JP6440494B2 - Compound - Google Patents

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    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters

Description

本発明は、染料として有用な化合物等(例えば、着色硬化性樹脂組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置)に関する。   The present invention relates to a compound useful as a dye (for example, a colored curable resin composition, a color filter, a liquid crystal display device).

染料は、例えば、繊維材料、液晶表示装置、インクジェット等の分野で反射光又は透過光を利用して色表示するために使用されている。かかる染料として、クマリン6が知られている(特許文献1)。   Dyes are used for color display using reflected light or transmitted light in the fields of fiber materials, liquid crystal display devices, ink jets, and the like. Coumarin 6 is known as such a dye (Patent Document 1).

特開2006−154740号公報(実施例8)JP 2006-154740 A (Example 8)

前記クマリン化合物を含む着色硬化性樹脂組成物からカラーフィルタを作製する工程では、着色剤が昇華する点が問題であった。着色剤の昇華を抑制する方法としては、着色剤を二量化する方法が知られているものの、着色剤を二量化することは合成上難しい点が問題であった。   In the process of producing a color filter from the colored curable resin composition containing the coumarin compound, the problem is that the colorant sublimates. As a method for suppressing the sublimation of the colorant, a method of dimerizing the colorant is known, but dimerizing the colorant is a problem in terms of synthesis.

そこで、本発明は、着色剤を二量化する必要がないため着色剤の合成が容易で、着色剤が昇華することがないカラーフィルタを与える着色硬化性樹脂組成物の技術を提供することを課題とする。   Therefore, the present invention has an object to provide a technology of a colored curable resin composition that provides a color filter that does not require dimerization of the colorant and that facilitates synthesis of the colorant and that does not sublime the colorant. And

本発明は、以下の発明を含む。
[1] 式(I)で表される化合物。
The present invention includes the following inventions.
[1] A compound represented by the formula (I).

[式(I)中、
Xは、酸素原子又は硫黄原子を表す。
1及びR2は、互いに独立に、炭素数1〜20の炭化水素基を表わす。
nは、1〜4の整数を表す。
Aは、−SO2−L1−OMを表す。
Mは、水素原子又はアルカリ金属原子を表す。Mが複数存在する場合、それらは互いに同一でも相異なっていてもよい。
1は、炭素数1〜60の2価の炭化水素基を表す。該2価の炭化水素基を構成する−CH=は、−N=に置き換わっていてもよく、該2価の炭化水素基を構成する−CH2−は、酸素原子、硫黄原子、−N(R3)−、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該2価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル基、スルファモイル基、−SO3M、−CO2M、ヒドロキシ基、ホルミル基、アルキル基、アルキニル基又はアミノ基に置き換わっていてもよい。
3は、水素原子、炭素数1〜20の1価の炭化水素基又は式(z)で表される基を表す。該1価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又はカルボキシ基で置き換わっていてもよく、該1価の炭化水素基を構成する−CH2−は、カルボニル基に置き換わっていてもよい。
3が複数存在する場合、それらは互いに同一でも相異なっていてもよい。
[In the formula (I),
X represents an oxygen atom or a sulfur atom.
R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
n represents an integer of 1 to 4.
A represents -SO 2 -L 1 -OM.
M represents a hydrogen atom or an alkali metal atom. When a plurality of M are present, they may be the same as or different from each other.
L 1 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 60 carbon atoms. -CH 2 -CH = is constituting the divalent hydrocarbon group, may be replaced in -N =, constituting the divalent hydrocarbon group - represents an oxygen atom, a sulfur atom, -N ( R 3 ) —, a sulfonyl group or a carbonyl group may be substituted, and the hydrogen atom contained in the divalent hydrocarbon group is a halogen atom, cyano group, nitro group, carbamoyl group, sulfamoyl group, —SO 3 M , -CO 2 M, hydroxy group, formyl group, an alkyl group, an alkynyl group or may be substituted with an amino group.
R 3 represents a hydrogen atom, a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a group represented by the formula (z). The hydrogen atom contained in the monovalent hydrocarbon group may be replaced with a halogen atom, a hydroxy group or a carboxy group, and —CH 2 — constituting the monovalent hydrocarbon group is replaced with a carbonyl group. May be.
When a plurality of R 3 are present, they may be the same as or different from each other.

式(z)中、L22及びL33は、それぞれ独立して、炭素数1〜30の2価の炭化水素基を表す。2価の炭化水素基を構成する−CH=は、−N=に置き換わっていてもよく、該2価の炭化水素基を構成する−CH2−は、酸素原子、硫黄原子、−N(R44)−、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該2価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル基、スルファモイル基、−SO3M、−CO2M、ヒドロキシ基、ホルミル基、アルキル基、アルキニル基又はアミノ基に置き換わっていてもよい。
1は、水素原子又はアルカリ金属原子を表す。
44は、水素原子又は炭素数1〜20の1価の炭化水素基を表す。R44が複数存在する場合、それらは互いに同一でも相異なっていてもよい。]
In formula (z), L 22 and L 33 each independently represent a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms. —CH═ constituting a divalent hydrocarbon group may be replaced by —N═, and —CH 2 — constituting the divalent hydrocarbon group may be an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 44 )-, a sulfonyl group or a carbonyl group may be substituted, and the hydrogen atom contained in the divalent hydrocarbon group is a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, -SO 3 M, -CO 2 M, hydroxy group, formyl group, alkyl group, alkynyl group or amino group may be substituted.
M 1 represents a hydrogen atom or an alkali metal atom.
R 44 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. When a plurality of R 44 are present, they may be the same as or different from each other. ]

[2] 前記Aが、−SO2−O−La−OM、−SO2−NR3−Lb−OM、又は−SO2−NR3−L2−OCO−L3−CO−OMである[1]に記載の化合物。 [2] The A is —SO 2 —O—L a —OM, —SO 2 —NR 3 —L b —OM, or —SO 2 —NR 3 —L 2 —OCO—L 3 —CO—OM. The compound according to [1].

[式中、R3は前記に同じ。L及びLは、2価の芳香族炭化水素基及び2価の脂肪族炭化水素基の1つ以上を有する炭素数1〜20の2価の炭化水素基であり、該2価の炭化水素基を構成する−CH2−は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。該2価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、アルキル基、アルキニル基又はカルボキシ基に置き換わっていてもよい。
2及びL3は、互いに独立に、炭素数1〜30の2価の炭化水素基を表す。該2価の炭化水素基を構成する−CH=は、−N=に置き換わっていてもよく、該2価の炭化水素基を構成する−CH2−は、酸素原子、硫黄原子、−N(R55)−、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該2価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル基、スルファモイル基、−SO3M、−CO2M、ヒドロキシ基、ホルミル基、アルキル基、アルキニル基又はアミノ基に置き換わっていてもよい。
Mは、前記と同じ意味を表す。
55は、水素原子又は炭素数1〜20の1価の炭化水素基を表す。R55が複数存在する場合、それらは互いに同一でも相異なっていてもよい。]
[Wherein R 3 is the same as defined above. L a and L b are divalent hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms having at least one of a divalent aromatic hydrocarbon group and a divalent aliphatic hydrocarbon group, —CH 2 — constituting the hydrogen group may be replaced with an oxygen atom or a carbonyl group. The hydrogen atom contained in the divalent hydrocarbon group may be replaced with a halogen atom, an alkyl group, an alkynyl group or a carboxy group.
L 2 and L 3 each independently represent a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms. -CH 2 -CH = is constituting the divalent hydrocarbon group, may be replaced in -N =, constituting the divalent hydrocarbon group - represents an oxygen atom, a sulfur atom, -N ( R 55 ) —, a sulfonyl group or a carbonyl group may be substituted, and the hydrogen atom contained in the divalent hydrocarbon group is a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, —SO 3 M , -CO 2 M, hydroxy group, formyl group, an alkyl group, an alkynyl group or may be substituted with an amino group.
M represents the same meaning as described above.
R55 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. When a plurality of R 55 are present, they may be the same as or different from each other. ]

[3] 式(II)で表される[1]又は[2]に記載の化合物。 [3] The compound according to [1] or [2] represented by the formula (II).

[式(II)中、
n、X、R1、R2、L2、L3及びR55は、上記と同じ意味を表す。
33は、水素原子又は−L22−OCO−L33−CO22を表す。
22及びL33は、前記L2及びL3と同じ意味を表す。
2は、水素原子又はアルカリ金属原子を表す。]
[In the formula (II),
n, X, R 1 , R 2 , L 2 , L 3 and R 55 represent the same meaning as described above.
R 33 represents a hydrogen atom or -L 22 -OCO-L 33 -CO 2 M 2.
L 22 and L 33 represent the same meaning as L 2 and L 3 .
M 2 represents a hydrogen atom or an alkali metal atom. ]

[4] 前記L2及びL22が炭素数1〜10の飽和脂肪族炭化水素基であり、
前記L3及びL33がカルボキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい2価の脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基である[1]〜[3]のいずれかに記載の化合物。
[5] R1及びR2が、互いに独立に、炭素数1〜10の1価の炭化水素基である[1]〜[4]のいずれかに記載の化合物。
[6] [1]〜[5]のいずれかに記載の化合物を含む着色剤、樹脂、重合性化合物、重合開始剤及び溶剤を含む着色硬化性樹脂組成物。
[7] [6]に記載の着色硬化性樹脂組成物から形成されるカラーフィルタ。
[8] [7]に記載のカラーフィルタを含む液晶表示装置。
[4] L 2 and L 22 are a saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms,
The compound according to any one of [1] to [3], wherein L 3 and L 33 are a divalent aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group which may be substituted with a carboxy group or a halogen atom.
[5] The compound according to any one of [1] to [4], wherein R 1 and R 2 are each independently a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.
[6] A colored curable resin composition containing a colorant, a resin, a polymerizable compound, a polymerization initiator, and a solvent containing the compound according to any one of [1] to [5].
[7] A color filter formed from the colored curable resin composition according to [6].
[8] A liquid crystal display device including the color filter according to [7].

本発明によれば、着色剤を二量化する必要がないため着色剤の合成が容易で、着色剤が昇華することがないカラーフィルタを与える着色硬化性樹脂組成物の技術を提供することが可能となる。   According to the present invention, since it is not necessary to dimerize the colorant, it is possible to provide a technique for a colored curable resin composition that provides a color filter that facilitates the synthesis of the colorant and does not sublime the colorant. It becomes.

本発明の化合物は、式(I)及び式(II)で表される化合物(以下、化合物(I)及び化合物(II)ということがある。)である。本発明の化合物には、その互変異性体やそれらの塩も含まれる。   The compound of the present invention is a compound represented by the formula (I) or the formula (II) (hereinafter sometimes referred to as the compound (I) or the compound (II)). The compounds of the present invention include tautomers and salts thereof.

[式(I)中、
Xは、酸素原子又は硫黄原子を表す。
1及びR2は、互いに独立に、炭素数1〜20の炭化水素基を表わす。
nは、1〜4の整数を表す。
Aは、−SO2−L1−OMを表す。
Mは、水素原子又はアルカリ金属原子を表す。Mが複数存在する場合、それらは互いに同一でも相異なっていてもよい。
1は、炭素数1〜60の2価の炭化水素基を表す。該2価の炭化水素基を構成する−CH=は、−N=に置き換わっていてもよく、該2価の炭化水素基を構成する−CH2−は、酸素原子、硫黄原子、−N(R3)−、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該2価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル基、スルファモイル基、−SO3M、−CO2M、ヒドロキシ基、ホルミル基、アルキル基、アルキニル基又はアミノ基に置き換わっていてもよい。
3は、水素原子、炭素数1〜20の1価の炭化水素基又は式(z)で表される基を表す。該1価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又はカルボキシ基で置き換わっていてもよく、該1価の炭化水素基を構成する−CH2−は、カルボニル基に置き換わっていてもよい。
3が複数存在する場合、それらは互いに同一でも相異なっていてもよい。
[In the formula (I),
X represents an oxygen atom or a sulfur atom.
R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
n represents an integer of 1 to 4.
A represents -SO 2 -L 1 -OM.
M represents a hydrogen atom or an alkali metal atom. When a plurality of M are present, they may be the same as or different from each other.
L 1 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 60 carbon atoms. -CH 2 -CH = is constituting the divalent hydrocarbon group, may be replaced in -N =, constituting the divalent hydrocarbon group - represents an oxygen atom, a sulfur atom, -N ( R 3 ) —, a sulfonyl group or a carbonyl group may be substituted, and the hydrogen atom contained in the divalent hydrocarbon group is a halogen atom, cyano group, nitro group, carbamoyl group, sulfamoyl group, —SO 3 M , -CO 2 M, hydroxy group, formyl group, an alkyl group, an alkynyl group or may be substituted with an amino group.
R 3 represents a hydrogen atom, a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a group represented by the formula (z). The hydrogen atom contained in the monovalent hydrocarbon group may be replaced with a halogen atom, a hydroxy group or a carboxy group, and —CH 2 — constituting the monovalent hydrocarbon group is replaced with a carbonyl group. May be.
When a plurality of R 3 are present, they may be the same as or different from each other.

式(z)中、L22及びL33は、それぞれ独立して、炭素数1〜30の2価の炭化水素基を表す。2価の炭化水素基を構成する−CH=は、−N=に置き換わっていてもよく、該2価の炭化水素基を構成する−CH2−は、酸素原子、硫黄原子、−N(R44)−、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該2価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル基、スルファモイル基、−SO3M、−CO2M、ヒドロキシ基、ホルミル基、アルキル基、アルキニル基又はアミノ基に置き換わっていてもよい。
1は、水素原子又はアルカリ金属原子を表す。
44は、水素原子又は炭素数1〜20の1価の炭化水素基を表す。R44が複数存在する場合、それらは互いに同一でも相異なっていてもよい。]
In formula (z), L 22 and L 33 each independently represent a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms. —CH═ constituting a divalent hydrocarbon group may be replaced by —N═, and —CH 2 — constituting the divalent hydrocarbon group may be an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 44 )-, a sulfonyl group or a carbonyl group may be substituted, and the hydrogen atom contained in the divalent hydrocarbon group is a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, -SO 3 M, -CO 2 M, hydroxy group, formyl group, alkyl group, alkynyl group or amino group may be substituted.
M 1 represents a hydrogen atom or an alkali metal atom.
R 44 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. When a plurality of R 44 are present, they may be the same as or different from each other. ]

[式(II)中、
n、X、R1、R2、L2、L3及びR55は、上記と同じ意味を表す。
33は、水素原子又は−L22−OCO−L33−CO22を表す。
22及びL33は、前記L2及びL3と同じ意味を表す。
2は、水素原子又はアルカリ金属原子を表す。]
[In the formula (II),
n, X, R 1 , R 2 , L 2 , L 3 and R 55 represent the same meaning as described above.
R 33 represents a hydrogen atom or -L 22 -OCO-L 33 -CO 2 M 2.
L 22 and L 33 represent the same meaning as L 2 and L 3 .
M 2 represents a hydrogen atom or an alkali metal atom. ]

1及びR2における炭素数1〜20の1価の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、(2−エチル)ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、3−ペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、(3−エチル)ペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、5−メチルヘキシル基、(2−エチル)ヘキシル基、ヘプチル基、(3−エチル)ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、オクダデシル基等の飽和脂肪族炭化水素基、イソプロペニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、1,3−ブタジエニル基、2−ペンテニル基等の不飽和脂肪族炭水素基等の脂肪族炭化水素基;
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、1−メチルシクロヘキシル基、2−メチルシクロヘキシル基、3−メチルシクロヘキシル基、4−メチルシクロヘキシル基、1,2−ジメチルシクロヘキシル基、1,3−ジメチルシクロヘキシル基、1,4−ジメチルシクロヘキシル基、2,3−ジメチルシクロヘキシル基、2,4−ジメチルシクロヘキシル基、2,5−ジメチルシクロヘキシル基、2,6−ジメチルシクロヘキシル基、3,4−ジメチルシクロヘキシル基、3,5−ジメチルシクロヘキシル基、2,2−ジメチルシクロヘキシル基、3,3−ジメチルシクロヘキシル基、4,4−ジメチルシクロヘキシル基、2,4,6−トリメチルシクロヘキシル基、2,2,6,6−テトラメチルシクロヘキシル基、3,3,5,5−テトラメチルシクロヘキシル基等の飽和脂環式炭化水素基、シクロヘキセニル基等の不飽和脂環式炭化水素基;
フェニル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、2,3−ジメチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、メシチル基、o−クメニル基、m−クメニル基、p−クメニル基、2,6−ビス(2−プロピル)フェニル基等の芳香族炭化水素基;等が挙げられ、この他、ベンジル基、フェネチル基、ビフェニリル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等のアラルキル基;及び、それらの組み合わせた基が挙げられる。
Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in R 1 and R 2 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. , (2-ethyl) butyl group, pentyl group, isopentyl group, 3-pentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, (3-ethyl) pentyl group, hexyl group Saturated fats such as hexyl, isohexyl, 5-methylhexyl, (2-ethyl) hexyl, heptyl, (3-ethyl) heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, octadecyl Group hydrocarbon group, isopropenyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, 1,3-butadienyl group, 2-phenyl group An aliphatic hydrocarbon group such as an unsaturated aliphatic hydrocarbon group such as an ntenyl group;
Cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, 1-methylcyclohexyl group, 2-methylcyclohexyl group, 3-methylcyclohexyl group, 4-methylcyclohexyl group, 1,2-dimethylcyclohexyl group, 1 , 3-dimethylcyclohexyl group, 1,4-dimethylcyclohexyl group, 2,3-dimethylcyclohexyl group, 2,4-dimethylcyclohexyl group, 2,5-dimethylcyclohexyl group, 2,6-dimethylcyclohexyl group, 3,4 -Dimethylcyclohexyl group, 3,5-dimethylcyclohexyl group, 2,2-dimethylcyclohexyl group, 3,3-dimethylcyclohexyl group, 4,4-dimethylcyclohexyl group, 2,4,6-trimethylcyclohexyl group, 2,2 , 6,6-Te La methylcyclohexyl group, 3,3,5,5 saturated alicyclic hydrocarbon group such as tetramethyl cyclohexyl group, an unsaturated alicyclic hydrocarbon group such as a cyclohexenyl group;
Phenyl group, o-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, 2,3-dimethylphenyl group, 2,4-dimethylphenyl group, 2,5-dimethylphenyl group, 2,6-dimethylphenyl group, Aromatic such as 3,4-dimethylphenyl group, 3,5-dimethylphenyl group, mesityl group, o-cumenyl group, m-cumenyl group, p-cumenyl group, 2,6-bis (2-propyl) phenyl group Other examples include aralkyl groups such as a benzyl group, a phenethyl group, a biphenylyl group, a 1-naphthyl group, and a 2-naphthyl group; and combinations thereof.

1及びR2は、互いに独立に、炭素数1〜10の1価の炭化水素基であることが好ましい。前記炭素数は1〜8がより好ましく、より好ましくは1〜6である。前記1価の炭化水素基は1価の飽和または不飽和の脂肪族炭化水素基であることがより好ましく、さらに好ましくは1価の飽和の脂肪族炭化水素基である。 R 1 and R 2 are preferably each independently a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. As for the said carbon number, 1-8 are more preferable, More preferably, it is 1-6. The monovalent hydrocarbon group is more preferably a monovalent saturated or unsaturated aliphatic hydrocarbon group, and even more preferably a monovalent saturated aliphatic hydrocarbon group.

1、及びR2としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ヘキシル基、(2−エチル)ヘキシル基及びオクチル基が好ましく、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、(2−エチル)ヘキシル基及びオクチル基が更に好ましい。R1及びR2がこれらの基であれば、式(I)で表される化合物又は式(II)で示される化合物が溶媒へ溶解しやすい。 R 1 and R 2 are preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a hexyl group, a (2-ethyl) hexyl group and an octyl group, and an ethyl group, a butyl group, a hexyl group, ( 2-Ethyl) hexyl group and octyl group are more preferred. When R 1 and R 2 are these groups, the compound represented by the formula (I) or the compound represented by the formula (II) is easily dissolved in the solvent.

Xは、酸素原子又は硫黄原子を表す。   X represents an oxygen atom or a sulfur atom.

nは、1〜4の整数を表す。nは好ましくは1〜3、より好ましくは1又は2である。   n represents an integer of 1 to 4. n is preferably 1 to 3, more preferably 1 or 2.

Aは、−SO2−L1−OMを表す。Aは、−SO2−O−La−OM、−SO2−NR3−Lb−OM、又は−SO2−NR3−L2−OCO−L3−CO−OMであることが好ましい。 A represents -SO 2 -L 1 -OM. A is preferably —SO 2 —O—L a —OM, —SO 2 —NR 3 —L b —OM, or —SO 2 —NR 3 —L 2 —OCO-L 3 —CO—OM. .

1は、炭素数1〜60の2価の炭化水素基を表す。L1は、好ましくは炭素数1〜30の2価の炭化水素基であり、より好ましくは炭素数1〜20の2価の炭化水素基である。 L 1 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 60 carbon atoms. L 1 is preferably a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, and more preferably a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.

1において、前記2価の炭化水素基は、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基(プロピレン基)、プロパン−1,2−ジイル基(プロピレン基)、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ヘプタン−1,7−ジイル基、オクタン−1,8−ジイル基、ノナン−1,9−ジイル基、デカン−1,10−ジイル基、ウンデカン−1,11−ジイル基、ドデカン−1,12−ジイル基、トリデカン−1,13−ジイル基、、テトラデカン−1,14−ジイル基、、ペンタデカン−1,15−ジイル基、、ヘキサデカン−1,16−ジイル基、ヘプタデカン−1,17−ジイル基、オクタデカン−1,18−ジイル基、ノナデカン−1,19−ジイル基、エイコサン−1,20−ジイル基、トリアコンタン−1,30−ジイル基、テトラコンタン−1,40−ジイル基、ペンタコンタン−1,50−ジイル基、ヘキサコンタン−1,60−ジイル基等の直鎖状のアルカンジイル基、メチル−エチル−1,2−ジイル基(メチルエチレン基)、ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基、エタン−1,1−ジイル基、プロパン−1,1−ジイル基、プロパン−2,2−ジイル基等の分岐鎖状のアルカンジイル基等の脂肪族炭化水素基であってもよい。 In L 1 , the divalent hydrocarbon group includes a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group (propylene group), a propane-1,2-diyl group (propylene group), and butane-1,4. -Diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane -1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group, dodecane-1,12-diyl group, tridecane-1,13-diyl group, tetradecane-1,14-diyl group, pentadecane-1, 15-diyl group, hexadecane-1,16-diyl group, heptadecane-1,17-diyl group, octadecane-1,18-diyl group, nonadecane-1,19-diyl group, eicosane-1,20- Linear alkanediyl such as yl group, triacontane-1,30-diyl group, tetracontane-1,40-diyl group, pentacontane-1,50-diyl group, hexacontan-1,60-diyl group Group, methyl-ethyl-1,2-diyl group (methylethylene group), butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group , Pentane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group, ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-2,2-diyl group, etc. It may be an aliphatic hydrocarbon group such as a chain alkanediyl group.

1において、前記2価の炭化水素基は、単環型でも多環型でもよい脂環式炭化水素基であってもよく、シクロブタン−1,3−ジイル基、シクロペンタン−1,3−ジイル基、シクロヘキサン−1,2−ジイル基、1−メチルシクロヘキサン−1,2−ジイル基、シクロヘキサン−1,4−ジイル基、シクロオクタン−1,2−ジイル基、シクロオクタン−1,5−ジイル基等の単環型シクロアルカンジイル基等、ノルボルナン−2,3−ジイル基、ノルボルナン−1,4−ジイル基、ノルボルナン−2,5−ジイル基、アダマンタン−1,2−ジイル基、アダマンタン−1,5−ジイル基、アダマンタン−2,6−ジイル基等の多環型シクロアルカンジイル基等の脂環式炭化水素基であってもよい。 In L 1 , the divalent hydrocarbon group may be an alicyclic hydrocarbon group which may be monocyclic or polycyclic, and may be a cyclobutane-1,3-diyl group, cyclopentane-1,3- Diyl group, cyclohexane-1,2-diyl group, 1-methylcyclohexane-1,2-diyl group, cyclohexane-1,4-diyl group, cyclooctane-1,2-diyl group, cyclooctane-1,5- Monocyclic cycloalkanediyl group such as diyl group, norbornane-2,3-diyl group, norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,2-diyl group, adamantane It may be an alicyclic hydrocarbon group such as a polycyclic cycloalkanediyl group such as a -1,5-diyl group or an adamantane-2,6-diyl group.

1において、前記2価の炭化水素基は、単環又は多環の芳香族炭化水素基であってもよく、フェニレン基等の単環芳香族炭化水素基、ナフタレン基、ビフェニレン基、トリフェニレン基等の多環芳香族炭化水素基であってもよい。 In L 1 , the divalent hydrocarbon group may be a monocyclic or polycyclic aromatic hydrocarbon group, a monocyclic aromatic hydrocarbon group such as a phenylene group, a naphthalene group, a biphenylene group, or a triphenylene group. It may be a polycyclic aromatic hydrocarbon group such as.

1において、前記2価の炭化水素基は、これら脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、及び芳香族炭化水素基からなる群より選択される1種以上の組み合わせでもよい。 In L 1 , the divalent hydrocarbon group may be one or more combinations selected from the group consisting of an aliphatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, and an aromatic hydrocarbon group.

1において、該2価の炭化水素基を構成する−CH=は、−N=に置き換わっていてもよく、該2価の炭化水素基を構成する−CH2−は、酸素原子、硫黄原子、−N(R3)−、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該2価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル基、スルファモイル基、−SO3M、−CO2M、ヒドロキシ基、ホルミル基、t−ブチル基等のアルキル基、フェニルエチニル基、エチニル基等のアルキニル基又はアミノ基に置き換わっていてもよい。 In L 1 , —CH═ constituting the divalent hydrocarbon group may be replaced by —N═, and —CH 2 — constituting the divalent hydrocarbon group is an oxygen atom or a sulfur atom. , —N (R 3 ) —, a sulfonyl group or a carbonyl group, and the hydrogen atom contained in the divalent hydrocarbon group includes a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, An alkyl group such as —SO 3 M, —CO 2 M, a hydroxy group, a formyl group, or a t-butyl group, an alkynyl group such as a phenylethynyl group, an ethynyl group, or an amino group may be substituted.

1で表される基としては、式(L1−1)〜式(L1−43)で表される基が挙げられる。●は、硫黄原子との結合手を表す。○は酸素原子との結合手を表す。 Examples of the group represented by L 1 include groups represented by formula (L1-1) to formula (L1-43). ● represents a bond with a sulfur atom. ○ represents a bond with an oxygen atom.

1で表される基としては、式(L1−9)〜式(L1−19)及び式(L1−25)〜式(L1−43)で表される基が好ましく、式(L1−9)〜式(L1−12)、式(L1−14)、式(L1−17)〜式(L1−19)及び式(L1−25)〜式(L1−43)で表される基が更に好ましく、式(L1−31)〜(L1−34)が更により好ましい。L1で表される基がこれらの基であれば、合成が容易である。なお、上記化学式中の芳香族環は、1位及び4位、又は1位及び2位にそれぞれ結合手を有する化合物として例示されているが、1位及び4位の結合手が1位及び2位の結合手になっていてもよく、1位及び2位の結合手が1位及び4位の結合手になっていてもよい。 As the group represented by L 1 , groups represented by formula (L1-9) to formula (L1-19) and formula (L1-25) to formula (L1-43) are preferable, and formula (L1-9) ) To formula (L1-12), formula (L1-14), formula (L1-17) to formula (L1-19), and groups represented by formula (L1-25) to formula (L1-43) Preferably, formulas (L1-31) to (L1-34) are even more preferable. If the group represented by L1 is any of these groups, the synthesis is easy. In addition, although the aromatic ring in the said chemical formula is illustrated as a compound which has a bond in 1-position and 4 position, or 1-position and 2-position, respectively, the bond of 1-position and 4-position is 1-position and 2 The bond at the first position and the bond at the 1st and 2nd positions may be the bond at the 1st and 4th positions.

a及びLbは、2価の芳香族炭化水素基及び2価の脂肪族炭化水素基の1つ以上を有する炭素数1〜20の2価の炭化水素基であることが好ましく、より好ましくは2価の芳香族炭化水素基及び2価の飽和脂肪族炭化水素基の1つ以上を有する炭素数1〜10の2価の炭化水素基であり、さらに好ましくはフェニレン基、メチレン基、エチレン基、メチルエチレン基、及びプロピレン基からなる群より選択される1種以上である。 L a and L b are preferably a C 1-20 divalent hydrocarbon group having one or more of a divalent aromatic hydrocarbon group and a divalent aliphatic hydrocarbon group, more preferably. Is a C1-C10 divalent hydrocarbon group having one or more of a divalent aromatic hydrocarbon group and a divalent saturated aliphatic hydrocarbon group, more preferably a phenylene group, a methylene group, ethylene One or more selected from the group consisting of a group, a methylethylene group, and a propylene group.

a及びLbにおいて、該2価の炭化水素基を構成する−CH2−は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。該2価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、t−ブチル基等のアルキル基、フェニルエチニル基、エチニル基等のアルキニル基又はカルボキシ基に置き換わっていてもよい。 In L a and L b , —CH 2 — constituting the divalent hydrocarbon group may be replaced with an oxygen atom or a carbonyl group. The hydrogen atom contained in the divalent hydrocarbon group may be replaced with a halogen atom, an alkyl group such as a t-butyl group, an alkynyl group such as a phenylethynyl group or an ethynyl group, or a carboxy group.

2及びL3は、互いに独立に、炭素数1〜30の2価の炭化水素基を表す。 L 2 and L 3 each independently represent a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms.

2及びL3は、例えば炭素数1〜30の飽和又は不飽和の2価の脂肪族炭化水素基及び2価の芳香族炭化水素基の1つ以上であり、好ましくは炭素数1〜20の直鎖状又は分岐鎖状の2価の脂肪族炭化水素基及び芳香族炭化水素基の1つ以上である。具体的なL2及びL3は、本願明細書に記載される2価の炭化水素基として記載される基が挙げられる。 L 2 and L 3 are, for example, one or more of a saturated or unsaturated divalent aliphatic hydrocarbon group and a divalent aromatic hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, preferably 1 to 20 carbon atoms. Or one or more of a linear or branched divalent aliphatic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group. Specific examples of L 2 and L 3 include groups described as divalent hydrocarbon groups described in the present specification.

2及びL3において、該2価の炭化水素基を構成する−CH=は、−N=に置き換わっていてもよく、該2価の炭化水素基を構成する−CH2−は、酸素原子、硫黄原子、−N(R55)−、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該2価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル基、スルファモイル基、−SO3M、−CO2M、ヒドロキシ基、ホルミル基、t−ブチル基等のアルキル基、フェニルエチニル基、エチニル基等のアルキニル基又はアミノ基に置き換わっていてもよい。 In L 2 and L 3 , —CH═ constituting the divalent hydrocarbon group may be replaced by —N═, and —CH 2 — constituting the divalent hydrocarbon group is an oxygen atom , A sulfur atom, —N (R 55 ) —, a sulfonyl group or a carbonyl group, and the hydrogen atom contained in the divalent hydrocarbon group includes a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a carbamoyl group, Alkyl groups such as sulfamoyl group, —SO 3 M, —CO 2 M, hydroxy group, formyl group, t-butyl group, alkynyl group such as phenylethynyl group, ethynyl group, or amino group may be substituted.

2及びL3としては、式(L23−1)〜式(L23−22)で表される基が挙げられる。●は結合手を表す。 Examples of L 2 and L 3 include groups represented by formulas (L23-1) to (L23-22). ● represents a bond.

2としては、式(L23−1)〜式(L23−4)で表される基が好ましく、式(L23−1)及び式(L23−2)で表される基が更に好ましい。L2がこれらの基であれば、合成が容易である。 L 2 is preferably a group represented by Formula (L23-1) to Formula (L23-4), and more preferably a group represented by Formula (L23-1) or Formula (L23-2). When L 2 is these groups, the synthesis is easy.

3としては、式(L23−1)、式(L23−2)及び式(L23−5)〜式(L23−20)で表される基が好ましく、式(L23−1)、式(L23−2)、式(L23−5)、式(L23−7)〜式(L23−10)、式(L23−13)〜式(L23−20)で表される基が更に好ましい。L3がこれらの基であれば、合成が容易である。 L 3 is preferably a group represented by Formula (L23-1), Formula (L23-2), and Formula (L23-5) to Formula (L23-20). Formula (L23-1) and Formula (L23 -2), groups represented by formula (L23-5), formula (L23-7) to formula (L23-10), formula (L23-13) to formula (L23-20) are more preferable. When L 3 is these groups, the synthesis is easy.

3は、水素原子、炭素数1〜20の1価の炭化水素基又は式(z)で表される基を表す。 R 3 represents a hydrogen atom, a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a group represented by the formula (z).

式(z)で表される基としては以下のものが挙げられる。   Examples of the group represented by the formula (z) include the following.

式(z)中、L22及びL33は、それぞれ独立して、炭素数1〜30の2価の炭化水素基を表す。 In formula (z), L 22 and L 33 each independently represent a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms.

22及びL33は、上述したL2及びL3と同じ意味を表す。 L 22 and L 33 represent the same meaning as L 2 and L 3 described above.

3の炭素数1〜20の1価の炭化水素基としては、前記R1、R2で例示した、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、及び芳香族炭化水素基から選択される1種以上の炭化水素基が挙げられる。 The monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms of R 3 is selected from the aliphatic hydrocarbon group, alicyclic hydrocarbon group, and aromatic hydrocarbon group exemplified in the above R 1 and R 2. And one or more hydrocarbon groups.

3において、該1価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又はカルボキシ基で置き換わっていてもよく、該1価の炭化水素基を構成する−CH2−は、カルボニル基に置き換わっていてもよい。R3が複数存在する場合、それらは互いに同一でも相異なっていてもよい。 In R 3 , a hydrogen atom contained in the monovalent hydrocarbon group may be replaced by a halogen atom, a hydroxy group or a carboxy group, and —CH 2 — constituting the monovalent hydrocarbon group is a carbonyl It may be replaced with a group. When a plurality of R 3 are present, they may be the same as or different from each other.

例えば、L2及びL22は炭素数1〜10の飽和脂肪族炭化水素基であり、L3及びL33はカルボキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい2価の脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基であることが好ましく、より好ましくはL2及びL22は、エチレン基又はメチルエチレン基であり、L3及びL33は、カルボキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよいエチレン基又はフェニレン基である。 For example, L 2 and L 22 are each a saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and L 3 and L 33 are divalent aliphatic hydrocarbon groups that may be substituted with a carboxy group or a halogen atom, or It is preferably an aromatic hydrocarbon group, more preferably L 2 and L 22 are an ethylene group or a methylethylene group, and L 3 and L 33 are ethylenes optionally substituted with a carboxy group or a halogen atom. Group or phenylene group.

22及びL33において、該2価の炭化水素基を構成する−CH=は、−N=に置き換わっていてもよく、該2価の炭化水素基を構成する−CH2−は、酸素原子、硫黄原子、−N(R44)−、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該2価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル基、スルファモイル基、−SO3M、−CO2M、ヒドロキシ基、ホルミル基、t−ブチル基等のアルキル基、フェニルエチニル基、エチニル基等のアルキニル基又はアミノ基に置き換わっていてもよい。 In L 22 and L 33 , —CH═ constituting the divalent hydrocarbon group may be replaced by —N═, and —CH 2 — constituting the divalent hydrocarbon group is an oxygen atom , A sulfur atom, —N (R 44 ) —, a sulfonyl group or a carbonyl group, and the hydrogen atom contained in the divalent hydrocarbon group includes a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a carbamoyl group, Alkyl groups such as sulfamoyl group, —SO 3 M, —CO 2 M, hydroxy group, formyl group, t-butyl group, alkynyl group such as phenylethynyl group, ethynyl group, or amino group may be substituted.

1は、水素原子又はアルカリ金属原子を表す。 M 1 represents a hydrogen atom or an alkali metal atom.

33は、水素原子又は−L22−OCO−L33−CO22を表す。 R 33 represents a hydrogen atom or -L 22 -OCO-L 33 -CO 2 M 2.

44、R55は、水素原子又は炭素数1〜20の1価の炭化水素基を表す。R44、R55が複数存在する場合、それらは互いに同一でも相異なっていてもよい。R44、R55は、前記R1、R2で例示した、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、及び芳香族炭化水素基から選択される1種以上の炭化水素基であってもよい。 R 44 and R 55 represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. When a plurality of R 44 and R 55 are present, they may be the same as or different from each other. R 44 and R 55 are one or more hydrocarbon groups selected from the aliphatic hydrocarbon groups, alicyclic hydrocarbon groups, and aromatic hydrocarbon groups exemplified in the above R 1 and R 2. Also good.

M、M2は、水素原子又はアルカリ金属原子を表し、好ましくは水素原子、ナトリウム原子又はカリウム原子であり、より好ましくは水素原子である。これらが複数存在する場合、それらは互いに同一でも相異なっていてもよい。 M and M 2 represent a hydrogen atom or an alkali metal atom, preferably a hydrogen atom, a sodium atom or a potassium atom, and more preferably a hydrogen atom. When a plurality of these are present, they may be the same as or different from each other.

ハロゲン原子としては、塩素原子、フッ素原子、臭素原子,ヨウ素原子が挙げられる。   Examples of the halogen atom include a chlorine atom, a fluorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

式(I)で表される化合物及び式(II)で表される化合物の具体例を表1〜表4に示す。表1〜表8中、「Et」はエチル基を表し、「Oct」はn−オクチル基を表し、L1−1〜L1−43はそれぞれ上記に例示した式(L1−1)〜式(L1−43)で表される基を表す。   Specific examples of the compound represented by the formula (I) and the compound represented by the formula (II) are shown in Tables 1 to 4. In Tables 1 to 8, “Et” represents an ethyl group, “Oct” represents an n-octyl group, and L1-1 to L1-43 represent Formulas (L1-1) to (L1) exemplified above, respectively. -43).

合成が容易である観点から、
式(I−9)〜式(I−19)、
式(I−25)〜式(I−43)、
式(I−52)〜式(I−62)、
式(I−68)〜式(I−86)、
式(I−95)〜式(I−105)、
式(I−111)〜式(I−129)、
式(I−138)〜式(I−148)及び
式(I−154)〜式(I−172)で表される化合物が好ましく、
式(I−9)〜式(I−12)、
式(I−14)、
式(I−17)〜式(I−19)、
式(I−25)〜式(I−43)、
式(I−52)〜式(I−55)、
式(I−57)、
式(I−60)〜式(I−62)、
式(I−68)〜式(I−86)、
式(I−95)〜式(I−98)、
式(I−100)、
式(I−103)〜式(I−105)、
式(I−111)〜式(I−129)、
式(I−138)〜式(I−141)、
式(I−143)、
式(I−146)〜式(I−148)及び
式(I−154)〜式(I−172)で表される化合物が更に好ましく、
式(I−10)、式(I−33)、式(I−34)、式(I−96)、式(I−117)、式(I−118)、式(I−119)、式(I−120)で表される化合物が特に好ましい。
From the viewpoint of easy synthesis,
Formula (I-9) to Formula (I-19),
Formula (I-25) to Formula (I-43),
Formula (I-52) to Formula (I-62),
Formula (I-68) to Formula (I-86),
Formula (I-95) to Formula (I-105),
Formula (I-111) to Formula (I-129),
Compounds represented by formula (I-138) to formula (I-148) and formula (I-154) to formula (I-172) are preferred,
Formula (I-9) to Formula (I-12),
Formula (I-14),
Formula (I-17) to Formula (I-19),
Formula (I-25) to Formula (I-43),
Formula (I-52) to Formula (I-55),
Formula (I-57),
Formula (I-60) to Formula (I-62),
Formula (I-68) to Formula (I-86),
Formula (I-95) to Formula (I-98),
Formula (I-100),
Formula (I-103) to Formula (I-105),
Formula (I-111) to Formula (I-129),
Formula (I-138) to Formula (I-141),
Formula (I-143),
More preferred are compounds represented by formula (I-146) to formula (I-148) and formula (I-154) to formula (I-172),
Formula (I-10), Formula (I-33), Formula (I-34), Formula (I-96), Formula (I-117), Formula (I-118), Formula (I-119), Formula The compound represented by (I-120) is particularly preferable.

化合物(I)の製造方法としては、式(pa1)で表される化合物とクロロスルホン酸を反応させて、式(pa2)で表される化合物を製造し、続いて、式(pa2)で表される化合物と式(pa3)で表される化合物を、溶媒存在下、反応させることにより製造することができる。   As a method for producing compound (I), a compound represented by formula (pa2) is reacted with chlorosulfonic acid to produce a compound represented by formula (pa2), and then represented by formula (pa2). The compound represented by the formula (pa3) can be produced by reacting in the presence of a solvent.

式(pa1)で表される化合物とクロロスルホン酸の反応温度は、0℃〜200℃が好ましく、30℃〜150℃がより好ましく、その中でも50℃〜150℃がより好ましい。   The reaction temperature between the compound represented by the formula (pa1) and chlorosulfonic acid is preferably 0 ° C to 200 ° C, more preferably 30 ° C to 150 ° C, and more preferably 50 ° C to 150 ° C.

式(pa2)で表される化合物と式(pa3)で表される化合物の反応温度は、−100℃〜100℃が好ましく、−78℃〜80℃がより好ましく、その中でも0℃〜60℃がより好ましい。   The reaction temperature of the compound represented by the formula (pa2) and the compound represented by the formula (pa3) is preferably −100 ° C. to 100 ° C., more preferably −78 ° C. to 80 ° C., and of these, 0 ° C. to 60 ° C. Is more preferable.

式(pa2)で表される化合物と式(pa3)で表される化合物の反応に用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、アセトン、3−メチル−2−ペンタノン、酢酸エチル、ヘキサン、トルエン、塩化メチレン、クロロホルム、N,N−ジメチルホルムアルデヒド及びN−メチルピロリドン等が挙げられ、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアルデヒド及びN−メチルピロリドンが好ましい。   Solvents used for the reaction of the compound represented by the formula (pa2) and the compound represented by the formula (pa3) include methanol, ethanol, isopropyl alcohol, acetonitrile, tetrahydrofuran, acetone, 3-methyl-2-pentanone, acetic acid. Examples thereof include ethyl, hexane, toluene, methylene chloride, chloroform, N, N-dimethylformaldehyde and N-methylpyrrolidone, and acetonitrile, N, N-dimethylformaldehyde and N-methylpyrrolidone are preferable.

式(pa2)で表される化合物と式(pa3)で表される化合物を、塩基又はアルカリ金属存在下で反応させることもできる。前記塩基としては、3級アミン、ピリジン骨格を有する化合物及び有機金属化合物が好ましく、具体的には、トリエチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、メチルリチウム、フェニルリチウム、ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム及びtert−ブチルリチウム等が挙げられ、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン及びブチルリチウムが好ましい。前記アルカリ金属としては、ナトリウム及びリチウム等が挙げられ、リチウムが好ましい。   The compound represented by the formula (pa2) and the compound represented by the formula (pa3) can also be reacted in the presence of a base or an alkali metal. As the base, tertiary amine, a compound having a pyridine skeleton and an organometallic compound are preferable. Specifically, triethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, methyllithium, phenyllithium, butyllithium, sec-butyllithium and Examples include tert-butyllithium, and pyridine, 4-dimethylaminopyridine and butyllithium are preferable. Examples of the alkali metal include sodium and lithium, and lithium is preferable.

[式(pa1)、式(pa2)及び式(pa3)中、R1〜R2、X、n、L1及びMは上記と同じ意味を表す。
式(pa3)中、XXは、水素原子、ハロゲン原子、*−O−トシル基又は*−O−メシル基を表す。*は結合手を表す。]
[In formula (pa1), formula (pa2) and formula (pa3), R 1 to R 2 , X, n, L 1 and M represent the same meaning as described above.
In formula (pa3), XX represents a hydrogen atom, a halogen atom, * -O-tosyl group or * -O-mesyl group. * Represents a bond. ]

化合物(pa2)の製造において、クロロスルホン酸の使用量は、式(pa1)で表される化合物1モルに対して、通常1モル〜100モルであり、好ましくは5モル〜60モルであり、より好ましくは10モル〜40モルである。   In the production of the compound (pa2), the amount of chlorosulfonic acid used is usually 1 mol to 100 mol, preferably 5 mol to 60 mol, relative to 1 mol of the compound represented by the formula (pa1). More preferably, it is 10 mol-40 mol.

化合物(I)の製造において、式(pa3)で表される化合物の使用量は、式(pa2)で表される化合物1モルに対して、通常1モル〜100モルであり、好ましくは1モル〜80モルであり、より好ましくは1〜60モルである。   In the production of compound (I), the amount of the compound represented by formula (pa3) to be used is generally 1 mol to 100 mol, preferably 1 mol, relative to 1 mol of compound represented by formula (pa2). It is -80 mol, More preferably, it is 1-60 mol.

化合物(II)の製造方法としては、式(pa4)で表される化合物と式(pa5)で表される化合物を、塩基及び溶媒存在下、反応させることにより製造することができる。
反応温度は、0℃〜200℃が好ましく、0℃〜150℃がより好ましく、その中でも50℃〜150℃がより好ましい。
The compound (II) can be produced by reacting the compound represented by the formula (pa4) and the compound represented by the formula (pa5) in the presence of a base and a solvent.
The reaction temperature is preferably 0 ° C to 200 ° C, more preferably 0 ° C to 150 ° C, and more preferably 50 ° C to 150 ° C.

反応時間は、1時間〜36時間が好ましく、2時間〜30時間がより好ましく、3時間〜28時間がさらに好ましい。   The reaction time is preferably 1 hour to 36 hours, more preferably 2 hours to 30 hours, and further preferably 3 hours to 28 hours.

前記塩基としては、3級アミン及びピリジン骨格を有する化合物が好ましく、具体的には、トリエチルアミン、ピリジン及び4−ジメチルアミノピリジン等が挙げられ、ピリジン及び4−ジメチルアミノピリジンが好ましい。   As the base, a compound having a tertiary amine and a pyridine skeleton is preferable, and specific examples include triethylamine, pyridine and 4-dimethylaminopyridine, and pyridine and 4-dimethylaminopyridine are preferable.

前記溶媒としては、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、アセトン、3−メチル−2−ペンタノン、酢酸エチル、ヘキサン、トルエン、塩化メチレン、クロロホルム、N,N−ジメチルホルムアルデヒド及びN−メチルピロリドン等が挙げられ、N,N−ジメチルホルムアルデヒド及びN−メチルピロリドンが好ましい。   Examples of the solvent include acetonitrile, tetrahydrofuran, acetone, 3-methyl-2-pentanone, ethyl acetate, hexane, toluene, methylene chloride, chloroform, N, N-dimethylformaldehyde, N-methylpyrrolidone, and the like. -Dimethylformaldehyde and N-methylpyrrolidone are preferred.

[式(pa4)及び式(pa5)中、X、R1〜R2、L2〜L3、R33及びnは上記と同じ意味を表す。] [In formula (pa4) and formula (pa5), X, R 1 to R 2 , L 2 to L 3 , R 33 and n represent the same meaning as described above. ]

化合物(II)の製造において、式(pa5)で表される化合物の使用量は、式(pa4)で表される化合物1モルに対して、通常1モル〜200モルであり、好ましくは1モル〜160モルであり、より好ましくは1モル〜140モルである。   In the production of compound (II), the amount of the compound represented by formula (pa5) to be used is generally 1 mol to 200 mol, preferably 1 mol, per 1 mol of compound represented by formula (pa4). It is -160 mol, More preferably, it is 1 mol -140 mol.

化合物(II)の製造において、3級アミン及びピリジン骨格を有する化合物の使用量は、式(pa4)で表される化合物1モルに対して、通常0.1モル〜80モルであり、好ましくは0.1モル〜60モルであり、より好ましくは0.1〜45モルである。   In the production of compound (II), the amount of the compound having a tertiary amine and a pyridine skeleton is usually 0.1 mol to 80 mol with respect to 1 mol of the compound represented by formula (pa4), preferably It is 0.1 mol-60 mol, More preferably, it is 0.1-45 mol.

式(pa4)の製造方法としては、式(pa2)で表される化合物と式(pa6)で表される化合物を溶媒存在下、反応させることにより製造することができる。   As a manufacturing method of Formula (pa4), it can manufacture by making the compound represented by Formula (pa2) and the compound represented by Formula (pa6) react in solvent presence.

式(pa2)で表される化合物と式(pa6)で表される化合物の反応温度は、0℃〜100℃が好ましく、0℃〜80℃がより好ましく、その中でも0℃〜60℃がより好ましい。   The reaction temperature of the compound represented by the formula (pa2) and the compound represented by the formula (pa6) is preferably 0 ° C to 100 ° C, more preferably 0 ° C to 80 ° C, and more preferably 0 ° C to 60 ° C. preferable.

式(pa2)で表される化合物と式(pa6)で表される化合物の反応に用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、アセトン、3−メチル−2−ペンタノン、酢酸エチル、ヘキサン、トルエン、塩化メチレン、クロロホルム、N,N−ジメチルホルムアルデヒド及びN−メチルピロリドン等が挙げられ、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアルデヒド及びN−メチルピロリドンが好ましい。   As a solvent used for the reaction of the compound represented by the formula (pa2) and the compound represented by the formula (pa6), methanol, ethanol, isopropyl alcohol, acetonitrile, tetrahydrofuran, acetone, 3-methyl-2-pentanone, acetic acid Examples thereof include ethyl, hexane, toluene, methylene chloride, chloroform, N, N-dimethylformaldehyde and N-methylpyrrolidone, and acetonitrile, N, N-dimethylformaldehyde and N-methylpyrrolidone are preferable.

[式(pa6)中、R33及びL2は上記と同じ意味を表す。] [In the formula (pa6), R 33 and L 2 represent the same meaning as described above. ]

化合物(pa4)の製造において、式(pa6)で表される化合物の使用量は、式(pa2)で表される化合物1モルに対して、通常1モル〜100モルであり、好ましくは1モル〜80モルであり、より好ましくは1〜60モルである。   In the production of compound (pa4), the amount of the compound represented by formula (pa6) to be used is generally 1 mol to 100 mol, preferably 1 mol, per 1 mol of compound represented by formula (pa2). It is -80 mol, More preferably, it is 1-60 mol.

式(pa2)で表される化合物は、溶媒存在下、N,N−ジメチルホルムアミドと塩化チオニル、オキシ塩化リン、五塩化リン又は塩化オキサリルを用いたVilsmeier反応によって、式(pa7)で表される化合物から合成することができる。   The compound represented by the formula (pa2) is represented by the formula (pa7) by a Vilsmeier reaction using N, N-dimethylformamide and thionyl chloride, phosphorus oxychloride, phosphorus pentachloride or oxalyl chloride in the presence of a solvent. It can be synthesized from a compound.

[式(pa7)中、R1〜R2、X及びnは上記と同じ意味を表す。
M’は、水素原子、アルカリ金属原子又はNH4を表す。M’が複数存在する場合、それらは互いに同一でも相異なっていてもよい。]
[In the formula (pa7), R 1 to R 2 , X and n represent the same meaning as described above.
M ′ represents a hydrogen atom, an alkali metal atom or NH 4 . When a plurality of M ′ are present, they may be the same as or different from each other. ]

反応温度は、0℃〜200℃が好ましく、0℃〜150℃がより好ましく、その中でも0℃〜100℃がより好ましい。   The reaction temperature is preferably 0 ° C to 200 ° C, more preferably 0 ° C to 150 ° C, and more preferably 0 ° C to 100 ° C.

反応時間は、1時間〜72時間が好ましく、1時間〜48時間がより好ましく、1時間〜24時間がさらに好ましい。   The reaction time is preferably 1 hour to 72 hours, more preferably 1 hour to 48 hours, and further preferably 1 hour to 24 hours.

前記溶媒としては、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、アセトン、3−メチル−2−ペンタノン、酢酸エチル、ヘキサン、トルエン、塩化メチレン、クロロホルム、1,4−ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアルデヒド及びN−メチルピロリドン等が挙げられ、アセトニトリル、1,4−ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアルデヒド及びN−メチルピロリドンが好ましい。   Examples of the solvent include acetonitrile, tetrahydrofuran, acetone, 3-methyl-2-pentanone, ethyl acetate, hexane, toluene, methylene chloride, chloroform, 1,4-dioxane, N, N-dimethylformaldehyde and N-methylpyrrolidone. Acetonitrile, 1,4-dioxane, N, N-dimethylformaldehyde and N-methylpyrrolidone are preferable.

式(pa2)で表される化合物の製造において、N,N−ジメチルホルムアミドの使用量は、式(pa7)で表される化合物1モルに対して、通常1モル〜50モルであり、好ましくは1モル〜40モルであり、より好ましくは1モル〜30モルである。   In the production of the compound represented by the formula (pa2), the amount of N, N-dimethylformamide used is usually 1 mol to 50 mol with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (pa7), preferably It is 1 mol-40 mol, More preferably, it is 1 mol-30 mol.

式(pa2)で表される化合物の製造において、塩化チオニル、オキシ塩化リン、五塩化リン又は塩化オキサリルの使用量は、式(pa7)で表される化合物1モルに対して、通常1モル〜50モルであり、好ましくは1モル〜40モルであり、より好ましくは1モル〜30モルである。   In the production of the compound represented by the formula (pa2), the amount of thionyl chloride, phosphorus oxychloride, phosphorus pentachloride or oxalyl chloride used is usually 1 mol to 1 mol of the compound represented by the formula (pa7). It is 50 mol, Preferably it is 1 mol-40 mol, More preferably, it is 1 mol-30 mol.

反応混合物から本発明の化合物(I)、化合物(II)、式(pa2)で表される化合物又は式(pa4)で表される化合物を取得する方法は特に限定されず、公知の種々の手法が採用できる。   The method for obtaining the compound (I), compound (II), compound represented by formula (pa2) or compound represented by formula (pa4) of the present invention from the reaction mixture is not particularly limited, and various known techniques Can be adopted.

例えば、反応混合物を、化合物(I)、化合物(II)、式(pa2)で表される化合物又は式(pa4)で表される化合物が溶解しない溶媒に加える方法で結晶を析出させ該結晶を濾取する方法、反応混合物をテトラヒドロフラン、アセトン、酢酸、酢酸エチル、ヘキサン、トルエン、クロロホルム又はこれらの混合溶液に溶解させ、水、水酸化ナトリウム水溶液、酢酸水溶液、塩酸、塩化ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液又は炭酸ナトリウム水溶液等で洗浄し、次いで乾燥する方法、又は反応混合物の溶媒を留去した後、カラムクロマトグラフィーで精製する方法が挙げられる。   For example, the reaction mixture is added to a solvent in which the compound (I), the compound (II), the compound represented by the formula (pa2) or the compound represented by the formula (pa4) is not dissolved, and the crystals are precipitated. The method of filtration, the reaction mixture is dissolved in tetrahydrofuran, acetone, acetic acid, ethyl acetate, hexane, toluene, chloroform or a mixed solution thereof, water, aqueous sodium hydroxide, aqueous acetic acid, hydrochloric acid, aqueous sodium chloride, sodium bicarbonate Examples include a method of washing with an aqueous solution or an aqueous solution of sodium carbonate and then drying, or a method of purifying by column chromatography after distilling off the solvent of the reaction mixture.

また、カラムクロマトグラフィー又は再結晶等の公知の手法によって、さらに精製してもよい。   Further, it may be further purified by a known technique such as column chromatography or recrystallization.

<本発明の着色剤>
本発明の着色剤(以下、「着色剤(A)」ということがある。)は、化合物(I)又は化合物(II)を有効成分として含有する。着色剤(A)は、化合物(I)又は化合物(II)のみからなってもよいし、化合物(I)又は化合物(II)以外の染料や顔料を含んでもよい。着色剤(A)は、化合物(I)又は化合物(II)に加えて、顔料を含むことが好ましい。着色剤(A)中の化合物(I)又は化合物(II)の含有割合は、通常1〜100質量%であり、3〜100質量%であることが好ましく、3〜70質量%であることがより好ましく、3〜60質量%であることがさらに好ましい。
<Colorant of the present invention>
The colorant of the present invention (hereinafter sometimes referred to as “colorant (A)”) contains compound (I) or compound (II) as an active ingredient. The colorant (A) may consist solely of the compound (I) or the compound (II), or may contain a dye or pigment other than the compound (I) or the compound (II). The colorant (A) preferably contains a pigment in addition to the compound (I) or the compound (II). The content ratio of the compound (I) or the compound (II) in the colorant (A) is usually 1 to 100% by mass, preferably 3 to 100% by mass, and preferably 3 to 70% by mass. More preferably, it is more preferably 3 to 60% by mass.

着色剤(A)は、液晶表示装置等の表示装置のカラーフィルタに用いられる着色感光性樹脂組成物に含まれる着色剤として有用である。   The colorant (A) is useful as a colorant contained in a colored photosensitive resin composition used for a color filter of a display device such as a liquid crystal display device.

化合物(I)又は化合物(II)以外の染料としては、カラーインデックス(Colour Index)(The Society of Dyers and Colourists 出版)で、ソルベント(Solvent)、アシッド(Acid)、ベーシック(Basic)、リアクティブ(reactive)、ダイレクト(Direct)、ディスパース(Disperse)、またはバット(Vat)に分類されている化合物や、染色ノート(色染社)に記載されている公知の染料が挙げられる。また、化学構造によれば、アゾ染料、アントラキノン染料、トリフェニルメタン染料、キサンテン染料及びフタロシアニン染料等が挙げられる。これらの染料は、単独で用いても2種以上を併用してもよい。   As dyes other than Compound (I) or Compound (II), Color Index (published by The Society of Dyers and Colorists), Solvent, Acid, Basic, Reactive ( Examples include compounds classified as reactive, direct, disperse, or vat, and known dyes described in dyeing notes (color dyeing). In addition, according to the chemical structure, azo dyes, anthraquinone dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, phthalocyanine dyes, and the like can be given. These dyes may be used alone or in combination of two or more.

具体的には、以下のようなカラーインデックス(C.I.)番号の染料が挙げられる。
C.I.ソルベントイエロー14、15、23、24、25、38、62、63、68、79、81、82、83、89、94、98、99、162;
C.I.アシッドイエロー1、3、7、9、11、17、23、25、29、34、36、38、40、42、54、65、72、73、76、79、98、99、111、112、113、114、116、119、123、128、134、135、138、139、140、144、150、155、157、160、161、163、168、169、172、177、178、179、184、190、193、196、197、199、202、203、204、205、207、212、214、220、221、228、230、232、235、238、240、242、243、251;
C.I.リアクティブイエロー2、76、116;
C.I.ダイレクトイエロー2、4、28、33、34、35、38、39、43、44、47、50、54、58、68、69、70、71、86、93、94、95、98、102、108、109、129、132、136、138、141;
C.I.ディスパースイエロー51、54、76;
C.I.ソルベントオレンジ2、7、11、15、26、41、54、56、99;
C.I.アシッドオレンジ6、7、8、10、12、26、50、51、52、56、62、63、64、74、75、94、95、107、108、149、162、169、173;
C.I.リアクティブオレンジ16;
C.I.ダイレクトオレンジ26、34、39、41、46、50、52、56、57、61、64、65、68、70、96、97、106、107;
C.I.ソルベントレッド24、49、90、91、111、118、119、122、124、125、127、130、132、143、145、146、150、151、155、160、168、169、172、175、181、207、218、222、227、230、245、247;
C.I.アシッドレッド73、80、91、92、97、138、151、211、274、289;
C.I.アシッドバイオレット34、102;
C.I.ディスパースバイオレット26、27;
C.I.ソルベントバイオレット11、13、14、26、31、36、37、38、45、47、48、51、59、60;
C.I.ソルベントブルー14、18、35、36、45、58、59、59:1、63、68、69、78、79、83、94、97、98、100、101、102、104、105、111、112、122、128、132、136、139;
C.I.アシッドブルー25、27、40、45、78、80、112;
C.I.ダイレクトブルー40;
C.I.ディスパースブルー1、14、56、60;
C.I.ソルベントグリーン1、3、5、28、29、32、33;
C.I.アシッドグリーン3、5、9、25、27、28、41;
C.I.ベーシックグリーン1;
C.I.バットグリーン1等。
Specific examples include dyes having the following color index (CI) numbers.
C. I. Solvent Yellow 14, 15, 23, 24, 25, 38, 62, 63, 68, 79, 81, 82, 83, 89, 94, 98, 99, 162;
C. I. Acid Yellow 1, 3, 7, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 38, 40, 42, 54, 65, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112, 113, 114, 116, 119, 123, 128, 134, 135, 138, 139, 140, 144, 150, 155, 157, 160, 161, 163, 168, 169, 172, 177, 178, 179, 184, 190, 193, 196, 197, 199, 202, 203, 204, 205, 207, 212, 214, 220, 221, 228, 230, 232, 235, 238, 240, 242, 243, 251;
C. I. Reactive Yellow 2, 76, 116;
C. I. Direct Yellow 2, 4, 28, 33, 34, 35, 38, 39, 43, 44, 47, 50, 54, 58, 68, 69, 70, 71, 86, 93, 94, 95, 98, 102, 108, 109, 129, 132, 136, 138, 141;
C. I. Disperse Yellow 51, 54, 76;
C. I. Solvent Orange 2, 7, 11, 15, 26, 41, 54, 56, 99;
C. I. Acid Orange 6, 7, 8, 10, 12, 26, 50, 51, 52, 56, 62, 63, 64, 74, 75, 94, 95, 107, 108, 149, 162, 169, 173;
C. I. Reactive Orange 16;
C. I. Direct Orange 26, 34, 39, 41, 46, 50, 52, 56, 57, 61, 64, 65, 68, 70, 96, 97, 106, 107;
C. I. Solvent Red 24, 49, 90, 91, 111, 118, 119, 122, 124, 125, 127, 130, 132, 143, 145, 146, 150, 151, 155, 160, 168, 169, 172, 175, 181, 207, 218, 222, 227, 230, 245, 247;
C. I. Acid Red 73, 80, 91, 92, 97, 138, 151, 211, 274, 289;
C. I. Acid Violet 34, 102;
C. I. Disperse violet 26, 27;
C. I. Solvent violet 11, 13, 14, 26, 31, 36, 37, 38, 45, 47, 48, 51, 59, 60;
C. I. Solvent Blue 14, 18, 35, 36, 45, 58, 59, 59: 1, 63, 68, 69, 78, 79, 83, 94, 97, 98, 100, 101, 102, 104, 105, 111, 112, 122, 128, 132, 136, 139;
C. I. Acid Blue 25, 27, 40, 45, 78, 80, 112;
C. I. Direct blue 40;
C. I. Disperse Blue 1, 14, 56, 60;
C. I. Solvent Green 1, 3, 5, 28, 29, 32, 33;
C. I. Acid Green 3, 5, 9, 25, 27, 28, 41;
C. I. Basic Green 1;
C. I. Bat Green 1 etc.

顔料としては、特に限定されず公知の顔料を使用することができる。例えば、カラーインデックス(The Society of Dyers and Colourists出版)でピグメントに分類されている顔料が挙げられ、これらを単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   The pigment is not particularly limited, and a known pigment can be used. For example, pigments classified as pigments in the color index (published by The Society of Dyers and Colorists) can be mentioned, and these can be used alone or in combination of two or more.

具体的には、C.I.ピグメントイエロー1、3、12、13、14、15、16、17、20、24、31、53、83、86、93、94、109、110、117、125、128、129、137、138、139、147、148、150、153、154、166、173、194、214等の黄色顔料;
C.I.ピグメントオレンジ13、31、36、38、40、42、43、51、55、59、61、64、65、71、73等のオレンジ色顔料;
C.I.ピグメントレッド9、97、105、122、123、144、149、166、168、176、177、180、192、209、215、216、224、242、254、255、264、265等の赤色顔料;
C.I.ピグメントブルー15、15:3、15:4、15:6、60等の青色顔料;
C.I.ピグメントバイオレット1、19、23、29、32、36、38等のバイオレット色顔料;
C.I.ピグメントグリーン7、36、58等の緑色顔料;
C.I.ピグメントブラウン23、25等のブラウン色顔料;および
C.I.ピグメントブラック1、7等の黒色顔料が挙げられる。
Specifically, C.I. I. Pigment Yellow 1, 3, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 128, 129, 137, 138, Yellow pigments such as 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 194, 214;
C. I. Orange pigments such as CI Pigment Orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 71, 73;
C. I. Red pigments such as CI Pigment Red 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 209, 215, 216, 224, 242, 254, 255, 264, 265;
C. I. Blue pigments such as CI Pigment Blue 15, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 60;
C. I. Violet color pigments such as CI Pigment Violet 1, 19, 23, 29, 32, 36, 38;
C. I. Green pigments such as CI Pigment Green 7, 36, 58;
C. I. A brown pigment such as CI Pigment Brown 23 and 25; and C.I. I. And black pigments such as CI Pigment Black 1 and 7.

緑色顔料、青色顔料のなかでも、フタロシアニン顔料が好ましく、ハロゲン化銅フタロシアニン顔料およびハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料からなる群から選ばれる少なくとも一種がより好ましく、C.I.ピグメントグリーン7、36および58からなる群から選ばれる少なくとも一種が特に好ましい。これら顔料は、緑色着色剤として好適であり、これら顔料を含む着色剤を用いることにより、透過スペクトルの最適化が容易となり、また、耐光性や耐薬品性が良好なカラーフィルタを形成することができる。   Among the green pigments and blue pigments, phthalocyanine pigments are preferable, and at least one selected from the group consisting of halogenated copper phthalocyanine pigments and halogenated zinc phthalocyanine pigments is more preferable. I. Particularly preferred is at least one selected from the group consisting of CI Pigment Green 7, 36 and 58. These pigments are suitable as green colorants, and by using a colorant containing these pigments, it is easy to optimize the transmission spectrum, and it is possible to form a color filter with good light resistance and chemical resistance. it can.

顔料は、必要に応じて、ロジン処理、酸性基または塩基性基が導入された顔料誘導体等を用いた表面処理、高分子化合物等による顔料表面へのグラフト処理、硫酸微粒化法等による微粒化処理、不純物を除去するための有機溶剤や水等による洗浄処理、イオン性不純物のイオン交換法等による除去処理等が施されていてもよい。顔料の粒径は、略均一であることが好ましい。顔料は、顔料分散剤を含有させて分散処理を行うことで、顔料分散剤溶液の中で均一に分散した状態の顔料分散液とすることができる。顔料は、それぞれ単独で分散処理してもよいし、複数種を混合して分散処理してもよい。   If necessary, the pigment is atomized by rosin treatment, surface treatment using a pigment derivative having an acidic group or basic group introduced, graft treatment to the pigment surface with a polymer compound, sulfuric acid atomization method, etc. A treatment, a cleaning treatment with an organic solvent or water for removing impurities, a removal treatment by an ion exchange method of ionic impurities, or the like may be performed. The pigment particle size is preferably substantially uniform. The pigment can be made into a pigment dispersion in a state of being uniformly dispersed in the pigment dispersant solution by carrying out a dispersion treatment by containing a pigment dispersant. The pigments may be subjected to a dispersion treatment alone, or a plurality of types may be mixed and dispersed.

顔料分散剤としては、界面活性剤等が挙げられ、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性のいずれの界面活性剤であってもよい。具体的にはポリエステル系、ポリアミン系、アクリル系等の界面活性剤等が挙げられる。これらの顔料分散剤は、単独で又は二種以上を組み合わせて用いてもよい。顔料分散剤としては、商品名で示すと、KP(信越化学工業(株)製)、フローレン(共栄社化学(株)製)、ソルスパース(登録商標)(ゼネカ(株)製)、EFKA(登録商標)(BASF社製)、アジスパー(登録商標)(味の素ファインテクノ(株)製)、Disperbyk(登録商標)(ビックケミー社製)等が挙げられる。   Examples of the pigment dispersant include surfactants, and any of cationic, anionic, nonionic, and amphoteric surfactants may be used. Specific examples include polyester-based, polyamine-based, acrylic-based surfactants, and the like. These pigment dispersants may be used alone or in combination of two or more. As the pigment dispersants, KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Florene (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Solsperse (registered trademark) (manufactured by Geneca Corporation), EFKA (registered trademark) ) (Manufactured by BASF), Azisper (registered trademark) (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.), Disperbyk (registered trademark) (manufactured by BYK Chemie) and the like.

顔料分散剤を用いる場合、その使用量は、顔料100質量部に対して、好ましくは100質量部以下であり、より好ましくは5質量部以上50質量部以下である。顔料分散剤の使用量が前記の範囲にあると、より均一な分散状態の顔料分散液が得られる傾向がある。   When the pigment dispersant is used, the amount used is preferably 100 parts by mass or less, more preferably 5 parts by mass or more and 50 parts by mass or less, with respect to 100 parts by mass of the pigment. When the amount of the pigment dispersant used is in the above range, a pigment dispersion having a more uniform dispersion state tends to be obtained.

<本発明の着色硬化性樹脂組成物>
本発明の着色硬化性樹脂組成物は、着色剤(A)、樹脂(以下、「樹脂(B)」ということがある。)、重合性化合物(以下、「重合性化合物(C)」ということがある。)、重合開始剤(以下、「重合開始剤(D)」ということがある。)および溶剤(以下、「溶剤(E)」ということがある。)を含む。本発明の着色硬化性樹脂組成物は、これら成分に加えて、レベリング剤を含んでもよい。本発明の着色硬化性樹脂組成物は、これら成分に加えて、重合開始助剤を含んでもよい。本発明の別の態様では、着色硬化性樹脂組成物は、着色剤(A)、樹脂(B)、溶剤(E)及び必要に応じて界面活性剤を含んでいてもよい。
<Colored curable resin composition of the present invention>
The colored curable resin composition of the present invention is a colorant (A), a resin (hereinafter sometimes referred to as “resin (B)”), a polymerizable compound (hereinafter referred to as “polymerizable compound (C)”). A polymerization initiator (hereinafter sometimes referred to as “polymerization initiator (D)”) and a solvent (hereinafter sometimes referred to as “solvent (E)”). The colored curable resin composition of the present invention may contain a leveling agent in addition to these components. The colored curable resin composition of the present invention may contain a polymerization initiation assistant in addition to these components. In another aspect of the present invention, the colored curable resin composition may contain a colorant (A), a resin (B), a solvent (E), and, if necessary, a surfactant.

着色硬化性樹脂組成物中の着色剤(A)の含有率は、固形分の総量に対して、通常1質量%以上70質量%以下であり、好ましくは1質量%以上60質量%以下であり、より好ましくは5質量%以上60質量%以下であり、特に好ましくは5質量%以上50質量%以下である。着色剤(A)の含有率が前記の範囲内であると、所望とする分光や色濃度をより得やすくなる。なお、本明細書において「固形分の総量」とは、本発明の着色硬化性樹脂組成物から溶剤を除いた成分の合計量をいう。固形分の総量およびこれに対する各成分の含有量は、例えば、液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段により測定することができる。   The content of the colorant (A) in the colored curable resin composition is usually 1% by mass or more and 70% by mass or less, preferably 1% by mass or more and 60% by mass or less, based on the total amount of the solid content. More preferably, it is 5 mass% or more and 60 mass% or less, Most preferably, it is 5 mass% or more and 50 mass% or less. When the content of the colorant (A) is within the above range, a desired spectrum and color density can be easily obtained. In addition, in this specification, "the total amount of solid content" means the total amount of the component remove | excluding the solvent from the colored curable resin composition of this invention. The total amount of solids and the content of each component relative thereto can be measured by known analytical means such as liquid chromatography and gas chromatography, for example.

<樹脂(B)>
本発明の着色硬化性樹脂組成物に含まれる樹脂(B)は、アルカリ可溶性樹脂であることが好ましく、不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも一種に由来する構造単位を有する付加重合体がより好ましい。このような樹脂としては、下記樹脂[K1]〜[K6]が挙げられる。
<Resin (B)>
The resin (B) contained in the colored curable resin composition of the present invention is preferably an alkali-soluble resin and has a structure derived from at least one selected from the group consisting of unsaturated carboxylic acids and unsaturated carboxylic acid anhydrides. More preferred are addition polymers having units. Examples of such a resin include the following resins [K1] to [K6].

樹脂[K1]:不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも一種(a)(以下「(a)」ということがある)と、炭素数2〜4の環状エーテル構造とエチレン性不飽和結合とを有する単量体(b)(以下「(b)」ということがある)との共重合体
樹脂[K2]:(a)と、(b)と、(a)と共重合可能な単量体(c)(ただし、(a)および(b)とは異なる。)(以下「(c)」ということがある)との共重合体
樹脂[K3]:(a)と(c)との共重合体
樹脂[K4]:(a)と(c)との共重合体に(b)を反応させることにより得られる樹脂
樹脂[K5]:(b)と(c)との共重合体に(a)を反応させることにより得られる樹脂
樹脂[K6]:(b)と(c)との共重合体に(a)を反応させ、さらにカルボン酸無水物を反応させることにより得られる樹脂。
Resin [K1]: at least one (a) selected from the group consisting of unsaturated carboxylic acid and unsaturated carboxylic acid anhydride (hereinafter sometimes referred to as “(a)”), and a cyclic ether structure having 2 to 4 carbon atoms And a monomer (b) having an ethylenically unsaturated bond (hereinafter sometimes referred to as “(b)”) Resin [K2]: (a), (b), (a) A copolymer with a monomer (c) copolymerizable with (but different from (a) and (b)) (hereinafter sometimes referred to as “(c)”) Resin [K3]: (a ) And (c) Copolymer Resin [K4]: Resin obtained by reacting (b) with copolymer of (a) and (c) Resin [K5]: (b) and (c Resin [K6]: a resin obtained by reacting a copolymer with (a) with a copolymer with (a) The reacted resin obtained by further reacting a carboxylic acid anhydride.

(a)としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、o−、m−、p−ビニル安息香酸等の不飽和モノカルボン酸;
マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、3−ビニルフタル酸、4−ビニルフタル酸、3,4,5,6−テトラヒドロフタル酸、1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸、ジメチルテトラヒドロフタル酸、1,4−シクロヘキセンジカルボン酸等の不飽和ジカルボン酸;
メチル−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸、5−カルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジカルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−カルボキシ−5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−カルボキシ−5−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−カルボキシ−6−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−カルボキシ−6−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン等のカルボキシ基を含有するビシクロ不飽和化合物;
無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、3−ビニルフタル酸無水物、4−ビニルフタル酸無水物、3,4,5,6−テトラヒドロフタル酸無水物、1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、5,6−ジカルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン無水物等の不飽和ジカルボン酸無水物;
コハク酸モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕、フタル酸モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕等の2価以上の多価カルボン酸の不飽和モノ〔(メタ)アクリロイルオキシアルキル〕エステル;
α−(ヒドロキシメチル)アクリル酸等の同一分子中にヒドロキシ基およびカルボキシ基を含有する不飽和アクリレートが挙げられる。
As (a), unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, o-, m-, p-vinylbenzoic acid;
Maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, itaconic acid, 3-vinylphthalic acid, 4-vinylphthalic acid, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic acid, 1,2,3,6-tetrahydrophthalic acid, dimethyl Unsaturated dicarboxylic acids such as tetrahydrophthalic acid and 1,4-cyclohexene dicarboxylic acid;
Methyl-5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid, 5-carboxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-dicarboxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-carboxy-5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-carboxy-5-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-carboxy-6-methylbicyclo [2.2.1] bicyclounsaturated compounds containing a carboxy group such as hept-2-ene, 5-carboxy-6-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene;
Maleic anhydride, citraconic anhydride, itaconic anhydride, 3-vinylphthalic anhydride, 4-vinylphthalic anhydride, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride, 1,2,3,6- Unsaturated dicarboxylic anhydrides such as tetrahydrophthalic anhydride, dimethyltetrahydrophthalic anhydride, 5,6-dicarboxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene anhydride;
Unsaturated mono [(meth) acryloyloxyalkyl] esters of polyvalent carboxylic acids such as succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] and phthalic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl]. ;
Examples thereof include unsaturated acrylates containing a hydroxy group and a carboxy group in the same molecule such as α- (hydroxymethyl) acrylic acid.

なかでも、共重合反応性や得られる樹脂のアルカリ水溶液への溶解性の観点から、アクリル酸、メタクリル酸および無水マレイン酸が好ましい。   Of these, acrylic acid, methacrylic acid and maleic anhydride are preferred from the viewpoint of copolymerization reactivity and solubility of the resulting resin in an aqueous alkali solution.

(b)は、炭素数2〜4の環状エーテル構造(例えば、オキシラン環、オキセタン環、テトラヒドロフラン環等)とエチレン性不飽和結合とを有する重合性化合物をいう。(b)は、炭素数2〜4の環状エーテル構造と(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する単量体であることが好ましい。なお、本明細書において、「(メタ)アクリル酸」とは、アクリル酸およびメタクリル酸よりなる群から選ばれる少なくとも1種を表わし、「(メタ)アクリロイル」および「(メタ)アクリレート」の表記も、同様の意味を示す。   (B) refers to a polymerizable compound having a C2-C4 cyclic ether structure (for example, an oxirane ring, oxetane ring, tetrahydrofuran ring, etc.) and an ethylenically unsaturated bond. (B) is preferably a monomer having a C2-C4 cyclic ether structure and a (meth) acryloyloxy group. In the present specification, “(meth) acrylic acid” represents at least one selected from the group consisting of acrylic acid and methacrylic acid, and the notation of “(meth) acryloyl” and “(meth) acrylate” is also used. Indicate the same meaning.

(b)としては、オキシラニル基とエチレン性不飽和結合とを有する単量体(b1)(以下「(b1)」ということがある)、オキセタニル基とエチレン性不飽和結合とを有する単量体(b2)(以下「(b2)」ということがある)およびテトラヒドロフリル基とエチレン性不飽和結合とを有する単量体(b3)(以下「(b3)」ということがある)が挙げられる。   (B) includes a monomer (b1) having an oxiranyl group and an ethylenically unsaturated bond (hereinafter sometimes referred to as “(b1)”), and a monomer having an oxetanyl group and an ethylenically unsaturated bond. (B2) (hereinafter sometimes referred to as “(b2)”) and a monomer (b3) having a tetrahydrofuryl group and an ethylenically unsaturated bond (hereinafter sometimes referred to as “(b3)”).

(b1)としては、直鎖状または分枝鎖状の脂肪族不飽和炭化水素がエポキシ化された構造を有する単量体(b1−1)(以下「(b1−1)」ということがある)および脂環式不飽和炭化水素がエポキシ化された構造を有する単量体(b1−2)(以下「(b1−2)」ということがある)が挙げられる。   (B1) may be a monomer (b1-1) having a structure in which a linear or branched aliphatic unsaturated hydrocarbon is epoxidized (hereinafter referred to as “(b1-1)”) ) And a monomer (b1-2) having a structure in which an alicyclic unsaturated hydrocarbon is epoxidized (hereinafter sometimes referred to as “(b1-2)”).

(b1−1)としては、グリシジル基とエチレン性不飽和結合とを有する単量体が好ましい。(b1−1)としては、具体的には、グリシジル(メタ)アクリレート、β−メチルグリシジル(メタ)アクリレート、β−エチルグリシジル(メタ)アクリレート、グリシジルビニルエーテル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−p−ビニルベンジルグリシジルエーテル、2,3−ビス(グリシジルオキシメチル)スチレン、2,4−ビス(グリシジルオキシメチル)スチレン、2,5−ビス(グリシジルオキシメチル)スチレン、2,6−ビス(グリシジルオキシメチル)スチレン、2,3,4−トリス(グリシジルオキシメチル)スチレン、2,3,5−トリス(グリシジルオキシメチル)スチレン、2,3,6−トリス(グリシジルオキシメチル)スチレン、3,4,5−トリス(グリシジルオキシメチル)スチレンおよび2,4,6−トリス(グリシジルオキシメチル)スチレンが挙げられる。   (B1-1) is preferably a monomer having a glycidyl group and an ethylenically unsaturated bond. Specific examples of (b1-1) include glycidyl (meth) acrylate, β-methylglycidyl (meth) acrylate, β-ethylglycidyl (meth) acrylate, glycidyl vinyl ether, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinyl. Benzyl glycidyl ether, p-vinylbenzyl glycidyl ether, α-methyl-o-vinylbenzyl glycidyl ether, α-methyl-m-vinylbenzyl glycidyl ether, α-methyl-p-vinylbenzyl glycidyl ether, 2,3-bis ( Glycidyloxymethyl) styrene, 2,4-bis (glycidyloxymethyl) styrene, 2,5-bis (glycidyloxymethyl) styrene, 2,6-bis (glycidyloxymethyl) styrene, 2,3,4-tris ( Glycidyl oxime Chill) styrene, 2,3,5-tris (glycidyloxymethyl) styrene, 2,3,6-tris (glycidyloxymethyl) styrene, 3,4,5-tris (glycidyloxymethyl) styrene and 2,4,4 Examples include 6-tris (glycidyloxymethyl) styrene.

(b1−2)としては、ビニルシクロヘキセンモノオキシド、1,2−エポキシ−4−ビニルシクロヘキサン(例えば、セロキサイド(登録商標)2000;(株)ダイセル製)、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート(例えば、サイクロマー(登録商標)A400;(株)ダイセル製)、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート(例えば、サイクロマーM100;(株)ダイセル製)、式(1)で表される化合物および式(2)で表される化合物が挙げられる。   Examples of (b1-2) include vinylcyclohexene monoxide, 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane (for example, Celoxide (registered trademark) 2000; manufactured by Daicel Corporation), 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) Acrylate (for example, Cyclomer (registered trademark) A400; manufactured by Daicel Corporation), 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate (for example, Cyclomer M100; manufactured by Daicel Corporation), represented by Formula (1) And a compound represented by the formula (2).

(式中、RaおよびRbはそれぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表わし、該アルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。XaおよびXbはそれぞれ独立して、単結合、−Rc−、*−Rc−O−、*−Rc−S−または*−Rc−NH−を表わす。Rcは、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表わす。*は、Oとの結合手を表わす。) (Wherein, R a and R b each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkyl group may be substituted with a hydroxy group. X a and X b are each independently a single bond, -R c -, * - R c -O -, * - R c -S- or * -R represents the c -NH- .R c is the number of carbon atoms Represents an alkanediyl group of 1 to 6. * represents a bond to O.)

a、Rbの炭素数1〜4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基およびtert−ブチル基が挙げられる。Ra、Rbの水素原子がヒドロキシ基で置換されたアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、1−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシエチル基、1−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシプロピル基、3−ヒドロキシプロピル基、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル基、2−ヒドロキシ−1−メチルエチル基、1−ヒドロキシブチル基、2−ヒドロキシブチル基、3−ヒドロキシブチル基および4−ヒドロキシブチル基が挙げられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms of R a and R b include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, sec-butyl group and tert-butyl group. Examples of the alkyl group in which the hydrogen atoms of R a and R b are substituted with a hydroxy group include a hydroxymethyl group, 1-hydroxyethyl group, 2-hydroxyethyl group, 1-hydroxypropyl group, 2-hydroxypropyl group, Examples include hydroxypropyl group, 1-hydroxy-1-methylethyl group, 2-hydroxy-1-methylethyl group, 1-hydroxybutyl group, 2-hydroxybutyl group, 3-hydroxybutyl group and 4-hydroxybutyl group. .

aおよびRbはそれぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、又は炭素数1〜4のヒドロキシアルキル基が好ましく、より好ましくは水素原子、又は炭素数1〜4のアルキル基であり、具体的に、水素原子、メチル基、エチル基、ヒドロキシメチル基、1−ヒドロキシエチル基または2−ヒドロキシエチル基であることが好ましく、水素原子またはメチル基であることがより好ましい。 R a and R b are each independently preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a hydroxyalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl having 1 to 4 carbon atoms. Specifically, a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a hydroxymethyl group, a 1-hydroxyethyl group or a 2-hydroxyethyl group is preferable, and a hydrogen atom or a methyl group is more preferable.

cの炭素数1〜6のアルカンジイル基としては、直鎖状又は分岐鎖状のアルカンジイル基が挙げられ、具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基およびヘキサン−1,6−ジイル基の直鎖状アルカンジイル基;プロパン−1,2−ジイル基等の分岐鎖状アルカンジイル基;が挙げられる。 Examples of the alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms of R c include a linear or branched alkanediyl group, and specifically include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, Linear alkanediyl group of butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group and hexane-1,6-diyl group; branched chain alkanediyl group such as propane-1,2-diyl group ;

aおよびXbはそれぞれ独立して、単結合、*−Rc−、又は*−Rc−O−が好ましく、より好ましくは単結合、又は*−Rc−O−であり、具体的に、好ましくは単結合、メチレン基、エチレン基、*−CH2−O−または*−CH2CH2−O−であることが好ましく、単結合または*−CH2CH2−O−であることがより好ましい。なお、前記式中、*はOとの結合手を表わす。 X a and X b are each independently a single bond, * - R c -, or * -R c -O-, more preferably a single bond, or * -R c -O-, and specifically Are preferably a single bond, a methylene group, an ethylene group, * —CH 2 —O— or * —CH 2 CH 2 —O—, preferably a single bond or * —CH 2 CH 2 —O—. It is more preferable. In the above formula, * represents a bond with O.

式(1)で表される化合物としては、式(1−1)〜式(1−15)で表される化合物が挙げられ、なかでも、式(1−1)、式(1−3)、式(1−5)、式(1−7)、式(1−9)および式(1−11)〜式(1−15)で表される化合物が好ましく、式(1−1)、式(1−7)、式(1−9)および式(1−15)で表される化合物がより好ましい。   Examples of the compound represented by the formula (1) include compounds represented by the formula (1-1) to the formula (1-15). Among them, the formula (1-1) and the formula (1-3) And compounds represented by formula (1-5), formula (1-7), formula (1-9) and formula (1-11) to formula (1-15) are preferred, The compounds represented by formula (1-7), formula (1-9) and formula (1-15) are more preferred.

式(2)で表される化合物としては、式(2−1)〜式(2−15)で表される化合物が挙げられ、なかでも、式(2−1)、式(2−3)、式(2−5)、式(2−7)、式(2−9)および式(2−11)〜式(2−15)で表される化合物が好ましく、式(2−1)、式(2−7)、式(2−9)および式(2−15)で表される化合物がより好ましい。   Examples of the compound represented by the formula (2) include compounds represented by the formula (2-1) to the formula (2-15). Among them, the formula (2-1) and the formula (2-3) And compounds represented by formula (2-5), formula (2-7), formula (2-9) and formula (2-11) to formula (2-15) are preferred, and formula (2-1), The compounds represented by formula (2-7), formula (2-9) and formula (2-15) are more preferred.

式(1)で表される化合物および式(2)で表される化合物は、それぞれ単独で用いてもよいし、式(1)で表される化合物と式(2)で表される化合物とを併用してもよい。これらを併用する場合、式(1)で表される化合物および式(2)で表される化合物の比率(式(1)で表される化合物:式(2)で表される化合物)はモル基準で、好ましくは5:95〜95:5であり、より好ましくは10:90〜90:10であり、さらに好ましくは20:80〜80:20である。   The compound represented by the formula (1) and the compound represented by the formula (2) may be used alone, or the compound represented by the formula (1) and the compound represented by the formula (2) May be used in combination. When these are used in combination, the ratio of the compound represented by formula (1) and the compound represented by formula (2) (compound represented by formula (1): compound represented by formula (2)) is mol. The standard is preferably 5:95 to 95: 5, more preferably 10:90 to 90:10, and still more preferably 20:80 to 80:20.

(b2)としては、オキセタニル基と(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する単量体がより好ましい。(b2)としては、3−メチル−3−メタクリルロイルオキシメチルオキセタン、3−メチル−3−アクリロイルオキシメチルオキセタン、3−エチル−3−メタクリロイルオキシメチルオキセタン、3−エチル−3−アクリロイルオキシメチルオキセタン、3−メチル−3−メタクリロイルオキシエチルオキセタン、3−メチル−3−アクリロイルオキシエチルオキセタン、3−エチル−3−メタクリロイルオキシエチルオキセタンおよび3−エチル−3−アクリロイルオキシエチルオキセタンが挙げられる。   (B2) is more preferably a monomer having an oxetanyl group and a (meth) acryloyloxy group. (B2) includes 3-methyl-3-methacryloyloxymethyloxetane, 3-methyl-3-acryloyloxymethyloxetane, 3-ethyl-3-methacryloyloxymethyloxetane, 3-ethyl-3-acryloyloxymethyloxetane , 3-methyl-3-methacryloyloxyethyl oxetane, 3-methyl-3-acryloyloxyethyl oxetane, 3-ethyl-3-methacryloyloxyethyl oxetane and 3-ethyl-3-acryloyloxyethyl oxetane.

(b3)としては、テトラヒドロフリル基と(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する単量体がより好ましい。(b3)としては、テトラヒドロフルフリルアクリレート(例えば、ビスコートV#150、大阪有機化学工業(株)製)およびテトラヒドロフルフリルメタクリレートが挙げられる。   (B3) is more preferably a monomer having a tetrahydrofuryl group and a (meth) acryloyloxy group. Examples of (b3) include tetrahydrofurfuryl acrylate (for example, Biscoat V # 150, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) and tetrahydrofurfuryl methacrylate.

得られるカラーフィルタの耐熱性、耐薬品性等の信頼性をより高くすることができる点で、(b)が(b1)であることが好ましく、着色硬化性樹脂組成物の保存安定性が優れるという点で、(b1)が(b1−2)であることが好ましい。   (B) is preferably (b1), and the storage stability of the colored curable resin composition is excellent in that the reliability of the obtained color filter such as heat resistance and chemical resistance can be further increased. In this respect, (b1) is preferably (b1-2).

(c)としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル(メタ)アクリレート(当該技術分野では、慣用名として「ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート」といわれている。また、「トリシクロデシル(メタ)アクリレート」ということがある。)、トリシクロ[5.2.1.02,6]デセン−8−イル(メタ)アクリレート(当該技術分野では、慣用名として「ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート」といわれている。)、ジシクロペンタニルオキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、プロパルギル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ナフチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル;
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等のヒドロキシ基含有(メタ)アクリル酸エステル;
マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等のジカルボン酸ジエステル;
ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ヒドロキシメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−(2’−ヒドロキシエチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−メトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−エトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジ(ヒドロキシメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジ(2’−ヒドロキシエチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジメトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジエトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ヒドロキシ−5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ヒドロキシ−5−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ヒドロキシメチル−5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−tert−ブトキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−フェノキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ビス(tert−ブトキシカルボニル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ビス(シクロヘキシルオキシカルボニル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン等のビシクロ不飽和化合物;
N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−ベンジルマレイミド、N−スクシンイミジル−3−マレイミドベンゾエート、N−スクシンイミジル−4−マレイミドブチレート、N−スクシンイミジル−6−マレイミドカプロエート、N−スクシンイミジル−3−マレイミドプロピオネート、N−(9−アクリジニル)マレイミド等のジカルボニルイミド化合物;
スチレン、α−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ビニルトルエン、p−メトキシスチレン等のビニル基含有芳香族化合物;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のビニル基含有ニトリル;塩化ビニル、塩化ビニリデン等のハロゲン化炭化水素;アクリルアミド、メタクリルアミド等のビニル基含有アミド;酢酸ビニル等のエステル;1,3−ブタジエン、イソプレンおよび2,3−ジメチル−1,3−ブタジエンのジエン;等が挙げられる。
As (c), methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, Dodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methylcyclohexyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2, 6 ] Decan-8-yl (meth) acrylate (in this technical field, it is said to be “dicyclopentanyl (meth) acrylate” as a common name. It may also be referred to as “tricyclodecyl (meth) acrylate”) ), Tricyclo [ .2.1.0 2,6] (in the art, it is said that "dicyclopentenyl (meth) acrylate" as trivial name.) Decene-8-yl (meth) acrylate, dicyclopentenyl oxyethyl (Meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, propargyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, naphthyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, etc. ) Acrylic acid ester;
Hydroxy group-containing (meth) acrylic acid esters such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate;
Dicarboxylic acid diesters such as diethyl maleate, diethyl fumarate, diethyl itaconate;
Bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5- Hydroxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-hydroxymethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5- (2′-hydroxyethyl) bicyclo [2.2.1] Hept-2-ene, 5-methoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-ethoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-dihydroxybicyclo [2.2 .1] Hept-2-ene, 5,6-di (hydroxymethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-di (2′-hydroxyethyl) bicyclo [2.2. 1] hept-2-ene, 5,6-dimethoxybicyclo [2.2 1] hept-2-ene, 5,6-diethoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-hydroxy-5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5 -Hydroxy-5-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-hydroxymethyl-5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-tert-butoxycarbonylbicyclo [ 2.2.1] Hept-2-ene, 5-cyclohexyloxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-phenoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5 , 6-bis (tert-butoxycarbonyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-bis (cyclohexyloxycarbonyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, etc. Bicyclo unsaturated compounds;
N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, N-succinimidyl-3-maleimidobenzoate, N-succinimidyl-4-maleimidobutyrate, N-succinimidyl-6-maleimidocaproate, N-succinimidyl-3 -Dicarbonylimide compounds such as maleimide propionate, N- (9-acridinyl) maleimide;
Vinyl group-containing aromatic compounds such as styrene, α-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, vinyltoluene and p-methoxystyrene; vinyl group-containing nitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile; vinyl chloride and vinylidene chloride Halogenated hydrocarbons such as: vinyl group-containing amides such as acrylamide and methacrylamide; esters such as vinyl acetate; 1,3-butadiene, isoprene and 2,3-dimethyl-1,3-butadiene dienes; .

これらの中でも、共重合反応性および耐熱性の観点から、ビニル基含有芳香族化合物、ジカルボニルイミド化合物、ビシクロ不飽和化合物が好ましい。具体的には、スチレン、ビニルトルエン、ベンジル(メタ)アクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル(メタ)アクリレート、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−ベンジルマレイミドおよびビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エンが好ましい。 Among these, a vinyl group-containing aromatic compound, a dicarbonylimide compound, and a bicyclounsaturated compound are preferable from the viewpoints of copolymerization reactivity and heat resistance. Specifically, styrene, vinyl toluene, benzyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl (meth) acrylate, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N -Benzylmaleimide and bicyclo [2.2.1] hept-2-ene are preferred.

樹脂[K1]において、それぞれに由来する構造単位の比率は、樹脂[K1]を構成する全構造単位中、
(a)に由来する構造単位:2〜60モル%
(b)に由来する構造単位:40〜98モル%
であることが好ましく、
(a)に由来する構造単位:10〜50モル%
(b)に由来する構造単位:50〜90モル%
であることがより好ましい。
In the resin [K1], the ratio of the structural unit derived from each is the total structural unit constituting the resin [K1]
Structural unit derived from (a): 2 to 60 mol%
Structural unit derived from (b): 40 to 98 mol%
It is preferable that
Structural unit derived from (a): 10 to 50 mol%
Structural unit derived from (b): 50 to 90 mol%
It is more preferable that

樹脂[K1]の構造単位の比率が、上記の範囲にあると、着色硬化性樹脂組成物の保存安定性、着色パターンを形成する際の現像性、および得られるカラーフィルタの耐溶剤性がより優れる傾向にある。   When the ratio of the structural unit of the resin [K1] is in the above range, the storage stability of the colored curable resin composition, the developability when forming a colored pattern, and the solvent resistance of the resulting color filter are more improved. It tends to be excellent.

樹脂[K1]は、例えば、文献「高分子合成の実験法」(大津隆行著 発行所(株)化学同人 第1版第1刷 1972年3月1日発行)に記載された方法および当該文献に記載された引用文献を参考にして製造することができる。   Resin [K1] is, for example, the method described in the document “Experimental Methods for Polymer Synthesis” (Takayuki Otsu, published by Kagaku Dojin Co., Ltd., First Edition, First Edition, issued March 1, 1972) and the document Can be produced with reference to the cited references described in 1.

具体的には、(a)および(b)の所定量、重合開始剤および溶剤等を反応容器中に入れて、例えば、窒素により酸素を置換することにより、脱酸素雰囲気にし、攪拌しながら、加熱および保温する方法が挙げられる。なお、ここで用いられる重合開始剤および溶剤等は、特に限定されず、当該分野で通常使用されているものを使用することができる。例えば、重合開始剤としては、アゾ化合物(2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)等)や有機過酸化物(ベンゾイルペルオキシド等)が挙げられ、溶剤としては、各モノマーを溶解するものであればよく、本発明の着色硬化性樹脂組成物の溶剤として後述する溶剤が挙げられる。   Specifically, a predetermined amount of (a) and (b), a polymerization initiator, a solvent, and the like are placed in a reaction vessel, for example, by substituting oxygen with nitrogen to create a deoxygenated atmosphere and stirring. The method of heating and heat retention is mentioned. In addition, the polymerization initiator, the solvent, and the like used here are not particularly limited, and those usually used in the field can be used. For example, as polymerization initiators, azo compounds (2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), etc.) and organic peroxides (benzoyl peroxide, etc.) Any solvent may be used as long as it dissolves each monomer. Examples of the solvent for the colored curable resin composition of the present invention include the solvents described later.

得られた共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体(粉体)として取り出したものを使用してもよい。特に、この重合の際に溶剤として、本発明の着色硬化性樹脂組成物に含まれる溶剤を使用することにより、反応後の溶液をそのまま本発明の着色硬化性樹脂組成物の調製に使用することができるため、本発明の着色硬化性樹脂組成物の製造工程を簡略化することができる。   As the obtained copolymer, the solution after the reaction may be used as it is, a concentrated or diluted solution may be used, or a solid (powder) taken out by a method such as reprecipitation. May be used. In particular, by using the solvent contained in the colored curable resin composition of the present invention as a solvent during the polymerization, the solution after the reaction is used as it is for the preparation of the colored curable resin composition of the present invention. Therefore, the manufacturing process of the colored curable resin composition of the present invention can be simplified.

樹脂[K2]において、それぞれに由来する構造単位の比率は、樹脂[K2]を構成する全構造単位中、
(a)に由来する構造単位:2〜45モル%
(b)に由来する構造単位:2〜95モル%
(c)に由来する構造単位:1〜65モル%
であることが好ましく、
(a)に由来する構造単位:5〜40モル%
(b)に由来する構造単位:5〜80モル%
(c)に由来する構造単位:5〜60モル%
であることがより好ましい。
In the resin [K2], the ratio of the structural units derived from each of the structural units constituting the resin [K2]
Structural unit derived from (a): 2 to 45 mol%
Structural unit derived from (b): 2 to 95 mol%
Structural unit derived from (c): 1 to 65 mol%
It is preferable that
Structural unit derived from (a): 5 to 40 mol%
Structural unit derived from (b): 5 to 80 mol%
Structural unit derived from (c): 5 to 60 mol%
It is more preferable that

樹脂[K2]の構造単位の比率が、上記の範囲にあると、着色硬化性樹脂組成物の保存安定性、着色パターンを形成する際の現像性、並びに、得られるカラーフィルタの耐溶剤性、耐熱性および機械強度がより優れる傾向にある。   When the ratio of the structural unit of the resin [K2] is in the above range, the storage stability of the colored curable resin composition, the developability when forming a colored pattern, and the solvent resistance of the resulting color filter, Heat resistance and mechanical strength tend to be more excellent.

樹脂[K2]は、例えば、樹脂[K1]の製造方法として記載した方法と同様に製造することができる。   Resin [K2] can be produced, for example, in the same manner as the method described as the production method of resin [K1].

樹脂[K3]において、それぞれに由来する構造単位の比率は、樹脂[K3]を構成する全構造単位中、
(a)に由来する構造単位:2〜60モル%
(c)に由来する構造単位:40〜98モル%
であることが好ましく、
(a)に由来する構造単位:10〜50モル%
(c)に由来する構造単位:50〜90モル%
であることがより好ましい。
In the resin [K3], the proportion of structural units derived from each of the structural units constituting the resin [K3]
Structural unit derived from (a): 2 to 60 mol%
Structural unit derived from (c): 40 to 98 mol%
It is preferable that
Structural unit derived from (a): 10 to 50 mol%
Structural unit derived from (c): 50 to 90 mol%
It is more preferable that

樹脂[K3]は、例えば、樹脂[K1]の製造方法として記載した方法と同様に製造することができる。   Resin [K3] can be produced, for example, in the same manner as described for the production method of resin [K1].

樹脂[K4]は、(a)と(c)との共重合体を得て、(b)が有する炭素数2〜4の環状エーテル部位を(a)が有するカルボン酸および/またはカルボン酸無水物に付加させることにより製造することができる。具体的には、以下のようにして製造することができる。まず、(a)と(c)との共重合体を、樹脂[K1]の製造方法として記載した方法と同様に製造する。この場合、それぞれに由来する構造単位の比率は、樹脂[K3]で挙げたものと同じ比率であることが好ましい。次に、前記共重合体中の(a)に由来するカルボン酸および/またはカルボン酸無水物の一部に、(b)が有する炭素数2〜4の環状エーテル化合物を反応させる。(a)と(c)との共重合体の製造に引き続き、フラスコ内雰囲気を窒素から空気に置換し、(b)、カルボン酸またはカルボン酸無水物と環状エーテル化合物との反応の触媒(例えばトリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等)および重合禁止剤(例えばハイドロキノン等)等をフラスコ内に入れて、例えば、60〜130℃で、1〜10時間反応することにより、樹脂[K4]を製造することができる。   Resin [K4] obtains a copolymer of (a) and (c), and (b) has a carboxylic acid and / or carboxylic acid anhydride having (a) a C2-C4 cyclic ether moiety. It can be manufactured by adding to a product. Specifically, it can be produced as follows. First, a copolymer of (a) and (c) is produced in the same manner as the method described as the production method of the resin [K1]. In this case, the ratio of the structural units derived from each is preferably the same as that described for the resin [K3]. Next, the C2-C4 cyclic ether compound which (b) has is reacted with a part of the carboxylic acid and / or carboxylic anhydride derived from (a) in the copolymer. Subsequent to the production of the copolymer of (a) and (c), the atmosphere in the flask is replaced from nitrogen to air, and (b) a catalyst for the reaction of the carboxylic acid or carboxylic anhydride with the cyclic ether compound (for example, A resin [K4] is produced by placing tris (dimethylaminomethyl) phenol and the like) and a polymerization inhibitor (such as hydroquinone) in a flask and reacting at 60 to 130 ° C. for 1 to 10 hours, for example. be able to.

(b)の使用量は、(a)100モルに対して、5〜80モルが好ましく、より好ましくは10〜75モルである。(b)の使用量をこの範囲に調整することにより得られた樹脂を含む着色硬化性樹脂組成物は、保存安定性、パターンを形成する際の現像性、得られるパターンの耐溶剤性、耐熱性、機械強度および感度のバランスがより良好になる傾向にある。環状エーテル部位の反応性が高く、未反応の(b)が残存しにくいことから、樹脂[K4]に用いる(b)は、(b1)が好ましく、(b1−1)がより好ましい。   The amount of (b) used is preferably 5 to 80 mol, more preferably 10 to 75 mol, per 100 mol of (a). The colored curable resin composition containing a resin obtained by adjusting the amount of (b) used in this range is storage stability, developability when forming a pattern, solvent resistance of the resulting pattern, heat resistance Tend to have a better balance of properties, mechanical strength and sensitivity. Since the reactivity of the cyclic ether moiety is high and unreacted (b) hardly remains, (b) used in the resin [K4] is preferably (b1) and more preferably (b1-1).

触媒の使用量は、(a)、(b)および(c)の合計量100質量部に対して、0.001〜5質量部が好ましい。前記重合禁止剤の使用量は、(a)、(b)および(c)の合計量100質量部に対して、0.001〜5質量部が好ましい。   The amount of the catalyst used is preferably 0.001 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of (a), (b) and (c). The amount of the polymerization inhibitor used is preferably 0.001 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of (a), (b) and (c).

各試剤の仕込方法、反応温度および反応時間等の反応条件は、製造設備や重合による発熱量等を考慮して適宜調整することができる。なお、重合条件と同様に、製造設備や重合による発熱量等を考慮し、仕込方法や反応温度を適宜調整することができる。   The reaction conditions such as the charging method of each reagent, the reaction temperature, and the reaction time can be appropriately adjusted in consideration of the production equipment and the amount of heat generated by polymerization. In addition, like the polymerization conditions, the charging method and the reaction temperature can be appropriately adjusted in consideration of the production equipment, the amount of heat generated by the polymerization, and the like.

樹脂[K5]を製造する際には、第一段階として、上述した樹脂[K1]の製造方法と同様にして、(b)と(c)との共重合体を得る。上記と同様に、得られた共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体(粉体)として取り出したものを使用してもよい。第一段階において、(b)および(c)に由来する構造単位の比率は、前記(b)と(c)との共重合体を構成する全構造単位の合計モル数に対して、それぞれ、
(b)に由来する構造単位:5〜95モル%
(c)に由来する構造単位:5〜95モル%
であることが好ましく、
(b)に由来する構造単位:10〜90モル%
(c)に由来する構造単位:10〜90モル%
であることがより好ましい。
When the resin [K5] is produced, as a first step, a copolymer of (b) and (c) is obtained in the same manner as in the method for producing the resin [K1] described above. Similarly to the above, the obtained copolymer may be used as it is after the reaction, or may be a concentrated or diluted solution, or may be solid (powder) by a method such as reprecipitation. You may use what was taken out as. In the first stage, the ratio of the structural units derived from (b) and (c) is relative to the total number of moles of all structural units constituting the copolymer of (b) and (c), respectively.
Structural unit derived from (b): 5 to 95 mol%
Structural unit derived from (c): 5 to 95 mol%
It is preferable that
Structural unit derived from (b): 10 to 90 mol%
Structural unit derived from (c): 10 to 90 mol%
It is more preferable that

さらに、第二段階として、樹脂[K4]の製造方法と同様の条件で、(b)と(c)との共重合体が有する(b)に由来する環状エーテル部位に、(a)のカルボン酸またはカルボン酸無水物を反応させることにより、樹脂[K5]を得ることができる。   Furthermore, as a second step, the carboxylic acid of (a) is added to the cyclic ether moiety derived from (b) of the copolymer of (b) and (c) under the same conditions as in the resin [K4] production method. Resin [K5] can be obtained by reacting an acid or carboxylic anhydride.

第二段階において、前記(b)と(c)との共重合体に反応させる(a)の使用量は、(b)100モルに対して、5〜80モルが好ましい。環状エーテル部位の反応性が高く、未反応の(b)が残存しにくいことから、樹脂[K5]に用いる(b)は、(b1)が好ましく、(b1−1)がより好ましい。   In the second stage, the amount of (a) to be reacted with the copolymer of (b) and (c) is preferably 5 to 80 mol per 100 mol of (b). Since the reactivity of the cyclic ether moiety is high and unreacted (b) hardly remains, (b) used in the resin [K5] is preferably (b1) and more preferably (b1-1).

樹脂[K6]は、樹脂[K5]に、さらにカルボン酸無水物を反応させることにより得られる樹脂であり、具体的には、(b)に由来する環状エーテル部位と(a)のカルボン酸またはカルボン酸無水物との反応により発生するヒドロキシ基に、カルボン酸無水物を反応させることにより製造することができる。   Resin [K6] is a resin obtained by further reacting resin [K5] with a carboxylic anhydride, and specifically, a cyclic ether moiety derived from (b) and a carboxylic acid of (a) or It can be produced by reacting a carboxylic acid anhydride with a hydroxy group generated by the reaction with the carboxylic acid anhydride.

カルボン酸無水物としては、無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、3−ビニルフタル酸無水物、4−ビニルフタル酸無水物、3,4,5,6−テトラヒドロフタル酸無水物、1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物および5,6−ジカルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン無水物が挙げられる。カルボン酸無水物の使用量は、(a)の使用量1モルに対して、0.5〜1モルが好ましい。   Carboxylic anhydrides include maleic anhydride, citraconic anhydride, itaconic anhydride, 3-vinylphthalic anhydride, 4-vinylphthalic anhydride, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride, 1 2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, dimethyltetrahydrophthalic anhydride and 5,6-dicarboxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene anhydride. As for the usage-amount of carboxylic acid anhydride, 0.5-1 mol is preferable with respect to 1 mol of usage-amount of (a).

樹脂(B)としては、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体、3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デシル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体等の樹脂[K1];グリシジル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体、グリシジル(メタ)アクリレート/スチレン/(メタ)アクリル酸共重合体、3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デシル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/N−シクロヘキシルマレイミド共重合体、3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デシル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/ビニルトルエン共重合体、3−メチル−3−(メタ)アクリルロイルオキシメチルオキセタン/(メタ)アクリル酸/スチレン共重合体等の樹脂[K2];ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体、スチレン/(メタ)アクリル酸共重合体、ベンジル(メタ)アクリレート/トリシクロデシル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体、等の樹脂[K3];ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体にグリシジル(メタ)アクリレートを付加させた樹脂、トリシクロデシル(メタ)アクリレート/スチレン/(メタ)アクリル酸共重合体にグリシジル(メタ)アクリレートを付加させた樹脂、トリシクロデシル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体にグリシジル(メタ)アクリレートを付加させた樹脂等の樹脂[K4];トリシクロデシル(メタ)アクリレート/グリシジル(メタ)アクリレートの共重合体に(メタ)アクリル酸を反応させた樹脂、トリシクロデシル(メタ)アクリレート/スチレン/グリシジル(メタ)アクリレートの共重合体に(メタ)アクリル酸を反応させた樹脂等の樹脂[K5];トリシクロデシル(メタ)アクリレート/グリシジル(メタ)アクリレートの共重合体に(メタ)アクリル酸を反応させた樹脂にさらにテトラヒドロフタル酸無水物を反応させた樹脂等の樹脂[K6]が挙げられる。 Examples of the resin (B) include 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer, 3,4-epoxytricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decyl (meta ) Resin such as acrylate / (meth) acrylic acid copolymer [K1]; glycidyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer, glycidyl (meth) acrylate / styrene / (meth) Acrylic acid copolymer, 3,4-epoxytricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / N-cyclohexylmaleimide copolymer, 3,4-epoxy tricyclo [5.2.1.0 2, 6] decyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / vinyl toluene copolymer, 3-methyl-3- (meth) acrylate Resin [K2] such as luroyloxymethyloxetane / (meth) acrylic acid / styrene copolymer; benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer, styrene / (meth) acrylic acid copolymer, benzyl Resin [K3] such as (meth) acrylate / tricyclodecyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer; glycidyl (meth) acrylate is added to benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer Added resin, resin obtained by adding glycidyl (meth) acrylate to tricyclodecyl (meth) acrylate / styrene / (meth) acrylic acid copolymer, tricyclodecyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / ( Glycidyl (meth) acrylate was added to a (meth) acrylic acid copolymer Resins such as fat [K4]; resin obtained by reacting a copolymer of tricyclodecyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate with (meth) acrylic acid, tricyclodecyl (meth) acrylate / styrene / glycidyl (meta ) Resin such as resin obtained by reacting (meth) acrylic acid with acrylate copolymer [K5]; (meth) acrylic acid reacted with tricyclodecyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate copolymer Resin [K6] such as a resin obtained by further reacting tetrahydrophthalic anhydride with the resin.

樹脂(B)は、好ましくは、樹脂[K1]、樹脂[K2]および樹脂[K3]からなる群から選ばれる一種であり、より好ましくは、樹脂[K1]および樹脂[K2]からなる群から選ばれる一種である。これらの樹脂であると着色硬化性樹脂組成物は現像性に優れる。着色パターンと基板との密着性の観点で、樹脂[K2]がさらに好ましい。   The resin (B) is preferably one kind selected from the group consisting of resin [K1], resin [K2] and resin [K3], more preferably from the group consisting of resin [K1] and resin [K2]. It is the kind chosen. When these resins are used, the colored curable resin composition is excellent in developability. Resin [K2] is more preferable from the viewpoint of adhesion between the coloring pattern and the substrate.

樹脂(B)のポリスチレン換算の重量平均分子量は、通常3,000〜100,000であり、好ましくは5,000〜50,000であり、より好ましくは5,000〜35,000であり、さらに好ましくは5,000〜30,000であり、特に好ましくは6,000〜30,000である。分子量が前記の範囲にあると、塗膜硬度が向上し、残膜率も高く、未露光部の現像液に対する溶解性が良好で、着色パターンの解像度が向上する傾向がある。   The weight average molecular weight in terms of polystyrene of the resin (B) is usually from 3,000 to 100,000, preferably from 5,000 to 50,000, more preferably from 5,000 to 35,000, Preferably it is 5,000-30,000, Most preferably, it is 6,000-30,000. When the molecular weight is in the above range, the coating film hardness is improved, the residual film ratio is high, the solubility of the unexposed area in the developer is good, and the resolution of the colored pattern tends to be improved.

樹脂(B)の分子量分布[重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)]は、好ましくは1.1〜6であり、より好ましくは1.2〜4であり、さらに好ましくは1.3〜3である。   The molecular weight distribution [weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)] of the resin (B) is preferably 1.1 to 6, more preferably 1.2 to 4, and still more preferably 1. 3 to 3.

樹脂(B)の酸価は、好ましくは20〜170mg−KOH/gであり、より好ましくは30〜170mg−KOH/gであり、その中でも40〜170mg−KOH/gが好ましく、その中でも50〜170mg−KOH/gが好ましく、150mg−KOH/g以下がより好ましく、135mg−KOH/g以下がさらに好ましい。   The acid value of the resin (B) is preferably 20 to 170 mg-KOH / g, more preferably 30 to 170 mg-KOH / g, of which 40 to 170 mg-KOH / g is preferred, of which 50 to 170 mg-KOH / g is preferable, 150 mg-KOH / g or less is more preferable, and 135 mg-KOH / g or less is more preferable.

ここで酸価は樹脂(B)1gを中和するに必要な水酸化カリウムの量(mg)として測定される値であり、例えば水酸化カリウム水溶液を用いて滴定することにより求めることができる。   Here, the acid value is a value measured as the amount (mg) of potassium hydroxide necessary to neutralize 1 g of the resin (B), and can be determined by titration with an aqueous potassium hydroxide solution, for example.

樹脂(B)の含有量は、固形分の総量に対して、好ましくは7〜65質量%であり、その中でも好ましくは10〜60質量%であり、その中でも好ましくは13〜60質量%であり、その中でも好ましくは17〜55質量%である。樹脂(B)の含有量が、前記の範囲にあると、着色パターン形成が容易で、着色パターンの解像度および残膜率が向上する傾向がある。   The content of the resin (B) is preferably 7 to 65% by mass, preferably 10 to 60% by mass, and more preferably 13 to 60% by mass, based on the total amount of solids. Of these, the content is preferably 17 to 55% by mass. When the content of the resin (B) is in the above range, a colored pattern can be easily formed, and the resolution of the colored pattern and the remaining film rate tend to be improved.

<重合性化合物(C)>
重合性化合物(C)は、重合開始剤から発生した活性ラジカルおよび/または酸によって重合しうる化合物であり、例えば、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物が挙げられ、(メタ)アクリル酸エステル構造を有する化合物が好ましい。重合性化合物(C)は、エチレン性不飽和結合を3つ以上有する重合性化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和結合を5つ〜6つ有する重合性化合物であることがより好ましい。
<Polymerizable compound (C)>
The polymerizable compound (C) is a compound that can be polymerized by an active radical and / or an acid generated from a polymerization initiator, and examples thereof include a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, and a (meth) acrylic acid ester. Compounds having a structure are preferred. The polymerizable compound (C) is preferably a polymerizable compound having 3 or more ethylenically unsaturated bonds, and more preferably a polymerizable compound having 5 to 6 ethylenically unsaturated bonds.

エチレン性不飽和結合を1つ有する重合性化合物としては、ノニルフェニルカルビトールアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、N−ビニルピロリドン、上述の(a)、(b)および(c)が挙げられる。エチレン性不飽和結合を2つ有する重合性化合物としては、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのビス(アクリロイロキシエチル)エーテルおよび3−メチルペンタンジオールジ(メタ)アクリレートが挙げられる。エチレン性不飽和結合を3つ以上有する重合性化合物としては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ(メタ)アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ(メタ)アクリレート、テトラペンタエリスリトールノナ(メタ)アクリレート、トリス(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、エチレングリコール変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、エチレングリコール変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、プロピレングリコール変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、プロピレングリコール変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートおよびカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートが挙げられる。   Examples of the polymerizable compound having one ethylenically unsaturated bond include nonylphenyl carbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexyl carbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, N-vinylpyrrolidone, (A), (b) and (c). Examples of the polymerizable compound having two ethylenically unsaturated bonds include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and triethylene glycol di (meta). ) Acrylate, bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A and 3-methylpentanediol di (meth) acrylate. Examples of the polymerizable compound having three or more ethylenically unsaturated bonds include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol octa (meth) acrylate, tripentaerythritol hepta (meth) acrylate, tetrapentaerythritol deca (meth) acrylate, tetrapentaerythritol nona (meth) acrylate, tris (2- ( (Meth) acryloyloxyethyl) isocyanurate, ethylene glycol modified pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ethylene glycol modified di Intererythritol hexa (meth) acrylate, propylene glycol modified pentaerythritol tetra (meth) acrylate, propylene glycol modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone modified pentaerythritol tetra (meth) acrylate and caprolactone modified dipentaerythritol hexa (meth) An acrylate is mentioned.

これらのなかでも、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートおよびジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートが好ましい。   Among these, dipentaerythritol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate are preferable.

重合性化合物(C)の重量平均分子量は、好ましくは150以上、2,900以下、より好ましくは250以上、1,500以下である。   The weight average molecular weight of the polymerizable compound (C) is preferably 150 or more and 2,900 or less, more preferably 250 or more and 1,500 or less.

本発明の着色硬化性樹脂組成物中の重合性化合物(C)の含有量は、固形分の総量に対して、通常5〜65質量%であり、好ましくは7〜65質量%であり、より好ましくは10〜60質量%であり、さらに好ましくは13〜60質量%であり、特に好ましくは17〜55質量%である。樹脂(B)と重合性化合物(C)との含有量比(樹脂(B):重合性化合物(C))は質量基準で、通常20:80〜80:20であり、好ましくは35:65〜80:20である。重合性化合物(C)の含有量が、前記の範囲内にあると、着色パターン形成時の残膜率およびカラーフィルタの耐薬品性が向上する傾向がある。   Content of the polymeric compound (C) in the colored curable resin composition of this invention is 5-65 mass% normally with respect to the total amount of solid content, Preferably it is 7-65 mass%, More Preferably it is 10-60 mass%, More preferably, it is 13-60 mass%, Most preferably, it is 17-55 mass%. The content ratio of the resin (B) and the polymerizable compound (C) (resin (B): polymerizable compound (C)) is usually 20:80 to 80:20, preferably 35:65, based on mass. ~ 80: 20. When the content of the polymerizable compound (C) is within the above range, the remaining film ratio at the time of forming the colored pattern and the chemical resistance of the color filter tend to be improved.

<重合開始剤(D)>
重合開始剤(D)は、光や熱の作用により活性ラジカル、酸等を発生し、重合を開始しうる化合物であれば特に限定されることなく、公知の重合開始剤を用いることができる。
<Polymerization initiator (D)>
The polymerization initiator (D) is not particularly limited as long as it is a compound capable of generating an active radical, an acid or the like by the action of light or heat and initiating polymerization, and a known polymerization initiator can be used.

重合開始剤(D)としては、O−アシルオキシム化合物、アルキルフェノン化合物、トリアジン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物およびビイミダゾール化合物が挙げられる。   Examples of the polymerization initiator (D) include O-acyloxime compounds, alkylphenone compounds, triazine compounds, acylphosphine oxide compounds, and biimidazole compounds.

O−アシルオキシム化合物は、式(d1)で表される構造を有する化合物である。以下、*は結合手を表わす。   The O-acyl oxime compound is a compound having a structure represented by the formula (d1). Hereinafter, * represents a bond.

O−アシルオキシム化合物としては、N−ベンゾイルオキシ−1−(4−フェニルスルファニルフェニル)ブタン−1−オン−2−イミン、N−ベンゾイルオキシ−1−(4−フェニルスルファニルフェニル)オクタン−1−オン−2−イミン、N−ベンゾイルオキシ−1−(4−フェニルスルファニルフェニル)−3−シクロペンチルプロパン−1−オン−2−イミン、N−アセトキシ−1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]エタン−1−イミン、N−アセトキシ−1−[9−エチル−6−{2−メチル−4−(3,3−ジメチル−2,4−ジオキサシクロペンタニルメチルオキシ)ベンゾイル}−9H−カルバゾール−3−イル]エタン−1−イミン、N−アセトキシ−1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−3−シクロペンチルプロパン−1−イミンおよびN−ベンゾイルオキシ−1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−3−シクロペンチルプロパン−1−オン−2−イミンが挙げられる。イルガキュア(登録商標)OXE01、OXE02(以上、BASF社製)、N−1919(ADEKA社製)等の市販品を用いてもよい。なかでも、N−ベンゾイルオキシ−1−(4−フェニルスルファニルフェニル)ブタン−1−オン−2−イミン、N−ベンゾイルオキシ−1−(4−フェニルスルファニルフェニル)オクタン−1−オン−2−イミンおよびN−ベンゾイルオキシ−1−(4−フェニルスルファニルフェニル)−3−シクロペンチルプロパン−1−オン−2−イミンからなる群から選ばれる少なくとも1種が好ましく、N−ベンゾイルオキシ−1−(4−フェニルスルファニルフェニル)オクタン−1−オン−2−イミンがより好ましい。   Examples of O-acyloxime compounds include N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) butan-1-one-2-imine, N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) octane-1- On-2-imine, N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) -3-cyclopentylpropane-1-one-2-imine, N-acetoxy-1- [9-ethyl-6- (2- Methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] ethane-1-imine, N-acetoxy-1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (3,3-dimethyl-2,4-di) Oxacyclopentanylmethyloxy) benzoyl} -9H-carbazol-3-yl] ethane-1-imine, N-acetoxy-1- [9-ethyl 6- (2-Methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -3-cyclopentylpropane-1-imine and N-benzoyloxy-1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H- Carbazol-3-yl] -3-cyclopentylpropan-1-one-2-imine. Commercial products such as Irgacure (registered trademark) OXE01, OXE02 (above, manufactured by BASF), N-1919 (manufactured by ADEKA) may be used. Among them, N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) butan-1-one-2-imine, N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) octane-1-one-2-imine And at least one selected from the group consisting of N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) -3-cyclopentylpropan-1-one-2-imine, and N-benzoyloxy-1- (4- More preferred is phenylsulfanylphenyl) octane-1-one-2-imine.

アルキルフェノン化合物は、式(d2)で表される構造または式(d3)で表される構造を有する化合物である。なお、これらの構造中のベンゼン環は置換基を有していてもよい。   The alkylphenone compound is a compound having a structure represented by the formula (d2) or a structure represented by the formula (d3). In addition, the benzene ring in these structures may have a substituent.

式(d2)で表される構造を有する化合物としては、2−メチル−2−モルホリノ−1−(4−メチルスルファニルフェニル)プロパン−1−オン、2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−2−ベンジルブタン−1−オンおよび2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]ブタン−1−オンが挙げられる。イルガキュア369、907、379(以上、BASF社製)等の市販品を用いてもよい。   Examples of the compound having the structure represented by the formula (d2) include 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylsulfanylphenyl) propan-1-one, 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) ) -2-benzylbutan-1-one and 2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] butan-1-one. . Commercial products such as Irgacure 369, 907, 379 (above, manufactured by BASF) may be used.

式(d3)で表される構造を有する化合物としては、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−〔4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕プロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−イソプロペニルフェニル)プロパン−1−オンのオリゴマー、α,α−ジエトキシアセトフェノンおよびベンジルジメチルケタールが挙げられる。   Examples of the compound having a structure represented by the formula (d3) include 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (2-hydroxyethoxy ) Phenyl] propan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, oligomers of 2-hydroxy-2-methyl-1- (4-isopropenylphenyl) propan-1-one, α, α-diethoxyacetophenone and benzyl Examples include dimethyl ketal.

感度の点で、アルキルフェノン化合物は、式(d2)で表される構造を有する化合物であることが好ましい。   In terms of sensitivity, the alkylphenone compound is preferably a compound having a structure represented by the formula (d2).

トリアジン化合物としては、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキシナフチル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−ピペロニル−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキシスチリル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−〔2−(5−メチルフラン−2−イル)エテニル〕−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−〔2−(フラン−2−イル)エテニル〕−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−〔2−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)エテニル〕−1,3,5−トリアジンおよび2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−〔2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル〕−1,3,5−トリアジンが挙げられる。   As triazine compounds, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl)- 1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis ( Trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methyl) Phenyl) ethenyl -1,3,5-triazine and 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine.

アシルホスフィンオキサイド化合物としては、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドが挙げられる。   Examples of the acyl phosphine oxide compound include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.

ビイミダゾール化合物としては、式(d4)で表される化合物が挙げられる。   Examples of the biimidazole compound include a compound represented by the formula (d4).

(式中、R51〜R56は、置換基を有していてもよい炭素数6〜10のアリール基を表わす。) (In the formula, R 51 to R 56 represent an aryl group having 6 to 10 carbon atoms which may have a substituent.)

炭素数6〜10のアリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基およびナフチル基が挙げられ、好ましくはフェニル基である。置換基としては、ハロゲン原子および炭素数1〜4のアルコキシ基が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられ、好ましくは塩素原子である。炭素数1〜4のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基およびブトキシ基が挙げられ、好ましくはメトキシ基である。   Examples of the aryl group having 6 to 10 carbon atoms include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, an ethylphenyl group, and a naphthyl group, and a phenyl group is preferable. Examples of the substituent include a halogen atom and an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned, for example, Preferably it is a chlorine atom. As a C1-C4 alkoxy group, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and a butoxy group are mentioned, Preferably it is a methoxy group.

ビイミダゾール化合物としては、具体的には、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(2,3−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール(例えば、特開平6−75372号公報、特開平6−75373号公報等参照。)、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(アルコキシフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(ジアルコキシフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(トリアルコキシフェニル)ビイミダゾール(例えば、特公昭48−38403号公報、特開昭62−174204号公報等参照。)および4,4’5,5’−位のフェニル基がカルボアルコキシ基により置換されているイミダゾール化合物(例えば、特開平07−010913号公報等参照)が挙げられる。なかでも、下記式で表される化合物およびこれらの混合物が好ましい。   Specific examples of the biimidazole compound include 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole and 2,2′-bis (2,3-dichlorophenyl). ) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole (for example, see JP-A-6-75372 and JP-A-6-75373), 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (alkoxyphenyl) biimidazole, 2,2 ' -Bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (dialkoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (Trial Xylphenyl) biimidazole (for example, see JP-B-48-38403, JP-A-62-174204, etc.) and the phenyl group at the 4,4′5,5′-position is substituted with a carboalkoxy group. Examples thereof include imidazole compounds (for example, see JP-A-07-010913). Of these, compounds represented by the following formula and mixtures thereof are preferred.

他の重合開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物;ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド、3,3’,4,4’−テトラ(tert−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物;9,10−フェナンスレンキノン、2−エチルアントラキノン、カンファーキノン等のキノン化合物;10−ブチル−2−クロロアクリドン、ベンジル、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物等が挙げられる。これらは、後述の重合開始助剤(特にアミン系重合開始助剤)と組み合わせて用いることが好ましい。   Other polymerization initiators include benzoin compounds such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether; benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4 ′. -Benzophenone compounds such as methyldiphenyl sulfide, 3,3 ', 4,4'-tetra (tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone; 9,10-phenanthrenequinone, 2- Examples include quinone compounds such as ethyl anthraquinone and camphor quinone; 10-butyl-2-chloroacridone, benzyl, methyl phenylglyoxylate, and titanocene compounds. These are preferably used in combination with a polymerization initiation assistant described below (particularly an amine polymerization initiation assistant).

酸を発生する重合開始剤としては、例えば、4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム−p−トルエンスルホナート、4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム−p−トルエンスルホナート、4−アセトキシフェニルメチルベンジルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウム−p−トルエンスルホナート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムp−トルエンスルホナート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等のオニウム塩類や、ニトロベンジルトシレート類、ベンゾイントシレート類等が挙げられる。   Examples of the polymerization initiator that generates an acid include 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium-p-toluenesulfonate, 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium-p-toluenesulfonate, 4 Onium salts such as acetoxyphenylmethylbenzylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium p-toluenesulfonate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, diphenyliodonium p-toluenesulfonate, diphenyliodonium hexafluoroantimonate, nitro Examples include benzyl tosylate and benzoin tosylate.

重合開始剤(D)は、活性ラジカルを発生する重合開始剤が好ましく、より好ましくは、アルキルフェノン化合物、トリアジン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、O−アシルオキシム化合物およびビイミダゾール化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種を含み、さらに好ましくは、O−アシルオキシム化合物を含む。   The polymerization initiator (D) is preferably a polymerization initiator that generates active radicals, and more preferably selected from the group consisting of alkylphenone compounds, triazine compounds, acylphosphine oxide compounds, O-acyloxime compounds, and biimidazole compounds. At least 1 type is included, More preferably, an O-acyl oxime compound is included.

重合開始剤(D)の含有量は、樹脂(B)および重合性化合物(C)の合計量100質量部に対して、通常0.1〜40質量部であり、好ましくは0.1〜30質量部であり、より好ましくは1〜30質量部であり、特に好ましくは1〜20質量部である。   Content of a polymerization initiator (D) is 0.1-40 mass parts normally with respect to 100 mass parts of total amounts of resin (B) and polymeric compound (C), Preferably it is 0.1-30. It is a mass part, More preferably, it is 1-30 mass parts, Most preferably, it is 1-20 mass parts.

<重合開始助剤>
重合開始助剤は、重合開始剤(D)によって重合が開始された重合性化合物(C)の重合を促進するために用いられる化合物または増感剤である。本発明の着色硬化性樹脂組成物が重合開始助剤を含む場合、通常、重合開始剤(D)と組み合わせて用いられる。
<Polymerization initiation aid>
The polymerization initiation assistant is a compound or a sensitizer used for accelerating the polymerization of the polymerizable compound (C) whose polymerization has been initiated by the polymerization initiator (D). When the colored curable resin composition of the present invention contains a polymerization initiation assistant, it is usually used in combination with a polymerization initiator (D).

重合開始助剤としては、アミン系重合開始助剤、アルコキシアントラセン系重合開始助剤、チオキサントン系重合開始助剤およびカルボン酸系重合開始助剤が挙げられる。   Examples of the polymerization initiation assistant include amine polymerization initiation assistants, alkoxyanthracene polymerization initiation assistants, thioxanthone polymerization initiation assistants, and carboxylic acid polymerization initiation assistants.

アミン系重合開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン等のアルカノールアミン;4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸2−ジメチルアミノエチル、4−ジメチルアミノ安息香酸2−エチルヘキシル等のアミノ安息香酸エステル;N,N−ジメチルパラトルイジン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(通称ミヒラーズケトン)、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンおよび4,4’−ビス(エチルメチルアミノ)ベンゾフェノンが挙げられ、なかでも4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等のアルキルアミノベンゾフェノン;が好ましい。中でも、アルキルアミノベンゾフェノンが好ましく、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンが好ましい。EAB−F(保土谷化学工業(株)製)等の市販品を用いてもよい。   Examples of the amine polymerization initiation aid include alkanolamines such as triethanolamine, methyldiethanolamine, and triisopropanolamine; methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, benzoic acid Aminobenzoic acid esters such as 2-dimethylaminoethyl and 2-dimethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate; N, N-dimethylparatoluidine, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone (commonly known as Michler's ketone), 4,4 ′ -Bis (diethylamino) benzophenone and 4,4'-bis (ethylmethylamino) benzophenone are mentioned, and alkylaminobenzophenone such as 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone is preferred. Among these, alkylaminobenzophenone is preferable, and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone is preferable. Commercial products such as EAB-F (Hodogaya Chemical Co., Ltd.) may be used.

アルコキシアントラセン系重合開始助剤としては、9,10−ジメトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセン、9,10−ジエトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジエトキシアントラセン、9,10−ジブトキシアントラセンおよび2−エチル−9,10−ジブトキシアントラセンが挙げられる。   As an alkoxyanthracene polymerization initiation assistant, 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, 9, Examples include 10-dibutoxyanthracene and 2-ethyl-9,10-dibutoxyanthracene.

チオキサントン系重合開始助剤としては、2−イソプロピルチオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントンおよび1−クロロ−4−プロポキシチオキサントンが挙げられる。   Examples of the thioxanthone polymerization initiation assistant include 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, and 1-chloro-4-propoxythioxanthone.

カルボン酸系重合開始助剤としては、フェニルスルファニル酢酸、メチルフェニルスルファニル酢酸、エチルフェニルスルファニル酢酸、メチルエチルフェニルスルファニル酢酸、ジメチルフェニルスルファニル酢酸、メトキシフェニルスルファニル酢酸、ジメトキシフェニルスルファニル酢酸、クロロフェニルスルファニル酢酸、ジクロロフェニルスルファニル酢酸、N−フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、N−ナフチルグリシンおよびナフトキシ酢酸が挙げられる。   Carboxylic acid polymerization initiators include phenylsulfanylacetic acid, methylphenylsulfanylacetic acid, ethylphenylsulfanylacetic acid, methylethylphenylsulfanylacetic acid, dimethylphenylsulfanylacetic acid, methoxyphenylsulfanylacetic acid, dimethoxyphenylsulfanylacetic acid, chlorophenylsulfanylacetic acid, dichlorophenyl And sulfanylacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine and naphthoxyacetic acid.

重合開始助剤を用いる場合、その含有量は、樹脂(B)および重合性化合物(C)の合計量100質量部に対して、好ましくは0.1〜30質量部、より好ましくは1〜20質量部である。重合開始助剤の含有量がこの範囲内であると、より高感度で着色パターンを形成することができ、カラーフィルタの生産性が向上する傾向にある。   When using a polymerization initiation aid, the content thereof is preferably 0.1 to 30 parts by mass, more preferably 1 to 20 parts per 100 parts by mass of the total amount of the resin (B) and the polymerizable compound (C). Part by mass. When the content of the polymerization initiation assistant is within this range, a colored pattern can be formed with higher sensitivity, and the productivity of the color filter tends to be improved.

<溶剤(E)>
溶剤(E)は、限定されず、当該分野で通常使用される溶剤を単独で、或いは2種以上を組み合わせて用いることができる。具体的には、エステル溶剤(分子内に−COO−を含み、−O−を含まない溶剤)、エーテル溶剤(分子内に−O−を含み、−COO−を含まない溶剤)、エーテルエステル溶剤(分子内に−COO−と−O−とを含む溶剤)、ケトン溶剤(分子内に−CO−を含み、−COO−を含まない溶剤)、アルコール溶剤(分子内にOHを含み、−O−、−CO−および−COO−を含まない溶剤)、芳香族炭化水素溶剤、アミド溶剤およびジメチルスルホキシドが挙げられる。
<Solvent (E)>
A solvent (E) is not limited, The solvent normally used in the said field | area can be used individually or in combination of 2 or more types. Specifically, an ester solvent (a solvent containing —COO— in the molecule and not containing —O—), an ether solvent (a solvent containing —O— in the molecule and not containing —COO—), an ether ester solvent (Solvent containing -COO- and -O- in the molecule), ketone solvent (solvent containing -CO- in the molecule and not containing -COO-), alcohol solvent (containing OH in the molecule, -O -, -CO- and -COO- free solvents), aromatic hydrocarbon solvents, amide solvents and dimethyl sulfoxide.

エステル溶剤としては、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、2−ヒドロキシイソブタン酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、シクロヘキサノールアセテートおよびγ−ブチロラクトンが挙げられる。   Examples of ester solvents include methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, methyl 2-hydroxyisobutanoate, ethyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, pentyl formate, isopentyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, pyruvin Examples include methyl acid, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, cyclohexanol acetate and γ-butyrolactone.

エーテル溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、3−メトキシ−1−ブタノール、3−メトキシ−3−メチルブタノール、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,4−ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、アニソール、フェネトールおよびメチルアニソールが挙げられる。   Ether solvents include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether , Propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, 3-methoxy-1-butanol, 3-methoxy-3-methylbutanol, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, 1,4-dioxane, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethyl Glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, anisole, include phenetol and methyl anisole.

エーテルエステル溶剤としては、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−エトキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートおよびジプロピレングリコールメチルエーテルアセテートが挙げられる。   Examples of ether ester solvents include methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, 3-ethoxy Ethyl propionate, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, Ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether Acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate and dipropylene glycol methyl ether acetate.

ケトン溶剤としては、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、アセトン、2−ブタノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、4−ヘプタノン、4−メチル−2−ペンタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンおよびイソホロンが挙げられる。   Examples of ketone solvents include 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, acetone, 2-butanone, 2-heptanone, 3-heptanone, 4-heptanone, 4-methyl-2-pentanone, cyclopentanone, cyclohexanone and isophorone. Is mentioned.

アルコール溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコールおよびグリセリンが挙げられる。   Examples of the alcohol solvent include methanol, ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, and glycerin.

芳香族炭化水素溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレンおよびメシチレンが挙げられる。   Aromatic hydrocarbon solvents include benzene, toluene, xylene and mesitylene.

アミド溶剤としては、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチルピロリドンが挙げられる。   Examples of the amide solvent include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone.

これらの溶剤は、二種以上を組み合わせてもよい。   Two or more of these solvents may be combined.

上記の溶剤のうち、塗布性、乾燥性の点から、1atmにおける沸点が120℃以上、210℃以下である有機溶剤が好ましい。なかでも、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、3−メトキシブチルアセテート、3−メトキシ−1−ブタノール、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、N,N−ジメチルホルムアミドおよびN−メチルピロリドンが好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、3−メトキシブチルアセテート、3−メトキシ−1−ブタノール、3−エトキシプロピオン酸エチル、N,N−ジメチルホルムアミドおよびN−メチルピロリドンがより好ましい。   Among the above solvents, an organic solvent having a boiling point of 120 ° C. or more and 210 ° C. or less at 1 atm is preferable from the viewpoints of coating properties and drying properties. Among them, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethyl lactate, propylene glycol monomethyl ether, ethyl 3-ethoxypropionate, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, 3-methoxybutyl acetate, 3 -Methoxy-1-butanol, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, N, N-dimethylformamide and N-methylpyrrolidone are preferred, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, di- Propylene glycol methyl ether acetate, ethyl lactate, 3-metho Shi butyl acetate, 3-methoxy-1-butanol, ethyl 3-ethoxypropionate, N, N- dimethylformamide and N- methylpyrrolidone is more preferred.

溶剤(E)の含有量は、着色硬化性樹脂組成物の総量に対して、通常70〜95質量%であり、好ましくは75〜92質量%であり、より好ましくは75〜90質量%である。溶剤(E)の含有量が前記の範囲にあると、塗布時の平坦性が良好になり、また、カラーフィルタを形成した際に色濃度が不足しないために表示特性が良好となる傾向がある。   Content of a solvent (E) is 70-95 mass% normally with respect to the total amount of colored curable resin composition, Preferably it is 75-92 mass%, More preferably, it is 75-90 mass%. . When the content of the solvent (E) is in the above range, the flatness at the time of coating is good, and when the color filter is formed, the color density does not become insufficient and the display characteristics tend to be good. .

<レベリング剤>
レベリング剤としては、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤およびフッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤が挙げられる。これらは、側鎖に重合性基を有していてもよい。
<Leveling agent>
Examples of the leveling agent include silicone surfactants, fluorine surfactants, and silicone surfactants having a fluorine atom. These may have a polymerizable group in the side chain.

シリコーン系界面活性剤としては、分子内にシロキサン結合を有する界面活性剤が挙げられる。具体的には、トーレシリコーンDC3PA、同SH7PA、同DC11PA、同SH21PA、同SH28PA、同SH29PA、同SH30PA、同SH8400(東レ・ダウコーニング(株)製)、KP321、KP322、KP323、KP324、KP326、KP340、KP341(信越化学工業(株)製)、TSF400、TSF401、TSF410、TSF4300、TSF4440、TSF4445、TSF−4446、TSF4452およびTSF4460(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製)が挙げられる。   Examples of the silicone-based surfactant include surfactants having a siloxane bond in the molecule. Specifically, Torre Silicone DC3PA, SH7PA, DC11PA, SH21PA, SH28PA, SH29PA, SH29PA, SH30PA, SH8400 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), KP321, KP322, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452 and TSF4460 (made by Momentive Performance Materials Japan GK) are listed.

フッ素系界面活性剤としては、分子内にフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤が挙げられる。具体的には、フロラード(登録商標)FC430、同FC431(住友スリーエム(株)製)、メガファック(登録商標)F142D、同F171、同F172、同F173、同F177、同F183、同F554、同R30、同RS−718−K(DIC(株)製)、エフトップ(登録商標)EF301、同EF303、同EF351、同EF352(三菱マテリアル電子化成(株)製)、サーフロン(登録商標)S381、同S382、同SC101、同SC105(旭硝子(株)製)およびE5844((株)ダイキンファインケミカル研究所製)が挙げられる。   Examples of the fluorosurfactant include surfactants having a fluorocarbon chain in the molecule. Specifically, Florard (registered trademark) FC430, FC431 (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), MegaFac (registered trademark) F142D, F171, F172, F173, F177, F183, F183, F554, R30, RS-718-K (manufactured by DIC Corporation), Ftop (registered trademark) EF301, EF303, EF351, EF352 (manufactured by Mitsubishi Materials Electronic Chemicals), Surflon (registered trademark) S381, S382, SC101, SC105 (Asahi Glass Co., Ltd.) and E5844 (Daikin Fine Chemical Laboratory Co., Ltd.).

フッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤としては、分子内にシロキサン結合およびフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤が挙げられる。具体的には、メガファック(登録商標)R08、同BL20、同F475、同F477および同F443(DIC(株)製)が挙げられる。   Examples of the silicone-based surfactant having a fluorine atom include surfactants having a siloxane bond and a fluorocarbon chain in the molecule. Specifically, Megafac (registered trademark) R08, BL20, F475, F477, and F443 (manufactured by DIC Corporation) can be mentioned.

レベリング剤の含有量は、着色硬化性樹脂組成物の総量に対して、通常0.0005質量%以上0.6質量%以下であり、好ましくは0.001質量%以上0.5質量%以下であり、より好ましくは0.001質量%以上0.2質量%以下であり、さらに好ましくは0.002質量%以上0.1質量%以下であり、特に好ましくは0.005質量%以上0.07質量%以下である。レベリング剤の含有量が前記の範囲内にあると、カラーフィルタの平坦性を良好にすることができる。   The content of the leveling agent is usually 0.0005% by mass or more and 0.6% by mass or less, preferably 0.001% by mass or more and 0.5% by mass or less, based on the total amount of the colored curable resin composition. More preferably 0.001% by mass to 0.2% by mass, still more preferably 0.002% by mass to 0.1% by mass, and particularly preferably 0.005% by mass to 0.07% by mass. It is below mass%. When the leveling agent content is within the above range, the flatness of the color filter can be improved.

<その他の成分>
本発明の着色硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、充填剤、他の高分子化合物、密着促進剤、酸化防止剤、光安定剤、連鎖移動剤等、当該技術分野で公知の添加剤を含んでもよい。
<Other ingredients>
The colored curable resin composition of the present invention includes additives known in the art, such as fillers, other polymer compounds, adhesion promoters, antioxidants, light stabilizers, chain transfer agents, etc., if necessary. May be included.

<着色硬化性樹脂組成物の製造方法>
本発明の着色硬化性樹脂組成物は、例えば、着色剤(A)、樹脂(B)、重合性化合物(C)、重合開始剤(D)、溶剤(E)、および、必要に応じて、レベリング剤、重合開始助剤およびその他の成分を混合することにより調製できる。着色剤(A)に加えて、さらに、顔料や染料を混合することもできる。顔料は、予め溶剤(E)の一部または全部と混合し、顔料の平均粒子径が0.2μm以下程度となるまで、ビーズミルなどを用いて分散させた顔料分散液の状態で用いることが好ましい。この際、必要に応じて前記顔料分散剤、樹脂(B)の一部または全部を配合してもよい。
<Method for producing colored curable resin composition>
The colored curable resin composition of the present invention includes, for example, a colorant (A), a resin (B), a polymerizable compound (C), a polymerization initiator (D), a solvent (E), and, if necessary, It can be prepared by mixing a leveling agent, a polymerization initiation aid and other components. In addition to the colorant (A), pigments and dyes can also be mixed. The pigment is preferably mixed in advance with a part or all of the solvent (E) and used in the state of a pigment dispersion dispersed using a bead mill or the like until the average particle size of the pigment is about 0.2 μm or less. . Under the present circumstances, you may mix | blend a part or all of the said pigment dispersant and resin (B) as needed.

化合物(I)は、予め溶剤(E)の一部または全部に溶解させて溶液を調製することが好ましい。さらに、該溶液を、孔径0.01〜1μm程度のフィルタでろ過することが好ましい。   It is preferable to prepare a solution by dissolving Compound (I) in part or all of the solvent (E) in advance. Furthermore, it is preferable to filter the solution with a filter having a pore size of about 0.01 to 1 μm.

混合後の着色硬化性樹脂組成物を、孔径0.01〜10μm程度のフィルタでろ過することが好ましい。   The colored curable resin composition after mixing is preferably filtered with a filter having a pore size of about 0.01 to 10 μm.

<カラーフィルタの製造方法>
本発明の着色硬化性樹脂組成物から着色パターンを製造する方法としては、フォトリソグラフ法、インクジェット法、印刷法等が挙げられる。中でも、フォトリソグラフ法が好ましい。フォトリソグラフ法は、着色硬化性樹脂組成物を基板に塗布し、乾燥させて着色組成物層を形成し、フォトマスクを介して該着色組成物層を露光して、現像する方法である。フォトリソグラフ法において、露光の際にフォトマスクを用いないこと、および/または現像しないことにより、上記着色組成物層の硬化物である着色塗膜を形成することができる。このように形成した着色パターンや着色塗膜が本発明のカラーフィルタである。
<Color filter manufacturing method>
Examples of the method for producing a colored pattern from the colored curable resin composition of the present invention include a photolithographic method, an inkjet method, and a printing method. Of these, the photolithographic method is preferable. The photolithographic method is a method in which a colored curable resin composition is applied to a substrate, dried to form a colored composition layer, and the colored composition layer is exposed and developed through a photomask. In the photolithography method, a colored coating film that is a cured product of the colored composition layer can be formed by not using a photomask and / or not developing during exposure. The colored pattern and the colored coating film thus formed are the color filter of the present invention.

作製するカラーフィルタの膜厚は、目的や用途等に応じて適宜調整することができ、通常0.1〜30μm、好ましくは0.1〜20μm、より好ましくは0.5〜6μmである。   The film thickness of the color filter to be produced can be appropriately adjusted according to the purpose and application, and is usually 0.1 to 30 μm, preferably 0.1 to 20 μm, more preferably 0.5 to 6 μm.

基板としては、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミナケイ酸塩ガラス、表面をシリカコートしたソーダライムガラス等のガラス板や、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレンテレフタレート等の樹脂板、シリコン、前記基板上にアルミニウム、銀、銀/銅/パラジウム合金薄膜等を形成したものが用いられる。これらの基板上には、別のカラーフィルタ層、樹脂層、トランジスタ、回路等が形成されていてもよい。   As a substrate, quartz glass, borosilicate glass, alumina silicate glass, glass plate such as soda lime glass coated with silica on the surface, resin plate such as polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, silicon, on the substrate In addition, an aluminum, silver, silver / copper / palladium alloy thin film or the like is used. On these substrates, another color filter layer, a resin layer, a transistor, a circuit, and the like may be formed.

フォトリソグラフ法による各色画素の形成は、公知または慣用の装置や条件で行うことができる。例えば、下記のようにして作製することができる。   The formation of each color pixel by the photolithographic method can be performed by a known or commonly used apparatus and conditions. For example, it can be produced as follows.

まず、着色硬化性樹脂組成物を基板上に塗布し、加熱乾燥(プリベーク)および/または減圧乾燥することにより溶剤等の揮発成分を除去して乾燥させ、平滑な着色組成物層を得る。塗布方法としては、スピンコート法、スリットコート法およびスリット アンド スピンコート法が挙げられる。加熱乾燥を行う場合の温度は、30〜120℃が好ましく、50〜110℃がより好ましい。また加熱時間としては、10秒間〜60分間であることが好ましく、30秒間〜30分間であることがより好ましい。減圧乾燥を行う場合は、50〜150Paの圧力下に、20〜25℃の温度範囲で行うことが好ましい。着色組成物層の膜厚は、特に限定されず、目的とするカラーフィルタの膜厚に応じて適宜選択すればよい。   First, a colored curable resin composition is applied on a substrate, dried by heating (prebaking) and / or drying under reduced pressure to remove volatile components such as a solvent, and a smooth colored composition layer is obtained. Examples of the coating method include a spin coating method, a slit coating method, and a slit and spin coating method. 30-120 degreeC is preferable and the temperature in the case of performing heat drying has more preferable 50-110 degreeC. In addition, the heating time is preferably 10 seconds to 60 minutes, and more preferably 30 seconds to 30 minutes. When performing vacuum drying, it is preferable to carry out in the temperature range of 20-25 degreeC under the pressure of 50-150 Pa. The film thickness of the coloring composition layer is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the film thickness of the target color filter.

次に、着色組成物層は、目的の着色パターンを形成するためのフォトマスクを介して露光される。該フォトマスク上のパターンは特に限定されず、目的とする用途に応じたパターンが用いられる。露光に用いられる光源としては、250〜450nmの波長の光を発生する光源が好ましい。例えば、350nm未満の光を、この波長域をカットするフィルタを用いてカットしたり、436nm付近、408nm付近、365nm付近の光を、これらの波長域を取り出すバンドパスフィルタを用いて選択的に取り出したりしてもよい。光源の具体例としては、水銀灯、発光ダイオード、メタルハライドランプおよびハロゲンランプが挙げられる。露光面全体に均一に平行光線を照射したり、フォトマスクと着色組成物層が形成された基板との正確な位置合わせを行うことができるため、マスクアライナおよびステッパ等の露光装置を使用することが好ましい。露光後の着色組成物層を現像液に接触させて現像することにより、基板上に着色パターンが形成される。現像により、着色組成物層の未露光部が現像液に溶解して除去される。現像液としては、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等のアルカリ性化合物の水溶液が好ましい。アルカリ性化合物の濃度は、好ましくは0.01〜10質量%であり、より好ましくは0.02〜5質量%である。現像液は、界面活性剤を含んでいてもよい。現像方法は、パドル法、ディッピング法およびスプレー法のいずれでもよい。さらに現像時に基板を任意の角度に傾けてもよい。現像後は、水洗することが好ましい。   Next, the coloring composition layer is exposed through a photomask for forming a target coloring pattern. The pattern on the photomask is not particularly limited, and a pattern according to the intended use is used. The light source used for exposure is preferably a light source that generates light having a wavelength of 250 to 450 nm. For example, light less than 350 nm can be cut using a filter that cuts this wavelength range, or light near 436 nm, 408 nm, and 365 nm can be selectively extracted using a bandpass filter that extracts these wavelength ranges. Or you may. Specific examples of the light source include a mercury lamp, a light emitting diode, a metal halide lamp, and a halogen lamp. Use an exposure device such as a mask aligner or stepper because it can irradiate parallel light uniformly over the entire exposure surface and perform precise alignment between the photomask and the substrate on which the colored composition layer is formed. Is preferred. A colored pattern is formed on the substrate by developing the exposed colored composition layer in contact with a developer. By the development, the unexposed portion of the colored composition layer is dissolved in the developer and removed. The developer is preferably an aqueous solution of an alkaline compound such as potassium hydroxide, sodium bicarbonate, sodium carbonate, tetramethylammonium hydroxide. The concentration of the alkaline compound is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.02 to 5% by mass. The developer may contain a surfactant. The development method may be any of paddle method, dipping method and spray method. Further, the substrate may be tilted at an arbitrary angle during development. After development, it is preferable to wash with water.

得られた着色パターンに、さらにポストベークを行うことが好ましい。ポストベーク温度は、150〜250℃が好ましく、160〜235℃がより好ましい。ポストベーク時間は、1〜120分間が好ましく、10〜60分間がより好ましい。この様にして得られた着色パターンや着色塗膜を有するカラーフィルタは、種々の特性を付与する為、さらに表面コート処理に供してもよい。   It is preferable to further post-bake the resulting colored pattern. The post-bake temperature is preferably 150 to 250 ° C, more preferably 160 to 235 ° C. The post-bake time is preferably 1 to 120 minutes, more preferably 10 to 60 minutes. The color filter having a colored pattern or a colored coating film thus obtained may be further subjected to surface coating treatment in order to impart various characteristics.

本発明の着色硬化性樹脂組成物から形成されるカラーフィルタは、表示装置(例えば、液晶表示装置、有機EL装置、電子ペーパー等)および固体撮像素子に用いられるカラーフィルタとして有用である。   The color filter formed from the colored curable resin composition of the present invention is useful as a color filter used for display devices (for example, liquid crystal display devices, organic EL devices, electronic paper, etc.) and solid-state imaging devices.

次に実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。例中の「%」及び「部」は、特記ない限り、質量%及び質量部である。   Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples. Unless otherwise specified, “%” and “parts” in the examples are% by mass and parts by mass.

以下の合成例において、化合物の構造は、NMR(JMM−ECA−500;日本電子(株)製)又は質量分析(LC;Agilent製1200型、MASS;Agilent製LC/MSD6130型)で確認した。   In the following synthesis examples, the structure of the compound was confirmed by NMR (JMM-ECA-500; manufactured by JEOL Ltd.) or mass spectrometry (LC; Agilent 1200 model, MASS; Agilent LC / MSD6130 model).

樹脂のポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)の測定は、GPC法により以下の条件で行った。
装置 ;HLC−8120GPC(東ソー(株)製)
カラム ;TSK−GELG2000HXL
カラム温度 ;40℃
溶媒 ;THF
流速 ;1.0mL/min
被検液固形分濃度;0.001〜0.01質量%
注入量 ;50μL
検出器 ;RI
校正用標準物質 ;TSK STANDARD POLYSTYRENE
F−40、F−4、F−288、A−2500、A−500
(東ソー(株)製)
The polystyrene-reduced weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) of the resin were measured by the GPC method under the following conditions.
Apparatus: HLC-8120GPC (manufactured by Tosoh Corporation)
Column; TSK-GELG2000HXL
Column temperature: 40 ° C
Solvent: THF
Flow rate: 1.0 mL / min
Test liquid solid content concentration: 0.001 to 0.01% by mass
Injection volume: 50 μL
Detector; RI
Reference material for calibration; TSK STANDARD POLYSTYRENE
F-40, F-4, F-288, A-2500, A-500
(Manufactured by Tosoh Corporation)

上記で得られたポリスチレン換算の重量平均分子量及び数平均分子量の比(Mw/Mn)を分子量分布とした。   The polystyrene-converted weight average molecular weight and number average molecular weight ratio (Mw / Mn) obtained above was defined as molecular weight distribution.

合成例1
クマリン6(東京化成工業(株)製)25.3部とクロロスルホン酸(東京化成工業(株)製)206部を混合し、120℃で4.5時間撹拌した。この混合物を10℃に冷却し、氷750部と水750部の混合物に滴下した。この滴下中、滴下を被る混合物の温度は10℃に保った。不溶物を吸引ろ過の残渣として得た。この残渣に10℃の水1000部を加え、この混合物の温度を10℃に保ちながら撹拌し、不溶物を吸引ろ過の残渣として得た。残渣は196部得られた。この残渣99.6部に、DL−1−アミノ−2−プロパノール(東京化成工業(株)製)35.0部とアセトニトリル502部の混合物を加え、室温で3時間撹拌した。その後、この混合物を40℃で1時間撹拌した。この混合物を室温まで冷却し、2220部のクロロホルムと2.5%水酸化ナトリウム水溶液1500部を加え、撹拌した後、静置した。クロロホルム溶液層を取り出し、10%酢酸水溶液1500部を加え、撹拌した後、静置した。クロロホルム溶液層を取り出し、硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過した。ろ液をロータリーエバポレーターで溶媒留去した後、60℃で減圧乾燥して、式(I−96)で表される化合物12.0部を得た。
Synthesis example 1
25.3 parts of Coumarin 6 (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 206 parts of chlorosulfonic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were mixed and stirred at 120 ° C. for 4.5 hours. The mixture was cooled to 10 ° C. and added dropwise to a mixture of 750 parts of ice and 750 parts of water. During the dropping, the temperature of the mixture subjected to the dropping was kept at 10 ° C. Insoluble matter was obtained as a residue of suction filtration. To this residue, 1000 parts of water at 10 ° C. was added, and the mixture was stirred while maintaining the temperature at 10 ° C. to obtain an insoluble matter as a residue of suction filtration. 196 parts of residue were obtained. A mixture of 35.0 parts of DL-1-amino-2-propanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 502 parts of acetonitrile was added to 99.6 parts of the residue, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The mixture was then stirred at 40 ° C. for 1 hour. The mixture was cooled to room temperature, 2220 parts of chloroform and 1500 parts of a 2.5% aqueous sodium hydroxide solution were added, stirred and allowed to stand. The chloroform solution layer was taken out, 1500 parts of a 10% aqueous acetic acid solution was added, and the mixture was stirred and allowed to stand. The chloroform solution layer was taken out, dried over magnesium sulfate, and filtered. After the solvent was distilled off from the filtrate with a rotary evaporator, the filtrate was dried under reduced pressure at 60 ° C. to obtain 12.0 parts of a compound represented by the formula (I-96).

<式(I−96)で表される化合物の同定>
(質量分析)イオン化モード=ESI+: m/z=[M+H] 488
Exact Mass: 487
<Identification of Compound Represented by Formula (I-96)>
(Mass spectrometry) ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 488
Exact Mass: 487

合成例2
上記で得た式(I−96)で表される化合物1.03部、無水コハク酸(東京化成工業(株)製)0.238部、4−ジメチルアミノピリジン(東京化成工業(株)製)0.0370部及び1−メチル−2−ピロリドン(ナカライテスク(株)製)35.0部を混合し、70℃で2.5時間撹拌した。この混合物に、無水コハク酸(東京化成工業(株)製)1.07部及び4−ジメチルアミノピリジン(東京化成工業(株)製)0.287部を加え、70℃で18時間撹拌した。この混合物に、1N塩酸300部とクロロホルム444部を加え、撹拌した後、静置した。クロロホルム溶液層を取り出し、1N塩酸300部で2回、10%酢酸水溶液300部で1回洗浄した。クロロホルム溶液層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過した。ろ液をロータリーエバポレーターで溶媒留去した後、得られた残渣を水200部に加えた。この混合物にクロロホルム444部を加え、撹拌した後、静置した。クロロホルム溶液層を取り出し、硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過した。ろ液をロータリーエバポレーターで溶媒留去した後、60℃で減圧乾燥した。得られた残渣にN,N−ジメチルホルムアミド5.00部を加えて撹拌した後、18%塩化ナトリウム水溶液200部に滴下した。この混合物にクロロホルム444部を加え、撹拌した後、静置した。クロロホルム溶液層を取り出し、硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過した。ろ液をロータリーエバポレーターで溶媒留去した。得られた残渣にN,N−ジメチルホルムアミド5.06部を加えて撹拌し、18%塩化ナトリウム水溶液300部に滴下した。不溶物を吸引ろ過の残渣として得た。この残渣を60℃で減圧乾燥して、式(I−117)で表される化合物1.21部を得た。
Synthesis example 2
1.03 parts of the compound represented by the formula (I-96) obtained above, 0.238 parts of succinic anhydride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 4-dimethylaminopyridine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ) 0.0370 parts and 35.0 parts of 1-methyl-2-pyrrolidone (manufactured by Nacalai Tesque) were mixed and stirred at 70 ° C. for 2.5 hours. To this mixture, 1.07 part of succinic anhydride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 0.287 part of 4-dimethylaminopyridine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were added and stirred at 70 ° C. for 18 hours. To this mixture, 300 parts of 1N hydrochloric acid and 444 parts of chloroform were added, stirred and allowed to stand. The chloroform solution layer was taken out and washed twice with 300 parts of 1N hydrochloric acid and once with 300 parts of a 10% aqueous acetic acid solution. The chloroform solution layer was dried over magnesium sulfate and then filtered. After the filtrate was distilled off with a rotary evaporator, the obtained residue was added to 200 parts of water. To this mixture, 444 parts of chloroform was added, stirred and allowed to stand. The chloroform solution layer was taken out, dried over magnesium sulfate, and filtered. The filtrate was evaporated under reduced pressure with a rotary evaporator and then dried under reduced pressure at 60 ° C. To the resulting residue, 5.00 parts of N, N-dimethylformamide was added and stirred, and then added dropwise to 200 parts of an 18% aqueous sodium chloride solution. To this mixture, 444 parts of chloroform was added, stirred and allowed to stand. The chloroform solution layer was taken out, dried over magnesium sulfate, and filtered. The filtrate was evaporated using a rotary evaporator. To the obtained residue, N, N-dimethylformamide (5.06 parts) was added and stirred, and the mixture was added dropwise to 300 parts of an 18% aqueous sodium chloride solution. Insoluble matter was obtained as a residue of suction filtration. This residue was dried under reduced pressure at 60 ° C. to obtain 1.21 parts of a compound represented by the formula (I-117).
.

<式(I−117)で表される化合物>
(質量分析)イオン化モード=ESI+: m/z=[M+H] 588
Exact Mass: 587
<Compound represented by Formula (I-117)>
(Mass spectrometry) ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 588
Exact Mass: 587

合成例3
上記で得た式(I−96)で表される化合物1.07部、フタル酸無水物(東京化成工業(株)製)3.28部、4−ジメチルアミノピリジン(東京化成工業(株)製)0.556部及び1−メチル−2−ピロリドン(ナカライテスク(株)製)37.0部を混合し、100℃で17.5時間撹拌した。この混合物に、フタル酸無水物(東京化成工業(株)製)1.68部及び4−ジメチルアミノピリジン(東京化成工業(株)製)0.277部を加え、100℃で4時間撹拌した。この混合物を120℃で4時間撹拌した。この混合物を100℃で1時間撹拌した。この混合物を室温まで冷却し、クロロホルム444部と1N塩酸300部を加えて、撹拌した後、静置した。クロロホルム溶液層を取り出し、1N塩酸300部で2回、15%炭酸ナトリウム水溶液300部で3回、10%酢酸水溶液300部で1回洗浄した。クロロホルム溶液層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過した。ろ液をロータリーエバポレーターで溶媒留去した後、60℃で減圧乾燥した。得られた残渣にアセトン10.6部を加えて撹拌した後、水240部とメタノール60部の混合物に滴下した。この混合物にクロロホルム888部を加えて撹拌した後、静置した。クロロホルム溶液層を取り出し、硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過した。ろ液をロータリーエバポレーターで溶媒留去した。得られた残渣にN,N−ジメチルホルムアミド22.3部を加えて撹拌した後、18%塩化ナトリウム水溶液610部に滴下した。不溶物を吸引ろ過の残渣として得た。この残渣を60℃で減圧乾燥して、式(I−118)で表される化合物1.55部を得た。
Synthesis example 3
1.07 parts of the compound represented by the formula (I-96) obtained above, 3.28 parts of phthalic anhydride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 4-dimethylaminopyridine (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 0.556 parts) and 17.0 parts of 1-methyl-2-pyrrolidone (manufactured by Nacalai Tesque) were mixed and stirred at 100 ° C. for 17.5 hours. To this mixture, 1.68 parts of phthalic anhydride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 0.277 part of 4-dimethylaminopyridine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were added and stirred at 100 ° C. for 4 hours. . The mixture was stirred at 120 ° C. for 4 hours. The mixture was stirred at 100 ° C. for 1 hour. The mixture was cooled to room temperature, 444 parts of chloroform and 300 parts of 1N hydrochloric acid were added, stirred and allowed to stand. The chloroform solution layer was taken out and washed twice with 300 parts of 1N hydrochloric acid, three times with 300 parts of a 15% aqueous sodium carbonate solution and once with 300 parts of a 10% aqueous acetic acid solution. The chloroform solution layer was dried over magnesium sulfate and then filtered. The filtrate was evaporated under reduced pressure with a rotary evaporator and then dried under reduced pressure at 60 ° C. To the resulting residue, 10.6 parts of acetone was added and stirred, and then added dropwise to a mixture of 240 parts of water and 60 parts of methanol. To this mixture, 888 parts of chloroform was added and stirred, and then allowed to stand. The chloroform solution layer was taken out, dried over magnesium sulfate, and filtered. The filtrate was evaporated using a rotary evaporator. To the obtained residue, 22.3 parts of N, N-dimethylformamide was added and stirred, and then added dropwise to 610 parts of an 18% aqueous sodium chloride solution. Insoluble matter was obtained as a residue of suction filtration. This residue was dried under reduced pressure at 60 ° C. to obtain 1.55 parts of a compound represented by the formula (I-118).

<式(I−118)で表される化合物の同定>
(質量分析)イオン化モード=ESI+: m/z=[M+H] 636
Exact Mass: 635
<Identification of Compound Represented by Formula (I-118)>
(Mass Spectrometry) Ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 636
Exact Mass: 635

合成例4
上記で得た式(I−96)で表される化合物1.03部、トリメリット酸無水物(東京化成工業(株)製)4.09部、4−ジメチルアミノピリジン(東京化成工業(株)製)0.797部及び1−メチル−2−ピロリドン(ナカライテスク(株)製)35.5部を混合し、100℃で6時間撹拌した。この混合物に、トリメリット酸無水物(東京化成工業(株)製)2.08部及び4−ジメチルアミノピリジン(東京化成工業(株)製)0.406部を加え、100℃で2.5時間撹拌した。この混合物を室温まで冷却し、クロロホルム444部と1N塩酸300部を加えて、撹拌した後、静置した。クロロホルム溶液層を取り出し、1N塩酸300部で4回洗浄した。このクロロホルム溶液をロータリーエバポレーターで溶媒留去した。得られた残渣に酢酸エチル269部と1N塩酸300部を加えて撹拌した後、静置し、酢酸エチル溶液層を取り出した。この酢酸エチル溶液に、15%炭酸ナトリウム水溶液300部を加えて撹拌した後、静置し、水溶液層を取り出した。この水溶液に15%炭酸ナトリウム水溶液100部を加えた。この水溶液に35%塩酸105部と酢酸エチル269部を加えて撹拌した後、静置し、酢酸エチル溶液層を取り出した。この酢酸エチル溶液に、10%酢酸水溶液300部を加えて撹拌した後、静置し、酢酸エチル溶液層を取り出した。この酢酸エチル溶液を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過した。ろ液をロータリーエバポレーターで溶媒留去した。この残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、式(I−119)で表される化合物と式(I−120)で表される化合物の混合物0.354部を得た。
Synthesis example 4
1.03 parts of the compound represented by the formula (I-96) obtained above, trimellitic anhydride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 4.09 parts, 4-dimethylaminopyridine (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) )) 0.797 parts and 1-methyl-2-pyrrolidone (Nacalai Tesque) 35.5 parts were mixed and stirred at 100 ° C. for 6 hours. To this mixture, 2.08 parts of trimellitic anhydride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 0.406 parts of 4-dimethylaminopyridine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) are added, and 2.5% at 100 ° C. Stir for hours. The mixture was cooled to room temperature, 444 parts of chloroform and 300 parts of 1N hydrochloric acid were added, stirred and allowed to stand. The chloroform solution layer was taken out and washed 4 times with 300 parts of 1N hydrochloric acid. The chloroform solution was evaporated using a rotary evaporator. To the obtained residue, 269 parts of ethyl acetate and 300 parts of 1N hydrochloric acid were added and stirred, and then allowed to stand, and the ethyl acetate solution layer was taken out. To this ethyl acetate solution, 300 parts of 15% aqueous sodium carbonate solution was added and stirred, and then allowed to stand to take out the aqueous solution layer. To this aqueous solution, 100 parts of a 15% aqueous sodium carbonate solution was added. To this aqueous solution, 105 parts of 35% hydrochloric acid and 269 parts of ethyl acetate were added and stirred, and then allowed to stand, and the ethyl acetate solution layer was taken out. To this ethyl acetate solution, 300 parts of a 10% aqueous acetic acid solution was added and stirred, and then allowed to stand to take out the ethyl acetate solution layer. The ethyl acetate solution was dried over magnesium sulfate and then filtered. The filtrate was evaporated using a rotary evaporator. The residue was purified by column chromatography to obtain 0.354 part of a mixture of the compound represented by formula (I-119) and the compound represented by formula (I-120).

<式(I−119)で表される化合物の同定>
(質量分析)イオン化モード=ESI+: m/z=[M+H] 680
Exact Mass: 679
<式(I−120)で表される化合物の同定>
(質量分析)イオン化モード=ESI+: m/z=[M+H] 680
Exact Mass: 679
<Identification of Compound Represented by Formula (I-119)>
(Mass spectrometry) ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 680
Exact Mass: 679
<Identification of Compound Represented by Formula (I-120)>
(Mass spectrometry) ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 680
Exact Mass: 679

合成例5
3−アミノ−4−ヒドロキシベンゼンスルホン酸水和物(東京化成工業(株)製)45.4部、安息香酸(東京化成工業(株)製)9.50部、4−(ジエチルアミノ)サリチルアルデヒド(東京化成工業(株)製)44.1部、シアノ酢酸エチル(東京化成工業(株)製)25.8部及び1−ペンタノール(東京化成工業(株)製)547部を混合し、125℃で2時間攪拌した。
Synthesis example 5
3-Amino-4-hydroxybenzenesulfonic acid hydrate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 45.4 parts, benzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 9.50 parts, 4- (diethylamino) salicylaldehyde 44.1 parts (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 25.8 parts of ethyl cyanoacetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 547 parts of 1-pentanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) are mixed, The mixture was stirred at 125 ° C. for 2 hours.

この混合物に、安息香酸(東京化成工業(株)製)9.50部、4−(ジエチルアミノ)サリチルアルデヒド(東京化成工業(株)製)44.1部、シアノ酢酸エチル(東京化成工業(株)製)25.8部及び1−ペンタノール(東京化成工業(株)製)30.3部を混合し、125℃で12時間攪拌した。   To this mixture, 9.50 parts of benzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 44.1 parts of 4- (diethylamino) salicylaldehyde (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), ethyl cyanoacetate (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) )) 25.8 parts and 1-pentanol (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 30.3 parts were mixed and stirred at 125 ° C. for 12 hours.

上記の混合物を室温まで冷却後、固形物を吸引ろ過の残渣として得た。この残渣に、N,N−ジメチルホルムアミド967部を加え、90℃で2時間撹拌した。この混合物を80℃に保ちながら吸引ろ過し、固形物を吸引ろ過の残渣として得た。この残渣にN,N−ジメチルホルムアミド126部を加え、固形物を吸引ろ過の残渣として得た。   After cooling the above mixture to room temperature, a solid was obtained as a residue of suction filtration. To this residue, 967 parts of N, N-dimethylformamide was added and stirred at 90 ° C. for 2 hours. The mixture was suction filtered while maintaining the temperature at 80 ° C. to obtain a solid as a residue of suction filtration. To this residue, 126 parts of N, N-dimethylformamide was added to obtain a solid as a residue of suction filtration.

この残渣に、N,N−ジメチルホルムアミド967部を加え、90℃で4時間撹拌した。この混合物を室温で12時間撹拌し、固形物を吸引ろ過の残渣として得た。この残渣にN,N−ジメチルホルムアミド126部を加え、固形物を吸引ろ過の残渣として得た。   To this residue, 967 parts of N, N-dimethylformamide was added and stirred at 90 ° C. for 4 hours. The mixture was stirred at room temperature for 12 hours to give a solid as a residue of suction filtration. To this residue, 126 parts of N, N-dimethylformamide was added to obtain a solid as a residue of suction filtration.

この残渣に水2000部を加え、80℃に加熱して溶液を調製した。この溶液を30℃に冷却した後、メタノール1580部を加え、12時間撹拌した。析出した固形物を吸引ろ過の残渣として得た。この残渣に、水2000部を加え、80℃に加熱して溶液を調製した。この溶液の溶媒を留去し、固形物を得た。   To this residue, 2000 parts of water was added and heated to 80 ° C. to prepare a solution. After this solution was cooled to 30 ° C., 1580 parts of methanol was added and stirred for 12 hours. The precipitated solid was obtained as a residue of suction filtration. To this residue, 2000 parts of water was added and heated to 80 ° C. to prepare a solution. The solvent of this solution was distilled off to obtain a solid.

この固形物にクロロホルム148部を加えて撹拌した。この混合物の溶媒を留去し、式(1PAT)で表される化合物を75.3部得た。   To this solid, 148 parts of chloroform was added and stirred. The solvent of this mixture was distilled off to obtain 75.3 parts of a compound represented by the formula (1PAT).

<式(1PAT)で表される化合物の同定>
1H−NMR(500MHz,DMSO−d6):1.14(6H,t),3.49(4H,q),6.60(1H,d),6.81(1H,dd),7.09(4H,s),7.66(1H,dd),7.66(1H,d),7.70(1H,d),7.88(1H,d),8.83(1H,s).
<Identification of Compound Represented by Formula (1PAT)>
1 H-NMR (500 MHz, DMSO-d 6 ): 1.14 (6H, t), 3.49 (4H, q), 6.60 (1H, d), 6.81 (1H, dd), 7 .09 (4H, s), 7.66 (1H, dd), 7.66 (1H, d), 7.70 (1H, d), 7.88 (1H, d), 8.83 (1H, s).

式(1PAT)で表される化合物4.3部、N,N−ジメチルホルムアミド1.9部及び1,4−ジオキサン21部を混合し、この混合物を撹拌しながら、室温でオキシ塩化リン3.1部を滴下した。この混合物に1,4−ジオキサン10部を追加して、70℃で3時間撹拌した。この混合物に、オキシ塩化リン3.1部及びN,N−ジメチルホルムアミド0.94部を追加して、70℃で1時間撹拌した。この混合物を室温まで放冷した。不溶物を吸引ろ過の残渣として得た。この残渣をアセトニトリル16部で洗浄し、風乾した。残渣を5.6部得た。   4.3 parts of the compound represented by the formula (1PAT), 1.9 parts of N, N-dimethylformamide, and 21 parts of 1,4-dioxane were mixed, and the mixture was stirred at room temperature with phosphorus oxychloride 3. 1 part was added dropwise. To this mixture, 10 parts of 1,4-dioxane was added and stirred at 70 ° C. for 3 hours. To this mixture, 3.1 parts of phosphorus oxychloride and 0.94 part of N, N-dimethylformamide were added and stirred at 70 ° C. for 1 hour. The mixture was allowed to cool to room temperature. Insoluble matter was obtained as a residue of suction filtration. The residue was washed with 16 parts of acetonitrile and air dried. 5.6 parts of residue were obtained.

この残渣2.1部及び1,4−ジオキサン5.2部を混合した。この混合物を、水浴を用いて冷却しながら撹拌し、この混合物にDL−1−アミノ−2−プロパノール(東京化成工業(株)製)0.37部及びトリエチルアミン1.0部を加えた。この混合物を室温で2時間撹拌した。この混合物を水25部に加えた。不溶物を吸引ろ過の残渣として得た。この残渣をN,N−ジメチルホルムアミド24部とメタノール20部の混合液に溶解させた。この溶液をロータリーエバポレーターで溶媒留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた結晶にヘキサン16部を加えて撹拌した。この混合物を吸引ろ過し、得られた残渣を風乾し、式(I−10−1)で表される化合物1.3部を得た。   2.1 parts of this residue and 5.2 parts of 1,4-dioxane were mixed. This mixture was stirred while being cooled using a water bath, and 0.37 part of DL-1-amino-2-propanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 1.0 part of triethylamine were added to the mixture. The mixture was stirred at room temperature for 2 hours. This mixture was added to 25 parts of water. Insoluble matter was obtained as a residue of suction filtration. This residue was dissolved in a mixed solution of 24 parts of N, N-dimethylformamide and 20 parts of methanol. The solvent of this solution was distilled off with a rotary evaporator. The obtained residue was purified by column chromatography. 16 parts of hexane was added to the obtained crystals and stirred. This mixture was subjected to suction filtration, and the obtained residue was air-dried to obtain 1.3 parts of a compound represented by the formula (I-10-1).

<式(I−10−1)で表される化合物の同定>
(質量分析)イオン化モード=ESI+: m/z=[M+H] 472
Exact Mass: 471
<Identification of Compound Represented by Formula (I-10-1)>
(Mass spectrometry) Ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 472
Exact Mass: 471

合成例6
式(I−10−1)で表される化合物4.7部、トリメリット酸無水物(東京化成工業(株)製)9.6部、4−ジメチルアミノピリジン(東京化成工業(株)製)3.7部及び1−メチル−2−ピロリドン(ナカライテスク(株)製)51部を混合し、窒素雰囲気下100℃で1時間撹拌した。
Synthesis Example 6
4.7 parts of the compound represented by the formula (I-10-1), 9.6 parts of trimellitic anhydride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 4-dimethylaminopyridine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ) 3.7 parts and 51 parts of 1-methyl-2-pyrrolidone (manufactured by Nacalai Tesque) were mixed and stirred at 100 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere.

この混合物を室温まで放冷した後、ろ過した。ろ液に酢酸エチル90部と10%塩酸160部を加えて、撹拌した後、酢酸エチル溶液層を取り出した。この酢酸エチル溶液に、10%塩酸160部を加えて撹拌し、静置した後、酢酸エチル溶液層を取り出した。この酢酸エチル溶液に15%炭酸ナトリウム水溶液120部を加えて撹拌し、静置した後、水溶液層を取り出した。この水溶液に酢酸エチル90部を加え、氷浴を用いて冷却しながら撹拌し、35%塩酸を加え、水溶液層のpHを1未満にした。この混合物を静置し、酢酸エチル溶液層を取り出した。この酢酸エチル溶液に10%酢酸水溶液150部を加えて撹拌した後、静置して、酢酸エチル溶液層を取り出した。この酢酸エチル溶液を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過した。ろ液をロータリーエバポレーターで溶媒留去した。この残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、式(I−33−1)で表される化合物と式(I−34−1)で表される化合物の混合物4.9部を得た。   The mixture was allowed to cool to room temperature and then filtered. After 90 parts of ethyl acetate and 160 parts of 10% hydrochloric acid were added to the filtrate and stirred, the ethyl acetate solution layer was taken out. To this ethyl acetate solution, 160 parts of 10% hydrochloric acid was added, stirred and allowed to stand, and then the ethyl acetate solution layer was taken out. To this ethyl acetate solution, 120 parts of a 15% aqueous sodium carbonate solution was added, stirred and allowed to stand, and then the aqueous solution layer was taken out. To this aqueous solution, 90 parts of ethyl acetate was added, stirred while cooling using an ice bath, and 35% hydrochloric acid was added to adjust the pH of the aqueous solution layer to less than 1. This mixture was allowed to stand, and the ethyl acetate solution layer was taken out. To this ethyl acetate solution, 150 parts of a 10% aqueous acetic acid solution was added and stirred, and then allowed to stand to take out the ethyl acetate solution layer. The ethyl acetate solution was dried over magnesium sulfate and then filtered. The filtrate was evaporated using a rotary evaporator. The residue was purified by column chromatography to obtain 4.9 parts of a mixture of the compound represented by formula (I-33-1) and the compound represented by formula (I-34-1).

<式(I−33−1)で表される化合物の同定>
(質量分析)イオン化モード=ESI+: m/z=[M+H] 664
Exact Mass: 663
<式(I−34−1)で表される化合物の同定>
(質量分析)イオン化モード=ESI+: m/z=[M+H] 664
Exact Mass: 663
<Identification of Compound Represented by Formula (I-33-1)>
(Mass spectrometry) Ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 664
Exact Mass: 663
<Identification of Compound Represented by Formula (I-34-1)>
(Mass spectrometry) Ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 664
Exact Mass: 663

合成例7
還流冷却器、滴下ロート及び撹拌機を備えたフラスコ内に窒素を適量流して窒素雰囲気とし、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100部を入れ、撹拌しながら85℃まで加熱した。次いで、該フラスコ内に、メタクリル酸19部、3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルアクリレート及び3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−9−イルアクリレートの混合物(含有比はモル比で50:50)171部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート40部に溶解した溶液を滴下ポンプを用いて約5時間かけて滴下した。一方、重合開始剤2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)26部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート120部に溶解した溶液を別の滴下ポンプを用いて約5時間かけてフラスコ内に滴下した。重合開始剤の滴下が終了した後、約3時間同温度に保持し、その後室温まで冷却して、固形分43.5%の共重合体(樹脂B1)の溶液を得た。得られた樹脂B1の重量平均分子量は8000、分子量分布は1.98、固形分換算の酸価は53mgKOH/gであった。
Synthesis example 7
An appropriate amount of nitrogen was passed into a flask equipped with a reflux condenser, a dropping funnel and a stirrer to make a nitrogen atmosphere, 100 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate was added, and the mixture was heated to 85 ° C. with stirring. Next, 19 parts of methacrylic acid, 3,4-epoxytricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl acrylate and 3,4-epoxytricyclo [5.2. 1.0 2,6 ] decan-9-yl acrylate mixture (content ratio is 50:50 in molar ratio) 171 parts dissolved in propylene glycol monomethyl ether acetate 40 parts using a dropping pump over about 5 hours And dripped. On the other hand, a solution prepared by dissolving 26 parts of a polymerization initiator 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) in 120 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate was placed in a flask over about 5 hours using another dropping pump. It was dripped. After completion of dropping of the polymerization initiator, the temperature was maintained at the same temperature for about 3 hours, and then cooled to room temperature to obtain a copolymer (resin B1) solution having a solid content of 43.5%. The obtained resin B1 had a weight average molecular weight of 8,000, a molecular weight distribution of 1.98, and an acid value in terms of solid content of 53 mgKOH / g.

[膜厚測定]
膜厚は、DEKTAK3;日本真空技術(株)製を用いて膜厚を測定した。
[昇華性試験用樹脂組成物(SJS)の調製]
樹脂:メタクリル酸/ベンジルメタクリレート(モル比:30/70)共重合体(田岡化学工業(株)製、平均分子量10700、酸価70mgKOH/g)33.8%プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液 40部;
重合性化合物:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(KAYARAD(登録商標) DPHA;日本化薬(株)製) 5.8部;
重合開始剤:N−ベンゾイルオキシ−1−(4−フェニルスルファニルフェニル)オクタン−1−オン−2−イミン(イルガキュア(登録商標)OXE01;BASFジャパン社製) 0.58部;
レベリング剤:ポリエーテル変性シリコーン(トーレシリコーンSH8400;東レダウコーニング(株)製) 0.010部;
溶剤:プロピレングリコールモノメチルエーテル 47部;
溶剤:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 6.8部
を混合して昇華性試験用樹脂組成物(SJS)を得た。
[Film thickness measurement]
The film thickness was measured using DEKTAK3; manufactured by Nippon Vacuum Technology Co., Ltd.
[Preparation of resin composition for sublimation test (SJS)]
Resin: Methacrylic acid / benzyl methacrylate (molar ratio: 30/70) copolymer (manufactured by Taoka Chemical Co., Ltd., average molecular weight 10700, acid value 70 mg KOH / g) 33.8% propylene glycol monomethyl ether acetate solution 40 parts;
Polymerizable compound: dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD (registered trademark) DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 5.8 parts;
Polymerization initiator: N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) octane-1-one-2-imine (Irgacure (registered trademark) OXE01; manufactured by BASF Japan Ltd.) 0.58 parts;
Leveling agent: polyether-modified silicone (Toray Silicone SH8400; manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) 0.010 parts;
Solvent: 47 parts of propylene glycol monomethyl ether;
Solvent: 6.8 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate were mixed to obtain a resin composition for sublimation test (SJS).

[昇華性試験用樹脂塗布膜(SJSM)の形成]
2インチ角のガラス基板(イーグルXG;コーニング社製)上に、上記で得た昇華性試験用樹脂組成物(SJS)をスピンコート法で塗布し、100℃3分間で揮発成分を揮発させた。冷却後、露光機(TME−150RSK;トプコン(株)製)を用いて、大気雰囲気下、150mJ/cm2の露光量(365nm基準)で光照射した。オーブン中で220℃2時間加熱して昇華性試験用樹脂塗布膜(SJSM)(膜厚2.2μm)を形成した。
[Formation of resin coating film for sublimation test (SJSM)]
On a 2-inch square glass substrate (Eagle XG; manufactured by Corning), the resin composition for sublimation test (SJS) obtained above was applied by spin coating, and volatile components were volatilized at 100 ° C. for 3 minutes. . After cooling, it was irradiated with light using an exposure machine (TME-150RSK; manufactured by Topcon Corporation) at an exposure amount of 150 mJ / cm 2 (based on 365 nm) in an air atmosphere. A resin coating film for sublimation test (SJSM) (thickness: 2.2 μm) was formed by heating in an oven at 220 ° C. for 2 hours.

実施例1
着色剤(A):式(I−96)で表される化合物 14部;
樹脂(B):樹脂(B1)(固形分換算) 170部;
溶剤(E):プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 220部;
溶剤(E):N,N−ジメチルホルムアミド 600部;
並びに
界面活性剤:ポリエーテル変性シリコーンオイル(トーレシリコーンSH8400;東レダウコーニング(株)製) 0.063部
を混合して着色硬化性樹脂組成物を得た。
Example 1
Colorant (A): 14 parts of a compound represented by formula (I-96);
Resin (B): Resin (B1) (solid content conversion) 170 parts;
Solvent (E): 220 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate;
Solvent (E): 600 parts of N, N-dimethylformamide;
And surfactant: Polyether modified silicone oil (Toray Silicone SH8400; manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) 0.063 parts was mixed to obtain a colored curable resin composition.

実施例2
着色剤(A):式(I−117)で表される化合物 20部;
樹脂(B):樹脂(B1)(固形分換算) 160部;
溶剤(E):プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 210部;
溶剤(E):N,N−ジメチルホルムアミド 610部;
並びに
界面活性剤:ポリエーテル変性シリコーンオイル(トーレシリコーンSH8400;東レダウコーニング(株)製) 0.063部
を混合して着色硬化性樹脂組成物を得た。
Example 2
Colorant (A): 20 parts of a compound represented by formula (I-117);
Resin (B): Resin (B1) (solid content conversion) 160 parts;
Solvent (E): 210 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate;
Solvent (E): 610 parts of N, N-dimethylformamide;
And surfactant: Polyether modified silicone oil (Toray Silicone SH8400; manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) 0.063 parts was mixed to obtain a colored curable resin composition.

実施例3
着色剤(A):式(I−118)で表される化合物 22部;
樹脂(B):樹脂(B1)(固形分換算) 160部;
溶剤(E):プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 210部;
溶剤(E):N,N−ジメチルホルムアミド 610部;
並びに
界面活性剤:ポリエーテル変性シリコーンオイル(トーレシリコーンSH8400;東レダウコーニング(株)製) 0.063部
を混合して着色硬化性樹脂組成物を得た。
Example 3
Colorant (A): 22 parts of a compound represented by formula (I-118);
Resin (B): Resin (B1) (solid content conversion) 160 parts;
Solvent (E): 210 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate;
Solvent (E): 610 parts of N, N-dimethylformamide;
And surfactant: Polyether modified silicone oil (Toray Silicone SH8400; manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) 0.063 parts was mixed to obtain a colored curable resin composition.

比較例1
着色剤(A):クマリン6 11部;
樹脂(B):樹脂(B1)(固形分換算) 170部;
溶剤(E):プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 190部;
溶剤(E):N,N−ジメチルホルムアミド 630部;
並びに
界面活性剤:ポリエーテル変性シリコーンオイル(トーレシリコーンSH8400;東レダウコーニング(株)製) 0.063部
を混合して着色硬化性樹脂組成物を得た。
Comparative Example 1
Colorant (A): Coumarin 6 11 parts;
Resin (B): Resin (B1) (solid content conversion) 170 parts;
Solvent (E): 190 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate;
Solvent (E): 630 parts of N, N-dimethylformamide;
And surfactant: Polyether modified silicone oil (Toray Silicone SH8400; manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) 0.063 parts was mixed to obtain a colored curable resin composition.

[昇華性評価]
実施例4
2インチ角のガラス基板(イーグルXG;コーニング社製)上に、実施例1で得た着色硬化性樹脂組成物を、スピンコート法で塗布した後、100℃で3分間プリベークして着色硬化性樹脂組成物層を形成した。膜厚を、DEKTAK3;日本真空技術(株)製を用いて測定した。この着色塗布膜と上記で得た昇華性試験用樹脂塗布膜(SJSM)とを、70μmの間隔を空けた状態で対向させ、220℃で40分間ポストベークを行った。昇華性試験用樹脂塗布膜(SJSM)の加熱前後の色差(ΔEab*)を測色機(OSP−SP−200;OLYMPUS社製)を用いて測定した。色差(ΔEab*)が5.0以上であれば、着色剤が昇華性を有することを示す。結果を表9に示す。表9において、○は、着色剤が昇華性を有しないことを、×は、着色剤が昇華性を有することを示す。
[Sublimation evaluation]
Example 4
The colored curable resin composition obtained in Example 1 was applied by spin coating on a 2 inch square glass substrate (Eagle XG; manufactured by Corning), and then pre-baked at 100 ° C. for 3 minutes for colored curable properties. A resin composition layer was formed. The film thickness was measured using DEKTAK3; manufactured by Nippon Vacuum Technology Co., Ltd. This colored coating film and the resin coating film for sublimation test (SJSM) obtained above were opposed to each other with a space of 70 μm between them, and post-baked at 220 ° C. for 40 minutes. The color difference (ΔEab *) before and after heating of the resin coating film for sublimation test (SJSM) was measured using a colorimeter (OSP-SP-200; manufactured by OLYMPUS). A color difference (ΔEab *) of 5.0 or more indicates that the colorant has sublimability. The results are shown in Table 9. In Table 9, o indicates that the colorant does not have sublimability, and x indicates that the colorant has sublimability.

実施例5
実施例1で得た着色硬化性樹脂組成物を実施例2で得た着色硬化性樹脂組成物に代える以外は、実施例4と同様にして、昇華性評価を行った。結果を表9に示す。
Example 5
Sublimation evaluation was performed in the same manner as in Example 4 except that the colored curable resin composition obtained in Example 1 was replaced with the colored curable resin composition obtained in Example 2. The results are shown in Table 9.

実施例6
実施例1で得た着色硬化性樹脂組成物を実施例3で得た着色硬化性樹脂組成物に代える以外は、実施例4と同様にして、昇華性評価を行った。結果を表9に示す。
Example 6
Sublimation evaluation was performed in the same manner as in Example 4 except that the colored curable resin composition obtained in Example 1 was replaced with the colored curable resin composition obtained in Example 3. The results are shown in Table 9.

比較例2
実施例1で得た着色硬化性樹脂組成物を比較例1で得た着色硬化性樹脂組成物に代える以外は、実施例4と同様にして、昇華性評価を行った。結果を表9に示す。
Comparative Example 2
Sublimation evaluation was performed in the same manner as in Example 4 except that the colored curable resin composition obtained in Example 1 was replaced with the colored curable resin composition obtained in Comparative Example 1. The results are shown in Table 9.

〔着色硬化性樹脂組成物の調製〕
実施例7
着色剤(A):C.I.ピグメントグリーン7(顔料) 27部、
アクリル系顔料分散剤 12部、
樹脂(B):樹脂B1(固形分換算) 9.5部、及び
溶剤(E):プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 180部
を混合し、ビーズミルを用いて顔料を十分に分散させた顔料分散液;
着色剤(A):式(I−118)で表される化合物 3.0部;
樹脂(B):樹脂B1(固形分換算) 40部;
重合性化合物(C):ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(KAYARAD(登録商標) DPHA;日本化薬(株)製) 49部;
重合開始剤(D):N−ベンゾイルオキシ−1−(4−フェニルスルファニルフェニル)オクタン−1−オン−2−イミン(イルガキュア(登録商標)OXE−01;BASF社製;O−アシルオキシム化合物) 9.8部;
溶剤(E):プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 670部;並びに
レベリング剤(F):ポリエーテル変性シリコーンオイル
(トーレシリコーンSH8400;東レダウコーニング(株)製) 0.15部
を混合して着色硬化性樹脂組成物を得た。
(Preparation of colored curable resin composition)
Example 7
Colorant (A): C.I. I. Pigment Green 7 (pigment) 27 parts,
12 parts acrylic pigment dispersant,
Resin (B): Resin B1 (solid content conversion) 9.5 parts, and Solvent (E): Propylene glycol monomethyl ether acetate 180 parts were mixed, and a pigment dispersion in which the pigment was sufficiently dispersed using a bead mill;
Colorant (A): 3.0 parts of a compound represented by formula (I-118);
Resin (B): Resin B1 (solid content conversion) 40 parts;
Polymerizable compound (C): Dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD (registered trademark) DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 49 parts;
Polymerization initiator (D): N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) octane-1-one-2-imine (Irgacure (registered trademark) OXE-01; manufactured by BASF; O-acyloxime compound) 9.8 parts;
Solvent (E): 670 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate; and leveling agent (F): polyether-modified silicone oil (Toray Silicone SH8400; manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) A composition was obtained.

実施例8
着色剤(A)のC.I.ピグメントグリーン7(顔料)をC.I.ピグメントグリーン36(顔料)に代える以外は、実施例7と同様にして、着色硬化性樹脂組成物を得た。
Example 8
C. of the colorant (A) I. Pigment Green 7 (pigment) is changed to C.I. I. A colored curable resin composition was obtained in the same manner as in Example 7 except that the pigment green 36 (pigment) was used.

実施例9
着色剤(A)のC.I.ピグメントグリーン7(顔料)をC.I.ピグメントグリーン58(顔料)に代える以外は、実施例7と同様にして、着色硬化性樹脂組成物を得た。
Example 9
C. of the colorant (A) I. Pigment Green 7 (pigment) is changed to C.I. I. A colored curable resin composition was obtained in the same manner as in Example 7 except that it was replaced with CI Pigment Green 58 (pigment).

実施例10
[着色パターンの作製]
2インチ角のガラス基板(イーグルXG;コーニング社製)上に、実施例7で得た着色硬化性樹脂組成物をスピンコート法で塗布した後、100℃で3分間プリベークして着色組成物層を形成した。冷却後、着色組成物層が形成された基板と石英ガラス製フォトマスクとの間隔を200μmとして、露光機(TME−150RSK;トプコン(株)製)を用いて、大気雰囲気下、80mJ/cm2の露光量(365nm基準)で露光した。尚、フォトマスクとしては、100μmのラインアンドスペースパターンが形成されたものを使用した。露光後の着色組成物層を、非イオン系界面活性剤0.12%と水酸化カリウム0.04%とを含む水溶液に25℃で70秒間浸漬させて現像し、水洗した。
Example 10
[Preparation of colored pattern]
The colored curable resin composition obtained in Example 7 was applied on a 2-inch square glass substrate (Eagle XG; manufactured by Corning) by spin coating, and then pre-baked at 100 ° C. for 3 minutes to form a colored composition layer. Formed. After cooling, the distance between the substrate on which the colored composition layer is formed and the photomask made of quartz glass is set to 200 μm, and an exposure machine (TME-150RSK; manufactured by Topcon Corporation) is used, and 80 mJ / cm 2 in an air atmosphere. The exposure amount (standard on 365 nm) was used. A photomask having a 100 μm line and space pattern was used. The colored composition layer after the exposure was developed by being immersed in an aqueous solution containing 0.12% of a nonionic surfactant and 0.04% of potassium hydroxide at 25 ° C. for 70 seconds, and washed with water.

この着色塗布膜を、230℃で30分間ポストベークを行うことにより、着色パターンを得た。   The colored coating film was post-baked at 230 ° C. for 30 minutes to obtain a colored pattern.

実施例11
実施例7で得た着色硬化性樹脂組成物を実施例8で得た着色硬化性樹脂組成物に代える以外は、実施例10と同様にして、着色パターンを得た。
Example 11
A colored pattern was obtained in the same manner as in Example 10 except that the colored curable resin composition obtained in Example 7 was replaced with the colored curable resin composition obtained in Example 8.

実施例12
実施例7で得た着色硬化性樹脂組成物を実施例9で得た着色硬化性樹脂組成物に代える以外は、実施例10と同様にして、着色パターンを得た。
Example 12
A colored pattern was obtained in the same manner as in Example 10 except that the colored curable resin composition obtained in Example 7 was replaced with the colored curable resin composition obtained in Example 9.

上記の結果から、本発明によれば、着色剤が昇華することがないカラーフィルタを与える着色硬化性樹脂組成物の技術を提供することが可能となることが確認された。   From the above results, it was confirmed that according to the present invention, it is possible to provide a color curable resin composition technique that provides a color filter in which a colorant does not sublime.

本発明によれば、着色剤を二量化する必要がないため着色剤の合成が容易で、着色剤が昇華することがないカラーフィルタを与える着色硬化性樹脂組成物の技術を提供でき、該カラーフィルタは液晶表示装置等の表示装置に好適に用いられる。   According to the present invention, since it is not necessary to dimerize the colorant, it is possible to provide a color curable resin composition technique that provides a color filter that facilitates the synthesis of the colorant and does not sublime the colorant. The filter is suitably used for a display device such as a liquid crystal display device.

Claims (7)

式(I)で表される化合物。
[式(I)中、
Xは、酸素原子又は硫黄原子を表す。
1及びR2は、互いに独立に、炭素数1〜20の炭化水素基を表わす。
nは、1〜4の整数を表す。
Aは、−SO 2 −NR 3 −L 2 −OCO−L 3 −CO−OMを表す。
Mは、水素原子又はアルカリ金属原子を表す。Mが複数存在する場合、それらは互いに同一でも相異なっていてもよい。
2 及びL 3 は、互いに独立に、炭素数1〜30の2価の炭化水素基を表す。該2価の炭化水素基を構成する−CH=は、−N=に置き換わっていてもよく、該2価の炭化水素基を構成する−CH 2 −は、酸素原子、硫黄原子、−N(R 55 )−、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該2価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル基、スルファモイル基、−SO 3 M、−CO 2 M、ヒドロキシ基、ホルミル基、アルキル基、アルキニル基又はアミノ基に置き換わっていてもよい。
55 は、水素原子又は炭素数1〜20の1価の炭化水素基を表す。R 55 が複数存在する場合、それらは互いに同一でも相異なっていてもよい。
3は、水素原子、炭素数1〜20の1価の炭化水素基又は式(z)で表される基を表す。該1価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又はカルボキシ基で置き換わっていてもよく、該1価の炭化水素基を構成する−CH2−は、カルボニル基に置き換わっていてもよい。R3が複数存在する場合、それらは互いに同一でも相異なっていてもよい。
式(z)中、L22及びL33は、それぞれ独立して、炭素数1〜30の2価の炭化水素基を表す。該2価の炭化水素基を構成する−CH=は、−N=に置き換わっていてもよく、該2価の炭化水素基を構成する−CH2−は、酸素原子、硫黄原子、−N(R44)−、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該2価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル基、スルファモイル基、−SO3M、−CO2M、ヒドロキシ基、ホルミル基、アルキル基、アルキニル基又はアミノ基に置き換わっていてもよい。
1は、水素原子又はアルカリ金属原子を表す。
44は、水素原子又は炭素数1〜20の1価の炭化水素基を表す。R44が複数存在する場合、それらは互いに同一でも相異なっていてもよい。]
A compound represented by formula (I).
[In the formula (I),
X represents an oxygen atom or a sulfur atom.
R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
n represents an integer of 1 to 4.
A represents -SO 2 -NR 3 -L 2 -OCO- L 3 -CO-OM.
M represents a hydrogen atom or an alkali metal atom. When a plurality of M are present, they may be the same as or different from each other.
L 2 and L 3 each independently represent a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms. -CH 2 -CH = is constituting the divalent hydrocarbon group, may be replaced in -N =, constituting the divalent hydrocarbon group - represents an oxygen atom, a sulfur atom, -N ( R 55 ) —, a sulfonyl group or a carbonyl group may be substituted, and the hydrogen atom contained in the divalent hydrocarbon group is a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, —SO 3 M , -CO 2 M, hydroxy group, formyl group, an alkyl group, an alkynyl group or may be substituted with an amino group.
R 55 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. When a plurality of R 55 are present, they may be the same as or different from each other.
R 3 represents a hydrogen atom, a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a group represented by the formula (z). The hydrogen atom contained in the monovalent hydrocarbon group may be replaced with a halogen atom, a hydroxy group or a carboxy group, and —CH 2 — constituting the monovalent hydrocarbon group is replaced with a carbonyl group. May be. When a plurality of R 3 are present, they may be the same as or different from each other.
In formula (z), L 22 and L 33 each independently represent a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms. -CH 2 -CH = is constituting the divalent hydrocarbon group, may be replaced in -N =, constituting the divalent hydrocarbon group - represents an oxygen atom, a sulfur atom, -N ( R 44 ) —, a sulfonyl group or a carbonyl group may be substituted, and the hydrogen atom contained in the divalent hydrocarbon group is a halogen atom, cyano group, nitro group, carbamoyl group, sulfamoyl group, —SO 3 M , -CO 2 M, hydroxy group, formyl group, an alkyl group, an alkynyl group or may be substituted with an amino group.
M 1 represents a hydrogen atom or an alkali metal atom.
R 44 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. When a plurality of R 44 are present, they may be the same as or different from each other. ]
式(II)で表される請求項1に記載の化合物。
[式(II)中、
n、X、R1、R2、L2、L3及びR55は、上記と同じ意味を表す。
33は、水素原子又は−L22−OCO−L33−CO22を表す。
22及びL33は、前記L2及びL3と同じ意味を表す。
2は、水素原子又はアルカリ金属原子を表す。]
A compound according to claim 1 of the formula (II).
[In the formula (II),
n, X, R 1 , R 2 , L 2 , L 3 and R 55 represent the same meaning as described above.
R 33 represents a hydrogen atom or -L 22 -OCO-L 33 -CO 2 M 2.
L 22 and L 33 represent the same meaning as L 2 and L 3 .
M 2 represents a hydrogen atom or an alkali metal atom. ]
前記L2及びL22が炭素数1〜10の飽和脂肪族炭化水素基であり、
前記L3及びL33がカルボキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい2価の脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基である請求項1又は2に記載の化合物。
L 2 and L 22 are a saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms,
The compound according to claim 1 or 2 , wherein L 3 and L 33 are a divalent aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group which may be substituted with a carboxy group or a halogen atom.
前記R1及びR2が、互いに独立に、炭素数1〜10の1価の炭化水素基である請求項1〜のいずれかに記載の化合物。 Wherein R 1 and R 2, independently of one another, a compound according to any one of claims 1 to 3 which is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. 請求項1〜のいずれかに記載の化合物を含む着色剤、樹脂、重合性化合物、重合開始剤及び溶剤を含む着色硬化性樹脂組成物。 Colorant comprising a compound according to any one of claims 1-4, resin, a polymerizable compound, a polymerization initiator and a colored curable resin composition containing a solvent. 請求項に記載の着色硬化性樹脂組成物から形成されるカラーフィルタ。 A color filter formed from the colored curable resin composition according to claim 5 . 請求項に記載のカラーフィルタを含む液晶表示装置。 A liquid crystal display device comprising the color filter according to claim 6 .
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