JP6589447B2 - Manufacturing method of optical reflection film - Google Patents

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Description

本発明は、スライドホッパー塗布装置を用いて同時重層塗布を行なう光学反射フィルムの製造方法に係わる。   The present invention relates to a method for producing an optical reflection film that performs simultaneous multilayer coating using a slide hopper coating apparatus.

従来、反射防止フィルム、赤外反射フィルム、カラー感光材料等の多層積層膜は、乾式成膜又は湿式成膜で製造されている。生産性の面では、化学蒸着(CVD)や物理蒸着(PVD)等の乾式成膜よりも、塗布液の塗布及び乾燥により行われる湿式成膜の方が優れている。   Conventionally, multilayer laminated films such as an antireflection film, an infrared reflection film, and a color photosensitive material are manufactured by dry film formation or wet film formation. In terms of productivity, wet film formation performed by applying and drying a coating solution is superior to dry film formation such as chemical vapor deposition (CVD) and physical vapor deposition (PVD).

スライドホッパー塗布装置は、複数の塗布液を同時重層塗布できる湿式成膜装置として、光学反射フィルムのような多層積層膜の製造に好適に用いられている。しかし、スライドホッパー塗布装置を用いた多層積層膜の製造においては、同時重層塗布の際の塗布ムラの発生があり、この塗布ムラを低減させる方法が求められている。   The slide hopper coating apparatus is suitably used for manufacturing a multilayer laminated film such as an optical reflection film as a wet film forming apparatus capable of simultaneously coating a plurality of coating liquids. However, in the production of a multilayer laminated film using a slide hopper coating apparatus, coating unevenness occurs during simultaneous multilayer coating, and a method for reducing this coating unevenness is required.

例えば、最下層の形成に粘度が15cP〜100cPの塗布液を用い、この最下層上の7層以上の形成に用いる塗布液の粘度を30cP以上とし、かつこれら7層以上を形成する塗布液の粘度の算術平均が60〜300cPとなるように調整するカラー感光材料の製造方法が開示されている(例えば、特許文献1参照)。この製造方法によれば、高速で安定して色ムラを生じない均一な塗布状態を得ることができることが記載されている。   For example, a coating solution having a viscosity of 15 cP to 100 cP is used for forming the lowermost layer, the viscosity of the coating solution used for forming seven or more layers on the lowermost layer is set to 30 cP or more, and the coating solution for forming these seven or more layers is used. A method for producing a color photographic material in which the arithmetic average of viscosity is adjusted to 60 to 300 cP is disclosed (for example, see Patent Document 1). According to this manufacturing method, it is described that it is possible to obtain a uniform application state that does not cause color unevenness stably at high speed.

特開平03−219237号公報Japanese Patent Laid-Open No. 03-219237

しかしながら、光学反射フィルムの製造では、粘度差が非常に大きい低粘度液と高粘度液とを使用し、これらを交互に積層して同時重層塗布を行う。スライドホッパー塗布装置を用いて、このような粘度差の大きい液体を交互に積層して同時重層塗布を行なう場合には、スライド面上で波立ちが発生し、塗布済みの製品に木目状の塗布ムラ(以下、木目状ムラとも称する)を発生させてしまうという問題がある。   However, in the production of an optical reflection film, a low viscosity liquid and a high viscosity liquid having a very large viscosity difference are used, and these are alternately laminated to perform simultaneous multilayer coating. When using a slide hopper applicator and laminating liquids with such a large viscosity difference alternately and performing simultaneous multi-layer coating, ripples occur on the slide surface, and the coated product has a grainy coating unevenness. (Hereinafter also referred to as wood grain unevenness) occurs.

上述した問題の解決のため、本発明においては、木目状ムラを改善した光学反射フィルムの製造方法を提供するものである。   In order to solve the above-described problems, the present invention provides a method for producing an optical reflective film with improved grain-like unevenness.

本発明の光学反射フィルムの製造方法は、連続的に走行する基材フィルム上に、高屈折率層用塗布液及び低屈折率層用塗布液を、スライドホッパー塗布装置を用いて10層以上40層以下の層を同時重層塗布する工程を含む。そして、各ブロック上の各界面におけるスライド面上の流下液膜のスライド面と平行な速度成分の高粘度液側の剪断速度をdとし、界面の各ブロック流下時間をtとした場合、各界面における(d×t)という数値の界面が形成されてから、塗布されるまでの積算値の最大値が、Σ(d×t)≦50という条件で同時重層塗布を行なう。   In the method for producing an optical reflective film of the present invention, a coating solution for a high refractive index layer and a coating solution for a low refractive index layer are formed on a continuously running substrate film by using a slide hopper coating apparatus. And a step of simultaneously applying the following layers. When the shear velocity on the high-viscosity liquid side of the velocity component parallel to the slide surface of the falling liquid film on the slide surface at each interface on each block is d and the flow time of each block at the interface is t, The simultaneous multi-layer coating is performed under the condition that Σ (d × t) ≦ 50 is the maximum integrated value from the formation of the interface (d × t) in FIG.

本発明によれば、木目状ムラを改善した光学反射フィルムの製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the optical reflection film which improved the grain-like nonuniformity can be provided.

分散装置の一例のマイルダーの模式図である。It is a schematic diagram of the milder of an example of a dispersing device. スライドホッパー塗布装置の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of a slide hopper coating device. スライドホッパー塗布装置におけるスライド面上の同時重層流れの様子を示す図である。It is a figure which shows the mode of the simultaneous multilayer flow on the slide surface in a slide hopper coating device. 高粘度液と低粘度液とが交互に積層された系において、スライド面上における剪断速度(d)と、スライド面膜厚(y)との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the shear rate (d) on a slide surface, and a slide surface film thickness (y) in the system by which the high-viscosity liquid and the low-viscosity liquid were laminated | stacked alternately.

以下、本発明を実施するための形態の例を説明するが、本発明は以下の例に限定されるものではない。
なお、説明は以下の順序で行う。
1.光学反射フィルムの概要
2.光学反射フィルムの製造方法
Hereinafter, although the example of the form for implementing this invention is demonstrated, this invention is not limited to the following examples.
The description will be given in the following order.
1. 1. Outline of optical reflection film Manufacturing method of optical reflection film

〈1.光学反射フィルムの概要〉
光学反射フィルムの製造方法の実施形態の説明に先駆けて、光学反射フィルムの製造方法により製造される光学反射フィルムの概要について説明する。
<1. Overview of optical reflective film>
Prior to the description of the embodiment of the method for producing an optical reflecting film, an outline of the optical reflecting film produced by the method for producing an optical reflecting film will be described.

[光学反射フィルム]
上記製造方法により製造される光学反射フィルムは、基材上に、高屈折率層及び低屈折率層を含む積層体が配置された構成を有する。このような構成の光学反射フィルムは、高屈折率層及び低屈折率層の光学膜厚(膜厚×屈折率)を適宜制御した積層体を設けることにより、特定波長の光線を反射することができる。例えば、波長200〜400nmの光線(紫外線)を反射する場合には紫外遮蔽フィルムとなり、波長400〜700nmの光線(可視光)を反射する場合には可視光着色フィルムとなり、波長700〜1200nmの光線(赤外線)を反射する場合には赤外遮蔽フィルムとなる。また、積層体の光学膜厚等を適宜設計することで、反射する光線の波長及び反射率を制御し、金属光沢調フィルムとすることもできる。これらのうち、光学反射フィルムが遮蔽しうる光線は、波長200nm〜1000μmの紫外線〜赤外線領域の光線であることが好ましく、250〜2500nmの波長を有する光線であることがより好ましく、波長700〜1200nmの近赤外線領域の光線であることがより好ましい。
[Optical reflection film]
The optical reflective film manufactured by the above manufacturing method has a configuration in which a laminate including a high refractive index layer and a low refractive index layer is disposed on a substrate. The optical reflective film having such a configuration can reflect a light beam having a specific wavelength by providing a laminate in which the optical film thickness (film thickness × refractive index) of the high refractive index layer and the low refractive index layer is appropriately controlled. it can. For example, when reflecting a light beam having a wavelength of 200 to 400 nm (ultraviolet light), it becomes an ultraviolet shielding film, and when reflecting a light beam having a wavelength of 400 to 700 nm (visible light), it becomes a visible light colored film, and a light beam having a wavelength of 700 to 1200 nm. When reflecting (infrared rays), it becomes an infrared shielding film. Further, by appropriately designing the optical film thickness of the laminate, the wavelength and reflectance of the reflected light beam can be controlled to obtain a metallic glossy film. Among these, the light ray that can be shielded by the optical reflection film is preferably a light ray having a wavelength of 200 nm to 1000 μm in the ultraviolet to infrared region, more preferably a light ray having a wavelength of 250 to 2500 nm, and a wavelength of 700 to 1200 nm. The light in the near infrared region is more preferable.

以下の説明では、光学反射フィルムの代表的な例として、赤外遮蔽フィルムの構成について説明する。なお、光学反射フィルムの構成としては赤外遮蔽フィルムに限らず、他の構成とすることも可能である。   In the following description, the configuration of an infrared shielding film will be described as a representative example of the optical reflection film. In addition, as a structure of an optical reflection film, it is not restricted to an infrared shielding film, It can also be set as another structure.

[赤外遮蔽フィルム]
赤外遮蔽フィルムの構成は、基材フィルムと、高屈折率層及び低屈折率層から構成される1つ以上のユニット(積層体)とを有する。また、高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層された交互積層体の形態を有することが好ましい。また、赤外遮蔽フィルムは高屈折率層と低屈折率層とから構成されるユニット(積層体)が複数設けられていてもよい。
[Infrared shielding film]
The structure of an infrared shielding film has a base film and one or more units (laminated body) comprised from a high refractive index layer and a low refractive index layer. Moreover, it is preferable to have the form of the alternating laminated body by which the high refractive index layer and the low refractive index layer were laminated | stacked alternately. The infrared shielding film may be provided with a plurality of units (laminates) composed of a high refractive index layer and a low refractive index layer.

なお、積層体における高屈折率層とは、比較対象となる他の層によりも高い屈折率を有する層であり、低屈折率層とは、比較対象となる他の層によりも低い屈折率を有する層であり、各層における相対的な屈折率の関係から称される構成である。このため、これらの構成の名称は、積層体の構成や比較対象となる層との屈折率の関係により随時置き換えられる。   In addition, the high refractive index layer in the laminate is a layer having a higher refractive index than other layers to be compared, and the low refractive index layer has a lower refractive index than other layers to be compared. It is a structure which is called from the relationship of the relative refractive index in each layer. For this reason, the names of these structures are replaced as needed depending on the structure of the laminate and the refractive index relationship with the layer to be compared.

また、高屈折率層と低屈折率層とから構成されるユニットにおいて、高屈折率層と低屈折率層とがそれぞれ金属酸化物粒子を含む場合、低屈折率層に含まれる金属酸化物粒子(以下、「第1の金属酸化物粒子」と称する)と、高屈折率層に含まれる金属酸化物粒子(以下、「第2の金属酸化物粒子」と称する)とが2つの層の界面で混合され、第1の金属酸化物粒子と第2の金属酸化物粒子とを含む層が形成される場合がある。この場合、第1の金属酸化物粒子と第2の金属酸化物粒子との存在比により低屈折率層又は高屈折率層とみなす。具体的には、低屈折率層とは、第1の金属酸化物粒子と第2の金属酸化物粒子との合計質量に対して、第1の金属酸化物粒子が、50〜100質量%で含まれる層を意味する。高屈折率層とは、第1の金属酸化物粒子と第2の金属酸化物粒子との合計質量に対して、第2の金属酸化物粒子が、50質量%を超えて100質量%以下で含まれる層を意味する。なお、屈折率層に含まれる金属酸化物粒子の種類及び量は、エネルギー分散型X線分光法(EDX)により分析できる。   Further, in a unit composed of a high refractive index layer and a low refractive index layer, when each of the high refractive index layer and the low refractive index layer contains metal oxide particles, the metal oxide particles contained in the low refractive index layer (Hereinafter referred to as “first metal oxide particles”) and the metal oxide particles contained in the high refractive index layer (hereinafter referred to as “second metal oxide particles”) And a layer containing the first metal oxide particles and the second metal oxide particles may be formed. In this case, it is regarded as a low refractive index layer or a high refractive index layer depending on the abundance ratio of the first metal oxide particles and the second metal oxide particles. Specifically, the low refractive index layer means that the first metal oxide particles are 50 to 100% by mass with respect to the total mass of the first metal oxide particles and the second metal oxide particles. Means the layers involved. The high refractive index layer means that the second metal oxide particles are more than 50% by mass and less than 100% by mass with respect to the total mass of the first metal oxide particles and the second metal oxide particles. Means the layers involved. The type and amount of metal oxide particles contained in the refractive index layer can be analyzed by energy dispersive X-ray spectroscopy (EDX).

高屈折率層及び低屈折率層に用いられる金属酸化物粒子としては、特に制限されないが、酸化チタン(TiO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化ジルコニウム(ZrO)、酸化ニオブ(Nb)、酸化アルミニウム(Al)、酸化ケイ素(SiO)、フッ化カルシウム(CaF)、フッ化マグネシウム(MgF)、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化アンチモンスズ(ATO)等が挙げられる。これらのうち、低屈折率層用塗布液に含まれる第1の金属酸化物粒子として酸化ケイ素(SiO)を、高屈折率層用塗布液に含まれる第2の金属酸化物粒子として酸化チタン(TiO)を、それぞれ用いることが好ましい。酸化ケイ素としてはコロイダルシリカが好ましく、酸化チタンとしては後述のシリカ付着酸化チタンゾルが好ましい。 As the high refractive index layer and a low refractive index layer metal oxide particles used in, but not limited to, titanium oxide (TiO 2), zinc oxide (ZnO), zirconium oxide (ZrO 2), niobium oxide (Nb 2 O 5 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), silicon oxide (SiO 2 ), calcium fluoride (CaF 2 ), magnesium fluoride (MgF 2 ), indium tin oxide (ITO), antimony tin oxide (ATO), etc. Can be mentioned. Of these, silicon oxide (SiO 2 ) is used as the first metal oxide particles contained in the coating solution for the low refractive index layer, and titanium oxide is used as the second metal oxide particles contained in the coating solution for the high refractive index layer. (TiO 2 ) is preferably used for each. As the silicon oxide, colloidal silica is preferable, and as the titanium oxide, a silica-attached titanium oxide sol described later is preferable.

酸化チタン粒子は、含ケイ素の水和酸化物で被覆されていてもよい。含ケイ素の水和化合物の被覆量は、好ましくは3〜30質量%、より好ましくは3〜10質量%、さらに好ましくは3〜8質量%である。被覆量が30質量%以下であると、高屈折率層の所望の屈折率が得られ、被覆量が3%以上であると粒子を安定に形成することができる。   The titanium oxide particles may be coated with a silicon-containing hydrated oxide. The coating amount of the silicon-containing hydrated compound is preferably 3 to 30% by mass, more preferably 3 to 10% by mass, and further preferably 3 to 8% by mass. When the coating amount is 30% by mass or less, a desired refractive index of the high refractive index layer is obtained, and when the coating amount is 3% or more, particles can be stably formed.

酸化チタン粒子を含ケイ素の水和酸化物で被覆する方法としては、従来公知の方法により製造することができる。例えば、特開平10−158015号公報(ルチル型酸化チタンへのSi/Al水和酸化物処理;チタン酸ケーキのアルカリ領域での解膠後酸化チタンの表面にケイ素及び/又はアルミニウムの含水酸化物を析出させて表面処理する酸化チタンゾルの製造方法)、特開2000−204301号公報(ルチル型酸化チタンにSiとZr及び/又はAlの酸化物との複合酸化物を被覆したゾル、水熱処理)、特開2007−246351号公報(含水酸化チタンを解膠して得られる酸化チタンのヒドロゾルへ、安定剤として式R SiX4−nのオルガノアルコキシシラン又は酸化チタンに対して錯化作用を有する化合物を添加、アルカリ領域でケイ酸ナトリウム又はシリカゾルの溶液へ添加・pH調整・熟成することにより、ケイ素の含水酸化物で被覆された酸化チタンヒドロゾルを製造する方法)等に記載された事項を参照することができる。 As a method of coating the titanium oxide particles with a silicon-containing hydrated oxide, it can be produced by a conventionally known method. For example, JP-A-10-158015 (Si / Al hydrated oxide treatment of rutile titanium oxide; hydrous oxide of silicon and / or aluminum on the surface of titanium oxide after peptization in the alkali region of titanate cake Of titanium oxide sol by which the surface treatment is performed by precipitating the material), JP-A-2000-204301 (sol in which rutile-type titanium oxide is coated with a composite oxide of Si and Zr and / or Al, hydrothermal treatment) JP 2007-246351 (complexing action to a hydrosol of titanium oxide obtained by peptizing hydrous titanium oxide with respect to organoalkoxysilane or titanium oxide of formula R 1 n SiX 4-n as a stabilizer. By adding a compound containing, adding to a solution of sodium silicate or silica sol in the alkaline region, adjusting pH, and aging, Reference can be made to the matters described in the method for producing a titanium oxide hydrosol coated with hydroxide.

一般に、赤外遮蔽フィルムにおいては、低屈折率層と高屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で赤外反射率を高くすることができるという観点から好ましい。赤外遮蔽フィルムでは、低屈折率層及び高屈折率層から構成されるユニットの少なくとも1つにおいて、隣接する低屈折率層と高屈折率層との屈折率差が0.1以上であることが好ましく、より好ましくは0.3以上であり、さらに好ましくは0.35以上であり、特に好ましくは0.4以上である。赤外遮蔽フィルムが高屈折率層及び低屈折率層のユニットを複数有する場合には、全てのユニットにおける高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が上記好適な範囲内にあることが好ましい。ただし、最表層や最下層に関しては、上記好適な範囲外の構成であってもよい。また、赤外遮蔽フィルムにおいて、低屈折率層の好ましい屈折率は、1.10〜1.60であり、より好ましくは1.30〜1.50である。また、高屈折率層の好ましい屈折率は1.80〜2.50であり、より好ましくは1.90〜2.20である。   In general, in an infrared shielding film, it is preferable to design a large difference in refractive index between a low refractive index layer and a high refractive index layer from the viewpoint that the infrared reflectance can be increased with a small number of layers. In the infrared shielding film, in at least one of the units composed of the low refractive index layer and the high refractive index layer, the refractive index difference between the adjacent low refractive index layer and the high refractive index layer is 0.1 or more. Is more preferably 0.3 or more, still more preferably 0.35 or more, and particularly preferably 0.4 or more. When the infrared shielding film has a plurality of units of the high refractive index layer and the low refractive index layer, the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer in all the units is within the preferred range. Is preferred. However, regarding the outermost layer and the lowermost layer, a configuration outside the above preferred range may be used. Moreover, in an infrared shielding film, the preferable refractive index of a low-refractive-index layer is 1.10-1.60, More preferably, it is 1.30-1.50. Moreover, the preferable refractive index of a high refractive index layer is 1.80-2.50, More preferably, it is 1.90-2.20.

光学反射フィルムにおいて、高屈折率層及び低屈折率層の屈折率は、下記の方法に従って求めることができる。
まず、基材フィルム上に屈折率を測定する各屈折率層を単層で塗設したサンプルを作製し、このサンプルを10cm×10cmに断裁する。そして、各サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止する。この後、分光光度計U−4000型(株式会社日立製作所製)を用いて、5度正反射の条件で可視光領域(400nm〜700nm)の反射率を25点測定した平均値から、平均屈折率を求める。
In the optical reflection film, the refractive indexes of the high refractive index layer and the low refractive index layer can be determined according to the following method.
First, a sample in which each refractive index layer for measuring a refractive index is coated as a single layer on a base film is prepared, and this sample is cut into 10 cm × 10 cm. And after roughening the back surface of the measurement side of each sample, light absorption processing is performed with a black spray to prevent reflection of light on the back surface. Then, using a spectrophotometer U-4000 type (manufactured by Hitachi, Ltd.), the average refraction from the average value obtained by measuring the reflectance in the visible light region (400 nm to 700 nm) at 25 points under the condition of regular reflection at 5 degrees. Find the rate.

特定波長領域の反射率は、隣接する2層の屈折率差と積層数で決まり、屈折率の差が大きいほど、少ない層数で同じ反射率を得られる。この屈折率差と必要な層数については、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。例えば、赤外反射率90%以上を得るためには、屈折率差が0.1より小さいと、200層以上の積層が必要になる。このような層数が必要となると、生産性が低下するだけでなく、積層界面での散乱が大きくなり、透明性が低下し、また故障なく製造することも非常に困難になる。反射率の向上と層数を少なくするという観点からは、隣接する2層の屈折率差の上限値は限定されないが、実質的には1.4程度が限界となる。   The reflectance in the specific wavelength region is determined by the difference in refractive index between two adjacent layers and the number of stacked layers, and the larger the difference in refractive index, the same reflectance can be obtained with a smaller number of layers. The refractive index difference and the required number of layers can be calculated using commercially available optical design software. For example, in order to obtain an infrared reflectance of 90% or more, if the refractive index difference is smaller than 0.1, it is necessary to stack 200 layers or more. When such a number of layers is required, not only the productivity is lowered, but also scattering at the laminated interface is increased, the transparency is lowered, and it is very difficult to manufacture without failure. From the viewpoint of improving the reflectivity and reducing the number of layers, the upper limit value of the difference in refractive index between two adjacent layers is not limited, but is practically about 1.4.

赤外遮蔽フィルムの積層体を構成する層数としては10〜40層、好ましくは10〜34層、より好ましくは10〜26層である。また、赤外遮蔽フィルムにおいて、積層体の最表層及び最下層は、高屈折率層と低屈折率層とのいずれからなる層であってもよい。赤外遮蔽フィルムとしては、基材フィルムに隣接する積層体の最下層が低屈折率層であり、且つ、最表層も低屈折率層であることが好ましい。   The number of layers constituting the laminate of the infrared shielding film is 10 to 40 layers, preferably 10 to 34 layers, and more preferably 10 to 26 layers. Further, in the infrared shielding film, the outermost layer and the lowermost layer of the laminate may be a layer composed of either a high refractive index layer or a low refractive index layer. As the infrared shielding film, the lowermost layer of the laminate adjacent to the base film is preferably a low refractive index layer, and the outermost layer is also preferably a low refractive index layer.

赤外遮蔽フィルムの全体の厚みは、好ましくは12〜315μm、より好ましくは15〜200μm、さらに好ましくは20〜150μmである。また、最下層を除く低屈折率層の1層あたりの乾燥後の膜厚は、30〜500nmであることが好ましく、30〜300nmであることがより好ましい。一方、最下層を除く高屈折率層の1層あたりの乾燥後の膜厚は、30〜500nmであることが好ましく、30〜300nmであることがより好ましい。最下層の乾燥後の膜厚は、最下層が低屈折率層であるか高屈折率層であるかに関わらず、300〜1500nmであることが好ましく、400〜1200nmであることがより好ましい。   The total thickness of the infrared shielding film is preferably 12 to 315 μm, more preferably 15 to 200 μm, and still more preferably 20 to 150 μm. Moreover, it is preferable that the film thickness after drying per layer of the low-refractive-index layer except a lowermost layer is 30-500 nm, and it is more preferable that it is 30-300 nm. On the other hand, the film thickness after drying per layer of the high refractive index layer excluding the lowermost layer is preferably 30 to 500 nm, and more preferably 30 to 300 nm. The film thickness after drying of the lowermost layer is preferably 300 to 1500 nm, more preferably 400 to 1200 nm, regardless of whether the lowermost layer is a low-refractive index layer or a high-refractive index layer.

赤外遮蔽フィルムの光学特性としては、JIS R3106:1998で示される可視光領域の透過率が、好ましくは50%以上、より好ましくは75%以上、さらに好ましくは85%以上であり、また、波長900〜1400nmの領域に反射率50%を超える領域を有することが好ましい。   As the optical characteristics of the infrared shielding film, the transmittance in the visible light region shown in JIS R3106: 1998 is preferably 50% or more, more preferably 75% or more, and still more preferably 85% or more. It is preferable to have a region having a reflectance exceeding 50% in a region of 900 to 1400 nm.

また、赤外遮蔽フィルムは、さらなる機能の付加を目的として、導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易接着層(接着層)、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、ハードコート層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、接着層、高屈折率層及び低屈折率層以外の赤外線カット層(金属層、液晶層)、着色層(可視光線吸収層)、合わせガラスに利用される中間膜層等の機能層の1つ以上を有していてもよい。これらの層は、積層体が形成されていない側の基材フィルムの主面、又は、積層体の最表面層の上に設けることができる。   In addition, the infrared shielding film has a conductive layer, an antistatic layer, a gas barrier layer, an easy adhesion layer (adhesive layer), an antifouling layer, a deodorizing layer, a droplet layer, and an easy slip layer for the purpose of adding further functions. , Hard coat layer, abrasion resistant layer, antireflection layer, electromagnetic wave shielding layer, ultraviolet absorption layer, infrared absorption layer, printing layer, fluorescent light emitting layer, hologram layer, release layer, adhesive layer, adhesive layer, high refractive index layer And one or more of functional layers such as an interlayer film layer used for laminated glass, an infrared cut layer (metal layer, liquid crystal layer), a colored layer (visible light absorption layer), and a low refractive index layer. Good. These layers can be provided on the main surface of the base film on the side where the laminate is not formed or on the outermost surface layer of the laminate.

(基材フィルム)
赤外遮蔽フィルムの基材フィルムとしては、種々の樹脂フィルムを用いることができる。基材フィルムとしては、例えば、ポリオレフィンフィルム(ポリエチレン、ポリプロピレン等)、ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリ塩化ビニル、3酢酸セルロース等が挙げられる。基材フィルムとして好ましくは、ポリエステルフィルムである。ポリエステルフィルムとしては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分とを主要な構成成分とし、フィルム形成が可能なポリエステルフィルムであることが好ましい。
(Base film)
Various resin films can be used as the base film of the infrared shielding film. Examples of the base film include polyolefin films (such as polyethylene and polypropylene), polyester films (such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate), polyvinyl chloride, and cellulose acetate. The base film is preferably a polyester film. Although it does not specifically limit as a polyester film, It is preferable that it is a polyester film which can mainly form a dicarboxylic acid component and a diol component, and can form a film.

ポリエステルフィルムの主要な構成成分であるジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸等を挙げることができる。また、ジオール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビスフェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオール等を挙げることができる。これらを主要な構成成分とするポリエステルの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性等の点から、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸や2,6−ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分としてエチレングリコールや1,4−シクロヘキサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートを主要な構成成分とするポリエステルや、テレフタル酸と2,6−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールからなる共重合ポリエステル、及びこれらのポリエステルの2種以上の混合物を主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。   The dicarboxylic acid component which is the main component of the polyester film includes terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, diphenylsulfone dicarboxylic acid, diphenyl ether dicarboxylic acid, diphenyl Examples include ethanedicarboxylic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, diphenyldicarboxylic acid, diphenylthioether dicarboxylic acid, diphenylketone dicarboxylic acid, and phenylindanedicarboxylic acid. Examples of the diol component include ethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, cyclohexanedimethanol, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyethoxyphenyl) propane, bis ( 4-Hydroxyphenyl) sulfone, bisphenol fluorene hydroxyethyl ether, diethylene glycol, neopentyl glycol, hydroquinone, cyclohexanediol and the like. Among the polyesters having these as main components, from the viewpoint of transparency, mechanical strength, dimensional stability, etc., as dicarboxylic acid components, terephthalic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, diol components as ethylene glycol and 1, Polyester having 4-cyclohexanedimethanol as a main constituent is preferred. Among these, polyesters mainly composed of polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, copolymerized polyesters composed of terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and ethylene glycol, and mixtures of two or more of these polyesters are mainly used. Polyester as a constituent component is preferable.

基材フィルムの厚さは、10〜300μmであることが好ましく、20〜150μmであることがより好ましい。また、基材フィルムは、2枚重ねたものであってもよく、この場合の積層される材料の種類は同じでもよく、異なっていてもよい。   The thickness of the base film is preferably 10 to 300 μm, and more preferably 20 to 150 μm. In addition, the two base films may be stacked, and in this case, the types of materials to be stacked may be the same or different.

また、基材フィルムは、JIS R3106:1998で示される可視光領域の透過率が85%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。このような透過率の範囲であれば、赤外遮蔽フィルムとしたときのJIS R3106:1998で示される可視光領域の透過率を40%以上とするために有利となる。   Moreover, it is preferable that the transmittance | permeability of the visible region shown by JISR3106: 1998 is 85% or more, and, as for a base film, it is more preferable that it is 90% or more. Within such a transmittance range, it is advantageous to make the transmittance in the visible light region shown in JIS R3106: 1998 when the infrared shielding film is used to be 40% or more.

基材フィルムは、従来公知の一般的な方法により製造することが可能である。例えば、材料となる樹脂を押し出し機により溶融し、環状ダイやTダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸の基材フィルムを製造することができる。また、未延伸の基材フィルムを、一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、又は、チューブラー式同時二軸延伸等の公知の方法を用いて、基材フィルムの流れ(縦軸)方向、又は、基材フィルムの流れ方向と直角(横軸)方向に延伸して、延伸フィルムを製造することができる。この場合の延伸倍率は、基材フィルムの原料となる樹脂に合わせて適宜選択することができるが、縦軸方向及び横軸方向にそれぞれ2〜10倍であることが好ましい。基材フィルムとしては、未延伸フィルムでも延伸フィルムでもよいが、強度向上、熱膨張抑制等の観点から延伸フィルムが好ましい。   The base film can be produced by a conventionally known general method. For example, an unstretched substrate film that is substantially amorphous and not oriented can be produced by melting a resin as a material with an extruder, extruding it with an annular die or a T-die, and quenching. In addition, the unstretched base film is made by using a known method such as uniaxial stretching, tenter sequential biaxial stretching, tenter simultaneous biaxial stretching, or tubular simultaneous biaxial stretching. A stretched film can be produced by stretching in the (vertical axis) direction or in the direction perpendicular to the flow direction of the base film (horizontal axis). The draw ratio in this case can be appropriately selected according to the resin as the raw material for the base film, but is preferably 2 to 10 times in the vertical axis direction and the horizontal axis direction, respectively. The base film may be an unstretched film or a stretched film, but a stretched film is preferred from the viewpoints of improving the strength and suppressing thermal expansion.

また、基材フィルムは、寸法安定性の点で弛緩処理やオフライン熱処理を行ってもよい。弛緩処理は、ポリエステルフィルムの延伸製膜工程中の熱固定した後、横延伸のテンター内、又は、テンターを出た後の巻き取り工程までの間に行うことが好ましい。弛緩処理は、処理温度が80〜200℃で行われることが好ましく、100〜180℃がより好ましい。また、長手方向、幅手方向ともに、弛緩率が0.1〜10%の範囲で行われることが好ましく、より好ましくは弛緩率が2〜6%の範囲で行われることが好ましい。弛緩処理された基材フィルムは、上記のオフライン熱処理を施すことにより耐熱性が向上し、さらに寸法安定性が良好になる。   Further, the base film may be subjected to relaxation treatment or off-line heat treatment in terms of dimensional stability. The relaxation treatment is preferably performed in the transversely stretched tenter or after the tenter is taken out until the winding step after the heat setting in the stretched film forming process of the polyester film. The relaxation treatment is preferably performed at a treatment temperature of 80 to 200 ° C, more preferably 100 to 180 ° C. Moreover, it is preferable that the relaxation rate is in the range of 0.1 to 10% in both the longitudinal direction and the width direction, and more preferably in the range of 2 to 6%. The base film subjected to the relaxation treatment is improved in heat resistance by the above-described offline heat treatment, and further has good dimensional stability.

基材フィルムは、製膜過程で片面又は両面にインラインで下引層塗布液を塗布することが好ましい。製膜工程中での下引塗布をインライン下引という。下引層塗布液に使用する樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル変性ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリエチレンイミンビニリデン樹脂、ポリエチレンイミン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、変性ポリビニルアルコール樹脂、又はゼラチン等を挙げることができる。これらの樹脂は単独又は2種以上混合して用いることができる。下引層には、従来公知の添加剤を加えることもできる。また、下引層は、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、ディップコート、スプレーコート等の公知の方法によりコーティングすることができる。下引層の塗布量としては、0.01〜2g/m(乾燥状態)程度が好ましい。 The base film is preferably coated with the undercoat layer coating solution in-line on one or both sides during the film formation process. The undercoating during the film forming process is called inline undercoating. The resin used for the undercoat layer coating solution is polyester resin, acrylic modified polyester resin, polyurethane resin, acrylic resin, vinyl resin, vinylidene chloride resin, polyethyleneimine vinylidene resin, polyethyleneimine resin, polyvinyl alcohol resin, modified polyvinyl alcohol resin. Or gelatin. These resins can be used alone or in combination of two or more. A conventionally well-known additive can also be added to an undercoat layer. The undercoat layer can be coated by a known method such as roll coating, gravure coating, knife coating, dip coating or spray coating. The coating amount of the undercoat layer is preferably about 0.01 to 2 g / m 2 (dry state).

〈2.光学反射フィルムの製造方法〉
次に、光学反射フィルムの製造方法について説明する。光学反射フィルムの製造方法では、スライドホッパー塗布装置を用いて10層以上40層以下の層を同時重層塗布する工程(同時重層塗布工程)により、高屈折率層と低屈折率層とからなる積層体を作製する。この積層体の作製においては、スライドホッパー塗布装置のスライド面上において、高屈折率用塗布液と低屈折率用塗布液とを積層する。そして、この積層した高屈折率用塗布液と低屈折率用塗布液とを基材フィルムに塗布することにより、基材フィルム上に高屈折率層と低屈折率層とを形成する。
<2. Manufacturing method of optical reflection film>
Next, the manufacturing method of an optical reflection film is demonstrated. In the method for producing an optical reflection film, a layer composed of a high refractive index layer and a low refractive index layer is formed by a simultaneous multilayer coating process (simultaneous multilayer coating process) of 10 to 40 layers using a slide hopper coating apparatus. Create a body. In the production of this laminate, the high refractive index coating liquid and the low refractive index coating liquid are laminated on the slide surface of the slide hopper coating apparatus. And the high refractive index layer and the low refractive index layer are formed on a base film by apply | coating this laminated | stacked coating liquid for high refractive index and the coating liquid for low refractive index to a base film.

また、光学反射フィルムの製造においては、上述の同時重層塗布を、以下に示す条件により行なう。
まず、スライドホッパー塗布装置のコーターダイスを構成する各ブロック上のスライド面において、積層された高屈折率層用塗布液と低屈折率層用塗布液と同時重層流れの各界面における、流下液膜のスライド面と平行な速度成分の高粘度液側の剪断速度を、界面における剪断速度(d)とする。
また、流下液膜の界面が各ブロック(スライド面)上を流下する時間を、流下時間(t)とする。
Moreover, in manufacture of an optical reflection film, the above-mentioned simultaneous multilayer coating is performed on the conditions shown below.
First, on the slide surface on each block constituting the coater dice of the slide hopper coating apparatus, the falling liquid film at each interface of the layered high refractive index layer coating liquid and the low refractive index layer coating liquid and the simultaneous multilayer flow The shear rate on the high-viscosity liquid side of the velocity component parallel to the slide surface is the shear rate (d) at the interface.
Moreover, the time for the interface of the falling liquid film to flow down on each block (slide surface) is defined as the falling time (t).

ここで、同時重層塗布では、各ブロック上において、各界面に対して(d×t)という数値が計算できる。この各ブロック上において計算される(d×t)で表される数値は、積層数が増加されるたびに増加していく。そして、各界面毎に、(d×t)で表される界面が最初に形成されてから、流下液膜が塗布されるまで間において、(d×t)の積算値Σ(d×t)の最大値が50以下となる条件で同時重層塗布を行なう。   Here, in simultaneous multilayer coating, a numerical value (d × t) can be calculated for each interface on each block. The numerical value represented by (d × t) calculated on each block increases as the number of stacks increases. For each interface, the integrated value Σ (d × t) of (d × t) after the interface represented by (d × t) is first formed and before the falling liquid film is applied. The simultaneous multilayer coating is performed under the condition that the maximum value of is 50 or less.

以下、光学反射フィルムの製造方法における、同時重層塗布の具体的な形態について説明する。スライドホッパー塗布装置を用いた光学反射フィルムの製造方法では、以下の調製工程、循環工程、供給工程を経た後に、上述の条件による同時重層塗布工程を行なうことが好ましい。さらに、同時重層塗布工程の後に、乾燥工程を行なうことが好ましい。   Hereinafter, the specific form of simultaneous multilayer coating in the manufacturing method of an optical reflective film is demonstrated. In the method for producing an optical reflective film using a slide hopper coating apparatus, it is preferable to perform a simultaneous multilayer coating process under the above-described conditions after the following preparation process, circulation process, and supply process. Furthermore, it is preferable to perform a drying process after the simultaneous multilayer coating process.

[調製工程]
調製工程においては、赤外遮蔽フィルムの高屈折率層及び低屈折率層を形成する塗布液をそれぞれ調製する。調製工程では、調製釜、送液装置及び濾過装置を用いる。
[Preparation process]
In a preparation process, the coating liquid which forms the high refractive index layer and low refractive index layer of an infrared shielding film is prepared, respectively. In the preparation process, a preparation kettle, a liquid feeding device and a filtration device are used.

調製釜は、高分子含有塗布液を調製するための容器である。塗布液の調製方法は、特に制限されず、例えば、金属酸化物粒子、水溶性高分子、及び、必要に応じて添加される添加剤を溶媒と共に撹拌混合する。この際、各成分の添加順も特に制限されず、撹拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、撹拌しながら一度に添加し混合してもよい。塗布液の調製方法は、塗布液ごとに適宜決められる。調製釜は、循環工程に含まれる貯蔵釜に塗布液を供給するために、貯蔵釜に接続されている。   The preparation kettle is a container for preparing a polymer-containing coating solution. The method for preparing the coating solution is not particularly limited, and, for example, the metal oxide particles, the water-soluble polymer, and the additive added as necessary are stirred and mixed together with the solvent. At this time, the order of addition of the respective components is not particularly limited, and the respective components may be sequentially added and mixed while stirring, or may be added and mixed at one time while stirring. The method for preparing the coating solution is appropriately determined for each coating solution. The preparation kettle is connected to the storage kettle in order to supply the coating liquid to the kettle included in the circulation process.

送液装置は、調製釜から塗布液を移送する経路に設けられている。送液装置は、例えば、ポンプであり、調製された塗布液の移送、移送の停止を制御可能である。送液装置は、塗布液を移送させる際には、塗布液の流量や速度を適宜設定可能である。   The liquid feeding device is provided in a path for transferring the coating liquid from the preparation kettle. The liquid feeding device is, for example, a pump, and can control the transfer of the prepared coating liquid and stop of the transfer. The liquid feeding device can appropriately set the flow rate and speed of the coating liquid when the coating liquid is transferred.

濾過装置は、調製釜から塗布液を移送する経路に設けられている。濾過装置により、塗布液に混ざった異物や、塗布液中に発生した気泡、凝集した異物を除去する。異物を除去した塗布液は、循環工程に送られる。   The filtration device is provided in a path for transferring the coating liquid from the preparation kettle. The filtering device removes foreign matter mixed in the coating solution, bubbles generated in the coating solution, and aggregated foreign matter. The coating liquid from which the foreign matter has been removed is sent to a circulation process.

(塗布液)
低屈折率層用塗布液及び高屈折率層用塗布液としては、塗布後の塗膜に後述するセットを行なうことで層間の混合を抑制できるという点から、ポリビニルアルコール類等の水溶性樹脂と、水又は水と水溶性有機溶剤とを含む水系溶媒とを含む水系塗布液を用いることが好ましい。
(Coating solution)
As the coating solution for the low refractive index layer and the coating solution for the high refractive index layer, from the point that mixing between layers can be suppressed by performing the setting described later on the coating film after coating, water-soluble resins such as polyvinyl alcohols and the like It is preferable to use water or an aqueous coating solution containing water and an aqueous solvent containing a water-soluble organic solvent.

高屈折率層用塗布液、及び、低屈折率層用塗布液の40℃における粘度は、5〜200mPa・sであり、より好ましくは20〜180mPa・sである。なお、粘度は、ブルックフィールド粘度計により測定した値を採用する。   The viscosity at 40 ° C. of the coating solution for high refractive index layer and the coating solution for low refractive index layer is 5 to 200 mPa · s, more preferably 20 to 180 mPa · s. The viscosity is a value measured with a Brookfield viscometer.

塗布液の固形分の濃度は0.1〜10質量%であることが好ましく、0.1〜5質量%であることがより好ましい。この範囲であると、固形分が低く塗布液の均一性が高いため、より膜厚均一性が向上すると考えられるからである。   The concentration of the solid content of the coating solution is preferably 0.1 to 10% by mass, and more preferably 0.1 to 5% by mass. This is because in this range, the solid content is low and the uniformity of the coating solution is high, so that the film thickness uniformity is considered to be further improved.

低屈折率層用塗布液中の水溶性高分子の濃度は、0.1〜10質量%であることが好ましい。また、低屈折率層用塗布液中の第1の金属酸化物粒子の濃度は、1〜60質量%であることが好ましい。   The concentration of the water-soluble polymer in the coating solution for the low refractive index layer is preferably 0.1 to 10% by mass. Moreover, it is preferable that the density | concentration of the 1st metal oxide particle in the coating liquid for low refractive index layers is 1-60 mass%.

高屈折率層用塗布液中の水溶性高分子の濃度は、0.5〜10質量%であることが好ましい。また、高屈折率層用塗布液中の第2の金属酸化物粒子の濃度は、1〜60質量%であることが好ましい。   The concentration of the water-soluble polymer in the coating solution for the high refractive index layer is preferably 0.5 to 10% by mass. Moreover, it is preferable that the density | concentration of the 2nd metal oxide particle in the coating liquid for high refractive index layers is 1-60 mass%.

なお、高屈折率層用塗布液に用いられる第2の金属酸化物粒子は、塗布液を調製する前に、別途、分散液の状態に調製して用いることが好ましい。すなわち、体積平均粒径が100nm以下のルチル型の酸化チタンを添加、分散して調製した水系の高屈折率層用塗布液を用いて、高屈折率層を形成することが好ましい。さらに、含ケイ素の水和酸化物で被覆された酸化チタン粒子を添加、分散して調製した水系の高屈折率層用塗布液を用いて、高屈折率層を形成することがより好ましい。分散液を用いる場合は、各層において任意の濃度となるように分散液を適宜添加すればよい。   Note that the second metal oxide particles used in the coating solution for the high refractive index layer are preferably prepared separately in the state of a dispersion before preparing the coating solution. That is, it is preferable to form the high refractive index layer using an aqueous high refractive index coating solution prepared by adding and dispersing rutile type titanium oxide having a volume average particle size of 100 nm or less. Furthermore, it is more preferable to form the high refractive index layer using an aqueous coating solution for high refractive index layer prepared by adding and dispersing titanium oxide particles coated with a silicon-containing hydrated oxide. In the case of using a dispersion liquid, the dispersion liquid may be appropriately added so as to have an arbitrary concentration in each layer.

(溶媒)
高屈折率層用塗布液及び低屈折率層用塗布液を調製するための溶媒は、特に制限されないが、水、有機溶媒、又はその混合溶媒が好ましい。有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−ブタノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のエーテル類、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノン等のケトン類等が挙げられる。これら有機溶媒は、単独でも又は2種以上組み合わせて用いてもよい。環境面、操作の簡便性等から、塗布液の溶媒としては、特に水、又は、水とメタノール、エタノール、若しくは、酢酸エチルとの混合溶媒が好ましい。
(solvent)
The solvent for preparing the coating solution for the high refractive index layer and the coating solution for the low refractive index layer is not particularly limited, but water, an organic solvent, or a mixed solvent thereof is preferable. Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol and 1-butanol, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate, diethyl ether and propylene. Examples include ethers such as glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether, amides such as dimethylformamide and N-methylpyrrolidone, and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, acetylacetone and cyclohexanone. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more. From the viewpoint of environment, simplicity of operation, etc., the solvent for the coating solution is particularly preferably water or a mixed solvent of water and methanol, ethanol, or ethyl acetate.

(水溶性高分子)
高屈折率層用塗布液及び低屈折率層用塗布液に用いられる水溶性高分子としては、例えば、ポリビニルアルコール類、ポリビニルピロリドン類、ポリビニルブチラール、ポリアクリル酸、アクリル酸−アクリルニトリル共重合体、アクリル酸カリウム−アクリルニトリル共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、若しくはアクリル酸−アクリル酸エステル共重合体等のアクリル系樹脂、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸共重合体、若しくはスチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体等のスチレンアクリル酸樹脂、スチレン−スチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、スチレン−2−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、スチレン−2−ヒドロキシエチルアクリレート−スチレンスルホン酸カリウム共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン−アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体等の酢酸ビニル系共重合体及びそれらの塩等の合成水溶性高分子;ゼラチン、増粘多糖類等の天然水溶性高分子等が挙げられる。これらの中で、特に好ましい例としては、製造時のハンドリングと膜の柔軟性の点から、ポリビニルアルコール類、ポリビニルピロリドン類、及び、これらを含有する共重合体、ポリビニルブチラール、ゼラチン、増粘多糖類(特にセルロース類)が挙げられる。これらの水溶性高分子は、単独で用いてもよいし2種以上併用して用いてもよい。
(Water-soluble polymer)
Examples of the water-soluble polymer used in the coating solution for the high refractive index layer and the coating solution for the low refractive index layer include, for example, polyvinyl alcohols, polyvinyl pyrrolidones, polyvinyl butyral, polyacrylic acid, and acrylic acid-acrylonitrile copolymer. , Acrylic resins such as potassium acrylate-acrylonitrile copolymer, vinyl acetate-acrylic ester copolymer, or acrylic acid-acrylic ester copolymer, styrene-acrylic acid copolymer, styrene-methacrylic acid copolymer Styrene acrylic acid such as polymer, styrene-methacrylic acid-acrylic acid ester copolymer, styrene-α-methylstyrene-acrylic acid copolymer, or styrene-α-methylstyrene-acrylic acid-acrylic acid ester copolymer Resin, styrene-sodium styrenesulfonate copolymer Polymer, styrene-2-hydroxyethyl acrylate copolymer, styrene-2-hydroxyethyl acrylate-potassium styrenesulfonate copolymer, styrene-maleic acid copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, vinylnaphthalene-acrylic Vinyl acetate copolymers such as acid copolymers, vinyl naphthalene-maleic acid copolymers, vinyl acetate-maleic acid ester copolymers, vinyl acetate-crotonic acid copolymers, vinyl acetate-acrylic acid copolymers, and Synthetic water-soluble polymers such as salts thereof; natural water-soluble polymers such as gelatin and thickening polysaccharides. Among these, particularly preferable examples include polyvinyl alcohols, polyvinylpyrrolidones, and copolymers containing them, polyvinyl butyral, gelatin, thickening agents, from the viewpoint of handling during production and film flexibility. Examples include sugars (particularly celluloses). These water-soluble polymers may be used alone or in combination of two or more.

ポリビニルアルコールとしては、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、変性ポリビニルアルコールも含まれる。変性ポリビニルアルコールとしては、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系ポリマーが挙げられる。   Polyvinyl alcohol includes modified polyvinyl alcohol in addition to ordinary polyvinyl alcohol obtained by hydrolyzing polyvinyl acetate. Examples of the modified polyvinyl alcohol include cation-modified polyvinyl alcohol, anion-modified polyvinyl alcohol, nonion-modified polyvinyl alcohol, and vinyl alcohol polymers.

ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られるポリビニルアルコールは、平均重合度が1000以上のものが好ましく用いられ、特に平均重合度が1500〜5000のものが好ましく、2000〜5000のものがより好ましく用いられる。ポリビニルアルコールの重合度が1000以上であると塗布膜のひび割れがなく、5000以下であると塗布液が安定するからである。なお、塗布液が安定するとは塗布液が経時的に安定することを意味する。以下、同様である。
また、ケン化度は、70〜100mol%が好ましく、80〜99.5mol%が水への溶解性の点でより好ましい。
The polyvinyl alcohol obtained by hydrolyzing polyvinyl acetate preferably has an average degree of polymerization of 1000 or more, particularly preferably an average degree of polymerization of 1500 to 5000, more preferably 2000 to 5000. . This is because when the polymerization degree of polyvinyl alcohol is 1000 or more, there is no cracking of the coating film, and when it is 5000 or less, the coating solution is stabilized. In addition, that the coating solution is stable means that the coating solution is stabilized over time. The same applies hereinafter.
The saponification degree is preferably 70 to 100 mol%, and more preferably 80 to 99.5 mol% in terms of solubility in water.

高屈折率層用塗布液及び低屈折率層用塗布液は、平均重合度が1000以上のポリビニルアルコールに加えて、重合度が100〜500でケン化度が95mol%以上の低重合度高ケン化ポリビニルアルコールを含むことが好ましい。このような低重合度高ケン化ポリビニルアルコールを含有させることにより、塗布液の安定性が向上する。   The coating solution for the high refractive index layer and the coating solution for the low refractive index layer are not only polyvinyl alcohol having an average polymerization degree of 1000 or more, but also a low polymerization degree high polymerization having a polymerization degree of 100 to 500 and a saponification degree of 95 mol% or more. It is preferable to contain activated polyvinyl alcohol. By containing such a low polymerization degree highly saponified polyvinyl alcohol, the stability of the coating solution is improved.

高屈折率層用塗布液及び低屈折率層用塗布液の少なくとも一方は、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、一部が変性された変性ポリビニルアルコールを含んでもよい。このような変性ポリビニルアルコールとしては、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系ポリマー等が挙げられる。   At least one of the coating solution for the high refractive index layer and the coating solution for the low refractive index layer may contain modified polyvinyl alcohol partially modified in addition to normal polyvinyl alcohol obtained by hydrolyzing polyvinyl acetate. Good. Examples of such modified polyvinyl alcohol include cation-modified polyvinyl alcohol, anion-modified polyvinyl alcohol, nonion-modified polyvinyl alcohol, and vinyl alcohol polymers.

カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭61−10483号公報に記載されているような、第一〜三級アミノ基や第四級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖又は側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。   Examples of the cation-modified polyvinyl alcohol include primary to tertiary amino groups and quaternary ammonium groups in the main chain or side chain of the polyvinyl alcohol as described in JP-A-61-110483. It is obtained by saponifying a copolymer of an ethylenically unsaturated monomer having a cationic group and vinyl acetate.

カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、トリメチル−(2−アクリルアミド−2,2−ジメチルエチル)アンモニウムクロライド、トリメチル−(3−アクリルアミド−3,3−ジメチルプロピル)アンモニウムクロライド、N−ビニルイミダゾール、N−ビニル−2−メチルイミダゾール、N−(3−ジメチルアミノプロピル)メタクリルアミド、ヒドロキシルエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル−(2−メタクリルアミドプロピル)アンモニウムクロライド、N−(1,1−ジメチル−3−ジメチルアミノプロピル)アクリルアミド等が挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン変性基含有単量体の比率は、酢酸ビニルに対して0.1〜10モル%、好ましくは0.2〜5モル%である。   Examples of the ethylenically unsaturated monomer having a cationic group include trimethyl- (2-acrylamido-2,2-dimethylethyl) ammonium chloride and trimethyl- (3-acrylamido-3,3-dimethylpropyl) ammonium chloride. N-vinylimidazole, N-vinyl-2-methylimidazole, N- (3-dimethylaminopropyl) methacrylamide, hydroxylethyltrimethylammonium chloride, trimethyl- (2-methacrylamidopropyl) ammonium chloride, N- (1, 1-dimethyl-3-dimethylaminopropyl) acrylamide and the like. The ratio of the cation-modified group-containing monomer of the cation-modified polyvinyl alcohol is 0.1 to 10 mol%, preferably 0.2 to 5 mol%, relative to vinyl acetate.

アニオン変性ポリビニルアルコールは、例えば、特開平1−206088号公報に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭61−237681号公報及び同63−307979号公報に記載されているような、ビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体及び特開平7−285265号公報に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。   Anion-modified polyvinyl alcohol is described in, for example, polyvinyl alcohol having an anionic group as described in JP-A-1-206088, JP-A-61-237681 and JP-A-63-307979. Examples thereof include a copolymer of vinyl alcohol and a vinyl compound having a water-soluble group, and modified polyvinyl alcohol having a water-soluble group as described in JP-A-7-285265.

また、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平7−9758号公報に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平8−25795号公報に記載されている疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基やカルボニル基、カルボキシル基等の反応性基を有する反応性基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。   Nonionic modified polyvinyl alcohol includes, for example, a polyvinyl alcohol derivative in which a polyalkylene oxide group as described in JP-A-7-9758 is added to a part of vinyl alcohol, and JP-A-8-25795. Block copolymers of vinyl compounds having a hydrophobic group and vinyl alcohol, silanol-modified polyvinyl alcohol having a silanol group, reactive group modification having a reactive group such as an acetoacetyl group, a carbonyl group, or a carboxyl group Polyvinyl alcohol etc. are mentioned.

これらポリビニルアルコール類は、単独でも、又は重合度や変性の種類違い等の2種以上を併用してもよい。また、ポリビニルアルコール類は、市販品を用いてもよいし合成品を用いてもよい。市販品の例としては、例えば、PVA−102、PVA−103、PVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−120、PVA−124、PVA−135、PVA−203、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−235、PVA−617等のポバール(株式会社クラレ製)、エクセバール(登録商標、株式会社クラレ製)、ニチゴーGポリマー(登録商標、日本合成化学工業株式会社製)等が挙げられる。   These polyvinyl alcohols may be used alone or in combination of two or more such as the degree of polymerization and the type of modification. As the polyvinyl alcohols, commercially available products or synthetic products may be used. Examples of commercially available products include, for example, PVA-102, PVA-103, PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-120, PVA-124, PVA-135, PVA-203, PVA-205, PVA -210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-235, PVA-617, etc. Poval (manufactured by Kuraray Co., Ltd.), EXEVAL (registered trademark, manufactured by Kuraray Co., Ltd.), Nichigo G polymer (registered trademark, Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.).

(添加剤)
低屈折率層用塗布液及び高屈折率層用塗布液には、必要に応じて各種添加剤を添加することができる。高屈折率層用塗布液及び低屈折率層用塗布液に添加可能な各種の添加剤としては、例えば、特開昭57−74193号公報、特開昭57−87988号公報、及び特開昭62−261476号公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭57−74192号、特開昭57−87989号公報、特開昭60−72785号公報、特開昭61−146591号公報、特開平1−95091号公報、及び特開平3−13376号公報等に記載されている退色防止剤、アニオン、カチオン又はノニオンの各種界面活性剤、特開昭59−42993号公報、特開昭59−52689号公報、特開昭62−280069号公報、特開昭61−242871号公報、及び特開平4−219266号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム等のpH調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、防黴剤、帯電防止剤、マット剤、熱安定剤、酸化防止剤、難燃剤、結晶核剤、無機粒子、有機粒子、減粘剤、滑剤、赤外線吸収剤、色素、顔料等の公知の各種添加剤等が挙げられる。
(Additive)
Various additives may be added to the coating solution for the low refractive index layer and the coating solution for the high refractive index layer as necessary. Examples of various additives that can be added to the coating solution for the high refractive index layer and the coating solution for the low refractive index layer include, for example, JP-A-57-74193, JP-A-57-87988, and JP-A No. 62-261476, JP-A-57-74192, JP-A-57-87989, JP-A-60-72785, JP-A-61-146591, JP-A-1 -95091, and anti-fading agents, various anionic, cationic or nonionic surfactants described in JP-A-3-13376, JP-A-59-42993, JP-A-59-52689 , Whitening agents, sulfuric acid, phosphoric acid, acetic acid, citric acid described in JP-A-62-2280069, JP-A-61-228771, and JP-A-4-219266 PH adjusters such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate and sodium acetate, antifoaming agents, lubricants such as diethylene glycol, preservatives, antifungal agents, antistatic agents, matting agents, heat stabilizers, antioxidants And various known additives such as flame retardants, crystal nucleating agents, inorganic particles, organic particles, thickeners, lubricants, infrared absorbers, dyes and pigments.

また、低屈折率層用塗布液及び高屈折率層用塗布液は、添加剤として硬化剤を含むことが好ましい。硬化剤の例としては、例えば、上記の水溶性高分子として好適なポリビニルアルコールと硬化反応を起こす硬化剤が挙げられる。具体的には、ホウ酸及びその塩が好ましい。硬化剤としては、ホウ酸及びその塩以外にも公知のものが使用でき、一般的にはポリビニルアルコール類と反応し得る基を有する化合物、又は、ポリビニルアルコール類が有する異なる基同士の反応を促進するような化合物を、適宜選択して用いることができる。さらに、他の硬化剤の具体例としては、例えば、エポキシ系硬化剤(ジグリシジルエチルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ジグリシジルシクロヘキサン、N,N−ジグリシジル−4−グリシジルオキシアニリン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル等)、アルデヒド系硬化剤(ホルムアルデヒド、グリオキザール等)、活性ハロゲン系硬化剤(2,4−ジクロロ−4−ヒドロキシ−1,3,5−s−トリアジン等)、活性ビニル系化合物(1,3,5−トリスアクリロイル−ヘキサヒドロ−s−トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等)、アルミニウムミョウバン等が挙げられる。
上記硬化剤の総使用量は、ポリビニルアルコール類1g当たり1〜600mgが好ましく、ポリビニルアルコール類1g当たり100〜600mgがより好ましい。
Moreover, it is preferable that the coating liquid for low refractive index layers and the coating liquid for high refractive index layers contain a hardening | curing agent as an additive. Examples of the curing agent include a curing agent that causes a curing reaction with polyvinyl alcohol suitable as the water-soluble polymer. Specifically, boric acid and its salt are preferable. As the curing agent, known ones other than boric acid and its salts can be used. In general, a compound having a group capable of reacting with polyvinyl alcohols or a reaction between different groups of polyvinyl alcohols is promoted. Such compounds can be appropriately selected and used. Furthermore, specific examples of other curing agents include, for example, epoxy curing agents (diglycidyl ethyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-diglycidyl cyclohexane, N, N-diglycidyl-4-glycidyloxyaniline, sorbitol polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, etc.), aldehyde curing agents (formaldehyde, glycoxal, etc.), active halogen curing agents (2,4-dichloro-4-hydroxy-1) , 3,5-s-triazine, etc.), active vinyl compounds (1,3,5-trisacryloyl-hexahydro-s-triazine, bisvinylsulfonylmethyl ether, etc.), aluminum alum and the like.
The total amount of the curing agent used is preferably 1 to 600 mg per 1 g of polyvinyl alcohol, and more preferably 100 to 600 mg per 1 g of polyvinyl alcohol.

ホウ酸又はその塩とは、ホウ素原子を中心原子とする酸素酸及びその塩のことをいい、具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸及び八ホウ酸及びそれらの塩が挙げられる。硬化剤としてのホウ素原子を有するホウ酸及びその塩は、単独の水溶液でも、また、2種以上を混合して使用してもよい。特に好ましいのはホウ酸とホウ砂との混合水溶液である。   Boric acid or a salt thereof refers to an oxygen acid having a boron atom as a central atom and a salt thereof, specifically, orthoboric acid, diboric acid, metaboric acid, tetraboric acid, pentaboric acid, and octaboron. Examples include acids and their salts. Boric acid having a boron atom as a curing agent and a salt thereof may be used as a single aqueous solution or as a mixture of two or more. Particularly preferred is a mixed aqueous solution of boric acid and borax.

ホウ酸とホウ砂との水溶液は、それぞれ比較的希薄水溶液でしか添加することができないが両者を混合することで濃厚な水溶液にすることができ、塗布液を濃縮化することができる。また、添加する水溶液のpHを比較的自由にコントロールすることができる利点がある。   The aqueous solutions of boric acid and borax can be added only in relatively dilute aqueous solutions, respectively, but by mixing them both can be made into a concentrated aqueous solution and the coating solution can be concentrated. Further, there is an advantage that the pH of the aqueous solution to be added can be controlled relatively freely.

硬化剤としては、ホウ酸とその塩、及び/又は、ホウ砂を用いることが層間混合をより抑制するという観点から好ましい。ホウ酸とその塩、及び/又は、ホウ砂を用いた場合には、金属酸化物粒子と水溶性バインダー樹脂であるポリビニルアルコール類のOH基とが水素結合ネットワークを形成し、その結果として高屈折率層と低屈折率層との層間混合が抑制され、好ましい近赤外遮蔽特性が達成されると考えられる。特に、高屈折率層と低屈折率層との多層重層をコーターで塗布後、一旦塗膜の膜面温度を15℃程度に冷やした後、膜面を乾燥させるセット系塗布プロセスを用いた場合には、より好ましく効果を発現することができる。   As a hardening | curing agent, it is preferable from a viewpoint of using a boric acid, its salt, and / or borax to suppress interlayer mixing more. When boric acid and its salts and / or borax are used, metal oxide particles and OH groups of polyvinyl alcohols, which are water-soluble binder resins, form a hydrogen bonding network, resulting in high refraction. It is thought that interlayer mixing between the refractive index layer and the low refractive index layer is suppressed, and preferable near-infrared shielding characteristics are achieved. Especially when using a set coating process in which a multi-layered multilayer of a high refractive index layer and a low refractive index layer is applied with a coater, the film surface temperature of the coating film is once cooled to about 15 ° C., and then the film surface is dried. In this case, the effect can be expressed more preferably.

[循環工程]
循環工程(塗布液循環システム)においては、調製された塗布液を、適正な物性に保ちつつ循環させる。循環工程では、貯蔵釜、送液装置、分散装置、脱泡装置、濾過装置及び循環経路を用いる。脱泡装置及び濾過装置は、循環経路に設けられる。
[Circulation process]
In the circulation step (coating liquid circulation system), the prepared coating liquid is circulated while maintaining proper physical properties. In the circulation process, a storage pot, a liquid feeding device, a dispersion device, a defoaming device, a filtration device, and a circulation path are used. The defoaming device and the filtering device are provided in the circulation path.

貯蔵釜は、連続的に供給するための塗布液を貯蔵する。貯蔵釜は、貯蔵釜の内部においても塗布液を循環させるための攪拌装置を備えていることが好ましい。これにより、貯蔵釜内の塗布液の物性を均一にできる。貯蔵釜には、貯蔵釜から移送した塗布液を再び貯蔵釜に戻すための循環経路が接続されている。また、貯蔵釜には、塗布液を供給工程及び塗布工程に送るための供給経路も接続されている。   The storage pot stores a coating liquid for continuous supply. The storage tank is preferably provided with a stirring device for circulating the coating liquid even inside the storage tank. Thereby, the physical property of the coating liquid in a storage pot can be made uniform. A circulation path for returning the coating liquid transferred from the storage tank back to the storage tank is connected to the storage tank. Further, a supply path for sending the coating liquid to the supply process and the coating process is also connected to the storage hook.

送液装置は、循環経路上に設けられている。送液装置としては、例えばポンプ等が挙げられる。送液装置は、貯蔵釜に貯蔵されている塗布液の移送、移送の停止を制御する。送液装置は、塗布液を移送する際には、塗布液の流量や速度を適宜設定可能である。   The liquid feeding device is provided on the circulation path. Examples of the liquid delivery device include a pump. The liquid feeding device controls the transfer of the coating liquid stored in the storage pot and the stop of the transfer. The liquid feeding device can appropriately set the flow rate and speed of the coating liquid when transferring the coating liquid.

分散装置は、循環経路上に設けられている。分散装置は、塗布液に分散処理、又は、せん断処理を施す。これにより、塗布液中において、高分子の分子間及び分子内の末端基による結合(ファンデルワールス結合等)が切断され、分子どうしの絡み合いが解消され、塗布液の粘度が低下する。   The dispersing device is provided on the circulation path. The dispersion device performs dispersion treatment or shear treatment on the coating solution. Thereby, in the coating liquid, the bonds (van der Waals bonds, etc.) between the molecules of the polymer and within the molecules are broken, entanglement of the molecules is eliminated, and the viscosity of the coating liquid is reduced.

分散装置は、塗布液を、分散、せん断できれば、構成は特に制限されず、例えば、市販のマイルダー、圧力式ホモジナイザー、高速回転せん断型ホモジナイザー等を用いることができる。分散装置がマイルダーの場合、例えば、固定歯と可動歯との間に流した塗布液が、固定歯と可動歯との速度勾配により生じたせん断力により、分散処理及びせん断処理される。分散装置として用いることが可能なマイルダーとしては、例えば、エバラマイルダー(株式会社荏原製作所製)、マイルダー(大平洋機工株式会社製MDN306)等を挙げることができる。   The configuration of the dispersing device is not particularly limited as long as the coating liquid can be dispersed and sheared. For example, a commercially available milder, a pressure homogenizer, a high-speed rotary shearing homogenizer, or the like can be used. When the dispersion device is a milder, for example, the coating liquid that flows between the fixed tooth and the movable tooth is subjected to a dispersion process and a shear process by a shearing force generated by a velocity gradient between the fixed tooth and the movable tooth. Examples of the milder that can be used as the dispersing device include Ebara Milder (manufactured by Ebara Corporation), Milder (manufactured by Taiheiyo Kiko Co., Ltd., MDN306), and the like.

図1は、循環工程の分散装置として用いるマイルダーの模式図である。図1のマイルダーは、固定歯であるステーター歯31と、回転歯であるローター歯32とを有する。ステーター歯31とローター歯32との間隙(せん断間隙)Laを移動するせん断対象液34は、ローター歯32の半径方向に速度勾配(ずり速度)が生じる。この速度勾配により、ステーター歯31とローター歯32との間に内部摩擦力(せん断力)が発生する。せん断間隙Laへのせん断対象液35の導入は、ローター歯32のスリット間隙から半径方向に行うため、せん断間隙Laに流れるせん断対象液34と、導入したせん断対象液35とは、連続的に衝突を繰り返す。すなわち、図1のマイルダーによれば、せん断対象液に対してせん断及び混合が連続的に行われる。   FIG. 1 is a schematic diagram of a milder used as a dispersing device for a circulation process. The milder of FIG. 1 has a stator tooth 31 that is a fixed tooth and a rotor tooth 32 that is a rotating tooth. The shear target liquid 34 moving in the gap (shear gap) La between the stator teeth 31 and the rotor teeth 32 has a velocity gradient (shear velocity) in the radial direction of the rotor teeth 32. Due to this speed gradient, an internal frictional force (shearing force) is generated between the stator teeth 31 and the rotor teeth 32. Since the introduction of the shear target liquid 35 into the shear gap La is performed in the radial direction from the slit gap of the rotor teeth 32, the shear target liquid 34 flowing into the shear gap La and the introduced shear target liquid 35 continuously collide with each other. repeat. That is, according to the milder of FIG. 1, shearing and mixing are continuously performed on the liquid to be sheared.

分散装置として用いる際のマイルダーの回転速度は、1000〜9000rpmが好ましく、より好ましくは2000〜8000rpmである。また、分散処理に塗布液を供給するため、循環経路中の塗布液の流量は、3〜10L/minが好ましく、より好ましくは5〜10L/minである。マイルダーの回転速度及び塗布液の流量がこの範囲であると、塗布液の凝集防止の効果がある。   The rotational speed of the milder when used as a dispersing device is preferably 1000 to 9000 rpm, more preferably 2000 to 8000 rpm. Moreover, in order to supply a coating liquid to a dispersion process, 3-10 L / min is preferable and, as for the flow volume of the coating liquid in a circulation path, More preferably, it is 5-10 L / min. When the rotational speed of the milder and the flow rate of the coating liquid are within this range, there is an effect of preventing the coating liquid from aggregating.

せん断間隙におけるステーター歯とローター歯との最小間隙は0.05〜0.5mmであることが好ましく、0.1〜0.4mmであることがより好ましい。せん断間隙におけるステーター歯とローター歯との最小間隙やローター歯の回転速度等を適宜設定することで、せん断速度を調節することができる。   The minimum gap between the stator teeth and the rotor teeth in the shear gap is preferably 0.05 to 0.5 mm, and more preferably 0.1 to 0.4 mm. The shear rate can be adjusted by appropriately setting the minimum gap between the stator teeth and the rotor teeth in the shear gap and the rotational speed of the rotor teeth.

脱泡装置は、塗布液中に含まれる気泡や塗布液内に溶け込んでいる溶存空気を除去する。脱泡方法としては、例えば、遠心力により気泡と液体を分離して、気泡を真空引きにより排出する方法や、超音波を利用する方法が考えられる。ただし、脱泡が可能であれば、どのような方法の脱泡装置を用いてもよい。   The defoaming device removes bubbles contained in the coating liquid and dissolved air dissolved in the coating liquid. As a defoaming method, for example, a method of separating bubbles and liquid by centrifugal force and discharging the bubbles by evacuation, or a method using ultrasonic waves can be considered. However, any defoaming apparatus may be used as long as defoaming is possible.

濾過装置は、塗布液に混ざった異物や、塗布液中に発生した気泡や凝集した異物を除去する。異物が除去された塗布液は、循環経路を通じて再び貯蔵釜に返送される。   The filtering device removes foreign matters mixed in the coating liquid, bubbles generated in the coating liquid, and aggregated foreign substances. The coating liquid from which the foreign matter has been removed is returned again to the storage tank through the circulation path.

以上のように、循環工程において、塗布液は、貯蔵釜から循環経路に移送し、分散装置、脱泡装置及び濾過装置による処理を施された後、貯蔵釜に戻る。ここで、貯蔵釜に収容されている塗布液のうちの一部は、貯蔵釜に接続された供給経路を通じて、供給工程に送られる。貯蔵釜に戻った塗布液は、貯蔵釜内で撹拌されつつ移動した後、再び循環経路に移送し、上記の処理が繰り返し行われる。このように、循環工程においては、調製された塗布液を循環させつつ、適切な強度において分散処理、脱泡処理、濾過処理等を連続的に施すことにより、塗布液の粘度等の物性を塗布に適した範囲内に保つことができる。循環工程における分散装置、脱泡装置及び濾過装置の処理強度は、赤外遮蔽フィルムの用途や使用する塗布液の性質等の条件に応じて、塗布液の物性が適正な範囲内に保たれるように適宜設定できる。   As described above, in the circulation step, the coating liquid is transferred from the storage kettle to the circulation path, treated by the dispersing device, the defoaming device, and the filtration device, and then returned to the storage kettle. Here, a part of the coating liquid accommodated in the storage tank is sent to the supply process through a supply path connected to the storage tank. The coating liquid that has returned to the storage pot moves while being stirred in the storage pot, and then is transferred again to the circulation path, and the above processing is repeated. In this way, in the circulation step, physical properties such as the viscosity of the coating solution are applied by continuously performing dispersion treatment, defoaming treatment, filtration treatment, etc. at an appropriate strength while circulating the prepared coating solution. It can be kept within the range suitable for. The processing strength of the dispersion device, the defoaming device and the filtration device in the circulation process is such that the physical properties of the coating liquid are kept within an appropriate range depending on the application of the infrared shielding film and the properties of the coating liquid used. It can set suitably as follows.

なお、循環工程においては、塗布液を循環させる回数が予め定められているものではなく、送液装置の設定等に応じて、一定時間あたり所定の流量の塗布液が、貯蔵釜から循環経路に順次送られて循環される。循環された塗布液は貯蔵釜に戻り攪拌されるので、貯蔵釜に収容される塗布液全体の物性を、常に塗布に適した状態に保つことができる。   In the circulation process, the number of times the coating liquid is circulated is not predetermined, and a predetermined flow rate of the coating liquid is supplied from the storage tank to the circulation path according to the setting of the liquid feeding device and the like. Sequentially sent and circulated. Since the circulated coating liquid is returned to the storage kettle and stirred, the physical properties of the entire coating liquid contained in the storage kettle can always be kept in a state suitable for coating.

また、循環経路上の、分散装置、脱泡装置及び濾過装置の順序は、適宜変更可能である。また、複数の上記装置の機能を統合した1つの装置が循環工程に提供されてもよい。例えば、分散装置及び脱泡装置の機能が統合した分散脱泡装置が循環工程に提供されてもよい。また、循環工程には、上記以外の装置が設けられていてもよく、また上記装置のいずれかが設けられていなくてもよい。   Further, the order of the dispersing device, the defoaming device, and the filtering device on the circulation path can be changed as appropriate. In addition, one device that integrates the functions of a plurality of the above devices may be provided for the circulation process. For example, a dispersion defoaming device in which functions of the dispersion device and the defoaming device are integrated may be provided in the circulation process. Further, in the circulation step, a device other than the above may be provided, or any of the above devices may not be provided.

[供給工程]
供給工程は、調製及び循環された塗布液を、同時重層塗布工程へ供給する。供給工程は、送液装置、流量計、脱泡装置、濾過装置及び供給経路を用いる。供給経路は、循環工程の貯蔵釜から、塗布工程に、塗布液を供給するための経路である。送液装置、流量計、脱泡装置及び濾過装置は、供給経路に設けられる。
[Supply process]
In the supplying step, the prepared and circulated coating solution is supplied to the simultaneous multilayer coating step. A supply process uses a liquid feeding apparatus, a flow meter, a defoaming apparatus, a filtration apparatus, and a supply path. The supply path is a path for supplying the coating liquid from the storage tank in the circulation process to the coating process. The liquid feeding device, the flow meter, the defoaming device, and the filtration device are provided in the supply path.

送液装置は、循環工程の貯蔵釜から移送させた塗布液を、供給経路に設けられる各装置に送る。送液装置は、例えば、ポンプであり、調製された塗布液の移送、移送の停止を制御可能である。送液装置は、塗布液を移送する際、塗布液の流量や速度を適宜設定可能である。   The liquid feeding device sends the coating liquid transferred from the storage tank in the circulation process to each device provided in the supply path. The liquid feeding device is, for example, a pump, and can control the transfer of the prepared coating liquid and stop of the transfer. The liquid delivery device can appropriately set the flow rate and speed of the coating liquid when the coating liquid is transferred.

流量計は、供給経路を通過する塗布液の流量を計測する装置である。流量計によって計測された塗布液の流量に応じて、送液装置の流量が適切に制御される。流量計としては、例えば、コリオリ式、電磁式、フラップ式、熱線式、カルマン渦式、又は負圧感知方式等の流量計が使用される。流量計に加えて、又は、流量計の替わりに、供給経路内における塗布液の圧力を計測する圧力計が設けられてもよい。   The flow meter is a device that measures the flow rate of the coating liquid passing through the supply path. The flow rate of the liquid feeding device is appropriately controlled according to the flow rate of the coating liquid measured by the flow meter. As the flow meter, for example, a Coriolis type, electromagnetic type, flap type, hot wire type, Karman vortex type, or negative pressure sensing type flow meter is used. In addition to the flow meter or instead of the flow meter, a pressure gauge that measures the pressure of the coating liquid in the supply path may be provided.

脱泡装置は、塗布液中に含まれる気泡や塗布液内に溶け込んでいる溶存空気を除去する。脱泡の方法としては、例えば、遠心力により気泡と液体を分離して、気泡を真空引きにより排出する方法や、超音波を利用する方法が考えられる。だし、脱泡が可能であれば、どのような方法の脱泡装置を用いてもよい。   The defoaming device removes bubbles contained in the coating liquid and dissolved air dissolved in the coating liquid. As a defoaming method, for example, a method of separating bubbles and liquid by centrifugal force and discharging the bubbles by evacuation, or a method using ultrasonic waves can be considered. However, any defoaming device may be used as long as defoaming is possible.

濾過装置は、塗布液に混ざった異物や、塗布液中に発生した気泡や凝集した異物を除去する。異物が除去された塗布液は、供給経路を通じて塗布工程に送られる。   The filtering device removes foreign matters mixed in the coating liquid, bubbles generated in the coating liquid, and aggregated foreign substances. The coating liquid from which the foreign matter has been removed is sent to the coating process through the supply path.

なお、供給経路上の、流量計、脱泡装置、濾過装置の順序は、適宜変更可能である。また、複数の上記装置の機能を統合した1つの装置が供給工程に提供されてもよい。供給工程には、上記以外の装置が設けられていてもよく、また上記装置のいずれかが設けられていなくてもよい。   Note that the order of the flow meter, the defoaming device, and the filtering device on the supply path can be changed as appropriate. Moreover, one apparatus which integrated the function of the said several apparatus may be provided for a supply process. In the supplying step, an apparatus other than the above may be provided, or any of the above apparatuses may not be provided.

[同時重層塗布工程]
上記の供給工程により、高屈折率層用塗布液及び低屈折率層用塗布液が同時重層塗布工程に供給される。同時重層塗布工程では、スライドホッパー塗布装置を用い、スライド面上において高屈折率用塗布液と低屈折率用塗布液とを積層する。そして、この積層した高屈折率用塗布液と低屈折率用塗布液とを基材フィルムへ塗布することにより、高屈折率層と低屈折率層とを形成する。
[Simultaneous multilayer coating process]
Through the above supply step, the coating solution for the high refractive index layer and the coating solution for the low refractive index layer are supplied to the simultaneous multilayer coating step. In the simultaneous multilayer coating process, a high refractive index coating solution and a low refractive index coating solution are stacked on the slide surface using a slide hopper coating device. And the high refractive index layer and the low refractive index layer are formed by apply | coating this laminated | stacked coating liquid for high refractive index and the coating liquid for low refractive index to a base film.

図2に、同時重層塗布工程で用いられるスライドホッパー塗布装置の概略図の一例を示す。連続的に搬送される基材フィルム1は、コーターダイス3に対面した位置にある基材フィルム1の搬送速度に合わせて同方向に回転しているバックロール2に保持されて、接液部6で塗布がなされる。コーターダイス3は、複数のブロック11(図2では、4層同時重層塗布の形態を示している)より構成されており、その上を塗布液4が流下する。また、コーターダイス3は、一定のスライド面の水平面に対する角度8を設けて、コーターダイス保持台(図示していない)に固定されている。バックロール2とコーターダイス3との間の下部には、減圧チャンバー5が設けられている。減圧チャンバー5は、接液部6で形成されるビードの安定化のため、ビードの上下に圧力差、具体的には下方部を減圧するため、減圧部10より排気して、減圧チャンバー5内を負圧とする。また、図2において、バックロール2の中心と接液部6とは角度7を有して配置され、基材フィルム1の走行面とスライド面とは角度9を有して配置されている。   FIG. 2 shows an example of a schematic diagram of a slide hopper coating apparatus used in the simultaneous multilayer coating process. The base film 1 that is continuously transported is held by the back roll 2 that rotates in the same direction in accordance with the transport speed of the base film 1 that is at the position facing the coater die 3, and the wetted part 6 Is applied. The coater die 3 is composed of a plurality of blocks 11 (in FIG. 2, a four-layer simultaneous multi-layer coating mode is shown), and the coating liquid 4 flows down thereon. Further, the coater die 3 is fixed to a coater die holding base (not shown) at an angle 8 with respect to a horizontal plane of a fixed slide surface. A decompression chamber 5 is provided at the lower part between the back roll 2 and the coater die 3. In order to stabilize the bead formed in the liquid contact part 6, the decompression chamber 5 is evacuated from the decompression part 10 in order to depressurize the bead, specifically, the lower part of the bead. Is a negative pressure. In FIG. 2, the center of the back roll 2 and the liquid contact part 6 are arranged with an angle 7, and the running surface and the slide surface of the base film 1 are arranged with an angle 9.

同時重層塗布する際には、スライドホッパー塗布装置におけるスライド面上の同時重層流れの速度分布をシミュレーションで計算する。シミュレーションでは、スライド面上の同時重層流れの速度分布を計算することで、同時重層流れにおける積層された塗布液同士の各界面における高粘度液側の剪断速度(d)と流下時間(t)とから各界面における(d×t)を求め、各界面が形成されてから塗布されるまでの(d×t)の積算値Σ(d×t)を界面毎に計算する。そして、積算値Σ(d×t)の値が最大となる界面の積算値Σ(d×t)≦50となる条件で同時重層塗布を行なうことより、同時重層塗布による木目状ムラの発生を抑制することができる。   In simultaneous multilayer coating, the velocity distribution of the simultaneous multilayer flow on the slide surface in the slide hopper coating apparatus is calculated by simulation. In the simulation, by calculating the velocity distribution of the simultaneous multi-layer flow on the slide surface, the shear rate (d) and the flow-down time (t) on the high viscosity liquid side at each interface between the stacked coating liquids in the simultaneous multi-layer flow Then, (d × t) at each interface is obtained, and an integrated value Σ (d × t) of (d × t) from the formation of each interface to application is calculated for each interface. Then, the simultaneous multilayer coating is performed under the condition that the cumulative value Σ (d × t) ≦ 50 of the interface where the value of the cumulative value Σ (d × t) is maximum, thereby causing the occurrence of grainy unevenness due to the simultaneous multilayer coating. Can be suppressed.

(剪断速度d)
まず、同時重層流れのシミュレーションにおける各層界面の高粘度液側の剪断速度(d)について説明する。
スライド面上の剪断速度は、層流のため単層流れの場合は、以下の式で表現され、人手計算が可能である。
(Shear rate d)
First, the shear rate (d) on the high-viscosity liquid side of each layer interface in the simultaneous multi-layer flow simulation will be described.
The shear rate on the slide surface is a laminar flow and is expressed by the following formula in the case of a single layer flow, and can be manually calculated.

Figure 0006589447
Figure 0006589447

V:スライド面流下速度、y:スライド面上の流下厚さ、ρ:密度、μ:粘度、θ:スライド面の傾斜角度、D:スライド面の流下膜厚   V: Sliding surface flow velocity, y: Sliding surface thickness, ρ: Density, μ: Viscosity, θ: Sliding surface tilt angle, D: Sliding surface film thickness

一方、同時重層流れの場合には、人手計算はできないため、シミュレーションソフトでの計算が必要となる。シミュレーションソフトとしては、有限要素法、有限体積法、差分法等を適用できる。本形態においては、有限要素法を適用する。以下、シミュレーションによる同時重層塗布の最適化の概要について説明する。   On the other hand, in the case of simultaneous multi-layer flow, since manual calculation is not possible, calculation with simulation software is required. As simulation software, a finite element method, a finite volume method, a difference method, or the like can be applied. In this embodiment, the finite element method is applied. Hereinafter, an outline of optimization of simultaneous multilayer coating by simulation will be described.

図3に、スライドホッパー塗布装置における、スライド面上の同時重層流れの様子を示す。図3では、コーターダイス3が5つのブロック(ブロック11A、ブロック11B、ブロック11C、ブロック11D、ブロック11E)から構成されている。そして、ブロック11A〜ブロック11Eの間の各スリットから、ブロック11A上を除く、各ブロック11B,11C,11D,11E上のスライド面12B、スライド面12C、スライド面12D、及び、スライド面12E上に塗布液が供給され、同時重層流れが形成される。   FIG. 3 shows a state of simultaneous multi-layer flow on the slide surface in the slide hopper coating apparatus. In FIG. 3, the coater die 3 is composed of five blocks (block 11A, block 11B, block 11C, block 11D, and block 11E). Then, from each slit between the block 11A to the block 11E, except on the block 11A, on the slide surface 12B, slide surface 12C, slide surface 12D, and slide surface 12E on each block 11B, 11C, 11D, 11E The coating liquid is supplied and a simultaneous multi-layer flow is formed.

図3に示す同時重層流れでは、まず、ブロック11Aとブロック11Bとの間のスリットから第1塗布液が供給されることにより、ブロック11Bのスライド面12B上に、第1塗布液層S1が形成される。
さらに、第1塗布液層S1下にブロック11Bとブロック11Cとの間のスリットから第2塗布液が供給されることにより、ブロック11Cのスライド面12C上では、第1塗布液層S1下に第2塗布液層S2が形成される。
同様に、第2塗布液層S2下にブロック11Cとブロック11Dとの間のスリットから第3塗布液が供給されることにより、ブロック11Dのスライド面12D上では、第2塗布液層S2下に第3塗布液層S3が形成される。これにより、ブロック11Dのスライド面12D上において、第3塗布液層S3、第2塗布液層S2、及び、第1塗布液層S1の積層流れが形成される。
そして、第3塗布液層S3下にブロック11Dとブロック11Eとの間のスリットから第4塗布液が供給されることにより、ブロック11Eのスライド面12E上では、第3塗布液層S3下に第4塗布液層S4が形成される。これにより、ブロック11Eのスライド面12E上において、第4塗布液層S4、第3塗布液層S3、第2塗布液層S2、及び、第1塗布液層S1の積層流れが形成される。
このように、スライド面流れでは、コーターダイス3から供給される塗布液により、まず2層流が形成され、逐次3層、4層、・・・、N−1層、N層流に増加して、同時重層流れが形成される。
In the simultaneous multi-layer flow shown in FIG. 3, firstly, the first coating liquid layer S1 is formed on the slide surface 12B of the block 11B by supplying the first coating liquid from the slit between the block 11A and the block 11B. Is done.
Furthermore, the second coating liquid is supplied from the slit between the block 11B and the block 11C below the first coating liquid layer S1, so that the first coating liquid layer S1 is below the first coating liquid layer S1 on the slide surface 12C of the block 11C. Two coating liquid layers S2 are formed.
Similarly, when the third coating liquid is supplied from the slit between the block 11C and the block 11D below the second coating liquid layer S2, the slide surface 12D of the block 11D is below the second coating liquid layer S2. A third coating liquid layer S3 is formed. Thereby, a stacked flow of the third coating liquid layer S3, the second coating liquid layer S2, and the first coating liquid layer S1 is formed on the slide surface 12D of the block 11D.
Then, the fourth coating liquid is supplied from the slit between the block 11D and the block 11E below the third coating liquid layer S3, so that the second coating liquid layer S3 is below the third coating liquid layer S3 on the slide surface 12E. Four coating liquid layers S4 are formed. Thereby, a stacked flow of the fourth coating liquid layer S4, the third coating liquid layer S3, the second coating liquid layer S2, and the first coating liquid layer S1 is formed on the slide surface 12E of the block 11E.
Thus, in the slide surface flow, the two-layer flow is first formed by the coating liquid supplied from the coater die 3, and then increases to the three-layer, four-layer,. Thus, a simultaneous multi-layer flow is formed.

また、本例の同時重層流れでは、最下層及び最上層を除き高屈折率層用塗布液(高粘度液)と低屈折率層用塗布液(低粘度液)とが交互に積層される構成を有する。このように、粘度が大きく異なる液が交互積層された系では、高粘度液層と低粘度液層との界面における剪断速度(d)が、高粘度液側と低粘度液側で大きく異なる。図4に、高粘度液と低粘度液とが交互に積層された系において、スライド面上における剪断速度(d)と、スライド面膜厚(y)との関係を示す。図4では、N層流において、同時重層流れの最下層を構成する塗布液層(第N塗布液層)が低粘度液層であり、第N塗布液層上に形成されている塗布液層(第N−1塗布液層)が高粘度液層であり、以降は低粘度液層と高粘度液層とが交互に積層された場合の系について示している。   Further, in the simultaneous multi-layer flow of this example, a configuration in which the coating liquid for the high refractive index layer (high viscosity liquid) and the coating liquid for the low refractive index layer (low viscosity liquid) are alternately laminated except for the lowermost layer and the uppermost layer. Have As described above, in a system in which liquids having greatly different viscosities are alternately laminated, the shear rate (d) at the interface between the high viscosity liquid layer and the low viscosity liquid layer is greatly different between the high viscosity liquid side and the low viscosity liquid side. FIG. 4 shows the relationship between the shear rate (d) on the slide surface and the slide surface film thickness (y) in a system in which high viscosity liquid and low viscosity liquid are alternately laminated. In FIG. 4, in the N layer flow, the coating liquid layer (Nth coating liquid layer) constituting the lowermost layer of the simultaneous multilayer flow is a low viscosity liquid layer, and the coating liquid layer formed on the Nth coating liquid layer (N-1th coating liquid layer) is a high-viscosity liquid layer, and hereinafter, a system in which low-viscosity liquid layers and high-viscosity liquid layers are alternately laminated is shown.

図4に示すように、低屈折率層用塗布液(低粘度液)層と高屈折率層用塗布液(高粘度液)層とでは、剪断速度が大きく異なる。また、同時重層流れにおいては、スライド面の直上に形成される第N塗布液層の剪断速度が大きく、スライド面膜厚方向が大きくなるに従い、剪断速度が小さくなる。すなわち、同時重層流れにおいて、同粘度液の場合は、より上層に形成されている塗布液層ほど剪断速度が小さくなる。さらに、同時重層流れの最表面では、剪断速度は0になる。   As shown in FIG. 4, the shear rate is greatly different between the low refractive index layer coating liquid (low viscosity liquid) layer and the high refractive index layer coating liquid (high viscosity liquid) layer. In the simultaneous multi-layer flow, the shear rate of the Nth coating liquid layer formed immediately above the slide surface is large, and the shear rate decreases as the slide surface film thickness direction increases. That is, in the simultaneous multi-layer flow, in the case of the same viscosity liquid, the shear rate becomes lower as the coating liquid layer is formed in a higher layer. Furthermore, at the outermost surface of the simultaneous multi-layer flow, the shear rate is zero.

図4に示すように、同時重層流れにおいては、低粘度液層における剪断速度が大きく、高粘度液層における剪断速度が小さい。このため、高粘度液層と低粘度液層との界面の剪断速度は、低粘度液層側と高粘度液層側とで異なる値で表すことができる。ここで、同時重層流れにおける本シミュレーションでは、高粘度液層側と低粘度液層側とで異なる値で表される各界面の剪断速度については、高粘度液側の剪断速度を用いる。このように、各塗布液層の界面における剪断速度(d)として高粘度液側の剪断速度を用いることにより、高粘度液側と低粘度液側とで大きく異なる界面の剪断応力を、一律に規定することができる。   As shown in FIG. 4, in the simultaneous multi-layer flow, the shear rate in the low viscosity liquid layer is large and the shear rate in the high viscosity liquid layer is small. For this reason, the shear rate at the interface between the high-viscosity liquid layer and the low-viscosity liquid layer can be expressed by different values on the low-viscosity liquid layer side and the high-viscosity liquid layer side. Here, in this simulation in the simultaneous multi-layer flow, the shear rate on the high-viscosity liquid side is used for the shear rate of each interface represented by different values on the high-viscosity liquid layer side and the low-viscosity liquid layer side. Thus, by using the shear rate on the high-viscosity liquid side as the shear rate (d) at the interface of each coating liquid layer, the shear stress at the interface that differs greatly between the high-viscosity liquid side and the low-viscosity liquid side is uniformly determined. Can be prescribed.

(流下時間t)
次に、同時重層流れのシミュレーションにおける、各界面の流下時間(t)について説明する。
各界面の流下時間(t)は、コーターダイスを構成する各ブロックのスライド面上を、同時重層流れの各界面が流下する時間である。この流下時間(t)は、ブロック毎に規定される。従って、流下時間(t)は、図3に例示する構成では、コーターダイス3を構成する各ブロック(ブロック11B、ブロック11C、ブロック11D、ブロック11E)の厚さと、各界面の流下速度(界面流下速度u)に依存する。
(Flow time t)
Next, the flow time (t) at each interface in the simultaneous multi-layer flow simulation will be described.
The flow time (t) of each interface is the time for each interface of the simultaneous multi-layer flow to flow on the slide surface of each block constituting the coater die. This flow-down time (t) is defined for each block. Accordingly, in the configuration illustrated in FIG. 3, the flow time (t) is the thickness of each block (block 11B, block 11C, block 11D, block 11E) constituting the coater die 3 and the flow velocity (interface flow) of each interface. Depends on the speed u).

第1塗布液層S1から第N塗布液層SNまでの同時重層流れでは、各ブロック上のスライド面ごとに、新たな界面が発生する。ここで、各界面を上流側から第1界面、第2界面、第3界面、・・・第N−1界面と規定する。   In the simultaneous multi-layer flow from the first coating liquid layer S1 to the Nth coating liquid layer SN, a new interface is generated for each slide surface on each block. Here, each interface is defined from the upstream side as a first interface, a second interface, a third interface,.

例えば、図3に例示す構成では、ブロック11Cのスライド面12C上に発生する第1塗布液層S1と第2塗布液層S2との界面を、第11界面(界面dt11)とする。また、ブロック11Dのスライド面12D上に発生する第1塗布液層S1と第2塗布液層S2との界面を、第12界面(界面dt12)とし、ブロック11Eのスライド面12E上に発生する第1塗布液層S1と第2塗布液層S2との界面を、第13界面(界面dt13)とする。 For example, in the configuration illustrated in FIG. 3, the interface between the first coating liquid layer S1 and the second coating liquid layer S2 generated on the slide surface 12C of the block 11C is defined as an eleventh interface (interface dt 11 ). Further, the interface between the first coating liquid layer S1 and the second coating liquid layer S2 generated on the slide surface 12D of the block 11D is defined as a twelfth interface (interface dt 12 ), and is generated on the slide surface 12E of the block 11E. An interface between the first coating liquid layer S1 and the second coating liquid layer S2 is defined as a thirteenth interface (interface dt 13 ).

同様に、ブロック11Dのスライド面12D上に発生する第2塗布液層S2と第3塗布液層S3との界面を、第21界面(界面dt21)とし、ブロック11Eのスライド面12E上に発生する第2塗布液層S2と第3塗布液層S3との界面を、第22界面(界面dt22)とする。また、ブロック11Eのスライド面12E上に発生する第3塗布液層S3と第4塗布液層S4との界面を、第31界面(界面dt31)とする。 Similarly, the second coating fluid layer S2 for generating on the slide surface 12D of the block 11D the interface between the third liquid layer S3, 21 and an interface (interface dt 21), occurs on the slide surface 12E of block 11E The interface between the second coating liquid layer S2 and the third coating liquid layer S3 is referred to as a 22nd interface (interface dt 22 ). Further, an interface between the third coating liquid layer S3 and the fourth coating liquid layer S4 generated on the slide surface 12E of the block 11E is defined as a 31st interface (interface dt 31 ).

そうすると、第11界面dt11における流下時間(t11)は、第11界面dt11の界面流下速度u11と、ブロック11Cの厚さL1とにより規定される。同様に、各界面における界面流下速度u12,u13,u21,u22,u31,・・・と、各ブロック11C,11D,11E,・・・の厚さL1,L2,L3,・・・とにより、界面dtごとの流下時間(t)が規定される。 Then, flow time in the 11 interface dt 11 (t 11) includes a surface falling velocity u 11 of the 11 interface dt 11, defined by the thickness L1 of the block 11C. Similarly, the interface flow speeds u 12 , u 13 , u 21 , u 22 , u 31 ,... At each interface and the thicknesses L 1, L 2, L 3,. The flow time (t) for each interface dt is defined by.

従って、図3に例示す構成では、第1塗布液層S1と第2塗布液層S2との界面においては、界面dt11、界面dt12、界面dt13、・・・界面dt1N−1の各界面において、それぞれに流下時間t11〜t1N−1が規定される。
同様に、第2塗布液層S2と第3塗布液層S3との界面においては、界面dt21、界面dt22、・・・界面dt2N−2の各界面において、それぞれに流下時間t21〜t2N−2が規定される。第3塗布液層S3と第4塗布液層S4との界面においては、界面dt31、界面dt32、・・・界面dt3N−3の各界面において、それぞれに流下時間t31〜t3N−3が規定される。
Thus, in the configuration to illustrate in FIG. 3, the first coating liquid layers S1 at the interface between the second coating fluid layer S2, the interface dt 11, interface dt 12, interface dt 13, the ... interface dt 1N-1 at each interface, efflux time t 11 ~t 1N-1 are defined respectively.
Similarly, the second coating fluid layer S2 at the interface between the third liquid layer S3, the interface dt 21, interface dt 22, at each interface of ... interface dt 2N-2, falling each time t 21 ~ t 2N-2 is defined. A third liquid layer S3 in the interface between the fourth coating solution layer S4, the interface dt 31, interface dt 32, at each interface of ... interface dt 3N-3, t 31 flow time each ~t 3 N- 3 is defined.

(各界面におけるd×t)
上述のように各界面dtにおける剪断速度(d)と流下時間(t)とを規定することにより、界面dt毎の剪断速度(d)と流下時間(t)との積(d×t)を求めることができる。さらに、第1塗布液層S1から第N塗布液層SNまでの各塗布液層間の各界面について、それぞれの界面毎に最初に発生する界面dtX1の(d×t)から、フィルムに塗布されるまでに発生するすべて界面dtXXの(d×t)までをすべて積算することにより、界面毎の積算値Σ(d×t)を求めることができる。
(D × t at each interface)
By defining the shear rate (d) and the flow time (t) at each interface dt as described above, the product (d × t) of the shear rate (d) and the flow time (t) for each interface dt is obtained. Can be sought. Furthermore, each interface between the coating liquid layers from the first coating liquid layer S1 to the Nth coating liquid layer SN is applied to the film from (d × t) of the interface dt X1 that first occurs for each interface. By integrating all of the interfaces dt XX generated up to (d × t), an integrated value Σ (d × t) for each interface can be obtained.

上述の界面毎に求められる積算値Σ(d×t)について、N層流れの場合の計算方法の概要を以下に示す。   An outline of the calculation method in the case of the N-layer flow is shown below for the integrated value Σ (d × t) obtained for each interface described above.

Figure 0006589447
Figure 0006589447

(上層膜厚D1、下層膜厚D2)
また、同時重層塗布におけるスライド面流れでは、塗布液層毎に流下速度が異なるため、同じ塗布膜厚の場合でもスライド面上では、各塗布液層の流下膜厚が異なる。各層の膜厚についてもシミュレーションソフトにより計算して、上層膜厚(D1)、下層膜厚(D2)を求める。例えば、図3に例示する構成においては、界面dt11〜dt13・・・における上層膜厚(D1)は、第1塗布液層S1の各界面での流下膜厚であり、下層膜厚(D2)は、第2塗布液層S2の各界面での流下膜厚となる。
(Upper layer thickness D1, lower layer thickness D2)
In addition, in the slide surface flow in simultaneous multilayer coating, the flow down speed is different for each coating liquid layer, and therefore the flow down film thickness of each coating liquid layer is different on the slide surface even in the case of the same coating film thickness. The thickness of each layer is also calculated by simulation software, and the upper layer thickness (D1) and the lower layer thickness (D2) are obtained. For example, in the configuration illustrated in FIG. 3, the upper layer thickness (D1) at the interfaces dt 11 to dt 13 ... Is the falling film thickness at each interface of the first coating liquid layer S1, and the lower layer thickness ( D2) is the falling film thickness at each interface of the second coating liquid layer S2.

そして、上述の積算値Σ(d×t)と同様の方法で、第1塗布液層S1から第N塗布液層SNまでの各塗布液層間の各界面について、界面dtX1から界面dtXXまでの(d×(D1/D2)×t)をすべて積算することにより、界面毎の積算値Σ(d×(D1/D2)×t)を求めることができる。 Then, in the same manner as the above integrated value Σ (d × t), for each interface between the coating liquid layers from the first coating liquid layer S1 to the Nth coating liquid layer SN, from the interface dt X1 to the interface dt XX. By integrating all (d × (D1 / D2) × t), an integrated value Σ (d × (D1 / D2) × t) for each interface can be obtained.

(積算値Σ(d×t)の最大値、積算値Σ(d×(D1/D2)×t)の最大値)
スライドホッパー塗布装置を用いた同時重層塗布工程においては、シミュレーションで計算される各界面毎の積算値Σ(d×t)の最大値を50以下の条件で同時重層塗布を行なう。積算値Σ(d×t)の最大値を50以下とすることにより、木目状ムラの発生を抑制することができる。さらに、光学反射フィルムの幅方向の均一性が高まり、幅方向の色ムラの発生を抑制することができる。
また、積算値Σ(d×t)の最大値は30以下であることが更に好ましい。積算値Σ(d×t)の最大値が30以下であることにより、上述の作用効果をより顕著に得ることができる。
(Maximum value of integrated value Σ (d × t), maximum value of integrated value Σ (d × (D1 / D2) × t))
In the simultaneous multilayer coating process using the slide hopper coating apparatus, simultaneous multilayer coating is performed under the condition that the maximum value of the integrated value Σ (d × t) for each interface calculated by simulation is 50 or less. By setting the maximum value of the integrated value Σ (d × t) to 50 or less, it is possible to suppress the occurrence of grainy unevenness. Furthermore, the uniformity in the width direction of the optical reflection film is increased, and the occurrence of color unevenness in the width direction can be suppressed.
The maximum value of the integrated value Σ (d × t) is more preferably 30 or less. When the maximum value of the integrated value Σ (d × t) is 30 or less, the above-described effects can be obtained more remarkably.

さらに、上述のシミュレーションで計算される積算値Σ(d×(D1/D2)×t)の最大値は30以下であることが好ましく、25以下であることが更に好ましい。積算値Σ(d×t)の最大値とともに、積算値Σ(d×(D1/D2)×t)の最大値が上記範囲となることにより、上述の作用効果をより顕著に得ることができる。   Furthermore, the maximum value of the integrated value Σ (d × (D1 / D2) × t) calculated by the above simulation is preferably 30 or less, and more preferably 25 or less. When the maximum value of the integrated value Σ (d × (D1 / D2) × t) is within the above range together with the maximum value of the integrated value Σ (d × t), the above-described operational effects can be obtained more remarkably. .

なお、スライド面流れにおいては、上下界面の剪断速度差、上下流の膜厚差は粘度差により発生する。このため、上記のシミュレーションによる計算適用は隣接する層の粘度差が100cp以上ある系において好ましく適用することができる。特に、粘度差が150cp以上ある系において好ましく適用することができる。   In the slide surface flow, the shear rate difference between the upper and lower interfaces and the film thickness difference between the upstream and downstream are caused by the difference in viscosity. For this reason, calculation application by the above simulation can be preferably applied to a system in which the viscosity difference between adjacent layers is 100 cp or more. In particular, it can be preferably applied to a system having a viscosity difference of 150 cp or more.

なお、積算値Σ(d×t)の最大値及び積算値Σ(d×(D1/D2)×t)の最大値が上記値以下であることにより、同時重層塗布の成膜品質が向上する作用の詳細なメカニズムについては解明されていない。上記知見は、シミュレーション及び実験による結果として、積算値Σ(d×t)の最大値及び積算値Σ(d×(D1/D2)×t)の最大値が上記値以下であることにより、同時重層塗布の塗布品質が向上したことから得られている。   In addition, since the maximum value of the integrated value Σ (d × t) and the maximum value of the integrated value Σ (d × (D1 / D2) × t) are not more than the above values, the film formation quality of the simultaneous multilayer coating is improved. The detailed mechanism of action has not been elucidated. As a result of simulations and experiments, the above findings indicate that the maximum value of the integrated value Σ (d × t) and the maximum value of the integrated value Σ (d × (D1 / D2) × t) are not more than the above values. This is because the coating quality of the multilayer coating is improved.

積算値Σ(d×t)の最大値及び積算値Σ(d×(D1/D2)×t)の最大値は、例えば、低屈折率層用塗布液及び高屈折率層用塗布液の粘度、スライドホッパー塗布装置のコーターダイスを構成する各ブロックの厚さ(流下距離)、塗布液の流下膜厚(流量)、スライド面の傾斜角、並びに、同時重層塗布を行なう層数(流下距離)の各パラメータを適宜設定することにより、上記値以下に調製することができる。   The maximum value of the integrated value Σ (d × t) and the maximum value of the integrated value Σ (d × (D1 / D2) × t) are, for example, the viscosity of the coating solution for the low refractive index layer and the coating solution for the high refractive index layer. , The thickness of each block constituting the coater die of the slide hopper coating device (flowing distance), the falling film thickness (flow rate) of the coating liquid, the tilt angle of the slide surface, and the number of layers for simultaneous multi-layer coating (flowing distance) By appropriately setting each parameter, it can be adjusted to the above value or less.

これらのパラメータによる積算値Σ(d×t)の最大値及び積算値Σ(d×(D1/D2)×t)の最大値への影響は、一概には言えないが、具体的には、下記のような傾向を有している。
例えば、塗布液の粘度が上がると、剪断速度(d)が低下し、流下時間(t)が増加する。このとき、粘度上昇による剪断速度(d)の低下率が、流下時間(t)の増加率を上回ることが多い。このため、塗布液の粘度を挙げると、結果的に(d×t)の値が低下する傾向となる。
ブロックの厚さや層数を増加させると、同時重層流れの流下距離が大きくなり、流下時間(t)が増加する。このため、(d×t)の値が増加する傾向となる。
スライド面の傾斜角が小さくなると、剪断速度(d)が低下し、流下時間(t)が増加する。しかし、剪断速度の低下率が、流下時間の増加率よりも大きいため、(d×t)は小さくなる傾向にある。
また、塗布液の膜厚(流量)が大きいと剪断速度(d)が増加するが、流下速度が大きくなり、流下時間が小さくなるが、流下時間の低下率の方が大きいため、(d×t)は小さくなる傾向にある。
Although the influence on the maximum value of the integrated value Σ (d × t) and the maximum value of the integrated value Σ (d × (D1 / D2) × t) by these parameters cannot be generally described, specifically, It has the following tendencies.
For example, when the viscosity of the coating solution increases, the shear rate (d) decreases and the flow time (t) increases. At this time, the decrease rate of the shear rate (d) due to the increase in viscosity often exceeds the increase rate of the flow time (t). For this reason, if the viscosity of a coating liquid is mentioned, it will become the tendency for the value of (dxt) to fall as a result.
When the thickness of the block and the number of layers are increased, the flow distance of the simultaneous multi-layer flow increases, and the flow time (t) increases. For this reason, the value of (d × t) tends to increase.
When the inclination angle of the slide surface becomes small, the shear rate (d) decreases and the flow time (t) increases. However, since the rate of decrease in shear rate is greater than the rate of increase in flow time, (d × t) tends to be small.
Further, when the coating film thickness (flow rate) is large, the shear rate (d) increases, but the flow rate increases and the flow time decreases, but the rate of decrease in the flow time is larger, so (d × t) tends to be smaller.

[乾燥工程]
塗膜の乾燥処理は、基材フィルム上に上述の同時重層塗布を行った後、形成した塗膜の温度を、好ましくは1〜15℃にいったん冷却(セット)し、その後10℃以上の乾燥条件で行なうことが好ましい。より好ましい乾燥条件としては、湿球温度−10〜50℃、膜面温度10〜50℃の範囲である。例えば、セット後の塗膜に対し、50℃の温風を1〜5分間吹き付けて乾燥する。また、塗布直後の冷却(セット)方式としては、形成された塗膜の均一性向上の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。
[Drying process]
The coating film is dried by applying the above-mentioned simultaneous multilayer coating on the base film, and then cooling (setting) the temperature of the formed coating film to preferably 1 to 15 ° C., and then drying at 10 ° C. or higher. It is preferable to carry out under conditions. More preferable drying conditions are a wet bulb temperature of −10 to 50 ° C. and a film surface temperature of 10 to 50 ° C. For example, hot air of 50 ° C. is blown on the coated film after setting for 1 to 5 minutes for drying. Moreover, as a cooling (set) system immediately after application, it is preferable to carry out by a horizontal set system from the viewpoint of improving the uniformity of the formed coating film.

乾燥方法としては、温風乾燥、赤外乾燥、マイクロ波乾燥が用いられる。また単一プロセスでの乾燥よりも多段プロセスの乾燥が好ましく、恒率乾燥部よりも減率乾燥部での温度が高くなる条件で乾燥処理を行なうことがより好ましい。この場合の恒率乾燥部の温度範囲は20〜60℃にすることが好ましく、減率乾燥部の温度範囲は45〜80℃にすることが好ましい。   As a drying method, warm air drying, infrared drying, and microwave drying are used. Moreover, the drying of a multistage process is preferable rather than the drying by a single process, and it is more preferable to perform a drying process on the conditions that the temperature in a reduction rate drying part becomes higher than a constant rate drying part. In this case, the temperature range of the constant rate drying section is preferably 20 to 60 ° C, and the temperature range of the decreasing rate drying section is preferably 45 to 80 ° C.

ここで、冷却(セット)とは、塗膜に対して冷風等を当てて温度を下げる等、塗膜組成物の粘度を高めて各層間及び各層内の物質の流動性を低下させたり、またゲル化させたりする工程を意味する。冷風を塗布膜に表面から当てて、塗布膜の表面に指を押し付けたときに指に何もつかなくなった状態を、セット完了の状態と定義する。   Here, cooling (set) refers to lowering the temperature of the coating film by applying cold air or the like to increase the viscosity of the coating composition to decrease the fluidity of the substances in each layer and each layer, It means a process of gelling. A state in which the cold air is applied to the coating film from the surface and the finger is pressed against the surface of the coating film is defined as a set completion state.

塗布した時点から、冷風を当ててセットが完了するまでの時間(セット時間)は、5分以内であることが好ましく、2分以内であることがより好ましい。また、下限の時間は特に制限されないが、30秒以上の時間をとることが好ましい。セット時間が短すぎると、層中の成分の冷却が不十分となる虞がある。一方、セット時間が長すぎると、金属酸化物粒子の層間拡散が進み、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が不十分となるおそれがある。   The time (setting time) from the time of application to the completion of setting by applying cold air is preferably within 5 minutes, and more preferably within 2 minutes. Further, the lower limit time is not particularly limited, but it is preferable to take 30 seconds or more. If the set time is too short, the components in the layer may not be sufficiently cooled. On the other hand, if the set time is too long, the interlayer diffusion of the metal oxide particles proceeds, and the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer may be insufficient.

[光学反射体]
上述の製造方法により作製される光学反射フィルムは、積層体の光学膜厚等を制御することで、所定の波長を有する光を遮蔽することができるため、遮蔽する光に応じて光学反射体として種々の用途に適用することができる。例えば、紫外線を反射する紫外遮蔽フィルムを用いた紫外遮蔽体、可視光を反射する光着色フィルムを用いた加飾体、赤外線を反射する赤外遮蔽フィルムを用いた赤外遮蔽体、所定の波長の光を反射する金属光沢調フィルムを用いた加飾体が挙げられる。
以下、光学反射フィルムの用途として、代表的な例である赤外遮蔽フィルムを用いた赤外遮蔽体について説明する。なお、光学反射フィルムの用途は、赤外遮蔽体に限定されない。
[Optical reflector]
The optical reflection film produced by the above-described manufacturing method can shield light having a predetermined wavelength by controlling the optical film thickness and the like of the laminate, so that it can be used as an optical reflector according to the light to be shielded. It can be applied to various uses. For example, an ultraviolet shielding body using an ultraviolet shielding film that reflects ultraviolet light, a decorative body using a light-colored film that reflects visible light, an infrared shielding body using an infrared shielding film that reflects infrared light, a predetermined wavelength And a decorative body using a metallic glossy film that reflects the light.
Hereinafter, an infrared shielding body using an infrared shielding film as a typical example will be described as an application of the optical reflection film. In addition, the use of an optical reflection film is not limited to an infrared shielding body.

(赤外遮蔽体)
光学反射フィルムである赤外遮蔽フィルムは、幅広い分野に応用することができる。例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒らされる設備に貼り合せ、熱線反射効果を付与する熱線反射フィルム等の窓貼用フィルムや、農業用ビニールハウス用フィルム等として用いられる。また、自動車用の合わせガラス等のガラスとガラスとの間に光学反射フィルム挟み込まれた構成の自動車用赤外遮蔽フィルムとしても好適に用いられる。この場合、赤外遮蔽フィルムをガラスで封止できるため、耐久性の観点から好ましい。
(Infrared shield)
The infrared shielding film which is an optical reflection film can be applied to a wide range of fields. For example, as a film for window pasting such as heat ray reflective film that gives heat ray reflection effect, film for agricultural greenhouses, etc. Used. Moreover, it is used suitably also as an infrared shielding film for motor vehicles of the structure by which the optical reflection film was inserted | pinched between glass and glass, such as laminated glass for motor vehicles. In this case, since the infrared shielding film can be sealed with glass, it is preferable from the viewpoint of durability.

特に、赤外遮蔽フィルムは、接着層(粘着層)を介して赤外遮蔽フィルムがガラス又はガラス代替の樹脂等の基体に貼合された構成の、赤外遮蔽体として好適に用いられる。赤外遮蔽体においては、赤外遮蔽フィルムが基体よりも日光(熱線)入射面側に配置されることが好ましい。   In particular, the infrared shielding film is suitably used as an infrared shielding body having a configuration in which the infrared shielding film is bonded to a substrate such as glass or a glass substitute resin through an adhesive layer (adhesive layer). In an infrared shielding body, it is preferable that an infrared shielding film is arrange | positioned rather than a base | substrate at the sunlight (heat ray) incident surface side.

赤外遮蔽体において、基体の厚みは特に制限されないが、通常0.1mm〜5cmである。赤外遮蔽体に用いられる基体としては、プラスチック基体、金属基体、セラミック基体、布状基体等を用いることができ、フィルム状、板状、球状、立方体状、直方体状等様々な形態の基体を用いることができる。例えば、ガラス、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフィド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、金属板、セラミック等が挙げられる。樹脂の種類は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂のいずれでもよく、これらは単独でも又は2種以上組み合わせて用いてもよい。赤外遮蔽体として使用される基体は、押出成形、カレンダー成形、射出成形、中空成形、圧縮成形等、公知の方法で製造することができる。   In the infrared shielding body, the thickness of the substrate is not particularly limited, but is usually 0.1 mm to 5 cm. As a base used for the infrared shielding body, a plastic base, a metal base, a ceramic base, a cloth base, and the like can be used, and various forms of bases such as a film, a plate, a sphere, a cube, and a cuboid can be used. Can be used. For example, glass, polycarbonate resin, polysulfone resin, acrylic resin, polyolefin resin, polyether resin, polyester resin, polyamide resin, polysulfide resin, unsaturated polyester resin, epoxy resin, melamine resin, phenol resin, diallyl phthalate resin, polyimide resin, Examples thereof include urethane resin, polyvinyl acetate resin, polyvinyl alcohol resin, styrene resin, vinyl chloride resin, metal plate, and ceramic. The type of the resin may be any of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and an ionizing radiation curable resin, and these may be used alone or in combination of two or more. The substrate used as the infrared shielding body can be produced by a known method such as extrusion molding, calendar molding, injection molding, hollow molding, compression molding or the like.

基体としては、板状のセラミック基体が好ましく、ガラス板に赤外遮蔽フィルムを設けた赤外遮蔽体がより好ましい。ガラス板の例としては、例えば、JIS R3202:1996に記載されたフロート板ガラス、及び磨き板ガラスが挙げられ、ガラス厚みとしては0.01mm〜20mmが好ましい。また、赤外遮蔽体としては、例えば、ガラスの両面に赤外遮蔽フィルムを設けた形態でもよいし、赤外遮蔽フィルムの両面に粘着層又は接着層を塗設し、赤外遮蔽フィルムの両面にガラスを貼り合わせた合わせガラス状の形態でもよい。   As the substrate, a plate-shaped ceramic substrate is preferable, and an infrared shielding body in which an infrared shielding film is provided on a glass plate is more preferable. As an example of a glass plate, the float plate glass described in JISR3202: 1996 and polished plate glass are mentioned, for example, As glass thickness, 0.01 mm-20 mm are preferable. Moreover, as an infrared shielding body, the form which provided the infrared shielding film on both surfaces of glass may be sufficient, for example, the adhesive layer or the adhesive layer is coated on both surfaces of the infrared shielding film, and both surfaces of an infrared shielding film are provided. A laminated glass-like form in which glass is bonded together may be used.

赤外遮蔽フィルムと基体とを貼り合わせる接着層(粘着層)としては、光硬化性若しくは熱硬化性の樹脂を主成分とする接着剤又は粘着剤を用いることが好ましい。接着層は紫外線に対して耐久性を有することが好ましく、アクリル系接着剤又はシリコーン系接着剤を用いることが好ましい。さらに接着特性やコストの観点から、アクリル系接着剤を用いることが好ましい。特に剥離強さの制御が容易なことから、アクリル系接着剤において、溶剤系を用いることが好ましい。アクリル溶剤系接着剤として溶液重合ポリマーを使用する場合、そのモノマーとしては公知のものを使用できる。   As an adhesive layer (adhesive layer) for bonding the infrared shielding film and the substrate, it is preferable to use an adhesive or an adhesive mainly composed of a photocurable or thermosetting resin. The adhesive layer preferably has durability against ultraviolet rays, and it is preferable to use an acrylic adhesive or a silicone adhesive. Furthermore, it is preferable to use an acrylic adhesive from the viewpoint of adhesive properties and cost. In particular, since it is easy to control the peel strength, it is preferable to use a solvent system in the acrylic adhesive. When a solution polymerization polymer is used as the acrylic solvent adhesive, a known monomer can be used as the monomer.

また、ポリビニルブチラール系樹脂、あるいはエチレン−酢酸ビニル共重合体系樹脂を上記の粘着層又は接着層として用いてもよい。例えば、可塑性ポリビニルブチラール(積水化学工業社製、三菱モンサント社製等)、エチレン−酢酸ビニル共重合体(デュポン社製、武田薬品工業社製、デュラミン)、変性エチレン−酢酸ビニル共重合体(東ソー社製、メルセンG)等を用いることができる。なお、接着層又は粘着層には、紫外線吸収剤、抗酸化剤、帯電防止剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着(粘着)調整剤等が適宜添加配合されていてもよい。   Further, a polyvinyl butyral resin or an ethylene-vinyl acetate copolymer resin may be used as the adhesive layer or the adhesive layer. For example, plastic polyvinyl butyral (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., Mitsubishi Monsanto, etc.), ethylene-vinyl acetate copolymer (manufactured by DuPont, Takeda Pharmaceutical Co., Ltd., duramin), modified ethylene-vinyl acetate copolymer (Tosoh Corporation) For example, Mersen G) manufactured by the company can be used. In the adhesive layer or the pressure-sensitive adhesive layer, an ultraviolet absorber, an antioxidant, an antistatic agent, a heat stabilizer, a lubricant, a filler, a coloring agent, an adhesion (adhesion) adjusting agent and the like may be appropriately added and blended.

基体に本形態の赤外遮蔽フィルムを設ける方法としては、上述のように赤外遮蔽フィルムに接着層又は粘着層を塗設し、接着層又は粘着層を介して赤外遮蔽フィルムを基体に貼り付ける方法が好適に用いられる。貼合方法としては、基体に直接フィルムを貼る乾式貼合や、上述の水貼り貼合する方法等が適応できる。基体と赤外遮蔽フィルムとの貼合は、基体と赤外遮蔽フィルムとの間に空気が入らないようにするため、及び、基体上での赤外遮蔽フィルムの位置決め等の施工のしやすさの観点から、水貼り法により行なうことが好ましい。   As a method of providing the infrared shielding film of this embodiment on the substrate, an adhesive layer or an adhesive layer is applied to the infrared shielding film as described above, and the infrared shielding film is attached to the substrate via the adhesive layer or the adhesive layer. The attaching method is preferably used. As a bonding method, a dry bonding method in which a film is directly bonded to a substrate, a method in which the above-described water bonding method is performed, and the like can be applied. The bonding between the base and the infrared shielding film is performed in order to prevent air from entering between the base and the infrared shielding film and to facilitate the positioning of the infrared shielding film on the base. From this point of view, it is preferable to carry out by a water sticking method.

赤外遮蔽フィルム及び赤外遮蔽体において、断熱性能や日射熱遮へい性能は、一般的にJIS R3209:1998(複層ガラス)、JIS R3106:1998(板ガラス類の透過率・反射率・放射率・日射熱取得率の試験方法)、JIS R3107:1998(板ガラス類の熱抵抗及び建築における熱貫流率の算定方法)に準拠した方法により求めることができる。   In the infrared shielding film and the infrared shielding body, the heat insulation performance and the solar heat shielding performance are generally measured according to JIS R3209: 1998 (multi-layer glass), JIS R3106: 1998 (transmittance, reflectance, emissivity, It can be determined by a method based on JIS R3107: 1998 (Calculation method of thermal resistance of plate glass and heat transmissivity in architecture).

日射透過率、日射反射率、放射率、及び可視光透過率の測定は、以下の(1)及び(2)の方法により求める。
(1)波長(300〜2500nm)の分光測光器を用い、各種単板ガラスの分光透過率、分光反射率を測定する。また、波長5.5〜50μmの分光測定器を用いて放射率を測定する。なお、フロート板ガラス、磨き板ガラス、型板ガラス、熱線吸収板ガラスの放射率は既定値を用いる。
(2)日射透過率、日射反射率、日射吸収率、及び修正放射率の算出は、JIS R3106:1998に従い、日射透過率、日射反射率、日射吸収率、垂直放射率を算出する。修正放射率に関しては、JIS R3107:1998に示されている係数を、垂直放射率に乗ずることにより求める。
The solar transmittance, solar reflectance, emissivity, and visible light transmittance are measured by the following methods (1) and (2).
(1) Using a spectrophotometer having a wavelength (300 to 2500 nm), the spectral transmittance and spectral reflectance of various single glass plates are measured. Further, the emissivity is measured using a spectrophotometer having a wavelength of 5.5 to 50 μm. In addition, a predetermined value is used for the emissivity of float plate glass, polished plate glass, mold plate glass, and heat ray absorbing plate glass.
(2) The solar transmittance, solar reflectance, solar absorption rate, and modified emissivity are calculated according to JIS R3106: 1998 by calculating the solar transmittance, solar reflectance, solar absorption rate, and vertical emissivity. The corrected emissivity is obtained by multiplying the coefficient shown in JIS R3107: 1998 by the vertical emissivity.

断熱性、日射熱遮へい性の算出は、以下の(1)から(3)の方法により求める。
(1)厚さの測定値、修正放射率を用いJIS R3209:1998に従って複層ガラスの熱抵抗を算出する。ただし、中空層が2mmを超える場合はJIS R3107:1998に従って中空層の気体熱コンダクタンスを求める。
(2)断熱性は、複層ガラスの熱抵抗に熱伝達抵抗を加えて熱貫流抵抗で求める。
(3)日射熱遮蔽性はJIS R3106:1998により日射熱取得率を求め、1から差し引いて算出する。
The heat insulation and solar heat shielding properties are calculated by the following methods (1) to (3).
(1) The thermal resistance of the multilayer glass is calculated according to JIS R3209: 1998 using the measured thickness value and the corrected emissivity. However, when the hollow layer exceeds 2 mm, the gas thermal conductance of the hollow layer is determined according to JIS R3107: 1998.
(2) The heat insulation is obtained by adding a heat transfer resistance to the heat resistance of the double-glazed glass and calculating the heat flow resistance.
(3) Solar heat shielding properties are calculated by obtaining the solar heat acquisition rate according to JIS R3106: 1998 and subtracting from 1.

以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated still in detail, this invention is not limited to these Examples at all.

<実施例1の赤外遮蔽フィルムの作製>
[塗布液の調製(調製工程)]
(低屈折率層用塗布液L1の調製)
コロイダルシリカ(スノーテックス(登録商標)OXS、日産化学工業株式会社製、固形分10質量%)12質量部に、ポリビニルアルコール(PVA−I03、重合度300、ケン化度98.5mol%、株式会社クラレ製)の5質量%を水溶液2質量部、及び、3質量%ホウ酸水溶液を10質量部添加した後、40℃に加熱し、撹拌しながら、ポリビニルアルコール(PVA−117、重合度1700、ケン化度98.5mol%、株式会社クラレ製)の5質量%水溶液を20質量部、及び、界面活性剤(ラピゾール(登録商標)A30、日油株式会社製)の1質量%水溶液を1質量部添加し、純水を55質量部加えて低屈折率層用塗布液L1を調製した。ただし、純水は、低屈折率層用塗布液L1が下記表1に記載の粘度になるように量を調整した。
<Preparation of the infrared shielding film of Example 1>
[Preparation of coating solution (preparation process)]
(Preparation of coating liquid L1 for low refractive index layer)
To 12 parts by mass of colloidal silica (Snowtex (registered trademark) OXS, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., solid content 10% by mass), polyvinyl alcohol (PVA-I03, polymerization degree 300, saponification degree 98.5 mol%, Co., Ltd.) 5 mass% of Kuraray Co., Ltd. was added 2 mass parts of an aqueous solution and 10 mass parts of a 3 mass% boric acid aqueous solution, and then heated to 40 ° C. with stirring, polyvinyl alcohol (PVA-117, polymerization degree 1700, 20 mass parts of 5 mass% aqueous solution of saponification degree 98.5 mol%, made by Kuraray Co., Ltd., and 1 mass of 1 mass% aqueous solution of surfactant (Lapisol (registered trademark) A30, manufactured by NOF Corporation) A low refractive index layer coating solution L1 was prepared by adding 55 parts by mass of pure water. However, the amount of pure water was adjusted so that the low refractive index layer coating liquid L1 had a viscosity described in Table 1 below.

(シリカ付着酸化チタンゾルの調製)
15.0質量%酸化チタンゾル(SRD−W、体積平均粒径5nm、ルチル型酸化チタン粒子、堺化学工業株式会社製)0.5質量部に純水を2質量部加えた後、90℃に加熱した。次に、ケイ酸水溶液(ケイ酸ソーダ4号(日本化学工業株式会社製)をSiO濃度が2.0質量%となるように純水で希釈したもの)1.3質量部を徐々に添加した。次に、オートクレーブ中、175℃で18時間加熱処理を行い、冷却後、限外濾過膜にて濃縮することにより、固形分濃度が、20質量%のSiOを表面に付着(被覆)させた酸化チタンゾル(以下、単に「シリカ付着酸化チタンゾル」とも称する)を得た。
(Preparation of silica-attached titanium oxide sol)
After adding 2 parts by mass of pure water to 0.5 parts by mass of 15.0% by mass titanium oxide sol (SRD-W, volume average particle size 5 nm, rutile titanium oxide particles, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.), Heated. Next, 1.3 parts by mass of an aqueous silicic acid solution (sodium silicate 4 (manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) diluted with pure water so that the SiO 2 concentration becomes 2.0% by mass) is gradually added. did. Next, heat treatment was carried out at 175 ° C. for 18 hours in an autoclave, and after cooling, it was concentrated with an ultrafiltration membrane, so that SiO 2 having a solid content concentration of 20% by mass was attached (coated) to the surface. A titanium oxide sol (hereinafter simply referred to as “silica-attached titanium oxide sol”) was obtained.

(高屈折率層用塗布液H1の調製)
上記で得られたシリカ付着酸化チタンゾル(固形分20.0質量%)30質量部に、ポリビニルアルコール(PVA−103、重合度300、ケン化度98.5mo1%、株式会社クラレ製)の5質量%水溶液を2質量部、3質量%ホウ酸水溶液を10質量部、2質量%クエン酸水溶液を10質量部、それぞれ添加した後、40℃に加熱し、撹枠しながら、ポリビニルアルコール(PVA−617、重合度1700、ケン化度95.0mol%、株式会社クラレ製)の5質量%水溶液を20質量部、界面活性剤(ラピゾールA30、日油株式会社製)の1質量%水溶液を1質量部添加し、純水を27質量部加えて高屈折率層用途布液H1を調製した。但し、純水は、高屈折率層用塗布液H1が下記表1に記載の粘度になるように量を調整した。
(Preparation of coating liquid H1 for high refractive index layer)
5 masses of polyvinyl alcohol (PVA-103, polymerization degree 300, saponification degree 98.5 mol 1%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) in 30 parts by mass of the silica-attached titanium oxide sol (solid content 20.0 mass%) obtained above. 2 parts by weight of 2% aqueous solution, 10 parts by weight of 3% by weight boric acid aqueous solution, 10 parts by weight of 2% by weight citric acid aqueous solution, respectively, and then heated to 40 ° C. 617, polymerization degree 1700, saponification degree 95.0 mol%, manufactured by Kuraray Co., Ltd. 5 mass% aqueous solution 20 parts by mass, surfactant (Rapidol A30, manufactured by NOF Corporation) 1 mass% aqueous solution 1 mass A high-refractive-index layer-use cloth liquid H1 was prepared by adding 27 parts by weight of pure water. However, the amount of pure water was adjusted so that the coating liquid H1 for the high refractive index layer had a viscosity described in Table 1 below.

[分散処理(循環工程)]
上述の方法で調製した高屈折率層用塗布液H1と低屈折率層用塗布液L1とに対し、循環工程における分散処理を行った。分散装置として、大平洋機工製マイルダー分散機MDN306を用いて、3000rpmの回転速度で分散処理を行なった。循環工程において分散装置に送液する塗布液の流量は、8L/minであった。
[Distributed processing (circulation process)]
The dispersion process in the circulation process was performed on the coating liquid H1 for the high refractive index layer and the coating liquid L1 for the low refractive index layer prepared by the above-described method. Dispersion treatment was performed at a rotational speed of 3000 rpm using a milder disperser MDN306 manufactured by Taiyo Kiko as a disperser. The flow rate of the coating liquid fed to the dispersing device in the circulation process was 8 L / min.

[赤外遮蔽フィルムの作製(同時重層塗布工程)]
40層重層塗布可能なスライドホッパー塗布装置を用い、低屈折率層用途布液L1と高屈折率層用塗布液H1とを40℃に保温しながら、厚み50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡株式会社製、コスモシャイン(登録商標)A4300、両面易接着層)上に、それぞれ交互に、計38層の同時重層塗布を行なった。
このとき、基材フィルム側から第1層(最下層)と第2層とを低屈折率層、第3層以降は高屈折率層と低屈折率層とを交互に、そして、最上層が低屈折率層となるように、送液タンクを加圧して塗布液をスライドホッパー塗布装置に送液した。送液タンクとスライドホッパー塗布装置との間に設けた流量計(FD−SS2A、株式会社キーエンス製)により、流量を確認したところ、第1層〜最上層への送液流路では流量変動はほとんどない(平均流量に対して±1%未満)ことを確認した。このようにして、低屈折率層及び高屈折率層の合計が最大40層の赤外遮蔽フィルムを作製した。
[Production of infrared shielding film (simultaneous multilayer coating process)]
Using a slide hopper coating device capable of coating 40 layers, a polyethylene terephthalate film (made by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 50 μm while keeping the low refractive index layer-use cloth liquid L1 and the high refractive index layer coating liquid H1 at 40 ° C. , Cosmo Shine (registered trademark) A4300, double-sided easy-adhesive layer) were alternately applied in total 38 layers simultaneously.
At this time, from the base film side, the first layer (lowermost layer) and the second layer are the low refractive index layers, the third and subsequent layers are alternately the high refractive index layers and the low refractive index layers, and the uppermost layer is The liquid feeding tank was pressurized so as to be a low refractive index layer, and the coating liquid was fed to the slide hopper coating apparatus. When the flow rate was confirmed by a flow meter (FD-SS2A, manufactured by Keyence Corporation) provided between the liquid feeding tank and the slide hopper coating device, the flow rate fluctuation was not observed in the liquid feeding channel from the first layer to the top layer. It was confirmed that there was almost no (less than ± 1% with respect to the average flow rate). In this way, an infrared shielding film having a total of 40 layers at the maximum of the low refractive index layer and the high refractive index layer was produced.

[シミュレーション]
シミュレーションは、Altair社製有限要素法ソフト「HyperWorks」を使用し、Dell社製コンピューター「OPTIPLEX 9020」により行った。
各実施例及び比較例における、同時重層の塗布層数、シミュレーション結果、ならびに隣接する層の粘度差を、下記表1に示す。なお、塗布液の粘度は、落下式粘度計により測定した。
[simulation]
The simulation was performed by a computer “OPTIPLEX 9020” manufactured by Dell using finite element method software “HyperWorks” manufactured by Altair.
Table 1 below shows the number of simultaneous multi-layer coating layers, simulation results, and viscosity differences between adjacent layers in each Example and Comparative Example. The viscosity of the coating solution was measured with a drop viscometer.

<実施例2〜5の赤外遮蔽フィルムの作製>
実施例2〜5の赤外遮蔽フィルムは、塗布層数、及び、各条件を下記表1に記載の条件とした以外は、実施例1と同様に作製した。
<Preparation of the infrared shielding film of Examples 2-5>
The infrared shielding films of Examples 2 to 5 were produced in the same manner as in Example 1 except that the number of coating layers and the conditions described in Table 1 below were used.

<比較例1〜2の赤外遮蔽フィルムの作製>
比較例1〜2の赤外遮蔽フィルムは、塗布層数、及び、各条件を下記表2に記載の条件とした以外は、実施例1と同様に作製した。
<Production of infrared shielding films of Comparative Examples 1 and 2>
The infrared shielding films of Comparative Examples 1 and 2 were produced in the same manner as in Example 1 except that the number of coating layers and the conditions described in Table 2 below were used.

Figure 0006589447
Figure 0006589447

Figure 0006589447
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[赤外遮蔽フィルムの評価]
実施例1〜5及び比較例1〜2で作製した赤外遮蔽フィルムについて、目視による木目状ムラ及び幅方向色ムラの下記の性能評価を行った。幅方向色ムラについては、赤外遮蔽フィルムを黒紙の上に敷き、反射光で目視評価した。評価結果を下記表3及び表4に示す。
[Evaluation of infrared shielding film]
About the infrared shielding film produced in Examples 1-5 and Comparative Examples 1-2, the following performance evaluation of the grain-like nonuniformity by visual observation and the width direction color nonuniformity was performed. For the color unevenness in the width direction, an infrared shielding film was laid on a black paper and visually evaluated with reflected light. The evaluation results are shown in Tables 3 and 4 below.

(木目状ムラ及び幅方向色ムラの目視評価)
○○:全く発生無
○:僅かに発生
△:弱く発生
×:強く発生
(Visual evaluation of grain-like unevenness and width direction color unevenness)
○ ○: No occurrence ○: Slight occurrence Δ: Weak occurrence ×: Strong occurrence

なお、赤外遮蔽フィルムは、木目状ムラ及び幅方向色ムラの目視評価結果において、いずれも強く発生(「×」)しないことが必要である。木目状ムラ及び幅方向色ムラは弱く発生(「△」)してもよいが、全てが僅かに発生(「○」)以上であることが好ましく、全く発生無(「○○」)が、特に好ましい。   In addition, it is necessary for the infrared shielding film not to generate | occur | produce strongly ("x") in the visual evaluation result of the grain-like unevenness and the width direction color unevenness. Woody unevenness and widthwise color unevenness may occur weakly ("△"), but it is preferable that all are slightly generated ("○") or more, and no occurrence ("OO"), Particularly preferred.

Figure 0006589447
Figure 0006589447

Figure 0006589447
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表3及び表4の結果から明らかなように、塗布液のスライド面流下時の高粘度液側の剪断速度(d)、各ブロック上の流下時間(t)、隣接する2層の上層膜厚(D1)、及び、下層膜厚(D2)から計算される、積算値Σ(d×t)、及び、積算値Σ(d×(D1/D2)×t)の最大値が所定の範囲内である実施例は、比較例に比べて、木目状ムラ及び幅方向の色ムラが改善された。また、積算値Σ(d×t)の最大値が30以下、且つ、積算値Σ(d×(D1/D2)×t)の最大値が25以下の実施例2、3は、木目状ムラ及び幅方向色ムラの改善について、特に優れた結果が得られた。従って、積算値Σ(d×t)の最大値、及び、積算値Σ(d×(D1/D2)×t)の最大値が小さい方が、木目状ムラ及び幅方向の色ムラを効果的に抑制できることが予測できる。   As is apparent from the results of Tables 3 and 4, the shear rate (d) on the high-viscosity liquid side when the coating liquid flows on the slide surface, the flow time (t) on each block, and the upper layer thickness of two adjacent layers The maximum value of the integrated value Σ (d × t) and the integrated value Σ (d × (D1 / D2) × t) calculated from (D1) and the lower layer thickness (D2) is within a predetermined range. In the example, the grain-like unevenness and the color unevenness in the width direction were improved as compared with the comparative example. In Examples 2 and 3, the maximum value of the integrated value Σ (d × t) is 30 or less and the maximum value of the integrated value Σ (d × (D1 / D2) × t) is 25 or less. In particular, excellent results were obtained with respect to the improvement of color unevenness in the width direction. Accordingly, the smaller the maximum value of the integrated value Σ (d × t) and the maximum value of the integrated value Σ (d × (D1 / D2) × t), the more effective the grain-like unevenness and the color unevenness in the width direction. It can be predicted that it can be suppressed.

なお、本発明は上述の実施形態例において説明した構成に限定されるものではなく、その他本発明構成を逸脱しない範囲において種々の変形、変更が可能である。   The present invention is not limited to the configuration described in the above-described embodiment, and various modifications and changes can be made without departing from the configuration of the present invention.

1 基材フィルム、2 バックロール、3 コーターダイス、4 塗布液、5 減圧チャンバー、6 接液部、7,8,9 角度、10 減圧部、11,11A,11B,11C,11D,11E ブロック、12B,12C,12D,12E スライド面、dt11,dt12,dt13,dt21,dt22,dt31,dt32 界面、S1,S2,S3,S4 塗布液層、u11,u12,u13,u21,u22,u31 界面流下速度 1 base film, 2 back roll, 3 coater die, 4 coating solution, 5 vacuum chamber, 6 wetted part, 7, 8, 9 angle, 10 vacuum unit, 11, 11A, 11B, 11C, 11D, 11E block, 12B, 12C, 12D, 12E Slide surface, dt 11 , dt 12 , dt 13 , dt 21 , dt 22 , dt 31 , dt 32 interface, S1, S2, S3, S4 coating liquid layer, u 11 , u 12 , u 13 , u 21 , u 22 , u 31 interface flow velocity

Claims (4)

連続的に走行する基材フィルム上に、高屈折率層用塗布液及び低屈折率層用塗布液を、スライドホッパー塗布装置を用いて10層以上40層以下の層を同時重層塗布する工程を含む光学反射フィルムの製造方法であって、
各ブロック上の各界面におけるスライド面上の流下液膜のスライド面と平行な速度成分の高粘度液側の剪断速度dとし、
界面の各ブロック流下時間をtとした場合、
各界面における(d×t)という数値の界面が形成されてから、塗布されるまでの積算値の最大値が、Σ(d×t)≦50という条件で同時重層塗布を行なう
光学反射フィルムの製造方法。
A step of simultaneously applying 10 to 40 layers of a coating solution for a high refractive index layer and a coating solution for a low refractive index layer on a continuously running base film using a slide hopper coating device. A method for producing an optical reflective film comprising:
The shear rate d on the high-viscosity liquid side of the velocity component parallel to the slide surface of the falling liquid film on the slide surface at each interface on each block,
When the flow time of each block at the interface is t,
The maximum value of the integrated value from the formation of the interface of (d × t) at each interface to the application is the simultaneous multilayer coating under the condition of Σ (d × t) ≦ 50. Production method.
各界面における上層側の流下膜厚D1とし、下層側の流下膜厚D2とした場合、各界面における(d×(D1/D2)×t)という数値の界面が形成されてから塗布されるまでの積算値の最大値が、Σ(d×(D1/D2)×t)≦30という条件で同時重層塗布を行なう請求項1に記載の光学反射フィルムの製造方法。   When the falling film thickness D1 on the upper layer side at each interface and the falling film thickness D2 on the lower layer side are set, the interface between the numerical values of (d × (D1 / D2) × t) at each interface is formed and then applied. The method for producing an optical reflective film according to claim 1, wherein the simultaneous multilayer coating is performed under the condition that Σ (d × (D1 / D2) × t) ≦ 30 is the maximum integrated value. 各界面において隣接する塗布液の粘度差が、100cp以上である請求項1又は2に記載の光学反射フィルムの製造方法。   The method for producing an optical reflective film according to claim 1 or 2, wherein a difference in viscosity between coating liquids adjacent to each interface is 100 cp or more. 前記高屈折率層用塗布液、及び、前記低屈折率層用塗布液は、少なくとも1種以上の金属酸化物を含む請求項1から3のいずれかに記載の光学反射フィルムの製造方法。The method for producing an optical reflective film according to any one of claims 1 to 3, wherein the coating liquid for high refractive index layer and the coating liquid for low refractive index layer contain at least one kind of metal oxide.
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