JP6448753B2 - Conductive film for touch panel, touch panel and display device - Google Patents
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Landscapes
- Non-Insulated Conductors (AREA)
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Description
本発明は、タッチパネル用の導電性フィルム、タッチパネルおよび表示装置に関する。 The present invention relates to a conductive film for a touch panel, a touch panel, and a display device.
近年、携帯情報機器を始めとした各種の電子機器において、液晶表示装置等の表示装置と組み合わせて用いられ、画面に接触することにより電子機器への入力操作を行うタッチパネルの普及が進んでいる。
このようなタッチパネルには、タッチパネル用電極部材として、ガラスやポリエステルフィルムからなる透明絶縁基板の表面上に、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）薄膜からなる透明導電層を形成したものが広く使用されている。しかしながら、ＩＴＯ薄膜からなる透明導電層は、インジウムというレアメタル（希土類元素）が使用されるため、高価であることや、タッチパネルの大面積化を図るには高抵抗（表面抵抗率が高い）であること等の理由から、低コスト化および大画面化への要求に対応し難い。
そこで、昨今、ＩＴＯ薄膜などの透明導電層に代えて、金属細線をメッシュ状に配置したパターンからなる金属メッシュを透明絶縁基板上に形成したタッチパネル用電極部材が提案されている。このような金属メッシュを用いれば、ＩＴＯ薄膜に比べて低コストかつ低抵抗にタッチパネルを形成することができる。
In recent years, in various electronic devices such as portable information devices, touch panels that are used in combination with a display device such as a liquid crystal display device and perform an input operation to the electronic device by touching a screen have been widely used.
Such a touch panel is widely used as an electrode member for a touch panel in which a transparent conductive layer made of an ITO (indium tin oxide) thin film is formed on the surface of a transparent insulating substrate made of glass or a polyester film. . However, since a rare metal (rare earth element) called indium is used for the transparent conductive layer made of an ITO thin film, it is expensive and has a high resistance (high surface resistivity) to increase the area of the touch panel. For these reasons, it is difficult to meet the demand for cost reduction and large screen.
Therefore, recently, an electrode member for a touch panel in which a metal mesh having a pattern in which fine metal wires are arranged in a mesh shape instead of a transparent conductive layer such as an ITO thin film is formed on a transparent insulating substrate has been proposed. If such a metal mesh is used, a touch panel can be formed at lower cost and lower resistance than an ITO thin film.
上記金属メッシュは、上述の利点がある一方で、タッチパネル用電極部材（導電性フィルム）に使用した際に、ＩＴＯ薄膜からなる透明導電層と比較して、視認性が問題となりやすい。具体的には、金属メッシュは比較的に高い反射率を呈するため、外光の反射によってメッシュパターンが観察者に視認されやすくなる。
このような問題に対して、特許文献１では、ストライプ状銅配線の視認側に、黒色の酸化銅皮膜（黒化層）を配置している。黒化層を配置することにより、メッシュパターンの不可視性が向上して、画像コントラストが向上するので、画像の視認性を改善できる。
また、特許文献２では、金属細線の形状を逆テーパ状にしている。そのため、黒化層で被覆されておらず、金属が露出している配線側面を隠すことができるため、外光反射によって金属細線が目立ってしまうことを抑制できる。
While the above metal mesh has the above-mentioned advantages, when used for an electrode member for a touch panel (conductive film), visibility tends to be a problem as compared with a transparent conductive layer made of an ITO thin film. Specifically, since the metal mesh exhibits a relatively high reflectance, the mesh pattern is easily visually recognized by the observer due to the reflection of external light.
With respect to such a problem, in Patent Document 1, a black copper oxide film (a blackened layer) is disposed on the viewing side of the striped copper wiring. By arranging the blackening layer, the invisibility of the mesh pattern is improved and the image contrast is improved, so that the visibility of the image can be improved.
Moreover, in patent document 2, the shape of a metal fine wire is made into the reverse taper shape. Therefore, the wiring side surface where the metal is exposed without being covered with the blackening layer can be concealed, so that it is possible to suppress the conspicuousness of the fine metal wire due to the reflection of external light.
特許文献２のように金属細線の断面形状を逆テーパ状にした場合には、視認性を確保できるものの、金属細線と透明絶縁基板との接触面積が小さいために、これらの密着性が不十分になったり、金属細線の耐擦性が不十分になったりするという不具合が生じることがある。このような不具合が生じると、配線パターンのズレや断線などの原因になる。
さらに、金属細線を含む導電性フィルムを、他の基材（例えばＯＣＡ（Optical Clear Adhesive）フィルム）と貼り合せた場合、他の基材が金属細線の段差部分に追従できず、金属細線の周辺に空気が入るという問題が生じることがある。
When the cross-sectional shape of the fine metal wires is reversely tapered as in Patent Document 2, the visibility can be ensured, but the contact area between the fine metal wires and the transparent insulating substrate is small, so that the adhesion is insufficient. In some cases, or the abrasion resistance of the fine metal wires may be insufficient. When such a defect occurs, it causes a shift in the wiring pattern or disconnection.
Furthermore, when a conductive film containing fine metal wires is bonded to another base material (for example, OCA (Optical Clear Adhesive) film), the other base material cannot follow the stepped portion of the fine metal wire, and the periphery of the fine metal wire There may be a problem of air entering the chamber.
そこで、本発明は、金属細線の視認性、密着性および耐擦性に優れ、段差追従性にも優れたタッチパネル用の導電性フィルムを提供することを目的とする。
また、本発明は、このような導電性フィルムを有するタッチパネルおよび表示装置を提供することも目的とする。
Then, an object of this invention is to provide the electroconductive film for touchscreens which was excellent in the visibility of metal fine wire, adhesiveness, and abrasion resistance, and was excellent also in level | step difference followability.
Another object of the present invention is to provide a touch panel and a display device having such a conductive film.
本発明者は、上記課題について鋭意検討した結果、特定形状の金属細線を用い、金属細線の先端面を特定厚みの保護層で覆い、かつ、金属細線の側面を特定高さの保護層で覆うことで、所望の効果が得られることを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明者は、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。
As a result of intensive studies on the above problems, the present inventor has used a thin metal wire of a specific shape, covers the tip surface of the thin metal wire with a protective layer having a specific thickness, and covers the side surface of the thin metal wire with a protective layer having a specific height. Thus, the inventors have found that a desired effect can be obtained, and have reached the present invention.
That is, the present inventor has found that the above problem can be solved by the following configuration.
［１］
透明絶縁基板と、
上記透明絶縁基板上に形成された金属細線からなる検出電極と、
上記透明絶縁基板上に形成され、上記金属細線の表面の少なくとも一部を覆う保護層と、
を備え、
上記金属細線は、上記透明絶縁基板とは反対側に向けられた先端面と、上記先端面の縁部から上記透明絶縁基板まで延びる側面と、を有すると共に、上記先端面の線幅より小さい線幅を有する幅狭部分を含み、
上記保護層は、上記金属細線の５０％以上の高さで上記金属細線の上記側面を覆い、かつ、１ｎｍ〜５μｍの厚みで上記金属細線の上記先端面を覆う、タッチパネル用の導電性フィルム。
［２］
上記保護層の水との接触角が７０°以上である、上記［１］に記載のタッチパネル用の導電性フィルム。
［３］
上記金属細線が、金、銀、銅、アルミニウム、チタン、パラジウムおよびクロムからなる群より選択される少なくとも１種の金属を含む、上記［１］または［２］に記載のタッチパネル用の導電性フィルム。
［４］
上記保護層が、上記金属細線の７０％以上の高さで上記金属細線の上記側面を覆う、上記［１］〜［３］のいずれか１つに記載のタッチパネル用の導電性フィルム。
［５］
上記保護層が微粒子を含む、上記［１］〜［４］のいずれか１つに記載のタッチパネル用の導電性フィルム。
［６］
上記［１］〜［５］のいずれか１つに記載のタッチパネル用の導電性フィルムを有する、タッチパネル。
［７］
上記［１］〜［５］のいずれか１項に記載のタッチパネル用の導電性フィルムを有する、表示装置。
[1]
A transparent insulating substrate;
A detection electrode made of a fine metal wire formed on the transparent insulating substrate;
A protective layer formed on the transparent insulating substrate and covering at least a part of the surface of the fine metal wire;
With
The thin metal wire has a tip surface directed to the opposite side of the transparent insulating substrate and a side surface extending from an edge of the tip surface to the transparent insulating substrate, and is a line smaller than a line width of the tip surface. Including a narrow portion having a width;
The conductive film for a touch panel, wherein the protective layer covers the side surface of the fine metal wire at a height of 50% or more of the fine metal wire, and covers the tip end surface of the fine metal wire with a thickness of 1 nm to 5 μm.
[2]
The conductive film for a touch panel according to the above [1], wherein the contact angle of the protective layer with water is 70 ° or more.
[3]
The conductive film for a touch panel according to the above [1] or [2], wherein the thin metal wire includes at least one metal selected from the group consisting of gold, silver, copper, aluminum, titanium, palladium, and chromium. .
[4]
The conductive film for a touch panel according to any one of [1] to [3], wherein the protective layer covers the side surface of the fine metal wire at a height of 70% or more of the fine metal wire.
[5]
The conductive film for a touch panel according to any one of [1] to [4], wherein the protective layer contains fine particles.
[6]
The touch panel which has the electroconductive film for touchscreens as described in any one of said [1]-[5].
[7]
The display apparatus which has the electroconductive film for touchscreens of any one of said [1]-[5].
以下に示すように、本発明によれば、金属細線の視認性、密着性および耐擦性に優れ、段差追従性にも優れたタッチパネル用の導電性フィルムを提供することができる。
また、本発明は、このような導電性フィルムを有するタッチパネルおよび表示装置を提供することができる。
As shown below, according to the present invention, it is possible to provide a conductive film for a touch panel that is excellent in visibility, adhesion and abrasion resistance of fine metal wires, and also excellent in level-step following ability.
Moreover, this invention can provide the touchscreen and display apparatus which have such an electroconductive film.
本発明において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。 In the present invention, a numerical range represented by using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
以下では、まず、本発明のタッチパネル用の導電性フィルムを有するタッチパネルの構造を説明して、次に、本発明のタッチパネル用の導電性フィルムの説明を行う。 Below, the structure of the touch panel which has the electroconductive film for touchscreens of this invention is demonstrated first, and the electroconductive film for touchscreens of this invention is demonstrated next.
［タッチパネルおよび表示装置］
本発明の導電性フィルムを有するタッチパネルの一例について、図面を参照しながら説明する。
図１は、タッチパネル１の断面を示す部分断面図である。図１に示されるように、タッチパネル１は、平板形状を有する透明な絶縁性の支持体２を有し、視認側とは反対側の支持体２の表面上に導電性フィルム３が透明な接着剤４により接合されている。導電性フィルム３は、可撓性の透明絶縁基板３１の両面上にそれぞれ導電部材３２が形成されると共に、導電部材３２を覆うように透明絶縁基板３１の両面上に透明な保護層３３が形成されたものである。
図１の例では、透明絶縁基板３１の両面上に導電部材３２および保護層３３が形成されているが、これに限定されず、透明絶縁基板３１の少なくとも一方の面に導電部材３２および保護層３３が形成されていればよい。
[Touch panel and display device]
An example of a touch panel having the conductive film of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing a cross section of the touch panel 1. As shown in FIG. 1, the touch panel 1 has a transparent insulating support 2 having a flat plate shape, and the conductive film 3 is transparently bonded on the surface of the support 2 opposite to the viewing side. Bonded by the agent 4. In the conductive film 3, conductive members 32 are formed on both surfaces of the flexible transparent insulating substrate 31, and a transparent protective layer 33 is formed on both surfaces of the transparent insulating substrate 31 so as to cover the conductive members 32. It has been done.
In the example of FIG. 1, the conductive member 32 and the protective layer 33 are formed on both surfaces of the transparent insulating substrate 31. However, the present invention is not limited to this, and the conductive member 32 and the protective layer are formed on at least one surface of the transparent insulating substrate 31. 33 may be formed.
図２は、タッチパネル１に用いられた導電性フィルム３を示す平面図である。図２に示されるように、導電性フィルム３には、透過領域Ｓ１が区画されると共に、透過領域Ｓ１の外側に周辺領域Ｓ２が区画されている。透明絶縁基板３１の表面３１Ａ上には、透過領域Ｓ１内に、それぞれ第１の方向Ｄ１に沿って延び且つ第１の方向Ｄ１に直交する第２の方向Ｄ２に並列配置された複数の第１電極３４が形成され、周辺領域Ｓ２に、複数の第１電極３４に接続された複数の第１周辺配線３５が互いに近接して配列されている。
同様に、透明絶縁基板３１の裏面３１Ｂ上には、透過領域Ｓ１内に、それぞれ第２の方向Ｄ２に沿って延び且つ第１の方向Ｄ１に並列配置された複数の第２電極３６が形成され、周辺領域Ｓ２に、複数の第２電極３６に接続された複数の第２周辺配線３７が互いに近接して配列されている。
FIG. 2 is a plan view showing the conductive film 3 used in the touch panel 1. As shown in FIG. 2, the conductive film 3 has a transmissive region S1 and a peripheral region S2 defined outside the transmissive region S1. On the surface 31A of the transparent insulating substrate 31, a plurality of first elements arranged in parallel in a second direction D2 extending along the first direction D1 and orthogonal to the first direction D1 in the transmission region S1. An electrode 34 is formed, and a plurality of first peripheral wirings 35 connected to the plurality of first electrodes 34 are arranged close to each other in the peripheral region S2.
Similarly, a plurality of second electrodes 36 extending along the second direction D2 and arranged in parallel in the first direction D1 are formed in the transmission region S1 on the back surface 31B of the transparent insulating substrate 31. In the peripheral region S2, a plurality of second peripheral wirings 37 connected to the plurality of second electrodes 36 are arranged close to each other.
なお、図３に示されるように、透明絶縁基板３１の表面３１Ａ上に配置された第１電極３４は、第１金属細線３８からなるメッシュパターンにより形成されており、透明絶縁基板３１の裏面３１Ｂ上に配置された第２電極３６も、第２金属細線３９からなるメッシュパターンにより形成されている。そして、視認側から見たときに、第１金属細線３８と第２金属細線３９とが互いに交差するように配置されている。
なお、第１金属細線３８および第２金属細線３９は、メッシュパターンを有するものに限定されるものではなく、例えば、それぞれ屈曲を繰り返しながら互いに並行する複数の第１金属細線３８により第１電極３４を形成すると共に、それぞれ屈曲を繰り返しながら互いに並行する複数の第２金属細線３９により第２電極３６を形成し、視認側から見たときに、複数の第１金属細線３８と複数の第２金属細線３９とが互いに重なって多角形からなる多数のメッシュを形成するように構成することもできる。
As shown in FIG. 3, the first electrode 34 disposed on the front surface 31 </ b> A of the transparent insulating substrate 31 is formed by a mesh pattern composed of the first metal thin wires 38, and the back surface 31 </ b> B of the transparent insulating substrate 31. The second electrode 36 disposed on the top is also formed by a mesh pattern composed of the second fine metal wires 39. And when it sees from the visual recognition side, it arrange | positions so that the 1st metal fine wire 38 and the 2nd metal fine wire 39 may mutually cross | intersect.
The first metal thin wires 38 and the second metal thin wires 39 are not limited to those having a mesh pattern. For example, the first electrode 34 is formed by a plurality of first metal thin wires 38 that are parallel to each other while repeating bending. The second electrode 36 is formed by a plurality of second metal thin wires 39 parallel to each other while repeating bending, and when viewed from the viewing side, the plurality of first metal thin wires 38 and the plurality of second metals It is also possible to form a large number of polygonal meshes by overlapping the thin wires 39 with each other.
上述した導電性フィルム３を有するタッチパネル１は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）等の各種表示装置に適用できる。 The touch panel 1 having the conductive film 3 described above can be applied to various display devices such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), and a cathode ray tube display (CRT).
［導電性フィルムの第１実施形態］
本発明のタッチパネル用の導電性フィルムの一実施形態について、図４を参照しながら説明する。図４は、第１実施形態における導電性フィルム３の第１金属細線３８を示す部分断面図である。
[First Embodiment of Conductive Film]
One embodiment of the conductive film for a touch panel of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a partial cross-sectional view showing the first fine metal wires 38 of the conductive film 3 in the first embodiment.
＜透明絶縁基板＞
透明絶縁基板は、金属細線の形成に用いられる基材であり、図４の例では、透明絶縁基板３１に相当する。
透明絶縁基板３１には、フィルムが用いられ、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、オレフィン系フィルム（例えば、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）フィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム）等を用いることができる。
透明絶縁基板３１の厚みは、これに限定されるものではないが、例えば５〜３００μｍであることが好ましく、２０〜１５０μｍであることがより好ましい。
<Transparent insulating substrate>
The transparent insulating substrate is a base material used for forming a thin metal wire, and corresponds to the transparent insulating substrate 31 in the example of FIG.
A film is used for the transparent insulating substrate 31, for example, a polyethylene terephthalate (PET) film, an olefin film (for example, a cycloolefin polymer (COP), a cycloolefin copolymer (COC) film, a polypropylene film, a polyethylene film), etc. Can be used.
Although the thickness of the transparent insulating substrate 31 is not limited to this, For example, it is preferable that it is 5-300 micrometers, and it is more preferable that it is 20-150 micrometers.
＜金属細線＞
本発明の導電性フィルムは、上述したように、金属細線（例えば、図３の第１金属細線３８）を有する。この金属細線は、透明絶縁基板とは反対側に向けられた先端面と、上記先端面の縁部から上記透明絶縁基板まで延びる側面と、を有すると共に、上記先端面の線幅より小さい線幅を有する幅狭部分を含む。
このように、金属細線が幅狭部分を有することで、使用者の視認側である金属細線の先端面側からタッチパネルを見た場合に、金属細線の側面の少なくとも一部分が隠れて目立ちにくくなる。これにより、金属細線の視認性が優れたものとなる。
特に、先端面の線幅が最も大きいと、視認側から導電性フィルムを垂直に見た場合に金属細線の側面が先端面により全て隠れることになるため、金属細線の視認性がより優れたものとなる。
<Metallic thin wire>
As described above, the conductive film of the present invention has a fine metal wire (for example, the first fine metal wire 38 in FIG. 3). The fine metal wire has a front end surface facing away from the transparent insulating substrate and a side surface extending from an edge of the front end surface to the transparent insulating substrate, and has a line width smaller than the line width of the front end surface. Including a narrow portion.
Thus, when a thin metal wire has a narrow part, when a touch panel is seen from the front end surface side of the thin metal wire which is a user's visual recognition side, at least one part of the side surface of a thin metal wire hides, and it becomes difficult to stand out. Thereby, the visibility of a metal fine wire becomes excellent.
In particular, when the line width of the tip surface is the largest, when the conductive film is viewed vertically from the viewing side, the side surfaces of the fine metal wires are all hidden by the tip surface, so the visibility of the fine metal wires is better It becomes.
図４の例では、透明絶縁基板３１の表面３１Ａ上に配置された第１電極３４の第１金属細線３８は、視認側に向けられた先端面３８Ａと、透明絶縁基板３１に接する基端面３８Ｂと、先端面３８Ａの縁部から基端面３８Ｂの縁部まで延びる側面３８Ｃと、を有する。なお、図４の部分断面図は、第１金属細線３８の延びる方向に見た場合の断面を示す。
図４に示すように、第１金属細線３８は、線幅が先端面３８Ａから基端面３８Ｂに向けて透明絶縁基板３１に近づくほど小さくなり、先端面３８Ａの線幅Ｗ１Ａが最大であり、基端面３８Ｂの線幅Ｗ１Ｂが最小である、いわゆる逆テーパ状の断面形状を有している。
In the example of FIG. 4, the first metal thin wire 38 of the first electrode 34 disposed on the surface 31 </ b> A of the transparent insulating substrate 31 includes a distal end surface 38 </ b> A directed to the viewing side and a base end surface 38 </ b> B in contact with the transparent insulating substrate 31. And a side surface 38C extending from the edge of the distal end surface 38A to the edge of the proximal end surface 38B. Note that the partial cross-sectional view of FIG. 4 shows a cross section when viewed in the direction in which the first fine metal wires 38 extend.
As shown in FIG. 4, the first metal thin wire 38 has a line width that decreases as it approaches the transparent insulating substrate 31 from the distal end surface 38A toward the proximal end surface 38B, and the line width W1A of the distal end surface 38A is the largest. The end surface 38B has a so-called reverse tapered cross-sectional shape in which the line width W1B is the smallest.
なお、図４の例では、透明絶縁基板３１の表面３１Ａに設けられた第１金属細線３８について説明したが、絶縁基板３１の裏面３１Ｂに設けられた第２金属細線３９についても、第１金属細線３８と同様の構成を有している。 In the example of FIG. 4, the first metal thin wire 38 provided on the front surface 31 </ b> A of the transparent insulating substrate 31 has been described. However, the first metal thin wire 39 provided on the back surface 31 </ b> B of the insulating substrate 31 also applies to the first metal. The configuration is the same as that of the thin wire 38.
第１金属細線３８の線幅は、１〜１０μｍであることが好ましく、２〜６μｍであることがより好ましく、２〜５μｍであることがさらに好ましい。第１金属細線３８の線幅が１μｍ以上であることで、密着性および耐擦性がより優れたものとなる。また、第１金属細線３８の線幅が１０μｍ以下であることで、第１金属細線３８がより目立ちにくくなり、タッチパネルの視認性がより優れたものとなる。
ここで、第１金属細線３８の線幅とは、第１金属細線３８の最大の線幅を指す。
The line width of the first metal thin wire 38 is preferably 1 to 10 μm, more preferably 2 to 6 μm, and further preferably 2 to 5 μm. When the line width of the first metal thin wire 38 is 1 μm or more, the adhesion and the abrasion resistance are further improved. Moreover, when the line width of the 1st metal fine wire 38 is 10 micrometers or less, the 1st metal fine wire 38 becomes less conspicuous and the visibility of a touchscreen becomes more excellent.
Here, the line width of the first metal fine wire 38 refers to the maximum line width of the first metal fine wire 38.
第１金属細線３８の高さ（厚さ）は、これに限定されるものではないが、例えば１〜５μｍとすることができ、１〜３μｍであることが好ましい。
ここで、第１金属細線３８の高さ（厚さ）とは、第１金属細線３８の先端面３８Ａから透明絶縁基板３１までの距離を指す。
Although the height (thickness) of the 1st metal fine wire 38 is not limited to this, For example, it can be set to 1-5 micrometers, and it is preferable that it is 1-3 micrometers.
Here, the height (thickness) of the first thin metal wire 38 refers to the distance from the front end surface 38 </ b> A of the first thin metal wire 38 to the transparent insulating substrate 31.
第１金属細線３８は、導電性の観点から、金、銀、銅、アルミニウム、チタン、パラジウムおよびクロムからなる群より選択される少なくとも１種の金属を含むことが好ましく、これらの中でも、銅、銀および金からなる群より選択される少なくとも１種の金属を含むことがより好ましい。 From the viewpoint of conductivity, the first thin metal wire 38 preferably contains at least one metal selected from the group consisting of gold, silver, copper, aluminum, titanium, palladium, and chromium. Among these, copper, More preferably, it contains at least one metal selected from the group consisting of silver and gold.
＜黒化層＞
第１金属細線３８の視認側の先端面３８Ａには、黒化層（図示せず）が形成されていることが好ましい。黒化層を形成することで、視認側に位置する第１金属細線３８の先端面３８Ａにおける鏡面反射が低減されるので、コントラストが向上する。
黒化層は、第１金属細線３８の形成材料として銅を用いる場合に、酸化銅から形成することができる。
ここで、第１金属細線３８は、上述した幅狭部分を有しているので、黒化層４０を形成しても、第１金属細線３８の存在が目立つことはなく、優れた視認性を確保しながらコントラストの向上を図ることが可能となる。
<Blackening layer>
It is preferable that a blackened layer (not shown) is formed on the front end surface 38A on the viewing side of the first thin metal wire 38. By forming the blackened layer, the specular reflection on the tip surface 38A of the first thin metal wire 38 located on the viewing side is reduced, so that the contrast is improved.
The blackening layer can be formed from copper oxide when copper is used as the material for forming the first metal thin wires 38.
Here, since the 1st metal fine wire 38 has the narrow part mentioned above, even if the blackening layer 40 is formed, the presence of the 1st metal fine wire 38 does not stand out, and it has excellent visibility. It is possible to improve the contrast while ensuring.
＜保護層＞
保護層は、上記金属細線の５０％以上の高さで上記金属細線の上記側面を覆い、かつ、１ｎｍ〜５μｍの厚みで上記金属細線の上記先端面を覆うものである。
ここで、本発明の導電性フィルムは、タッチパネルに適用する際に、接着部材（例えばＯＣＡ（Optical Clear Adhesive）フィルムなど。図１の接着剤４参照）を介して、他の基材（例えば、図１の支持体２）と貼り合わされる場合がある。この場合、接着部材が金属細線の表面に良好に追従しなければ、金属細線の周辺に空気が入ってしまい、不具合（抵抗の上昇、マイグレーション、視認性の悪化など）の原因となる。特に、金属細線が逆テーパ状や後述するくびれ状などの幅狭部を有する場合には、この問題が顕著となる。
そこで、発明者らは、鋭意検討の結果、金属細線の側面の５０％以上の高さを保護層で覆うことで、金属細線の側面と透明絶縁基板との接合箇所に空気が入ることを抑制でき、接着部材の段差追従性が優れたものになることを見出した。
さらに、金属細線の側面の５０％以上の高さを保護層で覆い、かつ、金属細線の先端面を高さ１ｎｍ〜５μｍの厚みの保護層で覆うことで、金属細線の密着性および耐擦性が優れたものになることを見出した。
<Protective layer>
The protective layer covers the side surface of the fine metal wire at a height of 50% or more of the fine metal wire, and covers the tip end surface of the fine metal wire with a thickness of 1 nm to 5 μm.
Here, when the conductive film of the present invention is applied to a touch panel, another substrate (for example, an adhesive member (for example, OCA (Optical Clear Adhesive) film or the like, see adhesive 4 in FIG. 1)) is used. It may be bonded to the support 2) in FIG. In this case, if the adhesive member does not follow the surface of the fine metal wire well, air enters the periphery of the fine metal wire, which may cause problems (such as increased resistance, migration, and poor visibility). In particular, this problem becomes significant when the fine metal wire has a narrow portion such as an inversely tapered shape or a constricted shape which will be described later.
Therefore, as a result of intensive studies, the inventors have covered 50% or more of the side surface of the fine metal wire with a protective layer, thereby preventing air from entering the joint between the side surface of the fine metal wire and the transparent insulating substrate. It was found that the step following property of the adhesive member was excellent.
Furthermore, by covering the height of 50% or more of the side surface of the fine metal wire with a protective layer, and covering the tip surface of the fine metal wire with a protective layer having a thickness of 1 nm to 5 μm, the adhesion of the fine metal wire and the abrasion resistance are reduced. It has been found that the properties are excellent.
図４の例では、保護層３３は、Ｔｃ１の高さで金属細線３８の側面３８Ｃを覆っている。より具体的には、側面３８Ｃを覆う保護層の高さＴｃ１は、側面３８Ｃの高さＴｍ１を超えている（Ｔｃ１＞Ｔｍ１）。
このように、図４の例ではＴｃ１＞Ｔｍ１という高さ関係になっているが、本発明においては、Ｔｃ１がＴｍ１の５０％以上であればよく（Ｔｃ１≧Ｔｍ１×０．５）、例えばＴｃ１とＴｍ１とが図５に示すような関係であってもよい。
図５は、金属細線３８の表面を覆う保護層３３の他の態様を示すものである。図５の例では、金属細線３８の側面３８Ｃを覆う保護層の高さＴｃ１は、側面３８Ｃの高さＴｍ１の５０％以上１００％未満である（Ｔｍ１＞Ｔｃ１≧Ｔｍ１×０．５）。
このように、本発明においては、Ｔｃ１がＴｍ１の５０％以上であれば（Ｔｃ１≧Ｔｍ１×０．５）、上述した効果が発揮されるものであるが、その効果がより優れたものになるという観点から、７０％以上であることが好ましく（Ｔｃ１≧Ｔｍ１×０．７）、７５〜１５０％であることがより好ましく（Ｔｍ１×１．５≧Ｔｃ１≧Ｔｍ１×０．７５）、８０〜１２０％であることがさらに好ましい（Ｔｍ１×１．２≧Ｔｃ１≧Ｔｍ１×０．８）。一方、Ｔｃ１がＴｍ１の５０％未満であると、段差追従性が低下してしまう。
In the example of FIG. 4, the protective layer 33 covers the side surface 38C of the thin metal wire 38 at the height of Tc1. More specifically, the height Tc1 of the protective layer covering the side surface 38C exceeds the height Tm1 of the side surface 38C (Tc1> Tm1).
Thus, in the example of FIG. 4, the height relationship is Tc1> Tm1, but in the present invention, Tc1 may be 50% or more of Tm1 (Tc1 ≧ Tm1 × 0.5), for example, Tc1 And Tm1 may be in a relationship as shown in FIG.
FIG. 5 shows another embodiment of the protective layer 33 that covers the surface of the fine metal wire 38. In the example of FIG. 5, the height Tc1 of the protective layer covering the side surface 38C of the thin metal wire 38 is 50% or more and less than 100% of the height Tm1 of the side surface 38C (Tm1> Tc1 ≧ Tm1 × 0.5).
As described above, in the present invention, when Tc1 is 50% or more of Tm1 (Tc1 ≧ Tm1 × 0.5), the above-described effect is exhibited, but the effect is more excellent. In view of the above, it is preferably 70% or more (Tc1 ≧ Tm1 × 0.7), more preferably 75 to 150% (Tm1 × 1.5 ≧ Tc1 ≧ Tm1 × 0.75), and 80 to More preferably, it is 120% (Tm1 × 1.2 ≧ Tc1 ≧ Tm1 × 0.8). On the other hand, if Tc1 is less than 50% of Tm1, the step following ability is deteriorated.
図４の例では、保護層３３は、Ｔｃ２の厚みで金属細線３８の先端面３８Ａを覆っている。より具体的には、先端面３８Ａを覆う保護層３３の厚みＴｃ２は、１ｎｍ〜５μｍの範囲内にある。
先端面３８Ａを覆う保護層３３の厚みＴｃ２は、１ｎｍ〜５μｍの範囲にあるが、密着性および耐擦性がより優れたものとなるという観点から、１０ｎｍ〜１μｍであることが好ましく、４０ｎｍ〜１μｍであることがより好ましい。一方、先端面３８Ａを覆う保護層３３の厚みＴｃ２が１ｎｍ未満であると密着性および耐擦性が低下し、Ｔｃ２が５μｍを超えると、金属細線３８の先端面３８Ａにテストピンを接触させて金属細線３８の導通テストを行う際に、保護層３３の存在によりテストピンの先端を金属細線３８の先端面３８Ａにまで刺しにくくなるという問題が生じる。
In the example of FIG. 4, the protective layer 33 covers the tip surface 38A of the thin metal wire 38 with a thickness of Tc2. More specifically, the thickness Tc2 of the protective layer 33 covering the tip surface 38A is in the range of 1 nm to 5 μm.
The thickness Tc2 of the protective layer 33 covering the front end surface 38A is in the range of 1 nm to 5 μm, but is preferably 10 nm to 1 μm from the viewpoint of better adhesion and abrasion resistance, and 40 nm to More preferably, it is 1 μm. On the other hand, if the thickness Tc2 of the protective layer 33 covering the tip surface 38A is less than 1 nm, the adhesion and the scratch resistance are reduced. If Tc2 exceeds 5 μm, a test pin is brought into contact with the tip surface 38A of the thin metal wire 38. When conducting the continuity test of the thin metal wire 38, the presence of the protective layer 33 causes a problem that it is difficult to pierce the tip of the test pin to the tip surface 38A of the thin metal wire 38.
保護層３３は、導電性フィルム３に起因するマイグレーションの発生を抑制するという観点から、水との接触角が７０°以上であることが好ましく、７５°以上であることがより好ましく、８０〜９０°であることがさらに好ましい。
保護層３３は、後述する保護層形成用組成物を用いて形成することができ、保護層形成用組成物に含まれる成分を適宜選択することで、水との接触角を調節できる。
本発明において、水との接触角は、接線法により測定された値であり、例えば接触角計（商品名「FAMMS DM-701」、協和界面科学（株）製）に準じた装置を用いて測定される。
From the viewpoint of suppressing the occurrence of migration caused by the conductive film 3, the protective layer 33 preferably has a contact angle with water of 70 ° or more, more preferably 75 ° or more, and 80 to 90. More preferably, it is °.
The protective layer 33 can be formed using the protective layer forming composition described later, and the contact angle with water can be adjusted by appropriately selecting the components contained in the protective layer forming composition.
In the present invention, the contact angle with water is a value measured by a tangent method, and for example, using a device according to a contact angle meter (trade name “FAMMS DM-701”, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). Measured.
［導電性フィルムの第２実施形態］
次に、本発明の導電性フィルムの第２実施形態について、図６を参照しながら説明する。
図６は、第２実施形態における導電性フィルム１０３の第１金属細線１３８を示す部分断面図である。なお、図６の部分断面図は、第１金属細線１３８の延びる方向に見た場合の断面を示す。
上述した第１実施形態の導電性フィルム３は、逆テーパ状の断面形状を有する第１金属細線３８を有しているが、これに限定されず、例えば図６に示されるように、第１金属細線１３８がくびれ状の断面形状を有していてもよい。
[Second Embodiment of Conductive Film]
Next, 2nd Embodiment of the electroconductive film of this invention is described, referring FIG.
FIG. 6 is a partial cross-sectional view showing the first thin metal wire 138 of the conductive film 103 in the second embodiment. Note that the partial cross-sectional view of FIG. 6 shows a cross section when viewed in the direction in which the first fine metal wires 138 extend.
The conductive film 3 of the first embodiment described above has the first metal thin wire 38 having a reverse tapered cross-sectional shape, but is not limited to this, for example, as shown in FIG. The thin metal wire 138 may have a constricted cross-sectional shape.
図６の第１金属細線１３８は、側面１３８Ｃにくびれ部１３８Ｄを有し、先端面１３８Ａおよび基端面１３８Ｂのそれぞれからくびれ部１３８Ｄに向かうほど線幅が小さくなり、くびれ部１３８Ｄの線幅Ｗ２Ｂが最小である、いわゆるくびれ状の断面形状を有する。
この場合であっても、第１金属細線１３８は、第１実施形態の第１金属細線３８と同様に、先端面１３８Ａの線幅より小さい線幅を有する幅狭部分を含むことになるので、上述した効果を奏するものとなる。
The first metal thin wire 138 in FIG. 6 has a constricted portion 138D on the side surface 138C, the line width decreases from the distal end surface 138A and the base end surface 138B toward the constricted portion 138D, and the constricted portion 138D has a line width W2B. It has the smallest, so-called constricted cross-sectional shape.
Even in this case, the first metal thin wire 138 includes a narrow portion having a line width smaller than the line width of the tip end surface 138A, similarly to the first metal thin wire 38 of the first embodiment. The effects described above are achieved.
なお、第２実施形態における導電性フィルム１０３は、第１金属細線１３８の断面形状が異なる以外は、第１実施形態における導電性フィルム３と同様の構成であるので、その説明を省略する。 In addition, since the electroconductive film 103 in 2nd Embodiment is the structure similar to the electroconductive film 3 in 1st Embodiment except the cross-sectional shape of the 1st metal fine wire 138, the description is abbreviate | omitted.
［導電性フィルムの製造方法］
次に、本発明の導電性フィルムの製造方法について詳細に説明する。
本発明の導電性フィルムの製造方法は、これに限定されるものではないが、上記透明絶縁基板上に上記金属細線を形成する金属細線形成工程と、この金属細線の表面の少なくとも一部を保護層で覆う保護層形成工程と、を有する。
以下、各工程について詳細に説明する。
[Method for producing conductive film]
Next, the manufacturing method of the electroconductive film of this invention is demonstrated in detail.
Although the manufacturing method of the electroconductive film of this invention is not limited to this, The metal fine wire formation process which forms the said metal fine wire on the said transparent insulated substrate, and protects at least one part of the surface of this metal fine wire A protective layer forming step of covering with a layer.
Hereinafter, each step will be described in detail.
＜金属細線形成工程＞
金属細線形成工程は、上述した透明絶縁基板上に上記金属細線を形成する工程である。
具体的には、まず、透明絶縁基板上に公知の成膜方法（例えば、気相成膜法）によって金属薄膜を形成する。気相成膜法としては、例えば、化学的気相成膜法（ＣＶＤ：chemical vapor deposition）、蒸着法（電子ビーム蒸着法など）、スパッタリング法、イオンプレーティング法などが挙げられる。
次に、透明絶縁基板上に形成された金属薄膜をフォトリソグラフィー法などの方法によりパターニングする。パターニング方法としては、例えば、金属薄膜上にレジスト膜を設け、これをパターニングした後、パターニングしたレジスト膜をマスクとして、マスクから露出した金属薄膜の一部を除去するエッチング処理を行う。これにより、パターニングされた金属細線が形成される。
<Metallic wire forming process>
The fine metal wire forming step is a step of forming the fine metal wire on the transparent insulating substrate described above.
Specifically, first, a metal thin film is formed on a transparent insulating substrate by a known film forming method (for example, vapor phase film forming method). Examples of the vapor deposition method include a chemical vapor deposition (CVD) method, a vapor deposition method (such as an electron beam vapor deposition method), a sputtering method, and an ion plating method.
Next, the metal thin film formed on the transparent insulating substrate is patterned by a method such as photolithography. As a patterning method, for example, a resist film is provided on a metal thin film, and after patterning, a etching process is performed to remove a part of the metal thin film exposed from the mask using the patterned resist film as a mask. Thereby, the patterned metal fine wire is formed.
金属細線がその側面に上述した幅狭部を有するようにするためには、例えば、金属薄膜のエッチング処理の条件、使用材料などを適宜設定することで行うことができる。
エッチング処理としては、幅狭部を有する金属細線を形成しやすいという点から、ウェットエッチングであることが好ましい。ウェットエッチングに使用されるエッチング液としては、幅狭部を有する金属細線を形成しやすいことから、塩化第２鉄水溶液、塩化第２銅水溶液などを用いることができる。ウェットエッチングを行う際のエッチング液の温度は、例えば、３５〜４５℃とすることができる。
逆テーパ形状の金属細線は、例えば、次のようにして形成することができる。透明絶縁基板の表面上に銅からなる金属層を形成した後、金属層上にレジスト層を形成し、露光マスクを介したパターン露光および現像を行うことにより、レジスト層をパターニングする。その後、レジスト層にハロゲンランプ等でアニール処理を施す等により、金属層とレジスト層の密着力を強化し、エッチング液を用いて金属層をウェットエッチングすると、レジスト層が強く密着しているために、金属層の間にエッチング液が浸透することが防止され、エッチング時間に伴って、金属層はレジスト層に面している部分よりも透明絶縁基板に近い部分のエッチングが進み、逆テーパ形状の金属細線が形成される。
In order for the fine metal wire to have the above-described narrow portion on its side surface, for example, the conditions for the etching treatment of the metal thin film, the material used, and the like can be appropriately set.
As the etching treatment, wet etching is preferable from the viewpoint that a thin metal wire having a narrow portion is easily formed. As an etching solution used for wet etching, a ferric chloride aqueous solution, a cupric chloride aqueous solution, or the like can be used because a metal fine wire having a narrow portion is easily formed. The temperature of the etching solution when performing wet etching can be set to 35 to 45 ° C., for example.
The inversely tapered metal thin wire can be formed as follows, for example. After forming a metal layer made of copper on the surface of the transparent insulating substrate, a resist layer is formed on the metal layer, and pattern exposure and development through an exposure mask are performed to pattern the resist layer. After that, the resist layer is annealed with a halogen lamp or the like to strengthen the adhesion between the metal layer and the resist layer, and when the metal layer is wet etched using an etching solution, the resist layer is in close contact with the resist layer. The etching solution is prevented from penetrating between the metal layers, and with the etching time, the metal layer is etched closer to the transparent insulating substrate than the portion facing the resist layer, and has an inversely tapered shape. A thin metal wire is formed.
金属細線形成工程は、黒化膜を形成する黒化処理を含んでいてもよい。黒化膜は、パターニングされることで上述した黒化層となる。
黒化処理は、上述した金属薄膜の形成後であって、金属薄膜のパターニング前に行うことができ、例えば、上述した金属薄膜と同様に気相成膜法を用いて行うことができる。
黒化処理後には、金属薄膜のパターニングと同時に黒化膜のパターニングが行われて、黒化層が形成される。
The metal fine line forming step may include a blackening process for forming a blackened film. The blackened film becomes the above-described blackened layer by being patterned.
The blackening treatment can be performed after the formation of the above-described metal thin film and before the patterning of the metal thin film. For example, the blackening treatment can be performed using a vapor deposition method in the same manner as the above-described metal thin film.
After the blackening treatment, the blackening film is patterned simultaneously with the patterning of the metal thin film to form a blackening layer.
＜保護層工程＞
保護層形成工程は、上記のようにして形成された金属細線の表面の少なくとも一部を覆う工程である。
具体的には、透明絶縁基板の金属細線が設けられた面に、保護層形成用組成物（後述）を塗布することで、金属細線の表面（側面および先端面）に保護層が形成される。
金属細線の側面および先端面に上述した割合や厚みとなるように保護層を形成するためには、保護層形成用組成物の塗布量や粘度などを適宜調節することで行うことができる。
保護層形成用組成物の塗布は、例えば、グラビアコーター、コンマコーター、バーコーター、ディップコート、スピンコーター、ナイフコーター、ダイコーター、ロールコーターなどを用いて行うことができる。
また、これらの方法にて塗布された保護膜形成用組成物は、必要に応じて、スキージやドクターによるワイピングを行うことができる。
<Protective layer process>
The protective layer forming step is a step of covering at least a part of the surface of the fine metal wire formed as described above.
Specifically, a protective layer is formed on the surface (side surface and front end surface) of the fine metal wire by applying a protective layer forming composition (described later) to the surface of the transparent insulating substrate on which the fine metal wire is provided. .
In order to form the protective layer on the side surface and the front end surface of the fine metal wire so as to have the above-described ratio and thickness, it can be carried out by appropriately adjusting the coating amount and viscosity of the protective layer forming composition.
The protective layer-forming composition can be applied using, for example, a gravure coater, comma coater, bar coater, dip coat, spin coater, knife coater, die coater, roll coater, or the like.
Moreover, the composition for protective film formation apply | coated by these methods can perform wiping by a squeegee or a doctor as needed.
＜その他の工程＞
本発明の導電性フィルムの製造方法は、上記以外のその他の工程を有していてもよい。
このような工程としては、保護層形成用組成物を塗布して得られる塗膜を硬化させる硬化工程や、保護層形成工程前に金属細線が設けられた透明絶縁基板に対して表面処理を行う表面処理工程などが挙げられる。
<Other processes>
The manufacturing method of the electroconductive film of this invention may have other processes other than the above.
As such a process, a surface treatment is performed on a transparent insulating substrate provided with a thin metal wire before the curing process for curing the coating film obtained by applying the protective layer forming composition or the protective layer forming process. A surface treatment process etc. are mentioned.
（硬化工程）
硬化工程は、保護層形成用組成物を塗布して得られる塗膜を硬化させる工程である。硬化工程としては、光照射処理や熱処理などが挙げられ、使用する保護層形成用組成物の種類に応じて適宜選択すればよい。
例えば、熱処理を行う場合の加熱温度は、６０℃以上が好ましく、６０〜１７０℃が好ましい。加熱時間は、３０秒〜５分が好ましく、３０秒〜３分がより好ましい。
(Curing process)
A hardening process is a process of hardening the coating film obtained by apply | coating the composition for protective layer formation. Examples of the curing step include light irradiation treatment and heat treatment, and may be appropriately selected according to the type of the protective layer forming composition to be used.
For example, the heating temperature when the heat treatment is performed is preferably 60 ° C. or more, and preferably 60 to 170 ° C. The heating time is preferably 30 seconds to 5 minutes, and more preferably 30 seconds to 3 minutes.
（表面処理工程）
表面処理工程は、保護層形成工程前に透明絶縁基板の金属細線が設けられた面側に、表面処理を行う工程である。
表面処理工程は、透明絶縁基板や金属細線に対して保護層を強固に接着させること、および、保護層の濡れ性を向上させる目的で行われ、例えば、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸処理等の表面活性処理が挙げられる。
(Surface treatment process)
The surface treatment step is a step of performing a surface treatment on the surface side of the transparent insulating substrate on which the fine metal wires are provided before the protective layer forming step.
The surface treatment process is performed for the purpose of firmly adhering the protective layer to the transparent insulating substrate or the fine metal wire, and improving the wettability of the protective layer, for example, chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment. , Surface activation treatment such as flame treatment, ultraviolet treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment, ozone acid treatment, and the like.
［保護層形成用組成物］
上述した保護層は、保護層形成用組成物を用いて形成できる。以下、本発明の保護層の形成に使用される保護層形成用組成物に含まれ得る成分について説明する。
[Composition for forming protective layer]
The protective layer described above can be formed using a protective layer forming composition. Hereinafter, components that can be contained in the protective layer-forming composition used for forming the protective layer of the present invention will be described.
＜樹脂＞
保護層形成用組成物は、樹脂を含有することが好ましい。樹脂は、硬化して皮膜を形成する成分である。
<Resin>
It is preferable that the composition for protective layer formation contains resin. The resin is a component that cures to form a film.
樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリカーボネート樹脂、フェノキシ樹脂、テルペン樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、１種単独で用いてもよく、２種以上混合して用いてもよい。
上記樹脂には、溶媒に溶解した状態で存在する溶液タイプや、樹脂が粒子状となって分散したエマルションタイプであるもの等、いずれの形態のものを用いてもよい。
また、後述する架橋剤を含有する場合には、樹脂は、架橋剤と反応する架橋性基を有することが好ましい。
Examples of the resin include acrylic resin, polyurethane resin, polyolefin resin, polyester resin, vinyl chloride resin, epoxy resin, ethylene-vinyl acetate copolymer resin, polycarbonate resin, phenoxy resin, and terpene resin. These resins may be used alone or in combination of two or more.
The resin may be in any form, such as a solution type that exists in a state dissolved in a solvent, or an emulsion type in which the resin is dispersed in the form of particles.
Moreover, when it contains the crosslinking agent mentioned later, it is preferable that resin has a crosslinkable group which reacts with a crosslinking agent.
上記の樹脂の中でも、金属細線の耐擦性や密着性をより向上できるという点から、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、およびポリオレフィン樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の樹脂を用いることが好ましい。
アクリル樹脂は、アクリレート、メタクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のアクリル系モノマーを用いて合成されるポリマーである。アクリル樹脂としては、市販品を用いることができ、例えば、ＡＳ−５６３Ａ（ダイセルファインケム（株）製）、ＥＭ５９Ｓ（ダイセルファインケム（株）製）等を好ましく用いることができる。
ポリウレタン樹脂は、ウレタン結合を分子内に有するポリマーのことであり、通常、ポリオールとイソシアネートとの反応により作製される。ポリウレタン樹脂としては、市販品を用いてもよく、例えば、スーパーフレックス８３０、４６０、８７０、４２０、４２０ＮＳ（第一工業製薬（株）製ポリウレタン）、ハイドランＡＰ−４０Ｆ、ＷＬＳ−２０２、ＨＷ−１４０ＳＦ（大日本インキ化学工業（株）製ポリウレタン）、オレスターＵＤ５００、ＵＤ３５０（三井化学（株）製ポリウレタン）、タケラックＷ−６１５、Ｗ−６０１０、Ｗ−６０２０、Ｗ−６０６１、Ｗ−４０５、Ｗ−５０３０、Ｗ−５６６１、Ｗ−５１２Ａ−６、Ｗ−６３５、ＷＰＢ−６６０１が挙げられ、特に自己架橋型のＷＳ−６０２１、ＷＳ−５０００、ＷＳ−５１００、ＷＳ−４０００、ＷＳＡ−５９２０、ＷＦ−７６４（三井武田ケミカル（株）製）が挙げられる。
ポリエステル樹脂は、ポリオールとポリカルボン酸とを重縮合させて得られるポリマーである。ポリエステル樹脂としては、市販品を用いてもよく、例えば、バイロナールＭＤ−１２４５(東洋紡（株）製）等が挙げられる。
ポリオレフィン樹脂は、例えば、変性ポリオレフィン共重合体が好ましい。ポリオレフィン樹脂としては、市販品を用いてもよく、例えば、アローベースＳＥ−１０１３Ｎ、ＳＤ−１０１０、ＴＣ−４０１０、ＴＤ−４０１０（ユニチカ（株）製）、ハイテックＳ３１４８、Ｓ３１２１、Ｓ８５１２（東邦化学（株）製）、ケミパールＳ−１２０、Ｓ−７５Ｎ、Ｖ１００、ＥＶ２１０Ｈ（三井化学（株）製）などを挙げることができる。
Among the above resins, at least one resin selected from the group consisting of an acrylic resin, a polyurethane resin, a polyester resin, and a polyolefin resin is used because it can further improve the abrasion resistance and adhesion of the fine metal wires. Is preferred.
An acrylic resin is a polymer synthesized using an acrylic monomer such as acrylate, methacrylate, acrylic acid, or methacrylic acid. As the acrylic resin, a commercially available product can be used, and for example, AS-563A (manufactured by Daicel Finechem Co., Ltd.), EM59S (manufactured by Daicel Finechem Co., Ltd.) and the like can be preferably used.
The polyurethane resin is a polymer having a urethane bond in the molecule, and is usually produced by a reaction between a polyol and an isocyanate. As the polyurethane resin, a commercially available product may be used, for example, Superflex 830, 460, 870, 420, 420NS (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. polyurethane), Hydran AP-40F, WLS-202, HW-140SF. (Polyurethane manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), Olester UD500, UD350 (Polyurethane manufactured by Mitsui Chemicals), Takelac W-615, W-6010, W-6020, W-6061, W-405, W -5030, W-5661, W-512A-6, W-635, WPB-6601, and self-crosslinking type WS-6021, WS-5000, WS-5100, WS-4000, WSA-5920, WF. -764 (manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.).
The polyester resin is a polymer obtained by polycondensation of a polyol and a polycarboxylic acid. A commercially available product may be used as the polyester resin, and examples thereof include Vylonal MD-1245 (manufactured by Toyobo Co., Ltd.).
For example, the polyolefin resin is preferably a modified polyolefin copolymer. Commercially available products may be used as the polyolefin resin. For example, Arrow Base SE-1013N, SD-1010, TC-4010, TD-4010 (manufactured by Unitika Ltd.), Hitech S3148, S3121, S8512 (Toho Chemical ( And Chemipearl S-120, S-75N, V100, EV210H (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.), and the like.
上記樹脂の含有量は、保護層形成用組成物の全質量に対して、５〜５０質量％であることが好ましく、７〜３０質量％であることがより好ましい。
また、上記樹脂の含有量は、保護層の全質量に対して、５０〜１００質量％であることが好ましく、７０〜９９質量％であることがより好ましい。
It is preferable that content of the said resin is 5-50 mass% with respect to the total mass of the composition for protective layer formation, and it is more preferable that it is 7-30 mass%.
Moreover, it is preferable that it is 50-100 mass% with respect to the total mass of a protective layer, and, as for content of the said resin, it is more preferable that it is 70-99 mass%.
＜溶媒＞
本発明の保護層形成用組成物は、溶媒を含有することが好ましい。溶媒は、保護層の形成時に、蒸発、飛散する成分である。
溶媒としては、水、または、有機溶媒が挙げられ、両者を混合して使用してもよい。有機溶媒としては、例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等などが挙げられる。
溶媒を含有する場合の含有量は、保護層形成用組成物の全質量に対して、５０〜９５質量％であることが好ましく、７０〜９０質量％であることがより好ましい。
<Solvent>
The composition for forming a protective layer of the present invention preferably contains a solvent. The solvent is a component that evaporates and scatters when the protective layer is formed.
Examples of the solvent include water and organic solvents, and a mixture of both may be used. Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ketones such as acetone, amides such as formamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, esters such as ethyl acetate, ethers, and the like.
When the solvent is contained, the content is preferably 50 to 95% by mass and more preferably 70 to 90% by mass with respect to the total mass of the protective layer forming composition.
＜微粒子＞
本発明の保護層形成用組成物は、微粒子を含有することが好ましい。微粒子が含まれることにより、形成される保護層から微粒子の一部が突出するので、導電性フィルムを巻き取る際などに、導電性フィルム同士の貼りつき（ブロッキング）を抑制することができる。
微粒子の平均粒径は、保護層の厚みの０．５〜１０倍であることが好ましく、耐ブロッキング性がより優れ、微粒子の粉落ちがより抑制される点で、０．７〜５倍がより好ましく、１〜３倍がさらに好ましい。
なお、上記微粒子の平均粒径の測定方法としては、顕微鏡（例えば、走査型電子顕微鏡）を用いて撮影された画像から任意に選択した１００個の微粒子の粒子径（円相当径）を測定し、それらを算術平均して求める。なお、円相当径とは、観察時の粒子の投影面積と同じ投影面積をもつ真円を想定したときの円の直径である。
<Fine particles>
The composition for forming a protective layer of the present invention preferably contains fine particles. By including the fine particles, a part of the fine particles protrudes from the protective layer to be formed. Therefore, when the conductive films are wound, the sticking (blocking) between the conductive films can be suppressed.
The average particle size of the fine particles is preferably 0.5 to 10 times the thickness of the protective layer, 0.7 to 5 times greater in terms of blocking resistance and further suppression of fine particles falling off. 1 to 3 times is more preferable.
In addition, as a measuring method of the average particle diameter of the fine particles, the particle diameter (equivalent circle diameter) of 100 fine particles arbitrarily selected from an image taken using a microscope (for example, a scanning electron microscope) is measured. Find them by arithmetic averaging. The equivalent circle diameter is a diameter of a circle assuming a true circle having the same projected area as the projected area of particles at the time of observation.
微粒子の平均粒径は、上述したように保護層との厚みが所定の関係になる範囲であればよいが、保護層の耐ブロッキング性および密着性の点、および、取り扱い性などの点で、１０〜６００ｎｍが好ましく、４０〜２００ｎｍがより好ましい。 The average particle size of the fine particles may be in a range where the thickness of the protective layer is in a predetermined relationship as described above, but in terms of blocking resistance and adhesion of the protective layer, and handling properties, 10-600 nm is preferable and 40-200 nm is more preferable.
微粒子の種類は特に制限されず、無機系微粒子、有機系微粒子、または、有機無機複合微粒子などが挙げられる。
無機系微粒子としては、例えば、シリカ微粒子、アルミナ微粒子、チタニア微粒子、ジルコニア微粒子、酸化亜鉛微粒子等の金属酸化物微粒子や、金、銀などの金属微粒子や、カーボン微粒子が挙げられる。
有機系微粒子としては、例えば、アクリル系樹脂微粒子、アクリル−スチレン系共重合体微粒子、シリコーン系微粒子、メラミン系樹脂微粒子、ポリカーボネート系微粒子、ポリエチレン系微粒子、ポリスチレン系微粒子、ベンゾグアナミン系樹脂微粒子等が挙げられる。
なかでも、取り扱い性の点から、金属酸化物微粒子が好ましく、シリカ微粒子がより好ましい。
The type of fine particles is not particularly limited, and examples thereof include inorganic fine particles, organic fine particles, and organic-inorganic composite fine particles.
Examples of the inorganic fine particles include metal oxide fine particles such as silica fine particles, alumina fine particles, titania fine particles, zirconia fine particles, and zinc oxide fine particles, metal fine particles such as gold and silver, and carbon fine particles.
Examples of the organic fine particles include acrylic resin fine particles, acrylic-styrene copolymer fine particles, silicone fine particles, melamine resin fine particles, polycarbonate fine particles, polyethylene fine particles, polystyrene fine particles, and benzoguanamine resin fine particles. It is done.
Among these, metal oxide fine particles are preferable and silica fine particles are more preferable from the viewpoint of handleability.
微粒子を含有する場合の含有量は、保護層形成用組成物の全質量に対して、０．１〜５質量％であることが好ましく、０．２〜３質量％であることが好ましい。
また、上述した保護層に微粒子が含まれる場合の含有量は、耐ブロッキング性および密着性がより優れる、または、微粒子の粉落ちがより抑制される点で、保護層の全質量に対して、０．５〜２０質量％が好ましく、１．５〜１５質量％がより好ましい。
When the fine particles are contained, the content is preferably 0.1 to 5% by mass, and preferably 0.2 to 3% by mass with respect to the total mass of the protective layer forming composition.
In addition, the content in the case where fine particles are contained in the protective layer described above is more excellent in blocking resistance and adhesion, or in terms of further suppressing fine particles falling off, with respect to the total mass of the protective layer, 0.5-20 mass% is preferable and 1.5-15 mass% is more preferable.
＜架橋剤＞
本発明の保護層形成用組成物は、架橋剤を含有することが好ましい。これにより、保護層の密着性および耐擦性をより優れたものにすることができる。
架橋剤としては、例えば、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、エポキシ系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、メラミン系架橋剤（Ｃ3Ｎ6Ｈ6）が好ましく、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤がより好ましく、マイグレーションの抑制にも優れるという点で、カルボジイミド系架橋剤がさらに好ましい。
カルボジイミド系架橋剤は、−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−で示される官能基をもつ化合物である。ポリカルボジイミドは、通常、有機ジイソシアネートの縮合反応により合成されるが、この合成に用いられる有機ジイソシアネートの有機基は特に限定されず、芳香族系、脂肪族系のいずれか、または、それらの混合系も使用可能である。ただし、反応性の観点から脂肪族系が特に好ましい。
合成の原料としては、有機イソシアネート、有機ジイソシアネート、有機トリイソシアネート等が使用される。有機イソシアネートの例としては、芳香族イソシアネート、脂肪族イソシアネート、および、それらの混合物が使用可能である。具体的には、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４−ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、１，４−フェニレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、１，３−フェニレンジイソシアネート等が用いられる。また、有機モノイソシアネートとしては、イソホロンイソシアネート、フェニルイソシアネート、シクロヘキシルイソシアネート、ブチルイソシアネート、ナフチルイソシアネート等が使用される。
また、カルボジイミド系化合物は、例えば、カルボジライトＶ−０２−Ｌ２（日清紡（株）製）等の市販品としても入手可能である。
<Crosslinking agent>
It is preferable that the composition for protective layer formation of this invention contains a crosslinking agent. Thereby, the adhesiveness and abrasion resistance of the protective layer can be further improved.
As the crosslinking agent, for example, an oxazoline-based crosslinking agent, a carbodiimide-based crosslinking agent, an epoxy-based crosslinking agent, an isocyanate-based crosslinking agent, or a melamine-based crosslinking agent (C 3 N 6 H 6 ) is preferable, and a carbodiimide-based crosslinking agent or an oxazoline-based crosslinking agent. A carbodiimide-based crosslinking agent is more preferable in that an agent is more preferable and migration is excellent.
A carbodiimide-based crosslinking agent is a compound having a functional group represented by -N = C = N-. Polycarbodiimide is usually synthesized by a condensation reaction of organic diisocyanate, but the organic group of the organic diisocyanate used in this synthesis is not particularly limited, either aromatic or aliphatic, or a mixture thereof Can also be used. However, aliphatic systems are particularly preferred from the viewpoint of reactivity.
As a raw material for synthesis, organic isocyanate, organic diisocyanate, organic triisocyanate, and the like are used. As examples of organic isocyanates, aromatic isocyanates, aliphatic isocyanates, and mixtures thereof can be used. Specifically, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 4,4-diphenyldimethylmethane diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, cyclohexane Diisocyanate, xylylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 4,4′-dicyclohexylmethane diisocyanate, 1,3-phenylene diisocyanate and the like are used. As the organic monoisocyanate, isophorone isocyanate, phenyl isocyanate, cyclohexyl isocyanate, butyl isocyanate, naphthyl isocyanate and the like are used.
The carbodiimide compound is also available as a commercial product such as Carbodilite V-02-L2 (Nisshinbo Co., Ltd.).
オキサゾリン系架橋剤は、下記式（Ｘ）で示されるオキサゾリン基をもつ化合物である。 The oxazoline-based crosslinking agent is a compound having an oxazoline group represented by the following formula (X).
オキサゾリン系架橋剤としては、オキサゾリン基を有する重合体、例えば、オキサゾリン基を有する重合性不飽和単量体を、必要に応じその他の重合性不飽和単量体と公知の方法（例えば溶液重合、乳化重合等）によって共重合させることにより得られる重合体を用いることもできる。オキサゾリン基を有する重合性不飽和単量体としては、例えば、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−メチル−２−オキサゾリンが挙げられる。なお、これらのうちの２種以上を併用してもよい。
また、オキサゾリン系架橋剤は、例えば、エポクロスＫ−２０２０Ｅ、エポクロスＫ−２０１０Ｅ、エポクロスＫ−２０２０Ｅ、エポクロスＫ−２０３０Ｅ、エポクロスＷＳ−３００、エポクロスＷＳ−５００、エポクロスＷＳ−７００等の市販品（日本触媒（株）製）としても入手可能である。
As the oxazoline-based cross-linking agent, a polymer having an oxazoline group, for example, a polymerizable unsaturated monomer having an oxazoline group, if necessary, other polymerizable unsaturated monomers and known methods (for example, solution polymerization, Polymers obtained by copolymerization by emulsion polymerization or the like can also be used. Examples of the polymerizable unsaturated monomer having an oxazoline group include 2-vinyl-2-oxazoline, 2-vinyl-4-methyl-2-oxazoline, 2-vinyl-5-methyl-2-oxazoline, 2- Examples include isopropenyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-4-methyl-2-oxazoline, and 2-isopropenyl-5-methyl-2-oxazoline. Two or more of these may be used in combination.
Examples of the oxazoline-based crosslinking agent include commercially available products such as Epocross K-2020E, Epocross K-2010E, Epocross K-2020E, Epocross K-2030E, Epocross WS-300, Epocross WS-500, Epocross WS-700, etc. Also available as Catalyst).
架橋剤を含有する場合の含有量は、保護層形成用組成物の全質量に対して、０．１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜１５質量％であることがより好ましい。 The content in the case of containing a crosslinking agent is preferably 0.1 to 20% by mass and more preferably 0.5 to 15% by mass with respect to the total mass of the protective layer forming composition. .
＜紫外線吸収剤＞
本発明の保護層形成用組成物は、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。
紫外線吸収剤としては、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、置換アクリロニトリル系、トリアジン系の紫外線吸収剤を使用することができる。
<Ultraviolet absorber>
It is preferable that the composition for protective layer formation of this invention contains a ultraviolet absorber.
As the ultraviolet absorber, salicylate-based, benzophenone-based, benzotriazole-based, substituted acrylonitrile-based, and triazine-based ultraviolet absorbers can be used.
紫外線吸収剤を含有する場合の含有量は、保護層形成組成物の全質量に対して、０．１〜５質量％であることが好ましく、０．２〜３質量％であることがより好ましい。
また、上述した保護層に紫外線吸収剤が含まれる場合の含有量は、保護層の全質量に対して、０．５〜２０質量％であることが好ましく、１．５〜１５質量％であることがより好ましい。
The content in the case of containing the ultraviolet absorber is preferably 0.1 to 5% by mass, more preferably 0.2 to 3% by mass with respect to the total mass of the protective layer forming composition. .
Moreover, it is preferable that content when a ultraviolet absorber is contained in the protective layer mentioned above is 0.5-20 mass% with respect to the total mass of a protective layer, and is 1.5-15 mass%. It is more preferable.
＜その他の成分＞
本発明の保護層形成用組成物は、上記以外の成分（以下、「その他の成分」ともいう。）を含有してもよい。その他の成分としては、例えば、界面活性剤、滑り剤（例えばワックス）、造膜助剤、マット剤、消泡剤、抑泡剤、染料、蛍光増白剤、防腐剤、耐水化剤、帯電防止剤などが挙げられる。
<Other ingredients>
The composition for forming a protective layer of the present invention may contain components other than those described above (hereinafter also referred to as “other components”). Other components include, for example, surfactants, slipping agents (for example, waxes), film-forming aids, matting agents, antifoaming agents, foam suppressors, dyes, fluorescent whitening agents, antiseptics, water-proofing agents, charging Examples include inhibitors.
本発明の保護層形成用組成物の製造方法は、特に限定されず、上述した各成分を混合、攪拌することにより得られる。また、各成分を攪拌した後、フィルタ等でろ過してもよい。 The manufacturing method of the composition for protective layer formation of this invention is not specifically limited, It is obtained by mixing and stirring each component mentioned above. Moreover, after stirring each component, you may filter with a filter etc.
以下、実施例を用いて、本発明のタッチパネル用の導電性フィルムについて詳細に説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。 Hereinafter, the conductive film for a touch panel of the present invention will be described in detail using examples. However, the present invention is not limited to this.
［実施例１の導電性フィルムの製造］
まず、透明絶縁基板として、厚み３８μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（商品名「コスモシャインA4300」、東洋紡（株）製）を準備し、透明絶縁基板の片面に蒸着法により厚み２．５μｍの銅薄膜を形成した。次いで、銅薄膜上に、酸化銅からなる厚み０．１μｍの黒化膜をスパッタにより形成した。
[Production of Conductive Film of Example 1]
First, a 38 μm thick polyethylene terephthalate (PET) film (trade name “Cosmo Shine A4300” manufactured by Toyobo Co., Ltd.) is prepared as a transparent insulating substrate, and a 2.5 μm thick copper is deposited on one side of the transparent insulating substrate by vapor deposition. A thin film was formed. Next, a blackening film made of copper oxide and having a thickness of 0.1 μm was formed on the copper thin film by sputtering.
次に、フォトリソグラフィー技術を用いたパターニングにより、透明絶縁基板上の銅薄膜および黒化膜をストライプ状にパターニングした。具体的には、まず、黒化膜上にレジスト膜を設け、このレジスト膜をパターン露光および現像してストライプ状にパターニングした。次いで、パターニングされたレジストパターン層をマスクとして、黒化膜および銅薄膜をエッチングした。なお、上記エッチングは、エッチング液として４０°ボーメの塩化第２鉄水溶液を用い、エッチング液の液温を３５〜４５℃とした。また、レジストの無い部分の金属が溶け切るまでの時間（ジャストエッチタイム）よりも、1〜２分長くエッチングを行った（オーバーエッチング）。
これにより、黒化膜をパターニングした黒化層が形成され、銅薄膜をパターニングした金属細線が形成された。このようにして、透明絶縁基板上に、金属細線および黒化層を含んでなる逆テーパ状の断面形状を有する金属細線（図４、図５参照）が形成されたフィルムを得た。
Next, the copper thin film and the blackened film on the transparent insulating substrate were patterned into stripes by patterning using a photolithography technique. Specifically, first, a resist film was provided on the blackened film, and this resist film was subjected to pattern exposure and development to be patterned in a stripe shape. Next, the blackened film and the copper thin film were etched using the patterned resist pattern layer as a mask. In the etching, a 40 ° Baume ferric chloride aqueous solution was used as the etching solution, and the etching solution temperature was 35 to 45 ° C. Further, etching was performed for 1 to 2 minutes longer than the time until the metal in the portion without the resist was completely melted (just etch time) (overetching).
Thereby, the blackening layer which patterned the blackening film was formed, and the metal fine wire which patterned the copper thin film was formed. In this way, a film was obtained in which a thin metal wire (see FIGS. 4 and 5) having a reverse tapered cross-sectional shape including the fine metal wire and the blackening layer was formed on the transparent insulating substrate.
次に、得られたフィルムに対してプラズマ処理（プラズマ照射条件：１２．４ｋＪ/ｍ２）を行った後、上記フィルムの金属細線が設けられた面の全面に保護層形成用組成物Ａ（後述）をバーコーターにて塗布し、スキージで配線上の不要な保護層を取り除いたのち、１００℃で１分間乾燥させ、金属細線の表面の少なくとも一部を覆う保護層を形成した。その後、保護層と配線を馴染ませるために、保護層のガラス転移温度（５４℃）よりも高い温度である、８０℃環境下で、１０分間再度熱処理を行った。このようにして、実施例１の導電性フィルムを得た。 Next, after the plasma treatment (plasma irradiation condition: 12.4 kJ / m 2) is performed on the obtained film, the protective layer forming composition A (described later) is formed on the entire surface of the film where the fine metal wires are provided. ) Was applied with a bar coater, an unnecessary protective layer on the wiring was removed with a squeegee, and then dried at 100 ° C. for 1 minute to form a protective layer covering at least a part of the surface of the fine metal wire. Thereafter, heat treatment was performed again for 10 minutes in an 80 ° C. environment at a temperature higher than the glass transition temperature (54 ° C.) of the protective layer in order to make the protective layer and the wiring conform to each other. Thus, the electroconductive film of Example 1 was obtained.
得られた金属細線の断面形状、高さ、幅（最大幅）を、第１表に示す。また、金属細線の側面に設けられた保護層の高さ、金属細線の先端面に設けられた保護層の厚み、保護層の水に対する接触角を、第１表に示す。
ここで、金属細線の断面形状、金属細線の高さ、金属細線の幅、側面における保護層の高さ、先端面における保護層の厚みは、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡、商品名「Ｓ4300」、日立ハイテクノロジーズ（株）製）によって観察される画像に基づいて求めた。具体的には、金属細線が延びる方向において、透明絶縁基板と直交する方向で切断した導電性フィルムの切断面を観察した。
保護層の水に対する接触角は、接触角計（商品名「FAMMS DM-701」、協和界面科学（株）製）を用いて、接線法により測定した。なお、接触角の測定には、上記透明基板上に、乾燥後の厚みが２μｍとなるように保護層形成用組成物を塗布した後、１００℃で１分間乾燥することで得られた測定用サンプルを用いた。
Table 1 shows the cross-sectional shape, height, and width (maximum width) of the obtained fine metal wires. Table 1 shows the height of the protective layer provided on the side surface of the fine metal wire, the thickness of the protective layer provided on the tip surface of the fine metal wire, and the contact angle of the protective layer with respect to water.
Here, the cross-sectional shape of the fine metal wire, the height of the fine metal wire, the width of the fine metal wire, the height of the protective layer on the side surface, and the thickness of the protective layer on the tip surface are SEM (scanning electron microscope, trade name “S4300”, It was determined based on an image observed by Hitachi High-Technologies Corporation. Specifically, the cut surface of the conductive film cut in the direction perpendicular to the transparent insulating substrate in the direction in which the fine metal wires extend was observed.
The contact angle of the protective layer with respect to water was measured by a tangent method using a contact angle meter (trade name “FAMMS DM-701”, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). The contact angle was measured by applying a protective layer-forming composition on the transparent substrate so that the thickness after drying was 2 μm, and then drying at 100 ° C. for 1 minute. Samples were used.
（保護層形成用組成物Ａの調製）
保護層形成用組成物Ａは、下記の各成分を以下の各割合になるように混合して調製した。
・アクリル系樹脂 ３５．８質量部
（ＡＳ−５６３Ａ、ダイセルファインケム（株）製、固形分：２８質量％）
・界面活性剤：アニオン性界面活性剤 １２．５質量部
（ラピゾールＡ−９０、日油（株）製、固形分：１％水溶液）
・界面活性剤：ノニオン性界面活性剤 ７．８質量部
（ナロアクティーＣＬ９５、三洋化成工業（株）製、固形分：１％水溶液）
・蒸留水 ４３．９質量部
(Preparation of protective layer forming composition A)
The protective layer forming composition A was prepared by mixing the following components so as to have the following ratios.
-Acrylic resin 35.8 parts by mass (AS-563A, manufactured by Daicel Finechem Co., Ltd., solid content: 28% by mass)
Surfactant: 12.5 parts by weight of anionic surfactant (Lapisol A-90, manufactured by NOF Corporation, solid content: 1% aqueous solution)
Surfactant: Nonionic surfactant 7.8 parts by mass (Naroacty CL95, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., solid content: 1% aqueous solution)
・ 43.9 parts by mass of distilled water
［実施例２の導電性フィルムの製造］
黒化膜および銅薄膜をエッチングする際に、その条件をエッチング液の液温を３５〜４５℃、エッチング時間をジャストエッチタイムとすることで、くびれ状の断面形状を有する金属細線（図６参照）を得た以外は、実施例１の導電性フィルムの製造と同様にして、実施例２の導電性フィルムを製造した。
[Production of Conductive Film of Example 2]
When etching the blackened film and the copper thin film, the condition is that the liquid temperature of the etching solution is 35 to 45 ° C., and the etching time is the just etch time. The conductive film of Example 2 was produced in the same manner as in the production of the conductive film of Example 1, except that the above was obtained.
［実施例３の導電性フィルムの製造］
透明絶縁基板としてシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルム（商品名「ＺＦ１６」、日本ゼオン（株）製）を用いた以外は、実施例１の導電性フィルムの製造と同様にして、実施例３の導電性フィルムを製造した。
[Production of Conductive Film of Example 3]
The conductivity of Example 3 was the same as that of Example 1 except that a cycloolefin polymer (COP) film (trade name “ZF16”, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) was used as the transparent insulating substrate. An adhesive film was produced.
［実施例４、５の導電性フィルムの製造］
金属細線の側面に対する保護層の高さや、金属細線の先端面に対する保護層の厚みが、第１表の通りになるように保護層形成用組成物を塗布した以外は、実施例１の導電性フィルムの製造と同様にして、実施例４および５の導電性フィルムを製造した。
[Production of Conductive Film of Examples 4 and 5]
The conductivity of Example 1 except that the protective layer-forming composition was applied so that the height of the protective layer relative to the side surface of the fine metal wire and the thickness of the protective layer relative to the tip surface of the fine metal wire were as shown in Table 1. The conductive films of Examples 4 and 5 were produced in the same manner as the production of the film.
［実施例６の導電性フィルムの製造］
保護層形成用組成物Ａに代えて保護層形成用組成物Ｂを用いた以外は、実施例１の導電性フィルムの製造と同様にして、実施例６の導電性フィルムを製造した。
[Production of Conductive Film of Example 6]
A conductive film of Example 6 was produced in the same manner as in the production of the conductive film of Example 1, except that the protective layer-forming composition B was used instead of the protective layer-forming composition A.
（保護層形成用組成物Ｂの調製）
実施例６における保護層の形成には、下記の各成分を以下の各割合になるように混合して調製された保護層形成用組成物Ｂを用いた。
・ゼラチン ３５．８質量部
（新田ゼラチン（株）製 ２０％水溶液）
・界面活性剤：アニオン性界面活性剤 １２．５質量部
（ラピゾールＡ−９０、日油（株）製、固形分：１％水溶液）
・界面活性剤：ノニオン性界面活性剤 ７．８質量部
（ナロアクティーＣＬ９５、三洋化成工業（株）製、固形分：１％水溶液）
・蒸留水 ４３．９質量部
(Preparation of protective layer forming composition B)
In forming the protective layer in Example 6, the protective layer forming composition B prepared by mixing the following components so as to have the following ratios was used.
・ 35.8 parts by mass of gelatin (20% aqueous solution manufactured by Nitta Gelatin Co., Ltd.)
Surfactant: 12.5 parts by weight of anionic surfactant (Lapisol A-90, manufactured by NOF Corporation, solid content: 1% aqueous solution)
Surfactant: Nonionic surfactant 7.8 parts by mass (Naroacty CL95, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., solid content: 1% aqueous solution)
・ 43.9 parts by mass of distilled water
［実施例７の導電性フィルムの製造］
金属細線の先端面に対する保護層の厚みが第１表の通りになるように、保護層形成用組成物を塗布した以外は、実施例１の導電性フィルムの製造と同様にして、実施例７の導電性フィルムを製造した。
[Production of Conductive Film of Example 7]
Example 7 was carried out in the same manner as in the production of the conductive film of Example 1, except that the protective layer-forming composition was applied so that the thickness of the protective layer with respect to the tip surface of the fine metal wire was as shown in Table 1. A conductive film was produced.
［実施例８、９の導電性フィルムの製造］
金属細線の幅が第１表の示す通りになるように、透明絶縁基板上の銅薄膜および黒化膜をパターニングした以外は、実施例１の導電性フィルムの製造と同様にして、実施例８および９の導電性フィルムを製造した。
[Production of Conductive Films of Examples 8 and 9]
Example 8 was carried out in the same manner as in the production of the conductive film of Example 1, except that the copper thin film and the blackened film on the transparent insulating substrate were patterned so that the width of the fine metal wires was as shown in Table 1. And 9 conductive films were produced.
［実施例１０の導電性フィルムの製造］
保護層形成用組成物Ａを用いて、実施例１の導電性フィルムの製造と同様の方法で、保護層の厚みが４０〜７０ｎｍになるように、塗布・乾燥した後、再度プラズマ処理を実施し、保護層形成用組成物Ａに代えて保護層形成用組成物Ｃ（コロイダルシリカ（微粒子）含有）を用いて、保護層の厚みが第１表の記載の通りになるように塗布した。これ以外は、実施例１の導電性フィルムの製造と同様にして、実施例１０の導電性フィルムを製造した。
[Production of Conductive Film of Example 10]
Using the protective layer forming composition A, after applying and drying the protective layer so as to have a thickness of 40 to 70 nm in the same manner as in the production of the conductive film of Example 1, the plasma treatment was performed again. Then, instead of the protective layer forming composition A, a protective layer forming composition C (containing colloidal silica (fine particles)) was used so that the thickness of the protective layer was as described in Table 1. Except this, it carried out similarly to manufacture of the conductive film of Example 1, and manufactured the conductive film of Example 10.
（保護層形成用組成物Ｃの調製）
実施例１０における保護層の形成には、下記の各成分を以下の各割合になるように混合して調製された保護層形成用組成物Ｃを用いた。
・アクリル系樹脂 ３５．５質量部
（ＡＳ−５６３Ａ、ダイセルファインケム（株）製、固形分：２８質量％）
・界面活性剤：アニオン性界面活性剤 １２．５質量部
（ラピゾールＡ−９０、日油（株）製、固形分：１％水溶液）
・界面活性剤：ノニオン性界面活性剤 ７．８質量部
（ナロアクティーＣＬ９５、三洋化成工業（株）製、固形分：１％水溶液）
・コロイダルシリカ ０．６質量部
(スノーテックスＺＬ、日産化学（株）製、固形分：４０質量％)
・蒸留水 ４３．６質量部
(Preparation of protective layer forming composition C)
In forming the protective layer in Example 10, the protective layer forming composition C prepared by mixing the following components so as to have the following ratios was used.
-35.5 parts by mass of acrylic resin (AS-563A, manufactured by Daicel FineChem, Inc., solid content: 28% by mass)
Surfactant: 12.5 parts by weight of anionic surfactant (Lapisol A-90, manufactured by NOF Corporation, solid content: 1% aqueous solution)
Surfactant: Nonionic surfactant 7.8 parts by mass (Naroacty CL95, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., solid content: 1% aqueous solution)
・ 0.6 parts by mass of colloidal silica
(Snowtex ZL, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., solid content: 40% by mass)
・ 43.6 parts by mass of distilled water
［実施例１１の導電性フィルムの製造］
保護層形成用組成物Ａに代えて保護層形成用組成物Ｄ（カルボジイミド系架橋剤を含有）を用いた以外は、実施例１の導電性フィルムの製造と同様にして、実施例１１の導電性フィルムを製造した。
[Production of Conductive Film of Example 11]
The conductivity of Example 11 was the same as that of the conductive film of Example 1 except that the composition D for protective layer formation (containing a carbodiimide-based crosslinking agent) was used instead of the composition A for protective layer formation. An adhesive film was produced.
（保護層形成用組成物Ｄの調製）
実施例１１における保護層の形成には、下記の各成分を以下の各割合になるように混合して調製された保護層形成用組成物Ｄを用いた。
・アクリル系樹脂 ３２．８質量部
（ＡＳ−５６３Ａ、ダイセルファインケム（株）製、固形分：２８質量％）
・界面活性剤：アニオン性界面活性剤 １１．５質量部
（ラピゾールＡ−９０、日油（株）製、固形分：１％水溶液）
・界面活性剤：ノニオン性界面活性剤 ７．２質量部
（ナロアクティーＣＬ９５、三洋化成工業（株）製、固形分：１％水溶液）
・カルボジイミド系架橋剤 ８．２質量部
（カルボジライトＶ−０２−Ｌ２、日清紡（株）製、固形分：２０質量％）
・蒸留水 ４０．３質量部
(Preparation of protective layer forming composition D)
In forming the protective layer in Example 11, a protective layer forming composition D prepared by mixing the following components so as to have the following ratios was used.
-32.8 parts by mass of acrylic resin (AS-563A, manufactured by Daicel FineChem, Inc., solid content: 28% by mass)
Surfactant: 11.5 parts by mass of anionic surfactant (Lapisol A-90, manufactured by NOF Corporation, solid content: 1% aqueous solution)
Surfactant: 7.2 parts by weight of nonionic surfactant (Naroacty CL95, manufactured by Sanyo Chemical Industries, solid content: 1% aqueous solution)
-Carbodiimide type crosslinking agent 8.2 parts by mass (Carbodilite V-02-L2, manufactured by Nisshinbo Co., Ltd., solid content: 20% by mass)
・ 40.3 parts by mass of distilled water
［実施例１２の導電性フィルムの製造］
保護層形成用組成物Ａに代えて保護層形成用組成物Ｅ（オキサゾリン系架橋剤を含有）を用いた以外は、実施例１の導電性フィルムの製造と同様にして、実施例１２の導電性フィルムを製造した。
[Production of Conductive Film of Example 12]
The conductivity of Example 12 was the same as the production of the conductive film of Example 1, except that the composition E for protective layer formation (containing an oxazoline-based crosslinking agent) was used instead of the composition A for protective layer formation. An adhesive film was produced.
（保護層形成用組成物Ｅの調製）
実施例１２における保護層の形成には、下記の各成分を以下の各割合になるように混合して調製された保護層形成用組成物Ｅを用いた。
・アクリル系樹脂 ３０．２質量部
（ＡＳ−５６３Ａ、ダイセルファインケム（株）製、固形分：２８質量％）
・界面活性剤：アニオン性界面活性剤 １０．６質量部
（ラピゾールＡ−９０、日油（株）製、固形分：１％水溶液）
・界面活性剤：ノニオン性界面活性剤 ６．７質量部
（ナロアクティーＣＬ９５、三洋化成工業（株）製、固形分：１％水溶液）
・オキサゾリン系架橋剤 １５．２質量部
（エポクロスＷＳ３００、日本触媒（株）製、固形分：１０質量％）
・蒸留水 ３７．３質量部
(Preparation of protective layer forming composition E)
In forming the protective layer in Example 12, a protective layer forming composition E prepared by mixing the following components so as to have the following ratios was used.
-30.2 parts by mass of acrylic resin (AS-563A, manufactured by Daicel FineChem, Inc., solid content: 28% by mass)
Surfactant: Anionic surfactant 10.6 parts by mass (Lapisol A-90, manufactured by NOF Corporation, solid content: 1% aqueous solution)
-Surfactant: Nonionic surfactant 6.7 parts by mass (Naroacty CL95, manufactured by Sanyo Chemical Industries, solid content: 1% aqueous solution)
Oxazoline-based crosslinking agent 15.2 parts by mass (Epocross WS300, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., solid content: 10% by mass)
・ 37.3 parts by mass of distilled water
［実施例１３の導電性フィルムの製造］
保護層形成用組成物Ａに代えて保護層形成用組成物Ｆ（紫外線吸収剤を含有）を用いた以外は、実施例１の導電性フィルムの製造と同様にして、実施例１３の導電性フィルムを製造した。
[Production of Conductive Film of Example 13]
The conductivity of Example 13 was the same as the production of the conductive film of Example 1 except that the composition F for protective layer formation (containing an ultraviolet absorber) was used instead of the composition A for protective layer formation. A film was produced.
（保護層形成用組成物Ｆの調製）
実施例１３における保護層の形成には、下記の各成分を以下の各割合になるように混合して調製された保護層形成用組成物Ｆを用いた。
・アクリル系樹脂 ３５．４質量部
（ＡＳ−５６３Ａ、ダイセルファインケム（株）製、固形分：２８質量％）
・界面活性剤：アニオン性界面活性剤 １２．４質量部
（ラピゾールＡ−９０、日油（株）製、固形分：１％水溶液）
・界面活性剤：ノニオン性界面活性剤 ７．８質量部
（ナロアクティーＣＬ９５、三洋化成工業（株）製、固形分：１％水溶液）
・紫外線吸収剤 ０．８質量部
（TINUVIN99-DW、BASFジャパン（株）製、固形分４０質量％）
・蒸留水 ４３．６質量部
(Preparation of protective layer forming composition F)
In forming the protective layer in Example 13, the protective layer-forming composition F prepared by mixing the following components so as to have the following ratios was used.
-Acrylic resin 35.4 parts by mass (AS-563A, manufactured by Daicel FineChem, Inc., solid content: 28% by mass)
Surfactant: 12.4 parts by weight of anionic surfactant (Lapisol A-90, manufactured by NOF Corporation, solid content: 1% aqueous solution)
Surfactant: Nonionic surfactant 7.8 parts by mass (Naroacty CL95, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., solid content: 1% aqueous solution)
・ 0.8 parts by weight of UV absorber (TINUVIN99-DW, manufactured by BASF Japan, solid content 40% by mass)
・ 43.6 parts by mass of distilled water
［比較例１の導電性フィルムの製造］
黒化膜および銅薄膜をエッチングする際に、エッチング液として、過酸化水素（１．４質量％）、エチレンジアミン（０．５質量％）、水酸化テトラメチルアンモニウム（４．０質量％）、Ｄ−ソルビトール（２１質量％）、テトラエチレンペンタミン（０．７質量％）、水（残部）で調製されたエッチング組成物（ｐＨ＝１２．７）を用いた。処理温度３５℃、ジャストエッチタイムでエッチングを行うことで、テーパ状の金属細線を得た。これ以外は、実施例１の導電性フィルムの製造と同様にして、比較例１の導電性フィルムを製造した。
[Production of Conductive Film of Comparative Example 1]
When etching the blackened film and the copper thin film, hydrogen peroxide (1.4 mass%), ethylenediamine (0.5 mass%), tetramethylammonium hydroxide (4.0 mass%), D -An etching composition (pH = 12.7) prepared with sorbitol (21% by mass), tetraethylenepentamine (0.7% by mass) and water (remainder) was used. Etching was performed at a processing temperature of 35 ° C. and a just etch time to obtain a tapered fine metal wire. Except this, it carried out similarly to manufacture of the conductive film of Example 1, and manufactured the conductive film of the comparative example 1.
［比較例２の導電性フィルムの製造］
保護層を形成しなかった以外は、実施例１の導電性フィルムの製造と同様にして、比較例２の導電性フィルムを製造した。
[Production of Conductive Film of Comparative Example 2]
A conductive film of Comparative Example 2 was produced in the same manner as in the production of the conductive film of Example 1 except that the protective layer was not formed.
［比較例３の導電性フィルムの製造］
金属細線の側面に対する保護層の高さが第１表の通りになるように、保護層形成用組成物を塗布した以外は、実施例１の導電性フィルムの製造と同様にして、比較例３の導電性フィルムを製造した。
[Production of Conductive Film of Comparative Example 3]
Comparative Example 3 was carried out in the same manner as in the production of the conductive film of Example 1, except that the protective layer-forming composition was applied so that the height of the protective layer relative to the side surface of the fine metal wires was as shown in Table 1. A conductive film was produced.
［評価試験］
上記のようにして得られた実施例および比較例の各導電性フィルムについて、以下の評価試験を行った。
[Evaluation test]
The following evaluation tests were performed on the conductive films of Examples and Comparative Examples obtained as described above.
＜視認性＞
実施例および比較例の各導電性フィルムを黒色フィルム（商品名 ルミラーＸ３０、東レ（株）製）上に設置した。次にＬＥＤ（Light Emitting Diode）ライト（ＴＣＸＥ−２、トラスコ中山（株））を用いて光を投射し、金属細線の反射の有無を目視にて確認して、以下の基準により視認性の評価を行った。
Ａ：金属細線による光の反射がまったく視認できない
Ｂ：金属細線による光の反射が視認できない
Ｃ：金属細線による光の反射が僅かに視認できる
Ｄ：金属細線による光の反射が容易に視認できる
<Visibility>
Each conductive film of an Example and a comparative example was installed on the black film (Brand name Lumirror X30, Toray Industries, Inc. make). Next, light is projected using an LED (Light Emitting Diode) light (TCXE-2, TRUSCO NAKAYAMA Co., Ltd.) and the presence or absence of reflection of the fine metal wire is visually confirmed. Went.
A: The reflection of light by the fine metal wire cannot be seen at all. B: The reflection of light by the fine metal wire cannot be seen. C: The reflection of light by the fine metal wire can be seen slightly. D: The reflection of light by the fine metal wire can be easily seen.
＜段差追従性＞
実施例および比較例の各導電性フィルム上に、ＯＣＡ（Optical Clear Adhesive）フィルムとしてMGSF10(商品名、共同技研化学（株)製)を貼り付けて、４０℃、０．５ＭＰａのオートクレーブで２０分処理した後、金属細線の近傍におけるＯＣＡフィルムの浮きをマイクロスコープ（キーエンス製）にて観察して、以下の基準により段差追従性の評価を行った。
Ａ：浮き無し
Ｂ：僅かに空隙の発生が確認できる
Ｃ：半分以上で空隙の発生が確認できる
Ｄ：ほぼ全面で空隙の発生が確認できる
<Step following capability>
MGSF10 (trade name, manufactured by Kyodo Giken Chemical Co., Ltd.) is pasted as an OCA (Optical Clear Adhesive) film on each conductive film of Examples and Comparative Examples, and the autoclave at 40 ° C. and 0.5 MPa is used for 20 minutes. After the treatment, the float of the OCA film in the vicinity of the thin metal wire was observed with a microscope (manufactured by Keyence), and the step following ability was evaluated according to the following criteria.
A: No floating B: Slight generation of voids can be confirmed C: Generation of voids can be confirmed in more than half D: Generation of voids can be confirmed on almost the entire surface
＜密着性＞
実施例および比較例の各導電性フィルムを、１２ｃｍ×３ｃｍのサイズに裁断した。これを２３℃、相対湿度５０％の条件で１時間保持した後、この導電性フィルムの保護層（保護層が形成されていない場合には、金属細線（黒化層上））の上に、セロテープ（登録商標）ＣＴ−２４（ニチバン社製）を貼り、手で、剥離角度１８０度の剥離試験を行い、以下の基準により密着性の評価を行った。
Ａ：保護層や金属細線の剥がれが全くない
Ｂ：保護層の剥がれが発生するが、金属細線の剥がれがない
Ｃ：金属細線の剥がれが部分的に発生
Ｄ：金属細線の剥がれがほぼ連続して発生
<Adhesion>
Each conductive film of an Example and a comparative example was cut | judged to the size of 12 cm x 3 cm. After holding this at 23 ° C. and a relative humidity of 50% for 1 hour, on the protective layer of this conductive film (in the case where the protective layer is not formed, on the metal thin wire (on the blackened layer)), Cellotape (registered trademark) CT-24 (manufactured by Nichiban Co., Ltd.) was applied, and a peel test at a peel angle of 180 degrees was performed by hand, and adhesion was evaluated according to the following criteria.
A: There is no peeling of the protective layer or fine metal wire B: The peeling of the protective layer occurs, but there is no peeling of the fine metal wire C: Partial peeling of the fine metal wire D: The peeling of the fine metal wire is almost continuous Occur
＜耐擦性＞
実施例および比較例の各導電性フィルムの表面に、パルプ製ワイパー（日本製紙クレシア株式会社製：キムワイプＳ−２００）で包んだ荷重（２００ｇ／ｃｍ２）をのせ、距離９ｃｍで５回往復して擦った。擦った部分の金属細線の様子を光学顕微鏡で確認して、以下の評価基準により耐擦性の評価を行った。
Ａ：金属細線に異常は見られない
Ｂ：擦り部の一部で金属細線の移動がある
Ｃ：擦り部の一部で金属細線の移動及び欠けがある
Ｄ：擦り部の大部分で金属細線の移動及び欠けがある
<Abrasion resistance>
A load (200 g / cm 2 ) wrapped with a pulp wiper (manufactured by Nippon Paper Crecia Co., Ltd .: Kimwipe S-200) is placed on the surface of each of the conductive films of Examples and Comparative Examples and reciprocated five times at a distance of 9 cm. I rubbed. The state of the fine metal wire in the rubbed part was confirmed with an optical microscope, and the abrasion resistance was evaluated according to the following evaluation criteria.
A: No abnormality is observed in the fine metal wire B: The fine metal wire is moved at a part of the rubbing portion C: The fine metal wire is moved and chipped at a part of the rubbing portion D: The fine metal wire is at most of the rubbing portion There are moving and chipping
＜ブロッキング性＞
実施例および比較例の各導電性フィルムを、２３℃、相対湿度５０％の条件で１時間保持した後、３ｃｍ×３ｃｍのサイズに２枚裁断した。２枚のフィルムを一方のフィルムの保護層が他方のフィルムの保護層と接触するように重ね合わせ、３０℃、相対湿度８０％の条件で８４ｋｇの荷重を２１時間かけた後、フィルム同士を剥がし、剥がす際の感触と、剥がした後のフィルム外観から、以下の基準によりブロッキング性の評価を行った。
Ａ：接着感無し、接着痕無し
Ｂ：接着感有り、接着痕無し
<Blocking property>
Each conductive film of Example and Comparative Example was held for 1 hour under the conditions of 23 ° C. and 50% relative humidity, and then cut into two pieces of 3 cm × 3 cm. Two films were overlapped so that the protective layer of one film was in contact with the protective layer of the other film, and an 84 kg load was applied for 21 hours at 30 ° C. and a relative humidity of 80%, and then the films were peeled off. The blocking property was evaluated according to the following criteria from the feel when peeling and the appearance of the film after peeling.
A: No adhesion, no adhesion marks B: Adhesion, no adhesion marks
＜マイグレーション＞
ＩＰＣ−ＴＭ６５０ｏｒＳＭ８４０に準拠したパターンで、ライン幅が３０μｍ、スペース幅が３０μｍで、ライン数が１７本／１８本であるくし型パターン電極を作製した。実施例および比較例の各導電性フィルムの表面上に、ＯＣＡ（Optical Clear Adhesive）フィルム（商品名「８１４６−３」、３Ｍ（株）製）を貼り合せたサンプルを作製した。作製したくし型パターン電極を有するサンプルを８５℃８５％ＲＨの湿熱雰囲気下に静置し、サンプルの両端に配線を接続し、片側から直流５Ｖの電流を連続的に印加した。２４０時間後、８５℃８５％ＲＨの雰囲気下から取り出し、配線の様子を光学顕微鏡で観察した。
Ａ：配線周辺に、若干の着色が見られる。
Ｂ：配線周辺に、強い着色、および／または、僅かなデンドライトの発生が見られる。
<Migration>
A comb pattern electrode having a pattern based on IPC-TM650 or SM840, a line width of 30 μm, a space width of 30 μm, and 17/18 lines was prepared. A sample in which an OCA (Optical Clear Adhesive) film (trade name “8146-3”, manufactured by 3M Co., Ltd.) was bonded onto the surface of each conductive film of Examples and Comparative Examples was prepared. The prepared sample having the comb-shaped pattern electrode was left in a moist heat atmosphere of 85 ° C. and 85% RH, wiring was connected to both ends of the sample, and a direct current of 5 V was continuously applied from one side. After 240 hours, it was taken out from the atmosphere of 85 ° C. and 85% RH, and the state of the wiring was observed with an optical microscope.
A: Some coloring is seen around the wiring.
B: Strong coloring and / or slight dendrites are observed around the wiring.
＜評価結果＞
以上の評価試験の結果を第１表にあわせて示す。
<Evaluation results>
The results of the above evaluation tests are also shown in Table 1.
実施例の導電性フィルムは、いずれも、金属細線がこれの先端面の線幅より小さい線幅を有する幅狭部分を含み（例えば、逆テーパ状やくびれ状であること）、かつ、金属細線の５０％以上の高さで金属細線の側面を覆い、１ｎｍ〜５μｍの厚みで金属細線の先端面を覆うものである。これにより、実施例の導電性フィルムを用いれば、保護層を有する金属細線が目立ちにくく（すなわち、タッチパネルに適用した際の視認性を確保しつつ）、他の基材と貼り合せた際の段差追従性に優れ、耐擦性にも優れることが示された。 Each of the conductive films of the examples includes a narrow portion in which the fine metal wire has a line width smaller than the line width of the tip end surface thereof (for example, a reverse taper shape or a constricted shape), and the fine metal wire The side surface of the fine metal wire is covered at a height of 50% or more, and the tip surface of the fine metal wire is covered at a thickness of 1 nm to 5 μm. Thereby, if the electroconductive film of an Example is used, the metal fine wire which has a protective layer is not conspicuous (namely, ensuring the visibility at the time of applying to a touch panel), and the level | step difference at the time of bonding with another base material It was shown that it has excellent followability and excellent rub resistance.
実施例１、実施例４および実施例５の対比により、金属細線の側面を覆う保護層の高さが高くなる（金属細線の側面の高さに対して８０％以上、実施例１および実施例４）、段差追従性および耐擦性がより優れたものになることが示された。
実施例１と実施例６との対比により、水との接触角が７０°以上である保護層を用いることで（実施例１）、ブロッキングおよびマイグレーションの発生を抑制できることが示された。
実施例１と実施例７との対比により、金属細線の先端面における保護層の厚みを厚くすることで、（０．０５μｍ以上、実施例１）、耐擦性および密着性がより優れたものになることが示された。
実施例１、実施例８および実施例９の対比により、金属細線の幅が２〜６μｍの範囲に場合に（実施例１）、本願発明の各効果がバランスよく発揮されることが示された。
実施例１と実施例１０との対比により、微粒子を含有する保護層形成用組成物を用いて形成された保護層を有することで（実施例１０）、ブロッキング性が向上することが示された。
実施例１と実施例１１との対比、および実施例１と実施例１２との対比により、カルボジイミド系架橋剤またはオキサゾリン系架橋剤を含有する保護層形成用組成物を用いて形成された保護層を有することで（実施例１１、実施例１２）、密着性および耐擦性が向上することが示された。
実施例１１と実施例１２との対比により、カルボジイミド系架橋剤を用いると（実施例１３）、マイグレーション抑制効果を低下させることなく、密着性および耐擦性が優れたものとなることが示された。
By comparing Example 1, Example 4 and Example 5, the height of the protective layer covering the side surface of the fine metal wire is increased (80% or more with respect to the height of the side surface of the fine metal wire, Example 1 and Example 4) It was shown that the step following ability and the rub resistance become better.
By comparing Example 1 and Example 6, it was shown that blocking and migration can be suppressed by using a protective layer having a contact angle with water of 70 ° or more (Example 1).
By contrasting Example 1 and Example 7, by increasing the thickness of the protective layer on the front end surface of the thin metal wire (0.05 μm or more, Example 1), more excellent in abrasion resistance and adhesion Was shown to be.
Comparison between Example 1, Example 8 and Example 9 shows that each effect of the present invention is exhibited in a well-balanced manner when the width of the fine metal wire is in the range of 2 to 6 μm (Example 1). .
Comparison between Example 1 and Example 10 showed that the blocking property was improved by having a protective layer formed using the protective layer-forming composition containing fine particles (Example 10). .
A protective layer formed using a protective layer-forming composition containing a carbodiimide-based crosslinking agent or an oxazoline-based crosslinking agent according to a comparison between Example 1 and Example 11 and a comparison between Example 1 and Example 12. (Examples 11 and 12), it was shown that adhesion and abrasion resistance were improved.
Comparison between Example 11 and Example 12 shows that when a carbodiimide-based cross-linking agent is used (Example 13), the adhesion and abrasion resistance are excellent without reducing the migration suppressing effect. It was.
金属細線が先端面の線幅より小さい線幅を有する幅狭部分を有さない（すなわち、金属細線がテーパ状である）、比較例１の導電性フィルムを用いると、金属細線が目立ち、タッチパネルに適用した際に視認性が悪いことがわかった。
保護層を有さない比較例２の導電性フィルムを用いると、段差追従性、密着性および耐擦性が低下することが示された。
金属細線の側面を覆う保護層の高さが金属細線の側面の高さに対して５０％未満である比較例２の導電性フィルムを用いると、段差追従性が低下することが示された。
When the conductive film of Comparative Example 1 in which the fine metal wire does not have a narrow portion having a line width smaller than the line width of the tip surface (that is, the fine metal wire is tapered), the fine metal wire is conspicuous and the touch panel It was found that the visibility was poor when applied to.
When the conductive film of Comparative Example 2 having no protective layer was used, it was shown that the step following ability, the adhesion and the abrasion resistance were lowered.
When the conductive film of Comparative Example 2 in which the height of the protective layer covering the side surface of the fine metal wire is less than 50% with respect to the height of the side surface of the fine metal wire was used, it was shown that the step following ability deteriorated.
１ タッチパネル、２ 支持体、３，１０３ 導電性フィルム、４ 接着剤、３１ 透明絶縁基板、３１Ａ （透明絶縁基板の）表面、３１Ｂ （透明絶縁基板の）裏面、３２ 導電部材、３３ 保護層、３４ 第１電極、３５ 第１周辺配線、３６ 第２電極、３７ 第２周辺配線、３８，１３８ 第１金属細線、３８Ａ，１３８Ａ 先端面、３８Ｂ，１３８Ｂ 基端面、３８Ｃ，１３８Ｃ 側面、１３８Ｄ くびれ部、３９ 第２金属細線、Ｓ１ 透過領域、Ｓ２ 周辺領域、Ｄ１ 第１の方向、Ｄ２ 第２の方向、Ｗ１Ａ，Ｗ１Ｂ，Ｗ２Ｂ 線幅、Ｔｃ１，Ｔｍ１ 高さ、Ｔｃ２ 厚み DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Touch panel, 2 Support body, 3,103 Conductive film, 4 Adhesive, 31 Transparent insulating substrate, 31A (Transparent insulating substrate) surface, 31B (Transparent insulating substrate) back surface, 32 Conductive member, 33 Protective layer, 34 First electrode, 35 First peripheral wiring, 36 Second electrode, 37 Second peripheral wiring, 38, 138 First metal fine wire, 38A, 138A Tip surface, 38B, 138B Base end surface, 38C, 138C Side surface, 138D Constriction, 39 2nd metal fine wire, S1 transmission region, S2 peripheral region, D1 first direction, D2 second direction, W1A, W1B, W2B line width, Tc1, Tm1 height, Tc2 thickness
Claims (9)
前記透明絶縁基板上に形成された金属細線からなる検出電極と、
前記透明絶縁基板上に形成され、前記金属細線の表面の少なくとも一部を覆う保護層と、
を備え、
前記金属細線は、前記透明絶縁基板とは反対側に向けられた先端面と、前記先端面の縁部から前記透明絶縁基板まで延びる側面と、を有すると共に、前記先端面の線幅より小さい線幅を有する幅狭部分を含み、
前記保護層は、前記金属細線の５０％以上の高さで前記金属細線の前記側面を覆い、かつ、１ｎｍ〜５μｍの厚みで前記金属細線の前記先端面を覆う、タッチパネル用電極部材。 A transparent insulating substrate;
A detection electrode made of a fine metal wire formed on the transparent insulating substrate;
A protective layer formed on the transparent insulating substrate and covering at least a part of the surface of the fine metal wire;
With
The thin metal wire has a tip surface facing away from the transparent insulating substrate and a side surface extending from an edge of the tip surface to the transparent insulating substrate, and a line smaller than the line width of the tip surface. Including a narrow portion having a width;
The electrode member for a touch panel, wherein the protective layer covers the side surface of the fine metal wire at a height of 50% or more of the fine metal wire, and covers the tip end surface of the fine metal wire with a thickness of 1 nm to 5 μm.
第１金属細線からなる第１電極と、 A first electrode made of a first thin metal wire;
前記第１電極と絶縁されて配置された、前記第２金属細線からなる第２電極と、 A second electrode made of the second thin metal wire, disposed insulated from the first electrode;
前記第２金属細線の表面の少なくとも一部を覆う保護層と、をこの順に有し、 A protective layer covering at least a part of the surface of the second thin metal wire in this order,
前記第２金属細線は、前記第１電極とは反対側に向けられた先端面と、前記先端面の縁部から前記第１電極に向って延びる側面と、を有すると共に、前記先端面の線幅より小さい線幅を有する幅狭部分を含み、 The second thin metal wire has a front end surface facing away from the first electrode, and a side surface extending from an edge of the front end surface toward the first electrode, and the line of the front end surface Including a narrow portion having a line width less than the width;
前記保護層は、前記第２金属細線の５０％以上の高さで前記第２金属細線の前記側面を覆い、かつ、１ｎｍ〜５μｍの厚みで前記第２金属細線の前記先端面を覆う、タッチパネル。 The touch panel covers the side surface of the second thin metal wire at a height of 50% or more of the second thin metal wire, and covers the front end surface of the second thin metal wire with a thickness of 1 nm to 5 μm. .
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