JP6501150B2 - Letterpress printing original plate for laser engraving and method for producing letterpress printing plate obtained using the same - Google Patents

Letterpress printing original plate for laser engraving and method for producing letterpress printing plate obtained using the same Download PDF

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本発明は、レーザー光照射により画像形成して印刷版を形成するレーザー彫刻用凸版印刷原版、およびそれを用いて得られる凸版印刷版の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a printing plate for laser engraving which forms an image by laser light irradiation to form a printing plate, and a method for producing a printing plate obtained by using the printing plate.

各種包装材やシール、ラベル印刷、他、多種の印刷に使用される凸版印刷版は、従来、感光性樹脂からなる印刷原版を像に従って露光して露光部の樹脂を架橋させ、次いで非露光部の未架橋樹脂を洗浄除去することにより製造されていたが、近年、印刷版製造の効率改善のため、レーザーを使って直接印刷原版上にレリーフ画像を形成するレーザー彫刻による印刷版が普及しつつある。レーザー彫刻による印刷版の製造工程では、レーザー光線を像に従って印刷原版に照射して照射部分の像形成材料を熱分解することにより版表面に凹凸が形成される。   Conventionally, a letterpress printing plate used for various packaging materials, seals, label printing, and various other types of printing conventionally exposes a printing original plate made of a photosensitive resin in accordance with an image to crosslink the resin in the exposed area and then unexposed area In recent years, in order to improve the efficiency of printing plate production, printing plates by laser engraving, in which a relief image is directly formed on a printing original plate using a laser, are becoming widespread. is there. In the process of producing a printing plate by laser engraving, irregularities are formed on the surface of the printing plate by irradiating a printing plate with a laser beam according to an image to thermally decompose the image forming material of the irradiated portion.

レーザー彫刻用の印刷原版としては、フレキソ版への技術応用が進んでおり、レーザー彫刻可能なフレキソ版原版、あるいはレーザー彫刻によって得られたフレキソ版が特許文献1及び2に開示されている。それらの文献には、バインダーとしてエラストマー性のゴムにモノマーを混合してフレキソ印刷原版を製造し、熱架橋又は光架橋により硬化させた後にレーザー彫刻を行い、フレキソ印刷版を得ている。しかし、これらは水性インキやエステルインキに適性のあるフレキソ印刷版であり、油性インキが主に用いられる樹脂凸版用途には適するものではない。   As a printing base plate for laser engraving, technical application to a flexo printing plate has been advanced, and a laser printing engravable flexo printing plate precursor or a flexo printing plate obtained by laser engraving is disclosed in Patent Documents 1 and 2. In these documents, a monomer is mixed with an elastomeric rubber as a binder to produce a flexographic printing plate, and after curing by thermal crosslinking or photocrosslinking, laser engraving is performed to obtain a flexographic printing plate. However, these are flexographic printing plates suitable for water-based inks and ester inks, and are not suitable for resin letterpress applications where oil-based inks are mainly used.

一方、凸版印刷に用いるレーザー彫刻用印刷原版としては、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールやポリエーテルポリアミドなどの高分子化合物に光重合性化合物及び光重合開始剤を配合した樹脂組成物からなるものが特許文献3〜5に開示されている。   On the other hand, as a printing base plate for laser engraving used for letterpress printing, a printing plate made of a resin composition in which a photopolymerizable compound and a photopolymerization initiator are mixed with a polymer compound such as polyvinyl alcohol or modified polyvinyl alcohol or polyether polyamide is patented It is disclosed by the documents 3-5.

しかしながら、凸版印刷に用いるレーザー彫刻用印刷原版としては、レーザー彫刻性と印刷性能との両者を満足できる印刷原版が得られていなかった。レーザー彫刻時の最大の問題としては、レーザー照射により生じた樹脂残渣がレーザー照射中の吸引やレーザー照射後の洗浄でも除去されずに版に付着したまま残りやすいことであり、印刷版のレーザー非照射部分(凸部分)に付着した樹脂残渣が印刷時にインクを受理して印刷不良を起こしやすくしていた。   However, as a printing plate for laser engraving used for letterpress printing, a printing plate capable of satisfying both the laser engraving property and the printing performance has not been obtained. The biggest problem at the time of laser engraving is that resin residues generated by laser irradiation are likely to remain attached to the plate without being removed even by suction during laser irradiation or cleaning after laser irradiation, and the laser non-printing plate The resin residue attached to the irradiated portion (convex portion) tends to receive an ink at the time of printing and cause a printing failure.

上記樹脂残渣の付着の問題に対しては、感光性樹脂組成物中の(メタ)アクリロイル基の含有量を最適化してレーザー彫刻に適した架橋状態にすることで、レーザー彫刻残渣を減らすとともにレーザー彫刻時の樹脂溶融を抑制することが提案されている(特許文献6及び7参照)。また、塩基性第3級窒素原子を含有させることで、もしレーザー彫刻時に樹脂残渣が付着したとしても、水を溶剤としてブラシ洗浄等により容易に樹脂残渣を除去できることができることも提案されている(特許文献6及び7参照)。しかし、かかる従来技術では樹脂残渣をブラシ洗浄等で除去するのに時間を要するため、網点表面まで削ってしまい、長期印刷性に欠けるという問題があった。   With regard to the problem of adhesion of the resin residue, the content of the (meth) acryloyl group in the photosensitive resin composition is optimized to make the crosslinked state suitable for laser engraving, thereby reducing the laser engraving residue and reducing the laser It has been proposed to suppress resin melting at the time of engraving (see Patent Documents 6 and 7). In addition, it is also proposed that the resin residue can be easily removed by brush cleaning or the like using water as a solvent, even if a resin residue is attached during laser engraving, by containing a basic tertiary nitrogen atom. Patent Documents 6 and 7). However, since it takes time to remove the resin residue by brush cleaning or the like in the prior art, there is a problem that the halftone dot surface is scraped off and the long-term printability is lacking.

特許第2846954号公報Patent No. 2846954 特開平11−338139号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 11-338139 gazette 特開平11−170718号公報JP-A-11-170718 特開2006−002061号公報JP, 2006-002061, A 特開2001−328365号公報JP 2001-328365 A WO09/081889号公報WO 09/081889 WO10/074210号公報WO 10/074210

本発明は、かかる従来技術の現状に鑑み創案されたものであり、その目的は、ブラシ洗浄等での水洗いにより網点表面を削ることなくレーザー彫刻時の樹脂残渣を容易に除去でき、長期印刷性に優れた印刷版を製造できるレーザー彫刻用凸版印刷原版、及びそれを用いて得られる凸版印刷版の製造方法を提供することである。   The present invention has been made in view of the current state of the prior art, and its object is to wash resin by washing with a brush or the like so that resin residue at the time of laser engraving can be easily removed without scraping the halftone dot surface, and long-term printing It is an object of the present invention to provide a relief printing plate precursor for laser engraving capable of producing a printing plate having excellent properties, and a method for producing a relief printing plate obtained using the same.

本発明者らは、かかる目的を達成するためにレーザー彫刻用凸版印刷原版に好適な樹脂組成物について鋭意検討した結果、感光性樹脂組成物に熱酸発生剤を含有させることによりレーザー光照射時の酸の発生で樹脂残渣が水洗いで容易に除去できることを見出し、本発明の完成に至った。   The inventors of the present invention conducted intensive studies on a resin composition suitable for a printing plate precursor for laser engraving in order to achieve the above object, and as a result, when a thermal acid generator is contained in the photosensitive resin composition, laser irradiation is performed. It has been found that the resin residue can be easily removed by washing with water due to the generation of acid, and the present invention has been completed.

即ち、本発明は、以下の(1)〜(5)の構成を有するものである。
(1)感光性樹脂組成物層を紫外線照射によって硬化させた後にレーザー光照射により画像形成して印刷版を形成するために用いられるレーザー彫刻用凸版印刷原版であって、前記感光性樹脂組成物が、ポリエーテルウレアウレタン、ポリエーテルアミド、及びポリアミドからなる群から選択される少なくとも一種の塩基性第3級窒素原子含有高分子化合物、光重合性不飽和化合物、光重合開始剤、及び熱酸発生剤を含有し、前記塩基性第3級窒素原子含有高分子化合物中の塩基性第3級窒素原子の少なくとも一部が、4級化剤によって4級化されており、前記熱酸発生剤が、前記感光性樹脂組成物中に0.1〜20重量%含有されることを特徴とするレーザー彫刻用凸版印刷原版。
(2)前記熱酸発生剤が、オニウム塩であることを特徴とする(1)に記載のレーザー彫刻用凸版印刷原版。
(3)前記熱酸発生剤が、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、及びアンモニウム塩からなる群から選択される少なくとも一種のオニウム塩であることを特徴とする(1)に記載のレーザー彫刻用凸版印刷原版。
(4)赤外線レーザーで彫刻することに用いられることを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載のレーザー彫刻用凸版印刷原版。
(5)(1)〜(4)のいずれかに記載のレーザー彫刻用凸版印刷原版をレーザー彫刻して得られる印刷版の版面に付着した樹脂残渣を水によって除去することを含むことを特徴とする凸版印刷版の製造方法。
That is, the present invention has the following configurations (1) to (5).
(1) A lithographic printing plate precursor for laser engraving, which is used to form a printing plate by forming an image by irradiating a laser beam after curing the photosensitive resin composition layer by ultraviolet irradiation, which is the photosensitive resin composition At least one basic tertiary nitrogen atom-containing polymer compound selected from the group consisting of polyetherureaurethane, polyetheramide, and polyamide, a photopolymerizable unsaturated compound, a photopolymerization initiator, and a thermal acid A generator, wherein at least a part of the basic tertiary nitrogen atoms in the basic tertiary nitrogen atom-containing polymer compound is quaternized by a quaternizing agent, the thermal acid generator And 0.1 to 20% by weight in the photosensitive resin composition.
(2) The relief printing original plate for laser engraving as described in (1), wherein the thermal acid generator is an onium salt.
(3) The relief printing original plate for laser engraving as described in (1), wherein the thermal acid generator is at least one onium salt selected from the group consisting of iodonium salts, sulfonium salts, and ammonium salts. .
(4) The relief printing original plate for laser engraving according to any one of (1) to (3), which is used for engraving with an infrared laser.
(5) The method is characterized by including removing by water the resin residue attached to the printing plate surface obtained by laser engraving the relief printing original plate for laser engraving according to any one of (1) to (4). A method of producing a letterpress printing plate to be used.

本発明のレーザー彫刻用凸版印刷原版の感光性樹脂組成物は、熱酸発生剤を含有しているので、レーザー光照射で発生した酸により塩基性第3級窒素原子含有高分子化合物の水溶性が向上し、ブラシ洗浄等での水洗いにより網点表面を削ることなく樹脂残渣を容易に除去でき、長期印刷に耐えることができる。   Since the photosensitive resin composition of the letterpress printing original plate for laser engraving of the present invention contains a thermal acid generator, the water solubility of the basic tertiary nitrogen atom-containing polymer compound by the acid generated by the laser light irradiation The resin residue can be easily removed without scraping the halftone dot surface by water washing with brush washing or the like, and long-term printing can be tolerated.

本発明のレーザー彫刻用凸版印刷原版は、感光性樹脂組成物層を紫外線照射によって硬化させた後にレーザー光照射により画像形成して印刷版を形成するために用いられるものであり、感光性樹脂組成物が、高分子化合物、光重合性不飽和化合物、光重合開始剤に加えて、熱酸発生剤を含有することを特徴とする。   The relief printing original plate for laser engraving of the present invention is used to form a printing plate by forming an image by irradiating a laser beam after curing the photosensitive resin composition layer by irradiating ultraviolet light, and the photosensitive resin composition In addition to the polymer compound, the photopolymerizable unsaturated compound and the photopolymerization initiator, the product contains a thermal acid generator.

本発明の感光性樹脂組成物に含有される高分子化合物は、ポリエーテルウレアウレタン、ポリエーテルアミド、及びポリアミドからなる群から選択される少なくとも一種の塩基性第3級窒素原子含有高分子化合物である。高分子化合物は、エステル結合を含有しないことが好ましい。高分子化合物中にエステル結合が存在すると、印刷原版の製造時に存在する水やアルコールにより加水分解やエステル交換による分解や交換反応が起こり、耐摩耗性が著しく低下する傾向を有する。   The polymer compound contained in the photosensitive resin composition of the present invention is at least one basic tertiary nitrogen atom-containing polymer compound selected from the group consisting of polyether urea urethane, polyether amide, and polyamide. is there. The polymer compound preferably does not contain an ester bond. When an ester bond is present in the polymer compound, decomposition or exchange reaction occurs due to hydrolysis or transesterification by water or alcohol present at the time of production of the printing base plate, and the abrasion resistance tends to be significantly reduced.

ポリエーテルウレアウレタンは、ジアミンとポリエチレングリコールを含有する末端ジイソシアネート化合物とを溶剤中で付加重合させることで得られる。ジアミン成分は、レーザー彫刻性能と印刷性能の両者を満足するためには第3級窒素原子を含有しないジアミンと第3級窒素原子を含有するジアミンとを併用することが好ましい。第3級窒素原子を含有しないジアミンは、第3級窒素原子を含有するジアミンの20〜45重量%含有することが好ましい。   Polyether urea urethane is obtained by addition-polymerizing diamine and the terminal diisocyanate compound containing polyethyleneglycol in a solvent. As the diamine component, in order to satisfy both of the laser engraving performance and the printing performance, it is preferable to use a diamine which does not contain a tertiary nitrogen atom and a diamine which contains a tertiary nitrogen atom in combination. It is preferable that the diamine which does not contain a tertiary nitrogen atom contain 20 to 45 weight% of diamine which contains a tertiary nitrogen atom.

第3級窒素原子を含有しないジアミンとしては、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、2−メチルペンタメチレンジアミン、ウンデカメチレンジアミン、ドデカメチレンジアミン、2,2,4−或は2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジアミン、1,3−或は1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,3−或は1,4−アミノシクロヘキサンなどが挙げられるが、好ましくは2−メチルペンタメチレンジアミン、2,2,4−或は2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジアミン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンである。   Examples of diamines containing no tertiary nitrogen atom include trimethylenediamine, tetramethylenediamine, hexamethylenediamine, 2-methylpentamethylenediamine, undecamethylenediamine, dodecamethylenediamine, 2, 2.4 or 2, 4,4-trimethylhexamethylenediamine, 1,3- or 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,3- or 1,4-aminocyclohexane, etc., but preferably 2-methylpentacene. Methylenediamine, 2,2,4- or 2,4,4-trimethylhexamethylenediamine, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane.

一方、第3級窒素原子を含有するジアミンとしては、主鎖又は側鎖に塩基性第3級窒素原子を有するジアミンが挙げられる。具体的には、ピペラジン環を有するジアミン及びそれ以外のジアミンが挙げられる。具体的なピペラジン環を有するジアミンの例としては、N,N’−ビス(アミノメチル)ピペラジン、N,N’−ビス(2−アミノエチル)ピペラジン、N,N’−ビス(2−アミノエチル)メチルピペラジン、N−(アミノメチル)−N’−(2−アミノエチル)ピペラジン、N,N’−ビス(3−アミノペンチル)ピペラジン、N−(2−アミノエチル)ピペラジン、N−(アミノプロピル)ピペラジン、N−(ω−アミノヘキシル)ピペラジン、N−(3−アミノシクロヘキシル)ピペラジン、N−(2−アミノエチル)−3−メチルピペラジン、N−(2−アミノエチル)−2,5−ジメチルピペラジン、N−(2−アミノプロピル)−3−メチルピペラジン、N−(3−アミノプロピル)−2,5−ジメチルピペラジンなどのピペラジン環を有するジアミンが挙げられる。   On the other hand, examples of the diamine containing a tertiary nitrogen atom include diamines having a basic tertiary nitrogen atom in the main chain or side chain. Specific examples include diamines having a piperazine ring and diamines other than these. Specific examples of the diamine having a piperazine ring include N, N'-bis (aminomethyl) piperazine, N, N'-bis (2-aminoethyl) piperazine, N, N'-bis (2-aminoethyl) ) Methyl piperazine, N- (aminomethyl) -N '-(2-aminoethyl) piperazine, N, N'-bis (3-aminopentyl) piperazine, N- (2-aminoethyl) piperazine, N- (amino) Propyl) piperazine, N- (ω-aminohexyl) piperazine, N- (3-aminocyclohexyl) piperazine, N- (2-aminoethyl) -3-methylpiperazine, N- (2-aminoethyl) -2,5 Pipettes such as -dimethylpiperazine, N- (2-aminopropyl) -3-methylpiperazine, N- (3-aminopropyl) -2,5-dimethylpiperazine Diamines having a gin ring.

ピペラジン環を有するジアミン以外のジアミンとしては、N,N−ジ(2−アミノエチル)アミン、N,N−ジ(3−アミノプロピル)アミン、N,N−ジ(2−アミノエチル)メチルアミン、N,N−ジ(3−アミノプロピル)エチルアミン、N,N−ジ(3−アミノプロピル)イソプロピルアミン、N,N−ジ(3−アミノプロピル)シクロヘキシルアミン、N,N−ジ(4−アミノ−n−ブチル)アミン、N−メチル−N−(2−アミノエチル)−1,3−プロパンジアミン、N,N’−ジメチル−N,N’−ジ(3−アミノプロピル)エチレンジアミン、N,N’−ジメチル−N,N’−ジ(3−アミノプロピル)テトラメチレンジアミン、N,N’−ジイソブチル−N,N’−ジ−(3−アミノプロピル)ヘキサメチレンジアミン、N,N’−ジシクロヘキシル−N,N’−ジ−(3−アミノプロピル)ヘキサメチレンジアミン、N,N’−ジシクロヘキシル−N,N’−ビス(2−カルボキシプロピル)ヘキサメチレンジアミン、N,N’−ジ−(3−アミノプロピル)−2,2,4−トリメチル−ヘキサメチレンジアミン、1,2−ビス(3−アミノプロポキシ)−2−メチル−2−(N,N−ジメチルアミノメチル)プロパン、1,2−ビス(3−アミノプロポキシ)−2−メチル−2−(N,N−ジエチルアミノメチル)プロパン、1,2−ビス(3−アミノプロポキシ)−2−エチル−2−(N,N−ジメチルアミノメチル)プロパン、1,3−ビス(3−アミノプロポキシ)−2−(N,N−ジメチルアミノメチル)プロパンなどが挙げられる。   As a diamine other than a diamine having a piperazine ring, N, N-di (2-aminoethyl) amine, N, N-di (3-aminopropyl) amine, N, N-di (2-aminoethyl) methylamine N, N-di (3-aminopropyl) ethylamine, N, N-di (3-aminopropyl) isopropylamine, N, N-di (3-aminopropyl) cyclohexylamine, N, N-di (4- Amino-n-butyl) amine, N-methyl-N- (2-aminoethyl) -1,3-propanediamine, N, N'-dimethyl-N, N'-di (3-aminopropyl) ethylenediamine, N N'-Dimethyl-N, N'-di (3-aminopropyl) tetramethylenediamine, N, N'-diisobutyl-N, N'-di- (3-aminopropyl) hexamethylenediamine N, N'-dicyclohexyl-N, N'-di- (3-aminopropyl) hexamethylenediamine, N, N'-dicyclohexyl-N, N'-bis (2-carboxypropyl) hexamethylenediamine, N, N '-Di- (3-aminopropyl) -2,2,4-trimethyl-hexamethylenediamine, 1,2-bis (3-aminopropoxy) -2-methyl-2- (N, N-dimethylaminomethyl) Propane, 1,2-bis (3-aminopropoxy) -2-methyl-2- (N, N-diethylaminomethyl) propane, 1,2-bis (3-aminopropoxy) -2-ethyl-2- (N) , N-dimethylaminomethyl) propane, 1,3-bis (3-aminopropoxy) -2- (N, N-dimethylaminomethyl) propane and the like.

上記ジアミンの中でも、N,N’−ビス(アミノエチル)−ピペラジン、N,N’−ビス(3−アミノプロピル)ピペラジン、N−(2−アミノエチル)ピペラジンのピペラジン環を有するジアミンが重合性及び物性面より優れるために好ましい。   Among the above diamines, N, N'-bis (aminoethyl) -piperazine, N, N'-bis (3-aminopropyl) piperazine, and diamines having a piperazine ring of N- (2-aminoethyl) piperazine are polymerizable. And is preferable because it is superior to the physical properties.

ポリエーテルウレアウレタンに用いるもう一方の原料である上記ジイソシアネート化合物は、公知の脂肪族、脂環族、芳香族のジイソシアネートと等モル以下のポリオキシエチレングリコールとを反応させて得られる、実質的に両末端にイソシアネート基を有するジイソシアネート化合物である。該ジイソシアネート化合物は従来公知の方法を利用して製造できる。即ち、両者を無溶剤の状態で混合・撹拌下に反応させる方法、両者を不活性溶剤に溶解させて反応させる方法などが挙げられる。反応温度、反応時間などは、両者の反応性や熱安定性などを考慮して最適条件を決めるべきである。また、ジイソシアネートの使用比率は、ポリオキシエチレングリコール1.0モルに対して2.0モル以上、特に2.05モル以上が望ましい。   The above-mentioned diisocyanate compound, which is another raw material used for polyether urea urethane, is obtained by reacting known aliphatic, alicyclic or aromatic diisocyanate with an equimolar or less amount of polyoxyethylene glycol, substantially It is a diisocyanate compound having an isocyanate group at both ends. The diisocyanate compound can be produced using a conventionally known method. That is, there is a method in which both are reacted in a solventless state with mixing and stirring, a method in which both are dissolved in an inert solvent and reacted, and the like. The reaction temperature, reaction time and the like should be determined in consideration of the reactivity and thermal stability of the two. In addition, the use ratio of diisocyanate is desirably 2.0 mol or more, particularly 2.05 mol or more with respect to 1.0 mol of polyoxyethylene glycol.

ジイソシアネート化合物を得るために使用するジイソシアネートとしては、公知の脂肪族、脂環族、芳香族のジイソシアネートが使用可能である。例えば、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、1,3−シクロヘキサンジメチルイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、2,6−ジイソシアネートメチルカプロエート、ジフェニルエーテル−4,4’−ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどが挙げられるが、保存安定性や反応性の面から脂肪族ジイソシアネートが好ましく、特にヘキサメチレンジイソシアネートが好ましい。   As the diisocyanate used to obtain the diisocyanate compound, known aliphatic, alicyclic and aromatic diisocyanates can be used. For example, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, 1,3-cyclohexanedimethylisocyanate, p -Xylylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 2,6-diisocyanatomethyl caproate, diphenyl ether-4,4'-diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate etc., but storage stability and reactivity In terms of aspect, aliphatic diisocyanates are preferred, and hexamethylene diisocyanate is particularly preferred.

また、ジアミンとジイソシアネート化合物との反応比率のアミノ基/イソシアネート基(当量比)は1.0以上、望ましくは1.02以上である。この場合、過剰の末端アミノ基が未反応のまま残存しても、それを用いた組成物の性能、物性などに悪影響を及ぼさない限り特にさしつかえない。またアミノ基/イソシアネート基(当量比)が1.0未満の場合はゲル化などの不都合な反応が起こりやすいので好ましくない。アミンとイソシアネートとの反応性は極めて大きいため、両者の反応は水、メタノールなどのアルコール類、あるいは水とアルコール類との混合物などの活性溶剤中でも可能である。   Further, the amino group / isocyanate group (equivalent ratio) of the reaction ratio of the diamine and the diisocyanate compound is 1.0 or more, preferably 1.02 or more. In this case, even if the excess terminal amino group remains unreacted, it is not particularly limited as long as the performance, physical properties and the like of the composition using it are not adversely affected. When the ratio of amino groups / isocyanate groups (equivalent ratio) is less than 1.0, undesirable reactions such as gelation easily occur, which is not preferable. Since the reactivity between an amine and an isocyanate is extremely large, the reaction between the two is also possible in an active solvent such as water, an alcohol such as methanol, or a mixture of water and an alcohol.

ポリエーテルアミドは、主鎖にポリエーテル結合及びアミド結合を有するポリアミドであり、ポリエーテル成分としてポリエチレングリコールを用いるものである。ポリエーテルアミドは、例えば特開昭55−74537号に記載された方法で重合することによって合成することができる。具体的には、末端にアミノ基を有するポリエチレングリコールと脂肪族ジカルボン酸とから成る構成単位とそれ以外の脂肪族ポリアミドを構成単位として公知の重合方法で合成することができる。又、第3級窒素原子の導入は、ハードセグメントとして用いるポリアミド成分として第3級窒素原子を有するジアミン又はジカルボン酸を用いた構成単位を共重合することによって達成することができる。   The polyether amide is a polyamide having a polyether bond and an amide bond in the main chain, and uses polyethylene glycol as a polyether component. Polyether amides can be synthesized, for example, by polymerization according to the method described in JP-A-55-74537. Specifically, a structural unit consisting of polyethylene glycol having an amino group at an end and an aliphatic dicarboxylic acid and an aliphatic polyamide other than the structural unit can be synthesized by a known polymerization method. The introduction of the tertiary nitrogen atom can be achieved by copolymerizing a structural unit using a diamine or dicarboxylic acid having a tertiary nitrogen atom as a polyamide component used as a hard segment.

ポリアミドは、ジアミンとジカルボン酸、あるいはω−アミノ酸、ラクタムまたはこれらの誘導体等から公知の方法に従って合成されるホモポリマー、コポリマーおよびこれらの2種類以上の混合物である。ポリアミドとしては、例えば、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン610、ナイロン6/66/610、ナイロン6/66/612等の各種ナイロンのほか、メタキシレンジアミンとアジピン酸から得られるポリアミド、ジアミノジシクロヘキシルメタン共重合ポリアミド、N,N‘−ビス(3−アミノプロピル)ピペラジンとアジピン酸との構成単位などを含む塩基性窒素含有共重合ポリアミド、両末端アミノ基含有ポリエチレングリコール共重合ポリアミドや両末端カルボキシル基含有ポリエチレングリコール共重合ポリアミドなどのポリエーテル含有ポリアミド、並びに各種ポリアミドのN−メチロール化物、N−アルコキシメチル化物などが挙げられるが、その中でも塩基性窒素含有共重合ポリアミドやポリエーテル含有ポリアミドが好ましい。   Polyamides are homopolymers, copolymers and mixtures of two or more of these, which are synthesized according to known methods from diamines and dicarboxylic acids, or ω-amino acids, lactams or derivatives thereof. Examples of the polyamide include various nylons such as nylon 6, nylon 66, nylon 610, nylon 6/66/610, nylon 6/66/612, polyamide obtained from metaxylene diamine and adipic acid, and diaminodicyclohexylmethane Polymerized polyamides, basic nitrogen-containing copolymerized polyamides including structural units of N, N'-bis (3-aminopropyl) piperazine and adipic acid, polyethylene glycol copolymerized polyamides containing amino groups at both ends, carboxyl groups containing carboxyl groups at both ends Polyether-containing polyamides such as polyethylene glycol copolymerized polyamides, N-methylolated products of various polyamides, N-alkoxymethylated products, etc. may be mentioned, among which basic nitrogen-containing copolymerized polyamides and polyether-containing polyamides It is preferred.

ポリアミドに塩基性窒素を導入する方法としては、主鎖又は側鎖に塩基性第3級窒素原子を有するジアミンを用いることが好ましい。具体的なジアミンとしては、N,N’−ビス(アミノメチル)ピペラジン、N,N’−ビス(2−アミノエチル)ピペラジン、N,N’−ビス(3−アミノプロピル)ピペラジンなどのピペラジン環を有するジアミンが挙げられ、N,N’−ビス(3−アミノプロピル)ピペラジンが特に好ましい。   As a method of introducing basic nitrogen into polyamide, it is preferable to use diamine having a basic tertiary nitrogen atom in the main chain or side chain. Specific diamines include piperazine rings such as N, N'-bis (aminomethyl) piperazine, N, N'-bis (2-aminoethyl) piperazine, N, N'-bis (3-aminopropyl) piperazine and the like And diamines having N, N'-bis (3-aminopropyl) piperazine is particularly preferred.

ポリエーテルとしては、数平均分子量200〜4,000のポリオキシアルキレングリコールが挙げられる。具体的なポリオキシアルキレングリコールとしては、数平均分子量200〜4,000のポリオキシエチレングリコール、数平均分子量200〜4,000のポリオキシプロピレングリコール、数平均分子量200〜4,000のポリテトラメチレングリコールなどが挙げられる。ポリエーテルとしては、反発弾性と柔軟性との両立の面より分子量400〜1,500のポリエチレングリコールが好ましい。   The polyether includes polyoxyalkylene glycols having a number average molecular weight of 200 to 4,000. Specific polyoxyalkylene glycols include polyoxyethylene glycol having a number average molecular weight of 200 to 4,000, polyoxypropylene glycol having a number average molecular weight of 200 to 4,000, and polytetramethylene having a number average molecular weight of 200 to 4,000. Glycol etc. are mentioned. As the polyether, polyethylene glycol having a molecular weight of 400 to 1,500 is preferable from the viewpoint of achieving both of the resilience and flexibility.

本発明の感光性樹脂組成物に使用される熱酸発生剤は、レーザー光照射で酸を発生して高分子化合物の水溶性を向上させる役割を有するものであり、例えば、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アンモニウム塩、ジアゾニウム塩などのオニウム塩が好ましく用いられる。特に、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、及びアンモニウム塩から選択される少なくとも一種のオニウム塩が好ましい。   The thermal acid generator used in the photosensitive resin composition of the present invention has a role of generating an acid by laser irradiation to improve the water solubility of the polymer compound, and, for example, iodonium salts and sulfonium salts. Onium salts such as ammonium salts and diazonium salts are preferably used. In particular, at least one onium salt selected from iodonium salts, sulfonium salts and ammonium salts is preferred.

ヨードニウム塩としては、ジフェニルヨードニウムアントラキノンスルホン酸塩、[4−(オクチルオキシ)フェニル]フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス(4−ter−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスファート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェートなどが挙げられる。   As iodonium salts, diphenyliodonium anthraquinone sulfonate, [4- (octyloxy) phenyl] phenyliodonium hexafluoroantimonate, bis (4-ter-butylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, diphenyliodonium hexafluorophosphate, etc. It can be mentioned.

スルホニウム塩としては、4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、フェニルメチル−オルソ−シアノベンジルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネートなどが挙げられる。   As the sulfonium salt, 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, phenylmethyl-ortho-cyanobenzylsulfonium trifluoromethanesulfonate and the like can be mentioned.

アンモニウム塩としては、トリフル酸ジエチルアンモニウム、トリフル酸トリエチルアンモニウム、トリフル酸ジイソプロピルアンモニウム、トリフル酸エチルジイソプロピルアンモニウムなどが挙げられる。   Examples of the ammonium salt include diethylammonium triflate, triethylammonium triflate, diisopropylammonium triflate, ethyldiisopropylammonium triflate and the like.

高分子化合物の第3級窒素原子や4級化剤の含有量を増加すると樹脂残渣の除去性はある程度向上するが、樹脂残渣の除去中に画像がダメージを受けやすくなるため好ましくない。上述の熱酸発生剤を用いることにより、感光性樹脂の強度を保持しつつ、高分子化合物のレーザー光照射部分のみ水溶性を上げて容易に樹脂残渣を除去することができる。   When the content of the tertiary nitrogen atom and the quaternizing agent of the polymer compound is increased, the removability of the resin residue is improved to some extent, but it is not preferable because the image is easily damaged during the removal of the resin residue. By using the above-described thermal acid generator, while maintaining the strength of the photosensitive resin, it is possible to easily remove the resin residue by increasing the water solubility of only the laser beam irradiated portion of the polymer compound.

熱酸発生剤の含有量は、感光性樹脂組成物に対して0.1〜20重量%が好ましく、0.2〜18重量%がより好ましく、0.3〜15重量%が最も好ましい。熱酸発生剤の含有量が上記範囲未満では水溶解性が得られず、上記範囲を超えると他の成分の不足により印刷版として使用する場合に良好な耐刷性が得られない。   The content of the thermal acid generator is preferably 0.1 to 20% by weight, more preferably 0.2 to 18% by weight, and most preferably 0.3 to 15% by weight with respect to the photosensitive resin composition. If the content of the thermal acid generator is less than the above range, water solubility can not be obtained, and if it exceeds the above range, good printing durability can not be obtained when used as a printing plate due to the shortage of other components.

本発明の感光性樹脂組成物では、高分子化合物中の塩基性第3級窒素原子の少なくとも一部は、4級化剤によって4級化されている。4級化剤は、プロトン性4級化剤であっても非プロトン性4級化剤であっても良い。具体的な例としては、マレイン酸、イタコン酸、アクリル酸、メタクリル酸、桂皮酸、グリコール酸、乳酸、コハク酸、アジピン酸、安息香酸、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレートなどが挙げられるが、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレートが特に好ましい。4級化剤は、高分子化合物1000g中に最大0.70モル含有することができ、特に最大0.60モル含有することができる。   In the photosensitive resin composition of the present invention, at least a part of the basic tertiary nitrogen atoms in the polymer compound is quaternized by a quaternizing agent. The quaternizing agent may be a protic quaternizing agent or an aprotic quaternizing agent. Specific examples include maleic acid, itaconic acid, acrylic acid, methacrylic acid, cinnamic acid, glycolic acid, lactic acid, succinic acid, adipic acid, benzoic acid, glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, etc. Glycidyl acrylate is particularly preferred. The quaternizing agent can be contained at a maximum of 0.70 mol, particularly at a maximum of 0.60 mol, per 1000 g of the polymer compound.

例えば、光重合性基含有非プロトン性4級化剤によって4級化した塩基性第3級窒素原子を高分子化合物中に所望量含有させる方法としては、ハードセグメント中の塩基性第3級窒素原子含有原料の配合比率によって塩基性第3級窒素原子量を決め、さらに導入した塩基性第3級窒素原子量に対する光重合性基4級化剤の4級化率を増減させることで設定することが可能である。4級化率とは、高分子化合物中に含有する塩基性第3級窒素原子のモル数に対して、4級化した塩基性第3級窒素原子モル数の割合であり、モル%で表される。4級化剤による4級化率は、0〜50%が好ましく、さらに好ましくは20〜50%である。4級化剤を使用せず熱酸発生剤のみで4級化することも可能であるが、4級化剤も併用することにより、樹脂残渣除去安定性が向上し、また、4級化剤による4級化率を50%以下にすることで、水洗時の画像部分のダメージを抑制することが可能になる。   For example, as a method of incorporating a desired amount of a basic tertiary nitrogen atom quaternized by a photopolymerizable group-containing aprotic quaternizing agent into a polymer compound, a basic tertiary nitrogen in a hard segment may be used. The basic tertiary nitrogen atomic weight is determined by the compounding ratio of the atom-containing raw material, and the setting is made by increasing or decreasing the quaternization ratio of the photopolymerizable group quaternizing agent with respect to the basic tertiary nitrogen atomic weight introduced. It is possible. The quaternization ratio is the ratio of the number of moles of basic tertiary nitrogen atom quaternized with respect to the number of moles of basic tertiary nitrogen atoms contained in the polymer compound, and it is shown in mol% Be done. The degree of quaternization by the quaternizing agent is preferably 0 to 50%, and more preferably 20 to 50%. It is also possible to quaternize only with the thermal acid generator without using a quaternizing agent, but the resin residue removal stability is improved by using a quaternizing agent in combination, and the quaternizing agent is also used. By setting the quaternization ratio to 50% or less, it is possible to suppress damage to the image portion at the time of water washing.

本発明の感光性樹脂組成物に使用される光重合性不飽和化合物としては、公知の光重合性不飽和化合物を用いることができる。好適に用いられる光重合性不飽和化合物としては、公知の二価又は三価アルコールのグリシジルエーテルとメタアクリル酸およびアクリル酸との開環付加反応生成物であり、前記二価又は三価アルコールとして、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、フタル酸のエチレンオキサイド付加物、グリセリン、ビスフェノールA、トリメルロールプロパンやビスフェノールFのジグリシジルエーテルアクリル酸付加物などが挙げられるが、またこれらの化合物を2種類以上混合して使用することもできる。なお、本発明においては、グリセリンジメタクリレート、ジエチレングリーコールジエポキシメタクリレート、トリメルロールプロパントリエポキシアクリレート、トリメルロールプロパントリエポキシメタクリレートが特に好ましい。これらの光重合性不飽和化合物は、感光性樹脂組成物中に20〜50重量%含有させるのが好ましい。   As a photopolymerizable unsaturated compound used for the photosensitive resin composition of this invention, a well-known photopolymerizable unsaturated compound can be used. The photopolymerizable unsaturated compound suitably used is a ring-opening addition reaction product of a known glycidyl ether of dihydric or trihydric alcohol with methacrylic acid and acrylic acid, and as the dihydric or trihydric alcohol And ethylene glycol adducts of ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, phthalic acid, glycerin, bisphenol A, trimerol propane, diglycidyl ether acrylic acid adduct of bisphenol F, etc. It is also possible to use a mixture of two or more kinds. In the present invention, glycerin dimethacrylate, diethylene glycol diepoxy methacrylate, trimellol propane triepoxy acrylate, and trimellol propane triepoxy methacrylate are particularly preferable. The content of these photopolymerizable unsaturated compounds in the photosensitive resin composition is preferably 20 to 50% by weight.

本発明の感光性樹脂組成物に使用される光重合開始剤としては、公知のものが使用可能であり、具体的には、例えば、ベンゾフェノン類、ベンゾイン類、アセトフェノン類、ベンジル類、ベンゾインアルキルエーテル類、ベンジルアルキルケタール類、アンスラキノン類、チオキサントン類などが使用できる。好適な具体例としては、ベンゾフェノン、ベンゾイン、アセトフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、アンスラキノン、2−クロロアンスラキノン、チオキサントン、2−クロロチオキサントンなどが挙げられる。これらの光重合開始剤は、感光性樹脂組成物中に0.05〜5重量%含有させるのが好ましい。0.05重量%より少ないと光重合開始能力に支障をきたし、5重量%より多いと印刷用レリーフを作成する場合の生版の厚み方向の光硬化性が低下し、レーザー彫刻性能が低下するおそれがある。   A well-known thing can be used as a photoinitiator used for the photosensitive resin composition of this invention, Specifically, For example, benzophenones, benzoins, acetophenones, benzyls, benzoin alkyl ether , Benzyl alkyl ketals, anthraquinones, thioxanthones and the like can be used. Preferable specific examples include benzophenone, benzoin, acetophenone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzyl dimethyl ketal, anthraquinone, 2-chloroanthraquinone, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone and the like. It is preferable to contain 0.05-5 weight% of these photoinitiators in the photosensitive resin composition. When it is less than 0.05% by weight, the photopolymerization initiation ability is impaired, and when it is more than 5% by weight, the photohardenable in the thickness direction of the printing plate in the case of creating a relief for printing is lowered and the laser engraving performance is lowered. There is a fear.

また必要により公知の熱重合禁止剤を添加してもよい。熱重合禁止剤は、感光性樹脂凸版組成物の調合、製造、成形加工時などの加熱による予定外の熱重合、あるいは該組成物の保存中の暗反応を防止するために添加する。このような化合物の例としては、ハイドロキノン、モノ−tert−ブチルハイドロキノン、2,5−ジ−tert−ブチルハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテルなどのハイドロキノン類、ベンゾキノン、2,5 −ジフェニル−p−ベンゾキノンなどのベンゾキノン類、フェノール類、カテコール、p−tert−ブチルカテコールなどのカテコール類、芳香族アミン化合物類、ビクリン酸類、フェノチアジン、α−ナフトキノン類、アンスラキノン類、ニトロ化合物類、イオウ化合物類などが挙げられる。熱重合禁止剤の使用量は、感光性樹脂組成物中、好ましくは0.001〜2重量%、より好ましくは0.005 〜1重量%である。これらの化合物は2種以上併用してもよい。   If necessary, known thermal polymerization inhibitors may be added. The thermal polymerization inhibitor is added in order to prevent an unexpected thermal polymerization due to heating such as preparation of a photosensitive resin letterpress composition, production or molding process, or dark reaction during storage of the composition. Examples of such compounds include hydroquinones such as hydroquinone, mono-tert-butylhydroquinone, 2,5-di-tert-butylhydroquinone, hydroquinone monomethyl ether and the like, benzoquinone, 2,5-diphenyl-p-benzoquinone and the like. Benzoquinones, phenols, catechols, catechols such as p-tert-butyl catechol, aromatic amine compounds, bicullic acids, phenothiazine, α-naphthoquinones, anthraquinones, nitro compounds, sulfur compounds, etc. . The amount of the thermal polymerization inhibitor used is preferably 0.001 to 2% by weight, more preferably 0.005 to 1% by weight in the photosensitive resin composition. These compounds may be used in combination of two or more.

本発明の感光性樹脂組成物は、印刷用レリーフ版を得る場合の溶融成形法の他、例えば、熱プレス、注型、或いは、溶融押出し、溶液キャストなど公知の任意の方法により目的の製品に応じた所望の形状物に成形できる。   The photosensitive resin composition of the present invention can be formed into a desired product by any known method such as heat pressing, casting, melt extrusion, solution casting, etc. other than melt molding in the case of obtaining a relief plate for printing. It can be molded into a desired desired shape.

本発明の紫外線照射とは、感光性樹脂組成物を成形・固形化した後に、紫外線露光機により露光し、架橋硬化させるものである。具体的には、感光性樹脂組成物をシート状に成形・固化した後に、このシート状成形物を表面から8mW/cmの紫外線露光機(光源:フィリップス社製10R)により表裏5〜15分露光し、架橋硬化させることが好ましい。 The ultraviolet irradiation of the present invention is to form and solidify the photosensitive resin composition, and then to expose and crosslink and cure it with an ultraviolet exposure device. Specifically, after the photosensitive resin composition is molded and solidified into a sheet, this sheet-like molded product is exposed from the surface by an ultraviolet light exposure apparatus (light source: Philips 10R) of 8 mW / cm 2 for 5 to 15 minutes. It is preferable to expose and crosslink cure.

レーザー彫刻用凸版印刷原版を得る場合は、本発明の感光性樹脂組成物をシート状に成形した成形物(生版)を公知の接着剤を介して、或いは、介さずに支持体に積層して使用することができる。支持体としては、スチール、アルミニウム、ガラス、ポリエチレンテレフタレートなどのプラスチックフィルム、金属蒸着したフィルムなど任意のものが使用できる。シート状成形物(生版)を支持体上に接着層を積層した積層体にして供給する場合には、シート状成形物(生版)に接して保護層がさらに積層される。保護層としては、プラスチックフイルム、例えば、125μm厚みのポリエチレンテレフタレートフイルムに粘着性のない透明で現像液に分散又は溶解する高分子を1〜3μmの厚みで塗布したものが用いられる。この薄い高分子の皮膜を有する保護層をシート状成形物(生版)に接することによって、シート状成形物(生版)の表面粘着性が強い場合であっても次の露光操作時に行う保護層の剥離を容易に行うことができる。形成される成形物の厚さは、製造する印刷原版のサイズ、性質などにより適宜決定すればよく、特に限定されないが、通常は0.1〜10mm程度である。   In the case of obtaining a letterpress printing original plate for laser engraving, a molded product (green plate) obtained by forming the photosensitive resin composition of the present invention into a sheet is laminated to a support via a known adhesive or not. Can be used. As the support, any one can be used such as steel, aluminum, glass, a plastic film such as polyethylene terephthalate, and a metal-deposited film. When the sheet-like molding (green plate) is supplied as a laminate in which the adhesive layer is laminated on a support, a protective layer is further stacked in contact with the sheet-like molding (white plate). As the protective layer, a plastic film, for example, a 125 μm thick polyethylene terephthalate film coated with a transparent non-tacky polymer dispersed or dissolved in a developer in a thickness of 1 to 3 μm is used. Even when the surface tackiness of the sheet-like molded article (genuine plate) is strong by bringing the protective layer having a thin polymer film into contact with the sheet-like molded article (genuine plate), protection performed in the next exposure operation It is easy to peel off the layer. The thickness of the formed article may be appropriately determined depending on the size, properties and the like of the printing original plate to be produced, and is not particularly limited, but is usually about 0.1 to 10 mm.

かくして得られた印刷原版は、レーザー彫刻装置の版装着ドラムの表面に取り付けられ、像に従ったレーザー光照射(特に赤外線レーザーによる光照射)により照射部分の原版が分解されて凹部分を形成し、印刷版が製造される。このとき、印刷原版の照射部分に生じる高分子化合物の樹脂残渣は、熱酸発生剤の酸により水溶性が向上しているので、水洗い時に容易に除去可能である。   The printing original plate thus obtained is attached to the surface of the plate mounting drum of the laser engraving apparatus, and the original plate of the irradiated portion is decomposed by the imagewise laser light irradiation (in particular, light irradiation by infrared laser) to form recessed portions. , Printing plate is manufactured. At this time, the resin residue of the polymer compound generated in the irradiated portion of the printing base plate can be easily removed at the time of water washing since the water solubility is improved by the acid of the thermal acid generator.

次に本発明を実施例を用いて具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described using examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1
N,N’−ビス(3−アミノプロピル)ピペラジン72質量部と2−メチルペンタメチレンジアミン18質量部をメタノール550質量部に溶解した後、該ジアミン溶液にポリエチレングリコール(平均分子量600)600質量部とヘキサメチレンジイソシアネート369質量部を反応させて得られた実質的に両末端にイソシアネート基を有するウレタンオリゴマー410質量部を、撹拌下徐々に添加した。両者の反応はポリマー固形分濃度50%の条件下に約15分で完了した。この溶液をテフロン(登録商標)コートしたシャーレに取り、メタノールを蒸発除去後、減圧乾燥して、ポリエーテルセグメントを47重量%含有し、比粘度が1.71、且つ高分子化合物1000g中に0.72モルの第3級窒素原子を有するポリエーテルウレアウレタン(高分子化合物A)を得た。
Example 1
After dissolving 72 parts by mass of N, N'-bis (3-aminopropyl) piperazine and 18 parts by mass of 2-methylpentamethylenediamine in 550 parts by mass of methanol, 600 parts by mass of polyethylene glycol (average molecular weight 600) in the diamine solution Then, 410 parts by mass of a urethane oligomer having isocyanate groups at substantially both ends obtained by reacting 369 parts by mass of hexamethylene diisocyanate with each other was gradually added with stirring. Both reactions were completed in about 15 minutes under 50% polymer solids concentration conditions. This solution is placed in a Teflon (registered trademark) -coated petri dish, methanol is evaporated off, and the solution is dried under reduced pressure to contain 47% by weight of polyether segment, specific viscosity 1.71, and 0 in 1000 g of a polymer A polyetherureaurethane (polymer compound A) having 72 moles of tertiary nitrogen atoms was obtained.

次に得られた高分子化合物A50.0部とグリシジルメタクリレート2.6質量部をメタノール200.0部および水10部に攪拌付き加熱反応釜中65℃で4時間溶解・反応を行い、ハードセグメント中の塩基性第3級窒素原子と光重合性基4級化剤であるグリシジルメタクリレートとの4級化反応を行った。その後にトリメチロールプロパントリエポキシアクリレート39.4部、可塑剤としてN−エチルトルエンスルホン酸アミド7質量部、ハイドロキノンモノエチルエーテル0.1質量部、ベンジルジメチルケタール1.0質量部、熱酸発生剤として4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラート0.5質量部を加え、感光性樹脂組成物溶液を得た。この溶液をテフロン(登録商標)コートしたシャーレに流延し、暗室にてメタノールを除去後、更に一昼夜40℃で減圧乾燥し、厚み800μmの感光性樹脂組成物のシートを得た。   Next, 50.0 parts of the obtained polymer compound A and 2.6 parts by mass of glycidyl methacrylate are dissolved and reacted in 200.0 parts of methanol and 10 parts of water in a heating reaction vessel with stirring at 65 ° C. for 4 hours A quaternization reaction was carried out between the basic tertiary nitrogen atom contained therein and glycidyl methacrylate which is a photopolymerizable group quaternizing agent. Thereafter, 39.4 parts of trimethylolpropane triepoxy acrylate, 7 parts by mass of N-ethyltoluenesulfonic acid amide as a plasticizer, 0.1 parts by mass of hydroquinone monoethyl ether, 1.0 parts by mass of benzyl dimethyl ketal, a thermal acid generator As a mixture, 0.5 parts by mass of 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate was added to obtain a photosensitive resin composition solution. The solution was cast on a Teflon (registered trademark) -coated petri dish, methanol was removed in a dark room, and then dried under reduced pressure overnight at 40 ° C. to obtain a sheet of a photosensitive resin composition having a thickness of 800 μm.

次に、得られた感光性樹脂組成物シートを、厚さ250μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上にポリエステル系接着層をコーティングしたフィルム(支持体)と、厚さ125μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(保護フィルム)で挟み、ヒートプレス機で100℃、100kg/cmの圧力で加圧することにより、厚さ1.05mmのシート状成形物を得た。 Next, the obtained photosensitive resin composition sheet is sandwiched between a film (support) in which a polyester-based adhesive layer is coated on a 250 μm-thick polyethylene terephthalate film, and a 125 μm-thick polyethylene terephthalate film (protective film). By pressing with a heat press at 100 ° C. and a pressure of 100 kg / cm 2 , a sheet-like molding having a thickness of 1.05 mm was obtained.

次に、このシート状成形物を表面より高さ5cmの距離から8mW/cmの紫外線露光機(光源:フィリップス社製10R)により表裏10分露光し、架橋硬化させた後、厚さ125μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを剥がし、レーザー彫刻用印刷原版を作製した。 Next, the sheet-like molded article from a distance of a height 5cm from the surface of 8 mW / cm 2 UV exposure machine: exposing the front and back 10 minutes by (light source Philips 10R), after crosslinking and curing, the thickness of 125μm The polyethylene terephthalate film was peeled off to prepare a printing plate for laser engraving.

実施例2〜6
実施例1に記載の熱酸発生剤の添加量及び種類を表1に記載のように変更した以外は、実施例1と同様にして実施例2〜6のレーザー彫刻用印刷原版を作製した。
Examples 2 to 6
Printing original plates for laser engraving of Examples 2 to 6 were produced in the same manner as in Example 1 except that the addition amount and type of the thermal acid generator described in Example 1 were changed as shown in Table 1.

実施例7
N,N’−ビス(3−アミノプロピル)ピペラジンとアジピン酸との当モル塩139.5質量部(縮合後125質量部)、平均分子量600のポリオキシエチレングリコールの両末端にアクリロニトリルを付加し、これを水素還元して得たα、ω−ジアミノポリオキシエチレンとアジピン酸との当モル塩313.5質量部(縮合後300質量部)、およびε−カプロラクタム75質量部(縮合後75質量部)を通常の条件で溶融重合して主鎖にポリエーテルを含有し、且つ高分子化合物1000g中に0.72モルの第3級窒素原子を有するポリエーテルアミド(高分子化合物B)を得た。
Example 7
Add acrylonitrile at both ends of polyoxyethylene glycol of average molecular weight 600, 139.5 parts by mass (125 parts by mass after condensation) of equimolar salt of N, N'-bis (3-aminopropyl) piperazine and adipic acid , 313.5 parts by mass (300 parts by mass after condensation) of an equimolar salt of α, ω-diaminopolyoxyethylene and adipic acid obtained by hydrogen reduction of this, and 75 parts by mass of ε-caprolactam (75 parts after condensation) Part) is melt-polymerized under ordinary conditions to obtain a polyetheramide (polymer compound B) containing a polyether in the main chain and having 0.72 mol of tertiary nitrogen atoms in 1000 g of the polymer compound The

得られた高分子化合物Bを表2に記載の組成に基づいて実施例1と同様にして感光性樹脂組成物を調整し、得られた感光性樹脂組成物よりシート状成形物及びレーザー彫刻用原版を得た。   A photosensitive resin composition is prepared in the same manner as in Example 1 based on the composition described in Table 2 for the obtained polymer compound B, and a sheet-like molded article and a laser engraving are obtained from the obtained photosensitive resin composition. I got the original version.

実施例8〜12
実施例7に記載の熱酸発生剤の添加量及び種類を表2に記載のように変更した以外は、実施例1と同様にして実施例8〜12のレーザー彫刻用印刷原版を作製した。
Examples 8 to 12
A printing original plate for laser engraving of Examples 8 to 12 was produced in the same manner as in Example 1 except that the amount and type of the thermal acid generator described in Example 7 were changed as shown in Table 2.

実施例13
ε−カプロラクタム52.5重量部、N,N‘−ビス(3−アミノプロピル)ピペラジンとアジピン酸のナイロン塩40.0重量部と1,3−ビスアミノメチルシクロヘキサンとアジピン酸のナイロン塩7.5重量部とを溶融重縮合して、高分子化合物1000g中に1.19モルの第3級窒素原子を有する共重合ポリアミド(高分子化合物C)を得た。
Example 13
6. 52.5 parts by weight of ε-caprolactam, 40.0 parts by weight of a nylon salt of N, N'-bis (3-aminopropyl) piperazine and adipic acid, and a nylon salt of 1,3-bisaminomethylcyclohexane and adipic acid By melt polycondensation with 5 parts by weight, a copolymerized polyamide (polymer compound C) having 1.19 moles of tertiary nitrogen atoms in 1000 g of the polymer compound was obtained.

得られた高分子化合物Cを表4に記載の組成に基づいて実施例1と同様にして感光性樹脂組成物を調整し、得られた感光性樹脂組成物よりシート状成形物及びレーザー彫刻用原版を得た。   A photosensitive resin composition is prepared in the same manner as in Example 1 based on the composition described in Table 4 for the obtained polymer compound C, and a sheet-like molded article and a laser engraving are obtained from the obtained photosensitive resin composition. I got the original version.

実施例14〜18
実施例13の熱酸発生剤の添加量及び種類を表3に記載のように変更した以外は、実施例1と同様にして実施例14〜18のレーザー彫刻用印刷原版を作製した。
Examples 14 to 18
A printing original plate for laser engraving of Examples 14 to 18 was produced in the same manner as in Example 1 except that the addition amount and type of the thermal acid generator in Example 13 were changed as described in Table 3.

比較例1及び比較例2
比較例1は、熱酸発生剤を全く含有しないこと以外は実施例1と同じ感光性樹脂組成物であり、比較例2は、熱酸発生剤の感光性樹脂組成物の含有量が30.0質量%であること以外は実施例1と同じ感光性樹脂組成物であり、それぞれ実施例1と同様にしてレーザー彫刻用印刷原版を作製した。
Comparative Example 1 and Comparative Example 2
Comparative Example 1 is the same photosensitive resin composition as Example 1 except that it does not contain the thermal acid generator at all, and Comparative Example 2 has the content of the photosensitive resin composition of the thermal acid generator of 30. The photosensitive resin composition was the same as in Example 1 except that it was 0% by mass, and a printing original plate for laser engraving was produced in the same manner as in Example 1.

比較例3及び比較例4
比較例3は、熱酸発生剤を全く含有しないこと以外は実施例7と同じ感光性樹脂組成物であり、比較例4は、熱酸発生剤の感光性樹脂組成物中の含有量が30.0質量%であること以外は実施例7と同じ感光性樹脂組成物であり、それぞれ実施例7と同様にしてレーザー彫刻用印刷原版を作製した。
Comparative Example 3 and Comparative Example 4
Comparative Example 3 is the same photosensitive resin composition as Example 7 except that it does not contain the thermal acid generator at all, and Comparative Example 4 has a content of the thermal acid generator in the photosensitive resin composition of 30. The photosensitive resin composition was the same as in Example 7 except that the content was 0% by mass, and a printing original plate for laser engraving was produced in the same manner as in Example 7.

比較例5及び比較例6
比較例5は、熱酸発生剤を全く含有しないこと以外は実施例13と同じ感光性樹脂組成物であり、比較例6は、熱酸発生剤が感光性樹脂組成物中の含有量が30.0質量%であること以外は実施例13と同じ感光性樹脂組成物であり、それぞれ実施例13と同様にしてレーザー彫刻用印刷原版を作製した。
Comparative Example 5 and Comparative Example 6
Comparative Example 5 is the same photosensitive resin composition as Example 13 except that the thermal acid generator is not contained at all, and in Comparative Example 6, the content of the thermal acid generator in the photosensitive resin composition is 30. The photosensitive resin composition was the same as in Example 13 except that the content was 0% by mass, and a printing original plate for laser engraving was produced in the same manner as in Example 13.

次に、上記の実施例及び比較例で作製した印刷原版をレーザー彫刻装置の版装着ドラムに両面テープで巻き付け、下記の条件でレーザー彫刻を行った。レーザー彫刻開始と同時に、レーザーガン近傍に設置されている集塵機を作動させ、連続的に彫刻した樹脂残渣を装置外に排出させた。レーザー彫刻後、装着ドラムから取り出した版を流水でブラシ洗浄して、版表面に付着した少量の樹脂残渣を除去し、乾燥して印刷原版を得た。   Next, the printing original plate produced in the above-mentioned Example and comparative example was wound with a double-sided tape around a plate mounting drum of a laser engraving device, and laser engraving was performed under the following conditions. At the same time as the start of laser engraving, the dust collector installed near the laser gun was operated to continuously discharge the engraved resin residue out of the apparatus. After laser engraving, the plate removed from the mounting drum was brush-washed with running water to remove a small amount of resin residue adhering to the plate surface, and dried to obtain a printing original plate.

レーザー彫刻装置は、Luescher Flexo社製の300W炭酸ガスレーザーを搭載したFlexPose!directを用いた。本装置の仕様は、レーザー波長10.6μm、ビーム直径30μm、版装着ドラム直径は300mm、加工速度は1.5時間/0.5mであった。レーザー彫刻の条件は、以下のとおりである。なお、(1)〜(3)は装置固有の条件である。(4)〜(7)は任意に条件設定が可能であり、それぞれの条件は本装置の標準条件を採用した。
(1)解像度:2540dpi
(2)レーザーピッチ:10μm
(3)ドラム回転数:982cm/秒
(4)トップパワー:9%
(5)ボトムパワー:100%
(6)ショルダー幅:0.30mm
(7)評価画像:150lpi、0〜100%まで1%刻みの網点
The laser engraving system is a FlexPose equipped with a 300W carbon dioxide laser from Luescher Flexo! direct was used. The specifications of this apparatus were a laser wavelength of 10.6 μm, a beam diameter of 30 μm, a plate mounting drum diameter of 300 mm, and a processing speed of 1.5 hours / 0.5 m 2 . The conditions for laser engraving are as follows. (1) to (3) are conditions unique to the device. Conditions (4) to (7) can be arbitrarily set, and the standard conditions of this device were adopted for each condition.
(1) Resolution: 2540 dpi
(2) Laser pitch: 10 μm
(3) Drum rotational speed: 982 cm / sec (4) Top power: 9%
(5) Bottom power: 100%
(6) Shoulder width: 0.30 mm
(7) Evaluation image: 150 lpi, halftone dots every 1% from 0 to 100%

得られた印刷版について以下の評価項目を調査した。
(1)印刷版表面への樹脂残渣の付着具合
10倍の拡大ルーペを使用して、印刷版表面への樹脂残渣の付着具合を目視により検査し、◎:ほとんど付着なし、○:少し付着有り、△:かなり付着有り、×:付着激しい、の4段階で示した。
The following evaluation items were investigated for the obtained printing plate.
(1) Adhesion degree of resin residue on printing plate surface The adhesion state of resin residue on printing plate surface is visually inspected using a 10 × magnifying loupe, ◎: almost no adhesion, ○: some adhesion , Δ: considerable adhesion, ×: intense adhesion, indicated by 4 stages.

(2)印刷版網点表面の削れ深度
超深度カラー3D形状測定顕微鏡(キーエンス社製VK−9510)を使用し、ベタ部を基準として印刷版の150線1%の網点表面の削れ深度(μm)を測定した。具体的には、ベタ部を基準として低くなった網点の高さの差異を削れ深度として測定した。
(2) Shaping depth of printing plate dot surface Ultra-depth color 3D shape measurement microscope (VK-9510 manufactured by KEYENCE CORPORATION) using 150 line 1% halftone surface cutting depth of printing plate with reference to solid part (μm) was measured. Specifically, the difference in height of halftone dots, which was lowered relative to the solid portion, was measured as the scraping depth.

(3)150lpi最小網点再現性
10倍の拡大ルーペを使用して、150lpi最小網点再現性を測定した。
(3) 150 lpi minimum dot reproducibility The 150 lpi minimum dot reproducibility was measured using a 10 × magnification loupe.

(4)付着した樹脂残渣の除去性
レーザー彫刻した後に印刷版表面に付着した樹脂残渣の除去のし易さを評価した。具体的には、直径160μmのポリエチレンテレフタレート製の繊維を植え込みした10cm×10cmのブラシを用いて水をかけながら樹脂残渣を操り、以下の基準で除去性を評価した。
◎:8回以内の擦り作業で除去可能、○:8回超15回以内の擦り作業で除去可能、△:15回超30回以内の擦り作業で除去可能、×:30回超の擦り作業でも除去できず、ブラシにも樹脂が付着。
(4) Removability of Adhered Resin Residue The ease of removal of the resin residue adhered to the printing plate surface after laser engraving was evaluated. Specifically, the resin residue was manipulated while water was applied using a brush of 10 cm × 10 cm in which fibers made of polyethylene terephthalate having a diameter of 160 μm were implanted, and the removability was evaluated based on the following criteria.
:: can be removed by rubbing within 8 times, :: can be removed by rubbing within 8 and 15 times, △: can be removed by rubbing within 15 and 30 times, ×: 30 or more rubbing But it can not be removed, and resin adheres to the brush.

(5)高速印刷時の印刷性
レタープレス印刷機としてシール印刷用輪転印刷機を使って100m/分の速度でUVインキを用いて1000部及び2000部の印刷を実施し、ハイライト印刷性及びベタインキ乗りを判定した。
〔ハイライト印刷性〕
○:150lpiの3%ハイライトでムラなく鮮明に印刷できる。
△:150lpiの3%ハイライトでわずかに濃度ムラが有る。
×:150lpiの3%ハイライトで濃度ムラが有る。
〔ベタ部インキ乗り〕
○:ベタ部のインキ乗りにムラがなく印刷できる。
△:ベタ部のインキ乗りにわずかに濃度ムラが有る。
×:ベタ部のインキ乗りに濃度ムラが有る。
(5) Printability at high speed printing Using a seal printing rotary press as a letter press, 1000 and 2000 copies of UV ink are printed at a speed of 100 m / min, and highlight printability and A solid ink rider was judged.
[Highlight printability]
○: 3L highlight of 150 lpi can print clearly without unevenness.
Fair: slight unevenness in density at 3% highlight of 150 lpi.
X: There is uneven density at 3% highlight of 150 lpi.
[Fitted part ink riding]
○: It can print without unevenness in the ink riding of a solid part.
Fair: There is slight unevenness in density on the ink coverage of the solid part.
X: There is uneven density in the ink riding on the solid part.

実施例及び比較例の評価結果を感光性樹脂組成物の組成とともに以下の表1〜3に示す。

Figure 0006501150
Figure 0006501150
Figure 0006501150
The evaluation results of Examples and Comparative Examples are shown in Tables 1 to 3 below together with the composition of the photosensitive resin composition.
Figure 0006501150
Figure 0006501150
Figure 0006501150

表1〜3の評価結果からわかるように、熱酸発生剤を感光性樹脂組成物中に0.1〜20質量%の範囲で含有するレーザー彫刻用印刷原版は、樹脂除去性に優れるため、網点表面の削れ深度が浅く、2000部の長期印刷性に優れていることが分かる。一方、熱酸発生剤を全く含有しない比較例では、網点表面の削れ深度が高くなり、長期印刷性を満足できない。また、熱酸発生剤を20質量%を超えて含有させた比較例では、同様に長期印刷性を満足できない。   As can be seen from the evaluation results in Tables 1 to 3, the printing original plate for laser engraving containing the thermal acid generator in the photosensitive resin composition in the range of 0.1 to 20% by mass is excellent in resin removability, It can be seen that the removal depth of the halftone dot surface is shallow and the long-term printability of 2000 parts is excellent. On the other hand, in the comparative example which does not contain the thermal acid generator at all, the abrasion depth of the halftone dot surface becomes high, and the long-term printability can not be satisfied. Further, in the comparative example in which the thermal acid generator is contained in excess of 20% by mass, long-term printability can not be satisfied as well.

本発明の樹脂組成物は、レーザー彫刻時に発生する樹脂残渣を網点表面を削ることなく容易に除去できるので、長期印刷性に優れたレーザー彫刻用印刷原版を提供することができる。   The resin composition of the present invention can easily remove the resin residue generated at the time of laser engraving without scraping the halftone dot surface, and can provide a printing original plate for laser engraving having excellent long-term printability.

Claims (5)

感光性樹脂組成物層を紫外線照射によって硬化させた後にレーザー光照射により画像形成して印刷版を形成するために用いられるレーザー彫刻用凸版印刷原版であって、前記感光性樹脂組成物が、ポリエーテルウレアウレタン、ポリエーテルアミド、及びポリアミドからなる群から選択される少なくとも一種の塩基性第3級窒素原子含有高分子化合物、光重合性不飽和化合物、光重合開始剤、及び熱酸発生剤を含有し、前記塩基性第3級窒素原子含有高分子化合物中の塩基性第3級窒素原子の少なくとも一部が、4級化剤によって4級化されており、前記熱酸発生剤が、前記感光性樹脂組成物中に0.1〜20重量%含有されることを特徴とするレーザー彫刻用凸版印刷原版。   It is a letterpress printing original plate for laser engraving used to form an image by laser light irradiation to form a printing plate after curing the photosensitive resin composition layer by ultraviolet irradiation, and the photosensitive resin composition is poly At least one basic tertiary nitrogen atom-containing polymer compound, a photopolymerizable unsaturated compound, a photopolymerization initiator, and a thermal acid generator selected from the group consisting of ether urea urethane, polyether amide, and polyamide At least a part of the basic tertiary nitrogen atoms in the basic tertiary nitrogen atom-containing polymer compound is quaternized by a quaternizing agent, and the thermal acid generator is A relief printing original plate for laser engraving characterized in that it is contained in an amount of 0.1 to 20% by weight in the photosensitive resin composition. 前記熱酸発生剤が、オニウム塩であることを特徴とする請求項1に記載のレーザー彫刻用凸版印刷原版。   The relief printing original plate for laser engraving according to claim 1, wherein the thermal acid generator is an onium salt. 前記熱酸発生剤が、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、及びアンモニウム塩からなる群から選択される少なくとも一種のオニウム塩であることを特徴とする請求項1に記載のレーザー彫刻用凸版印刷原版。   The relief printing original plate for laser engraving according to claim 1, wherein the thermal acid generator is at least one onium salt selected from the group consisting of an iodonium salt, a sulfonium salt, and an ammonium salt. 赤外線レーザーで彫刻することに用いられることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のレーザー彫刻用凸版印刷原版。 The relief printing original plate for laser engraving according to any one of claims 1 to 3, which is used for engraving with an infrared laser. 請求項1〜4のいずれかに記載のレーザー彫刻用凸版印刷原版をレーザー彫刻して得られる印刷版の版面に付着した樹脂残渣を水によって除去することを含むことを特徴とする凸版印刷版の製造方法。   A relief printing plate comprising removing the resin residue adhering to the plate surface of the printing plate obtained by laser engraving the relief printing original plate for laser engraving according to any one of claims 1 to 4 with water. Production method.
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