JP6446959B2 - Fine structure manufacturing mold, fine structure manufacturing mold manufacturing method, and fine structure manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、繰り返し周期が500nm以下による繰り返しによる微細構を備えたフィルム材等の微細構造体に関するものである。   The present invention relates to a fine structure such as a film material having a fine structure formed by repetition with a repetition period of 500 nm or less.

近年、繰り返し周期が可視光域の波長程度の微細構造の利用が、特許文献1、2等に提案されている。すなわち特許文献1には、このような微細構造を、可視光域の最短波長以下の繰り返しピッチによる微小突起の繰り返しにより作製することにより、可視光域の反射防止を図る工夫が提案されている。またこのような微細構造は、親水性、防曇性、セルフクリーニング性を備え、特許文献2には、このような特徴を利用する構成が開示されている。   In recent years, utilization of a fine structure having a repetition period of a wavelength in the visible light region has been proposed in Patent Documents 1 and 2 and the like. That is, Patent Document 1 proposes a device for preventing reflection in the visible light region by producing such a fine structure by repeating minute protrusions with a repetition pitch equal to or shorter than the shortest wavelength in the visible light region. Further, such a fine structure has hydrophilicity, anti-fogging property, and self-cleaning property, and Patent Document 2 discloses a configuration using such characteristics.

ところでこの種の微細構造を備えた微細構造体について、種々に利用範囲の拡大を図ることができれば、便利であると考えられる。このためには、従来に比して一段と高い生産性を確保できるようにすることが求められる。   By the way, it is thought that it is convenient if the range of use can be expanded in various ways for a fine structure having such a fine structure. For this purpose, it is required to ensure higher productivity than in the past.

特許4632589号公報Japanese Patent No. 4632589 特許5426100号公報Japanese Patent No. 5426100

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、この種の微細構造体に関して高い生産性を確保できるようにし、この種の微細構造体に関して利用範囲の拡大を図ることを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and aims to ensure high productivity with respect to this type of microstructure and to expand the range of use with respect to this type of microstructure. .

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、微細構造を設けた部位をパターニングして微細構造体を作製し、また微細構造に係る賦型用の領域を選択的に設けて賦型用版を構成する、との着想に至り、本発明を完成するに至った。   The present inventor has conducted extensive research to solve the above-mentioned problems, patterned a portion provided with a fine structure to produce a fine structure, and selectively provided an area for shaping related to the fine structure. It came to the idea of constituting a plate for shaping, and the present invention was completed.

具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する     Specifically, the present invention provides the following.

(1) 繰り返し周期が500nm以下による微細構造を備えた微細構造体であって、
基材上に表面樹脂層が設けられ、
賦型処理により、前記表面樹脂層の表面に、選択的に、前記微細構造が形成され、
前記微細構造を作製した領域と、前記微細構造を作製していない領域とに、前記表面樹脂層の表面がパターニングされた微細構造体。
(1) A microstructure having a microstructure with a repetition period of 500 nm or less,
A surface resin layer is provided on the substrate,
By the shaping process, the microstructure is selectively formed on the surface of the surface resin layer,
A fine structure in which a surface of the surface resin layer is patterned in a region where the fine structure is produced and a region where the fine structure is not produced.

(1)によれば、微細構造を作製した領域が相対的に親水性又は撥水性の高い領域となり、微細構造を作製していない領域が相対的に親水性又は撥水性の低い領域となり、これにより親水性又は撥水性の高い領域をパターニングしてなる微細構造体を、賦型処理により作製することができ、これにより高い生産性により得ることができる。   According to (1), the region in which the fine structure is produced becomes a relatively hydrophilic or water-repellent region, and the region in which the fine structure is not produced becomes a relatively hydrophilic or low water-repellent region. Thus, a fine structure formed by patterning a region having high hydrophilicity or water repellency can be produced by a shaping treatment, and thus can be obtained with high productivity.

(2) (1)において、前記微細構造を作製していない領域の表面が、親水性であり、
前記微細構造を作製した領域に、選択的に液体が付着した微細構造体。
(2) In (1), the surface of the region where the microstructure is not produced is hydrophilic,
A fine structure in which a liquid selectively adheres to a region where the fine structure is produced.

(2)によれば、親水性の高い領域をパターニングしてなる微細構造体について、このパターニングを目視可能とすることができる。   According to (2), this patterning can be made visible for a fine structure formed by patterning a highly hydrophilic region.

(3) (1)において、前記微細構造を作製していない領域の表面が、撥水性であり、
前記微細構造を作製していない域に、選択的に液体が付着した微細構造体。
(3) In (1), the surface of the region where the microstructure is not produced is water repellent,
A fine structure in which a liquid selectively adheres to a region where the fine structure is not manufactured.

(3)によれば、撥水性の高い領域をパターニングしてなる微細構造体について、このパターニングを目視可能とすることができる。   According to (3), this patterning can be made visible for a fine structure formed by patterning a region having high water repellency.

(4) (1)、(2)、(3)の何れかにおいて、前記微細構造が、
柱状体をマトリックス状に配置して形成された微細構造体。
(4) In any one of (1), (2), and (3), the microstructure is
A fine structure formed by arranging columnar bodies in a matrix.

(4)によれば、凹部をマトリックス状に配置したより、より具体的に、親水性又は撥水性の高い領域をパターニングしてなる微細構造体を高い生産性により得ることができる。   According to (4), more specifically, a fine structure obtained by patterning a region having high hydrophilicity or high water repellency can be obtained with high productivity, rather than arranging the concave portions in a matrix.

(5) (1)、(2)、(3)の何れかにおいて、前記微細構造が、
凹溝の繰り返しにより形成された微細構造体。
(5) In any one of (1), (2), and (3), the microstructure is
A fine structure formed by repeating concave grooves.

(5)によれば、凹溝の繰り返しによる、より具体的構成により、親水性又は撥水性の高い領域をパターニングしてなる微細構造体を高い生産性により得ることができる。   According to (5), a fine structure obtained by patterning a region having high hydrophilicity or water repellency can be obtained with high productivity by a more specific configuration by repeating the concave grooves.

(6) (1)、(2)、(3)の何れかにおいて、前記微細構造が、
微小突起の密接配置により形成された微細構造体。
(6) In any one of (1), (2), and (3), the microstructure is
A fine structure formed by close arrangement of minute protrusions.

(6)によれば、微小突起の密接配置による、より具体的構成により、親水性又は撥水性の高い領域をパターニングしてなる微細構造体を高い生産性により得ることができる。   According to (6), a fine structure formed by patterning a region having high hydrophilicity or high water repellency can be obtained with high productivity by a more specific configuration by closely arranging the fine protrusions.

(7) 繰り返し周期が500nm以下による微細構造を備えた微細構造体の製造方法において、
製造用金型の母材表面に、前記微細構造に対応する微細凹凸形状を作製する微細凹凸形状の作製工程と、
前記母材表面の微細凹凸形状を選択的に埋め戻して、前記微細凹凸形状が表面に現れた領域と、前記微細凹凸形状が表面に現れてない領域とに、前記母材表面をパターニングするパターニングの工程と、
前記パターニングの工程により母材表面がパターニングされた前記製造用金型を使用した賦型処理により、前記微細構造体の基材表面に、選択的に、前記微細構造を形成し、前記微細構造を作製した領域と、前記微細構造を作製していない領域とに、前記基材表面をパターニングする賦型処理工程とを備える微細構造体の製造方法。
(7) In a method for manufacturing a microstructure having a microstructure with a repetition period of 500 nm or less,
On the surface of the base material of the manufacturing mold, a fine uneven shape manufacturing process for forming a fine uneven shape corresponding to the fine structure,
Patterning for selectively backfilling the fine uneven shape on the surface of the base material and patterning the surface of the base material into a region where the fine uneven shape appears on the surface and a region where the fine uneven shape does not appear on the surface And the process of
The fine structure is selectively formed on the surface of the substrate of the fine structure by a forming process using the manufacturing die in which the base material surface is patterned by the patterning step, and the fine structure is formed. A manufacturing method of a fine structure provided with a forming treatment step of patterning the surface of the base material in a produced region and a region where the fine structure is not produced.

(7)によれば、微細構造を作製した領域が相対的に親水性又は撥水性の高い領域となり、微細構造を作製していない領域が、相対的に親水性又は撥水性の低い領域となり、これにより親水性又は撥水性の高い領域をパターニングしてなる微細構造体を、賦型処理により作製することができ、これにより高い生産性により得ることができる。   According to (7), the region in which the microstructure is manufactured becomes a relatively hydrophilic or highly water-repellent region, and the region in which the microstructure is not manufactured becomes a relatively hydrophilic or water-repellent region, As a result, a fine structure formed by patterning a region having high hydrophilicity or water repellency can be produced by a shaping treatment, and thus can be obtained with high productivity.

(8) (7)において、前記微細構造を作製していない領域の表面が、親水性であり、
前記基材表面に液体を塗布して、前記微細構造を作製した領域に、選択的に前記液体を付着させる塗布工程をさらに備える微細構造体の製造方法。
(8) In (7), the surface of the region where the microstructure is not produced is hydrophilic,
The manufacturing method of the microstructure which further comprises the application | coating process which apply | coats the liquid to the said base-material surface, and adheres the said liquid selectively to the area | region which produced the said microstructure.

(8)によれば、親水性の高い領域をパターニングしてなる微細構造体について、このパターニングを目視可能とすることができる。   According to (8), this patterning can be made visible for a fine structure formed by patterning a highly hydrophilic region.

(9) (7)において、前記微細構造を作製していない領域の表面が、撥水性であり、
前記基材表面に液体を塗布して、前記微細構造を作製した領域に、選択的に前記液体を付着させる塗布工程をさらに備える微細構造体の製造方法。
(9) In (7), the surface of the region where the microstructure is not produced is water repellent,
The manufacturing method of the microstructure which further comprises the application | coating process which apply | coats the liquid to the said base-material surface, and adheres the said liquid selectively to the area | region which produced the said microstructure.

(9)によれば、撥水性の高い領域をパターニングしてなる微細構造体について、このパターニングを目視可能とすることができる。   According to (9), this patterning can be made visible for a fine structure formed by patterning a region having high water repellency.

(10) 繰り返し周期が500nm以下による微細構造を備えた微細構造体の製造に使用する微細構造体製造用金型であって、
母材表面に、前記微細構造体の微細構造に対応する微細凹凸形状が形成され、
前記母材表面の微細凹凸形状が、選択的に埋め戻されて、前記微細凹凸形状が表面に現れた領域と、前記微細凹凸形状が表面に現れてない領域とに、前記母材表面がパターニングされた微細構造体製造用金型。
(10) A mold for manufacturing a fine structure used for manufacturing a fine structure having a fine structure with a repetition period of 500 nm or less,
A fine uneven shape corresponding to the fine structure of the fine structure is formed on the surface of the base material,
The surface of the base material is patterned into a region where the fine uneven shape on the surface of the base material is selectively backfilled and the fine uneven shape appears on the surface, and a region where the fine uneven shape does not appear on the surface. Mold for manufacturing a fine structure.

(10)によれば、微細凹凸形状を作製した領域に対応する領域が相対的に親水性又は撥水性の高い領域となり、微細凹凸形状を作製していない領域に対応する領域が、相対的に親水性又は撥水性の低い領域となり、これにより親水性又は撥水性の高い領域をパターニングしてなる微細構造体を、賦型処理により作製することができ、これにより高い生産性により得ることができる。   According to (10), the region corresponding to the region where the fine concavo-convex shape is produced becomes a relatively hydrophilic or highly water-repellent region, and the region corresponding to the region where the fine concavo-convex shape is not produced is relatively A fine structure formed by patterning a hydrophilic or high water repellency region by forming a hydrophilic or low water repellency region can be produced by a shaping process, and thus can be obtained with high productivity. .

(11) (10)において、前記微細凹凸形状が、
柱状体をマトリックス状に配置して形成された微細構造体製造用金型。
(11) In (10), the fine uneven shape is
A mold for manufacturing a fine structure formed by arranging columnar bodies in a matrix.

(11)によれば、柱状体をマトリックス状に配置したより具体的構成により、親水性又は撥水性の高い領域をパターニングしてなる微細構造体を高い生産性により得ることができる。   According to (11), with a more specific configuration in which the columnar bodies are arranged in a matrix, a microstructure formed by patterning a hydrophilic or highly water-repellent region can be obtained with high productivity.

(12) (10)において、前記微細凹凸形状が、
凹溝の繰り返しにより形成された微細構造体製造用金型。
(12) In (10), the fine uneven shape is
A mold for manufacturing a fine structure formed by repeating concave grooves.

(12)によれば、凹溝の繰り返しによる、より具体的構成により、親水性又は撥水性の高い領域をパターニングしてなる微細構造体を高い生産性により得ることができる。   According to (12), a fine structure formed by patterning a region having high hydrophilicity or high water repellency can be obtained with high productivity by a more specific configuration by repeating the concave grooves.

(13) (10)において、前記微細凹凸形状が、
先細りの微細穴の密接配置により形成された微細構造体製造用金型。
(13) In (10), the fine uneven shape is
A mold for manufacturing a fine structure formed by close arrangement of tapered fine holes.

(13)によれば、微細穴に対応する微小突起の密接配置による、より具体的構成により、親水性又は撥水性の高い領域をパターニングしてなる微細構造体を高い生産性により得ることができる。   According to (13), a fine structure formed by patterning a region having high hydrophilicity or water repellency can be obtained with high productivity by a more specific configuration by close arrangement of minute protrusions corresponding to fine holes. .

(14) 繰り返し周期が500nm以下による微細構造を備えた微細構造体を賦型処理により製造する微細構造体製造用金型の製造方法であって、
母材表面に、前記微細構造に対応する微細凹凸形状を作製する微細凹凸形状の作製工程と、
前記母材表面の微細凹凸形状を選択的に埋め戻して、前記微細凹凸形状が表面に現れた領域と、前記微細凹凸形状が表面に現れてない領域とに、前記母材表面をパターニングするパターニングの工程とを備える微細構造体製造用金型の製造方法。
(14) A method for manufacturing a microstructure manufacturing mold for manufacturing a microstructure having a microstructure with a repetition period of 500 nm or less by a shaping process,
On the surface of the base material, a fine concavo-convex shape production process for producing a fine concavo-convex shape corresponding to the fine structure,
Patterning for selectively backfilling the fine uneven shape on the surface of the base material and patterning the surface of the base material into a region where the fine uneven shape appears on the surface and a region where the fine uneven shape does not appear on the surface The manufacturing method of the metal mold | die for microstructure manufacturing provided with these processes.

(14)によれば、微細凹凸形状を作製した領域に対応する領域が相対的に親水性又は撥水性の高い領域となり、細構凹凸形状を作製していない領域に対応する領域が、相対的に親水性又は撥水性の低い領域となり、これにより親水性又は撥水性の高い領域をパターニングしてなる微細構造体を、賦型処理により作製することができ、これにより高い生産性により得ることができる。   According to (14), the region corresponding to the region where the fine concavo-convex shape is produced becomes a relatively hydrophilic or highly water-repellent region, and the region corresponding to the region where the fine concavo-convex shape is not produced is relatively In this way, a fine structure obtained by patterning a hydrophilic or water-repellent region can be produced by a forming process, thereby obtaining high productivity. it can.

本発明によれば、微細構造を設けた部位をパターニングしてなる微細構造体により、親水性の高い領域、又は撥水性の高い領域をパターニングしてなる微細構造体を、高い生産性により提供することができ、この種の微細構造体の利用範囲の拡大することができる。また微細構造に係る賦型用の領域を選択的に設けて賦型用版を構成することにより、この微細構造を設けた部位をパターニングしてなる微細構造体を高い生産性により提供して利用範囲を拡大することができる。   According to the present invention, a fine structure formed by patterning a highly hydrophilic region or a highly water-repellent region with a fine structure obtained by patterning a portion provided with a fine structure is provided with high productivity. And the range of use of this type of microstructure can be expanded. In addition, by selectively providing a mold forming area related to the microstructure, the mold plate is configured so that a microstructure formed by patterning the portion provided with the microstructure can be provided and used with high productivity. The range can be expanded.

本発明の第1実施形態に係る微細構造体を示す図である。It is a figure which shows the microstructure based on 1st Embodiment of this invention. 図1の微細構造体に係る微細構造体フィルムを部分的に拡大して示す図である。の製造工程を示す図である。It is a figure which expands and shows the fine structure film which concerns on the fine structure of FIG. 1 partially. It is a figure which shows the manufacturing process of this. 図1の微細構造体に係る微細構造体フィルムの製造工程の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the manufacturing process of the fine structure film which concerns on the fine structure of FIG. 図3の製造工程に係るロール版を示す図である。It is a figure which shows the roll plate which concerns on the manufacturing process of FIG. 図4のロール版の製造工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing process of the roll plate of FIG. 図5の製造工程の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the manufacturing process of FIG. 第1切削工程の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of a 1st cutting process. 第2切削工程の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of a 2nd cutting process. 微細溝の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of a microgroove. 切削工程の他の例を示す図である。It is a figure which shows the other example of a cutting process. 図10とは異なる切削工程の他の例を示す図である。It is a figure which shows the other example of the cutting process different from FIG. 図10、図11とは異なる切削工程の他の例を示す図である。It is a figure which shows the other example of the cutting process different from FIG. 10, FIG. 本発明の第2実施形態に係る微細構造体を示す図である。It is a figure which shows the microstructure based on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態に係る微細構造体を示す図である。It is a figure which shows the microstructure based on 4th Embodiment of this invention.

〔第1実施形態〕
図1は、本発明の第1実施形態に係る微細構造体を示す図(概念斜視図)である。この実施形態に係る微細構造体1(図1(A))は、微細構造体フィルム2(図1(B))の表面に、例えば水溶性のインクを付着して乾燥させることにより、微細構造体フィルム2の表面にパターニングされたインク層3が作製されて形成される。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a diagram (conceptual perspective view) showing a microstructure according to the first embodiment of the present invention. The fine structure 1 (FIG. 1A) according to this embodiment has a fine structure by attaching, for example, water-soluble ink to the surface of the fine structure film 2 (FIG. 1B) and drying it. A patterned ink layer 3 is produced and formed on the surface of the body film 2.

ここで微細構造体フィルム2は、親水性の高い領域AAと、領域AAに比して相対的に親水性の低い領域BBとにパターニングされて表面が作製される。なおここで親水性は、水の接触角θが0度以上、90度未満である場合である。また親水性が高いとは、接触角θが小さい場合であり、親水性が低い場合とは、接触角θが大きい場合である。従って領域AA及びBBの接触角θAA及びθBBは、θAA<θBBである。 Here, the microstructure film 2 is patterned into a region AA having a high hydrophilicity and a region BB having a relatively low hydrophilicity as compared with the region AA to produce a surface. Here, hydrophilicity refers to a case where the contact angle θ of water is 0 degree or more and less than 90 degrees. High hydrophilicity is when the contact angle θ is small, and low hydrophilicity is when the contact angle θ is large. Accordingly, the contact angles θ AA and θ BB of the regions AA and BB are θ AABB .

この領域AA及びBBのパターニングにより、微細構造体1は、微細構造体フィルム2へのインクの塗布により、親水性の低い領域BBを避けて親水性の高い領域AAに選択的にインクを付着させ、親水性の高い領域AAにインクの付着した領域Aを形成し、親水性の低い領域BBにインクの付着していない領域Bを形成する。これにより微細構造体1は、微細構造体フィルム2の表面に作製された領域設定(AA及びBB)を目視により確認できるように構成され、例えばこの領域設定によるウオータマーク、製品番号等のコード、文字、数字等の確認に利用できるように構成される。なおこれによりインクは、領域AAに選択的に付着するように、例えばエチルアルコール等の添加剤の添加等により濡れ性が調整される。なおインクに代えて、例えば水、各種溶剤等、種々の液体を適用するようにしてもよい。   By patterning the areas AA and BB, the fine structure 1 can be made to adhere ink selectively to the highly hydrophilic area AA by avoiding the low hydrophilic area BB by applying ink to the fine structure film 2. The region A where the ink is attached is formed in the region AA having high hydrophilicity, and the region B where the ink is not attached is formed in the region BB having low hydrophilicity. Thereby, the fine structure 1 is configured so that the area setting (AA and BB) produced on the surface of the fine structure film 2 can be visually confirmed. For example, a water mark by this area setting, a code such as a product number, It is configured so that it can be used to check letters, numbers, etc. As a result, the wettability of the ink is adjusted by, for example, addition of an additive such as ethyl alcohol so that the ink selectively adheres to the area AA. Instead of ink, various liquids such as water and various solvents may be applied.

微細構造体フィルム2は、基材4の一方の面の全面に表面樹脂層5が形成されて全体形状がフィルム形状により形成され、図2に示すように、繰り返し周期Px及びPyが可視光域の波長程度による微細構造がこの表面樹脂層5の表面に形成されて親水性の高い領域AAが作製される。またこのような微細構造を作製しないようにして、表面樹脂層5の表面をほぼ平坦な面により作製して親水性の低い領域BBが形成される。微細構造体フィルム2は、この繰り返し周期Px及びPyが500nm以下により作製される。   The fine structure film 2 has a surface resin layer 5 formed on the entire surface of one surface of the base material 4 so that the overall shape is a film shape. As shown in FIG. 2, the repetition periods Px and Py are in the visible light range. A fine structure having a wavelength of about 5 nm is formed on the surface of the surface resin layer 5 to produce a highly hydrophilic area AA. Further, such a fine structure is not produced, and the surface of the surface resin layer 5 is produced by a substantially flat surface to form a region BB having low hydrophilicity. The fine structure film 2 is produced with the repetition periods Px and Py of 500 nm or less.

このような微細凹凸構造を設けると、接触角θが90度未満である親水性の材料が表面樹脂層5に適用されている場合、微細凹凸構造を設けた部位は接触角が一段と低下し、いわゆる超親水の領域又は超親水に近い領域となる。またこれとは逆に、接触角θが90度以上である撥水性の材料がこの表面樹脂層5に適用されている場合、微細凹凸構造を設けた部位の接触角が一段と増大し、いわゆる超撥水の領域又は超撥水に近い領域となる。   When such a fine concavo-convex structure is provided, when a hydrophilic material having a contact angle θ of less than 90 degrees is applied to the surface resin layer 5, the contact angle of the portion provided with the fine concavo-convex structure is further reduced. It becomes a so-called superhydrophilic region or a region close to superhydrophilic. On the other hand, when a water-repellent material having a contact angle θ of 90 degrees or more is applied to the surface resin layer 5, the contact angle of the portion provided with the fine concavo-convex structure further increases, so-called super It becomes a water repellent region or a region close to super water repellent.

この特徴を有効に利用して、この実施形態では、表面樹脂層5に親水性の材料を適用して親水性の高い領域Aと親水性の低い領域Bとが作製される。ここでこのような超親水又は超親水に近い領域を発現するためには、この微細構造に係る繰り返し周期Px及びPyを500nm以下により作製されることが望まれ、これによりこの実施形態ではインク層3の作製により、領域AA及びBBに対応して確実にインク層3をパターニングできるように設定される。なおこのような親水性材料の適用に代えて、又は加えて、親水性を確保する表面処理を実行するようにしてもよい。また繰り返し周期Px及びPyを異ならせることにより、親水性、撥水性に異方性を設けるようにしてもよく、繰り返し周期を短くすることにより親水性、撥水性を強くすることができる。   By effectively utilizing this feature, in this embodiment, a hydrophilic material is applied to the surface resin layer 5 to produce a highly hydrophilic region A and a low hydrophilic region B. Here, in order to express such a super-hydrophilic property or a region close to super-hydrophilic property, it is desired that the repetition periods Px and Py related to this fine structure are made to be 500 nm or less. 3 is set so that the ink layer 3 can be reliably patterned corresponding to the areas AA and BB. Note that a surface treatment for ensuring hydrophilicity may be executed instead of or in addition to the application of the hydrophilic material. Further, by making the repetition periods Px and Py different, anisotropy may be provided for hydrophilicity and water repellency, and hydrophilicity and water repellency can be strengthened by shortening the repetition period.

ここで基材4は、例えばTAC(Triacetylcellulose)、等のセルロース(纖維素)系樹脂、PMMA(ポリメチルメタクリレート)等のアクリル系樹脂、PET(Polyethylene terephthalate)等のポリエステル系樹脂、PP(ポリプロピレン)等のポリオレフィン系樹脂、PVC(ポリ塩化ビニル)等のビニル系樹脂、PC(Polycarbonate)等の各種樹脂フィルムを適用することができる。なおこの実施形態では、微細構造体フィルム2にインク層3を作製して微細構造体1を作製することによりフィルム形状により微細構造体1を作製するものの、微細構造体1は、シート形状、平板形状等により作製しても良く、基材4は、この微細構造体1の形態に応じて、これらの材料の他に、例えばソーダ硝子、カリ硝子、鉛ガラス等の硝子、PLZT等のセラミックス、石英、螢石等の各種透明無機材料等を適用することができる。   Here, the base material 4 is, for example, a cellulose resin such as TAC (Triacetylcellulose), an acrylic resin such as PMMA (polymethyl methacrylate), a polyester resin such as PET (Polyethylene terephthalate), or PP (polypropylene). For example, polyolefin resins such as PVC, vinyl resins such as PVC (polyvinyl chloride), and various resin films such as PC (polycarbonate) can be applied. In this embodiment, although the fine structure 1 is produced in the form of a film by producing the ink layer 3 on the fine structure film 2 and producing the fine structure 1, the fine structure 1 is a sheet shape, a flat plate Depending on the form of the microstructure 1, the base material 4 may be produced in addition to these materials, for example, glass such as soda glass, potash glass, lead glass, ceramics such as PLZT, Various transparent inorganic materials such as quartz and meteorite can be applied.

微細構造体1は、基材4上に、微細凹凸構造の受容層となる未硬化状態の樹脂層(以下、適宜、受容層と呼ぶ)を形成し、該受容層を賦型処理して硬化させ、これにより基材4の表面に表面樹脂層5が作製されると共に、この表面樹脂層の表面に選択的に微小凹凸形状が作製されて領域AA及びBBが作製される。この実施形態では、この表面樹脂層5に、賦型処理に供する賦型用樹脂の1つであり、かつ親水性の樹脂であるアクリレート系紫外線硬化性樹脂が適用される。なお表面樹脂層5にあっては、賦型処理に適用可能な各種樹脂材料を広く適用することができる。   The fine structure 1 is formed by forming an uncured resin layer (hereinafter, appropriately referred to as a receiving layer) to be a receiving layer having a fine concavo-convex structure on the base material 4 and then curing the receiving layer by molding. As a result, the surface resin layer 5 is produced on the surface of the base material 4, and the fine irregularities are selectively produced on the surface of the surface resin layer to produce the regions AA and BB. In this embodiment, an acrylate-based ultraviolet curable resin that is one of the resins for shaping used for the shaping treatment and is a hydrophilic resin is applied to the surface resin layer 5. In the surface resin layer 5, various resin materials applicable to the shaping process can be widely applied.

またこの実施形態では、この表面樹脂層5に形成される微小凹凸形状が、微小凹部6をマトリックス状に配置して作製される。微小凹部6は、この微細構造体フィルム2の表面を鉛直方向から見た場合の形状が正方形形状である柱状の凹部であり、この正方形形状の直交する2辺の延長方向にそれぞれ繰り返し作成され、微細構造体フィルム2の表面にマトリックス状に設けられる。微細構造体1は、この2辺の延長方向に係る繰り返しピッチPx及びPyが、それぞれ500nm以下であるように設定される。   Further, in this embodiment, the minute unevenness formed on the surface resin layer 5 is produced by arranging the minute recesses 6 in a matrix. The minute recess 6 is a columnar recess whose shape when the surface of the microstructure film 2 is viewed from the vertical direction is a square shape, and is repeatedly created in the extending direction of two orthogonal sides of the square shape, It is provided in a matrix on the surface of the fine structure film 2. The fine structure 1 is set so that the repetition pitches Px and Py in the extending directions of the two sides are each 500 nm or less.

また微小凹部6は、深さ50nm以上、好ましくは、深さ100nm以上、より好ましくは深さ200nm以上により作製され、これにより充分に高い親水性を確保できるように構成されるものの、生産工程における歩留まり等を考慮して、深さは、繰り返しピッチPx、Py以下とされる。   The minute recess 6 is produced with a depth of 50 nm or more, preferably with a depth of 100 nm or more, more preferably with a depth of 200 nm or more, so that a sufficiently high hydrophilicity can be ensured. In consideration of the yield and the like, the depth is set to be not more than the repeated pitches Px and Py.

また微小凹部6は、繰り返しの方向に係る幅Wx、Wyが、対応する繰り返しピッチPx、Pyの1/3以上、2/3以下とされ、これにより後述する賦型用金型の微細溝を確実に作成できるように構成され、また高い生産性を確保できるように構成される。   Further, the minute recesses 6 have widths Wx and Wy in the repetitive direction that are 1/3 or more and 2/3 or less of the corresponding repetitive pitches Px and Py. It is configured so that it can be reliably produced, and is configured to ensure high productivity.

[製造工程]
図3は、この微細構造体フィルム2の製造工程を示す図である。この製造工程10は、樹脂供給工程において、ダイ12により帯状フィルム形態の基材4の表面に、表面樹脂層5に係る未硬化で液状の紫外線硬化性樹脂を塗布する。なお紫外線硬化性樹脂の塗布については、ダイ12による場合に限らず、各種の手法を適用することができる。続いてこの製造工程10は、押圧ローラ14により、微細構造体フィルム2の賦型用金型であるロール版13の周側面に基材4を加圧押圧し、これにより未硬化状態で液状の紫外線硬化性樹脂をロール版13の周側面に密着させると共に、ロール版13の周側面に作製された微細な凹凸形状の凹部に紫外線硬化性樹脂を充分に充填する。この製造工程は、この状態で、紫外線の照射により紫外線硬化性樹脂を硬化させ、これにより基材4の表面に微小凹部群を作製する。この製造工程は、続いて剥離ローラ15を介してロール版13から、硬化した紫外線硬化性樹脂と一体に基材4を剥離する。これによりこの製造工程10は、微細構造体フィルム2を長尺フィルム形状により作製する。
[Manufacturing process]
FIG. 3 is a diagram illustrating a manufacturing process of the microstructure film 2. In the manufacturing process 10, in the resin supply process, an uncured and liquid ultraviolet curable resin relating to the surface resin layer 5 is applied to the surface of the base film 4 in the form of a strip film by the die 12. In addition, about application | coating of an ultraviolet curable resin, not only the case by the die | dye 12 but various methods are applicable. Subsequently, in this manufacturing process 10, the substrate 4 is pressed and pressed against the peripheral side surface of the roll plate 13 which is a mold for molding the fine structure film 2 by the pressing roller 14, and thereby the liquid is obtained in an uncured state. The ultraviolet curable resin is brought into close contact with the peripheral side surface of the roll plate 13, and the fine concavo-convex recesses formed on the peripheral side surface of the roll plate 13 are sufficiently filled with the ultraviolet curable resin. In this state, in this manufacturing process, the ultraviolet curable resin is cured by irradiating with ultraviolet rays, thereby producing a group of minute recesses on the surface of the substrate 4. In this manufacturing process, the substrate 4 is peeled off from the roll plate 13 through the peeling roller 15 together with the cured ultraviolet curable resin. Thereby, this manufacturing process 10 produces the fine structure film 2 by a long film shape.

微細構造体1の製造工程は、このようにして作成した長尺フィルム形状による微細構造体フィルム2にインクを塗布して乾燥させた後、所望の大きさに切断して微細構造体1を作製する。これにより微細構造体1及び微細構造体フィルム2は、ロール材による長尺の基材4に、賦型用金型であるロール版13の周側面に作製された微細凹凸形状を順次賦型して、効率良く大量生産される。   In the manufacturing process of the fine structure 1, after the ink is applied to the fine structure film 2 having the long film shape thus prepared and dried, the fine structure 1 is cut to a desired size. To do. As a result, the fine structure 1 and the fine structure film 2 are formed by sequentially forming the fine irregularities formed on the peripheral side surface of the roll plate 13 which is a shaping mold on the long base 4 made of a roll material. Efficient mass production.

図4は、ロール版13の構成を示す斜視図である。ロール版13は、円筒形状又は円柱形状の金属材料である母材22の周側面に、矢印Aにより部分的に拡大して示すように、微細構造体フィルム2の微細凹凸構造に対応する微細凹凸形状が、微細構造体フィルム2の領域AA及びBBの設定に対応して選択的に作製される。なおこの図4においては、微細構造体フィルム2の領域AA及びBBに対応する領域を符号ARA及びARBにより示す。ここで母材22は、この種の賦型処理に十分な強度を備え、また切削加工により微細凹凸形状の作製が容易な、円柱形状又は円筒形状の各種金属材料を広く適用できるものの、この実施形態では、銅のパイプ材が適用される。ロール版13は、母材22の周側面に、このパイプ材の管軸に沿った方向と円周方向とに、それぞれ微小凹部6に対応する柱状体である微小凸部23が繰り返し作成される。またこの微小凸部23の作成周期である繰り返しピッチPx及びPyが、微細構造体フィルム2の微小凹部6に対応するピッチにより作製され、また微細構造体フィルム2の微小凹部6に係る幅Wx、Wy、深さに対応する幅、高さにより微小凸部23作製される。   FIG. 4 is a perspective view showing the configuration of the roll plate 13. The roll plate 13 has fine irregularities corresponding to the fine irregular structure of the fine structure film 2 as shown by a partially enlarged arrow A on the peripheral side surface of the base material 22 which is a cylindrical or columnar metal material. The shape is selectively produced corresponding to the setting of the areas AA and BB of the fine structure film 2. In FIG. 4, regions corresponding to the regions AA and BB of the fine structure film 2 are denoted by reference numerals ARA and ARB. Here, although the base material 22 has a sufficient strength for this type of forming process, and can easily apply various metal materials in a columnar shape or a cylindrical shape that can easily produce a fine uneven shape by a cutting process, In form, copper pipe material is applied. In the roll plate 13, minute convex portions 23 that are columnar bodies corresponding to the minute concave portions 6 are repeatedly formed on the peripheral side surface of the base material 22 in the direction along the pipe axis of the pipe material and in the circumferential direction. . In addition, the repetition pitches Px and Py, which are the creation periods of the minute projections 23, are produced with a pitch corresponding to the minute recesses 6 of the microstructure film 2, and the width Wx related to the minute recesses 6 of the microstructure film 2, The minute projections 23 are produced with the width and height corresponding to Wy and depth.

図5は、このロール版13の作製工程を示すフローチャートである。また図6は、この図5との対比により各工程の説明に供する図である。この製造工程は、平滑化工程(SP1)において、バイトを使用した母材周側面の切削処理により母材22の周側面を平滑化した後、電解溶出作用と、砥粒による擦過作用の複合による電解複合研磨法により母材22の周側面を超鏡面化する(SP2)。これによりこの製造工程は、微細構造体フィルム2の表面形状に対応する平滑度により母材22の周側面を平滑化する(図5(A))。   FIG. 5 is a flowchart showing a manufacturing process of the roll plate 13. FIG. 6 is a diagram for explaining each process in comparison with FIG. In the smoothing step (SP1), the manufacturing process is performed by smoothing the peripheral side surface of the base material 22 by cutting the base material peripheral side surface using a cutting tool, and then combining the electrolytic elution action and the rubbing action by the abrasive grains. The peripheral side surface of the base material 22 is made into a super mirror surface by an electrolytic composite polishing method (SP2). Thereby, this manufacturing process smoothes the peripheral side surface of the base material 22 by the smoothness corresponding to the surface shape of the fine structure film 2 (FIG. 5A).

続いてこの製造工程は、図7に示すように、一次切削工程(SP3)において、母材22を切削装置に装着した後、バイト24の先端を母材22の周側面に押し当て、この状態で矢印Bにより示すように母材22を回転させながら、矢印Cにより示すようにバイト24を母材22の管軸に沿った方向に移動させ、これにより母材22の周側面をらせん状に切削加工し、円周方向に延長する断面矩形形状による凹溝である微細溝25を母材22の周側面に作製する(図6(B))。なおバイト24は、同時並列的に複数の微細溝25を作製可能に、先端が櫛歯状に形成されており、これによりこの工程では、この母材22の円周方向に延長する複数の微細溝を同時並列的に作成して切削工程に要する時間を短縮する。これによりこの製造工程は、ピッチPyにより微細溝25を作製する。   Subsequently, as shown in FIG. 7, in this manufacturing process, in the primary cutting process (SP 3), after the base material 22 is mounted on the cutting device, the tip of the cutting tool 24 is pressed against the peripheral side surface of the base material 22. While rotating the base material 22 as indicated by the arrow B, the bite 24 is moved in the direction along the tube axis of the base material 22 as indicated by the arrow C, so that the peripheral side surface of the base material 22 is spiraled. A fine groove 25 is formed on the peripheral side surface of the base material 22 by cutting and forming a concave groove having a rectangular cross section extending in the circumferential direction (FIG. 6B). Note that the tip of the cutting tool 24 is formed in a comb-teeth shape so that a plurality of fine grooves 25 can be formed simultaneously in parallel. Accordingly, in this process, a plurality of fine grooves extending in the circumferential direction of the base material 22 are formed. Grooves are created simultaneously in parallel to reduce the time required for the cutting process. Thus, in this manufacturing process, the fine groove 25 is formed with the pitch Py.

続いてこの製造工程は、埋戻し工程(SP4)において、一次切削工程で作成した微細溝25を埋戻し材により埋戻し、母材22の周側面をほぼ平坦にし、一次切削工程の前の状態に母材22の周側面を戻す(図6(C))。より具体的に、この実施形態においては、この埋戻し材に紫外線硬化性樹脂が適用され、紫外線硬化性樹脂26を母材22の周側面に塗工した後、紫外線の照射によりこの紫外線硬化性樹脂26を硬化させ、これにより微細溝25を埋め戻す。なお埋戻し材にあっては、微細な微細溝25を充分に埋め戻すことが可能なことを条件に、種々の材料を広く適用することができる。   Subsequently, in this manufacturing process, in the backfilling process (SP4), the fine grooves 25 created in the primary cutting process are backfilled with the backfilling material, the peripheral side surface of the base material 22 is made substantially flat, and the state before the primary cutting process. Return the peripheral side surface of the base material 22 (FIG. 6C). More specifically, in this embodiment, an ultraviolet curable resin is applied to the backfill material, and after the ultraviolet curable resin 26 is applied to the peripheral side surface of the base material 22, the ultraviolet curable resin is irradiated with ultraviolet rays. The resin 26 is cured, thereby filling the fine grooves 25 back. In the backfilling material, various materials can be widely applied on condition that the fine groove 25 can be sufficiently backfilled.

続いてこの製造工程は、二次切削工程(SP5)における切削加工により、一次切削工程により作製した微細溝25と交差する断面矩形形状による微細溝28を作製する(図6(D))。より具体的にこの工程では、図8に示すように、母材22を間欠的に回転させながら、矢印Dにより示すように、バイト24により母材22の中心軸に沿った方向に母材22の周側面を切削し、これにより微細溝25と延長方向が直交する微細溝28を作製する。   Subsequently, in this manufacturing process, the fine groove 28 having a rectangular cross section intersecting with the fine groove 25 produced by the primary cutting process is produced by the cutting in the secondary cutting process (SP5) (FIG. 6D). More specifically, in this step, as shown in FIG. 8, the base material 22 is rotated in the direction along the central axis of the base material 22 by the cutting tool 24 as indicated by an arrow D while the base material 22 is rotated intermittently. Thus, the fine groove 28 whose extension direction is orthogonal to the fine groove 25 is produced.

しかして何ら微細溝25を埋め戻すことなく、微細溝25と交差する微細溝28を切削により作製する場合、バイト24の刃先は、微細溝25を横切る毎に微細溝25の壁面に衝突することになり、この衝突の際に急激かつ大きな応力を受けることになる。これに対してバイト24の刃先は、極めて微細形状により作製することが必要になる。その結果、バイト24にあっては刃先が短い時間で損傷し、安定かつ短時間でロール版を二次切削できなくなる。しかしながらこの実施形態のように微細溝25を埋戻して二次切削する場合には、このような微細溝25の壁面への衝突によるバイト刃先の損傷を有効に回避することができ、安定かつ短時間で母材22を二次加工することができる。なおこれにより埋戻しに供する紫外線硬化性樹脂にあっては、母材22を構成する金属材料と硬さ、柔らかさが近いものが望ましい。   Therefore, when the fine groove 28 intersecting the fine groove 25 is produced by cutting without refilling the fine groove 25, the cutting edge of the cutting tool 24 collides with the wall surface of the fine groove 25 every time it crosses the fine groove 25. Thus, a sudden and large stress is applied during the collision. On the other hand, the cutting edge of the cutting tool 24 needs to be manufactured with a very fine shape. As a result, in the cutting tool 24, the cutting edge is damaged in a short time, and the roll plate cannot be secondarily cut stably and in a short time. However, when the fine groove 25 is backfilled and subjected to secondary cutting as in this embodiment, damage to the cutting edge due to the collision of the fine groove 25 with the wall surface can be effectively avoided and stable and short. The base material 22 can be secondary processed in time. In addition, as for the ultraviolet curable resin to be used for backfilling, it is desirable that the metal material constituting the base material 22 is close in hardness and softness.

またこのようにバイトを使用した切削工程によりロール版を作製する場合にあっては、一次切削工程による微細溝のピッチと、二次切削工程による微細溝のピッチとを可変することができ、その結果、微細構造体1における凹部6の繰り返しピッチPx及びPyを直交する方向で異ならせることができる。また切削加工に供するバイトの変更により繰り返しの方向に係る微小凹部6の幅Wx及びWy、さらには微細溝の断面形状を異ならせることができる。微細構造体においては、このようなピッチPx及びPy、幅Wx及びWy等を異ならせることにより、親水性、撥水性の大きさに異方性を設け、この直交する2方向における特性を異ならせることができる。   In addition, in the case of producing a roll plate by a cutting process using a bite in this way, the pitch of the fine groove by the primary cutting process and the pitch of the fine groove by the secondary cutting process can be varied. As a result, the repetition pitches Px and Py of the recesses 6 in the fine structure 1 can be varied in the orthogonal direction. In addition, the widths Wx and Wy of the minute recesses 6 in the repeated direction and the sectional shape of the minute grooves can be made different by changing the cutting tool used for cutting. In the fine structure, by making the pitches Px and Py, the widths Wx and Wy, etc. different, anisotropy is provided in the hydrophilicity and water repellency, and the characteristics in the two orthogonal directions are made different. be able to.

続いてこの製造工程は、除去工程(SP6)において、微細溝25に残存する紫外線硬化性樹脂(埋戻し材)を除去した後、洗浄する。ここでこの除去工程においては、埋戻し材に応じて種々の手法を広く適用することができるものの、この実施形態では、ロール版の周側面に粘着テープを貼り付けて引き剥がすことにより、残存する埋戻し材を除去する。なおこれに代えて有機溶剤を使用した溶解により除去してもよく、加熱により埋戻し材を分解して除去するようにしてもよい。   Subsequently, in this manufacturing process, after removing the ultraviolet curable resin (backfill material) remaining in the fine grooves 25 in the removing process (SP6), the manufacturing process is performed. Here, in this removal step, various methods can be widely applied depending on the backfilling material, but in this embodiment, the adhesive tape is attached to the peripheral side surface of the roll plate and peeled off to remain. Remove backfill material. Alternatively, it may be removed by dissolution using an organic solvent, or the backfill material may be decomposed and removed by heating.

続いてこの工程は、パターニング工程(SP7)において、微細構造体フィルム2の領域AA及びBBの設定に対応するように、ロール版13の周側面に形成された凹溝25、28を選択的に埋め戻し、これによりロール版13の周側面に、領域AAに対応して微小凸部23が作製されてなる領域ARAと、領域BBに対応して微小凸部23が作製されていない平坦な領域ARBとを作製し、ロール版13の周側面をパターニングする。なおこの埋め戻し材にあっては、例えばステップSP4に係る埋戻し材を適用することができる。   Subsequently, in the patterning step (SP7), the step selectively selects the concave grooves 25 and 28 formed on the peripheral side surface of the roll plate 13 so as to correspond to the settings of the areas AA and BB of the fine structure film 2. Refilling, on the peripheral side surface of the roll plate 13, an area ARA in which the minute projections 23 are produced corresponding to the area AA, and a flat area in which the minute projections 23 are not produced corresponding to the area BB An ARB is produced, and the peripheral side surface of the roll plate 13 is patterned. In this backfill material, for example, the backfill material according to step SP4 can be applied.

なおこのように断面矩形形状により一次切削工程による微細溝、二次切削工程による微細溝を作製する場合に限らず、種々の形状を広く適用することができる。具体的に図9(A)に示すように、断面三角形形状により隣接する微細溝と接するように微細溝を作成してもよく、また図9(B)に示すように、両壁面にテーパーを設けるようにして微細溝を作成しもよく、またさらには図9(C)に示すように、頂点が丸みを帯びた断面三角形形状により微細溝を作製するようにしてもよい。またさらに図9(D)に示すように、断面に係る壁面の形状を微細溝の両側で異ならせるようにし、これにより親水性に係る特性にさらに異方性を設けるようにしてもよい。   It should be noted that the present invention is not limited to the case where the fine groove by the primary cutting process and the fine groove by the secondary cutting process are produced by the rectangular cross section, and various shapes can be widely applied. Specifically, as shown in FIG. 9 (A), a fine groove may be formed so as to be in contact with an adjacent fine groove due to a triangular cross-sectional shape, and both wall surfaces are tapered as shown in FIG. 9 (B). The fine groove may be formed as provided, or as shown in FIG. 9C, the fine groove may be formed in a triangular shape with a rounded apex. Further, as shown in FIG. 9D, the shape of the wall surface related to the cross-section may be made different on both sides of the fine groove, so that anisotropy may be further provided to the hydrophilic property.

また直交する2つの方向で微細溝の断面形状を等しくする場合に限らず、断面形状を異ならせるようにしてもよい。また直交する2方向に直線的に切削加工する場合に限らず、図10において符号L1、L2により一次切削加工、二次切削加工におけるバイト先端の軌跡を示すように、蛇行する軌跡により切削加工するようにしても良く、また図11に示すように、一次切削加工、二次切削加工におけるバイト先端の軌跡L1、L2が斜めに交差するように切削加工してもよい。   Further, the cross-sectional shape is not limited to the case where the cross-sectional shapes of the fine grooves are made equal in two orthogonal directions, and the cross-sectional shapes may be different. In addition, the cutting is not limited to the case of linear cutting in two orthogonal directions, and cutting is performed with a meandering locus as indicated by the signs L1 and L2 in FIG. Alternatively, as shown in FIG. 11, cutting may be performed so that the trajectories L1 and L2 of the cutting tool tip in the primary cutting process and the secondary cutting process intersect obliquely.

また一次切削加工、二次切削加工による2回の切削加工により金型を作成する場合に限らず、図12に示すように、一次切削加工(工具先端の軌跡を符号L1により示す)、二次切削加工の後(工具先端の軌跡を符号L2により示す)、さらにこの2回の切削加工による軌跡L1、L2と交差するように三次切削加工するようにしてもよい。またこのように3回以上切削加工することにより、例えば四角注形状による凸部と、三角柱形状による凸部とを混在させる場合のように、異なる形状による凸部を混在させるようにしてもよい。   Further, not only when the mold is created by the first cutting process and the second cutting process by the secondary cutting process, but as shown in FIG. 12, the first cutting process (the trajectory of the tool tip is indicated by reference symbol L1), the secondary cutting process. After the cutting process (the trajectory of the tool tip is indicated by a symbol L2), the third cutting process may be performed so as to intersect the trajectories L1 and L2 by the two cutting processes. Further, by cutting three or more times in this way, for example, a convex portion having a rectangular shape and a convex portion having a triangular prism shape may be mixed, so that convex portions having different shapes may be mixed.

この実施形態によれば、繰り返し周期500nm以下による微細構造を設けた部位をパターニングして微細構造体を作製することにより、またこの微細構造体の表面に液体を付着してインク層を作製することにより、微細構造体の親水性に係る機能を有効に利用してなる微細構造体を高い生産性により作製することができる。   According to this embodiment, a fine structure is produced by patterning a portion provided with a fine structure having a repetition period of 500 nm or less, and an ink layer is produced by attaching a liquid to the surface of the fine structure. As a result, it is possible to produce a microstructure having high productivity by effectively utilizing the function related to the hydrophilicity of the microstructure.

また埋戻しにより、微細構造に係る賦型用の領域を選択的に作成して賦型用版を作製することにより、この賦型用版を使用して微細構造体を高い生産性により生産することができる。またこのような賦型用版にあっては、必要に応じて埋戻しに供した樹脂材料を、ステップSP6について上述したと同様にして除去した後、パターニングし直すことにより、領域A及びBに係るパターニングを変更することができ、これにより生産に供する製品の変更に対応して柔軟にロール版を変更することができる。   In addition, by creating a mold-making plate by selectively creating a mold-forming region related to the fine structure by backfilling, the microstructure is produced with high productivity using this mold-making plate. be able to. Further, in such a plate for shaping, the resin material subjected to backfilling as necessary is removed in the same manner as described above for step SP6, and then re-patterned to obtain regions A and B. Such patterning can be changed, whereby the roll plate can be flexibly changed in response to a change in a product to be produced.

またこの実施形態では、切削加工により交差するように微細溝を作製してこの賦型用金型を作製することにより、効率良く金型を作製し、さらにこの金型を使用して大面積の微細構造体を効率良く大量生産することができる。またこのとき、一旦作成した微細溝を埋戻して交差する微細溝を作製することにより、切削処理により使用するバイトの損傷を有効に回避して金型を作製することができ、これにより一段と効率良く形状の大きな金型を作製することができ、一段と効率良く微細構造体を大量生産することができる。   Moreover, in this embodiment, a fine groove is produced so as to intersect by cutting, and this mold is produced, thereby efficiently producing the mold, and further using this mold, a large area The microstructure can be mass-produced efficiently. Also, at this time, by making the fine grooves intersecting by filling back the fine grooves once created, it is possible to effectively avoid the damage of the cutting tool used by the cutting process, and thereby make the mold more efficient. A mold having a large shape can be produced well, and a fine structure can be mass-produced more efficiently.

またこの金型がロール版であることにより、この金型に係る母材を回転させながらバイトを移動させてらせん状に切削加工することにより、ロール版の円周方向に延長する微細溝を効率良く作成することができ、また幅の大きなロール版を簡易かつ効率良く作成することができる。従ってこのロール版を使用して効率良く大面積の微細構造体を大量生産することができる。   In addition, since this die is a roll plate, the micro groove extending in the circumferential direction of the roll plate can be efficiently obtained by moving the cutting tool in a spiral shape while rotating the base material related to this die. It is possible to create well, and it is possible to easily and efficiently create a roll plate having a large width. Therefore, a large area fine structure can be efficiently mass-produced using this roll plate.

〔第2実施形態〕
図13は、図2との対比により、第2実施形態に係る微細構造体フィルム42に係る領域AAの微細構造を示す図である。この実施形態では、この微細構造に係る構成が異なる点を除いて第1実施形態と同一に構成される。
[Second Embodiment]
FIG. 13 is a diagram showing the fine structure of the region AA related to the fine structure film 42 according to the second embodiment in comparison with FIG. This embodiment has the same configuration as that of the first embodiment except that the configuration related to the fine structure is different.

ここでこの微細構造体フィルム42は、正面視矩形形状による微小凹部6の繰り返しに代えて、微小凹溝46の繰り返しにより微細構造が作製される。このためこの微細構造体フィルム42には、図5について上述した埋戻し工程(SP4)、二次切削工程(SP5)、除去工程(SP6)が省略されてロール版が作製され、このロール版を使用した賦型処理により作製される。   Here, the fine structure film 42 has a fine structure formed by repeating the minute concave grooves 46 instead of repeating the minute concave portions 6 having a rectangular shape when viewed from the front. Therefore, a roll plate is produced on the microstructure film 42 by omitting the backfilling step (SP4), the secondary cutting step (SP5), and the removing step (SP6) described above with reference to FIG. It is produced by the used shaping process.

この実施形態のように、正面視矩形形状による微小凹部に代えて、微小凹溝46により微細構造を作製するようにしても、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。またこのように微小凹溝による微細構造を形成することにより、この凹溝の繰り返し方向と、これと直交する方向とで親水性に異方性を設けることができる。   As in this embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained even if the fine structure is formed by the minute groove 46 instead of the minute recess having the rectangular shape in front view. Further, by forming a fine structure by the minute grooves in this way, it is possible to provide anisotropy in hydrophilicity in the repeating direction of the grooves and the direction orthogonal thereto.

〔第3実施形態〕
この実施形態では、微小突起の密接配置により微細構造体フィルムに係る微細構造が形成される。この実施形態では、この微細構造に係る構成が異なる点を除いて、第1実施形態又は第2実施形態と同一に構成される。
[Third Embodiment]
In this embodiment, the microstructure related to the microstructure film is formed by the close arrangement of the microprojections. This embodiment has the same configuration as that of the first embodiment or the second embodiment except that the configuration related to the fine structure is different.

すなわちこの実施形態では、先端に向かうに従って徐々に断面積が小さくなるいわゆる先細り形状により微小突起が形成され、この微小突起をランダムに密接配置して微細構造が形成される。またこの微小突起の密接配置による微細構造は、頂点が1つのみの微小突起である単峰性微小突起と、頂点を複数有する微小突起との混在により形成され、これにより耐擦傷性が向上される。またこの微細構造は、隣接する微小突起間距離が500nm以下となるように設定される。なおこのようにランダムな配置により微小突起を密接配置することにより、隣接する微小突起間距離は平均値により定義される。   That is, in this embodiment, the minute protrusion is formed by a so-called tapered shape in which the cross-sectional area gradually decreases toward the tip, and the minute protrusion is randomly arranged closely to form a fine structure. In addition, the fine structure formed by the close arrangement of the microprotrusions is formed by a mixture of single-peak microprotrusions having only one apex and microprotrusions having a plurality of apexes, thereby improving the scratch resistance. The This fine structure is set so that the distance between adjacent minute protrusions is 500 nm or less. Note that the distance between adjacent minute protrusions is defined by an average value by arranging the minute protrusions closely in such a random arrangement.

この微小突起の密接配置に対応して、ロール版は、中空のステンレスパイプ等による母材の周側面に、直接に又は各種の中間層を介して、純度の高いアルミニウム層が設けられ、陽極酸化処理、エッチング処理の交互の繰り返しにより、深さ方向に先細りによる微細穴(微小突起の反転形状である)がこのアルミニウム層に密接配置して作製される。   Corresponding to the close arrangement of the microprotrusions, the roll plate is provided with a high-purity aluminum layer on the peripheral side surface of the base material such as a hollow stainless steel pipe, directly or via various intermediate layers, and anodized. By alternately repeating the treatment and the etching treatment, a fine hole (which is a reversal shape of the minute protrusion) tapered in the depth direction is formed in close contact with the aluminum layer.

この実施形態のように、正面視矩形形状による微小凹部に代えて、微小突起の密接配置により微細構造を作製するようにしても、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。   Similar to the first embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained even when the fine structure is formed by closely arranging the fine protrusions instead of the minute concave portion having the rectangular shape in front view.

〔第4実施形態〕
この実施形態では、微細構造を作製していない表面樹脂層の表面が撥水性を示すように表面樹脂層を作製する。この実施形態では、この表面樹脂層に関する構成が異なる点を除いて、第1実施形態、第2実施形態又は第3実施形態と同一に構成される。
[Fourth Embodiment]
In this embodiment, the surface resin layer is prepared so that the surface of the surface resin layer on which no microstructure is formed exhibits water repellency. This embodiment is configured in the same way as the first embodiment, the second embodiment, or the third embodiment except that the configuration relating to the surface resin layer is different.

ここでこのように微細構造を作製していない表面樹脂層を、撥水性を示すように設定した場合、微細構造を作製した領域にあっては、超撥水性又は超撥水性に近い状態を形成することができ、これにより親水性の領域によるパターニングに代えて、撥水性の領域によるパターニングにより微細構造体フィルム及び微細構造体を作製する。なおここで撥水性は、水の接触角θが90度以上の場合である。   Here, when the surface resin layer that has not been prepared in this way is set to exhibit water repellency, in the region in which the microstructure is prepared, a state of super water repellency or near super water repellency is formed. Thus, the fine structure film and the fine structure are produced by patterning with a water-repellent region instead of patterning with a hydrophilic region. Here, the water repellency is when the water contact angle θ is 90 degrees or more.

これにより図14に示すように、この実施形態に係る微細構造体41では、微細構造を作製していない領域Bが撥水性の低い領域に設定されて、インク層3のインクを付着して保持されるのに対し、微細構造体を作製した領域Aが撥水性の高い領域に設定されて、インク層3に係るインクが付着しないように設定される。   Accordingly, as shown in FIG. 14, in the fine structure 41 according to this embodiment, the region B where the fine structure is not manufactured is set as a region having low water repellency, and the ink of the ink layer 3 is adhered and held. In contrast, the region A in which the fine structure is manufactured is set as a region having high water repellency so that the ink related to the ink layer 3 does not adhere.

なおこの撥水性の設定にあっては、種々の手法を適用することができるものの、この実施形態では気相処理により微細構造体の表面を撥水処理することにより実行する。またこのような気相処理による撥水処理にあっては、種々の手法を適用することができるものの、この実施形態では微細構造体の表面をフッ素化することにより実行することができる。   In this setting of water repellency, various methods can be applied. In this embodiment, the surface of the fine structure is subjected to water repellency treatment by vapor phase treatment. In addition, various methods can be applied to such a water-repellent treatment by vapor phase treatment, but in this embodiment, it can be performed by fluorinating the surface of the microstructure.

〔第5実施形態〕
この実施形態では、インク層を設けることなく微細構造体フィルムを各種の部材、製品等の貼り付け対象に貼り付け、これにより微細構造体フィルムを利用して容易に発見できないように、製品番号等のコード、文字、数字等を貼り付け対象に設定する。また例えば微細凹凸構造を帯状領域により繰り返し作成することにより、この帯状領域の延長方向と帯状領域の繰り返し方向とで濡れ性に異方性を設けることができ、例えば親水性によりパターニングする場合に、帯状領域の延長方向に結露した水分を効果的に排水することができる。これにより例えば結露する各種の部材(例えば窓ガラス)に貼り付けて、結露による水滴を効率良く排水する。
[Fifth Embodiment]
In this embodiment, the fine structure film is affixed to various members, products, etc. without providing an ink layer, so that the product number or the like is not easily found using the fine structure film. Codes, letters, numbers, etc. are set for pasting. Further, for example, by repeatedly creating a fine concavo-convex structure with a band-shaped region, anisotropy can be provided in the wettability between the extending direction of the band-shaped region and the repeating direction of the band-shaped region. Moisture condensed in the direction of extension of the belt-like region can be effectively drained. Thereby, for example, it affixes on various members (for example, window glass) which dew condensation, and drains the water drop by dew condensation efficiently.

この実施形態のように、インク層を設けることなく微細構造体を構成するようにして、この種の微細構造体に関して高い生産性を確保できるようにし、この種の微細構造体に関して利用範囲の拡大を図ることができる。   As in this embodiment, a fine structure is formed without providing an ink layer so that high productivity can be secured for this kind of fine structure, and the range of use for this kind of fine structure can be expanded. Can be achieved.

〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に組み合わせ、さらには上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
[Other Embodiments]
The specific configuration suitable for the implementation of the present invention has been described in detail above. However, the present invention is not limited to the scope of the present invention, and various combinations of the above-described embodiments, and further the configuration of the above-described embodiments. Can be variously changed.

すなわち上述の実施形態では、ロール版による金型を使用した長尺フィルム材の賦型処理により微細構造体フィルムを作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、平板による金型を使用した枚葉の処理により作製する場合にも広く適用することができる。   That is, in the above-described embodiment, the case of producing a fine structure film by forming a long film material using a roll plate mold is described, but the present invention is not limited thereto, and a flat plate mold is used. The present invention can be widely applied to the case of manufacturing by processing the used single wafer.

1、41 微細構造体
2、42 微細構造体フィルム
3 インク層
4 基材
5 表面樹脂層
6 凹部
10 製造工程
12 ダイ
13 ロール版
14、15 ローラ
22 母材
23 微小凸部
24 バイト
25、28、46 凹溝
26 紫外線硬化性樹脂
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,41 Microstructure 2,42 Microstructure film 3 Ink layer 4 Base material 5 Surface resin layer 6 Concave part 10 Manufacturing process 12 Die 13 Roll plate 14, 15 Roller 22 Base material 23 Micro convex part 24 Byte 25, 28, 46 Groove 26 UV curable resin

Claims (8)

繰り返し周期が500nm以下による微細構造を備えた微細構造体の製造方法において、
製造用金型の母材表面に、前記微細構造に対応する微細凹凸形状を作製する微細凹凸形状の作製工程と、
前記母材表面の前記微細凹凸形状を選択的に埋め戻して、前記微細凹凸形状が表面に現れた領域と、前記微細凹凸形状が表面に現れてない領域とに、前記母材表面をパターニングするパターニングの工程と、
前記パターニングの工程により母材表面がパターニングされた前記製造用金型を使用した賦型処理により、前記微細構造体の基材表面に、選択的に、前記微細構造を形成し、前記微細構造を作製した領域と、前記微細構造を作製していない領域とに、前記基材表面をパターニングする賦型処理工程とを備える
微細構造体の製造方法。
In a method for manufacturing a fine structure having a fine structure with a repetition period of 500 nm or less,
On the surface of the base material of the manufacturing mold, a fine uneven shape manufacturing process for forming a fine uneven shape corresponding to the fine structure,
The fine uneven shape on the surface of the base material is selectively backfilled, and the surface of the base material is patterned into a region where the fine uneven shape appears on the surface and a region where the fine uneven shape does not appear on the surface. Patterning process;
The fine structure is selectively formed on the surface of the substrate of the fine structure by a forming process using the manufacturing die in which the base material surface is patterned by the patterning step, and the fine structure is formed. The manufacturing method of a microstructure provided with the shaping process process of patterning the said base-material surface in the produced area | region and the area | region which has not produced the said microstructure.
前記微細構造を作製していない領域の表面が、親水性であり、
前記基材表面に液体を塗布して、前記微細構造を作製した領域に、選択的に前記液体を付着させる塗布工程をさらに備える
請求項に記載の微細構造体の製造方法。
The surface of the region where the microstructure is not fabricated is hydrophilic,
The manufacturing method of the fine structure according to claim 1 , further comprising an application step of applying a liquid to the surface of the base material and selectively attaching the liquid to a region where the fine structure is produced.
前記微細構造を作製していない領域の表面が、撥水性であり、
前記基材表面に液体を塗布して、前記微細構造を作製していない領域に、選択的に前記液体を付着させる塗布工程をさらに備える
請求項に記載の微細構造体の製造方法。
The surface of the region where the microstructure is not fabricated is water-repellent,
By applying a liquid to the substrate surface, in a region where the not produce a microstructure, method for manufacturing a microstructure according to claim 1, further comprising a coating step of selectively depositing the liquid.
繰り返し周期が500nm以下による微細構造を備えた微細構造体の製造に使用する微細構造体製造用金型であって、
母材表面に、前記微細構造体の微細構造に対応する微細凹凸形状が形成され、
前記母材表面の微細凹凸形状が、選択的に埋め戻されて、前記微細凹凸形状が表面に現れた領域と、前記微細凹凸形状が表面に現れてない領域とに、前記母材表面がパターニングされた
微細構造体製造用金型。
A mold for producing a fine structure used for producing a fine structure having a fine structure with a repetition period of 500 nm or less,
A fine uneven shape corresponding to the fine structure of the fine structure is formed on the surface of the base material,
The surface of the base material is patterned into a region where the fine uneven shape on the surface of the base material is selectively backfilled and the fine uneven shape appears on the surface, and a region where the fine uneven shape does not appear on the surface. Mold for manufacturing a fine structure.
前記微細凹凸形状が、
柱状体をマトリックス状に配置して形成された
請求項に記載の微細構造体製造用金型。
The fine uneven shape is
The mold for manufacturing a fine structure according to claim 4 , wherein the mold is formed by arranging columnar bodies in a matrix.
前記微細凹凸形状が、
凹溝の繰り返しにより形成された
請求項に記載の微細構造体製造用金型。
The fine uneven shape is
The mold for manufacturing a fine structure according to claim 4 , wherein the mold is formed by repeating the concave groove.
前記微細凹凸形状が、
先細りの微細穴の密接配置により形成された
請求項に記載の微細構造体製造用金型。
The fine uneven shape is
The mold for manufacturing a fine structure according to claim 4 , which is formed by close arrangement of tapered fine holes.
繰り返し周期が500nm以下による微細構造を備えた微細構造体を賦型処理により製造する微細構造体製造用金型の製造方法であって、
母材表面に、前記微細構造に対応する微細凹凸形状を作製する微細凹凸形状の作製工程と、
前記母材表面の微細凹凸形状を選択的に埋め戻して、前記微細凹凸形状が表面に現れた領域と、前記微細凹凸形状が表面に現れてない領域とに、前記母材表面をパターニングするパターニングの工程とを備える
微細構造体製造用金型の製造方法。
A method for manufacturing a microstructure manufacturing mold for manufacturing a microstructure having a microstructure with a repetition period of 500 nm or less by a molding process,
On the surface of the base material, a fine concavo-convex shape production process for producing a fine concavo-convex shape corresponding to the fine structure,
Patterning for selectively backfilling the fine uneven shape on the surface of the base material and patterning the surface of the base material into a region where the fine uneven shape appears on the surface and a region where the fine uneven shape does not appear on the surface The manufacturing method of the metal mold | die for microstructure manufacturing provided with these processes.
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