JP6485867B2 - Perpendicular magnetic recording medium and magnetic recording / reproducing apparatus - Google Patents

Perpendicular magnetic recording medium and magnetic recording / reproducing apparatus Download PDF

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Description

本発明は、垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生装置に関する。   The present invention relates to a perpendicular magnetic recording medium and a magnetic recording / reproducing apparatus.

近年、ハードディスクドライブ(HDD)等に用いられる磁気記録媒体の分野では、記録密度が驚異的な速度で伸び続けている。記録密度を向上させるキーテクノロジーの一つとして、磁気ヘッドと磁気記録媒体との間における摺動特性を制御する技術が挙げられる。   In recent years, in the field of magnetic recording media used for hard disk drives (HDD) and the like, the recording density has continued to grow at a phenomenal rate. One of key technologies for improving the recording density is a technique for controlling sliding characteristics between a magnetic head and a magnetic recording medium.

すなわち、磁気記録媒体上における磁気ヘッドの接触摺動は、偶発的な場合を含めて、避けることのできないものとなっているため、磁気ヘッドと磁気記録媒体との間のトライボロジーに関する問題が宿命的な技術課題となって現在に至っており、磁気記録媒体の磁性層上に保護層を形成して、磁気記録媒体の耐摩耗性及び耐摺動性を向上させることが磁気記録媒体の信頼性を確保するための大きな柱となっている。   That is, contact sliding of the magnetic head on the magnetic recording medium is unavoidable, including accidental cases, so the problem regarding tribology between the magnetic head and the magnetic recording medium is fatal. As a technical problem, it is now possible to improve the wear resistance and sliding resistance of a magnetic recording medium by forming a protective layer on the magnetic layer of the magnetic recording medium. It has become a major pillar for securing.

保護層を構成する材料としては、様々な材料が提案されているが、成膜性、耐久性等の総合的な見地から、主に炭素が採用されている。そして、保護層の硬度、密度、動摩擦係数等は、磁気記録媒体における磁気ヘッドとのL/UL特性(ロードアンロード特性)に如実に反映されるため、非常に重要である。   Various materials have been proposed as the material constituting the protective layer, but carbon is mainly employed from the comprehensive viewpoints such as film forming properties and durability. The hardness, density, dynamic friction coefficient, etc. of the protective layer are very important because they are reflected in the L / UL characteristics (load / unload characteristics) with the magnetic head in the magnetic recording medium.

一方、磁気記録媒体の記録密度を向上させたり、読み書き速度を向上させたりするためには、磁気ヘッドの飛行高さ(フライングハイト)を低減したり、磁気記録媒体の回転数を増加させたりすることが好ましい。したがって、磁気ヘッドの偶発的な接触等に対応するために、保護層の耐摺動性や平坦性が要求されると共に、磁気記録媒体と磁気ヘッドとのスペーシングロスを低減して記録密度を高めるために、保護層の厚さをできるだけ薄くすることが要求されるようになってきている。   On the other hand, in order to improve the recording density of the magnetic recording medium or improve the read / write speed, the flying height (flying height) of the magnetic head is reduced or the rotational speed of the magnetic recording medium is increased. It is preferable. Therefore, in order to cope with accidental contact of the magnetic head, the protective layer is required to have sliding resistance and flatness, and the recording loss is reduced by reducing the spacing loss between the magnetic recording medium and the magnetic head. In order to increase the thickness, the thickness of the protective layer is required to be as thin as possible.

磁気記録媒体の保護層に用いられる炭素膜は、スパッタリング法、CVD法、イオンビーム蒸着法等により形成されている。   The carbon film used for the protective layer of the magnetic recording medium is formed by sputtering, CVD, ion beam evaporation or the like.

特許文献1には、複数の磁性粒と、複数の磁性粒のうちのそれぞれの磁性粒上に形成された黒鉛状炭素の複数の層を有する磁気データ記録用の磁気媒体が開示されている。このとき、黒鉛状炭素は、黒鉛、グラフェン(黒鉛の単一の単原子層である)、ナノチューブ(円筒形状に巻き付けられたグラフェンのシート)、フラーレン(球等の閉じた形状に巻き付けられたグラフェンのシート)等の様々な形態をとることができる。   Patent Document 1 discloses a magnetic medium for magnetic data recording having a plurality of magnetic grains and a plurality of layers of graphitic carbon formed on each of the plurality of magnetic grains. At this time, graphitic carbon is composed of graphite, graphene (single monolayer of graphite), nanotube (graphene sheet wound in a cylindrical shape), fullerene (graphene wound in a closed shape such as a sphere) And other forms).

特許文献2には、ハードディスク用途のFePt/グラフェンが開示されている。
特許文献3には、グラフェンの低温形成方法が開示されている。
Patent Document 2 discloses FePt / graphene for use in hard disks.
Patent Document 3 discloses a method for forming graphene at a low temperature.

特開2013−101742号公報JP 2013-101742 A 特表2013−536141号公報Special table 2013-536141 gazette 特表2013−530124号公報Special table 2013-530124 gazette

磁気記録媒体の保護層を改善する努力は、営々と続けられている。現在、磁気記録媒体の保護層としては、主に水素化アモルファスカーボン膜が用いられている。水素化アモルファスカーボン膜は、表面平滑性が高く、比較的硬度が高いという特徴を有している。一方で、水素化アモルファスカーボン膜は、アモルファス構造であるため、膜の特性が幅をもち、成膜条件によって表面の平滑性が変動する問題点がある。また、水素化アモルファスカーボン膜の表面は、基本的に撥水性であるため、潤滑剤が塗布しにくい。このため、水素化アモルファスカーボン膜は、表面の窒化、酸化等の改質が必要となり、これが保護層の薄膜化の障害となっていた。   Efforts to improve the protective layer of magnetic recording media are continuing. Currently, a hydrogenated amorphous carbon film is mainly used as a protective layer of a magnetic recording medium. The hydrogenated amorphous carbon film is characterized by high surface smoothness and relatively high hardness. On the other hand, since the hydrogenated amorphous carbon film has an amorphous structure, there is a problem that the film has a wide range of characteristics and the surface smoothness varies depending on the film forming conditions. Further, since the surface of the hydrogenated amorphous carbon film is basically water-repellent, it is difficult to apply a lubricant. For this reason, the hydrogenated amorphous carbon film requires modification of the surface such as nitridation and oxidation, which has been an obstacle to thinning the protective layer.

本発明の一態様は、グラフェンを用いた、表面の平滑性が高く、薄膜化が可能な保護層有する垂直磁気記録媒体を提供することを目的とする。   An object of one embodiment of the present invention is to provide a perpendicular magnetic recording medium that uses graphene and has a protective layer that has high surface smoothness and can be thinned.

(1)非磁性基板上に、連続した垂直磁性層と、前記垂直磁性層に接する連続した保護層とが、順に設けられた垂直磁気記録媒体において、前記保護層はグラフェン及び/又はグラフェンの積層体と、アモルファスカーボンを含み、前記保護層のラマンスペクトルは、2700cm−1付近のグラフェン及び/又はグラフェンの積層体の六員環構造に係る2Dバンドのピーク高さ(2D)と、1585cm−1付近のグラフェン及び/又はグラフェンの積層体のsp結合の伸縮振動に係るGバンドのピーク高さ(G)との比率(2D/G)が、0.4〜5の範囲内であることを特徴とする垂直磁気記録媒体。
(2)前記連続した保護層と接する前記連続した垂直磁性層は、非グラニュラ構造であることを特徴とする(1)に記載の垂直磁気記録媒体。
)前記グラフェンの積層体は、グラフェンが2層以上10層以下の範囲内で積層されていることを特徴とする(1)又は(2)に記載の垂直磁気記録媒体。
)前記垂直磁性層の最上層は、多結晶粒を含み、前記多結晶粒は、CoCr基合金、CoPt基合金、CoCrPt基合金又はCoPtCr基合金を含み、前記保護層は、前記垂直磁性層の最上層と接し、グラフェン及び/又はグラフェンの積層体と、アモルファスカーボンを含み、前記グラフェン及び/又はグラフェンの積層体は、前記多結晶粒の個々の(0002)結晶面と平行になっていることを特徴とする(1)乃至(3)のいずれか一項に記載の垂直磁気記録媒体。
)前記垂直磁性層の最上層は、多結晶粒を含み、前記多結晶粒は、L1構造を有するFePt基合金又はCoPt基合金を含み、前記保護層は、前記垂直磁性層の最上層に接触し、グラフェン及び/又はグラフェンの積層体と、アモルファスカーボンを含み、前記グラフェン及び/又はグラフェンの積層体は、前記多結晶粒の個々の(001)結晶面と平行になっていることを特徴とする(1)乃至(3)のいずれか一項に記載の垂直磁気記録媒体。
)前記グラフェン及び/又はグラフェンの積層体は、窒素を含むことを特徴とする(1)乃至()のいずれか一項に記載の垂直磁気記録媒体。
)(1)乃至()のいずれか一項に記載の垂直磁気記録媒体と、該垂直磁気記録媒体に情報を記録し、該垂直磁気記録媒体に記録されている情報を再生する磁気ヘッドと、を有することを特徴とする磁気記録再生装置。
(1) In a perpendicular magnetic recording medium in which a continuous perpendicular magnetic layer and a continuous protective layer in contact with the perpendicular magnetic layer are sequentially provided on a nonmagnetic substrate, the protective layer is a stack of graphene and / or graphene and body comprised of amorphous carbon, the Raman spectrum of the protective layer, the peak height of the 2D band according to six-membered ring structure of graphene and / or graphene laminate around 2700 cm -1 and (2D), 1585 cm -1 The ratio (2D / G) with the peak height (G) of the G band related to the stretching vibration of the sp 2 bond of the nearby graphene and / or graphene laminate is in the range of 0.4 to 5. A perpendicular magnetic recording medium.
(2) The perpendicular magnetic recording medium according to (1), wherein the continuous perpendicular magnetic layer in contact with the continuous protective layer has a non-granular structure.
( 3 ) The perpendicular magnetic recording medium according to (1) or (2) , wherein the graphene laminate is laminated in a range of 2 to 10 layers of graphene.
( 4 ) The uppermost layer of the perpendicular magnetic layer includes polycrystalline grains, and the polycrystalline grains include a CoCr-based alloy, a CoPt-based alloy, a CoCrPt-based alloy, or a CoPtCr-based alloy, and the protective layer includes the perpendicular magnetic layer The graphene and / or graphene stack and amorphous carbon are in contact with the top layer of the layer, and the graphene and / or graphene stack is parallel to the individual (0002) crystal planes of the polycrystalline grains The perpendicular magnetic recording medium according to any one of (1) to (3), wherein:
(5) the top layer of the vertical magnetic layer comprises a polycrystalline grains, the polycrystalline grains include FePt based alloy or CoPt-based alloy having an L1 0 structure, the protective layer is the outermost of the vertical magnetic layer The graphene and / or graphene stack and amorphous carbon are in contact with the upper layer, and the graphene and / or graphene stack is parallel to the individual (001) crystal planes of the polycrystalline grains (4) The perpendicular magnetic recording medium according to any one of (1) to (3) .
( 6 ) The perpendicular magnetic recording medium according to any one of (1) to ( 5 ), wherein the graphene and / or the graphene stack includes nitrogen.
( 7 ) The perpendicular magnetic recording medium according to any one of (1) to ( 6 ), and the magnetism for recording information on the perpendicular magnetic recording medium and reproducing the information recorded on the perpendicular magnetic recording medium And a magnetic recording / reproducing apparatus.

本発明の一態様によれば、表面の平滑性が高く、薄膜化が可能な保護層有する垂直磁気記録媒体を提供できるため、高記録密度の磁気記録再生装置を提供可能となる効果を有する。   According to one embodiment of the present invention, a perpendicular magnetic recording medium having a protective layer that has a high surface smoothness and can be thinned can be provided. Therefore, there is an effect that a magnetic recording / reproducing apparatus having a high recording density can be provided.

垂直磁気記録媒体の一例を示す断面図Sectional view showing an example of a perpendicular magnetic recording medium 本実施の形態における保護層を成膜する成膜装置の一例を示す構成図The block diagram which shows an example of the film-forming apparatus which forms the protective layer in this Embodiment 図1の保護層のラマンスペクトルの一例を示す図The figure which shows an example of the Raman spectrum of the protective layer of FIG. 磁気記録再生装置の一例を示す構成図Configuration diagram showing an example of a magnetic recording / reproducing apparatus

次に、本発明を実施するための形態を図面と共に説明する。   Next, the form for implementing this invention is demonstrated with drawing.

図1に、本願発明の実施態様に係る垂直磁気記録媒体の一例を示す。   FIG. 1 shows an example of a perpendicular magnetic recording medium according to an embodiment of the present invention.

垂直磁気記録媒体31は、非磁性基板20の両面に、軟磁性層21、中間層22、垂直磁性層23、保護層24及び潤滑層25が順次積層されている。   In the perpendicular magnetic recording medium 31, a soft magnetic layer 21, an intermediate layer 22, a perpendicular magnetic layer 23, a protective layer 24, and a lubricating layer 25 are sequentially laminated on both surfaces of a nonmagnetic substrate 20.

中間層22は、非磁性であってもよいし、磁性(強磁性)であってもよい。   The intermediate layer 22 may be nonmagnetic or magnetic (ferromagnetic).

垂直磁性層23は、磁化容易軸が非磁性基板20の表面に対して主に垂直に配向している。また、垂直磁性層23は、六方最密充填(hcp)構造を有し、(0002)結晶面が非磁性基板20に平行に配向している層が積層されているのが好ましい。さらに、垂直磁性層23の最上層は、多結晶粒を含み、多結晶粒は、CoCr基合金、CoPt基合金、CoCrPt基合金又はCoPtCr基合金を含むのが好ましい。   The perpendicular magnetic layer 23 has an easy axis of magnetization oriented perpendicularly to the surface of the nonmagnetic substrate 20. In addition, the perpendicular magnetic layer 23 preferably has a hexagonal close-packed (hcp) structure, and a layer having a (0002) crystal plane oriented parallel to the nonmagnetic substrate 20 is preferably laminated. Further, the uppermost layer of the perpendicular magnetic layer 23 preferably includes polycrystalline grains, and the polycrystalline grains preferably include a CoCr-based alloy, a CoPt-based alloy, a CoCrPt-based alloy, or a CoPtCr-based alloy.

なお、CoCrPt基合金は、PtよりもCrの組成比が大きく、CoPtCr基合金は、CrよりもPtの組成比が大きい。   The CoCrPt-based alloy has a higher Cr composition ratio than Pt, and the CoPtCr-based alloy has a higher Pt composition ratio than Cr.

CoCr基合金中のCrの含有量は、通常、14〜24原子%である。   The content of Cr in the CoCr-based alloy is usually 14 to 24 atomic%.

CoPt基合金中のPtの含有量は、通常、8〜22原子%である。   The content of Pt in the CoPt base alloy is usually 8 to 22 atomic%.

CoCrPt基合金は、通常、Crの含有量が14〜24原子%であり、Ptの含有量が8〜22原子%である。   The CoCrPt-based alloy usually has a Cr content of 14 to 24 atomic% and a Pt content of 8 to 22 atomic%.

CoPtCr基合金は、通常、Ptの含有量が8〜22原子%であり、Crの含有量が7〜21原子%である。   The CoPtCr-based alloy usually has a Pt content of 8 to 22 atomic% and a Cr content of 7 to 21 atomic%.

これらの合金は、B、Ta、Mo、Cu、Nd、W、Nb、Sm、Tb、Ru、Re、Mnの中から選ばれる1種類以上の元素を1〜10原子%の範囲内で含有してもよい。   These alloys contain one or more elements selected from B, Ta, Mo, Cu, Nd, W, Nb, Sm, Tb, Ru, Re, and Mn within a range of 1 to 10 atomic%. May be.

また、本願発明の垂直磁性層23は、L1構造を有し(001)配向をとったFePt基合金又はCoPt基合金を含む磁性層とするのが好ましい。そして、磁性層中のL1構造を有する合金の規則化を促進するため、磁性層形成時の基板温度は600℃以上とすることが望ましい。また、規則化温度を低減するため、L1構造を有する合金に、Ag、Au、Cu、Ni等を添加してもよい。この場合、垂直磁性層形成時の基板温度を400〜500℃程度まで低減できる。 The vertical magnetic layer 23 of the present invention is preferably a magnetic layer containing an L1 0 structure has a (001) FePt based alloy or CoPt based alloy took orientation. Then, in order to promote the ordering of the alloy having an L1 0 structure of the magnetic layer, the substrate temperature during the formation of the magnetic layer is preferably set to 600 ° C. or higher. In addition, to reduce the ordering temperature, the alloy having an L1 0 structure, Ag, Au, Cu, may be added to Ni or the like. In this case, the substrate temperature when forming the perpendicular magnetic layer can be reduced to about 400 to 500 ° C.

保護層24は、垂直磁性層23の最上層に接触して形成されており、グラフェン及び/又はグラフェンの積層体と、アモルファスカーボンを含む。このとき、グラフェン及び/又はグラフェンの積層体は、多結晶粒の個々のhcp構造の(0002)結晶面、又はL1構造の(001)結晶面と平行に結合している。このような構造は、後述のラマンスペクトルによって特定される。 The protective layer 24 is formed in contact with the uppermost layer of the perpendicular magnetic layer 23 and contains graphene and / or a stack of graphene and amorphous carbon. At this time, the graphene and / or graphene laminate is (0002) crystal plane of the individual hcp structure polycrystalline grains, or of L1 0 structure (001) is parallel coupled to the crystal surface. Such a structure is specified by a Raman spectrum described later.

ここで、グラフェンは、一般的に、成膜温度が600℃以上であるため、磁気記録媒体の製造に適用することは難しい。また、グラフェンの積層体は、グラファイトと同様に、剥離性がある。   Here, since graphene generally has a film forming temperature of 600 ° C. or higher, it is difficult to apply it to the manufacture of a magnetic recording medium. Further, the graphene laminate is peelable like graphite.

しかしながら、本願発明の垂直磁性層23の最上層に含まれる多結晶粒に触媒活性があるため、グラフェン及び/又はグラフェンの積層体を含む保護層24を600℃より低い温度で成膜することができる。さらに、保護層24がグラフェン及び/又はグラフェンの積層体と共に、アモルファスカーボンを含むため、保護層24の表面の平滑化と、グラフェンの積層体の剥離を低減することができる。   However, since the polycrystalline grains contained in the uppermost layer of the perpendicular magnetic layer 23 of the present invention have catalytic activity, the protective layer 24 including graphene and / or a stack of graphene can be formed at a temperature lower than 600 ° C. it can. Furthermore, since the protective layer 24 contains amorphous carbon together with graphene and / or a graphene stack, the surface of the protective layer 24 can be smoothed and peeling of the graphene stack can be reduced.

また、グラフェンは、従来の成膜方法を用いた場合は析出速度が遅く、このことはグラフェンを磁気記録媒体に適用することを困難にしていた。   In addition, graphene has a slow deposition rate when a conventional film forming method is used, which makes it difficult to apply graphene to a magnetic recording medium.

本願発明では、保護層24の形成方法として、減圧した成膜室内に炭素を含む原料の気体を導入し、この気体を通電により加熱されたフィラメント状のカソード電極と、その周囲に設けられたアノード電極との間で放電によりイオン化し、このイオン化した気体を加速して成膜基板の表面に照射する方法を採用することができる。これによって、成膜基板の表面にグラフェン及び/又はグラフェンの積層体と、アモルファスカーボンを含む層を、低い基板温度で、高速で形成することができる。   In the present invention, as a method for forming the protective layer 24, a raw material gas containing carbon is introduced into a decompressed film forming chamber, and the filament-shaped cathode electrode heated by energization of the gas, and an anode provided therearound A method can be employed in which ionization is performed between the electrode and the electrode, and the ionized gas is accelerated and irradiated onto the surface of the deposition substrate. Accordingly, graphene and / or a stack of graphene and a layer containing amorphous carbon can be formed on the surface of the deposition substrate at a high speed at a low substrate temperature.

以下、本発明の保護層24について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などは実際と同じであるとは限らない。また、以下の説明において例示される材料、寸法等は一例であって、本発明はそれらに限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することが可能である。   Hereinafter, the protective layer 24 of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, in the drawings used in the following description, in order to make the features easy to understand, there are cases where the portions that become the features are enlarged for convenience, and the dimensional ratios of the respective components are not always the same as the actual ones. . In addition, the materials, dimensions, and the like exemplified in the following description are examples, and the present invention is not limited to them, and can be appropriately changed and implemented without changing the gist thereof.

先ず、本発明を適用した保護層24の形成装置の一例について説明する。   First, an example of an apparatus for forming the protective layer 24 to which the present invention is applied will be described.

図2は、本発明の保護層24の形成装置を模式的に示す概略構成図である。   FIG. 2 is a schematic configuration diagram schematically showing an apparatus for forming the protective layer 24 of the present invention.

図2に示す保護層24の形成装置10は、イオンビーム蒸着法を用いた成膜装置であり、減圧可能な、側壁を有する成膜室101と、成膜室101内で基板Dを保持可能なホルダ102と、成膜室101内に炭素を含む原料の気体Gを導入する導入管103と、ホルダ102に保持される基板Dに向けてイオンビームを照射するイオン源104により概略構成されている。   A protective layer 24 forming apparatus 10 shown in FIG. 2 is a film forming apparatus using an ion beam evaporation method, and can be decompressed and can hold a substrate D in the film forming chamber 101 having a side wall and a film forming chamber 101. And an ion source 104 that irradiates an ion beam toward a substrate D held by the holder 102. Yes.

ここで、中心軸Cは、イオンビームの照射方向(イオンビームの中心部が進む方向)に一致する。成膜室101の中心軸に対してイオン源が対称に配置する場合には、中心軸Cは成膜室101の中心軸に一致する。   Here, the central axis C coincides with the irradiation direction of the ion beam (the direction in which the central portion of the ion beam travels). When the ion source is arranged symmetrically with respect to the central axis of the film formation chamber 101, the central axis C coincides with the central axis of the film formation chamber 101.

また、図2に示すイオン源104は、フィラメント状のカソード電極104aと、カソード電極104aの周囲に配置されたアノード電極104bとを備えている。図2に示す保護層24の形成装置は、カソード電極104aを通電により加熱する第1の電源106と、カソード電極104aとアノード電極104bとの間で放電を生じさせる第2の電源107と、カソード電極104a又はアノード電極104bと基板Dとの間に電位差を与える第3の電源108とを備えている。   Further, the ion source 104 shown in FIG. 2 includes a filament-like cathode electrode 104a and an anode electrode 104b disposed around the cathode electrode 104a. The protective layer 24 forming apparatus shown in FIG. 2 includes a first power source 106 that heats the cathode electrode 104a by energization, a second power source 107 that generates a discharge between the cathode electrode 104a and the anode electrode 104b, and a cathode A third power source 108 for providing a potential difference between the electrode 104a or the anode electrode 104b and the substrate D is provided.

図2においては、ホルダ102に基板Dが保持された状態を示している。   FIG. 2 shows a state where the substrate D is held by the holder 102.

側壁は円筒状であることが好ましいが、円筒状には限定されない。   The side wall is preferably cylindrical, but is not limited to a cylindrical shape.

成膜室101は、チャンバ壁101aによって気密に構成されると共に、真空ポンプ(図示せず)に接続された排気管110を通じて内部を減圧排気することが可能となっている。   The film forming chamber 101 is hermetically configured by a chamber wall 101a, and can be evacuated inside through an exhaust pipe 110 connected to a vacuum pump (not shown).

第1の電源106は、カソード電極104aに接続された交流電源であり、保護層24の成膜時にカソード電極104aに電力を供給する。また、第1の電源106には、交流電源に限らず、直流電源を用いてもよい。   The first power source 106 is an AC power source connected to the cathode electrode 104 a and supplies power to the cathode electrode 104 a when the protective layer 24 is formed. The first power source 106 is not limited to an AC power source, and a DC power source may be used.

第2の電源107は、−電極側がカソード電極104aに、+電極側がアノード電極104bに接続された直流電源であり、保護層24の成膜時にカソード電極104aとアノード電極104bとの間で放電を生じさせる。   The second power source 107 is a DC power source in which the negative electrode side is connected to the cathode electrode 104a and the positive electrode side is connected to the anode electrode 104b, and discharge is generated between the cathode electrode 104a and the anode electrode 104b when the protective layer 24 is formed. Cause it to occur.

第3の電源108は、+電極側がアノード電極104bに、−電極側がホルダ102に接続された直流電源であり、保護層24の成膜時にアノード電極104bとホルダ102に保持された基板Dとの間に電位差を付与する。また、第3の電源108は、+電極側がカソード電極104aに接続された構成としてもよい。   The third power source 108 is a DC power source in which the + electrode side is connected to the anode electrode 104 b and the − electrode side is connected to the holder 102, and the anode electrode 104 b and the substrate D held by the holder 102 are formed when the protective layer 24 is formed. A potential difference is applied between them. The third power supply 108 may have a configuration in which the + electrode side is connected to the cathode electrode 104a.

本発明では、基板Dのサイズにもよるが、外径3.5インチの円盤状の基板に保護層24を成膜する場合、第1の電源106については、電圧を10〜200Vの範囲、電流を直流又は交流で5〜50Aの範囲に設定することが好ましく、第2の電源107については、電圧を50〜300Vの範囲、電流を10〜5000mAの範囲に設定することが好ましく、第3の電源108については、電圧を30〜500Vの範囲、電流を10〜200mAの範囲に設定することが好ましい。   In the present invention, although depending on the size of the substrate D, when the protective layer 24 is formed on a disk-shaped substrate having an outer diameter of 3.5 inches, the voltage of the first power supply 106 is in the range of 10 to 200 V, The current is preferably set in the range of 5 to 50 A by direct current or alternating current. For the second power source 107, the voltage is preferably set in the range of 50 to 300 V, and the current is preferably set in the range of 10 to 5000 mA. For the power supply 108, it is preferable to set the voltage in the range of 30 to 500V and the current in the range of 10 to 200mA.

以上のような構成を有する保護層24の形成装置を用いて、基板Dの表面に保護層24を形成する際は、排気管110を通じて減圧された成膜室101の内部に、導入管103を通じて炭素を含む原料の気体Gを導入する。この原料の気体Gは、第1の電源106からの電力の供給により加熱されたカソード電極104aの熱プラズマと、第2の電源107に接続されたカソード電極104aとアノード電極104bとの間で放電により発生したプラズマとによって励起分解されてイオン化した気体(炭素イオン)となる。そして、このプラズマ中で励起された炭素イオンは、第3の電源108によりマイナス電位とされた基板Dに向かって加速しながら、この基板Dの表面に衝突することになる。   When the protective layer 24 is formed on the surface of the substrate D using the protective layer 24 forming apparatus having the above-described configuration, the film formation chamber 101 is evacuated through the exhaust pipe 110 and is introduced into the film formation chamber 101 through the introduction pipe 103. A raw material gas G containing carbon is introduced. This raw material gas G is discharged between the thermal plasma of the cathode electrode 104 a heated by the supply of electric power from the first power source 106 and the cathode electrode 104 a and the anode electrode 104 b connected to the second power source 107. It is excited and decomposed by the plasma generated by the above and becomes an ionized gas (carbon ion). Then, the carbon ions excited in the plasma collide with the surface of the substrate D while accelerating toward the substrate D which has been set to a negative potential by the third power source 108.

なお、図2に示す保護層24の形成装置では、基板Dの片面にのみ保護層24を成膜する構成となっているが、基板Dの両面に保護層24を成膜する構成とすることも可能である。この場合、基板Dの片面にのみ保護層24を成膜する場合と同様の装置構成を、成膜室101内の基板Dを挟んだ両側に配置すればよい。   In the protective layer 24 forming apparatus shown in FIG. 2, the protective layer 24 is formed only on one side of the substrate D. However, the protective layer 24 is formed on both sides of the substrate D. Is also possible. In this case, an apparatus configuration similar to that in the case where the protective layer 24 is formed only on one surface of the substrate D may be disposed on both sides of the substrate D in the film formation chamber 101.

本発明を適用した保護層24の形成方法では、炭素を含む原料の気体Gとして、例えば炭化水素を含むものを用いることができる。炭化水素としては、低級飽和炭化水素、低級不飽和炭化水素、低級環式炭化水素のうち何れか1種又は2種以上の低炭素炭化水素を用いることが好ましい。なお、ここでいう低級とは、炭素数が1〜10の場合を指す。   In the method for forming the protective layer 24 to which the present invention is applied, as the raw material gas G containing carbon, for example, a gas containing hydrocarbon can be used. As the hydrocarbon, it is preferable to use one kind or two or more kinds of low carbon hydrocarbons among lower saturated hydrocarbons, lower unsaturated hydrocarbons, and lower cyclic hydrocarbons. Here, the term “lower” refers to a case of 1 to 10 carbon atoms.

このうち、低級飽和炭化水素としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン、オクタン等を用いることができる。一方、低級不飽和炭化水素としては、イソプレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ブタジエン等を用いることができる。一方、低級環式炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、スチレン、ナフタレン、シクロヘキサン、シクロヘキサジエン等を用いることができる。   Among these, methane, ethane, propane, butane, octane, etc. can be used as the lower saturated hydrocarbon. On the other hand, as the lower unsaturated hydrocarbon, isoprene, ethylene, propylene, butylene, butadiene and the like can be used. On the other hand, as the lower cyclic hydrocarbon, benzene, toluene, xylene, styrene, naphthalene, cyclohexane, cyclohexadiene, or the like can be used.

保護層24に含まれるグラフェン及び/又はグラフェンの積層体とアモルファスカーボンとの比率は、例えば、原料ガスによって形成されたプラズマ中に含まれる水素ラジカルの量で制御することができる。すなわち、水素ラジカルは、アモルファスカーボンをエッチングすることができるが、そのエッチング力は、グラフェン及び/又はグラフェンの積層体よりもアモルファスカーボンに対して高い。このため、原料ガスに含まれる水素の量を多くすると、保護層24に含まれるグラフェン及び/又はグラフェンの積層体の比率が高まり、原料ガスに含まれる水素の量を少なくすると、保護層24に含まれるアモルファスカーボンの比率が高まる。   The ratio of the graphene and / or the graphene laminated body contained in the protective layer 24 and the amorphous carbon can be controlled by, for example, the amount of hydrogen radicals contained in the plasma formed by the source gas. That is, hydrogen radicals can etch amorphous carbon, but their etching power is higher for amorphous carbon than graphene and / or a stack of graphene. For this reason, when the amount of hydrogen contained in the source gas is increased, the ratio of graphene and / or the stack of graphene contained in the protective layer 24 is increased, and when the amount of hydrogen contained in the source gas is reduced, the protective layer 24 The proportion of amorphous carbon contained is increased.

また、保護層24に含まれるグラフェン及び/又はグラフェンの積層体とアモルファスカーボンとの比率は、保護層24を形成する際の非磁性基板20の温度によっても制御できる場合がある。一般的に、非磁性基板20の温度が高いと、保護層24に含まれるグラフェン及び/又はグラフェンの積層体の比率が高まり、非磁性基板20の温度が低いと、保護層24に含まれるアモルファスカーボンの比率が高まる。   In addition, the ratio of graphene and / or a graphene stack included in the protective layer 24 and amorphous carbon may be controlled by the temperature of the nonmagnetic substrate 20 when the protective layer 24 is formed. In general, when the temperature of the nonmagnetic substrate 20 is high, the ratio of graphene and / or a stack of graphene included in the protective layer 24 increases, and when the temperature of the nonmagnetic substrate 20 is low, the amorphous layer included in the protective layer 24. The proportion of carbon increases.

図3に、保護層24のラマンスペクトルの一例を示す。なお、図3には、アモルファスカーボン膜(水素を含むDLC膜)のラマンスペクトルも示す。   FIG. 3 shows an example of the Raman spectrum of the protective layer 24. FIG. 3 also shows a Raman spectrum of an amorphous carbon film (a DLC film containing hydrogen).

保護層24のラマンスペクトルには、1585cm−1付近のグラフェン及び/又はグラフェンの積層体のsp結合の伸縮振動に係るGバンド、2700cm−1付近のグラフェン及び/又はグラフェンの積層体の六員環構造に係る2Dバンド、1350cm−1付近のグラフェンのアモルファス化に係るDバンドが見られる。すなわち、保護層24のラマンスペクトルでは、グラフェン及び/又はグラフェンの積層体の存在を示すGバンドと2Dバンドが見られる一方、Dバンドと、Dバンド及びGバンドに重畳するブロードなピークが見られる。これは、保護層24が、グラフェン及び/又はグラフェンの積層体と、アモルファスカーボンを含み、また、グラフェン及び/又はグラフェンの積層体が、垂直磁性層23を構成する多結晶粒の個々のhcp構造の(0002)結晶面、又はL1構造の(001)結晶面と平行に結合していることを示している。 In the Raman spectrum of the protective layer 24, the graphene near 1585 cm −1 and / or the G band related to the sp 2 bond stretching vibration of the graphene laminate, and the six-membered graphene and / or graphene laminate near 2700 cm −1 A 2D band related to a ring structure and a D band related to amorphization of graphene in the vicinity of 1350 cm −1 are observed. That is, in the Raman spectrum of the protective layer 24, the G band and the 2D band indicating the presence of the graphene and / or the graphene stack are seen, while the D band and the broad peaks superimposed on the D band and the G band are seen. . This is because the protective layer 24 includes graphene and / or a graphene stack and amorphous carbon, and the graphene and / or graphene stack includes individual hcp structures of polycrystalline grains constituting the perpendicular magnetic layer 23. the (0002) indicate that in parallel coupled to the (001) crystal plane of the crystal plane, or L1 0 structure.

これに対して、アモルファスカーボン膜のラマンスペクトルには、膜がアモルファス構造であるため、ブロードなシグナルが見られる。このため、アモルファスカーボン膜は、成膜条件によって膜質が変化しやすく、それにより膜表面の平滑性が変動し、これが保護層の耐摩耗性、耐摺動性、耐腐食性に影響を及ぼす。   On the other hand, the Raman spectrum of the amorphous carbon film shows a broad signal because the film has an amorphous structure. For this reason, the film quality of the amorphous carbon film is likely to change depending on the film formation conditions, and thereby the smoothness of the film surface varies, which affects the wear resistance, sliding resistance, and corrosion resistance of the protective layer.

一方、保護層24は、結晶性のグラフェン及び/又はグラフェンの積層体とアモルファスカーボンとを含むため、平滑な表面が実現され、安定した耐摩耗性、耐摺動性、耐腐食性が得られる。すなわち、アモルファスカーボンから生じ得る凹凸は、原子層の厚さ(約0.3nm)以下であることから、保護層24が形成されている垂直磁気記録媒体31の表面平滑性を高めることができる。   On the other hand, since the protective layer 24 includes crystalline graphene and / or a stack of graphene and amorphous carbon, a smooth surface is realized, and stable wear resistance, sliding resistance, and corrosion resistance can be obtained. . That is, the unevenness that can be generated from amorphous carbon is not more than the thickness of the atomic layer (about 0.3 nm), so that the surface smoothness of the perpendicular magnetic recording medium 31 on which the protective layer 24 is formed can be improved.

保護層24に含まれるグラフェン及び/又はグラフェンの積層体は、グラフェン及び/又はグラフェンの積層体を構成する六員環の面が垂直磁性層23に含まれる多結晶粒の個々のhcp構造の(0002)面、又はL1構造の(001)結晶面と平行に結合している構造を有する。保護層24を形成する際に、CoCr基合金、CoPt基合金、CoCrPt基合金、CoPtCr基合金、FePt基合金又はCoPt基合金が有する触媒活性を利用する。この際、グラフェン及び/又はグラフェンの積層体は、Co、Fe、Ptと電子的に結合することが推測される。このため、グラフェン及び/又はグラフェンの積層体を構成する六員環の面は、垂直磁性層23に含まれる多結晶粒の個々のhcp構造の(0002)面、又はL1構造の(001)結晶面と平行に結合することとなる。その結果、グラフェン及び/又はグラフェンの積層体を含む保護層24と垂直磁性層23は強固に結合することとなる。 The graphene and / or the graphene stack included in the protective layer 24 has an individual hcp structure of polycrystalline grains in which the surface of the six-membered ring constituting the graphene and / or the graphene stack is included in the perpendicular magnetic layer 23 ( 0002), or having an L1 0 structure (001) parallel coupled with the crystal plane to that structure. When the protective layer 24 is formed, the catalytic activity of the CoCr-based alloy, CoPt-based alloy, CoCrPt-based alloy, CoPtCr-based alloy, FePt-based alloy, or CoPt-based alloy is used. At this time, it is presumed that the graphene and / or the graphene laminate is electronically bonded to Co, Fe, and Pt. Therefore, the surface of the six-membered rings constituting the graphene and / or graphene laminate is polycrystalline grains of individual hcp structure contained in the perpendicular magnetic layer 23 (0002), or the L1 0 structure (001) Bonding in parallel with the crystal plane. As a result, the protective layer 24 and the perpendicular magnetic layer 23 including graphene and / or a stack of graphene are firmly bonded.

本願発明では、保護層24のラマンスペクトルにおいて、2700cm−1付近のグラフェン及び/又はグラフェンの積層体の六員環構造に係る2Dバンドのピーク高さ(2D)と、1585cm−1付近のグラフェン及び/又はグラフェンの積層体のsp結合の伸縮振動に係るGバンドのピーク高さ(G)との比率(2D/G)を、0.4〜5の範囲内とすることを特徴とする。 In the present invention, in the Raman spectrum of the protective layer 24, the peak height of the 2D band according to six-membered ring structure of graphene and / or graphene laminate around 2700 cm -1 and (2D), graphene and near 1585 cm -1 The ratio (2D / G) to the peak height (G) of the G band related to the stretching vibration of the sp 2 bond of the graphene laminate is in the range of 0.4 to 5.

ラマンスペクトルの2DバンドとGバンドのピーク高さの比は、グラフェンの積層体の層数を示すことが知られている(例えば、Ferrari, A.C. et al. Raman spectrum of graphene and graphene layers. Phys. Rev. Lett. 97, 187401 (2006).参照)。すなわち、2Dバンドのピーク高さがGバンドのピーク高さよりも大きい場合は、グラフェンは単層であり、2Dバンドのピーク高さがGバンドのピーク高さと同一である場合は、グラフェンの積層体の層数がおおよそ2層であり、2Dバンドのピーク高さがGバンドのピーク高さよりも小さい場合は、グラフェンの積層体の層数が3層以上であり、具体的な層数は、2DバンドとGバンドのピーク高さの比から求めることができる。   It is known that the ratio of the peak height of the 2D band and the G band of the Raman spectrum indicates the number of layers of the graphene stack (for example, Ferrari, AC et al. Raman spectrum of graphene and graphene layers. Phys. Rev. Lett. 97, 187401 (2006). That is, when the peak height of the 2D band is larger than the peak height of the G band, the graphene is a single layer, and when the peak height of the 2D band is the same as the peak height of the G band, the graphene laminate When the peak height of the 2D band is smaller than the peak height of the G band, the number of layers of the graphene stack is 3 or more, and the specific number of layers is 2D. It can be determined from the ratio of the peak height of the band and the G band.

本願発明の保護層24は、グラフェン中にアモルファスカーボンを含むため、2D/Gを、0.4〜5の範囲内とすることで、表面の高い平滑性を得ることができる。すなわち、2D/Gが1以下になるとグラフェンが多層膜となり保護層24の耐摺動性が低下するが、保護層24にアモルファスカーボンを含有させることで、保護層24の耐摺動性を向上させることができる。また、2D/Gが1より高くなるとグラフェンの積層体の層数が減少して表面の凹凸が大きくなるが、保護層24にアモルファスカーボンを含有させることで、グラフェンの凹凸を防止し保護層24の平滑性を向上させることができる。   Since the protective layer 24 of the present invention includes amorphous carbon in graphene, high smoothness of the surface can be obtained by setting 2D / G within the range of 0.4 to 5. That is, when 2D / G is 1 or less, graphene becomes a multilayer film and the sliding resistance of the protective layer 24 is lowered. However, by including amorphous carbon in the protective layer 24, the sliding resistance of the protective layer 24 is improved. Can be made. Further, when 2D / G is higher than 1, the number of layers of the graphene laminate decreases and the surface unevenness increases, but the amorphous carbon is included in the protective layer 24 to prevent the graphene unevenness and to protect the protective layer 24. The smoothness can be improved.

一方で、2D/Gが0.4より小さくなると、保護層24に含まれるグラフェンの量が減少し、グラフェンを用いる効果が低下する。また、2D/Gが5より大きくなると、アモルファスカーボンの比率が下がることで表面の凹凸が大きくなり、アモルファスカーボンによる平滑化の効果が低下する。   On the other hand, when 2D / G is smaller than 0.4, the amount of graphene contained in the protective layer 24 decreases, and the effect of using graphene decreases. On the other hand, when 2D / G is larger than 5, the ratio of the amorphous carbon is lowered, so that the surface irregularities are increased, and the smoothing effect by the amorphous carbon is lowered.

本願発明で、保護層の2D/Gを制御するためには次の方法を用いることができる。すなわち、経験的に、保護層の成膜室への原料ガスの流量を高めると2D/Gも高まる傾向がある。また、成膜室の反応圧力を高めると2D/Gも高まる傾向がある。また、原料ガスに含まれる炭素原子に対する水素原子の比率を高めると2D/Gも高まる傾向がある。   In the present invention, the following method can be used to control 2D / G of the protective layer. That is, empirically, 2D / G also tends to increase when the flow rate of the source gas into the protective layer deposition chamber is increased. Further, when the reaction pressure in the film formation chamber is increased, 2D / G also tends to increase. Further, when the ratio of hydrogen atoms to carbon atoms contained in the source gas is increased, 2D / G also tends to increase.

垂直磁性層23の最上層は、非グラニュラ構造であることが好ましい。これにより、垂直磁性層23と保護層24との界面において、グラフェン及び/又はグラフェンの積層体と強固に結合するCoCr基合金、CoPt基合金、CoCrPt基合金、CoPtCr基合金、FePt基合金又はCoPt基合金の占める面積比率を高めて、保護層24と垂直磁性層23の密着性を高めることができる。   The uppermost layer of the perpendicular magnetic layer 23 preferably has a non-granular structure. Thereby, at the interface between the perpendicular magnetic layer 23 and the protective layer 24, a CoCr-based alloy, a CoPt-based alloy, a CoCrPt-based alloy, a CoPtCr-based alloy, a FePt-based alloy, or a CoPt that is firmly bonded to graphene and / or a stack of graphene. By increasing the area ratio occupied by the base alloy, the adhesion between the protective layer 24 and the perpendicular magnetic layer 23 can be improved.

なお、非グラニュラ構造の磁性層とは、磁性層がCoCr基合金、CoPt基合金、CoCrPt基合金、CoPtCr基合金、FePt基合金又はCoPt基合金の磁性粒子で構成され、かつ、磁性粒子の周囲に、各磁性粒子を分離する酸化物、窒化物、炭化物等を含まない構造をいう。   The non-granular structure magnetic layer is composed of magnetic particles of a CoCr-based alloy, CoPt-based alloy, CoCrPt-based alloy, CoPtCr-based alloy, FePt-based alloy, or CoPt-based alloy, and around the magnetic particles. In addition, it refers to a structure that does not contain oxides, nitrides, carbides and the like that separate the magnetic particles.

また、多結晶粒の孤立化及び微細化を実現するため、垂直磁性層23の最上層以外は、Cr、Si、Ta、Al、B等の酸化物、窒化物、炭化物等を添加して、グラニュラ構造とするのが好ましい。   In addition, in order to realize isolation and refinement of polycrystalline grains, oxides such as Cr, Si, Ta, Al, and B, nitrides, carbides, and the like other than the uppermost layer of the perpendicular magnetic layer 23 are added, A granular structure is preferred.

グラフェンの積層体は、グラフェンが2〜10層の範囲内で積層されていることが好ましく、グラフェンが4〜6層の範囲内で積層されていることがさらに好ましい。これにより、グラフェンの積層体は、アモルファスカーボンで保護され、剥離が生じにくくなる。また、グラフェンの積層体が有する耐摩耗性、耐摺動性、耐腐食性が生かしやすくなる。   In the graphene laminate, graphene is preferably laminated within a range of 2 to 10 layers, and more preferably graphene is laminated within a range of 4 to 6 layers. As a result, the graphene laminate is protected by amorphous carbon and is less likely to be peeled off. In addition, the wear resistance, sliding resistance, and corrosion resistance of the graphene laminate are easily utilized.

グラフェン及び/又はグラフェンの積層体は、窒素がドーピングされていることが好ましい。これにより、グラフェンの六員環構造を保ちながら、炭素原子を置換するように窒素原子をドーピングすることができるため、グラフェン及び/又はグラフェンの積層体の結晶性を低下させることなく、潤滑層25を形成する際の保護層24の潤滑剤に対する濡れ性を高めることができる。   The graphene and / or the graphene stack is preferably doped with nitrogen. Accordingly, since the nitrogen atom can be doped so as to replace the carbon atom while maintaining the graphene six-membered ring structure, the lubricating layer 25 can be obtained without reducing the crystallinity of the graphene and / or the graphene laminate. It is possible to improve the wettability of the protective layer 24 to the lubricant when forming the film.

ここで、従来、保護層として用いられているアモルファスカーボン膜は、表面が基本的には撥水性であることから、潤滑剤を塗布して潤滑層を形成するために、表面が窒化、酸化等により改質されている。そして、表面を窒化、酸化等により改質するためには、ある程度の膜厚が必要であるため、保護層の薄膜化の障害となっている。また、アモルファスカーボン膜を窒素ドーピングすることも可能ではあるが、アモルファス構造であるため、膜質の悪化や不安定化を引き起こし、保護層の耐摩耗性、耐摺動性及び耐腐食性が低下する。   Here, since the surface of an amorphous carbon film conventionally used as a protective layer is basically water-repellent, the surface is nitrided, oxidized, etc. in order to form a lubricating layer by applying a lubricant. It has been modified by. In order to modify the surface by nitridation, oxidation, or the like, a certain degree of film thickness is required, which is an obstacle to reducing the thickness of the protective layer. Although it is possible to dope the amorphous carbon film with nitrogen, it has an amorphous structure, which causes deterioration and instability of the film quality, and lowers the wear resistance, sliding resistance and corrosion resistance of the protective layer. .

非磁性基板20を構成する材料としては、特に限定されないが、Al、Al−Mg合金等のAl合金、ソーダガラス、アルミノシリケート系ガラス、結晶化ガラス類、アモルファスガラス類、シリコン、チタン、セラミックス、各種樹脂等が挙げられる。中でも、Al合金、結晶化ガラス等のガラス、シリコンが好ましい。   The material constituting the nonmagnetic substrate 20 is not particularly limited, but Al alloy such as Al, Al-Mg alloy, soda glass, aluminosilicate glass, crystallized glass, amorphous glass, silicon, titanium, ceramics, Various resins are listed. Among these, glass such as Al alloy and crystallized glass, and silicon are preferable.

非磁性基板20の算術平均粗さ(Ra)は、通常、1nm以下であり、0.5nm以下であることが好ましく、0.1nm以下であることがさらに好ましい。   The arithmetic average roughness (Ra) of the nonmagnetic substrate 20 is usually 1 nm or less, preferably 0.5 nm or less, and more preferably 0.1 nm or less.

軟磁性層21を構成する材料としては、特に限定されないが、FeCo基合金(例えば、FeCoB、FeCoSiB、FeCoZr、FeCoZrB、FeCoZrBCu)、CoFe合金、FeTa基合金(例えば、FeTaN、FeTaC)、Co基合金(例えば、CoTaZr、CoZrNB、CoB)等が挙げられる。   The material constituting the soft magnetic layer 21 is not particularly limited, but FeCo-based alloys (for example, FeCoB, FeCoSiB, FeCoZr, FeCoZrB, FeCoZrBCu), CoFe alloys, FeTa-based alloys (for example, FeTaN, FeTaC), and Co-based alloys. (For example, CoTaZr, CoZrNB, CoB) and the like.

中間層22を構成する材料としては、Ru等が挙げられる。   Examples of the material constituting the intermediate layer 22 include Ru.

垂直磁性層23は、グラニュラ構造の磁性層及び非グラニュラ構造の磁性層を順次積層することにより、形成することができる。   The perpendicular magnetic layer 23 can be formed by sequentially laminating a magnetic layer having a granular structure and a magnetic layer having a non-granular structure.

グラニュラ構造の磁性層を構成する材料としては、特に限定されないが、70Co−5Cr−15Pt−10SiO合金等が挙げられる。 A material constituting the magnetic layer having the granular structure is not particularly limited, and examples thereof include 70Co-5Cr-15Pt-10SiO 2 alloy.

非グラニュラ構造の磁性層を構成する材料としては、特に限定されないが、70Co−15Cr−15Pt合金等が挙げられる。   A material constituting the magnetic layer having a non-granular structure is not particularly limited, and examples thereof include a 70Co-15Cr-15Pt alloy.

なお、軟磁性層21と中間層22との間に、配向制御層を形成してもよい。   An orientation control layer may be formed between the soft magnetic layer 21 and the intermediate layer 22.

配向制御層を構成する材料としては、特に限定されないが、Pt、Pd、NiCr合金、NiFeCr合金、NiW合金等が挙げられる。   The material constituting the orientation control layer is not particularly limited, and examples thereof include Pt, Pd, NiCr alloy, NiFeCr alloy, and NiW alloy.

垂直磁性層23の厚さは、通常、3〜20nmであり、5〜15nmであることが好ましい。   The thickness of the perpendicular magnetic layer 23 is usually 3 to 20 nm, and preferably 5 to 15 nm.

垂直磁性層23の厚さは、再生の際に一定以上の出力を得るため、一定以上とすることが好ましい。ただし、記録再生特性を表す諸パラメーターは、通常、出力の上昇と共に、劣化するため、垂直磁性層23の厚さは、磁気記録再生装置の構成に合わせて設定することが好ましい。すなわち、垂直磁性層23は、使用する磁性合金の種類と積層構造に合わせて、十分なヘッド出入力が得られるように形成することが好ましい。   The thickness of the perpendicular magnetic layer 23 is preferably set to a certain value or more in order to obtain a certain value or more during reproduction. However, since various parameters representing the recording / reproducing characteristics usually deteriorate as the output increases, the thickness of the perpendicular magnetic layer 23 is preferably set in accordance with the configuration of the magnetic recording / reproducing apparatus. That is, the perpendicular magnetic layer 23 is preferably formed so as to obtain sufficient head input / output according to the type of magnetic alloy used and the laminated structure.

潤滑層25は、潤滑剤を塗布することにより形成することができる。   The lubricating layer 25 can be formed by applying a lubricant.

潤滑剤としては、特に限定されないが、パーフルオロエーテル(PFPE)等の弗化系液体潤滑剤、脂肪酸等の固体潤滑剤等が挙げられる。   The lubricant is not particularly limited, and examples thereof include fluorinated liquid lubricants such as perfluoroether (PFPE) and solid lubricants such as fatty acids.

潤滑剤の塗布方法としては、特に限定されないが、ディッピング法、スピンコート法等が挙げられる。   The method for applying the lubricant is not particularly limited, and examples thereof include a dipping method and a spin coating method.

潤滑層25の厚さは、通常、1〜4nmである。   The thickness of the lubricating layer 25 is usually 1 to 4 nm.

垂直磁気記録媒体31は、公知のインライン式成膜装置を用いて、複数の成膜室の間で、非磁性基板20を順次搬送させながら、軟磁性層21、中間層22、垂直磁性層23、保護層24及び潤滑層25を順次積層することにより、製造することができる。   The perpendicular magnetic recording medium 31 uses a known in-line film forming apparatus to sequentially transport the nonmagnetic substrate 20 between a plurality of film forming chambers, while soft magnetic layer 21, intermediate layer 22, and perpendicular magnetic layer 23. Further, the protective layer 24 and the lubricating layer 25 can be sequentially laminated.

図4に、磁気記録再生装置の一例を示す。   FIG. 4 shows an example of a magnetic recording / reproducing apparatus.

磁気記録再生装置30は、垂直磁気記録媒体31と、垂直磁気記録媒体31を回転駆動させる媒体駆動部32と、磁気ヘッド33と、磁気ヘッド33を駆動するヘッド駆動部34と、記録再生信号処理系35を備える。磁気ヘッド33は、垂直磁気記録媒体31に情報を記録し、垂直磁気記録媒体31に記録されている情報を再生する。記録再生信号処理系35は、入力されたデータを処理して記録信号を磁気ヘッド33に送信し、磁気ヘッド33から送信された再生信号を処理してデータを出力する。   The magnetic recording / reproducing apparatus 30 includes a perpendicular magnetic recording medium 31, a medium driving unit 32 that rotationally drives the perpendicular magnetic recording medium 31, a magnetic head 33, a head driving unit 34 that drives the magnetic head 33, and recording / reproducing signal processing. A system 35 is provided. The magnetic head 33 records information on the perpendicular magnetic recording medium 31 and reproduces information recorded on the perpendicular magnetic recording medium 31. The recording / reproducing signal processing system 35 processes input data and transmits a recording signal to the magnetic head 33, processes the reproducing signal transmitted from the magnetic head 33, and outputs data.

以下に、実施例を挙げて具体的に説明するが、本発明は、実施例に限定されない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited to the examples.

(実施例1〜6及び比較例1、2)
垂直磁気記録媒体31(図1参照)を以下のようにして製造した。
(Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2)
The perpendicular magnetic recording medium 31 (see FIG. 1) was manufactured as follows.

まず、非磁性基板20として、外径が2.5インチのアモルファスガラス基板を用意した。   First, an amorphous glass substrate having an outer diameter of 2.5 inches was prepared as the nonmagnetic substrate 20.

次に、インライン式成膜装置C3010(キャノンアネルバ社製)を用いて、キャリアに装着された非磁性基板20の両面に、軟磁性層21、中間層22及び垂直磁性層23を順次形成した。ここで、軟磁性層21は、厚さが30nmのCoFe合金層(70Co−30Fe)、厚さが5nmのRu層及び厚さが30nmのCoFe合金層(70Co−30Fe)が順次積層されている。また、中間層22は、厚さが7nmのNiW合金層(90Ni−10W)及び厚さが20nmのRu層が順次積層されている。さらに、垂直磁性層23は、厚さが6nmのグラニュラ構造のCoPtCr基合金層(70Co−15Pt−5Cr−10SiO)及び厚さが6nmの非グラニュラ構造のCoCrPt基合金層(64Co−20Cr−15Pt−1B)が順次積層されている。ここで、グラニュラ構造のCoCrPt基合金層及び非グラニュラ構造のCoCrPt基合金層は、六方最密充填構造を有し、(0002)結晶面が非磁性基板20に対して平行に配向している。 Next, the soft magnetic layer 21, the intermediate layer 22, and the perpendicular magnetic layer 23 were sequentially formed on both surfaces of the nonmagnetic substrate 20 mounted on the carrier using an in-line type film forming apparatus C3010 (manufactured by Canon Anelva). Here, in the soft magnetic layer 21, a CoFe alloy layer (70Co-30Fe) having a thickness of 30 nm, a Ru layer having a thickness of 5 nm, and a CoFe alloy layer (70Co-30Fe) having a thickness of 30 nm are sequentially stacked. . The intermediate layer 22 is formed by sequentially laminating a NiW alloy layer (90Ni-10W) having a thickness of 7 nm and a Ru layer having a thickness of 20 nm. Furthermore, perpendicular magnetic layer 23, CoPtCr-based alloy layer (70Co-15Pt-5Cr-10SiO 2) and a thickness of CoCrPt-based alloy layer of the non-granular structure of 6nm a granular structure having a thickness of 6nm (64Co-20Cr-15Pt -1B) are sequentially stacked. Here, the CoCrPt-based alloy layer having the granular structure and the CoCrPt-based alloy layer having the non-granular structure have a hexagonal close-packed structure, and the (0002) crystal plane is oriented in parallel to the nonmagnetic substrate 20.

次に、図2に示す成膜装置を用いて、垂直磁性層23上に保護層24を形成した。具体的には、成膜室101は、外径が180mm、長さが250mmの円筒形状を有し、この成膜室101を構成するチャンバ壁の材質はSUS304である。成膜室101内には、長さ約30mmのタンタルからなるコイル状のカソード電極104aと、カソード電極104aの周囲を囲む円筒状のアノード電極104bとが設けられている。アノード電極104bは、材質がSUS304であり、外径が140mm、長さが40mmである。また、カソード電極104aと非磁性基板との距離は160mmとした。そして、減圧した成膜室101内に炭素を含む原料の気体を導入し、この気体を通電により加熱されたフィラメント状のカソード電極104aと、その周囲に設けられたアノード電極104bとの間で放電によりイオン化した。   Next, the protective layer 24 was formed on the perpendicular magnetic layer 23 using the film forming apparatus shown in FIG. Specifically, the film forming chamber 101 has a cylindrical shape with an outer diameter of 180 mm and a length of 250 mm, and the material of the chamber wall constituting the film forming chamber 101 is SUS304. In the film forming chamber 101, a coiled cathode electrode 104a made of tantalum having a length of about 30 mm and a cylindrical anode electrode 104b surrounding the cathode electrode 104a are provided. The anode electrode 104b is made of SUS304, has an outer diameter of 140 mm, and a length of 40 mm. The distance between the cathode electrode 104a and the nonmagnetic substrate was 160 mm. Then, a raw material gas containing carbon is introduced into the film forming chamber 101 having a reduced pressure, and a discharge is performed between the filament-shaped cathode electrode 104a heated by energization of the gas and the anode electrode 104b provided therearound. Ionized.

原料ガスについては、エチレンを用いた。そして、保護層24の成膜条件については、ガス流量、反応圧力、成膜時間を表1のように変化させ、カソード電力を800W、カソード電極104aとアノード電極104b間の電圧を75V、電流を1650mA、イオンの加速電圧を200V、180mA、基板温度を550℃、成膜する保護層24の膜厚を1nmとした。
Ethylene was used as the source gas. As for the film formation conditions of the protective layer 24, the gas flow rate, reaction pressure, and film formation time are changed as shown in Table 1, the cathode power is 800 W, the voltage between the cathode electrode 104a and the anode electrode 104b is 75V, and the current is The ion acceleration voltage was 200 V, 180 mA, the substrate temperature was 550 ° C., and the thickness of the protective layer 24 to be deposited was 1 nm.

Figure 0006485867
Figure 0006485867

保護層24を形成後、ラマン分光装置(東京インスツルメンツ社製)を用いて、保護層24を分析した。ラマン分光装置においては、高感度冷却CCD検出器(ANDOR Technoliogy社製)及び溝本数が1200/nm、ブレーズ波長が500nmの回折格子を用いた。得られた保護層の2D/Gを表1に示すが、何れも、2Dバンド、Gバンドが見られることから、保護層は、グラフェン及びアモルファスカーボンを含み、また断面TEM観察によりグラフェンの六員環構造が、垂直磁性層を構成する多結晶粒の個々の(0002)結晶面に対して平行となっていることが確認された。   After forming the protective layer 24, the protective layer 24 was analyzed using a Raman spectroscope (manufactured by Tokyo Instruments). In the Raman spectroscope, a highly sensitive cooled CCD detector (manufactured by ANDOR Technology) and a diffraction grating having a groove number of 1200 / nm and a blaze wavelength of 500 nm were used. 2D / G of the obtained protective layer is shown in Table 1. Since both 2D band and G band are seen, the protective layer contains graphene and amorphous carbon, and the graphene six-membered by cross-sectional TEM observation It was confirmed that the ring structure was parallel to the individual (0002) crystal planes of the polycrystalline grains constituting the perpendicular magnetic layer.

また、AFMを用いて、保護層表面のRmax(測定領域は5μm角)と緻密性を評価した。実施例1〜6の保護層は、2D/Gの上昇と共にRmaxも高まる傾向がみられたが、その平滑性は磁気記録再生装置としての実用に耐えるものであった。また、比較例1の保護層は膜の緻密性が低かった。また、比較例2の保護層は表面の起伏が高く、所々に未被覆箇所が観察された。 Further, by using the AFM, R max of the surface of the protective layer (measurement area is 5μm square) were evaluated as denseness. In the protective layers of Examples 1 to 6, there was a tendency for R max to increase with an increase in 2D / G, but the smoothness was able to withstand practical use as a magnetic recording / reproducing apparatus. Further, the protective layer of Comparative Example 1 had a low film density. Further, the protective layer of Comparative Example 2 had a high surface undulation, and uncoated portions were observed in some places.

次に、ディッピング装置を用いて、保護層24上に、パーフルオロポリエーテル系の潤滑剤を塗布して、厚さが1.4nmの潤滑層25を形成し、垂直磁気記録媒体31を得た。   Next, using a dipping device, a perfluoropolyether-based lubricant was applied on the protective layer 24 to form a lubricating layer 25 having a thickness of 1.4 nm. Thus, a perpendicular magnetic recording medium 31 was obtained. .

実施例1〜6で得られた垂直磁気記録媒体は磁気記録再生装置としての実用に耐えるものであった。   The perpendicular magnetic recording media obtained in Examples 1 to 6 were able to withstand practical use as a magnetic recording / reproducing apparatus.

(実施例7)
実施例7では、L1構造を有し(001)結晶面配向したFePt磁性層と、グラフェンを含む保護層を用いた垂直磁気記録媒体を製造した。
(Example 7)
In Example 7, it was prepared perpendicular magnetic recording medium using the L1 0 structure has a (001) FePt magnetic layer and the crystal plane orientation, a protective layer containing graphene.

本実施例では、実施例1〜6と同様にインライン式成膜装置C3010を用いて、2.5インチアモルファスガラス基板の両面に、シ−ド層として膜厚25nmのNi−35at%Ta層を形成し、300℃の基板加熱を行った。配向制御下地層として膜厚20nmのRu−50at%Alを形成した。次いでMoを含有する下地層を膜厚が15nmになるように形成した。さらに、バリア層として膜厚2nmのMgO層を形成した。その後、580℃の基板加熱を行い、8nmのFe−46at%Pt磁性層を形成した。   In this example, a Ni-35 at% Ta layer having a thickness of 25 nm was formed as a seed layer on both sides of a 2.5 inch amorphous glass substrate using the inline film forming apparatus C3010 as in Examples 1 to 6. The substrate was formed and heated at 300 ° C. As an orientation control underlayer, Ru-50 at% Al having a film thickness of 20 nm was formed. Next, an underlayer containing Mo was formed so as to have a film thickness of 15 nm. Further, an MgO layer having a thickness of 2 nm was formed as a barrier layer. Thereafter, the substrate was heated at 580 ° C. to form an 8 nm Fe-46 at% Pt magnetic layer.

その後、実施例2と同様の条件で保護層を形成した。得られた保護層の2D/Gは0.6、Rmaxは0.7nm、膜の緻密性も高く、磁気記録再生装置としての実用に耐えるものであった。また、磁気記録媒体の断面TEM観察によりグラフェンの六員環構造が、垂直磁性層を構成するL1構造FePt多結晶粒の個々の(001)結晶面に対して平行となっていることが確認された。 Thereafter, a protective layer was formed under the same conditions as in Example 2. The obtained protective layer had 2D / G of 0.6, Rmax of 0.7 nm, high film density, and withstands practical use as a magnetic recording / reproducing apparatus. Also, ensure that the six-membered ring structure of the graphene by cross-sectional TEM observation of the magnetic recording medium has become a parallel to constitute a perpendicular magnetic layer L1 0 structure FePt polycrystalline grains of the individual (001) crystal face It was done.

20 非磁性基板
21 軟磁性層
22 中間層
23 垂直磁性層
24 保護層
25 潤滑層
30 磁気記録再生装置
31 垂直磁気記録媒体
32 媒体駆動部
33 磁気ヘッド
34 ヘッド駆動部
35 記録再生信号処理系
DESCRIPTION OF SYMBOLS 20 Nonmagnetic board | substrate 21 Soft magnetic layer 22 Intermediate | middle layer 23 Perpendicular magnetic layer 24 Protective layer 25 Lubrication layer 30 Magnetic recording / reproducing apparatus 31 Perpendicular magnetic recording medium 32 Medium drive part 33 Magnetic head 34 Head drive part 35 Recording / reproduction signal processing system

Claims (7)

非磁性基板上に、連続した垂直磁性層と、前記垂直磁性層に接する連続した保護層とが、順に設けられた垂直磁気記録媒体において、
前記保護層はグラフェン及び/又はグラフェンの積層体と、アモルファスカーボンを含み、
前記保護層のラマンスペクトルは、2700cm−1付近のグラフェン及び/又はグラフェンの積層体の六員環構造に係る2Dバンドのピーク高さ(2D)と、1585cm−1付近のグラフェン及び/又はグラフェンの積層体のsp結合の伸縮振動に係るGバンドのピーク高さ(G)との比率(2D/G)が、0.4〜5の範囲内であることを特徴とする垂直磁気記録媒体。
In a perpendicular magnetic recording medium in which a continuous perpendicular magnetic layer and a continuous protective layer in contact with the perpendicular magnetic layer are sequentially provided on a nonmagnetic substrate,
The protective layer includes graphene and / or a stack of graphene and amorphous carbon,
The Raman spectrum of the protective layer includes graphene near 2700 cm −1 and / or the peak height (2D) of the 2D band related to the six-membered ring structure of the graphene laminate, and graphene and / or graphene near 1585 cm −1 . A perpendicular magnetic recording medium, wherein a ratio (2D / G) with a peak height (G) of a G band related to stretching vibration of sp 2 bonds of the laminate is in a range of 0.4 to 5.
前記連続した保護層と接する前記連続した垂直磁性層は、非グラニュラ構造であることを特徴とする請求項1に記載の垂直磁気記録媒体。The perpendicular magnetic recording medium according to claim 1, wherein the continuous perpendicular magnetic layer in contact with the continuous protective layer has a non-granular structure. 前記グラフェンの積層体は、グラフェンが2層以上10層以下の範囲内で積層されていることを特徴とする請求項1または2に記載の垂直磁気記録媒体。 Laminate of the graphene, a perpendicular magnetic recording medium according to claim 1 or 2, characterized in that the graphene is stacked in the range of 10 layers or less than two layers. 前記垂直磁性層の最上層は、多結晶粒を含み、
前記多結晶粒は、CoCr基合金、CoPt基合金、CoCrPt基合金又はCoPtCr基合金を含み、
前記保護層は、前記垂直磁性層の最上層と接し、グラフェン及び/又はグラフェンの積層体と、アモルファスカーボンを含み、
前記グラフェン及び/又はグラフェンの積層体は、前記多結晶粒の個々の(0002)結晶面と平行になっていることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の垂直磁気記録媒体。
The uppermost layer of the perpendicular magnetic layer includes polycrystalline grains,
The polycrystalline grains include a CoCr-based alloy, a CoPt-based alloy, a CoCrPt-based alloy, or a CoPtCr-based alloy,
The protective layer is in contact with the uppermost layer of the perpendicular magnetic layer, and includes graphene and / or a stack of graphene, and amorphous carbon.
Laminate of the graphene and / or graphene, the individual (0002) of polycrystalline grains perpendicular magnetic recording according to any one of claims 1 to 3, characterized in that is parallel to the crystal surface Medium.
前記垂直磁性層の最上層は、多結晶粒を含み、
前記多結晶粒は、L1構造を有するFePt基合金又はCoPt基合金を含み、
前記保護層は、前記垂直磁性層の最上層に接触し、グラフェン及び/又はグラフェンの積層体と、アモルファスカーボンを含み、
前記グラフェン及び/又はグラフェンの積層体は、前記多結晶粒の個々の(001)結晶面と平行になっていることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の垂直磁気記録媒体。
The uppermost layer of the perpendicular magnetic layer includes polycrystalline grains,
The polycrystalline grains include FePt based alloy or CoPt-based alloy having an L1 0 structure,
The protective layer is in contact with the uppermost layer of the perpendicular magnetic layer, and includes graphene and / or a stack of graphene, and amorphous carbon.
The graphene and / or graphene laminate, the polycrystalline grain of the individual (001) perpendicular magnetic recording according to any one of claims 1 to 3, characterized in that is parallel to the crystal surface Medium.
前記グラフェン及び/又はグラフェンの積層体は、窒素を含むことを特徴とする請求項1からのいずれか一項に記載の垂直磁気記録媒体。 The graphene and / or laminate of graphene, perpendicular magnetic recording medium according to claim 1, any one of 5, which comprises nitrogen. 請求項1からのいずれか一項に記載の垂直磁気記録媒体と、
該垂直磁気記録媒体に情報を記録し、該垂直磁気記録媒体に記録されている情報を再生する磁気ヘッドと、
を有することを特徴とする磁気記録再生装置。
The perpendicular magnetic recording medium according to any one of claims 1 to 6 ,
A magnetic head for recording information on the perpendicular magnetic recording medium and reproducing information recorded on the perpendicular magnetic recording medium;
A magnetic recording / reproducing apparatus comprising:
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