JP6468412B2 - Magnetic core and coil device - Google Patents

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Description

本発明は、端子電極の形成が容易な磁性体コアと、その磁性体コアを有するコイル装置に関する。   The present invention relates to a magnetic core in which terminal electrodes can be easily formed, and a coil device having the magnetic core.

コイル装置などに用いられる磁性体コアに端子電極(たとえばAg電極膜)を形成するには、まず、磁性体コアの電極予定部分に、Ag粉とガラスフリットを塗布し熱処理(焼成)して下地電極を形成し、その後に、NiおよびSnめっきしている。   In order to form a terminal electrode (for example, an Ag electrode film) on a magnetic core used in a coil device or the like, first, Ag powder and glass frit are applied to a predetermined electrode portion of the magnetic core, and heat treatment (firing) is performed. An electrode is formed, followed by Ni and Sn plating.

あるいは、下記の特許文献1に示すように、下地電極にハンダペーストを塗布して端子電極を形成している。いずれにしても、Ag粉とガラスフリットを塗布し熱処理(焼成)して下地電極を形成する必要があり、工程が煩雑となり作業性が悪いという課題を有する。また、このような方法で下地電極を形成するために、ガラスフリットの一部が表面に存在することになり、メッキが困難な場合があるという課題もある。   Alternatively, as shown in Patent Document 1 below, a terminal electrode is formed by applying solder paste to the base electrode. In any case, it is necessary to apply the Ag powder and the glass frit and to perform heat treatment (firing) to form the base electrode, which has a problem that the process becomes complicated and the workability is poor. In addition, since the base electrode is formed by such a method, a part of the glass frit exists on the surface, and there is a problem that plating may be difficult.

特開2013−45928号公報JP 2013-45928 A

本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、端子電極の形成が容易な磁性体コアと、その磁性体コアを有するコイル装置を提供することである。   The present invention has been made in view of such a situation, and an object thereof is to provide a magnetic core in which a terminal electrode can be easily formed and a coil device having the magnetic core.

上記目的を達成するために、本発明に係る磁性体コアは、
金属粒子が絶縁相で絶縁されている磁性体コアであって、
前記磁性体コアの表面の一部のみで、前記絶縁相が除去されて、前記金属粒子の表面が所定面積領域内で露出している電極予定部分が形成してあり、前記電極予定部分に端子電極が形成してあることを特徴とする。
In order to achieve the above object, the magnetic core according to the present invention comprises:
A magnetic core in which metal particles are insulated by an insulating phase,
The insulating phase is removed from only a part of the surface of the magnetic core, and a predetermined electrode portion in which the surface of the metal particle is exposed within a predetermined area region is formed. An electrode is formed.

本発明に係る磁性体コアでは、Agなどの金属粉とガラスフリットを塗布し熱処理(焼成)して下地電極を形成する必要がない。その代わりに、たとえば磁性体コアの表面の一部のみに、薬品を塗布するなどの化学処理や、真空プラズマ処理などの物理処理を行うことのみで、絶縁相が除去されて金属粒子の表面が露出してある電極予定部分が形成される。   In the magnetic core according to the present invention, it is not necessary to apply a metal powder such as Ag and glass frit and to perform heat treatment (firing) to form a base electrode. Instead, for example, only by performing chemical treatment such as applying chemicals on a part of the surface of the magnetic core, or physical treatment such as vacuum plasma treatment, the insulating phase is removed, and the surface of the metal particles is removed. An exposed electrode portion is formed.

電極予定部分では、絶縁相が除去されて金属粒子の表面が露出してあることから、その表面にメッキ処理が可能であり、メッキにより容易に端子電極を形成することができる。また本発明では、ガラスフリットを用いないので、ガラスフリットの一部が表面に存在することも無くなり、メッキが容易且つ確実に行うことができる。なお、本発明の電極予定部分には、メッキの代わりにハンダ被膜を形成することも容易である。本発明では、記端子電極は、メッキ膜またはハンダ被膜で構成することができる。   Since the insulating phase is removed and the surface of the metal particles is exposed at the planned electrode portion, the surface can be plated, and the terminal electrode can be easily formed by plating. In the present invention, since glass frit is not used, part of the glass frit does not exist on the surface, and plating can be performed easily and reliably. In addition, it is also easy to form a solder film on the planned electrode portion of the present invention instead of plating. In the present invention, the recording terminal electrode can be composed of a plating film or a solder film.

本発明では、電極予定部分の形成方法は、特に限定されないが、好ましくは、磁性体コアの表面の一部に、薬品を塗布するなどの化学処理や、真空プラズマ処理などの物理処理を行う。   In the present invention, the method of forming the electrode planned portion is not particularly limited, but preferably, chemical treatment such as applying a chemical to a part of the surface of the magnetic core or physical treatment such as vacuum plasma treatment is performed.

前記絶縁相は、前記金属粒子の表面に形成してある無機絶縁被膜であっても良いし、前記金属粒子が分散してある合成樹脂であってもよい。   The insulating phase may be an inorganic insulating film formed on the surface of the metal particles, or a synthetic resin in which the metal particles are dispersed.

好ましくは、前記磁性体コアには、
ワイヤが巻回される巻芯部と、
前記巻芯部の軸芯方向の端部に位置する鍔部と、が一体に形成してあり、
前記電極予定部分が、前記鍔部に形成してある。
Preferably, the magnetic core includes
A core around which the wire is wound;
And a flange portion located at an end portion in the axial direction of the winding core portion are integrally formed,
The planned electrode portion is formed in the collar portion.

たとえば前記ワイヤの少なくとも一端が前記端子電極に接続される。   For example, at least one end of the wire is connected to the terminal electrode.

本発明に係るコイル装置は、
上記に記載の磁性体コアと、前記巻芯部に巻回されるワイヤとを有する。
The coil device according to the present invention includes:
The magnetic core according to the above and a wire wound around the core portion.

図1Aは本発明の一実施形態に係るコイル装置の一部切り欠き斜視図である。FIG. 1A is a partially cutaway perspective view of a coil device according to an embodiment of the present invention. 図1Bは本発明の他の実施形態に係るコイル装置の一部切り欠き斜視図である。FIG. 1B is a partially cutaway perspective view of a coil device according to another embodiment of the present invention. 図2は図1Aに示すコイル装置を底面側から見た斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of the coil device shown in FIG. 1A as viewed from the bottom side. 図3(A)〜図3(C)は図1Aに示す端子電極の製造方法を示す概略断面図である。3A to 3C are schematic cross-sectional views showing a method for manufacturing the terminal electrode shown in FIG. 1A. 図4は本発明の他の実施形態に係るコイル装置の製造過程を示す磁性体コアの斜視図である。FIG. 4 is a perspective view of a magnetic core showing a manufacturing process of a coil device according to another embodiment of the present invention. 図5Aは図4の続きの工程を示し、電極予定部分の変形例を示す斜視図である。FIG. 5A is a perspective view showing a modified example of the planned electrode portion, following the step of FIG. 図5Bは図5Aの変形例を示す斜視図である。FIG. 5B is a perspective view showing a modification of FIG. 5A. 図6Aは図5(A)の続きの工程を示すコイル装置の製造過程を示す斜視図である。FIG. 6A is a perspective view showing a manufacturing process of the coil device showing a continuation process of FIG. 図6Bは図6Aとは異なる製造工程を示し、図5(A)の続きの工程を示すコイル装置の製造過程を示す斜視図である。FIG. 6B is a perspective view showing a manufacturing process of the coil device showing a manufacturing process different from FIG. 6A and showing a process subsequent to FIG. 図7Aは図6Aの続きの工程を示す本発明の他の実施形態に係るコイル装置の斜視図である。FIG. 7A is a perspective view of a coil device according to another embodiment of the present invention showing a step subsequent to FIG. 6A. 図7Bは図6Bの続きの工程を示す本発明のさらに他の実施形態に係るコイル装置の斜視図である。FIG. 7B is a perspective view of a coil device according to still another embodiment of the present invention showing a step subsequent to FIG. 6B. Aは図Aに示すVIIIA−VIIIA線に沿う断面斜視図である。Figure 8 A is a cross-sectional perspective view taken along VIIIA-VIIIA line shown in FIG. 7 A. Bは図Bに示すVIIIB−VIIIB線に沿う断面斜視図である。Figure 8 B is a cross-sectional perspective view taken along VIIIB-VIIIB line shown in FIG. 7 B.

以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。   Hereinafter, the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings.

第1実施形態
図1Aおよび図2に示すように、本発明の一実施形態に係るコイル装置1は、磁性体コア2を有する。磁性体コア2は、ワイヤ12が巻回される巻芯部4と、巻芯部4の軸芯方向(Z軸方向)の両端部に各々位置する鍔部6,8とを有し、これらが一体に成形してある。
First Embodiment As shown in FIGS. 1A and 2, a coil device 1 according to an embodiment of the present invention has a magnetic core 2. The magnetic core 2 has a core portion 4 around which the wire 12 is wound, and flanges 6 and 8 that are positioned at both ends in the axial direction (Z-axis direction) of the core portion 4, respectively. Is integrally molded.

巻芯部4は、本実施形態では、円柱形状であり、その回りにワイヤ12が単層または複数層で巻回されてコイル部10を構成している。ただし、巻芯部4は、円柱形状に限定されず、楕円柱形状、角柱形状、あるいはその他の形状であっても良い。また、鍔部6および8は、本実施形態では、矩形板形状であるが、多角板形状、円板形状、楕円板形状、その他、巻芯部4よりも大きなサイズの形状であれば、どのような形状であっても良い。   In the present embodiment, the winding core portion 4 has a cylindrical shape, and the wire 12 is wound in a single layer or a plurality of layers around the winding core portion 4 to constitute the coil portion 10. However, the core part 4 is not limited to a cylindrical shape, and may be an elliptical column shape, a prismatic shape, or other shapes. Moreover, although the collar parts 6 and 8 are rectangular plate shapes in this embodiment, any shape can be used as long as it is a polygonal plate shape, a disk shape, an elliptical plate shape, or any other size larger than the core portion 4. Such a shape may be used.

鍔部6および8は、必ずしも相互に同じ形状である必要はないが、本実施形態では、同じ形状である。コイル装置1のサイズは、特に限定されないが、縦(X軸方向)が0.4〜20mmであり、横(Y軸方向)が0.2〜20mmであり、高さ(Z軸方向)が0.2〜15mmである。なお、X軸、Y軸およびZ軸は相互に垂直である。   The flanges 6 and 8 do not necessarily have the same shape as each other, but have the same shape in the present embodiment. The size of the coil device 1 is not particularly limited, but the length (X-axis direction) is 0.4 to 20 mm, the width (Y-axis direction) is 0.2 to 20 mm, and the height (Z-axis direction) is. 0.2 to 15 mm. Note that the X axis, the Y axis, and the Z axis are perpendicular to each other.

本実施形態では、二つの鍔部6および8の内、コイル装置1が実装される側の鍔部8の裏面8aで、X軸方向の両側に、所定距離離れ絶縁されて、端子電極24および26が形成してある。端子電極24は、鍔部8の裏面8aに固定してある電極本体24aと、この電極本体24aのY軸方向の両端に連続して形成してあり、鍔部8のY軸方向に対向する側面8bおよび8cに固定してある補助電極片24bとを有する。   In the present embodiment, of the two flange portions 6 and 8, the back surface 8a of the flange portion 8 on the side where the coil device 1 is mounted is insulated by a predetermined distance on both sides in the X-axis direction, and the terminal electrode 24 and 26 is formed. The terminal electrode 24 is formed continuously from the electrode body 24a fixed to the back surface 8a of the flange 8 and both ends of the electrode body 24a in the Y-axis direction, and is opposed to the Y-axis direction of the flange 8. And auxiliary electrode pieces 24b fixed to the side surfaces 8b and 8c.

端子電極26は、端子電極24と同様に、鍔部8の裏面8aに固定してある電極本体26aと、この電極本体26aのY軸方向の両端に連続して形成してあり、鍔部8のY軸方向に対向する側面8bおよび8cに固定してある補助電極片26bとを有する。Y軸方向の一方の側面8bに形成してある補助電極片24b,26bには、コイル部10に巻回してあるワイヤ12の両端12a,12bが、それぞれレーザ溶接、抵抗溶接あるいはハンダ付けなどで接続してある。なお、ワイヤ12の両端12a,12bは、鍔部8の裏面8aに固定してある電極本体24a,26aに直接に接続してあっても良い。   Similarly to the terminal electrode 24, the terminal electrode 26 is formed continuously from the electrode body 26 a fixed to the back surface 8 a of the collar portion 8 and both ends of the electrode body 26 a in the Y-axis direction. And auxiliary electrode pieces 26b fixed to side surfaces 8b and 8c facing each other in the Y-axis direction. On the auxiliary electrode pieces 24b and 26b formed on one side surface 8b in the Y-axis direction, both ends 12a and 12b of the wire 12 wound around the coil portion 10 are respectively formed by laser welding, resistance welding, or soldering. Connected. Note that both ends 12 a and 12 b of the wire 12 may be directly connected to electrode bodies 24 a and 26 a fixed to the back surface 8 a of the flange portion 8.

本実施形態では、ワイヤ12としては、特に限定されず、単線または撚り線でも良く、その材質としては、銅、銀、金、またはこれらの合金などが例示される。また、ワイヤ12の横断面は、円形に限らず、図1Bに示すように、平角状断面であっても良い。これらのワイヤ12は、補助電極片24b,26bに接続される両端12a,12b以外の部分で絶縁被覆されていることが好ましい。なお、図1Bでは、ワイヤ12が巻芯部4にエッジワイズ巻きされているが、クロスワイズ巻にされていても良い。   In the present embodiment, the wire 12 is not particularly limited, and may be a single wire or a stranded wire. Examples of the material include copper, silver, gold, and alloys thereof. Further, the cross section of the wire 12 is not limited to a circle, and may be a flat section as shown in FIG. 1B. These wires 12 are preferably covered with insulation at portions other than both ends 12a and 12b connected to the auxiliary electrode pieces 24b and 26b. In FIG. 1B, the wire 12 is edgewise wound around the core 4 but may be crosswise wound.

本実施形態では、磁性体コア2は、図3(A)に示すように、多数の金属粒子30が絶縁相としての無機絶縁被膜32で相互に絶縁してある微細構造を有する。金属粒子30としては、磁性体金属であれば、特に限定されず、たとえばFe−Ni合金粉、Fe−Si合金粉、Fe−Si−Cr合金粉、Fe−Si−Al合金粉、パーマロイ粉、アモルファス粉、Fe粉などが例示される。これらの強磁性金属粉末は、フェライト粉末と比べて飽和磁束密度が大きく、直流重畳特性が高磁界まで保たれるため、好適である。   In this embodiment, as shown in FIG. 3A, the magnetic core 2 has a microstructure in which a large number of metal particles 30 are insulated from each other by an inorganic insulating film 32 as an insulating phase. The metal particles 30 are not particularly limited as long as they are magnetic metals. For example, Fe-Ni alloy powder, Fe-Si alloy powder, Fe-Si-Cr alloy powder, Fe-Si-Al alloy powder, permalloy powder, Amorphous powder, Fe powder, etc. are illustrated. These ferromagnetic metal powders are suitable because they have a higher saturation magnetic flux density than the ferrite powders, and the DC superposition characteristics are maintained up to a high magnetic field.

無機絶縁被膜32は、たとえばシリコン系酸化被膜、金属酸化膜、ガラス膜などで構成される。金属粒子30の粒径は、特に限定されないが、好ましくは平均粒径0.5〜100μmである。無機絶縁被膜32の膜厚は、特に限定されないが、好ましくは金属粒子30の粒径の1/1000〜1/10である。金属粒子30自体は導電性を有するが、金属粒子30相互間は、絶縁被膜32により絶縁されており、磁性体コア2の全体としては絶縁体と言える。   The inorganic insulating film 32 is made of, for example, a silicon oxide film, a metal oxide film, a glass film, or the like. The particle size of the metal particles 30 is not particularly limited, but is preferably an average particle size of 0.5 to 100 μm. The thickness of the inorganic insulating coating 32 is not particularly limited, but is preferably 1/1000 to 1/10 of the particle size of the metal particles 30. Although the metal particles 30 themselves have conductivity, the metal particles 30 are insulated from each other by an insulating coating 32, and the whole magnetic core 2 can be said to be an insulator.

本実施形態の磁性体コア2は、焼結体であり、金属粒子30が含まれる造粒粉を金型内で所定形状に加圧成形後に焼成することで得られる。成形方法としては、本実施形態に限定されない。例えば射出成型、押出成型、積層成形、トランスファー成形などが例示される。焼成前のコア成形体を、たとえば600〜1100℃で焼成することで、焼成後の磁性体コア2が得られる。   The magnetic core 2 of the present embodiment is a sintered body, and is obtained by firing granulated powder containing the metal particles 30 into a predetermined shape after being pressure-molded in a mold. The molding method is not limited to this embodiment. For example, injection molding, extrusion molding, lamination molding, transfer molding and the like are exemplified. By firing the core molded body before firing at, for example, 600 to 1100 ° C., the magnetic core 2 after firing is obtained.

図1Aおよび図1Bに示す磁性体コア2に端子電極24および26を形成する方法を次に示す。   A method for forming the terminal electrodes 24 and 26 on the magnetic core 2 shown in FIGS. 1A and 1B will be described below.

端子電極24および26が形成される磁性体コア2の電極予定部分20のみについて、コア2の表面で化学処理を行う。この化学処理に際しては、電極予定部分20に対応する磁性体コア2の表面のみを露出させて、コア2の他の部分の表面をレジスト膜(化学処理後に除去される)などでマスキングする。その状態で、電極予定部分20に対応する磁性体コア2の表面のみを、電極予定部分20に対応する所定面積の範囲内で、薬品に浸す。薬品としては、絶縁被膜32を溶解させて除去させる薬品が好ましい。   Only the planned electrode portion 20 of the magnetic core 2 where the terminal electrodes 24 and 26 are formed is subjected to chemical treatment on the surface of the core 2. In this chemical treatment, only the surface of the magnetic core 2 corresponding to the planned electrode portion 20 is exposed, and the surface of the other portion of the core 2 is masked with a resist film (removed after the chemical treatment) or the like. In this state, only the surface of the magnetic core 2 corresponding to the planned electrode portion 20 is immersed in a chemical within a predetermined area corresponding to the planned electrode portion 20. As the chemical, a chemical that dissolves and removes the insulating coating 32 is preferable.

たとえば絶縁被膜32が酸化珪素膜である場合には、薬品としては、フッ酸、化成ソーダなどが用いられる。また、絶縁被膜32が(金属酸化膜)である場合には、薬品としては、酸化被膜除去剤、硝酸、硫酸、塩酸、アンモニアなどが用いられる。   For example, when the insulating coating 32 is a silicon oxide film, hydrofluoric acid, chemical conversion soda, or the like is used as the chemical. When the insulating film 32 is a (metal oxide film), an oxide film remover, nitric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, ammonia, or the like is used as the chemical.

電極予定部分20に対応する磁性体コア2の表面を薬品に浸す条件としては、図3(B)に示すように、電極予定部分20に対応するコア2の表面において、金属粒子30の表面が露出し、しかも処理後の最終表面に位置する金属粒子30が表面から脱落しないような条件である。金属粒子30が表面から脱落しないようにするためには、金属粒子30の外側表面のみで金属粒子が露出して、金属粒子30の内側表面では、絶縁被膜32が除去されていないことが好ましい。   As conditions for immersing the surface of the magnetic core 2 corresponding to the planned electrode portion 20 in the chemical, as shown in FIG. 3B, the surface of the metal particle 30 on the surface of the core 2 corresponding to the planned electrode portion 20 is The conditions are such that the metal particles 30 that are exposed and located on the final surface after treatment do not fall off the surface. In order to prevent the metal particles 30 from falling off the surface, it is preferable that the metal particles are exposed only on the outer surface of the metal particles 30 and the insulating coating 32 is not removed on the inner surface of the metal particles 30.

図3(B)に示すような表面状態を実現するための方法としては、薬品浸漬処理に限らない。たとえば真空プラズマ処理などの物理処理であっても良い。   The method for realizing the surface state as shown in FIG. 3B is not limited to the chemical immersion treatment. For example, physical processing such as vacuum plasma processing may be used.

また、図3(B)に示すような表面状態を実現するためのその他の方法としては、サンドブラストなどが例示される。   Moreover, sandblasting etc. are illustrated as another method for implement | achieving a surface state as shown to FIG. 3 (B).

次に、本実施形態では、図3(C)に示すように、絶縁被膜32が除去されて金属粒子30の表面が露出している電極予定部20の表面に、電メッキまたは無電メッキにより、所望のメッキ膜を析出させて所定厚みの端子電極24および26を形成する。メッキ膜は、単層でも複層でも良く、たとえばNi−Snメッキ、Cu−Ni−Snメッキ、Snめっき、Ni−Auメッキ、Auメッキなどのメッキ膜が形成される。端子電極24および26の厚みは、特に限定されないが、好ましくは0.1〜15μmである。 Then, in the present embodiment, as shown in FIG. 3 (C), the insulating film 32 is removed on the surface of the electrode scheduled portion 20 where the surface of the metal particles 30 are exposed, electrolytic plating or electroless solutions plating Thus, a desired plating film is deposited to form terminal electrodes 24 and 26 having a predetermined thickness. The plating film may be a single layer or multiple layers. For example, a plating film such as Ni—Sn plating, Cu—Ni—Sn plating, Sn plating, Ni—Au plating, or Au plating is formed. The thickness of the terminal electrodes 24 and 26 is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 15 μm.

本実施形態に係る磁性体コア2では、Agなどの金属粉とガラスフリットを塗布し熱処理(焼成)して下地電極を形成する必要がない。その代わりに、たとえば磁性体コア2の表面の一部(電極予定部分20)のみを化学処理または物理処理することのみで、絶縁被膜32が除去されて金属粒子30の表面が露出している電極予定部分20が形成される。   In the magnetic core 2 according to the present embodiment, it is not necessary to apply a metal powder such as Ag and glass frit and perform heat treatment (firing) to form a base electrode. Instead, for example, an electrode in which the surface of the metal particle 30 is exposed by removing the insulating coating 32 only by chemical treatment or physical treatment of only a part of the surface of the magnetic core 2 (predetermined electrode portion 20). A planned portion 20 is formed.

電極予定部分20では、絶縁被膜32が除去されて金属粒子30の表面が露出していることから、その表面にメッキ処理が容易であり、メッキにより容易に端子電極24,26を形成することができる。また本実施形態では、ガラスフリットを用いないので、ガラスフリットの一部が表面に存在することも無くなり、メッキが容易且つ確実に行うことができる。また、本実施形態では、Agなどの金属粉とガラスフリットを塗布し熱処理(焼成)して下地電極を形成する必要がないため、製造コストの低減にも寄与する。   Since the insulating coating 32 is removed and the surface of the metal particles 30 is exposed at the planned electrode portion 20, the surface can be easily plated, and the terminal electrodes 24 and 26 can be easily formed by plating. it can. In the present embodiment, since glass frit is not used, part of the glass frit does not exist on the surface, and plating can be performed easily and reliably. Further, in the present embodiment, it is not necessary to form a base electrode by applying a metal powder such as Ag and glass frit and performing heat treatment (firing), which contributes to a reduction in manufacturing cost.

なお、本実施形態では、電極予定部分20で、メッキの代わりにハンダ被膜を形成して端子電極24,26を形成しても良い。ハンダ被膜を形成するには、図3(B)および図
3(C)に示すように、絶縁被膜32が除去されて金属粒子30の表面が露出している電極予定部分の表面20に、選択的にハンダ被膜を形成し、端子電極24,26を得る。ハンダ被膜の形成に際しては、フラックスの塗布後に、ディッピング法によりハンダ被膜を形成し、端子電極24,26を形成しても良い。
In the present embodiment, the terminal electrodes 24 and 26 may be formed by forming a solder film at the planned electrode portion 20 instead of plating. In order to form a solder film, as shown in FIGS. 3B and 3C, the surface 20 of the planned electrode portion where the surface of the metal particles 30 is exposed by removing the insulating film 32 is selected. Then, a solder film is formed, and terminal electrodes 24 and 26 are obtained. In forming the solder film, the terminal electrodes 24 and 26 may be formed by forming a solder film by dipping after applying the flux.

この場合には、メッキ処理を何ら必要としないことから、さらに作業性が向上すると共に、製造コストの削減にも寄与する。さらに、メッキ処理を行わないことにより、めっき液残留によるIR劣化を有効に防止することができる。   In this case, since no plating process is required, the workability is further improved and the manufacturing cost is reduced. Furthermore, by not performing the plating process, it is possible to effectively prevent IR deterioration due to the remaining plating solution.

また、上述した実施形態では、端子電極24,26を鍔部8の底面8aのみでなく、側面8b,8cにも連続して形成してあるが、いずれか一方の面のみに形成しても良い。また、端子電極24,26が形成される位置は、特に限定されない。   In the above-described embodiment, the terminal electrodes 24 and 26 are continuously formed not only on the bottom surface 8a of the flange portion 8 but also on the side surfaces 8b and 8c, but may be formed only on one of the surfaces. good. Further, the positions where the terminal electrodes 24 and 26 are formed are not particularly limited.

第2実施形態
本実施形態では、以下に示す以外は、第1実施形態と同様であり、同様な作用効果を奏する。
Second Embodiment The present embodiment is the same as the first embodiment except for the following, and has the same effects.

本実施形態では、磁性体コア2は、焼結体ではなく、圧粉成形による得られる成形体で構成してあり、合成樹脂を含んでいる。圧粉成形に際しては、金属粒子が分散された熔融状態の合成樹脂を、金型の内部に流し込み、たとえば熱により合成樹脂を硬化させる。その場合には、磁性体コア2は、金属粒子30が分散してある合成樹脂で構成され、その合成樹脂が絶縁相となる。圧粉成形に用いられる合成樹脂としては、たとえばエポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミドアミド樹脂、ポリイミド樹脂、PVA樹脂などが例示される。   In this embodiment, the magnetic body core 2 is not a sintered body but is formed of a molded body obtained by compacting and includes a synthetic resin. At the time of compacting, a molten synthetic resin in which metal particles are dispersed is poured into a mold, and the synthetic resin is cured by heat, for example. In that case, the magnetic core 2 is made of a synthetic resin in which the metal particles 30 are dispersed, and the synthetic resin becomes an insulating phase. Examples of the synthetic resin used for compacting include epoxy resins, urethane resins, acrylic resins, diallyl phthalate resins, silicone resins, polyimide amide resins, polyimide resins, PVA resins, and the like.

この実施形態において、たとえば合成樹脂がエポキシ樹脂である場合に、金属粒子30の表面に存在する合成樹脂を溶解させて除去する薬品としては、トルエン、キシレン、硫酸、硝酸などが用いられる。   In this embodiment, for example, when the synthetic resin is an epoxy resin, toluene, xylene, sulfuric acid, nitric acid, or the like is used as a chemical that dissolves and removes the synthetic resin present on the surfaces of the metal particles 30.

電極予定部分20に対応する磁性体コア2の表面を薬品に浸す条件としては、電極予定部分20に対応するコア2の表面において、金属粒子30の表面が露出し、しかも処理後の最終表面に位置する金属粒子30が表面から脱落しないような条件である。金属粒子30が表面から脱落しないようにするためには、金属粒子30の外側表面のみで金属粒子が露出して、金属粒子30の内側表面では、絶縁相としての合成樹脂が除去されていないことが好ましい。   As a condition for immersing the surface of the magnetic core 2 corresponding to the planned electrode portion 20 in the chemical, the surface of the metal particles 30 is exposed on the surface of the core 2 corresponding to the planned electrode portion 20, and the final surface after the treatment is exposed. The condition is such that the positioned metal particles 30 do not fall off the surface. In order to prevent the metal particles 30 from falling off the surface, the metal particles are exposed only on the outer surface of the metal particles 30, and the synthetic resin as an insulating phase is not removed on the inner surface of the metal particles 30. Is preferred.

このような表面状態を実現するための方法としては、薬品浸漬処理に限らない。たとえば真空プラズマ処理などの物理処理であっても良い。金属粒子30の表面の合成樹脂を除去するための真空プラズマ処理に際しての好ましい条件としては、第1実施形態における無機絶縁被膜を除去するための条件に比較して、同等であることが好ましい。   The method for realizing such a surface state is not limited to the chemical immersion treatment. For example, physical processing such as vacuum plasma processing may be used. The preferable conditions for the vacuum plasma treatment for removing the synthetic resin on the surface of the metal particles 30 are preferably the same as the conditions for removing the inorganic insulating film in the first embodiment.

第3実施形態
本発明の第実施形態に係るコイル装置は、以下に示す以外は、第1実施形態のコイル装置1と同様であり、同様な作用効果を奏する。すなわち、本実施形態では、図4および図5(A)および図5(B)に示すように、鍔部8の裏面8aに、Y軸方向に離れてX軸方向に沿って延在する一対の溝8a1が形成してある。
Third Embodiment A coil device according to a third embodiment of the present invention is the same as the coil device 1 of the first embodiment except for the following, and has the same effects. That is, in the present embodiment, as shown in FIGS. 4, 5A, and 5B, a pair that extends along the X-axis direction away from the Y-axis direction on the back surface 8a of the flange portion 8. The groove 8a1 is formed.

溝8a1は、磁性体コア2の裏面8aから研削、研磨あるいは切削により凹んで加工された部分であり、図5(A)に示すように、各溝8a1のX軸方向外側に枠部8a2が残っていても良いし、図5(B)に示すように、枠部8a2が除去されていても良い。   The groove 8a1 is a portion that is recessed from the back surface 8a of the magnetic core 2 by grinding, polishing, or cutting. As shown in FIG. 5A, a frame portion 8a2 is formed on the outer side in the X-axis direction of each groove 8a1. It may remain, or the frame portion 8a2 may be removed as shown in FIG.

各溝8a1のZ軸方向の溝深さは、特に限定されないが、鍔部8のZ軸方向厚みt0よりも小さく、t0の1/2以下が好ましい。溝8a1の溝深さは、コイル装置1のZ軸方向高さを低くする観点からは、端子電極24および26が溝8a1の少なくとも一部(好ましくは全部)が内部に収まる程度であることが好ましい。溝8a1を、研削、研磨あるいは切削により形成することで、第1実施形態と同様に、その部分に、電極予定部分20が形成される。なお、コイル装置1のZ軸方向高さを小さくする必要が無い場合には、溝8a1を形成することなく、該当する表面を研削または研磨して電極予定部分20を形成しても良い。   The groove depth in the Z-axis direction of each groove 8a1 is not particularly limited, but is preferably smaller than the thickness t0 of the flange portion 8 and ½ or less of t0. From the viewpoint of reducing the height of the coil device 1 in the Z-axis direction, the groove depth of the groove 8a1 is such that at least a part (preferably all) of the groove 8a1 is accommodated in the terminal electrodes 24 and 26. preferable. By forming the groove 8a1 by grinding, polishing, or cutting, a predetermined electrode portion 20 is formed in that portion, as in the first embodiment. In addition, when it is not necessary to make the Z-axis direction height of the coil apparatus 1 small, you may grind | polish or polish the applicable surface, without forming the groove | channel 8a1, and may form the electrode planned part 20. FIG.

各溝8a1の電極予定部分20には、図6Aに示すように、ワイヤ12による巻線がなされた後で、ワイヤ12の各端12a,12bを入り込ませても良いが、図6Bに示すように、ワイヤ12による巻線がなされる前に、各溝8a1の電極予定部分20にハンダ24Aおよび26Aを選択的に装着しても良い。   As shown in FIG. 6A, the end portions 12a and 12b of the wire 12 may be inserted into the predetermined electrode portion 20 of each groove 8a1 after being wound by the wire 12, as shown in FIG. 6A. In addition, the solder 24A and 26A may be selectively attached to the predetermined electrode portion 20 of each groove 8a1 before the wire 12 is wound.

図6Aに示すように、ワイヤ12による巻線がなされた後で、ワイヤ12の各端12a,12bを入り込ませる場合には、その後に、図7Aに示すように、各溝8a1内に位置するワイヤ12の各端12a,12bを覆うように、各溝8a1の電極予定部分20にハンダを装着して端子電極24,26を形成する。その場合には、図8Aに示すように、ハンダから成る端子電極24,26で覆われるワイヤ12の各端12a,12bは、各溝8a1の底面に密着している。   As shown in FIG. 6A, when the ends 12a and 12b of the wire 12 are inserted after the winding by the wire 12, as shown in FIG. 7A, the ends are located in the grooves 8a1. The terminal electrodes 24 and 26 are formed by attaching solder to the planned electrode portions 20 of the grooves 8a1 so as to cover the ends 12a and 12b of the wire 12. In that case, as shown in FIG. 8A, each end 12a, 12b of the wire 12 covered with the terminal electrodes 24, 26 made of solder is in close contact with the bottom surface of each groove 8a1.

図6Bに示すように、ワイヤ12による巻線がなされる前に、各溝8a1の電極予定部分20にハンダ24Aおよび26Aを選択的に装着する場合には、その後に、図6Aに示すようなワイヤ12による巻線がなされる。その後に、ワイヤ12の各端12a,12bは、図6Bに示すハンダ24Aおよび24Bの内部に埋め込まれるように再度ハンダが装着され、図7Bに示すように、ハンダから成る端子電極24,26の内部に埋め込まれる。この場合には、図8Bに示すように、端子電極24,26で覆われるワイヤ12の各端12a,12bと各溝8a1の底面との間に隙間が形成され、その間にハンダが介在することになる。   As shown in FIG. 6B, when the solders 24A and 26A are selectively attached to the predetermined electrode portion 20 of each groove 8a1 before the wire 12 is wound, as shown in FIG. The wire 12 is wound. After that, each end 12a, 12b of the wire 12 is reattached with solder so as to be embedded in the solder 24A and 24B shown in FIG. 6B, and as shown in FIG. 7B, the terminal electrodes 24, 26 made of solder are installed. Embedded inside. In this case, as shown in FIG. 8B, a gap is formed between each end 12a, 12b of the wire 12 covered with the terminal electrodes 24, 26 and the bottom surface of each groove 8a1, and solder is interposed therebetween. become.

なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be variously modified within the scope of the present invention.

たとえば上述した実施形態において、鍔部6および8の相互間の隙間で、コイル部10の外周には、磁性体粉含有の合成樹脂を充填しても良い。その場合には、コイル装置としてのインダクタンスが向上する。   For example, in the above-described embodiment, the outer periphery of the coil portion 10 may be filled with a synthetic resin containing magnetic powder in the gap between the flange portions 6 and 8. In that case, the inductance of the coil device is improved.

以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づき説明するが、本発明は、これら実施例に限定されない。   Hereinafter, although this invention is demonstrated based on a more detailed Example, this invention is not limited to these Examples.

実施例1
金型内に、金属粒子30が含まれる造粒粉を充填し、加圧成形することで、焼成前のコア成形体を得た。その焼成前のコア成形体を、600〜850℃で焼成することで、焼成後の磁性体コア2を得た。磁性体コア2の表面の一部のみを、薬品浸漬法により、5%希釈硫酸液5分の条件で化学処理した。その表面に、バレルメッキ Ni−Snの2層メッキの条件で、メッキ膜を形成し、端子電極を得た。メッキ膜は、コア2の薬品浸漬表面のみに形成されることが確認できた。メッキ膜の膜厚は合計8μmであった。なお、金属粒子30の無機絶縁被膜32は、シリコン系酸化被膜であり、その除去のための薬品は、硫酸であった。
Example 1
The mold was filled with granulated powder containing the metal particles 30 and subjected to pressure molding to obtain a core compact before firing. The core body before firing was fired at 600 to 850 ° C. to obtain a magnetic core 2 after firing. Only a part of the surface of the magnetic core 2 was chemically treated by a chemical immersion method under conditions of 5% diluted sulfuric acid solution for 5 minutes. A plating film was formed on the surface under the condition of two-layer plating of barrel plating Ni—Sn to obtain a terminal electrode. It was confirmed that the plating film was formed only on the chemical immersion surface of the core 2. The total thickness of the plating film was 8 μm. In addition, the inorganic insulating coating 32 of the metal particles 30 is a silicon-based oxide coating, and the chemical for removal thereof is sulfuric acid.

実施例2
実施例1において、メッキを行うことなく、ハンダ溶液にディッピングを行うことで、ハンダ被膜を形成した以外は、実施例1と同様にして、端子電極を形成した。ハンダ被膜は、コア2の化学処理した表面のみに形成されることが確認できた。ハンダ被膜の膜厚は20μmであった。
Example 2
In Example 1, a terminal electrode was formed in the same manner as in Example 1 except that the solder film was formed by dipping the solder solution without plating. It was confirmed that the solder coating was formed only on the chemically treated surface of the core 2. The thickness of the solder coating was 20 μm.

1… コイル装置
2… 磁性体コア
4… 巻芯部
6,8… 鍔部
8a1… 溝
8a2… 枠部
10… コイル部
12… ワイヤ
20… 電極予定部分
24,26… 端子電極
24A,26A… ハンダ
30… 金属粒子
30a… 金属粒子の平面方向の延び部分
32… 絶縁被膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Coil apparatus 2 ... Magnetic body core 4 ... Core part 6, 8 ... Eaves part 8a1 ... Groove 8a2 ... Frame part 10 ... Coil part 12 ... Wire 20 ... Electrode planned part 24, 26 ... Terminal electrode 24A, 26A ... Solder 30 ... Metal particle 30a ... Extending portion 32 of metal particle in planar direction ... Insulating coating

Claims (6)

金属粒子が絶縁相で絶縁されている磁性体コアであって、
前記磁性体コアは焼結体からなり、
前記金属粒子の平均粒径は、0.5〜100μmであり、
前記絶縁相は、前記金属粒子の表面に形成してある無機絶縁被膜であり、
前記無機絶縁被膜の膜厚は、前記金属粒子の平均粒径の1/1000〜1/10であり、
前記磁性体コアの表面の一部のみで、前記無機絶縁被膜が除去されて、隣り合う前記金属粒子の外側表面のみが所定面積領域内で露出しており、前記金属粒子の内側表面では前記無機絶縁被膜が除去されていない電極予定部分が形成してあり、
前記電極予定部分に端子電極が形成してある磁性体コア。
A magnetic core in which metal particles are insulated by an insulating phase,
The magnetic core is made of a sintered body,
The average particle diameter of the metal particles is 0.5 to 100 μm,
The insulating phase is an inorganic insulating film formed on the surface of the metal particles,
The thickness of the inorganic insulating coating is 1/1000 to 1/10 of the average particle diameter of the metal particles,
Wherein only a portion of the surface of the magnetic core, wherein the inorganic insulating film is removed, only the outer surface of the adjacent metal particles are exposed at a predetermined area region, the inorganic inside surface of the metal particles The electrode planned part where the insulating film is not removed is formed,
A magnetic core in which a terminal electrode is formed in the predetermined electrode portion.
前記端子電極は、メッキ膜またはハンダ被膜である請求項1に記載の磁性体コア。   The magnetic core according to claim 1, wherein the terminal electrode is a plating film or a solder film. 前記電極予定部分は、前記磁性体コアの表面の一部に、化学処理または物理処理を行うことで形成される請求項1または2に記載の磁性体コア。   3. The magnetic core according to claim 1, wherein the predetermined electrode portion is formed by performing chemical treatment or physical treatment on a part of the surface of the magnetic core. 前記磁性体コアには、
ワイヤが巻回される巻芯部と、
前記巻芯部の軸芯方向の端部に位置する鍔部と、が一体に形成してあり、
前記電極予定部分が、前記鍔部に形成してある請求項1〜のいずれかに記載の磁性体コア。
In the magnetic core,
A core around which the wire is wound;
And a flange portion located at an end portion in the axial direction of the winding core portion are integrally formed,
The electrode will part, the magnetic core according to any one of claims 1 to 3 is formed on the flange portion.
前記ワイヤの少なくとも一端が前記端子電極に接続される請求項に記載の磁性体コア。 The magnetic core according to claim 4 , wherein at least one end of the wire is connected to the terminal electrode. 請求項4または5に記載の磁性体コアと、
前記巻芯部に巻回されるワイヤとを有するコイル装置。
A magnetic core according to claim 4 or 5 ,
The coil apparatus which has a wire wound around the said winding core part.
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