JP6572904B2 - Pattern, patterned substrate and touch panel - Google Patents

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Description

本発明は、透明基材の両面に形成される導電性のパターン、パターン付き基材及びタッチパネルに関する。   The present invention relates to a conductive pattern formed on both surfaces of a transparent substrate, a substrate with a pattern, and a touch panel.

静電容量式タッチパネルは、配列された複数のＸ軸透明電極及び複数のＹ軸透明電極を備え、これらの電極と人間の指との間での静電気結合に基づく静電容量の変化に伴って発生する誘導電流を利用して、該タッチパネル上の位置座標を検知する。   The capacitive touch panel includes a plurality of arranged X-axis transparent electrodes and a plurality of Y-axis transparent electrodes, and changes in capacitance based on electrostatic coupling between these electrodes and a human finger. The position coordinates on the touch panel are detected using the generated induced current.

従来、このようなタッチパネルは、Ｘ軸透明電極とＹ軸透明電極を別々の２枚の基板上に形成し、Ｘ軸、Ｙ軸透明電極間を絶縁材料で隔てた上で２枚の基板を貼り合わせて作成されるため、軽量化や薄膜化に不利であり、また、貼り合わせに際して、Ｘ軸、Ｙ軸透明電極間の位置合わせを行う必要があるため加工プロセスが困難であり、更に歩留りを向上する観点でも更なる改善の余地があった。   Conventionally, in such a touch panel, an X-axis transparent electrode and a Y-axis transparent electrode are formed on two separate substrates, and the two substrates are separated by an insulating material between the X-axis and Y-axis transparent electrodes. Since it is made by bonding, it is disadvantageous for lightening and thinning, and it is necessary to align the X-axis and Y-axis transparent electrodes at the time of bonding, so the processing process is difficult and the yield is further increased. There was room for further improvement in terms of improving

このようなタッチパネルに用いられるＸ軸透明電極、Ｙ軸透明電極（以下、これらを総じて、透明導電膜という場合がある。）としては、インジウム−スズの複合酸化物（ＩＴＯ）をスパッタリング法で製膜したものが使用されてきた。   As an X-axis transparent electrode and a Y-axis transparent electrode used for such a touch panel (hereinafter sometimes collectively referred to as a transparent conductive film), an indium-tin composite oxide (ITO) is manufactured by a sputtering method. Membranes have been used.

なお、特許文献１は、１枚の基材の両面に導電層を形成する方法を開示している。   Patent Document 1 discloses a method of forming a conductive layer on both surfaces of a single substrate.

特開２００７−３０４６８９号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2007-30489 特開２０１４−３８９９２号公報JP 2014-38992 A 特開２０１４−１２０３５３号公報JP, 2014-120353, A

ところで、ＩＴＯのような透明導電膜に代わる新たな透明導電膜が提案されている。   By the way, a new transparent conductive film has been proposed in place of a transparent conductive film such as ITO.

例えば、銀、銅などを主成分とした導電性細線により構成された線パターン、格子パターン、ランダムパターンなどからなるメタルメッシュタイプの透明導電膜が提案されている。   For example, there has been proposed a metal mesh type transparent conductive film composed of a line pattern, a lattice pattern, a random pattern, and the like made of conductive thin wires mainly composed of silver, copper, or the like.

しかし、このようなメタルメッシュタイプの透明導電膜の形成法は、真空プロセスやフォトリソプロセスを用いて細線形成するものであり、設備コストが高価なものになる。   However, such a method for forming a metal mesh type transparent conductive film is to form fine lines using a vacuum process or a photolithography process, and the equipment cost is expensive.

一方で、印刷法により、細線をダイレクトに形成する方法も提案されているが、線を見えにくくするために必要とされている線幅１０μｍ以下を低コストで安定に製造することは困難であった。   On the other hand, a method of directly forming fine lines by a printing method has also been proposed, but it has been difficult to stably produce a line width of 10 μm or less, which is required to make lines difficult to see, at low cost. It was.

これに対して、本出願人は、これまでに、インクジェット法を用いて、細線パターンからなる透明導電膜を形成する方法を開示している（特許文献２、３）。   On the other hand, the present applicant has disclosed a method for forming a transparent conductive film having a fine line pattern by using an inkjet method (Patent Documents 2 and 3).

この方法では、基材の表面に、導電性材料を含む液体を、１本の線分パターンとして付与する。このとき、基材の表面特性、導電性材料を含む液体の特性、パターニングの方法（基材表面への液体の付与方法）、乾燥条件等を制御することによって、該液体の乾燥過程において、該液体中における導電性材料の分布を、自発的に、若しくは自己組織化的に、不均一化し、幅手方向に２極化し、ついには互いに平行である２本の線分を形成するように分離させる。   In this method, a liquid containing a conductive material is applied to the surface of the substrate as a single line segment pattern. At this time, by controlling the surface characteristics of the substrate, the characteristics of the liquid containing the conductive material, the patterning method (method for applying the liquid to the substrate surface), the drying conditions, etc., in the drying process of the liquid, The distribution of the conductive material in the liquid is spontaneously or self-organized, nonuniform, bipolar in the width direction, and finally separated so as to form two line segments that are parallel to each other Let

このような平行線により構成されるパターンは、各線分が線幅１０μｍ以下を達成することができ、視認されにくい性質を有し、さらに、低抵抗化も実現できる。   Such a pattern composed of parallel lines has a property that each line segment can achieve a line width of 10 μm or less, has a property that it is difficult to be visually recognized, and can realize low resistance.

本発明者は、更に検討し、このような平行線により構成されるパターンは、線分間の配置間隔を適宜設定できる等、線分配置の規則性を付与し易く、これを基材の両面に設けることにより、透明基材を通して両面のパターンを見たときの低視認性を向上できる効果が奏されることを見いだした。特に、表面のパターンと裏面のパターンとの間で、線分配置の規則性を関連付けることにより、透明基材を通して両面のパターンを見たときの低視認性を顕著に向上できることがわかった。   The present inventor further studied, and the pattern constituted by such parallel lines can easily set the regularity of the line segment arrangement such that the arrangement interval of the line segments can be appropriately set, and this can be applied to both surfaces of the substrate. It has been found that the effect of improving the low visibility when the patterns on both sides are seen through the transparent base material can be achieved by providing. In particular, it has been found that the low visibility when the patterns on both sides are viewed through the transparent substrate can be remarkably improved by associating the regularity of the line segment arrangement between the pattern on the front surface and the pattern on the back surface.

そこで本発明の課題は、透明基材を通して両面のパターンを見たときの低視認性を向上できるパターン、パターン付き基材及びタッチパネルを提供することにある。   Then, the subject of this invention is providing the base material with a pattern, and a touch panel which can improve the low visibility when the pattern of both surfaces is seen through a transparent base material.

また本発明の他の課題は、以下の記載によって明らかとなる。   Other problems of the present invention will become apparent from the following description.

上記課題は、以下の各発明によって解決される。   The above problems are solved by the following inventions.

１．
機能性を持つパターンであって、
透明基材の両面に、
導電性材料を含有する２本１組の平行線を１組以上有し、
何れか一方の面の前記１組以上の平行線は、導電性材料が液体の動きにより分離された結果形成されたものであるパターン。
２．
前記透明基材の表面と裏面のそれぞれに、導電性材料が液体の動きにより分離された結果形成された平行線を１組以上備える前記１記載のパターン。
３．
前記透明基材の表面と裏面との間で、前記平行線の配置が相互に調整されている前記１又は２記載のパターン。
４．
前記透明基材の表面に形成した前記平行線のピッチに対して、前記透明基材の裏面に形成した前記平行線のピッチが、±２０％の範囲になるように調整されている前記１〜３の何れかに記載のパターン。
５．
前記透明基材の表面に、線間隔Ｌａの平行線を複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線は、互いに交差せず、かつ、互いに配置間隔Ｌａで配置されており、
前記透明基材の裏面に、線間隔Ｌｂの平行線を複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線は、互いに交差せず、かつ、互いに配置間隔Ｌｂで配置されており、
前記透明基材を通して見たときに、表面の前記少なくとも２組の平行線と、裏面の前記少なくとも２組の平行線とが、互いに交差しない前記１〜４の何れかに記載のパターン。
６．
前記透明基材の表面に、線間隔Ｌａの平行線を複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線は、互いに交差せず、かつ、互いにＬａより大きい配置間隔で配置されており、
前記透明基材の裏面に、線間隔Ｌｂの平行線を複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線は、互いに交差せず、かつ、互いにＬｂより大きい配置間隔で配置されており、
前記透明基材を通して見たときに、表面の前記少なくとも２組の平行線と、裏面の前記少なくとも２組の平行線とが、互いに交差しない前記１〜４の何れかに記載のパターン。
７．
前記透明基材の表面に、線間隔Ｌａ１の第１の平行線を複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線は、互いに交差せず、かつ、互いにＬａ１より大きい配置間隔で配置されており、
さらに、前記透明基材の表面に、線間隔Ｌａ２の第２の平行線を複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線は、互いに交差せず、かつ、互いにＬａ２より大きい配置間隔で配置されており、
さらに、前記第１の平行線と前記第２の平行線は、角度αで交差しており、
前記透明基材の裏面に、線間隔Ｌｂ１の第３の平行線を複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線は、互いに交差せず、かつ、互いにＬｂ１より大きい配置間隔で配置されており、
さらに、前記透明基材の裏面に、線間隔Ｌｂ２の第４の平行線を複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線は、互いに交差せず、かつ、互いにＬｂ２より大きい配置間隔で配置されており、
さらに、前記第３の平行線と前記第４の平行線は、角度βで交差しており、
前記透明基材を通して見たときに、表面の前記第１の平行線と、裏面の前記第３の平行線は、互いに交差せず、かつ、表面の前記第２の平行線と、裏面の前記第４の平行線は、互いに交差しない前記１〜４の何れかに記載のパターン。
８．
前記透明基材を通して見たときに、前記透明基材の両面の前記平行線が重なり合って格子状パターンが呈され、該格子状パターンを構成する各線分の線間隔は、１００μｍ〜４００μｍの範囲であり、かつ標準偏差が３０未満である前記１記載のパターン。
９．
前記格子状パターンにおいて、互いに隣接する２本１組の前記平行線は、前記透明基材の両面に、１組ずつ交互に割り当てられている前記８記載のパターン。
１０．
前記格子状パターンにおいて、互いに隣接する２本１組の前記平行線は、前記透明基材の両面に、複数組ずつ交互に割り当てられている前記８記載のパターン。
１１．
前記１〜１０の何れかに記載のパターンを透明基材に備えてなるパターン付き基材。
１２．
前記１１記載のパターン付き基材を備えたタッチパネル。1.
A pattern with functionality,
On both sides of the transparent substrate,
Have one or more sets of two parallel lines containing conductive material,
The one or more sets of parallel lines on any one of the surfaces is a pattern formed as a result of the conductive material being separated by the movement of the liquid.
2.
2. The pattern according to 1 above, wherein each of the front surface and the back surface of the transparent substrate is provided with one or more sets of parallel lines formed as a result of the conductive material being separated by liquid movement.
3.
The pattern according to 1 or 2, wherein the arrangement of the parallel lines is mutually adjusted between the front surface and the back surface of the transparent substrate.
4).
The pitches of the parallel lines formed on the back surface of the transparent substrate are adjusted so that the pitches of the parallel lines formed on the surface of the transparent substrate are within a range of ± 20%. 4. The pattern according to any one of 3.
5.
On the surface of the transparent substrate, the parallel lines of the line spacing L a has a plurality of sets, among these at least two sets of parallel lines, not intersect each other and are arranged at the arrangement interval L a from one another,
The back surface of the transparent substrate, the parallel lines of the line spacing L b has a plurality of sets, among these at least two sets of parallel lines, not intersect each other and are arranged at the arrangement interval L b from each other,
The pattern according to any one of 1 to 4, wherein the at least two sets of parallel lines on the front surface and the at least two sets of parallel lines on the back surface do not intersect each other when viewed through the transparent substrate.
6).
On the surface of the transparent substrate, the parallel lines of the line spacing L a has a plurality of sets, among these at least two sets of parallel lines, not intersect each other and are arranged in a L a larger arrangement intervals And
The back surface of the transparent substrate, the parallel lines of the line spacing L b has a plurality of sets, among these at least two sets of parallel lines, not intersect each other and are arranged in a L b larger arrangement intervals And
The pattern according to any one of 1 to 4, wherein the at least two sets of parallel lines on the front surface and the at least two sets of parallel lines on the back surface do not intersect each other when viewed through the transparent substrate.
7).
The surface of the transparent substrate has a plurality of sets of first parallel lines having a line interval L a1 , and at least two sets of these parallel lines do not intersect each other and are arranged at intervals greater than L a1. Has been placed,
Further, the surface of the transparent substrate has a plurality of sets of second parallel lines having a line interval La2 , and at least two sets of these parallel lines do not cross each other and are larger than each other La2 Are arranged at intervals,
Furthermore, the first parallel line and the second parallel line intersect at an angle α,
The back surface of the transparent substrate has a plurality of sets of third parallel lines having a line interval L b1 , and at least two of these parallel lines do not intersect each other and are arranged at intervals greater than L b1. Has been placed,
Further, the back surface of the transparent substrate has a plurality of sets of fourth parallel lines having a line interval L b2 , and at least two sets of these parallel lines do not cross each other and are arranged larger than L b2. Are arranged at intervals,
Further, the third parallel line and the fourth parallel line intersect at an angle β,
When viewed through the transparent substrate, the first parallel lines on the front surface and the third parallel lines on the back surface do not cross each other, and the second parallel lines on the front surface and the back surface of the third parallel lines A 4th parallel line is a pattern in any one of said 1-4 which does not cross | intersect mutually.
8).
When viewed through the transparent substrate, the parallel lines on both sides of the transparent substrate are overlapped to form a lattice pattern, and the line interval of each line segment constituting the lattice pattern is in the range of 100 μm to 400 μm. 2. The pattern according to 1 above, wherein the pattern has a standard deviation of less than 30.
9.
9. The pattern according to 8, wherein the set of two parallel lines adjacent to each other in the lattice pattern is alternately assigned to each side of the transparent substrate.
10.
9. The pattern according to 8 above, wherein in the lattice pattern, a set of two parallel lines adjacent to each other is alternately assigned to each of a plurality of sets on both surfaces of the transparent substrate.
11.
The base material with a pattern which equips a transparent base material with the pattern in any one of said 1-10.
12
A touch panel comprising the patterned substrate according to 11 above.

本発明によれば、両面全体での低視認性を向上できるパターン、パターン付き基材及びタッチパネルを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the pattern which can improve the low visibility in the both surfaces whole, a base material with a pattern, and a touch panel can be provided.

導電性材料を液体の動きにより分離して１組の平行線を形成する方法の一例を概念的に説明する斜視断面図A perspective sectional view for conceptually explaining an example of a method of forming a set of parallel lines by separating a conductive material by movement of a liquid タッチパネルの電極基材の一例を示す平面図The top view which shows an example of the electrode base material of a touch panel 本発明のパターンの第１態様を説明する図The figure explaining the 1st aspect of the pattern of this invention 透明基材の表面と裏面との間で平行線の配置を相互に調整するための方法を説明するためのフローチャートThe flowchart for demonstrating the method for mutually adjusting arrangement | positioning of a parallel line between the surface of a transparent base material, and a back surface. 本発明のパターンの第２態様を説明する図The figure explaining the 2nd aspect of the pattern of this invention 本発明のパターンの第３態様を説明する図The figure explaining the 3rd aspect of the pattern of this invention 本発明のパターンの第４態様を説明する図The figure explaining the 4th aspect of the pattern of this invention 本発明のパターンの第５態様を説明する図The figure explaining the 5th aspect of the pattern of this invention 本発明のパターンの第６態様を説明する図The figure explaining the 6th aspect of the pattern of this invention 図９における要部拡大図Enlarged view of the main part in FIG. 本発明のパターンの第７態様を説明する図The figure explaining the 7th aspect of the pattern of this invention 基材上に形成された平行線の一例を示す斜視断面図Perspective sectional view showing an example of parallel lines formed on a substrate

本発明のパターンは、透明基材（以下、単に基材という場合がある）の両面に、導電性材料を含有する２本１組の平行線を１組以上有してなり、機能性を持つ。ここで、何れか一方の面の前記１組以上の平行線は、導電性材料が液体の動きにより分離された結果形成されたものである。   The pattern of the present invention has at least one set of two parallel lines each containing a conductive material on both sides of a transparent substrate (hereinafter sometimes simply referred to as a substrate), and has functionality. . Here, the one or more sets of parallel lines on any one surface are formed as a result of the conductive material being separated by the movement of the liquid.

以下に詳述するように、導電性材料が液体の動きにより分離された結果形成された平行線を１組以上含むパターンは、該平行線を構成する線分を簡単に細線化でき、更に各線分の配置間隔を適宜設定できる等、パターンに規則性を付与し易く、これを透明基材の両面に設けることにより、該透明基材を通して両面のパターンを見たときの低視認性を向上できる効果が奏される。低視認性というのは、当該パターンが視認されにくい性質のことである。特に、透明基材の表面と裏面との間で、パターンの規則性を相互に関連付けることにより、該透明基材を通して両面のパターンを見たときの低視認性を顕著に向上できる。   As will be described in detail below, a pattern including one or more sets of parallel lines formed as a result of separation of the conductive material by the movement of the liquid can easily reduce the line segments constituting the parallel lines. It is easy to give regularity to the pattern, for example, the arrangement interval of the minute can be appropriately set, and by providing this on both surfaces of the transparent substrate, it is possible to improve low visibility when viewing the pattern on both surfaces through the transparent substrate. An effect is produced. Low visibility means that the pattern is difficult to be visually recognized. In particular, by associating the regularity of the pattern between the front surface and the back surface of the transparent substrate, the low visibility when the patterns on both sides are viewed through the transparent substrate can be significantly improved.

以下に、図面を参照して本発明を実施するための形態について詳しく説明する。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図１は、導電性材料を液体の動きにより分離して１組の平行線を形成する方法の一例を概念的に説明する斜視断面図である。   FIG. 1 is a perspective cross-sectional view conceptually illustrating an example of a method of separating a conductive material by movement of a liquid to form a set of parallel lines.

図１において、１は、透明基材であり、２は、導電性材料を含む液体であり、３は、液体２の縁に導電性材料を選択的に堆積させることにより形成される平行線である。   In FIG. 1, 1 is a transparent substrate, 2 is a liquid containing a conductive material, 3 is a parallel line formed by selectively depositing a conductive material on the edge of the liquid 2. is there.

図１（ａ）に示すように、基材１の表面に、導電性材料を含む液体２をライン状に付与する。   As shown to Fig.1 (a), the liquid 2 containing an electroconductive material is provided to the surface of the base material 1 in the shape of a line.

図１（ｂ）に示すように、導電性材料を含むライン状液体２を蒸発させ、乾燥させる際に、コーヒーステイン現象を利用して、ライン状液体２の縁に導電性材料を選択的に堆積させる。   As shown in FIG. 1B, when the line-shaped liquid 2 containing the conductive material is evaporated and dried, the conductive material is selectively applied to the edge of the line-shaped liquid 2 by utilizing the coffee stain phenomenon. Deposit.

コーヒーステイン現象を促進させるように、ライン状液体２を乾燥させる際の条件設定を行うことは好ましいことである。   It is preferable to set conditions for drying the line-shaped liquid 2 so as to promote the coffee stain phenomenon.

即ち、基材１上に配置されたライン状液体２の乾燥は中央部と比べ縁において速く、ライン状液体２の縁に導電性材料の局所的な堆積が起こる。この堆積した導電性材料によりライン状液体２の縁が固定化された状態となり、それ以降の乾燥に伴うライン状液体２の幅方向の収縮が抑制される。ライン状液体２の液体は、縁で蒸発により失った分の液体を補うように中央部から縁に向かう流動を形成する。この流動によって更なる導電性材料が縁に運ばれて堆積する。この流動は、乾燥に伴うライン状液体２の接触線の固定化とライン状液体２中央部と縁の蒸発量の差に起因する。そのため、この対流を促進させるように、導電性材料濃度、ライン状液体２と基材１の接触角、ライン状液体２の量、基材１の加熱温度、ライン状液体２の配置密度、又は温度、湿度、気圧の環境因子等の条件を設定することが好ましい。   That is, the drying of the line-shaped liquid 2 disposed on the substrate 1 is faster at the edge than at the center, and the local deposition of the conductive material occurs at the edge of the line-shaped liquid 2. The edge of the line-shaped liquid 2 is fixed by the deposited conductive material, and shrinkage in the width direction of the line-shaped liquid 2 due to subsequent drying is suppressed. The liquid of the line-like liquid 2 forms a flow from the central portion toward the edge so as to supplement the liquid lost by evaporation at the edge. This flow causes additional conductive material to be carried to the edge and deposited. This flow is caused by immobilization of the contact line of the line-shaped liquid 2 accompanying drying and a difference in evaporation amount between the central part of the line-shaped liquid 2 and the edge. Therefore, in order to promote this convection, the conductive material concentration, the contact angle between the line-shaped liquid 2 and the substrate 1, the amount of the line-shaped liquid 2, the heating temperature of the substrate 1, the arrangement density of the line-shaped liquid 2, or It is preferable to set conditions such as environmental factors such as temperature, humidity, and atmospheric pressure.

その結果、図１（ｃ）に示すように、基材１上に、導電性材料を含み、互いに平行な２本の線分３１、３２が形成される。   As a result, as shown in FIG. 1C, two line segments 31 and 32 that include a conductive material and are parallel to each other are formed on the substrate 1.

１本のライン状液体２から、２本の線分３１、３２を形成することができる。   Two line segments 31 and 32 can be formed from one line-like liquid 2.

各線分３１、３２の線幅は、ライン状液体２の付与幅よりも十分に細いものとすることができる。   The line width of each of the line segments 31 and 32 can be sufficiently narrower than the width of application of the line-shaped liquid 2.

各線分３１、３２の形成位置は、ライン状液体２の付与位置の設定などにより適宜設定できる。   The formation positions of the line segments 31 and 32 can be appropriately set by setting the application position of the line-like liquid 2 or the like.

また、各線分３１、３２の配置間隔は、ライン状液体２の付与幅の設定などにより適宜設定することができる。   In addition, the arrangement interval between the line segments 31 and 32 can be appropriately set by setting the application width of the line liquid 2 or the like.

本明細書では、上記のように、導電性材料を液体の動きにより分離して形成した線分３１、３２の組合せを、１組の（あるいは２本の）平行線３という。   In the present specification, as described above, the combination of the line segments 31 and 32 formed by separating the conductive material by the movement of the liquid is referred to as one set (or two) parallel lines 3.

基材１の表面と裏面の両方に、このような平行線３を含むパターンを形成することができる。平行線３は、例えば、焼成処理やメッキ処理等の後処理が施されたものであってもよい。   Such a pattern including the parallel lines 3 can be formed on both the front surface and the back surface of the substrate 1. The parallel lines 3 may be subjected to post-processing such as baking or plating.

基材上へのライン状液体の付与は、例えば液滴吐出装置を用いて行うことができる。具体的には、液滴吐出装置を基材に対して相対移動させながら、液滴吐出装置のノズルから導電性材料を含む液体を吐出し、吐出された液滴が基材上で合一することで、導電性材料を含むライン状液体を形成することができる。液滴吐出装置は、例えば、インクジェット記録装置が備えるインクジェットヘッドにより構成することができる。   Application of the line-shaped liquid onto the substrate can be performed using, for example, a droplet discharge device. Specifically, a liquid containing a conductive material is discharged from a nozzle of the droplet discharge device while moving the droplet discharge device relative to the substrate, and the discharged droplets are united on the substrate. Thereby, the line-like liquid containing an electroconductive material can be formed. The droplet discharge device can be constituted by, for example, an inkjet head provided in the inkjet recording device.

本発明のパターンを透明基材に備えてなるパターン付き基材の用途は格別限定されないが、例えば静電容量式などのタッチパネルの電極基材（電極基板ともいう）として特に好適に用いることができる。   Although the use of the substrate with a pattern comprising the pattern of the present invention on a transparent substrate is not particularly limited, for example, it can be particularly suitably used as an electrode substrate (also referred to as an electrode substrate) for a touch panel such as a capacitance type. .

図２は、タッチパネルの電極基材の一例を示す平面図である。   FIG. 2 is a plan view showing an example of an electrode substrate of the touch panel.

タッチパネルの電極基材は、透明基材１の表面に、Ｘ軸方向に沿う帯状のＸ軸透明電極１１が複数並設され、裏面に、Ｙ軸方向に沿う帯状のＹ軸透明電極１２が複数並設されている。   The electrode substrate of the touch panel has a plurality of strip-shaped X-axis transparent electrodes 11 along the X-axis direction arranged in parallel on the surface of the transparent substrate 1, and a plurality of strip-shaped Y-axis transparent electrodes 12 along the Y-axis direction on the back surface. It is installed side by side.

透明基材１を通して見たときに、帯状のＸ軸透明電極１１と帯状のＹ軸透明電極１２は、交差部１３において、透明基材１の厚みに対応する距離を隔てて交差している。   When viewed through the transparent substrate 1, the strip-shaped X-axis transparent electrode 11 and the strip-shaped Y-axis transparent electrode 12 intersect at a crossing portion 13 at a distance corresponding to the thickness of the transparent substrate 1.

かかる交差部１３に対応する領域においては、透明基材１を介して、帯状のＸ軸透明電極１１と帯状のＹ軸透明電極１２とが重なった状態になる。   In the region corresponding to the intersecting portion 13, the strip-shaped X-axis transparent electrode 11 and the strip-shaped Y-axis transparent electrode 12 are overlapped with each other through the transparent substrate 1.

従来のタッチパネルの電極基材では、帯状のＸ軸透明電極と帯状のＹ軸透明電極は、それぞれ、ＩＴＯ蒸着膜のようなベタ膜により構成されてきた。   In the electrode base material of the conventional touch panel, the strip-shaped X-axis transparent electrode and the strip-shaped Y-axis transparent electrode have each been constituted by a solid film such as an ITO vapor deposition film.

これに対して、本発明では、帯状のＸ軸透明電極１１と帯状のＹ軸透明電極１２を、導電性材料を含む細線の集合体により構成することができる。特に、細線として、導電性材料を液体の動きにより分離して形成した平行線を用いることで、低視認性を向上することができる。特に、平行線の配置を調整して、透明基材の表面と裏面との間で、パターンの規則性を相互に関連付けることにより、該透明基材を通して両面のパターンを見たときの低視認性を顕著に向上できる。   On the other hand, in this invention, the strip | belt-shaped X-axis transparent electrode 11 and the strip | belt-shaped Y-axis transparent electrode 12 can be comprised by the aggregate | assembly of the thin wire | line containing an electroconductive material. In particular, low visibility can be improved by using a parallel line formed by separating a conductive material by movement of a liquid as a thin line. In particular, by adjusting the arrangement of parallel lines and correlating the regularity of the pattern between the front and back surfaces of the transparent substrate, low visibility when viewing the pattern on both sides through the transparent substrate Can be significantly improved.

以下に、本発明のパターンについて、複数の態様を挙げて更に詳しく説明する。以下に図示されるパターンは、本発明の一つの局面において、上述したタッチパネルの電極基材における交差部１３中の一部分を拡大した拡大図に対応し得る。   Hereinafter, the pattern of the present invention will be described in more detail with reference to a plurality of embodiments. The pattern illustrated below may correspond to an enlarged view in which a part of the intersecting portion 13 in the electrode base material of the touch panel described above is enlarged in one aspect of the present invention.

図３は、本発明のパターンの第１態様を説明する図である。   FIG. 3 is a diagram for explaining a first aspect of the pattern of the present invention.

透明基材１の表面には、導電性材料を含有する２本１組の平行線３が複数組設けられている。各々の平行線３は、導電性材料を液体の動きにより分離して形成した線分３１、３２の組合せからなる。   A plurality of sets of two parallel lines 3 containing a conductive material are provided on the surface of the transparent substrate 1. Each parallel line 3 is composed of a combination of line segments 31 and 32 formed by separating the conductive material by the movement of the liquid.

透明基材１の裏面にも、導電性材料を含有する２本１組の平行線４が複数組設けられている。各々の平行線４は、導電性材料を液体の動きにより分離して形成した線分４１、４２の組合せからなる。なお、原則として、本明細書で説明する表面の平行線は、図中、実線で表し、裏面の平行線は、図中、破線で表している。   A plurality of sets of two parallel lines 4 each containing a conductive material are also provided on the back surface of the transparent substrate 1. Each parallel line 4 is composed of a combination of line segments 41 and 42 formed by separating the conductive material by the movement of the liquid. In principle, the parallel lines on the front surface described in this specification are represented by solid lines in the figure, and the parallel lines on the back surface are represented by broken lines in the figure.

透明基材１の表面と裏面との間で、平行線３、４の配置が相互に調整されていることが好ましい。   It is preferable that the arrangement of the parallel lines 3 and 4 is adjusted between the front surface and the back surface of the transparent substrate 1.

例えば、透明基材１の表面に形成した平行線３のピッチに対して、裏面に形成した平行線４のピッチが、±２０％の範囲になるように調整されていることが好ましく、±１０％の範囲になるように調整されていることがより好ましく、±５％の範囲になるように調整されていることが最も好ましい。これにより、低視認性を更に向上することができる。ここで、平行線３のピッチとは、表面に複数並設された線分３１、３２のピッチのことであり、平行線４のピッチとは、裏面に複数並設された線分４１、４２のピッチのことである。   For example, it is preferable that the pitch of the parallel lines 4 formed on the back surface is adjusted to be within a range of ± 20% with respect to the pitch of the parallel lines 3 formed on the surface of the transparent substrate 1. ± 10 % Is more preferably adjusted, and most preferably it is adjusted to be within a range of ± 5%. Thereby, low visibility can further be improved. Here, the pitch of the parallel lines 3 is the pitch of the line segments 31 and 32 arranged in parallel on the front surface, and the pitch of the parallel lines 4 is the line segments 41 and 42 arranged in parallel on the back surface. It is the pitch of.

さらに、図示の例では、透明基材１の表面に、線間隔Ｌａの平行線３を複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線３は、互いに交差せず、かつ、互いに配置間隔Ｌａで配置されている。Furthermore, in the illustrated example, the surface of the transparent substrate 1 has a plurality of sets of parallel lines 3 with a line interval La, and at least two of the parallel lines 3 do not cross each other and are arranged with each other. They are arranged at intervals L a.

なお、本明細書において、平行線の「線間隔」とは、当該平行線を構成する線分３１、３２間の間隔であり、平行線の「配置間隔」とは、互いに隣接する２組の平行線３間の間隔である。   In this specification, the “line interval” of the parallel lines is an interval between the line segments 31 and 32 constituting the parallel lines, and the “arrangement intervals” of the parallel lines is two sets adjacent to each other. The interval between the parallel lines 3.

また、透明基材１の裏面に、線間隔Ｌｂの平行線４を複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線４は、互いに交差せず、かつ、互いに配置間隔Ｌｂで配置されている。Further, on the back surface of the transparent substrate 1, the parallel lines 4 of line spacing L b has a plurality of sets, of these at least two sets of parallel lines 4 do not intersect each other and arranged at the arrangement interval L b from each other Has been.

そして、透明基材１を通して見たときに、表面の前記少なくとも２組の平行線３と、裏面の前記少なくとも２組の平行線４とが、互いに交差しないように配置されている。なお、本明細書において、「透明基材を通して見る」とは、透明基材を、該透明基材に対して垂直な方向に透視することを意味する。   When viewed through the transparent substrate 1, the at least two sets of parallel lines 3 on the front surface and the at least two sets of parallel lines 4 on the back surface are arranged so as not to cross each other. In this specification, “see through a transparent substrate” means that the transparent substrate is seen through in a direction perpendicular to the transparent substrate.

このような配置とすることで、低視認性を更に向上することができる。   By adopting such an arrangement, the low visibility can be further improved.

特に、図示されるように、Ｌａ＝Ｌｂの関係を満たすことが好ましく、また、透明基材１を通して見たときに、透明基材１の表面の平行線３と、裏面の平行線４とが、互いにずれている（重ならない）ことが好ましく、具体的には、Ｌａ／２ずれて配置されていることが好ましい。これにより、低視認性を更に向上することができる。In particular, as shown in the figure, it is preferable to satisfy the relationship of L a = L b , and when viewed through the transparent substrate 1, the parallel lines 3 on the surface of the transparent substrate 1 and the parallel lines 4 on the back surface thereof. Are preferably shifted from each other (not overlapped), and specifically, are preferably shifted by L a / 2. Thereby, low visibility can further be improved.

このような配置間隔を設定することにより、透明基材１を通して見たときに、表面の平行線３を構成する線分３１、３２から選ばれる線分と、裏面の平行線４を構成する線分４１、４２から選ばれる線分とが、１本ずつ交互に配置されることが好ましい。   By setting such an arrangement interval, when viewed through the transparent substrate 1, a line segment selected from the line segments 31 and 32 constituting the parallel line 3 on the front surface and a line constituting the parallel line 4 on the back surface are provided. It is preferable that the line segments selected from the minutes 41 and 42 are alternately arranged one by one.

図示されるように、透明基材１を通して見たときに、透明基材１の両面の平行線３、４が重なり合ってストライプ状パターンが呈され、該ストライプ状パターンを構成する各線分３１、３２、４１及び４２の線間隔が、実質的に等しいことが好ましい。本明細書において、各線分の線間隔が「実質的に等しい」とは、好ましくは、標準偏差が３０未満であることを意味する。   As shown in the figure, when viewed through the transparent substrate 1, the parallel lines 3 and 4 on both sides of the transparent substrate 1 are overlapped to form a stripe pattern, and each line segment 31 and 32 constituting the stripe pattern is displayed. , 41 and 42 are preferably substantially equal. In the present specification, the term “substantially equal” between the line segments preferably means that the standard deviation is less than 30.

透明基材１の表面と裏面との間で、平行線３、４の配置を相互に調整するための方法は、格別限定されるものではないが、例えば、図４に例示するようなフローチャートに従って、調整を行うことができる。ここでは、一例として、Ｌａ及びＬｂを相互に調整する場合を説明する。Although the method for mutually adjusting arrangement | positioning of the parallel lines 3 and 4 between the surface of the transparent base material 1 and a back surface is not exceptionally limited, For example, according to the flowchart as illustrated in FIG. Adjustments can be made. Here, as an example, a case where L a and L b are adjusted to each other will be described.

まず、透明基材表面への印字のために仮設定された所定の印字条件で、表面の平行線を形成する（Ｓ１）。   First, parallel lines on the surface are formed under predetermined printing conditions temporarily set for printing on the surface of the transparent substrate (S1).

次いで、表面の平行線における線間隔Ｌａを測定する（Ｓ２）。Then measured line spacing L a in the parallel lines on the surface (S2).

次いで、透明基材裏面への印字のために仮設定された所定の印字条件で、裏面の平行線を形成する（Ｓ３）。   Next, parallel lines on the back surface are formed under predetermined printing conditions temporarily set for printing on the back surface of the transparent substrate (S3).

次いで、裏面の平行線における線間隔Ｌｂを測定する（Ｓ４）。Then measured line spacing L b on the back surface of parallel lines (S4).

次いで、表面の平行線における線間隔Ｌａと、裏面の平行線における線間隔Ｌｂの差を求め、その差が所定の範囲、好ましくは±２０％の範囲内であるか否かを判定する（Ｓ５）。Then, calculated and line spacing L a in the parallel lines on the surface, the difference in linear distance L b on the back surface of the parallel lines, the range the difference is a predetermined, preferably determines whether it is within a range of ± 20% (S5).

所定の範囲内ではないと判定された場合、裏面印字のために仮設定されていた所定の印字条件を変更して再設定し（Ｓ６）、その後、裏面印字のステップ（Ｓ３）に戻る。   When it is determined that it is not within the predetermined range, the predetermined printing condition temporarily set for the back side printing is changed and reset (S6), and then the process returns to the back side printing step (S3).

一方、所定の範囲内と判定された場合、調整は終了し（Ｓ７）、表面印字及び裏面印字のために仮設定されていた所定の印字条件を、本設定とすることができる。   On the other hand, if determined to be within the predetermined range, the adjustment is completed (S7), and the predetermined printing condition temporarily set for the front surface printing and the back surface printing can be set as the main setting.

なお、上記の例に限定されず、例えば、所定の範囲内ではないと判定された場合に、表面印字のために仮設定されていた所定の印字条件を変更して再設定し、その後、表面印字のステップ（Ｓ１）に戻るようにしてもよい。   Note that the present invention is not limited to the above example. For example, when it is determined that it is not within the predetermined range, the predetermined printing condition temporarily set for the front surface printing is changed and reset, and then the front surface You may make it return to the printing step (S1).

上記の例では、透明基材１の表面と裏面との間で、平行線３、４の配置を相互に調整する例として、Ｌａ及びＬｂを相互に調整する場合の一例を説明したが、Ｌａ及びＬｂ以外の他の配置条件を相互に調整する場合においても、例えばトライアンドエラー方式により印字条件に変更を加えつつ、適した印字条件を設定することができる。これにより、例えば、透明基材１の表面の平行線３と、裏面の平行線４とが、互いにＬａ／２ずれて配置されるように調整する場合などにも用いることができる。本発明では、平行線を用いるため、上記のような調整を容易に行うことができる。In the above example, as an example of adjusting the arrangement of the parallel lines 3 and 4 between the front surface and the back surface of the transparent base material 1, an example of adjusting L a and L b to each other has been described. Even when the other arrangement conditions other than L a and L b are mutually adjusted, it is possible to set suitable printing conditions while changing the printing conditions by, for example, a trial and error method. Thereby, for example, the parallel lines 3 on the front surface of the transparent base material 1 and the parallel lines 4 on the back surface can be adjusted so as to be shifted from each other by L a / 2. In the present invention, since the parallel lines are used, the above adjustment can be easily performed.

また、表面印字などにおいて透明基材を加熱する処理を行う場合は、透明基材が熱変形するときがあるが、上記のような調整を行うことで、基材の変形も考慮した上で、透明基材１の表面と裏面との間で、平行線３、４の配置を相互に調整できる。したがって、透明基材が、熱変形しやすい場合、例えば樹脂製（例えば樹脂フィルム等）である場合などに、特に効果が顕著になる。   In addition, when performing a process of heating the transparent base material in surface printing or the like, the transparent base material may be thermally deformed, but by taking the above-mentioned adjustment into consideration, The arrangement of the parallel lines 3 and 4 can be mutually adjusted between the front surface and the back surface of the transparent substrate 1. Therefore, when the transparent substrate is easily thermally deformed, for example, when the transparent substrate is made of a resin (for example, a resin film), the effect is particularly remarkable.

図５は、本発明のパターンの第２態様を説明する図である。   FIG. 5 is a diagram for explaining a second aspect of the pattern of the present invention.

図示の例では、透明基材１の表面に、線間隔Ｌａの平行線３を複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線３は、互いに交差せず、かつ、互いにＬａより大きい配置間隔で配置されている。In the illustrated example, the surface of the transparent substrate 1, a plurality of sets of parallel lines 3 of the line spacing L a, at least two sets of parallel lines 3 of these do not cross each other, and, from L a mutually Arranged at large intervals.

また、透明基材の裏面に、線間隔Ｌｂの平行線４を複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線４は、互いに交差せず、かつ、互いにＬｂより大きい配置間隔で配置されている。Further, on the back surface of the transparent substrate, the parallel lines 4 of line spacing L b has a plurality of sets, of these at least two sets of parallel lines 4 do not intersect with each other, and, in L b larger arrangement intervals Is arranged.

このような配置間隔を設定することにより、透明基材１を通して見たときに、表面の平行線３と、裏面の平行線４とが、１組ずつ交互に配置されることが好ましい。   By setting such an arrangement interval, it is preferable that the parallel lines 3 on the front surface and the parallel lines 4 on the back surface are alternately arranged one by one when viewed through the transparent substrate 1.

そして、透明基材１を通して見たときに、表面の前記少なくとも２組の平行線３と、裏面の前記少なくとも２組の平行線４とが、互いに交差しないように配置されている。   When viewed through the transparent substrate 1, the at least two sets of parallel lines 3 on the front surface and the at least two sets of parallel lines 4 on the back surface are arranged so as not to cross each other.

このような配置とすることで、低視認性を更に向上することができる。   By adopting such an arrangement, the low visibility can be further improved.

図示されるように、表面の平行線３のピッチを４Ｌａとし、裏面の平行線４のピッチを４Ｌｂとすることが好ましい。As shown in the figure, the pitch of the parallel lines 3 on the front surface is preferably 4L a and the pitch of the parallel lines 4 on the back surface is preferably 4L b .

図示されるように、透明基材１を通して見たときに、透明基材１の両面の平行線３、４が重なり合ってストライプ状パターンが呈され、該ストライプ状パターンを構成する各線分３１、３２、４１及び４２の線間隔が、実質的に等しいことが好ましい。   As shown in the figure, when viewed through the transparent substrate 1, the parallel lines 3 and 4 on both sides of the transparent substrate 1 are overlapped to form a stripe pattern, and each line segment 31 and 32 constituting the stripe pattern is displayed. , 41 and 42 are preferably substantially equal.

図６は、本発明のパターンの第３態様を説明する図である。   FIG. 6 is a diagram for explaining a third aspect of the pattern of the present invention.

透明基材１の表面に、線間隔Ｌａ１の第１の平行線３Ａを複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線３Ａは、互いに交差せず、かつ、互いにＬａ１より大きい配置間隔で配置されている。The surface of the transparent substrate 1 has a plurality of sets of first parallel lines 3A having a line interval L a1 , and at least two of the parallel lines 3A do not intersect with each other and are arranged larger than L a1. Arranged at intervals.

さらに、透明基材１の表面に、線間隔Ｌａ２の第２の平行線３Ｂを複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線３Ｂは、互いに交差せず、かつ、互いにＬａ２より大きい配置間隔で配置されている。Further, the surface of the transparent substrate 1 has a plurality of sets of second parallel lines 3B having a line interval L a2 , and at least two sets of the parallel lines 3B do not intersect with each other and from each other by L a2 Arranged at large intervals.

第１の平行線３Ａと第２の平行線３Ｂは、角度αで交差している。角度αは、格別限定されないが、図示されるように、９０°であることが好ましい。   The first parallel line 3A and the second parallel line 3B intersect at an angle α. The angle α is not particularly limited, but is preferably 90 ° as illustrated.

また、透明基材１の裏面に、線間隔Ｌｂ１の第３の平行線４Ａを複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線４Ａは、互いに交差せず、かつ、互いにＬｂ１より大きい配置間隔で配置されている。Further, a plurality of sets of third parallel lines 4A having a line interval Lb1 are provided on the back surface of the transparent substrate 1, and at least two sets of the parallel lines 4A among these do not intersect each other and from each other by Lb1 . Arranged at large intervals.

さらに、透明基材１の裏面に、線間隔Ｌｂ２の第４の平行線４Ｂを複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線４Ｂは、互いに交差せず、かつ、互いにＬｂ２より大きい配置間隔で配置されている。Further, a plurality of sets of fourth parallel lines 4B having a line interval Lb2 are provided on the back surface of the transparent substrate 1, and at least two sets of these parallel lines 4B do not intersect with each other and from each other by Lb2 . Arranged at large intervals.

第３の平行線４Ａと第４の平行線４Ｂは、角度βで交差している。角度βは、格別限定されないが、図示されるように、９０°であることが好ましい。   The third parallel line 4A and the fourth parallel line 4B intersect at an angle β. The angle β is not particularly limited, but is preferably 90 ° as illustrated.

そして、透明基材１を通して見たときに、表面の第１の平行線３Ａと、裏面の第３の平行線４Ａは、互いに交差せず、かつ、表面の第２の平行線３Ｂと、裏面の第４の平行線４Ｂは、互いに交差しないように配置されている。   When viewed through the transparent substrate 1, the first parallel lines 3A on the front surface and the third parallel lines 4A on the back surface do not intersect each other, and the second parallel lines 3B on the front surface and the back surface The fourth parallel lines 4B are arranged so as not to cross each other.

図示されるように、透明基材１を通して見たときに、透明基材１の両面の平行線３Ａ、３Ｂ、４Ａ及び４Ｂが重なり合って格子状パターンが呈され、該格子状パターンを構成する各線分３１、３２、４１及び４２の線間隔が、実質的に等しいことが好ましい。   As shown in the figure, when viewed through the transparent base material 1, parallel lines 3A, 3B, 4A and 4B on both surfaces of the transparent base material 1 are overlapped to form a grid pattern, and each line constituting the grid pattern The line spacing of the minutes 31, 32, 41 and 42 is preferably substantially equal.

図示されるように、透明基材１を通して見たときに呈される格子状パターンにおいて、互いに隣接する２本１組の平行線は、透明基材１の両面に、１組ずつ交互に割り当てられていることが好ましいが、これに限定されるものではない。これについて、以下に図７を参照して説明する。   As shown in the figure, in a lattice pattern presented when viewed through the transparent substrate 1, two pairs of parallel lines adjacent to each other are alternately assigned to both surfaces of the transparent substrate 1 one by one. However, the present invention is not limited to this. This will be described below with reference to FIG.

図７は、本発明のパターンの第４態様を説明する図である。   FIG. 7 is a diagram for explaining a fourth aspect of the pattern of the present invention.

図示されるように、透明基材１を通して見たときに呈される格子状パターンにおいて、互いに隣接する２本１組の平行線３、４は、透明基材１の両面に、複数組（図示の例では２組）ずつ交互に割り当てられていることも好ましいことである。   As shown in the figure, in a lattice pattern presented when viewed through the transparent base material 1, a pair of two parallel lines 3, 4 adjacent to each other are arranged on both sides of the transparent base material 1. It is also preferable that two sets are alternately assigned in the example.

図８は、本発明のパターンの第５態様を説明する図である。   FIG. 8 is a diagram for explaining a fifth aspect of the pattern of the present invention.

ここでも、図６及び図７の例と同様に、透明基材１を通して見たときに、透明基材１の両面の平行線が重なり合って格子状パターンが呈される。なお、図８においては、表面の平行線と裏面の平行線を共に実線で表している。   Here, similarly to the examples of FIGS. 6 and 7, when viewed through the transparent substrate 1, parallel lines on both surfaces of the transparent substrate 1 are overlapped to form a lattice pattern. In FIG. 8, both the parallel lines on the front surface and the parallel lines on the back surface are represented by solid lines.

格子状パターンを構成する各線分の線間隔（ａ１、ａ２、ａ３、・・・、及び、ｂ１、ｂ２、ｂ３、・・・）は、５０μｍ〜５０００μｍの範囲であることが好ましく、１００μｍ〜４００μｍの範囲であることがより好ましい。また、特に導電性の確保の観点では、格子状パターンの前記線間隔を５０μｍ〜４００μｍの範囲とすることが好ましい。更にまた、特に大面積で平行線パターン形成する際において、表面の平行線と裏面の平行線との位置合わせ精度の許容範囲を大きくする観点では、前記線間隔を４００μｍ〜４０００μｍの範囲とすることも好ましい。   The line spacing (a1, a2, a3,..., And b1, b2, b3,...) Constituting the grid pattern is preferably in the range of 50 μm to 5000 μm, and 100 μm to 400 μm. More preferably, it is the range. In particular, from the viewpoint of ensuring conductivity, the line spacing of the lattice pattern is preferably in the range of 50 μm to 400 μm. Furthermore, when forming a parallel line pattern with a large area, the line spacing should be in the range of 400 μm to 4000 μm from the viewpoint of increasing the tolerance of alignment accuracy between the parallel lines on the front surface and the parallel lines on the back surface. Is also preferable.

格子状パターンを構成する各線分の線間隔（ａ１、ａ２、ａ３、・・・、及び、ｂ１、ｂ２、ｂ３、・・・）は、標準偏差が３０未満であることが好ましい。標準偏差は、図示するように、互いに並設される関係にある線分群における線間隔を測定し、これらの測定値に基づいて算出される。図示の例では、互いに交差する２つの線分群、即ち、左上から右下に向かう線分群と、左下から右上に向かう線分群とについて、それぞれ線間隔（ａ１、ａ２、ａ３、・・・、又は、ｂ１、ｂ２、ｂ３、・・・）を測定し、それぞれの標準偏差を算出するようにしている。２つの線分群それぞれの標準偏差が３０未満であることが特に好ましい。   It is preferable that the standard deviations of the line intervals (a1, a2, a3,..., B1, b2, b3,...) Constituting the grid pattern are less than 30. As shown in the figure, the standard deviation is calculated on the basis of these measured values by measuring the line spacing in a group of line segments that are in parallel with each other. In the illustrated example, line intervals (a1, a2, a3,..., Or two line segments intersecting each other, that is, a line segment group from the upper left to the lower right and a line segment group from the lower left to the upper right, respectively. , B1, b2, b3,...) And the respective standard deviations are calculated. It is particularly preferable that the standard deviation of each of the two line segment groups is less than 30.

このような格子状パターンにおいて、複数の１組２本の平行線は、透明基材の表面又は裏面に、それぞれ割り当てられる。例えば、互いに隣接する２本１組の平行線は、透明基材の両面に、１組又は２以上の所定数の組ずつ、交互に割り当てられていることが好ましい。   In such a lattice pattern, a plurality of sets of two parallel lines are respectively assigned to the front surface or the back surface of the transparent substrate. For example, it is preferable that two sets of parallel lines adjacent to each other are alternately assigned to both surfaces of the transparent substrate, one set or a predetermined number of sets of two or more.

図９及び図１０は、本発明のパターンの第６態様を説明する図である。図１０は、図９における要部拡大図であり、図１０（ａ）は、透明基材の表面に形成された平行線の交差部分の拡大図であり、図１０（ｂ）は、透明基材の裏面に形成された平行線の交差部分の拡大図である。   9 and 10 are diagrams for explaining a sixth aspect of the pattern of the present invention. FIG. 10 is an enlarged view of the main part in FIG. 9, FIG. 10 (a) is an enlarged view of the intersection of parallel lines formed on the surface of the transparent substrate, and FIG. 10 (b) is a transparent substrate. It is an enlarged view of the intersection of the parallel lines formed on the back surface of the material.

まず、透明基材１の表面において、先に形成された第１の平行線３Ａに対して交差するように形成された第２の平行線３Ｂは、先に形成された第１の平行線３Ａの影響を受けやすい。   First, on the surface of the transparent substrate 1, the second parallel lines 3B formed so as to intersect the first parallel lines 3A previously formed are the first parallel lines 3A formed previously. Susceptible to.

具体的には、例えば、透明基材の表面エネルギーと、既に第１の平行線３Ａが形成された領域の表面エネルギーとの相違によって、第２の平行線３Ｂを形成するためのライン状液体は、既に第１の平行線３Ａが形成された領域において、他の領域よりも、濡れ広がりが大きくなったり、逆に、濡れ広がりが小さくなったりする。その結果、図１０（ａ）に示すように、第２の平行線（図中、（ｉ）の矢印に沿う平行線）３Ｂを構成する線分３１、３２間の間隔が、既に第１の平行線（図中、（ｉｉ）の矢印に沿う平行線）３Ａが形成された領域において、局所的に、大きくなったり、逆に、小さくなったりする。ここでは、この間隔が、大きくなる場合を示している。この間隔が大きくなった部位を、以下の説明では、膨張部位と称する。   Specifically, for example, the line-shaped liquid for forming the second parallel lines 3B is based on the difference between the surface energy of the transparent substrate and the surface energy of the region where the first parallel lines 3A are already formed. In the region where the first parallel lines 3A are already formed, the wetting spread becomes larger than the other regions, or conversely, the wetting spread becomes smaller. As a result, as shown in FIG. 10 (a), the interval between the line segments 31 and 32 constituting the second parallel line (parallel line along the arrow (i) in the figure) 3B is already the first. In the region where the parallel line (parallel line along the arrow (ii) in the figure) 3A is formed, it becomes locally larger or conversely smaller. Here, the case where this interval becomes large is shown. In the following description, the part where the interval is increased is referred to as an expanded part.

透明基材１を表面側から見たときに、第２の平行線３Ｂにおける膨張部位３Ｃの膨張方向（当該平行線を構成する線分間の間隔が大きくなる方向）は、図中、左上−右下の方向である。   When the transparent substrate 1 is viewed from the surface side, the expansion direction of the expansion site 3C in the second parallel line 3B (the direction in which the interval between the line segments constituting the parallel line increases) is the upper left-right in the figure. It is the down direction.

同様に、透明基材１の裏面においても、先に形成された第３の平行線４Ａに対して交差するように形成された第４の平行線４Ｂは、先に形成された第３の平行線４Ａの影響を受けやすい。ここでは、図１０（ｂ）に示すように、第４の平行線（図中、（ｉｉ）の矢印に沿う平行線）４Ｂを構成する線分４１、４２間の間隔が、既に第３の平行線（図中、（ｉ）の矢印に沿う平行線）４Ａが形成された領域において、局所的に、大きくなり、膨張部位４Ｃを形成している。   Similarly, on the back surface of the transparent substrate 1, the fourth parallel lines 4 </ b> B formed so as to intersect with the third parallel lines 4 </ b> A formed earlier are the third parallel lines formed earlier. Susceptible to line 4A. Here, as shown in FIG. 10 (b), the interval between the line segments 41 and 42 constituting the fourth parallel line (parallel line along the arrow (ii) in the figure) 4B is already the third line. In a region where a parallel line (parallel line along the arrow (i) in the drawing) 4A is formed, the region becomes locally larger and forms an expanded portion 4C.

透明基材１を表面側から見たときに、第４の平行線４Ｂにおける膨張部位４Ｃの膨張方向は、図中、右上−左下の方向である。   When the transparent base material 1 is viewed from the surface side, the expansion direction of the expansion portion 4C in the fourth parallel line 4B is the upper right-lower left direction in the drawing.

以上のように、透明基材１の表面及び裏面のそれぞれにおいて、膨張部位３Ｃ、４Ｃが形成されているが、これらの膨張方向は、表面と裏面とで互いに異なっている。そして、膨張方向が同じである膨張部位同士が、千鳥状に配置されていることによって、膨張方向が同じである膨張部位同士が、偏って分布しないようにしている。   As described above, the expansion portions 3C and 4C are formed on the front surface and the back surface of the transparent base material 1, respectively, but the expansion directions are different between the front surface and the back surface. And the expansion site | parts with the same expansion | swelling direction are arranged in zigzag form, The expansion | swelling site | parts with the same expansion | swelling direction are made not to distribute unevenly.

このように、透明基材１を通して見たときに、膨張方向が同じである膨張部位同士が偏って分布しないことが好ましく、これにより、低視認性を更に向上することができる。例えば、図示の例のように、千鳥配置などの配置を適用することで、膨張方向が同じである膨張部位同士の間隔が大きくなるように調整することが好ましい。   As described above, when viewed through the transparent substrate 1, it is preferable that the inflated portions having the same inflating direction are not unevenly distributed, thereby further improving the low visibility. For example, it is preferable to adjust so that the space | interval of the expansion | swelling site | parts with the same expansion | swelling direction becomes large by applying arrangement | positioning, such as a staggered arrangement | positioning like the example of illustration.

図１０（ａ）及び（ｂ）に示したように、膨張部位における膨張方向は、平行線を形成する順番により適宜設定可能である。   As shown in FIGS. 10A and 10B, the expansion direction at the expansion site can be set as appropriate depending on the order in which the parallel lines are formed.

また、以上の説明では、平行線を構成する線分間の間隔が大きくなる膨張部位の膨張方向について示したが、この説明は、平行線を構成する線分間の間隔が小さくなる収縮部位の収縮方向についても援用することができ、収縮方向が同じである収縮部位同士が偏って分布しないことが好ましい。   In the above description, the expansion direction of the expansion portion where the interval between the line segments constituting the parallel line is increased is described. However, this description is based on the contraction direction of the contraction region where the interval between the line segments constituting the parallel line is decreased. It is preferable that the contraction parts having the same contraction direction are not distributed unevenly.

図１１は、本発明のパターンの第７態様を説明する図である。   FIG. 11 is a diagram for explaining a seventh aspect of the pattern of the present invention.

透明基材１の表面の平行線３と、裏面の平行線４によって、透明基材を通して見たときに、格子状パターンが呈されている。   When viewed through the transparent substrate, the lattice pattern is exhibited by the parallel lines 3 on the front surface of the transparent substrate 1 and the parallel lines 4 on the back surface.

本態様では、かかるパターンの形成に際して、所定の印字幅を有するインクジェットヘッド５を連結部位５１で複数連結して構成された長尺ヘッド６を用いる。図示の例では、長尺ヘッド６は、インクジェットヘッド５同士を、互いに一部がオーバーラップするように、連結している。   In this aspect, when forming such a pattern, a long head 6 constituted by connecting a plurality of inkjet heads 5 having a predetermined printing width at a connecting portion 51 is used. In the illustrated example, the long head 6 connects the inkjet heads 5 so that a part of the long heads 6 overlap each other.

まず、図１１（ａ）に示すように、透明基材１の表面を、長尺ヘッド６と対向するように配置し、透明基材１の表面に対して、長尺ヘッド６を図中Ｎ方向に相対移動させながら、各々のインクジェットヘッド５からインクを吐出して、透明基材１上に、ライン状液体を付与する。その後、導電性材料が液体の動きにより分離されて、表面の平行線３が形成される。   First, as shown in FIG. 11A, the surface of the transparent substrate 1 is disposed so as to face the long head 6, and the long head 6 is N with respect to the surface of the transparent substrate 1 in the drawing. While relatively moving in the direction, ink is ejected from each inkjet head 5 to give a line-shaped liquid on the transparent substrate 1. Thereafter, the conductive material is separated by the movement of the liquid to form parallel lines 3 on the surface.

表面の平行線３は、互いに連結された複数のインクジェットヘッド５に跨って形成されている。   The parallel lines 3 on the surface are formed across a plurality of inkjet heads 5 connected to each other.

次に、図１１（ｂ）に示すように、透明基材１の裏面に対して、長尺ヘッド６を図中Ｎ方向に相対移動させながら、各々のインクジェットヘッド５からインクを吐出して、透明基材１上に、ライン状液体を付与する。その後、導電性材料が液体の動きにより分離されて、裏面の平行線４が形成される。なお、図１１（ｂ）では、説明の便宜上、透明基材１を表面から見ているが、実際には、透明基材１の表裏を逆にして、透明基材１の裏面を、長尺ヘッド６と対向するように配置する。   Next, as shown in FIG. 11 (b), ink is ejected from each inkjet head 5 while moving the long head 6 relative to the back surface of the transparent substrate 1 in the N direction in the figure. A linear liquid is applied on the transparent substrate 1. Thereafter, the conductive material is separated by the movement of the liquid, and the parallel lines 4 on the back surface are formed. In FIG. 11B, the transparent base material 1 is viewed from the front surface for convenience of explanation. However, in practice, the transparent base material 1 is reversed so that the back surface of the transparent base material 1 is long. It arrange | positions so that the head 6 may be opposed.

裏面の平行線４は、互いに連結された複数のインクジェットヘッド５に跨って形成されている。   The parallel lines 4 on the back surface are formed across a plurality of inkjet heads 5 connected to each other.

本態様では、表面の平行線３を形成する際におけるインクジェットヘッド５間の連結部５１の移動経路Ｍ１と、裏面の平行線４を形成する際におけるインクジェットヘッド５間の連結部５１の移動経路Ｍ２とを、透明基材１を通して見たときに、同一直線上に配置しないように調整する。   In this aspect, the movement path M1 of the connection part 51 between the inkjet heads 5 when forming the parallel lines 3 on the front surface and the movement path M2 of the connection part 51 between the inkjet heads 5 when forming the parallel lines 4 on the back surface. Are adjusted so that they are not arranged on the same straight line when viewed through the transparent substrate 1.

これにより、インクジェットヘッド５間の連結部５１の移動経路Ｍ１及びＭ２に沿って、平行線３、４の形成が不安定になることがあっても、低視認性を保持できるようになる。   Thereby, even if formation of the parallel lines 3 and 4 may become unstable along the movement path | routes M1 and M2 of the connection part 51 between the inkjet heads 5, it becomes possible to maintain low visibility.

以上の説明では、透明基材１の両面のそれぞれに複数の平行線が形成され、これら平行線の全てが、導電性材料が液体の動きにより分離された結果形成されたものである場合について示したが、これに限定されるものではない。透明基材１の両面のそれぞれに、１組以上の平行線が形成されていればよく、ここで、導電性材料が液体の動きにより分離された結果形成された平行線は、透明基材１の表面及び裏面の何れか一方のみに形成されていればよい。好ましいのは、透明基材の表面と裏面のそれぞれに、導電性材料が液体の動きにより分離された結果形成された平行線を１組以上備えることである。   In the above description, a plurality of parallel lines are formed on both surfaces of the transparent substrate 1, and all of the parallel lines are formed as a result of separation of the conductive material by the movement of the liquid. However, the present invention is not limited to this. It is only necessary that one or more sets of parallel lines be formed on both surfaces of the transparent substrate 1. Here, the parallel lines formed as a result of the separation of the conductive material by the movement of the liquid are the transparent substrate 1. It should just be formed only in either one of the front surface and the back surface. Preferably, each of the front and back surfaces of the transparent substrate is provided with one or more sets of parallel lines formed as a result of the conductive material being separated by the movement of the liquid.

平行線に含まれる導電性材料としては、例えば、導電性微粒子、導電性ポリマー等を好ましく例示できる。   Preferred examples of the conductive material contained in the parallel lines include conductive fine particles and conductive polymers.

導電性微粒子としては、格別限定されないが、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｗ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｉｎ等の微粒子を好ましく例示でき、中でも、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕのような金属微粒子を用いると、電気抵抗が低く、かつ腐食に強い回路パターンを形成することができるので、より好ましい。コスト及び安定性の観点から、Ａｇを含む金属微粒子が最も好ましい。これらの金属微粒子の平均粒子径は、好ましくは１〜１００ｎｍの範囲、より好ましくは３〜５０ｎｍの範囲とされる。   The conductive fine particles are not particularly limited, but Au, Pt, Ag, Cu, Ni, Cr, Rh, Pd, Zn, Co, Mo, Ru, W, Os, Ir, Fe, Mn, Ge, Sn, Ga. In particular, fine particles such as In can be exemplified, and among them, use of fine metal particles such as Au, Ag, and Cu is more preferable because a circuit pattern having low electric resistance and strong against corrosion can be formed. From the viewpoint of cost and stability, metal fine particles containing Ag are most preferable. The average particle diameter of these metal fine particles is preferably in the range of 1 to 100 nm, more preferably in the range of 3 to 50 nm.

また、導電性微粒子として、カーボン微粒子を用いることも好ましい。カーボン微粒子としては、グラファイト微粒子、カーボンナノチューブ、フラーレン等を好ましく例示できる。   It is also preferable to use carbon fine particles as the conductive fine particles. Preferable examples of the carbon fine particles include graphite fine particles, carbon nanotubes, fullerenes and the like.

導電性ポリマーとしては、格別限定されないが、π共役系導電性高分子を好ましく挙げることができる。   Although it does not specifically limit as a conductive polymer, (pi) conjugated system conductive polymer can be mentioned preferably.

π共役系導電性高分子としては、特に限定されず、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリインドール類、ポリカルバゾール類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類、ポリフラン類、ポリパラフェニレン類、ポリパラフェニレンビニレン類、ポリパラフェニレンサルファイド類、ポリアズレン類、ポリイソチアナフテン類、ポリチアジル類等の鎖状導電性ポリマーを利用することができる。中でも、高い導電性が得られる点で、ポリチオフェン類やポリアニリン類が好ましい。ポリエチレンジオキシチオフェンであることが最も好ましい。   The π-conjugated conductive polymer is not particularly limited, and polythiophenes, polypyrroles, polyindoles, polycarbazoles, polyanilines, polyacetylenes, polyfurans, polyparaphenylenes, polyparaphenylene vinylenes, poly Chain conductive polymers such as paraphenylene sulfides, polyazulenes, polyisothianaphthenes, and polythiazyl can be used. Among these, polythiophenes and polyanilines are preferable in that high conductivity can be obtained. Most preferred is polyethylene dioxythiophene.

導電性ポリマーは、より好ましくは、上述したπ共役系導電性高分子とポリアニオンとを含んで成ることである。こうした導電性ポリマーは、π共役系導電性高分子を形成する前駆体モノマーを、適切な酸化剤と酸化触媒と、ポリアニオンの存在下で化学酸化重合することによって容易に製造できる。   More preferably, the conductive polymer comprises the above-described π-conjugated conductive polymer and a polyanion. Such a conductive polymer can be easily produced by chemical oxidative polymerization of a precursor monomer that forms a π-conjugated conductive polymer in the presence of an appropriate oxidizing agent, an oxidation catalyst, and a polyanion.

ポリアニオンは、置換若しくは未置換のポリアルキレン、置換若しくは未置換のポリアルケニレン、置換若しくは未置換のポリイミド、置換若しくは未置換のポリアミド、置換若しくは未置換のポリエステル及びこれらの共重合体であって、アニオン基を有する構成単位とアニオン基を有さない構成単位とからなるものである。   The polyanion is a substituted or unsubstituted polyalkylene, a substituted or unsubstituted polyalkenylene, a substituted or unsubstituted polyimide, a substituted or unsubstituted polyamide, a substituted or unsubstituted polyester, and a copolymer thereof. It consists of a structural unit having a group and a structural unit having no anionic group.

このポリアニオンは、π共役系導電性高分子を溶媒に可溶化させる可溶化高分子である。また、ポリアニオンのアニオン基は、π共役系導電性高分子に対するドーパントとして機能して、π共役系導電性高分子の導電性と耐熱性を向上させる。   This polyanion is a solubilized polymer that solubilizes the π-conjugated conductive polymer in a solvent. The anion group of the polyanion functions as a dopant for the π-conjugated conductive polymer, and improves the conductivity and heat resistance of the π-conjugated conductive polymer.

ポリアニオンのアニオン基としては、π共役系導電性高分子への化学酸化ドープが起こりうる官能基であればよいが、中でも、製造の容易さ及び安定性の観点からは、一置換硫酸エステル基、一置換リン酸エステル基、リン酸基、カルボキシ基、スルホ基等が好ましい。さらに、官能基のπ共役系導電性高分子へのドープ効果の観点より、スルホ基、一置換硫酸エステル基、カルボキシ基がより好ましい。   The anion group of the polyanion may be a functional group capable of undergoing chemical oxidation doping to the π-conjugated conductive polymer. Among them, from the viewpoint of ease of production and stability, a monosubstituted sulfate group, A monosubstituted phosphate group, a phosphate group, a carboxy group, a sulfo group and the like are preferable. Furthermore, from the viewpoint of the doping effect of the functional group on the π-conjugated conductive polymer, a sulfo group, a monosubstituted sulfate group, and a carboxy group are more preferable.

ポリアニオンの具体例としては、ポリビニルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアリルスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸、ポリ−２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリビニルカルボン酸、ポリスチレンカルボン酸、ポリアリルカルボン酸、ポリアクリルカルボン酸、ポリメタクリルカルボン酸、ポリ−２−アクリルアミド−２−メチルプロパンカルボン酸、ポリイソプレンカルボン酸、ポリアクリル酸等が挙げられる。これらの単独重合体であってもよいし、２種以上の共重合体であってもよい。   Specific examples of polyanions include polyvinyl sulfonic acid, polystyrene sulfonic acid, polyallyl sulfonic acid, polyacrylic acid ethyl sulfonic acid, polyacrylic acid butyl sulfonic acid, poly-2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid, polyisoprene sulfone. Examples include acid, polyvinyl carboxylic acid, polystyrene carboxylic acid, polyallyl carboxylic acid, polyacryl carboxylic acid, polymethacryl carboxylic acid, poly-2-acrylamido-2-methylpropane carboxylic acid, polyisoprene carboxylic acid, polyacrylic acid and the like. . These homopolymers may be sufficient and 2 or more types of copolymers may be sufficient.

また、化合物内にＦ（フッ素原子）を有するポリアニオンであってもよい。具体的には、パーフルオロスルホン酸基を含有するナフィオン（Ｄｕｐｏｎｔ社製）、カルボン酸基を含有するパーフルオロ型ビニルエーテルからなるフレミオン（旭硝子社製）等を挙げることができる。   Moreover, the polyanion which has F (fluorine atom) in a compound may be sufficient. Specifically, Nafion (made by Dupont) containing a perfluorosulfonic acid group, Flemion (made by Asahi Glass Co., Ltd.) made of perfluoro vinyl ether containing a carboxylic acid group, and the like can be mentioned.

これらのうち、スルホン酸を有する化合物であると、インクジェット印刷方式を用いた際にインク射出安定性が特に良好であり、かつ高い導電性が得られることから、より好ましい。   Among these, a compound having a sulfonic acid is more preferable since the ink ejection stability is particularly good when the ink jet printing method is used and high conductivity is obtained.

さらに、これらの中でも、ポリスチレンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸が好ましい。これらのポリアニオンは、導電性に優れるという効果を奏する。   Furthermore, among these, polystyrene sulfonic acid, polyisoprene sulfonic acid, polyacrylic acid ethylsulfonic acid, and polyacrylic acid butylsulfonic acid are preferable. These polyanions have the effect of being excellent in conductivity.

ポリアニオンの重合度は、モノマー単位が１０〜１０００００個の範囲であることが好ましく、溶媒溶解性及び導電性の点からは、５０〜１００００個の範囲がより好ましい。   The degree of polymerization of the polyanion is preferably in the range of 10 to 100,000 monomer units, and more preferably in the range of 50 to 10,000 from the viewpoint of solvent solubility and conductivity.

導電性ポリマーは市販の材料も好ましく利用できる。例えば、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸からなる導電性ポリマー（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳと略す）が、Ｈ．Ｃ．Ｓｔａｒｃｋ社からＣＬＥＶＩＯＳシリーズとして、Ａｌｄｒｉｃｈ社からＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ４８３０９５、５６０５９８として、Ｎａｇａｓｅ Ｃｈｅｍｔｅｘ社からＤｅｎａｔｒｏｎシリーズとして市販されている。また、ポリアニリンが、日産化学社からＯＲＭＥＣＯＮシリーズとして市販されている。   A commercially available material can also be preferably used for the conductive polymer. For example, a conductive polymer (abbreviated as PEDOT / PSS) made of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrenesulfonic acid is H.264. C. It is commercially available from Starck as the CLEVIOS series, from Aldrich as PEDOT-PSS 483095, 560598, from Nagase Chemtex as the Denatron series. Polyaniline is also commercially available from Nissan Chemical as the ORMECON series.

ライン状液体を形成する際に用いる、導電性材料を含有させる液体としては、水や、有機溶剤等の１種又は２種以上を組み合わせて用いることができる。   As a liquid containing a conductive material used when forming a line-shaped liquid, one kind or a combination of two or more kinds such as water and an organic solvent can be used.

有機溶剤は、格別限定されないが、例えば、１，２−ヘキサンジオール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、プロピレングリコールなどのアルコール類、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類等を例示できる。   The organic solvent is not particularly limited. For example, alcohols such as 1,2-hexanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, propylene glycol, Examples include ethers such as diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, and dipropylene glycol monoethyl ether.

また、導電性材料を含有させる液体としては、本発明の効果を損なわない範囲で、界面活性剤など種々の添加剤を含んでもよい。   Further, the liquid containing the conductive material may contain various additives such as a surfactant as long as the effects of the present invention are not impaired.

界面活性剤を用いることで、例えば、インクジェット法などの液滴吐出法を用いてライン状液体２を形成するような場合などに、表面張力等を調整して吐出の安定化を図ること等が可能になる。界面活性剤としては、格別限定されないが、シリコン系界面活性剤等を用いることができる。シリコン系界面活性剤とはジメチルポリシロキ酸の側鎖または末端をポリエーテル変性したものであり、例えば、信越化学工業製のＫＦ−３５１Ａ、ＫＦ−６４２やビッグケミー製のＢＹＫ３４７、ＢＹＫ３４８などが市販されている。界面活性剤の添加量は、ライン状液体２を形成する液体の全量に対して、１重量％以下であることが好ましい。   By using a surfactant, for example, in the case where the line-like liquid 2 is formed using a droplet discharge method such as an ink jet method, the surface tension or the like may be adjusted to stabilize the discharge. It becomes possible. The surfactant is not particularly limited, but a silicon surfactant or the like can be used. Silicon-based surfactants are those in which the side chain or terminal of dimethylpolysiloxy acid is polyether-modified. For example, KF-351A and KF-642 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. ing. The addition amount of the surfactant is preferably 1% by weight or less with respect to the total amount of the liquid that forms the line-like liquid 2.

透明基材は、格別限定されないが、例えば、ガラス、プラスチック（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル、ポリエステル、ポリアミド等）などを挙げることができ、これらは単独で用いてもよいし、貼り合せた状態で用いてもよい。中でも、プラスチックが好ましく、ポリエチレンテレフタレートや、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィンなどが好適である。   The transparent substrate is not particularly limited, and examples thereof include glass and plastic (polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene, polypropylene, acrylic, polyester, polyamide, etc.), and these may be used alone. , And may be used in a bonded state. Among these, plastic is preferable, and polyethylene terephthalate, polyolefin such as polyethylene and polypropylene, and the like are preferable.

透明基材は、両面の加工処理が同じであることが好ましく、また、両面の表面エネルギー差が５％以内であることが好ましい。   The transparent substrate preferably has the same processing on both sides, and preferably has a surface energy difference of 5% or less on both sides.

図１２は、基材上に形成された平行線の一例を示す斜視断面図であり、断面は、平行線の形成方向に対して直交する方向で切断した縦断面に対応する。   FIG. 12 is a perspective cross-sectional view showing an example of parallel lines formed on a substrate, and the cross section corresponds to a vertical cross section cut in a direction orthogonal to the direction in which the parallel lines are formed.

１本のライン状液体から生成される平行線３の１組２本の細線（線分）３１、３２は、必ずしも互いに完全に独立した島状である必要はない。図示したように、２本の線分３１、３２は、該線分３１、３２間にわたって、該線分３１、３２の高さよりも低い高さで形成された薄膜部３０によって接続された連続体として形成されることも好ましいことである。   A set of two thin lines (line segments) 31 and 32 of the parallel lines 3 generated from one line-shaped liquid do not necessarily need to be islands completely independent from each other. As shown in the drawing, the two line segments 31 and 32 are connected to each other between the line segments 31 and 32 by a thin film portion 30 formed at a height lower than the height of the line segments 31 and 32. It is also preferable to be formed as.

平行線３の線分３１、３２の線幅Ｗ１、Ｗ２は、各々１０μｍ以下であることが好ましい。１０μｍ以下であれば、通常視認できないレベルとなるので、透明性を向上する観点からより好ましい。各線分３１、３２の安定性も考慮すると、各線分３１、３２の線幅Ｗ１、Ｗ２は、各々２μｍ以上１０μｍ以下の範囲であることが好ましい。   The line widths W1 and W2 of the line segments 31 and 32 of the parallel line 3 are each preferably 10 μm or less. If it is 10 micrometers or less, since it will be a level which cannot be visually recognized normally, it is more preferable from a viewpoint of improving transparency. Considering the stability of the line segments 31 and 32, the line widths W1 and W2 of the line segments 31 and 32 are preferably in the range of 2 μm or more and 10 μm or less, respectively.

なお、線分３１、３２の幅Ｗ１、Ｗ２とは、該線分３１、３２間において導電性材料の厚みが最薄となる最薄部分の高さをＺとし、更に該Ｚからの線分３１、３２の突出高さをＹ１、Ｙ２としたときに、Ｙ１、Ｙ２の半分の高さにおける線分３１、３２の幅として定義される。例えば、パターン３が上述した薄膜部３０を有する場合は、該薄膜部３０における最薄部分の高さをＺとすることができる。なお、各線分３１、３２間における導電性材料の最薄部分の高さが０であるときは、線分３１、３２の線幅Ｗ１、Ｗ２は、基材１表面からの線分３１、３２の高さＨ１、Ｈ２の半分の高さにおける線分３１、３２の幅と定義される。   Note that the widths W1 and W2 of the line segments 31 and 32 are Z, which is the height of the thinnest portion where the thickness of the conductive material is the thinnest between the line segments 31 and 32. When the protruding heights 31 and 32 are defined as Y1 and Y2, they are defined as the widths of the line segments 31 and 32 at half the height of Y1 and Y2. For example, when the pattern 3 has the thin film portion 30 described above, the height of the thinnest portion in the thin film portion 30 can be set to Z. When the height of the thinnest portion of the conductive material between the line segments 31 and 32 is 0, the line widths W1 and W2 of the line segments 31 and 32 are the line segments 31 and 32 from the surface of the substrate 1. Are defined as the widths of the line segments 31 and 32 at half the heights H1 and H2.

平行線３を構成する線分３１、３２の線幅Ｗ１、Ｗ２は、上述した通り極めて細いものであるため、断面積を確保して低抵抗化を図る観点で、基材１表面からの線分３１、３２の高さＨ１、Ｈ２は高い方が望ましい。具体的には、線分３１、３２の高さＨ１、Ｈ２は、５０ｎｍ以上５μｍ以下の範囲であることが好ましい。   Since the line widths W1 and W2 of the line segments 31 and 32 constituting the parallel line 3 are extremely thin as described above, the lines from the surface of the substrate 1 are ensured from the viewpoint of securing a cross-sectional area and reducing resistance. The heights H1 and H2 of the minutes 31 and 32 are preferably higher. Specifically, the heights H1 and H2 of the line segments 31 and 32 are preferably in the range of 50 nm to 5 μm.

さらに、平行線３の安定性を向上する観点から、Ｈ１／Ｗ１比、Ｈ２／Ｗ２比は、各々０．０１以上１以下の範囲であることが好ましい。   Furthermore, from the viewpoint of improving the stability of the parallel lines 3, the H1 / W1 ratio and the H2 / W2 ratio are preferably in the range of 0.01 to 1 respectively.

また、平行線３の細線化を更に向上する観点から、線分３１、３２間において導電性材料の厚みが最薄となる最薄部分の高さＺ、具体的には薄膜部３０の最薄部分の高さＺが１０ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。最も好ましいのは、透明性と安定性のバランスの両立を図るために、０＜Ｚ≦１０ｎｍの範囲で、薄膜部３０を備えることである。   Further, from the viewpoint of further improving the thinning of the parallel lines 3, the height Z of the thinnest portion where the thickness of the conductive material is the thinnest between the line segments 31 and 32, specifically, the thinnest portion of the thin film portion 30. The height Z of the part is preferably in the range of 10 nm or less. Most preferably, the thin film portion 30 is provided in the range of 0 <Z ≦ 10 nm in order to achieve a balance between transparency and stability.

さらに、平行線３の更なる細線化向上のために、Ｈ１／Ｚ比、Ｈ２／Ｚ比は、各々５以上であることが好ましく、１０以上であることがより好ましく、２０以上であることが特に好ましい。   Further, in order to further improve the thinning of the parallel lines 3, the H1 / Z ratio and the H2 / Z ratio are each preferably 5 or more, more preferably 10 or more, and preferably 20 or more. Particularly preferred.

線分３１、３２の間隔Ｉは、ライン状液体の付与幅等の設定により適宜調整することが可能であり、好ましくは、１０μｍ以上３００μｍ以下の範囲に調整されていることが好ましい。   The interval I between the line segments 31 and 32 can be adjusted as appropriate by setting the application width of the line liquid, etc., and is preferably adjusted in the range of 10 μm to 300 μm.

なお、線分３１、３２の間隔Ｉとは、線分３１、３２の各最大突出部間の距離として定義される。   The interval I between the line segments 31 and 32 is defined as the distance between the maximum protrusions of the line segments 31 and 32.

更にまた、線分３１と線分３２とに同様の形状（同程度の断面積）を付与することが好ましく、具体的には、線分３１と線分３２の高さＨ１とＨ２とを実質的に等しい値とすることが好ましい。これと同様に、線分３１と線分３２の線幅Ｗ１とＷ２とについても実質的に等しい値とすることが好ましい。   Furthermore, it is preferable to give the same shape (similar cross-sectional area) to the line segment 31 and the line segment 32. Specifically, the heights H1 and H2 of the line segment 31 and the line segment 32 are substantially equal. Are preferably equal. Similarly, it is preferable that the line widths W1 and W2 of the line segment 31 and the line segment 32 are substantially equal values.

線分３１、３２は、必ずしも平行である必要性はなく、少なくとも線分方向のある長さＬにわたって、線分３１、３２が結合していなければ良い。好ましくは、少なくとも線分方向のある長さＬにわたって、線分３１、３２が実質的に平行であることである。   The line segments 31 and 32 do not necessarily have to be parallel, and it is sufficient that the line segments 31 and 32 are not connected over at least a certain length L in the line segment direction. Preferably, the line segments 31 and 32 are substantially parallel over at least a certain length L in the line segment direction.

線分３１、３２の線分方向の長さＬは、線分３１、３２の間隔Ｉの５倍以上であることが好ましく、１０倍以上であることがより好ましい。長さＬ及び間隔Ｉは、パターン（ライン状液体）２の形成長さ及び形成幅に対応して設定することができる。   The length L of the line segments 31 and 32 in the line segment direction is preferably 5 times or more of the interval I between the line segments 31 and 32, and more preferably 10 times or more. The length L and the interval I can be set corresponding to the formation length and formation width of the pattern (line-shaped liquid) 2.

ライン状液体の形成始点と終点（線分方向のある長さＬにわたった始点と終点）では、線分３１、３２が接続し、連続体として形成されてもよい。   Line segments 31 and 32 may be connected and formed as a continuous body at the formation start point and end point of the line-shaped liquid (start point and end point over a certain length L in the line segment direction).

また、線分３１、３２は、その線幅Ｗ１、Ｗ２がほぼ等しく、かつ、線幅Ｗ１、Ｗ２が２本線間距離（間隔Ｉ）に比して、十分に細いものであることが好ましい。   Further, it is preferable that the line segments 31 and 32 have substantially the same line widths W1 and W2, and the line widths W1 and W2 are sufficiently narrower than the distance between the two lines (interval I).

さらに、１本のライン状液体から生成されるパターン３を構成する線分３１と線分３２とは、同時に形成されたものであることが好ましい。   Furthermore, it is preferable that the line segment 31 and the line segment 32 which comprise the pattern 3 produced | generated from one line-shaped liquid are formed simultaneously.

平行線３は、各線分３１、３２が、下記（ア）〜（エ）の条件を全て満たすことが特に好ましい。これにより、パターンが視認されにくくなり、透明性を向上できるとともに、線分が安定化され、パターンの抵抗値を低下できる効果に優れる。   As for the parallel line 3, it is especially preferable that each line segment 31 and 32 satisfy | fills all the conditions of the following (a)-(d). Thereby, it becomes difficult to visually recognize the pattern, transparency can be improved, line segments are stabilized, and the effect of reducing the resistance value of the pattern is excellent.

（ア）各線分３１、３２の高さをＨ１、Ｈ２とし、該各線分間における最薄部分の高さをＺとしたときに、５≦Ｈ１／Ｚ、かつ５≦Ｈ２／Ｚであること。
（イ）各線分３１、３２の幅をＷ１、Ｗ２としたときに、Ｗ１≦１０μｍ、かつＷ２≦１０μｍであること。
（ウ）各線分３１、３２間の距離をＩとしたときに、５０μｍ≦Ｉ≦５０００μｍであること。
（エ）各線分３１、３２の高さをＨ１、Ｈ２としたときに、５０ｎｍ＜Ｈ１＜５μｍ、かつ５０ｎｍ＜Ｈ２＜５μｍであること。(A) When the height of each line segment 31 and 32 is H1 and H2, and the height of the thinnest part in each line segment is Z, 5 ≦ H1 / Z and 5 ≦ H2 / Z.
(A) When the widths of the line segments 31 and 32 are W1 and W2, W1 ≦ 10 μm and W2 ≦ 10 μm.
(C) When the distance between the line segments 31 and 32 is I, 50 μm ≦ I ≦ 5000 μm.
(D) When the heights of the line segments 31 and 32 are H1 and H2, 50 nm <H1 <5 μm and 50 nm <H2 <5 μm.

以上、表面の平行線３についてした説明は、裏面の平行線４にも援用することができる。   As described above, the description of the parallel lines 3 on the front surface can be applied to the parallel lines 4 on the back surface.

以上の説明において、一つの態様について説明された構成は、他の態様に適宜適用することができる。   In the above description, the configuration described for one embodiment can be applied to other embodiments as appropriate.

以下に、本発明の実施例について説明するが、本発明はかかる実施例により限定されない。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

（実施例１）
両面の加工処理が同じであり、両面の表面エネルギー差が５％以内であるＰＥＴフィルム（透明基材１）の各面に、インクジェット法を用いて、下記の条件で、図３に示したものと同様のパターンを形成した。Example 1
What is shown in FIG. 3 under the following conditions using the inkjet method on each surface of a PET film (transparent substrate 1) having the same processing on both surfaces and having a surface energy difference of 5% or less on both surfaces. A similar pattern was formed.

＜表面の平行線の形成条件＞
インクジェット法により、透明基材１の表面に、導電性材料を含むライン状液体を付与し、コーヒーステイン現象を生起させて、表面の平行線３を形成した。<Conditions for forming parallel lines on the surface>
By the inkjet method, a line-like liquid containing a conductive material was applied to the surface of the transparent substrate 1 to cause a coffee stain phenomenon, thereby forming parallel lines 3 on the surface.

＜裏面の平行線の形成条件＞
インクジェット法により、透明基材１の裏面に、導電性材料を含むライン状液体を付与し、コーヒーステイン現象を生起させて、裏面の平行線４を形成した。<Conditions for forming parallel lines on the back>
By the inkjet method, a line-like liquid containing a conductive material was applied to the back surface of the transparent substrate 1 to cause a coffee stain phenomenon, thereby forming parallel lines 4 on the back surface.

その際、表面の平行線３に対して、裏面の平行線４が平行になるよう、ヘッド若しくは透明基材１が載置されるステージを移動して角度調整を行った。   At that time, the angle was adjusted by moving the head or the stage on which the transparent substrate 1 was placed so that the parallel lines 4 on the back surface were parallel to the parallel lines 3 on the front surface.

また、表面の平行線３について測定された線間隔Ｌａに対して、裏面の平行線４の線間隔Ｌｂが、±２０％の範囲になるように、図４で説明した調整を行った。Ｌａは、Ｌｂと実質的に等しく、２００μｍである。Further, with respect to the line spacing L a measured for the parallel lines 3 of the surface, line spacing L b of the back surface of parallel lines 4, to be in the range of ± 20%, was adjusted as described in FIG. 4 . L a is substantially equal to L b and is 200 μm.

また、表面の平行線３と、裏面の平行線４とが、互いにＬａ／２ずれて配置されるように、アラインメントを行った。In addition, the alignment was performed so that the parallel lines 3 on the front surface and the parallel lines 4 on the back surface were arranged so as to be shifted from each other by L a / 2.

＜後処理＞
以上のようにして、透明基材１の両面に、平行線３、４を含むパターンを形成した後、さらに、後処理として、該平行線の焼成を行い、次いで該平行線３、４にメッキを施して、図３に示したものと同様のパターンを備えたパターン付き基材を得た。<Post-processing>
After forming a pattern including parallel lines 3 and 4 on both surfaces of the transparent substrate 1 as described above, the parallel lines are baked as a post-treatment, and then the parallel lines 3 and 4 are plated. As a result, a patterned substrate having a pattern similar to that shown in FIG. 3 was obtained.

得られたパターン付き基材は、パターンの低視認性に優れるものであった。   The obtained substrate with a pattern was excellent in the low visibility of the pattern.

（実施例２）
実施例１において、インクの着弾位置を変更して、図５に示したものと同様のパターンを備えたパターン付き基材を得た。(Example 2)
In Example 1, the ink landing position was changed to obtain a patterned substrate having the same pattern as that shown in FIG.

その際、裏面の平行線４を形成するためのインクの着弾位置を、表面の平行線３の中心部から、２Ｌａずらした位置に設定した。At that time, the landing position of the ink for forming the rear surface of parallel lines 4, from the center of the parallel lines 3 of the surface was set at a position shifted 2L a.

得られたパターン付き基材は、パターンの低視認性に優れるものであった。   The obtained substrate with a pattern was excellent in the low visibility of the pattern.

（実施例３）
実施例１で用いたものと同様のＰＥＴフィルム（透明基材１）の各面に、インクジェット法を用いて、下記の条件で、図６に示したものと同様のパターンを形成した。(Example 3)
A pattern similar to that shown in FIG. 6 was formed on each surface of a PET film (transparent substrate 1) similar to that used in Example 1 using the inkjet method under the following conditions.

＜表面の平行線の形成条件＞
インクジェット法により、透明基材１の表面に、ライン状液体を付与し、コーヒーステイン現象を生起させて、第１の平行線３Ａを形成した。ライン状液体の付与間隔は、得られる平行線の配置間隔（図６中、Ｘ１で示す間隔に相当）が、６００μｍとなるように調整した。平行線の線間隔は２００μｍとした。<Conditions for forming parallel lines on the surface>
A line-like liquid was applied to the surface of the transparent substrate 1 by an inkjet method to cause a coffee stain phenomenon, thereby forming the first parallel lines 3A. The application interval of the line-shaped liquid was adjusted so that the arrangement interval of the parallel lines obtained (corresponding to the interval indicated by X1 in FIG. 6) was 600 μm. The line spacing of the parallel lines was 200 μm.

第１の平行線３Ａを形成後、乾燥してから、該第１の平行線３Ａと交わるように角度を変更して、第１の平行線３Ａと同様にして、第２の平行線３Ｂを形成した。   After forming the first parallel line 3A, after drying, the angle is changed so that it intersects the first parallel line 3A, and the second parallel line 3B is changed in the same manner as the first parallel line 3A. Formed.

＜裏面の平行線の形成条件＞
インクジェット法により、透明基材の裏面に、ライン状液体を付与し、コーヒーステイン現象を生起させて、第３の平行線４Ａを形成した。ライン状液体の付与間隔は、得られる平行線の配置間隔が、６００μｍとなるように調整した。平行線の線間隔は２００μｍとした。<Conditions for forming parallel lines on the back>
By the inkjet method, a line-like liquid was applied to the back surface of the transparent substrate to cause the coffee stain phenomenon, thereby forming the third parallel lines 4A. The application interval of the line liquid was adjusted so that the arrangement interval of the parallel lines obtained was 600 μm. The line spacing of the parallel lines was 200 μm.

第３の平行線４Ａを形成後、乾燥してから、該第３の平行線４Ａと交わるように角度を変更して、第３の平行線４Ａと同様にして、第４の平行線４Ｂを形成した。   After forming the third parallel line 4A, after drying, the angle is changed so as to cross the third parallel line 4A, and the fourth parallel line 4B is changed in the same manner as the third parallel line 4A. Formed.

透明基材１を通して見たときに呈される格子状パターンにおいて、互いに隣接する２本１組の平行線が、透明基材１の両面に、１組ずつ交互に割り当てられるようにした。   In a lattice pattern presented when viewed through the transparent substrate 1, two sets of parallel lines adjacent to each other were alternately assigned to both surfaces of the transparent substrate 1 one by one.

＜後処理＞
以上のようにして、透明基材１の両面に、平行線３Ａ、３Ｂ、４Ａ及び４Ｂを含むパターンを形成した後、さらに、後処理として、該平行線の焼成を行い、次いで該平行線にメッキを施して、図６に示したものと同様のパターンを備えたパターン付き基材を得た。<Post-processing>
After forming the pattern including the parallel lines 3A, 3B, 4A and 4B on both surfaces of the transparent substrate 1 as described above, the parallel lines are further baked as a post-treatment, and then the parallel lines are formed. Plating was performed to obtain a patterned substrate having a pattern similar to that shown in FIG.

得られたパターン付き基材は、パターンの低視認性に優れるものであった。   The obtained substrate with a pattern was excellent in the low visibility of the pattern.

（実施例４）
実施例３において、インクの着弾位置を変更して、図７に示したものと同様のパターンを備えたパターン付き基材を得た。Example 4
In Example 3, the ink landing position was changed to obtain a patterned substrate having the same pattern as that shown in FIG.

その際、表面及び裏面それぞれの平行線に、配置間隔（図７中、Ｘ２で示す間隔に相当）を１０００μｍに設定した箇所を部分的に設け、透明基材１を通して見たときに呈される格子状パターンにおいて、互いに隣接する２本１組の平行線３、４が、透明基材１の両面に、２組ずつ交互に割り当てられるようにした。   At that time, a portion where the arrangement interval (corresponding to the interval indicated by X2 in FIG. 7) is set to 1000 μm is partially provided on the parallel lines on the front surface and the back surface, and it is presented when viewed through the transparent substrate 1. In the lattice pattern, two sets of two parallel lines 3 and 4 adjacent to each other were alternately assigned to both surfaces of the transparent substrate 1 by two sets.

得られたパターン付き基材は、パターンの低視認性に優れるものであった。   The obtained substrate with a pattern was excellent in the low visibility of the pattern.

（実施例５）
実施例３において、第１〜第４の平行線を形成する順番を変更し、第１の平行線→第２の平行線→第４の平行線→第３の平行線の順番で形成することにより、図９及び図１０に示したものと同様のパターンを備えたパターン付き基材を得た。(Example 5)
In the third embodiment, the order of forming the first to fourth parallel lines is changed, and the first parallel lines, the second parallel lines, the fourth parallel lines, and the third parallel lines are formed in this order. Thus, a substrate with a pattern having the same pattern as that shown in FIGS. 9 and 10 was obtained.

即ち、図９及び図１０に示したように、透明基材１の表面及び裏面のそれぞれにおいて、膨張部位３Ｃ、４Ｃが形成されているが、これらの膨張方向は、表面と裏面とで互いに異なっている。そして、膨張方向が同じである膨張部位同士が、千鳥状に配置されていることによって、膨張方向が同じである膨張部位同士が、偏って分布しないようにしている。   That is, as shown in FIG. 9 and FIG. 10, expansion portions 3C and 4C are formed on the front surface and the back surface of the transparent substrate 1, respectively, but the expansion directions are different between the front surface and the back surface. ing. And the expansion site | parts with the same expansion | swelling direction are arranged in zigzag form, The expansion | swelling site | parts with the same expansion | swelling direction are made not to distribute unevenly.

得られたパターン付き基材は、膨張部位が目立つことなく、パターンの低視認性に優れるものであった。   The obtained substrate with a pattern was excellent in the low visibility of a pattern, without an expansion part conspicuous.

（実施例６）
実施例３において、図１１に示したものと同様に長尺ヘッド６を用いて、平行線を形成した。(Example 6)
In Example 3, parallel lines were formed using the long head 6 in the same manner as shown in FIG.

その際、表面の平行線３を形成するためのヘッド移動における、インクジェットヘッド５間の連結部５１の移動経路Ｍ１と、裏面の平行線４を形成するためのヘッド移動における、インクジェットヘッド５間の連結部５１の移動経路Ｍ２とを、透明基材１を通して見たときに、同一直線上に配置しないように調整した。   At that time, the movement path M1 of the connecting portion 51 between the inkjet heads 5 in the head movement for forming the parallel lines 3 on the front surface and the inkjet head 5 in the head movement for forming the parallel lines 4 on the back surface. When the movement path M2 of the connection part 51 was seen through the transparent base material 1, it adjusted so that it might not arrange | position on the same straight line.

得られたパターン付き基材は、ヘッド連結部の移動経路に沿う領域においても、パターンの低視認性に優れるものであった。   The obtained substrate with a pattern was excellent in the low visibility of the pattern even in the region along the movement path of the head connecting portion.

１：透明基材
２：（ライン状）液体
３：平行線
３１、３２：線分
４：平行線
４１、４２：線分
５：インクジェットヘッド
６：長尺ヘッド1: Transparent base material 2: (Line-shaped) liquid 3: Parallel lines 31, 32: Line segments 4: Parallel lines 41, 42: Line segments 5: Inkjet head 6: Long head

Claims (16)

機能性を持つパターンであって、
透明基材の両面に、
導電性材料を含有する２本１組の平行線を１組以上有し、
何れか一方の面の前記１組以上の平行線は、導電性材料が液体の動きにより分離された結果形成されたものであり、
前記透明基材の表面に、線間隔Ｌａの平行線を複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線は、互いに交差せず、かつ、互いに配置間隔Ｌａで配置されており、
前記透明基材の裏面に、線間隔Ｌｂの平行線を複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線は、互いに交差せず、かつ、互いに配置間隔Ｌｂで配置されており、
前記透明基材を通して見たときに、表面の前記少なくとも２組の平行線と、裏面の前記少なくとも２組の平行線とが、互いに交差しないパターン。 A pattern with functionality,
On both sides of the transparent substrate,
Have one or more sets of two parallel lines containing conductive material,
The one or more sets of parallel lines on either side are formed as a result of the conductive material being separated by the movement of the liquid,
On the surface of the transparent substrate, the parallel lines of the line spacing L a has a plurality of sets, among these at least two sets of parallel lines, not intersect each other and are arranged at the arrangement interval L a from one another,
The back surface of the transparent substrate, the parallel lines of the line spacing L b has a plurality of sets, among these at least two sets of parallel lines, not intersect each other and are arranged at the arrangement interval L b from each other,
The pattern in which the at least two sets of parallel lines on the front surface and the at least two sets of parallel lines on the back surface do not intersect each other when viewed through the transparent substrate. 前記透明基材の表面と裏面のそれぞれに、導電性材料が液体の動きにより分離された結果形成された平行線を１組以上備える請求項１記載のパターン。   The pattern according to claim 1, wherein each of the front surface and the back surface of the transparent substrate includes one or more sets of parallel lines formed as a result of the conductive material being separated by liquid movement. 前記透明基材の表面と裏面との間で、前記平行線の配置が相互に調整されている請求項１又は２記載のパターン。   The pattern of Claim 1 or 2 by which the arrangement | positioning of the said parallel line is mutually adjusted between the surface and the back surface of the said transparent base material. 前記透明基材の表面に形成した前記平行線のピッチに対して、前記透明基材の裏面に形成した前記平行線のピッチが、±２０％の範囲になるように調整されている請求項１〜３の何れかに記載のパターン。   2. The pitch of the parallel lines formed on the back surface of the transparent substrate is adjusted to be within a range of ± 20% with respect to the pitch of the parallel lines formed on the surface of the transparent substrate. The pattern in any one of -3. 機能性を持つパターンであって、
透明基材の両面に、
導電性材料を含有する２本１組の平行線を１組以上有し、
何れか一方の面の前記１組以上の平行線は、導電性材料が液体の動きにより分離された結果形成されたものであり、
前記透明基材の表面に、線間隔Ｌａの平行線を複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線は、互いに交差せず、かつ、互いにＬａより大きい配置間隔で配置されており、
前記透明基材の裏面に、線間隔Ｌｂの平行線を複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線は、互いに交差せず、かつ、互いにＬｂより大きい配置間隔で配置されており、
前記透明基材を通して見たときに、表面の前記少なくとも２組の平行線と、裏面の前記少なくとも２組の平行線とが、互いに交差しないパターン。 A pattern with functionality,
On both sides of the transparent substrate,
Have one or more sets of two parallel lines containing conductive material,
The one or more sets of parallel lines on either side are formed as a result of the conductive material being separated by the movement of the liquid,
On the surface of the transparent substrate, the parallel lines of the line spacing L a has a plurality of sets, among these at least two sets of parallel lines, not intersect each other and are arranged in a L a larger arrangement intervals And
The back surface of the transparent substrate, the parallel lines of the line spacing L b has a plurality of sets, among these at least two sets of parallel lines, not intersect each other and are arranged in a L b larger arrangement intervals And
The pattern in which the at least two sets of parallel lines on the front surface and the at least two sets of parallel lines on the back surface do not intersect each other when viewed through the transparent substrate. 前記透明基材の表面と裏面のそれぞれに、導電性材料が液体の動きにより分離された結果形成された平行線を１組以上備える請求項５記載のパターン。   The pattern according to claim 5, wherein one or more sets of parallel lines formed as a result of the conductive material being separated by the movement of the liquid are provided on each of the front and back surfaces of the transparent substrate. 前記透明基材の表面と裏面との間で、前記平行線の配置が相互に調整されている請求項５又は６記載のパターン。   The pattern according to claim 5 or 6, wherein the arrangement of the parallel lines is mutually adjusted between the front surface and the back surface of the transparent substrate. 前記透明基材の表面に形成した前記平行線のピッチに対して、前記透明基材の裏面に形成した前記平行線のピッチが、±２０％の範囲になるように調整されている請求項５〜７の何れかに記載のパターン。   6. The pitch of the parallel lines formed on the back surface of the transparent substrate is adjusted to be within a range of ± 20% with respect to the pitch of the parallel lines formed on the surface of the transparent substrate. The pattern in any one of -7. 機能性を持つパターンであって、
透明基材の両面に、
導電性材料を含有する２本１組の平行線を１組以上有し、
何れか一方の面の前記１組以上の平行線は、導電性材料が液体の動きにより分離された結果形成されたものであり、
前記透明基材の表面に、線間隔Ｌａ１の第１の平行線を複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線は、互いに交差せず、かつ、互いにＬａ１より大きい配置間隔で配置されており、
さらに、前記透明基材の表面に、線間隔Ｌａ２の第２の平行線を複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線は、互いに交差せず、かつ、互いにＬａ２より大きい配置間隔で配置されており、
さらに、前記第１の平行線と前記第２の平行線は、角度αで交差しており、
前記透明基材の裏面に、線間隔Ｌｂ１の第３の平行線を複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線は、互いに交差せず、かつ、互いにＬｂ１より大きい配置間隔で配置されており、
さらに、前記透明基材の裏面に、線間隔Ｌｂ２の第４の平行線を複数組有し、これらのうち少なくとも２組の平行線は、互いに交差せず、かつ、互いにＬｂ２より大きい配置間隔で配置されており、
さらに、前記第３の平行線と前記第４の平行線は、角度βで交差しており、
前記透明基材を通して見たときに、表面の前記第１の平行線と、裏面の前記第３の平行線は、互いに交差せず、かつ、表面の前記第２の平行線と、裏面の前記第４の平行線は、互いに交差しないパターン。 A pattern with functionality,
On both sides of the transparent substrate,
Have one or more sets of two parallel lines containing conductive material,
The one or more sets of parallel lines on either side are formed as a result of the conductive material being separated by the movement of the liquid,
The surface of the transparent substrate has a plurality of sets of first parallel lines having a line interval L a1 , and at least two sets of these parallel lines do not intersect each other and are arranged at intervals greater than L a1. Has been placed,
Further, the surface of the transparent substrate has a plurality of sets of second parallel lines having a line interval La2 , and at least two sets of these parallel lines do not cross each other and are larger than each other La2 Are arranged at intervals,
Furthermore, the first parallel line and the second parallel line intersect at an angle α,
The back surface of the transparent substrate has a plurality of sets of third parallel lines having a line interval L b1 , and at least two of these parallel lines do not intersect each other and are arranged at intervals greater than L b1. Has been placed,
Further, the back surface of the transparent substrate has a plurality of sets of fourth parallel lines having a line interval L b2 , and at least two sets of these parallel lines do not cross each other and are arranged larger than L b2. Are arranged at intervals,
Further, the third parallel line and the fourth parallel line intersect at an angle β,
When viewed through the transparent substrate, the first parallel lines on the front surface and the third parallel lines on the back surface do not cross each other, and the second parallel lines on the front surface and the back surface of the third parallel lines The fourth parallel lines are patterns that do not intersect each other. 前記透明基材の表面と裏面のそれぞれに、導電性材料が液体の動きにより分離された結果形成された平行線を１組以上備える請求項９記載のパターン。   The pattern according to claim 9, wherein each of the front surface and the back surface of the transparent substrate is provided with one or more sets of parallel lines formed as a result of the conductive material being separated by liquid movement. 前記透明基材の表面と裏面との間で、前記平行線の配置が相互に調整されている請求項９又は１０記載のパターン。   The pattern of Claim 9 or 10 with which the arrangement | positioning of the said parallel line is mutually adjusted between the surface and the back surface of the said transparent base material. 前記透明基材の表面に形成した前記平行線のピッチに対して、前記透明基材の裏面に形成した前記平行線のピッチが、±２０％の範囲になるように調整されている請求項９〜１１の何れかに記載のパターン。   The pitch of the parallel lines formed on the back surface of the transparent substrate is adjusted to be within a range of ± 20% with respect to the pitch of the parallel lines formed on the surface of the transparent substrate. The pattern in any one of -11. 機能性を持つパターンであって、
透明基材の両面に、
導電性材料を含有する２本１組の平行線を１組以上有し、
何れか一方の面の前記１組以上の平行線は、導電性材料が液体の動きにより分離された結果形成されたものであり、
前記透明基材を通して見たときに、前記透明基材の両面の前記平行線が重なり合って格子状パターンが呈され、該格子状パターンを構成する各線分の線間隔は、１００μｍ〜４００μｍの範囲であり、かつ標準偏差が３０未満であり、
前記格子状パターンにおいて、互いに隣接する２本１組の前記平行線は、前記透明基材の両面に、１組ずつ交互に割り当てられている、パターン。 A pattern with functionality,
On both sides of the transparent substrate,
Have one or more sets of two parallel lines containing conductive material,
The one or more sets of parallel lines on either side are formed as a result of the conductive material being separated by the movement of the liquid,
When viewed through the transparent substrate, the parallel lines on both sides of the transparent substrate are overlapped to form a lattice pattern, and the line interval of each line segment constituting the lattice pattern is in the range of 100 μm to 400 μm. And the standard deviation is less than 30,
In the grid pattern, it is a set of two said parallel lines adjacent to each other, on both sides of the transparent substrate, are assigned alternately one set, pattern. 機能性を持つパターンであって、
透明基材の両面に、
導電性材料を含有する２本１組の平行線を１組以上有し、
何れか一方の面の前記１組以上の平行線は、導電性材料が液体の動きにより分離された結果形成されたものであり、
前記透明基材を通して見たときに、前記透明基材の両面の前記平行線が重なり合って格子状パターンが呈され、該格子状パターンを構成する各線分の線間隔は、１００μｍ〜４００μｍの範囲であり、かつ標準偏差が３０未満であり、
前記格子状パターンにおいて、互いに隣接する２本１組の前記平行線は、前記透明基材の両面に、複数組ずつ交互に割り当てられている、パターン。 A pattern with functionality,
On both sides of the transparent substrate,
Have one or more sets of two parallel lines containing conductive material,
The one or more sets of parallel lines on either side are formed as a result of the conductive material being separated by the movement of the liquid,
When viewed through the transparent substrate, the parallel lines on both sides of the transparent substrate are overlapped to form a lattice pattern, and the line interval of each line segment constituting the lattice pattern is in the range of 100 μm to 400 μm. And the standard deviation is less than 30,
In the grid pattern, it is a set of two said parallel lines adjacent to each other, on both sides of the transparent substrate, is assigned to alternately a plurality of sets, patterns. 請求項１〜１４の何れかに記載のパターンを透明基材に備えてなるパターン付き基材。 The base material with a pattern which equips a transparent base material with the pattern in any one of Claims 1-14 . 請求項１５記載のパターン付き基材を備えたタッチパネル。 A touch panel comprising the patterned substrate according to claim 15 .
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