JP6571946B2 - 透明基板 - Google Patents
透明基板 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6571946B2 JP6571946B2 JP2015030801A JP2015030801A JP6571946B2 JP 6571946 B2 JP6571946 B2 JP 6571946B2 JP 2015030801 A JP2015030801 A JP 2015030801A JP 2015030801 A JP2015030801 A JP 2015030801A JP 6571946 B2 JP6571946 B2 JP 6571946B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transparent substrate
- resin layer
- group
- resin
- layered silicate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
1つの実施形態においては、上記樹脂層が、上記有機化処理された層状ケイ酸塩と樹脂化合物とを含む塗工液を、前記無機ガラス上に塗工して形成され、該塗工液が比誘電率が10以上の高極性溶剤を含む。
1つの実施形態においては、上記樹脂層の波長550nmにおける光透過率が、70%以上である。
1つの実施形態においては、上記樹脂層のヘイズ値が、10%以下である。
1つの実施形態においては、上記樹脂層の25℃における弾性率が、1GPa〜10GPaである。
1つの実施形態においては、上記樹脂層の25℃における破壊靭性値が、1MPa・m1/2〜10MPa・m1/2である。
1つの実施形態においては、上記樹脂化合物のガラス転移温度が、150℃〜450℃である。
1つの実施形態においては、上記樹脂化合物の重量平均分子量が、ポリスチレン換算で2×104〜100×104である。
1つの実施形態においては、上記樹脂化合物が、一般式(1)で表される繰り返し単位および一般式(2)で表される繰り返し単位を有する:
式(1)中、R1は炭素数1〜5の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、R2は炭素数2〜5の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、A1およびA2はそれぞれ独立して上記一般式(3)〜(7)で表される連結基から選ばれる少なくとも1種であり、X1はアリーレン基であり、該X1は、パラ位またはメタ位で連結基A2と連結基A1またはA3とに連結し、
式(2)中、R3はメチル基またはアリール基であり、A3およびA4はそれぞれ独立して、上記一般式(3)〜(7)で表される連結基から選ばれる少なくとも1種であり、X2はアリーレン基であり、X2は、パラ位またはメタ位で連結基A4と連結基A1またはA3とに連結する。
1つの実施形態においては、上記樹脂化合物において、パラ位に連結基を有するX1およびX2の合計数が、メタ位に連結基を有するX1およびX2の合計数に対して、3倍以上である。
1つの実施形態においては、上記樹脂化合物において、R1がメチル基であり、R2がイソブチル基であり、R3がメチル基またはアリール基であり、A1、A2、A3およびA4がそれぞれ独立して前記一般式(3)または(4)で表される連結基であり、X1がパラ位で連結基A2と連結基A1またはA3とに連結するアリール基であり、X2がパラ位で連結基A4と連結基A1またはA3とに連結するアリール基である。
1つの実施形態においては、上記樹脂化合物が、一般式(8)で表される繰り返し単位をさらに有する:
1つの実施形態においては、上記有機化処理された層状ケイ酸塩が、有機化処理剤として第4級イミダゾリウム塩および/または第4級ホスホニウム塩を用いて有機化処理されている。
1つの実施形態においては、本発明の透明基板は、総厚が、150μm以下である。
1つの実施形態においては、本発明の透明基板は、上記透明基板にクラックを入れ屈曲させた際の破断直径が50mm以下である。
1つの実施形態においては、本発明の透明基板は、水と、N−メチルピロリドンおよび/またはジメチルスルホキシドとを含み、水の含有割合が5重量%以上である混合溶媒を接触させた際にソルベントクラックが発生しない。
本発明のさらに別の局面によれば表示素子が提供される。この表示素子は、上記透明基板を用いて作製される。
本発明のさらに別の局面によれば太陽電池が提供される。この太陽電池は、上記透明基板を用いて作製される。
本発明のさらに別の局面によれば照明素子が提供される。この照明素子は、上記透明基板を用いて作製される。
図1(a)は、本発明の好ましい実施形態による透明基板の概略断面図である。この透明基板100は、無機ガラス10と、無機ガラス10の片側または両側(好ましくは、図示例のように両側)に配置された樹脂層11、11´とを備える。樹脂層11、11´は、後述の樹脂化合物および有機化処理された層状ケイ酸塩を含む。本発明においては、樹脂層を備えることにより、柔軟性に優れ、切断時にクラックが進展し難い透明基板を得ることができる。さらに、該樹脂層が有機化処理された層状ケイ酸塩を含むことにより、樹脂層にもガスバリア性を付与して樹脂層側部からのガスの侵入を防止し得る透明基板を得ることができる。なお、図示しないが、無機ガラス10と樹脂層11、11´との間に任意の適切な接着剤層が配置されていてもよい。
本発明の透明基板に用いられる無機ガラスは、板状のものであれば、任意の適切なものが採用され得る。上記無機ガラスは、組成による分類によれば、例えば、ソーダ石灰ガラス、ホウ酸ガラス、アルミノ珪酸ガラス、石英ガラス等が挙げられる。また、アルカリ成分による分類によれば、無アルカリガラス、低アルカリガラスが挙げられる。上記無機ガラスのアルカリ金属成分(例えば、Na2O、K2O、Li2O)の含有量は、好ましくは15重量%以下であり、さらに好ましくは10重量%以下である。
(樹脂化合物)
上記樹脂層は、主成分として樹脂化合物を含む。上記樹脂化合物の含有割合は、樹脂層の重量に対して、好ましくは50重量%〜99重量%であり、より好ましくは75重量%〜99重量%であり、さらに好ましくは80重量%〜97重量%であり、特に好ましくは85重量%〜95重量%である。
式(2)中、R3は、メチル基またはアリール基であり、好ましくはメチル基または炭素数6〜18の置換もしくは非置換のアリール基であり、さらに好ましくはメチル基または炭素数6〜12の置換もしくは非置換のアリール基である。A3およびA4はそれぞれ独立して、上記一般式(3)〜(7)で表される連結基から選ばれる少なくとも1種であり、好ましくは一般式(3)または(4)で表される連結基である。X2は、アリーレン基であり、好ましくは炭素数6〜18の置換もしくは非置換のアリーレン基であり、より好ましくは炭素数6〜12の置換もしくは非置換のアリーレン基である。X2は、パラ位またはメタ位で連結基A4と連結基A1またはA3とに連結する。
X1およびX2の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環等が挙げられる。
上記樹脂層は、有機化処理された層状ケイ酸塩を含む。有機化処理は、具体的には、層状ケイ酸塩に耐熱性を付加する処理である。詳細は、後述する。なお、本明細書において、有機化処理された層状ケイ酸塩を有機化処理層状ケイ酸塩ともいう。また、有機化処理前の層状ケイ酸塩を、単に層状ケイ酸塩という。
上記樹脂層の25℃における弾性率は、好ましくは1GPa〜10GPaであり、より好ましくは1.5GPa〜10GPaであり、さらに好ましくは1.6GPa〜9GPaであり、特に好ましくは1.7GPa〜8GPaである。上記の範囲とすることによって、無機ガラスを薄くした場合でも、当該樹脂層が、変形時に生じる欠陥への引き裂き方向の局所的な応力を緩和するので、無機ガラスのクラックおよび破断が生じ難くなる。
上記接着剤層を構成する材料としては、任意の適切な樹脂を採用し得る。上記接着剤層を構成する材料としては、例えば、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、活性エネルギー線硬化性樹脂等が挙げられる。このような樹脂の具体例としては、例えば、エポキシ類および/またはオキセタン類を含むエポキシ系樹脂;アクリル系樹脂;シリコーン系樹脂等が挙げられる。好ましくは、耐熱性に優れるエポキシ系樹脂である。なお、これらの樹脂は、単独で、または2種以上組み合わせて用いてもよい。1つの実施形態においては、エポキシ系樹脂と熱可塑性樹脂とを併用して接着剤層が形成される。このような接着剤層を形成すれば、より強固な接着を実現することができる。
好ましくは、本発明の透明基板は、上記樹脂層と上記無機ガラスとの間にカップリング剤層をさらに備える。さらに好ましくは、該カップリング剤層は上記無機ガラスに直接配置される。
1つの実施形態においては、本発明の透明基板は、上記無機ガラスと上記樹脂層との間に別の樹脂層をさらに備える。別の樹脂層を備えていれば、上記樹脂層を溶液塗工により形成させる際に、別の樹脂層と樹脂層とが相溶するので、簡便に密着性の高い透明基板を得ることができる。
上記透明基板は、必要に応じて、任意の適切なその他の層を備え得る。上記その他の層としては、例えば、透明導電性層、ハードコート層等が挙げられる。
本発明の透明基板は、任意の適切な方法で上記樹脂層を上記無機ガラス上に形成させて得ることができる。上記樹脂層の形成方法としては、溶液塗工による方法が好ましく用いられる。
本発明の透明基板は、任意の適切な表示素子、太陽電池または照明素子に用いられ得る。表示素子としては、例えば、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ、電子ペーパー等が挙げられる。照明素子としては、例えば、有機EL素子等が挙げられる。
日立製作所社製のU−4100を用いて、JIS R3106−1998に準じて、透明基板の全光線透過率を測定した。
(2)ヘイズ値
村上色彩技術研究所製のヘイズメーター「HM−150」を用い、JIS K7136に準じて、透明基板のヘイズ値を測定した。
(3)着色性
得られた透明基板を、200℃下に1時間置き、その後、該透明基板のハンターの表色系におけるb値を測定して着色の有無を評価した。b値の測定は、村上色彩技術研究所製の高速積分球式分光透過率測定機「DOT−3C」を用いた。
(4)ガスバリア性(透湿度)
得られた透明基板の樹脂層の透湿度を、JIS K7129Bに準拠したMOCON測定法により評価した。具体的には、MOCON社製の水蒸気透過度測定装置「PERMATRAN W3/33MG型(HRH−1D型高精密流量コントロール装置付)」を用いて測定した。湿度条件は40℃90%RH、ガス流量は10.0±0.5cc/min、測定時間は20時間以上で行った。
(5)強靱性
透明基板(幅2cm、長さ15cm)の長辺端部に5mmのクラックを入れ、長辺を屈曲させた際に、クラックが進展したか否かにより透明基板の強靱性を評価した。
(6)保管安定性
下記の方法により得られた透明基板をカバー層(封止材)として用いる有機EL素子を作製した。具体的には、ガラス基材上に、陽極としての透明電極を形成し、該透明電極上に発光層を形成し、該発光層上に陰極としての金属電極を形成して積層体を得た。封止材として透明基板を用いて、該積層体を封止して有機EL素子を得た。なお、吸湿剤を用いずに有機EL素子を作製した。
この有機EL素子を、60℃/90%RHの環境下に所定時間(72時間、168時間、336時間)放置して、有機EL素子の発光状態を確認した。
撹拌装置を備えた反応容器中、4,4’−(1、3−ジメチルブチリデン)ビスフェノール7.65g(0.028mol)、4,4’−(1−フェニルエチリデン)ビスフェノール12.35g(0.043mol)、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド0.444g、p−ターシャリーブチルフェノール0.022gを1M水酸化ナトリウム溶液185gに溶解させた。この溶液に、テレフタル酸クロライド14.4g(0.071mol)をクロロホルム246gに溶解させた溶液を、撹拌しながら一度に加えて、室温で120分間撹拌した。その後、静置分離により、樹脂化合物を含むクロロホルム溶液を分離し、当該クロロホルム溶液を酢酸水およびイオン交換水で順に洗浄した後、当該クロロホルム溶液をメタノールに投入して樹脂化合物を析出させた。析出した樹脂化合物を濾過し、減圧下で乾燥させて、白色の樹脂化合物A27gを得た。
層状ケイ酸塩(クニミネ工業社製、商品名「クニピアF」)10gを2%濃度で水中に分散させ、有機化処理剤(1−デシル−3−メチルイミダゾリウムクロリド)3.9gを添加し80℃で2時間攪拌した。該分散液を遠心分離機にかけて沈殿物を水で洗浄した。続いてアセトンを500g添加し超音波処理をした後、再度遠心分離機にかけて沈殿物(有機化処理層状ケイ酸塩)を採取した。有機化処理層状ケイ酸塩10.5gとジメチルアセトアミド200gを混合し、有機化処理層状ケイ酸塩5重量%濃度の有機化処理層状ケイ酸塩分散液を得た。
ジメチルアセトアミドに代えて、トルエンを用いた以外は、製造例2と同様にして、有機化処理層状ケイ酸塩分散液を得た。
ジメチルアセトアミドに代えて、ジメチルホルムアミドを用いた以外は、製造例2と同様にして、有機化処理層状ケイ酸塩分散液を得た。
製造例2で得られた有機化処理層状ケイ酸塩分散液に、製造例1で得られたポリマーのジメチルアセトアミド溶液(ポリマー濃度:20重量%、比誘電率:38)を少しずつ添加し、透明な塗工液を調製した。有機化処理層状ケイ酸塩の含有割合は、ポリマー100重量部に対して、5重量部とした。
無機ガラス(厚み:50μm、縦10cm×横4cm)の両面に、上記塗工液を塗工し、100℃で10分間乾燥させて、透明基板(樹脂層(27μm)/無機ガラス(50μm)/樹脂層(27μm))を得た。
得られた透明基板を上記評価(1)〜(5)に供した。結果を表1に示す。
また、得られた透明基板を上記評価(6)に供した。結果を図2に示す。
さらに、得られた透明基板の樹脂層断面のTEM写真を図3に示す。
有機化処理層状ケイ酸塩の含有割合を、ポリマー100重量部に対して、10重量部とした以外は、実施例1と同様にして透明基板を得た。得られた透明基板を上記評価(1)〜(5)に供した。結果を表1に示す。また、得られた透明基板を上記評価(6)に供した。結果を図2に示す。
有機化処理層状ケイ酸塩の含有割合を、ポリマー100重量部に対して、13重量部とした以外は、実施例1と同様にして透明基板を得た。得られた透明基板を上記評価(1)〜(5)に供した。結果を表1に示す。また、得られた透明基板を上記評価(6)に供した。結果を図2に示す。
製造例3で得られた有機化処理層状ケイ酸塩分散液に、製造例1で得られたポリマーのトルエン溶液(ポリマー濃度:20重量%、比誘電率:2.3)を少しずつ添加し、透明な塗工液を調製した。有機化処理層状ケイ酸塩の含有割合は、ポリマー100重量部に対して、10重量部とした。このようにして得られた塗工液を用いた以外は、実施例1と同様にして透明基板を得た。得られた透明基板を上記評価(1)〜(5)に供した。結果を表1に示す。
製造例2で得られた有機化処理層状ケイ酸塩分散液に、製造例1で得られたポリマーのトルエン/ジメチルスルホキシド溶液(ポリマー濃度:20重量%、溶剤比率(重量比;トルエン:ジメチルスルホキシド)=7:3、比誘電率:16)を少しずつ添加し、透明な塗工液を調製した。有機化処理層状ケイ酸塩の含有割合は、ポリマー100重量部に対して、10重量部とした。このようにして得られた塗工液を用いた以外は、実施例1と同様にして透明基板を得た。得られた透明基板を上記評価(1)〜(5)に供した。結果を表1に示す。
製造例2で得られた有機化処理層状ケイ酸塩分散液に、製造例1で得られたポリマーのトルエン/ジメチルアセトアミド溶液(ポリマー濃度:20重量%、溶剤比率(重量比;トルエン:ジメチルアセトアミド)=7:3、比誘電率:13)を少しずつ添加し、透明な塗工液を調製した。有機化処理層状ケイ酸塩の含有割合は、ポリマー100重量部に対して、10重量部とした。
無機ガラス(厚み:50μm、縦10cm×横4cm)の両面に、上記塗工液を塗工し、100℃で10分間、次いで180で20分間乾燥させて、透明基板(樹脂層(27μm)/無機ガラス(50μm)/樹脂層(27μm))を得た。得られた透明基板を上記評価(1)〜(5)に供した。結果を表1に示す。
製造例4で得られた有機化処理層状ケイ酸塩分散液に、製造例1で得られたポリマーのトルエン/ジメチルスルホキシド溶液(ポリマー濃度:20重量%、溶剤比率(重量比;トルエン:ジメチルスルホキシド)=7:3、比誘電率:16)を少しずつ添加し、透明な塗工液を調製した。有機化処理層状ケイ酸塩の含有割合は、ポリマー100重量部に対して、10重量部とした。このようにして得られた塗工液を用いた以外は、実施例6と同様にして透明基板を得た。得られた透明基板を上記評価(1)〜(5)に供した。結果を表1に示す。
製造例4で得られた有機化処理層状ケイ酸塩分散液に、製造例1で得られたポリマーのトルエン/シクロペンタノン溶液(ポリマー濃度:20重量%、溶剤比率(重量;トルエン:シクロペンタノン)=9:1、比誘電率:3.9)を少しずつ添加し、透明な塗工液を調製した。有機化処理層状ケイ酸塩の含有割合は、ポリマー100重量部に対して、10重量部とした。このようにして得られた塗工液を用いた以外は、実施例1と同様にして透明基板を得た。得られた透明基板を上記評価(1)〜(5)に供した。結果を表1に示す。
製造例4で得られた有機化処理層状ケイ酸塩分散液に、製造例1で得られたポリマーのトルエン/シクロペンタノン溶液(ポリマー濃度:20重量%、溶剤比率(重量;トルエン:シクロペンタノン)=7:3、比誘電率:7)を少しずつ添加し、透明な塗工液を調製した。有機化処理層状ケイ酸塩の含有割合は、ポリマー100重量部に対して、10重量部とした。このようにして得られた塗工液を用いた以外は、実施例1と同様にして透明基板を得た。得られた透明基板を上記評価(1)〜(5)に供した。結果を表1に示す。
製造例2で得られた有機化処理層状ケイ酸塩分散液に、製造例1で得られたポリマーのトルエン溶液(ポリマー濃度:20重量%)を少しずつ添加し、透明な塗工液を調製した。有機化処理層状ケイ酸塩の含有割合は、ポリマー100重量部に対して、10重量部とした。このようにして得られた塗工液を用いた以外は、実施例1と同様にして透明基板を得た。得られた透明基板を上記評価(1)〜(5)に供した。結果を表1に示す。
製造例2で得られた有機化処理層状ケイ酸塩分散液に代えて、製造例4で得られた有機化処理層状ケイ酸塩分散液を用いた以外は、実施例10と同様にして透明基板を得た。得られた透明基板を上記評価(1)〜(5)に供した。結果を表1に示す。
製造例1で得られたポリマーのジメチルアセトアミド溶液(ポリマー濃度:20重量%)を樹脂層用キャスティング溶液とした。
無機ガラス(厚み:50μm)の両面に、該樹脂層用キャスティング溶液を塗工し、100℃で10分間乾燥させて、透明基板(樹脂層(26μm)/無機ガラス(50μm)/樹脂層(26μm))を得た。
得られた透明基板を上記評価(1)〜(5)に供した。結果を表1に示す。
また、得られた透明基板を上記評価(6)に供した。結果を図2に示す。
実施例1で用いた無機ガラスのみを上記評価(1)、(2)、(4)および(5)に供した。結果を表1に示す。なお、評価(5)において、該無機ガラスは、屈曲により容易に破断した。
また、該無機ガラスを上記評価(6)に供した。結果を図2に示す。
11、11´ 樹脂層
12、12´ カップリング剤層
13、13´ 別の樹脂層
100、101、102 透明基板
Claims (12)
- 無機ガラスと、該無機ガラスの片側または両側に配置された樹脂層とを含む、透明基板の製造方法であって、
有機化処理された層状ケイ酸塩と樹脂化合物とを含む塗工液を、該無機ガラス上に塗工して該樹脂層を形成することを含み、
該塗工液が、比誘電率が10以上の高極性溶剤を含み、
該無機ガラスの厚みが100μm以下であり、
該樹脂層が、該樹脂化合物と該有機化処理された層状ケイ酸塩とを含む、
透明基板の製造方法。 - 前記樹脂層の波長550nmにおける光透過率が、70%以上である、請求項1に記載の透明基板の製造方法。
- 前記樹脂層のヘイズ値が、10%以下である、請求項1または2に記載の透明基板の製造方法。
- 前記樹脂化合物のガラス転移温度が、150℃〜450℃である、請求項1から3のいずれかに記載の透明基板の製造方法。
- 前記樹脂化合物の重量平均分子量が、ポリスチレン換算で2×104〜100×104である、請求項1から4のいずれかに記載の透明基板の製造方法。
- 前記樹脂化合物が、一般式(1)で表される繰り返し単位および一般式(2)で表される繰り返し単位を有する、請求項1から5のいずれかに記載の透明基板の製造方法:
式(2)中、R3はメチル基またはアリール基であり、A3およびA4はそれぞれ独立して、上記一般式(3)〜(7)で表される連結基から選ばれる少なくとも1種であり、X2はアリーレン基であり、X2は、パラ位またはメタ位で連結基A4と連結基A1またはA3とに連結する。 - 前記樹脂化合物において、パラ位に連結基を有するX1およびX2の合計数が、メタ位に連結基を有するX1およびX2の合計数に対して、3倍以上であるか、または、X1およびX2が全てパラ位に連結基を有する、請求項6に記載の透明基板の製造方法。
- 前記樹脂化合物において、R1がメチル基であり、R2がイソブチル基であり、R3がメチル基またはアリール基であり、A1、A2、A3およびA4がそれぞれ独立して前記一般式(3)または(4)で表される連結基であり、X1がパラ位で連結基A2と連結基A1またはA3とに連結するアリール基であり、X2がパラ位で連結基A4と連結基A1またはA3とに連結するアリール基である、請求項6に記載の透明基板の製造方法。
- 前記樹脂化合物が、一般式(8)で表される繰り返し単位をさらに有する、請求項6から8のいずれかに記載の透明基板の製造方法:
- 前記有機化処理された層状ケイ酸塩が、有機化処理剤として第4級イミダゾリウム塩および/または第4級ホスホニウム塩を用いて有機化処理されている、請求項1から9のいずれかに記載の透明基板の製造方法。
- 総厚が、150μm以下である、請求項1から10のいずれかに記載の透明基板の製造方法。
- 水と、N−メチルピロリドンおよび/またはジメチルスルホキシドとを含み、水の含有割合が5重量%以上である混合溶媒を接触させた際にソルベントクラックが発生しない、請求項1から11のいずれかに記載の透明基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015030801A JP6571946B2 (ja) | 2014-03-24 | 2015-02-19 | 透明基板 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014060307 | 2014-03-24 | ||
JP2014060307 | 2014-03-24 | ||
JP2015030801A JP6571946B2 (ja) | 2014-03-24 | 2015-02-19 | 透明基板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015193227A JP2015193227A (ja) | 2015-11-05 |
JP6571946B2 true JP6571946B2 (ja) | 2019-09-04 |
Family
ID=54432728
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015030801A Active JP6571946B2 (ja) | 2014-03-24 | 2015-02-19 | 透明基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6571946B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3276660B1 (en) | 2016-07-27 | 2020-10-28 | Infineon Technologies AG | Double-encapsulated power semiconductor module and method for producing the same |
WO2024043117A1 (ja) * | 2022-08-22 | 2024-02-29 | 日本ゼオン株式会社 | 積層体、及び複合積層体 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004136466A (ja) * | 2002-10-15 | 2004-05-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 積層ガスバリア性フィルム並びに該フィルムからなる基板及び該フィルムを有する画像表示素子 |
JP2005014563A (ja) * | 2003-06-30 | 2005-01-20 | Nippon Zeon Co Ltd | 積層体および表示装置 |
WO2010104070A1 (ja) * | 2009-03-09 | 2010-09-16 | 積水化学工業株式会社 | 太陽電池用裏面保護シート、太陽電池モジュール及びガスバリアフィルム |
US8911869B2 (en) * | 2009-10-22 | 2014-12-16 | Nitto Denko Corporation | Transparent substrate |
JP2013076026A (ja) * | 2011-09-30 | 2013-04-25 | Sekisui Chem Co Ltd | ポリイミド樹脂組成物 |
JP2013233746A (ja) * | 2012-05-09 | 2013-11-21 | Mitsubishi Plastics Inc | ガスバリア性フィルム及びその製造方法 |
CN104350122A (zh) * | 2012-05-29 | 2015-02-11 | 日东电工株式会社 | 粘合剂和使用所述粘合剂的透明基板 |
-
2015
- 2015-02-19 JP JP2015030801A patent/JP6571946B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015193227A (ja) | 2015-11-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20180228002A1 (en) | Transparent substrate | |
TWI444288B (zh) | Transparent substrate | |
JP5480774B2 (ja) | 透明基板 | |
WO2010053092A1 (ja) | 透明基板およびその製造方法 | |
WO2015146742A1 (ja) | 透明樹脂フィルム | |
WO2013180133A1 (ja) | 接着剤およびそれを用いた透明基板 | |
JP5668109B2 (ja) | 透明基板ならびに透明基板を用いた表示素子、太陽電池および照明素子 | |
JP6571946B2 (ja) | 透明基板 | |
JP5238594B2 (ja) | 表示素子用基板およびその製造方法 | |
JP5439019B2 (ja) | 表示素子用基板およびその製造方法 | |
JP2012247785A (ja) | 表示素子用基板およびその製造方法 | |
JP5567314B2 (ja) | 透明基板およびその製造方法 | |
JP6486598B2 (ja) | 透明樹脂フィルム | |
TW201540504A (zh) | 樹脂膜 | |
JP6319867B2 (ja) | ポリアリレート系樹脂の製造方法 | |
JP6113555B2 (ja) | 光学フィルム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171220 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180829 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180905 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20181029 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181214 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190312 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20190510 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190709 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190723 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190809 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6571946 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |