JP6525361B2 - Input device - Google Patents

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Description

本発明は、透光性の基板に複数の透光性の電極層が形成された入力装置に関する。   The present invention relates to an input device in which a plurality of translucent electrode layers are formed on a translucent substrate.

携帯用電子機器などには、静電容量を検知する入力装置が設けられており、この入力装置は、カラー液晶パネルなどの表示パネルの前方に重ねられて配置されている。   A portable electronic device or the like is provided with an input device for detecting a capacitance, and the input device is disposed in front of a display panel such as a color liquid crystal panel.

入力装置は、透光性の基板に複数の透光性の電極層が形成されており、電極層は、第1の方向に接続されている第1の電極層と第2の方向に接続されている第2の電極層とを有している。第1の電極層と第2の電極層の一方の電極層に駆動電力が与えられると、他方の電極層から検知出力が得られ、指などが入力装置のどの箇所に接近しているのかを検知できるようになる。   In the input device, a plurality of light transmitting electrode layers are formed on a light transmitting substrate, and the electrode layers are connected in a second direction to a first electrode layer connected in a first direction. And a second electrode layer. When driving power is applied to one of the first electrode layer and the second electrode layer, a detection output is obtained from the other electrode layer, and it is determined where in the input device a finger or the like is approaching. It will be able to detect.

この種の入力装置には、1つの基板の同じ表面に、第1の電極層と第2の電極層の双方が形成されて、基板数を減らして薄型化できるようにしたものがある。   In this type of input device, there are devices in which both the first electrode layer and the second electrode layer are formed on the same surface of one substrate so that the number of substrates can be reduced for thinning.

この入力装置では、前記基板の表面に、第1の電極層に接続される第1の配線層(リード層)と、第2の電極層に接続される第2の配線層(リード層)とを形成することが必要になるが、第1の電極層が第1の方向で接続され、第2の電極層が第2の方向で接続されているため、第1の配線層を基板の第1の方向の縁部で引き回し、第2の配線層を基板の第2の方向の縁部で引き回すことが必要になる。基板の互いに直交する2つの辺に配線領域を形成すると、この配線領域が検知領域として機能しないデッド領域となる。また、表面パネルに入力装置が取り付けられる場合に、配線領域を加飾層で覆うことが必要になり、この加飾層を設ける分だけ表示パネルの表示領域が狭くなる課題があった。   In this input device, the first wiring layer (lead layer) connected to the first electrode layer, and the second wiring layer (lead layer) connected to the second electrode layer are provided on the surface of the substrate. The first electrode layer is connected in the first direction and the second electrode layer is connected in the second direction. It is necessary to route at the edge in the direction 1 and route the second wiring layer at the edge in the second direction of the substrate. If the wiring area is formed on two mutually orthogonal sides of the substrate, this wiring area becomes a dead area which does not function as a detection area. In addition, when the input device is attached to the front panel, it is necessary to cover the wiring area with the decorative layer, and there is a problem that the display area of the display panel is narrowed by the provision of the decorative layer.

特許文献1に記載されたタッチスクリーンパネルでは、Y方向に連続する第2感知電極と、第2感知電極どうしをY方向へ連結する第2接続パターンが一体に形成され、第2接続パターンの両側にX方向に並ぶ第1感知電極が互いに独立して形成されている。また、駆動パターンが、第1感知電極と第2感知電極との間を通過してY方向へ連続して延びている。第2接続パターンと駆動パターンは絶縁層で覆われており、絶縁層の上に形成された第1接続パターンによって、X方向に隣接する第1感知電極どうしが互いに接続されている。   In the touch screen panel described in Patent Document 1, a second sensing pattern continuous in the Y direction and a second connection pattern connecting the second sensing electrodes in the Y direction are integrally formed, and both sides of the second connection pattern are formed. The first sensing electrodes aligned in the X direction are formed independently of each other. Also, a drive pattern extends continuously between the first sensing electrode and the second sensing electrode in the Y direction. The second connection pattern and the drive pattern are covered with the insulating layer, and the first sensing electrodes adjacent in the X direction are connected to each other by the first connection pattern formed on the insulating layer.

このタッチスクリーンパネルは、駆動パターンが第1接続パターンの下側を通過することで、第2感知電極に接続される駆動配線と、駆動パターンを介して第1感知電極に接続される駆動配線とを、基板のY方向に向く縁部にのみに引き出すことができる。   In the touch screen panel, when the drive pattern passes below the first connection pattern, a drive wire connected to the second sensing electrode, and a drive wire connected to the first sensing electrode via the drive pattern. Can be drawn only to the edge of the substrate facing in the Y direction.

特許文献2に記載されたタッチパネルは、基板の表面に、X方向に並ぶ複数の第1の電極と第1の電極どうしを連結する第1の導線が一体に形成されている。それぞれの第1の電極に開口部が形成されており、開口部の内部に第2の電極が互いに独立して形成されている。第1の電極の上には絶縁層が形成され、この絶縁層の上に第2の導線が形成され、第2の導線によってY方向で隣り合う第2の電極層どうしが接続されている。   In the touch panel described in Patent Document 2, a plurality of first electrodes aligned in the X direction and a first conductive wire connecting the first electrodes are integrally formed on the surface of a substrate. An opening is formed in each first electrode, and second electrodes are formed independently of each other in the opening. An insulating layer is formed on the first electrode, and a second conducting wire is formed on the insulating layer, and adjacent second electrode layers in the Y direction are connected by the second conducting wire.

基板の表面には、Y方向に延びる導電セグメントが設けられて、それぞれの導電セグメントが第1の導線に接続されているが、接続すべきでない第1の導線と導電セグメントとの交差部では、第1の導線の表面に前記絶縁層が形成され、この絶縁層の上に形成された第3の導線を介して導電セグメントどうしが接続されている。   The surface of the substrate is provided with conductive segments extending in the Y direction, and each conductive segment is connected to the first conductive wire, but at the intersection between the first conductive wire and the conductive segment, which should not be connected: The insulating layer is formed on the surface of the first conducting wire, and the conductive segments are connected to each other through a third conducting wire formed on the insulating layer.

このタッチパネルでは、X方向に導通している第1の電極に接続された導電セグメントがY方向に延びているため、第1の電極に接続されるリード線と、第2の電極に接続されるリード線を、基板のY方向の縁部にのみ引き回すことができる。   In this touch panel, since the conductive segment connected to the first electrode conducting in the X direction extends in the Y direction, the lead wire connected to the first electrode and the second electrode are connected The leads can be routed only to the edge of the substrate in the Y direction.

特開2012−150782号公報JP, 2012-150782, A 特開2013−143131号公報JP, 2013-143131, A

特許文献1に記載されたタッチスクリーンパネルでは、第1感知電極に導通する駆動パターンが、第2感知電極の側方に近接した位置を通過している。そのため、駆動パターンと第2感知電極との間で静電容量が形成され、駆動パターンと第2感知電極との対向部が感度領域となる。指などが接近すると、駆動パターンと第2感知電極との間に検知出力が発生し、この出力が、第1感知電極と第2感知電極との静電容量の変化を検知する本来の検知出力に対して検出ノイズとして重畳することになる。   In the touch screen panel described in Patent Document 1, the drive pattern conducted to the first sensing electrode passes a position close to the side of the second sensing electrode. Therefore, a capacitance is formed between the drive pattern and the second sensing electrode, and the opposing portion between the drive pattern and the second sensing electrode becomes a sensitivity region. When a finger or the like approaches, a detection output is generated between the drive pattern and the second sensing electrode, and this output is an original detection output that detects a change in capacitance between the first sensing electrode and the second sensing electrode. Is superimposed as detection noise.

特許文献2に記載されたタッチパネルは、いずれかの第1の電極に導通する導電セグメントが、他の第1の電極を乗り越えるようにしてY方向に延びているため、第1の電極に導通する導電セグメントが第2の電極から比較的離れており、特許文献1に記載のような本来感度を持つべきでない領域が感度領域となる課題は生じにくい。   The touch panel described in Patent Document 2 conducts to the first electrode because the conductive segment conducting to any of the first electrodes extends in the Y direction so as to get over the other first electrodes. The problem that the conductive segment is relatively separated from the second electrode and the region not to have sensitivity originally as described in Patent Document 1 is less likely to be the sensitivity region.

しかし、特許文献2に記載されたタッチパネルでは、第1の電極に形成された開口部の中に第2の電極を配置するという特殊な構造を有しているため、第2の電極どうしを接続している第2の導線の数を、1つの第1の電極に対して2箇所ずつ設けることが必要になる。よって、電極数を多くすると第2の導線の数および第2の導線の下に形成される絶縁ブロックの数が多くなり、背後に設けられる表示パネルを表示したときに、多くの第2の導線と絶縁ブロックが目視されやすくなり、表示品質を損いやすい。   However, the touch panel described in Patent Document 2 has a special structure in which the second electrode is disposed in the opening formed in the first electrode, so the second electrodes are connected to each other. It is necessary to provide two second leads per one first electrode. Therefore, when the number of electrodes is increased, the number of second conductive lines and the number of insulating blocks formed under the second conductive lines increase, and when the display panel provided behind is displayed, the number of second conductive lines is increased. And the insulating block are easy to see, and the display quality is easily impaired.

本発明は上記従来の課題を解決するものであり、基板の縁部での配線領域を減らして表示領域(入力領域)の面積を拡大できるようにし、しかも配線層と電極層との間に不要な感度が形成される現象を抑制でき、さらに表示品質も良好に保つことができる入力装置を提供することを目的としている。   The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and reduces the wiring area at the edge of the substrate so that the area of the display area (input area) can be expanded, and it is unnecessary between the wiring layer and the electrode layer. It is an object of the present invention to provide an input device capable of suppressing a phenomenon in which the sensitivity is formed and further capable of maintaining good display quality.

第1の本発明は、透光性の基板に、透光性の導電材料で形成された第1の電極層と第2の電極層とが形成され、複数の前記第1の電極層が第1の方向に並んで第1の電極列が形成され、複数の前記第2の電極層が第1の方向と交差する第2の方向に並んで第2の電極列が形成されている入力装置において、
前記第1の電極列と前記第2の電極列との交差部では、前記第1の電極層と前記第2の電極層のいずれか一方の電極層どうしを連結する連結部が前記透光性の導電材料で一体に形成され、前記連結部の上に第1の絶縁層と第1のブリッジ接続層が重ねて形成されて、前記第1のブリッジ接続層によって他方の電極層どうしが導通されており、
前記第1の電極列は第2の方向に列間隙部を空けて配置され、前記第1の電極層と前記第2の電極層とが第2の方向と交差する方向に隣接空間部を空けて配置されており、配線層と前記配線層の側方に位置するガード層とが、前記隣接空間部内に位置することなく、前記列間隙部内を第1の方向に延びて形成されており、前記配線層が前記第2の電極層に導通していることを特徴とするものである。
第2の本発明は、前記第1の電極列が第2の方向に列間隙部を空けて配置され、前記列間隙部で、前記第1の電極層の辺どうしが第2の方向に対向しており、前記列間隙部内では、配線層と前記配線層の側方に位置するガード層とが、前記第1の電極層の前記辺と辺との間を第1の方向に延びて形成されており、前記配線層が前記第2の電極層に導通していることを特徴とするものである。
According to a first aspect of the present invention, a first electrode layer and a second electrode layer formed of a light-transmitting conductive material are formed on a light-transmitting substrate, and the plurality of first electrode layers An input device in which a first electrode row is formed side by side in a direction 1, and a plurality of second electrode layers are formed side by side in a second direction intersecting the first direction. In
At the intersection of the first electrode row and the second electrode row, a connecting portion for connecting any one of the first electrode layer and the second electrode layer is the light transmitting property. The first insulating layer and the first bridge connection layer are formed on the coupling portion in an overlapping manner, and the other electrode layers are electrically connected by the first bridge connection layer. Yes,
The first electrode row is disposed with a row gap portion in the second direction, and an adjacent space portion is spaced in the direction in which the first electrode layer and the second electrode layer intersect the second direction. And the wiring layer and the guard layer located on the side of the wiring layer are formed extending in the first direction in the row gap without being located in the adjacent space , The wiring layer is electrically connected to the second electrode layer.
According to a second aspect of the present invention, the first electrode row is disposed with a row gap in the second direction, and in the row gap, the sides of the first electrode layer face each other in the second direction. In the column gap portion, a wiring layer and a guard layer located on the side of the wiring layer are formed to extend between the sides of the first electrode layer in a first direction. It is characterized in that the wiring layer is electrically connected to the second electrode layer.

本発明の入力装置では、第1の電極列の列間隙部内に、第2の電極層に接続される配線層とガード層とを形成することで、基板の表面で電極層と配線層を形成しやすい。また、配線層の側方にガード層を配置することで、配線層と第1の電極層との間に不要な感度領域が形成されるのを防止できるようになる。   In the input device of the present invention, the wiring layer connected to the second electrode layer and the guard layer are formed in the row gap portion of the first electrode row to form the electrode layer and the wiring layer on the surface of the substrate. It's easy to do. Further, by disposing the guard layer on the side of the wiring layer, it is possible to prevent an unnecessary sensitivity region from being formed between the wiring layer and the first electrode layer.

本発明の入力装置は、前記配線層と前記ガード層が、前記第1の電極層および前記第2の電極層と同じ透光性の導電材料で形成され、前記ガード層の上に第2の絶縁層と第2のブリッジ接続層が形成されており、前記第2のブリッジ接続層によって、前記第2の電極層と前記配線層とが接続されていることが好ましい。   In the input device of the present invention, the wiring layer and the guard layer are formed of the same light-transmitting conductive material as the first electrode layer and the second electrode layer, and a second conductive layer is formed on the guard layer. It is preferable that an insulating layer and a second bridge connection layer be formed, and the second electrode layer and the wiring layer be connected by the second bridge connection layer.

例えば、前記ガード層は、前記配線層の両側に形成されており、前記第2の絶縁層と前記第2のブリッジ接続層が、両側の前記ガード層のそれぞれの上に形成されている。   For example, the guard layer is formed on both sides of the wiring layer, and the second insulating layer and the second bridge connection layer are formed on each of the guard layers on both sides.

本発明の入力装置は、前記列間隙部に、前記配線層と一体の中間層が形成されており、前記第2の電極層が前記第2のブリッジ接続層を介して前記中間層に接続されていることが好ましい。   In the input device of the present invention, an intermediate layer integral with the wiring layer is formed in the column gap portion, and the second electrode layer is connected to the intermediate layer via the second bridge connection layer. Is preferred.

前記のように、配線層とガード層とを第1の電極層および第2の電極層と同じ導電材料で同一面に形成することで、配線層とガード層を別途形成する必要がない。また、第2のブリッジ接続層は主にガード層を覆う部分に限定的に形成すればよいため、絶縁層とブリッジ接続層の形成箇所と形成面積を小さくでき、表示品質を損ないにくいものとなる。   As described above, by forming the wiring layer and the guard layer on the same surface by using the same conductive material as the first electrode layer and the second electrode layer, it is not necessary to separately form the wiring layer and the guard layer. In addition, since the second bridge connection layer may be formed mainly limited to the portion covering the guard layer, the formation location and formation area of the insulating layer and the bridge connection layer can be reduced, and the display quality is unlikely to be impaired. .

本発明の入力装置は、第1の電極層に接続される配線層と第2の電極層に接続される配線層とを、第1の方向でのみ引き回すことができるため、基板の第2の方向の縁部に配線領域を設ける必要がなくなる。   In the input device of the present invention, the wiring layer connected to the first electrode layer and the wiring layer connected to the second electrode layer can be routed only in the first direction. There is no need to provide a wiring area at the edge of the direction.

また、第1の電極列と第1の電極列との列間隙部に、第2の電極層に接続される配線層とガード層を形成しているため、配線層と第1の電極層との間で感度領域が形成されるのを防止できる。また、絶縁層とブリッジ接続層の大きさと数を少なくでき、表示品質を損ないにくくなる。   Further, since the wiring layer and the guard layer connected to the second electrode layer are formed in the column gap between the first electrode column and the first electrode column, the wiring layer and the first electrode layer are formed. Can prevent the formation of a sensitivity region. In addition, the size and number of the insulating layer and the bridge connection layer can be reduced, and the display quality is unlikely to be impaired.

本発明の実施の形態の入力装置を使用したタッチパネルの分解斜視図、An exploded perspective view of a touch panel using the input device according to the embodiment of the present invention; 本発明の第1の実施の形態の入力装置の平面図、A plan view of the input device according to the first embodiment of the present invention; 図2に示す入力装置のIII矢視部分を拡大して示す平面図、FIG. 3 is an enlarged plan view showing a portion III of the input device shown in FIG. 図3に示すIII矢視部分をIV−IV線で切断した拡大断面図、An enlarged cross-sectional view of the III arrow portion shown in FIG. 3 taken along the line IV-IV; 図2に示す入力装置のV矢視部分を拡大して示す平面図、FIG. 3 is an enlarged plan view showing a V arrow portion of the input device shown in FIG. 図5に示す矢視部分VをVI−VI線で切断した拡大断面図、An enlarged cross-sectional view of the arrow V shown in FIG. 5 taken along the line VI-VI; 図2に示す入力装置のVII矢視部分を拡大して示す平面図、FIG. 3 is an enlarged plan view showing a VII arrow portion of the input device shown in FIG. 図7に示すVII矢視部分をVIII−VIII線で切断した拡大断面図、FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view taken along line VIII-VIII of the VII arrow part shown in FIG. 本発明の第2の実施の形態の入力装置の部分拡大平面図、A partially enlarged plan view of the input device according to the second embodiment of the present invention; 本発明の第3の実施の形態の入力装置の部分拡大平面図、A partially enlarged plan view of the input device according to the third embodiment of the present invention; 図10に示す入力装置をXI−XIで切断した拡大断面図、An enlarged sectional view of the input device shown in FIG. 10 cut by XI-XI,

図1にタッチパネル1が示されている。タッチパネル1は、表面パネル2とその下に位置する本発明の第1の実施の形態の入力装置10とから構成されている。   The touch panel 1 is shown in FIG. The touch panel 1 includes a front panel 2 and an input device 10 according to the first embodiment of the present invention located below the front panel 2.

表面パネル2は、携帯用電話機、ナビゲーション装置、ゲーム装置、通信装置などの各種電子機器のケースの一部を構成している。   The front panel 2 constitutes a part of the case of various electronic devices such as a portable telephone, a navigation device, a game device, and a communication device.

表面パネル2はアクリル系などの透光性の合成樹脂材料やガラスで形成されており、四角形の表示部3と、表示部3を囲む加飾部4とを有している。表示部3は表面パネル2の外部から機器内部を透視できるようになっている。加飾部4は、前記合成樹脂材料やガラスの内面に印刷層が設けられ、または着色シートが重ねられるなどして、各種色相に着色されて、機器内部を透視できないようになっている。   The front panel 2 is formed of a translucent synthetic resin material such as acrylic resin or glass, and has a square display portion 3 and a decorative portion 4 surrounding the display portion 3. The display unit 3 can see through the inside of the device from the outside of the front panel 2. The decorative portion 4 is provided with a print layer on the inner surface of the synthetic resin material or glass, or is overlaid with a colored sheet, and is colored in various hues so that the inside of the device can not be seen through.

入力装置10は、透光性の基板11を有している。基板11はPET(ポリエチレン・テレフタレート)などの樹脂シートまたは樹脂パネルあるいはガラス基板である。表面パネル2と入力装置10は、OCA(透明粘着材層)を介して接着される。電子機器のケース内には、カラー液晶パネルなどの表示パネル5が収納されている。表示パネル5の表示画面は、表面パネル2の表示部3に対向するように配置される。   The input device 10 has a translucent substrate 11. The substrate 11 is a resin sheet such as PET (polyethylene terephthalate) or a resin panel or a glass substrate. The front panel 2 and the input device 10 are bonded via an OCA (transparent adhesive layer). In the case of the electronic device, a display panel 5 such as a color liquid crystal panel is housed. The display screen of the display panel 5 is disposed to face the display unit 3 of the front panel 2.

図2ないし図8には、本発明の第1の実施の形態の入力装置10が示されている。各図では、Y方向が第1の方向で、X方向が第2の方向である。   2 to 8 show an input device 10 according to a first embodiment of this invention. In each figure, the Y direction is a first direction, and the X direction is a second direction.

図2に示すように、入力装置10は、第1の方向の一方の縁部にのみ配線領域Hが形成されており、それ以外の3辺の縁部には配線領域が設けられていない。したがって、図1に示す表面パネル2の加飾部4のX方向の幅寸法を小さくでき、表示部3の面積を相対的に広げることが可能になる。   As shown in FIG. 2, in the input device 10, the wiring region H is formed only at one edge in the first direction, and the wiring regions are not provided at the other three edges. Therefore, the width dimension of the X direction of the decoration part 4 of the surface panel 2 shown in FIG. 1 can be made small, and it becomes possible to expand the area of the display part 3 relatively.

基板11の表面には、第1の方向(Y方向)に延びる第1の電極列20と、第2の方向(X方向)に延びる第2の電極列30が形成されている。   On the surface of the substrate 11, a first electrode row 20 extending in a first direction (Y direction) and a second electrode row 30 extending in a second direction (X direction) are formed.

第1の電極列20は、複数の第1の電極層21と、第1の電極層21をY方向に連結する(接続する)連結部22とが一体に形成されている。第1の電極列20はy1,y2,y3,y4の4列設けられているが、この数は入力装置10の面積に応じて選択される。   The first electrode array 20 is integrally formed with a plurality of first electrode layers 21 and a connecting portion 22 connecting (connecting) the first electrode layers 21 in the Y direction. The first electrode row 20 is provided in four rows of y 1, y 2, y 3 and y 4, but this number is selected according to the area of the input device 10.

第1の電極層21は、矩形状であり、連結部22は、Y方向に隣接する第1の電極層21のX方向の中央部どうしを連結している。それぞれの第1の電極列20では、前記連結部22のX方向の両側に、Y方向に隣り合う第1の電極層21と第1の電極層21との間に形成された隣接空間部23が設けられている。また、X方向に隣り合う第1の電極列20と第1の電極列20との間に、列間隙部24a,24b,24cが形成されている。列間隙部24a,24b,24cは第1の方向(Y方向)に連続して形成されている。   The first electrode layer 21 has a rectangular shape, and the connecting portion 22 connects central portions in the X direction of the first electrode layers 21 adjacent to each other in the Y direction. In each first electrode row 20, adjacent space portions 23 formed between the first electrode layer 21 and the first electrode layer 21 adjacent to each other in the Y direction on both sides of the connecting portion 22 in the X direction. Is provided. Further, between the first electrode row 20 and the first electrode row 20 adjacent in the X direction, row gap portions 24a, 24b, 24c are formed. The column gaps 24a, 24b, 24c are formed continuously in the first direction (Y direction).

第2の電極列30は、x1〜x6の6列設けられているが、この数は入力装置10の面積に応じて選択される。   The second electrode row 30 is provided in six rows of x1 to x6, but this number is selected according to the area of the input device 10.

それぞれの第2の電極列30は、複数の独立した第2の電極層31で構成されている。第2の電極層31はX方向に細長形状であり、長手方向がX方向に向けられている。第2の電極層31は、主に第1の電極列20において、Y方向で隣り合う第1の電極層21の間に形成された前記隣接空間部23の内部を通過するように形成されている。   Each second electrode row 30 is composed of a plurality of independent second electrode layers 31. The second electrode layer 31 is elongated in the X direction, and the longitudinal direction is oriented in the X direction. The second electrode layer 31 is mainly formed in the first electrode row 20 so as to pass through the inside of the adjacent space portion 23 formed between the first electrode layers 21 adjacent in the Y direction. There is.

第1の電極層21と連結部22および第2の電極層31は、同じ透光性の導電材料で形成されている。透光性の導電材料は、ITO(酸化インジウムスズ)層、銀ナノワイヤやカーボンナノワイヤなどで形成された導電性ナノワイヤ層、メッシュ状に形成された薄い金属層、あるいは導電性ポリマー層などで形成されている。   The first electrode layer 21, the connecting portion 22, and the second electrode layer 31 are formed of the same light-transmitting conductive material. The translucent conductive material is formed of an ITO (indium tin oxide) layer, a conductive nanowire layer formed of silver nanowires or carbon nanowires, a thin metal layer formed in a mesh shape, or a conductive polymer layer. ing.

図2では、第1の電極列20と第2の電極列30との交差部の1つがIII矢視部とされ、図3と図4に、III矢視部の交差部の詳細が示されている。この交差部では、第1の電極列20の連結部22を覆う透光性の第1の絶縁層32が形成されている。第1の絶縁層32の上に第1のブリッジ接続層33が形成されており、この第1のブリッジ接続層33によって、X方向に隣接する第2の電極層31どうしが接続されて導通されている。   In FIG. 2, one of the intersections of the first electrode array 20 and the second electrode array 30 is taken as a III arrow, and the details of the intersection of the III arrow are shown in FIGS. 3 and 4. ing. At this intersection, a translucent first insulating layer 32 covering the connecting portion 22 of the first electrode row 20 is formed. A first bridge connection layer 33 is formed on the first insulating layer 32, and the second electrode layers 31 adjacent in the X direction are connected to each other by the first bridge connection layer 33 to be conductive. ing.

透光性の第1の絶縁層32はノボラック樹脂またはノボラック樹脂とアクリル樹脂とで構成されている。第1のブリッジ接続層33は、アモルファスのITO層の下地層の上に、Au(金)、Au合金、CuNi合金(銅・ニッケル合金)、Ni(ニッケル)などの導電性金属材料が重ねられ、さらに好ましくはアモルファスのITO層の保護層で覆われている。   The translucent first insulating layer 32 is made of novolak resin or novolac resin and acrylic resin. In the first bridge connection layer 33, a conductive metal material such as Au (gold), Au alloy, CuNi alloy (copper-nickel alloy), Ni (nickel) or the like is overlaid on the underlayer of the amorphous ITO layer. Preferably, the protective layer is covered with an amorphous ITO layer.

第1の電極層21と連結部22および第2の電極層31がITO層で形成される場合には、これらを結晶性のITOで形成することで、第1の電極層21と連結部22および第2の電極層31と、第1の絶縁層32とを選択してエッチングすることが可能になる。   In the case where the first electrode layer 21 and the connection portion 22 and the second electrode layer 31 are formed of an ITO layer, the first electrode layer 21 and the connection portion 22 can be formed by forming them with crystalline ITO. And the second electrode layer 31 and the first insulating layer 32 can be selectively etched.

なお、第1の電極列20と第2の電極列30との交差部において、第2の電極層31(31A)が連結部を有してX方向に連続して形成され、第1の電極層21が連結部の両側に独立して形成されており、第2の電極層31(31A)を連結する連結部の上に第1の絶縁層41と第1のブリッジ接続層42が形成されて、第1のブリッジ接続層42によって、Y方向に隣接する第1の電極層21どうしが接続されていてもよい。   At the intersection of the first electrode row 20 and the second electrode row 30, the second electrode layer 31 (31A) is continuously formed in the X direction with the connecting portion, and the first electrode Layers 21 are formed independently on both sides of the connection portion, and a first insulating layer 41 and a first bridge connection layer 42 are formed on the connection portion connecting the second electrode layer 31 (31A). Alternatively, the first electrode connection layers 21 adjacent in the Y direction may be connected to each other by the first bridge connection layer 42.

図2に示すように、基板11のY方向の一端に形成された配線領域Hには、y1列の第1の電極層21と一体に形成された第1の配線層25aと、y2,y3,y4列の第1の電極層21のそれぞれと一体に形成された第1の配線層25b,25c,25dが形成されている。   As shown in FIG. 2, in the wiring area H formed at one end of the substrate 11 in the Y direction, a first wiring layer 25a formed integrally with the first electrode layer 21 in the y1 column, y2, y3. , And y4 first wiring layers 25b, 25c, and 25d formed integrally with the first electrode layers 21 respectively.

配線領域Hには、第2の電極列30のそれぞれに導通する第2の配線層35a,35b,35c,35d,35e,35fが形成されている。   In the wiring region H, second wiring layers 35a, 35b, 35c, 35d, 35e and 35f are formed which are electrically connected to the second electrode rows 30, respectively.

第2の配線層35a,35bは、y1列の第1の電極列20とy2列の第1の電極列20との間の列間隙部24a内でY方向に延びている。第2の配線層35aはx1列の第2の電極列30に接続され、第2の配線層35bはx2列の第2の電極列30に接続されている。第2の配線層35c,35dは、y2列の第1の電極列20とy3列の第1の電極列20との間の列間隙部24b内でY方向に延びている。第2の配線層35cはx3列の第2の電極列30に接続され、第2の配線層35dはx4列の第2の電極列30に接続されている。第2の配線層35e,35fは、y3列の第1の電極列20とy4列の第1の電極列20との間の列間隙部24c内でY方向に延びている。第2の配線層35eはx5列の第2の電極列30に接続され、第2の配線層35fはx6列の第2の電極列30に接続されている。   The second wiring layers 35a and 35b extend in the Y direction in the row gap portion 24a between the first electrode row 20 in the y1 row and the first electrode row 20 in the y2 row. The second wiring layer 35a is connected to the second electrode row 30 in the x1 row, and the second wiring layer 35b is connected to the second electrode row 30 in the x2 row. The second wiring layers 35c and 35d extend in the Y direction in the row gap portion 24b between the first electrode row 20 in the y2 row and the first electrode row 20 in the y3 row. The second wiring layer 35c is connected to the second electrode column 30 in the x3 column, and the second wiring layer 35d is connected to the second electrode column 30 in the x4 column. The second wiring layers 35e and 35f extend in the Y direction in the row gap portion 24c between the first electrode row 20 in the y3 row and the first electrode row 20 in the y4 row. The second wiring layer 35 e is connected to the second electrode column 30 in the x5 column, and the second wiring layer 35 f is connected to the second electrode column 30 in the x6 column.

図2に示す入力装置10は、表面パネル2の内面に設置される。表示パネル5の表示画像は、入力装置10と表示部3を通して外部から目視できる。この表示を見ながら表示部3に指を触れることで、入力装置10を操作することができる。   The input device 10 shown in FIG. 2 is installed on the inner surface of the front panel 2. The display image of the display panel 5 can be viewed from the outside through the input device 10 and the display unit 3. The input device 10 can be operated by touching the display unit 3 with a finger while watching this display.

この入力装置10は、第1の電極列20と第2の電極列30との間に静電容量が形成されている。第1の電極列20または第2の電極列30の一方の電極列に順番にパルス状の駆動電力が与えられ、駆動電力が与えられたときに他方の電極列に流れる検知電流が検出される。指が接近すると、指と電極層との間に静電容量が形成されるため、前記検出電流が変化する。この検出電流の変化を検知することで、表示部3のどの箇所に指が接近しているかを検出することができる。   The input device 10 has a capacitance formed between the first electrode array 20 and the second electrode array 30. Pulsed drive power is sequentially applied to one of the first electrode array 20 and one of the second electrode arrays 30, and a detection current flowing to the other electrode array is detected when the drive power is applied. . When the finger approaches, a capacitance is formed between the finger and the electrode layer, so that the detection current changes. By detecting the change in the detected current, it is possible to detect which part of the display unit 3 the finger is approaching.

前記配線層35a〜35fの引き回し構造は、以下の実施の形態ごとに相違している。
図5は、第1の実施の形態の入力装置10における図2のV矢視部分の拡大平面図である。
The routing structure of the wiring layers 35a to 35f is different in each of the following embodiments.
FIG. 5 is an enlarged plan view of a portion V in FIG. 2 of the input device 10 according to the first embodiment.

図5に示すように、y1列の第1の電極列20とy2列の第1の電極列20と間の列間隙部24a内に、第2の配線層35a,35bが形成され、さらに第2の配線層35a,35bをX方向で挟むようにしてガード層36a,36bが形成されている。第2の配線層35a,35bとガード層36a,36bは互いに平行にY方向に連続して延びている。   As shown in FIG. 5, second wiring layers 35a and 35b are formed in a row gap portion 24a between the first electrode row 20 in the y1 row and the first electrode row 20 in the y2 row, and Guard layers 36a and 36b are formed to sandwich the two wiring layers 35a and 35b in the X direction. The second wiring layers 35a and 35b and the guard layers 36a and 36b extend continuously in the Y direction in parallel with each other.

第2の配線層35a,35bとガード層36a,36bは、第1の電極層21と連結部22および第2電極層31と同じ透光性の導電材料で形成されている。   The second wiring layers 35 a and 35 b and the guard layers 36 a and 36 b are formed of the same light-transmitting conductive material as the first electrode layer 21, the connecting portion 22, and the second electrode layer 31.

図5に示すように、列間隙部24aとx1列の隣接空間部23との交差部に中間層37aが形成されている。中間層37aは、第2の配線層35aと一体に形成されている。第2の配線層35bは、x1列の隣接空間部23を超えてさらにY方向に延びて、x2列の第2の電極層31と一体に連結されているとなっている。   As shown in FIG. 5, an intermediate layer 37a is formed at the intersection of the row gap portion 24a and the adjacent space portion 23 in the x1 row. The intermediate layer 37a is integrally formed with the second wiring layer 35a. The second wiring layer 35 b further extends in the Y direction beyond the adjacent space portion 23 in the x1 row, and is integrally connected to the second electrode layer 31 in the x2 row.

図6の断面図にも示すように、列間隙部24aとx1列の隣接空間部23との交差部では、ガード層36aを覆う第2の絶縁層41aと、第2の配線層35bならびにガード層36bを覆う第2の絶縁層41bが形成され、第2の絶縁層41aの上に第2のブリッジ接続層42aが形成され、第2の絶縁層41bの上に第2のブリッジ接続層42bが形成されている。第2のブリッジ接続層42aによって、中間層37aとこれに隣接するy1列の第2の電極層31とが接続されて導通され、第2のブリッジ接続層42bによって、中間層37aとこれに隣接するy2列の第2の電極層31とが接続されて導通されている。   As also shown in the cross-sectional view of FIG. 6, at the intersection of the row gap portion 24a and the adjacent space portion 23 in the x1 row, the second insulating layer 41a covering the guard layer 36a, the second wiring layer 35b, and the guard A second insulating layer 41b is formed to cover the layer 36b, a second bridge connection layer 42a is formed on the second insulating layer 41a, and a second bridge connection layer 42b is formed on the second insulating layer 41b. Is formed. The second bridge connection layer 42a connects the middle layer 37a to the second electrode layer 31 in the y1 row adjacent thereto and conducts electricity, and the second bridge connection layer 42b connects the middle layer 37a and this The second electrode layer 31 of the y2 column is connected and conducted.

また、列間隙部24bとx3列の第2の電極層31との交差部、ならびに列間隙部24cとx5列の第2の電極層31との交差部の構造も、図5と図6に示すものと同じである。   Further, the structure of the intersection of the row gap portion 24b and the second electrode layer 31 in the x3 row and the intersection portion of the row gap portion 24c and the second electrode layer 31 in the x5 row are also shown in FIGS. Same as shown.

図2に示すVII矢視部は、列間隙部24bとx2列の隣接空間部23との交差部であり、図7と図8にその構造が示されている。   The VII arrow portion shown in FIG. 2 is an intersection of the row gap portion 24 b and the adjacent space portion 23 in the x2 row, and the structure is shown in FIGS. 7 and 8.

ここでは、y2列の第1の電極列20とy3列の第1の電極列20との間の列間隙部24bを、第2の配線層35c,35dとガード層36a,36bが連続して通過している。ここでは、第2の配線層35c,35dとガード層36a,36bを覆う絶縁層43が形成され、その上に第3のブリッジ接続層44が形成されており、第3のブリッジ接続層44によって、X方向に隣接する第2の電極層31どうしが接続されて導通されている。   Here, the second wiring layers 35c and 35d and the guard layers 36a and 36b are continuous with the row gap portion 24b between the first electrode row 20 in the y2 row and the first electrode row 20 in the y3 row. It is passing. Here, the insulating layer 43 covering the second wiring layers 35c and 35d and the guard layers 36a and 36b is formed, and the third bridge connection layer 44 is formed thereon, and the third bridge connection layer 44 The second electrode layers 31 adjacent to each other in the X direction are connected and conducted.

図5および図6に示す第2の絶縁層41a,41bと、図7と図8に示す絶縁層43は、図3および図4に示す第1の絶縁層32と同じ材料で同じ工程で形成される。図5および図6に示す第2のブリッジ接続層42a,42bと図7および図8に示す第3のブリッジ接続層44は、図3および図4に示す第1のブリッジ接続層33と同じ材料で同じ工程で形成されている。   The second insulating layers 41a and 41b shown in FIGS. 5 and 6 and the insulating layer 43 shown in FIGS. 7 and 8 are formed of the same material and in the same process as the first insulating layer 32 shown in FIGS. Be done. The second bridge connection layers 42 a and 42 b shown in FIGS. 5 and 6 and the third bridge connection layer 44 shown in FIGS. 7 and 8 are the same material as the first bridge connection layer 33 shown in FIGS. 3 and 4. Are formed in the same process.

入力装置10の製造工程は、基板11の表面にITOなどの透光性の導電材料が形成された素材が使用されて、第1の電極列20、第2の電極列30、第1の配線層25a〜25d、第2の配線層35a〜35fと中間層37aおよびガード層36a,36bがエッチング工程などで形成される。   In the manufacturing process of the input device 10, a material in which a translucent conductive material such as ITO is formed on the surface of the substrate 11 is used to form the first electrode array 20, the second electrode array 30, and the first wiring. The layers 25a to 25d, the second wiring layers 35a to 35f, the intermediate layer 37a, and the guard layers 36a and 36b are formed by an etching process or the like.

その後に、基板11上にノボラック樹脂とアクリル樹脂との樹脂層が形成され、フォトリソ工程で、第1の絶縁層32と第2の絶縁層41a,41bおよび絶縁層43が同時にパターニングされる。さらにブリッジ接続層用の積層体が形成され、エッチング工程によって、第1のブリッジ接続層33と第2のブリッジ接続層42a,42bおよび第3のブリッジ接続層44が同時に形成される。   Thereafter, a resin layer of novolak resin and acrylic resin is formed on the substrate 11, and the first insulating layer 32, the second insulating layers 41a and 41b, and the insulating layer 43 are simultaneously patterned in a photolithography process. Furthermore, a laminate for the bridge connection layer is formed, and the first bridge connection layer 33, the second bridge connection layers 42a and 42b, and the third bridge connection layer 44 are simultaneously formed by the etching process.

第1の実施の形態の入力装置10は、第2の配線層35a〜35fとガード層36a,36bと、第1の電極列20および第2の電極列30とが、基板11の同じ表面の同じ階層に形成されるため、全体として段差が少なくなる。そのため、透光性の絶縁層とブリッジ接続層は、図3に示す第1の電極列20と第2の電極列30との交差部と、図5に示すガード層36a,36bを覆う箇所と、図7に示すように、第2の配線層とガード層とを覆う領域にのみ限定的に設ければよい。そのため、絶縁層とブリッジ接続層の数を少なくでき、それぞれの絶縁層とブリッジ接続層の面積も小さくできるため、絶縁層とブリッジ接続層が目視されにくくなり、表示画面の表示品質を高めることができる。   In the input device 10 according to the first embodiment, the second wiring layers 35 a to 35 f, the guard layers 36 a and 36 b, and the first electrode row 20 and the second electrode row 30 are formed on the same surface of the substrate 11. Since the same layer is formed, the level difference is reduced as a whole. Therefore, the translucent insulating layer and the bridge connection layer are the intersections of the first electrode row 20 and the second electrode row 30 shown in FIG. 3 and the portions covering the guard layers 36a and 36b shown in FIG. As shown in FIG. 7, it may be limitedly provided only in the region covering the second wiring layer and the guard layer. Therefore, the number of the insulating layer and the bridge connection layer can be reduced, and the area of each of the insulating layer and the bridge connection layer can also be reduced. it can.

第2の配線層35a〜35fは、隣り合う第1の電極列20の間の列間隙部24a,24b,24c内を通過しているが、第2の配線層の左右両側がガード層36a,36bで挟まれているため、ガード層36a,36bを接地電位としておくことにより、列間隙部24a,24b,24cで、第2の配線層35a〜35fと第1の電極層21との間に感度領域が形成されるのを防止できるようになる。   The second wiring layers 35a to 35f pass through the row gap portions 24a, 24b and 24c between the adjacent first electrode rows 20, but both left and right sides of the second wiring layer are guard layers 36a, Since the guard layers 36a and 36b are set to the ground potential because they are sandwiched between 36b, between the second wiring layers 35a to 35f and the first electrode layer 21 in the row gap portions 24a, 24b and 24c. It becomes possible to prevent the formation of the sensitivity region.

なお、ガード層36a,36bを接地電位以外の所定の電位に設定してもよい。この場合でも、ガード層36a,36bの存在により、第2の配線層35a〜35fと第1の電極層21との間の相互の寄生容量を低減でき、第2の配線層35a〜35fと、第1の電極層21との間に不要な感度領域が形成されるのを低減できる。   The guard layers 36a and 36b may be set to a predetermined potential other than the ground potential. Even in this case, the presence of the guard layers 36a and 36b can reduce mutual parasitic capacitance between the second wiring layers 35a to 35f and the first electrode layer 21, and the second wiring layers 35a to 35f, An unnecessary sensitivity region can be reduced from being formed between the first electrode layer 21 and the first electrode layer 21.

第2の配線層35a〜35fおよびガード層36a,36bは、X方向に隣接する第1の電極列20の間の列間隙部24a,24b,24cを通過するように、Y方向へ直線的に形成された構造であるため、各層の配置構成を簡素化でき、製造しやすくなる。   The second wiring layers 35a to 35f and the guard layers 36a and 36b linearly extend in the Y direction so as to pass through the row gap portions 24a, 24b and 24c between the first electrode rows 20 adjacent in the X direction. Because of the formed structure, the arrangement configuration of each layer can be simplified and it becomes easy to manufacture.

図9は、本発明の入力装置10の第2の実施の形態を示しており、列間隙部24aとx1列の隣接空間部23との交差部の構造を示している。この交差部以外の構成は、図2ないし図8に示した第1の実施の形態の入力装置10と同じである。   FIG. 9 shows a second embodiment of the input device 10 according to the present invention, and shows the structure of the intersection of the row gap portion 24a and the adjacent space portion 23 in the x1 row. The configuration other than this intersection is the same as that of the input device 10 according to the first embodiment shown in FIGS. 2 to 8.

図9に示す交差部では、第2の配線層35aと一体の中間層37bがやや広い面積で形成されている。   At the intersections shown in FIG. 9, the intermediate layer 37b integral with the second wiring layer 35a is formed with a somewhat large area.

中間層37bと図示右側の第2の電極層31との間には、第2の絶縁層41aと第2のブリッジ接続層42aが形成されており、中間層37bと図示左側の第2の電極層31との間には、第2の絶縁層41bと第2のブリッジ接合層42bが形成されている。   A second insulating layer 41a and a second bridge connection layer 42a are formed between the intermediate layer 37b and the second electrode layer 31 on the right side of the figure, and the intermediate layer 37b and a second electrode on the left side of the illustration Between the layer 31 and the second insulating layer 41 b and the second bridge junction layer 42 b are formed.

第2の絶縁層41aおよび第2のブリッジ接合層42aと、第2の絶縁層41bおよび第2のブリッジ接続層42bは、Y方向に位置ずれしており、Y方向に間隔を空けて形成されている。   The second insulating layer 41a and the second bridge connection layer 42a, and the second insulating layer 41b and the second bridge connection layer 42b are misaligned in the Y direction, and are formed spaced apart in the Y direction. ing.

第2の実施の形態では、列間隙部24aと隣接空間部23との交差部において、第2の絶縁層41a,41bと第2のブリッジ接続層42a,42bがY方向に離れて配置されているため、これら絶縁層41a,41bとブリッジ接続層42a,42bがX方向に連続してあたかも一体のものとして目視されるのを防止できるようになり、背部から表示光が与えられたときに、第2の絶縁層41a,41bと第2のブリッジ接続層42a,42bが目立たなくなる。   In the second embodiment, the second insulating layers 41a and 41b and the second bridge connection layers 42a and 42b are spaced apart in the Y direction at the intersection of the column gap portion 24a and the adjacent space portion 23. Therefore, it is possible to prevent the insulating layers 41a and 41b and the bridge connection layers 42a and 42b from being viewed as one piece continuously in the X direction, and when display light is given from the back, The second insulating layers 41a and 41b and the second bridge connection layers 42a and 42b become inconspicuous.

図10と図11は、本発明の入力装置10の第3の実施の形態を示しており、列間隙部24aとx1列の隣接空間部23との交差部の構造を示している。   FIGS. 10 and 11 show a third embodiment of the input device 10 according to the present invention, and show the structure of the intersection of the row gap portion 24a and the adjacent space portion 23 of the x1 row.

第3の実施の形態の入力装置10では、ITOなどで形成された第2の電極層31が前記交差部で途切れておらず、列間隙部24aを横断して形成されている。第2の配線層35a,35bとガード層36a,36bは、図3と図4に示した第1のブリッジ接続層33と同じ材料で同じ工程で形成されている。   In the input device 10 according to the third embodiment, the second electrode layer 31 formed of ITO or the like is not disconnected at the intersection but formed across the column gap portion 24a. The second wiring layers 35a and 35b and the guard layers 36a and 36b are formed of the same material and in the same process as the first bridge connection layer 33 shown in FIGS.

交差部では、第2の配線層35aが第2の電極層31の上に重ねられて、第2の配線層35aと第2の電極層31とが接続されて導通されている。また、第2の電極層31の上に第3の絶縁層51a,51bがX方向に分割されて形成されている。ガード層36aは右側の第3の絶縁層51aの上を通過し、第2の配線層35bとガード層36bは、左側の第3の絶縁層51bの上を通過している。   At the intersection, the second wiring layer 35a is stacked on the second electrode layer 31, and the second wiring layer 35a and the second electrode layer 31 are connected and conducted. Further, the third insulating layers 51a and 51b are formed on the second electrode layer 31 so as to be divided in the X direction. The guard layer 36a passes on the right side of the third insulating layer 51a, and the second wiring layer 35b and the guard layer 36b pass on the left side of the third insulating layer 51b.

右側の第3の絶縁層51aと左側の第3の絶縁層51bは連続して形成されていてもよいが、X方向に分割して形成することで、背部から表示パネル5の表示光が与えられたときに目立たなくなる。   The third insulating layer 51a on the right side and the third insulating layer 51b on the left side may be formed continuously, but by being divided in the X direction, the display light of the display panel 5 is given from the back Less noticeable when

この第3の実施の形態においても、第2の配線層35a〜35fとガード層36a,36bが、第1の電極列20および第2の電極列30と、同じ平面に形成されているため、段差が少なくなり、絶縁層とブリッジ接続層の数を減らすこことができ、絶縁層とブリッジ接続層の面積も小さくできる。また、第2の配線層35a〜35fとガード層36a,36bが、列間隙部24a,24b,24c内でY方向に直線的に延びて形成されているため、各層の形状と構造を簡素に構成できるようになる。   Also in the third embodiment, since the second wiring layers 35a to 35f and the guard layers 36a and 36b are formed in the same plane as the first electrode row 20 and the second electrode row 30, The number of steps can be reduced, the number of insulating layers and bridge connection layers can be reduced, and the area of the insulating layers and bridge connection layers can be reduced. Further, since the second wiring layers 35a to 35f and the guard layers 36a and 36b are formed to extend linearly in the Y direction in the row gaps 24a, 24b and 24c, the shape and structure of each layer can be simplified. It can be configured.

1 タッチパネル
2 表面パネル
3 表示部
4 加飾部
5 表示パネル
10 入力装置
11 基板
20 第1の電極列
21 第1の電極層
22 連結部
23 隣接空間部
24a,24b,24c 列間隙部
25a〜25d 第1の配線層
30 第2の電極列
32 第1の絶縁層
33 第1のブリッジ接合層
35a〜35f 第2の配線層
36a,36b ガード層
37a,37b 中間層
41a,41b 第2の絶縁層
42a,42b 第2のブリッジ接合層
43 絶縁層
44 第3のブリッジ接続層
51a,51b 第3の絶縁層
Reference Signs List 1 touch panel 2 front panel 3 display unit 4 decorative portion 5 display panel 10 input device 11 substrate 20 first electrode row 21 first electrode layer 22 first electrode layer 22 connecting portion 23 adjacent space portions 24a, 24b, 24c column gap portions 25a to 25d First Wiring Layer 30 Second Electrode Row 32 First Insulating Layer 33 First Bridge Junction Layers 35a to 35f Second Wiring Layers 36a and 36b Guard Layers 37a and 37b Intermediate Layers 41a and 41b Second Insulating Layer 42a, 42b second bridge bonding layer 43 insulating layer 44 third bridge connection layer 51a, 51b third insulating layer

Claims (7)

透光性の基板に、透光性の導電材料で形成された第1の電極層と第2の電極層とが形成され、複数の前記第1の電極層が第1の方向に並んで第1の電極列が形成され、複数の前記第2の電極層が第1の方向と交差する第2の方向に並んで第2の電極列が形成されている入力装置において、
前記第1の電極列と前記第2の電極列との交差部では、前記第1の電極層と前記第2の電極層のいずれか一方の電極層どうしを連結する連結部が前記透光性の導電材料で一体に形成され、前記連結部の上に第1の絶縁層と第1のブリッジ接続層が重ねて形成されて、前記第1のブリッジ接続層によって他方の電極層どうしが導通されており、
前記第1の電極列は第2の方向に列間隙部を空けて配置され、前記第1の電極層と前記第2の電極層とが第2の方向と交差する方向に隣接空間部を空けて配置されており、配線層と前記配線層の側方に位置するガード層とが、前記隣接空間部内に位置することなく、前記列間隙部内を第1の方向に延びて形成されており、前記配線層が前記第2の電極層に導通していることを特徴とする入力装置。
A first electrode layer and a second electrode layer formed of a light-transmitting conductive material are formed on a light-transmitting substrate, and a plurality of the first electrode layers are arranged in the first direction. In an input device in which one electrode row is formed, and a plurality of the second electrode layers are arranged in a second direction crossing the first direction to form a second electrode row,
At the intersection of the first electrode row and the second electrode row, a connecting portion for connecting any one of the first electrode layer and the second electrode layer is the light transmitting property. The first insulating layer and the first bridge connection layer are formed on the coupling portion in an overlapping manner, and the other electrode layers are electrically connected by the first bridge connection layer. Yes,
The first electrode row is disposed with a row gap portion in the second direction, and an adjacent space portion is spaced in the direction in which the first electrode layer and the second electrode layer intersect the second direction. And the wiring layer and the guard layer located on the side of the wiring layer are formed extending in the first direction in the row gap without being located in the adjacent space , The input device, wherein the wiring layer is electrically connected to the second electrode layer.
透光性の基板に、透光性の導電材料で形成された第1の電極層と第2の電極層とが形成され、複数の前記第1の電極層が第1の方向に並んで第1の電極列が形成され、複数の前記第2の電極層が第1の方向と交差する第2の方向に並んで第2の電極列が形成されている入力装置において、
前記第1の電極列と前記第2の電極列との交差部では、前記第1の電極層と前記第2の電極層のいずれか一方の電極層どうしを連結する連結部が前記透光性の導電材料で一体に形成され、前記連結部の上に第1の絶縁層と第1のブリッジ接続層が重ねて形成されて、前記第1のブリッジ接続層によって他方の電極層どうしが導通されており、
前記第1の電極列は第2の方向に列間隙部を空けて配置され、前記列間隙部で、前記第1の電極層の辺どうしが第2の方向に対向しており、前記列間隙部内では、配線層と前記配線層の側方に位置するガード層とが、前記第1の電極層の前記辺と辺との間を第1の方向に延びて形成されており、前記配線層が前記第2の電極層に導通していることを特徴とする入力装置。
A first electrode layer and a second electrode layer formed of a light-transmitting conductive material are formed on a light-transmitting substrate, and a plurality of the first electrode layers are arranged in the first direction. In an input device in which one electrode row is formed, and a plurality of the second electrode layers are arranged in a second direction crossing the first direction to form a second electrode row,
At the intersection of the first electrode row and the second electrode row, a connecting portion for connecting any one of the first electrode layer and the second electrode layer is the light transmitting property. The first insulating layer and the first bridge connection layer are formed on the coupling portion in an overlapping manner, and the other electrode layers are electrically connected by the first bridge connection layer. Yes,
The first electrode row is disposed with a row gap in the second direction, and in the row gap , the sides of the first electrode layer face each other in the second direction, and the row gap In the portion , a wiring layer and a guard layer located on the side of the wiring layer are formed extending in a first direction between the side and the side of the first electrode layer, and the wiring layer is formed. And the second electrode layer is electrically connected.
前記列間隙部では、第2の方向で対向する前記第1の電極層の前記辺が、第1の方向に向けて直線状に延びている請求項2記載の入力装置。The input device according to claim 2, wherein in the row gap portion, the side of the first electrode layer opposed in the second direction linearly extends in the first direction. 前記第1の電極列と前記第2の電極列および前記配線層と前記ガード層が、前記基板の表面の同じ階層に形成されている請求項1ないし3のいずれかに記載の入力装置。The input device according to any one of claims 1 to 3, wherein the first electrode array, the second electrode array, the wiring layer, and the guard layer are formed in the same layer of the surface of the substrate. 前記配線層と前記ガード層が、前記第1の電極層および前記第2の電極層と同じ透光性の導電材料で形成され、前記ガード層の上に第2の絶縁層と第2のブリッジ接続層が形成されており、前記第2のブリッジ接続層によって、前記第2の電極層と前記配線層とが接続されている請求項1ないし4のいずれかに記載の入力装置。 The wiring layer and the guard layer are formed of the same translucent conductive material as the first electrode layer and the second electrode layer, and a second insulating layer and a second bridge are formed on the guard layer. The input device according to any one of claims 1 to 4 , wherein a connection layer is formed, and the second electrode layer and the wiring layer are connected by the second bridge connection layer. 前記ガード層は、前記配線層の両側に形成されており、前記第2の絶縁層と前記第2のブリッジ接続層が、両側の前記ガード層のそれぞれの上に形成されている請求項記載の入力装置。 The guard layer is formed on both sides of the wiring layer, the second insulating layer and the second bridge connection layer, according to claim 5, characterized in that formed on each of both sides of the guard layer Input device. 前記列間隙部に、前記配線層と一体の中間層が形成されており、前記第2の電極層が前記第2のブリッジ接続層を介して前記中間層に接続されている請求項記載の入力装置。 Wherein the column gap, the wiring layer and the intermediate layer of the integral is formed, the second electrode layer is the second bridge connection layer said intermediate layer in the connected claim 6, wherein through the Input device.
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