JP6523942B2 - Surface treatment liquid of inorganic material or resin material, surface treatment method and use thereof - Google Patents

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本発明は、アゾールシラン化合物を用いた無機材料または樹脂材料の表面処理液、表面処理方法およびその利用に関する。   The present invention relates to a surface treatment liquid of an inorganic material or resin material using an azole silane compound, a surface treatment method, and use thereof.

近年、プリント配線板は、電子機器・電子部品の小型化、薄型化等に対応すべく多層化が進められており、所謂多層プリント配線板は、片面または両面に銅箔等からなる回路を設けた内層用の回路板に、プリプレグを介して外層用回路板もしくは銅箔を重ね、これを一体化することによって製造されている。
ところで、このような多層プリント配線板においては、内層用の回路板に形成された銅回路と、外層用回路板または銅箔を積層させるプリプレグの絶縁接着樹脂との間の接着性の確保が重要な課題となっている。
In recent years, multilayer printed wiring boards have been promoted to cope with the miniaturization and thinning of electronic devices and electronic parts, and a so-called multilayer printed wiring board is provided with a circuit made of copper foil or the like on one side or both sides. The circuit board for the inner layer is laminated with the circuit board for the outer layer or the copper foil through the prepreg and integrated.
By the way, in such a multilayer printed wiring board, it is important to ensure the adhesion between the copper circuit formed on the circuit board for the inner layer and the insulating adhesive resin of the prepreg on which the circuit board for the outer layer or copper foil is laminated. It is an important issue.

本発明に関連する従来技術について、文献を引用して以下に述べる。
特許文献1には、銅箔とプリプレグの接着性と、銅箔とプリプレグを接着して得られる銅張積層板の半田耐熱性を向上させる銅箔表面処理剤に関する発明が記載されている。
この文献には、該表面処理剤の成分として、イミダゾール環を有するトリアルコキシシラン化合物とテトラアルコキシシラン化合物を併用する点が開示されている。
The prior art related to the present invention is described below with reference to the literature.
Patent Document 1 describes an invention relating to a copper foil surface treatment agent that improves the adhesion between a copper foil and a prepreg, and the solder heat resistance of a copper-clad laminate obtained by bonding the copper foil and the prepreg.
This document discloses that a trialkoxysilane compound having an imidazole ring and a tetraalkoxysilane compound are used in combination as a component of the surface treatment agent.

特許文献2には、銅の表面をエッチング等の粗化処理を行うことなく、銅と樹脂等の絶縁材との間の密着性を維持することができる銅の表面調整組成物および表面処理方法に関する発明が記載されている。
この文献には、絶縁材との密着性に優れているという理由から、表面調整組成物の成分として、ヒドロキシシリル基が好ましい点、そして、その中でも、銅とエポキシ樹脂等の絶縁材との密着性を向上させるという理由から、メルカプト基を有するシランカップリング剤が好ましい点が開示されている。
また、当該表面調整組成物を含む溶液が、該組成物を、水と有機溶媒との混合溶媒に溶解させることにより調製し得る点が開示され、銅の表面に前記溶液を接触させた後は、水洗してから乾燥させても、水洗せずに乾燥させてもよい点、そして、水洗してから乾燥させた場合は、均一な厚さの膜が得られ、一方、水洗せずに乾燥した場合には、絶縁材との高い密着性が得られる点が開示されている。
Patent Document 2 discloses a copper surface conditioning composition and a surface treatment method capable of maintaining adhesion between copper and an insulating material such as a resin without roughening the surface of copper. The invention relating to
In this document, a hydroxysilyl group is preferable as a component of the surface conditioning composition because it is excellent in adhesion to an insulating material, and among them, adhesion between copper and an insulating material such as an epoxy resin is preferable. It is disclosed that a silane coupling agent having a mercapto group is preferable because it improves the properties.
Moreover, it is disclosed that a solution containing the surface conditioning composition can be prepared by dissolving the composition in a mixed solvent of water and an organic solvent, and after the solution is brought into contact with the surface of copper, Even if it is washed with water and then dried, it may be dried without being washed with water, and if it is washed with water and then dried, a film of uniform thickness is obtained, while on the other hand, it is dried without being washed with water In that case, it is disclosed that high adhesion to the insulating material can be obtained.

特許文献3には、シランカップリング剤溶液の製造方法、シランカップリング剤溶液、それを用いた基材の表面処理方法等に関する発明が記載されてる。
この文献には、有機ケイ素化合物を水と混合して十分にシラノール基を形成させた後、さらにアルコールを混合すれば、高いシラノール化率を実現でき、かつ、均一な塗工も可能となり、優れた密着性が実現する点、そして、シラノール化率として60〜100%が好ましく、80〜100%がより好ましい点が開示されている。
そして、前記の有機ケイ素化合物として、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシランや、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランが開示されている。
なお、有機高分子化合物や無機材料から構成される基材と、液晶性化合物との密着性を優れたものとする点が発明の課題とされており、銅を基材とする場合の密着性については言及されていない。
Patent Document 3 describes an invention relating to a method for producing a silane coupling agent solution, a silane coupling agent solution, a method for surface treatment of a substrate using the same, and the like.
In this document, after an organosilicon compound is mixed with water to sufficiently form a silanol group, further mixing of an alcohol enables realization of a high silanol conversion rate and also enables uniform coating, which is excellent. It is disclosed that the adhesion is realized and that the silanol ratio is preferably 60 to 100% and more preferably 80 to 100%.
And 3-mercaptopropyl methyl dimethoxysilane and 3-mercaptopropyl trimethoxysilane are disclosed as said organosilicon compound.
In addition, the point which makes the adhesiveness with the base material comprised from an organic polymer compound or an inorganic material, and a liquid crystalline compound excellent is made into the subject of the invention, and the adhesiveness in the case of using copper as a base material Is not mentioned.

特許文献4には、シランカップリング剤およびポリマー組成物に関する発明が記載されている。
この文献には、ガラスや金属とゴムの接着用プライマーに使用されるシランカップリング剤の成分として、トリアゾールやチアジアゾール等の含窒素複素環と、トリメトキシシリル基やトリエトキシシリル基等のシリル基が、チオエーテル(スルフィド)結合等を有する有機基を介して結合された構造の物質が種々開示されている。
Patent Document 4 describes an invention relating to a silane coupling agent and a polymer composition.
In this document, nitrogen-containing heterocycles such as triazole and thiadiazole, and silyl groups such as trimethoxysilyl group and triethoxysilyl group as components of a silane coupling agent used for a primer for adhesion of glass and metal to rubber However, various materials having structures linked via an organic group having a thioether (sulfide) bond or the like are disclosed.

特開平7−286160号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-286160 特開2009−263790号公報JP, 2009-263790, A 特開2006−045189号公報JP, 2006-045189, A 特開2002−363189号公報JP 2002-363189 A

本発明は金属、無機材料および樹脂材料から選択される材質の異なる2つの材料の接着性を高めるために、アゾールシラン化合物を用いた無機材料または樹脂材料の表面処理液、表面処理方法および接着方法と、これらを使用した電子デバイスおよびプリント配線板を提供することを目的とする。   The present invention relates to a surface treatment liquid of an inorganic material or resin material using an azole silane compound, a surface treatment method, and an adhesion method, in order to enhance the adhesion of two different materials selected from metal, inorganic material and resin material. And, it aims at providing an electronic device and a printed wiring board using these.

本発明者らは、前記の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、分子内にアゾール環およびジスルフィド結合(−S−S−)を有するシラン化合物を溶解させた水溶液が、所期の目的を達成することを見出し、本発明を完成させるに至ったものである。
即ち、第1の発明は、化学式(I)で示されるアゾールシラン化合物を含有する無機材料または樹脂材料の表面処理液である。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that an aqueous solution in which a silane compound having an azole ring and a disulfide bond (-S-S-) is dissolved in the molecule is expected to be obtained. It was found that the object was achieved, and the present invention was completed.
That is, the first invention is a surface treatment liquid of an inorganic material or resin material containing an azole silane compound represented by the chemical formula (I).

Figure 0006523942
Figure 0006523942

の発明は、第1の発明の表面処理液を無機材料に接触させる無機材料の表面処理方法である。
の発明は、無機材料が、シリコン、セラミック、ガラスまたは無機塩である第の発明の無機材料の表面処理方法である。
の発明は、セラミックが、アルミナ、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素またはチタン酸バリウムである第の発明の無機材料の表面処理方法である。
の発明は、第1の発明の表面処理液を樹脂材料に接触させる樹脂材料の表面処理方法である。
の発明は、樹脂材料が、アクリレート樹脂、エポキシ樹脂またはポリイミド樹脂である第の発明の樹脂材料の表面処理方法である。
2nd invention is the surface treatment method of the inorganic material which makes the surface treatment liquid of 1st invention contact inorganic material.
A third invention is the method for surface treatment of an inorganic material according to the second invention, wherein the inorganic material is silicon, ceramic, glass or an inorganic salt.
A fourth invention is the surface treatment method of the inorganic material of the third invention, wherein the ceramic is alumina, silicon carbide, aluminum nitride, silicon nitride or barium titanate.
5th invention is the surface treatment method of the resin material which makes the resin material contact the surface treatment liquid of 1st invention .
A sixth invention is the surface treatment method of a resin material according to the fifth invention, wherein the resin material is an acrylate resin, an epoxy resin or a polyimide resin.

の発明は、金属と樹脂材料の接着方法であって、第1の発明の表面処理液を、樹脂材料に接触させて当該樹脂材料に化成皮膜を形成し、金属と樹脂材料とを化成皮膜を介して接着する金属と樹脂材料の接着方法である A seventh invention is a method of bonding metal and resin material, wherein the surface treatment liquid of the first invention is brought into contact with the resin material to form a chemical conversion film on the resin material, and the metal and resin material are formed It is a bonding method of metal and resin material bonded through a film .

の発明は、第1の発明の表面処理液により樹脂材料の表面に形成された化成皮膜を介して、金属と樹脂材料を接着した複合材料を具備する電子デバイスである
第9の発明は、第1の発明の表面処理液により樹脂材料の表面に形成された化成皮膜を介して、金属と樹脂材料を接着した複合材料を具備するプリント配線板である
An eighth invention is an electronic device comprising a composite material in which a metal and a resin material are bonded to each other via a chemical conversion film formed on the surface of the resin material by the surface treatment liquid of the first invention .
A ninth invention is a printed wiring board comprising a composite material in which a metal and a resin material are bonded to each other via a chemical conversion film formed on the surface of the resin material by the surface treatment liquid of the first invention .

10の発明は、前記化学式(I)で示されるアゾールシラン化合物と、樹脂材料および/または無機材料とを含有する絶縁性組成物である。
11の発明は、樹脂材料が、アクリレート樹脂、エポキシ樹脂またはポリイミド樹脂である第10の発明の絶縁性組成物である。
12の発明は、無機材料が、シリコン、セラミック、ガラスまたは無機塩である第10の発明または第11の発明の絶縁性組成物である。
A tenth invention is an insulating composition containing the azole silane compound represented by the chemical formula (I) and a resin material and / or an inorganic material.
The eleventh invention is the insulating composition of the tenth invention, wherein the resin material is an acrylate resin, an epoxy resin or a polyimide resin.
The twelfth invention is the insulating composition of the tenth invention or the eleventh invention, wherein the inorganic material is silicon, ceramic, glass or an inorganic salt.

13の発明は、第10の発明〜第12の発明のいずれか一つの絶縁性組成物を成分とする絶縁材料である。
14の発明は、第10の発明〜第12の発明のいずれか一つの絶縁性組成物から得られる絶縁層を有する電子デバイスである。
15の発明は、第10の発明〜第12の発明のいずれか一つの絶縁性組成物から得られる絶縁層を有するプリント配線板である。
A thirteenth invention is an insulating material containing the insulating composition according to any one of the tenth to twelfth inventions as a component.
A fourteenth invention is an electronic device having an insulating layer obtained from the insulating composition according to any one of the tenth invention to the twelfth invention.
A fifteenth invention is a printed wiring board having an insulating layer obtained from the insulating composition according to any one of the tenth invention to the twelfth invention.

本発明によれば、材質の異なる2つの材料、即ち、金属と無機材料、金属と樹脂材料および、無機材料と樹脂材料の接着性を高めることができる。   According to the present invention, it is possible to improve the adhesion between two materials of different materials: metal and inorganic material, metal and resin material, and inorganic material and resin material.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

(表面処理液)
本発明の表面処理液は、無機材料または樹脂材料の表面処理に使用され、前記の化学式(I)で示されるアゾールシラン化合物を有効成分として含有するが、このアゾールシラン化合物は、化学式(I)におけるYが、
-CO-NH-(CH2)3-Si(OR)3である場合のアゾールシラン化合物(以下、アゾールシラン化合物(Ia)と云う)、
-CO-NH-(CH2)3-Si(OR)2(OH)である場合のアゾールシラン化合物(以下、アゾールシラン化合物(Ib)と云う)、
-CO-NH-(CH2)3-Si(OR)(OH)2である場合のアゾールシラン化合物(以下、アゾールシラン化合物(Ic)と云う)および
-CO-NH-(CH2)3-Si(OH)3である場合のアゾールシラン化合物(以下、アゾールシラン化合物(Id)と云う)を包含する。
なお、本発明の表面処理液を、単に表面処理液または処理液と云うことがある。
(Surface treatment solution)
The surface treatment liquid of the present invention is used for surface treatment of an inorganic material or resin material and contains the azole silane compound represented by the above-mentioned chemical formula (I) as an active ingredient, and this azole silane compound has a chemical formula (I) Y in is
An azole silane compound in the case of -CO-NH- (CH 2 ) 3 -Si (OR) 3 (hereinafter referred to as azole silane compound (Ia)),
An azole silane compound (hereinafter referred to as azole silane compound (Ib)) in the case of -CO-NH- (CH 2 ) 3 -Si (OR) 2 (OH),
And azole silane compounds (hereinafter referred to as azole silane compounds (Ic)) in the case of -CO-NH- (CH 2 ) 3 -Si (OR) (OH) 2 and
The azole silane compound (hereinafter referred to as an azole silane compound (Id)) in the case of -CO-NH- (CH 2 ) 3 -Si (OH) 3 is included.
The surface treatment liquid of the present invention may be simply referred to as a surface treatment liquid or a treatment liquid.

即ち、アゾールシラン化合物(Ia)は、前記の化学式(I)においてnが0である場合のアゾールシラン化合物である。
同様に、アゾールシラン化合物(Ib)は、nが1である場合のアゾールシラン化合物であり、アゾールシラン化合物(Ic)は、nが2である場合のアゾールシラン化合物であり、アゾールシラン化合物(Id)は、nが3である場合のアゾールシラン化合物である。
That is, the azole silane compound (Ia) is an azole silane compound when n is 0 in the above chemical formula (I).
Similarly, the azole silane compound (Ib) is an azole silane compound when n is 1 and the azole silane compound (Ic) is an azole silane compound when n is 2 and the azole silane compound (Id ) Is an azole silane compound when n is 3.

アゾールシラン化合物(Ib)〜(Id)は、表面処理液中に存在するアゾールシラン化合物(Ia)が、加水分解されて生成する種であり、これらは、トリアルコキシ体のアゾールシラン化合物(Ia)と共に、シランカップリング剤の成分として好適なものである。また、アゾールシラン化合物(Ib)〜(Id)は、例えば、表面処理液から揮発分を除去することにより表面処理液から抽出して用いることができる。   The azole silane compounds (Ib) to (Id) are species generated by hydrolysis of the azole silane compound (Ia) present in the surface treatment liquid, and these are azole silane compounds (Ia) in the trialkoxy form In addition, it is suitable as a component of a silane coupling agent. The azole silane compounds (Ib) to (Id) can be used by extracting from the surface treatment solution by removing volatile components from the surface treatment solution, for example.

本発明の実施においては、表面処理液中の成分の原料として、アゾールシラン化合物(Ia)を使用することが好ましい。   In the practice of the present invention, it is preferable to use the azole silane compound (Ia) as a raw material of the component in the surface treatment liquid.

このアゾールシラン化合物(Ia)は、
2,2′−ジチオビス{1−[3−(トリメトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−イミダゾール}、
2,2′−ジチオビス{1−[3−(トリエトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−イミダゾール}、
2,2′−ジチオビス{1−[3−(トリメトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−ベンズイミダゾール}、
2,2′−ジチオビス{1−[3−(トリエトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−ベンズイミダゾール}、
2,2′−ジチオビス{5−アミノ−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−ベンズイミダゾール}、
2,2′−ジチオビス{5−アミノ−1−[3−(トリエトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−ベンズイミダゾール}、
3,3′−ジチオビス{1−[3−(トリメトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−1,2,4−トリアゾール}、
3,3′−ジチオビス{1−[3−(トリエトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−1,2,4−トリアゾール}、
3,3′−ジチオビス{5−アミノ−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−1,2,4−トリアゾール}、
3,3′−ジチオビス{5−アミノ−1−[3−(トリエトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−1,2,4−トリアゾール}、
4,4′−ジチオビス{1−[3−(トリメトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−1,2,3−トリアゾール}、
4,4′−ジチオビス{1−[3−(トリエトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−1,2,3−トリアゾール}、
5,5′−ジチオビス{1−[3−(トリメトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−テトラゾール}および
5,5′−ジチオビス{1−[3−(トリエトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−テトラゾール}を包含する。
なお、本発明の実施においては、これらから選択される2種以上を組み合わせて使用してもよい。
The azole silane compound (Ia) is
2,2'-dithiobis {1- [3- (trimethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-imidazole},
2,2'-dithiobis {1- [3- (triethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-imidazole},
2,2'-dithiobis {1- [3- (trimethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-benzimidazole},
2,2'-dithiobis {1- [3- (triethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-benzimidazole},
2,2'-dithiobis {5-amino-1- [3- (trimethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-benzimidazole},
2,2'-dithiobis {5-amino-1- [3- (triethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-benzimidazole},
3,3'-dithiobis {1- [3- (trimethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-1,2,4-triazole},
3,3'-dithiobis {1- [3- (triethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-1,2,4-triazole},
3,3'-dithiobis {5-amino-1- [3- (trimethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-1,2,4-triazole},
3,3'-dithiobis {5-amino-1- [3- (triethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-1,2,4-triazole},
4,4'-Dithiobis {1- [3- (trimethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-1,2,3-triazole},
4,4'-Dithiobis {1- [3- (triethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-1,2,3-triazole},
5,5'-Dithiobis {1- [3- (trimethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-tetrazole} and 5,5'-dithiobis {1- [3- (triethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-tetrazole Includes}.
In the practice of the present invention, two or more selected from these may be used in combination.

当該アゾールシラン化合物(Ia)は、対応する前駆体の化学式(II)で示されるジチオジアゾール化合物と、化学式(III)で示されるイソシアナトプロピルシラン化合物を、適量の反応溶媒中において適宜の反応温度および反応時間にて反応させることにより合成することができる。   In the azole silane compound (Ia), the dithiodiazole compound represented by the chemical formula (II) of the corresponding precursor and the isocyanatopropylsilane compound represented by the chemical formula (III) are appropriately reacted in an appropriate amount of reaction solvent It can synthesize | combine by making it react at temperature and reaction time.

Figure 0006523942
Figure 0006523942

Figure 0006523942
(式中、Rは前記と同様である。)
Figure 0006523942
(Wherein R is as defined above)

前記の前駆体となるジチオジアゾール化合物は、
2,2′−ジチオジ(1H−イミダゾール)、
2,2′−ジチオジ(1H−ベンズイミダゾール)、
2,2′−ジチオビス(5−アミノ−1H−ベンズイミダゾール)、
3,3′−ジチオジ(1H−1,2,4−トリアゾール)、
3,3′−ジチオビス(5−アミノ−1H−1,2,4−トリアゾール)、
4,4′−ジチオジ(1H−1,2,3−トリアゾール)および
5,5′−ジチオジ(1H−テトラゾール)を包含する。
The dithiodiazole compound to be the above precursor is
2,2'-dithiodi (1H-imidazole),
2,2'-dithiodi (1H-benzimidazole),
2,2'-dithiobis (5-amino-1H-benzimidazole),
3,3'-dithiodi (1H-1,2,4-triazole),
3,3'-dithiobis (5-amino-1H-1,2,4-triazole),
Included are 4,4'-dithiodi (1H-1,2,3-triazole) and 5,5'-dithiodi (1H-tetrazole).

前記のイソシアナトプロピルシラン化合物は、
3−イソシアナトプロピルトリメトキシシランおよび
3−イソシアナトプロピルトリエトキシシランを包含する。
The aforementioned isocyanatopropylsilane compounds are
Including 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane and 3-isocyanatopropyltriethoxysilane.

前記の前駆体を2,2′−ジチオジ(1H−イミダゾール)とした場合の反応例を、スキーム(A)に示す。   An example of the reaction when the above precursor is 2,2′-dithiodi (1H-imidazole) is shown in scheme (A).

Figure 0006523942
(式中、Rは前記と同様である。)
Figure 0006523942
(Wherein R is as defined above)

本発明の表面処理液は、前記のアゾールシラン化合物(Ia)と水を混合することにより調製されるが、水と共に可溶化剤を併用してもよい。
なお、水と可溶化剤を併用する場合の表面処理液の調製方法については、当該アゾールシラン化合物(Ia)と水を混合した後に可溶化剤を加えてもよいし、該化合物と水および可溶化剤の混合液を混合してもよいし、該化合物と可溶化剤を混合した後に水を加えてもよい。
また、表面処理液の調製に使用される水としては、イオン交換水や蒸留水等の純水が好ましい。
The surface treatment liquid of the present invention is prepared by mixing the azole silane compound (Ia) with water, but a solubilizer may be used in combination with water.
In addition, about the preparation method of the surface-treatment liquid in the case of using water and a solubilizing agent in combination, after mixing the said azole silane compound (Ia) and water, a solubilizing agent may be added, or the compound, water and water may be added. A mixture of solubilizers may be mixed, or water may be added after mixing the compound and the solubilizer.
Moreover, as water used for preparation of surface treatment liquid, pure waters, such as ion-exchange water and distilled water, are preferable.

前記の可溶化剤としては、
メタノール、エタノール、プロパノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブチルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフルフリルアルコール、フルフリルアルコール、アセトン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル、2−ピロリドン、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、炭酸ジメチル、エチレンカーボネート、N−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、グリコール酸、乳酸、グルコン酸、グリセリン酸、マロン酸、コハク酸、レブリン酸、フェノール、安息香酸、シュウ酸、酒石酸、リンゴ酸、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、アリルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジプロパノールアミン、トリプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、1−アミノ−2−プロパノール、3−アミノ−1−プロパノール、2−アミノ−1−プロパノール、N,N−ジメチルエタノールアミン、シクロヘキシルアミン、アニリン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、ピリジンが好ましい。
なお、本発明の実施においては、これらからなる群から選択される2種以上を組み合わせて使用してもよい。
As said solubilizer,
Methanol, ethanol, propanol, 2-propanol, butanol, tert-butyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol, glycerin, diethylene glycol, triethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol diethyl ether Ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene Glycol monobutyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofurfuryl alcohol, furfuryl alcohol, acetone, tetrahydrofuran, dioxane, acetonitrile, 2-pyrrolidone, formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethyl formamide Acetamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane, dimethyl carbonate, ethylene carbonate, N-methyl pyrrolidone, γ-butyrolactone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, glycolic acid, lactic acid, gluconic acid Glyceric acid, malonic acid, succinic acid, levulinic acid, phenol, benzoic acid, oxalic acid, tartaric acid, malic acid, methylamine, dimethylamine, trimethyl Amine, ethylamine, diethylamine, triethylamine, propylamine, isopropylamine, butylamine, allylamine, ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, dipropanolamine, dipropanolamine, tripropanolamine, diisopropanolamine, triisopropanol Amine, 1-amino-2-propanol, 3-amino-1-propanol, 2-amino-1-propanol, N, N-dimethylethanolamine, cyclohexylamine, aniline, pyrrolidine, piperidine, piperazine and pyridine are preferred.
In the practice of the present invention, two or more selected from the group consisting of these may be used in combination.

アゾールシラン化合物(Ia)は、前述のとおり、水と接触すると加水分解されるが、この加水分解の態様をスキーム(B)に示した。
このスキーム(B)においては、前記のアゾールシラン化合物(Ia)〜(Ic)の有するシリル基が加水分解される態様、即ち、トリアルコキシシリル基が、漸次、ジアルコキシヒドロキシシリル基、ジヒドロキシアルコキシシリル基、トリヒドロキシシリル基に変化する様子が簡略的に示される。
The azole silane compound (Ia) is hydrolyzed when contacted with water as described above, and the mode of this hydrolysis is shown in scheme (B).
In this scheme (B), an embodiment in which the silyl group possessed by the azole silane compounds (Ia) to (Ic) is hydrolyzed, that is, the trialkoxysilyl group gradually becomes a dialkoxyhydroxysilyl group, a dihydroxyalkoxysilyl group. The state of change to a group or trihydroxysilyl group is schematically shown.

Figure 0006523942
Figure 0006523942

一般に、分子中にアルコキシシリル基を有する物質は、シランカップリング剤として作用することが知られている。
例えば、銅と樹脂材料との接着を例に挙げると、本発明の実施において、表面処理液中の成分として好ましく使用されるアゾールシラン化合物(Ia)は、分子中にアゾール環とアルコキシシリル基(−Si−OR)を有しており、アゾール環は、樹脂および銅と相互作用し、化学結合を形成する。
また、アルコキシシリル基は加水分解を受けて、ヒドロキシシリル基(−Si−OH)に変換され、このヒドロキシシリル基は銅表面に点在する酸化銅と化学結合する。
従って、樹脂材料と表面処理液を接触させることにより、樹脂層の表面に形成される化学式(I)で示されるアゾールシラン化合物に由来する化成皮膜は、この化成皮膜の表面に銅を接着させた場合には、樹脂層に直に銅を接着させる場合に比べて、銅と樹脂材料との接着性を高めることができる。
In general, substances having an alkoxysilyl group in the molecule are known to act as a silane coupling agent.
For example, taking adhesion of copper and a resin material as an example, in the practice of the present invention, the azole silane compound (Ia) preferably used as a component in the surface treatment liquid has an azole ring and an alkoxysilyl group The azole ring interacts with the resin and copper to form a chemical bond.
In addition, the alkoxysilyl group is hydrolyzed to be converted to a hydroxysilyl group (-Si-OH), and the hydroxysilyl group chemically bonds to copper oxide scattered on the copper surface.
Therefore, by bringing the resin material and the surface treatment liquid into contact with each other, the chemical conversion film derived from the azole silane compound represented by the chemical formula (I) formed on the surface of the resin layer adheres copper to the surface of this chemical conversion film. In this case, the adhesion between the copper and the resin material can be enhanced as compared to the case where copper is directly adhered to the resin layer.

本発明の実施においては、表面処理液中におけるアゾールシラン化合物(I)の濃度が、トリアルコキシ体のアゾールシラン化合物(Ia)の濃度に換算して、0.001〜10重量%であることが好ましく、0.01〜5重量%であることがより好ましい。
この濃度が0.001重量%未満である場合には、接着性の向上効果が十分ではなく、この濃度が10重量%を超える場合には、接着性の向上効果がほぼ頭打ちとなり、アゾールシラン化合物の使用量が増えるばかりで経済的ではない。
In the practice of the present invention, the concentration of the azole silane compound (I) in the surface treatment liquid is 0.001 to 10% by weight in terms of the concentration of the trialkoxy compound azole silane compound (Ia) Preferably, it is 0.01 to 5% by weight.
If this concentration is less than 0.001% by weight, the adhesive improvement effect is not sufficient, and if this concentration exceeds 10% by weight, the adhesive improvement effect almost reaches a plateau, and the azole silane compound It is not economical because the use amount of

ところで、表面処理液中に生成したヒドロキシシリル基を有するアゾールシラン化合物(Ib)〜(Id)は、徐々に、互いに反応して脱水縮合し、ヒドロキシシリル基がシロキサン結合(Si−O−Si)を形成し(スキーム(B)参照)、水に溶け難いシランオリゴマー(スキーム(B)中の化学式(e)で示される基を有するアゾールシラン化合物)に変換される。なお、化学式(e)で示される基のXは、繰り返し単位の数を表す整数である。   By the way, the azole silane compounds (Ib) to (Id) having a hydroxysilyl group generated in the surface treatment solution gradually react with each other to be dehydrated and condensed, and the hydroxysilyl group is a siloxane bond (Si-O-Si) (See scheme (B)) and converted to a water-insoluble silane oligomer (an azole silane compound having a group represented by chemical formula (e) in scheme (B)). In addition, X of group shown by Chemical formula (e) is an integer showing the number of repeating units.

表面処理液中におけるシランオリゴマーの生成量が多くなると、不溶解分が析出して(処理液が白濁し)、処理槽や処理槽に接続された配管、処理液中に浸漬された処理液の温度や液面を検出するためのセンサー類に付着し、円滑な表面処理が阻害されるおそれがある。
これを避けるために、前記の可溶化剤を表面処理液中に含有させることが好ましい。
可溶化剤の含有量については、水100重量部に対して0.1〜90重量部の割合とすることが好ましく、1〜50重量部の割合とすることがより好ましい。
When the amount of silane oligomers generated in the surface treatment solution increases, insolubles precipitate (the treatment solution becomes turbid), the treatment tank and the piping connected to the treatment vessel, and the treatment solution immersed in the treatment solution It adheres to sensors for detecting temperature and liquid level, and smooth surface treatment may be inhibited.
In order to avoid this, it is preferable to include the above-mentioned solubilizer in the surface treatment solution.
The content of the solubilizer is preferably 0.1 to 90 parts by weight, and more preferably 1 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of water.

本発明の表面処理液の調製においては、アゾールシラン化合物(Ia)の加水分解を促進させる為に、酢酸や塩酸等の酸、あるいは、水酸化ナトリウムやアンモニア等のアルカリを使用してもよい。   In the preparation of the surface treatment liquid of the present invention, an acid such as acetic acid or hydrochloric acid or an alkali such as sodium hydroxide or ammonia may be used to accelerate the hydrolysis of the azole silane compound (Ia).

同様に、表面処理液の安定性や化成皮膜の均一性を向上させるために、塩素イオン、臭素イオン等のハロゲンイオンや銅イオン、鉄イオン、亜鉛イオン等の金属イオンを生成する物質を使用することもできる。   Similarly, in order to improve the stability of the surface treatment solution and the uniformity of the chemical conversion film, a substance that generates a halogen ion such as chlorine ion or bromine ion or a metal ion such as copper ion, iron ion or zinc ion is used. It can also be done.

また、本発明の効果を損なわない範囲において、公知のカップリング剤を併用してもよい。公知のカップリング剤としては、チオール基(メルカプト基)、ビニル基、エポキシ基、(メタ)アクリル基、アミノ基、クロロプロピル基等を有するシラン系カップリング剤が挙げられる。   In addition, known coupling agents may be used in combination as long as the effects of the present invention are not impaired. As a well-known coupling agent, the silane type coupling agent which has a thiol group (mercapto group), a vinyl group, an epoxy group, a (meth) acryl group, an amino group, a chloropropyl group etc. is mentioned.

このようなシラン系カップリング剤の例としては、
3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、
3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等のメルカプトシラン化合物、
ビニルトリクロルシラン、
ビニルトリメトキシシラン、
ビニルトリエトキシシラン等のビニルシラン化合物、
p−ビニルフェニルトリメトキシシラン等のビニルフェニルシラン化合物、
2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、
3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のエポキシシラン化合物、
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアクリロキシシラン、
メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、
メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、
メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、
メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等のメタクリロキシシラン化合物、
N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、
N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、
N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、
3−アミノプロピルトリメトキシシラン、
3−アミノプロピルトリエトキシシラン、
3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチルブチリデン)プロピルアミン、
N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、
N−(ビニルベンジル)−2−アミノエチル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノシラン化合物、
3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等のウレイドシラン化合物、
3−クロロプロピルトリメトキシシラン等のクロロプロピルシラン化合物、
ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド等のスルフィドシラン化合物、
3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネートシラン化合物等を挙げることができる。
その他、アルミニウム系カップリング剤、チタン系カップリング剤、ジルコニウム系カップリング剤等も挙げることができる。
Examples of such silane coupling agents are:
3-mercaptopropyltrimethoxysilane,
Mercaptosilane compounds such as 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane,
Vinyltrichlorosilane,
Vinyltrimethoxysilane,
Vinylsilane compounds such as vinyltriethoxysilane,
vinylphenylsilane compounds such as p-vinylphenyltrimethoxysilane;
2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane,
3-glycidoxypropyltrimethoxysilane,
3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane,
Epoxysilane compounds such as 3-glycidoxypropyltriethoxysilane,
Acryloxysilanes such as 3-acryloxypropyltrimethoxysilane,
Methacryloxypropylmethyldimethoxysilane,
Methacryloxypropyl trimethoxysilane,
Methacryloxypropylmethyldiethoxysilane,
Methacryloxysilane compounds such as methacryloxypropyl triethoxysilane,
N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane,
N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane,
N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane,
3-aminopropyltrimethoxysilane,
3-aminopropyltriethoxysilane,
3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethylbutylidene) propylamine,
N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane,
Aminosilane compounds such as N- (vinylbenzyl) -2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane,
Ureido silane compounds such as 3-ureidopropyltriethoxysilane,
Chloropropylsilane compounds such as 3-chloropropyltrimethoxysilane,
Sulfide silane compounds such as bis (triethoxysilylpropyl) tetrasulfide,
The isocyanate silane compounds, such as 3-isocyanate propyl triethoxysilane, etc. can be mentioned.
In addition, aluminum based coupling agents, titanium based coupling agents, zirconium based coupling agents and the like can also be mentioned.

(表面処理方法)
本発明の表面処理液で処理される無機材料としては、例えば、シリコン、セラミックや、フィラーとして使用されるカーボン、無機塩およびガラス等が挙げられる。
具体的には、シリコン、炭化ケイ素、シリカ、ガラス、珪藻土、珪酸カルシウム、タルク、硝子ビーズ、セリサイト活性白土、ベントナイト等のケイ素化合物、アルミナ、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化スズ、酸化チタン等の酸化物、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、塩基性炭酸マグネシウム等の水酸化物、炭酸カルシウム、炭酸亜鉛、ハイドロタルサイト、炭酸マグネシウム等の炭酸塩、硫酸バリウム、石膏等の硫酸塩、チタン酸バリウム等のチタン酸塩、窒化アルミニウム、窒化ケイ素等の窒化物、鱗片状黒鉛(天然黒鉛)、膨張黒鉛、膨張化黒鉛(合成黒鉛)等のグラファイト類、活性炭類、炭素繊維類、カーボンブラック等が挙げられる。
これらの無機材料の中では、シリコン、セラミック(アルミナ、炭化ケイ素,窒化アルミニウム,窒化ケイ素およびチタン酸バリウム)、ガラスおよび無機塩が好ましい。
(Surface treatment method)
Examples of the inorganic material to be treated with the surface treatment liquid of the present invention include silicon, ceramics, carbon used as a filler, inorganic salts, glass and the like.
Specifically, silicon, silicon carbide, silica, glass, diatomaceous earth, calcium silicate, talc, glass beads, sericite activated clay, silicon compounds such as bentonite, alumina, zinc oxide, iron oxide, magnesium oxide, tin oxide, oxide Oxides such as titanium, hydroxides such as magnesium hydroxide, aluminum hydroxide and basic magnesium carbonate, carbonates such as calcium carbonate, zinc carbonate, hydrotalcite and magnesium carbonate, and sulfates such as barium sulfate and gypsum Titanates such as barium titanate, nitrides such as aluminum nitride and silicon nitride, flaky graphite (natural graphite), expanded graphite, graphites such as expanded graphite (synthetic graphite), activated carbons, carbon fibers, carbon Black etc. are mentioned.
Among these inorganic materials, silicon, ceramics (alumina, silicon carbide, aluminum nitride, silicon nitride and barium titanate), glass and inorganic salts are preferred.

本発明の表面処理液で処理される樹脂材料の例としては、アクリレート樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド樹脂、マレイミド樹脂、シアネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリブタジエン樹脂、オレフィン樹脂、フッ素含有樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、液晶樹脂等が挙げられ、これらを混合したり、互いに変性したりして、組み合わせたものであってもよい。また、これらの樹脂の重合度に特に制限はなく、表面処理後に、適宜重合(硬化)したものであってもよい。
これらの樹脂材料の中では、アクリレート樹脂、エポキシ樹脂およびポリイミド樹脂が好ましい。
Examples of the resin material to be treated with the surface treatment liquid of the present invention include acrylate resin, epoxy resin, polyimide resin, bismaleimide resin, maleimide resin, cyanate resin, polyphenylene ether resin, polyphenylene oxide resin, polybutadiene resin, olefin resin, A fluorine-containing resin, a polyether imide resin, a polyether ether ketone resin, a liquid crystal resin, etc. may be mentioned, and these may be mixed or modified with each other to be combined. Moreover, there is no restriction | limiting in particular in the polymerization degree of these resin, You may superpose | polymerize (harden) suitably after surface treatment.
Among these resin materials, acrylate resin, epoxy resin and polyimide resin are preferable.

本発明の表面処理液で処理した無機材料または樹脂材料と接着させる金属としては、銅、アルミニウム、チタン、ニッケル、スズ、鉄、銀、金およびこれらの合金を好ましく挙げることができる。
銅合金の例としては、銅を含む合金であれば特に限定されず、例えば、Cu−Ag系、Cu−Te系、Cu−Mg系、Cu−Sn系、Cu−Si系、Cu−Mn系、Cu−Be−Co系、Cu−Ti系、Cu−Ni−Si系、Cu−Zn−Ni系、Cu−Cr系、Cu−Zr系、Cu−Fe系、Cu−Al系、Cu−Zn系、Cu−Co系等の合金を挙げることができる。
また、その他の合金では、アルミニウム合金(Al−Si合金)、ニッケル合金(Ni−Cr合金)、鉄合金(Fe−Ni合金、ステンレス)等を挙げることができる。
これらの金属の中では、銅および銅合金(以下、両者を指して、単に銅ということがある)がより好ましい。
As metals to be bonded to the inorganic material or resin material treated with the surface treatment liquid of the present invention, copper, aluminum, titanium, nickel, tin, iron, silver, gold and alloys thereof can be preferably mentioned.
It will not specifically limit, if it is an alloy containing copper as an example of a copper alloy, For example, Cu-Ag type, Cu-Te type, Cu-Mg type, Cu-Sn type, Cu-Si type, Cu-Mn type , Cu-Be-Co system, Cu-Ti system, Cu-Ni-Si system, Cu-Zn-Ni system, Cu-Cr system, Cu-Zr system, Cu-Fe system, Cu-Al system, Cu-Zn system Alloys, such as a system and a Cu-Co system, can be mentioned.
Moreover, aluminum alloy (Al-Si alloy), nickel alloy (Ni-Cr alloy), iron alloy (Fe-Ni alloy, stainless steel) etc. can be mentioned as another alloy.
Among these metals, copper and copper alloys (hereinafter, both may be simply referred to as copper) are more preferable.

また、本発明の表面処理液で処理した無機材料または樹脂材料と接着させる金属とは、プリント配線板、リードフレーム等の電子デバイス、装飾品、建材等に用いられる箔(例えば、電解銅箔、圧延銅箔)、めっき膜(例えば、無電解銅めっき膜、電解銅めっき膜)、蒸着法、スパッタ法、ダマシン法等により形成された薄膜や、粒状、針状、繊維状、線状、棒状、管状、板状等の用途・形態において用いられるものである。なお、近年の高周波の電気信号が流れる銅配線の場合には、銅の表面は平均粗さが0.1μm以下の平滑面であることが好ましい。銅の表面に、前処理として、ニッケル、亜鉛、クロム、スズ等のめっきを施してもよい。   The metal to be bonded to the inorganic material or resin material treated with the surface treatment liquid of the present invention is a foil used for electronic devices such as printed wiring boards and lead frames, decorative articles, building materials, etc. Rolled copper foil), plating film (for example, electroless copper plating film, electrolytic copper plating film), thin film formed by vapor deposition method, sputtering method, damascene method, etc., granular, needle-like, fibrous, linear, rod-like , Tubular, plate-like and the like. In addition, in the case of the copper wiring in which the high frequency electric signal in recent years flows, it is preferable that the surface of copper is a smooth surface whose average roughness is 0.1 micrometer or less. The surface of copper may be plated with nickel, zinc, chromium, tin or the like as a pretreatment.

本発明の表面処理液を無機材料または樹脂材料の表面に接触させる方法としては、特に制限はなく、浸漬、塗布、スプレー等の手段を採用することができる。
表面処理液と無機材料または樹脂材料を接触させる時間(処理時間)については、1秒〜10分とすることが好ましく、5秒〜3分とすることがより好ましい。処理時間が1秒未満の場合には、無機材料または樹脂材料の表面に形成される化成皮膜の膜厚が薄くなり、材質の異なる材料間の接着力が十分に得られず、一方10分より長くしても、化成皮膜の膜厚に大差はなく、接着性の向上も期待できない。
また、表面処理液を無機材料または樹脂材料の表面に接触させる際の処理液の温度については、5〜50℃とすることが好ましいが、前記の処理時間との関係において、適宜設定すればよい。
There is no restriction | limiting in particular as a method of making the surface treatment liquid of this invention contact the surface of an inorganic material or resin material, Means, such as immersion, application | coating, a spray, are employable.
It is preferable to set it as 1 second-10 minutes about the time (process time) which makes a surface treatment liquid and an inorganic material or resin material contact, and it is more preferable to set it as 5 seconds-3 minutes. If the treatment time is less than 1 second, the film thickness of the chemical conversion film formed on the surface of the inorganic material or resin material becomes thin, and sufficient adhesion between different materials can not be obtained. Even if it is long, the film thickness of the chemical conversion film does not greatly change, and no improvement in adhesion can be expected.
The temperature of the treatment liquid when the surface treatment liquid is brought into contact with the surface of the inorganic material or resin material is preferably 5 to 50 ° C., but it may be set appropriately in relation to the above-mentioned treatment time. .

本発明の表面処理液と無機材料または樹脂材料を接触させた後は、水洗してから乾燥してもよいし、水洗せずに乾燥させてもよい。
乾燥温度は、室温〜150℃とすることが好ましい。
水洗に使用する水としては、イオン交換水や蒸留水等の純水が好ましいが、水洗の方法や時間には特に制限なく、例えば、浸漬やスプレー等の手段によって適宜の時間洗浄すればよい。
After the surface treatment liquid of the present invention is brought into contact with the inorganic material or resin material, it may be washed with water and then dried, or may be dried without being washed with water.
The drying temperature is preferably room temperature to 150 ° C.
As water used for water washing, pure water such as ion exchanged water or distilled water is preferable, but there is no particular limitation on the method and time of water washing, and washing may be carried out for a suitable time by means such as immersion or spray.

本発明の表面処理液を無機材料または樹脂材料の表面に接触させる前に、当該無機材料または樹脂材料の表面に、酸洗処理、アルカリ洗処理、粗化処理または耐熱処理から選択される少なくとも1つの前処理を行ってもよい。   Before bringing the surface treatment liquid of the present invention into contact with the surface of the inorganic material or resin material, at least one selected from acid pickling treatment, alkali washing treatment, roughening treatment or heat resistance treatment on the surface of the inorganic material or resin material. Pre-processing may be performed.

前記の酸洗処理は、無機材料または樹脂材料の表面に付着した油脂成分を除去する為に行うものである。この酸洗処理には、塩酸系溶液、硫酸系溶液、硝酸系溶液、硫酸−過酸化水素系溶液、有機酸系溶液、無機酸−有機溶媒系溶液、有機酸−有機溶媒系溶液等の溶液を用いることができる。   The above-mentioned pickling treatment is carried out in order to remove the oil and fat component adhering to the surface of the inorganic material or the resin material. For this pickling treatment, solutions such as hydrochloric acid solution, sulfuric acid solution, nitric acid solution, sulfuric acid-hydrogen peroxide solution, organic acid solution, inorganic acid-organic solvent solution, organic acid-organic solvent solution Can be used.

前記のアルカリ洗処理は、無機材料または樹脂材料の表面に付着した油脂成分を除去する為に行うものである。このアルカリ洗処理には、水酸化ナトリウム系溶液、水酸化カリム系溶液、水酸化マグネシウム系溶液、水酸化カルシウム系溶液、アミン系溶液、無機アルカリ−有機溶媒系溶液、アミン−有機溶媒系溶液等の溶液を用いることができる。   The above-mentioned alkali cleaning treatment is carried out to remove the fat and oil component adhering to the surface of the inorganic material or the resin material. For this alkaline cleaning treatment, a sodium hydroxide solution, a potassium hydroxide solution, a magnesium hydroxide solution, a calcium hydroxide solution, an amine solution, an inorganic alkali-organic solvent solution, an amine-organic solvent solution, etc. The following solutions can be used.

前記の粗化処理は、無機材料または樹脂材料の表面に凹凸形状を形成して、そのアンカー効果により金属、無機材料および樹脂材料から選択される2つの材料の接着性(密着性)を高める為に行うものである。この粗化処理には、デスミア法、プラズマエッチング法、金属スパッタリング法、無電解めっき法、電気めっき法、防錆処理、酸化・還元法、ブラシ研磨法、ジェットスクラブ法等の方法を採用することができる。   The roughening process described above forms a concavo-convex shape on the surface of the inorganic material or resin material, and enhances the adhesion (adhesion) of two materials selected from metal, inorganic material and resin material by the anchor effect thereof. To do For this roughening treatment, adopt methods such as desmear method, plasma etching method, metal sputtering method, electroless plating method, electroplating method, rust prevention treatment, oxidation / reduction method, brush polishing method, jet scrub method etc. Can.

デスミア法においては、例えば、過マンガン酸カリウム塩系や過マンガン酸ナトリウム塩系のデスミア剤を使用することができる。また、デスミア法による粗化処理前後に膨潤処理や中和処理を行っても良い。
金属スパッタリング法や無電解めっき法においては、無機材料または樹脂材料の表面に微細な金属粒子を析出させることにより、無機材料または樹脂材料の表面に凹凸を形成させる。
In the desmear method, for example, a permanganate potassium salt type or a permanganate sodium salt type desmear agent can be used. Further, swelling treatment or neutralization treatment may be performed before or after the roughening treatment by the desmear method.
In the metal sputtering method or the electroless plating method, unevenness is formed on the surface of the inorganic material or resin material by depositing fine metal particles on the surface of the inorganic material or resin material.

前記の耐熱処理は、無機材料または樹脂材料の表面に、ニッケル、ニッケル−リン、亜鉛、亜鉛−ニッケル、銅−亜鉛、銅−ニッケル、銅−ニッケル−コバルトまたはニッケル−コバルトから選択される少なくとも1種の皮膜が形成される。
この皮膜の形成においては、公知の無電解めっき法を採用することができるが、蒸着その他の手段であってもよい。
The heat resistance treatment is performed on at least one selected from nickel, nickel-phosphorus, zinc, zinc-nickel, copper-zinc, copper-nickel, copper-nickel-cobalt or nickel-cobalt on the surface of the inorganic material or resin material. A film of seeds is formed.
In forming this film, known electroless plating methods can be employed, but vapor deposition or other means may be used.

本発明の表面処理液を無機材料または樹脂材料の表面に接触させる前に、銅イオンを含む水溶液を無機材料または樹脂材料の表面に接触させてもよい。この銅イオンを含む水溶液は、無機材料または樹脂材料の表面に形成される化成皮膜の厚みを均一にさせる機能を有する。
銅イオン源としては、水に溶解する銅塩であれば特に限定されず、硫酸銅、硝酸銅、塩化銅、ギ酸銅、酢酸銅等の銅塩を挙げることができる。銅塩を水に可溶化するために、アンモニアや塩酸等を併用してもよい。
Before contacting the surface treatment liquid of the present invention with the surface of the inorganic material or resin material, an aqueous solution containing copper ions may be contacted with the surface of the inorganic material or resin material. The aqueous solution containing this copper ion has a function to make the thickness of the chemical conversion film formed on the surface of the inorganic material or resin material uniform.
The copper ion source is not particularly limited as long as it is a copper salt dissolved in water, and copper salts such as copper sulfate, copper nitrate, copper chloride, copper formate, copper acetate and the like can be mentioned. In order to solubilize the copper salt in water, ammonia, hydrochloric acid or the like may be used in combination.

本発明の表面処理液を無機材料または樹脂材料の表面に接触させた後に、酸性あるいはアルカリ性の水溶液を無機材料または樹脂材料の表面に接触させてもよい。この酸性あるいはアルカリ性の水溶液も、前記の銅イオンを含む水溶液と同様に、無機材料または樹脂材料の表面に形成される化成皮膜の厚みを均一にさせる機能を有する。
酸性水溶液およびアルカリ性水溶液は、特に限定されないが、酸性水溶液としては、硫酸、硝酸、塩酸等の鉱酸や、ギ酸、酢酸、乳酸、グリコール酸、アミノ酸等の有機酸を含む水溶液等を挙げることができる。アルカリ性水溶液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物や、アンモニア、エタノールアミン、モノプロパノールアミン等のアミン類を含む水溶液を挙げることができる。
After bringing the surface treatment liquid of the present invention into contact with the surface of the inorganic material or resin material, an acidic or alkaline aqueous solution may be brought into contact with the surface of the inorganic material or resin material. This acidic or alkaline aqueous solution also has a function to make the thickness of the chemical conversion film formed on the surface of the inorganic material or resin material uniform, as in the above-described aqueous solution containing copper ions.
The acidic aqueous solution and the alkaline aqueous solution are not particularly limited, and examples of the acidic aqueous solution include aqueous solutions containing mineral acids such as sulfuric acid, nitric acid and hydrochloric acid, and organic acids such as formic acid, acetic acid, lactic acid, glycolic acid and amino acids. it can. Examples of the alkaline aqueous solution include aqueous solutions containing hydroxides of alkali metals such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, and amines such as ammonia, ethanolamine and monopropanolamine.

本発明の表面処理液を前記の無機材料または樹脂材料の表面に接触させる前あるいは接触させた後に、プラズマ、レーザー、イオンビーム、オゾン、加熱もしくは加湿等の処理を行い、無機材料または樹脂材料の表面を改質させてもよい。また、プラズマ、レーザー、イオンビーム、パーミス・ブラシ等の機械研磨やドリル等の加工方法を用いて、無機材料または樹脂材料の樹脂・イオン残渣除去を目的とした洗浄を行ってもよい。   Before or after bringing the surface treatment liquid of the present invention into contact with the surface of the above-mentioned inorganic material or resin material, treatment such as plasma, laser, ion beam, ozone, heating or humidification is performed to obtain inorganic material or resin material The surface may be modified. Alternatively, the inorganic material or the resin material may be cleaned for the purpose of resin / ion residue removal, using a processing method such as mechanical polishing such as plasma, laser, ion beam, Permis-brush, or drill.

本発明の表面処理液を接触させた無機材料または樹脂材料の表面に、金属めっきあるいは、実装する工程において、プラズマ、レーザー、イオンビーム、オゾン、加熱もしくは加湿等の処理を行い、表面改質や、残渣除去を目的とした洗浄を行ってもよい。   In the process of metal plating or mounting on the surface of the inorganic material or resin material in contact with the surface treatment liquid of the present invention, the surface is reformed by processing such as plasma, laser, ion beam, ozone, heating or humidification. And washing for the purpose of removing the residue.

本発明の表面処理液を接触させた無機材料または樹脂材料の表面に、金属めっきあるいは、実装する工程において、密着性向上を目的とした有機皮膜や金属皮膜等のプライマー処理を行ってもよい。   In the step of metal plating or mounting on the surface of the inorganic material or resin material in contact with the surface treatment liquid of the present invention, primer treatment with an organic film, metal film or the like may be performed for the purpose of improving adhesion.

前記の前処理および後処理は、適宜に組み合わせて実施してもよい。   The above pretreatment and post treatment may be carried out in combination as appropriate.

本発明の表面処理液は、前記の無機材料または樹脂材料の表面を処理するために用いることができる。本発明の表面処理液を用いて無機材料または樹脂材料の表面を処理することで、無機材料または樹脂材料の表面に化成皮膜を形成し、他の材料との接着性を高めることができる。   The surface treatment liquid of the present invention can be used to treat the surface of the above-mentioned inorganic material or resin material. By treating the surface of the inorganic material or resin material with the surface treatment liquid of the present invention, a chemical conversion film can be formed on the surface of the inorganic material or resin material, and the adhesiveness with other materials can be enhanced.

本発明において、前記の金属、無機材料、樹脂材料からなる群から選択される2つの材料を本発明の表面処理液を用いて接着させることができる。本発明の表面処理液により形成される化成皮膜(化成皮膜層)を介することで、互いの親和性を向上させることができるため、材質の異なる材料同士であってもより強固に接着することができる。   In the present invention, two materials selected from the group consisting of the above-mentioned metals, inorganic materials and resin materials can be adhered using the surface treatment liquid of the present invention. By using the chemical conversion film (chemical conversion film layer) formed by the surface treatment liquid of the present invention, the mutual affinity can be improved, and therefore, even between materials of different materials can be adhered more firmly. it can.

(接着方法)
接着方法としては、公知の方法により行うことができる。
無機材料および/または樹脂材料の表面に、本発明の表面処理液を接触させて、何れか一方の材料の表面あるいは両方の材料の表面に化成皮膜を形成し、2つの材料を塗布、圧着、混合等の手段や、接着剤、接着シート(フィルム)の利用あるいはこれらの手段を組合わせて接着する方法が挙げられる。
また、無機材料または樹脂材料の表面に、本発明の表面処理液を接触させて化成皮膜を形成し、形成した化成皮膜の一部または全体に金属を圧着等の手段や、接着剤、接着シート(フィルム)の利用あるいはこれらの手段を組合わせて接着する方法が挙げられる。
(Bonding method)
As a bonding method, it can carry out by a well-known method.
The surface treatment liquid of the present invention is brought into contact with the surface of the inorganic material and / or resin material to form a chemical conversion film on the surface of one or both materials, and the two materials are applied, crimped, Means such as mixing, use of an adhesive, an adhesive sheet (film) or a method of bonding by combining these means may be mentioned.
Further, the surface treatment liquid of the present invention is brought into contact with the surface of the inorganic material or resin material to form a chemical conversion film, and a metal is pressed onto part or all of the formed chemical film, an adhesive, an adhesive sheet There is a method of using (film) or combining these means and adhering.

本発明の表面処理液を用いることにより、前述のように2つの材料、特に材質の異なる2つの材料を接着させた複合材料が得られるので、そのような複合材料が具備されている各種電気部品、電子部品等の電子デバイスやプリント配線板に好適に利用することができる。   By using the surface treatment liquid of the present invention, as described above, a composite material in which two materials, in particular, two different materials are adhered to each other is obtained. Therefore, various electric components provided with such a composite material And electronic devices such as electronic components and printed wiring boards.

なお、本発明の表面処理液は、半硬化または硬化したプリプレグ、ソルダーレジスト、半硬化または硬化したドライフィルム(絶縁樹脂層)と、銅回路(銅配線層)との間の接着性(密着性)を高めることを目的とする樹脂材料の表面処理に好適であり、銅配線層に接して絶縁樹脂層を有するプリント配線板において、銅配線層と絶縁樹脂層との間の接着性を高めることができる。   The surface treatment liquid of the present invention is an adhesive property (adhesion property) between a semi-cured or cured prepreg, a solder resist, a semi-cured or cured dry film (insulating resin layer), and a copper circuit (copper wiring layer) In a printed wiring board having an insulating resin layer in contact with a copper wiring layer, the adhesion between the copper wiring layer and the insulating resin layer is preferably improved for surface treatment of a resin material for the purpose of enhancing Can.

前記のプリント配線板は、本発明の表面処理液と絶縁樹脂層の表面を接触させて、その後水洗・乾燥した後、該絶縁樹脂層と銅配線層表面を接着させることにより作製することができる。この接触の方法については、前述のとおりであり、表面処理液中への絶縁樹脂層の浸漬または該処理液による絶縁樹脂層表面へのスプレー等が簡便かつ確実であり好ましい。
また、前記の水洗の方法についても特に制限はないが、洗浄水中への絶縁樹脂層の浸漬または洗浄水による絶縁樹脂層表面へのスプレーが簡便かつ確実であり好ましい。
前記の絶縁樹脂層と銅配線層を接着させる方法には、公知の方法、例えば半硬化の樹脂材料を貼り付ける方法等を採用することができる。
多層プリント配線板を作製する場合には、絶縁樹脂層と銅配線層を接着させるプロセスを所望の回数繰り返し、上下の配線を導通させるために、ビアホールを形成させればよい。
The printed wiring board can be produced by bringing the surface treatment liquid of the present invention into contact with the surface of the insulating resin layer, and then washing with water and drying, and then bonding the insulating resin layer and the copper wiring layer surface. . The method for this contact is as described above, and immersion of the insulating resin layer in the surface treatment solution or spraying of the treatment solution onto the surface of the insulating resin layer is preferred because it is simple and reliable.
The method of washing with water is also not particularly limited, but immersion of the insulating resin layer in washing water or spraying of the washing resin with the washing water onto the surface of the insulating resin layer is preferred because it is simple and reliable.
As a method of bonding the insulating resin layer and the copper wiring layer, a known method such as a method of bonding a semi-hardened resin material can be adopted.
In the case of producing a multilayer printed wiring board, a process of bonding the insulating resin layer and the copper wiring layer may be repeated as many times as desired to form via holes in order to electrically connect the upper and lower wirings.

前記の銅配線については、無電解めっき法、電解めっき法、蒸着法、スパッタ法、ダマシン法等どのような方法で作製されたものでもよく、インナービアホール、スルーホール、接続端子等を含んだものでもよい。   The copper wiring may be manufactured by any method such as electroless plating, electrolytic plating, vapor deposition, sputtering, damascene, etc., including inner via holes, through holes, connection terminals, etc. May be.

また、本発明に使用する「銅」とは、プリント配線板、リードフレーム等の電子デバイス、装飾品、建材等に用いられる箔(電解銅箔、圧延銅箔)、めっき膜(無電解銅めっき膜、電解銅めっき膜)、線、棒、管、板等の用途・形態において用いられるものである。なお、近年の高周波の電気信号が流れる銅配線の場合には、銅の表面は平均粗さが0.1μm以下の平滑面であることが好ましい。   In addition, “copper” used in the present invention refers to foils (electrolytic copper foil, rolled copper foil) used for printed wiring boards, electronic devices such as lead frames, decorative articles, building materials, etc., plating films (electroless copper plating) Film, electrolytic copper plating film), wire, rod, tube, plate and the like. In addition, in the case of the copper wiring in which the high frequency electric signal in recent years flows, it is preferable that the surface of copper is a smooth surface whose average roughness is 0.1 micrometer or less.

(絶縁性組成物)
化学式(I)で示されるアゾールシラン化合物は、シランカップリング剤として、樹脂材料および/または無機材料と混合させることにより絶縁性組成物とすることができる。
また、前記化学式(I)で示されるアゾールシラン化合物を有機溶剤等に溶解して、樹脂材料および/または無機材料と混合することにより絶縁性組成物を得ることもできる。
(Insulating composition)
The azole silane compound represented by the chemical formula (I) can be made into an insulating composition by mixing it with a resin material and / or an inorganic material as a silane coupling agent.
Alternatively, the insulating composition can be obtained by dissolving the azole silane compound represented by the chemical formula (I) in an organic solvent or the like and mixing it with a resin material and / or an inorganic material.

絶縁性組成物中の当該アゾールシラン化合物の含有量は、0.001〜10重量%であることが好ましく、0.01〜5重量%であることがより好ましい。該アゾールシラン化合物の含有量が絶縁性組成物中0.001重量%未満である場合には、接着性の向上効果が十分ではなく、この濃度が10重量%を超える場合には、接着性の向上効果がほぼ頭打ちとなり、該アゾールシラン化合物の使用量が増えるばかりで経済的ではない。
前記絶縁性組成物は公知の方法により作製することができる。例えば、当該アゾールシラン化合物を有機溶剤に溶解させ、固形または液状の樹脂材料と混合することにより、絶縁性組成物を作製することができる。また、当該アゾールシラン化合物を液状の樹脂材料に直接添加して混合して、絶縁性組成物を作製してもよい。さらに、従来公知の無機材料を前記の成分に添加して、絶縁性組成物を作製することができる。有機溶剤としては、塗料あるいは塗料の希釈液として使用される通常の有機溶剤を使用することができる。
The content of the azole silane compound in the insulating composition is preferably 0.001 to 10% by weight, and more preferably 0.01 to 5% by weight. When the content of the azole silane compound is less than 0.001% by weight in the insulating composition, the effect of improving adhesion is not sufficient, and when the concentration exceeds 10% by weight, the adhesive property is improved. The improvement effect almost plateaus, and the amount of use of the azole silane compound is increased, which is not economical.
The insulating composition can be produced by a known method. For example, the insulating composition can be produced by dissolving the azole silane compound in an organic solvent and mixing it with a solid or liquid resin material. Alternatively, the azole silane compound may be directly added to a liquid resin material and mixed to prepare an insulating composition. Furthermore, a conventionally known inorganic material can be added to the above components to produce an insulating composition. As the organic solvent, a conventional organic solvent used as a paint or a dilution liquid of a paint can be used.

本発明の絶縁性組成物は、高い強度を有する絶縁材料を与えるので、各種電気部品、電子部品等の電子デバイスやプリント配線板等に好適に用いることができる。   Since the insulating composition of the present invention provides an insulating material having high strength, it can be suitably used for electronic devices such as various electric parts and electronic parts, printed wiring boards and the like.

以下、本発明を実施例および比較例によって具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において使用した主原料は次のとおりである。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, the main raw materials used in the Example are as follows.

[主原料]
・2,2′−ジチオビス{1−[3−(トリメトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−イミダゾール}(参考例1に合成例を示した)
・3,3′−ジチオビス{1−[3−(トリメトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−1,2,4−トリアゾール(参考例2に合成例を示した)
・3,3′−ジチオビス{5−アミノ−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−1,2,4−トリアゾール}(参考例3に合成例を示した)
・4,4′−ジチオビス{1−[3−(トリメトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−1,2,3−トリアゾール}(参考例4に合成例を示した)
・イミダゾールシラン化合物(参考例5に合成方法を示した)
・3−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業社製、品名「KBM−903」)
・エチレングリコールモノブチルエーテル(和光純薬工業社製、試薬)
・ソルダーレジスト(アクリレート・エポキシ樹脂、太陽インキ製造社製、品名「PSR−4000AUS308」)
[Main raw material]
・ 2,2'-dithiobis {1- [3- (trimethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-imidazole} (the synthesis example is shown in the reference example 1)
・ 3,3'-Dithiobis {1- [3- (trimethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-1,2,4-triazole (the synthesis example is shown in Reference Example 2)
・ 3,3'-Dithiobis {5-amino-1- [3- (trimethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-1,2,4-triazole} (the synthesis example is shown in Reference Example 3)
・ 4,4'-Dithiobis {1- [3- (trimethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-1,2,3-triazole} (The synthesis example is shown in Reference Example 4)
-Imidazole silane compound (The synthesis method was shown in the reference example 5)
3-Aminopropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name "KBM-903")
· Ethylene glycol monobutyl ether (Wako Pure Chemical Industries, reagent)
-Solder resist (acrylate epoxy resin, manufactured by Solar Ink Mfg. Co., product name "PSR-4000AUS308")

[参考例1]
<2,2′−ジチオビス{1−[3−(トリメトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−イミダゾール}の合成>
2,2′−ジチオジ(1H−イミダゾール)2.0g(10mmol)を、脱水N,N−ジメチルホルムアミド45gに加えて、室温にて撹拌して溶解し、これに3−イソシアナトプロピルトリメトキシシラン4.1g(20mmol)を滴下した。
発熱が収まった後、40℃にて6時間撹拌し、反応液を減圧濃縮し、褐色液体として、化学式(I−1)で示される標題のアゾールシラン化合物6.5g(10mmol、収率100%)を得た。
[Reference Example 1]
<Synthesis of 2,2′-Dithiobis {1- [3- (trimethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-imidazole}
2.0 g (10 mmol) of 2,2'-dithiodi (1H-imidazole) is added to 45 g of dehydrated N, N-dimethylformamide and dissolved by stirring at room temperature, in which 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane is dissolved. 4.1 g (20 mmol) was added dropwise.
After the exotherm has subsided, the reaction solution is stirred at 40 ° C. for 6 hours, concentrated under reduced pressure, and 6.5 g (10 mmol, 100% yield) of the title azolesilane compound represented by the chemical formula (I-1) as a brown liquid. Got).

Figure 0006523942
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[参考例2]
<3,3′−ジチオビス{1−[3−(トリメトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−1,2,4−トリアゾールの合成>
3,3′−ジチオジ(1H−1,2,4−トリアゾール)4.02g(20.1mmol)を、脱水N,N−ジメチルホルムアミド150gに加えて、室温にて撹拌して溶解し、これに3−イソシアナトプロピルトリメトキシシラン9.49g(46.2mmol)を滴下した。その10分後にトリエチルアミン0.92g(9.1mmol)を加え、60℃にて8時間撹拌した。
反応液を減圧濃縮し、淡黄色液体として、化学式(I−2)で示される標題のアゾールシラン化合物12.3g(20.1mmol、収率100%)を得た。
[Reference Example 2]
<Synthesis of 3,3′-dithiobis {1- [3- (trimethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-1,2,4-triazole>
4.02 g (20.1 mmol) of 3,3'-dithiodi (1H-1,2,4-triazole) is added to 150 g of dehydrated N, N-dimethylformamide and dissolved by stirring at room temperature. 9.49 g (46.2 mmol) of 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane was added dropwise. Ten minutes after that, 0.92 g (9.1 mmol) of triethylamine was added and stirred at 60 ° C. for 8 hours.
The reaction solution was concentrated under reduced pressure to obtain 12.3 g (20.1 mmol, yield 100%) of the title azole silane compound represented by the chemical formula (I-2) as a pale yellow liquid.

Figure 0006523942
Figure 0006523942

[参考例3]
<3,3′−ジチオビス{5−アミノ−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−1,2,4−トリアゾール}の合成>
3,3′−ジチオビス(5−アミノ−1H−1,2,4−トリアゾール)2.00g(8.7mmol)を脱水N,N−ジメチルホルムアミド45gに加えて、室温にて撹拌して溶解し、これに3−イソシアナトプロピルトリメトキシシラン3.56g(17.3mmol)を滴下した。その5分後にトリエチルアミン0.3g(3mmol)を加え、55℃にて5時間撹拌した。
反応液を減圧濃縮し、得られた濃縮物を脱水メタノールより2回再結晶し、減圧下に乾燥して、白色結晶として、化学式(I−3)で示される標題のアゾールシラン化合物3.65g(5.7mmol、収率65.5%)を得た。
[Reference Example 3]
Synthesis of 3,3′-Dithiobis {5-amino-1- [3- (trimethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-1,2,4-triazole}
2.00 g (8.7 mmol) of 3,3'-dithiobis (5-amino-1H-1,2,4-triazole) was added to 45 g of dehydrated N, N-dimethylformamide and dissolved at room temperature with stirring To this, 3.56 g (17.3 mmol) of 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane was added dropwise. After 5 minutes, 0.3 g (3 mmol) of triethylamine was added, and the mixture was stirred at 55 ° C. for 5 hours.
The reaction solution is concentrated under reduced pressure, and the obtained concentrate is recrystallized twice from dehydrated methanol and dried under reduced pressure to give 3.65 g of the title azole silane compound represented by the chemical formula (I-3) as white crystals. (5.7 mmol, 65.5% yield) was obtained.

Figure 0006523942
Figure 0006523942

[参考例4]
<4,4′−ジチオビス{1−[3−(トリメトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−1,2,3−トリアゾール}の合成>
4,4′−ジチオジ(1H−1,2,3−トリアゾール)8.67g(43.3mmol)を、脱水N,N−ジメチルホルムアミド50gに加えて、室温にて撹拌して溶解し、これに、3−イソシアナトプロピルトリメトキシシラン18.7g(91.1mmol)を滴下し、その20分後にトリエチルアミン1.84g(18.2mmol)を加え、室温下、15時間撹拌した。
反応液を減圧濃縮した後、液状の濃縮物をヘキサン130mLで洗浄し、減圧下に乾燥して、褐色液体として、化学式(I−4)で示される標題のアゾールシラン化合物26.0g(42.6mmol、収率98.3%)を得た。
[Reference Example 4]
Synthesis of 4,4′-Dithiobis {1- [3- (trimethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-1,2,3-triazole}
8.67 g (43.3 mmol) of 4,4'-dithiodi (1H-1,2,3-triazole) is added to 50 g of dehydrated N, N-dimethylformamide and dissolved by stirring at room temperature. Then, 18.7 g (91.1 mmol) of 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane was added dropwise, and after 20 minutes, 1.84 g (18.2 mmol) of triethylamine was added, followed by stirring at room temperature for 15 hours.
The reaction mixture is concentrated under reduced pressure, and the liquid concentrate is washed with 130 mL of hexane and dried under reduced pressure to give 26.0 g of the title azole silane compound represented by the chemical formula (I-4) as a brown liquid (42. 6 mmol, yield 98.3%).

Figure 0006523942
Figure 0006523942

[参考例5]
<イミダゾールシラン化合物の合成>
イミダゾール3.4g(0.05mol)を95℃で融解し、アルゴン雰囲気下で撹拌しながら、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン11.8g(0.05mol)を30分間かけて滴下した。滴下終了後、さらに95℃の温度で1時間反応させた。
反応生成物は透明な橙色の粘稠な液体として得られた(特開平5−186479号公報から引用)。
注:特開平5−186479号公報によると、反応生成物は、化学式(IV−1)〜(IV−3)で示されるイミダゾールシラン化合物の混合物とされている。
[Reference Example 5]
<Synthesis of imidazole silane compound>
3.4 g (0.05 mol) of imidazole was melted at 95 ° C., and 11.8 g (0.05 mol) of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane was added dropwise over 30 minutes while stirring under an argon atmosphere. After completion of the dropwise addition, the mixture was further reacted at a temperature of 95 ° C. for 1 hour.
The reaction product was obtained as a clear orange viscous liquid (cited from JP-A-5-186479).
Note: According to JP-A-5-186479, the reaction product is a mixture of imidazole silane compounds represented by chemical formulas (IV-1) to (IV-3).

Figure 0006523942
Figure 0006523942

<接着性の評価試験>
以下の実施例および比較例において行った樹脂材料と金属の接着性の評価試験(a)〜(c)は、以下のとおりである。
<Evaluation test of adhesion>
The evaluation tests (a) to (c) of the adhesion between the resin material and the metal performed in the following examples and comparative examples are as follows.

[接着性の評価試験(a)]
(1)樹脂材料
樹脂材料として、ガラス布エポキシ樹脂含浸プリプレグ(FR−4グレード)を用いた。
(2)樹脂材料の処理
樹脂材料の表面に、表面処理液をスプレー方式による処理を行った。
(3)プリント配線板の作製
処理した樹脂材料に、電解銅箔(厚み:35μm)S面を積層プレスし、樹脂材料と銅を接着してプリント配線板を作製した。
(4)接着性の評価
このプリント配線板から、「JIS C6481(1996)」に従って、幅10mmの試験片を作製し、銅箔の引き剥がし強さを測定した。
[Evaluation test of adhesion (a)]
(1) Resin Material A glass cloth epoxy resin impregnated prepreg (FR-4 grade) was used as the resin material.
(2) Treatment of resin material The surface treatment liquid was treated by a spray method on the surface of the resin material.
(3) Preparation of Printed Wiring Board The treated resin material was laminated and pressed on the S surface of an electrolytic copper foil (thickness: 35 μm), and the resin material and copper were adhered to produce a printed wiring board.
(4) Evaluation of adhesiveness From this printed wiring board, according to "JIS C 6481 (1996)", the test piece of width 10 mm was produced and the tearing-off strength of copper foil was measured.

[接着性の評価試験(b)]
(1)無機材料の処理
表面処理液100重量部に対して硫酸バリウムを10重量部添加して5分間撹拌した。続いて、シランカップリング剤が担持された硫酸バリウムを濾過し、100℃のオーブンで1時間乾燥した。
(2)樹脂組成物の調製
硬化前のソルダーレジスト100重量部に対して、シランカップリング剤が担持された硫酸バリウムを1重量部添加し、30分間撹拌を行い、樹脂組成物を調製した。
(3)プリント配線板の作製
得られた樹脂組成物を、電解銅箔(厚み:35μm)のS面上に塗布した後、150℃のオーブンで60分間加熱して、この樹脂組成物の硬化物(樹脂材料)と銅箔が接着したプリント配線板を作製した。
(4)接着性の評価
このプリント配線板から、「JIS C6481(1996)」に従って、幅10mmの試験片を作製し、銅箔の引き剥がし強さを測定した。
[Evaluation test of adhesion (b)]
(1) Treatment of Inorganic Material 10 parts by weight of barium sulfate was added to 100 parts by weight of the surface treatment solution and stirred for 5 minutes. Subsequently, the barium sulfate supporting a silane coupling agent was filtered and dried in an oven at 100 ° C. for 1 hour.
(2) Preparation of resin composition 1 part by weight of barium sulfate carrying a silane coupling agent was added to 100 parts by weight of the solder resist before curing, and the mixture was stirred for 30 minutes to prepare a resin composition.
(3) Preparation of printed wiring board After apply | coating the obtained resin composition on S surface of an electrolytic copper foil (thickness: 35 micrometers), 60 minutes of heating in a 150 degreeC oven are carried out, and hardening of this resin composition is carried out. A printed wiring board in which an object (resin material) and a copper foil were bonded was produced.
(4) Evaluation of adhesiveness From this printed wiring board, according to "JIS C 6481 (1996)", the test piece of width 10 mm was produced and the tearing-off strength of copper foil was measured.

[接着性の評価試験(c)]
(1)絶縁性組成物の調製
硬化前のソルダーレジスト100重量部に対して、後述の加水分解物1重量部を添加し、30分間撹拌を行い、絶縁性組成物を調製した。
(2)プリント配線板の作製
得られた絶縁性組成物を、電解銅箔(厚み:35μm)のS面上に塗布した後、乾燥(80℃/30分)、ポストキュア(150℃/60分)を行って、この絶縁性組成物の硬化物(樹脂材料)と銅箔が接着したプリント配線板を作製した。
(3)接着性の評価
このプリント配線板から、「JIS C6481(1996)」に従って、幅10mmの試験片を作製し、銅箔の引き剥がし強さを測定した。
[Evaluation test of adhesion (c)]
(1) Preparation of Insulating Composition 1 part by weight of a hydrolyzate described later was added to 100 parts by weight of a solder resist before curing, and the mixture was stirred for 30 minutes to prepare an insulating composition.
(2) Preparation of Printed Wiring Board The obtained insulating composition is applied onto the S surface of an electrolytic copper foil (thickness: 35 μm) and then dried (80 ° C./30 minutes), post cure (150 ° C./60 minutes) A part was carried out to prepare a printed wiring board in which a cured product (resin material) of the insulating composition and a copper foil were adhered.
(3) Evaluation of adhesiveness From this printed wiring board, according to "JIS C 6481 (1996)", the test piece of width 10 mm was produced, and the tearing-off strength of copper foil was measured.

[実施例1]
2,2′−ジチオビス{1−[3−(トリメトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−イミダゾール}10gに、エチレングリコールモノブチルエーテル200gを加え、続いて水790gを加えて、室温にて2時間撹拌し、表面処理液(以下、処理液Aという)を調製した。
この処理液Aについて、当該アゾールシラン化合物のメトキシシリル基が、ヒドロキシシリル基に加水分解されていることを確認し、接着性の評価試験(a)および(b)を行った。
続いて、処理液A中の揮発分を減圧下にて除去して、アゾールシラン化合物の加水分解物を得た。得られた加水分解物について、接着性の評価試験(c)を行った。
得られた試験結果は、表1に示したとおりであった。
Example 1
To 10 g of 2,2'-dithiobis {1- [3- (trimethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-imidazole}, 200 g of ethylene glycol monobutyl ether is added, followed by 790 g of water, and stirred at room temperature for 2 hours The surface treatment solution (hereinafter referred to as treatment solution A) was prepared.
With respect to this treatment liquid A, it was confirmed that the methoxysilyl group of the azole silane compound was hydrolyzed to a hydroxysilyl group, and adhesion evaluation tests (a) and (b) were conducted.
Subsequently, the volatile matter in the treatment liquid A was removed under reduced pressure to obtain a hydrolyzate of the azole silane compound. The evaluation test (c) of adhesiveness was done about the obtained hydrolyzate.
The test results obtained were as shown in Table 1.

[実施例2]
『2,2′−ジチオビス{1−[3−(トリメトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−イミダゾール}』の代わりに、『3,3′−ジチオビス{1−[3−(トリメトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−1,2,4−トリアゾール}』を用いた以外は、実施例1と同様にして表面処理液(以下、処理液Bという)を調製した。
この処理液Bについて、当該アゾールシラン化合物のメトキシシリル基が、ヒドロキシシリル基に加水分解されていることを確認し、接着性の評価試験(a)および(b)を行った。
続いて、処理液B中の揮発分を減圧下にて除去して、アゾールシラン化合物の加水分解物を得た。得られた加水分解物について、接着性の評価試験(c)を行った。
得られた試験結果は、表1に示したとおりであった。
Example 2
Instead of “2,2′-dithiobis {1- [3- (trimethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-imidazole}”, “3,3′-dithiobis {1- [3- (trimethoxysilyl) propyl] A surface treatment solution (hereinafter referred to as treatment solution B) was prepared in the same manner as in Example 1 except that carbamoyl] -1H-1,2,4-triazole was used.
With regard to this treatment liquid B, it was confirmed that the methoxysilyl group of the azole silane compound was hydrolyzed to a hydroxysilyl group, and adhesion evaluation tests (a) and (b) were performed.
Subsequently, the volatile matter in the treatment liquid B was removed under reduced pressure to obtain a hydrolyzate of the azole silane compound. The evaluation test (c) of adhesiveness was done about the obtained hydrolyzate.
The test results obtained were as shown in Table 1.

[実施例3]
『2,2′−ジチオビス{1−[3−(トリメトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−イミダゾール}』の代わりに、『3,3′−ジチオビス{5−アミノ−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−1,2,4−トリアゾール}』を用いた以外は、実施例1と同様にして表面処理液(以下、処理液Cという)を調製した。
この処理液Cについて、当該アゾールシラン化合物のメトキシシリル基が、ヒドロキシシリル基に加水分解されていることを確認し、接着性の評価試験(a)および(b)を行った。
続いて、処理液C中の揮発分を減圧下にて除去して、アゾールシラン化合物の加水分解物を得た。得られた加水分解物について、接着性の評価試験(c)を行った。
得られた試験結果は、表1に示したとおりであった。
[Example 3]
Instead of “2,2′-dithiobis {1- [3- (trimethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-imidazole}”, “3,3′-dithiobis {5-amino-1- [3- (tri) A surface treatment solution (hereinafter referred to as treatment solution C) was prepared in the same manner as in Example 1 except that methoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-1,2,4-triazole} was used.
With regard to this treatment liquid C, it was confirmed that the methoxysilyl group of the azole silane compound was hydrolyzed to a hydroxysilyl group, and adhesion evaluation tests (a) and (b) were performed.
Subsequently, the volatile matter in the treatment liquid C was removed under reduced pressure to obtain a hydrolyzate of the azole silane compound. The evaluation test (c) of adhesiveness was done about the obtained hydrolyzate.
The test results obtained were as shown in Table 1.

[実施例4]
『2,2′−ジチオビス{1−[3−(トリメトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−イミダゾール}』の代わりに、『4,4′−ジチオビス{1−[3−(トリメトキシシリル)プロピルカルバモイル]−1H−1,2,3−トリアゾール}』を用いた以外は、実施例1と同様にして表面処理液(以下、処理液Dという)を調製した。
この処理液Dについて、当該アゾールシラン化合物のメトキシシリル基が、ヒドロキシシリル基に加水分解されていることを確認し、接着性の評価試験(a)および(b)を行った。
続いて、処理液D中の揮発分を減圧下にて除去して、アゾールシラン化合物の加水分解物を得た。得られた加水分解物について、接着性の評価試験(c)を行った。
得られた試験結果は、表1に示したとおりであった。
Example 4
Instead of “2,2′-dithiobis {1- [3- (trimethoxysilyl) propylcarbamoyl] -1H-imidazole}”, “4,4′-dithiobis {1- [3- (trimethoxysilyl) propyl] A surface treatment solution (hereinafter referred to as treatment solution D) was prepared in the same manner as in Example 1 except that carbamoyl] -1H-1,2,3-triazole was used.
With respect to this treatment liquid D, it was confirmed that the methoxysilyl group of the azole silane compound was hydrolyzed to a hydroxysilyl group, and adhesion evaluation tests (a) and (b) were performed.
Subsequently, the volatile components in the treatment liquid D were removed under reduced pressure to obtain a hydrolyzate of the azole silane compound. The evaluation test (c) of adhesiveness was done about the obtained hydrolyzate.
The test results obtained were as shown in Table 1.

[比較例1]
『3−[3−(トリメトキシシリル)プロピルチオ]−1,2,4−トリアゾール』の代わりに、『イミダゾールシラン化合物』を用いた以外は、実施例1と同様にして表面処理液(以下、処理液Eという)を調製した。
この処理液Eについて、当該イミダゾールシラン化合物のメトキシシリル基が、ヒドロキシシリル基に加水分解されていることを確認し、接着性の評価試験(a)および(b)を行った。
続いて、処理液E中の揮発分を減圧下にて除去して、イミダゾールシラン化合物の加水分解物を得た。得られた加水分解物について、接着性の評価試験(c)を行った。
得られた試験結果は、表1に示したとおりであった。
Comparative Example 1
A surface treatment liquid (hereinafter referred to as “Example 1”) was used in the same manner as in Example 1 except that “imidazole silane compound” was used instead of “3- [3- (trimethoxysilyl) propylthio] -1,2,4-triazole”. A treatment solution E) was prepared.
With respect to this treatment liquid E, it was confirmed that the methoxysilyl group of the imidazole silane compound was hydrolyzed to a hydroxysilyl group, and adhesion evaluation tests (a) and (b) were performed.
Subsequently, the volatile matter in the treatment liquid E was removed under reduced pressure to obtain a hydrolyzate of the imidazole silane compound. The evaluation test (c) of adhesiveness was done about the obtained hydrolyzate.
The test results obtained were as shown in Table 1.

[比較例2]
『3−[3−(トリメトキシシリル)プロピルチオ]−1,2,4−トリアゾール』の代わりに、『3−アミノプロピルトリメトキシシラン』を用いた以外は、実施例1と同様にして表面処理液(以下、処理液Fという)を調製した。
この処理液Fについて、3−アミノプロピルトリメトキシシランのメトキシシリル基が、ヒドロキシシリル基に加水分解されていることを確認し、接着性の評価試験(a)および(b)を行った。
続いて、処理液F中の揮発分を減圧下にて除去して、3−アミノプロピルトリメトキシシランの加水分解物を得た。得られた加水分解物について、接着性の評価試験(c)を行った。
得られた試験結果は、表1に示したとおりであった。
Comparative Example 2
Surface treatment in the same manner as in Example 1 except that “3-aminopropyltrimethoxysilane” was used instead of “3- [3- (trimethoxysilyl) propylthio] -1,2,4-triazole” A solution (hereinafter referred to as treatment solution F) was prepared.
About this processing liquid F, it was confirmed that the methoxy silyl group of 3-aminopropyl trimethoxysilane was hydrolyzed to a hydroxy silyl group, and evaluation test (a) and (b) of adhesiveness was done.
Subsequently, the volatiles in the treatment solution F were removed under reduced pressure to obtain a hydrolyzate of 3-aminopropyltrimethoxysilane. The evaluation test (c) of adhesiveness was done about the obtained hydrolyzate.
The test results obtained were as shown in Table 1.

[比較例3]
シランカップリング剤を用いることなく、エチレングリコールモノブチルエーテル200gと水790gを混合し、室温にて2時間撹拌して、表面処理液(以下、処理液Gという)を調製した。
この処理液Gについて、接着性の評価試験(a)および(b)を行ったところ、得られた試験結果は、表1に示したとおりであった。
また、接着性の評価試験(c)については、ソルダーレジストに何も加えずに実施した。得られた試験結果は、表1に示したとおりであった。
Comparative Example 3
Without using a silane coupling agent, 200 g of ethylene glycol monobutyl ether and 790 g of water were mixed and stirred at room temperature for 2 hours to prepare a surface treatment solution (hereinafter referred to as treatment solution G).
About this processing liquid G, when the evaluation test (a) and (b) of adhesiveness was done, the obtained test result was as having shown in Table 1.
Moreover, about the evaluation test (c) of adhesiveness, it implemented without adding anything to a solder resist. The test results obtained were as shown in Table 1.

Figure 0006523942
Figure 0006523942

本発明によれば、金属、無機材料および樹脂材料の接着性(密着性)を十分に確保できるので、基材の表面を粗化することなく、平滑な状態に保持することができる。従って、本発明は、多層プリント配線板の小型化、薄型化、高周波化、高密度化等の実現に大いに貢献し得るものであるから、産業上の利用可能性は多大である。
According to the present invention, the adhesiveness (adhesion) of the metal, the inorganic material and the resin material can be sufficiently secured, so that the surface of the substrate can be kept in a smooth state without being roughened. Therefore, since the present invention can greatly contribute to the realization of the miniaturization, thinning, high frequency, high densification and the like of the multilayer printed wiring board, industrial applicability is great.

Claims (15)

化学式(I)で示されるアゾールシラン化合物を含有する無機材料または樹脂材料の表面処理液。
Figure 0006523942
The surface treatment liquid of the inorganic material or resin material containing the azole silane compound shown by Chemical formula (I).
Figure 0006523942
請求項1に記載の表面処理液を無機材料に接触させる無機材料の表面処理方法。 The surface treatment method of the inorganic material which makes the surface treatment liquid of Claim 1 contact an inorganic material. 無機材料が、シリコン、セラミック、ガラスまたは無機塩である請求項に記載の無機材料の表面処理方法。 The surface treatment method of an inorganic material according to claim 2 , wherein the inorganic material is silicon, ceramic, glass or an inorganic salt. セラミックが、アルミナ、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素またはチタン酸バリウムである請求項に記載の無機材料の表面処理方法。 The surface treatment method of an inorganic material according to claim 3 , wherein the ceramic is alumina, silicon carbide, aluminum nitride, silicon nitride or barium titanate. 請求項1に記載の表面処理液を樹脂材料に接触させる樹脂材料の表面処理方法。 A surface treatment method of a resin material, wherein the surface treatment liquid according to claim 1 is brought into contact with the resin material. 樹脂材料が、アクリレート樹脂、エポキシ樹脂またはポリイミド樹脂である請求項に記載の樹脂材料の表面処理方法。 The surface treatment method of a resin material according to claim 5 , wherein the resin material is an acrylate resin, an epoxy resin or a polyimide resin. 金属と樹脂材料の接着方法であって、
請求項1に記載の表面処理液を、樹脂材料に接触させて当該樹脂材料に化成皮膜を形成し、金属と樹脂材料とを化成皮膜を介して接着する金属と樹脂材料の接着方法。
A method of bonding metal and resin material,
A method of bonding metal and resin material, wherein the surface treatment liquid according to claim 1 is brought into contact with the resin material to form a chemical conversion film on the resin material, and bonding the metal and the resin material through the chemical conversion film.
請求項1に記載の表面処理液により樹脂材料の表面に形成された化成皮膜を介して、金属と樹脂材料を接着した複合材料を具備する電子デバイス。 An electronic device comprising a composite material in which a metal and a resin material are adhered to each other via a chemical conversion film formed on the surface of the resin material by the surface treatment liquid according to claim 1 . 請求項1に記載の表面処理液により樹脂材料の表面に形成された化成皮膜を介して、金属と樹脂材料を接着した複合材料を具備するプリント配線板。 A printed wiring board comprising a composite material in which a metal and a resin material are adhered to each other via a chemical conversion film formed on the surface of the resin material by the surface treatment liquid according to claim 1 . 学式(I)で示されるアゾールシラン化合物と、樹脂材料および/または無機材料とを含有する絶縁性組成物。
Figure 0006523942
Structural Formula azole silane compound represented by (I), a resin material and / or inorganic material and an insulating composition containing.
Figure 0006523942
樹脂材料が、アクリレート樹脂、エポキシ樹脂またはポリイミド樹脂である請求項10に記載の絶縁性組成物。 The insulating composition according to claim 10 , wherein the resin material is an acrylate resin, an epoxy resin or a polyimide resin. 無機材料が、シリコン、セラミック、ガラスまたは無機塩である請求項10または請求項11に記載の絶縁性組成物。 The insulating composition according to claim 10 or 11 , wherein the inorganic material is silicon, ceramic, glass or an inorganic salt. 請求項10〜請求項12のいずれか一項に記載の絶縁性組成物を成分とする絶縁材料。 An insulating material comprising the insulating composition according to any one of claims 10 to 12 as a component. 請求項10〜請求項12のいずれか一項に記載の絶縁性組成物から得られる絶縁層を有する電子デバイス。 An electronic device having an insulating layer obtained from the insulating composition according to any one of claims 10 to 12 . 請求項10〜請求項12のいずれか一項に記載の絶縁性組成物から得られる絶縁層を有するプリント配線板。
A printed wiring board having an insulating layer obtained from the insulating composition according to any one of claims 10 to 12 .
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