JP6546136B2 - 高周波回路、および高周波装置 - Google Patents
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Description
次に、本発明の実施の形態について図1乃至図6を参照して詳細に説明する。
[構成の説明]
図1乃至図3に第1の実施形態の構成を示す。
[動作の説明]
次に本実施形態の動作の説明を図1乃至図6を参照して説明する。
(第1の実施形態の変形例)
図7、および図8は第1の実施形態の変形例の構成を示す図であり、誘電体基板11、および高周波増幅器30を上面から見た図である。
[第2の実施形態]
次に、第2の実施形態について図9を参照して説明する。
[構成の説明]
図9は本実施形態の構成例として、高周波回路90の誘電体基板91、および高周波増幅器30を上面方向から見た図である。
[動作の説明]
第1の実施形態のスタブ14と同様に、本実施形態のスタブ93も、図9の実線および点線の様に移動することが可能である。
[第3の実施形態]
次に、第3の実施形態について図10および図11を参照して説明する。
[構成の説明]
図10に示す第3の実施形態の高周波回路100では、スタブ101がマイクロストリップ線路12と接触している端部から離れるにつれて、スタブ101が誘電体基板11から離れる様に湾曲している。図11は、図10の手前方向からマイクロストリップ線路12の進行方向を見た図である。
[動作の説明]
本実施形態では、スタブ101が湾曲することによって、スタブ101と誘電体基板11との間に空間が生じる。そのため、スタブ下面の誘電率は、誘電体基板11の誘電率と空間の誘電率の合成された誘電率となる。一方、第1の実施形態の高周波回路100の様に、スタブ14の下面が誘電体基板11とほぼ密着している。そのため、本実施形態のスタブ下面の誘電率と第1の実施形態のスタブ14の下面の誘電率は異なる。その結果、本実施形態のスタブ101と第1の実施形態のスタブ14の位置変化とでは、高周波電流の周波数の感度変化は異なる。
[第4の実施形態]
次に第4の実施形態について図15を参照して説明する。
11 誘電体基板
12 マイクロストリップ線路
13 外部接続端
14 スタブ
15 支持体
16 支持棒
17 ばね
18 留め具
19 把持部
21 金属筐体
22 上部カバー
23 長穴
30 高周波増幅器
31 接続端子
71 スタブ
81 スタブ
90 高周波回路
91 誘電体基板
92 導体パターン群
93 スタブ
94 導体パターン
100 高周波回路
101 スタブ
102 支持体
121 マイクロストリップ線路
122 球状導体
123 高周波増幅器
131 接地導体
132 誘電体基板
133 マイクロストリップ線路
134 金属導体
135 空隙部
140 高周波回路
141 信号源
142 ミキサ
143 搬送波発信源
144 高周波増幅器
145 アンテナ
150 高周波回路
151 導体板
152 誘電体基板
153 マイクロストリップ線路
154 スタブ
155 支持体
Claims (10)
- 導体板と、
前記導体板の表面上に固定された誘電体基板と、
前記誘電体基板上に導体で形成されたマイクロストリップ線路と、
上下および前記マイクロストリップ線路に沿って移動可能な少なくとも1つの支持体と、
導体で形成され前記支持体の下部に固定され前記マイクロストリップ線路の表面に一部が接触可能なスタブとを備えることを特徴とする高周波回路。 - 前記支持体は前記ストリップ線路の表面に対して回転移動可能であることを特徴とする請求項1に記載の高周波回路。
- 前記誘電体基板と略平行な上部に板状で前記マイクロストリップ線路と平行な長穴を有する上部カバーと、
前記支持体の上部に固定され前記長穴を貫通する支持棒と、
前記支持棒の周囲を取り巻くつるまき状のばねと、
前記支持棒を貫通して自然長に対して縮められた前記ばねの上部に接触し、かつ前記上部カバーの下面と接触する留め具とを更に備えることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の高周波回路。 - 前記誘電体基板の表面に少なくとも1つの導体パターンを備え、
前記支持体を移動することで前記スタブが前記導体パターンと接触か非接触の何れかになることを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れかに記載の高周波回路。 - 前記スタブは前記マイクロストリップ線路の表面と接触する部分から遠ざかるにつれて前記誘電体基板の表面から離れることを特徴とする請求項1乃至請求項4に記載の高周波回路。
- 前記スタブは表面が長方形の板状であり、
前記長方形の短辺の一辺を含む部分が前記マイクロストリップ線路と接触することを特徴とする請求項1乃至請求項5に記載の高周波回路。 - 前記スタブは表面が長方形の板状であり、
前記長方形の2つの短辺以外の部分が前記マイクロストリップ線路と接触することを特徴とする請求項1乃至請求項5に記載の高周波回路。 - 前記スタブは表面が三角形の板状であり、
前記三角形の頂点の1つを含む部分が前記マイクロストリップ線路と接触することを特徴とする請求項1乃至請求項5に記載の高周波回路。 - 前記スタブは表面が扇形の板状であり、
前記扇形の頂点を含む部分が前記マイクロストリップ線路と接触することを特徴とする請求項1乃至請求項5に記載の高周波回路。 - 請求項1乃至請求項9の何れかに記載される少なくとも1つの高周波回路を備えることを特徴とする高周波装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2016169395A JP6546136B2 (ja) | 2016-08-31 | 2016-08-31 | 高周波回路、および高周波装置 |
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JP2018037847A JP2018037847A (ja) | 2018-03-08 |
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2016
- 2016-08-31 JP JP2016169395A patent/JP6546136B2/ja active Active
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