JP6438217B2 - 鏡装置およびその製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 175
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 71
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 71
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 37
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims description 30
- 239000010408 film Substances 0.000 description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 description 30
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 2
- 229920001709 polysilazane Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910007991 Si-N Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006294 Si—N Inorganic materials 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920000547 conjugated polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000012769 display material Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Description
面状に広がりを有し、その一方の主面に、連続する「海」状の鏡領域3、及び、該「海」状鏡領域3の中に、「島」状の発光可能な鏡領域4を複数備える鏡装置1であって、
該一方の主面は、透光性基板10の一方の主面であり、
該「海」状鏡領域3に相当する領域においては、該透光性基板10の他方の主面上に、順に透明導電膜11、及び該「海」状鏡領域に対応して該透明導電膜に接して形成された金属層13が形成され、該金属層13が鏡面であり、かつ、
該「島」状発光可能鏡領域4に相当する領域においては、該透光性基板10の他方の主面上に、順に該透明導電膜11、発光層を含む機能層15、及び陰極金属層16が形成され、該陰極金属層16が鏡面であり、さらに、
該金属層13と、該陰極金属層16との間に電圧を印可することにより該発光し、該陰極金属層16が、複数の該「島」状発光可能鏡領域に亘って連続して形成されてなることを特徴とする鏡装置1である。
前記透光性基板10上の前記透明導電膜11の前記「島」状発光可能鏡領域4に相当する領域にリフトオフ層12(図示せず)を形成する工程と、
前記「島」状発光可能領域4、及び前記「海」状鏡領域3に亘る連続した領域に相当する領域に前記金属層13を形成する工程と、
該リフトオフ層12を、少なくともその上の前記金属層13を伴って、前記透明導電膜11から除去するリフトオフ工程と、を含む鏡装置の製造方法に関する。このような製造方法とすることで、外観に優れた鏡装置1を、簡便に製造することができる。
前記金属層形成工程後に、順に、
該輪郭層121を、少なくともその上の前記金属層を伴って、前記透明導電膜から除去する輪郭層リフトオフ工程と、
前記「島」状発光可能鏡領域4、及び前記「海」状鏡領域3に亘る連続した領域に相当する領域に第1絶縁膜17を形成する工程と、
該本体層122を、その上の前記金属層13、及び該第1絶縁膜17を伴って、前記透明導電膜11から除去する本体層リフトオフ工程とを含むようにすることが好ましく、より信頼性が高い有機EL素子30を含む鏡装置とすることができる。
本実施形態の鏡装置1は、図1、及び図2に示すように、その透光性基板10の一方の主面である図1の下方からみて、図2に示すように、「海」状の非発光の鏡領域3と、「島」状の発光可能な鏡領域4とを含み、透光性基板10をその本体とする。
図3は、本発明の鏡装置1の製造方法の一実施態様における製造工程を説明する説明図である。
(1)透光性基板10上に形成された透明導電膜11上に、発光領域形状に適合させた形状のリフトオフ層12を複数形成する。
(2)金属層13を複数のリフトオフ層12に亘って形成する。
(3)発光領域形状の外周部に相当する輪郭層121をリフトオフし、透明導電膜11を露出させる。
(4)金属層13の側面を含む露出面の全面に第1絶縁膜14を形成する。このとき、前記輪郭層121をリフトオフした部分に第1絶縁膜14が埋め込まれ、当該部分の金属層13の側面にも第1絶縁膜14が形成される。
(5)発光領域形状に相当する本体層122をリフトオフし、透明電極膜11を露出させる。
(6)発光領域に相当する前記複数のリフトオフ層12に亘り、これらを十分に覆う領域に、発光層を含む機能層15を形成する。
(7)機能層15の側面を含む露出面の全面に、これを十分に覆う陰極金属層16を形成する。
(8)少なくとも陰極金属層16の側面を含む露出面の全面に、これを十分に覆う第2絶縁膜17を形成する。
本発明に係る透光性基板10は、本発明に係る鏡装置1の本体となる基板である。透光性及び絶縁性を有したものであれば、透光性基板2の材質については特に限定されるものではなく、例えば、フレキシブルなフィルム透光性基板やプラスチック透光性基板などから適宜選択され用いられる。特にガラス基板や透明なフィルム基板は透明性や加工性の良さの点から好適である。また、これらの基板に光取り出しのための透光性フィルム(いわゆるOCFフィルム)やその他の透光性フィルムを取り付けた基板や、光散乱層等を形成した基板も、本発明に係る透光性基板10である。
透明導電膜11の素材は、透明であって、導電性を有していれば、特に限定されるものではなく、例えば、インジウム錫酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、酸化錫(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)等の透明導電性酸化物などが採用される。透明導電膜11は、点灯等において有機EL素子30に正孔を供給する陽極(アノード)であることが、特性の高い素子を形成する観点から好ましく、ITOで形成されていることがより好ましい。
本発明に係るリフトオフ層12は、選択したリフトオフ工程に適合する材料により構成され、その形状はフォトリソグラフィ工程やスクリーン印刷等によって形成してもよい。
金属層13の材料としては、反射率や導電性が高い銀又はアルミニウムが好ましく、より好ましくは銀である。
絶縁膜14、17の材質は、絶縁性及び水蒸気バリア性に代表される封止性を有していれば、特に限定されるものではないが、酸素、炭素、窒素の中から選ばれた1種類以上の元素と、ケイ素元素とからなるシリコン合金により形成されていることが好ましく、Si−O、Si−N、Si−H、N−H等の結合を含む窒化珪素や酸化珪素、及び両者の中間固溶体である酸窒化珪素であることが特に好ましい。
また、第1絶縁膜17としては、後述する乾式法封止層とすることが好ましい。
また、第2絶縁膜17としては、封止性能を高める観点から、多層構造の絶縁封止層を使用することが好ましい。陰極金属層16側から乾式法によって形成される乾式法封止層と、湿式法によって形成される湿式法封止層がこの順に積層されて形成されていることが好ましい。
機能層35は、透明導電膜11と陰極金属層16との間に設けられ、少なくとも一層の有機化合物を含む発光可能な発光層を備えた層である。機能層15は、主に有機化合物からなる複数の層から構成されている。この機能層15は、一般的な有機EL装置に用いられている低分子系色素材料や、共役系高分子材料などの公知のもので形成することができる。また、この機能層15は、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層、電子注入層などの複数の層からなる積層多層構造であることが一般的である。
陰極金属層16の材料としては、前記金属層13と同一の材料とすることが、鏡金属層2全体の反射率を統一し、本発明に係る境界の連続性効果を奏さしめる観点から好ましく、また、点灯等において有機EL素子30に電子を供給する陰極(カソード)であることが、特性の高い素子を形成する観点から好ましく、銀で形成されていることがより好ましい。
2 鏡金属層
3 「海」状の鏡領域
4 「島」状の発光可能鏡領域
5 重畳領域
10 透光性基板
11 透明導電膜
12 リフトオフ層
13 金属層
14 第1絶縁膜
15 機能層
16 陰極金属層
17 第2絶縁膜
30 有機EL素子(積層体)
121 輪郭層
122 本体層
Claims (6)
- 面状に広がりを有し、その一方の主面に、連続する「海」状の鏡領域、及び、該「海」状鏡領域の中に、「島」状の発光可能な鏡領域を複数備える鏡装置であって、
該一方の主面は、透光性基板の一方の主面であり、
該「海」状鏡領域に相当する領域においては、該透光性基板の他方の主面上に、順に透明導電膜、及び該「海」状鏡領域に対応して該透明導電膜に接して形成された金属層が形成され、該金属層が鏡面であり、かつ、
該「島」状発光可能鏡領域に相当する領域においては、該透光性基板の他方の主面上に、順に該透明導電膜、発光層を含む機能層、及び陰極金属層が形成され、該陰極金属層が鏡面であり、さらに、
該金属層と、該陰極金属層との間に電圧を印可することにより該発光し、
該陰極金属層が、複数の該「島」状発光可能鏡領域に亘って連続して形成されてなることを特徴とする鏡装置。 - 前記金属層の前記「島」状発光可能鏡領域側側面における前記透明導電膜との境界線から、前記金属層の前記透明導電膜とは反対側の面に亘って、少なくとも該「島」状発光可能鏡領域側側面及びその該反対側の面へ延長する延長領域の全面が、第1絶縁層で覆われていることを特徴とする請求項1に記載の鏡装置。
- 前記複数の「島」状発光可能鏡領域、及びこれに隣接する前記「海」状鏡領域の隣接領域に亘って、前記機能層が形成されていることを特徴とする請求項1、又は2に記載の鏡装置。
- 前記複数の「島」状発光可能鏡領域、及びこれに隣接する前記「海」状鏡領域の隣接領域に亘って、前記陰極金属層の前記機能層と反対側の面を覆う第2絶縁層が形成されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の鏡装置。
- 請求項1に記載の鏡装置の製造方法であって、順に、
前記透光性基板上の前記透明導電膜の前記「島」状発光可能鏡領域に相当する領域にリフトオフ層を形成する工程と、
前記「島」状発光可能鏡領域、及び前記「海」状鏡領域に亘る連続した領域に相当する領域に前記金属層を形成する工程と、
該リフトオフ層を、少なくともその上の前記金属層を伴って、前記透明導電膜から除去するリフトオフ工程と、を含む鏡装置の製造方法。 - 請求項5に記載の鏡装置の製造方法であって、
前記リフトオフ層が、その全周を含み内側に幅を有する輪郭層、及びそれ以外の内側の部分である本体層からなり、
前記金属層形成工程後に、順に、
該輪郭層を、少なくともその上の前記金属層を伴って、前記透明導電膜から除去する輪郭層リフトオフ工程と、
前記「島」状発光可能鏡領域、及び前記「海」状鏡領域に亘る連続した領域に相当する領域に第1絶縁膜を形成する工程と、
該本体層を、その上の前記金属層、及び該絶縁膜を伴って、前記透明導電膜から除去する本体層リフトオフ工程と、を含む鏡装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014115150A JP6438217B2 (ja) | 2014-06-03 | 2014-06-03 | 鏡装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014115150A JP6438217B2 (ja) | 2014-06-03 | 2014-06-03 | 鏡装置およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015230767A JP2015230767A (ja) | 2015-12-21 |
JP6438217B2 true JP6438217B2 (ja) | 2018-12-12 |
Family
ID=54887456
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014115150A Active JP6438217B2 (ja) | 2014-06-03 | 2014-06-03 | 鏡装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6438217B2 (ja) |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100818133B1 (ko) * | 2003-10-02 | 2008-03-31 | 가부시키가이샤 도요다 지도숏키 | 전계 발광 소자 |
JP2005332616A (ja) * | 2004-05-18 | 2005-12-02 | Seiko Epson Corp | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置および電子機器 |
TWM430889U (en) * | 2012-01-19 | 2012-06-11 | Ind Tech Res Inst | A mirror device with illumination and mirror box using the same |
JP6062954B2 (ja) * | 2012-11-08 | 2017-01-18 | パイオニア株式会社 | ミラー装置 |
US9399428B2 (en) * | 2012-11-08 | 2016-07-26 | Pioneer Corporation | Mirror device |
DE102012221191B4 (de) * | 2012-11-20 | 2022-03-17 | Pictiva Displays International Limited | Optoelektronisches Bauelement und Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelements |
JP2014229547A (ja) * | 2013-05-24 | 2014-12-08 | コニカミノルタ株式会社 | 発光装置 |
JP6276086B2 (ja) * | 2014-03-27 | 2018-02-07 | 株式会社カネカ | 有機elパネルを備える鏡装置 |
-
2014
- 2014-06-03 JP JP2014115150A patent/JP6438217B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015230767A (ja) | 2015-12-21 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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