JP6507402B2 - Fluorene-Based Compound and Method for Producing Fluorene-Based Compound - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 23
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title description 70
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 131
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 111
- -1 fluorene compound Chemical class 0.000 claims description 84
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 56
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 55
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 42
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 36
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 33
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 31
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 claims description 29
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 26
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000011630 iodine Chemical group 0.000 claims description 24
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 claims description 22
- YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N nifuroxazide Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C(=O)N\N=C\C1=CC=C([N+]([O-])=O)O1 YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N 0.000 claims description 22
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 claims description 20
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000000460 chlorine Chemical group 0.000 claims description 16
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 16
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 10
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- QDHHCQZDFGDHMP-UHFFFAOYSA-N Chloramine Chemical class ClN QDHHCQZDFGDHMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 7
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 claims description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 150000002220 fluorenes Chemical class 0.000 claims 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 126
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 99
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 29
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 24
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 24
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 17
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 16
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 16
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 12
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 11
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 11
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 9
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 8
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 8
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 7
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 6
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 6
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 6
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 5
- FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1C FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GWHJZXXIDMPWGX-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(C)C(C)=C1 GWHJZXXIDMPWGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YZUPZGFPHUVJKC-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-methoxyethane Chemical compound COCCBr YZUPZGFPHUVJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 239000011973 solid acid Substances 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N Boron trifluoride etherate Chemical compound FB(F)F.CCOCC KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001429 chelating resin Polymers 0.000 description 3
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910000358 iron sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L iron(2+) sulfate (anhydrous) Chemical compound [Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- NXPHGHWWQRMDIA-UHFFFAOYSA-M magnesium;carbanide;bromide Chemical compound [CH3-].[Mg+2].[Br-] NXPHGHWWQRMDIA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- ZICRWXFGZCVTBZ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-hydroxy-4-methoxybenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(OC)C=C1O ZICRWXFGZCVTBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 125000004592 phthalazinyl group Chemical group C1(=NN=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 2
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N thiocyanic acid Chemical compound SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- WJKHJLXJJJATHN-UHFFFAOYSA-N triflic anhydride Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)OS(=O)(=O)C(F)(F)F WJKHJLXJJJATHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910000368 zinc sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229960001763 zinc sulfate Drugs 0.000 description 2
- VKTQADPEPIVMHK-UHFFFAOYSA-N (2-phenylphenyl)methanol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 VKTQADPEPIVMHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWQBQRYFWNIDOC-UHFFFAOYSA-N (3,5-difluorophenyl)boronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC(F)=CC(F)=C1 QWQBQRYFWNIDOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHRJZRDFSQHIFI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1C=C CHRJZRDFSQHIFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXCWQHJOFCPSKS-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-4-[(2-phenylphenyl)methyl]benzene Chemical group C1=CC(C)=CC=C1CC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 YXCWQHJOFCPSKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWPJBAYCIXEHFA-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-3-(3-phenylphenyl)benzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=C(C=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 OWPJBAYCIXEHFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005955 1H-indazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006176 2-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004920 4-methyl-2-pentyl group Chemical group CC(CC(C)*)C 0.000 description 1
- MQRGCMXCVJPWHI-UHFFFAOYSA-N 9,9-diphenylfluoren-2-amine Chemical compound C12=CC(N)=CC=C2C2=CC=CC=C2C1(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MQRGCMXCVJPWHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCOVNNCVNRBOLX-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)N(C1=CC=C(C=C1)C=1C(=CC=C(C=1)OC)C(=O)OC)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C1(=CC=CC=C1)N(C1=CC=C(C=C1)C=1C(=CC=C(C=1)OC)C(=O)OC)C1=CC=CC=C1 BCOVNNCVNRBOLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUCUXNCASYWSDQ-UHFFFAOYSA-N CC(=C)C1=C(C=CC(=C1)Cl)C2=CC(=CC(=C2)F)F Chemical group CC(=C)C1=C(C=CC(=C1)Cl)C2=CC(=CC(=C2)F)F QUCUXNCASYWSDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGVFTBPUEFOCDH-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C1=C(C=CC(=C1)Cl)C2=CC(=CC(=C2)F)F)O Chemical compound CC(C)(C1=C(C=CC(=C1)Cl)C2=CC(=CC(=C2)F)F)O DGVFTBPUEFOCDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWGCFKLXAHSQRT-UHFFFAOYSA-N CC(C=C(C=C1)Cl)=C1C1=CC(F)=CC(F)=C1 Chemical compound CC(C=C(C=C1)Cl)=C1C1=CC(F)=CC(F)=C1 SWGCFKLXAHSQRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHZPRTAGXAOREX-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=CC=C1CC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 Chemical group CC1=CC=CC=C1CC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 AHZPRTAGXAOREX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHXDQMMHMAOMID-UHFFFAOYSA-N ClC=1C=C(C(=CC=1)C1=CC(=CC(=C1)F)F)C(=O)OC Chemical compound ClC=1C=C(C(=CC=1)C1=CC(=CC(=C1)F)F)C(=O)OC RHXDQMMHMAOMID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- TWWQCBRELPOMER-UHFFFAOYSA-N [4-(n-phenylanilino)phenyl]boronic acid Chemical compound C1=CC(B(O)O)=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 TWWQCBRELPOMER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000641 acridinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000499 benzofuranyl group Chemical group O1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000004541 benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N bromic acid Chemical compound OBr(=O)=O SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-N chloric acid Chemical compound OCl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940005991 chloric acid Drugs 0.000 description 1
- 125000005390 cinnolyl group Chemical group N1=NC(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000003838 furazanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- QFWPJPIVLCBXFJ-UHFFFAOYSA-N glymidine Chemical compound N1=CC(OCCOC)=CN=C1NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 QFWPJPIVLCBXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(iv) oxide Chemical compound O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003406 indolizinyl group Chemical group C=1(C=CN2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 125000001977 isobenzofuranyl group Chemical group C=1(OC=C2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000904 isoindolyl group Chemical group C=1(NC=C2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005956 isoquinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001786 isothiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000842 isoxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- BIECSXCXIXHDBC-UHFFFAOYSA-N methyl 2-bromo-5-chlorobenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC(Cl)=CC=C1Br BIECSXCXIXHDBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004593 naphthyridinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CN=C12)* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001715 oxadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- KHIWWQKSHDUIBK-UHFFFAOYSA-N periodic acid Chemical compound OI(=O)(=O)=O KHIWWQKSHDUIBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001484 phenothiazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2SC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 125000005954 phenoxathiinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001644 phenoxazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2OC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000001042 pteridinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=NC=CN=C12)* 0.000 description 1
- 125000000561 purinyl group Chemical group N1=C(N=C2N=CNC2=C1)* 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002098 pyridazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M sodium;3-(n-ethyl-3-methoxyanilino)-2-hydroxypropane-1-sulfonate;dihydrate Chemical compound O.O.[Na+].[O-]S(=O)(=O)CC(O)CN(CC)C1=CC=CC(OC)=C1 PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 239000012607 strong cation exchange resin Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001113 thiadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004627 thianthrenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2SC3=CC=CC=C3SC12)* 0.000 description 1
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OBBXFSIWZVFYJR-UHFFFAOYSA-L tin(2+);sulfate Chemical compound [Sn+2].[O-]S([O-])(=O)=O OBBXFSIWZVFYJR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000004306 triazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000404 tripotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019798 tripotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
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Description
本発明は、新規なフルオレン系化合物およびフルオレン系化合物の製造方法に関する。 The present invention relates to a novel fluorene compound and a method for producing the fluorene compound.
近年、有機電界発光素子の発光材料等に用いる化合物として、またより複雑な化学構造を有する材料を製造するための中間体として、フルオレン骨格を有する化合物やフッ素などの活性基を有するフルオレン系化合物が検討されている。 In recent years, compounds having a fluorene skeleton and fluorene compounds having an active group such as fluorine have been used as compounds used for light emitting materials of organic electroluminescent devices and as intermediates for producing materials having more complicated chemical structures. It is being considered.
例えば、有機エレクトロニクス材料として、強い電子吸引基であるフッ素原子でフルオレン環の１，３，４，５，６，８位を置換した化合物が、高い電子受容能を有することが知られている（特開2009-249355号公報）。この文献では、この化合物を製造するための原料としてフルオレンを用いており、フルオレン骨格を製造する方法については説明されていない。 For example, as an organic electronic material, it is known that a compound in which the 1, 3, 4, 5, 6, 8 position of the fluorene ring is substituted with a fluorine atom which is a strong electron withdrawing group has high electron accepting ability ( JP 2009-249355 A). In this document, fluorene is used as a raw material for producing this compound, and a method for producing a fluorene skeleton is not described.
フルオレン骨格を製造するには、例えばビフェニルのアルコール体を基質（ＯＨ前駆体とも言う）として、ヒドロキシメチレンで環を巻かせる方法が知られている（特開2012-211089号公報）。この文献では、モノハロゲン置換フルオレン系化合物をより簡便な方法で製造することを目的としており、ここに記載されているように、ＯＨ前駆体に対して酸だけを反応させて目的化合物を得ることに成功している。 In order to produce a fluorene skeleton, for example, there is known a method of winding a ring with hydroxymethylene using an alcohol of biphenyl as a substrate (also referred to as an OH precursor) (JP 2012-211089A). This document aims at producing a monohalogen-substituted fluorene-based compound by a simpler method, and as described herein, to obtain an objective compound by reacting only an acid with respect to an OH precursor. Have succeeded.
上述するように、フルオレン骨格を有する化合物やフッ素などの活性基を有するフルオレン系化合物、さらにそれらの製造方法も一応は知られているが、この製造方法は反応効率が悪く、オレフィン系副生成物が多量に生成することが知られており、例えば有機ＥＬ素子に要求される高純度や低コストの材料を製造するために使用できるものではない。したがって、製造方法の選択肢を増やすためにも、さらにそれ以上に純度及び反応効率をより高めるためにも新規な製造方法が求められている。 As described above, although a compound having a fluorene skeleton, a fluorene compound having an active group such as fluorine, and a method for producing them are also known for a while, this production method has poor reaction efficiency, and an olefin by-product Is known to be produced in large amounts, and can not be used to produce, for example, high purity and low cost materials required for organic EL devices. Therefore, there is a need for new production methods to increase the choice of production methods and to further increase the purity and reaction efficiency.
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、ＯＨ前駆体に対して酸だけでなく多孔質無機物質などの担体と共に反応させることで、極めて高い効率でフルオレン系化合物を製造することに成功した。さらにこの方法により、従来知られていなかった新規な活性基含有フルオレン系化合物を製造できることを見出し、本発明を完成させた。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors produce fluorene compounds with extremely high efficiency by reacting OH precursors with carriers such as porous inorganic substances as well as acids. Succeeded. Furthermore, it discovered that this method could manufacture the novel active group containing fluorene type compound which was not known until now, and completed this invention.
［１］
下記式（ＩＩ）で表される構造を分子内に有するＯＨ前駆体を、担体および酸の存在下および／または固定酸触媒の存在下で反応させて、下記式（Ｉ）で表されるフルオレン構造を分子内に有する化合物を製造する方法。
A fluorene represented by the following formula (I) by reacting an OH precursor having a structure represented by the following formula (II) in the molecule in the presence of a carrier and an acid and / or in the presence of a fixed acid catalyst: A method of producing a compound having a structure in a molecule.
［２］
下記一般式（２−１）または式（２−２）で表されるＯＨ前駆体を、担体および酸の存在下および／または固定酸触媒の存在下で反応させて、下記一般式（１）で表されるフルオレン系化合物を製造する、上記［１］に記載する製造方法。
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立して、アルキル、アリールまたはヘテロアリールであり、これらの基は置換されていてもよく、Ａ１およびＡ２は結合して環を形成していてもよく、
Ｒ１〜Ｒ４およびＲ５〜Ｒ８は、それぞれ独立して、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリールまたはジアリール置換アミノであり、これらの基は置換されていてもよく、Ｒ１およびＲ２、Ｒ２およびＲ３、Ｒ３およびＲ４、Ｒ５およびＲ６、Ｒ６およびＲ７ならびにＲ７およびＲ８は、それぞれ独立して、結合して環を形成していてもよく、
式（１）で表されるフルオレン系化合物における水素は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシで置換されていてもよく、この場合、式（２−１）または式（２−２）で表されるＯＨ前駆体における対応する水素が同じく置換されている。
[2]
An OH precursor represented by the following general formula (2-1) or formula (2-2) is reacted in the presence of a carrier and an acid and / or in the presence of a fixed acid catalyst to obtain the following general formula (1) The manufacturing method as described in said [1] which manufactures the fluorene type compound represented by these.
A 1 and A 2 are each independently alkyl, aryl or heteroaryl, these groups may be substituted, and A 1 and A 2 may combine to form a ring,
R 1 to R 4 and R 5 to R 8 are each independently hydrogen, alkyl, aryl, heteroaryl or diaryl substituted amino, and these groups may be substituted, R 1 and R 2 , R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , R 5 and R 6 , R 6 and R 7 and R 7 and R 8 may be independently combined to form a ring,
Hydrogen in the fluorene compound represented by the formula (1) may be substituted with fluorine, chlorine, bromine, iodine or alkoxy, and in this case, it is represented by the formula (2-1) or the formula (2-2) The corresponding hydrogens in the OH precursors being substituted are also substituted.
［３］
前記担体が、無機酸化物または金属硫酸化物であり、
前記酸が、硫酸、燐酸、ポリ燐酸またはスルホン酸であり、
前記固定酸触媒が、スルホン化処理された樹脂または表面がスルホン化処理された多孔質物質である、上記［１］または［２］に記載する製造方法。
[3]
The carrier is an inorganic oxide or metal sulfate,
The acid is sulfuric acid, phosphoric acid, polyphosphoric acid or sulfonic acid,
The method according to the above [1] or [2], wherein the fixed acid catalyst is a sulfonated resin or a porous material having a surface sulfonated.
［４］
前記担体が多孔質物質である、上記［１］〜［３］のいずれかに記載する製造方法。
[4]
The method according to any one of the above [1] to [3], wherein the carrier is a porous material.
［５］
式（１）、式（２−１）および式（２−２）中、
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立して、アルキル、アリールまたはヘテロアリールであり、Ａ１およびＡ２は結合して脂肪族環または芳香族環を形成していてもよく、
Ｒ１〜Ｒ４およびＲ５〜Ｒ８は、それぞれ独立して、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリールまたはジアリール置換アミノであり、Ｒ１およびＲ２、Ｒ２およびＲ３、Ｒ３およびＲ４、Ｒ５およびＲ６、Ｒ６およびＲ７ならびにＲ７およびＲ８は、それぞれ独立して、結合して芳香族環を形成していてもよく、
式（１）で表されるフルオレン系化合物中のフルオレン骨格における水素は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシで置換されていてもよく、この場合、式（２−１）または式（２−２）で表されるＯＨ前駆体における対応する水素が同じく置換されている、
上記［１］〜［４］のいずれかに記載する製造方法。
[5]
In formula (1), formula (2-1) and formula (2-2),
A 1 and A 2 are each independently alkyl, aryl or heteroaryl, and A 1 and A 2 may combine to form an aliphatic ring or an aromatic ring.
R 1 to R 4 and R 5 to R 8 are each independently hydrogen, alkyl, aryl, heteroaryl or diaryl substituted amino, and R 1 and R 2 , R 2 and R 3 , R 3 and R 4 R 5 and R 6 , R 6 and R 7 and R 7 and R 8 may be independently bonded to form an aromatic ring,
The hydrogen in the fluorene skeleton in the fluorene compound represented by the formula (1) may be substituted with fluorine, chlorine, bromine, iodine or alkoxy, and in this case, the formula (2-1) or the formula (2- The corresponding hydrogen in the OH precursor represented by 2) is also substituted,
The manufacturing method described in any one of said [1]-[4].
［６］
式（１）、式（２−１）および式（２−２）中、
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立して、アルキル、アリールまたはヘテロアリールであり、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、ジアリール置換アミノまたはフッ素であり、Ｒ１〜Ｒ４のうちの少なくとも１つはフッ素であり、
Ｒ５〜Ｒ８は、それぞれ独立して、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、ジアリール置換アミノ、塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシであり、Ｒ５〜Ｒ８のうちの少なくとも１つは塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシである、
上記［１］〜［５］のいずれかに記載する製造方法。
[6]
In formula (1), formula (2-1) and formula (2-2),
A 1 and A 2 are each independently alkyl, aryl or heteroaryl,
R 1 to R 4 are each independently hydrogen, alkyl, aryl, heteroaryl, diaryl substituted amino or fluorine, and at least one of R 1 to R 4 is fluorine,
R 5 to R 8 are each independently hydrogen, alkyl, aryl, heteroaryl, diaryl substituted amino, chlorine, bromine, iodine or alkoxy, and at least one of R 5 to R 8 is chlorine or bromine , Iodine or alkoxy,
The manufacturing method described in any one of said [1]-[5].
［７］
下記一般式（１）で表されるフルオレン系化合物。
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立して、アルキル、アリールまたはヘテロアリールであり、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、ジアリール置換アミノまたはフッ素であり、Ｒ１〜Ｒ４のうちの少なくとも１つはフッ素であり、
Ｒ５〜Ｒ８は、それぞれ独立して、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、ジアリール置換アミノ、塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシであり、Ｒ５〜Ｒ８のうちの少なくとも１つは塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシである。
[7]
The fluorene type compound represented by following General formula (1).
A 1 and A 2 are each independently alkyl, aryl or heteroaryl,
R 1 to R 4 are each independently hydrogen, alkyl, aryl, heteroaryl, diaryl substituted amino or fluorine, and at least one of R 1 to R 4 is fluorine,
R 5 to R 8 are each independently hydrogen, alkyl, aryl, heteroaryl, diaryl substituted amino, chlorine, bromine, iodine or alkoxy, and at least one of R 5 to R 8 is chlorine or bromine , Iodine or alkoxy.
［８］
式（１）中、
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立して、アルキルであり、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、ジアリール置換アミノまたはフッ素であり、Ｒ１〜Ｒ４のうちの少なくとも１つはフッ素であり、
Ｒ５〜Ｒ８は、それぞれ独立して、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、ジアリール置換アミノ、塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシであり、Ｒ５〜Ｒ８のうちの少なくとも１つは塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシである、
上記［７］に記載するフルオレン系化合物。
[8]
In formula (1),
A 1 and A 2 are each independently alkyl
R 1 to R 4 are each independently hydrogen, alkyl, aryl, heteroaryl, diaryl substituted amino or fluorine, and at least one of R 1 to R 4 is fluorine,
R 5 to R 8 are each independently hydrogen, alkyl, aryl, heteroaryl, diaryl substituted amino, chlorine, bromine, iodine or alkoxy, and at least one of R 5 to R 8 is chlorine or bromine , Iodine or alkoxy,
The fluorene compound described in the above [7].
本発明の好ましい態様によれば、従来の酸だけを用いた一般的な製造方法と比較して、酸と共に担体、特に多孔質の担体を共に用いることで、ＯＨ前駆体からフルオレン系化合物への転換率を飛躍的に高めることができる。さらにこの好ましい態様により、従来知られていなかった新規な活性基含有フルオレン系化合物を製造できるようになり、例えば有機ＥＬ素子に用いることが可能な材料のバリエーションを増やすことができる。 According to a preferred embodiment of the present invention, OH precursors to fluorene-based compounds can be obtained by using a carrier together with an acid, in particular a porous carrier, together with an acid, as compared with a general preparation method using only conventional acids. The conversion rate can be dramatically increased. Furthermore, according to this preferred embodiment, a novel active group-containing fluorene compound that has not been known can be manufactured, and variations of materials that can be used, for example, in organic EL elements can be increased.
１．フルオレン系化合物の製造方法
本発明に係るフルオレン系化合物の製造方法は、下記式（ＩＩ）で表される構造を分子内に有するＯＨ前駆体を、担体および酸の存在下および／または固定酸触媒の存在下で反応させて、下記式（Ｉ）で表されるフルオレン構造を分子内に有する化合物を製造する方法である。
なお、「構造を分子内に有する」とは、当該構造に置換基や環などが結合したり環が縮合したりして当該分子が形成されることを意味し、当該構造は当該分子の一部の構造に相当する。また、当該構造自体が当該分子であってもよく、この場合は当該構造と当該分子とが同じ化学構造であることを意味する。例えば式（Ｉ）で表されるフルオレン構造を分子内に有する化合物とは、式（Ｉ）で表されるフルオレン構造に置換基や環などが結合したり環が縮合したりして形成された化合物である。式（ＩＩ）で表される構造を分子内に有するＯＨ前駆体についても同様である。 Note that “having a structure in a molecule” means that a substituent, a ring, or the like is bonded to the structure or a ring is condensed to form the molecule, and the structure is one of the molecules. It corresponds to the structure of the department. In addition, the structure itself may be the molecule, and in this case, it means that the structure and the molecule have the same chemical structure. For example, a compound having a fluorene structure represented by the formula (I) in the molecule is formed by bonding a substituent or a ring to the fluorene structure represented by the formula (I) or condensing a ring It is a compound. The same applies to OH precursors having a structure represented by formula (II) in the molecule.
また、本発明に係るより具体的なフルオレン系化合物の製造方法は、下記一般式（２−１）または式（２−２）で表されるＯＨ前駆体を、担体および酸の存在下または固定酸触媒の存在下で反応させて、下記一般式（１）で表されるフルオレン系化合物を製造する方法である。
式（１）は目的化合物であるフルオレン系化合物を表し、式（Ｉ）は目的化合物であるフルオレン系化合物中のフルオレン構造部分を表し、式（２−１）または式（２−２）や式（ＩＩ）は、このフルオレン系化合物を製造するための原料を表す。この製造方法は、原料となる式（２−１）または式（２−２）で表される化合物や式（ＩＩ）表される構造を分子内に有する化合物におけるＯＨ基（水酸基）に対して、酸を作用させることで、隣接する炭素（上記「＊」で示す）と環化させる脱水環化反応である。なお、この原料を便宜的にＯＨ前駆体とも呼ぶ。 Formula (1) represents a fluorene compound which is a target compound, Formula (I) represents a fluorene structure moiety in the fluorene compound which is a target compound, and is represented by Formula (2-1), Formula (2-2) or Formula (II) represents a raw material for producing this fluorene compound. In this production method, the compound represented by the formula (2-1) or the formula (2-2) as the raw material or the OH group (hydroxy group) in the compound having the structure represented by the formula (II) in the molecule This is a dehydrating cyclization reaction that cyclizes with adjacent carbon (indicated by "*" above) by the action of an acid. In addition, this raw material is also called OH precursor for convenience.
＜各式中のＡ １ 、Ａ ２ 、Ｒ １ 〜Ｒ ４ およびＲ ５ 〜Ｒ ８ について＞
式（１）や式（Ｉ）と、式（２−１）および式（２−２）や式（ＩＩ）とは、目的化合物（またはその部分構造）と原料（またはその部分構造）との関係にあるので、各式で用いられているＡ１、Ａ２、Ｒ１〜Ｒ４およびＲ５〜Ｒ８は、それぞれ同じ基を意味する。Ａ１およびＡ２、Ｒ１およびＲ２、Ｒ２およびＲ３、Ｒ３およびＲ４、Ｒ５およびＲ６、Ｒ６およびＲ７ならびにＲ７およびＲ８は結合して環を形成していてもよいが、式（２−１）および式（２−２）や式（ＩＩ）において環が形成されている場合には、式（１）や式（Ｉ）においても対応する位置に環が形成されている。式（２−１）および式（２−２）や式（ＩＩ）において環が形成されていない場合には、式（１）や式（Ｉ）においても対応する位置には環は形成されていないが、式（１）で表される化合物や式（Ｉ）で表されるフルオレン構造を分子内に有する化合物を製造した後に、これらの環を形成する反応を行ってもよい。
<About each of A 1 , A 2 , R 1 to R 4 and R 5 to R 8 in each formula >
Formula (1), Formula (I), Formula (2-1), Formula (2-2), and Formula (II) can be obtained by combining the target compound (or a partial structure thereof) with the raw material (or a partial structure thereof) Since they are related, A 1 , A 2 , R 1 to R 4 and R 5 to R 8 used in each formula mean the same group. A 1 and A 2 , R 1 and R 2 , R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , R 5 and R 6 , R 6 and R 7 and R 7 and R 8 are combined to form a ring When a ring is formed in the formula (2-1) and the formula (2-2) or the formula (II), the ring may be at the corresponding position in the formula (1) or the formula (I). Is formed. When no ring is formed in the formula (2-1) and the formula (2-2) or the formula (II), a ring is formed at the corresponding position in the formula (1) or the formula (I) Although it is not, after producing a compound represented by the formula (1) or a compound having a fluorene structure represented by the formula (I) in the molecule, a reaction for forming these rings may be performed.
本発明に係るフルオレン系化合物の製造方法は、上述するとおり、ＯＨ前駆体中のＯＨ基に対して酸を作用させて隣接する炭素と環化させる簡単な反応を用いるものであるため、式（Ｉ）、式（１）、式（ＩＩ）、式（２−１）および式（２−２）中で用いているＡ１、Ａ２、Ｒ１〜Ｒ４およびＲ５〜Ｒ８はこの反応を阻害しない基、一般的な基であれば特に限定されない。これらの基として好ましい基を挙げるとすれば以下のとおりである。 The method for producing a fluorene compound according to the present invention uses a simple reaction in which an acid is allowed to act on an OH group in an OH precursor to cyclize it with an adjacent carbon, as described above. I), A 1 , A 2 , R 1 to R 4 and R 5 to R 8 used in the formula (1), the formula (II), the formula (2-1) and the formula (2-2) It is not particularly limited as long as it is a group that does not inhibit the reaction or a general group. Preferable groups as these groups are as follows.
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立して、アルキル、アリールまたはヘテロアリールであり、これらの基は置換されていてもよく、Ａ１およびＡ２は結合して環を形成していてもよい。Ａ１およびＡ２がアルキルなどである場合、立体障害や反応活性などの要因で、反応溶剤などとの反応が起こりにくく、ＯＨ前駆体自体の分子内脱水環化反応の方が進みやすいと推測されるため、フルオレン系目的化合物が得られやすくなると思われる。一方で、Ａ１およびＡ２が水素であると、ＯＨ前駆体自体の分子内脱水環化反応よりもトルエンとの分子間脱水反応の方がはるかに反応速度が速いと推測され、フルオレン系目的化合物は得られにくいと考えられる。
また、Ｒ１〜Ｒ４およびＲ５〜Ｒ８は、それぞれ独立して、水素、アルキル、アリールヘテロアリールまたはジアリール置換アミノであり、これらの基は置換されていてもよく、Ｒ１およびＲ２、Ｒ２およびＲ３、Ｒ３およびＲ４、Ｒ５およびＲ６、Ｒ６およびＲ７ならびにＲ７およびＲ８は、それぞれ独立して、結合して環を形成していてもよい。このように、Ｒ１〜Ｒ４およびＲ５〜Ｒ８として様々な置換基を有していてもＯＨ前駆体自体の分子内脱水環化反応が阻害されない理由としては、環化反応の部位に対する各置換基の立体障害（特に反応部位に近いＲ１やＲ８などの立体障害）が少ないことなどが考えられる。
また、式（１）で表されるフルオレン系化合物における水素は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシで置換されていてもよく、この場合、式（２−１）または式（２−２）で表されるＯＨ前駆体における対応する水素が同じく置換されている。
A 1 and A 2 are each independently alkyl, aryl or heteroaryl, these groups may be substituted, and A 1 and A 2 may combine to form a ring. When A 1 and A 2 are alkyl or the like, it is presumed that reaction with the reaction solvent or the like does not easily occur due to factors such as steric hindrance or reaction activity, and the intramolecular dehydration / cyclization reaction of the OH precursor itself is more likely to proceed As a result, fluorene-based target compounds are likely to be obtained. On the other hand, if A 1 and A 2 are hydrogen, it is speculated that the intermolecular dehydration reaction with toluene is much faster than the intramolecular dehydration cyclization of the OH precursor itself, and the fluorene purpose is It is believed that compounds are difficult to obtain.
R 1 to R 4 and R 5 to R 8 are each independently hydrogen, alkyl, aryl heteroaryl or diaryl substituted amino, and these groups may be substituted, R 1 and R 2 , R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , R 5 and R 6 , R 6 and R 7 and R 7 and R 8 may be independently combined to form a ring. Thus, the reason why the intramolecular dehydration / cyclization reaction of the OH precursor itself is not inhibited even if it has various substituents as R 1 to R 4 and R 5 to R 8 is to the site of the cyclization reaction The steric hindrance of each substituent (in particular, steric hindrance such as R 1 or R 8 close to the reaction site) may be reduced.
In addition, hydrogen in the fluorene compound represented by the formula (1) may be substituted with fluorine, chlorine, bromine, iodine or alkoxy, and in this case, the formula (2-1) or the formula (2-2) The corresponding hydrogens in the OH precursors represented by are also substituted.
Ａ１、Ａ２、Ｒ１〜Ｒ４およびＲ５〜Ｒ８におけるアルキルとしては、直鎖および分枝鎖のいずれでもよく、例えば、炭素数１〜２４の直鎖アルキルまたは炭素数３〜２４の分枝鎖アルキルが挙げられる。好ましいアルキルは、炭素数１〜１８のアルキル（炭素数３〜１８の分枝鎖アルキル）である。より好ましいアルキルは、炭素数１〜１２のアルキル（炭素数３〜１２の分枝鎖アルキル）である。さらに好ましいアルキルは、炭素数１〜６のアルキル（炭素数３〜６の分枝鎖アルキル）である。特に好ましいアルキルは、炭素数１〜４のアルキル（炭素数３〜４の分枝鎖アルキル）である。 The alkyl in A 1 , A 2 , R 1 to R 4 and R 5 to R 8 may be either linear or branched, and for example, linear alkyl having 1 to 24 carbons or 3 to 24 carbons And branched alkyls of Preferred alkyl is alkyl having 1 to 18 carbons (branched alkyl having 3 to 18 carbons). More preferred alkyl is alkyl having 1 to 12 carbons (branched alkyl having 3 to 12 carbons). More preferable alkyl is alkyl having 1 to 6 carbons (branched alkyl having 3 to 6 carbons). Particularly preferred alkyl is alkyl having 1 to 4 carbons (branched alkyl having 3 to 4 carbons).
具体的なアルキルとしては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、１−メチルペンチル、４−メチル−２−ペンチル、３，３−ジメチルブチル、２−エチルブチル、ｎ−ヘプチル、１−メチルヘキシル、ｎ−オクチル、ｔ−オクチル、１−メチルヘプチル、２−エチルヘキシル、２−プロピルペンチル、ｎ−ノニル、２，２−ジメチルヘプチル、２，６−ジメチル−４−ヘプチル、３，５，５−トリメチルヘキシル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、１−メチルデシル、ｎ−ドデシル、ｎ−トリデシル、１−ヘキシルヘプチル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ペンタデシル、ｎ−ヘキサデシル、ｎ−ヘプタデシル、ｎ−オクタデシル、ｎ−エイコシルなどが挙げられる。 Specific examples of the alkyl include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, n-pentyl, isopentyl, neopentyl, t-pentyl, n-hexyl and 1-methyl Pentyl, 4-methyl-2-pentyl, 3, 3-dimethylbutyl, 2-ethylbutyl, n-heptyl, 1-methylhexyl, n-octyl, t-octyl, 1-methylheptyl, 2-ethylhexyl, 2-propyl Pentyl, n-nonyl, 2,2-dimethylheptyl, 2,6-dimethyl-4-heptyl, 3,5,5-trimethylhexyl, n-decyl, n-undecyl, 1-methyldecyl, n-dodecyl, n- Tridecyl, 1-hexylheptyl, n-tetradecyl, n-pentadecyl, n-hexadecyl, n-heptade Le, n- octadecyl, etc. n- eicosyl and the like.
Ａ１、Ａ２、Ｒ１〜Ｒ４およびＲ５〜Ｒ８におけるアリールとしては、例えば、炭素数６〜３０のアリールが挙げられる。好ましいアリールは炭素数６〜１６のアリールであり、より好ましくは炭素数６〜１４のアリールであり、さらに好ましくは炭素数６〜１２のアリールであり、特に好ましくは炭素数６〜１０のアリールである。 Examples of the aryl in A 1 , A 2 , R 1 to R 4 and R 5 to R 8 include aryl having 6 to 30 carbon atoms. Preferred aryl is aryl having 6 to 16 carbon atoms, more preferably aryl having 6 to 14 carbon atoms, still more preferably aryl having 6 to 12 carbon atoms, and particularly preferably aryl having 6 to 10 carbon atoms. is there.
具体的なアリールとしては、単環系アリールであるフェニル、二環系アリールである（２−，３−，４−）ビフェニリル、縮合二環系アリールである（１−，２−）ナフチル、三環系アリールであるテルフェニリル（ｍ−テルフェニル−２’−イル、ｍ−テルフェニル−４’−イル、ｍ−テルフェニル−５’−イル、ｏ−テルフェニル−３’−イル、ｏ−テルフェニル−４’−イル、ｐ−テルフェニル−２’−イル、ｍ−テルフェニル−２−イル、ｍ−テルフェニル−３−イル、ｍ−テルフェニル−４−イル、ｏ−テルフェニル−２−イル、ｏ−テルフェニル−３−イル、ｏ−テルフェニル−４−イル、ｐ−テルフェニル−２−イル、ｐ−テルフェニル−３−イル、ｐ−テルフェニル−４−イル）、縮合三環系アリールである、アセナフチレン−（１−，３−，４−，５−）イル、フルオレン−（１−，２−，３−，４−，９−）イル、フェナレン−（１−，２−）イル、（１−，２−，３−，４−，９−）フェナントリル、四環系アリールであるクアテルフェニリル（５’−フェニル−ｍ−テルフェニル−２−イル、５’−フェニル−ｍ−テルフェニル−３−イル、５’−フェニル−ｍ−テルフェニル−４−イル、ｍ−クアテルフェニル）、縮合四環系アリールであるトリフェニレン−（１−，２−）イル、ピレン−（１−，２−，４−）イル、ナフタセン−（１−，２−，５−）イル、縮合五環系アリールであるペリレン−（１−，２−，３−）イル、ペンタセン−（１−，２−，５−，６−）イルなどが挙げられる。 Specific aryls include phenyl which is monocyclic aryl, (2-, 3-, 4-) biphenylyl which is bicyclic aryl, (1-, 2-) naphthyl which is fused bicyclic aryl; Ring system aryl terphenylyl (m-terphenyl-2'-yl, m-terphenyl-4'-yl, m-terphenyl-5'-yl, o-terphenyl-3'-yl, o-ter) Phenyl-4'-yl, p-terphenyl-2'-yl, m-terphenyl-2-yl, m-terphenyl-3-yl, m-terphenyl-4-yl, o-terphenyl-2 -Yl, o-terphenyl-3-yl, o-terphenyl-4-yl, p-terphenyl-2-yl, p-terphenyl-3-yl, p-terphenyl-4-yl), condensation Asenaphthile, a tricyclic aryl -(1-, 3-, 4-, 5-) yl, fluorene- (1-, 2-, 3-, 4-, 9-) yl, phenalene- (1-, 2-) yl, (1- , 2-, 3-, 4-, 9-) phenanthryl, tetracyclic aryl quaternphenyl (5'-phenyl-m-terphenyl-2-yl, 5'-phenyl-m-terphenyl- 3-yl, 5'-phenyl-m-terphenyl-4-yl, m-quaterphenyl), fused tetracyclic aryl triphenylene- (1-, 2-) yl, pyrene- (1-, 2 -, 4-) yl, naphthacene- (1-, 2-, 5-) yl, fused pentacyclic aryl perylene- (1-, 2-, 3-) yl, pentacene- (1-, 2-) 5-, 5-, 6-yl and the like.
Ａ１、Ａ２、Ｒ１〜Ｒ４およびＲ５〜Ｒ８におけるヘテロアリールとしては、例えば、炭素数２〜３０のヘテロアリールが挙げられる。好ましいヘテロアリールは、炭素数２〜２５のヘテロアリールであり、より好ましくは炭素数２〜２０のヘテロアリールであり、さらに好ましくは炭素数２〜１５のヘテロアリールであり、特に好ましくは炭素数２〜１０のヘテロアリールである。また、ヘテロアリールとしては、例えば環構成原子として炭素以外に酸素、硫黄および窒素から選ばれるヘテロ原子を１ないし５個含有するものが挙げられる。 Examples of the heteroaryl in A 1 , A 2 , R 1 to R 4 and R 5 to R 8 include heteroaryl having 2 to 30 carbon atoms. Preferred heteroaryl is heteroaryl having 2 to 25 carbons, more preferably heteroaryl having 2 to 20 carbons, still more preferably heteroaryl having 2 to 15 carbons, and particularly preferably 2 -10 heteroaryl. Moreover, as the heteroaryl, for example, those containing 1 to 5 hetero atoms selected from oxygen, sulfur and nitrogen in addition to carbon as a ring constituting atom are mentioned.
具体的なヘテロアリールとしては、例えば、フリル、チエニル、ピロリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、オキサジアゾリル、フラザニル、チアジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピリダジニル、ピラジニル、トリアジニル、ベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、ベンゾ［ｂ］チエニル、インドリル、イソインドリル、１Ｈ−インダゾリル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、１Ｈ−ベンゾトリアゾリル、キノリル、イソキノリル、シンノリル、キナゾリル、キノキサリニル、フタラジニル、ナフチリジニル、プリニル、プテリジニル、カルバゾリル、アクリジニル、フェノキサジニル、フェノチアジニル、フェナジニル、フェノキサチイニル、チアントレニル、インドリジニルなどが挙げられる。 Specific examples of the heteroaryl include furyl, thienyl, pyrrolyl, oxazolyl, isoxazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, imidazolyl, pyrazolyl, oxadiazolyl, furazanyl, thiadiazolyl, triazolyl, triazolyl, pyridyl, pyrimidinyl, pyridazinyl, pyrazinyl, triazinyl, benzofuranyl, Isobenzofuranyl, benzo [b] thienyl, indolyl, isoindolyl, 1H-indazolyl, benzimidazolyl, benzoxazolyl, benzothiazolyl, 1H-benzotriazolyl, quinolyl, isoquinolyl, cinnolyl, quinazolyl, phthalazinyl, phthalazinyl, naphthyridinyl, purinyl , Pteridinyl, carbazolyl, acridinyl, phenoxazinyl, phenothiazinyl, Najiniru, phenoxathiinyl, thianthrenyl, indolizinyl, and the like.
Ｒ１〜Ｒ４およびＲ５〜Ｒ８におけるジアリール置換アミノとしては、上述したアリールが２つ置換したアミノ基が挙げられる。 Examples of the diaryl-substituted amino in R 1 to R 4 and R 5 to R 8 include an amino group in which two of the aryls described above are substituted.
Ａ１、Ａ２、Ｒ１〜Ｒ４およびＲ５〜Ｒ８として選択されるアルキル、アリールまたはヘテロアリールや、Ｒ１〜Ｒ４およびＲ５〜Ｒ８として選択されるジアリール置換アミノは置換されていてもよく、この置換基としては、上述したアルキルやアリールと同じものが挙げられる。 Alkyl, aryl or heteroaryl selected as A 1 , A 2 , R 1 to R 4 and R 5 to R 8 and diaryl substituted aminos selected as R 1 to R 4 and R 5 to R 8 are substituted The substituent may be the same as the alkyl or aryl described above.
Ａ１およびＡ２、Ｒ１およびＲ２、Ｒ２およびＲ３、Ｒ３およびＲ４、Ｒ５およびＲ６、Ｒ６およびＲ７ならびにＲ７およびＲ８は、それぞれ独立して、結合して環を形成していてもよく、形成された環としては脂肪族環や芳香族環が挙げられる。脂肪族環としては例えばシクロアルカン環であり、具体的にはシクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環などが挙げられ、これらの環は上記アルキルやアリールで置換されていてもよい。また、芳香族環としては上記アリールやヘテロアリールとして挙げたものと同じ構造を有する環であり、具体的にはベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環などが挙げられ、これらの環は上記アルキルやアリールで置換されていてもよい。これらの中でも、形成された環としてはベンゼン環がより好ましい。 A 1 and A 2 , R 1 and R 2 , R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , R 5 and R 6 , R 6 and R 7 and R 7 and R 8 are each independently bonded And the formed ring includes an aliphatic ring and an aromatic ring. The aliphatic ring is, for example, a cycloalkane ring, and specific examples thereof include a cyclobutane ring, a cyclopentane ring, a cyclohexane ring and the like, and these rings may be substituted by the above alkyl or aryl. The aromatic ring is a ring having the same structure as that described above for the aryl and heteroaryl, and specific examples thereof include a benzene ring, a naphthalene ring, and a pyridine ring, and these rings include the above alkyl and aryl. And may be substituted. Among these, as a ring formed, a benzene ring is more preferable.
これらの基が環を形成した場合については、特に、式（１）において、Ｒ２およびＲ３、Ｒ３およびＲ４、Ｒ５およびＲ６ならびにＲ６およびＲ７のうちの少なくとも一対が環を形成することが好ましく、Ｒ２およびＲ３ならびにＲ３およびＲ４のうちのいずれかが環を形成することがより好ましく、Ｒ３およびＲ４が環を形成することが最も好ましい。 In the case where these groups form a ring, in particular, in Formula (1), at least one of R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , R 5 and R 6 and R 6 and R 7 is a ring preferably formed of, it is more preferable that one of R 2 and R 3 and R 3 and R 4 form a ring, R 3 and R 4 it is most preferable to form a ring.
このようにして構成された式（１）で表されるフルオレン系化合物における水素は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシで置換されていてもよい。なお、同じくその原料である式（２−１）または式（２−２）で表されるＯＨ前駆体も置換されることは上述したとおりである。 The hydrogen in the fluorene compound represented by the formula (1) constituted in this manner may be substituted by fluorine, chlorine, bromine, iodine or alkoxy. In addition, it is as above-mentioned that the OH precursor represented by Formula (2-1) or Formula (2-2) which is the raw material similarly is also substituted.
置換基であるアルコキシとしては、例えば、炭素数１〜１５のアルコキシがあげられる。好ましいアルコキシは、炭素数１〜１０のアルコキシである。さらに好ましいアルコキシは、炭素数１〜４のアルコキシである。 Examples of the alkoxy which is a substituent include alkoxy having 1 to 15 carbon atoms. Preferred alkoxy is alkoxy having 1 to 10 carbons. More preferable alkoxy is alkoxy having 1 to 4 carbons.
具体的なアルコキシとしては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｓ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、シクロペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、シクロヘプチルオキシ、オクチルオキシ、シクロオクチルオキシ、フェノキシなどが挙げられる。 Specific examples of the alkoxy include methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, sec-butoxy, t-butoxy, pentyloxy, cyclopentyloxy, hexyloxy, cyclohexyloxy, heptyloxy, cycloheptyloxy and octyl And oxy, cyclooctyloxy, phenoxy and the like.
これらの置換基を有する場合には、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシの置換形態（数および位置）に制限はないが、式（１）で表されるフルオレン系化合物中のフルオレン骨格における水素が置換されることが好ましい。 In the case of having these substituents, there is no limitation on the substituted form (number and position) of fluorine, chlorine, bromine, iodine or alkoxy, but hydrogen in the fluorene skeleton in the fluorene compound represented by formula (1) Is preferably substituted.
さらに、式（１）中、Ｒ１〜Ｒ４のうちの少なくとも１つはフッ素であり、Ｒ５〜Ｒ８のうちの少なくとも１つは塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシであることが好ましい。
この場合、式（１）中、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、ジアリール置換アミノまたはフッ素であり、Ｒ１〜Ｒ４のうちの少なくとも１つはフッ素であり、
Ｒ５〜Ｒ８は、それぞれ独立して、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、ジアリール置換アミノ、塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシであり、Ｒ５〜Ｒ８のうちの少なくとも１つは塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシである。
Furthermore, in Formula (1), it is preferable that at least one of R 1 to R 4 is fluorine, and at least one of R 5 to R 8 is chlorine, bromine, iodine or alkoxy.
In this case, in equation (1),
R 1 to R 4 are each independently hydrogen, alkyl, aryl, heteroaryl, diaryl substituted amino or fluorine, and at least one of R 1 to R 4 is fluorine,
R 5 to R 8 are each independently hydrogen, alkyl, aryl, heteroaryl, diaryl substituted amino, chlorine, bromine, iodine or alkoxy, and at least one of R 5 to R 8 is chlorine or bromine , Iodine or alkoxy.
＜一般式（１）で表されるフルオレン系化合物について＞
本発明に係るフルオレン系化合物は、下記一般式（１）で表されるフルオレン系化合物である。
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立して、アルキル、アリールまたはヘテロアリールであり、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、ジアリール置換アミノまたはフッ素であり、Ｒ１〜Ｒ４のうちの少なくとも１つはフッ素であり、
Ｒ５〜Ｒ８は、それぞれ独立して、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、ジアリール置換アミノ、塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシであり、Ｒ５〜Ｒ８のうちの少なくとも１つは塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシである。
なお、Ａ１、Ａ２、Ｒ１〜Ｒ４およびＲ５〜Ｒ８の各基の詳細については上述したとおりである。
<About the fluorene compound represented by the general formula (1)>
The fluorene compound according to the present invention is a fluorene compound represented by the following general formula (1).
A 1 and A 2 are each independently alkyl, aryl or heteroaryl,
R 1 to R 4 are each independently hydrogen, alkyl, aryl, heteroaryl, diaryl substituted amino or fluorine, and at least one of R 1 to R 4 is fluorine,
R 5 to R 8 are each independently hydrogen, alkyl, aryl, heteroaryl, diaryl substituted amino, chlorine, bromine, iodine or alkoxy, and at least one of R 5 to R 8 is chlorine or bromine , Iodine or alkoxy.
The details of each group of A 1 , A 2 , R 1 to R 4 and R 5 to R 8 are as described above.
より具体的なフルオレン系化合物としては、以下に列挙するものが挙げられる。なお、構造式中の「Ｍｅ」はメチル基、「Ｅｔ」はエチル基、「ｔＢｕ」はｔ−ブチル基、「ＯＭｅ」はメトキシ基、「ＯＥｔ」はエトキシ基、「Ｐｈ」はフェニル基である。 More specific fluorene compounds include those listed below. In the structural formulae, “Me” is methyl, “Et” is ethyl, “tBu” is t-butyl, “OMe” is methoxy, “OEt” is ethoxy, and “Ph” is phenyl. is there.
＜反応で用いる担体について＞
担体は、本発明に係る製造方法において、同時に使用する酸がＯＨ前駆体に効果的に作用する役割を有すると考えられる。例えば、反応場に存在する担体の表面に酸が吸着して触媒活性点を形成し、それがＯＨ前駆体に作用して反応効率を飛躍的に高めると推測しているが、本発明はこの原理に制限されるものではない。
<About the carrier used in the reaction>
The carrier is considered to have a role of simultaneously acting on the OH precursor in the production method according to the present invention. For example, it is assumed that an acid is adsorbed on the surface of the support present in the reaction site to form a catalytic active site, which acts on the OH precursor to dramatically increase the reaction efficiency, but the present invention It is not limited to the principle.
したがって、担体としては上記作用を奏し得る物質であれば特に制限されない。一例としては、無機酸化物や金属硫酸化物などが挙げられ、これらは多孔質構造を有する（多孔質物質）であることが好ましい。担体は、単一の種類を単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。 Therefore, the carrier is not particularly limited as long as it is a substance capable of exerting the above-mentioned action. As an example, an inorganic oxide, a metal sulfate, etc. are mentioned, It is preferable that these have a porous structure (porous material). The carrier may be used singly or in combination of two or more.
無機酸化物としては、シリカ（ＳｉＯ２）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、チタニア（ＴｉＯ２）、マグネシア（ＭｇＯ）、ジルコニア（ＺｒＯ２）、酸化スズ（ＳｎＯ２またはＳｎＯ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３またはＦｅ３Ｏ４）などが挙げられ、特にアルミナやシリカが好適に用いられる。 As the inorganic oxide, silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), titania (TiO 2 ), magnesia (MgO), zirconia (ZrO 2 ), tin oxide (SnO 2 or SnO), hafnium oxide (HfO 2 ), iron oxide (Fe 2 O 3 or Fe 3 O 4 ), etc., and in particular, alumina and silica are suitably used.
金属硫酸化物としては、硫酸アルミニウム（Ａｌ２（ＳＯ４）３）、硫酸亜鉛（ＺｎＳＯ４）、硫酸スズ（ＳｎＳＯ４）、硫酸鉄ＩＩ（ＦｅＳＯ４）、硫酸鉄ＩＩＩ（Ｆｅ２（ＳＯ４）３）などが挙げられ、特に硫酸アルミニウムや硫酸亜鉛が好適に用いられる。 As metal sulfates, aluminum sulfate (Al 2 (SO 4 ) 3 ), zinc sulfate (ZnSO 4 ), tin sulfate (SnSO 4 ), iron sulfate II (FeSO 4 ), iron sulfate III (Fe 2 (SO 4 )) 3 ) and the like, and in particular, aluminum sulfate and zinc sulfate are suitably used.
多孔質物質である場合、比表面積は３０〜１５００ｇ／ｍ２が好ましく、５０〜１０００ｇ／ｍ２がより好ましく、１００〜８００ｇ／ｍ２がさらに好ましく、２００〜７００ｇ／ｍ２が特に好ましく、３００〜６００ｇ／ｍ２が最も好ましい。比表面積が３０〜１５００ｇ／ｍ２であると反応効率と精製効率のバランスが最も優れる。 If a porous material, the specific surface area is preferably 30~1500g / m 2, more preferably 50 to 1000 g / m 2, more preferably 100 to 800 g / m 2, particularly preferably from 200 to 700 g / m 2, 300 Most preferred is ̃600 g / m 2 . When the specific surface area is 30 to 1,500 g / m 2 , the balance between the reaction efficiency and the purification efficiency is most excellent.
反応に使用する担体の量は、上記比表面積に応じて変化する場合があるが、一般的にはＯＨ前駆体１モルに対して０．１〜５モルが好ましく、０．２〜３モルがより好ましく、０．３〜２モルがさらに好ましい。 The amount of the carrier used for the reaction may vary depending on the above specific surface area, but in general, 0.1 to 5 mol is preferable, and 0.2 to 3 mol is preferable to 1 mol of the OH precursor. More preferably, 0.3 to 2 mol is more preferable.
担体の形態としては、特に限定されるものではないが、粉末状、球形粒状、不定形顆粒状、クラスターなどが挙げられる。 The form of the carrier is not particularly limited, and examples thereof include powder, spherical particles, irregular granules, and clusters.
＜反応で用いる酸について＞
酸は、ＯＨ前駆体からフルオレン系化合物を製造する従来の一般的な反応で用いられてきた酸を使用することができる。例えば、塩酸、硝酸、硫酸、燐酸、ポリ燐酸、塩素酸、臭素酸、ヨウ素酸、過ヨウ素酸、過マンガン酸、チオシアン酸、テトラフルオロホウ酸、ヘキサフルオロリン酸、スルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸などが挙げられる。これらの酸の中でも、好ましくは硫酸、燐酸、ポリ燐酸またはスルホン酸であり、濃硫酸が特に好ましい。
<About the acid used in the reaction>
As the acid, an acid which has been used in a conventional general reaction for producing a fluorene compound from an OH precursor can be used. For example, hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, polyphosphoric acid, chloric acid, bromic acid, iodic acid, periodic acid, permanganic acid, thiocyanic acid, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, sulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid And para-toluenesulfonic acid. Among these acids, preferred are sulfuric acid, phosphoric acid, polyphosphoric acid and sulfonic acid, with concentrated sulfuric acid being particularly preferred.
反応に使用する酸の量は、一般的にはＯＨ前駆体１モルに対して０．０５〜２モルが好ましく、０．１〜１モルがより好ましく、０．２〜０．５モルがさらに好ましい。 In general, the amount of the acid used in the reaction is preferably 0.05 to 2 moles, more preferably 0.1 to 1 moles, and even more preferably 0.2 to 0.5 moles per mole of the OH precursor. preferable.
＜反応で用いる固定酸触媒について＞
固定酸触媒は、本発明に係る製造方法において、当該触媒に既に結合（化学的結合、物理吸着など）している酸性官能基がＯＨ前駆体に効果的に作用する役割を有すると考えられる。例えば、反応場に存在する固定酸触媒の表面に酸性官能基が存在していて、それがＯＨ前駆体に作用して反応効率を飛躍的に高めると推測しているが、本発明はこの原理に制限されるものではない。
<About fixed acid catalyst used in reaction>
In the production method according to the present invention, the fixed acid catalyst is considered to have a role in which the acidic functional group already bonded (chemically bonded, physically adsorbed, etc.) to the catalyst effectively acts on the OH precursor. For example, it is assumed that an acidic functional group is present on the surface of the fixed acid catalyst present in the reaction site, and it acts on the OH precursor to dramatically increase the reaction efficiency, but the present invention is based on this principle. It is not limited to
酸性官能基としては、スルホン酸基、カルボキシル基、リン酸基などが挙げられる。これらの酸性官能基の中でもスルホン酸基が好ましい。またこの酸性官能基が結合する物質としては樹脂、上述した担体、多孔質の担体などが挙げられる。固定酸触媒としては、例えば、スルホン化処理された樹脂や表面がスルホン化処理された多孔質物質などが挙げられる。 As an acidic functional group, a sulfonic acid group, a carboxyl group, a phosphoric acid group etc. are mentioned. Among these acidic functional groups, sulfonic acid groups are preferred. Moreover, as the substance to which the acidic functional group is bonded, a resin, the above-mentioned carrier, a porous carrier and the like can be mentioned. As the fixed acid catalyst, for example, a sulfonated resin, a porous material having a sulfonated surface, etc. may be mentioned.
固定酸触媒の表面性状としては、比表面積は２０〜１２００ｇ／ｍ２が好ましく、３０〜１０００ｇ／ｍ２がより好ましく、４０〜８００ｇ／ｍ２がさらに好ましく、８０〜６００ｇ／ｍ２が特に好ましく、１００〜５００が最も好ましい。比表面積が２０〜１２００ｇ／ｍ２であると反応効率と精製効率のバランスが最も優れる。また、固定酸触媒における酸性官能基量は０．０５ｍｍｏｌ／ｇ以上が好ましく、０．１ｍｍｏｌ／ｇ以上がより好ましく、０．３ｍｍｏｌ／ｇ以上がさらに好ましく、０．５ｍｍｏｌ／ｇ以上が特に好ましい。酸性官能基量が０．０５ｍｍｏｌ／ｇ以上であると反応効率が優れる。 The surface properties of the fixed acid catalyst, the specific surface area is preferably 20~1200g / m 2, more preferably 30~1000g / m 2, more preferably 40~800g / m 2, particularly preferably 80~600g / m 2 , 100-500 are most preferred. When the specific surface area is 20 to 1200 g / m 2 , the balance between the reaction efficiency and the purification efficiency is most excellent. Further, the amount of the acidic functional group in the fixed acid catalyst is preferably 0.05 mmol / g or more, more preferably 0.1 mmol / g or more, still more preferably 0.3 mmol / g or more, and particularly preferably 0.5 mmol / g or more. Reaction efficiency is excellent in the amount of acidic functional groups being 0.05 mmol / g or more.
具体的な固定酸触媒としては、シグマアルドリッチジャパン合同会社製のポリスチレン系スルホン酸イオン交換樹脂、例えば、ＡＭＢＥＲＬＹＳＴ １５（Ｈ）、ＡＭＢＥＲＬＹＳＴ １６（Ｈ）、ＡＭＢＥＲＬＹＳＴ ３６（Ｈ）、ＡＭＢＥＲＬＩＴＥ ＩＲ１２０（Ｈ）、ＡＭＢＥＲＪＥＴ １２００（Ｈ）、ＤＯＷＥＸ １５Ｗ×２、ＤＯＷＥＸ １５Ｗ×４、ＤＯＷＥＸ １５Ｗ×８など、テイカ株式会社製のシリカゲル系スルホン酸固定酸触媒、例えば、テイカキュア−６、テイカキュア−１０、テイカキュア−１５など、和光純薬工業株式会社製の高濃度硫酸含有硫酸シリカゲル、例えば、２２％硫酸シリカゲル、４４％硫酸シリカゲル、５５％硫酸シリカゲルなどが挙げられる。 Specific fixed acid catalysts include polystyrene-based sulfonic acid ion exchange resins manufactured by Sigma-Aldrich Japan Ltd., for example, AMBERLYST 15 (H), AMBERLYST 16 (H), AMBERLYST 36 (H), AMBERLITE IR 120 (H), Silica gel-based sulfonic acid fixed acid catalysts manufactured by Tayca Corporation such as AMBERJET 1200 (H), DOWEX 15 W × 2, DOWEX 15 W × 4, DOWEX 15 W × 8, eg, Teyca Cure-6, Teyca Cure-10, Teyca Cure-15, etc. Wako Pure Chemical Industries, Ltd. high concentration sulfuric acid-containing sulfuric acid silica gel, for example, 22% sulfuric acid silica gel, 44% sulfuric acid silica gel, 55% sulfuric acid silica gel etc. may be mentioned.
反応に使用する固定酸触媒の量については、一般的にはＯＨ前駆体１モルに対して０．０２〜１モルの酸性官能基量となるようにすることが好ましく、０．０３〜０．８モルの酸性官能基量となるようにすることがより好ましく、０．０５〜０．７モルの酸性官能基量となるようにすることがさらに好ましい。 The amount of the fixed acid catalyst used in the reaction is generally such that the amount of the acidic functional group is 0.02 to 1 mole with respect to 1 mole of the OH precursor, and preferably 0.03 to 0. It is more preferable to adjust the amount of the acidic functional group to 8 moles, and more preferable to adjust the amount of the acidic functional group to 0.05 to 0.7 moles.
なお、アルミナ、シリカ、ゼオライトなどの無機酸化物は、その表面に酸性を有する活性点がわずかに存在することから固体酸触媒とも呼ばれることがあるが、この固体酸触媒自体は本願の比較例で検証されるように所望の反応効率を有さない。したがって、一般に知られている固体酸触媒は、本発明では固定酸触媒ではなく単なる担体として分類される。 Inorganic oxides such as alumina, silica, and zeolite may be called solid acid catalysts because their surface has a small number of active sites having acidity, but this solid acid catalyst itself is a comparative example of the present invention. It does not have the desired reaction efficiency as verified. Thus, generally known solid acid catalysts are classified in the present invention not as fixed acid catalysts but as simple carriers.
＜反応の温度、時間について＞
反応温度は、ＯＨ前駆体からフルオレン系化合物を製造する従来の一般的な反応で用いられてきた温度でもよく、５０〜２００℃が好ましく、７０〜１５０℃がより好ましく、８０〜１３０℃がさらに好ましい。反応時間は、ＯＨ前駆体からフルオレン系化合物を製造する従来の一般的な反応で用いられてきた時間でもよく、０．１〜１０時間が好ましく、０．５〜５時間がより好ましく、０．８〜３時間がさらに好ましい。
<Reaction temperature, time>
The reaction temperature may be a temperature which has been used in a conventional general reaction for producing a fluorene compound from an OH precursor, preferably 50 to 200 ° C., more preferably 70 to 150 ° C., further preferably 80 to 130 ° C. preferable. The reaction time may be the time used in a conventional general reaction for producing a fluorene compound from an OH precursor, preferably 0.1 to 10 hours, more preferably 0.5 to 5 hours, 0. More preferably 8 to 3 hours.
＜反応溶媒について＞
反応に使用する溶媒は、ＯＨ前駆体からフルオレン系化合物を製造する従来の一般的な反応で用いられてきた溶媒でもよく、例えば、ジクロロメタン、オルトジクロロベンゼン、四塩化炭素、トルエン、キシレン、ｏ−キシレン、ｐ−キシレン、ｍ−キシレン、１，２，３−トリメチルベンゼン、１，２，４−トリメチルベンゼン、１，３，５−トリメチルベンゼン、酢酸、クロロホルムなどが挙げられる。特に、トルエン、キシレン、ｏ−キシレン、ｐ−キシレン、ｍ−キシレン、１，２，３−トリメチルベンゼン、１，２，４−トリメチルベンゼン、１，３，５−トリメチルベンゼンが好ましい。
<Reaction solvent>
The solvent used for the reaction may be a solvent used in a conventional general reaction for producing a fluorene-based compound from an OH precursor, for example, dichloromethane, orthodichlorobenzene, carbon tetrachloride, toluene, xylene, o- Xylene, p-xylene, m-xylene, 1,2,3-trimethylbenzene, 1,2,4-trimethylbenzene, 1,3,5-trimethylbenzene, acetic acid, chloroform and the like can be mentioned. In particular, toluene, xylene, o-xylene, p-xylene, m-xylene, 1,2,3-trimethylbenzene, 1,2,4-trimethylbenzene and 1,3,5-trimethylbenzene are preferable.
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be more specifically described by way of examples, but the present invention is not limited thereto.
［実施例１］
担体として和光純薬工業株式会社製の活性アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）および酸として濃硫酸を用いて、ＯＨ前駆体からフルオレン系目的化合物の合成を試みた。なお、活性アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）は平均粒径４５μｍ、比表面積１３７ｍ２／ｇである。
Example 1
Using active alumina (Al 2 O 3 ) manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. as a carrier and concentrated sulfuric acid as an acid, synthesis of a fluorene-based target compound was attempted from an OH precursor. Activated alumina (Al 2 O 3 ) has an average particle diameter of 45 μm and a specific surface area of 137 m 2 / g.
まず、窒素雰囲気下、（３，５−ジフルオロフェニル）ボロン酸（３１．６５ｇ）、メチル ２−ブロモ−５−クロロベンゾアート（５０ｇ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（６．９５ｇ、「Ｐｄ（ＰＰｈ３）４」）、炭酸カリウム（５５．４ｇ）およびトルエン（４５０ｍｌ）をフラスコに入れて５分間攪拌した。その後、水（５０ｍｌ）を加え、４時間還流した。加熱終了後に反応液を冷却し、水（１００ｍｌ）を添加した。その後、反応混合液をトルエンで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、乾燥剤を除去し、溶媒を減圧留去して得られた粗製品を適量のトルエンに溶解し、シリカゲルでカラム精製（溶媒：ヘプタン／トルエン＝１／２（容量比））して、溶媒を減圧留去することにより、メチル ４−クロロ−３’，５’−ジフルオロ−［１，１’−ビフェニル］−２−カルボキシラートを得た（５７ｇ、収率１００％）。
次に、窒素雰囲気下、メチル ４−クロロ−３’，５’−ジフルオロ−［１，１’−ビフェニル］−２−カルボキシラート（２２ｇ）およびテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）をフラスコに入れて５分間攪拌し、０．９６Ｍの臭化メチルマグネシウムのテトラヒドロフラン溶液（２５０ｍｌ）をゆっくり滴下した後、反応液を室温で２時間攪拌した。その後、飽和塩化アンモニウム水溶液（１５０ｍｌ）をゆっくり滴下した。反応混合液を酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、乾燥剤を除去し、溶媒を減圧留去して得られた粗製品を適量のトルエンに溶解し、シリカゲルでカラム精製（溶媒：トルエン）して、溶媒を減圧留去することにより、ＯＨ前駆体である２−（４−クロロ−３’，５’−ジフルオロ−［１，１’−ビフェニル］−２−イル）プロパン−２−オールを得た（２１．５ｇ、収率９７．７％）。
最後に、２−（４−クロロ−３’，５’−ジフルオロ−［１，１’−ビフェニル］−２−イル）プロパン−２−オール（１．１３ｇ）、活性アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）（０．４ｇ）およびトルエン（１６ｍｌ）をフラスコに入れ、攪拌しながら濃硫酸（０．０８ｇ）を加えた。その後、１１０℃で１時間還流した。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、ＯＨ前駆体からフルオレン系目的化合物への転化率は１００％であった。反応終了後、反応液をシリカゲルでショートカラム精製（溶媒：トルエン）して、溶媒を減圧留去することにより、フルオレン系目的化合物である７−クロロ−１，３−ジフルオロ−９，９−ジメチル−９Ｈ−フルオレンを得た（１．０４ｇ、収率９８％）。なお、この反応におけるＯＨ前駆体：活性アルミナ：濃硫酸のモル比率は約１：１：０．２である。
ＭＳスペクトルおよびＮＭＲ測定によりフルオレン系目的化合物の構造を確認した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝７．５５（ｄ，１Ｈ）、７．３８（ｓ，１Ｈ）、７．３２（ｄ，１Ｈ）、７．１５（ｄ，１Ｈ）、６．７０（ｔ，１Ｈ）、１．５６（ｓ，６Ｈ）．
The structure of the fluorene-based target compound was confirmed by MS spectrum and NMR measurement.
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ = 7.55 (d, 1 H), 7.38 (s, 1 H), 7.32 (d, 1 H), 7.15 (d, 1 H), 6.70 (T, 1 H), 1.56 (s, 6 H).
［比較例１］
担体を用いず、酸として濃硫酸を用いて、上記ＯＨ前駆体から上記フルオレン系目的化合物の合成を試みた。
Comparative Example 1
An attempt was made to synthesize the fluorene-based target compound from the OH precursor using concentrated sulfuric acid as the acid without using a carrier.
上記ＯＨ前駆体（１．１３ｇ）および酢酸（１６ｍｌ）をフラスコに入れ、攪拌しながら濃硫酸（０．０８ｇ）を加えた。その後、１１７℃で１時間還流した。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、ＯＨ前駆体からフルオレン系目的化合物への転化率は１７.７％であり、オレフィン系副生成物への転化率は８２．３％であった。反応終了後、水（２０ｍｌ）を添加した。反応混合液をトルエンで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、乾燥剤を除去し、溶媒を減圧留去して得られた粗製品を適量のトルエンに溶解し、シリカゲルでカラム精製（溶媒：ヘプタン）して、溶媒を減圧留去することにより、オレフィン系副生成物である４−クロロ−３’，５’−ジフルオロ−２−（プロペン−２−イル）−１，１’−ビフェニルを得た（０．７５ｇ、収率７１％）。なお、この反応におけるＯＨ前駆体：濃硫酸のモル比率は約１：０．２である。
ＭＳスペクトルおよびＮＭＲ測定によりオレフィン系副生成物の構造を確認した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝７．２９（ｓ，１Ｈ）、７．２８（ｄ，１Ｈ）、７．１６（ｄ，１Ｈ）、６．９０（ｄ，２Ｈ）、６．７５（ｔ，１Ｈ）、５．１３（ｓ，１Ｈ）、４．９９（ｓ，１Ｈ）、１．６８（ｓ，３Ｈ）．
The structure of the olefin by-product was confirmed by MS spectrum and NMR measurement.
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ = 7.29 (s, 1 H), 7. 28 (d, 1 H), 7. 16 (d, 1 H), 6. 90 (d, 2 H), 6.75 (T, 1 H), 5.13 (s, 1 H), 4.99 (s, 1 H), 1.68 (s, 3 H).
［比較例２］
担体を用いず、酸として濃硫酸を用いて、上記ＯＨ前駆体から上記フルオレン系目的化合物の合成を試みた。
Comparative Example 2
An attempt was made to synthesize the fluorene-based target compound from the OH precursor using concentrated sulfuric acid as the acid without using a carrier.
上記ＯＨ前駆体（１．１３ｇ）およびトルエン（１６ｍｌ）をフラスコに入れ、攪拌しながら濃硫酸（０．０８ｇ）を加えた。その後、１１０℃で１時間還流した。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、ＯＨ前駆体からフルオレン系目的化合物への転化率は３７.７％であり、オレフィン系副生成物への転化率は６２．３％であった。なお、この反応におけるＯＨ前駆体：濃硫酸のモル比率は約１：０．２である。 The above OH precursor (1.13 g) and toluene (16 ml) were placed in a flask and concentrated sulfuric acid (0.08 g) was added while stirring. Thereafter, it was refluxed at 110 ° C. for 1 hour. As a result of gas chromatography analysis of the reaction liquid, the conversion ratio of OH precursor to fluorene-based target compound was 37.7%, and the conversion ratio to olefinic by-product was 62.3%. The molar ratio of OH precursor to concentrated sulfuric acid in this reaction is about 1: 0.2.
［比較例３］
担体として実施例１と同じ活性アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）を用い、酸を用いず、上記ＯＨ前駆体から上記フルオレン系目的化合物の合成を試みた。
Comparative Example 3
The same activated alumina (Al 2 O 3 ) as in Example 1 was used as a carrier, and no acid was used. The synthesis of the fluorene-based target compound was attempted from the OH precursor.
上記ＯＨ前駆体（１．１３ｇ）、活性アルミナ（０．４ｇ）およびトルエン（１６ｍｌ）をフラスコに入れた後、１１０℃で１時間還流した。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、残留したＯＨ前駆体が９５％であり、ＯＨ前駆体からフルオレン系目的化合物への転化率は０％であり、オレフィン系副生成物への転化率は５％であった。なお、この反応におけるＯＨ前駆体：活性アルミナのモル比率は約１：１である。 The above OH precursor (1.13 g), activated alumina (0.4 g) and toluene (16 ml) were placed in a flask and then refluxed at 110 ° C. for 1 hour. As a result of gas chromatography analysis of the reaction solution, the remaining OH precursor is 95%, the conversion ratio of the OH precursor to the fluorene-based target compound is 0%, and the conversion ratio to the olefinic by-product is It was 5%. The molar ratio of OH precursor to activated alumina in this reaction is about 1: 1.
［比較例４］
担体を用いず、酸としてトリフルオロボランジエチルエーテル錯体（Ｅｔ２Ｏ・ＢＦ３）を用いて、上記ＯＨ前駆体から上記フルオレン系目的化合物の合成を試みた。
Comparative Example 4
An attempt was made to synthesize the fluorene-based target compound from the OH precursor using a trifluoroborane diethyl ether complex (Et 2 O · BF 3 ) as an acid without using a carrier.
上記ＯＨ前駆体（２．８３ｇ）およびクロロホルム（３０ｍｌ）をフラスコに入れ、５℃以下に冷却した。０〜５℃温度の範囲でトリフルオロボランジエチルエーテル錯体（２．１３ｇ）を滴下した後、室温で１時間攪拌した。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、ＯＨ前駆体からフルオレン系目的化合物への転化率は３０.５％であり、オレフィン系副生成物への転化率は６９．５％であった。なお、この反応におけるＯＨ前駆体：トリフルオロボランジエチルエーテル錯体のモル比率は約１：１．５である。 The above OH precursor (2.83 g) and chloroform (30 ml) were placed in a flask and cooled to 5 ° C. or less. After dropwise addition of trifluoroborane diethyl ether complex (2.13 g) at a temperature range of 0 to 5 ° C., the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. As a result of gas chromatography analysis of the reaction liquid, the conversion rate of OH precursor to fluorene-based target compound was 30.5%, and the conversion rate of olefinic by-product was 69.5%. The molar ratio of OH precursor to trifluoroborane diethyl ether complex in this reaction is about 1: 1.5.
［実施例２］
担体として実施例１と同じ活性アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）および酸として濃硫酸を用いて、上記ＯＨ前駆体から上記フルオレン系目的化合物の合成を試みた。
Example 2
Using the same activated alumina (Al 2 O 3 ) as the carrier as in Example 1 and concentrated sulfuric acid as the acid, the synthesis of the fluorene-based target compound was attempted from the OH precursor.
上記ＯＨ前駆体（１．１３ｇ）、活性アルミナ（０．１４ｇ）およびトルエン（１６ｍｌ）をフラスコに入れ、攪拌しながら濃硫酸（０．０８ｇ）を加えた。その後、１１０℃で２時間還流した。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、ＯＨ前駆体からフルオレン系目的化合物への転化率は１００％であった。反応終了後、反応液をシリカゲルでショートカラム精製（溶媒：トルエン）して、溶媒を減圧留去することにより、上記フルオレン系目的化合物を得た。なお、この反応におけるＯＨ前駆体：活性アルミナ：濃硫酸のモル比率は約１：０．３５：０．２である。 The above OH precursor (1.13 g), activated alumina (0.14 g) and toluene (16 ml) were placed in a flask and concentrated sulfuric acid (0.08 g) was added while stirring. Thereafter, it was refluxed at 110 ° C. for 2 hours. The reaction liquid was analyzed by gas chromatography, and as a result, it was found that the conversion ratio of OH precursor to fluorene-based target compound was 100%. After completion of the reaction, the reaction solution was subjected to short column purification with silica gel (solvent: toluene), and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain the above fluorene-based target compound. The molar ratio of OH precursor: active alumina: concentrated sulfuric acid in this reaction is about 1: 0.35: 0.2.
［比較例５］
担体を用いず、酸として濃硫酸を用いて、上記ＯＨ前駆体から上記フルオレン系目的化合物の合成を試みた。
Comparative Example 5
An attempt was made to synthesize the fluorene-based target compound from the OH precursor using concentrated sulfuric acid as the acid without using a carrier.
上記ＯＨ前駆体（１．１３ｇ）およびトルエン（１６ｍｌ）をフラスコに入れ、攪拌しながら濃硫酸（０．０８ｇ）を加えた。その後、１１０℃で２時間還流した。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、ＯＨ前駆体からフルオレン系目的化合物への転化率は３６.５％であり、オレフィン系副生成物への転化率は６３．５％であった。なお、この反応におけるＯＨ前駆体：濃硫酸のモル比率は約１：０．２である。 The above OH precursor (1.13 g) and toluene (16 ml) were placed in a flask and concentrated sulfuric acid (0.08 g) was added while stirring. Thereafter, it was refluxed at 110 ° C. for 2 hours. As a result of gas chromatography analysis of the reaction mixture, the conversion rate of OH precursor to fluorene-based target compound was 36.5%, and the conversion rate of olefinic by-product was 63.5%. The molar ratio of OH precursor to concentrated sulfuric acid in this reaction is about 1: 0.2.
［実施例３］
担体として新越化成工業株式会社製の球状シリカゲル（ＳｉＯ２、製品名：ＰＳＱ１００）および酸として濃硫酸を用いて、上記ＯＨ前駆体から上記フルオレン系目的化合物の合成を試みた。なお、シリカゲル（ＳｉＯ２）は平均粒径１１０μｍ、比表面積４９０ｍ２／ｇである。
[Example 3]
Using the spherical silica gel (SiO 2 , product name: PSQ 100) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. as a carrier and concentrated sulfuric acid as an acid, the synthesis of the fluorene-based target compound was attempted from the OH precursor. Silica gel (SiO 2 ) has an average particle diameter of 110 μm and a specific surface area of 490 m 2 / g.
上記ＯＨ前駆体（１．１３ｇ）、シリカゲル（０．４ｇ）およびトルエン（１６ｍｌ）をフラスコに入れ、攪拌しながら濃硫酸（０．０８ｇ）を加えた。その後、１１０℃で２時間還流した。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、ＯＨ前駆体からフルオレン系目的化合物への転化率は１００％であった。なお、この反応におけるＯＨ前駆体：シリカゲル：濃硫酸のモル比率は約１：１．７：０．２である。 The above OH precursor (1.13 g), silica gel (0.4 g) and toluene (16 ml) were placed in a flask and concentrated sulfuric acid (0.08 g) was added while stirring. Thereafter, it was refluxed at 110 ° C. for 2 hours. The reaction liquid was analyzed by gas chromatography, and as a result, it was found that the conversion ratio of OH precursor to fluorene-based target compound was 100%. The molar ratio of OH precursor: silica gel: concentrated sulfuric acid in this reaction is about 1: 1.7: 0.2.
［比較例６］
担体として実施例３と同じシリカゲル（ＳｉＯ２）を用い、酸を用いず、上記ＯＨ前駆体から上記フルオレン系目的化合物の合成を試みた。
Comparative Example 6
The same silica gel (SiO 2 ) as in Example 3 was used as a carrier, and no acid was used, and the synthesis of the fluorene-based target compound was attempted from the OH precursor.
上記ＯＨ前駆体（１．１３ｇ）、シリカゲル（０．４ｇ）およびトルエン（１６ｍｌ）をフラスコに入れた後、１１０℃で２時間還流した。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、残留したＯＨ前駆体が９３.２％であり、ＯＨ前駆体からフルオレン系目的化合物への転化率は０％であり、オレフィン系副生成物への転化率は６.８％であった。なお、この反応におけるＯＨ前駆体：シリカゲルのモル比率は約１：１．７である。 The above OH precursor (1.13 g), silica gel (0.4 g) and toluene (16 ml) were placed in a flask and then refluxed at 110 ° C. for 2 hours. As a result of gas chromatography analysis of the reaction solution, the residual OH precursor is 93.2%, the conversion ratio of the OH precursor to the fluorene-based target compound is 0%, and the conversion to an olefinic by-product is The rate was 6.8%. The molar ratio of OH precursor to silica gel in this reaction is about 1: 1.7.
［実施例４］
担体として微粉末の硫酸アルミニウム（Ａｌ２（ＳＯ４）３）および酸として濃硫酸を用いて、上記ＯＨ前駆体から上記フルオレン系目的化合物の合成を試みた。
Example 4
Using the fine powder of aluminum sulfate (Al 2 (SO 4 ) 3 ) as a carrier and concentrated sulfuric acid as an acid, the synthesis of the above fluorene-based target compound was attempted from the above-mentioned OH precursor.
上記ＯＨ前駆体（１．１３ｇ）、硫酸アルミニウム（０．４ｇ）およびトルエン（１６ｍｌ）をフラスコに入れ、攪拌しながら濃硫酸（０．０８ｇ）を加えた。その後、１１０℃で２時間還流した。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、ＯＨ前駆体からフルオレン系目的化合物への転化率は１００％であった。なお、この反応におけるＯＨ前駆体：硫酸アルミニウム：濃硫酸のモル比率は約１：０．３：０．２である。 The above OH precursor (1.13 g), aluminum sulfate (0.4 g) and toluene (16 ml) were placed in a flask and concentrated sulfuric acid (0.08 g) was added while stirring. Thereafter, it was refluxed at 110 ° C. for 2 hours. The reaction liquid was analyzed by gas chromatography, and as a result, it was found that the conversion ratio of OH precursor to fluorene-based target compound was 100%. The molar ratio of OH precursor: aluminum sulfate: concentrated sulfuric acid in this reaction is about 1: 0.3: 0.2.
［比較例７］
担体として実施例４と同じ硫酸アルミニウム（Ａｌ２（ＳＯ４）３）を用い、酸を用いず、上記ＯＨ前駆体から上記フルオレン系目的化合物の合成を試みた。
Comparative Example 7
The same aluminum sulfate (Al 2 (SO 4 ) 3 ) as in Example 4 was used as a carrier, and no acid was used. The synthesis of the fluorene-based target compound was attempted from the OH precursor.
上記ＯＨ前駆体（１．１３ｇ）、硫酸アルミニウム（０．４ｇ）およびトルエン（１６ｍｌ）をフラスコに入れた後、１１０℃で２時間還流した。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、残留したＯＨ前駆体が３．２％であり、ＯＨ前駆体からフルオレン系目的化合物への転化率は１５．５％であり、オレフィン系副生成物への転化率は８１．３％であった。なお、この反応におけるＯＨ前駆体：硫酸アルミニウムのモル比率は約１：０．３である。 The above OH precursor (1.13 g), aluminum sulfate (0.4 g) and toluene (16 ml) were placed in a flask and then refluxed at 110 ° C. for 2 hours. As a result of gas chromatography analysis of the reaction solution, the remaining OH precursor is 3.2%, the conversion ratio of the OH precursor to the fluorene-based target compound is 15.5%, and the olefinic by-product is obtained. Conversion rate was 81.3%. The molar ratio of OH precursor to aluminum sulfate in this reaction is about 1: 0.3.
［実施例５］
固定酸触媒としてスチレン−ジビニルベンゼン強酸性化マクロ網状樹脂（Styrene-DVB strongly acidic macroreticular resin）（製品名：ＡＭＢＥＲＬＹＳＴ １５（Ｈ））を用いて、上記ＯＨ前駆体から上記フルオレン系目的化合物の合成を試みた。なお、ＡＭＢＥＲＬＹＳＴ １５（Ｈ）は、スルホン酸を官能基として有するポリスチレン系の強カチオン交換樹脂であり、スルホン酸の含有量が４．４ｍｍｏｌ／ｇであり、比表面積が５０ｍ２／ｇである。
[Example 5]
Synthesis of the above fluorene compound from the above OH precursor using a styrene-divinylbenzene strongly acidic macroreticular resin (product name: AMBERLYST 15 (H)) as a fixed acid catalyst I tried. AMBERLYST 15 (H) is a polystyrene-based strong cation exchange resin having sulfonic acid as a functional group, the content of sulfonic acid is 4.4 mmol / g, and the specific surface area is 50 m 2 / g.
上記ＯＨ前駆体（１．１３ｇ）、ＡＭＢＥＲＬＹＳＴ １５（Ｈ）（０．４ｇ）およびトルエン（１６ｍｌ）をフラスコに入れ、１１０℃で２時間還流した。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、ＯＨ前駆体からフルオレン系目的化合物への転化率は１００％であった。なお、この反応におけるＯＨ前駆体：固定酸触媒の酸性官能基のモル比率は約１：０．４４である。 The above OH precursor (1.13 g), AMBERLYST 15 (H) (0.4 g) and toluene (16 ml) were placed in a flask and refluxed at 110 ° C. for 2 hours. The reaction liquid was analyzed by gas chromatography, and as a result, it was found that the conversion ratio of OH precursor to fluorene-based target compound was 100%. In this reaction, the molar ratio of the OH precursor to the acidic functional group of the fixed acid catalyst is about 1: 0.44.
［実施例６］
固定酸触媒として和光純薬工業株式会社製の高濃度硫酸含有シリカゲル（製品名：５５％硫酸シリカゲル）を用いて、上記ＯＨ前駆体から上記フルオレン系目的化合物の合成を試みた。なお、高濃度硫酸含有シリカゲルの比表面積は３００〜８００ｍ２／ｇである。
[Example 6]
Using a high concentration sulfuric acid-containing silica gel (product name: 55% sulfuric acid silica gel) manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. as a fixed acid catalyst, the synthesis of the fluorene-based target compound was attempted from the OH precursor. The specific surface area of the high concentration sulfuric acid-containing silica gel is 300 to 800 m 2 / g.
上記ＯＨ前駆体（１．１３ｇ）およびトルエン（１６ｍｌ）をフラスコに入れ、室温で１分間攪拌した後、５５％硫酸シリカゲル（０．４ｇ）を加えた。その後、１１０℃で２時間還流した。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、ＯＨ前駆体からフルオレン系目的化合物への転化率は１００％であった。なお、この反応におけるＯＨ前駆体：固定酸触媒の酸性官能基のモル比率は約１：０．５６である。 The above OH precursor (1.13 g) and toluene (16 ml) were placed in a flask and stirred at room temperature for 1 minute, and then 55% sulfuric acid silica gel (0.4 g) was added. Thereafter, it was refluxed at 110 ° C. for 2 hours. The reaction liquid was analyzed by gas chromatography, and as a result, it was found that the conversion ratio of OH precursor to fluorene-based target compound was 100%. In this reaction, the molar ratio of the OH precursor to the acidic functional group of the fixed acid catalyst is about 1: 0.56.
［実施例７］
固定酸触媒としてテイカ株式会社製のテイカキュア（製品名：テイカキュアＳＡＣ−１０）を用いて、上記ＯＨ前駆体から上記フルオレン系目的化合物の合成を試みた。なお、テイカキュアＳＡＣ−１０のスルホン酸の含有量は０．８４ｍｍｏｌ／ｇであり、比表面積は２４５ｍ２／ｇである。
[Example 7]
An attempt was made to synthesize the above fluorene-based target compound from the above-mentioned OH precursor using Taeka Cure (product name: Taika Cure SAC-10) manufactured by Taika Co., Ltd. as a fixed acid catalyst. In addition, content of the sulfonic acid of Taika cure SAC-10 is 0.84 mmol / g, and a specific surface area is 245 m < 2 > / g.
上記ＯＨ前駆体（１．１３ｇ）、テイカキュアＳＡＣ−１０（０．４ｇ）およびトルエン（１６ｍｌ）をフラスコに入れ、１１０℃で２時間還流した。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、ＯＨ前駆体からフルオレン系目的化合物への転化率は１００％であった。なお、この反応におけるＯＨ前駆体：固定酸触媒の酸性官能基のモル比率は約１：０．０８４である。 The above OH precursor (1.13 g), Taekacure SAC-10 (0.4 g) and toluene (16 ml) were charged into a flask and refluxed at 110 ° C. for 2 hours. The reaction liquid was analyzed by gas chromatography, and as a result, it was found that the conversion ratio of OH precursor to fluorene-based target compound was 100%. In this reaction, the molar ratio of the OH precursor to the acidic functional group of the fixed acid catalyst is about 1: 0.084.
［実施例８］
固定酸触媒としてテイカ株式会社製のテイカキュア（製品名：テイカキュアＳＡＣ−１５）を用いて、上記とは異なるＯＨ前駆体からフルオレン系目的化合物の合成を試みた。なお、テイカキュアＳＡＣ−１５のスルホン酸の含有量は０．５５ｍｍｏｌ／ｇであり、比表面積は２０５ｍ２／ｇである。
[Example 8]
An attempt was made to synthesize a fluorene-based target compound from an OH precursor different from the above, using Taeka Cure (product name: Taika Cure SAC-15) manufactured by Taika Co., Ltd. as a fixed acid catalyst. In addition, content of the sulfonic acid of Taika cure SAC-15 is 0.55 mmol / g, and a specific surface area is 205 m < 2 > / g.
まず、窒素雰囲気下、メチル ２−ヒドロオキシ−４−メトキシベンゾアート（５０ｇ）およびピリジン（３５０ｍｌ）をフラスコに入れ、０℃まで冷却した後、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（１５４．９ｇ、「Ｔｆ２Ｏ」）をゆっくり滴下した。その後、反応液を０℃で１時間、室温で２時間攪拌した。反応後、水を５００ｍｌ添加した。反応混合液をトルエンで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、乾燥剤を除去し、溶媒を減圧留去した。得られた粗製品を適量のトルエンに溶解し、シリカゲルでカラム精製（溶媒：トルエン）して、溶媒を減圧留去することにより、メチル ４−メトキシ−２−（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）ベンゾアートを得た（８６．３ｇ、収率１００％）。
次に、窒素雰囲気下、メチル ４−メトキシ−２−（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）ベンゾアート（２３ｇ）、（４−（ジフェニルアミノ）フェニル）ボロン酸（２５．４ｇ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（２．５４ｇ、「Ｐｄ（ＰＰｈ３）４」）、リン酸三カリウム（３１．１ｇ）、トルエン（１８４ｍｌ）およびエタノール（２８ｍｌ）をフラスコに入れて５分間攪拌した。その後、水（２８ｍｌ）を加え、３時間還流した。加熱終了後に反応液を冷却し、水（１５０ｍｌ）を添加した。その後、反応混合液をトルエンで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、乾燥剤を除去し、溶媒を減圧留去した。得られた粗製品を適量のトルエンに溶解し、シリカゲルでカラム精製（溶媒：ヘプタン／トルエン＝１／２（容量比））して、溶媒を減圧留去することにより、メチル ４’−（ジフェニルアミノ）−５−メトキシ−［１，１−ビフェニル］−２−カルボキシラートを得た（２９．７ｇ、収率９９％）。
次に、窒素雰囲気下、メチル ４’−（ジフェニルアミノ）−５−メトキシ−［１，１−ビフェニル］−２−カルボキシラート（３５ｇ）およびテトラヒドロフラン（４５ｍｌ）をフラスコに入れて５分間攪拌し、０．９１Ｍの臭化メチルマグネシウムのテトラヒドロフラン溶液（３７５ｍｌ）をゆっくり滴下した。その後、反応液を４時間還流した。反応終了後、飽和塩化アンモニウム水溶液（４００ｍｌ）をゆっくり滴下した。反応混合液を酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、乾燥剤を除去し、溶媒を減圧留去した。得られた粗製品を適量のトルエンに溶解し、シリカゲルでカラム精製（溶媒：トルエン）して、溶媒を減圧留去することにより、上記とは異なるＯＨ前駆体である２−（４’−（ジフェニルアミノ）−５−メトキシ−［１，１’−ビフェニル］−２−イル）プロパン−２−オールを得た（２５．７ｇ、収率７３．４％）。
最後に、このようにして得られたＯＨ前駆体（１３．５ｇ）、テイカキュアＳＡＣ−１５（６．７ｇ）およびトルエン（１６２ｍｌ）をフラスコに入れ、１１０℃で２時間還流した。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、ＯＨ前駆体からフルオレン系目的化合物への転化率は１００％であった。反応終了後、反応液をシリカゲルでショートカラム精製（溶媒：トルエン）して、溶媒を減圧留去することにより、フルオレン系目的物化合物である６−メトキシ−９，９−ジメチル−Ｎ，Ｎ−ジフェニル−９Ｈ−フルオレン−２−アミンを得た（１２．７ｇ、収率９８％）。なお、この反応におけるＯＨ前駆体：固定酸触媒の酸性官能基のモル比率は約１：０．１１である。
ＭＳスペクトルおよびＮＭＲ測定によりフルオレン系目的化合物の構造を確認した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝７．５２（ｄ，１Ｈ）、７．２７〜７．２３（ｍ，５Ｈ）、７．１７〜７．１２（ｍ，６Ｈ）、７．０３〜６．９９（ｍ，３Ｈ）、６．８１（ｄ，１Ｈ）、３．８６（ｓ，３Ｈ）、１．３８（ｓ，６Ｈ）．
The structure of the fluorene-based target compound was confirmed by MS spectrum and NMR measurement.
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ = 7.52 (d, 1 H), 7.27 to 7.23 (m, 5 H), 7.17 to 7.12 (m, 6 H), 7.03 to 6.99 (m, 3 H), 6.81 (d, 1 H), 3.86 (s, 3 H), 1. 38 (s, 6 H).
［比較例８］
担体を用いず、酸としてｐ−トルエンスルホン酸を用いて、実施例５で用いたＯＨ前駆体から実施例５で得られたフルオレン系目的化合物の合成を試みた。
Comparative Example 8
An attempt was made to synthesize the target fluorene compound obtained in Example 5 from the OH precursor used in Example 5 using p-toluenesulfonic acid as the acid without using a carrier.
実施例５で用いたＯＨ前駆体（１．１３ｇ）、ｐ−トルエンスルホン酸（０．４ｇ）およびトルエン（１６ｍｌ）をフラスコに入れ、１１０℃で２時間還流した。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、ＯＨ前駆体からフルオレン系目的化合物への転化率は１６．７％であり、オレフィン系副生成物への転化率は８３．３％であった。なお、この反応におけるＯＨ前駆体：ｐ−トルエンスルホン酸のモル比率は約１：０．５８である。また、ｐ−トルエンスルホン酸は固定酸触媒と比較するために選択した酸であって、固定酸触媒ではない。 The OH precursor (1.13 g), p-toluenesulfonic acid (0.4 g) and toluene (16 ml) used in Example 5 were charged into a flask and refluxed at 110 ° C. for 2 hours. As a result of gas chromatography analysis of the reaction liquid, the conversion ratio of OH precursor to fluorene-based target compound was 16.7%, and the conversion ratio to olefinic by-product was 83.3%. The molar ratio of OH precursor to p-toluenesulfonic acid in this reaction is about 1: 0.58. Also, p-toluenesulfonic acid is the acid chosen for comparison with the fixed acid catalyst, not the fixed acid catalyst.
［比較例９］
固定酸触媒としてテイカ株式会社製のテイカキュア（製品名：テイカキュアＳＡＣ−１０）を用いて、比較対象としてのＯＨ前駆体からフルオレン系目的化合物の合成を試みた。なお、ここで用いた比較対象としてのＯＨ前駆体は、アルコール部位への置換基がない（すなわち、式（ＩＩ）におけるＡ１およびＡ２が水素である）化合物である。
Comparative Example 9
An attempt was made to synthesize a fluorene-based target compound from an OH precursor as a comparative object, using Taeka Cure (product name: Taika Cure SAC-10) manufactured by Taika Co., Ltd. as a fixed acid catalyst. In addition, the OH precursor used as a comparison object used here is a compound which has no substituent to the alcohol moiety (that is, A 1 and A 2 in the formula (II) are hydrogen).
比較対象としてのＯＨ前駆体である２−ビフェニルメタノール（０．３７ｇ）、テイカキュアＳＡＣ−１０（０．２ｇ）およびトルエン（８ｍｌ）をフラスコに入れ、１１０℃で２時間還流した。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、ＯＨ前駆体からフルオレン系目的化合物（すなわち、９Ｈ−フルオレン）は得られず、ＯＨ前駆体と溶剤であるトルエンとの分子間で脱水した縮合物が得られた。その転化率は、２−（４−メチルベンジル）−１，１’−ビフェニルが９３．３％、２−（２−メチルベンジル）−１，１’−ビフェニルが６．７％であった。なお、この反応におけるＯＨ前駆体：固定酸触媒の酸性官能基のモル比率は約１：０．０８４である。
以上の結果を表１および表２にまとめた。
以上のとおり、本発明の製造方法によれば、いずれも極めて高い転化率でフルオレン系目的化合物が得られている。これに対して、従来方法である酸のみを使用した反応では（比較例１、２、４、５、８）、フルオレン系目的化合物への転化率は極めて低く、また一般に固体酸触媒とも呼ばれる担体のみを使用した反応では（比較例３、６、７）、フルオレン系目的化合物への転化率は極めて低いだけでなく、原料であるＯＨ前駆体が反応せずに残ってしまうことが分かる。さらに、アルコール部位への置換基がない（すなわち、式（ＩＩ）におけるＡ１およびＡ２が水素である）ＯＨ前駆体を用いた場合には（比較例９）、フルオレン系目的化合物は得られず、溶剤であるトルエンとの分子間脱水縮合物しか得られなかった。これは、アルコール部位への置換基がない場合、ＯＨ前駆体自体の分子内脱水環化反応よりもトルエンとの分子間脱水反応の方がはるかに反応速度が速い結果であると推測される。これに対して、アルコール部位への置換基がある（Ａ１およびＡ２がアルキルなどである）場合、立体障害や反応活性などの要因で、溶剤であるトルエンとの反応が起こりにくく、ＯＨ前駆体自体の分子内脱水環化反応の方が進みやすいため、フルオレン系目的化合物が得られやすくなると推測される。 As mentioned above, according to the manufacturing method of this invention, the fluorene type target compound is obtained by all with very high conversion. On the other hand, in the reaction using only the acid which is the conventional method (comparative examples 1, 2, 4, 5, 8), the conversion to the fluorene-based target compound is extremely low, and the support generally called solid acid catalyst In the reaction using only (Comparative Examples 3, 6, 7), it is understood that not only the conversion rate to the fluorene-based target compound is extremely low, but also the OH precursor which is the raw material remains without reacting. Furthermore, when an OH precursor having no substituent to the alcohol moiety (ie, A 1 and A 2 in the formula (II) are hydrogen) is used (Comparative Example 9), a fluorene-based target compound is obtained. As a result, only an intermolecular dehydration condensate with toluene, which is a solvent, was obtained. It is presumed that this is a result that the intermolecular dehydration reaction with toluene is much faster than the intramolecular dehydration cyclization reaction of the OH precursor itself when there is no substituent at the alcohol site. On the other hand, when there is a substituent to the alcohol moiety (A 1 and A 2 are alkyl etc.), reaction with toluene, which is a solvent, hardly occurs due to factors such as steric hindrance and reaction activity, and OH precursor Since intramolecular dehydration and cyclization of the body itself is more likely to proceed, it is presumed that a fluorene-based target compound is easily obtained.
本発明によれば、ＯＨ前駆体からフルオレン系化合物への転換率を飛躍的に高めることができ、従来知られていなかった新規な活性基含有フルオレン系化合物を製造できるようになる。この結果、例えば有機ＥＬ素子に用いることが可能な材料のバリエーションを増やすことができる。 According to the present invention, the conversion rate of an OH precursor to a fluorene compound can be dramatically increased, and a novel active group-containing fluorene compound which has not been known can be produced. As a result, for example, variations of materials that can be used for the organic EL element can be increased.
Claims (6)
前記担体が、無機酸化物または金属硫酸化物であり、
前記酸が、硫酸、燐酸、ポリ燐酸またはスルホン酸であり、
前記固定酸触媒が、スルホン化処理された樹脂または表面がスルホン化処理された多孔質物質である、製造方法。
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立して、アルキル、アリールまたはヘテロアリールであり、これらの基は置換されていてもよく、Ａ１およびＡ２は結合して環を形成していてもよく、
Ｒ１〜Ｒ４およびＲ５〜Ｒ８は、それぞれ独立して、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリールまたはジアリール置換アミノであり、これらの基は置換されていてもよく、Ｒ１およびＲ２、Ｒ２およびＲ３、Ｒ３およびＲ４、Ｒ５およびＲ６、Ｒ６およびＲ７ならびにＲ７およびＲ８は、それぞれ独立して、結合して環を形成していてもよく、
式（１）で表されるフルオレン系化合物における水素は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシで置換されていてもよく、この場合、式（２−１）または式（２−２）で表されるＯＨ前駆体における対応する水素が同じく置換されている。 An OH precursor represented by the following general formula (2-1) or formula (2-2) is reacted in the presence of a carrier and an acid and / or in the presence of a fixed acid catalyst to obtain the following general formula (1) A method for producing a fluorene compound represented by
The carrier is an inorganic oxide or metal sulfate,
The acid is sulfuric acid, phosphoric acid, polyphosphoric acid or sulfonic acid,
The manufacturing method, wherein the fixed acid catalyst is a sulfonated resin or a porous material whose surface is sulfonated.
A 1 and A 2 are each independently alkyl, aryl or heteroaryl, these groups may be substituted, and A 1 and A 2 may combine to form a ring,
R 1 to R 4 and R 5 to R 8 are each independently hydrogen, alkyl, aryl, heteroaryl or diaryl substituted amino, and these groups may be substituted, R 1 and R 2 , R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , R 5 and R 6 , R 6 and R 7 and R 7 and R 8 may be independently combined to form a ring,
Hydrogen in the fluorene compound represented by the formula (1) may be substituted with fluorine, chlorine, bromine, iodine or alkoxy, and in this case, it is represented by the formula (2-1) or the formula (2-2) The corresponding hydrogens in the OH precursors being substituted are also substituted.
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立して、アルキル、アリールまたはヘテロアリールであり、Ａ１およびＡ２は結合して脂肪族環または芳香族環を形成していてもよく、
Ｒ１〜Ｒ４およびＲ５〜Ｒ８は、それぞれ独立して、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリールまたはジアリール置換アミノであり、Ｒ１およびＲ２、Ｒ２およびＲ３、Ｒ３およびＲ４、Ｒ５およびＲ６、Ｒ６およびＲ７ならびにＲ７およびＲ８は、それぞれ独立して、結合して芳香族環を形成していてもよく、
式（１）で表されるフルオレン系化合物中のフルオレン骨格における水素は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシで置換されていてもよく、この場合、式（２−１）または式（２−２）で表されるＯＨ前駆体における対応する水素が同じく置換されている、
請求項１または２に記載する製造方法。 In formula (1), formula (2-1) and formula (2-2),
A 1 and A 2 are each independently alkyl, aryl or heteroaryl, and A 1 and A 2 may combine to form an aliphatic ring or an aromatic ring.
R 1 to R 4 and R 5 to R 8 are each independently hydrogen, alkyl, aryl, heteroaryl or diaryl substituted amino, and R 1 and R 2 , R 2 and R 3 , R 3 and R 4 R 5 and R 6 , R 6 and R 7 and R 7 and R 8 may be independently bonded to form an aromatic ring,
The hydrogen in the fluorene skeleton in the fluorene compound represented by the formula (1) may be substituted with fluorine, chlorine, bromine, iodine or alkoxy, and in this case, the formula (2-1) or the formula (2- The corresponding hydrogen in the OH precursor represented by 2) is also substituted,
The manufacturing method according to claim 1 or 2 .
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立して、アルキル、アリールまたはヘテロアリールであり、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、ジアリール置換アミノまたはフッ素であり、Ｒ１〜Ｒ４のうちの少なくとも１つはフッ素であり、
Ｒ５〜Ｒ８は、それぞれ独立して、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、ジアリール置換アミノ、塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシであり、Ｒ５〜Ｒ８のうちの少なくとも１つは塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシである、
請求項１〜３のいずれかに記載する製造方法。 In formula (1), formula (2-1) and formula (2-2),
A 1 and A 2 are each independently alkyl, aryl or heteroaryl,
R 1 to R 4 are each independently hydrogen, alkyl, aryl, heteroaryl, diaryl substituted amino or fluorine, and at least one of R 1 to R 4 is fluorine,
R 5 to R 8 are each independently hydrogen, alkyl, aryl, heteroaryl, diaryl substituted amino, chlorine, bromine, iodine or alkoxy, and at least one of R 5 to R 8 is chlorine or bromine , Iodine or alkoxy,
The manufacturing method according to any one of claims 1 to 3 .
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立して、アルキル、アリールまたはヘテロアリールであり、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、ジアリール置換アミノまたはフッ素であり、Ｒ１〜Ｒ４のうちの少なくとも１つはフッ素であり、
Ｒ５〜Ｒ８は、それぞれ独立して、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、ジアリール置換アミノ、塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシであり、Ｒ５〜Ｒ８のうちの少なくとも１つは塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシである。 The fluorene type compound represented by following General formula (1).
A 1 and A 2 are each independently alkyl, aryl or heteroaryl,
R 1 to R 4 are each independently hydrogen, alkyl, aryl, heteroaryl, diaryl substituted amino or fluorine, and at least one of R 1 to R 4 is fluorine,
R 5 to R 8 are each independently hydrogen, alkyl, aryl, heteroaryl, diaryl substituted amino, chlorine, bromine, iodine or alkoxy, and at least one of R 5 to R 8 is chlorine or bromine , Iodine or alkoxy.
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立して、アルキルであり、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、ジアリール置換アミノまたはフッ素であり、Ｒ１〜Ｒ４のうちの少なくとも１つはフッ素であり、
Ｒ５〜Ｒ８は、それぞれ独立して、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、ジアリール置換アミノ、塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシであり、Ｒ５〜Ｒ８のうちの少なくとも１つは塩素、臭素、ヨウ素またはアルコキシである、
請求項５に記載するフルオレン系化合物。 In formula (1),
A 1 and A 2 are each independently alkyl
R 1 to R 4 are each independently hydrogen, alkyl, aryl, heteroaryl, diaryl substituted amino or fluorine, and at least one of R 1 to R 4 is fluorine,
R 5 to R 8 are each independently hydrogen, alkyl, aryl, heteroaryl, diaryl substituted amino, chlorine, bromine, iodine or alkoxy, and at least one of R 5 to R 8 is chlorine or bromine , Iodine or alkoxy,
The fluorene compound according to claim 5 .
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015197275A JP6507402B2 (en) | 2015-10-05 | 2015-10-05 | Fluorene-Based Compound and Method for Producing Fluorene-Based Compound |
| KR1020160093247A KR20170040735A (en) | 2015-10-05 | 2016-07-22 | A fluorene-based compound, and a method for preparing the fluorene-based compound |
| CN201610864265.5A CN106946648B (en) | 2015-10-05 | 2016-09-29 | Fluorene compound and method for producing fluorene compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015197275A JP6507402B2 (en) | 2015-10-05 | 2015-10-05 | Fluorene-Based Compound and Method for Producing Fluorene-Based Compound |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017071554A JP2017071554A (en) | 2017-04-13 |
| JP6507402B2 true JP6507402B2 (en) | 2019-05-08 |
Family
ID=58539557
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015197275A Active JP6507402B2 (en) | 2015-10-05 | 2015-10-05 | Fluorene-Based Compound and Method for Producing Fluorene-Based Compound |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6507402B2 (en) |
| KR (1) | KR20170040735A (en) |
| CN (1) | CN106946648B (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101956790B1 (en) | 2016-10-20 | 2019-03-13 | 주식회사 엘지화학 | Polycyclic compound and organic light emitting device comprising the same |
| EP3651748A4 (en) * | 2017-07-12 | 2021-04-07 | Termir, Inc. | Antimicrobial compositions effective against bacteria and fungus |
| CN110304989A (en) * | 2019-07-22 | 2019-10-08 | 安徽秀朗新材料科技有限公司 | A kind of synthesis technology of 9,9- dialkyl fluorene derivative |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100489057C (en) * | 2005-11-29 | 2009-05-20 | 中国科学院长春应用化学研究所 | Blue polyarylether high molecule electroluminescent material and its preparation method |
| JP2009249355A (en) | 2008-04-08 | 2009-10-29 | Kanto Denka Kogyo Co Ltd | Fluorinated fluorene derivative and method for producing the same |
| KR101663185B1 (en) * | 2009-11-20 | 2016-10-06 | 삼성전자주식회사 | Fluoro group-containing polymer, organic light emitting device comprising the polymer and method for manufacturing the device |
| JP2012211089A (en) | 2011-03-30 | 2012-11-01 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Method for producing fluorene-based compound |
| TWI570095B (en) * | 2011-11-04 | 2017-02-11 | 捷恩智股份有限公司 | Benzofluorene compound, material for luminescent layer using the compound, and organic electroluminescent device |
| KR101680413B1 (en) * | 2012-05-31 | 2016-11-28 | 주식회사 엘지화학 | New compounds and organic light emitting device using the same |
| CN105037167B (en) * | 2015-06-25 | 2017-03-01 | 华南理工大学 | A kind of synthetic method of N, N diaryl 2 bromine 6 naphthylamines and its application |
-
2015
- 2015-10-05 JP JP2015197275A patent/JP6507402B2/en active Active
-
2016
- 2016-07-22 KR KR1020160093247A patent/KR20170040735A/en not_active Application Discontinuation
- 2016-09-29 CN CN201610864265.5A patent/CN106946648B/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN106946648A (en) | 2017-07-14 |
| CN106946648B (en) | 2021-06-04 |
| KR20170040735A (en) | 2017-04-13 |
| JP2017071554A (en) | 2017-04-13 |
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Legal Events
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|
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|
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
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