JP6584778B2 - レーザ媒質ユニット及びレーザ増幅装置 - Google Patents

レーザ媒質ユニット及びレーザ増幅装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6584778B2
JP6584778B2 JP2015008808A JP2015008808A JP6584778B2 JP 6584778 B2 JP6584778 B2 JP 6584778B2 JP 2015008808 A JP2015008808 A JP 2015008808A JP 2015008808 A JP2015008808 A JP 2015008808A JP 6584778 B2 JP6584778 B2 JP 6584778B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
laser medium
medium
medium unit
media
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2015008808A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2016134528A (ja
Inventor
尊史 関根
尊史 関根
義則 加藤
義則 加藤
善紀 玉置
善紀 玉置
隆史 栗田
隆史 栗田
利幸 川嶋
利幸 川嶋
宇亮 森田
宇亮 森田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hamamatsu Photonics KK
Original Assignee
Hamamatsu Photonics KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hamamatsu Photonics KK filed Critical Hamamatsu Photonics KK
Priority to JP2015008808A priority Critical patent/JP6584778B2/ja
Priority to DE112016000395.1T priority patent/DE112016000395T5/de
Priority to GB1711358.0A priority patent/GB2551654B/en
Priority to PCT/JP2016/050809 priority patent/WO2016117426A1/ja
Priority to US15/544,613 priority patent/US10374377B2/en
Publication of JP2016134528A publication Critical patent/JP2016134528A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6584778B2 publication Critical patent/JP6584778B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06Construction or shape of active medium
    • H01S3/0602Crystal lasers or glass lasers
    • H01S3/0604Crystal lasers or glass lasers in the form of a plate or disc
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/04Arrangements for thermal management
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/04Arrangements for thermal management
    • H01S3/042Arrangements for thermal management for solid state lasers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/005Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/025Constructional details of solid state lasers, e.g. housings or mountings
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/04Arrangements for thermal management
    • H01S3/0405Conductive cooling, e.g. by heat sinks or thermo-electric elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/04Arrangements for thermal management
    • H01S3/0407Liquid cooling, e.g. by water
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06Construction or shape of active medium
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06Construction or shape of active medium
    • H01S3/0602Crystal lasers or glass lasers
    • H01S3/0606Crystal lasers or glass lasers with polygonal cross-section, e.g. slab, prism
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06Construction or shape of active medium
    • H01S3/0602Crystal lasers or glass lasers
    • H01S3/0608Laser crystal with a hole, e.g. a hole or bore for housing a flashlamp or a mirror
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06Construction or shape of active medium
    • H01S3/0619Coatings, e.g. AR, HR, passivation layer
    • H01S3/0621Coatings on the end-faces, e.g. input/output surfaces of the laser light
    • H01S3/0623Antireflective [AR]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06Construction or shape of active medium
    • H01S3/07Construction or shape of active medium consisting of a plurality of parts, e.g. segments
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08072Thermal lensing or thermally induced birefringence; Compensation thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/091Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
    • H01S3/0915Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by incoherent light
    • H01S3/092Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by incoherent light of flash lamp
    • H01S3/093Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by incoherent light of flash lamp focusing or directing the excitation energy into the active medium
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/091Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
    • H01S3/094Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
    • H01S3/0941Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/16Solid materials
    • H01S3/1601Solid materials characterised by an active (lasing) ion
    • H01S3/1603Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth
    • H01S3/1611Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth neodymium
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/16Solid materials
    • H01S3/163Solid materials characterised by a crystal matrix
    • H01S3/164Solid materials characterised by a crystal matrix garnet
    • H01S3/1643YAG
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/091Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Lasers (AREA)

Description

本発明は、レーザ媒質、レーザ媒質ユニット及びレーザ光増幅装置に関する。
近年、大型レーザを用いた新しい産業開発に向け、基礎科学や材料開発、医療応用などの研究開発が盛んに行われている。大出力のレーザ光を得るためには、入力した種光を増幅するレーザ光増幅装置が必要となる。レーザ光増幅装置は、レーザ媒質ユニットと、レーザ媒質ユニット内に励起光を入射させる励起光源とを備えており、レーザ媒質ユニット内のレーザ媒質の主表面に接触するように冷却媒体を流すことで、これを冷却している(特許文献1参照)。
特開2009−49439号公報
しかしながら、レーザ媒質は冷却の必要があるものの、主表面上を流れる冷却媒体内を増幅されたレーザ光が透過するため、冷却媒体の流速等に起因して、レーザ光の安定性や集束特性などの品質が劣化する。
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、レーザ光を高品質に増幅可能なレーザ光増幅装置に用いることが可能レーザ媒質ユニット及びレーザ光増幅装置を提供することを目的とする。
上述の課題を解決するため、第1のレーザ媒質ユニットは、外周面から内部に励起光を入射させるレーザ媒質であって、冷却媒体を流通させるための貫通孔を有する板状のレーザ媒質を、複数備えるレーザ媒質ユニットであって、前記レーザ媒質の厚みは1mm以上20mm以下であり、複数の前記レーザ媒質は、その厚み方向に沿って積層され、隣接する前記レーザ媒質間には環状のシール材が介在しており、前記シール材には前記積層の方向に沿って圧力が加えられる、ことを特徴とする。
板状のレーザ媒質に貫通孔を設けることで、設定する貫通孔の大きさに応じて、冷却媒体の流速を調整することができる。冷却媒体の流速調整により、レーザ光の安定性や集束特性の劣化を抑制することができる。
特に、第2のレーザ媒質ユニットでは、前記貫通孔の数は、2以上である前記レーザ媒質を複数備えることを特徴とする。2以上の貫通孔を有することで、冷却媒体の流れる方向や流速をより精密に調整することができる。
第3のレーザ媒質ユニットにおいては、前記貫通孔の開口形状は、前記レーザ媒質の外周に沿った弧状である前記レーザ媒質を複数備えることを特徴とする。この場合、冷却媒体の流速や方向の安定性等の観点からは、一方向に低速で多くの冷却媒体を安定的に流すことができるという効果がある。
第4のレーザ媒質ユニットにおいては、前記貫通孔は、前記レーザ媒質の厚み方向に対して、斜めに延びている前記レーザ媒質を複数備えることを特徴とする。この場合、冷却媒体の流速や方向の安定性等の観点からは、流したい方向に指向性を持たせて冷却媒体を安定に流すことができるという効果がある。
第5のレーザ媒質ユニットにおいては、前記貫通孔は、先細り形状を有している前記レーザ媒質を複数備えることを特徴とする。冷却媒体の進行方向に対して、貫通孔が先細りしている場合、冷却媒体の流速や方向の安定性等の観点からは、積極的に乱流を起こすことで冷却性能を向上できるという効果がある。
第6のレーザ媒質ユニットにおいては、前記貫通孔は、前記レーザ媒質の外周に沿って、環状に並んでいる前記レーザ媒質を複数備えることを特徴とする。この場合、冷却媒体の流速や方向の安定性等の観点からは、均一の方向に低速で多量に冷却媒体を安定的に流すことができるという効果がある。
上述のいずれかの前記レーザ媒質を複数備えるレーザ媒質ユニットにおいては、前記レーザ媒質の厚みは1mm以上20mm以下であり、複数の前記レーザ媒質は、その厚み方向に沿って積層され、隣接する前記レーザ媒質間にはシール材が介在しており、前記シール材には前記積層の方向に沿って圧力が加えられている
レーザ媒質間にはシール材が介在しているので、冷却媒体は、レーザ媒質の貫通孔内を通って流れる。複数のレーザ媒質を積層することで、大型のレーザロッドのように機能させることができるが、冷却媒体の流速は貫通孔により、制御できるため、レーザ光の特性劣化を抑制することができる。
また、本発明に係るレーザ媒質ユニットは、XYZ三次元直交座標系を設定し、複数の前記レーザ媒質の積層方向をY軸とした場合、隣接する前記レーザ媒質の前記貫通孔のXZ平面内における位置は、異なっているものが存在することを特徴とする。
貫通孔の位置、すなわち、隣接するレーザ媒質間の空間への冷却媒体の導入口と出力口位置が異なるため、これらの間を流れる冷却媒体の流路を制御することができる。
また、冷却媒体の流速や方向の安定性等の観点からは、隣接する上記空間を流れる冷却媒体の進行方向が、逆向きになるように、貫通孔の位置を設定し、冷却媒体の流れによるレーザ光の歪みを相殺することができる。例えば、XZ平面内において、Z軸の正方向の角度を0度とした場合、第1番目のレーザ媒質の貫通孔の位置が0度であり、第2番目のレーザ媒質の貫通孔の位置が180度である場合には、第3番目のレーザ媒質の貫通孔の位置を0度とすることができる。
また、上述のレーザ媒質ユニットを用いたレーザ光増幅装置は、このレーザ媒質ユニットと、前記レーザ媒質ユニット内に励起光を入射させる励起光源と前記レーザ媒質の前記貫通孔内に冷却媒体を供給する手段と、前記レーザ媒質ユニットの周囲に配置された冷却媒体流路とを備えることを特徴とする。前記レーザ媒質はYb添加YAGからなり、Ybの添加濃度は0.1原子%〜10原子%に設定されることが好ましい。
この装置によれば、レーザ媒質に励起光を入射させることで、レーザ媒質が励起し、これに種光としてのレーザ光を入射させると、増幅されたレーザ光がレーザ媒質から出力される。また、複数のレーザ媒質がある場合、増倍率も高くなる。
ここで、冷却媒体によるレーザ光の歪みを最小化するためには、貫通孔から出力され、冷却媒体間空間を流れる冷却媒体の流速は小さい方が好ましいが、冷却性能は低下する。したがって、レーザ媒質ユニットの周囲にも、冷却媒体流路を設けることで、貫通孔のみによる冷却性能の低下を抑制しつつ、十分にレーザ媒質を冷却して、レーザ媒質自体の特性を安定化させることで、レーザ光の安定性や集束特性などの品質の劣化を更に抑制し、高品質なレーザ光を出力することができる。
本発明のレーザ媒質及びレーザ媒質ユニットによれば、レーザ光の安定性や集束特性の劣化を抑制することができ、レーザ光増幅装置によれば、レーザ光の安定性や集束特性の劣化を抑制し、レーザ光を高品質に増幅することができる。
レーザ媒質ユニットの正面図である。 レーザ媒質ユニットのA−A矢印断面図である。 レーザ媒質ユニットのB−B矢印断面図である。 レーザ光増幅装置の正面図である。 レーザ光増幅装置のC−C矢印断面図である。 シール材(Oリング)の近傍に補助要素を設けた場合のレーザ媒質ユニットのA−A矢印断面図である。 レーザ媒質の正面図(A)及びD―D矢印断面図(B)である。 レーザ媒質の正面図(A)及びD―D矢印断面図(B)である。 レーザ媒質の正面図(A)及びD―D矢印断面図(B)である。 レーザ媒質の正面図(A)及びD―D矢印断面図(B)である。 レーザ媒質の正面図(A)及びD―D矢印断面図(B)である。 レーザ媒質の正面図(A)及びD―D矢印断面図(B)である。 レーザ媒質の正面図(A)及びD―D矢印断面図(B)である。
以下、実施の形態に係るレーザ媒質、レーザ媒質ユニット及びレーザ光増幅装置について説明する。なお、同一要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。
図1は、レーザ媒質ユニットの正面図である。なお、同図では、XYZ三次元直交座標系も示している。増幅される種光となるレーザ光の進行方向はY軸方向であり、Y軸に垂直な2方向をX軸方向及びZ軸方向とする。
実施形態に係るレーザ光増幅装置は、種光が入射するレーザ媒質ユニット10を備えている。レーザ媒質ユニット10は、複数枚の平板状のレーザ媒質を含む柱状のユニットである。これらのレーザ媒質プレートは、種光の進行方向(Y軸の正方向)に沿って積層され、整列している。レーザ媒質ユニット10の外側からは、レーザ媒質内に励起光EXが照射される。複数の励起光EXは、複数の光源から、各レーザ媒質の中央部に向かって照射される。励起光EXの照射により、レーザ媒質の外周面から内部に励起光が入射し、レーザ媒質は励起され、励起された状態のレーザ媒質に種光が照射されると、レーザ光が増幅される。例えば、Yb(イッテルビウム)添加YAGからなるレーザ媒質を用いた場合、種光およびレーザ媒質からの自然放出光の波長λ1は1030nm、励起光の波長λ2は940nmである(λ1>λ2)。レーザ媒質内のYbの添加濃度は、好適には、0.1原子%〜10原子%に設定することができる。
図2は、図1に示したレーザ媒質ユニットのA−A矢印断面図、図3は、レーザ媒質ユニットのB−B矢印断面図である。
レーザ媒質ユニット10は、対向配置された一対の金属製のフランジ11と、フランジ11間を接続し、フランジ11間の距離を調整可能な複数の支柱12とを備えている。図1では4本の支柱12を示しているが、支柱12の数は3本以上であれば、フランジ11の主表面(XZ面)の位置を容易に固定することができる。すなわち、平面は3点により決定されるため、フランジ11間には3本以上の支柱が介在することで、フランジ11の主表面位置は、支柱位置によって一意的に決定される。
支柱12の両端にはネジ部が設けられている。フランジ11は、開口OPを有する円環を構成しており、一方のフランジ11には、支柱12のネジ部が貫通する開口(貫通孔)が設けられており、対向する他方のフランジ11には支柱12のネジ部を固定するためのネジ穴が設けられており、支柱12のネジ部がフランジ11のネジ穴に螺合している。一方のフランジ11を貫通した支柱12のネジ部に螺合したナット13を具備し、ナット13を回転させると、ナット13が一方のフランジ11をY軸方向に押して、一対のフランジ11間の距離が短くなる。
一対のフランジ11間には、複数のレーザ媒質プレートが積層配置されている。すなわち、円板状で平板状のレーザ媒質14は、Y軸方向に沿って複数枚配置されている。隣接するレーザ媒質14間にはシール材15が介在している。Y軸方向の両端位置には、レーザ媒質14の代わりに石英ガラス等からなる窓材16が配置されており、レーザ媒質14と窓材16との間にもシール材15が介在している。シール材15の形状は円環であり、その材料は、レーザ媒質14間の空間への、貫通孔14a以外からの媒体の流入を阻止できる気密性を保持できるものであれば、特に限定されるものではないが、シリコーン製のOリングなどを採用することができる。シール材15として、樹脂、ゴム、ガラス、セラミックス、又は、CuやAlなどの金属なども用いることができ、レーザ媒質14とシール材15とを交互に積み重ねて、Y軸方向に圧力をかけて、レーザ媒質14の表面上にシール材15を圧着してもよい。半田や接着剤で接着しても良い。
なお、図7を参照すると、円板状で平板状のレーザ媒質14は、厚み方向(Y軸方向)に沿って延びた貫通孔14aを備えている。図2においては、1つのレーザ媒質14は、1つの貫通孔14aを有している。XZ平面内において、Z軸の正方向の角度(位置)を0度とした場合、第1番目のレーザ媒質14(図面の左端のレーザ媒体)の貫通孔14aの位置(重心位置)は、0度の位置にある。第2番目のレーザ媒質14(左から2番目のレーザ媒質)の貫通孔14aの位置(重心位置)は、180度の位置にあり、第3番目のレーザ媒質14(左から3番目のレーザ媒質)の貫通孔14aの位置(重心位置)は、0度の位置にある。一般式で説明すると、冷却媒体が最初に流入するレーザ媒質の順番を1番目とし、冷却媒体の流れる順番に沿って、n番目のレーザ媒質における貫通孔の角度は、n×180度である。すなわち、隣接する一対のレーザ媒質14の貫通孔14aの位置は、Y軸方向から見た場合、レーザ媒質14の中心を通るY軸に対して、対称な位置にある。
また、円板状で平板状の窓材16も、厚み方向(Y軸方向)に沿って延びた貫通孔16aを備えている。図2では、窓材16の貫通孔16aの位置は、Y軸方向から見た場合、この窓材16に隣接するレーザ媒質の14の中心を通るY軸に対して、対称な位置にある。
このように、冷却媒体の流速や方向の安定性等の観点からは、隣接する上記空間を流れる冷却媒体の進行方向が、逆向きになるように、貫通孔14a及び貫通孔16aの位置が設定されている。この場合、冷却媒体の流れによるレーザ光の歪みを相殺することができる。
なお、隣接する貫通孔の位置は、Y軸方向からみて、同じ位置にある場合も、冷却効果はある。
レーザ媒質14の材料は、例えば全てセラミックレーザ媒質である。レーザ媒質としては、熱伝導率の低いガラスレーザ媒質を用いることも可能であるが、高いパルスエネルギーのレーザ光を高い繰り返し周波数で出力するには、冷却性能の観点から、レーザ媒質の熱伝導率が高い方が好ましい。セラミックレーザ媒質は、単結晶と同等の性質を有し、ガラスなどよりも熱伝導率が高いことで知られており、高いパルスエネルギーのレーザ光を高い繰り返し周波数で出力することができる。ガラスレーザ媒質を用いることで、低い繰り返し周波数だが、セラミックレーザ媒質よりも高いパルスエネルギーを得ることができる。
セラミックレーザ媒質は、例えば、ドーパントとして希土類金属、特に、Nd、Yb、Er、Ce、Cr、Cr:Nd及びTmから選択される少なくとも1以上のドーパントを含有するYAGを用いることができる。また、セラミックレーザ媒質としては、ドーパンドとして、上記希土類金属を含むイットリア(Y)を用いることができる。また、YAG(YAl12)、LuやScなども用いることもできる。
なお、このような透明セラミック結晶は、現在の製法によって得られるレーザ媒質の厚みの上限値は10mm程度であるが、10mm以上のセラミックレーザ媒質を用いることも可能である。また、セラミックレーザ媒質が、1mm以上20mm以下の厚みの場合には、本発明の構造は剛性と冷却性能及びレーザ光の品質に特に優れた効果を発揮する。そして、本装置によれば、複数のレーザ媒質を用いているため、最終的に出力されるレーザ光の増幅率は高くすることができる。
図1〜図3に示すように、レーザ媒質ユニット10のY軸に垂直な径方向に沿って、複数の方向から励起光EXがレーザ媒質14に照射される。励起光EXにより、各レーザ媒質14は励起されている。種光としてのレーザ光LBは、Y軸に沿って、一方の窓材16を介して、レーザ媒質の主表面(XZ面)に垂直にレーザ媒質群内に入射し、これらのレーザ媒質14を透過し、増幅されて、他方の窓材16から出力される。
なお、隣接するレーザ媒質14を、平板状の第1のレーザ媒質及び平板状の第2のレーザ媒質とすると、これらのレーザ媒質14の整列方向は、支柱12の長手方向(Y軸)に一致しており、フランジ11間の距離を調整することで、シール材15にかかる圧力が調整可能である。第1のレーザ媒質と第2のレーザ媒質との間には、貫通孔を除く気密性を保持するためのシール材15が介在しているが、これらのレーザ媒質によるシール材15への圧力が適当である場合には、貫通孔を除く気密性は十分に保持される。フランジ11間の長さは調整することができるため、レーザ媒質間のシール材15に印加される圧力を所望の値に設定することができ、レーザ媒質間の空間における貫通孔を除く気密性を十分に保持することができる。
すなわち、隣接するレーザ媒質14(第1及び第2のレーザ媒質とする)間にはシール材15が配置され、第1のレーザ媒質と第2のレーザ媒質とは、これらの厚み方向に沿って整列して配置されており、第1のレーザ媒質と第2のレーザ媒質との間の空間は、貫通孔を除いて、気密性のある空間であり、冷却媒体が流通する。冷却媒体としては、気体(不活性ガス(空気、N、CO)、希ガス(Ar,He))や液体(重水又はフッ素系不活性液体等)を用いることができる。フッ素系不活性液体としては、スリーエムジャパン社製のフロリナートTM(フッ素系不活性液体)などを用いることができるが、充填する液体としては、フッ素系不活性液体の他、水、屈折率整合液、オイルなども用いることができる。
この装置によれば、レーザ媒質14に励起光EXを入射させることで、レーザ媒質14が励起し、これに種光としてのレーザ光LBを入射させると、増幅されたレーザ光LBがレーザ媒質14を通って、窓材16から出力される。複数のレーザ媒質14があるので、増倍率も高くなる。
ここで、冷却媒体流路F1は、レーザ媒質ユニット10の周囲に設けられており、外側からレーザ媒質ユニットを冷却する。そして、第1のレーザ媒質と第2のレーザ媒質と間の空間は、貫通孔を除いて、気密性のある空間であり、上述の隣接する貫通孔間を、冷却媒体が流れる。貫通孔の大きさや方向により、冷却媒体が流速や方向を調整することができる。したがって、かかる空間内を通過するレーザ光LBは、レーザ媒質14の主表面を流れる冷却媒体によって影響を受けるが、その影響を小さくするように、貫通孔の大きさを小さくするなどの調整をすることができる。したがって、増幅されたレーザ光LBの揺らぎ等が抑制され、レーザ光の安定性や集束特性などの品質が向上する。
また、図1及び図3に示すように、フランジ11には、これをY軸方向に貫通する孔11bが設けられている。孔11bの外側には図示しないチューブが連通しており、孔11bからは、レーザ媒質ユニット10の外表面上に接触する冷却媒体が供給され、また、排出される。一方のフランジ11の孔11bから導入された冷却媒体は、レーザ媒質14のY軸回りの周囲の面に接触しながら、図3に示す点線矢印F1のように、Y軸方向に沿って流れ、他方のフランジ11の孔11bから排出される。
なお、冷却媒体流路F1は、レーザ媒質ユニット10と、これを囲む筒体との間に形成される。このような筒体は、レーザ媒質ユニット10からみて励起光源の外側に設けることとしてもよく(図5の筒体24)、更に加えて、レーザ媒質ユニット10と励起光源との間に設けることとしてもよい(図5の透明筒体30)。冷却媒体流路F1を画成するための筒体を、レーザ媒質ユニット10と励起光源との間に配置する場合には(図5の透明筒体30)、透明筒体30は励起光を透過する透明材料、例えば、石英ガラスからなる。
また、図2の左側の窓材16の貫通孔16aには、別途、冷却媒体を供給するチューブが連通するように設けられ、右側の窓材16の貫通孔16aには、別途、冷却媒体を排出するチューブが連通するように設けられるが、図面上はチューブの記載を省略している。また、図1及び図4においては、貫通孔16aの記載も省略している。なお、冷却媒体は、窓材16以外の経路からも導入可能である。例えば、図2において、窓材16と、これに隣接するレーザ媒質14との間に介在するシール材15に貫通孔を設けることもできる。これにより、冷却媒体流路F1を流れる冷却媒体の一部分が、左側の窓材16とレーザ媒質14との間の空間内に流れ込み、右側においては空間内から冷却媒体流路F1へと排出される。
図4はレーザ光増幅装置の正面図、図5はレーザ光増幅装置のC−C矢印断面図である。
レーザ光増幅装置は、前述のレーザ媒質ユニット10と、レーザ媒質ユニット10内に励起光を入射させる複数の励起光源21と、レーザ媒質ユニット10の周囲に配置された冷却媒体流路F1(図5参照)とを備えている。
レーザ光増幅装置は、半導体レーザ素子などの種光源からレーザ媒質ユニット10内に入力されたレーザ光LBを増幅して出力する。レーザ媒質ユニット10の周囲には、必要に応じて、上述の透明筒体30が配置され、冷却媒体流路を構成する。励起光源21からは上述の励起光が出力される。励起光源21の数は、図中では12個を示すが、その数は12個以上であっても、12個以下であってもよい。
励起光源21は、レーザ媒質ユニット10の外側に設けられた一対の概略円環状で金属製の支持部材22に固定されている。なお、励起光源21の電極部と支持部材22とは絶縁されている。支持部材22は、フランジ状のリップ部を有しており、リップ部上には円環状の絶縁体23が固定されている。絶縁体23上には、複数の端子25が固定されており、端子25から配線Wを介して、励起光源21に電力が供給される。複数の励起光源21は、直列接続されていてもよいし、並列接続されていてもよい。支持部材22は、Y軸方向にこれを貫通する孔22bを有している。一方の支持部材22の孔22bには、図示しないチューブが連通して、第2の冷却媒体流路F2内に冷却媒体が導入され、他方の支持部材22の孔22bにも図示しないチューブが連通して、冷却媒体が排出される。励起光源21と筺体24の間には、励起光源21からの励起光が効率良くレーザ媒質ユニットに伝達されるように、反射材(リフレクタ)RFがあっても良い。
円形の開口を有する支持部材22の内側の円筒面は、レーザ媒質ユニット10のフランジ11の外周面に固定されている。一対の支持部材22は、筒体24によって接続されており、筒体24の内面と、励起光源21との間に、第2の冷却媒体流路F2が形成されている。なお、円形の開口を有する支持部材22の底面は、支持台26上に固定されている。
なお、図2に示したシール材15の構造は、上述のものに限定されない。
図6は、シール材(Oリング)の近傍に補助要素を設けた場合のレーザ媒質ユニットのA−A矢印断面図である。シール材15の径方向に両端には、補助要素15aが配置されており、シール材15によるシールを補助している。補助要素15aとしては、樹脂などの接着材料の他、シリコーン製のOリングよりも剛性が高いスペーサを用いることができる。このようなスペーサは、Y軸の周囲に同心円状に配置された2つの円環状スペーサを採用することができ、円環状スペーサの間に、シール材15としてのOリングを配置することができる。スペーサ材料としては、CuやAlなどの金属の他、ガラス材、セラミックを用いることも可能である。
上述のレーザ媒質ユニットを試作した。
この装置においては、Nd;YAGからなる各レーザ媒質の直径が100mm、厚みが10mm、枚数が10枚であり、レーザ媒質間の空間内は、重水が流れる。種光として波長1064nmのレーザ光を用い、励起光源としては、12本のフラッシュランプを用いた。この場合の場合、セラミックレーザ媒質が積層されることで、大型のレーザロッドのように機能し、一体構造であるため、大型のレーザロッドのように機能させることができるが、冷却媒体の流速は貫通孔により、制御できるため、レーザ光の特性劣化を抑制することができる。支柱12の直径は2mmである。また、全体の寸法も、30cm程度となり、非常に小型であるにも拘らず、50ジュール以上のレーザ出力を得ることができる。
なお、上述の窓材の主表面(XZ面)の光入射面には、種光に対する反射防止膜が設けられていてもよい。これにより、種光が前段の窓材に容易に入射し、後段の窓材から容易に出射することができる。これらの主面には反射防止膜以外の反射防止処理を行ってもよい。同様に、レーザ媒質の光入射面にも、種光に対する反射防止膜が設けられていてもよい。これらの主面には反射防止膜以外の反射防止処理を行ってもよい。反射防止膜或いは反射防止処理は、各光透過要素の光入射面のみならず、光出射面に設けることとしてもよい。反射防止膜としては、例えば、誘電体多層膜を用いることができる。誘電体多層膜としては、酸化チタンと酸化シリコンの積層物が知られている。レーザ媒質と屈折率が同等の屈折率整合液も用いることができる。なお、レーザ媒質間の空間を希ガスが流れる場合には、希ガスによるレーザ媒質の劣化が抑制される。
また、自然放出光よる寄生発振を抑制するため、上述のレーザ媒質の周囲をクラッド材料で囲んでもよい。自然放出光(1064nm)を吸収するクラッド材料としては、サマリウム添加材料、クロム添加材料、銅添加材料などがある。具体的には、サマリウム添加YAG、サマリウム添加ガラス、クロム添加YAG、クロム添加ガラス、銅添加YAG、銅添加ガラスなどである。これらのクラッド材料をレーザ媒質に固定するためには、接着又は接合する。接着の場合には、これらの間に接着剤が介在している。接着剤を用いる場合、樹脂製屈折率整合接着剤、ガラス製屈折率整合接着剤などの接着剤を用いることができる。接着剤を用いない場合には、熱拡散接合、オプティカルコンタクト、イオンスパッタリング接合などの接合を用いることができ、レーザ媒質部品の外表面及びクラッド材料がセラミックスからなる場合には、セラミックス焼結接合を用いて、これらを固定することができる。なお、励起光(808nm)に対する反射防止膜の材料や接着方法も、種光又は自然放出光に対するものと同様である。
また、レーザ媒質は、隣接して対向する主表面同士が平行にならないように、主表面がY軸に対して垂直な面から傾斜していてもよい。これにより、主表面による不要な反射に起因した寄生発振を低減させることができる。すなわち、各レーザ媒質は、板状であれば、平行平板である必要はなく、表面が多少傾斜してもよい。また、上述の冷却媒体としては、液体又は気体を用いることができる。液体としては、水を用いることができ、気体としては、ヘリウムガスなどを用いることができるが、冷却性能があるものであれば、これらに限定されるものではない。また、冷却媒体流路F1を流れる冷却媒体と、レーザ媒質間の空間を流れる冷却媒体の種類は、異ならせることができる。最も適当な組み合わせとしては、前者の冷却媒体として水を用い、後者の冷却媒体としてヘリウムを用いる。これにより、冷却媒体によるレーザ光の歪の影響を更に好適に抑制することができる。
なお、上述のレーザ媒質の貫通孔形状は、様々な変形をすることができる。
図8は、レーザ媒質の正面図(A)及びD―D矢印断面図(B)である。
このレーザ媒質14では、貫通孔14aの数は、2個であり、XZ平面内において、Z軸方向を0度とし、0度と180度の位置に存在している。2以上の貫通孔を有することで、冷却媒体の流れる方向や流速をより精密に調整することができる。
図9は、レーザ媒質の正面図(A)及びD―D矢印断面図(B)である。
このレーザ媒質14では、貫通孔14aの数は、3個であり、XZ平面内において、Z軸方向を0度とし、0度と120度と240度の位置に存在している(同図のθ1=θ2=θ3=120度である)。2以上の貫通孔を有することで、冷却媒体の流れる方向や流速をより精密に調整することができる。また、3つの貫通孔を均等な角度位置に配置した場合、2つの貫通孔の場合よりも低速で多量の冷却媒質を流すことができるという効果がある。
図10は、レーザ媒質の正面図(A)及びD―D矢印断面図(B)である。
このレーザ媒質14においては、貫通孔14aの開口形状は、レーザ媒質14の外周に沿った弧状である。この円弧の開き角θ4は10度〜180度に設定することができる。この場合、冷却媒体の流速や方向の安定性等の観点からは、一方向に低速で多くの冷却媒体を安定的に流すことができるという効果がある。
図11は、レーザ媒質の正面図(A)及びD―D矢印断面図(B)である。
このレーザ媒質14においては、貫通孔14aは、レーザ媒質14の厚み方向(Y軸)に対して、斜めに延びている。貫通孔14aの中心軸がY軸と成す角度は、10度〜80度、隣接するレーザ媒質への流体衝突による渦流を抑制するには、30度以上80度以下に設定することができる。この場合、冷却媒体の流速や方向の安定性等の観点からは、流したい方向に指向性を持たせて冷却媒体を安定に流すことができるという効果がある。
図12は、レーザ媒質の正面図(A)及びD―D矢印断面図(B)である。
このレーザ媒質14においては、貫通孔14aは、先細り形状を有している。冷却媒体の進行方向に対して、貫通孔14aが先細りしている場合、冷却媒体の流速や方向の安定性等の観点からは、積極的に乱流を起こすことで冷却性能を向上できるという効果がある。
図13は、レーザ媒質の正面図(A)及びD―D矢印断面図(B)である。
このレーザ媒質14においては、貫通孔14aは、レーザ媒質14の外周に沿って、環状に並んでいる。同図では、24個の貫通孔14aを示しているが、貫通孔14aの数は、これに限定されず、これよりも多くても、少なくてもよい。この場合、冷却媒体の流速や方向の安定性等の観点からは、均一の方向に低速で多量に冷却媒体を安定的に流すことができるという効果がある。
以上、説明したように、上述の実施形態に係るレーザ媒質14を備えるレーザ媒質ユニットにおいては、複数のレーザ媒質14は、その厚み方向に沿って積層され、隣接するレーザ媒質間にはシール材が介在している。
レーザ媒質間にはシール材が介在しているので、冷却媒体は、レーザ媒質の貫通孔内を通って流れる。複数のレーザ媒質14を積層することで、大型のレーザロッドのように機能させることができるが、冷却媒体の流速は貫通孔により、制御できるため、レーザ光の特性劣化を抑制することができる。
また、レーザ媒質ユニットは、XYZ三次元直交座標系を設定し、複数のレーザ媒質14の積層方向をY軸とした場合、隣接するレーザ媒質の貫通孔14aのXZ平面内における位置は、異なっているものが存在する(図2参照)。
貫通孔14aの位置、すなわち、隣接するレーザ媒質14間の空間への冷却媒体の導入口と出力口位置が異なるため、これらの間を流れる冷却媒体の流路を制御することができる。
また、上述のレーザ媒質ユニット10を用いたレーザ光増幅装置(図5参照)は、このレーザ媒質ユニット10と、レーザ媒質ユニット10内に励起光を入射させる励起光源21と、レーザ媒質14の貫通孔14a内に冷却媒体を供給する手段(窓材16の貫通孔16a等)と、レーザ媒質ユニット10の周囲に配置された冷却媒体流路F1とを備える。
この装置によれば、レーザ媒質14に励起光を入射させることで、レーザ媒質14が励起し、これに種光としてのレーザ光を入射させると、増幅されたレーザ光がレーザ媒質14から出力される。また、複数のレーザ媒質14がある場合、増倍率も高くなる。
ここで、冷却媒体によるレーザ光の歪みを最小化するためには、貫通孔14aから出力され、冷却媒体間空間を流れる冷却媒体の流速は小さい方が好ましいが、冷却性能は低下する。したがって、レーザ媒質ユニット10の周囲にも、冷却媒体流路F1を設けることで、貫通孔14aのみによる冷却性能の低下を抑制しつつ、十分にレーザ媒質を冷却して、レーザ媒質自体の特性を安定化させることで、レーザ光の安定性や集束特性などの品質の劣化を更に抑制し、高品質なレーザ光を出力することができる。
なお、上述のレーザ媒質の位置は、Y軸を中心に回転させることができる。例えば、例えば180度回転、90度回転、又は30度回転をさせて、配置することができる。Z軸の正方向を鉛直上方とした場合、加熱された冷却媒体はZ軸正方向に力を受ける。Z軸の正方向の上部に、加熱された冷却媒体が蓄積され続けないためには、貫通孔14aの位置は、Z軸の正方向を0度して、0度に位置するものを含むように、回転角度を設定することが好ましい。
14…レーザ媒質、12…支柱、15…シール材、11…フランジ。

Claims (8)

  1. 外周面から内部に励起光を入射させるレーザ媒質であって、
    冷却媒体を流通させるための貫通孔を有する板状のレーザ媒質を、複数備えるレーザ媒質ユニットであって、
    前記レーザ媒質の厚みは1mm以上20mm以下であり、
    複数の前記レーザ媒質は、その厚み方向に沿って積層され、
    隣接する前記レーザ媒質間には環状のシール材が介在しており、
    前記シール材には前記積層の方向に沿って圧力が加えられる、
    ことを特徴とするレーザ媒質ユニット。
  2. 前記貫通孔の数は、2以上である前記レーザ媒質を複数備えることを特徴とする請求項1に記載のレーザ媒質ユニット
  3. 前記貫通孔の開口形状は、前記レーザ媒質の外周に沿った弧状である前記レーザ媒質を複数備える
    ことを特徴とする請求項1に記載のレーザ媒質ユニット
  4. 前記貫通孔は、前記レーザ媒質の厚み方向に対して、斜めに延びている前記レーザ媒質を複数備えることを特徴とする請求項1に記載のレーザ媒質ユニット
  5. 前記貫通孔は、先細り形状を有している前記レーザ媒質を複数備えることを特徴とする請求項1に記載のレーザ媒質ユニット
  6. 前記貫通孔は、前記レーザ媒質の外周に沿って、環状に並んでいる前記レーザ媒質を複数備える
    ことを特徴とする請求項1に記載のレーザ媒質ユニット
  7. XYZ三次元直交座標系を設定し、
    複数の前記レーザ媒質の積層方向をY軸とした場合、
    隣接する前記レーザ媒質の前記貫通孔のXZ平面内における位置は、異なっているものが存在する、
    ことを特徴とする請求項に記載のレーザ媒質ユニット。
  8. 請求項1〜7のいずれか一項に記載のレーザ媒質ユニットと、
    前記レーザ媒質ユニット内に励起光を入射させる励起光源と、
    前記レーザ媒質の前記貫通孔内に冷却媒体を供給する手段と、
    前記レーザ媒質ユニットの周囲に配置された冷却媒体流路と、
    を備え、
    前記レーザ媒質はYb添加YAGからなり、Ybの添加濃度は0.1原子%〜10原子%に設定される、
    ことを特徴とするレーザ光増幅装置。
JP2015008808A 2015-01-20 2015-01-20 レーザ媒質ユニット及びレーザ増幅装置 Active JP6584778B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015008808A JP6584778B2 (ja) 2015-01-20 2015-01-20 レーザ媒質ユニット及びレーザ増幅装置
DE112016000395.1T DE112016000395T5 (de) 2015-01-20 2016-01-13 Lasermedium, lasermediumeinheit, und laserstrahl-verstärkungsanordnung
GB1711358.0A GB2551654B (en) 2015-01-20 2016-01-13 Laser medium, laser medium unit, and laser beam amplification device
PCT/JP2016/050809 WO2016117426A1 (ja) 2015-01-20 2016-01-13 レーザ媒質、レーザ媒質ユニット及びレーザ光増幅装置
US15/544,613 US10374377B2 (en) 2015-01-20 2016-01-13 Laser medium, laser medium unit, and laser beam amplification device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015008808A JP6584778B2 (ja) 2015-01-20 2015-01-20 レーザ媒質ユニット及びレーザ増幅装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019130468A Division JP7008055B2 (ja) 2019-07-12 2019-07-12 レーザ媒質ユニット及びレーザ光増幅装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016134528A JP2016134528A (ja) 2016-07-25
JP6584778B2 true JP6584778B2 (ja) 2019-10-02

Family

ID=56416973

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015008808A Active JP6584778B2 (ja) 2015-01-20 2015-01-20 レーザ媒質ユニット及びレーザ増幅装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10374377B2 (ja)
JP (1) JP6584778B2 (ja)
DE (1) DE112016000395T5 (ja)
GB (1) GB2551654B (ja)
WO (1) WO2016117426A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7008055B2 (ja) 2019-07-12 2022-01-25 浜松ホトニクス株式会社 レーザ媒質ユニット及びレーザ光増幅装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3611190A (en) 1969-10-16 1971-10-05 American Optical Corp Laser structure with a segmented laser rod
US3628172A (en) 1970-03-19 1971-12-14 North American Rockwell High-power dissipation laser segment mounting holders
US3715682A (en) * 1970-03-19 1973-02-06 American Optical Corp Rectangular disc laser
US3766493A (en) 1972-09-26 1973-10-16 Us Navy Holding cladding for laser slabs
US4134084A (en) 1976-09-29 1979-01-09 Owens-Illinois, Inc. Hybrid laser structures
DE3546280A1 (de) * 1985-12-28 1987-07-30 Schott Glaswerke Festkoerperlaserstaebe fuer hohe leistungen
JPH02209778A (ja) * 1989-02-09 1990-08-21 Brother Ind Ltd 固体レーザ装置
US6813289B2 (en) 2001-07-25 2004-11-02 Innotech, Usa, Inc. Portable laser device
AU2002365559A1 (en) 2001-11-21 2003-06-10 General Atomics Laser containing a distributed gain medium

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7008055B2 (ja) 2019-07-12 2022-01-25 浜松ホトニクス株式会社 レーザ媒質ユニット及びレーザ光増幅装置

Also Published As

Publication number Publication date
GB2551654B (en) 2019-05-01
GB2551654A (en) 2017-12-27
JP2016134528A (ja) 2016-07-25
DE112016000395T5 (de) 2017-09-28
GB201711358D0 (en) 2017-08-30
US10374377B2 (en) 2019-08-06
US20180278007A1 (en) 2018-09-27
WO2016117426A1 (ja) 2016-07-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5330801B2 (ja) レーザ利得媒質、レーザ発振器及びレーザ増幅器
JP2004349701A (ja) ダイオードポンプ固体ディスクレーザおよび均一なレーザ利得を生成する方法
CN103779772A (zh) 采用复合泵浦耦合的激光器模块及固体激光器
JP6393196B2 (ja) レーザ光増幅装置
CN108879299A (zh) 用于激光源的有源元件板条
US20130039372A1 (en) Wavelength conversion device, solid-state laser apparatus, and laser system
GB2548271B (en) Laser amplification apparatus, laser apparatus, and laser nuclear fusion reactor
JP6584778B2 (ja) レーザ媒質ユニット及びレーザ増幅装置
JP6728339B2 (ja) ウェーブガイド形成方法及び装置
CN105324890A (zh) 径向偏振薄片激光器
US9209588B2 (en) Disk laser
JP7008055B2 (ja) レーザ媒質ユニット及びレーザ光増幅装置
WO2012137259A1 (ja) 固体レーザ装置
JP2015109356A (ja) レーザ装置、レーザ装置の製造方法、レーザ加工機及び表示装置
WO2005093498A1 (ja) ファラデー旋光子
WO2015033426A1 (ja) レーザ増幅器、及びレーザ装置、並びに極端紫外光生成システム
US20140348189A1 (en) Laser apparatus
JP6083709B2 (ja) 固体レーザ装置
Vetrovec et al. The development of a 5-cm aperture ceramic Yb: YAG edge-pumped disk laser amplifier
WO2007144645A1 (en) Light amplification device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170830

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180807

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20181003

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20181205

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20190604

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190712

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20190722

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190903

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190904

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6584778

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250