JP6561886B2 - Manufacturing method of power module substrate with heat sink - Google Patents

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Description

本発明は、ヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a power module substrate with a heat sink.

風力発電、電気自動車、ハイブリッド自動車等を制御するために用いられる大電力制御用のパワー半導体素子においては、発熱量が多いことから、これを搭載する基板としては、例えばAlN(窒化アルミニウム)、Al(アルミナ)、Si(窒化ケイ素)などのセラミックスからなる絶縁基板と、この絶縁基板の一方の面に導電性の優れた金属板を接合して形成した回路層と、を備えたパワーモジュール用基板が、従来から広く用いられている。なお、パワージュール用基板としては、セラミックス基板の他方の面に金属層を形成したものも提供されている。 In power semiconductor elements for large power control used to control wind power generation, electric vehicles, hybrid vehicles, etc., the amount of heat generated is large, and for example, AlN (aluminum nitride), Al An insulating substrate made of ceramics such as 2 O 3 (alumina), Si 3 N 4 (silicon nitride), and a circuit layer formed by bonding a metal plate having excellent conductivity to one surface of the insulating substrate, The power module substrate provided has been widely used. In addition, as a power joule substrate, a substrate having a metal layer formed on the other surface of a ceramic substrate is also provided.

また、回路層に搭載した半導体素子等から発生した熱を効率的に放散させるために、パワーモジュール用基板の金属層側にヒートシンクを接合したヒートシンク付パワーモジュール用基板が提供されている。ヒートシンクの材料としては、アルミニウム合金やAlSiCに代表される炭化ケイ素質部材中にアルミニウムもしくはアルミニウム合金が充填されたアルミニウム基複合材料などのアルミニウム系材料が広く利用されている。   In addition, in order to efficiently dissipate heat generated from a semiconductor element or the like mounted on a circuit layer, a power module substrate with a heat sink in which a heat sink is bonded to the metal layer side of the power module substrate is provided. As a material for the heat sink, aluminum-based materials such as an aluminum-based composite material in which aluminum or an aluminum alloy is filled in a silicon carbide member typified by aluminum alloy or AlSiC are widely used.

パワーモジュール用基板とAlSiCとを接合する方法としては、ろう材を用いる方法と、AlSiCの被覆層(スキン層)の一部を溶融させる方法が知られている。   As a method for joining the power module substrate and AlSiC, a method using a brazing material and a method of melting a part of the AlSiC coating layer (skin layer) are known.

特許文献1には、主に炭化ケイ素からなる多孔体に、初晶温度が615℃以上であるアルミニウム合金を含浸して形成されたAlSiC系複合体と、AlSiCとパワーモジュール用基板とを、ろう材を用いて接合することが開示されている。なお、この特許文献1の実施例では、AlSiC系複合体とDBA基板を、アルミニウム系ろう材を用いて590℃でろう付けしている。   In Patent Document 1, an AlSiC-based composite formed by impregnating a porous body mainly made of silicon carbide with an aluminum alloy having an initial crystal temperature of 615 ° C. or higher, an AlSiC, and a power module substrate are brazed. It is disclosed to join using a material. In the example of Patent Document 1, the AlSiC composite and the DBA substrate are brazed at 590 ° C. using an aluminum brazing material.

特許文献2には、ヒートシンクとしてSiとMgとが所定の量で含有されたアルミニウム合金の被覆層が形成されているAlSiC系複合材料を用い、このAlSiC系複合材料の被覆層の一部を溶融させて、パワーモジュール用基板とAlSiC系複合材料とを接合することが開示されている。   Patent Document 2 uses an AlSiC composite material in which an aluminum alloy coating layer containing a predetermined amount of Si and Mg is used as a heat sink, and a part of the coating layer of the AlSiC composite material is melted. Then, it is disclosed that the power module substrate and the AlSiC composite material are bonded together.

特開2003−306730号公報JP 2003-306730 A 特開2014−138124号公報JP, 2014-138124, A

ところで、最近では、パワー半導体素子等の高出力化が進められており、これを搭載するヒートシンク付パワーモジュール用基板では、パワー半導体素子等にて発生した熱を、ヒートシンクにて効率良く外部に放出できるように、パワーモジュール基板とヒートシンクとを高い接合信頼性で接合することが要求される。しかしながら、特許文献1に開示されているパワーモジュール用基板とAlSiCとを、アルミニウム系ろう材を用いて接合する方法では、ろう付けの接合温度が高いため、AlSiCの母材が部分的に溶融して、AlSiCが歪んで変形してしまう。また、特許文献2に記載されているAlSiC系複合材料の被覆層の一部を溶融させる方法においては、AlSiC系複合材料の被覆層の一部のみを溶融させることが難しく、AlSiCの母材の部分的に溶融することがある。   By the way, recently, the output of power semiconductor elements and the like has been increased, and in a power module substrate with a heat sink on which the power semiconductor elements are mounted, the heat generated in the power semiconductor elements etc. is efficiently released to the outside by the heat sink. It is required to bond the power module substrate and the heat sink with high bonding reliability so as to be possible. However, in the method of joining the power module substrate and AlSiC disclosed in Patent Document 1 using an aluminum-based brazing material, the AlSiC base material is partially melted because the brazing joining temperature is high. As a result, AlSiC is distorted and deformed. Further, in the method of melting a part of the AlSiC composite material coating layer described in Patent Document 2, it is difficult to melt only a part of the AlSiC composite material coating layer. May melt partially.

この発明は、前述した事情に鑑みてなされたものであって、パワーモジュール用基板とAlSiCなどのアルミニウム又はアルミニウム合金を母材とするヒートシンクとを、ヒートシンクの母材を溶融させずに、高い接合信頼性で接合できるヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and a high-joint between a power module substrate and a heat sink having an aluminum or aluminum alloy such as AlSiC as a base material without melting the base material of the heat sink. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a power module substrate with a heat sink that can be bonded with reliability.

前述の課題を解決するために、本発明のヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法は、絶縁層と、この絶縁層の一方の面に形成された回路層と、前記絶縁層の他方の面に形成された金属層と、を備えたパワーモジュール用基板の金属層と、ヒートシンクとが、接合されてなり、前記ヒートシンクが、アルミニウムもしくはSi濃度が0.1at%未満のアルミニウム合金又はSi濃度が0.1at%以上のアルミニウム合金、あるいは炭化ケイ素質部材中にアルミニウムもしくはSi濃度が0.1at%未満のアルミニウム合金又はSi濃度が0.1at%以上のアルミニウム合金が充填されたアルミニウム基複合材料から形成されているヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法であって、前記ヒートシンクが、Si濃度が0.1at%以上のアルミニウム合金、あるいは炭化ケイ素質部材中にSi濃度が0.1at%以上のアルミニウム合金が充填されたアルミニウム基複合材料から形成されている場合は、前記金属層の前記ヒートシンクとの接合面が、アルミニウムもしくはSi濃度が0.1at%未満のアルミニウム合金又はSi濃度が0.1at%以上のアルミニウム合金から形成されているパワーモジュール用基板を用意し、前記ヒートシンクが、アルミニウムもしくはSi濃度が0.1at%未満のアルミニウム合金、あるいは炭化ケイ素質部材中にアルミニウムもしくはSi濃度が0.1at%未満のアルミニウム合金が充填されたアルミニウム基複合材料から形成されている場合は、前記金属層の前記ヒートシンクとの接合面が、Si濃度が0.1at%以上のアルミニウム合金から形成されているパワーモジュール用基板を用意する工程と、前記金属層の前記ヒートシンクとの接合面および前記ヒートシンクの前記金属層との接合面のうちの少なくとも一方の接合面に、厚さが0.1μm以上10μm以下のMg層を形成するMg層形成工程と、前記金属層と、前記ヒートシンクとを、前記Mg層を介して積層して積層体を形成する積層工程と、前記積層体を550℃以上575℃以下の温度範囲で加熱して、前記金属層と、前記ヒートシンクとを接合する加熱工程と、を備えていることを特徴としている。   In order to solve the above-described problems, a method for manufacturing a power module substrate with a heat sink according to the present invention includes an insulating layer, a circuit layer formed on one surface of the insulating layer, and the other surface of the insulating layer. A metal layer of a power module substrate including the formed metal layer and a heat sink are bonded to each other, and the heat sink is made of aluminum or an aluminum alloy having an Si concentration of less than 0.1 at% or an Si concentration of 0. .1at% or more aluminum alloy, or formed from an aluminum-based composite material in which a silicon carbide member is filled with aluminum or an aluminum alloy having a Si concentration of less than 0.1 at% or an Si alloy having an Si concentration of 0.1 at% or more. A method for manufacturing a power module substrate with a heat sink, wherein the heat sink has a Si concentration. When the aluminum layer is formed of an aluminum alloy of 0.1 at% or more, or an aluminum-based composite material in which a silicon carbide member is filled with an aluminum alloy having a Si concentration of 0.1 at% or more, A power module substrate is prepared in which the bonding surface is made of aluminum or an aluminum alloy having a Si concentration of less than 0.1 at% or an aluminum alloy having a Si concentration of 0.1 at% or more. In the case where the metal layer is formed of an aluminum alloy having a concentration of less than 0.1 at%, or an aluminum-based composite material in which a silicon carbide member is filled with aluminum or an aluminum alloy having a Si concentration of less than 0.1 at% The interface between the heat sink and the heat sink has a Si concentration of 0. A step of preparing a power module substrate formed of an aluminum alloy of 1 at% or more, and a bonding surface of at least one of a bonding surface of the metal layer with the heat sink and a bonding surface of the heat sink with the metal layer An Mg layer forming step of forming an Mg layer having a thickness of 0.1 μm or more and 10 μm or less, and a stacking step of stacking the metal layer and the heat sink via the Mg layer to form a stack. The laminated body is heated in a temperature range of 550 ° C. or more and 575 ° C. or less, and a heating step for joining the metal layer and the heat sink is provided.

この構成のヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法によれば、アルミニウムを主成分とするアルミニウム系ろう材を用いた場合と比較して低温での加熱により、ヒートシンクの母材を溶融させずに、金属層とヒートシンクとが高い接合信頼性で接合したヒートシンク付パワーモジュール用基板を得ることができる。上記の構成によって、低温での加熱によって金属層とヒートシンクとを接合できる理由としては、次のように考えられる。加熱工程において、積層体を加熱すると、Mg層のMgが金属層あるいはヒートシンクに拡散し、金属層あるいはヒートシンクに含まれているSiとMg層から拡散してきたMgとが反応することによって高濃度のMgSiが生成され、AlとMgSiとMgとが共存する領域やAlとMgSiとSiとが共存する領域が形成される。この領域は575℃以下で、接合に十分な量の液相を生成することが可能である。従来のアルミニウムを主成分とするアルミニウム系ろう材、Mg含有Al−Si系ろう材、Mg含有ろう材を皮材としたクラッド材などのろう材は、575℃以下では、接合に十分な量の液相を生成することができない。そして、金属層とヒートシンクとはともにAl部材から構成されているので、この液相は、金属層とヒートシンクとに拡散し、両者が接合される。 According to the method for manufacturing a power module substrate with a heat sink having this configuration, the base material of the heat sink is not melted by heating at a low temperature compared to the case of using an aluminum-based brazing material mainly composed of aluminum. A power module substrate with a heat sink in which the metal layer and the heat sink are bonded with high bonding reliability can be obtained. The reason why the metal layer and the heat sink can be joined by heating at a low temperature with the above configuration is considered as follows. In the heating process, when the laminate is heated, Mg in the Mg layer diffuses into the metal layer or the heat sink, and Si contained in the metal layer or the heat sink reacts with Mg diffused from the Mg layer to cause a high concentration. Mg 2 Si is generated, and a region where Al, Mg 2 Si, and Mg coexist or a region where Al, Mg 2 Si, and Si coexist are formed. This region is 575 ° C. or lower, and a sufficient amount of liquid phase can be generated for bonding. Conventional brazing materials such as aluminum-based brazing materials mainly composed of aluminum, Mg-containing Al—Si brazing materials, and clad materials made of Mg-containing brazing materials are used at a temperature of 575 ° C. or less, which is sufficient for bonding. A liquid phase cannot be produced. And since both a metal layer and a heat sink are comprised from the Al member, this liquid phase diffuses into a metal layer and a heat sink, and both are joined.

また、上記の積層体は、Siを含むアルミニウム合金またはヒートシンクとMgを含むMg層とが分離した構造を有するので、Mg層のMg濃度を高くできる。従来のMg含有Al−Si系ろう材やMg含有ろう材を皮材としたクラッド材を用いて本件発明の効果を奏するためには、Mgの濃度を高くしなければならないが、この場合、圧延性が低下し、Mg含有Al−Si系ろう材を得ることができない。そのため、本件発明においては、上述のような積層体の構成としている。また、Mg濃度が高いMg層を有しているので、Siを含むヒートシンクにMgを確実に拡散することができる。
以上の理由により、上記のヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法によれば、比較的低温での加熱によって、金属層とヒートシンクとが高い接合信頼性で接合したヒートシンク付パワーモジュール用基板を得ることができると考えられる。
In addition, since the laminated body has a structure in which an aluminum alloy containing Si or a heat sink and an Mg layer containing Mg are separated, the Mg concentration of the Mg layer can be increased. In order to achieve the effects of the present invention by using a conventional Mg-containing Al—Si brazing material or a clad material made of a Mg-containing brazing material as a skin material, the concentration of Mg must be increased. As a result, the Mg-containing Al—Si brazing material cannot be obtained. Therefore, in this invention, it is set as the structure of the above laminated bodies. Moreover, since it has Mg layer with high Mg density | concentration, Mg can be reliably diffused to the heat sink containing Si.
For the above reasons, according to the method for manufacturing a power module substrate with a heat sink, a power module substrate with a heat sink in which the metal layer and the heat sink are bonded with high bonding reliability by heating at a relatively low temperature. It is thought that you can.

ここで、金属層のアルミニウム合金及びヒートシンクのアルミニウム合金の両方のSi濃度が0.1at%未満だと、AlとMgSiとMgとが共存する領域やAlとMgSiとSiとが共存する領域で生成する液相の量が少なくなり、金属層とヒートシンクとの接合性が低下する。
Mg層厚さが0.1μm未満の場合、加熱時にMg2Siの量が少なくなり金属層とヒートシンクとの接合性が低下する。10μmを超えた場合、Al−Mgの液相が多量に発生することとなり、ろうこぶが生じる。
また、加熱温度が550℃未満の場合、液相の生成量が少なくなるため、接合性が低下する。575℃を超えた場合、ろうこぶやヒートシンク母材の溶融が生じる。
Here, if the Si concentration of both the aluminum alloy of the metal layer and the aluminum alloy of the heat sink is less than 0.1 at%, the region where Al, Mg 2 Si, and Mg coexist, and Al, Mg 2 Si, and Si coexist. The amount of the liquid phase generated in the region to be reduced is reduced, and the bondability between the metal layer and the heat sink is reduced.
When the Mg layer thickness is less than 0.1 μm, the amount of Mg 2 Si decreases during heating, and the bondability between the metal layer and the heat sink decreases. When it exceeds 10 μm, a large amount of Al—Mg liquid phase is generated, and a bump is generated.
On the other hand, when the heating temperature is less than 550 ° C., the amount of liquid phase generated is reduced, so that the bondability is lowered. When the temperature exceeds 575 ° C., the solder bump and the heat sink base material melt.

ここで、本発明のヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法においては、前記積層体において、前記金属層の前記ヒートシンクとの接合面および前記ヒートシンクの前記金属層との接合面の表面から厚さ50μmまでの範囲に存在しているSiの量と、前記Mg層に存在しているMgの量との比(Si/Mg)が、原子比で0.01以上99.00以下の範囲内にあることが好ましい。
この場合、加熱工程において、パワーモジュール用基板の金属層とヒートシンクとを接合するのに必要な高濃度のMgSiを確実に生成させることができるので、金属層とヒートシンクとを高い接合信頼性で確実に接合することが可能となる。
Here, in the method for manufacturing a power module substrate with a heat sink according to the present invention, a thickness of 50 μm from the surface of the joint surface of the metal layer to the heat sink and the joint surface of the heat sink to the metal layer in the laminate. The ratio (Si / Mg) of the amount of Si present in the range up to and the amount of Mg present in the Mg layer is in the range of 0.01 to 99.00 in atomic ratio. It is preferable.
In this case, since the high concentration Mg 2 Si necessary for bonding the metal layer of the power module substrate and the heat sink can be reliably generated in the heating step, the bonding reliability between the metal layer and the heat sink is high. It becomes possible to join reliably.

さらに、本発明のヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法においては、前記加熱工程にて、前記積層体を、積層方向に0.1MPa以上3.5MPa以下の圧力を付与しながら加熱することが好ましい。
この場合、パワーモジュール用基板及びヒートシンクに亀裂や破損を生じさせずに、パワーモジュール用基板の金属層とヒートシンクとを高い接合信頼性で確実に接合することが可能となる。
Furthermore, in the method for manufacturing a power module substrate with a heat sink of the present invention, in the heating step, the laminate is preferably heated while applying a pressure of 0.1 MPa to 3.5 MPa in the stacking direction. .
In this case, the metal layer of the power module substrate and the heat sink can be reliably bonded with high bonding reliability without causing cracks or damage to the power module substrate and the heat sink.

本発明によれば、パワーモジュール用基板とAlSiCなどのアルミニウム合金を母材とするヒートシンクとを、ヒートシンクの母材を溶融させずに、高い接合信頼性で接合できるヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法を提供することが可能となる。   According to the present invention, a power module substrate with a heat sink capable of joining a power module substrate and a heat sink having an aluminum alloy such as AlSiC as a base material without melting the base material of the heat sink with high joining reliability. It becomes possible to provide a method.

本発明の第一実施形態に係るヒートシンク付パワーモジュール用基板の概略説明図である。It is a schematic explanatory drawing of the board | substrate for power modules with a heat sink which concerns on 1st embodiment of this invention. 図1における金属層とヒートシンクとの接合部の拡大説明図である。FIG. 2 is an enlarged explanatory view of a joint portion between a metal layer and a heat sink in FIG. 1. 第一実施形態に係るヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法の概略説明図である。It is a schematic explanatory drawing of the manufacturing method of the board | substrate for power modules with a heat sink which concerns on 1st embodiment. 本発明の第二実施形態に係るヒートシンク付パワーモジュール用基板の概略説明図である。It is a schematic explanatory drawing of the board | substrate for power modules with a heat sink which concerns on 2nd embodiment of this invention. 第二実施形態に係るヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法の概略説明図である。It is a schematic explanatory drawing of the manufacturing method of the board | substrate for power modules with a heat sink which concerns on 2nd embodiment.

以下、図面を参照して、本発明のヒートシンク付きパワーモジュール用基板の製造方法について説明する。なお、以下に示す各実施形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。また、以下の説明で用いる図面は、本発明の特徴をわかりやすくするために、便宜上、要部となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。   Hereinafter, with reference to drawings, the manufacturing method of the board for power modules with a heat sink of the present invention is explained. Each embodiment described below is specifically described for better understanding of the gist of the invention, and does not limit the present invention unless otherwise specified. In addition, in the drawings used in the following description, in order to make the features of the present invention easier to understand, there is a case where a main part is shown in an enlarged manner for convenience, and the dimensional ratio of each component is the same as the actual one. Not necessarily.

(第一実施形態)
本発明の第一実施形態について、図1〜図3を参照して説明する。
図1は、本発明の第一実施形態に係るヒートシンク付パワーモジュール用基板の概略説明図である。図2は、図1における金属層とヒートシンクとの接合部の拡大説明図である。図3は、第一実施形態に係るヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法の概略説明図である。
(First embodiment)
A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
FIG. 1 is a schematic explanatory diagram of a power module substrate with a heat sink according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is an enlarged explanatory view of a joint portion between the metal layer and the heat sink in FIG. FIG. 3 is a schematic explanatory view of a method for manufacturing a power module substrate with a heat sink according to the first embodiment.

ヒートシンク付パワーモジュール用基板10は、パワーモジュール用基板20と、パワーモジュール用基板の金属層に接合されたヒートシンク30と、を備えている。   The power module substrate 10 with a heat sink includes a power module substrate 20 and a heat sink 30 bonded to a metal layer of the power module substrate.

パワーモジュール用基板20は、絶縁層となるセラミックス基板21と、このセラミックス基板21の一方の面(図1において上面)に形成された回路層22と、セラミックス基板21の他方の面(図1において下面)に形成された金属層23と、を備えている。   The power module substrate 20 includes a ceramic substrate 21 serving as an insulating layer, a circuit layer 22 formed on one surface of the ceramic substrate 21 (upper surface in FIG. 1), and the other surface of the ceramic substrate 21 (in FIG. 1). And a metal layer 23 formed on the lower surface.

セラミックス基板(絶縁層)21は、絶縁性および放熱性に優れたSi(窒化ケイ素)、AlN(窒化アルミニウム)、Al(アルミナ)等のセラミックスで構成されている。本実施形態では、セラミックス基板21は、AlN(窒化アルミニウム)で構成されている。セラミックス基板21の厚さは、例えば、0.2mm以上1.5mm以下の範囲内に設定されており、本実施形態では、0.635mmに設定されている。 The ceramic substrate (insulating layer) 21 is made of ceramics such as Si 3 N 4 (silicon nitride), AlN (aluminum nitride), and Al 2 O 3 (alumina) that are excellent in insulation and heat dissipation. In the present embodiment, the ceramic substrate 21 is made of AlN (aluminum nitride). The thickness of the ceramic substrate 21 is set within a range of 0.2 mm or more and 1.5 mm or less, for example, and is set to 0.635 mm in the present embodiment.

回路層22は、セラミックス基板21の一方の面にアルミニウム又はアルミニウム合金からなるアルミニウム部材が接合されることで形成されている。アルミニウム部材としては、純度が99質量%以上のアルミニウム(2Nアルミニウム)や純度が99.99質量%以上のアルミニウム(4Nアルミニウム)を用いることができる。本実施形態では、4Nアルミニウムの圧延板を用いている。回路層22の厚さは、0.1mm以上1.0mm以下の範囲内に設定されており、本実施形態では0.4mmに設定されている。回路層22とセラミックス基板21とは、例えば、Al−Si系ろう材によって接合されている。   The circuit layer 22 is formed by joining an aluminum member made of aluminum or an aluminum alloy to one surface of the ceramic substrate 21. As the aluminum member, aluminum (2N aluminum) having a purity of 99% by mass or more and aluminum (4N aluminum) having a purity of 99.99% by mass or more can be used. In this embodiment, a 4N aluminum rolled plate is used. The thickness of the circuit layer 22 is set in a range of 0.1 mm to 1.0 mm, and is set to 0.4 mm in the present embodiment. The circuit layer 22 and the ceramic substrate 21 are joined by, for example, an Al—Si brazing material.

回路層22の材料としては、アルミニウム部材以外に、銅又は銅合金からなる銅部材を用いることができる。例えば、セラミックス基板21に無酸素銅の圧延板を接合して回路層22とすることができる。また、回路層22として、アルミニウム部材と銅部材とを接合した接合体を用いてもよい。例えば、セラミックス基板21にアルミニウム部材を接合し、さらにそのアルミニウム部材に銅部材を接合した接合体を回路層22とすることができる。アルミニウム部材と銅部材とを接合する場合は、アルミニウム部材と銅部材との間にチタンからなるチタン部材を介在させることが好ましい。チタン部材を介在させることによって、後述する製造方法において、加熱工程をアルミニウムと銅の共晶温度(540℃)以上の温度で行うことができる。   As a material of the circuit layer 22, a copper member made of copper or a copper alloy can be used in addition to the aluminum member. For example, an oxygen-free copper rolled plate can be joined to the ceramic substrate 21 to form the circuit layer 22. Further, as the circuit layer 22, a joined body in which an aluminum member and a copper member are joined may be used. For example, a joined body in which an aluminum member is joined to the ceramic substrate 21 and a copper member is joined to the aluminum member can be used as the circuit layer 22. When joining an aluminum member and a copper member, it is preferable to interpose a titanium member made of titanium between the aluminum member and the copper member. By interposing the titanium member, the heating step can be performed at a temperature equal to or higher than the eutectic temperature of aluminum and copper (540 ° C.) in the manufacturing method described later.

金属層23は、セラミックス基板21の他方の面に接合されたアルミニウム又はアルミニウム合金からなるアルミニウム部材を接合することで形成されている。アルミニウム部材としては、純度が99質量%以上のアルミニウム(2Nアルミニウム)や純度が99.99質量%以上のアルミニウム(4Nアルミニウム)等を用いることができる。本実施形態では、4Nアルミニウムの圧延板を用いている。金属層23の厚さは、0.1mm以上3.0mm以下の範囲内に設定されており、本実施形態では0.4mmに設定されている。金属層23とセラミックス基板21とは、例えば、Al−Si系ろう材によって接合されている。なお、金属層23となるアルミニウム板として、Si濃度が0.1at%以上含有されているアルミニウム合金板を用いることもできる。   The metal layer 23 is formed by bonding an aluminum member made of aluminum or an aluminum alloy bonded to the other surface of the ceramic substrate 21. As the aluminum member, aluminum (2N aluminum) having a purity of 99% by mass or more, aluminum (4N aluminum) having a purity of 99.99% by mass or more, and the like can be used. In this embodiment, a 4N aluminum rolled plate is used. The thickness of the metal layer 23 is set within a range of 0.1 mm to 3.0 mm, and is set to 0.4 mm in the present embodiment. The metal layer 23 and the ceramic substrate 21 are joined by, for example, an Al—Si brazing material. In addition, as an aluminum plate used as the metal layer 23, an aluminum alloy plate containing a Si concentration of 0.1 at% or more can be used.

ヒートシンク30は、パワーモジュール用基板20側の熱を放散するためのものである。ヒートシンク30としては、Si濃度が0.1at%以上のアルミニウム合金、又は炭化ケイ素質部材中にSi濃度が0.1at%以上のアルミニウム合金が充填されたアルミニウム基複合材料から形成されている。Si濃度が低いと、後述する製造方法において、加熱工程の際にAlとMgSiとMgとが共存する領域やAlとMgSiとSiとが共存する領域から生成される液相が発生しなくなる。アルミニウム基複合材料としては、炭化ケイ素中(炭化ケイ素:SiC)中にアルミニウム合金が充填されたAlSiCを用いることができる。AlSiCは、被覆層を有してもよいし、有していなくてもよい。 The heat sink 30 is for dissipating heat on the power module substrate 20 side. The heat sink 30 is made of an aluminum alloy having a Si concentration of 0.1 at% or more, or an aluminum-based composite material in which a silicon carbide member is filled with an aluminum alloy having a Si concentration of 0.1 at% or more. If Si concentration is low, the manufacturing method described later, the liquid phase and the area or Al where Al and Mg 2 Si and Mg coexisting during the heating step and Mg 2 Si and Si are generated from a region coexist occurs No longer. As the aluminum based composite material, AlSiC in which an aluminum alloy is filled in silicon carbide (silicon carbide: SiC) can be used. AlSiC may or may not have a coating layer.

パワーモジュール用基板20とヒートシンク30との間には、接合部40が形成されている。接合部40は、図2に示すように、MgSiからなるMgSi相41が分散された組織を有する。このMgSi相41が分散されている接合部40は、次に述べる製造方法において、パワーモジュール用基板20の金属層23とヒートシンク30とを、Mg層を介して加熱して、パワーモジュール用基板20とヒートシンク30とを接合することによって形成される。 A junction 40 is formed between the power module substrate 20 and the heat sink 30. Junction 40, as shown in FIG. 2, has a structure in which Mg 2 Si phase 41 consisting of Mg 2 Si is dispersed. The joint 40 in which the Mg 2 Si phase 41 is dispersed is obtained by heating the metal layer 23 and the heat sink 30 of the power module substrate 20 through the Mg layer in the manufacturing method described below, for the power module. It is formed by bonding the substrate 20 and the heat sink 30.

ここで、第一実施形態に係るヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法について図3を参照して説明する。   Here, the manufacturing method of the board | substrate for power modules with a heat sink which concerns on 1st embodiment is demonstrated with reference to FIG.

先ず、図3(a)に示すように、パワーモジュール用基板20の金属層23のヒートシンク30との接合面に、Mg層50を形成する(Mg層形成工程)。
Mg層50の厚さは0.1μm以上10μm以下の範囲内に設定されている。Mg層50の厚さが薄くなりすぎると、後述する加熱工程の際に生成するMgSiの量が少なくなり、金属層23とヒートシンク30との接合性が低下する。一方、Mg層の厚さが厚くなりすぎると、後述する加熱工程の際に、Al−Mg合金の液相が過剰に生成して、金属層23とヒートシンク30との接合部にろうこぶが発生し易くなるおそれがある。
First, as shown to Fig.3 (a), Mg layer 50 is formed in the joint surface with the heat sink 30 of the metal layer 23 of the board | substrate 20 for power modules (Mg layer formation process).
The thickness of the Mg layer 50 is set in the range of 0.1 μm to 10 μm. If the thickness of the Mg layer 50 becomes too thin, the amount of Mg 2 Si generated during the heating process described later decreases, and the bondability between the metal layer 23 and the heat sink 30 decreases. On the other hand, if the Mg layer is too thick, an Al—Mg alloy liquid phase is excessively generated during the heating process described later, and a wax is generated at the joint between the metal layer 23 and the heat sink 30. There is a possibility that it becomes easy to do.

Mg層50は、Mg濃度が80at%以上であることが好ましく、90at%以上であることが特に好ましい。Mg層50のMg濃度が低くなりすぎると、後述する加熱工程の際に、AlとMgSiとMgとが共存する領域やAlとMgSiとSiとが共存する領域から液相が生成されにくくなるおそれがある。 The Mg layer 50 preferably has an Mg concentration of 80 at% or more, and particularly preferably 90 at% or more. When Mg concentration of the Mg layer 50 is too low, during the heating step to be described later, the liquid phase from the region or Al and Mg 2 Si and Si and coexist region where the Al and Mg 2 Si and Mg coexisting generation There is a risk that it will be difficult.

また、金属層23の接合面およびヒートシンク30の接合面の表面から厚さ50μmまでの範囲に存在しているSiの量と、Mg層50に存在しているMgの量との比(Si/Mg)は、原子比で0.01以上99.0以下の範囲内にあることが好ましく、1.1以上6.7以下の範囲内にあることが特に好ましい。SiとMgとの存在量比が上記の範囲内にあると、後述する加熱工程の際に、金属層23とヒートシンク30とを接合するのに必要な高濃度のMgSiを確実に生成させることができるので、金属層23とヒートシンク30とを高い接合信頼性で確実に接合することが可能となる。なお、Mg層50に存在しているMg量は、Mg層50の厚さと純度と密度から求めることができる。金属層23の接合面およびヒートシンク30の接合面の表面から厚さ50μmまでの範囲に存在しているSi量は、金属層23およびヒートシンク30のSi含有量から求めることができる。 Further, the ratio of the amount of Si existing in the range from the bonding surface of the metal layer 23 and the bonding surface of the heat sink 30 to the thickness of 50 μm and the amount of Mg existing in the Mg layer 50 (Si / Mg) is preferably in the range of 0.01 to 99.0 in terms of atomic ratio, and particularly preferably in the range of 1.1 to 6.7. When the abundance ratio of Si and Mg is within the above range, high-concentration Mg 2 Si necessary for joining the metal layer 23 and the heat sink 30 is surely generated during the heating process described later. Therefore, the metal layer 23 and the heat sink 30 can be reliably bonded with high bonding reliability. Note that the amount of Mg present in the Mg layer 50 can be obtained from the thickness, purity, and density of the Mg layer 50. The amount of Si existing in the range from the bonding surface of the metal layer 23 and the surface of the bonding surface of the heat sink 30 to the thickness of 50 μm can be determined from the Si content of the metal layer 23 and the heat sink 30.

金属層23にMg層50を形成する方法としては、Mgターゲットを用いたスパッタ法、Mg粉末のペーストを塗布して乾燥する方法や蒸着法を用いることができる。   As a method of forming the Mg layer 50 on the metal layer 23, a sputtering method using an Mg target, a method of applying a Mg powder paste and drying, or a vapor deposition method can be used.

次に、金属層23とヒートシンク30とを、Mg層50を介して積層して積層体11を形成する(積層工程)。   Next, the metal layer 23 and the heat sink 30 are laminated via the Mg layer 50 to form the laminated body 11 (lamination process).

次に、積層体11を加熱して、金属層23とヒートシンク30とを接合する(加熱工程)。加熱工程において、積層体11を加熱することによって、Mg層50のMgがヒートシンク30のアルミニウム合金に拡散し、アルミニウム合金中のSiと拡散してきたMgとが反応することによって高濃度のMgSiが生成され、AlとMgSiとMgとが共存する領域やAlとMgSiとSiとが共存する領域が形成される。この領域は575℃以下で、接合に十分な量の液相を生成することが可能である。そして、金属層23とヒートシンク30とは、上記のとおりアルミニウムを主成分としているため、AlとMgSiとMgとが共存する領域AlやMgSiとSiとが共存する領域から形成された液相は、金属層23とヒートシンク30の両者に拡散して、その両者を接合する。 Next, the laminate 11 is heated to join the metal layer 23 and the heat sink 30 (heating step). In the heating step, the stacked body 11 is heated, whereby Mg in the Mg layer 50 diffuses into the aluminum alloy of the heat sink 30, and Si in the aluminum alloy reacts with the diffused Mg to cause a high concentration of Mg 2 Si. Is formed, and a region where Al, Mg 2 Si, and Mg coexist or a region where Al, Mg 2 Si, and Si coexist are formed. This region is 575 ° C. or lower, and a sufficient amount of liquid phase can be generated for bonding. Then, the metal layer 23 and the heat sink 30, because it is the main component of aluminum as described above, the area Al and Mg 2 Si and Si and the Al and Mg 2 Si and Mg coexisting is formed from a region coexist The liquid phase diffuses into both the metal layer 23 and the heat sink 30 and joins both.

加熱工程において、積層体11の加熱温度は、550℃以上575℃以下の温度範囲である。積層体11の加熱温度が低くなりすぎると、AlとMgSiとMgとが共存する領域やAlとMgSiとSiとが共存する領域から形成される液相が生成しないため、接合性が低下する。一方、積層体11の加熱温度が高くなりすぎると、ろうこぶやヒートシンク30の母材の溶融が生じる。 In the heating step, the heating temperature of the laminated body 11 is a temperature range of 550 ° C. or more and 575 ° C. or less. Since the heating temperature of the laminate 11 is too low, liquid phase and the Al and Mg 2 Si and Mg and is the area or Al coexisting Mg 2 Si and Si is formed from a region coexist not generate, bondability Decreases. On the other hand, when the heating temperature of the laminated body 11 becomes too high, melting of the base material of the bump and the heat sink 30 occurs.

加熱工程において、積層体11の加熱は、積層体11を積層方向に0.1MPa以上3.5MPa以下の圧力を付与しながら行うことが好ましい。付与する圧力が低くなりすぎると、液相がパワーモジュール用基板20の金属層23とヒートシンク30とに拡散しにくくなるおそれがある。付与する圧力が高くなりすぎると、パワーモジュール用基板20及びヒートシンク30に亀裂や破損が生じるおそれがある。   In the heating step, it is preferable to heat the stacked body 11 while applying a pressure of 0.1 MPa or more and 3.5 MPa or less to the stacked body 11 in the stacking direction. If the applied pressure is too low, the liquid phase may not easily diffuse into the metal layer 23 and the heat sink 30 of the power module substrate 20. If the applied pressure becomes too high, the power module substrate 20 and the heat sink 30 may be cracked or damaged.

加熱の時間は、15分以上180分の範囲内に設定されていることが好ましい。
加熱は、真空加熱炉を用いて、真空加熱炉内の圧力を10−6Pa以上10−2Pa以下の範囲内に設定して行うことが好ましい。
The heating time is preferably set within a range of 15 minutes to 180 minutes.
The heating is preferably performed by using a vacuum heating furnace and setting the pressure in the vacuum heating furnace within a range of 10 −6 Pa to 10 −2 Pa.

(第二実施形態)
本発明の第二実施形態について、図4〜図5を参照して説明する。
図4は、本発明の第二実施形態に係るヒートシンク付パワーモジュール用基板の概略説明図である。図5は、第二実施形態に係るヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法の概略説明図である。なお、第一実施形態および第二実施形態と同一の構成のものについては、同一の符号を付して記載し、詳細な説明を省略する。
(Second embodiment)
A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
FIG. 4 is a schematic explanatory diagram of a power module substrate with a heat sink according to the second embodiment of the present invention. FIG. 5 is a schematic explanatory view of a method for manufacturing a power module substrate with a heat sink according to the second embodiment. In addition, about the thing of the same structure as 1st embodiment and 2nd embodiment, the same code | symbol is attached | subjected and described, and detailed description is abbreviate | omitted.

ヒートシンク付パワーモジュール用基板60は、パワーモジュール用基板70と、パワーモジュール用基板70の金属層73に接合されたヒートシンク30と、を備えている。パワーモジュール用基板70とヒートシンク30との間には、前述の第一実施形態の場合と同様に、接合部40が形成されている。   The power module substrate 60 with a heat sink includes a power module substrate 70 and a heat sink 30 bonded to the metal layer 73 of the power module substrate 70. A joint 40 is formed between the power module substrate 70 and the heat sink 30 as in the case of the first embodiment described above.

パワーモジュール用基板70は、絶縁層となるセラミックス基板71と、このセラミックス基板71の一方の面(図4において上面)に形成された回路層72と、セラミックス基板21の他方の面(図4において下面)に形成された金属層73と、を備えている。   The power module substrate 70 includes a ceramic substrate 71 serving as an insulating layer, a circuit layer 72 formed on one surface of the ceramic substrate 71 (upper surface in FIG. 4), and the other surface of the ceramic substrate 21 (in FIG. 4). And a metal layer 73 formed on the lower surface.

セラミックス基板(絶縁層)71は、絶縁性および放熱性に優れたSi(窒化ケイ素)、AlN(窒化アルミニウム)、Al(アルミナ)等のセラミックスで構成されている。本実施形態では、セラミックス基板71は、AlN(窒化アルミニウム)で構成されている。セラミックス基板21の厚さは、例えば、0.2mm以上1.5mm以下の範囲内に設定されており、本実施形態では、0.635mmに設定されている。 The ceramic substrate (insulating layer) 71 is made of ceramics such as Si 3 N 4 (silicon nitride), AlN (aluminum nitride), and Al 2 O 3 (alumina) that are excellent in insulation and heat dissipation. In the present embodiment, the ceramic substrate 71 is made of AlN (aluminum nitride). The thickness of the ceramic substrate 21 is set within a range of 0.2 mm or more and 1.5 mm or less, for example, and is set to 0.635 mm in the present embodiment.

回路層72は、セラミックス基板71の一方の面に銅又は銅合金からなる銅部材が接合されることで形成されている。銅部材としては、無酸素銅を用いることができる。本実施形態では、無酸素銅の圧延板を用いている。回路層72の厚さは0.05mm以上1mm以下の範囲内に設定されており、本実施形態では0.3mmに設定されている。回路層72とセラミックス基板71とは、例えば、DBC法あるいは活性金属ろう付け法によって接合されている。   The circuit layer 72 is formed by bonding a copper member made of copper or a copper alloy to one surface of the ceramic substrate 71. As the copper member, oxygen-free copper can be used. In this embodiment, an oxygen-free copper rolled plate is used. The thickness of the circuit layer 72 is set within a range of 0.05 mm to 1 mm, and is set to 0.3 mm in the present embodiment. The circuit layer 72 and the ceramic substrate 71 are bonded by, for example, the DBC method or the active metal brazing method.

回路層72の材料としては、銅部材以外にも、アルミニウム部材を用いることができる。また、回路層72として、アルミニウム部材と銅部材とを接合した接合体を用いてもよい。例えば、セラミックス基板71にアルミニウム部材を接合し、さらにそのアルミニウム部材に銅部材を接合して回路層72とすることができる。   As a material of the circuit layer 72, an aluminum member can be used in addition to the copper member. Further, as the circuit layer 72, a joined body obtained by joining an aluminum member and a copper member may be used. For example, an aluminum member can be joined to the ceramic substrate 71, and a copper member can be further joined to the aluminum member to form the circuit layer 72.

金属層73は、セラミックス基板71の他方の面に接合されている銅部材層74と、銅部材層74のセラミックス基板71に接合されている面とは反対側の面に接合されているチタン部材層75と、チタン部材層75のセラミックス基板71に接合されている面とは反対側の面に接合されているアルミニウム部材層76とから構成されている。   The metal layer 73 includes a copper member layer 74 bonded to the other surface of the ceramic substrate 71 and a titanium member bonded to the surface of the copper member layer 74 opposite to the surface bonded to the ceramic substrate 71. The layer 75 includes an aluminum member layer 76 bonded to a surface of the titanium member layer 75 opposite to the surface bonded to the ceramic substrate 71.

銅部材層74は、銅又は銅合金からなる。銅部材としては、無酸素銅を用いることができる。本実施形態では、無酸素銅の圧延板を用いている。銅部材層74の厚さは0.05mm以上1mm以下の範囲内に設定されており、本実施形態では0.3mmに設定されている。銅部材層74とセラミックス基板71とは、例えば、DBC法あるいは活性金属ろう付け法によって接合されている。   The copper member layer 74 is made of copper or a copper alloy. As the copper member, oxygen-free copper can be used. In this embodiment, an oxygen-free copper rolled plate is used. The thickness of the copper member layer 74 is set within a range of 0.05 mm to 1 mm, and is set to 0.3 mm in the present embodiment. The copper member layer 74 and the ceramic substrate 71 are joined by, for example, the DBC method or the active metal brazing method.

チタン部材層75は、チタンからなる。チタン部材層75の厚さは0.003mm以上0.050mm以下の範囲内に設定されており、本実施形態では0.3mmに設定されている。チタン部材層75と銅部材層74とは、例えば、固相拡散接合によって接合されている。   The titanium member layer 75 is made of titanium. The thickness of the titanium member layer 75 is set in the range of 0.003 mm or more and 0.050 mm or less, and is set to 0.3 mm in this embodiment. The titanium member layer 75 and the copper member layer 74 are bonded by, for example, solid phase diffusion bonding.

アルミニウム部材層76は、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる。アルミニウム又はアルミニウム合金としては、純度が99質量%以上のアルミニウム(2Nアルミニウム)や純度が99.99質量%以上のアルミニウム(4Nアルミニウム)等を用いることができる。本実施形態では、4Nアルミニウムの圧延板を用いている。アルミニウム部材層76の厚さは、0.1mm以上3.0mm以下の範囲内に設定されており、本実施形態では0.4mmに設定されている。アルミニウム部材層76とチタン部材層75とは、例えば、固相拡散接合によって接合されている。なお、アルミニウム部材層76となるアルミニウム板として、Si濃度が0.1at%以上含有されているアルミニウム合金板を用いることもできる。   The aluminum member layer 76 is made of aluminum or an aluminum alloy. As aluminum or an aluminum alloy, aluminum (2N aluminum) having a purity of 99% by mass or more, aluminum (4N aluminum) having a purity of 99.99% by mass or more, or the like can be used. In this embodiment, a 4N aluminum rolled plate is used. The thickness of the aluminum member layer 76 is set within a range of 0.1 mm or more and 3.0 mm or less, and is set to 0.4 mm in the present embodiment. The aluminum member layer 76 and the titanium member layer 75 are bonded by, for example, solid phase diffusion bonding. In addition, as an aluminum plate used as the aluminum member layer 76, an aluminum alloy plate containing a Si concentration of 0.1 at% or more can be used.

次に、第二実施形態に係るヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法について図5を参照して説明する。     Next, the manufacturing method of the board | substrate for power modules with a heat sink which concerns on 2nd embodiment is demonstrated with reference to FIG.

先ず、図5(a)に示すように、パワーモジュール用基板70のアルミニウム部材層76(金属層73のヒートシンク30との接合面)に、Mg層50を形成する(Mg層形成工程)。Mg層50の厚さ、Mg濃度、SiとMgとの存在量比(Si/Mg)、そして形成方法は、第1実施形態の場合と同じある。   First, as shown in FIG. 5A, the Mg layer 50 is formed on the aluminum member layer 76 (the bonding surface of the metal layer 73 with the heat sink 30) of the power module substrate 70 (Mg layer forming step). The thickness of the Mg layer 50, the Mg concentration, the abundance ratio of Si and Mg (Si / Mg), and the formation method are the same as those in the first embodiment.

次に、アルミニウム部材層76とヒートシンク30とを、Mg層50を介して積層して積層体61を形成する(積層工程)。   Next, the aluminum member layer 76 and the heat sink 30 are laminated via the Mg layer 50 to form a laminated body 61 (lamination process).

次に、積層体61を加熱して、アルミニウム部材層76とヒートシンク30とを接合する(加熱工程)。加熱工程において、積層体61の加熱温度、積層体61に付与する圧力、加熱の時間、そして真空加熱炉内の圧力は、第1実施形態の場合と同じある。   Next, the laminated body 61 is heated to join the aluminum member layer 76 and the heat sink 30 (heating process). In the heating step, the heating temperature of the laminated body 61, the pressure applied to the laminated body 61, the heating time, and the pressure in the vacuum heating furnace are the same as those in the first embodiment.

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこれに限定されることはなく、その発明の技術的思想を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
例えば、本実施形態では、ヒートシンクが、Si濃度が0.1at%以上のアルミニウム合金、又は炭化ケイ素質部材中にSi濃度が0.1at%以上のアルミニウム合金が充填されたアルミニウム基複合材料から形成されているが、ヒートシンクは、アルミニウム又はSi濃度が0.1at%未満のアルミニウム合金、もしくは炭化ケイ素質部材中にアルミニウム又はSi濃度が0.1at%未満のアルミニウム合金が充填されたアルミニウム基複合材料から形成されていてもよい。但し、この場合は、金属層のヒートシンクとの接合面が、Si濃度が0.1at%以上のアルミニウム合金から形成されているパワーモジュール用基板を用意する必要がある。
As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention is not limited to this, It can change suitably in the range which does not deviate from the technical idea of the invention.
For example, in this embodiment, the heat sink is formed of an aluminum alloy having a Si concentration of 0.1 at% or more, or an aluminum-based composite material in which a silicon carbide member is filled with an aluminum alloy having a Si concentration of 0.1 at% or more. However, the heat sink is an aluminum-based composite material in which aluminum or an Si alloy having an Si concentration of less than 0.1 at%, or a silicon carbide member filled with aluminum or an aluminum alloy having an Si concentration of less than 0.1 at%. It may be formed from. However, in this case, it is necessary to prepare a power module substrate in which the joint surface of the metal layer with the heat sink is made of an aluminum alloy having a Si concentration of 0.1 at% or more.

また、例えば、本実施形態では、Mg層が単層とされているが、Mg層の層構成については制限ない。Mg層を、アルミニウム層の表裏面のそれぞれにMg層を積層した積層構造体としてもよい。   For example, in the present embodiment, the Mg layer is a single layer, but the layer configuration of the Mg layer is not limited. The Mg layer may be a laminated structure in which the Mg layer is laminated on each of the front and back surfaces of the aluminum layer.

さらに、パワーモジュール用基板は、金属層のヒートシンクとの接合面がアルミニウム又はアルミニウム合金から構成されていれば、その構成に特に制限はない。パワーモジュール用基板の回路層および金属層は、積層体の加熱工程において溶融しないように構成されていれば、種々の材料の接合体とすることができる。   Furthermore, the power module substrate is not particularly limited as long as the joining surface of the metal layer to the heat sink is made of aluminum or an aluminum alloy. As long as the circuit layer and the metal layer of the power module substrate are configured not to melt in the heating process of the laminate, they can be joined to various materials.

本発明例及び比較例のヒートシンク付パワーモジュール用基板は次のような方法で製造した。
まず、セラミックス基板の一方の面に、回路層となる純度99.99%以上のアルミニウム板(0.6mmt)をAl−Si系ろう材を介して積層し、他方の面に金属層となる表1記載のアルミニウム板(0.6mmt)をAl−Siろう材を介して積層し、荷重を負荷しながら、加熱して接合しパワーモジュール用基板を得た。
次に、パワーモジュール用基板の金属層及び/又はヒートシンクにスパッタ法により、下記の表1に示すMg濃度と層厚とを有するMg層を形成した。SiとMgとの存在量比(Si/Mg)を下記の方法により測定した。その結果を表1に示す。
The power module substrates with heat sinks of the present invention and comparative examples were manufactured by the following method.
First, an aluminum plate (0.6 mmt) having a purity of 99.99% or more to be a circuit layer is laminated on one surface of a ceramic substrate via an Al—Si brazing material, and a metal layer is formed on the other surface. The aluminum plate (0.6 mmt) described in 1 was laminated via an Al—Si brazing material, and was heated and joined while applying a load to obtain a power module substrate.
Next, an Mg layer having the Mg concentration and the layer thickness shown in Table 1 below was formed on the metal layer and / or heat sink of the power module substrate by sputtering. The abundance ratio of Si and Mg (Si / Mg) was measured by the following method. The results are shown in Table 1.

次いで、パワーモジュール用基板の金属層と表1記載のヒートシンクとを、Mg層を介して積層して積層体を形成した。この積層体を真空加熱炉に入れ、表1に示す荷重を付与しながら、表1に示す加熱温度にて15分加熱して、ヒートシンク付パワーモジュール用基板を作製した。
そして、得られた各ヒートシンク付パワーモジュール用基板について、ヒートシンクとパワーモジュール用基板との接合率と、外観を下記の方法により評価した。その評価結果を、表1に示す。
Next, the metal layer of the power module substrate and the heat sink shown in Table 1 were laminated via the Mg layer to form a laminate. This laminated body was put into a vacuum heating furnace and heated at the heating temperature shown in Table 1 for 15 minutes while applying the load shown in Table 1 to produce a power module substrate with a heat sink.
And about the obtained board | substrate for power modules with a heat sink, the joining rate of a heat sink and a board | substrate for power modules and an external appearance were evaluated by the following method. The evaluation results are shown in Table 1.

(SiとMgとの存在量比(Si/Mg))
Mg量は、パワーモジュール用基板の金属層及び/又はヒートシンクにMg層を形成した後、厚さを断面SEM観察から、純度をEPMAから求め、Mgの密度を1.74g/cmとして算出した。パワーモジュール用基板の金属層及びヒートシンクの両方にMg層が形成されている場合、その合計量をMg量とした。
Si量は、ヒートシンクのAl−Si合金中のSi濃度及びパワーモジュール用基板の金属層のSi濃度をパワーモジュール用基板の金属層と接合される面から厚さ方向に50μmの範囲内のSi量を算出した。厚さは断面SEM観察から測定した。
求められたMg量とSi量からSiとMgとの存在量比(Si/Mg)を求めた。なお、Si量は、ヒートシンクのAl−Si合金中のSi濃度及びパワーモジュール用基板の金属層のSi濃度の合計量である。
(Abundance ratio of Si and Mg (Si / Mg))
The Mg amount was calculated by forming the Mg layer on the metal layer and / or the heat sink of the power module substrate, then obtaining the thickness from the cross-sectional SEM observation, obtaining the purity from EPMA, and setting the Mg density to 1.74 g / cm 3 . . When the Mg layer was formed on both the metal layer and the heat sink of the power module substrate, the total amount was defined as the Mg amount.
The amount of Si is the amount of Si within the range of 50 μm in the thickness direction from the surface where the Si concentration in the Al-Si alloy of the heat sink and the metal layer of the power module substrate are joined to the metal layer of the power module substrate. Was calculated. The thickness was measured from cross-sectional SEM observation.
The abundance ratio of Si and Mg (Si / Mg) was obtained from the obtained Mg amount and Si amount. The Si amount is the total amount of Si concentration in the Al—Si alloy of the heat sink and Si concentration of the metal layer of the power module substrate.

(ヒートシンク付パワーモジュール用基板の外観評価)
次の何れかに該当した場合を×と評価し、それ以外を○と評価した。
1.ヒートシンクとパワーモジュール用基板との接合部を目視で観察し、ろうこぶが生じていた場合。
2.ヒートシンクを目視で観察し、ろうこぶ又は亀裂が生じていた場合。
(Appearance evaluation of power module substrate with heat sink)
The case corresponding to any of the following was evaluated as x, and the others were evaluated as o.
1. When the joint between the heat sink and the power module substrate is visually observed and a bump is observed.
2. When the heat sink is visually observed and a hump or crack has occurred.

(接合部の接合率)
冷熱サイクル後の接合率を評価した。冷熱サイクルは、液相(フロリナート中)で行い、−40℃×5分、150℃×5分のサイクルを2000サイクル行った。
冷熱サイクル後の接合率はヒートシンクとパワーモジュール用基板との接合部の超音波探傷像を、超音波探傷装置(株式会社日立パワーソリューションズ製FineSAT200)を用いて測定し、以下の式から接合率を算出した。
ここで、初期接合面積とは、接合前における接合すべき面積、すなわちパワーモジュール用基板の金属層の面積とした。
(接合率)={(初期接合面積)−(剥離面積)}/(初期接合面積)
超音波探傷像を二値化処理した画像において剥離は接合部内の白色部で示されることから、この白色部の面積を剥離面積とした。
評価結果を表1に示す。
(Joint rate of joint)
The joining rate after the thermal cycle was evaluated. The cooling / heating cycle was performed in the liquid phase (in florinate), and 2000 cycles of −40 ° C. × 5 minutes and 150 ° C. × 5 minutes were performed.
The bonding rate after the thermal cycle was measured using an ultrasonic flaw detector (FineSAT 200, manufactured by Hitachi Power Solutions Co., Ltd.) at the joint between the heat sink and the power module substrate. Calculated.
Here, the initial bonding area is the area to be bonded before bonding, that is, the area of the metal layer of the power module substrate.
(Bonding rate) = {(initial bonding area) − (peeling area)} / (initial bonding area)
In the image obtained by binarizing the ultrasonic flaw detection image, the peeling is indicated by the white portion in the joint portion. Therefore, the area of the white portion is defined as the peeling area.
The evaluation results are shown in Table 1.

Figure 0006561886
Figure 0006561886

Mg層の厚さが0.1μm未満と薄くされた比較例1、金属層及びヒートシンクのSi濃度が0.1at%以下とSi濃度が低い比較例3や比較例4、接合温度が低い比較例5では、接合部の接合率が低くなった。
Mg層の膜厚が10μmよりも厚くされた比較例2ではろうこぶが生じていた。接合温度が高かった比較例6では、ヒートシンクに亀裂が生じていた。
Comparative Example 1 in which the thickness of the Mg layer is reduced to less than 0.1 μm, Comparative Examples 3 and 4 in which the Si concentration of the metal layer and the heat sink is 0.1 at% or less and the Si concentration is low, and Comparative Examples in which the bonding temperature is low In No. 5, the joining rate of the joined portion was low.
In Comparative Example 2 in which the thickness of the Mg layer was greater than 10 μm, a bump was generated. In Comparative Example 6 where the bonding temperature was high, the heat sink was cracked.

一方、本発明例で得られたヒートシンク付パワーモジュール用基板は、いずれもろうこぶが生じることもなく、接合部の接合率も高い値を示した。
以上のことから、本発明例によれば、パワーモジュール用基板とAlSiCなどのアルミニウム又はアルミニウム合金を母材とするヒートシンクとを、ヒートシンクの母材を溶融させずに、確実に接合できることが確認された。
On the other hand, none of the power module substrates with heat sinks obtained in the examples of the present invention showed a high value of the joint ratio without any occurrence of bumps.
From the above, according to the example of the present invention, it was confirmed that the power module substrate and the heat sink whose base material is aluminum such as AlSiC or the aluminum alloy can be reliably bonded without melting the base material of the heat sink. It was.

10、60 ヒートシンク付パワーモジュール用基板
11、61 積層体
20、70 パワーモジュール用基板
21、71 セラミックス基板
22、72 回路層
23、73 金属層
30 ヒートシンク
40 接合部
41 MgSi相
50 Mg層
74 銅部材層
75 チタン部材層
76 アルミニウム部材層
10, 60 Power module substrate with heat sink 11, 61 Laminate 20, 70 Power module substrate 21, 71 Ceramic substrate 22, 72 Circuit layer 23, 73 Metal layer 30 Heat sink 40 Joint 41 Mg 2 Si phase 50 Mg layer 74 Copper member layer 75 Titanium member layer 76 Aluminum member layer

Claims (3)

絶縁層と、この絶縁層の一方の面に形成された回路層と、前記絶縁層の他方の面に形成された金属層と、を備えたパワーモジュール用基板の金属層と、ヒートシンクとが、接合されてなり、前記ヒートシンクが、アルミニウムもしくはSi濃度が0.1at%未満のアルミニウム合金又はSi濃度が0.1at%以上のアルミニウム合金、あるいは炭化ケイ素質部材中にアルミニウムもしくはSi濃度が0.1at%未満のアルミニウム合金又はSi濃度が0.1at%以上のアルミニウム合金が充填されたアルミニウム基複合材料から形成されているヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法であって、
前記ヒートシンクが、Si濃度が0.1at%以上のアルミニウム合金、あるいは炭化ケイ素質部材中にSi濃度が0.1at%以上のアルミニウム合金が充填されたアルミニウム基複合材料から形成されている場合は、前記金属層の前記ヒートシンクとの接合面が、アルミニウムもしくはSi濃度が0.1at%未満のアルミニウム合金又はSi濃度が0.1at%以上のアルミニウム合金から形成されているパワーモジュール用基板を用意し、前記ヒートシンクが、アルミニウムもしくはSi濃度が0.1at%未満のアルミニウム合金、あるいは炭化ケイ素質部材中にアルミニウムもしくはSi濃度が0.1at%未満のアルミニウム合金が充填されたアルミニウム基複合材料から形成されている場合は、前記金属層の前記ヒートシンクとの接合面が、Si濃度が0.1at%以上のアルミニウム合金から形成されているパワーモジュール用基板を用意する工程と、
前記金属層の前記ヒートシンクとの接合面および前記ヒートシンクの前記金属層との接合面のうちの少なくとも一方の接合面に、厚さが0.1μm以上10μm以下のMg層を形成するMg層形成工程と、
前記金属層と、前記ヒートシンクとを、前記Mg層を介して積層して積層体を形成する積層工程と、
前記積層体を550℃以上575℃以下の温度範囲で加熱して、前記金属層と、前記ヒートシンクとを接合する加熱工程と、
を備えていることを特徴とするヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法。
A metal layer of a power module substrate including an insulating layer, a circuit layer formed on one surface of the insulating layer, and a metal layer formed on the other surface of the insulating layer, and a heat sink, And the heat sink is aluminum or an aluminum alloy having an Si concentration of less than 0.1 at%, an aluminum alloy having an Si concentration of 0.1 at% or more, or an aluminum or Si concentration of 0.1 at% in a silicon carbide member. A method for manufacturing a power module substrate with a heat sink formed from an aluminum-based composite material filled with an aluminum alloy of less than% or an aluminum alloy having a Si concentration of 0.1 at% or more,
When the heat sink is formed of an aluminum alloy having a Si concentration of 0.1 at% or more, or an aluminum-based composite material in which a silicon carbide member is filled with an aluminum alloy having a Si concentration of 0.1 at% or more, Preparing a power module substrate in which a bonding surface of the metal layer to the heat sink is formed of aluminum or an aluminum alloy having a Si concentration of less than 0.1 at% or an aluminum alloy having a Si concentration of 0.1 at% or more; The heat sink is formed of aluminum or an aluminum alloy having a Si concentration of less than 0.1 at%, or an aluminum-based composite material in which a silicon carbide member is filled with aluminum or an aluminum alloy having a Si concentration of less than 0.1 at%. The heat sink of the metal layer. A step bonding surface, providing a power module substrate Si concentration is formed from 0.1 at% or more of aluminum alloy with,
A Mg layer forming step of forming an Mg layer having a thickness of 0.1 μm or more and 10 μm or less on at least one of a joint surface of the metal layer with the heat sink and a joint surface of the heat sink with the metal layer When,
A laminating step of laminating the metal layer and the heat sink via the Mg layer to form a laminate;
Heating the laminated body in a temperature range of 550 ° C. or more and 575 ° C. or less to join the metal layer and the heat sink;
The manufacturing method of the board | substrate for power modules with a heat sink characterized by the above-mentioned.
前記積層体において、前記金属層の前記ヒートシンクとの接合面および前記ヒートシンクの前記金属層との接合面の表面から厚さ50μmまでの範囲に存在しているSiの量と、前記Mg層に存在しているMgの量との比(Si/Mg)が、原子比で0.01以上99.0以下の範囲内にあることを特徴とする請求項1に記載のヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法。   In the laminate, the amount of Si present in the range from the surface of the joint surface of the metal layer to the heat sink and the joint surface of the heat sink to the metal layer to a thickness of 50 μm, and present in the Mg layer 2. The power module substrate with a heat sink according to claim 1, wherein the ratio (Si / Mg) to the amount of Mg in the range of 0.01 to 99.0 in terms of atomic ratio. Production method. 前記加熱工程にて、前記積層体を、積層方向に0.1MPa以上3.5MPa以下の圧力を付与しながら加熱することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法。   3. The power module with a heat sink according to claim 1, wherein, in the heating step, the laminated body is heated while applying a pressure of 0.1 MPa to 3.5 MPa in a laminating direction. A method for manufacturing a substrate.
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