JP6539145B2 - Method of correcting interferometer periodic error and method of acquiring correction parameter - Google Patents

Method of correcting interferometer periodic error and method of acquiring correction parameter Download PDF

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Description

本発明は、干渉計周期誤差の補正方法および補正パラメータ取得方法に関し、レーザー干渉計の測定誤差の補正に関する。   The present invention relates to a method of correcting an interferometer cycle error and a method of acquiring a correction parameter, and relates to correcting a measurement error of a laser interferometer.

従来、レーザー干渉計を用いた高精度の寸法測定が多用されている。
半導体製造用のSi(シリコン)ウェハや高精度ミラー等、高い形状精度が求められる部品の検査には、フィゾー型やトワイマン・グリーン型などのレーザー干渉計が広く用いられている。
測定用の干渉計1は、図5に示すように、光源2、ビーム分割素子3、レンズ4、参照面5、位相シフタ6、撮像素子7で構成され、参照面5に近接して被検面8が配置されている。参照面5および被検面8は、それぞれ光源2の光軸Aに直交する表面とされている。
Conventionally, high-precision dimension measurement using a laser interferometer is often used.
Laser interferometers of the Fizeau type, Twyman-green type, etc. are widely used for the inspection of parts for which high shape accuracy is required, such as Si (silicon) wafers for semiconductor manufacturing and high-precision mirrors.
The interferometer 1 for measurement, as shown in FIG. 5, includes a light source 2, a beam splitting element 3, a lens 4, a reference surface 5, a phase shifter 6, and an imaging element 7. The face 8 is arranged. Each of the reference surface 5 and the test surface 8 is a surface orthogonal to the optical axis A of the light source 2.

光源2から出射された光は、ビーム分割素子3およびレンズ4を経て、参照面5に到達する。
参照面5に到達した光の一部は、参照面5で反射されて参照光となり、再びレンズ4およびビーム分割素子3を経て、撮像素子7に至る。
一方、参照面5に到達した光の他の一部は、参照面5を透過して被検面8に到達する。そして、被検面8で反射されて測定光となり、再び参照面5、レンズ4およびビーム分割素子3を経て、撮像素子7に至る。
ビーム分割素子3からの参照光および測定光は、撮像素子7において干渉画像を生じ、この干渉画像が撮像素子7によって検出される。
The light emitted from the light source 2 passes through the beam splitting element 3 and the lens 4 to reach the reference surface 5.
Part of the light reaching the reference surface 5 is reflected by the reference surface 5 to become reference light, passes through the lens 4 and the beam splitting element 3 again, and reaches the imaging element 7.
On the other hand, the other part of the light reaching the reference surface 5 passes through the reference surface 5 and reaches the test surface 8. Then, the light is reflected by the test surface 8 to be measurement light, passes through the reference surface 5, the lens 4 and the beam splitter 3 again, and reaches the image sensor 7.
The reference light and the measurement light from the beam splitting element 3 produce an interference image in the imaging element 7, and this interference image is detected by the imaging element 7.

干渉計1は、位相シフタ6によって参照光と測定光の相対位相を変化させ、異なる相対位相で取得した複数の干渉画像を解析することで、被検面の形状測定を行う。
位相シフタ6としては、光学素子(図5では参照面5)を光軸A方向に機械的に移動させるメカニカル位相シフト方式や、偏光を利用した偏光位相シフト方式(特許文献1参照)など、いくつかの方式が存在する.
The interferometer 1 changes the relative phase of the reference light and the measurement light by the phase shifter 6 and analyzes the plurality of interference images acquired at different relative phases to measure the shape of the test surface.
As the phase shifter 6, a mechanical phase shift method of mechanically moving an optical element (the reference surface 5 in FIG. 5) in the direction of the optical axis A, a polarization phase shift method using polarization (see Patent Document 1), etc. There are several methods.

前述のような位相シフタには、メカニカル位相シフト方式では移動量の校正誤差に起因して、また、偏光位相シフト方式では偏光素子の不完全性などに起因して、それぞれ何らかの誤差が存在する。
このような位相シフタの誤差(位相シフト誤差)は、干渉計による形状測定に影響を及ぼす非線形周期誤差となることが知られている。
図6において、横軸を被検面の形状の真値、縦軸を干渉計による測定結果とすると、理想値(破線)は真値に対応した直線状になるが、干渉計で測定される実際値(実線)は理想値に周期誤差が重畳したものとなる。
In the phase shifter as described above, some errors exist in the mechanical phase shift method due to the calibration error of the movement amount, and in the polarization phase shift method due to the imperfection of the polarizing element and the like.
It is known that the error (phase shift error) of such a phase shifter becomes a non-linear periodic error which affects the shape measurement by the interferometer.
In FIG. 6, assuming that the horizontal axis is the true value of the shape of the surface to be tested and the vertical axis is the measurement result by the interferometer, the ideal value (broken line) is linear corresponding to the true value, but is measured by the interferometer The actual value (solid line) is the ideal value on which the periodic error is superimposed.

このような周期誤差を補正するために、窓関数を用いた補正アルゴリズムが開発されている(非特許文献1)。
非特許文献1の手法では、位相をシフトさせながら取得した干渉画像の強度変化に、窓関数を適用することによって、周期誤差の影響を補正する。周期誤差に起因する強度変化は、本来の位相シフトによる強度変化とは異なる周波数成分を持つ。このため、窓関数の適用によって、その影響を低減することが可能である。
In order to correct such a periodic error, a correction algorithm using a window function has been developed (Non-Patent Document 1).
In the method of Non-Patent Document 1, the effect of periodic error is corrected by applying a window function to the intensity change of the interference image acquired while shifting the phase. The intensity change due to the periodic error has a frequency component different from the intensity change due to the original phase shift. For this reason, it is possible to reduce the influence by application of a window function.

米国特許第7230717号明細書U.S. Pat. No. 7,230,717 特開2002−013907号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-013907

Peter de Groot、「Derivation of algorithms for phase-shifting interferometry using the concept of a data-sampling window」、Applied Optics、アメリカ合衆国、Optical Society of America、1995年8月1日、第34巻第22号第4723−4730頁Peter de Groot, "Derivation of algorithms for phase-shifting interferometry using the concept of a data-sampling window", Applied Optics, Optical Society of America, USA, Aug. 1, 1995, Vol. 4730 pages

ところで、前述した窓関数による周期誤差低減手法は、一般に5枚以上の干渉画像を必要とする。
前述したメカニカル位相シフト方式の干渉計では、多数の干渉画像を容易に取得することが可能であるため、当該手法が広く用いられている。
しかし、偏光位相シフト方式の干渉計では、5枚以上の干渉画像を取得することは難しく、当該手法を用いて周期誤差の補正を実現することは難しいという問題がある。
By the way, the periodic error reduction method by the window function mentioned above generally requires five or more interference images.
The above-mentioned method is widely used in the above-mentioned mechanical phase shift interferometer because it is possible to easily obtain a large number of interference images.
However, in the polarization phase shift type interferometer, it is difficult to obtain five or more interference images, and there is a problem that it is difficult to realize correction of a periodic error using the method.

このような問題に対し、偏光位相シフト干渉計にも適用可能な、専用ステージを用いた干渉計の校正手法が提案されている(特許文献2参照)。
特許文献2の手法では、高精度圧電素子駆動ステージを使用した校正用位相シフタを用い、干渉計に組み込まれた位相シフタのステップ量の校正を高精度に行う。しかし、当該手法は、高価な校正用位相シフタと、安定な測定環境を必要とし、一般的に利用できないという問題があった。
With respect to such a problem, a calibration method of an interferometer using a dedicated stage that can be applied to a polarization phase shift interferometer has been proposed (see Patent Document 2).
In the method of Patent Document 2, calibration of the step amount of the phase shifter incorporated in the interferometer is performed with high accuracy using a calibration phase shifter using a high precision piezoelectric element drive stage. However, this method requires an expensive calibration phase shifter and a stable measurement environment, and has a problem that it can not be generally used.

本発明の目的は、多数の干渉画像あるいは高価な校正用位相シフタを用いずに、周期誤差を補正できる、干渉計周期誤差の補正方法および補正パラメータ取得方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a method of correcting an interferometer periodic error and a method of acquiring a correction parameter, which can correct a periodic error without using a large number of interference images or an expensive calibration phase shifter.

本発明の干渉計周期誤差の補正方法は、干渉計による測定対象物の測定結果における周期誤差を補正するために、前記干渉計について画素毎の補正パラメータを取得しておく補正パラメータ取得工程と、前記干渉計により前記測定対象物を測定する測定工程と、前記測定工程で得られた測定結果を前記補正パラメータで補正する補正工程と、を有する干渉計周期誤差の補正方法であって、前記補正パラメータ取得工程では、試料を前記干渉計の光軸に対する傾斜角度が異なる複数の姿勢で保持し、各姿勢での形状データを測定する予備測定工程と、前記予備測定工程で得られた複数の形状データのうち、いずれかを基準形状データとし、前記形状データの画素毎に、前記基準形状データと他の形状データとの差分を計算する差分計算工程と、前記画素毎の前記差分から、傾斜による位相変化と形状変化との対応関係を前記画素毎に記録して参照テーブルを作成する参照テーブル作成工程と、前記参照テーブルに記録された前記画素毎の前記対応関係を多項式近似し、その係数を前記画素毎の前記補正パラメータとして記録する補正パラメータ記録工程と、を行うことを特徴とする。   The method of correcting an interferometer periodic error according to the present invention comprises: acquiring a correction parameter for each pixel of the interferometer in order to correct a periodic error in a measurement result of an object to be measured by the interferometer; A method of correcting an interferometer periodic error, comprising: a measurement step of measuring the measurement object by the interferometer; and a correction step of correcting the measurement result obtained in the measurement step with the correction parameter, the correction In the parameter acquiring step, the sample is held in a plurality of postures at different inclination angles with respect to the optical axis of the interferometer, and a plurality of shapes obtained in the preliminary measurement step are preliminary measurement steps for measuring shape data in each orientation. Calculating a difference between the reference shape data and the other shape data for each pixel of the shape data, using any one of the data as the reference shape data; A reference table creating step of creating a reference table by recording, for each of the pixels, the correspondence between a phase change due to inclination and a shape change from the difference for each of the pixels, and the above for each of the pixels recorded in the reference table And a correction parameter recording step of polynomial approximation of the correspondence relationship and recording the coefficient as the correction parameter for each pixel.

このような本発明では、試料を傾斜させる操作によって、形状データの各画素に光軸方向の変位を生じさせることができる。そして、傾斜による位相変化と形状変化との対応関係を記録し、補正パラメータとして用いることで、周期誤差の補正を行うことができる。
従って、本発明では、光軸に沿って高精度に変位する従来の校正用位相シフタのような装置を用いる必要がなく、かつ窓関数を用いる補正方式のような多数の干渉画像を必要とせずに、周期誤差の補正を行うことができる。
In such an embodiment of the present invention, displacement of the optical axis direction can be generated in each pixel of the shape data by the operation of inclining the sample. Then, the correspondence between the phase change due to the inclination and the shape change is recorded and used as a correction parameter, whereby the cyclic error can be corrected.
Therefore, in the present invention, it is not necessary to use a device such as a conventional calibration phase shifter which is displaced with high accuracy along the optical axis, and it is not necessary to have a large number of interference images such as a correction method using a window function. In addition, periodic error correction can be performed.

本発明の干渉計周期誤差の補正方法において、前記補正パラメータ記録工程では、前記多項式近似として前記対応関係のフーリエ展開を行い、得られたフーリエ級数におけるフーリエ係数を前記画素毎の前記補正パラメータとして記録しておき、前記補正工程では、前記画素毎の前記補正パラメータで特定される前記フーリエ級数の逆フーリエ変換により前記画素毎の周期誤差を計算し、得られた前記周期誤差で前記測定結果を補正することが好ましい。   In the interferometer periodic error correction method of the present invention, in the correction parameter recording step, Fourier expansion of the correspondence relationship is performed as the polynomial approximation, and a Fourier coefficient in the obtained Fourier series is recorded as the correction parameter for each pixel. In the correction step, the periodic error for each pixel is calculated by the inverse Fourier transform of the Fourier series specified by the correction parameter for each pixel, and the measurement result is corrected with the obtained periodic error. It is preferable to do.

このような本発明では、画素毎の補正パラメータとしてフーリエ係数を記録するため、補正工程での周期誤差の計算が簡単かつ高精度に行えるとともに、パラメータの記録サイズも小さくできる。   In the present invention as described above, since the Fourier coefficient is recorded as the correction parameter for each pixel, the calculation of the periodic error in the correction process can be performed easily and accurately, and the recording size of the parameter can be reduced.

本発明の干渉計周期誤差の補正方法において、前記予備測定工程では、前記試料を保持部材で保持し、前記保持部材を前記干渉計の光路外にある回動軸まわりに回動させることにより、前記試料を複数の傾斜角度に保持することが好ましい。   In the interferometer cycle error correction method according to the present invention, in the preliminary measurement step, the sample is held by a holding member, and the holding member is rotated around a rotation axis outside the optical path of the interferometer. Preferably, the sample is held at a plurality of tilt angles.

このような本発明では、試料を保持する保持部材と、これを回動可能に保持する機構があれば、簡単に実施することができる。そして、回動軸を光路外に設定することで、全ての画素を確実に変位させることができる。   In the present invention as described above, if there is a holding member for holding the sample and a mechanism for holding the sample in a rotatable manner, it can be easily implemented. Then, all the pixels can be reliably displaced by setting the rotation axis out of the optical path.

本発明の干渉計周期誤差の補正パラメータ取得方法は、干渉計による測定対象物の測定結果における周期誤差を補正するための、画素毎の補正パラメータを取得する干渉計周期誤差の補正パラメータ取得方法であって、試料を前記干渉計の光軸に対する傾斜角度が異なる複数の姿勢で保持し、各姿勢での形状データを測定する予備測定工程と、前記予備測定工程で得られた複数の形状データのうち、いずれかを基準形状データとし、前記形状データの画素毎に、前記基準形状データと他の形状データとの差分を計算する差分計算工程と、前記画素毎の前記差分から、傾斜による位相変化と形状変化との対応関係を前記画素毎に記録して参照テーブルを作成する参照テーブル作成工程と、前記参照テーブルに記録された前記画素毎の前記対応関係を多項式近似し、その係数を前記画素毎の前記補正パラメータとして記録する補正パラメータ記録工程と、を行うことを特徴とする。   An interferometer cycle error correction parameter acquisition method according to the present invention is an interferometer cycle error correction parameter acquisition method for acquiring a correction parameter for each pixel for correcting a cycle error in a measurement result of a measurement object by an interferometer. A preliminary measurement step of holding the sample in a plurality of postures at different tilt angles with respect to the optical axis of the interferometer and measuring shape data in each posture; and a plurality of shape data obtained in the preliminary measurement step Among them, any one of them is used as reference shape data, and a difference calculation step of calculating the difference between the reference shape data and other shape data for each pixel of the shape data, and phase change due to inclination from the difference for each pixel A reference table creating step of creating a reference table by recording the correspondence between each of the pixels and the shape change for each pixel, and the correspondence between the pixels recorded in the reference table The polynomial approximation, to the correction parameter recording process of recording the coefficient as the correction parameter for each of the pixels, and performing.

このような本発明では、前述した本発明の干渉計周期誤差の補正方法で説明した効果を同様に得ることができる。   In the present invention as described above, the effects described in the above-described method for correcting an interferometer periodic error of the present invention can be obtained similarly.

本発明によれば、多数の干渉画像あるいは高価な校正用位相シフタを用いずに、周期誤差を補正できる、干渉計周期誤差の補正方法および補正パラメータ取得方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide an interferometer cycle error correction method and a correction parameter acquisition method that can correct a cycle error without using a large number of interference images or expensive calibration phase shifters.

本発明の一実施形態の干渉計を示す模式図。FIG. 1 is a schematic view showing an interferometer according to an embodiment of the present invention. 前記実施形態の試料および予備測定工程の動作を示す模式図。The schematic diagram which shows operation | movement of the sample of the said embodiment, and a preparatory measurement process. 前記実施形態における周期誤差の補正手順を示すフローチャート。The flowchart which shows the correction procedure of the periodic error in the said embodiment. 前記実施形態における補正パラメータ取得工程を示すフローチャート。The flowchart which shows the correction parameter acquisition process in the said embodiment. 従来の干渉計および位相シフタを示す模式図。The schematic diagram which shows the conventional interferometer and phase shifter. 従来の干渉計に発生する周期誤差を示すグラフ。The graph which shows the period error which generate | occur | produces in the conventional interferometer.

以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。
〔装置構成〕
図1において、干渉計10は、光源12、ビーム分割素子13、レンズ14、参照面15、撮像素子17を有し、参照面15に近接して被検面18が配置されている。参照面15および被検面18は、それぞれ光源12の光軸Aに直交する表面とされている。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described based on the drawings.
〔Device configuration〕
In FIG. 1, the interferometer 10 includes a light source 12, a beam splitting element 13, a lens 14, a reference surface 15, and an imaging device 17, and a test surface 18 is disposed in the vicinity of the reference surface 15. Each of the reference surface 15 and the test surface 18 is a surface orthogonal to the optical axis A of the light source 12.

このような干渉計10において、光源12から出射された光は、ビーム分割素子13およびレンズ14を経て、参照面15に到達する。
参照面15に到達した光の一部は、参照面15で反射されて参照光となり、再びレンズ14およびビーム分割素子13を経て、撮像素子17に至る。
In such an interferometer 10, the light emitted from the light source 12 passes through the beam splitting element 13 and the lens 14 to reach the reference surface 15.
Part of the light reaching the reference surface 15 is reflected by the reference surface 15 to become reference light, passes through the lens 14 and the beam splitting element 13 again, and reaches the imaging element 17.

参照面15に到達した光の他の一部は、参照面15を透過して被検面18に到達する。そして、被検面18で反射されて測定光となり、再び参照面15、レンズ14およびビーム分割素子13を経て、撮像素子17に至る。
ビーム分割素子13からの参照光および測定光は、撮像素子17において干渉画像を生じ、この干渉画像が撮像素子17によって検出される。
The other part of the light reaching the reference surface 15 passes through the reference surface 15 to reach the test surface 18. Then, the light is reflected by the test surface 18 to be measurement light, passes through the reference surface 15, the lens 14 and the beam splitter 13 again, and reaches the image sensor 17.
The reference light and the measurement light from the beam splitting element 13 produce an interference image in the imaging element 17, and this interference image is detected by the imaging element 17.

このような干渉計10を用いて測定対象物の表面形状を測定する際には、測定対象物が被検面18として配置される。
一方、干渉計10の周期誤差を本発明に基づいて補正する場合、補正パラメータを取得するため、被検面18には試料19が配置される。
When measuring the surface shape of the measurement object using such an interferometer 10, the measurement object is disposed as the test surface 18.
On the other hand, when the periodic error of the interferometer 10 is corrected based on the present invention, the sample 19 is disposed on the test surface 18 in order to obtain the correction parameter.

試料19を保持するために、被検面18の配置位置には保持部材20が設置されている。
保持部材20は、例えばアーム状に形成され、先端に試料19を着脱することができる。保持部材20は、試料19が装着される側とは反対側の端部を、回動軸21まわりに回動可能に支持されている。
In order to hold the sample 19, a holding member 20 is installed at an arrangement position of the test surface 18.
The holding member 20 is formed, for example, in an arm shape, and the sample 19 can be attached to and detached from the tip. The holding member 20 is rotatably supported at its end on the side opposite to the side on which the sample 19 is mounted, around the rotation axis 21.

回動軸21は、被検面18の領域の外側で、被検面18と平行に配置されている。本実施形態において、回動軸21は、図1の図面直交方向に延びている。
そして、保持部材20および試料19は、回動軸21まわりに回動することで、図1の実線の状態から、一点鎖線で示す状態まで移動可能である。
なお、回動軸21は、具体的な軸部材でもよいし、仮想的な軸線であってもよい。
The pivot shaft 21 is disposed in parallel with the test surface 18 outside the area of the test surface 18. In the present embodiment, the pivot shaft 21 extends in the direction perpendicular to the drawing of FIG.
The holding member 20 and the sample 19 can be moved from the state shown by the solid line in FIG. 1 to the state shown by the alternate long and short dash line by rotating around the rotation axis 21.
The pivot shaft 21 may be a specific shaft member or a virtual axis.

回動軸21を中心とした保持部材20の角度位置(傾斜角度θ)を検出するために、角度検出器22が設置されている。
保持部材20を回動させるために、保持部材20またはこれに保持された試料19を、回動軸21を中心とした周方向に駆動する駆動装置23を設けてもよい。なお、保持部材20の駆動は、作業者が行ってもよい。
An angle detector 22 is provided to detect the angular position (inclination angle θ) of the holding member 20 around the pivot shaft 21.
In order to turn the holding member 20, a driving device 23 may be provided which drives the holding member 20 or the sample 19 held by the holding member 20 in the circumferential direction around the turning shaft 21. In addition, a worker may drive the holding member 20.

保持部材20を駆動する際には、試料19を挟んで回動軸21とは反対側を駆動することが望ましい。つまり、回動中心である回動軸21から駆動する位置までの距離(半径)が、回動軸21から試料19(被検面18)までの距離よりも大きく、より外周側で駆動することが望ましい。このような配置により、周方向の駆動変位量に比べて、被検面18上での周方向の変位を小さくすることができ、被検面18により微小な変位を生じさせることができる。   When driving the holding member 20, it is desirable to drive the opposite side of the rotational axis 21 with the sample 19 interposed therebetween. That is, the distance (radius) from the rotation axis 21 which is the rotation center to the position to be driven is larger than the distance from the rotation axis 21 to the sample 19 (surface to be detected 18) and driven on the outer periphery side Is desirable. With such an arrangement, the circumferential displacement on the test surface 18 can be made smaller than the amount of drive displacement in the circumferential direction, and a slight displacement can be generated by the test surface 18.

図2において、保持部材20および試料19が、回動軸21まわりに回動すると、被検面18つまり試料19の参照面15側の表面も回動し、参照面15に対して近接する。被検面18の任意の画素Pについては、この回動によって光軸A方向に変位ΔLだけ変位する。この変位ΔLは、参照面15と実線で示す被検面18との距離Lに対して十分小さい値とされる。   In FIG. 2, when the holding member 20 and the sample 19 rotate around the rotation axis 21, the surface to be inspected 18, that is, the surface on the reference surface 15 side of the sample 19 also rotates and approaches the reference surface 15. The arbitrary pixel P of the surface 18 to be detected is displaced by the displacement ΔL in the optical axis A direction by this rotation. The displacement ΔL is a sufficiently small value with respect to the distance L between the reference surface 15 and the test surface 18 indicated by a solid line.

〔補正方法〕
次に、干渉計10の周期誤差を本発明に基づいて補正する手順について説明する。
図3において、干渉計10の周期誤差の補正は、予め干渉計10について画素毎の補正パラメータを取得しておき(処理S31:補正パラメータ取得工程)、この後、実際に測定すべき測定対象物を設置し(処理S32)、干渉計10により測定対象物の形状測定を行い(処理S33:測定工程)、得られた測定結果を先に取得しておいた補正パラメータで補正する(処理S34:補正工程)、という手順を含む。
Correction method
Next, a procedure for correcting the periodic error of the interferometer 10 according to the present invention will be described.
In FIG. 3, for correction of the periodic error of the interferometer 10, a correction parameter for each pixel is previously obtained for the interferometer 10 (process S31: correction parameter acquisition step), and after this, the measurement object to be actually measured (Process S32), the shape of the object to be measured is measured by the interferometer 10 (Process S33: Measurement process), and the obtained measurement result is corrected with the previously acquired correction parameter (Process S34: Correction step).

なお、本実施形態において、基準位置とは、図1において被検面18あるいは試料19が実線の状態にある位置をいい、一点鎖線で示す位置との間には、図示しないが複数の傾斜角度θ(θ=θ1〜θn)の姿勢が設定される。
各傾斜姿勢においては、試料19および被検面18は基準位置に対して傾斜角度θだけ回動している。つまり、各傾斜姿勢において、試料19および被検面18と光軸Aとの角度は(π/4−θ)である。
In the present embodiment, the reference position refers to a position where the test surface 18 or the sample 19 is in a solid line in FIG. 1, and a plurality of inclination angles (not shown) The posture of θ (θ = θ1 to θn) is set.
In each inclined posture, the sample 19 and the test surface 18 are rotated by the inclination angle θ with respect to the reference position. That is, in each inclined posture, the angle between the sample 19 and the test surface 18 and the optical axis A is (π / 4−θ).

〔補正パラメータ取得工程の概要〕
図3の処理S31の補正パラメータ取得工程は、図4に示す各手順(処理S41〜S40)により実施される。
図4において、補正パラメータの取得にあたっては、先ず、試料19(図1および図2参照)を保持部材20に装着し、基準姿勢(図1および図2で実線の状態)に保持する(処理S41)。そして、この基準姿勢における試料19の被検面18を、干渉計10で形状測定する(処理S42)。
[Overview of Correction Parameter Acquisition Process]
The correction parameter acquisition process of process S31 of FIG. 3 is performed by each procedure (processes S41 to S40) shown in FIG.
In FIG. 4, first, the sample 19 (see FIG. 1 and FIG. 2) is attached to the holding member 20 and acquired in the reference posture (state of solid line in FIG. 1 and FIG. 2). ). Then, the shape of the test surface 18 of the sample 19 in this reference posture is measured by the interferometer 10 (processing S42).

次に、試料19および保持部材20を回動させて傾斜角度θを変更し(処理S43)、この姿勢で試料19の被検面18を、干渉計10で形状測定する(処理S44)。
このような傾斜姿勢での形状測定(処理S43〜S44)を、複数回(本実施形態では3回)になるまで繰り返す(処理S45)。
Next, the sample 19 and the holding member 20 are rotated to change the inclination angle θ (process S43), and the shape of the test surface 18 of the sample 19 in this posture is measured by the interferometer 10 (process S44).
The shape measurement (processes S43 to S44) in such an inclined posture is repeated a plurality of times (three times in the present embodiment) (process S45).

以上の処理S41〜S45により、基準姿勢を含めて計4回の形状測定が行われ、4セット(基準姿勢の形状データが1セットおよび傾斜姿勢での形状データが3セット)の形状データが得られる。
これらの処理S41〜S45により、本発明の予備測定工程が構成される。
By the above processing S41 to S45, shape measurement of a total of four times including the reference posture is performed, and shape data of four sets (one set of shape data of the reference posture and three sets of shape data in the inclined posture) is obtained Be
The preliminary measurement process of the present invention is configured by these processes S41 to S45.

予備測定工程においては、図2のように、試料19が参照面15に対して傾斜角度θの姿勢にあるとき、試料19の被検面18で反射された測定光と参照面15で反射された参照光との間には次式(1)のような相対的な位相差が発生する。   In the preliminary measurement step, as shown in FIG. 2, when the sample 19 is in the posture with the inclination angle θ with respect to the reference surface 15, the measurement light reflected by the test surface 18 of the sample 19 is reflected by the reference surface 15. A relative phase difference as shown in the following equation (1) occurs between the reference light and the reference light.

Figure 0006539145
Figure 0006539145

ここで、試料19の被検面18がxy平面上に拡がっており、回動軸21がy軸に沿って延びており、回動軸21から画素Pまでの距離をxとすると、傾斜姿勢にある試料19の形状測定の結果は、次式(2)の位相値φmeasで表される。 Here, when the test surface 18 of the sample 19 is spread on the xy plane, the rotational axis 21 extends along the y axis, and the distance from the rotational axis 21 to the pixel P is x, the inclined attitude is The result of the shape measurement of the sample 19 in FIG. 2 is represented by the phase value φ meas of the following equation (2).

Figure 0006539145
Figure 0006539145

ここで、右辺の3項については次の通りである。   Here, the three terms on the right side are as follows.

Figure 0006539145
Figure 0006539145

Figure 0006539145
Figure 0006539145

Figure 0006539145
Figure 0006539145

傾斜角度θは、測定した形状データの最小二乗平面を計算することで正確に知ることができる。
このようにして、式(1)の位相差と、式(2)の形状測定結果とを画素毎に測定し、全画素について記録することで、ひとつの姿勢における形状データが測定できる。
そして、同様な形状データの測定を、3つの傾斜姿勢および基準姿勢の各々において実施することで、予備測定工程としての複数の形状データを得ることができる。
The inclination angle θ can be accurately known by calculating the least square plane of the measured shape data.
In this manner, shape data in one posture can be measured by measuring the phase difference of equation (1) and the shape measurement result of equation (2) for each pixel and recording for all pixels.
Then, by performing measurement of similar shape data in each of the three inclined postures and the reference posture, a plurality of shape data as a preliminary measurement process can be obtained.

複数の形状データが得られたら、基準姿勢の形状データにおいて注目画素を順次選択し(処理S46)、他の形状データとの画素毎の差分の計算(処理S47:差分計算工程)および参照テーブルの作成(処理S48:参照テーブル作成工程)を行い、これらの処理S46〜S48を全画素について繰り返す(処理S49)。   When a plurality of shape data are obtained, the target pixel is sequentially selected in the shape data of the reference posture (processing S46), and calculation of the difference for each pixel with other shape data (processing S47: difference calculation step) and reference table The creation (process S48: reference table creation process) is performed, and the processes S46 to S48 are repeated for all the pixels (process S49).

〔差分計算工程:処理S47〕
差分計算工程では、予備測定工程(処理S41〜S45)で得られた4セットの形状データに対して、基準形状データにおける画素毎に、基準形状データと他の3セットの形状データとの差分(画素毎に3セット)を計算する。
[Difference calculation step: processing S47]
In the difference calculation step, with respect to the four sets of shape data obtained in the preliminary measurement step (processing S41 to S45), the difference between the reference shape data and the other three sets of shape data for each pixel in the reference shape data ( Calculate 3 sets per pixel.

基準形状データの傾斜角度θ、差分をとる他の形状データの傾斜角度θとして、この形状データの基準形状データに対する差分をとると、次式(6)となる。 The inclination angle θ 1 of the reference shape data and the inclination angle θ 2 of the other shape data which takes a difference can be expressed by the following equation (6) when the difference with respect to the reference shape data of the shape data is taken.

Figure 0006539145
Figure 0006539145

この式(6)では、注目している画素に関する位置x,yは式中で同じであるので、表示を省略している。
この式(6)のうち、右辺のφtiltを含む第2項は傾斜の変化によって与えられた位相変化であり、測定結果の最小二乗平面の差分から計算可能である。
従って、以上の計算により、測定結果から傾き成分と、形状に由来する成分とを除去することで、周期誤差成分のみを抽出することができ、これを補正することが可能となる。
In the equation (6), the display is omitted because the positions x and y related to the pixel of interest are the same in the equation.
In the equation (6), the second term including φ tilt on the right side is the phase change given by the change of tilt, and can be calculated from the difference of the least square plane of the measurement result.
Therefore, by removing the inclination component and the component derived from the shape from the measurement result by the above calculation, only the periodic error component can be extracted, and this can be corrected.

〔参照テーブル作成工程:処理S48〕
参照テーブル作成工程では、差分計算工程(処理S47)で得られた画素毎の差分から、傾斜による位相変化と形状変化との対応関係(画素毎に3セット)を計算し、その結果を画素毎に記録して参照テーブルを作成する。
[Reference table creation process: process S48]
In the reference table creation step, the correspondence relationship (3 sets for each pixel) between the phase change due to inclination and the shape change is calculated from the difference for each pixel obtained in the difference calculation step (processing S47), and the result is calculated for each pixel Record in and create a reference table.

参照テーブルとしては、例えば、横軸に傾斜による位相変化を配置し、縦軸に周期誤差による試料19の形状変化を配置することにより、各々の対応関係を記録する。
傾斜による位相変化および形状変化としては、次の式(7)および式(8)を用いる。各式において、角度θは基準姿勢の傾斜角度、角度θは差分をとった傾斜姿勢の傾斜角度であり、式(8)では式(1)により角度θを位相値φに変換している。
As the reference table, for example, the phase change due to the inclination is arranged on the horizontal axis, and the shape change of the sample 19 due to the periodic error is arranged on the vertical axis, thereby recording the respective correspondences.
The following equations (7) and (8) are used as phase change and shape change due to inclination. In each equation, the angle θ 1 is the inclination angle of the reference attitude, and the angle θ is the inclination angle of the inclination attitude obtained by the difference. In the equation (8), the angle θ is converted to the phase value φ by the equation (1) .

Figure 0006539145
Figure 0006539145

Figure 0006539145
Figure 0006539145

〔補正パラメータ記録工程:処理S40〕
補正パラメータ記録工程では、参照テーブルに記録された画素毎の対応関係を多項式近似し、その係数を画素毎の補正パラメータとして記録する。
本実施形態では、多項式近似として任意の近似次数nmaxまでのフーリエ級数展開を用いる。
[Correction parameter recording step: processing S40]
In the correction parameter recording step, the correspondence relationship for each pixel recorded in the reference table is polynomial-approximated, and the coefficient is recorded as a correction parameter for each pixel.
In this embodiment, Fourier series expansion up to an arbitrary approximation order n max is used as a polynomial approximation.

参照テーブルに記録された式(8)は、近似次数nmaxまでのフーリエ級数展開により、次式(9)と近似される。 The equation (8) recorded in the reference table is approximated by the following equation (9) by the Fourier series expansion up to the approximation order n max .

Figure 0006539145
Figure 0006539145

式(9)が得られたら、そのフーリエ係数cn,dnを、画素毎の補正パラメータとして、画素ごとに記録する。
以上により、画素毎の補正パラメータを取得することができる。
When equation (9) is obtained, the Fourier coefficients cn and dn are recorded for each pixel as a correction parameter for each pixel.
Thus, the correction parameter for each pixel can be acquired.

〔測定対象物の誤差補正:処理S32〜S34〕
図3に戻って、干渉計10についての画素毎の補正パラメータの取得(処理S31:補正パラメータ取得工程)ができたら、測定対象物に対する実際の補正処理が実行可能となる。
[Error correction of measurement object: processing S32 to S34]
Returning to FIG. 3, when acquisition of the correction parameter for each pixel for the interferometer 10 (process S31: correction parameter acquisition step) is performed, actual correction processing on the measurement object can be performed.

干渉計10の周期誤差の補正は、前述したように、実際に測定すべき測定対象物を設置し(処理S32)、干渉計10により測定対象物の形状測定を行い(処理S33:測定工程)、得られた測定結果を先に取得しておいた補正パラメータで補正する(処理S34:補正工程)、という処理により行われる。   The correction of the periodic error of the interferometer 10 is, as described above, placing the measuring object to be actually measured (processing S32), and measuring the shape of the measuring object by the interferometer 10 (processing S33: measuring step) The process of correcting the obtained measurement result with the previously acquired correction parameter is performed (process S34: correction process).

すなわち、処理S32〜S33での測定対象物の形状測定が行われる。
この形状測定の結果得られる位相値φmeasは、試料形状の位相値φ、傾斜による位相変化φtilt、周期誤差δφの和として次式(10)で表される。
That is, the shape measurement of the measurement object in the processes S32 to S33 is performed.
The phase value φ meas obtained as a result of this shape measurement is expressed by the following equation (10) as the sum of the phase value φ of the sample shape, the phase change φ tilt due to inclination, and the periodic error δ φ.

Figure 0006539145
Figure 0006539145

このうち、試料19の表面形状(被検面18の形状)として最終的に求めたい値は、試料19に由来する位相値φである。他の成分のうち、傾斜による位相変化φtiltについては、最小二乗平面から知ることができる。周期誤差δφについては、関数形状は、式(9)で得たフーリエ級数の逆フーリエ変換を行うことで計算できる。
従って、測定対象物の形状測定(処理S32〜S33)の後、補正工程(処理S34)により、その結果の位相値φmeasから式(10)を用いて位相値φを求めることにより、測定対象物の表面(被検面18)の周期誤差δφを含まない真値を得ることができる。
Among these values, the value to be finally obtained as the surface shape of the sample 19 (the shape of the test surface 18) is a phase value φ derived from the sample 19. Among other components, the phase change φ tilt due to the tilt can be known from the least square plane. The periodic error δφ can be calculated by performing the inverse Fourier transform of the Fourier series obtained by Equation (9).
Therefore, after the shape measurement of the object to be measured (processing S32 to S33), in the correction step (processing S34), the phase value φ is obtained from the phase value φ meas of the result using equation (10). It is possible to obtain a true value not including the periodic error δφ of the surface of the object (the test surface 18).

このような本実施形態によれば、試料19を傾斜させる操作によって、形状データの各画素に光軸方向の変位を生じさせることができる。そして、傾斜による位相変化φtiltと形状変化ΔΦとの対応関係を記録し、補正パラメータとして用いることで、周期誤差δφの補正を行うことができる。
従って、本実施形態では、光軸Aに沿って高精度に変位する従来の校正用位相シフタのような装置を用いる必要がなく、かつ窓関数を用いる補正方式のような多数の干渉画像を必要とせずに、周期誤差δφの補正を行うことができる。
According to such an embodiment, it is possible to cause displacement of each pixel of shape data in the optical axis direction by the operation of inclining the sample 19. Then, the correspondence between the phase change φ tilt due to the tilt and the shape change Δ に よ る is recorded and used as a correction parameter, whereby the periodic error δφ can be corrected.
Therefore, in the present embodiment, it is not necessary to use a device such as a conventional calibration phase shifter displaced with high accuracy along the optical axis A, and a large number of interference images such as a correction method using a window function are required. It is possible to correct the periodic error δφ without taking it.

また、本実施形態では、画素毎の補正パラメータとしてフーリエ係数cn,dnを記録するため、補正工程での周期誤差の計算が簡単かつ高精度に行えるとともに、パラメータの記録サイズも小さくできる。
さらに、本実施形態では、試料19を保持する保持部材20と、これを回動可能に保持する機構があれば、簡単に実施することができる。
そして、回動軸21を光路外に設定することで、全ての画素を確実に変位させることができる。
Further, in the present embodiment, since the Fourier coefficients cn and dn are recorded as the correction parameters for each pixel, the calculation of the periodic error in the correction process can be performed easily and accurately, and the recording size of the parameters can be reduced.
Furthermore, in the present embodiment, if there is the holding member 20 for holding the sample 19 and the mechanism for holding the sample rotatably, this can be easily implemented.
Then, all the pixels can be reliably displaced by setting the rotation axis 21 out of the light path.

なお、本発明は前述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形等は本発明に含まれる。
例えば、前記実施形態では、予備測定工程において3回の回動動作を行い、基準姿勢の形状データを1セット、傾斜姿勢での形状データを3セット測定したが、回動動作の回数および使用する形状データのセットの数は適宜変更してよい。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and modifications and the like within the scope in which the object of the present invention can be achieved are included in the present invention.
For example, in the embodiment, three rotation operations are performed in the preliminary measurement step, one set of shape data of the reference posture is measured, and three sets of shape data in the inclined posture are measured. The number of sets of shape data may be changed as appropriate.

また、前記実施形態では、基準形状データを、図1の実線で示される基準姿勢(光軸Aと直交)で測定するものとし、傾斜姿勢での他の形状データと差分をとったが、傾斜角度が異なる複数の傾斜姿勢で形状データを測定しておき、後で何れかを基準形状データとして選択し、他の形状データとの差分をとってもよい。   In the above embodiment, the reference shape data is measured in the reference posture (orthogonal to the optical axis A) shown by the solid line in FIG. 1, and the difference with the other shape data in the inclined posture is taken. Shape data may be measured in a plurality of inclined postures with different angles, and any one of them may be selected as reference shape data later, and the difference with other shape data may be taken.

さらに、補正パラメータ記録工程における多項式近似としては、フーリエ級数展開のような三角多項式近似に限らず、最小二乗法など他の近似手法を用いてもよい。   Furthermore, the polynomial approximation in the correction parameter recording step is not limited to the triangular polynomial approximation such as the Fourier series expansion, and other approximation methods such as the least square method may be used.

本発明は、干渉計周期誤差の補正方法および補正パラメータ取得方法に関し、レーザー干渉計の測定誤差の補正に利用できる。   The present invention relates to a method of correcting an interferometer cycle error and a method of acquiring a correction parameter, which can be used to correct a measurement error of a laser interferometer.

1…干渉計、10…干渉計、12…光源、13…ビーム分割素子、14…レンズ、15…参照面、17…撮像素子、18…被検面、19…試料、2…光源、20…保持部材、21…回動軸、22…角度検出器、23…駆動装置、3…ビーム分割素子、4…レンズ、5…参照面、6…位相シフタ、7…撮像素子、8…被検面、A…光軸、cn,dn…フーリエ係数、L…距離、nmax…近似次数、P…画素、ΔL…傾斜による変位、ΔΦ…形状変化、δφ…周期誤差、θ…傾斜角度、θ1…傾斜角度、θ2…傾斜角度、φ…表面形状を示す位相値、φmeas…測定された位相値、φtilt…傾斜による位相変化。




DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Interferometer, 10 ... Interferometer, 12 ... Light source, 13 ... Beam division element, 14 ... Lens, 15 ... Reference surface, 17 ... Image sensor, 18 ... Test surface, 19 ... Sample, 2 ... Light source, 20 ... Holding member, 21: rotation axis, 22: angle detector, 23: drive device, 3: beam splitting element, 4: lens, 5: reference surface, 6: phase shifter, 7: imaging device, 8: test surface , A: optical axis, cn, dn: Fourier coefficient, L: distance, nmax : approximate order, P: pixel, ΔL: displacement due to inclination, ΔΦ: shape change, δφ: periodic error, θ: inclination angle, θ1: Tilt angle, θ 2 ... tilt angle, φ ... phase value indicating surface shape, φ meas ... measured phase value, φ tilt ... phase change due to tilt .




Claims (4)

干渉計による測定対象物の測定結果における周期誤差を補正するために、前記干渉計について画素毎の補正パラメータを取得しておく補正パラメータ取得工程と、前記干渉計により前記測定対象物を測定する測定工程と、前記測定工程で得られた測定結果を前記補正パラメータで補正する補正工程と、を有する干渉計周期誤差の補正方法であって、
前記補正パラメータ取得工程では、
試料を前記干渉計の光軸に対する傾斜角度が異なる複数の姿勢で保持し、各姿勢での形状データを測定する予備測定工程と、
前記予備測定工程で得られた複数の形状データのうち、いずれかを基準形状データとし、前記形状データの画素毎に、前記基準形状データと他の形状データとの差分を計算する差分計算工程と、
前記画素毎の前記差分から、傾斜による位相変化と形状変化との対応関係を前記画素毎に記録して参照テーブルを作成する参照テーブル作成工程と、
前記参照テーブルに記録された前記画素毎の前記対応関係を多項式近似し、その係数を前記画素毎の前記補正パラメータとして記録する補正パラメータ記録工程と、を行うことを特徴とする干渉計周期誤差の補正方法。
In order to correct a periodic error in the measurement result of the measurement object by the interferometer, a correction parameter acquisition step of acquiring a correction parameter for each pixel of the interferometer, and a measurement of measuring the measurement object by the interferometer A method for correcting an interferometer periodic error, comprising: a process; and a correction process for correcting the measurement result obtained in the measurement process with the correction parameter,
In the correction parameter acquisition step,
A preliminary measurement step of holding the sample in a plurality of postures at different tilt angles with respect to the optical axis of the interferometer and measuring shape data in each posture;
A difference calculation step of using any one of a plurality of shape data obtained in the preliminary measurement step as reference shape data, and calculating a difference between the reference shape data and other shape data for each pixel of the shape data; ,
A reference table creation step of creating a reference table by recording, for each pixel, the correspondence between a phase change due to inclination and a shape change from the difference for each pixel;
Performing a correction parameter recording step of polynomial-approximating the correspondence relationship of the pixels recorded in the reference table and recording the coefficient as the correction parameter of the pixels; Correction method.
請求項1に記載した干渉計周期誤差の補正方法において、
前記補正パラメータ記録工程では、前記多項式近似として前記対応関係のフーリエ展開を行い、得られたフーリエ級数におけるフーリエ係数を前記画素毎の前記補正パラメータとして記録しておき、
前記補正工程では、前記画素毎の前記補正パラメータで特定される前記フーリエ級数の逆フーリエ変換により前記画素毎の周期誤差を計算し、得られた前記周期誤差で前記測定結果を補正することを特徴とする干渉計周期誤差の補正方法。
In the interferometer periodic error correction method according to claim 1,
In the correction parameter recording step, Fourier expansion of the correspondence relationship is performed as the polynomial approximation, and Fourier coefficients in the obtained Fourier series are recorded as the correction parameter for each pixel.
In the correction step, a periodic error for each pixel is calculated by inverse Fourier transform of the Fourier series specified by the correction parameter for each pixel, and the measurement result is corrected with the obtained periodic error. Interferometer periodic error correction method.
請求項1または請求項2に記載した干渉計周期誤差の補正方法において、
前記予備測定工程では、前記試料を保持部材で保持し、前記保持部材を前記干渉計の光路外にある回動軸まわりに回動させることにより、前記試料を複数の傾斜角度に保持することを特徴とする干渉計周期誤差の補正方法。
In the interferometer periodic error correction method according to claim 1 or 2,
In the preliminary measurement step, the sample is held by a holding member, and the sample is held at a plurality of inclination angles by rotating the holding member around a rotation axis outside the optical path of the interferometer. A method of correcting an interferometer cycle error as a feature.
干渉計による測定対象物の測定結果における周期誤差を補正するための、画素毎の補正パラメータを取得する干渉計周期誤差の補正パラメータ取得方法であって、
試料を前記干渉計の光軸に対する傾斜角度が異なる複数の姿勢で保持し、各姿勢での形状データを測定する予備測定工程と、
前記予備測定工程で得られた複数の形状データのうち、いずれかを基準形状データとし、前記形状データの画素毎に、前記基準形状データと他の形状データとの差分を計算する差分計算工程と、
前記画素毎の前記差分から、傾斜による位相変化と形状変化との対応関係を前記画素毎に記録して参照テーブルを作成する参照テーブル作成工程と、
前記参照テーブルに記録された前記画素毎の前記対応関係を多項式近似し、その係数を前記画素毎の前記補正パラメータとして記録する補正パラメータ記録工程と、を行うことを特徴とする干渉計周期誤差の補正パラメータ取得方法。
What is claimed is: 1. A method of acquiring a correction parameter of an interferometer periodic error, which acquires a correction parameter for each pixel, for correcting a periodic error in a measurement result of a measurement object by an interferometer.
A preliminary measurement step of holding the sample in a plurality of postures at different tilt angles with respect to the optical axis of the interferometer and measuring shape data in each posture;
A difference calculation step of using any one of a plurality of shape data obtained in the preliminary measurement step as reference shape data, and calculating a difference between the reference shape data and other shape data for each pixel of the shape data; ,
A reference table creation step of creating a reference table by recording, for each pixel, the correspondence between a phase change due to inclination and a shape change from the difference for each pixel;
Performing a correction parameter recording step of polynomial-approximating the correspondence relationship of the pixels recorded in the reference table and recording the coefficient as the correction parameter of the pixels; Correction parameter acquisition method.
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