JP6537972B2 - 光システムにおいて周波数歪および偏光誘因効果を補償するシステムおよび方法 - Google Patents
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Description
本発明は、光インテロゲータ/特徴付けシステムにおいて使用される周波数掃引チューナブルレーザーによって誘引される瞬間的な周波数ノイズおよび/または掃引非直線性を補償するシステムおよび方法に関係する。
光センサ(ファイバブラッググレーティング(FBG))が多くのセンシングアプリケーションに対して提示されてきた。例えば、チューナブルレーザーまたは波長掃引源は、直列または並列の組み合わせで配列されるセンサ上の値を読むために使用されることが可能である。
本発明によると、添付された請求項に規定されているように、光波長チューナブル源とともに使用するための波長参照および偏光緩和システムが提供され、該システムは、センサ特性を測定するかまたは波長依存光デバイスを特徴づけるように適合された細かい波長参照部分によって特徴づけられる少なくとも1つの粗い参照波長部分を備える。
少なくとも1つの安定した粗い参照波長部分と、
粗い参照波長部分より小さいフリースペクトルレンジを有する光デバイスの周期的波長応答を測定するように適合された細かい波長参照部分と、
チューナブルレーザー源の掃引セグメントを共にスティッチする手段であって、細かい周期的波長参照は、粗い波長参照部分と比較した相対的オフセット波長参照を提供し、その結果、掃引セグメント間の最小限要求される重複が減少される、手段と
を備える。
少なくとも1つの安定した粗い参照波長部分を選択するステップと、
細かい波長参照部分を選択し、粗い参照波長部分より小さいフリースペクトルレンジを有する光デバイスの周期的波長応答を測定するように適合させるステップと、
チューナブルレーザー源の連続掃引セグメントを共にスティッチするステップであって、細かい周期的波長参照は、粗い波長参照部分と比較した相対的オフセット波長参照を提供し、その結果、掃引セグメント間の最小限要求される重複が減少するようにする、ステップと
を含む。
少なくとも1つの安定した粗い参照波長部分を選択するステップと、
細かい波長参照部分を選択し、粗い参照波長部分より小さいフリースペクトルレンジを有する光デバイスの周期的波長応答を測定するように適合させるステップと、
チューナブルレーザー源の連続掃引セグメントを共にスティッチするステップであって、細かい周期的波長参照は、粗い波長参照部分と比較した相対的オフセット波長参照を提供し、その結果、掃引セグメント間の最小限要求される重複が減少するようにする、ステップと
を含む。
例えば、本願は以下の項目を提供する。
(項目1)
複数の異なる掃引セグメントを有する光波長チューナブルレーザー源とともに使用するための波長参照および偏光緩和システムであって、該システムは、
少なくとも1つの安定した粗い参照波長部分と、
該粗い参照波長部分より小さいフリースペクトルレンジを有する光デバイスの周期的波長応答を測定するように適合された細かい波長参照部分と、
該チューナブルレーザー源の連続掃引セグメントを共にスティッチする手段であって、該細かい周期的波長参照は、該粗い波長参照部分と比較した相対的オフセット波長参照を提供し、その結果、掃引セグメント間の最小限要求される重複が減少される、手段と
を備える、システム。
(項目2)
少なくとも1つの安定した粗い波長参照は、少なくとも1つの安定した波長マーカーを提供する、項目1に記載のシステム。
(項目3)
上記少なくとも1つの安定した波長マーカーは、検出されたピーク、谷または傾きのうちの少なくとも1つから選択される安定した別個の波長応答を備える、項目1に記載のシステム。
(項目4)
上記細かい参照部分は、瞬間的な周波数ノイズおよび掃引非直線性に関して、上記チューナブル源で生成される掃引セグメントの周波数補正を提供するように適合された周期的周波数光デバイスを備える、任意の前述の項目に記載のシステム。
(項目5)
上記粗い波長参照を提供するためのEtalonを備え、Mach−Zehnder干渉計は、上記細かい波長参照を提供する、任意の前述の項目に記載のシステム。
(項目6)
上記波長チューナブル源に対する制御データを提供するために上記周期的波長参照のゼロ交点間の間隔を測定する手段を備える、項目1に記載のシステム。
(項目7)
上記光デバイスの上記周期的周波数における任意の不連続を検出する手段を備え、該周期的周波数における検出された不連続は、上記波長チューナブル源に対する制御データであって、上記掃引においてモードジャンプを避けるように構成される制御データを提供する、項目1から6までのいずれか一項に記載のシステム。
(項目8)
上記制御データは、上記光波長チューナブル源の動作点を再較正する手段を提供する、項目7に記載のシステム。
(項目9)
上記細かい参照部分は、上記光波長チューナブル源で生成される掃引における非直線性を予め補償するように適合されている、任意の前述の項目に記載のシステム。
(項目10)
絶対参照部分は、絶対周波数情報を提供するように適合された少なくとも1つのガスセル参照を備える、任意の前述の項目に記載のシステム。
(項目11)
上記細かい参照部分が、Mach−Zehnder干渉計(MZI)および偏光スクランブラを備える、項目1に記載のシステム。
(項目12)
上記MZIおよびスクランブラは、検出されたMZI交差、ピークおよび谷と同期的に上記レーザー出力の上記偏光状態を変化させることによって、周波数情報を提供してセンサ/フィルタにおける偏光誘因効果を緩和するように適合された所望の偏光発射角度および長さで構成される偏光維持ファイバを備える、項目11に記載のシステム。
(項目13)
インテロゲートされたセンサ/フィルタにおける偏光誘因波長シフトを緩和するために非同期的または同期的な方式において上記偏光の状態を制御するように適合されたアクティブ偏光制御デバイスを備える、任意の前述の項目に記載のシステム。
(項目14)
上記偏光制御部分は、上記チューナブル源から電気制御信号を受信するように適合されている、任意の前述の項目に記載のシステム。
(項目15)
上記光波長チューナブル源は、チューナブルレーザーまたは波長掃引源を備える、任意の前述の項目に記載のシステム。
(項目16)
プログラム命令を備えるコンピュータプログラムであって、該コンピュータプログラムは、
少なくとも1つの安定した粗い参照波長部分を選択するステップと、
細かい波長参照部分を選択し、該粗い参照波長部分より小さいフリースペクトルレンジを有する光デバイスの周期的波長応答を測定するように適合させるステップと、
上記チューナブルレーザー源の連続掃引セグメントを共にスティッチするステップであって、該細かい周期的波長参照は、該粗い波長参照部分と比較した相対的オフセット波長参照を提供し、その結果、掃引セグメント間の最小限要求される重複が減少するようにする、ステップと
を実行することによって、コンピュータプロセッサによって実行されるときに、複数の異なる掃引セグメントを有する光波長チューナブルレーザー源とともに使用するためのシステムをコンピュータに制御させる、コンピュータプログラム。
(項目17)
複数の異なる掃引セグメントを有する光波長チューナブルレーザー源とともに使用するための波長参照および偏光緩和の方法であって、該方法は、
少なくとも1つの安定した粗い参照波長部分を選択するステップと、
細かい波長参照部分を選択し、該粗い参照波長部分より小さいフリースペクトルレンジを有する光デバイスの周期的波長応答を測定するように適合させるステップと、
上記チューナブルレーザー源の連続掃引セグメントを共にスティッチするステップであって、該細かい周期的波長参照は、該粗い波長参照部分と比較した相対的オフセット波長参照を提供し、その結果、掃引セグメント間の最小限要求される重複が減少するようにする、ステップと
を含む、方法。
本発明は、光センサのアレイから取得されるセンサ特性を測定するチューナブルレーザーベースの光インテロゲータにおいて使用される周波数補償および偏光緩和システムを提供する。
(動作例)
動作中、レーザーは、波長ピークが位置するセグメントを測定することによって波長掃引を実行する。図9は、主要データ処理段階のフローチャートを図示する。参照信号およびFBGチャンネルは、図10に示されるADCを使用して測定され、それらは、次いで、デジタル領域内でフィルタ処理される。パワー参照信号は、レーザーの出力パワーにおける任意の変動を正規化するために使用される。MZI信号は、Etalon FSRより小さい固定された自由スペクトル領域(FSR)を有する周期的信号である。図11に示されるように、ゼロ交点は、掃引するときにレーザー出力の周波数歪および非直線性を推定するために検出および使用される。Etalonピークが検出され、MZIデータを用いて、重複している掃引セグメント間のスティッチングが実行される。Gas Cell絶対参照信号は、正確な絶対測定値を達成するようにEtalon周波数測定値を訂正するために検出および使用される。
Claims (14)
- 複数の異なる掃引セグメントを有する光波長チューナブルレーザー源とともに使用するための波長参照および偏光緩和システムであって、前記システムは、
少なくとも1つの安定した粗い波長参照部分であって、前記少なくとも1つの安定した粗い波長参照部分は、掃引セグメント内に少なくとも1つの安定した波長マーカーを生成するための粗い波長参照信号を提供するように適合された光デバイスを備える、少なくとも1つの安定した粗い波長参照部分と、
光デバイスの周期的波長応答を測定するように適合された細かい波長参照部分であって、前記細かい波長参照部分は、前記安定した波長マーカーに対してオフセットを有する掃引セグメント内で複数の細かい波長マーカーを生成するための細かい周期的波長参照信号を提供するように適合された光デバイスを備え、前記細かい波長参照信号は、前記粗い波長参照信号の安定した波長マーカー間の間隔より小さいフリースペクトルレンジを有する、細かい波長参照部分と、
前記少なくとも1つの安定した波長マーカーに前記複数の細かい波長マーカーを参照することに基づいて、連続掃引セグメント間のスティッチング点を計算することによって、掃引セグメント間の最小限要求される重複が減少されるように、前記光波長チューナブルレーザー源の連続掃引セグメントを共にスティッチする手段と
を備える、システム。 - 前記少なくとも1つの安定した波長マーカーは、検出されたピーク、谷または傾きのうちの少なくとも1つから選択される安定した別個の波長応答を備える、請求項1に記載のシステム。
- 前記細かい波長参照部分の前記光デバイスは、瞬間的な周波数ノイズおよび掃引非直線性に関して、前記光波長チューナブルレーザー源で生成される掃引セグメントの周波数補正を提供するように適合されている、請求項1から2までのいずれか一項に記載のシステム。
- 前記粗い波長参照信号を提供するためのEtalonを備え、Mach−Zehnder干渉計は、前記細かい波長参照信号を提供する、請求項1から3までのいずれか一項に記載のシステム。
- 前記光波長チューナブルレーザー源に対する制御データを提供するために前記細かい周期的波長参照信号のゼロ交点間の間隔を測定する手段を備える、請求項1に記載のシステム。
- 前記光デバイスの周期的周波数における任意の不連続を検出する手段を備え、前記周期的周波数における検出された不連続は、前記光波長チューナブルレーザー源に対する制御データであって、前記掃引においてモードジャンプを避けるように構成される制御データを提供する、請求項1から5までのいずれか一項に記載のシステム。
- 前記制御データは、前記光波長チューナブルレーザー源の動作点を再較正する手段を提供する、請求項6に記載のシステム。
- 前記細かい波長参照部分は、前記光波長チューナブルレーザー源で生成される掃引における非直線性を予め補償するように適合されている、請求項1から7までのいずれか一項に記載のシステム。
- 前記システムは、絶対参照部分をさらに備え、前記絶対参照部分は、絶対周波数情報を提供するように適合された少なくとも1つのガスセル参照を備える、請求項1から8までのいずれか一項に記載のシステム。
- 前記細かい波長参照部分の前記光デバイスは、Mach−Zehnder干渉計(MZI)および偏光スクランブラを備える、請求項1に記載のシステム。
- 前記MZIおよびスクランブラは、偏光維持ファイバを備え、前記偏光維持ファイバは、検出されたMZI交差、ピークおよび谷と同期的に前記レーザー出力の前記偏光状態を変化させることによって、周波数情報を提供してセンサ/フィルタにおける偏光誘因効果を緩和するように適合された、前記偏光維持ファイバの複屈折軸間の所望の角度および長さを有するように構成されている、請求項10に記載のシステム。
- インテロゲートされたセンサ/フィルタにおける偏光誘因波長シフトを緩和するために非同期的または同期的な方式において前記偏光の状態を制御するように適合されたアクティブ偏光制御デバイスを備え、および/または、前記偏光制御部分は、前記光波長チューナブルレーザー源から電気制御信号を受信するように適合されており、および/または、前記光波長チューナブルレーザー源は、チューナブルレーザーまたは波長掃引源を備える、請求項1から11までのいずれか一項に記載のシステム。
- 複数の異なる掃引セグメントを有する光波長チューナブルレーザー源とともに使用するための波長参照および偏光緩和の方法であって、前記方法は、
少なくとも1つの安定した粗い波長参照部分を選択するステップであって、前記少なくとも1つの安定した粗い波長参照部分は、掃引セグメント内に少なくとも1つの安定した波長マーカーを生成するための粗い波長参照信号を提供するように適合された光デバイスを備える、ステップと、
細かい波長参照部分を選択し、光デバイスの周期的波長応答を測定するように適合させるステップであって、前記細かい波長参照部分は、前記安定した波長マーカーに対してオフセットを有する掃引セグメント内で複数の細かい波長マーカーを生成するための細かい周期的波長参照信号を提供するように適合された光デバイスを含み、前記細かい波長参照信号は、前記粗い波長参照信号の安定した波長マーカー間の間隔より小さいフリースペクトルレンジを有する、ステップと、
前記少なくとも1つの安定した波長マーカーに前記複数の細かい波長マーカーを参照することに基づいて、連続掃引セグメント間のスティッチング点を計算することによって、掃引セグメント間の最小限要求される重複が減少されるように、前記光波長チューナブルレーザー源の連続掃引セグメントを共にスティッチするステップと
を含む、方法。 - プログラム命令を含むコンピュータプログラムであって、前記プログラム命令は、コンピュータプロセッサによって実行されると、請求項13に記載の方法を実行することをコンピュータに行わせる、コンピュータプログラム。
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---|---|---|---|---|
JPS62148923A (ja) * | 1985-12-23 | 1987-07-02 | Nec Corp | 偏光制御デバイス |
JPH01184888A (ja) * | 1988-01-13 | 1989-07-24 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ波長の安定化方法 |
JPH05113582A (ja) * | 1991-10-22 | 1993-05-07 | Ricoh Co Ltd | 光スイツチ |
JP2770900B2 (ja) * | 1992-08-17 | 1998-07-02 | 日本電信電話株式会社 | 分布反射器及びそれを用いた波長可変半導体レーザ |
JP3526671B2 (ja) * | 1995-08-25 | 2004-05-17 | アンリツ株式会社 | レーザ光源装置 |
US6940588B2 (en) | 1997-02-14 | 2005-09-06 | Jds Uniphase Inc. | Measuring response characteristics of an optical component |
JP3385898B2 (ja) * | 1997-03-24 | 2003-03-10 | 安藤電気株式会社 | 可変波長半導体レーザ光源 |
US7139295B2 (en) * | 2003-01-27 | 2006-11-21 | Fibera, Inc. | Tunable wavelength locker, tunable wavelength spectrum monitor, and relative wavelength measurement system |
IES20030281A2 (en) * | 2003-04-14 | 2004-10-20 | Intune Technologies Ltd | Method and apparatus for continuous sweeping of a tunable laser |
US8315282B2 (en) * | 2005-01-20 | 2012-11-20 | Massachusetts Institute Of Technology | Fourier domain mode locking: method and apparatus for control and improved performance |
US7327471B2 (en) * | 2005-02-25 | 2008-02-05 | Lockheed Martin Coherent Technologies, Inc. | Apparatus and method for stabilizing lasers using dual etalons |
JP4679185B2 (ja) * | 2005-03-11 | 2011-04-27 | 株式会社東芝 | ファイバブラッググレーティング物理量計測装置およびファイバブラッググレーティング物理量計測方法 |
WO2007087301A2 (en) * | 2006-01-23 | 2007-08-02 | Zygo Corporation | Interferometer system for monitoring an object |
JP5242098B2 (ja) * | 2007-01-26 | 2013-07-24 | 古河電気工業株式会社 | 光ファイバセンサ及び変動位置検出方法 |
US7599055B2 (en) * | 2007-02-27 | 2009-10-06 | Corning Incorporated | Swept wavelength imaging optical interrogation system and method for using same |
JP5193732B2 (ja) * | 2008-08-07 | 2013-05-08 | 富士通株式会社 | 波長可変レーザモジュール、波長可変レーザ装置、及び、波長可変レーザの制御方法 |
US7999944B2 (en) | 2008-10-23 | 2011-08-16 | Corning Incorporated | Multi-channel swept wavelength optical interrogation system and method for using same |
JP5550384B2 (ja) * | 2010-03-01 | 2014-07-16 | キヤノン株式会社 | 光波干渉計測装置 |
US11553852B2 (en) * | 2011-06-01 | 2023-01-17 | Koninklijke Philips N.V. | System for distributed blood flow measurement |
US9823125B2 (en) * | 2012-08-07 | 2017-11-21 | Faz Technology Limited | System and method for dynamically sweeping a tunable laser |
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