JP6520343B2 - Electrode sheet and method of manufacturing electrode sheet - Google Patents

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本発明は、接続対象と、接続対象と電気的に接続される回路基板との間に配設されて、接続対象の端子と回路基板の端子とを電気的に接続するための電極シートおよび電極シートの製造方法に係り、とりわけ、導電性を向上させて電気的接続の信頼性を向上させることができると共に電極の脱落を防止することができる電極シートおよび電極シートの製造方法に関する。   The present invention is an electrode sheet and an electrode disposed between an object to be connected and a circuit board electrically connected to the object to be connected, for electrically connecting a terminal to be connected and a terminal of the circuit board. The present invention relates to a method of manufacturing a sheet, and more particularly, to an electrode sheet and a method of manufacturing an electrode sheet that can improve conductivity and improve the reliability of electrical connection and can prevent the electrode from falling off.

従来より、半導体などの電子デバイスの電気特性検査は、電子デバイスを検査用回路基板に接続して行われている。一般に、電子デバイスは複数の端子を有しており、これに対応させるために、検査用回路基板も複数の端子を有している。電気特性検査時には、電子デバイスを検査用回路基板に押圧させて、対応する端子同士を電気的に接続させている。   2. Description of the Related Art Conventionally, the electrical property inspection of an electronic device such as a semiconductor is performed by connecting the electronic device to a circuit board for inspection. In general, an electronic device has a plurality of terminals, and in order to correspond thereto, a test circuit board also has a plurality of terminals. At the time of the electrical characteristic inspection, the electronic device is pressed against the inspection circuit board to electrically connect corresponding terminals.

特許文献1には、対応する端子同士をより確実に電気的に接続させるために、電子デバイスと検査用回路基板との間に介在させて用いられるコンタクトシートが開示されている。このコンタクトシートにおいては、シート状の絶縁性の基材を貫通する導通部が設けられ、電気特性検査時には、この導通部が、電子デバイスの端子と検査用回路基板の端子とを電気的に接続している。導通部は、基材にレーザ加工によって形成された孔に、シリコーンゴムをベースとした銀ペーストを充填して硬化させることによって形成されており、導通部に、導電性だけでなく、ゴム弾性を持たせている。このことにより、各端子の位置誤差(凹凸)等を吸収して、電子デバイスの各端子と、対応する検査用回路基板の端子との電気的接続の信頼性向上を図っている。   Patent Document 1 discloses a contact sheet which is used by being interposed between an electronic device and a circuit board for inspection in order to electrically connect corresponding terminals more reliably. The contact sheet is provided with a conductive portion penetrating the sheet-like insulating base material, and the conductive portion electrically connects the terminal of the electronic device and the terminal of the test circuit board at the time of the electrical property inspection. doing. The conductive portion is formed by filling a silver paste based on silicone rubber in a hole formed by laser processing in the base material and curing it, and the conductive portion not only has conductivity but also rubber elasticity. I have it. As a result, positional errors (concave and convex) and the like of the terminals are absorbed to improve the reliability of the electrical connection between the terminals of the electronic device and the terminals of the corresponding test circuit board.

特開2003-255016号公報Japanese Patent Application Publication No. 2003-255016

しかしながら、特許文献1に示す導通部は、上述したようにゴム弾性を持たせるために銀ペーストにより形成されている。このため、導通部の導電性が低下し、電気特性検査の信頼性が低下するおそれがある。   However, the conductive portion shown in Patent Document 1 is formed of silver paste in order to impart rubber elasticity as described above. For this reason, the conductivity of the conductive portion may be reduced, and the reliability of the electrical property inspection may be reduced.

また、特許文献1に示す導通部は、コンタクトシートの法線方向に直線状に形成されている。このことにより、この法線方向に沿う押圧力に抗して導通部と基材との接合を維持することが困難になり得る。このため、このような押圧力が付与された場合、導通部が基材から脱落する可能性が生じる。とりわけ、コンタクトシートは電子デバイスの電気特性検査に繰り返し使用されるため、繰り返しの使用によって導通部が脱落しやすくなると考えられる。   Moreover, the conduction | electrical_connection part shown to patent document 1 is formed in linear form in the normal line direction of a contact sheet | seat. This may make it difficult to maintain the connection between the conductive portion and the base against the pressing force along the normal direction. For this reason, when such a pressing force is applied, there is a possibility that the conductive portion may come off the base material. In particular, since the contact sheet is repeatedly used for the electrical property inspection of the electronic device, it is considered that the conductive part is likely to be detached by the repeated use.

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、導電性を向上させて電気的接続の信頼性を向上させることができると共に電極の脱落を防止することができる電極シートおよび電極シートの製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of these points, and can improve the conductivity to improve the reliability of the electrical connection, and can prevent the electrode from falling off. It aims at providing a manufacturing method of a sheet.

本発明は、接続対象と、前記接続対象と電気的に接続される回路基板との間に配設されて、前記接続対象の端子と前記回路基板の端子とを電気的に接続するための電極シートであって、互いに離間した、金属材料により形成された複数の電極と、複数の前記電極を連結する絶縁層と、を備え、前記電極は、第1接続面と、前記第1接続面とは反対側に設けられた第2接続面と、前記第1接続面と前記第2接続面との間に設けられ、前記電極シートの法線方向に対して直交する方向に向って突出する突出部と、を有し、前記絶縁層は、前記電極の前記突出部に接合されていることを特徴とする電極シートを提供する。   The present invention is an electrode disposed between a connection target and a circuit board electrically connected to the connection target, for electrically connecting the terminal to be connected and the terminal of the circuit board. A sheet, comprising: a plurality of electrodes separated from one another and formed of a metal material; and an insulating layer connecting the plurality of electrodes, the electrodes having a first connection surface, and the first connection surface Is provided between the second connection surface provided on the opposite side, and between the first connection surface and the second connection surface, and protrudes in the direction orthogonal to the normal direction of the electrode sheet A portion, and the insulating layer is bonded to the protruding portion of the electrode.

なお、上述した電極シートにおいて、前記電極の前記突出部は、前記第1接続面の側に設けられた、前記法線方向において前記第2接続面の側に向って凸となる曲面の一部をなす第1画定面と、前記第2接続面の側に設けられた、前記法線方向において前記第1接続面の側に向って凸となる曲面の一部をなす第2画定面と、によって画定されている、ようにしてもよい。   In the electrode sheet described above, the protruding portion of the electrode is a part of a curved surface provided on the side of the first connection surface, which is convex toward the second connection surface in the normal direction. A second defining surface provided on the side of the second connecting surface and forming a part of a curved surface that is convex toward the first connecting surface in the normal direction; It may be defined by.

また、上述した電極シートにおいて、前記絶縁層は、前記突出部の前記第1画定面に接合されている、ようにしてもよい。   In the electrode sheet described above, the insulating layer may be bonded to the first defining surface of the protrusion.

また、上述した電極シートにおいて、前記突出部の前記第2画定面に接合され、複数の前記電極を連結する第2の絶縁層を更に備える、ようにしてもよい。   In the electrode sheet described above, the electrode sheet may further include a second insulating layer joined to the second defining surface of the protrusion and connecting a plurality of the electrodes.

また、上述した電極シートにおいて、前記電極の前記第1接続面上および前記第2接続面上に、めっき層が設けられている、ようにしてもよい。   In the electrode sheet described above, a plating layer may be provided on the first connection surface and the second connection surface of the electrode.

また、上述した電極シートにおいて、前記電極の前記第1接続面は、前記絶縁層よりも、前記第2接続面の側とは反対側に突出して配置されている、ようにしてもよい。   Further, in the electrode sheet described above, the first connection surface of the electrode may be disposed so as to protrude to the side opposite to the second connection surface with respect to the insulating layer.

また、上述した電極シートにおいて、複数の前記電極のうちの一部の前記電極であって、互いに隣り合う前記電極の前記第2接続面が一体化されている、ようにしてもよい。   Further, in the above-described electrode sheet, the second connection surfaces of the adjacent electrodes may be integrated as part of the plurality of electrodes.

また、上述した電極シートにおいて、前記電極の位置を、前記法線方向に対して直交する方向において規制する規制板を更に備える、ようにしてもよい。   In the electrode sheet described above, the electrode sheet may further include a restricting plate that restricts the position of the electrode in a direction orthogonal to the normal direction.

また、本発明は、接続対象と、前記接続対象と電気的に接続される回路基板との間に配設されて、前記接続対象の端子と前記回路基板の端子とを電気的に接続するための電極シートの製造方法であって、第1面と、前記第1面とは反対側に設けられた第2面と、を有する金属基材を準備する工程と、前記金属基材を前記第1面の側からエッチングして、当該第1面の側に、第1凹部を形成する工程と、前記第1凹部の壁面上に絶縁層を形成する工程と、前記絶縁層を形成する工程の後、前記金属基材を前記第2面の側からエッチングして、当該第2面の側に、前記第1凹部に接続される第2凹部を形成し、これにより互いに離間すると共に前記絶縁層によって連結された複数の電極を形成する工程と、を備え、前記電極を形成する工程において形成された前記電極は、第1接続面と、前記第1接続面とは反対側に設けられた第2接続面と、前記第1接続面と前記第2接続面との間に設けられ、前記電極シートの法線方向に対して直交する方向に向って突出する突出部と、を有し、前記絶縁層は、前記電極の前記突出部に接合されることを特徴とする電極シートの製造方法を提供する。   Further, according to the present invention, the connection target is disposed between the connection target and the circuit board electrically connected to the connection target, and the terminal of the connection target is electrically connected to the terminal of the circuit board. A method of producing an electrode sheet, comprising: preparing a metal substrate having a first surface and a second surface provided on the opposite side to the first surface; In the steps of forming a first recess on the first surface side by etching from the side of the first surface, forming an insulating layer on the wall surface of the first recess, and forming the insulating layer Thereafter, the metal base is etched from the side of the second surface to form a second recess connected to the first recess on the side of the second surface, thereby separating the two from each other and the insulating layer Forming a plurality of electrodes connected by The formed electrode is provided between a first connection surface, a second connection surface provided on the side opposite to the first connection surface, and the first connection surface and the second connection surface. And a protrusion projecting in a direction orthogonal to a normal direction of the electrode sheet, wherein the insulating layer is bonded to the protrusion of the electrode. Provide a way.

なお、上述した電極シートの製造方法において、前記第1凹部を形成する工程において形成される前記第1凹部の壁面は、前記法線方向において前記金属基材の前記第2面の側に向って凸となる曲面状に形成され、前記電極を形成する工程において形成される前記第2凹部の壁面は、前記法線方向において前記金属基材の前記第1面の側に向って凸となる曲面状に形成され、前記電極の前記突出部は、前記第1凹部の壁面の一部をなす第1画定面と、前記第2凹部の一部をなす第2画定面と、によって画定されている、ようにしてもよい。   In the method of manufacturing the electrode sheet described above, the wall surface of the first recess formed in the step of forming the first recess is directed toward the second surface of the metal base in the normal direction. The wall surface of the second recess formed in the step of forming the electrode, which is formed in a convex curved surface shape, is a curved surface which is convex toward the first surface of the metal base in the normal direction. , And the protrusion of the electrode is defined by a first defining surface forming a part of a wall surface of the first recess and a second defining surface forming a part of the second recess You may do so.

また、上述した電極シートの製造方法において、前記電極を形成する工程の後、前記突出部の前記第2画定面に接合され、複数の前記電極を連結する第2の絶縁層を形成する工程を更に備える、ようにしてもよい。   In the method of manufacturing an electrode sheet described above, after the step of forming the electrode, a step of forming a second insulating layer which is joined to the second defined surface of the protrusion and connects a plurality of the electrodes. It may further be provided.

また、上述した電極シートの製造方法において、前記第1凹部を形成する工程の後、前記絶縁層を形成する工程の前に、前記金属基材を前記第2面の側からエッチングして、当該第2面の側に、前記第1凹部に接続されない仮第2凹部を形成する工程を更に備え、前記電極を形成する工程において、前記仮第2凹部がエッチングされて前記第2凹部が形成される、ようにしてもよい。   Further, in the method of manufacturing an electrode sheet described above, after the step of forming the first concave portion, before the step of forming the insulating layer, the metal base is etched from the side of the second surface, The method further includes the step of forming a temporary second recess not connected to the first recess on the side of the second surface, and in the step of forming the electrode, the temporary second recess is etched to form the second recess It may be possible to

また、上述した電極シートの製造方法において、前記電極を形成する工程において、前記仮第2凹部と共に前記金属基材の前記第2面がエッチングされる、ようにしてもよい。   In the method of manufacturing an electrode sheet described above, in the step of forming the electrode, the second surface of the metal base may be etched together with the temporary second recess.

また、上述した電極シートの製造方法において、前記電極を形成する工程の後、前記電極の前記第1接続面上および前記第2接続面上に、めっき層を形成する工程を更に備える、ようにしてもよい。   In the method of manufacturing an electrode sheet described above, after the step of forming the electrode, the method further includes the step of forming a plating layer on the first connection surface and the second connection surface of the electrode. May be

また、上述した電極シートの製造方法において、前記絶縁層を形成する工程において、前記金属基材の前記第1面および前記第1凹部の壁面上に液状の絶縁材料が塗布されることにより前記絶縁層が形成され、前記絶縁層を形成する工程の後、前記絶縁層のうち前記電極の前記第1接続面に対応する部分は除去される、ようにしてもよい。   Further, in the method of manufacturing the electrode sheet described above, in the step of forming the insulating layer, the insulating material is applied by applying a liquid insulating material on the first surface of the metal base and the wall surface of the first recess. A layer may be formed, and after the step of forming the insulating layer, a portion of the insulating layer corresponding to the first connection surface of the electrode may be removed.

また、上述した電極シートの製造方法において、前記電極を形成する工程において、複数の前記電極のうちの一部の前記電極であって、互いに隣り合う前記電極の前記第2接続面が一体化される、ようにしてもよい。   In the method of manufacturing an electrode sheet described above, in the step of forming the electrodes, the second connection surfaces of the electrodes which are a part of the plurality of electrodes and are adjacent to each other are integrated. It may be possible to

本発明によれば、導電性を向上させて電気的接続の信頼性を向上させることができると共に電極の脱落を防止することができる。   According to the present invention, the conductivity can be improved to improve the reliability of the electrical connection, and the electrode can be prevented from coming off.

図1は、本発明の実施の形態における電子デバイスの電気特性を検査するための検査装置を示す概略図である。FIG. 1 is a schematic view showing an inspection apparatus for inspecting the electrical characteristics of an electronic device according to an embodiment of the present invention. 図2は、本発明の実施の形態におけるコンタクトシートを示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing the contact sheet in the embodiment of the present invention. 図3は、図2のA−A線断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 図4は、図2のB−B線断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line B-B of FIG. 図5は、図2のC−C線断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line C-C of FIG. 図6は、図2のコンタクトシートの製造方法の一例を説明するための図であって、金属基材を準備する工程を説明するための図である。FIG. 6 is a view for explaining an example of a method of manufacturing the contact sheet of FIG. 2 and a view for explaining a step of preparing a metal base. 図7は、図2のコンタクトシートの製造方法の一例を説明するための図であって、金属基材にレジスト層が形成される工程を説明するための図である。FIG. 7 is a view for explaining an example of a method of manufacturing the contact sheet of FIG. 2 and a view for explaining a step of forming a resist layer on a metal base. 図8は、図2のコンタクトシートの製造方法の一例を説明するための図であって、金属基材が第1面の側からエッチングされる工程を説明するための図である。FIG. 8 is a view for explaining an example of a method of manufacturing the contact sheet of FIG. 2 and a view for explaining a process in which the metal base is etched from the side of the first surface. 図9は、図2のコンタクトシートの製造方法の一例を説明するための図であって、金属基材が第2面の側からエッチングされる工程を説明するための図である。FIG. 9 is a view for explaining an example of a method of manufacturing the contact sheet of FIG. 2 and a view for explaining a process in which the metal base is etched from the side of the second surface. 図10は、図2のコンタクトシートの製造方法の一例を説明するための図であって、レジスト層が除去される工程を説明するための図である。FIG. 10 is a view for explaining an example of a method of manufacturing the contact sheet of FIG. 2 and a view for explaining a process of removing a resist layer. 図11は、図2のコンタクトシートの製造方法の一例を説明するための図であって、絶縁層が形成される工程を説明するための図である。FIG. 11 is a view for explaining an example of a method of manufacturing the contact sheet of FIG. 2 and a view for explaining a step of forming an insulating layer. 図12は、図2のコンタクトシートの製造方法の一例を説明するための図であって、電極が形成される工程を説明するための図である。FIG. 12 is a view for explaining an example of a method of manufacturing the contact sheet of FIG. 2 and a view for explaining a process of forming an electrode. 図13は、図2のコンタクトシートの製造方法の一例を説明するための図であって、第1接続面上の絶縁層が除去される工程を説明するための図である。FIG. 13 is a diagram for explaining an example of a method of manufacturing the contact sheet of FIG. 2 and a diagram for explaining a process of removing the insulating layer on the first connection surface. 図14は、図2のコンタクトシートの製造方法の一例を説明するための図であって、めっき層が形成される工程を説明するための図である。FIG. 14 is a view for explaining an example of a method of manufacturing the contact sheet of FIG. 2 and a view for explaining a step of forming a plating layer. 図15は、図7に示す工程において形成されるレジスト層を示す平面図である。FIG. 15 is a plan view showing a resist layer formed in the step shown in FIG. 図16は、図15に示すレジスト層の変形例を示す平面図である。FIG. 16 is a plan view showing a modification of the resist layer shown in FIG. 図17は、図11に示す工程における図5に相当する断面図である。FIG. 17 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 5 in the process shown in FIG. 図18は、図3に示すコンタクトシートを電子デバイスおよび検査用回路基板に接続した状態を示す断面図である。FIG. 18 is a cross-sectional view showing the contact sheet shown in FIG. 3 connected to an electronic device and a circuit board for inspection. 図19は、図18の変形例を示す図である。FIG. 19 is a view showing a modification of FIG. 図20は、図19の変形例を示す図である。FIG. 20 is a view showing a modification of FIG. 図21は、図3に示すコンタクトシートの変形例を示す断面図である。FIG. 21 is a cross-sectional view showing a modification of the contact sheet shown in FIG. 図22は、図3に示すコンタクトシートの他の変形例を示す断面図である。FIG. 22 is a cross-sectional view showing another modification of the contact sheet shown in FIG.

図1乃至図22を用いて、本発明の実施の形態における電極シートおよび電極シートの製造方法について説明する。ここで、電極シートは、接続対象と、接続対象と電気的に接続される回路基板との間に配設されて、接続対象の端子と回路基板の端子とを電気的に接続するためのものである。本実施の形態においては、電極シートの一例として、半導体などの電子デバイスの電気特性検査を行う際に、電子デバイスの端子を、検査用回路基板の端子に電気的に接続するためのコンタクトシートについて説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。   An electrode sheet and a method of manufacturing the electrode sheet according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 22. Here, the electrode sheet is disposed between the connection target and the circuit board electrically connected to the connection target to electrically connect the terminal to be connected to the terminal of the circuit board. It is. In the present embodiment, as an example of the electrode sheet, a contact sheet for electrically connecting the terminals of the electronic device to the terminals of the circuit board for inspection when the electrical characteristics of an electronic device such as a semiconductor are inspected. explain. In the drawings attached to the present specification, for the sake of easy illustration and understanding, the scale, the dimensional ratio in the vertical and horizontal directions, etc. are appropriately changed from those of the actual one and exaggerated.

まず、図1を参照して、電子デバイス10の電気特性を検査するための電気検査装置1について説明する。   First, with reference to FIG. 1, an electrical inspection apparatus 1 for inspecting the electrical characteristics of the electronic device 10 will be described.

図1に示すように、電気検査装置1は、固定台2と、固定台2上に設けられた検査用回路基板3と、接続対象としての電子デバイス10を検査用回路基板3の側に押圧する押圧具4と、を備えている。このうち、検査用回路基板3は、図示しないテスターに接続されている。固定台2と検査用回路基板3との間には、ゴム弾性シート5が介在されている。   As shown in FIG. 1, the electrical inspection apparatus 1 presses the fixing stand 2, the inspection circuit board 3 provided on the fixing stand 2, and the electronic device 10 as a connection target to the inspection circuit board 3 side. And a pressing tool 4. Among these, the test circuit board 3 is connected to a tester (not shown). A rubber elastic sheet 5 is interposed between the fixing base 2 and the circuit board 3 for inspection.

電子デバイス10の電気特性検査時には、押圧具4と検査用回路基板3との間に電子デバイス10が配設され、検査用回路基板3と電子デバイス10との間にコンタクトシート20が配設される。電子デバイス10は複数の端子10aを有しており、これに対応して、コンタクトシート20は複数の電極30(後述)を有し、検査用回路基板3は複数の端子3aを有している。押圧具4によって電子デバイス10が押圧されると、電子デバイス10の端子10aがコンタクトシート20の対応する電極30の第1接続面31(図3参照)に電気的に接続されるとともに、検査用回路基板3の端子3aが、コンタクトシート20の対応する電極30の第2接続面32に電気的に接続される。このようにして、電子デバイス10の端子10aが、コンタクトシート20の電極30を介して、対応する検査用回路基板3の端子3aに電気的に接続される。すなわち、コンタクトシート20によって電子デバイス10の端子10aと検査用回路基板3の端子3aとが、1対1で電気的に接続される。押圧具4が電子デバイス10を押圧した際には、上述したように固定台2と検査用回路基板3との間にゴム弾性シート5が介在されているため、各端子3a、10aの位置誤差(凹凸)等を吸収して、電子デバイス10の端子10aとコンタクシート20の電極30との電気的接続の信頼性向上を図ると共に、検査用回路基板3の端子3aとコンタクトシート20の電極30との電気的接続の信頼性向上を図っている。   At the time of the electrical property inspection of the electronic device 10, the electronic device 10 is disposed between the pressing tool 4 and the circuit board 3 for inspection, and the contact sheet 20 is disposed between the circuit board 3 for inspection and the electronic device 10. Ru. The electronic device 10 has a plurality of terminals 10a, and correspondingly, the contact sheet 20 has a plurality of electrodes 30 (described later), and the inspection circuit board 3 has a plurality of terminals 3a. . When the electronic device 10 is pressed by the pressing tool 4, the terminal 10 a of the electronic device 10 is electrically connected to the first connection surface 31 (see FIG. 3) of the corresponding electrode 30 of the contact sheet 20, and The terminal 3 a of the circuit board 3 is electrically connected to the second connection surface 32 of the corresponding electrode 30 of the contact sheet 20. Thus, the terminal 10 a of the electronic device 10 is electrically connected to the terminal 3 a of the corresponding test circuit board 3 via the electrode 30 of the contact sheet 20. That is, the contact sheet 20 electrically connects the terminal 10 a of the electronic device 10 and the terminal 3 a of the test circuit board 3 on a one-to-one basis. When the pressing tool 4 presses the electronic device 10, as described above, since the rubber elastic sheet 5 is interposed between the fixed base 2 and the circuit board 3 for inspection, the positional error of each terminal 3a, 10a (Concave and convex) and the like are absorbed to improve the reliability of the electrical connection between the terminal 10a of the electronic device 10 and the electrode 30 of the contact 20, and the terminal 3a of the test circuit board 3 and the electrode 30 of the contact sheet 20 To improve the reliability of electrical connection with

次に、本実施の形態によるコンタクトシート20について説明する。   Next, the contact sheet 20 according to the present embodiment will be described.

図2にコンタクトシート20の一例を示す。ここでは、コンタクトシート20は、その法線方向(図2の紙面に垂直な方向、図3のP方向)から見たときに(平面視で)、矩形状に形成されている例が示されている。図3乃至図5に、このようなコンタクトシート20の各部の断面が示されている。   An example of the contact sheet 20 is shown in FIG. Here, an example is shown in which the contact sheet 20 is formed in a rectangular shape (in plan view) when viewed from the normal direction (the direction perpendicular to the sheet of FIG. 2, the P direction of FIG. 3). ing. The cross section of each part of such a contact sheet 20 is shown by FIG. 3 to FIG.

コンタクトシート20は、互いに離間した、金属材料により形成された複数の電極30と、複数の電極30を連結する絶縁層40と、を備えている。各電極30の平面形状は、矩形状あるいはひし形状になっており、より具体的には、電極30の平面形状の縁線は、電極30の平面中心に向って凸となる曲線状に形成されている。   The contact sheet 20 includes a plurality of electrodes 30 formed of a metal material and separated from each other, and an insulating layer 40 connecting the plurality of electrodes 30. The planar shape of each electrode 30 is a rectangular shape or a diamond shape, and more specifically, the edge of the planar shape of the electrode 30 is formed in a curved shape convex toward the planar center of the electrode 30 ing.

電極30は、電子デバイス10の端子10aの位置に対応して配置され、図2に示す形態では、電子デバイス10のパッケージで代表的な端子配置に対応している。より具体的には、電極30は、平面視において、互いに直交する2方向(X方向、Y方向)に所定のピッチで配列されており、全体的には格子状に配置されている。電極30のピッチは、X方向、Y方向共に、特に制限されるものではないが、例えば、電子デバイス10の端子間の最大ピッチである2.54mm以内とすることが実用的である。しかしながら、近年の微細化された電子デバイス10の電気特性検査に用いるためには、電極30のピッチは、電子デバイス10に対応して微細化されることが望まれている。本実施の形態によるコンタクトシート20では、後述するように金属基材50からエッチングして形成されるため、電極30のピッチを小さくする(微細化する)ことができ、X方向、Y方向共に、例えば、25μm〜100μmのピッチで形成することができる。   The electrode 30 is disposed corresponding to the position of the terminal 10 a of the electronic device 10, and in the form shown in FIG. 2, corresponds to the typical terminal arrangement in the package of the electronic device 10. More specifically, the electrodes 30 are arranged at predetermined pitches in two directions (X direction, Y direction) orthogonal to each other in plan view, and are arranged in a grid shape as a whole. The pitch of the electrodes 30 is not particularly limited in both the X direction and the Y direction, but it is practical, for example, to be within 2.54 mm which is the maximum pitch between the terminals of the electronic device 10. However, it is desirable that the pitch of the electrodes 30 be miniaturized correspondingly to the electronic device 10 in order to use it for the electrical property inspection of the miniaturized electronic device 10 in recent years. The contact sheet 20 according to the present embodiment is formed by etching from the metal base 50 as described later, so the pitch of the electrodes 30 can be made smaller (miniaturized), and in both the X and Y directions, For example, it can be formed at a pitch of 25 μm to 100 μm.

図3に示すように、電極30は、第1接続面31と、第1接続面31とは反対側に設けられた第2接続面32と、第1接続面31と第2接続面32との間に設けられ、コンタクトシート20の法線方向に対して直交する方向に向って(コンタクトシート20の平面に沿った方向、図3における横方向に向って)突出する突出部33と、を有している。本実施の形態においては、電子デバイス10の電気特性検査時に、第1接続面31に電子デバイス10の端子10aが電気的に接続され、第2接続面32に検査用回路基板3の端子3aが電気的に接続される。しかしながら、これに限られることはなく、第1接続面31に検査用回路基板3の端子3aが電気的に接続され、第2接続面32に電子デバイス10の端子10aが電気的に接続されるようにしてもよい。   As shown in FIG. 3, the electrode 30 has a first connection surface 31, a second connection surface 32 provided on the opposite side to the first connection surface 31, a first connection surface 31, and a second connection surface 32. And a protrusion 33 provided between the two and extending in a direction perpendicular to the normal direction of the contact sheet 20 (in the direction along the plane of the contact sheet 20, in the lateral direction in FIG. 3). Have. In the present embodiment, when testing the electrical characteristics of the electronic device 10, the terminal 10a of the electronic device 10 is electrically connected to the first connection surface 31 and the terminal 3a of the test circuit board 3 is connected to the second connection surface 32. Electrically connected. However, the present invention is not limited thereto. The terminal 3a of the test circuit board 3 is electrically connected to the first connection surface 31 and the terminal 10a of the electronic device 10 is electrically connected to the second connection surface 32. You may do so.

電極30に用いる材料としては、導電性が良好な金属材料であれば特に限られることはない。とりわけ、非導電性の樹脂を硬化させて電極30の形をなしているのではなく、金属材料によって電極30の形をなしていることが好適である。例えば、電極30には、銅、銅合金、アルミニウム、ニッケル、ニッケル合金、ステンレスにより好適に形成することができる。電極30の厚さは、例えば、12μm〜50μmとすることができる。   The material used for the electrode 30 is not particularly limited as long as it is a metal material having good conductivity. In particular, it is preferable that the nonconductive resin is not cured to be in the form of the electrode 30, but is in the form of the electrode 30 by a metallic material. For example, the electrode 30 can be suitably formed of copper, copper alloy, aluminum, nickel, nickel alloy, stainless steel. The thickness of the electrode 30 can be, for example, 12 μm to 50 μm.

突出部33は、第1接続面31の側に設けられた第1画定面34と、第2接続面32の側に設けられた第2画定面35と、によって画定されている。本実施の形態による電極30は、板状の金属基材50(後述)を両面側からそれぞれエッチングすることにより形成されており、第1画定面34は、コンタクトシート20の法線方向において第2接続面32の側(図3の下側)に向って凸となる曲面(後述する第1凹部51の壁面51a)の一部をなし、第2画定面35は、コンタクトシート20の法線方向において第1接続面31の側(図3の上側)に向って凸となる曲面(後述する第2凹部53の壁面53a)の一部をなしている。   The protrusion 33 is defined by a first defining surface 34 provided on the side of the first connection surface 31 and a second defining surface 35 provided on the side of the second connection surface 32. The electrode 30 according to the present embodiment is formed by etching the plate-like metal base 50 (described later) from both sides, and the first defining surface 34 is formed in the second direction in the normal direction of the contact sheet 20. A part of a curved surface (wall surface 51a of the first recess 51 described later) which is convex toward the side of the connection surface 32 (the lower side in FIG. 3) forms a second defining surface 35 in the normal direction of the contact sheet 20 A part of a curved surface (a wall surface 53a of a second recess 53 described later) which is convex toward the side of the first connection surface 31 (upper side in FIG. 3) is formed.

すなわち、金属基材50の第1面50a(図6参照)の側からのエッチングによって、第1面50aの側に第1凹部51が形成され、この第1凹部51の壁面51aは、第2接続面32の側に向って凸となる曲面状に形成される。第1凹部51の壁面51aは、エッチングの開始側となる領域において起立し(コンタクトシート20の法線方向に沿うように形成され)、エッチングの開始側とは反対側となる領域、すなわち第2面50b(図8参照)の側の領域においては、コンタクトシート20の法線方向に対して比較的大きく傾斜するようになる。このような第1凹部51の壁面51aの一部によって、第1画定面34が形成されている。   That is, the first recess 51 is formed on the side of the first surface 50a by etching from the side of the first surface 50a (see FIG. 6) of the metal base 50, and the wall surface 51a of the first recess 51 is the second It is formed in the curved surface shape which becomes convex toward the connection surface 32 side. The wall surface 51a of the first recess 51 stands up (is formed along the normal direction of the contact sheet 20) in the area on the etching start side, and is an area on the opposite side to the etching start side, that is, the second area In the region on the side of the surface 50 b (see FIG. 8), the contact sheet 20 is inclined relatively largely with respect to the normal direction of the contact sheet 20. The first defining surface 34 is formed by a part of the wall surface 51 a of the first recess 51.

同様に、金属基材50の第2面50bの側からのエッチングによって、第2面50bの側に第2凹部53が形成され、この第2凹部53の壁面53aは、第1接続面31の側に向って凸となる曲面状に形成される。第2凹部53の壁面53aは、エッチングの開始側となる領域において起立し、エッチングの開始側とは反対側となる領域、すなわち第1面50aの側の領域に向って、コンタクトシート20の法線方向に対する傾斜が大きくなっていく。このような第2凹部53の壁面53aの一部によって、第2画定面35が形成されている。第2凹部53は、第1凹部51と平面視で同心状に形成される。   Similarly, the second concave portion 53 is formed on the second surface 50 b side by etching from the second surface 50 b side of the metal base 50, and the wall surface 53 a of the second concave portion 53 corresponds to that of the first connection surface 31. It is formed in a curved surface shape which is convex toward the side. The wall surface 53a of the second recess 53 stands up in the region on the etching start side, and the method of the contact sheet 20 toward the region on the side opposite to the etching start side, that is, the region on the first surface 50a side. The inclination to the line direction becomes larger. The second defining surface 35 is formed by a part of the wall surface 53 a of the second recess 53. The second recess 53 is formed concentrically with the first recess 51 in a plan view.

このような第1画定面34と第2画定面35とによって突出部33が画定されることにより、突出部33の先端は、概略的には尖った形状に形成される。また、第1凹部51を第2凹部53に接続させて連通させることにより、金属基材50が分断され、互いに離間した電極30が形成されている。   By defining the protrusion 33 by the first defining surface 34 and the second defining surface 35 as described above, the tip of the protrusion 33 is formed in a roughly pointed shape. Further, by connecting the first concave portion 51 to the second concave portion 53 and connecting them, the metal base 50 is divided, and the electrodes 30 separated from each other are formed.

図2に示すように、第1凹部51は、平面視で、概略的には矩形状に形成されて、X方向およびY方向に配列されている。そして、X方向およびY方向において互いに隣り合う第1凹部51同士は、互いに接続されている。なお、図示しないが、第2凹部53も、第1凹部51と同様に平面視で概略的には矩形状に形成されて、X方向およびY方向に配列されている。   As shown in FIG. 2, the first recesses 51 are generally formed in a rectangular shape in plan view, and are arranged in the X direction and the Y direction. The first recesses 51 adjacent to each other in the X direction and the Y direction are connected to each other. Although not shown, the second recesses 53 are also formed substantially in a rectangular shape in plan view in the same manner as the first recesses 51, and are arranged in the X direction and the Y direction.

図2に示すように、電極30の突出部33は、電極30の全周にわたって形成されている。すなわち、本実施の形態においては、第1凹部51が格子状に配置されており、互いに隣り合う4つの第1凹部51の壁面51aによって1つの電極30が画定されている。そして、これら4つの第1凹部51の壁面51aの一部によって第1画定面34が形成され、これら4つの第2凹部53の壁面53aの一部によって第2画定面35が形成されている。このようにして画定される突出部33は、平面視において、電極30の第1接続面31あるいは第2接続面32と相似形をなす。   As shown in FIG. 2, the protrusion 33 of the electrode 30 is formed over the entire circumference of the electrode 30. That is, in the present embodiment, the first concave portions 51 are arranged in a lattice, and one electrode 30 is defined by the wall surfaces 51 a of four first concave portions 51 adjacent to each other. The first defining surface 34 is formed by a part of the wall surface 51 a of the four first recesses 51, and the second defining surface 35 is formed by a part of the wall surfaces 53 a of the four second recesses 53. The protrusion 33 thus defined has a shape similar to the first connection surface 31 or the second connection surface 32 of the electrode 30 in plan view.

図3に示すように、絶縁層40は、電極30の第1画定面34の一部に接合されている。後述するように、絶縁層40は、エッチングにより形成された第1凹部51の壁面51a上に形成される。このことにより、当該壁面51aの一部をなす第1画定面34に絶縁層40が形成されて接合されている。   As shown in FIG. 3, the insulating layer 40 is bonded to a portion of the first defining surface 34 of the electrode 30. As described later, the insulating layer 40 is formed on the wall surface 51 a of the first recess 51 formed by etching. As a result, the insulating layer 40 is formed and joined to the first defining surface 34 forming a part of the wall surface 51a.

ここで、図3には、X方向およびY方向に配列された電極30および第1凹部51の対角線方向(図2のA−A線)に沿った断面が示されている。図3において互いに隣り合う電極30の間の中間位置は、第1凹部51の中心位置M1に相当している。第1凹部51の壁面51aは、第2接続面32の側に向って凸となる曲面状に形成されていることから、第1凹部51の中心位置M1において、絶縁層40の厚さが最大になっており、この位置から電極30に向って、絶縁層40の厚さが徐々に小さくなっている。   Here, FIG. 3 shows a cross section along the diagonal direction (the line AA of FIG. 2) of the electrodes 30 and the first recess 51 arranged in the X direction and the Y direction. The intermediate position between the electrodes 30 adjacent to each other in FIG. 3 corresponds to the center position M1 of the first recess 51. Since the wall surface 51 a of the first recess 51 is formed in a curved shape that is convex toward the second connection surface 32, the thickness of the insulating layer 40 is maximum at the center position M 1 of the first recess 51. The thickness of the insulating layer 40 gradually decreases from this position toward the electrode 30.

図4には、電極30を通る、X方向(図2のB−B線)に沿った断面が示されている。図4において互いに隣り合う電極30の間の中間位置は、第1凹部51の縁線の中心位置M2に相当している。第1凹部51の壁面51aは、第2接続面32の側に向って凸となる曲面状に形成されていることから、第1凹部51の縁線の中心位置M2における第1凹部51の深さは、第1凹部51の中心位置M1における深さよりも浅くなる。このため、図4に示す互いに隣り合う電極30の間の中間位置における絶縁層40の厚さは、図3に示す互いに隣り合う電極30の間の中間位置における絶縁層40の厚さより小さくなっている。   A cross section along the X direction (line B-B in FIG. 2) passing through the electrode 30 is shown in FIG. The intermediate position between the electrodes 30 adjacent to each other in FIG. 4 corresponds to the center position M2 of the edge line of the first recess 51. Since the wall surface 51 a of the first recess 51 is formed in a curved shape that is convex toward the second connection surface 32, the depth of the first recess 51 at the center position M2 of the edge line of the first recess 51 is The depth is shallower than the depth at the center position M1 of the first recess 51. Therefore, the thickness of the insulating layer 40 at the intermediate position between the adjacent electrodes 30 shown in FIG. 4 is smaller than the thickness of the insulating layer 40 at the intermediate position between the adjacent electrodes 30 shown in FIG. There is.

図5には、第1凹部51の中心位置M1と第1凹部51の縁線の中心位置M2とを通る、Y方向(図2のC−C線)に沿った断面が示されている。このように、絶縁層40は、位置M1から位置M2に向って厚さが徐々に小さくなるように形成されている。そして、この位置M2において、絶縁層40に切込部41が形成されている。後に詳述するが、コンタクトシート20を製造する途中段階では、X方向またはY方向において互いに隣り合う第1凹部51同士が、エッチングの浸食によって互いに接続されることにより金属基材50に尾根部54(図17参照)が形成される。絶縁層40は、第1凹部51の壁面51a上および尾根部54上に形成され、その後の工程における金属基材50のエッチングにより尾根部54が除去される。このことにより、絶縁層40に、図5に示すような、第1接続面31の側に向って凹むような切込部41が形成されている。   FIG. 5 shows a cross section along the Y direction (line C-C in FIG. 2) passing through the center position M1 of the first recess 51 and the center position M2 of the edge line of the first recess 51. Thus, the insulating layer 40 is formed so as to gradually decrease in thickness from the position M1 to the position M2. Then, the cut portion 41 is formed in the insulating layer 40 at the position M2. As will be described in detail later, in the process of manufacturing the contact sheet 20, the ridges 54 are formed on the metal base 50 by connecting the first recesses 51 adjacent to each other in the X direction or Y direction by etching erosion. (See FIG. 17) is formed. The insulating layer 40 is formed on the wall surface 51 a of the first recess 51 and the ridge portion 54, and the ridge portion 54 is removed by etching the metal base 50 in the subsequent process. As a result, in the insulating layer 40, as shown in FIG. 5, a cut portion 41 which is recessed toward the first connection surface 31 is formed.

絶縁層40に用いる材料としては、互いに隣り合う電極30の間で絶縁を確保すると共に、電極30を支持し、更に金属基材50のエッチング液に対する耐性を有していれば特に限られることはない。例えば、絶縁層40は、ポリイミドによって形成することが好適である。また、絶縁層40の厚さは、電極30を支持することができれば特に限られることはなく、例えば、第1凹部51の中心位置M1における絶縁層40の最大厚さを5μm〜25μmとすることが好適である。   The material used for the insulating layer 40 is particularly limited as long as it secures insulation between the electrodes 30 adjacent to each other, supports the electrodes 30, and has resistance to the etching solution of the metal base 50. Absent. For example, the insulating layer 40 is preferably formed of polyimide. The thickness of the insulating layer 40 is not particularly limited as long as it can support the electrode 30. For example, the maximum thickness of the insulating layer 40 at the center position M1 of the first recess 51 is 5 μm to 25 μm. Is preferred.

ところで、図3および図4に示すように、電極30の第1接続面31は、絶縁層40よりも第2接続面32の側とは反対側(絶縁層40より上方)に突出して配置されていることが好適である。このことにより、電子デバイス10をコンタクトシート20に押圧させる際に、絶縁層40が電子デバイス10に接触して電極30の第1接続面31と電子デバイス10の端子10aとが離間することを回避できる。なお、図3および図4に示す形態においては、絶縁層40は電極30の上部(第1接続面31と第1画定面34の上部とを含む)には形成されていない。このことにより、絶縁層40を電極30の第1接続面31から遠ざけることができ、絶縁層40が電子デバイス10に接触することをより確実に防止している。また、本実施の形態においては、絶縁層40は、電極30の第2接続面32上および第2画定面35上には形成されていない。   By the way, as shown in FIG. 3 and FIG. 4, the first connection surface 31 of the electrode 30 is disposed so as to protrude on the opposite side to the second connection surface 32 side (upper than the insulating layer 40) than the insulating layer 40. Is preferred. By this, when pressing the electronic device 10 against the contact sheet 20, the insulating layer 40 is prevented from coming into contact with the electronic device 10 to separate the first connection surface 31 of the electrode 30 and the terminal 10a of the electronic device 10. it can. In the embodiment shown in FIGS. 3 and 4, the insulating layer 40 is not formed on the upper portion of the electrode 30 (including the first connection surface 31 and the upper portion of the first defining surface 34). By this, the insulating layer 40 can be kept away from the first connection surface 31 of the electrode 30, and the insulating layer 40 is more reliably prevented from contacting the electronic device 10. Moreover, in the present embodiment, the insulating layer 40 is not formed on the second connection surface 32 and the second defining surface 35 of the electrode 30.

本実施の形態においては、電極30の第1接続面31上および第2接続面32上に、めっき層60が設けられている。このことにより、電極30が、銅などの腐食性が懸念される材料により形成されている場合には、腐食を防止することができる。また、電極30と、電子デバイス10の端子10aおよび検査用回路基板3の端子3aとの接触抵抗を低減することができる。このめっき層60は、ニッケル(Ni)めっき層61と、金(Au)めっき層62と、を含んでいることが好適である。ニッケルめっき層61は、無電解ニッケルめっきにより形成され、金めっき層62は、無電解金めっきにより形成され得る。図3および図4に示す形態においては、電極30の第1画定面34の上部および第2画定面35の下部にも、めっき層60が形成されている。   In the present embodiment, the plating layer 60 is provided on the first connection surface 31 and the second connection surface 32 of the electrode 30. This can prevent corrosion when the electrode 30 is formed of a material that may cause corrosion, such as copper. Further, the contact resistance between the electrode 30 and the terminal 10 a of the electronic device 10 and the terminal 3 a of the circuit board 3 for inspection can be reduced. The plated layer 60 preferably includes a nickel (Ni) plated layer 61 and a gold (Au) plated layer 62. The nickel plating layer 61 may be formed by electroless nickel plating, and the gold plating layer 62 may be formed by electroless gold plating. In the configurations shown in FIGS. 3 and 4, the plating layer 60 is also formed on the upper portion of the first defining surface 34 of the electrode 30 and the lower portion of the second defining surface 35.

次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。ここでは、まず、図6乃至図17を用いて、コンタクトシート20の製造方法について説明する。   Next, the operation of the present embodiment having such a configuration will be described. Here, first, a method of manufacturing the contact sheet 20 will be described with reference to FIGS. 6 to 17.

まず、図6に示すように、第1面50aと、第1面50aとは反対側に設けられた第2面50bと、を有する板状の金属基材50を準備する(ステップS1)。   First, as shown in FIG. 6, a plate-like metal base 50 having a first surface 50a and a second surface 50b opposite to the first surface 50a is prepared (step S1).

続いて、図7に示すように、金属基材50の第1面50a上に第1レジスト層71が形成されると共に、第2面50b上に第2レジスト層72が形成される(ステップS2)。この場合、まず、金属基材50の第1面50a上および第2面50b上に、感光性レジスト材料としてドライフィルムレジストがラミネートされ、第1レジスト層71および第2レジスト層72がそれぞれ得られる。なお、液状の感光性レジストを塗布して乾燥させることによりレジスト層71、72を得るようにしてもよい。その後、第1レジスト層71および第2レジスト層72が露光されて、現像される。このことにより、第1レジスト層71および第2レジスト層72が所望のパターンに形成される。   Subsequently, as shown in FIG. 7, the first resist layer 71 is formed on the first surface 50a of the metal base 50, and the second resist layer 72 is formed on the second surface 50b (step S2). ). In this case, first, a dry film resist is laminated as a photosensitive resist material on the first surface 50 a and the second surface 50 b of the metal substrate 50 to obtain the first resist layer 71 and the second resist layer 72 respectively. . The resist layers 71 and 72 may be obtained by applying and drying a liquid photosensitive resist. Thereafter, the first resist layer 71 and the second resist layer 72 are exposed and developed. As a result, the first resist layer 71 and the second resist layer 72 are formed in a desired pattern.

第1レジスト層71の平面形状は、後述するエッチングにより電極30が所望の形状となるようにサイドエッチング量を考慮して設計される。本実施の形態においては、第1レジスト層71は、図15に示すように、X方向に延びる複数の帯71xと、Y方向に延びる複数の帯71yとが一体化されるように、全体としては網目状に形成される。このことにより、第1レジスト層71の剥離防止を図っている。帯71xと帯71yとが交差する領域が、電極30が形成される位置に対応している。そして、これらの帯71x、71yによって囲まれた領域に、矩形状の第1レジスト層開口部71aが形成される。第1レジスト層開口部71aは、第1凹部51が形成される位置に対応している。なお、第1レジスト層71は、図15に示すように第1レジスト層開口部71aを矩形状に形成することに限られることはなく、例えば、図16に示すような八角形状に形成してもよい。ここでは、第1レジスト層開口部71aの角部に、レジストのテーパ部が設けられている。この場合、電極30の平面形状を大きくすることが可能となる。   The planar shape of the first resist layer 71 is designed in consideration of the side etching amount so that the electrode 30 has a desired shape by etching described later. In the present embodiment, as shown in FIG. 15, in the first resist layer 71, a plurality of bands 71x extending in the X direction and a plurality of bands 71y extending in the Y direction are integrated as a whole. Is formed in a mesh shape. By this, peeling of the first resist layer 71 is prevented. A region where the band 71x and the band 71y intersect corresponds to the position where the electrode 30 is formed. Then, a rectangular first resist layer opening 71a is formed in a region surrounded by the bands 71x and 71y. The first resist layer opening 71 a corresponds to the position where the first recess 51 is formed. The first resist layer 71 is not limited to forming the first resist layer opening 71a in a rectangular shape as shown in FIG. 15. For example, the first resist layer 71 may be formed in an octagonal shape as shown in FIG. It is also good. Here, a tapered portion of the resist is provided at the corner of the first resist layer opening 71a. In this case, the planar shape of the electrode 30 can be increased.

第2レジスト層72は、図示しないが、第1レジスト層71と同様に形成することができ、電極30が形成される位置に対応させて、X方向に延びる帯とY方向に延びる帯とを交差させる。これらの帯によって囲まれた領域に、矩形状の第2レジスト層開口部72aが形成される。第2レジスト層開口部72aは、第2凹部53が形成される位置に対応している。なお、第2レジスト層72の各帯は、第1レジスト層71の各帯71x、71yと、平面視で重なるように形成されるが、第2凹部53の形状等に応じて、第2レジスト層72の各帯の幅を第1レジスト層71の各帯71x、71yの幅とは異ならせてもよい。   Although not shown, the second resist layer 72 can be formed in the same manner as the first resist layer 71, and a band extending in the X direction and a band extending in the Y direction are made to correspond to the position where the electrode 30 is formed. Cross. A rectangular second resist layer opening 72a is formed in the area surrounded by the bands. The second resist layer opening 72 a corresponds to the position where the second recess 53 is formed. The respective bands of the second resist layer 72 are formed to overlap the respective bands 71x and 71y of the first resist layer 71 in plan view, but depending on the shape of the second recess 53, etc., the second resist The width of each band of the layer 72 may be different from the width of each band 71x, 71y of the first resist layer 71.

ステップS2の後、図8に示すように、金属基材50が、第1面50aの側からエッチングされて、第1面50aの側に第1凹部51が形成される(ステップS3)。この場合、金属基材50は、第1レジスト層71をマスクとして、噴射されるエッチング液(例えば塩化第二鉄溶液)によって金属基材50の第1面50aの側からエッチングされる。このことにより、第1レジスト層開口部71aを介して金属基材50がエッチングされ、金属基材50の第1面50aの側に複数の第1凹部51が形成される。なお、この際、金属基材50の第2面50bには、保護フィルム等を設けることにより、第2面50bの側からエッチングされることを防止することが好適である。   After step S2, as shown in FIG. 8, the metal base 50 is etched from the side of the first surface 50a to form the first recess 51 on the side of the first surface 50a (step S3). In this case, the metal base 50 is etched from the side of the first surface 50 a of the metal base 50 by the jetted etchant (for example, a ferric chloride solution) using the first resist layer 71 as a mask. As a result, the metal base 50 is etched through the first resist layer opening 71 a, and the plurality of first recesses 51 are formed on the side of the first surface 50 a of the metal base 50. At this time, it is preferable to prevent the etching from the side of the second surface 50 b by providing a protective film or the like on the second surface 50 b of the metal base 50.

ステップS3においては、金属基材50のうち第1レジスト層開口部71aに対応する領域で、エッチング液による浸食が進み、当該領域の金属基材50がエッチングされる。エッチング液による浸食は、金属基材50の法線方向(厚さ方向)のみに進むのではなく、第1レジスト層開口部71aから平面に沿った方向(図8における横方向)にも進む。このエッチング液による侵食が横方向に進む現象はサイドエッチングと呼ばれている。このようにして金属基材50が浸食されることにより、金属基材50の第1面50a上における第1凹部51の平面視の輪郭は、第1レジスト層開口部71aの輪郭より大きくなる。このようなエッチング液による浸食の結果として、図8に示すように、第1凹部51は、金属基材50の第2面50bの側(図8の下側)に向って凸となるような曲面状に形成される。また、エッチング液の浸食が平面に沿った方向にも進むことにより、図17に示すように、互いに隣り合う第1凹部51の壁面51a同士が接続され、これらの第1凹部51の境界に、第1面50aの側(図17の上側)に向って突き出るような山形状の尾根部54が形成される。   In step S3, in the area corresponding to the first resist layer opening 71a in the metal base 50, the erosion by the etching solution proceeds, and the metal base 50 in the area is etched. Erosion by the etchant proceeds not only in the normal direction (thickness direction) of the metal substrate 50 but also in the direction along the plane (horizontal direction in FIG. 8) from the first resist layer opening 71a. The phenomenon in which the erosion by the etchant proceeds in the lateral direction is called side etching. As the metal base 50 is corroded in this manner, the outline of the first recess 51 on the first surface 50a of the metal base 50 in plan view becomes larger than the outline of the first resist layer opening 71a. As a result of such erosion by the etchant, as shown in FIG. 8, the first recess 51 is convex toward the side of the second surface 50b of the metal base 50 (the lower side in FIG. 8). It is formed in the shape of a curved surface. Further, as the erosion of the etching solution also proceeds in the direction along the plane, the wall surfaces 51a of the first recesses 51 adjacent to each other are connected to each other as shown in FIG. A mountain shaped ridge portion 54 is formed so as to protrude toward the side of the first surface 50a (upper side in FIG. 17).

ステップS3の後、図9に示すように、金属基材50が、第2面50bの側からエッチングされて、第2面50bの側に仮第2凹部52が形成される(ステップS4)。この場合、金属基材50は、第2レジスト層72をマスクとして、噴射されるエッチング液(例えば塩化第二鉄溶液)によって金属基材50の第2面50bの側からエッチングされる。このことにより、第2レジスト層開口部72aを介して金属基材50がエッチングされ、金属基材50の第2面50bの側に複数の仮第2凹部52が形成される。この仮第2凹部52は、第1凹部51と平面視で同心状に形成されるが、第1凹部51には接続されない。このことにより、第1凹部51の壁面51aの全体を残存させている。なお、この際、金属基材50の第1面50aには、保護フィルム等を設けることにより、第1面50aの側からエッチングされることを防止すると共に、第1凹部51の形状が損なわれることを防止することが好適である。   After step S3, as shown in FIG. 9, the metal base 50 is etched from the side of the second surface 50b to form a temporary second recess 52 on the side of the second surface 50b (step S4). In this case, the metal base 50 is etched from the side of the second surface 50 b of the metal base 50 by the jetted etchant (for example, ferric chloride solution) using the second resist layer 72 as a mask. As a result, the metal base 50 is etched through the second resist layer opening 72a, and a plurality of temporary second recesses 52 are formed on the side of the second surface 50b of the metal base 50. The temporary second recess 52 is formed concentrically with the first recess 51 in plan view, but is not connected to the first recess 51. As a result, the entire wall surface 51 a of the first recess 51 is left. At this time, by providing a protective film or the like on the first surface 50a of the metal base 50, etching from the side of the first surface 50a is prevented, and the shape of the first recess 51 is impaired. It is preferable to prevent this.

ステップS4においては、ステップS3と同様にしてエッチング液による浸食が進むが、エッチング時間をステップS3よりも短くしたり、あるいはエッチング液による浸食の速度を小さくしたりすることにより、金属基材50への浸食量をステップS3よりも少なくしている。このことにより、仮第2凹部52は、金属基材50の第1面50aの側(図9の上側)に向って凸となるが、その上部は平坦状に形成される。   In step S4, the erosion by the etching solution proceeds in the same manner as in step S3, but the etching time is shorter than in step S3 or the rate of the erosion by the etching solution is reduced, so that the metal substrate 50 is formed. The amount of erosion is smaller than in step S3. As a result, the temporary second recess 52 is convex toward the side of the first surface 50a of the metal base 50 (upper side in FIG. 9), but the upper portion is formed flat.

ステップS4の後、図10に示すように、金属基材50の第1面50aから第1レジスト層71が除去されると共に、第2面50bから第2レジスト層72が除去される(ステップS5)。   After step S4, as shown in FIG. 10, the first resist layer 71 is removed from the first surface 50a of the metal base 50, and the second resist layer 72 is removed from the second surface 50b (step S5). ).

ステップS5の後、図11に示すように、金属基材50の第1面50a上および第1凹部51の壁面51a上に絶縁層40が形成される(ステップS6)。この場合、まず、液状の絶縁材料が、金属基材50の第1面50a上および第1凹部51の壁面51a上に塗布される。続いて、塗布された絶縁材料を硬化させる。このことにより、第1凹部51の壁面51aに接合された絶縁層40が得られる。   After step S5, as shown in FIG. 11, the insulating layer 40 is formed on the first surface 50a of the metal base 50 and the wall surface 51a of the first recess 51 (step S6). In this case, first, a liquid insulating material is applied on the first surface 50 a of the metal base 50 and the wall surface 51 a of the first recess 51. Subsequently, the applied insulating material is cured. Thus, the insulating layer 40 bonded to the wall surface 51 a of the first recess 51 is obtained.

液状の絶縁材料は、第1凹部51の形状に起因して、第1凹部51のうち最も深い中心位置M1(図3参照)において最も厚く塗布され、第1凹部51の中心位置M1から離れるに従って薄く塗布される。このため、絶縁層40は、第1凹部51のうち中心位置M1において最も厚く形成され、この中心位置M1から離れるに従って薄く形成され、第1面50a上においては、比較的薄い絶縁層40が形成される。このステップS6においては、絶縁層40は、図17に示すように、金属基材50の尾根部54上にも形成され、尾根部54の形状に沿う形状を有する切込部41が形成される。   The liquid insulating material is applied thickest at the deepest center position M1 (see FIG. 3) of the first recess 51 due to the shape of the first recess 51, and is separated from the center position M1 of the first recess 51. Thinly applied. For this reason, the insulating layer 40 is formed thickest at the central position M1 of the first concave portion 51, formed thinner as it goes away from the central position M1, and a relatively thin insulating layer 40 is formed on the first surface 50a. Be done. In this step S6, as shown in FIG. 17, the insulating layer 40 is also formed on the ridge portion 54 of the metal base 50, and the cut portion 41 having a shape following the shape of the ridge portion 54 is formed. .

なお、絶縁層40は、液状の絶縁材料を用いることに限られることはない。例えば、ドライフィルムを金属基材50の第1面50aおよび第1凹部51の壁面51aにラミネートして絶縁層40を得るようにしてもよい。   The insulating layer 40 is not limited to the use of a liquid insulating material. For example, the insulating film 40 may be obtained by laminating a dry film on the first surface 50 a of the metal base 50 and the wall surface 51 a of the first recess 51.

ステップS6の後、図12に示すように、金属基材50が第2面50bの側から再びエッチングされ、第2面50bの側に第2凹部53が形成される(ステップS7)。この場合、仮第2凹部52と共に金属基材50の第2面50bもエッチングされる。すなわち、金属基材50の第2面50bにはレジスト層や保護フィルム等は設けられることなく、第2面50bの側の全面(第2面50bおよび仮第2凹部52)がエッチングされる。このことにより、第2面50bにおいては、第2面50bに略垂直方向にエッチング液による浸食が進み、仮第2凹部52においては、仮第2凹部52の壁面52aに略垂直方向にエッチング液による浸食が進む。このうち第2面50bの浸食により、金属基材50の第2面50bに略平行な電極30の第2接続面32が形成される。第2面50bにおける浸食量と、仮第2凹部52における浸食量は同等となる。なお、ステップS7においては、金属基材50の第1面50aに保護フィルム等を設けることにより、第1面50aの側からエッチングされることが防止され、この第1面50aが電極30の第1接続面31をなす。   After step S6, as shown in FIG. 12, the metal base 50 is etched again from the side of the second surface 50b, and the second recess 53 is formed on the side of the second surface 50b (step S7). In this case, the second surface 50 b of the metal base 50 is also etched together with the temporary second recess 52. That is, the entire surface (the second surface 50 b and the temporary second recess 52) on the second surface 50 b side is etched without providing a resist layer, a protective film, etc. on the second surface 50 b of the metal base 50. Thereby, in the second surface 50b, the erosion by the etching solution proceeds in a direction substantially perpendicular to the second surface 50b, and in the temporary second recess 52, the etching solution in a direction substantially perpendicular to the wall surface 52a of the temporary second recess 52 Erosion progresses. The second connection surface 32 of the electrode 30 substantially parallel to the second surface 50b of the metal base 50 is formed by the erosion of the second surface 50b. The amount of erosion in the second surface 50 b is equal to the amount of erosion in the temporary second recess 52. In step S7, by providing a protective film or the like on the first surface 50a of the metal base 50, etching from the side of the first surface 50a is prevented, and the first surface 50a is the first surface of the electrode 30. 1 Make the connection surface 31.

仮第2凹部52のエッチングによって、仮第2凹部52より深く、かつ平面形状が大きい第2凹部53が形成される。このことにより、図12に示すように、第2凹部53が第1凹部51に接続されて連通し、互いに離間した複数の電極30が形成される。すなわち、エッチングによって、図2の対角線方向(図2のA−A線の方向)において離間すると共に、図2のX方向(図2のB−B線の方向)およびY方向において離間する複数の電極30が形成される。この結果として、電極30に、第1凹部51の壁面51aの一部をなす第1画定面34と、第2凹部53の壁面53aの一部をなす第2画定面35とによって画定された突出部33が形成される。このうち第1画定面34上には、絶縁層40が接合されており、互いに離間した電極30が絶縁層40によって連結される。なお、絶縁層40の第2接続面32の側の一部は、第1凹部51と第2凹部53とが連通したことによって第2接続面32の側に露出される。また、金属基材50の尾根部54(図17参照)は、このステップS7におけるエッチングによって除去され、絶縁層40の切込部41が第2接続面32の側に露出される(図5参照)。   By etching the temporary second recess 52, a second recess 53 which is deeper than the temporary second recess 52 and has a large planar shape is formed. By this, as shown in FIG. 12, the 2nd recessed part 53 is connected and connected with the 1st recessed part 51, and the some electrode 30 mutually spaced apart is formed. That is, while being separated in the diagonal direction of FIG. 2 (direction of line A-A in FIG. 2) by etching, a plurality of elements separated in X direction (direction of line B-B in FIG. 2) and Y direction of FIG. An electrode 30 is formed. As a result, the electrode 30 has a protrusion defined by the first defining surface 34 forming a part of the wall surface 51 a of the first recess 51 and the second defining surface 35 forming a part of the wall surface 53 a of the second recess 53. The portion 33 is formed. The insulating layer 40 is bonded on the first defining surface 34, and the electrodes 30 separated from each other are connected by the insulating layer 40. A part of the insulating layer 40 on the side of the second connection surface 32 is exposed to the side of the second connection surface 32 by the communication between the first recess 51 and the second recess 53. Further, the ridge portion 54 (see FIG. 17) of the metal base 50 is removed by the etching in this step S7, and the cut portion 41 of the insulating layer 40 is exposed on the second connection surface 32 side (see FIG. 5). ).

ステップS7の後、図13に示すように、絶縁層40のうち電極30の第1接続面31に形成された部分(第1接続面31に対応する部分)が除去される(ステップS8)。ここでは、電極30の第1画定面34の上部に形成された部分の絶縁層40も除去される。この場合、ウェットエッチングまたはドライエッチングによって、絶縁層40を好適に除去することができる。具体的には、まず、絶縁層40上にレジスト(図示せず)が形成される。続いて、このレジストに、フォトファブリケーションの手法によって第1接続面31上の領域に開口部が、第1接続面31に対応する位置に形成される。その後、この開口部から露出された部分がエッチングされて、第1接続面31上の絶縁層40が除去される。上述したように、絶縁層40が液状の絶縁材料により形成されている場合には、第1面50a上の絶縁層40を比較的薄く形成することができるため、第1接続面31上の絶縁層40を容易に除去することが可能である。エッチングには、絶縁層40がポリイミドにより形成される場合には、有機アルカリエッチング液等のアルカリ系エッチング液によるウェットエッチング、または酸素プラズマによるドライエッチングを用いることが好適である。エッチングが行われた後、レジストは除去される。   After step S7, as shown in FIG. 13, a portion of the insulating layer 40 formed on the first connection surface 31 of the electrode 30 (a portion corresponding to the first connection surface 31) is removed (step S8). Here, the portion of the insulating layer 40 formed on the top of the first defining surface 34 of the electrode 30 is also removed. In this case, the insulating layer 40 can be suitably removed by wet etching or dry etching. Specifically, first, a resist (not shown) is formed on the insulating layer 40. Subsequently, in the resist, an opening is formed in a region corresponding to the first connection surface 31 in a region on the first connection surface 31 by a photofabrication method. Thereafter, the portion exposed from the opening is etched to remove the insulating layer 40 on the first connection surface 31. As described above, when the insulating layer 40 is formed of a liquid insulating material, the insulating layer 40 on the first surface 50a can be formed relatively thin. Layer 40 can be easily removed. When the insulating layer 40 is formed of polyimide, it is preferable to use wet etching with an alkaline etching solution such as an organic alkaline etching solution or dry etching using oxygen plasma. After the etching is performed, the resist is removed.

ステップS8の後、図14に示すように、電極30の第1接続面31上および第2接続面32上に、めっき層60が形成される(ステップS9)。ここでは、電極30のうち、絶縁層40によって覆われることなく露出されている部分に、すなわち第1接続面31、第2接続面32、第1画定面34の上部および第2画定面35の下部にめっき層60が形成される、このことにより、めっき層60を形成するためのマスクを省略することができ、工程を簡素化することができる。なお、めっき層60の形成の際には、無電解ニッケルめっきによってニッケルめっき層61が形成された後、無電解金めっきによって金めっき層62が形成されることが好適である。   After step S8, as shown in FIG. 14, the plating layer 60 is formed on the first connection surface 31 and the second connection surface 32 of the electrode 30 (step S9). Here, in the portion of the electrode 30 which is exposed without being covered by the insulating layer 40, that is, the first connection surface 31, the second connection surface 32, the upper portion of the first defining surface 34 and the second defining surface 35. The plating layer 60 is formed in the lower part. By this, the mask for forming the plating layer 60 can be omitted, and the process can be simplified. In addition, in the case of formation of the plating layer 60, after the nickel plating layer 61 is formed by electroless nickel plating, it is suitable for the gold plating layer 62 to be formed by electroless gold plating.

このようにして、本実施の形態によるコンタクトシート20を得ることができる。   Thus, the contact sheet 20 according to the present embodiment can be obtained.

次に、図18を用いて、上述のようにして得られたコンタクトシーを用いた電子デバイス10の電気特性を検査する方法について説明する。   Next, a method of inspecting the electrical characteristics of the electronic device 10 using the contact sheet obtained as described above will be described with reference to FIG.

まず、図18に示すように、電気検査装置1の検査用回路基板3上に、コンタクトシート20が載置される。この際、検査用回路基板3の端子3aに、コンタクトシート20の対応する電極30の第2接続面32を位置合わせする。   First, as shown in FIG. 18, the contact sheet 20 is placed on the inspection circuit board 3 of the electrical inspection apparatus 1. At this time, the second connection surface 32 of the corresponding electrode 30 of the contact sheet 20 is aligned with the terminal 3 a of the circuit board 3 for inspection.

続いて、コンタクトシート20上に、電子デバイス10が載置される。この際、コンタクトシート20の電極30の第1接続面31上に、電子デバイス10の端子10aを位置合わせする。このようにして、電子デバイス10と検査用回路基板3との間にコンタクトシート20が介在される。   Subsequently, the electronic device 10 is placed on the contact sheet 20. At this time, the terminal 10 a of the electronic device 10 is aligned on the first connection surface 31 of the electrode 30 of the contact sheet 20. Thus, the contact sheet 20 is interposed between the electronic device 10 and the circuit board 3 for inspection.

次に、電気検査装置1の押圧具4によって、電子デバイス10が検査用回路基板3の側に押圧される。この結果、電子デバイス10の端子10aが、コンタクトシート20の電極30の第1接続面31に電気的に接続されるとともに、検査用回路基板3の端子3aが、コンタクトシート20の電極30の第2接続面32に電気的に接続される。すなわち、コンタクトシート20の電極30を介して、電子デバイス10の端子10aと検査用回路基板3の端子3aとが、1対1で電気的に接続される。なお、検査用回路基板3をフレキシブル基板で構成するとともに、固定台2と検査用回路基板3との間にゴム弾性シート5(図1参照)を設けた構成とすれば、電子デバイス10を押圧する際、電極30や端子3a、10aの上下方向における位置誤差(凹凸)等を吸収することができ、各電極30と、対応する端子3a、10aとをより一層確実に電気的に接続させて、信頼性を向上させている。また、検査用回路基板3の表面にソルダレジスト膜(図示せず)が形成されている場合には、端子3aの表面が、ソルダレジスト膜の厚さにより検査用回路基板3の表面(すなわちソルダレジスト膜の表面)より凹んだ位置に配置される。しかしながら、本実施の形態によるコンタクトシート20を用いることによって、電極30が検査用回路基板3の端子3aと接続することができ、端子3aと電子デバイス10の端子10aを電気的に確実に接続することができる。   Next, the electronic device 10 is pressed against the circuit board 3 for inspection by the pressing tool 4 of the electrical inspection apparatus 1. As a result, the terminal 10 a of the electronic device 10 is electrically connected to the first connection surface 31 of the electrode 30 of the contact sheet 20, and the terminal 3 a of the circuit board 3 for inspection is the second of the electrode 30 of the contact sheet 20. The second connection surface 32 is electrically connected. That is, the terminals 10 a of the electronic device 10 and the terminals 3 a of the test circuit board 3 are electrically connected in a one-to-one manner via the electrodes 30 of the contact sheet 20. In addition, when the circuit board 3 for inspection is configured by a flexible substrate and the rubber elastic sheet 5 (see FIG. 1) is provided between the fixing base 2 and the circuit board 3 for inspection, the electronic device 10 is pressed. At the same time, positional errors (concave and convex) and the like in the vertical direction of the electrodes 30 and the terminals 3a and 10a can be absorbed, and the respective electrodes 30 and the corresponding terminals 3a and 10a are more reliably electrically connected. , Improve the reliability. When the solder resist film (not shown) is formed on the surface of the circuit board 3 for inspection, the surface of the terminal 3a is the surface of the circuit board 3 for inspection according to the thickness of the solder resist film It is disposed at a position recessed from the surface of the resist film. However, by using the contact sheet 20 according to the present embodiment, the electrode 30 can be connected to the terminal 3a of the circuit board 3 for inspection, and the terminal 3a and the terminal 10a of the electronic device 10 can be electrically connected reliably. be able to.

その後、電子デバイス10を検査用回路基板3の側に押圧した状態で、電子デバイス10の電気特性検査が行われる。検査用回路基板3には、図示しないテスターが接続されており、このテスターから検査用回路基板3とコンタクトシート20の電極30とを介して、電子デバイス10の電気特性検査が行われる。   Thereafter, in the state where the electronic device 10 is pressed to the side of the circuit board 3 for inspection, the electrical characteristic inspection of the electronic device 10 is performed. A tester (not shown) is connected to the circuit board 3 for inspection, from which the electrical characteristics of the electronic device 10 are inspected through the circuit board 3 for inspection and the electrodes 30 of the contact sheet 20.

このように本実施の形態によれば、電子デバイス10の端子10aと検査用回路基板3の端子3aとを電気的に接続するための電極30が、金属材料により形成されている。このことにより、電極30の導電性を向上させることができる。このため、電子デバイス10の端子10aと、対応する検査用回路基板3の端子3aとの間の電気抵抗を低減させて電気的接続の信頼性を向上させることができ、電気特性検査の信頼性を向上させることができる。   As described above, according to the present embodiment, the electrode 30 for electrically connecting the terminal 10 a of the electronic device 10 and the terminal 3 a of the inspection circuit board 3 is formed of a metal material. By this, the conductivity of the electrode 30 can be improved. Therefore, the electrical resistance between the terminal 10a of the electronic device 10 and the corresponding terminal 3a of the inspection circuit board 3 can be reduced to improve the reliability of the electrical connection, and the reliability of the electrical characteristic inspection can be improved. Can be improved.

また、本実施の形態によれば、電子デバイス10の端子10aに電気的に接続される電極30の第1接続面31と、検査用回路基板3の端子3aに電気的に接続される電極30の第2接続面32との間に、コンタクトシート20の法線方向に対して直交する方向に向って突出する突出部33が設けられ、この突出部33を画定する第1画定面34に絶縁層40が接合されている。このことにより、コンタクトシート20の法線方向に沿う押圧力に対する強度を向上させることができる。このため、電極30が絶縁層40から脱落することを防止でき、コンタクトシート20の機械的信頼性を向上させることができる。   Further, according to the present embodiment, the first connection surface 31 of the electrode 30 electrically connected to the terminal 10 a of the electronic device 10 and the electrode 30 electrically connected to the terminal 3 a of the circuit board 3 for inspection. Between the first connection surface 32 and the second connection surface 32. A protrusion 33 protruding in a direction orthogonal to the normal direction of the contact sheet 20 is provided, and insulating is made on the first defining surface 34 defining the protrusion 33. Layers 40 are bonded. As a result, the strength against the pressing force along the normal direction of the contact sheet 20 can be improved. Therefore, the electrode 30 can be prevented from coming off the insulating layer 40, and the mechanical reliability of the contact sheet 20 can be improved.

また、本実施の形態によれば、板状の金属基材50をエッチングすることによって、コンタクトシート20の法線方向において第2接続面32の側に向って凸となる曲面の一部をなす第1画定面34と、コンタクトシート20の法線方向において第1接続面31の側に向って凸となる曲面の一部をなす第2画定面35と、によって突出部33を画定することができる。このことにより、電極30の脱落を防止可能なコンタクトシート20を、エッチングによって容易に得ることができる。また、エッチングによって電極30が形成されているため、電極30の第1接続面31および第2接続面32の平面形状を微細化することができ、端子10aが微細化された電子デバイス10の電気特性検査に好適に用いることができる。この場合、電子デバイス10を押圧する際に、電子デバイス10の端子10aから電極30の第1接続面31が受ける圧力を高めることができると共に、電極30の第2接続面32から検査用回路基板3の端子3aが受ける圧力を高めることができ、電気的な接続の信頼性を向上させることができる。また、エッチングによって電極30の形状精度および位置精度を向上させることができ、微細化された電子デバイス10の端子10aに、容易に位置合わせすることができ、このことによっても電気的な接続の信頼性を向上させることができる。さらに、電子デバイス10は小形化、多ピン化が進み、端子10aの高密度化が進展しているが、本実施の形態によるコンタクトシート20によれば、このような高密度化した電子デバイス10にも対応して、端子10aを検査用回路基板3の端子3aに電気的に接続して電気検査を行うことができる。   Further, according to the present embodiment, etching the plate-like metal base member 50 forms a part of a curved surface that is convex toward the second connection surface 32 in the normal direction of the contact sheet 20. The protrusion 33 is defined by the first defining surface 34 and the second defining surface 35 that is a part of a curved surface that is convex toward the first connection surface 31 in the normal direction of the contact sheet 20. it can. By this, the contact sheet 20 which can prevent drop-off | omission of the electrode 30 can be easily obtained by an etching. Further, since the electrode 30 is formed by etching, the planar shapes of the first connection surface 31 and the second connection surface 32 of the electrode 30 can be miniaturized, and the electricity of the electronic device 10 in which the terminal 10 a is miniaturized It can be suitably used for characteristic inspection. In this case, when pressing the electronic device 10, the pressure received by the first connection surface 31 of the electrode 30 from the terminal 10a of the electronic device 10 can be increased, and the test circuit board from the second connection surface 32 of the electrode 30 The pressure received by the three terminals 3a can be increased, and the reliability of the electrical connection can be improved. In addition, the shape accuracy and position accuracy of the electrode 30 can be improved by etching, and it can be easily aligned with the terminal 10a of the miniaturized electronic device 10, which also contributes to the reliability of the electrical connection. It is possible to improve the quality. Furthermore, the electronic device 10 has been miniaturized and the number of pins increased, and the densification of the terminals 10a has progressed, but according to the contact sheet 20 according to the present embodiment, such a densified electronic device 10 Accordingly, the electrical test can be performed by electrically connecting the terminal 10a to the terminal 3a of the test circuit board 3.

また、本実施の形態によれば、電極30の第1接続面31上および第2接続面32上に、めっき層60が設けられている。このことにより、電極30が腐食されることを防止できる。また、電極30の第1接続面31と、対応する電子デバイス10の端子10aとの接触抵抗を低減できると共に、電極30の第2接続面32と、対応する検査用回路基板3の端子3aとの接触抵抗を低減できる。   Further, according to the present embodiment, the plating layer 60 is provided on the first connection surface 31 and the second connection surface 32 of the electrode 30. This can prevent the electrode 30 from being corroded. Further, the contact resistance between the first connection surface 31 of the electrode 30 and the terminal 10a of the corresponding electronic device 10 can be reduced, and the second connection surface 32 of the electrode 30 and the terminal 3a of the corresponding test circuit board 3 Contact resistance can be reduced.

また、本実施の形態によれば、電極30の第1接続面31は、絶縁層40よりも、第2接続面32の側とは反対側に突出して配置されている。このことにより、電子デバイス10を検査用回路基板3に押圧させる際に、絶縁層40が電子デバイス10に接触して電極30の第1接続面31と、対応する電子デバイス10の端子10aとが離間することを回避することができる。このため、電極30の第1接続面31と、対応する電子デバイス10の端子10aとの電気的な接続の信頼性を向上させることができる。また、本実施の形態によれば、電極30の第2画定面35に絶縁層40が接合されていない。このことにより、電子デバイス10を検査用回路基板3に押圧させる際に、電極30の第2接続面32と、対応する検査用回路基板3の端子3aとが離間することを回避することができる。   Further, according to the present embodiment, the first connection surface 31 of the electrode 30 is disposed so as to protrude to the side opposite to the second connection surface 32 with respect to the insulating layer 40. Thereby, when the electronic device 10 is pressed against the circuit board 3 for inspection, the insulating layer 40 contacts the electronic device 10 and the first connection surface 31 of the electrode 30 and the terminal 10 a of the corresponding electronic device 10 Spacing can be avoided. Therefore, the reliability of the electrical connection between the first connection surface 31 of the electrode 30 and the terminal 10 a of the corresponding electronic device 10 can be improved. Further, according to the present embodiment, the insulating layer 40 is not bonded to the second defining surface 35 of the electrode 30. By this, when pressing the electronic device 10 against the circuit board 3 for inspection, separation of the second connection surface 32 of the electrode 30 and the terminal 3a of the corresponding circuit 3 for inspection can be avoided. .

また、本実施の形態によれば、金属基材50の第1面50aの側に第1凹部51が形成された後、第2面50bの側に仮第2凹部52が形成される。このことにより、仮第2凹部52をエッチングして第2凹部53を形成する際に、この仮第2凹部52を拡大するようにして第2凹部53を形成することができる。このため、仮第2凹部52から第2凹部53を形成する際に、第2凹部53を形成するためのレジスト層を不要とすることができ、製造工程の簡素化を図ることができる。とりわけ、本実施の形態によれば、仮第2凹部52をエッチングする際に金属基材50の第2面50bをもエッチングする。このことにより、第2面50bに略垂直方向にエッチング液による浸食が進むことから、エッチング後に得られる電極30の第2接続面32を、第2面50bと略平行にすることができ、その結果として第1接続面31とも略平行にすることができる。このため、仮第2凹部52から第2凹部53を形成する際に、第2面50bにレジスト層を設けることを不要とすることができ、製造工程の簡素化を図ることができる。   Further, according to the present embodiment, after the first recess 51 is formed on the side of the first surface 50a of the metal base 50, the temporary second recess 52 is formed on the side of the second surface 50b. As a result, when forming the second recess 53 by etching the temporary second recess 52, the second recess 53 can be formed so as to expand the temporary second recess 52. For this reason, when forming the 2nd recessed part 53 from the temporary 2nd recessed part 52, the resist layer for forming the 2nd recessed part 53 can be made unnecessary, and simplification of a manufacturing process can be achieved. In particular, according to the present embodiment, when the temporary second recess 52 is etched, the second surface 50 b of the metal base 50 is also etched. By this, since the erosion by the etching solution proceeds in a direction substantially perpendicular to the second surface 50b, the second connection surface 32 of the electrode 30 obtained after the etching can be made substantially parallel to the second surface 50b. As a result, the first connection surface 31 can also be made substantially parallel. For this reason, when forming the 2nd recessed part 53 from the temporary 2nd recessed part 52, it can become unnecessary to provide a resist layer in the 2nd surface 50b, and simplification of a manufacturing process can be achieved.

なお、上述した本実施の形態においては、コンタクトシートを電気検査装置1で使用する例について説明した。この例では、電子デバイス10の電気検査のために、コンタクトシート20が、電子デバイス10の端子10aと検査用回路基板3の端子3aを一時的に電気的に接続し、電気検査終了後、電気的接続が解除されて、電子デバイス10が検査用回路基板3から取り外される。すなわち、コンタクトシート20が、電子デバイス10と検査用回路基板3とを一時的に電気的に接続する例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、コンタクトシート20は、永続的な電気的接続に使用することもできる。例えば、コンタクトシート20の電極30は、任意の用途の回路基板3’の端子3a’に半田接続されるとともに、電子デバイス10の端子10aに半田接続されるようにしてもよい。   In the above-described embodiment, an example in which the contact sheet is used in the electrical inspection apparatus 1 has been described. In this example, for the electrical inspection of the electronic device 10, the contact sheet 20 temporarily electrically connects the terminal 10a of the electronic device 10 and the terminal 3a of the circuit board 3 for inspection, and after the electrical inspection is completed As a result, the electronic device 10 is removed from the circuit board 3 for inspection. That is, the example in which the contact sheet 20 electrically connects the electronic device 10 and the circuit board 3 for inspection temporarily has been described. However, the present invention is not limited to this, and the contact sheet 20 can also be used for permanent electrical connection. For example, the electrodes 30 of the contact sheet 20 may be soldered to the terminals 3 a ′ of the circuit board 3 ′ for an arbitrary application and to the terminals 10 a of the electronic device 10.

電子デバイス10の端子10aを、コンタクトシート20を介して回路基板3’の端子3a’に接続する場合、図19に示すように、まず、回路基板3’の端子3a’上に、半田ボール80が載置される。なお、半田ボール80に代えて、端子3a’上に、スクリーン印刷によって半田ペーストが塗布されるようにしてもよい。   When the terminal 10a of the electronic device 10 is connected to the terminal 3a 'of the circuit board 3' via the contact sheet 20, first, as shown in FIG. 19, the solder ball 80 is placed on the terminal 3a 'of the circuit board 3'. Is placed. In place of the solder balls 80, solder paste may be applied on the terminals 3a 'by screen printing.

続いて、回路基板3’上にコンタクトシート20が載置される。この際、回路基板3’の端子3a’に設けられた半田ボール80に、コンタクトシート20の対応する電極30の第2接続面32を位置合わせする。   Subsequently, the contact sheet 20 is placed on the circuit board 3 ′. At this time, the second connection surface 32 of the corresponding electrode 30 of the contact sheet 20 is aligned with the solder ball 80 provided on the terminal 3a 'of the circuit board 3'.

次に、コンタクトシート20の電極30の第1接続面31上に、半田ボール81が端子上に設けられた電子デバイス10が載置される。この際、コンタクトシート20の電極30の第1接続面31に、電子デバイス10の端子10a上に設けられた半田ボール81を位置合わせする。このようにして、電子デバイス10と回路基板3’との間にコンタクトシート20が介在される。   Next, on the first connection surface 31 of the electrode 30 of the contact sheet 20, the electronic device 10 in which the solder ball 81 is provided on the terminal is placed. At this time, the solder balls 81 provided on the terminals 10 a of the electronic device 10 are aligned with the first connection surfaces 31 of the electrodes 30 of the contact sheet 20. Thus, the contact sheet 20 is interposed between the electronic device 10 and the circuit board 3 '.

次に、電子デバイス10を回路基板3’の側に接着剤等で固定した状態で、半田ボール80、81が加熱される。このことにより、加熱された半田ボール80、81が溶融して、隣接する電極30および端子3a’、10aに溶着して永続的に固定されるとともに電気的に接続される。   Next, the solder balls 80 and 81 are heated in a state where the electronic device 10 is fixed to the side of the circuit board 3 ′ with an adhesive or the like. As a result, the heated solder balls 80 and 81 melt and are welded and permanently fixed and electrically connected to the adjacent electrodes 30 and the terminals 3a 'and 10a.

ここで、回路基板3’の表面にソルダレジスト膜(図示せず)が形成されている場合には、端子3a’の表面が、ソルダレジスト膜の厚さにより回路基板3’の表面(すなわちソルダレジスト膜の表面)より凹んだ位置に配置される。しかしながら、本実施の形態によるコンタクトシート20を用いることによって、電極30が回路基板3’の端子3a’と接続することができ、端子3a’と電子デバイス10の端子10aを電気的に確実に接続することができる。   Here, when the solder resist film (not shown) is formed on the surface of the circuit board 3 ', the surface of the terminal 3a' is the surface of the circuit board 3 '(that is, the solder resist film) according to the thickness of the solder resist film. It is disposed at a position recessed from the surface of the resist film. However, by using the contact sheet 20 according to the present embodiment, the electrode 30 can be connected to the terminal 3a 'of the circuit board 3', and the terminal 3a 'and the terminal 10a of the electronic device 10 can be electrically connected reliably. can do.

また、図19に示す形態においては、コンタクトシート20によって電子デバイス10の端子10aと回路基板3’の端子3a’とが、1対1で電気的に接続される例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、例えば、図20に示すように、電子デバイス10の複数の端子10aが、回路基板3’の共通の端子3a’に電気的に接続されるようにしてもよい。例えば、電子デバイス10の電源端子やグランド端子は、所望の電流容量を満たすために、複数の端子10aで構成される場合がある。そこで、図20には、電源端子やグランド端子が4つの端子10aで構成され、それら4つの端子10aが、回路基板3’の一つの端子3a’に電気的に接続される例が示されている。この場合には、コンタクトシート20に存在する複数の電極30のうちの一部の電極30であって、互いに隣り合う電極30の第2接続面32が互いに接続されて一体化されている。このようなコンタクトシート20は、ステップS4において、互いに隣り合う電極30の間に仮第2凹部52を形成しないことにより、すなわち、ステップS2において、第2レジスト層72のうち対象部位に第2レジスト層開口部72aを形成しないことにより得ることができる。この場合、ステップS7におけるエッチングによっても、対象部位に第2凹部53は形成されることはなく、金属基材50の第2面50bと略平行な図20に示す第2接続面32を形成することができる。   Further, in the embodiment shown in FIG. 19, an example in which the terminal 10 a of the electronic device 10 and the terminal 3 a ′ of the circuit board 3 ′ are electrically connected one to one by the contact sheet 20 has been described. However, the present invention is not limited thereto. For example, as shown in FIG. 20, a plurality of terminals 10a of the electronic device 10 are electrically connected to the common terminal 3a 'of the circuit board 3'. It is also good. For example, the power supply terminal and the ground terminal of the electronic device 10 may be configured by a plurality of terminals 10 a in order to satisfy a desired current capacity. Therefore, FIG. 20 shows an example in which the power supply terminal and the ground terminal are constituted by four terminals 10a, and the four terminals 10a are electrically connected to one terminal 3a 'of the circuit board 3'. There is. In this case, the second connection surfaces 32 of the adjacent electrodes 30 which are a part of the plurality of electrodes 30 present in the contact sheet 20 are mutually connected and integrated. Such a contact sheet 20 does not form the temporary second recess 52 between the electrodes 30 adjacent to each other in step S4, that is, in step S2, a second resist is formed on the target portion of the second resist layer 72. It can be obtained by not forming the layer opening 72a. In this case, the second recess 53 is not formed in the target portion even by the etching in step S7, and the second connection surface 32 shown in FIG. 20 substantially parallel to the second surface 50b of the metal base 50 is formed. be able to.

図20に示す形態においては、電極30の各第1接続面31に半田ボール81が載置され、電子デバイス10の端子10aとコンタクトシート20の電極30とを電気的に接続するようにしてもよい。しかしながら、これに限られることはない。例えば、4つの第1接続面31の中間位置(すなわち、4つの電極30の間に位置する第1凹部51)に一つの半田ボール81を載置することにより、4つの第1接続面31を、対応する電子デバイス10の端子10aにそれぞれ電気的に接続することも可能となる。この場合、半田ボール81は、4つの電極30の間の第1凹部51に配置されるため、半田ボール81を安定して保持させることができ、取扱性を向上させることができる。なお、電子デバイス10の複数の端子10aが回路基板3’の共通の端子3a’に電気的に接続される形態は、図20に示すような半田を用いた永続的な接続の形態に適用される場合に限られることはなく、図18に示すような、検査用回路基板3に半田を用いることなく一時的に接続される形態にも適用することができる。   In the embodiment shown in FIG. 20, solder balls 81 are placed on the respective first connection surfaces 31 of the electrodes 30, and the terminals 10a of the electronic device 10 and the electrodes 30 of the contact sheet 20 are electrically connected. Good. However, it is not limited to this. For example, by placing one solder ball 81 at an intermediate position of the four first connection surfaces 31 (that is, the first recess 51 located between the four electrodes 30), the four first connection surfaces 31 can be obtained. It also becomes possible to electrically connect to the terminals 10 a of the corresponding electronic devices 10 respectively. In this case, since the solder ball 81 is disposed in the first recess 51 between the four electrodes 30, the solder ball 81 can be stably held, and the handleability can be improved. The form in which the plurality of terminals 10a of the electronic device 10 are electrically connected to the common terminal 3a 'of the circuit board 3' is applied to the form of permanent connection using solder as shown in FIG. The present invention is not limited to the case described above, and can be applied to a mode in which the test circuit board 3 is temporarily connected to the test circuit board 3 without using solder as shown in FIG.

また、上述した本実施の形態においては、コンタクトシート20は、図21に示すように、各電極30の位置を、コンタクトシート20の法線方向に対して直交する方向(コンタクトシート20の平面に沿った方向、図21における横方向)において規制する規制板90を更に備えていてもよい。このような規制板90は、例えば、絶縁板に電極30を貫通させる貫通孔91を設けることにより形成することができる。このため、電子デバイス10の端子10aや検査用回路基板3の端子3aに、電極30を容易に位置合わせすることができ、電気的な接続の信頼性を向上させることができる。   Further, in the above-described embodiment, as shown in FIG. 21, in the contact sheet 20, the position of each electrode 30 is perpendicular to the normal direction of the contact sheet 20 (in the plane of the contact sheet 20). A regulating plate 90 may be further provided which regulates in the direction along (lateral direction in FIG. 21). Such a regulation plate 90 can be formed, for example, by providing a through hole 91 which allows the electrode 30 to penetrate through the insulating plate. Therefore, the electrode 30 can be easily aligned with the terminal 10a of the electronic device 10 or the terminal 3a of the circuit board 3 for inspection, and the reliability of the electrical connection can be improved.

また、上述した本実施の形態においては、第2画定面35上に絶縁層が形成されていない例について説明した。しかしながら、このことに限られることはない。例えば、図22に示すように、コンタクトシート20は、第2画定面35に接合された、複数の電極30を連結する第2の絶縁層100を更に備えていてもよい。図22に示す形態においては、第2の絶縁層100は、第2画定面35と、絶縁層40の第2接続面32の側の面に形成されている。このような第2の絶縁層100により、コンタクトシート20の法線方向に沿う押圧力に対する強度をより一層向上させることができる。このため、電極30が絶縁層40から脱落することをより一層防止できる。このような第2の絶縁層100は、例えば、絶縁層40と同様にしてポリイミドによって形成することができ、例えば、図12に示す第2凹部53が形成された工程(ステップS7)の後、図13に示す第1接続面31上の絶縁層40を除去する工程(ステップS8)の前に、形成することが好適である。第2の絶縁層100が第2接続面32上にも形成される場合には、第2接続面32上の第2の絶縁層100を、ステップS8において除去することが好適である。   Further, in the above-described embodiment, the example in which the insulating layer is not formed on the second defining surface 35 has been described. However, this is not restrictive. For example, as shown in FIG. 22, the contact sheet 20 may further include a second insulating layer 100 joined to the second defining surface 35 and connecting the plurality of electrodes 30. In the embodiment shown in FIG. 22, the second insulating layer 100 is formed on the second defining surface 35 and the surface on the side of the second connection surface 32 of the insulating layer 40. Such a second insulating layer 100 can further improve the strength against the pressing force along the normal direction of the contact sheet 20. Therefore, the electrode 30 can be further prevented from falling off the insulating layer 40. Such a second insulating layer 100 can be formed, for example, of polyimide in the same manner as the insulating layer 40, and, for example, after the step (step S7) in which the second recess 53 shown in FIG. It is preferable to form before the process (step S8) of removing the insulating layer 40 on the 1st connection surface 31 shown in FIG. When the second insulating layer 100 is also formed on the second connection surface 32, it is preferable to remove the second insulating layer 100 on the second connection surface 32 in step S8.

以上、本発明の実施の形態について詳細に説明してきたが、本発明による電極シートおよび電極シートの製造方法は、上記実施の形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能である。   As mentioned above, although the embodiment of the present invention has been described in detail, the manufacturing method of the electrode sheet and the electrode sheet according to the present invention is not limited to the above embodiment at all, and the scope without departing from the spirit of the present invention Various changes are possible in.

1 電気検査装置
2 固定台
3 検査用回路基板
3a 端子
4 押圧具
5 ゴム弾性シート
10 電子デバイス
10a 端子
20 コンタクトシート
30 電極
31 第1接続面
32 第2接続面
33 突出部
34 第1画定面
35 第2画定面
40 絶縁層
41 切込部
50 金属基材
50a 第1面
50b 第2面
51 第1凹部
51a 壁面
52 仮第2凹部
53 第2凹部
53a 壁面
54 尾根部
60 めっき層
61 ニッケルめっき層
62 金めっき層
71 第1レジスト層
71a 第1レジスト層開口部
72 第2レジスト層
72a 第2レジスト層開口部
80、81 半田ボール
90 規制板
91 貫通孔
100 第2の絶縁層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 electrical inspection apparatus 2 fixing stand 3 circuit board 3a for inspection 3 terminal 4 pressing tool 5 rubber elastic sheet 10 electronic device 10a terminal 20 contact sheet 30 electrode 31 1st connection surface 32 2nd connection surface 33 protrusion 34 1st definition surface 35 Second demarcation surface 40 Insulating layer 41 notched portion 50 metal base 50a first surface 50b second surface 51 first recess 51a wall surface 52 provisional second recess 53 second recess 53a wall surface 54 ridge portion 60 plating layer 61 nickel plating layer 62 Gold-Plated Layer 71 First Resist Layer 71a First Resist Layer Opening 72 Second Resist Layer 72a Second Resist Layer Opening 80, 81 Solder Ball 90 Regulating Plate 91 Through Hole 100 Second Insulating Layer

Claims (16)

接続対象と、前記接続対象と電気的に接続される回路基板との間に配設されて、前記接続対象の端子と前記回路基板の端子とを電気的に接続するための電極シートであって、
互いに離間した、金属材料により形成された複数の電極と、
複数の前記電極を連結する絶縁層と、を備え、
前記電極は、第1接続面と、前記第1接続面とは反対側に設けられた第2接続面と、前記第1接続面と前記第2接続面との間に設けられ、前記電極シートの法線方向に対して直交する方向に向って突出する突出部と、を有し、
前記絶縁層は、前記電極の前記突出部に接合され
前記電極の前記突出部は、前記第1接続面の側に設けられた、前記法線方向において前記第2接続面の側に向って凸となる曲面の一部をなす第1画定面と、前記第2接続面の側に設けられた、前記法線方向において前記第1接続面の側に向って凸となる曲面の一部をなす第2画定面と、によって画定されていることを特徴とする電極シート。
An electrode sheet disposed between a connection target and a circuit board electrically connected to the connection target, for electrically connecting the terminal to be connected and the terminal of the circuit board ,
A plurality of electrodes formed of a metallic material, spaced apart from one another;
An insulating layer connecting a plurality of the electrodes;
The electrode is provided between a first connection surface, a second connection surface provided on the side opposite to the first connection surface, and the first connection surface and the second connection surface, and the electrode sheet And a projection projecting in a direction orthogonal to the normal direction of the
The insulating layer is bonded to the protrusion of the electrode ;
The protrusion of the electrode is a first defining surface provided on the side of the first connection surface, the first defining surface being a part of a curved surface that is convex toward the second connection surface in the normal direction; A second defining surface provided on the side of the second connecting surface, which is a part of a curved surface that is convex toward the first connecting surface in the normal direction, is defined. Electrode sheet.
前記絶縁層は、前記突出部の前記第1画定面に接合されていることを特徴とする請求項に記載の電極シート。 The electrode sheet according to claim 1 , wherein the insulating layer is bonded to the first defining surface of the protrusion. 前記突出部の前記第2画定面に接合され、複数の前記電極を連結する第2の絶縁層を更に備えたことを特徴とする請求項に記載の電極シート。 The electrode sheet according to claim 2 , further comprising a second insulating layer joined to the second defined surface of the protrusion and connecting a plurality of the electrodes. 前記電極の前記第1接続面上および前記第2接続面上に、めっき層が設けられていることを特徴とする請求項1乃至のいずれか一項に記載の電極シート。 The electrode sheet according to any one of claims 1 to 3 , wherein a plating layer is provided on the first connection surface and the second connection surface of the electrode. 前記電極の前記第1接続面は、前記絶縁層よりも、前記第2接続面の側とは反対側に突出して配置されていることを特徴とする請求項1乃至のいずれか一項に記載の電極シート。 The said 1st connection surface of the said electrode is protruded and arrange | positioned on the opposite side to the side of the said 2nd connection surface rather than the said insulating layer, It is arrange | positioned in any one of the Claims 1 thru | or 4 characterized by the above-mentioned. The electrode sheet of description. 複数の前記電極のうちの一部の前記電極であって、互いに隣り合う前記電極の前記第2接続面が一体化されていることを特徴とする請求項1乃至のいずれか一項に記載の電極シート。 The electrode according to any one of claims 1 to 5 , wherein the second connection surfaces of the adjacent electrodes, which are a part of the plurality of electrodes, are adjacent to each other. Electrode sheet. 前記電極の位置を、前記法線方向に対して直交する方向において規制する規制板を更に備えたことを特徴とする請求項1乃至のいずれか一項に記載の電極シート。 The electrode sheet according to any one of claims 1 to 6 , further comprising a restricting plate which restricts the position of the electrode in a direction orthogonal to the normal direction. 検査対象と、前記検査対象と電気的に接続される回路基板との間に配設されて、前記検査対象の端子と前記回路基板の端子とを電気的に接続するための電極シートの製造方法であって、
第1面と、前記第1面とは反対側に設けられた第2面と、を有する金属基材を準備する工程と、
前記金属基材を前記第1面の側からエッチングして、当該第1面の側に、第1凹部を形成する工程と、
前記第1凹部の壁面上に絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層を形成する工程の後、前記金属基材を前記第2面の側からエッチングして、当該第2面の側に、前記第1凹部に接続される第2凹部を形成し、これにより互いに離間すると共に前記絶縁層によって連結された複数の電極を形成する工程と、を備え、
前記電極を形成する工程において形成された前記電極は、第1接続面と、前記第1接続面とは反対側に設けられた第2接続面と、前記第1接続面と前記第2接続面との間に設けられ、前記電極シートの法線方向に対して直交する方向に向って突出する突出部と、を有し、前記絶縁層は、前記電極の前記突出部に接合されることを特徴とする電極シートの製造方法。
A method of manufacturing an electrode sheet disposed between an inspection object and a circuit board electrically connected to the inspection object, for electrically connecting the terminal to be inspected and the terminals of the circuit board And
Preparing a metal substrate having a first surface and a second surface provided opposite to the first surface;
Etching the metal substrate from the side of the first surface to form a first recess on the side of the first surface;
Forming an insulating layer on the wall surface of the first recess;
After the step of forming the insulating layer, the metal base is etched from the side of the second surface to form a second recess connected to the first recess on the side of the second surface, Forming a plurality of electrodes spaced apart from one another and connected by the insulating layer,
The electrode formed in the step of forming the electrode includes a first connection surface, a second connection surface provided on the opposite side to the first connection surface, the first connection surface, and the second connection surface. And a protruding portion provided in the direction perpendicular to the normal direction of the electrode sheet, and the insulating layer is bonded to the protruding portion of the electrode. The manufacturing method of the electrode sheet characterized by the above.
前記第1凹部を形成する工程において形成される前記第1凹部の壁面は、前記法線方向において前記金属基材の前記第2面の側に向って凸となる曲面状に形成され、
前記電極を形成する工程において形成される前記第2凹部の壁面は、前記法線方向において前記金属基材の前記第1面の側に向って凸となる曲面状に形成され、
前記電極の前記突出部は、前記第1凹部の壁面の一部をなす第1画定面と、前記第2凹部の一部をなす第2画定面と、によって画定されていることを特徴とする請求項に記載の電極シートの製造方法。
The wall surface of the first concave portion formed in the step of forming the first concave portion is formed in a curved shape which is convex toward the second surface side of the metal base in the normal direction,
The wall surface of the second recess formed in the step of forming the electrode is formed in a curved shape that is convex toward the first surface side of the metal base in the normal direction,
The projection of the electrode is defined by a first defining surface forming a part of a wall surface of the first recess and a second defining surface forming a part of the second recess. The manufacturing method of the electrode sheet of Claim 8 .
前記電極を形成する工程の後、前記突出部の前記第2画定面に接合され、複数の前記電極を連結する第2の絶縁層を形成する工程を更に備えたことを特徴とする請求項に記載の電極シートの製造方法。 10. The method according to claim 9 , further comprising the step of forming a second insulating layer joined to the second defining surface of the protrusion and connecting a plurality of the electrodes after the step of forming the electrode. The manufacturing method of the electrode sheet as described in-. 前記第1凹部を形成する工程の後、前記絶縁層を形成する工程の前に、前記金属基材を前記第2面の側からエッチングして、当該第2面の側に、前記第1凹部に接続されない仮第2凹部を形成する工程を更に備え、
前記電極を形成する工程において、前記仮第2凹部がエッチングされて前記第2凹部が形成されることを特徴とする請求項乃至10のいずれか一項に記載の電極シートの製造方法。
After the step of forming the first recess, before the step of forming the insulating layer, the metal base material is etched from the side of the second surface, and the first recess is formed on the side of the second surface. Further comprising the step of forming a temporary second recess not connected to the
The method of manufacturing an electrode sheet according to any one of claims 8 to 10 , wherein the temporary second recess is etched to form the second recess in the step of forming the electrode.
前記電極を形成する工程において、前記仮第2凹部と共に前記金属基材の前記第2面がエッチングされることを特徴とする請求項11に記載の電極シートの製造方法。 The method according to claim 11 , wherein the second surface of the metal base is etched together with the temporary second recess in the step of forming the electrode. 前記電極を形成する工程の後、前記電極の前記第1接続面上および前記第2接続面上に、めっき層を形成する工程を更に備えたことを特徴とする請求項乃至12のいずれか一項に記載の電極シートの製造方法。 After the step of forming the electrode, the first connection surface and on the second connecting plane of the electrode, further any one of claims 8 to 12, characterized in that it comprises a step of forming a plating layer The manufacturing method of the electrode sheet as described in one term. 前記絶縁層を形成する工程において、前記金属基材の前記第1面および前記第1凹部の壁面上に液状の絶縁材料が塗布されることにより前記絶縁層が形成され、
前記絶縁層を形成する工程の後、前記絶縁層のうち前記電極の前記第1接続面に対応する部分は除去されることを特徴とする請求項乃至13のいずれか一項に記載の電極シートの製造方法。
In the step of forming the insulating layer, the insulating layer is formed by applying a liquid insulating material on the first surface of the metal base and the wall surface of the first recess,
The electrode according to any one of claims 8 to 13 , wherein after the step of forming the insulating layer, a portion of the insulating layer corresponding to the first connection surface of the electrode is removed. Sheet manufacturing method.
前記電極を形成する工程において、複数の前記電極のうちの一部の前記電極であって、互いに隣り合う前記電極の前記第2接続面が一体化されることを特徴とする請求項乃至14のいずれか一項に記載の電極シートの製造方法。 The method according to any one of claims 8 to 14 , wherein, in the step of forming the electrodes, the second connection surfaces of the adjacent electrodes which are a part of the plurality of electrodes and are adjacent to each other are integrated. The manufacturing method of the electrode sheet as described in any one of these. 電極の位置を、前記法線方向に対して直交する方向において規制する規制板を前記電極に取り付ける工程を更に備えたことを特徴とする請求項乃至15のいずれか一項に記載の電極シートの製造方法。 The electrode sheet according to any one of claims 8 to 15 , further comprising the step of attaching a restricting plate for restricting the position of the electrode in a direction orthogonal to the normal direction to the electrode. Manufacturing method.
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