JP6445893B2 - Degassing device, coating device, and degassing method - Google Patents

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本発明は、液体中の溶存気体を除去する脱気装置、当該脱気装置を備えた塗布装置、および液体中の溶存気体を除去する脱気方法に関する。   The present invention relates to a deaeration device that removes dissolved gas in a liquid, a coating device that includes the deaeration device, and a deaeration method that removes dissolved gas in a liquid.

従来、液晶表示装置用ガラス基板、半導体ウェハ、PDP用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、カラーフィルタ用基板、記録ディスク用基板、太陽電池用基板、電子ペーパー用基板などの精密電子装置用基板の製造工程では、基板の表面にフォトレジスト等の液体を塗布する塗布装置が使用されている。従来の塗布装置については、例えば、特許文献1に記載されている。特許文献1の塗布装置は、水平方向に移動自在なステージに吸着保持された基板に対して、スリット状の吐出口を有するスリットダイから塗布液を吐出している。   Conventionally, glass substrates for liquid crystal display devices, semiconductor wafers, glass substrates for PDP, glass substrates for photomasks, substrates for color filters, substrates for recording disks, substrates for solar cells, substrates for electronic paper, etc. In the manufacturing process, a coating apparatus that applies a liquid such as a photoresist to the surface of a substrate is used. A conventional coating apparatus is described in Patent Document 1, for example. The coating apparatus of Patent Document 1 discharges a coating solution from a slit die having a slit-shaped discharge port to a substrate held by suction on a stage movable in a horizontal direction.

特開2009−241056号公報JP 2009-2441056 A

この種の塗布装置では、液体に溶存気体が存在すると、スリットダイにおいていわゆる「泡がみ」が発生しやすくなる。「泡がみ」が発生すると、吐出口から均一に液体を塗布できなくなり、塗布膜の均一性が低下する場合がある。このため、従来、塗布前の液体から溶存気体を除去する脱気処理が行われている。従来の塗布装置では、塗布前の液体が貯留された容器内を負圧にすることによって、予め液体中の溶存気体を気泡化させていた。液体の粘度が低い場合には、液体中に発生した気泡を、容易に液面まで浮上させて、容器外へ排出することができる。   In this type of coating apparatus, when dissolved gas exists in the liquid, so-called “bubble bubbles” are likely to occur in the slit die. When “bubble bubbles” occur, liquid cannot be applied uniformly from the discharge port, and the uniformity of the coating film may be reduced. For this reason, the deaeration process which removes dissolved gas from the liquid before application | coating conventionally is performed. In the conventional coating apparatus, the dissolved gas in the liquid is bubbled in advance by setting the inside of the container in which the liquid before coating is stored to a negative pressure. When the viscosity of the liquid is low, bubbles generated in the liquid can be easily lifted to the liquid surface and discharged out of the container.

しかしながら、高粘度の液体を用いる場合には、気泡が液面まで浮上するのに、非常に長い時間がかかる。特に、細かい気泡ほど浮上しにくい傾向がある。このため、従来の方法では、高粘度の液体に対して効率よく脱気を行うことができないという問題がある。近年では、フレキシブルデバイスや電池の製造工程において、処理対象となる面に高粘度の液体を塗布する装置の需要が高まっている。これに伴い、高粘度の液体から効率よく溶存気体を除去できる技術が求められている。   However, when a highly viscous liquid is used, it takes a very long time for the bubbles to rise to the liquid surface. In particular, fine bubbles tend to hardly float. For this reason, in the conventional method, there exists a problem that deaeration cannot be performed efficiently with respect to a highly viscous liquid. In recent years, in the manufacturing process of flexible devices and batteries, there is an increasing demand for apparatuses that apply a high-viscosity liquid to the surface to be processed. In connection with this, the technique which can remove dissolved gas from a highly viscous liquid efficiently is calculated | required.

本発明は、このような事情に鑑みなされたものであり、粘度が高い液体中の溶存気体を効率よく除去できる脱気装置、当該脱気装置を備えた塗布装置、および脱気方法を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of such a situation, and provides the deaeration apparatus which can remove efficiently the dissolved gas in the liquid with a high viscosity, the coating device provided with the said deaeration apparatus, and the deaeration method For the purpose.

上記課題を解決するため、本願の第1発明は、液体中の溶存気体を除去する脱気装置であって、一端部が供給元の第1タンクに接続され、他端部が供給先の第2タンクに接続され、中途部に略水平に延びる水平部を有する主配管と、一端部が前記水平部に接続され、他端部がドレインタンクに接続され、中途部に、前記水平部から上方へ向けて延びる第1縦管と、前記第1縦管の上端から前記第1縦管よりも水平に近い角度で側方へ延びる横管と、前記横管の他端から上方へ向けて延びる第2縦管と、
を含む、脱気配管と、前記主配管の経路上の前記脱気配管との接続部よりも上流側に設けられた第1バルブと、前記主配管の経路上の前記脱気配管との接続部よりも下流側に設けられた第2バルブと、前記第2縦管に設けられた第3バルブと、前記第2タンクおよび前記ドレインタンクにそれぞれ配管を介して接続され、前記主配管内に前記第2タンク側へ向かう吸引力を発生させるとともに、前記脱気配管内に上方へ向かう吸引力を発生させる減圧部と、前記第1バルブ、前記第2バルブ、前記第3バルブ、および前記減圧部を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、a)前記第2バルブを閉鎖するとともに前記第1バルブおよび前記第3バルブを開放した状態で、前記第1タンクからの液流を前記脱気配管の前記第3バルブよりも上方の位置まで到達させる工程と、b)前記工程a)の後に、前記第3バルブを閉鎖するとともに前記第2バルブを開放し、前記減圧部を駆動させて、前記主配管内に前記第2タンク側へ向かう液流を形成する工程と、c)前記工程b)の後に、前記第3バルブを開放することにより、前記脱気配管内に溜まった気泡を排出する工程と、を進行させる
In order to solve the above problems, a first invention of the present application is a deaeration device for removing dissolved gas in a liquid, wherein one end is connected to a first tank of a supply source and the other end is a first supply destination. A main pipe having a horizontal portion connected to the two tanks and extending substantially horizontally in the middle ; one end connected to the horizontal portion ; the other end connected to the drain tank; A first vertical pipe extending toward the upper side, a horizontal pipe extending laterally from the upper end of the first vertical pipe at an angle closer to the horizontal than the first vertical pipe, and extending upward from the other end of the horizontal pipe A second longitudinal tube;
A first valve provided upstream of a connection portion between the deaeration pipe and the deaeration pipe on the path of the main pipe, and the connection of the deaeration pipe on the path of the main pipe A second valve provided on the downstream side of the section, a third valve provided in the second vertical pipe, and the second tank and the drain tank, respectively, connected to each other via pipes, A pressure reducing section that generates a suction force directed toward the second tank and generates an upward suction force in the deaeration pipe; the first valve ; the second valve; the third valve; and the pressure reducing section. and a control unit for controlling, the control unit, a) in a state of opening the first valve and the third valve with closing the second valve, the liquid flow from the first tank Above the third valve of the deaeration pipe A step of reaching to the position of the square, b) after said step a), the second valve is opened while closing the third valve, wherein by driving the pressure reducing unit, the second to the main the pipe forming a liquid flow toward the tank side, c) after step b), by opening the third valve, a step of discharging the bubbles accumulated in the de-sign tube, allowed to proceed.

本願の第発明は、第発明の脱気装置であって、前記横管の第2縦管側の端部は、前記横管の第1縦管側の端部と同等の高さ、またはそれよりも高く、前記横管の水平面に対する角度は、0°以上かつ45°以下である。
2nd invention of this application is a deaeration apparatus of 1st invention, Comprising: The edge part by the side of the 2nd vertical pipe of the said horizontal pipe is the height equivalent to the edge part by the side of the 1st vertical pipe of the said horizontal pipe, Alternatively, the angle of the horizontal pipe with respect to the horizontal plane is 0 ° or more and 45 ° or less.

本願の第発明は、第発明または第発明の脱気装置であって、前記第2縦管は、前記横管以上の容積を有する。
3rd invention of this application is a deaeration apparatus of 1st invention or 2nd invention, Comprising: The said 2nd vertical pipe has a volume more than the said horizontal pipe.

本願の第発明は、第発明から第発明までのいずれか1発明の脱気装置であって、前記脱気配管は、少なくとも、前記水平部から上方へ向けて延びる第1縦管、およびそれよりも下流側で上方に向けて延びる第2縦管を有する第1脱気配管と、前記水平部の前記第1脱気配管よりも下流側の位置から上方へ向けて延びる第1縦管、およびそれよりも下流側で上方に向けて延びる第2縦管を有する第2脱気配管と、を含み、前記第1バルブは、前記主配管の経路上の前記第1脱気配管との接続部よりも上流側に設けられ、前記第2バルブは、前記主配管の経路上の前記第2脱気配管との接続部よりも下流側に設けられ、前記第3バルブは、前記第1脱気配管および前記第2脱気配管の各々の経路上の、前記第2縦管上に設けられる。
4th invention of this application is a deaeration apparatus of any one invention from 1st invention to 3rd invention, Comprising: The said deaeration piping is the 1st vertical pipe extended upwards from the said horizontal part at least , and first and degassing pipe, first vertical extending from a position downstream of the first degassing pipe of the horizontal portion upwardly with it a second vertical pipe extending upward in the downstream of the And a second degassing pipe having a second vertical pipe extending upward on the downstream side of the pipe, and the first valve includes the first degassing pipe on the path of the main pipe The second valve is provided on the downstream side of the connection portion with the second deaeration pipe on the main pipe path, and the third valve is provided on the upstream side of the connection portion. It is provided on the second vertical pipe on each path of the first deaeration pipe and the second deaeration pipe.

本願の第発明は、第発明の脱気装置であって、前記第1脱気配管の上端部と、前記第2脱気配管の上端部とが、斜め上方へ向けて延びる傾斜配管によって、1本の排出配管に接続され、前記排出配管が前記ドレインタンクに接続されてている。
5th invention of this application is a deaeration apparatus of 4th invention, Comprising: By the inclination piping by which the upper end part of the said 1st deaeration piping and the upper end part of the said 2nd deaeration piping extend toward diagonally upward One discharge pipe is connected, and the discharge pipe is connected to the drain tank .

本願の第発明は、第発明から第発明までのいずれか1発明の脱気装置であって、前記第2縦管と前記ドレインタンクとの間を接続する配管上に設けられた第4バルブをさらに有し、前記工程a)から前記工程c)にかけて、前記第4バルブが開放されている。
Sixth aspect of the present invention, there is provided a degassing device according to any one invention of the first invention to the fifth invention, the provided on the pipe connecting between the drain tank and the second vertical pipe A fourth valve is further provided, and the fourth valve is opened from step a) to step c).

本願の第発明は、第1発明から第発明までのいずれか1発明の脱気装置であって、前記主配管内の液体を加熱するヒータをさらに備える。
7th invention of this application is a deaeration apparatus of any one invention from 1st invention to 6th invention, Comprising: The heater which heats the liquid in the said main piping is further provided.

本願の第発明は、第1発明から第発明までのいずれか1発明の脱気装置であって、前記主配管は、前記第1タンクと前記第2タンクとの間で並列に接続される複数の前記水平部を含み、複数の前記水平部の各々から、前記脱気配管の前記第1縦管が上方へ向けて延びている。
An eighth invention of the present application is the deaeration device according to any one of the first to seventh inventions, wherein the main pipe is connected in parallel between the first tank and the second tank. The first vertical pipe of the deaeration pipe extends upward from each of the horizontal parts.

本願の第発明は、処理対象となる面に液体を塗布する塗布装置であって、第1発明から第発明までのいずれか1発明の脱気装置と、流体を吐出する吐出口を有するノズルと、前記第2タンクから前記ノズルへ液体を供給する供給機構と、を備える。
A ninth invention of the present application is a coating apparatus that applies a liquid to a surface to be processed, and includes a deaeration device according to any one of the first to eighth inventions, and a discharge port for discharging a fluid. A nozzle and a supply mechanism for supplying liquid from the second tank to the nozzle.

本願の第10発明は、第発明の塗布装置であって、前記第2タンク内において液体を撹拌しつつ脱気する撹拌脱気機構をさらに備える。
A tenth invention of the present application is the coating apparatus according to the ninth invention, further comprising a stirring deaeration mechanism for degassing while stirring the liquid in the second tank.

本願の第11発明は、第発明または第10発明の塗布装置であって、前記主配管の経路上に設けられた異物除去フィルタをさらに備える。
An eleventh aspect of the present invention is the coating apparatus according to the ninth aspect or the tenth aspect of the present invention, further comprising a foreign matter removal filter provided on the path of the main pipe.

本願の第12発明は、供給元の第1タンクに接続され、他端部が供給先の第2タンクに接続され、中途部に略水平に延びる水平部を有する主配管を介して、前記第1タンクから前記第2タンクへ液体を供給しつつ、液体中の溶存気体を除去する脱気方法であって、a)一端部が前記水平部に接続され、他端部がドレインタンクに接続され、中途部に、前記水平部から上方へ向けて延びる第1縦管と、前記第1縦管の上端から前記第1縦管よりも水平に近い角度で側方へ延びる横管と、前記横管の他端から上方へ向けて延びる第2縦管と、を含む脱気配管内に、前記ドレインタンクよりも下流側の減圧部へ向かう吸引力を発生させることで、前記脱気配管の少なくとも前記第2縦管の中途部までを液体で満たす工程と、b)前記工程a)の後に、前記主配管を介して前記第1タンクから前記第2タンクまでが連通した状態、かつ、前記第2縦管よりも下流側を前記横管から遮断した状態としつつ、前記第2タンクと配管を介して接続される前記減圧部により、前記主配管内に前記第2タンク側へ向かう吸引力を発生させることで、前記主配管内に前記第2タンク側へ向かう液流を形成する工程と、c)前記工程b)の後に、前記第2縦管よりも下流側を前記横管と連通した状態とすることで、前記脱気配管内に溜まった気泡を排出する工程と、を有する。
In a twelfth aspect of the present invention, the first tank is connected to the first tank of the supply source , the other end is connected to the second tank of the supply destination, and the main pipe having a horizontal portion extending substantially horizontally in the middle portion. A deaeration method for removing dissolved gas in a liquid while supplying a liquid from one tank to the second tank, wherein a) one end is connected to the horizontal part and the other end is connected to a drain tank. A first vertical tube extending upward from the horizontal portion , a horizontal tube extending laterally from the upper end of the first vertical tube at an angle closer to the horizontal than the first vertical tube, and the horizontal And generating a suction force toward the decompression section downstream from the drain tank in a degassing pipe including a second vertical pipe extending upward from the other end of the pipe, so that at least the degassing pipe the halfway portion of the second vertical pipe and the filling step with a liquid, b) after the step a) State to the second tank from the first tank via the main pipe communicated and, while the state of the downstream side of the second vertical pipe was cut off from the lateral tube, a pipe and the second tank Forming a liquid flow toward the second tank in the main pipe by generating a suction force toward the second tank in the main pipe by the decompression unit connected via c) After the step b), the step of discharging the bubbles accumulated in the deaeration pipe by bringing the downstream side of the second vertical pipe into communication with the horizontal pipe is included .

本願の第1発明〜第12発明によれば、減圧により液体中に発生した気泡は、主配管内における液体の流動によって、主配管の上縁部に集められる。このため、工程b)において、当該気泡が、主配管の水平部から脱気配管へ進入する。そして、工程c)において、脱気配管内に溜まった気泡を排出する。これにより、液体の粘度が高い場合であっても、液体中の溶存気体を除去することができる。
According to the first to twelfth inventions of the present application, the bubbles generated in the liquid by decompression are collected at the upper edge of the main pipe by the flow of the liquid in the main pipe. For this reason, in step b), the bubbles enter the deaeration pipe from the horizontal part of the main pipe. In step c), the air bubbles accumulated in the deaeration pipe are discharged. Thereby, even if it is a case where the viscosity of a liquid is high, the dissolved gas in a liquid can be removed.

特に、本願の第発明によれば、工程b)において、脱気配管の第3バルブよりも下側に溜まった気泡が、工程c)において、脱気配管内の気泡よりも上側の液体と置換されることによって、上側へ排出される。これにより、脱気配管から気泡を効率よく排出できる。また、主配管の水平部から第1縦管内に進入した気泡は、横管内に集合して、大きな気泡に成長する。そして、工程c)において、当該大きな気泡が第2縦管を介して外部へ排出される。これにより、気体とともに排出される液体の量を低減できる。すなわち、液体から溶存気体のみを効率よく除去できる。
In particular, according to the first invention of the present application, in step b), the air bubbles accumulated below the third valve of the deaeration pipe are replaced with liquid above the air bubbles in the deaeration pipe in step c). Is discharged to the upper side. Thereby, bubbles can be efficiently discharged from the deaeration pipe. In addition, the bubbles that have entered the first vertical pipe from the horizontal portion of the main pipe gather in the horizontal pipe and grow into large bubbles. In step c), the large bubbles are discharged to the outside through the second vertical pipe. Thereby, the quantity of the liquid discharged | emitted with gas can be reduced. That is, only dissolved gas can be efficiently removed from the liquid.

特に、本願の第発明によれば、横管内において、気泡をより効果的に成長させることができる。
In particular, according to the second invention of the present application, it is possible to grow bubbles more effectively in the horizontal tube.

特に、本願の第発明によれば、工程c)において、横管内の気泡を、第2管に貯留された液体で、より確実に置換することができる。
In particular, according to the third invention of the present application, in step c), the bubbles in the horizontal tube can be more reliably replaced with the liquid stored in the second vertical tube.

特に、本願の第発明によれば、第1脱気配管に進入しなかった気体を、下流側の第2脱気配管に進入させて、外部へ排出することができる。これにより、気泡の排出効率をより高めることができる。
In particular, according to the fourth aspect of the present invention, the gas that has not entered the first deaeration pipe can enter the downstream second deaeration pipe and be discharged to the outside. Thereby, the discharge efficiency of bubbles can be further increased.

特に、本願の発明によれば、第1脱気配管および第2脱気配管から排出配管へ、気泡をより効率よく排出することができる。
In particular, according to the fifth invention of the present application, air bubbles can be discharged more efficiently from the first degassing pipe and the second degassing pipe to the discharge pipe.

特に、本願の第発明によれば、工程b)においても第4バルブを開放することで、第3バルブよりも上方に貯留される液体中の溶存気体が、減圧により除去される。これにより、溶存気体の除去効率をさらに高めることができる。
In particular, according to the sixth invention of the present application, the dissolved gas in the liquid stored above the third valve is removed by decompression by opening the fourth valve also in step b). Thereby, the removal efficiency of dissolved gas can further be improved.

特に、本願の第発明によれば、液体の粘度を低下させることができる。また、気泡を膨張させて、気泡の排出効率を高めることができる。
In particular, according to the seventh invention of the present application, the viscosity of the liquid can be reduced. Further, the bubbles can be expanded to increase the efficiency of discharging the bubbles.

特に、本願の第発明によれば、第2タンクへの液体の単位時間あたりの供給量を増加させることができる。
In particular, according to the eighth invention of the present application, it is possible to increase the supply amount of liquid to the second tank per unit time.

特に、本願の第10発明によれば、脱気配管において除去しきれなかった気泡を、撹拌脱気機構により除去することができる。
In particular, according to the tenth aspect of the present invention, bubbles that cannot be removed in the deaeration pipe can be removed by the stirring deaeration mechanism.

特に、本願の第11発明によれば、第2タンクとノズルとの間の供給機構に、異物除去フィルタを設ける必要がない。したがって、供給機構において、フィルタによる圧力損失を低減させることができる。
In particular, according to the eleventh aspect of the present invention, it is not necessary to provide a foreign matter removal filter in the supply mechanism between the second tank and the nozzle. Therefore, in the supply mechanism, the pressure loss due to the filter can be reduced.

塗布装置の斜視図である。It is a perspective view of a coating device. スリットノズルの斜視図である。It is a perspective view of a slit nozzle. スリットノズルの内部の流路を示した図である。It is the figure which showed the flow path inside a slit nozzle. スリットノズルに接続される供給配管系の構成を示した図である。It is the figure which showed the structure of the supply piping system connected to a slit nozzle. 制御部と供給配管系の各部との接続構成を示したブロック図である。It is the block diagram which showed the connection structure of the control part and each part of a supply piping system. 被塗布材料の脱気および供給動作の流れを示したフローチャートである。It is the flowchart which showed the flow of the deaeration and supply operation | movement of to-be-coated material. 脱気配管内の気泡の動きを、概念的に示した図である。It is the figure which showed notionally the movement of the bubble in deaeration piping. 変形例に係る供給配管系の構成を示した図である。It is the figure which showed the structure of the supply piping system which concerns on a modification. 変形例に係る供給配管系の構成を示した図である。It is the figure which showed the structure of the supply piping system which concerns on a modification. 変形例に係る供給配管系の構成を示した図である。It is the figure which showed the structure of the supply piping system which concerns on a modification.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、以下では、説明の便宜上、塗布装置1におけるスリットノズル20の移動方向を「前後方向」と称し、前後方向に直交する水平方向を「左右方向」と称する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following, for convenience of explanation, the moving direction of the slit nozzle 20 in the coating apparatus 1 is referred to as “front-rear direction”, and the horizontal direction orthogonal to the front-rear direction is referred to as “left-right direction”.

<1.塗布装置の構成について>
図1は、本発明の一実施形態に係る塗布装置1の斜視図である。この塗布装置1は、フレキシブルデバイスの製造工程において、ガラス製のキャリア基板9の上面に、高粘度の液体である被塗布材料を塗布する装置である。被塗布材料には、例えば、粘度の高い流体であるポリイミド等の溶融樹脂が用いられる。被塗布材料の粘度は、例えば、数千〜1万cP程度となる。基板9の上面に塗布された被塗布材料は、その後に固化されて薄膜となる。また、当該薄膜の表面に電極等のパターンが形成され、当該薄膜を基板9から引き剥がすことによって、フレキシブルデバイスが形成される。
<1. About the configuration of the coating device>
FIG. 1 is a perspective view of a coating apparatus 1 according to an embodiment of the present invention. The coating apparatus 1 is an apparatus that applies a material to be coated, which is a high-viscosity liquid, to the upper surface of a glass carrier substrate 9 in a manufacturing process of a flexible device. As the material to be coated, for example, a molten resin such as polyimide, which is a fluid with high viscosity, is used. The viscosity of the material to be coated is, for example, about several thousand to 10,000 cP. The material to be applied applied to the upper surface of the substrate 9 is then solidified into a thin film. Moreover, a pattern such as an electrode is formed on the surface of the thin film, and a flexible device is formed by peeling the thin film from the substrate 9.

図1に示すように、本実施形態の塗布装置1は、ステージ10、スリットノズル20、ノズル保持部30、走行機構40、および制御部50を有する。   As shown in FIG. 1, the coating apparatus 1 according to the present embodiment includes a stage 10, a slit nozzle 20, a nozzle holding unit 30, a travel mechanism 40, and a control unit 50.

ステージ10は、基板9を載置して保持する略直方体状の保持台である。ステージ10は、例えば一体の石材により形成される。ステージ10の上面は、平坦な基板保持面11となっている。基板保持面11には、多数の真空吸着孔(図示省略)が設けられている。基板保持面11に基板9が載置されると、真空吸着孔の吸引力によって、基板9の下面が基板保持面11に吸着する。これにより、ステージ10上に基板9が水平姿勢で固定される。また、ステージ10の内部には、複数のリフトピンが設けられている。ステージ10から基板9を搬出するときには、基板保持面11上に複数のリフトピンが突出する。これにより、基板保持面11から基板9が引き離される。   The stage 10 is a substantially rectangular parallelepiped holding table on which the substrate 9 is placed and held. The stage 10 is formed of, for example, an integral stone material. The upper surface of the stage 10 is a flat substrate holding surface 11. The substrate holding surface 11 is provided with a number of vacuum suction holes (not shown). When the substrate 9 is placed on the substrate holding surface 11, the lower surface of the substrate 9 is attracted to the substrate holding surface 11 by the suction force of the vacuum suction holes. Thereby, the substrate 9 is fixed in a horizontal posture on the stage 10. A plurality of lift pins are provided inside the stage 10. When unloading the substrate 9 from the stage 10, a plurality of lift pins protrude on the substrate holding surface 11. As a result, the substrate 9 is pulled away from the substrate holding surface 11.

スリットノズル20は、被塗布材料を吐出するノズルである。スリットノズル20は、左右方向に長いノズルボディ21を有する。ノズルボディ21の下端部には、左右方向に延びるスリット状の吐出口23が、設けられている。吐出口23は、ステージ10上に載置された基板9の上面に向けられている。後述する供給機構70(図4参照)からノズルボディ21内に被塗布材料が供給されると、スリットノズル20の吐出口23から、処理対象となる基板9の上面へ向けて、被塗布材料が吐出される。   The slit nozzle 20 is a nozzle that discharges a material to be coated. The slit nozzle 20 has a nozzle body 21 that is long in the left-right direction. A slit-shaped discharge port 23 extending in the left-right direction is provided at the lower end of the nozzle body 21. The discharge port 23 is directed to the upper surface of the substrate 9 placed on the stage 10. When the material to be coated is supplied into the nozzle body 21 from a supply mechanism 70 (see FIG. 4) described later, the material to be coated is directed from the discharge port 23 of the slit nozzle 20 toward the upper surface of the substrate 9 to be processed. Discharged.

ノズル保持部30は、スリットノズル20を基板保持面11の上方に保持するための機構である。ノズル保持部30は、左右方向に延びる架橋部31と、架橋部31の両端を支持する一対の柱状の支持部32とを有する。スリットノズル20は、架橋部31の下面に取り付けられている。また、各支持部32は、架橋部31の端部の高さを調節する昇降機構33を有する。左右の昇降機構33を動作させると、架橋部31とともにスリットノズル20の高さおよび姿勢が調節される。   The nozzle holding unit 30 is a mechanism for holding the slit nozzle 20 above the substrate holding surface 11. The nozzle holding part 30 includes a bridging part 31 extending in the left-right direction and a pair of columnar support parts 32 that support both ends of the bridging part 31. The slit nozzle 20 is attached to the lower surface of the bridging portion 31. Each support portion 32 includes an elevating mechanism 33 that adjusts the height of the end portion of the bridging portion 31. When the left / right lifting mechanism 33 is operated, the height and posture of the slit nozzle 20 are adjusted together with the bridging portion 31.

走行機構40は、スリットノズル20を前後方向に移動させるための機構である。走行機構40は、一対の走行レール41と、一対のリニアモータ42とを有する。一対の走行レール41は、ステージ10の左右の側部付近において、前後方向に延びている。走行レール41は、一対の支持部32をそれぞれ支持しながら、各支持部32の下端部を前後方向に案内する。すなわち、一対の走行レール41は、一対の支持部32の移動方向を前後方向に規制するリニアガイドとして機能する。   The traveling mechanism 40 is a mechanism for moving the slit nozzle 20 in the front-rear direction. The travel mechanism 40 includes a pair of travel rails 41 and a pair of linear motors 42. The pair of running rails 41 extend in the front-rear direction near the left and right sides of the stage 10. The traveling rail 41 guides the lower end portion of each support portion 32 in the front-rear direction while supporting the pair of support portions 32. That is, the pair of running rails 41 function as a linear guide that regulates the moving direction of the pair of support portions 32 in the front-rear direction.

リニアモータ42は、ステージ10に固定された固定子421と、支持部32に固定された移動子422とを有する。固定子421は、ステージ10の左右の側縁部に沿って、前後方向に延びている。塗布装置1の稼働時には、固定子421と移動子422との間に磁気的吸引力または磁気的反発力が生じる。これにより、移動子422、ノズル保持部30、およびスリットノズル20が、一体として前後方向に移動する。   The linear motor 42 includes a stator 421 fixed to the stage 10 and a mover 422 fixed to the support portion 32. The stator 421 extends in the front-rear direction along the left and right side edges of the stage 10. When the coating apparatus 1 is in operation, a magnetic attractive force or a magnetic repulsive force is generated between the stator 421 and the mover 422. Thereby, the movable element 422, the nozzle holding part 30, and the slit nozzle 20 move in the front-rear direction as a unit.

制御部50は、塗布装置1内の各部を動作制御するための手段である。図1中に概念的に示したように、制御部50は、CPU等の演算処理部51、RAM等のメモリ52、およびハードディスクドライブ等の記憶部53を有するコンピュータにより構成されている。制御部50は、上述したリフトピン、昇降機構33、リニアモータ42等の塗布装置1内の各部と、それぞれ電気的に接続されている。また、制御部50は、後述する脱気装置60および供給機構70内に設けられたバルブやポンプとも、電気的に接続されている。制御部50は、記憶部53に記憶されたコンピュータプログラムやデータを、メモリ52に一時的に読み出し、当該コンピュータプログラムおよびデータに基づいて、演算処理部51が演算処理を行うことにより、塗布装置1内の各部を動作制御する。これにより、基板9に対する塗布処理が進行する。   The controller 50 is a means for controlling the operation of each unit in the coating apparatus 1. As conceptually shown in FIG. 1, the control unit 50 is configured by a computer having an arithmetic processing unit 51 such as a CPU, a memory 52 such as a RAM, and a storage unit 53 such as a hard disk drive. The control unit 50 is electrically connected to each part in the coating apparatus 1 such as the lift pin, the lifting mechanism 33, and the linear motor 42 described above. The control unit 50 is also electrically connected to valves and pumps provided in a deaeration device 60 and a supply mechanism 70 described later. The control unit 50 temporarily reads the computer program and data stored in the storage unit 53 into the memory 52, and the calculation processing unit 51 performs calculation processing based on the computer program and data, whereby the coating apparatus 1 is processed. The operation of each part is controlled. Thereby, the coating process with respect to the board | substrate 9 advances.

<2.スリットノズルの構造について>
次に、スリットノズル20のより詳細な構造について、説明する。図2は、スリットノズル20の斜視図である。図3は、スリットノズル20の内部の流路210を示した図である。
<2. Structure of slit nozzle>
Next, a more detailed structure of the slit nozzle 20 will be described. FIG. 2 is a perspective view of the slit nozzle 20. FIG. 3 is a view showing the flow path 210 inside the slit nozzle 20.

図2に示すように、スリットノズル20のノズルボディ21は、一対のノズル部材211,212と、一対のサイドプレート213,214とを有する。ノズル部材211,212およびサイドプレート213,214の材料には、例えば、アルミニウム等の金属が用いられる。一対のノズル部材211,212を互いに固定するとともに、その左右の両端部に一対のサイドプレート213,214を取り付けると、内部に流路210を有するノズルボディ21が形成される。   As shown in FIG. 2, the nozzle body 21 of the slit nozzle 20 includes a pair of nozzle members 211 and 212 and a pair of side plates 213 and 214. As a material of the nozzle members 211 and 212 and the side plates 213 and 214, for example, a metal such as aluminum is used. When the pair of nozzle members 211 and 212 are fixed to each other and the pair of side plates 213 and 214 are attached to the left and right ends thereof, the nozzle body 21 having the flow path 210 therein is formed.

ノズルボディ21には、一対の供給口22と、1つのスリット状の吐出口23とが、設けられている。一対の供給口22は、一対のサイドプレート213,214に、それぞれ設けられている。1つの吐出口23は、前方のノズル部材211の下端部と、後方のノズル部材212の下端部との間において、スリット状に開口している。塗布装置1の稼働時には、一対の供給口22からノズルボディ21内の流路210へ、被塗布材料が供給される。そして、流路210内の被塗布材料が、吐出口23からノズルボディ21の下方へ向けて、吐出される。   The nozzle body 21 is provided with a pair of supply ports 22 and one slit-like discharge port 23. The pair of supply ports 22 are provided in the pair of side plates 213 and 214, respectively. One discharge port 23 opens in a slit shape between the lower end portion of the front nozzle member 211 and the lower end portion of the rear nozzle member 212. When the coating apparatus 1 is in operation, the material to be coated is supplied from the pair of supply ports 22 to the flow path 210 in the nozzle body 21. Then, the material to be coated in the flow path 210 is discharged from the discharge port 23 toward the lower side of the nozzle body 21.

また、図2に示すように、本実施形態のノズルボディ21は、1つの排出口24を有する。排出口24は、ノズルボディ21の上面に設けられている。後述する脱気装置60において除去しきれなかった気泡は、スリットノズル20の洗浄時に、リンス液とともに排出口24からスリットノズル20の外部へ排出される。   Further, as shown in FIG. 2, the nozzle body 21 of the present embodiment has one discharge port 24. The discharge port 24 is provided on the upper surface of the nozzle body 21. Bubbles that could not be removed by the deaeration device 60 described later are discharged from the discharge port 24 to the outside of the slit nozzle 20 together with the rinse liquid when the slit nozzle 20 is cleaned.

<3.供給配管系の構成について>
続いて、スリットノズル20へ被塗布材料を供給する供給配管系の構成について、説明する。図4は、スリットノズル20に接続される供給配管系の構成を示した図である。図4に示すように、本実施形態の供給配管系は、脱気装置60と供給機構70とを有する。
<3. About the configuration of the supply piping system>
Then, the structure of the supply piping system which supplies a to-be-coated material to the slit nozzle 20 is demonstrated. FIG. 4 is a diagram showing the configuration of the supply piping system connected to the slit nozzle 20. As shown in FIG. 4, the supply piping system of this embodiment includes a deaeration device 60 and a supply mechanism 70.

脱気装置60は、供給機構70よりも配管系の上流側に設けられている。脱気装置60は、供給元の第1タンク81から供給先の第2タンク82へ被塗布材料Lを供給しつつ、被塗布材料L中の溶存気体を除去する。図4に示すように、本実施形態の脱気装置60は、主配管61、脱気配管62、ドレインタンク63、および減圧部64を備えている。   The deaeration device 60 is provided on the upstream side of the piping system from the supply mechanism 70. The deaeration device 60 removes dissolved gas in the material to be coated L while supplying the material to be coated L from the first tank 81 as the supply source to the second tank 82 as the supply destination. As shown in FIG. 4, the deaeration device 60 of this embodiment includes a main pipe 61, a deaeration pipe 62, a drain tank 63, and a decompression unit 64.

主配管61は、第1タンク81と第2タンク82とを繋ぐ配管である。第1タンク81には、未使用の被塗布材料Lまたは一旦使用された後に再生処理された被塗布材料Lが、貯留される。第1タンク81に貯留された被塗布材料Lは、主配管61を通って第2タンク82へ供給される。また、図4に示すように、主配管61は、略水平方向(重力方向に対して略垂直な方向)に延びる水平部611を有する。   The main pipe 61 is a pipe that connects the first tank 81 and the second tank 82. The first tank 81 stores an unused material L to be applied or a material L to be applied that has been regenerated after being used once. The material L to be coated stored in the first tank 81 is supplied to the second tank 82 through the main pipe 61. Further, as shown in FIG. 4, the main pipe 61 has a horizontal portion 611 extending in a substantially horizontal direction (a direction substantially perpendicular to the direction of gravity).

主配管61の水平部611には、異物除去フィルタ83、第1バルブ91、および第2バルブ92が、設けられている。第1タンク81から供給される被塗布材料L中に異物が含まれている場合には、当該異物が異物除去フィルタ83において除去される。第1バルブ91および第2バルブ92は、制御部50からの電気信号に基づいて開閉動作を行う電磁弁である。第1バルブ91は、主配管61の経路上の脱気配管62との接続部よりも上流側(第1タンク81側)の位置に設けられる。第2バルブ92は、主配管61の経路上の脱気配管62との接続部よりも下流側(第2タンク82側)の位置に設けられる。   The horizontal portion 611 of the main pipe 61 is provided with a foreign substance removal filter 83, a first valve 91, and a second valve 92. When foreign material is contained in the material L to be applied supplied from the first tank 81, the foreign material is removed by the foreign material removal filter 83. The first valve 91 and the second valve 92 are electromagnetic valves that perform an opening / closing operation based on an electric signal from the control unit 50. The first valve 91 is provided at a position on the upstream side (first tank 81 side) with respect to the connection portion with the deaeration pipe 62 on the path of the main pipe 61. The second valve 92 is provided at a position on the downstream side (second tank 82 side) with respect to the connection portion with the deaeration pipe 62 on the path of the main pipe 61.

脱気配管62は、主配管61を流れる被塗布材料Lに含まれる気泡を捕集するための配管である。図4に示すように、本実施形態の脱気配管62は、第1縦管621、横管622、第2縦管623、および排出配管624を有する。第1縦管621は、主配管61の水平部611から上方へ向けて延びている。横管622は、第1縦管621の上端から水平に側方へ延びている。第2縦管623は、横管622の他端からさらに上方へ向けて延びている。排出配管624は、第2縦管623の上端部とドレインタンク63とを接続している。
The deaeration pipe 62 is a pipe for collecting bubbles contained in the material L to be applied flowing through the main pipe 61. As shown in FIG. 4, the deaeration pipe 62 of the present embodiment has a first vertical pipe 621, a horizontal pipe 622, a second vertical pipe 623, and a discharge pipe 624. The first vertical pipe 621 extends upward from the horizontal portion 611 of the main pipe 61. The horizontal pipe 622 extends horizontally from the upper end of the first vertical pipe 621. The second vertical tube 623 extends further upward from the other end of the horizontal tube 622. The discharge pipe 624 connects the upper end portion of the second vertical pipe 623 and the drain tank 63.

脱気配管62には、第3バルブ93、第4バルブ94、第1センサ84、および第2センサ85が設けられている。第3バルブ93および第4バルブ94は、制御部50からの電気信号に基づいて開閉動作を行う電磁弁である。第3バルブ93は、第2縦管621の経路上に介挿されている。第4バルブ94は、排出配管624の経路上に介挿されている。また、第1センサ84は、第2縦管623の経路上の第3バルブ93よりも上側の位置に、設けられている。第1センサ84は、第2縦管623の当該位置における被塗布材料Lの存否を検出し、検出結果を示す電気信号を制御部50へ送信する。第2センサ85は、横管622の近傍に設けられている。第2センサ85は、後述する脱気処理において、横管622内に気泡が蓄積されたか否かを検出し、検出結果を示す電気信号を制御部50へ送信する。第1センサ84および第2センサ85には、例えば光センサが用いられる。   The deaeration pipe 62 is provided with a third valve 93, a fourth valve 94, a first sensor 84, and a second sensor 85. The third valve 93 and the fourth valve 94 are electromagnetic valves that perform an opening / closing operation based on an electric signal from the control unit 50. The third valve 93 is inserted on the path of the second vertical pipe 621. The fourth valve 94 is inserted on the path of the discharge pipe 624. The first sensor 84 is provided at a position above the third valve 93 on the path of the second vertical pipe 623. The first sensor 84 detects the presence / absence of the material to be coated L at the position of the second vertical tube 623 and transmits an electric signal indicating the detection result to the control unit 50. The second sensor 85 is provided in the vicinity of the horizontal tube 622. The second sensor 85 detects whether or not bubbles are accumulated in the horizontal tube 622 in a deaeration process described later, and transmits an electric signal indicating the detection result to the control unit 50. For the first sensor 84 and the second sensor 85, for example, optical sensors are used.

ドレインタンク63は、脱気配管62へ吸引された被塗布材料Lが、後述する真空ポンプ640へ流れ込むことを防止するために、設けられている。万が一、脱気配管62へ被塗布材料Lが過剰に流入したとしても、当該被塗布材料Lは、ドレインタンク63内に回収され、真空ポンプ640側へ流れ込むことはない。ドレインタンク63に回収された被塗布材料Lは、ドレインタンク63の下部から排出され、廃棄または再生処理される。   The drain tank 63 is provided in order to prevent the coating material L sucked into the deaeration pipe 62 from flowing into the vacuum pump 640 described later. Even if the material to be coated L excessively flows into the deaeration pipe 62, the material to be coated L is collected in the drain tank 63 and does not flow into the vacuum pump 640 side. The material L to be applied collected in the drain tank 63 is discharged from the lower part of the drain tank 63 and is discarded or regenerated.

減圧部64は、真空ポンプ640と、第1吸引配管641と、第2吸引配管642とを有する。第1吸引配管641の両端は、真空ポンプ640とドレインタンク63とに、それぞれ接続されている。第2吸引配管642の両端は、真空ポンプ640と第2タンク82とに、それぞれ接続されている。このため、真空ポンプ640を動作させると、第1吸引配管641およびドレインタンク63内の空気が、真空ポンプ640側へ吸引されるとともに、第2吸引配管642および第2タンク82内の空気も、真空ポンプ640側へ吸引される。これにより、主配管61および脱気配管62内が減圧されて負圧となる。また、主配管61内には、第2タンク82側へ向かう吸引力が発生し、脱気配管62内には、ドレインタンク63側へ向かう吸引力が発生する。   The decompression unit 64 includes a vacuum pump 640, a first suction pipe 641, and a second suction pipe 642. Both ends of the first suction pipe 641 are connected to the vacuum pump 640 and the drain tank 63, respectively. Both ends of the second suction pipe 642 are connected to the vacuum pump 640 and the second tank 82, respectively. Therefore, when the vacuum pump 640 is operated, the air in the first suction pipe 641 and the drain tank 63 is sucked to the vacuum pump 640 side, and the air in the second suction pipe 642 and the second tank 82 is also Suction to the vacuum pump 640 side. Thereby, the inside of the main piping 61 and the deaeration piping 62 is depressurized and becomes negative pressure. Further, a suction force toward the second tank 82 side is generated in the main pipe 61, and a suction force toward the drain tank 63 side is generated in the deaeration pipe 62.

また、図4に示すように、本実施形態では、第2タンク82内に撹拌器86が設けられている。撹拌器86は、モータ(図示省略)から得られる動力によって回転する。それにより、第2タンク82内に貯留された被塗布材料Lを撹拌する。第2タンク82内に貯留された被塗布材料L中に、上述した脱気配管62で回収しきれなかった気泡が含まれている場合、撹拌器86を動作させると、当該気泡を被塗布材料Lの液面に浮上させることができる。   Further, as shown in FIG. 4, in this embodiment, a stirrer 86 is provided in the second tank 82. The stirrer 86 is rotated by power obtained from a motor (not shown). Thereby, the material L to be coated stored in the second tank 82 is agitated. When the coating material L stored in the second tank 82 contains bubbles that could not be collected by the deaeration pipe 62 described above, the bubbles are removed when the stirrer 86 is operated. It is possible to float on the liquid level of L.

供給機構70は、第2タンク82からスリットノズル20へ、被塗布材料Lを供給するための機構である。供給機構70は、送液配管71と、送液ポンプ72を有する。送液配管71の上流側の端部は、第2タンク82の底部に接続されている。送液配管71の下流側の端部は、2方向に分岐して、スリットノズル20の2つの供給口22に、それぞれ接続されている。送液ポンプ72を動作させると、送液ポンプ72により生じる圧力で、第2タンク82に貯留された被塗布材料Lが、送液配管71を通って、スリットノズル20へ供給される。そして、当該被塗布材料Lが、スリットノズル20の吐出口23から基板9の上面に、吐出される。   The supply mechanism 70 is a mechanism for supplying the material to be coated L from the second tank 82 to the slit nozzle 20. The supply mechanism 70 includes a liquid supply pipe 71 and a liquid supply pump 72. The upstream end of the liquid feeding pipe 71 is connected to the bottom of the second tank 82. The downstream end of the liquid feeding pipe 71 branches in two directions and is connected to the two supply ports 22 of the slit nozzle 20 respectively. When the liquid feed pump 72 is operated, the coating material L stored in the second tank 82 is supplied to the slit nozzle 20 through the liquid feed pipe 71 at a pressure generated by the liquid feed pump 72. Then, the material to be coated L is discharged from the discharge port 23 of the slit nozzle 20 onto the upper surface of the substrate 9.

図5は、制御部50と供給配管系の各部との接続構成を示したブロック図である。図5に示すように、制御部50は、上述した第1バルブ91、第2バルブ92、第3バルブ93、第4バルブ94、第1センサ84、第2センサ85、撹拌器86、真空ポンプ640、および送液ポンプ72と、それぞれ電気的に接続されている。制御部50は、予め設定されたコンピュータプログラムまたは外部からの指示に基づき、これらの各部を動作制御する。これにより、被塗布材料Lの脱気および供給の各動作が進行する。   FIG. 5 is a block diagram showing a connection configuration between the control unit 50 and each part of the supply piping system. As shown in FIG. 5, the controller 50 includes the first valve 91, the second valve 92, the third valve 93, the fourth valve 94, the first sensor 84, the second sensor 85, the agitator 86, and the vacuum pump described above. 640 and the liquid feed pump 72 are electrically connected to each other. The control unit 50 controls the operation of these units based on a preset computer program or an external instruction. Thereby, each operation | movement of deaeration and supply of the to-be-coated material L advances.

<4.被塗布材料の脱気および供給動作について>
続いて、上記の塗布装置1において、第1タンク81に貯留された被塗布材料Lを、脱気しながらスリットノズル20に供給するときの動作について、説明する。図6は、当該動作の流れを示したフローチャートである。図7は、脱気配管62内の気泡の動きを、概念的に示した図である。
<4. Degassing and supplying operation of coated material>
Next, an operation when the material to be applied L stored in the first tank 81 is supplied to the slit nozzle 20 while degassing in the coating apparatus 1 will be described. FIG. 6 is a flowchart showing the flow of the operation. FIG. 7 is a diagram conceptually showing the movement of bubbles in the deaeration pipe 62.

図6に示すように、塗布装置1は、まず、第2バルブ92を閉鎖するとともに、第1バルブ91、第3バルブ93、および第4バルブ94を開放する。そして、真空ポンプ640の動作を開始させる。そうすると、真空ポンプ640の圧力によって、脱気配管62内に、上方へ向かう吸引力が発生する。したがって、第1タンク81から供給される被塗布材料Lは、主配管61を通って脱気配管62へ流れ込む。その結果、主配管61の第2バルブ92よりも上流側の部分と、脱気配管62の少なくとも第3バルブ93よりも下側の部分とが、被塗布材料Lで満たされる(ステップS1)。   As shown in FIG. 6, the coating apparatus 1 first closes the second valve 92 and opens the first valve 91, the third valve 93, and the fourth valve 94. Then, the operation of the vacuum pump 640 is started. Then, an upward suction force is generated in the deaeration pipe 62 due to the pressure of the vacuum pump 640. Therefore, the material to be coated L supplied from the first tank 81 flows into the deaeration pipe 62 through the main pipe 61. As a result, the portion upstream of the second valve 92 of the main pipe 61 and the portion of the deaeration pipe 62 at least below the third valve 93 are filled with the material to be coated L (step S1).

被塗布材料Lが第1センサ84の検出位置に到達すると、第1センサ84は、被塗布材料Lを検出したことを示す検出信号を、制御部50へ送信する。制御部50は、当該検出信号を受信すると、第3バルブ93を閉鎖して、第2バルブ92を開放する。そうすると、真空ポンプ640から第2吸引配管642および第2タンク82を介して伝わる圧力によって、主配管61内に、第2タンク82側へ向かう吸引力が発生する。したがって、主配管61内に、第1タンク81から第2タンク82へ向かう被塗布材料Lの流れが形成される(ステップS2)。   When the material to be coated L reaches the detection position of the first sensor 84, the first sensor 84 transmits a detection signal indicating that the material to be coated L has been detected to the control unit 50. When receiving the detection signal, the controller 50 closes the third valve 93 and opens the second valve 92. Then, a suction force toward the second tank 82 is generated in the main pipe 61 by the pressure transmitted from the vacuum pump 640 through the second suction pipe 642 and the second tank 82. Accordingly, a flow of the material to be coated L is formed in the main pipe 61 from the first tank 81 toward the second tank 82 (step S2).

このとき、主配管61および脱気配管62の内部は、真空ポンプ640の吸引力によって、大気圧よりも圧力が低い状態(負圧状態)となっている。このため、第1タンク81から流れ出した被塗布材料L中の溶存気体が、気泡となって被塗布材料L中に発生する。また、主配管61の内部では、被塗布材料Lが流動しているため、当該流動によって、気泡の浮上が促進される。したがって、図7中に破線B1で示したように、被塗布材料L中の気泡は、主配管61の上縁部に集合する。そして、主配管61の上縁部に集合した気泡は、図7中の破線矢印A1のように、主配管61から第1縦管621へ効率よく進入する。このようにすれば、被塗布材料Lの粘度が高い場合であっても、被塗布材料L中の気泡を、効率よく脱気配管62へ進入させることができる。したがって、第2タンク82内の撹拌器86のみを用いる場合よりも、気泡の除去に掛かる時間を大幅に低減できる。   At this time, the inside of the main pipe 61 and the deaeration pipe 62 is in a state (negative pressure state) where the pressure is lower than the atmospheric pressure due to the suction force of the vacuum pump 640. For this reason, the dissolved gas in the coating material L that has flowed out of the first tank 81 is generated in the coating material L as bubbles. Further, since the material to be coated L is flowing inside the main pipe 61, the flow of the bubbles is promoted by the flow. Therefore, as indicated by a broken line B1 in FIG. 7, bubbles in the material to be coated L gather at the upper edge of the main pipe 61. Then, the air bubbles gathered at the upper edge of the main pipe 61 efficiently enter the first vertical pipe 621 from the main pipe 61 as indicated by a broken line arrow A1 in FIG. In this way, even if the viscosity of the material to be coated L is high, the bubbles in the material to be coated L can efficiently enter the deaeration pipe 62. Therefore, it is possible to significantly reduce the time required for removing bubbles, compared with the case where only the stirrer 86 in the second tank 82 is used.

第1縦管621内に進入した気泡は、その後、横管622の高さまで上昇する。そして、図7中に破線B2で示したように、横管622の上縁部の下面に沿って、気泡が蓄積される。また、破線B2の位置において、複数の気泡は、互いに集合して大きな気泡に成長する。   The bubbles that have entered the first vertical tube 621 then rise to the height of the horizontal tube 622. Then, as indicated by a broken line B2 in FIG. 7, bubbles are accumulated along the lower surface of the upper edge portion of the horizontal tube 622. Further, at the position of the broken line B2, the plurality of bubbles gather together and grow into a large bubble.

気泡が成長し、横管622内の所定の領域が気泡で占められると、第2センサ85が、当該気泡を検出して、検出信号を制御部50へ送信する。制御部50は、当該検出信号を受信すると、第1バルブ91および第2バルブ92を閉鎖し、第3バルブ93を開放する。そうすると、第2縦管623内に貯留された被塗布材料Lが、その自重によって、図7中の破線矢印A2のように、横管622側へ移動しようとする。これにより、横管622内の気泡が、破線矢印A3のように、第2縦管623側へ移動する。すなわち、第2縦管623内の被塗布材料Lと、横管622内の気泡とが、置換される。その結果、横管622内の気泡が、第2縦管623内の被塗布材料Lの液面よりも上側へ、排出される(ステップS3)。気泡を構成していた気体は、その後、排出配管624、ドレインタンク63、および第1吸引配管641を通って、真空ポンプ640から外部へ排出される。   When the bubble grows and a predetermined area in the horizontal tube 622 is occupied by the bubble, the second sensor 85 detects the bubble and transmits a detection signal to the control unit 50. When receiving the detection signal, the control unit 50 closes the first valve 91 and the second valve 92 and opens the third valve 93. If it does so, the to-be-coated material L stored in the 2nd vertical pipe 623 will move to the horizontal pipe 622 side like the broken-line arrow A2 in FIG. 7 with the dead weight. Thereby, the air bubbles in the horizontal tube 622 move to the second vertical tube 623 side as indicated by a broken line arrow A3. That is, the material L to be coated in the second vertical tube 623 and the bubbles in the horizontal tube 622 are replaced. As a result, the bubbles in the horizontal tube 622 are discharged above the liquid surface of the material L to be coated in the second vertical tube 623 (step S3). The gas constituting the bubbles is then discharged from the vacuum pump 640 to the outside through the discharge pipe 624, the drain tank 63, and the first suction pipe 641.

このように、本実施形態では、脱気配管62の横管622内で気泡を成長させて、成長後の大きな気泡を排出する。このようにすれば、気体とともに排出される被塗布材料Lの量を低減できる。したがって、被塗布材料Lから溶存気体のみを、効率よく除去できる。   Thus, in this embodiment, bubbles are grown in the horizontal tube 622 of the deaeration pipe 62, and large bubbles after the growth are discharged. If it does in this way, the quantity of to-be-coated material L discharged | emitted with gas can be reduced. Therefore, only the dissolved gas can be efficiently removed from the material to be coated L.

また、上記のステップS3では、横管622内で成長した気泡を、第2縦管623内の被塗布材料Lと置換させることによって、上方へ排出する。このようにすれば、気泡を、被塗布材料Lの液面まで、効率よく浮上させることができる。なお、第2縦管623は、横管622以上の容積を有していることが好ましい。そうすれば、ステップS3において、横管622内の気泡を、第2縦管623内の被塗布材料Lで、より確実に置換することができる。   Moreover, in said step S3, the bubble grown in the horizontal tube 622 is discharged | emitted upwards by substituting the to-be-coated material L in the 2nd vertical tube 623. FIG. In this way, bubbles can be efficiently levitated up to the liquid level of the material L to be coated. In addition, it is preferable that the 2nd vertical pipe 623 has the volume more than the horizontal pipe 622. Then, in step S <b> 3, the bubbles in the horizontal tube 622 can be more reliably replaced with the material to be coated L in the second vertical tube 623.

また、本実施形態では、上記のステップS1からステップS3にかけて、第4バルブ94を開放している。すなわち、第3バルブ93を閉鎖したステップS2においても、第4バルブ94を開放している。このため、ステップS2では、第2縦管623内の第3バルブ93よりも上側に貯留された被塗布材料Lからも気泡が発生し、当該気泡が液面まで浮上することで、気泡を構成する気体が除去される。これにより、溶存気体の除去効率を、さらに高めることができる。   In the present embodiment, the fourth valve 94 is opened from step S1 to step S3. That is, the fourth valve 94 is opened even in step S2 in which the third valve 93 is closed. For this reason, in step S2, bubbles are generated from the material to be coated L stored above the third valve 93 in the second vertical pipe 623, and the bubbles rise to the liquid level, thereby forming the bubbles. Gas is removed. Thereby, the removal efficiency of dissolved gas can further be improved.

なお、脱気配管62だけでは気泡の除去が十分でない場合には、制御部50からの指令により、第2タンク82内の撹拌器86を回転させるようにするとよい。そうすれば、第2タンク82内において、被塗布材料L中に残存する気泡を、液面へ浮上させることができる。また、それと同時に真空ポンプ640を動作させれば、気泡を構成していた気体を、第2タンク82および第2吸引配管642を通って、真空ポンプ640から外部へ排出できる。すなわち、本実施形態では、撹拌器86および真空ポンプ640が、第2タンク82内において被塗布材料Lを撹拌しつつ脱気する撹拌脱気機構を構成している。このように、撹拌脱気機構を併用すれば、気泡の除去率をより高めることができる。   In addition, when bubbles are not sufficiently removed only by the deaeration pipe 62, the stirrer 86 in the second tank 82 may be rotated by a command from the control unit 50. Then, bubbles remaining in the material to be coated L can float to the liquid surface in the second tank 82. At the same time, if the vacuum pump 640 is operated, the gas constituting the bubbles can be discharged from the vacuum pump 640 to the outside through the second tank 82 and the second suction pipe 642. That is, in the present embodiment, the stirrer 86 and the vacuum pump 640 constitute a stirring and deaeration mechanism that deaerates the material L to be coated in the second tank 82 while stirring. Thus, if a stirring deaeration mechanism is used in combination, the bubble removal rate can be further increased.

その後、制御部50は、送液ポンプ72を動作させる。そうすると、第2タンク82に貯留された脱気後の被塗布材料Lが、送液配管71を通ってスリットノズル20へ供給される(ステップS4)。そして、スリットノズル20へ供給された被塗布材料Lが、スリットノズル20の吐出口23から基板9の上面に吐出される。   Thereafter, the control unit 50 operates the liquid feed pump 72. When it does so, the to-be-coated material L stored in the 2nd tank 82 will be supplied to the slit nozzle 20 through the liquid feeding piping 71 (step S4). Then, the material to be coated L supplied to the slit nozzle 20 is discharged from the discharge port 23 of the slit nozzle 20 onto the upper surface of the substrate 9.

なお、本実施形態では、第1タンク81と第2タンク82とを繋ぐ主配管61に、異物除去フィルタ83を設けた。そして、第2タンク82とスリットノズル20とを繋ぐ送液配管71から、異物除去フィルタを排除した。このようにすれば、ステップS4における被塗布材料Lの供給時に、異物除去フィルタによる圧力損失が無くなる。したがって、より小さい圧力で、スリットノズル20に被塗布材料Lを供給することができる。   In the present embodiment, the foreign matter removal filter 83 is provided in the main pipe 61 that connects the first tank 81 and the second tank 82. And the foreign material removal filter was excluded from the liquid feeding piping 71 which connected the 2nd tank 82 and the slit nozzle 20. FIG. By so doing, pressure loss due to the foreign matter removal filter is eliminated when the material to be coated L is supplied in step S4. Therefore, the material L to be coated can be supplied to the slit nozzle 20 with a smaller pressure.

<5.変形例>
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されるものではない。
<5. Modification>
Although one embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above embodiment.

図8は、一変形例に係る供給配管系の構成を示した図である。図8の例では、脱気装置60内に、第1脱気配管62Aと第2脱気配管62Bとが、設けられている。第1脱気配管62Aおよび第2脱気配管62Bは、いずれも、水平部611から上方へ向けて延びている。また、第2脱気配管62Bの下端部は、第1脱気配管62Aの下端部よりも、主配管61の下流側に位置する。また、第1バルブ91は、主配管61の経路上の第1脱気配管62Aとの接続部よりも上流側に設けられる。第2バルブ92は、主配管61の経路上の第2脱気配管62Bとの接続部よりも下流側に設けられる。第3バルブ93は、第1脱気配管62Aおよび第2脱気配管62Bの各々の経路上に設けられる。   FIG. 8 is a diagram illustrating a configuration of a supply piping system according to a modification. In the example of FIG. 8, a first deaeration pipe 62 </ b> A and a second deaeration pipe 62 </ b> B are provided in the deaeration device 60. Both the first deaeration pipe 62A and the second deaeration pipe 62B extend upward from the horizontal portion 611. Further, the lower end portion of the second degassing pipe 62B is located on the downstream side of the main pipe 61 with respect to the lower end portion of the first degassing pipe 62A. The first valve 91 is provided on the upstream side of the connection portion with the first deaeration pipe 62 </ b> A on the main pipe 61. The second valve 92 is provided on the downstream side of the connection portion with the second deaeration pipe 62 </ b> B on the path of the main pipe 61. The third valve 93 is provided on each path of the first deaeration pipe 62A and the second deaeration pipe 62B.

このように、2本の脱気配管62A,62Bを設ければ、第1脱気配管62Aに進入しなかった気体を、下流側の第2脱気配管62Bに進入させて、外部へ排出することができる。したがって、気泡の排出効率をより高めることができる。   Thus, if the two degassing pipes 62A and 62B are provided, the gas that has not entered the first degassing pipe 62A enters the second degassing pipe 62B on the downstream side and is discharged to the outside. be able to. Therefore, the bubble discharge efficiency can be further increased.

特に、図8の例では、第1脱気配管62Aの上端部と、第2脱気配管62Bの上端部とが、斜め上方へ向けて延びる傾斜配管625によって、1本の排出配管624に接続されている。このようにすれば、第1脱気配管62Aおよび第2脱気配管62Bから排出配管624への気泡の排出を、重力に逆らうことなくスムーズに行うことができる。特に、上述したステップS2と同等の処理を行うときに、閉鎖された第3バルブ93よりも上方に貯留された被塗布材料L中の気泡を、容易に上方へ浮上させることができる。   In particular, in the example of FIG. 8, the upper end portion of the first degassing pipe 62A and the upper end portion of the second degassing pipe 62B are connected to one discharge pipe 624 by an inclined pipe 625 extending obliquely upward. Has been. By so doing, it is possible to smoothly discharge bubbles from the first degassing pipe 62A and the second degassing pipe 62B to the discharge pipe 624 without resisting gravity. In particular, when the process equivalent to step S2 described above is performed, the bubbles in the material to be coated L stored above the closed third valve 93 can be easily lifted upward.

なお、気泡の排出効率をさらに高めるために、脱気配管62の数を、3本以上としてもよい。   In addition, in order to further improve the discharge efficiency of bubbles, the number of the deaeration pipes 62 may be three or more.

図9は、他の変形例に係る供給配管系の構成を示した図である。図9の例では、主配管の一部分に、ヒータ87が設けられている。ヒータ87は、制御部50と電気的に接続される。制御部50からの指令によってヒータ87を動作させると、主配管61内の被塗布材料Lが加熱される。これにより、被塗布材料Lの粘度を低下させることができる。また、被塗布材料L中の気泡が膨張する。このため、脱気配管62へ気泡がより進入しやすくなるとともに、脱気配管62内において、気泡が浮上しやすくなる。これにより、気泡の排出効率を、より高めることができる。   FIG. 9 is a diagram illustrating a configuration of a supply piping system according to another modification. In the example of FIG. 9, a heater 87 is provided in a part of the main pipe. The heater 87 is electrically connected to the control unit 50. When the heater 87 is operated by a command from the control unit 50, the material to be coated L in the main pipe 61 is heated. Thereby, the viscosity of the to-be-coated material L can be reduced. Further, bubbles in the material to be coated L expand. For this reason, the bubbles are more likely to enter the deaeration pipe 62, and the bubbles are more likely to rise in the deaeration pipe 62. Thereby, the bubble discharge efficiency can be further increased.

図10は、他の変形例に係る供給配管系の構成を示した図である。図10の例では、主配管61が、2本の水平部611を有している。2本の水平部611は、第1タンク81と第2タンク82との間において、並列に接続される。そして、各水平部611から、脱気配管62が上方へ向けて延びている。このようにすれば、2本の水平部611によって、同時または交互に被塗布材料Lを第2タンク82へ供給できる。したがって、第2タンク82への液体の単位時間あたりの供給量を増加させることができる。   FIG. 10 is a diagram illustrating a configuration of a supply piping system according to another modification. In the example of FIG. 10, the main pipe 61 has two horizontal portions 611. The two horizontal portions 611 are connected in parallel between the first tank 81 and the second tank 82. A deaeration pipe 62 extends upward from each horizontal part 611. In this way, the coating material L can be supplied to the second tank 82 simultaneously or alternately by the two horizontal portions 611. Therefore, the supply amount of liquid to the second tank 82 per unit time can be increased.

また、上記の実施形態では、横管622が水平に配置されていた。しかしながら、横管622の姿勢は、必ずしも水平でなくてもよい。横管622は、第1縦管621の上端から第1縦管621よりも水平に近い角度で側方へ延びる管であればよい。ただし、横管622の第2縦管623側の端部は、横管622の第1縦管621側の端部と同等の高さ、またはそれよりも高いことが好ましい。また、横管622内において、気泡をより効果的に成長させるために、横管622の水平面に対する角度は、0°以上かつ45°以下とすることが好ましい。   In the above embodiment, the horizontal tube 622 is disposed horizontally. However, the posture of the horizontal tube 622 is not necessarily horizontal. The horizontal tube 622 may be a tube that extends laterally from the upper end of the first vertical tube 621 at an angle closer to the horizontal than the first vertical tube 621. However, the end of the horizontal tube 622 on the second vertical tube 623 side is preferably the same height as or higher than the end of the horizontal tube 622 on the first vertical tube 621 side. In order to grow bubbles more effectively in the horizontal tube 622, the angle of the horizontal tube 622 with respect to the horizontal plane is preferably 0 ° or more and 45 ° or less.

また、上記の実施形態では、第1縦管621、横管622、および第2縦管623が、いずれも同径の配管であった。しかしながら、第1縦管621、横管622、および第2縦管623の内径は、必ずしも同一でなくてもよい。例えば、ステップS2において第3バルブ93よりも上側に貯留される被塗布材料Lの量を増加させるために、第2縦管623の内径を、第1縦管621および横管622の内径よりも、大きくしてもよい。   In the above embodiment, the first vertical pipe 621, the horizontal pipe 622, and the second vertical pipe 623 are all pipes having the same diameter. However, the inner diameters of the first vertical tube 621, the horizontal tube 622, and the second vertical tube 623 are not necessarily the same. For example, in order to increase the amount of the material to be coated L stored above the third valve 93 in step S2, the inner diameter of the second vertical tube 623 is set to be larger than the inner diameters of the first vertical tube 621 and the horizontal tube 622. You can make it bigger.

また、上記の実施形態の装置では、真空ポンプ640および送液ポンプ72の圧力のみで被塗布材料Lを搬送していた。しかしながら、これらのポンプの駆動と併行して、第1タンク81内および第2タンク82内に、加圧された気体を導入して、被塗布材料Lの流れを促進させるようにしてもよい。   In the apparatus of the above embodiment, the material to be coated L is transported only by the pressures of the vacuum pump 640 and the liquid feed pump 72. However, in parallel with the driving of these pumps, a pressurized gas may be introduced into the first tank 81 and the second tank 82 to promote the flow of the material to be coated L.

また、上記の塗布装置1は、フレキシブルデバイスの基材自体を製造するプロセスに用いられるものであったが、本発明の塗布装置は、デバイス形成後の基材の表面に、保護膜を形成するプロセスに用いられるものであってもよい。また、本発明の塗布装置は、基板と基板とを貼り合わせる際の接着剤を塗布するプロセスに用いられるものであってもよい。また、本発明の塗布装置は、フレキシブルデバイス以外の液晶表示装置や半導体基板の製造工程に用いられるものであってもよい。また、本発明の塗布装置は、リチウムイオン二次電池や燃料電池などの電池の製造工程に用いられるものであってもよい。すなわち、本発明の塗布装置は、高粘度の材料を塗布するプロセスに特に好適である。   Moreover, although said coating device 1 was used for the process which manufactures the base material itself of a flexible device, the coating device of this invention forms a protective film on the surface of the base material after device formation. It may be used in a process. Moreover, the coating device of this invention may be used for the process of apply | coating the adhesive agent at the time of bonding a board | substrate and a board | substrate. Moreover, the coating apparatus of this invention may be used for the manufacturing process of liquid crystal display devices other than a flexible device, or a semiconductor substrate. Moreover, the coating device of this invention may be used for the manufacturing process of batteries, such as a lithium ion secondary battery and a fuel cell. That is, the coating apparatus of the present invention is particularly suitable for a process for coating a material having a high viscosity.

また、脱気装置および塗布装置の細部については、本願の各図に示された構成と、相違していてもよい。また、上記の実施形態や変形例に登場した各要素を、矛盾が生じない範囲で、適宜に組み合わせてもよい。   Further, the details of the deaeration device and the coating device may be different from the configurations shown in the drawings of the present application. Moreover, you may combine suitably each element which appeared in said embodiment and modification in the range which does not produce inconsistency.

1 塗布装置
9 基板
10 ステージ
11 基板保持面
20 スリットノズル
21 ノズルボディ
22 供給口
23 吐出口
24 排出口
30 ノズル保持部
31 架橋部
32 支持部
33 昇降機構
40 走行機構
41 走行レール
42 リニアモータ
50 制御部
60 脱気装置
61 主配管
62,62A,62B 脱気配管
63 ドレインタンク
64 減圧部
70 供給機構
71 送液配管
72 送液ポンプ
81 第1タンク
82 第2タンク
83 異物除去フィルタ
84 第1センサ
85 第2センサ
86 撹拌器
87 ヒータ
91 第1バルブ
92 第2バルブ
93 第3バルブ
94 第4バルブ
611 水平部
621 第1縦管
622 横管
623 第2縦管
624 排出配管
625 傾斜配管
640 真空ポンプ
641 第1吸引配管
642 第2吸引配管
L 被塗布材料
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Coating device 9 Substrate 10 Stage 11 Substrate holding surface 20 Slit nozzle 21 Nozzle body 22 Supply port 23 Discharge port 24 Discharge port 30 Nozzle holding part 31 Bridging part 32 Support part 33 Lifting mechanism 40 Traveling mechanism 41 Traveling rail 42 Linear motor 50 Control Portion 60 Deaerator 61 Main piping 62, 62A, 62B Deaeration piping 63 Drain tank 64 Depressurization unit 70 Supply mechanism 71 Liquid supply piping 72 Liquid supply pump 81 First tank 82 Second tank 83 Foreign matter removal filter 84 First sensor 85 Second sensor 86 Stirrer 87 Heater 91 First valve 92 Second valve 93 Third valve 94 Fourth valve 611 Horizontal portion 621 First vertical pipe 622 Horizontal pipe 623 Second vertical pipe 624 Discharge pipe 625 Inclined pipe 640 Vacuum pump 641 First suction pipe 642 Second suction pipe L Material to be coated

Claims (12)

液体中の溶存気体を除去する脱気装置であって、
一端部が供給元の第1タンクに接続され、他端部が供給先の第2タンクに接続され、中途部に略水平に延びる水平部を有する主配管と、
一端部が前記水平部に接続され、他端部がドレインタンクに接続され、中途部に、
前記水平部から上方へ向けて延びる第1縦管と、
前記第1縦管の上端から前記第1縦管よりも水平に近い角度で側方へ延びる横管と、
前記横管の他端から上方へ向けて延びる第2縦管と、
を含む、脱気配管と、
前記主配管の経路上の前記脱気配管との接続部よりも上流側に設けられた第1バルブと、
前記主配管の経路上の前記脱気配管との接続部よりも下流側に設けられた第2バルブと、
前記第2縦管に設けられた第3バルブと、
前記第2タンクおよび前記ドレインタンクにそれぞれ配管を介して接続され、前記主配管内に前記第2タンク側へ向かう吸引力を発生させるとともに、前記脱気配管内に上方へ向かう吸引力を発生させる減圧部と、
前記第1バルブ、前記第2バルブ、前記第3バルブ、および前記減圧部を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、
a)前記第2バルブを閉鎖するとともに前記第1バルブおよび前記第3バルブを開放した状態で、前記第1タンクからの液流を前記脱気配管の前記第3バルブよりも上方の位置まで到達させる工程と、
b)前記工程a)の後に、前記第3バルブを閉鎖するとともに前記第2バルブを開放し、前記減圧部を駆動させて、前記主配管内に前記第2タンク側へ向かう液流を形成する工程と、
c)前記工程b)の後に、前記第3バルブを開放することにより、前記脱気配管内に溜まった気泡を排出する工程と、
進行させる脱気装置。
A degassing device for removing dissolved gas in a liquid,
One end portion connected to the first tank source and the other end portion is connected to the second tank supply destination, and a main pipe having a horizontal portion extending substantially horizontally in the middle section,
One end is connected to the horizontal part , the other end is connected to the drain tank,
A first vertical pipe extending upward from the horizontal portion;
A horizontal tube extending laterally from the upper end of the first vertical tube at an angle closer to the horizontal than the first vertical tube;
A second vertical pipe extending upward from the other end of the horizontal pipe;
Including degassing piping,
A first valve provided on the upstream side of the connection with the deaeration pipe on the path of the main pipe;
A second valve provided on the downstream side of the connection with the deaeration pipe on the path of the main pipe;
A third valve provided in the second vertical pipe;
Reduced pressure that is connected to the second tank and the drain tank via pipes, generates a suction force toward the second tank in the main pipe, and generates a suction force upward in the deaeration pipe. And
A controller for controlling the first valve , the second valve, the third valve, and the pressure reducing unit;
With
The controller is
a) With the second valve closed and the first valve and the third valve opened, the liquid flow from the first tank reaches a position above the third valve of the deaeration pipe. A process of
b) After the step a), the third valve is closed and the second valve is opened, and the pressure reducing unit is driven to form a liquid flow toward the second tank in the main pipe. Process,
c) after the step b), by opening the third valve, to discharge bubbles accumulated in the deaeration pipe;
Deaeration device to advance .
請求項1に記載の脱気装置であって、
前記横管の第2縦管側の端部は、前記横管の第1縦管側の端部と同等の高さ、またはそれよりも高く、
前記横管の水平面に対する角度は、0°以上かつ45°以下である脱気装置。
The deaerator according to claim 1,
The end of the horizontal tube on the second vertical tube side is equal to or higher than the end of the horizontal tube on the first vertical tube side,
The deaeration device in which an angle of the horizontal tube with respect to a horizontal plane is 0 ° or more and 45 ° or less .
請求項1または請求項2に記載の脱気装置であって、
前記第2縦管は、前記横管以上の容積を有する脱気装置。
The deaeration device according to claim 1 or 2,
The second vertical pipe is a deaeration device having a volume larger than that of the horizontal pipe .
請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載の脱気装置であって、
前記脱気配管は、少なくとも、
前記水平部から上方へ向けて延びる第1縦管、およびそれよりも下流側で上方に向けて延びる第2縦管を有する第1脱気配管と、
前記水平部の前記第1脱気配管よりも下流側の位置から上方へ向けて延びる第1縦管、およびそれよりも下流側で上方に向けて延びる第2縦管を有する第2脱気配管と、
を含み、
前記第1バルブは、前記主配管の経路上の前記第1脱気配管との接続部よりも上流側に設けられ、
前記第2バルブは、前記主配管の経路上の前記第2脱気配管との接続部よりも下流側に設けられ、
前記第3バルブは、前記第1脱気配管および前記第2脱気配管の各々の経路上の、前記第2縦管上に設けられる脱気装置。
A deaeration device according to any one of claims 1 to 3, wherein
The deaeration pipe is at least
A first degassing pipe having a first vertical pipe extending upward from the horizontal portion and a second vertical pipe extending upward on the downstream side of the first vertical pipe;
A second deaeration pipe having a first vertical pipe extending upward from a position downstream of the first deaeration pipe in the horizontal portion and a second vertical pipe extending upward on a downstream side of the first vertical pipe. When,
Including
The first valve is provided on an upstream side of a connection portion with the first deaeration pipe on the path of the main pipe,
The second valve is provided on the downstream side of the connection portion with the second deaeration pipe on the path of the main pipe,
The third valve is a deaeration device provided on the second vertical pipe on each path of the first deaeration pipe and the second deaeration pipe .
請求項4に記載の脱気装置であって、
前記第1脱気配管の上端部と、前記第2脱気配管の上端部とが、斜め上方へ向けて延びる傾斜配管によって、1本の排出配管に接続され、前記排出配管が前記ドレインタンクに接続されている脱気装置。
A deaeration device according to claim 4,
The upper end portion of the first degassing pipe and the upper end portion of the second degassing pipe are connected to one discharge pipe by an inclined pipe extending obliquely upward, and the discharge pipe is connected to the drain tank. Connected deaeration device.
請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載の脱気装置であって、
前記第2縦管と前記ドレインタンクとの間を接続する配管上に設けられた第4バルブ
をさらに有し、
前記工程a)から前記工程c)にかけて、前記第4バルブが開放されている脱気装置。
A deaeration device according to any one of claims 1 to 5,
A fourth valve provided on a pipe connecting the second vertical pipe and the drain tank;
Further comprising
A deaeration device in which the fourth valve is opened from step a) to step c) .
請求項1から請求項6までのいずれか1項に記載の脱気装置であって、
前記主配管内の液体を加熱するヒータ
をさらに備える脱気装置。
A deaeration device according to any one of claims 1 to 6,
A heater for heating the liquid in the main pipe
A deaeration device further comprising:
請求項1から請求項7までのいずれか1項に記載の脱気装置であって、
前記主配管は、前記第1タンクと前記第2タンクとの間で並列に接続される複数の前記水平部を含み、
複数の前記水平部の各々から、前記脱気配管の前記第1縦管が上方へ向けて延びている脱気装置。
A deaeration device according to any one of claims 1 to 7,
The main pipe includes a plurality of the horizontal portions connected in parallel between the first tank and the second tank,
The deaeration device in which the first vertical pipe of the deaeration pipe extends upward from each of the plurality of horizontal parts .
処理対象となる面に液体を塗布する塗布装置であって、An application device for applying a liquid to a surface to be processed,
請求項1から請求項8までのいずれか1項に記載の脱気装置と、A deaeration device according to any one of claims 1 to 8,
流体を吐出する吐出口を有するノズルと、A nozzle having a discharge port for discharging a fluid;
前記第2タンクから前記ノズルへ液体を供給する供給機構と、A supply mechanism for supplying liquid from the second tank to the nozzle;
を備える塗布装置。A coating apparatus comprising:
請求項9に記載の塗布装置であって、The coating apparatus according to claim 9, wherein
前記第2タンク内において液体を撹拌しつつ脱気する撹拌脱気機構をさらに備える塗布装置。A coating apparatus further comprising an agitation deaeration mechanism for deaeration while stirring the liquid in the second tank.
請求項9または請求項10に記載の塗布装置であって、
前記主配管の経路上に設けられた異物除去フィルタをさらに備える塗布装置。
The coating apparatus according to claim 9 or 10 ,
A coating apparatus further comprising a foreign matter removal filter provided on a path of the main pipe .
一端部が供給元の第1タンクに接続され、他端部が供給先の第2タンクに接続され、中途部に略水平に延びる水平部を有する主配管を介して、前記第1タンクから前記第2タンクへ液体を供給しつつ、液体中の溶存気体を除去する脱気方法であって、One end is connected to the first tank of the supply source, the other end is connected to the second tank of the supply destination, and from the first tank through the main pipe having a horizontal portion extending substantially horizontally in the middle portion A degassing method for removing dissolved gas in the liquid while supplying the liquid to the second tank,
a)一端部が前記水平部に接続され、他端部がドレインタンクに接続され、中途部に、前記水平部から上方へ向けて延びる第1縦管と、前記第1縦管の上端から前記第1縦管よりも水平に近い角度で側方へ延びる横管と、前記横管の他端から上方へ向けて延びる第2縦管と、を含む脱気配管内に、前記ドレインタンクよりも下流側の減圧部へ向かう吸引力を発生させることで、前記脱気配管の少なくとも前記第2縦管の中途部までを液体で満たす工程と、a) One end portion is connected to the horizontal portion, the other end portion is connected to the drain tank, and a first vertical tube extending upward from the horizontal portion to the middle portion, and an upper end of the first vertical tube from the upper end A degassing pipe including a horizontal pipe extending laterally at an angle closer to the horizontal than the first vertical pipe and a second vertical pipe extending upward from the other end of the horizontal pipe is downstream of the drain tank. Filling the liquid with at least the middle part of the second vertical pipe of the degassing pipe by generating a suction force toward the decompression section on the side;
b)前記工程a)の後に、前記主配管を介して前記第1タンクから前記第2タンクまでが連通した状態、かつ、前記第2縦管よりも下流側を前記横管から遮断した状態としつつ、前記第2タンクと配管を介して接続される前記減圧部により、前記主配管内に前記第2タンク側へ向かう吸引力を発生させることで、前記主配管内に前記第2タンク側へ向かう液流を形成する工程と、b) After the step a), the first tank to the second tank communicate with each other through the main pipe, and the downstream side of the second vertical pipe is cut off from the horizontal pipe. However, the decompression unit connected to the second tank via a pipe generates a suction force toward the second tank in the main pipe, thereby moving the second tank to the main pipe. Forming a liquid flow toward
c)前記工程b)の後に、前記第2縦管よりも下流側を前記横管と連通した状態とすることで、前記脱気配管内に溜まった気泡を排出する工程と、c) after the step b), the step of discharging the air bubbles accumulated in the deaeration pipe by bringing the downstream side of the second vertical pipe into communication with the horizontal pipe;
を有する脱気方法。A degassing method.
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