JP6568982B2 - Touchpad structure using dummy pattern for capacitive touch screen - Google Patents

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Description

本発明は、静電容量式タッチスクリーンのためのタッチパッドの構造に関し、より詳細には、静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造に関する。   The present invention relates to a touch pad structure for a capacitive touch screen, and more particularly, to a touch pad structure using a dummy pattern for a capacitive touch screen.

近年、携帯電話、PDA、MP3プレーヤなどの多様な携帯端末は、携帯性を向上させるためにそのサイズが小型化している。一方、このような携帯端末を利用して優れた品質の映像を提供するために、これに適用するディスプレイは大型化している。携帯端末自体の小型化とこれに適用するディスプレイの大型化の要求を満たすために、ディスプレイ自体にユーザの入力を可能にするタッチスクリーン方式が主に採用されている。また、LCD(Liquid Crystal Display)、PDP(Plasma Display Panel)、OLED(Organic Light Emitting Diode)、AMOLED(Active Matrix Organic Light Emitting Diode)などの大型TVやモニタでも、タッチスクリーン方式が採用されている。   In recent years, various mobile terminals such as mobile phones, PDAs, and MP3 players have been downsized in order to improve portability. On the other hand, in order to provide an excellent quality video using such a portable terminal, a display applied to the mobile terminal has been enlarged. In order to satisfy the demands for miniaturization of the mobile terminal itself and the enlargement of the display applied thereto, a touch screen system that allows user input to the display itself is mainly employed. In addition, LCD (Liquid Crystal Display), PDP (Plasma Display Panel), OLED (Organic Light Emitting Diode), AMOLED (Active Matrix Organic Light Emitter, etc.) are adopted.

このようなタッチスクリーンは、ユーザがスクリーンに直接表示される文字や特定の位置に人間の手やタッチペンが触れた場合、触れた位置の座標を把握することによってユーザの入力を可能にする装置である。このようなタッチスクリーンは、その動作原理に応じ、静電容量方式、抵抗膜方式、表面超音波方式、赤外線方式などがある。   Such a touch screen is a device that enables a user to input by grasping the coordinates of a touched position when a user touches a character or a specific position directly displayed on the screen with a human hand or a touch pen. is there. Such touch screens include a capacitance method, a resistance film method, a surface ultrasonic method, an infrared method, and the like depending on the operation principle.

特に、静電容量方式のタッチスクリーンは、人間の手または物体が触れたとき、導電性センサパターンが周辺の他のセンサパターンまたは接地電極などと形成する静電容量の変化を感知することによって接触位置を電気的信号に変換するようになる。   In particular, a capacitive touch screen detects a change in capacitance formed by a conductive sensor pattern with other surrounding sensor patterns or ground electrodes when touched by a human hand or object. The position is converted into an electrical signal.

このとき、接触面の接触位置を明確に判断するために、センサパターンは、第1方向に沿って連結するように形成された第1センサパターン、またはX方向パターンと第2方向に沿って連結するように形成された第2センサパターン、またはY方向パターンを含んで構成されるようになる。   At this time, in order to clearly determine the contact position of the contact surface, the sensor pattern is connected to the first sensor pattern formed to be connected along the first direction, or to the X direction pattern and the second direction. The second sensor pattern or the Y direction pattern formed to be configured is configured.

第1センサパターンと第2センサパターンは、それぞれ互いに異なるレイヤに配置される。例えば、第1センサパターンは上部レイヤに位置し、第2センサパターンは下部レイヤに位置し、第1センサパターンの間と第2センサパターンの間にはダミーパターンが配置される。   The first sensor pattern and the second sensor pattern are arranged in different layers. For example, the first sensor pattern is located in the upper layer, the second sensor pattern is located in the lower layer, and dummy patterns are arranged between the first sensor patterns and between the second sensor patterns.

図1a〜図1bは、従来技術に係るセンサパターンとダミーパターンの配置形態を示した図である。   FIG. 1A to FIG. 1B are diagrams illustrating arrangements of sensor patterns and dummy patterns according to the related art.

図1aを参照すると、従来技術に係るタッチパッド内のセンサパターン110の間にダミーパターン111が配置されており、ダミーパターンは互いに連結していないことが確認される。センサパターンとダミーパターン間の部分短絡時に、センサパターンから電流が1つのダミーパターンに流入する。   Referring to FIG. 1a, it is confirmed that the dummy patterns 111 are disposed between the sensor patterns 110 in the touch pad according to the related art, and the dummy patterns are not connected to each other. At the time of a partial short circuit between the sensor pattern and the dummy pattern, current flows from the sensor pattern into one dummy pattern.

図1bを参照すると、従来技術に係るタッチパッド内のセンサパターン110の間にダミーパターン111aが配置されており、ダミーパターンも互いに連結していることが確認される(111b)。センサパターンとダミーパターン間の部分短絡時に、センサパターンから電流がダミーパターン全体に流入する。   Referring to FIG. 1b, it is confirmed that the dummy patterns 111a are disposed between the sensor patterns 110 in the touch pad according to the related art, and the dummy patterns are also connected to each other (111b). When a partial short circuit occurs between the sensor pattern and the dummy pattern, current flows from the sensor pattern to the entire dummy pattern.

図2a〜図2bは、タッチパネル内の短絡による誤動作を説明するための図である。   2a to 2b are diagrams for explaining a malfunction due to a short circuit in the touch panel.

図2aを参照すると、タッチパッド内のセンサパターンの特定部位をタッチすると、この部分の静電容量の変化をX軸とY軸に連結するそれぞれのセンサで認識してタッチ座標を把握することができる。   Referring to FIG. 2a, when a specific part of the sensor pattern in the touch pad is touched, the change in capacitance of this part can be recognized by each sensor connected to the X axis and the Y axis to grasp the touch coordinates. it can.

図2bを参照すると、センサパターンとダミーパターン間の部分短絡が発生した場合、センサパターンの特定部位がタッチされると、電流がセンサパターンからダミーパターンに流入する。   Referring to FIG. 2b, when a partial short circuit occurs between the sensor pattern and the dummy pattern, when a specific part of the sensor pattern is touched, current flows from the sensor pattern to the dummy pattern.

特に、ダミーパターンが互いに連結していない場合よりもダミーパターンが互いに連結している場合に、センサパターンとダミーパターン間の部分短絡が発生すると、センサパターンから流入した電流がダミーパターン全体に流入するため、過度な静電容量の変化を招来するようになり、正確な接触位置を判断するための妨害要素として作用するようになる。   In particular, when the dummy patterns are connected to each other than when the dummy patterns are not connected to each other, when a partial short circuit occurs between the sensor pattern and the dummy pattern, the current flowing from the sensor pattern flows into the entire dummy pattern. For this reason, an excessive change in electrostatic capacitance is caused, which acts as a disturbing element for determining an accurate contact position.

したがって、このような従来技術の問題点を解決するために、本発明は、センサパターンの間にダミーパターンを配置し、配置するダミーパターンを多数の予め設定された形態に分割して形成する、静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造を提供することを目的とする。   Therefore, in order to solve such problems of the prior art, the present invention arranges a dummy pattern between the sensor patterns, and divides and forms the dummy pattern to be arranged into a number of preset forms. An object of the present invention is to provide a structure of a touch pad using a dummy pattern for a capacitive touch screen.

また、本発明は、センサパターンの間にダミーパターンを配置し、配置するダミーパターンを構成するメッシュを規則的または不規則的に断線させて形成する、静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造を提供することを他の目的とする。   The present invention also provides a dummy pattern for a capacitive touch screen, in which a dummy pattern is arranged between sensor patterns, and a mesh constituting the arranged dummy pattern is regularly or irregularly disconnected. Another object of the present invention is to provide a structure of a touch pad that uses the touch pad.

なお、本発明は、センサパターンの間にダミーパターンを配置し、センサパターンとダミーパターンの間に位置し、センサパターンとダミーパターン間の境界面に沿って予め設定された距離だけ離隔して物理的に分離する補助ダミーパターンを形成する、静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造を提供することをさらに他の目的とする。   In the present invention, a dummy pattern is arranged between sensor patterns, located between the sensor pattern and the dummy pattern, and physically separated by a preset distance along the boundary surface between the sensor pattern and the dummy pattern. It is still another object of the present invention to provide a structure of a touch pad using a dummy pattern for a capacitive touch screen that forms an auxiliary dummy pattern to be separated.

しかし、発明の目的が上述した事項に制限されるものではなく、上述されていないさらに他の目的は、後述の記載から当業者によって明確に理解されるであろう。   However, the object of the invention is not limited to the above-described matters, and other objects not described above will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

上述した目的を達成するために、本発明の一観点に係る静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造は、第1方向に形成された第1センサパターンと前記第1センサパターンの間に第1ダミーパターンが配列される第1センサ部、および前記第1センサ部と重なっており、前記第1方向と交差する第2方向に形成された第2センサパターンと前記第2センサパターンの間に第2ダミーパターンが配列される第2センサ部を備え、前記第1ダミーパターンと前記第2ダミーパターンそれぞれは、物理的に分離する少なくとも2つ以上のサブダミーパターンからなることを特徴とする。   In order to achieve the above-described object, a touch pad structure using a dummy pattern for a capacitive touch screen according to an aspect of the present invention includes a first sensor pattern formed in a first direction and the first sensor pattern. A first sensor part in which a first dummy pattern is arranged between one sensor pattern, and a second sensor pattern that overlaps the first sensor part and is formed in a second direction intersecting the first direction; and A second sensor unit in which a second dummy pattern is arranged between the second sensor patterns is provided, and each of the first dummy pattern and the second dummy pattern includes at least two sub dummy patterns that are physically separated. It is characterized by becoming.

好ましくは、前記第1ダミーパターンは前記第2センサパターンの位置に対応する領域に配置され、前記第2ダミーパターンは前記第1センサパターンの位置に対応する領域に配置されることを特徴とする。   Preferably, the first dummy pattern is disposed in a region corresponding to the position of the second sensor pattern, and the second dummy pattern is disposed in a region corresponding to the position of the first sensor pattern. .

好ましくは、前記第1ダミーパターンと前記第2ダミーパターンそれぞれは、少なくとも2つ以上のサブダミーパターンからなり、互いに異なる数のサブダミーパターンからなることを特徴とする。   Preferably, each of the first dummy pattern and the second dummy pattern includes at least two sub-dummy patterns, and includes a different number of sub-dummy patterns.

好ましくは、分離した前記少なくとも2つ以上のサブダミーパターンそれぞれの境界線は、当該ダミーパターンを構成するメッシュの方向と互いに平行するように形成されることを特徴とする。   Preferably, the boundary lines of the at least two or more sub-dummy patterns separated from each other are formed so as to be parallel to the direction of the mesh constituting the dummy pattern.

好ましくは、分離した前記少なくとも2つ以上のサブダミーパターンそれぞれの境界線は、当該ダミーパターンを構成するメッシュの方向と互いに平行しないように形成されることを特徴とする。   Preferably, the boundary lines of the at least two or more sub-dummy patterns separated from each other are formed so as not to be parallel to the direction of the mesh constituting the dummy pattern.

好ましくは、前記第1ダミーパターンと前記第2ダミーパターンそれぞれは、予め設定された形態を有する2つ以上のサブダミーパターンからなり、前記2つ以上のサブダミーパターンそれぞれは、第1ダミーパターンまたは第2ダミーパターンの全体外郭の形状と同じ形状を有して均等面積を有するように形成されることを特徴とする。   Preferably, each of the first dummy pattern and the second dummy pattern includes two or more sub-dummy patterns having a preset form, and each of the two or more sub-dummy patterns includes the first dummy pattern or The second dummy pattern is formed to have the same shape as the entire outer shape and to have an equal area.

好ましくは、前記第1ダミーパターンと前記第2ダミーパターンそれぞれは、予め設定された形態を有する2つ以上のサブダミーパターンからなり、前記2つ以上のサブダミーパターンそれぞれは、第1ダミーパターンまたは第2ダミーパターンの全体外郭の形状とは異なる形状を有するが均等面積を有するように形成されることを特徴とする。   Preferably, each of the first dummy pattern and the second dummy pattern includes two or more sub-dummy patterns having a preset form, and each of the two or more sub-dummy patterns includes the first dummy pattern or The second dummy pattern has a shape different from that of the entire outline, but is formed to have an equal area.

好ましくは、前記第1ダミーパターンと前記第2ダミーパターンそれぞれは、予め設定された形態を有する2つ以上のサブダミーパターンからなり、前記2つ以上のサブダミーパターンそれぞれは、第1ダミーパターンまたは第2ダミーパターンの全体外郭の形状とは異なる形状を有して異なる面積を有するように形成されることを特徴とする。   Preferably, each of the first dummy pattern and the second dummy pattern includes two or more sub-dummy patterns having a preset form, and each of the two or more sub-dummy patterns includes the first dummy pattern or The second dummy pattern is formed to have a shape different from the shape of the entire outline of the second dummy pattern and to have a different area.

好ましくは、前記第1ダミーパターンと前記第2ダミーパターンそれぞれは、その内部のメッシュを規則的または不規則的に断線させて物理的に分離した少なくとも2つ以上のサブダミーパターンからなることを特徴とする。   Preferably, each of the first dummy pattern and the second dummy pattern includes at least two or more sub-dummy patterns that are physically separated by regularly or irregularly disconnecting a mesh therein. And

好ましくは、前記第1ダミーパターンと前記第2ダミーパターンそれぞれは、メッシュを予め設定された範囲内で規則的に破断して分割することができ、破断した線の長さが等しくなるように形成されることを特徴とする。   Preferably, each of the first dummy pattern and the second dummy pattern can be divided by breaking the mesh regularly within a preset range, and the lengths of the broken lines are equal. It is characterized by being.

好ましくは、前記第1ダミーパターンと前記第2ダミーパターンそれぞれは、メッシュを予め設定された範囲内で不規則的に破断して分割することができ、破断した線の長さが互いに異なるように形成されることを特徴とする。   Preferably, each of the first dummy pattern and the second dummy pattern can be divided by irregularly breaking the mesh within a preset range so that the lengths of the broken lines are different from each other. It is formed.

また、本発明に係る静電容量式タッチスクリーンのための補助ダミーパターンを使用するタッチパッドの構造は、前記第1センサパターンと前記第1ダミーパターンの間に位置し、前記第1センサパターンと前記第1ダミーパターン間の境界面に沿って離隔して第1ダミーパターンと物理的に分離するように形成される第1補助ダミーパターン、および前記第2センサパターンと前記第2ダミーパターンの間に位置し、前記第2センサパターンと前記第2ダミーパターン間の境界面に沿って離隔して第2ダミーパターンと物理的に分離するように形成される第2補助ダミーパターンをさらに備えることを特徴とする。   The touch pad structure using the auxiliary dummy pattern for the capacitive touch screen according to the present invention may be located between the first sensor pattern and the first dummy pattern, A first auxiliary dummy pattern formed so as to be physically separated from the first dummy pattern by being separated along a boundary surface between the first dummy patterns; and between the second sensor pattern and the second dummy pattern. And a second auxiliary dummy pattern formed so as to be physically separated from the second dummy pattern by being separated along a boundary surface between the second sensor pattern and the second dummy pattern. Features.

本発明の他の一観点に係る静電容量式タッチスクリーンのための補助ダミーパターンを使用するタッチパッドの構造は、第1方向に形成された第1センサパターンと前記第1センサパターンの間に第1ダミーパターンと第1補助ダミーパターンが配列される第1センサ部、および前記第1センサ部と重なっており、前記第1方向と交差する第2方向に形成された第2センサパターンと前記第2センサパターンの間に第2ダミーパターンと第2補助ダミーパターンが配列される第2センサ部を備え、前記第1補助ダミーパターンは、前記第1センサパターンと前記第1ダミーパターンの間に位置し、前記第1補助ダミーパターンは、前記第1センサパターンと前記第1ダミーパターン間の境界面に沿って離隔して物理的に分離するように形成され、前記第2補助ダミーパターンは、前記第2センサパターンと前記第2ダミーパターンの間に位置し、前記第2補助ダミーパターンは、前記第2センサパターンと前記第2ダミーパターン間の境界面に沿って離隔して物理的に分離するように形成されることを特徴とする。   According to another aspect of the present invention, the structure of the touch pad using the auxiliary dummy pattern for the capacitive touch screen is between the first sensor pattern formed in the first direction and the first sensor pattern. A first sensor part in which a first dummy pattern and a first auxiliary dummy pattern are arranged; and a second sensor pattern that overlaps the first sensor part and is formed in a second direction intersecting the first direction; A second sensor part in which a second dummy pattern and a second auxiliary dummy pattern are arranged between the second sensor patterns is provided, and the first auxiliary dummy pattern is interposed between the first sensor pattern and the first dummy pattern. And the first auxiliary dummy pattern is separated and physically separated along a boundary surface between the first sensor pattern and the first dummy pattern. The second auxiliary dummy pattern is located between the second sensor pattern and the second dummy pattern, and the second auxiliary dummy pattern is located on a boundary surface between the second sensor pattern and the second dummy pattern. It is characterized in that it is formed so as to be separated along the physical separation.

好ましくは、前記第1補助ダミーパターンと前記第2補助ダミーパターンそれぞれは、該当する前記第1センサパターンと前記第2センサパターンの外郭線に沿って離隔して形成され、前記第1センサパターンと前記第2センサパターンの外郭線と同一形状を有するように形成されることを特徴とする。   Preferably, each of the first auxiliary dummy pattern and the second auxiliary dummy pattern is formed to be separated along an outline of the corresponding first sensor pattern and the second sensor pattern, The second sensor pattern is formed to have the same shape as the outline of the second sensor pattern.

好ましくは、前記第1補助ダミーパターンと前記第2補助ダミーパターンそれぞれは、前記第1ダミーパターン、前記第2ダミーパターンと物理的に分離するように形成され、前記第1ダミーパターンと前記第2ダミーパターンそれぞれは、ダミー連結部と結合して形成されることを特徴とする。   Preferably, each of the first auxiliary dummy pattern and the second auxiliary dummy pattern is formed to be physically separated from the first dummy pattern and the second dummy pattern, and the first dummy pattern and the second dummy pattern are formed. Each of the dummy patterns is formed in combination with a dummy connection part.

好ましくは、前記第1補助ダミーパターンと前記第2補助ダミーパターンそれぞれは、前記第1ダミーパターン、前記第2ダミーパターンと物理的に分離するように形成され、前記第1ダミーパターンと前記第2ダミーパターンそれぞれは、ダミー連結部と物理的に分離して形成されることを特徴とする。   Preferably, each of the first auxiliary dummy pattern and the second auxiliary dummy pattern is formed to be physically separated from the first dummy pattern and the second dummy pattern, and the first dummy pattern and the second dummy pattern are formed. Each of the dummy patterns is formed to be physically separated from the dummy connection part.

好ましくは、前記第1補助ダミーパターンと前記第2補助ダミーパターンそれぞれは、前記第1ダミーパターン、前記第2ダミーパターンと物理的に分離するように形成され、前記第1ダミーパターンと前記第2ダミーパターンの外郭を囲むように形成されることを特徴とする。   Preferably, each of the first auxiliary dummy pattern and the second auxiliary dummy pattern is formed to be physically separated from the first dummy pattern and the second dummy pattern, and the first dummy pattern and the second dummy pattern are formed. It is characterized by being formed so as to surround the outline of the dummy pattern.

本発明のさらに他の一観点に係る静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造は、基板に形成されてタッチ信号を感知する多数のセンサパターン、前記多数のセンサパターンそれぞれに連結して前記タッチ信号を伝達する多数の配線電極、および前記多数のセンサパターンまたは前記多数の配線電極の間の空間に形成される多数のダミーパターンを備え、前記多数のダミーパターンそれぞれは、物理的に分離した2つ以上のサブダミーパターンからなることを特徴とする。   According to another aspect of the present invention, a touch pad structure using a dummy pattern for a capacitive touch screen has a plurality of sensor patterns formed on a substrate to sense a touch signal, the plurality of sensor patterns. Each of the plurality of dummy patterns includes a plurality of wiring electrodes connected to each other to transmit the touch signal, and a plurality of dummy patterns formed in spaces between the plurality of sensor patterns or the plurality of wiring electrodes. It consists of two or more sub-dummy patterns that are physically separated.

好ましくは、前記多数のセンサパターンは、前記基板の一面に第1方向に配置される多数の第1センサパターン、および前記第1センサパターンが配置された同一面に前記第1方向と交差する第2方向に配置される多数の第2センサパターンを備え、前記ダミーパターンは、前記第2センサパターンの間に配置された第1センサパターンに前記配線電極が連結することによって形成された空間に配列されることを特徴とする。   Preferably, the plurality of sensor patterns include a plurality of first sensor patterns arranged in a first direction on one surface of the substrate, and a first surface intersecting the first direction on the same surface on which the first sensor patterns are arranged. A plurality of second sensor patterns arranged in two directions are provided, and the dummy patterns are arranged in a space formed by connecting the wiring electrodes to the first sensor patterns arranged between the second sensor patterns. It is characterized by being.

好ましくは、前記多数のセンサパターンは、前記基板の一面に第1方向に配置される多数の第1センサパターン、および前記基板の他面に第1方向と交差する第2方向に配置される多数の第2センサパターンを備えることを特徴とする。   Preferably, the plurality of sensor patterns are a plurality of first sensor patterns arranged in a first direction on one surface of the substrate, and a plurality of sensors arranged in a second direction intersecting the first direction on the other surface of the substrate. The second sensor pattern is provided.

好ましくは、前記多数のダミーパターンは、前記多数のセンサパターンまたは前記多数の配線電極の間に形成された空間の大きさによって大きさが互いに異なるように形成されることを特徴とする。   Preferably, the plurality of dummy patterns are formed to have different sizes depending on a size of a space formed between the plurality of sensor patterns or the plurality of wiring electrodes.

好ましくは、前記多数のダミーパターンそれぞれは、少なくとも2つ以上のサブダミーパターンからなり、互いに異なる数のサブダミーパターンからなることを特徴とする。   Preferably, each of the plurality of dummy patterns includes at least two or more sub dummy patterns, and includes a different number of sub dummy patterns.

好ましくは、分離した前記少なくとも2つ以上のサブダミーパターンそれぞれの境界線は、当該ダミーパターンを構成するメッシュの方向と互いに平行するように形成されることを特徴とする。   Preferably, the boundary lines of the at least two or more sub-dummy patterns separated from each other are formed so as to be parallel to the direction of the mesh constituting the dummy pattern.

好ましくは、分離した前記少なくとも2つ以上のサブダミーパターンそれぞれの境界線は、当該ダミーパターンを構成するメッシュの方向と互いに平行しないように形成されることを特徴とする。   Preferably, the boundary lines of the at least two or more sub-dummy patterns separated from each other are formed so as not to be parallel to the direction of the mesh constituting the dummy pattern.

好ましくは、前記多数のダミーパターンそれぞれは、予め設定された形態を有する2つ以上のサブダミーパターンからなり、前記2つ以上のサブダミーパターンそれぞれは、当該ダミーパターンの全体外郭の形状とは異なる形状を有して異なる面積を有するように形成されることを特徴とする。   Preferably, each of the plurality of dummy patterns includes two or more sub-dummy patterns having a preset form, and each of the two or more sub-dummy patterns is different from an overall outline shape of the dummy pattern. It has a shape and is formed to have different areas.

好ましくは、前記多数のダミーパターンそれぞれは、その内部のメッシュを規則的または不規則的に断線させて物理的に分離した少なくとも2つ以上のサブダミーパターンからなることを特徴とする。   Preferably, each of the plurality of dummy patterns includes at least two or more sub-dummy patterns that are physically separated by regularly or irregularly disconnecting a mesh therein.

好ましくは、前記多数のダミーパターンそれぞれは、メッシュを予め設定された範囲内で不規則的に破断して分割し、破断した線の長さが互いに異なるように形成されることを特徴とする。   Preferably, each of the plurality of dummy patterns is formed such that the mesh is irregularly broken and divided within a preset range, and the lengths of the broken lines are different from each other.

本発明のさらに他の一観点に係る静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造は、基板に形成されてタッチ信号を感知する多数のセンサパターン、前記多数のセンサパターンそれぞれに連結して前記タッチ信号を伝達する多数の配線電極、前記多数のセンサパターンまたは前記多数の配線電極の間の空間に形成される多数のダミーパターン、および前記多数のセンサパターンと前記多数のダミーパターンの間に形成されたり前記多数の配線電極と前記多数のダミーパターンの間に形成される多数の補助ダミーパターンを備えることができる。   According to another aspect of the present invention, a touch pad structure using a dummy pattern for a capacitive touch screen has a plurality of sensor patterns formed on a substrate to sense a touch signal, the plurality of sensor patterns. A plurality of wiring electrodes connected to each other to transmit the touch signal, the plurality of sensor patterns or a plurality of dummy patterns formed in spaces between the plurality of wiring electrodes, and the plurality of sensor patterns and the plurality of A plurality of auxiliary dummy patterns formed between the dummy patterns or formed between the plurality of wiring electrodes and the plurality of dummy patterns can be provided.

好ましくは、前記多数のダミーパターンは、前記多数のセンサパターンまたは前記多数の配線電極の間に形成された空間の大きさにより、大きさが互いに異なるように形成されることを特徴とする。   Preferably, the plurality of dummy patterns are formed to have different sizes depending on a size of a space formed between the plurality of sensor patterns or the plurality of wiring electrodes.

好ましくは、前記多数のダミーパターンと前記多数の補助ダミーパターンそれぞれは、多数に分割されて形成されることを特徴とする。   Preferably, each of the large number of dummy patterns and the large number of auxiliary dummy patterns is divided into a large number and formed.

これにより、本発明は、センサパターンの間にダミーパターンを配置し、配置するダミーパターンを多数の予め設定された形態に分割して形成したり、配置するダミーパターンを構成するメッシュを規則的または不規則的に断線させて形成したり、センサパターンとダミーパターンの間に位置し、センサパターンとダミーパターン間の境界面に沿って予め設定された距離だけ離隔して物理的に分離した補助ダミーパターンを形成したりすることにより、センサパターンとダミーパターン間の部分短絡が発生しても、機能の安全性を確保することができるという効果がある。   Thus, according to the present invention, dummy patterns are arranged between sensor patterns, and the dummy patterns to be arranged are formed by dividing them into a number of preset forms, or the meshes constituting the arranged dummy patterns are regularly or Auxiliary dummy that is formed by irregular disconnection or physically separated by a predetermined distance along the boundary surface between the sensor pattern and the dummy pattern, located between the sensor pattern and the dummy pattern By forming a pattern, even if a partial short circuit occurs between the sensor pattern and the dummy pattern, there is an effect that the safety of the function can be ensured.

また、本発明は、ダミーパターンの分割やメッシュの断線によってセンサパターンからダミーパターンに流入する電流を最小化させ、センサの動作を向上させることができる効果がある。   In addition, the present invention has the effect of minimizing the current flowing from the sensor pattern to the dummy pattern by dividing the dummy pattern or breaking the mesh, thereby improving the operation of the sensor.

なお、本発明は、センサパターンとダミーパターンが一部短絡しても、その短絡範囲が小さいため、製品自体を廃棄する程度にまで製品使用に問題がないことから、収率を向上させることができる効果がある。   In the present invention, even if the sensor pattern and the dummy pattern are partially short-circuited, since the short-circuit range is small, there is no problem in using the product to such an extent that the product itself is discarded. There is an effect that can be done.

図1aは、従来技術に係るセンサパターンとダミーパターンの配置形態を示した図である。FIG. 1A is a diagram illustrating an arrangement of sensor patterns and dummy patterns according to the related art. 図1bは、従来技術に係るセンサパターンとダミーパターンの配置形態を示した図である。FIG. 1B is a diagram illustrating an arrangement of sensor patterns and dummy patterns according to the related art. タッチパネル内の短絡による誤動作を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the malfunctioning by the short circuit in a touch panel. タッチパネル内の短絡による誤動作を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the malfunctioning by the short circuit in a touch panel. 本発明の一実施形態に係るセンサパターンの形態を示した図である。It is the figure which showed the form of the sensor pattern which concerns on one Embodiment of this invention. 図4aは、本発明の一実施形態に係るタッチスクリーンセンサ基板の感知部と連結部、およびダミー部を示した例示図である。FIG. 4A is an exemplary view illustrating a sensing unit, a coupling unit, and a dummy unit of the touch screen sensor substrate according to an embodiment of the present invention. 図4bは、本発明の一実施形態に係るタッチスクリーンセンサ基板の感知部と連結部、およびダミー部を示した例示図である。FIG. 4B is an exemplary view illustrating a sensing unit, a coupling unit, and a dummy unit of the touch screen sensor substrate according to an embodiment of the present invention. 図4cは、本発明の一実施形態に係るタッチスクリーンセンサ基板の感知部と連結部、およびダミー部を示した例示図である。FIG. 4C is an exemplary view illustrating a sensing unit, a coupling unit, and a dummy unit of the touch screen sensor substrate according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係るタッチスクリーンセンサ基板の感知部と連結部、およびダミー部を拡大して示した例示図である。FIG. 3 is an enlarged view illustrating a sensing unit, a coupling unit, and a dummy unit of a touch screen sensor substrate according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係るタッチスクリーンセンサ基板の感知部と連結部、およびダミー部を形成するメッシュ形状のパターンを示した例示図である。FIG. 4 is an exemplary diagram illustrating a mesh pattern forming a sensing unit, a coupling unit, and a dummy unit of a touch screen sensor substrate according to an embodiment of the present invention. 図7aは、本発明の一実施形態に係るタッチスクリーンセンサ基板の断面図である。FIG. 7a is a cross-sectional view of a touch screen sensor substrate according to an embodiment of the present invention. 図7bは、本発明の一実施形態に係るタッチスクリーンセンサ基板の断面図である。FIG. 7 b is a cross-sectional view of a touch screen sensor substrate according to an embodiment of the present invention. 図7cは、本発明の一実施形態に係るタッチスクリーンセンサ基板の断面図である。FIG. 7c is a cross-sectional view of a touch screen sensor substrate according to an embodiment of the present invention. 図8aは、本発明の一実施形態に係るタッチスクリーンセンサの構成を示した例示図である。FIG. 8a is an exemplary view showing a configuration of a touch screen sensor according to an embodiment of the present invention. 図8bは、本発明の一実施形態に係るタッチスクリーンセンサの断面図である。FIG. 8b is a cross-sectional view of a touch screen sensor according to an embodiment of the present invention. 図9aは、本発明の一実施形態に係るタッチパッドの形態を示した第1図である。FIG. 9 a is a first view illustrating a touch pad according to an embodiment of the present invention. 図9bは、本発明の一実施形態に係るタッチパッドの形態を示した第1図である。FIG. 9b is a first view illustrating a touch pad according to an embodiment of the present invention. 図9cは、本発明の一実施形態に係るタッチパッドの形態を示した第1図である。FIG. 9c is a first view illustrating a touch pad according to an embodiment of the present invention. 図10aは、本発明の一実施形態に係るタッチパッドの形態を示した第2図である。FIG. 10a is a second view illustrating a touch pad according to an embodiment of the present invention. 図10bは、本発明の一実施形態に係るタッチパッドの形態を示した第2図である。FIG. 10b is a second view illustrating a touch pad according to an embodiment of the present invention. 図10cは、本発明の一実施形態に係るタッチパッドの形態を示した第2図である。FIG. 10c is a second view illustrating a touch pad according to an embodiment of the present invention. 図11aは、本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第1図である。FIG. 11a is a first diagram illustrating a dummy pattern according to an embodiment of the present invention. 図11bは、本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第1図である。FIG. 11b is a first diagram illustrating a dummy pattern according to an embodiment of the present invention. 図12aは、本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第2図である。FIG. 12a is a second diagram illustrating a dummy pattern according to an embodiment of the present invention. 図12bは、本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第2図である。FIG. 12 b is a second view illustrating a dummy pattern according to an embodiment of the present invention. 図13aは、本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第3図である。FIG. 13a is a third diagram illustrating a dummy pattern according to an embodiment of the present invention. 図13bは、本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第3図である。FIG. 13b is a third diagram illustrating a dummy pattern according to an embodiment of the present invention. 図14aは、本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第4図である。FIG. 14a is a fourth diagram showing a dummy pattern according to an embodiment of the present invention. 図14bは、本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第4図である。FIG. 14b is a fourth diagram illustrating a dummy pattern according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第5図である。FIG. 6 is a fifth diagram showing a dummy pattern according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る補助ダミーパターンの配置形態を示した図である。It is the figure which showed the arrangement | positioning form of the auxiliary dummy pattern which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第6図である。It is FIG. 6 which showed the form of the dummy pattern which concerns on one Embodiment of this invention. 図18aは、本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第7図である。FIG. 18a is a seventh diagram illustrating a dummy pattern according to an embodiment of the present invention. 図18bは、本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第7図である。FIG. 18b is a seventh diagram illustrating a dummy pattern according to an embodiment of the present invention. 本発明の他の実施形態に係るタッチスクリーンセンサの構成を示した図である。It is the figure which showed the structure of the touch screen sensor which concerns on other embodiment of this invention. 図19に示したセンサパターン、ダミーパターン、配線電極の形状を拡大して示した図である。It is the figure which expanded and showed the shape of the sensor pattern, dummy pattern, and wiring electrode which were shown in FIG. 図19に示したダミーパターンの配置位置と形態を拡大して示した図である。It is the figure which expanded and showed the arrangement position and form of the dummy pattern shown in FIG.

以下、本発明の実施形態に係る静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造について、添付の図面を参照しながら説明する。本発明に係る動作および作用を理解するために必要な部分を中心に詳しく説明する。   Hereinafter, a structure of a touch pad using a dummy pattern for a capacitive touch screen according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. A detailed description will be given focusing on the parts necessary for understanding the operation and action of the present invention.

また、本発明の構成要素を説明するにおいて、同じ名称の構成要素であっても図面によって異なる参照符号を付与することもあり、互いに異なる図面であっても同じ参照符号を付与することもある。しかし、このような場合であっても、該当する構成要素が実施形態によって互いに異なる機能を有することを意味したり、互いに異なる実施形態で同じ機能を有することを意味するのではなく、それぞれの構成要素の機能は、該当する実施形態でそれぞれの構成要素に関する説明に基づいて判断されなければならない。   In the description of the constituent elements of the present invention, different reference numerals may be given depending on the drawings even if the constituent elements have the same name, and the same reference numerals may be given even in different drawings. However, even in such a case, it does not mean that the corresponding component has different functions depending on the embodiment, or does not mean that the same function is provided in different embodiments. The function of the element must be determined based on the description of each component in the applicable embodiment.

特に、本発明では、センサパターンの間にダミーパターンを配置し、1)配置されるダミーパターンを多数の予め設定された形態を有する多数のサブダミーパターンに分割して形成したり、2)配置されるダミーパターンを構成する内部のメッシュを規則的または不規則的に断線させて形成したり、3)センサパターンとダミーパターンの間に位置し、センサパターンとダミーパターン間の境界面に沿って予め設定された距離だけ離隔して物理的に分離した補助ダミーパターンを形成するようにする、新たなタッチパッドまたはセンサ基板の構造を提案する。   In particular, in the present invention, dummy patterns are arranged between sensor patterns, and 1) a dummy pattern to be arranged is divided into a large number of sub-dummy patterns having a preset form, or 2) an arrangement. The internal mesh constituting the dummy pattern to be formed is formed by regularly or irregularly disconnecting, or 3) located between the sensor pattern and the dummy pattern, along the boundary surface between the sensor pattern and the dummy pattern A new touch pad or sensor substrate structure is proposed in which auxiliary dummy patterns that are physically separated by a predetermined distance are formed.

このようにセンサパターンの間に配置されるダミーパターンをサブダミーパターンで分割したり、ダミーパターンと補助ダミーパターンに分割する理由は、短絡時にセンサパターンから流入する電流がダミーパターン全体に流入することを防ぐためである。   The reason why the dummy pattern arranged between the sensor patterns is divided into sub-dummy patterns or divided into a dummy pattern and an auxiliary dummy pattern is that current flowing from the sensor pattern flows into the entire dummy pattern at the time of a short circuit. Is to prevent.

図3は、本発明の一実施形態に係るセンサパターンの形態を示した図である。   FIG. 3 is a diagram showing a sensor pattern according to an embodiment of the present invention.

図3に示すように、本発明に係るセンサパターンは互いに交差配列し、X座標を感知するための第1センサパターン110とY座標を感知するための第2センサパターン210を備えることができる。   As shown in FIG. 3, the sensor patterns according to the present invention may include a first sensor pattern 110 for sensing the X coordinate and a second sensor pattern 210 for sensing the Y coordinate, which are crossed with each other.

例えば、第1センサパターン110は、X座標を感知するためのパターンであって、第1方向、例えば縦方向に規則的に形成することができる。また、第2センサパターン210は、Y座標を感知するためのパターンであって、第2方向、例えば横方向に規則的に形成することができる。   For example, the first sensor pattern 110 is a pattern for sensing the X coordinate, and can be regularly formed in a first direction, for example, the vertical direction. The second sensor pattern 210 is a pattern for sensing the Y coordinate, and can be regularly formed in the second direction, for example, the lateral direction.

第1センサパターン110は、多数の第1感知部110aと、その第1感知部110aを連結する連結部110bを備え、第2センサパターン210も同じように、多数の第2感知部210aと、その第2感知部210aを連結する連結部210bを備えることができる。   The first sensor pattern 110 includes a plurality of first sensing units 110a and a connecting unit 110b that couples the first sensing units 110a. Similarly, the second sensor pattern 210 includes a plurality of second sensing units 210a, The connection part 210b which connects the 2nd sensing part 210a can be provided.

図4a〜図4cは、本実施形態に係るタッチスクリーンセンサ基板の感知部と連結部を示した例示図である。   4A to 4C are exemplary views illustrating a sensing unit and a coupling unit of the touch screen sensor substrate according to the present embodiment.

図4aを参照すると、本実施形態に係るタッチスクリーンセンサ基板は、基材の一面に一定方向のパターンで連結する電極で形成された多数の感知部110a、および前記パターンの方向と同一または類似する方向のパターンで連結する電極で形成され、前記感知部110aを連結する連結部110bを備える。   Referring to FIG. 4A, the touch screen sensor substrate according to the present embodiment has a plurality of sensing units 110a formed of electrodes connected to one surface of a substrate in a pattern in a certain direction, and the same or similar direction as the pattern. The connecting part 110b is formed of electrodes connected in a directional pattern and connects the sensing part 110a.

また、図4bを参照すると、本実施形態において、タッチスクリーンセンサ基板は、感知部110aに隣接し、前記パターンの方向と同一または類似する方向のパターンで連結する電極で形成され、前記感知部110aの視認性を低減させる多数のダミーパターン111aを使用するようになる。   Referring to FIG. 4b, in the present embodiment, the touch screen sensor substrate is formed of electrodes adjacent to the sensing unit 110a and connected in a pattern having the same or similar direction as the pattern, and the sensing unit 110a. A large number of dummy patterns 111a that reduce the visibility of the image are used.

ここで、感知部110aおよびダミーパターンは、ユーザのタッチ信号を感知するために備えられる電極であって、本発明では導電性材料で形成され、この導電性材料は不透明性を有することができる。   Here, the sensing unit 110a and the dummy pattern are electrodes provided to sense a user's touch signal. In the present invention, the sensing unit 110a and the dummy pattern are formed of a conductive material, and the conductive material may be opaque.

また、ダミーパターン111aは、感知部110aと隣り合い、または隣接して形成される電極であって、名称で意味するようにダミー(dummy)、すなわち、感知部110aと類似する形状のパターンで形成され、ユーザのタッチ信号を感知することができないように不活性状態に形成される電極またはその組み合わせを意味する。したがって、感知部110aとダミーパターン111aは、電気的に絶縁するように形成される。ダミーパターン111aを基材に形成する理由は、透明電極物質で形成されない感知部110aがタッチスクリーンセンサに全面に形成され、タッチスクリーンセンサに照射する外部光によって感知部110aが視認される現象を防ぐためである。   Further, the dummy pattern 111a is an electrode formed adjacent to or adjacent to the sensing unit 110a, and is formed as a dummy having a shape similar to that of the sensing unit 110a, as the name implies. And an electrode formed in an inactive state or a combination thereof so that a user's touch signal cannot be detected. Therefore, the sensing unit 110a and the dummy pattern 111a are formed to be electrically insulated. The reason why the dummy pattern 111a is formed on the base material is that the sensing unit 110a that is not formed of the transparent electrode material is formed on the entire surface of the touch screen sensor, and prevents the sensing unit 110a from being visually recognized by the external light applied to the touch screen sensor. Because.

また、図4a〜図4bの場合には、感知部110aとダミーパターン111aが直線形状に形成されたものが示されているが、本発明がこれに限定されるものではなく、多様なパターンの形状で形成することが可能であり、例えば、感知部110aの全体形状をダイヤモンド、台形、ひし形などの形状で形成することが可能である。   4A to 4B, the sensing unit 110a and the dummy pattern 111a are formed in a linear shape. However, the present invention is not limited to this, and various patterns may be used. For example, the entire shape of the sensing unit 110a can be formed in a diamond shape, a trapezoidal shape, a rhombus shape, or the like.

一方、電極は、感知部110aで感知されたタッチ信号を外部の駆動回路(図示せず)に送るために備えられる電極であって、基材に感知部110aおよびダミーパターン111を形成するときに同時に形成されることが好ましい。本発明では、電極に関する事項は発明の範疇を超えるため、これに関するさらに詳細な説明は省略する。   On the other hand, the electrodes are provided to send a touch signal sensed by the sensing unit 110a to an external driving circuit (not shown), and when the sensing unit 110a and the dummy pattern 111 are formed on the substrate. Preferably, they are formed simultaneously. In the present invention, matters relating to the electrode are beyond the scope of the invention, and therefore further detailed explanation thereof is omitted.

また、図4cを参照すると、本実施形態に係るタッチスクリーンセンサ基板の感知部110a、ダミーパターン111a、および感知連結部110bは、互いに同一または類似する一定方向のパターンで連結する電極で形成されることが好ましい。また、ダミー連結部が備えられる場合には、ダミー連結部も互いに同一または類似する一定方向のパターンで連結する電極で形成されることが好ましい。   Referring to FIG. 4c, the sensing unit 110a, the dummy pattern 111a, and the sensing connection unit 110b of the touch screen sensor substrate according to the present embodiment are formed of electrodes that are connected in a pattern in a certain direction that is the same or similar to each other. It is preferable. In addition, when a dummy connection part is provided, the dummy connection part is preferably formed of electrodes that are connected in a pattern in a certain direction that is the same or similar to each other.

本実施形態において、一定方向のパターンとは、連続性のあるパターンであって、本実施形態では、図3に示すように、前記一定方向に形成された線が相互交差するメッシュ形状のパターンであることが好ましい。   In this embodiment, the pattern in a certain direction is a continuous pattern. In this embodiment, as shown in FIG. 3, the pattern formed in a mesh shape in which the lines formed in the certain direction intersect each other. Preferably there is.

本実施形態において、パターンが同一または類似するとは、パターンの繰り返しにおいて、その繰り返し周期および繰り返される形態が幾何学的に同じであるだけでなく、その繰り返し周期と繰り返される形態がソフトウェア的に予め決められた容認可能な誤差範囲内で形成される場合を含むことが好ましい。したがって、本実施形態では、感知部110aとダミーパターン111aの電極パターンだけではなく、これらを連結する感知連結部110bおよびダミー連結部111bが存在する場合には、ダミー連結部111bの電極パターンが等しくなるようにすることにより、ユーザによって感知部110aが認識される視認性を減少させることができる。   In the present embodiment, the same or similar pattern means that not only the repetition period and the repeated form are the same geometrically in the repetition of the pattern, but also the repetition period and the repeated form are predetermined in software. It is preferable to include a case where it is formed within an acceptable error range. Therefore, in the present embodiment, not only the electrode patterns of the sensing part 110a and the dummy pattern 111a but also the sensing connection part 110b and the dummy connection part 111b that connect them exist, the electrode pattern of the dummy connection part 111b is equal. By doing so, the visibility by which the sensing unit 110a is recognized by the user can be reduced.

また、前記一定方向のパターンは連続性のあるパターンで形成され、前記パターンの一部を切って前記感知部110aと前記ダミーパターン111aを形成することが好ましい。また、前記パターンの一部が切れたものは、感知部110a、前記ダミーパターン111a、および前記感知連結部110b、およびダミー連結部111bが存在する場合には、ダミー連結部111bの前記パターンの端を開放して形成することが好ましい。   In addition, it is preferable that the pattern in the certain direction is a continuous pattern, and the sensing unit 110a and the dummy pattern 111a are formed by cutting a part of the pattern. In addition, if the pattern is cut off, the sensing portion 110a, the dummy pattern 111a, the sensing connection portion 110b, and the dummy connection portion 111b exist, and the end of the pattern of the dummy connection portion 111b is present. It is preferable to form by opening.

上述したように、感知部110aとダミーパターン111aの境界でパターンの一部が切れていることは、前記感知部110aと前記ダミーパターン111aが電気的に互いに絶縁するためであり、また切れていることによって前記感知部110aと前記ダミーパターン111aのパターンの端を開放して形成することは、図5のように端が枠電極に連結しないことを意味する。図5は図4bの一部を拡大したものであって、図5を参照すると、端を開放することによって枠電極に連結するため連続性が消え、断絶したように見える問題を解決し、実際には微細な間隔で離れてはいるが、全体的に見たときには電極をユーザが連続したものと認識するようなり、感知部110aの視認性を減少させることができる。   As described above, part of the pattern is cut off at the boundary between the sensing unit 110a and the dummy pattern 111a because the sensing unit 110a and the dummy pattern 111a are electrically insulated from each other. Accordingly, forming the sensing portions 110a and the dummy patterns 111a so that the ends of the patterns are opened means that the ends are not connected to the frame electrodes as shown in FIG. FIG. 5 is an enlarged view of a part of FIG. 4b. Referring to FIG. 5, by solving the problem that the continuity disappears by connecting to the frame electrode by opening the end, However, when viewed as a whole, the user recognizes that the electrodes are continuous, and the visibility of the sensing unit 110a can be reduced.

本実施形態において、前記パターンは、図4a〜図4cに示すように、一定方向に形成された線が相互交差するメッシュ形状のパターンであることが好ましい。本発明において、メッシュ形状は、整形メッシュ形状と非整形メッシュ形状をすべて含むことができる。一定方向に形成された線が相互交差するメッシュ形状とは、全体的に網状型または網型のメッシュ形状のパターンを形成することを意味する。   In the present embodiment, the pattern is preferably a mesh-shaped pattern in which lines formed in a certain direction cross each other as shown in FIGS. In the present invention, the mesh shape may include all shaped mesh shapes and non-shaped mesh shapes. The mesh shape in which lines formed in a certain direction cross each other means that a net-like or net-like mesh shape pattern is formed as a whole.

また、パターンの相互交差するメッシュ形状の線は、線幅および前記線間の間隔を定義するピッチ(pitch)が同じであるか、または予め設定された類似度の線幅またはピッチを有することが好ましい。本実施形態において、線幅またはピッチが同じであるか、または予め設定された類似度の線幅またはピッチを有するとは、予め定められた充填率(Fill Factor)が得られるように表1に表示された一定範囲の値を有することを意味する。   Further, mesh-shaped lines intersecting each other in the pattern may have the same line width and a pitch that defines the interval between the lines, or may have a predetermined line width or pitch of similarity. preferable. In this embodiment, it is shown in Table 1 that a predetermined filling factor (Fill Factor) is obtained when the line width or the pitch is the same or the line width or the pitch has a preset similarity. It means having a displayed range of values.

Figure 0006568982
Figure 0006568982

また、本実施形態において相互交差するメッシュ形状の線は、予め決められた角度によってティルティング(tilting)することが好ましい。図6を参照すると、本実施形態において形成される線は、水平軸を基準に45゜傾けた形態のパターンを有し、傾いた形態を有することは、単位面積あたりのタッチ入力を感知するための電極の比率を高めて感知の正確度を高めるためであり、ティルティングする予め決められた角は、一定方向のパターンと前記パターンと異なるパターンの相互干渉によるモアレ現状の発生を防ぐために決められた角度であることが好ましい。本実施形態においてパターンと異なるパターンの干渉とは、それぞれ異なる方向のタッチ位置を感知する複数の基板が積層するにおいて、基板に形成された電極のパターンが干渉を引き起こすことであってもよく、または映像情報を表示する映像情報表示部に含まれた複数の画素が形成するパターンと発生するものであってもよい。   In the present embodiment, mesh-shaped lines that intersect each other are preferably tilted according to a predetermined angle. Referring to FIG. 6, the line formed in the present embodiment has a pattern that is inclined by 45 ° with respect to the horizontal axis, and the inclined shape detects touch input per unit area. The predetermined angle for tilting is determined in order to prevent the occurrence of moire current due to the mutual interference between a pattern in a certain direction and a pattern different from the above pattern. It is preferable that the angle is In the present embodiment, the interference of the pattern different from the pattern may be that the electrode pattern formed on the substrate causes interference when a plurality of substrates that sense touch positions in different directions are stacked, or It may be generated with a pattern formed by a plurality of pixels included in a video information display unit that displays video information.

モアレ現象とは、一般的に、独立する2つの周期的なパターンが一定角度に積層した場合に形成される自然的な干渉現象(interference phenomenon)である。モアレパターンとは、波形態の曲線(wave)、波紋(ripple)、スクリーンの表示映像と積層するように見える小さな束(wisp)形態の強度変動などを意味する。   The moire phenomenon is a natural interference phenomenon (interference phenomenon) formed when two independent periodic patterns are laminated at a constant angle. The moire pattern means a wave shape curve, ripples, intensity fluctuations in a small bundle (wisp) shape that appears to be layered with a screen display image, and the like.

図7a〜図7cは、本発明の一実施形態に係るタッチスクリーンセンサ基板の断面図である。   7a to 7c are cross-sectional views of a touch screen sensor substrate according to an embodiment of the present invention.

図7a〜図7cを参照すると、本実施形態に係るタッチスクリーンセンサ基板は、基材100b、樹脂層100a、および電極層112を備える。   Referring to FIGS. 7 a to 7 c, the touch screen sensor substrate according to the present embodiment includes a base material 100 b, a resin layer 100 a, and an electrode layer 112.

基材100bは、透明基材100bで形成されることが好ましい。すなわち、一定の透明度を有する基材100bであって、透明基材100bは、PET(Polyethylene Terephthalate)、PI(Polymide)、アクリル(Acryl)、ポリカーボネート(PC)、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリエーテルスルホン(PES)、PEN(Polyethylene Naphthalate)、またはガラス(glass)のうち少なくとも1つを利用して透明薄膜形態に形成することができる。   The base material 100b is preferably formed of a transparent base material 100b. That is, the substrate 100b has a certain transparency, and the transparent substrate 100b is made of PET (Polyethylene Terephthalate), PI (Polyimide), acrylic (Acryl), polycarbonate (PC), triacetyl cellulose (TAC), polymethyl. The transparent thin film may be formed using at least one of methacrylate (PMMA), polyethersulfone (PES), PEN (Polyethylene Naphthalate), or glass.

樹脂層100aは、前記基材100bに積層され、一面にパターン化された陰刻を備える。具体的に、透明基材100bには樹脂層100aが積層され、このような陰刻形状は、所望する陰刻形状に対応する陽刻形状のモールド(mold)を利用して樹脂層100aにインプリントすることで形成される。すなわち、陽刻形状のモールドを利用して樹脂層100aに陰刻を形成するのである。これにより、1つ以上の陰刻があるパターンをなすようになる。陰刻が形成された樹脂層100aの断面は、四角形、三角形、および台形のうちいずれか1つの陰刻形状を有することができる。モールドの陽刻形状が四角形であるときは樹脂層100aに形成された陰刻形状も四角形であり、モールドの陽刻形状が三角形であるときは樹脂層100aに形成された陰刻形状も三角形であり、モールドの陽刻形状が台形であるときは樹脂層100aに形成された陰刻形状も台形であることは当然である。樹脂層100aにおいて、陰刻の幅は1μm〜10μmに属し、深さは1μm〜10μmに属し、陰刻と陰刻の間のピッチは200μm〜600μmに属することができる。これが一実施形態に過ぎないのは勿論であり、前記陰刻の幅、深さ、およびピッチは多様に変形できることは勿論である。さらに、樹脂層100aは、UV(UltraViolet)樹脂または熱硬化性樹脂によって実現することが好ましい。   The resin layer 100a is laminated on the base material 100b, and has an inscription patterned on one surface. Specifically, the resin layer 100a is laminated on the transparent substrate 100b, and such an intaglio shape is imprinted on the resin layer 100a using an imprint mold corresponding to the desired intaglio shape. Formed with. That is, an intaglio is formed on the resin layer 100a using a positive mold. As a result, a pattern having one or more indentations is formed. The cross section of the resin layer 100a on which the indentation is formed may have any one indentation shape of a square, a triangle, and a trapezoid. When the mold has a square shape, the indented shape formed on the resin layer 100a is also a square shape. When the mold has a square shape, the mold shape formed on the resin layer 100a is also a triangle. When the positive shape is a trapezoid, it is natural that the negative shape formed on the resin layer 100a is also a trapezoid. In the resin layer 100a, the indentation width may belong to 1 μm to 10 μm, the depth may belong to 1 μm to 10 μm, and the pitch between the inscription may belong to 200 μm to 600 μm. Of course, this is only one embodiment, and the width, depth, and pitch of the intaglio can be variously modified. Furthermore, the resin layer 100a is preferably realized by UV (UltraViolet) resin or thermosetting resin.

電極層112は、前記陰刻に導電性材料を充填して形成されるものであって、前記感知部110aと前記ダミーパターン111および感知連結部110bおよびダミー連結部が存在する場合に、ダミー連結部(図示せず)は前記電極層112に形成される。ここで、導電性材料の一例としては、銅(Cu)、銀(Ag)、アルミニウム(Al)、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、ニッケル−リン(Ni−P)などとすることができる。   The electrode layer 112 is formed by filling the intaglio with a conductive material, and when the sensing part 110a, the dummy pattern 111, the sensing connection part 110b, and the dummy connection part exist, a dummy connection part. (Not shown) is formed on the electrode layer 112. Here, as an example of the conductive material, copper (Cu), silver (Ag), aluminum (Al), nickel (Ni), chromium (Cr), nickel-phosphorus (Ni-P), or the like can be used. .

感知部110aとダミーパターン111は同時に形成されることが可能であり、同じ導電性材料で形成され、上述したように、感知部110aはタッチ信号を感知して送信する電気的に活性の電極であり、ダミーパターン111は電気的に不活性の電極である。   The sensing unit 110a and the dummy pattern 111 can be formed at the same time and are formed of the same conductive material. As described above, the sensing unit 110a is an electrically active electrode that senses and transmits a touch signal. The dummy pattern 111 is an electrically inactive electrode.

また、本実施形態に係るタッチスクリーンセンサ基板は、電極層112に形成された感知部110a、ダミーパターン111および感知連結部110bおよびダミー連結部が存在する場合に、ダミー連結部(図示せず)の視認性を低減させるブラック層114をさらに備え、前記ブラック層114は、前記陰刻の電極層112上部または樹脂層100aと電極層112の間に積層することが好ましい。図7aを参照すると、本実施形態においてブラック層114は、樹脂層100aと電極層112の間に積層され、樹脂層100aに形成された陰刻で電極層112を囲む形態のブラック層114をさらに備えるようにすることで電極層112の視認性を減少させることも可能であり、さらに他の実施形態によって図7bを参照すると、ブラック層114が電極層112を囲む形態でない陰刻の内部で電極層112を覆う形態で積層させる。これにより、本実施形態に係る感知基板は、ブラック層を利用して電極層が外部から視認されることを防ぐ。本実施形態においてブラック層は、カーボンブラックを含む導電性を帯び、黒色の金属材料を利用することが好ましい。   In addition, the touch screen sensor substrate according to the present embodiment has a dummy connection part (not shown) when the sensing part 110a, the dummy pattern 111, the sensing connection part 110b, and the dummy connection part formed on the electrode layer 112 are present. It is preferable to further include a black layer 114 for reducing the visibility of the electrode layer 112, and the black layer 114 is preferably laminated on the indented electrode layer 112 or between the resin layer 100 a and the electrode layer 112. Referring to FIG. 7a, in the present embodiment, the black layer 114 further includes a black layer 114 that is stacked between the resin layer 100a and the electrode layer 112 and surrounds the electrode layer 112 in a negative manner formed in the resin layer 100a. As a result, the visibility of the electrode layer 112 can be reduced. Referring to FIG. 7B according to another embodiment, the electrode layer 112 is formed inside the indentation where the black layer 114 does not surround the electrode layer 112. Are laminated in a form to cover. Accordingly, the sensing substrate according to the present embodiment prevents the electrode layer from being visually recognized from the outside using the black layer. In the present embodiment, the black layer preferably has a conductivity including carbon black and uses a black metal material.

また、他の実施形態によって図7cを参照すると、電極層112は、樹脂層100aに形成された陰刻の内部に形成されるだけでなく、樹脂層100a上に陽刻で形成されることもできる。このような電極層112は、陽刻形状の導電性材料が樹脂層100aに転写またはリソグラフィ工程などによって形成されることができる。   In addition, referring to FIG. 7c according to another embodiment, the electrode layer 112 may be formed not only on the inside of the resin layer 100a but also on the resin layer 100a. Such an electrode layer 112 can be formed by transferring an engraved conductive material to the resin layer 100a by a lithography process or the like.

図8a〜図8bは、本発明の第2実施形態に係るタッチスクリーンセンサを説明するための例示図である。   8a to 8b are exemplary views for explaining a touch screen sensor according to a second embodiment of the present invention.

図8aを参照すると、本実施形態に係る第1センサ部100と第2センサ部200が互いに接合してタッチスクリーンセンサを形成する。すなわち、第1センサ部100と第2センサ部200は上、下部基板となって互いに接合し、これらの間には粘着剤層300が載せられる。接着剤層300は光学的透明粘着剤(OCA:Optical Clear Adhesive)とし、タッチスクリーンセンサの透明性を維持することが可能である。   Referring to FIG. 8a, the first sensor unit 100 and the second sensor unit 200 according to the present embodiment are joined together to form a touch screen sensor. That is, the first sensor unit 100 and the second sensor unit 200 are upper and lower substrates and are joined to each other, and the adhesive layer 300 is placed between them. The adhesive layer 300 may be an optical clear adhesive (OCA) to maintain the transparency of the touch screen sensor.

第2センサ部200は、基材の他面に一定方向の第2方向のパターンで連結する電極で形成された多数の第2感知部210a、および前記第2方向と同一または類似する方向のパターンで連結する電極で形成され、前記第2感知部210を連結する第2感知連結部210bを備える。図8bを参照すると、本実施形態において他面とは、第1センサ部100および第2センサ部200が同じ基材に対して両面に形成される場合に、いずれか1つの基板が形成される面を一面としたときに基板が形成されない基材の他の面を他面とする。また、本実施形態において第1、第2センサ部100、200は、互いに背を向けた状態で粘着剤層300を媒介として接合しているものが示されているが、これらの基板が互いに向かい合って接合しているものも可能であることは勿論である。さらに、第1センサ部と第2センサ部は、複数の基材に対してそれぞれの一面に形成することもできる。   The second sensor unit 200 includes a plurality of second sensing units 210a formed of electrodes connected to the other surface of the substrate in a second direction pattern, and a pattern in the same or similar direction as the second direction. And a second sensing connection part 210b for connecting the second sensing part 210. Referring to FIG. 8b, in the present embodiment, the other surface means that one of the substrates is formed when the first sensor unit 100 and the second sensor unit 200 are formed on both sides of the same base material. The other surface of the base material on which the substrate is not formed when the surface is one surface is defined as the other surface. Further, in the present embodiment, the first and second sensor units 100 and 200 are illustrated as being bonded with the adhesive layer 300 as a medium in a state where their backs face each other, but these substrates face each other. Of course, it is also possible to join them. Furthermore, a 1st sensor part and a 2nd sensor part can also be formed in each one surface with respect to a some base material.

また、本実施形態に係るタッチスクリーンセンサのうち、第1センサ部100は前記第1感知部110aに隣接し、前記第1パターンの方向と同一または類似する方向のパターンで連結する電極で形成されて前記感知部110aの視認性を低減させる多数の第1ダミーパターン111と、前記第1パターンの方向と同一または類似する方向のパターンで連結する電極で形成され、前記第1ダミーパターン111を連結する第1感知連結部110bを備え、前記基材の一面は、前記第2感知部210aと対応する位置に第1ダミーパターン111が備えられることが好ましい。   In addition, in the touch screen sensor according to the present embodiment, the first sensor unit 100 is formed of electrodes that are adjacent to the first sensing unit 110a and are connected in a pattern in the same or similar direction as the first pattern. The plurality of first dummy patterns 111 for reducing the visibility of the sensing unit 110a and electrodes connected in a pattern in the same or similar direction as the direction of the first pattern, and connecting the first dummy patterns 111. The first sensing connection part 110b includes a first dummy pattern 111 on a surface corresponding to the second sensing part 210a.

なお、第2センサ部200は、前記第2感知部210aに隣接し、前記第2パターンの方向と同一または類似する方向のパターンで連結する電極で形成されて前記感知部210aの視認性を低減させる多数の第2ダミーパターン211、および、さらにタッチスクリーンセンサ基板は、前記パターンの方向と同一または類似する方向のパターンで連結する電極で形成され、前記ダミーパターン111を連結する連結部(図示せず)をさらに備えることができる。   The second sensor unit 200 is formed of an electrode adjacent to the second sensing unit 210a and connected in a pattern having the same or similar direction as the second pattern, thereby reducing the visibility of the sensing unit 210a. The plurality of second dummy patterns 211 and the touch screen sensor substrate are formed of electrodes connected in a pattern in the same or similar direction as the pattern direction, and a connecting portion (not shown) for connecting the dummy pattern 111. Can be further provided.

本実施形態において、第1センサ部100と第2センサ部200の接合は、第1センサ部100に形成された第1感知部110aと第2センサ部200に形成された第2感知部210aが相互直交する方向に接合することが好ましい。すなわち、第1感知部110aの第1方向が座標軸上のy方向であれば、第2感知部210aの第2方向は座標軸上のx方向になるように互いに接合する。   In the present embodiment, the first sensor unit 100 and the second sensor unit 200 are joined by the first sensor unit 110 a formed in the first sensor unit 100 and the second sensor unit 210 a formed in the second sensor unit 200. It is preferable to join in directions orthogonal to each other. That is, if the first direction of the first sensing unit 110a is the y direction on the coordinate axis, the second sensing unit 210a is joined to each other so that the second direction is the x direction on the coordinate axis.

このとき、第1感知部110aと対応する(向かい合う)位置の第2センサ部200には第2ダミーパターン211が形成され、第2感知部210aと対応する位置の第1センサ部100には第1ダミーパターン111が形成される。第1ダミーパターン111は、前記第2感知部210aの位置に対応する前記基材の一面の位置に形成されることが好ましく、これと反対に、第2ダミーパターン211は、前記第1感知部110aの位置に対応する前記基材の他面の位置に形成されることが好ましい。   At this time, a second dummy pattern 211 is formed on the second sensor unit 200 at a position corresponding to (facing) the first sensing unit 110a, and the first sensor unit 100 at a position corresponding to the second sensing unit 210a is the first sensor unit 100a. One dummy pattern 111 is formed. The first dummy pattern 111 is preferably formed at a position on one surface of the base material corresponding to the position of the second sensing unit 210a. On the contrary, the second dummy pattern 211 is formed on the first sensing unit. It is preferable to form at the position of the other surface of the base material corresponding to the position of 110a.

図8bを参照すると、本実施形態において、タッチスクリーンセンサ上でX軸方向のタッチ位置を感知する感知部100aの位置に垂直方向に対応する位置にY軸方向のダミーパターン211が基材の他面に位置し、反対に、Y軸方向のタッチ位置を感知する感知部200aの位置に垂直方向に対応する位置には、X軸方向のダミーパターン111が基材の一面に位置するようになる。したがって、第1感知部100aと第2感知部200aは交互配置し、ユーザがタッチ信号を入力したときにその座標を算出できるように形成される。   Referring to FIG. 8b, in this embodiment, a dummy pattern 211 in the Y-axis direction is formed on the touch screen sensor at a position corresponding to the vertical direction of the position of the sensing unit 100a that senses the touch position in the X-axis direction. On the other hand, the dummy pattern 111 in the X-axis direction is positioned on one surface of the substrate at a position corresponding to the position perpendicular to the position of the sensing unit 200a that senses the touch position in the Y-axis direction. . Accordingly, the first sensing unit 100a and the second sensing unit 200a are arranged alternately so that the coordinates can be calculated when the user inputs a touch signal.

また、本実施形態において、第1センサ部および第2センサ部は、上述したように、同じ基材の一面および他面に形成可能であり、またはそれぞれ異なる基材に対して形成されることもできる。   In the present embodiment, as described above, the first sensor unit and the second sensor unit can be formed on one surface and the other surface of the same base material, or can be formed on different base materials. it can.

他の基材に対して第1および第2センサ部が形成される場合にも、同じ基材に形成される場合と類似するように、第1センサ部と第2センサ部の接合は、第1センサ部に形成された第1感知部と第2センサ部に形成された第2感知部が相互直交する方向に接合するようにすることが好ましい。すなわち、第1感知部の第1方向が座標軸上のy方向であれば、第2感知部の第2方向は座標軸上のx方向になるように互いに接合する。   Even when the first and second sensor parts are formed on the other base material, the first sensor part and the second sensor part are joined together in a manner similar to the case where the first and second sensor parts are formed on the same base material. It is preferable that the first sensing unit formed in one sensor unit and the second sensing unit formed in the second sensor unit are joined in directions orthogonal to each other. That is, when the first direction of the first sensing unit is the y direction on the coordinate axis, the second direction of the second sensing unit is joined to each other so as to be the x direction on the coordinate axis.

このとき、第1感知部と対応する位置の第2センサ部には第2ダミーパターンが形成され、第2感知部と対応する位置の第1センサ部には第1ダミーパターンが形成される。第1ダミーパターンは、前記第2感知部の位置に対応する前記基材の一面の位置に形成されることが好ましく、これと反対に、第2ダミーパターンは、前記第1感知部の位置に対応する前記基材の他面の位置に形成されることが好ましい。   At this time, a second dummy pattern is formed on the second sensor part at a position corresponding to the first sensing part, and a first dummy pattern is formed on the first sensor part at a position corresponding to the second sensing part. Preferably, the first dummy pattern is formed at a position on the one surface of the base material corresponding to the position of the second sensing unit. On the contrary, the second dummy pattern is located at the position of the first sensing unit. It is preferable to form at the position of the other surface of the corresponding base material.

図9a〜図9cは、本発明の一実施形態に係るタッチパッドの形態を示した第1図である。   9a to 9c are first views illustrating a touch pad according to an embodiment of the present invention.

図9a〜図9cに示すように、本発明に係る第1センサパターン110と第2センサパターン210は、互いに異なるレイヤ(layer)に配置することができる。例えば、第1センサパターン110は上部レイヤである第1センサ部100に配置し、第2センサパターン210は下部レイヤである第2センサ部200に配置することができる。   As shown in FIGS. 9a to 9c, the first sensor pattern 110 and the second sensor pattern 210 according to the present invention may be arranged in different layers. For example, the first sensor pattern 110 may be disposed on the first sensor unit 100 that is an upper layer, and the second sensor pattern 210 may be disposed on the second sensor unit 200 that is a lower layer.

ここで、第1センサ部100と第2センサ部220の間には粘着剤層(図示せず)を載せることができ、以下では説明の便宜上、図に示さずに説明する。   Here, an adhesive layer (not shown) can be placed between the first sensor unit 100 and the second sensor unit 220, and will be described below for the sake of convenience of explanation.

このとき、図9aに示すように、第1センサパターン110の間と第2センサパターン210の間にそれぞれダミーパターン111、211を配置することができ、このようなダミーパターンはセンサパターン間の空間を満たすためのパターンであって、センサパターンのように接触位置を感知する機能は実行しない。   At this time, as shown in FIG. 9a, dummy patterns 111 and 211 can be disposed between the first sensor patterns 110 and the second sensor patterns 210, respectively. It is a pattern for satisfy | filling, Comprising: The function which senses a contact position like a sensor pattern is not performed.

例えば、第1センサパターン110の間に第1ダミーパターン111を交差配置することができ、第2センサパターン210の位置に対応する空の領域に第1ダミーパターン111を交差配置することができる。   For example, the first dummy patterns 111 can be arranged to intersect between the first sensor patterns 110, and the first dummy patterns 111 can be arranged to intersect in an empty area corresponding to the position of the second sensor pattern 210.

同じように、第1センサパターン110の間に第2ダミーパターン211を交差配置することができ、第2センサパターン210の位置に対応する空の領域に第2ダミーパターン211を交差配置することができる。   Similarly, the second dummy patterns 211 can be arranged to intersect between the first sensor patterns 110, and the second dummy patterns 211 can be arranged to intersect in an empty area corresponding to the position of the second sensor pattern 210. it can.

また、図9bに示すように、第1センサパターン110の間には第1ダミーパターン111を交差配置することができ、第2センサパターン210の間にはダミーパターンを配置しないこともできる。   In addition, as shown in FIG. 9 b, the first dummy patterns 111 may be arranged to intersect between the first sensor patterns 110, and the dummy patterns may not be arranged between the second sensor patterns 210.

勿論、図9cに示すように、これとは反対に、第2センサパターン210の間にだけ第2ダミーパターン211を配置してもよく、第1センサパターン110の間にはダミーパターンを配置しないこともできる。   Of course, as shown in FIG. 9c, on the contrary, the second dummy pattern 211 may be disposed only between the second sensor patterns 210, and no dummy pattern is disposed between the first sensor patterns 110. You can also.

このようなダミーパターンは、センサパターンの大きさと同じ大きさで形成され、同じ物質で形成することができる。さらに、ダミーパターンは、必要によっては隣接した他のダミーパターンと互いに連結しないように形成したり、互いに連結するように形成することができる。   Such a dummy pattern is formed in the same size as the sensor pattern and can be formed of the same material. Furthermore, the dummy patterns can be formed so as not to be connected to other adjacent dummy patterns or to be connected to each other as necessary.

図10a〜図10cは、本発明の一実施形態に係るタッチパッドの形態を示した第2図である。   10a to 10c are second views illustrating a touch pad according to an embodiment of the present invention.

図10aを参照すると、本発明に係るタッチパッドは、第1センサパターン110と第1ダミーパターン111が交差配列する第1センサ部100、および第2センサパターン210と第2ダミーパターン211が交差配列する第2センサ部200を備えることができる。すなわち、第1センサパターン110の間と第2センサパターン210の間の空間にそれぞれダミーパターンを配置することができる。   Referring to FIG. 10a, the touch pad according to the present invention includes a first sensor unit 100 in which the first sensor pattern 110 and the first dummy pattern 111 intersect, and a second sensor pattern 210 and the second dummy pattern 211 in intersection. The second sensor unit 200 can be provided. That is, dummy patterns can be arranged in the spaces between the first sensor patterns 110 and the second sensor patterns 210, respectively.

このとき、センサパターンとダミーパターン間の離隔距離は5μm〜30μm以内とし、特に15μm以上であることが好ましい。例えば、第1センサパターンと第1ダミーパターン間の離隔距離または第2センサパターンと第2ダミーパターン間の離隔距離は15μmに形成することができる。   At this time, the separation distance between the sensor pattern and the dummy pattern is set within 5 μm to 30 μm, and particularly preferably 15 μm or more. For example, the separation distance between the first sensor pattern and the first dummy pattern or the separation distance between the second sensor pattern and the second dummy pattern can be 15 μm.

図10bを参照すると、本発明に係るタッチパッドは、第1センサパターン110と第1ダミーパターン111が交差配列する第1センサ部100、および第2センサパターン210が配列される第2センサ部200を備えることができる。すなわち、第1センサパターン110間の空間にだけダミーパターンが配置され、第2センサパターン210間の空間にはダミーパターンが配置されない。   Referring to FIG. 10b, the touch pad according to the present invention includes a first sensor unit 100 in which a first sensor pattern 110 and a first dummy pattern 111 intersect and a second sensor unit 200 in which a second sensor pattern 210 is arranged. Can be provided. That is, a dummy pattern is disposed only in the space between the first sensor patterns 110, and no dummy pattern is disposed in the space between the second sensor patterns 210.

図10cを参照すると、本発明に係るタッチパッドは、第1センサパターン110間の空間にはダミーパターンを配置せず、第2センサパターン210間の空間にだけダミーパターンを配置することもできる。   Referring to FIG. 10 c, the touch pad according to the present invention may dispose dummy patterns only in the spaces between the second sensor patterns 210 without disposing dummy patterns in the spaces between the first sensor patterns 110.

このとき、本発明は、センサパターン間に配置されるダミーパターンを予め設定された形態を有する多数のサブダミーパターンに分割して形成するようになり、その分割する方式は、例えば、1)全体外郭の形状と同じ形状を有して均等面積を有するように分割する方式、2)全体外郭の形状とは異なる形状を有するが均等面積を有するように分割する方式、3)仮想の分割パターンによって分割し、仮想の分割パターン内のラインとダミーパターン内のメッシュの間に予め設定された角度を有するように分割する方式、4)ダミーパターン内のメッシュを規則的または不規則的に破断して分割する方式などを含むことができる。   At this time, according to the present invention, the dummy pattern arranged between the sensor patterns is divided and formed into a number of sub-dummy patterns having a preset form. A method of dividing to have a uniform area having the same shape as the outer shape, 2) A method of dividing to have a uniform area but having a shape different from the whole outer shape, and 3) A virtual dividing pattern Dividing and dividing so as to have a preset angle between the lines in the virtual divided pattern and the mesh in the dummy pattern, 4) Breaking the mesh in the dummy pattern regularly or irregularly A method of dividing can be included.

このようなダミーパターンの分割によってセンサパターンとダミーパターンが部分短絡すると、センサパターンから当該ダミーパターンのうちの短絡したサブダミーパターンにだけ電流が流入し、ダミーパターン全体に電流が流入することを防いで機能の安全性を確保できることにより、センサパターンからダミーパターンに流入する誘電率を最小化してセンサ動作を向上させることができる。   When the sensor pattern and the dummy pattern are partially short-circuited by such a dummy pattern division, current flows only from the sensor pattern to the shorted sub-dummy pattern of the dummy pattern, and current is prevented from flowing into the entire dummy pattern. As a result, it is possible to improve the sensor operation by minimizing the permittivity flowing from the sensor pattern to the dummy pattern.

図11a〜11bは、本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第1図である。   FIGS. 11a to 11b are first diagrams showing the form of dummy patterns according to an embodiment of the present invention.

図11a〜図11bに示すように、本発明は、センサパターンの間に配置されるダミーパターンそれぞれを予め設定された形態を有する多数のサブダミーパターンに分割して形成し、ダミーパターンの連続性があるパターンの一部を切り、全体外郭の形状と同じ形状を有して均等面積を有するように分割することができる。   As shown in FIGS. 11a to 11b, in the present invention, each dummy pattern arranged between sensor patterns is divided into a plurality of sub-dummy patterns having a preset form, and the continuity of dummy patterns is increased. A part of a pattern can be cut and divided so as to have the same shape as the entire outline shape and an equal area.

図11aでは、ダミーパターン111の破断するラインとダミーパターン内のメッシュが平行に形成されることができる。   In FIG. 11a, the breaking line of the dummy pattern 111 and the mesh in the dummy pattern can be formed in parallel.

図11bでは、ダミーパターン111の破断するラインとダミーパターン内のメッシュが平行にならないように、予め設定された角度を有するように形成されることができる。   In FIG. 11b, the broken line of the dummy pattern 111 and the mesh in the dummy pattern may be formed to have a preset angle so as not to be parallel.

言い換えれば、本発明に係るダミーパターンは多数に分割されるが、ダミーパターン内のメッシュの方向とは関係なく、全体外郭の形成と同じ形状を有するように均等分割される。例えば、四角形状のダミーパターン111は、四角形状のサブダミーパターン111a、111b、111c、111d、111e、111f、111g、111h、111iに分割される。   In other words, although the dummy pattern according to the present invention is divided into a large number, it is equally divided so as to have the same shape as the formation of the entire outline irrespective of the direction of the mesh in the dummy pattern. For example, the rectangular dummy pattern 111 is divided into rectangular sub dummy patterns 111a, 111b, 111c, 111d, 111e, 111f, 111g, 111h, and 111i.

上述した図11bに示すように、ダミーパターンが破断するラインとダミーパターン内のメッシュが予め設定された角度を有するように形成されることにより、相互モアレが発生するという問題を抑制することができる。   As shown in FIG. 11b described above, the problem that mutual moire occurs can be suppressed by forming the line where the dummy pattern breaks and the mesh in the dummy pattern to have a preset angle. .

ダミーパターンは、パターンの一部が切れて多数のサブダミーパターンに分割されるため、分割された多数のサブダミーパターンそれぞれの端が開放して形成されるようになる。   Since the dummy pattern is partly cut and divided into a large number of sub-dummy patterns, the ends of the divided large number of sub-dummy patterns are opened.

サブダミーパターンの境界でパターンの一部が切れていることは、サブダミーパターンの間に電気的に互いに絶縁するためであり、また切れていることによってサブダミーパターンのパターンの端が開放して形成されたことは、端が枠電極に連結しないことを意味する。   The fact that a part of the pattern is cut off at the boundary of the sub dummy pattern is to electrically insulate the sub dummy pattern from each other. Being formed means that the end is not connected to the frame electrode.

サブダミーパターンの端が開放することにより、枠電極に連結して連続性が消えて断絶したように見えるという問題点を解決し、実際に微細な間隔だけ離隔してはいるが、全体的に見たときには電極をユーザが連続したものと認識できるようにする。   By opening the edge of the sub dummy pattern, it solves the problem of continuity disappearing by connecting to the frame electrode, and it is actually separated by a fine interval, but it is totally separated When viewed, the user can recognize the electrode as continuous.

このとき、本実施形態のようにダミー連結部がない場合に、ダミーパターンの外郭形状を明確に知ることができるが、ダミー連結部がある場合にはそうではないため、ダミー連結部とダミーパターン間の区画を適切に分けてダミーパターンの外郭形状を定義しなければならない。   At this time, when there is no dummy connection part as in the present embodiment, the outline shape of the dummy pattern can be clearly known, but when there is a dummy connection part, it is not so, the dummy connection part and the dummy pattern The outer shape of the dummy pattern must be defined by appropriately dividing the space between them.

図12a〜図12bは、本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第2図である。   12a to 12b are second diagrams showing the form of dummy patterns according to an embodiment of the present invention.

図12a〜図12bに示すように、本発明は、センサパターンの間に配置されるダミーパターンそれぞれを予め設定された形態を有する多数のサブダミーパターンに分割して形成し、ダミーパターンの連続性があるパターンの一部を切り、全体外郭の形状とは異なる形状を有するが均等面積を有するように分割することができる。   As shown in FIGS. 12a to 12b, according to the present invention, the dummy patterns arranged between the sensor patterns are divided into a plurality of sub-dummy patterns having a preset form, and the continuity of the dummy patterns is determined. A part of a pattern can be cut and divided so as to have a shape different from the shape of the entire outline but an equal area.

図12aでは、分割されていない状態の六角形状を有するダミーパターン111を示している。   FIG. 12a shows a dummy pattern 111 having a hexagonal shape that is not divided.

図12bでは、六角形状のダミーパターン111を分割して全体外郭の形状と異なる形状を有するサブダミーパターンを形成し、各ダミーパターンの面積は等しくなる。   In FIG. 12b, the hexagonal dummy pattern 111 is divided to form sub-dummy patterns having shapes different from the overall outline shape, and the areas of the dummy patterns are equal.

例えば、図12aに示すように、六角形状を有するダミーパターン111の面積が90だとすると、図12bに示すように、六角形状とは異なる形状を有する9つのサブダミーパターン111a、111b、111c、111d、111e、111f、111g、111h、111iは、それぞれの面積が10になる。   For example, if the area of the hexagonal dummy pattern 111 is 90 as shown in FIG. 12a, nine sub-dummy patterns 111a, 111b, 111c, 111d having a shape different from the hexagonal shape as shown in FIG. 111e, 111f, 111g, 111h, and 111i each have an area of 10.

上述した図12bに示すように、ダミーパターンが破断するラインとダミーパターン内のメッシュの間に予め設定された角度を有するように形成されることにより、相互モアレが発生するという問題を抑制することができる。   As shown in FIG. 12b described above, the dummy pattern is formed so as to have a preset angle between the breaking line and the mesh in the dummy pattern, thereby suppressing the problem that mutual moire occurs. Can do.

ダミーパターンは、パターンの一部が切れて多数のサブダミーパターンに分割するため、分割した多数のサブダミーパターンそれぞれの端が開放して形成されるようになる。   Since the dummy pattern is partly cut and divided into a large number of sub dummy patterns, the ends of the divided large number of sub dummy patterns are formed open.

図13a〜図13bは、本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第3図である。   FIGS. 13a to 13b are third views showing a dummy pattern according to an embodiment of the present invention.

図13a〜図13bに示すように、本発明は、センサパターンの間に配置されるダミーパターンそれぞれを予め設定された形態を有する多数のサブダミーパターンに分割して形成し、ダミーパターンの連続性があるパターンの一部を切り、全体外郭の形状とは異なる形状を有して異なる面積を有するように分割することができる。   As shown in FIGS. 13a to 13b, in the present invention, the dummy patterns arranged between the sensor patterns are divided into a plurality of sub-dummy patterns having a preset form, and the continuity of the dummy patterns is determined. A part of a pattern may be cut and divided so as to have a shape different from the shape of the entire outline and a different area.

図13aでは、仮想の分割パターン130内のラインとダミーパターン111内のメッシュの間に互いに平行に分割する。   In FIG. 13 a, the lines are divided in parallel between the lines in the virtual divided pattern 130 and the meshes in the dummy pattern 111.

図13bでは、仮想の分割パターン130内のラインとダミーパターン111内のメッシュの間に互いに平行しないように分割する。   In FIG. 13b, the lines in the virtual divided pattern 130 and the mesh in the dummy pattern 111 are divided so as not to be parallel to each other.

このとき、本発明は、仮想の分割パターンを利用して分割し、仮想の分割パターン内のラインとダミーパターン内のメッシュの間に互いに平行するか平行しないように、予め設定された角度を有するように分割することができる。このように分割したサブダミーパターンのうち少なくとも1つのサブダミーパターンは、全体外郭の形状とは異なる形状を有して異なる面積を有するように分割される。   At this time, the present invention divides using a virtual division pattern, and has a preset angle so that the line in the virtual division pattern and the mesh in the dummy pattern are parallel to each other or not parallel to each other. Can be divided as follows. Of the sub-dummy patterns thus divided, at least one sub-dummy pattern is divided so as to have a shape different from the shape of the entire outline and a different area.

上述した図13bに示すように、ダミーパターンが破断するラインとダミーパターン内のメッシュの間に予め設定された角度を有するように形成されることにより、相互モアレが発生するという問題を抑制することができる。   As shown in FIG. 13b described above, the dummy pattern is formed to have a preset angle between the breaking line and the mesh in the dummy pattern, thereby preventing the problem of mutual moire. Can do.

また、ダミーパターン内のメッシュを互いに平行しないように分割してサブダミーパターンを形成することにより、モアレを防ぐことができるだけでなく、視認性の向上にもさらに効果的となる。   Further, by dividing the meshes in the dummy pattern so as not to be parallel to each other and forming the sub-dummy pattern, not only can moire be prevented but also the visibility can be further improved.

ダミーパターンは、パターンの一部が切れて多数のサブダミーパターンに分割するため、分割した多数のサブダミーパターンそれぞれの端が開放して形成されるようになる。   Since the dummy pattern is partly cut and divided into a large number of sub dummy patterns, the ends of the divided large number of sub dummy patterns are formed open.

ここで、本発明は、仮想の分割パターンを利用してダミーパターンを分割する原理を説明しており、仮想の分割パターンは、図11a〜図12bにもすべて適用することができる。   Here, the present invention describes the principle of dividing a dummy pattern using a virtual divided pattern, and the virtual divided pattern can be applied to all of FIGS. 11a to 12b.

図14a〜図14bは、本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第4図である。   FIGS. 14a to 14b are fourth diagrams showing a dummy pattern according to an embodiment of the present invention.

図14a〜図14bに示すように、本発明は、センサパターンの間に配置されるダミーパターンそれぞれを多数の予め設定された形態に分割して形成し、ダミーパターンの連続性があるパターンの一部を切り、ダミーパターン内のメッシュを予め設定された範囲内で規則的または不規則的に破断して分割することができる。   As shown in FIGS. 14a to 14b, in the present invention, each dummy pattern arranged between sensor patterns is divided into a plurality of preset forms, and the dummy pattern is one of the patterns having continuity. It is possible to divide the mesh in the dummy pattern by breaking it regularly or irregularly within a preset range.

このように規則的または不規則的に形成されたサブダミーパターンの長さは、0.3mm〜1.5mmであることが好ましい。   Thus, it is preferable that the length of the sub dummy pattern formed regularly or irregularly is 0.3 mm to 1.5 mm.

図14aでは、ダミーパターン111内のメッシュを予め設定された範囲内で規則的に破断して分割することができ、破断した線の長さが等しくなるように形成することができる。   In FIG. 14a, the mesh in the dummy pattern 111 can be regularly broken and divided within a preset range, and the broken lines can be formed to have the same length.

例えば、横方向に破断された線の長さLxと縦方向に破断された線の長さLyは等しい。   For example, the length Lx of the line broken in the horizontal direction is equal to the length Ly of the line broken in the vertical direction.

図14bでは、ダミーパターン111内のメッシュを予め設定された範囲内で不規則的に破断して分割することができ、破断された線の長さが互いに異なるように形成することができる。   In FIG. 14b, the mesh in the dummy pattern 111 can be broken and divided irregularly within a preset range, and the broken lines can be formed to have different lengths.

破断された線の長さが予め設定された範囲内で互いに異なるように形成できることは勿論である。   Of course, the lengths of the broken lines may be different from each other within a preset range.

例えば、横方向と判断された線の長さLx1とLx2またはLy1とLy2は、ランダムに決められて互いに異なる。   For example, the lengths Lx1 and Lx2 or Ly1 and Ly2 of the lines determined to be in the horizontal direction are determined at random and are different from each other.

ダミーパターンは、パターンの一部が切れて多数のサブダミーパターンに分割するため、分割した多数のサブダミーパターンそれぞれの端が開放して形成されるようになる。   Since the dummy pattern is partly cut and divided into a large number of sub dummy patterns, the ends of the divided large number of sub dummy patterns are formed open.

上述した図11a〜図14bのように、ダミーパターンを多数のサブダミーパターンに分割し、分割した各サブダミーパターンは単位メッシュ5つ以上で形成することが好ましく、その理由は視認性の向上にさらに効果的であるためである。   As shown in FIGS. 11a to 14b, the dummy pattern is divided into a number of sub-dummy patterns, and each divided sub-dummy pattern is preferably formed with five or more unit meshes for the purpose of improving visibility. This is because it is more effective.

このとき、本発明は、センサパターンの間にダミーパターンを配置し、センサパターンとダミーパターンの間に位置し、センサパターンとダミーパターン間の境界面に沿って予め設定された距離だけ離隔したダミーパターンと物理的に分離した補助ダミーパターンを追加で形成することができる。また、補助ダミーパターンは、必要によっては分割して形成することができる。   At this time, according to the present invention, a dummy pattern is arranged between the sensor patterns, is located between the sensor pattern and the dummy pattern, and is separated by a preset distance along a boundary surface between the sensor pattern and the dummy pattern. An auxiliary dummy pattern physically separated from the pattern can be additionally formed. Further, the auxiliary dummy pattern can be divided and formed if necessary.

図15は、本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第5図である。   FIG. 15 is a fifth diagram showing a dummy pattern according to an embodiment of the present invention.

図15に示すように、本発明は、ダミーパターンの間にダミー連結部が形成されている場合、センサパターン110の間にダミーパターン111を配置し、センサパターン110とダミーパターン111の間に補助ダミーパターン112を追加で形成することができる。また、必要によっては、センサパターンとダミーパターンの間に多数の補助ダミーパターンを形成することができる。   As shown in FIG. 15, in the present invention, when a dummy connection part is formed between dummy patterns, a dummy pattern 111 is arranged between the sensor patterns 110 and the sensor pattern 110 and the dummy pattern 111 are assisted. A dummy pattern 112 can be additionally formed. If necessary, a large number of auxiliary dummy patterns can be formed between the sensor pattern and the dummy pattern.

ここで、本発明の実施形態では、ダミーパターンとダミー連結部を区分せずにダミーパターンとしてのみ説明しているが、ダミー連結部を含むダミーパターンを意味している。   Here, in the embodiment of the present invention, the dummy pattern and the dummy connection portion are described as only the dummy pattern without being divided, but the dummy pattern including the dummy connection portion is meant.

このとき、補助ダミーパターン112は、センサパターン110とダミーパターン111の間の境界面に沿って形成され、センサパターン110とダミーパターン111それぞれから予め設定された距離だけ離隔して形成することができる。言い換えれば、補助ダミーパターン112は、一側のセンサパターン110と予め設定された距離だけ離隔しており、他側のダミーパターン111とも予め設定された距離だけ離隔して形成することができる。   At this time, the auxiliary dummy pattern 112 is formed along the boundary surface between the sensor pattern 110 and the dummy pattern 111 and can be formed apart from each of the sensor pattern 110 and the dummy pattern 111 by a predetermined distance. . In other words, the auxiliary dummy pattern 112 is separated from the sensor pattern 110 on one side by a preset distance, and can be formed apart from the dummy pattern 111 on the other side by a preset distance.

また、補助ダミーパターン112は、センサパターン110との離隔距離とダミーパターン111との離隔距離が互いに等しくなるように形成されたり、互いに異なるように形成されることができる。   Further, the auxiliary dummy pattern 112 may be formed such that the separation distance from the sensor pattern 110 and the separation distance from the dummy pattern 111 are equal to each other or different from each other.

このように形成された補助ダミーパターン112は、当該センサパターン110の外郭線に沿って予め設定された距離だけ離隔して形成されるため、当該センサパターン110の外郭線と同じ形状を有するようになる。   Since the auxiliary dummy pattern 112 formed in this manner is spaced apart by a preset distance along the outline of the sensor pattern 110, the auxiliary dummy pattern 112 has the same shape as the outline of the sensor pattern 110. Become.

補助ダミーパターン112は、センサパターン110とダミーパターン111の間の境界面に沿って帯形態に形成することができる。このような補助ダミーパターン112は、センサパターン110とダミーパターン111の間の境界面に沿って形成されるため、同じ方向の同じライン、例えば、X軸方向の同じx座標またはY軸方向の同じy座標上には1つの補助ダミーパターン112が形成されることができる。   The auxiliary dummy pattern 112 can be formed in a band shape along the boundary surface between the sensor pattern 110 and the dummy pattern 111. Since the auxiliary dummy pattern 112 is formed along the boundary surface between the sensor pattern 110 and the dummy pattern 111, the same line in the same direction, for example, the same x coordinate in the X axis direction or the same in the Y axis direction. One auxiliary dummy pattern 112 may be formed on the y coordinate.

勿論、同じ方向の同じライン上に位置する補助ダミーパターン112は連続性があるパターンで形成することができるが、必ずしもこれに限定されるものではなく、必要によっては分割することができる。すなわち、連続性があるパターンの一部を切って多数の補助ダミーパターン112に分割することができる。   Of course, the auxiliary dummy pattern 112 positioned on the same line in the same direction can be formed as a continuous pattern, but is not necessarily limited to this, and can be divided as necessary. That is, a part of the continuous pattern can be cut and divided into a large number of auxiliary dummy patterns 112.

また、ダミーパターン111は、多数の予め設定された形態に分割して形成されたり、配置するダミーパターンを構成するメッシュを規則的または不規則的に断線させて形成することができる。   Further, the dummy pattern 111 can be formed by being divided into a number of preset forms, or can be formed by regularly or irregularly disconnecting the meshes constituting the dummy pattern to be arranged.

このようなダミーパターン111と補助ダミーパターン112それぞれの端が開放して形成されるようになる。   The dummy pattern 111 and the auxiliary dummy pattern 112 are formed with their ends open.

このように、ダミーパターン111と補助ダミーパターン112それぞれの境界でパターンの一部が切れていることは、ダミーパターン111と補助ダミーパターン112の間に電気的に互いに絶縁するためであり、また切れていることによってダミーパターン111と補助ダミーパターン112それぞれのパターンの端が開放して形成されることは、端が枠電極に連結しないことを意味する。   As described above, the fact that a part of the pattern is cut off at the boundary between the dummy pattern 111 and the auxiliary dummy pattern 112 is to electrically insulate the dummy pattern 111 and the auxiliary dummy pattern 112 from each other. Thus, the fact that the end of each of the dummy pattern 111 and the auxiliary dummy pattern 112 is opened means that the end is not connected to the frame electrode.

図16は、本発明の一実施形態に係る補助ダミーパターンの配置形態を示した図である。   FIG. 16 is a view showing an arrangement of auxiliary dummy patterns according to an embodiment of the present invention.

図16に示すように、補助ダミーパターンは、センサパターン110とダミーパターン111の間の境界面に沿って形成され、一側のセンサパターン110と予め設定された距離d1だけ離隔して形成することができる。ここで、センサパターン110との離隔距離d1は、30μm以下とすることができる。   As shown in FIG. 16, the auxiliary dummy pattern is formed along the boundary surface between the sensor pattern 110 and the dummy pattern 111, and is formed apart from the sensor pattern 110 on one side by a preset distance d1. Can do. Here, the separation distance d1 from the sensor pattern 110 may be 30 μm or less.

この反面、補助ダミーパターン112は、他側のダミーパターン111とも予め設定された距離d2だけ離隔して形成することができ、ここで、ダミーパターン111との離隔距離d2は、20μm以下とすることができる。   On the other hand, the auxiliary dummy pattern 112 can be formed apart from the dummy pattern 111 on the other side by a preset distance d2, and the separation distance d2 from the dummy pattern 111 is 20 μm or less. Can do.

このように補助ダミーパターン112は、センサパターン110との離隔距離とダミーパターン111との離隔距離が互いに等しい離隔距離を有するように形成されたり、互いに異なる離隔距離を有するように形成されることができる。   As described above, the auxiliary dummy pattern 112 may be formed such that the separation distance from the sensor pattern 110 and the separation distance from the dummy pattern 111 are equal to each other or different from each other. it can.

また、補助ダミーパターン112は、センサパターン110とダミーパターン111の間に帯形態で形成され、厚さwは一定の大きさとすることができる。ここで、厚さwは100μm以下とすることができる。   Further, the auxiliary dummy pattern 112 is formed in a band shape between the sensor pattern 110 and the dummy pattern 111, and the thickness w can be a constant size. Here, the thickness w can be 100 μm or less.

図17は、本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第6図である。   FIG. 17 is a sixth diagram illustrating a dummy pattern according to an embodiment of the present invention.

図17に示すように、本発明は、ダミーパターンの間のダミー連結部が形成されている場合、センサパターン110の間にダミーパターン111を配置し、センサパターン110とダミーパターン111の間に補助ダミーパターン112を追加で形成することができる。   As shown in FIG. 17, in the present invention, when the dummy connection part between the dummy patterns is formed, the dummy pattern 111 is arranged between the sensor patterns 110, and the auxiliary is provided between the sensor pattern 110 and the dummy pattern 111. A dummy pattern 112 can be additionally formed.

本発明では、ダミーパターン111aとダミー連結部111bが物理的に分離し、予め設定された距離だけ離隔するように形成することができる。   In the present invention, the dummy pattern 111a and the dummy connection part 111b can be physically separated and separated from each other by a preset distance.

このとき、補助ダミーパターン112は、センサパターン110とダミーパターン111の間の境界面に沿って形成され、センサパターン110とダミーパターン111それぞれから予め設定された距離だけ離隔して形成することができる。言い換えれば、補助ダミーパターン112は、一側のセンサパターン110と予め設定された距離だけ離れており、他側のダミーパターン111とも予め設定された距離だけ離れて形成することができる。   At this time, the auxiliary dummy pattern 112 is formed along the boundary surface between the sensor pattern 110 and the dummy pattern 111 and can be formed apart from each of the sensor pattern 110 and the dummy pattern 111 by a predetermined distance. . In other words, the auxiliary dummy pattern 112 is separated from the sensor pattern 110 on one side by a preset distance, and can be formed away from the dummy pattern 111 on the other side by a preset distance.

また、補助ダミーパターン112は、センサパターン110との離隔距離とダミーパターン111との離隔距離が互いに等しくなるように形成されたり、互いに異なるように形成されることができる。   Further, the auxiliary dummy pattern 112 may be formed such that the separation distance from the sensor pattern 110 and the separation distance from the dummy pattern 111 are equal to each other or different from each other.

このように形成された補助ダミーパターン112は、当該センサパターン110の外郭線に沿って予め設定された距離だけ離隔して形成されるため、当該センサパターン110の外郭線と同じ形状を有するようになる。   Since the auxiliary dummy pattern 112 formed in this manner is spaced apart by a preset distance along the outline of the sensor pattern 110, the auxiliary dummy pattern 112 has the same shape as the outline of the sensor pattern 110. Become.

補助ダミーパターン112は、センサパターン110とダミーパターン111の間の境界面に沿って帯形態に形成することができる。このような補助ダミーパターン112は、センサパターン110とダミーパターン111の間の境界面に沿って形成されるため、同じ方向の同じライン、例えば、X軸方向の同じx座標またはY軸方向の同じy座標上には1つの補助ダミーパターンが形成されることができる。   The auxiliary dummy pattern 112 can be formed in a band shape along the boundary surface between the sensor pattern 110 and the dummy pattern 111. Since the auxiliary dummy pattern 112 is formed along the boundary surface between the sensor pattern 110 and the dummy pattern 111, the same line in the same direction, for example, the same x coordinate in the X axis direction or the same in the Y axis direction. One auxiliary dummy pattern can be formed on the y coordinate.

勿論、同じ方向の同じライン上に位置する補助ダミーパターン112は、連続性があるパターンで形成することができるが、必ずしもこれに限定されるものではなく、必要によっては分割することができる。すなわち、連続性があるパターンの一部を切って多数の補助ダミーパターン112に分割することができる。   Of course, the auxiliary dummy pattern 112 positioned on the same line in the same direction can be formed as a continuous pattern, but is not necessarily limited to this, and can be divided if necessary. That is, a part of the continuous pattern can be cut and divided into a large number of auxiliary dummy patterns 112.

また、ダミーパターン111は、多数の予め設定された形態に分割されて形成されたり、配置されるダミーパターンを構成するメッシュを規則的または不規則的に断線させて形成されることができる。   In addition, the dummy pattern 111 may be formed by being divided into a number of preset forms, or may be formed by regularly or irregularly disconnecting the meshes constituting the arranged dummy patterns.

このようなダミーパターン111aと補助ダミーパターン112それぞれの端が開放して形成されるようになる。ダミーパターン111aと分離したダミー連結部111bの端も開放して形成されるようになることは勿論である。   Such dummy patterns 111a and auxiliary dummy patterns 112 are formed with their ends open. Of course, the end of the dummy connecting portion 111b separated from the dummy pattern 111a is also opened.

このように、ダミーパターン111と補助ダミーパターン112それぞれの境界でパターンの一部が切れていることは、ダミーパターン111と補助ダミーパターン112の間に電気的に互いに絶縁するためであり、また切れたことによってダミーパターン111と補助ダミーパターン112それぞれのパターンの端が開放して形成されることは、端が枠電極に連結しないことを意味する。   As described above, the fact that a part of the pattern is cut off at the boundary between the dummy pattern 111 and the auxiliary dummy pattern 112 is to electrically insulate the dummy pattern 111 and the auxiliary dummy pattern 112 from each other. Thus, the fact that the end of each of the dummy pattern 111 and the auxiliary dummy pattern 112 is open means that the end is not connected to the frame electrode.

図18a〜図18bは、本発明の一実施形態に係るダミーパターンの形態を示した第7図である。   18a to 18b are a seventh diagram illustrating a dummy pattern according to an embodiment of the present invention.

図18aに示すように、本発明は、ダミーパターン間のダミー連結部が形成されていない場合、センサパターン110の間にダミーパターン111を配置し、センサパターン110とダミーパターン111の間に補助ダミーパターン112を追加で形成することができる。   As shown in FIG. 18 a, in the present invention, when the dummy connection part between the dummy patterns is not formed, the dummy pattern 111 is disposed between the sensor patterns 110 and the auxiliary dummy is interposed between the sensor pattern 110 and the dummy pattern 111. Additional patterns 112 can be formed.

このようにダミー連結部が形成されていない場合には、センサパターン110間の間隔が、図15および図17で説明したセンサパターンの間隔よりも狭く形成されることができる。   Thus, when the dummy connection part is not formed, the interval between the sensor patterns 110 can be formed narrower than the interval between the sensor patterns described with reference to FIGS. 15 and 17.

このとき、補助ダミーパターン112は、センサパターン110とダミーパターン111間の境界面に沿って形成され、センサパターン110とダミーパターン111それぞれから予め設定された距離だけ離隔して形成されることができる。言い換えれば、補助ダミーパターン112は、一側のセンサパターン110と予め設定された距離だけ離れており、他側のダミーパターン111とも予め設定された距離だけ離れて形成されることができる。   At this time, the auxiliary dummy pattern 112 is formed along the boundary surface between the sensor pattern 110 and the dummy pattern 111 and may be formed apart from each of the sensor pattern 110 and the dummy pattern 111 by a predetermined distance. . In other words, the auxiliary dummy pattern 112 is separated from the sensor pattern 110 on one side by a preset distance, and can be formed apart from the dummy pattern 111 on the other side by a preset distance.

また、補助ダミーパターン112は、センサパターン110との離隔距離とダミーパターン111との離隔距離が互いに等しくなるように形成されたり、互いに異なるように形成されることができる。   Further, the auxiliary dummy pattern 112 may be formed such that the separation distance from the sensor pattern 110 and the separation distance from the dummy pattern 111 are equal to each other or different from each other.

このように形成された補助ダミーパターン112は、当該センサパターン110の外郭線に沿って予め設定された距離だけ離隔して形成されるため、当該センサパターン110の外郭線と同じ形状を有するようになる。   Since the auxiliary dummy pattern 112 formed in this manner is spaced apart by a preset distance along the outline of the sensor pattern 110, the auxiliary dummy pattern 112 has the same shape as the outline of the sensor pattern 110. Become.

補助ダミーパターン112は、センサパターン110とダミーパターン111の間の境界面に沿って帯形態に形成されることができる。このような補助ダミーパターン112は、センサパターン110とダミーパターン111間の境界面に沿って形成されるため、同じ方向の同じライン、例えば、X軸方向の同じx座標またはY軸方向の同じy座標上には1つの補助ダミーパターン112が形成されることができる。   The auxiliary dummy pattern 112 may be formed in a band shape along the boundary surface between the sensor pattern 110 and the dummy pattern 111. Since the auxiliary dummy pattern 112 is formed along the boundary surface between the sensor pattern 110 and the dummy pattern 111, the same line in the same direction, for example, the same x coordinate in the X axis direction or the same y in the Y axis direction. One auxiliary dummy pattern 112 may be formed on the coordinates.

勿論、同じ方向の同じライン上に位置する補助ダミーパターン112は連続性があるパターンで形成されることができるが、必ずしもこれに限定されるものではなく、必要によっては分割することができる。すなわち、連続性があるパターンの一部を切って多数の補助ダミーパターン112に分割することができる。   Of course, the auxiliary dummy pattern 112 positioned on the same line in the same direction can be formed as a continuous pattern, but is not necessarily limited to this, and can be divided if necessary. That is, a part of the continuous pattern can be cut and divided into a large number of auxiliary dummy patterns 112.

また、ダミーパターン111は、多数の予め設定された形態に分割して形成されたり、配置するダミーパターンを構成するメッシュを規則的または不規則的に断線させて形成されることができる。   Further, the dummy pattern 111 can be formed by being divided into a number of preset forms, or can be formed by regularly or irregularly disconnecting the meshes constituting the dummy pattern to be arranged.

このようなダミーパターン111と補助ダミーパターン112それぞれの端が開放して形成されるようになる。   The dummy pattern 111 and the auxiliary dummy pattern 112 are formed with their ends open.

このように、ダミーパターン111と補助ダミーパターン112それぞれの境界でパターンの一部が切れていることは、ダミーパターン111と補助ダミーパターン112の間に電気的に互いに絶縁するためであり、また切れたことによってダミーパターン111と補助ダミーパターン112それぞれのパターンの端が開放して形成されることは、端が枠電極に連結しないことを意味する。   As described above, the fact that a part of the pattern is cut off at the boundary between the dummy pattern 111 and the auxiliary dummy pattern 112 is to electrically insulate the dummy pattern 111 and the auxiliary dummy pattern 112 from each other. Thus, the fact that the end of each of the dummy pattern 111 and the auxiliary dummy pattern 112 is open means that the end is not connected to the frame electrode.

図18bに示すように、本発明は、ダミーパターンの間のダミー連結部が形成されていない場合、センサパターン110の間にダミーパターン111を配置し、センサパターン110とダミーパターン111の間に補助ダミーパターン112を追加で形成することができる。   As shown in FIG. 18b, in the present invention, when the dummy connection part between the dummy patterns is not formed, the dummy pattern 111 is arranged between the sensor patterns 110 and the auxiliary is provided between the sensor pattern 110 and the dummy pattern 111. A dummy pattern 112 can be additionally formed.

このようにダミー連結部が形成されていない場合には、センサパターン110の間隔が、図15および図17で説明したセンサパターンの間隔よりも狭く形成されることができる。   Thus, when the dummy connection part is not formed, the interval between the sensor patterns 110 can be formed narrower than the interval between the sensor patterns described with reference to FIGS. 15 and 17.

このとき、補助ダミーパターン112は、センサパターン110とダミーパターン111間の境界面に沿って形成され、センサパターン110とダミーパターン111それぞれから予め設定された距離だけ離隔して形成されることができる。言い換えれば、補助ダミーパターン112は、一側のセンサパターン110と予め設定された距離だけ離れており、他側のダミーパターン111とも予め設定された距離だけ離れて形成されることができる。   At this time, the auxiliary dummy pattern 112 is formed along the boundary surface between the sensor pattern 110 and the dummy pattern 111 and may be formed apart from each of the sensor pattern 110 and the dummy pattern 111 by a predetermined distance. . In other words, the auxiliary dummy pattern 112 is separated from the sensor pattern 110 on one side by a preset distance, and can be formed apart from the dummy pattern 111 on the other side by a preset distance.

また、補助ダミーパターン112は、センサパターン110との離隔距離とダミーパターン111との離隔距離が互いに等しくなるように形成されたり、互いに異なるように形成されることができる。   Further, the auxiliary dummy pattern 112 may be formed such that the separation distance from the sensor pattern 110 and the separation distance from the dummy pattern 111 are equal to each other or different from each other.

このように形成された補助ダミーパターン112は、当該ダミーパターン110の外郭線に沿って予め設定された距離だけ離隔して形成されるため、当該ダミーパターン110の外郭線と同じ形状を有するようになる。   Since the auxiliary dummy pattern 112 formed in this manner is spaced apart by a preset distance along the outline of the dummy pattern 110, the auxiliary dummy pattern 112 has the same shape as the outline of the dummy pattern 110. Become.

補助ダミーパターン112は、ダミーパターン111の外郭線に沿って帯形態に形成されることができる。このような補助ダミーパターン112は、ダミーパターン111の外郭線に沿って形成されるため、ダミーパターン111ごとに外郭を囲むように1つの補助ダミーパターン112が形成されることができる。すなわち、1つの補助ダミーパターン112ごとに物理的に分離して形成される。   The auxiliary dummy pattern 112 may be formed in a band shape along the outline of the dummy pattern 111. Since the auxiliary dummy pattern 112 is formed along the outline of the dummy pattern 111, one auxiliary dummy pattern 112 can be formed so as to surround the outline of each dummy pattern 111. That is, each auxiliary dummy pattern 112 is physically separated and formed.

勿論、ダミーパターンを囲む補助ダミーパターン112は連続性があるパターンで形成することができるが、必ずしもこれに限定されるものではなく、必要によっては分割することができる。すなわち、連続性があるパターンの一部を切って多数の補助ダミーパターン112に分割することができる。   Of course, the auxiliary dummy pattern 112 surrounding the dummy pattern can be formed as a continuous pattern, but is not necessarily limited to this, and can be divided as necessary. That is, a part of the continuous pattern can be cut and divided into a large number of auxiliary dummy patterns 112.

また、ダミーパターン111は、多数の予め設定された形態に分割されて形成されたり、配置するダミーパターンを構成するメッシュを規則的または不規則的に断線させて形成されることができる。   Further, the dummy pattern 111 can be formed by being divided into a number of preset forms, or can be formed by regularly or irregularly disconnecting the meshes constituting the dummy pattern to be arranged.

このようなダミーパターン111と補助ダミーパターン112それぞれの端が開放して形成されるようになる。   The dummy pattern 111 and the auxiliary dummy pattern 112 are formed with their ends open.

このように、ダミーパターン111と補助ダミーパターン112それぞれの境界でパターンの一部が切れていることは、ダミーパターン111と補助ダミーパターン112の間に電気的に互いに絶縁するためであり、また切れたことによってダミーパターン111と補助ダミーパターン112それぞれのパターンの端が開放して形成されることは、端が枠電極に連結しないことを意味する。   As described above, the fact that a part of the pattern is cut off at the boundary between the dummy pattern 111 and the auxiliary dummy pattern 112 is to electrically insulate the dummy pattern 111 and the auxiliary dummy pattern 112 from each other. Thus, the fact that the end of each of the dummy pattern 111 and the auxiliary dummy pattern 112 is open means that the end is not connected to the frame electrode.

このように、本発明は、X座標を感知するための第1センサパターンを含む第1センサ部とY座標を感知するための第2センサパターンを含む第2センサ部とで構成され、第1センサ部と第2センサ部が互いに接合して形成されたタッチスクリーンセンサに多様な形態のダミーパターンを適用した例を示しているが、必ずしもこれに限定されるものではなく、X座標を感知するための第1センサパターンとY座標を感知するための第2センサパターンを単一基板の表面に共に配列するように構成されたタッチスクリーンセンサにも適用することができる。   As described above, the present invention includes the first sensor unit including the first sensor pattern for detecting the X coordinate and the second sensor unit including the second sensor pattern for detecting the Y coordinate. Although an example in which various types of dummy patterns are applied to the touch screen sensor formed by joining the sensor unit and the second sensor unit to each other is shown, the present invention is not necessarily limited to this and senses the X coordinate. The first sensor pattern for detecting the Y coordinate and the second sensor pattern for detecting the Y coordinate may be applied to a touch screen sensor configured to be arranged on the surface of a single substrate.

勿論、ここでは、単一基板の表面に第1センサパターンと第2センサパターンがすべて形成される場合を一例として説明しているが、必ずしもこれに限定されるものではなく、同一基板上に第1センサパターンと第2センサパターンが多様な形態で形成されてもよいことは自明である。   Of course, here, the case where the first sensor pattern and the second sensor pattern are all formed on the surface of a single substrate is described as an example. However, the present invention is not necessarily limited to this. Obviously, the first sensor pattern and the second sensor pattern may be formed in various forms.

例えば、第1方向に形成された第1センサパターンと第2方向に形成された第2センサパターンが単一基板の表面の両側面にそれぞれ配列するように構成されたタッチスクリーンセンサにも、本発明の一実施形態に係る多様な形態のダミーパターンを適用することができる。   For example, a touch screen sensor configured such that a first sensor pattern formed in a first direction and a second sensor pattern formed in a second direction are arranged on both sides of a surface of a single substrate are also included in the present invention. Various types of dummy patterns according to an embodiment of the invention can be applied.

図19は、本発明の他の実施形態に係るタッチスクリーンセンサの構成を示した図である。   FIG. 19 is a diagram illustrating a configuration of a touch screen sensor according to another embodiment of the present invention.

図19に示すように、本発明に係るタッチスクリーンセンサは、1つのセンサ部100を備えることができ、ここで、センサ部100は、X座標を感知するための第1センサパターン110とY座標を感知するための第2センサパターン210が1つの基板に配列するように構成することができる。   As shown in FIG. 19, the touch screen sensor according to the present invention may include a single sensor unit 100, where the sensor unit 100 includes a first sensor pattern 110 for detecting an X coordinate and a Y coordinate. The second sensor pattern 210 may be arranged on a single substrate.

このとき、第1センサパターンをセンシング信号を感知するセンシング電極とし、第2センサパターンを第1センサパターンと電気的に分離して駆動信号を感知する駆動電極とすると仮定することができる。   At this time, it can be assumed that the first sensor pattern is a sensing electrode that senses a sensing signal, and the second sensor pattern is a driving electrode that senses a driving signal by being electrically separated from the first sensor pattern.

このような複数のセンシング電極それぞれは、第1方向に沿って延長して形成される感知バー形態で配置され、複数の駆動電極それぞれは、第1方向と交差する第2方向上に配置することができる。ここで、第1方向は横方向またはX軸方向を示し、第2方向は縦方向またはY軸方向を示す。   Each of the plurality of sensing electrodes is disposed in the form of a sensing bar formed extending along the first direction, and each of the plurality of driving electrodes is disposed on a second direction intersecting the first direction. Can do. Here, the first direction indicates the horizontal direction or the X-axis direction, and the second direction indicates the vertical direction or the Y-axis direction.

例えば、横方向に長く形成されたY座標を感知するための第2センサパターン210を縦方向に一定間隔ごとに離隔して配置し、第2センサパターン210に並んで隣接してX座標を感知するための多数の第1センサパターン110を横方向に一定間隔ごとに離隔して配置することができる。   For example, the second sensor pattern 210 for detecting the Y coordinate formed long in the horizontal direction is arranged at regular intervals in the vertical direction, and the X coordinate is detected adjacent to the second sensor pattern 210 side by side. A large number of first sensor patterns 110 can be arranged at regular intervals in the horizontal direction.

すなわち、1つの第2センサパターン210ごとに多数の第1センサパターン110を並べて配置する。   That is, a large number of first sensor patterns 110 are arranged side by side for each second sensor pattern 210.

このように配置される1つのセンシング電極と多数の駆動電極を含む感知領域が形成されることができる。本発明に係る感知領域は、1つのセンシング電極と多数の駆動電極間の包含関係に限定されるものではなく、多様な形態で実現することができる。   A sensing region including one sensing electrode and a plurality of driving electrodes arranged in this manner can be formed. The sensing region according to the present invention is not limited to the inclusion relationship between one sensing electrode and a large number of driving electrodes, and can be realized in various forms.

このように配置された第1センサパターン110と第2センサパターン210それぞれに配線電極400が連結することができる。ここで、配線電極400は、第1センサパターン110と第2センサパターン210から感知されたタッチ信号を外部駆動回路(図示せず)に伝達する役割をする。   The wiring electrode 400 can be connected to each of the first sensor pattern 110 and the second sensor pattern 210 arranged in this manner. Here, the wiring electrode 400 serves to transmit a touch signal sensed from the first sensor pattern 110 and the second sensor pattern 210 to an external driving circuit (not shown).

また、第1センサパターン110または第2センサパターン210と配線電極の間にダミーパターン111を形成することができる。また、第1センサパターン110それぞれに配線電極が連結することによって配線電極の間に空間が生じ、その空間にダミーパターンを形成することができる。また、空間の大きさにより、ダミーパターンの大きさが異なることができる。このようなダミーパターン111は、第1センサパターン110または第2センサパターン210と類似する形状のパターンまたは同じ形状のパターンで形成することができる。   Further, a dummy pattern 111 can be formed between the first sensor pattern 110 or the second sensor pattern 210 and the wiring electrode. In addition, when the wiring electrode is connected to each of the first sensor patterns 110, a space is generated between the wiring electrodes, and a dummy pattern can be formed in the space. In addition, the size of the dummy pattern can be different depending on the size of the space. The dummy pattern 111 can be formed as a pattern having the same shape as the first sensor pattern 110 or the second sensor pattern 210 or a pattern having the same shape.

このように多数のセンシング電極と多数の感知電極は、基板の同じ面に配置されて断層構造を形成することができる。   In this way, a large number of sensing electrodes and a large number of sensing electrodes can be disposed on the same surface of the substrate to form a tomographic structure.

このとき、1枚の基板に第1センサパターンと第2センサパターンを形成するときにメタルメッシュで構成するようになり、この理由は、ITOは折り曲げることができないためフレキシブル基板に使用することが不可能であり、中大型面積での使用が不可能である反面、メタルメッシュはフレキシブルと中大型面積に使用可能なだけでなく、ITOに比べて応答速度が速いためである。   At this time, when the first sensor pattern and the second sensor pattern are formed on one substrate, it is configured by a metal mesh. This is because ITO cannot be bent and cannot be used for a flexible substrate. Although it is possible and cannot be used in medium and large areas, the metal mesh is not only flexible and can be used in medium and large areas, but also has a faster response speed than ITO.

また、1枚の基板に第1センサパターンと第2センサパターンを形成するときにダミーパターンを形成するようになり、この理由は、メタルメッシュで構成するときにモアレが生じる現象が発生するため、空間にダミーパターンを形成してモアレを防ぐためである。   In addition, when the first sensor pattern and the second sensor pattern are formed on one substrate, a dummy pattern is formed. This is because a phenomenon in which moire occurs when a metal mesh is used. This is because a dummy pattern is formed in the space to prevent moire.

なお、基板上にパターン密集度差によってパターンが視認される現象が発生するため、空間にダミーパターンを形成することにより、均一なパターンによってパターンが視認される現象を抑制するためである。   In addition, since the phenomenon that a pattern is visually recognized occurs due to the difference in pattern density on the substrate, the phenomenon that the pattern is visually recognized by a uniform pattern is formed by forming a dummy pattern in the space.

図20は、図19に示すセンサパターン、ダミーパターン、配線電極の形状を拡大して示した図である。   FIG. 20 is an enlarged view of the sensor pattern, dummy pattern, and wiring electrode shown in FIG.

図20に示すように、図19の領域Aを拡大して詳察すると、センサパターン110、210、ダミーパターン111、配線電極400は1つのセンサ部に形成され、一定方向のパターンで形成されることができる。一定方向のパターンとは、連続性あるパターンで一定方向に形成された線が相互交差するメッシュ形状のパターンであることが好ましい。   As shown in FIG. 20, when the region A in FIG. 19 is enlarged and detailed, the sensor patterns 110 and 210, the dummy pattern 111, and the wiring electrode 400 are formed in one sensor portion and are formed in a pattern in a certain direction. be able to. The pattern in a certain direction is preferably a mesh-shaped pattern in which lines formed in a certain direction in a continuous pattern intersect each other.

センサパターン110、210、ダミーパターン111、配線電極400それぞれの端は開放して形成されることができる。センサパターン110、210、ダミーパターン111、配線電極400それぞれの境界でパターンの一部が切れていることは電気的に互いに絶縁するためであり、また切れたことによってパターンの端が開放して形成されることは、端が枠電極に連結しないことを意味する。   The ends of the sensor patterns 110 and 210, the dummy pattern 111, and the wiring electrode 400 can be opened. Part of the pattern is cut off at the boundaries of the sensor patterns 110 and 210, the dummy pattern 111, and the wiring electrode 400 to electrically insulate each other. Being done means that the end is not connected to the frame electrode.

このようなセンサパターン110、210、ダミーパターン111、配線電極400は、陽刻形状または陰刻形状を利用して形成することができ、センサパターン110、210と配線電極400は電気的に活性の電極で形成され、ダミーパターン111は電気的に不活性の電極で形成される。   The sensor patterns 110 and 210, the dummy pattern 111, and the wiring electrode 400 can be formed using a positive or negative shape, and the sensor patterns 110 and 210 and the wiring electrode 400 are electrically active electrodes. The dummy pattern 111 is formed of an electrically inactive electrode.

図21は、図19に示すダミーパターンの配置位置と形態を拡大して示した図である。   FIG. 21 is an enlarged view showing the arrangement position and form of the dummy pattern shown in FIG.

図21に示すように、図19の領域Bを拡大して詳察すると、センサパターン110、210と配線電極400の間にダミーパターン111を形成し、このようなダミーパターン111は、センサパターン110、210と配線電極400の間の間隔によってその大きさが異なることができる。   As shown in FIG. 21, when the region B of FIG. 19 is enlarged and detailed, a dummy pattern 111 is formed between the sensor patterns 110 and 210 and the wiring electrode 400, and the dummy pattern 111 is the sensor pattern 110. , 210 and the wiring electrode 400 can be different in size.

例えば、ダミーパターン111a2は、ダミーパターン111a1よりもその幅をさらに広く形成することができ、センサパターン110、210と配線電極400の間の間隔が広くなるほどダミーパターン111の幅も広くなる。このとき、ダミーパターンは分割され、2つ以上のサブダミーパターンで形成されることができる。ダミーパターンそれぞれは、互いに異なる数のサブダミーパターンに分割して形成されることができる。特に、ダミーパターンの大きさによってサブダミーパターンの数が異なることができる。   For example, the dummy pattern 111a2 can be formed wider than the dummy pattern 111a1, and the width of the dummy pattern 111 is increased as the distance between the sensor patterns 110 and 210 and the wiring electrode 400 is increased. At this time, the dummy pattern may be divided and formed with two or more sub-dummy patterns. Each dummy pattern can be divided into a different number of sub-dummy patterns. In particular, the number of sub-dummy patterns can vary depending on the size of the dummy pattern.

ここでは、本発明に係るダミーパターン111がセンサパターン110、210と配線電極400の間に形成される場合を一例として説明しているが、必ずしもこれに限定されるものではなく、センサパターンとセンサパターンの間または配線電極と配線電極の間など多様な位置に形成することができる。このように形成されたダミーパターン111は、予め設定された形態を有する多数のサブダミーパターンに分割して形成され、その方式は多様である。   Here, the case where the dummy pattern 111 according to the present invention is formed between the sensor patterns 110 and 210 and the wiring electrode 400 is described as an example, but the present invention is not necessarily limited thereto, and the sensor pattern and the sensor are not necessarily limited thereto. It can be formed at various positions such as between patterns or between wiring electrodes. The dummy pattern 111 formed in this way is divided into a number of sub-dummy patterns having a preset form, and there are various methods.

一例として、1)図11a〜図11bのように、ダミーパターンの連続性があるパターンの一部を切り、全体外郭の形状と同じ形状を有して均等面積を有するように分割することができる。   As an example, 1) As shown in FIG. 11a to FIG. 11b, a part of the pattern having the continuity of the dummy pattern can be cut and divided so as to have the same shape as the entire outer shape and to have an equal area. .

このとき、図11aのように、ダミーパターンの破断するラインとダミーパターン内のメッシュが平行に形成されたり、図11bのように、ダミーパターンと破断するラインとダミーパターン内のメッシュが平行ではなく、予め設定された角度を有するように形成されることができる。   At this time, the broken line of the dummy pattern and the mesh in the dummy pattern are formed in parallel as shown in FIG. 11a, or the broken line and the broken line in the dummy pattern are not parallel in FIG. 11b. , Can be formed to have a preset angle.

他の例として、2)図12a〜図12bのように、ダミーパターンの連続性があるパターンの一部を切り、全体外郭の形状と異なる形成を有するが均等面積を有するように分割することができる。   As another example, 2) As shown in FIGS. 12a to 12b, a part of the pattern having the continuity of the dummy pattern may be cut and divided so as to have a uniform area but a different formation from the overall outline shape. it can.

他の例として、3)図13a〜図13bのように、ダミーパターンの連続性があるパターンの一部を切り、全体外郭の形状と異なる形状を有して異なる面積を有するように分割することができる。   As another example, 3) As shown in FIGS. 13a to 13b, a part of the pattern having the continuity of the dummy pattern is cut and divided so as to have a shape different from the shape of the entire outline and a different area. Can do.

このとき、図13aのように、仮想の分割パターン内のラインとダミーパターン内のメッシュの間に互いに平行に分割したり、図13bのように、仮想の分割パターン内のラインとダミーパターン内のメッシュの間に互いに平行しないように分割することができる。   At this time, as shown in FIG. 13a, the lines in the virtual divided pattern and the mesh in the dummy pattern are divided parallel to each other, or in the virtual divided pattern and in the dummy pattern as shown in FIG. 13b. The mesh can be divided so as not to be parallel to each other.

他の例として、図14a〜図14bのように、ダミーパターンの連続性があるパターンの一部を切り、ダミーパターン内のメッシュを予め設定された範囲内で規則的または不規則的に破断して分割することができる。   As another example, as shown in FIGS. 14a to 14b, a part of the pattern having the continuity of the dummy pattern is cut, and the mesh in the dummy pattern is regularly or irregularly broken within a preset range. Can be divided.

このとき、図14aのように、ダミーパターン内のメッシュを予め設定された範囲内で規則的に破断し、その破断した線の長さが等しくなるように形成したり、図14bのように、ダミーパターン内のメッシュを予め設定された範囲内で不規則的に破断し、その破断した線の長さが互いに異なるように形成することができる。   At this time, as shown in FIG. 14a, the mesh in the dummy pattern is regularly broken within a preset range and the lengths of the broken lines are equal, or as shown in FIG. 14b, The meshes in the dummy pattern can be irregularly broken within a preset range, and the lengths of the broken lines can be formed different from each other.

他の例として、図15のように、ダミーパターンの間にダミー連結部が形成されている場合、センサパターンの間にダミーパターンを配置し、センサパターンとダミーパターンの間に補助ダミーパターンを追加で形成することができる。   As another example, when a dummy connection part is formed between dummy patterns as shown in FIG. 15, a dummy pattern is arranged between sensor patterns, and an auxiliary dummy pattern is added between the sensor pattern and the dummy pattern. Can be formed.

他の例として、図17のように、ダミーパターンの間のダミー連結部が形成されている場合、センサパターンとダミーパターンの間に補助ダミーパターンを追加で形成し、ダミーパターンとダミー連結部が物理的に分離し、予め設定された距離だけ離隔するように形成することができる。   As another example, when the dummy connection part between the dummy patterns is formed as shown in FIG. 17, an auxiliary dummy pattern is additionally formed between the sensor pattern and the dummy pattern, and the dummy pattern and the dummy connection part are formed. They can be physically separated and separated by a preset distance.

他の例として、図18a〜図18bのように、ダミーパターンの間のダミー連結部が形成されていない場合、センサパターンとダミーパターンの間に補助ダミーパターンを追加で形成し、図18aのように、センサパターンの間隔が図15および図17で説明したセンサパターンの間隔よりも狭く形成したり、図18bのように、ダミーパターンの外郭を囲むように形成することができる。   As another example, when the dummy connection part between the dummy patterns is not formed as shown in FIGS. 18a to 18b, an auxiliary dummy pattern is additionally formed between the sensor pattern and the dummy pattern, as shown in FIG. 18a. In addition, the sensor pattern interval may be narrower than the sensor pattern interval described with reference to FIGS. 15 and 17, or may be formed so as to surround the outline of the dummy pattern as shown in FIG. 18b.

このとき、ダミーパターンと補助ダミーパターンそれぞれは、多数に分割して形成されることができる。   At this time, each of the dummy pattern and the auxiliary dummy pattern may be divided into a large number.

また、補助ダミーパターンは、ダミーパターンの形態や位置により、センサパターンとダミーパターンの間だけではなく、センサパターンとセンサパターンの間または配線電極と配線電極の間にも形成されることができる。   Further, the auxiliary dummy pattern can be formed not only between the sensor pattern and the dummy pattern but also between the sensor pattern or between the wiring electrode and the wiring electrode depending on the form and position of the dummy pattern.

上述した実施形態はその一例であって、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者であれば、本発明の本質的な特性から逸脱しない範囲で多様な修正および変形が可能だろう。したがって、本発明に開示された実施形態は、本発明の技術思想を限定するためのものではなく説明するためのものであり、このような実施形態によって本発明の技術思想の範囲が限定されるものではない。本発明の保護範囲は添付の特許請求の範囲によって解釈されなければならず、それと同等な範囲内にあるすべての技術思想は、本発明の権利範囲に含まれると解釈されなければならない。   The above-described embodiment is an example, and various modifications and variations can be made by those having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention belongs without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention, but to explain it, and the scope of the technical idea of the present invention is limited by such an embodiment. It is not a thing. The protection scope of the present invention should be construed by the appended claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be construed as being included in the scope of the present invention.

Claims (12)

基板に形成されてタッチ信号を感知する多数のセンサパターン、
前記多数のセンサパターンそれぞれに連結して前記タッチ信号を伝達する多数の配線電極、および
前記多数のセンサパターンまたは前記多数の配線電極間の空間に形成される多数のダミーパターン
を備え、前記多数のダミーパターンは、物理的に分離する2つ以上のサブダミーパターンからなり、
前記多数のダミーパターンは、その内部のメッシュを断線させ、物理的に分離する少なくとも2つ以上のサブダミーパターンからなり、
前記多数のダミーパターンは、前記多数のセンサパターンまたは前記多数の配線電極の間に形成された空間の大きさにより、大きさが互いに異なるように形成されることを特徴とする、静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
A number of sensor patterns formed on the substrate to sense touch signals;
A plurality of wiring electrodes connected to each of the plurality of sensor patterns to transmit the touch signal; and a plurality of dummy patterns formed in spaces between the plurality of sensor patterns or the plurality of wiring electrodes. the dummy pattern consists of two or more sub-dummy patterns of physically separated,
The plurality of dummy patterns, the internal mesh is broken, Ri least two or more sub-dummy patterns physically separating Tona,
The plurality of dummy patterns, the size of the plurality of sensor pattern or the space formed between the plurality of wiring electrodes are formed such that the magnitude is different from each other and wherein Rukoto, capacitive Touchpad structure that uses a dummy pattern for the touchscreen.
前記多数のセンサパターンは、
前記基板の一面に第1方向に配置される多数の第1センサパターン、および
前記第1センサパターンが配置された同一面に前記第1方向と交差する第2方向に配置される多数の第2センサパターン、
を備え、前記ダミーパターンは、前記第2センサパターンの間に配置された第1センサパターンに前記配線電極が連結することによって形成された空間に配列されることを特徴とする、請求項1に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
The multiple sensor patterns are:
A number of first sensor patterns arranged in a first direction on one surface of the substrate, and a number of second sensor patterns arranged in a second direction intersecting the first direction on the same surface where the first sensor pattern is arranged. Sensor pattern,
The dummy pattern is arranged in a space formed by connecting the wiring electrode to a first sensor pattern disposed between the second sensor patterns. A touchpad structure using a dummy pattern for the described capacitive touchscreen.
前記多数のセンサパターンは、
前記基板の一面に第1方向に配置される多数の第1センサパターン、および 前記基板の他面に第1方向と交差する第2方向に配置される多数の第2センサパターン を備えることを特徴とする、請求項1に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
The multiple sensor patterns are:
A plurality of first sensor patterns arranged in one direction on one surface of the substrate, and a plurality of second sensor patterns arranged in a second direction intersecting the first direction on the other surface of the substrate. A touch pad structure using a dummy pattern for the capacitive touch screen according to claim 1.
前記多数のダミーパターンそれぞれは、少なくとも2つ以上のサブダミーパターンからなり、互いに異なる数のサブダミーパターンからなることを特徴とする、請求項1に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。   2. The dummy for a capacitive touch screen according to claim 1, wherein each of the plurality of dummy patterns includes at least two or more sub-dummy patterns and a different number of sub-dummy patterns. Touchpad structure that uses patterns. 分離する前記少なくとも2つ以上のサブダミーパターンそれぞれの境界線は、当該ダミーパターンを構成するメッシュの方向と互いに平行するように形成されることを特徴とする、請求項1に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。   2. The electrostatic capacitance according to claim 1, wherein a boundary line of each of the at least two sub dummy patterns to be separated is formed to be parallel to a direction of a mesh constituting the dummy pattern. Touchpad structure using dummy pattern for touch screen. 分離した前記少なくとも2つ以上のサブダミーパターンの境界線は、当該ダミーパターンを構成するメッシュの方向と互いに平行しないように形成され、
前記多数のダミーパターンは、その内部メッシュを規則的にまたは不規則的に破断させる第1仮想線によって物理的に分離された2つ以上のサブダミーパターンからなり、
前記第1仮想線と第2仮想線との間には少なくとも1つの所定の第1角度が形成され、前記第1仮想線は前記多数のダミーパターンの前記内部メッシュを分離し、前記第2仮想線は前記第1ダミーパターンにおいて分離された少なくとも2つ以上のサブダミーパターンの端部間を仮想的に接続することを特徴とする、請求項1に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
Separate the at least two sub-dummy patterns of the boundary line is formed so as not to mutually parallel to the direction of the mesh constituting the dummy pattern,
The plurality of dummy patterns includes two or more sub-dummy patterns physically separated by a first imaginary line that breaks the internal mesh regularly or irregularly,
At least one predetermined first angle is formed between the first imaginary line and the second imaginary line, and the first imaginary line separates the internal meshes of the plurality of dummy patterns, and the second imaginary line The capacitive touch screen according to claim 1, wherein the line virtually connects between ends of at least two sub-dummy patterns separated in the first dummy pattern. Touchpad structure that uses a dummy pattern.
前記多数のダミーパターンそれぞれは、予め設定された形態を有する2つ以上のサブダミーパターンからなり、
前記2つ以上のサブダミーパターンそれぞれは、当該ダミーパターンの全体外郭の形状とは異なる形状を有して異なる面積を有するように形成されることを特徴とする、請求項1に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
Each of the plurality of dummy patterns includes two or more sub-dummy patterns having a preset form,
2. The electrostatic of claim 1, wherein each of the two or more sub-dummy patterns has a shape different from a shape of an entire outline of the dummy pattern and has a different area. Touchpad structure using dummy pattern for capacitive touch screen.
前記多数のダミーパターンそれぞれは、その内部のメッシュを規則的または不規則的に断線させ、物理的に分離する少なくとも2つ以上のサブダミーパターンからなることを特徴とする、請求項1に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。   2. The plurality of dummy patterns according to claim 1, wherein each of the plurality of dummy patterns includes at least two or more sub-dummy patterns that physically or physically separate meshes inside the dummy patterns. Touchpad structure using dummy pattern for capacitive touch screen. 前記多数のダミーパターンそれぞれは、メッシュを予め設定された範囲内で不規則的に破断して分割し、破断した線の長さが互いに異なるように形成されることを特徴とする、請求項に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。 Wherein each plurality of dummy patterns, divided by irregularly broken within a range set mesh in advance, characterized in that the length of the broken lines are formed to be different from each other, according to claim 8 A structure of a touch pad using a dummy pattern for the capacitive touch screen according to claim 1. 前記多数のセンサパターンと前記多数のダミーパターンの間に形成されたり、前記多数の配線電極と前記多数のダミーパターンの間に形成される多数の補助ダミーパターン
をさらに備えることを特徴とする、請求項1に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。
The apparatus further comprises a plurality of auxiliary dummy patterns formed between the plurality of sensor patterns and the plurality of dummy patterns, or formed between the plurality of wiring electrodes and the plurality of dummy patterns. A structure of a touch pad using a dummy pattern for the capacitive touch screen according to Item 1.
前記多数のダミーパターンは、前記多数のセンサパターンまたは前記多数の配線電極の間に形成された空間の大きさにより、大きさが互いに異なるように形成されることを特徴とする、請求項10に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。   The number of dummy patterns may be different from each other according to a size of a space formed between the plurality of sensor patterns or the plurality of wiring electrodes. A touchpad structure using a dummy pattern for the described capacitive touchscreen. 前記多数のダミーパターンと前記多数の補助ダミーパターンそれぞれは、多数に分割されて形成されることを特徴とする、請求項10に記載の静電容量式タッチスクリーンのためのダミーパターンを使用するタッチパッドの構造。   The touch using a dummy pattern for a capacitive touch screen according to claim 10, wherein each of the plurality of dummy patterns and the plurality of auxiliary dummy patterns is divided into a plurality of patterns. Pad structure.
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