JP6528226B2 - Curable resin composition, film, laminated film, prepreg, laminate, cured product, and composite - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 118
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims description 24
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 175
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 110
- -1 ester compound Chemical class 0.000 claims description 107
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 83
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 76
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 65
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 52
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 claims description 47
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 45
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 37
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 claims description 36
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 31
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims description 28
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 14
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 11
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 9
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical group C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 claims description 8
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 8
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 claims description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 2
- 239000005001 laminate film Substances 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 103
- 238000000034 method Methods 0.000 description 77
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 45
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 35
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 31
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 30
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 30
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 30
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 26
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 25
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 24
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 24
- 239000000047 product Substances 0.000 description 24
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 22
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 22
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 21
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 21
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 18
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 18
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 18
- FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 5-(2,4-dioxooxolan-3-yl)-7-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C(C(OC2=O)=O)C2C(C)=CC1C1C(=O)COC1=O FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 17
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 16
- 230000008569 process Effects 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000002585 base Substances 0.000 description 15
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 15
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 14
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 14
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 13
- PHCKFVVLVZFFLU-UHFFFAOYSA-N dodec-4-ene Chemical compound CCCCCCCC=CCCC PHCKFVVLVZFFLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 11
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 10
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 10
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 9
- 238000005649 metathesis reaction Methods 0.000 description 9
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 8
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 7
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 7
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 7
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 7
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 6
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 6
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 6
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 6
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 6
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 6
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 6
- XZKLXPPYISZJCV-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-2-phenylimidazole Chemical group C1=CN=C(C=2C=CC=CC=2)N1CC1=CC=CC=C1 XZKLXPPYISZJCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 5
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 5
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 5
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 5
- 229920006290 polyethylene naphthalate film Polymers 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 5
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 description 5
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 4
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- OTTZHAVKAVGASB-UHFFFAOYSA-N hept-2-ene Chemical compound CCCCC=CC OTTZHAVKAVGASB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 4
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DEQUKPCANKRTPZ-UHFFFAOYSA-N (2,3-dihydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1O DEQUKPCANKRTPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OJOWICOBYCXEKR-KRXBUXKQSA-N (5e)-5-ethylidenebicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(=C/C)/CC1C=C2 OJOWICOBYCXEKR-KRXBUXKQSA-N 0.000 description 3
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trihydroxbenzophenone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 5-[3-(trifluoromethyl)phenyl]-2h-tetrazole Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C2=NNN=N2)=C1 KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 3
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 3
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 3
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 3
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 3
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 3
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 3
- 229920006284 nylon film Polymers 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYKRPDCJKSXAHS-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,3,4,5-tetrahydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1O LYKRPDCJKSXAHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 3
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 3
- 229910001379 sodium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 3
- PVJHFVMRMWVWAX-UHFFFAOYSA-N tetradeca-2,7,9,11-tetraene Chemical compound CCC=CC=CC=CCCCC=CC PVJHFVMRMWVWAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- MEBONNVPKOBPEA-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trimethylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1(C)C MEBONNVPKOBPEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QEGNUYASOUJEHD-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethylcyclohexane Chemical compound CC1(C)CCCCC1 QEGNUYASOUJEHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxonaphthalene Natural products C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOKGTLAJQHTOKE-UHFFFAOYSA-N 1,5-dihydroxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1O BOKGTLAJQHTOKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XWJBRBSPAODJER-UHFFFAOYSA-N 1,7-octadiene Chemical compound C=CCCCCC=C XWJBRBSPAODJER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 1-decene Chemical compound CCCCCCCCC=C AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 1-dodecene Chemical compound CCCCCCCCCCC=C CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GQEZCXVZFLOKMC-UHFFFAOYSA-N 1-hexadecene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC=C GQEZCXVZFLOKMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HFDVRLIODXPAHB-UHFFFAOYSA-N 1-tetradecene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC=C HFDVRLIODXPAHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbuta-1,3-diene Chemical compound CC(=C)C(C)=C SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LLPKQRMDOFYSGZ-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=CN=C(C)N1 LLPKQRMDOFYSGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1h-imidazole Chemical compound CCC1=NC=CN1 PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KNDQHSIWLOJIGP-UHFFFAOYSA-N 826-62-0 Chemical compound C1C2C3C(=O)OC(=O)C3C1C=C2 KNDQHSIWLOJIGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000694440 Colpidium aqueous Species 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 2
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 2
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 2
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 2
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- 150000001924 cycloalkanes Chemical group 0.000 description 2
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical compound C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentene Chemical compound C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N ethylcyclohexane Chemical compound CCC1CCCCC1 IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,3-diene Chemical compound CCC=CC=C AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NXPHCVPFHOVZBC-UHFFFAOYSA-N hydroxylamine;sulfuric acid Chemical compound ON.OS(O)(=O)=O NXPHCVPFHOVZBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940079865 intestinal antiinfectives imidazole derivative Drugs 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 2
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N methanediyl Chemical compound [CH2] HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VAMFXQBUQXONLZ-UHFFFAOYSA-N n-alpha-eicosene Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCC=C VAMFXQBUQXONLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZZQNEVOYIYFPF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,6-diol Chemical compound OC1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 FZZQNEVOYIYFPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MNZMMCVIXORAQL-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-diol Chemical compound C1=C(O)C=CC2=CC(O)=CC=C21 MNZMMCVIXORAQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N octadec-1-ene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC=C CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 230000037048 polymerization activity Effects 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000012748 slip agent Substances 0.000 description 2
- 241000894007 species Species 0.000 description 2
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 2
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N triisobutylaluminium Chemical compound CC(C)C[Al](CC(C)C)CC(C)C MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003658 tungsten compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 2
- UMRUUWFGLGNQLI-QFIPXVFZSA-M (2s)-2-(9h-fluoren-9-ylmethoxycarbonylamino)-6-[(2-methylpropan-2-yl)oxycarbonylamino]hexanoate Chemical compound C1=CC=C2C(COC(=O)N[C@@H](CCCCNC(=O)OC(C)(C)C)C([O-])=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 UMRUUWFGLGNQLI-QFIPXVFZSA-M 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- JBVMSEMQJGGOFR-FNORWQNLSA-N (4e)-4-methylhexa-1,4-diene Chemical compound C\C=C(/C)CC=C JBVMSEMQJGGOFR-FNORWQNLSA-N 0.000 description 1
- PRBHEGAFLDMLAL-GQCTYLIASA-N (4e)-hexa-1,4-diene Chemical compound C\C=C\CC=C PRBHEGAFLDMLAL-GQCTYLIASA-N 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- GCYUJISWSVALJD-UHFFFAOYSA-N 1,1-diethylcyclohexane Chemical compound CCC1(CC)CCCCC1 GCYUJISWSVALJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRNVQLOKVMWBFR-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzenedithiol Chemical compound SC1=CC=CC=C1S JRNVQLOKVMWBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYWSZYFQXSLSFY-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydrotriazine-5,6-dithione Chemical compound SC1=CN=NN=C1S AYWSZYFQXSLSFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-2,2-bis(chloromethyl)propane Chemical compound ClCC(CCl)(CCl)CCl KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCJMVGJKROQDCB-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethyl-1,3-butadiene Natural products CC=CC(C)=C RCJMVGJKROQDCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 1,5-Hexadiene Natural products CC=CCC=C PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQZDJLFNMXRJHZ-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-2-ethylimidazole Chemical group CCC1=NC=CN1CC1=CC=CC=C1 OQZDJLFNMXRJHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940106006 1-eicosene Drugs 0.000 description 1
- FIKTURVKRGQNQD-UHFFFAOYSA-N 1-eicosene Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCC=CC(O)=O FIKTURVKRGQNQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethanol Chemical compound CC(O)C1=CC=CC=C1 WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical group C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical group CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGEDFMIHOGFQGN-UHFFFAOYSA-N 2,3,3a,4,5,6-hexahydro-1H-indene cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1.C1CCC=C2CCCC21 CGEDFMIHOGFQGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCPVQAHEFVXVKT-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-difluorophenoxy)pyridin-3-amine Chemical compound NC1=CC=CN=C1OC1=CC=C(F)C=C1F LCPVQAHEFVXVKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLFNXLXEGXRUOI-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-phenylpropan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C(O)C(C(C)(C)C=2C=CC=CC=2)=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 OLFNXLXEGXRUOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKMNWICOBCDSSQ-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl]ethyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCCN2C(CC(CC2(C)C)OC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(C)C)=C1 SKMNWICOBCDSSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WROUWQQRXUBECT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylacrylic acid Chemical compound CCC(=C)C(O)=O WROUWQQRXUBECT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMAOLVNGLTWICC-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-5-methylbenzonitrile Chemical compound CC1=CC=C(F)C(C#N)=C1 CMAOLVNGLTWICC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 2-heptadecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical group CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRWYRROCDFQZQF-UHFFFAOYSA-N 2-methylpenta-1,4-diene Chemical compound CC(=C)CC=C DRWYRROCDFQZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUOZJYASZOSONT-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yl-1h-imidazole Chemical compound CC(C)C1=NC=CN1 FUOZJYASZOSONT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWCQFCZUNBTCM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-(3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl)sulfanyl-4-methylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(SC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O MQWCQFCZUNBTCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIDDPPKZYZTEGS-UHFFFAOYSA-N 3-(2-ethyl-4-methylimidazol-1-yl)propanenitrile Chemical group CCC1=NC(C)=CN1CCC#N UIDDPPKZYZTEGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYLNVJYYQQXNEK-UHFFFAOYSA-N 3-amino-2-(4-chlorophenyl)-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(CN)C1=CC=C(Cl)C=C1 JYLNVJYYQQXNEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFUOAGBSDGCVES-UHFFFAOYSA-N 3-but-2-enyl-4-methylpyrrolidine-2,5-dione Chemical compound CC=CCC1C(C)C(=O)NC1=O JFUOAGBSDGCVES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 3-chloroperbenzoic acid Chemical compound OOC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUXCNAPKHGPZJR-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-4-oct-4-enyloxolane-2,5-dione Chemical compound CCCC=CCCCC1C(CC)C(=O)OC1=O SUXCNAPKHGPZJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLGHJTHQWQKJQQ-UHFFFAOYSA-N 3-ethylhex-1-ene Chemical compound CCCC(CC)C=C OLGHJTHQWQKJQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPVPQMCSLFDIKA-UHFFFAOYSA-N 3-ethylpent-1-ene Chemical compound CCC(CC)C=C YPVPQMCSLFDIKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHQXBTXEYZIYOV-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-1-ene Chemical compound CC(C)C=C YHQXBTXEYZIYOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 3-methylfuran-2,5-dione Chemical compound CC1=CC(=O)OC1=O AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDTAOIUHUHHCMU-UHFFFAOYSA-N 3-methylpent-1-ene Chemical compound CCC(C)C=C LDTAOIUHUHHCMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUJVAMIXNUAJEY-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethylhex-1-ene Chemical compound CCC(C)(C)CC=C SUJVAMIXNUAJEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLCNJIQZXOQYTE-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethylpent-1-ene Chemical compound CC(C)(C)CC=C KLCNJIQZXOQYTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTMWZRGVTOZISQ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-tetracyclo[6.2.1.13,6.02,7]dodec-9-enyl)phenol Chemical compound Oc1ccc(cc1)C1CC2CC1C1C3CC(C=C3)C21 PTMWZRGVTOZISQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZGCPAYJJYAUOL-UHFFFAOYSA-N 4-(5-bicyclo[2.2.1]hept-2-enyl)phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1C(C=C2)CC2C1 CZGCPAYJJYAUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRWJPWSKLXYEPD-UHFFFAOYSA-N 4-[4,4-bis(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butan-2-yl]-2-tert-butyl-5-methylphenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=C(O)C=C(C)C=1C(C)CC(C=1C(=CC(O)=C(C=1)C(C)(C)C)C)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C PRWJPWSKLXYEPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPMUAJRVOWSBTP-UHFFFAOYSA-N 4-ethyl-1-hexene Chemical compound CCC(CC)CC=C OPMUAJRVOWSBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003143 4-hydroxybenzyl group Chemical group [H]C([*])([H])C1=C([H])C([H])=C(O[H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- SUWJESCICIOQHO-UHFFFAOYSA-N 4-methylhex-1-ene Chemical compound CCC(C)CC=C SUWJESCICIOQHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZGFGXBZXHCJPU-UHFFFAOYSA-N 5-(carboxymethyl)bicyclo[2.2.1]hept-2-ene-5-carboxylic acid Chemical compound C1C2C(CC(=O)O)(C(O)=O)CC1C=C2 YZGFGXBZXHCJPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSWATWCBYRBYBO-UHFFFAOYSA-N 5-butylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(CCCC)CC1C=C2 YSWATWCBYRBYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INYHZQLKOKTDAI-UHFFFAOYSA-N 5-ethenylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(C=C)CC1C=C2 INYHZQLKOKTDAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHJIJNGGGLNBNJ-UHFFFAOYSA-N 5-ethylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(CC)CC1C=C2 QHJIJNGGGLNBNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound N1C(C)=CN=C1C1=CC=CC=C1 TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSQLAQKFRFTMNS-UHFFFAOYSA-N 5-methylhexa-1,4-diene Chemical compound CC(C)=CCC=C VSQLAQKFRFTMNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- VWMKUZYJGUVNJX-UHFFFAOYSA-L C(C1=CC=CC=C1)=[Ru](Cl)Cl.C1(=C(C(=CC(=C1)C)C)N1C(N(CC1)C1=C(C=C(C=C1C)C)C)=C1C(CCCC1)P(C1CCCCC1)C1CCCCC1)C Chemical compound C(C1=CC=CC=C1)=[Ru](Cl)Cl.C1(=C(C(=CC(=C1)C)C)N1C(N(CC1)C1=C(C=C(C=C1C)C)C)=C1C(CCCC1)P(C1CCCCC1)C1CCCCC1)C VWMKUZYJGUVNJX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- FFFPYJTVNSSLBQ-UHFFFAOYSA-N Phenolphthalin Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 FFFPYJTVNSSLBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOPYZMJAIPBUGX-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[Mn+4] Chemical class [O-2].[O-2].[Mn+4] GOPYZMJAIPBUGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGOJDKCIHXGPTI-UHFFFAOYSA-N [P].[Co].[Ni] Chemical compound [P].[Co].[Ni] IGOJDKCIHXGPTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWNSQHONVJKQJJ-UHFFFAOYSA-N [Ru].BrC=1N(C(N(C1Br)C1=C(C=C(C=C1C)C)C)=C1C(CCCC1)P(C1CCCCC1)C1CCCCC1)C1=C(C=C(C=C1C)C)C Chemical compound [Ru].BrC=1N(C(N(C1Br)C1=C(C=C(C=C1C)C)C)=C1C(CCCC1)P(C1CCCCC1)C1CCCCC1)C1=C(C=C(C=C1C)C)C MWNSQHONVJKQJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCKFXEZMCLYQMI-UHFFFAOYSA-N [Ru].C(C)(=O)OC1=CC=C(C=C2C(C(C(CC2)(P(C2CCCCC2)C2CCCCC2)Cl)=C2N(C(=C(N2C2=C(C=C(C=C2C)C)C)Br)Br)C2=C(C=C(C=C2C)C)C)Cl)C=C1 Chemical compound [Ru].C(C)(=O)OC1=CC=C(C=C2C(C(C(CC2)(P(C2CCCCC2)C2CCCCC2)Cl)=C2N(C(=C(N2C2=C(C=C(C=C2C)C)C)Br)Br)C2=C(C=C(C=C2C)C)C)Cl)C=C1 JCKFXEZMCLYQMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001994 activation Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJYJYFHBOBUTBY-UHFFFAOYSA-N alpha-camphorene Chemical compound CC(C)=CCCC(=C)C1CCC(CCC=C(C)C)=CC1 GJYJYFHBOBUTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000013556 antirust agent Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L barium(2+);oxomethanediolate Chemical compound [Ba+2].[O-][14C]([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L 0.000 description 1
- UIJGNTRUPZPVNG-UHFFFAOYSA-N benzenecarbothioic s-acid Chemical compound SC(=O)C1=CC=CC=C1 UIJGNTRUPZPVNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNPBGYBHLCEVMK-UHFFFAOYSA-L benzylidene(dichloro)ruthenium;tricyclohexylphosphane Chemical compound Cl[Ru](Cl)=CC1=CC=CC=C1.C1CCCCC1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1.C1CCCCC1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 PNPBGYBHLCEVMK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GRUMYSMRGPHWKW-UHFFFAOYSA-L benzylidene-dichloro-[4,5-dibromo-1,3-bis(2,4,6-trimethylphenyl)imidazol-2-ylidene]ruthenium;tricyclohexylphosphane Chemical compound C1CCCCC1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1.CC1=CC(C)=CC(C)=C1N(C(Br)=C(Br)N1C=2C(=CC(C)=CC=2C)C)C1=[Ru](Cl)(Cl)=CC1=CC=CC=C1 GRUMYSMRGPHWKW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FYGUSUBEMUKACF-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]hept-2-ene-5-carboxylic acid Chemical compound C1C2C(C(=O)O)CC1C=C2 FYGUSUBEMUKACF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSOILICUEWXSLA-UHFFFAOYSA-N bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(C)C(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1 RSOILICUEWXSLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- QDWJUBJKEHXSMT-UHFFFAOYSA-N boranylidynenickel Chemical compound [Ni]#B QDWJUBJKEHXSMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJTANRZEWTUVMA-UHFFFAOYSA-N boron;n-methylmethanamine Chemical compound [B].CNC RJTANRZEWTUVMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGAUUQHSCNMCAU-UHFFFAOYSA-N butane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)C(C(O)=O)CC(O)=O GGAUUQHSCNMCAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011182 cobalt acetate Drugs 0.000 description 1
- QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L cobalt(II) acetate Chemical compound [Co+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 1
- 150000001925 cycloalkenes Chemical group 0.000 description 1
- ARUKYTASOALXFG-UHFFFAOYSA-N cycloheptylcycloheptane Chemical compound C1CCCCCC1C1CCCCCC1 ARUKYTASOALXFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N cyclooctane Chemical compound C1CCCCCCC1 WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004914 cyclooctane Substances 0.000 description 1
- MKNXBRLZBFVUPV-UHFFFAOYSA-L cyclopenta-1,3-diene;dichlorotitanium Chemical compound Cl[Ti]Cl.C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 MKNXBRLZBFVUPV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HIPQYVJOMHDTRF-UHFFFAOYSA-N deca-2,7-diene Chemical compound CCC=CCCCC=CC HIPQYVJOMHDTRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 125000003963 dichloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- SWIOGPHKKZUDIC-UHFFFAOYSA-L dichlororuthenium(2+) Chemical compound Cl[Ru+2]Cl SWIOGPHKKZUDIC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLRHRQTUCJTIIV-UHFFFAOYSA-N diethoxy(ethyl)alumane Chemical compound CC[O-].CC[O-].CC[Al+2] DLRHRQTUCJTIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical compound CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N diethylzinc Chemical compound CC[Zn]CC HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZLUHGRPVSRSHI-UHFFFAOYSA-N dimethylmagnesium Chemical compound C[Mg]C KZLUHGRPVSRSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXAZMDOAUQTMOW-UHFFFAOYSA-N dimethylzinc Chemical compound C[Zn]C AXAZMDOAUQTMOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKRVHLWAVKJBFN-UHFFFAOYSA-N diphenylzinc Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Zn]C1=CC=CC=C1 MKRVHLWAVKJBFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 229940069096 dodecene Drugs 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000012777 electrically insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- GCPCLEKQVMKXJM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(diethyl)alumane Chemical compound CCO[Al](CC)CC GCPCLEKQVMKXJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L ethylaluminum(2+);dichloride Chemical compound CC[Al](Cl)Cl UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- GEAWFZNTIFJMHR-UHFFFAOYSA-N hepta-1,6-diene Chemical compound C=CCCCC=C GEAWFZNTIFJMHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 239000002638 heterogeneous catalyst Substances 0.000 description 1
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical compound C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002815 homogeneous catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical compound [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000012784 inorganic fiber Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010329 laser etching Methods 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N lithium;butane Chemical compound [Li+].CC[CH-]C WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002681 magnesium compounds Chemical class 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 1
- IYOKDPFKCXZKJU-UHFFFAOYSA-M magnesium;2-methanidylpropan-2-ylbenzene;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].CC(C)([CH2-])C1=CC=CC=C1 IYOKDPFKCXZKJU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QUXHCILOWRXCEO-UHFFFAOYSA-M magnesium;butane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].CCC[CH2-] QUXHCILOWRXCEO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YHNWUQFTJNJVNU-UHFFFAOYSA-N magnesium;butane;ethane Chemical compound [Mg+2].[CH2-]C.CCC[CH2-] YHNWUQFTJNJVNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXDANLFHGCWFRQ-UHFFFAOYSA-N magnesium;butane;octane Chemical compound [Mg+2].CCC[CH2-].CCCCCCC[CH2-] KXDANLFHGCWFRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCCXQARVHOPWFJ-UHFFFAOYSA-M magnesium;ethane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[CH2-]C YCCXQARVHOPWFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RVOYYLUVELMWJF-UHFFFAOYSA-N magnesium;hexane Chemical compound [Mg+2].CCCCC[CH2-].CCCCC[CH2-] RVOYYLUVELMWJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQEUYIQDSMINEY-UHFFFAOYSA-M magnesium;prop-1-ene;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[CH2-]C=C DQEUYIQDSMINEY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBSANEJBGMCTBH-UHFFFAOYSA-N manganate Chemical compound [O-][Mn]([O-])(=O)=O LBSANEJBGMCTBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N methylimidazole Natural products CC1=CNC=N1 XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N methyllithium Chemical compound C[Li] DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 239000005078 molybdenum compound Substances 0.000 description 1
- 150000002752 molybdenum compounds Chemical class 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N n-Octanol Natural products CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- UWLFCNHEPBTLHT-UHFFFAOYSA-N neopentyllithium Chemical compound [Li]CC(C)(C)C UWLFCNHEPBTLHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMGNSKKZFQMGDH-FDGPNNRMSA-L nickel(2+);(z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound [Ni+2].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O BMGNSKKZFQMGDH-FDGPNNRMSA-L 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- SRSFOMHQIATOFV-UHFFFAOYSA-N octanoyl octaneperoxoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCC SRSFOMHQIATOFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical group 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000489 osmium tetroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- LSQODMMMSXHVCN-UHFFFAOYSA-N ovalene Chemical group C1=C(C2=C34)C=CC3=CC=C(C=C3C5=C6C(C=C3)=CC=C3C6=C6C(C=C3)=C3)C4=C5C6=C2C3=C1 LSQODMMMSXHVCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethanamine Chemical compound NCC1CO1 AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M pent-4-enoate Chemical compound [O-]C(=O)CCC=C HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QYZLKGVUSQXAMU-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-diene Chemical compound C=CCC=C QYZLKGVUSQXAMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHIWWQKSHDUIBK-UHFFFAOYSA-N periodic acid Chemical compound OI(=O)(=O)=O KHIWWQKSHDUIBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L peroxydisulfate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000001792 phenanthrenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C=CC12)* 0.000 description 1
- DLRJIFUOBPOJNS-UHFFFAOYSA-N phenetole Chemical compound CCOC1=CC=CC=C1 DLRJIFUOBPOJNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N phenyllithium Chemical compound [Li]C1=CC=CC=C1 NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N phloroglucinol Chemical compound OC1=CC(O)=CC(O)=C1 QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001553 phloroglucinol Drugs 0.000 description 1
- OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynenickel Chemical compound [P].[Ni] OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical compound O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N phthalimide Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NC(=O)C2=C1 XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N piperylene Natural products CC=CC=C PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 150000008442 polyphenolic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 1
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOUKXHPPRFNWPP-UHFFFAOYSA-N pyrazine-2,5-dicarboxylic acid;hydrate Chemical compound O.OC(=O)C1=CN=C(C(O)=O)C=N1 KOUKXHPPRFNWPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005581 pyrene group Chemical group 0.000 description 1
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- BDDWSAASCFBVBK-UHFFFAOYSA-N rhodium;triphenylphosphane Chemical compound [Rh].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BDDWSAASCFBVBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003304 ruthenium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 1
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 1
- CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L sodium persulfate Substances [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- AFCAKJKUYFLYFK-UHFFFAOYSA-N tetrabutyltin Chemical compound CCCC[Sn](CCCC)(CCCC)CCCC AFCAKJKUYFLYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBFJAVXCNXDMBH-UHFFFAOYSA-N tetracyclo[6.2.1.1(3,6).0(2,7)]dodec-4-ene Chemical compound C1C(C23)C=CC1C3C1CC2CC1 XBFJAVXCNXDMBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXKWYPOMXBVZSJ-UHFFFAOYSA-N tetramethyltin Chemical compound C[Sn](C)(C)C VXKWYPOMXBVZSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRHIAMBJMSSNNM-UHFFFAOYSA-N tetraphenylstannane Chemical compound C1=CC=CC=C1[Sn](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 CRHIAMBJMSSNNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- WLPUWLXVBWGYMZ-UHFFFAOYSA-N tricyclohexylphosphine Chemical compound C1CCCCC1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 WLPUWLXVBWGYMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005580 triphenylene group Chemical group 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- 150000003682 vanadium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMBQEXOLIRBNPN-UHFFFAOYSA-L zirconocene dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zr+4].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 QMBQEXOLIRBNPN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Description
本発明は、硬化性樹脂組成物、フィルム、積層フィルム、プリプレグ、積層体、硬化物、及び複合体に関する。 The present invention relates to a curable resin composition, a film, a laminated film, a prepreg, a laminate, a cured product, and a composite.
電子機器の小型化、多機能化、通信高速化などの追求に伴い、電子機器に用いられる回路基板のさらなる高密度化が要求されており、このような高密度化の要求に応えるために、回路基板の多層化が図られている。このような多層回路基板は、例えば、電気絶縁層とその表面に形成された導体層とからなる内層基板の上に、電気絶縁層を積層し、この電気絶縁層の上に導体層を形成させ、さらに、これら電気絶縁層の積層と、導体層の形成と、を繰り返し行なうことにより形成される。 With the pursuit of miniaturization, multi-functionalization, high-speed communication, etc. of electronic devices, further densification of circuit boards used for electronic devices is required, and in order to meet such demands for high density, Multilayering of circuit boards has been achieved. In such a multilayer circuit board, for example, an electric insulating layer is laminated on an inner layer substrate consisting of an electric insulating layer and a conductor layer formed on the surface, and a conductor layer is formed on the electric insulating layer. Furthermore, it is formed by repeating the lamination | stacking of these electric-insulation layers, and formation of a conductor layer.
このような多層回路基板においては、導体層と電気絶縁層との線膨張差により回路の断線が発生してしまう場合があり、特に、導体層が高密度のパターンである場合にはこのような断線の問題は顕著であった。そのため、多層回路基板においては、電気絶縁層の低線膨張化が求められている。電気絶縁層の低線膨張化には、一般に、無機フィラーを添加することが有効ではあるが、無機フィラーを添加することにより、電気絶縁層の表面粗度が大きくなってしまい、電気絶縁層表面に導体層を形成し、該導体層をエッチングすることにより微細配線を形成した際に、エッチング不良によりパターン間に導体が残ったり、導体に浮きや剥れが発生してしまうという問題がある。 In such a multilayer circuit board, disconnection of the circuit may occur due to a difference in linear expansion between the conductor layer and the electrical insulating layer, particularly when the conductor layer has a high density pattern. The problem of disconnection was remarkable. Therefore, in the multilayer circuit board, low linear expansion of the electrical insulating layer is required. Although it is generally effective to add an inorganic filler for reducing the linear expansion of the electrical insulating layer, the addition of the inorganic filler increases the surface roughness of the electrical insulating layer, and the surface of the electrical insulating layer In the case where a fine wiring is formed by forming a conductor layer and etching the conductor layer, there is a problem that a conductor remains between patterns due to an etching failure, or the conductor is lifted or peeled off.
これに対し、特許文献1では、表面粗度が低く、導体層に対する密着性に優れた電気絶縁層を形成するために、電気絶縁層を形成するための絶縁性接着フィルムを、脂環式オレフィン重合体、硬化剤及び表面処理をしていない未処理無機フィラーを含有する被めっき層と、脂環式オレフィン重合体、硬化剤及び表面処理をしてなる表面処理無機フィラーを含有する接着層とからなる2層構造で形成する技術が開示されている。 On the other hand, in Patent Document 1, in order to form an electrical insulating layer having a low surface roughness and excellent adhesion to a conductor layer, an insulating adhesive film for forming the electrical insulating layer is an alicyclic olefin. A plated layer containing a polymer, a curing agent and an untreated inorganic filler not subjected to surface treatment, and an adhesive layer containing an alicyclic olefin polymer, a curing agent and a surface treated inorganic filler subjected to a surface treatment A technique is disclosed which is formed in a two-layer structure consisting of
しかしながら、本発明者らが検討したところ、この特許文献1の技術では、過マンガン酸塩の水溶液などの酸化性化合物を用いて、被めっき層の表面を粗化処理することにより、表面粗度を低く保ちながら、導体層に対する密着性の向上を図るものであるが、このような表面粗化処理の条件が変動することにより、得られる電気絶縁層の表面粗度や、導体層に対する密着性がばらついてしまう場合があり、所望の特性を有する電気絶縁層を安定して得ることが難しいという課題があった。特に、このような表面粗化処理の条件は、各種要因により変動する場合が多く、そのため、表面粗化処理の条件が変動した場合でも、表面粗度が低く、導体層との密着性に優れた電気絶縁層を安定して得ることが望まれていた。 However, when the present inventors examined, in the technique of this patent document 1, the surface roughness is obtained by roughening the surface of the layer to be plated using an oxidizing compound such as an aqueous solution of permanganate. To improve the adhesion to the conductor layer while keeping the low, but by changing the conditions of such surface roughening treatment, the surface roughness of the electrical insulating layer obtained and the adhesion to the conductor layer However, there is a problem that it is difficult to stably obtain an electrical insulating layer having desired characteristics. In particular, the conditions of such surface roughening treatment often fluctuate due to various factors, and therefore, even when the conditions of surface roughening treatment fluctuate, the surface roughness is low and the adhesion to the conductor layer is excellent. It has been desired to stably obtain an electrically insulating layer.
本発明の目的は、表面粗化処理条件が変動した場合でも、表面粗度が低く、導体層との密着性に優れた電気絶縁層を安定して与えることのできる硬化性樹脂組成物を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a curable resin composition capable of stably providing an electrical insulating layer having low surface roughness and excellent adhesion to a conductor layer even when the surface roughening treatment conditions are varied. It is to do.
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意研究した結果、特定の官能基を有する脂環式オレフィン重合体に対して、重量平均分子量が特定の範囲にある縮合多環構造を有するフェノールノボラック型エポキシ化合物、およびシランカップリング剤で表面処理された無機充填剤を配合し、かつ、縮合多環構造を有するフェノールノボラック型エポキシ化合物の配合量を特定の範囲とすることにより得られる硬化性樹脂組成物によれば、表面粗化処理条件が変動した場合でも、表面粗度が低く、導体層との密着性に優れた電気絶縁層を安定して与えることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that phenol having a fused polycyclic structure having a weight average molecular weight in a specific range for an alicyclic olefin polymer having a specific functional group. Curable obtained by blending a novolac epoxy compound and an inorganic filler surface-treated with a silane coupling agent, and setting the blending amount of a phenol novolac epoxy compound having a condensed polycyclic structure to a specific range According to the resin composition, it has been found that an electrical insulating layer having low surface roughness and excellent adhesion to a conductor layer can be stably provided even when the surface roughening treatment conditions vary. It came to complete.
すなわち、本発明によれば、
〔1〕カルボキシル基、カルボン酸無水物基およびフェノール性水酸基から選ばれる少なくとも1つの官能基を有する脂環式オレフィン重合体(A)、縮合多環構造を有するフェノールノボラック型エポキシ化合物(B)、およびシランカップリング剤で表面処理された無機充填剤(C)を含み、前記エポキシ化合物(B)のエポキシ当量が260〜400であり、前記脂環式オレフィン重合体(A)100重量部に対する、前記エポキシ化合物(B)の含有割合が10〜100重量部である硬化性樹脂組成物、
〔2〕前記無機充填剤(C)の含有割合が5〜50重量%である〔1〕に記載の硬化性樹脂組成物、
〔3〕硬化性樹脂組成物中における、前記脂環式オレフィン重合体(A)の含有量が、前記無機充填剤(C)の含有量よりも多い前記〔1〕または〔2〕に記載の硬化性樹脂組成物、
〔4〕前記〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物からなるフィルム、
〔5〕前記〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物からなる被めっき層と、接着層用樹脂組成物からなる接着層と、を有する積層フィルム、
〔6〕前記接着層用樹脂組成物が、エポキシ化合物および活性エステル化合物を含むものである前記〔5〕に記載の積層フィルム、
〔7〕前記〔4〕に記載のフィルム又は前記〔5〕若しくは〔6〕に記載の積層フィルムに、繊維基材を含んでなるプリプレグ、
〔8〕前記〔4〕に記載のフィルム、前記〔5〕若しくは〔6〕に記載の積層フィルム又は前記〔7〕に記載のプリプレグを、基材に積層してなる積層体、
〔9〕前記〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物、前記〔4〕に記載のフィルム、前記〔5〕若しくは〔6〕に記載の積層フィルム、前記〔7〕に記載のプリプレグ、又は前記〔8〕に記載の積層体を硬化してなる硬化物、
〔10〕前記〔9〕に記載の硬化物の表面に導体層を形成してなる複合体、ならびに、
〔11〕前記〔9〕に記載の硬化物又は前記〔10〕に記載の複合体を構成材料として含む電子材料用基板、
が提供される。
That is, according to the present invention,
[1] Alicyclic olefin polymer (A) having at least one functional group selected from a carboxyl group, a carboxylic acid anhydride group and a phenolic hydroxyl group, a phenol novolac epoxy compound (B) having a condensed polycyclic structure, And an inorganic filler (C) surface-treated with a silane coupling agent, wherein the epoxy equivalent of the epoxy compound (B) is 260 to 400, based on 100 parts by weight of the alicyclic olefin polymer (A), A curable resin composition in which the content ratio of the epoxy compound (B) is 10 to 100 parts by weight,
[2] The curable resin composition according to [1], wherein the content ratio of the inorganic filler (C) is 5 to 50% by weight.
[3] The curable aliphatic resin composition according to the above [1] or [2], wherein the content of the alicyclic olefin polymer (A) is larger than the content of the inorganic filler (C). Curable resin composition,
[4] A film comprising the curable resin composition according to any one of the above [1] to [3],
[5] A laminated film having a to-be-plated layer comprising the curable resin composition according to any one of the above [1] to [3] and an adhesive layer comprising the resin composition for adhesive layer,
[6] The laminated film according to the above [5], wherein the resin composition for an adhesive layer contains an epoxy compound and an active ester compound,
[7] A prepreg comprising a fibrous base material in the film of the above [4] or the laminated film of the above [5] or [6],
[8] A laminate obtained by laminating the film according to the above [4], the laminated film according to the above [5] or [6] or the prepreg according to the above [7] on a substrate,
[9] The curable resin composition according to any one of the above [1] to [3], the film as described in the above [4], the laminated film as described in the above [5] or [6], the above [7] Or the cured product obtained by curing the laminate of [8],
[10] A composite obtained by forming a conductor layer on the surface of the cured product according to the above [9], and
[11] A substrate for electronic material comprising the cured product according to the above [9] or the composite according to the above [10] as a constituent material,
Is provided.
本発明によれば、表面粗化処理条件が変動した場合でも、表面粗度が低く、導体層との密着性に優れた電気絶縁層を安定して与えることのできる硬化性樹脂組成物、ならびに、これを用いて得られるフィルム、積層フィルム、プリプレグ、積層体、硬化物、及び複合体が提供される。特に、本発明によれば、表面粗化処理条件のマージン(具体的には、処理時間、処理温度のマージン)が増大するため、表面粗度が低く、導体層との密着性に優れた電気絶縁層を、表面粗化処理条件を厳密に管理することなく、安定的に得ることが可能となる。 According to the present invention, a curable resin composition capable of stably providing an electrical insulating layer having low surface roughness and excellent adhesion to a conductor layer even when the surface roughening treatment conditions vary, and Provided are a film, a laminated film, a prepreg, a laminate, a cured product, and a composite obtained by using the same. In particular, according to the present invention, the margin of the surface roughening treatment conditions (specifically, the margin of the treatment time and the treatment temperature) is increased, so that the surface roughness is low, and the electricity is excellent in the adhesion to the conductor layer. The insulating layer can be stably obtained without strictly controlling the surface roughening treatment conditions.
(硬化性樹脂組成物)
本発明の硬化性樹脂組成物は、カルボキシル基、カルボン酸無水物基およびフェノール性水酸基から選ばれる少なくとも1つの官能基を有する脂環式オレフィン重合体(A)、縮合多環構造を有するフェノールノボラック型エポキシ化合物(B)、およびシランカップリング剤で表面処理された無機充填剤(C)を含み、前記エポキシ化合物(B)のエポキシ当量が260〜400であり、前記脂環式オレフィン重合体(A)100重量部に対する、前記エポキシ化合物(B)の含有割合が10〜100重量部である。
(Curable resin composition)
The curable resin composition of the present invention comprises an alicyclic olefin polymer (A) having at least one functional group selected from a carboxyl group, a carboxylic acid anhydride group and a phenolic hydroxyl group, and a phenol novolac having a condensed polycyclic structure Type epoxy compound (B), and an inorganic filler (C) surface-treated with a silane coupling agent, and the epoxy equivalent of the epoxy compound (B) is 260 to 400, and the alicyclic olefin polymer ( A) The content of the epoxy compound (B) is 10 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight.
(脂環式オレフィン重合体(A))
本発明で用いられる脂環式オレフィン重合体(A)は、カルボキシル基、カルボン酸無水物基およびフェノール性水酸基から選ばれる少なくとも1つの官能基を有する脂環式オレフィン重合体である。脂環式オレフィン重合体(A)を構成する脂環式構造としては、シクロアルカン構造やシクロアルケン構造などが挙げられるが、機械的強度や耐熱性などの観点から、シクロアルカン構造が好ましい。また、脂環式構造としては、単環、多環、縮合多環、橋架け環や、これらを組み合わせてなる多環などが挙げられる。脂環式構造を構成する炭素原子数は、特に限定されないが、通常4〜30個、好ましくは5〜20個、より好ましくは5〜15個の範囲であり、脂環式構造を構成する炭素原子数がこの範囲にある場合に、機械的強度、耐熱性、および成形性の諸特性が高度にバランスされ好適である。また、脂環式オレフィン重合体(A)は、通常、熱可塑性のものである。
(Alicyclic olefin polymer (A))
The alicyclic olefin polymer (A) used in the present invention is an alicyclic olefin polymer having at least one functional group selected from a carboxyl group, a carboxylic acid anhydride group and a phenolic hydroxyl group. As an alicyclic structure which comprises an alicyclic olefin polymer (A), although a cycloalkane structure, a cycloalkene structure, etc. are mentioned, a cycloalkane structure is preferable from viewpoints of mechanical strength, heat resistance, etc. In addition, as the alicyclic structure, a single ring, a multiple ring, a condensed multiple ring, a bridged ring, a multiple ring formed by combining these, and the like can be mentioned. The number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is not particularly limited, but is usually in the range of 4 to 30, preferably 5 to 20, more preferably 5 to 15, and carbon constituting the alicyclic structure When the number of atoms is in this range, various properties of mechanical strength, heat resistance and moldability are highly balanced and suitable. The alicyclic olefin polymer (A) is usually thermoplastic.
本発明で用いる脂環式オレフィン重合体(A)は、カルボキシル基、カルボン酸無水物基およびフェノール性水酸基から選ばれる少なくとも1つの官能基を有するものであるが、これらのなかでも、カルボン酸無水物基がより好ましい。なお、脂環式オレフィン重合体(A)は、このような官能基を2種以上有するものであってもよく、このような官能基は、重合体の主鎖を構成する原子に直接結合していても、メチレン基、オキシ基、オキシカルボニルオキシアルキレン基、フェニレン基などの他の二価の基を介して結合していてもよい。脂環式オレフィン重合体(A)中のカルボキシル基、カルボン酸無水物基およびフェノール性水酸基から選ばれる少なくとも1つの官能基を有する単量体単位の含有率は、特に制限されないが、脂環式オレフィン重合体(A)を構成する全単量体単位100モル%中、通常4〜60モル%、好ましくは8〜50モル%である。 The alicyclic olefin polymer (A) used in the present invention is one having at least one functional group selected from a carboxyl group, a carboxylic acid anhydride group and a phenolic hydroxyl group. An organic group is more preferred. The alicyclic olefin polymer (A) may have two or more of such functional groups, and such functional groups are directly bonded to atoms constituting the main chain of the polymer. Or may be bonded via another divalent group such as a methylene group, an oxy group, an oxycarbonyloxyalkylene group, or a phenylene group. Although the content of the monomer unit having at least one functional group selected from a carboxyl group, a carboxylic acid anhydride group and a phenolic hydroxyl group in the alicyclic olefin polymer (A) is not particularly limited, it is an alicyclic It is 4-60 mol% normally, Preferably it is 8-50 mol% in 100 mol% of all the monomer units which comprise an olefin polymer (A).
本発明で用いる脂環式オレフィン重合体(A)は、たとえば、以下の方法により得ることができる。すなわち、(1)カルボキシル基、カルボン酸無水物基およびフェノール性水酸基から選ばれる少なくとも1つの官能基(以下、適宜、「特定官能基」とする。)を有する脂環式オレフィンを、必要に応じて他の単量体を加えて、重合する方法、(2)特定官能基を有しない脂環式オレフィンを、特定官能基を有する単量体と共重合する方法、(3)特定官能基を有する芳香族オレフィンを、必要に応じて他の単量体を加えて、重合し、これにより得られる重合体の芳香環部分を水素化する方法、(4)特定官能基を有しない芳香族オレフィンを、特定官能基を有する単量体と共重合し、これにより得られる重合体の芳香環部分を水素化する方法、又は、(5)特定官能基を有しない脂環式オレフィン重合体に特定官能基を有する化合物を変性反応により導入する方法などにより得ることができる。これらのなかでも、前述の(1)の方法によって得られる重合体が好適である。
本発明で用いる脂環式オレフィン重合体(A)を得る重合法は開環重合や付加重合が用いられるが、開環重合の場合には得られた開環重合体を水素添加することが好ましい。
The alicyclic olefin polymer (A) used in the present invention can be obtained, for example, by the following method. That is, (1) an alicyclic olefin having at least one functional group selected from a carboxyl group, a carboxylic acid anhydride group and a phenolic hydroxyl group (hereinafter, appropriately referred to as a "specific functional group"), if necessary (2) a method of copolymerizing a cycloaliphatic olefin having no specific functional group with a monomer having a specific functional group, (3) a specific functional group (4) an aromatic olefin having no specific functional group, a method of polymerizing the aromatic olefin having, optionally adding other monomers, and polymerizing it, thereby hydrogenating the aromatic ring portion of the polymer obtained Is copolymerized with a monomer having a specific functional group to hydrogenate the aromatic ring portion of the polymer thus obtained, or (5) specified as an alicyclic olefin polymer having no specific functional group Change compounds with functional groups It can be obtained by a method of introducing the reaction. Among these, the polymers obtained by the above-mentioned method (1) are preferable.
The polymerization method for obtaining the alicyclic olefin polymer (A) used in the present invention is ring-opening polymerization or addition polymerization, but in the case of ring-opening polymerization, it is preferable to hydrogenate the obtained ring-opening polymer .
特定官能基を有する脂環式オレフィンの具体例としては、5−ヒドロキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−メチル−5−ヒドロキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−カルボキシメチル−5−ヒドロキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、9−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−メチル−9−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−カルボキシメチル−9−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、5−エキソ−6−エンド−ジヒドロキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、9−エキソ−10−エンド−ジヒドロキシカルボニルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、などのカルボキシル基を有する脂環式オレフィン;ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン−5,6−ジカルボン酸無水物、テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン−9,10−ジカルボン酸無水物、ヘキサシクロ[10.2.1.13,10.15,8.02,11.04,9]ヘプタデカ−6−エン−13,14−ジカルボン酸無水物などのカルボン酸無水物基を有する脂環式オレフィン;(5−(4−ヒドロキシフェニル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、9−(4−ヒドロキシフェニル)テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、N−(4−ヒドロキシフェニル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミドなどのフェノール性水酸基を有する脂環式オレフィンなどが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 5-hydroxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-methyl-5-hydroxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept as a specific example of the alicyclic olefin which has a specific functional group -2-ene, 5-carboxymethyl-5-hydroxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 9-hydroxycarbonyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-methyl-9-hydroxycarbonyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-carboxymethyl-9-hydroxycarbonyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 5-exo-6-endo-dihydroxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 9-exo-10-endo-dihydroxycarbonyltetracyclo [6. 2.1.1 3,6 . Alicyclic olefins having a carboxyl group such as 0 2,7 ] dodec-4-ene; bicyclo [2.2.1] hept-2-ene-5,6-dicarboxylic anhydride, tetracyclo [6.2 .1.1 3,6 . 0 2,7] dodeca-4-ene-9,10-dicarboxylic anhydride, hexacyclo [10.2.1.1 3, 10. 5,8 . 0 2, 11 . 0 4,9] heptadec-6-ene-13,14-alicyclic olefin having a carboxylic acid anhydride group, such as a dicarboxylic acid anhydride; (5- (4-hydroxyphenyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 9- (4-hydroxyphenyl) tetracyclo [6.2.1.1 3,6 .0 2,7] dodeca-4-ene, N-(4-hydroxyphenyl) bicyclo [2. 2.1] Aliphatic olefins having a phenolic hydroxyl group such as hept-5-ene-2,3-dicarboximide, etc. These may be used alone or two or more of them may be used. You may use together.
特定官能基を有しない脂環式オレフィンの具体例としては、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(慣用名:ノルボルネン)、5−エチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ブチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−エチリデン−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−メチリデン−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ビニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカ−3,8−ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)、テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン(慣用名:テトラシクロドデセン)、9−メチル−テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−エチル−テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−メチリデン−テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−エチリデン−テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−メトキシカルボニル−テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−ビニル−テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−プロペニル−テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−フェニル−テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、テトラシクロ[9.2.1.02,10.03,8]テトラデカ−3,5,7,12−テトラエン、シクロペンテン、シクロペンタジエンなどが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよいし2種以上を併用してもよい。 Specific examples of alicyclic olefins having no specific functional group include bicyclo [2.2.1] hept-2-ene (common name: norbornene), 5-ethyl-bicyclo [2.2.1] hept- 2-ene, 5-butyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-ethylidene-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-methylidene-bicyclo [2.2. 1] Hept-2-ene, 5-vinyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] deca-3,8-diene (common name: Dicyclopentadiene), tetracyclo [6.2.1.1 3, 6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene (common name: tetracyclododecene), 9-methyl-tetracyclo [6.2.1.1 3, 6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-ethyl-tetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-methylidene-tetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-ethylidene-tetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-methoxycarbonyl-tetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-vinyl-tetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-propenyl-tetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-phenyl-tetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7] dodeca-4-ene, tetracyclo [9.2.1.0 2,10. 0 3,8 ] tetradeca-3,5,7,12-tetraene, cyclopentene, cyclopentadiene and the like. One of these may be used alone, or two or more may be used in combination.
特定官能基を有しない芳香族オレフィンの例としては、スチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼンなどが挙げられる。なお、これらの化合物が前記特定官能基を有する場合、特定官能基を有する芳香族オレフィンの例として挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよいし2種以上を併用してもよい。 Examples of aromatic olefins having no specific functional group include styrene, α-methylstyrene, divinylbenzene and the like. In addition, when these compounds have the said specific functional group, they are mentioned as an example of the aromatic olefin which has a specific functional group. One of these may be used alone, or two or more may be used in combination.
脂環式オレフィンや芳香族オレフィンと共重合することができる、特定官能基を有する脂環式オレフィン以外の、特定官能基を有する単量体としては、特定官能基を有するエチレン性不飽和化合物が挙げられ、その具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、α−エチルアクリル酸、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリル酸、マレイン酸、フマール酸、イタコン酸などの不飽和カルボン酸化合物;無水マレイン酸、ブテニル無水コハク酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水シトラコン酸などの不飽和カルボン酸無水物;などが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよいし2種以上を併用してもよい。 As a monomer having a specific functional group other than an alicyclic olefin having a specific functional group, which can be copolymerized with an alicyclic olefin or an aromatic olefin, an ethylenically unsaturated compound having a specific functional group is Specific examples thereof include unsaturated carboxylic acid compounds such as acrylic acid, methacrylic acid, α-ethyl acrylic acid, 2-hydroxyethyl (meth) acrylic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, etc .; maleic anhydride And unsaturated carboxylic acid anhydrides such as butenyl succinic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, citraconic anhydride, and the like. One of these may be used alone, or two or more may be used in combination.
脂環式オレフィンや芳香族オレフィンと共重合することができる、脂環式オレフィン以外の、特定官能基を有しない単量体としては、特定官能基を有しないエチレン性不飽和化合物が挙げられ、その具体例としては、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、3−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ペンテン、3−エチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ヘキセン、4,4−ジメチル−1−ヘキセン、4,4−ジメチル−1−ペンテン、4−エチル−1−ヘキセン、3−エチル−1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、1−エイコセンなどの炭素数2〜20のエチレン又はα−オレフィン;1,4−ヘキサジエン、4−メチル−1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4−ヘキサジエン、1,7−オクタジエンなどの非共役ジエン;などが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよいし2種以上を併用してもよい。 Examples of monomers having no specific functional group other than alicyclic olefin that can be copolymerized with alicyclic olefins and aromatic olefins include ethylenically unsaturated compounds having no specific functional group, Specific examples thereof include ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 3-methyl-1-butene, 3-methyl-1-pentene, 3-ethyl-1-pentene, 4-methyl- 1-pentene, 4-methyl-1-hexene, 4,4-dimethyl-1-hexene, 4,4-dimethyl-1-pentene, 4-ethyl-1-hexene, 3-ethyl-1-hexene, 1- C2-C20 ethylene or alpha-olefins such as octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecene, 1-octadecene, 1-eicosene; And the like; hexadiene, 4-methyl-1,4-hexadiene, 5-methyl-1,4-hexadiene, 1,7-octadiene nonconjugated dienes such. One of these may be used alone, or two or more may be used in combination.
本発明で用いる脂環式オレフィン重合体(A)の分子量は、特に限定されないが、テトロヒドロフランを溶媒として用いたゲルパーミエーションクロマトグラフィにより測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量で、500〜1,000,000の範囲であることが好ましく、1,000〜500,000の範囲であることがより好ましく、特に好ましくは、3,000〜300,000の範囲である。重量平均分子量が小さすぎると硬化性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物の機械的強度が低下し、大きすぎるとシート状又はフィルム状に成形して成形体とする際に作業性が悪化する傾向がある。 The molecular weight of the cycloaliphatic olefin polymer (A) used in the present invention is not particularly limited, but it is a weight average molecular weight in terms of polystyrene as measured by gel permeation chromatography using tetrohydrofuran as a solvent. It is preferably in the range of 000,000, more preferably in the range of 1,000 to 500,000, and particularly preferably in the range of 3,000 to 300,000. When the weight average molecular weight is too small, the mechanical strength of the cured product obtained by curing the curable resin composition is reduced, and when it is too large, the workability when forming into a sheet or film to form a molded product is deteriorated. There is a tendency to
本発明で用いる脂環式オレフィン重合体(A)を、開環重合法により得る場合の重合触媒としては、従来公知のメタセシス重合触媒を用いることができる。メタセシス重合触媒としては、Mo,W,Nb,Ta,Ruなどの原子を含有してなる遷移金属化合物が例示され、なかでも、Mo,W又はRuを含有する化合物は重合活性が高くて好ましい。特に好ましいメタセシス重合触媒の具体的な例としては、(1)ハロゲン基、イミド基、アルコキシ基、アリロキシ基又はカルボニル基を配位子として有する、モリブデンあるいはタングステン化合物を主触媒とし、有機金属化合物を第二成分とする触媒や、(2)Ruを中心金属とする金属カルベン錯体触媒を挙げることができる。 As a polymerization catalyst in the case of obtaining the alicyclic olefin polymer (A) used by this invention by the ring-opening polymerization method, the conventionally well-known metathesis polymerization catalyst can be used. Examples of the metathesis polymerization catalyst include transition metal compounds containing atoms such as Mo, W, Nb, Ta and Ru. Among them, compounds containing Mo, W or Ru are preferable because of high polymerization activity. Specific examples of particularly preferable metathesis polymerization catalysts include: (1) Molybdenum or tungsten compounds having as a ligand a halogen group, an imide group, an alkoxy group, an aryloxy group or a carbonyl group as a main catalyst, and an organometallic compound The catalyst used as a 2nd component and the metal carbene complex catalyst which makes (2) Ru a central metal can be mentioned.
上記(1)の触媒で主触媒として用いられる化合物の例としては、MoCl5、MoBr5などのハロゲン化モリブデン化合物やWCl6、WOCl4、タングステン(フェニルイミド)テトラクロリド・ジエチルエーテルなどのハロゲン化タングステン化合物が挙げられる。また、上記(1)の触媒で、第二成分として用いられる有機金属化合物としては、周期表第1族、2族、12族、13族又は14族の有機金属化合物を挙げることができる。なかでも、有機リチウム化合物、有機マグネシウム化合物、有機亜鉛化合物、有機アルミニウム化合物、有機スズ化合物が好ましく、有機リチウム化合物、有機アルミニウム化合物、有機スズ化合物が特に好ましい。有機リチウム化合物としては、n−ブチルリチウム、メチルリチウム、フェニルリチウム、ネオペンチルリチウム、ネオフィルリチウムなどを挙げることができる。有機マグネシウムとしては、ブチルエチルマグネシウム、ブチルオクチルマグネシウム、ジヘキシルマグネシウム、エチルマグネシウムクロリド、n−ブチルマグネシウムクロリド、アリルマグネシウムブロミド、ネオペンチルマグネシウムクロリド、ネオフィルマグネシウムクロリドなどを挙げることができる。有機亜鉛化合物としては、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、ジフェニル亜鉛などを挙げることができる。有機アルミニウム化合物としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、ジエチルアルミニウムエトキシド、エチルアルミニウムジエトキシドなどを挙げることができ、さらに、これらの有機アルミニウム化合物と水との反応によって得られるアルミノキサン化合物も用いることができる。有機スズ化合物としては、テトラメチルスズ、テトラ(n−ブチル)スズ、テトラフェニルスズなどを挙げることができる。これらの有機金属化合物の量は、用いる有機金属化合物によって異なるが、主触媒の中心金属に対して、モル比で、0.1〜10,000倍が好ましく、0.2〜5,000倍がより好ましく、0.5〜2,000倍が特に好ましい。 Examples of compounds used as a main catalyst in the catalyst of the above (1) include halogenated molybdenum compounds such as MoCl 5 and MoBr 5 and halogenated compounds such as WCl 6 , WOCl 4 , tungsten (phenyl imide) tetrachloride / diethyl ether etc. Tungsten compounds can be mentioned. Moreover, as an organic metal compound used as a 2nd component by the catalyst of said (1), the organic metal compound of periodic table group 1, 2, 12, 13, or 14 group can be mentioned. Among them, organic lithium compounds, organic magnesium compounds, organic zinc compounds, organic aluminum compounds and organic tin compounds are preferable, and organic lithium compounds, organic aluminum compounds and organic tin compounds are particularly preferable. Examples of the organic lithium compound include n-butyllithium, methyllithium, phenyllithium, neopentyllithium, neophyllithium and the like. Examples of the organic magnesium include butylethyl magnesium, butyl octyl magnesium, dihexyl magnesium, ethyl magnesium chloride, n-butyl magnesium chloride, allyl magnesium bromide, neopentyl magnesium chloride, neophyl magnesium chloride and the like. Examples of organic zinc compounds include dimethyl zinc, diethyl zinc and diphenyl zinc. Examples of the organoaluminum compound include trimethylaluminum, triethylaluminum, triisobutylaluminum, diethylaluminum chloride, ethylaluminum sesquichloride, ethylaluminum dichloride, diethylaluminum ethoxide, ethylaluminum diethoxide and the like, and further, An aluminoxane compound obtained by the reaction of an organoaluminum compound and water can also be used. Examples of the organotin compound include tetramethyltin, tetra (n-butyl) tin and tetraphenyltin. The amount of these organometallic compounds varies depending on the organometallic compound to be used, but the molar ratio is preferably 0.1 to 10,000 times, 0.2 to 5,000 times the central metal of the main catalyst. More preferably, 0.5 to 2,000 times is particularly preferable.
また、上記(2)のRuを中心金属とする金属カルベン錯体触媒としては、(1,3−ジメシチル−イミダゾリジン−2−イリデン)(トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリデンルテニウムジクロリド、ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリデンルテニウムジクロリド、トリシクロヘキシルホスフィン−〔1,3−ビス(2,4,6−トリメチルフェニル)−4,5−ジブロモイミダゾール−2−イリデン〕−〔ベンジリデン〕ルテニウムジクロリド、4−アセトキシベンジリデン(ジクロロ)(4,5−ジブロモ−1,3−ジメシチル−4−イミダゾリン−2−イリデン)(トリシクロヘキシルホスフィン)ルテニウムなどが挙げられる。 Moreover, as a metal carbene complex catalyst which makes Ru the center metal of said (2), (1, 3- dimesityl imidazolidin 2-ylidene) (tricyclohexyl phosphine) benzylidene ruthenium dichloride, bis (tricyclohexyl phosphine) benzylidene Ruthenium dichloride, tricyclohexylphosphine- [1,3-bis (2,4,6-trimethylphenyl) -4,5-dibromoimidazole-2-ylidene]-[benzylidene] ruthenium dichloride, 4-acetoxybenzylidene (dichloro) ( 4,5-dibromo-1,3-dimesityl-4-imidazolin-2-ylidene) (tricyclohexylphosphine) ruthenium and the like.
メタセシス重合触媒の使用割合は、重合に用いる単量体に対して、(メタセシス重合触媒中の遷移金属:単量体)のモル比で、通常1:100〜1:2,000,000の範囲であり、好ましくは1:200〜1:1,000,000の範囲である。触媒量が多すぎると触媒除去が困難となり、少なすぎると十分な重合活性が得られないおそれがある。 The use ratio of the metathesis polymerization catalyst is usually in the range of 1: 100 to 1: 2,000,000 as the molar ratio of (transition metal in the metathesis polymerization catalyst: monomer) to the monomer used for the polymerization. And preferably in the range of 1: 200 to 1: 1,000,000. When the amount of the catalyst is too large, the removal of the catalyst becomes difficult, and when it is too small, sufficient polymerization activity may not be obtained.
重合反応は、通常、有機溶媒中で行なう。用いられる有機溶媒は、重合体が所定の条件で溶解又は分散し、重合に影響しないものであれば、特に限定されないが、工業的に汎用されているものが好ましい。有機溶媒の具体例としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素;シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、トリメチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジエチルシクロヘキサン、デカヒドロナフタレン、ビシクロヘプタン、トリシクロデカン、ヘキサヒドロインデンシクロヘキサン、シクロオクタンなどの脂環族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン系脂肪族炭化水素;クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系芳香族炭化水素;ニトロメタン、ニトロベンゼン、アセトニトリルなどの含窒素炭化水素系溶媒;ジエチルエ−テル、テトラヒドロフランなどのエ−テル系溶媒;アニソール、フェネトールなどの芳香族エーテル系溶媒;などを挙げることができる。これらの中でも、工業的に汎用されている芳香族炭化水素系溶媒や脂肪族炭化水素系溶媒、脂環族炭化水素系溶媒、エーテル系溶剤、芳香族エーテル系溶媒が好ましい。 The polymerization reaction is usually carried out in an organic solvent. The organic solvent to be used is not particularly limited as long as the polymer dissolves or disperses under predetermined conditions and does not affect the polymerization, but it is preferably industrially used widely. Specific examples of the organic solvent include aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane and heptane; cyclopentane, cyclohexane, methylcyclohexane, dimethylcyclohexane, trimethylcyclohexane, ethylcyclohexane, diethylcyclohexane, decahydronaphthalene, bicycloheptane, tricyclodecane Alicyclic hydrocarbons such as hexahydroindene cyclohexane and cyclooctane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; halogen-based aliphatic hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and 1,2-dichloroethane; chlorobenzene and dichlorobenzene Halogen-containing aromatic hydrocarbons such as: Nitromethane, nitrobenzene, nitrogen-containing hydrocarbon solvents such as acetonitrile; diethyl ether, tetrahydrofuran etc Et - ether solvents; and the like; anisole, aromatic ether solvents such as phenetole. Among these, aromatic hydrocarbon solvents, aliphatic hydrocarbon solvents, alicyclic hydrocarbon solvents, ether solvents, and aromatic ether solvents which are widely used industrially are preferable.
有機溶媒の使用量は、重合溶液中の単量体の濃度が、1〜50重量%となる量であることが好ましく、2〜45重量%となる量であることがより好ましく、3〜40重量%となる量であることが特に好ましい。単量体の濃度が1重量%未満の場合は生産性が悪くなり、50重量%を超えると、重合後の溶液粘度が高すぎて、その後の水素添加反応が困難となる場合がある。 The amount of the organic solvent used is preferably such that the concentration of the monomer in the polymerization solution will be 1 to 50% by weight, more preferably 2 to 45% by weight, and 3 to 40. It is particularly preferred that the amount is in weight percent. When the concentration of the monomer is less than 1% by weight, the productivity is deteriorated, and when it exceeds 50% by weight, the solution viscosity after polymerization is too high, and the subsequent hydrogenation reaction may be difficult.
重合反応は、重合に用いる単量体とメタセシス重合触媒とを混合することにより開始される。これらを混合する方法としては、単量体溶液にメタセシス重合触媒溶液を加えてもよいし、その逆でもよい。用いるメタセシス重合触媒が、主触媒である遷移金属化合物と第二成分である有機金属化合物とからなる混合触媒である場合には、単量体溶液に混合触媒の反応液を加えてもよいし、その逆でもよい。また、単量体と有機金属化合物との混合溶液に遷移金属化合物溶液を加えてもよいし、その逆でもよい。さらに、単量体と遷移金属化合物の混合溶液に有機金属化合物を加えてもよいし、その逆でもよい。 The polymerization reaction is initiated by mixing the monomers used for the polymerization and the metathesis polymerization catalyst. As a method of mixing these, the metathesis polymerization catalyst solution may be added to the monomer solution, or vice versa. When the metathesis polymerization catalyst to be used is a mixed catalyst consisting of a transition metal compound which is a main catalyst and an organic metal compound which is a second component, the reaction liquid of the mixed catalyst may be added to the monomer solution, The reverse is also possible. Further, the transition metal compound solution may be added to the mixed solution of the monomer and the organometallic compound, or vice versa. Furthermore, the organometallic compound may be added to the mixed solution of the monomer and the transition metal compound, or vice versa.
重合温度は特に制限はないが、通常、−30℃〜200℃、好ましくは0℃〜180℃である。重合時間は、特に制限はないが、通常、1分間〜100時間である。 The polymerization temperature is not particularly limited, but is usually -30 ° C to 200 ° C, preferably 0 ° C to 180 ° C. The polymerization time is not particularly limited, but is usually 1 minute to 100 hours.
得られる脂環式オレフィン重合体(A)の分子量を調整する方法としては、ビニル化合物又はジエン化合物を適当量添加する方法を挙げることができる。分子量調整に用いるビニル化合物は、ビニル基を有する有機化合物であれば特に限定されないが、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテンなどのα−オレフィン類;スチレン、ビニルトルエンなどのスチレン類;エチルビニルエーテル、i−ブチルビニルエーテル、アリルグリシジルエーテルなどのエーテル類;アリルクロライドなどのハロゲン含有ビニル化合物;酢酸アリル、アリルアルコール、グリシジルメタクリレートなど酸素含有ビニル化合物、アクリルアミドなどの窒素含有ビニル化合物などを挙げることができる。分子量調整に用いるジエン化合物としては、1,4−ペンタジエン、1,4−ヘキサジエン、1,5−ヘキサジエン、1,6−ヘプタジエン、2−メチル−1,4−ペンタジエン、2,5−ジメチル−1,5−ヘキサジエンなどの非共役ジエン、又は、1,3−ブタジエン、2−メチル−1,3−ブタジエン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、1,3−ヘキサジエンなどの共役ジエンを挙げることができる。ビニル化合物又はジエン化合物の添加量は、目的とする分子量に応じて、重合に用いる単量体に対して、0.1〜10モル%の間で任意に選択することができる。 As a method of adjusting the molecular weight of the obtained alicyclic olefin polymer (A), a method of adding an appropriate amount of a vinyl compound or a diene compound can be mentioned. The vinyl compound used for molecular weight adjustment is not particularly limited as long as it is an organic compound having a vinyl group, but α-olefins such as 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-octene and the like; styrene, vinyl toluene and the like Styrenes; Ethers such as ethyl vinyl ether, i-butyl vinyl ether and allyl glycidyl ether; Halogen-containing vinyl compounds such as allyl chloride; Oxygen-containing vinyl compounds such as allyl acetate, allyl alcohol and glycidyl methacrylate, and nitrogen-containing vinyl compounds such as acrylamide Can be mentioned. As a diene compound used for molecular weight adjustment, 1,4-pentadiene, 1,4-hexadiene, 1,5-hexadiene, 1,6-heptadiene, 2-methyl-1,4-pentadiene, 2,5-dimethyl-1 Non-conjugated diene such as 5-hexadiene or 1,3-butadiene, 2-methyl-1,3-butadiene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, 1,3- Mention may be made of conjugated dienes such as hexadiene. The addition amount of the vinyl compound or the diene compound can be optionally selected between 0.1 and 10 mol% with respect to the monomer used for polymerization, depending on the target molecular weight.
本発明で用いる脂環式オレフィン重合体(A)を、付加重合法により得る場合の重合触媒としては、たとえば、チタン、ジルコニウム又はバナジウム化合物と有機アルミニウム化合物とからなる触媒が好適に用いられる。これらの重合触媒は、それぞれ単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。重合触媒の量は、(重合触媒中の金属化合物:重合に用いる単量体)のモル比で、通常、1:100〜1:2,000,000の範囲である。 As a polymerization catalyst in the case of obtaining the alicyclic olefin polymer (A) used by this invention by the addition polymerization method, the catalyst which consists of titanium, a zirconium or a vanadium compound, and an organic aluminum compound is used suitably, for example. These polymerization catalysts can be used alone or in combination of two or more. The amount of the polymerization catalyst is usually in the range of 1: 100 to 1: 2,000,000 as a molar ratio of (metal compound in the polymerization catalyst: monomer used for polymerization).
本発明で用いる脂環式オレフィン重合体(A)として、開環重合体の水素添加物を用いる場合の、開環重合体に対する水素添加は、通常、水素添加触媒を用いて行われる。水素添加触媒は特に限定されず、オレフィン化合物の水素添加に際して一般的に使用されているものを適宜採用すればよい。水素添加触媒の具体例としては、たとえば、酢酸コバルトとトリエチルアルミニウム、ニッケルアセチルアセトナートとトリイソブチルアルミニウム、チタノセンジクロリドとn−ブチルリチウム、ジルコノセンジクロリドとsec−ブチルリチウム、テトラブトキシチタネートとジメチルマグネシウムのような遷移金属化合物とアルカリ金属化合物との組み合わせからなるチーグラー系触媒;ジクロロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム、特開平7−2929号公報、特開平7−149823号公報、特開平11−209460号公報、特開平11−158256号公報、特開平11−193323号公報、特開平11−209460号公報などに記載されている、たとえば、ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリジンルテニウム(IV)ジクロリドなどのルテニウム化合物からなる貴金属錯体触媒;などの均一系触媒が挙げられる。また、ニッケル、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウムなどの金属を、カーボン、シリカ、ケイソウ土、アルミナ、酸化チタンなどの担体に担持させた不均一触媒、たとえば、ニッケル/シリカ、ニッケル/ケイソウ土、ニッケル/アルミナ、パラジウム/カーボン、パラジウム/シリカ、パラジウム/ケイソウ土、パラジウム/アルミナなどを用いることもできる。また、上述したメタセシス重合触媒をそのまま、水素添加触媒として用いることも可能である。 When a hydrogenated product of a ring-opening polymer is used as the alicyclic olefin polymer (A) used in the present invention, hydrogenation of the ring-opening polymer is usually carried out using a hydrogenation catalyst. The hydrogenation catalyst is not particularly limited, and one which is generally used in hydrogenation of an olefin compound may be appropriately adopted. Specific examples of the hydrogenation catalyst include, for example, cobalt acetate and triethylaluminum, nickel acetylacetonate and triisobutylaluminum, titanocene dichloride and n-butyllithium, zirconocene dichloride and sec-butyllithium, tetrabutoxytitanate and dimethylmagnesium, etc. Ziegler catalyst comprising a combination of a transition metal compound and an alkali metal compound; dichlorotris (triphenylphosphine) rhodium, JP-A-7-2929, JP-A-7-149823, JP-A-11-209460, For example, bis (tricyclohexylphosphine) benzylidine described in JP-A-11-158256, JP-A-11-193323, JP-A-11-209460, etc. Noble metal complex catalyst comprising a ruthenium compound such as ruthenium (IV) dichloride; include homogeneous catalysts such as. In addition, heterogeneous catalysts in which a metal such as nickel, palladium, platinum, rhodium, or ruthenium is supported on a carrier such as carbon, silica, diatomaceous earth, alumina, or titanium oxide; for example, nickel / silica, nickel / diatomaceous earth, nickel And alumina, palladium / carbon, palladium / silica, palladium / diatomaceous earth, palladium / alumina and the like can also be used. Moreover, it is also possible to use the above-mentioned metathesis polymerization catalyst as it is as a hydrogenation catalyst.
水素添加反応は、通常、有機溶媒中で行う。有機溶媒は生成する水素添加物の溶解性により適宜選択することができ、上述した重合反応に用いる有機溶媒と同様の有機溶媒を使用することができる。したがって、重合反応後、有機溶媒を入れ替えることなく、そのまま水素添加触媒を添加して反応させることもできる。さらに、上述した重合反応に用いる有機溶媒の中でも、水素添加反応に際して反応しないという観点から、芳香族炭化水素系溶媒や脂肪族炭化水素系溶媒、脂環族炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、芳香族エーテル系溶媒が好ましく、芳香族エーテル系溶媒がより好ましい。 The hydrogenation reaction is usually carried out in an organic solvent. The organic solvent can be appropriately selected depending on the solubility of the generated hydrogenate, and the same organic solvent as the organic solvent used for the above-mentioned polymerization reaction can be used. Therefore, after the polymerization reaction, it is also possible to add the hydrogenation catalyst as it is to react without replacing the organic solvent. Furthermore, among the organic solvents used for the above-mentioned polymerization reaction, from the viewpoint of not reacting in the hydrogenation reaction, aromatic hydrocarbon solvents, aliphatic hydrocarbon solvents, alicyclic hydrocarbon solvents, ether solvents, aroma Group ether solvents are preferable, and aromatic ether solvents are more preferable.
水素添加反応条件は、使用する水素添加触媒の種類に応じて適宜選択すればよい。反応温度は、通常、−20〜250℃、好ましくは−10〜220℃、より好ましくは0〜200℃である。−20℃未満では反応速度が遅くなり、逆に250℃を超えると副反応が起こりやすくなる。水素の圧力は、通常、0.01〜10.0MPa、好ましくは0.05〜8.0MPaである。水素圧力が0.01MPa未満では水素添加速度が遅くなり、10.0MPaを超えると高耐圧反応装置が必要となる。 The hydrogenation reaction conditions may be appropriately selected according to the type of hydrogenation catalyst to be used. The reaction temperature is usually -20 to 250 ° C, preferably -10 to 220 ° C, and more preferably 0 to 200 ° C. When the temperature is lower than -20 ° C, the reaction rate becomes slow, and when the temperature exceeds 250 ° C, side reactions easily occur. The pressure of hydrogen is usually 0.01 to 10.0 MPa, preferably 0.05 to 8.0 MPa. If the hydrogen pressure is less than 0.01 MPa, the rate of hydrogen addition will be slow, and if it exceeds 10.0 MPa, a high pressure resistant reactor will be required.
水素添加反応の時間は、水素添加率をコントロールするために適宜選択される。反応時間は、通常、0.1〜50時間の範囲であり、重合体中の主鎖の炭素−炭素二重結合100モル%のうち50モル%以上、好ましくは70モル%以上、より好ましくは80モル%以上、特に好ましくは90モル%以上を水素添加することができる。 The time of the hydrogenation reaction is appropriately selected to control the hydrogenation rate. The reaction time is usually in the range of 0.1 to 50 hours, and 50 mol% or more, preferably 70 mol% or more, more preferably 100 mol% of carbon-carbon double bonds in the main chain in the polymer. 80 mol% or more, particularly preferably 90 mol% or more can be hydrogenated.
水素添加反応を行った後、水素添加反応に用いた触媒を除去する処理を行ってもよい。触媒の除去方法は特に制限されず、遠心分離、濾過などの方法が挙げられる。さらに、水やアルコールなどの触媒不活性化剤を添加したり、また活性白土、アルミナ、珪素土などの吸着剤を添加したりして、触媒の除去を促進させることができる。 After the hydrogenation reaction is performed, a treatment for removing the catalyst used for the hydrogenation reaction may be performed. The method of removing the catalyst is not particularly limited, and methods such as centrifugation and filtration may be mentioned. Furthermore, catalyst removal can be promoted by adding a catalyst deactivating agent such as water or alcohol, or adding an adsorbent such as activated clay, alumina, silicon earth or the like.
本発明で用いられる脂環式オレフィン重合体(A)は、重合や水素添加反応後の重合体溶液として使用しても、溶媒を除去した後に使用してもどちらでもよいが、樹脂組成物を調製する際に添加剤の溶解や分散が良好になるとともに、工程が簡素化できるため、重合体溶液として使用するのが好ましい。 The alicyclic olefin polymer (A) used in the present invention may be used either as a polymer solution after polymerization or hydrogenation reaction or after removal of the solvent. It is preferable to use as a polymer solution because the dissolution and dispersion of the additive become good and the process can be simplified when preparing.
(縮合多環構造を有するフェノールノボラック型エポキシ化合物(B))
本発明で用いられる縮合多環構造を有するフェノールノボラック型エポキシ化合物(B)〔以下、「フェノールノボラック型エポキシ化合物(B)」と略記することがある。〕は、縮合多環構造を有し、エポキシ当量が260〜400の範囲にあるフェノールノボラック型のエポキシ化合物である。ここでフェノールノボラック型エポキシ化合物(B)のエポキシ当量とは、1グラム当量のエポキシ基を含むエポキシ化合物のグラム数(g/eq)であり、化合物中のオキシラン酸素量を測定することにより算出される。
(Phenol novolac epoxy compound (B) having condensed polycyclic structure)
The phenol novolac epoxy compound (B) having a condensed polycyclic structure used in the present invention (hereinafter, referred to as "phenol novolac epoxy compound (B)") may be abbreviated. ] Is a phenol novolak type epoxy compound having a condensed polycyclic structure and an epoxy equivalent in the range of 260 to 400. Here, the epoxy equivalent of the phenol novolac epoxy compound (B) is the number of grams of epoxy compound containing 1 gram equivalent of epoxy group (g / eq), which is calculated by measuring the amount of oxygen of oxirane in the compound. Ru.
前記縮合多環構造とは、2以上の単環が縮合(縮環)してなる構造をいう。縮合多環構造を構成する環は脂環であっても芳香環であってもよく、また、ヘテロ原子を含んだものであってもよい。縮合環数は特に限定されるものではないが、得られる電気絶縁層の耐熱性や機械的強度を高める観点から、2環以上であるのが好ましく、実用上、その上限としては10環程度である。このような縮合多環構造としては、例えば、ジシクロペンタジエン構造、ナフタレン構造、フルオレン構造、アントラセン構造、フェナントレン構造、トリフェニレン構造、ピレン構造、オバレン構造などが挙げられる。縮合多環構造は、得られる硬化樹脂において、通常、当該樹脂の主鎖を構成するが、側鎖に存在していてもよい。 The fused polycyclic structure refers to a structure formed by condensation (ring condensation) of two or more single rings. The ring constituting the fused polycyclic structure may be alicyclic or aromatic and may contain a hetero atom. The number of condensed rings is not particularly limited, but from the viewpoint of enhancing the heat resistance and mechanical strength of the obtained electrical insulating layer, it is preferably 2 rings or more, and for practical purposes, the upper limit is about 10 rings. is there. As such a fused polycyclic structure, for example, a dicyclopentadiene structure, a naphthalene structure, a fluorene structure, an anthracene structure, a phenanthrene structure, a triphenylene structure, a pyrene structure, an ovalene structure and the like can be mentioned. The condensed polycyclic structure usually constitutes the main chain of the resin in the obtained cured resin, but may be present in the side chain.
本発明で用いるフェノールノボラック型エポキシ化合物(B)としては、エポキシ当量が260〜400の範囲であればよいが、好ましくは265〜350の範囲、より好ましくは270〜300の範囲である。エポキシ当量が低すぎたり、あるいは高過ぎたりすると、表面粗化処理条件が変動した場合における、得られる硬化物の安定性(特に、表面粗度、導体層との密着性の安定性)の向上効果が得られなくなる。 The phenol novolac epoxy compound (B) used in the present invention may have an epoxy equivalent in the range of 260 to 400, preferably in the range of 265 to 350, and more preferably in the range of 270 to 300. When the epoxy equivalent is too low or too high, the stability of the resulting cured product (particularly, the surface roughness and the adhesion with the conductor layer) is improved when the surface roughening treatment conditions are changed. The effect can not be obtained.
本発明で用いられるフェノールノボラック型エポキシ化合物(B)は、公知の方法に従って適宜製造可能であるが、市販品としても入手可能である。たとえば、フェノールノボラック型エポキシ化合物(B)の市販品の例としては、ジシクロペンタジエン構造を有するノボラック型エポキシ化合物である、例えば、商品名「エピクロンHP7200、エピクロンHP7200H、エピクロンHP7200HH、エピクロンHP7200HHH」(以上、DIC社製、「エピクロン」は登録商標)、商品名「Tactix756」(ハンツマン・アドバンスト・マテリアル社製、「Tactix」は登録商標)などが挙げられる。
以上のフェノールノボラック型エポキシ化合物(B)は、それぞれ単独で、又は2種以上を混合して用いることができる。
The phenol novolac epoxy compound (B) used in the present invention can be appropriately produced according to a known method, but is also available as a commercial product. For example, as a commercial product of a phenol novolac epoxy compound (B), it is a novolac epoxy compound having a dicyclopentadiene structure, for example, trade names "Epiclon HP 7200, Epiclon HP 7200H, Epiclon HP 7200HH, Epiclon HP 7200HHH" (more than Manufactured by DIC, "Epiclon" is a registered trademark, and trade name "Tactix 756" (manufactured by Huntsman Advanced Materials, "Tactix" is a registered trademark), and the like.
The above phenol novolak epoxy compounds (B) can be used alone or in combination of two or more.
本発明の硬化性樹脂組成物中における、フェノールノボラック型エポキシ化合物(B)の含有量は、脂環式オレフィン重合体(A)100重量部に対して、10〜100重量部であり、好ましくは15〜80重量部、より好ましくは20〜60重量部である。フェノールノボラック型エポキシ化合物(B)の含有量が少なすぎると、表面粗化処理条件が変動した場合における、導体層との密着強度の安定性の向上効果が得られなくなったり、耐熱性や実装信頼性に劣る場合がある。一方、フェノールノボラック型エポキシ化合物(B)の含有量が多すぎると、表面粗化処理条件が変動した場合における、得られる硬化物の表面粗度の安定性の向上効果が得られなくなったり、耐熱性や電気特性に劣る場合がある。 The content of the phenol novolac epoxy compound (B) in the curable resin composition of the present invention is 10 to 100 parts by weight, preferably 100 parts by weight of the alicyclic olefin polymer (A). It is 15 to 80 parts by weight, more preferably 20 to 60 parts by weight. If the content of the phenol novolac epoxy compound (B) is too small, the effect of improving the stability of the adhesion strength with the conductor layer can not be obtained when the surface roughening treatment conditions change, or the heat resistance and mounting reliability can not be obtained. It may be inferior to sex. On the other hand, when the content of the phenol novolac epoxy compound (B) is too large, the effect of improving the stability of the surface roughness of the obtained cured product can not be obtained when the surface roughening treatment conditions fluctuate, or the heat resistance can not be obtained. May be inferior to the
また、本発明の硬化樹脂組成物中における、フェノールノボラック型エポキシ化合物(B)と脂環式オレフィン重合体(A)との当量比〔フェノールノボラック型エポキシ化合物(B)のエポキシ基の合計数に対する、脂環式オレフィン重合体(A)の官能基の合計数の比率(エポキシ基量/官能基量)〕は、好ましくは、0.9〜1.2、より好ましくは0.95〜1.15である。 Further, the equivalent ratio of the phenol novolac epoxy compound (B) to the alicyclic olefin polymer (A) in the cured resin composition of the present invention [the total number of epoxy groups of the phenol novolac epoxy compound (B)] The ratio of the total number of functional groups of the alicyclic olefin polymer (A) (epoxy group content / functional group content) is preferably 0.9 to 1.2, more preferably 0.95 to 1. It is 15.
〔シランカップリング剤で表面処理された無機充填剤(C)〕
本発明で用いられるシランカップリング剤で表面処理された無機充填剤(C)〔以下、「表面処理無機充填剤(C)」と略記することがある。〕は、無機充填剤を、その表面をシランカップリング剤で予め処理したものであればよく、特に限定されない。なお、本発明において、シランカップリング剤で「表面処理された」とは、無機充填剤粒子の表面にシランカップリング剤が物理的または化学的に結合していることを示す。
[Inorganic filler (C) surface-treated with silane coupling agent]
The inorganic filler (C) surface-treated with a silane coupling agent used in the present invention [hereinafter, may be abbreviated as “surface-treated inorganic filler (C)”. The inorganic filler is not particularly limited as long as it has been pretreated with the silane coupling agent on the surface of the inorganic filler. In the present invention, “surface-treated with a silane coupling agent” indicates that the silane coupling agent is physically or chemically bonded to the surface of the inorganic filler particles.
本発明においては、上述した脂環式オレフィン重合体(A)と、フェノールノボラック型エポキシ化合物(B)とともに、表面処理無機充填剤(C)を用いることにより、表面粗化処理に通常用いられる過マンガン酸塩の水溶液などの酸化性化合物に対する耐性を高めることができ、これにより、表面粗化処理を温和に進行させることが可能となり、結果として、表面粗化処理条件が変動した場合でも、表面粗度が低く、導体層との密着性に優れた電気絶縁層を安定して得ることが可能となる。 In the present invention, by using the surface-treated inorganic filler (C) together with the above-described alicyclic olefin polymer (A) and phenol novolac epoxy compound (B), it is possible to use an ordinary filter for surface roughening. The resistance to oxidizing compounds such as an aqueous solution of manganate can be enhanced, which allows the surface roughening treatment to proceed gently, and as a result, even if the surface roughening treatment conditions change, the surface It becomes possible to stably obtain an electrical insulating layer having a low degree of roughness and excellent adhesion to the conductor layer.
無機充填剤としては、たとえば、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化マグネシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸ジルコニウム、水和アルミナ、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム、シリカ、タルク、クレーなどが挙げられる。これらのなかでも、硬化物の表面粗化処理に使用される過マンガン酸塩の水溶液などの酸化性化合物により、分解もしくは溶解しないものが好ましく、特にシリカが好ましい。 As the inorganic filler, for example, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium carbonate, zinc oxide, titanium oxide, magnesium oxide, magnesium silicate, calcium silicate, zirconium silicate, hydrated alumina, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, Barium sulfate, silica, talc, clay and the like can be mentioned. Among these, those which do not decompose or dissolve due to an oxidizing compound such as an aqueous solution of permanganate used for surface roughening treatment of a cured product are preferable, and silica is particularly preferable.
無機充填剤の表面処理に用いられるシランカップリング剤としては、特に限定されないが、グリシジル基、アミノ基、メルカプト基から選択される少なくとも1つの官能基を有するものであることが好ましく、アミノ基を有するものであることが好ましい。 The silane coupling agent used for the surface treatment of the inorganic filler is not particularly limited, but is preferably one having at least one functional group selected from glycidyl group, amino group and mercapto group, It is preferable to have.
グリシジル基を有するシランカップリング剤としては、たとえば、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等が挙げられる。
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−(N−フェニル)アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
メルカプト基を有するシランカップリング剤としては、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。
Examples of the silane coupling agent having a glycidyl group include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane and the like. Be
As a silane coupling agent having an amino group, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-amino) Ethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3- (N-phenyl) aminopropyltrimethoxysilane and the like can be mentioned.
As a silane coupling agent having a mercapto group, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, etc. may be mentioned.
表面処理無機充填剤(C)の平均粒子径は、好ましくは0.1〜0.5μmであり、より好ましくは0.15〜0.4μmである。表面処理無機充填剤(C)の平均粒子径を前記範囲とすることにより、得られる電気絶縁層の表面粗度をより適切なものとすることができる。なお、平均粒子径は、粒度分布測定装置により測定することができる。 The average particle size of the surface-treated inorganic filler (C) is preferably 0.1 to 0.5 μm, more preferably 0.15 to 0.4 μm. By setting the average particle diameter of the surface-treated inorganic filler (C) in the above range, the surface roughness of the obtained electrical insulating layer can be made more appropriate. The average particle size can be measured by a particle size distribution measuring apparatus.
表面処理無機充填剤(C)の含有量は、本発明の硬化性樹脂組成物中(有機溶剤を含む場合には有機溶剤を除く硬化性樹脂組成物中)、好ましくは5〜50重量%であり、より好ましくは10〜45重量%、さらに好ましくは15〜40重量%である。また、本発明の硬化性樹脂組成物中において、表面処理無機充填剤(C)の含有量は、上記範囲とすればよいが、脂環式オレフィン重合体(A)の含有量よりも少ないものとすることが好ましい。表面処理無機充填剤(C)の含有量を前記範囲とすることにより、表面粗化処理条件が変動した場合であっても、得られる電気絶縁層の表面粗度の変動が少なく、導体層との密着強度が安定なものとすることができる。 The content of the surface-treated inorganic filler (C) is preferably 5 to 50% by weight in the curable resin composition of the present invention (in the case of containing the organic solvent, in the curable resin composition excluding the organic solvent). More preferably, it is 10 to 45% by weight, and more preferably 15 to 40% by weight. In the curable resin composition of the present invention, the content of the surface-treated inorganic filler (C) may be in the above range, but is less than the content of the alicyclic olefin polymer (A) It is preferable to By setting the content of the surface-treated inorganic filler (C) in the above range, the variation in the surface roughness of the obtained electrical insulating layer is small even when the surface roughening treatment conditions vary, Adhesion strength can be made stable.
(その他の成分)
また、本発明で用いる硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、硬化促進剤を含有していてもよい。硬化促進剤としては特に限定されないが、たとえば、脂肪族ポリアミン、芳香族ポリアミン、第2級アミン、第3級アミン、イミダゾール誘導体、有機酸ヒドラジド、ジシアンジアミド及びその誘導体、尿素誘導体などが挙げられるが、これらのなかでも、イミダゾール誘導体が特に好ましい。
(Other ingredients)
Moreover, in the curable resin composition used by this invention, you may contain the hardening accelerator as needed. The curing accelerator is not particularly limited, and examples thereof include aliphatic polyamines, aromatic polyamines, secondary amines, tertiary amines, imidazole derivatives, organic acid hydrazide, dicyandiamide and derivatives thereof, urea derivatives and the like. Among these, imidazole derivatives are particularly preferable.
イミダゾール誘導体としては、イミダゾール骨格を有する化合物であればよく、特に限定されないが、たとえば、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、ビス−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−メチル−2−エチルイミダゾール、2−イソプロピルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾールなどのアルキル置換イミダゾール化合物;2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−エチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、ベンズイミダゾール、2−エチル−4−メチル−1−(2’−シアノエチル)イミダゾールなどのアリール基やアラルキル基などの環構造を含有する炭化水素基で置換されたイミダゾール化合物;などが挙げられる。これらは1種を単独で、又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。 The imidazole derivative may be any compound having an imidazole skeleton, and is not particularly limited. For example, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, bis-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-methyl Alkyl substituted imidazole compounds such as 2-ethylimidazole, 2-isopropylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-heptadecylimidazole; 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2- And aryl groups such as methylimidazole, 1-benzyl-2-ethylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, benzimidazole, 2-ethyl-4-methyl-1- (2'-cyanoethyl) imidazole, aralkyl groups, etc. ring Imidazole compounds substituted with a hydrocarbon group containing a granulation; and the like. These can be used singly or in combination of two or more.
硬化促進剤を配合する場合における配合量は、使用目的に応じて適宜選択すればよいが、脂環式オレフィン重合体(A)100重量部に対して、好ましくは0.1〜20重量部、より好ましくは0.1〜10重量部、さらに好ましくは0.1〜5重量部である。 Although the compounding quantity in the case of mix | blending a hardening accelerator may be suitably selected according to the intended purpose, Preferably it is 0.1-20 weight parts with respect to 100 weight parts of alicyclic olefin polymers (A), More preferably, it is 0.1 to 10 parts by weight, still more preferably 0.1 to 5 parts by weight.
また、本発明の硬化性樹脂組成物は、上記成分以外に、ヒンダードフェノール化合物やヒンダードアミン化合物を含有していてもよい。これらヒンダードフェノール化合物やヒンダードアミン化合物は、老化防止剤として作用する。 Moreover, the curable resin composition of this invention may contain the hindered phenol compound and the hindered amine compound other than the said component. These hindered phenol compounds and hindered amine compounds act as anti-aging agents.
ヒンダードフェノール化合物とは、ヒドロキシル基を有し、かつ、該ヒドロキシル基のβ位の炭素原子に水素原子を有さないヒンダード構造を分子内に少なくとも1つ有するフェノール化合物である。ヒンダードフェノール化合物の具体例としては、1,1,3−トリス−(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−tert−ブチルフェニル)ブタン、4,4’−ブチリデンビス−(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、2,2−チオビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、n−オクタデシル−3−(4′−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)プロピオネート、テトラキス−〔メチレン−3−(3’,5’−ジ−tert−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕メタンなどが挙げられる。 The hindered phenol compound is a phenol compound having a hydroxyl group and having at least one hindered structure in the molecule that does not have a hydrogen atom at the carbon atom at the β-position of the hydroxyl group. Specific examples of the hindered phenol compound include 1,1,3-tris- (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane and 4,4'-butylidene bis- (3-methyl-6-). tert-Butylphenol), 2,2-thiobis (4-methyl-6-tert-butylphenol), n-octadecyl-3- (4'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) propionate, tetrakis -[Methylene-3- (3 ', 5'-di-tert-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate] methane and the like can be mentioned.
本発明の硬化性樹脂組成物中における、ヒンダードフェノール化合物の配合量は、特に限定されないが、脂環式オレフィン重合体(A)100重量部に対して、好ましくは0.04〜10重量部、より好ましくは0.3〜5重量部、さらに好ましくは0.5〜3重量部の範囲である。ヒンダードフェノール化合物の配合量を上記範囲とすることにより、得られる電気絶縁層の機械的強度を良好とすることができる。 The compounding amount of the hindered phenol compound in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but preferably 0.04 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the alicyclic olefin polymer (A) More preferably, it is in the range of 0.3 to 5 parts by weight, still more preferably 0.5 to 3 parts by weight. By making the compounding quantity of a hindered phenol compound into the said range, the mechanical strength of the electrical insulation layer obtained can be made favorable.
また、ヒンダードアミン化合物とは、4−位に2級アミン又は3級アミンを有する2,2,6,6−テトラアルキルピペリジン基を分子中に少なくとも一個有する化合物である。アルキルの炭素数としては、通常、1〜50である。ヒンダードアミン化合物としては、4−位に2級アミン又は3級アミンを有する2,2,6,6−テトラメチルピペリジル基を分子中に少なくとも一個有する化合物が好ましい。なお、本発明においては、ヒンダードフェノール化合物と、ヒンダードアミン化合物とを併用することが好ましい。 The hindered amine compound is a compound having at least one 2,2,6,6-tetraalkylpiperidine group having a secondary amine or a tertiary amine at the 4-position in the molecule. The carbon number of the alkyl is usually 1 to 50. The hindered amine compound is preferably a compound having at least one 2,2,6,6-tetramethyl piperidyl group having a secondary amine or a tertiary amine in the 4-position in the molecule. In the present invention, it is preferable to use a hindered phenol compound and a hindered amine compound in combination.
ヒンダードアミン化合物の具体例としては、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、1〔2−{3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ}エチル〕−4−{3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ}−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、8−ベンジル−7,7,9,9−テトラメチル−3−オクチル−1,2,3−トリアザスピロ〔4,5〕ウンデカン−2,4−ジオンなどが挙げられる。 Specific examples of the hindered amine compound include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, 1 [2 -{3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy} ethyl] -4- {3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy} -2,2,6,6-Tetramethylpiperidine, 8-benzyl-7,7,9,9-tetramethyl-3-octyl-1,2,3-triazaspiro [4,5] undecane-2,4- And the like.
ヒンダードアミン化合物の配合量は、特に限定されないが、脂環式オレフィン重合体(A)100重量部に対して、通常、0.02〜10重量部、好ましくは0.2〜5重量部、より好ましくは0.25〜3重量部である。ヒンダードアミン化合物の配合量を上記範囲とすることにより、得られる電気絶縁層の機械的強度を良好とすることができる。 The compounding amount of the hindered amine compound is not particularly limited, but generally 0.02 to 10 parts by weight, preferably 0.2 to 5 parts by weight, more preferably to 100 parts by weight of the alicyclic olefin polymer (A). Is 0.25 to 3 parts by weight. By making the compounding quantity of a hindered amine compound into the said range, the mechanical strength of the electrical insulation layer obtained can be made favorable.
さらに、本発明の硬化性樹脂組成物には、得られる電気絶縁層の難燃性を向上させる目的で、例えば、ハロゲン系難燃剤やリン酸エステル系難燃剤などの一般の電気絶縁膜形成用の樹脂組成物に配合される難燃剤を配合してもよい。難燃剤を配合する場合の配合量は、脂環式オレフィン重合体(A)100重量部に対して、好ましくは100重量部以下であり、より好ましくは60重量部以下である。 Furthermore, in the curable resin composition of the present invention, for the purpose of improving the flame retardancy of the obtained electrical insulating layer, for example, for forming a general electrical insulating film such as a halogen-based flame retardant or phosphate ester flame retardant The flame retardant blended in the resin composition of The blending amount in the case of blending the flame retardant is preferably 100 parts by weight or less, more preferably 60 parts by weight or less, with respect to 100 parts by weight of the alicyclic olefin polymer (A).
また、本発明の硬化性樹脂組成物には、さらに必要に応じて、難燃助剤、耐熱安定剤、耐候安定剤、老化防止剤、紫外線吸収剤(レーザー加工性向上剤)、レベリング剤、帯電防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、防曇剤、滑剤、染料、天然油、合成油、ワックス、乳剤、磁性体、誘電特性調整剤、靭性剤などの任意成分を配合してもよい。これらの任意成分の配合割合は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択すればよい。 Further, the curable resin composition of the present invention may further contain, if necessary, a flame retardant auxiliary, a heat stabilizer, a weathering stabilizer, an antiaging agent, an ultraviolet absorber (laser processability improver), a leveling agent, Optional components such as an antistatic agent, a slip agent, an antiblocking agent, an antifogging agent, a lubricant, a dye, a natural oil, a synthetic oil, a wax, an emulsion, a magnetic material, a dielectric property modifier, and a toughness agent may be blended. The blending ratio of these optional components may be appropriately selected as long as the object of the present invention is not impaired.
本発明の硬化性樹脂組成物の製造方法としては、特に限定されるものではなく、上記各成分を、そのまま混合してもよいし、有機溶剤に溶解もしくは分散させた状態で混合してもよいし、上記各成分の一部を有機溶剤に溶解もしくは分散させた状態の組成物を調製し、当該組成物に残りの成分を混合してもよい。 The method for producing the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, and the above-mentioned components may be mixed as they are, or may be mixed in the state of being dissolved or dispersed in an organic solvent. Alternatively, a composition may be prepared in which a portion of each of the above components is dissolved or dispersed in an organic solvent, and the remaining components may be mixed with the composition.
(フィルム)
本発明のフィルムは、上述した本発明の硬化性樹脂組成物をシート状又はフィルム状に成形してなる成形体である。
(the film)
The film of the present invention is a molded article obtained by forming the above-described curable resin composition of the present invention into a sheet or film.
本発明の硬化性樹脂組成物を、シート状又はフィルム状に成形して成形体とする際には、本発明の樹脂組成物を、必要に応じて有機溶剤を添加して、支持体に塗布、散布又は流延し、次いで乾燥することより得ることが好ましい。 When the curable resin composition of the present invention is formed into a sheet or film to form a molded article, the resin composition of the present invention is optionally coated with an organic solvent and applied to a support Preferably, it is obtained by spraying or casting and then drying.
この際に用いる支持体としては、樹脂フィルムや金属箔などが挙げられる。樹脂フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアリレートフィルム、ナイロンフィルムなどが挙げられる。これらのフィルムのうち、耐熱性、耐薬品性、剥離性などの観点からポリエチレンテレフタレートフィルム又はポリエチレンナフタレートフィルムが好ましい。金属箔としては、銅箔、アルミ箔、ニッケル箔、クロム箔、金箔、銀箔などが挙げられる。 As a support used at this time, a resin film, metal foil, etc. are mentioned. Examples of the resin film include polyethylene terephthalate film, polypropylene film, polyethylene film, polycarbonate film, polyethylene naphthalate film, polyarylate film, nylon film and the like. Among these films, polyethylene terephthalate film or polyethylene naphthalate film is preferable from the viewpoint of heat resistance, chemical resistance, peelability and the like. As metal foil, copper foil, aluminum foil, nickel foil, chromium foil, gold foil, silver foil etc. are mentioned.
シート状又はフィルム状の成形体の厚さは、特に限定されないが、作業性などの観点から、通常、1〜150μm、好ましくは2〜100μm、より好ましくは5〜80μmである。また、支持体の表面粗度Raは、通常、300nm以下、好ましくは200nm以下、より好ましくは100nm以下である。 The thickness of the sheet-like or film-like molded article is not particularly limited, but is usually 1 to 150 μm, preferably 2 to 100 μm, and more preferably 5 to 80 μm from the viewpoint of workability and the like. The surface roughness Ra of the support is usually 300 nm or less, preferably 200 nm or less, more preferably 100 nm or less.
本発明の硬化性樹脂組成物を塗布する方法としては、ディップコート、ロールコート、カーテンコート、ダイコート、スリットコート、グラビアコートなどが挙げられる。 Examples of the method for applying the curable resin composition of the present invention include dip coating, roll coating, curtain coating, die coating, slit coating, and gravure coating.
なお、本発明においては、シート状又はフィルム状の成形体としては、本発明の硬化性樹脂組成物が未硬化又は半硬化の状態であることが好ましい。ここで未硬化とは、成形体を、該組成物の調製に用いた脂環式オレフィン重合体を溶解可能な溶剤に浸けたときに、実質的に該脂環式オレフィン重合体の全部が溶解する状態をいう。また、半硬化とは、さらに加熱すれば硬化しうる程度に途中まで硬化された状態であり、好ましくは、該組成物の調製に用いた脂環式オレフィン重合体を溶解可能な溶剤に該エポキシ化合物の一部(具体的には7重量%以上の量であり、かつ、一部が残存するような量)が溶解する状態であるか、又は、溶剤中に成形体を24時間浸漬した後の体積が、浸漬前の体積の200%以上(膨潤率)になる状態をいう。 In the present invention, as the sheet-like or film-like molded article, the curable resin composition of the present invention is preferably in an uncured or semi-cured state. Here, “uncured” means that substantially all of the alicyclic olefin polymer is dissolved when the molded body is immersed in a solvent capable of dissolving the alicyclic olefin polymer used for the preparation of the composition. State to In addition, semi-hardening is a state in which the resin is partially cured to such an extent that it can be cured by further heating, and preferably, the epoxy is contained in a solvent capable of dissolving the alicyclic olefin polymer used for preparation of the composition. Either a part of the compound is dissolved (specifically, an amount of 7% by weight or more and an amount such that a part remains), or after immersing the formed body in a solvent for 24 hours Volume of 200% or more (swelling rate) of the volume before immersion.
また、本発明の硬化性樹脂組成物を、支持体上に塗布した後、所望により、乾燥を行ってもよい。乾燥温度は、本発明の硬化性樹脂組成物が硬化しない程度の温度とすることが好ましく、通常、20〜300℃、好ましくは30〜200℃である。乾燥温度が高すぎると、硬化反応が進行しすぎて、得られる成形体が未硬化又は半硬化の状態とならなくなるおそれがある。また、乾燥時間は、通常、30秒間〜1時間、好ましくは1分間〜30分間である。 Moreover, after apply | coating the curable resin composition of this invention on a support body, you may dry as needed. The drying temperature is preferably a temperature at which the curable resin composition of the present invention does not cure, and is usually 20 to 300 ° C., preferably 30 to 200 ° C. If the drying temperature is too high, the curing reaction may proceed too much and the resulting molded article may not be in an uncured or semi-cured state. The drying time is usually 30 seconds to 1 hour, preferably 1 minute to 30 minutes.
そして、このようにして得られる本発明のフィルムは、支持体上に付着させた状態で、又は支持体からはがして、使用される。 Then, the film of the present invention obtained in this manner is used in the state of being deposited on the support or peeled off from the support.
(積層フィルム)
本発明の積層フィルムは、上述した硬化性樹脂組成物からなる被めっき層と、接着層用樹脂組成物からなる接着層と、を有するものである。
(Laminated film)
The laminated film of the present invention has a to-be-plated layer composed of the above-described curable resin composition and an adhesive layer composed of the adhesive layer resin composition.
接着層を形成するための接着層用樹脂組成物としては、特に限定されるものではないが、積層フィルムの電気特性及び耐熱性を向上させる観点から、エポキシ化合物および活性エステル化合物を含むものであることが好ましい。 The adhesive layer resin composition for forming the adhesive layer is not particularly limited, but from the viewpoint of improving the electric properties and heat resistance of the laminated film, it contains an epoxy compound and an active ester compound. preferable.
エポキシ化合物としては、特に限定されないが、たとえば、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、クレゾール型エポキシ化合物、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物、ポリフェノール型エポキシ化合物、臭素化ビスフェノールA型エポキシ化合物、臭素化ビスフェノールF型エポキシ化合物、水素添加ビスフェノールA型エポキシ化合物等のグリシジルエーテル型エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、グリシジルエステル型エポキシ化合物、グリシジルアミン型エポキシ化合物、イソシアヌレート型エポキシ化合物や、脂環式オレフィン構造又はフルオレン構造を有するエポキシ樹脂等が挙げられる。これらのなかでも、得られるフィルム、積層体及び硬化物の機械物性をより良好なものとすることができるという点より、ビスフェノールA型エポキシ化合物や、脂環式オレフィン構造又はフルオレン構造を有するエポキシ樹脂が好ましい。 The epoxy compound is not particularly limited. For example, phenol novolac epoxy compound, cresol novolac epoxy compound, cresol epoxy compound, bisphenol A epoxy compound, bisphenol F epoxy compound, polyphenol epoxy compound, brominated bisphenol A Ether type epoxy compounds, brominated bisphenol F type epoxy compounds, glycidyl ether type epoxy compounds such as hydrogenated bisphenol A type epoxy compounds, alicyclic epoxy compounds, glycidyl ester type epoxy compounds, glycidyl amine type epoxy compounds, isocyanurate type epoxy compounds And epoxy resins having an alicyclic olefin structure or a fluorene structure. Among these, bisphenol A epoxy compounds and epoxy resins having an alicyclic olefin structure or a fluorene structure from the viewpoint that the mechanical properties of the obtained film, laminate and cured product can be made better. Is preferred.
ビスフェノールA型エポキシ化合物としては、たとえば、商品名「jER827、jER828、jER828EL、jER828XA、jER834」(以上、三菱化学社製)、商品名「エピクロン840、エピクロン840−S、エピクロン850、エピクロン850−S、エピクロン850−LC」(以上、大日本インキ化学工業社製、「エピクロン」は登録商標)などが挙げられる。脂環式オレフィン構造又はフルオレン構造を有するエポキシ樹脂としては、上述したフェノールノボラック型エポキシ化合物(B)として例示したものと同様のものを用いることができる。 As the bisphenol A type epoxy compound, for example, trade names “jER 827, jER 828, jER 828 EL, jER 828 XA, jER 834” (above, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), trade names “Epiclon 840, Epiclon 840-S, Epiclon 850, Epiclon 850-S Epiclon 850-LC "(above, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.," Epiclon "is a registered trademark), and the like. As an epoxy resin which has an alicyclic olefin structure or a fluorene structure, the thing similar to what was illustrated as a phenol novolak-type epoxy compound (B) mentioned above can be used.
活性エステル化合物としては、活性エステル基を有するものであればよいが、本発明においては、分子内に少なくとも2つの活性エステル基を有する化合物が好ましい。活性エステル化合物は、加熱によりエステル部位とエポキシ基が反応することで、上述したエポキシ化合物の硬化剤として作用する。 As the active ester compound, any compound having an active ester group may be used, but in the present invention, a compound having at least two active ester groups in the molecule is preferable. The active ester compound acts as a curing agent for the above-mentioned epoxy compound by the reaction between the ester site and the epoxy group upon heating.
活性エステル化合物としては、得られる電気絶縁層の耐熱性を高めるなどの観点から、カルボン酸化合物及び/又はチオカルボン酸化合物と、ヒドロキシ化合物及び/又はチオール化合物とを反応させたものから得られる活性エステル化合物が好ましく、カルボン酸化合物と、フェノール化合物、ナフトール化合物及びチオール化合物からなる群から選択される1種又は2種以上とを反応させたものから得られる活性エステル化合物がより好ましく、カルボン酸化合物とフェノール性水酸基を有する芳香族化合物とを反応させたものから得られ、かつ、分子内に少なくとも2つの活性エステル基を有する芳香族化合物が特に好ましい。活性エステル化合物は、直鎖状又は多分岐状であってもよく、活性エステル化合物が、少なくとも2つのカルボン酸を分子内に有する化合物に由来する場合を例示すると、このような少なくとも2つのカルボン酸を分子内に有する化合物が、脂肪族鎖を含む場合には、エポキシ化合物との相溶性を高くすることができ、また、芳香族環を有する場合には、耐熱性を高くすることができる。 From the viewpoint of, for example, enhancing the heat resistance of the obtained electrical insulating layer, as an active ester compound, an active ester obtained from a reaction of a carboxylic acid compound and / or a thiocarboxylic acid compound with a hydroxy compound and / or a thiol compound. Preferred is a compound, and more preferred is an active ester compound obtained from a reaction of a carboxylic acid compound and one or more selected from the group consisting of a phenol compound, a naphthol compound and a thiol compound, and a carboxylic acid compound Particularly preferred is an aromatic compound obtained from the reaction of an aromatic compound having a phenolic hydroxyl group and having at least two active ester groups in the molecule. The active ester compound may be linear or multi-branched, and exemplified by the case where the active ester compound is derived from a compound having at least two carboxylic acids in the molecule, such at least two carboxylic acids In the case where the compound having in the molecule contains an aliphatic chain, the compatibility with the epoxy compound can be enhanced, and when it has an aromatic ring, the heat resistance can be enhanced.
活性エステル化合物を形成するためのカルボン酸化合物の具体例としては、安息香酸、酢酸、コハク酸、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ピロメリット酸等が挙げられる。これらのなかでも、得られる電気絶縁層の耐熱性を高める観点より、コハク酸、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸が好ましく、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸がより好ましく、イソフタル酸、テレフタル酸がさらに好ましい。 Specific examples of the carboxylic acid compound for forming the active ester compound include benzoic acid, acetic acid, succinic acid, maleic acid, itaconic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, pyromellitic acid and the like. Among these, succinic acid, maleic acid, itaconic acid, phthalic acid, isophthalic acid, and terephthalic acid are preferable, and phthalic acid, isophthalic acid, and terephthalic acid are more preferable, from the viewpoint of improving the heat resistance of the obtained electrical insulation layer. Isophthalic acid and terephthalic acid are more preferred.
活性エステル化合物を形成するためのチオカルボン酸化合物の具体例としては、チオ酢酸、チオ安息香酸等が挙げられる。 Specific examples of the thiocarboxylic acid compound for forming the active ester compound include thioacetic acid, thiobenzoic acid and the like.
活性エステル化合物を形成するためのヒドロキシ化合物の具体例としては、ハイドロキノン、レゾルシン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フェノールフタリン、メチル化ビスフェノールA、メチル化ビスフェノールF、メチル化ビスフェノールS、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、カテコール、α−ナフトール、β−ナフトール、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、フロログルシン、ベンゼントリオール、ジシクロペンタジエニルジフェノール、フェノールノボラック等が挙げられる。中でも、活性エステル化合物の溶解性を向上させると共に、得られる電気絶縁層の耐熱性を高める観点から、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ジシクロペンタジエニルジフェノール、フェノールノボラックが好ましく、ジヒドロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ジシクロペンタジエニルジフェノール、フェノールノボラックがより好ましく、ジシクロペンタジエニルジフェノール、フェノールノボラックがさらに好ましい。 Specific examples of the hydroxy compound for forming the active ester compound include hydroquinone, resorcinol, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, phenolphthalin, methylated bisphenol A, methylated bisphenol F, methylated bisphenol S, phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, catechol, α-naphthol, β-naphthol, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, dihydroxybenzophenone, trihydroxybenzophenone Examples thereof include tetrahydroxybenzophenone, phloroglucin, benzenetriol, dicyclopentadienyldiphenol, phenol novolac and the like. Among them, from the viewpoint of improving the solubility of the active ester compound and enhancing the heat resistance of the obtained electrical insulating layer, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, dihydroxybenzophenone, Trihydroxy benzophenone, tetrahydroxy benzophenone, dicyclopentadienyl diphenol, phenol novolac is preferable, dihydroxy benzophenone, trihydroxy benzophenone, tetrahydroxy benzophenone, dicyclopentadienyl diphenol, phenol novolac is more preferable, dicyclopentadi Enyl diphenol and phenol novolac are more preferred.
活性エステル化合物を形成するためのチオール化合物の具体例としては、ベンゼンジチオール、トリアジンジチオール等が挙げられる。 Specific examples of the thiol compound for forming the active ester compound include benzene dithiol, triazine dithiol and the like.
活性エステル化合物の製造方法は特に限定されず、公知の方法により製造することができる。例えば、前記したカルボン酸化合物及び/又はチオカルボン酸化合物とヒドロキシ化合物及び/又はチオール化合物との縮合反応によって得ることができる。 The method for producing the active ester compound is not particularly limited, and the active ester compound can be produced by a known method. For example, it can be obtained by the condensation reaction of the above-mentioned carboxylic acid compound and / or thiocarboxylic acid compound with a hydroxy compound and / or a thiol compound.
本発明においては、活性エステル化合物として、例えば、特開2002−12650号公報に開示されている活性エステル基を持つ芳香族化合物及び特開2004−277460号公報に開示されている多官能性ポリエステルや、市販品を用いることができる。市販品としては、例えば、商品名「EXB9451、EXB9460、EXB9460S、エピクロン HPC−8000−65T」(以上、DIC社製、「エピクロン」は登録商標)、商品名「DC808」(ジャパンエポキシレジン社製)、商品名「YLH1026」(ジャパンエポキシレジン社製)などが挙げられる。 In the present invention, as the active ester compound, for example, an aromatic compound having an active ester group disclosed in JP-A-2002-12650 and a polyfunctional polyester disclosed in JP-A-2004-277460 or And commercially available products can be used. As a commercial item, for example, trade names “EXB9451, EXB9460, EXB9460S, Epiclon HPC-8000-65T” (above, DIC Corporation, “Epiclon” is a registered trademark), trade name “DC808” (Japan Epoxy Resins Co., Ltd.) And trade name “YLH1026” (manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd.).
本発明で用いる接着層用樹脂組成物中における、活性エステル化合物の配合量は、用いるエポキシ化合物100重量部に対して、好ましくは10〜150重量部、より好ましくは15〜130重量部、さらに好ましくは20〜120重量部の範囲である。 The compounding amount of the active ester compound in the adhesive layer resin composition used in the present invention is preferably 10 to 150 parts by weight, more preferably 15 to 130 parts by weight, further preferably 100 parts by weight of the epoxy compound to be used. Is in the range of 20 to 120 parts by weight.
また、本発明で用いる接着層用樹脂組成物には、さらに所望により、シリカなどの充填剤、硬化促進剤、難燃剤、難燃助剤、耐熱安定剤、耐候安定剤、老化防止剤、紫外線吸収剤(レーザー加工性向上剤)、レベリング剤、帯電防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、防曇剤、滑剤、染料、天然油、合成油、ワックス、乳剤、磁性体、誘電特性調整剤、靭性剤などの公知の成分を適宜配合してもよい。 Further, in the resin composition for an adhesive layer used in the present invention, if desired, a filler such as silica, a curing accelerator, a flame retardant, a flame retardant auxiliary, a heat resistant stabilizer, a weather resistant stabilizer, an antiaging agent, ultraviolet light Absorbent agent (laser processability improver), leveling agent, antistatic agent, slip agent, antiblocking agent, antifogging agent, lubricant, dye, natural oil, synthetic oil, wax, emulsion, magnetic material, dielectric property modifier, Known components such as a toughness agent may be appropriately blended.
本発明で用いられる接着層用樹脂組成物の製造方法としては、特に限定されるものではなく、上記各成分を、そのまま混合してもよいし、有機溶剤に溶解若しくは分散させた状態で混合してもよいし、上記各成分の一部を有機溶剤に溶解若しくは分散させた状態の組成物を調製し、当該組成物に残りの成分を混合してもよい。 The method for producing the adhesive layer resin composition used in the present invention is not particularly limited, and the above-described components may be mixed as they are, or mixed in a state of being dissolved or dispersed in an organic solvent. The composition may be prepared by dissolving or dispersing some of the components in an organic solvent, and the remaining components may be mixed with the composition.
本発明の積層フィルムは、このような接着層用樹脂組成物と、上述した本発明の硬化性樹脂組成物とを用いて製造される。具体的には、本発明の積層フィルムは、例えば、以下の2つの方法:(1)上述した本発明の硬化性樹脂組成物を支持体上に塗布、散布又は流延し、所望により乾燥させ、次いで、その上に、上述した接着層用樹脂組成物をさらに塗布又は流延し、所望により乾燥させることにより製造する方法;(2)上述した本発明の硬化性樹脂組成物を支持体上に塗布、散布又は流延し、所望により乾燥させて得られたシート状又はフィルム状に成形してなる被めっき層用成形体と、上述した接着層用樹脂組成物とを支持体上に塗布、散布又は流延し、所望により乾燥させて、シート状又はフィルム状に成形してなる接着層用成形体と、を積層し、これらの成形体を一体化させることにより製造する方法、により製造することができる。これらの製造方法の内、より容易なプロセスであり生産性に優れることから、上記(1)の製造方法が好ましい。 The laminated film of the present invention is produced using such a resin composition for an adhesive layer and the above-mentioned curable resin composition of the present invention. Specifically, the laminated film of the present invention is prepared, for example, by coating, spraying or casting the above-described curable resin composition of the present invention on a support, and optionally drying it. And then further coating or casting the above-described resin composition for an adhesive layer and optionally drying it; (2) the above-mentioned curable resin composition of the present invention on a support Applied to the support, coated, dispersed or cast, and optionally molded into a sheet or film form obtained by optionally drying, and the above-described resin composition for adhesive layer is applied onto a support , Spraying or casting, optionally drying it, and molding it for an adhesive layer, which is formed into a sheet or film, and laminated, and manufactured by integrating these moldings. can do. Among these production methods, the production method of the above (1) is preferable because it is an easier process and excellent in productivity.
上述の(1)の製造方法において、本発明の硬化性樹脂組成物を支持体に塗布、散布又は流延する際、及び塗布、散布又は流延された硬化性樹脂組成物に接着層用樹脂組成物を塗布、散布又は流延する際、あるいは上述の(2)の製造方法において、硬化性樹脂組成物及び接着層用樹脂組成物をシート状又はフィルム状に成形して被めっき層用成形体及び接着層用成形体とする際には、硬化性樹脂組成物又は接着層用樹脂組成物を、所望により有機溶剤を添加して、支持体に塗布、散布又は流延することが好ましい。 When the curable resin composition of the present invention is applied, sprayed or cast on a support in the above-mentioned production method (1), and the resin for adhesive layer is applied to the applied, sprayed or cast curable resin composition When the composition is applied, dispersed or cast, or in the production method of the above (2), the curable resin composition and the resin composition for an adhesive layer are formed into a sheet or film to form a layer to be plated When forming a molded article for a body and an adhesive layer, it is preferable to apply, disperse or cast the curable resin composition or the resin composition for an adhesive layer on a support, optionally adding an organic solvent.
その際に用いる支持体としては、樹脂フィルムや金属箔などが挙げられる。樹脂フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアリレートフィルム、ナイロンフィルムなどが挙げられる。これらのフィルムのうち、耐熱性、耐薬品性、剥離性などの観点から、ポリエチレンテレフタレートフィルム又はポリエチレンナフタレートフィルムが好ましい。金属箔としては、銅箔、アルミ箔、ニッケル箔、クロム箔、金箔、銀箔などが挙げられる。なお、支持体の表面平均粗さRaは、通常、300nm以下、好ましくは150nm以下、より好ましくは100nm以下である。 As a support used in that case, a resin film, metal foil, etc. are mentioned. Examples of the resin film include polyethylene terephthalate film, polypropylene film, polyethylene film, polycarbonate film, polyethylene naphthalate film, polyarylate film, nylon film and the like. Among these films, polyethylene terephthalate film or polyethylene naphthalate film is preferable from the viewpoint of heat resistance, chemical resistance, releasability and the like. As metal foil, copper foil, aluminum foil, nickel foil, chromium foil, gold foil, silver foil etc. are mentioned. The surface average roughness Ra of the support is usually 300 nm or less, preferably 150 nm or less, and more preferably 100 nm or less.
上述の(1)の製造方法における、硬化性樹脂組成物及び接着層用樹脂組成物の厚み、あるいは上述の(2)の製造方法における被めっき層用成形体及び接着層用成形体の厚みは、特に限定されないが、積層フィルムとした際における、被めっき層の厚みが、好ましくは1〜10μm、より好ましくは1.5〜8μm、さらに好ましくは2〜5μm、また、接着層の厚みが、好ましくは10〜100μm、より好ましくは10〜80μm、さらに好ましくは15〜60μmとなるような厚みとすることが好ましい。被めっき層の厚みが薄すぎると、積層フィルムを硬化して得られる硬化物上に、無電解めっきにより導体層を形成した際における、導体層の形成性が低下してしまうおそれがあり、一方、被めっき層の厚みが厚すぎると、積層フィルムを硬化して得られる硬化物の線膨張が大きくなるおそれがある。また、接着層の厚みが薄すぎると、積層フィルムの配線埋め込み性が低下してしまうおそれがある。 The thicknesses of the curable resin composition and the resin composition for the adhesive layer in the above-mentioned production method of (1), or the thicknesses of the molded body for the layer to be plated and the molded article for the adhesive layer in the above-mentioned production method of (2) The thickness of the layer to be plated is preferably 1 to 10 μm, more preferably 1.5 to 8 μm, still more preferably 2 to 5 μm, and the thickness of the adhesive layer is not particularly limited. The thickness is preferably 10 to 100 μm, more preferably 10 to 80 μm, and still more preferably 15 to 60 μm. When the thickness of the layer to be plated is too thin, the formability of the conductor layer may be reduced when the conductor layer is formed by electroless plating on the cured product obtained by curing the laminated film, If the thickness of the layer to be plated is too thick, the linear expansion of the cured product obtained by curing the laminated film may be increased. In addition, when the thickness of the adhesive layer is too thin, the wiring embedding property of the laminated film may be reduced.
硬化性樹脂組成物及び接着層用樹脂組成物を塗布する方法としては、ディップコート、ロールコート、カーテンコート、ダイコート、スリットコート、グラビアコートなどが挙げられる。 Examples of the method for applying the curable resin composition and the resin composition for an adhesive layer include dip coating, roll coating, curtain coating, die coating, slit coating, and gravure coating.
また、上述の(1)の製造方法における、硬化性樹脂組成物を支持体上に塗布、散布又は流延した後、あるいは接着層用樹脂組成物を硬化性樹脂組成物上に塗布、散布又は流延した後、あるいは上述の(2)の製造方法における、硬化性樹脂組成物及び接着層用樹脂組成物を支持体上に塗布した後、所望により、乾燥を行ってもよい。乾燥温度は、硬化性樹脂組成物及び接着層用樹脂組成物が硬化しない程度の温度とすることが好ましく、通常、20〜300℃、好ましくは30〜200℃である。また、乾燥時間は、通常、30秒間〜1時間、好ましくは1分間〜30分間である。 In addition, after the curable resin composition is applied, dispersed or cast on the support in the production method of the above (1), or the resin composition for adhesive layer is applied, dispersed or applied onto the curable resin composition. After casting, or after the curable resin composition and the resin composition for an adhesive layer are applied on a support in the above-mentioned production method (2), drying may be performed if desired. The drying temperature is preferably a temperature at which the curable resin composition and the adhesive layer resin composition do not cure, and is usually 20 to 300 ° C., preferably 30 to 200 ° C. The drying time is usually 30 seconds to 1 hour, preferably 1 minute to 30 minutes.
本発明の積層フィルムにおいては、積層フィルムを構成する被めっき層及び接着層が未硬化又は半硬化の状態であることが好ましい。これらを未硬化又は半硬化の状態とすることにより、本発明の積層フィルムを接着性の高いものとすることできる。また、本発明の積層フィルムは、被めっき層により優れためっきのピール強度を発揮しうる。 In the laminated film of the present invention, it is preferable that the layer to be plated and the adhesive layer constituting the laminated film be in an uncured or semi-cured state. By making these uncured or semi-cured, the laminated film of the present invention can be made highly adhesive. Moreover, the laminated | multilayer film of this invention can exhibit the peeling strength of the plating more excellent by the to-be-plated layer.
(プリプレグ)
本発明のプリプレグは、上述した本発明のフィルム又は本発明の積層フィルムに、繊維基材を含んでなるものである。
(Prepreg)
The prepreg of the present invention comprises the above-described film of the present invention or the laminated film of the present invention and a fiber base.
繊維基材としては、ポリアミド繊維、ポリアラミド繊維やポリエステル繊維等の有機繊維や、ガラス繊維、カーボン繊維等などの無機繊維が挙げられる。また、繊維基材の形態としては、平織りもしくは綾織りなどの織物の形態、または不織布の形態等が挙げられる。繊維基材の厚さは5〜100μmが好ましく、10〜50μmの範囲が好ましい。薄すぎると取り扱いが困難となり、厚すぎると相対的に樹脂層が薄くなり配線埋め込み性が不十分になる場合がある。 Examples of the fiber base include organic fibers such as polyamide fibers, polyaramid fibers and polyester fibers, and inorganic fibers such as glass fibers and carbon fibers. Moreover, as a form of a fiber base material, the form of textiles, such as plain weave or twill weave, or the form of a nonwoven fabric etc. are mentioned. 5-100 micrometers is preferable and, as for the thickness of a fiber base material, the range of 10-50 micrometers is preferable. If the thickness is too thin, the handling becomes difficult, and if the thickness is too thick, the resin layer may be relatively thin and the wiring burying property may be insufficient.
本発明のプリプレグが、上述した本発明のフィルムに繊維基材を含んでなるものである場合には、本発明のプリプレグは、本発明の硬化性樹脂組成物を、繊維基材に含浸させることにより、製造することができる。この場合において、本発明の硬化性樹脂組成物を、繊維基材に含浸させる方法としては、特に限定されないが、粘度などを調整するために本発明の硬化性樹脂組成物に有機溶剤を添加し、有機溶剤を添加した硬化性樹脂組成物に繊維基材を浸漬する方法、有機溶剤を添加した硬化性樹脂組成物を繊維基材に塗布や散布する方法などが挙げられる。塗布又は散布する方法においては、支持体の上に繊維基材を置いて、これに、有機溶剤を添加した硬化性樹脂組成物を塗布又は散布することができる。なお、本発明においては、シート状又はフィルム状の複合成形体としては、上述したシート状又はフィルム状の成形体と同様に、本発明の硬化性樹脂組成物が未硬化又は半硬化の状態で含有されていることが好ましい。 In the case where the prepreg of the present invention comprises the above-mentioned film of the present invention including the fiber base, the prepreg of the present invention is to impregnate the curable resin composition of the present invention into the fiber base. Can be manufactured. In this case, the method for impregnating the curable resin composition of the present invention into the fiber base is not particularly limited, but an organic solvent is added to the curable resin composition of the present invention in order to adjust viscosity and the like. The method of immersing a fiber base material in the curable resin composition which added the organic solvent, the method of apply | coating and disperse | distributing the curable resin composition which added the organic solvent on a fiber base material etc. are mentioned. In the method of coating or spreading, a fiber base can be placed on a support, and a curable resin composition to which an organic solvent is added can be coated or spread thereon. In the present invention, as the sheet-like or film-like composite molded article, the curable resin composition of the present invention is uncured or semi-cured as in the sheet-like or film-like compact described above. It is preferable to contain.
また、本発明の硬化性樹脂組成物を、繊維基材に含浸させた後、所望により、乾燥を行ってもよい。乾燥温度は、本発明の硬化性樹脂組成物が硬化しない程度の温度とすることが好ましく、通常、20〜300℃、好ましくは30〜200℃である。乾燥温度が高すぎると、硬化反応が進行しすぎて、得られる複合成形体が未硬化又は半硬化の状態とならなくなるおそれがある。また、乾燥時間は、通常、30秒間〜1時間、好ましくは1分間〜30分間である。 In addition, after the curable resin composition of the present invention is impregnated into the fiber substrate, drying may be performed if desired. The drying temperature is preferably a temperature at which the curable resin composition of the present invention does not cure, and is usually 20 to 300 ° C., preferably 30 to 200 ° C. If the drying temperature is too high, the curing reaction may proceed too much, and the resulting composite molded article may not be in an uncured or semi-cured state. The drying time is usually 30 seconds to 1 hour, preferably 1 minute to 30 minutes.
あるいは、本発明のプリプレグが、上述した本発明の積層フィルムに繊維基材を含んでなるものである場合には、本発明のプリプレグは、一方の面に接着層と、他方の面に被めっき層、内部に繊維基材を有するものであることが好ましく、その製造方法は限定されないが、たとえば、以下の方法:(1)支持体付き接着層用樹脂組成物フィルムと支持体付き硬化性樹脂組成物フィルムを、繊維基材を間に挟むように各フィルムの樹脂層側を合わせて、所望により加圧、真空、加熱などの条件のもとで積層して製造する方法;(2)接着層用樹脂組成物又は硬化性樹脂組成物のいずれかを繊維基材に含浸して、所望により乾燥することでプリプレグを作製し、このプリプレグにもう一方の樹脂組成物を塗布、散布又は流延することにより、若しくはもう一方の支持体付き樹脂組成物フィルムを積層することにより製造する方法;(3)支持体上に接着層用樹脂組成物又は硬化性樹脂組成物のいずれかを塗布、散布又は流延などにより積層し、その上に繊維基材を重ね、さらにその上からもう一方の樹脂組成物を塗布、散布又は流延することにより積層し、所望により乾燥させることで製造することができる。なお、いずれの方法も組成物には所望により有機溶剤を添加して、組成物の粘度を調整することにより、繊維基材への含浸や支持体への塗布、散布又は流延における作業性を制御することが好ましい。 Alternatively, when the prepreg of the present invention comprises the above-described laminated film of the present invention including a fiber base, the prepreg of the present invention has an adhesive layer on one side and a plating on the other side. The layer preferably has a fiber base inside, and the method for producing the layer is not limited. For example, the following method: (1) Resin composition film for adhesive layer with support and curable resin with support Method of manufacturing the composition film by laminating the resin layer side of each film so as to sandwich the fiber substrate and laminating it under conditions such as pressure, vacuum, heating and the like if desired; (2) adhesion Either a layer resin composition or a curable resin composition is impregnated into the fiber substrate and optionally dried to prepare a prepreg, and the other resin composition is applied, dispersed or cast onto this prepreg. By doing A method of producing by laminating the other support-attached resin composition film; (3) applying, scattering, casting, etc. either the resin composition for the adhesive layer or the curable resin composition on the support It can be manufactured by laminating by laminating the fiber base material on top of that, and further laminating the other resin composition from the top by coating, spreading or casting, and optionally drying. In any of the methods, an organic solvent is optionally added to the composition, and the viscosity of the composition is adjusted to improve the workability in impregnating a fiber substrate, coating on a support, scattering, or casting. It is preferable to control.
また、この際に用いる支持体としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアリレートフィルム、ナイロンフィルムなどの樹脂フィルムや、銅箔、アルミ箔、ニッケル箔、クロム箔、金箔、銀箔などの金属箔が挙げられ、これらは、プリプレグの一方の面だけでなく、両方の面に付いていてもよい。 Further, as a support used in this case, resin films such as polyethylene terephthalate film, polypropylene film, polyethylene film, polycarbonate film, polyethylene naphthalate film, polyarylate film, nylon film, copper foil, aluminum foil, nickel foil, Metal foils such as chromium foils, gold foils, silver foils, etc. may be mentioned, and these may be attached not only to one side of the prepreg but also to both sides.
本発明のプリプレグの厚みは、特に限定されないが、被めっき層の厚みが、好ましくは1〜10μm、より好ましくは1.5〜8μm、さらに好ましくは2〜5μm、また、接着層の厚みが、好ましくは10〜100μm、より好ましくは10〜80μm、さらに好ましくは15〜60μmとなるような厚みとすることが好ましい。 The thickness of the prepreg of the present invention is not particularly limited, but the thickness of the layer to be plated is preferably 1 to 10 μm, more preferably 1.5 to 8 μm, still more preferably 2 to 5 μm, and the thickness of the adhesive layer is The thickness is preferably 10 to 100 μm, more preferably 10 to 80 μm, and still more preferably 15 to 60 μm.
本発明のプリプレグを製造する際に、接着層用樹脂組成物及び硬化性樹脂組成物を塗布する方法としては、ディップコート、ロールコート、カーテンコート、ダイコート、スリットコート、グラビアコートなどが挙げられる。 When manufacturing the prepreg of the present invention, examples of the method for applying the resin composition for adhesive layer and the curable resin composition include dip coating, roll coating, curtain coating, die coating, slit coating, gravure coating and the like.
また、本発明のプリプレグにおいては、上記した本発明のフィルム及び積層フィルムと同様に、プリプレグを構成する樹脂組成物が未硬化又は半硬化の状態であることが好ましい。 Further, in the prepreg of the present invention, as in the case of the film and the laminated film of the present invention described above, it is preferable that the resin composition constituting the prepreg is in an uncured or semi-cured state.
そして、このようにして得られる本発明のプリプレグは、これを加熱し、硬化させることにより硬化物とすることができる。 And the prepreg of this invention obtained in this way can be made into a hardened | cured material by heating and hardening this.
硬化温度は、通常、30〜400℃、好ましくは70〜300℃、より好ましくは100〜200℃である。また、硬化時間は、0.1〜5時間、好ましくは0.5〜3時間である。加熱の方法は特に制限されず、例えば、電気オーブンなどを用いて行えばよい。 The curing temperature is usually 30 to 400 ° C, preferably 70 to 300 ° C, and more preferably 100 to 200 ° C. The curing time is 0.1 to 5 hours, preferably 0.5 to 3 hours. The method of heating is not particularly limited, and may be performed using, for example, an electric oven or the like.
(積層体)
本発明の積層体は、上述した本発明のフィルム、積層フィルム又はプリプレグを基材に積層してなるものである。本発明の積層体としては、少なくとも、上述した本発明のフィルム、積層フィルム又はプリプレグを積層してなるものであればよいが、表面に導体層を有する基板と、上述した本発明のフィルム、積層フィルム又はプリプレグからなる電気絶縁層とを積層してなるものが好ましい。
(Laminate)
The laminate of the present invention is obtained by laminating the above-described film, laminated film or prepreg of the present invention on a substrate. The laminate of the present invention may be at least a laminate of the above-described film, laminate film or prepreg of the present invention, but the film of the present invention described above, a substrate having a conductor layer on the surface, and laminate It is preferable to laminate an electric insulating layer made of a film or a prepreg.
表面に導体層を有する基板は、電気絶縁性基板の表面に導体層を有するものである。電気絶縁性基板は、公知の電気絶縁材料(例えば、脂環式オレフィン重合体、エポキシ化合物、マレイミド樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、トリアジン樹脂、ポリフェニレンエーテル、ガラス等)を含有する樹脂組成物を硬化して形成されたものである。導体層は、特に限定されないが、通常、導電性金属等の導電体により形成された配線を含む層であって、更に各種の回路を含んでいてもよい。配線や回路の構成、厚み等は、特に限定されない。表面に導体層を有する基板の具体例としては、プリント配線基板、シリコンウェーハ基板等を挙げることができる。表面に導体層を有する基板の厚みは、通常、10μm〜10mm、好ましくは20μm〜5mm、より好ましくは30μm〜2mmである。 The substrate having the conductor layer on the surface is the one having the conductor layer on the surface of the electrically insulating substrate. The electrically insulating substrate is a resin containing a known electrically insulating material (eg, alicyclic olefin polymer, epoxy compound, maleimide resin, (meth) acrylic resin, diallyl phthalate resin, triazine resin, polyphenylene ether, glass, etc.) It is formed by curing the composition. The conductor layer is not particularly limited, but is usually a layer including a wiring formed of a conductor such as a conductive metal, and may further include various circuits. The configuration, thickness and the like of the wiring and circuit are not particularly limited. A printed wiring board, a silicon wafer board | substrate, etc. can be mentioned as a specific example of a board | substrate which has a conductor layer in the surface. The thickness of the substrate having a conductor layer on its surface is usually 10 μm to 10 mm, preferably 20 μm to 5 mm, more preferably 30 μm to 2 mm.
本発明で用いられる表面に導体層を有する基板は、電気絶縁層との密着性を向上させるために、導体層表面に前処理が施されていることが好ましい。前処理の方法としては、公知の技術を、特に限定されず使用することができる。例えば、導体層が銅からなるものであれば、強アルカリ酸化性溶液を導体層表面に接触させて、導体表面に酸化銅の層を形成して粗化する酸化処理方法、導体層表面を先の方法で酸化した後に水素化ホウ素ナトリウム、ホルマリンなどで還元する方法、導体層にめっきを析出させて粗化する方法、導体層に有機酸を接触させて銅の粒界を溶出して粗化する方法、及び導体層にチオール化合物やシラン化合物などによりプライマー層を形成する方法等が挙げられる。これらのうち、微細な配線パターンの形状維持の容易性の観点から、導体層に有機酸を接触させて銅の粒界を溶出して粗化する方法、及び、チオール化合物やシラン化合物などによりプライマー層を形成する方法が好ましい。 In the substrate having a conductor layer on the surface used in the present invention, it is preferable that the surface of the conductor layer is pretreated in order to improve the adhesion to the electrical insulating layer. As a pre-treatment method, known techniques can be used without particular limitation. For example, if the conductor layer is made of copper, an oxidation treatment method in which a strong alkaline oxidizing solution is brought into contact with the surface of the conductor layer to form a layer of copper oxide on the surface of the conductor to roughen the surface; A method of oxidation by the following method followed by reduction with sodium borohydride, formalin, etc., a method of depositing plating on the conductor layer and roughening, a method of contacting an organic acid with the conductor layer to dissolve copper grain boundaries and roughening And a method of forming a primer layer on the conductor layer with a thiol compound or a silane compound. Among them, from the viewpoint of the ease of maintaining the shape of the fine wiring pattern, a method in which an organic acid is brought into contact with the conductor layer to elute and roughen the grain boundaries of copper, and a primer by a thiol compound or a silane compound The method of forming a layer is preferred.
本発明の積層体は、通常、表面に導体層を有する基板上に、上述した本発明のフィルム(すなわち、本発明の硬化性樹脂組成物を、シート状又はフィルム状に成形してなる成形体)、積層フィルム(すなわち、本発明の硬化性樹脂組成物からなる被めっき層と、接着層とからなるシート状又はフィルム状の成形体)、又はプリプレグ(本発明のフィルムに繊維基材を含んでなる複合成形体、又は、本発明の積層フィルムに繊維基材を含んでなる複合成形体)を加熱圧着することにより、製造することができる。 The laminate of the present invention usually comprises the film of the present invention described above on a substrate having a conductor layer on the surface (that is, a molded product obtained by forming the curable resin composition of the present invention into a sheet or film). A laminated film (that is, a sheet-like or film-like formed article comprising a layer to be plated comprising the curable resin composition of the present invention and an adhesive layer), or a prepreg (a film of the present invention Or a composite molded body comprising a fibrous base material on the laminated film of the present invention, and can be produced by thermocompression bonding.
加熱圧着の方法としては、支持体付きの成形体又は複合成形体を、上述した基板の導体層に接するように重ね合わせ、加圧ラミネータ、プレス、真空ラミネータ、真空プレス、ロールラミネータなどの加圧機を使用して加熱圧着(ラミネーション)する方法が挙げられる。加熱加圧することにより、基板表面の導体層と成形体又は複合成形体との界面に空隙が実質的に存在しないように結合させることができる。前記成形体又は複合成形体は、通常、未硬化又は半硬化の状態で基板の導体層に積層されることになる。 As a method of thermocompression bonding, a compact with a support or a composite compact is laminated so as to be in contact with the above-described conductor layer of the substrate, and pressure machines such as a pressure laminator, press, vacuum laminator, vacuum press, roll laminator, etc. The method of thermocompression bonding (lamination) using is mentioned. By heating and pressing, bonding can be performed so that a void does not substantially exist at the interface between the conductor layer on the substrate surface and the formed body or the composite formed body. The molded body or composite molded body is usually laminated to the conductor layer of the substrate in an uncured or semi-cured state.
加熱圧着操作の温度は、通常、30〜250℃、好ましくは70〜200℃であり、加える圧力は、通常、10kPa〜20MPa、好ましくは100kPa〜10MPaであり、時間は、通常、30秒〜5時間、好ましくは1分〜3時間である。また、加熱圧着は、配線パターンの埋め込み性を向上させ、気泡の発生を抑えるために減圧下で行うのが好ましい。加熱圧着を行う減圧下の圧力は、通常100kPa〜1Pa、好ましくは40kPa〜10Paである。 The temperature of the thermocompression bonding operation is usually 30 to 250 ° C., preferably 70 to 200 ° C., the pressure to be applied is usually 10 kPa to 20 MPa, preferably 100 kPa to 10 MPa, and the time is usually 30 seconds to 5 The time is preferably 1 minute to 3 hours. Moreover, it is preferable to carry out thermocompression bonding under reduced pressure in order to improve the embeddability of the wiring pattern and to suppress the generation of air bubbles. The pressure under reduced pressure at which thermocompression bonding is performed is usually 100 kPa to 1 Pa, preferably 40 kPa to 10 Pa.
(硬化物)
本発明の硬化物は、本発明の硬化性樹脂組成物を硬化してなるものであり、当該組成物で構成される、本発明のフィルム、積層フィルム、プリプレグ、及び積層体を硬化してなるいずれのものも含まれる。硬化は、後述する硬化条件にて、本発明の硬化性樹脂組成物やフィルム等を適宜加熱することで行うことができる。
(Cured product)
The cured product of the present invention is obtained by curing the curable resin composition of the present invention, and is produced by curing the film, the laminated film, the prepreg, and the laminate of the present invention, which are composed of the composition. All things are included. Curing can be carried out by appropriately heating the curable resin composition, film and the like of the present invention under the curing conditions described later.
例えば、本発明の積層体については、それを構成する、本発明のフィルム、積層フィルム又はプリプレグを硬化する処理を行なうことで、硬化物とすることができる。硬化は、通常、導体層上に、本発明のフィルム、積層フィルム又はプリプレグが形成された基板全体を加熱することにより行う。硬化は、上述した加熱圧着操作と同時に行うことができる。また、まず加熱圧着操作を硬化の起こらない条件、すなわち比較的低温、短時間で行った後、硬化を行ってもよい。 For example, about the laminated body of this invention, it can be set as hardened | cured material by performing the process which hardens the film, laminated film, or prepreg of this invention which comprises it. Curing is usually carried out by heating the entire substrate on which the film, laminated film or prepreg of the present invention is formed on the conductor layer. Curing can be performed simultaneously with the above-described heat and pressure bonding operation. Alternatively, the heat-pressing operation may be performed under conditions where curing does not occur, that is, at a relatively low temperature for a short time, and then curing may be performed.
また、電気絶縁層の平坦性を向上させる目的や、電気絶縁層の厚みを増す目的で、基板の導体層上に本発明のフィルム、積層フィルム又はプリプレグを2以上接して貼り合わせて積層してもよい。 In addition, for the purpose of improving the flatness of the electrical insulating layer or for the purpose of increasing the thickness of the electrical insulating layer, two or more films, laminated films or prepregs of the present invention are contacted and laminated on the conductor layer of the substrate. It is also good.
硬化温度は、通常、30〜400℃、好ましくは70〜300℃、より好ましくは100〜200℃である。また、硬化時間は、通常、0.1〜5時間、好ましくは0.5〜3時間である。加熱の方法は特に制限されず、例えば電気オーブンなどを用いて行えばよい。 The curing temperature is usually 30 to 400 ° C, preferably 70 to 300 ° C, and more preferably 100 to 200 ° C. The curing time is usually 0.1 to 5 hours, preferably 0.5 to 3 hours. The method of heating is not particularly limited, and may be performed using, for example, an electric oven.
(複合体)
本発明の複合体は、上述した、本発明の硬化物の表面に導体層を形成してなるものである。
(Complex)
The composite of the present invention is obtained by forming a conductor layer on the surface of the cured product of the present invention described above.
例えば、本発明の積層体が多層基板を形成する場合、本発明の複合体は、該積層体の電気絶縁層上に、さらに別の導体層を形成してなるものである。かかる導体層としては金属めっき又は金属箔を使用することができる。金属めっき材料としては、金、銀、銅、ロジウム、パラジウム、ニッケル又はスズ等、金属箔としては前述のフィルム、積層フィルム又はプリプレグの支持体として使用されるものが挙げられる。なお、本発明においては、導体層としては金属めっきを使用する方法の方が、微細配線が可能であるという点より、好ましい。以下、本発明の複合体の製造方法を、本発明の複合体の一例として、導体層として金属めっきを用いた多層回路基板を例示して、説明する。 For example, when the laminate of the present invention forms a multilayer substrate, the composite of the present invention is obtained by forming another conductor layer on the electrical insulating layer of the laminate. As such a conductor layer, metal plating or metal foil can be used. Examples of the metal plating material include gold, silver, copper, rhodium, palladium, nickel, tin and the like, and examples of the metal foil include those used as a support of the above-mentioned film, laminated film or prepreg. In the present invention, the method of using metal plating as the conductor layer is preferable from the point that fine wiring is possible. Hereinafter, the method for producing a composite of the present invention will be described by exemplifying a multilayer circuit board using metal plating as a conductor layer as an example of the composite of the present invention.
まず、積層体に、電気絶縁層を貫通するビアホールやスルーホールを形成する。ビアホールは、多層回路基板とした場合に、多層回路基板を構成する各導体層を連結するために形成される。ビアホールやスルーホールは、フォトリソグラフィ法のような化学的処理により、又は、ドリル、レーザー、プラズマエッチングなどの物理的処理などにより形成することができる。これらの方法の中でもレーザーによる方法(炭酸ガスレーザー、エキシマレーザー、UV−YAGレーザーなど)は、より微細なビアホールを電気絶縁層の特性を低下させずに形成できるので好ましい。 First, a via hole or a through hole which penetrates the electrical insulating layer is formed in the laminate. The via holes are formed to connect the conductor layers constituting the multilayer circuit board when the multilayer circuit board is used. The via holes and the through holes can be formed by a chemical process such as photolithography, or by a physical process such as a drill, a laser, or plasma etching. Among these methods, the laser method (carbon dioxide gas laser, excimer laser, UV-YAG laser, etc.) is preferable because finer via holes can be formed without deteriorating the characteristics of the electrical insulating layer.
次に、積層体の電気絶縁層(すなわち、本発明の硬化物)の表面を粗化する表面粗化処理を行う。表面粗化処理は、電気絶縁層上に形成する導電層との接着性を高めるために行う。
電気絶縁層の表面の算術平均粗さRaは、好ましくは0.5μm以下、より好ましくは0.3μm以下であり、かつ表面十点平均粗さRzjisは、好ましくは5μm未満、より好ましくは3μm以下である。なお、本明細書において、RaはJIS B0601−2001に示される算術平均粗さであり、表面十点平均粗さRzjisは、JIS B0601−2001付属書1に示される十点平均粗さである。
Next, a surface roughening treatment is performed to roughen the surface of the electrical insulating layer (that is, the cured product of the present invention) of the laminate. The surface roughening treatment is performed to enhance the adhesion to the conductive layer formed on the electrical insulating layer.
Arithmetic mean roughness Ra of the surface of the electrically insulating layer is preferably 0.5 μm or less, more preferably 0.3 μm or less, and surface ten-point mean roughness Rzjis is preferably less than 5 μm, more preferably 3 μm or less It is. In the present specification, Ra is the arithmetic average roughness shown in JIS B0601-2001, and the surface ten-point average roughness Rzjis is the ten-point average roughness shown in JIS B0601-2001 Appendix 1.
表面粗化処理方法としては、本発明では、電気絶縁層表面と酸化性化合物とを接触させる方法などが挙げられる。酸化性化合物としては、無機酸化性化合物や有機酸化性化合物などの酸化能を有する公知の化合物が挙げられる。電気絶縁層の表面粗度の制御の容易さから、無機酸化性化合物や有機酸化性化合物を用いるのが特に好ましい。無機酸化性化合物としては、過マンガン酸塩、無水クロム酸、重クロム酸塩、クロム酸塩、過硫酸塩、活性二酸化マンガン、四酸化オスミウム、過酸化水素、過よう素酸塩などが挙げられる。有機酸化性化合物としてはジクミルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、m−クロロ過安息香酸、過酢酸、オゾンなどが挙げられる。 As the surface roughening method, in the present invention, a method of contacting the surface of the electrical insulating layer with the oxidizing compound may, for example, be mentioned. Examples of the oxidizing compound include known compounds having oxidizing ability such as inorganic oxidizing compounds and organic oxidizing compounds. It is particularly preferable to use an inorganic oxidizing compound or an organic oxidizing compound because of the ease of controlling the surface roughness of the electrical insulating layer. Inorganic oxidizing compounds include permanganate, chromic acid anhydride, bichromate, chromate, persulfate, activated manganese dioxide, osmium tetraoxide, hydrogen peroxide, periodate and the like . Examples of the organic oxidizing compound include dicumyl peroxide, octanoyl peroxide, m-chloroperbenzoic acid, peracetic acid, ozone and the like.
無機酸化性化合物や有機酸化性化合物を用いて電気絶縁層表面を表面粗化処理する方法に格別な制限はない。例えば、上記酸化性化合物を溶解可能な溶媒に溶解して調製した酸化性化合物溶液を電気絶縁層表面に接触させる方法が挙げられる。酸化性化合物溶液を、電気絶縁層の表面に接触させる方法としては、特に限定されないが、たとえば、電気絶縁層を酸化性化合物溶液に浸漬するディップ法、酸化性化合物溶液の表面張力を利用して、酸化性化合物溶液を、電気絶縁層に載せる液盛り法、酸化性化合物溶液を、電気絶縁層に噴霧するスプレー法、などいかなる方法であってもよい。表面粗化処理を行うことにより、電気絶縁層の、導体層など他の層との間の密着性を向上させることができる。 There is no particular limitation on the method of roughening the surface of the electrical insulating layer using an inorganic oxidizing compound or an organic oxidizing compound. For example, there is a method in which an oxidizing compound solution prepared by dissolving the above-mentioned oxidizing compound in a soluble solvent is brought into contact with the surface of the electrical insulating layer. The method for bringing the oxidizing compound solution into contact with the surface of the electrical insulating layer is not particularly limited. For example, a dip method of immersing the electrical insulating layer in the oxidizing compound solution, using surface tension of the oxidizing compound solution Any method may be used, such as a method in which the oxidizing compound solution is placed on the electrical insulating layer, and a spraying method in which the oxidizing compound solution is sprayed on the electrical insulating layer. By performing the surface roughening treatment, the adhesion between the electrical insulating layer and another layer such as a conductor layer can be improved.
これらの酸化性化合物溶液を電気絶縁層表面に接触させる温度や時間は、酸化性化合物の濃度や種類、接触方法などを考慮して、任意に設定すればよいが、温度は、通常、25〜95℃、好ましくは30〜85℃であり、時間は、通常、0.5〜60分間、好ましくは1〜40分間である。 The temperature and time for bringing these oxidizing compound solutions into contact with the surface of the electrical insulating layer may be set arbitrarily in consideration of the concentration and type of oxidizing compounds, the method of contact, etc. The temperature is 95 ° C., preferably 30 to 85 ° C., and the time is usually 0.5 to 60 minutes, preferably 1 to 40 minutes.
なお、表面粗化処理後、酸化性化合物を除去するため、表面粗化処理後の電気絶縁層表面を水で洗浄する。また、水だけでは洗浄しきれない物質が付着している場合には、その物質を溶解可能な洗浄液でさらに洗浄したり、他の化合物と接触させたりすることにより水に可溶な物質にしてから水で洗浄する。例えば、過マンガン酸カリウム水溶液や過マンガン酸ナトリウム水溶液などのアルカリ性水溶液を電気絶縁層と接触させた場合は、発生した二酸化マンガンの皮膜を除去する目的で、硫酸ヒドロキシアミンと硫酸との混合液などの酸性水溶液により中和還元処理した後に水で洗浄することができる。 Note that after the surface roughening treatment, the surface of the electrical insulating layer after the surface roughening treatment is washed with water in order to remove the oxidizing compound. If a substance that can not be washed out with water alone is attached, the substance is further washed with a soluble washing solution or brought into contact with another compound to make the substance soluble in water. Wash with water. For example, when an aqueous alkaline solution such as an aqueous potassium permanganate solution or an aqueous sodium permanganate solution is brought into contact with the electrical insulating layer, a mixed solution of hydroxyamine sulfate and sulfuric acid, etc., for the purpose of removing the generated manganese dioxide film. It can be washed with water after neutralization reduction treatment with an acidic aqueous solution of
次いで、積層体の電気絶縁層について表面粗化処理を行った後、電気絶縁層の表面及びビアホールやスルーホールの内壁面に、導体層を形成する。導体層の形成方法は、密着性に優れる導体層を形成できるという観点より、無電解めっき法により行なうことが好ましい。 Next, the surface of the electrical insulation layer of the laminate is roughened, and then a conductor layer is formed on the surface of the electrical insulation layer and the inner wall surfaces of the via holes and through holes. It is preferable to carry out the formation method of a conductor layer by the electroless-plating method from a viewpoint that the conductor layer which is excellent in adhesiveness can be formed.
たとえば、無電解めっき法により導体層を形成する際においては、まず、金属薄膜を電気絶縁層の表面に形成させる前に、電気絶縁層上に、銀、パラジウム、亜鉛、コバルトなどの触媒核を付着させるのが一般的である。触媒核を電気絶縁層に付着させる方法は特に制限されず、例えば、銀、パラジウム、亜鉛、コバルトなどの金属化合物やこれらの塩や錯体を、水又はアルコールもしくはクロロホルムなどの有機溶剤に0.001〜10重量%の濃度で溶解した液(必要に応じて酸、アルカリ、錯化剤、還元剤などを含有していてもよい。)に浸漬した後、金属を還元する方法などが挙げられる。 For example, when forming a conductor layer by electroless plating, first, before forming a metal thin film on the surface of the electrical insulation layer, catalyst nuclei of silver, palladium, zinc, cobalt, etc. are formed on the electrical insulation layer. It is common to make it adhere. The method of attaching the catalyst nucleus to the electrical insulating layer is not particularly limited, and, for example, metal compounds such as silver, palladium, zinc and cobalt or salts or complexes thereof with water or an organic solvent such as alcohol or chloroform may be used. After immersing in a solution (containing an acid, an alkali, a complexing agent, a reducing agent, etc., if necessary) dissolved at a concentration of 10% by weight, a method of reducing metal, etc. may be mentioned.
無電解めっき法に用いる無電解めっき液としては、公知の自己触媒型の無電解めっき液を用いればよく、めっき液中に含まれる金属種、還元剤種、錯化剤種、水素イオン濃度、溶存酸素濃度などは特に限定されない。例えば、次亜リン酸アンモニウム、次亜リン酸、水素化硼素アンモニウム、ヒドラジン、ホルマリンなどを還元剤とする無電解銅めっき液;次亜リン酸ナトリウムを還元剤とする無電解ニッケル−リンめっき液;ジメチルアミンボランを還元剤とする無電解ニッケル−ホウ素めっき液;無電解パラジウムめっき液;次亜リン酸ナトリウムを還元剤とする無電解パラジウム−リンめっき液;無電解金めっき液;無電解銀めっき液;次亜リン酸ナトリウムを還元剤とする無電解ニッケル−コバルト−リンめっき液などの無電解めっき液を用いることができる。 As the electroless plating solution used for the electroless plating method, a known autocatalytic electroless plating solution may be used, and metal species, reducing agent species, complexing agent species, hydrogen ion concentration, and the like contained in the plating solution, The dissolved oxygen concentration and the like are not particularly limited. For example, an electroless copper plating solution containing ammonium hypophosphite, hypophosphorous acid, ammonium borohydride, hydrazine, formalin or the like as a reducing agent; an electroless nickel-phosphorus plating solution using sodium hypophosphite as a reducing agent Electroless nickel-boron plating solution using dimethylamine borane as a reducing agent; electroless palladium plating solution; electroless palladium-phosphorous plating solution using sodium hypophosphite as a reducing agent; electroless gold plating solution; electroless silver Plating solution: An electroless plating solution such as an electroless nickel-cobalt-phosphorus plating solution using sodium hypophosphite as a reducing agent can be used.
金属薄膜を形成した後、基板表面を防錆剤と接触させて防錆処理を施すことができる。また、金属薄膜を形成した後、密着性向上などのため、金属薄膜を加熱することもできる。加熱温度は、通常、50〜250℃、好ましくは80〜200℃である。 After forming the metal thin film, the surface of the substrate can be brought into contact with an antirust agent to carry out an antirust treatment. In addition, after the metal thin film is formed, the metal thin film can also be heated to improve adhesion and the like. The heating temperature is usually 50 to 250 ° C, preferably 80 to 200 ° C.
このようにして形成された金属薄膜上にめっき用レジストパターンを形成し、更にその上に電解めっきなどの湿式めっきによりめっきを成長させ(厚付けめっき)、次いで、レジストを除去し、更にエッチングにより金属薄膜をパターン状にエッチングして導体層を形成する。従って、この方法により形成される導体層は、通常、パターン状の金属薄膜と、その上に成長させためっきとからなる。 A resist pattern for plating is formed on the thin metal film thus formed, and then plating is grown by wet plating such as electrolytic plating (thick plating), then the resist is removed and etching is further performed by etching. The metal thin film is etched in a pattern to form a conductor layer. Therefore, the conductor layer formed by this method usually consists of a patterned metal thin film and plating grown thereon.
以上のようにして得られた多層回路基板を、上述した積層体を製造するための基板とし、これを上述した成形体又は複合成形体とを加熱圧着し、硬化して電気絶縁層を形成し、さらにこの上に、上述した方法に従い、導電層の形成を行い、これらを繰り返すことにより、さらなる多層化を行うことができ、これにより所望の多層回路基板とすることができる。 The multilayer circuit substrate obtained as described above is used as a substrate for producing the above-described laminate, and this is subjected to heat and pressure bonding with the above-described molded body or composite molded body to form an electrical insulating layer. Further, on this, the formation of the conductive layer is performed according to the above-mentioned method, and by repeating these, further multi-layering can be performed, whereby a desired multilayer circuit board can be obtained.
このようにして得られる本発明の複合体(及び本発明の複合体の一例としての多層回路基板)は、本発明の硬化性樹脂組成物からなる電気絶縁層(本発明の硬化物)を有してなり、本発明の硬化性樹脂組成物は、表面粗化処理条件が変動した場合でも、表面粗度が低く、導体層との密着性に優れた電気絶縁層を安定して与えることができるものであるため、本発明の複合体(及び本発明の複合体の一例としての多層回路基板)は、各種用途に好適に用いることができる。 The composite of the present invention (and the multilayer circuit board as an example of the composite of the present invention) thus obtained has an electrical insulating layer (the cured product of the present invention) composed of the curable resin composition of the present invention. The curable resin composition of the present invention can stably provide an electrical insulating layer having low surface roughness and excellent adhesion to a conductor layer even when the surface roughening treatment conditions are changed. As it is possible, the composite of the present invention (and the multilayer circuit board as an example of the composite of the present invention) can be suitably used for various applications.
(電子材料用基板)
本発明の電子材料用基板は、上述した本発明の硬化物又は複合体からなるものである。このような本発明の硬化物又は複合体からなる本発明の電子材料用基板は、携帯電話機、PHS、ノート型パソコン、PDA(携帯情報端末)、携帯テレビ電話機、パーソナルコンピューター、スーパーコンピューター、サーバー、ルーター、液晶プロジェクタ、エンジニアリング・ワークステーション(EWS)、ページャ、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、電子手帳、電子卓上計算機、カーナビゲーション装置、POS端末、タッチパネルを備えた装置などの各種電子機器に好適に用いることができる。
(Substrate for electronic materials)
The substrate for electronic materials of the present invention comprises the above-mentioned cured product or composite of the present invention. The substrate for electronic materials of the present invention comprising the cured product or composite of the present invention is a mobile phone, PHS, laptop computer, PDA (portable information terminal), mobile television phone, personal computer, super computer, server, Router, LCD projector, engineering workstation (EWS), pager, word processor, television, viewfinder or monitor direct view video tape recorder, electronic organizer, electronic desktop computer, car navigation device, POS terminal, device with touch panel And other electronic devices.
以下に実施例及び比較例を挙げて、本発明についてより具体的に説明する。なお、各例中の「部」及び「%」は、特に断りのない限り、重量基準である。各種の物性については、以下の方法に従って評価した。 Hereinafter, the present invention will be more specifically described by way of examples and comparative examples. In the examples, "parts" and "%" are on a weight basis unless otherwise noted. Various physical properties were evaluated according to the following method.
(1)脂環式オレフィン重合体の数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)
テトラヒドロフランを展開溶媒として、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により測定し、ポリスチレン換算値として求めた。
(1) Number average molecular weight (Mn), weight average molecular weight (Mw) of alicyclic olefin polymer
It measured by gel permeation chromatography (GPC) by using tetrahydrofuran as a developing solvent, and it calculated | required as polystyrene conversion value.
(2)脂環式オレフィン重合体の水素添加率
水素添加前における重合体中の不飽和結合のモル数に対する水素添加された不飽和結合のモル数の比率を、400MHzの1H−NMRスペクトル測定により求め、これを水素添加率とした。
(2) Hydrogenation rate of alicyclic olefin polymer The ratio of the number of moles of unsaturated unsaturated bonds to the number of moles of unsaturated bonds in the polymer before hydrogenation was measured by 1 H-NMR spectrum at 400 MHz. This was determined as the hydrogenation rate.
(3)脂環式オレフィン重合体のカルボン酸無水物基を有する単量体単位の含有率
重合体中の総単量体単位モル数に対するカルボン酸無水物基を有する単量体単位のモル数の割合を、400MHzの1H−NMRスペクトル測定により求め、これを重合体のカルボン酸無水物基を有する単量体単位の含有率とした。
(3) Content of Monomer Unit Having Carboxylic Anhydride Group in Alicyclic Olefin Polymer The number of moles of monomer unit having a carboxylic anhydride group relative to the total number of monomer units in the polymer The ratio of H was determined by 400 MHz 1 H-NMR spectrum measurement, and this was taken as the content of monomer units having a carboxylic acid anhydride group of the polymer.
(4)電気絶縁層(被めっき層)の表面粗度(算術平均粗さRa)
多層プリント配線板表面の銅を過硫酸アンモニウム溶液で溶解して得られた被めっき層表面を、表面形状測定装置(ビーコインスツルメンツ社製、WYKO NT1100)を用いて、測定範囲91μm×120μmで表面粗度(算術平均粗さRa)を測定した。
なお、本実施例においては、後述する酸化処理工程における処理時間(表面粗化処理時間)の異なる2種類の多層プリント配線板(80℃、15分の条件、および80℃、30分の条件)を得て、これら2種類の多層プリント配線板のそれぞれについて、表面粗度の測定を行った。
○:表面粗度Raが200μm未満
△:表面粗度Raが200μm以上、300μm未満
×:表面粗度Raが300μm以上
(4) Surface roughness (arithmetic mean roughness Ra) of electrical insulating layer (to-be-plated layer)
The surface roughness of the to-be-plated layer obtained by dissolving the copper on the surface of the multilayer printed wiring board with an ammonium persulfate solution was measured using a surface shape measuring device (WYKO NT1100, manufactured by Becoin Instruments) in a measuring range of 91 μm × 120 μm. The (arithmetic mean roughness Ra) was measured.
In the present embodiment, two types of multilayer printed wiring boards having different treatment times (surface roughening treatment time) in the oxidation treatment process described later (80.degree. C. for 15 minutes, and 80.degree. C. for 30 minutes) The surface roughness was measured for each of these two types of multilayer printed wiring boards.
○: surface roughness Ra is less than 200 μm Δ: surface roughness Ra is 200 μm or more and less than 300 μm ×: surface roughness Ra is 300 μm or more
(5)電気絶縁層(被めっき層)と導体層との密着性(ピール強度)
多層プリント配線板における被めっき層と銅めっき層との引き剥がし強さ(ピール強度)をJIS C6481−1996に準拠して測定した。
なお、本実施例においては、後述する酸化処理工程における処理時間(表面粗化処理時間)の異なる2種類の多層プリント配線板(80℃、15分の条件、および80℃、30分の条件)を得て、これら2種類の多層プリント配線板のそれぞれについて、ピール強度の測定を行った。
○:ピール強度が6N/cm以上
△:ピール強度が4Ncm以上、6N/cm未満
×:ピール強度が4Ncm未満
(5) Adhesion (peel strength) between the electrically insulating layer (the layer to be plated) and the conductor layer
The peel strength (peel strength) of the layer to be plated and the copper plating layer in a multilayer printed wiring board was measured in accordance with JIS C6481-1996.
In the present embodiment, two types of multilayer printed wiring boards having different treatment times (surface roughening treatment time) in the oxidation treatment process described later (80.degree. C. for 15 minutes, and 80.degree. C. for 30 minutes) The peel strength was measured for each of these two types of multilayer printed wiring boards.
○: Peel strength is 6 N / cm or more Δ: Peel strength is 4 N cm or more and less than 6 N / cm ×: Peel strength is less than 4 N cm
合成例1
重合1段目として5−エチリデン−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(EdNB)35モル部、1−ヘキセン0.9モル部、アニソール340モル部及び4−アセトキシベンジリデン(ジクロロ)(4,5−ジブロモ−1,3−ジメシチル−4−イミダゾリン−2−イリデン)(トリシクロヘキシルホスフィン)ルテニウム(C1063、和光純薬社製)0.005部を、窒素置換した耐圧ガラス反応器に仕込み、攪拌下に80℃で30分間の重合反応を行ってノルボルネン系開環重合体の溶液を得た。
次いで、重合2段目として重合1段目に得た溶液中にテトラシクロ[9.2.1.02,10.03,8]テトラデカ−3,5,7,12−テトラエン(MTF)35モル部、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン−5,6−ジカルボン酸無水物(NDCA)30モル部、アニソール250モル部及びC1063 0.01部を追加し、攪拌下に80℃で1.5時間の重合反応を行ってノルボルネン系開環重合体の溶液を得た。この溶液について、ガスクロマトグラフィーを測定したところ、実質的に単量体が残留していないことが確認され、重合転化率は99%以上であった。
次いで、窒素置換した攪拌機付きオートクレーブに、得られた開環重合体の溶液を仕込み、C1063 0.03部を追加し、150℃、水素圧7MPaで、5時間攪拌させて水素添加反応を行って、ノルボルネン系開環重合体の水素添加物である脂環式オレフィン重合体(A−1)の溶液を得た。得られた重合体(A−1)の重量平均分子量は60,000、数平均分子量は30,000、分子量分布は2であった。また、水素添加率は95%であり、カルボン酸無水物基を有する単量体単位の含有率は30モル%であった。重合体(A−1)の溶液の固形分濃度は22%であった。
Synthesis example 1
As the first stage of polymerization, 35 molar parts of 5-ethylidene-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene (EdNB), 0.9 molar parts of 1-hexene, 340 molar parts of anisole and 4-acetoxybenzylidene (dichloro) In a pressure-resistant glass reactor in which 0.005 part of (4,5-dibromo-1,3-dimesityl-4-imidazolin-2-ylidene) (tricyclohexylphosphine) ruthenium (C1063, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) is replaced with nitrogen. The mixture was charged, and a polymerization reaction was performed at 80 ° C. for 30 minutes under stirring to obtain a solution of a norbornene ring-opening polymer.
Then, tetracyclo [9.2.1.0 2,10 in the solution obtained in the polymerization the first stage as the polymerization second stage. 0 3,8 ] Tetradeca-3,5,7,12-tetraene (MTF) 35 mol parts, bicyclo [2.2.1] hept-2-ene-5,6-dicarboxylic anhydride (NDCA) 30 mol A part, 250 mol parts of anisole and 0.01 part of C1063 were added, and a polymerization reaction was carried out at 80 ° C. for 1.5 hours under stirring to obtain a solution of a norbornene ring-opening polymer. The solution was subjected to gas chromatography measurement to confirm that substantially no monomer remained, and the polymerization conversion was 99% or more.
Subsequently, the solution of the obtained ring-opened polymer is charged into a nitrogen-substituted autoclave with a stirrer, 0.03 parts of C1063 is added, and stirring is performed for 5 hours at 150 ° C. and hydrogen pressure 7 MPa to carry out a hydrogenation reaction A solution of an alicyclic olefin polymer (A-1) which is a hydrogenated product of a norbornene ring-opening polymer was obtained. The weight average molecular weight of the obtained polymer (A-1) was 60,000, the number average molecular weight was 30,000, and the molecular weight distribution was 2. The hydrogenation rate was 95%, and the content of the monomer unit having a carboxylic acid anhydride group was 30 mol%. The solid content concentration of the solution of the polymer (A-1) was 22%.
実施例1
(硬化性樹脂組成物の調製)
合成例1で得られた脂環式オレフィン重合体(A−1)の溶液を455部(脂環式オレフィン重合体(A−1)の量で100部)、フェノールノボラック型エポキシ化合物(B)としてジシクロペンタジエン構造を有するノボラック型エポキシ化合物(エピクロンHP7200H、DIC社製、エポキシ当量278)31部、表面処理無機充填剤(C)として、球状シリカ(アドマファイン(登録商標)SO−C1、アドマテックス社製、体積平均粒径0.25μm)をN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(KBM−573、信越化学工業社製、アミノ基含有シランカップリング剤)で処理してなるアミノ基含有シランカップリング剤処理シリカ60部、老化防止剤としてテトラキス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシラート(アデカスタブ(登録商標)LA52、ADEKA社製)1.3部、老化防止剤としてトリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレート(IRGANOX(登録商標)3114、BASF社製)1部、レーザー加工性向上剤として2−[2−ヒドロキシ−3,5−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール(TINUVIN 234、BASF製)1部、及びアニソール335部を混合し、遊星式攪拌機で3分間攪拌した。
さらにこれに、硬化促進剤として1−べンジル−2−フェニルイミダゾールをアニソールに50%溶解した溶液1部(1−べンジル−2−フェニルイミダゾール換算で0.5部)を混合し、遊星式攪拌機で5分間攪拌し被めっき層用の硬化性樹脂組成物のワニスを得た。
Example 1
(Preparation of a curable resin composition)
455 parts (100 parts by weight of the alicyclic olefin polymer (A-1)) of the solution of the alicyclic olefin polymer (A-1) obtained in Synthesis Example 1, phenol novolac epoxy compound (B) 31 parts of novolac type epoxy compound (Epiclon HP 7200H, manufactured by DIC, epoxy equivalent 278) having a dicyclopentadiene structure as a surface-treated inorganic filler (C), spherical silica (Admafine (registered trademark) SO-C1, Ad An amino group formed by treating Matex (volume average particle diameter 0.25 μm) with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (KBM-573, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., amino group-containing silane coupling agent) 60 parts of treated silane coupling agent treated silica, tetrakis (1,2,2,6,6-pentamethyl as anti-aging agent 4-piperidyl) 1,2,3,4-butanetetracarboxylate (Adekastab (registered trademark) LA 52, manufactured by ADEKA Corporation) 1.3 parts, tris- (3,5-di-t-butyl-) as an antioxidant 1 part of 4-hydroxybenzyl) -isocyanurate (IRGANOX (registered trademark) 3114, manufactured by BASF Corp.), 2- [2-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl as a laser processability improver 1 part of 2 H-benzotriazole (TINUVIN 234, manufactured by BASF) and 335 parts of anisole were mixed, and stirred with a planetary stirrer for 3 minutes.
Further, 1 part (0.5 parts in terms of 1-benzyl-2-phenylimidazole) of a solution in which 50% of 1-benzyl-2-phenylimidazole is dissolved in anisole as a curing accelerator is mixed therewith, and the planetary system is used. It stirred for 5 minutes with a stirrer, and obtained the varnish of the curable resin composition for to-be-plated layers.
(接着層用樹脂組成物)
ジシクロペンタジエン構造を有するフェノールノボラック型エポキシ化合物(エピクロンHP7200H、DIC社製、エポキシ当量278)80部、テトラキスヒドロキシフェニルエタン型エポキシ化合物(jER 1031S、三菱化学社製、エポキシ当量200)20部、活性エステル化合物(エピクロン HPC−8000−65T、不揮発分65%のトルエン溶液、DIC社製、活性エステル基当量223)90部、シリカ(商品名「SC2500−SXJ」、アドマテックス社製)350部、老化防止剤としてトリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレート(IRGANOX(登録商標)3114、BASF社製)0.95部、及びアニソール97部を混合し、遊星式攪拌機で3分間攪拌した。
さらにこれに、硬化促進剤として1−べンジル−2−フェニルイミダゾールをアニソールに50%溶解した溶液9部(1−べンジル−2−フェニルイミダゾール換算で4.5部)を混合し、遊星式攪拌機で5分間攪拌して接着層用樹脂組成物のワニスを得た。
(Resin composition for adhesive layer)
80 parts of phenol novolac epoxy compound (Epiclon HP 7200H, manufactured by DIC, epoxy equivalent 278) having a dicyclopentadiene structure, 20 parts of tetrakis hydroxyphenylethane epoxy compound (jER 1031S, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, epoxy equivalent 200), activity 90 parts of ester compound (Epiclon HPC-8000-65T, toluene solution with nonvolatile content of 65%, active ester group equivalent weight 223, manufactured by DIC, 350 parts of silica (trade name "SC2500-SXJ", manufactured by Admatex Co., Ltd.), aging As an inhibitor, 0.95 parts of tris- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -isocyanurate (IRGANOX® 3114, manufactured by BASF Corp.) and 97 parts of anisole are mixed, and a planet is formed. Stirred for 3 minutes with a mechanical stirrer
Further, 9 parts (4.5 parts in terms of 1-benzyl-2-phenylimidazole) of a solution in which 50% of 1-benzyl-2-phenylimidazole is dissolved in anisole as a curing accelerator is mixed, and a planetary type The mixture was stirred for 5 minutes with a stirrer to obtain a varnish of the resin composition for an adhesive layer.
(積層フィルムの作製)
上記にて得られた被めっき層用の硬化性樹脂組成物のワニスを、厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(支持体)上にワイヤーバーを用いて塗布し、次いで、窒素雰囲気下、85℃で5分間乾燥させて、未硬化の硬化性樹脂組成物からなる、厚み3μmの被めっき層が形成された支持体付きフィルムを得た。
(Preparation of laminated film)
The varnish of the curable resin composition for a layer to be plated obtained above is applied on a polyethylene terephthalate film (support) having a thickness of 100 μm using a wire bar, and then at 85 ° C. in a nitrogen atmosphere. The film was dried for 5 minutes to obtain a film with a support having a thickness of 3 μm formed of a non-cured curable resin composition.
次に、支持体付きフィルムの硬化性樹脂組成物からなる被めっき層の形成面に、上記にて得られた接着層用樹脂組成物のワニスを、ドクターブレード(テスター産業社製)とオートフィルムアプリケーター(テスター産業社製)を用いて塗布し、次いで、窒素雰囲気下、80℃で10分間乾燥させて、総厚みが40μmである被めっき層及び接着層が形成された支持体付き積層フィルムを得た。得られた支持体付き積層フィルムは、支持体、硬化性樹脂組成物からなる被めっき層、接着層用樹脂組成物からなる接着層の順で形成された。 Next, a varnish of the resin composition for an adhesive layer obtained above is formed on a surface of a film to be plated comprising a curable resin composition of a film with a support, a doctor blade (manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.) and an auto film. The laminated film with a support on which a plating layer having a total thickness of 40 μm and an adhesive layer were formed by applying using an applicator (manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.) and then drying under nitrogen atmosphere at 80 ° C. for 10 minutes Obtained. The obtained laminated film with a support was formed in the order of a support, a to-be-plated layer composed of a curable resin composition, and an adhesive layer composed of a resin composition for an adhesive layer.
(積層体の作製)
次いで、上記とは別に、ガラスフィラー及びハロゲン不含エポキシ樹脂を含有するワニスをガラス繊維に含浸させて得られたコア材の表面に、厚さ35μmの銅が貼られた、厚さ0.8mm×縦150mm×横150mmの両面銅張り積層基板の銅表面を、有機酸との接触によってマイクロエッチング処理した、両面銅張り積層基板(内層基板)を得た。
(Preparation of laminate)
Next, separately from the above, copper having a thickness of 35 μm is stuck on the surface of a core material obtained by impregnating glass fiber and a varnish containing a halogen-free epoxy resin into glass fiber and having a thickness of 0.8 mm X A double-sided copper-clad laminate substrate (inner layer substrate) was obtained in which the copper surface of a 150 mm long x 150 mm wide double-sided copper-clad laminate substrate was microetched by contact with an organic acid.
この内層基板の両面に、上記にて得られた支持体付き接着フィルムを150mm角に切断したものを、接着層用樹脂組成物側の面が内側となるようにして貼り合わせた後、一次プレスを行った。一次プレスは、耐熱ゴム製プレス板を上下に備えた真空ラミネータにて、200Paの減圧下で温度110℃、圧力0.1MPaで90秒間の加熱圧着である。さらに、金属製プレス板を上下に備えた油圧プレス装置を用いて、圧着温度110℃、1MPaで90秒間、加熱圧着した。次いで支持体を剥がすことにより、硬化性樹脂組成物及び接着層用樹脂組成物からなる樹脂層と内層基板との積層体を得た。さらに積層体を空気雰囲気下、180℃で60分間放置し、樹脂層を硬化させて内層基板上に電気絶縁層を形成した。 The above-obtained adhesive film with a support cut into 150 mm squares is attached to both surfaces of this inner layer substrate so that the surface on the resin composition side for the adhesive layer is the inner side, and then the primary press Did. The primary press is a thermocompression bonding with a temperature of 110 ° C. and a pressure of 0.1 MPa for 90 seconds under a reduced pressure of 200 Pa with a vacuum laminator equipped with heat resistant rubber press plates at the top and bottom. Furthermore, heat pressing was carried out at a pressing temperature of 110 ° C. and 1 MPa for 90 seconds using a hydraulic pressing device provided with metal pressing plates at the top and bottom. Subsequently, the support was peeled off to obtain a laminate of a resin layer composed of a curable resin composition and a resin composition for an adhesive layer and an inner layer substrate. Further, the laminate was left to stand at 180 ° C. for 60 minutes in an air atmosphere to cure the resin layer and form an electrical insulating layer on the inner layer substrate.
(膨潤処理工程)
得られた積層体を、膨潤液(「スウェリング ディップ セキュリガント P」、アトテック社製、「セキュリガント」は登録商標)500mL/L、水酸化ナトリウム3g/Lになるように調製した60℃の水溶液に15分間揺動浸漬した後、水洗した。
(Swelling process)
The resulting laminate was prepared at a temperature of 60 ° C. so as to be 500 mL / L of swelling liquid (“Swelling Dip Securigant P”, manufactured by Atotech Co., Ltd., “Securigant” is a registered trademark) and 3 g / L of sodium hydroxide. The plate was shaken and immersed in an aqueous solution for 15 minutes and then washed with water.
(酸化処理工程)
次いで、過マンガン酸塩の水溶液(「コンセントレート コンパクト CP」、アトテック社製)640mL/L、水酸化ナトリウム濃度40g/Lになるように調製した80℃の水溶液に揺動浸漬をした後、水洗した。
なお、本実施例においては、80℃の水溶液に揺動浸漬する時間を15分とした積層体、及び30分とした積層体を得た。すなわち、酸化処理時間(表面粗化処理時間)の異なる積層体を得て、これら酸化処理時間の異なる積層体のそれぞれについて、下記の各工程を行った。
(Oxidation treatment process)
Subsequently, it is subjected to rocking immersion in an aqueous solution of 80 ° C. prepared to have an aqueous solution of permanganate (“Concentrate Compact CP”, manufactured by Atotech Co., Ltd.) 640 mL / L and a sodium hydroxide concentration of 40 g / L. did.
In addition, in the present Example, the laminated body which made rocking immersion time in the aqueous solution of 80 degreeC 15 minutes for 15 minutes, and the laminated body made 30 minutes were obtained. That is, laminates different in oxidation treatment time (surface roughening treatment time) were obtained, and each of the following steps was performed on each of the laminates different in oxidation treatment time.
(中和還元処理工程)
続いて、硫酸ヒドロキシアミン水溶液(「リダクション セキュリガント P 500」、アトテック社製、「セキュリガント」は登録商標)100mL/L、硫酸35mL/Lになるように調製した40℃ の水溶液に、積層体を5分間浸漬し、中和還元処理をした後、水洗した。
(Neutralization reduction treatment process)
Subsequently, the aqueous solution of hydroxyamine sulfate ("Reduction Security G 500", manufactured by Atotech, "Security G") is 100 mL / L, sulfuric acid 35 mL / L prepared at 40 ° C. aqueous solution, laminated body The film was immersed for 5 minutes, subjected to neutralization reduction treatment, and then washed with water.
(クリーナー・コンディショナー工程)
次いで、クリーナー・コンディショナー水溶液(「アルカップ MCC−6−A」、上村工業社製、「アルカップ」は登録商標)を濃度50ml/Lとなるよう調整した50℃の水溶液に積層体を5分間浸漬し、クリーナー・コンディショナー処理を行った。次いで40℃の水洗水に積層体を1分間浸漬した後、水洗した。
(Cleaner-conditioner process)
Next, the laminate is immersed for 5 minutes in a 50 ° C. aqueous solution adjusted to a concentration of 50 ml / L with a cleaner / conditioner aqueous solution ("Al cup MCC-6-A", manufactured by Uemura Kogyo Co., Ltd., "Al cup" is a registered trademark) , Cleaner-conditioner treatment. Subsequently, after immersing a laminated body in 40 degreeC wash water for 1 minute, it washed with water.
(ソフトエッチング処理工程)
次いで、硫酸濃度100g/L、過硫酸ナトリウム100g/Lとなるように調製した水溶液に積層体を2分間浸漬しソフトエッチング処理を行った後、水洗した。
(Soft etching process)
Subsequently, the laminate was immersed in an aqueous solution prepared to have a sulfuric acid concentration of 100 g / L and sodium persulfate of 100 g / L for 2 minutes to perform a soft etching treatment, and then washed with water.
(酸洗処理工程)
次いで、硫酸濃度100g/Lなるよう調製した水溶液に積層体を1分間浸漬し酸洗処理を行った後、水洗した。
(Pickling process)
Next, the laminate was dipped in an aqueous solution prepared to have a sulfuric acid concentration of 100 g / L for 1 minute to be pickled, and then washed with water.
(触媒付与工程)
次いで、アルカップ アクチベータ MAT−1−A(商品名、上村工業社製、「アルカップ」は登録商標)が200mL/L、アルカップ アクチベータ MAT−1−B(上商品名、村工業社製、「アルカップ」は登録商標)が30mL/L、水酸化ナトリウムが0.35g/Lになるように調製した60℃のPd塩含有めっき触媒水溶液に積層体を5分間浸漬した後、水洗した。
(Catalyst application process)
Then, Alcup Activator MAT-1-A (trade name, manufactured by Uemura Kogyo Co., Ltd., "Alcup" is a registered trademark) is 200 mL / L, Alcup Activator MAT-1-B (trade name, manufactured by Mura Kogyo Co., Ltd., "Alcupe" The laminate was immersed for 5 minutes in a 60 ° C. Pd salt-containing plating catalyst aqueous solution prepared to have a registered trademark of 30 mL / L and sodium hydroxide of 0.35 g / L, and then washed with water.
(活性化工程)
続いて、アルカップ レデユーサ− MAB−4−A(商品名、上村工業社製、「アルカップ」は登録商標)が20mL/L、アルカップ レデユーサ− MAB−4−B(商品名、上村工業社製、「アルカップ」は登録商標)が200mL/Lになるように調整した水溶液に積層体を35℃で、3分間浸漬し、めっき触媒を還元処理した後、水洗した。
(Activation process)
Subsequently, 20 mL / L of Alcup Red Reuser MAB-4-A (trade name, manufactured by Uemura Kogyo Co., Ltd., "Alcup" is a registered trademark), Alcup Red Reusser MAB-4-B (trade name, manufactured by Kamimura Kogyo Co., Ltd.), The laminate was immersed in an aqueous solution adjusted to 200 mL / L at 35 ° C. for 3 minutes to reduce the plating catalyst, and then washed with water.
(アクセレレータ処理工程)
次いで、アルカップ アクセレレーター MEL−3−A(商品名、上村工業社製、「アルカップ」は登録商標)が50mL/Lになるように調製した水溶液に積層体を25℃で、1分間浸漬した。
(Accelerator process)
Then, the laminate was immersed at 25 ° C. for 1 minute in an aqueous solution prepared so that Alcup accelerator MEL-3-A (trade name, manufactured by Uemura Kogyo Co., Ltd., “Alcup” is a registered trademark) is 50 mL / L. .
(無電解めっき工程)
このようにして得られた積層体を、スルカップ PEA−6−A(商品名、上村工業社製、「スルカップ」は登録商標)100mL/L、スルカップ PEA−6−B−2X(商品名、上村工業社製)50mL/L、スルカップ PEA−6−C(商品名、上村工業社製)14mL/L、スルカップ PEA−6−D(商品名、上村工業社製)15mL/L、スルカップ PEA−6−E(商品名、上村工業社製)50mL/L、37%ホルマリン水溶液5mL/Lとなるように調製した無電解銅めっき液に空気を吹き込みながら、温度36℃で、20分間浸漬して無電解銅めっき処理して積層体表面(被めっき層用樹脂組成物からなる被めっき層の表面)に無電解めっき膜を形成した。次いで、空気雰囲気下において150℃で30分間アニール処理を行った。
(Electroless plating process)
Thus, the laminate obtained in this manner is Sulcup PEA-6-A (trade name, manufactured by Kamimura Kogyo Co., Ltd., "Sulcup" is a registered trademark) 100 mL / L, Sulcup PEA-6-B-2X (trade name, Kamimura) Made by Industrial Co., Ltd.) 50 mL / L, Sul cup PEA-6-C (trade name, manufactured by Kamimura Kogyo Co., Ltd.) 14 mL / L, Sul cup PEA-6-D (trade name, manufactured by Kamimura Kogyo) 15 mL / L, Sul cup PEA-6 No immersing for 20 minutes at a temperature of 36 ° C while blowing air into the electroless copper plating solution prepared to be 50 mL / L of E (trade name, manufactured by Kamimura Kogyo Co., Ltd.) and 5 mL / L of a 37% formalin aqueous solution The electroless copper plating process was performed and the electroless-plating film | membrane was formed in the laminated body surface (surface of the to-be-plated layer which consists of a resin composition for to-be-plated layers). Next, annealing was performed at 150 ° C. for 30 minutes in an air atmosphere.
アニール処理が施された積層体に、電解銅めっきを施し厚さ30μmの電解銅めっき膜を形成させた。次いで当該積層体を180℃で60分間加熱処理することにより、積層体上に前記金属薄膜層及び電解銅めっき膜からなる導体層で回路を形成した両面2層の多層プリント配線板を得た。そして、得られた多層プリント配線板について、被めっき層の表面粗度(算術平均粗さRa)、及び被めっき層と金属層との密着性(ピール強度)を、上記方法にしたがって評価した。なお、本実施例においては、上述する酸化処理工程における処理時間(表面粗化処理時間)を15分として得られた多層プリント配線板、処理時間を30分として得られた多層プリント配線板のそれぞれについて、上記各評価を行った。結果を表1に示す。 The laminate subjected to the annealing treatment was subjected to electrolytic copper plating to form an electrolytic copper plating film having a thickness of 30 μm. Then, the laminate was subjected to heat treatment at 180 ° C. for 60 minutes to obtain a double-sided multilayer printed wiring board in which a circuit was formed on the laminate by the conductor layer comprising the metal thin film layer and the electrolytic copper plating film. And the surface roughness (arithmetic mean roughness Ra) of a to-be-plated layer and the adhesiveness (peel strength) of a to-be-plated layer and a metal layer were evaluated according to the said method about the obtained multilayer printed wiring board. In the present embodiment, the multilayer printed wiring board obtained with the treatment time (surface roughening treatment time) in the above-mentioned oxidation treatment step being 15 minutes, and the multilayer printed wiring board obtained with the treatment time being 30 minutes, respectively. The above evaluations were made for The results are shown in Table 1.
実施例2,3、比較例1,2
表1の実施例2,3及び比較例1,2における硬化性樹脂組成物の組成に従って、配合を変更した以外は、実施例1と同様にして、硬化性樹脂組成物のワニス、及び多層プリント配線板を得て、同様に測定、評価を行った。結果を表1に示す。
なお、表1において、表1に示す各化合物は以下のとおりである。
・「ジシクロペンタジエン構造含有フェノールノボラック型エポキシ化合物(HP7200HH)」は、ジシクロペンタジエン構造を有するフェノールノボラック型エポキシ化合物(エピクロンHP7200HH、DIC社製、エポキシ当量282)である。
・「ビスフェノールA型エポキシ化合物(jER828EL)」は、ビスフェノールA型エポキシ化合物(jER828EL、三菱化学社製、エポキシ当量186)である。
・「未処理シリカ」は、球状シリカ(アドマファイン(登録商標)SO−C1、アドマテックス社製、体積平均粒径0.25μm)の未処理品である。
Examples 2, 3 and Comparative Examples 1, 2
A varnish of a curable resin composition and a multilayer print in the same manner as in Example 1 except that the composition is changed according to the composition of the curable resin composition in Examples 2 and 3 and Comparative Examples 1 and 2 in Table 1. The wiring board was obtained and similarly measured and evaluated. The results are shown in Table 1.
In addition, in Table 1, each compound shown in Table 1 is as follows.
The “dicyclopentadiene structure-containing phenol novolac epoxy compound (HP7200HH)” is a phenol novolac epoxy compound having a dicyclopentadiene structure (Epiclon HP7200HH, manufactured by DIC, epoxy equivalent: 282).
-"Bisphenol A type epoxy compound (jER 828 EL)" is a bisphenol A type epoxy compound (jER 828 EL, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, epoxy equivalent 186).
"Untreated silica" is a non-treated spherical silica (Admafine (registered trademark) SO-C1, manufactured by Admatex, volume average particle diameter 0.25 μm).
表1に示すように、本発明の硬化性樹脂組成物によれば、酸化処理工程における処理時間(表面粗化処理時間)を、80℃、15分とした場合、80℃、30分とした場合のいずれにおいても、表面粗度が低く、導体層との密着性に優れた電気絶縁層(被めっき層)を形成可能であることがわかる(実施例1〜3)。したがって、本発明の硬化性樹脂組成物によれば、表面粗化処理条件のマージンが大きく、表面粗度が低く、導体層との密着性に優れた電気絶縁層を、表面粗化処理条件を厳密に管理することなく、安定的に得ることが可能であることがわかる。
一方、フェノールノボラック型エポキシ化合物(B)を含有しない場合や、シランカップリング剤で処理していない無機充填剤を用いた場合には、酸化処理工程における処理時間(表面粗化処理時間)により、得られる電気絶縁層の表面粗度や、導体層との密着性に劣る結果となった(比較例1,2)。
As shown in Table 1, according to the curable resin composition of the present invention, when the treatment time (surface roughening treatment time) in the oxidation treatment step is 80 ° C., 15 minutes, it is 80 ° C., 30 minutes In any of the cases, it can be seen that an electrical insulating layer (layer to be plated) having low surface roughness and excellent adhesion to the conductor layer can be formed (Examples 1 to 3). Therefore, according to the curable resin composition of the present invention, an electrical insulating layer having a large margin for surface roughening treatment conditions, a low surface roughness, and excellent adhesion to a conductor layer is subjected to the surface roughening treatment conditions. It can be seen that stable acquisition is possible without strict control.
On the other hand, when it does not contain a phenol novolak type epoxy compound (B), or when using an inorganic filler which is not treated with a silane coupling agent, the treatment time (surface roughening treatment time) in the oxidation treatment step is The surface roughness of the resulting electrical insulating layer and the adhesion to the conductor layer were inferior (comparative examples 1 and 2).
Claims (11)
縮合多環構造を有するフェノールノボラック型エポキシ化合物(B)と、および
シランカップリング剤で表面処理された無機充填剤(C)と
を含み、
前記フェノールノボラック型エポキシ化合物(B)のエポキシ当量が265から400であり、
前記脂環式オレフィン重合体(A)100重量部に対する、前記フェノールノボラック型エポキシ化合物(B)の含有割合が10から100重量部であり、
前記フェノールノボラック型エポキシ化合物(B)は、ジシクロペンタジエン構造を有する、
硬化性樹脂組成物。 Carboxyl group, an alicyclic olefin polymer having at least one functional group selected from carboxylic acid anhydride group and a phenolic hydroxyl group and (A),
Include phenol novolak type epoxy compound having a condensed polycyclic structure (B), and surface-treated inorganic filler with a silane coupling agent and (C),
The epoxy equivalent of the phenol novolac epoxy compound (B) is 265 to 400,
The alicyclic olefin polymer (A) with respect to 100 parts by weight, Ri 100 parts by weight of Der content from 10 of the phenol novolak type epoxy compound (B),
The phenol novolac epoxy compound (B) has a dicyclopentadiene structure,
Curable resin composition.
請求項1に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 1, wherein the content ratio of the inorganic filler (C) is 5 to 50% by weight.
請求項1または2に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 1, wherein the content of the alicyclic olefin polymer (A) in the curable resin composition is larger than the content of the inorganic filler (C).
フィルム。 Film made of a curable resin composition according to any one of claims 1 to 3.
接着層用樹脂組成物からなる接着層と
を有する
積層フィルム。 And the object to be plated layer made of a curable resin composition according to any one of claims 1 to 3,
And an adhesive layer comprising the resin composition for adhesive layer.
請求項5に記載の積層フィルム。 The laminated film according to claim 5, wherein the adhesive layer resin composition contains an epoxy compound and an active ester compound.
請求項5若しくは6に記載の積層フィルムに、
繊維基材を含んでなる
プリプレグ。 The film according to claim 4 , or the laminated film according to claim 5 or 6,
A prepreg comprising a fibrous base material.
請求項5若しくは6に記載の積層フィルム、又は
請求項7に記載のプリプレグを、
基材に積層してなる
積層体。 A film according to claim 4, or a laminated film according to claim 5 or 6 , or a prepreg according to claim 7.
A laminate formed by laminating on a substrate.
請求項4に記載のフィルム、又は
請求項5若しくは6に記載の積層フィルム、又は
請求項7に記載のプリプレグ、又は
請求項8に記載の積層体を
硬化してなる
硬化物。 The curable resin composition according to any one of claims 1 to 3, or film according to claim 4, or laminate film according to claim 5 or 6, or prepreg according to claim 7, or A cured product obtained by curing the laminate according to claim 8.
複合体。 A composite formed by forming a conductor layer on the surface of the cured product according to claim 9.
電子材料用基板。 A substrate for electronic material comprising the cured product according to claim 9 or the composite according to claim 10 as a constituent material.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014016834A JP6528226B2 (en) | 2014-01-31 | 2014-01-31 | Curable resin composition, film, laminated film, prepreg, laminate, cured product, and composite |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015143303A JP2015143303A (en) | 2015-08-06 |
JP6528226B2 true JP6528226B2 (en) | 2019-06-12 |
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ID=53888564
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014016834A Active JP6528226B2 (en) | 2014-01-31 | 2014-01-31 | Curable resin composition, film, laminated film, prepreg, laminate, cured product, and composite |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6528226B2 (en) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102055929B1 (en) * | 2016-07-29 | 2019-12-13 | 주식회사 엘지화학 | Resin composition for semiconductor package, prepreg and metal clad laminate using the same |
KR102058143B1 (en) | 2016-07-29 | 2019-12-20 | 주식회사 엘지화학 | Resin composition for semiconductor package, prepreg and metal clad laminate using the same |
JP7181231B2 (en) * | 2018-01-17 | 2022-11-30 | 京セラ株式会社 | Organic insulators, metal-clad laminates and wiring boards |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5630262B2 (en) * | 2010-12-27 | 2014-11-26 | 日本ゼオン株式会社 | Curable resin composition, cured product, laminate, multilayer circuit board, and electronic device |
WO2013027732A1 (en) * | 2011-08-23 | 2013-02-28 | 日本ゼオン株式会社 | Curable resin composition, film, prepreg, laminate, cured product and composite body |
US9629240B2 (en) * | 2011-12-28 | 2017-04-18 | Zeon Corporation | Prepreg and laminate including prepreg |
KR20140148373A (en) * | 2012-03-26 | 2014-12-31 | 제온 코포레이션 | Curable resin composition, film, multilayer film, prepreg, laminate, cured product, and composite body |
-
2014
- 2014-01-31 JP JP2014016834A patent/JP6528226B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015143303A (en) | 2015-08-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160913 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170419 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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A711 | Notification of change in applicant |
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