JP6561453B2 - Method for manufacturing electronic circuit module component - Google Patents

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  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Description

本発明は、電子回路モジュール部品に関する。   The present invention relates to an electronic circuit module component.

受動素子等の電子部品を基板に実装して製造される電子回路モジュール部品は、電子機器の基板に実装されて用いられる。電子回路モジュール部品における電子部品の接合及び電子回路モジュール部品の実装に用いられるはんだとして、Pb(鉛)を含まないPbフリーはんだが知られている。   Electronic circuit module components manufactured by mounting electronic components such as passive elements on a substrate are used by being mounted on a substrate of an electronic device. Pb-free solder containing no Pb (lead) is known as a solder used for joining electronic components in electronic circuit module components and mounting electronic circuit module components.

電子回路モジュール部品を電子機器の基板に実装する際には、はんだを溶融させるためのリフローが行われる。このリフローの際に、電子回路モジュール部品内の電子部品と基板とを接合するはんだが溶融して飛散したりはんだが移動したりすることを防ぐため、種々の検討が行われている(例えば、特許文献1参照)。   When the electronic circuit module component is mounted on the board of the electronic device, reflow for melting the solder is performed. In this reflow, various studies have been made in order to prevent the solder joining the electronic component in the electronic circuit module component and the substrate from being melted and scattered or the solder moving (for example, Patent Document 1).

特開2007−268569号公報JP 2007-268568 A

しかしながら、特許文献1記載のはんだを用いて接合を行った場合であっても、はんだの飛散や移動を完全に抑制することはできていないという問題がある。また、耐久性の観点からも更なる改良が求められている。   However, even when bonding is performed using the solder described in Patent Document 1, there is a problem that the scattering and movement of the solder cannot be completely suppressed. Further improvements are also required from the viewpoint of durability.

本発明は上記を鑑みてなされたものであり、製造工程において再加熱した場合の接合金属の破損が防止された電子回路モジュール部品を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above, and an object of the present invention is to provide an electronic circuit module component in which breakage of the bonding metal when reheated in the manufacturing process is prevented.

上記目的を達成するため、本発明に係る電子回路モジュール部品は、電子部品と、前記電子部品が搭載される回路基板と、前記電子部品の端子電極と前記回路基板の端子電極との間に介在し、Sn合金相、当該Sn合金相の間に分散して形成され少なくともFeを含むNi−Sn合金相、及び、当該Ni−Sn合金相の内部に形成された直径5μm以下の複数の穴部を含む接合金属と、を備え、隣接する前記穴部同士の中心距離が10μm以上であることを特徴とする。   To achieve the above object, an electronic circuit module component according to the present invention includes an electronic component, a circuit board on which the electronic component is mounted, and a terminal electrode of the electronic component and a terminal electrode of the circuit board. And an Sn alloy phase, a Ni—Sn alloy phase that is dispersed between the Sn alloy phases and contains at least Fe, and a plurality of holes having a diameter of 5 μm or less formed inside the Ni—Sn alloy phase And a center distance between the adjacent hole portions is 10 μm or more.

上記の電子回路モジュール部品によれば、Sn合金相よりも融点が高いNi−Sn合金相を含んで接合金属が形成されるため、再加熱した場合であっても接合金属の再溶融が防止される。また、Sn合金相の間に、Sn相よりも硬いNi−Sn合金相が分散して形成されていることで、接合金属内にクラック等が生じたとしても進行が抑制されるため、接合金属の破損が防止される。さらに、Ni−Sn合金相の内部に5μm以下の穴部が設けられることにより、Ni−Sn合金相内にクラックが生じた場合であっても、その進行を抑制することができるため、耐久性が向上する。   According to the above electronic circuit module component, since the joining metal is formed including the Ni—Sn alloy phase having a melting point higher than that of the Sn alloy phase, remelting of the joining metal is prevented even when reheated. The In addition, since the Ni—Sn alloy phase harder than the Sn phase is dispersed and formed between the Sn alloy phases, even if cracks or the like occur in the bonding metal, the progress is suppressed. Is prevented from being damaged. Furthermore, since a hole of 5 μm or less is provided inside the Ni—Sn alloy phase, even if cracks occur in the Ni—Sn alloy phase, the progress can be suppressed, so that durability Will improve.

ここで、前記接合金属は、Bi合金相をさらに含む態様とすることができる。Ni−Sn合金相よりも硬いBi合金相をさらに含むことにより、クラック等に対する耐久性がさらに向上する。   Here, the bonding metal may further include a Bi alloy phase. By further including a Bi alloy phase harder than the Ni—Sn alloy phase, durability against cracks and the like is further improved.

また、前記Bi合金相は、等価直径が3μm以下である態様とすることができる。Bi合金相の等価直径が3μm以下であることにより、Bi合金相の偏析による接合金属全体としての耐久性の低下を防ぐことができる。   The Bi alloy phase may have an equivalent diameter of 3 μm or less. When the equivalent diameter of the Bi alloy phase is 3 μm or less, it is possible to prevent a decrease in durability of the entire bonded metal due to segregation of the Bi alloy phase.

また、穴部から中心距離が10μm以上離れた領域にNi−Fe合金相を含む態様とすることができる。このように、Ni−Fe合金相を含む場合、互いに異なる硬度の領域が多数形成されるため、接合金属全体としてクラックの進行を抑制することができるため、耐久性が向上する。   Moreover, it can be set as the aspect which contains a Ni-Fe alloy phase in the area | region where the center distance was separated from the hole part by 10 micrometers or more. As described above, when the Ni—Fe alloy phase is included, a large number of regions having different hardnesses are formed, so that the progress of cracks can be suppressed as a whole of the bonded metal, thereby improving durability.

本発明によれば、製造工程において再加熱した場合に接合金属の破損が防止された電子回路モジュール部品が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when the reheating is carried out in a manufacturing process, the electronic circuit module component by which damage of the joining metal was prevented is provided.

電子回路モジュール部品の断面図である。It is sectional drawing of an electronic circuit module component. 電子回路モジュール部品を電子機器等の基板に取り付けた状態を示す側面図である。It is a side view which shows the state which attached the electronic circuit module component to substrates, such as an electronic device. 本実施形態に係るPbフリーはんだの概念図である。It is a key map of Pb free solder concerning this embodiment. 本実施形態に係るPbフリーはんだの概念図である。It is a key map of Pb free solder concerning this embodiment. 硬化後の第1はんだの組織を模式的に示したものである。The structure of the 1st solder after hardening is shown typically. 硬化後の第1はんだの組織を模式的に示したものである。The structure of the 1st solder after hardening is shown typically. Sn及びBiの和に対してBiの添加量を変化させた場合の固相温度及び液相温度の変化を示す図である。It is a figure which shows the change of the solid-phase temperature at the time of changing the addition amount of Bi with respect to the sum of Sn and Bi, and liquid phase temperature.

以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための形態を詳細に説明する。なお、図面の説明においては同一要素には同一符号を付し、重複する説明を省略する。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description of the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

図1は、電子回路モジュール部品の断面図である。図2は、電子回路モジュール部品を電子機器等の基板に取り付けた状態を示す側面図である。図1に示すように、電子回路モジュール部品1は、複数の電子部品2を基板3に実装した、ひとまとまりの機能を持つモジュールとしたものである。電子部品2は、基板3の表面に実装されていてもよいし、基板3の内部に実装されていてもよい。本実施形態において、電子回路モジュール部品1を構成する電子部品2としては、例えば、コイルやコンデンサ、あるいは抵抗等の受動素子があるが、ダイオードやトランジスタ等の能動素子やIC(Integral Circuit)等も電子部品2として基板3の表面や基板3の内部に実装されてもよい。また、電子部品2は、これらに限定されるものではない。   FIG. 1 is a cross-sectional view of an electronic circuit module component. FIG. 2 is a side view showing a state in which the electronic circuit module component is attached to a substrate such as an electronic device. As shown in FIG. 1, the electronic circuit module component 1 is a module having a group of functions in which a plurality of electronic components 2 are mounted on a substrate 3. The electronic component 2 may be mounted on the surface of the substrate 3 or may be mounted inside the substrate 3. In the present embodiment, the electronic component 2 constituting the electronic circuit module component 1 includes, for example, a passive element such as a coil, a capacitor, or a resistor, but an active element such as a diode or a transistor, an IC (Integral Circuit), or the like can also be used. The electronic component 2 may be mounted on the surface of the substrate 3 or inside the substrate 3. Moreover, the electronic component 2 is not limited to these.

図1に示すように、電子回路モジュール部品1は、電子部品2が実装される回路基板である基板3と、電子部品2を覆う絶縁樹脂4と、絶縁樹脂4の表面を被覆するシールド層5と、を含んで構成される。なお、電子回路モジュール部品1は、シールド層5を有していなくてもよい。電子部品2の端子電極と基板3の端子電極とは、本実施形態に係るPbフリーはんだ(以下、第1はんだという)6Aによって接合される。これによって、電子部品2が基板3に実装される。このように、第1はんだ6Aは、電子部品2の端子電極と基板3の端子電極との間に介在する接合金属となる。   As shown in FIG. 1, an electronic circuit module component 1 includes a substrate 3 that is a circuit board on which the electronic component 2 is mounted, an insulating resin 4 that covers the electronic component 2, and a shield layer 5 that covers the surface of the insulating resin 4. And comprising. The electronic circuit module component 1 may not have the shield layer 5. The terminal electrode of the electronic component 2 and the terminal electrode of the substrate 3 are joined by Pb-free solder (hereinafter referred to as first solder) 6A according to this embodiment. As a result, the electronic component 2 is mounted on the substrate 3. As described above, the first solder 6 </ b> A serves as a bonding metal interposed between the terminal electrode of the electronic component 2 and the terminal electrode of the substrate 3.

図1に示すように、電子回路モジュール部品1では、基板3に実装された電子部品2が絶縁樹脂4で覆われる。電子回路モジュール部品1は、電子部品2が実装される側の基板3の表面(部品実装面という)も同時に絶縁樹脂4で覆われる。このように、電子回路モジュール部品1は、絶縁樹脂4で複数の電子部品2及び部品実装面を覆うことで、基板3及び複数の電子部品2を一体化するとともに、強度を確保する。   As shown in FIG. 1, in the electronic circuit module component 1, the electronic component 2 mounted on the substrate 3 is covered with an insulating resin 4. In the electronic circuit module component 1, the surface of the substrate 3 on which the electronic component 2 is mounted (referred to as a component mounting surface) is simultaneously covered with the insulating resin 4. As described above, the electronic circuit module component 1 covers the plurality of electronic components 2 and the component mounting surface with the insulating resin 4, thereby integrating the substrate 3 and the plurality of electronic components 2 and securing the strength.

複数の電子部品2を覆った絶縁樹脂4の表面には、シールド層5が形成される。絶縁樹脂4としては、熱硬化性樹脂、例えば、エポキシ樹脂を用いることができるが、これに限定されない。なお、フィラー等の添加物が含まれていてもよい。   A shield layer 5 is formed on the surface of the insulating resin 4 covering the plurality of electronic components 2. As the insulating resin 4, a thermosetting resin such as an epoxy resin can be used, but the insulating resin 4 is not limited to this. In addition, additives such as fillers may be included.

本実施形態において、シールド層5は導電材料(導電性を有する材料であり、本実施形態では金属)で構成されている。本実施形態では、シールド層5は単数の導電材料で構成されてもよいし、複数の導電材料の層で構成されてもよい。シールド層5は、絶縁樹脂4の表面を被覆することにより、絶縁樹脂4の内部に封入された電子部品2を電子回路モジュール部品1の外部からの高周波ノイズや電磁波等から遮蔽したり、電子部品2から放射される高周波ノイズ等を遮蔽したりする。このように、シールド層5は、電磁気シールドとして機能する。本実施形態において、シールド層5は、絶縁樹脂4の表面全体を被覆している。なお、シールド層5は、電磁気シールドとして必要な機能を発揮できるように絶縁樹脂4を被覆すればよく、必ずしも絶縁樹脂4の表面全体を被覆する必要はない。したがって、シールド層5は、絶縁樹脂4の表面の少なくとも一部を被覆していればよい。   In the present embodiment, the shield layer 5 is made of a conductive material (a material having conductivity, which is a metal in the present embodiment). In the present embodiment, the shield layer 5 may be composed of a single conductive material or may be composed of a plurality of conductive material layers. The shield layer 5 covers the surface of the insulating resin 4 to shield the electronic component 2 enclosed in the insulating resin 4 from high-frequency noise or electromagnetic waves from the outside of the electronic circuit module component 1, High frequency noise radiated from 2 is shielded. Thus, the shield layer 5 functions as an electromagnetic shield. In the present embodiment, the shield layer 5 covers the entire surface of the insulating resin 4. The shield layer 5 may be coated with the insulating resin 4 so as to exhibit a necessary function as an electromagnetic shield, and does not necessarily need to cover the entire surface of the insulating resin 4. Therefore, the shield layer 5 only needs to cover at least a part of the surface of the insulating resin 4.

なお、電子回路モジュール部品1は、シールド層5を設けていなくてもよい。この場合には、電子回路モジュール部品1のシールド層5に相当する領域についても絶縁樹脂4により被覆される。   In addition, the electronic circuit module component 1 does not need to provide the shield layer 5. In this case, the region corresponding to the shield layer 5 of the electronic circuit module component 1 is also covered with the insulating resin 4.

電子回路モジュール部品1は、例えば、次のような手順で製造される。
(1)基板3の端子電極に第1はんだ6Aを含むはんだペーストを印刷する。
(2)実装装置(マウンタ)を用いて電子部品2を基板3に搭載する。
(3)電子部品2が搭載された基板3をリフロー炉に入れてはんだペーストを加熱することにより、はんだペーストに含まれる第1はんだ6Aが溶融し、硬化することにより電子部品2の端子電極と基板3の端子電極とを接合する(リフロー工程)。
(4)電子部品2や基板3の表面に付着したフラックスを洗浄する。
(5)絶縁樹脂4で電子部品2及び基板3を覆う(モールド工程)。
The electronic circuit module component 1 is manufactured by the following procedure, for example.
(1) A solder paste containing the first solder 6 </ b> A is printed on the terminal electrode of the substrate 3.
(2) The electronic component 2 is mounted on the substrate 3 using a mounting device (mounter).
(3) When the substrate 3 on which the electronic component 2 is mounted is placed in a reflow furnace and the solder paste is heated, the first solder 6A contained in the solder paste is melted and hardened, whereby the terminal electrode of the electronic component 2 The terminal electrode of the board | substrate 3 is joined (reflow process).
(4) The flux adhering to the surface of the electronic component 2 or the substrate 3 is washed.
(5) Covering the electronic component 2 and the substrate 3 with the insulating resin 4 (molding process).

上記の手順のうち、リフロー工程では、一般的に、リフロー炉の最高温度が240℃〜260℃程度となるようにして、はんだペーストに含まれる第1はんだ6Aの溶融及び硬化が行われる。また、モールド工程は、絶縁樹脂4の材料等によって適宜変更されるが、例えば、175℃で4時間加熱することにより、絶縁樹脂4の硬化が行われる。   Among the above procedures, in the reflow process, generally, the first solder 6A included in the solder paste is melted and hardened so that the maximum temperature of the reflow furnace is about 240 ° C to 260 ° C. The molding process is appropriately changed depending on the material of the insulating resin 4 and the like. For example, the insulating resin 4 is cured by heating at 175 ° C. for 4 hours.

基板3は、部品実装面の反対側に、端子電極(モジュール端子電極)7を有する。モジュール端子電極7は、電子回路モジュール部品1が備える電子部品2と電気的に接続されるとともに、図2に示すように、電子回路モジュール部品1が取り付けられる基板(例えば、電子機器の基板であり、以下、装置基板という)8の端子電極(装置基板端子電極)9とはんだ(以下、第2はんだという)6Bによって接合される。これによって、電子回路モジュール部品1は、電子部品2と装置基板8との間で電気信号や電力をやり取りする。   The substrate 3 has terminal electrodes (module terminal electrodes) 7 on the side opposite to the component mounting surface. The module terminal electrode 7 is electrically connected to the electronic component 2 included in the electronic circuit module component 1 and, as shown in FIG. 2, a substrate (for example, a substrate of an electronic device) to which the electronic circuit module component 1 is attached. The terminal electrode (device substrate terminal electrode) 9 of the device substrate 8) and the solder (hereinafter referred to as second solder) 6B. As a result, the electronic circuit module component 1 exchanges electrical signals and power between the electronic component 2 and the device substrate 8.

図2に示す装置基板8は、電子回路モジュール部品1が実装される基板であり、例えば、電子機器(車載電子機器、携帯電子機器等)に搭載される。装置基板8に電子回路モジュール部品1を実装する場合、例えば、装置基板端子電極9に第2はんだ6Bを含むはんだペーストを印刷し、実装装置を用いて電子回路モジュール部品1を装置基板8に搭載する。そして、電子回路モジュール部品1が搭載された装置基板8をリフロー炉に入れてはんだペーストを加熱することにより、はんだペーストに含まれる第2はんだ6Bが溶融し、硬化することによりモジュール端子電極7と装置基板端子電極9とを接合する。その後、電子回路モジュール部品1や装置基板8の表面に付着したフラックスを洗浄する。   A device substrate 8 shown in FIG. 2 is a substrate on which the electronic circuit module component 1 is mounted. For example, the device substrate 8 is mounted on an electronic device (such as an in-vehicle electronic device or a portable electronic device). When the electronic circuit module component 1 is mounted on the device substrate 8, for example, a solder paste containing the second solder 6B is printed on the device substrate terminal electrode 9, and the electronic circuit module component 1 is mounted on the device substrate 8 using the mounting device. To do. Then, by putting the device substrate 8 on which the electronic circuit module component 1 is mounted in a reflow furnace and heating the solder paste, the second solder 6B contained in the solder paste is melted and hardened, whereby the module terminal electrode 7 and The device substrate terminal electrode 9 is joined. Thereafter, the flux adhering to the surfaces of the electronic circuit module component 1 and the device substrate 8 is washed.

一般的に、電子回路モジュール部品の製造に使用されているPbフリーはんだの溶融温度は約220℃であるのに対して、リフロー時における最高温度は240℃〜260℃程度とされる。電子回路モジュール部品1を構成する電子部品2を基板3に実装する際に用いられる第1はんだ6Aは、上述したように、電子回路モジュール部品1が装置基板8へ実装される際にリフローされることから、このリフローにおける温度で溶融しないはんだ(高温はんだ)が使用される。   Generally, the melting temperature of Pb-free solder used for manufacturing electronic circuit module components is about 220 ° C., whereas the maximum temperature during reflow is about 240 ° C. to 260 ° C. The first solder 6A used when the electronic component 2 constituting the electronic circuit module component 1 is mounted on the substrate 3 is reflowed when the electronic circuit module component 1 is mounted on the device substrate 8 as described above. Therefore, solder that does not melt at this reflow temperature (high temperature solder) is used.

Pbを使用するはんだには、溶融温度が300℃程度のはんだがあるが、Pbフリーはんだでは溶融温度が260℃以上かつ適切な特性を有するものはない。このため、Pbフリーはんだを用いる場合、電子回路モジュール部品1を構成する電子部品2の接合に用いるはんだ(第1はんだ6A)、及び電子回路モジュール部品1を装置基板8へ実装する際に用いるはんだ(第2はんだ6B)に、両者の溶融温度差が少ないものを使用せざるを得ない。   Among the solders using Pb, there is a solder having a melting temperature of about 300 ° C., but there is no Pb-free solder having a melting temperature of 260 ° C. or more and appropriate characteristics. For this reason, when Pb-free solder is used, the solder (first solder 6A) used for joining the electronic component 2 constituting the electronic circuit module component 1 and the solder used when the electronic circuit module component 1 is mounted on the device substrate 8 For the (second solder 6B), one having a small difference in melting temperature between them must be used.

電子回路モジュール部品1を構成する電子部品2の接合に用いるはんだがリフロー時に再溶融すると、第1はんだ6Aの移動や、はんだフラッシュ(はんだの飛散)といった不具合が発生する。その結果、短絡や電子部品2の接触不良を招くおそれがある。このため、電子回路モジュール部品1の電子部品2を接合するはんだには、電子回路モジュール部品1を実装する際のリフロー時において再溶融しないもの、あるいは再溶融が第1はんだ6Aの移動やはんだフラッシュを招かない程度であるものを使用することが望まれている。溶融温度の高いはんだの代替として導電性接着材(Agペースト等)もあるが、機械的な強度が低く、電気抵抗も高く、コストも高い等の課題があり、はんだの代替とはなっていない。本実施形態の電子回路モジュール部品1を構成する電子部品2の接合に用いる第1はんだ6Aは、このような要求を満たすPbフリーはんだである。   When the solder used for joining the electronic components 2 constituting the electronic circuit module component 1 is remelted during reflow, problems such as movement of the first solder 6A and solder flash (solder scattering) occur. As a result, there is a risk of causing a short circuit or poor contact of the electronic component 2. For this reason, the solder that joins the electronic component 2 of the electronic circuit module component 1 does not remelt during reflow when the electronic circuit module component 1 is mounted, or remelting may cause movement of the first solder 6A or solder flash. It is desirable to use a material that does not invite There are conductive adhesives (Ag paste, etc.) as an alternative to solder with a high melting temperature, but there are problems such as low mechanical strength, high electrical resistance, and high cost, and it is not a substitute for solder. . The first solder 6A used for joining the electronic component 2 constituting the electronic circuit module component 1 of the present embodiment is a Pb-free solder that satisfies such a requirement.

図3、図4は、本実施形態に係るPbフリーはんだの概念図である。本実施形態に係るPbフリーはんだ、すなわち第1はんだ6Aは、使用前(溶融する前)において、少なくともSn(スズ)及びBi(ビスマス)を含む第1金属61と、少なくともNi(ニッケル)−Fe(鉄)合金を含む第2金属62と、を含む。図3に示す第1はんだ6Aは、粒状の第1金属61と粒状の第2金属62とをペースト材料PEに分散させてはんだペーストとしたものである。図4に示す第1はんだ6Aは、第2金属62を芯として、その外側を第1金属61で被覆し、針金状のはんだとしたものである。このように、第1はんだ6Aは、溶融する前において、少なくともSn及びBiを含む第1金属61と、少なくともNi−Fe合金を含む第2金属62とが溶融時に混合可能な状態であればよい。   3 and 4 are conceptual diagrams of Pb-free solder according to the present embodiment. The Pb-free solder according to this embodiment, that is, the first solder 6A, before use (before melting), the first metal 61 containing at least Sn (tin) and Bi (bismuth), and at least Ni (nickel) -Fe And a second metal 62 including an (iron) alloy. The first solder 6A shown in FIG. 3 is obtained by dispersing a granular first metal 61 and a granular second metal 62 in a paste material PE to form a solder paste. The first solder 6A shown in FIG. 4 has a second metal 62 as a core and the outside is covered with a first metal 61 to form a wire-like solder. As described above, the first solder 6A may be in a state in which the first metal 61 containing at least Sn and Bi and the second metal 62 containing at least a Ni—Fe alloy can be mixed at the time of melting before melting. .

第1金属61は、少なくともSn及びBiを含むが、第1はんだ6AはPbフリーはんだであるため、Pbは含まない。また、第1金属61は、Ag(銀)、Cu(銅)のうち少なくとも一つを含んでいてもよい。第2金属62は、Ni−Fe合金を少なくとも含んでいる。すなわち、第2金属62は、Ni−Fe合金を必須とし、この他にCo(コバルト)、Mo(モリブデン)、Cu(銅)、Cr(クロム)のうち少なくとも一つを含んでいてもよい。   The first metal 61 includes at least Sn and Bi, but the first solder 6A is Pb-free solder, and thus does not include Pb. The first metal 61 may include at least one of Ag (silver) and Cu (copper). The second metal 62 includes at least a Ni—Fe alloy. That is, the second metal 62 is essentially a Ni—Fe alloy, and may contain at least one of Co (cobalt), Mo (molybdenum), Cu (copper), and Cr (chromium).

本実施形態においては、第1金属61として、所謂SnBiはんだ(Pbフリーはんだ)を用いる。また、第1金属61において、SnとBiの和は90質量%以上であり、Biが5質量%以上15質量%以下である。このようなはんだは、リフロー後における組織はSn相が大半を占めるので、複数回リフローするとSn相が再溶融する。このため、本実施形態では、リフロー時にSnと化合物を作りやすい金属として、少なくともNi−Fe合金を含む第2金属62を第1金属61に添加する。すなわち、SnとBiとが含まれる第1金属61に対して、Ni−Fe合金が添加される。これによって、最初に第1はんだ6Aが溶融したときに第1金属61に含まれるSnと第2金属62のNi−Feとを反応させて、第1はんだ6Aが硬化したときに耐熱性の高い組織を作る。そして、例えば、再度のリフロー等によって第1はんだ6Aが加熱された場合でも、第1はんだ6Aの再溶融が抑制される。   In the present embodiment, so-called SnBi solder (Pb-free solder) is used as the first metal 61. In the first metal 61, the sum of Sn and Bi is 90% by mass or more, and Bi is 5% by mass or more and 15% by mass or less. In such a solder, the Sn phase occupies most of the structure after reflow, and therefore the Sn phase remelts when reflowed a plurality of times. For this reason, in the present embodiment, a second metal 62 containing at least a Ni—Fe alloy is added to the first metal 61 as a metal that easily forms a compound with Sn during reflow. That is, a Ni—Fe alloy is added to the first metal 61 containing Sn and Bi. Accordingly, when the first solder 6A is first melted, Sn contained in the first metal 61 reacts with Ni—Fe of the second metal 62, and when the first solder 6A is cured, the heat resistance is high. Create an organization. For example, even when the first solder 6A is heated by reflow or the like again, remelting of the first solder 6A is suppressed.

図5及び図6は、第1はんだ6Aが硬化して形成される接合金属を模式的に示したものである。図5は、硬化前の第1金属61におけるBi添加量を7.5質量%としたものであり、図6は、硬化前の第1金属61におけるBi添加量を12.5質量%としたものである。図5及び図6に示すように、第1はんだ6Aが硬化して形成される接合金属では、第1金属61由来のSn相71(Sn合金相)内にBi相72(Bi合金相)が分散して析出している。また、第2金属62由来のNi−Fe相73(Ni−Fe合金相)の周辺に第1金属61由来のSnと第2金属62由来のNiとが反応したNi−Sn相74(Ni−Sn合金相)が形成される。Ni−Sn相74には、第2金属62に含まれるNi−Feに由来するFeも含まれる。すなわち、Ni−Sn相74は、少なくともFeを含む。   5 and 6 schematically show the bonding metal formed by curing the first solder 6A. FIG. 5 shows that the Bi addition amount in the first metal 61 before curing is 7.5 mass%, and FIG. 6 shows that the Bi addition amount in the first metal 61 before curing is 12.5 mass%. Is. As shown in FIGS. 5 and 6, in the joining metal formed by hardening the first solder 6 </ b> A, the Bi phase 72 (Bi alloy phase) is contained in the Sn phase 71 (Sn alloy phase) derived from the first metal 61. It is dispersed and precipitated. Further, the Ni—Sn phase 74 (Ni—) in which Sn derived from the first metal 61 and Ni derived from the second metal 62 are reacted around the Ni—Fe phase 73 (Ni—Fe alloy phase) derived from the second metal 62. Sn alloy phase) is formed. The Ni—Sn phase 74 includes Fe derived from Ni—Fe contained in the second metal 62. That is, the Ni—Sn phase 74 includes at least Fe.

NiとSnとの反応が進んだ領域では、Ni−Sn相74の内側のNi−Fe相73があった部分が空隙により形成された穴部75となって硬化後の第1はんだ6A内に複数形成されている。穴部75は、NiとSnとの反応の進行に沿って、Ni−Fe相を構成していた材料が加熱によって飛散することで形成されたものと考えられる。Ni−Sn相74の内側に形成される穴部75は、略球状であり、断面視において直径が5μm以下である。仮にNi−Sn相74内にクラックが生じたとしても、Ni−Sn相74内に直径5μm以下の穴部75が設けられている場合、Ni−Sn相74はSn相71よりも硬度が十分に高い領域であることからクラックが空隙により形成された穴部75に到達することで進行が抑制することが可能となる。一方、穴部75が5μmよりも大きくなると、穴部75自体が接合金属の耐久性に影響を与える可能性がある。   In the region where the reaction between Ni and Sn has progressed, the portion where the Ni—Fe phase 73 on the inside of the Ni—Sn phase 74 is located becomes a hole 75 formed by a void and is formed in the first solder 6A after curing. A plurality are formed. It is considered that the hole 75 was formed by scattering of the material constituting the Ni—Fe phase by heating along with the progress of the reaction between Ni and Sn. The hole 75 formed inside the Ni—Sn phase 74 is substantially spherical and has a diameter of 5 μm or less in a sectional view. Even if a crack occurs in the Ni—Sn phase 74, the Ni—Sn phase 74 is sufficiently harder than the Sn phase 71 when the hole 75 having a diameter of 5 μm or less is provided in the Ni—Sn phase 74. Therefore, the progress of the crack can be suppressed by reaching the hole 75 formed by the gap. On the other hand, when the hole 75 is larger than 5 μm, the hole 75 itself may affect the durability of the bonding metal.

また、隣接する穴部75同士は、断面視において中心距離が10μm以上である。なお、中心距離とは、隣接する穴部75の中心同士の距離のことをいう。隣接する穴部75同士の中心距離が10μmよりも小さくなると、クラック等が発生した場合に隣接する穴部同士が連動して亀裂が生じる可能性がある。   Further, the adjacent hole portions 75 have a center distance of 10 μm or more in a sectional view. The center distance refers to the distance between the centers of adjacent hole portions 75. If the center distance between the adjacent hole portions 75 is smaller than 10 μm, the adjacent hole portions may be interlocked with each other when a crack or the like is generated.

Ni−Sn相74の内部に穴部75が形成されていない場合、Ni−Sn相74の内部にNi−Fe相73が残留した状況となる。Ni−Fe相73は、略球状であり、断面視において直径が5μm以下である。また、穴部75とNi−Fe相73とは、断面視において中心距離が10μm以上である。   When the hole 75 is not formed in the Ni—Sn phase 74, the Ni—Fe phase 73 remains in the Ni—Sn phase 74. The Ni—Fe phase 73 is substantially spherical and has a diameter of 5 μm or less in a sectional view. Further, the hole 75 and the Ni—Fe phase 73 have a center distance of 10 μm or more in a sectional view.

また、Biの添加量を増加した場合には、図6に示すように、Ni−Fe相73の周囲に形成されるNi−Sn相74の大きさが小さくなると共に、Sn相71内にNi−Sn相74が分散した状態となる。また、Bi相72は、Biの添加量が少ない場合(図5)は、Ni−Sn相74の周囲に形成されるのに対して、Biの添加量が増加すると(図6)、Sn相71内に分散する。Bi相72は、Bi単体により構成されていてもよいし、例えばBi−Sn合金により構成されていてもよい。また、Bi相72は、等価直径が3μm以下であることが好ましい。なお、等価直径とは、断面視において、Bi相72の面積をAとして、周囲の長さをCとしたときに、4×A/Cである。Bi相72の等価直径が3μmよりも大きい場合、Bi相72のBi自体の硬く脆い性質によって、クラックが進行しやすくなってしまう可能性がある。   Further, when the addition amount of Bi is increased, as shown in FIG. 6, the size of the Ni—Sn phase 74 formed around the Ni—Fe phase 73 is reduced, and the Ni phase in the Sn phase 71 is reduced. -The Sn phase 74 is dispersed. Further, the Bi phase 72 is formed around the Ni-Sn phase 74 when the amount of Bi added is small (FIG. 5), whereas when the amount of Bi added increases (FIG. 6), the Sn phase 71. The Bi phase 72 may be composed of Bi alone, or may be composed of, for example, a Bi—Sn alloy. The Bi phase 72 preferably has an equivalent diameter of 3 μm or less. The equivalent diameter is 4 × A / C when the area of the Bi phase 72 is A and the peripheral length is C in a sectional view. When the equivalent diameter of the Bi phase 72 is larger than 3 μm, cracks may easily progress due to the hard and brittle nature of the Bi phase 72 Bi itself.

このように、硬化後の第1はんだ6A(接合金属)では、第1金属61由来のSn相71内にNi−Sn相74が分散して存在すると共に、Ni−Sn相の内部に穴部75が形成される。NiとSnとが反応して得られるNi−Sn相74は、融点が400℃よりも高いため、第2はんだ6Bのリフロー時等に再溶融することが防がれる。Ni−Sn相74の周囲には、融点が低いSn相71等も存在するが、Ni−Sn相74が形成されることでSn相71が溶融することによるはんだの飛散や移動等が抑制される。   Thus, in the hardened first solder 6A (joining metal), the Ni—Sn phase 74 is dispersed in the Sn phase 71 derived from the first metal 61, and the hole is formed inside the Ni—Sn phase. 75 is formed. Since the Ni—Sn phase 74 obtained by the reaction of Ni and Sn has a melting point higher than 400 ° C., it is prevented from being remelted during reflow of the second solder 6B. The Sn-phase 71 having a low melting point also exists around the Ni-Sn phase 74, but the formation of the Ni-Sn phase 74 suppresses the scattering and movement of solder due to the melting of the Sn phase 71. The

また、Sn相71よりも硬いNi−Sn相74がSn相71内に分散していることにより、第1はんだ6Aでのはんだクラックの発生を防止することができる。硬化後の第1はんだ6Aが何らかの衝撃等を受けて、その一部に亀裂が発生したとしても、Sn相71内にNi−Sn相74が分散していることによって、同一相が広がっている場合と比較して、亀裂が大きくなることを防ぐことができる。はんだクラック発生の防止に係る効果は、特に、図6に示すようにNi−Sn相74の大きさの偏りが小さくなり、Sn相71内に分散しているときに向上する。また、硬化後の第1はんだ6Aでは、Sn相71よりも硬いBi相72もSn相71内に分散することで、Sn相71内に分散している異種相が増えるため、はんだクラック発生の防止に係る効果が向上し、耐久性の高い電子回路モジュール部品が得られる。   In addition, since the Ni—Sn phase 74 harder than the Sn phase 71 is dispersed in the Sn phase 71, the occurrence of solder cracks in the first solder 6A can be prevented. Even if the first solder 6A after being cured is subjected to some impact or the like and a crack is generated in a part thereof, the same phase spreads because the Ni—Sn phase 74 is dispersed in the Sn phase 71. Compared to the case, it is possible to prevent the crack from becoming large. The effect of preventing the occurrence of solder cracks is particularly improved when the Ni—Sn phase 74 is less biased and dispersed in the Sn phase 71 as shown in FIG. Further, in the first solder 6A after curing, the Bi phase 72 that is harder than the Sn phase 71 is also dispersed in the Sn phase 71, so that different phases dispersed in the Sn phase 71 increase, and therefore, solder cracks are generated. The effect concerning prevention is improved, and a highly durable electronic circuit module component is obtained.

第1金属61のように、Biを含むはんだでは、Biの添加量に応じて、液相温度及び固相温度が変化する。図7は、Sn及びBiの和に対してBiの添加量を変化させた場合に、固相温度の変化を固相線として示すと共に液相温度の変化を液相線として示したものである。図7に示すように、Biを5質量%以上添加した場合固相温度が低下することから、より低温においてNiとSnとの反応を促進することができる。したがって、例えば、第1はんだ6Aを硬化させた後に絶縁樹脂4で電子部品2及び基板3を覆うモールド工程においても、NiとSnとの反応が促進させることができるため、NiとSnとの反応を促進するための加熱工程等を別途設けなくてもよい。   In the solder containing Bi like the first metal 61, the liquid phase temperature and the solid phase temperature change depending on the amount of Bi added. FIG. 7 shows the change in the solid phase temperature as a solidus line and the change in the liquid phase temperature as a liquidus line when the amount of Bi added is changed with respect to the sum of Sn and Bi. . As shown in FIG. 7, when Bi is added in an amount of 5% by mass or more, the solid phase temperature is lowered, so that the reaction between Ni and Sn can be promoted at a lower temperature. Therefore, for example, in the molding process in which the electronic component 2 and the substrate 3 are covered with the insulating resin 4 after the first solder 6A is cured, the reaction between Ni and Sn can be promoted, so the reaction between Ni and Sn. There is no need to separately provide a heating step or the like for promoting the above.

なお、図7に示すように、Biの添加量が15質量%を超えてしまうと、固相温度が共晶温度(約139℃)まで下がってしまうため、後段の工程において、硬化後の第1はんだが再溶融してしまう可能性が考えられる。また、Biの添加量が15質量%を超えた場合には、硬化後の第1はんだ6Aにおいて、Biの偏析量が大きくなる可能性がある。Biの硬度はSnを主体とするはんだ相よりも高いので、硬化後の第1はんだ6AにおいてBiの偏析量が大きくなると、Bi自体の硬く脆い性質によって、クラックが進行しやすくなってしまう可能性がある。   As shown in FIG. 7, if the amount of Bi added exceeds 15% by mass, the solid phase temperature falls to the eutectic temperature (about 139 ° C.). One solder may be remelted. Moreover, when the addition amount of Bi exceeds 15 mass%, in the 1st solder 6A after hardening, the segregation amount of Bi may become large. Since the hardness of Bi is higher than that of the solder phase mainly composed of Sn, if the amount of Bi segregation increases in the first solder 6A after hardening, cracks are likely to proceed due to the hard and brittle nature of Bi itself. There is.

さらに、本実施形態では、Sn及びBiが含まれる第1金属61に、Snと反応しやすいNi−Fe合金を含む第2金属62を添加する。これによって、リフローに要する短い時間でSnとNi−Fe合金との反応を迅速に進行させることができる。   Furthermore, in this embodiment, the 2nd metal 62 containing the Ni-Fe alloy which is easy to react with Sn is added to the 1st metal 61 containing Sn and Bi. Thereby, the reaction between Sn and the Ni—Fe alloy can be rapidly advanced in a short time required for reflow.

溶融後、硬化した第1はんだ6Aの融点を上昇させるためには、溶融中のSnとNi−Feとの反応を進め、Ni−Sn相の形成を促進する必要がある。このため、溶融前の第1はんだ6Aを構成する第1金属61と第2金属62とは、図3に示すように粒状とすることが好ましい。このようにすれば、第1金属61と第2金属62との接触面積が増加するため、SnとNi−Feとの反応が促進される。これによって、溶融後硬化した第1はんだ6Aの再溶融を防止することができる。なお、図4に示すように、溶融前の第1はんだ6Aを針金状とする場合、少なくとも第2金属62を粒状とすることが好ましい。   In order to raise the melting point of the hardened first solder 6A after melting, it is necessary to promote the reaction between Sn and Ni—Fe during melting and promote the formation of the Ni—Sn phase. For this reason, it is preferable that the 1st metal 61 and the 2nd metal 62 which comprise the 1st solder 6A before a fusion | melting are made granular as shown in FIG. By doing so, the contact area between the first metal 61 and the second metal 62 increases, and the reaction between Sn and Ni—Fe is promoted. As a result, remelting of the first solder 6A that has been cured after melting can be prevented. In addition, as shown in FIG. 4, when making the 1st solder 6A before melting into a wire form, it is preferable to make the 2nd metal 62 into a granular form at least.

また、第2金属62の平均粒子径が小さいほど、第1はんだ6Aは熱エネルギーを吸収しなくなる傾向を示すことが知られている。この傾向は、第2金属62の割合が変化しても同様である。また、第2金属62の平均粒子径が小さくなるほど、溶融時には第1金属61と第2金属62との接触面積が増加するので、SnとNi−Fe合金との反応が進行しやすくなり、Ni−Sn相の形成が促進される。一方、第2金属62の平均粒子径が小さくなるにしたがって、第2金属62の粒子の製造や取り扱いが困難になる。   In addition, it is known that the smaller the average particle diameter of the second metal 62 is, the less the first solder 6A tends to absorb heat energy. This tendency is the same even if the ratio of the second metal 62 changes. In addition, as the average particle diameter of the second metal 62 decreases, the contact area between the first metal 61 and the second metal 62 increases at the time of melting, so that the reaction between Sn and the Ni—Fe alloy easily proceeds. -The formation of Sn phase is promoted. On the other hand, as the average particle size of the second metal 62 becomes smaller, it becomes difficult to manufacture and handle the particles of the second metal 62.

したがって、第2金属62の平均粒子径は、3μm以上50μm以下であることが好ましく、5μm以上30μm以下がより好ましい。第2金属62の平均粒子径が50μmになると、硬化後における第1はんだ6Aの組織はNi−Sn相の形成が十分に進まず、第1はんだ6Aが溶融して硬化した後における融点の上昇が小さくなる。また、第2金属62の平均粒子径が3μmを下回ると、第2金属62の粒子の製造や取り扱いが困難になることが考えられる。また、第2金属62の平均粒子径が5μmより小さいと、粒子径に対する表面積が大きい結果、酸化しやすくなる傾向があるので、リフロー時の再加熱によって溶融せず、酸化粒子として基板上に残留するものが生じるおそれがある。第2金属62の平均粒子径を5μm以上とすると、酸化粒子の残留を抑制できるため、より好ましい。なお、本実施形態では、第1金属61の平均粒子径は、10μmから36μmの範囲としている。   Therefore, the average particle diameter of the second metal 62 is preferably 3 μm or more and 50 μm or less, and more preferably 5 μm or more and 30 μm or less. When the average particle diameter of the second metal 62 is 50 μm, the structure of the first solder 6A after hardening does not sufficiently progress to form the Ni—Sn phase, and the melting point rises after the first solder 6A melts and hardens. Becomes smaller. In addition, when the average particle diameter of the second metal 62 is less than 3 μm, it may be difficult to manufacture and handle the particles of the second metal 62. In addition, if the average particle size of the second metal 62 is smaller than 5 μm, the surface area with respect to the particle size tends to be increased, so that the second metal 62 tends to oxidize. There is a risk that something will happen. When the average particle diameter of the second metal 62 is 5 μm or more, it is more preferable because the remaining of the oxidized particles can be suppressed. In the present embodiment, the average particle diameter of the first metal 61 is in the range of 10 μm to 36 μm.

また、本実施形態において、第2金属62の添加割合は、第1金属61と第2金属62との和に対して5質量%以上30質量%以下が好ましい。この範囲であれば、電子回路モジュール部品1の基板3に第1はんだ6Aを用いて電子部品2を実装した後、電子回路モジュール部品1を装置基板8に実装する際に再度のリフローをしたとしても、はんだフラッシュの発生や第1はんだ6Aの移動を抑制できる。また、基板3に第1はんだ6Aを用いて電子部品2を実装する場合も、適切なセルフアライメント効果が得られるので、電子部品2の位置決めができる。このように、第2金属62の添加割合が上記範囲であれば、電子回路モジュール部品1を構成する電子部品2の実装に好適である。   In the present embodiment, the addition ratio of the second metal 62 is preferably 5% by mass or more and 30% by mass or less with respect to the sum of the first metal 61 and the second metal 62. Within this range, it is assumed that after the electronic component 2 is mounted on the substrate 3 of the electronic circuit module component 1 using the first solder 6A, the reflow is performed again when the electronic circuit module component 1 is mounted on the device substrate 8. In addition, the generation of solder flash and the movement of the first solder 6A can be suppressed. Further, when the electronic component 2 is mounted on the substrate 3 using the first solder 6A, an appropriate self-alignment effect can be obtained, so that the electronic component 2 can be positioned. Thus, if the addition ratio of the 2nd metal 62 is the said range, it is suitable for mounting of the electronic component 2 which comprises the electronic circuit module component 1. FIG.

第2金属62の粉末は、例えば、水アトマイズ法、ガスアトマイズ法等の金属粉末製造方法によって作製される。水アトマイズ法を用いた場合、作製された粉末の表面が酸化する。第2金属62の粉末の表面が酸化した状態で第1金属61に添加し、第1はんだ6Aとすると、酸化膜の影響により、溶融した状態において、第2金属62の粉末が硬化した第1はんだ6Aの表面に集まってしまう。その結果、第1金属61と第2金属62とがほとんど分離してしまうので、第1金属61と第2金属62との反応が促進されず、第1はんだ6Aの融点上昇は望めない。   The powder of the 2nd metal 62 is produced by metal powder manufacturing methods, such as a water atomizing method and a gas atomizing method, for example. When the water atomization method is used, the surface of the produced powder is oxidized. When the surface of the powder of the second metal 62 is oxidized and added to the first metal 61 to form the first solder 6A, the first metal 6 is hardened in the molten state due to the influence of the oxide film. It collects on the surface of the solder 6A. As a result, the first metal 61 and the second metal 62 are almost separated from each other. Therefore, the reaction between the first metal 61 and the second metal 62 is not promoted, and an increase in the melting point of the first solder 6A cannot be expected.

したがって、金属粉末が製造される過程で第2金属62が酸化した場合、例えば、水素雰囲気中でこれを還元してから、第1金属61に添加することが好ましい。これによって、第1金属61は、最初の溶融中に第1金属61と第2金属62との反応が促進されるため、溶融後硬化した第1はんだ6Aは、溶融前と比較して高い融点を確保できる。   Therefore, when the second metal 62 is oxidized in the process of producing the metal powder, it is preferable to add it to the first metal 61 after reducing it in a hydrogen atmosphere, for example. As a result, the first metal 61 promotes the reaction between the first metal 61 and the second metal 62 during the first melting, so that the first solder 6A cured after melting has a higher melting point than before melting. Can be secured.

第2金属62の粉末に含まれる酸素量をパラメータとして、第1金属61と第2金属62との反応促進を評価した。その結果、第2金属62の粉末中に含まれる酸素の割合が1.5質量%では、第1金属61と第2金属62との反応促進が不十分であり、第1はんだ6Aの融点上昇は望めない。一方、第2金属62の粉末中に含まれる酸素の割合が0.24質量%まで低下すれば、第1金属61と第2金属62との反応が促進されて、第1はんだ6Aの融点が上昇する。   Reaction acceleration between the first metal 61 and the second metal 62 was evaluated using the amount of oxygen contained in the powder of the second metal 62 as a parameter. As a result, when the proportion of oxygen contained in the powder of the second metal 62 is 1.5 mass%, the reaction between the first metal 61 and the second metal 62 is not sufficiently promoted, and the melting point of the first solder 6A increases. Can't hope. On the other hand, if the proportion of oxygen contained in the powder of the second metal 62 is reduced to 0.24% by mass, the reaction between the first metal 61 and the second metal 62 is promoted, and the melting point of the first solder 6A is increased. To rise.

第2金属62に占めるFeの割合は、特に限定されないが、8質量%以上あれば溶融後硬化した第1はんだ6Aの融点の上昇が認められる。Feの割合が5質量%以上であれば、溶融後硬化した第1はんだ6Aの融点は、再度のリフロー温度(240℃〜260℃)よりも高くなる。一方、16質量%を超えると、Ni−Sn相の形成が十分に進まず、第1はんだ6Aの溶融温度が低下する可能性がある。したがって、第2金属62に占めるFeの割合は、5質量%以上16質量%以下が好ましく、8質量%以上16質量%以下がより好ましい。   The proportion of Fe in the second metal 62 is not particularly limited, but an increase in the melting point of the first solder 6A that has been hardened after melting is recognized if it is 8% by mass or more. If the proportion of Fe is 5% by mass or more, the melting point of the first solder 6A cured after melting becomes higher than the reflow temperature (240 ° C. to 260 ° C.) again. On the other hand, if it exceeds 16% by mass, the formation of the Ni—Sn phase does not proceed sufficiently, and the melting temperature of the first solder 6A may decrease. Therefore, the proportion of Fe in the second metal 62 is preferably 5% by mass to 16% by mass, and more preferably 8% by mass to 16% by mass.

以上のように、本実施形態に係る電子回路モジュール部品は、接合金属(硬化した第1はんだ6A)においてSn相71内に分散するNi−Sn相74の内側のNi−Fe相73があった部分が、空隙により形成された穴部75となって複数形成されている。Ni−Sn相74内に直径5μm以下の穴部75が設けられているころで、Ni−Sn相74はSn相71よりも硬度が十分に高い領域であることから、仮にNi−Sn相74においてクラックが発生したとしても、クラックが空隙により形成された穴部75に到達することで進行が抑制することが可能となり、電子回路モジュール部品としての耐久性が向上する。特に、従来の電子回路モジュール部品では、接合金属(第1はんだ6A)が絶縁樹脂4だけでなくシールド層5によって密閉される構造になる場合、はんだフラッシュの不具合が顕著に現れるため、本実施形態に係る電子回路モジュール部品の構成を有することで耐久性の向上効果が大きくなると考えられる。   As described above, the electronic circuit module component according to the present embodiment has the Ni—Fe phase 73 inside the Ni—Sn phase 74 dispersed in the Sn phase 71 in the bonding metal (cured first solder 6A). A plurality of portions are formed as hole portions 75 formed by gaps. Since the Ni-Sn phase 74 is a region in which the hole 75 having a diameter of 5 μm or less is provided in the Ni-Sn phase 74 and the Ni-Sn phase 74 is sufficiently higher in hardness than the Sn phase 71, the Ni-Sn phase 74 is temporarily assumed. Even if a crack occurs, the progress of the crack can be suppressed by reaching the hole 75 formed by the gap, and the durability as an electronic circuit module component is improved. In particular, in the conventional electronic circuit module component, when the bonding metal (first solder 6A) is sealed not only by the insulating resin 4 but also by the shield layer 5, the problem of solder flash appears remarkably. It is considered that the durability improvement effect is increased by having the configuration of the electronic circuit module component according to the above.

また、第1はんだ6Aに用いられるPbフリーはんだは、少なくともSn及びBiを含む第1金属に、少なくともNi−Fe合金を含む第2金属を添加してPbフリーはんだ(上述した第1はんだ6A)を構成する。このPbフリーはんだが最初に溶融する過程においては、第1金属のSnと第2金属のNi−Fe合金との反応が速やかに進行する。反応後はNi−Sn相が形成されることにより、硬化したPbフリーはんだにおいては、最初に溶融する前と比較して融点が高くなり、耐熱性が向上する。その結果、一旦溶融した後のPbフリーはんだがその後のリフローにより再加熱されても、Pbフリーはんだは溶融しない、又は溶融が抑制される。   The Pb-free solder used for the first solder 6A is a Pb-free solder obtained by adding a second metal containing at least a Ni—Fe alloy to a first metal containing at least Sn and Bi (the first solder 6A described above). Configure. In the process where the Pb-free solder is first melted, the reaction between the Sn of the first metal and the Ni—Fe alloy of the second metal proceeds rapidly. By forming a Ni—Sn phase after the reaction, the cured Pb-free solder has a higher melting point and improved heat resistance than before melting first. As a result, even if the Pb-free solder once melted is reheated by the subsequent reflow, the Pb-free solder does not melt or is prevented from melting.

そして、上記のPbフリーはんだを、電子回路モジュール部品を構成する電子部品の接合に用いることにより、電子回路モジュール部品を装置基板等に実装する際のリフローにおいて、電子回路モジュール部品内ではんだフラッシュやはんだの移動が発生するおそれを低減できる。このようなPbフリーはんだを用いた本実施形態に係る電子回路モジュール部品は、電子部品の端子の接合不良等が発生するおそれを低減できるので、歩留が向上する。   Then, by using the above-mentioned Pb-free solder for joining the electronic components constituting the electronic circuit module component, in the reflow when mounting the electronic circuit module component on the device board or the like, solder flash or The risk of solder movement can be reduced. Since the electronic circuit module component according to the present embodiment using such Pb-free solder can reduce the possibility of occurrence of defective bonding of terminals of the electronic component, the yield is improved.

また、本実施形態に係る電子回路モジュール部品に用いられるPbフリーはんだは、一旦溶融して硬化した後は融点が上昇するため、耐熱性が要求される部分の接合等にも有効である。この場合、本実施形態に係るPbフリーはんだが最初に溶融するときの温度は、SnBi系(Snを基材としてBiが添加されたもの)のはんだと同等(220℃程度)なので、接合時における作業性の低下を招くことはない。さらに、Sn及びBiを含む第1金属を用いることにより、Ni−Sn相の形成を促進させる熱処理として、例えばモールド工程等の電子回路モジュール部品の製造工程における熱処理工程を利用することができるため、追加の熱処理工程等を必要としない。このため、作業性が大幅に向上する。また、本実施形態に係るPbフリーはんだは、Sn、Bi、Ni、Feという比較的安価な金属を用いるので、電子回路モジュール部品等の製造コストの上昇を抑制できる。   In addition, since the Pb-free solder used for the electronic circuit module component according to the present embodiment once melts and hardens, the melting point rises, so that it is also effective for joining parts that require heat resistance. In this case, the temperature at which the Pb-free solder according to the present embodiment is first melted is the same as that of SnBi-based (Sn as a base material to which Bi is added) solder (about 220 ° C.). There is no loss of workability. Furthermore, since the first metal containing Sn and Bi can be used as a heat treatment for promoting the formation of the Ni-Sn phase, for example, a heat treatment step in the manufacturing process of the electronic circuit module component such as a molding step can be used. No additional heat treatment step is required. For this reason, workability is greatly improved. In addition, since the Pb-free solder according to the present embodiment uses relatively inexpensive metals such as Sn, Bi, Ni, and Fe, an increase in manufacturing cost of electronic circuit module components and the like can be suppressed.

さらに、本実施形態に係る電子回路モジュール部品1では、接合金属(硬化した第1はんだ6A)におけるNi−Sn相74の内部に穴部75が設けられていることで、Ni−Sn相74内にクラックが生じたとしても、クラックが空隙により形成された穴部75に到達することでその進行が抑制することが可能となる。したがって、電子回路モジュール部品としての耐久性が向上する。穴部75の直径が5μm以下であり、隣接する穴部75同士の中心距離が10μm以上である場合に、耐久性の向上効果は顕著となる。   Furthermore, in the electronic circuit module component 1 according to the present embodiment, the hole 75 is provided inside the Ni—Sn phase 74 in the bonding metal (cured first solder 6A), so that the inside of the Ni—Sn phase 74 is provided. Even if a crack occurs, the progress of the crack can be suppressed by reaching the hole 75 formed by the gap. Therefore, durability as an electronic circuit module component is improved. When the diameter of the hole 75 is 5 μm or less and the center distance between the adjacent holes 75 is 10 μm or more, the effect of improving the durability becomes remarkable.

また、接合金属がBi相72をさらに含む場合、Biの硬度は他の相よりも高いため、硬度が異なる領域が接合金属内に形成されることで、クラックの進行が抑制される。Bi相72の等価直径が3μm以下である場合、特にクラックの進行抑制効果が奏される。   Further, when the bonding metal further includes a Bi phase 72, the hardness of Bi is higher than that of the other phases. Therefore, the progress of cracks is suppressed by forming regions having different hardness in the bonding metal. When the equivalent diameter of the Bi phase 72 is 3 μm or less, the effect of suppressing the progress of cracks is particularly achieved.

また、接合金属の穴部75から中心距離が10μm以上離れた領域にNi−Fe相73が形成されている場合も、硬度が異なる領域が接合金属内に形成されることで、クラックの進行が抑制される。   Further, even when the Ni—Fe phase 73 is formed in a region having a center distance of 10 μm or more from the hole 75 of the bonding metal, a crack is progressed by forming a region having different hardness in the bonding metal. It is suppressed.

以上、本発明の実施形態に係るPbフリーはんだ及び電子回路モジュール部品について説明したが、本発明に係るPbフリーはんだ及び電子回路モジュール部品は、上記の構成に限定されるものではない。   The Pb-free solder and electronic circuit module component according to the embodiment of the present invention have been described above. However, the Pb-free solder and electronic circuit module component according to the present invention are not limited to the above configuration.

上記の実施形態では、PbフリーはんだとしてSnBi系のはんだを用いる場合について説明したが、上記の接合金属を含む電子回路モジュール部品の第1はんだとしては他の材料を用いることもできる。上記のように、リフローにおいて、電子回路モジュール部品内ではんだフラッシュ又ははんだの移動が発生するおそれを低減するためには、接合金属に用いられるPbフリーはんだにBiが添加されていればよく、Biの添加形態は、上記実施形態に限定されない。例えば、はんだ組成にBiを含める方法としては、Sn−Biはんだ(上記実施形態で説明した構成)又はSn−Ag−Biはんだを用いる方法が考えられる。一方、第2金属のように添加物としてBiを添加する方法としては、Ni−Bi組成やNi−3Bi組成の粒子として添加する方法が考えられる。いずれの場合でも、電子回路モジュール部品内の接合金属の融点が上昇し、耐久性が向上する。   In the above embodiment, the case where SnBi-based solder is used as the Pb-free solder has been described. However, other materials may be used as the first solder of the electronic circuit module component including the above-described joining metal. As described above, in reflow, in order to reduce the possibility that solder flash or solder movement occurs in the electronic circuit module component, it is sufficient that Bi is added to the Pb-free solder used for the joining metal. The addition form is not limited to the above embodiment. For example, as a method of including Bi in the solder composition, a method using Sn—Bi solder (configuration described in the above embodiment) or Sn—Ag—Bi solder can be considered. On the other hand, as a method of adding Bi as an additive as in the case of the second metal, a method of adding it as particles having a Ni-Bi composition or a Ni-3Bi composition is conceivable. In either case, the melting point of the bonding metal in the electronic circuit module component is increased, and the durability is improved.

以下、実施例及び比較例に基づき本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to a following example at all.

<実施例1>
実施例1に係るサンプル(電子回路モジュール部品)を、次のような手順で20個作成した。
(1)基板の端子電極に、SnBi系はんだ(Sn92.5質量%、Bi7.5質量%)に対して、Ni−Fe合金粒子(Feが10質量%、平均粒子径20μm)を総和に対して15質量%となるように添加したPbフリーはんだを含むはんだペーストを印刷した。
(2)実装装置を用いて電子部品としてチップ型抵抗素子を基板に載置した。
(3)電子部品が搭載された基板をリフロー炉に入れてはんだペーストを通常のリフロー工程(ピーク温度240℃、溶融1分)で加熱することにより、はんだペーストに含まれるPbフリーはんだを溶融して硬化させた。そして、硬化後のPbフリーはんだによって、電子部品の端子電極と基板の端子電極とを接合させた。
(4)電子部品及び基板の表面に付着したフラックスを洗浄した。
(5)絶縁樹脂で電子部品及び基板を覆った。電子部品及び基板を被覆する絶縁樹脂は、エポキシ樹脂にフィラー(例えば、本評価ではシリカフィラー)を添加したものを用いた。そして、絶縁樹脂で電子部品及び基板を覆うように塗布し、真空槽内で熱プレス硬化した。モールドポストキュア処理は175℃で4時間実施した。その結果、電子部品は、絶縁樹脂によって封止された。このような実施例1に係る電子回路モジュール部品を20個作成した。
<Example 1>
Twenty samples (electronic circuit module parts) according to Example 1 were prepared in the following procedure.
(1) Ni—Fe alloy particles (Fe 10 mass%, average particle diameter 20 μm) with respect to the sum of SnBi solder (Sn 92.5 mass%, Bi 7.5 mass%) on the terminal electrode of the substrate A solder paste containing Pb-free solder added so as to be 15% by mass was printed.
(2) A chip-type resistance element was placed on the substrate as an electronic component using the mounting apparatus.
(3) Pb-free solder contained in the solder paste is melted by placing the board on which the electronic component is mounted in a reflow furnace and heating the solder paste in a normal reflow process (peak temperature 240 ° C., melting 1 minute). And cured. And the terminal electrode of the electronic component and the terminal electrode of the board | substrate were joined by the Pb free solder after hardening.
(4) The flux adhering to the surface of the electronic component and the substrate was washed.
(5) The electronic component and the substrate were covered with an insulating resin. As the insulating resin covering the electronic component and the substrate, an epoxy resin added with a filler (for example, silica filler in this evaluation) was used. And it apply | coated so that an electronic component and a board | substrate might be covered with insulating resin, and it heat-press-cured in the vacuum chamber. The mold post cure treatment was performed at 175 ° C. for 4 hours. As a result, the electronic component was sealed with an insulating resin. Twenty electronic circuit module components according to Example 1 were prepared.

<実施例2>
実施例1に記載の製造方法において、Ni−Fe合金粒子の添加量を5質量%とした以外は実施例1と同条件にて、実施例2に係る電子回路モジュール部品を20個作成した。
<Example 2>
In the manufacturing method described in Example 1, 20 electronic circuit module components according to Example 2 were prepared under the same conditions as Example 1 except that the amount of Ni—Fe alloy particles added was 5 mass%.

<実施例3>
実施例1に記載の製造方法において、リフロー条件をピーク温度240℃、溶融2分とした以外は実施例1と同条件にて、実施例3に係る電子回路モジュール部品を20個作成した。
<Example 3>
In the manufacturing method described in Example 1, 20 electronic circuit module components according to Example 3 were created under the same conditions as Example 1 except that the reflow conditions were a peak temperature of 240 ° C. and a melting time of 2 minutes.

<実施例4>
実施例3に記載の製造方法において、Ni−Fe合金粒子の添加量を5質量%とした以外は実施例3と同条件にて、実施例4に係る電子回路モジュール部品を20個作成した。
<Example 4>
In the manufacturing method described in Example 3, 20 electronic circuit module components according to Example 4 were prepared under the same conditions as Example 3 except that the addition amount of Ni—Fe alloy particles was changed to 5% by mass.

<実施例5>
実施例1に記載の製造方法において、のNi−Fe合金粒子の粒子径を10μmとした以外は実施例1と同条件にて、実施例4に係る電子回路モジュール部品を20個作成した。
<Example 5>
In the manufacturing method described in Example 1, 20 electronic circuit module components according to Example 4 were produced under the same conditions as Example 1 except that the particle diameter of the Ni—Fe alloy particles was changed to 10 μm.

<実施例6>
実施例5に記載の製造方法において、Ni−Fe合金粒子の添加量を5質量%とした以外は実施例5と同条件にて、実施例6に係る電子回路モジュール部品を20個作成した。
<Example 6>
In the manufacturing method described in Example 5, 20 electronic circuit module components according to Example 6 were produced under the same conditions as Example 5 except that the addition amount of Ni—Fe alloy particles was changed to 5% by mass.

<実施例7>
実施例5に記載の製造方法において、リフロー条件をピーク温度240℃、溶融2分とした以外は実施例5と同条件にて、実施例7に係る電子回路モジュール部品を20個作成した。
<Example 7>
In the manufacturing method described in Example 5, 20 electronic circuit module components according to Example 7 were created under the same conditions as Example 5 except that the reflow conditions were a peak temperature of 240 ° C. and a melting time of 2 minutes.

<実施例8>
実施例7に記載の製造方法において、Ni−Fe合金粒子の添加量を5質量%とした以外は実施例7と同条件にて、実施例8に係る電子回路モジュール部品を20個作成した。
<Example 8>
In the manufacturing method described in Example 7, 20 electronic circuit module components according to Example 8 were created under the same conditions as Example 7 except that the amount of Ni—Fe alloy particles added was 5 mass%.

<実施例9>
SnBi系はんだに代えて、Sn系はんだにBi金属粒子を添加したものを用いたこと以外は実施例1と同条件にて、実施例9に係る電子回路モジュール部品を20個作成した。
<Example 9>
Twenty electronic circuit module components according to Example 9 were prepared under the same conditions as Example 1 except that Sn metal solder added with Bi metal particles was used instead of SnBi solder.

<実施例10>
SnBi系はんだに代えて、Sn系はんだにBi金属粒子を添加したものを用いたこと以外は実施例3と同条件にて、実施例10に係る電子回路モジュール部品を20個作成した。
<Example 10>
Twenty electronic circuit module components according to Example 10 were prepared under the same conditions as Example 3 except that Sn metal solder added with Bi metal particles was used instead of SnBi solder.

<比較例1>
実施例1に記載の製造方法において、さらに高温熱処理(200℃1時間)が加えられた以外は実施例1と同条件にて、比較例1に係る電子回路モジュール部品を20個作成した。
<Comparative Example 1>
In the manufacturing method described in Example 1, 20 electronic circuit module components according to Comparative Example 1 were produced under the same conditions as Example 1 except that high-temperature heat treatment (200 ° C. for 1 hour) was further added.

<比較例2>
実施例1に記載の製造方法において、Ni−Fe合金粒子の添加量を35質量%とした以外は実施例1と同条件にて、比較例2に係る電子回路モジュール部品を20個作成した。
<Comparative example 2>
In the manufacturing method described in Example 1, 20 electronic circuit module components according to Comparative Example 2 were produced under the same conditions as Example 1 except that the amount of Ni—Fe alloy particles added was 35 mass%.

上記の方法によって得られた電子回路モジュール部品について、接合金属の組織観察、耐熱性(はんだフラッシュ抑制)、及び、耐衝撃性(クラック抑制)について評価した。   The electronic circuit module component obtained by the above method was evaluated for the structure observation of the bonded metal, heat resistance (solder flash suppression), and impact resistance (crack suppression).

<評価方法:1.接合金属の組織観察>
電子回路モジュール部品の断面を走査型電子顕微鏡で観察して、穴部の大きさ(最大穴径)、穴部間の最小距離、Ni−Fe相がある場合Ni−Fe相の大きさ、Ni−Sn相の厚さ(Sn相と穴部間との距離)を測定した。
<Evaluation method: 1. Observation of bonding metal structure>
When the cross section of the electronic circuit module component is observed with a scanning electron microscope, the size of the hole (maximum hole diameter), the minimum distance between the holes, the size of the Ni-Fe phase when there is a Ni-Fe phase, Ni -The thickness of the Sn phase (the distance between the Sn phase and the hole) was measured.

<評価方法:2.耐熱性(はんだフラッシュ抑制)>
耐熱性(はんだフラッシュ)は次のようにして評価した。まず、評価に供するサンプル(電子回路モジュール部品)を260℃のリフロー炉に投入し、電子回路モジュール部品内の電子部品と基板との接合部におけるはんだの移動を観察した。接合部の接合金属(はんだ材料)が接合部以外に離散するような状況が観察された場合には×、離散していないが接合部の基板側との接合面が変化してしまったものは△、接合部の電子部品端子側の形状の変化が認められるものは○、接合部の接合面や形状が変化していないものは◎とした。
<Evaluation method: 2. Heat resistance (solder flash suppression)>
The heat resistance (solder flash) was evaluated as follows. First, a sample (electronic circuit module component) used for evaluation was placed in a reflow furnace at 260 ° C., and the movement of solder at the joint between the electronic component and the substrate in the electronic circuit module component was observed. When the situation where the joining metal (solder material) of the joint part is scattered apart from the joint part is observed, ×, but the part of the joint surface with the substrate side of the joint part has changed, although not discrete △, the case where the change in the shape of the electronic component terminal side of the joint portion is recognized is ◯, and the case where the joint surface or shape of the joint portion is not changed is marked ◎.

<評価方法:3.耐熱衝撃性(クラック抑制)>
耐熱衝撃性(クラック抑制)は、次のようにして評価した。まず、評価に供するサンプル(絶縁樹脂で電子部品及び基板が覆われていないもの)を−55℃及び125℃の環境下で30分ずつ交互に保持する熱衝撃試験機に投入し、500サイクル分放置した。その後、硬化後のはんだにより形成された接合部を観察して表面のクラック及び断面観察によるはんだクラックの進行度を確認して評価した。
<Evaluation method: 3. Thermal shock resistance (crack suppression)>
Thermal shock resistance (crack suppression) was evaluated as follows. First, a sample for evaluation (in which the electronic component and the substrate are not covered with insulating resin) is placed in a thermal shock tester that holds alternately for 30 minutes in an environment of −55 ° C. and 125 ° C. for 500 cycles. I left it alone. Then, the joint part formed with the solder after hardening was observed and the progress of the solder crack by surface crack and cross-sectional observation was confirmed and evaluated.

接合部にクラックが発生していないものは◎、クラックの発生が確認されたがその長さが接合部のはんだの厚みに対して1/3以下である場合は○、クラックの長さが接合部のはんだの厚みの1/3以上1/2以下である場合は△、クラックの長さが接合部のはんだの厚みの1/2以上の場合を×とした。   If no crack is generated at the joint, ◎, if crack is confirmed but the length is 1/3 or less of the solder thickness of the joint, the crack length is bonded. When the solder thickness was 1/3 or more and 1/2 or less of the solder part, Δ, and when the crack length was 1/2 or more of the solder thickness of the joint part, x.

<評価結果>
上記の評価の結果を表1に示す。耐熱性(はんだフラッシュ抑制)及び耐熱衝撃性(クラック抑制)の少なくとも1つが〇である場合、総合評価は〇とした。また、評価が△の項目が1つ以上ある場合、総合評価は△とした。両方の評価が◎である場合、総合評価は◎とした。
<Evaluation results>
The results of the above evaluation are shown in Table 1. When at least one of heat resistance (solder flash suppression) and thermal shock resistance (crack suppression) is ◯, the overall evaluation is ◯. In addition, when there are one or more items with an evaluation Δ, the overall evaluation is Δ. When both evaluations were ◎, the overall evaluation was ◎.

Figure 0006561453
Figure 0006561453

1…電子回路モジュール部品、2…電子部品、3…基板、4…絶縁樹脂、5…シールド層、6A…第1はんだ、6B…第2はんだ、61…第1金属、62…第2金属。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Electronic circuit module component, 2 ... Electronic component, 3 ... Board | substrate, 4 ... Insulating resin, 5 ... Shield layer, 6A ... 1st solder, 6B ... 2nd solder, 61 ... 1st metal, 62 ... 2nd metal.

Claims (4)

回路基板の端子電極上に、SnとBiの和は100質量%、または、90質量%以上であってその残りはAgまたはCuのうちの少なくとも一つからなり、Biが5質量%以上15質量%以下である第1金属粒子と、Feの割合が5質量%以上16質量%以下であるNi−Fe合金からなり、第1金属粒子と第2金属粒子との和に対して5質量%以上15質量%以下であるように添加される、平均粒子径が3μm以上50μm以下である第2金属粒子と、からなるPbフリーはんだを含むはんだペーストを印刷する工程と、
前記はんだペースト上に電子部品を載置する工程と、
前記はんだペーストをリフロー炉に入れて加熱して、前記回路基板の端子電極と前記電子部品の端子電極とを前記Pbフリーはんだが凝固した接合金属によって接合する工程と、
を有し、
前記接合金属は、Sn合金相の間に、少なくともFeを含むNi−Sn合金相が分散し、当該Ni−Sn合金相の内部に直径5μm以下の複数の穴部が形成されると共に隣接する前記穴部同士の中心距離が10μm以上である、電子回路モジュール部品の製造方法。
On the terminal electrodes of the circuit board, Sn and Bi 100 wt% the sum of, or the remainder I der least 90 wt% consists of at least one of Ag or Cu, Bi is 5 mass% or more 15 a first metal particles or less by mass%, the proportion of Fe is from 5 mass% to 16 mass% der Ru N i-Fe alloy, 5 with respect to the sum of the first metal particles and second metal particles wt% is added such that 15 mass% or more, and the second metal particles having an average particle diameter of 3μm or more 50μm or less, comprising the steps of printing a solder paste including Pb-free solder consisting of,
Placing an electronic component on the solder paste;
Heating the solder paste in a reflow furnace and bonding the terminal electrode of the circuit board and the terminal electrode of the electronic component with a bonding metal solidified by the Pb-free solder;
Have
In the bonding metal, a Ni—Sn alloy phase containing at least Fe is dispersed between Sn alloy phases, and a plurality of holes having a diameter of 5 μm or less are formed inside the Ni—Sn alloy phase and adjacent to each other. A method for manufacturing an electronic circuit module component, wherein a center distance between holes is 10 μm or more.
前記接合金属は、Bi合金相をさらに含む請求項1に記載の電子回路モジュール部品の製造方法。   The method for manufacturing an electronic circuit module component according to claim 1, wherein the bonding metal further includes a Bi alloy phase. 前記Bi合金相は、等価直径が3μm以下である請求項2に記載の電子回路モジュール部品の製造方法。   The electronic circuit module component manufacturing method according to claim 2, wherein the Bi alloy phase has an equivalent diameter of 3 μm or less. 前記穴部から中心距離が10μm以上離れた領域にNi−Fe合金相を含む請求項1〜3のいずれか一項に記載の電子回路モジュール部品の製造方法。   The manufacturing method of the electronic circuit module component as described in any one of Claims 1-3 which contains a Ni-Fe alloy phase in the area | region where the center distance is 10 micrometers or more from the said hole part.
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