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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 26
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 10
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 304
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 8
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000002070 nanowire Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003336 CuNi Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000570 Cupronickel Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002042 Silver nanowire Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- YOCUPQPZWBBYIX-UHFFFAOYSA-N copper nickel Chemical compound [Ni].[Cu] YOCUPQPZWBBYIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical group [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
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Description
本発明は、透光性の基板に複数の透光性の電極層が形成された入力装置に関する。 The present invention relates to an input device in which a plurality of translucent electrode layers are formed on a translucent substrate.
携帯用電子機器などには、静電容量を検知する入力装置が設けられており、この入力装置は、カラー液晶パネルなどの表示パネルの前方に重ねられて配置されている。 A portable electronic device or the like is provided with an input device for detecting a capacitance, and the input device is disposed in front of a display panel such as a color liquid crystal panel.
入力装置は、透光性の基板に複数の透光性の電極層が形成されており、電極層は、第1の方向に接続されている第1の電極層と第2の方向に接続されている第2の電極層とを有している。第1の電極層と第2の電極層の一方の電極層に駆動電力が与えられると、他方の電極層から検知出力が得られ、指などが入力装置のどの箇所に接近しているのかを検知できるようになる。 In the input device, a plurality of light transmitting electrode layers are formed on a light transmitting substrate, and the electrode layers are connected in a second direction to a first electrode layer connected in a first direction. And a second electrode layer. When driving power is applied to one of the first electrode layer and the second electrode layer, a detection output is obtained from the other electrode layer, and it is determined where in the input device a finger or the like is approaching. It will be able to detect.
この種の入力装置には、1つの基板の同じ表面に、第1の電極層と第2の電極層の双方が形成されて、基板数を減らして薄型化できるようにしたものがある。 In this type of input device, there are devices in which both the first electrode layer and the second electrode layer are formed on the same surface of one substrate so that the number of substrates can be reduced for thinning.
この入力装置では、前記基板の表面に、第1の電極層に接続される第1の配線層(リード層)と、第2の電極層に接続される第2の配線層(リード層)とを形成することが必要になるが、第1の電極層が第1の方向で接続され、第2の電極層が第2の方向で接続されているため、第1の配線層を基板の第1の方向の縁部で引き回し、第2の配線層を基板の第2の方向の縁部で引き回すことが必要になる。基板の互いに直交する2つの辺に配線領域を形成すると、この配線領域が検知領域として機能しないデッド領域となる。また、表面パネルに入力装置が取り付けられる場合に、配線領域を加飾層で覆うことが必要になり、この加飾層を設ける分だけ表示パネルの表示領域が狭くなる課題があった。 In this input device, the first wiring layer (lead layer) connected to the first electrode layer, and the second wiring layer (lead layer) connected to the second electrode layer are provided on the surface of the substrate. The first electrode layer is connected in the first direction and the second electrode layer is connected in the second direction. It is necessary to route at the edge in the direction 1 and route the second wiring layer at the edge in the second direction of the substrate. If the wiring area is formed on two mutually orthogonal sides of the substrate, this wiring area becomes a dead area which does not function as a detection area. In addition, when the input device is attached to the front panel, it is necessary to cover the wiring area with the decorative layer, and there is a problem that the display area of the display panel is narrowed by the provision of the decorative layer.
特許文献1に記載されたタッチスクリーンパネルでは、Y方向に連続する第2感知電極と、第2感知電極どうしをY方向へ連結する第2接続パターンが一体に形成され、第2接続パターンの両側にX方向に並ぶ第1感知電極が互いに独立して形成されている。また、駆動パターンが、第1感知電極と第2感知電極との間を通過してY方向へ連続して延びている。第2接続パターンと駆動パターンは絶縁層で覆われており、絶縁層の上に形成された第1接続パターンによって、X方向に隣接する第1感知電極どうしが互いに接続されている。 In the touch screen panel described in Patent Document 1, a second sensing pattern continuous in the Y direction and a second connection pattern connecting the second sensing electrodes in the Y direction are integrally formed, and both sides of the second connection pattern are formed. The first sensing electrodes aligned in the X direction are formed independently of each other. Also, a drive pattern extends continuously between the first sensing electrode and the second sensing electrode in the Y direction. The second connection pattern and the drive pattern are covered with the insulating layer, and the first sensing electrodes adjacent in the X direction are connected to each other by the first connection pattern formed on the insulating layer.
このタッチスクリーンパネルは、駆動パターンが第1接続パターンの下側を通過することで、第2感知電極に接続される駆動配線と、駆動パターンを介して第1感知電極に接続される駆動配線とを、基板のY方向に向く縁部にのみに引き出すことができる。 In the touch screen panel, when the drive pattern passes below the first connection pattern, a drive wire connected to the second sensing electrode, and a drive wire connected to the first sensing electrode via the drive pattern. Can be drawn only to the edge of the substrate facing in the Y direction.
特許文献2に記載されたタッチパネルは、基板の表面に、X方向に並ぶ複数の第1の電極と第1の電極どうしを連結する第1の導線が一体に形成されている。それぞれの第1の電極に開口部が形成されており、開口部の内部に第2の電極が互いに独立して形成されている。第1の電極の上には絶縁層が形成され、この絶縁層の上に第2の導線が形成され、第2の導線によってY方向で隣り合う第2の電極層どうしが接続されている。
In the touch panel described in
基板の表面には、Y方向に延びる導電セグメントが設けられて、それぞれの導電セグメントが第1の導線に接続されているが、接続すべきでない第1の導線と導電セグメントとの交差部では、第1の導線の表面に前記絶縁層が形成され、この絶縁層の上に形成された第3の導線を介して導電セグメントどうしが接続されている。 The surface of the substrate is provided with conductive segments extending in the Y direction, and each conductive segment is connected to the first conductive wire, but at the intersection between the first conductive wire and the conductive segment, which should not be connected: The insulating layer is formed on the surface of the first conducting wire, and the conductive segments are connected to each other through a third conducting wire formed on the insulating layer.
このタッチパネルでは、X方向に導通している第1の電極に接続された導電セグメントがY方向に延びているため、第1の電極に接続されるリード線と、第2の電極に接続されるリード線を、基板のY方向の縁部にのみ引き回すことができる。 In this touch panel, since the conductive segment connected to the first electrode conducting in the X direction extends in the Y direction, the lead wire connected to the first electrode and the second electrode are connected The leads can be routed only to the edge of the substrate in the Y direction.
特許文献1に記載されたタッチスクリーンパネルでは、第1感知電極に導通する駆動パターンが、第2感知電極の側方に近接した位置を通過している。そのため、駆動パターンと第2感知電極との間で静電容量が形成され、駆動パターンと第2感知電極との対向部が感度領域となる。指などが接近すると、駆動パターンと第2感知電極との間に検知出力が発生し、この出力が、第1感知電極と第2感知電極との静電容量の変化を検知する本来の検知出力に対して検出ノイズとして重畳することになる。 In the touch screen panel described in Patent Document 1, the drive pattern conducted to the first sensing electrode passes a position close to the side of the second sensing electrode. Therefore, a capacitance is formed between the drive pattern and the second sensing electrode, and the opposing portion between the drive pattern and the second sensing electrode becomes a sensitivity region. When a finger or the like approaches, a detection output is generated between the drive pattern and the second sensing electrode, and this output is an original detection output that detects a change in capacitance between the first sensing electrode and the second sensing electrode. Is superimposed as detection noise.
特許文献2に記載されたタッチパネルは、いずれかの第1の電極に導通する導電セグメントが、他の第1の電極を乗り越えるようにしてY方向に延びているため、第1の電極に導通する導電セグメントが第2の電極から比較的離れており、特許文献1に記載のような本来感度を持つべきでない領域が感度領域となる課題は生じにくい。
The touch panel described in
しかし、特許文献2に記載されたタッチパネルでは、第1の電極に形成された開口部の中に第2の電極を配置するという特殊な構造を有しているため、第2の電極どうしを接続している第2の導線の数を、1つの第1の電極に対して2箇所ずつ設けることが必要になる。よって、電極数を多くすると第2の導線の数および第2の導線の下に形成される絶縁ブロックの数が多くなり、背後に設けられる表示パネルを表示したときに、多くの第2の導線と絶縁ブロックが目視されやすくなり、表示品質を損いやすい。
However, the touch panel described in
本発明は上記従来の課題を解決するものであり、基板の縁部での配線領域を減らして表示領域(入力領域)の面積を拡大できるようにし、しかも配線層と電極層との間に不要な感度が形成される現象を抑制でき、さらに表示品質も良好に保つことができる入力装置を提供することを目的としている。 The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and reduces the wiring area at the edge of the substrate so that the area of the display area (input area) can be expanded, and it is unnecessary between the wiring layer and the electrode layer. It is an object of the present invention to provide an input device capable of suppressing a phenomenon in which the sensitivity is formed and further capable of maintaining good display quality.
第1の本発明は、透光性の基板に、透光性の導電材料で形成された第1の電極層と第2の電極層とが形成され、複数の前記第1の電極層が第1の方向に並んで第1の電極列が形成され、複数の前記第2の電極層が第1の方向と交差する第2の方向に並んで第2の電極列が形成されている入力装置において、
前記第1の電極列と前記第2の電極列との交差部では、前記第1の電極層と前記第2の電極層のいずれか一方の電極層どうしを連結する連結部が前記透光性の導電材料で一体に形成され、前記連結部の上に第1の絶縁層と第1のブリッジ接続層が重ねて形成されて、前記第1のブリッジ接続層によって他方の電極層どうしが導通されており、
前記第1の電極列は第2の方向に列間隙部を空けて配置され、前記第1の電極層と前記第2の電極層とが第2の方向と交差する方向に隣接空間部を空けて配置されており、配線層と前記配線層の側方に位置するガード層とが、前記隣接空間部内に位置することなく、前記列間隙部内を第1の方向に延びて形成されており、前記配線層が前記第2の電極層に導通していることを特徴とするものである。
第2の本発明は、前記第1の電極列が第2の方向に列間隙部を空けて配置され、前記列間隙部で、前記第1の電極層の辺どうしが第2の方向に対向しており、前記列間隙部内では、配線層と前記配線層の側方に位置するガード層とが、前記第1の電極層の前記辺と辺との間を第1の方向に延びて形成されており、前記配線層が前記第2の電極層に導通していることを特徴とするものである。
According to a first aspect of the present invention, a first electrode layer and a second electrode layer formed of a light-transmitting conductive material are formed on a light-transmitting substrate, and the plurality of first electrode layers An input device in which a first electrode row is formed side by side in a direction 1, and a plurality of second electrode layers are formed side by side in a second direction intersecting the first direction. In
At the intersection of the first electrode row and the second electrode row, a connecting portion for connecting any one of the first electrode layer and the second electrode layer is the light transmitting property. The first insulating layer and the first bridge connection layer are formed on the coupling portion in an overlapping manner, and the other electrode layers are electrically connected by the first bridge connection layer. Yes,
The first electrode row is disposed with a row gap portion in the second direction, and an adjacent space portion is spaced in the direction in which the first electrode layer and the second electrode layer intersect the second direction. And the wiring layer and the guard layer located on the side of the wiring layer are formed extending in the first direction in the row gap without being located in the adjacent space , The wiring layer is electrically connected to the second electrode layer.
According to a second aspect of the present invention, the first electrode row is disposed with a row gap in the second direction, and in the row gap, the sides of the first electrode layer face each other in the second direction. In the column gap portion, a wiring layer and a guard layer located on the side of the wiring layer are formed to extend between the sides of the first electrode layer in a first direction. It is characterized in that the wiring layer is electrically connected to the second electrode layer.
本発明の入力装置では、第1の電極列の列間隙部内に、第2の電極層に接続される配線層とガード層とを形成することで、基板の表面で電極層と配線層を形成しやすい。また、配線層の側方にガード層を配置することで、配線層と第1の電極層との間に不要な感度領域が形成されるのを防止できるようになる。 In the input device of the present invention, the wiring layer connected to the second electrode layer and the guard layer are formed in the row gap portion of the first electrode row to form the electrode layer and the wiring layer on the surface of the substrate. It's easy to do. Further, by disposing the guard layer on the side of the wiring layer, it is possible to prevent an unnecessary sensitivity region from being formed between the wiring layer and the first electrode layer.
本発明の入力装置は、前記配線層と前記ガード層が、前記第1の電極層および前記第2の電極層と同じ透光性の導電材料で形成され、前記ガード層の上に第2の絶縁層と第2のブリッジ接続層が形成されており、前記第2のブリッジ接続層によって、前記第2の電極層と前記配線層とが接続されていることが好ましい。 In the input device of the present invention, the wiring layer and the guard layer are formed of the same light-transmitting conductive material as the first electrode layer and the second electrode layer, and a second conductive layer is formed on the guard layer. It is preferable that an insulating layer and a second bridge connection layer be formed, and the second electrode layer and the wiring layer be connected by the second bridge connection layer.
例えば、前記ガード層は、前記配線層の両側に形成されており、前記第2の絶縁層と前記第2のブリッジ接続層が、両側の前記ガード層のそれぞれの上に形成されている。 For example, the guard layer is formed on both sides of the wiring layer, and the second insulating layer and the second bridge connection layer are formed on each of the guard layers on both sides.
本発明の入力装置は、前記列間隙部に、前記配線層と一体の中間層が形成されており、前記第2の電極層が前記第2のブリッジ接続層を介して前記中間層に接続されていることが好ましい。 In the input device of the present invention, an intermediate layer integral with the wiring layer is formed in the column gap portion, and the second electrode layer is connected to the intermediate layer via the second bridge connection layer. Is preferred.
前記のように、配線層とガード層とを第1の電極層および第2の電極層と同じ導電材料で同一面に形成することで、配線層とガード層を別途形成する必要がない。また、第2のブリッジ接続層は主にガード層を覆う部分に限定的に形成すればよいため、絶縁層とブリッジ接続層の形成箇所と形成面積を小さくでき、表示品質を損ないにくいものとなる。 As described above, by forming the wiring layer and the guard layer on the same surface by using the same conductive material as the first electrode layer and the second electrode layer, it is not necessary to separately form the wiring layer and the guard layer. In addition, since the second bridge connection layer may be formed mainly limited to the portion covering the guard layer, the formation location and formation area of the insulating layer and the bridge connection layer can be reduced, and the display quality is unlikely to be impaired. .
本発明の入力装置は、第1の電極層に接続される配線層と第2の電極層に接続される配線層とを、第1の方向でのみ引き回すことができるため、基板の第2の方向の縁部に配線領域を設ける必要がなくなる。 In the input device of the present invention, the wiring layer connected to the first electrode layer and the wiring layer connected to the second electrode layer can be routed only in the first direction. There is no need to provide a wiring area at the edge of the direction.
また、第1の電極列と第1の電極列との列間隙部に、第2の電極層に接続される配線層とガード層を形成しているため、配線層と第1の電極層との間で感度領域が形成されるのを防止できる。また、絶縁層とブリッジ接続層の大きさと数を少なくでき、表示品質を損ないにくくなる。 Further, since the wiring layer and the guard layer connected to the second electrode layer are formed in the column gap between the first electrode column and the first electrode column, the wiring layer and the first electrode layer are formed. Can prevent the formation of a sensitivity region. In addition, the size and number of the insulating layer and the bridge connection layer can be reduced, and the display quality is unlikely to be impaired.
図1にタッチパネル1が示されている。タッチパネル1は、表面パネル2とその下に位置する本発明の第1の実施の形態の入力装置10とから構成されている。
The touch panel 1 is shown in FIG. The touch panel 1 includes a
表面パネル2は、携帯用電話機、ナビゲーション装置、ゲーム装置、通信装置などの各種電子機器のケースの一部を構成している。
The
表面パネル2はアクリル系などの透光性の合成樹脂材料やガラスで形成されており、四角形の表示部3と、表示部3を囲む加飾部4とを有している。表示部3は表面パネル2の外部から機器内部を透視できるようになっている。加飾部4は、前記合成樹脂材料やガラスの内面に印刷層が設けられ、または着色シートが重ねられるなどして、各種色相に着色されて、機器内部を透視できないようになっている。
The
入力装置10は、透光性の基板11を有している。基板11はPET(ポリエチレン・テレフタレート)などの樹脂シートまたは樹脂パネルあるいはガラス基板である。表面パネル2と入力装置10は、OCA(透明粘着材層)を介して接着される。電子機器のケース内には、カラー液晶パネルなどの表示パネル5が収納されている。表示パネル5の表示画面は、表面パネル2の表示部3に対向するように配置される。
The
図2ないし図8には、本発明の第1の実施の形態の入力装置10が示されている。各図では、Y方向が第1の方向で、X方向が第2の方向である。
2 to 8 show an
図2に示すように、入力装置10は、第1の方向の一方の縁部にのみ配線領域Hが形成されており、それ以外の3辺の縁部には配線領域が設けられていない。したがって、図1に示す表面パネル2の加飾部4のX方向の幅寸法を小さくでき、表示部3の面積を相対的に広げることが可能になる。
As shown in FIG. 2, in the
基板11の表面には、第1の方向(Y方向)に延びる第1の電極列20と、第2の方向(X方向)に延びる第2の電極列30が形成されている。
On the surface of the
第1の電極列20は、複数の第1の電極層21と、第1の電極層21をY方向に連結する(接続する)連結部22とが一体に形成されている。第1の電極列20はy1,y2,y3,y4の4列設けられているが、この数は入力装置10の面積に応じて選択される。
The
第1の電極層21は、矩形状であり、連結部22は、Y方向に隣接する第1の電極層21のX方向の中央部どうしを連結している。それぞれの第1の電極列20では、前記連結部22のX方向の両側に、Y方向に隣り合う第1の電極層21と第1の電極層21との間に形成された隣接空間部23が設けられている。また、X方向に隣り合う第1の電極列20と第1の電極列20との間に、列間隙部24a,24b,24cが形成されている。列間隙部24a,24b,24cは第1の方向(Y方向)に連続して形成されている。
The
第2の電極列30は、x1〜x6の6列設けられているが、この数は入力装置10の面積に応じて選択される。
The
それぞれの第2の電極列30は、複数の独立した第2の電極層31で構成されている。第2の電極層31はX方向に細長形状であり、長手方向がX方向に向けられている。第2の電極層31は、主に第1の電極列20において、Y方向で隣り合う第1の電極層21の間に形成された前記隣接空間部23の内部を通過するように形成されている。
Each
第1の電極層21と連結部22および第2の電極層31は、同じ透光性の導電材料で形成されている。透光性の導電材料は、ITO(酸化インジウムスズ)層、銀ナノワイヤやカーボンナノワイヤなどで形成された導電性ナノワイヤ層、メッシュ状に形成された薄い金属層、あるいは導電性ポリマー層などで形成されている。
The
図2では、第1の電極列20と第2の電極列30との交差部の1つがIII矢視部とされ、図3と図4に、III矢視部の交差部の詳細が示されている。この交差部では、第1の電極列20の連結部22を覆う透光性の第1の絶縁層32が形成されている。第1の絶縁層32の上に第1のブリッジ接続層33が形成されており、この第1のブリッジ接続層33によって、X方向に隣接する第2の電極層31どうしが接続されて導通されている。
In FIG. 2, one of the intersections of the
透光性の第1の絶縁層32はノボラック樹脂またはノボラック樹脂とアクリル樹脂とで構成されている。第1のブリッジ接続層33は、アモルファスのITO層の下地層の上に、Au(金)、Au合金、CuNi合金(銅・ニッケル合金)、Ni(ニッケル)などの導電性金属材料が重ねられ、さらに好ましくはアモルファスのITO層の保護層で覆われている。
The translucent first insulating
第1の電極層21と連結部22および第2の電極層31がITO層で形成される場合には、これらを結晶性のITOで形成することで、第1の電極層21と連結部22および第2の電極層31と、第1の絶縁層32とを選択してエッチングすることが可能になる。
In the case where the
なお、第1の電極列20と第2の電極列30との交差部において、第2の電極層31(31A)が連結部を有してX方向に連続して形成され、第1の電極層21が連結部の両側に独立して形成されており、第2の電極層31(31A)を連結する連結部の上に第1の絶縁層41と第1のブリッジ接続層42が形成されて、第1のブリッジ接続層42によって、Y方向に隣接する第1の電極層21どうしが接続されていてもよい。
At the intersection of the
図2に示すように、基板11のY方向の一端に形成された配線領域Hには、y1列の第1の電極層21と一体に形成された第1の配線層25aと、y2,y3,y4列の第1の電極層21のそれぞれと一体に形成された第1の配線層25b,25c,25dが形成されている。
As shown in FIG. 2, in the wiring area H formed at one end of the
配線領域Hには、第2の電極列30のそれぞれに導通する第2の配線層35a,35b,35c,35d,35e,35fが形成されている。
In the wiring region H,
第2の配線層35a,35bは、y1列の第1の電極列20とy2列の第1の電極列20との間の列間隙部24a内でY方向に延びている。第2の配線層35aはx1列の第2の電極列30に接続され、第2の配線層35bはx2列の第2の電極列30に接続されている。第2の配線層35c,35dは、y2列の第1の電極列20とy3列の第1の電極列20との間の列間隙部24b内でY方向に延びている。第2の配線層35cはx3列の第2の電極列30に接続され、第2の配線層35dはx4列の第2の電極列30に接続されている。第2の配線層35e,35fは、y3列の第1の電極列20とy4列の第1の電極列20との間の列間隙部24c内でY方向に延びている。第2の配線層35eはx5列の第2の電極列30に接続され、第2の配線層35fはx6列の第2の電極列30に接続されている。
The second wiring layers 35a and 35b extend in the Y direction in the
図2に示す入力装置10は、表面パネル2の内面に設置される。表示パネル5の表示画像は、入力装置10と表示部3を通して外部から目視できる。この表示を見ながら表示部3に指を触れることで、入力装置10を操作することができる。
The
この入力装置10は、第1の電極列20と第2の電極列30との間に静電容量が形成されている。第1の電極列20または第2の電極列30の一方の電極列に順番にパルス状の駆動電力が与えられ、駆動電力が与えられたときに他方の電極列に流れる検知電流が検出される。指が接近すると、指と電極層との間に静電容量が形成されるため、前記検出電流が変化する。この検出電流の変化を検知することで、表示部3のどの箇所に指が接近しているかを検出することができる。
The
前記配線層35a〜35fの引き回し構造は、以下の実施の形態ごとに相違している。
図5は、第1の実施の形態の入力装置10における図2のV矢視部分の拡大平面図である。
The routing structure of the wiring layers 35a to 35f is different in each of the following embodiments.
FIG. 5 is an enlarged plan view of a portion V in FIG. 2 of the
図5に示すように、y1列の第1の電極列20とy2列の第1の電極列20と間の列間隙部24a内に、第2の配線層35a,35bが形成され、さらに第2の配線層35a,35bをX方向で挟むようにしてガード層36a,36bが形成されている。第2の配線層35a,35bとガード層36a,36bは互いに平行にY方向に連続して延びている。
As shown in FIG. 5, second wiring layers 35a and 35b are formed in a
第2の配線層35a,35bとガード層36a,36bは、第1の電極層21と連結部22および第2電極層31と同じ透光性の導電材料で形成されている。
The second wiring layers 35 a and 35 b and the guard layers 36 a and 36 b are formed of the same light-transmitting conductive material as the
図5に示すように、列間隙部24aとx1列の隣接空間部23との交差部に中間層37aが形成されている。中間層37aは、第2の配線層35aと一体に形成されている。第2の配線層35bは、x1列の隣接空間部23を超えてさらにY方向に延びて、x2列の第2の電極層31と一体に連結されているとなっている。
As shown in FIG. 5, an
図6の断面図にも示すように、列間隙部24aとx1列の隣接空間部23との交差部では、ガード層36aを覆う第2の絶縁層41aと、第2の配線層35bならびにガード層36bを覆う第2の絶縁層41bが形成され、第2の絶縁層41aの上に第2のブリッジ接続層42aが形成され、第2の絶縁層41bの上に第2のブリッジ接続層42bが形成されている。第2のブリッジ接続層42aによって、中間層37aとこれに隣接するy1列の第2の電極層31とが接続されて導通され、第2のブリッジ接続層42bによって、中間層37aとこれに隣接するy2列の第2の電極層31とが接続されて導通されている。
As also shown in the cross-sectional view of FIG. 6, at the intersection of the
また、列間隙部24bとx3列の第2の電極層31との交差部、ならびに列間隙部24cとx5列の第2の電極層31との交差部の構造も、図5と図6に示すものと同じである。
Further, the structure of the intersection of the
図2に示すVII矢視部は、列間隙部24bとx2列の隣接空間部23との交差部であり、図7と図8にその構造が示されている。
The VII arrow portion shown in FIG. 2 is an intersection of the
ここでは、y2列の第1の電極列20とy3列の第1の電極列20との間の列間隙部24bを、第2の配線層35c,35dとガード層36a,36bが連続して通過している。ここでは、第2の配線層35c,35dとガード層36a,36bを覆う絶縁層43が形成され、その上に第3のブリッジ接続層44が形成されており、第3のブリッジ接続層44によって、X方向に隣接する第2の電極層31どうしが接続されて導通されている。
Here, the second wiring layers 35c and 35d and the guard layers 36a and 36b are continuous with the
図5および図6に示す第2の絶縁層41a,41bと、図7と図8に示す絶縁層43は、図3および図4に示す第1の絶縁層32と同じ材料で同じ工程で形成される。図5および図6に示す第2のブリッジ接続層42a,42bと図7および図8に示す第3のブリッジ接続層44は、図3および図4に示す第1のブリッジ接続層33と同じ材料で同じ工程で形成されている。
The second insulating
入力装置10の製造工程は、基板11の表面にITOなどの透光性の導電材料が形成された素材が使用されて、第1の電極列20、第2の電極列30、第1の配線層25a〜25d、第2の配線層35a〜35fと中間層37aおよびガード層36a,36bがエッチング工程などで形成される。
In the manufacturing process of the
その後に、基板11上にノボラック樹脂とアクリル樹脂との樹脂層が形成され、フォトリソ工程で、第1の絶縁層32と第2の絶縁層41a,41bおよび絶縁層43が同時にパターニングされる。さらにブリッジ接続層用の積層体が形成され、エッチング工程によって、第1のブリッジ接続層33と第2のブリッジ接続層42a,42bおよび第3のブリッジ接続層44が同時に形成される。
Thereafter, a resin layer of novolak resin and acrylic resin is formed on the
第1の実施の形態の入力装置10は、第2の配線層35a〜35fとガード層36a,36bと、第1の電極列20および第2の電極列30とが、基板11の同じ表面の同じ階層に形成されるため、全体として段差が少なくなる。そのため、透光性の絶縁層とブリッジ接続層は、図3に示す第1の電極列20と第2の電極列30との交差部と、図5に示すガード層36a,36bを覆う箇所と、図7に示すように、第2の配線層とガード層とを覆う領域にのみ限定的に設ければよい。そのため、絶縁層とブリッジ接続層の数を少なくでき、それぞれの絶縁層とブリッジ接続層の面積も小さくできるため、絶縁層とブリッジ接続層が目視されにくくなり、表示画面の表示品質を高めることができる。
In the
第2の配線層35a〜35fは、隣り合う第1の電極列20の間の列間隙部24a,24b,24c内を通過しているが、第2の配線層の左右両側がガード層36a,36bで挟まれているため、ガード層36a,36bを接地電位としておくことにより、列間隙部24a,24b,24cで、第2の配線層35a〜35fと第1の電極層21との間に感度領域が形成されるのを防止できるようになる。
The second wiring layers 35a to 35f pass through the
なお、ガード層36a,36bを接地電位以外の所定の電位に設定してもよい。この場合でも、ガード層36a,36bの存在により、第2の配線層35a〜35fと第1の電極層21との間の相互の寄生容量を低減でき、第2の配線層35a〜35fと、第1の電極層21との間に不要な感度領域が形成されるのを低減できる。
The guard layers 36a and 36b may be set to a predetermined potential other than the ground potential. Even in this case, the presence of the guard layers 36a and 36b can reduce mutual parasitic capacitance between the second wiring layers 35a to 35f and the
第2の配線層35a〜35fおよびガード層36a,36bは、X方向に隣接する第1の電極列20の間の列間隙部24a,24b,24cを通過するように、Y方向へ直線的に形成された構造であるため、各層の配置構成を簡素化でき、製造しやすくなる。
The second wiring layers 35a to 35f and the guard layers 36a and 36b linearly extend in the Y direction so as to pass through the
図9は、本発明の入力装置10の第2の実施の形態を示しており、列間隙部24aとx1列の隣接空間部23との交差部の構造を示している。この交差部以外の構成は、図2ないし図8に示した第1の実施の形態の入力装置10と同じである。
FIG. 9 shows a second embodiment of the
図9に示す交差部では、第2の配線層35aと一体の中間層37bがやや広い面積で形成されている。
At the intersections shown in FIG. 9, the
中間層37bと図示右側の第2の電極層31との間には、第2の絶縁層41aと第2のブリッジ接続層42aが形成されており、中間層37bと図示左側の第2の電極層31との間には、第2の絶縁層41bと第2のブリッジ接合層42bが形成されている。
A second insulating
第2の絶縁層41aおよび第2のブリッジ接合層42aと、第2の絶縁層41bおよび第2のブリッジ接続層42bは、Y方向に位置ずれしており、Y方向に間隔を空けて形成されている。
The second
第2の実施の形態では、列間隙部24aと隣接空間部23との交差部において、第2の絶縁層41a,41bと第2のブリッジ接続層42a,42bがY方向に離れて配置されているため、これら絶縁層41a,41bとブリッジ接続層42a,42bがX方向に連続してあたかも一体のものとして目視されるのを防止できるようになり、背部から表示光が与えられたときに、第2の絶縁層41a,41bと第2のブリッジ接続層42a,42bが目立たなくなる。
In the second embodiment, the second insulating
図10と図11は、本発明の入力装置10の第3の実施の形態を示しており、列間隙部24aとx1列の隣接空間部23との交差部の構造を示している。
FIGS. 10 and 11 show a third embodiment of the
第3の実施の形態の入力装置10では、ITOなどで形成された第2の電極層31が前記交差部で途切れておらず、列間隙部24aを横断して形成されている。第2の配線層35a,35bとガード層36a,36bは、図3と図4に示した第1のブリッジ接続層33と同じ材料で同じ工程で形成されている。
In the
交差部では、第2の配線層35aが第2の電極層31の上に重ねられて、第2の配線層35aと第2の電極層31とが接続されて導通されている。また、第2の電極層31の上に第3の絶縁層51a,51bがX方向に分割されて形成されている。ガード層36aは右側の第3の絶縁層51aの上を通過し、第2の配線層35bとガード層36bは、左側の第3の絶縁層51bの上を通過している。
At the intersection, the
右側の第3の絶縁層51aと左側の第3の絶縁層51bは連続して形成されていてもよいが、X方向に分割して形成することで、背部から表示パネル5の表示光が与えられたときに目立たなくなる。
The third
この第3の実施の形態においても、第2の配線層35a〜35fとガード層36a,36bが、第1の電極列20および第2の電極列30と、同じ平面に形成されているため、段差が少なくなり、絶縁層とブリッジ接続層の数を減らすこことができ、絶縁層とブリッジ接続層の面積も小さくできる。また、第2の配線層35a〜35fとガード層36a,36bが、列間隙部24a,24b,24c内でY方向に直線的に延びて形成されているため、各層の形状と構造を簡素に構成できるようになる。
Also in the third embodiment, since the second wiring layers 35a to 35f and the guard layers 36a and 36b are formed in the same plane as the
1 タッチパネル
2 表面パネル
3 表示部
4 加飾部
5 表示パネル
10 入力装置
11 基板
20 第1の電極列
21 第1の電極層
22 連結部
23 隣接空間部
24a,24b,24c 列間隙部
25a〜25d 第1の配線層
30 第2の電極列
32 第1の絶縁層
33 第1のブリッジ接合層
35a〜35f 第2の配線層
36a,36b ガード層
37a,37b 中間層
41a,41b 第2の絶縁層
42a,42b 第2のブリッジ接合層
43 絶縁層
44 第3のブリッジ接続層
51a,51b 第3の絶縁層
Reference Signs List 1
Claims (7)
前記第1の電極列と前記第2の電極列との交差部では、前記第1の電極層と前記第2の電極層のいずれか一方の電極層どうしを連結する連結部が前記透光性の導電材料で一体に形成され、前記連結部の上に第1の絶縁層と第1のブリッジ接続層が重ねて形成されて、前記第1のブリッジ接続層によって他方の電極層どうしが導通されており、
前記第1の電極列は第2の方向に列間隙部を空けて配置され、前記第1の電極層と前記第2の電極層とが第2の方向と交差する方向に隣接空間部を空けて配置されており、配線層と前記配線層の側方に位置するガード層とが、前記隣接空間部内に位置することなく、前記列間隙部内を第1の方向に延びて形成されており、前記配線層が前記第2の電極層に導通していることを特徴とする入力装置。 A first electrode layer and a second electrode layer formed of a light-transmitting conductive material are formed on a light-transmitting substrate, and a plurality of the first electrode layers are arranged in the first direction. In an input device in which one electrode row is formed, and a plurality of the second electrode layers are arranged in a second direction crossing the first direction to form a second electrode row,
At the intersection of the first electrode row and the second electrode row, a connecting portion for connecting any one of the first electrode layer and the second electrode layer is the light transmitting property. The first insulating layer and the first bridge connection layer are formed on the coupling portion in an overlapping manner, and the other electrode layers are electrically connected by the first bridge connection layer. Yes,
The first electrode row is disposed with a row gap portion in the second direction, and an adjacent space portion is spaced in the direction in which the first electrode layer and the second electrode layer intersect the second direction. And the wiring layer and the guard layer located on the side of the wiring layer are formed extending in the first direction in the row gap without being located in the adjacent space , The input device, wherein the wiring layer is electrically connected to the second electrode layer.
前記第1の電極列と前記第2の電極列との交差部では、前記第1の電極層と前記第2の電極層のいずれか一方の電極層どうしを連結する連結部が前記透光性の導電材料で一体に形成され、前記連結部の上に第1の絶縁層と第1のブリッジ接続層が重ねて形成されて、前記第1のブリッジ接続層によって他方の電極層どうしが導通されており、
前記第1の電極列は第2の方向に列間隙部を空けて配置され、前記列間隙部で、前記第1の電極層の辺どうしが第2の方向に対向しており、前記列間隙部内では、配線層と前記配線層の側方に位置するガード層とが、前記第1の電極層の前記辺と辺との間を第1の方向に延びて形成されており、前記配線層が前記第2の電極層に導通していることを特徴とする入力装置。 A first electrode layer and a second electrode layer formed of a light-transmitting conductive material are formed on a light-transmitting substrate, and a plurality of the first electrode layers are arranged in the first direction. In an input device in which one electrode row is formed, and a plurality of the second electrode layers are arranged in a second direction crossing the first direction to form a second electrode row,
At the intersection of the first electrode row and the second electrode row, a connecting portion for connecting any one of the first electrode layer and the second electrode layer is the light transmitting property. The first insulating layer and the first bridge connection layer are formed on the coupling portion in an overlapping manner, and the other electrode layers are electrically connected by the first bridge connection layer. Yes,
The first electrode row is disposed with a row gap in the second direction, and in the row gap , the sides of the first electrode layer face each other in the second direction, and the row gap In the portion , a wiring layer and a guard layer located on the side of the wiring layer are formed extending in a first direction between the side and the side of the first electrode layer, and the wiring layer is formed. And the second electrode layer is electrically connected.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2018152637A JP6525361B2 (en) | 2018-08-14 | 2018-08-14 | Input device |
Applications Claiming Priority (1)
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018195343A JP2018195343A (en) | 2018-12-06 |
JP6525361B2 true JP6525361B2 (en) | 2019-06-05 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2018152637A Expired - Fee Related JP6525361B2 (en) | 2018-08-14 | 2018-08-14 | Input device |
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