JP6461892B2 - Surface protection sheet - Google Patents

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Description

本発明は、ワークの研削工程において好適な表面保護シートに関する。   The present invention relates to a surface protective sheet suitable for a workpiece grinding process.

近年、電子機器の高集積化に伴い、半導体チップの薄型化及び極小化の要求は激化している。極めて薄い半導体チップを得てデバイスに実装しようとする際、チップに分割する前の半導体ウエハ等のワーク(加工対象物)を研削することで薄型化する方法が採用されている。ただし、この場合、(1)薄型化したワークの取扱時の破損のリスクや、(2)ワークをチップに分割した後におけるチップの破損のリスクが存在する。   In recent years, with the high integration of electronic devices, demands for thinning and minimizing semiconductor chips are intensifying. When an extremely thin semiconductor chip is obtained and mounted on a device, a method of thinning by grinding a workpiece (workpiece) such as a semiconductor wafer before being divided into chips is employed. However, in this case, (1) there is a risk of breakage when handling a thin workpiece, and (2) there is a risk of breakage of the chip after dividing the work into chips.

上記(1)のリスクを回避する、ワークをチップへ分割する方法として、「先ダイシング法」と呼ばれるワークの分割方法が知られている。「先ダイシング法」とは、分割予定ラインに沿ってワークの表側に溝を形成し、ワークの裏面側から少なくとも溝に到達するまで、ワークを研削等の薄化処理を行ってチップに分割する方法である。
例えば、特許文献1には、シリコン基板の表面側にペレットの分割予定境界線に沿って溝を形成し、形成した溝の内壁面に樹脂膜を設け、シリコン基板の裏面側から溝に到達するまで、シリコン基板を切削して、シリコン基板を複数のペレットに分割させる方法が開示されている。
As a method of dividing the workpiece into chips for avoiding the risk of (1) above, a workpiece dividing method called “first dicing method” is known. In the "first dicing method", a groove is formed on the front side of the workpiece along the planned dividing line, and the workpiece is subjected to thinning processing such as grinding until it reaches at least the groove from the back side of the workpiece, and is divided into chips. Is the method.
For example, in Patent Document 1, a groove is formed on the front surface side of a silicon substrate along a predetermined boundary line of pellets, a resin film is provided on the inner wall surface of the formed groove, and the groove reaches from the back surface side of the silicon substrate. Until now, a method of cutting a silicon substrate and dividing the silicon substrate into a plurality of pellets has been disclosed.

このような方法は、ワークの薄化処理を行った後にチップへの分割を行う通常のプロセスに比べ、薄化処理したワークを取り扱う必要がないため、ワークの破損等のリスクを無くすことができる点で優れている。   Such a method eliminates the need for handling a thinned workpiece as compared with a normal process in which the workpiece is thinned and then divided into chips, thereby eliminating the risk of workpiece damage and the like. Excellent in terms.

また、上記(2)のリスクに関しては、チップの抗折強度が劣ることが破損の要因となる。
チップの抗折強度を向上させるワークの分割方法として、特許文献2に開示されるような「ステルスダイシング(登録商標)」という方法が知られている。
ステルスダイシングとは、レーザ光によりワーク内部に改質領域を形成し、ワークに力を加えることで、当該改質領域が切断起点となってワークが切断してチップを作成する方法である。
より具体的には、ワークの一方の面に伸張性のフィルムを装着し、ワークの該フィルムが形成された面とは反対の面をレーザ光入射面として、ワークの内部に集光点を合わせてレーザ光を照射することにより多光子吸収による改質領域を形成する。そして、この改質領域によって、ワークの切断予定ラインに沿って前記レーザ光入射面から所定距離内側に切断起点領域を形成し、前記フィルムを伸張させることにより、前記切断起点領域を起点としてワークを複数の部分に、互いに間隔が空くようにワークを切断し、チップを得ることができる。
In addition, regarding the risk of (2) above, inferior chip bending strength causes damage.
As a work dividing method for improving the bending strength of a chip, a method called “Stealth Dicing (registered trademark)” as disclosed in Patent Document 2 is known.
Stealth dicing is a method of forming a chip by forming a modified region inside a workpiece with laser light and applying a force to the workpiece, with the modified region serving as a starting point for cutting.
More specifically, an extensible film is attached to one surface of the workpiece, and the surface opposite to the surface on which the film is formed is the laser light incident surface, and the condensing point is aligned with the inside of the workpiece. Then, a modified region by multiphoton absorption is formed by irradiating with laser light. Then, by this modified region, a cutting start region is formed on the inner side of the laser light incident surface along a predetermined cutting line of the work by a predetermined distance, and the film is stretched, whereby the work is started from the cutting start region. Chips can be obtained by cutting the workpiece into a plurality of portions so as to be spaced apart from each other.

このような方法は、回転ブレードによってワークを切削する処理を伴わないため、チップ端部に微小な欠けが発生する現象、いわゆるチッピングの発生を抑制でき、チップの抗折強度を向上させることができる。   Since such a method does not involve a process of cutting a workpiece with a rotating blade, it is possible to suppress the phenomenon of minute chipping at the end of the chip, so-called chipping, and to improve the chip bending strength. .

更に、上記(1)及び(2)のリスクを共に回避する方法として、特許文献3の方法が提案されている。
特許文献3には、上記のステルスダイシング(登録商標)を利用して、ワーク内部に改質領域を形成した後、ワークの裏面から研削を行って、ワークが薄くして割断されやすくした後、研削砥石等の加工圧力で割断して、個々のチップに分割する方法が開示されている。
Furthermore, as a method for avoiding both the risks (1) and (2), the method of Patent Document 3 has been proposed.
In Patent Document 3, after using the above stealth dicing (registered trademark) to form a modified region inside the workpiece, grinding is performed from the back surface of the workpiece, the workpiece is made thin and easy to be cleaved, There is disclosed a method of dividing into individual chips by cutting with a processing pressure of a grinding wheel or the like.

特開平06−085055号公報Japanese Patent Laid-Open No. 06-085055 特開2003−334812号公報JP 2003-334812 A 特開2004−111428号公報JP 2004-111428 A

ところで、ワークの裏面研削工程は、研削時に発生する研削屑を洗い流すためにワークを超純水に曝しながら行われる。
特許文献3に開示の方法では、ワークの研削により改質領域が割断される(劈開させられる)と、割断された部分の間隙がごく狭いために、毛細管現象により割断された間隙に水(スラッジ)が比較的強い勢いで浸入することがある。ワークの研削面と逆側の面には、回路等が形成される場合があり、通常表面を保護するために、粘着剤層を有する粘着シートが貼付される。
しかしながら、研削時の振動により間隙に浸入した水(スラッジ)が、粘着剤層とワークの被保護表面との界面にまで浸入し、粘着剤が溶解した水により、被保護表面が汚染されてしまう場合がある。特許文献3には、このような被保護表面の汚染を抑制する方法については何ら検討されていない。
By the way, the back grinding process of the workpiece is performed while exposing the workpiece to ultrapure water in order to wash away grinding waste generated during grinding.
In the method disclosed in Patent Document 3, when the modified region is cleaved (cleaved) by grinding the workpiece, the gap between the cleaved portions is very narrow. ) May intrude at a relatively strong momentum. A circuit or the like may be formed on the surface opposite to the grinding surface of the workpiece, and an adhesive sheet having an adhesive layer is usually attached to protect the surface.
However, water (sludge) that has entered the gap due to vibration during grinding enters the interface between the adhesive layer and the protected surface of the workpiece, and the protected surface is contaminated by the water in which the adhesive is dissolved. There is a case. Patent Document 3 does not discuss any method for suppressing such contamination of the surface to be protected.

本発明は、改質領域が形成されたワークの裏側研削工程の際に用いられる表面保護シートとして好適であって、ワークの裏面研削工程の際に、ワークが割断され形成される間隙からワークの被保護表面に、水の浸入(スラッジ浸入)を抑制して、ワークの被保護表面の汚染を防止し得る表面保護シートを提供することを目的とする。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is suitable as a surface protection sheet used in a backside grinding process of a workpiece on which a modified region is formed, and the workpiece is separated from a gap formed by cleaving the workpiece during the backside grinding process of the workpiece. An object of the present invention is to provide a surface protective sheet that can prevent contamination of the surface to be protected of the workpiece by suppressing water intrusion (sludge infiltration) on the surface to be protected.

本発明者らは、特定の要件を満たす基材上に、特定の要件を満たす粘着剤層を形成した表面保護シートが上記課題を解決し得ることを見出した。
すなわち、本発明は、下記〔1〕〜〔8〕を提供する。
〔1〕基材上に粘着剤層を有する表面保護シートであって、下記要件(a)〜(d)を満たす、表面保護シート。
(a)前記基材のヤング率が、450MPa以上である
(b)前記粘着剤層の25℃における貯蔵弾性率が、0.10MPa以上である
(c)前記粘着剤層の50℃における貯蔵弾性率が0.20MPa以下である
(d)前記粘着剤層の厚さが、30μm以上である
〔2〕前記粘着剤層が、エネルギー線硬化性粘着剤組成物からなる、上記〔1〕に記載の表面保護シート。
〔3〕前記基材の厚さが、5〜250μmである、上記〔1〕又は〔2〕に記載の表面保護シート。
〔4〕前記基材が、樹脂フィルムとして、ポリエステル系フィルムを含む、上記〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の表面保護シート。
〔5〕前記基材が、樹脂フィルムと、該樹脂フィルム上に積層された、厚さ10μm以下の非エネルギー線硬化性粘着剤組成物からなる第2の粘着剤層又は厚さ10μm以下の易接着層を有する、上記〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の表面保護シート。
〔6〕前記表面保護シートが、改質領域が形成されたワークの研削工程において、該ワークの研削により改質領域を劈開させてワーク中に間隙を形成する際に、該ワークに貼付されるものである、上記〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の表面保護シート。
〔7〕前記表面保護シートが、前記ワークの凹凸が形成された面に貼付される、上記〔6〕に記載の表面保護シート。
〔8〕前記表面保護シートが、40〜80℃に加熱されたワークに貼付されるものである、上記〔6〕又は〔7〕に記載の表面保護シート。
The present inventors have found that a surface protective sheet in which a pressure-sensitive adhesive layer satisfying specific requirements is formed on a base material satisfying specific requirements can solve the above problems.
That is, the present invention provides the following [1] to [8].
[1] A surface protective sheet having a pressure-sensitive adhesive layer on a substrate and satisfying the following requirements (a) to (d).
(A) Young's modulus of the substrate is 450 MPa or more (b) Storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer at 25 ° C. is 0.10 MPa or higher (c) Storage elasticity of the pressure-sensitive adhesive layer at 50 ° C. (D) The pressure-sensitive adhesive layer has a thickness of 30 μm or more. [2] The pressure-sensitive adhesive layer is composed of an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition. Surface protection sheet.
[3] The surface protective sheet according to [1] or [2] above, wherein the thickness of the base material is 5 to 250 μm.
[4] The surface protective sheet according to any one of [1] to [3], wherein the base material includes a polyester film as a resin film.
[5] The base material is a second pressure-sensitive adhesive layer made of a resin film and a non-energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition having a thickness of 10 μm or less laminated on the resin film, or a thickness of 10 μm or less. The surface protective sheet according to any one of the above [1] to [4], which has an adhesive layer.
[6] The surface protection sheet is affixed to the workpiece when the modified region is formed by cleaving the modified region by cleaving the modified region to form a gap in the workpiece. The surface protective sheet according to any one of [1] to [5], which is a product.
[7] The surface protective sheet according to [6], wherein the surface protective sheet is affixed to a surface of the workpiece on which the unevenness is formed.
[8] The surface protective sheet according to [6] or [7] above, wherein the surface protective sheet is affixed to a workpiece heated to 40 to 80 ° C.

本発明の表面保護シートは、ワークの裏面研削工程の際に、ワークが割断され形成される間隙からワークの被保護表面に、水の浸入(スラッジ浸入)を抑制して、ワークの被保護表面の汚染を防止し得る。そのため、改質領域が形成されたワークの裏側研削工程の際に用いられる表面保護シートとして好適である。   The surface protective sheet of the present invention suppresses the intrusion of water (sludge intrusion) from the gap formed by cleaving the work during the back grinding process of the work to the protected surface of the work, thereby protecting the protected surface of the work Can prevent contamination. Therefore, it is suitable as a surface protection sheet used in the backside grinding process of the workpiece on which the modified region is formed.

本発明の表面保護シートの構成の一例を示す表面保護シートの断面図である。It is sectional drawing of the surface protection sheet which shows an example of a structure of the surface protection sheet of this invention. 本発明の表面保護シートの用途の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the use of the surface protection sheet of this invention.

以下の記載において、「重量平均分子量(Mw)」は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法で測定されるポリスチレン換算の値であり、具体的には実施例に記載の方法に基づいて測定した値である。
また、表面保護シートを構成する基材(基材を構成する樹脂フィルム、第2の粘着剤層、易接着層も含む)や粘着剤層、剥離材等の厚みは、JIS K7130に準じて測定した値であって、具体的には実施例に記載の方法に基づいて測定した値である。
そして、例えば「(メタ)アクリレート」とは、「アクリレート」及び「メタクリレート」の双方を示す語として用いており、他の類似用語についても同様である。
In the following description, “weight average molecular weight (Mw)” is a value in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC), and specifically measured based on the method described in the examples. Value.
Moreover, the thicknesses of the base material (including the resin film, the second pressure-sensitive adhesive layer, and the easy-adhesion layer), the pressure-sensitive adhesive layer, and the release material constituting the surface protective sheet are measured according to JIS K7130. Specifically, it is a value measured based on the method described in the examples.
For example, “(meth) acrylate” is used as a word indicating both “acrylate” and “methacrylate”, and the same applies to other similar terms.

〔表面保護シートの構成〕
本発明の表面保護シートは、基材上に粘着剤層を有するものであれば特に制限はなく、例えば、図1に示す構成を有する表面保護シートが挙げられる。
図1(a)の表面保護シート1aは、基材11上に粘着剤層12を有する構成であるが、図1(b)の表面保護シート1bのように、粘着剤層12上に更に剥離材13を有していてもよい。なお、剥離材13は、ワーク等に表面保護シートを貼付する際には除去される。
また、本発明の表面保護シートは、表面保護シート1aの基材11の粘着剤層12が形成されている面と反対側の表面に剥離処理を施し、表面保護シート1aをロール状に巻いた表面保護シートとしてもよい。
[Configuration of surface protection sheet]
If the surface protection sheet of this invention has an adhesive layer on a base material, there will be no restriction | limiting in particular, For example, the surface protection sheet which has the structure shown in FIG.
The surface protective sheet 1a in FIG. 1 (a) is configured to have an adhesive layer 12 on a substrate 11, but further peeled off on the adhesive layer 12 like the surface protective sheet 1b in FIG. 1 (b). The material 13 may be included. The release material 13 is removed when a surface protection sheet is attached to a workpiece or the like.
Moreover, the surface protection sheet of this invention gave the peeling process to the surface on the opposite side to the surface in which the adhesive layer 12 of the base material 11 of the surface protection sheet 1a was formed, and wound the surface protection sheet 1a in roll shape. It is good also as a surface protection sheet.

ここで、基材11は、単層のみからなるものでもよく、2種以上の層が積層した複層からなるものであってもよい。また、基材11は、単層又は複層からなる樹脂フィルム上に、粘着剤層12とは別の第2の粘着剤層や易接着層を積層された構成を有していてもよい。基材11の詳細については、後述のとおりである。   Here, the substrate 11 may be composed of only a single layer or may be composed of a multilayer in which two or more layers are laminated. Moreover, the base material 11 may have a configuration in which a second pressure-sensitive adhesive layer or an easy-adhesion layer different from the pressure-sensitive adhesive layer 12 is laminated on a single-layer or multi-layer resin film. Details of the substrate 11 are as described later.

また、本発明の表面保護シートは、下記要件(a)〜(d)を満たす。
(a)前記基材のヤング率が、450MPa以上である
(b)前記粘着剤層の25℃における貯蔵弾性率が、0.10MPa以上である
(c)前記粘着剤層の50℃における貯蔵弾性率が0.20MPa以下である
(d)前記粘着剤層の厚さが、30μm以上である
なお、基材のヤング率は、JIS K−7127(1999)に準じて測定した値であって、具体的には実施例に記載の方法に基づいて測定した値である。
また、粘着剤層の25℃及び50℃における貯蔵弾性率は、実施例に記載の方法に基づいて測定した値であり、粘着剤層がエネルギー線硬化性粘着剤組成物よりなる場合には、エネルギー線を照射する前の25℃及び50℃における貯蔵弾性率を意味する。
The surface protective sheet of the present invention satisfies the following requirements (a) to (d).
(A) Young's modulus of the substrate is 450 MPa or more (b) Storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer at 25 ° C. is 0.10 MPa or higher (c) Storage elasticity of the pressure-sensitive adhesive layer at 50 ° C. (D) The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 30 μm or more. The Young's modulus of the substrate is a value measured according to JIS K-7127 (1999), Specifically, it is a value measured based on the method described in the examples.
Moreover, the storage elastic modulus in 25 degreeC and 50 degreeC of an adhesive layer is the value measured based on the method as described in an Example, and when an adhesive layer consists of energy-beam curable adhesive compositions, It means the storage elastic modulus at 25 ° C. and 50 ° C. before irradiation with energy rays.

上記要件(a)及び(b)を満たすことで、ワークの研削時の振動によって、ワークに貼付した表面保護シートの変形を抑え、ワークの被保護表面のスラッジ浸入を抑制することができる。
また、上記要件(c)を満たすことで、ワークを加熱して、回路等の凹凸部分に表面保護シートの貼付(熱貼り)する際に、ワークの凹凸部分に粘着剤層が追従し、ワークの凹凸部分と粘着剤層との非接触領域を少なくすることができる。その結果、当該非接触領域の存在をきっかけとした粘着剤層がワークから剥離して、剥離した領域にスラッジ浸入が生じる現象を抑制することができる。
更に、上記要件(d)を満たすことで、ワークの被着面上の回路等の凹凸が形成されている場合、このワークの凹凸部分と粘着剤層との非接触領域を少なくすることができる。その結果として、上記と同様に当該非接触領域の存在をきっかけとした粘着剤層がワークから剥離して、剥離した領域にスラッジ浸入が生じる現象を抑制することができる。
By satisfy | filling the said requirements (a) and (b), the deformation | transformation of the surface protection sheet stuck to the workpiece | work can be suppressed by the vibration at the time of grinding of a workpiece | work, and sludge penetration | invasion of the to-be-protected surface of a workpiece | work can be suppressed.
In addition, by satisfying the above requirement (c), when the workpiece is heated and the surface protection sheet is attached (heat pasted) to the uneven portion of the circuit or the like, the adhesive layer follows the uneven portion of the workpiece, The non-contact area | region of an uneven | corrugated | grooved part and an adhesive layer can be decreased. As a result, it is possible to suppress a phenomenon in which the adhesive layer triggered by the presence of the non-contact area is peeled off from the workpiece and sludge intrusion occurs in the peeled area.
Further, by satisfying the above requirement (d), when unevenness such as a circuit on the adherend surface of the workpiece is formed, the non-contact area between the uneven portion of the workpiece and the pressure-sensitive adhesive layer can be reduced. . As a result, it is possible to suppress the phenomenon in which the adhesive layer triggered by the presence of the non-contact area is peeled off from the workpiece and sludge intrusion occurs in the peeled area as described above.

<基材>
本発明で用いる基材は、上記要件(a)を満たすものであれば特に限定はされない。
当該基材は、1つの樹脂フィルムからなる単層フィルムからなるものでもよく、複数の樹脂フィルムが積層した複層フィルムからなるものでもよい。
また、ワークからチップ製造後に、表面保護シートをチップから剥離する際に、チップに表面保護シートの粘着剤が残着しない優れた剥離性を発現させる観点から、樹脂フィルムと、該樹脂フィルム上に、非エネルギー線硬化性粘着剤組成物からなる第2の粘着剤層(以下、単に「第2の粘着剤層」ともいう)又は易接着層とを有する基材としてもよい。
<Base material>
The base material used in the present invention is not particularly limited as long as it satisfies the above requirement (a).
The said base material may consist of a single layer film which consists of one resin film, and may consist of a multilayer film which the several resin film laminated | stacked.
In addition, when the surface protective sheet is peeled from the chip after manufacturing the chip from the workpiece, the resin film and the resin film are formed on the resin film from the viewpoint of expressing excellent peelability so that the adhesive of the surface protective sheet does not remain on the chip. The substrate may have a second pressure-sensitive adhesive layer (hereinafter also simply referred to as “second pressure-sensitive adhesive layer”) or an easy-adhesion layer made of a non-energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition.

本発明で用いる基材の厚みは、好ましくは5〜250μm、より好ましくは10〜200μm、更に好ましくは15〜150μm、より更に好ましくは20〜110μmである。基材の厚みが5μm以上であれば、高温での耐変形性(寸法安定性)に優れる。一方、基材の厚みが250μm以下であれば、ヤング率を所定値以上に調整することが容易となる。
なお、本発明において、「基材の厚み」とは、基材を構成する全体の厚みを示す。例えば、複数の樹脂フィルムが積層してなる基材については、積層する全ての樹脂フィルムの厚みの合計がその基材の厚みであり、樹脂フィルムと、上述の第2の粘着剤層又は易接着層とを有する基材については、樹脂フィルムと第2の粘着剤層又は易接着層の厚みの合計がその基材の厚みである。
The thickness of the substrate used in the present invention is preferably 5 to 250 μm, more preferably 10 to 200 μm, still more preferably 15 to 150 μm, and still more preferably 20 to 110 μm. When the thickness of the substrate is 5 μm or more, the deformation resistance (dimensional stability) at high temperatures is excellent. On the other hand, if the thickness of the base material is 250 μm or less, it becomes easy to adjust the Young's modulus to a predetermined value or more.
In the present invention, “the thickness of the substrate” refers to the total thickness of the substrate. For example, for a substrate formed by laminating a plurality of resin films, the total thickness of all the laminated resin films is the thickness of the substrate, and the resin film and the above-mentioned second pressure-sensitive adhesive layer or easy adhesion About the base material which has a layer, the sum total of the thickness of a resin film and a 2nd adhesive layer or an easily bonding layer is the thickness of the base material.

上記要件(a)で規定するとおり、本発明で用いる基材のヤング率は、450MPa以上、好ましくは500MPa以上、より好ましくは1000MPa以上、更に好ましくは1500MPa以上である。
基材のヤング率が450MPa未満であると、ワークの研削時の振動によって、ワークに貼付した表面保護シートが変形しやすく、ワークの被保護表面のスラッジ浸入を抑制することが困難となるため好ましくない。
なお、本発明で用いる基材のヤング率の上限値は特に制限は無いが、当該基材のヤング率は、好ましくは10000MPa以下、より好ましくは7000MPa以下である。
As defined in the above requirement (a), the Young's modulus of the substrate used in the present invention is 450 MPa or more, preferably 500 MPa or more, more preferably 1000 MPa or more, and further preferably 1500 MPa or more.
When the Young's modulus of the substrate is less than 450 MPa, the surface protective sheet attached to the workpiece is likely to be deformed by vibration during grinding of the workpiece, and it is difficult to suppress sludge intrusion on the protected surface of the workpiece. Absent.
The upper limit of the Young's modulus of the substrate used in the present invention is not particularly limited, but the Young's modulus of the substrate is preferably 10,000 MPa or less, more preferably 7000 MPa or less.

なお、上記要件(a)で規定する基材のヤング率は、例えば、基材として用いる樹脂フィルムの種類、基材を樹脂フィルムの複層とする場合には、積層する樹脂フィルムの種類、厚み、及び層数、第2の粘着剤層又は易接着層を設ける場合の該層を形成する材料及び該層の膜厚等を適宜設定することで調整が可能である。   In addition, the Young's modulus of the base material prescribed | regulated by the said requirement (a) is, for example, the kind of resin film used as the base material, and the type and thickness of the resin film to be laminated when the base material is a multilayer of the resin film It is possible to adjust by appropriately setting the number of layers, the material for forming the second pressure-sensitive adhesive layer or the easy-adhesion layer, the thickness of the layer, and the like.

基材のヤング率の調整法については、例えば、以下の(1)〜(3)の傾向に基づいて調整することが可能である。なお、本発明において、基材のヤング率の調整法は、以下の傾向に基づく方法に限定されるものではなく、以下の傾向はあくまで例示である。
(1)ポリエステル系フィルムやポリカーボネート系フィルムのような主鎖中に環状構造を有する重合体に基づく樹脂からなる樹脂フィルムを含む基材であれば、基材のヤング率を所定値以上に調整しやすい傾向にある。
(2)低密度ポリエステル系フィルムを含む基材とすることで、基材のヤング率は低下する。
(3)主鎖中に環状構造を有する重合体に基づく樹脂からなる樹脂フィルムを含む基材においては、当該重合体の主鎖の直鎖構造の長さが短いほどヤング率が上昇する傾向がある。例えば、同じポリエステル系フィルムであっても、直鎖構造の長さが相対的に短いポリエチレンテレフタレートフィルムを含む基材は、直鎖状構造の長さが相対的に長いポリブチレンテレフタレートフィルムを含む基材よりもヤング率が高い。
About the adjustment method of the Young's modulus of a base material, it is possible to adjust based on the tendency of the following (1)-(3), for example. In the present invention, the method for adjusting the Young's modulus of the substrate is not limited to the method based on the following tendency, and the following tendency is merely an example.
(1) If the base material includes a resin film made of a resin based on a polymer having a cyclic structure in the main chain, such as a polyester film or a polycarbonate film, the Young's modulus of the base material is adjusted to a predetermined value or more. It tends to be easy.
(2) The Young's modulus of a base material falls by setting it as a base material containing a low density polyester-type film.
(3) In a substrate including a resin film made of a resin based on a polymer having a cyclic structure in the main chain, the Young's modulus tends to increase as the length of the straight chain structure of the main chain of the polymer is shorter. is there. For example, a base material including a polyethylene terephthalate film having a relatively short linear structure length even in the same polyester film is a group including a polybutylene terephthalate film having a relatively long linear structure length. Young's modulus is higher than the material.

(樹脂フィルム)
本発明の基材に含まれる樹脂フィルムとしては、ワークを極薄にまで研削する際にもワークを安定して保持する観点から、厚みの精度が高いフィルムが好ましく、例えば、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリスチレン系フィルム、ポリフェニレンサルファイド系フィルム、シクロオレフィンポリマー系フィルム等が挙げられる。
これらの中でも、上記観点、及び上記要件(a)を満たすように基材のヤング率を調整しやすいとの観点から、ポリエステル系フィルムが好ましい。
(Resin film)
The resin film contained in the base material of the present invention is preferably a film having a high thickness accuracy from the viewpoint of stably holding the workpiece even when the workpiece is ground to an extremely thin thickness, for example, a polyester film or a polycarbonate film. Examples of the film include polystyrene film, polystyrene film, polyphenylene sulfide film, and cycloolefin polymer film.
Among these, a polyester film is preferable from the viewpoint of easily adjusting the Young's modulus of the substrate so as to satisfy the above viewpoint and the above requirement (a).

ポリエステル系フィルムを構成するポリエステルとしては、例えば、芳香族二塩基酸又はそのエステル誘導体と、ジオール又はそのエステル誘導体とから重縮合して得られるポリエステルが挙げられる。   As polyester which comprises a polyester-type film, the polyester obtained by polycondensing from an aromatic dibasic acid or its ester derivative, and diol or its ester derivative is mentioned, for example.

具体的なポリエステル系フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフテレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート等のポリエステルからなるフィルムが挙げられる。なお、上記のポリエステルの共重合体からなるフィルムであってもよく、上記のポリエステルと比較的少量の他樹脂との混合物からなるフィルム等であってもよい。
これらの中でも、入手が容易で、厚み精度の高く、また上記要件(a)を満たすように基材のヤング率を調整やすいとの観点から、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
Specific examples of the polyester film include films made of polyester such as polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate. In addition, the film which consists of a copolymer of said polyester may be sufficient, and the film etc. which consist of a mixture of said polyester and a comparatively little other resin may be sufficient.
Among these, a polyethylene terephthalate film is preferable from the viewpoint of easy availability, high thickness accuracy, and easy adjustment of the Young's modulus of the substrate so as to satisfy the requirement (a).

なお、ポリエステル系フィルムのみからなる基材を用いて、ポリエステル系フィルム上にエネルギー線硬化性粘着剤からなる粘着剤層を形成した場合、エネルギー線照射による粘着剤の硬化の際に、粘着剤の体積収縮を生じ、基材と粘着剤層の界面密着性が低下し、基材と粘着剤層間に界面破壊が生じる恐れがある。そのため、表面保護シートの剥離性が低下する場合がある。
このような弊害を回避するために、ポリエステル系フィルム上に、低密度ポリスチレン系フィルム等の樹脂フィルムを積層し、複層フィルムとすることが好ましい。また、ポリエステル系フィルム上に、後述の第2の粘着剤層又は易接着層を設けてもよい。
In addition, when a pressure-sensitive adhesive layer made of an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive is formed on a polyester-based film using a base material made only of a polyester-based film, Volume shrinkage may occur, the interfacial adhesion between the base material and the pressure-sensitive adhesive layer may be reduced, and interface destruction may occur between the base material and the pressure-sensitive adhesive layer. Therefore, the peelability of the surface protective sheet may be reduced.
In order to avoid such harmful effects, it is preferable to laminate a resin film such as a low-density polystyrene film on a polyester film to form a multilayer film. Moreover, you may provide the below-mentioned 2nd adhesive layer or an easily bonding layer on a polyester-type film.

なお、樹脂フィルムには、上記要件(a)を満たす基材とする範囲内において、公知のフィラー、着色剤、帯電防止剤、酸化防止剤、有機滑剤、触媒等を含有させてもよい。
また、樹脂フィルムは、透明なものであっても、所望により着色又は蒸着されていてもよい。
In addition, you may make a resin film contain a well-known filler, a coloring agent, an antistatic agent, antioxidant, an organic lubricant, a catalyst, etc. within the range used as the base material which satisfy | fills the said requirements (a).
Moreover, even if the resin film is transparent, it may be colored or vapor-deposited as desired.

(第2の粘着剤層/易接着層)
本発明で用いる基材としては、樹脂フィルムと、該樹脂フィルム上に積層された、非エネルギー線硬化性粘着剤からなる第2の粘着剤層、又は易接着層を有する基材が好ましい。なお、第2の粘着剤層は、上述の要件(b)〜(d)を満たす粘着剤層とは異なるものである。
第2の粘着剤層又は易接着層が形成される前の樹脂フィルムの厚み精度に対する、第2の粘着剤層又は易接着層が設けられることによって生じる影響が少なく、基材の厚み精度の調整が困難になる事態を容易に避けることができる。
(Second pressure-sensitive adhesive layer / adhesive layer)
As a base material used by this invention, the base material which has the 2nd adhesive layer which consists of a resin film and the non-energy ray-curable adhesive laminated on this resin film, or an easily bonding layer is preferable. The second pressure-sensitive adhesive layer is different from the pressure-sensitive adhesive layer that satisfies the above requirements (b) to (d).
Adjustment of the thickness accuracy of the substrate is less affected by the provision of the second pressure-sensitive adhesive layer or the easy-adhesion layer on the thickness accuracy of the resin film before the second pressure-sensitive adhesive layer or the easy-adhesion layer is formed. Can be easily avoided.

第2の粘着剤層又は易接着層を樹脂フィルム上に設けることで、表面保護シートをチップから剥離する際に、チップに表面保護シートの粘着剤が残着しない優れた剥離性を発現させることができる。
この理由は次のとおりである。すなわち、ポリエステル系フィルムのみからなる基材を用いて、粘着剤層の形成にエネルギー線硬化性粘着剤を用いる場合、上述のように、エネルギー線照射による粘着剤の硬化の際に、粘着剤の体積収縮を生じ、基材と粘着剤層の界面密着性が低下し、基材と粘着剤層間に界面破壊が生じる恐れがある。しかし、当該第2の粘着剤層又は易接着層を設けることにより、このような弊害を回避することができ、優れた剥離性を発現させることができる。
By providing the second pressure-sensitive adhesive layer or the easy-adhesion layer on the resin film, when the surface protective sheet is peeled from the chip, the chip is allowed to exhibit excellent releasability so that the pressure-sensitive adhesive of the surface protective sheet does not remain on the chip. Can do.
The reason for this is as follows. That is, when using an energy ray-curable pressure sensitive adhesive for forming a pressure sensitive adhesive layer using a base material composed only of a polyester film, as described above, when the pressure sensitive adhesive is cured by energy ray irradiation, Volume shrinkage may occur, the interfacial adhesion between the base material and the pressure-sensitive adhesive layer may be reduced, and interface destruction may occur between the base material and the pressure-sensitive adhesive layer. However, by providing the second pressure-sensitive adhesive layer or the easy-adhesion layer, such an adverse effect can be avoided, and excellent peelability can be exhibited.

第2の粘着剤層を形成する粘着剤組成物は、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、シリコーン系樹脂等の粘着性樹脂を含有することが好ましい。
また、第2の粘着剤層を形成する粘着剤組成物には、必要に応じて、架橋剤、光開始剤、酸化防止剤、軟化剤(可塑剤)、充填剤、防錆剤、顔料、染料等を含有してもよい。
さらに、粘着剤組成物の塗布により粘着剤層を形成する場合には、樹脂フィルム等への塗布性を向上させ、当該粘着剤層の形成を容易に行う観点から、更に有機溶剤を加えて、粘着剤組成物の溶液の形態としてもよい。
The pressure-sensitive adhesive composition forming the second pressure-sensitive adhesive layer preferably contains a pressure-sensitive adhesive resin such as an acrylic resin, a rubber resin, or a silicone resin.
In addition, the pressure-sensitive adhesive composition forming the second pressure-sensitive adhesive layer includes a crosslinking agent, a photoinitiator, an antioxidant, a softener (plasticizer), a filler, a rust inhibitor, a pigment, You may contain dye etc.
Furthermore, when forming the pressure-sensitive adhesive layer by application of the pressure-sensitive adhesive composition, from the viewpoint of improving the applicability to the resin film and the like, and easily forming the pressure-sensitive adhesive layer, further adding an organic solvent, It is good also as the form of the solution of an adhesive composition.

第2の粘着剤層の厚みは、好ましくは10μm以下、より好ましくは0.3〜8μm、更に好ましくは1〜6μmである。第2の粘着剤層の厚みが10μm以下であれば、第2の粘着剤層の厚みに不均一性が生じたとしても基材全体の厚み精度に与える影響が小さい。   The thickness of the 2nd adhesive layer becomes like this. Preferably it is 10 micrometers or less, More preferably, it is 0.3-8 micrometers, More preferably, it is 1-6 micrometers. If the thickness of the second pressure-sensitive adhesive layer is 10 μm or less, even if non-uniformity occurs in the thickness of the second pressure-sensitive adhesive layer, the influence on the thickness accuracy of the entire substrate is small.

易接着層を形成する易接着層形成用組成物としては、特に限定されないが、例えば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステルウレタン系樹脂、アクリル系樹脂等を含む組成物を使用することができる。
これらの中でも、易接着層を形成する易接着層形成用組成物は、エネルギー線重合性基を有する化合物を含有することが好ましい。
エネルギー線重合性基は、紫外線や電子線等のエネルギー線の照射を受けて重合する基であり、例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリール基等のエチレン性不飽和結合を有する基が挙げられる。これらの中でも、(メタ)アクリロイル基を有する化合物が好ましい。
(メタ)アクリロイル基を有する化合物としては、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート、(メタ)アクリレート変性ポリエステル等が挙げられる。
Although it does not specifically limit as a composition for easy-adhesion layer formation which forms an easy-adhesion layer, For example, the composition containing a polyester-type resin, a urethane-type resin, a polyester urethane-type resin, an acrylic resin etc. can be used. .
Among these, it is preferable that the composition for easily bonding layer forming which forms an easily bonding layer contains the compound which has an energy-beam polymeric group.
The energy ray polymerizable group is a group that is polymerized upon irradiation with energy rays such as ultraviolet rays and electron beams. For example, a group having an ethylenically unsaturated bond such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, or an aryl group. Can be mentioned. Among these, a compound having a (meth) acryloyl group is preferable.
Examples of the compound having a (meth) acryloyl group include urethane (meth) acrylate, (meth) acrylate-modified polyester, and the like.

このようなエネルギー線重合性基を有する化合物を含有する組成物を用いて、易接着層を形成することで、エネルギー線硬化型粘着剤の硬化後において、易接着層を介して、樹脂フィルムと粘着剤層との密着性が保たれる。
このため、樹脂フィルムとして、ポリエステル系フィルムを用いた場合であっても、表面保護シートの剥離性を良好とすることができる。
By using such a composition containing a compound having an energy ray polymerizable group, an easy adhesion layer is formed, and after curing of the energy ray curable pressure-sensitive adhesive, the resin film and Adhesion with the pressure-sensitive adhesive layer is maintained.
For this reason, even if it is a case where a polyester-type film is used as a resin film, the peelability of a surface protection sheet can be made favorable.

また、当該易接着層形成用組成物には、必要に応じて、架橋剤、光開始剤、酸化防止剤、軟化剤(可塑剤)、充填剤、防錆剤、顔料、染料等が挙げられる等を含有してもよい。
さらに、粘着剤組成物の塗布により粘着剤層を形成する場合には、樹脂フィルム等への塗布性を向上させ、易接着層の形成を容易に行う観点から、更に有機溶剤を加えて、易接着層形成用組成物の溶液の形態としてもよい。
The easy-adhesion layer-forming composition includes a crosslinking agent, a photoinitiator, an antioxidant, a softening agent (plasticizer), a filler, a rust inhibitor, a pigment, a dye, and the like as necessary. Etc. may be contained.
Furthermore, when forming a pressure-sensitive adhesive layer by applying a pressure-sensitive adhesive composition, it is easy to add an organic solvent from the viewpoint of improving the applicability to a resin film and the like and easily forming an easy-adhesion layer. It is good also as a form of the solution of the composition for contact bonding layer formation.

また、易接着層の厚みも、上記と同様の観点から、好ましくは10μm以下、より好ましくは0.3〜7μm、更に好ましくは0.5〜5μmである。   Moreover, the thickness of an easily bonding layer is also preferably 10 micrometers or less from the viewpoint similar to the above, More preferably, it is 0.3-7 micrometers, More preferably, it is 0.5-5 micrometers.

これら第2の粘着剤層及び易接着層の形成方法としては、有機溶媒を加えて、上記組成物を溶液の形態とした上で、当該溶液を公知の塗布方法により樹脂フィルム上に塗布して形成することができる。また、塗布後に形成した塗布膜を50〜120℃で乾燥させて、第2の粘着剤層又は易接着層を形成することが好ましい。   As a method for forming the second pressure-sensitive adhesive layer and the easy-adhesion layer, an organic solvent is added to make the composition into a solution, and the solution is applied onto a resin film by a known application method. Can be formed. Moreover, it is preferable to dry the coating film formed after application | coating at 50-120 degreeC, and to form a 2nd adhesive layer or an easily bonding layer.

<粘着剤層>
上記要件(b)で規定するとおり、本発明の表面保護シートが有する粘着剤層の25℃における貯蔵弾性率は、0.10MPa以上であり、好ましくは0.12MPa以上、より好ましくは0.14MPa以上、更に好ましくは0.17MPa以上である。
粘着剤層の25℃における貯蔵弾性率が0.10MPa未満であると、ワークの研削時の振動によって、ワークに貼付した表面保護シートが変形しやすく、ワークの被保護表面のスラッジ浸入を抑制することが困難となるため好ましくない。
なお、粘着剤層の25℃における貯蔵弾性率の上限値としては特に制限はないが、粘着剤層の25℃における貯蔵弾性率は、好ましくは1.00MPa以下である。
<Adhesive layer>
As prescribed in the requirement (b) above, the storage elastic modulus at 25 ° C. of the pressure-sensitive adhesive layer of the surface protective sheet of the present invention is 0.10 MPa or more, preferably 0.12 MPa or more, more preferably 0.14 MPa. As mentioned above, More preferably, it is 0.17 MPa or more.
When the storage elastic modulus at 25 ° C. of the pressure-sensitive adhesive layer is less than 0.10 MPa, the surface protective sheet attached to the workpiece is easily deformed by vibration during grinding of the workpiece, and sludge intrusion on the protected surface of the workpiece is suppressed. This is not preferable because it becomes difficult.
In addition, although there is no restriction | limiting in particular as an upper limit of the storage elastic modulus in 25 degreeC of an adhesive layer, The storage elastic modulus in 25 degreeC of an adhesive layer becomes like this. Preferably it is 1.00 MPa or less.

また、上記要件(c)で規定するとおり、本発明の表面保護シートが有する粘着剤層の50℃における貯蔵弾性率は、0.20MPa以下であり、好ましくは0.16MPa以下、より好ましくは0.13MPa以下、更に好ましくは0.10MPa以下である。
粘着剤層の50℃における貯蔵弾性率が0.20MPaを超えると、ワークを加熱して、回路等の凹凸部分に表面保護シートの貼付(熱貼り)する際に、このワークの凹凸部分と粘着剤層とが十分に接触せずに、ワークの凹凸部分の周辺に非接触領域が拡張する傾向にある。その結果、当該非接触領域の存在をきっかけとして、粘着剤層がワークから剥離して、剥離した領域にスラッジ浸入が生じるため好ましくない。
なお、粘着剤層の50℃における貯蔵弾性率の下限値としては特に制限はないが、粘着剤層の50℃における貯蔵弾性率は、好ましくは0.01MPa以上、より好ましくは0.06MPa以上である。
Further, as defined in the above requirement (c), the storage elastic modulus at 50 ° C. of the pressure-sensitive adhesive layer of the surface protective sheet of the present invention is 0.20 MPa or less, preferably 0.16 MPa or less, more preferably 0. .13 MPa or less, more preferably 0.10 MPa or less.
When the storage elastic modulus at 50 ° C. of the pressure-sensitive adhesive layer exceeds 0.20 MPa, when the workpiece is heated and the surface protective sheet is stuck (heat-bonded) on the uneven portion of a circuit or the like, There is a tendency that the non-contact area expands around the concavo-convex portion of the workpiece without sufficiently contacting the agent layer. As a result, the pressure-sensitive adhesive layer is peeled off from the workpiece due to the presence of the non-contact area, and sludge intrusion occurs in the peeled area.
The lower limit of the storage elastic modulus at 50 ° C. of the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, but the storage elastic modulus at 50 ° C. of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 0.01 MPa or more, more preferably 0.06 MPa or more. is there.

上記要件(b)及び(c)で規定する粘着剤層の25℃及び50℃の貯蔵弾性率は、粘着剤層を形成する粘着剤組成物の組成を適宜変更することにより、調整が可能である。
すなわち、粘着剤組成物中に含まれる粘着性樹脂の種類、官能基、重量平均分子量、当該樹脂を構成するモノマーの種類、及び当該モノマーに由来の構成単位の含有量等を適宜設定することで、形成される粘着剤層の貯蔵弾性率を上記範囲に属するように調整することができる。
The storage elastic modulus at 25 ° C. and 50 ° C. of the pressure-sensitive adhesive layer specified in the above requirements (b) and (c) can be adjusted by appropriately changing the composition of the pressure-sensitive adhesive composition forming the pressure-sensitive adhesive layer. is there.
That is, by appropriately setting the type of adhesive resin contained in the adhesive composition, the functional group, the weight average molecular weight, the type of monomer constituting the resin, the content of structural units derived from the monomer, etc. The storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer to be formed can be adjusted to belong to the above range.

より具体的な粘着剤層の25℃及び50℃の貯蔵弾性率の調整法については、例えば、以下の(1)〜(4)の傾向に基づいて調整することが可能である。なお、本発明において、粘着剤層の25℃及び50℃の貯蔵弾性率の調整法は、以下の傾向に基づく方法に限定されるものではなく、以下の傾向はあくまで例示である。
(1)粘着性樹脂として、アクリル系樹脂、好ましくはアクリル系共重合体を用いた場合、形成される粘着剤層の当該貯蔵弾性率が上記範囲に属するよう調整し易くなる傾向にある。
(2)メチル(メタ)アクリレート等のホモポリマーのガラス転移温度が高いモノマーを構成単位とするアクリル系共重合体を用いた場合、形成される粘着剤層の当該貯蔵弾性率が上昇する傾向にある。アクリル系共重合体の全構成単位に対して、このようなモノマー由来の構成単位の含有割合が増えるほど、当該貯蔵弾性率が上昇する傾向がある。
(3)粘着剤層をエネルギー線硬化性粘着剤組成物から形成する場合には次のような傾向がある。すなわち、後述するエネルギー線硬化性の粘着性樹脂(II)を用いることで、非エネルギー線硬化性の粘着性樹脂(I)と共にエネルギー線硬化性低分子化合物を含む粘着剤組成物を用いる場合に比べて、エネルギー線硬化性低分子化合物を含まず、又は当該化合物の含有量を低減することができるために、当該貯蔵弾性率が上記範囲に属するよう調整し易くなる傾向がある。
(4)後述する非エネルギー線硬化性の粘着性樹脂(I)又はエネルギー線硬化性の粘着性樹脂(II)が架橋されている場合、当該貯蔵弾性率が上昇する傾向がある。また、架橋の度合いが高いほど、当該貯蔵弾性率が上昇する傾向がある。
More specific methods for adjusting the storage elastic modulus at 25 ° C. and 50 ° C. of the pressure-sensitive adhesive layer can be adjusted based on the following trends (1) to (4), for example. In the present invention, the method for adjusting the storage elastic modulus at 25 ° C. and 50 ° C. of the pressure-sensitive adhesive layer is not limited to the method based on the following tendencies, and the following tendencies are merely examples.
(1) When an acrylic resin, preferably an acrylic copolymer, is used as the adhesive resin, it tends to be easily adjusted so that the storage elastic modulus of the formed adhesive layer belongs to the above range.
(2) When an acrylic copolymer having a monomer having a high glass transition temperature of a homopolymer such as methyl (meth) acrylate as a constituent unit is used, the storage elastic modulus of the formed pressure-sensitive adhesive layer tends to increase. is there. The storage elastic modulus tends to increase as the content of such monomer-derived structural units increases with respect to all the structural units of the acrylic copolymer.
(3) In the case where the pressure-sensitive adhesive layer is formed from the energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition, there is the following tendency. That is, by using the energy ray-curable adhesive resin (II) described later, a pressure-sensitive adhesive composition containing an energy ray-curable low molecular weight compound together with the non-energy ray-curable adhesive resin (I) is used. In comparison, since the energy ray-curable low molecular weight compound is not included or the content of the compound can be reduced, the storage elastic modulus tends to be easily adjusted to be in the above range.
(4) When the non-energy ray curable adhesive resin (I) or energy ray curable adhesive resin (II) described later is crosslinked, the storage elastic modulus tends to increase. Moreover, the storage elastic modulus tends to increase as the degree of crosslinking increases.

また、上記要件(d)で規定するとおり、本発明の表面保護シートが有する粘着剤層の厚さは、30μm以上であり、好ましくは32μm以上、より好ましくは35μm以上、更に好ましくは38μm以上である。
当該粘着剤層の厚さが30μm未満であると、ワークの被着面上の回路等の凹凸が形成されている場合、このワークの凹凸部分と粘着剤層とが十分に接触せずに、ワークの凹凸部分の周辺に非接触領域が拡張する傾向にある。その結果、当該非接触領域の存在をきっかけとして、粘着剤層がワーク表面から剥離して、剥離した領域にスラッジ浸入が生じるため好ましくない。
なお、粘着剤層の厚さの上限値としては特に制限はないが、粘着剤層の厚さは、好ましくは200μm以下である。
Moreover, as prescribed in the above requirement (d), the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer of the surface protective sheet of the present invention is 30 μm or more, preferably 32 μm or more, more preferably 35 μm or more, and further preferably 38 μm or more. is there.
When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is less than 30 μm, when irregularities such as circuits on the adherend surface of the workpiece are formed, the uneven portion of the workpiece and the pressure-sensitive adhesive layer are not sufficiently in contact with each other, There is a tendency for the non-contact area to expand around the uneven part of the workpiece. As a result, the pressure-sensitive adhesive layer is peeled off from the workpiece surface due to the presence of the non-contact area, and sludge intrusion occurs in the peeled area, which is not preferable.
In addition, there is no restriction | limiting in particular as an upper limit of the thickness of an adhesive layer, However, The thickness of an adhesive layer becomes like this. Preferably it is 200 micrometers or less.

本発明の表面保護シートが有する粘着剤層は、エネルギー線硬化性粘着剤組成物から形成されることが好ましい。粘着剤層にエネルギー線を照射して硬化させることで、表面保護シートの粘着力を低減することができ、表面保護シート上の研削・分割済みチップを、ピックアップシート、ダイアタッチメントフィルム等の他のシートへ転写して、表面保護シートを容易に除去することできる。
なお、本発明において、「エネルギー線」とは、紫外線、電子線等を指し、好ましくは紫外線である。
The pressure-sensitive adhesive layer of the surface protective sheet of the present invention is preferably formed from an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition. By irradiating the adhesive layer with energy rays and curing it, the adhesive strength of the surface protection sheet can be reduced, and the ground and divided chips on the surface protection sheet can be used for other pickup sheets, die attachment films, etc. The surface protective sheet can be easily removed by transferring to a sheet.
In the present invention, “energy beam” refers to ultraviolet rays, electron beams, etc., preferably ultraviolet rays.

エネルギー線硬化性粘着剤組成物としては、非エネルギー線硬化性の粘着性樹脂(I)(以下、「粘着性樹脂(I)」ともいう)と共にエネルギー線硬化性低分子化合物を含む粘着剤組成物(I)、もしくは非エネルギー線硬化性の粘着性樹脂(I)の側鎖に不飽和基を導入したエネルギー線硬化性の粘着性樹脂(II)(以下、「粘着性樹脂(II)」ともいう)を含む粘着剤組成物(II)等が挙げられる。なお、本発明において「粘着性樹脂」の語は、実質的に粘着性樹脂のみから構成される組成物は粘着性を有していないが、可塑化成分の添加等により粘着性を発現する樹脂等も広く含む概念である。   The energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition includes a non-energy ray-curable adhesive resin (I) (hereinafter also referred to as “adhesive resin (I)”) and an energy ray-curable low molecular weight compound. Product (I) or energy beam curable adhesive resin (II) in which an unsaturated group is introduced into the side chain of non-energy ray curable adhesive resin (I) (hereinafter referred to as “adhesive resin (II)”) Pressure-sensitive adhesive composition (II) and the like. In the present invention, the term “adhesive resin” refers to a resin that exhibits an adhesive property due to the addition of a plasticizing component, etc., although a composition composed essentially of an adhesive resin has no adhesive property. It is a concept that also includes widely.

非エネルギー線硬化性の粘着性樹脂(I)の重量平均分子量(Mw)は、好ましくは25万〜150万、より好ましくは35万〜130万、更に好ましくは45万〜110万、より更に好ましくは65万〜105万である。
また、側鎖に不飽和基を導入したエネルギー線硬化性の粘着性樹脂(II)の重量平均分子量(Mw)としては、好ましくは30万〜160万、より好ましくは40万〜140万、更に好ましくは50万〜120万、より更に好ましくは70万〜110万である。
The weight average molecular weight (Mw) of the non-energy ray curable adhesive resin (I) is preferably 250,000 to 1,500,000, more preferably 350,000 to 1,300,000, still more preferably 450,000 to 1,100,000, and even more preferably. Is 650,000-1050,000.
Moreover, as a weight average molecular weight (Mw) of energy-beam curable adhesive resin (II) which introduce | transduced the unsaturated group into the side chain, Preferably it is 300,000-1,600,000, More preferably, 400,000-1.4 million, Preferably it is 500,000 to 1,200,000, and more preferably 700,000 to 1,100,000.

非エネルギー線硬化性の粘着性樹脂(I)としては、例えば、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、シリコーン系樹脂等が挙げられる。
これらの中でも、条件(b)及び(c)を満たす粘着剤層を容易に形成し易いとの観点から、アクリル系樹脂が好ましい。以下、アクリル系樹脂について詳述する。
Examples of the non-energy ray curable adhesive resin (I) include acrylic resins, rubber resins, and silicone resins.
Among these, an acrylic resin is preferable from the viewpoint of easily forming a pressure-sensitive adhesive layer that satisfies the conditions (b) and (c). Hereinafter, the acrylic resin will be described in detail.

(アクリル系樹脂)
アクリル系樹脂としては、炭素数4以上のアルキル(メタ)アクリレートモノマー(以下、「モノマー(p1)」ともいう)由来の構成単位(p1)を含む樹脂であることが好ましい。
アクリル系樹脂は、上記モノマー(p1)由来の構成単位(p1)のみからなる単独重合体であってもよいが、条件(2)及び(3)を満たす粘着剤層を得る観点から、構成単位(p1)と共に、さらに炭素数1〜3のアルキル(メタ)アクリレートモノマー(以下、「モノマー(p2)」ともいう)由来の構成単位(p2)及び/又は官能基含有モノマー(p3)(以下、「モノマー(p3)」ともいう)由来の構成単位(p3)を含む共重合体であることが好ましい。
(Acrylic resin)
The acrylic resin is preferably a resin containing a structural unit (p1) derived from an alkyl (meth) acrylate monomer having 4 or more carbon atoms (hereinafter also referred to as “monomer (p1)”).
The acrylic resin may be a homopolymer consisting only of the structural unit (p1) derived from the monomer (p1), but from the viewpoint of obtaining a pressure-sensitive adhesive layer satisfying the conditions (2) and (3), In addition to (p1), the structural unit (p2) and / or the functional group-containing monomer (p3) derived from an alkyl (meth) acrylate monomer having 1 to 3 carbon atoms (hereinafter also referred to as “monomer (p2)”) (hereinafter, A copolymer containing a structural unit (p3) derived from “monomer (p3)” is preferable.

モノマー(p1)が有するアルキル基の炭素数としては、粘着性シートの粘着力を向上させる観点から、好ましくは4〜20、より好ましくは4〜12、更に好ましくは4〜6である。また、モノマー(p1)のアルキル基は、直鎖及び分岐鎖のいずれであってもよい。   As carbon number of the alkyl group which a monomer (p1) has, from a viewpoint of improving the adhesive force of an adhesive sheet, Preferably it is 4-20, More preferably, it is 4-12, More preferably, it is 4-6. Further, the alkyl group of the monomer (p1) may be either a straight chain or a branched chain.

モノマー(p1)としては、例えば、ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
なお、これらのモノマー(p1)は、単独で又は2種以上組み合わせて用いてもよい。
これらの中でも、粘着性シートの粘着力を向上させる観点から、ブチル(メタ)アクリレートが好ましい。
Examples of the monomer (p1) include butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, and stearyl (meth). ) Acrylate and the like.
In addition, you may use these monomers (p1) individually or in combination of 2 or more types.
Among these, butyl (meth) acrylate is preferable from the viewpoint of improving the adhesive strength of the adhesive sheet.

アクリル系樹脂が共重合体である場合のアクリル系樹脂の全構成単位に対する構成単位(p1)の含有量は、好ましくは40〜98質量%、より好ましくは45〜95質量%、更に好ましくは50〜90質量%である。   When the acrylic resin is a copolymer, the content of the structural unit (p1) with respect to all the structural units of the acrylic resin is preferably 40 to 98% by mass, more preferably 45 to 95% by mass, and still more preferably 50. It is -90 mass%.

モノマー(p2)としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
なお、これらのモノマー(p2)は、単独で又は2種以上組み合わせて用いてもよい。
これらの中でも、条件(b)及び(c)を満たす粘着剤層を得る観点から、メチル(メタ)アクリレートが好ましい。
Examples of the monomer (p2) include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate and the like.
In addition, you may use these monomers (p2) individually or in combination of 2 or more types.
Among these, methyl (meth) acrylate is preferable from the viewpoint of obtaining a pressure-sensitive adhesive layer that satisfies the conditions (b) and (c).

アクリル系樹脂が共重合体である場合のアクリル系樹脂の全構成単位に対する構成単位(p2)の含有量は、好ましくは1〜30質量%、より好ましくは3〜26質量%、更に好ましくは6〜22質量%である。   When the acrylic resin is a copolymer, the content of the structural unit (p2) with respect to all the structural units of the acrylic resin is preferably 1 to 30% by mass, more preferably 3 to 26% by mass, and still more preferably 6 ˜22 mass%.

モノマー(p3)は、後述の架橋剤と反応し、架橋起点となり得る官能基又は架橋促進効果を有する官能基を有するモノマーを意味する。
モノマー(p3)が有する官能基としては、例えば、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、エポキシ基等が挙げられる。これらの中でも、架橋剤との反応性の観点から、カルボキシ基又は水酸基が好ましい。
The monomer (p3) means a monomer having a functional group that reacts with a cross-linking agent described later and can serve as a cross-linking origin or a functional group having a cross-linking promoting effect.
As a functional group which a monomer (p3) has, a hydroxyl group, a carboxy group, an amino group, an epoxy group etc. are mentioned, for example. Among these, a carboxy group or a hydroxyl group is preferable from the viewpoint of reactivity with the crosslinking agent.

モノマー(p3)としては、例えば、水酸基含有モノマー、カルボキシ基含有モノマー、アミノ基含有モノマー、エポキシ基含有モノマー等が挙げられる。
これらのモノマー(p2)は、単独で又は2種以上組み合わせて用いてもよい。
これらの中でも、水酸基含有モノマー、カルボキシ基含有モノマーが好ましく、水酸基含有モノマーがより好ましい。
Examples of the monomer (p3) include a hydroxyl group-containing monomer, a carboxy group-containing monomer, an amino group-containing monomer, and an epoxy group-containing monomer.
These monomers (p2) may be used alone or in combination of two or more.
Among these, a hydroxyl group-containing monomer and a carboxy group-containing monomer are preferable, and a hydroxyl group-containing monomer is more preferable.

水酸基含有モノマーとしては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類;ビニルアルコール、アリルアルコール等の不飽和アルコール類等が挙げられる。   Examples of the hydroxyl group-containing monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxybutyl (meta ) Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as acrylate and 4-hydroxybutyl (meth) acrylate; and unsaturated alcohols such as vinyl alcohol and allyl alcohol.

カルボキシ基含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸等のエチレン性不飽和モノカルボン酸;フマル酸、イタコン酸、マレイン酸、シトラコン酸等のエチレン性不飽和ジカルボン酸及びその無水物、2−カルボキシエチルメタクリレート等が挙げられる。   Examples of the carboxy group-containing monomer include ethylenically unsaturated monocarboxylic acids such as (meth) acrylic acid and crotonic acid; ethylenically unsaturated dicarboxylic acids such as fumaric acid, itaconic acid, maleic acid and citraconic acid, and anhydrides thereof. , 2-carboxyethyl methacrylate and the like.

アクリル系樹脂が共重合体である場合のアクリル系樹脂の全構成単位に対する構成単位(p3)の含有量は、好ましくは1〜35質量%、より好ましくは3〜32質量%、更に好ましくは6〜30質量%である。   When the acrylic resin is a copolymer, the content of the structural unit (p3) with respect to all the structural units of the acrylic resin is preferably 1 to 35% by mass, more preferably 3 to 32% by mass, and still more preferably 6 -30 mass%.

また、本発明で用いるアクリル系樹脂は、上記構成単位(p1)〜(p3)以外の、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、蟻酸ビニル、酢酸ビニル、アクリロニトリル、アクリルアミド等のアクリル系モノマーと共重合可能なモノマー由来の構成単位を含んでもよい。   The acrylic resin used in the present invention is co-polymerized with acrylic monomers other than the structural units (p1) to (p3) such as styrene, α-methylstyrene, vinyl toluene, vinyl formate, vinyl acetate, acrylonitrile, and acrylamide. A structural unit derived from a polymerizable monomer may be included.

(エネルギー線硬化性低分子化合物)
粘着剤組成物(I)に配合されるエネルギー線硬化性化合物としては、分子内に不飽和基を有し、エネルギー線照射により重合硬化可能なモノマー又はオリゴマーが好ましい。
このようなエネルギー線硬化性化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,4−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−へキサンジオール(メタ)アクリレート等の多価(メタ)アクリレートモノマー、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート,ポリエーテル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、及びこれらのオリゴマー等が挙げられる。
これらの中でも、比較的分子量が高く、粘着剤層の貯蔵弾性率を低下させにくい観点から、ウレタン(メタ)アクリレート、又はウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーが好ましい。
(Energy ray curable low molecular weight compound)
As the energy ray-curable compound blended in the pressure-sensitive adhesive composition (I), a monomer or oligomer having an unsaturated group in the molecule and capable of being polymerized and cured by irradiation with energy rays is preferable.
Examples of such energy ray curable compounds include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,4- Polyvalent (meth) acrylate monomers such as butylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, epoxy ( And meth) acrylates and oligomers thereof.
Among these, urethane (meth) acrylate or urethane (meth) acrylate oligomer is preferable from the viewpoint of relatively high molecular weight and difficulty in reducing the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer.

エネルギー線硬化性化合物の分子量(オリゴマーの場合は重量平均分子量)は、好ましくは100〜12000、より好ましくは200〜10000、更に好ましくは400〜8000、より更に好ましくは600〜6000である。   The molecular weight (weight average molecular weight in the case of an oligomer) of the energy ray curable compound is preferably 100 to 12000, more preferably 200 to 10,000, still more preferably 400 to 8000, and still more preferably 600 to 6000.

粘着剤組成物(I)中におけるエネルギー線硬化性化合物の含有量は、非エネルギー線硬化性の粘着性樹脂100質量部に対して、好ましくは40〜200質量部、より好ましくは50〜150質量部、更に好ましくは60〜90質量部である。   The content of the energy ray-curable compound in the pressure-sensitive adhesive composition (I) is preferably 40 to 200 parts by mass, more preferably 50 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the non-energy ray curable adhesive resin. Part, more preferably 60 to 90 parts by weight.

(エネルギー線硬化性の粘着性樹脂(II))
粘着性樹脂(II)は、上述の非エネルギー線硬化性の粘着性樹脂(I)の側鎖に不飽和基を導入したエネルギー線硬化性の粘着性樹脂である。
粘着性樹脂(II)の主鎖としては、上述の粘着性樹脂(I)を用いることができるが、上記条件(b)及び(c)を満たす粘着剤層を容易に形成し易いとの観点から、アクリル系樹脂が好ましく、構成単位(p1)、(p2)、及び(p3)を有するアクリル系共重合体がより好ましい。
粘着性樹脂(II)の側鎖に有する不飽和基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリール基等が挙げられるが、(メタ)アクリロイル基が好ましい。
(Energy ray curable adhesive resin (II))
The adhesive resin (II) is an energy beam curable adhesive resin in which an unsaturated group is introduced into the side chain of the non-energy ray curable adhesive resin (I) described above.
As the main chain of the adhesive resin (II), the above-mentioned adhesive resin (I) can be used, but it is easy to form an adhesive layer that satisfies the above conditions (b) and (c). Therefore, an acrylic resin is preferable, and an acrylic copolymer having the structural units (p1), (p2), and (p3) is more preferable.
Examples of the unsaturated group in the side chain of the adhesive resin (II) include a (meth) acryloyl group, a vinyl group, and an aryl group, and a (meth) acryloyl group is preferable.

粘着性樹脂(II)の合成法は、例えば、粘着性樹脂(I)に官能基含有モノマーを共重合させて官能基を設け、当該官能基と結合可能な置換基と不飽和基の双方を有する化合物を加え、共重合体の官能基と、当該置換基とを結合させて得る方法が挙げられる。
粘着性樹脂(I)に共重合させる官能基含有モノマーとしては、上述のモノマー(p3)として挙げた化合物が挙げられる。
当該官能基と結合する置換基としては、イソシアネート基やグリシジル基等が挙げられる。
そのため、当該官能基と結合可能な置換基と不飽和基の双方を有する化合物としては、例えば、(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、(メタ)アクリロイルイソシアネート、グリシジル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
The method for synthesizing the adhesive resin (II) includes, for example, copolymerizing a functional group-containing monomer to the adhesive resin (I) to provide a functional group, and providing both a substituent and an unsaturated group that can be bonded to the functional group. And a method in which the functional group of the copolymer is bonded to the substituent.
Examples of the functional group-containing monomer copolymerized with the adhesive resin (I) include the compounds mentioned as the monomer (p3).
Examples of the substituent bonded to the functional group include an isocyanate group and a glycidyl group.
Therefore, examples of the compound having both a substituent that can be bonded to the functional group and an unsaturated group include (meth) acryloyloxyethyl isocyanate, (meth) acryloyl isocyanate, glycidyl (meth) acrylate, and the like.

(架橋剤)
粘着剤組成物(I)及び(II)中には、さらに架橋剤を含有することが好ましい。
架橋剤を添加する主たる目的は、上記アクリル系樹脂が有するモノマー(p2)由来の官能基等の非エネルギー線硬化性の粘着性樹脂(I)又はエネルギー線硬化性の粘着性樹脂(II)が側鎖に有している官能基と反応して、粘着性樹脂同士を架橋するものである。
(Crosslinking agent)
The pressure-sensitive adhesive compositions (I) and (II) preferably further contain a crosslinking agent.
The main purpose of adding the cross-linking agent is that the non-energy ray curable adhesive resin (I) or the energy ray curable adhesive resin (II) such as a functional group derived from the monomer (p2) of the acrylic resin is used. It reacts with a functional group in the side chain to crosslink the adhesive resins.

架橋剤としては、例えば、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等、及びそれらのアダクト体等のイソシアネート系架橋剤;エチレングリコールグリシジルエーテル等のエポキシ系架橋剤;ヘキサ〔1−(2−メチル)−アジリジニル〕トリフオスファトリアジン等のアジリジン系架橋剤;アルミニウムキレート等のキレート系架橋剤;等が挙げられる。これらの架橋剤は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの中でも、凝集力を高めて粘着力を向上させる観点、及び入手し易さ等の観点から、イソシアネート系架橋剤が好ましい。
Examples of crosslinking agents include tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate and the like, and isocyanate-based crosslinking agents such as adducts thereof; epoxy-based crosslinking agents such as ethylene glycol glycidyl ether; hexa [1- (2-methyl) -aziridinyl ] Aziridine type crosslinking agents such as triphosphatriazine; Chelate type crosslinking agents such as aluminum chelate; These crosslinking agents may be used alone or in combination of two or more.
Among these, an isocyanate-based crosslinking agent is preferable from the viewpoints of increasing cohesive force and improving adhesive force, and availability.

架橋剤の配合量は、粘着性樹脂(I)及び(II)の構造中に有する官能基数により適宜調整されるが、架橋反応を促進させる観点から、粘着性樹脂(I)及び(II)100質量部に対して、好ましくは0.01〜10質量部、より好ましくは0.03〜7質量部、更に好ましくは0.05〜4質量部である。   The amount of the crosslinking agent is appropriately adjusted depending on the number of functional groups in the structures of the adhesive resins (I) and (II). From the viewpoint of promoting the crosslinking reaction, the adhesive resins (I) and (II) 100 Preferably it is 0.01-10 mass parts with respect to a mass part, More preferably, it is 0.03-7 mass part, More preferably, it is 0.05-4 mass part.

(光重合開始剤)
また、粘着剤組成物(I)及び(II)中には、さらに光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤を含有することで、紫外線等の比較的低エネルギーのエネルギー線でも、十分に硬化反応を進行させることができる。
光重合開始剤としては、例えば、1−ヒドロキシ−シクロへキシル−フェニル−ケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンジルフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロルニトリル、ジベンジル、ジアセチル、8−クロールアンスラキノン等が挙げられる。
これらの光重合開始剤は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
光重合開始剤の配合量は、粘着性樹脂(I)及び(II)100質量部に対して、好ましくは0.01〜10質量部、より好ましくは0.03〜5質量部、更に好ましくは0.05〜2質量部である。
(Photopolymerization initiator)
The pressure-sensitive adhesive compositions (I) and (II) preferably further contain a photopolymerization initiator. By containing the photopolymerization initiator, the curing reaction can be sufficiently advanced even with relatively low energy energy rays such as ultraviolet rays.
Examples of the photopolymerization initiator include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzyl phenyl sulfide, tetramethylthiuram monosulfide, and azobisisobutyrol. Nitrile, dibenzyl, diacetyl, 8-chloroanthraquinone and the like can be mentioned.
These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
The blending amount of the photopolymerization initiator is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.03 to 5 parts by mass, and still more preferably with respect to 100 parts by mass of the adhesive resins (I) and (II). It is 0.05-2 mass parts.

(その他の添加剤)
粘着性組成物(I)及び(II)には、本発明の効果を損なわない範囲において、その他の添加剤を含有させてもよい。
その他の添加剤としては、例えば、酸化防止剤、軟化剤(可塑剤)、充填剤、防錆剤、顔料、染料等が挙げられる。
これらの添加剤を配合する場合、添加剤の配合量は、粘着性樹脂(I)及び(II)100質量部に対して、好ましくは0.01〜6質量部である。
(Other additives)
The adhesive compositions (I) and (II) may contain other additives as long as the effects of the present invention are not impaired.
Examples of other additives include antioxidants, softeners (plasticizers), fillers, rust inhibitors, pigments, dyes, and the like.
When mix | blending these additives, the compounding quantity of an additive becomes like this. Preferably it is 0.01-6 mass parts with respect to 100 mass parts of adhesive resin (I) and (II).

また、粘着性組成物(I)及び(II)には、基材や剥離シートへの塗布性を向上させる観点から、更に有機溶媒で希釈して、粘着性組成物の溶液の形態としてもよい。
有機溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、シクロヘキサン、n−ヘキサン、トルエン、キシレン、n−プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
なお、これらの有機溶媒は、粘着性樹脂(I)及び(II)の生成時に使用された有機溶媒をそのまま用いてもよいし、該粘着剤組成物の溶液を均一に塗布できるように、調製時に使用された有機溶媒以外の1種以上の有機溶媒を加えてもよい。
In addition, the adhesive compositions (I) and (II) may be further diluted with an organic solvent from the viewpoint of improving applicability to a substrate or a release sheet to form a solution of the adhesive composition. .
Examples of the organic solvent include methyl ethyl ketone, acetone, ethyl acetate, tetrahydrofuran, dioxane, cyclohexane, n-hexane, toluene, xylene, n-propanol, isopropanol and the like.
In addition, these organic solvents may use the organic solvent used at the time of production | generation of adhesive resin (I) and (II) as it is, and it prepares so that the solution of this adhesive composition can be apply | coated uniformly. One or more organic solvents other than the organic solvents used at times may be added.

粘着剤組成物(I)及び(II)の溶液の固形分濃度としては、好ましくは5〜60質量%、より好ましくは10〜45質量%、更に好ましくは15〜30質量%になるように有機溶媒を配合することが好ましい。   The solid content concentration of the solution of the pressure-sensitive adhesive compositions (I) and (II) is preferably 5 to 60% by mass, more preferably 10 to 45% by mass, and still more preferably 15 to 30% by mass. It is preferable to mix a solvent.

<剥離材>
また、本発明の表面保護シートは、粘着剤層上に更に剥離材を有していてもよい。
剥離材としては、両面剥離処理をされた剥離シートや、片面剥離処理された剥離シート等が用いられ、剥離材用の基材上に剥離剤を塗布したもの等が挙げられる。
剥離材用の基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂等のポリエステル樹脂フィルム、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂等のポリオレフィン樹脂フィルム等のプラスチックフィルム等が挙げられる。
剥離剤としては、例えば、シリコーン系樹脂、オレフィン系樹脂、イソプレン系樹脂、ブタジエン系樹脂等のゴム系エラストマー、長鎖アルキル系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等が挙げられる。
剥離材の厚さは、特に制限ないが、好ましくは10〜200μm、より好ましくは25〜150μmである。
<Release material>
Moreover, the surface protection sheet of this invention may have a peeling material further on the adhesive layer.
As the release material, a release sheet that has been subjected to a double-sided release process, a release sheet that has been subjected to a single-sided release process, or the like is used. Examples include a release material coated on a release material substrate.
Examples of the base material for the release material include polyester resin films such as polyethylene terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, and polyethylene naphthalate resin, and plastic films such as polyolefin resin films such as polypropylene resin and polyethylene resin.
Examples of the release agent include rubber elastomers such as silicone resins, olefin resins, isoprene resins, and butadiene resins, long chain alkyl resins, alkyd resins, and fluorine resins.
The thickness of the release material is not particularly limited, but is preferably 10 to 200 μm, more preferably 25 to 150 μm.

〔表面保護シートの製造方法〕
本発明の表面保護シートの製造方法としては、特に制限はなく、公知の方法により製造することができる。例えば、上述の有機溶媒を配合した粘着性組成物の溶液を公知の塗布方法により製造する方法が挙げられる。
塗布方法としては、例えば、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等が挙げられる。
[Method for producing surface protective sheet]
There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the surface protection sheet of this invention, It can manufacture by a well-known method. For example, the method of manufacturing the solution of the adhesive composition which mix | blended the above-mentioned organic solvent with a well-known coating method is mentioned.
Examples of the coating method include spin coating, spray coating, bar coating, knife coating, roll coating, blade coating, die coating, and gravure coating.

具体的な製造方法として、図1(a)のような、基材11上に粘着剤層12が形成された表面保護シート1aの製造方法としては、例えば、基材11の一方の面に、粘着性組成物の溶液を直接塗布し、乾燥して粘着剤層12を形成させて製造する方法や、剥離材の剥離処理面に、粘着性組成物の溶液を直接塗布し、乾燥させて剥離材上に粘着剤層12を形成し、粘着剤層12と基材11とを貼り合わせ、その後、剥離材を除去して製造する方法等が挙げられる。
また、図1(b)のような、基材11上に形成した粘着剤層12上に剥離材13が積層された粘着性シート1cの製造方法としては、例えば、上述の粘着性シート1aの粘着剤層12の面と剥離材13とを貼り合わせて製造する方法や、剥離材13の剥離処理面に、粘着性組成物の溶液を直接塗布し、乾燥させて剥離材13上に粘着剤層12を形成し、粘着剤層12と基材11とを貼り合わせて製造する方法等が挙げられる。
As a specific manufacturing method, as a manufacturing method of the surface protection sheet 1a in which the pressure-sensitive adhesive layer 12 is formed on the base material 11 as shown in FIG. 1A, for example, on one surface of the base material 11, A method of manufacturing by directly applying a solution of the adhesive composition and drying to form the adhesive layer 12, or a method of directly applying the solution of the adhesive composition to the release treatment surface of the release material, followed by drying and peeling Examples thereof include a method in which the pressure-sensitive adhesive layer 12 is formed on the material, the pressure-sensitive adhesive layer 12 and the base material 11 are bonded together, and then the release material is removed to manufacture.
Moreover, as a manufacturing method of the adhesive sheet 1c by which the peeling material 13 was laminated | stacked on the adhesive layer 12 formed on the base material 11 like FIG.1 (b), the above-mentioned adhesive sheet 1a is mentioned, for example. A method of manufacturing by bonding the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 12 and the release material 13, or a solution of the pressure-sensitive adhesive composition is directly applied to the release-treated surface of the release material 13, and then dried and the pressure-sensitive adhesive on the release material 13. Examples of the method include forming the layer 12 and bonding the pressure-sensitive adhesive layer 12 and the base material 11 together.

有機溶媒を配合した場合の粘着剤組成物の溶液の固形分濃度は、好ましくは10〜60質量%、より好ましくは12〜45質量%、更に好ましくは15〜30質量%である。
また、基材や剥離材の剥離層面に粘着性組成物を有機溶剤に溶解した溶液を塗布した後、80〜150℃の温度で30秒〜5分間加熱することが好ましい。
The solid content concentration of the solution of the pressure-sensitive adhesive composition when an organic solvent is blended is preferably 10 to 60% by mass, more preferably 12 to 45% by mass, and still more preferably 15 to 30% by mass.
Moreover, after apply | coating the solution which melt | dissolved the adhesive composition in the organic solvent to the peeling layer surface of a base material or a peeling material, it is preferable to heat for 30 second-5 minutes at the temperature of 80-150 degreeC.

〔表面保護シートの用途〕
以下、本発明の表面保護シートの用途について説明する。
本発明の表面保護シートは、改質領域が形成されたワークの裏側研削工程の際に用いられる表面保護シートとして好適であって、ワークの裏面研削工程の際に、ワークが割断され形成される間隙からワークの被保護表面に、水の浸入(スラッジ浸入)を抑制して、ワークの被保護表面の汚染を防止し得る。
[Use of surface protection sheet]
Hereinafter, the use of the surface protective sheet of the present invention will be described.
The surface protective sheet of the present invention is suitable as a surface protective sheet used in the backside grinding process of the work on which the modified region is formed, and is formed by cleaving the work in the backside grinding process of the work. It is possible to prevent contamination of the protected surface of the workpiece by suppressing water intrusion (sludge infiltration) from the gap to the protected surface of the workpiece.

図2は、本発明の表面保護シートの用途の一例を示す模式図である。
本発明の表面保護シートは、図2(a)のように、回路等により凹凸部分51が形成された半導体ウエハ等のワーク50の表面保護シートとして好適である。本発明の表面保護シート1を、凹凸が形成された面(凹凸部分51側)に貼付することで、ワークの裏側切削工程において回路等を保護することができる。
FIG. 2 is a schematic view showing an example of the use of the surface protective sheet of the present invention.
The surface protective sheet of the present invention is suitable as a surface protective sheet for a workpiece 50 such as a semiconductor wafer on which uneven portions 51 are formed by a circuit or the like as shown in FIG. By sticking the surface protection sheet 1 of the present invention to the surface (uneven portion 51 side) where the unevenness is formed, the circuit and the like can be protected in the back side cutting process of the workpiece.

本発明の表面保護シートをワーク50の凹凸部分51側に貼付する際、ワークは加熱されていることが好ましい。ワークの加熱温度としては、好ましくは40〜80℃、より好ましくは45〜60℃である。   When the surface protective sheet of the present invention is applied to the uneven portion 51 side of the workpiece 50, the workpiece is preferably heated. The heating temperature of the workpiece is preferably 40 to 80 ° C, more preferably 45 to 60 ° C.

なお、本発明の表面保護シートは、上記要件(c)及び(d)を満たすため、ワーク50の凹凸部分51に粘着剤層12が追従し、ワーク50の凹凸部分51と粘着剤層12との非接触領域を少なくすることができる。その結果、当該非接触領域の存在をきっかけとした粘着剤層12がワーク50から剥離して、剥離した領域にスラッジ浸入が生じる現象を抑制することができる。   In addition, in order for the surface protection sheet of this invention to satisfy | fill the said requirements (c) and (d), the adhesive layer 12 tracks the uneven | corrugated | grooved part 51 of the workpiece | work 50, the uneven | corrugated | grooved part 51 of the workpiece | work 50, the adhesive layer 12, The non-contact area can be reduced. As a result, it is possible to suppress a phenomenon in which the pressure-sensitive adhesive layer 12 is peeled off from the work 50 triggered by the presence of the non-contact area, and sludge intrusion occurs in the peeled area.

また、ワーク50には、例えば、特許文献2に記載のステルスダイシング(登録商標)の方法を利用して、改質領域52が形成される。改質領域52の形成は、表面保護シート1をワーク50に貼付する前に行ってもよく、貼付後に行ってもよい。   Further, the modified region 52 is formed on the work 50 by using, for example, a stealth dicing (registered trademark) method described in Patent Document 2. The modified region 52 may be formed before or after the surface protection sheet 1 is attached to the workpiece 50.

そして、ワーク50の凹凸部分51側に本発明の表面保護シート1を貼付後、ワークの裏側表面50aから切削し、ワークを所望の厚みとする切削工程を経る。
当該切削工程は、発生する切削屑を洗い流すため、ワーク50は超純水に浸しながら行われる。
And after sticking the surface protection sheet 1 of this invention to the uneven | corrugated | grooved part 51 side of the workpiece | work 50, it cuts from the back surface 50a of a workpiece | work, and passes through the cutting process which makes a workpiece | work the desired thickness.
The cutting process is performed while the work 50 is immersed in ultrapure water in order to wash away the generated cutting waste.

図2(b)のように、ワークの切削が進むにつれ、ワーク50内部の改質領域52が割断され、間隙53が形成される。
従来の表面保護シートを用いた場合、毛細管現象により、この間隙53に水(スラッジ)が浸入し、凹凸部分51側の回路面と粘着剤層12との界面にまで浸入し、ワークの回路面が汚染されるという弊害がある。
しかしながら、本発明の表面保護シートは、上記要件(a)及び(b)を満たすことで、ワークの研削時の振動によって、ワークに貼付した表面保護シートの変形を抑え、ワークの被保護表面のスラッジ浸入を抑制することができる。
As shown in FIG. 2B, as the workpiece is cut, the modified region 52 inside the workpiece 50 is cleaved, and a gap 53 is formed.
When a conventional surface protection sheet is used, water (sludge) enters the gap 53 due to capillary action, and enters the interface between the circuit surface on the uneven portion 51 side and the pressure-sensitive adhesive layer 12, and the circuit surface of the workpiece. Is harmful.
However, the surface protective sheet of the present invention suppresses the deformation of the surface protective sheet attached to the workpiece by vibration during grinding of the workpiece by satisfying the above requirements (a) and (b). Sludge intrusion can be suppressed.

切削工程終了後、ワークの裏側表面50aにピックアップシート、ダイアタッチメントフィルム等の他のシートを貼着する。ここで、粘着剤層12がエネルギー線硬化性粘着剤組成物からなる場合には、粘着剤層12にエネルギー線を照射して硬化させることで、表面保護シートの粘着力を低減することができ、表面保護シートを容易に除去することができる。
そして、表面保護シートを除去後、ピックアップシート、ダイアタッチメントフィルム等の他のシートに外力を与えることにより、ワークをチップに分割することできる。
After the cutting process is completed, another sheet such as a pickup sheet or a die attachment film is attached to the back surface 50a of the workpiece. Here, when the pressure-sensitive adhesive layer 12 is made of an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition, the pressure-sensitive adhesive force of the surface protective sheet can be reduced by irradiating the pressure-sensitive adhesive layer 12 with energy rays and curing it. The surface protective sheet can be easily removed.
And after removing a surface protection sheet, a workpiece | work can be divided | segmented into a chip | tip by giving external force to other sheets, such as a pickup sheet and a die attachment film.

この際、エネルギー線としては、紫外線や電子線等が挙げられ、紫外線が好ましい。
エネルギー線が紫外線である場合の露光量は、好ましくは100〜1000mJ/cm、より好ましくは300〜700mJ/cmである。
また、エネルギー線として電子線を用いる場合、その加速電圧は、好ましくは10〜1000kVであり、照射線量は、好ましくは10〜1000kradの範囲で選定される。
In this case, examples of energy rays include ultraviolet rays and electron beams, and ultraviolet rays are preferable.
Exposure amount when the energy ray is ultraviolet is preferably 100~1000mJ / cm 2, more preferably 300~700mJ / cm 2.
When an electron beam is used as the energy beam, the acceleration voltage is preferably 10 to 1000 kV, and the irradiation dose is preferably selected in the range of 10 to 1000 krad.

以下の製造例で用いた成分及び生成した化合物の重量平均分子量(Mw)は、以下に記載の方法により測定した値を使用した。
<重量平均分子量(Mw)>
ゲル浸透クロマトグラフ装置(東ソー株式会社製、製品名「HLC−8020」)を用いて、下記の条件下で測定し、標準ポリスチレン換算にて測定した値を用いた。
(測定条件)
・カラム:「TSK guard column HXL−H」「TSK gel GMHXL(×2)」「TSK gel G2000HXL」(いずれも東ソー株式会社製)
・カラム温度:40℃
・展開溶媒:テトラヒドロフラン
・流速:1.0mL/min
As the weight average molecular weight (Mw) of the components used in the following production examples and the generated compound, values measured by the method described below were used.
<Weight average molecular weight (Mw)>
Using a gel permeation chromatograph device (product name “HLC-8020” manufactured by Tosoh Corporation), the value measured under the following conditions and measured in terms of standard polystyrene was used.
(Measurement condition)
・ Column: “TSK guard column HXL-H” “TSK gel GMHXL (× 2)” “TSK gel G2000HXL” (both manufactured by Tosoh Corporation)
-Column temperature: 40 ° C
・ Developing solvent: Tetrahydrofuran ・ Flow rate: 1.0 mL / min

製造例1
〔アクリル系共重合体(1)及び粘着剤組成物(1)の溶液の調製〕
ブチルアクリレート52質量部、メチルメタクリレート20質量部、及び2−ヒドロキシエチルアクリレート28質量部を、酢酸エチル溶媒中で溶液重合し、非エネルギー線硬化性のアクリル系共重合体を得た。得られた当該アクリル系共重合体の全水酸基数に対して、イソシアネート基数が0.9当量となる量のメタクリロイルオキシエチルイソシアネートを、当該アクリル系共重合体を含む溶液に加えて反応させ、側鎖にエネルギー線重合性基を有する、エネルギー線硬化性のアクリル系共重合体(1)(Mw:100万)を生成した。
そして、このアクリル系共重合体(1)の固形分100質量部に対して、架橋剤として、イソシアネート系架橋剤(日本ポリウレタン社製、商品名「コロネートL」)0.5質量部(固形分比)及び光重合開始剤として、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(BASF社製、商品名「イルガキュア184」)0.57質量部(固形分比)を配合して、エネルギー線硬化性粘着剤組成物(1)の溶液を調製した。
Production Example 1
[Preparation of Acrylic Copolymer (1) and Adhesive Composition (1) Solution]
52 parts by mass of butyl acrylate, 20 parts by mass of methyl methacrylate, and 28 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate were solution polymerized in an ethyl acetate solvent to obtain a non-energy ray-curable acrylic copolymer. An amount of methacryloyloxyethyl isocyanate having an isocyanate group number of 0.9 equivalent to the total number of hydroxyl groups of the acrylic copolymer thus obtained is added to the solution containing the acrylic copolymer and reacted. An energy ray-curable acrylic copolymer (1) (Mw: 1 million) having an energy ray polymerizable group in the chain was produced.
And as a crosslinking agent with respect to 100 mass parts of solid content of this acryl-type copolymer (1), 0.5 mass part (solid content of Nippon Polyurethane company make, brand name "Coronate L") is used as a crosslinking agent. Ratio) and 1-7-cyclohexyl-phenyl-ketone (trade name “Irgacure 184”, manufactured by BASF AG) 0.57 parts by mass (solid content ratio) as a photopolymerization initiator, energy ray curable adhesive A solution of the agent composition (1) was prepared.

製造例2
〔アクリル系共重合体(2)及び粘着剤組成物(2)の溶液の調製〕
ブチルアクリレート84質量部、メチルメタクリレート8質量部、アクリル酸3質量部、及び2−ヒドロキシエチルアクリレート5質量部を、酢酸エチル溶媒中で溶液重合し、非エネルギー線硬化性のアクリル系共重合体(2)(Mw:80万)を生成した。
そして、このアクリル系共重合体(2)の固形分100質量部に対して、エネルギー線硬化性化合物として、ウレタンアクリレートオリゴマー(Mw:5,000)80質量部(固形分比)、及び架橋剤として、イソシアネート系架橋剤(日本ポリウレタン社製、商品名「コロネートL」)1.0質量部(固形分比)及び光重合開始剤として、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(BASF社製、商品名「イルガキュア184」)0.57質量部(固形分比)を配合して、エネルギー線硬化性粘着剤組成物(2)の溶液を調製した。
Production Example 2
[Preparation of Acrylic Copolymer (2) and Adhesive Composition (2) Solution]
84 parts by mass of butyl acrylate, 8 parts by mass of methyl methacrylate, 3 parts by mass of acrylic acid, and 5 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate were solution-polymerized in an ethyl acetate solvent, and a non-energy ray curable acrylic copolymer ( 2) (Mw: 800,000) was produced.
And 80 mass parts (solid content ratio) of a urethane acrylate oligomer (Mw: 5,000) and a crosslinking agent as an energy ray curable compound with respect to 100 mass parts of the solid content of the acrylic copolymer (2). As an isocyanate-based crosslinking agent (trade name “Coronate L” manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) 1.0 part by mass (solid content ratio) and a photopolymerization initiator, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (manufactured by BASF Corporation, 0.57 parts by mass (solid content ratio) of trade name “Irgacure 184”) was blended to prepare a solution of the energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition (2).

製造例3
〔アクリル系共重合体(3)及び粘着剤組成物(3)の溶液の調製〕
2−エチルヘキシルアクリレート85質量部、及び2−ヒドロキシエチルアクリレート15質量部を、酢酸エチル溶媒中で溶液重合し、非エネルギー線硬化性のアクリル系共重合体を得た。得られた当該アクリル系共重合体の全水酸基数に対して、イソシアネート基数が0.9当量となる量のメタクリロイルオキシエチルイソシアネートを、当該アクリル系共重合体を含む溶液に加えて反応させ、側鎖にエネルギー線重合性基を有する、エネルギー線硬化性のアクリル系共重合体(3)(Mw:100万)を生成した。
そして、このアクリル系共重合体(3)の固形分100質量部に対して、架橋剤として、イソシアネート系架橋剤(日本ポリウレタン社製、商品名「コロネートL」)1.0質量部(固形分比)及び光重合開始剤として、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(BASF社製、商品名「イルガキュア184」)0.57質量部(固形分比)を配合して、エネルギー線硬化性粘着剤組成物(3)の溶液を調製した。
Production Example 3
[Preparation of Acrylic Copolymer (3) and Adhesive Composition (3) Solution]
85 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate and 15 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate were solution polymerized in an ethyl acetate solvent to obtain a non-energy ray curable acrylic copolymer. An amount of methacryloyloxyethyl isocyanate having an isocyanate group number of 0.9 equivalent to the total number of hydroxyl groups of the acrylic copolymer thus obtained is added to the solution containing the acrylic copolymer and reacted. An energy ray-curable acrylic copolymer (3) (Mw: 1 million) having an energy ray polymerizable group in the chain was produced.
And as a crosslinking agent with respect to 100 mass parts of solid content of this acrylic copolymer (3), 1.0 mass part (solid content of Nippon Polyurethane Co., Ltd., brand name "Coronate L") is used as a crosslinking agent. Ratio) and 1-7-cyclohexyl-phenyl-ketone (trade name “Irgacure 184”, manufactured by BASF AG) 0.57 parts by mass (solid content ratio) as a photopolymerization initiator, energy ray curable adhesive A solution of the agent composition (3) was prepared.

製造例4
〔アクリル系共重合体(4)及び粘着剤組成物(4)の溶液の調製〕
ブチルアクリレート84質量部、メチルメタクリレート8質量部、アクリル酸3質量部、及び2−ヒドロキシエチルアクリレート5質量部を、酢酸エチル溶媒中で溶液重合し、非エネルギー線硬化性のアクリル系共重合体(4)(Mw:80万)を生成した。
そして、このアクリル系共重合体(4)の固形分100質量部に対して、架橋剤として、イソシアネート系架橋剤(日本ポリウレタン社製、商品名「コロネートL」)10質量部(固形分比)を配合して、粘着剤組成物(4)の溶液を調製した。
Production Example 4
[Preparation of Acrylic Copolymer (4) and Adhesive Composition (4) Solution]
84 parts by mass of butyl acrylate, 8 parts by mass of methyl methacrylate, 3 parts by mass of acrylic acid, and 5 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate were solution-polymerized in an ethyl acetate solvent, and a non-energy ray curable acrylic copolymer ( 4) (Mw: 800,000) was generated.
And 10 mass parts (solid content ratio) of an isocyanate type crosslinking agent (Nippon Polyurethane Co., Ltd., brand name "Coronate L") as a crosslinking agent with respect to 100 mass parts of solid content of this acrylic copolymer (4). Was added to prepare a solution of the pressure-sensitive adhesive composition (4).

実施例1〜9、比較例1〜6
表1に示す、製造例1〜4のいずれかで調製した粘着剤組成物を、乾燥後の厚みが表1に示す値となるように、シリコーン剥離処理を行ったPETフィルム(リンテック社製、商品名「SP−PET381031」)の剥離処理面に塗布し、100℃で1分間乾燥し、粘着剤層を形成した。そして、当該粘着剤層と表1に示す基材を貼り合わせた後、PETフィルムを除去して、表面保護シートを作製した。
Examples 1-9, Comparative Examples 1-6
The PET film (manufactured by Lintec Co., Ltd.) subjected to silicone release treatment so that the pressure-sensitive adhesive composition prepared in any one of Production Examples 1 to 4 shown in Table 1 has a value after drying has the value shown in Table 1. The product was applied to the release-treated surface of the trade name “SP-PET 381031”) and dried at 100 ° C. for 1 minute to form an adhesive layer. And after bonding together the said adhesive layer and the base material shown in Table 1, the PET film was removed and the surface protection sheet was produced.

実施例及び比較例で用いた基材は、以下のとおりである。
・複層基材A:LDPE(低密度ポリエチレン)/PET(ポリエチレンテレフタレート)/LDPE=27.5μm/25.0μm/27.5μmからなる、合計厚み80μmの複層樹脂フィルムのみからなる基材。
・複層基材B:LDPE/PET/LDPE=27.5μm/50.0μm/27.5μmからなる、合計厚み105μmの複層樹脂フィルム。
・単層基材C:25μmのPETフィルム(三菱樹脂社製、商品名「ダイアホイルT100−25」)からなる単層樹脂フィルム。
・単層基材D:75μmのPETフィルム(東レ社製、商品名「ルミラー#75T60」)からなる単層樹脂フィルム。
・単層基材E:80μmのPBT(ポリブチレンテレフタレート)フィルムからなる単層樹脂フィルム。
・粘着剤層付き基材F:PET/PSA(非エネルギー線硬化性のアクリル系粘着剤(第2の粘着剤層))=25μm/5μmからなる、合計厚み30μmの易接着層付き樹脂フィルム。
・易接着層付き基材G:PET/易接着層(アクリレート変性ポリエステルを主成分とするポリエステル系樹脂溶液にアジリジン系架橋剤を添加したアンカーコート層形成用組成物から形成された層)=25μm/2μmからなる、合計厚み27μmの易接着層付き樹脂フィルム。
・単層基材H:105μmのウレタンアクリレート硬化フィルムからなる単層樹脂フィルム
The base materials used in Examples and Comparative Examples are as follows.
Multi-layer substrate A: a substrate composed of only a multilayer resin film having a total thickness of 80 μm, comprising LDPE (low density polyethylene) / PET (polyethylene terephthalate) /LDPE=27.5 μm / 25.0 μm / 27.5 μm.
Multi-layer substrate B: a multi-layer resin film having a total thickness of 105 μm, comprising LDPE / PET / LDPE = 27.5 μm / 50.0 μm / 27.5 μm.
Single-layer substrate C: a single-layer resin film made of a 25 μm PET film (trade name “Diafoil T100-25” manufactured by Mitsubishi Plastics, Inc.).
Single-layer substrate D: A single-layer resin film made of a 75 μm PET film (trade name “Lumirror # 75T60” manufactured by Toray Industries, Inc.).
Single-layer substrate E: a single-layer resin film made of an 80 μm PBT (polybutylene terephthalate) film.
-Substrate F with pressure-sensitive adhesive layer: PET / PSA (non-energy ray-curable acrylic pressure-sensitive adhesive (second pressure-sensitive adhesive layer)) = 25 μm / 5 μm, a resin film with an easy-adhesion layer having a total thickness of 30 μm.
Base material G with easy adhesion layer: PET / easy adhesion layer (layer formed from a composition for forming an anchor coat layer in which an aziridine-based crosslinking agent is added to a polyester-based resin solution containing acrylate-modified polyester as a main component) = 25 μm A resin film with an easy adhesion layer having a total thickness of 27 μm, comprising / 2 μm.
Single-layer substrate H: Single-layer resin film composed of a 105 μm urethane acrylate cured film

実施例及び比較例で作製した表面保護シートを構成する基材及び粘着剤層の各物性は、以下の方法により測定した。測定結果を表1に示す。   Each physical property of the base material and the pressure-sensitive adhesive layer constituting the surface protective sheet prepared in Examples and Comparative Examples was measured by the following methods. The measurement results are shown in Table 1.

<基材のヤング率の測定>
試験速度として、200mm/分を選択し、JIS K−7127(1999)に準拠して、上記基材A〜Gのヤング率を測定した。
<Measurement of Young's modulus of substrate>
As a test speed, 200 mm / min was selected, and Young's modulus of the base materials A to G was measured according to JIS K-7127 (1999).

<粘着剤層の貯蔵弾性率の測定>
粘弾性測定装置(Rheometrics社製、装置名「DYNAMIC ANALYZER RDAII」)を用いて、実施例及び比較例で用いた粘着剤組成物の溶液から形成された単層の粘着剤層を積層させて得た直径8mm×厚さ3mmサイズのサンプルを1Hzで23℃、50℃の環境下で貯蔵弾性率G’をねじりせん断法により測定した。
<Measurement of storage elastic modulus of adhesive layer>
Using a viscoelasticity measuring device (manufactured by Rheometrics, device name “DYNAMIC ANALYZER RDAII”), obtained by laminating a single pressure-sensitive adhesive layer formed from the solution of the pressure-sensitive adhesive composition used in Examples and Comparative Examples. The storage elastic modulus G ′ of a sample having a diameter of 8 mm × thickness of 3 mm was measured by a torsional shear method at 1 Hz in an environment of 23 ° C. and 50 ° C.

<基材及び粘着剤層の厚み>
基材(基材を構成する樹脂フィルム、第2の粘着剤層、易接着層を含む)の厚みについては、JIS K7130に準じて、定圧厚さ測定器(テクロック社製、製品名「PG−02」)を用いて測定した。
なお、本実施例において、粘着剤層の厚みについては、シリコーン剥離処理を行ったPETフィルムが付いた状態の表面保護シートの厚みを測定し、その厚みから基材及びシリコーン剥離処理を行ったPETフィルムの厚みを減じた値である。
また、粘着剤層付き基材Fの厚みについては、粘着剤層上にシリコーン剥離処理を行ったPETフィルムを貼り合わせた状態で厚みを測定し、シリコーン剥離処理を行ったPETフィルムの厚みを減じた値である。
<Thickness of base material and pressure-sensitive adhesive layer>
Regarding the thickness of the base material (including the resin film constituting the base material, the second pressure-sensitive adhesive layer, and the easy-adhesion layer), a constant pressure thickness measuring instrument (manufactured by Teclock Corporation, product name “PG-” 02 ").
In this example, for the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer, the thickness of the surface protective sheet with the PET film subjected to the silicone release treatment was measured, and the base material and the PET subjected to the silicone release treatment were determined from the thickness. It is a value obtained by reducing the thickness of the film.
Moreover, about the thickness of the base material F with an adhesive layer, thickness is measured in the state which bonded the PET film which performed the silicone peeling process on the adhesive layer, and the thickness of the PET film which performed the silicone peeling process is reduced. Value.

また、実施例及び比較例で作製した表面保護シートを半導体加工工程の用に供した場合の性能の評価を以下の方法により行った。評価結果を表1に示す。   Moreover, the performance evaluation at the time of using the surface protection sheet produced by the Example and the comparative example for a semiconductor processing process was performed with the following method. The evaluation results are shown in Table 1.

<スラッジ浸入の有無の評価>
バックグラインド用テープラミネーター(リンテック社製、装置名「RAD−3510F/12」)を用いて、常温(25℃)及び50℃に加熱したテーブル上で、直径12インチ、厚み730μmであり、パターンが形成された回路面を有するウエハの回路面に実施例及び比較例で作製した表面保護シートをラミネートした。
その後、ステルスレーザー照射装置(東京精密社製、装置名「ML300PlusWH」)を用いて、ウエハの回路形成面とは反対側の裏面からステルスレーザー照射を行って、ウエハ内部に改質領域を形成した。そして、ポリッシュ・グラインダ(東京精密社製、装置名「PG3000RM」)を用いて、ウエハの当該裏面から、超純水に曝しながら研削を行うと同時にチップの個片化を行い、厚さ20μmのチップを得た。
ウエハの回路面と表面保護シートとの間のスラッジ浸入の有無の評価は、研削後のウエハの回路面の全面を目視により観察し、スラッジ浸入の発生頻度によって、下記基準に基づいて評価した。
A:スラッジ浸入が発生した箇所が見られなかった。
B:微小なスラッジ浸入が発生した箇所は見られるが、回路面にスラッジが浸入した箇所は見られなかった。
C:回路面にスラッジが浸入した箇所が見られた。
<Evaluation of sludge intrusion>
On a table heated to room temperature (25 ° C.) and 50 ° C. using a tape grinder for back grind (manufactured by Lintec Corporation, device name “RAD-3510F / 12”), the diameter is 12 inches, the thickness is 730 μm, and the pattern is The surface protective sheets produced in the examples and comparative examples were laminated on the circuit surface of the wafer having the formed circuit surface.
Thereafter, using a stealth laser irradiation apparatus (manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd., apparatus name “ML300PlusWH”), a modified region was formed inside the wafer by performing stealth laser irradiation from the back surface opposite to the circuit formation surface of the wafer. . Then, using a polish grinder (manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd., device name “PG3000RM”), the wafer is ground from the back surface of the wafer while being exposed to ultrapure water, and at the same time, chips are separated into individual pieces of 20 μm thickness. I got a chip.
The evaluation of the presence or absence of sludge intrusion between the circuit surface of the wafer and the surface protective sheet was evaluated based on the following criteria based on the occurrence frequency of sludge intrusion by visually observing the entire circuit surface of the wafer after grinding.
A: A portion where sludge intrusion occurred was not observed.
B: Although a portion where minute sludge intrusion occurred was seen, a portion where sludge entered the circuit surface was not seen.
C: A portion where sludge entered the circuit surface was observed.

<剥離性の評価>
上記のスラッジ浸入の有無の評価において得た個片化されたチップに対して、フルオートエキスパンダーMAE300に内蔵の水銀ランプを用いて、表面保護シートが貼付されたチップの回路面に対してUV照射を行い、ピックアップシートへ転写し、表面保護シートを剥離した。
表面保護シート剥離後のチップ表面への粘着剤の残着の有無を目視及びデジタル顕微鏡(キーエンス社製、装置名「VHX−1000」)を用いて観察し、剥離性の評価を、下記基準に基づいて評価した。
なお、本試験は、上記スラッジ浸入の有無の評価が良好な結果(A又はB)が得られたものについてのみ行った。
A:目視、デジタル顕微鏡のいずれの観察においても、チップ表面への粘着剤の残着は認められなかった。
B:目視、デジタル顕微鏡のいずれか又は双方の観察において、チップ表面への粘着剤の残着が見られた。
<Evaluation of peelability>
Using the mercury lamp built in the full-auto expander MAE300, UV irradiation is performed on the circuit surface of the chip to which the surface protection sheet is attached using the mercury lamp incorporated in the evaluation of the presence or absence of sludge intrusion. Was transferred to a pickup sheet, and the surface protective sheet was peeled off.
The presence or absence of adhesive remaining on the chip surface after the surface protective sheet was peeled off was observed visually and using a digital microscope (manufactured by Keyence Corporation, apparatus name “VHX-1000”). Based on the evaluation.
In addition, this test was done only about the thing with which the favorable evaluation (A or B) of the presence or absence of the said sludge penetration | invasion was obtained.
A: Adhesion of the adhesive to the chip surface was not observed in both visual observation and digital microscope observation.
B: Adhesive residue on the chip surface was observed in visual observation, observation of either or both of the digital microscopes.

実施例1〜9の表面保護シートを用いてウエハに熱貼りした場合、回路面へのスラッジの浸入が抑制されている結果となった。
一方、比較例1〜6の表面保護を用いてウエハに熱貼りした場合、回路面にスラッジが浸入した箇所が見られた。
When the surface protective sheets of Examples 1 to 9 were used for heat bonding to the wafer, the result was that sludge intrusion into the circuit surface was suppressed.
On the other hand, when heat-bonding was performed on the wafer using the surface protection of Comparative Examples 1 to 6, a portion where sludge entered the circuit surface was observed.

本発明の表面保護シートは、ワークの裏面研削工程の際に、ワークが割断され形成される間隙からワークの被保護表面に、水の浸入(スラッジ浸入)を抑制して、ワークの被保護表面の汚染を防止し得る。
そのため、ステルスダイシング(登録商標)を利用して、半導体ウエハ等のワーク内部に改質領域を形成した後、ワークの裏面から研削を行ってチップを得る、チップ製造方法に用いられるワークの表面保護シートとして好適である。
The surface protective sheet of the present invention suppresses the intrusion of water (sludge intrusion) from the gap formed by cleaving the work during the back grinding process of the work to the protected surface of the work, thereby protecting the protected surface of the work Can prevent contamination.
Therefore, stealth dicing (registered trademark) is used to form a modified region inside a workpiece such as a semiconductor wafer, and then grind from the back of the workpiece to obtain a chip, thereby protecting the surface of the workpiece used in the chip manufacturing method. It is suitable as a sheet.

1、1a、1b 表面保護シート
11 基材
12 粘着剤層
13 剥離材
50 ワーク
50a ワークの裏側表面
51 凹凸部分
52 改質領域
53 間隙
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1a, 1b Surface protection sheet 11 Base material 12 Adhesive layer 13 Release material 50 Work piece 50a Back side surface 51 of workpiece Uneven part 52 Modified area 53 Gap

Claims (10)

基材上に粘着剤層を有し、ワークの裏面研削工程の際に用いられる表面保護シートであって、下記要件(a)〜(d)を満たす、表面保護シート。
(a)前記基材のヤング率が、450MPa以上である
(b)前記粘着剤層の25℃における貯蔵弾性率が、0.15MPa以上である
(c)前記粘着剤層の50℃における貯蔵弾性率が0.20MPa以下である
(d)前記粘着剤層の厚さが、30μm以上である
A surface protective sheet that has a pressure-sensitive adhesive layer on a substrate and is used in a back grinding process of a workpiece, and satisfies the following requirements (a) to (d).
(A) Young's modulus of the substrate is 450 MPa or more (b) Storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer at 25 ° C. is 0.15 MPa or more (c) Storage of the pressure-sensitive adhesive layer at 50 ° C. (D) The pressure-sensitive adhesive layer has a thickness of 30 μm or more.
前記粘着剤層が、エネルギー線硬化性粘着剤組成物からなる、請求項1に記載の表面保護シート。   The surface protection sheet according to claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive layer is made of an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition. 前記基材の厚さが、5〜250μmである、請求項1又は2に記載の表面保護シート。   The surface protection sheet of Claim 1 or 2 whose thickness of the said base material is 5-250 micrometers. 前記基材が、樹脂フィルムとして、ポリエステル系フィルムを含む、請求項1〜3のいずれかに記載の表面保護シート。   The surface protection sheet in any one of Claims 1-3 in which the said base material contains a polyester-type film as a resin film. 前記基材が、樹脂フィルムと、該樹脂フィルム上に積層された、厚さ10μm以下の非エネルギー線硬化性粘着剤組成物からなる第2の粘着剤層又は厚さ10μm以下の易接着層を有する、請求項1〜4のいずれかに記載の表面保護シート。   The base material includes a resin film and a second pressure-sensitive adhesive layer made of a non-energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition having a thickness of 10 μm or less laminated on the resin film or an easy-adhesion layer having a thickness of 10 μm or less. The surface protection sheet according to any one of claims 1 to 4. 前記粘着剤層の25℃における貯蔵弾性率が、0.17MPa以上である、請求項1〜5のいずれかに記載の表面保護シート。   The surface protection sheet in any one of Claims 1-5 whose storage elastic modulus in 25 degreeC of the said adhesive layer is 0.17 Mpa or more. 前記エネルギー線硬化性粘着剤組成物がアクリル系樹脂を含み、該アクリル系樹脂がアクリルアミドを構成単位として含まない、請求項2〜6のいずれかに記載の表面保護シート。   The surface protection sheet according to any one of claims 2 to 6, wherein the energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition contains an acrylic resin, and the acrylic resin does not contain acrylamide as a constituent unit. 前記表面保護シートが、分割予定ラインに沿ってワークの表側に溝を形成し、該ワークの裏面側から少なくとも溝に到達するまで、該ワークを研削し、チップに分割する際に、該ワークに貼付されるものである、請求項1〜7のいずれかに記載の表面保護シート。   When the surface protection sheet forms a groove on the front side of the work along the planned dividing line, and grinds the work until it reaches at least the groove from the back side of the work, The surface protection sheet in any one of Claims 1-7 which is affixed. 前記表面保護シートが、前記ワークの表側に形成された溝の内壁面に貼付される、請求項8に記載の表面保護シート。   The surface protection sheet according to claim 8, wherein the surface protection sheet is affixed to an inner wall surface of a groove formed on the front side of the workpiece. 前記表面保護シートが、40〜80℃に加熱されたワークに貼付されるものである、請求項8又は9に記載の表面保護シート。   The surface protection sheet according to claim 8 or 9, wherein the surface protection sheet is affixed to a workpiece heated to 40 to 80 ° C.
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