JP6504497B2 - Touch panel and transparent conductive substrate - Google Patents

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本発明は、タッチパネルおよび透明導電性基板に係る。より詳細には、一面上に離間して配された電極部の存在に起因して生じる視認性に関わる問題を解消することが可能なタッチパネルおよび透明導電性基板に関する。   The present invention relates to a touch panel and a transparent conductive substrate. More specifically, the present invention relates to a touch panel and a transparent conductive substrate capable of solving the problems related to the visibility caused by the presence of the electrode portions arranged apart on one surface.

タッチパネルは、表示画面上の透明な面を操作者が指またはペンでタッチすることにより、接触した位置を検出してデータ入力できる入力装置の構成要素となるものであって、キー入力より直接的、かつ直感的な入力を可能とする。このため、近年、テレビやコンピュータの他に、携帯電話機、スマートフォンやタブレットに代表される携帯情報端末、カーナビゲーションシステムなど、様々な電子機器の操作部に多用されている。   The touch panel is a component of an input device that allows an operator to touch a transparent surface on a display screen with a finger or a pen to detect a position where data is touched and to input data, and is more direct than key input. Enables intuitive input. For this reason, in recent years, in addition to televisions and computers, they are widely used in operation units of various electronic devices such as mobile phones, portable information terminals represented by smartphones and tablets, car navigation systems, and the like.

前記タッチパネルは、入力装置として、液晶パネル等の平面型表示装置の表示画面上に貼り合わせて使用することができる。たとえば、図15に示すように、タッチパネルは液晶パネル等の上に配置され、操作面111aに触って操作される。
このようなタッチパネルの検出方式には、抵抗式、静電容量式、超音波式、光学式等多種あり、その構造は多様となる。
静電容量式タッチパネルは、表面型と投影型とに大別できる。表面型は2点以上の接触点を同時に検知することは困難である。投影型は2点以上の接触点を同時に検知できることから、マルチタッチ仕様が要求される分野において注目されている。
The touch panel can be used as an input device by bonding on a display screen of a flat panel display device such as a liquid crystal panel. For example, as shown in FIG. 15, the touch panel is disposed on a liquid crystal panel or the like, and is operated by touching the operation surface 111a.
There are various detection methods of such a touch panel, such as a resistance type, a capacitance type, an ultrasonic type, an optical type, etc., and their structures become diverse.
Capacitive touch panels can be roughly classified into surface-type and projection-type. In the surface mold, it is difficult to simultaneously detect two or more contact points. Since the projection type can simultaneously detect two or more touch points, it is noted in the field where multi-touch specification is required.

静電容量式タッチパネルの投影型における表示領域には、透明基板に、透明導電膜などの素材を用いた、X,Y方向のマトリクス状をなす電極部が形成されている。このような電極部の構成例としては、たとえば田形電極と菱形電極が挙げられる。田形電極は、上下に位置する配線を直交させて田形状に電極を配置したものであり、相互容量方式に用いられる。これに対して、菱形電極は、菱形状の電極をX方向、Y方向に接続し格子状に配置したものであり、自己容量方式に用いられる(特許文献1)。   In the display area in the projection type of the capacitive touch panel, electrode portions in the form of a matrix in the X and Y directions are formed on a transparent substrate using a material such as a transparent conductive film. As an example of composition of such an electrode part, a rice field electrode and a rhombus electrode are mentioned, for example. In the case of the field electrode, the upper and lower wires are orthogonally arranged to arrange the electrodes in a field shape, and are used in the mutual capacitance method. On the other hand, the rhombus electrodes are formed by connecting rhombus-shaped electrodes in the X direction and the Y direction and arranging them in a lattice, and are used in a self-capacitance system (Patent Document 1).

図14は、田形電極の構成例を示す模式図であり、(a)電極部が配される表示領域(有効タッチ領域とも呼ぶ)を備えたタッチパネルの一例を示す平面図、(b)表示領域内の特定領域σにおける電極部の拡大平面図、(c)特定領域σにおける電極部の拡大断面図である。
図14に示したタッチパネル110の表示領域(有効タッチ領域とも呼ぶ)116においては、透明基板111に第一電極層(RX)112、絶縁層113、第二電極層(TX)114が順に積層されている。第一電極層(RX)112と第二電極層(TX)114は何れも、ITOなどの透明導電膜からなり、所定間隔で離間して平行に配置された複数本の電極部を構成している。
FIG. 14 is a schematic view showing an example of the configuration of a Tagata electrode, and (a) a plan view showing an example of a touch panel provided with a display area (also referred to as an effective touch area) in which the electrode portion is arranged; It is an enlarged plan view of an electrode part in a specific region σ in the figure, (c) an enlarged sectional view of an electrode portion in a specific region σ.
In the display area (also referred to as an effective touch area) 116 of the touch panel 110 shown in FIG. 14, the first electrode layer (RX) 112, the insulating layer 113, and the second electrode layer (TX) 114 are sequentially stacked on the transparent substrate 111. ing. Each of the first electrode layer (RX) 112 and the second electrode layer (TX) 114 is made of a transparent conductive film such as ITO, and forms a plurality of electrode portions arranged in parallel with a predetermined distance apart. There is.

透明基板111としては、たとえばガラスやPETなどの耐熱透明プラスチック等の透明な基板が用いられる。第一電極層(RX)112と第二電極層(TX)114は、導電性と透過性を兼ね備えた材料、たとえばITO(酸化インジウム:Indium Tin Oxide)等の透明導電材料により形成される。
また、表示領域116の周囲には、図10に示すように、第一電極層(RX)112からなる複数のX電極部の各々と、第二電極層(TX)114からなる複数のY電極部の各々とからの配線を、縦横方向の周辺部に導いて端子部(不図示)に至る複数の配線117が配置されている。
As the transparent substrate 111, for example, a transparent substrate such as glass or a heat-resistant transparent plastic such as PET is used. The first electrode layer (RX) 112 and the second electrode layer (TX) 114 are formed of a material having both conductivity and transparency, for example, a transparent conductive material such as ITO (Indium Oxide: Indium Tin Oxide).
Further, around the display area 116, as shown in FIG. 10, each of a plurality of X electrode portions consisting of a first electrode layer (RX) 112 and a plurality of Y electrodes consisting of a second electrode layer (TX) 114 A plurality of wirings 117 which lead the wirings from each part to the peripheral parts in the vertical and horizontal directions and reach the terminal part (not shown) are arranged.

田形電極においては、第一電極層(RX)112からなる下部電極の長手方向と、第二電極層(TX)114からなる上部電極の長手方向とが、直交するように配置されている。この構成においては、以下に示す2つの課題があった。
(a)直交する交差部K[図14(b)のハッチング領域]では、3層[第一電極層(RX)112と絶縁層113と第二電極層(TX)114]を重ねた厚みとなるのに対して、下部電極の離間部では、第一電極層(RX)112が欠損した分だけ厚みが目減りした状況となる[図14(c)]。ゆえに、上部電極は、その平坦性が損なわれ、導通性が不安定となる。
(b)透明基板21側から目視した場合、下部電極が有る領域(交差部K)と、下部電極が無い領域(離間部)との間で膜の積層構造が異なるため、電極パターンが見え易くなり、視認性が低下する(特許文献1における「骨見え現象」)。
In the field electrode, the longitudinal direction of the lower electrode consisting of the first electrode layer (RX) 112 and the longitudinal direction of the upper electrode consisting of the second electrode layer (TX) 114 are arranged to be orthogonal to each other. In this configuration, there are the following two problems.
(A) In the crossing portion K [hatched area in FIG. 14 (b)], the thickness obtained by overlapping three layers [first electrode layer (RX) 112, insulating layer 113, and second electrode layer (TX) 114] On the other hand, in the separated portion of the lower electrode, the thickness is reduced by the loss of the first electrode layer (RX) 112 [FIG. 14 (c)]. Therefore, the upper electrode loses its flatness and becomes unstable in conductivity.
(B) When viewed from the transparent substrate 21 side, the laminated pattern of the film is different between the region with the lower electrode (crossing point K) and the region without the lower electrode (separate portion), so the electrode pattern can be easily seen And the visibility decreases ("the bone appearance phenomenon" in Patent Document 1).

従来、上記(b)の解決策としては、透明基板21と第一電極層(RX)112との間に、光学調整層としてインデックス・マッチング層(Index Matching Layer:IM層)を設ける手法が採用されている(特許文献2)。このIM層は、エッチング処理後のITO電極パターンが見え難くするように機能するものであるが、反面その存在は表示領域116の全体にわたって透過性の低下をもたらす原因となっていた。   Conventionally, as a solution of the above (b), a method of providing an index matching layer (IM layer) as an optical adjustment layer between the transparent substrate 21 and the first electrode layer (RX) 112 is adopted. (Patent Document 2). The IM layer functions to make the ITO electrode pattern after the etching process inconspicuous, but the presence thereof causes the reduction of the transparency throughout the display area 116.

特開2013−140229号公報JP, 2013-140229, A 特開2014−67236号公報JP, 2014-67236, A

本発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、電極部が、透過率の高い透明導電膜からなり、この透明導電膜が平坦な膜表面を有することで導電膜としての機能が安定化し、かつ、IM層を必要としない構造を備えることにより、優れた視認性を有するタッチパネルを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and the electrode portion is made of a transparent conductive film having high transmittance, and the transparent conductive film has a flat film surface, thereby stabilizing the function as the conductive film. And by providing the structure which does not require IM layer, it aims at providing the touch panel which has the outstanding visibility.

本発明の請求項1に記載のタッチパネルは、透明基板と、前記透明基板の表示領域内に設けられた透明導電膜からなる複数の電極部とを含むタッチパネルにおいて、前記透明導電膜は、平坦な膜表面を有し、かつ、その膜面内に局在する低抵抗部と高抵抗部から構成されており、前記電極部は、該透明導電膜のうち前記低抵抗部からなり、該電極部どうしの間には前記高抵抗部が配されており、前記表示領域内において、前記透明導電膜の構成を有する、第一透明導電膜、第二透明導電膜、及び第三透明導電膜を、前記透明基板側から順に重ねて備え、前記表示領域を平面視する方向から見て、前記第一透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と、前記第三透明導電膜の低抵抗部からなる他方の電極部とが交差部を有しており、前記二透明導電膜は、少なくとも前記交差部と重なる領域が、高抵抗部から構成されていることを特徴とする。
本発明の請求項に記載のタッチパネルは、請求項において、前記表示領域内とともに、前記表示領域を囲む外周領域においても、前記透明導電膜の構成を有する、第一透明導電膜、第二透明導電膜、及び第三透明導電膜を、前記透明基板側から順に重ねて備え、前記外周領域を断面視する方向から見て、前記第三透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が各々、前記外周領域のうち、異なる一辺を構成する範囲に配置されており、かつ、請求項の前記表示領域内における構成と電気的に接続されていることを特徴とする。
The touch panel according to a first aspect of the present invention is a touch panel including a transparent substrate and a plurality of electrode portions made of a transparent conductive film provided in a display area of the transparent substrate, wherein the transparent conductive film is flat. It has a film surface and is composed of a low resistance part and a high resistance part localized in the film surface, and the electrode part consists of the low resistance part of the transparent conductive film, and the electrode part and the high resistance portion is arranged in what is between, before Symbol display region has a structure of the transparent conductive film, a first transparent conductive film, the second transparent conductive film, and a third transparent conductive film And one electrode portion comprising a low resistance portion of the first transparent conductive film, and a low resistance of the third transparent conductive film, viewed from the direction in which the display region is viewed in a plan view. And the other electrode part comprising the part have a crossing part, Conductive film, a region overlapping with at least the intersection, characterized in that it is composed of a high-resistance portion.
The touch panel according to claim 2 of the present invention, in claim 1, together with the display area, even in a peripheral region surrounding the display region has a structure of the transparent conductive film, a first transparent conductive film, the second A transparent conductive film and a third transparent conductive film are sequentially stacked from the transparent substrate side, and one of the electrode parts comprising the low resistance portion of the third transparent conductive film as viewed from the direction in which the outer peripheral region is viewed in cross section And the other electrode portion are respectively disposed in a range constituting different sides of the outer peripheral area, and are electrically connected to the configuration in the display area of claim 1. Do.

本発明の請求項に記載のタッチパネルは、請求項1において、前記表示領域内において、前記透明導電膜の構成を有する、第四透明導電膜、第五透明導電膜、及び第六透明導電膜を、前記透明基板側から順に重ねて備え、前記表示領域を平面視する方向から見て、前記第四透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が交差部を有しており、前記交差部には、前記他方の電極部を跨いで、前記一方の電極部が1つおきに電気的に接続されるように、前記第五透明導電膜の高抵抗部を挟んで、前記第五透明導電膜の低抵抗部と前記第六透明導電膜の低抵抗部からなる導通部を有することを特徴とする。 The touch panel according to a third aspect of the present invention is the touch panel according to the first aspect, wherein the fourth transparent conductive film, the fifth transparent conductive film, and the sixth transparent conductive film have the configuration of the transparent conductive film in the display area. Are sequentially stacked from the transparent substrate side, and when viewed from the direction in which the display region is viewed in plan, one electrode portion formed of the low resistance portion of the fourth transparent conductive film and the other electrode portion have an intersection portion. And sandwiching the high resistance portion of the fifth transparent conductive film so that every other one of the electrode portions is electrically connected to the crossing portion across the other electrode portion. And a conductive portion including a low resistance portion of the fifth transparent conductive film and a low resistance portion of the sixth transparent conductive film.

本発明の請求項に記載のタッチパネルは、請求項1において、前記表示領域内において、前記透明導電膜の構成を有する、第七透明導電膜、第八透明導電膜、第九透明導電膜、及び第十透明導電膜を、前記透明基板側から順に重ねて備え、前記第十透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が、階層の異なる前記第七〜第九透明導電膜から選択される何れかの導電膜と、それぞれ電気的に接続されるように、配されていることを特徴とする。
本発明の請求項に記載のタッチパネルは、請求項において、前記表示領域を断面視する方向から見て、前記第十透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が、階層の異なる前記第七透明導電膜の低抵抗部と前記第八透明導電膜の低抵抗部に、それぞれ電気的に接続されており、前記表示領域を平面視する方向から見て、前記第七透明導電膜の低抵抗部が延設される方向と、前記第八透明導電膜の低抵抗部が延設される方向とが、並行をなすように構成されていることを特徴とする。
本発明の請求項に記載のタッチパネルは、請求項において、前記表示領域を断面視する方向から見て、前記第十透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が、階層の異なる前記第七透明導電膜の低抵抗部と前記第九透明導電膜の低抵抗部に、それぞれ電気的に接続されており、前記表示領域を平面視する方向から見て、前記第七透明導電膜の低抵抗部が延設される方向と、前記第九透明導電膜の低抵抗部が延設される方向とが、直交をなすように構成されていることを特徴とする。
The touch panel according to a fourth aspect of the present invention is the touch panel according to the first aspect, wherein the seventh transparent conductive film, the eighth transparent conductive film, and the ninth transparent conductive film have the configuration of the transparent conductive film in the display region. And the tenth transparent conductive film are sequentially stacked from the transparent substrate side, and one of the electrode portions consisting of the low resistance portion of the tenth transparent conductive film and the other electrode portion have the seventh to ninth different layers. It is characterized in that it is arranged to be electrically connected to any conductive film selected from the transparent conductive films.
According to a fifth aspect of the present invention, in the touch panel according to the fourth aspect of the present invention, when viewed from a direction in which the display area is viewed in cross section, one electrode portion and the other electrode portion consisting of low resistance portions of the tenth transparent conductive film. Are respectively electrically connected to the low resistance portion of the seventh transparent conductive film and the low resistance portion of the eighth transparent conductive film in different layers, and the display area is viewed in a plan view as viewed from above. A direction in which the low resistance portion of the seventh transparent conductive film is extended is parallel to a direction in which the low resistance portion of the eighth transparent conductive film is extended. .
According to a sixth aspect of the present invention, in the touch panel according to the fourth aspect of the present invention, when viewed from a direction in which the display area is viewed in cross section, one electrode portion and the other electrode portion consisting of low resistance portions of the tenth transparent conductive film. Are respectively electrically connected to the low resistance portion of the seventh transparent conductive film and the low resistance portion of the ninth transparent conductive film in different layers, and the display area is viewed in a plan view as viewed from above. The direction in which the low resistance portion of the seventh transparent conductive film is extended and the direction in which the low resistance portion of the ninth transparent conductive film is extended are configured to be orthogonal to each other. .

本発明の請求項に記載のタッチパネルは、請求項5又は6において、前記表示領域内とともに、前記表示領域を囲む外周領域においても、前記透明導電膜の構成を有する、第七透明導電膜、第八透明導電膜、第九透明導電膜、及び第十透明導電膜を、前記透明基板側から順に重ねて備え、前記外周領域を断面視する方向から見て、前記第十透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が各々、前記外周領域のうち、異なる一辺を構成する範囲に配置されており、かつ、請求項5又は6の前記表示領域内における構成と電気的に接続されていることを特徴とする。
本発明の請求項に記載のタッチパネルは、請求項1乃至のいずれか一項において、前記透明基板と前記透明導電膜との間、及び、前記透明導電膜上、あるいは何れか一方に、反射防止層が配されてなることを特徴とする。
The touch panel according to a seventh aspect of the present invention is the seventh transparent conductive film according to the fifth or sixth aspect , having the configuration of the transparent conductive film in the display area and also in an outer peripheral area surrounding the display area. An eighth transparent conductive film, a ninth transparent conductive film, and a tenth transparent conductive film are sequentially stacked from the transparent substrate side, and the lower of the tenth transparent conductive film is viewed from the direction in which the outer peripheral region is viewed in cross section. One electrode portion comprising the resistance portion and the other electrode portion are respectively disposed in a range constituting different sides of the outer peripheral region, and the configuration and electricity in the display region according to claim 5 or 6 It is characterized in that it is connected.
According to an eighth aspect of the present invention, in the touch panel according to any one of the first to seventh aspects, between the transparent substrate and the transparent conductive film and / or on the transparent conductive film, An antireflective layer is disposed.

本発明のタッチパネルにおける複数の電極部をなす透明導電膜は、従来のように一部が除去され残部が電極部をなす構造ではなく、膜面内に局在する低抵抗部と高抵抗部から構成されている。そして、本発明のタッチパネルにおける電極部は、該透明導電膜のうち前記低抵抗部から構成され、該電極部どうしの間には前記高抵抗部が配されている。
つまり、本発明のタッチパネルにおける透明導電膜の表面は、膜が連続しているので、従来のような膜が除去された部位と膜が残された部位(電極部)との間に生じる段差に起因した問題、すなわち、「電極パターンが見え易く、視認性が低下するという問題」を解消することが可能となる。
ゆえに、本発明は、電極部が、透過率の高い透明導電膜からなり、IM層を必要としない構造を備えることにより、優れた視認性を有するタッチパネルの提供に貢献する。
The transparent conductive film forming the plurality of electrode portions in the touch panel of the present invention is not a structure in which a portion is removed and the remaining portion forms the electrode portion as in the prior art, but low resistance portions and high resistance portions localized in the film surface It is configured. And the electrode part in the touch panel of this invention is comprised from the said low resistance part among this transparent conductive film, and the said high resistance part is distribute | arranged between these electrode parts.
That is, since the film is continuous on the surface of the transparent conductive film in the touch panel of the present invention, the difference in level between the portion from which the film is removed and the portion (electrode portion) from which the film is left It is possible to solve the problem resulting from it, that is, the problem that the electrode pattern is easily seen and the visibility is reduced.
Therefore, this invention contributes to provision of the touch panel which has the outstanding visibility by having a structure in which an electrode part consists of a transparent conductive film with a high transmittance | permeability, and does not require IM layer.

本発明に係るタッチパネルの一実施形態を示す図であり、(a)は全体平面図、(b)は表示領域の一部αを示す拡大平面図、(c)は(b)に対応する拡大断面図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure which shows one Embodiment of the touch panel which concerns on this invention, (a) is a whole top view, (b) is an enlarged plan view which shows one part (alpha) of a display area, (c) is an expansion corresponding to (b) Cross section. 本発明に係るタッチパネルを備える表示装置の一例を示す模式断面図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The schematic cross section which shows an example of a display apparatus provided with the touch panel which concerns on this invention. 酸化膜および透明導電膜を形成する製造装置の一例を示す概略構成図。The schematic block diagram which shows an example of the manufacturing apparatus which forms an oxide film and a transparent conductive film. 透明導電膜の低抵抗部を高抵抗値へ置換させる方法を示す模式断面図。The schematic cross section which shows the method to replace the low resistance part of a transparent conductive film to high resistance value. 図4の方法を用いて抵抗値が変化した結果を示すグラフ。FIG. 5 is a graph showing the results of changes in resistance using the method of FIG. 4; 本発明に係るタッチパネルの他の実施形態を示す図であり、(a)は模式平面図、(b)は表示領域の一部β1を示す拡大平面図、(c)は(b)に対応する拡大断面図。It is a figure showing other embodiments of a touch panel concerning the present invention, and (a) is a model top view, (b) is an enlarged plan view showing a part beta 1 of a display field, (c) corresponds to (b) An expanded sectional view. 本発明に係るタッチパネルの他の実施形態を示す図であり、(a)は模式平面図、(b)は表示領域の周囲の一部β2を示す拡大平面図、(c)は(b)に対応する2箇所の拡大断面図。It is a figure which shows the other embodiment of the touch panel which concerns on this invention, (a) is a model top view, (b) is an enlarged plan view which shows part beta 2 around a display area, (c) is in (b) The corresponding two enlarged sectional views. 本発明に係るタッチパネルの他の実施形態を示す図であり、(a)は模式平面図、(b)は表示領域の一部γを示す拡大平面図、(c)は(b)に対応する拡大断面図。It is a figure which shows other embodiment of the touch panel which concerns on this invention, (a) is a model top view, (b) is an enlarged plan view which shows a part (gamma) of a display area, (c) respond | corresponds to (b) An expanded sectional view. 本発明に係るタッチパネルの他の実施形態を示す図であり、(a)は模式平面図、(b)は表示領域の一部δ1を示す拡大平面図、(c)は(b)に対応する拡大断面図。It is a figure which shows other embodiment of the touch panel which concerns on this invention, (a) is a model top view, (b) is an enlarged plan view which shows partial (delta) 1 of a display area, (c) respond | corresponds to (b) An expanded sectional view. 本発明に係るタッチパネルの他の実施形態を示す図であり、(a)は模式平面図、(b)は表示領域の一部δ2を示す拡大平面図、(c)は(b)に対応する拡大断面図。It is a figure which shows other embodiment of the touch panel which concerns on this invention, (a) is a model top view, (b) is an enlarged plan view which shows partial (delta) 2 of a display area, (c) respond | corresponds to (b) An expanded sectional view. 本発明に係るタッチパネルの他の実施形態を示す図であり、(a)は模式平面図、(b)は表示領域の一部δ3を示す拡大平面図、(c)は(b)に対応する拡大断面図。It is a figure which shows other embodiment of the touch panel which concerns on this invention, (a) is a model top view, (b) is an enlarged plan view which shows partial (delta) 3 of a display area, (c) respond | corresponds to (b) An expanded sectional view. 本発明に係るタッチパネルの他の実施形態を示す図であり、(a)は模式平面図、(b)は表示領域の周囲の一部εを示す拡大平面図、(c)は(b)に対応する拡大断面図。It is a figure which shows the other embodiment of the touch panel which concerns on this invention, (a) is a model top view, (b) is an enlarged plan view which shows one part (epsilon) around a display area, (c) is in (b) The corresponding enlarged sectional view. 本発明に係るタッチパネルの他の実施形態を示す図であり、反射防止層を設けた構成例を示す模式断面図。It is a figure which shows other embodiment of the touch panel which concerns on this invention, and is a schematic cross section which shows the structural example which provided the reflection preventing layer. 従来のタッチパネルを示す図であり、(a)は模式平面図、(b)は表示領域の一部σを示す拡大平面図、(c)は(b)に対応する拡大断面図。It is a figure which shows the conventional touch panel, (a) is a model top view, (b) is an enlarged plan view which shows one part (sigma) of a display area, (c) is an expanded sectional view corresponding to (b). 従来のタッチパネルを備える表示装置の一例を示す模式断面図。The schematic cross section which shows an example of the display apparatus provided with the conventional touch panel.

以下、本発明に係るタッチパネルの一実施形態を、図面に基づいて説明する。
<第一実施形態>
図1は、本実施形態におけるタッチパネルを示す図であり、(a)は全体平面図、(b)は表示領域の一部αを示す拡大平面図、(c)は(b)に対応する拡大断面図である。図2は、タッチパネルを備える表示装置の一例を示す模式断面図である。
Hereinafter, an embodiment of a touch panel according to the present invention will be described based on the drawings.
First Embodiment
FIG. 1 is a view showing the touch panel in the present embodiment, where (a) is a whole plan view, (b) is an enlarged plan view showing a part α of the display area, and (c) is an enlarged view corresponding to (b) FIG. FIG. 2: is a schematic cross section which shows an example of a display apparatus provided with a touch panel.

本実施形態におけるタッチパネル10は、図1及び図2に示すように、液晶や有機ELなどの表示パネル2上に配置され、操作面11aに触って操作される静電容量方式のタッチパネルである。
このようなタッチパネル10は、図1に示すように、透明基板11と、透明基板11の操作面11aの裏面11b側にあって、表示領域16内に設けられた透明導電膜12からなる複数の電極部12L(12La、12Lb)とを含んでいる。
The touch panel 10 in the present embodiment is, as shown in FIG. 1 and FIG. 2, a capacitive touch panel that is disposed on the display panel 2 such as liquid crystal or organic EL, and is operated by touching the operation surface 11 a.
Such a touch panel 10 is, as shown in FIG. 1, a plurality of transparent substrates 11 and a plurality of transparent conductive films 12 provided in the display area 16 on the back surface 11 b side of the operation surface 11 a of the transparent substrate 11. And the electrode portion 12L (12La, 12Lb).

そして、この透明導電膜12は、後述する手法により、その膜面内に局在する低抵抗部12Lと高抵抗部12Hから構成されており、前述のとおり電極部12L(12La、12Lb)は、透明導電膜12のうち低抵抗部から構成される。そして、電極部12L(12La、12Lb)どうしの間には、前記高抵抗部12Hが配されている。   The transparent conductive film 12 is composed of a low resistance portion 12L and a high resistance portion 12H localized in the film surface by a method described later, and as described above, the electrode portions 12L (12La, 12Lb) The transparent conductive film 12 is composed of a low resistance portion. The high resistance portion 12H is disposed between the electrode portions 12L (12La, 12Lb).

また、表示領域16の周囲16osには、図1に示すように、透明導電膜12からなる複数の電極部12L(12La、12Lb)からの配線を、縦横方向の周辺部に導いて端子部(不図示)に至る複数の配線17が配置されている。   Further, as shown in FIG. 1, in the periphery 16os of the display area 16, the wires from the plurality of electrode portions 12L (12La, 12Lb) made of the transparent conductive film 12 are led to the peripheral portions in the A plurality of wires 17 leading to the unshown) are arranged.

上記構成によれば、本発明のタッチパネル10における透明導電膜12は、その膜面内が局在した低抵抗部12Lと高抵抗部12Hから構成されているが、その膜表面は「膜が連続したプロファイル」を有している。これにより、従来のような「膜が残された部位(電極部)」と「膜が除去された部位(離間部)」との間に生じる段差に起因した問題が、本発明のタッチパネル10を構成する透明導電膜12では原理的に発生しない。ゆえに、本発明のタッチパネル10においては、「電極パターンが見え易く、視認性が低下するという問題」が解消される。   According to the above configuration, the transparent conductive film 12 in the touch panel 10 of the present invention is composed of the low resistance portion 12L and the high resistance portion 12H in which the film surface is localized. Has a profile that As a result, the problem caused by the difference in level between the “portion where the film is left (electrode portion)” and the “portion where the film is removed (separation portion)” as in the prior art is the touch panel 10 of the present invention. In principle, the transparent conductive film 12 does not occur. Therefore, in the touch panel 10 of the present invention, “the problem that the electrode pattern is easy to see and the visibility is reduced” is solved.

従来は、電極部を得るためにエッチング処理等により離間部を形成する必要があり、透明導電膜にはエッチング容易性が求められていた。ゆえに、エッチング容易性を満たすことが優先であり、透過率の高い透明導電膜を選択することができず、視認性は犠牲にされていた。これに対して、本発明は、従来の電極部を得るためには必須であったエッチング容易性を必要としないので、透過率の高い透明導電膜を選択することが可能となった。   Conventionally, in order to obtain an electrode part, it is necessary to form a separation part by an etching process etc., and the etching easiness was calculated | required by the transparent conductive film. Therefore, satisfying etchability is a priority, and it is not possible to select a transparent conductive film with high transmittance, and the visibility is sacrificed. On the other hand, since the present invention does not require the ease of etching which is essential for obtaining the conventional electrode part, it has become possible to select a transparent conductive film having a high transmittance.

また、従来のタッチパネルは、前述したとおり、内在する段差の影響を低減するために、IM層を備えることを必須としていた。これに対して、本発明のタッチパネル10を構成する透明導電膜12には、従来のような段差は存在しないので、本発明のタッチパネル10はIM層を設ける必要がない。ゆえに、本発明のタッチパネル10は、IM層を設けたことによる、透過率の低下など光学的な不利益を解消することもできる。
したがって、本発明は、電極部が、透過率の高い透明導電膜からなり、IM層を必要としない構造を備えることにより、優れた視認性を有するタッチパネルの提供に貢献する。
In addition, as described above, the conventional touch panel is required to include the IM layer in order to reduce the influence of the inherent step. On the other hand, since the transparent conductive film 12 which comprises the touch panel 10 of this invention does not have a level | step difference like before, the touch panel 10 of this invention does not need to provide IM layer. Therefore, the touch panel 10 of the present invention can also eliminate optical disadvantages such as a decrease in transmittance due to the provision of the IM layer.
Therefore, this invention contributes to provision of the touch panel which has the outstanding visibility by having a structure in which an electrode part consists of a transparent conductive film with a high transmittance | permeability, and does not require IM layer.

さらに、本発明のタッチパネル10においては、上記構成からなる透明導電膜12を採用したことにより、透明基板11と透明導電膜12との界面、および、透明導電膜の表面は何れも、連続した膜形状、すなわち平坦な膜表面が維持されている。
ゆえに、本発明によれば、透明導電膜12の上に積層される絶縁膜および上部電極層の平坦性を確保することができ、導通性などの膜の機能の安定性を確保することができる。
さらに、透明基板11と透明導電膜12との間、または、透明導電膜12の表面に、反射防止層(Anti Reflection Layer:AR層)を追加して配置する構成(図13に示す構成)を採用することにより、極めて安定した反射防止能力も備えたタッチパネルを構築することができる。
Furthermore, in the touch panel 10 of the present invention, by adopting the transparent conductive film 12 having the above configuration, the interface between the transparent substrate 11 and the transparent conductive film 12 and the surface of the transparent conductive film are both continuous films. The shape, i.e. a flat membrane surface is maintained.
Therefore, according to the present invention, the flatness of the insulating film and the upper electrode layer stacked on the transparent conductive film 12 can be secured, and the stability of the function of the film such as conductivity can be secured. .
Furthermore, a configuration in which an anti-reflection layer (AR layer) is additionally disposed between the transparent substrate 11 and the transparent conductive film 12 or on the surface of the transparent conductive film 12 (configuration shown in FIG. 13) By adopting this, it is possible to construct a touch panel that also has an extremely stable reflection preventing ability.

<作製方法>
以下では、上述した本発明のタッチパネル10を構成する透明導電膜12の作製方法について説明する。透明導電膜12には、膜面内に局在する低抵抗部12Lと高抵抗部12Hから構成されており、電極部12L(12La、12Lb)が、透明導電膜12のうち低抵抗部から構成され、電極部12L(12La、12Lb)どうしの間には、前記高抵抗部12Hが配されている。
<Production method>
Below, the manufacturing method of the transparent conductive film 12 which comprises the touch panel 10 of this invention mentioned above is demonstrated. The transparent conductive film 12 is composed of a low resistance part 12L and a high resistance part 12H localized in the film plane, and the electrode part 12L (12La, 12Lb) is composed of the low resistance part of the transparent conductive film 12 The high resistance portion 12H is disposed between the electrode portions 12L (12La, 12Lb).

以下の作製方法では、透明導電膜を成膜する前に、下地層として酸化膜を設ける層構成を前提として説明する。この酸化膜は、透明基板として、PET等の耐熱透明プラスチック基板を使用する場合に、基板からの放出ガスを抑制する構造として機能するが、基板がガラスの場合などには、必ずしも酸化膜を設ける必要はない。   The following manufacturing method will be described on the premise of a layer configuration in which an oxide film is provided as a base layer before forming a transparent conductive film. This oxide film functions as a structure that suppresses the gas released from the substrate when a heat-resistant transparent plastic substrate such as PET is used as the transparent substrate, but the oxide film is necessarily provided when the substrate is glass or the like. There is no need.

(1)酸化膜と透明導電膜の作製
透明基板上に、酸化膜と透明導電膜を形成するための製造装置としては、たとえば図3に示すようなインターバック式のスパッタリング装置が用いられる。
図3の製造装置50においては、基板58(透明基板11に相当)は、不図示の搬送手段により、仕込取出室(L/UL)51、加熱室(H)52、第一成膜室(S1)53、第二成膜室(S2)54の内部を移動可能とされている。
上記の各室51,52、53、54には個別に、その内部空間を減圧可能とするための排気手段51P、52P、53P、54Pが配されている。
(1) Preparation of Oxide Film and Transparent Conductive Film As a manufacturing apparatus for forming an oxide film and a transparent conductive film on a transparent substrate, for example, an interback type sputtering apparatus as shown in FIG. 3 is used.
In the manufacturing apparatus 50 of FIG. 3, the substrate 58 (corresponding to the transparent substrate 11) is a loading / unloading chamber (L / UL) 51, a heating chamber (H) 52, a first film forming chamber S1) 53, the inside of the second film forming chamber (S2) 54 is movable.
Exhaust means 51P, 52P, 53P, 54P for individually reducing the pressure in the internal space are disposed in the respective chambers 51, 52, 53, 54 described above.

まず、基板58は製造装置から外部(大気雰囲気)から大気圧とされた仕込取出室51へ導入される。その後、仕込取出室51は排気手段51Pを用いて減圧雰囲気とされる。次いで、基板58は減圧雰囲気とされた仕込取出室51から加熱室52へ搬送され、加熱手段59により所望の熱処理が施される。   First, the substrate 58 is introduced from the manufacturing apparatus from the outside (atmospheric atmosphere) into the loading and unloading chamber 51 which is at atmospheric pressure. Thereafter, the loading and unloading chamber 51 is brought into a reduced pressure atmosphere using the exhaust means 51P. Next, the substrate 58 is transferred from the loading / unloading chamber 51 in a reduced pressure atmosphere to the heating chamber 52, and a desired heat treatment is performed by the heating unit 59.

次に、熱処理後の基板58は、加熱室52から第一成膜室53へ搬送され、第一成膜室53の内面53b側に配された、酸化シリコンからなるターゲット62の前を通過させることにより、基板58上に酸化膜(SiO)を形成する。その際、第一成膜室53の内面53bと対向する内面53a側に設けた温度調整手段61により、基板58は所望の温度とされる。ターゲット62はバッキングプレート63に載置されており、スパッタ時にはガス供給源65から所望のプロセスガスが導入されるとともに、バッキングプレート63には電源64から所望の電力が供給される。 Next, the substrate 58 after the heat treatment is conveyed from the heating chamber 52 to the first film forming chamber 53, and passes in front of the target 62 made of silicon oxide disposed on the inner surface 53b side of the first film forming chamber 53. Thus, an oxide film (SiO 2 ) is formed on the substrate 58. At that time, the substrate 58 is brought to a desired temperature by the temperature control means 61 provided on the side of the inner surface 53 a facing the inner surface 53 b of the first film forming chamber 53. The target 62 is mounted on a backing plate 63, and at the time of sputtering, a desired process gas is introduced from a gas supply source 65, and the backing plate 63 is supplied with desired power from a power supply 64.

その後、酸化膜が形成された基板58は、第一成膜室53から第二成膜室54へ搬送され、ITOからなるターゲット72の前を通過させることにより、酸化膜上に透明導電膜(ITO)を形成する。その際、温度調整手段71により、基板58は所望の温度とされる。ターゲット72はバッキングプレート73に載置されており、スパッタ時にはガス供給源75から所望のプロセスガスが導入されるとともに、バッキングプレート73には電源74から所望の電力が供給される。   Thereafter, the substrate 58 on which the oxide film is formed is transferred from the first film forming chamber 53 to the second film forming chamber 54 and passes in front of the target 72 made of ITO to form a transparent conductive film (on the oxide film). Form ITO). At that time, the substrate 58 is brought to a desired temperature by the temperature control means 71. The target 72 is mounted on a backing plate 73. During sputtering, a desired process gas is introduced from a gas supply source 75, and the backing plate 73 is supplied with desired power from a power supply 74.

そして、酸化膜と透明導電膜が形成された基板58は、第二成膜室54から仕込取出室51へ搬送され、製造装置から外部(大気雰囲気)へ取り出される。
次いで、酸化膜と透明導電膜が形成された基板58に対して、後処理(大気雰囲気、135℃、60minのアニール処理)を行う。このような後処理を施すことにより、比抵抗が約150Ω/□の透明導電膜が得られる。
Then, the substrate 58 on which the oxide film and the transparent conductive film are formed is transported from the second film forming chamber 54 to the loading and unloading chamber 51, and is taken out from the manufacturing apparatus to the outside (atmospheric atmosphere).
Next, post-processing (air atmosphere, 135 ° C., annealing for 60 minutes) is performed on the substrate 58 on which the oxide film and the transparent conductive film are formed. By performing such post-treatment, a transparent conductive film having a resistivity of about 150 Ω / □ can be obtained.

Figure 0006504497
Figure 0006504497

上述した酸化膜および透明導電膜の代表的な作製条件を、表1に示す。
(2)透明導電膜に対する低抵抗部と高抵抗部の作製
上記工程(1)により得られた基板58の透明導電膜に対して、反応性イオンエッチング装置を用い、酸素プラズマ処理を行う。
図4は、透明導電膜に対してプラズマ処理を行っている状態を示すイメージ図である。
図4に示すように、開口部を有するマスクを挟んで、透明導電膜に対して酸素プラズマ(「小円の中にO」と表示)を照射することにより、透明導電膜の中に低抵抗部と高抵抗部とを作り分ける。
すなわち、透明導電膜のうち、マスクが存在するためにプラズマから遮蔽された領域は、膜中に含まれるキャリア量に変動がなく、比抵抗の低い(約150Ω/□)状態が維持され、低抵抗部Lとなる。
これに対して、透明導電膜のうち、マスクの開口部を通してプラズマが照射された領域は、膜中に含まれるキャリア量が減少することにより、比抵抗の高い(約740Ω/□)状態に変化し、高抵抗部Hとなる。
上述したプラズマ処理の前後における透明導電膜の比抵抗を、図5のグラフに示す。
Table 1 shows typical preparation conditions of the oxide film and the transparent conductive film described above.
(2) Preparation of Low Resistance Portion and High Resistance Portion for Transparent Conductive Film The transparent conductive film of the substrate 58 obtained in the step (1) is subjected to oxygen plasma treatment using a reactive ion etching apparatus.
FIG. 4 is an image view showing a state in which the transparent conductive film is subjected to plasma processing.
As shown in FIG. 4, low resistance in the transparent conductive film is achieved by irradiating the transparent conductive film with oxygen plasma (indicated as “O in small circle”) across the mask having the opening. We make part and high resistance part separately.
That is, in the transparent conductive film, the region shielded from the plasma due to the presence of the mask has no change in the amount of carriers contained in the film, and the low specific resistance (about 150 Ω / □) state is maintained. It becomes resistance part L.
On the other hand, in the transparent conductive film, the area irradiated with the plasma through the opening of the mask changes to a high specific resistance (about 740 Ω / □) state due to a decrease in the amount of carriers contained in the film. And the high resistance portion H.
The resistivity of the transparent conductive film before and after the above-mentioned plasma treatment is shown in the graph of FIG.

ゆえに、低抵抗部から高抵抗部へ変化させたい領域に合せた、開口部を有するマスクを介して、透明導電膜の表面に対してプラズマ処理を行うだけで、透明導電膜の中に低抵抗部と高抵抗部とが所望のパターンで局在した状態を形成できることが分かった。
上述したプラズマ処理により低抵抗部から高抵抗部を形成する作製条件を、表2に示す。
Therefore, low resistance in the transparent conductive film can be achieved simply by performing plasma treatment on the surface of the transparent conductive film through a mask having an opening that is matched to the region to be changed from the low resistance portion to the high resistance portion. It has been found that the portion and the high resistance portion can form a localized state in a desired pattern.
Table 2 shows manufacturing conditions for forming the high resistance portion from the low resistance portion by the above-described plasma treatment.

Figure 0006504497
Figure 0006504497

酸素プラズマ処理により、マスクの開口を通してプラズマが照射された領域は、酸素プラズマによるエッチングが発生するため、未処理部分に対して、膜厚の減少が僅かながら発生する。しかし、図14(c)に示されるような電極膜自体が欠損するような構成に比べ、低抵抗部と高抵抗部とが所望のパターンで局在した透明導電膜の表面は平坦であるということができ、上層に形成する上部電極の平坦性を確保することが可能となる。   Since oxygen plasma treatment causes etching by oxygen plasma in the region irradiated with plasma through the opening of the mask, a slight decrease in film thickness occurs with respect to the untreated portion. However, the surface of the transparent conductive film in which the low resistance portion and the high resistance portion are localized in a desired pattern is flat compared to the configuration in which the electrode film itself is deficient as shown in FIG. 14C. It is possible to secure the flatness of the upper electrode formed in the upper layer.

透明導電膜のうち、低抵抗部から高抵抗部へ変化させる方法としては、上述したプラズマ処理に限定されるものではなく、たとえば、イオンドープ法を用いても同様の作用・効果を得ることができる。
また、透明導電膜の中に低抵抗部と高抵抗部とを作り分ける作製方法は、上記の手法に限定されるものではない。すなわち、最初に高抵抗部の透明導電膜をスパッタ法により形成した後、たとえば、レーザー照射やランプ加熱などのアニール処理により、高抵抗部のうち特定の領域を酸化還元作用によって低抵抗部に変化させる方法を採用してもよい。
The method of changing from the low resistance portion to the high resistance portion of the transparent conductive film is not limited to the above-described plasma treatment, and for example, the same action and effect can be obtained even by using the ion doping method. it can.
Moreover, the manufacturing method which makes a low resistance part and a high resistance part separately in a transparent conductive film is not limited to said method. That is, first, the transparent conductive film of the high resistance portion is formed by sputtering, and then, for example, by annealing treatment such as laser irradiation or lamp heating, a specific region of the high resistance portion is changed to a low resistance portion by oxidation reduction. You may adopt the method of making it.

<第二実施形態>
図6は、本実施形態におけるタッチパネルを示す図であり、(a)は全体平面図、(b)は表示領域の一部β1を示す拡大平面図、(c)は(b)に示した線分B−Bに対応する拡大断面図である。
本実施形態は、電極構造が田形電極をなす場合であり、各層22、23、24は全て透明導電膜から構成されている。すなわち、
本実施形態に係るタッチパネル20は、表示領域26内において、透明基板21側から順に重ねて積層された、第一透明導電膜22、第二透明導電膜23、第三透明導電膜24は何れも、上述した透明導電膜の構成(第一実施形態にて説明した、透明導電膜の中に低抵抗部と高抵抗部とが局在した構成)を備えている。
Second Embodiment
FIG. 6 is a view showing the touch panel in the present embodiment, where (a) is a whole plan view, (b) is an enlarged plan view showing a part β1 of the display area, (c) is a line shown in (b) It is an expanded sectional view corresponding to B-B.
The present embodiment is a case where the electrode structure forms a square electrode, and all the layers 22, 23, 24 are formed of a transparent conductive film. That is,
In the touch panel 20 according to the present embodiment, any of the first transparent conductive film 22, the second transparent conductive film 23, and the third transparent conductive film 24 stacked in order from the transparent substrate 21 side in the display region 26 is used. The configuration of the transparent conductive film described above (a configuration in which the low resistance portion and the high resistance portion are localized in the transparent conductive film described in the first embodiment) is provided.

前記表示領域26を平面視する方向から見て、第一透明導電膜22の低抵抗部Lからなる一方の電極部RXと、第三透明導電膜24の低抵抗部Lからなる他方の電極部TXとが交差部K[図6(b)のハッチング領域]を有している。
そして、第二透明導電膜23は、少なくとも前記交差部Kと重なる領域が、高抵抗部Hから構成されている。
When viewed from the direction in which the display area 26 is viewed in plan, one electrode portion RX formed of the low resistance portion L of the first transparent conductive film 22 and the other electrode portion formed of the low resistance portion L of the third transparent conductive film 24 TX has a crossing portion K [hatched area in FIG. 6 (b)].
Then, in the second transparent conductive film 23, at least a region overlapping with the intersection portion K is configured by the high resistance portion H.

また、表示領域26の周囲には、図6に示すように、第一電極層(RX)22からなる複数のX電極部の各々と、第二電極層(TX)24からなる複数のY電極部の各々とからの配線を、縦横方向の周辺部に導いて端子部(不図示)に至る複数の配線27が配置されている。   Further, as shown in FIG. 6, around the display area 26, each of a plurality of X electrode portions including the first electrode layer (RX) 22 and a plurality of Y electrodes including the second electrode layer (TX) 24. A plurality of wirings 27 which lead wirings from each of the parts to peripheral parts in the vertical and horizontal directions and reach a terminal part (not shown) are arranged.

第一透明導電膜22、第二透明導電膜23、第三透明導電膜24における低抵抗部Lと高抵抗部Hは、第一実施形態において説明した手法により作製する。
これにより、タッチパネル20は、以下に述べる作用・効果が得られる。
(2a)透明基板21上に配された第一透明導電膜22は、巨視的に平坦な表面を有する連続した膜である。電極部をなす低抵抗部Lと、電極部どうしの間に位置する高抵抗部Hとは、電気的な特性が異なるだけであり、同じ膜厚を有する。ゆえに、両者の間には膜厚の差が無いので、電極パターンが見え難く、良好な視認性が確保される。
The low resistance portion L and the high resistance portion H in the first transparent conductive film 22, the second transparent conductive film 23, and the third transparent conductive film 24 are manufactured by the method described in the first embodiment.
Thereby, the touch panel 20 can obtain the actions and effects described below.
(2a) The first transparent conductive film 22 disposed on the transparent substrate 21 is a continuous film having a macroscopically flat surface. The low resistance portion L forming the electrode portion and the high resistance portion H located between the electrode portions differ only in their electrical characteristics and have the same film thickness. Therefore, since there is no difference in film thickness between the two, it is difficult to see the electrode pattern, and good visibility is ensured.

(2b)本実施形態における電極構造(田形電極)は、巨視的に平坦な表面を有する連続した膜である、3つの膜(第一透明導電膜22、第二透明導電膜23、第三透明導電膜24)が積層されたものとなる。ゆえに、透明基板上に3つの膜(第一透明導電膜22、第二透明導電膜23、第三透明導電膜24)が積層された最表面、すなわち、第三透明導電膜24の表面は、3つの膜が全て連続した膜であることから、自ずと巨視的に平坦な表面プロファイルとなる。そのため、交差部Kが存在するにも拘わらず、交差部Kとそれ以外との境界において段差が発生しない。よって、本実施形態に係るタッチパネルでは、「交差部に起因して段差が生じ、上部電極の平坦性が損なわれ、導通性が不安定となる問題」が、表示領域26の全域にわたって解消される。 (2b) The electrode structure (tag electrode) in this embodiment is a continuous film having a macroscopically flat surface, three films (a first transparent conductive film 22, a second transparent conductive film 23, a third transparent The conductive film 24) is stacked. Therefore, the outermost surface in which three films (the first transparent conductive film 22, the second transparent conductive film 23, and the third transparent conductive film 24) are stacked on the transparent substrate, that is, the surface of the third transparent conductive film 24 is Since all three films are continuous films, they naturally have a macroscopically flat surface profile. Therefore, in spite of the existence of the intersection K, no level difference occurs at the boundary between the intersection K and the other. Therefore, in the touch panel according to the present embodiment, “the problem that a level difference is caused due to the intersection, the flatness of the upper electrode is impaired, and the conductivity becomes unstable” is eliminated over the entire display region 26 .

<第三実施形態>
図7は、本実施形態におけるタッチパネルを示す図であり、(a)は全体平面図、(b)は表示領域と外周領域を含む一部β2を示す拡大平面図、(c)は(b)に示した線分B2−B2に対応する拡大断面図、(d)は(b)に示した線分B3−B3に対応する拡大断面図である。
Third Embodiment
FIG. 7 is a view showing the touch panel in the present embodiment, (a) is a whole plan view, (b) is an enlarged plan view showing a part β2 including a display area and an outer peripheral area, (c) is (b) (D) is an expanded sectional view corresponding to line segment B3-B3 shown to (b) corresponding to line segment B2-B2 shown to.

本実施形態(第三実施形態)は、上述した第二実施形態(電極構造が田形電極をなす場合)の派生形であり、各層22、23、24は全て透明導電膜から構成されている。すなわち、
本実施形態に係るタッチパネル20は、表示領域26内とともに、この表示領域26を囲む外周領域26osにおいても、前記透明導電膜の構成を有する。つまり、透明基板21側から順に重ねて積層された、第一透明導電膜22、第二透明導電膜23、及び第三透明導電膜24は何れも、上述した透明導電膜の構成(第一、第二実施形態にて説明した、透明導電膜の中に低抵抗部と高抵抗部とが局在した構成)を備えている。
The present embodiment (third embodiment) is a derivative of the above-described second embodiment (when the electrode structure is a square electrode), and all the layers 22, 23, 24 are formed of a transparent conductive film. That is,
The touch panel 20 according to the present embodiment has the configuration of the transparent conductive film in the display area 26 and also in the outer peripheral area 26os surrounding the display area 26. That is, the first transparent conductive film 22, the second transparent conductive film 23, and the third transparent conductive film 24 stacked in this order from the transparent substrate 21 side all have the above-described configuration of the transparent conductive film (first The configuration in which the low resistance portion and the high resistance portion are localized in the transparent conductive film described in the second embodiment is provided.

また、前記外周領域26osを断面視する方向から見て、前記第三透明導電膜24の低抵抗部からなる一方の電極部24(RX)と他方の電極部24(TX)が各々、前記外周領域のうち、異なる一辺を構成する範囲[図7(b)においては、一方の電極部24(RX)は上辺側、他方の電極部24(TX)は右辺側]に配置されており、かつ、第二実施形態(電極構造が田形電極をなす場合)の前記表示領域26内における構成と電気的に接続されている。   In addition, when viewed from the direction in which the outer peripheral region 26os is viewed in cross section, one electrode portion 24 (RX) and the other electrode portion 24 (TX), which are low resistance portions of the third transparent conductive film 24, respectively Among the regions, a range forming different sides [in FIG. 7B, one electrode portion 24 (RX) is on the upper side, the other electrode portion 24 (TX) is on the right side], and It is electrically connected to the configuration in the display area 26 in the second embodiment (when the electrode structure forms a square electrode).

ここで、第二実施形態(電極構造が田形電極をなす場合)の表示領域26内における構成とは、「表示領域26を平面視する方向から見て、第一透明導電膜22の低抵抗部Lからなる一方の電極部RXと、第三透明導電膜24の低抵抗部Lからなる他方の電極部TXとが交差部K[図6(c)のハッチング領域]を有すること」を意味する。   Here, the configuration in the display area 26 in the second embodiment (when the electrode structure forms a square electrode) refers to “the low resistance portion of the first transparent conductive film 22 when viewed from the direction in which the It means that “one electrode portion RX formed of L and the other electrode portion TX formed of the low resistance portion L of the third transparent conductive film 24 have a crossing portion K [hatched region in FIG. 6C]”. .

第一透明導電膜22、第二透明導電膜23、第三透明導電膜24における低抵抗部Lと高抵抗部Hは、第一及び第二実施形態において説明した手法により作製する。
これにより、タッチパネル20は、上述した第二実施形態の作用・効果(2a)、(2b)に加えて、以下の作用・効果が得られる。
(2c)表示領域26を囲む外周領域26osにおいても、透明導電膜の構成は表示領域26と同一の積層構造が維持される。ゆえに、第三実施形態のタッチパネル20は、表示領域26とこれを囲む外周領域26osとが、完全に平坦な形状を有することが可能となる。よって、第三実施形態によれば、表示領域26のみならず、これを囲む外周領域26osにおいても、電極パターンが見え難く、良好な視認性が確保される。
The low resistance portion L and the high resistance portion H in the first transparent conductive film 22, the second transparent conductive film 23, and the third transparent conductive film 24 are manufactured by the method described in the first and second embodiments.
Thereby, in addition to the effect and effect (2a) of the second embodiment and the effect (2b) of the touch panel 20 described above, the following effect and effect can be obtained.
(2c) Also in the outer peripheral area 26os surrounding the display area 26, the transparent conductive film has the same layered structure as the display area 26. Therefore, in the touch panel 20 of the third embodiment, the display area 26 and the outer peripheral area 26os surrounding the display area 26 can have a completely flat shape. Therefore, according to the third embodiment, the electrode pattern is difficult to see not only in the display area 26 but also in the outer peripheral area 26os surrounding the display area 26, and good visibility is ensured.

<第四実施形態>
図8は、本実施形態におけるタッチパネルを示す図であり、(a)は全体平面図、(b)は表示領域の一部γを示す拡大平面図、(c)は(b)に示した線分C−Cに対応する拡大断面図である。
本実施形態は、電極構造が菱形電極をなす場合であり、各層32、33、34は全て透明導電膜から構成されている。すなわち、
本実施形態に係るタッチパネル30は、表示領域36内において、透明基板31側から順に重ねて積層された、第四透明導電膜32、第五透明導電膜33、第六透明導電膜34は何れも、上述した透明導電膜の構成(第一実施形態にて説明した、透明導電膜の中に低抵抗部と高抵抗部とが局在した構成)を備えている。
Fourth Embodiment
FIG. 8 is a view showing the touch panel in the present embodiment, where (a) is a whole plan view, (b) is an enlarged plan view showing a part γ of a display area, (c) is a line shown in (b) It is an expanded sectional view corresponding to C-C.
In the present embodiment, the electrode structure is a rhombus electrode, and all the layers 32, 33, 34 are formed of a transparent conductive film. That is,
In the touch panel 30 according to the present embodiment, any of the fourth transparent conductive film 32, the fifth transparent conductive film 33, and the sixth transparent conductive film 34 stacked in order from the transparent substrate 31 side in the display region 36 is stacked. The configuration of the transparent conductive film described above (a configuration in which the low resistance portion and the high resistance portion are localized in the transparent conductive film described in the first embodiment) is provided.

前記表示領域36を平面視する方向から見て、第四透明導電膜32の低抵抗部Lからなる一方の電極部TXと他方の電極部RXが「交差部」を有している。
図8(b)において、一方の電極部TXは、菱形領域32Ybと、菱形領域32Ybどうしを接続する連結領域32Yaから構成されており、Y軸方向に電気的に接続される。同様に、他方の電極部RXは、菱形領域32Xbと、菱形領域32Xbどうしを接続する連結領域32Xaから構成されており、X軸方向に電気的に接続される。
すなわち、本実施形態における「交差部」とは、連結領域32Yaと連結領域32Xaの交わる部位を意味する。
When viewed from the direction in which the display area 36 is viewed in plan, one electrode portion TX formed of the low resistance portion L of the fourth transparent conductive film 32 and the other electrode portion RX have “intersection portions”.
In FIG. 8B, one electrode portion TX is formed of a rhombus region 32Yb and a connection region 32Ya connecting the rhombus regions 32Yb, and is electrically connected in the Y-axis direction. Similarly, the other electrode portion RX is formed of a rhombus region 32Xb and a connection region 32Xa connecting the rhombus regions 32Xb, and is electrically connected in the X-axis direction.
That is, the “intersection portion” in the present embodiment means a portion where the connection region 32Ya and the connection region 32Xa intersect.

そして、この「交差部」には、他方の電極部RXをなす菱形領域32Xbどうしを接続する連結領域32Xaを跨いで、一方の電極部TXが電気的に接続されるように、第五透明導電膜33の高抵抗部Hを挟んで、第五透明導電膜33の低抵抗部Lと第六透明導電膜34の低抵抗部Lからなる導通部Jを有する。
つまり、この「導通部J」がジャンパー部として機能し、一方の電極部TXを構成する菱形領域32Ybどうしを接続する「連結領域32Ya」の役割を果たす。
Then, the fifth transparent conductive material is connected to the “crossing portion” such that one electrode portion TX is electrically connected across the connection region 32Xa connecting the rhombus regions 32Xb forming the other electrode portion RX. A conductive portion J including a low resistance portion L of the fifth transparent conductive film 33 and a low resistance portion L of the sixth transparent conductive film 34 is provided with the high resistance portion H of the film 33 interposed therebetween.
That is, this "conductive part J" functions as a jumper part, and plays a role of "connection area 32Ya" which connects the rhombus areas 32Yb which constitute one electrode part TX.

第四透明導電膜32、第五透明導電膜33、第六透明導電膜34における低抵抗部Lと高抵抗部Hは、第一実施形態において説明した手法により作製する。
これにより、タッチパネル30は、以下に述べる作用・効果が得られる。
(3a)透明基板31上に順に積層された第四透明導電膜32、第五透明導電膜33、第六透明導電膜34は何れも、巨視的に平坦な表面を有する連続した膜である。電極部(RX、TX)をなす低抵抗部Lと、電極部(RX、TX)どうしの間に位置する高抵抗部Hとは、電気的な特性が異なるだけであり、同じ膜厚を有する。ゆえに、両者の間には膜厚の差が無いので、交差部が存在するにもかかわらず、電極パターンが見え難く、良好な視認性が確保される。
The low resistance portion L and the high resistance portion H in the fourth transparent conductive film 32, the fifth transparent conductive film 33, and the sixth transparent conductive film 34 are manufactured by the method described in the first embodiment.
Thereby, the touch panel 30 can obtain the actions and effects described below.
(3a) Each of the fourth transparent conductive film 32, the fifth transparent conductive film 33, and the sixth transparent conductive film 34 sequentially stacked on the transparent substrate 31 is a continuous film having a macroscopically flat surface. The low resistance portion L forming the electrode portion (RX, TX) and the high resistance portion H located between the electrode portions (RX, TX) differ only in their electrical characteristics and have the same film thickness. . Therefore, since there is no difference in film thickness between the two, the electrode pattern is difficult to see despite the existence of the intersection, and good visibility is secured.

(3b)本実施形態における電極構造(菱形電極)は、巨視的に平坦な表面を有する連続した膜である、3つの膜(第四透明導電膜32、第五透明導電膜33、第六透明導電膜34)が積層されたものとなる。ゆえに、透明基板上に3つの膜(第四透明導電膜32、第五透明導電膜33、第六透明導電膜34)が積層されたものであり、最表面、すなわち、第六透明導電膜34の表面は、3つの膜が全て連続した膜であることから、自ずと巨視的に平坦な表面プロファイルとなる。そのため、交差部において、ジャンパー部として機能する「導通部J」が存在するにも拘わらず、交差部とそれ以外との境界において段差が発生しない。よって、本実施形態に係るタッチパネルでは、「交差部に起因して段差が生じ、上部電極の平坦性が損なわれ、導通性が不安定となる問題」が、表示領域36の全域にわたって解消される。 (3b) The electrode structure (diamond electrode) in the present embodiment is a continuous film having a macroscopically flat surface, three films (a fourth transparent conductive film 32, a fifth transparent conductive film 33, a sixth transparent The conductive film 34) is stacked. Therefore, three films (the fourth transparent conductive film 32, the fifth transparent conductive film 33, and the sixth transparent conductive film 34) are stacked on the transparent substrate, and the outermost surface, that is, the sixth transparent conductive film 34. Since the surface of the film is a film in which all three films are continuous, it naturally becomes a macroscopically flat surface profile. Therefore, although there is a "conductive portion J" functioning as a jumper portion at the intersection, no step is generated at the boundary between the intersection and the other. Therefore, in the touch panel according to the present embodiment, “the problem that a level difference is caused due to the intersection, the flatness of the upper electrode is impaired, and the conductivity becomes unstable” is eliminated over the entire display region 36 .

<第五実施形態>
図9は、本実施形態におけるタッチパネルを示す図であり、(a)は全体平面図、(b)は表示領域の一部δを示す拡大平面図、(c)は(b)に示した線分D1−D1に対応する拡大断面図である。
本実施形態は、電極構造が3次元電極をなす場合であり、各層42、43、44、45は全て透明導電膜から構成されている。すなわち、
本実施形態に係るタッチパネル40は、表示領域46内において、透明基板41側から順に重ねて積層された、第七透明導電膜42、第八透明導電膜43、第九透明導電膜44、第十透明導電膜45は何れも、上述した透明導電膜の構成(第一実施形態にて説明した、透明導電膜の中に低抵抗部と高抵抗部とが局在した構成)を備えている。
Fifth Embodiment
FIG. 9 is a view showing the touch panel in the present embodiment, where (a) is a whole plan view, (b) an enlarged plan view showing a part δ of the display area, (c) a line shown in (b) It is an expanded sectional view corresponding to minute D1-D1.
In the present embodiment, the electrode structure is a three-dimensional electrode, and all the layers 42, 43, 44, 45 are formed of a transparent conductive film. That is,
The touch panel 40 according to the present embodiment includes the seventh transparent conductive film 42, the eighth transparent conductive film 43, the ninth transparent conductive film 44, and the tenth transparent conductive film 42 stacked in order from the transparent substrate 41 side in the display region 46. Each of the transparent conductive films 45 has the configuration of the above-described transparent conductive film (a configuration in which the low resistance portion and the high resistance portion are localized in the transparent conductive film described in the first embodiment).

前記表示領域46を断面視する方向から見て、第十透明導電膜45の低抵抗部Lからなる一方の電極部TXと他方の電極部RXが、階層の異なる第七透明導電膜42の低抵抗部Lと第八透明導電膜43の低抵抗部Lに、それぞれ電気的に接続されるように、第八透明導電膜43と第九透明導電膜44の低抵抗部Lと高抵抗部Hが配されている。
換言すると、前記第十透明導電膜45の低抵抗部からなる一方の電極部L(X)と他方の電極部L(Y)が、階層の異なる前記第七〜第九透明導電膜から選択される何れかの導電膜と、それぞれ電気的に接続されるように、配されている。
これにより、一方の電極部TXどうしがY軸方向に電気的に接続され、他方の電極部RXどうしがX軸方向に電気的に接続される構成とした場合、Y軸方向の電気的接続とX軸方向の電気的接続は、それぞれ異なる階層に設けられたものとなる。
When viewed from a direction in which the display area 46 is viewed in cross section, one electrode portion TX consisting of the low resistance portion L of the tenth transparent conductive film 45 and the other electrode portion RX The low resistance portion L and the high resistance portion H of the eighth transparent conductive film 43 and the ninth transparent conductive film 44 are electrically connected to the low resistance portion L of the resistance portion L and the eighth transparent conductive film 43, respectively. Are arranged.
In other words, one electrode portion L (X) and the other electrode portion L (Y) consisting of the low resistance portion of the tenth transparent conductive film 45 are selected from the seventh to ninth transparent conductive films different in hierarchy. Are arranged to be electrically connected to any of the conductive films.
Thereby, when one electrode portion TX is electrically connected in the Y-axis direction and the other electrode portion RX is electrically connected in the X-axis direction, the electric connection in the Y-axis direction The electrical connections in the X-axis direction are provided in different layers.

第七透明導電膜42、第八透明導電膜43、第九透明導電膜44、第十透明導電膜45における低抵抗部Lと高抵抗部Hは、第一実施形態において説明した手法により作製する。
これにより、タッチパネル40は、以下に述べる作用・効果が得られる。
(4a)透明基板41上に順に積層された第七透明導電膜42、第八透明導電膜43、第九透明導電膜44、第十透明導電膜45は何れも、巨視的に平坦な表面を有する連続した膜である。第十透明導電膜45おいて電極部(RX、TX)をなす低抵抗部Lと、電極部(RX、TX)どうしの間に位置する高抵抗部Hとは、電気的な特性が異なるだけであり、同じ膜厚を有する。ゆえに、両者の間には膜厚の差が無いので、電極パターンが見え難く、良好な視認性が確保される。
The low resistance portion L and the high resistance portion H of the seventh transparent conductive film 42, the eighth transparent conductive film 43, the ninth transparent conductive film 44, and the tenth transparent conductive film 45 are manufactured by the method described in the first embodiment. .
Thereby, the touch panel 40 can obtain the actions and effects described below.
(4a) The seventh transparent conductive film 42, the eighth transparent conductive film 43, the ninth transparent conductive film 44, and the tenth transparent conductive film 45, which are sequentially stacked on the transparent substrate 41, have macroscopically flat surfaces. It is a continuous film having. The low resistance portion L forming the electrode portion (RX, TX) in the tenth transparent conductive film 45 and the high resistance portion H located between the electrode portions (RX, TX) have different electrical characteristics. And have the same film thickness. Therefore, since there is no difference in film thickness between the two, it is difficult to see the electrode pattern, and good visibility is ensured.

(4b)本実施形態における電極構造(3次元電極)は、巨視的に平坦な表面を有する連続した膜である、4つの膜(第七透明導電膜42、第八透明導電膜43、第九透明導電膜44、第十透明導電膜45)が積層されたものとなる。ゆえに、透明基板上に4つの膜(第七透明導電膜42、第八透明導電膜43、第九透明導電膜44、第十透明導電膜45)が積層された最表面、すなわち、第十透明導電膜45の表面は、4つの膜が全て連続した膜であることから、自ずと巨視的に平坦な表面プロファイルとなる。 (4b) The electrode structure (three-dimensional electrode) in the present embodiment is a continuous film having a macroscopically flat surface, four films (the seventh transparent conductive film 42, the eighth transparent conductive film 43, the ninth The transparent conductive film 44 and the tenth transparent conductive film 45) are stacked. Therefore, the outermost surface in which four films (the seventh transparent conductive film 42, the eighth transparent conductive film 43, the ninth transparent conductive film 44, and the tenth transparent conductive film 45) are stacked on the transparent substrate, that is, the tenth transparent Since the surface of the conductive film 45 is a film in which all four films are continuous, it naturally becomes a macroscopically flat surface profile.

そのため、第十透明導電膜45の下層に位置する3つの膜(第七透明導電膜42、第八透明導電膜43、第九透明導電膜44)に内在する低抵抗部Lを接続させることにより、第十透明導電膜45の電極部(RX、TX)から延びる配線部が、たとえ交差するようなレイアウトを採用したとしても、配線部とそれ以外との境界において段差が発生しない。よって、本実施形態に係るタッチパネルでは、「交差部に起因して段差が生じ、上部電極の平坦性が損なわれ、導通性が不安定となる問題」が、表示領域46の全域にわたって解消される。   Therefore, by connecting the low resistance portion L inherent to the three films (the seventh transparent conductive film 42, the eighth transparent conductive film 43, and the ninth transparent conductive film 44) located in the lower layer of the tenth transparent conductive film 45 Even if the wiring portions extending from the electrode portions (RX, TX) of the tenth transparent conductive film 45 adopt a layout in which the wiring portions cross each other, no step is generated at the boundary between the wiring portion and the other. Therefore, in the touch panel according to the present embodiment, “the problem that a level difference is caused due to the intersection, the flatness of the upper electrode is impaired, and the conductivity becomes unstable” is eliminated over the entire display region 46 .

(4c)表示領域において各電極部(第十透明導電膜45)から延びる配線は全て、第十透明導電膜45の下層に位置する3つの膜(第七透明導電膜42、第八透明導電膜43、第九透明導電膜44)に内在する低抵抗部Lを接続させることにより構成されている。ゆえに、第十透明導電膜45からなる表示領域内の各電極部の形状は、極めて高い自由度をもつことが可能となる。図9(b)には、各電極部が円形をなす一例を示したが、円形に限定されるものではなく、三角形、四角形、矩形、楕円形、あるいは不定形でも良いし、これらの組み合わせとしても構わない。またその大きさ(面積)も調整可能である。これにより、たとえば、表示領域内において、中央部は高密度に検出可能な領域として、周縁部は低密度となるように各電極部を配置することにより、面内感度が局所的に制御されたタッチパネルの提供も可能となる。 (4c) All the lines extending from each electrode (the tenth transparent conductive film 45) in the display area are three films (the seventh transparent conductive film 42, the eighth transparent conductive film) located under the tenth transparent conductive film 45 43, the ninth transparent conductive film 44) is configured by connecting the low resistance portion L inherent therein. Therefore, the shape of each electrode portion in the display area formed of the tenth transparent conductive film 45 can have extremely high freedom. Although FIG. 9 (b) shows an example in which each electrode portion has a circular shape, it is not limited to a circular shape, and may be a triangular shape, a rectangular shape, a rectangular shape, an elliptical shape, or an irregular shape. I don't care. Moreover, the size (area) can also be adjusted. Thus, for example, the in-plane sensitivity is locally controlled by arranging the respective electrode portions in such a manner that the central portion can be detected in high density and the peripheral portion is low in density in the display area. It also becomes possible to provide a touch panel.

<第六実施形態>
図10は、本実施形態におけるタッチパネルを示す図であり、(a)は全体平面図、(b)は表示領域の一部δを示す拡大平面図、(c)は(b)に示した線分D2−D2に対応する拡大断面図である。
Sixth Embodiment
FIG. 10 is a view showing the touch panel in the present embodiment, where (a) is a whole plan view, (b) is an enlarged plan view showing a part δ of the display area, and (c) is a line shown in (b) It is an expanded sectional view corresponding to minute D2-D2.

本実施形態(第六実施形態)は、第五実施形態の派生形の一例である。具体的には、図10(c)に示すとおり、表示領域46を断面視する方向から見て、第十透明導電膜45の低抵抗部からなる一方の電極部L(X)と他方の電極部L(Y)が、階層の異なる第七透明導電膜42の低抵抗部と第八透明導電膜43の低抵抗部に、それぞれ電気的に接続されている。これに加えて、表示領域46を平面視する方向から見て、第七透明導電膜42の低抵抗部が延設される方向(図10ではX方向)と、第八透明導電膜43の低抵抗部が延設される方向(図10ではX方向)とが、並行をなすように構成されている。
すなわち、本実施形態は、図10(b)に示すとおり、一方の電極部L(X)と他方の電極部L(Y)が、碁盤目状に配列された構成例である。
The present embodiment (sixth embodiment) is an example of a derivative of the fifth embodiment. Specifically, as shown in FIG. 10C, when viewed from the direction in which the display region 46 is viewed in cross section, one electrode portion L (X) and the other electrode which are formed of the low resistance portion of the tenth transparent conductive film 45 The portion L (Y) is electrically connected to the low resistance portion of the seventh transparent conductive film 42 and the low resistance portion of the eighth transparent conductive film 43 in different layers. In addition to this, the direction in which the low resistance portion of the seventh transparent conductive film 42 is extended (the X direction in FIG. 10) when viewed from the direction in which the display region 46 is viewed in plan, and the low The direction in which the resistor portion extends (the X direction in FIG. 10) is configured to be parallel.
That is, as shown in FIG. 10B, the present embodiment is a configuration example in which one electrode portion L (X) and the other electrode portion L (Y) are arranged in a grid.

本実施形態の構成によれば、タッチパネル40における表示領域46を囲む外周領域46osのうち、特定の一辺(たとえば、図10(a)において上辺)、あるいは、対向する側に位置する二辺(たとえば、図10(a)において上辺と下辺)に、第十透明導電膜45の低抵抗部からなる一方の電極部L(X)と他方の電極部L(Y)が、それぞれ電気的に接続されるように、配線を構築することができる。   According to the configuration of this embodiment, a specific side (for example, the upper side in FIG. 10A) or two sides (for example, the opposite side) of the outer peripheral area 46os surrounding the display area 46 in the touch panel 40 In FIG. 10 (a), one electrode portion L (X) and the other electrode portion L (Y) consisting of the low resistance portion of the tenth transparent conductive film 45 are electrically connected to the upper side and the lower side respectively. To build the wiring.

<第七実施形態>
図11は、本実施形態におけるタッチパネルを示す図であり、(a)は全体平面図、(b)は表示領域の一部δを示す拡大平面図、(c)は(b)に示した線分D3−D3に対応する拡大断面図である。
Seventh Embodiment
FIG. 11 is a view showing the touch panel in the present embodiment, where (a) is a whole plan view, (b) is an enlarged plan view showing a part δ of the display area, and (c) is a line shown in (b) It is an expanded sectional view corresponding to D3-D3.

本実施形態(第七実施形態)は、第五実施形態の派生形の一例である。具体的には、図11(c)に示すとおり、表示領域46を断面視する方向から見て、第十透明導電膜45の低抵抗部からなる一方の電極部L(X)と他方の電極部L(Y)が、階層の異なる第七透明導電膜42の低抵抗部と第九透明導電膜44の低抵抗部に、それぞれ電気的に接続されている。これに加えて、表示領域46を平面視する方向から見て、第七透明導電膜42の低抵抗部が延設される方向(図11ではX方向)と、第九透明導電膜44の低抵抗部が延設される方向(図11ではY方向)とが、直交をなすように構成されている。
すなわち、本実施形態は、図11(b)に示すとおり、一方の電極部L(X)と他方の電極部L(Y)が、千鳥状に配列された構成例である。
The present embodiment (seventh embodiment) is an example of a derivative of the fifth embodiment. Specifically, as shown in FIG. 11C, when viewed from the direction in which the display region 46 is viewed in cross section, one electrode portion L (X) and the other electrode formed of the low resistance portion of the tenth transparent conductive film 45 The portion L (Y) is electrically connected to the low resistance portion of the seventh transparent conductive film 42 and the low resistance portion of the ninth transparent conductive film 44 in different layers. In addition to this, the direction in which the low resistance portion of the seventh transparent conductive film 42 is extended (the X direction in FIG. 11) when viewed from the direction in which the display region 46 is viewed in plan, The direction in which the resistance portion is extended (Y direction in FIG. 11) is configured to be orthogonal.
That is, as shown in FIG. 11B, the present embodiment is a configuration example in which one electrode portion L (X) and the other electrode portion L (Y) are arranged in a staggered manner.

本実施形態の構成によれば、タッチパネル40における表示領域46を囲む外周領域46osのうち、特定の近接する二辺(たとえば、図10(a)において上辺と右辺)に、第十透明導電膜45の低抵抗部からなる一方の電極部L(X)と他方の電極部L(Y)が、それぞれ電気的に接続されるように、配線を構築することができる。   According to the configuration of the present embodiment, the tenth transparent conductive film 45 is formed on two close sides (for example, the upper side and the right side in FIG. 10A) of the outer peripheral area 46os surrounding the display area 46 in the touch panel 40. Wiring can be constructed such that one electrode portion L (X) and the other electrode portion L (Y) formed of the low resistance portions are electrically connected to each other.

<第八実施形態>
図12は、本実施形態におけるタッチパネルを示す図であり、(a)は全体平面図、(b)は表示領域と外周領域を含む一部εを示す拡大平面図、(c)は(b)に示した線分D4−D4に対応する拡大断面図、(d)は(b)に示した線分D5−D5に対応する拡大断面図である。
Eighth Embodiment
FIG. 12 is a view showing the touch panel in the present embodiment, where (a) is a whole plan view, (b) is an enlarged plan view showing a part ε including a display area and an outer peripheral area, (c) is (b) (D) is an expanded sectional view corresponding to line segment D5-D5 shown to (b) corresponding to line segment D4-D4 shown to.

本実施形態(第八実施形態)は、上述した第五実施形態の派生形であり、各層42、43、44、45は全て透明導電膜から構成されている。すなわち、
本実施形態に係るタッチパネル40は、表示領域46内とともに、この表示領域46を囲む外周領域46osにおいても、前記透明導電膜の構成を有する。つまり、透明基板41側から順に重ねて積層された、第七透明導電膜42、第八透明導電膜43、第九透明導電膜44、第十透明導電膜45は何れも、上述した透明導電膜の構成(第五〜第七実施形態にて説明した、透明導電膜の中に低抵抗部と高抵抗部とが局在した構成)を備えている。
The present embodiment (eighth embodiment) is a modification of the fifth embodiment described above, and all the layers 42, 43, 44, 45 are formed of a transparent conductive film. That is,
The touch panel 40 according to the present embodiment has the configuration of the transparent conductive film in the display area 46 and also in the outer peripheral area 46os surrounding the display area 46. That is, the seventh transparent conductive film 42, the eighth transparent conductive film 43, the ninth transparent conductive film 44, and the tenth transparent conductive film 45, which are stacked in order from the transparent substrate 41 side, are all the transparent conductive films described above (The configuration in which the low resistance portion and the high resistance portion are localized in the transparent conductive film described in the fifth to seventh embodiments).

また、外周領域46osを断面視する方向から見て、第十透明導電膜45の低抵抗部からなる一方の電極部L(X)と他方の電極部L(Y)が各々、外周領域46osのうち、異なる一辺を構成する範囲に配置されており、かつ、上述した第六実施形態または第七実施形態の表示領域46内における構成と電気的に接続されている。   In addition, when the outer peripheral region 46os is viewed in a cross-sectional view, one electrode portion L (X) and the other electrode portion L (Y) formed of the low resistance portion of the tenth transparent conductive film 45 are each of the outer peripheral region 46os. Among them, they are disposed in a range constituting different sides, and are electrically connected to the configuration in the display area 46 of the sixth embodiment or the seventh embodiment described above.

ここで、上述した第六実施形態または第七実施形態の表示領域46内における構成とは、「表示領域46を断面視する方向から見て、第七透明導電膜42、第八透明導電膜43、第九透明導電膜44、第十透明導電膜45の中の低抵抗部L(X)、L(Y)が、図12(c)、(d)に示すように、電気的に接続された構成を意味する。   Here, the configuration in the display area 46 in the sixth embodiment or the seventh embodiment described above refers to “the seventh transparent conductive film 42 and the eighth transparent conductive film 43 when viewed from the direction in which the display region 46 is viewed in cross section. The low resistance portions L (X) and L (Y) in the ninth transparent conductive film 44 and the tenth transparent conductive film 45 are electrically connected as shown in FIGS. 12 (c) and 12 (d). Means the configuration.

第七透明導電膜42、第八透明導電膜43、第九透明導電膜44、第十透明導電膜45の中の低抵抗部L(X)、L(Y)と高抵抗部Hは、第一及び第二実施形態において説明した手法により作製する。
これにより、タッチパネル40は、上述した第五実施形態の作用・効果(4a)〜(4c)に加えて、以下の作用・効果が得られる。
(4d)表示領域46を囲む外周領域46osにおいても、透明導電膜の構成は表示領域46と同一の積層構造が維持される。ゆえに、第八実施形態のタッチパネル40は、表示領域46とこれを囲む外周領域46osとが、完全に平坦な形状を有することが可能となる。よって、第八実施形態によれば、表示領域46のみならず、これを囲む外周領域46osにおいても、電極パターンが見え難く、良好な視認性が確保される。
The low resistance portions L (X), L (Y) and the high resistance portion H in the seventh transparent conductive film 42, the eighth transparent conductive film 43, the ninth transparent conductive film 44, and the tenth transparent conductive film 45 It manufactures by the method demonstrated in the 1st and 2nd embodiment.
Thereby, in addition to the effect and effect (4a)-(4c) of 5th embodiment mentioned above, the touch panel 40 can acquire the following effect and effect.
(4d) Also in the outer peripheral area 46os surrounding the display area 46, the configuration of the transparent conductive film maintains the same laminated structure as the display area 46. Therefore, in the touch panel 40 of the eighth embodiment, the display area 46 and the outer peripheral area 46os surrounding the display area 46 can have a completely flat shape. Therefore, according to the eighth embodiment, the electrode pattern is difficult to see not only in the display area 46 but also in the outer peripheral area 46os surrounding the display area 46, and good visibility is ensured.

<第九実施形態>
図13は、本実施形態におけるタッチパネルを示す図であり、反射防止層(Anti Reflection Layer:AR層)を設けた構成例である。図13(a)は反射防止層が透明基板と前記透明導電膜との間に配置された場合であり、図13(b)は反射防止層が透明導電膜上に配置された場合を示している。すなわち、図13は、本発明に係るタッチパネルを備える表示装置(図2)において、反射防止層ARLを追加した2種類の構成例を表すものである。さらに、反射防止層が、透明基板と透明導電膜との間と透明導電膜の上に、透明導電膜を挟むように配置される構成、すなわち、図13(a)と図13(b)の構成を重ね合わせた配置も可能である。
<Ninth embodiment>
FIG. 13 is a view showing the touch panel in the present embodiment, and is a configuration example in which an anti reflection layer (Anti Reflection Layer: AR layer) is provided. FIG. 13 (a) shows the case where the antireflective layer is disposed between the transparent substrate and the transparent conductive film, and FIG. 13 (b) shows the case where the antireflective layer is disposed on the transparent conductive film. There is. That is, FIG. 13 shows two configuration examples in which an anti-reflection layer ARL is added in the display device (FIG. 2) provided with the touch panel according to the present invention. Furthermore, an anti-reflection layer is arranged between the transparent substrate and the transparent conductive film and on the transparent conductive film so as to sandwich the transparent conductive film, that is, in FIGS. 13 (a) and 13 (b). An arrangement in which the configurations are superimposed is also possible.

第一乃至第八実施形態に説明したように、本発明における電極部として機能する透明導電膜は何れも、巨視的に平坦な表面を有する連続した膜である。ゆえに、たとえ2層以上を重ねた積層構造とした場合でも、界面や最表面は連続した膜のプロファイルが維持されることになる。よって、図13(a)や図13(b)に示すように、反射防止層が配置される積層位置に依存することなく、どちらの構成例においても、反射防止層は自ずと巨視的に平坦な表面を有する連続した膜となる。
したがって、反射防止層を付加した構成を採用することにより、さらに優れた視認性を有するタッチパネルを提供することが可能となる。
As described in the first to eighth embodiments, any of the transparent conductive films functioning as the electrode portion in the present invention is a continuous film having a macroscopically flat surface. Therefore, even in the case of a laminated structure in which two or more layers are stacked, the interface and the outermost surface maintain the continuous film profile. Therefore, as shown in FIG. 13A and FIG. 13B, the antireflection layer is macroscopically flat by itself in either configuration example, regardless of the lamination position where the antireflection layer is disposed. It becomes a continuous film having a surface.
Therefore, it becomes possible to provide the touch panel which has the still more outstanding visibility by adopting the composition which added the antireflection layer.

<第十実施形態>
第一乃至第九実施形態においては、図1に示した基本構造(透明基板/透明導電膜、透明導電膜は、その膜面内に局在する低抵抗部と高抵抗部から構成されており、前記低抵抗部どうしの間には前記高抵抗部が配置される)を、タッチパネルに適用する事例について詳細に説明した。
Tenth Embodiment
In the first to ninth embodiments, the basic structure shown in FIG. 1 (transparent substrate / transparent conductive film, transparent conductive film is composed of a low resistance portion and a high resistance portion localized in the film surface) The case where the high resistance portion is disposed between the low resistance portions) is applied to a touch panel in detail.

しかしながら、図1の基本構造を有する透明導電性基板、すなわち、「透明基板と、前記透明基板に配された透明導電膜とを含み、前記透明導電膜は、膜表面が平坦であり、かつ、膜面内に局在する低抵抗部と高抵抗部から構成されており、前記低抵抗部どうしの間には前記高抵抗部が配されている透明導電性基板」は、タッチパネル以外の用途にも十分に使用することができる。たとえば、各種デバイスを載置する配線基板、多層配線構造を有する配線基板、各種デバイス間に配置されるインターポーザー、熱電回路を設けた窓ガラスやレンズ、ミラーなど、多種多様な用途において活用することができる。   However, a transparent conductive substrate having the basic structure of FIG. 1, that is, “a transparent substrate and a transparent conductive film disposed on the transparent substrate, the film surface of the transparent conductive film is flat, and The transparent conductive substrate having the low resistance portion and the high resistance portion localized in the film surface, and the high resistance portion being disposed between the low resistance portions is used for applications other than the touch panel. Can also be used enough. For example, use in a wide variety of applications, such as wiring boards for mounting various devices, wiring boards with multilayer wiring structures, interposers disposed between various devices, window glasses provided with thermoelectric circuits, lenses, mirrors, etc. Can.

何れの用途先においても、透明導電膜が、「巨視的に平坦な表面を有する連続した膜であり、その膜面内に局在する低抵抗部と高抵抗部から構成され、前記低抵抗部どうしの間には前記高抵抗部が配置される」という基本構成は、極めて有効に機能する。すなわち、透明導電膜はその最表面が平坦性が確保されているので、配線基板やインターポーザー用途においては、デバイスを載置する場合の安定性に優れるとともに、デバイスのピン配置に応じて自由に導電部を設定することが可能となる。窓ガラスやレンズ、ミラー用途においては、それぞれの光学設計に影響を及ぼすことなく、自由に導電部を設定することが可能となる。   In any application, the transparent conductive film is “a continuous film having a macroscopically flat surface, and is composed of a low resistance portion and a high resistance portion localized in the film surface, and the low resistance portion The basic configuration in which the high resistance portion is disposed between the two functions extremely effectively. That is, since the top surface of the transparent conductive film is ensured to be flat, in wiring board and interposer applications, it is excellent in stability when mounting the device, and freely according to the pin arrangement of the device. It becomes possible to set the conductive part. In window glass, lens and mirror applications, it becomes possible to freely set the conductive part without affecting the respective optical design.

このような透明導電性基板においても、図13に示したように、反射防止機能を備えることは有効である。すなわち、「透明基板と透明導電膜との間、及び、透明導電膜上、あるいは何れか一方に反射防止膜を配置」することにより、光学的にさらに優れた特性を有する透明導電性基板が得られる。   Also in such a transparent conductive substrate, as shown in FIG. 13, it is effective to provide an anti-reflection function. That is, by disposing the antireflective film between the transparent substrate and the transparent conductive film and / or on the transparent conductive film, a transparent conductive substrate having optically superior properties can be obtained. Be

本発明は、タッチパネルおよび透明導電性基板に広く適用可能である。このようなタッチパネルおよび透明導電性基板は、たとえば、優れた視認性が求められる高品位な表示画面などに好適に用いられる。   The present invention is widely applicable to touch panels and transparent conductive substrates. Such a touch panel and a transparent conductive substrate are suitably used, for example, for a high quality display screen or the like which requires excellent visibility.

α 表示領域の一部、10 タッチパネル、11 透明基板、11a 操作面、11b 裏面、12 透明導電膜、12L(12La、12Lb) 低抵抗部(電極部)、12H 高抵抗部、16 表示領域、16os 表示領域の周囲、17 配線。   α part of display area, 10 touch panel, 11 transparent substrate, 11a operation surface, 11b back surface, 12 transparent conductive film, 12L (12La, 12Lb) low resistance part (electrode part), 12H high resistance part, 16 display area, 16os 17 wires around the display area.

Claims (8)

透明基板と、前記透明基板の表示領域内に設けられた透明導電膜からなる複数の電極部とを含むタッチパネルにおいて、
前記透明導電膜は、平坦な膜表面を有し、かつ、その膜面内に局在する低抵抗部と高抵抗部から構成されており、
前記電極部は、該透明導電膜のうち前記低抵抗部からなり、該電極部どうしの間には前記高抵抗部が配されており、
前記表示領域内において、前記透明導電膜の構成を有する、第一透明導電膜、第二透明導電膜、及び第三透明導電膜を、前記透明基板側から順に重ねて備え、
前記表示領域を平面視する方向から見て、前記第一透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と、前記第三透明導電膜の低抵抗部からなる他方の電極部とが交差部を有しており、
前記二透明導電膜は、少なくとも前記交差部と重なる領域が、高抵抗部から構成されていることを特徴とするタッチパネル。
A touch panel including: a transparent substrate; and a plurality of electrode portions made of a transparent conductive film provided in a display area of the transparent substrate.
The transparent conductive film has a flat film surface, and is composed of a low resistance portion and a high resistance portion localized in the film surface,
The electrode portion is the low resistance portion of the transparent conductive film, and the high resistance portion is disposed between the electrode portions.
In the display area, a first transparent conductive film, a second transparent conductive film, and a third transparent conductive film having the configuration of the transparent conductive film are sequentially stacked from the transparent substrate side,
When viewed from a direction in which the display area is viewed in plan, one electrode portion consisting of the low resistance portion of the first transparent conductive film and the other electrode portion consisting of the low resistance portion of the third transparent conductive film cross each other And have
The touch panel, wherein at least a region of the two transparent conductive films overlapping with the intersection portion is configured of a high resistance portion.
前記表示領域内とともに、前記表示領域を囲む外周領域においても、前記透明導電膜の構成を有する、第一透明導電膜、第二透明導電膜、及び第三透明導電膜を、前記透明基板側から順に重ねて備え、
前記外周領域を断面視する方向から見て、前記第三透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が各々、前記外周領域のうち、異なる一辺を構成する範囲に配置されており、かつ、請求項1の前記表示領域内における構成と電気的に接続されていることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。
The first transparent conductive film, the second transparent conductive film, and the third transparent conductive film having the configuration of the transparent conductive film in the display region and also in the outer peripheral region surrounding the display region, from the transparent substrate side Prepare in order,
When viewed from a direction in which the outer peripheral region is viewed in cross section, one electrode portion formed of the low resistance portion of the third transparent conductive film and the other electrode portion are disposed in the different outer peripheral region in a different side. The touch panel according to claim 1, wherein the touch panel is electrically connected to the configuration in the display area according to claim 1.
前記表示領域内において、前記透明導電膜の構成を有する、第四透明導電膜、第五透明導電膜、及び第六透明導電膜を、前記透明基板側から順に重ねて備え、
前記表示領域を平面視する方向から見て、前記第四透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が交差部を有しており、
前記交差部には、前記他方の電極部を跨いで、前記一方の電極部が1つおきに電気的に接続されるように、前記第五透明導電膜の高抵抗部を挟んで、前記第五透明導電膜の低抵抗部と前記第六透明導電膜の低抵抗部からなる導通部を有することを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。
In the display area, a fourth transparent conductive film, a fifth transparent conductive film, and a sixth transparent conductive film having the configuration of the transparent conductive film are sequentially stacked from the transparent substrate side,
When viewed from the direction in which the display area is viewed in plan, one electrode portion formed of the low resistance portion of the fourth transparent conductive film and the other electrode portion have crossing portions,
In the crossing portion, the high resistance portion of the fifth transparent conductive film is sandwiched between the other electrode portion so that every other one of the electrode portions is electrically connected. The touch panel according to claim 1, further comprising: a conductive portion including a low resistance portion of five transparent conductive films and a low resistance portion of the sixth transparent conductive film.
前記表示領域内において、前記透明導電膜の構成を有する、第七透明導電膜、第八透明導電膜、第九透明導電膜、及び第十透明導電膜を、前記透明基板側から順に重ねて備え、
前記第十透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が、階層の異なる前記第七〜第九透明導電膜から選択される何れかの導電膜と、それぞれ電気的に接続されるように、配されていることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。
The seventh transparent conductive film, the eighth transparent conductive film, the ninth transparent conductive film, and the tenth transparent conductive film having the configuration of the transparent conductive film are sequentially stacked from the transparent substrate side in the display region. ,
One of the electrode parts comprising the low resistance part of the tenth transparent conductive film and the other electrode part are electrically selected from any one of the seventh to ninth transparent conductive films different in hierarchy, respectively. The touch panel according to claim 1, wherein the touch panel is arranged to be connected.
前記表示領域を断面視する方向から見て、前記第十透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が、階層の異なる前記第七透明導電膜の低抵抗部と前記第八透明導電膜の低抵抗部に、それぞれ電気的に接続されており、
前記表示領域を平面視する方向から見て、前記第七透明導電膜の低抵抗部が延設される方向と、前記第八透明導電膜の低抵抗部が延設される方向とが、並行をなすように構成されていることを特徴とする請求項4に記載のタッチパネル。
As viewed from the direction in which the display area is viewed in cross section, one electrode portion consisting of the low resistance portion of the tenth transparent conductive film and the other electrode portion are the low resistance portion of the seventh transparent conductive film and the above different layers. Each is electrically connected to the low resistance portion of the eighth transparent conductive film,
The direction in which the low resistance portion of the seventh transparent conductive film extends is parallel to the direction in which the low resistance portion of the eighth transparent conductive film extends, when viewed from the direction in which the display area is viewed in plan view. The touch panel according to claim 4, wherein the touch panel is configured to
前記表示領域を断面視する方向から見て、前記第十透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が、階層の異なる前記第七透明導電膜の低抵抗部と前記第九透明導電膜の低抵抗部に、それぞれ電気的に接続されており、
前記表示領域を平面視する方向から見て、前記第七透明導電膜の低抵抗部が延設される方向と、前記第九透明導電膜の低抵抗部が延設される方向とが、直交をなすように構成されていることを特徴とする請求項4に記載のタッチパネル。
As viewed from the direction in which the display area is viewed in cross section, one electrode portion consisting of the low resistance portion of the tenth transparent conductive film and the other electrode portion are the low resistance portion of the seventh transparent conductive film and the above different layers. Each is electrically connected to the low resistance portion of the ninth transparent conductive film,
The direction in which the low resistance portion of the seventh transparent conductive film is extended and the direction in which the low resistance portion of the ninth transparent conductive film is extended are orthogonal to each other when viewed from the direction in which the display area is viewed in plan The touch panel according to claim 4, wherein the touch panel is configured to
前記表示領域内とともに、前記表示領域を囲む外周領域においても、前記透明導電膜の構成を有する、第七透明導電膜、第八透明導電膜、第九透明導電膜、及び第十透明導電膜を、前記透明基板側から順に重ねて備え、
前記外周領域を断面視する方向から見て、前記第十透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が各々、前記外周領域のうち、異なる一辺を構成する範囲に配置されており、かつ、請求項5又は6の前記表示領域内における構成と電気的に接続されていることを特徴とする請求項5又は6に記載のタッチパネル。
A seventh transparent conductive film, an eighth transparent conductive film, a ninth transparent conductive film, and a tenth transparent conductive film having the configuration of the transparent conductive film in the display region and also in the outer peripheral region surrounding the display region , Provided in order from the transparent substrate side,
When viewed from the direction in which the outer peripheral region is viewed in cross section, one electrode portion formed of the low resistance portion of the tenth transparent conductive film and the other electrode portion are disposed in ranges that form different sides of the outer peripheral region. The touch panel according to claim 5 or 6, which is electrically connected to the configuration in the display area according to claim 5 or 6.
前記透明基板と前記透明導電膜との間、及び、前記透明導電膜上、あるいは何れか一方に、反射防止層が配されてなることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載のタッチパネル。   The anti-reflection layer is disposed between the transparent substrate and the transparent conductive film, and / or on the transparent conductive film, according to any one of claims 1 to 7. Touch panel described.
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