JP6571034B2 - 光電変換素子モジュール、太陽電池及び太陽光発電システム - Google Patents
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Description
一般的に、Cu−In−Ga−Seから構成されるp型半導体を光吸収層とする光電変換素子は、基板となるソーダライムガラス上に、下部電極、p型半導体層、n型半導体層、絶縁層、透明電極、上部電極、反射防止膜が積層した構造を有する。変換効率ηは開放電圧Voc、短絡電流密度Jsc、出力因子FF、入射パワー密度Pを用い、η=Voc・Jsc・FF/P・100で表される。
(光電変換素子)
図1の断面概念図に示す本実施形態にかかるヘテロ接合型の光電変換素子100は、基板1と、基板1上に第1電極2と、第1電極上に光吸収層3と、光吸収層3上にn型化合物半導体層4aと、n型化合物半導体層4a上に第2電極5と、を備える。実施形態の光電変換素子の光吸収層はホモ接合型の形態も含まれる。図2の断面概念図に示すホモ接合型の光電変換素子101は、基板1と、基板1上に第1電極2と、第1電極上に光吸収層3と、光吸収層3上に第2電極5と、を備え。光吸収層3の第2電極5側には、n型領域4bが含まれる。
実施形態の基板1としては、ソーダライムガラス等のNa(ナトリウム)を含有したガラスを用いることが望ましく、石英、白板ガラス、化学強化ガラスなどガラス全般、ステンレス、Ti(チタン)又はCr(クロム)等の金属板あるいはポリイミド、アクリル等の樹脂を用いることもできる。多接合型のトップセル側の光電変換素子に用いる基板1としては、透明基板であることが好ましい。
実施形態の第1電極2は、基板1上の導電層である。第1電極2は。基板1と光吸収層3の間に存在する導電層である。第1電極2は、光電変換素子100の一方の電極であって、MoやW等を含む導電性の金属膜、もしくは酸化インジウムスズ(ITO:Indium−Tin Oxide)を含む半導体の透明導電膜である。第1電極2が金属膜である場合は、Mo膜やW膜が好ましい。第1電極2が透明導電膜である場合、光吸収層3側の透明導電膜ITO上には、SnO2、SnO2、TiO2、キャリアドープされたZnO:Ga、ZnO:Alなどの酸化物を含む層を積層してもよい。半導体膜を第1電極2として用いる場合、基板1側から光吸収層3側にITOとSnO2を積層したものでもよいし、基板1側から光吸収層3側にITO、SnO2とTiO2を積層したものなどでもよい。また、基板1とITOの間にSiO2等の酸化物を含む層をさらに設けても良い。第1電極2は基板1にスパッタするなどして成膜することができる。第1電極2の膜厚は、例えば、100nm以上1000nm以下である。第1電極2に用いられる透明導電膜には、特性向上のために製膜時にドーピングを行うことが好ましい。第1電極2は、図示しない取り出し電極と接続していることが好ましい。
実施形態の光吸収層3は、第1電極2上の化合物半導体層である。光吸収層3は、第1電極2と第2電極5の間に存在する化合物半導体層である。光吸収層3は、第1電極2上の基板1側とは反対側の主面に形成された層である。光吸収層3は、Ib族元素、IIIb族元素とVIb族元素を含む化合物半導体層である。Ib族元素がCu、Ag、又はCu及びAgからなり、IIIb族元素がGa、AlとInの中から選ばれる1種以上の元素であり、VIb族元素は、Sを少なくとも含み、さらに、Se、Te、又は、Se及びTeからなることが好ましい。例えばCu(In,Ga)Se2やCuInTe2、CuGaSe2、Cu(In,Al)Se2,Cu(Al,Ga)(S,Se)2、CuGa(S,Se)2,Ag(In,Ga)Se2といったカルコパイライト構造を有する化合物半導体層を光吸収層3として用いることができる。その中でも、Ib族元素がCu、Ag、又はCu及びAgからなり、IIIb族元素がGa、Al、又は、Ga及びAlからなり、VIb族元素は、Se及びSからなることがより好ましい。IIIb族元素にInが少ないと、多接合型の光電変換素子のトップセルとして、光吸収層3のバンドギャップを好適な値に調整しやすいことが好ましい。光吸収層3の膜厚は、例えば、800nm以上3000nm以下である。図1の断面図の形態の場合、光吸収層3は、p型の化合物半導体層である。図2の断面図の形態の場合、光吸収層3は、第2電極5側にn型領域4bを含み、第1電極2側はp領域3bとなる化合物半導体層である。p領域3bとn型領域4bは、pn接合を形成している。
実施形態の光吸収層3は、その前駆体であるp型半導体層を第1電極2上に形成し、n型化合物半導体層4が形成される側のp型半導体層の領域をn型化した層である。p型半導体層の形成方法としては、3段階法などの蒸着法やセレン化硫化法、スパッタ法等の薄膜形成方法が挙げられる。実施形態の3段階法は、第1電極2上にGa又はInと、Se又はSを堆積した後、高温でCuとSeを堆積し、その後、再びGa又はInと、Se又はSを堆積することで光吸収層3を形成することを特徴とする。実施形態のセレン化硫化法は、第1電極2上にCuとGa又はInとSeを含有するプリカーサ層を高温で加熱した後、H2Sガス中で表面硫化を行うことで光吸収層3を形成することを特徴とする。下記は、蒸着法およびセレン化硫化法での、実施形態の光吸収層3の製造方法について説明する。
その後、基板温度を450℃以上550℃以下まで加熱し、Ib族元素であるCuと、Se等のVIb族元素を堆積する。吸熱反応の開始を確認し、一旦、Ib族元素であるCuが過剰の組成でIb族元素であるCuの堆積を停止する(第2段階目)。
光吸収層3の側面領域Xの硫黄濃度を高めるために、側面P0に対して硫化処理が行われる。硫化処理は、光電変換素子100、101を作製した後に、光電変換素子100、101の側面を機械的又は化学的に処理して、機械的又は化学的に処理された光吸収層3の側面に行う。硫化処理は、例えば、1atom%〜50atom%のS(硫黄)を含む化合物を水中に有する硫化アンモニウム溶液やチオアセドアミド溶液等の溶液に光電変換素子100、101の少なくとも光吸収層3を浸漬、または、硫化水素ガス等の気体に光電変換素子100、101の少なくとも光吸収層3を触れさせた後、100℃以上350℃以下で加熱することによって行われる。溶液に浸漬した部材の表面は、水で洗って乾燥させても良いし、風乾によって乾燥させても良い。光電変換素子100、101の側面を機械的又は化学的に処理すると、光吸収層3の側面P0が酸化しやすくなる。光吸収層3の酸化も変換効率の低下の原因となるため、機械的又は化学的に処理したら速やかに硫化処理を行うことが好ましい。
実施形態のn型化合物半導体層4aは、光吸収層3上の化合物半導体層である。n型化合物半導体層4aは、光吸収層3と第2電極5の間に存在する化合物半導体層である。n型化合物半導体層4aは、は、光吸収層3上の第1電極2側とは反対側の主面に形成された層である。n型化合物半導体層4aは、光吸収層3とヘテロ接合する層である。なお、光吸収層3がホモ接合型である場合、n型化合物半導体層4aは省略される。n型化合物半導体層4aは、高い開放電圧の光電変換素子を得ることのできるようにフェルミ準位が制御されたn型半導体が好ましい。n型化合物半導体層4aは、例えば、Zn1−yMgyO1−xSx、Zn1−y−zMgzMyO、ZnO1−xSx、Zn1−zMgzO(MはB、Al、In及びGaからなる群から選ばれる少なくとも1つの元素)や、CdS、キャリア濃度を制御したn型のGaPなどを用いることができる。n型化合物半導体層4aの厚さは、2nm以上800nm以下であることが好ましい。n型化合物半導体層4は、例えば、スパッタやCBD(化学溶液析出法)によって成膜される。n型化合物半導体層4aをCBDで成膜する場合、例えば、水溶液中で金属塩(例えばCdSO4)、硫化物(チオウレア)と錯化剤(アンモニア)を化学反応により、光吸収層3上に形成できる。光吸収層3にCuGaSe2層、AgGaSe2層、CuGaAlSe層、CuGa(Se,S)2層などIIIb族元素にInを含まないカルコパイライト型化合物を用いた場合、n型化合物半導体層4aとしては、CdSが好ましい。
実施形態の酸化物層は、n型化合物半導体層4aと第2電極5の間又は光吸収層3と第2電極5の間に設けることが好ましい薄膜である。酸化物層は、積層構造を有していてもよい。酸化物層は、Zn1−xMgxO、ZnO1−ySyとZn1−xMgxO1−ySy(0≦x,y<1)のいずれかの化合物を含む薄膜である。酸化物層は、第2電極5側のn型化合物半導体層4aの主面のすべてを覆っていない形態でもよい。例えば、第2電極5側のn型化合物半導体層4aの面の50%を覆っていればよい。ほかの候補として、ウルツ型のAlNやGaN、BeOなども挙げられる。酸化物層の体積抵抗率は、1Ωcm以上であると光吸収層3内に存在する可能性のある低抵抗成分に由来するリーク電流を抑えることが可能になるという利点がある。なお、実施形態では、酸化物層を省略することができる。
実施形態の第2電極5は、太陽光のような光を透過し尚且つ導電性を有する電極膜である。第2電極5は、光吸収層3上、n型化合物半導体層4a上、又は、酸化物層上に存在する。第2電極5は、例えば、Ar雰囲気中でスパッタリングを行なって成膜される。第2電極5は、例えば、アルミナ(Al2O3)を2wt%含有したZnOターゲットを用いたZnO:Al或いはジボランまたはトリエチルボロンからのBをドーパントとしたZnO:Bを用いることができる。
実施形態の第3電極は、光電変換素子100の電極であって、第2電極5上に形成された金属膜である。第3電極としては、NiやAl等の導電性の金属膜を用いることができる。第3電極の膜厚は、例えば、200nm以上2000nm以下である。また、第2電極5の抵抗値が低く、直列抵抗成分が無視できるほどの場合等には、第3電極を省いても構わない。
実施形態の反射防止膜は、光吸収層3へ光を導入しやすくするための膜であって、第2電極5上又は第3電極上に形成されている。反射防止膜としては、例えば、MgF2やSiO2を用いることが望ましい。なお、実施形態において、反射防止膜を省くことができる。
図4の概念図に示す本実施形態に係る光電変換素子モジュール300は、機械的乃至化学的な方法でパターンニングおよび切断することで形成された、破線で示した側面P1、P2、P3を有する光電変換素子である。光電変換素子モジュール300を構成する電極や光吸収層等は、光電変換素子100、101と共通するため、その説明を省略する。光電変換素子モジュール300は、図3のような別の光電変換素子200と接合した、多接合型の光電変換素子に利用することもできる。なお、光電変換素子モジュール300は、図4の概念図において破線で囲った、基板1、第1電極2、光吸収層3、n型化合物半導体層4a、第2電極5および側面P1、P2、P3を有する1ユニットセル400を直列に繋げた構造を持つヘテロ接合型である。1ユニットセル400の第2電極5は、光吸収層3とn型化合物半導体層4aを貫通し、隣のユニットセルの第1電極2と接続することで、ユニットセル間の直列接続がなされている。光電変換素子モジュール300に、ホモ接合型の光電変換素子を用いてもよい。1ユニットセル400は第2電極5上に形成された第3電極および反射防止膜を備えていても良い。
本実施形態に係る光電変換素子モジュール300は、反射防止膜およびスクライブ断面P3を樹脂により封入される。なお、実施形態において、樹脂封入を省くことができる。
実施形態の光電変換素子は、太陽光発電システムにおいて、発電を行う太陽電池として用いることができる。実施形態の太陽光発電システムは、太陽電池を用いて発電を行うものであって、具体的には、発電を行う太陽電池と、発電した電気を電力変換する手段と、発電した電気をためる蓄電手段又は発電した電気を消費する負荷とを有する。図5に実施形態の太陽光発電システム500の構成概念図を示す。図5の太陽光発電システムは、太陽電池501と、コンバーター502と、蓄電池503と、負荷504とを有する。蓄電池503と負荷504は、どちらか一方を省略しても良い。負荷504は、蓄電池503に蓄えられた電気エネルギーを利用することもできる構成にしてもよい。コンバーター502は、DC−DCコンバーター、DC−ACコンバーター、AC−ACコンバーターなど変圧や直流交流変換などの電力変換を行う回路又は素子を含む装置である。コンバーター502の構成は、発電電圧、蓄電池503や負荷504の構成に応じて好適な構成を採用すればよい。
(実施例1)
実施例は、蒸着法を用いて、Ib族元素がCuで、IIIb族元素がGaで、VIb族元素がSeであるCGS層を成膜する方法を例に説明する。他の元素を用いる場合も、以下の蒸着法と同様に成膜することができる。
実施例2は、実施例1と同様の方法および条件で成膜し、同様の構成の光電変換素子100および側面P0を得た。側面形成後の部材は硫化アンモニウム溶液に600秒浸漬し、風乾した後、真空中において320℃で30分アニールを行うことで側面に硫化処理を施した。
比較例1−2は、実施例1−2と同様の方法および条件で成膜し、同様の構成の光電変換素子100および側面P0を得た。比較例1−2は、硫化アンモニウムなどによる側面の硫化処理を行わない。
明細書中、元素の一部は元素記号のみで表している。
Claims (8)
- 第1電極と、
第2電極と
前記第1電極と前記第2電極との間に、少なくともIb族元素、IIIb族元素及びVIb族元素を有するカルコパイライト型化合物を含む光吸収層とを備え、
前記VIb族元素は、少なくとも硫黄を含み、さらに、Se、Te、又は、Se及びTeを含み、
前記光吸収層の側面領域中の平均硫黄原子濃度S1は、前記光吸収層の内側領域中の平均硫黄原子濃度S2より高く、
前記光吸収層の側面は、機械的又は化学的に処理され、又は、スクライブ処理に依って処理された面である光電変換素子を用いた光電変換素子モジュール。 - 前記光吸収層において、光吸収層の側面から、光吸収層の側面に対して垂直方向に5nmの深さまでの領域を、側面領域とし、
前記光吸収層において、光吸収層の側面に対して垂直方向に50nm以上150nm以下の深さのうちの5nm幅の領域を内側領域とするとき、
[前記側面領域中の硫黄の原子の総数]/[前記側面領域中のIb族元素、IIIb族元素とVIb族元素の原子の総数]を前記側面領域の平均硫黄原子濃度S1とし、
[前記内側領域中の硫黄の原子の総数]/[前記内側領域中のIb族元素、IIIb族元素とVIb族元素の原子の総数]を前記内側領域の平均硫黄原子濃度S2とする請求項1に記載の光電変換素子を用いた光電変換素子モジュール。 - 前記S1とS2は、0.01atom%≦S1−S2≦10atom%の関係を満たす請求項1又は2に記載の光電変換素子モジュール。
- 前記Ib族元素は、Cu、Ag、又は、Cu及びAgからなり、
前記IIIb族元素は、Ga、AlとInの中から選ばれる1種以上の元素である請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光電変換素子モジュール。 - 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の光電変換素子を多接合型の光電変換素子に用いてなる光電変換素子モジュール。
- 前記内側領域は、前記光吸収層の中央の領域を含む請求項1乃至5のいずれか1項に記載の光電変換素子モジュール。
- 請求項1乃至6のいずれか1項に記載の光電変換素子モジュールを用いてなる太陽電池。
- 請求項7に記載の太陽電池を用いて発電を行う太陽光発電システム。
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