JP6387697B2 - Magnetic core and coil device - Google Patents
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Description
本発明は、端子電極の形成が容易な磁性体コアと、その磁性体コアを有するコイル装置に関する。 The present invention relates to a magnetic core in which terminal electrodes can be easily formed, and a coil device having the magnetic core.
コイル装置などに用いられる磁性体コアに端子電極(たとえばAg電極膜)を形成するには、まず、磁性体コアの電極予定部分に、Ag粉とガラスフリットを塗布し熱処理(焼成)して下地電極を形成し、その後に、NiおよびSnめっきしている。 In order to form a terminal electrode (for example, an Ag electrode film) on a magnetic core used in a coil device or the like, first, Ag powder and glass frit are applied to a predetermined electrode portion of the magnetic core, and heat treatment (firing) is performed. An electrode is formed, followed by Ni and Sn plating.
あるいは、下記の特許文献1に示すように、下地電極にハンダペーストを塗布して端子電極を形成している。いずれにしても、Ag粉とガラスフリットを塗布し熱処理(焼成)して下地電極を形成する必要があり、工程が煩雑となり作業性が悪いという課題を有する。また、このような方法で下地電極を形成するために、ガラスフリットの一部が表面に存在することになり、メッキが困難な場合があるという課題もある。
Alternatively, as shown in
本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、端子電極の形成が容易な磁性体コアと、その磁性体コアを有するコイル装置を提供することである。 The present invention has been made in view of such a situation, and an object thereof is to provide a magnetic core in which a terminal electrode can be easily formed and a coil device having the magnetic core.
上記目的を達成するために、本発明に係る磁性体コアは、
金属粒子が絶縁相で絶縁されている磁性体コアであって、
前記磁性体コアの表面の一部のみで、前記絶縁相が除去されて、前記金属粒子の平面方向の延び部分により前記金属粒子の相互が接続してある電極予定部分が形成してあり、前記電極予定部分に端子電極が形成してあることを特徴とする。
In order to achieve the above object, the magnetic core according to the present invention comprises:
A magnetic core in which metal particles are insulated by an insulating phase,
The insulating phase is removed only in a part of the surface of the magnetic core, and a predetermined electrode portion in which the metal particles are connected to each other by a portion extending in the plane direction of the metal particles is formed, A terminal electrode is formed at a predetermined electrode portion.
本発明に係る磁性体コアでは、Agなどの金属粉とガラスフリットを塗布し熱処理(焼成)して下地電極を形成する必要がない。その代わりに、たとえば磁性体コアの表面の一部のみを研磨することのみで、絶縁相が除去されて金属粒子の平面方向の延び部分により金属粒子の相互が接続してある電極予定部分が形成される。 In the magnetic core according to the present invention, it is not necessary to apply a metal powder such as Ag and glass frit and to perform heat treatment (firing) to form a base electrode. Instead, for example, by polishing only a part of the surface of the magnetic core, the insulating phase is removed, and a predetermined electrode portion in which the metal particles are connected to each other by the extending portion in the planar direction of the metal particles is formed. Is done.
電極予定部分では、絶縁相が除去されて金属粒子の平面方向の延び部分により金属粒子の相互が接続してあることから、その表面にメッキ処理が可能であり、メッキにより容易に端子電極を形成することができる。また本発明では、ガラスフリットを用いないので、ガラスフリットの一部が表面に存在することも無くなり、メッキが容易且つ確実に行うことができる。なお、本発明の電極予定部分には、メッキの代わりにハンダ被膜を形成することも容易である。本発明では、前記端子電極は、メッキ膜またはハンダ被膜で構成することができる。
Since the insulating phase is removed and the metal particles are connected to each other in the plane direction of the metal particles, the surface can be plated, and the terminal electrode can be easily formed by plating. can do. In the present invention, since glass frit is not used, part of the glass frit does not exist on the surface, and plating can be performed easily and reliably. In addition, it is also easy to form a solder film on the planned electrode portion of the present invention instead of plating. In the present invention, prior SL terminal electrodes may be composed of a plating film or a solder coating.
本発明では、電極予定部分の形成方法は、特に限定されないが、好ましくは、磁性体コアの表面の一部を研磨すればよい。研磨方法としては、特に限定されないが、たとえば砥石などを用いる機械的研磨方法、サンドブラストや真空プラズマなどを用いる物理的研磨方法などが例示される。 In the present invention, the method for forming the planned electrode portion is not particularly limited, but preferably, a part of the surface of the magnetic core may be polished. Although it does not specifically limit as a grinding | polishing method, For example, the mechanical grinding | polishing method using a grindstone etc., the physical grinding | polishing method using a sandblast, a vacuum plasma, etc. are illustrated.
前記絶縁相は、前記金属粒子の表面に形成してある無機絶縁被膜であっても良いし、前記金属粒子が分散してある合成樹脂であってもよい。 The insulating phase may be an inorganic insulating film formed on the surface of the metal particles, or a synthetic resin in which the metal particles are dispersed.
好ましくは、前記磁性体コアには、
ワイヤが巻回される巻芯部と、
前記巻芯部の軸芯方向の端部に位置する鍔部と、が一体に形成してあり、
前記電極予定部分が、前記鍔部に形成してある。
Preferably, the magnetic core includes
A core around which the wire is wound;
And a flange portion located at an end portion in the axial direction of the winding core portion are integrally formed,
The planned electrode portion is formed in the collar portion.
たとえば前記ワイヤの少なくとも一端が前記端子電極に接続される。 For example, at least one end of the wire is connected to the terminal electrode.
本発明に係るコイル装置は、
上記に記載の磁性体コアと、前記巻芯部に巻回されるワイヤとを有する。
The coil device according to the present invention includes:
The magnetic core according to the above and a wire wound around the core portion.
第1実施形態
以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
図1Aおよび図2に示すように、本発明の一実施形態に係るコイル装置1は、磁性体コア2を有する。磁性体コア2は、ワイヤ12が巻回される巻芯部4と、巻芯部4の軸芯方向(Z軸方向)の両端部に各々位置する鍔部6,8とを有し、これらが一体に成形してある。
First Embodiment Hereinafter, the present invention will be described based on the embodiments shown in the drawings.
As shown in FIGS. 1A and 2, a
巻芯部4は、本実施形態では、円柱形状であり、その回りにワイヤ12が単層または複数層で巻回されてコイル部10を構成している。ただし、巻芯部4は、円柱形状に限定されず、楕円柱形状、角柱形状、あるいはその他の形状であっても良い。また、鍔部6および8は、本実施形態では、矩形板形状であるが、多角板形状、円板形状、楕円板形状、その他、巻芯部4よりも大きなサイズの形状であれば、どのような形状であっても良い。
In the present embodiment, the winding
鍔部6および8は、必ずしも相互に同じ形状である必要はないが、本実施形態では、同じ形状である。コイル装置1のサイズは、特に限定されないが、縦(X軸方向)が0.4〜20mmであり、横(Y軸方向)が0.2〜20mmであり、高さ(Z軸方向)が0.2〜15mmである。なお、X軸、Y軸およびZ軸は相互に垂直である。
The
本実施形態では、二つの鍔部6および8の内、コイル装置1が実装される側の鍔部8の裏面8aで、X軸方向の両側に、所定距離離れ絶縁されて、膜状の端子電極24および26が形成してある。端子電極24は、鍔部8の裏面8aに固定してある電極本体24aと、この電極本体24aのY軸方向の両端に連続して形成してあり、鍔部8のY軸方向に対向する側面8bおよび8cに固定してある補助電極片24bとを有する。
In the present embodiment, of the two
端子電極26は、端子電極24と同様に、鍔部8の裏面8aに固定してある電極本体26aと、この電極本体26aのY軸方向の両端に連続して形成してあり、鍔部8のY軸方向に対向する側面8bおよび8cに固定してある補助電極片26bとを有する。Y軸方向の一方の側面8bに形成してある補助電極片24b,26bには、コイル部10に巻回してあるワイヤ12の両端12a,12bが、それぞれレーザ溶接、抵抗溶接あるいはハンダ付けなどで接続してある。なお、ワイヤ12の両端12a,12bは、鍔部8の裏面8aに固定してある電極本体24a,26aに直接に接続してあっても良い。
Similarly to the
本実施形態では、ワイヤ12としては、特に限定されず、単線または撚り線でも良く、その材質としては、銅、銀、金、またはこれらの合金などが例示される。また、ワイヤ12の横断面は、円形に限らず、図1Bに示すように、平角状断面であっても良い。これらのワイヤ12は、補助電極片24b,26bに接続される両端12a,12b以外の部分で絶縁被覆されていることが好ましい。なお、図1Bでは、ワイヤ12が巻芯部4にエッジワイズ巻きされているが、クロスワイズ巻にされていても良い。
In the present embodiment, the
本実施形態では、磁性体コア2は、図3(A)に示すように、多数の金属粒子30が絶縁相としての無機絶縁被膜32で相互に絶縁してある微細構造を有する。金属粒子30としては、磁性体金属であれば、特に限定されず、たとえばFe−Ni合金粉、Fe−Si合金粉、Fe−Si−Cr合金粉、Fe−Si−Al合金粉、パーマロイ粉、アモルファス粉、Fe粉などが例示される。これらの強磁性金属粉末は、フェライト粉末と比べて飽和磁束密度が大きく、直流重畳特性が高磁界まで保たれるため、好適である。
In this embodiment, as shown in FIG. 3A, the
無機絶縁被膜32は、たとえばシリコン系酸化被膜、金属酸化膜、ガラス膜などで構成される。金属粒子30の粒径は、特に限定されないが、好ましくは平均粒径0.5〜100μmである。無機絶縁被膜32の膜厚は、特に限定されないが、好ましくは金属粒子30の粒径の1/1000〜1/10である。金属粒子30自体は導電性を有するが、金属粒子30相互間は、絶縁被膜32により絶縁されており、磁性体コア2の全体としては絶縁体と言える。
The inorganic insulating
本実施形態の磁性体コア2は、焼結体であり、金属粒子30が含まれる造粒粉を金型内で所定形状に加圧成形後に焼成することで得られる。成形方法としては、本実施形態に限定されない。例えば射出成型、押出成型、積層成形、トランスファー成形などが例示される。焼成前のコア成形体を、たとえば600〜1100℃で焼成することで、焼成後の磁性体コア2が得られる。
The
図1Aおよび図1Bに示す磁性体コア2に端子電極24および26を形成する方法を次に示す。
A method for forming the
端子電極24および26が形成される磁性体コア2の電極予定部分20のみについて、コア2の表面研磨(表面研削も含む)を行う。研磨方法としては、特に限定されないが、たとえば砥石などを用いる機械的研磨方法、サンドブラストや真空プラズマなどを用いる物理的研磨方法などが例示される。いずれの研磨でも良いが、電極予定部分20に対応するコア2の表面において、図3(B)に示すように、絶縁相としての絶縁被膜2が除去されて金属粒子30の平面方向の延び部分30aにより研磨後の金属粒子30の相互が接続するようになれば良い。このような観点からは、特に好ましくは、砥石、ラッピングフィルム、研磨紙による研磨方法が望ましい。
Only the planned
次に、本実施形態では、図3(C)に示すように、絶縁被膜32が除去されて金属粒子30の平面方向の延び部分30aが形成されている電極予定部20の表面に、電界メッキまたは無電界メッキにより、所望のメッキ膜を析出させて所定厚みの端子電極24および26を形成する。メッキ膜は、単層でも複層でも良く、たとえばNi−Snメッキ、Cu−Ni−Snメッキ、Snめっき、Ni−Auメッキ、Auメッキなどのメッキ膜が形成される。端子電極24および26の厚みは、特に限定されないが、好ましくは0.1〜15μmである。
Next, in this embodiment, as shown in FIG. 3 (C), electroplating is performed on the surface of the planned
本実施形態に係る磁性体コア2では、Agなどの金属粉とガラスフリットを塗布し熱処理(焼成)して下地電極を形成する必要がない。その代わりに、たとえば磁性体コア2の表面の一部(電極予定部分20)のみを研磨することのみで、絶縁被膜32が除去されて金属粒子30の平面方向の延び部分30aにより金属粒子30の相互が接続してある電極予定部分20が形成される。
In the
電極予定部分20では、絶縁被膜32が除去されて金属粒子30の平面方向の延び部分30aにより金属粒子30の相互が接続してあることから、その表面にメッキ処理が容易であり、メッキにより容易に端子電極24,26を形成することができる。また本実施形態では、ガラスフリットを用いないので、ガラスフリットの一部が表面に存在することも無くなり、メッキが容易且つ確実に行うことができる。また、本実施形態では、Agなどの金属粉とガラスフリットを塗布し熱処理(焼成)して下地電極を形成する必要がないため、製造コストの低減にも寄与する。
In the planned
なお、本実施形態の電極予定部分20では、メッキの代わりにハンダ被膜を形成して端子電極24,26を形成しても良い。ハンダ被膜を形成するには、図3(B)および図3
(C)に示すように、絶縁被膜32が除去されて金属粒子30の平面方向の延び部分30aが形成してある電極予定部分の表面20に、選択的にハンダ被膜を形成し、端子電極24,26を得る。ハンダ被膜の形成に際しては、フラックスの塗布後に、ディッピング法によりハンダ被膜を形成し、端子電極24,26を形成しても良い。
In the planned
As shown in FIG. 3C, a solder coating is selectively formed on the
この場合には、メッキ処理を何ら必要としないことから、さらに作業性が向上すると共に、製造コストの削減にも寄与する。さらに、メッキ処理を行わないことにより、めっき液残留によるIR劣化を有効に防止することができる。 In this case, since no plating process is required, the workability is further improved and the manufacturing cost is reduced. Furthermore, by not performing the plating process, it is possible to effectively prevent IR deterioration due to the remaining plating solution.
また、上述した実施形態では、端子電極24,26を鍔部8の底面8aのみでなく、側面8b,8cにも連続して形成してあるが、いずれか一方の面のみに形成しても良い。また、端子電極24,26が形成される位置は、特に限定されない。
In the above-described embodiment, the
第2実施形態
本発明の第2実施形態に係るコイル装置は、以下に示す以外は、第1実施形態のコイル装置1と同様であり、同様な作用効果を奏する。すなわち、本実施形態では、図4および図5(A)および図5(B)に示すように、鍔部8の裏面8aに、Y軸方向に離れてX軸方向に沿って延在する一対の溝8a1が形成してある。
Second Embodiment A coil device according to a second embodiment of the present invention is the same as the
溝8a1は、磁性体コア2の裏面8aから研削、研磨あるいは切削により凹んで加工された部分であり、図5(A)に示すように、各溝8a1のX軸方向外側に枠部8a2が残っていても良いし、図5(B)に示すように、枠部8a2が除去されていても良い。
The groove 8a1 is a portion that is recessed from the
各溝8a1のZ軸方向の溝深さは、特に限定されないが、鍔部8のZ軸方向厚みt0よりも小さく、t0の1/2以下が好ましい。溝8a1の溝深さは、コイル装置1のZ軸方向高さを低くする観点からは、端子電極24および26が溝8a1の少なくとも一部(好ましくは全部)が内部に収まる程度であることが好ましい。溝8a1を、研削、研磨あるいは切削により形成することで、第1実施形態と同様に、その部分に、電極予定部分20が形成される。なお、コイル装置1のZ軸方向高さを小さくする必要が無い場合には、溝8a1を形成することなく、該当する表面を研削または研磨して電極予定部分20を形成しても良い。
The groove depth in the Z-axis direction of each groove 8a1 is not particularly limited, but is preferably smaller than the thickness t0 of the
各溝8a1の電極予定部分20には、図6Aに示すように、ワイヤ12による巻線がなされた後で、ワイヤ12の各端12a,12bを入り込ませても良いが、図6Bに示すように、ワイヤ12による巻線がなされる前に、各溝8a1の電極予定部分20にハンダ24Aおよび26Aを選択的に装着しても良い。
As shown in FIG. 6A, the
図6Aに示すように、ワイヤ12による巻線がなされた後で、ワイヤ12の各端12a,12bを入り込ませる場合には、その後に、図7Aに示すように、各溝8a1内に位置するワイヤ12の各端12a,12bを覆うように、各溝8a1の電極予定部分20にハンダを装着して端子電極24,26を形成する。その場合には、図8Aに示すように、ハンダから成る端子電極24,26で覆われるワイヤ12の各端12a,12bは、各溝8a1の底面に密着している。
As shown in FIG. 6A, when the ends 12a and 12b of the
図6Bに示すように、ワイヤ12による巻線がなされる前に、各溝8a1の電極予定部分20にハンダ24Aおよび26Aを選択的に装着する場合には、その後に、図6Aに示すようなワイヤ12による巻線がなされる。その後に、ワイヤ12の各端12a,12bは、図6Bに示すハンダ24Aおよび24Bの内部に埋め込まれるように再度ハンダが装着され、図7Bに示すように、ハンダから成る端子電極24,26の内部に埋め込まれる。この場合には、図8Bに示すように、端子電極24,26で覆われるワイヤ12の各端12a,12bと各溝8a1の底面との間に隙間が形成され、その間にハンダが介在することになる。
As shown in FIG. 6B, when the
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be variously modified within the scope of the present invention.
たとえば、磁性体コア2は、必ずしも焼結体である必要はなく、圧粉成形による得られる成形体でも良く、合成樹脂を含んでいても良い。圧粉成形に際しては、金属粒子が分散された熔融状態の合成樹脂を、金型の内部に流し込み、たとえば熱により合成樹脂を硬化させる。その場合には、磁性体コア2は、金属粒子30が分散してある合成樹脂で構成され、その合成樹脂が絶縁相となる。圧粉成形に用いられる合成樹脂としては、たとえばエポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、 シリコーン樹脂、ポリイミドアミド樹脂、 ポリイミド樹脂 、PVA樹脂などが例示される。
For example, the
上述した実施形態において、鍔部6および8の相互間の隙間で、コイル部10の外周には、磁性体粉含有の合成樹脂を充填しても良い。その場合には、コイル装置としてのインダクタンスが向上する。
In the embodiment described above, the outer periphery of the
以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づき説明するが、本発明は、これら実施例に限定されない。 Hereinafter, although this invention is demonstrated based on a more detailed Example, this invention is not limited to these Examples.
実施例1
金型内に金属粒子30が含まれる造粒粉を充填し、加圧成形することで、焼成前のコア成形体を得た。その焼成前のコア成形体を、600〜850℃で焼成することで、焼成後の磁性体コア2を得た。磁性体コア2の表面の一部のみを、機械研磨法により、SiC研磨紙 #4000で表面の金属光沢が出るまでの研磨条件で研磨した。その表面に、バレルメッキ Ni−Snの2層メッキの条件で、メッキ膜を形成し、端子電極を得た。メッキ膜は、コア2の研磨表面のみに形成されることが確認できた。メッキ膜の膜厚は合計8μmであった。
Example 1
The core molded body before firing was obtained by filling the mold with granulated powder containing the
実施例2
金型内に金属粒子30と合成樹脂が含まれる造粒粉を充填し、加圧成形することで、硬化前のコア成形体を得た。熱により合成樹脂を硬化させ、磁性体コア2を作製した。その磁性体コア2の表面の一部のみを、機械的研磨法により、SiC研磨紙 #4000で磁性体コア表面に金属光沢が出るまでの研磨条件で研磨した。その表面に、バレルメッキ Ni−Snの2層メッキの条件で、メッキ膜を形成し、端子電極を得た。メッキ膜は、コア2の研磨表面のみに形成されることが確認できた。メッキ膜の膜厚は合計8μmであった。
Example 2
The mold was filled with granulated powder containing the
実施例3
実施例1および2において、メッキを行うことなく、フラックス塗布後、ハンダ溶液にディッピングを行うことで、ハンダ被膜を形成した以外は、実施例1および2と同様にして、端子電極を形成した。ハンダ被膜は、コア2の研磨表面のみに形成されることが確認できた。ハンダ被膜の膜厚は20μmであった。
Example 3
In Examples 1 and 2, terminal electrodes were formed in the same manner as in Examples 1 and 2, except that the solder coating was formed by dipping the solder solution after applying the flux without plating. It was confirmed that the solder coating was formed only on the polished surface of the
1… コイル装置
2… 磁性体コア
4… 巻芯部
6,8… 鍔部
8a1… 溝
8a2… 枠部
10… コイル部
12… ワイヤ
20… 電極予定部分
24,26… 端子電極
24A,26A… ハンダ
30… 金属粒子
30a… 金属粒子の平面方向の延び部分
32… 絶縁被膜
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記磁性体コアの表面の一部のみで、前記絶縁相が除去されて露出した隣り合う前記金属粒子の平面方向の延び部分により前記金属粒子の相互が接続してある電極予定部分が形成してあり、
前記電極予定部分に端子電極が形成してある磁性体コア。 A magnetic core in which metal particles are insulated by an insulating phase,
Only a part of the surface of the magnetic core is formed with a predetermined electrode portion in which the metal particles are connected to each other by an extending portion in the planar direction of the adjacent metal particles exposed by removing the insulating phase. Yes,
A magnetic core in which a terminal electrode is formed in the predetermined electrode portion.
ワイヤが巻回される巻芯部と、
前記巻芯部の軸芯方向の端部に位置する鍔部と、が一体に形成してあり、
前記電極予定部分が、前記鍔部に形成してある請求項1〜5のいずれかに記載の磁性体コア。 In the magnetic core,
A core around which the wire is wound;
And a flange portion located at an end portion in the axial direction of the winding core portion are integrally formed,
The magnetic core according to claim 1, wherein the planned electrode portion is formed in the flange portion.
前記巻芯部に巻回されるワイヤとを有するコイル装置。 A magnetic core according to claim 6 or 7,
The coil apparatus which has a wire wound around the said winding core part.
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