JP6516053B1 - Flux, core solder and soldering method - Google Patents

Flux, core solder and soldering method Download PDF

Info

Publication number
JP6516053B1
JP6516053B1 JP2018124563A JP2018124563A JP6516053B1 JP 6516053 B1 JP6516053 B1 JP 6516053B1 JP 2018124563 A JP2018124563 A JP 2018124563A JP 2018124563 A JP2018124563 A JP 2018124563A JP 6516053 B1 JP6516053 B1 JP 6516053B1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solder
acid
flux
core
iron
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018124563A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2020001077A (en
Inventor
陽子 倉澤
陽子 倉澤
基泰 鬼塚
基泰 鬼塚
尚志 ▲徳▼▲冨▼
尚志 ▲徳▼▲冨▼
浩由 川▲崎▼
浩由 川▲崎▼
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Senju Metal Industry Co Ltd
Original Assignee
Senju Metal Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2018124563A priority Critical patent/JP6516053B1/en
Application filed by Senju Metal Industry Co Ltd filed Critical Senju Metal Industry Co Ltd
Publication of JP6516053B1 publication Critical patent/JP6516053B1/en
Application granted granted Critical
Priority to CN201980043182.1A priority patent/CN112334269B/en
Priority to EP19825971.5A priority patent/EP3815839B1/en
Priority to PCT/JP2019/025575 priority patent/WO2020004543A1/en
Priority to MYPI2020007068A priority patent/MY189947A/en
Priority to US17/256,419 priority patent/US11648631B2/en
Priority to TW108122800A priority patent/TWI782216B/en
Publication of JP2020001077A publication Critical patent/JP2020001077A/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

【課題】低残渣かつ加工性に優れたフラックス、このフラックスを使用したやに入りはんだ、フラックスコートハンダ及びはんだ付け方法を提供する。【解決手段】フラックスは、固形溶剤を70wt%以上99.5wt%以下、活性剤を0.5wt%以上30wt%以下含む。また、フラックスは、フェノール系固形溶剤を70wt%以上〜100wt%以下、活性剤を0wt%以上30wt%以下含む。更に、フラックスは、フェノール系固形溶剤を0wt%超〜30wt%以下、フェノール系固形溶剤以外の固形溶剤を70wt%以上99.5wt%以下、活性剤を0wt%以上30wt%以下含む。【選択図】無しThe present invention provides a flux which is low in residue and excellent in processability, and core solder, flux coat solder and soldering method using this flux. A flux contains 70 wt% to 99.5 wt% of a solid solvent, and 0.5 wt% to 30 wt% of an activator. Further, the flux contains 70 wt% or more and 100 wt% or less of the phenolic solid solvent, and 0 wt% or more and 30 wt% or less of the activator. Furthermore, the flux contains more than 0 wt% to 30 wt% or less of a phenolic solid solvent, 70 wt% to 99.5 wt% of a solid solvent other than a phenolic solid solvent, and 0 wt% to 30 wt% of an activator. 【Selection chart】 None

Description

本発明は、やに入りはんだ用のフラックス、このやに入りはんだ用のフラックスを用いたやに入りはんだ及びはんだ付け方法に関する。 The present invention, the flux for solder cored, Bihanda with a method of solder cored using a flux for solder fall into this killing.

一般的に、はんだ付けに用いられるフラックスは、はんだ及びはんだ付けの対象となる接合対象物の金属表面に存在する金属酸化物を化学的に除去し、両者の境界で金属元素の移動を可能にする効能を持つ。このため、フラックスを使用してはんだ付けを行うことで、はんだと接合対象物の金属表面との間に金属間化合物が形成できるようになり、強固な接合が得られる。   In general, the flux used for soldering chemically removes the metal oxides present on the metal surface of the soldering object to be soldered and allows the movement of metal elements at the boundary between the two. Have the effect of For this reason, by soldering using a flux, an intermetallic compound can be formed between the solder and the metal surface of the bonding object, and a strong bonding can be obtained.

はんだ付けで使用されるはんだとして、線状のはんだにフラックスが充填されたやに入りはんだと称すはんだが知られている。このようなやに入りはんだで使用されることを想定したフラックスが提案されている(例えば、特許文献1参照)。   As a solder used in soldering, a solder called flux cored solder filled with linear solder is known. The flux which assumes that it is used by such a core solder is proposed (for example, refer to patent documents 1).

やに入りはんだで使用されるフラックスは、加工性の面で固形、または、液体であっても高粘度の様態であることが求められる。   The flux used in the core solder is required to be in the form of solid or liquid even in the form of high viscosity in terms of processability.

やに入りはんだを使用したはんだ付け方法としては、はんだごてと称す加熱部材を用いることが知られている。これに対し、はんだごての中心軸に貫通孔を備え、この貫通孔にやに入りはんだを供給してはんだ付けを行う技術が提案されている(例えば、特許文献2参照)。また、特許文献2に記載のはんだごてで使用されるフラックスにおいて、フラックス残渣が炭化して残存することを原因としたはんだ付け不良を解決するため、ロジンを基材としたフラックスで低残渣を実現した技術が提案されている(例えば、特許文献3参照)。   As a soldering method using core solder, it is known to use a heating member called a soldering iron. On the other hand, a technique has been proposed in which a through hole is provided on a central axis of a soldering iron, and solder is supplied by entering the through hole into the through hole to perform soldering (for example, see Patent Document 2). Further, in the flux used in the soldering iron described in Patent Document 2, in order to solve a soldering defect caused by the carbonized residual flux residue, a low residue is made with a rosin-based flux. A technology that has been realized has been proposed (see, for example, Patent Document 3).

特開2017−113776号公報JP, 2017-113776, A 特開2009−195938号公報JP, 2009-195938, A 特開2018−61978号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 2018-61978

やに入りはんだで使用されるフラックスは、常温ではんだから流れ出ないようにするため所定の粘度が求められ、従来、フラックスに所定量のロジンを含んでいた。ロジンははんだ付けで想定される熱履歴で揮発しにくく、残渣の主成分となる。   The flux used in the core solder is required to have a predetermined viscosity so as not to flow out of the solder at normal temperature, and conventionally, the flux contains a predetermined amount of rosin. Rosin is difficult to volatilize due to the heat history assumed in soldering, and becomes a main component of the residue.

特許文献2に記載されているようなはんだごてを使用してはんだ付けを行うと、貫通孔に供給したやに入りはんだのフラックスが加熱後に残渣となり、貫通孔の内面に付着する場合がある。特許文献2に記載されているはんだごてを使用したはんだ付けでは、はんだごてがはんだの融点を超える所定の温度を保つように制御された状態で、やに入りはんだが貫通孔に供給されてはんだ付けが連続して行われる。これにより、残渣等の付着物が加熱され続けて炭化物となり、貫通孔内の焦げの原因となる。そして、はんだごての貫通孔内に炭化物が堆積して貫通孔の径が小さくなり、やに入りはんだが供給できなくなる可能性がある。特許文献3に記載のフラックスでは、ロジンの選択で低残渣を実現している。しかし、加温時において、ロジンを使用する場合よりもさらに速やかに流動性を確保することが求められていた。   When soldering is performed using a soldering iron as described in Patent Document 2, the flux of solder supplied to the through hole may become a residue after heating and adhere to the inner surface of the through hole. . In the soldering using the soldering iron described in Patent Document 2, the core solder is supplied to the through hole while the soldering iron is controlled to maintain a predetermined temperature exceeding the melting point of the solder. Soldering takes place continuously. As a result, deposits such as residue continue to be heated and become carbides, causing charring in the through holes. Then, carbide may be deposited in the through hole of the soldering iron, the diameter of the through hole may be reduced, and the solder may not be supplied. In the flux described in Patent Document 3, low residue is realized by the selection of rosin. However, at the time of heating, it has been required to secure fluidity more quickly than when using rosin.

本発明は、このような課題を解決するためなされたもので、低残渣かつ加工性に優れたやに入りはんだ用のフラックス、このやに入りはんだ用のフラックスを使用したやに入りはんだ及びはんだ付け方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve such problems, the flux for cored solder excellent killing a low residue and processability, solder cored using a flux for solder enters the arrows an object of the present invention is to provide a Bihanda with method.

固形溶剤及びフェノール系固形溶剤は、フラックスに所定の粘度を持たせることができ、かつ、はんだ付けで想定される温度域までの加熱では難揮発性であり、金属酸化物を除去する効果が得られ、更に、はんだ付けで想定される熱履歴では揮発性を有し、連続した加熱での炭化が抑制されることを見出した。   The solid solvent and the phenolic solid solvent can make the flux have a predetermined viscosity, and are hardly volatile when heated to the temperature range assumed for soldering, and the effect of removing metal oxides is obtained. Furthermore, it has been found that the heat history assumed in soldering is volatile, and carbonization in continuous heating is suppressed.

そこで、本発明は、フラックスが充填されたはんだからなるやに入りはんだを使用し、はんだの融点を超える温度まで、やに入りはんだをはんだごてで加熱して、接合対象物を加熱すると共に、やに入りはんだを溶融させるはんだ付け方法であって、はんだごては、中心軸に沿って形成された貫通孔にやに入りはんだが供給され、はんだごてがはんだの融点を超える温度を保ち、貫通孔に供給されたやに入りはんだを加熱するはんだ付け方法に用いる固形溶剤を70wt%以上99.5wt%以下、活性剤を0.5wt%以上30wt%以下含むやに入りはんだ用のフラックスである。 Therefore, the present invention uses a core solder made of flux-filled solder, and heats the core solder with a soldering iron to a temperature exceeding the melting point of the solder to heat the object to be joined. A soldering method for melting the solder, wherein the soldering iron is supplied with the solder in the through hole formed along the central axis, and the temperature of the soldering iron exceeds the melting point of the solder For solid core solder containing 70 wt% to 99.5 wt% of solid solvent and 0.5 wt% to 30 wt% of activator used in the soldering method of heating and heating the core solder supplied to the through holes. It is a flux.

また、本発明は、フラックスが充填されたはんだからなるやに入りはんだを使用し、はんだの融点を超える温度まで、やに入りはんだをはんだごてで加熱して、接合対象物を加熱すると共に、やに入りはんだを溶融させるはんだ付け方法であって、はんだごては、中心軸に沿って形成された貫通孔にやに入りはんだが供給され、はんだごてがはんだの融点を超える温度を保ち、貫通孔に供給されたやに入りはんだを加熱するはんだ付け方法に用いるフェノール系固形溶剤を70wt%以上〜100wt%以下、活性剤を0wt%以上30wt%以下含むやに入りはんだ用のフラックスである。 Further, the present invention uses a core solder made of flux-filled solder, and heats the core solder with a soldering iron to a temperature exceeding the melting point of the solder to heat the object to be joined. A soldering method for melting the solder, wherein the soldering iron is supplied with the solder in the through hole formed along the central axis, and the temperature of the soldering iron exceeds the melting point of the solder Flux for flux core solder containing 70 wt% or more and 100 wt% or less of phenolic solid solvent and 0 wt% or more and 30 wt% or less of activator used in the soldering method of heating and heating core solder supplied to through holes. It is.

更に、本発明は、フラックスが充填されたはんだからなるやに入りはんだを使用し、はんだの融点を超える温度まで、やに入りはんだをはんだごてで加熱して、接合対象物を加熱すると共に、やに入りはんだを溶融させるはんだ付け方法であって、はんだごては、中心軸に沿って形成された貫通孔にやに入りはんだが供給され、はんだごてがはんだの融点を超える温度を保ち、貫通孔に供給されたやに入りはんだを加熱するはんだ付け方法に用いるフェノール系固形溶剤を0wt%超〜30wt%以下、フェノール系固形溶剤以外の固形溶剤を70wt%以上99.5wt%以下、活性剤を0wt%以上30wt%以下含むやに入りはんだ用のフラックスである。 Furthermore, the present invention uses a core solder consisting of solder filled with flux, and heats the core solder with a soldering iron to a temperature exceeding the melting point of the solder to heat the object to be joined. A soldering method for melting the solder, wherein the soldering iron is supplied with the solder in the through hole formed along the central axis, and the temperature of the soldering iron exceeds the melting point of the solder More than 0 wt% of a phenolic solid solvent used for the soldering method of heating and heating the cored solder supplied to the through holes, and 70 wt% or more and 99.5 wt% or less of solid solvents other than phenolic solid solvents It is a flux for a core solder containing 0 wt% or more and 30 wt% or less of an activator.

本発明では、フラックスが25℃で固形または粘度が3500Pa・s以上の液体であることが好ましい。また、活性剤は、有機酸、アミン、有機ハロゲン化合物、アミンハロゲン化水素酸塩のいずれか、または、有機酸、アミン、有機ハロゲン化合物、アミンハロゲン化水素酸塩の2つ以上の組み合わせであることが好ましい。   In the present invention, the flux is preferably a solid at 25 ° C. or a liquid having a viscosity of 3500 Pa · s or more. The activator is any of an organic acid, an amine, an organic halogen compound, an amine hydrohalide, or a combination of two or more of an organic acid, an amine, an organic halogen compound, and an amine hydrohalide. Is preferred.

更に、本発明は、上述したやに入りはんだ用のフラックスがはんだに充填されたやに入りはんだである。 Furthermore, the present invention provides a flux for solder cored described above is solder cored filled in the solder.

また、本発明は、固形溶剤を70wt%以上99.5wt%以下、活性剤を0.5wt%以上30wt%以下含むフラックスが充填されたはんだからなるやに入りはんだを使用し、はんだの融点を超える温度までやに入りはんだをはんだごてで加熱して、接合対象物を加熱すると共に、やに入りはんだを溶融させるはんだ付け方法において、はんだごては、中心軸に沿って形成された貫通孔にやに入りはんだが供給され、はんだごてがはんだの融点を超える温度を保ち、貫通孔に供給されたやに入りはんだを加熱するはんだ付け方法である。 Further, the present invention, 70 wt% or more 99.5 wt% of solid solvent below using solder enters the active agent consisting of solder flux has been filled, including more than 0.5 wt% 30 wt% or less killing, No it is to a temperature above the melting point, the solder cored by heating with a soldering iron, as well as heating the bonding target, the soldering method of melting the solder cored, soldering iron, along the central axis formed A solder is supplied to the through holes, and the soldering iron maintains a temperature exceeding the melting point of the solder, and heats the solder supplied to the through holes .

更に、本発明は、フェノール系固形溶剤を70wt%以上〜100wt%以下、活性剤を0wt%以上30wt%以下含むフラックスが充填されたはんだからなるやに入りはんだを使用し、はんだの融点を超える温度まで、やに入りはんだをはんだごてで加熱して、接合対象物を加熱すると共に、やに入りはんだを溶融させるはんだ付け方法において、はんだごては、中心軸に沿って形成された貫通孔にやに入りはんだが供給され、はんだごてがはんだの融点を超える温度を保ち、貫通孔に供給されたやに入りはんだを加熱するはんだ付け方法である。 Furthermore, the present invention is a phenol-based solid solvent 70 wt% or more 100 wt% or less, the active agent using a cored solder comprising killing of solder flux has been filled, including more than 0 wt% 30 wt% or less, does Dano melting point to a temperature above the solder cored by heating with a soldering iron, as well as heating the bonding target, the soldering method of melting the solder cored, soldering iron is formed along the central axis The solder is supplied to the through hole, and the soldering iron maintains the temperature exceeding the melting point of the solder and heats the solder supplied to the through hole .

更に、本発明は、フェノール系固形溶剤を0wt%超〜30wt%以下、フェノール系固形溶剤以外の固形溶剤を70wt%以上99.5wt%以下、活性剤を0wt%以上30wt%以下含むフラックスが充填されたはんだからなるやに入りはんだを使用し、はんだの融点を超える温度までやに入りはんだをはんだごてで加熱して、接合対象物を加熱すると共に、やに入りはんだを溶融させるはんだ付け方法において、はんだごては、中心軸に沿って形成された貫通孔にやに入りはんだが供給され、はんだごてがはんだの融点を超える温度を保ち、貫通孔に供給されたやに入りはんだを加熱するはんだ付け方法である。 Furthermore, the present invention is filled with a flux containing more than 0 wt% of phenolic solid solvent and not more than 30 wt%, solid solvent other than phenolic solid solvent of 70 wt% to 99.5 wt%, and activator of 0 wt% to 30 wt%. by using a solder enters made of solder arrow, the solder to a temperature above the melting point of solder, the solder cored by heating with a soldering iron, as well as heating the bonding target, to melt the solder cored In the soldering method , the soldering iron is supplied into the through holes formed along the central axis, and the solder is supplied, the soldering iron maintains a temperature exceeding the melting point of the solder, and the welding iron is supplied to the through holes. It is a soldering method which heats a solder .

固形溶剤またはフェノール系固形溶剤、あるいは、固形溶剤及びフェノール系固形溶剤を含むフラックスは、常温で固形または所定の粘度を有する様態となる。   The solid solvent or the phenolic solid solvent, or the flux containing the solid solvent and the phenolic solid solvent is in a form having a solid or a predetermined viscosity at normal temperature.

また、フェノール系の固形溶剤を含まない場合は活性剤を含むことで、また、フェノール系の固形溶剤を含む場合は活性剤を含まなくとも、金属酸化物に対する十分な活性を持ち、かつ、はんだの融点を超える温度域までの加熱の過程で、固形溶剤及びフェノール系固形溶剤の粘度が低下して流れる。   In addition, when it does not contain a phenolic solid solvent, it contains an activator, and when it contains a phenolic solid solvent, it has sufficient activity for metal oxides without containing any activator, and solder In the process of heating to a temperature range exceeding the melting point of the above, the viscosity of the solid solvent and the phenolic solid solvent decreases and flows.

これにより、本発明では、やに入りはんだに使用して、金属酸化物を除去するための十分な活性を得ることができる。また、常温で流れないことから、やに入りはんだのフラックスとして好適である。更に、固形溶剤及びフェノール系固形溶剤は、はんだ付けで想定される熱履歴で揮発性を有するので、低残渣の用途に好適である。 Thus, in the present invention, using OJ solder cored, it is possible to obtain sufficient activity for removing metal oxides. Moreover, since it does not flow at normal temperature, it is suitable as a flux of core solder. Furthermore, solid solvents and phenolic solid solvents are suitable for low-residue applications because they have volatility with the heat history assumed for soldering.

本実施の形態のはんだ付け方法で使用されるはんだごての一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the soldering iron used by the soldering method of this Embodiment. 本実施の形態のはんだ付け方法を示す説明図である。It is an explanatory view showing a soldering method of this embodiment. 本実施の形態のはんだ付け方法を示す説明図である。It is an explanatory view showing a soldering method of this embodiment. 本実施の形態のはんだ付け方法を示す説明図である。It is an explanatory view showing a soldering method of this embodiment. 本実施の形態のはんだ付け方法を示す説明図である。It is an explanatory view showing a soldering method of this embodiment.

<本実施の形態のフラックスの一例>
本実施の形態のフラックスは、固形溶剤またはフェノール系固形溶剤、あるいは、固形溶剤及びフェノール系固形溶剤を含む。
<An example of the flux of the present embodiment>
The flux of the present embodiment includes a solid solvent or a phenolic solid solvent, or a solid solvent and a phenolic solid solvent.

固形溶剤を含むフラックスは、常温で固形または流れ出さないような所定の粘度を有する。また、フェノール系固形溶剤を含むフラックスでも、常温で固形または流れ出さないような所定の粘度を有する。更に、沸点がはんだ付けで想定される温度域の近傍である固形溶剤及びフェノール系固形溶剤は、はんだ付けで想定される熱履歴で揮発性を有する。   The flux containing the solid solvent has a predetermined viscosity such that it does not solidify or flow out at normal temperature. Further, even a flux containing a phenolic solid solvent has a predetermined viscosity such that it does not solidify or flow out at normal temperature. Furthermore, solid solvents and phenolic solid solvents whose boiling points are close to the temperature range assumed for soldering have volatility with a heat history assumed for soldering.

このような固形溶剤を含むフラックスは、有機酸等の活性剤を含むことで、金属酸化物を除去する機能を持つ。また、フェノール系固形溶剤は、活性剤としても機能し得る。これにより、フェノール系固形溶剤を含むフラックスは、有機酸等の他の活性剤を含まずとも、金属酸化物を除去する機能を持つ。   A flux containing such a solid solvent has a function of removing metal oxides by containing an activator such as an organic acid. In addition, the phenolic solid solvent can also function as an activator. Thus, the flux containing a phenolic solid solvent has a function of removing metal oxides without containing other activators such as organic acids.

はんだにフラックスが充填されたやに入りはんだでは、フラックスがはんだから流れ出ないようにするため、フラックスに所定の粘度が求められる。本実施の形態のフラックスをやに入りはんだに適用した場合、固形溶剤の量が少ないと、粘度を確保するため、ロジンの量を増やす必要がある。しかし、ロジンは、はんだ付けで想定される温度域までの加熱では難揮発性であり、ロジンの量を増やすと残渣量が多くなり、低残渣の用途に適さない。   In a solder filled with flux, the flux is required to have a predetermined viscosity to prevent the flux from flowing out of the solder. When the flux of the present embodiment is applied to core solder, if the amount of solid solvent is small, it is necessary to increase the amount of rosin in order to secure the viscosity. However, rosin is hardly volatile when heated to the temperature range assumed for soldering, and the amount of residue increases as the amount of rosin increases, and is not suitable for low residue applications.

そこで、第1の実施の形態のフラックスは、固形溶剤を70wt%以上99.5wt%以下、活性剤を0.5wt%以上30wt%以下含む。   Therefore, the flux according to the first embodiment includes 70 wt% or more and 99.5 wt% or less of the solid solvent, and 0.5 wt% or more and 30 wt% or less of the activator.

フラックスがフェノール系固形溶剤を含む場合、活性剤を含まずともフラックスとして機能し得る。そこで、第2の実施の形態のフラックスは、フェノール系固形溶剤を70wt%以上〜100wt%以下、活性剤を0wt%以上30wt%以下含む。   When the flux contains a phenolic solid solvent, it can function as a flux without containing an activator. Therefore, the flux of the second embodiment includes 70 wt% or more and 100 wt% or less of the phenolic solid solvent, and 0 wt% or more and 30 wt% or less of the activator.

また、第3の実施の形態のフラックスは、固形溶剤を70wt%以上99.5wt%以下、フェノール系固形溶剤を0wt%超〜30wt%以下、活性剤を0wt%以上30wt%以下含む。各実施の形態のフラックスは、25℃で固形または粘度が3500Pa・s以上の液体であることが好ましい。   The flux according to the third embodiment includes 70 wt% to 99.5 wt% of the solid solvent, more than 0 wt% to 30 wt% of the phenolic solid solvent, and 0 wt% to 30 wt% of the activator. The flux of each embodiment is preferably a solid at 25 ° C. or a liquid having a viscosity of 3500 Pa · s or more.

固形溶剤としては、ネオペンチルグリコール(2、2−ジメチル−1,3−プロパンジオール)、ジオキサングリコール等が挙げられる。また、フェノール系固形溶剤としては、4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール、カテコール等が挙げられる。   Examples of solid solvents include neopentyl glycol (2,2-dimethyl-1,3-propanediol), dioxane glycol and the like. Moreover, 4- (1,1,3,3-tetramethyl butyl) phenol, catechol etc. are mentioned as a phenol type solid solvent.

各実施の形態のフラックスは、ロジンを0wt%以上30wt%以下含んでも良い。また、各実施の形態のフラックスは、活性剤として、有機酸を0wt%以上30wt%以下、アミンを0wt%以上5wt%以下、アミンハロゲン化水素酸塩を0wt%以上4wt%以下、有機ハロゲン化合物を0wt%以上10wt%以下含む。なお、フラックスに有機酸とアミンが添加されると、所定量の有機酸とアミンが反応して塩となる。そこで、有機酸、アミンの2種以上を反応させて塩の状態にしてから添加することで、有機酸とアミンの反応を抑制できるようにしても良い。   The flux of each embodiment may contain 0 wt% or more and 30 wt% or less of rosin. Moreover, the flux of each embodiment contains 0 wt% or more and 30 wt% or less of an organic acid, 0 wt% or more and 5 wt% or less of an amine as an activator, and 0 wt% or more and 4 wt% or less of an amine hydrohalide salt And 0 wt% or more and 10 wt% or less. When an organic acid and an amine are added to the flux, a predetermined amount of the organic acid and the amine react to form a salt. Therefore, the reaction between the organic acid and the amine may be suppressed by adding two or more of the organic acid and the amine to be in the form of a salt and then adding them.

更に、各実施の形態のフラックスは、添加剤として、シリコーンを0wt%以上5wt%、有機リン化合物を0wt%以上10wt%以下、消泡剤を0wt%以上3wt%以下含む。さらに界面活性剤や着色剤を含有してもよい。   Furthermore, the flux of each embodiment contains 0 wt% or more and 5 wt% of silicone, 0 wt% or more and 10 wt% or less of organic phosphorus compound, and 0 wt% or more and 3 wt% or less of an antifoaming agent as additives. It may further contain a surfactant and a colorant.

ロジンとしては、例えば、ガムロジン、ウッドロジン及びトール油ロジン等の天然ロジン、並びに天然ロジンから得られる誘導体が挙げられる。ロジン誘導体としては、例えば、精製ロジン、重合ロジン、水添ロジン、不均化ロジン、水添不均化ロジン、酸変性ロジン、フェノール変性ロジン及びα,β不飽和カルボン酸変性物(アクリル化ロジン、マレイン化ロジン、フマル化ロジン等)、並びに該重合ロジンの精製物、水素化物及び不均化物、エステル化物、並びに該α,β不飽和カルボン酸変性物の精製物、水素化物及び不均化物が挙げられ、これらの1種または2種以上を使用することができる。   Rosins include, for example, natural rosins such as gum rosin, wood rosins and tall oil rosins, and derivatives obtained from natural rosins. Examples of rosin derivatives include purified rosin, polymerized rosin, hydrogenated rosin, disproportionated rosin, hydrogenated disproportionated rosin, acid modified rosin, phenol modified rosin and α, β unsaturated carboxylic acid modified product (acrylated rosin Maleated rosins, fumarized rosins, etc.), and purified products, hydrides and disproportionates, esters of the polymerized rosins, and purified products, hydrides and disproportionates of the α, β-unsaturated carboxylic acid modified products And one or more of these can be used.

各実施の形態のフラックスは、ロジンに加えてさらにアクリル樹脂等の他の樹脂を含んでも良く、他の樹脂としては、アクリル樹脂、テルペン樹脂、変性テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、変性テルペンフェノール樹脂、スチレン樹脂、変性スチレン樹脂、キシレン樹脂、変性キシレン樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリエチレンポリプロピレン共重合物、及びポリエチレンポリ酢酸ビニル共重合物から選択される少なくとも一種以上の樹脂をさらに含むことができる。変性テルペン樹脂としては、芳香族変性テルペン樹脂、水添テルペン樹脂、水添芳香族変性テルペン樹脂等を使用することができる。変性テルペンフェノール樹脂としては、水添テルペンフェノール樹脂等を使用することができる。変性スチレン樹脂としては、スチレンアクリル樹脂、スチレンマレイン酸樹脂等を使用することができる。変性キシレン樹脂としては、フェノール変性キシレン樹脂、アルキルフェノール変性キシレン樹脂、フェノール変性レゾール型キシレン樹脂、ポリオール変性キシレン樹脂、ポリオキシエチレン付加キシレン樹脂等を使用することができる。なお、他の樹脂の量は、ロジンの全量を100としたとき、ロジンの15wt%以下、好ましくはロジンの10wt%以下、より好ましくはロジンの5wt%以下である。   The flux of each embodiment may further contain other resin such as acrylic resin in addition to rosin, and as other resin, acrylic resin, terpene resin, modified terpene resin, terpene phenol resin, modified terpene phenol resin, Furthermore, at least one resin selected from styrene resin, modified styrene resin, xylene resin, modified xylene resin, polyethylene, polypropylene, polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyethylene polypropylene copolymer, and polyethylene polyvinyl acetate copolymer Can be included. As a modified terpene resin, aromatic modified terpene resin, hydrogenated terpene resin, hydrogenated aromatic modified terpene resin etc. can be used. A hydrogenated terpene phenol resin etc. can be used as a modified terpene phenol resin. As the modified styrene resin, styrene acrylic resin, styrene maleic acid resin and the like can be used. As the modified xylene resin, a phenol modified xylene resin, an alkylphenol modified xylene resin, a phenol modified resol type xylene resin, a polyol modified xylene resin, a polyoxyethylene addition xylene resin, and the like can be used. The amount of the other resin is 15 wt% or less of the rosin, preferably 10 wt% or less of the rosin, more preferably 5 wt% or less of the rosin, when the total amount of the rosin is 100.

有機酸としては、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、エイコサン二酸、クエン酸、グリコール酸、コハク酸、サリチル酸、ジグリコール酸、ジピコリン酸、ジブチルアニリンジグリコール酸、スベリン酸、セバシン酸、チオグリコール酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ドデカン二酸、パラヒドロキシフェニル酢酸、ピコリン酸、フェニルコハク酸、フマル酸、マレイン酸、マロン酸、ラウリン酸、安息香酸、酒石酸、イソシアヌル酸トリス(2−カルボキシエチル)、グリシン、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)ブタン酸、4−tert−ブチル安息香酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、2,4−ジエチルグルタル酸、2−キノリンカルボン酸、3−ヒドロキシ安息香酸、リンゴ酸、p−アニス酸、パルミチン酸、ステアリン酸、12−ヒドロキシステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸等が挙げられる。   As organic acids, glutaric acid, adipic acid, azelaic acid, eicosan diacid, citric acid, glycolic acid, succinic acid, salicylic acid, diglycolic acid, dipicolinic acid, dibutyl aniline diglycolic acid, suberic acid, sebacic acid, thioglycol Acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, dodecanedioic acid, parahydroxyphenylacetic acid, picolinic acid, phenylsuccinic acid, fumaric acid, maleic acid, malonic acid, lauric acid, benzoic acid, tartaric acid, trisocyanate isocyanurate Carboxyethyl), glycine, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) butanoic acid, 4-tert-butylbenzoic acid, 2,3- Dihydroxybenzoic acid, 2,4-diethyl glutaric acid, 2-Q Phosphoric acid, 3-hydroxybenzoic acid, malic acid, p- anisic acid, palmitic acid, stearic acid, 12-hydroxystearic acid, oleic acid, linoleic acid, and linolenic acid.

また、有機酸としては、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸、オレイン酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸に水素を添加した水添ダイマー酸またはオレイン酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸に水素を添加した水添トリマー酸のいずれか、あるいは、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸、オレイン酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸に水素を添加した水添ダイマー酸及びオレイン酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸に水素を添加した水添トリマー酸等が挙げられる。更に、有機酸としては、オレイン酸とリノール酸の反応物以外のダイマー酸、オレイン酸とリノール酸の反応物以外のトリマー酸、オレイン酸とリノール酸の反応物以外のダイマー酸に水素を添加した水添ダイマー酸またはオレイン酸とリノール酸の反応物以外のトリマー酸に水素を添加した水添トリマー酸として、アクリル酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とメタクリル酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とメタクリル酸の反応物であるトリマー酸、オレイン酸の反応物であるダイマー酸、オレイン酸の反応物であるトリマー酸、リノール酸の反応物であるダイマー酸、リノール酸の反応物であるトリマー酸、リノレン酸の反応物であるダイマー酸、リノレン酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とオレイン酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とオレイン酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸とオレイン酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸とオレイン酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、オレイン酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、オレイン酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、リノール酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、リノール酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、上述したオレイン酸とリノール酸の反応物以外のダイマー酸に水素を添加した水添ダイマー酸、オレイン酸とリノール酸の反応物以外のトリマー酸に水素を添加した水添トリマー酸等が挙げられる。   Further, as organic acids, hydrogen was added to dimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid, trimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid, and dimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid Either hydrogenated dimer acid or hydrogenated trimer acid obtained by adding hydrogen to trimer acid which is a reactant of oleic acid and linoleic acid, or dimer acid which is a reactant of oleic acid and linoleic acid, oleic acid and linoleic acid And a hydrogenated dimer acid obtained by adding hydrogen to a dimer acid obtained by reacting oleic acid and linoleic acid, and a hydrogenated trimer obtained by adding hydrogen to a trimer acid obtained by reacting oleic acid and linoleic acid An acid etc. are mentioned. Furthermore, hydrogen was added to the dimer acid other than the reactant of oleic acid and linoleic acid, the trimer acid other than the reactant of oleic acid and linoleic acid, and the dimer acid other than the reactant of oleic acid and linoleic acid as the organic acid Hydrogenated dimer acid or hydrogenated trimer acid obtained by adding hydrogen to trimer acid other than the reactant of oleic acid and linoleic acid Dimer acid which is a reactant of acrylic acid, trimer acid which is a reactant of acrylic acid, methacrylic acid The dimer acid which is a reactant of this, the trimer acid which is a reactant of methacrylic acid, the dimer acid which is a reactant of acrylic acid and methacrylic acid, the reactant of trimer acid which is a reactant of acrylic acid and methacrylic acid, and oleic acid Some dimer acids, trimer acid which is a reactant of oleic acid, dimer acid which is a reactant of linoleic acid, and tore which is a reactant of linoleic acid Meric acid, dimer acid which is a reactant of linolenic acid, trimer acid which is a reactant of linolenic acid, dimer acid which is a reactant of acrylic acid and oleic acid, trimer acid which is a reactant of acrylic acid and oleic acid, acrylic Dimer acid which is a reaction product of acid and linoleic acid, trimer acid which is a reaction product of acrylic acid and linoleic acid, dimer acid which is a reaction product of acrylic acid and linolenic acid, trimer acid which is a reaction product of acrylic acid and linolenic acid A dimer acid which is a reaction product of methacrylic acid and oleic acid, a trimer acid which is a reaction product of methacrylic acid and oleic acid, a dimer acid which is a reaction product of methacrylic acid and linoleic acid, a reaction product of methacrylic acid and linoleic acid Trimer acid, dimer acid which is a reaction product of methacrylic acid and linolenic acid, trimer which is a reaction product of methacrylic acid and linolenic acid The dimer acid which is a reaction product of oleic acid and linolenic acid, the trimer acid which is a reaction product of oleic acid and linolenic acid, the dimer acid which is a reaction product of linoleic acid and linolenic acid, the reaction product of linoleic acid and linolenic acid Trimer acid, hydrogenated dimer acid obtained by adding hydrogen to dimer acid other than the reaction product of oleic acid and linoleic acid, hydrogenated trimer acid obtained by adding hydrogen to trimer acid other than the reaction product of oleic acid and linoleic acid, etc. It can be mentioned.

アミンとしては、モノエタノールアミン、ジフェニルグアニジン、エチルアミン、トリエチルアミン、エチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、2−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−[2′−メチルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2′−ウンデシルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2′−エチル−4′−メチルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2′−メチルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾール、1−ドデシル−2−メチル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライド、2−メチルイミダゾリン、2−フェニルイミダゾリン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−メタクリロイルオキシエチル−s−トリアジン、エポキシ−イミダゾールアダクト、2−メチルベンゾイミダゾール、2−オクチルベンゾイミダゾール、2−ペンチルベンゾイミダゾール、2−(1−エチルペンチル)ベンゾイミダゾール、2−ノニルベンゾイミダゾール、2−(4−チアゾリル)ベンゾイミダゾール、ベンゾイミダゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−tert−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2′−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−tert−オクチルフェノール]、6−(2−ベンゾトリアゾリル)−4−tert−オクチル−6′−tert−ブチル−4′−メチル−2,2′−メチレンビスフェノール、1,2,3−ベンゾトリアゾール、1−[N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アミノメチル]ベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、1−[N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アミノメチル]メチルベンゾトリアゾール、2,2′−[[(メチル−1H−ベンゾトリアゾール−1−イル)メチル]イミノ]ビスエタノール、1−(1′,2′−ジカルボキシエチル)ベンゾトリアゾール、1−(2,3−ジカルボキシプロピル)ベンゾトリアゾール、1−[(2−エチルヘキシルアミノ)メチル]ベンゾトリアゾール、2,6−ビス[(1H−ベンゾトリアゾール−1−イル)メチル]−4−メチルフェノール、5−メチルベンゾトリアゾール、5−フェニルテトラゾール等が挙げられる。   Examples of amines include monoethanolamine, diphenylguanidine, ethylamine, triethylamine, ethylenediamine, triethylenetetramine, 2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-ethyl-4 -Methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2 Undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellite 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-undecylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-ethyl-4'-methylimidazolyl- (1')]-ethyl-s- Triazine, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-4,5- Dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazo 1-dodecyl-2-methyl-3-benzylimidazolium chloride, 2-methylimidazoline, 2-phenylimidazoline, 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-vinyl -S-Triazine isocyanuric acid adduct, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-s-triazine, epoxy-imidazole adduct, 2-methylbenzimidazole, 2-octylbenzimidazole, 2-pentylbenzimidazole, 2- (1-ethyl pentyl) benzimidazole, 2-nonyl benzimidazole, 2- (4-thiazolyl) benzimidazole, benzimidazole, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2 ') -Hydroxy-3'-tert- Butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-amylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-) tert-Octylphenyl) benzotriazole, 2,2'-methylenebis [6- (2H-benzotriazol-2-yl) -4-tert-octylphenol], 6- (2-benzotriazolyl) -4-tert- Octyl-6'-tert-butyl-4'-methyl-2,2'-methylenebisphenol, 1,2,3-benzotriazole, 1- [N, N-bis (2-ethylhexyl) aminomethyl] benzotriazole, Carboxybenzotriazole, 1- [N, N-bis (2-ethylhexyl) aminomethyl] methylbenzotria , 2,2 '-[[(methyl-1H-benzotriazol-1-yl) methyl] imino] bisethanol, 1- (1', 2'-dicarboxyethyl) benzotriazole, 1- (2,2, 3-dicarboxypropyl) benzotriazole, 1-[(2-ethylhexylamino) methyl] benzotriazole, 2,6-bis [(1H-benzotriazol-1-yl) methyl] -4-methylphenol, 5-methyl Benzotriazole, 5-phenyltetrazole and the like can be mentioned.

アミンハロゲン化水素酸塩は、アミンとハロゲン化水素を反応させた化合物であり、アニリン塩化水素酸塩、アニリン臭化水素酸塩等が挙げられる。アミンハロゲン化水素酸塩のアミンとしては、上述したアミンを用いることができ、エチルアミン、エチレンジアミン、トリエチルアミン、メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール等が挙げられ、ハロゲン化水素としては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素の水素化物(塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、フッ化水素)が挙げられる。また、アミンハロゲン化水素酸塩に代えて、あるいはアミンハロゲン化水素酸塩と合わせてホウフッ化物を含んでも良く、ホウフッ化物としてホウフッ化水素酸等が挙げられる。   The amine hydrohalide is a compound obtained by reacting an amine and a hydrogen halide, and includes aniline hydrochloride, aniline hydrobromide and the like. As the amine of the amine hydrohalide salt, the above-mentioned amine can be used, and ethylamine, ethylenediamine, triethylamine, methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole and the like can be mentioned, and as the hydrogen halide, chlorine, Examples thereof include bromine, iodine and hydrides of fluorine (hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrogen iodide, hydrogen fluoride). Moreover, it may replace with an amine hydrohalide salt, or it may combine with an amine hydrohalide salt, and a borofluoride may be included, and boro hydrofluoric acid etc. are mentioned as a borofluoride.

有機ハロゲン化合物としては、有機ブロモ化合物であるtrans−2,3−ジブロモ−1,4−ブテンジオール、トリアリルイソシアヌレート6臭化物、1−ブロモ−2−ブタノール、1−ブロモ−2−プロパノール、3−ブロモ−1−プロパノール、3−ブロモ−1,2−プロパンジオール、1,4−ジブロモ−2−ブタノール、1,3−ジブロモ−2−プロパノール、2,3−ジブロモ−1−プロパノール、2,3−ジブロモ−1,4−ブタンジオール、2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール、trans−2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール、cis−2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール、テトラブロモフタル酸、ブロモコハク酸、2,2,2−トリブロモエタノール等が挙げられる。また、有機クロロ化合物であるクロロアルカン、塩素化脂肪酸エステル、ヘット酸、ヘット酸無水物等が挙げられる。さらに有機フルオロ化合物であるフッ素系界面活性剤、パーフルオロアルキル基を有する界面活性剤、ポリテトラフルオロエチレン等が挙げられる。   Examples of the organic halogen compounds include trans-2,3-dibromo-1,4-butenediol which is an organic bromo compound, triallyl isocyanurate hexabromide, 1-bromo-2-butanol, 1-bromo-2-propanol, 3 -Bromo-1-propanol, 3-bromo-1,2-propanediol, 1,4-dibromo-2-butanol, 1,3-dibromo-2-propanol, 2,3-dibromo-1-propanol, 2, 3-dibromo-1,4-butanediol, 2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, cis-2,3 -Dibromo-2-butene-1,4-diol, tetrabromophthalic acid, bromosuccinic acid, 2,2,2-tribromoethanol and the like. In addition, chlorochloroalkanes which are organic chloro compounds, chlorinated fatty acid esters, hetic acid, hetic acid anhydride and the like can be mentioned. Further, fluorine-based surfactants which are organic fluoro compounds, surfactants having a perfluoroalkyl group, polytetrafluoroethylene and the like can be mentioned.

シリコーンとしては、ジメチルシリコーンオイル、環状シリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイル、高級脂肪酸変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、アルキル・アラルキル変性シリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アルキル・ポリエーテル変性シリコーンオイル、カルビノール変性シリコーンオイル等が挙げられる。   As silicone, dimethyl silicone oil, cyclic silicone oil, methyl phenyl silicone oil, methyl hydrogen silicone oil, higher fatty acid modified silicone oil, alkyl modified silicone oil, alkyl / aralkyl modified silicone oil, amino modified silicone oil, epoxy modified silicone oil And polyether modified silicone oil, alkyl polyether modified silicone oil, carbinol modified silicone oil and the like.

有機リン化合物としては、メチルアシッドホスフェイト、エチルアシッドホスフェイト、イソプロピルアシッドホスフェイト、モノブチルアシッドホスフェイト、ブチルアシッドホスフェイト、ジブチルアシッドホスフェイト、ブトキシエチルアシッドホスフェイト、2−エチルへキシルアシッドホスフェイト、ビス(2−エチルへキシル)ホスフェイト、モノイソデシルアシッドホスフェイト、イソデシルアシッドホスフェイト、ラウリルアシッドホスフェイト、イソトリデシルアシッドホスフェイト、ステアリルアシッドホスフェイト、オレイルアシッドホスフェイト、牛脂ホスフェイト、ヤシ油ホスフェイト、イソステアリルアシッドホスフェイト、アルキルアシッドホスフェイト、テトラコシルアシッドホスフェイト、エチレングリコールアシッドホスフェイト、2−ヒドロキシエチルメタクリレートアシッドホスフェイト、ジブチルピロホスフェイトアシッドホスフェイト、2−エチルヘキシルホスホン酸モノ−2−エチルヘキシル、アルキル(アルキル)ホスホネート等が挙げられる。   Examples of organophosphorus compounds include methyl acid phosphate, ethyl acid phosphate, isopropyl acid phosphate, monobutyl acid phosphate, butyl acid phosphate, dibutyl acid phosphate, butoxyethyl acid phosphate, 2-ethyl acid phosphate Fate, bis (2-ethylhexyl) phosphate, monoisodecyl acid phosphate, isodecyl acid phosphate, lauryl acid phosphate, isotridecyl acid phosphate, stearyl acid phosphate, oleyl acid phosphate, beef tallow phosphate, Coconut oil phosphate, isostearyl acid phosphate, alkyl acid phosphate, tetracosyl acid phosphate, ethylene glycol Lumpur acid phosphate, 2-hydroxyethyl methacrylate acid phosphate, dibutyl pyrophosphate acid phosphate, 2-ethylhexyl phosphonic acid mono-2-ethylhexyl, alkyl (alkyl) phosphonates, and the like.

消泡剤としては、アクリルポリマー、ビニルエーテルポリマー、ブタジエンポリマー等が挙げられる。   As an antifoamer, an acrylic polymer, vinyl ether polymer, butadiene polymer etc. are mentioned.

<本実施の形態のやに入りはんだの構成例>
本実施の形態のやに入りはんだは、上述したフラックスが充填された線状のはんだ以外にも、ペレット、ディスク、リング、チップ、ボール、カラムと称す円柱等の柱状の形状でも良い。やに入りはんだに使用されるフラックスは、はんだを加工する工程で流れ出さないように常温で固形であること、あるいは流れ出さないような所定の高粘度であることが求められる。なお、やに入りはんだで使用される場合にフラックスに求められる粘度は、例えば3500Pa・s以上である。やに入りはんだの線径は、0.1mm以上1.6mm以下であり、好ましくは0.3mm以上1.3mm以下であり、より好ましくは0.6mm以上1.0mm以下である。また、やに入りはんだに充填されたフラックスの含有量は、やに入りはんだを100とした場合、0.5wt%以上6wt%以下であり、好ましくは1.5wt%以上3wt%以下である。
<Example of configuration of core wire solder of this embodiment>
The core solder of this embodiment may be a columnar shape such as a pellet, a disk, a ring, a tip, a ball, or a column called a column other than the linear solder filled with the flux described above. The flux used for the solder core is required to be solid at room temperature or to have a predetermined high viscosity so as not to flow out in the process of processing the solder. In addition, the viscosity calculated | required by the flux in the case of using with solder paste is 3500 Pa.s or more, for example. The wire diameter of the core solder is 0.1 mm or more and 1.6 mm or less, preferably 0.3 mm or more and 1.3 mm or less, and more preferably 0.6 mm or more and 1.0 mm or less. The content of the flux filled in the core solder is 0.5 wt% or more and 6 wt% or less, and preferably 1.5 wt% or more and 3 wt% or less, where 100 is core solder.

はんだは、Sn単体、または、Sn−Ag系、Sn−Cu系、Sn−Ag−Cu系、Sn−Bi系、Sn-In系、Sn−Zn系、Sn-Pb系等、あるいは、これらの合金にSb、Bi、In、Cu、Zn、As、Ag、Cd、Fe、Ni、Co、Au、Ge、P、Pb、Zr等を添加した合金で構成される。   The solder may be Sn alone, or Sn-Ag, Sn-Cu, Sn-Ag-Cu, Sn-Bi, Sn-In, Sn-Zn, Sn-Pb, or the like. The alloy is made of an alloy obtained by adding Sb, Bi, In, Cu, Zn, As, Ag, Cd, Fe, Ni, Co, Au, Ge, P, Pb, Zr and the like.

<本実施の形態のフラックスコートはんだの構成例>
本実施の形態のフラックスコートはんだは、上述したフラックスで被覆されたはんだである。フラックスコートはんだは、線状のはんだ以外にも、ペレット、ディスク、リング、チップ、ボール、カラムと称す円柱等の柱状の形状でも良い。はんだを被覆した状態のフラックスは、常温でははんだの表面に付着した固形である。
<Configuration Example of Flux-Coated Solder of this Embodiment>
The flux-coated solder of the present embodiment is a solder coated with the flux described above. The flux-coated solder may have a columnar shape such as a pellet, a disk, a ring, a tip, a ball, or a cylinder called a column, in addition to the linear solder. The flux coated with the solder is a solid that adheres to the surface of the solder at normal temperature.

はんだは、Sn単体、または、Sn−Ag系、Sn−Cu系、Sn−Ag−Cu系、Sn−Bi系、Sn-In系、Sn−Zn系、Sn-Pb系等、あるいは、これらの合金にSb、Bi、In、Cu、Zn、As、Ag、Cd、Fe、Ni、Co、Au、Ge、P、Pb、Zr等を添加した合金で構成される。   The solder may be Sn alone, or Sn-Ag, Sn-Cu, Sn-Ag-Cu, Sn-Bi, Sn-In, Sn-Zn, Sn-Pb, or the like. The alloy is made of an alloy obtained by adding Sb, Bi, In, Cu, Zn, As, Ag, Cd, Fe, Ni, Co, Au, Ge, P, Pb, Zr and the like.

<本実施の形態のフラックス、やに入りはんだ及びフラックスコートはんだの作用効果例>
固形溶剤またはフェノール系固形溶剤、あるいは、固形溶剤及びフェノール系固形溶剤を含むフラックスは、常温で固形または所定の粘度を有する様態となる。
<The effect example of the flux of this embodiment, core solder and flux coated solder>
The solid solvent or the phenolic solid solvent, or the flux containing the solid solvent and the phenolic solid solvent is in a form having a solid or a predetermined viscosity at normal temperature.

また、フェノール系の固形溶剤を含まない場合は活性剤を含むことで、また、フェノール系の固形溶剤を含む場合は活性剤を含まなくとも、金属酸化物に対する十分な活性を持ち、かつ、はんだの融点を超える温度域までの加熱の過程で、固形溶剤及びフェノール系固形溶剤の粘度が低下して流れる。   In addition, when it does not contain a phenolic solid solvent, it contains an activator, and when it contains a phenolic solid solvent, it has sufficient activity for metal oxides without containing any activator, and solder In the process of heating to a temperature range exceeding the melting point of the above, the viscosity of the solid solvent and the phenolic solid solvent decreases and flows.

これにより、本実施の形態のフラックスは、やに入りはんだ、フラックスコートはんだに使用して、金属酸化物を除去するための十分な活性を得ることができる。また、常温で流れないことから、やに入りはんだのフラックスとして好適である。更に、固形溶剤及びフェノール系固形溶剤は、はんだ付けで想定される熱履歴で揮発性を有するので、低残渣の用途に好適である。   Thereby, the flux of the present embodiment can be used for core solder and flux coated solder to obtain sufficient activity for removing metal oxides. Moreover, since it does not flow at normal temperature, it is suitable as a flux of core solder. Furthermore, solid solvents and phenolic solid solvents are suitable for low-residue applications because they have volatility with the heat history assumed for soldering.

<本実施の形態のはんだ付け方法の一例>
図1は、本実施の形態のはんだ付け方法で使用されるはんだごての一例を示す説明図、図2A、図2B、図2C及び図2Dは、本実施の形態のはんだ付け方法を示す説明図である。
<An example of the soldering method of this embodiment>
FIG. 1 is an explanatory view showing an example of a soldering iron used in the soldering method of the present embodiment, and FIGS. 2A, 2B, 2C and 2D are illustrations showing the soldering method of the present embodiment. FIG.

本実施の形態のはんだ付け方法は、スルーホール実装や片面基板等に適用される。本実施の形態のはんだ付け方法で使用されるはんだごて1Aは、はんだごて1Aの中心軸に沿って貫通孔2が形成され、はんだごて1Aを加熱する加熱手段としてヒータ3を備える。   The soldering method of the present embodiment is applied to through-hole mounting, a single-sided board, and the like. In the soldering iron 1A used in the soldering method of the present embodiment, the through holes 2 are formed along the central axis of the soldering iron 1A, and the heater 3 is provided as heating means for heating the soldering iron 1A.

はんだごて1Aは、貫通孔2の直径Dが、やに入りはんだHの直径dより大きく、貫通孔2を通してはんだごて1Aの先端部10にやに入りはんだHを供給することが可能である。また、はんだごて1Aは、貫通孔2の直径Dが、電子部品100のリード端子101の直径dより大きく、貫通孔2の先端部10にリード端子101を挿入することが可能である。 In the soldering iron 1A, the diameter D of the through hole 2 is larger than the diameter d 1 of the entering solder H, and the soldering H can be supplied to the tip 10 of the soldering iron 1A through the through hole 2 It is. Further, soldering iron 1A, the diameter D of the through-holes 2 is greater than the diameter d 2 of the lead terminals 101 of the electronic component 100, the tip portion 10 of the through hole 2 it is possible to insert the lead terminal 101.

本実施の形態のはんだ付け方法では、図2Aに示すように、電子部品100のリード端子101が、基板200に形成されたスルーホール201に挿入される。また、ヒータ3ではんだの融点を超えるまではんだごて1Aを加熱し、はんだごて1Aがはんだの融点を超える所定の温度を保つように制御する。次に、図2Bに示すように、リード端子101が挿入されたスルーホール201に、はんだごて1Aの先端部10を接触または近接させ、リード端子101をはんだごて1Aの貫通孔2に挿入する。   In the soldering method of the present embodiment, as shown in FIG. 2A, the lead terminals 101 of the electronic component 100 are inserted into the through holes 201 formed in the substrate 200. Further, the soldering iron 1A is heated by the heater 3 until it exceeds the melting point of the solder, and the soldering iron 1A is controlled so as to maintain a predetermined temperature exceeding the melting point of the solder. Next, as shown in FIG. 2B, the tip portion 10 of the soldering iron 1A is brought into contact with or in proximity to the through hole 201 into which the lead terminal 101 is inserted, and the lead terminal 101 is inserted into the through hole 2 of the soldering iron 1A. Do.

次に、はんだごて1Aの貫通孔2に所定の長さに切断されたやに入りはんだHを供給し、貫通孔2に挿入されたリード端子101にやに入りはんだHを接触させる。   Next, the solder H cut into a predetermined length is supplied to the through hole 2 of the soldering iron 1A, and the solder H is brought into contact with the lead terminal 101 inserted in the through hole 2.

はんだごて1Aがはんだの融点を超える所定の温度を保つように制御されることで、図2Cに示すように、やに入りはんだが加熱され、はんだが溶融すると共に、スルーホール201及びリード端子101が加熱される。   By controlling the soldering iron 1A to maintain a predetermined temperature exceeding the melting point of the solder, as shown in FIG. 2C, the core solder is heated and the solder melts, and the through hole 201 and the lead terminal 101 is heated.

はんだの融点を超える温度まではんだごて1Aでやに入りはんだHを加熱する際、やに入りはんだ中のフラックスの粘度が低下し、フラックスがスルーホール201及びリード端子101に流れることで、はんだ、スルーホール201及びリード端子101の表面の金属酸化物が除去され、溶融したはんだがぬれ広がる。   When heating the solder H with the soldering iron 1A to a temperature exceeding the melting point of the solder, the viscosity of the flux in the solder decreases, and the flux flows to the through holes 201 and the lead terminals 101. The metal oxide on the surface of the through hole 201 and the lead terminal 101 is removed, and the molten solder wets and spreads.

次に、図2Dに示すように、はんだごて1Aをスルーホール201から離すことで、スルーホール201及びリード端子101にぬれ広がったはんだを硬化させる。   Next, as shown in FIG. 2D, by separating the soldering iron 1A from the through hole 201, the solder wetted to the through hole 201 and the lead terminal 101 is hardened.

上述したはんだ付け方法において、やに入りはんだHで使用されるフラックスが、本実施の形態のフラックスである場合、フラックスが固形溶剤またはフェノール系固形溶剤、あるいは、固形溶剤及びフェノール系固形溶剤を含むことで、フラックスを固形、あるいは所定の高粘度とすることができる。これにより、やに入りはんだのフラックスとして好適である。   In the above-described soldering method, when the flux used in the core solder H is the flux of the present embodiment, the flux contains a solid solvent or a phenolic solid solvent, or a solid solvent and a phenolic solid solvent. Thus, the flux can be made solid or have a predetermined high viscosity. This is suitable as a flux of core solder.

また、固形溶剤及びフェノール系固形溶剤は、はんだ付けで想定される熱履歴で揮発性を有する。一方、ロジンを含まない、あるいは、ロジンを含む場合でも、ロジンの量を30wt%以下として、フラックスを固形、あるいは所定の高粘度とすることができ、ロジンの含有量を低減できる。   Moreover, solid solvents and phenolic solid solvents have volatility with the heat history assumed for soldering. On the other hand, even when the resin does not contain rosin or contains rosin, the amount of rosin can be made 30 wt% or less, the flux can be made solid or predetermined high viscosity, and the content of rosin can be reduced.

これにより、はんだごて1Aの貫通孔2に供給されたやに入りはんだH中のフラックスが、加熱後に残渣となる量が抑制される。このため、はんだごて1Aがはんだの融点を超える所定の温度を保つように制御された状態で、やに入りはんだHが貫通孔2に供給されてはんだ付けが連続して行われても、貫通孔2内に残渣の炭化物が堆積することが抑制され、はんだごて1Aの貫通孔2が、残渣の炭化物で詰まる等の不具合の発生を抑制することができる。   As a result, the amount of flux that has been supplied to the through holes 2 of the soldering iron 1A and becomes a residue after heating is suppressed. For this reason, even if soldering iron H is supplied to the through hole 2 and soldering is performed continuously while the soldering iron 1A is controlled to maintain a predetermined temperature exceeding the melting point of the solder, Accumulation of residual carbides in the through holes 2 is suppressed, and the occurrence of defects such as clogging of the through holes 2 of the soldering iron with residual carbides can be suppressed.

以下の表1、表2に示す組成で実施例と比較例のフラックスを調合し、残渣量及び加工性について検証した。なお、表1、表2における組成率は、フラックスの全量を100とした場合のwt(重量)%である。   The fluxes of Examples and Comparative Examples were prepared with the compositions shown in Tables 1 and 2 below, and the residual amount and processability were verified. The composition ratio in Tables 1 and 2 is wt (wt)% when the total amount of flux is 100.

<残渣量評価>
(1)検証方法
TG法(熱重量測定法)による試験評価方法として、アルミパンに各実施例及び各比較例のフラックスを10mg詰めて、ULVAC社製TGD9600を用いてN雰囲気下で25℃〜350℃まで、昇温速度10℃/minにて加熱した。加熱後の各フラックスの重量が、加熱前の15%以下になったかどうかを測定した。
<Evaluation of residual amount>
(1) Verification method As a test evaluation method by the TG method (thermogravimetry), 10 mg of the flux of each Example and each Comparative Example is packed in an aluminum pan, and 25 ° C. under N 2 atmosphere using TGD 9600 manufactured by ULVAC. It heated by -10 degreeC / min of temperature rising rates to -350 degreeC. It was determined whether the weight of each flux after heating was less than 15% before heating.

(2)判定基準
○:重量が加熱前の15%以下になった
×:重量が加熱前の15%より大きかった
(2) Judgment criteria :: The weight was 15% or less before heating x: The weight was larger than 15% before heating

加熱後の重量が加熱前の15%以下になったフラックスは、加熱によってフラックス中の成分が十分に揮発したと言える。重量が加熱前の15%より大きかったフラックスは、フラックス中の成分の揮発が不十分であったと言える。揮発が十分ではないフラックスがやに入りはんだに使用され、上述したはんだ付け方法に適用されると、はんだごての貫通孔に残渣の炭化物が多く堆積し、やに入りはんだが正常に供給できない等の不具合の原因となる。   It can be said that, in the flux whose weight after heating became 15% or less before heating, the components in the flux were sufficiently volatilized by heating. It can be said that the flux whose weight was greater than 15% before heating had insufficient volatilization of the components in the flux. When flux with insufficient volatilization is used for core solder and applied to the above-mentioned soldering method, a large amount of residual carbide deposits on the through hole of the soldering iron, and core solder can not be supplied properly. Cause problems such as

<加工性の評価>
(1)検証方法
実施例、比較例のフラックスを試料とし、25℃における状態を観察して、固形及び液体のいずれであるかを判定した。フラックスが液体である場合、フラックスをレオメータ(Thermo Scientific HAAKE MARS III(商標))のプレート間に挟んだ後、6Hzでプレートを回転させることによりフラックスの粘度を測定した。そして、やに入りはんだを製造する際の加工性を、下記に示す基準で評価した。
<Evaluation of processability>
(1) Verification method The flux of the example and the comparative example was used as a sample, and the state at 25 ° C. was observed to determine whether it was solid or liquid. When the flux was liquid, the viscosity of the flux was measured by rotating the plate at 6 Hz after sandwiching the flux between the plates of a rheometer (Thermo Scientific HAAKE MARS IIITM). And the workability at the time of manufacturing a core solder was evaluated by the criteria shown below.

(2)判定基準
〇:25℃における状態が固形であった。または、25℃における状態が液体であるが、レオメータで測定した粘度が3500Pa・s以上であった。フラックスの25℃における状態が固形、または、25℃における状態が液体であるが、レオメータで測定した粘度が3500Pa・s以上であると、やに入りはんだを作ることができた。
×:25℃における状態が液体であり、レオメータで測定した粘度が3500Pa・s未満であった。フラックスの25℃における状態が液体であり、レオメータで測定した粘度が3500Pa・s未満であると、フラックスが流れ、やに入りはんだを作ることができなかった。
(2) Judgment standard O: The state at 25 ° C. was solid. Or although the state in 25 degreeC is a liquid, the viscosity measured by the rheometer was more than 3500 Pa.s. While the state of the flux at 25 ° C. was solid or the state at 25 ° C. was liquid, it was possible to make a core solder when the viscosity measured by the rheometer is 3500 Pa · s or more.
X: The state at 25 ° C. was liquid, and the viscosity measured by the rheometer was less than 3500 Pa · s. When the state of the flux at 25 ° C. was liquid and the viscosity measured by the rheometer was less than 3500 Pa · s, the flux flowed, and it was not possible to make a core solder.

<総合評価>
〇:残渣量及び加工性評価の何れも〇であった
×:残渣量及び加工性評価の何れか、または全てが×であった
<Overall evaluation>
:: The amount of residue and the evaluation of processability were both ×: the amount of residue and the evaluation of processability were all or all x

Figure 0006516053
Figure 0006516053

Figure 0006516053
Figure 0006516053

固形溶剤としてネオペンチルグリコールを本発明で規定される範囲内で95wt%含み、有機酸としてアジピン酸を本発明で規定される範囲内で5wt%含む実施例1では、25℃での状態が固形、あるいは、25℃での状態が液体であっても、粘度が3500Pa・s以上であり、やに入りはんだを製造する際の加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量が15wt%以下で、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   In Example 1 containing 95 wt% of neopentyl glycol as a solid solvent within the range specified in the present invention and 5 wt% of adipic acid as the organic acid within the range specified in the present invention, the state at 25 ° C. is solid Alternatively, even when the state at 25 ° C. is liquid, the viscosity is 3500 Pa · s or more, and a sufficient effect on the processability at the time of producing the core solder is obtained. In addition, when the amount of residue is 15 wt% or less, a sufficient effect of suppressing the amount of residue to make a low residue is obtained.

固形溶剤としてネオペンチルグリコールを本発明で規定される範囲内で減らして70wt%含み、有機酸としてアジピン酸を5wt%、エイコサン二酸を25wt%含み、2種以上の有機酸の組み合わせが本発明で規定される範囲内である実施例2でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   The present invention comprises 70 wt% reduced neopentyl glycol as a solid solvent within the range specified in the present invention, 5 wt% adipic acid as an organic acid, 25 wt% eicosane diacid, and a combination of two or more organic acids according to the present invention Even in Example 2 which is within the range defined in, sufficient effects on the processability were obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

固形溶剤としてネオペンチルグリコールを本発明で規定される範囲内で増やして99.5wt%含み、アミンハロゲン化水素酸塩としてN,N−ジエチルアニリン臭化水素酸塩を本発明で規定される範囲内で0.5wt%含む実施例3でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   Within the range specified in the present invention, neopentyl glycol as a solid solvent is increased to 99.5 wt%, and N, N-diethylaniline hydrobromide as the amine hydrohalide salt is defined in the present invention Even in Example 3 containing 0.5 wt% of the inside, a sufficient effect on the processability was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

固形溶剤としてジオキサングリコールを本発明で規定される範囲内で95wt%含み、有機酸としてアジピン酸を本発明で規定される範囲内で5wt%含む実施例4でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   Even in Example 4 containing 95 wt% of dioxane glycol as a solid solvent within the range specified in the present invention and containing 5 wt% of adipic acid as the organic acid within the range specified in the present invention, sufficient effect on processability was gotten. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

フェノール系固形溶剤として4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノールを本発明で規定される範囲内で95wt%含み、有機酸としてアジピン酸を本発明で規定される範囲内で5wt%含む実施例5でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   Within the range specified in the present invention, 95 wt% of 4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol is contained as the phenolic solid solvent, and within the range specified in the present invention, adipic acid as the organic acid Even in Example 5 containing 5 wt%, a sufficient effect on the processability was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

フェノール系固形溶剤としてカテコールを本発明で規定される範囲内で95wt%含み、有機酸としてアジピン酸を本発明で規定される範囲内で5wt%含む実施例6でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   Even in Example 6 containing 95 wt% of catechol as the phenolic solid solvent within the range specified in the present invention and 5 wt% of the adipic acid as the organic acid within the range specified in the present invention, sufficient for processability The effect was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

フェノール系固形溶剤として4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノールを本発明で規定される範囲内で100wt%含み、有機酸等の他の活性剤を含まない実施例7でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   Even in Example 7 which contains 100 wt% of 4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol as a phenolic solid solvent within the range specified in the present invention and does not contain any other activator such as an organic acid. And sufficient effect on the processability was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

フェノール系固形溶剤としてカテコールを本発明で規定される範囲内で100wt%含み、有機酸等の他の活性剤を含まない実施例8でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   Even in Example 8 containing 100 wt% of catechol as a phenolic solid solvent within the range specified in the present invention and no other activator such as an organic acid, a sufficient effect on the processability was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

固形溶剤としてネオペンチルグリコールを本発明で規定される範囲内で70wt%含み、フェノール系固形溶剤として4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノールを本発明で規定される範囲内で30wt%含み、有機酸等の他の活性剤を含まない実施例9でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   70 wt% of neopentyl glycol as a solid solvent within the range specified in the present invention, and 4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol as a phenolic solid solvent within the range specified in the present invention Even in Example 9 containing 30 wt% of Hg and containing no other activator such as an organic acid, a sufficient effect on processability was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

固形溶剤としてネオペンチルグリコールを本発明で規定される範囲内で95wt%含み、有機酸としてピメリン酸を本発明で規定される範囲内で5wt%含む実施例10でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   Even in Example 10, which contains 95 wt% of neopentyl glycol as a solid solvent within the range specified in the present invention and 5 wt% of pimelic acid as the organic acid within the range specified in the present invention, sufficient for processability. The effect was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

固形溶剤としてネオペンチルグリコールを本発明で規定される範囲内で95wt%含み、有機酸としてスベリン酸を本発明で規定される範囲内で5wt%含む実施例11でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   Even in Example 11 containing 95 wt% of neopentyl glycol as a solid solvent within the range specified in the present invention and 5 wt% of suberic acid as the organic acid within the range specified in the present invention is sufficient for processability. The effect was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

固形溶剤としてネオペンチルグリコールを本発明で規定される範囲内で95wt%含み、有機酸としてドデカン二酸を本発明で規定される範囲内で5wt%含む実施例12でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   Even Example 12 containing 95 wt% of neopentyl glycol as a solid solvent within the range specified in the present invention and 5 wt% of dodecanedioic acid as the organic acid within the range specified in the present invention is sufficient for processability. Effect was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

フェノール系固形溶剤として4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノールを本発明で規定される範囲内で95wt%含み、アミンとして2−フェニルイミダゾールを本発明で規定される範囲内で5wt%含む実施例13でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   Within the range specified in the present invention, 95 wt% of 4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol is contained as the phenolic solid solvent, and within the range specified in the present invention, 2-phenylimidazole as the amine Also in Example 13 containing 5 wt% of Sb, a sufficient effect on the processability was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

固形溶剤としてネオペンチルグリコールを本発明で規定される範囲内で96wt%含み、アミンハロゲン化水素酸塩としてN,N−ジエチルアニリン臭化水素酸塩を本発明で規定される範囲内で4wt%含む実施例14でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   In the range specified in the present invention, 96 wt% of neopentyl glycol as a solid solvent, and 4 wt% of N, N-diethylaniline hydrobromide as an amine hydrohalide salt in the range specified in the present invention Also in Example 14 containing, sufficient effects on the processability were obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

フェノール系固形溶剤として4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノールを本発明で規定される範囲内で90wt%含み、有機ハロゲン化合物として2,2,2−トリブロモエタノールを本発明で規定される範囲内で10wt%含む実施例15でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   90 wt% of 4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol as a phenolic solid solvent within the range specified in the present invention, and 2,2,2-tribromoethanol as an organic halogen compound Even in Example 15 containing 10 wt% within the range defined by the invention, a sufficient effect on the processability was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

フェノール系固形溶剤として4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノールを本発明で規定される範囲内で99wt%含み、有機ハロゲン化合物としてtrans−2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオールを本発明で規定される範囲内で1wt%含む実施例16でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   99% by weight of 4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol as a phenolic solid solvent within the range specified in the present invention, and trans-2,3-dibromo-2-butene as an organic halogen compound The sufficient effect on the processability was obtained also in Example 16 in which 1 wt% of 1,4-diol was contained in the range specified in the present invention. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

フェノール系固形溶剤として4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノールを本発明で規定される範囲内で99wt%含み、有機ハロゲン化合物としてトリアリルイソシアヌレート6臭化物を本発明で規定される範囲内で1wt%含む実施例17でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   99% by weight of 4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol as a phenolic solid solvent within the range specified in the present invention, and triallyl isocyanurate hexabromide as an organic halogen compound is specified in the present invention Even in Example 17 containing 1 wt% within the range, a sufficient effect on the processability was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

固形溶剤としてネオペンチルグリコールを本発明で規定される範囲内で90wt%含み、有機酸としてアジピン酸を本発明で規定される範囲内で5wt%含み、シリコーンとしてジメチルシリコーンオイルを本発明で規定される範囲内で5wt%含む実施例18でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   90 wt% of neopentyl glycol as solid solvent within the range defined in the present invention, 5 wt% of adipic acid as organic acid within the range defined in the present invention, dimethyl silicone oil as silicone is defined in the present invention Also in Example 18 containing 5 wt% of the metal oxide, a sufficient effect on the processability was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

固形溶剤としてネオペンチルグリコールを本発明で規定される範囲内で85wt%含み、有機酸としてアジピン酸を本発明で規定される範囲内で5wt%含み、有機リン化合物としてイソデシルアシッドホスフェイトを本発明で規定される範囲内で10wt%含む実施例19でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   85 wt% of neopentyl glycol as solid solvent in the range specified in the present invention, 5 wt% of adipic acid as organic acid in the range specified in the present invention, and isodecyl acid phosphate as organic phosphorus compound Even in Example 19 containing 10 wt% within the range defined by the invention, sufficient effects on the processability were obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

固形溶剤としてネオペンチルグリコールを本発明で規定される範囲内で92wt%含み、有機酸としてアジピン酸を本発明で規定される範囲内で5wt%含み、消泡剤としてアクリルポリマーを本発明で規定される範囲内で3wt%含む実施例20でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   92 wt% of neopentyl glycol as solid solvent in the range specified in the present invention, 5 wt% of adipic acid in the range specified in the present invention as organic acid, acrylic polymer as the antifoam agent in the present invention Even in Example 20 containing 3 wt% within the above range, a sufficient effect on processability was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

固形溶剤としてネオペンチルグリコールを本発明で規定される範囲内で90wt%含み、ロジン誘導体として水添ロジンを本発明で規定される範囲内で5wt%含み、有機酸としてエイコサンニ酸を本発明で規定される範囲内で5wt%含む実施例21でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   90% by weight of neopentyl glycol as solid solvent within the range specified in the present invention, 5% by weight of hydrogenated rosin as the rosin derivative within the range specified by the present invention, eicosanninic acid as the organic acid according to the present invention Even in Example 21 containing 5 wt% of the above range, a sufficient effect on the processability was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

固形溶剤としてネオペンチルグリコールを本発明で規定される範囲内で85wt%含み、ロジン誘導体として水添ロジンを本発明で規定される範囲内で10wt%含み、有機酸としてエイコサンニ酸を本発明で規定される範囲内で5wt%含む実施例22でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   Containing 85 wt% neopentyl glycol as a solid solvent within the range specified in the present invention, containing 10 wt% hydrogenated rosin as the rosin derivative within the range specified in the present invention, and defining eicosanninic acid as an organic acid in the present invention Even in Example 22 containing 5 wt% of the above range, a sufficient effect on the processability was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

フェノール系固形溶剤として4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノールを本発明で規定される範囲内で70wt%含み、ロジン誘導体として水添ロジンを本発明で規定される範囲内で30wt%含む実施例23でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   70 wt% of 4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol as a phenolic solid solvent within the range specified in the present invention, and within the range specified in the present invention as hydrogenated rosin as a rosin derivative Also in Example 23 containing 30 wt% of, sufficient effect on processability was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

フェノール系固形溶剤として4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノールを本発明で規定される範囲内で90wt%含み、天然ロジンを本発明で規定される範囲内で5wt%含み、有機酸としてエイコサンニ酸を本発明で規定される範囲内で5wt%含む実施例24でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   90 wt% of 4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol as a phenolic solid solvent within the range specified in the present invention, and 5 wt% of a natural rosin within the range specified in the present invention Also in Example 24 containing 5 wt% of eicosanninic acid as an organic acid within the range specified in the present invention, a sufficient effect on the processability was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

フェノール系固形溶剤として4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノールを本発明で規定される範囲内で90wt%含み、ロジン誘導体として重合ロジンを本発明で規定される範囲内で5wt%含み、有機酸としてエイコサンニ酸を本発明で規定される範囲内で5wt%含む実施例25でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   90 wt% of 4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol as a phenolic solid solvent within the range specified in the present invention, and polymerized rosin as the rosin derivative within the range specified in the present invention Even in Example 25 containing 5 wt% and containing 5 wt% of eicosanninic acid as an organic acid within the range specified in the present invention, a sufficient effect on the processability was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

フェノール系固形溶剤として4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノールを本発明で規定される範囲内で90wt%含み、ロジン誘導体として不均化ロジンを本発明で規定される範囲内で5wt%含み、有機酸としてエイコサンニ酸を本発明で規定される範囲内で5wt%含む実施例26でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   90 wt% of 4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol as a phenolic solid solvent within the range defined in the present invention, and a range defined in the present invention as disproportionated rosin as a rosin derivative Even in Example 26 which contains 5 wt% of Eikosan and 5 wt% of eicosanninic acid as an organic acid within the range specified in the present invention, a sufficient effect on the processability was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

フェノール系固形溶剤として4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノールを本発明で規定される範囲内で90wt%含み、ロジン誘導体として水添不均化ロジンを本発明で規定される範囲内で5wt%含み、有機酸としてエイコサンニ酸を本発明で規定される範囲内で5wt%含む実施例27でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   90% by weight of 4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol as a phenolic solid solvent within the range specified in the present invention, hydrogenated disproportionated rosin as the rosin derivative is specified in the present invention Also in Example 27 which contains 5 wt% of eicosanninic acid as an organic acid within the range specified in the present invention, a sufficient effect on the processability was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

フェノール系固形溶剤として4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノールを本発明で規定される範囲内で90wt%含み、ロジン誘導体としてアクリル酸変性ロジンを本発明で規定される範囲内で5wt%含み、有機酸としてエイコサンニ酸を本発明で規定される範囲内で5wt%含む実施例28でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   90 wt% of 4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol as a phenolic solid solvent within the range defined in the present invention, and an acrylic acid-modified rosin as the rosin derivative in the range defined in the present invention Even in Example 28 which contains 5 wt% of Eikosan and 5 wt% of eicosanninic acid as an organic acid within the range specified in the present invention, a sufficient effect on the processability was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

フェノール系固形溶剤として4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノールを本発明で規定される範囲内で90wt%含み、ロジン誘導体としてアクリル酸変性水添ロジンを本発明で規定される範囲内で5wt%含み、有機酸としてエイコサンニ酸を本発明で規定される範囲内で5wt%含む実施例29でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   90% by weight of 4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol as a phenolic solid solvent within the range specified in the present invention, acrylic acid modified hydrogenated rosin as the rosin derivative is specified in the present invention Also in Example 29 containing 5 wt% of eicosanninic acid as an organic acid within the range specified in the present invention, a sufficient effect on the processability was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

フェノール系固形溶剤として4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノールを本発明で規定される範囲内で90wt%含み、ロジン誘導体としてロジンエステルを本発明で規定される範囲内で5wt%含み、有機酸としてエイコサンニ酸を本発明で規定される範囲内で5wt%含む実施例30でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   90 wt% of 4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol as a phenolic solid solvent within the range specified in the present invention, and a rosin ester as the rosin derivative within the range specified in the present invention Even in Example 30 which contains 5 wt% and contains 5 wt% of eicosanninic acid as an organic acid within the range specified in the present invention, a sufficient effect on the processability was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

フェノール系固形溶剤として4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノールを本発明で規定される範囲内で75wt%含み、天然ロジンを5wt%、ロジン誘導体として重合ロジンを5wt%、不均化ロジンを5wt%、アクリル酸変性ロジンを5wt%含み、2種以上のロジンの組み合わせが本発明で規定される範囲内であり、有機酸としてエイコサンニ酸を本発明で規定される範囲内で5wt%含む実施例31でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   In the range specified in the present invention, 75 wt% of 4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol is contained as a phenolic solid solvent, 5 wt% of natural rosin, 5 wt% of polymerized rosin as a rosin derivative, 5 wt% disproportionated rosin and 5 wt% acrylic acid modified rosin, and a combination of two or more rosins is within the range defined in the present invention, and within the range defined in the present invention, eicosanninic acid as the organic acid Even in Example 31 containing 5 wt% of Sb, a sufficient effect on the processability was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

フェノール系固形溶剤として4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノールを本発明で規定される範囲内で75wt%含み、ロジン誘導体として水添ロジンを5wt%、水添不均加ロジンを5wt%、アクリル酸変性水添ロジンを5wt%、ロジンエステルを5wt%含み、2種以上のロジンの組み合わせが本発明で規定される範囲内であり、有機酸としてエイコサンニ酸を本発明で規定される範囲内で5wt%含む実施例32でも、加工性に対して十分な効果が得られた。また、残渣量を抑制して低残渣とする十分な効果が得られた。   Within the range specified in the present invention, 75 wt% of 4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol is contained as a phenolic solid solvent, and 5 wt% of hydrogenated rosin as a rosin derivative, hydrogenated heterogeneous addition 5 wt% of rosin, 5 wt% of acrylic acid-modified hydrogenated rosin, 5 wt% of rosin ester, and a combination of two or more rosins is within the range specified in the present invention, and eicosanninic acid as an organic acid in the present invention Even in Example 32 containing 5 wt% of the specified range, a sufficient effect on the processability was obtained. Moreover, the sufficient effect of suppressing the amount of residues and making it a low residue was acquired.

これに対して、固形溶剤としてネオペンチルグリコールを本発明で規定される範囲を下回る50wt%含み、ロジン誘導体としてアクリル酸変性ロジンを本発明で規定される範囲を超えて45wt%含み、有機酸としてエイコサンニ酸を本発明で規定される範囲内で5wt%含む比較例1では、低残渣とする効果は得られたが、25℃での状態が液体で、粘度が3500Pa・s未満であり、やに入りはんだを製造する際の加工性に対して十分な効果が得られなかった。   On the other hand, it contains 50 wt% of neopentyl glycol as a solid solvent below the range specified in the present invention, 45 wt% of an acrylic acid-modified rosin as the rosin derivative exceeds the range specified in the present invention, as an organic acid In Comparative Example 1 containing 5 wt% of eicosanninic acid within the range defined in the present invention, the effect of reducing the residue was obtained, but the state at 25 ° C. is a liquid and the viscosity is less than 3500 Pa · s, Sufficient effect was not obtained on the processability at the time of producing the inlay solder.

フェノール系固形溶剤として4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノールを本発明で規定される範囲を下回る50wt%含み、ロジン誘導体として重合ロジンを本発明で規定される範囲を超えて45wt%含み、有機酸としてエイコサンニ酸を本発明で規定される範囲内で5wt%含む比較例2では、残渣量が15wt%を超え、残渣量が抑制できず低残渣とする効果が得られなかった。また、加工性に対して十分な効果が得られなかった。   It contains 50% by weight of 4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol as a solid phenolic solvent below the range specified in the present invention, and a polymerized rosin as the rosin derivative exceeds the range specified in the present invention In Comparative Example 2 containing 45 wt% and containing 5 wt% of eicosanninic acid as an organic acid in the range defined in the present invention, the amount of residue exceeds 15 wt%, the amount of residue can not be suppressed, and the effect of making low residue is obtained. It was not. In addition, sufficient effect on the processability was not obtained.

固形溶剤、フェノール系固形溶剤を含まず、溶剤としてヘキシルジグリコールを40wt%含み、天然ロジンを50wt%含み、有機酸としてエイコサンニ酸を10wt%含む比較例3では、低残渣とする効果は得られたが、加工性に対して十分な効果が得られなかった。   In Comparative Example 3 containing 40 wt% of hexyl diglycol as a solvent, 50 wt% of natural rosin as a solvent, and 10 wt% of eicosanninic acid as an organic acid, the effect of obtaining a low residue is obtained. However, sufficient effect on the processability was not obtained.

以上のことから、固形溶剤を70wt%以上99.5wt%以下、活性剤を0.5wt%以上30wt%以下含むフラックス、フェノール系固形溶剤を70wt%以上〜100wt%以下、活性剤を0wt%以上30wt%以下含むフラックス、固形溶剤を70wt%以上99.5wt%以下、フェノール系固形溶剤を0wt%超〜30wt%以下、活性剤を0wt%以上30wt%以下含むフラックス、これらの何れかのフラックスを使用したやに入りはんだ、フラックスコートはんだでは、残渣量を抑制する効果が得られた。また、加工性が良好となる効果が得られた。   From the above, a flux containing 70 wt% to 99.5 wt% of solid solvent and 0.5 wt% to 30 wt% of activator, 70 wt% to 100 wt% of phenolic solid solvent, 0 wt% or more of activator Flux containing 30 wt% or less, 70 wt% to 99.5 wt% of solid solvent, more than 0 wt% to 30 wt% of phenolic solid solvent, 0 wt% to 30 wt% of activator, or any of these fluxes In the used core solder and flux coat solder, the effect of suppressing the amount of residue was obtained. Moreover, the effect that processability becomes favorable was acquired.

これらの効果は、ロジン類、添加剤を本発明で規定される範囲内で含むことでも阻害されなかった。   These effects were not inhibited by the inclusion of rosins and additives within the range defined in the present invention.

Claims (9)

フラックスが充填されたはんだからなるやに入りはんだを使用し、前記はんだの融点を超える温度まで、前記やに入りはんだをはんだごてで加熱して、接合対象物を加熱すると共に、前記やに入りはんだを溶融させるはんだ付け方法であって、
前記はんだごては、中心軸に沿って形成された貫通孔に前記やに入りはんだが供給され、前記はんだごてが前記はんだの融点を超える温度を保ち、前記貫通孔に供給された前記やに入りはんだを加熱するはんだ付け方法に用いる
固形溶剤を70wt%以上99.5wt%以下、
活性剤を0.5wt%以上30wt%以下含む
ことを特徴とするやに入りはんだ用のフラックス。
Using a core solder made of flux-filled solder, the core solder is heated with a soldering iron to a temperature exceeding the melting point of the solder to heat the object to be joined, and A soldering method for melting the contained solder,
The solder iron is supplied to the through hole formed along the central axis and the solder is supplied, the solder iron maintains a temperature exceeding the melting point of the solder, and the solder iron is supplied to the through hole. 70 wt% or more and 99.5 wt% or less of solid solvent used for the soldering method of heating the core solder
A flux for a core solder , characterized by containing 0.5 wt% or more and 30 wt% or less of an activator.
フラックスが充填されたはんだからなるやに入りはんだを使用し、前記はんだの融点を超える温度まで、前記やに入りはんだをはんだごてで加熱して、接合対象物を加熱すると共に、前記やに入りはんだを溶融させるはんだ付け方法であって、
前記はんだごては、中心軸に沿って形成された貫通孔に前記やに入りはんだが供給され、前記はんだごてが前記はんだの融点を超える温度を保ち、前記貫通孔に供給された前記やに入りはんだを加熱するはんだ付け方法に用いる
フェノール系固形溶剤を70wt%以上100wt%以下、
活性剤を0wt%以上30wt%以下含む
ことを特徴とするやに入りはんだ用のフラックス。
Using a core solder made of flux-filled solder, the core solder is heated with a soldering iron to a temperature exceeding the melting point of the solder to heat the object to be joined, and A soldering method for melting the contained solder,
The solder iron is supplied to the through hole formed along the central axis and the solder is supplied, the solder iron maintains a temperature exceeding the melting point of the solder, and the solder iron is supplied to the through hole. 70 wt% or more and 100 wt% or less of phenolic solid solvent used in the soldering method of heating the core solder
A flux for a core solder, comprising 0 wt% or more and 30 wt% or less of an activator.
フラックスが充填されたはんだからなるやに入りはんだを使用し、前記はんだの融点を超える温度まで、前記やに入りはんだをはんだごてで加熱して、接合対象物を加熱すると共に、前記やに入りはんだを溶融させるはんだ付け方法であって、
前記はんだごては、中心軸に沿って形成された貫通孔に前記やに入りはんだが供給され、前記はんだごてが前記はんだの融点を超える温度を保ち、前記貫通孔に供給された前記やに入りはんだを加熱するはんだ付け方法に用いる
フェノール系固形溶剤を0wt%超30wt%以下、
フェノール系固形溶剤以外の固形溶剤を70wt%以上99.5wt%以下、
活性剤を0wt%以上30wt%以下含む
ことを特徴とするやに入りはんだ用のフラックス。
Using a core solder made of flux-filled solder, the core solder is heated with a soldering iron to a temperature exceeding the melting point of the solder to heat the object to be joined, and A soldering method for melting the contained solder,
The solder iron is supplied to the through hole formed along the central axis and the solder is supplied, the solder iron maintains a temperature exceeding the melting point of the solder, and the solder iron is supplied to the through hole. 0% by weight or more and 30% by weight or less of phenolic solid solvent used for the soldering method of heating the core solder
70 wt% to 99.5 wt% of solid solvent other than phenolic solid solvent,
A flux for a core solder, comprising 0 wt% or more and 30 wt% or less of an activator.
25℃で固形または粘度が3500Pa・s以上の液体である
ことを特徴とする請求項1〜請求項3の何れか1項に記載のやに入りはんだ用のフラックス。
The flux for the core solder according to any one of claims 1 to 3, which is solid at 25 ° C or liquid having a viscosity of 3500 Pa · s or more.
活性剤は、有機酸、アミン、有機ハロゲン化合物、アミンハロゲン化水素酸塩のいずれ
か、または、有機酸、アミン、有機ハロゲン化合物、アミンハロゲン化水素酸塩の2つ以
上の組み合わせである
ことを特徴とする請求項1〜請求項4の何れか1項に記載のやに入りはんだ用のフラックス。
The activator is any of an organic acid, an amine, an organic halogen compound, an amine hydrohalide, or a combination of two or more of an organic acid, an amine, an organic halogen compound, and an amine hydrohalide. The flux for the core solder according to any one of claims 1 to 4, characterized in that
請求項1〜請求項5の何れか1項に記載のやに入りはんだ用のフラックスがはんだに充填された
ことを特徴とするやに入りはんだ。
A flux for the core solder according to any one of claims 1 to 5 filled in the solder. A core solder as set forth in any one of claims 1 to 5.
固形溶剤を70wt%以上99.5wt%以下、活性剤を0.5wt%以上30wt%以下含むフラックスが充填されたはんだからなるやに入りはんだを使用し、前記はんだの融点を超える温度まで、前記やに入りはんだをはんだごてで加熱して、接合対象物を加熱すると共に、前記やに入りはんだを溶融させるはんだ付け方法において、The core solder is made of solder filled with flux containing 70 wt% to 99.5 wt% of solid solvent and 0.5 wt% to 30 wt% of activator, and the temperature is higher than the melting point of the solder. In the soldering method of heating the solder to heat the joint object and heating the bonding object and melting the solder in the above-mentioned manner,
前記はんだごては、中心軸に沿って形成された貫通孔に前記やに入りはんだが供給され、前記はんだごてが前記はんだの融点を超える温度を保ち、前記貫通孔に供給された前記やに入りはんだを加熱するThe solder iron is supplied to the through hole formed along the central axis and the solder is supplied, the solder iron maintains a temperature exceeding the melting point of the solder, and the solder iron is supplied to the through hole. Heat the solder
ことを特徴とするはんだ付け方法。A soldering method characterized by
フェノール系固形溶剤を70wt%以上〜100wt%以下、活性剤を0wt%以上30wt%以下含むフラックスが充填されたはんだからなるやに入りはんだを使用し、前記はんだの融点を超える温度まで、前記やに入りはんだをはんだごてで加熱して、接合対象物を加熱すると共に、前記やに入りはんだを溶融させるはんだ付け方法において、A core solder made of solder filled with a flux containing 70 wt% to 100 wt% of a phenolic solid solvent and 0 wt% to 30 wt% of an activator, is used until the temperature exceeds the melting point of the solder In the soldering method, the core solder is heated with a soldering iron to heat the object to be joined and the core solder is melted,
前記はんだごては、中心軸に沿って形成された貫通孔に前記やに入りはんだが供給され、前記はんだごてが前記はんだの融点を超える温度を保ち、前記貫通孔に供給された前記やに入りはんだを加熱するThe solder iron is supplied to the through hole formed along the central axis and the solder is supplied, the solder iron maintains a temperature exceeding the melting point of the solder, and the solder iron is supplied to the through hole. Heat the solder
ことを特徴とするはんだ付け方法。A soldering method characterized by
フェノール系固形溶剤を0wt%超〜30wt%以下、フェノール系固形溶剤以外の固形溶剤を70wt%以上99.5wt%以下、活性剤を0wt%以上30wt%以下含むフラックスが充填されたはんだからなるやに入りはんだを使用し、前記はんだの融点を超える温度まで、前記やに入りはんだをはんだごてで加熱して、接合対象物を加熱すると共に、前記やに入りはんだを溶融させるはんだ付け方法において、A solder filled with flux containing more than 0 wt% to 30 wt% of a phenolic solid solvent, 70 wt% to 99.5 wt% of a solid solvent other than a phenolic solid solvent, and 0 wt% to 30 wt% of an activator. In the soldering method, the core solder is heated with a soldering iron to a temperature exceeding the melting point of the solder by using the core solder, and the bonding target is heated and the core solder is melted. ,
前記はんだごては、中心軸に沿って形成された貫通孔に前記やに入りはんだが供給され、前記はんだごてが前記はんだの融点を超える温度を保ち、前記貫通孔に供給された前記やに入りはんだを加熱するThe solder iron is supplied to the through hole formed along the central axis and the solder is supplied, the solder iron maintains a temperature exceeding the melting point of the solder, and the solder iron is supplied to the through hole. Heat the solder
ことを特徴とするはんだ付け方法。A soldering method characterized by
JP2018124563A 2018-06-29 2018-06-29 Flux, core solder and soldering method Active JP6516053B1 (en)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018124563A JP6516053B1 (en) 2018-06-29 2018-06-29 Flux, core solder and soldering method
CN201980043182.1A CN112334269B (en) 2018-06-29 2019-06-27 Flux for cored solder, flux for flux-coated solder, and soldering method
US17/256,419 US11648631B2 (en) 2018-06-29 2019-06-27 Flux for resin flux cored solder, resin flux cored solder, flux for flux-coated solder, flux-coated solder, and soldering method
EP19825971.5A EP3815839B1 (en) 2018-06-29 2019-06-27 Flux for resin flux cored solder, resin flux cored solder, flux for flux-coated solder, flux-coated solder, and soldering method
PCT/JP2019/025575 WO2020004543A1 (en) 2018-06-29 2019-06-27 Flux for resin flux cored solder, resin flux cored solder, flux for flux-coated solder, flux-coated solder, and soldering method
MYPI2020007068A MY189947A (en) 2018-06-29 2019-06-27 Flux for resin flux cored solder, resin flux cored solder, flux for flux-coated solder, flux-coated solder, and soldering method
TW108122800A TWI782216B (en) 2018-06-29 2019-06-28 Flux for cored solder, cored solder, flux for flux-coated solder, flux-coated solder, and soldering method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018124563A JP6516053B1 (en) 2018-06-29 2018-06-29 Flux, core solder and soldering method

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019076281A Division JP6604452B1 (en) 2018-06-29 2019-04-12 Flux, flux cored solder, flux coat solder and soldering method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP6516053B1 true JP6516053B1 (en) 2019-05-22
JP2020001077A JP2020001077A (en) 2020-01-09

Family

ID=66625604

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018124563A Active JP6516053B1 (en) 2018-06-29 2018-06-29 Flux, core solder and soldering method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6516053B1 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116600930B (en) * 2020-12-11 2024-04-12 千住金属工业株式会社 Flux for clad solder, and soldering method
MX2023006665A (en) * 2020-12-11 2023-07-25 Senju Metal Industry Co Flux for resin-cored solder, resin-cored solder, and soldering method.
JP7407781B2 (en) * 2020-12-11 2024-01-04 千住金属工業株式会社 Flux for flux cored solder, flux cored solder and soldering method

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5335928U (en) * 1976-09-01 1978-03-29
JP2003025089A (en) * 2001-07-13 2003-01-28 Showa Denko Kk Solder paste
JP4079026B2 (en) * 2002-04-16 2008-04-23 唯知 須賀 No residue solder paste
WO2010041668A1 (en) * 2008-10-07 2010-04-15 Jsr株式会社 Flux, conductive paste, bonded component, and method for producing bonded component
JP6831666B2 (en) * 2016-10-13 2021-02-17 株式会社パラット Soldering system, soldering product manufacturing method, soldering method, and soldering
JP6337349B1 (en) * 2017-08-28 2018-06-06 株式会社弘輝 Flux, solder paste and method for manufacturing electronic circuit board

Also Published As

Publication number Publication date
JP2020001077A (en) 2020-01-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6501003B1 (en) Resin composition for soldering, core solder, flux coat solder and liquid flux
JP6795774B1 (en) Flux, soldering and soldering method
JP6460198B1 (en) Flux and solder paste
JP6516053B1 (en) Flux, core solder and soldering method
JP6540788B1 (en) Flux and solder paste
JP6458894B1 (en) Flux and solder paste
JP6604452B1 (en) Flux, flux cored solder, flux coat solder and soldering method
JP2020192556A (en) flux
JP7407781B2 (en) Flux for flux cored solder, flux cored solder and soldering method
CN112334269B (en) Flux for cored solder, flux for flux-coated solder, and soldering method
WO2020203794A1 (en) Resin composition for soldering use, solder composition, flux cored solder, flux, and solder paste
CN116600930B (en) Flux for clad solder, and soldering method
KR102661293B1 (en) Flux for rosin-containing solder, rosin-containing solder and soldering method
KR102598694B1 (en) Flux composition and solder paste using the same
JP2020192555A (en) flux
JP2020163454A (en) Resin composition for solder, solder composition and resin flux cored solder
JP2023004119A (en) Solder paste and method for manufacturing electronic device
JP2020192597A (en) flux
JP2020192598A (en) flux

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180629

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20180629

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20180723

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20181119

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181127

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190128

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190319

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190401

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6516053

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250