK-302, BYK-306, BYK-307, BYK-310, BYK-320, and BYK-322. BYK-323, BYK-325, BYK-330, BYK-331, BYK-333, BYK-335, BYK-341, BYK-344, BYK-345, BYK-346, BYK-348, BYK-354, BYK -355, BYK-356, BYK-358, BYK-361, BYK-370, BYK-371, BYK-375, BYK-380, BYK-390 (manufactured by BYK Chemie) or the like can be used.
Specific examples of the fluorosurfactant include F-114, F-177, F-410, F-411, F-450, F-493, F-494, F-443, F-444, and F-445. F-446, F-470, F-471, F-472SF, F-474, F-475, F-477, F-478, F-479, F-480SF, F-482, F-483, F -484, F-486, F-487, F-172D, MCF-350SF, TF-1025SF, TF-1117SF, TF-1026SF, TF-1128, TF-1127, TF-1129, TF-1126, TF-1130 TF-1116SF, TF-1131, TF-1132, TF-1027SF, TF-1441, TF-1442 (manufactured by DIC); Polyfox series PF- 36, PF-6320, PF-656, PF-6520 (manufactured by OMNOVA Solutions Inc.) may be used.

(E)成分は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(E)成分の含有量は、(A1)及び(A2)成分の合計100質量部に対して、0.01〜10質量部であることが好ましく、0.02〜2質量部であることがより好ましく、0.0.3〜1質量部であることがさらに好ましい。上記範囲とすることにより、感接着剤組成物からなる接着層と、基板や支持体との接着性を良好なものとすることができる。
(E) A component may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
The content of the component (E) is preferably 0.01 to 10 parts by mass, and 0.02 to 2 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the components (A1) and (A2). More preferably, it is 0.0.3-1 mass part. By setting it as the said range, the adhesiveness of the contact bonding layer which consists of an adhesive composition, and a board | substrate or a support body can be made favorable.

[(S)成分:有機溶剤成分]
本実施形態の接着剤組成物は、塗布性の向上や粘度の調整を目的として、有機溶剤(S)(以下「(S)成分」ということがある)に溶解させて製造することができる。
(S)成分としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、3−メトキシブチルアセテート(MA)、3−メトキシブタノール(BM)、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテアセテート(PGMEA)、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、炭酸メチル、炭酸エチル、炭酸プロピル、炭酸ブチル又はこれらの混合物等が挙げられる。中でもPGME、PGMEA、MAや、PGMEとPGMEAの混合溶剤、MAとBMの混合溶剤等を用いることが好ましい。
[(S) component: organic solvent component]
The adhesive composition of this embodiment can be produced by dissolving it in an organic solvent (S) (hereinafter sometimes referred to as “component (S)”) for the purpose of improving applicability and adjusting viscosity.
As component (S), benzene, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methanol, ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, diethylene glycol, glycerin, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol Monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether (PGME), propylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, 3-methoxybutyl acetate (MA), 3-methoxybutanol (BM) , 3-methyl- -Methoxybutyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), propylene glycol monomethyl ether propionate, propylene glycol monoethyl ether propionate, methyl carbonate, ethyl carbonate, propyl carbonate, butyl carbonate or a mixture thereof . Among these, it is preferable to use PGMEA, PGMEA, MA, a mixed solvent of PGME and PGMEA, a mixed solvent of MA and BM, and the like.

(S)成分の使用量は特に限定されないが、基板等に塗布可能な濃度で、形成しようとする接着層の膜厚に応じて適宜設定される。具体的には、接着剤組成物の固形分濃度を、10〜95質量%、特に20〜90質量%の範囲内とすることが好ましい。   Although the usage-amount of (S) component is not specifically limited, It is suitably set according to the film thickness of the contact bonding layer to form at the density | concentration which can be apply | coated to a board | substrate etc. Specifically, the solid content concentration of the adhesive composition is preferably in the range of 10 to 95% by mass, particularly 20 to 90% by mass.

本実施形態の接着剤組成物が(S)成分を含有する場合、接着剤組成物の25℃における粘度は0.005〜10Pa・sであることが好ましく、0.01〜1Pa・sであることがより好ましい。粘度を上記下限値以上とすることにより、接着剤組成物を塗布して接着層を形成する際、所定の膜厚、例えば膜厚1〜20μm、好ましくは2〜10μmの膜厚を確保することができる。   When the adhesive composition of this embodiment contains (S) component, it is preferable that the viscosity in 25 degreeC of an adhesive composition is 0.005-10 Pa.s, and is 0.01-1 Pa.s. It is more preferable. By forming the adhesive layer by applying the adhesive composition by setting the viscosity to the above lower limit value or more, a predetermined film thickness, for example, a film thickness of 1 to 20 μm, preferably 2 to 10 μm is secured. Can do.

粘度は、回転粘度計等を用いた公知の方法により測定することができる。
より具体的には、コーンプレート型恒温槽付きE型粘度計を用いる場合であれば、シリンジを用いて採取した接着剤組成物溶液を、コーンプレート下部に設置されているカップに注入し、100rpmで3分間コーンプレートを回転させた時のコーンプレートにかかる抵抗率を粘度換算して粘度を算出することができる。
The viscosity can be measured by a known method using a rotational viscometer or the like.
More specifically, in the case of using an E-type viscometer with a corn plate type thermostatic bath, the adhesive composition solution collected using a syringe is injected into a cup installed at the bottom of the corn plate, and 100 rpm The viscosity can be calculated by converting the resistivity applied to the cone plate when the cone plate is rotated for 3 minutes.

[その他の添加剤]
本実施形態の接着剤組成物は、特性を損なわない範囲において、混和性のある他の物質をさらに含んでいてもよい。例えば、接着剤の性能を改良するための付加的樹脂、可塑剤、接着補助剤、安定剤、着色剤、染料等の慣用されている各種添加剤をさらに用いることができる。
[Other additives]
The adhesive composition of the present embodiment may further contain other miscible materials as long as the properties are not impaired. For example, various commonly used additives such as additional resins, plasticizers, adhesion assistants, stabilizers, colorants, dyes and the like for improving the performance of the adhesive can be further used.

以上説明した本実施形態の接着剤組成物は、(A1)成分と(A2)成分とを所定の比率で含有することにより、耐熱性、耐湿性、ヒートサイクル特性、塗布性、透明性等の一般的なOLED用接着剤に要求される性能のみならず、エッジ部における接着剤のはみ出し低減、硬化後のボイド(空隙)発生低減、塗布時の均一性等の貼り付け性能も良好となる。そのため、本実施形態の接着剤組成物は、OLED用途、特に、基板と支持体とを接着する用途において好適である。   The adhesive composition of the present embodiment described above contains (A1) component and (A2) component at a predetermined ratio, so that heat resistance, moisture resistance, heat cycle characteristics, applicability, transparency, etc. Not only the performance required for general OLED adhesives, but also adhesive performance such as reduction of adhesive protrusion at the edge portion, reduction of voids (voids) after curing, uniformity during application, and the like are improved. Therefore, the adhesive composition of the present embodiment is suitable for OLED applications, particularly for applications in which a substrate and a support are bonded.

≪積層体≫
本発明の第二の態様である積層体は、上記本発明の第一の態様である接着剤組成物を含有する接着層を介して、基板と支持体とを貼り合わせて形成されたものである。
基板としては特に限定されず、従来公知のものを用いることができ、例えば、電子部品用の基板や、これに所定の配線パターンが形成されたもの等が挙げられる。より具体的には、シリコンウェハ、銅、クロム、鉄、アルミニウム等の金属製の基板や、ガラス基板等が挙げられる。配線パターンの材料としては、例えば銅、アルミニウム、ニッケル、金等が使用可能である。
また、基板としては、上述のような基板上に、無機系および/または有機系の膜が設けられたものであってもよい。無機系の膜としては、無機反射防止膜(無機BARC)が挙げられる。有機系の膜としては、有機反射防止膜(有機BARC)や、多層レジスト法における下層有機膜等の有機膜が挙げられる。
支持体も特に限定されるものではなく、例えば、ガラスからなる支持体、金属や合金からなる支持体等が挙げられる。
≪Laminated body≫
The laminate which is the second aspect of the present invention is formed by bonding the substrate and the support through the adhesive layer containing the adhesive composition which is the first aspect of the present invention. is there.
The substrate is not particularly limited, and a conventionally known substrate can be used. Examples thereof include a substrate for electronic components and a substrate on which a predetermined wiring pattern is formed. More specifically, a silicon substrate, a metal substrate such as copper, chromium, iron, and aluminum, a glass substrate, and the like can be given. As a material for the wiring pattern, for example, copper, aluminum, nickel, gold or the like can be used.
The substrate may be one in which an inorganic and / or organic film is provided on the above-described substrate. An inorganic antireflection film (inorganic BARC) is an example of the inorganic film. Examples of the organic film include an organic antireflection film (organic BARC) and an organic film such as a lower organic film in a multilayer resist method.
The support is not particularly limited, and examples thereof include a support made of glass and a support made of a metal or an alloy.

前記接着層の膜厚は1〜20μmであることが好ましく、2〜10μmであることがさらに好ましい。
また、形成された接着層の25℃における溶融粘度は、1.5〜100Pa・sであることが好ましく、3〜60Pa・sであることがより好ましい。溶融粘度を上記下限値以上とすることにより、接着剤組成物を塗布して接着層を形成する際のはみ出しを低減させることができる。また、粘度を上記上限値以下とすることにより、接着剤組成物を用いて接着層を形成した際のボイドの発生を低減することができる。
The thickness of the adhesive layer is preferably 1 to 20 μm, and more preferably 2 to 10 μm.
Further, the melt viscosity at 25 ° C. of the formed adhesive layer is preferably 1.5 to 100 Pa · s, and more preferably 3 to 60 Pa · s. By setting the melt viscosity to be equal to or higher than the above lower limit, it is possible to reduce the protrusion when the adhesive composition is applied to form the adhesive layer. Moreover, generation | occurrence | production of the void at the time of forming an adhesive layer using an adhesive composition can be reduced by making a viscosity below the said upper limit.

溶融粘度は、動的粘度測定装置等を用いた公知の方法により測定することができる。
より具体的には、接着剤組成物シリコンウェハ上に塗布した後、ホットプレート上で100℃で5分間((B)成分として熱酸発生剤を含有する場合は80℃で10分間)焼成して厚さ100μmの接着層を形成する。形成した接着層を、動的粘度測定装置(Reogel−E4000、株式会社ユービーエム製)を用いて、25℃(周波数10Hz)における溶融粘度を測定することができる。
The melt viscosity can be measured by a known method using a dynamic viscosity measuring device or the like.
More specifically, after the adhesive composition is applied onto a silicon wafer, it is baked on a hot plate at 100 ° C. for 5 minutes (when it contains a thermal acid generator as the component (B), it is heated at 80 ° C. for 10 minutes). An adhesive layer having a thickness of 100 μm is formed. The formed adhesive layer can be measured for melt viscosity at 25 ° C. (frequency: 10 Hz) using a dynamic viscosity measuring device (Reogel-E4000, manufactured by UBM Co., Ltd.).

第二の態様の積層体を製造する方法は特に限定されるものではなく、例えば後述する第三の態様の製造方法によって製造することができる。   The method for producing the laminate of the second aspect is not particularly limited, and for example, it can be produced by the production method of the third aspect described later.

≪積層体の製造方法≫
積層体の製造方法は特に限定されるものではないが、例えば、基板上に、上記本発明の第一の態様である接着剤組成物を塗布し、ベーク処理を施して接着層を形成する。当該接着層上に支持体を配置し、必要に応じて加圧や仮固定をする。その後、基板−接着剤層−光酸発生剤を用いた場合であれば露光を行い、熱酸発生剤を用いた場合であれば加熱を行って接着剤層を硬化させ、接着層を介して基板と支持体とを貼り合わせることができる。
≪Laminated body manufacturing method≫
Although the manufacturing method of a laminated body is not specifically limited, For example, the adhesive composition which is the said 1st aspect of this invention is apply | coated on a board | substrate, a baking process is performed, and an adhesive layer is formed. A support body is arrange | positioned on the said contact bonding layer, and pressurization and temporary fixing are carried out as needed. Then, if the substrate-adhesive layer-photoacid generator is used, exposure is performed, and if the thermal acid generator is used, heating is performed to cure the adhesive layer, and then through the adhesive layer. A board | substrate and a support body can be bonded together.

接着剤組成物の塗布は、スピンコーター、ロールコーター、スプレーコーター、スリットコーター等の一般的な塗布装置を用いて行うことができる。
ベーク処理は、たとえばホットプレート上で、80〜150℃の温度条件にて、0.5〜60分間、好ましくは1〜30分間で行うことができる。また、接着剤組成物が含有する(B)成分として熱酸発生剤を用いる場合には、熱酸発生剤が酸を発生し得る温度未満にベーク温度及び時間を設定することが好ましい。
支持体と基板との貼り合わせは、真空又は略真空条件下で、30〜5000kgfで加圧して行うことが好ましい。また、必要に応じて貼り合わせ時に加熱を行ってもよい。このような貼り合わせには、一般的なの真空加圧貼り合わせ装置を用いることができる。
Application of the adhesive composition can be performed using a general coating apparatus such as a spin coater, a roll coater, a spray coater, or a slit coater.
The baking treatment can be performed, for example, on a hot plate at a temperature of 80 to 150 ° C. for 0.5 to 60 minutes, preferably 1 to 30 minutes. Moreover, when using a thermal acid generator as (B) component which an adhesive composition contains, it is preferable to set baking temperature and time below the temperature which a thermal acid generator can generate | occur | produce an acid.
The bonding of the support and the substrate is preferably performed by applying a pressure of 30 to 5000 kgf under vacuum or a substantially vacuum condition. Moreover, you may heat at the time of bonding as needed. A general vacuum pressure bonding apparatus can be used for such bonding.

光酸発生剤を用いた場合の、露光時の放射線線源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、アルゴンガスレーザー等を用いることができる。また、放射線には、マイクロ波、赤外線、可視光線、紫外線、X線、γ線、電子線、陽子線、中性子線、イオン線等が含まれる。放射線照射量は、本実施形態の接着剤組成物の組成や接着層の膜厚等によっても異なるが、例えば超高圧水銀灯使用の場合、100〜10000mJ/cmである。露光を行った後、さらにベーク処理を施すことにより、発生した酸の拡散と接着層の硬化を促進することができる。ベークは、たとえば80〜150℃の温度条件にて5分〜120分、好ましくは30分〜60分行う。
熱酸発生剤を用いた場合の、接着層を硬化させるための加熱は、80〜150℃、より好ましくは90〜110℃の温度条件にて、5分〜120分、好ましくは30分〜60分が好ましい。
A low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, an argon gas laser, or the like can be used as a radiation source at the time of exposure when a photoacid generator is used. The radiation includes microwaves, infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, X-rays, γ rays, electron beams, proton beams, neutron beams, ion beams, and the like. The amount of radiation irradiation varies depending on the composition of the adhesive composition of the present embodiment, the film thickness of the adhesive layer, and the like, but is, for example, 100 to 10,000 mJ / cm 2 when using an ultrahigh pressure mercury lamp. After the exposure, further baking treatment can be performed to promote the diffusion of the generated acid and the curing of the adhesive layer. The baking is performed, for example, at a temperature of 80 to 150 ° C. for 5 minutes to 120 minutes, preferably 30 minutes to 60 minutes.
When the thermal acid generator is used, the heating for curing the adhesive layer is performed at a temperature of 80 to 150 ° C., more preferably 90 to 110 ° C., for 5 to 120 minutes, preferably 30 to 60 minutes. Minutes are preferred.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
本実施例では、化学式(1)で表される化合物を「化合物(1)」と表記し、他の化学式で表される化合物についても同様に記載する。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited by these examples.
In this example, the compound represented by the chemical formula (1) is referred to as “compound (1)”, and the same applies to compounds represented by other chemical formulas.

[実施例1〜7、比較例1〜4]
<接着剤組成物の調製>
表1に示す各成分を混合し、PGEMA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)に溶解することで、各例の積層体製造に用いる接着剤組成物をそれぞれ調製した(固形分濃度70質量%、粘度0.05Pa・s)。
[Examples 1-7, Comparative Examples 1-4]
<Preparation of adhesive composition>
Each component shown in Table 1 was mixed and dissolved in PGEMA (propylene glycol monomethyl ether acetate) to prepare an adhesive composition used for manufacturing the laminates in each example (solid content concentration 70% by mass, viscosity 0) .05 Pa · s).

Figure 0006596223
Figure 0006596223

表1中、各略号はそれぞれ以下の意味を有する。[ ]内の数値は配合量(質量部)である。
(A)−1:下記化合物(A)−1(セロキサイド2021P(商品名)、ダイセル化学工業社製)。
(A)−2:前記式(A2−1)で表される化合物(前記式(a)で表される基を有する)に相当する、多官能脂環式エポキシ樹脂(EHPE3150(商品名)、ダイセル化学工業社製)。
(A)−A:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(jER 827(商品名)、三菱化学社製)。
(A)−B:水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂(jER YX8000(商品名)、三菱化学社製)。
(B)−1:下記化合物(B)−1(CPI−210S(商品名)、サンアプロ社製)。
(B)−2:下記化合物(B)−2 トリス(4−(4−アセチルフェニル)チオフェニル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート(Irgacure PAG290(商品名)、BASF ジャパン社製)。
(B)−3:下記化合物(B)−3(サンエイドSI−B3(商品名)、三新化学工業社製)。
(B)−4:下記化合物(B)−4(サンエイドSI−110(商品名)、三新化学工業社製)。
(B)−5:熱酸発生剤 K−PURE CXC−1821(商品名;KING INDUSTRY社製)
(E)−1:下記化合物(E)−1(ポリフォックスPF−656(商品名)、オムノバ社製)。
In Table 1, each abbreviation has the following meaning. The numerical value in [] is a compounding amount (part by mass).
(A) -1: The following compound (A) -1 (Celoxide 2021P (trade name), manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.).
(A) -2: a polyfunctional alicyclic epoxy resin (EHPE3150 (trade name)) corresponding to the compound represented by the formula (A2-1) (having a group represented by the formula (a 1 )) Manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.).
(A) -A: bisphenol A type epoxy resin (jER 827 (trade name), manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).
(A) -B: Hydrogenated bisphenol A type epoxy resin (jER YX8000 (trade name), manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).
(B) -1: The following compound (B) -1 (CPI-210S (trade name), manufactured by San Apro).
(B) -2: The following compound (B) -2 Tris (4- (4-acetylphenyl) thiophenyl) sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate (Irgacure PAG290 (trade name), manufactured by BASF Japan Ltd.).
(B) -3: The following compound (B) -3 (Sun aid SI-B3 (trade name), manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.).
(B) -4: The following compound (B) -4 (Sun-Aid SI-110 (trade name), manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.).
(B) -5: Thermal acid generator K-PURE CXC-1821 (trade name; manufactured by KING INDUSTRY) .
(E) -1: The following compound (E) -1 (Polyfox PF-656 (trade name), manufactured by Omninova).

Figure 0006596223
Figure 0006596223

<耐熱性評価>
ガラス基板上に上記各例の接着剤組成物を、スピンコーターを用いて均一にそれぞれ塗布し、表1中に示す温度及び時間でベーク処理を行い、表1中に示す膜厚の接着層を形成した。
形成された接着層を有するガラス基板を、オーブンを用いて85℃で1000時間加熱した。加熱後の接着層の透過率を市販の分光光度計で測定し、透過率が97.5%以上であるものを〇、97.5%未満であるものを×として評価した。結果を「耐熱性」として表2に示す。
<Heat resistance evaluation>
The adhesive composition of each of the above examples was uniformly applied on a glass substrate using a spin coater, and baked at the temperature and time shown in Table 1, and the adhesive layer having the thickness shown in Table 1 was formed. Formed.
The glass substrate having the formed adhesive layer was heated at 85 ° C. for 1000 hours using an oven. The transmittance of the adhesive layer after heating was measured with a commercially available spectrophotometer, and those having a transmittance of 97.5% or more were evaluated as ◯ and those having a transmittance of less than 97.5% were evaluated as x. The results are shown in Table 2 as “heat resistance”.

<耐湿性評価>
ガラス基板上に上記各例の接着剤組成物を、スピンコーターを用いて均一にそれぞれ塗布し、表1中に示す温度及び時間でベーク処理を行い、表1中に示す膜厚の接着層を形成した。
形成された接着層を有するガラス基板を、60℃、湿度90%の条件下に1000時間静置した。静置後の接着層の透過率を市販の分光光度計で測定し、透過率が97.5%以上であるものを〇、97.5%未満であるものを×として評価した。結果を「耐湿性」として表2に示す。
<Moisture resistance evaluation>
The adhesive composition of each of the above examples was uniformly applied on a glass substrate using a spin coater, and baked at the temperature and time shown in Table 1, and the adhesive layer having the thickness shown in Table 1 was formed. Formed.
The glass substrate having the formed adhesive layer was allowed to stand for 1000 hours under conditions of 60 ° C. and 90% humidity. The transmittance of the adhesive layer after standing was measured with a commercially available spectrophotometer, and those having a transmittance of 97.5% or more were evaluated as ◯ and those having a transmittance of less than 97.5% were evaluated as x. The results are shown in Table 2 as “moisture resistance”.

<ヒートサイクル評価>
ガラス基板上に上記各例の接着剤組成物を、スピンコーターを用いて均一にそれぞれ塗布し、表1中に示す温度及び時間でベーク処理を行い、表1中に示す膜厚の接着層を形成した。
形成された接着層を有するガラス基板をサンプルとして、冷熱衝撃試験機TSE−11−A(商品名;ESPEC社製)に投入し、当該サンプルを、それぞれ−30℃の恒温槽、及び85℃の恒温槽間を移動させた。各恒温槽でのサンプルの保持時間は30分間であり、合計1時間でヒートサイクル1サイクルとした。100サイクルまでヒートサイクル試験を実施した後、100サイクル終了後に市販の分光光度計を用いて接着層の透過率を測定し、透過率が97.5%以上であるものを〇、97.5%未満であるものを×として評価した。結果を「ヒートサイクル」として表2に示す。
<Heat cycle evaluation>
The adhesive composition of each of the above examples was uniformly applied on a glass substrate using a spin coater, and baked at the temperature and time shown in Table 1, and the adhesive layer having the thickness shown in Table 1 was formed. Formed.
The glass substrate having the formed adhesive layer is used as a sample and put into a thermal shock tester TSE-11-A (trade name; manufactured by ESPEC), and the sample is put into a -30 ° C constant temperature bath and 85 ° C respectively. It moved between thermostats. The holding time of the sample in each thermostat was 30 minutes, and it was set as 1 heat cycle in 1 hour in total. After carrying out the heat cycle test up to 100 cycles, the transmittance of the adhesive layer is measured using a commercially available spectrophotometer after the end of 100 cycles, and the transmittance is 97.5% or more. What was less than was evaluated as x. The results are shown in Table 2 as “heat cycle”.

(溶融粘度)
8インチシリコンウエハ上に上記各例の接着剤組成物を、スピンコーターを用いて均一にそれぞれ塗布し、表1中に示す温度及び時間でベーク処理を行い、膜厚100μmの接着層を形成した。形成された接着層について、動的粘度測定装置(Reogel−E4000、株式会社ユービーエム製)により25℃(周波数10Hz)における溶融粘度を測定した。結果を表1に併記する。
(Melt viscosity)
The adhesive compositions of the above examples were uniformly applied onto an 8-inch silicon wafer using a spin coater, and baked at the temperatures and times shown in Table 1 to form an adhesive layer having a thickness of 100 μm. . About the formed contact bonding layer, the melt viscosity in 25 degreeC (frequency 10Hz) was measured with the dynamic viscosity measuring apparatus (Reogel-E4000, UBM Co., Ltd. make). The results are also shown in Table 1.

<積層体の製造>
8インチシリコンウエハ上に、上記各例の接着剤組成物を、スピンコーターを用いて均一にそれぞれ塗布し、表1中に示す温度及び時間でベーク処理を行い、表1中に示す膜厚の接着層を形成した。
次に、接着層上にガラス基板(0.7μm)を載置し、25℃、100kgf、20Pa未満の真空加圧条件下で60秒間貼り合わせを行った。
その後、実施例1〜3及び7、並びに比較例1〜4では、ガラス基板上から高圧水銀灯を用いてghi線による全面露光(1000mJ/cm)を行った後、100℃で60分間の露光後加熱処理を行い、接着剤層を硬化させ、積層体を得た。
また、実施例4〜6では、100℃で60分間の加熱処理を行い、接着剤層を硬化させて積層体を得た。
<Manufacture of laminates>
The adhesive composition of each of the above examples was uniformly applied onto an 8-inch silicon wafer using a spin coater and baked at the temperature and time shown in Table 1 to obtain the film thicknesses shown in Table 1. An adhesive layer was formed.
Next, a glass substrate (0.7 μm) was placed on the adhesive layer, and pasting was performed for 60 seconds under vacuum pressure conditions of 25 ° C., 100 kgf, and less than 20 Pa.
Thereafter, in Examples 1 to 3 and 7 and Comparative Examples 1 to 4, the entire surface exposure (1000 mJ / cm 2 ) was performed using a high-pressure mercury lamp from the glass substrate, and then exposed at 100 ° C. for 60 minutes. Post-heating treatment was performed to cure the adhesive layer, and a laminate was obtained.
Moreover, in Examples 4-6, the heat processing for 60 minutes were performed at 100 degreeC, the adhesive bond layer was hardened, and the laminated body was obtained.

<塗布性評価>
上記のような積層体の製造において、8インチシリコンウエハ上に接着剤組成物を塗布してベーク処理を行った後の接着層を目視で観察した。以下の基準で評価を行った結果を「塗布性」として表2に示す。
○:ストライエーションが認められない。
×:ストライエーションが発生した。
<Applicability evaluation>
In manufacturing the laminate as described above, the adhesive layer after the adhesive composition was applied on an 8-inch silicon wafer and baked was visually observed. The results of evaluation based on the following criteria are shown in Table 2 as “applicability”.
○: No striation is allowed.
X: A striation occurred.

<貼り付け性能評価>
上記のようにして製造された積層体を目視で観察し、以下の基準で評価を行った結果を「貼り付け性能」として表2に示す。
なお、TTVは総厚み精度(Total Thickness Variation)であって、積層体全体の厚みの精度の指標である。TTVは浜松ホトニクス社製 C8870を用いて測定した。TTVの値が小さいほど、厚み精度が高い。
○:エッジ部における接着剤組成物のはみだしがなく、ボイドの発生もなく、且つ、TTVが2μm未満。
×:エッジ部において接着剤組成物がはみだしている、及び/又は、ボイドが発生している、及び/又は、TTVが2μm以上。
<Paste performance evaluation>
Table 2 shows the results obtained by visually observing the laminate produced as described above, and evaluating it according to the following criteria as “sticking performance”.
TTV is a total thickness variation, and is an index of the accuracy of the thickness of the entire laminate. TTV was measured using C8870 manufactured by Hamamatsu Photonics. The smaller the TTV value, the higher the thickness accuracy.
○: The adhesive composition does not protrude from the edge portion, no void is generated, and the TTV is less than 2 μm.
X: The adhesive composition protrudes in the edge part and / or the void has generate | occur | produced and / or TTV is 2 micrometers or more.

Figure 0006596223
Figure 0006596223

表2に示す結果から、実施例1〜7は、比較例1〜4と同等又は比較例1〜4よりも優れた耐熱性を示すことが確認できた。
また、実施例1〜7は、比較例1〜4とよりも優れた貼り付け性能を示すことが確認できた。
From the results shown in Table 2, it was confirmed that Examples 1 to 7 showed heat resistance equivalent to that of Comparative Examples 1 to 4 or superior to that of Comparative Examples 1 to 4.
Moreover, it has confirmed that Examples 1-7 showed the sticking performance superior to Comparative Examples 1-4.

Claims (6)

下記式(A1)で表される脂環式エポキシ化合物(A1)と、前記脂環式エポキシ化合物(A1)に該当しない下記式(A2−1)で表される多官能脂環式エポキシ化合物(A2)と、酸発生剤(B)と、を含有する接着剤組成物であって、
前記脂環式エポキシ化合物(A1)と前記多官能脂環式エポキシ化合物(A2)との質量割合が、(A1)/(A2)=70/30〜51/49であることを特徴とする接着剤組成物。
Figure 0006596223
[式中、R、Rはそれぞれ独立に、脂環式エポキシ基を有していてもよい有機基であって、少なくともR、Rのいずれか一方は脂環式エポキシ基を有するものであり、Y、Yはそれぞれ独立に、単結合又は2価の連結基である。]
Figure 0006596223
[式中、R 11 はq個の活性水素基を有する有機化合物中の活性水素基を除いた残基である。n 11 、n 12 、・・・、n はそれぞれ独立に0〜100の整数を示し、その和は4〜100である。qは1〜100の整数を示す。Aは、置換基R 12 を含有するオキシシクロヘキサン骨格、又は置換基R 12 を含有するオキシノルボルネン骨格を有し、且つ下記式(a1)又は(a2)で表される。]
Figure 0006596223
[式中、R 12 はそれぞれ独立に下記式(a11)〜(a13)のいずれかで表される基であって、式(A2−1)で表される化合物は、(a11)で表される基を1個以上含む。式(a1)、(a2)で表される基は、波線の結合手において式(A2−1)で表される化合物中のR 11 に結合し、*印の結合手において式(A2−1)で表される化合物中の水素原子(H)に結合する。]
Figure 0006596223
[式中、R 13 はアルキル基、アルキルカルボニル基、又はアリールカルボニル基を示す。式(a11)〜(a13)のいずれかで表される基は、波線の結合手において、式(a1)、(a2)で表される基に結合する。]
An alicyclic epoxy compound (A1) represented by the following formula (A1) and a polyfunctional alicyclic epoxy compound represented by the following formula (A2-1) not corresponding to the alicyclic epoxy compound (A1) ( An adhesive composition containing A2) and an acid generator (B),
The mass ratio of the alicyclic epoxy compound (A1) and the polyfunctional alicyclic epoxy compound (A2) is (A1) / (A2) = 70/30 to 51/49. Agent composition.
Figure 0006596223
[Wherein R 1 and R 2 are each independently an organic group optionally having an alicyclic epoxy group, and at least one of R 1 and R 2 has an alicyclic epoxy group. Y 1 and Y 2 are each independently a single bond or a divalent linking group. ]
Figure 0006596223
[Wherein R 11 is a residue obtained by removing an active hydrogen group in an organic compound having q active hydrogen groups. n 11 , n 12 ,..., n q each independently represents an integer of 0 to 100, and the sum thereof is 4 to 100. q shows the integer of 1-100. A is represented by the oxycyclohexane skeleton containing substituents R 12, or having a oxy norbornene skeleton containing substituents R 12, and the following formula (a1) or (a2). ]
Figure 0006596223
[Wherein, R 12 is independently a group represented by any one of the following formulas (a11) to (a13), and the compound represented by the formula (A2-1) is represented by (a11) One or more groups. The groups represented by the formulas (a1) and (a2) are bonded to R 11 in the compound represented by the formula (A2-1) at the wavy bond, and the formula (A2-1) is bonded to the bond at the * mark. ) To a hydrogen atom (H) in the compound represented by ]
Figure 0006596223
[Wherein, R 13 represents an alkyl group, an alkylcarbonyl group, or an arylcarbonyl group. The group represented by any one of the formulas (a11) to (a13) is bonded to the groups represented by the formulas (a1) and (a2) at the wavy bond. ]
さらに有機溶剤を含有し、25℃における粘度が0.005〜10Pa・sである請求項1に記載の接着剤組成物。   The adhesive composition according to claim 1, further comprising an organic solvent and having a viscosity at 25 ° C of 0.005 to 10 Pa · s. 基板と支持体とを接着するために用いられる、請求項1又は2に記載の接着剤組成物。   The adhesive composition of Claim 1 or 2 used in order to adhere | attach a board | substrate and a support body. 請求項1〜3のいずれか一項に記載の接着剤組成物を含有する接着層を介して、基板と支持体とを貼り合わせて形成された積層体。   The laminated body formed by bonding a board | substrate and a support body through the contact bonding layer containing the adhesive composition as described in any one of Claims 1-3. 前記接着層の膜厚が1〜20μmであって、前記接着層の25℃における溶融粘度が3〜60Pa・sである、請求項4に記載の積層体。 The thickness of the adhesive layer is a 1 to 20 [mu] m, the melt viscosity at 25 ° C. of the adhesive layer is a 3~60Pa · s, laminate according to claim 4. 請求項1〜3のいずれか一項に記載の接着剤組成物を含有する接着層を介して、基板と支持体とを貼り合わせる、積層体の製造方法。   The manufacturing method of a laminated body which bonds a board | substrate and a support body through the contact bonding layer containing the adhesive composition as described in any one of Claims 1-3.
JP2015084925A 2015-04-17 2015-04-17 Adhesive composition, laminate, and method for producing laminate Active JP6596223B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015084925A JP6596223B2 (en) 2015-04-17 2015-04-17 Adhesive composition, laminate, and method for producing laminate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015084925A JP6596223B2 (en) 2015-04-17 2015-04-17 Adhesive composition, laminate, and method for producing laminate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016204454A JP2016204454A (en) 2016-12-08
JP6596223B2 true JP6596223B2 (en) 2019-10-23

Family

ID=57488912

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015084925A Active JP6596223B2 (en) 2015-04-17 2015-04-17 Adhesive composition, laminate, and method for producing laminate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6596223B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018180685A1 (en) * 2017-03-30 2018-10-04 デクセリアルズ株式会社 Anisotropic electroconductive adhesive and production method for connection body
KR102271843B1 (en) 2017-12-18 2021-07-01 주식회사 엘지화학 Encapsulation film
JP7462408B2 (en) * 2019-12-13 2024-04-05 デクセリアルズ株式会社 Adhesive composition, adhesive film, and connection structure

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7569260B2 (en) * 2003-08-21 2009-08-04 Asahi Kasei Chemicals Corporation Photosensitive composition and cured products thereof
JP4268014B2 (en) * 2003-10-31 2009-05-27 日東電工株式会社 UV curable epoxy resin composition
JP2008239723A (en) * 2007-03-27 2008-10-09 Jsr Corp Composition for radiation-curable adhesive, composite material and method for producing composite material
JP4816533B2 (en) * 2007-03-27 2011-11-16 Jsr株式会社 Polarizing plate and manufacturing method thereof
JP5697927B2 (en) * 2010-09-03 2015-04-08 株式会社日本触媒 Optical adhesive composition
WO2012081393A1 (en) * 2010-12-14 2012-06-21 株式会社ダイセル Curable composition and cured resin
CN103354831B (en) * 2011-04-19 2016-03-02 Dic株式会社 Cationic polymerizable adhesive and the polarization plates using it to obtain
JP5855947B2 (en) * 2012-01-12 2016-02-09 住友化学株式会社 Photocurable adhesive, polarizing plate and laminated optical member using the same
JP6347255B2 (en) * 2013-04-01 2018-06-27 Jnc株式会社 Photocurable epoxy adhesive, resin composition, laminate, display, and method for producing resin composition
JP2014224852A (en) * 2013-05-15 2014-12-04 東洋紡株式会社 Polarization plate and liquid crystal display device using the same
JP6325557B2 (en) * 2013-09-27 2018-05-16 株式会社ダイセル Adhesive composition for semiconductor lamination

Also Published As

Publication number Publication date
JP2016204454A (en) 2016-12-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9980392B2 (en) Process for producing substrate having wiring, radiation-sensitive composition, electronic circuit and electronic device
JP6561754B2 (en) Method for producing substrate having lyophilic part and liquid repellent part, composition and method for forming conductive film
JP6596223B2 (en) Adhesive composition, laminate, and method for producing laminate
KR20110041491A (en) Curable copolymer and curable resin composition
TWI717489B (en) Composition for forming interlayer insulating film, interlayer insulating film, method for forming interlayer insulating film pattern, and device
CN105573053B (en) Method for producing substrate having lyophilic and lyophobic parts, use thereof and composition
TWI638861B (en) Monomer composition and curable composition containing same
TWI628221B (en) Resin composition, resin film, and electronic component
JP6612683B2 (en) Laminate manufacturing method and use thereof
TWI426346B (en) A photohardenable thermosetting one of the liquid solder resist compositions and a printed circuit board using the same
US10168617B2 (en) Composition for forming interlayer insulating film, interlayer insulating film, method for forming interlayer insulating film pattern, and device
JP7190826B2 (en) Separation layer-forming composition, support base with separation layer, laminate, method for producing same, and method for producing electronic component
JP6681762B2 (en) Laminated body and method for manufacturing laminated body
TW201723070A (en) Photocurable composition, and cured material and optical component using same
CN105467755B (en) Photosensitive resin composition
TWI776957B (en) Positive type radiation sensitive resin composition
KR20220143665A (en) How to form a resist pattern
TW202035553A (en) Method of forming resist pattern, resist composition and method of producing the same
JP7175186B2 (en) Separation layer-forming composition, support base with separation layer, laminate, method for producing same, and method for producing electronic component
JP2023087510A (en) Separation layer forming composition, supporting base with separation layer, laminate and manufacturing method thereof, and manufacturing method of electronic component
TW201800859A (en) Method of forming pattern and radiation-sensitive resin composition
TW201809129A (en) Photocurable composition for nanoimprint and method for producing optical component
WO2020012753A1 (en) Curable composition, structure and method for forming same
TW202336133A (en) Photocurable composition and method for forming pattern
WO2021157596A1 (en) Curable composition, cured object, electronic device, display device, optical member, polymer, photosensitive composition, pattern, and compound

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20150420

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180115

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20181205

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190129

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190315

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190903

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190930

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6596223

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150